(57)【要約】【課題】電磁変換特性に優れた安価な磁気記録媒体を提供する。【解決手段】表面側から裏面側に向かって順次形成された磁性層、非磁性層、下塗り層、非磁性支持体及びバックコート層を備える磁気記録媒体において、前記非磁性支持体は、単層のポリエステル系部材によって構成され、前記下塗り層は、放射線によって硬化した放射線硬化性化合物を含有するとともに、２．０μｍ以下の膜厚を有し、前記表面側のカッピング量が０ｍｍ以下となるように磁気記録媒体がカッピングする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面側から裏面側に向かって順次形成された磁性層、非磁性層、下塗り層、非磁性支持体及びバックコート層を備える磁気記録媒体であって、
前記非磁性支持体は、単層のポリエステル系部材によって構成され、
前記下塗り層は、放射線によって硬化した放射線硬化性化合物を含有するとともに、２．０μｍ以下の膜厚を有し、
前記表面側のカッピング量が０ｍｍ以下となるようにカッピングすることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記カッピング量は、０ｍｍ〜−２．０ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記非磁性支持体は、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主成分とするポリエステル系部材によって構成されることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記非磁性支持体は、
１０μｍ以下の膜厚を有し、
０．０５μｍ以上であって１．５μｍよりも小さな平均粒径（Ｄ５０）を有する少なくとも１種類以上の成分を含む第１の不活性微粒子を含有し、
１．５μｍ以上の平均粒径（Ｄ５０）を有する不活性微粒子を含有せず、
前記表面側において１ｎｍ以上５０ｎｍ以下の中心線平均表面粗さを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記第１の不活性微粒子は、シリカ微粒子及びシリコーン微粒子のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
前記非磁性支持体が含有する不活性微粒子のうち平均粒径（Ｄ５０）が最も大きい第２の不活性微粒子は、２．０以下の粒径分布値（Ｄ２５／Ｄ７５）を有する球状の単分散微粒子であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
前記非磁性支持体上に前記放射線硬化性化合物を含有する下塗り層用塗布液を塗布した後に、当該下塗り層用塗布液を乾燥するとともに前記放射線硬化性化合物を硬化することにより前記下塗り層を形成し、
前記下塗り層の乾燥および前記放射線硬化性化合物の硬化後に、前記下塗り層上に非磁性層用塗布液を塗布し、当該非磁性層用塗布液を乾燥することにより前記非磁性層を形成し、
前記非磁性層の形成後に、前記非磁性層上に磁性層用塗布液を塗布し、当該磁性層用塗布液を乾燥することにより前記磁性層を形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項８】
前記下塗り層は、無機化合物からなる粒子および有機化合物からなる粒子を実質的に含有しないことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項９】
前記下塗り層は、前記非磁性層又は前記磁性層に溶出する溶出成分を含み、
前記下塗り層中における前記溶出成分の質量パーセント濃度が１０質量パーセント以下となるように、前記放射線硬化性化合物は硬化されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】
前記下塗り層は、前記非磁性層又は前記磁性層に溶出する溶出成分を含まないことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１１】
前記下塗り層が含有する前記放射線硬化性化合物は、前記下塗り層の体積収縮率が２０％以下となるように硬化されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１２】
前記下塗り層が含有する前記放射線硬化性化合物は、酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の雰囲気下で硬化されることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１３】
前記磁性層は、粉末状強磁性体および結合剤を含み、
前記結合剤は、１２万以上の質量平均分子量を有する樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１４】
前記非磁性支持体に対して前記磁性層が形成される側の前記磁気記録媒体の表面は、１０ｎｍ以下の中心線平均表面粗さを有するとともに、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の高さを有する突起を１〜５００個／１００μｍ２の割合で有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法であって、
非磁性支持体原反ロールから送り出される非磁性支持体上に下塗り層、非磁性層および磁性層を順次、連続して形成することにより得られる磁気記録媒体ウェブを巻き取って磁気記録媒体原反ロールを製造する工程と、
前記磁気記録媒体原反ロールの前記磁気記録媒体ウェブをテープ状に裁断する工程と、含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた磁気特性を有する磁気記録媒体及びその製造方法に関するものであり、特に、電磁変換特性の改良、製造コストの低減、更には生産性に優れた磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、繰り返しコピーによる記録信号の劣化の改善を目的として、磁気記録媒体のデジタル化が進んでいる。それに伴い記録データ量が増え、媒体の高記録密度化が求められている。高記録密度化のためには、媒体の厚み損失や自己減磁損失を低減する必要があり、磁性層の薄膜化が検討されている。
【０００３】
しかし、磁性層が薄膜化すると、非磁性支持体の表面性が磁性層の表面性に影響を及ぼし、電磁変換特性が悪化することがある。近年、このような非磁性支持体の表面性の悪影響を防ぐために、支持体表面に非磁性層を設け、この非磁性層を介して磁性層を設ける技術が提案されている。例えば、特許文献１および２には、このような重層構成の磁気記録媒体を作製する方法として、非磁性粒子を熱可塑性樹脂バインダー中に分散させて構成される非磁性層塗布液を非磁性支持体上に塗布して非磁性層を形成し、この非磁性層が湿潤状態にあるうちに、当該非磁性層上に磁性層塗布液を塗布する技術（以下、「同時重層（方式）」ともいう）が開示されている。
【０００４】
また、電磁変換特性を改良する手法として、非磁性支持体と非磁性層の間に下塗り層（平滑化塗布層）を設けることが提案されている。例えば、特許文献３および４には、下塗り層として、放射線硬化性化合物を有する下塗り層を設けることが開示されている。
【０００５】
一方で、表面性を更に改良した支持体を磁気記録媒体に用いることも提案されている。例えば、特許文献５および６には、磁性層を塗設する側に平滑な層を有する積層構成の非磁性支持体を用いることが開示されている。
【特許文献１】特開昭６３−１９１３１５号公報
【特許文献２】特開昭６３−１９１３１８号公報
【特許文献３】特開２００３−２８１７１０号公報
【特許文献４】特開２００４−３３４９８８号公報
【特許文献５】特開平３−２２４１２７号公報
【特許文献６】特開２００２−１８０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
表面が平滑な非磁性支持体は、非磁性支持体の製造工程におけるハンドリング性が悪いため、製造コストが高くなる。特に、高容量で高記録密度の磁気記録媒体の作製に用いられる非磁性支持体は、薄手化されるためハンドリング性および歩留りが悪く、極めて高価になる。また、表面性とハンドリング性を改良するために、磁性層を塗設する側に平滑な層を形成する一方で、反対側にフィラーを添加することにより表面を粗面化してハンドリング性を向上させた積層構成の非磁性支持体であっても、製造コストの十分な低減効果は得られない。このような非磁性支持体の価格は磁気記録媒体の価格にも反映され、非磁性支持体の高価格化は磁気記録媒体の高価格化に繋がる。一方、両面がそれほど平滑でない非磁性支持体は、非磁性支持体の製造工程におけるハンドリング性が良好であるだけではなく、製造コストを大幅に下げることができる。したがって、このような非磁性支持体を用いることで、磁気記録媒体の価格を大幅に低減することができる。
【０００７】
種々検討した結果、放射線硬化性化合物を含有する下塗り層を設けて非磁性支持体の表面を平滑にする方法を採用した場合には、下塗り層を有する側（磁性層を有する側）が凹、つまりバックコート層を有する側が凸になるような、磁気記録媒体のカッピングが生じやすいことが分かった。これは、下塗り層に用いられる放射線硬化性化合物が硬化する際に生じる下塗り層の体積収縮に起因する。
【０００８】
磁気記録媒体には、磁性層を有する側が凸になるようなカッピングが生じていることが好ましい。磁性層を有する側が凹になるようなカッピングを磁気記録媒体に生じさせた場合、磁気記録媒体のテープエッジが磁気ヘッドに接触して磁気記録媒体が切断などの損傷を負ったり、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間に必要以上のスペースが形成されてしまうことがある。そのような状態で、磁気ヘッドにより磁気記録媒体の磁性層に情報を入出力すると、損傷したテープエッジから生じた塵埃に起因するエラーや、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間のスペーシングに起因するエラーが発生する。しかしながら、磁性層を有する側が凸になるようにカッピングしている磁気記録媒体が用いられる場合には、そのようなエラーの発生を低減することができる。
【０００９】
両面が適度に粗面化されている支持体を用いた上で、磁性層の表面性を改良し且つ磁性層を有する側が凸になるようにカッピングさせることができれば、電磁変換特性に優れた安価な磁気記録媒体を作製することが可能になる。
【００１０】
一方、各層用の塗布液を湿潤状態で重層して非磁性層と磁性層とを形成する方法（同時重層方式）が採用される場合には、非磁性層と磁性層とが界面で混ざり合ってしまうことがあり、電磁変換特性や歩留りが悪化する。特に、高記録密度化のために薄膜化された磁性層が用いられる場合には、電磁変換特性や歩留りの悪化が顕著である。それに対し、非磁性支持体上に非磁性層塗布液を塗布、乾燥することによって非磁性層を一旦形成した後に、当該非磁性層の上に磁性層を形成する方法（以下、「逐次重層（方式）」ともいう）が採用される場合には、界面における非磁性層と磁性層との混ざり合いを低減することができるため、電磁変換特性および歩留りの改良に有効である。
【００１１】
また、非磁性支持体原反ロールから送り出される非磁性支持体上で、磁気記録媒体を構成する各層の形成を連続して行うことにより、生産性も向上する。
【００１２】
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、電磁変換特性に優れた安価な磁気記録媒体を提供することを目的としてなされたものである。
【００１３】
また、本発明は、前記磁気記録媒体を大量に製造することができる方法を提供することを更なる目的としてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の一態様は、表面側から裏面側に向かって順次形成された磁性層、非磁性層、下塗り層、非磁性支持体及びバックコート層を備える磁気記録媒体であって、前記非磁性支持体は、単層のポリエステル系部材によって構成され、前記下塗り層は、放射線によって硬化した放射線硬化性化合物を含有するとともに、２．０μｍ以下の膜厚を有し、
前記表面側のカッピング量が０ｍｍ以下となるようにカッピングすることを特徴とする磁気記録媒体に関する。
【００１５】
望ましくは、前記カッピング量は、０ｍｍ〜−２．０ｍｍである。
【００１６】
望ましくは、前記非磁性支持体は、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主成分とするポリエステル系部材によって構成される。ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）は、例えば剛性面で、非磁性支持体の材質として好ましい。
【００１７】
望ましくは、前記非磁性支持体は、１０μｍ以下の膜厚を有し、０．０５μｍ以上であって１．５μｍよりも小さな平均粒径（Ｄ５０）を有する少なくとも１種類以上の成分を含む第１の不活性微粒子を含有し、１．５μｍ以上の平均粒径（Ｄ５０）を有する不活性微粒子を含有せず、前記表面側において１ｎｍ以上５０ｎｍ以下の中心線平均表面粗さを有する。
【００１８】
このような非磁性支持体は、ハンドリング性に優れるとともに、良好な電磁変換特性を持つ磁気記録媒体を構成することができる。
【００１９】
望ましくは、前記第１の不活性微粒子は、シリカ微粒子（ＳｉＯ２）及びシリコーン微粒子（樹脂）のうち少なくとも一方を含む。
【００２０】
望ましくは、前記非磁性支持体が含有する不活性微粒子のうち平均粒径（Ｄ５０）が最も大きい第２の不活性微粒子は、２．０以下の粒径分布値（Ｄ２５／Ｄ７５）を有する球状の単分散微粒子である。第２の不活性微粒子は、上記不活性粒子と同一の粒子であってもよいし、異なる粒子であってもよい。
【００２１】
望ましくは、前記非磁性支持体上に前記放射線硬化性化合物を含有する下塗り層用塗布液を塗布した後に、当該下塗り層用塗布液を乾燥するとともに前記放射線硬化性化合物を硬化することにより前記下塗り層を形成し、前記下塗り層の乾燥および前記放射線硬化性化合物の硬化後に、前記下塗り層上に非磁性層用塗布液を塗布し、当該非磁性層用塗布液を乾燥することにより前記非磁性層を形成し、前記非磁性層の形成後に、前記非磁性層上に磁性層用塗布液を塗布し、当該磁性層用塗布液を乾燥することにより前記磁性層を形成する。
【００２２】
望ましくは、前記下塗り層は、無機化合物からなる粒子および有機化合物からなる粒子を実質的に含有しない。
【００２３】
ここでいう「粒子」は、例えば、下塗り層の膜厚よりも大きなサイズを有する粒子を含む概念である。また、「実質的に含有しない」とは、磁気記録媒体中における下塗り層の機能を実質的に損なうことのない範囲を意味し、例えば下塗り層に対して０．１質量パーセント以下の範囲を指す。
【００２４】
望ましくは、前記下塗り層は、前記非磁性層又は前記磁性層に溶出する溶出成分を含み、前記下塗り層中における前記溶出成分の質量パーセント濃度が１０質量パーセント以下となるように、前記放射線硬化性化合物は硬化される。
【００２５】
ここでいう「前記溶出成分の質量パーセント濃度が１０質量パーセント以下」というのは、放射線硬化性化合物の硬化後を基準としたものである。
【００２６】
望ましくは、前記下塗り層は、前記非磁性層又は前記磁性層に溶出する溶出成分を含まない。
【００２７】
望ましくは、前記下塗り層が含有する前記放射線硬化性化合物は、前記下塗り層の体積収縮率が２０％以下となるように硬化される
下塗り層の体積収縮率は、例えば、下塗り層の構成成分を調整したり、放射線硬化性化合物の硬化の程度を調整することによって、適宜変えることができる。
【００２８】
望ましくは、前記下塗り層が含有する前記放射線硬化性化合物は、酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の雰囲気下で硬化される。
【００２９】
望ましくは、前記磁性層は、粉末状強磁性体および結合剤を含み、前記結合剤は、１２万以上の質量平均分子量を有する樹脂を含む。
【００３０】
このような磁性層によれば、粉末状の強磁性体が効果的に分散することができ、配向凝集の発生を防ぐことができる。なお、好ましい結合剤の一例として、１７万程度の質量平均分子量を有する樹脂を含む結合剤、ウレタン系や塩化ビニル系の物質を含む結合剤、等を挙げることができる。
【００３１】
望ましくは、前記非磁性支持体に対して前記磁性層が形成される側の前記磁気記録媒体の表面は、１０ｎｍ以下の中心線平均表面粗さを有するとともに、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の高さを有する突起を１〜５００個／１００μｍ２の割合で有する。
【００３２】
本発明の別の態様は、上記のような磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性支持体原反ロールから送り出される非磁性支持体上に下塗り層、非磁性層および磁性層を順次、連続して形成することにより得られる磁気記録媒体ウェブを巻き取って磁気記録媒体原反ロールを製造する工程と、前記磁気記録媒体原反ロールの前記磁気記録媒体ウェブをテープ状に裁断する工程と、含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、安価な非磁性支持体を用いて高容量で高密度記録が可能な磁気記録媒体を製造することが可能であり、電磁変換特性に優れた安価な磁気記録媒体を製造することができる。
【００３４】
さらに、本発明によれば、下塗り層、非磁性層および磁性層が、非磁性支持体原反ロールから送り出される非磁性支持体上に連続的に形成され、当該下塗り層、非磁性層および磁性層の形成後に、これらの層が形成された非磁性支持体を巻き取ることによって磁気記録媒体原反ロールが得られる。そして、この磁気記録媒体原反ロールの一部を裁断することでテープ状の磁気記録媒体が得られ、磁気記録媒体を大量に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の記載では、まず磁気記録媒体の構成や組成について説明し、次いで磁気記録媒体の製造方法について説明し、最後に本発明に係る実施例について説明する。
【００３６】
（磁気記録媒体）
図１は、本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の断面を示す図である。磁気記録媒体１は、非磁性支持体１０と、非磁性支持体１０のテープ裏面側に形成されるバックコート層１８と、当該非磁性支持体１０の表面側に順次積層される下塗り層１２と、非磁性層１４と、及び磁性層１６とを備える。このように、下塗り層１２、非磁性層１４及び磁性層１６は、非磁性支持体１０を介してバックコート層１８とは反対側に設けられており、磁性層１６によってテープ表面２２が形成されるとともにバックコート層１８によってテープ裏面２４が形成されている。
