(57)【要約】      （修正有）【課題】外部駆動回路と接続する端子が電池反応をおこすことなどによる端子部あるいは配線の断線の発生を低減し、端子部のコンタクト特性に優れた端子構造を有する液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置の外部駆動回路と接続するための端子１０１の、表示パネル側と外部駆動端子側の両端部が保護膜１０７で覆われており、端子上の保護膜１０７で覆われていない部分には透明性導電膜１０３が形成され、さらに端子上に形成された透明性導電膜１０３は端子両端部の保護膜１０７と接しない構造を有する。【選択図】図１
2009116338.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタにより駆動され、Ａｌを含む積層膜からなる反射電極と透明性導電膜からなる透過電極を備えた画素電極とを、形成した画素基板と、
前記画素基板と対向する対向基板と、
前記画素基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層とを、備える液晶表示装置において、
前記画素基板は、少なくとも、
一辺に外部駆動回路と接続するための端子と、
前記基板上に前記薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を介して設けられ、前記外部駆動回路からの信号を前記端子を介して表示パネル側へ入力するための、前記薄膜トランジスタのゲート電極と同層に形成された下層配線とを、有し、
前記端子は、
前記薄膜トランジスタのＡｌを含む積層膜よりなるソース・ドレイン配線と同層に形成された端子配線と、
前記端子配線上を直接被覆して形成された透明性導電膜とを、有し、
前記透明性導電膜は、
前記画素基板上の表示エリアに形成された保護膜である有機樹脂膜より離れて形成され、
前記下層配線と前記端子配線とは、
前記下層配線を覆う層間絶縁膜に形成された開口を介して接続される、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記端子配線が前記有機樹脂膜より離れた位置に形成され、前記透明性導電膜が前記端子配線上全体を被覆して形成される、
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
薄膜トランジスタにより駆動される画素電極を形成した画素基板と、前記画素基板と対向する対向基板と、前記画素基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層とを、備え、前記画素基板の少なくとも一辺に外部駆動回路と接続するための端子が形成される液晶表示装置の製造方法において、
基板上に半導体層を形成する工程と、
前記半導体層の上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記外部駆動回路からの信号を前記端子を介して表示パネル側へ入力するための下層配線と、ゲート電極とを、前記ゲート絶縁膜の上に同層に形成する工程と、
前記ゲート電極及び下層配線上を覆う層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜に開口を形成する工程と、
前記半導体層に不純物をイオン注入してソース・ドレイン領域を形成する工程と、
前記端子を構成する端子配線を前記開口を介して前記下層配線に連通するようにＡｌを含む積層膜により前記層間絶縁膜上にソース・ドレイン配線と同時に形成する工程と、
前記画素基板の表示エリア上に有機樹脂膜からなる保護膜を形成する工程と、
前記有機樹脂膜より離れた位置に前記端子配線上を直接被覆し、前記端子を構成する透明性導電膜を形成する工程と、
前記有機樹脂膜上に前記薄膜トランジスタに接続される画素電極を、Ａｌを含む積層膜からなる反射電極と透明性導電膜からなる透過電極により形成する工程とを、有する、
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記端子配線が前記有機樹脂膜より離れた位置に形成され、前記透明性導電膜が前記端子配線上全体を被覆して形成される、
