(57)【要約】  【課題】表面に利用される波長より短い周期の周期構造を連続して形成した周期構造付き基板について、この基板を用いて製造される光学素子等の特性に影響を与えずに基板の仕様や製造情報を容易に識別することができる手段を提供する。    【解決手段】基板表面に周期的な凹凸構造を有する光学素子用周期構造付き基板であって、該凹凸構造の周期が使用する光の波長以下であり、該凹凸構造の周期が不連続となっている部分が少なくとも１箇所存在することを特徴とする周期構造付き基板。及び該周期構造付き基板の表面に屈折率の異なる少なくとも２種類の材料からなる複数の層が積層され、積層された各層は前記周期構造付き基板表面の凹凸構造に従った周期を有していることを特徴とする周期構造付き多層構造体。【選択図】  図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面に周期的な凹凸構造を有する光学素子用周期構造付き基板であって、該凹凸構造の周期が使用する光の波長以下であり、該凹凸構造の周期が不連続となっている部分が少なくとも１箇所存在することを特徴とする周期構造付き基板。
【請求項２】
前記周期の不連続状態の態様は１周期未満の位相ずれであることを特徴とする請求項１に記載の周期構造付き基板。
【請求項３】
前記周期の不連続状態の態様は１周期以上１０周期未満の周期構造の欠落であることを特徴とする請求項１に記載の周期構造付き基板。
【請求項４】
前記周期の不連続な部分が複数箇所存在し、複数の態様の不連続状態が含まれることを特徴とする請求項１に記載の周期構造付き基板。
【請求項５】
前記周期的な凹凸構造は直線状の凹部と凸部が交互に形成された１次元周期構造であることを特徴とする請求項１に記載の周期構造付き基板。
【請求項６】
前記周期が不連続な部分は、所定の前記直線状の凹部および／または凸部の長手方向の少なくとも一部に存在することを特徴とする請求項２に記載の周期構造付き基板。
【請求項７】
前記周期は５０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載の周期構造付き基板。
【請求項８】
前記周期の不連続な部分は周期の方向に周期の１０００倍以上の間隔で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の周期構造付き基板。
【請求項９】
前記周期構造は平板状基板の上に積層された層の表面に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の周期構造付き基板。
【請求項１０】
前記積層された層は金属アルコキシドを硬化させたものを含むことを特徴とする請求項９に記載の周期構造付き基板。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の周期構造付き基板の表面に屈折率の異なる少なくとも２種類の材料からなる複数の層が積層され、積層された各層は前記周期構造付き基板表面の凹凸構造に従った周期を有していることを特徴とする周期構造付き多層構造体。
【請求項１２】
前記凹凸構造の周期が不連続となっている部分が視認可能であることを特徴とする請求項１１に記載の周期構造付き多層構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
光学分野で用いられる透過型光学素子あるいは受発光を伴う光学素子においては、その表面に使用波長より短い周期の周期構造を備えることにより光の反射率や偏光特性の制御を行うことができる。本発明はこのような光学素子として使用される周期構造付き多層構造体に関し、特に多層構造体の形成のために使用される周期構造付き基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
波長より短い周期の凹凸構造体は、光の反射率を低減させる効果（例えば、非特許文献１参照）や光の偏光成分の透過率を制御する効果（例えば、非特許文献２及び３参照）を持つという特徴がある。
【０００３】
これらの微細な凹凸周期構造をガラスや半導体などの表面に形成するためには以下のような工程が通常用いられている。まず、基板上に感光性樹脂を塗布し、電子線描画装置を用いて所望の周期パターンを描画する。次いで使用した樹脂の特性により電子線が照射された部分または照射されていない部分の樹脂を溶剤で除去する。得られた樹脂パターンをマスクとしてドライエッチング装置を用いて基板をエッチングし、所望の周期構造を得る。
【０００４】