【００３７】
磁気記録媒体１に用いられる非磁性支持体１０は、単層のポリエステル系部材によって構成される。また、下塗り層１２は、放射線によって硬化した放射線硬化性化合物を含有し、２．０μｍ以下の膜厚を有する。また、磁気記録媒体１は、テープ表面２２側が凸状に形成されるようなカッピング量でカッピングする。
【００３８】
磁気記録媒体１のカッピング量は、例えば以下のようにして測定される値である。
【００３９】
すなわち、磁気記録媒体テープを１ｍ切り出し、切り出された磁気記録媒体テープを測定環境下（２３℃、５０％ＲＨ）で２４時間保持する。そして、磁気記録媒体テープの長手方向の中央部を３００ｍｍ切り出し、磁性層が形成されるテープ表面を上にした状態で、切り出された磁気記録媒体テープを平板上に３時間静置する。そして、テープ表面（磁性層）が上側に配置されるようにこの磁気記録媒体テープを平坦な盤上にフリーな状態で置いた場合に、テープ幅方向に関し樋状（凸状）に変形してテープ表面（磁性層）が上に向かって突出するよう形状を磁気記録媒体テープがとる場合は、カッピング量の符号をマイナス（−）とする。一方、テープ裏面（バックコート層）が上側に配置されるように磁気記録媒体テープを平坦な盤上にフリーな状態で置いた場合に、テープ裏面（バックコート層）が上に向かって突出するよう形状を磁気記録媒体テープがとる場合は、カッピング量の符号をプラス（＋）とする。そして、平面状を維持する磁気記録媒体テープのカッピング量をゼロ（０）とする。
【００４０】
図２は、磁気記録媒体テープ２を長手方向に関して平行に見た場合の断面図である。磁気記録媒体テープが磁性層を有する側（テープ表面２２側）に関して凸形状を形成するようなカッピングとは、長手方向に垂直に切断して採取したテープ断片２を、バックコート層によって形成されるテープ裏面２４が下側に配置されるように、テンションフリーの状態で平面３に置いた時に、テープ幅方向に関する両テープ端部４、５は平面３に接触するがテープ裏面２４は平面３に接触せず、テープ断片２の断面形状が樋状になるような状態をいう。
【００４１】
磁気記録媒体のカッピング量は、例えば以下のようにして算出される。すなわち、前述のように磁気記録媒体の中央部を３００ｍｍの大きさで切り出して得られる１００ｍｍの長さを有する磁気記録媒体テープのカッピング時のテープ幅Ｗ２（図２参照）を、コンパレータで測定する。一方、同じサンプルの磁気記録媒体テープにスライドガラスをかぶせた時のテープ幅Ｗ１（図示省略）を測定する。そして、これらの測定値および下記の式に基づいてカッピング量が算出される。
【００４２】
カッピング量＝（Ｗ２／２）ｔａｎ（Ｓ１／２）
但し、Ｓ＝１０×｛１−（１．２×Ｗ２／Ｗ１−０．２）１／２｝
本実施形態では、磁性層側が凸になるように磁気記録媒体がカッピングしていることが好ましく、１／２インチ幅あたりのカッピング量は０ｍｍ以下−２．０ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは０ｍｍよりも小さく−２．０ｍｍ以上であり、更に好ましくは−０．０５ｍｍ以下−１．５ｍｍ以上であり、特に好ましくは−０．１ｍｍ以下−１．０ｍｍ以上である。
【００４３】
磁性層を有する側が凹になるように磁気記録媒体がカッピングしている場合（すなわち、カッピング量がプラスの場合）、磁気記録媒体のテープエッジが磁気ヘッドに接触してテープエッジが損傷を負ったり、磁気記録媒体が切断などの損傷を負ったり、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間に必要以上のスペースが形成されてしまうことがある。そのような状態で磁気ヘッドにより磁性層に情報を入出力すると、損傷したテープエッジから発生した塵埃に起因するエラーや、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間のスペーシングに起因するエラーが、特に起こりやすくなる。
【００４４】
また、カッピング量が−２．０ｍｍを越えると、切断によりテープエッジから発生した塵埃に起因するエラーは発生しにくいが、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間のスペーシングに起因するエラーが若干発生しやすくなる。
【００４５】
一方、本実施形態によれば、磁性層側が凸になるように磁気記録媒体がカッピングし、カッピング量が上記のように規定されるので、エラーの発生を防いで、磁気ヘッドによる情報の入出力が正確に行われる磁気記録媒体を提供することができる。
【００４６】
図１に示すように、下塗り層１２は、単層構成のポリエステル系の非磁性支持体１０と非磁性層１４との間に塗設される。一般に、放射線硬化性化合物を含有する下塗り層１２は、磁性層１６を有する側（表面側）が凹となるようにカッピングしやすい。これは、放射線硬化性化合物が硬化することで下塗り層１２が体積収縮することに起因する。
【００４７】
磁気記録媒体１のカッピングは、非磁性支持体１０の裏面側に配置されるバックコート層１８の収縮と、非磁性支持体１０の表面側に配置される下塗り層１２、非磁性層１４および磁性層１６の収縮とのバランスを調整することによって制御可能である。例えば、収縮性の大きなバックコート層１８を非磁性支持体１０上に厚く塗設して、磁性層１６を有する側（テープ表面側）に勝る収縮性をバックコート層１８を有する側（テープ裏面側）において確保することで、磁性層を有する側が凸状に突出するように磁気記録媒体１をカッピングさせることができる。また、非磁性層１４や磁性層１６を非磁性支持体１０上に薄く塗設して、磁性層１６を有する側の収縮性を低減して、磁性層を有する側が凸状に突出するように磁気記録媒体１をカッピングさせることもできる。しかしながら、バックコート層１８を厚く塗設することは、磁気記録媒体１の平面性の損失、磁気記録媒体１の総厚が厚くなることによる高容量化の阻害、塗布ムラなどの面状不良、その他様々な弊害を引き起こしうる。一方、非磁性層１４の膜厚を薄くすると、磁性層１６の表面の平滑性を損なうという弊害を引き起こすことに繋がる。
【００４８】
様々な検討を重ねた結果、全く同じバックコート層、下塗り層、非磁性層、磁性層を塗設した場合でも、単層構成のポリエステル系支持体を用いた場合の方が、積層構成のポリエステル系支持体を用いる場合に比べて、磁性層を有する側（テープ表面側）が凸状に突出するようにカッピングさせることができることがわかった。
【００４９】
つまり、放射線硬化性化合物を含有し体積収縮する下塗り層を用いる場合、単層構成のポリエステル系支持体のほうが、積層構成のポリエステル系支持体よりも、品質の良い磁気記録媒体を製造することができるため好ましい。
【００５０】
また、本実施形態で用いられる単層構成のポリエステル系支持体に関し、支持体の製造工程における良好なハンドリング性の確保や低コスト化という観点から、支持体の表面は平滑であるほうが好ましいとは必ずしも言えず、適度な表面粗さを有するほうが好ましい。本実施形態で用いられる単層構成のポリエステル系支持体は、１０μｍ以下の膜厚を有し、０．０５μｍ以上であって１．５μｍよりも小さな平均粒径（Ｄ５０）を有する不活性微粒子を少なくとも１種類以上含有し、平均粒径（Ｄ５０）が１．５μｍ以上の不活性微粒子を含有せず、磁性層を塗設する側（テープ表面側）の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５１】
一方、磁気記録媒体の電磁変換特性は磁性層の表面粗さに影響され、磁性層の表面を平滑にすることでより高い電磁変換特性が得られる。本実施形態における下塗り層は、表面がそれほど平滑ではない非磁性支持体の表面性が磁性層の表面性に影響を及ぼして電磁変換特性が悪化することを、効果的に防止する。
【００５２】
本実施形態における磁気記録媒体は、以下のようにして製造されることが好ましい。すなわち、単層構成の非磁性支持体上に放射線硬化性化合物を含有する下塗り層形成用塗布液を塗布した後に、当該下塗り層形成用塗布液を乾燥するとともに放射線硬化性化合物を硬化して、下塗り層を形成する。その後、下塗り層上に非磁性層用塗布液を塗布した後に、当該非磁性層用塗布液を乾燥することにより非磁性層を下塗り層上に形成する。その後、非磁性層上に磁性層用塗布液を塗布した後に、当該磁性層用塗布液を乾燥することにより磁性層を非磁性層上に形成する。このようないわゆる逐次重層方式は、隣接する層同士が混ざり合うことを防止することができ、非常に好ましい。例えば、非磁性層と磁性層とを同時重層方式により製造する場合には、非磁性層と磁性層との界面における混ざり合いが生じやすい。特に薄層の磁性層が設けられる磁気記録媒体においては、この界面での混ざり合いが電磁変換特性および歩留りの悪化の原因となる。これに対し、逐次重層方式に基づいて形成される本実施形態の磁気記録媒体によれば、非磁性層と磁性層との界面での混ざり合いが低減され、電磁変換特性および歩留りを改良することができる。
【００５３】
なお、逐次重層方式により形成された磁気記録媒体では、非磁性層と磁性層の混ざり合いが少ない。そのため、磁性層の表面（テープ表面）から深さ方向に向かって磁気記録媒体をエッチングして組成を分析すると、非磁性層と磁性層の界面を境界として組成が明らに異なることを観察することができる。それに対し、同時重層方式により形成された磁気記録媒体では、非磁性層と磁性層との界面における混ざり合いが生じているため、上記と同様の分析を行っても当該界面における組成の明らかな違いは見られない。したがって、このような界面における組成の違いに基づき、同時重層方式により形成された媒体と逐次重層方式により形成された媒体とを容易に判別することができる。
【００５４】
また、同一の塗布液を用いて同一の厚さの磁性層を形成する場合、非磁性層と磁性層の間における界面変動の値は、逐次重層方式により形成される磁気記録媒体のほうが同時重層方式により形成される磁気記録媒体に比べて小さくなる。したがって、非磁性層と磁性層の間における界面変動の違いに基づいても、逐次重層方式により形成された媒体と同時重層方式により形成された媒体とを判別することができる。例えば以下の方法に基づいて、テープ状の磁気記録媒体の非磁性層と磁性層との間における界面変動を測定することができる。
【００５５】
磁気記録媒体（テープ）の長手方向の断面を、透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐ：ＴＥＭ）を用いて１０万倍の倍率で観察する。磁気記録媒体を切断して当該断面を形成する際、磁気記録媒体の包埋処理にエポキシ樹脂を用いることができる。１０μｍの長さを有する磁気記録媒体の断面を画像解析装置で解析し、磁性層の厚みｄとその標準偏差σを求め、非磁性層と磁性層との間の界面変動率Ｄａを「Ｄａ＝（σ／ｄ）×１００（％）」という式に基づいて求めることができる。
【００５６】
電磁変換特性に影響を与える磁性層の表面粗さを評価する際には、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を好適に用いることができる。磁性層の表面では、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が低いほど好ましい。
【００５７】
磁性層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は１０．０ｎｍ以下であることが好ましい。また、磁性層の表面では、高さが１０ｎｍ〜２０ｎｍの表面微小突起数が１〜５００個／１００μｍ２の割合で存在することが好ましい。
【００５８】
次に、本実施形態の磁気記録媒体を構成する各層の詳細について説明する。
【００５９】
（非磁性支持体）
本実施形態では、単層構成のポリエステル系支持体を非磁性支持体として使用する。ポリエステルとは、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸のような芳香族ジカルボン酸と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノールのような脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるポリマーである。ポリマーはホモポリマーの他に、第三成分を含有した共重合体であっても構わない。この場合、ジカルボン酸成分として、例えばイソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、およびオキシカルボン酸（例えばｐ−オキシ安息香酸等）の一種または二種以上を用いることが可能である。グリコール成分としてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の一種または二種以上を用いることができる。
【００６０】
本実施形態では、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）等を主成分として含有するポリエステル系支持体が好ましい。ＰＥＴやＰＥＮを非磁性支持体の主成分として採用する場合、全酸成分あるいは全グリコール成分に対し、第三成分としてイソフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコールの中から選ばれる任意の成分を５モル％（モルパーセント）以上共重合させたポリマーを、非磁性支持体の主成分として用いることも好ましい。
【００６１】
非磁性支持体の主成分のガラス転移温度は１００℃以上であることが好ましく、そのような観点からはＰＥＮが最も好ましい。ＰＥＮを主成分とする非磁性支持体の望ましい例が、特開２００５−３２９５４８号公報や特開２００５−３３０３１１号公報などに記載されている。
【００６２】
高容量の磁気記録媒体を作製するためには、非磁性支持体の膜厚は薄いほど好ましい。本実施形態で用いられる支持体は、１０μｍ以下の膜厚を有することが好ましく、より好ましくは２〜８μｍの膜厚、更に好ましくは３〜７μｍの膜厚、特に好ましくは４〜６μｍの膜厚を有する。支持体の膜厚が２μｍ未満の場合、使用時に磁気記録媒体が切断しやすくなる。支持体の膜厚が１０μｍを越える場合、磁気記録媒体の高容量化を図ることが難しくなる。
【００６３】
本実施形態で用いられる支持体は可能な限り安価であることが好ましい。支持体の製造工程において、支持体のハンドリング性が悪いと歩留りが悪化するため、そのような支持体を含む磁気記録媒体の製造コストは高くなる。従って、本実施形態で用いられる支持体は、不活性微粒子を含有して、支持体の表面がそれほど平滑でないほうが好ましい。支持体中で用いられる好ましい不活性微粒子に関しては後述する。
【００６４】
本実施形態で用いられる単層構成のポリエステル系支持体の表面（磁性層が塗設される側の面）の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１ｎｍ以上２５ｎｍ以下であり、更に好ましくは２ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、特に好ましくは３ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。支持体の表面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以下の場合には、磁気記録媒体の製造工程におけるハンドリング性を改良する効果を得ることが難しい。また、支持体の表面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍを越える場合には、下塗り層の膜厚を厚くする必要があるため、好ましくない。
【００６５】
支持体の中心線平均表面粗さは、例えばＺｙｇｏ社（Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製の汎用３次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗシリーズなどを用いることによって測定可能である。
【００６６】
本実施形態で用いられる支持体を１００℃の環境下で３０分間放置した後の支持体の放置前後の熱収縮率は、３％以下であることが好ましく、１．５％以下であることが更に好ましい。また、８０℃の環境下で３０分間放置した後の支持体の放置前後の熱収縮率は、１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが更に好ましい。また、支持体の破断強度は５〜１００ｋｇ／ｍｍ２（４９〜９８０ＭＰａ）であることが好ましく、支持体の弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ２（０．９８〜１９．６ＧＰａ）であることが好ましい。また、支持体の温度膨張係数は、１０−４〜１０−８／℃であることが好ましく、１０−５〜１０−６／℃であることがより好ましい。支持体の湿度膨張係数は、１０−４／ＲＨ％以下であることが好ましく、１０−５／ＲＨ％以下であることがより好ましい。支持体のこれらの熱特性、寸法特性、および機械強度特性は、面内の各方向に関してほぼ等しいことが好ましく、具体的には１０％以内の差であることが好ましい。
【００６７】
なお、支持体に対し、コロナ放電処理、プラズマ処理、熱処理、或いは除塵処理などの各種処理を施してもよい。
【００６８】
（不活性微粒子）
本実施形態で用いられる単層構成のポリエステル系支持体は、前述のように、製造工程でのハンドリング性を改良するために不活性微粒子を含有することが好ましい。
【００６９】
特に、支持体は、平均粒径が０．０５μｍ以上の不活性微粒子を少なくとも１種類以上含有し、且つ、平均粒径が１．５μｍ以上の不活性微粒子を含有しないことが好ましい。０．０５μｍ未満の平均粒径を有する不活性微粒子を支持体が含有していたとしても、製造工程における支持体のハンドリング性を改良する効果は得られにくい。一方、平均粒径が１．５μｍ以上の不活性微粒子を支持体が含有する場合、支持体の表面性が磁性層の表面性に影響を及ぼさないように、下塗り層を厚く塗設する必要があるため、好ましくない。
【００７０】
不活性微粒子の平均粒径は０．０５〜１．０μｍであることが好ましく、０．０７〜０．７μｍであることがより好ましく、０．１〜０．５μｍであることが更に好ましく、０．１〜０．３μｍであることが特に好ましい。平均粒径は、電子顕微鏡による写真法に基づいて得られる測定値を等価球に換算し、総体積に対して５０％を示す粒径（Ｄ５０）を平均粒径とする手法などによって、測定することができる。
【００７１】