ことを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、外部駆動回路と接続するための端子を備えた液晶表示装置およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、薄膜トランジスタ、画素電極、配線、外部駆動回路と接続するための端子などが形成された絶縁性基板とカラーフィルタ、対向電極などが形成された絶縁性基板とを対向させ、その間に液晶を挟持するように構成されている。
【０００３】
配線は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属で構成される。また、外部駆動回路と接続するための端子は、ＣｒやＭｏで構成された電極表面を酸化インジウム錫（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）などの透明性導電酸化膜で覆うように構成される。
【０００４】
また、外部駆動回路と端子との接続には異方性導電粒子が用いられる。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１５５３３５号公報（第６頁、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の液晶表示装置において外部駆動回路と接続するための端子表面は露出しており、大気中の湿気にさらされた状態にある。端子表面は導電性酸化膜で形成されているため、大気中でこれ以上の酸化を受けにくく、安定した外部駆動回路との接続が可能である。しかしながら、ＩＴＯやＩＺＯなどは酸化物であるため、非常に活性で酸化還元反応でのカソードとなりやすく、例えば湿度が高く大気中の水分が端子表面に付着するような場合においては、ＩＴＯやＩＺＯの下層電極であるＣｒやＭｏ電極との間で、電池反応を起こしやすいという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記のような問題を解消するためになされたもので、外部駆動回路と接続するための端子が電池反応を起こすことなどによって生じる断線（電食）の発生を低減し、端子部におけるコンタクト特性に優れた端子構造を有する液晶表示装置およびその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明に係る液晶表示装置は、基板上に薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタにより駆動され、Ａｌを含む積層膜からなる反射電極と透明性導電膜からなる透過電極を備えた画素電極とを、形成した画素基板と、前記画素基板と対向する対向基板と、前記画素基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層とを、備える液晶表示装置において、前記画素基板は、少なくとも、一辺に外部駆動回路と接続するための端子と、前記基板上に前記薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を介して設けられ、前記外部駆動回路からの信号を前記端子を介して表示パネル側へ入力するための、前記薄膜トランジスタのゲート電極と同層に形成された下層配線とを、有し、前記端子は、前記薄膜トランジスタのＡｌを含む積層膜よりなるソース・ドレイン配線と同層に形成された端子配線と、前記端子配線上を直接被覆して形成された透明性導電膜とを、有し、前記透明性導電膜は、前記画素基板上の表示エリアに形成された保護膜である有機樹脂膜より離れて形成され、前記下層配線と前記端子配線とは、前記下層配線を覆う層間絶縁膜に形成された開口を介して接続されることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明は、端子電極の露出面積を最小限に抑えて大気にさらされ難くし、不純物などの汚染の影響を受け難くすることができる。また、大気中に含まれる水分による電池反応の発生を抑えることができる。また、端子電極上の透明性導電膜は保護膜である吸湿性の高い有機樹脂膜と接触していないので、有機樹脂膜中に含まれる水分による電池反応の発生も抑えることができる。従って、電食による端子部の電気的コンタクト不良、更に端子部の断線不良を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
実施の形態１．
