(57)【要約】【課題】被測定体によって形成される光束の波面を高精度（例えば、高空間周波数のうねり成分まで）、且つ、短時間で測定することができる測定方法を提供する。【解決手段】参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部とを備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出する測定装置を用いて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定方法であって、前記測定装置における位相伝達関数及びパワースペクトル密度を用いて、前記測定装置による測定結果から前記光学系に起因する波面誤差を分離する測定方法を提供する。【選択図】図７
2009281992.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部とを備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出する測定装置を用いて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定方法であって、
前記基準面を配置して、前記基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記光学系に起因する波面誤差を測定する第１の測定ステップと、
前記被測定体を配置して、前記被測定体からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する第２の測定ステップと、
前記基準面から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記基準面と前記参照面との距離に依存する第１の位相伝達特性を算出する第１の算出ステップと、
前記被測定体から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記被測定体と前記参照面との距離に依存する第２の位相伝達特性を算出する第２の算出ステップと、
前記第１の測定ステップで測定された前記波面誤差をフーリエ変換して第１のパワースペクトル密度を算出する第３の算出ステップと、
前記第２の測定ステップで測定された前記被測定体によって形成される光束の波面をフーリエ変換して第２のパワースペクトル密度を算出する第４の算出ステップと、
前記第１の算出ステップで算出された前記第１の位相伝達特性及び前記第３の算出ステップで算出された前記第１のパワースペクトル密度に基づいて、前記第１の測定ステップにおける前記光学系に起因する波面誤差の基準パワースペクトル密度を算出する第５の算出ステップと、
前記第５の算出ステップで算出された前記基準パワースペクトル密度及び前記第２の算出ステップで算出された前記第２の位相伝達特性に基づいて、前記第２の測定ステップにおける前記光学系に起因する波面誤差の第３のパワースペクトル密度を算出する第６の算出ステップと、
前記第４の算出ステップで算出された前記第２のパワースペクトル密度から前記第６の算出ステップで算出された前記第３のパワースペクトル密度を分離して、前記第２の測定ステップで測定された前記被測定体によって形成される光束の波面を補正する補正ステップと、
を有することを特徴とする測定方法。
【請求項２】
前記第１のパワースペクトル密度、前記第２のパワースペクトル密度及び前記第３のパワースペクトル密度は、空間周波数ごとに算出され、
前記補正ステップでは、前記空間周波数ごとに、前記被測定体の波面を補正することを特徴とする請求項１に記載の測定方法。
【請求項３】
前記第１の測定ステップでは、前記第１の算出ステップで算出される前記第１の位相伝達特性に不感帯を発生させないように、前記参照面と前記基準面との距離を設定することを特徴とする請求項１又は２に記載の測定方法。
【請求項４】
前記第１の算出ステップでは、前記第１の測定ステップにおける前記基準面、前記参照面、前記光学系及び前記検出部の配置に基づいて、前記第１の位相伝達特性を算出し、
前記第２の算出ステップでは、前記第２の測定ステップにおける前記被測定体、前記参照面、前記光学系及び前記検出部の配置に基づいて、前記第２の位相伝達特性を算出することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項５】
前記第１の算出ステップでは、前記基準面によって形成される光束の波面のパワースペクトル密度に基づいて、前記第１の位相伝達特性を算出し、
前記第２の算出ステップでは、前記被測定体によって形成される光束の波面のパワースペクトル密度に基づいて、前記第２の位相伝達特性を算出することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項６】
前記被測定体は、凸面、凹面又は平面を有することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項７】
前記被測定体は、透過光学系であることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項８】
参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部と、を備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出して、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定装置であって、
前記基準面を配置して、前記基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記光学系に起因する波面誤差を測定するように、及び、前記被測定体を配置して、前記被測定体からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記被測定体によって形成される光束の波面を測定するように制御する制御部と、
前記被測定体によって形成される光束の波面の算出に関する処理を行う処理部と、
を有し、
前記処理部は、
前記基準面から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記基準面と前記参照面との距離に依存する第１の位相伝達特性を算出し、
