(57)【要約】【課題】装置を大型化することなく、バックアップロールとフィルムとの間のエアの抱き込みを抑制し、面状故障のない良好な塗布面状を得る。【解決手段】  外周面の一部に帯状フィルムを支持して搬送するバックアップローラ１４と、バックアップローラ１４の外周面に対向して近接配置され、該外周面に支持されたウエブ１２上に塗布液を塗布するダイ１６と、ウエブ１２がバックアップローラ１４と接触開始する接触開始位置Ｐの直前に設けられ、バックアップローラ１４とウエブ１２との間に形成されるエア抱き込み空間に抱き込まれるエアをウエブ１２の非塗布面側から排除する減圧装置１８と、を備えた。【選択図】  図１
2009136712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周面の一部に帯状のフィルムを支持して搬送するバックアップローラと、
前記バックアップローラの外周面に対向して近接配置され、該外周面に支持されたフィルム上に塗布液を塗布する塗布手段と、
前記フィルムが前記バックアップローラと接触開始する接触開始位置の直前に設けられ、前記バックアップローラと前記フィルムとの間に形成されるエア抱き込み空間に抱き込まれるエアを前記フィルムの非塗布面側から排除するエア排除手段と、
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記エア排除手段は、前記フィルムの非塗布面側から前記エア抱き込み空間を減圧する減圧装置であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記減圧装置は、
前記接触開始位置の直前の前記バックアップローラの外周面と対向する側に開口部を備え、且つ前記エア抱き込み空間を囲う減圧ボックスと、
前記減圧ボックス内を減圧する減圧手段と、
前記減圧ボックス内のフィルム幅方向の側面に回転自在に支持され、該減圧ボックス内の前記フィルムの非塗布面を支持する支持手段と、
を備えたことを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記減圧ボックス内において、前記フィルムの長手方向と平行に前記フィルムの幅方向を仕切る仕切り部材が設けられ、該仕切り部材により区画された空間ごとに減圧度が設定されたことを特徴とする請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記支持手段と前記バックアップローラとの間において、前記仕切り部材の下端部が前記フィルムの撓みに沿った円弧状に形成されたことを特徴とする請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記減圧ボックス内において、前記仕切り部材が前記フィルムの幅方向両端部に設けられ、且つ前記フィルムの幅方向両端部よりも外側にサイド板が設けられたことを特徴とする請求項４又は５に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記減圧ボックスの前記バックアップローラの外周面と対向する側と該バックアップローラの外周面とのクリアランスを調整するクリアランス調整手段を備えたことを特徴とする請求項３〜６の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記減圧ボックスと前記バックアップローラの外周面とのクリアランスは１００〜５００μｍであることを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記仕切り部材と前記支持手段又は前記フィルムとのクリアランスは５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項４〜８の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記減圧ボックスの開口部よりも前記バックアップローラの回転方向上流側には、前記バックアップローラに同伴するエアを遮断するエア遮断手段を備えたことを特徴とする請求項３〜９の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか１項に記載の塗布装置を用いて、帯状のフィルム上に塗布液を塗布することを特徴とする塗布方法。
【請求項１２】
請求項３〜１０の何れか１項に記載の塗布装置を用いて、帯状のフィルム上に塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記減圧ボックス内の減圧度は０．３〜５ｋＰａであることを特徴とする塗布方法。
【請求項１３】
前記減圧ボックスにおいて、前記フィルムの幅方向両端側よりも幅方向中央側の減圧度を高くすることを特徴とする請求項１２に記載の塗布方法。
【請求項１４】
前記塗布した塗布膜の湿潤膜厚は２５μｍ以下であることを特徴とする請求項１１〜１３の何れか１項に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布方法及び装置に係り、特に、エクストルージョン型ダイコータを用いて、写真感光乳化剤、磁性液、反射防止や防眩性等を付与する塗布液等を帯状フィルムに塗布することにより高機能性積層膜を製造する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、塗布装置として、フィルムをバックアップローラの外周面に支持させて走行させながら、そのバックアップローラに対向して配置したダイの吐出スリットから塗布液を吐出してフィルムに塗布する装置が知られている。
