(57)【要約】【課題】伝送損失が低いホーリーファイバおよび伝送損失が低いホーリーファイバを容易に製造できるホーリーファイバの製造方法を提供すること。【解決手段】中心に位置するコア部と、前記コア部の外周に位置し、前記コア部の周囲に層状に形成された空孔を有するクラッド部と、を備え、前記クラッド部は、内層と該内層の外周に位置する外層とを有し、前記コア部と前記クラッド部の内層との粘度は、前記クラッド部の外層の粘度よりも低い。好ましくは、前記空孔の少なくとも第２層までが、前記クラッド部の内層に形成されている。【選択図】    図１
2009015294.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に位置するコア部と、
前記コア部の外周に位置し、前記コア部の周囲に層状に形成された空孔を有するクラッド部と、
を備え、前記クラッド部は、内層と該内層の外周に位置する外層とを有し、前記コア部と前記クラッド部の内層との粘度は、前記クラッド部の外層の粘度よりも低いことを特徴とするホーリーファイバ。
【請求項２】
前記空孔の少なくとも第２層までが、前記クラッド部の内層に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のホーリーファイバ。
【請求項３】
前記コア部および前記クラッド部の内層は、塩素、ゲルマニウム、フッ素のうち少なくとも１つがドープされたシリカガラスからなり、前記クラッド部の外層は、純シリカガラスからなることを特徴とする請求項１または２に記載のホーリーファイバ。
【請求項４】
前記コア部および前記クラッド部の内層は、ゲルマニウムがドープされており、ゲルマニウムドープによる前記クラッド部の外層に対する比屈折率差の上昇が０．０５％以上であることを特徴とする請求項３に記載のホーリーファイバ。
【請求項５】
前記コア部および前記クラッド部の内層は、塩素がドープされており、塩素ドープによる前記クラッド部の外層に対する比屈折率差の上昇が０．００９％以上であることを特徴とする請求項３に記載のホーリーファイバ。
【請求項６】
前記コア部および前記クラッド部の内層は、フッ素がドープされており、フッ素ドープによる前記クラッド部の外層に対する比屈折率差の下降が０．０１７％以上であることを特徴とする請求項３に記載のホーリーファイバ。
【請求項７】
前記コア部および前記クラッド部の内層は、温度１２００℃における粘度が１３Ｐ（Ｐｏｉｓｅ）以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載のホーリーファイバ。
【請求項８】
中心に位置するコア部と、前記コア部の外周に位置し該コア部の周囲に層状に形成した空孔を有するクラッド部とを備えるホーリーファイバの製造方法であって、
ジャケット管内の中心にコアロッドを配置し、該コアロッドの周囲に内層キャピラリー管を配置して母材を形成する母材形成工程と、
前記形成した母材を線引きする線引き工程と、
を含み、前記コアロッドおよび前記内層キャピラリー管の粘度は、少なくとも前記ジャケット管の粘度よりも低いことを特徴とするホーリーファイバの製造方法。
【請求項９】
前記母材形成工程は、前記内層キャピラリーの周囲に、前記コアロッドおよび前記内層キャピラリー管よりも粘度が高い外層キャピラリー管を配置することを特徴とする請求項８に記載のホーリーファイバの製造方法。
【請求項１０】
中心に位置するコア部と、前記コア部の外周に位置し該コア部の周囲に層状に形成した空孔を有するクラッド部とを備えるホーリーファイバの製造方法であって、
内層と、前記内層の外周に位置し該内層よりも粘度が高い外層とを有するガラスロッドに、前記内層の中心部を除いて層状に空孔を形成して母材を形成する母材形成工程と、
前記形成した母材を線引きする線引き工程と、
