(57)【要約】【課題】  従来に比べ推力の向上が可能な平面モータおよびステージを提供する。【解決手段】  平面モータは、可動体１０と、第１固定部１５と、第２固定部１７とを備えている。第１固定部１５は可動体１０を第１方向に駆動し、第２固定部１７は可動体１０を第２方向に駆動する。第１固定部１５と第２固定部１７とは、可動体１０を挟んで互いに対向して設けられる。【選択図】  図１
2009136065.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動体と、
前記可動体を水平面内で駆動するための固定部とを有し、
前記固定部は、前記可動体を第１方向に駆動する第１固定部と、前記可動体を第２方向に駆動する第２固定部とを含み、
前記第１固定部と前記第２固定部とが前記可動体を挟んで互いに対向して設けられることを特徴とする平面モータ。
【請求項２】
前記可動体は第１駆動部を有し、
前記第１駆動部と前記第１固定部とによってリニアパルスモータを構成することを特徴とする請求項１に記載の平面モータ。
【請求項３】
前記可動体は第２駆動部を有し
前記第２駆動部と前記第２固定部とによってリニアパルスモータを構成することを特徴とする請求項２に記載の平面モータ。
【請求項４】
前記第１駆動部と前記第２固定部とにコイルを設け、
前記コイルに電流を流すことによって前記可動体を駆動することを特徴とする請求項３に記載の平面モータ。
【請求項５】
前記第１固定部と前記第２固定部とにコイルを設け、
前記コイルに電流を流すことによって前記可動体を駆動することを特徴とする請求項３に記載の平面モータ。
【請求項６】
前記第１駆動部と前記第２駆動部とにコイルを設け、
前記コイルに電流を流すことによって前記可動体を駆動することを特徴とする請求項３に記載の平面モータ。
【請求項７】
前記可動体は磁石を備え、
前記第１固定部と前記第２固定部とはコイルを備え、
前記可動体と前記第１固定部および前記可動体と前記第２固定部とによってローレンツモータを構成していることを特徴とする請求項１に記載の平面モータ。
【請求項８】
前記可動体はレチクルまたはウエハを搭載することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の平面モータを用いたステージ装置。
【請求項９】
レチクルのパターンをウエハに露光する露光装置であって、
前記レチクルまたはウエハに光を照射する光源と、
請求項８に記載のステージ装置とを備え、
前記ステージ装置の前記第１固定部は開口部を有し、
前記光源から照射された光は前記開口部を通して前記レチクルまたはウエハに照射されることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、
前記ウエハを現像する工程と備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面モータおよびそれを用いたステージに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
背景技術として平面モータのひとつである平面パルスモータの説明を以下に行う。
図１１は従来のリニアパルスモータの動作原理である。２０１は磁性材料のリニアパルスモータの固定部でありその表面に周期的な凸部を有するプラテンである。２０２はプラテン凸部、２０３はプラテン凹部、２０４は可動体側に配置されている可動体歯先である。２０５、２０６は可動体歯先２０４を電流により磁化する為のコイル、２０７、２０８は可動体歯先２０４とプラテン２０１との間に吸着力を発生させる永久磁石、２０９は永久磁石による磁束、２１０はコイル電流による磁束である。２１１〜２１４はそれぞれコイル２０５、２０６により磁気的な吸着力を発生する歯先群である。
【０００３】
この従来のリニアパルスモータは、プラテン２０１上に一定間隔τでプラテン凸部２０２が配置されている。また、図１１（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ可動体が原点位置、τ／４位置、２τ／４位置、３τ／４位置にいる状態を示している。また、可動体の歯先群２１１〜２１４は、それぞれが空間的にτ／４だけずらして配置されている。この為、図１１（ａ）に示す様に原点位置において、コイル２０５に図１１（ａ）に示す方向に電流を流すことにより、歯先群２１１を通過する磁束が永久磁石２０７の磁束と合わさって最大となる。それにより、可動体全体を左側に移動させる様な力を発生し、図１１（ｂ）のτ／４位置まで可動体を移動させることになる。
