(57)【要約】【課題】配線が少なくとも配線の厚み分だけ、画像表示装置の表面に形成された帯電防止膜より上方に突出することになる。このことから、画像表示装置の厚みは上述の突出の分だけ厚くなる。よって、液晶表示装置などの画像表示装置の薄型化を十分に図れていないという課題がある。【解決手段】帯電防止膜１９と配線２１とが一体で形成されている。このことにより、配線２１は帯電防止膜１９上に重なることなく形成されている。このことから、配線２１が上基板２の上面３に形成された帯電防止膜１９よりも上方に突出することがない。よって、液晶表示装置１の薄型化ができる。【選択図】図１
2009015198.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下基板と、
前記下基板の上面の一部に形成された上基板と、
前記上基板の上面に形成された帯電防止膜と、
前記下基板の上面の一部を除いた前記下基板の上面に形成された接続電極と、
前記帯電防止膜と前記接続電極とを接続し、前記上基板及び前記下基板の外面に沿って形成された配線とを備え、
前記配線は、前記帯電防止膜と一体で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
前記帯電防止膜と前記配線とが湿式成膜法で形成されており、
前記上基板の上面と前記上基板の側面とで形成された略直角の角を備え、
前記外面と前記配線との間に、前記上基板の上面と前記下基板の上面とを結ぶ傾斜面を有した段差緩和部が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液晶表示装置において、
前記帯電防止膜と前記配線とが湿式成膜法で形成されており、
前記下基板の上面の一部を除いた前記下基板の上面に、所定の間隔を有する複数の電極を備え、
前記複数の電極のうち前記接続電極に最も近い電極と前記接続電極との間隔が、前記所定の間隔よりも長いことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項２に記載の液晶表示装置において、
前記帯電防止膜と前記配線とが湿式成膜法で形成されており、
前記傾斜面と前記配線との間に撥液膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
下基板と、
前記下基板の上面の一部に形成された上基板と、
前記上基板の上面に形成された帯電防止膜と、
前記下基板の上面の一部を除いた前記下基板の上面に形成された接続電極と、
前記帯電防止膜と前記接続電極とを接続し、前記上基板及び前記下基板の外面に沿って形成された配線とを備えている液晶表示装置の製造方法であって、
前記帯電防止膜と前記配線とを、連続して形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記帯電防止膜と前記配線とを、液滴吐出法で形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
表示部を有した電子機器であって、
前記表示部に、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液晶表示装置、または、請求項５または請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法により形成された液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯電防止機能が付与された液晶表示装置、その製造方法及び液晶表示装置を備える電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶パネル（以下、液晶表示装置と呼ぶ。）などの画像表示装置の表面に帯電する静電気による感電事故の防止や、塵埃の付着防止のために帯電防止機能が付与された画像表示装置が開示されている（例えば、特許文献１参照）。画像表示装置の表面には導電膜（以下、帯電防止膜と呼ぶ。）が形成されている。画像表示装置の表示領域外には、パネル接地電極（以下、接続電極と呼ぶ。）が形成されている。そして、帯電防止膜と接続電極とを接続する配線としての導電性粘着材が形成されている。導電性粘着材は、帯電防止膜上及び接続電極上に重なるように形成されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２７０１１８号公報（３頁〜５頁、図１、図３、図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の液晶表示装置などの画像表示装置では、導電性粘着材（配線）が帯電防止膜上及び接続電極上に重なるように形成されている。