を含むことを特徴とするホーリーファイバの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホーリーファイバおよびホーリーファイバの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ホーリーファイバ（Ｈｏｌｙ  Ｆｉｂｅｒ）は、中心に位置するコア部と、コア部の外周に位置し、コア部の周囲に周期的に配置した複数の空孔を有するクラッド部とを備え、空孔によってクラッド部の平均屈折率を下げ、光の全反射の原理を利用してコア部に光を伝送させる新しいタイプの光ファイバである。このホーリーファイバは、空孔を用いて屈折率を制御することによって、従来の光ファイバでは実現不可能なＥｎｄｌｅｓｓｌｙ  Ｓｉｎｇｌｅ  Ｍｏｄｅ（ＥＳＭ）や、短波長側での異常分散等の特異な特性を実現可能である。なお、ＥＳＭとは、カットオフ波長が存在せず、全ての波長の光がシングルモードで伝送することを意味し、広帯域にわたって伝送速度の速い光伝送を可能にする特性である。たとえば、ホーリーファイバと分散補償光ファイバ（Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｎｇ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｆｉｂｅｒ）とを組み合わせて長さ１００ｋｍの光伝送路を構成し、伝送速度が１０Ｇｂ／ｓの分散マネージメントソリトン伝送実験を行った結果が報告されている（非特許文献１参照）。
【０００３】
一方、長距離伝送を実現するため、ホーリーファイバの伝送損失の低減についても盛んに検討されている。たとえば、非特許文献２においては、０．２８ｄＢ／ｋｍという低い伝送損失を有するホーリーファイバが報告されている。
【０００４】
ここで、ホーリーファイバは、たとえばスタック＆ドロー法、ドリル法、ゾルゲル法などによって、シリカガラスからなる穴構造を有する母材を形成し、この母材を線引きして製造される。そして、線引き工程において、たとえば、比較的低い温度で線引きをしたり、空孔の形状を維持するために加圧する不活性ガス等の圧力を緻密に制御したり（特許文献１参照）して、空孔形状の変形を防いでいる。
【０００５】
【非特許文献１】K.  Kurokawa,  et  al.,  “Penalty-Free  Dispersion-Managed  Soliton  Transmission  over  100km  Low  Loss  PCF”,  Proc.  OFC  PDP21  (2005).
【非特許文献２】K.  Tajima,  et  al.,“Low  water  peak  photonic  crystal  fibers.",  ECOC’03  PD  Th4.16(2003)
【特許文献１】特開２００６−８３００３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、長距離伝送に用いられるホーリーファイバについては、低損失であることが要求されるとともに、より長い条長にわたって空孔形状の変形を防止する必要がある。
【０００７】
しかしながら、空孔形状の変形防止のために低い温度で線引きをすると、線引き時の過剰な張力によってコア部や空孔に応力がかかり、ガラス欠陥や空孔表面の歪みが発生し、その結果、伝送損失が増大するという問題があった。一方、ある程度の高温で線引きをすると、空孔形状の維持のために、より緻密なガス圧力制御をしなければならず、製造が煩雑になるという問題があった。
【０００８】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、伝送損失が低いホーリーファイバおよび伝送損失が低いホーリーファイバを容易に製造できるホーリーファイバの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係るホーリーファイバは中心に位置するコア部と、前記コア部の外周に位置し、前記コア部の周囲に層状に形成された空孔を有するクラッド部と、を備え、前記クラッド部は、内層と該内層の外周に位置する外層とを有し、前記コア部と前記クラッド部の内層との粘度は、前記クラッド部の外層の粘度よりも低いことