(57)【要約】      （修正有）【課題】サイズの異なる複数種類の検査対象基板を、段取り替え無しに載置でき、載置後は自動で精度良く検査可能する手段の提供。【解決手段】検査対象基板Ｗを保持するものであって、サイズの異なる検査対象基板Ｗをそれぞれ収容する複数の収容凹部３１、３２、３３を有する基板検査用保持板３と、前記基板検査用保持板３に保持された検査対象基板の検査を行う検査機器４と、前記基板検査用保持板３に保持された検査対象基板Ｗの検査対象面と前記検査機器４との距離を調節する距離調節機構６と、前記基板検査用保持板３に保持された検査対象基板Ｗのサイズを検出するサイズ検出機構５を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
サイズの異なる検査対象基板をそれぞれ収容する複数の収容凹部を有する基板検査用保持板と、
前記基板検査用保持板に保持された検査対象基板の検査を行う検査機器と、
前記基板検査用保持板に保持された前記検査対象基板の検査対象面と前記検査機器との距離を調節するための距離調節機構と、
前記基板検査用保持板に保持された検査対象基板のサイズを検出するサイズ検出機構を備え、
前記距離調節機構が、前記サイズ検出機構の検出結果に基づいて、前記検査対象基板の検査対象面と前記検査機器との距離を調節する検査装置。
【請求項２】
前記収容凹部が、平面視において少なくとも一部重複するように形成されており、検査対象基板のサイズの小さい順に、その検査対象基板に対応する収容凹部の深さが大きく形成されている請求項１記載の検査装置。
【請求項３】
異なるサイズの検査対象基板を収容する収容凹部が、同軸状に形成されている請求項２記載の検査装置。
【請求項４】
前記収容凹部が、前記検査対象基板に形成された位置決め構造と接触して前記検査対象基板の位置決めを行う位置決め部を備えている請求項１、２又は３記載の検査装置。
【請求項５】
前記収容凹部に収容された検査対象基板を前記位置決め部に向かって押し付ける押圧機構を備えている請求項４記載の検査装置。
【請求項６】
前記基板検査用保持板を振動させる振動発生機構を備えた請求項１、２、３、４又は５記載の検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、サイズの異なる複数種類の検査対象基板を保持することができる基板検査用保持板を用いた検査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、異なるサイズ（例えば径）を有する半導体ウエハ等の検査対象基板をステージ天板上に手動で精度良く載置するためには、位置決め用の治具を取り付ける、又はステージ天板自体を専用の天板に交換する等、検査対象基板に合わせた段取り替えが必要である。
【０００３】
しかしながら、段取り替えに手間及び時間がかかってしまう上に、位置決め用の治具や専用のステージ天板を予め用意する必要があり、その収容スペースが必要になるとともに、コストもかかってしまう。さらに、取り付けミスや交換ミスをする可能性もあり作業が煩雑となってしまう。
【０００４】
また、特許文献１に示すように、異なる大きさの基板を搬送可能な搬送ロボットを使用した場合には、段取り替えは不要になり、精度良く複数種類の基板をステージ天板上に載置することができる。
【０００５】
しかしながら、装置全体が複雑になる上、その価格が高価になってしまうという問題がある。
【特許文献１】特開平１１−２０８８８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決するためになされたものであり、サイズの異なる複数種類の検査対象基板を、段取り替え無しに載置でき、載置後は自動で精度良く検査可能することをその主たる所期課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明に係る検査装置は、サイズの異なる検査対象基板をそれぞれ収容する複数の収容凹部を有する基板検査用保持板と、前記基板検査用保持板に保持された検査対象基板の検査を行う検査機器と、前記基板検査用保持板に保持された前記検査対象基板の検査対象面と前記検査機器との距離を調節するための距離調節機構と、前記基板検査用保持板に保持された検査対象基板のサイズを検出するサイズ検出機構を備え、前記距離調節機構が、前記サイズ検出機構の検出結果に基づいて、前記検査対象基板の検査対象面と前記検査機器との距離を調節することを特徴とする。