このことにより、配線が少なくとも配線の厚み分だけ、画像表示装置の表面に形成された帯電防止膜より上方に突出することになる。このことから、画像表示装置の厚みは上述の突出の分だけ厚くなる。よって、液晶表示装置などの画像表示装置の薄型化を十分に図れていないという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる液晶表示装置は、下基板と、前記下基板の上面の一部に形成された上基板と、前記上基板の上面に形成された帯電防止膜と、前記下基板の上面の一部を除いた前記下基板の上面に形成された接続電極と、前記帯電防止膜と前記接続電極とを接続し、前記上基板及び前記下基板の外面に沿って形成された配線とを備え、前記配線は、前記帯電防止膜と一体で形成されていることを特徴とする。
【０００７】
このような構成によれば、帯電防止膜と配線とが一体で形成されている。帯電防止膜と配線とを重ねて導通をとることが不要であることにより、配線は帯電防止膜上に重なることなく形成されている。このことから、配線が上基板の上面に形成された帯電防止膜よりも上方に突出することがない。よって、液晶表示装置の薄型化が可能になる。
【０００８】
また、帯電防止膜と配線とが別体として形成されていないことから、帯電防止膜と配線との間の導通信頼性が高い液晶表示装置とすることが可能である。
【０００９】
［適用例２］上記適用例にかかる液晶表示装置において、前記帯電防止膜と前記配線とが湿式成膜法で形成されており、前記上基板の上面と前記上基板の側面とで形成された略直角の角を備え、前記外面と前記配線との間に、前記上基板の上面と前記下基板の上面とを結ぶ傾斜面を有した段差緩和部が形成されていることが好ましい。
【００１０】
このような構成によれば、帯電防止膜と配線とが湿式成膜法で形成されている。そして外面と配線との間に、上基板の上面と下基板の上面とを結ぶ傾斜面を有した段差緩和部が形成されている。傾斜面を有する段差緩和部が形成されることにより、上基板の上面と上基板の側面とで形成された略直角の角がなくなり、鈍角の角が形成される。略直角の角を含む外面に湿式成膜法で配線形成用の処理液を塗布した場合、処理液が外面の一部である略直角の角を挟んだ２つの平面（上基板の上面と上基板の側面）にも塗布される。塗布された処理液は、表面張力により２つの平面に跨り１つに丸まるより、同じく表面張力により２つの平面それぞれの上で丸まる方が安定し易い。よって、配線が分断され易くなる。しかし、段差緩和部が設けられたことによって形成された鈍角の角を含む外面に湿式成膜法で配線形成用の処理液が塗布され、角が鈍角になることで鈍角の角を挟んだ外面が１つの平面に近づくことから、処理液は２つに分断され難くなる。よって、配線が分断され難くなる。したがって、鈍角の角を含む外面に沿って配線が形成されることから、配線の導通性を向上させることができ、より導通信頼性が高い液晶表示装置とすることが可能である。
【００１１】
［適用例３］上記適用例にかかる液晶表示装置において、前記帯電防止膜と前記配線とが湿式成膜法で形成されており、前記下基板の上面の一部を除いた前記下基板の上面に、所定の間隔を有する複数の電極を備え、前記複数の電極のうち前記接続電極に最も近い電極と前記接続電極との間隔が、前記所定の間隔よりも長いことが好ましい。
【００１２】
このような構成によれば、帯電防止膜と配線とが湿式成膜法で形成されている。帯電防止膜と配線とが乾式成膜法で形成されていないことから、帯電防止膜と配線との形成時に液晶表示装置が真空状態に曝されることがなくなる。このことから、真空状態に曝されることによる液晶表示装置の液晶封入箇所の膨張がなくなり、膨張の圧力が液晶表示装置のシール剤に伝わることによるシール強度の劣化が防止可能である。また、膨張の圧力が液晶表示装置の上基板及び下基板に伝わることによる上基板及び下基板の劣化または破壊が防止可能である。
【００１３】
また、帯電防止膜と配線とが湿式成膜法で形成されている。そして、下基板の上面に所定の間隔を有する複数の電極が形成され、複数の電極のうち接続電極に最も近い電極と接続電極との間隔が、所定の間隔よりも長くなるように形成されている。湿式成膜法では液体を扱う。液体が広がり易い性質を有することから、湿式成膜法で形成された配線は、所望の幅以上に幅広になり易い。間隔を所定の間隔よりも長くなるように形成することから、幅広になった配線と複数の電極との短絡を低減させることが可能である。よって、絶縁信頼性の高い液晶表示装置とすることが可能である。
【００１４】
［適用例４］上記適用例にかかる液晶表示装置において、前記帯電防止膜と前記配線とが湿式成膜法で形成されており、前記傾斜面と前記配線との間に撥液膜が形成されていることが好ましい。
【００１５】
