(57)【要約】【課題】疑似マッチングを無くしてマッチング精度を向上させ且つテンプレートマッチング処理時間の短縮を図ることが可能な、位置検出装置を提供すること。【解決手段】検索対象画像中のテンプレートと合致するマークパターンの位置を検出する装置であって、前記検索対象画像に、該画像を構成する画素中、隣接する画素との間で変化する部位を抽出する、画像処理を施す検索対象画像処理部２０と、前記画像処理が施された前記検索対象画像中の、前記テンプレートのテンプレート画像と合致する前記マークパターンの位置を検出する検出部（テンプレートマッチング処理部４０）と、を備える。【選択図】      図１
2009068998.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検索対象画像中のテンプレートと合致するマークパターンの位置を検出する装置であって、
前記検索対象画像に、該画像を構成する画素中、隣接する画素との間で変化する部位を抽出する、画像処理を施す検索対象画像処理部と、
前記画像処理が施された前記検索対象画像中の、前記テンプレートのテンプレート画像と合致する前記マークパターンの位置を検出する検出部と、
を備えたことを特徴とする位置検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の位置検出装置において、
前記テンプレート画像に、該画像を構成する画素中、隣接する画素との間で変化する部位を抽出する、画像処理を施すテンプレート画像処理部を更に備え、
前記検出部は、前記検索対象画像処理部によって前記画像処理が施された前記探索対象画像中の、前記テンプレート画像処理部によって前記画像処理が施された前記テンプレート画像と合致する前記マークパターンの位置を検出することを特徴とする位置検出装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の位置検出装置において、
前記画像処理は、画像に互いに交差する２方向でそれぞれエッジ強調フィルタ処理を施す処理であることを特徴とする位置検出装置。
【請求項４】
請求項３に記載の位置検出装置において、
前記マークパターンは複数の要素パターンで構成され、該要素パターンは前記エッジ強調フィルタ処理の処理エリアよりも小さいことを特徴とする位置検出装置。
【請求項５】
請求項４に記載の位置検出装置において、
前記要素パターンは、対応する画素数が２×２の画像であることを特徴とする位置検出装置。
【請求項６】
請求項３に記載の位置検出装置において、
前記エッジ強調フィルタ処理は、前記２方向のうち、一方向で前記画像に前記エッジ強調フィルタ処理を施し、次いでこの一方向で前記エッジ強調フィルタ処理を施した前記画像に更に他方向で前記エッジ強調フィルタ処理を施すことを特徴とする位置検出装置。
【請求項７】
請求項３に記載の位置検出装置において、
前記エッジフィルタ処理は、前記２方向のうち、一方向で前記画像に前記エッジ強調フィルタ処理を施し、また他方向で前記画像にエッジ強調フィルタ処理を施し、これら前記エッジ強調フィルタ処理を施した前記両画像を重ね合わせ、重ね合わさった部分を前記画像とすることを特徴とする位置検出装置。
【請求項８】
検索対象画像中のテンプレートと合致するマークパターンの位置を検出する方法であって、
前記テンプレートのテンプレート画像に、互いに交差する２方向でそれぞれエッジ強調フィルタ処理を施すテンプレート処理工程と、
前記検索対象画像に、互いに交差する２方向でそれぞれエッジ強調フィルタ処理を施す探索対象画像処理工程と、
前記画像処理が施された前記検索対象画像中に、前記画像処理が施された前記テンプレート画像と合致する前記マークパターンの位置を検出する工程と、
を備えたことを特徴とする位置検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は画像処理によって検索対象画像中のテンプレートと合致するマークパターンの位置を検出する位置検出装置及び位置検出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像を利用して位置を検出する装置では、予め検出する対象をテンプレートとして登録しておき、このテンプレートのテンプレート画像と探索対象の画像データとのテンプレートマッチングを行い、テンプレート画像と合致する検索対象画像中のマークパターンの位置を検出している（特許文献１）。
【０００３】
しかし、探索対象自体の状態、例えば探索対象が半導体ウェハの場合にあっては半導体ウェハ表面の状態、あるいはこの探索対象を撮影した入力画像のコンディション（コントラストやノイズ）などによって、探索対象画像中に検出対象となるマークパターンに似た疑似パターンが発生することがある。