【０００４】
以下、同様に、図１１（ｂ）〜（ｄ）に示す様に、コイル２０５、コイル２０６に図示する方向に電流を流すことにより、可動体を順次左方向に駆動させることが可能となる。
【０００５】
図１２は、従来の平面パルスモータの可動体を示したものである。この図において、２１５はＸＹ方向に移動可能なステージ可動体、２１６はステージ可動体をエアー浮上させる為のエアー噴出し口である。この図では、図１１で示した１軸方向の可動体をＸ、Ｙ方向にそれぞれ２個配置し、ＸＹ方向の駆動が可能な様にしている。
【０００６】
図１３は従来の平面パルスモータの全体図であり、ステージ可動体２１５がプラテン２０１の上部に約２０ミクロン前後エアー浮上状態となっており、前述の駆動原理によりＸ、Ｙ方向に駆動が可能な様になっている。
【０００７】
しかしながら、従来の平面パルスモータはプラテン上に正方形のプラテン凸部が周期的に配置されていた。この為、可動体の歯先群から見るとその磁束の利用効率は約１／２程度であり、従来の平面パルスモータでは推力をアップすることが困難であった。
【０００８】
そこで特許文献１では、従来の平面パルスモータの推力をアップさせるために以下のような提案がなされている。それは、プラテンの表面にＸ軸方向に移動可能な１軸のリニアパルスモータを構成する。そして、このプラテンの裏面にＹ軸方向に移動可能な１軸方向のリニアパルスモータを構成し、この表面と裏面に配置された可動体を長いアームで連結してＸＹ平面モータを構成するというものである。
【特許文献１】特開平７−５９３３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、上記の提案では少なくともプラテンの両側面にステージの可動ストロークと同じだけのアームの移動空間が必要となり、コンパクトなステージを実現することは困難である。また、上記アームは、ステージ精度を確保する為にはかなりの剛性が必要となる。この剛性を確保する為にはかなりの重量になると考えられ、結果として推力のアップは困難であると考えられる。
【００１０】
そこで、本発明は、コンパクトで軽く、また推力アップを期待することが可能なステージを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の平面モータは可動体と固定部とを有し、前記固定部は前記可動体を第１方向に駆動する第１固定部と前記可動体を第２方向に駆動する第２固定部とを含み、前記第１固定部と前記第２固定部とが互いに対向するように設けられることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、ＸＹ平面上をＸＹ方向に移動可能な可動体の上下に、それぞれ、Ｘ方向、Ｙ方向に推力を発生するもしくは推力を受けるリニアモータ固定部を配置するという構成である。これにより、ＸＹ両方向に対してそれぞれ１軸のリニアモータと同等な推力を単純な構成で得ることが可能となる。
【００１３】
さらに、アームを設ける必要がないので、アームの移動空間が必要なくなり、コンパクトなステージを実現することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（実施例１）
本発明の実施例を図１（ａ）、（ｂ）に示す。図１（ａ）、（ｂ）は、本実施例の平面モータを横から見た図である。
【００１５】
本実施例の平面モータは、可動体１０とＸ固定部としてのＸ固定プラテン１５とＹ固定部１７とからなる。可動体１０は、Ｘ可動コイル１１とＸ可動コイル歯先１２とＹ可動プラテン１３とを備え、Ｙ可動プラテン１３の先にはＹ可動プラテン凸部１４が設けられている。Ｘ固定プラテン１５の先にはＸ固定プラテン凸部が設けられている。また、Ｙ固定部１７はＹ固定コイル１８とＹ固定コイル歯先１９とを備えている。
【００１６】
図１に示すように、Ｘ固定部としてのＸ固定プラテン１５とＹ固定部１７とは、可動体１０を挟んで互いに対向して設けられている。
【００１７】
Ｘ方向（第１方向）への駆動は、可動体１０に備えられたＸ可動コイル１１に電流を流すことで、Ｘ可動コイル歯先１２とＸ固定プラテン凸部１６との間に働く磁力を用いて行う。