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係るホーリーファイバは、上記の発明において、前記空孔の少なくとも第２層までが、前記クラッド部の内層に形成されていることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係るホーリーファイバは、上記の発明において、前記コア部および前記クラッド部の内層は、塩素、ゲルマニウム、フッ素のうち少なくとも１つがドープされたシリカガラスからなり、前記クラッド部の外層は、純シリカガラスからなることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明に係るホーリーファイバは、上記の発明において、前記コア部および前記クラッド部の内層は、ゲルマニウムがドープされており、ゲルマニウムドープによる前記クラッド部の外層に対する比屈折率差の上昇が０．０５％以上であることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明に係るホーリーファイバは、上記の発明において、前記コア部および前記クラッド部の内層は、塩素がドープされており、塩素ドープによる前記クラッド部の外層に対する比屈折率差の上昇が０．００９％以上であることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明に係るホーリーファイバは、上記の発明において、前記コア部および前記クラッド部の内層は、フッ素がドープされており、フッ素ドープによる前記クラッド部の外層に対する比屈折率差の下降が０．０１７％以上であることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明に係るホーリーファイバは、上記の発明において、前記コア部および前記クラッド部の内層は、温度１２００℃における粘度が１３Ｐ（Ｐｏｉｓｅ）以下であることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明に係るホーリーファイバの製造方法は、中心に位置するコア部と、前記コア部の外周に位置し該コア部の周囲に層状に形成した空孔を有するクラッド部とを備えるホーリーファイバの製造方法であって、ジャケット管内の中心にコアロッドを配置し、該コアロッドの周囲に内層キャピラリー管を配置して母材を形成する母材形成工程と、前記形成した母材を線引きする線引き工程と、を含み、前記コアロッドおよび前記内層キャピラリー管の粘度は、少なくとも前記ジャケット管の粘度よりも低いことを特徴とする。
【００１７】
また、本発明に係るホーリーファイバの製造方法は、上記発明において、前記母材形成工程は、前記内層キャピラリーの周囲に、前記コアロッドおよび前記内層キャピラリー管よりも粘度が高い外層キャピラリー管を配置することを特徴とする。
【００１８】
また、本発明に係るホーリーファイバの製造方法は、中心に位置するコア部と、前記コア部の外周に位置し該コア部の周囲に層状に形成した空孔を有するクラッド部とを備えるホーリーファイバの製造方法であって、内層と、前記内層の外周に位置し該内層よりも粘度が高い外層とを有するガラスロッドに、前記内層の中心部を除いて層状に空孔を形成して母材を形成する母材形成工程と、前記形成した母材を線引きする線引き工程と、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、光が伝搬する部分におけるガラス欠陥や空孔表面の歪みの発生を低減できるので、伝送損失が低いホーリーファイバが実現できるという効果を奏する。
【００２０】