図１は、本願発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の上面図である。また、図２は、図1の破線Ａ−Ｂにおける断面図及び表示エリア内の領域の断面図である。なお、以下に説明する各実施の形態で用いられる説明図において、同一又は相当部分には同一の符号を付してその説明を省略する。
【００１１】
図１および図２を参照して、本実施形態における液晶表示装置は、ガラス基板２０１上に形成された画素トランジスタ２０３と画素トランジスタ２０３で駆動される画素電極２０５と信号配線１０９と層間絶縁膜２０７と絶縁性無機膜１０５および有機樹脂膜１０７からなる保護膜２０９と外部駆動回路と接続するための端子１０１を有している。端子１０１は、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ薄膜が積層された信号配線１０９とＩＴＯ膜からなる透明導電膜１０３で形成されている。
【００１２】
本実施形態における液晶表示装置の製造フローを説明する。図３（ａ）を参照して、ガラス基板２０１上にシリコン層を形成し、ゲート絶縁膜２１１を形成する。その後、ゲート電極を形成した後、ソース・ドレイン領域を形成して画素トランジスタ２０３を形成する。画素トランジスタ２０３の形成後、層間絶縁膜２０７を積層する。
【００１３】
図３（ｂ）を参照して、画素トランジスタ２０３のソース・ドレイン領域上の層間絶縁膜２０７およびゲート絶縁膜２１１に第１の開口２１３ａ、２１３ｂを形成した後、ソース・ドレイン領域上にソース・ドレイン配線２１５を形成する。ソース・ドレイン配線２１５の形成と同時に外部駆動回路側に信号配線１０９を形成する。ソース・ドレイン配線２１５および信号配線１０９は、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ薄膜の積層構造となっている。
【００１４】
図３（ｃ）を参照して、ソース・ドレイン配線２１５および信号配線１０９を含む層間絶縁膜２０７上に、絶縁性無機膜１０５を形成する。絶縁性無機膜１０５上に有機樹脂膜１０７を形成し、保護膜２０９とする。保護膜２０９に写真製版工程によって、第２ないし第４の開口２１７ａ，２１７ｂ，２１７ｃを形成した後、Ａｌ薄膜を形成し、第２の開口２１７ａ上にＡｌ膜３０１からなる反射電極３０３を形成する。その後、ＩＴＯ膜を形成し、写真製版工程によって第３の開口２１７ｂ上にＩＴＯ膜からなる透過電極３０５を形成し、画素電極２０５とする。第４の開口２１７ｃ上にはＩＴＯ膜からなる透明導電膜１０３を形成し、端子１０１を形成する。端子１０１の表示エリア側および外部駆動回路側の両端は、絶縁性無機膜１０５上に有機樹脂膜１０７を積層して形成された保護膜２０９で被覆されている。絶縁性無機膜１０５上の有機樹脂膜１０７は絶縁性無機膜１０５の端部から後退した状態となっている。この構造はパターニングされた有機樹脂膜１０７をエッチングマスクとして、絶縁性無機膜１０５をドライエッチング加工し、その後酸素雰囲気プラズマにさらすことで実現可能である。あるいは写真製版工程を２回行うことによっても可能である。このようにして端子１０１は、信号配線１０９上の絶縁性無機膜１０５に第４の開口２１７ｃが形成された領域とその周囲の絶縁性無機膜１０５上に透明性導電膜１０３であるＩＴＯ膜が被覆され、さらにＩＴＯ膜は絶縁性無機膜１０５上の有機樹脂膜１０７とは接触しない構成となっている。信号配線１０９を覆う絶縁性無機膜１０５間の距離をここでは２００μｍとした。これは外部駆動回路との電気的コンタクトを得るための必要最小限の距離とすればよく、２００μｍに限らない。
【００１５】
保護膜２０９を形成する絶縁性無機膜１０５および有機樹脂膜１０７は、表示エリアの製造で使用したパッシベーション膜であるシリコン窒化膜および反射板の凹凸形成あるいは開口率向上のために使用したアクリル性有機樹脂膜を利用している。よって新たな工程を追加する必要がなく、生産性を低下させることはない。また、端子１０１を構成する信号配線１０９は表示エリアに形成された画素トランジスタ２０３のソース・ドレイン配線２１５と同層の膜で形成することによって新たな工程を追加する必要がなく、生産性を低下させることはない。
【００１６】