【００１８】
Ｘ可動コイル１１とＸ可動コイル歯先１２とによって第１駆動部を構成している。そして、Ｘ固定プラテン１５に設けられたＸ固定プラテン凸部１６とによって第１固定部を構成している。つまり、第１駆動部と第１固定部とによってＸ方向へ可動体１０を駆動するリニアパルスモータが構成されている。
【００１９】
また、Ｙ方向（第２方向）への駆動は、Ｙ固定部１７に備えられたＹ固定コイル１８に電流を流すことで、Ｙ固定コイル歯先１９と可動体１０に備えられたＹ可動プラテン１３の先に設けられたＹ可動プラテン凸部１４との間に働く磁力を用いて行う。
【００２０】
Ｙ可動プラテン１３の先に設けられたＹ可動プラテン凸部１４によって第２駆動部を構成している。そして、Ｙ固定部１７に備えられたＹ固定コイル１８とＹ固定コイル歯先１９とによって第２固定部を構成している。つまり、第２駆動部と第２固定部とによってＹ方向へ可動体１０を駆動するリニアパルスモータが構成されている。
【００２１】
上記のように可動体の上下でＸ方向に可動体を駆動するリニアパルスモータ、Ｙ方向に可動体を駆動するリニアパルスモータを構成することで、可動体をＸＹ方向内（水平面内）で駆動することが可能となる。
【００２２】
Ｘ方向、Ｙ方向にそれぞれ駆動するリニアパルスモータは、従来技術で述べたような既知の構成のものを用いても良い。可動体の上下にＸ方向、Ｙ方向への駆動用の歯先または凸部が設けられており、その可動体を挟むように固定部を設け、可動体の上下で可動体をＸ方向、Ｙ方向へ駆動するリニアパルスモータが形成されれば良い。
【００２３】
また、駆動部と固定部とのどちらをプラテンにしてどちらにコイルを設けるかは、特に本実施例に限定されるものではない。例えば、第１固定部と第２固定部とにコイルを設け、第１駆動部と第２駆動部とをプラテンとした構成でも良いということである。
【００２４】
本実施例のように第１方向をＸ方向、第２方向をＹ方向とした場合には、第１固定部はＸ固定部となり、第２固定部はＹ固定部となる。しかし、本実施例において、第１方向、第２方向は例示的に示したものであり、特にこれに限る必要はない。
【００２５】
本実施例によれば、従来の平面モータのように一つの固定子を用いて可動子をＸ方向、Ｙ方向に駆動するのではなく、可動子をＸ方向駆動用の固定子とＹ方向駆動用の固定子とを用いて可動子をＸＹ平面内で駆動する。このことにより、可動子を駆動するために利用可能な固定子の面積がＸ方向、Ｙ方向ともに増大する。したがって、従来と比べて可動子を駆動する際の推力をアップすることが可能となる。このことは、可動子をＸ軸方向やＹ軸方向の軸に沿って駆動しない場合には、従来と比べて推力の向上が顕著になる。
【００２６】
（実施例２）
次に、本発明を２つのステージを有する半導体露光装置に適用した場合を実施例として以下に説明する。
【００２７】
この半導体露光装置は、装置内部にステージ上のウエハ（図示せず）に対してウエハ上のパターン位置の計測を行うＡＡ（Ａｕｔｏ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）エリアと、露光を行うＥｘｐｏ（Ｅｘｐｏｓｕｒｅ）エリアとを有している。さらに、上記２つのエリアで計測、露光を行う為の２つのステージを有している。この半導体露光装置は、ＡＡエリアでの計測が終了すると、ステージをＥｘｐｏエリアに移動させて露光を行う様になっており、２つのステージがＡＡエリアとＥｘｐｏエリアに順次位置することにより、計測と露光とを平行して行う。
【００２８】
以下、この装置のステージ部を中心にその内容説明を行う。
【００２９】
本実施例の半導体露光装置の平面モータを図２に示す。図２（ａ）は、本実施例の平面モータのステージ可動体３８、３９とその下部に配置されるＹ固定コイル歯先３２とを上から見た図である。また、本図中では、点線で囲まれたＡＡエリア６０とＥｘｐｏエリア６１を例示的に示しているが、厳密にこの範囲に限られる必要はない。平面モータ上のどこかに、ウエハ上のパターン位置の計測を行う領域と露光を行う領域とが設けられていればよい。図２（ｂ）は、本実施例の平面モータを横から見た図である。図２に示す様に、Ｙ方向（第２方向）に関しては、固定コイル３１がステージ定盤３０に固定されており、プラテン側がＹ可動プラテン３３として移動可能になっている。そして、Ｙ可動プラテン３３の上部にＸ方向（第１方向）に推力を発生するＸ可動コイル３４、Ｘ可動コイル歯先３５等を配置し、さらにこのステージ可動体３８、３９の上部に固定部としてＸ固定プラテン３６を配置している。
