(57)【要約】【課題】触媒の排ガス浄化性能の向上及び耐熱性の向上を図る。【解決手段】ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子１に触媒金属粒子２が担持されている排ガス浄化用触媒材において、ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子１は、該ＣｅＺｒ系複合酸化物の一次粒子３が二次粒子を形成するように凝集してなるものであり、大半の触媒金属粒子２は上記二次粒子の表面に担持され、一部の触媒金属粒子２は上記一次粒子間に配置されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子に触媒金属が担持されている排ガス浄化用触媒材であって、
上記ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子は、該ＣｅＺｒ系複合酸化物の一次粒子が二次粒子を形成するように凝集してなるものであり、
上記触媒金属の大半は上記二次粒子の表面に担持され、残る当該触媒金属の少なくとも一部は上記一次粒子間に配置されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒材。
【請求項２】
請求項１において、
上記触媒金属は、Ｐｄ及びＰｔのうちの少なくとも一種であることを特徴とする排ガス浄化用触媒材。
【請求項３】
ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子に触媒金属が担持されている排ガス浄化用触媒材の製造方法であって、
Ｃｅイオン及びＺｒイオンを含む酸性溶液に塩基性溶液を添加混合する工程と、
得られた沈殿物の脱水処理を行なう工程と、
得られた沈殿脱水物に上記触媒金属の溶液を添加して混合する工程と、
上記触媒金属溶液が添加混合された沈殿脱水物を焼成する工程とを備えていることを特徴とする排ガス浄化用触媒材の製造方法。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の排ガス浄化用触媒材がハニカム担体の触媒層に含まれていることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排ガス浄化用触媒材、同触媒材の製造方法、及び同触媒材を用いた触媒に関する。
【背景技術】
【０００２】
排ガス浄化用触媒に、セリア、ＣｅＺｒ複合酸化物等の酸素吸蔵材を含ませることは一般に行なわれている。特に理論空燃比付近で働く三元触媒においては、その有効に働く空燃比幅（ウィンドウ）を拡大するために上記酸素吸蔵材が利用されている。このような酸素吸蔵材にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の触媒金属をさせることも一般に行なわれている。
【０００３】
触媒金属を酸素吸蔵材に担持する方法として、酸素吸蔵材粉末に触媒金属溶液を添加混合し加熱によって水分を蒸発させる蒸発乾固法（特許文献１参照）や、酸素吸蔵材を含有する触媒層をハニカム担体に形成した後、この触媒層に触媒金属溶液を含浸させて乾燥・焼成する含浸法が周知である。
【０００４】
ところで、排ガス浄化用触媒には、高温の排気ガスに晒されたときに触媒金属のシンタリングを招いて、その浄化性能が低下するという問題がある。特にＣｅを含有する酸素吸蔵材は、触媒金属のサポート材として広く採用されているアルミナよりも耐熱性が低い（高温排ガスに長時間晒されると、比表面積が小さくなる）ことから、該酸素吸蔵材に担持されている触媒金属はシンタリングを生じ易い。
【０００５】
このため、例えばＣｅＺｒ複合酸化物にあっては、さらにＮｄやＬａ等の希土類金属、或いはアルカリ土類金属を添加して複合化することがなされ、或いはアルミナと複合化することが行なわれている。また、サポート材における触媒金属の分散性を高めることも種々検討されている。