以上のように、本実施の形態１に係る発明によれば、端子１０１を構成する信号配線１０９が大気中に露出されず、さらに信号配線１０９上のＩＴＯ膜が吸湿性の高いアクリル性有機樹脂膜１０７との接触を回避しているために不純物などの汚染の影響を受け難い。また、大気中に含まれる水分やアクリル系有機樹脂膜１０７中に含まれる水分による電食反応の発生を抑えることができる。従って、電食による端子部の電気的コンタクト不良、更に端子部の断線不良を低減することができる。
【００１７】
実施の形態２．
実施の形態１では、絶縁性無機膜１０５に形成した第４の開口２１７ｃを介して、ソース・ドレイン配線２１５と同一の工程で形成され、ソース・ドレイン配線２１５と同層の膜であるＣｒ／Ａｌ／Ｃｒ積層膜からなる信号配線１０９上のＩＴＯ膜を、有機樹脂膜１０７に触れないように形成した。これに対し本実施の形態では、端子１０１のＩＴＯ膜の下層にＣｒ膜を形成するものである。
【００１８】
図４は、本願発明の実施の形態２に係る液晶表示装置の断面図である。
【００１９】
図４を参照して、本実施形態における液晶表示装置の製造フローを説明する。実施の形態１と同様にソース・ドレイン配線２１５および信号配線１０９を含む層間絶縁膜２０７上の保護膜２０９に写真製版工程によって、第２ないし第４の開口２１７ａ，２１７ｂ，２１７ｃを形成する。その後、Ａｌ／Ｃｒ膜の積層膜を形成し、写真製版工程によって画素電極２０５を構成する反射電極３０３のＡｌ膜を形成する。その後、写真製版工程によって画素電極２０５を構成する透過電極３０５の領域のＣｒ膜を除去し、その後ＩＴＯからなる透明導電膜を成膜する。その後、透過電極３０５のＩＴＯ膜および端子１０１のＩＴＯ膜とＣｒ膜４０５の積層膜を形成する。このようにして第２の開口２１７ａ上にＣｒ膜４０１とＡｌ膜４０３との積層膜からなる反射電極３０３を形成し、第３の開口２１７ｂ上にＩＴＯ膜からなる透過電極３０５を形成して画素電極２０５とし、第４の開口２１７ｃ上には透明導電膜１０３であるＩＴＯ膜とＣｒ膜４０５からなる電極を形成して端子１０１を形成する。端子１０１の表示エリア側および外部駆動回路側の両端は、絶縁性無機膜１０５上に有機樹脂膜１０７を積層して形成された保護膜２０９で被覆されている。絶縁性無機膜１０５上の有機樹脂膜１０７は実施の形態１と同様、絶縁性無機膜１０５の端部から後退した状態となっている。このようにして端子１０１は、信号配線１０９上の絶縁性無機膜１０５に第４の開口２１７ｃが形成された領域とその周囲の絶縁性無機膜１０５上に透明性導電膜１０３であるＩＴＯ膜が被覆され、さらにＩＴＯ膜は絶縁性無機膜１０５上の有機樹脂膜１０７とは接触しない構成となっている。
【００２０】
実施の形態２でも実施の形態１と同様に、保護膜２０９を形成する絶縁性無機膜１０５および有機樹脂膜１０７は、表示エリアの製造で使用したパッシベーション膜であるシリコン窒化膜および反射板の凹凸形成あるいは開口率向上のために使用したアクリル性有機樹脂膜を利用している。よって新たな工程を追加する必要がなく、生産性を低下させることはない。また、端子１０１を構成する信号配線１０９は表示エリアに形成された画素トランジスタ２０３のソース・ドレイン配線２１３と同層の膜で形成することによって新たな工程を追加する必要がなく、生産性を低下させることはない。
【００２１】
以上のように、本実施の形態２に係る発明によれば、端子１０１を構成する信号配線１０９が大気中に露出されず、さらに信号配線１０９上のＩＴＯ膜が吸湿性の高いアクリル性有機樹脂膜１０７との接触を回避しているために不純物などの汚染の影響を受け難い。また、大気中に含まれる水分やアクリル系有機樹脂膜１０７中に含まれる水分による電食反応の発生を抑えることができる。従って、電食による端子部の電気的コンタクト不良、更に端子部の断線不良を低減することができる。また、端子１０１を構成するＩＴＯ膜が下層のＣｒ膜４０５を介することによって、信号配線１０９に使用されるＡｌとの距離を長くすることができ、ＩＴＯ膜の耐腐食性が向上する。
【００２２】
実施の形態３．
実施の形態１および２では、絶縁性無機膜１０５に形成した第４の開口２１７ｃを介して、ソース・ドレイン配線２１５と同一の工程で形成され、ソース・ドレイン配線２１５と同層の膜であるＣｒ／Ａｌ／Ｃｒ配線上に、ＩＴＯ膜を有機樹脂膜１０７に触れないように形成した。これに対し本実施の形態では、ゲート配線と同層に形成したＣｒ電極配線を利用して、外部駆動回路からの信号を表示パネルに入力する構造とするものである。
【００２３】