【００３０】
本実施例によれば、図１３に示した従来の平面パルスモータと比較してステージ可動体３８、３９の下部に配置されるプラテンはＹ軸専用とすることが可能となり、駆動用コイルからみた磁束の利用効率も格段に上げることが出来る。
【００３１】
また、Ｙ方向に推力を発生するＹ固定コイル３１は固定側となる為、Ｙ方向への移動を行うＹ可動プラテン３３の軽量化が可能となり、Ｙ方向への推力アップが可能となる。
【００３２】
同様に、ステージ可動体３８、３９は、平面ステージ上部のトッププレート３７の下面に配置されており、Ｘ可動コイル３４、Ｘ可動コイル歯先３５に対抗する様になっている。このＸ固定プラテン３６もＸ軸専用となっている為、駆動用コイルからみた磁束の利用効率も格段に上げることが出来る。
【００３３】
このように、本発明はＸ方向、Ｙ方向とも１軸のリニアモータで構成している為、制御の面でも単純化が可能となるメリットがある。
【００３４】
次に、本発明の半導体露光装置の平面モータのトッププレート３７とＸ固定プラテン３６をステージ可動体３８、３９側から見た様子を図２（ｃ）に示す。図からわかるように、トッププレート３７には計測および露光を行うための開口部６２、６３が設けられている。計測および露光を行う際には、この開口部６２、６３を通してウエハ等に光が照射される。
【００３５】
また、本発明の半導体露光装置の平面モータのＹ固定コイル３１は、図２（ｄ）に示す様に平面ステージ下部のステージ定盤３０の内部に配置されており、発熱対策としてコイルの周辺に冷却用の液体を流す配管（不図示）が配置されている。
【００３６】
なお、本実施例の半導体露光装置では、２つのステージ可動体３８、ステージ可動体３９をＡＡエリアとＥｘｐｏエリアとで入れ替える必要がある。そのため、この可動体入替え時に２つのステージ可動体に対して独立にＹ方向駆動が可能な様に図２（ｄ）に図示する様に中央部のＹ固定コイルは２つに分割をされている。
【００３７】
上記実施例では２つのステージを有する半導体露光装置に関して説明を行ったが、本発明は当然１つのステージを有するもの、あるいは３つ以上のステージを有するものにも適応可能である。
【００３８】
また、本実施例では半導体露光装置に本発明の平面モータを用いるものをあげたが、それだけに限らず平面モータを用いる様々な装置に適用可能である。
【００３９】
以上、本発明の平面モータを適用した半導体露光装置に関してその概要を説明してきたが、本発明の変形例を図４〜６を用いて以下に説明をする。
【００４０】
図３に本発明の実施例の形態を、図４〜６の変形例との比較のために記載する。図３の実施例は、Ｙ方向に可動プラテン、Ｘ方向に可動コイル方式を採用したものである。ここでは、以下の変形例の説明の容易化の為にその拡大図を示している。
【００４１】
本発明の実施例では、Ｘ可動コイル３４とＸ可動コイル歯先３５からなる第１駆動部と第１固定部であるＸ固定プラテンとによって、Ｘ方向にステージを駆動させるリニアパルスモータが構成されている。そして、第２駆動部であるＹ可動プラテンとＹ固定コイル３１とＹ固定コイル歯先３２からなる第２固定部とによって、Ｙ方向にステージを駆動させるリニアパルスモータが構成されている。
図からもわかるように、第１固定部と第２固定部は対向するように設けられている。
【００４２】
図４は本発明の変形例１であり、Ｙ方向、Ｘ方向、両方に可動プラテン方式を採用したものである。
【００４３】
ここでは、第１駆動部であるＸ可動プラテン４１とＸ固定コイル４２と不図示のＸ固定コイル歯先からなる第１固定部とによって、Ｘ方向にステージを駆動させるリニアパルスモータが構成されている。そして、第２駆動部であるＹ可動プラテンとＹ固定コイル３１とＹ固定コイル歯先３２とからなる第２固定部とによって、Ｙ方向にステージを駆動させるリニアパルスモータが構成されている。
【００４４】
この変形例では可動体にはコイルは不要であり、ステージ可動体を軽く、かつ、薄く出来るというメリットがある。また、全てのコイル（Ｘ固定コイル４２、Ｙ固定コイル３１）は固定側に配置可能であり、固定部からモータのコイルへの配線が不要となり配線実装を最小化できる他、コイルの冷却もより容易になるというメリットがある。