不活性微粒子の成分例として、カオリン、タルク、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、ゼオライト、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラックあるいは特公昭５９−５２１６号公報に記載されているような耐熱性高分子微粉体などが挙げられる。
【００７２】
不活性微粒子の少なくとも１種類は、二酸化ケイ素（シリカ）微粒子およびシリコーン微粒子のいずれかであることが好ましい。シリカ微粒子やシリコーン微粒子は、種々の粒子サイズおよび粒径分布を有するように合成することが可能であり、また安価である。
【００７３】
非磁性支持体が含有する不活性微粒子のうち、平均粒径（Ｄ５０）が最も大きい不活性微粒子の粒径分布値（Ｄ２５／Ｄ７５）は、２．０以下の単分散であることが好ましく、粒径分布が狭い球状微粒子であることが好ましい。平均粒径（Ｄ５０）が最も大きい不活性微粒子の粒径分布値（Ｄ２５／Ｄ７５）は、１．７以下であることがより好ましく、１．５以下であることが更に好ましく、１．３以下であることが特に好ましい。粒径分布が狭い微粒子を用いる場合の方が、高さや形状が極めて均一な突起を支持体表面に多数形成することができる。一方、粒径分布が広い微粒子は、粗大な粒子を多く含有するため支持体表面に大きな突起を形成しやく、下塗り層を厚く塗設する必要が生じる。
【００７４】
粒径分布に関し、大粒子側から体積を換算し、総体積に対して７５％を示す粒径（Ｄ７５）と２５％を示す粒径（Ｄ２５）との比（Ｄ２５／Ｄ７５）を粒径分布値として算出することができる。
【００７５】
単分散微粒子の例としては、特開昭５９−２１７７５５号公報等に記載された架橋高分子粒子等の有機粒子、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア、などの無機微粒子が挙げられ、架橋ポリスチレンなどの架橋高分子微粒子や球状シリカ微粒子がより好ましく、球状シリカ微粒子や球状シリコーン微粒子が特に好ましい。市販の製品に関しては、シーホスター（日本触媒社製）、トスパール（日硝産業社製）などが挙げられる。
【００７６】
２種類以上の不活性微粒子を組み合わせて用いることもできる。例えば、単分散微粒子とそれ以外の粒子を組み合わせて用いること、異なる種類の不活性微粒子を用いること、異なる粒径の不活性微粒子を用いること、或いは種類も粒径も異なる不活性微粒子を組み合わせて用いることもできる。
【００７７】
不活性微粒子に対して、ポリマー中での分散性を向上させるための表面処理を施しておくこともできる。この場合に用いられる表面処理剤として、例えば特開昭５９−６９４２６号公報や特開平１−２５６５５８号公報に記載してあるような表面処理剤が挙げられ、特に、ポリカルボン酸、それらのナトリウム塩やアンモニウム塩等、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などが好ましい。
【００７８】
なお、不活性微粒子の添加量は、非磁性支持体に対し０．００１〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜３質量％であることが更に好ましく、０．０５〜１質量％であることが特に好ましい。
【００７９】
（下塗り層）
本実施形態の下塗り層に用いられる放射線硬化性化合物は、放射線硬化性官能基を有する化合物であり、所望の下塗り効果を得るために下塗り層に含有される。放射線硬化性化合物は、例えば電子線や紫外線などの放射線によってエネルギーが与えられると、重合または架橋して高分子化する性質を有する。下塗り層中の放射線硬化性化合物が重合または架橋して硬化することにより、下塗り層全体も硬化して高い塗膜強度を得ることができる。
【００８０】
また、放射線硬化性化合物を含む塗布液は、高い塗膜平滑性を得ることができる。これは、放射線硬化性化合物が比較的低粘度であり、このような放射線硬化性化合物を含む下塗り層は、塗布後のレベリング効果により支持体表面のピンホールや突起を遮蔽する効果が高いためである。従って、本実施形態に係る下塗り層の上に非磁性層および磁性層を塗設すると平滑性に優れた磁性層が得られるため、優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体を作製することができる。この効果は、磁性層の厚みが０．０１μｍ〜１．０μｍといった比較的薄い膜厚において特に顕著であり、そのような膜厚を有する磁性層の表面では支持体の表面性に起因した突起が低減され、高記録密度化に伴い使用されているＭＲヘッドを用いた磁気記録におけるノイズを効果的に減らすことができる。
【００８１】
放射線硬化性化合物としては、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等を挙げることができる。中でもアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類が好ましい。特に、放射線硬化性官能基（アクリロイル基）を２個以上有するアクリル酸エステル類が好ましい。架橋または重合による体積収縮を低減する観点からは、アクリロイル基を２個有するアクリル酸エステル類が好ましい。
【００８２】
アクリロイル基を２個有する放射線硬化性化合物の具体例としては以下のようなものが挙げられる。すなわち、シクロプロパンジアクリレート、シクロペンタンジアクリレート、シクロヘキサンジアクリレート、シクロブタンジアクリレート、ジメチロールシクロプロパンジアクリレート、ジメチロールシクロペンタンジアクリレート、ジメチロールシクロヘキサンジアクリレート、ジメチロ−ルシクロブタンジアクリレート、シクロプロパンジメタクリレート、シクロペンタンジメタクリレート、シクロヘキサンジメタクリレート、シクロブタンジメタクリレート、ジメチロールシクロプロパンジメタクリレート、ジメチロールシクロペンタンジメタクリレート、ジメチロールシクロヘキサンジメタクリレート、ジメチロ−ルシクロブタンジメタクリレート、ビシクロブタンジアクリレート、ビシクロオクタンジアクリレート、ビシクロノナンジアクリレート、ビシクロウンデカンジアクリレート、ジメチロ−ルビシクロブタンジアクリレート、ジメチロールビシクロオクタンジアクリレート、ジメチロールビシクロノナンジアクリレート、ビシクロブタンジメタクリレート、ビシクロオクタンジメタクリレート、ビシクロノナンジメタクリレート、ビシクロウンデカンジメタクリレート、ジメチロ−ルビシクロブタンジメタクリレート、ジメチロールビシクロオクタンジメタクリレート、ジメチロールビシクロノナンジメタクリレート、ジメチロールビシクロウンデカンジメタクリレート、トリシクロヘプタンジアクリレート、トリシクロデカンジアクリレート、トリシクロドデカンジアクリレート、トリシクロウンデカンジアクリレート、トリシクロテトラデカンジアクリレート、トリシクロデカントリデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロヘプタンジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロドデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロウンデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロテトラデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカントリデカンジアクリレート、トリシクロヘプタンジジメタクリレート、トリシクロデカンジメタクリレート、トリシクロドデカンジメタクリレート、トリシクロウンデカンジメタクリレート、トリシクロテトラデカンジメタクリレート、トリシクロデカントリデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロヘプタンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロドデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロウンデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロテトラデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロデカントリデカンジメタクリレート、スピロオクタンジアクリレート、スピロヘプタンジアクリレート、スピロデカンジアクリレート、シクロペンタンスピロシクロブタンジアクリレート、シクロヘキサンスピロシクロペンタンジアクリレート、スピロビシクロヘキサンジアクリレート、ジスピロヘプタデカンジアクリレート、ジメチロールスピロオクタンジアクリレート、ジメチロールスピロヘプタンジアクリレート、ジメチロールスピロデカンジアクリレート、ジメチロールシクロペンタンスピロシクロブタンジアクリレート、ジメチロールシクロヘキサンスピロシクロペンタンジアクリレート、ジメチロールスピロビシクロヘキサンジアクリレート、ジメチロールジスピロヘプタデカンジアクリレート、スピロオクタンジメタクリレート、スピロヘプタンジメタクリレート、スピロデカンジメタクリレート、シクロペンタンスピロシクロブタンジメタクリレート、シクロヘキサンスピロシクロペンタンジメタクリレート、スピロビシクロヘキサンジメタクリレート、ジスピロヘプタデカンジメタクリレート、ジメチロールスピロオクタンジメタクリレート、ジメチロールスピロヘプタンジメタクリレート、ジメチロールスピロデカンジメタクリレート、ジメチロールシクロペンタンスピロシクロブタンジメタクリレート、ジメチロールシクロヘキサンスピロシクロペンタンジメタクリレート、ジメチロールスピロビシクロヘキサンジメタクリレート、ジメチロールジスピロヘプタデカンジメタクリレート等が挙げられる。
【００８３】
本実施形態の下塗り層に含有される放射線硬化性化合物として、脂環式環状構造をもつ放射線硬化性化合物を用いることも好ましい。脂環式環状構造は、例えばシクロ骨格、ビシクロ骨格、トリシクロ骨格、スピロ骨格、ジスピロ骨格等の骨格を有する。中でも原子を共有する複数の環からなる構造を有する放射線硬化性化合物、例えばビシクロ骨格、トリシクロ骨格、スピロ骨格、ジスピロ骨格等の骨格を有する放射線硬化性化合物が好ましい。このような放射線硬化性化合物は、脂肪族系の化合物に比べてガラス転移温度が高いので、下塗り層の塗設後の工程において粘着故障が発生しにくい。また、シクロヘキサン環やビシクロ、トリシクロ、スピロなどの脂環式系の骨格を有する化合物は、硬化による収縮が少なく、支持体との高い密着力を実現することができ、優れた走行耐久性を得ることができる。
【００８４】
脂環式環状構造をもつ放射線硬化性化合物の中でも、１分子中に２個以上の放射線硬化性官能基を有する化合物が好ましい。中でもジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、ジメチロールビシクロオクタンジアクリレート、ジメチロールスピロオクタンジアクリレートが好ましく、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートが特に好ましい。市販されている具体的な化合物として、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−６８４（日本化薬株式会社製）、ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＬＵＭＩＣＵＲＥ  ＤＣＡ−２００（大日本インキ化学工業株式会社製）などが挙げられる。
【００８５】
放射線硬化性化合物の分子量は、２００〜１０００が好ましく、２００〜５００が更に好ましい。また、放射線硬化性化合物の２５℃での粘度は、５〜２００ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜１００ｍＰａ・ｓが更に好ましい。
【００８６】
なお、 本実施形態の下塗り層には、複数種類の放射線硬化性化合物を組み合わせて用いることも可能である。
【００８７】
放射線硬化性化合物は溶媒に溶解して用いられることが好ましい。下塗り層塗布液の粘度は、５〜２００ｍＰａ・ｓが好ましい。下塗り層塗布液の溶媒としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、トルエン等が好ましい。
【００８８】
下塗り層塗布液は、支持体上に塗布、乾燥した後、含有する放射線硬化性化合物を放射線照射により硬化する。本実施形態において使用される放射線として、上記のように、電子線や紫外線を用いることができる。電子線を使用する場合は、重合開始剤が不要である点で好ましい。紫外線を使用する場合は、下塗り層塗布液に光重合開始剤を添加する必要がある。
【００８９】
電子線を用いる場合、スキャニング方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式の電子線加速器を用いることができるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式の電子線加速器である。電子線の加速電圧は、通常３０〜１０００ｋＶであり、好ましくは５０〜３００ｋＶである。また、その吸収線量は、通常０．５〜２０Ｍｒａｄであり、好ましくは２〜１０Ｍｒａｄである。加速電圧が３０ｋＶ未満の電子線の場合にはエネルギー透過量が不足し、加速電圧が３００ｋＶを超える電子線の場合には放射線硬化性化合物の重合に使われるエネルギーの効率が低下するため経済的ではない。
【００９０】
紫外線光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ケミカルランプあるいはメタルハライドランプを用いることができ、照射効率が良好な高圧水銀ランプの使用が好ましい。放射線硬化性化合物の紫外線硬化のために用いられる光重合開始剤として、光ラジカル重合開始剤を用いることができる。光ラジカル重合開始剤として、例えば「新高分子実験学第２巻  第６章  光・放射線重合」（共立出版１９９５発行、高分子学会編）に記載されている開始剤を使用することができ、具体例として、アセトフエノン、ベンゾフエノン、アントラキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン、２−２  ジエトキシアセトフエノン、などが挙げられる。光重合開始剤の混合比率は、放射線硬化化合物を１００質量部とした時に、通常０．５〜２０質量部であり、２〜１５質量部であることが好ましく、３〜１０質量部であることが更に好ましい。
【００９１】
放射線硬化装置や放射線照射硬化の方法などについては、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」（（株）総合技術センタ−発行）や「低エネルギー電子線照射の応用技術」（２０００、（株）シーエムシー発行）などに記載されているような公知技術を用いることができる。
【００９２】
放射線を照射して下塗り層の硬化性化合物を硬化する時の雰囲気は、酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下にすることが好ましい。酸素濃度が高いと、下塗り層の表面近傍における硬化性化合物の架橋反応や重合反応が阻害される。この時の酸素濃度は、５００ｐｐｍ以下が好ましく、２００ｐｐｍ以下がより好ましく、５０ｐｐｍ以下が特に好ましい。また、この場合の雰囲気の酸素濃度を１０００ｐｐｍに設定する手法としては、過剰酸素を窒素で置換する手法（窒素パージ）を用いることが好ましい。
【００９３】
下塗り層中の放射線硬化性化合物は、その上に構築される非磁性層や磁性層の作製のために用いられる塗布溶剤に下塗り層が溶解しないように、硬化されることが好ましい。さらには、非磁性層や磁性層に用いられる塗布溶剤に溶出する下塗り層の成分がなるべく少なくなるように、下塗り層中の放射線硬化性化合物を硬化することが好ましい。溶出する成分が多いと非磁性層や磁性層の表面性が悪化することがある。また、磁性層の表面に下塗り層の成分が析出すると、磁気ヘッドが汚れやすくなり、情報の入出力の際のエラーの原因となる。
【００９４】
非磁性層や磁性層に溶出する成分が下塗り層に対して１０質量％以下になるように放射線硬化性化合物を硬化することが好ましく、より好ましくは６質量％以下であり、さらに好ましくは４質量％以下であり、特に好ましくは３質量％以下、最も好ましくは０質量％である。
【００９５】
放射線硬化性化合物の硬化前に対する硬化後の下塗り層の体積収縮率は、低いほど好ましく、本実施形態では２０％以下であることが好ましく、より好ましくは１５％以下であり、更に好ましくは１２％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。下塗り層の体積収縮率が２０％を越えると、磁性層を有する側が凸となるようなカッピングを磁気記録媒体に生じさせるのが難しくなる。
【００９６】
下塗り層の膜厚は、２．０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１．０μｍであり、更に好ましくは０．１〜０．７μｍであり、特に好ましくは０．２〜０．５μｍである。下塗り層の膜厚が２．０μｍより厚くなると、下塗り層を塗設した支持体のハンドリング性が悪くなることがある。一方、下塗り層の膜厚が０．０５μｍより薄いと、非磁性支持体の表面性が磁性層の表面性に及ぼす影響が大きくなる。
【００９７】
放射線硬化性化合物の硬化後の下塗り層のガラス転移温度Ｔｇは、４０〜１５０℃が好ましく、更に好ましくは６０〜１３０℃である。下塗り層のガラス転移温度Ｔｇが４０℃未満では、下塗り層を塗設した支持体のハンドリング性が悪くなり、下塗り層のガラス転移温度Ｔｇが１５０℃を超えると下塗り層が脆くなることがある。
【００９８】
下塗り層が粒子を含有すると磁性層の表面に突起が形成される可能性が増大するので、 本実施形態の下塗り層は、実質的に無機又は有機化合物からなる粒子は含有しないことが好ましい。
【００９９】
（磁性層）
本実施形態の磁気記録媒体において、磁性層に含まれる強磁性粉末としては、六方晶フェライト粉末および強磁性金属粉末を挙げることができる。
【０１００】
本実施形態において用いられる六方晶フェライトとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等が挙げられる。具体的には、マグネトプランバイト型のバリウムフェライトおよびストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライトおよびストロンチウムフェライト等が挙げられる。その他、これらに含まれる所定の原子以外に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ，Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでいてもかまわない。一般には、Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した化合物を使用することができる。また、原料や製法に応じて特有の不純物を含有していてもよい。