図５は、本願発明の実施の形態２に係る液晶表示装置の上面図である。また、図６は、図５の破線Ａ−Ｂにおける断面図及び表示エリア内の領域の断面図である。
【００２４】
図５および図６を参照して、外部駆動回路と接続するための端子１０１において、表示エリアに形成された画素トランジスタのソース・ドレイン配線２１５と同層の膜で形成したＣｒ／Ａｌ／Ｃｒ配線５０１およびこれを被覆する透明性導電膜１０３であるＩＴＯ膜は、絶縁性無機膜１０５および有機樹脂膜１０７と接触しない構成となっている。すなわち、端子１０１においてソース・ドレイン配線２１５と同層の膜で形成したＣｒ／Ａｌ／Ｃｒ薄膜の積層膜からなる端子配線５０１をゲート電極５０３と同層の膜で形成された下層配線５０５であるＣｒ電極配線に層間絶縁膜２０７に形成した第５の開口５０７を介して、電気的に接触させることにより、下層に形成した配線５０５を利用して、外部駆動回路からの信号を表示パネルに入力する構造とする。
【００２５】
本実施形態における液晶表示装置の製造フローを説明する。図７（ａ）を参照して、ガラス基板２０１上に画素トランジスタ２０３を形成する。このとき、Ｃｒ膜からなる画素トランジスタのゲート電極５０３の形成と同時に下層配線５０５を形成する。画素トランジスタ２０３および下層配線５０５の形成後、層間絶縁膜２０７を積層する。
【００２６】
図７（ｂ）を参照して、画素トランジスタ２０３のソース・ドレイン領域上の層間絶縁膜２０７およびゲート絶縁膜２１１に第１の開口２１３を形成すると共に、端子１０１の下層配線５０５上の層間絶縁膜２０７に第５の開口５０７を形成する。第１の開口２１３および第５の開口５０７を形成した後、画素トランジスタのソース・ドレイン領域に連通するようにソース・ドレイン配線２１５を形成し、ソース・ドレイン配線２１５の形成と同時に外部駆動回路側の端子１０１の下層配線５０５に連通するように端子配線５０１を形成する。ソース・ドレイン配線２１５および端子配線５０１は、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ薄膜の積層構造となっている。
【００２７】
図７（ｃ）を参照して、ソース・ドレイン配線２１５を含む層間絶縁膜２０７上の、端子１０１となる部分を除いた領域に、絶縁性無機膜１０５を形成する。絶縁性無機膜１０５上に有機樹脂膜１０７を形成し、保護膜２０９とする。保護膜２０９に写真製版工程によって、第２の開口２１７ａおよび第３の開口２１７ｂを形成する。第２の開口２１７ａ上にＡｌ／Ｃｒ膜からなる電極を形成し、第３の開口２１７ｂ上にＩＴＯからなる透過電極を形成し、画素電極２０５とする。端子１０１となる領域の端子配線５０１上にＩＴＯ膜からなる透明導電膜１０３を形成し、端子１０１を形成する。端子１０１の表示エリア側は、絶縁性無機膜１０５上に有機樹脂膜１０７を積層して形成された保護膜２０９で被覆されている。絶縁性無機膜１０５上の有機樹脂膜１０７は絶縁性無機膜１０５の端部から後退した状態となっている。この構造はパターニングされた有機樹脂膜１０７をエッチングマスクとして、絶縁性無機膜１０５をドライエッチング加工し、その後酸素雰囲気プラズマにさらすことで実現可能である。あるいは写真製版工程を２回行うことによっても可能である。このようにして端子１０１は、端子配線５０１上に透明性導電膜１０３であるＩＴＯ膜が被覆され、さらにＩＴＯ膜は絶縁性無機膜１０５および絶縁性無機膜１０５上の有機樹脂膜１０７とは接触しない構成となっている。
【００２８】
以上のように、本実施の形態３に係る発明によれば、端子電極の露出面積が最小限に抑えられており、吸湿性の高いアクリル性有機樹脂膜１０７および無機絶縁膜１０５との接触を回避しているために、大気にさらされ難く、不純物などの汚染の影響を受け難い。また、大気中に含まれる水分やアクリル系有機樹脂膜中に含む水分による電食反応の発生を抑えることができる。従って、電食による端子部の電気的コンタクト不良、更に端子部の断線不良を低減することができる。また、外部駆動回路側の保護膜をなくし、水分による耐食性をさらに高めている。また、下層に形成した配線を利用しているので、配線に使用する面積を広く使うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の端子構造を示す上面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の端子構造を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の製造フローを示す概略図である。