このような構成によれば、帯電防止膜と配線とが湿式成膜法で形成されおり、傾斜面と配線との間に撥液膜が形成されている。このことにより、配線が所望の幅以上の幅広に形成されることを防ぐことができ、配線の形成のために、より多くの占有面積を確保する必要がなくなる。よって、配線、接続電極や複数の電極などの設計の自由度が高められた液晶表示装置とすることが可能である。
【００１６】
［適用例５］本適用例にかかる液晶表示装置の製造方法は、下基板と、前記下基板の上面の一部に形成された上基板と、前記上基板の上面に形成された帯電防止膜と、前記下基板の上面の一部を除いた前記下基板の上面に形成された接続電極と、前記帯電防止膜と前記接続電極とを接続し、前記上基板及び前記下基板の外面に沿って形成された配線とを備えている液晶表示装置の製造方法であって、前記帯電防止膜と前記配線とを、連続して形成することを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、帯電防止膜と配線とを工程を分けて形成するのではなく、１工程内で連続して形成する。このことから、帯電防止膜と配線との形成を、２工程から１工程に短縮することが可能である。よって、省工程、つまり短時間で帯電防止膜と配線とを形成することができ、簡易化された液晶表示装置の製造方法が実現可能である。
【００１８】
［適用例６］上記適用例にかかる液晶表示装置の製造方法において、前記帯電防止膜と前記配線とを、液滴吐出法で形成することが好ましい。
【００１９】
このような構成によれば、帯電防止膜と配線とを液滴吐出法で形成する。液滴吐出法では、成膜すべき箇所のみに処理液を塗布する。この液滴吐出法で形成することによって、帯電防止膜及び配線用の材料である処理液の使用効率が高まる。このことから、低材料コストで帯電防止膜と配線とを形成することができ、製造コストが低減化された液晶表示装置の製造方法が実現可能である。
【００２０】
［適用例７］本適用例にかかる電子機器は、表示部を有した電子機器であって、前記表示部に上記液晶表示装置、または、上記液晶表示装置の製造方法により形成された液晶表示装置を備えることを特徴とする。
【００２１】
このような構成によれば、電子機器の表示部に上記液晶表示装置、または、上記液晶表示装置の製造方法により形成された液晶表示装置を備える。すなわち、電子機器の表示部に、薄型化され、導通信頼性が高く、絶縁信頼性が高く、または配線、接地電極や複数の電極などの設計の自由度が高い液晶表示装置が備えられる。そして、簡易化または製造コストが低減化された液晶表示装置の製造方法で形成された液晶表示装置が備えられる。このことから、電子機器に薄型化、高い導通信頼性、高い絶縁信頼性、高い設計の自由度、または低コスト化を付与することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、実施形態を図面に沿って説明する。以下の説明で参照する図は、図示の便宜上、部材ないし部分の縦横の縮尺が実際とは異なる模式図である。
【００２３】
（第１の実施形態）
図１（ａ）は、第１の実施形態の液晶表示装置を示す平面図であり、図１（ｂ）は、同図（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。図１に示す液晶表示装置１は、横電界方式の液晶表示装置である。図１に示すように、液晶表示装置１は、下基板６、下基板６の上面７の一部に形成された上基板２とシール剤１１とで液晶１３が封じ込められている。上基板２及び下基板６は、ホウケイ酸ガラスで形成されている。下基板６の上面７には液晶駆動用の複数の電極１５が、所定の間隔ｄ１で形成されている。また、下基板６の上面７の一部を除いた下基板６の上面７には接続電極１７が形成され、接続電極１７と接続電極１７に最も近い複数の電極１５との間隔は、間隔ｄ２である。上基板２の上面３と上基板２の側面４とで略直角の角５が形成されている。上基板２の上面３には帯電防止膜１９が形成されている。帯電防止膜１９と接続電極１７とを接続する配線２１は、帯電防止膜１９と一体で形成されている。配線２１は、上基板２の上面３と下基板６の上面７との間の段差部９を含む外面８に沿って形成されている。ここで、間隔ｄ２は所定の間隔ｄ１よりも長くなるように形成されている。間隔ｄ２を所定の間隔ｄ１より長くなるように形成する理由は、後述の湿式成膜法である液滴吐出法に関係する。液滴吐出法は液体を扱う成膜法である。液体が広がり易い性質を有することから、液滴吐出法で形成された配線２１は、所望の幅以上に幅広になり易い。間隔ｄ２を長くすることにより、幅広になった配線２１と複数の電極１５との短絡を低減させる。
【００２４】
