(57)【要約】【課題】傷や磨耗の発生が抑制される長寿命の電子写真感光体と、これと接触して帯電を行う帯電部材を備えても、スジ状の画像欠陥の発生が抑制され、良好な画質を長期にわたって安定的に得ることが可能な電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。【解決手段】電子写真感光体１と、該電子写真感光体と接触して帯電させる帯電部材２１とを備え、前記電子写真感光体が、導電性支持体、及び該導電性支持体上に設けられた感光層を有し、該感光層が、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層を有するものであり、前記帯電部材が、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有することを特徴とする電子写真装置１００及びプロセスカートリッジ２０。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体と、該電子写真感光体と接触して帯電させる帯電部材と、該帯電部材により帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる静電潜像形成手段と、前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成させる現像手段と、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段とを備え、
前記電子写真感光体が、導電性支持体、及び該導電性支持体上に設けられた感光層を有し、該感光層が、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層を有するものであり、
前記帯電部材が、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有することを特徴とする電子写真装置。
【請求項２】
前記ポリエーテル化合物が、ポリエーテル変性シリコーンオイルであることを特徴とする請求項１に記載の電子写真装置。
【請求項３】
前記アミド基を有する樹脂が、ナイロンであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電子写真装置。
【請求項４】
前記アミド基を有する樹脂が、メトキシメチル化ナイロンであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の電子写真装置。
【請求項５】
電子写真感光体と、該電子写真感光体と接触して帯電させる帯電部材とを備え、
前記電子写真感光体が、導電性支持体、及び該導電性支持体上に設けられた感光層を有し、該感光層が、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層を有するものであり、
前記帯電部材が、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項６】
前記ポリエーテル化合物が、ポリエーテル変性シリコーンオイルであることを特徴とする請求項５に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項７】
前記アミド基を有する樹脂が、ナイロンであることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項８】
前記アミド基を有する樹脂が、メトキシメチル化ナイロンであることを特徴とする請求項５から請求項７までのいずれか一項に記載のプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体と帯電部材を備える電子写真装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置は、電子写真感光体（以下、場合により単に「感光体」という。）、帯電装置、露光装置、現像装置、転写装置等を備え、それらを用いた電子写真プロセスにより画像形成を行う。
【０００３】
近年、ゼログラフィー方式の画像形成装置（電子写真装置）は、各部材、システムの技術進展により、一層の高速化、長寿命化が図られている。これに伴い、各サブシステムの高速対応性、高信頼性に対する要求は従来に増して高くなっている。特に、画像書き込みに使用される感光体やその感光体をクリーニングするクリーニング部材には、高速対応性、高信頼性に対する要求が一層強い。また、感光体及びクリーニング部材は、それら相互の摺動により他の部材に比べてストレスを多く受ける。そのため、感光体には傷や磨耗が生じ、これが画像欠陥の原因となる。
【０００４】
したがって、電子写真感光体を長寿命化するためには傷や磨耗の発生を抑制することが極めて重要であり、感光層の機械強度を向上させる観点から硬化性樹脂の使用が検討されている。例えば下記特許文献１には、特定のシラン化合物を含んで構成された架橋構造を有し、且つ、電荷輸送能を有する最表面層を備える電子写真感光体が開示されている。また、下記特許文献２〜６には、フェノール樹脂を用いて構成された架橋構造を有し、且つ、電荷輸送能を有する最表面層を備える電子写真感光体が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−３８６５６号公報
【特許文献２】特開２００２−６５２７号公報
【特許文献３】特開２００２−８２４６６号公報
【特許文献４】特開２００２−８２４６９号公報
【特許文献５】特開２００３−１８６２１５号公報
【特許文献６】特開２００３−１８６２３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、硬化性樹脂を用いて傷や摩耗の発生の抑制を図った電子写真感光体であっても、帯電手段として、帯電ロールのように感光体と接触して帯電を行う帯電部材を用いた場合には、帯電部材との接触及び摩擦により、その電子写真感光体の接触位置にスジ状の画像欠陥が生じやすい。
一方、帯電部材においても電子写真感光体との接触により帯電ロールの接触位置にスジ状の画像欠陥を生じることがある。
【０００７】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、傷や磨耗の発生が抑制される長寿命の電子写真感光体と、これと接触して帯電を行う帯電部材を備えても、スジ状の画像欠陥の発生が抑制され、良好な画質を長期にわたって安定的に得ることが可能な電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明では、以下の電子写真装置及びプロセスカートリッジが提供される。
【０００９】
請求項１に係る発明は、電子写真感光体と、該電子写真感光体と接触して帯電させる帯電部材と、該帯電部材により帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる静電潜像形成手段と、前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成させる現像手段と、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段とを備え、
前記電子写真感光体が、導電性支持体、及び該導電性支持体上に設けられた感光層を有し、該感光層が、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層を有するものであり、
前記帯電部材が、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有することを特徴とする電子写真装置である。
【００１０】
請求項２に係る発明は、前記ポリエーテル化合物が、ポリエーテル変性シリコーンオイルであることを特徴とする請求項１に記載の電子写真装置である。
【００１１】
請求項３に係る発明は、前記アミド基を有する樹脂が、ナイロンであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電子写真装置である。
【００１２】
請求項４に係る発明は、前記アミド基を有する樹脂が、メトキシメチル化ナイロンであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の電子写真装置である。
【００１３】
請求項５に係る発明は、電子写真感光体と、該電子写真感光体と接触して帯電させる帯電部材とを備え、
前記電子写真感光体が、導電性支持体、及び該導電性支持体上に設けられた感光層を有し、該感光層が、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層を有するものであり、
前記帯電部材が、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有することを特徴とするプロセスカートリッジである。
【００１４】
請求項６に係る発明は、前記ポリエーテル化合物が、ポリエーテル変性シリコーンオイルであることを特徴とする請求項５に記載のプロセスカートリッジである。
【００１５】
請求項７に係る発明は、前記アミド基を有する樹脂が、ナイロンであることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のプロセスカートリッジである。
【００１６】
請求項８に係る発明は、前記アミド基を有する樹脂が、メトキシメチル化ナイロンであることを特徴とする請求項５から請求項７までのいずれか一項に記載のプロセスカートリッジである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、傷や磨耗の発生が抑制される長寿命の電子写真感光体と、感光体と接触して帯電させる帯電部材を備えても、スジ状の画像欠陥の発生が抑制され、良好な画質を長期にわたって安定的に得ることが可能な電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当する要素には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図１は、本実施形態に係る電子写真装置を示す概略図である。図１に示す電子写真装置１００は、装置本体（図示せず）に、主に、プロセスカートリッジ２０と、静電潜像形成装置（露光装置）３０と、転写装置４０と、中間転写体５０とを具備している。プロセスカートリッジ２０は、ケース内に、電子写真感光体１、帯電部材（帯電ロール）２１、現像装置２５、クリーニング装置２７、及び繊維状部材（平ブラシ形状）２９を、それぞれ取り付けレールにより組み合わせて一体化したものである。プロセスカートリッジ２０は、装置本体に対して着脱自在としたものであり、装置本体とともに電子写真装置を構成している。
【００１９】
プロセスカートリッジ２０のケースには、露光のための開口部が設けられており、露光装置３０はプロセスカートリッジ２０の開口部から電子写真感光体１に露光可能な位置に配置されている。転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体１に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体１に当接可能に配置されている。
【００２０】
そして、本実施形態において、電子写真感光体１は、導電性支持体、及び該導電性支持体上に設けられた感光層を有し、該感光層が、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層を有するものとなっている。また、帯電ロール２１は、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有するものとなっている。このような電子写真感光体１と帯電ロール２１を備えることで、スジ状の画像欠陥の発生が抑制され、良好な画質を長期にわたって安定的に得ることができる。
【００２１】
本実施形態の電子写真装置及びプロセスカートリッジによって、スジ状の画像欠陥の発生が改善される理由は必ずしも明確ではないが、本発明者らは以下のように推察する。
電子写真感光体の機能層がポリエーテル化合物を含有することで、帯電ロールとの摩擦帯電の極性を変化させ、感光体に対する静電気的な影響を小さく抑え、感光体に履歴を残さないため感光体ピッチのスジ状の欠陥の発生を抑制できるものと考えられる。
一方、ポリエーテル化合物が帯電ロールに付着することで、帯電ロールピッチのスジ状の欠陥が発生するものと考えられるが、アミド基を有する樹脂は、ポリエーテル化合物に対する透過性が小さく抑えられ、ポリエーテル化合物の帯電ロールへの浸透を抑制することで帯電ロールピッチのスジ状の欠陥の発生を抑制できるものと考えられる。
以下、各構成部材についてより具体的に説明する。
【００２２】
＜電子写真感光体＞
図２は、本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す概略断面図である。図２に示す電子写真感光体１は、電荷輸送層６と電荷発生層５とが別個に設けられた機能分離型の感光層３を備えるものである。より具体的には、電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層４、電荷発生層５、電荷輸送層６、保護層７がこの順序で積層された構造を有している。そして、保護層７は、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層により構成されている。
【００２３】
導電性支持体２としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金属板、金属ドラム、金属ベルト、あるいは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。
【００２４】
また、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性支持体２の表面は粗面化されていることが好ましい。粗面化度としては中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上、０．５μｍ以下であることが好ましい。Ｒａが０．０４μｍより小さいと、鏡面に近くなるので干渉防止効果が得られないおそれがあり、Ｒａが０．５μｍより大きいと、本実施形態による被膜を形成しても画質が粗くなるおそれがあるため、上記範囲が好ましい。
【００２５】
導電性支持体２の表面を粗面化する方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、あるいは、回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化などが好ましく、また、支持体表面そのものを粗面化することなく導電性、あるいは半導電性粉体を樹脂層中に分散させた層を支持体表面上に形成し、該層中に分散させる粒子により粗面化する方法も好ましく用いられる。
【００２６】
陽極酸化処理はアルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行う。
【００２７】
陽極酸化膜の膜厚については０．３μｍ以上、１５μｍ以下が好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となるおそれがある。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招くおそれがある。
【００２８】
リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして行うことができる。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が、１０質量％以上、１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上、５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上、２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は、１３．５質量％以上、１８質量％以下の範囲が好ましい。処理温度は、４２℃以上、４８℃以下であるが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚については０．３μｍ以上、１５μｍ以下が好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分得られないおそれがある。また、被膜が１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招くおそれがある。
【００２９】
ベーマイト処理は、９０℃以上、１００℃以下の純水中に５分以上、６０分以下で浸漬するか、９０℃以上、１２０℃以下の加熱水蒸気に５分以上、６０分以下で接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚については０．１μｍ以上、５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などの皮膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００３０】
なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、導電性支持体２の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【００３１】
下引層４は必要に応じて設けられるものであるが、特に、導電性支持体２に酸性溶液処理あるいはベーマイト処理が施されている場合は、導電性支持体２の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層４を形成することが好ましい。
【００３２】
下引層４に用いられる材料としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤などの有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤などの有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤などの有機アルミニウム化合物の他、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物などの有機金属化合物が挙げられ、特に有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましく使用される。
【００３３】
下引層４はシランカップリング剤を更に含有してもよい。シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。
【００３４】
下引層４は結着樹脂を更に含有してもよい。結着樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の結着樹脂を用いることもできる。これらの混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。
【００３５】
下引層４は、低残留電位化や環境安定性の向上の観点から、電子輸送性顔料を更に含有してもよい。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、バインダーなどで表面処理してもよい。電子輸送性顔料は多すぎると下引き層の強度が低下し、塗膜欠陥を生じるおそれがあるため、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下で使用される。
【００３６】
下引層４は、電気特性の向上や光散乱性の向上などの観点から、各種の有機化合物の微粉末もしくは無機化合物の微粉末を更に含有してもよい。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やポリエチレンテレフタレート樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子などが有効である。添加微粉末の粒径は０．０１μｍ以上、２μｍ以下のものが用いられる。微粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は下引層４の固形分の総質量に対して、質量比で１０質量％以上、９０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上、８０質量％以下であることがより好ましい。
【００３７】
下引層４の形成方法としては、上記のような下引層４の構成材料を含む塗布液を導電性支持体２上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。下引層４を形成するための塗布液に使用される溶媒としては、有機溶剤としては、有機金属化合物や樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合／分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば如何なるものでも使用できる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。また、塗布液の分散処理方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー、超音波などの方法を用いることができる。更に、塗布液の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。塗布後の乾燥は、溶剤を蒸発させ、成膜可能な温度で行われる。下引層４の厚みは一般的には、０．０１μｍ以上、３０μｍ以下が好ましく、０．０５μｍ以上、２５μｍ以下がより好ましい。
【００３８】
電荷発生層５は、電荷発生材料及び結着樹脂を含んで構成される。電荷発生材料としては、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料などのアゾ顔料、ジブロモアントアントロンなどの縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料などの有機顔料や三方晶セレン、酸化亜鉛などの無機顔料など公知のものを使用することができる。特に画像形成の際に波長３８０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下の露光光を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料、三方晶セレン、ジブロモアントアントロンなどが好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【００３９】
電荷発生層５の結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は（質量比）は１０：１乃至１：１０の範囲が好ましい。ここで「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることが好ましい。
【００４０】
電荷発生層５は、上記の構成材料を含む塗布液を下引層４上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。電荷発生層５を形成するための塗布液に使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。また、塗布液を調製する際の分散方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって電荷発生材料である顔料の結晶型が変化しない条件が必要とされる。さらにこの分散の際、顔料粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。更に、塗布液の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。塗布後の乾燥は、溶剤を蒸発させ、成膜可能な温度で行われる。電荷発生層５の厚みは一般的には、０．１μｍ以上、５μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．２μｍ以上、２．０μｍ以下が適当である。
【００４１】
電荷輸送層６は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含んで構成されるか、あるいは高分子電荷輸送材を含んで構成される。
【００４２】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物が挙げられるが、特にこれらに限定されない。これらの電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００４３】
また、電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記一般式（ａ−１）、（ａ−２）又は（ａ−３）で示される化合物が好ましい。
【００４４】
【化１】
2009015121.tif 000003
【００４５】
上記式（ａ−１）中、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を、ｋ１０は１又は２を示す。また、Ａｒ６及びＡｒ７は置換もしくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上、５以下のアルキル基、炭素数１以上、５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上、３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。また、Ｒ３８、Ｒ３９、Ｒ４０は水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、又は、置換もしくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。
【００４６】
【化２】
2009015121.tif 000004
【００４７】
上記式（ａ−２）中、Ｒ３５及びＲ３５’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上、５以下のアルキル基又は炭素数１以上、５以下のアルコキシ基を、Ｒ３６、Ｒ３６’、Ｒ３７及びＲ３７’はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１以上、５以下のアルキル基、炭素数１以上、５以下のアルコキシ基、炭素数１又は２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を、Ｒ３８、Ｒ３９及びＲ４０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。また、ｍ４及びｍ５はそれぞれ独立に０以上、２以下の整数を示す。
【００４８】
【化３】
2009015121.tif 000005
【００４９】
ここで、上記式（ａ−３）中、Ｒ４１は水素原子、炭素数１以上、５以下のアルキル基、炭素数１以上、５以下のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ４２、Ｒ４２’、Ｒ４３、及びＲ４３’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上、５以下のアルキル基、炭素数１以上、５以下のアルコキシ基、炭素数１又は２のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【００５０】
電荷輸送層６に用いる結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１乃至１：５が好ましい。
【００５１】
また、高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、特に好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層６の構成材料として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【００５２】
電荷輸送層６は、上記構成材料を含有する塗布液を電荷発生層５上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。電荷輸送層を形成するための塗布液に用いられる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。塗布後の乾燥は、溶剤を蒸発させ、成膜可能な温度で行われる。電荷輸送層６の膜厚は、好ましくは５μｍ以上、５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上、３０μｍ以下である。
【００５３】
また、複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層３を構成する電荷輸送層６等には酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
【００５４】
また、感光層３中には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。
【００５５】
電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【００５６】
保護層７は、上述の通り硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物から構成される。
【００５７】
保護層７を構成する「硬化性樹脂」としては、具体的には、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解可能な硬化性樹脂を好適に使用することができる。このようなアルコールに可溶な硬化性樹脂の具体例として、フェノール樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、ウレタン樹脂などの熱硬化性樹脂が好ましく、特に、フェノール樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、シロキサン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらの硬化性樹脂の中でも、硬化性樹脂組成物の硬化物の機械強度、電気特性及び付着物除去性の点で、さらに、スジ状の欠陥の発生を効果的に抑制するという観点からフェノール樹脂、グアナミン樹脂が好ましい。特にフェノール樹脂、グアナミン樹脂を用いることで、機能層に十分な機械強度を付与することができる。
【００５８】
フェノール樹脂としては、レゾルシン、ビスフェノール等、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノール等の水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等の水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ等のビスフェノール類、ビフェノール類等、フェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等とを、酸又はアルカリ触媒下で反応させ、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類のモノマー、及びそれらの混合物、又はそれらをオリゴマー化されたもの、およびモノマーとオリゴマーの混合物を作製する。このうち、分子の構造単位の繰り返しが２〜２０程度の比較的大きな分子がオリゴマー、それ以下のものがモノマーである。
【００５９】
このとき用いられる酸触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、フェノールスルホン酸、リン酸などが用いられる。また、アルカリ触媒としては、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）２、Ｍｇ（ＯＨ）２、Ｂａ（ＯＨ）２、ＣａＯ、ＭｇＯ等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物や酸化物、あるいはアミン系触媒や、酢酸亜鉛、酢酸ナトリウムなどの酢酸塩類などが用いられる。
【００６０】
アミン系触媒としては、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
塩基性触媒を使用した場合には、残留する触媒によりキャリアが著しくトラップされ、電子写真特性を悪化させる場合がある。そのような場合は、減圧で留去させるか、酸で中和するか、シリカゲルなどの吸着剤や、イオン交換樹脂などと接触させることにより不活性化、あるいは、除去することが好ましい。また、硬化の際には、硬化触媒を用いることもできる。その際用いる触媒は電気特性等に悪影響を与えなければ特に限定されない。
グアナミン樹脂としてはグアナミン化合物を架橋させたものが好ましく、グアナミン化合物としては例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、一種単独で用いてもよいが、２種以上を併用してもよい。特に、一般式（Ａ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上される。
【００６２】
【化４】
2009015121.tif 000006
【００６３】
一般式（Ａ）中、Ｒ１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ２乃至Ｒ５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ２−ＯＨ、又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示す。Ｒ６は、水素原子、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。）
【００６４】
一般式（Ａ）において、Ｒ１を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上５以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。