【図４】本発明の実施の形態２に係る液晶表示装置の端子構造を示す断面図である。
【図５】本発明の実施の形態３に係る液晶表示装置の端子構造を示す上面図である。
【図６】本発明の実施の形態３に係る液晶表示装置の端子構造を示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態３に係る液晶表示装置の製造フローを示す概略図である。
【符号の説明】
【００３０】
１０１  端子、１０３  透明性導電膜、１０５  絶縁性無機膜、１０７  有機樹脂膜、１０９  信号配線、２０１  ガラス基板、２０３  層間絶縁膜、２０５  保護膜、３０１  第１コンタクトホール、５０１  第２コンタクトホール、５０３  端子配線、５０５  下層配線。
【図１】
2009116338.tif 000003
【図２】
2009116338.tif 000004
【図３】
2009116338.tif 000005
【図４】
2009116338.tif 000006
【図５】
2009116338.tif 000007
【図６】
2009116338.tif 000008
【図７】
2009116338.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月27日(2009.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基板上に薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタにより駆動され、Ａｌを含む積層膜からなる反射電極と透明性導電膜からなる透過電極を備えた画素電極とを、形成した画素基板と、
前記画素基板と対向する対向基板と、
前記画素基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層とを、備える液晶表示装置において、
前記画素基板は、
少なくとも一辺に外部駆動回路と接続するための端子と、
前記基板上に前記薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を介して設けられ、前記外部駆動回路からの信号を前記端子を介して表示パネル側へ入力するための、前記薄膜トランジスタのゲート電極と同層に形成された下層配線とを、有し、
前記端子は、
前記薄膜トランジスタのＡｌを含む積層膜よりなるソース・ドレイン配線と同層に形成された端子配線と、
前記端子配線上を直接被覆して形成された透明性導電膜とを、有し、
前記透明性導電膜は、
前記画素基板上の表示エリアに形成された保護膜である有機樹脂膜より離れて形成され、
前記下層配線と前記端子配線とは、
前記下層配線を覆う層間絶縁膜に形成された開口を介して接続され、
前記開口は、
平面視における、前記下層配線と前記端子配線との重複領域内に形成され、
平面視における前記開口の開口面積は、
平面視における前記重複領域の面積よりも小さい、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
薄膜トランジスタにより駆動される画素電極を形成した画素基板と、前記画素基板と対向する対向基板と、前記画素基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層とを、備え、前記画素基板の少なくとも一辺に外部駆動回路と接続するための端子が形成される液晶表示装置の製造方法において、
基板上に半導体層を形成する工程と、
前記半導体層の上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記外部駆動回路からの信号を前記端子を介して表示パネル側へ入力するための下層配線と、ゲート電極とを、前記ゲート絶縁膜の上に同層に形成する工程と、
前記ゲート電極及び前記下層配線上を覆う層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜に開口を形成する工程と、
前記半導体層に不純物をイオン注入してソース・ドレイン領域を形成する工程と、
前記端子を構成する端子配線を前記開口を介して前記下層配線に連通するようにＡｌを含む積層膜により前記層間絶縁膜上にソース・ドレイン配線と同時に形成する工程と、