【０００３】
ところが、このような塗布装置では、バックアップローラとフィルムとの間に空気を抱き込む等により、バックアップローラの外周面上のフィルムに皺・たるみ等が生じるという問題があった。このような皺・たるみ等が生じると、ダイによる塗布を行う際に塗布むらを生じ、塗布面の面質不良の原因となる。
【０００４】
この対策として、例えば特許文献１では、バックアップローラ上の金属ウエブを押圧する補助ローラを設けることにより、ウエブに同伴するエアの巻き込みを物理的に防止する方法が提案されている。
【０００５】
特許文献２では、バックアップローラとウエブとの間に空気を抱き込まないようにするために、バックアップローラと対向するダイの吐出スリット上流側にエアを吹付けるとともに、該吹きつけたエアを排気する方法が提案されている。
【０００６】
特許文献３では、コータヘッドに対向するバックアップローラの表面に凸凹パターンを形成し、該凹部が吸引口となるようにその内側空間にフィルムを密着させるための空気吸引機構を設けた塗布装置が開示されている。
【特許文献１】特開平１０−５６６４号公報
【特許文献２】特開２００４−１６０２７８号公報
【特許文献３】特開２００５−４６８０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献２の方法では、高圧エアを吹付ける給気機構だけでなく、吹付けたエアが塗布部に届かないようにするための排気機構が必要となるため、装置が大型化するという問題があった。
【０００８】
また、特許文献１の方法では、フィルムの塗布面に直接補助ローラを接触させるため、フィルムの塗布面に異物等を付着させ、異物故障を生じる虞があった。
【０００９】
また、特許文献３の方法では、バックアップローラの表面に凸凹が形成されているため、均一に塗布しようとすると面状故障が生じる虞があった。
【００１０】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、装置を大型化することなく、バックアップローラとフィルムとの間のエアの抱き込みを抑制し、面状故障のない良好な塗布面状を得ることができる塗布方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、外周面の一部に帯状フィルムを支持して搬送するバックアップローラと、前記バックアップローラの外周面に対向して近接配置され、該外周面に支持されたフィルム上に塗布液を塗布する塗布手段と、前記フィルムが前記バックアップローラと接触開始する接触開始位置の直前に設けられ、前記バックアップローラと前記フィルムとの間に形成されるエア抱き込み空間に抱き込まれるエアを前記フィルムの非塗布面側から排除するエア排除手段と、を備えたことを特徴とする塗布装置を提供する。
【００１２】
請求項１によれば、フィルムがバックアップローラと接触開始する接触開始位置の直前に、フィルムの非塗布面側からバックアップローラとフィルムとの間に形成されるエア抱き込み空間に抱き込まれる同伴エアを排除するエア排除手段を設ける。これにより、フィルムの塗布面側に異物等を付着させる等の影響を与えることなく、接触開始位置の直前のエア抱き込み空間にエアが抱き込まれるのを防止できる。
【００１３】
請求項１において、「接触開始位置の直前」とは、少なくとも接触開始位置Ｐの近傍のバックアップローラの外周面に近い範囲を含む。エア排除手段としては、例えば、エアを減圧除去する機構、バックアップローラの外周面とローラ等を物理的に接触させてエアの流入を遮断する機構等が含まれる。また、塗布手段としては、バックアップローラの外周面に支持されたフィルムと近接して塗布液を塗布するスリットダイ方式やスライドビード方式等の塗布機が含まれる。
【００１４】
請求項２は請求項１において、前記エア排除手段は、前記フィルムの非塗布面側から前記エア抱き込み空間を減圧する減圧装置であることを特徴とする。
【００１５】
請求項２によれば、上記エア排除手段として、エア抱き込み空間をフィルムの非塗布面側から減圧する減圧装置を採用する。これにより、バックアップローラの表面やフィルムの非塗布面に対して異物等を付着又は飛散させることなく、抱き込まれるエアを排除できる。
【００１６】
請求項３は請求項２において、前記減圧装置は、前記接触開始位置の直前の前記バックアップローラの外周面と対向する側に開口部を備え、且つ前記エア抱き込み空間を囲う減圧ボックスと、前記減圧ボックス内を減圧する減圧手段と、前記減圧ボックス内のフィルム幅方向の側面に回転自在に支持され、該減圧ボックス内の前記フィルムの非塗布面を支持する支持手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１７】
請求項３によれば、減圧ボックスにおいて、バックアップローラの外周面とフィルムとが接触開始する接触開始位置の直前のエアを減圧除去できる。また、減圧ボックス内ではフィルムの非塗布面を支持手段で支持するので、高い減圧度でもフィルムを振動させることなく、高速且つ安定に搬送できる。これにより、フィルムのハンドリング性を損なうことなく、バックアップローラとフィルムとの間のエアの抱き込みを防止できる。
【００１８】
なお、支持手段としては、例えば、フィルムの搬送を妨げないようにする上で回転自在な支持ローラが好ましい。
【００１９】
請求項４は請求項３において、前記減圧ボックス内において、前記フィルムの長手方向と平行に前記フィルムの幅方向を仕切る仕切り部材が設けられ、該仕切り部材により区画された空間ごとに減圧度が設定されたことを特徴とする。