また、本発明によれば、光が伝搬する部分におけるガラス欠陥や空孔表面の歪みの発生を低減できるとともに、加圧するガスの圧力の制御精度を高めなくても、空孔形状の変形を容易に防止できるので、伝送損失が低いホーリーファイバを容易に製造できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に、図面を参照して本発明に係るホーリーファイバおよびホーリーファイバの製造方法の実施の形態を詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、以下ではホーリーファイバをＨＦと記載する。また、ドーパントを何もドープしていないシリカガラスについては、純シリカガラスと記載する。また、本明細書においては、曲げ損失とは、光ファイバを直径２０ｍｍで１６周巻いた条件での曲げ損失を意味する。また、カットオフ波長λｃとは、ＩＴＵ−Ｔ（国際電気通信連合）Ｇ．６５０．１で定義するファイバカットオフ波長をいう。その他、本明細書で特に定義しない用語についてはＩＴＵ−Ｔ  Ｇ．６５０．１における定義、測定方法に従うものとする。
【００２２】
（実施の形態）
図１は、本発明の実施の形態に係るＨＦの断面概略図である。図１に示すように、このＨＦ１０は、中心に位置するコア部１１と、コア部１１の外周に位置する内層１２と内層１２の外周に位置する外層１３とを有するクラッド部１４とを備える。また、クラッド部１４には、空孔１５がコア部１１の周囲に層状に形成されている。この空孔１５は、内側から第１、２層までが内層１２に形成され、第３〜５層は外層１３に形成されている。
【００２３】
また、空孔１５は、層状に形成されるとともに、三角格子Ｌを形成するように配置されている。空孔１５の直径はｄであり、三角格子Ｌの格子定数、すなわち空孔１５の中心間距離はΛである。このＨＦ１０は、Λ、およびｄ／Λの値を適宜調整することで、所望の特性を実現している。
【００２４】
ここで、コア部１１および内層１２は、塩素をドープしたシリカガラスから構成されており、外層１３は、純シリカガラスから構成されている。なお、シリカガラスの製造工程で塩素を用いる場合、微量の塩素が残留ドープされることがあるが、塩素がドープされている量が十分に小さい場合（塩素ドープによる塩素がドープされていないシリカガラスに対する屈折率上昇が０．０５０％以下の場合）は、純シリカガラスであるとする。ここでいう塩素をドープしたシリカガラスとは、外層１３を構成する純シリカガラスよりもさらに多くの塩素がドープされていることを意味する。すなわち、コア部１１と内層１２との粘度が、外層１３の粘度よりも低くなっている。したがって、このＨＦ１０においては、線引き時の過剰な張力による応力はおもに外層１３にかかっており、光が伝搬するコア部１１と内層１２にかかる応力は低減されているため、光が伝搬する部分におけるガラス欠陥や空孔表面の歪みの発生が低減されている。その結果、このＨＦ１０は、伝送損失が低いものとなっている。
【００２５】
なお、ＨＦ１０を伝搬する光のフィールドは、コア部１１内だけでなく、空孔１５の第２層目の位置まで広がっている。このＨＦ１０においては、空孔１５の第２層までが内層１２に形成されているので、伝搬する光がガラス欠陥等による伝送損失を受けることが十分に防止される。
【００２６】
コア部１１および内層１２にドープするドーパントは、塩素に限らず、ゲルマニウム（Ｇｅ）、フッ素（Ｆ）などでもよい。特に、塩素は、Ｇｅ、Ｆよりも粘性を低減する効果が高く、かつシリカガラスの屈折率をほとんど変化させないので好ましい。なお、ドーパントの濃度と、純シリカガラスに対する比屈折率差Δおよび粘性との関係については、たとえばＧｅの場合は、Ｇｅ濃度０．５ｍｏｌ％以上であれば、Δは０．０５％以上となり、１２００℃でのガラス粘度（ｌｏｇ（η１２００））は１３Ｐ以下となる（たとえば、川副ら、非晶質シリカ材料応用ハンドブック、リアライズ社、１９９９参照）。一方、Ｆの場合は、Δの絶対値がＧｅのΔの０．３３倍程度となる濃度であれば、Ｇｅと同程度の粘度を実現でき、塩素の場合は、ΔがＧｅのΔの０．１７倍程度となる濃度でも、Ｇｅと同程度の粘度を実現できる。
【００２７】
また、コア部１１および内層１２にドープするドーパントは１種類に限らず、塩素、Ｇｅ、Ｆのいずれか２種類以上を共ドープしてもよい。たとえば、コア部１１および内層１２にＧｅとＦとを共ドープすれば、ＧｅとＦとの両方の効果によって粘度をより効率的に低減することができる。さらに、共ドープするＧｅとＦとのドープ量の比率を調整することによって、Δを所望の値、たとえば０％に制御できる。
