(57)【要約】【課題】簡易な構成で、被洗浄物の洗浄度を向上させることが可能な多段式の洗浄槽を提供すること。【解決手段】洗浄槽３は、被洗浄物２を洗浄するための洗浄液が供給されるとともに被洗浄物２の仕上洗浄を行うための仕上洗浄槽１７と、仕上洗浄槽１７から溢れ出す洗浄液が流れ込むとともに被洗浄物２の粗洗浄を行うための粗洗浄槽１８と、粗洗浄槽１８から溢れ出す洗浄液が流れ込むオーバーフロー槽１９とを備えている。仕上洗浄槽１７は、略直方体の箱状に形成されるとともに、洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成され、粗洗浄槽１８は、略直方体の箱状に形成されるとともに、洗浄液が１方向へ溢れ出すように構成されている。【選択図】図２
2009136754.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄物を洗浄するための洗浄液が供給されるとともに前記被洗浄物の仕上洗浄を行うための仕上洗浄槽と、前記仕上洗浄槽から溢れ出す前記洗浄液が流れ込むとともに前記被洗浄物の粗洗浄を行うための粗洗浄槽と、前記粗洗浄槽から溢れ出す前記洗浄液が流れ込むオーバーフロー槽とを備え、
前記仕上洗浄槽は、箱状に形成されるとともに、前記洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成され、
前記粗洗浄槽は、略直方体または略立方体の箱状に形成されるとともに、前記洗浄液が１方向へ溢れ出すように構成されていることを特徴とする洗浄槽。
【請求項２】
前記粗洗浄槽の内部に前記仕上洗浄槽が配置されていることを特徴とする請求項１記載の洗浄槽。
【請求項３】
略直方体または略立方体の箱状に形成されるとともに、前記仕上洗浄槽から溢れ出す前記洗浄液が流れ込み、前記粗洗浄槽に向かって前記洗浄液が溢れ出す中間洗浄槽をさらに備えることを特徴とする請求項１または２記載の洗浄槽。
【請求項４】
前記粗洗浄槽の内部に前記中間洗浄槽が配置され、前記中間洗浄槽の内部に前記仕上洗浄槽が配置されていることを特徴とする請求項３記載の洗浄槽。
【請求項５】
被洗浄物を洗浄するための洗浄液が供給されるとともに前記被洗浄物の仕上洗浄を行うための仕上洗浄槽と、前記仕上洗浄槽から溢れ出す前記洗浄液が流れ込むとともに前記被洗浄物の粗洗浄を行うための粗洗浄槽と、前記粗洗浄槽から溢れ出す前記洗浄液が流れ込むオーバーフロー槽とを備え、
前記仕上洗浄槽は、前記洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成されるとともに、前記粗洗浄槽は、前記洗浄液が所定方向のみに溢れ出すように構成されていることを特徴とする洗浄槽。
【請求項６】
請求項１から５いずれかに記載の洗浄槽を備え、前記粗洗浄槽で洗浄された後の前記被洗浄物を前記仕上洗浄槽で洗浄することを特徴とする洗浄装置。
【請求項７】
前記オーバーフロー槽から排出される前記洗浄液を前記仕上洗浄槽へ供給する循環経路を備えることを特徴とする請求項６記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種の被洗浄物を洗浄するための洗浄槽およびこの洗浄槽を備える洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、電子部品や金属部品等の各種の部品（ワーク）の製造工程では、洗浄槽を用いてワークの洗浄処理が行われている。この種の洗浄槽として、ワークの洗浄を行うための第一の洗浄槽および第二の洗浄槽を有する多段式の洗浄槽が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