一方、近年、上記手法で作製した微細凹凸基板を型として活用し、基板に塗布した樹脂層にこの型を押圧することにより、凹凸構造を繰り返し転写する方法が開発されている。成形、転写を周期構造付き基板の製造に用いる方法にはつぎの２種類がある。
【０００５】
第１の方法は平板状基板に凹凸構造をエッチングにより作製する際、そのためのマスクを転写により作製する場合である。微細な周期パターンを１基板ごとに毎回描画する必要がなくなり、エッチングのみ１基板ごとに行えばよく、工程が簡略化される。
【０００６】
第２の方法は最終的な周期構造付き基板の凹凸構造も転写によって形成する場合である（例えば特許文献１参照）。この場合は、微細な周期パターンを毎回描画する必要がないだけでなく、１基板ごとのエッチングによる加工も不要になる。ただし平板状基板の上に積層された硬化した成形材料に凹凸構造が設けられるため、この基板を用いたその後の工程に対して凹凸構造の耐性が十分でない場合は使用できない。
【特許文献１】特開２００５−１８１９７９号公報
【非特許文献１】豊田宏、「無反射周期構造」、光学、社団法人応用物理学会日本光学会、２００３年、 第３２巻、第8号、ｐ．４８９−４９１
【非特許文献２】菊田久雄、外１名、「波長より細かな格子構造による光制御」、光学、社団法人応用物理学会日本光学会、１９９８年、第２７巻、第１号、ｐ．１２−１７
【非特許文献３】川嶋貴之、外３名、「２次元フォトニック結晶偏光分離素子の作製とその高性能化」、信学技法、社団法人電子情報通信学会、１９９９年１２月、ＯＰＥ９９−１０９、ｐ．２５−３０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このような周期構造付き基板の製造に際して、複数の仕様の基板が混在する場合、構造が微細で類似しているため、顕微鏡等の手段を用いたとしても識別が容易でない。このためこの基板をつぎの工程に投入する際、誤認が生じ易いという問題がある。
【０００８】
また製品の一部に不具合が生じた場合、基板の製造ロットを確認するといった品質管理上の追跡調査が難しい、という問題があった。
【０００９】
さらに製造工程が終了した後、周期構造付き基板の凹凸構造のない部分等に何らかの方法でマーキングを行ったとしても、その後のこの基板を用いた製品の製造工程によって、それが消えたり隠れたりして判別が困難になる場合があるという問題もある。
【００１０】
本発明はこのような問題点を解決するためになされたもので、周期構造付き基板の周期構造自体に製品仕様、製造ロットなどを識別できるマークを付す手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するため、本発明においては、基板表面に周期的な凹凸構造を有する光学素子用周期構造付き基板であって、凹凸構造の周期が使用する光の波長以下であり、基板表面に周期的な凹凸構造を有する周期構造付き基板の凹凸構造の周期が不連続となっている部分を少なくとも１箇所存在するようにする。
【００１２】
この周期が不連続な部分の位置、態様を観察することにより、予めそれに対応して定めた製品の情報を識別することができる。
【００１３】
上記周期の不連続状態の態様は１周期未満の位相ずれ、あるいは１周期以上１０周期未満の周期構造の欠落であることが好ましい。
【００１４】
配列周期の位相ずれや周期構造の欠落は、電子線描画等により比較的容易に導入することができる。なお、１周期を越える位相ずれは１周期未満の位相ずれと形態的に同一となる。また周期構造の欠落は少なくとも１周期以上でないと１周期未満の位相ずれと大きな差異はない。周期構造の欠落が１０周期以上になると、最終的な製品の光学特性に影響を及ぼす恐れがあるので、好ましくない。
【００１５】
周期の不連続な部分は複数箇所存在し、複数の態様の不連続状態が含まれることが好ましい。周期構造の位相ずれや欠落の大きさは適宜選択することができるので、複数箇所に複数の態様の不連続状態を導入する仕方（パターン）と製品情報、製造情報とを予め対応付けて定めておけば、多彩な情報を記述することができる。
【００１６】
周期的な凹凸構造を直線状の凹部と凸部が交互に形成された１次元周期構造とすることが好ましい。偏光の制御等を目的にした光学素子用基板の周期構造としては１次元周期構造を用いることができる。
【００１７】
この場合、周期が不連続な部分は、所定の直線状の凹部および／または凸部の長手方向の少なくとも一部に存在するようにする。所定の直線状の凹部および／または凸部の長手方向全体に不連続部分を導入してもよいが、一部のみにして複数組み合わせることにより、多くの情報を記述することが可能となる。
【００１８】