【０１０１】
粒子サイズは、六角板の径が１０〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０〜６０ｎｍであり、特に好ましくは１０〜５０ｎｍである。特にトラック密度を上げるためＭＲヘッドで再生させる磁気記録媒体の場合、低ノイズにする必要があるため、板径は４０ｎｍ以下であることが好ましい。板径が１０ｎｍより小さいと、熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。板径が１００ｎｍを越えると、ノイズが高くなって高密度磁気記録には向かない。板状比（板径／板厚）は、１〜１５であることが好ましく、より好ましくは１〜７である。板状比が小さいと、磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性を得ることが困難となる。板状比が１５より大きいと、粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲に関し、ＢＥＴ法による比表面積は１０〜１００ｍ２／ｇを示す。この比表面積は、概ね粒子板径および板厚に基づく算術計算値と符号する。粒子板径や板厚の分布は、通常狭いほど好ましい。これらの分布は、数値化が困難であるが、粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。これらの分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差σで分布を表すと、σ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには、粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことを行うこともできる。例えば、酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【０１０２】
一般に、抗磁力Ｈｃが５００〜５０００エルステッド（４０〜３９８ｋＡ／ｍ）程度の六方晶フェライト粉末は作製可能である。抗磁力Ｈｃは、高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。本実施形態で使用される六方晶フェライトの抗磁力Ｈｃは、２０００〜４０００Ｏｅ（１６０〜３２０ｋＡ／ｍ）程度であることが好ましく、より好ましくは２２００〜３５００Ｏｅ（１７６〜２８０ｋＡ／ｍ）である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、抗磁力Ｈｃを２２００Ｏｅ（１７６ｋＡ／ｍ）以上にすることが好ましい。抗磁力Ｈｃは、粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ２／ｋｇであることが好ましい。飽和磁化σｓは、高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。飽和磁化σｓの改良のために、マグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合することや、含有元素の種類や添加量を適宜選択すること等が良く知られている。また、Ｗ型六方晶フェライトを用いることも可能である。六方晶フェライトを分散する際に、六方晶フェライト粉末表面を分散媒やポリマーに合った物質で処理することも行われている。この時に用いられる表面処理剤としては、無機化合物や有機化合物を使用することができ、主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。添加量は六方晶フェライト粉末に対して０．１〜１０質量％とすることができる。六方晶フェライト粉末のｐＨも分散に重要であり、通常４〜１２程度のｐＨに調整され、分散媒やポリマーに応じた最適値があるが、媒体の化学的安定性や保存性の観点から６〜１１程度のｐＨが選択される。六方晶フェライト粉末に含まれる水分も分散に影響し、分散媒やポリマーに応じた最適値があるが、通常０．０１〜２．０質量％の水分量が選ばれる。六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物と酸化ホウ素等のガラス形成物質とを所望のフェライト組成になるように混合した後、その混合物を溶融し、急冷して非晶質体とし、次いでその非晶質体の混合物を再加熱処理した後、洗浄・粉砕することによってバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後、１００℃以上で液相加熱し、その後、洗浄・乾燥・粉砕を行うことによってバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し、その後、１１００℃以下で処理して粉砕することによってバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法、等が挙げられるが、本実施形態では特に製法は限定されない。
【０１０３】
磁性層において使用される強磁性金属粉末は、特に制限されるものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末を用いることが好ましい。これらの強磁性金属粉末には、所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでいても構わない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂのうちの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌのうちの少なくとも一つを含むことがさらに好ましい。Ｃｏの含有量は、Ｆｅに対して０原子％以上４０原子％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１５原子％以上３５原子％以下であり、より好ましくは２０原子％以上３５原子％以下である。Ｙの含有量は、１．５原子％以上１２原子％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原子％以下であり、特に好ましくは４原子％以上９原子％以下である。Ａｌの含有量は、１．５原子％以上１２原子％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原子％以下であり、より好ましくは４原子％以上９原子％以下である。
【０１０４】
これらの強磁性金属粉末には、後述する分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前に予め処理が施されていてもかまわない。具体的な処理例は、特公昭４４−１４０９０号公報、特公昭４５−１８３７２号公報、特公昭４７−２２０６２号公報、特公昭４７−２２５１３号公報、特公昭４６−２８４６６号公報、特公昭４６−３８７５５号公報、特公昭４７−４２８６号公報、特公昭４７−１２４２２号公報、特公昭４７−１７２８４号公報、特公昭４７−１８５０９号公報、特公昭４７−１８５７３号公報、特公昭３９−１０３０７号公報、特公昭４６−３９６３９号公報、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【０１０５】
強磁性金属粉末には少量の水酸化物または酸化物が含まれていてもよい。強磁性金属粉末としては、公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。すなわち、複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体とで還元を行う方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅまたはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元を行う方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などが挙げられる。このようにして得られた強磁性金属粉末に対して、公知の徐酸化処理、例えば有機溶剤に浸漬した後に乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬した後に酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成し、その後乾燥させる方法、有機溶剤を用いずに酸素ガスおよび不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれかによる徐酸化処理を施すこともできる。
【０１０６】
磁性層に使用される強磁性金属粉末のＢＥＴ法による比表面積は、４５〜１００ｍ２／ｇであることが好ましく、より好ましくは５０〜８０ｍ２／ｇである。比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であれば低ノイズであり、１００ｍ２／ｇ以下であれば良好な表面性を得ることができる。強磁性金属粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åであることが好ましく、より好ましくは１００〜１８０Å、更に好ましくは１１０〜１７５Åである。強磁性金属粉末の長軸長は、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２μｍ以上０．１５μｍ以下であり、さらに好ましくは０．０３μｍ以上０．１２μｍ以下である。強磁性金属粉末の針状比は、３以上１５以下であることが好ましく、５以上１２以下であることが更に好ましい。強磁性金属粉末のσｓは、９０〜１８０Ａ・ｍ２／ｋｇであることが好ましく、より好ましくは１００〜１５０Ａ・ｍ２／ｋｇであり、更に好ましくは１０５〜１４０Ａ・ｍ２／ｋｇである。強磁性金属粉末の抗磁力は、２０００〜３５００Ｏｅ（１６０〜２８０ｋＡ／ｍ）であることが好ましく、更に好ましくは２２００〜３０００Ｏｅ（１７６〜２４０ｋＡ／ｍ）である。
【０１０７】
強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２％とすることが好ましい。結合剤の種類に応じて強磁性金属粉末の含水率を最適化することが好ましい。強磁性金属粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましく、そのｐＨ範囲は４〜１２とすることができ、好ましくは６〜１０である。強磁性金属粉末に対して、必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その表面処理量は強磁性金属粉末に対し０．１〜１０％とすることができ、表面処理を施した強磁性金属粉末は、脂肪酸などの潤滑剤の吸着量が１００ｍｇ／ｍ２以下になり好ましい。強磁性金属粉末は可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらの無機イオンは、本質的に強磁性金属粉末に含まれていない方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特性への影響が少ない。また、本実施形態に用いられる強磁性金属粉末は、空孔が少ないほうが好ましく、その空孔値は２０容量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については、先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性金属粉末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以下であることが好ましい。強磁性金属粉末の抗磁力Ｈｃの分布を小さくすることが好ましい。尚、強磁性金属粉末のＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好となり、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなるため、高密度デジタル磁気記録に好適である。強磁性金属粉末の抗磁力Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良好にしたり、焼結を防止したりするなどの方法がある。
【０１０８】
磁性層の結合剤としては、強磁性粉末粒子の微細分散適性や耐久適性（温湿度環境適性）等の点から、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースアセテートであることが好ましく、特に、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂であることが更に好ましく、ポリウレタン系樹脂であることが最も好ましい。ポリウレタン系樹脂の構造は、特に限定されず、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。
【０１０９】
結合剤の質量平均分子量（Ｍｗ）としては１２万以上の樹脂を構成成分として含むことが好ましい。本実施形態において好ましい逐次重層方式によって磁気記録媒体を作製する場合、磁性層塗布液の塗布後に磁場配向処理を施すと、強磁性粉末粒子同士の凝集（配向凝集）が生じる場合がある。この配向凝集は、膜厚が薄い磁性層を形成するために低濃度の磁性層塗布液を使用する場合に特に顕著に生じる。これは、濃度が薄くなるほど配向処理時の磁力によって強磁性粉末粒子が動き易くなるため、配向凝集し易くなるからである。
【０１１０】
磁性層結合剤として、磁気記録媒体において結合剤として従来から使用されている樹脂と比べて分子量の大きな樹脂であって、質量平均分子量（Ｍｗ）が１２万以上の樹脂を構成成分として含む結合剤成分を使用することで、配向凝集を低減ないしは防止することができる。
【０１１１】
このような分子量を有する樹脂は、強磁性粉末粒子に対する吸着性が高いため、磁性層塗布液成分としてそのような樹脂を使用することにより、磁性層塗布液中において強磁性粉末粒子に対する結合剤の吸着量を増大させることができる。こうして結合剤の吸着量が増大することにより、磁性層塗布液中での強磁性粉末粒子同士の立体反発力が増大するため、配向処理時の強磁性粉末粒子同士の配向凝集を抑制することができると考えられる。なお、質量平均分子量が１２万以上の樹脂を複数種組み合わせて結合剤に用いることも可能である。
【０１１２】
なお、結合剤の質量平均分子量は、例えば、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析することにより確認することができる。
【０１１３】
一方、樹脂の質量平均分子量は、溶解性や合成の容易性等を考慮すると、５０万以下であることが好ましく、より好ましくは１２万〜３０万であり、特に好ましくは１５万〜２５万である。
【０１１４】
また、磁性層は、質量平均分子量（Ｍｗ）が１２万以上の上述の樹脂を強磁性粉末に対して２．５質量％以上含むことが好ましい。つまり、本実施形態の磁気記録媒体は、強磁性粉末に対して２．５質量％以上の上述の樹脂を含む磁性層塗布液を用いて形成されたものであることが好ましい。強磁性粉末に対して２．５質量％以上の上記の樹脂を含む磁性層塗布液は、強磁性粉末に対する結合剤の吸着量が多く、配向凝集を効果的に抑制することができる。磁性層中における上記樹脂量は、強磁性粉末に対して４〜４０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることがより好ましく、５〜２５質量％であることが特に好ましい。
【０１１５】
このような樹脂は、ガラス転移温度が−５０〜１５０℃であることが好ましく、より好ましくは０℃〜１００℃であり、更に好ましくは３０℃〜９０℃である。またそのような樹脂において、破断伸びは１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ２（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ２（０．４９〜９８ＭＰａ）であることが好ましい。前記樹脂は、公知の方法で合成することができ、また市販品として入手可能なものもある。
【０１１６】
前記結合剤成分は、前記樹脂からなることができる。つまり、前記結合剤成分は、前記樹脂そのものであってもよい。また、前記結合剤成分は、前記樹脂と熱硬化性官能基を有する化合物との反応生成物であってもよい。本実施形態の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に形成された非磁性層上に、磁性層塗布液を塗布および乾燥することにより形成されることが好ましい。前記磁性層塗布液に熱硬化性官能基を有する化合物を添加せずに前記樹脂を加え、そのような磁性層塗布液によって磁性層を形成すれば、前記樹脂そのものを前記結合剤成分として含む磁気記録媒体が得られる。一方、磁性層塗布液に前記樹脂とともに熱硬化性官能基を有する化合物を添加すれば、塗布後の加熱（カレンダー処理、加熱処理等）により硬化反応（架橋反応）が進むため、前記樹脂と熱硬化性官能基を有する化合物との反応生成物を前記結合剤成分として含む磁気記録媒体が得られる。なお、後述するように、磁性層塗布液に対して前記樹脂および硬化性官能基を有する化合物以外の樹脂成分を添加する場合には、前記反応生成物には、前記樹脂、熱硬化性官能基を有する化合物および他の樹脂成分の共重合体が含まれ得る。
【０１１７】
前記熱硬化性官能基を有する化合物として、熱硬化性官能基としてイソシアネート基を含有する化合物を用いることが好ましい。中でも、当該化合物として、ポリイソシアネート類が好ましく、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。
【０１１８】
これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等が挙げられ、これらを単独または硬化反応性の差を利用して二つまたはそれ以上を組み合わせて用いることもできる。
【０１１９】