この特許文献１に記載の洗浄槽では、第一の洗浄槽に給水管から洗浄水が供給され、第一の洗浄槽から溢れ出した洗浄水が第二の洗浄槽に流れ込む。また、第二の洗浄槽から溢れ出した洗浄水は別の槽へ流れ込む。また、特許文献１に記載の第一の洗浄槽は略立方体の箱状に形成されており、第一の洗浄槽の一側面を構成する仕切板の上から溢れ出した洗浄水が第二の洗浄槽へ流れ込む。同様に、特許文献１に記載の第二の洗浄槽も略立方体の箱状に形成されており、第二の洗浄槽の一側面を構成する仕切板の上から溢れ出した洗浄水が別の槽へ流れ込む。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−５４７６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の多段式の洗浄槽では、一般に、洗浄水が供給される第一の洗浄槽でワークの仕上洗浄が行われる。しかしながら、この洗浄槽では、第一の洗浄槽の一側面を構成する仕切板の上から溢れ出した洗浄水が第二の洗浄槽へ流れ込む。そのため、第一の洗浄槽の一側面側にはワークを洗浄した後の塵埃等がたまりにくいが、仕切板に対向する第一の洗浄槽の他側面側（特に角部）には、塵埃等がたまりやすくなる。そのため、特許文献１に記載の洗浄槽では、高い洗浄度が要求されるワークの洗浄が困難となる。
【０００６】
そこで、本発明の課題は、簡易な構成で、被洗浄物の洗浄度を向上させることが可能な多段式の洗浄槽およびこの洗浄槽を備える洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明の洗浄槽は、被洗浄物を洗浄するための洗浄液が供給されるとともに被洗浄物の仕上洗浄を行うための仕上洗浄槽と、仕上洗浄槽から溢れ出す洗浄液が流れ込むとともに被洗浄物の粗洗浄を行うための粗洗浄槽と、粗洗浄槽から溢れ出す洗浄液が流れ込むオーバーフロー槽とを備え、仕上洗浄槽は、箱状に形成されるとともに、洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成され、粗洗浄槽は、略直方体または略立方体の箱状に形成されるとともに、洗浄液が１方向へ溢れ出すように構成されていることを特徴とする。
【０００８】
本発明の洗浄槽では、仕上洗浄を行う仕上洗浄槽は、洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成されている。そのため、仕上洗浄槽には、被洗浄物を洗浄した後の塵埃がたまりにくくなる。その結果、本発明では、被洗浄物の洗浄度を向上させることが可能になる。また、本発明の洗浄槽では、高い洗浄度が要求されない粗洗浄槽は、洗浄液が１方向へ溢れ出すように構成されている。そのため、本発明では、洗浄槽の構成を簡素化することが可能になり、洗浄槽を小型化することが可能になる。このように、本発明の洗浄槽では、簡易な構成で、被洗浄物の洗浄度を向上させることが可能になる。
【０００９】
本発明において、粗洗浄槽の内部に仕上洗浄槽が配置されていることが好ましい。このように構成すると、洗浄槽を小型化しやすくなる。
【００１０】
本発明において、洗浄槽は、略直方体または略立方体の箱状に形成されるとともに、仕上洗浄槽から溢れ出す洗浄液が流れ込み、粗洗浄槽に向かって洗浄液が溢れ出す中間洗浄槽をさらに備えることが好ましい。このように構成すると、中間洗浄槽を用いて、被洗浄物の洗浄度をさらに向上させることが可能になる。
【００１１】
本発明において、粗洗浄槽の内部に中間洗浄槽が配置され、中間洗浄槽の内部に仕上洗浄槽が配置されていることが好ましい。このように構成すると、被洗浄物の洗浄度を向上させるために、中間洗浄槽が使用される場合であっても、洗浄槽を小型化することが可能になる。また、洗浄液が多方向へ溢れ出すように中間洗浄槽を構成することが可能になるため、中間洗浄槽に、被洗浄物を洗浄した後の塵埃がたまりにくくなる。
【００１２】