【００２０】
請求項４によれば、フィルム幅方向を仕切り部材により仕切ることにより、各空間ごとに減圧度を設定することができる。これにより、エアが抱きこまれ易いフィルム位置に応じて、減圧度を選択的に変えることができる。
【００２１】
請求項５は請求項４において、前記支持手段と前記バックアップローラとの間において、前記仕切り部材の下端部が前記フィルムの撓みに沿った円弧状に形成されたことを特徴とする。
【００２２】
減圧ボックス内では、減圧雰囲気により支持手段とバックアップローラとの間においてフィルムが撓み易い。請求項５によれば、仕切り部材をフィルムの撓みに応じた形状とすることで、フィルムの表面が仕切り部材と接触して損傷するのを防止できる。この円弧状の曲率半径は、フィルムの撓みに応じて設定されることが好ましく、例えば減圧度、フィルムのテンション、搬送速度、フィルムの種類（例えば、剛性の違い）等に応じて適宜設定されることが好ましい。
【００２３】
請求項６は請求項４又は５において、前記減圧ボックス内において、前記仕切部材が前記フィルムの幅方向両端部に設けられ、且つ前記フィルムの幅方向両端部よりも外側にサイド板が設けられたことを特徴とする。
【００２４】
請求項６によれば、仕切り部材だけではフィルムの非塗布面との隙間を充分にシールできない場合でも、更にフィルムの外側にサイド板を設ける。これにより、フィルムの減圧空間の機密性を向上させることができる。
【００２５】
請求項７は請求項３〜６の何れか１項において、前記減圧ボックスの前記バックアップローラの外周面と対向する側と該バックアップローラの外周面とのクリアランスを調整するクリアランス調整手段を備えたことを特徴とする。
【００２６】
請求項７によれば、減圧ボックスに、バックアップローラの外周面とのクリアランスを調整するクリアランス調整手段を設けたので、バックアップローラの外周面との間の減圧空間の機密性を調整でき、減圧度を調整し易くすることができる。
【００２７】
請求項８は請求項７において、前記減圧ボックスと前記バックアップローラの外周面とのクリアランスは１００〜５００μｍであることを特徴とする。
【００２８】
請求項８によれば、バックアップローラの外周面と該外周面と対向する減圧機構とのクリアランスを上記範囲とすることで、減圧空間の機密性を高めることができる。これにより、少ないエネルギーでエア抱き込み空間に抱き込まれるエアを減圧除去できる。
【００２９】
請求項９は請求項４〜８の何れか１項において、前記仕切り部材と前記支持手段又は前記フィルムとのクリアランスは５ｍｍ以下であることを特徴とする。
【００３０】
請求項９によれば、仕切り部材と支持手段とのクリアランスを上記範囲とすることで、減圧ボックス本体内の中でもフィルム幅方向中央側の減圧度を高めることができる。これにより、少ないエア吸引量でバックアップローラとフィルムとの間に抱き込まれるエアを減圧除去できる。
【００３１】
請求項１０は請求項３〜９の何れか１項において、前記減圧ボックスの開口部よりも前記バックアップローラの回転方向上流側には、前記バックアップローラに同伴するエアを遮断するエア遮断手段を備えたことを特徴とする。
【００３２】
請求項１０によれば、減圧ボックスの開口部よりもバックアップローラの回転方向上流側に、バックアップローラに同伴するエアを遮断する遮断手段を設ける。これにより、減圧装置でのエア吸引量を少なくすることができる。このような遮断手段としては、例えば、バックアップローラの外周面に対向して近接配置されたラビリンス構造やバックアップローラの外周面を押圧する押圧ローラ等が挙げられる。
【００３３】
本発明の請求項１１は前記目的を達成するために、請求項１〜１０の何れか１項に記載の塗布装置を用いて、帯状のフィルム上に塗布液を塗布することを特徴とする塗布方法を提供する。
【００３４】
このような塗布液としては、例えば、液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液等が含まれる。
【００３５】
本発明の請求項１２は前記目的を達成するために、請求項３〜１０の何れか１項に記載の塗布装置を用いて、帯状のフィルム上に塗布液を塗布する塗布方法であって、前記減圧ボックス内の減圧度は０．３〜５ｋＰａであることを特徴とする塗布方法を提供する。
【００３６】
請求項１２によれば、減圧度を０．３〜５ｋＰａにするので、高い減圧度によって抱き込みエアを確実に除去できる。また、減圧度は０．３〜３ｋＰａにすることが好ましく、０．３〜２ｋＰａにすることがより好ましく、０．３〜１ｋＰａにすることが更に好ましい。
【００３７】
請求項１３は請求項１２において、前記減圧ボックスにおいて、前記フィルムの幅方向両端側よりも幅方向中央側の減圧度を高くすることを特徴とする。
【００３８】
請求項１３によれば、フィルムの幅方向両端側よりも幅方向中央側の減圧度を高くするので、抱き込まれ易い幅方向中央側のエアの抱き込みを確実に防止できる。
【００３９】
請求項１４は請求項１１〜１３の何れか１項において、前記塗布膜の湿潤膜厚は２５μｍ以下であることを特徴とする。
【００４０】
このように、高い塗布精度が要求される薄層塗布においても、エアの抱き込みによるフィルムの皺やたるみ等が生じるのを抑制し、精度よく塗布できる。
【発明の効果】
【００４１】
本発明によれば、装置を大型化することなく、バックアップローラとフィルムとの間のエアの抱き込みを抑制し、面状故障のない良好な塗布面状を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下、添付図面に従って本発明に係る塗布方法及び装置の好ましい実施の形態について説明する。