図２は、液滴吐出法で用いる液滴吐出装置を示す斜視図である。図２に示す液滴吐出装置１００は、帯電防止膜１９及び配線２１を形成する際に用いられ、電気機械変換方式であるインクジェット法を採用した装置である。液滴吐出装置に関しては様々な種類の装置があるが、インクジェット法を採用した装置が好ましい。インクジェット法は微小液滴の吐出が可能であるため、微細加工に適している。図２に示すように、液滴吐出装置１００は、液滴吐出ヘッド１０１、Ｘ方向駆動軸１０４、Ｙ方向駆動軸１０５、制御装置１０６、ステージ１０７、クリーニング機構１０８、基台１０９とヒータ１１５を備えている。ステージ１０７は、基板Ｐを支持するものであり、基板Ｐを基準位置に固定する図示しない固定機構を備えている。
【００２５】
液滴吐出ヘッド１０１は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とＹ方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド１０１の下面にＸ方向に並んで一定間隔で設けられている。複数の吐出ノズルは、基板Ｐに向かい、略垂直になるように設けられている。液滴吐出ヘッド１０１の吐出ノズルから液体である帯電防止膜１９及び配線２１用処理液（以下、処理液と呼ぶ。）の液滴が、基板Ｐに対して吐出される。
【００２６】
Ｘ方向駆動軸１０４には、Ｘ方向駆動モータ１０２が接続されている。Ｘ方向駆動モータ１０２はステッピングモータなどであり、制御装置１０６からＸ方向の駆動信号が供給されると、Ｘ方向駆動軸１０４を回転させる。Ｘ方向駆動軸１０４が回転すると、液滴吐出ヘッド１０１はＸ方向に移動する。
【００２７】
Ｙ方向駆動軸１０５は、基台１０９に対して動かないように固定されている。ステージ１０７は、Ｙ方向駆動モータ１０３を備えている。Ｙ方向駆動モータ１０３はステッピングモータなどであり、制御装置１０６からＹ方向の駆動信号が供給されると、ステージ１０７をＹ方向に移動する。
【００２８】
制御装置１０６は、液滴吐出ヘッド１０１に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ方向駆動モータ１０２に液滴吐出ヘッド１０１のＸ方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。そして、Ｙ方向駆動モータ１０３にステージ１０７のＹ方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
【００２９】
クリーニング機構１０８は、液滴吐出ヘッド１０１をクリーニングするものである。クリーニング機構１０８には、図示しないＹ方向の駆動モータが備えられている。このＹ方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構１０８は、Ｙ方向駆動軸１０５に沿って移動する。クリーニング機構１０８の移動も制御装置１０６により制御される。
【００３０】
ヒータ１１５は、例えばランプアニールにより基板Ｐを熱処理する手段であり、基板Ｐ上に塗布された処理液に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒータ１１５の電源の投入及び遮断も制御装置１０６により制御される。
【００３１】
液滴吐出装置１００は、液滴吐出ヘッド１０１と基板Ｐを支持するステージ１０７とを相対的に走査しつつ基板Ｐに対して液滴を吐出する。ここで、Ｘ方向を操作方向、Ｘ方向と直行するＹ方向を非走査方向とする。液滴吐出ヘッド１０１の吐出ノズルは、Ｘ方向に一定間隔で並んで設けられている。図２では、液滴吐出ヘッド１０１は基板Ｐの進行方向（Ｙ方向）に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド１０１の角度を調整し、基板Ｐの進行方向に対して交差させるようにしても良い。このようにすれば、Ｘ方向のノズル間のピッチを調整することができる。また、液滴吐出ヘッド１０１はＲ方向、またはＬ方向に回転するように調整しても良い。このようにすれば、吐出ノズルの基板Ｐに向かう角度が任意に調整され、吐出される液滴は任意の角度で基板Ｐに着弾される。また、基板Ｐとノズル面との距離を任意に調整しても良い。
【００３２】
図３は、液滴吐出ヘッドの断面図である。図３に示すように、液滴吐出ヘッド１０１には、処理液を収容する液体室１２１に隣接してピエゾ素子１２２が設置されている。液体室１２１には、処理液を収容するタンクを含む処理液供給系１２３を介して処理液が供給される。ピエゾ素子１２２は駆動回路１２４に接続されており、この駆動回路１２４を介してピエゾ素子１２２に電圧を印加し、ピエゾ素子１２２を変形させる。このことにより、液体室１２１が変形し、ノズル１２５から処理液が吐出される。ここで、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子１２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子１２２の歪み速度が制御される。ピエゾ素子１２２を用いた液滴吐出は、処理液に熱を加えないため、処理液に含まれる材料の組成に影響を与え難いという利点を有する。