【０００６】
例えば特許文献２には、アルミナ粉末にＣｅ、Ｚｒ及び触媒貴金属の各イオンを溶解した水溶液を添加して混合し、乾燥・焼成することが記載されている。これによれば、アルミナにＣｅ酸化物及びＺｒ酸化物が複合化され且つ貴金属が分散担持された触媒材が得られる。
【０００７】
特許文献３には、ケイ素のアルコキシドを加水分解してシリカゲルを生成し、これに触媒金属塩の溶液を加えて乾燥・焼成することが記載されている。これによれば、シリカ表面に触媒金属が分散した触媒材が得られる。
【０００８】
特許文献４には、焼成前の水酸基を有する湿潤な酸化物前駆体（湿潤ケーキ）に触媒金属の化合物粉末を添加することにより、金属化合物粉末を溶解させるとともに、酸化物前駆体に金属化合物を吸着させ、乾燥・焼成することが記載されている。これによれば、例えば、アルミナ粒子やアルミナ−シリカ複合酸化物粒子に触媒金属が分散担持された触媒材が得られる。
【特許文献１】特開２００７−５６７３６号公報
【特許文献２】特開昭５９−２３０６３９号公報
【特許文献３】特開平８−７１４３１号公報
【特許文献４】特開２００４−３３０１０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、酸素吸蔵材に担持されている触媒金属は、該酸素吸蔵材における排ガス中の酸素の吸蔵・放出を媒介することにより、その吸蔵・放出を促進すると考えられている。また、この酸素の吸蔵・放出を媒介することによって触媒金属がＨＣ及びＣＯの酸化に適した酸化状態となり、さらにこのＨＣ及びＣＯの酸化に伴ってＮＯｘの還元浄化が進み易くなる、或いは、酸素の吸蔵・放出を媒介する過程において、触媒金属が酸素を吸着した状態、酸素を脱離した状態をとる、すなわち、酸化・還元の状態変化をすることにより、排ガス成分の酸化触媒・還元触媒として効率良く働くと考えられる。
【００１０】
一方、酸素吸蔵材が高温の排ガスに晒されたとき、触媒金属がシンタリングすると、上記酸素吸蔵・放出能及び排ガス浄化性能が大きく低下する。
【００１１】
従って、酸素吸蔵材においては、触媒金属が上記酸素の吸蔵・放出を媒介し易い状態で且つシンタリングを生じ難い状態に担持されていることが重要になる。
【００１２】
かかる観点から、本発明は、酸素吸蔵材における触媒金属の担持状態を見直し、触媒の排ガス浄化性能の向上及び耐熱性の向上を図ることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、このような課題を解決するために、触媒金属の一部をＣｅＺｒ系複合酸化物の一次粒子間に配置させるようにした。
【００１４】
請求項１に係る発明は、ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子に触媒金属が担持されている排ガス浄化用触媒材であって、
上記ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子は、該ＣｅＺｒ系複合酸化物の一次粒子が二次粒子を形成するように凝集してなるものであり、
上記触媒金属の大半は上記二次粒子の表面に担持され、残る当該触媒金属の少なくとも一部は上記一次粒子間に配置されていることを特徴とする。
【００１５】
ここに、触媒金属がＣｅＺｒ複合酸化物粒子の一次粒子間に配置されているとは、触媒金属がＣｅＺｒ複合酸化物粒子の細孔（一次粒子間の空隙）に配置され、又は触媒金属が一次粒子間に挟まれて配置されていることを意味する。そして、そのことは、触媒金属粒子が微小であり、且つそれが高分散に担持されていることを意味する。このため、触媒金属が媒介となるＣｅＺｒ系複合酸化物粒子の酸素吸蔵・放出が盛んになってその吸蔵・放出量が多くなり、また、触媒金属の酸化状態が変化して、排ガス浄化効率が高くなる。しかも、ＣｅＺｒ複合酸化物粒子の一次粒子間に配置されている触媒金属はシンタリングし難く、そのため、高温の排ガスに晒されたときの、酸素吸蔵放出能及び排ガス浄化性能の低下が少ない。また、触媒金属の一部がＣｅＺｒ複合酸化物粒子の一次粒子間に担持されているだけでなく、その一次粒子が凝集してなる二次粒子の表面に触媒金属の大半（半分以上ないしは９０質量％以上）が担持されているから、この二次粒子表面に担持されている触媒金属も排ガス浄化に働き、高い排ガス浄化性能が得られる。