【０００８】
このようなものであれば、サイズの異なる検査対象基板毎に、位置決め用治具や専用のステージ天板を用意する等の段取り替えが不要となる。また、サイズの異なる複数種類の検査対象基板を載置することができる。さらに、複数種類のサイズの検査対象基板を連続的、自動的に精度良く検査することができるようになる。
【０００９】
基板検査用保持板を小型化しつつも、検査対象基板を確実に保持することができるようにするためには、前記収容凹部が、平面視において少なくとも一部重複するように形成されており、検査対象基板のサイズの小さい順に、その検査対象基板に対応する収容凹部の深さが大きく形成されていることが望ましい。これならば、基板検査用保持板が小さくとも、多くの検査対象基板を載置できる。
【００１０】
異なるサイズの検査対象基板を収容する収容凹部が、同軸状に形成されていることが特に望ましい。これならば、保持板に保持された検査対象基板の中心が、サイズが異なる場合でも同じ位置となるため、検査対象基板毎の検査装置の制御及び設定を容易にすることができる。
【００１１】
手動で載置する場合においても位置精度良く載置できるようにするためには、前記収容凹部が、前記検査対象基板に形成された位置決め構造と接触して前記検査対象基板の位置決めを行う位置決め部を備えていることが望ましい。
【００１２】
さらに、精度良く位置決めを行うためには、前記収容凹部に収容された検査対象基板を前記位置決め部に向かって押し付ける押圧機構を備えていることが望ましい。
【００１３】
前記検査対象基板を前記収容凹部に対して大まかに収容しておき、その後に自動で精度良く位置決めするには、前記基板検査用保持板を振動させる振動発生機構を備えたものであればよい。このようなものであれば、前記基板検査用保持板を振動させることによって、前記検査対象基板の前記収容凹部に対する位置がずれて行き、前記検査対象基板が前記収容凹部に自然にはまり込んで位置決めが行われる。従って、手動で載置する場合でも、大まかに基板を載置しておくだけでよいので、前記検査対象基板を前記収容凹部に載置する手間がかからないようにすることができ、検査の準備にかかる時間を短縮することができるようになる。
【発明の効果】
【００１４】
このように本発明によれば、サイズの異なる複数種類の検査対象基板を、段取り替え無しに載置でき、載置後は自動で精度良く検査可能することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、本発明に係る検査装置１の一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図１は、本実施形態に係る検査装置１の概略構成図、図２は基板検査用保持板３の平面図、図３は基板検査用保持板３の斜視図、図４は収容凹部３１、３２、３３の部分拡大図及びその断面図である。
【００１６】
＜装置構成＞
【００１７】
本実施形態に係る検査装置１は、半導体ウエハやガラス基板等の検査対象基板Ｗの表面の膜厚、光学定数（屈折率や消衰係数等）、透過率などを測定したり、欠陥の有無を検査したりする品位検査を行うものである。
【００１８】
具体的にこのものは、図１に示すように、ステージ２と、基板検査用保持板３と、検査機器４と、を備えている。
【００１９】
以下、各部２〜４について説明する。
【００２０】
ステージ２は、図示しないベース上に設けられ、図示しないモータやレール部材等からなる駆動部により、水平方向（Ｘ軸方向及びＹ軸方向）にスライド移動可能なＸＹステージである。そして、このステージ２上に水平に基板検査用保持板３が載置される。
【００２１】
基板検査用保持板３は、特に図２及び図３に示すように、ステージ２上に載置されるものであり、平面視において概略矩形形状を成す平板である。そして、基板検査用保持板３の上面には、サイズの異なる検査対象基板Ｗをそれぞれ収容する複数の異なる収容凹部３１、３２、３３が形成されている。ここで、サイズとは、平面視における形状をいい、例えば検査対象基板が半導体ウエハの場合には、その半導体ウエハの上面である成膜面（検査面）のサイズである。本実施形態では、特に平面視における検査対象基板の径である。