一般式（Ａ）中、Ｒ１を示すフェニル基は、炭素数６以上１０以下であるが、より望ましくは６以上８以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ｒ１を示す脂環式炭化水素基は、炭素数４以上１０以下であるが、より望ましくは５以上８以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ｒ２乃至Ｒ５を示す「−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６」において、Ｒ６を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上６以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。
一般式（Ａ）中、Ｒ６は、メチル基またはｎ-ブチル基から選ばれることが望ましい。
一般式（Ａ）で示される化合物としては、特に望ましくは、Ｒ１が炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｒ２乃至Ｒ５がそれぞれ独立に−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示される化合物である。
【００６５】
一般式（Ａ）で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページのメラミン樹脂と同様に合成される）で合成される。
【００６６】
以下、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。
【００６７】
【化５】
2009015121.tif 000007
【００６８】
【化６】
2009015121.tif 000008
【００６９】
【化７】
2009015121.tif 000009
【００７０】
【化８】
2009015121.tif 000010
【００７１】
また、本実施形態でいう「ポリエーテル化合物」としては、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解可能なポリエーテル化合物を好適に使用することができる。アルコールとしては例えばメタノールが挙げられる。このようにアルコールに可溶なポリエーテル化合物の具体例としては、平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
【００７２】
平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール２０００（平均分子量２０００）、ポリエチレングリコール６００（平均分子量６００）、ポリエチレングリコール４００（平均分子量４００）、ポリエチレングリコール２００（平均分子量２００）等が挙げられる。
【００７３】
ポリエーテル消泡剤としては、ＰＥ−Ｍ、ＰＥ−Ｌ（以上、和光純薬工業社製）、消泡剤Ｎｏ．１、消泡剤Ｎｏ．５（以上、花王社製）等が挙げられる。
【００７４】
ポリエーテル変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ３５１（Ａ）、ＫＦ３５２（Ａ）、ＫＦ３５３（Ａ）、ＫＦ３５４（Ａ）、ＫＦ３５５（Ａ）、ＫＦ６１５（Ａ）、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５（Ａ）、ＫＦ６００４（以上、信越化学工業社製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン社製）、グラノール４００、グラノール４１０、グラノール４２０、グラノール４４０、グラノール４５０、ポリフローＫＬ−２６０（以上、共栄社化学社製）等が挙げられる。
【００７５】
上記のポリエーテル化合物の中でも、スジ状の欠陥の発生をより効果的に抑制するという観点からポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましい。また、画像形成の際には、転写工程後の残留トナー及び電子写真プロセスにおける帯電ストレス等によりＮＯｘやオゾンガスなどの放電生成物が生成し得るが、ポリエーテル変性シリコーンオイルを含む硬化性樹脂組成物の硬化物の上記放電生成物に対する付着物除去性を向上させることができる。例えば、フェノール樹脂又はグアナミン樹脂、及び、ポリエーテル変性シリコーンオイルを含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなる保護層であれば、電子写真感光体の最表面層（導電性支持体から最も遠い側に設けられた層）として特に好適である。
【００７６】
ポリエーテル化合物の含有量は、保護層７の固形分全量を基準として、好ましくは０．０１質量％以上、１０質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上、５質量％以下である。ポリエーテル化合物の含有量が０．０１質量％以上であれば、塗膜欠陥防止効果を十分得ることができる。また、ポリエーテル化合物の含有量が１０質量％以下であれば、当該ポリエーテル化合物のブリードアウトにより、得られる硬化物の強度が低下することや、周辺部材が汚染されることを確実に防ぐことができる。
【００７７】
保護層７は、上記の構成材料に加え、電気特性の改良のために導電性無機粒子及び／又は電荷輸送性有機化合物を更に含有することが好ましい。
【００７８】
導電性無機粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられる。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。本実施形態において用いられる導電性粒子の平均粒径は、保護層の透明性の点で０．３μｍ以下が好ましく、特には０．１μｍ以下が好ましい。また、本実施形態においては、上述した導電性無機粒子の中でも透明性の点で金属酸化物を用いることが特に好ましい。また、分散性のコントロールなどのために粒子の表面を処理することが好ましい。処理剤としては、シランカップリング剤、シリコーンオイル、シロキサン化合物、及び界面活性剤等が挙げられる。これらはフッ素原子を含有することが好ましい。
【００７９】
また、電荷輸送性有機化合物としては、用いる硬化性樹脂と相溶するものが好ましく、さらに、用いる硬化性樹脂と化学結合を形成するものがより好ましい。
【００８０】
反応性官能基を有する電荷輸送性有機化合物としては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）で表される化合物が、成膜性、機械強度及び安定性に優れるため好ましい。
【００８１】
Ｆ−［（Ｘ１）ｎ１Ｒ１−Ｚ１Ｈ］ｍ１      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ１はアルキレン基を示し、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を示し、ｍ１は１以上、４以下の整数を示し、ｎ１は０又は１を示す。］
【００８２】
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５      （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ２は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１以上、４以下の整数を示す。］
【００８３】
Ｆ［−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］ｂ      （ＩＩＩ）
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導されるｂ価の有機基を、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ａは１以上、３以下の整数を、ｂは１以上、４以下の整数を示す。］
【００８４】
【化９】
2009015121.tif 000011
【００８５】
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ６は１以上、４以下の整数を示す。但し、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【００８６】
【化１０】
2009015121.tif 000012
【００８７】
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｍ３は０又は１を示し、ｎ７は１以上、４以下の整数を示す。］
【００８８】
【化１１】
2009015121.tif 000013
【００８９】
［式（ＶＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、Ｒ９は１価の有機基を示し、ｎ８は１以上、４以下の整数を示す。］
【００９０】
また、上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で表わされる化合物における上記Ｆは、下記一般式（ＶＩＩ）で表される基であることが好ましい。
【００９１】
【化１２】
2009015121.tif 000014
【００９２】
［式（ＶＩＩ）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ１〜Ａｒ５のうち１〜４個は、上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物における下記一般式（ＶＩＩＩ）で示される部位、上記一般式（ＩＩ）で表わされる化合物における下記一般式（ＩＸ）で示される部位、上記一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物における下記一般式（Ｘ）で示される部位、上記一般式（ＩＶ）で表わされる化合物における下記一般式（ＸＩ）で示される部位、上記一般式（Ｖ）で表される化合物における下記一般式（ＸＩＩ）で表される部位、又は上記一般式（ＶＩ）で表される化合物における下記一般式（ＸＩＩＩ）と結合するための結合手を有する。］
−（Ｘ１）ｎ１Ｒ１−Ｚ１Ｈ      （ＶＩＩＩ）
−（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ      （ＩＸ）
−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ      （Ｘ）
【００９３】
【化１３】
2009015121.tif 000015
【００９４】
【化１４】
2009015121.tif 000016
【００９５】
【化１５】
2009015121.tif 000017
【００９６】
また、上記一般式（ＶＩＩ）中のＡｒ１〜Ａｒ４で示される置換又は未置換のアリール基としては、具体的には、下記一般式（１）〜（７）に示されるアリール基が好ましい。
【００９７】
【化１６】
2009015121.tif 000018
【００９８】
上記式（１）〜（７）中、Ｒ１０は水素原子、炭素数１以上、４以下のアルキル基、炭素数１以上、４以下のアルキル基、炭素数１以上、４以下のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７以上、１０以下のアラルキル基を示し、Ｒ１１〜Ｒ１３はそれぞれ水素原子、炭素数１以上、４以下のアルキル基、炭素数１以上、４以下のアルコキシ基、炭素数１以上、４以下のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７以上、１０以下のアラルキル基又はハロゲン原子を示し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を示し、Ｄは上記一般式（ＶＩＩＩ）〜（ＸＩＩＩ）で表される構造のいずれかを示し、ｃ及びｓはそれぞれ０又は１を示し、ｔは１以上、３以下の整数を示す。
【００９９】
また、上記式（７）で示されるアリール基におけるＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で示されるアリーレン基が好ましい。
【０１００】
【化１７】
2009015121.tif 000019
【０１０１】
上記式（８）及び（９）中、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ水素原子、炭素数１以上、４以下のアルキル基、炭素数１以上、４以下のアルコキシ基、炭素数１以上、４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７以上、１０以下のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、ｔは１以上、３以下の整数を示す。
【０１０２】
また、上記式（７）で示されるアリール基におけるＺ’としては、下記式（１０）〜（１７）で示される２価の基が好ましい。
【０１０３】
【化１８】
2009015121.tif 000020
【０１０４】
式（１０）〜（１７）中、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ水素原子、炭素数１以上、４以下のアルキル基、炭素数１以上、４以下のアルコキシ基、炭素数１以上、４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基もしくは未置換のフェニル基、炭素数７以上、１０以下のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、Ｗは２価の基を示し、ｑ及びｒはそれぞれ１以上、１０以下の整数を示し、ｔはそれぞれ１以上、３以下の整数を示す。
【０１０５】
また、上記式（１６）〜（１７）中、Ｗは下記式（１８）〜（２６）で示される２価の基を示す。なお、式（２５）中、ｕは０以上、３以下の整数を示す。
【０１０６】
【化１９】
2009015121.tif 000021
【０１０７】
また、上記一般式（ＶＩＩ）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋ＝０の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｃ＝１の構造が、ｋ＝１の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｃ＝０の構造が挙げられる。
【０１０８】
また、上記一般式（Ｉ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−３７）が挙げられる。なお、下記表中、結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示す。
【０１０９】
【化２０】
2009015121.tif 000022
【０１１０】
【化２１】
2009015121.tif 000023
【０１１１】
【化２２】
2009015121.tif 000024
【０１１２】
【化２３】
2009015121.tif 000025
【０１１３】
また、上記一般式（ＩＩ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４７）が挙げられる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０１１４】
【化２４】
2009015121.tif 000026
【０１１５】
【化２５】
2009015121.tif 000027
【０１１６】
【化２６】
2009015121.tif 000028
【０１１７】
【化２７】
2009015121.tif 000029
【０１１８】
【化２８】
2009015121.tif 000030
【０１１９】
【化２９】
2009015121.tif 000031
【０１２０】
【化３０】
2009015121.tif 000032
【０１２１】
【化３１】
2009015121.tif 000033
【０１２２】
また、上記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６１）が挙げられる。なお、下記化合物（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６１）は、一般式（ＶＩ）で示される化合物のＡｒ１〜Ａｒ５及びｋを下記の表に示されるように組み合わせ、且つ、アルコキシシリル基（ｓ）を下記の表に示される特定のものとしたものである。
【０１２３】
【化３２】
2009015121.tif 000034
【０１２４】
【化３３】
2009015121.tif 000035
【０１２５】
【化３４】
2009015121.tif 000036
【０１２６】
【化３５】
2009015121.tif 000037
【０１２７】
【化３６】
2009015121.tif 000038
【０１２８】
【化３７】
2009015121.tif 000039
【０１２９】
【化３８】
2009015121.tif 000040
【０１３０】
【化３９】
2009015121.tif 000041
【０１３１】
また、上記一般式（ＩＶ）で表される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−４０）が挙げられる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０１３２】
【化４０】
2009015121.tif 000042