【００３３】
帯電防止膜１９及び配線２１の形成について、図１及び図２に沿って説明する。先ず、
下基板６、下基板６の一部に形成された上基板２とシール剤１１とで液晶１３が封じ込められた液晶表示装置１を準備する。この液晶表示装置１は帯電防止膜１９及び配線２１の形成前である。帯電防止膜１９及び配線２１の形成前の液晶表示装置１は、公知の技術に基づき製造されているので、その製造方法の説明を省略する。なお、複数の電極１５の形成工程において、複数の電極１５の形成に活用したフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術で下基板６の上面７の一部を除いた下基板６の上面７に接続電極１７が形成されている。基板Ｐとして、液晶表示装置１を段差部９が図２の右側になるように固定する。次に、液滴吐出装置１００を用いて、上基板２の上面３に帯電防止膜１９を形成すべく、処理液を吐出する。この吐出に続けて、段差部９を含む外面８に沿って帯電防止膜１９から接続電極１７まで配線２１を形成すべく、処理液を吐出する。この連続した吐出で、上基板２の上面３に吐出された処理液と外面８に沿って吐出された処理液とは一体となっている。この後、ヒータ１１５で吐出された処理液を加熱する。これにより、処理液が乾燥され、帯電防止膜１９及び配線２１が一体で形成される。その後、図示しない加熱装置を用い、帯電防止膜１９及び配線２１に熱処理を施す。なお、外面８に含まれる段差部９への処理液の吐出時に、液滴吐出ヘッド１０１をＲ方向に回転するように調整し、段差部９に対しより垂直な方向から液滴を着弾させている。また、液体吐出法で形成された配線２１の幅ｗ１は接続電極１７の幅に対し広幅となっている。
【００３４】
次に、処理液について説明する。処理液は、導電性微粒子を分散媒に分散された溶液である。導電性微粒子として、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）が用いられている。導電性微粒子はＩＴＯなどの金属酸化物であることが好ましい。金属酸化物は透明性を有することから、帯電防止膜１９及び配線２１の形成によって、液晶表示装置１の表示の見易さに悪影響を及ぼす恐れが殆どない。また、導電性微粒子は、分散性を向上させるために表面に有機物を被覆して使うこともできる。導電性微粒子の粒経は１ｎｍ以上、０．１μｍ以下であることが好ましい。０．１μｍより大きいと、ノズル１２５に目詰まりが生じる恐れがある。また、１ｎｍより小さいと、導電性微粒子の表面に有機物を被覆する場合、有機物の体積比が多くなり、得られる帯電防止膜１９及び配線２１の電気抵抗値が高くなる恐れがある。
【００３５】
分散媒は、上記の導電性微粒子を分散できるもので、導電性微粒子同士の凝集を起こさせないものであれば特に制限されない。例えば、水が用いられている。
【００３６】
処理液の表面張力は、例えば０．０２Ｎ／ｍ以上、０．０７Ｎ／ｍ以下の範囲内であることが好ましい。液滴吐出法にて処理液を吐出する際、表面張力が０．０２Ｎ／ｍ未満であると、処理液のノズル面に対する濡れ性が増大するため飛行曲がりが生じ易くなる。また、表面張力が０．０７Ｎ／ｍを超えると、ノズル先端での処理液のメニスカスの形状が安定しないため吐出量及び吐出タイミングの制御が困難になる。
【００３７】
処理液の粘度は、例えば１ｍＰａ・ｓ以上、５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。液滴吐出法にて処理液を液滴として吐出する際、粘度が１ｍＰａ・ｓ未満であると、ノズル周辺部が処理液の流出により汚染され易い。また、粘度が５０ｍＰａ・ｓを超えると、ノズル孔での目詰まり頻度が高くなり、円滑な液滴の吐出が困難になる。
【００３８】
上述の第１の実施形態では、以下の効果が得られる。
（１）帯電防止膜１９と配線２１とが一体で形成されている。このことにより、配線２１は帯電防止膜１９上に重なることなく形成されている。このことから、配線２１が上基板２の上面３に形成された帯電防止膜１９よりも上方に突出することがない。よって、液晶表示装置１の薄型化ができる。
【００３９】
（２）帯電防止膜１９と配線２１とが別体として形成されているのではないことから、帯電防止膜１９と配線２１との間の導通信頼性が高い液晶表示装置１とすることができる。
【００４０】