【００２２】
本実施形態では、それぞれ異なる径の異なる３種類の概略円板状の検査対象基板Ｗを保持可能とするため、それぞれ異なる３種類の内径を有する収容凹部３１、３２、３３が形成されている。具体的には、一番大きい径を有する検査対象基板Ｗを収容する第１収容凹部３１、二番目に大きい径を有する検査対象基板Ｗを収容する第２収容凹部３２、及び三番目に大きい径を有する検査対象基板Ｗを収容する第３収容凹部３３が形成されている。このような収容凹部３１、３２、３３であれば、後述する位置決め部が無くても、手動で載置する場合でも、ある程度精度良く位置決めができる。
【００２３】
これら収容凹部３１、３２、３３は、平面視において、その検査対象基板Ｗと略同一形状を成す。つまり、収容凹部３１、３２、３３の寸法は、検査対象基板Ｗが収容されたときに、検査対象基板Ｗの収容凹部３１、３２、３３に対するずれが所定範囲内に収まるような大きさである。具体的には、検査対象基板Ｗが収容された状態において、収容凹部３１、３２、３３の内側周面が、検査対象基板Ｗの外側周面と接触するように形成されている。
【００２４】
そして、これら収容凹部３１、３２、３３は、平面視において少なくとも一部重複するように形成されており、検査対象基板Ｗのサイズの小さい順に、その検査対象基板Ｗに対応する収容凹部３１、３２、３３の深さが大きく形成されている。これにより、ある収容凹部に検査対象基板Ｗを収容する場合に、他の収容凹部が邪魔することがない。
【００２５】
本実施形態では、図４に示すように、平面視において第１収容凹部３１内に第２収容凹部３２が包含され、第２収容凹部３２内に第３収容凹部３３が包含されるように形成されている。より詳細には、第１、第２及び第３収容凹部３１、３２、３３が同心円状に形成されている。
【００２６】
つまり、第１収容凹部３１の底面に第２収容凹部３２が形成され、その第２収容凹部３２の底面に第３収容凹部３３が形成されている。このとき、各収容凹部３１、３２、３３の内側周面は階段状となる。したがって、第１収容凹部３１よりも第２収容凹部３２の方が、下方に形成され、第２収容凹部３２よりも第３収容凹部３３の方が下側に形成される。
【００２７】
また、本実施形態の収容凹部３１、３２、３３は、検査対象基板Ｗに形成されたオリフラと接触して前記検査対象基板Ｗの周方向の位置決めを行う位置決め部を備えている。各収容凹部３１、３２、３３の位置決め部は、中心軸に対して同一の径方向に形成されている。本実施形態の位置決め部は、収容凹部３１、３２、３３を形成する側面に形成されたオリフラと面接触する平面部３１１、３２１、３３１である。これにより、検査対象基板Ｗのオリフラを平面部３１１、３２１、３３１に接触させながら収容することで、検査対象基板Ｗの周方向の位置、つまり、中心軸に対する回転方向の位置を位置決めすることができる。なお、検査対象基板Ｗの中心軸は、収容凹部３１、３２、３３の内側周面が、検査対象基板Ｗの外側周面と接触することにより位置決めされる。このように、位置決め部は、収容凹部３１、３２、３３とともに位置決め機能を発揮するので、従来の位置決めピンのみを用いたものと比較しても位置再現性が良い。したがって、検査対象基板Ｗの測定精度を良くすることができる。
【００２８】
そして、収容凹部３１、３２、３３において平面部３１１、３２１、３３１に対向する側には、検査対象基板Ｗを収容凹部３１、３２、３３内に収容する際に基板Ｗを把持するピンセット等の把持手段が邪魔にならないようにするため、平面視において、一端部が第３収容凹部３３内に位置し、他端部が第１収容凹部３１よりも外側に位置し、第３収容凹部３３よりも深く形成された凹陥部３４が設けられている。
【００２９】
さらに、本実施形態の基板検査用保持板３は、第１収容凹部３１、第２収容凹部３２及び第３収容凹部３３からなる一組の収容凹部３１、３２、３３が、複数組（図２、図３においては９組）形成されている。より詳細には、図２から明らかなように、隣接する各組が等間隔となるように形成されている。
【００３０】