【００４５】
図５は本発明の変形例２であり、Ｙ方向、Ｘ方向、両方に可動コイル方式を採用したものである。
【００４６】
ここでは、Ｘ可動コイル３４とＸ可動コイル歯先３５からなる第１駆動部と第１固定部であるＸ固定プラテン３６とによって、Ｘ方向にステージを駆動させるリニアパルスモータが構成されている。そして、Ｙ可動コイル５３とＹ可動コイル歯先５２からなる第２駆動部と第２固定部であるＹ固定プラテン５１とによって、Ｙ方向にステージを駆動するリニアパルスモータを構成している。
【００４７】
この変形例では、固定部にはコイルは不要であり、固定部の簡略化が可能となる。本変形例は、ステージ可動体が複数ある場合、固定部コイルを複雑に分割し複雑な制御を行う必要が無いため特にメリットがある。
【００４８】
また、ステージ上部にはＸ固定プラテン３６しか配置する必要が無いため、ステージ上部に配置する露光部、計測部等、操作ユニットに対する設計制約が変形例１に比較すると少なくなっている。但し、Ｙ方向、Ｘ方向、両方のコイル部を可動体に搭載する必要があるため、可動体の重量が増えるため、従来の平面パルスモータに比較すれば２倍の推力とはなっているが他の変形例に比較すると推力的には多少劣っている。
【００４９】
図６は本発明の変形例３であり、Ｙ方向に可動コイル、Ｘ方向に可動プラテン方式を採用したものであり、図３の実施例と可動コイル、可動プラテンの配置を逆にしたものである。
【００５０】
ここでは、第１駆動部であるＸ可動プラテン４１とＸ固定コイル４２と不図示のＸ固定コイル歯先からなる第１固定部とによって、Ｘ方向にステージを駆動するリニアパルスモータが構成されている。そして、Ｙ可動コイル５３とＹ可動コイル歯先３２からなる第２駆動部と第２固定部であるＹ固定プラテン５１とによってＹ方向にステージを駆動するリニアパルスモータが構成されている。
【００５１】
（実施例３）
次に、図７（ａ）〜（ｅ）を用い本発明を平面ローレンツモータに適用した場合の説明を行う。
【００５２】
図７（ａ）は本発明をローレンツモータに適用した場合の説明図、図７（ｂ）は図７（ａ）の図を横から見た図、図７（ｃ）はローレンツモータ可動体を示す図であり、特に、可動体内の、２次元ハルバッハ磁石配置を示している。２次元ハルバッハ磁石配置は、Ｋ．Ｈａｌｂａｃｈ氏が提案した磁石配置である。この磁石配置によって、その磁石配列の表面に強力な正弦波状の磁束密度分布を得られる特徴があり、この片面に、Ｘ方向の駆動コイルとＹ方向の駆動コイルとを配置してＸＹ方向の駆動を行う提案がなされている。
【００５３】
しかし、Ｘ方向の駆動コイル、Ｙ方向の駆動コイルは、多数の巻き線から構成される上これらのコイルには相当大きな電流を流すためコイルを冷却する必要がある。この冷却機構を採用する場合、コイルの高さ方向の寸法は大きなものとなり、２次元ハルバッハ磁石配置の強力な磁束密度分布も遠い側のコイル部分では弱くなってしまい、十分な推力を得ることが困難となる場合があった。
【００５４】
本発明の変形例は、上記問題を解決可能なものであり、図７（ｂ）に示す様に２次元ハルバッハ磁石配列をその内部に有するローレンツモータ可動体７０の上下にＹ方向コイル７１（第２固定部）、Ｘ方向コイル７２（第１固定部）を配置している。この構成により、ハルバッハ磁石配列に対してコイルの位置を近づけることが出来るばかりでなく、ハルバッハ磁石配列の裏面に発生している磁束密度分布も推力を得る為に有効に活用可能となる。また、各コイルの冷却もコイルが一段構成となるため、下側のコイルであればその下側に冷却機構をかなりの設計自由度をもって配置可能となるため、コイル部のコイル密度を上げても十分な冷却が可能となる。
【００５５】
図７（ｄ）はＸ方向コイルのコイル配置を示している。図７（ｅ）はＹ方向コイルのコイル配置を示している。Ｙ方向コイルは、ローレンツモータ可動体７０の上部に配置されており、その上部には、ローレンツモータ可動体７０上に搭載される搭載物に対する操作ユニットが位置するため、中央部のコイルは左右に分かれて配置されている。基本的に搭載物に対する操作ユニットの作業中、ローレンツモータ稼動部内のハルバッハ磁石の全てがＹ方向コイル下に位置するわけでは無い。
【００５６】