前記画素基板の前記端子部分となる部分を除いた表示エリア上に有機樹脂膜からなる保護膜をパターニング形成する工程と、
前記有機樹脂膜より離れた位置に前記端子配線上を直接被覆し、前記端子を構成する透明性導電膜を形成する工程と、
前記透明性導電膜を形成する工程と同一の工程により前記透明性導電膜からなる透過電極を形成することにより、前記有機樹脂膜上に前記薄膜トランジスタに接続される画素電極を、Ａｌを含む積層膜からなる反射電極と前記透明性導電膜からなる透過電極により形成する工程とを、有し、
前記開口は、
平面視における、前記下層配線と前記端子配線との重複領域内に形成され、
平面視における前記開口の開口面積は、
平面視における前記重複領域の面積よりも小さい、
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明に係る液晶表示装置は、基板上に薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタにより駆動され、Ａｌを含む積層膜からなる反射電極と透明性導電膜からなる透過電極を備えた画素電極とを、形成した画素基板と、前記画素基板と対向する対向基板と、前記画素基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層とを、備える液晶表示装置において、前記画素基板は、少なくとも一辺に外部駆動回路と接続するための端子と、前記基板上に前記薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を介して設けられ、前記外部駆動回路からの信号を前記端子を介して表示パネル側へ入力するための、前記薄膜トランジスタのゲート電極と同層に形成された下層配線とを、有し、前記端子は、前記薄膜トランジスタのＡｌを含む積層膜よりなるソース・ドレイン配線と同層に形成された端子配線と、前記端子配線上を直接被覆して形成された透明性導電膜とを、有し、前記透明性導電膜は、前記画素基板上の表示エリアに形成された保護膜である有機樹脂膜より離れて形成され、前記下層配線と前記端子配線とは、前記下層配線を覆う層間絶縁膜に形成された開口を介して接続され、前記開口は、平面視における、前記下層配線と前記端子配線との重複領域内に形成され、平面視における前記開口の開口面積は、平面視における前記重複領域の面積よりも小さい、ことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
実施の形態１（参考形態）．
図１は、本願発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の上面図である。また、図２は、図1の破線Ａ−Ｂにおける断面図及び表示エリア内の領域の断面図である。なお、以下に説明する各実施の形態で用いられる説明図において、同一又は相当部分には同一の符号を付してその説明を省略する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
実施の形態２（参考形態）．
実施の形態１では、絶縁性無機膜１０５に形成した第４の開口２１７ｃを介して、ソース・ドレイン配線２１５と同一の工程で形成され、ソース・ドレイン配線２１５と同層の膜であるＣｒ／Ａｌ／Ｃｒ積層膜からなる信号配線１０９上のＩＴＯ膜を、有機樹脂膜１０７に触れないように形成した。これに対し本実施の形態では、端子１０１のＩＴＯ膜の下層にＣｒ膜を形成するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図５は、本願発明の実施の形態３に係る液晶表示装置の上面図である。また、図６は、図５の破線Ａ−Ｂにおける断面図及び表示エリア内の領域の断面図である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
１０１  端子、１０３  透明性導電膜、１０５  絶縁性無機膜、１０７  有機樹脂膜、１０９  信号配線、２０１  ガラス基板、２０３  画素トランジスタ、２０５  画素電極、２０７  層間絶縁膜、２０９  保護膜、２１１  ゲート絶縁膜、２１３  第１の開口、２１５  ソース・ドレイン配線、５０１  端子配線、５０３  ゲート電極、５０５  下層配線、５０７  第５の開口。