【００１６】
請求項２に係る発明は、請求項１において、
上記触媒金属は、Ｐｄ及びＰｔのうちの少なくとも一種であることを特徴とする。
【００１７】
ここに、Ｐｄ及びＰｔはいずれも、ＣｅＺｒ系複合酸化物の酸素吸蔵・放出を媒介する働きをし、また、排ガス浄化用の触媒金属として有効に働く。よって、優れた酸素吸蔵・放出及び排ガス浄化性能が得られる。
【００１８】
請求項３に係る発明は、ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子に触媒金属が担持されている排ガス浄化用触媒材の製造方法であって、
Ｃｅイオン及びＺｒイオンを含む酸性溶液に塩基性溶液を添加混合する工程と、
得られた沈殿物の脱水処理を行なう工程と、
得られた沈殿脱水物に上記触媒金属の溶液を添加して混合する工程と、
上記触媒金属溶液が添加混合された沈殿脱水物を焼成する工程とを備えていることを特徴とする。
【００１９】
ここに、沈殿脱水物に対する触媒金属溶液の添加混合は、沈殿物の脱水処理によって得られる脱水物を乾燥させる前に行なっても、該沈殿脱水物を乾燥させた後に行なってもよい。
【００２０】
そうして、上記沈殿脱水物は、ＣｅＺｒ系複合酸化物一次粒子の前駆体（Ｃｅイオン及びＺｒイオンを含む複合水酸化物粒子）の集合体であり、この沈殿脱水物に触媒金属溶液が添加混合されることにより、その触媒金属溶液が一次粒子前駆体と混じり合うことになる。よって、上記焼成工程により、触媒金属の大半は上記ＣｅＺｒ系複合酸化物一次粒子が凝集してなる二次粒子の表面に担持されるが、触媒金属の少なくとも一部は上記一次粒子間に配置された状態になる。
【００２１】
請求項４に係る発明は、請求項１又は請求項２に記載の排ガス浄化用触媒材がハニカム担体の触媒層に含まれていることを特徴とする排ガス浄化用触媒である。
【００２２】
従って、本発明によれば、優れた酸素吸蔵・放出及び排ガス浄化性能を有し且つ耐熱性が高い排ガス浄化用触媒となる。
【００２３】
請求項１乃至請求項４の各発明において、ＣｅＺｒ系複合酸化物に関しては、その陽イオンとしてＣｅ及びＺｒだけでなく、Ｃｅ以外の希土類金属（Ｌａ、Ｎｄ、Ｐｒ等）を含有させる場合もある。これにより、さらに高い排ガス浄化性能を期待することができる。
【発明の効果】
【００２４】
請求項１に係る発明によれば、触媒金属の大半はＣｅＺｒ系複合酸化物の二次粒子表面に担持され、残る当該触媒金属の少なくとも一部は上記二次粒子を構成する一次粒子間に配置されているから、一次粒子間に配置されている触媒金属がＣｅＺｒ系複合酸化物粒子の酸素吸蔵・放出の媒介物として有効に働き且つその触媒金属はシンタリングを生じ難いことから、優れた酸素吸蔵・放出性能及び排ガス浄化性能を有し、しかも耐熱性が高い排ガス浄化用触媒が得られる。
【００２５】
請求項２に係る発明によれば、上記触媒金属がＰｄ及びＰｔのうちの少なくとも一種であるから、優れた酸素吸蔵・放出及び排ガス浄化性能を得る上で有利になる。
【００２６】
請求項３に係る発明によれば、Ｃｅイオン及びＺｒイオンを含む酸性溶液に塩基性溶液を添加混合する工程と、得られた沈殿物の脱水処理を行なう工程と、得られた沈殿脱水物に触媒金属の溶液を添加して混合する工程と、この触媒金属溶液が添加混合された沈殿脱水物を焼成する工程とを備えているから、触媒金属イオン溶液がＣｅＺｒ系複合酸化物一次粒子の前駆体と混じり合った状態で上記焼成が行なわれ、よって、触媒金属の大半は上記一次粒子が凝集してなる二次粒子の表面に担持され、残る当該触媒金属の少なくとも一部が上記一次粒子間に配置されている排ガス浄化用触媒材が得られる。