本発明の周期構造の周期は５０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満とすることが望ましい。連続周期部分が１０００周期未満の場合には、光学特性に影響を与える可能性があり好ましくない。また周期不連続の態様は１周期未満の周期ずれ、または１周期以上１０周期未満の周期の無い領域のいずれかとする。これを越える不連続部分の存在は光学特性に影響を与える可能性があるため好ましくない。
【００１９】
上記の周期構造は平板状基板の上に積層された層の表面に形成されていてもよい。積層する層を成形可能な材料に選ぶことにより、周期構造を転写成形により作製することが可能になり、容易に多数の基板を製造することが可能となる。
【００２０】
上記積層された層は金属アルコキシドを硬化させたものを含むことが望ましい。金属アルコキシドを硬化させたものは性質が無機ガラスに近いため、一般のガラス基板と同程度の耐熱性、耐薬品性を有しているため、これを用いた基板は多層構造体の製造条件の制約を減らすことができる。
【００２１】
上記の周期構造付き基板の表面に屈折率の異なる少なくとも２種類の材料からなる複数の層を積層し、積層された各層は周期構造付き基板表面の凹凸構造に従った周期を有している周期構造付き多層構造体とすることが望ましい。積層された各層は周期構造付き基板表面の凹凸構造に従った周期を有しているため、その表面において周期の不連続を観察することができ、多層構造体製造後においても基板に書き込まれた情報を読むことができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、表面に利用される波長より短い周期の周期構造を連続して形成した周期構造付き基板について、この基板を用いて製造される光学素子等の特性に影響を与えずに基板の仕様や製造情報を容易に識別することができる手段を提供できる。
【００２３】
さらに本発明の周期構造付き基板を用い、その表面に複数の層を積層することにより製造される多層構造体においても、基板表面の凹凸構造に従った凹凸が多層構造体表面にも形成される場合には、これを利用して基板に書き込んだ仕様、製造情報等を識別することができる。
【００２４】
また、周期構造付き基板の製造工程中に情報を書き込むことができるので、別工程において上記の情報を製品に記載するなどの付加的な作業が不要になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明においては、凹凸構造を有する周期構造付き基板を成形、転写する方法によって製造するが、その際同時に基板の周期構造を有する部分に基板の種類あるいは製造管理上の情報を示すマークの書き込みを行う。この凹凸周期構造を転写するための原版は構造が微細であるため、電子線描画あるいはＸ線露光を用いてパターニングされるが、その際に、特定の位置に光学素子としての機能が損なわれない程度の周期の不連続部分を導入することにより行う。これにより、基板の有効領域内に不要な文字やマークを印字することなく、情報を書き込める。具体的にはこの不連続部分を複数箇所に設け、その位置の組み合わせによって必要な情報をパターン情報として示すことができる。また周期の不連続には種々の態様があるので、これと位置との組み合わせによりさらに多くのパターン情報を基板の有効領域内に書き込むことができる。このパターン情報を顕微鏡などの手段によって計測することにより、その基板の仕様や製造管理情報などを確実に識別することができる。
【００２６】
本発明の目的においては周期構造の周期は使用波長以下である。回折格子など使用波長よりも長い周期構造をもった光学素子もあるが、これらにおいては周期の不連続な部分が存在すると光学特性に悪影響が出るので、本発明の適用は望ましくない。
【００２７】
得られた周期構造付き基板の上に異なる屈折率の膜を層状に、基板表面の凹凸形状に従って形成することにより偏光特性が制御できる。そこでこのような多層構造体を形成して偏光素子を形成することができる。この際、導入した周期ずれや周期の無い領域は積層した膜の表面まで形状が保存されるため、表面形状を原子間力顕微鏡などで評価するだけで原版の仕様などを容易に把握することができる。あるいは、積層膜の膜厚が厚く、積層数が多い場合には、導入した周期ずれや周期の無い領域は、原子間力顕微鏡を用いる必要なく、肉眼で視認することも可能となる。
【００２８】