前記被測定体から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記被測定体と前記参照面との距離に依存する第２の位相伝達特性を算出し、
測定された前記波面誤差をフーリエ変換して第１のパワースペクトル密度を算出し、
測定された前記被測定体によって形成される光束の波面をフーリエ変換して第２のパワースペクトル密度を算出し、
前記第１の位相伝達特性及び前記第１のパワースペクトル密度に基づいて、前記光学系に起因する波面誤差を測定したときの基準パワースペクトル密度し、
前記基準パワースペクトル密度及び前記第２の位相伝達特性に基づいて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定したときの前記光学系に起因する波面誤差の第３のパワースペクトル密度を算出し、
前記第２のパワースペクトル密度から前記第３のパワースペクトル密度を分離して、前記第２の測定ステップで測定された前記被測定体によって形成される光束の波面を補正することを特徴とする測定装置。
【請求項９】
複数の光学素子で構成される光学系を製造する製造方法であって、
請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の測定方法を用いて前記複数の光学素子のそれぞれによって形成される光束の波面を測定する測定ステップと、
前記測定ステップの測定結果に基づいて、前記複数の光学素子のそれぞれによって形成される光束の波面誤差が低減するように、前記複数の光学素子のそれぞれを加工する加工ステップと、
前記加工ステップで加工された前記複数の光学素子を組み立てて光学系を製造する製造ステップと、
を有することを特徴とする製造方法。
【請求項１０】
複数の光学素子で構成される光学系を製造する製造方法であって、
請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の測定方法を用いて前記光学系によって形成される光束の波面を測定する測定ステップと、
前記測定ステップの測定結果に基づいて、前記光学系によって形成される光束の波面誤差が低減するように、前記複数の光学素子間の間隔及び前記複数の光学素子のそれぞれの偏心の少なくとも一方を調整する調整ステップと、
を有することを特徴とする製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定方法、測定装置及び光学系の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学系の透過波面又は反射波面（光学特性）を測定する際に、従来から干渉計が利用されている。干渉計は、光学系の波面を高精度に測定することが可能であるため、波面収差を厳密に管理する必要のある光学系の波面の測定に好適である。特に、フォトリソグラフィー技術を用いて微細な半導体デバイスを製造する露光装置の投影光学系には、サブナノオーダー以下で波面収差を管理することが要求されているため、干渉計を利用した波面測定が重要となる。
【０００３】
また、近年では、露光光の短波長化が進んでいるため、露光装置の投影光学系には、波面収差だけではなく、光学系の屈折面及び反射面の表面粗さ（面形状誤差）や光学材料の内部屈折率分布に起因して発生するフレア（の影響）も管理することが要求されている。なお、フレアは、投影光学系を構成する光学素子の面形状誤差及び内部屈折率分布のうち、特に、空間周波数の高い微細なうねり成分に起因して発生する。従って、フレアを低減させるためには、投影光学系を構成する光学素子の面形状誤差や内部屈折率分布を高い空間周波数成分まで高精度に測定することが必要となる。
【０００４】
干渉計を利用して光学素子の面形状誤差や光学系の透過波面を空間周波数の高い微細なうねり成分まで高精度に測定及び評価するためには、干渉計（の光学系）に固有な波面誤差（所謂、システムエラー）と被測定面の形状誤差との分離が重要である。
【０００５】
システムエラーと被測定面の形状誤差とを分離する方法に関しては、従来から提案されている（特許文献１参照）。例えば、被測定面の測定領域をランダムに変位させて波面を複数回測定する波面平均化法が提案されている。また、干渉計の光軸に対して被測定面を回転及びシフトさせた状態で波面を測定して非回転対称成分と回転対称成分とを別々に算出する方法（以下、「回転シフト法」と称する）も提案されている。
【特許文献１】特開平５−２２３５３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
干渉計を利用して測定される波面のうち空間周波数の高い微細なうねり成分に着目した場合、その位相振幅は干渉計で使用される光源の波長に対して十分に小さい。従って、干渉計に固有な波面誤差の高空間周波数のうねり成分は、被測定面の形状によって干渉計（の光学系）を介した共役関係が変化するため、検出部で検出される位相振幅の量が変化する。例えば、フィゾー型の干渉計の場合、フィゾー面と被測定面との間の距離が変化すると、即ち、被測定面の曲率半径が異なると、フィゾー面と検出部までの光路長が変化するため、かかる光路長の変化に応じて異なった位相振幅（位相振幅特性）が検出されてしまう。
【０００７】
従って、干渉計に固有な波面誤差の高空間周波数のうねり成分まで高精度に分離するためには、被測定面（の形状）が変わるたびに、被測定面と同じ曲率半径を有する基準面（又は被測定面）を用いて波面平均化法や回転シフト法を実施しなければならない。
【０００８】
しかしながら、波面平均化法では、平均化する複数の波面（波面データ）がランダムであることが必須であるが、被測定面ごとに、そのような参照面を製造することは現実的には非常に困難であり、被測定面の形状が制限されてしまう。なお、そのような参照面を製造することができたとしても、要求される校正精度（即ち、システムエラーを分離する精度）が高くなるほど平均化回数を増加しなければならないため、測定時間が著しく長くなってしまうという問題がある。
【０００９】
また、波面平均化法及び回転シフト法のいずれの方法であっても、様々な大きさ及び形状（回転対称形状や非回転対称形状など）の被測定面を、干渉計の光軸に対して駆動させる駆動機構が必要となる。かかる駆動機構は、駆動誤差に起因する形状誤差や姿勢変化時の重力変形などを被測定面ごとに最適化する必要があり、装置構成の複雑化及び装置コストの増大を招いてしまう。
【００１０】