前記結合剤は、前記結合剤成分以外に他の結合剤成分を含むこともできる。前記結合剤成分と併用可能な他の結合剤成分としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、及びこれらの混合物を挙げることができる。例えば、併用される熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、−１００〜２００℃であることが好ましく、より好ましくは−５０〜１５０℃である。
【０１２０】
併用可能な熱可塑性樹脂の具体例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン系樹脂、各種ゴム系樹脂、セルロースエステルなどがある。
【０１２１】
また、併用可能な熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等が挙げられる。これらの樹脂については、朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例及びその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。
【０１２２】
以上の樹脂は単独または組み合わせて使用可能であるが、好ましいものとして塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン系樹脂との組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられ、特に好ましくは塩化ビニル系樹脂である。塩化ビニル系樹脂を併用することで、強磁性粉末の分散性を更に高めることができ、電磁変換特性の向上およびヘッド汚れの改良に有効である。
【０１２３】
磁性層に使用可能なすべての結合剤成分について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２（以上につき「Ｍ」は水素原子またはアルカリ金属塩基を示す）、ＯＨ、ＮＲ２、Ｎ＋Ｒ３（「Ｒ」は炭化水素基を示す）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることができる。このような極性基の量は、例えば１０−１〜１０−８モル／ｇであり、好ましくは１０−２〜１０−６モル／ｇである。
【０１２４】
前記結合剤成分の具体的な例としては、ユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙げられる。
【０１２５】
前記熱硬化性官能基を有する化合物を含む磁性層は、磁性層の加熱により前記樹脂と前記化合物との架橋反応が進み、結果的に前記樹脂と熱硬化性官能基を有する化合物との反応生成物を含む磁性層が得られる。この磁性層は、前記樹脂そのものを含む磁性層と比べて塗膜強度が高いため、より耐久性の高い磁気記録媒体を得ることができる。前記磁性層が熱硬化性官能基を有する化合物を含む場合、その含有量は、磁性層に含有されるすべての結合剤に対して５〜４０質量％とすることが好ましく、１０〜３０質量％とすることが更に好ましく、１５〜２５質量％とすることが特に好ましい。
【０１２６】
前述のように、前記磁性層は、前記樹脂とともに他の結合剤成分（熱硬化性官能基含有化合物、樹脂成分等）を含むことができる。その詳細は先に記載した通りである。質量平均分子量（Ｍｗ）が１２万以上の上記の樹脂の添加による配向凝集防止と良好な電磁変換特性の確保とを両立する上では、質量平均分子量（Ｍｗ）が１２万以上の上記の樹脂の量は、全結合剤成分に対して１０〜８０質量％であることが好ましく、２０〜６０質量％であることが更に好ましく、２０〜４０質量％であることが最も好ましい。また、磁性層の前記樹脂以外の結合剤成分の含有量は、その結合剤成分の添加効果を得る上では、強磁性粉末に対して２．５質量％以上とすることが好ましく、４〜４０質量％とすることがより好ましく、５〜３０質量％とすることが更に好ましく、５〜２５質量％とすることが特に好ましい。
【０１２７】
本実施形態の磁気記録媒体における磁性層の厚さは、例えば１０〜３００ｎｍであることが好ましい。本実施形態では、質量平均分子量（Ｍｗ）が１２万以上の樹脂を磁性層に使用することにより、上記範囲の厚さを有する比較的薄い磁性層を逐次重層により形成する際に、配向凝集を抑制することができる。これにより、高い電磁変換特性を有する磁気記録媒体を得ることができる。磁性層の厚さは、好ましくは３０〜１５０ｎｍであり、より好ましくは４０〜１００ｎｍである。
【０１２８】
磁性層の表面は、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が低いほど好ましい。磁性層の表面粗さは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて評価できる。
【０１２９】
本実施形態では磁性層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は、１０．０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１．０〜１０．０ｎｍであり、更に好ましくは２．０〜７．０ｎｍであり、特に好ましくは２．５〜５．０ｎｍである。また、磁性層の表面では、高さが１０〜２０ｎｍの表面微小突起数が１〜５００個／１００μｍ２であることが好ましく、より好ましくは３〜２５０個／１００μｍ２であり、更に好ましくは５〜１５０個／１００μｍ２であり、特に好ましくは５〜１００個／１００μｍ２ である。
【０１３０】
磁性層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は、前記非磁性支持体の表面性が磁性層の表面に及ぼす影響、磁性層中の強磁性粉末の分散性、磁性層に添加する研磨剤やカーボンブラックの粒子サイズと添加量、等に影響される。
【０１３１】
磁性層（磁気記録媒体）の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）および表面微小突起数は、例えば、本実施形態の下塗り層により非磁性支持体の表面性が他に及ぼす影響を低減することによって、強磁性粉末の微細分散性を良好にすることによって、研磨剤やカーボンブラックの粒子サイズを減少することによって、或いは研磨剤やカーボンブラックの添加量を減らすことによって、低減可能である。
【０１３２】
また、カレンダー処理工程においても磁性層（磁気記録媒体）の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）および表面微小突起数を低減することができ、例えば線圧力を上げることによって、圧力負荷時間を長くすることによって、或いは処理温度を上げることによって、磁性層（磁気記録媒体）の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）および表面微小突起数を低減することができる。
【０１３３】
（非磁性層）
本実施形態の磁気記録媒体に用いられる非磁性層は、少なくとも非磁性粉末と結合剤とを含む層であってもよい。以下に、そのような非磁性層の詳細について説明する。
【０１３４】
非磁性層は、実質的に非磁性であれば、特に制限されるものではなく、実質的に非磁性である範囲で磁性粉末を含むこともできる。「実質的に非磁性である」とは、磁性層の電磁変換特性を実質的に低下させない範囲で非磁性層が磁性を有することを許容するということであり、例えば残留磁束密度が０．０１Ｔ以下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ以下（１００Ｏｅ以下）であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力とをもたないことを示す。
【０１３５】
非磁性層に用いられる非磁性粉末は、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としては、例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどを単独または組合せで使用することができる。特に好ましいものは、粒度分布が小さく、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいものは二酸化チタン、α−酸化鉄である。これらの非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍであることが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍであることが特に好ましい。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、非磁性粉末の平均粒子径が０．０８μｍ以下であることが好ましく、針状金属酸化物である場合は、非磁性粉末の長軸長が０．３μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であることがさらに好ましい。非磁性粉末のタップ密度は、０．０５〜２ｇ／ｍｌであることが好ましく、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は、０．１〜５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．２〜３質量％であり、更に好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは、２〜１１であることが好ましく、５．５〜１０の間が特に好ましい。
【０１３６】
非磁性粉末の比表面積は、１〜１００ｍ２／ｇであることが好ましく、より好ましくは５〜８０ｍ２／ｇであり、更に好ましくは１０〜７０ｍ２／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは、０．００４μｍ〜１μｍであることが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍであることが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は、５〜１００ｍｌ／１００ｇであることが好ましく、より好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇであり、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。非磁性粉末の比重は、１〜１２であることが好ましく、より好ましくは３〜６である。非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。非磁性粉末のモース硬度は４以上１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は、１〜２０μｍｏｌ／ｍ２であることが好ましく、より好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ２であり、更に好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ２である。非磁性粉末のｐＨは３〜６の間が好ましい。これらの非磁性粉末の表面には、表面処理を施すことによりＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３を存在させることが好ましい。特に分散性に好ましいものはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２であり、更に好ましいのはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は、目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【０１３７】
非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２ Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、およびそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【０１３８】
また、非磁性層には目的に応じて有機質粉末を添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法として、特開昭６２−１８５６４号公報や特開昭６０−２５５８２７号公報に記載されているような方法を使用できる。
【０１３９】
非磁性層に使用される結合剤としては、磁性層に使用可能な結合剤成分として記載された熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を用いることができる。非磁性層中の結合剤の含有量は、非磁性粉末に対し、５〜５０質量％の範囲とすることが好ましく、より好ましくは１０〜３０質量％の範囲とすることである。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートを用いる場合は２〜２０質量％の範囲で、これらを組み合わせて用いることが好ましい。例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを結合剤として使用することも可能である。非磁性層にポリウレタンを用いる場合には、ガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、更に好ましくは３０℃〜９０℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ２（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ２（０．４９〜９８ＭＰａ）のものを用いることが好ましい。
【０１４０】
非磁性層に添加する結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、またはそれ以外の樹脂の量、各樹脂の分子量、極性基量、または先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じて変えることはもちろん可能であり、公知技術を適用できる。例えば、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層の結合剤量を多くして、非磁性層に柔軟性を持たせることができる。
【０１４１】
非磁性層に使用可能なポリイソシアネートとしては、先に磁性層成分として記載したものを挙げることができる。
【０１４２】
（カーボンブラック）
本実施形態の磁気記録媒体は、磁性層および／または非磁性層がカーボンブラックを含んでいてもよい。使用可能なカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を挙げることができる。比表面積は５〜５００ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、平均粒子径は５〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２５０ｎｍ、更に好ましくは２０〜２００ｎｍであることがそれぞれ好ましい。ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃであることがそれぞれ好ましい。本実施形態に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、旭カーボン社製＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  １５０、５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製ケッチェンブラックＥＣ等が挙げられる。カーボンブラックに対して分散剤などで表面処理を施してもよい。また、樹脂でカーボンブラックをグラフト化して使用してもよいし、カーボンブラックの表面の一部をグラファイト化して使用してもかまわない。また、カーボンブラックを、塗布液に添加する前に予め結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは、単独または組合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は、強磁性粉末量または非磁性粉末量に対して０．１〜３０質量％のカーボンブラックを用いることが好ましい。カーボンブラックは、磁性層の帯電防止、摩擦係数低減（易滑性付与）、遮光性付与、或いは膜強度向上などの働きがあり、これらの効果の程度は用いられるカーボンブラックによって異なる。また、非磁性層にカーボンブラックを混合することによって、公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓの低減、光透過率の低減、および所望のマイクロビッカース硬度の獲得、等も実現することができる。また、非磁性層にカーボンブラックを含ませることで、潤滑剤貯蔵の効果を実現することも可能である。従って、磁性層および非磁性層の要求特性に応じて、本実施形態に使用されるカーボンブラックの種類、量、或いは組合せを変えることによって、粒子サイズ、吸油量、電導度、或いはｐＨなどの諸特性を考慮し、目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、各層毎に最適化されることが望ましい。本発明において、磁性層および／または非磁性層において使用可能なカーボンブラックについては、例えば、「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【０１４３】
（研磨剤）
本実施形態に用いられる研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、などを主とした、モース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用することができる。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが、主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは、０．０１〜２μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．０５〜１．０μｍであり、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、研磨剤の粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるために、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせたりすることも可能である。研磨剤のタップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ２／ｇ、であることがそれぞれ好ましい。本実施形態に用いられる研磨剤の形状は、針状、球状、サイコロ状、のいずれでもよいが、形状の一部に角を有する研磨剤は研磨性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−６０、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−１００、レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが研磨剤として挙げられる。必要に応じて、これらの研磨剤を非磁性層に添加することもできる。非磁性層に研磨剤を添加することで、表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層または非磁性層に添加される研磨剤の粒径や量は最適値に設定されることが好ましい。