また、上記の課題を解決するため、本発明の洗浄槽は、被洗浄物を洗浄するための洗浄液が供給されるとともに被洗浄物の仕上洗浄を行うための仕上洗浄槽と、仕上洗浄槽から溢れ出す洗浄液が流れ込むとともに被洗浄物の粗洗浄を行うための粗洗浄槽と、粗洗浄槽から溢れ出す洗浄液が流れ込むオーバーフロー槽とを備え、仕上洗浄槽は、洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成されるとともに、粗洗浄槽は、洗浄液が所定方向のみに溢れ出すように構成されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の洗浄槽では、仕上洗浄を行う仕上洗浄槽は、洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成されている。そのため、仕上洗浄槽には、被洗浄物を洗浄した後の塵埃がたまりにくくなり、その結果、本発明では、被洗浄物の洗浄度を向上させることが可能になる。また、本発明では、高い洗浄度が要求されない粗洗浄槽は、洗浄液が所定方向のみに溢れ出すように構成されている。そのため、本発明では、洗浄槽の構成を簡素化することが可能になり、洗浄槽を小型化することが可能になる。
【００１４】
本発明の洗浄槽は、粗洗浄槽で洗浄された後の被洗浄物を仕上洗浄槽で洗浄する洗浄装置に用いることができる。この洗浄装置では、簡易な構成で、被洗浄物の洗浄度を向上させることが可能になる。
【００１５】
本発明において、洗浄装置は、オーバーフロー槽から排出される洗浄液を仕上洗浄槽へ供給する循環経路を備えることが好ましい。このように構成すると、洗浄液を再利用することができ、被洗浄物の洗浄コストを低減することができる。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように、本発明にかかる洗浄槽および洗浄装置では、簡易な構成で、被洗浄物の洗浄度を向上させることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１８】
（洗浄装置の概略構成）
図１は、本発明の実施の形態にかかる洗浄装置１の概略構成を説明するための概略図である。
【００１９】
本形態の洗浄装置１は、電子部品、金属部品、プリント配線基板あるいはガラス基板等の各種の被洗浄物２（以下、ワーク２とする。）を洗浄処理するための装置である。たとえば、洗浄装置１は、ワーク２となるカメラのレンズ駆動機構等を洗浄処理するための装置である。
【００２０】
この洗浄装置１は、図１に示すように、ワーク２を洗浄液に浸漬するための洗浄槽３を下端側に有する本体部４と、本体部４の内部へ洗浄液の蒸気を供給するための蒸気発生槽５と、洗浄槽３の上端側に取り付けられ洗浄液の蒸気を冷却して液化させるための冷却器６と、冷却器６で液化された洗浄液を回収して水と分離するための水分離槽７と、洗浄槽３から排出される洗浄液を循環させて再利用するための循環経路９とを備えている。
【００２１】
洗浄装置１で使用される洗浄液は、揮発性を有する有機溶剤であり、たとえば、ＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）やＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）、ＨＣＦＣ（ハイドロクロロフルオロカーボン）等のフッ素系溶剤、ジクロロメタンやトリクロロエチレン等の塩素系溶剤、あるいは、１−ブロモプロパン等の臭素系溶剤である。本形態の洗浄装置１では、洗浄液としてＨＦＥが使用されている。
【００２２】
本体部４は、略直方体の中空の箱状に形成されており、上述のように、下端側に洗浄槽３を備えている。本体部４の上面には、本体部４内にワーク２を搬入し、かつ、本体部４内からワーク２を搬出するための開口部１５が形成されている。また、上下方向における本体部４の略中間位置（すなわち、洗浄槽３の上方）には、蒸気発生槽５で発生した洗浄液の蒸気を用いてワーク２を蒸気洗浄するための蒸気洗浄空間１６が形成されている。