【００４３】
まず、本発明に係る減圧装置を組み込んだ塗布装置の構成について説明する。
【００４４】
図１は、本発明に係る減圧装置を組み込んだ塗布装置の概略構成の一例を示す概略側面図である。図２は、本実施の形態におけるエア抱き込み空間を説明する説明図である。
【００４５】
図１に示すように、塗布装置１０は、主として、帯状被塗布物のフィルム１２を支持搬送するバックアップローラ１４と、該バックアップローラ１４に支持されたフィルム１２と対向して近接配置され、吐出スリットから吐出した塗布液をフィルム１２に塗布するダイ１６（塗布手段）と、バックアップローラ１４とフィルム１２との接触開始位置Ｐの直前において、バックアップローラ１４とフィルム１２との間のエア抱き込み空間に抱き込まれるエアを減圧除去する減圧装置１８（エア排除手段）と、より構成されている。なお、同図において、フィルム１２の塗布面は下側であり、非塗布面は上側である。
【００４６】
ダイ１６の内部には、ダイ１６の幅方向に延びるポケット２０と、該ポケット２０と連通し、塗布液を流通させるスリット２２とが形成されている。ポケット２０は、図示しない塗布液供給機構と接続されている。
【００４７】
減圧装置１８は、接触開始位置Ｐの直前のバックアップローラ１４の外周面とフィルム１２との間を囲う減圧ボックス２８を備えている。減圧ボックス２８の上記バックアップローラ１４の外周面に対向する側には、抱き込まれるエアを吸引除去するための開口部３０（詳細は図２参照）が形成されている。
【００４８】
ここで、接触開始位置Ｐの直前とは、少なくとも接触開始位置Ｐの近傍のバックアップローラの外周面に近い範囲を含む。
【００４９】
このような構成にすることで、フィルム１２が減圧ボックス２８内を通過する過程で、接触開始位置Ｐの直前のバックアップローラ１４とフィルム１２との間に形成されるエア抱き込み空間に抱き込まれるエアが減圧除去される。そして、ダイ１６によりバックアップローラ１４上のフィルム１２に塗布液が塗布される。なお、本実施の形態においては、エア抱き込み空間としては、例えば、図２においてフィルム１２からバックアップローラ１４の円周上へ引いた接線Ｌと接触開始位置Ｐとの間の空間（斜線部）で示される範囲とするのが好ましい。
【００５０】
図３は、本実施の形態における減圧装置１８の構成を示す斜視図である。図４は、図３の減圧装置１８の内部構成を説明する断面図である。なお、図３は、バックアップローラ１４に対向する側からみた斜視図である。
【００５１】
図３に示すように、減圧装置１８は、接触開始位置Ｐの直前のバックアップローラ１４の外周面とフィルム１２の非塗布面側との間を囲う減圧ボックス２８の内部に、フィルム１２の上面（非塗布面側）を支持する支持ローラ３２（支持手段）と、減圧ボックス２８内をフィルム搬送方向に仕切る一対の仕切板３４、３４（仕切り部材）と、が設けられている。減圧ボックス２８の幅方向中央部には、後述の図４に示されるように、減圧ブロア３７（減圧手段）と接続される吸引配管３６が連通している。使用される減圧手段はこれに限定されるものではなく、真空ポンプ等を用いることもできる。以下において、フィルム１２の上面は非塗布面側を示す。
【００５２】
支持ローラ３２は、減圧ボックス２８のフィルム幅方向の内壁面に回転自在に支持されている。そして、フィルム１２が減圧ボックス２８内の減圧雰囲気により振動しないように、支持ローラ３２がフィルム１２の上面を抑えることにより支持する。なお、減圧ボックス２８内における支持ローラ３２の設置数、設置態様は、図３の態様に限定されることはなく、減圧度が低い場合は設けなくてもよいし、減圧度や搬送速度等の各種条件に応じて２本以上設けてもよい。
【００５３】
仕切板３４は、減圧ボックス２８内の上面からフィルム１２の幅方向両端部に垂設されている。これにより、一対の仕切板３４の間で減圧空間の幅方向が規定される。なお、仕切板３４の周辺の構成については後で詳細に説明する。
【００５４】
図４に示すように、減圧ボックス２８の開口部３０（バックアップローラ１４の外周面と対向する側）上部には、バックアップローラ１４の外周面とのクリアランスＣ１を調整するためのクリアランス調整板３８と、同伴エアを侵入し難くするためのラビリンス機構４０（遮断手段）とが設けられている。
【００５５】
クリアランス調整板３８は、減圧ボックス２８本体上面に設けられており、例えば図４では、左右方向に進退調整可能に構成されている。バックアップローラ１４の外周面とのクリアランスＣ１は、減圧ボックス２８内の機密性を確保する上で、１００〜５００μｍであることが好ましく、２００〜４００μｍであることがより好ましく、２００〜３００μｍであることが更に好ましい。
【００５６】
また、減圧ボックス２８本体上面のクリアランス調整板３８だけでなく、減圧ボックス２８本体の幅方向側面のうちバックアップローラ１４と対向する部分全体に渡ってクリアランスを調整できるように構成してもよい。このような機構としては、減圧ボックス２８本体の幅方向側面のうちバックアップローラ１４と対向する部分を別部材で構成し、該別部材を左右方向に進退調整可能に構成することができる。
【００５７】
ラビリンス機構４０は、開口部３０上部において、同伴エアの侵入を防ぐように機能する。
【００５８】
これにより、バックアップローラ１４の回転に伴う同伴エアは、クリアランス調整板３８及びラビリンス機構４０により開口部３０に流入し難くなり、吸引減圧すべきエア量を少なくすることができる。なお、本実施の形態では、クリアランス調整板３８とラビリンス機構４０の両方を設けたが、クリアランス調整板３８とラビリンス機構４０のうちいずれか一方のみでもよい。