【０００４】
このような疑似パターンとマッチングをしてしまう疑似マッチングを回避するためには、探索対象画像上で疑似パターンとマークパターンとを判別して、最終的にマークパターンを探し出す必要がある。
【０００５】
また、マークパターンが探索対象画像の状態によって画像の階調が反転する可能性がある場合には、予め２種類のテンプレートを用意しておき、２種類のテンプレートのうち何れか一方のテンプレートを使用してテンプレートマッチングを行い、次いで他方のテンプレートを使用してテンプレートマッチングを行い、マッチングしたマークパターンの位置を探し出すように、２回分のテンプレートマッチングを行う必要がある。
【特許文献１】特開２０００−１５５０１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、探索対象画像上で疑似パターンとマークパターンとを判別する作業は、熟練を要し、疑似パターンにマッチングしてしまう疑似マッチングが発生する可能性を回避できず、マッチング精度が低下する課題があった。
【０００７】
また、マークパターンの画像階調が反転することを許容してマークパターンを探すには２回分のテンプレートマッチングを実施する必要があり、テンプレートマッチングの処理時間が長くなる課題があった。
【０００８】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、疑似マッチングを低減してマッチング精度を向上させ且つテンプレートマッチング処理時間の短縮を図ることが可能な、位置検出装置及び位置検出方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成する本発明の請求項１に記載の位置検出装置は、検索対象画像中のテンプレートと合致するマークパターンの位置を検出する装置であって、前記検索対象画像に、該画像を構成する画素中、隣接する画素との間で変化する部位を抽出する、画像処理を施す検索対象画像処理部と、前記画像処理が施された前記検索対象画像中の、前記テンプレートのテンプレート画像と合致する前記マークパターンの位置を検出する検出部と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
本発明の請求項２に記載の位置検出装置は、前記テンプレート画像に、該画像を構成する画素中、隣接する画素との間で変化する部位を抽出する、画像処理を施すテンプレート画像処理部を更に備え、前記検出部が、前記検索対象画像処理部によって前記画像処理が施された前記探索対象画像中の、前記テンプレート画像処理部によって前記画像処理が施された前記テンプレート画像と合致する前記マークパターンの位置を検出することを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項３に記載の位置検出装置は、前記画像処理が、画像に互いに交差する２方向でそれぞれエッジ強調フィルタ処理を施す処理であることを特徴とする。
【００１２】
本発明の請求項４に記載の位置検出装置は、前記マークパターンが複数の要素パターンで構成され、該要素パターンが前記エッジ強調フィルタ処理の処理エリアよりも小さいことを特徴とする。
【００１３】
本発明の請求項５に記載の位置検出装置は、前記要素パターンが、対応する画素数が２×２の画像であることを特徴とする。
【００１４】
本発明の請求項６に記載の位置検出装置は、前記エッジ強調フィルタ処理が、前記２方向のうち、一方向で前記画像に前記エッジ強調フィルタ処理を施し、次いでこの一方向で前記エッジ強調フィルタ処理を施した前記画像に更に他方向で前記エッジ強調フィルタ処理を施すことを特徴とする。
【００１５】
本発明の請求項７に位置検出装置は、前記エッジ強調フィルタ処理が、前記２方向のうち、一方向で前記画像に前記エッジ強調フィルタ処理を施し、また他方向で前記画像にエッジ強調フィルタ処理を施し、これら前記エッジ強調フィルタ処理を施した前記両画像を重ね合わせ、重ね合わさった部分を前記画像とすることを特徴とする。
【００１６】
本発明の請求項８に記載の位置検出方法は、検索対象画像中のテンプレートと合致するマークパターンの位置を検出する方法であって、前記テンプレートのテンプレート画像に、互いに交差する２方向でそれぞれエッジ強調フィルタ処理を施すテンプレート処理工程と、前記検索対象画像に、互いに交差する２方向でそれぞれエッジ強調フィルタ処理を施す探索対象画像処理工程と、前記画像処理が施された前記検索対象画像中に、前記画像処理が施された前記テンプレート画像と合致する前記マークパターンの位置を検出する工程とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、疑似マッチングを低減してマッチング精度を向上させ且つテンプレートマッチング処理時間の短縮を図ることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下本発明の位置検出装置及び位置検出方法の一実施形態について図１乃至図１２を参照して説明する。