そこで、本発明は、このような従来技術の課題に鑑みて、被測定体によって形成される光束の波面を高精度（例えば、高空間周波数のうねり成分まで）、且つ、短時間で測定することができる測定方法及び測定装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての測定方法は、参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部とを備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出する測定装置を用いて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定方法であって、前記基準面を配置して、前記基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記光学系に起因する波面誤差を測定する第１の測定ステップと、前記被測定体を配置して、前記被測定体からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する第２の測定ステップと、前記基準面から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記基準面と前記参照面との距離に依存する第１の位相伝達特性を算出する第１の算出ステップと、前記被測定体から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記被測定体と前記参照面との距離に依存する第２の位相伝達特性を算出する第２の算出ステップと、前記第１の測定ステップで測定された前記波面誤差をフーリエ変換して第１のパワースペクトル密度を算出する第３の算出ステップと、前記第２の測定ステップで測定された前記被測定体によって形成される光束の波面をフーリエ変換して第２のパワースペクトル密度を算出する第４の算出ステップと、前記第１の算出ステップで算出された前記第１の位相伝達特性及び前記第３の算出ステップで算出された前記第１のパワースペクトル密度に基づいて、前記第１の測定ステップにおける前記光学系に起因する波面誤差の基準パワースペクトル密度を算出する第５の算出ステップと、前記第５の算出ステップで算出された前記基準パワースペクトル密度及び前記第２の算出ステップで算出された前記第２の位相伝達特性に基づいて、前記第２の測定ステップにおける前記光学系に起因する波面誤差の第３のパワースペクトル密度を算出する第６の算出ステップと、前記第４の算出ステップで算出された前記第２のパワースペクトル密度から前記第６の算出ステップで算出された前記第３のパワースペクトル密度を分離して、前記第２の測定ステップで測定された前記被測定体によって形成される光束の波面を補正する補正ステップと、を有することを特徴とする。
【００１２】
本発明の別の側面としての測定装置は、参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部と、を備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出して、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定装置であって、前記基準面を配置して、前記基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記光学系に起因する波面誤差を測定するように、及び、前記被測定体を配置して、前記被測定体からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記被測定体によって形成される光束の波面を測定するように制御する制御部と、前記被測定体によって形成される光束の波面の算出に関する処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記基準面から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記基準面と前記参照面との距離に依存する第１の位相伝達特性を算出し、前記被測定体から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記被測定体と前記参照面との距離に依存する第２の位相伝達特性を算出し、測定された前記波面誤差をフーリエ変換して第１のパワースペクトル密度を算出し、測定された前記被測定体によって形成される光束の波面をフーリエ変換して第２のパワースペクトル密度を算出し、前記第１の位相伝達特性及び前記第１のパワースペクトル密度に基づいて、前記光学系に起因する波面誤差を測定したときの基準パワースペクトル密度し、前記基準パワースペクトル密度及び前記第２の位相伝達特性に基づいて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定したときの前記光学系に起因する波面誤差の第３のパワースペクトル密度を算出し、前記第２のパワースペクトル密度から前記第３のパワースペクトル密度を分離して、前記第２の測定ステップで測定された前記被測定体によって形成される光束の波面を補正することを特徴とする。
【００１３】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、例えば、被測定体によって形成される光束の波面を高精度（例えば、高空間周波数のうねり成分まで）、且つ、短時間で測定する測定方法及び測定装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
［第１の実施形態］
図１は、本発明の一側面としての測定装置１の構成を示す概略図である。測定装置１は、被測定体（被測定面）によって形成される光束の波面（以下、「被測定体の波面」と称する）、即ち、被測定体の形状（面形状）を測定する。
【００１６】
測定装置１は、基本的には、フィゾー型の干渉計の構成を有する。具体的には、測定装置１は、図１に示すように、光源１０と、投光系２０と、結像光学系３０と、検出部４０と、処理部５０とを備える。なお、投光系２０は、ビームエキスパンダ２２と、ビームスプリッタ２４と、参照面２６ａを有するフィゾーレンズ２６とを含む。
【００１７】