【００５９】
減圧ボックス２８の搬入口４２側には、フィルム１２の搬送を補助する補助ローラ４４が設けられている。搬入口４２は、減圧ボックス２８内の減圧度を維持するために、フィルム１２の搬入に必要十分な大きさに形成されることが好ましい。
【００６０】
減圧ボックス２８内の減圧度を調整機構としては、例えば、圧力計４６が減圧ボックス２８内に設置され、減圧ブロア３７の回転数を制御する制御部４８に出力できるように構成される。これにより、圧力計４６の測定結果に基づいて、制御部４８が減圧ブロア３７の回転数を制御し、これにより減圧ボックス２８内を所定の減圧度となるように調整する。減圧ボックス２８内の減圧度は、０．３〜３ｋＰａにすることが好ましく、０．３〜２ｋＰａにすることがより好ましく、０．３〜１ｋＰａにすることが更に好ましい。
【００６１】
図５は、仕切板３４周辺の構成を具体的に説明する説明図である。このうち、図５（Ａ）は、支持ローラ３２よりもバックアップローラ１４側における仕切板３４の周辺を、フィルム１２の下面側からみた拡大斜視図であり、図５（Ｂ）は図５（Ａ）においてフィルム１２の搬送方向上流側からみた拡大断面図である。
【００６２】
図５（Ａ）に示すように、仕切板３４は、フィルム１２の上面と対向する下端面が円弧状に形成された仕切板本体３４Ａと、支持ローラ３２の周囲を部分的にシールするためのシール部材３４Ｂとが面一で積層されている。さらに、フィルム１２両端部よりも幅方向外側には、サイド板３５が配されている。
【００６３】
仕切板本体３４Ａは、フィルム１２の上面に対する高さ方向の隙間をできるだけ小さくし、機密性を向上させる機能を有する。仕切板本体３４Ａは、支持ローラ３２とバックアップローラ１４との間において、その下端面が減圧によって持ち上げられるフィルム１２の変形に沿った形状（例えば、曲率半径Ｒの円弧状）に設定されている。仕切板本体３４Ａの下端面とフィルム１２の上面とのクリアランスｄ（図５（Ｂ）参照）は、５ｍｍ以下が好ましく、２ｍｍ程度がより好ましい。仕切板本体３４Ａの下端面がフィルム１２の端部に掛かる量Ｌは、１〜１５ｍｍ程度とすることが好ましい。すなわち、フィルム１２の端部に掛かる量が１ｍｍ未満であると、フィルム１２が蛇行して減圧度が低下することがあり、１５ｍｍを超えるとフィルム１２がサイド板３５に接触し、フィルム１２を損傷することがあるためである。
【００６４】
フィルム１２の撓み量は、例えば、減圧度、フィルム１２のテンション、搬送速度、フィルム１２の種類（例えば、剛性の違い）等によって変わるため、仕切板本体３４Ａの下端面の形状はフィルム１２の撓みに応じて適宜設定されることが好ましい。なお、フィルム１２の撓みがほとんど無視できるレベルであれば、仕切板本体３４Ａの下端面を円弧状にする必要はなく、直線状にしてもよい。
【００６５】
シール部材３４Ｂは、支持ローラ３２の周面との隙間をできるだけ小さくし、機密性を向上させる機能を有する。このため、シール部材３４Ｂと支持ローラ３２との間のクリアランスは、上記クリアランスｄと同様に５ｍｍ以下であることが好ましく、２ｍｍ程度であることがより好ましい。
【００６６】
サイド板３５は、仕切板本体３４Ａによってフィルム１２表面との間の隙間を十分小さくして機密性が得られる場合は、特に設けなくてもよい。しかし、減圧度によっては、仕切板本体３４Ａの下端面とフィルム１２表面との間の隙間が大きくなり、機密性を上げられない場合がある。このような場合は、サイド板３５を設置し、フィルム１２の幅方向両側をシールすることで減圧空間の機密性を上げることができる。サイド板３５とフィルム１２の端部とのクリアランスＤは、５ｍｍ以下が好ましく、２ｍｍ程度がより好ましい。
【００６７】
サイド板３５、仕切板本体３４Ａ及びシール部材３４Ｂは、使用されるフィルム１２の種類（例えば、剛性の違い等）や幅、厚さ等に応じて適宜調整可能に構成されることが好ましい。
【００６８】
これにより、減圧ボックス２８内の減圧空間の機密性を向上し、フィルム１２近傍の減圧度を効率よく高めることができる。
【００６９】
次に、本実施の形態における塗布装置１０の作用について図４を参照して説明する。
【００７０】
フィルム１２は、バックアップローラ１４との接触開始位置Ｐに差しかかる直前に、減圧装置１８の減圧ボックス２８内を通過する。この減圧ボックス２８内では、バックアップローラ１４の外周面とフィルム１２の非塗布面との間に抱き込まれるエアが吸引減圧される。
【００７１】
このとき、一対の仕切板３４で挟まれた空間を減圧するので、減圧ボックス２８内の全体を減圧する必要がない。このため、エアの抱き込みを防止するのに十分な減圧度に設定することができる。また、フィルム１２が支持ローラ３２により支持されるため、高い減圧度でもフィルム１２や減圧装置１８本体が振動することがなく、高速且つ安定に搬送できる。
【００７２】
さらに、支持ローラ３２によってフィルム１２が安定に保持されるため、ダイ１６による塗布位置においてフィルム１２が蛇行するのを抑制できる。また、フィルム１２の非塗布面側を吸引減圧するので、フィルム１２の非塗布面側に付着していた異物等を除去することもできる。
【００７３】
このように、接触開始位置Ｐの直前にバックアップローラ１４とフィルム１２との間に抱き込まれるエアが除去されるので、フィルム１２は、皺等を生じることなくバックアップローラ１４の外周面に均一に支持される。そして、ダイ１６により、バックアップローラ１４上のフィルム１２に塗布液が塗布される。これにより、面状故障のない均一且つ良好な塗布を行うことができる。