【００２８】
なお、コア部１１および内層１２は、シリカガラスの製造工程を変化させて、粘性を変化させたもので構成してもよい。また、コア部１１および内層１２の粘度は同一でもよいが、光の大部分が伝搬するコア部１１の粘度のほうが低い方が好ましい。
【００２９】
つぎに、ＨＦ１０の製造方法の一例として、スタック＆ドロー法を用いて製造する場合について、図２、３を用いて説明する。
【００３０】
はじめに、ＨＦ１０を製造するための母材を形成する。図２は、ＨＦ１０を製造するための母材２０の断面概略図である。この母材２０は以下のように形成する。はじめに、塩素をドープしたシリカガラスからなるコア部１１形成用の中実のコアロッド２０１を準備する。そして、このコアロッド２０１の周囲に、塩素をドープしたシリカガラスからなる内層１２および空孔１５形成用の中空の内層キャピラリー管２０２を配置し、さらに内層キャピラリー管２０２の周囲に、純シリカガラスからなる外層１３および空孔１５形成用の外層キャピラリー管２０３を配置した束を形成する。そして、この束を、純シリカガラスからなる中空のジャケット管２０４内に収容し、母材２０を形成する。なお、コアロッド２０１、内層キャピラリー管２０２、外層キャピラリー管２０３、ジャケット管２０４の直径または内径、および内層キャピラリー管２０２、外層キャピラリー管２０３の数は、空孔１５の直径、および中心間距離、および層数に応じて決定する。
【００３１】
つぎに、母材２０の下端を溶融してコラプスし、内層キャピラリー管２０２、外層キャピラリー管２０３等の孔を封鎖したものを、図３に示す線引き炉２２に設置する。そして、母材２０の溶融していない上端にガス加圧装置２１を接続する。
【００３２】
つぎに、母材２０の下端をヒータ２２ａで加熱溶融し、ＨＦ１０を線引きする。線引きの際には、ガス加圧装置２１によって、空孔形状を維持するために内層キャピラリー管２０２、外層キャピラリー管２０３の孔内を加圧する。ここで、この母材２０においては、外層キャピラリー管２０３およびジャケット管２０４の粘度が、コアロッド２０１および内層キャピラリー管２０２より高い。その結果、線引きの際に発生する応力は主に外層キャピラリー管２０３およびジャケット管２０４にかかるので、コアロッド２０１および内層キャピラリー管２０２にかかる応力は低減されるため、比較的低温で線引きしても、光が伝搬する部分におけるガラス欠陥や空孔表面の歪みの発生が低減される。さらに、比較的低温で線引きできるので、加圧するガスの圧力の制御精度を高めなくても、空孔形状の変形を容易に防止できる。その結果、伝送損失が低いＨＦ１０を容易に製造できる。
上記では空孔形状を制御するために、キャピラリー管の孔内を加圧する方法を用いたが、逆にキャピラリー管の孔内を真空にすることでも空孔形状を制御できる。また、ヒータ温度や線引き速度を制御することで空孔形状を制御してもよい。
【００３３】
その後、外径測定器２４ａで線引きしたＨＦ１０の外径を測定し、樹脂塗布装置２５ａでＨＦ１０の外周に内側被覆層となる紫外線硬化樹脂２６ａを塗布し、紫外線照射装置２７ａで紫外線硬化樹脂２６ａを硬化し、外径測定器２４ｂで内側被覆層の外径を測定する。同様に、樹脂塗布装置２５ｂでＨＦ１０の内側被覆層の外周に外側被覆層となる紫外線硬化樹脂２６ｂを塗布し、紫外線照射装置２７ｂで紫外線硬化樹脂２６ｂを硬化し、外径測定器２４ｃで外側被覆層の外径を測定する。こうして被覆層が形成されたＨＦ１０は、ガイドローラ２８ａ〜２８ｃにガイドされ、巻取り装置２９によって巻き取られる。
【００３４】
（実施例１、比較例１）
本発明の実施例１として、実施の形態１と同様の構造を有するＨＦをスタック＆ドロー法によって製造した。なお、ガラスロッドおよび空孔の第２層目までを形成するためのキャピラリー管として、塩素をドープしたシリカガラスからなるものを使用した。なお、塩素のドープ量は、これらのガラスロッドおよびキャピラリー管の純シリカガラスを基準とした比屈折率差Δが０．０５％となるようにした。一方、その他のキャピラリー管およびジャケット管については、純シリカガラスからなるものを使用した。一方、比較例１として、実施例１と同様の構造を有するＨＦを、純シリカガラスからなるガラスロッド、キャピラリー管、ジャケット管を用いてスタック＆ドロー法によって製造した。実施例１、比較例１ともに、１８７０℃程度の低温領域で線引きを行った。