光源１０から射出された光束は、ビームエキスパンダ２２で所望の光束径の平行光束に変換され、ビームスプリッタ２４に入射する。ビームスプリッタ２４で反射された光束は、フィゾーレンズ２６に入射して参照面２６ａで参照光束と被検光束とに分離される。詳細には、フィゾーレンズ２６の参照面２６ａで反射された光束が参照光束となり、フィゾーレンズ２６の参照面２６ａを透過して被測定面ＭＳ又は被測定面ＭＳの位置に配置された基準面ＳＳで反射された光束が被検光束となる。
【００１８】
フィゾーレンズ２６の参照面２６ａで反射された参照光束及び被測定面ＭＳで反射された被検光束は、フィゾーレンズ２６を再び透過し、結像光学系３０で所望の光束径に変換されて検出面を有する検出部４０に入射する。
【００１９】
検出部４０の検出面では、被検光と参照光との干渉（重ね合わせ）によって被測定面ＭＳの形状に応じた干渉パターン（干渉縞）が形成され、かかる干渉パターンが検出される。この際、フィゾーレンズ２６又は被測定面ＭＳを光軸方向に微小駆動させて干渉パターンの位相を変調し、位相変調量の異なる複数の干渉パターンを検出する。なお、検出部４０は、複数の画素で構成される撮像面を有するＣＣＤなどの撮像素子を使用する。
【００２０】
検出部４０で検出された干渉パターンは処理部５０に送られ、位相回復アルゴリズムなどを用いて被測定面ＭＳの形状（形状データ）に変換される。この際、被測定面ＭＳの形状を高空間周波数のうねり成分まで高精度に測定するためには、測定装置１（を構成する光学系）に固有な波面誤差と被測定面ＭＳの形状誤差を高空間周波数成分まで分離しなければならない。従って、以下に説明するように、被測定面ＭＳと同じ曲率半径を有する基準面（又は被測定面ＭＳ）を用いて、測定装置１（を構成する光学系）に固有な波面誤差を測定する必要がある。
【００２１】
投光系２０は、上述したように、ビームエキスパンダ２２と、ビームスプリッタ２４と、フィゾーレンズ２６とを含む共通光路を有する。かかる共通光路に配置された光学素子の製造誤差などに起因する波面誤差は、参照面２６ａで参照光束と被検光束とに分割（振幅分割）される。従って、かかる波面誤差は、参照面２６ａを起点として、参照光束及び被検光束によってそれぞれの誤差情報が別々に（別光路で）検出部４０に伝搬される。
【００２２】
波面誤差のうち空間周波数が高い成分（例えば、Ｚｅｒｎｉｋｅ多項式の１６９項以上の成分）、即ち、うねりの振幅が光源１０からの光束の波長λと比較して十分に小さい弱位相成分は、空間を伝搬する距離（伝搬距離）に応じて、うねりの振幅が変動する。例えば、図２に示すように、空間ピッチｐ、うねり振幅ａの波面ＷがＸ＝０に存在しているとする。波面Ｗは、Ｘ＝（ｎ−１／２）・ｐ２／λ、（ｎ＝１、２、３、・・・）だけ伝搬した位置では、うねりの振幅が最小となる。また、波面Ｗは、Ｘ＝ｎ・ｐ２／λ、（ｎは奇数）だけ伝搬した位置では、うねりの振幅がＸ＝０と同じになり、うねりの位相がπ反転する。更に、波面Ｗは、Ｘ＝ｎ・ｐ２／λ、（ｎは偶数）だけ伝搬した位置では、うねりの振幅及び位相ともＸ＝０と同じになる。このように、うねりの振幅は、伝搬距離によって周期的に変動し、その変動周期は、波面Ｗの空間ピッチｐ及び光源１０からの光束の波長λによって異なる。図２は、波面誤差のうち弱位相成分の伝搬を説明するための図である。
【００２３】
ここで、被測定面ＭＳがある曲率半径（凹面）を有する場合における測定装置１について考える。投光系２０の共通光路で発生した波面誤差のうち、空間周波数が高く、うねりの振幅が光源１０からの光束の波長に対して十分に小さい弱位相成分に着目する。波面誤差を参照光束と被検光束とに分割するフィゾーレンズ２６の参照面２６ａは、測定装置１の復路検出光学系からみて、弱位相成分の起点、即ち、物点となる。なお、復路検出光学系とはフィゾーレンズ２６の参照面２６ａから検出部４０の間の光路に配置されている光学系で構成される系である。従って、フィゾーレンズ２６、ビームスプリッタ２４及び結像光学系３０で構成される復路検出光学系の物点位置が参照光束の光路（参照光路）と被検光束の光路（被検光路）とで異なる。その結果、参照光束及び被検光束の共役像も物点のズレに対応して異なる位置に結像する。
【００２４】
図３（ａ）は、被測定面ＭＳが凹面である場合の参照光路における参照面２６ａｒと被測定面ＭＳの復路検出光学系による共役像面との位置関係を示す図である。図３（ｂ）は、被測定面ＭＳが凹面である場合の被検光路における参照面２６ａｍと被測定面ＭＳの復路検出光学系による共役像面との位置関係を示す図であって、参照面２６ａｍから被測定面ＭＳまでの往路を展開図で示している。なお、図３（ａ）及び（ｂ）では、簡略化のため、ビームスプリッタ２４の図示を省略している。
【００２５】
図３（ａ）において、２６ａｒ’は、復路検出光学系によって結像される参照面２６ａｒの共役像面である。また、ＭＳ’は、復路検出光学系によって結像される被検面ＭＳの共役像面である。ｄｒは、測定装置１の検出部４０における共役像面２６ａｒ’と共役像面ＭＳ’との位置ズレ量である。ＰＬ１は、参照面２６ａｒを物面とする参照光束の近軸光線である。ＰＬ２は、被測定面ＭＳを物面となる被検光束の近軸光線である。ＣＰは、フィゾーレンズ２６を透過した光束の集光位置である。
【００２６】
一方、図３（ｂ）において、２６ａｍ’は、被測定面ＭＳによる参照面２６ａｍの共役像面である。また、２６ａｍ’’は、復路検出光学系によって結像される参照面２６ａｍの共役像面２６ａｍ’の共役像面である。ｄｍは、測定装置１の検出部４０における共役像面２６ａｍ’’と共役像面ＭＳ’との位置ズレ量である。ＰＬ３は、参照面２６ａｍを物面とする被検光束の近軸光線である。
【００２７】
フィゾー型の干渉計である測定装置１では、被測定面ＭＳの共役像面ＭＳ’を中心として、参照光路の参照面２６ａｒの共役像面２６ａｒ’と被検光路の参照面２６ａｍの共役像面２６ａｍ’’は、光軸方向に対称的に同じ距離だけずれた位置に結像する特性がある。
【００２８】
検出部４０を被測定面ＭＳの共役像面ＭＳ’に一致させた状態におけるうねり成分の位相伝達特性（位相伝達関数）は、図４（ａ）に示すような特性を有する。ここで、位相伝達特性とは、位相伝達率＝（Ｘだけ伝搬した位置でのうねりの振幅）／（Ｘ＝０の位置、即ち、参照面２６ａと近接する面でのうねりの振幅）を空間周波数ごとに算出したものである。図４（ａ）では、振幅のうねりの空間周波数（空間ピッチの逆数）を横軸に採用し、うねりの振幅の伝達率を縦軸に採用している。
【００２９】