【００７４】
さらに、バックアップローラ１４の回転に伴う同伴エアは、減圧装置１８のバックアップローラ１４に対向する側に設けられたクリアランス調整板３８、及びラビリンス機構４０によって遮断される。このため、開口部３０に流入する同伴エアが減少するので、減圧ボックス２８でのエア吸引量を低減できる。
【００７５】
図６は、本実施の形態における減圧装置１８の別の態様を示す斜視図である。
【００７６】
図６に示される減圧装置１８は、一対の仕切板３４の内側に、更に一対の仕切板５０（仕切り部材）を設け、各仕切板５０と仕切板３４との間に形成される空間を個別に減圧するための吸引配管５２、５２をそれぞれ設けた以外は図３とほぼ同様に構成されている。
【００７７】
一対の仕切板５０は、減圧ボックス２８の上面から垂設されており、該一対の仕切板５０の間には、減圧ボックス２８の幅方向中央部に設けられた吸引配管３６が連通している。また、吸引配管５２には、吸引配管３６と同様に、減圧ブロアの回転数を制御する図示しない制御部と接続されている。
【００７８】
仕切板５０の構成としては、上記仕切板３４と同様に構成されている。また、一対の仕切板５０同士の間隔Ｃ２は、抱き込みエアの幅方向の分布状態に応じて適宜設定されることが好ましい。
【００７９】
なお、減圧度の調整機構については、上述したのと同様であるため、その詳細な説明は省略する。
【００８０】
このような構成にすることで、減圧ボックス２８内の減圧度を自由に設定でき、フィルム幅方向に減圧度分布を形成することができる。好ましい例としては、減圧ボックス２８内の幅方向中央側の減圧度が幅方向両端側よりも高くなるように設定する。これにより、抱き込まれ易いフィルム幅方向中央側のエアを確実に除去できる。
【００８１】
仕切板５０の下端部とフィルム１２又は支持ローラ３２との間のクリアランスも、上述した仕切板３４におけるクリアランスｄと同様に設定されることが好ましい。すなわち、仕切板５０の下端部とフィルム１２又は支持ローラ３２との間のクリアランスは５ｍｍ以下にすることが好ましく、２ｍｍ程度にすることがより好ましい。これにより、減圧ボックス２８内の幅方向中央側の機密性を向上し、減圧度を高めることができる。また、仕切板５０の設置数や設置パターンは、必要に応じて変更することができる。
【００８２】
図７は、本実施の形態における減圧装置１８のさらに別の態様を示す断面図である。
【００８３】
図７に示すように、減圧ボックス２８の開口部３０の上部にラビリンス機構４０を設ける代わりに、バックアップローラ１４の外周面を直接押圧する押圧ローラ５４を設けてもよい。なお、同図では、図４と同一の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。また、減圧機構については、図４と同様の機構を採用することができるので、図示及び説明は省略する。
【００８４】
このように、開口部３０の直前において、バックアップローラ１４の回転に伴う同伴エアが流入するのを物理的に遮断するので、減圧ボックス２８におけるエア吸引量を少なくすることができる。したがって、装置を大型化することなく、効率よくエアを排除できる。なお、押圧ローラ５４は複数設けてもよい。
【００８５】
次に、本実施の形態における塗布装置の応用例について説明する。
【００８６】
図８は、本実施の形態における塗布装置１０を組み込んだ光学フィルムの製造ライン８０を説明する説明図である。
【００８７】
光学機能フィルムの製造ライン８０は、図８に示されるように、送出機８２から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるフィルム１２が送り出される。次に、フィルム１２はガイドローラ８４によってガイドされてラビング処理装置８６に送りこまれる。そして、フィルム１２のポリマー層には、ラビングローラ８８によりラビング処理が施される。ラビングローラ８８の下流には除塵機９０が設けられており、フィルム１２の表面に付着した塵を取り除く。除塵機９０の下流には、本発明に係る減圧装置１８を組み込んだ塗布装置１０が設けられている。そして、塗布装置１０において、ディスコネマティック液晶を含む塗布液がフィルム１２に塗布される。塗布装置１０の下流には、乾燥ゾーン９２、加熱ゾーン９４が順次設けられており、フィルム１２上の塗布液が乾燥・加熱されて液晶層が形成される。更に、この下流には紫外線ランプ９６が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成する。これにより、光学補償フィルムが製造され、該光学補償フィルムは巻取機９８に巻き取られる。
【００８８】
このように、本発明に係る減圧装置１８を組み込んだ塗布装置１０を、光学補償フィルムの液晶層の塗布（ディスコネマティック液晶を含む塗布液の塗布）に用いるので、面状故障のない良好な品質のフィルムを製造できる。
【００８９】
フィルム１２としては、公知の各種フィルムを用いることができる。一般的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィルム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした各種積層紙、アルミニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたもの、或いはこれらを積層した各種複合材料が含まれる。
【００９０】