【０１３３】
【化４１】
2009015121.tif 000043
【０１３４】
【化４２】
2009015121.tif 000044
【０１３５】
【化４３】
2009015121.tif 000045
【０１３６】
【化４４】
2009015121.tif 000046
【０１３７】
【化４５】
2009015121.tif 000047
【０１３８】
【化４６】
2009015121.tif 000048
【０１３９】
また、上記一般式（Ｖ）で表される化合物としては、より具体的には、下記化合物（Ｖ−１）〜（Ｖ−５５）が挙げられる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示す。
【０１４０】
【化４７】
2009015121.tif 000049
【０１４１】
【化４８】
2009015121.tif 000050
【０１４２】
【化４９】
2009015121.tif 000051
【０１４３】
【化５０】
2009015121.tif 000052
【０１４４】
【化５１】
2009015121.tif 000053
【０１４５】
【化５２】
2009015121.tif 000054
【０１４６】
【化５３】
2009015121.tif 000055
【０１４７】
【化５４】
2009015121.tif 000056
【０１４８】
【化５５】
2009015121.tif 000057
【０１４９】
【化５６】
2009015121.tif 000058
【０１５０】
【化５７】
2009015121.tif 000059
【０１５１】
【化５８】
2009015121.tif 000060
【０１５２】
【化５９】
2009015121.tif 000061
【０１５３】
【化６０】
2009015121.tif 000062
【０１５４】
また、上記一般式（ＶＩ）で表される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＶＩ−１）〜（ＶＩ−１７）が挙げられる。なお、下記表中、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０１５５】
【化６１】
2009015121.tif 000063
【０１５６】
【化６２】
2009015121.tif 000064
【０１５７】
グアナミン樹脂と組み合わせると好ましい反応性官能基を有する電荷輸送性有機化合物としては、下記一般式（Ｂ）で示される化合物であることが望ましい。
Ｆ−((−Ｒ７−Ｘ)ｎ１Ｒ８−Ｙ)ｎ２         （Ｂ）
【０１５８】
一般式（Ｂ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【０１５９】
一般式（Ｂ）中、Ｆを示す正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
【０１６０】
そして、一般式（Ｂ）で示される化合物は、下記一般式（Ｃ）で示される化合物であることが望ましい。一般式（Ｃ）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。
【０１６１】
【化６３】
2009015121.tif 000065
【０１６２】
一般式（Ｃ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−(−Ｒ７−Ｘ)ｎ１Ｒ８−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示し、ｎ１は０又は１を示し、Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【０１６３】
一般式（Ｃ）中、Ｄを示す「−(−Ｒ７−Ｘ)ｎ１Ｒ８−Ｙ」は、一般式（Ｂ）と同様であり、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基である。また、ｎ１として望ましくは、１である。また、Ｘとして望ましくは、酸素である。また、Ｙとして望ましくは水酸基である。なお、一般式（Ｃ）におけるＤの総数は、一般式（Ｂ）におけるｎ２に相当し、望ましくは、２以上４以下であり、さらに望ましくは３以上４以下である。つまり、一般式（Ｂ）や一般式（Ｃ）において、望ましくは一分子中に２以上４以下、さらに望ましくは３以上４以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られる。
【０１６４】
一般式（Ｃ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、各Ａｒ１乃至Ａｒ４に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
【０１６５】
【化６４】
2009015121.tif 000066
【０１６６】
式（１）乃至（２）中、Ｒ９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ１０乃至Ｒ１２はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄ及びｃは一般式（Ｃ）における「Ｄ」、「ｃ」と同様であり、ｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。］
【０１６７】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で表されるものが望ましい。
【０１６８】
【化６５】
2009015121.tif 000067
【０１６９】
式（８）、（９）中、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、又は未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。］
【０１７０】
また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。
【０１７１】
【化６６】
2009015121.tif 000068
【０１７２】
［式（１０）乃至（１７）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、又は未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。］
【０１７３】
上記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【０１７４】
【化６７】
2009015121.tif 000069
【０１７５】
また、一般式（Ｃ）中、Ａｒ５は、ｋが０のときはＡｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基であり、ｋが１のときはかかるアリール基から所定の水素原子を除いたアリーレン基である
【０１７６】
一般式（Ｂ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物（Ｂ−１）乃至（Ｂ−２５）が挙げられる。なお、上記一般式（Ｂ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【０１７７】
【化６８】
2009015121.tif 000070
【０１７８】
【化６９】
2009015121.tif 000071
【０１７９】
【化７０】
2009015121.tif 000072
【０１８０】
【化７１】
2009015121.tif 000073
【０１８１】
【化７２】
2009015121.tif 000074
【０１８２】
【化７３】
2009015121.tif 000075
【０１８３】
また、保護層７を形成するための硬化性樹脂組成物には、保護層７の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、下記一般式（ＸＩＶ）で示される化合物を添加することもできる。
【０１８４】
Ｓｉ（Ｒ５０）（４−ｃ）Ｑｃ      （ＸＩＶ）
［上記式（ＸＩＶ）中、Ｒ５０は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｃは１以上、４以下の整数を示す。］
【０１８５】
上記一般式（ＸＩＶ）で示される化合物の具体例としては以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン（ｃ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン（ｃ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン（ｃ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｃ＝１）等を挙げることができる。膜の強度を向上させるためには３及び４官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには１及び２官能のアルコキシシランが好ましい。
【０１８６】
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。
【０１８７】
また、保護層７を形成するための硬化性樹脂組成物には、保護層７の強度を高めるために、下記一般式（ＸＶ）に示すような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
【０１８８】
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ５１）（３−ｄ）Ｑｄ）２      （ＸＶ）
［上記式（ＸＶ）中、Ｂは２価の有機基を、Ｒ５１は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｄは１以上、３以下の整数を示す。］
【０１８９】
上記一般式（ＸＶ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＸＶ−１）〜（ＸＶ−１６）が好ましいものとして挙げることができる。
【０１９０】
【化７４】
2009015121.tif 000076
【０１９１】
さらに、放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長等の目的で種々の樹脂を添加することができる。
本実施形態においては、アルコールに溶解する樹脂を更に加えることが好ましい。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂等が挙げられる。特に、電気特性を向上させる観点から、ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
【０１９２】
上記樹脂の分子量は２０００以上、１０００００以下が好ましく、５０００以上、５００００以下がさらに好ましい。分子量は２０００より小さいと所望の効果が得られなくなる傾向があり、１０００００より大きいと溶解度が低くなり添加量が限られてしまったり、塗布時に成膜不良の原因になったりする傾向がある。添加量は１質量％以上、４０質量％以下が好ましく、さらに好ましくは１質量％以上、３０質量％以下であり、５質量％以上、２０質量％以下が最も好ましい。添加量が１質量％よりも少ない場合は所望の効果が得られにくくなり、４０質量％よりも多くなると高温高湿下での画像ボケが発生しやすくなる恐れがある。また、上記の樹脂は単独で用いてもよいし、それらを混合して用いてもよい。
【０１９３】
また、ポットライフの延長、膜特性のコントロールのため、下記一般式（ＸＶＩ）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、若しくはその化合物からの誘導体を含有させることが好ましい。
【０１９４】
【化７５】
2009015121.tif 000077
【０１９５】
［上記式（ＸＶＩ）中、Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に一価の有機基を示す。］
【０１９６】
一般式（ＸＶＩ）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は１種を単独で用いてもよいが、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１９７】
更に、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を制御するために、保護層７を形成するための硬化性樹脂組成物には、各種粒子を添加することもできる。
【０１９８】
粒子の一例として、ケイ素原子含有粒子を挙げることができる。ケイ素原子含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素原子含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、体積平均粒子径が好ましくは１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上、３０ｎｍ以下であり、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、或いはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。硬化性樹脂組成物中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、成膜性、電気特性、強度の面から硬化性樹脂組成物中の固形分全量を基準として好ましくは０．１質量％以上、５０質量％以下の範囲、より好ましくは０．１質量％以上、３０質量％以下の範囲で用いることができる。
【０１９９】
ケイ素原子含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、球状で、体積平均粒子径が好ましくは１ｎｍ以上、５００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子及びシリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。
【０２００】
シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。硬化性樹脂組成物中のシリコーン粒子の含有量は、硬化性樹脂組成物中の固形分全量を基準として好ましくは０．１質量％以上、３０質量％以下の範囲であり、より好ましくは０．５質量％以上、１０質量％以下の範囲である。
【０２０１】
また、その他の粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示されるような、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。
【０２０２】
また、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を制御するために、ポリエーテル変性シリコーンオイル以外のシリコーンオイルを添加することもできる。シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等を挙げることができる。これらは、保護層７を形成するための硬化性樹脂組成物中に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、或いは加圧下等で含浸処理してもよい。
【０２０３】
また、保護層７を形成するための硬化性樹脂組成物は、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を含有することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。
【０２０４】
保護層７を形成するための硬化性樹脂組成物には、ヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【０２０５】
酸化防止剤としては以下のような化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」以上住友化学社製、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」以上旭電化製。ヒンダートアミン系としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」以上三共ライフテック社製、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」以上旭電化製、「スミライザーＴＰＳ」以上住友化学社製、チオエーテル系としては、「スミライザーＴＰ−Ｄ」以上住友化学社製、ホスファイト系としては、「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」以上旭電化製が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。
【０２０６】
また、保護層７を形成するための硬化性樹脂組成物又はその調製時には、触媒を添加することができる。触媒としては、塩酸、酢酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸などの有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミンなどのアルカリ触媒、さらに以下に示すような、系に不溶な固体触媒を用いることもできる。