図１は本発明の周期構造付き基板の概念を示す断面模式図である。なお以下、同一対象には同一符号を付け説明を省略する場合がある。図１（ａ）は基板１上に１方向に周期をもつ凹凸構造８が形成されており、１０００周期以上の連続周期の境界部にあたる位置Ａで1周期以上の凸部が連続して形成され、周期構造がない部分２が形成されている例を示している。また図１（ｂ）に示す位置Ｂのように凹分が連続した周期構造のない部分３であってもよい。また、図２の領域Ｃのようにさらに長く数周期相当の距離で周期構造がない形状の部分４であってもよい。ただし周期構造がない部分が１０周期分を越えるのは好ましくない。
【００２９】
このように周期構造がない部分を設ける以外に、図３の位置Ｄに示すように周期構造の位相が１周期未満の範囲でずれる部分５を挿入してもよい。
【００３０】
図４は本発明の周期構造付き基板の原版を製造する基本的な工程を示している。はじめに平板状基板１０に光官能性樹脂１１を塗布し（図４（ａ））、電子線露光により５０ｎｍ〜１０００ｎｍ未満の周期パターン形成を行う。このとき、周期の１０００倍以上に相当する領域を一つの単位領域と見立てて一定周期の描画を行い、隣の単位領域に移行する際に１周期未満だけ位相を変調させる。または周期構造の無い領域を数周期分挿入した上で隣の単位領域に移行する。次にこれを現像して樹脂パターン１２を形成し（図４（ｂ））、これをマスクとして基板をドライエッチングすることにより平板状基板表面に凹凸形状を形成し、周期構造付き基板の原版１３が得られる（図４（ｃ））。この際、複数形成する単位領域の間に挿入する周期の不連続部分の位置および態様の組み合わせによるマークが示す情報を予め定めておけば、後にその情報をパターンから読み取ることができる。
【００３１】
図５は本発明の周期構造つき基板を転写により作製する基本的な工程を示している。成形用樹脂２１を塗布した平板状基板２０（図５（ａ））に先に得られた原版１３を型として押圧することで（図５（ｂ））樹脂面上に凹凸形状が転写され（図５（ｃ））、樹脂を硬化させることにより、樹脂パターン２２を得ることができる（図５（ｄ））。得られた樹脂パターン２２をマスクとして基板２０をドライエッチングし、基板２０自体に周期構造を形成する。
【００３２】
または、上記の成形用樹脂２１をゾルゲル材料に置き換えることで、硬化したゾルゲル材料をそのまま凹凸基板として利用することもできる。また、図１〜図５の例では断面が矩形形状である場合を示したが、原版を作製する際にエッチング条件を変更したり、矩形形状を後加工することで断面形状を三角形や台形、サイン波状とすることもできる。
【００３３】
また図１〜図５の例では周期は一方向しか示していないが、２次元方向に周期が存在する場合にも本発明は適用できる。この場合、周期が不連続な部分は少なくとも１つの周期の方向にのみ存在すればよいが、２つの周期の方向に存在してもよい。
【００３４】
以下に具体的な例によって本発明の実施形態を説明する。
（実施例１）
【００３５】
本実施例は２次元的な周期構造を有する可視光反射率低減用周期構造付き基板の例である。
【００３６】
基板（原版）の製造方法を説明する。石英ガラス基板上に電子線用レジストを塗布し、電子線描画装置を用いて直交する２方向（x軸方向、ｙ軸方向）ともに周期２５０ｎｍのドットパターンを描画する。図６に描画パターンを示す。描画は基板上の０．５ｍｍ角の領域を単位領域として行った。初めに単位領域Ｕ１１内から描画を始め、次に単位領域Ｕ１１のＸ方向に隣接する同面積の単位領域Ｕ２１に同様のドットパターンを描画する。その際、単位領域Ｕ１１とＵ２１の境界Ｂｘ１部分で配列周期の位相がほぼ１／２周期ずれた状態となるようにする。この様子の模式的拡大図を図６中に示した。
【００３７】
次に単位領域Ｕ２１のＸ方向隣の単位領域Ｕ３１を同様の周期で描画するが、単位領域Ｕ２１との境界Ｂｘ２部分で３周期相当を描画せずにスキップし周期のない部分を挿入する（図６の拡大模式図参照）。さらにこのＸ方向隣の単位領域Ｕ４１に移行する際にほぼ１／２周期の位相ずれを挿入する。
【００３８】
以上４つの単位領域を描画したのち、Ｙ方向隣の単位領域Ｕ４２に移行する。Ｙ方向の境界Ｂｙ１では周期に不連続を導入しないようにした。つぎにＸ方向隣へ移行する際には最初の描画同様に不連続部分を導入する。これを繰り返して２ｍｍ角の領域に１６の単位領域（Ｕ１１〜Ｕ４４）を順に描画し、Ｘ方向には０．５ｍｍ間隔（周期の２０００倍）で不連続領域を導入した。
【００３９】
以上により有効領域のＸ方向両端から０．５ｍｍ位置にそれぞれ１／２周期の位相ずれ部分が、Ｘ方向中央には３周期分周期構造がない部分が、Ｙ方向には全域にわたって直線状に形成される。
【００４０】
つぎにレジストを現像処理してドットパターンのレジストマスクを形成した。このマスクを介して基板をドライエッチングし、ガラス基板にレジストのドットパターンと同じ周期構造およびその不連続領域を持つ直接高さ５００ｎｍの円錐状構造体をもつ周期構造付きガラス原版を作製した。