検査機器４は、具体的には、膜厚計である。膜厚計４は、ステージ２上の基板検査用保持板３に保持された検査対象基板Ｗの検査対象面に検査光Ｌ１を照射する光照射部４１と、検査光Ｌ１が照射された検査対象基板Ｗの検査対象面からの反射散乱光Ｌ２を検出する光検出部４２と、を備えており、基板Ｗ表面での検査光Ｌ１、反射散乱光Ｌ２の偏光状態の変化を測定し、そこから得られたデータにより薄膜の膜厚や屈折率を算出する。光照射部４１は、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等のレーザ光源、偏光子等からなり、光検出部４２は、フォトダイオード等からなる。このような膜厚計４を用いているので、非接触、非破壊で高精度な測定を容易に行うことができる。
【００３１】
そして、検査機器である膜厚計４は、ベースに立設された支持部材（図示しない）にＺ軸移動機構６を介して鉛直方向（Ｚ軸方向）にスライド移動可能に支持されている。Ｚ軸移動機構６は、モータ及び鉛直方向に延びるレール部材から構成される。
【００３２】
しかして、本実施形態の検査装置１は、図１に示すように、基板検査用保持板３に保持された検査対象基板Ｗのサイズを検出するサイズ検出機構と、基板検査用保持板３に保持された検査対象基板Ｗのサイズに合わせて、検査対象基板Ｗの検査対象面と前記検査機器４との垂直方向の距離調節を行う距離調節機構と、を備えている。
【００３３】
サイズ検出機構は、例えばＣＣＤカメラ等の撮像手段５を用いたものである。ＣＣＤカメラ５からの画像データを情報処理装置（図示しない）により画像処理することにより、膜厚計４により検査される検査対象基板Ｗのサイズを検出する。
【００３４】
距離調節機構は、検査機器４を支持する支持部材に設けられたＺ軸移動機構６により構成している。距離調節機構６は、検査対象基板Ｗのサイズに関係付けられて記憶されている基板Ｗ表面（検査対象面）の高さ情報から算出された情報処理装置からの制御信号により制御されて、膜厚計４の焦点が基板Ｗ表面上に位置するように、膜厚計４の検査対象基板Ｗの検査対象面からの高さ位置を調節する。つまり、情報処理装置に収容凹部３１、３２、３３にそれぞれ適合する検査対象基板Ｗを載置したときの基板Ｗ表面から膜厚計４までの高さＨ１、Ｈ２、Ｈ３（図４参照）を予め入力しておき（実測値でも規格により決められた値でも良い。）、この高さの面上に膜厚計４の焦点が位置するように制御する。
【００３５】
なお、情報処理装置は、ＣＰＵ、メモリ、入出力チャンネル、キーボード等の入力手段、ディスプレイ等の出力手段等を備えた汎用乃至専用のものであり、入出力チャンネルにはＡ／Ｄコンバータ、Ｄ／Ａコンバータ、増幅器等のアナログ−デジタル変換回路が接続されている。
【００３６】
次にこのように構成した検査装置１の動作及び操作方法について説明する。
【００３７】
まず、ステージ２上に基板検査用保持板３を載置して、その基板検査用保持板３に検査対象基板Ｗを人又は搬送装置により保持させる。なお、検査対象基板Ｗを予め保持させた基板検査用保持板３をステージ２上に載置しても良い。
【００３８】
そして、検査装置１の起動ボタン（図示しない）を押すと、情報処理装置がステージ２を制御して、最初に検査する検査対象基板Ｗを膜厚計４の検査位置（膜厚計４の下）に移動させる。そして、ＣＣＤカメラ５によりその検査対象基板Ｗを撮像して、その撮像データを情報処理装置に出力する。情報処理装置は、ＣＣＤカメラ５から撮像データを取得して、検査対象基板Ｗのサイズを検出して、膜厚計４の検査対象基板Ｗの検査対象面からの高さ位置を調節する。
【００３９】
その後、情報処理装置は、検査プログラムに基づいて、ステージ２をＸ軸方向及びＹ軸方向に移動させて、検査光Ｌ１を検査対象基板Ｗの検査対象面上に走査させる。
【００４０】
その検査対象基板Ｗの検査対象面全域を走査して膜厚測定が終わった後、情報処理装置は、ステージ２を制御して、次の検査対象基板Ｗを膜厚計４の検査位置（膜厚計４の下）に移動させる。以後の動作は、上記と同様である。
【００４１】
＜本実施形態の効果＞
【００４２】
このように構成した本実施形態の検査装置１によれば、サイズの異なる検査対象基板Ｗ毎に、位置決め用治具の取り付けやステージ２天板の交換などの段取り替えが不要となる。また、手動で検査対象基板Ｗを載置する場合であっても、位置決め部により精度良く載置することができる。さらに、複数種類のサイズの検査対象基板Ｗを連続的に測定することができる。
【００４３】