【０２０７】
系に不溶な固体触媒としては、例えば、アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）等の陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）等の陰イオン交換樹脂；Ｚｒ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ）２、Ｔｈ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）２等のプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサン等のプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸等のヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸等のイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯ等の単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類等複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイト等の粘土鉱物；ＬｉＳＯ４、ＭｇＳＯ４等の金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタン等の金属リン酸塩；ＬｉＮＯ３、Ｍｎ（ＮＯ３）２等の金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体等のアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコーン樹脂等のアミノ基を含有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。
【０２０８】
また、硬化性樹脂組成物の調製の際に、光機能性化合物、反応生成物、水、溶剤などに不溶な固体触媒を用いると、塗布液の安定性が向上する傾向にあるため好ましい。系に不溶な固体触媒とは、触媒成分が、上記反応性官能基を有する電荷輸送性有機化合物、他の添加剤、水、溶剤等に不溶であれば特に限定されない。
【０２０９】
これらの系に不溶な固体触媒の使用量は特に制限されないが、上記反応性官能基を有する電荷輸送性有機化合物１００質量部に対して０．１質量部以上、１００質量部以下が好ましい。また、これらの固体触媒は、前述の通り、原料化合物、反応生成物、溶剤などに不溶であるため、反応後、常法にしたがって容易に除去することができる。
【０２１０】
反応温度及び反応時間は原料化合物や固体触媒の種類及び使用量に応じて適宜選択されるものであるが、反応温度は通常０℃以上、１００℃以下、好ましくは１０℃以上、７０℃以下、より好ましくは１５℃以上、５０℃以下であり、反応時間は好ましくは１０分以上、１００時間以下である。反応時間が上記上限値を超えるとゲル化が起こりやすくなる傾向にある。
【０２１１】
また、硬化性樹脂組成物を調製する際に、系に不溶な触媒を用いた場合は、強度、液保存安定性などを向上させる目的で、さらに系に溶解する触媒を併用することが好ましい。そのような触媒としては、前述のものに加え、アルミニウムトリエチレート、アルミニウムトリイソプロピレート、アルミニウムトリ（ｓｅｃ−ブチレート）、モノ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウム（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムジイソプロポキシ（アセチルアセトネート）、アルミニウムイソプロポキシ−ビス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（トリフルオロアセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（ヘキサフルオロアセチルアセトネート）等の有機アルミニウム化合物を使用することができる。
【０２１２】
また、有機アルミニウム化合物以外には、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズジオクチエート、ジブチルスズジアセテート等の有機スズ化合物；チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等の有機チタニウム化合物；ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウム化合物；等も使用することができるが、安全性、低コスト、ポットライフ長さの観点から、有機アルミニウム化合物を使用するのが好ましく、特にアルミニウムキレート化合物がより好ましい。
【０２１３】
これらの系に溶解する触媒の使用量は特に制限されないが、上記反応性官能基を有する電荷輸送性有機化合物１００質量部に対して０．１質量部以上、２０質量部以下が好ましく、０．３質量部以上、１０質量部以下が特に好ましい。
【０２１４】
また、保護層７を形成する際に有機金属化合物を触媒として用いる場合には、ポットライフ、硬化効率の面から、多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すようなもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０２１５】
具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８−オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２−オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、具体例としては、上記の他、下記一般式（ＸＶＩＩ）で示される２座配位子が挙げられる。
【０２１６】
【化７６】
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【０２１７】
［上記式（ＸＶＩＩ）中、Ｒ５１及びＲ５２はそれぞれ独立に、炭素数１以上、１０以下のアルキル基、フッ化アルキル基、又は炭素数１以上、１０以下のアルコキシ基を示す。］
【０２１８】
多座配位子としては、上記一般式（ＸＶＩＩ）で示される２座配位子を用いることが好ましく、上記一般式（ＸＶＩＩ）中のＲ５１とＲ５２とが同一のものが特に好ましい。Ｒ５１とＲ５２とを同一にすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、硬化性樹脂組成物のさらなる安定化を図ることができる。
【０２１９】
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、用いる有機金属化合物の１モルに対し、０．０１モル以上とすることが好ましく、０．１モル以上とすることがより好ましく、１モル以上とすることが特に好ましい。
【０２２０】
保護層７は、上述した各構成材料を含有する硬化性樹脂組成物を、保護層形成用塗布液として用いて形成される。
【０２２１】
上記の成分を含有する硬化性樹脂組成物の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行うことができる。かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用可能であるが、好ましくは沸点が１００℃以下のものである。溶剤の使用量は任意に設定できるが、溶剤量が少なすぎると上記反応性官能基を有する電荷輸送性有機化合物が析出しやすくなるため、上記反応性官能基を有する電荷輸送性有機化合物１質量部に対して好ましくは０．５質量部以上、３０質量部以下、より好ましくは１質量部以上、２０質量部以下で溶剤を使用する。
【０２２２】
硬化性樹脂組成物を硬化させる際の反応温度及び反応時間は特に制限されないが、形成される保護層７の機械的強度及び化学的安定性の点から、反応温度は好ましくは６０℃以上、より好ましくは８０℃以上、２００℃以下であり、反応時間は好ましくは１０分以上、５時間以下である。また、硬化性樹脂組成物の硬化により得られる保護層７を高湿度状態に保つことは、保護層７の特性の安定化を図る上で有効である。さらには、用途に応じてヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどを用いて保護層７に表面処理を施して疎水化することもできる。
【０２２３】
硬化性樹脂組成物を電荷輸送層６上に塗布する場合、塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。
【０２２４】
なお、塗布の際には１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。
【０２２５】
保護層７の膜厚は、要求される機械的強度等に応じて決めればよいが、通常は０．５μｍ以上、１５μｍ以下が好ましく、１μｍ以上、１０μｍ以下がより好ましく、１μｍ以上、５μｍ以下がさらに好ましい。
【０２２６】
なお、本実施形態で用いる電子写真感光体は上記のものに限定されるものではない。例えば、本実施形態に係る電子写真感光体において、下引層４は必ずしも設けられなくともよい。
【０２２７】
また、図２に示した電子写真感光体は、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる保護層７を備えるものであるが、当該硬化性樹脂組成物が反応性官能基を有する電荷輸送性有機化合物を含有する場合、得られる硬化物は優れた機械強度を有する上に光電特性も十分であるため、これをそのまま積層型感光体の電荷輸送層として用いることもできる。このような電子写真感光体の一例を図３に示す。図３に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層４、電荷発生層５及び電荷輸送層６が順次積層された構造を有するものであり、電荷輸送層６が、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物で構成された表面層となる。なお、導電性支持体２上の下引層４及び電荷発生層５は、図２に示した電子写真感光体の場合と同様である（以下、同様である。）。
【０２２８】
電荷発生層５と電荷輸送層６との積層の順序は、上記実施形態の場合と逆であってもよい。このような電子写真感光体の一例を図４に示す。図４に示した電子写真感光体は、導電性支持体２上に下引層４、電荷輸送層６、電荷発生層５及び保護層７が順次積層された構造を有するもので、保護層７が硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる最表面層である。
【０２２９】
また、図２〜図４に示した各電子写真感光体は機能分離型感光体であるが、本実施形態で用いる電子写真感光体は、電荷発生物質及び電荷輸送性物質の双方を含む層（電荷発生／電荷輸送層）を備えるものであってもよい。単層型感光層を備える電子写真感光体の例を図５及び図６に示す。
【０２３０】
図５に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層４及び電荷発生／電荷輸送層８が順次積層された構造を有するもので、電荷発生／電荷輸送層８が最表面層である。この電荷発生／電荷輸送層８は、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物に、電荷発生物質及び電荷輸送性物質（好ましくは反応性官能基を有する化合物）、並びに必要に応じて硬化性樹脂以外の結着樹脂及び他の添加剤等を配合した塗布液を用いて形成することができる。電荷発生物質としては機能分離型感光層における電荷発生層に使用されるものと同様のものを、硬化性樹脂以外の結着樹脂としてはポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂などを用いることができる。電荷発生／電荷輸送層８中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生／電荷輸送層８における固形分全量を基準として好ましくは１０質量％以上、８５質量％以下、より好ましくは２０質量％以上、５０質量％以下である。電荷発生／電荷輸送層８には、光電特性を改善する等の目的で電荷輸送材料や高分子電荷輸送材料を添加してもよい。その添加量は電荷発生／電荷輸送層８における固形分全量を基準として５質量％以上、５０質量％以下とすることが好ましい。また、塗布に用いる溶剤や塗布方法は、上記各層と同様のものを用いることができる。電荷発生／電荷輸送層８の膜厚は、５〜５０μｍ程度が好ましく、１０μｍ以上、４０μｍ以下とすることがさらに好ましい。
【０２３１】
また、図６に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層４、電荷発生／電荷輸送層８及び保護層７が順次積層された構造を有するもので、保護層７が硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる表面層となる。
【０２３２】
＜帯電部材＞
次に、本実施形態で用いる帯電部材について説明する。帯電部材２１は、電子写真感光体１を接触帯電方式により帯電させるものを用いる。本実施形態で用いる帯電部材としては、感光体表面に接触させた導電性部材（帯電部材）に電圧を印加することにより感光体表面を帯電させる方式（接触帯電方式）のものであればその形状は特に限定されず、ロール状、ブラシ状、ブレード状等の帯電部材の帯電部材を使用することができるが、ローラー状の帯電部材（帯電ロール）が好ましい。
【０２３３】
図７は、本実施形態に係る帯電部材の一例を示す概略断面図である。この帯電部材２１はローラー状に成形されており、接触帯電方式の帯電ロール２１である。
本実施形態に係る電子写真装置１００おける帯電ロール２１は、図７に示されるようにロール軸体（芯材）１０の外周面に、同心円状に導電性弾性層１２、及び表面樹脂層（抵抗層）１４が順次形成された構成とすることができる。
【０２３４】
帯電ロール２１は、感光体１に接触させることにより特に駆動手段を有しなくとも感光体１と同じ周速度で回転し、帯電手段として機能する。しかし帯電ロール２１に何らかの駆動手段を取り付け、感光体１とは異なる周速度で回転させて感光体１を帯電させても良い。
【０２３５】
芯材１０の材質としては導電性を有するものとし、一般には鉄、銅、真鍮、ステンレス、アルミニウム、ニッケル等が用いられる。また、その他導電性粒子等を分散した樹脂成形品等を用いることもできる。
【０２３６】
弾性層１２の材質としては導電性あるいは半導電性を有するものとし、一般にはゴム材に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散したものである。また、発泡体であっても良い。
上記ゴム材としてはＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエンゴム）、ポリブタジエン、天然ゴム、ポリイソブチレン、ＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）、ＣＲ（クロロプレンゴム）、ＮＢＲ（ニトリルゴム）、シリコンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＳ（スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー）、熱可塑性エラストマー、ノルボーネンゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンオキシドゴム等が用いられる。導電性粒子あるいは半導電性粒子としては、カーボンブラック、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、クロム、チタニウム等の金属、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の金属酸化物を用いることができ、これらの材料は単独あるいは２種以上混合して用いても良い。
【０２３７】
抵抗層１４の材質としては、結着樹脂に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散し、その抵抗を制御したものとし、抵抗率としては１０３Ωｃｍ以上、１０１４Ωｃｍ以下、好ましくは１０５Ωｃｍ以上、１０１２Ωｃｍ以下、さらに好ましくは１０７Ωｃｍ以上、１０１２Ωｃｍ以下がよい。また膜厚としては０．０１μｍ以上、１０００μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以上、５００μｍ以下、さらに好ましくは０．５μｍ以上、１００μｍ以下がよい。
【０２３８】
表面層となる抵抗層１４を形成するための結着樹脂としては、アミド基を有する樹脂であれば良く、例えば、ナイロン樹脂、アラミド樹脂等が挙げられる。