図４（ａ）を参照するに、検出部４０においては、空間周波数に応じて、もとのうねりの振幅成分が再現したり、減衰したり、或いは、うねりの位相が反転したりする現象が生じる。また、検出部４０を被測定面ＭＳの共役像面ＭＳ’に一致させた状態で検出（測定）した波面をフーリエ変換して得られるパワースペクトル密度（ＰＳＤ）を空間周波数に対してプロットしたグラフを図５（ａ）に示す。図５（ａ）を参照するに、図４（ａ）に示す位相伝達特性が−１となる空間周波数において、被検光束と参照光束との位相差が極大となり、図４（ａ）に示す位相伝達特性が＋１となる空間周波数において、被検光束と参照光束との位相差が極小となる。
【００３０】
検出部４０を被測定面ＭＳの共役像面ＭＳ’に一致させるには、図示しない駆動系を介して、検出部４０を光軸方向に駆動してフォーカス調整を行えばよい。また、図示しない駆動系を介して、結像光学系３０を光軸方向に駆動したり、結像光学系３０とビームスプリッタ２４との間の光路長又は結像光学系３０と検出部４０との間の光路長を変えたりしてフォーカス調整を行ってもよい。但し、このような場合には、フォーカス調整を行った後の光学配置を用いて位相伝達関数を算出する必要がある。
【００３１】
次に、被測定面ＭＳがある曲率半径（凸面）を有する場合における測定装置１について考える。
【００３２】
図６（ａ）は、被測定面ＭＳが凸面である場合の参照光路における参照面２６ａｒと被測定面ＭＳの復路検出光学系による共役像面との位置関係を示す図である。図６（ｂ）は、被測定面ＭＳが凹面である場合の被検光路における参照面２６ａｍと被測定面ＭＳの復路検出光学系による共役像面との位置関係を示す図であって、参照面２６ａｍから被測定面ＭＳまでの往路を展開図で示している。
【００３３】
参照面２６ａｒの共役像面２６ａｒ’は、被測定面ＭＳ（の形状）にかかわらず、常に同じ位置となる。但し、被測定面ＭＳの共役像面ＭＳ’、参照面２６ａｍの共役像面２６ａｍ’及び共役像面２６ａｍ’’は、被測定面ＭＳ（の形状）によって変化する。従って、測定装置１の検出部４０における共役像面２６ａｒ’と共役像面ＭＳ’との位置ズレ量ｄｒ２及び測定装置１の検出部４０における共役像面２６ａｍ’’と共役像面ＭＳ’との位置ズレ量ｄｍ２も変化する。
【００３４】
検出部４０を被測定面ＭＳの共役像面ＭＳ’に一致させた状態におけるうねり成分の位相伝達特性（位相伝達関数）は、図４（ｂ）に示すような特性を有する。また、検出部４０を被測定面ＭＳの共役像面ＭＳ’に一致させた状態で検出（測定）した波面をフーリエ変換して得られるパワースペクトル密度（ＰＳＤ）を空間周波数に対してプロットしたグラフを図５（ｂ）に示す。図４（ｂ）及び図５（ｂ）を参照するに、ＰＳＤが極値を示す空間周波数は、上述したのと同様に、位相伝達特性に対応している。
【００３５】
このように、被測定面ＭＳの曲率半径が異なる、即ち、参照面２６ａと被測定面ＭＳとの間の距離（参照面２６ａと被測定面ＭＳとの間隔）が被測定面ＭＳの形状に応じて変化すると、被検光路におけるうねりの成分の周波数特性が変化する。その結果、測定装置１に固有な波面誤差のうち高空間周波数のうねり成分の周波数特性が変化する。従って、被測定面ＭＳごとに変化する測定装置１の波面誤差を厳密に測定して、かかる波面誤差を分離（除去）する必要がある。但し、被測定面ＭＳごとに波面誤差を分離（除去）するための測定を実施していては、測定時間が著しく長くなってしまう。また、被測定面ＭＳの形状（被測定体の大きさ）によっては、物理的な制約によって、波面誤差を分離（除去）するための測定を実施できないこともある。
【００３６】
そこで、測定装置１においては、図７のフローチャートに示す測定方法を実行する。かかる測定方法は、被測定面ＭＳの波面（形状）を測定する測定方法であって、測定装置１に固有な波面誤差のうねり成分を校正（分離）することで、被測定面ＭＳごとの波面誤差の測定を省くことが可能となる。また、図７のフローチャートに示す測定方法は、制御部としても機能する処理部５０が測定装置１の各部を統括的に制御することによって実行される。従って、処理部５０は、被測定体ＭＳの波面の算出に関する処理を行うだけではなく、測定装置１の全体を制御する。例えば、処理部５０は、基準面ＳＳを配置して、基準面ＳＳからの被検光束と参照面２６ａからの参照光束との干渉パターンを検出部４０で検出することによって測定装置１の波面誤差を測定するように制御する。同様に、処理部５０は、被測定体ＭＳを配置して、被測定体ＭＳからの被検光束と参照面２６ａからの参照光束との干渉パターンを検出部４０で検出することによって被測定体ＭＳの波面を測定するように制御する。
【００３７】
ステップＳ７０２では、被測定面ＭＳを配置する位置に基準面ＳＳを配置して（即ち、基準面を用いて）、測定装置１の波面誤差Ｗ１を測定する（第１の測定ステップ）。波面誤差の測定は、例えば、波面平均化法や回転シフト法（基準面を回転させたりシフトさせたりしながら測定する方法）などで行う。
【００３８】
ステップＳ７０４では、ステップＳ７０２で測定された波面誤差Ｗ１をフーリエ変換して、パワースペクトル密度（第１のパワースペクトル密度）ＰＳＤ１（例えば、図５（ａ）に示すようなパワースペクトル密度）を算出する（第３の算出ステップ）。
【００３９】
ステップＳ７０６では、基準面ＳＳを用いて波面誤差Ｗ１を測定したときの測定装置１の光学配置に基づいて、参照面２６ａの共役像面（位置）を参照光路と被検光路のそれぞれで算出すると共に、基準面ＳＳの共役像面を算出する。そして、測定装置１の検出部４０における共役像面間の光軸方向の位置ズレ量（例えば、図３（ａ）及び（ｂ）に示すような位置ズレ量ｄｒ及びｄｍ）を算出する。なお、基準面ＳＳを用いて波面誤差Ｗ１を測定したときの測定装置１の光学配置とは、ステップＳ７０２における測定装置１を構成する光学系（但し、基準面や検出部４０なども含む）の配置である。
【００４０】
ステップＳ７０８では、基準面を用いて波面誤差Ｗ１を測定したときのうねり成分の位相伝達関数ＰＦ１（例えば、図４（ａ）に示すような位相伝達関数）を空間周波数成分ごとに算出する（第１の算出ステップ）。ここでは、ステップＳ７０６で算出された共役像面間の位置ズレ量に基づいて、位相伝達関数ＰＦ１を算出する。なお、位相伝達関数（第１の位相伝達特性）ＰＦ１は、基準面ＳＳから参照面２６ａを介して検出部４０に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、基準面ＳＳと参照面２６ａとの距離に依存する。
【００４１】
なお、ステップＳ７０６及びＳ７０８は、ステップＳ７０２及びＳ７０４と並行して実施してもよいし、ステップＳ７０２及びＳ７０４の前に予め実施しておいてもよい。