【００２７】
請求項４に係る発明によれば、請求項１又は請求項２に記載の排ガス浄化用触媒材がハニカム担体の触媒層に含まれているから、優れた酸素吸蔵・放出及び排ガス浄化性能を有し且つ耐熱性が高い排ガス浄化用触媒となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。尚、以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。
【００２９】
＜触媒金属担持酸素吸蔵材の構成＞
図１は本発明に係る排ガス浄化用触媒材を模式的に示す図である。同図において、１はＣｅＺｒ系複合酸化物粒子、２は触媒金属粒子である。ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子１は、多数の一次粒子３が凝集してなる二次粒子である。一部の触媒金属粒子２は一次粒子３の表面凹陥部４及び一次粒子間に配置（担持）され、大半の触媒金属粒子２は、二次粒子の表面（特に一次粒子３の表面凹陥部４以外の部位）に担持されている。上記一次粒子３の平均粒径は１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下程度である。
【００３０】
同図では、一次粒子３の表面凹陥部４に担持されている触媒金属粒子２は交差斜線を付した丸で表し、一次粒子間に担持されている触媒金属粒子２は片側斜線を付した丸で表し、他の部位に担持されている触媒金属粒子２を黒丸で表している。上記一次粒子間に担持されている触媒金属粒子２としては、図示の如く、一次粒子間に挟まれている触媒金属粒子の他に、一次粒子間の空隙である細孔内面に担持されている触媒金属粒子を含むが、後者については図示を省略している。
【００３１】
＜排ガス浄化用触媒材の調製方法＞
本発明に係る排ガス浄化用触媒材は、以下の方法によって調製することができる。
【００３２】
−共沈原料溶液の調製−
Ｃｅイオン及びＺｒイオンを含む（必要に応じて、Ｃｅ以外の希土類金属、或いはアルカリ土類金属のイオンを含む）酸性溶液を調製する。Ｃｅ源としては硝酸セリウム(III)六水和物を、Ｚｒ源としてはオキシ硝酸ジルコニウム二水和物を、それぞれ採用することができる。Ｃｅ以外の希土類金属としては、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ等の硝酸塩を採用することができ、アルカリ土類金属としては、Ｓｒ、Ｂａ等の硝酸塩を採用することができる。これらＣｅ源及びＺｒ源（並びに必要に応じてＣｅ以外の希土類金属源、アルカリ土類金属源）各々の所定量と水とを混合して原料溶液（酸性）とする。
【００３３】
−沈殿の生成−
上記原料溶液に塩基性溶液を添加混合して沈殿物を生成する。すなわち、原料溶液を室温で約１時間攪拌した後、８０℃程度にまで温度を上げ、これに塩基性溶液として例えば濃度７％程度のアンモニア水を添加すればよい。苛性ソーダ水溶液など多の塩基性溶液を採用することもできる。
【００３４】
−脱水−
得られた沈殿物を遠心分離器にかけて上澄み液を除去する。上澄み液を除去した沈殿脱水物にさらにイオン交換水を加えて攪拌し再び遠心分離器にかける（脱水する）、という水洗・脱水操作を必要回数繰り返すことができる。当該脱水工程により、余剰塩基性溶液が除去される。
【００３５】
−触媒金属溶液の添加混合−
得られた沈殿脱水物に触媒金属イオンを含有する触媒金属溶液を添加混合する。この触媒金属溶液の添加混合は、沈殿脱水物を乾燥させる前に行ない、その後に当該添加混合物の乾燥を行なうようにしても、或いは沈殿脱水物を乾燥させた後に、触媒金属溶液の添加混合を行なうようにしてもよい。乾燥は例えば大気雰囲気において１００℃〜２５０℃程度の温度に所定時間保持することによって行なうようにすればよい。触媒金属溶液としては、硝酸パラジウム水溶液やジニトロジアミン白金硝酸溶液などを採用することができる。