【００３５】
なお、実施例１、比較例１のＨＦの空孔の直径ｄ、中心間距離Λについては、ｄ／Λを０．５０、Λを１０μｍに設定した。図４は、図１に示す構造を有し、ｄ／Λが０．５０、Λが１０μｍのＨＦの波長１５５０ｎｍにおける特性を、Ｆｉｎｉｔｅ  Ｅｌｅｍｅｎｔ  Ｍｅｔｈｏｄ（ＦＥＭ）シミュレーションを用いて算出した結果を示す図である。図４中の各特性は、波長１５５０ｎｍにおける特性である。また、Ａｅｆｆとは、有効コア断面積を意味する。図４に示すように、このＨＦは、２８ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ程度の比較的抑制された波長分散値と、１１５μｍ２程度の大きい有効コア断面積とを有し、かつ曲げ損失も十分に小さいので、伝送路を構成する光ファイバとして十分に用いることができる。また、図５は、図４で示したものと同じＨＦの波長分散特性を示す図であるが、標準のシングルモード光ファイバと類似の波長分散特性となっている。また、図６は、図４で示したものと同じＨＦの断面内での光のフィールド分布（Ｅｘ分布）を示す図であるが、コア部を中心としたガウシアン形状のフィールド分布となっている。
【００３６】
つぎに、実際に製造した実施例１、比較例１のＨＦの特性について説明する。図７は、実施例１、比較例１のＨＦの特性を示す図である。なお、図７において、カットオフ波長λｃ以外は波長１５５０ｎｍでの特性を示す。図７に示すように、実施例１、比較例１のＨＦのいずれも、波長分散、分散スロープ、Ａｅｆｆ、曲げ損失、については、計算によって得られた図４に示す値と同等の値を実現している。伝送損失については、比較例１のＨＦが４０．２３ｄＢ／ｋｍであるのに対して、実施例１のＨＦは１１．４６ｄＢ／ｋｍと、大幅に低減されていた。
【００３７】
さらに、図８は、実施例１、比較例１のＨＦの伝送損失スペクトルを示す図である。図８に示すように、実施例１のＨＦは、広い波長帯域にわたって、比較例１のＨＦよりも大幅に低い伝送損失を有することが確認された。
【００３８】
（実施例２〜４、比較例２）
本発明の実施例２として、実施の形態１と同様の構造を有するＨＦをスタック＆ドロー法によって製造した。なお、ガラスロッドおよび空孔の第１層目までを形成するためのキャピラリー管として、Ｇｅをドープしたシリカガラスからなるものを使用し、その他のキャピラリー管およびジャケット管については、純シリカガラスからなるものを使用した。なお、ガラスロッドおよびキャピラリー管のＧｅのドープ量が異なるＨＦを１０本製造した。同様に、実施例３、４として、ガラスロッドおよび空孔の第２層目または第３層目までを形成するためのキャピラリー管として、Ｇｅをドープしたシリカガラスからなるものを使用したＨＦを、それぞれ１０本製造した。また、比較例２として、比較例１と同様に、純シリカガラスからなるガラスロッド、キャピラリー管、ジャケット管を使用したＨＦを製造した。
【００３９】
図９は、実施例２〜４、比較例２のＨＦについて、ガラスロッドおよびキャピラリー管のＧｅ濃度と波長１５５０ｎｍにおけるＨＦの伝送損失との関係を示す図である。なお、Ｇｅ濃度については、Ｇｅをドープしたシリカガラスの比屈折率差Δに換算して表している。図９に示すように、実施例２〜４のいずれにおいても、比較例２に対して、Δが大きく、すなわちＧｅ濃度が高くなるにつれて、伝送損失が低減することが確認された。また、実施例２よりも、実施例３、４のほうが、伝送損失がより低減されることが確認された。さらに、ガラスロッドおよびキャピラリー管のΔが０．０５％以上となるような濃度にＧｅをドープした場合に、伝送損失の低減の効果が顕著であることが確認された。なお、単一ドーパントを仮定すると、Ｇｅの場合は０．０５％以上であるが、Ｆの場合は約−０．０１７％以下、塩素の場合は約０．００９％以上であれば、同様の顕著な効果が得られると考えられる。