【００４２】
ステップＳ７１０では、参照面２６ａの近接面における測定装置１の波面誤差の基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０を算出する（第５の算出ステップ）。具体的には、ステップＳ７０４及びＳ７０８のそれぞれで算出されたパワースペクトル密度ＰＳＤ１及び位相伝達関数ＰＦ１に基づいて、基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０を算出する。ステップＳ７１０で算出される基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０の一例を図８に示す。
【００４３】
ステップＳ７１２では、基準面ＳＳを被測定面ＭＳに交換して（即ち、被測定面ＭＳを配置して）、被測定面ＭＳの形状（面形状）を検出して波面Ｗ２を測定する（第２の測定ステップ）。なお、被測定面ＭＳは、基準面ＳＳとは異なる曲率半径及び形状でよい。
【００４４】
ステップＳ７１４では、ステップＳ７１２で測定された波面Ｗ２をフーリエ変換して、パワースペクトル密度（第２のパワースペクトル密度）ＰＳＤ２を算出する（第４の算出ステップ）。
【００４５】
ステップＳ７１６では、被測定面ＭＳの波面Ｗ２を測定したときの測定装置１の光学配置に基づいて、被測定面ＭＳの波面Ｗ２を測定したときの位相伝達関数ＰＦ２（例えば、図４（ｂ）に示すような位相伝達関数）を算出する（第２の算出ステップ）。但し、位相伝達関数ＰＦ２は、被測定面ＭＳの波面Ｗ２をフーリエ変換して得られるパワースペクトル密度ＰＳＤ２の空間周波数特性から算出（推定）してもよい。なお、位相伝達関数（第２の位相伝達特性）ＰＦ２は、被測定体ＭＳから参照面２６ａを介して検出部４０に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、被測定体ＭＳと参照面２６ａとの距離に依存する。
【００４６】
ステップＳ７１８では、被測定面ＭＳの波面Ｗ２を測定したときの測定装置１の波面誤差のうねり成分のパワースペクトル密度（第３のパワースペクトル密度）ＰＳＤ０２（図５（ｂ）に示すようなパワースペクトル密度）を算出する（第６の算出ステップ）。具体的には、ステップＳ７１０及びＳ７１６のそれぞれで算出された基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０及び位相伝達関数ＰＦ２に基づいて、パワースペクトル密度ＰＳＤ０２を算出する。
【００４７】
ステップＳ７２０では、ステップＳ７１４で算出されたパワースペクトル密度ＰＳＤ２からステップＳ７１８で算出されたパワースペクトル密度ＰＳＤ０２を分離（除去）する。換言すれば、パワースペクトル密度ＰＳＤ２からパワースペクトル密度ＰＳＤ０２を分離することで、ステップＳ７１２で測定された被測定体ＭＳの波面を補正する（補正ステップ）。
【００４８】
このように、かかる測定方法によれば、被測定面ＭＳの高空間周波数のうねり成分と測定装置１に固有な波面誤差のうねり成分とを分離して、被測定面ＭＳのうねり成分のみを抽出することができる。また、１つ以上の基準面を用いて測定装置１の波面誤差を高空間周波数まで一度測定すれば、被測定面ＭＳの曲率半径及び形状が変わった場合でも、被測定面ＭＳのうねり成分のみを抽出することができる。具体的には、被測定面ＭＳの外形データと測定装置１の光学配置（光学系の設計データ）を用いた光線追跡などによって、被測定面ＭＳを測定したときの高空間周波数のうねり成分の位相伝達関数及び測定装置１の波面誤差の周波数特性を算出して分離（除去）する。
【００４９】
なお、ここでは、１つ以上の基準面を用いて測定装置１の波面誤差を測定しているが、被測定面ＭＳを基準面として用いて測定装置１の波面誤差を測定しても同様に被測定面ＭＳのうねり成分のみを抽出することができる。
【００５０】
このように、第１の実施形態における測定装置１及び測定方法によれば、被測定体によって形成される光束の波面を高精度（例えば、高空間周波数のうねり成分まで）、且つ、短時間で測定することができる。
【００５１】
［第２の実施形態］
第２の実施形態では、図９に示すように、平面を有する被測定面ＭＳＦの波面（形状）を測定する測定装置１Ａについて説明する。
【００５２】
測定装置１Ａは、基本的には、フィゾー型の干渉計の構成を有する。具体的には、測定装置１Ａは、図９に示すように、光源１０と、投光系２０と、結像光学系３０と、検出部４０と、処理部５０とを備える。なお、投光系２０は、ビームエキスパンダ２２と、ビームスプリッタ２４と、参照面２８ａを有する透過平面レンズ２８とを含む。
【００５３】
光源１０から射出された光束は、ビームエキスパンダ２２で所望の光束径の平行光束に変換され、ビームスプリッタ２４に入射する。ビームスプリッタ２４で反射された光束は、透過平面レンズ２８に入射して参照面２８ａで参照光束と被検光束とに分離される。詳細には、透過平面レンズ２８の参照面２８ａで反射された光束が参照光束となり、透過平面レンズ２８の参照面２８ａを透過して被測定面ＭＳＦ又は被測定面ＭＳＦの位置に配置された基準面ＳＳＦで反射された光束が被検光束となる。
【００５４】
以下、測定装置１Ａにおける測定方法について説明する。かかる測定方法は、被測定面ＭＳＦの波面（形状）を測定する測定方法であって、測定装置１Ａに固有な波面誤差のうねり成分を校正（分離）することで、被測定面ＭＳＦごとの波面誤差の測定を省くことが可能となる。また、かかる測定方法は、制御部としても機能する処理部５０が測定装置１の各部を統括的に制御することによって実行される。
【００５５】
まず、基準面ＳＳＦを透過平面レンズ２８の参照面２８ａから距離ｄ１だけ離れた位置に配置して（即ち、基準面ＳＳＦを用いて）、測定装置１Ａに固有な波面誤差Ｗ３１を測定する。
【００５６】
次に、基準面ＳＳＦを透過平面レンズ２８の参照面２８ａから距離ｄ２だけ離れた位置に配置して、測定装置１Ａに固有な波面誤差Ｗ３２を測定する。
【００５７】
次いで、波面誤差Ｗ３１及びＷ３２のそれぞれをフーリエ変換して、パワースペクトル密度ＰＳＤ３１及びＰＳＤ３２を算出する。
【００５８】