【００３６】
−焼成−
上記触媒金属溶液が添加混合された沈殿脱水物を焼成する。その焼成は、４００℃〜６００℃程度の温度に数時間保持することによって行なうことができる。
【００３７】
以上により、本発明に係る排ガス浄化用触媒材を得ることができる。
【００３８】
この場合、上記脱水処理によって得られる沈殿脱水物は、ＣｅＺｒ系複合酸化物一次粒子の前駆体（ＣｅとＺｒとの複合水酸化物粒子が凝集したもの）の集合体である。そして、触媒金属溶液の添加混合処理により、触媒金属溶液が上記一次粒子前駆体と混じり合うことになる。よって、上記焼成処理により、触媒金属の大半は上記ＣｅＺｒ系複合酸化物一次粒子が凝集してなる二次粒子の表面に担持された状態になるが、触媒金属の少なくとも一部は上記一次粒子間に配置された状態になる。
【００３９】
また、一次粒子に担持されている触媒金属粒子は、二次粒子表面に担持されている触媒金属粒子よりも粒径が小さく、且つ高分散になっている。従って、図２Ａ及び図２Ｂに模式的に示すように、触媒金属粒子２が一次粒子に担持されている場合（図２Ａ）は、二次粒子表面に担持されている場合（図２Ｂ）よりも、触媒金属粒子２がＣｅＺｒ系複合酸化物粒子１に接触している箇所が多くなる。このため、一次粒子に担持されている触媒金属が酸素吸蔵・放出を効率良く媒介することになり、酸素の吸蔵・放出、すなわち、活性酸素の放出が活発になる。また、触媒金属は酸素の吸蔵・放出を媒介することによってその酸化状態が変化するから、触媒活性が高くなる。
【００４０】
＜排ガス浄化性能の評価＞
−供試材の調製−
上記調製法により、触媒金属溶液を沈殿脱水物に対して、その乾燥前に添加混合した実施例Ａ１〜Ａ９、並びに、その乾燥後に添加混合した実施例Ｂ１〜Ｂ８の各触媒材を調製した。また、沈殿脱水物を乾燥・焼成した後に触媒金属溶液を添加混合し、蒸発乾固法によって触媒金属をＣｅＺｒ系複合酸化物に担持させた比較例１〜８の各触媒材を調製した。そうして、実施例及び比較例の各触媒材を用いて排ガス浄化用触媒（供試材）を調製した。実施例Ａ１〜Ａ９は、複合酸化物の組成又は触媒金属の種類が後に示す表２のように相異なる。実施例Ｂ１〜Ｂ８各々及び比較例１〜８各々は、複合酸化物の組成又は触媒金属の種類を実施例Ａ１〜Ａ８の各々に対応させた（同じにした）ものである。
【００４１】
供試材の具体的な製法を実施例Ａ１を例に説明する。すなわち、硝酸セリウム(III)六水和物、オキシ硝酸ジルコニウム二水和物及び硝酸ネオジム各々の所定量と水とを混合して合計４００ｍＬとした。これらＣｅ源、Ｚｒ源及びＮｄ源の各量は、ＺｒＯ２：ＣｅＯ２：Ｎｄ２Ｏ３＝２２：６８：１０（質量比）となるように調節した。得られた原料溶液を室温で約１時間攪拌した後、８０℃まで昇温させ、７％アンモニア水１２００ｍＬを添加して混合した。得られた沈殿物を遠心分離器にかけて上澄み液を除いた後、これにイオン交換水を加えて攪拌し再び遠心分離器にかけるという水洗操作を行なった。得られた沈殿脱水物に硝酸パラジウム溶液を当該触媒材のＰｄ担持量が０．５質量％となるように添加混合し、次いで乾燥（２００℃の温度に１０時間保持）及び焼成（５００℃の温度に１０時間保持）を行なうことにより、実施例Ａ１の触媒材を得た。
【００４２】
上記触媒材にバインダ及び水を合わせてスラリーを作り、このスラリーにハニカム担体を浸漬して引き上げ、余分に付着したスラリーを除去し、乾燥・焼成を行なうことにより、上記触媒材を含有する触媒層がセル壁面に形成されたリグ評価用ハニカム触媒、すなわち、実施例Ａ１の供試材を作成した。ハニカム担体に付着させたスラリーの焼成条件は５００℃×２時間（大気中）とした。ハニカム担体１Ｌ当たりの供試材担持量は８０ｇ／Ｌとした。バインダとしてはＺｒバインダを採用し、バインダ量は８．９ｇ／Ｌとした。ハニカム担体としては、セル壁厚さ４mil（１０１．６×１０−３ｍｍ）、１平方インチ（６３５．１６ｍｍ２）当たりのセル数４００のものを採用した。