【００２３】
洗浄槽３は、ワーク２を洗浄液に浸漬して仕上洗浄を行うための仕上洗浄槽１７と、ワーク２を洗浄液に浸漬して粗洗浄を行うための粗洗浄槽１８と、粗洗浄槽１８から溢れ出した洗浄液が流れ込むオーバーフロー槽１９とを備えている。仕上洗浄槽１７の底面側には、浸漬されたワーク２を超音波を用いて洗浄するための超音波振動子２０が配置され、粗洗浄槽１８の底面側には、浸漬されたワーク２を超音波を用いて洗浄するための超音波振動子２１が配置されている。また、オーバーフロー槽１９の底面には、循環経路９の一端側が接続され、仕上洗浄槽１７の底面には、循環経路９の他端側が接続されている。この洗浄槽３の詳細な構成については後述する。
【００２４】
蒸気発生槽５の内部には、洗浄液を温めて気化させるためのヒータ２２が配置されている。また、蒸気発生槽５の上端側には、配管２３の一端側が接続されている。配管２３の他端側は蒸気洗浄空間１６に接続されている。すなわち、蒸気発生槽５の上端側は、配管２３を介して蒸気洗浄空間１６に接続されており、ヒータ２２によって気化された洗浄液は、蒸気洗浄空間１６に供給される。なお、本形態では、粗洗浄槽１８から洗浄液が蒸気発生槽５に流れ込んで、蒸気発生槽５に洗浄液が補充される。
【００２５】
冷却器６は、たとえば、ペルチェ素子であり、本体部４の上端側の周囲（具体的には、蒸気洗浄空間１６の上端の周囲）を囲むように配置されている。この冷却器６は、本体部４の、蒸気洗浄空間１６の上端側の内壁を冷却する。そのため、蒸気洗浄空間１６内の洗浄液の蒸気は、冷却器６によって冷却され液化されて蒸気洗浄空間１６の上端側の内壁につく。本形態の洗浄装置１では、蒸気洗浄空間１６の上端側の内壁についた液体状の洗浄液は、その後、水分離槽７に流れ込む。
【００２６】
また、冷却器６が蒸気洗浄空間１６の上端側の内壁を冷却するため、蒸気洗浄空間１６は上側に行くほど蒸気密度が下がる。したがって、後述のように、蒸気洗浄が行われた後のワーク２が冷却器６の内周側まで上昇すると、蒸気密度の低い領域に入るため、結果としてワーク２が乾燥することになる。すなわち、冷却器６は、洗浄液の蒸気を冷却して液化させる機能に加え、ワーク２を乾燥させる機能を果たしている。
【００２７】
なお、冷却器６は、上端部近傍の空気も冷却するため、内壁が飽和水蒸気圧温度以下になると空気中に含まれる水分も内壁に結露する。結露して内壁に付着した水滴は、洗浄液と同様に内壁に沿って流れ落ちて水分離槽７に流れ込む。
【００２８】
水分離槽７は、水の比重と洗浄液の比重との違いを利用して、水と洗浄液とを分離する。この水分離槽７では、冷却器６で液化された洗浄液等が上面側から流れ込み、底面から水と分離された洗浄液が排出される。なお、水分離槽７から排出される洗浄液はオーバーフロー槽１９に流れ込む。
【００２９】
循環経路９は、図１に示すように、洗浄槽３（具体的には、オーバーフロー槽１９）から排出される洗浄液を仕上洗浄槽１７に向かって送るポンプ３０と、仕上洗浄槽１７に向かって送られる洗浄液をろ過して洗浄液に含まれる塵埃等の不純物を取り除くフィルター３１とを備えている。また、循環経路９は、オーバーフロー槽１９に接続される配管３３と、仕上洗浄槽１７に接続される配管３４とを備えている。
【００３０】
配管３３の一端側はソケット（図示省略）を介してオーバーフロー槽１９の底面に接続され、配管３３の他端側には配管３４の一端側が接続されている。また、配管３４の他端側はソケット（図示省略）を介して仕上洗浄槽１７の底面に接続されている。ポンプ３０は、配管３３の途中に配置され、フィルター３１は、配管３４の途中に配置されている。
【００３１】
ワーク２は、本体部４内に設置されるワーク保持治具（図示省略）に保持された状態で、本体部４内を移動する。すなわち、ワーク保持治具は、本体部４内に設置される移動機構（図示省略）に接続されており、本体部４内において少なくとも上下方向および図１の左右方向へ移動する。