スジ状の欠陥の発生を効果的に抑制するという観点からナイロンが好ましく、また、表面層の形成が塗布方式を用いることができることからアルコールに可溶性のナイロン、変性ナイロン、またはアミン基、エーテル基、カルボキシル基などを有する水に可溶な変性ナイロンが好ましい。例えば、ナイロン６、ナインロン６−６６−１０、ナイロン６−６６−１０−１２などの共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン、エトキシメチル化ナイロンなどのアルコキシメチル化ナイロン等のアルコールに可溶性のナイロンを好適に用いることができ、スジ状の欠陥の発生を効果的に抑制するという観点から、特にメトキシメチル化ナイロンが好ましい。
【０２３９】
導電性粒子あるいは半導電性粒子としては、弾性層と同様のカーボンブラック、金属、金属酸化物が用いられる。また必要に応じてヒンダードフェノール、ヒンダードアミン等の酸化防止剤、クレー、カオリン等の充填剤や、シリコーンオイル等の潤滑剤を添加することができる。これらの層を形成する手段としてはブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等を用いることができる。
【０２４０】
帯電ロール２１に係るこれらの層１２，１４を形成する手段としてはブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等を用いることができる。
【０２４１】
このような帯電ロール２１を用いて感光体１を帯電させる際には、感光体１の表面に接触させた帯電ロール２１に電圧を印加する。印加電圧は直流電圧、あるいは直流電圧に交流電圧を重畳したものが好ましい。印加する電圧の範囲としては、直流電圧は要求される感光体帯電電位に応じて正または負の５０Ｖ以上、２０００Ｖ以下が好ましく、特に１００Ｖ以上、１５００Ｖ以下が好ましい。交流電圧を重畳する場合は、ピーク間電圧が４００Ｖ以上、１８００Ｖ以下、好ましくは８００Ｖ以上、１６００Ｖ以下、さらに好ましくは１２００Ｖ以上、１６００Ｖ以下が好ましい。交流電圧の周波数は５０Ｈｚ以上、２０，０００Ｈｚ以下、好ましくは１００Ｈｚ以上、５，０００  Ｈｚ以下である。
【０２４２】
なお、本実施形態に係る帯電ロールは、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有していればよく、図７に示したような構成に限定されない。例えば図８に示すように、ロール軸体１０の外周面に、同心円状に導電性弾性層１２、中間層１３、及び表面樹脂層１４が順次形成された構成とすることもできる。この場合、中間層１３は、例えば、導電性粒子を分散した樹脂により形成することができ、具体例として、ポリエステル、フェノール、アクリル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、セルロース等の樹脂を用いることができる。
【０２４３】
本実施形態に係る電子写真装置１００（プロセスカートリッジ２０）は、感光体１と帯電部材２１以外の構成は特に限定されず、公知のものを使用することができる。
【０２４４】
＜現像装置及びトナー＞
現像装置（現像手段）２５は、電子写真感光体１上の静電潜像を現像してトナー像を形成するものである。
現像装置２５に使用するトナーとしては、平均形状係数（ＭＬ２／Ａ）が１００以上、１５０以下であることが好ましく、１００以上、１４０以下であることがより好ましい。さらに、トナーとしては、平均粒子径が２μｍ以上、１２μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上、１２μｍ以下であることがより好ましく、３μｍ以上、９μｍ以下であることがさらに好ましい。このような平均形状係数及び平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、高い現像、転写性、及び高画質の画像を得ることができる。
【０２４５】
トナーは、好ましくは上記のような平均形状係数及び平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０２４６】
また、上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法を使用することができる。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。
【０２４７】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。
【０２４８】
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０２４９】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることもできる。
【０２５０】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示することができる。
【０２５１】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。
【０２５２】
また、帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤を用いることができる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが好ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０２５３】
現像装置２５に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
【０２５４】
現像装置２５に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス、ミツロウのような動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用できる。これらは、１種を単独で、又は２種以上を併用して使用できる。但し、平均粒径としては０．１μｍ以上、１０μｍ以下の範囲が好ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。滑性粒子のトナーへの添加量は好ましくは０．０５質量％以上、２．０質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上、１．５質量％以下の範囲である。
【０２５５】
現像装置２５に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えることができる。
【０２５６】
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０２５７】
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも好ましく使用される。
【０２５８】
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。
【０２５９】
粒子径としては、平均粒子径で好ましくは５ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以上、８００ｎｍ以下、さらに好ましくは５ｎｍ以上、７００ｎｍ以下でのものが使用される。平均粒子径が、上記下限値未満であると、研磨能力に欠ける傾向があり、他方、上記上限値を超えると、電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなる傾向がある。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが好ましい。
【０２６０】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものを使用できるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンを併用することが好ましい。また、小径無機粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも放電精製物を除去するために好ましい。
【０２６１】
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、適宜設定することができる。
【０２６２】
＜クリーニング装置＞
本実施形態におけるクリーニング装置２７は、繊維状部材（ロール形状）２７ａと、クリーニングブレード（ブレード部材）２７ｂとを備えている。なお、クリーニング装置としてはどちらか一方を備えるものでもよい。
繊維状部材２７ａとしては、ロール形状の他に平ブラシ状としてもよい。また、繊維状部材２７ａは、クリーニング装置本体に固定してもよく、回転可能に支持されていてもよく、さらに感光体軸方向にオシレーション可能に支持されていてもよい。繊維状部材２７ａとしては、ポリエステル、ナイロン、アクリル等や、トレシー（東レ社製）等の極細繊維からなる布状のもの、ナイロン、アクリル、ポリオレフィン、ポリエステル等の樹脂繊維を基材状又は絨毯状に植毛したブラシ状のもの等を挙げることができる。また、繊維状部材２７ａとしては、上述したものに、導電性粉末やイオン導電剤を配合して導電性を付与したり、繊維一本一本の内部又は外部に導電層が形成されたもの等を用いることもできる。導電性を付与した場合、その抵抗値としては繊維単体で１０２Ω以上、１０９Ω以下のものが好ましい。また、繊維状部材２７ａの繊維の太さは、好ましくは３０ｄ（デニール）以下、より好ましくは２０ｄ以下であり、繊維の密度は好ましくは２万本／ｉｎｃｈ２以上、より好ましくは３万本／ｉｎｃｈ２以上である。
【０２６３】
クリーニング装置２７には、クリーニングブレード、クリーニングブラシで感光体表面の付着物（例えば、放電生成物）を除去することが求められる。この目的を長期に渡って達成すると共にクリーニング部材の機能を安定化させるために、クリーニング部材には、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑性物質（潤滑成分）を供給することが好ましい。
【０２６４】
例えば、繊維状部材２７ａとしてロール状のものを用いる場合、金属石鹸、ワックス等の潤滑性物質と接触させ、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することが好ましい。クリーニングブレード２７ｂとしては、通常のゴムブレードが用いられる。このようにクリーニングブレード２７ｂとしてゴムブレードを使用する場合には、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することは、ブレードの欠けや磨耗を抑制することに特に効果的である。
【０２６５】
＜静電潜像形成装置＞
静電潜像形成装置（露光装置）３０としては、帯電部材２１により帯電した電子写真感光体１を露光して静電潜像を形成させるものであればよい。静電潜像形成装置３０の光源としては、マルチビーム方式の面発光レーザを好適に用いることができる。
【０２６６】
＜転写装置＞
転写装置（転写手段）４０としては、電子写真感光体１上のトナー像を被転写媒体（中間転写体５０）に転写するものであればよく、例えば、通常のロール形状のものを使用することができる。
【０２６７】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）を使用することができる。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いることもできる。
なお、中間転写体５０を備えていない直接転写方式の電子写真装置もあるが、本実施形態は、このような直接転写方式の電子写真装置にも好適に適用することができる。直接転写方式の電子写真装置では、プリント用紙からの紙粉やタルク等が発生し、それらが電子写真感光体に付着しやすく、付着物に起因する画質欠陥が発生する傾向にある。しかし、本実施形態に係る電子写真感光体は、クリーニング性に優れているため紙粉やタルク等の除去が容易であるとともに、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有する帯電部材を備えているため、スジ状の画像欠陥の発生が抑制され、直接転写方式の電子写真装置であっても良好な画質を長期にわたって安定的に得ることができる。
【０２６８】
なお、本実施形態でいう被転写媒体とは、電子写真感光体１上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体１から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体５０を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。
【０２６９】
図９は、本実施形態に係る他の電子写真装置を示す概略図である。この電子写真装置１２０は、プロセスカートリッジ２０を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー電子写真装置である。電子写真装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ２０がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体と帯電部材が使用できる構成となっている。なお、この電子写真装置１２０は、タンデム方式であること以外は、図１に示した電子写真装置１００と同様の構成を有している。
【０２７０】
タンデム方式の電子写真装置１２０では、各色の使用割合により各電子写真感光体の磨耗量が異なってくるために、各電子写真感光体の電気特性が異なってくる傾向がある。これに伴い、トナー現像特性が初期の状態から除々に変化してプリント画像の色合いが変化し、安定な画像を得ることができなくなる傾向にある。特に、電子写真装置を小型化するために、小径の電子写真感光体が使用される傾向にあり、直径３０ｍｍ以下のものを用いたときにはこの傾向が顕著になる。ここで、本実施形態に係る電子写真感光体と帯電部材を採用すると、電子写真感光体の直径を３０ｍｍ以下とした場合にもその表面の磨耗が十分に抑制されるとともに、スジ状の画像欠陥の発生が抑制され、良好な画質を長期にわたって安定的に得ることができる。したがって、本実施形態は、タンデム方式の電子写真装置に対して特に有効である。
【０２７１】
図１及び図９にそれぞれ示した電子写真装置では、電子写真感光体１、帯電部材２１等を備えたプロセスカートリッジ２０を脱着可能に設けているが、本実施形態に係る電子写真装置は、必ずしも脱着可能なプロセスカートリッジを備えている必要はない。
図１０は、本実施形態の電子写真装置に係る他の実施形態の基本構成を示す概略構成図である。図１０に示す電子写真装置２２０は中間転写方式の電子写真装置であり、ハウジング４２０内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ（例えば、電子写真感光体４０１ａがイエロー、電子写真感光体４０１ｂがマゼンタ、電子写真感光体４０１ｃがシアン、電子写真感光体４０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。
【０２７２】
この電子写真装置２２０に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ及び帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄは、それぞれ本実施形態に係る電子写真感光体及び帯電部材である。すなわち、各電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、導電性支持体、及び該導電性支持体上に設けられた感光層を有し、該感光層が、硬化性樹脂及びポリエーテル化合物を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層を有するものである。また、帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄは、アミド基を有する樹脂を含む表面層を有するものである。
【０２７３】
各電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニングブレード４１５ａ〜４１５ｄがそれぞれ配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０２７４】
さらに、ハウジング４２０内の所定の位置にはレーザー光源（静電潜像形成手段）４０３が配置されており、レーザー光源４０３から出射されたレーザー光を帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０２７５】
中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９は、例えば駆動ロール４０６の近傍に配置されたクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０２７６】
また、ハウジング４２０内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４２０の外部に排紙される。
このような構成の電子写真装置２２０においても、前記のような電子写真感光体と帯電部材を備えることにより、スジ状の画像欠陥の発生が抑制され、良好な画質を長期にわたって安定的に得ることができる。