また、基板検査用保持板３に収容凹部が同心円状に形成されているので、保持板３に保持された検査対象基板Ｗの中心が、サイズが異なる場合でも同じ位置となるため、検査対象基板Ｗの中心を測定の原点とする場合等には、検査対象基板Ｗ毎の検査装置１の制御及び設定を容易にすることができる。また、従来の検査用のソフトウエアを簡単に流用することができる。
【００４４】
さらに、本実施形態の保持板３により径の異なる検査対象基板Ｗを保持する場合、その検査対象面の高さがそれぞれ異なるが、距離調節機構により膜厚計４と検査対象基板Ｗの検査対象面との距離を調節しているので、膜厚計４の焦点を検査対象基板Ｗ毎に合わせることができる。従って、検査対象基板Ｗの膜厚を正確に測定することができる。
【００４５】
＜その他の変形実施形態＞
【００４６】
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。以下の説明において前記実施形態に対応する部材には同一の符号を付すこととする。
【００４７】
例えば、前記実施形態では、異なるサイズの検査対象基板Ｗが何れも平面視において概略円形状をなすものであったが、平面視において、矩形形状をなすものであっても良い。この場合、収容凹部３１、３２、３３は、図５に示すように、平面視において概略矩形形状をなす。この場合、矩形形状の角部分を位置決め部として用いることができる。また、前記複数の収容凹部３１、３２、３３を同軸状に形成しても良い。
【００４８】
また、基板検査用保持板３は、平面視において異なる形状の検査対象基板Ｗを保持できるようにしても良い。つまり、図６に示すように、基板検査用保持板３が、平面視において概略円形状をなす基板Ｗを収容する収容凹部３Ａと、平面視において概略矩形形状を成す基板Ｗを収容する収容凹部３Ｂとを備えるようにしても良い。
【００４９】
また、前記実施形態では、サイズの異なる収容凹部３１、３２、３３が重複するものであったが、図７に示すように、各収容凹部３１、３２、３３が重複することなく、つまり、互いに重ね合わさることなく、独立して形成されるものであっても良い。
【００５０】
前記実施形態では、図４に示すように、基板検査用保持板３の収容凹部３１、３２、３３の角部３Ａは、直角（検査対象基板Ｗの載置される面とその基板Ｗの側面に接触する面とが直角）であるが、丸みをおびた形状でも良い。但し、検査対象基板Ｗの周端部が直角ではないものであれば、特に、収容凹部３１、３２、３３の角部３Ａが直角の方が望ましい。
【００５１】
さらに、前記実施形態の検査装置１は、検査機器が膜厚計であるが、その他、干渉計、透過率計、レーザ変位計又は抵抗率計、レーザ散乱方式の異物検査装置、パターン認識による異物検査装置又は異物除去装置等を用いても良い。
【００５２】
特に、干渉計やレーザ変位計等のように、検査機器が、検査対象基板に略垂直にレーザ光を照射して、その反射光を検出するものである場合には、保持板３の表面に黒化処理等の反射防止処理を施すようにすることが考えられる。これならば、保持板３の表面での反射によるノイズを除去することができる。
【００５３】
加えて、サイズ検出機構としては、ＣＣＤカメラを用いた画像認識の他に、各収容凹部に真空チャックを設けて、その真空チャックを利用するものも考えられる。つまり、各収容凹部の底面において開口する吸着孔に接続された吸気ライン内の圧力を検出することより、どの収容凹部に検査対象基板が吸着されているかを検出する。検査対象基板が収容されている収容凹部の吸気孔に接続された吸気ライン内の圧力のみ、他の収容凹部の吸気口に接続された吸気ライン内の圧力に比べて小さくなることから、検査対象基板Ｗが収容されている収容凹部が分かり、その結果、予め記憶させておいた検査対象基板のサイズと高さとの関係から、検査対象基板Ｗのサイズを検出することができる。なお、収容凹部に例えばフォトインタラプタなど別のセンサを設けてサイズを検出するようにしても良い。
【００５４】
また、前記実施形態の収容凹部は、径の異なる３種類の検査対象基板を保持可能なものであってが、その他、２種類又は４種類以上の検査対象基板を保持可能にしても良い。全て同じ種類の検査対象基板を保持しても、異なる種類の検査対象基板を保持しても良い。
【００５５】