【００３２】
以上のように構成された洗浄装置１では、まず、粗洗浄槽１８の中にワーク２を浸漬して、ワーク２の粗洗浄を行う。具体的には、超音波振動子２１を駆動して、ワーク２の超音波洗浄を行う。その後、ワーク２を仕上洗浄槽１７の中に浸漬して、ワーク２の仕上洗浄を行う。具体的には、超音波振動子２０を駆動して、ワーク２の超音波洗浄を行う。その後、蒸気洗浄空間１６でワーク２の蒸気洗浄を行う。その後、ワーク２を冷却器６の内周側まで移動させて、ワーク２の乾燥を行う。
【００３３】
（洗浄槽の構成）
図２は、図１に示す洗浄槽３の平面図である。
【００３４】
本形態の洗浄槽３は、上述のように、仕上洗浄に使用される仕上洗浄槽１７と粗洗浄に使用される粗洗浄槽１８とオーバーフロー槽１９とを備えている。
【００３５】
仕上洗浄槽１７は、図１、図２に示すように、上面が開口する略直方体の箱状に形成されている。本形態では、端部同士を当接させた状態で本体部４の底面に溶接されて固定された４枚の側板５１によって仕上洗浄槽１７が形成されている。また、当接する側板５１の端部同士は互いに溶接されて固定されている。この側板５１の高さは、本体部４の側面を構成する４枚の側板５２の高さよりも低くなっている。なお、側板５１の下端部の両側（仕上洗浄槽１７の内側と外側との両側）が本体部４の底面に溶接されても良いし、側板５１の下端部の片側のみが本体部４の底面に溶接されても良い。
【００３６】
粗洗浄槽１８は、図１、図２に示すように、上面が開口する略直方体の箱状に形成されている。本形態では、４枚の側板５２のうちの３枚の側板５２と、図２の上下方向において対向配置される２枚の側板５２に端部を当接させた状態で本体部４の底面に溶接されて固定された１枚の側板５３とによって粗洗浄槽１８が形成されている。具体的には、図２の上下方向に配置される２枚の側板５２および図２の右方向に配置される１枚の側板５２と、側板５３とによって粗洗浄槽１８が形成されている。また、側板５３の端部は側板５２に溶接されて固定されている。この側板５３の高さは、側板５１の高さよりも低くなっている。なお、側板５３の下端部の両側（粗洗浄槽１８の内側と外側との両側）が本体部４の底面に溶接されても良いし、側板５３の下端部の片側のみが本体部４の底面に溶接されても良い。
【００３７】
オーバーフロー槽１９は、図１、図２に示すように、上面が開口する細長い略直方体の箱状に形成されている。本形態では、図２の上下方向に配置される２枚の側板５２および図２の左方向に配置される１枚の側板５２と、側板５３とによってオーバーフロー槽１９が形成されている。すなわち、オーバーフロー槽１９は、粗洗浄槽１８に隣接するように配置されている。
【００３８】
上述のように、仕上洗浄槽１７の底面には循環経路９の他端側の一部が接続されており、オーバーフロー槽１９から排出されフィルター３１を通過した洗浄液が仕上洗浄槽１７に供給される。そのため、ワーク２の洗浄時には、仕上洗浄槽１７は洗浄液で満たされている。この洗浄液で満たされた仕上洗浄槽１７にさらに洗浄液が供給されると、洗浄液は仕上洗浄槽１７から溢れ出す。
【００３９】
本形態では、図２に示すように、仕上洗浄槽１７は、粗洗浄槽１８の内部に配置されている。すなわち、仕上洗浄槽１７の周囲を囲むように粗洗浄槽１８が配置されている。そのため、仕上洗浄槽１７から溢れ出す洗浄液は粗洗浄槽１８に流れ込む。具体的には、仕上洗浄槽１７の洗浄液は、４枚の側板５１の上から仕上洗浄槽１７の全周方向に溢れ出して、粗洗浄槽１８に流れ込む。
【００４０】