【実施例】
【０２７７】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０２７８】
−電子写真感光体の作製−
［感光体の作製１］
円筒状のアルミニウム基材をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さをＲｚ＝０．６μｍとした。このセンタレス研磨処理が施されたアルミニウム基材を洗浄するために、脱脂処理、２質量％水酸化ナトリウム溶液で１分間エッチング処理、中和処理、及び純水洗浄をこの順に行った。次に、アルミニウム基材に対して、１０質量％硫酸溶液により基材表面に陽極酸化膜（電流密度１．０Ａ／ｄｍ２）を形成した。水洗後、８０℃の１質量％酢酸ニッケル溶液に２０分間浸漬して封孔処理を行った。更に、純水洗浄、乾燥処理を行った。このようにして、表面に７μｍの陽極酸化膜が形成された導電性支持体を得た。
【０２７９】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンを１質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学）を１質量部、及び、酢酸ｎ−ブチルを１００質量部混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を、上記導電性支持体の外周面上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２８０】
次に、下記式（ＸＶＩＩＩ−１）で表わされるベンジジン化合物２質量部、及び、下記式（ＸＩＸ−１）で表わされる構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量３０，０００）２．５質量部をクロロベンゼン２０質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
【０２８１】
【化７７】
2009015121.tif 000079
【０２８２】
得られた塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布し、１２０℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２８３】
次いで、前記化合物（ＩＩＩ−１６）３質量部、メチルトリメトキシシラン０．５質量部、コロイダルシリカ０．２質量部、Ｍｅ（ＭｅＯ）２Ｓｉ−（ＣＨ２）４−ＳｉＭｅ（ＯＭｅ）２（式中Ｍｅはメチル基）０．５質量部、メチルアルコール５質量部、イオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）０．５質量部を混合し、攪拌することにより３時間保護基の交換反応を行った。その後、反応液にｎ−ブタノール１０質量部及び蒸留水０．３質量部を添加し、１５分加水分解を行なった。加水分解後の反応液からイオン交換樹脂を濾過分離し、濾液に対して、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）０．１質量部、アセチルアセトン０．１質量部、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）３質量部、及びポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５３（Ａ）、信越化学社製）０．１２質量部を加え、保護層形成用塗布液を得た。
【０２８４】
得られた保護層形成用塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化した。これにより、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１」という。）を得た。
【０２８５】
［感光体の作製２］
まず、導電性支持体として、ホーニング処理を施した円筒状のアルミニウム基材を準備した。次に、ジルコニウム化合物（オルガチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）１００質量部、シラン化合物（Ａ１１００、日本ユニカー社製）１０質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）３質量部、イソプロパノール３８０質量部、及び、ブタノール２００質量部を混合し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を、上記のアルミニウム基材の外周面上に浸漬塗布し、１５０℃で１０分間加熱乾燥して、膜厚約０．１７μｍの下引層を形成した。
【０２８６】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンを１質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を１質量部、及び、酢酸ｎ−ブチルを１００質量部混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで２時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の下引層上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２８７】
次に、下記式（ＸＶＩＩＩ−２）で表わされる化合物２質量部、及び、下記式（ＸＩＸ−２）で表わされる構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量５０，０００）３質量部をクロロベンゼン２０質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
【０２８８】
【化７８】
2009015121.tif 000080
【０２８９】
【化７９】
2009015121.tif 000081
【０２９０】
得られた塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布し、１２０℃で４５分間の加熱を行なって、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２９１】
次いで、前記化合物（ＩＩＩ−３）３質量部、Ｍｅ（ＭｅＯ）２Ｓｉ−（ＣＨ２）４−ＳｉＭｅ（ＯＭｅ）２（式中Ｍｅはメチル基）０．５質量部、ヘキサメチルシクロトリシロキサン０．３質量部、ブチルアルコール５質量部及びイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）０．３部を混合し、攪拌することにより５時間保護基の交換反応を行った。その後、反応液からイオン交換樹脂を濾過分離し、濾液に対して、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）０．１質量部、アセチルアセトン０．１質量部、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部、フェノール樹脂（ＰＲ−５１２０６、住友ベークライト社製）３質量部、及びポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５５（Ａ）、信越化学社製）０．１質量部を加え、保護層形成用塗布液を得た。
【０２９２】
得られた保護層形成用塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−２」という。）を得た。
【０２９３】
［感光体の作製３］
まず、感光体−２と同様に下引き層を形成した。
【０２９４】
次いで、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が２７．２°に強い回折ピークを持つチタニルフタロシアニン１質量部をポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学）１質量部及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間分散処理して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の下引き層上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０２９５】
次に、上記式（ＸＶＩＩＩ−１）で表わされるベンジジン化合物２質量部、及び、上記式（ＸＩＸ−１）で表わされる構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量７９，０００）２．５部をクロロベンゼン２５部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布し、１１０℃、４０分の加熱を行なって膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２９６】
次いで、前記化合物（Ｉ−１）３質量部、フェノール樹脂（ＰＬ−２２１５、群栄化学社製）３質量部、ポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ６１５（Ａ）、信越化学社製）０．１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化して膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−３」という。）を得た。
【０２９７】
［感光体の作製４］
まず、導電性支持体として、円筒状のアルミニウム基材を準備した。
【０２９８】
次に、酸化亜鉛（ＳＭＺ−０１７Ｎ、テイカ製）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（Ａ１１００：日本ユニカー社製）２質量部を添加し、５時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で２時間焼き付けを行った。得られた表面処理酸化亜鉛を蛍光Ｘ線により分析した結果、Ｓｉ元素強度の亜鉛元素強度に対する比は１．８×１０−４であった。
【０２９９】
前記表面処理を施した酸化亜鉛３５質量部を、硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５質量部、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）６質量部及びメチルエチルケトン４４質量部と混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散処理を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、シリコーン粒子（トスパール１３０、ＧＥ東芝シリコン社製）１７質量部を添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてＡｌ基材上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引層を得た。下引層の表面粗さを、東京精密社製表面粗さ形状測定器サーフコム５７０Ａを使用し、測定距離２．５ｍｍ、走査速度０．３ｍｍ／ｓｅｃで測定したところ、Ｒｚ値０．２４であった。
【０３００】
次いで、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンの１質量部をポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学）１質量部及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間分散処理して電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の下引層上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０３０１】
次に、上記式（ＸＶＩＩＩ−１）で表わされるベンジジン化合物２質量部、及び、上記式（ＸＩＸ−１）で表わされる構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量７９，０００）２．５質量部をクロロベンゼン２５質量部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布し、１１０℃、４０分の加熱を行なって膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０３０２】
次いで、前記化合物（Ｉ−１９）３質量部、フェノール樹脂（ＰＬ−２２１１、群栄化学社製）３質量部、ポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５３（Ａ）、信越化学社製）０．１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−４」という。）を得た。
【０３０３】
［感光体の作製５］
まず、感光体−４と同様にして電荷輸送層まで形成した。
【０３０４】
次いで、前記化合物（Ｉ−１）３質量部、フェノール樹脂（ＰＲ−５０４０４、住友ベークライト社製）３質量部、ポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５５（Ａ）、信越化学社製）０．１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１３０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−５」という。）を得た。
【０３０５】
［感光体の作製６］
まず、感光体−３と同様にして電荷輸送層まで形成した。
次いで、前記化合物（Ｉ−２５）３質量部、フェノール樹脂（ＰＲ−５１２０６、住友ベークライト社製）３質量部、及びポリエチレングリコール４００（和光純薬工業社製）０．１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１６０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−６」という。）を得た。
【０３０６】
［感光体の作製７］
まず、感光体−４と同様にして電荷輸送層まで形成した。
次いで、前記化合物（ＩＶ−１１）３質量部、フェノール樹脂（ＰＬ−２２１５、群栄化学社製）３質量部、及びポリエーテル消泡剤Ｎｏ．５（花王社製）０．１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１６０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−７」という。）を得た。
【０３０７】
［感光体の作製８］
まず、感光体−３と同様にして電荷輸送層まで形成した。
【０３０８】
次いで、前記化合物（ＩＩ−１５）３質量部、フェノール樹脂（ＢＬＳ−３１２２、昭和高分子社製）３質量部、トリエチルホスフィン０．１部、及びポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５３（Ａ）、信越化学社製）０．１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１６０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−８」という。）を得た。
【０３０９】
［感光体の作製９］
まず、感光体−４と同様にして電荷輸送層まで形成した。
【０３１０】
次いで、前記化合物（ＩＶ−６）３質量部、フェノール樹脂（ＣＫＭ−２４００、昭和高分子社製）３質量部、及びポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５５（Ａ）、信越化学社製）０．１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１６０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−９」という。）を得た。
【０３１１】
［感光体の作製１０］
まず、感光体−５と同様にして電荷輸送層まで形成した。
【０３１２】
次いで、前記化合物（Ｖ−４７）３質量部、フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）３質量部、及びポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５５（Ａ）、信越化学社製）０．１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１６０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１０」という。）を得た。
【０３１３】
［感光体の作製１１］
まず、感光体−５と同様にして電荷輸送層まで形成した。
【０３１４】