【０１４４】
（添加剤）
本実施形態において下塗り層、磁性層および非磁性層には、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ添加剤を使用することができる。具体的には、二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などを使用することができる。
【０１４５】
これらの具体例としては、脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸、などが挙げられる。エステル類では、ブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリルアルコール、ラウリルアルコール、などが挙げられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン系界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン系界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤や帯電防止剤等は、必ずしも１００％純粋である必要はなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれていてもかまわない。そのような不純分は、３０質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１０質量％以下である。
【０１４６】
本実施形態で使用されるこれらの潤滑剤や界面活性剤は、個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比率は、目的に応じて最適に定められることが好ましい。例えば、非磁性層及び磁性層で融点の異なる脂肪酸を用いて表面へのにじみ出しを制御したり、沸点、融点、或いは極性の異なるエステル類を用いて表面へのにじみ出しを制御したり、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させたり、潤滑剤の添加量を中間層で多くすることで潤滑効果を向上させたり、等が考えられる。なお、ここに示した例のみに限られるものではない。一般には、潤滑剤の総量は、強磁性粉末または非磁性粉末に対し、０．１〜５０質量％の範囲とすることができ、より好ましくは２〜２５質量％の範囲とすることができる。
【０１４７】
また、本実施形態で用いられる添加剤のすべて又はその一部は、下塗り層塗布液、非磁性層塗布液、及び磁性層塗布液製造のどの工程で添加されてもかまわない。例えば、混練工程前に強磁性粉末や非磁性粉末と添加剤とを混合する場合、強磁性粉末や非磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加剤を添加する場合、分散工程で添加剤を添加する場合、分散後に添加剤を添加する場合、塗布直前に添加剤を添加する場合、等がある。また、目的に応じて磁性層や非磁性層を塗布した後に、同時塗布方式または逐次塗布方式によって、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によっては、カレンダー処理が施された後またはスリット処理が終了した後に、磁性層の表面に潤滑剤を塗布することもできる。本実施形態では、公知の有機溶剤を使用することができ、例えば特開昭６−６８４５３号公報に記載の溶剤を用いることができる。
【０１４８】
（バックコート層）
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気記録媒体（磁気テープ）は、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐久性を保持するために、バックコート層は、カーボンブラックと無機粉末とを含有することが好ましい。
【０１４９】
バックコート層に添加することができる無機粉末としては、平均粒子サイズが８０〜２５０ｎｍでモース硬度が５〜９の無機粉末が挙げられる。無機粉末としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、ＴｉＯ２等を使用することができ、中でもα−酸化鉄、α−アルミナを用いることが好ましい。
【０１５０】
バックコート層に使用するカーボンブラックとしては、磁気記録媒体に通常使用されているカーボンブラックを広く用いることができる。例えば、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用カーボンブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。バックコート層の凹凸が磁性層に写らないようにするために、カーボンブラックの粒径は０．３μｍ以下にすることが好ましく、特に好ましい粒径は０．０１〜０．１μｍである。また、バックコート層におけるカーボンブラックの使用量は、光学透過濃度（マクベス社製ＴＲ−９２７の透過値）が２．０以下になる範囲に調整されることが好ましい。
【０１５１】
走行耐久性を向上させる上で、平均粒子サイズの異なる２種類のカーボンブラックを使用することが有利である。この場合、平均粒子サイズが０．０１μｍから０．０４μｍの範囲にある第１のカーボンブラックと、平均粒子サイズが０．０５μｍから０．３μｍの範囲にある第２のカーボンブラックとの組合せが好ましい。第２のカーボンブラックの含有量は、無機粉末と第１のカーボンブラックとの合計量を１００質量部とした場合に、０．１〜１０質量部が適しており、０．３〜３質量部がより好ましい。結合剤の使用量は、無機粉末とカーボンブラックの合計質量を１００質量部とした場合に、４０〜１５０質量部の範囲から選ばれることが好ましく、より好ましくは５０〜１２０質量部であり、特に好ましくは６０〜１１０質量部である。バックコート層用の結合剤として、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂等を用いることができる。
【０１５２】
（塗布液の製造）
下塗り層塗布液は、放射線硬化性化合物や必要な添加剤を塗布溶剤に添加して溶解し、製造される。
【０１５３】
磁性層塗布液および非磁性層塗布液を製造するプロセスは、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けられる混合工程を含む。個々の工程は、２段階以上にわかれていてもかまわない。本実施形態で使用される強磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤、等のすべての原料は、どの工程の最初または途中で添加されてもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤を混練工程、分散工程、及び分散後の粘度調整のための混合工程の各々に分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するために、公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストルーダなど強い混練力をもつ装置を使用することが好ましい。ニ−ダを用いる場合、強磁性粉末または非磁性粉末は、結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０質量％以上が好ましい）および強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理することができる。これらの混練処理の詳細については、特開平１−１０６３３８号公報および特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層塗布液および非磁性層塗布液を分散させるためにガラスビーズを用いることができ、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、或いはスチールビーズを用いることが好ましい。これらの分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられることが好ましい。分散機として、公知の装置を使用することができる。
【０１５４】
［磁気記録媒体の製造方法］
本実施形態では以下のようにして磁気記録媒体が製造される。すなわち、非磁性支持体上に放射線硬化性化合物を含有する下塗り層用塗布液を塗布した後に、当該下塗り層用塗布液を乾燥するとともに放射線硬化性化合物を硬化することにより下塗り層を形成する。そして、下塗り層上に非磁性層用塗布液を塗布した後に当該非磁性層用塗布液を乾燥することにより非磁性層を形成する。そして、非磁性層上に磁性層用塗布液を塗布した後に当該磁性層用塗布液を乾燥することにより磁性層を形成する。この時、非磁性支持体原反ロールから送り出される非磁性支持体上に下塗り層、非磁性層および磁性層を順次、連続して形成することにより得られる磁気記録媒体ウェブを巻き取って磁気記録媒体原反ロールを製造して、磁気記録媒体原反ロールの磁気記録媒体ウェブをテープ状に裁断することにより磁気記録媒体テープが得られる。
【０１５５】
なお、バックコート層については、予め非磁性支持体の裏面にバックコート層を形成しておき、非磁性支持体原反ロールからバックコート層が形成された非磁性支持体を送り出すようにしてもよい。また、非磁性支持体原反ロールから非磁性支持体のみを送り出した後、下塗り層、非磁性層および磁性層が形成され、磁気記録媒体ウェブが磁気記録媒体原反ロールに巻き取られるまでの間に、非磁性支持体の裏面にバックコート層を塗設するようにしてもよい。
【０１５６】
図３は、磁気記録媒体の製造ラインの一例を示す概略図である。本例では、裏面にバックコート層１８が予め形成されている非磁性支持体１０が巻き取られて非磁性支持体原反ロール３０が作られている。
【０１５７】
バックコート層１８が形成された非磁性支持体１０は、非磁性支持体原反ロール３０から順次送り出され、下塗り層塗布部３２によって下塗り層用の塗布液が塗布され、下塗り層乾燥硬化部３４に送られる。下塗り層乾燥硬化部３４では、非磁性支持体１０上に塗布された下塗り層用の塗布液が乾燥されるとともに、下塗り層用の塗布液に含まれる放射線硬化性化合物が放射線によって硬化され、非磁性支持体１０の表面上に下塗り層１２が形成される。次に、バックコート層１８および下塗り層１２が形成された非磁性支持体１０は非磁性層塗布部３６によって下塗り層１２の上に非磁性層用の塗布液が塗布され、非磁性層乾燥部３８に送られる。非磁性層乾燥部３８では、下塗り層１２上に塗布された非磁性層用の塗布液が乾燥され、非磁性支持体１０の表面側に非磁性層１４が形成される。次に、バックコート層１８、下塗り層１２および非磁性層１４が形成された非磁性支持体１０は、磁性層塗布部４０によって非磁性層１４の上に磁性層用の塗布液が塗布され、磁性層乾燥部４２に送られる。磁性層乾燥部４２では、非磁性層１４上に塗布された磁性層用の塗布液が乾燥され、非磁性支持体１０の表面側に磁性層１６が形成される。このようにして、裏面側にバックコート層１８が形成されるとともに表面側に下塗り層１２、非磁性層１４および磁性層１６が形成された非磁性支持体１０は巻き取られて、磁気記録媒体原反ロール４４が作られる。
【０１５８】
次に、磁気記録媒体の製造プロセスの詳細について説明する。
【０１５９】
（塗布方法）
下塗り層、非磁性層および磁性層の作製においては、エクストルージョン塗工方式、ロール塗工方式、グラビア塗工方式、マイクログラビア塗工方式、エアーナイフ塗工方式、ダイ塗工方式、カーテン塗工方式、ディップ塗工方式、ワイヤーバー塗工方式など公知の手法を用いることができる。非磁性層および磁性層を逐次重層方式で塗布する場合、磁性層の作製においてはエクストルージョン塗工方式を用いることが好ましい。
【０１６０】
磁性層の形成には、塗布用スリットと回収用スリットの２つのスリットを有し、塗布用スリットから吐出してウエブに過剰に塗布された塗布液の過剰分を回収用スリット内に吸い取るようにした塗工方式を用いることが好ましい。更に、当該塗工方式において、回収用スリットで過剰な塗布液を吸い取る際の圧力条件の最適化を図って、より薄く塗布ムラのない磁性層を得ることのできる塗工方式を用いることがより好ましい。
【０１６１】
具体的には、連続走行する非磁性支持体上で、下塗り層、非磁性層および磁性層の形成が行われる。磁性層塗布液を塗布する際、非磁性支持体上に形成された非磁性層と塗布ヘッドの先端のリップ面とを近接させた状態で、塗布ヘッド内に送液される磁性層形成用塗布液を、所望の膜厚の磁性層を形成するために要する塗布量よりも過剰に塗布ヘッドの塗布用スリットから非磁性層上に吐出するとともに、過剰に塗布された磁性層塗布液を非磁性支持体の走行方向から見て塗布用スリットよりも下流側に設けられた回収用スリットから吸い取る。この時、回収用スリットの吸い取り口での液圧力をＰ（ＭＰａ）とすると、回収用スリットによる磁性層塗布液の吸い取りを、下記式（Ｉ）を満足するように行うことが好ましい。
【０１６２】
０．０５（ＭＰａ）＞Ｐ≧０（ＭＰａ）    （Ｉ）
更に、上述の塗工方式において、過剰に塗布された磁性層塗布液を吸い取りポンプによって吸い取る場合には、吸い取りポンプの吸い込み口側圧力をＰＩＮ（ＭＰａ）とすると、下記式（ＩＩ）を満足するように磁性層塗布液の吸い取りを行うことが好ましい。
【０１６３】
ＰＩＮ≧−０．０２（ＭＰａ）    （ＩＩ）
上述の塗工方式の詳細は、特開２００３−２３６４５２号公報に記載されている。
【０１６４】
また、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、下塗り層、非磁性層および磁性層の形成を、非磁性支持体原反ロールから送り出された非磁性支持体上で連続して行い、前記非磁性層および磁性層形成後、非磁性支持体を巻き取ることにより磁気記録媒体原反ロールを得て、磁気記録媒体原反ロールの一部を裁断することによりテープ状磁気記録媒体を得ることが好ましい。ロール形態に巻かれた非磁性支持体を送り出して下塗り層や非磁性層を形成した後に一旦巻き取り、再度非磁性支持体を送り出して磁性層を形成する方法では、安価に大量の磁気記録媒体を製造することは困難である。それに対し、上記のように、ロール形態に巻かれた非磁性支持体を送り出して下塗り層、非磁性層を形成した後に、非磁性支持体を一度も巻き取らずに磁性層を形成することにより、磁気記録媒体を安価に大量生産することができる。また、非磁性支持体の送り出しから巻き取りまでの間に、下塗り層、非磁性層および磁性層以外の層も形成することが好ましい。例えば、バックコート層を設ける場合は、バックコート層の形成も非磁性支持体の送り出しから巻き取りまでの間に行うことが好ましい。
【０１６５】
また、生産性向上のために、各層を形成する際の非磁性支持体の搬送速度は、１００ｍ／分以上とすることが好ましく、より好ましくは２００ｍ／分以上、更に好ましくは３００ｍ／分以上、特に好ましくは４００ｍ／分以上である。塗布速度が速いほど生産性向上には有利である。但し、塗布速度が速すぎると塗布故障（塗布スジ、塗布ムラなど）が発生しやすくなるため、塗布速度は７００ｍ／分以下とすることが好ましい。
【０１６６】
磁性層中の強磁性粉末を所望の配向状態とするために、通常、磁性層塗布液の塗布後、湿潤状態にあるうちに磁性層塗布液に対して配向処理が施される。
【０１６７】
強磁性金属粉末の配向に関しては、コバルト磁石およびソレノイドを用いて長手方向へ配向させることが好ましい。
六方晶フェライト粉末の配向については、一般的に面内および垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダムとすることも可能である。また、異極対向磁石などの公知の方法を用いて垂直配向とすることで、円周方向に等方的な磁気特性を磁性層に付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は、垂直配向が好ましい。
【０１６８】
各層形成用塗布液の乾燥は、例えば塗布された塗布液上に温風を吹き付けることにより行うことができる。乾燥風の温度は６０℃以上とすることが好ましい。また、乾燥風の風量は、塗布量および乾燥風の温度に応じて設定すればよい。なお、磁性層塗布液の塗布後、配向処理のために磁石ゾーンに導入する前に、適度の予備乾燥を行うこともできる。
【０１６９】
上記のようにして各層形成用の塗布液の塗布、乾燥後には、通常、磁気記録媒体にカレンダー処理が施される。カレンダー処理用のロ−ルとして、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルを用いることができる。カレンダー処理時の処理温度は、好ましくは５０℃以上、更に好ましくは９０℃以上である。カレンダー処理時の線圧力は、好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ）以上、更に好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）以上である。
【実施例】
【０１７０】
以下に、本発明に係る具体的な実施例および比較例を挙げるが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、実施例中の「部」の表示は、「質量部」を示す。
（非磁性支持体Ａ）
以下のようにして非磁性支持体Ａを準備した。市販の単層構成のポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルム（Ｑ２４ＳＣ、帝人社製）を用い、膜厚を５．０μｍとした。
【０１７１】
磁性層が塗設される側の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果、８．５ｎｍであった。