仕上洗浄槽１７から溢れ出す洗浄液が粗洗浄槽１８に流れ込むため、ワーク２の洗浄時には、粗洗浄槽１８は洗浄液で満たされている。この洗浄液で満たされた粗洗浄槽１８にさらに洗浄液が流れ込むと、洗浄液は粗洗浄槽１８から溢れ出す。上述のように、側板５３の高さは、側板５１の高さよりも低くなっている。そのため、粗洗浄槽１８から溢れ出す洗浄液はオーバーフロー槽１９に流れ込む。具体的には、図２における粗洗浄槽１８の左側面とオーバーフロー槽１９の右側面とが共通の側板５３によって構成されているため、粗洗浄槽１８から溢れ出す洗浄液は側板５３の上から図２の左方向に向かって溢れ出して、オーバーフロー槽１９に流れ込む。すなわち、本形態では、粗洗浄槽１８から１方向に向かって洗浄液が溢れ出す。
【００４１】
また、オーバーフロー槽１９に流れ込んだ洗浄液はその後、上述のように、循環経路９を介して仕上洗浄槽１７に供給される。
【００４２】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、仕上洗浄を行う仕上洗浄槽１７は、洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成されている。そのため、仕上洗浄槽１７には、ワーク２を洗浄した後の塵埃がたまりにくくなる。その結果、本形態では、ワーク２の洗浄度を向上させることが可能になる。
【００４３】
また、本形態では、高い洗浄度が要求されない粗洗浄を行う粗洗浄槽１８は、洗浄液が１方向へ溢れ出すように構成されている。そのため、洗浄槽３の構成を簡素化することができ、洗浄槽３を小型化することが可能になる。特に本形態では、粗洗浄槽１８の内部に仕上洗浄槽１７が配置されているため、図２の左右方向で洗浄槽３を小型化することが可能になる。
【００４４】
本形態では、洗浄装置１は、オーバーフロー槽１９から排出される洗浄液を仕上洗浄槽１７へ供給する循環経路９を備えている。そのため、フィルター３１によって不純物が取り除かれた洗浄液を再利用することができ、ワーク２の洗浄コストを低減することができる。
【００４５】
（洗浄槽の変形例１）
図３は、本発明の実施の形態にかかる洗浄槽３の変形例を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＥ−Ｅ断面の概略を示す断面図である。
【００４６】
変形例１にかかる洗浄槽３は、図３に示すように、仕上洗浄槽１７、粗洗浄槽１８およびオーバーフロー槽１９に加え、粗洗浄と仕上洗浄との間にワーク２の中間洗浄を行う中間洗浄槽６０を備えている。以下、図３に示す洗浄槽３の構成を簡単に説明する。なお、図３では、上述した形態と同一の構成については同一の符号を付している。
【００４７】
中間洗浄槽６０は、上述の仕上洗浄槽１７とほぼ同様に構成されている。すなわち、中間洗浄槽６０は、端部同士を当接させた状態で本体部４の底面に溶接されて固定された４枚の側板７１によって、上面が開口する略直方体の箱状に形成されている。また、当接する側板７１の端部同士は互いに溶接されて固定されている。側板７１の高さは、側板５１の高さよりも低く、かつ、側板５３の高さよりも高くなっている。
【００４８】
図３に示す洗浄槽３では、中間洗浄槽６０は、仕上洗浄槽１７の周囲を囲むように配置されている。すなわち、中間洗浄槽６０の内部に仕上洗浄槽１７が配置されている。そのため、仕上洗浄槽１７から溢れ出す洗浄液は中間洗浄槽６０に流れ込む。具体的には、仕上洗浄槽１７の洗浄液は、４枚の側板５１の上から仕上洗浄槽１７の全周方向に溢れ出して、中間洗浄槽６０に流れ込む。
【００４９】
また、ワーク２の洗浄時に中間洗浄槽６０は洗浄液で満たされているため、中間洗浄槽６０に洗浄液が流れ込むと、中間洗浄槽６０から洗浄液が溢れ出す。ここで、図３に示す洗浄槽３では、中間洗浄槽６０は、粗洗浄槽１８の内部に配置され、側板７１の高さは側板５１の高さよりも低くなっている。そのため、中間洗浄槽６０から溢れ出す洗浄液は粗洗浄槽１８に流れ込む。具体的には、中間洗浄槽６０の洗浄液は、４枚の側板７１の上から中間洗浄槽６０の全周方向に溢れ出して、粗洗浄槽１８に流れ込む。