【００１９】
本実施形態の位置検出装置及び位置検出方法では、テンプレート用のテンプレート画像（パターン画像）と探索対象画像にそれぞれ縦方向のエッジ強調フィルタ処理（以下、縦エッジ強調フィルタ処理と記す）と横方向にエッジ強調フィルタ処理（以下、横エッジ強調フィルタ処理と記す）の双方の画像処理を施し、これらフィルタ処理を施した画像を使用してテンプレートマッチングを行う。
【００２０】
図１は本発明の位置検出装置の一実施形態を示す概略ブロック図である。
【００２１】
本実施形態の位置検出装置は、テンプレートのパターン画像に縦・横エッジ強調フィルタ処理を施すテンプレート画像処理部１０と、探索対象画像に縦・横エッジ強調フィルタ処理を施す探索対象画像処理部２０と、これらテンプレート画像処理部１０と探索対象画像処理部２０でのフィルタ処理画像を記憶するストアー部３０と、このストアー部３０に記憶されたフィルタ処理画像のパターン画像と探索対象画像とのテンプレートマッチングを実行する検出部としてのテンプレートマッチング処理部４０と、これら処理部１０，２０，４０とストアー部３０を制御する制御部５０とを備える。
【００２２】
テンプレート画像処理部１０は、図２に示すように、テンプレート用のパターン画像を入力する画像取得部１１と、入力した画像に縦・横エッジ強調フィルタ処理を施すフィルタ処理部１２と備える。探索対象画像処理部２０も同様に探索対象画像を入力する画像取得部２１と、入力した画像に縦・横エッジ強調フィルタ処理を施すフィルタ処理部２２と備える。
【００２３】
縦・横エッジ強調フィルタ処理によって、探索対象画像中の疑似パターンは大幅に減少し（図１２参照）、マッチング精度が向上する。また、これにともないマークパターンを小さくすることが出来る。
【００２４】
また、縦・横エッジ強調フィルタ処理によって、画像の階調が反転した画像と反転していない画像はともに同じパターンになるので、マークパターンの階調が反転する影響を受けず、パターン画像を２種類用意する必要はなく、テンプレートマッチング処理は１回で済み、処理時間の短縮を図ることが可能である。
【００２５】
図６（ａ）、（ｂ）はテンプレート画像処理部１０と探索対象画像処理部２０での縦・横エッジ強調フィルタ処理に使用する縦エッジ強調フィルタと横エッジ強調フィルタの説明図である。
【００２６】
入力画像（パターン画像、探索対象画像）に対して縦エッジ強調フィルタのカーネル６０（図６（ａ））を使用して畳み込み演算を実行すると、入力画像から横方向のエッジ成分が無くなり、縦方向のエッジ成分のみが残る。これは、入力画像について横方向の隣接画素の差（隣接する画素との階調の差）を出力画像の画素値とするからである。
【００２７】
同様に、横エッジ強調フィルタのカーネル６１（図６（ｂ））を使用して畳み込み演算を実行すると、入力画像から縦方向のエッジ成分が無くなり、横方向のエッジ成分のみが残る。これは、入力画像について縦方向の隣接画素の差を出力画像の画素値とするからである。
【００２８】
縦エッジ強調フィルタによる処理も、横エッジ強調フィルタにより処理も、いずれも隣接画素との差を出力とするため、階調が反転していても同じ画像が得られる。これによって階調が反転する可能性がある場合でも２種類のテンプレートを用意しなくてもテンプレートマッチングが行える。
【００２９】
例えば、隣接する一方の画素の階調が２５５階調で、他方の画素の階調が０階調であるとした場合、両者の差２５５（２５５−０）が出力画像の画素値となる。この隣接する画素の階調が反転して、隣接する一方の画素の階調が２５５階調から０階調に変化し、他方の画素の階調が０階調から２５５階調に変化しても、両者の差は２５５階調（２５５−０）であり、これが出力画像の画素値となるので、同じ画像が得られる。隣接する画素の階調が共に２５５階調あるいは０階調の場合、両者の差は０階調で、出力画像の画素値は０となる（出力画像がない）。
【００３０】
換言すると、フィルタ処理によって、画像を構成する画素中、隣接する画素との間で変化する部位は抽出され、変化しないそれ以外の部位は除去されることになる。
【００３１】
図３は本発明の位置検出方法の一実施形態を示すフローチャートである。
【００３２】
ステップＳ１では、テンプレート用のパターン画像に対して縦エッジ強調フィルタ処理と横エッジ強調フィルタ処理を組み合わせて処理を施し、本実施形態で使用するテンプレート画像に変換する。
【００３３】