【００４１】
得られたガラス原版にニッケル電鋳を行い凹凸形状が反転した周期構造付きニッケル原版を得た。得られたニッケル原版に離型剤を塗布した後、リンス処理を行い転写型とした。
【００４２】
つぎにガラス基板に紫外線硬化樹脂を塗布し、上記の転写型を基板に押圧する。この状態で紫外線照射を行った後に離型することにより、転写型の反転形状である円錐状構造が紫外線硬化樹脂で形成された周期構造付き基板を得た。
【００４３】
最後に得られた基板をドライエッチングすることでガラス基板に直接、周期構造を形成した２次元周期構造付きガラス基板３０を作製した。その模式的な斜視図を図７に示す。
ガラス基板は加工されて平板状部分３２の上に円錐状構造３４が周期的に配列された部分が形成されている。円錐状構造３４の配列には周期が不連続になっている部分３８が形成されている。
【００４４】
同様にニッケル原版を用いた転写、ドライエッチング工程を繰り返し、１０枚の周期構造付きガラス基板を作製した。このようにして得られた周期構造付きガラス基板の周期構造を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて評価したところ、すべての基板の周期構造が上記の石英ガラス基板上に形成した周期構造と不連続部分を持つことを確認した。次にこの１０枚の周期構造付きガラス基板の反射率を分光光度計にて測定したところ、波長５００ｎｍにおいて、いずれも透過率が９３％であり、周期構造を形成する前に測定した同波長における透過率９１％よりも２％透過率が上昇しており、反射率低減効果があることを確認した。
【００４５】
なお、反射率の低減を目的とした円錐状構造はとくに正確な２次元周期で配列されている必要は必ずしもない。しかし上記のような電子線描画を用いる場合には、通常周期的なパターンの描画となるため、周期構造を設けその周期に不連続部分を挿入することにとくに工程の増加等の支障は生じない。
（実施例２）
【００４６】
本実施例は１次元周期構造を有する周期構造付き基板とそれを用いた赤外線偏光用多層構造体の例である。
【００４７】
実施例１同様に石英ガラス基板上に電子線レジストを塗布し、電子線描画装置を用いて１方向（x軸方向）に周期５００ｎｍの直線パターンを０．５ｍｍ角の単位領域に描画した。図８に描画パターンを示す。最初に単位領域Ｕ１１を描画し、つぎにこの単位領域Ｕ１１のＸ方向隣の単位領域Ｕ２１に移行して同周期の直線状パターンを描画するが、単位領域Ｕ１１とＵ２１の間の境界Ｂｘ１部分でほぼ１／２周期、位相ずらす（図８の拡大図参照）。この単位領域Ｕ２１のさらにＸ方向隣の単位領域Ｕ３１に移行する際に境界Ｂｘ２部分に１周期相当の描画しない区間を設けた（図８の拡大図参照）。さらにそのＸ方向隣の４番目の単位領域Ｕ４１に移行する境界Ｂｘ３では再度ほぼ１／２周期、位相をずらす。
【００４８】
つぎに単位領域Ｕ４１のＹ方向隣の単位領域Ｕ４２に移行して同周期の描画を単位領域の周期と位相がずれないように描画し、Ｘ方向隣の単位領域Ｕ３２に移る。このとき境界Ｂｘ３において１／２周期の位相ずれを挿入する。以下同様に繰り返し、１６の単位領域（Ｕ１１〜Ｕ４４）で２ｍｍ角の領域に直線状パターンを描画する。
【００４９】
以上により有効領域のＸ方向両端から０．５ｍｍ位置にそれぞれ１／２周期の位相ずれ部分が、Ｘ方向中央には１周期分周期構造がない部分が、それぞれＹ方向には全域にわたって直線状凹凸構造に沿って形成される。
【００５０】
つぎにレジストを現像処理して直線状パターンのレジストマスクを形成した。このマスクを介して基板をドライエッチングし、ガラス基板にレジストの直線パターンと同じ周期構造および不連続領域を持つ高さ５００ｎｍの溝付き構造体を形成した周期構造付きガラス原版を作製した。
【００５１】
このガラス原版を用いて、実施例１同様の工程により、ガラス基板に直接、周期構造を形成した１次元周期構造付きガラス基板４０を作製した。その模式的な斜視図を図９に示す。ガラス基板は加工されて平板状部分４２の上に峰部４４と溝部４６が交互に周期的に配列された構造が形成されている。そして峰部が欠落し配列周期が不連続になっている部分４８が存在する。
【００５２】
同様の転写、ドライエッチング工程を用いて４枚の周期構造付きガラス基板を作製した。
【００５３】
このようにして得られた周期構造付き基板の周期構造をＡＦＭを用いて評価したところ、すべての基板の周期構造が上記の石英ガラス原版に形成した周期構造と不連続部分を持つことを確認した。
【００５４】