【００５０】
なお、粗洗浄槽１８からは、上述した形態と同様に洗浄液が１方向へ溢れ出してオーバーフロー槽１９に流れ込む。
【００５１】
図３に示す洗浄槽３では、上述した形態以上の効果を得ることができる。すなわち、図３に示す洗浄槽３では、粗洗浄槽１８での粗洗浄、中間洗浄槽６０での中間洗浄および仕上洗浄槽１７での仕上洗浄を行うことになるため、ワーク２の洗浄品質をさらに上げることが可能になる。
【００５２】
また、図３に示す洗浄槽３では、粗洗浄槽１８の内部に中間洗浄槽６０が配置される構造になっているため、図３の左右方向で洗浄槽３を小型化することが可能になる。また、中間洗浄槽６０は、仕上洗浄槽１７と同様に、洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成されているため、中間洗浄槽６０に塵埃がたまりにくくなる。
【００５３】
（洗浄槽の変形例２）
図４は、本発明の実施の形態にかかる洗浄槽３の他の変形例を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＦ−Ｆ断面の概略を示す断面図である。
【００５４】
図３に示す洗浄槽３では、仕上洗浄槽１７の周囲を囲むように、中間洗浄槽６０が配置されている。この他にもたとえば、図４に示す洗浄槽３のように、中間洗浄槽８０が仕上洗浄槽１７に隣接するように配置されても良い。以下、図４に示す洗浄槽３の構成を簡単に説明する。なお、図４では、上述した形態と同一の構成については同一の符号を付している。また、以下では、図４（Ａ）の上下方向を「前後方向」、図４（Ａ）の左右方向を「左右方向」として、この洗浄槽３の構成を説明する。
【００５５】
図４に示す洗浄槽３では、中間洗浄槽８０は、上面が開口する略直方体の箱状に形成されている。具体的には、前後方向において対向配置される２枚の側板５２に前後端を当接させた状態で本体部４の底面に溶接されて固定された１枚の側板８１と、前後方向において対向配置されるとともに右端を側板８１に当接させた状態で本体部４の底面に溶接されて固定された２枚の側板８２と、２枚の側板８２の左端に前後端を当接させた状態で本体部４の底面に溶接されて固定された１枚の側板８３とによって中間洗浄槽８０は形成されている。すなわち、中間洗浄槽８０は、３方向から粗洗浄槽１８に囲まれている。また、側板８１の前後端は側板５２に溶接され、側板８２の右端は側板８１に溶接され、側板８３の前後端は側板８２の左端に溶接されている。
【００５６】
図４（Ｂ）に示すように、側板８１の高さは、側板５１の高さよりも低くなっている。側板８３の高さは、側板８１の高さよりも低くかつ側板５３の高さよりも高くなっている。また、側板８２の高さは、側板８３の高さとほぼ同じになっている。なお、側板８２の高さは、側板８３の高さより高くても良いし、低くても良い。
【００５７】
図４に示す洗浄槽３では、側板８１は、仕上洗浄槽１７よりも左方に配置されており、この洗浄槽３では、仕上洗浄槽１７の周囲を囲むように、仕上洗浄槽１７用のオーバーフロー槽８９が形成されている。そのため、仕上洗浄槽１７から溢れ出す洗浄液はオーバーフロー槽８９に流れ込む。具体的には、仕上洗浄槽１７の洗浄液は、４枚の側板５１の上から仕上洗浄槽１７の全周方向に溢れ出して、オーバーフロー槽８９に流れ込む。
【００５８】
また、ワーク２の洗浄時にオーバーフロー槽８９は洗浄液で満たされているため、オーバーフロー槽８９に洗浄液が流れ込むと、オーバーフロー槽８９から洗浄液が溢れ出す。具体的には、オーバーフロー槽８９内の洗浄液は、側板８１の上から左方向に向かって溢れ出して、中間洗浄槽８０および粗洗浄槽１８に流れ込む。
【００５９】