また、基準面ＳＳＦを透過平面レンズ２８から距離ｄ１だけ離れた位置に配置した場合における高空間周波数成分の位相伝達関数ＰＦ３１を算出する。同様に、基準面ＳＳＦを透過平面レンズ２８から距離ｄ２だけ離れた位置に配置した場合における高空間周波数成分の位相伝達関数ＰＦ３２を算出する。なお、位相伝達関数ＰＦ３１及びＰＦ３２のそれぞれは、上述したように、基準面ＳＳＦを透過平面レンズ２８から距離ｄ１又はｄ２だけ離れた位置に配置した場合における測定装置１Ａの光学配置から算出することができる。このようにして算出される位相伝達関数ＰＦ３１及びＰＦ３２の一例を図１０に示す。そして、パワースペクトル密度ＰＳＤ３１及びＰＳＤ３２、及び、位相伝達関数ＰＦ３１及びＰＦ３２に基づいて、基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０３を算出する。
【００５９】
ここで、基準面ＳＳＦを２つの位置（参照面２８ａから距離ｄ１及びｄ２だけ離れた位置）に配置して測定装置１Ａに固有な波面誤差Ｗ３１及びＷ３２を測定する理由を説明する。基準面ＳＳＦを参照面２８ａから距離ｄ１だけ離れた位置に配置して測定装置１Ａに固有な波面誤差Ｗ３１を測定しただけでは、図１０に示す位相伝達関数ＰＦ３１の不感帯αの空間周波数において、基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０３の算出が不可能となる。そこで、図１０に示す位相伝達関数ＰＦ３１及びＰＦ３２の位相伝達特性が０となる不感帯α及びβが同一の空間周波数とならないように、距離ｄ１及びｄ２を設定して測定装置１Ａの波面誤差を測定する。これにより、位相伝達関数ＰＦ３１の及びＰＦ３２の不感帯α及びβを相補して基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０３を算出することが可能となる。
【００６０】
次に、被測定面ＭＳＦを透過平面レンズ２８の参照面２８ａから距離ｄ１だけ離れた位置に配置して、被測定面ＭＳＦの形状（面形状）を検出して波面Ｗ３３を測定する。また、基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０３及び位相伝達関数ＰＦ３１に基づいて、被測定面ＭＳＦを測定したときの測定装置１Ａの波面誤差のうねり成分のパワースペクトル密度ＰＳＤ０３３を算出する。そして、被測定面ＭＳＦの波面Ｗ３３をフーリエ変換して得られるパワースペクトル密度ＰＳＤ＿Ｗ３３からパワースペクトル密度ＰＳＤ０３３を分離（除去）する。
【００６１】
なお、基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０３を算出するために用いた基準面ＳＳＦは、被測定面ＭＳＦでもよい。また、ここでは、被測定面ＭＳＦを透過平面レンズ２８の参照面２８ａから距離ｄ１だけ離れた位置に配置した。但し、参照面２８ａから任意の距離だけ離れた位置に被測定面ＭＳＦを配置しても、かかる配置における位相伝達関数を用いてパワースペクトル密度を算出すれば、測定装置１Ａに固有な波面誤差の高空間周波数成分を分離（除去）することができる。
【００６２】
このように、第２の実施形態における測定装置１Ａ及び測定方法によれば、被測定体によって形成される光束の波面を高精度（例えば、高空間周波数のうねり成分まで）、且つ、短時間で測定することができる。
［第３の実施形態］
第３の実施形態では、図１１に示すように、透過光学系としての被検レンズＭＬによって形成される光束の波面（透過波面収差）を測定する測定装置１Ｂについて説明する。
【００６３】
測定装置１Ｂは、基本的には、フィゾー型の干渉計の構成を有する。具体的には、測定装置１Ｂは、図１１に示すように、光源１０と、投光系２０と、結像光学系３０と、検出部４０と、処理部５０と、反射ミラー７０及び８０とを備える。なお、投光系２０は、ビームエキスパンダ２２と、ビームスプリッタ２４と、参照面２６ａを有するフィゾーレンズ２６とを含む。
【００６４】
測定装置１Ｂは、被検レンズＭＬの波面収差を往復光路で測定するために、反射ミラー７０及び８０を備えている。フィゾーレンズ２６を透過した光束は、被検レンズＭＬに入射する。被検レンズＭＬを通過した光束は、反射ミラー７０で反射され、被検レンズＭＬを再び通過してフィゾーレンズ２６に戻る。被検レンズＭＬの波面収差のみを高空間周波数まで高精度に測定するためには、測定装置１Ｂに固有な波面誤差（波面収差）と被検レンズＭＬの波面収差とを分離する必要がある。そこで、反射ミラー７０の被検レンズＭＬによる共役像面７０’の位置に反射ミラー８０を配置して、測定装置１Ｂに固有な波面誤差（波面収差）を測定する。これにより、測定装置１Ｂに固有な波面誤差（波面収差）の波面位相が反射ミラー７０と反射ミラー８０との間で維持されるため、測定装置１Ｂに固有な波面誤差（波面収差）を高精度に分離することが可能である。
【００６５】
但し、被検レンズＭＬを介して反射ミラー７０と反射ミラー８０とを共役に配置しない場合であっても、第３の実施形態では、測定装置１Ｂに固有な波面誤差（波面収差）を高精度に分離することができる。
【００６６】
以下、測定装置１Ｂにおける測定方法について説明する。かかる測定方法は、被検レンズＭＬの波面（透過波面収差）を測定する測定方法であって、制御部としても機能する処理部５０が測定装置１の各部を統括的に制御することによって実行される。
【００６７】
まず、反射ミラー８０をフィゾーレンズ２６に対向して配置する。ここで、反射ミラー８０は、被検レンズＭＬを介した反射ミラー７０の共役像面７０’の位置とは一致しておらず、共役像面７０’から光軸方向にずれた位置に配置される。この状態で（即ち、反射ミラー８０を用いて）測定装置１Ｂに固有な波面データＷ４１を測定する。
【００６８】
次いで、波面データＷ４１をフーリエ変換して、パワースペクトル密度ＰＳＤ４１を算出する。また、反射ミラー８０を含む測定装置１Ｂの光学配置に基づいて、波面データＷ４１を測定したときの高空間周波数の位相伝達関数ＰＦ４１を算出する。そして、パワースペクトル密度ＰＳＤ４１及び位相伝達関数ＰＦ４１に基づいて、基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０４を算出する。
【００６９】
次に、被検レンズＭＬを介した反射ミラー７０の共役像面７０’の位置に反射ミラー８０を配置した場合における位相伝達関数ＰＦ４２を算出する。そして、基準パワースペクトル密度ＰＳＤ０４及び位相伝達関数ＰＦ４２に基づいて、被検レンズＭＬの透過波面を測定する際の測定装置１Ｂに固有な波面誤差のうねり成分のパワースペクトル密度ＰＳＤ０４２を算出する。