次に、得られた４枚の１次元周期構造付き基板４０にスパッタデポジションとスパッタエッチングを組み合わせながら図１０に示すようにＳｉ膜とＳｉＯ2膜を交互に５０層、計５um厚に積層した（図１０では積層膜５２の層数は省略して示している）。この結果、断面形状が三角形状である多層構造体５０が形成された。
【００５５】
この多層構造体５０の表面をＡＦＭで評価したところ、基板４０の凹凸周期と同一周期の凹凸周期構造が形成されていることが確認された。しかも基板４０の周期が不連続になっている部分４８上に成膜された積層膜は表面において基板の表面形状の影響を受け、凹凸周期に不連続部分５８が観察された。この多層構造体は、目視においても周期が不連続になっている部分が視認できた。
【００５６】
得られた多層構造体の偏光別の透過率を測定したところ、いずれも赤外波長域でＴＭ偏光の透過率９０％に対し、ＴＥ偏光の透過率が５％未満となる波長域が存在し、偏光子として機能することを確認した。またこの特性は不連続部分のない場合と比べてとくに劣化していないことを確認した。
【００５７】
この特性は不連続部分をもたない同一形状の基板に比べて変化がなく、不連続部分が光学的特性に悪影響を及ぼさないことを確認した。
【００５８】
（マーキングパターン）
実施例１または２の不連続部分の組み合わせは一例に過ぎない。１周期以内の位相ずれまたは１周期以上１０周期未満の周期構造のない部分を種々任意の組み合わせで挿入することができる。また図６または図８に示すようにＹ方向全域に不連続部分が存在する必要もない。図１１（ａ）に示すように単位領域の境界の一部のみに不連続部分を配置してもよい。また図１１（ｂ）に示すように単位領域ごとに不連続部分の態様を例えば実線で示す箇所と破線で示す箇所で変更してもよい。さらにＹ方向に隣接する単位領域間に不連続部分を挿入してもよい（図１１（ｃ））。
【００５９】
上記の例では１６の単位領域に１２の境界が存在するので、これらすべてについて周期の不連続の有無、不連続の種類（態様）を組み合わせて挿入することができる。これらのパターンに基板の仕様、製造管理情報を関連付けておけば多様な情報を書き込むことが可能で、後刻、これを読み出すことにより基板の識別が可能となる。
【００６０】
なお、上記の実施例では一基板を１６の単位領域に分けて描画しているが、これもとくに限定されるものではない。必要とされる基板面積と電子ビーム描画装置の仕様により、単位領域の大きさを適宜設定し、マーキングパターンはその境界数を考慮して決定すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の周期構造付き基板の概念を示す断面模式図である。
【図２】本発明の周期構造付き基板の概念を示す断面模式図である。
【図３】本発明の周期構造付き基板の概念を示す断面模式図である。
【図４】本発明の周期構造付き基板の原版を製造する基本的な工程図である。
【図５】本発明の周期構造付き基板を転写により作製する基本的な工程図である。
【図６】本発明の第一実施形態に係る周期構造付き基板を説明する図である。
【図７】本発明の第一実施形態に係る周期構造付き基板を説明する斜視図である。
【図８】本発明の第二実施形態に係る周期構造付き基板を説明する図である。
【図９】本発明の第二実施形態に係る周期構造付き基板を説明する斜視図である。
【図１０】本発明の周期構造付き基板の概念を示す断面模式図である。
【図１１】本発明の周期構造付き多層構造体を説明する斜視図である。
【符号の説明】
【００６２】
１  基板
２、３、４  周期構造がない部分（不連続部分）
５  周期構造の位相が１周期未満の範囲でずれる部分
８  周期をもつ凹凸構造
１０、２０  平板状基板
１１  光官能性樹脂
１２、２２  樹脂パターン
１３  原版
２１  成型用樹脂
３０  ガラス基板
３２  平板状部分
３４  円錐構造
３８  不連続部分
４０  基板
４２  平板状部分
４４  峰部
４６  溝部
４８  不連続部分
５０  多層構造体
５２  積層膜
５８  不連続部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2009104089.tif 000009
【図８】
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【図９】
2009104089.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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