【０１７２】
尚、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は、Ｚｙｇｏ社製汎用３次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０２２を用いて２６５×３５０μｍの範囲を測定し、画像解析ソフトにより自乗表面平均から算出した。測定は、２３℃、５０％ＲＴの環境下で実施した。
【０１７３】
（非磁性支持体Ｂ）
以下のようにして非磁性支持体Ｂを準備した。平均粒径０．１μｍ、粒径分布値１．６の球状シリカ微粒子を０．３０質量％、および平均粒径０．５μｍ、粒径分布値１．２の球状シリコーン微粒子を０．０２質量％含む質量平均分子量３００００のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）と質量平均分子量４５０００のＰＥＮとの質量比が５０／５０の樹脂組成物を、１８０℃で５時間乾燥した後、押出し機ホッパーに供給し、押出し機内で３００℃で溶融状態として、Ｔ型押出しダイを用いて、表面仕上げ０．３Ｓ、表面温度６０℃に保持したキャスティングドラム上で急冷固化して未延伸フィルムを作製した。
【０１７４】
このようにして得られた未延伸フィルムを、１２０℃で予熱し、更に低速ロールおよび高速ロールの間で１４ｍｍ上方より８３０℃の表面温度の赤外線ヒーターで加熱して５．４倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給し、１２５℃で横方向に４．８倍延伸した。さらに、得られたフィルムを引き続き２２５℃で３秒間熱固定し、膜厚５．０μｍの単層構成の非磁性支持体Ｂを作製した。
【０１７５】
尚、不活性微粒子の平均粒径は、電子顕微鏡による写真法で約１００個の粒子について等価球に換算し、総体積に対し５０％のときの粒径Ｄ５０を算出した。また、大粒子側から体積を積算し、総体積に対して２５％のときの粒径をＤ２５、７５％のときの粒径をＤ７５としてその比（Ｄ２５／Ｄ７５）を粒径分布値とした。
【０１７６】
非磁性支持体Ａと同様にして磁性層が塗設される側の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果、８．４ｎｍであった。
【０１７７】
（非磁性支持体Ｃ）
以下のようにして非磁性支持体Ｃを準備した。平均粒径０．１μｍ、粒径分布値１．４の球状シリカ微粒子を０．１０質量％、および平均粒径０．３μｍ、粒径分布値１．３の球状シリカ微粒子を０．１５質量％含む質量平均分子量３００００のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）と質量平均分子量４５０００のＰＥＮとの質量比が５０／５０の樹脂組成物を用いた以外は、非磁性支持体Ｂの作製法と同様として、膜厚５．０μｍの単層構成の非磁性支持体Ｃを作製した。
【０１７８】
非磁性支持体Ａと同様にして磁性層が塗設される側の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果、１２．９ｎｍであった。
【０１７９】
（非磁性支持体Ｄ）
以下のようにして非磁性支持体Ｄを準備した。平均粒径０．１２μｍ、粒径分布値１．８のアルミナ微粒子を０．１０質量％、および平均粒径０．３μｍ、粒径分布値１．２の球状シリカ微粒子を０．１５質量％含む質量平均分子量３００００のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）と質量平均分子量４５０００のＰＥＮとの質量比が５０／５０の樹脂組成物を用いた以外は、非磁性支持体Ｂの作製法と同様として、膜厚５．０μｍの単層構成の非磁性支持体Ｄを作製した。
【０１８０】
非磁性支持体Ａと同様にして磁性層が塗設される側の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果、１３．１ｎｍであった。
【０１８１】
（非磁性支持体Ｅ）
以下のようにして非磁性支持体Ｅを準備した。平均粒径０．１μｍ、粒径分布値１．４の球状シリカ微粒子を０．１０質量％、および平均粒径０．３μｍ、粒径分布値１．７の球状シリカ微粒子を０．１２質量％含む、質量平均分子量３００００のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）と質量平均分子量４５０００のＰＥＮとの質量比が５０／５０の樹脂組成物を用いた以外は、非磁性支持体Ｂの作製法と同様として、膜厚５．０μｍの単層構成の非磁性支持体Ｅを作製した。
【０１８２】
非磁性支持体Ａと同様にして磁性層が塗設される側の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果、１５．３ｎｍであった。
【０１８３】
（非磁性支持体Ｆ）
以下のようにして非磁性支持体Ｆを準備した。市販の２層構成のポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルム（Ｑ３４ＳＤ、帝人社製）を用い、膜厚を５．０μｍとした。
【０１８４】
非磁性支持体Ａと同様にして磁性層が塗設される平滑な面側の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果、３．４ｎｍであった。
【０１８５】
（非磁性支持体Ｇ）
以下のようにして非磁性支持体Ｇを準備した。平均粒径０．１μｍ、粒径分布値１．４の球状シリカ微粒子を０．１０質量％含む質量平均分子量３００００のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）と質量平均分子量４５０００のＰＥＮとの質量比が５０／５０の樹脂組成物Ａと、平均粒径０．１μｍ、粒径分布値１．４の球状シリカ微粒子を０．１０質量％、および平均粒径０．３μｍ、粒径分布値１．３の球状シリカ微粒子を０．１５質量％含む質量平均分子量３００００のＰＥＮと質量平均分子量４５０００のＰＥＮとの質量比が５０／５０の樹脂組成物Ｂとを、それぞれ１８０℃で５時間乾燥した後、押出し機ホッパーに供給し、押出し機内で３００℃で溶融状態として、表面Ａ（表面側）に樹脂組成物Ａ、表面Ｂ（裏面側）に樹脂組成物Ｂが位置するように積層し、積層状態を維持したままＴ型押出しダイを用いて、表面仕上げ０．３Ｓ、表面温度６０℃に保持したキャスティングドラム上に押し出して、急冷固化して、積層未延伸フィルムを作製した。
【０１８６】
このようにして得られた未延伸フィルムを、１２０℃で予熱し、更に低速のロールおよび高速のロール間で１４ｍｍ上方より８３０℃の表面温度の赤外線ヒーターで加熱し、５．４倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給し、１２５℃で横方向に４．８倍延伸した。さらに、得られたフィルムを引き続き２２５℃で３秒間熱固定し、膜厚５．０μｍの２層構成の非磁性支持体Ｆを作製した。尚、表面Ａを形成するＰＥＮ層の膜厚は１．７μｍ、表面Ｂを形成するＰＥＮ層の厚みは３．３μｍとなるように調整した。
【０１８７】
非磁性支持体Ａと同様にして磁性層を塗設する側の表面Ａの中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果、３．７ｎｍであった。
【０１８８】
（下塗り層塗布液ａの作製）
市販のウレタンアクリレートモノマー(EBECRYL4858、ダイセルサイテック社製)：２０部に、メチルエチルケトン：６４部およびシクロヘキサノン：１６部を添加して攪拌した。この攪拌体を、平均孔径０．０４μｍのフィルターで濾過して下塗り層塗布液ａを作製した。
【０１８９】
（下塗り層塗布液ｂの作製）
市販のウレタンアクリレートモノマー(EBECRYL4858、ダイセルサイテック社製) ：１０部とトリシクロデカンジメタノールジアクリレート：１０部に、メチルエチルケトン：６４部およびシクロヘキサノン：１６部を添加して攪拌した。この攪拌体を、平均孔径０．０４μｍのフィルターで濾過して下塗り層塗布液ｂを作製した。
【０１９０】
（下塗り層塗布液cの作製）
市販のウレタンアクリレートモノマー(EBECRYL4858、ダイセルサイテック社製) ：１２部とジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：８部に、メチルエチルケトン：６４部およびシクロヘキサノン：１６部を添加して攪拌した。この攪拌体を、平均孔径０．０４μｍのフィルターで濾過して下塗り層塗布液ｃを作製した。
【０１９１】
（磁性層塗布液Ａの作製）
下記の強磁性金属粒子、リン酸系分散剤、ポリウレタン系樹脂ＰＵ１（質量平均分子量（Ｍｗ）：１７万）：６部、ポリウレタン系樹脂ＰＵ１と同様の分子構造を有するポリウレタン系樹脂ＰＵ２（質量平均分子量（Ｍｗ）：８万）：６部、およびポリ塩化ビニル系樹脂（ＭＲ１１０、日本ゼオン社製）：９部を、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを用いて、公知のオープンニーダーで混練分散した。作製した混練物に下記α−アルミナ、カ−ボンブラックを添加して、公知のダイノミル（直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ）で分散処理し、強磁性金属粒子の分散液を作製した。
【０１９２】
強磁性金属粒子（針状）                                        １００部
組成  Ｆｅ／Ｃｏ＝１００／２５
抗磁力Ｈｃ  ２１５ｋＡ／ｍ（２７００Ｏｅ）
比表面積（ＢＥＴ法）  ７０ｍ２／ｇ
表面処理剤  Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３
平均長軸長  ４５ｎｍ
平均針状比  ４
飽和磁化σｓ  １１０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１１０ｅｍｕ／ｇ）
リン酸系分散剤                                                    ５部
ポリウレタン系樹脂ＰＵ１（質量平均分子量（Ｍｗ）：１７万）        ６部
極性基−ＳＯ３Ｎａ；７０ｅｑ．／トン含有）
ポリウレタン系樹脂ＰＵ２（質量平均分子量（Ｍｗ）：８万）          ６部
極性基−ＳＯ３Ｎａ；７０ｅｑ．／トン含有）
ポリ塩化ビニル系樹脂（ＭＲ１１０、日本ゼオン社製）                ９部
α−アルミナ    モース硬度９（平均粒径：０．１μｍ）              ３部
カ−ボンブラック（平均粒径：０．０８μｍ）                    ０．３部
メチルエチルケトン                                            １５０部
シクロヘキサノン                                              １５０部
作製した上記分散液に、下記ポリイソシアネート、ブチルステアレート、ステアリン酸、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンを添加して攪拌し、公知の超音波分散機で分散処理した。そして、この攪拌体を平均孔径１．０μｍのフィルターで濾過して磁性層塗布液を作製した。磁性層塗布液の固形分濃度は１７．０質量％とした。
【０１９３】
ポリイソシアネート（コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）          ４部
ブチルステアレート                                            １．５部
ステアリン酸                                                  ０．５部
メチルエチルケトン                                            ２５２部
シクロヘキサノン                                              １１８部
【０１９４】
（磁性層塗布液Ｂの作製）
磁性層塗布液Ａのポリウレタン樹脂ＰＵ１をポリウレタン樹脂ＰＵ２に変更した以外は全く同様にして、磁性層塗布液Ｂを作製した。
【０１９５】
（磁性層塗布液Ｃの作製）
磁性層塗布液Ａのα−アルミナ（平均粒径０．１μm）３部を、α−アルミナ（平均粒径０．２０μm）１０部に変更した以外は全く同様にして、磁性層塗布液Ｃを作製した。
【０１９６】
（非磁性層塗布液の作製）
下記の非磁性金属粒子、カーボンブラック、リン酸系分散剤、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、メチルエチルケトン、およびシクロヘキサノンを用いて、公知のオープンニーダーで混練分散した。
【０１９７】
作製した混練物を公知のダイノミル（直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ）で分散処理して、非磁性粒子の分散液を作製した。
【０１９８】
非磁性粒子  αＦｅ２Ｏ３（針状）                            ８０部
比表面積（ＢＥＴ法）  ５２ｍ２／ｇ
表面処理剤  Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２
平均長軸長  １００ｎｍ
ｐＨ  ９．０
タップ密度  ０．８ｇ／ｃｃ
ＤＢＰ吸油量  ２７〜３８ｇ／１００ｇ
カーボンブラック                                          ２０部
平均一次粒子径  ０．０１６μｍ
ＤＢＰ吸油量  １２０ｍＬ／１００ｇ
ｐＨ  ８．０
比表面積（ＢＥＴ法）  ２５０ｍ２／ｇ
揮発分    １．５％
リン酸系分散剤                                              ３部
ポリ塩化ビニル系樹脂（ＭＲ１１０、日本ゼオン社製）        １２部
ポリウレタン系樹脂                                        ７．５部
（分岐側鎖含有ポリエステルポリオール／ジフェニルメタンジイソシアネート系、
極性基−ＳＯ３Ｎａ基：７０ｅｑ．／トン含有）
メチルエチルケトン                                      １５０部
シクロヘキサノン                                        １５０部
作製した上記分散液に、下記ポリイソシアネート、ブチルステアレート、ステアリン酸、メチルエチルケトン、およびシクロヘキサノンを添加して攪拌し、公知の超音波分散機で分散処理した。この攪拌体を平均孔径１．０μｍのフィルターで濾過して非磁性層塗布液を作製した。
【０１９９】
ポリイソシアネート（コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）    ５部
ブチルステアレート                                      １．５部
ステアリン酸                                                １部
メチルエチルケトン                                          ５部
シクロヘキサノン                                          ７５部
（バックコート層塗布液の作製）
下記の原材料および溶媒を公知の手法により混練処理した後、公知のダイノミル（直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ）を用いて分散処理した。
【０２００】
カーボンブラックＡ（平均粒径０．０４μｍ）              １００部
カーボンブラックＢ（平均粒径０．１μｍ）                    ４部
非磁性粒子  αＦｅ２Ｏ３                                    １０部
（平均粒径：０．１１μｍ、モース硬度：５、ｐＨ：９．０）
α−アルミナ（平均粒径０．２μｍ）                          １部
ニトロセルロース（セルノバＢＴＨ１／２、旭化成社製）      ３５部
ポリウレタン系樹脂                                        ７０部
銅フタロシアニン系分散剤                                    ５部
オレイン酸銅                                                ５部
沈降性硫酸バリウム                                          ５部
メチルエチルケトン                                      ７００部
トルエン                                                ７００部
作製した分散液に下記の原材料を加えて攪拌処理した。この攪拌体を平均孔径１．０μｍのフィルターで濾過してバックコート層塗布液を作製した。
【０２０１】
ポリエステル系樹脂（バイロン３００、東洋紡社製）            ５部
ポリイソシアネート（コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）  １５部
【０２０２】
（磁気記録媒体の作製−１）
（実施例１−１）
非磁性支持体Ａの上に下塗り層塗布液ａを公知の手法により塗布、乾燥して、過剰酸素を窒素で置換（窒素パージ）しながら、酸素濃度５０ｐｐｍ未満の雰囲気下で、５Ｍｒａｄの電子線を照射して放射線硬化性化合物を硬化し、膜厚０．４μｍの下塗り層を作製した。
【０２０３】
作製した下塗り層の上に、上記のようにして作製した非磁性層塗布液Ａを、乾燥後の膜厚が０．６μｍになるように公知の手法により塗布、乾燥して、非磁性層を作製した。
【０２０４】
作製した非磁性層の上に、上記のようにして作製した磁性層塗布液を、乾燥後の膜厚が０．０６μｍとなるように特開２００３−２３６４５２号公報記載の手法を用いて塗布した。
【０２０５】
磁性層が湿潤状態にある磁性層塗布液Ａの塗布後（０．７秒後）に、０．５Ｔ（５０００Ｇ）の磁力をもつコバルト磁石と０．４Ｔ（４０００Ｇ）の磁力をもつソレノイドとにより配向処理を行った後に、磁性層塗布液を乾燥して磁性層を作製した。
【０２０６】
磁性層とは反対側（裏面側）の非磁性支持体Ａの上に、上記のようにして作製したバックコート層塗布液を、乾燥後の厚さが０．５μｍとなるように公知の手法により塗布、乾燥して、バックコート層を作製した。
【０２０７】
尚、非磁性支持体Ａを送り出してから巻き取るまでの間に、下塗り層、非磁性層、磁性層、バックコート層の順に４つの層を塗設した。また、非磁性支持体の搬送速度は３５０ｍ／分とした。