（３）帯電防止膜１９と配線２１とが湿式成膜法で形成されている。帯電防止膜１９と配線２１とが乾式成膜法で形成されていないことから、帯電防止膜１９と配線２１との形成時に液晶表示装置１が真空状態に曝されることがなくなる。このことから、真空状態に曝されることによる液晶表示装置１の液晶封入箇所の膨張がなくなる。よって、膨張の圧力が液晶表示装置１のシール剤１１に伝わることによるシール強度の劣化が防止できる。また、膨張の圧力が液晶表示装置１の上基板２及び下基板６に伝わることによる上基板２及び下基板６の劣化または破壊が防止できる。
【００４１】
（４）帯電防止膜１９と配線２１とが湿式成膜法で形成されている。そして下基板６の上面７に所定の間隔ｄ１を有する複数の電極１５が形成され、複数の電極１５のうち接続電極１７に最も近い電極と接続電極１７との間隔ｄ２が、所定の間隔ｄ１よりも長くなるように形成されている。湿式成膜法では液体を扱う。液体が広がり易い性質を有することから、湿式成膜法で形成された配線２１は、所望の幅以上に幅広になり易い。間隔ｄ２を所定の間隔ｄ１よりも長くなるように形成することから、幅広になった配線２１と複数の電極１５との短絡を低減させることができる。よって、絶縁信頼性の高い液晶表示装置とすることができる。
【００４２】
（５）帯電防止膜１９及び配線２１とを工程を分けて形成するのではなく、１工程内で連続して形成する。このことから、帯電防止膜１９と配線２１との形成を、２工程から１工程に短縮することができる。よって、省工程、つまり短時間で帯電防止膜１９と配線２１とを形成することができる。したがって、簡易化された液晶表示装置１の製造方法が実現できる。
【００４３】
（６）帯電防止膜１９と配線２１とを液滴吐出法で形成する。液滴吐出法では、成膜すべき箇所のみに処理液を塗布する。この液滴吐出法で形成することによって、帯電防止膜１９及び配線２１用の材料である処理液の使用効率が高まる。このことから、低材料コストで帯電防止膜１９と配線２１とを形成することができる。よって、製造コストが低減化された液晶表示装置１の製造方法が実現できる。
【００４４】
（第２の実施形態）
本実施形態では、上述の実施形態と同じ内容については説明を省き、異なる内容を説明する。図４（ａ）は、第２の実施形態の液晶表示装置を示す平面図であり、図４（ｂ）は、同図（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。図４に示すように、液晶表示装置５０は、外面８に、上基板２の上面３と下基板６の上面７とを結ぶ傾斜面２５を有した段差緩和部２３を備えている。傾斜面２５と配線２１との間に撥液膜２７が形成されている。
【００４５】
液滴吐出装置１００（図２参照）を用いて、上基板２の上面３と下基板６の上面７とを結ぶ傾斜面２５が形成されるように絶縁性の樹脂を段差部９に吐出する。その後、絶縁性の樹脂に紫外線を照射し、または、熱を加え絶縁性の樹脂を硬化し、硬化された絶縁性の樹脂は段差緩和部２３となる。絶縁性の樹脂には、アクリル系樹脂が用いられる。
【００４６】
上基板２の上面３と傾斜面２５とで形成された鈍角の角１０は、１１０°以上、１５０°以下であることが好ましい。鈍角の角１０が１１０°未満では形成される配線２１が分断され易く、液晶表示装置５０の導通信頼性に悪影響を及ぼす。鈍角の角１０が１５０°を超えると、配線２１が長くなるように形成しなければならず、液晶表示装置５０の小型化に悪影響を及ぼす。
【００４７】
次に、傾斜面２５に撥液膜２７を形成する。撥液膜２７はフッ素元素を有する有機物のガスを用いたプラズマ処理法で形成できる。
【００４８】
形成された撥液膜２７に対する処理液の接触角は３０°以上、６０°以下であることが好ましい。接触角が３０°未満では、撥液膜２７に形成される配線２１の幅が所望の幅以上の幅広になり易い。接触角が６０°を超えると、撥液膜２７に着弾した配線２１を形成する処理液の液滴の位置が着弾後に移動し易くなる。このことから、設計位置への配線２１形成に悪影響を及ぼし易くなる。
【００４９】
次に、液滴吐出装置１００を用い、帯電防止膜１９の形成のため上基板２の上面３の上へ処理液を吐出する。この吐出に続けて、帯電防止膜１９と接続電極１７とを接続する配線２１の形成のため、外面８に沿って処理液を吐出する。ここで、処理液を吐出する外面８の一部は、撥液膜２７が形成された傾斜面２５である。
【００５０】
撥液膜２７に形成された配線２１の幅ｗ２は所望の幅となり、幅ｗ１（図１参照）より狭くなるように形成できる。これにより、同一面積の下基板６の上面７にあって間隔ｄ４を間隔ｄ２（図１参照）より短くなるように形成しても、配線２１と複数の電極１５との短絡の恐れはない。間隔ｄ４を短くなるように形成できたことから、所定の間隔ｄ３は所定の間隔ｄ１（図１参照）より長くなるように形成できる。結果として、複数の電極１５に間隔の余裕を持たせることができる。