同じテンプレートを使用してテンプレートマッチングを行う場合には、このステップＳ１を１回実行すればよく、テンプレートマッチング毎にステップＳ１を実行する必要はない。同じテンプレートを使用しない場合にはその都度ステップＳ１を実行する。
【００３４】
ステップＳ２では、探索対象画像に対して縦エッジ強調フィルタ処理と横エッジ強調フィルタ処理を組み合わせて処理を施し、本実施形態で使用する探索対象画像に変換する。
【００３５】
ステップＳ３では、ステップＳ１とステップＳ２で得られた画像を使用して、テンプレートマッチングによってマークパターンの位置を求める処理を実行する。
【００３６】
図４は、図３のステップＳ１とステップＳ２で実行される縦エッジ強調フィルタ処理と横エッジ強調フィルタ処理との組み合わせの内容を具体的に示す第１のフローチャートである。
【００３７】
図４に示すように、ステップＳ４で入力画像（テンプレート用のパターン画像、探索対象画像）に対して縦エッジ強調フィルタ処理を実行し、次いでステップＳ５で縦エッジ強調フィルタ処理後の画像に対して更に横エッジ強調フィルタ処理を実行する。
【００３８】
なお、ステップＳ４で縦エッジ強調フィルタ処理ではなく、横エッジ強調フィルタ処理を実行し、次いでステップＳ５で横エッジ強調フィルタ処理後の画像に対して更に縦エッジ強調フィルタ処理を実行するようにしてもよい。
【００３９】
図７及び図８は検索対象画像中のマークパターンに対して図４に示す方法でフィルタ処理を実行した結果を示している。
【００４０】
図７は、縦エッジ強調フィルタ処理を実行し、次いで縦エッジ強調フィルタ処理後の画像に対して横エッジ強調フィルタ処理を実行した結果を示している。同図（ａ）は、本実施形態で使用する検索対象画像中のマークパターン７０を示している。このマークパターン７０には、画素７１を四個（２×２）組み合わせて構成された要素パターン（以下要素と記す）７２が、縦方向と横方向にそれぞれ画素７１二個分に相当する間隔をあけて複数配置されている。マークパターン７０の寸法は、要素７２間の配置関係（要素７２間の間隔）を維持するように設定される。例えば、本実施形態において、画素７１のサイズが１ｍｍ角の場合、要素７２のサイズは２ｍｍ角で、要素７２間の間隔を２ｍｍとすると、マークパターン７０は１０ｍｍ角のサイズになる。
【００４１】
このマークパターン７０を縦エッジ強調フィルタで処理すると、図７（ａ）に示すマークパターン７０が図７（ｂ）に示すように横長の複数の要素７３を有するマークパターン７４に変化する。
【００４２】
図７（ａ）において、例えば、斜線模様が付された斜線部分の画素７１の階調を２５５階調とし、斜線模様のない白地部分の画素７１を０階調として、フィルタ処理を施した場合において、横方向において互いに隣接する画素７１ａと７１ｂについてみると、画素７１ａの階調は０階調で、隣の画素７１ｂの階調は２５５階調であり、両者の差は２５５階調で、これが出力画像の画素値になる。また、同じく、互いに隣接する画素７１ｃと画素７１ｄについてみると、画素７１ｃは２５５階調で、画素７１ｄは０階調で、両者の差は２５５階調で、これが出力画像の画素値になる。これらに対して、画素７１ｅと画素７１ｆについてみると、画素７１ｅと画素７１ｆは共に０階調で、両者の差は０階調で、これが出力画像の画素値になる。
【００４３】
すなわち、マークパターン７０の横方向（Ｘ軸方向）において、要素７２間の画素７１の階調が２５５階調になって、上述したように、横長の要素７３を有するマークパターン７４に変化する。
【００４４】
次いで、この縦エッジ強調フィルタ処理を実行した後のマークパターン７４に対して更に横エッジ強調フィルタで処理すると、マークパターン７０の縦方向において図７（ｂ）の要素７３間の画素７１の階調が０階調から２５５階調になって、図７（ｃ）に示すように、矩形の要素７５を有するマークパターン７６に変化する。
【００４５】
図７（ｂ）において、例えば、マークパターン７６の縦方向（Ｙ軸方向）において互いに隣接する画素７１ａと７１ｈについてみると、一方の画素７１ａの階調は２５５階調で、他方の画素７１ｈの階調は０階調であり、両者の差は２５５階調で、これが出力画像の画素値になる。また、同じく、互いに隣接する画素７１ｇと画素７１ｅについてみると、一方の画素７１ｇは２５５階調で、他方の画素７１ｅは０階調で、両者の差は２５５階調で、これが出力画像の画素値になる。
【００４６】
このように図４に示す方法でフィルタ処理を実行した場合においては、図３のステップＳ３で実行するパターンマッチングで図７（ｃ）に示す画像のマークターン７６を探索することになる。
【００４７】
図８は、図７に示す場合とは異なり、横エッジ強調フィルタ処理を実行し、次いで横エッジ強調フィルタ処理後の画像に対して縦エッジ強調フィルタ処理を実行した結果を示している。同図（ａ）は、本実施形態で使用する検索対象画像中のマークパターン７０を示し、図７（ａ）に示すものと同じである。