【００７０】
次いで、反射ミラー８０を測定装置１Ｂの光路から退避させ、反射ミラー７０を用いて被検レンズＭＬの波面（透過波面）Ｗ４２を測定する。そして、被検レンズＭＬの波面Ｗ４２をフーリエ変換して得られるパワースペクトル密度ＰＳＤ４２からパワースペクトル密度ＰＳＤ０４２を分離（除去）する。
【００７１】
このように、被検レンズＭＬの透過波面を測定する場合であっても、測定装置１Ｂの波面誤差を高精度に分離（除去）して、被検レンズＭＬに起因する高空間周波数のうねり成分のみを抽出することができる。
【００７２】
このように、第３の実施形態における測定装置１Ｂ及び測定方法によれば、被検レンズＭＬによって形成される光束の波面（透過波面収差）を高精度（例えば、高空間周波数のうねり成分まで）、且つ、短時間で測定することができる。
［第４の実施形態］
第４の実施形態では、露光装置に用いられる投影光学系の製造方法について説明する。投影光学系は、レンズやミラーなどの複数の光学素子で構成されている。
【００７３】
まず、第１の実施形態における測定装置１及び測定方法や第２の実施形態における測定装置１Ａ及び測定方法を用いて、投影光学系を構成する光学素子の形状（波面）を高空間周波数成分まで高精度に測定する。そして、測定装置１及び測定方法や測定装置１Ａ及び測定方法による測定結果に基づいて、光学素子の形状誤差が低減するように、かかる光学素子の形状を加工する。なお、光学素子の形状の測定と加工は、かかる光学素子の形状誤差が所望の規格値以下になるまで繰り返す。そして、形状誤差が所望の規格値以下となった光学素子を組み合わせて投影光学系を組み立てる。
【００７４】
次に、第３の実施形態における測定装置１Ｂ及び測定方法を用いて、組み立てた投影光学系の透過波面（波面収差）を高空間周波数成分まで高精度に測定する。そして、測定装置１Ｂ及び測定方法による測定結果に基づいて、投影光学系の波面収差が低減するように、投影光学系を構成する光学素子間の間隔や光学素子の偏心を調整する。なお、投影光学系の透過波面（波面収差）の測定と調整は、波面収差の波面収差が所望の規格値以下になるまで繰り返す。
【００７５】
第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態における測定装置及び測定方法を用いることで、投影光学系の波面収差を空間周波数の高いうねり成分まで高精度に測定することができる。従って、優れた結像性能を有する投影光学系を製造することができる。また、このような投影光学系を用いた露光装置は、優れた露光性能を実現して、高いスループットで経済性よく高品位なデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイスなど）を提供する。かかるデバイスは、露光装置を用いてレジスト（感光剤）が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。
【００７６】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の一側面としての測定装置の構成を示す概略図である。
【図２】波面誤差のうち弱位相成分の伝搬を説明するための図である。
【図３】被測定面が凹面である場合の参照光路及び被検光路のそれぞれにおける参照面と被測定面の復路検出光学系による共役像面との位置関係を示す図である。
【図４】位相伝達特性（位相伝達関数）の一例を示す図である。
【図５】パワースペクトル密度の一例を示す図である。
【図６】被測定面が凸面である場合の参照光路及び被検光路のそれぞれにおける参照面と被測定面の復路検出光学系による共役像面との位置関係を示す図である。
【図７】本発明の一側面としての測定方法を説明するためのフローチャートである。
【図８】図７のステップＳ７１０で算出される基準パワースペクトル密度の一例を示す図である。
【図９】本発明の一側面としての測定装置の構成を示す概略図である。
【図１０】図９に示す測定装置で算出される位相伝達関数の一例を示す図である。
【図１１】本発明の一側面としての測定装置の構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【００７８】
１                            測定装置
１０                          光源
２０                          投光系
２２                          ビームエキスパンダ
２４                          ビームスプリッタ
２６                          フィゾーレンズ
２６ａ                        参照面
３０                          結像光学系
４０                          検出部
５０                          処理部
ＭＳ                          被測定面
ＳＳ                          基準面
１Ａ                          測定装置
２８                          透過平面レンズ
２８ａ                        参照面
ＭＳＦ                        被測定面
ＳＳＦ                        基準面
１Ｂ                          測定装置
７０及び８０                  反射ミラー
ＭＬ                          被検レンズ（透過光学系）
【図１】
2009281992.tif 000003
【図２】
2009281992.tif 000004
【図３】
2009281992.tif 000005
【図４】
2009281992.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2009281992.tif 000009
【図８】
2009281992.tif 000010
【図９】
2009281992.tif 000011
【図１０】
2009281992.tif 000012
【図１１】
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