【００５１】
上述の第２の実施形態では、以下の効果が得られる。
（７）帯電防止膜１９と配線２１とが湿式成膜法で形成されている。そして外面８と配線２１との間に、上基板２の上面３と下基板６の上面７とを結ぶ傾斜面２５を有した段差緩和部２３が形成されている。傾斜面２５を有する段差緩和部２３が形成されることにより、上基板２の上面３と上基板２の側面４とで形成された略直角の角５がなくなり、鈍角の角１０が形成される。略直角の角５を含む外面８に湿式成膜法で配線２１形成用の処理液を塗布した場合、処理液が外面８の一部である略直角の角５を挟んだ２つの平面（上基板２の上面３と上基板２の側面４）にも塗布される。塗布された処理液は、表面張力により２つの平面に跨り１つに丸まるより、同じく表面張力により２つの平面それぞれの上で丸まる方が安定し易い。よって、配線２１が分断され易くなる。しかし、段差緩和部２３が設けられたことによって形成された鈍角の角１０を含む外面８に湿式成膜法で配線２１形成用の処理液が塗布され、角が鈍角になることで鈍角の角１０を挟んだ外面８が１つの平面に近づくことから、処理液は２つに分断され難くなる。よって、配線２１が分断され難くなる。したがって、鈍角の角を含む外面８に沿って配線２１が形成されることから、配線２１の導通性を向上させることができる。よって、より導通信頼性が高い液晶表示装置５０とすることができる。
【００５２】
（８）帯電防止膜１９と配線２１とが湿式成膜法で形成されている。傾斜面２５と配線２１との間に撥液膜２７が形成されている。このことにより、配線２１が所望の幅以上の幅広に形成されることを防げる。このことから、配線２１の形成のために、より多くの占有面積を確保する必要がなくなる。よって、配線２１、接続電極１７や複数の電極１５などの設計の自由度が高められた液晶表示装置５０とすることが可能である。
【００５３】
（第３の実施形態）
本実施形態では、上述の実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器ついて説明する。図５（ａ）は、第３の実施形態の電子機器としての携帯電話を示す斜視図であり、同図（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置を示す斜視図であり、同図（ｃ）は、腕時計型電子機器を示す斜視図である。図５に示すように、携帯電話２００は、表示部２０１に液晶表示装置１または液晶表示装置５０を備えている。また、携帯型情報処理装置３００には、キーボードなどの入力部３０１、情報処理本体３０３、表示部３０２が設けられ、この表示部３０２は液晶表示装置１または液晶表示装置５０を備えている。また、腕時計型電子機器４００は、表示部４０１に液晶表示装置１または液晶表示装置５０を備えている。
【００５４】
上述の第３の実施形態では、以下の効果が得られる。
（９）電子機器としての携帯電話２００の表示部２０１、携帯型情報処理装置３００の表示部３０２、腕時計型電子機器４００の表示部４０１に液晶表示装置１または液晶表示装置５０を備える。すなわち、表示部２０１，３０２，４０１に、薄型化され、導通信頼性が高く、絶縁信頼性が高く、または配線２１、接続電極１７や複数の電極１５などの設計の自由度が高い液晶表示装置１または液晶表示装置５０が備えられる。そして、簡易化されまたは製造コストが低減化された液晶表示装置の製造方法で形成された液晶表示装置１または液晶表示装置５０が備えられる。このことから、携帯電話２００、携帯型情報処理装置３００、腕時計型電子機器４００に薄型化、高い導通信頼性、高い絶縁信頼性、高い設計の自由度、または低コスト化を付与することができる。
【００５５】
なお、上記実施形態は上述の内容に限定されるものではなく、その主旨を逸脱しない範囲において、上述の内容以外に種々の変更を行うことが可能である。上述の実施形態において、ホウケイ酸ガラスで形成された上基板２及び下基板６を例示している。例示のホウケイ酸ガラスに限定されず、上基板２は光透過性に優れる材料で形成された基板であれば良い。よって、ソーダガラス、石英ガラス、サファイヤガラスなどの無機ガラス、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂などのプラスチックを基板に採用しても良い。また、上基板２の表面に、光透過性の誘電体膜などが下地層として形成されていても良い。下基板６は、上述の無機ガラス及びプラスチック基板に加え、Ｓｉウエハ、金属板などで形成された基板を採用しても良い。また、下基板６の表面に、半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されていても良い。
【００５６】