【００４８】
このマークパターン７０を横エッジ強調フィルタで処理すると、図８（ａ）に示すマークパターン７０が図８（ｂ）に示すように縦長の複数の要素７７を有するマークパターン７８に変化する。
【００４９】
すなわち、マークパターン７０の縦方向において、要素７７間の画素７１の階調が２５５階調になって、上述したように、縦長の要素７７を有するマークパターン７８に変化する。
【００５０】
次いで、この横エッジ強調フィルタ処理を実行した後のマークパターン７８に対して更に縦エッジ強調フィルタで処理すると、マークパターン７８の横方向において図８（ｂ）の要素７７間の画素７１の階調が０階調から２５５階調になって、図８（ｃ）に示すように、矩形の要素７９を有するマークパターン８０に変化する。
【００５１】
このように、図４に示すステップＳ４とステップＳ５の順序を逆にした、横エッジ強調フィルタ処理を実行し、次いで横エッジ強調フィルタ処理後の画像に対して縦エッジ強調フィルタ処理を実行した場合においては、図３のステップＳ３で実行するパターンマッチングで図８（ｃ）に示す画像のマークターン８０を探索することになる。
【００５２】
図５は、図３のステップＳ１とステップＳ２で実行される縦エッジ強調フィルタ処理と横エッジ強調フィルタ処理との組み合わせの内容を具体的に示す第２のフローチャートである。
【００５３】
図５では、テンプレート用のパターン画像又は探索対象画像を入力する画像取得後に、ステップＳ６で入力画像に対して縦エッジ強調フィルタ処理を実行し、またステップＳ７で同じくテンプレート用のパターン画像又は探索対象画像の入力画像に対して横エッジ強調フィルタ処理を実行する。次いで、ステップＳ８で縦エッジ強調フィルタの処理結果の画像と横エッジ強調フィルタの処理結果の画像について、同じ場所での画素の画素値を比較して低い方の画素値を出力画像の画素値とする処理を実行する。
【００５４】
図９及び図１０は検索対象画像中のマークパターンに対して図５に示す方法でフィルタ処理を実行した結果を示している。
【００５５】
図９は、図７（ａ）に示すマークパターン７０を縦エッジ強調フィルタで処理した、横長の要素７３を有するマークパターン７４と、横エッジ強調フィルタで処理した、縦長の要素７７を有するマークパターン７８とを重ね合わせた画像８２を示している。
【００５６】
この画像８２からマークパターン７４とマークパターン７８の双方に共通する（重ね合わさった）画素を取り出すために、共通する画素のうち、画素値の小さい方の画素値を選択し、これを出力画像の画素値とする処理（図５のステップＳ８参照）を実行すると、図１０に示すマークパターン８３が得られる。
【００５７】
図５に示す方法でフィルタ処理を実行した場合においては、図３のステップＳ３で実行するパターンマッチングでこの図１０に示す画像のマークターン８３を探索することになる。
【００５８】
図１１は探索対象画像に対して縦エッジ強調フィルタで処理した場合を示している。同図（ａ）に示す探索対象画像１００には、マークターン８５の他に疑似マッチングの原因となる疑似パターン８６も含まれている。図１１（ａ）ではマークパターン８５を便宜上矩形パターンとして表示しているが、実際には図７（ａ）に示すマークパターン７０と同じ形状を有している。なお、縦エッジ強調フィルタ処理する方向の画像である、マークパターン８５は、縦エッジ強調フィルタ処理エリアよりも小さく設定されている。
【００５９】
探索対象画像１００に対して縦エッジ強調フィルタで処理すると、図１１（ｂ）に示す探索対象画像１０１が得られる。この探索対象画像１０１では、疑似パターン８６は縦エッジパターン８９に変化し、またマークパターン８５は図７（ｂ）に示すマークパターン７４と同じ形状のマークパターン８７（図では便宜上矩形パターンとして表示）に変化する。
【００６０】
図１２は、縦エッジ強調フィルタ処理を施した探索対象画像１０１に対して更に横エッジ強調フィルタ処理をした場合を示している。なお、横エッジ強調フィルタ処理する方向の画像である、マークパターン８７は、横エッジ強調フィルタ処理エリアよりも小さく設定されている。
【００６１】
探索対象画像１０１に横エッジ強調フィルタで処理すると、図１２に示す探索対象画像１０２が得られる。この探索対象画像１０２では、縦エッジパターン８９はその端部が点に変化した端点９０になり、またマークパターン８７は図７（ｃ）に示すマークパターン７６と同じ形状のマークパターン８８（図では便宜上矩形パターンとして表示）に変化する。
【００６２】