さらに、前記実施形態では、第１収容凹部３１、第２収容凹部３２及び第３収容凹部３３を同心円上に形成しているが、図８に示すように、平面視において第１収容凹部３１内に第２収容凹部３２が包含され、第２収容凹部３２内に第３収容凹部３３が包含されるように形成しつつ、各収容凹部３１、３２、３３の中心軸が偏心した状態で形成しても良い。また、この場合、各収容凹部３１、３２、３３の位置決め部である平面部３１１、３２１、３３１を共通の同一面としている。これにより、加工を少なくすることができ製造コストを安くすることができる。
【００５６】
また、位置決め部としては、平面部の他に、図９に示すように、検査対象基板Ｗのオリフラに接触する２つ以上の突出ピン３５としても良い。この場合、突出ピン３５の長さは、その突出ピン３５が設けられた収容凹部３１、３２、３３の深さよりも短くする。
【００５７】
また、検査対象基板に形成されたノッチを用いて検査対象基板の周方向の位置決めを行う場合には、位置決め部は、１つの突出ピンで構成しても良いし、また収容凹部を形成する内側周面から径方向内側に突出する突出部により構成しても良い。
【００５８】
収容凹部が、検査対象基板に形成されたオリフラに接触するオリフラ用突出ピンと、検査対象基板に形成されたノッチに接触するノッチ用突出ピンとを有するものも考えられる。この場合、ノッチ用突出ピンにより検査対象基板を位置決めする場合にオリフラ用突出ピンが邪魔とならないように、オリフラ用突出ピンは、収容凹部の底面に埋没可能に設けられている。
【００５９】
さらに、図１０に示すように、収容凹部３１、３２、３３に収容された検査対象基板Ｗを位置決め部に向かって押し付ける押圧機構８を設けることもできる。この押圧機構８は、位置決め部（平面部３１１、３２１、３３１）に対向して設けられ、位置決め部（平面部３１１、３２１、３３１）に対して進退移動する押圧構造体８１と、当該押圧構造体８１を駆動する駆動部（図示しない）とを備えている。前記実施形態の保持体３に適用する場合には、押圧構造体８１は、各収容凹部３１、３２、３３に連通して設けられた収容溝Ｍ内に収容され、収容凹部３１、３２、３３を形成する内側周面を同じ階段状をなすものである。つまり、この押圧構造体８１は、全てのサイズに対応して、検査対象基板Ｗを押圧することができるものである。
【００６０】
加えて、前記実施形態では、平面視において第１収容凹部３１内に第２収容凹部３２が包含され、第２収容凹部３２内に第３収容凹部３３が包含されるように形成されているが、図１１に示すように、各収容凹部３１、３２、３３が一部重複するように形成しても良い。この場合、第１収容凹部３１よりも第２収容凹部３２を深くし、第２収容凹部３２よりも第３収容凹部３３を深くする。これにより、各収容凹部３１、３２、３３が、検査対象基板Ｗの保持を邪魔することなく、全ての検査対象基板Ｗを保持することができる。
【００６１】
さらに、前記実施形態の距離調節機構は、支持部材に設けられたＺ軸移動機構により構成しているが、ステージがＸＹＺステージである場合には、ステージにより構成しても良い。検査機器をＺ軸移動機構による移動させる場合、検査機器の重量、Ｚ軸移動機構の精度及びＺ軸移動機構の振動等が原因となり検査機器の光学系の焦点がずれてしまう等の問題があり、検査機器を移動させた場合には、光学系の調整が必要となるが、ステージによる距離調節機構を構成した場合には、このような問題を解決することができる。
【００６２】
前記実施形態では、サイズ検出機構の検出結果に基づいて、検査機器と検査対象基板の検査対象面との距離を調節するようにしているが、その他、検査対象基板の検査対象面に対する検査機器の距離（高さ）を測定する距離計（高さ計）を備えても良い。この場合、サイズ検出機構の検出結果に基づいて検査対象基板の検査対象面に対する検査機器の距離を大まかに調節し、その後、距離計の測定結果に基づいて、微調整する。これにより、検査対象基板上に成膜された膜厚による検査対象基板の検査対象面と検査機器の距離の変動による誤差を無くすことができる。また、検査対象基板の検査対象面に対する検査機器の距離の調節時間を短縮することができる。さらに、ある程度距離が合っていないと距離が測定できない距離計であっても使用することができる。
【００６３】