次に、導電性無機粒子である酸化スズ粒子（Ｓ−１、三菱マテリアル社製）１００質量部をヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン（ＴＳＬ８２３３、東芝シリコーン社製）２０質量部、及びメタノール３００部とともにボールミルで２４時間攪拌した。撹拌後の混合液を濾過し、フィルター上の酸化スズをメタノールで洗浄後、１５０℃で２時間乾燥することによって酸化スズ粒子の表面処理を行なった。この表面処理を行なった酸化スズ粒子１１質量部とフェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）１０質量部とを、ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＨ−Ｓ、積水化学社製）５質量部、及びポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５５（Ａ）、信越化学社製）０．２質量部をｎ−ブチルアルコール１５０部に溶解した溶液に加え、サンドミルにて１時間分散処理して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記の電荷輸送層上に浸漬塗布し、１７０℃１時間の乾燥硬化処理を施して膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１１」という。）を得た。
【０３１５】
［感光体の作製１２］
まず、感光体−５と同様にして電荷輸送層まで形成した。
【０３１６】
次に、前記化合物（ＩＩ−１５）８質量部、シクロヘキサノン６０質量部、ブロック型ポリイソシアネート（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルウレタン社製）１０質量部、及びジブチルＳｎジラウレート０．１質量部、及びポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５５（Ａ）、信越化学社製）０．２質量部を混合し、保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１６０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚約３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１２」という。）を得た。
【０３１７】
［感光体の作製１３］
まず、感光体−５と同様にして電荷輸送層まで形成した。
【０３１８】
次に、前記化合物（ＶＩ−３）３質量部、フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）２．５質量部、およびポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ  ４４４０、東芝シリコン社製）０．０５質量部、ブタノール５質量部を混合して保護層形成用塗布液を調製した。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング浸漬塗布し、室温にて３０分風乾した後、１５０℃で１時間熱処理して硬化し、膜厚３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１３」という。）を得た。
【０３１９】
［感光体の作製１４］
まず、感光体−５と同様にして電荷輸送層まで形成した。
【０３２０】
次に、前記化合物（ＶＩ−６）３質量部、フェノール樹脂（ＰＲ−５０４０４、住友ベークライト社製）３．５質量部、およびポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ  ４４５２、東芝シリコン社製）０．０５質量部、ブタノール６部を混合して保護層形成用塗布液を調製した。この塗布液を上記の電荷輸送層上にリング浸漬塗布し、室温にて３０分風乾した後、１５０℃で１時間熱処理して硬化し、膜厚３μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１４」という。）を得た。
【０３２１】
［感光体の作製１５］
保護層を形成する際にポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５３（Ａ）、信越化学社製）を用いなかったこと以外は感光体−１と同様にして電子写真感光体（以下、「感光体−１５」という。）を作製した。
【０３２２】
［感光体の作製１６］
保護層を形成する際にポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５５（Ａ）、信越化学社製）を加えなかったこと以外は感光体−５と同様にして電子写真感光体（以下、「感光体−１６」という。）を作製した。
【０３２３】
［感光体の作製１７］
保護層を形成する際にポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ６１５（Ａ）、信越化学社製）の代わりに変性されていないシリコーンオイル（ＫＰ３５４、信越化学社製）を用いたこと以外は感光体−３と同様にして電子写真感光体（以下、「感光体−１７」という。）を作製した。
【０３２４】
［感光体の作製１８］
まず、感光体−４と同様にして電荷輸送層まで形成した。
次いで、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５（ブチル化ベンゾグアナミン樹脂：大日本インキ社製）５００質量部をキシレン５００質量部に溶解し、各々蒸留水３００ｍｌを用いて５回水洗した。最終洗浄水の電導度は、６μＳ／ｃｍであった。この溶液を減圧にて溶剤留去し、水あめ状の樹脂２５０質量部を得た。この樹脂３質量部、前記化合物（Ｂ−２）３質量部、コロイダルシリカ（商品名：ＰＬ−１、扶桑化学工業社製）０．３質量部、ポリビニルフェノール樹脂（重量平均分子量約８０００、Ａｌｄｒｉｃｈ製）０．２質量部、１−メトキシ−２−プロパノール８質量部、並びに３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．２質量部、ｐ−トルエンスルホン酸０．０１質量部、及びポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５３（Ａ）、信越化学社製）０．１２質量部を加えて保護層用塗布液を調製した。この塗布液を電荷輸送層の上に浸漬塗布法により塗布し、室温（２５℃）で３０分風乾した後、１５０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚約７μｍの保護層を形成して感光体以下、「感光体−１８」という。）を作製した。
【０３２５】
［感光体の作製１９］
保護層を形成する際にポリエーテル変性シリコーンオイル（ＫＦ３５３（Ａ）、信越化学社製）を用いなかったこと以外は感光体−１８と同様にして電子写真感光体（以下、「感光体-１９」という。）を作製した。
【０３２６】
−帯電ロールの作製−
［帯電ロールの作製１］
弾性層を形成するため、下記混合物をオープンロールで混練りし、ＳＵＳ４１６からなる直径８ｍｍの導電性支持体（芯材）の表面に、厚さ３ｍｍとなるように円筒状に被覆した。これを内径１４．０ｍｍの円筒型の金型に入れ、１７０℃で３０分間加硫させ、金型から取り出した後、研磨し、中央部の層厚が端部の層厚より薄い円筒状の弾性層を得た。中央部と端部の外径の差は８５μｍであった。
【０３２７】
・ゴム材                                          ・・・・・・・・・１００質量部
（エピクロルヒドリン−エチレンオキシド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、Ｇｅｃｈｒｏｎ３１０６：日本ゼオン社製）
・導電剤（カーボンブラック  アサヒサーマル：旭カーボン社製）    ・・・２５質量部
・導電剤（ケッチェンブラックＥＣ：ライオン社製）                ・・・・８質量部
・イオン導電剤（過塩素酸リチウム）                              ・・・・１質量部
・加硫剤（硫黄）２００メッシュ：鶴見化学工業社製                ・・・・１質量部
・加硫促進剤（ノクセラーＤＭ：大内新興化学工業社製）          ・・・２．０質量部
・加硫促進剤（ノクセラーＴＴ：大内新興化学工業社製）          ・・・０．５質量部
【０３２８】
次に表面層を形成させるため、下記混合物をビーズミルにて分散し得られた分散液を、メタノールで希釈し、表面層の塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて、弾性層の表面に塗布し、その後、１５０℃で１５分間加熱乾燥し、１０μｍの表面層を形成し、帯電ロール（以下、「帯電ロール−１」という。）を得た。
【０３２９】
・高分子材料                                                  ・・・１００質量部
（共重合ナイロン）アラミンＣＭ８０００：東レ社製
・導電剤                                                        ・・・２０質量部
（カーボンブラック）ＭＯＮＡＲＣＨ１０００：キャボット社製  ｐＨ２．０
・溶剤（メタノール）                                          ・・・５００質量部
・溶剤（ブタノール）                                          ・・・２４０質量部
【０３３０】
［帯電ロールの作製２］
帯電ロールの作製１と同様の方法にて弾性層を形成させた。
表面層を形成させるため、下記混合物をビーズミルにて分散し、得られた分散液を、ＭＥＫで希釈した。これを弾性層の表面に浸漬塗布した後、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。これにより表面層を形成し、帯電ロール（以下、「帯電ロール−２」という。）を得た。
【０３３１】
・高分子材料                                                  ・・・１００質量部
（メトキシメチル化ナイロン）トレジンＦ３０Ｋ：ナガセケムテックス社製
・導電剤                                                        ・・・１７質量部
（カーボンブラック）ＭＯＮＡＲＣＨ１０００：キャボット社製  ｐＨ２．０
・溶剤（メタノール）                                          ・・・５００質量部
・溶剤（ブタノール）                                          ・・・１５０質量部
【０３３２】
［帯電ロールの作製３］
帯電ロールの作製１と同様の方法にて弾性層を形成させた。
表面層を形成させるため、下記混合物をビーズミルにて分散し、得られた分散液を、ＭＥＫで希釈した。これを弾性層の表面に浸漬塗布した後、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。これにより表面層を形成し、帯電ロール（以下、「帯電ロール−３」という。）を得た。
【０３３３】
・高分子材料                                                  ・・・１００質量部
（共重合ナイロン）アラミンＣＭ８０００：東レ社製
・導電剤                                                        ・・・３５質量部
（アンチモンドープ酸化スズ）ＳＮ−１００Ｐ：石原産業社製
・溶剤（メタノール）                                          ・・・５００質量部
・溶剤（ブタノール）                                          ・・・２４０質量部
【０３３４】
［帯電ロールの作製４］
帯電ロールの作製１と同様の方法にて弾性層を形成させた。
表面層を形成させるため、下記混合物をビーズミルにて分散し、得られた分散液をＭＥＫで希釈した。これを弾性層の表面に浸漬塗布した後、１７０℃で３０分間加熱乾燥した。これにより表面層を形成し、帯電ロール（以下、「帯電ロール−４」という。）を得た。
【０３３５】
・高分子材料                                                ・・・・１００質量部
（飽和共重合ポリエステル樹脂溶液）バイロン３０ＳＳ：東洋紡績社製
・硬化剤                                                    ・・・２６．３質量部
（アミノ樹脂溶液、スーパーベッカミンＧ−８２１−６０：大日本インキ化学工業社製）
・導電剤                                                        ・・・２４質量部
（カーボンブラック）ＭＯＮＡＲＣＨ１０００：キャボット社製
【０３３６】
［帯電ロールの作製５］
帯電ロールの作製１と同様の方法にて弾性層を形成させた。
表面層を形成させるため、下記混合物をボールミルにて分散し、得られた分散液を、ＭＥＫで希釈した。これを弾性層の表面にロールコーターで塗布した後、１６０℃で３０分間加熱乾燥した。これにより２０μｍの表面層を形成し、帯電ロール（以下、「帯電ロール−５」という。）を得た。
【０３３７】
・高分子材料                                                ・・・・１００質量部
（ポリウレタン樹脂のトルエンとＭＥＫの溶液）ニッポラン３１１３：日本ポリウレタン社製
・導電剤                                                        ・・・３５質量部
（カーボンブラック）Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ４：独Ｄｅｇｕｓｓａ社製
・溶剤（ＭＥＫ）                                              ・・・１００質量部
【０３３８】
それぞれ電子写真感光体及び帯電ロールを表１に示す組合せでドラムカートリッジを作製した。ドラムカートリッジは、電子写真感光体及び帯電ロール以外の要素は富士ゼロックス社製複写機「ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒ  ｃｏｌｏｒ  ａ４５０ＣＰ」と同様のものを用いた。
このドラムカートリッジを４０℃／湿度９５％環境下に１ヶ月間保管した後、富士ゼロックス製社複写機「ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒ  ｃｏｌｏｒ  ａ４５０ＣＰ」を用いて画像濃度３０％の全面均一な画像を形成した。画像形成後、スジ状の画像欠陥を、感光体ピッチと帯電ロールピッチに分けて評価した。得られた結果を表１に示す。
【０３３９】
【表１】
2009015121.tif 000082
【０３４０】
スジ状の画像欠陥の有無は目視にて判断し、以下の評価基準に基づいて評価した。
◎：発生なし
○：僅かに発生するものの許容範囲
×：強く発生（画質上の問題あり）
【０３４１】
表１に示す結果から分かるように、実施例１〜１８のカートリッジでは、感光体ピッチ及び帯電ロールピッチとも、スジ状の画像欠陥は発生しなかったか、発生しても問題とならない程度であった。
一方、比較例１〜８のカートリッジでは、感光体ピッチ及び帯電ロールピッチのいずれかに画像上問題となるスジ状の画像欠陥が発生した。
【図面の簡単な説明】
【０３４２】
【図１】本発明のプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】本発明に係る電子写真感光体の構成の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る電子写真感光体の構成の他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明に係る電子写真感光体の構成の他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明に係る電子写真感光体の構成の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明に係る電子写真感光体の構成の他の例を示す概略断面図である。
【図７】本発明に係る帯電ロールの構成の一例を示す概略断面図である。
【図８】本発明に係る帯電ロールの構成の他の例を示す概略断面図である。
【図９】本発明の電子写真装置の他の例を示す概略構成図である。
【図１０】本発明の電子写真装置の他の例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【０３４３】
１…電子写真感光体、２…導電性支持体、３…感光層、４…下引層、５…電荷発生層、６…電荷輸送層、７…保護層、８…電荷発生／電荷輸送層、２０…プロセスカートリッジ、２１…帯電ロール、１００，１２０，２２０…電子写真装置。
【図１】
2009015121.tif 000083
【図２】
2009015121.tif 000084
【図３】
2009015121.tif 000085
【図４】
2009015121.tif 000086
【図５】
2009015121.tif 000087
【図６】
2009015121.tif 000088
【図７】
2009015121.tif 000089
【図８】
2009015121.tif 000090
【図９】
2009015121.tif 000091
【図１０】
2009015121.tif 000092