このように探索対象画像１００を縦・横エッジ強調フィルタで処理すると、疑似マッチングの原因となる疑似パターン８６は最終的に端点９０となり、マークパターン８８とは大きさや形状などが大きく異なる。この結果、疑似マッチングを減らしてマッチング精度を高めることが出来る。
【００６３】
また、疑似パターン８６が最終的に端点９０となることからマークパターン８８の寸法を小さく設定することが可能となる。
【００６４】
本発明は上記実施形態に示すものに限定されるものではない。テンプレート画像や探索対象画像を構成する画素中、隣接する画素との間で変化する部位を抽出し、それ以外の部位を除去する、画像処理として、エッジ強調フィルタ処理を示したが、これに限定されるものではない。
【００６５】
また、縦エッジ強調フィルタ処理と横エッジ強調フィルタ処理の双方の処理を行った場合を示したが、何れか一方の処理だけを施してもよい。要は、疑似パターンを減らすことができれば、縦エッジ強調フィルタ処理と横エッジ強調フィルタ処理の何れか一方の処理だけでもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の位置検出装置の一実施形態を示す概略ブロック図である。
【図２】図１の位置検出装置のテンプレート画像処理部１０（探索対象画像処理部２０）の内容を示すブロック図である。
【図３】本発明の位置検出方法の一実施形態を示すフローチャートである。
【図４】図３のステップＳ１とステップＳ２で実行される縦エッジ強調フィルタ処理と横エッジ強調フィルタ処理との組み合わせの内容を具体的に示す第１のフローチャートである。
【図５】図３のステップＳ１とステップＳ２で実行される縦エッジ強調フィルタ処理と横エッジ強調フィルタ処理との組み合わせの内容を具体的に示す第２のフローチャートである。
【図６】図１のテンプレート画像処理部１０と探索対象画像処理部２０での縦・横エッジ強調フィルタ処理に使用する縦エッジ強調フィルタと横エッジ強調フィルタの説明図である。
【図７】検索対象画像中のマークパターンに対して図４に示す方法でフィルタ処理を実行した結果を示す説明図である。
【図８】検索対象画像中のマークパターンに対して図４に示す方法でフィルタ処理を実行した結果を示す説明図である。
【図９】検索対象画像中のマークパターンに対して図５に示す方法でフィルタ処理を実行した結果を示す説明図である。
【図１０】検索対象画像中のマークパターンに対して図５に示す方法でフィルタ処理を実行した結果を示す説明図である。
【図１１】探索対象画像に対して縦エッジ強調フィルタで処理した場合の説明図である。
【図１２】縦エッジ強調フィルタ処理を施した探索対象画像に対して更に横エッジ強調フィルタ処理をした場合の説明図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０            テンプレート処理部
２０            探索対象画像処理部
３０            ストアー部
４０            テンプレートマッチング処理部
５０            制御部
６０            縦エッジ強調フィルタのカーネル
６１            横エッジ強調フィルタのカーネル
７０            マークパターン
７１            画素
７２            要素（要素パターン）
７３            要素（要素パターン）
７７            要素（要素パターン）
７４            マークパターン
７６            マークパターン
７８            マークパターン
８０            マークパターン
８３            マークパターン
８５            マークパターン
８６            疑似パターン
８７            マークパターン
８８            マークパターン
１００          探索対象画像
１０１          探索対象画像
１０２          探索対象画像
【図１】
2009068998.tif 000003
【図２】
2009068998.tif 000004
【図３】
2009068998.tif 000005
【図４】
2009068998.tif 000006
【図５】
2009068998.tif 000007
【図６】
2009068998.tif 000008
【図７】
2009068998.tif 000009
【図８】
2009068998.tif 000010
【図９】
2009068998.tif 000011
【図１０】
2009068998.tif 000012
【図１１】
2009068998.tif 000013
【図１２】
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