フィルム１２に塗布する塗布液としては、特に限定はないが、光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、防眩フィルム塗布液、磁性塗布液、写真感光性塗布液、カラーフィルター用顔料液、表面保護、帯電防止或いは滑性用塗布液等が挙げられる。
【００９１】
以上、本発明に係る塗布方法及び装置の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００９２】
たとえば、本実施の形態では、エア排除手段として減圧装置１８を用いる例を示したが、減圧装置１８の代わりに、例えば、押圧ローラやラビリンス構造等の遮蔽機構をフィルム１２の非塗布面側とバックアップローラの外周面との間に設けてもよい。
【００９３】
また、本実施の形態では、減圧ボックス２８内に仕切板３４及びサイド板３５を設ける例で説明したが、これに限定されず、フィルム１２の両端部と減圧ボックス２８の幅方向側面との隙間が十分小さい場合は設けなくてもよい。
【００９４】
また、本実施の形態において、減圧度が高くできるように減圧ボックス２８内の雰囲気を置換することも有効である。このような気体としては、例えば、窒素が挙げられる。
【００９５】
また、本実施の形態では、減圧装置１８を塗布装置１０に組み込んだ例について示したが、これに限らず、例えば、フィルムを巻取る際にも適用できる。この場合、フィルムの巻きズレをなくし、巻き品質を向上させることができる。
【００９６】
本発明は、バックアップローラにフィルムを支持させながら塗布する塗布方法に適用でき、例えば、スロットダイを用いる塗布、スライドビード塗布等に適用できる。
【００９７】
また、本発明は、湿潤膜厚が２５μｍ以下の薄膜塗布を行う場合に特に有効である。また、単層の１回塗布のみならず、重層逐次塗布に対しても各層の湿潤膜厚が２５μｍ以下の薄膜塗布の場合にも有効である。
【実施例】
【００９８】
以下、実施例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明するが、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
（実施例１）
本実施例では、図８の光学補償シート製造ライン８０にて、本発明に係る塗布方法を実施した。なお、減圧装置１８としては、図３に示すものを使用した。
【００９９】
まず、塗布実施の前に、塗布位置における減圧装置１８とバックアップローラ１４の外周面の間のクリアランスＣ１を３００μｍに設定した。
【０１００】
フィルム１２として厚さ１００μｍのセルローストリアセテート（商品名；フジタック、富士フイルム（株）製）を用いた。塗布液を塗布する前に、フィルム１２の塗布面に対し、長鎖アルキル変性ポバール（商品名；ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の２重量％溶液を２５ｍｌ／ｍ２で塗布し、６０℃で１分間乾燥して配向膜用樹脂層を形成した。配向膜用樹脂層を予め形成したフィルム１２を送り、配向膜用樹脂層の表面にラビング処理を施して配向膜を形成し、そのまま塗布工程へ搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、配向膜用樹脂層に対する押しつけ圧力を９．８×１０−３Ｐａに設定した。そして、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた配向膜上に、本実施の形態における塗布装置１０を使用して塗布液を塗布した。このとき、湿潤膜厚が５μｍとなるように塗布速度６０ｍ／分で塗布した。また、減圧装置１８の減圧ボックス２８内の減圧度（一対の仕切板３４及びサイド板３５で区画された部分の減圧度）を０．５ｋＰａとした。
【０１０１】
塗布液としては、下記化学式に示されるディスコティック化合物ＴＥ−（１）とＴＥ−（２）の重量比率４：１の混合物に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を１重量％添加した混合物を、４０重量％メチルエチルケトン溶液とした、液晶性化合物を含む溶液を用いた。塗布液を塗布したフィルム１２を、１００℃に設定した乾燥ゾーン９２、及び１３０℃に設定した加熱ゾーン９４を通過させ、この液晶層表面に紫外線ランプ９６により紫外線を照射した。
【０１０２】
【化１】
2009136712.tif 000003
このようにして得られたフィルム１２の塗布膜に、段ムラ等の面状故障の状況を目視評価した。評価は、以下の基準で行った。
【０１０３】
○…バックアップローラ上のエア起因による膜厚ムラ（エアムラ）がみられない
△…エアムラはみられないが、フィルム搬送方向に膜厚ムラが周期的に生じる面状故障（段ムラ）がみられる
▽…エアムラはみられるが、段ムラはみられない
×…エアムラも段ムラも多くみられる
また、本実施の形態における減圧装置１８のエア量低減効果を確認するために、バックアップローラ１４とフィルム１２との間のエア量をレーザー変位計（キーエンス製：ＬＳ−７０００）により測定した。エア低減量は、減圧によってバックアップローラ１４との接触開始地点Ｐからフィルム１２が持ち上げられる距離で示し、以下の基準で評価した。
【０１０４】
○…エア低減量が０．５μｍ以上のレベル
△…エア低減量が０．５μｍ以下のレベル
×…エア低減量が０μｍのレベル
この結果を表１に示す。
（実施例２）
減圧ボックス２８内の減圧度を１．０ｋＰａに設定した以外は実施例１と同様にした。この結果を表１に示す。
（実施例３）
減圧ボックス２８内の減圧度を２．０ｋＰａに設定した以外は実施例１と同様にした。この結果を表１に示す。