【０２０８】
そして、下塗り層、非磁性層、磁性層、およびバックコート層が形成された非磁性支持体に対して、金属ロール（温度１００℃）から構成される７段のカレンダ処理機（線圧３００ｋｇ／ｃｍ）で、処理速度１５０ｍ／分で表面平滑化処理を実施した。次いで、表面平滑化処理が施された磁気記録媒体に対して７０℃、４０時間で熱処理を実施した後、１／２インチ幅にスリットしてテープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２０９】
（実施例１−２）
非磁性支持体Ｂを用いた以外は実施例１−１と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２１０】
（実施例１−３）
非磁性支持体Ｃを用いた以外は実施例１−１と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２１１】
（実施例１−４）
非磁性支持体Ｄを用いた以外は実施例１−１と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２１２】
（実施例１−５）
非磁性支持体Ｅを用いた以外は実施例１−１と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２１３】
（比較例１−Ａ）
非磁性支持体Ｆを用いた以外は実施例１−１と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２１４】
（比較例１−Ｂ）
非磁性支持体Ｇを用いた以外は実施例１−１と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２１５】
（実施例１−６）
非磁性支持体Ａの上に下塗り層塗布液ｂを公知の手法により塗布、乾燥して、過剰酸素を窒素で置換（窒素パージ）しながら、酸素濃度５０ｐｐｍ未満の雰囲気下で、５Ｍｒａｄの電子線を照射して放射線硬化性化合物を硬化し、膜厚０．３μｍの下塗り層を作製した。
【０２１６】
作製した下塗り層の上に、上記のようにして調製した非磁性層塗布液を乾燥後の膜厚が０．７μｍになるように公知の手法により塗布、乾燥して、非磁性層を作製した。
【０２１７】
それ以外は、実施例１−１と全く同様にしてテープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２１８】
（実施例１−７）
非磁性支持体Ｂを用いた以外は実施例１−６と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２１９】
（実施例１−８）
非磁性支持体Ｃを用いた以外は実施例１−６と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２２０】
（実施例１−９）
非磁性支持体Ｄを用いた以外は実施例１−６と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２２１】
（実施例１−１０）
非磁性支持体Ｅを用いた以外は実施例１−６と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２２２】
（比較例１−Ｃ）
非磁性支持体Ｆを用いた以外は実施例１−６と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
（比較例１−Ｄ）
非磁性支持体Ｇを用いた以外は実施例１−６と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２２３】
（実施例１−１１）
非磁性支持体Ｃの上に下塗り層塗布液ａを公知の手法により塗布、乾燥して、過剰酸素を窒素で置換（窒素パージ）しながら、酸素濃度５０ｐｐｍ未満の雰囲気下で、５Ｍｒａｄの電子線を照射して放射線硬化性化合物を硬化し、膜厚０．２μｍの下塗り層を作製した。
【０２２４】
作製した下塗り層の上に、上記のようにして調製した非磁性層塗布液を乾燥後の膜厚が０．８μｍになるように公知の手法により塗布、乾燥して、非磁性層を作製した。
【０２２５】
それ以外は、実施例１−１と全く同様にしてテープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２２６】
（実施例１−１２）
非磁性支持体Ｃの上に下塗り層塗布液ａを公知の手法により塗布、乾燥して、過剰酸素を窒素で置換（窒素パージ）しながら、酸素濃度５０ｐｐｍ以下の雰囲気下で、５Ｍｒａｄの電子線を照射して放射線硬化性化合物を硬化し、膜厚０．５μｍの下塗り層を作製した。
【０２２７】
作製した下塗り層の上に、上記のようにして調製した非磁性層塗布液を乾燥後の膜厚が０．５μｍになるように公知の手法により塗布、乾燥して、非磁性層を作製した。
【０２２８】
それ以外は、実施例１−１と全く同様にしてテープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２２９】
（実施例１−１３）
非磁性支持体Ｃの上に下塗り層塗布液ａを公知の手法により塗布、乾燥して、過剰酸素を窒素で置換（窒素パージ）しながら、酸素濃度２００ｐｐｍの雰囲気下で、５Ｍｒａｄの電子線を照射して放射線硬化性化合物を硬化し、膜厚０．３μｍの下塗り層を作製した。
【０２３０】
作製した下塗り層の上に、上記のようにして調製した非磁性層塗布液を乾燥後の膜厚が０．７μｍになるように公知の手法により塗布、乾燥して、非磁性層を作製した。
【０２３１】
それ以外は、実施例１−１と全く同様にしてテープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２３２】
（実施例１−１４）
放射線硬化性化合物の硬化処理時の酸素濃度を５００ｐｐｍの雰囲気にした以外は実施例１−１３と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２３３】
（実施例１−１５）
放射線硬化性化合物の硬化処理時の酸素濃度を１０００ｐｐｍの雰囲気にした以外は実施例１−１３と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２３４】
（実施例１−１６）
バックコート層の膜厚を１．２μｍにした以外は実施例１−３と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２３５】
（実施例１−１７）
下塗り層塗布液ｃを用いた以外は、実施例１−１１と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２３６】
（実施例１−１８）
磁性層塗布液Ａを磁性層塗布液Ｂに変更した以外は、実施例１−３と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２３７】
（実施例１−１９）
磁性層塗布液Ａを磁性層塗布液Ｃに変更した以外は、実施例１−３と全く同様にして、テープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２３８】
（比較例１−Ｅ）
非磁性支持体Ｆを用いて、下塗り層を塗設しなかった以外は比較例１−Ａと全く同様にしてテープ状磁気記録媒体を作製した。
【０２３９】
（磁気記録媒体の評価）
実施例１−１〜１−１９および比較例１−Ａ〜１−Ｅにおいて作製した磁気記録媒体に関し、以下の項目の評価を行った。
【０２４０】
（１）磁気記録媒体のカッピングの評価
１／２インチ幅のテープ状磁気記録媒体において、測定顕微鏡（ＭＭ−６０／Ｌ３Ｔ、株式会社ニコン製）を用いてカッピングの状態と数値を評価した（図５の表２中の「カッピング」の項目参照）。評価方法は前述のように実施した。
【０２４１】
（２）下塗り層の抽出成分の抽出率の評価
非磁性支持体上に塗布し、放射線硬化性化合物を硬化して作製した下塗り層を、非磁性層の塗布に用いた塗布溶剤中に２時間浸し、塗布溶剤中に抽出された下塗り層の成分を採取した。尚、塗布溶剤の温度は４０℃に設定して当該抽出を行った。
【０２４２】
液クロマトグラフィー（ＬＣ−２０１０Ｃ、株式会社島津製作所製）を用いて、抽出した成分の量を算出した。用いた下塗り層の質量Ａに対する下塗り層から抽出された成分の質量Ｂの比率（（Ｂ／Ａ）×１００）を算出した（図５の表２中の「下塗り層」の項目の「抽出量（質量％）」参照）。
【０２４３】
（３）下塗り層の体積収縮率の評価
非磁性支持体上に塗布し、放射線硬化性化合物を硬化して作製した下塗り層を剥離して、硬化後の下塗り層の密度Ａを測定した。さらに、放射線硬化性化合物の硬化前の下塗り層の密度Ｂを測定した。尚、密度の評価には乾式密度計（ＡｃｃａＰｙｃ１３３０、株式会社島津製作所製）を用いた。下塗り層の体積収縮率を、計算式（１−Ｂ／Ａ）×１００から算出した（図５の表２中の「下塗り層」の項目の「収縮率（％）」参照）。
【０２４４】
（４）磁性層の表面粗さの評価
作製した磁気記録媒体において、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（ナノスコープ３、デジタルインスツルメンツ社製）を用いて、１００μｍ２における磁性層の表面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）と、高さが１０〜２０ｎｍの表面微小突起数とを評価した（図５の表２中の「磁性層」の項目参照）。探針として稜角７０°の四角錐のＳｉＮ探針を用いた。なお、本実施形態の磁気記録媒体では、磁性層が磁気記録媒体の表面側の最外層を形成するので、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）や突起数などの磁性層の表面状態を、磁気記録媒体の表面状態とみなしうる。
【０２４５】
（５）エラー発生率の評価
作製した磁気記録媒体において、ＬＴＯ−Ｇｅｎ１ドライブを用いて、線記録密度１４４ｋｂｐｉの信号を８−１０変換ＰＲＩ等化方式で記録した後、ＬＴＯ−Ｇｅｎ１（ＩＢＭ社製）ドライブで記録信号を読みとり、エラー発生率を測定した（図５の表２中の「エラー発生率」の項目参照）。なお、エラー発生率の数値が低いほど、エラーの発生が少ない。
【０２４６】
（６）磁気ヘッドの汚れの評価
作製した磁気記録媒体を用いて、公知のＭＲヘッドを搭載したドライブを使用し、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で再生および巻き戻しの操作を繰り返し１００回行い、磁気記録媒体の走行後に磁気ヘッドに付着した汚れの程度を、顕微鏡で観察して以下のような４段階で評価した（図５の表２中の「ヘッド汚れ」の項目参照）。磁気ヘッドに付着した汚れが少ないほど好ましい。
【０２４７】
１：汚れが殆ど存在しない
２：微量の汚れが存在する
３：若干の汚れが存在する
４：多量の汚れが存在する
【０２４８】
（７）磁場配向に伴う強磁性金属粒子の凝集状態の評価
磁気記録媒体の磁性層表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、倍率１万倍）で観察して、磁気記録媒体の塗布方向に強磁性金属粒子同士の凝集（配向凝集）が存在するかどうか観察した。配向凝集の程度を３段階で評価した。
【０２４９】
１：配向凝集が全くない
２：配向凝集が若干存在する
３：顕著な配向凝集が全面に存在する
【０２５０】
（評価結果）
各試料についての評価試験結果を図４（表１）および図５（表２）に示す。なお、図４の表１において、「支持体」の項目の「種類」の欄における「Ａ」〜「Ｇ」の表記は、上記の非磁性支持体Ａ〜非磁性支持体Ｇを示す。また、「下塗り層」の項目の「種類」の欄における「ａ」〜「ｃ」の表記は、上記の下塗り層塗布液ａ〜下塗り層塗布液ｃを示し、「酸素濃度（ｐｐｍ）」の欄は、放射線硬化性化合物に放射線を照射した際の雰囲気の酸素濃度を示し、「酸素濃度（ｐｐｍ）」の欄における「＜５０」の表記は、酸素濃度５０ｐｐｍ未満の雰囲気下で放射線硬化性化合物に放射線を照射したことを示し、「磁性層」の項目の「種類」の欄における「Ａ」〜「Ｃ」の表記は、上記の磁性層塗布液Ａ〜磁性層塗布液Ｃを示す。また、図５の表２において、「カッピング」の項目の「状態」の欄における「磁性層側凸」の表記は、磁性層が配置される表面側が突出するように磁気記録媒体がカッピングしている状態を示し、「バックコート層側凸」の表記は、バックコート層が配置される磁気記録媒体の裏面側が突出するように磁気記録媒体がカッピングしている状態を示す。
【０２５１】
表２の結果から明らかなように、単層構成の非磁性支持体の上に放射線硬化性化合物を含有する下塗り層を塗設した磁気記録媒体（実施例１−１〜１−１９）のカッピング量はマイナスとなり、２層構成の非磁性支持体の上に放射線硬化性化合物を含有する下塗り層を塗設した磁気記録媒体（比較例１−Ａ〜１−Ｄ）のカッピング量はプラスとなった。以上の結果から、放射線硬化性化合物を含有する下塗り層を有する磁気記録媒体の作製では、単層構成の非磁性支持体においてマイナスのカッピング量を有する磁気記録媒体を作製しやすいことがわかる。また、カッピング量がマイナス（磁性層を有する側が凸）となっている本発明に係る磁気記録媒体（実施例１−１〜１−１９）では、カッピング量がプラス（磁性層を有する側が凹）となっている磁気記録媒体（比較例１−Ａ〜１−Ｄ）よりもエラーの発生率が少ないことが分かった。比較例１−Ａ〜１−Ｄにおけるエラーの発生率が高かった要因として、カッピング量がプラスの場合、テープのエッジが磁気ヘッドとの接触により擦れやすく、擦れゴミが発生して磁気ヘッドを汚したことと、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間の接触性が悪くスペースロスが発生しやすかったことが考えられる。一方、カッピング量が−２．０ｍｍより低かった実施例１−１６は、実施例１−１〜１−１５よりエラーの発生率が若干多かった。これは磁気ヘッドと磁気記録媒体の間の接触性が若干悪くなったためと考えられる。カッピング量は、０ｍｍ以下であって−２．１ｍｍよりも大きいほうが好ましく、より好ましくは０ｍｍ〜−２．０ｍｍである。
【０２５２】
実施例１−３と１−１３〜１−１５の比較から、下塗り層から抽出される成分の抽出率が少ない方がエラーの発生率が少なかった。また、抽出される成分の抽出率が少ない方が磁気ヘッドの汚れが少ない傾向にあった。磁気ヘッドの汚れ成分を解析すると抽出される成分と同様の成分が検出されることが分かった。以上の結果から、下塗り層から抽出される成分の抽出率が少なくなるように、放射線硬化性化合物を硬化することが好ましい。
【０２５３】
実施例１−１７において、収縮率が２０．５％の下塗り層においてもカッピング量がマイナスの磁気記録媒体を作製することが可能である。
【０２５４】
本発明に係る実施例１−１〜１−１７の磁気記録媒体の作製において、電磁変換特性を悪化させるような磁性層の配向凝集は無かった。一方、実施例１−１８は若干、磁性層の配向凝集が観察された。また、実施例１−１８では、実施例１−３に比べて若干エラーの発生率が高かった。これは、配向凝集がエラーの発生率を若干悪化させたことによるものと考えられる。実施例１−１〜１−１７におけるこの結果は、磁性層に質量平均分子量（Ｍｗ）が１２万以上の樹脂を構成成分として含有させることにより、電磁変換特性を悪化させるような配向凝集を抑えることができたことによるものと考えられる。
【０２５５】
本発明に係る実施例１−１〜１−１９では、磁気記録媒体の磁性層表面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下であって、高さが１０〜２０ｎｍの表面微小突起数は１〜５００個／１００μｍ２の割合であり、高容量で高記録密度の磁気記録媒体が得られた。但し、実施例１−１９では、実施例１−１〜１−１８に比べて、高さが１０〜２０ｎｍの表面微小突起数が若干多く、エラーの発生率が若干高く、また、電磁変換特性が若干劣っていた。これは、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間のスペースロスが若干大きかったことに起因していると考えられる。
【０２５６】
比較例１−Ｅで２層構成の非磁性支持体に下塗り層を塗設しない磁気記録媒体を作製した。高容量で高記録密度の磁気記録媒体が作製できたが、非磁性支持体の価格が高く、それを反映して極めて高価な磁気記録媒体となった。従って、２層構成の非磁性支持体を用いた場合には、安価な磁気記録媒体を作製することができない。
以上のような結果は、ポリエチレンテレフタレートフィルムにおいても同様の傾向が認められ、積層構成の非磁性支持体よりも、単層構成の非磁性支持体を用いた場合のほうがマイナスのカッピング量を有する磁気記録媒体を作製しやすかった。
【０２５７】
（磁気記録媒体の作製−２）
実施例１−１〜１−１９および比較例１−Ａ〜１−Ｅにおいて、非磁性層および磁性層を同時重層塗布方式で塗布した以外は全く同様にして磁気記録媒体を作製した。
【０２５８】
（磁気記録媒体の評価）
作製した磁気記録媒体において、実施例１−１〜１−１９および比較例１−Ａ〜１−Ｅと同様の評価を行った。
【０２５９】
（評価結果）
実施例１−１〜１−１９および比較例１−Ａ〜１−Ｅと同様の結果が得られた。従って、本発明は、非磁性層と磁性層との同時重層塗布方式に対しても適用できることが確認された。
【０２６０】
但し、同時重層塗布方式で作製した磁気記録媒体では、磁性層と非磁性層とが一部混ざっていることに起因して、逐次重層方式で作製した実施例１−１〜１−１９の磁気記録媒体と比較すると、電磁変換特性が若干劣っていた。
【図面の簡単な説明】
【０２６１】
【図１】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の断面を示す図である。
【図２】磁気記録媒体テープを長手方向に関して平行に見た場合の断面図である。
【図３】磁気記録媒体の製造ラインの一例を示す概略図である。
【図４】評価試験結果を示す図である。
【図５】評価試験結果を示す図である。
【符号の説明】
【０２６２】
１…磁気記録媒体、２…テープ断片、３…平面、４…テープ端部、５…テープ端部、１０…非磁性支持体、１２…下塗り層、１４…非磁性層、１６…磁性層、１８…バックコート層、２２…テープ表面、２４…テープ裏面、３０…非磁性支持体原反ロール、３２…下塗り層塗布部、３４…下塗り層乾燥硬化部、３６…非磁性層塗布部、３８…非磁性層乾燥部、４０…磁性層塗布部、４２…磁性層乾燥部、４４…磁気記録媒体原反ロール
【図１】
2009015962.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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