さらに、ワーク２の洗浄時に中間洗浄槽８０は洗浄液で満たされているため、中間洗浄槽８０に洗浄液が流れ込むと、中間洗浄槽８０から洗浄液が溢れ出す。具体的には、中間洗浄槽８０内の洗浄液は、前後方向および左方向（すなわち、３方向）に向かって側板８２、８３の上から溢れ出して、粗洗浄槽１８に流れ込む。なお、粗洗浄槽１８からは、上述した形態と同様に洗浄液が１方向へ溢れ出してオーバーフロー槽１９に流れ込む。
【００６０】
図４に示す洗浄槽３でも上述した形態と同様の効果を得ることができる。また、図４に示す洗浄槽３では、中間洗浄槽８０が仕上洗浄槽１７に隣接するように配置されている。したがって、ワーク２の洗浄度を向上させるために、中間洗浄槽８０が使用される場合であっても、前後方向で洗浄槽３を小型化することが可能になる。さらに、中間洗浄槽８０は、洗浄液が３方向へ溢れ出すように構成されているため、中間洗浄槽８０に塵埃がたまりにくくなる。
【００６１】
（他の実施の形態）
上述した形態および変形例は、本発明の好適な形態の一例ではあるが、これに限定されるものではなく本発明の要旨を変更しない範囲において種々変形実施が可能である。
【００６２】
上述した形態および変形例では、仕上洗浄槽１７、粗洗浄槽１８および中間洗浄槽６０、８０は、略直方体の箱状に形成されている。この他にもたとえば、仕上洗浄槽１７、粗洗浄槽１８および／または中間洗浄槽６０、８０は、略立方体状の箱状に形成されても良い。
【００６３】
また、上面から見たときの形状が円形、楕円形、三角形あるいは五角形以上の多角形となるように、仕上洗浄槽１７、粗洗浄槽１８および／または中間洗浄槽６０、８０が形成されても良い。この場合には、仕上洗浄槽１７は、洗浄液が全周方向へ溢れ出すように構成され、粗洗浄槽１８は、洗浄液が所定方向のみに溢れ出すように構成されれば良い。このように構成すれば、上述した形態と同様の効果を得ることができる。
【００６４】
上述した形態では、洗浄槽３は、仕上洗浄槽１７と粗洗浄槽１８との２個の洗浄用の槽を備えている。また、変形例にかかる洗浄槽３は、仕上洗浄槽１７と粗洗浄槽１８と中間洗浄槽６０、８０との３個の洗浄用の槽を備えている。この他にもたとえば、洗浄槽３が備える洗浄用の槽の数は４個以上であっても良い。すなわち、洗浄槽３が第１中間洗浄槽および第２中間洗浄槽等の２個以上の中間洗浄槽を備えていても良い。また、上述した形態および変形例では、洗浄槽３はオーバーフロー槽１９を備えているが、洗浄槽３はオーバーフロー槽１９を備えていなくても良い。
【００６５】
上述した形態では、洗浄液として、フッ素系溶剤、塩素系溶剤あるいは臭素系溶剤が使用される洗浄装置１を例に本発明の実施の形態を説明しているが、本発明の洗浄槽３の構成は、洗浄液として、炭化水素系溶剤、純水系溶剤あるいは純水が使用される洗浄装置にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の実施の形態にかかる洗浄装置の概略構成を説明するための概略図である。
【図２】図１に示す洗浄槽の平面図である。
【図３】本発明の実施の形態にかかる洗浄槽の変形例を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＥ−Ｅ断面の概略を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態にかかる洗浄槽の他の変形例を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＦ−Ｆ断面の概略を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１  洗浄装置
２  ワーク（被洗浄物）
３  洗浄槽
９  循環経路
１７  仕上洗浄槽
１８  粗洗浄槽
１９  オーバーフロー槽
６０、８０  中間洗浄槽
【図１】
2009136754.tif 000003
【図２】
2009136754.tif 000004
【図３】
2009136754.tif 000005
【図４】
2009136754.tif 000006