【００４０】
（実施例５）
本発明の実施例５として、上記各実施例と同様の構造を有するＨＦをスタック＆ドロー法によって製造した。ただし、ガラスロッドおよび空孔の第１層目までを形成するためのキャピラリー管として、ＧｅとＦとを共ドープしたシリカガラスからなるものを使用し、その他のキャピラリー管およびジャケット管については、純シリカガラスからなるものを使用した。なお、ドープするＧｅ濃度は、純シリカガラスを基準としたΔが０．０２％だけ上昇する濃度とし、Ｆ濃度は、Δが０．０２％だけ下降する濃度とした。
【００４１】
その結果、製造したＨＦは、コア部からクラッド部にわたって均一の屈折率となり、そのΔは０％となった。また、波長１５５０ｎｍにおけるＨＦの伝送損失を測定したところ、約２５ｄＢ／ｋｍに低減されていた。
【００４２】
なお、上記実施の形態では、空孔１５の第２層までが内層１２に形成されていたが、光の伝搬への影響がより小さい第３層以上の層までが内層１２に形成されてもよい。
【００４３】
また、上記実施の形態では、スタック＆ドロー法を用いて母材を形成するＨＦ１０の製造方法について説明したが、ドリル法やゾルゲル法などを用いて母材を形成してもよい。たとえば、ドリル法を用いる場合、内層と該内層よりも粘度が高い外層とを有するガラスロッドを準備し、このガラスロッドの内層の中心部、すなわちコア部となる部分を除いて、ドリルを用いて層状に空孔を形成して、母材を形成すればよい。
【００４４】
また、本発明によれば、線引き時に加圧するガスの制御精度を高めなくてもよいので、伝送損失が低いＨＦを容易に製造できるが、ガスの制御精度を高めれば、伝送損失がさらに低いＨＦを従来よりも容易に製造できることが期待される。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施の形態に係るＨＦの断面概略図である。
【図２】図１に示すＨＦを製造するための母材の断面概略図である。
【図３】図１に示すＨＦの製造方法を説明する説明図である。
【図４】図１に示す構造を有し、ｄ／Λが０．５０、Λが１０μｍのＨＦの波長１５５０ｎｍにおける特性を、ＦＥＭシミュレーションを用いて算出した結果を示す図である。
【図５】図４で示したものと同じＨＦの波長分散特性を示す図である。
【図６】図４で示したものと同じＨＦの断面内での光のフィールド分布を示す図である。
【図７】実施例１、比較例１のＨＦの特性を示す図である。
【図８】実施例１、比較例１のＨＦの伝送損失スペクトルを示す図である。
【図９】実施例２〜４、比較例２のＨＦについて、ガラスロッドおよびキャピラリー管のＧｅ濃度と波長１５５０ｎｍにおけるＨＦの伝送損失との関係を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０    ＨＦ
１１    コア部
１２    内層
１３    外層
１４    クラッド部
１５    空孔
２０    母材
２１    ガス加圧装置
２２    線引き炉
２２ａ  ヒータ
２４ａ〜２４ｃ  外径測定器
２５ａ、２５ｂ  樹脂塗布装置
２６ａ、２６ｂ  紫外線硬化樹脂
２７ａ、２７ｂ  紫外線照射装置
２８ａ〜２８ｃ  ガイドローラ
２９    巻取り装置
２０１  コアロッド
２０２  内層キャピラリー管
２０３  外層キャピラリー管
２０４  ジャケット管
【図１】
2009015294.tif 000003
【図２】
2009015294.tif 000004
【図３】
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【図４】
2009015294.tif 000006
【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図６】
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