また、基板Ｐとして、１個の液晶表示装置１を例示している。例示の数量に限定されず、複数個の液晶表示装置１であっても良い。複数個の液晶表示装置１は同一方向を向くように整列させておくと良い。
【００５７】
また、液滴吐出装置１００として、電気機械変換方式（インクジェット法）の装置を例示している。例示の方式に限定されず、帯電制御方式、加圧振動方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などの液滴吐出装置を採用しても良い。
【００５８】
また、段差緩和部２３となるべき絶縁性の樹脂にアクリル系樹脂を例示している。例示した樹脂に限定されず、絶縁性の樹脂は、ビニル系、エポキシ系、シリコーン系、イミド系、オレフィン系またはメラミン系、アクリル系またはビニル系とエポキシ系、シリコーン系、イミド系、オレフィン系またはメラミン系との共重合型などの樹脂を採用しても良い。ここで、樹脂には絶縁性の無機物微粒子、有機物微粒子やカップリング剤などを加えても良い。
【００５９】
また、傾斜面２５の断面形状に関し、上基板２の上面３と下基板６の上面７とを結ぶ直線に対する凹形状（図４参照）を例示している。例示の形状に限定されず、凸形状、凹凸形状、上述の直線に平行な直線形状などであっても良い。
【００６０】
また、傾斜面２５への撥液膜２７の形成を例示している。例示に限定されず、撥液膜２７を形成しなくても良い。その場合、傾斜面２５に配線２１が形成される。
【００６１】
また、プラズマ処理法での撥液膜２７の形成を例示している。例示した方法に限定されず、以下の方法を採用しても良い。例えば、フッ素元素を有する有機系のカップリング剤の溶解液を用い、液滴吐出法よって形成する方法である。または、実施形態で述べた絶縁性の樹脂にフッ素系樹脂を混入することによって形成する方法である。
【００６２】
また、導電性微粒子にＩＴＯを例示している。例示した導電性微粒子に限定されず、金、銀、銅、錫などを含有する金属微粒子、ＳｎＯｘ、ＺｎＯｘなどの金属酸化物、及び導電性ポリマーや超導電体の微粒子などを採用しても良い。
【００６３】
また、分散媒に水を例示している。例示した分散媒に限定されず、分散媒は導電性微粒子を分散できるもので、導電性微粒子同士の凝集を起こさせないものであれば特に制限されない。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系化合物、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素化合物、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、及びプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を採用しても良い。
【００６４】
さらに、上記分散媒には、表面張力を調整するため、基板Ｐとの接触角を大きく低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調整剤を微量溶解させても良い。表面張力調整剤は、処理液の基板Ｐへの濡れ性を向上させ、帯電防止膜１９及び配線２１のレベリング性を改良する。そして、帯電防止膜１９及び配線２１の微細な凹凸の発生の防止に役立つ。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】（ａ）は、第１の実施形態の液晶表示装置を示す平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ線断面図。
【図２】液滴吐出法で用いる液滴吐出装置を示す斜視図。
【図３】液滴吐出ヘッドの断面図。
【図４】（ａ）は、第２の実施形態の液晶表示装置を示す平面図、（ｂ）は、（ａ）のＢ−Ｂ線断面図。
【図５】（ａ）は、第３の実施形態の電子機器としての携帯電話を示す斜視図、（ｂ）は、携帯型情報処理装置を示す斜視図、（ｃ）は、腕時計型電子機器を示す斜視図。
【符号の説明】
【００６６】
１，５０…液晶表示装置、２…上基板、３…上基板の上面、４…上基板の側面、５…角、６…下基板、７…下基板の上面、８…外面、１５…複数の電極、１７…接続電極、１９…帯電防止膜、２１…配線、２３…段差緩和部、２５…傾斜面、２７…撥液膜、ｄ１，ｄ３…所定の間隔、ｄ２，ｄ４…間隔、２００…電子機器としての携帯電話、３００…電子機器としての携帯型情報処理装置、４００…電子機器としての腕時計型電子機器、２０１，３０２，４０１…表示部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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