（実施例４）
減圧ボックス２８内の減圧度を３．０ｋＰａに設定した以外は実施例１と同様にした。この結果を表１に示す。
（実施例５）
減圧装置１８とバックアップローラ１４との間のクリアランスＣ１を５０μｍに変更した以外は実施例１と同様にした。この結果を表１に示す。
（実施例６）
減圧装置１８とバックアップローラ１４との間のクリアランスＣ１を６００μｍに変更した以外は実施例１と同様にした。この結果を表１に示す。
（実施例７）
仕切板本体３４Ａ及びシール部材３４Ｂの下端部とフィルム１２の上面又は支持ローラ３２との間のクリアランスｄを１０μｍとしたこと以外は実施例６と同様にした。この結果を表１に示す。
（実施例８）
図６の減圧装置１８において、一対の仕切板５０で区画された減圧ボックス２８内の幅方向中央側の減圧度を０．７ｋＰａとし、仕切板５０と仕切板３４により区画された幅方向両端側の減圧度を０．５ｋＰａとしたこと以外は実施例１と同様にした。この結果を表１に示す。
（比較例１）
減圧装置１８を設けず、バックアップローラ１４とフィルム１２との間のエアを減圧除去しなかったこと以外は実施例１と同様にした。この結果を表１に示す。
【表１】
2009136712.tif 000004
表１から分かるように、バックアップローラ１４との接触開始位置Ｐの直前において、減圧装置１８によりエアを除去した実施例１〜７では、バックアップローラ１４とフィルム１２との間のエアの抱き込みを抑制でき、皺等に起因する面状故障もなく、塗布膜の面状は良好であった。
【０１０５】
これに対して、バックアップローラ１４との接触開始位置Ｐの直前に減圧装置１８を設けなかった比較例１では、バックアップローラ１４とフィルム１２との間のエアが除去されず、エアの抱き込みが生じた。このため、塗布ビードがエアにより乱されて塗布ムラが発生した。
【０１０６】
また、適度な減圧度に設定した実施例２、３では、減圧装置１８本体の振動も生じることなく、極めて良好な面状を得ることができた。これに対して、減圧ボックス２８内の減圧度が２．０ｋＰａ以上になると、高い減圧度により減圧装置１８本体が振動し、この振動がバックアップローラ１４まで伝わった。このため、製品として問題ないレベルではあるものの、段ムラが若干発生した。
【０１０７】
また、バックアップローラ１４とのクリアランスＣ１が５０μｍ程度と小さ過ぎると、減圧ボックス２８内での減圧度を高くすることができた。また、クリアランス調整板３８として、超硬材料等を用いて且つバックアップローラ１４の偏芯が非常に高いものを使用した場合、バックアップローラ１４の外周面と接触することはなかった（実施例５Ａ）。これに対して、クリアランス調整板３８の真直度が不足すると、バックアップローラ１４の外周面と接触することがあった（実施例５Ｂ）。
【０１０８】
バックアップローラ１４とのクリアランスＣ１を６００μｍ程度と大きくし過ぎると、減圧ボックス２８内の減圧度を０．５ｋＰａで維持できず、エアを減圧除去効果が低減した。また、仕切板３４の下端部とフィルム１２又は支持ローラ３２との間のクリアランスｄを１０μｍと小さくすると減圧度は若干向上できたが、一部においてフィルム１２と接触し、塗布膜の面状はやや低下することがわかった。（実施例６、７）
また、実施例８では、フィルム１２の幅方向中央部を幅方向両端側よりも高い減圧度としたので、フィルム１２の幅方向中央部のエアムラが幅方向両端部よりも低減できることがわかった。さらに、減圧装置１８の全体を均一に減圧する場合よりも低い減圧度で抱き込みエアを除去でき、省エネ化が可能であることがわかった。
【０１０９】
以上の結果から、本発明を適用することで、バックアップローラとフィルムとの間のエアの抱き込みを抑制し、面状故障等のない良好な面状が得られることを確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本実施の形態における減圧装置を組み込んだ塗布装置の概略構成の一例を示す概略側面図である。
【図２】本実施の形態におけるエア抱き込み空間を説明する説明図である。
【図３】本実施の形態における減圧装置の構成を示す斜視図である。
【図４】本実施の形態における減圧装置の内部構成を説明する断面図である。
【図５】本実施の形態における仕切板の構成を説明する説明図である。
【図６】本実施の形態における減圧装置の別態様を示す斜視図である。
【図７】本実施の形態における減圧装置の別態様を示す断面図である。
【図８】本実施の形態における塗布装置を組み込んだ光学フィルムの製造ラインを説明する説明図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１０…塗布装置、１２…フィルム、１４…バックアップローラ、１６…ダイ、１８…減圧装置、２８…減圧ボックス、３０…開口部、３２…支持ローラ、３４、５０…仕切板、３４Ａ…仕切板本体、３４Ｂ…シール部材、３５…サイド板、３６、５２…吸引配管、３８…クリアランス調整板、４０…ラビリンス機構、４２…搬入口、４４…補助ローラ、４６…圧力計、４８…制御部、５４…押圧ローラ、８０…光学機能フィルムの製造ライン
【図１】
2009136712.tif 000005
【図２】
2009136712.tif 000006
【図３】
2009136712.tif 000007
【図４】
2009136712.tif 000008
【図５】
2009136712.tif 000009
【図６】
2009136712.tif 000010
【図７】
2009136712.tif 000011
【図８】
2009136712.tif 000012