このため、Ｙ方向の移動に伴って推力のムラ等が生じない様にＹ方向コイル７１のどのコイルにどれだけの電流を流すかは、可動体のＸ、Ｙ方向位置により制御を行う様にしている。
【００５７】
本実施例では第１方向をＸ方向、第２方向をＹ方向としたが、特にこれに限られるものではなく例えばこの逆であってもよい。
【００５８】
（実施例４）
以下、本発明のステージ装置が適用される例示的な露光装置を説明する。露光装置１０５は図８に示すように、照明装置１０１、レチクルを搭載したレチクルステージ１０２、投影光学系１０３、ウエハを搭載したウエハステージ１０４とを有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式またはステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。
【００５９】
照明装置１０１は回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５７ｎｍのＦ２エキシマレーザなどを使用することができる。しかし、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。さらには、電子ビームやＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ）を用いたものにも使用可能である。
【００６０】
照明光学系はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。
【００６１】
投影光学系１０３は、以下の光学系を使用することが可能である。複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等である。
【００６２】
レチクルステージ１０２およびウエハステージ１０４は、たとえばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。また、レチクルのパターンをウエハ上に位置合わせするためにウエハステージおよびレチクルステージの少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。
【００６３】
このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用されうる。
【００６４】
（実施例５）
次に、図９及び図１０を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図９は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
【００６５】
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが作製され、それが出荷（ステップＳ７）される。
【００６６】
図１０は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】実施例１のステージの説明図
【図２】実施例２のステージの説明図（Ｘ固定プラテン裏面）
【図３】実施例２のステージの拡大図
【図４】実施例２のステージの変形例１の説明図
【図５】実施例２のステージの変形例２の説明図
【図６】実施例２のステージの変形例３の説明図
【図７】実施例３のステージの説明図
【図８】露光装置を説明するための図
【図９】露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャート
【図１０】図９に示すフローチャートのステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャート
【図１１】従来のリニアパルスモータの動作原理
【図１２】従来の平面パルスモータの可動体
【図１３】従来の平面パルスモータの全体図
【符号の説明】
【００６８】
１０  可動体
１１  Ｘ可動コイル
１２  Ｘ可動コイル歯先
１３  Ｙ可動プラテン
１４  Ｙ可動プラテン凸部
１５  Ｘ固定プラテン
１６  Ｘ固定プラテン凸部
１７  Ｙ固定部
１８  Ｙ固定コイル
１９  Ｙ固定コイル歯先
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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