また、前記実施形態では、検査対象基板のサイズ（具体的には径）により検査対象基板の検査対象面と検査機器との距離を調節するようにしているが、検査対象基板のサイズ（具体的には径）及び検査対象基板の各検査工程のレシピ（検査対象基板の膜厚等により定められる検査機器の設定や測定位置（Ｚ座標含む）等の測定条件を含む）に基づいて、検査対象基板の検査対象面と検査機器との距離を調節するようにしても良い。検査対象基板は、その上面に成膜され厚みが増す等、処理が施されることにより厚みが変化する。検査対象基板が厚くなれば、検査対象基板のサイズのみで調節した所望の距離よりも若干小さくなる。このような誤差を各工程のレシピを考慮して調節することにより除去することができる。具体的には、各処理が施された検査対象基板の中なら基準基板（基準サンプル）を選び、その基準サンプルを用いて、各処理が施された検査対象基板の検査対象面と検査機器との基準距離を設定する。そして、各サイズ及び各レシピ毎に基準距離を設定する。距離調節機構は、各サイズ及び各レシピ毎に、検査時にその基準距離となるように、検査対象基板の検査対象面及び測定機器の距離を調節する。また、検体対象基板のサイズの情報を用いて、前記レシピの内容（例えばＺ座標等の測定位置）を補正するようにしても良い。
【００６４】
また、１つのサイズで複数の厚みを有する検査対象基板を測定するためには、１つのサイズに複数の距離を設定するようにし、何れの距離で検査を行うか選択するようにしても良い。
【００６５】
前記実施形態の高さ情報は、基板表面の高さを示す情報であったが、ステージの高さを示す情報でも良い。いずれにしても、高さ情報は、検査対象基板の検査対象面に垂直方向の位置情報を含んでいる必要がある。
【００６６】
図１２に示すように、基板検査用保持板３を振動させる振動発生機構としてバイブレータＶを基板検査用保持板３に取り付けても良い。この場合、例えば、検査対象基板Ｗの外側周面が収容凹部３１、３２、３３の内側周面に対して一部しか接触せず、斜めに傾いて検査対象基板Ｗが収容凹部３１、３２、３３に収容されているとしても、バイブレータＶによって基板検査用保持板３を振動させて、基板Ｗの外側周面の全てが収容凹部３１、３２、３３の内側周面に接触するようにして位置決めを行うことができる。
【００６７】
したがって、検査対象基盤Ｗを収容凹部３１、３２、３３に精密に収容しておかなくても位置決めを行うことができるので、手動で検査対象基板を収容凹部３１、３２、３３に載置する際の手間がかからないようにすることができ、検査の準備にかかる時間を短縮することができる。
【００６８】
また、基板検査用保持板３にバイブレータを取り付ける代わりに、振動発生機構としてステージ２を用いて、ステージ２を移動させることによって基板検査用保持板３を振動させるようにしても構わない。
【００６９】
前記実施形態では振動発生機構は１つであったが、複数設けても構わない。つまり、少なくとも１つの振動発生機構が取り付けてあればよい。また、振動発生機構は基板検査用保持板に設置しなくてもよく、結果として基板検査用保持板が振動すればよい。
【００７０】
その他、前述した実施形態や変形実施形態の一部又は全部を適宜組み合わせてよいし、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の一実施形態に係る検査装置の概略構成図。
【図２】基板検査用保持板の平面図。
【図３】基板検査用保持板の斜視図。
【図４】収容凹部の部分拡大図及びその断面図。
【図５】収容凹部の変形例を示す基板検査用保持板の平面図。
【図６】収容凹部の変形例を示す基板検査用保持板の平面図。
【図７】収容凹部の変形例を示す基板検査用保持板の平面図。
【図８】収容凹部の変形例を示す部分拡大図及びその断面図。
【図９】収容凹部の変形例を示す部分拡大図及びその断面図。
【図１０】収容凹部及び押圧機構を示す部分拡大図及びその断面図。
【図１１】基板検査用保持板の変形例を示す平面図。
【図１２】基板検査用保持板の変形例を示す斜視図
【符号の説明】
【００７２】
１・・・検査装置
２・・・ステージ
３・・・基板検査用保持板
３Ａ・・・位置決め部（平面部）
３１、３２、３３・・・収容凹部
Ｗ・・・検査対象基板
４・・・検査機器
５・・・サイズ検出機構（ＣＣＤカメラ）
６・・・距離調節機構（Ｚ方向移動機構）
８・・・押圧機構
Ｖ・・・振動発生機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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