【００４３】
実施例Ａ２〜Ａ９は、複合酸化物の組成又は触媒金属の種類が異なるだけで、その製法は実施例Ａ１と同じである。
【００４４】
実施例Ｂ１は、硝酸パラジウム溶液の添加を上記沈殿脱水物の乾燥後としたものであり、他は実施例Ａ１と同じである。また、実施例Ｂ２〜Ｂ８は、複合酸化物の組成又は触媒金属の種類が異なるだけで、その製法は実施例Ｂ１と同じである。
【００４５】
比較例１は、硝酸パラジウム溶液の添加を上記沈殿脱水物の乾燥・焼成後とし、その後の蒸発乾固によってＰｄをＣｅＺｒ系複合酸化物に担持させたものであり、他は実施例Ａ１と同じである。また、比較例２〜８は、複合酸化物の組成又は触媒金属の種類が異なるだけで、その製法は比較例１と同じである。
【００４６】
−排ガス浄化テスト−
上記実施例及び比較例の各供試材について、熱エージング（大気雰囲気，１０００℃×２４時間）を施した後、モデル排ガス流通反応装置にセットし、プリコンディショニングを行なった後、Ｔ５０及びＣ４００を測定した。プリコンディショニングは、Ａ／Ｆ＝１４．７のモデル排気ガス（表１参照）を空間速度１２００００／ｈで触媒に流しながら、ガス温度を３０℃／分の速度で室温から上昇させていき、６００℃の温度にして２０分間流す、というものである。
【００４７】
排ガス浄化性能評価用のモデル排ガスはＡ／Ｆ＝１４．７±０．９とした。すなわち、Ａ／Ｆ＝１４．７のメインストリームガスを定常的に流しつつ、所定量の変動用ガスを１Ｈｚでパルス状に添加することにより、Ａ／Ｆを±０．９の振幅で強制的に振動させた。Ａ／Ｆ＝１４．７、Ａ／Ｆ＝１３．８及びＡ／Ｆ＝１５．６のときのガス組成を表４に示す。また、空間速度ＳＶは６００００／ｈ、昇温速度は３０℃／分とした。
【００４８】
【表１】
2009078203.tif 000003
【００４９】
Ｔ５０（℃）は、モデル排ガス温度の上昇により、触媒下流で検出されるガスの各成分（ＨＣ、ＣＯ及びＮＯｘ）濃度が、触媒に流入するガスの各成分（ＨＣ、ＣＯ及びＮＯｘ）濃度の半分になった時点（すなわち浄化率が５０％になった時点）の触媒入口ガス温度であって、触媒の低温浄化性能を表すものである。Ｃ４００（％）は、触媒入口ガス温度４００℃のときのガスの各成分（ＨＣ、ＣＯ及びＮＯｘ）の浄化率であって、触媒の高温浄化性能を表すものである。結果を表２に示す。
【００５０】
【表２】
2009078203.tif 000004
【００５１】
触媒金属溶液を沈殿脱水物の乾燥前に添加混合した実施例Ａ１〜Ａ８、並びに触媒金属溶液を沈殿脱水物の乾燥前に添加混合した実施例Ｂ１〜Ｂ８はいずれも、蒸発乾固法を採用した対応する比較例１〜８よりも、ライトオフ温度Ｔ５０が低温になっている。この結果から、本発明のように、触媒金属溶液を沈殿脱水物に添加混合して触媒金属の一部をＣｅＺｒ系複合酸化物粒子の一次粒子間に配置することが、触媒の排ガス低温浄化性能の向上に有利であることがわかる。また、この種の触媒材において、触媒金属は酸素吸蔵材の酸素吸蔵・放出を媒介することに伴って、その酸化状態が変化し、高い活性を示すから、上述の如く、排ガス浄化性能が高いということは、ＣｅＺｒ系複合酸化物の酸素吸蔵・放出も活発に行なわれることを意味する。
【００５２】
高温浄化性能Ｃ４００をみると、比較例１のＨＣ、ＣＯ及びＮＯｘ、比較例２，３各々のＨＣのように、対応する実施例Ａ，Ｂよりも高い浄化率を示すケースも見られるが、他の実施例は対応する比較例と同等若しくはそれ以上の浄化率を示しており、高温浄化性能に関しても実施例は概ね良好な結果を示している。
【００５３】
また、ＣｅＺｒ系複合酸化物に関し、セリアリッチにした実施例Ａ１〜Ａ４，Ｂ１〜Ｂ４と、ジルコニアリッチにした対応する実施例Ａ５〜Ａ８，Ｂ５〜Ｂ８とを比較すると、セリアリッチの方が概ね良好な結果を示している。また、実施例Ａ１，Ａ２，Ａ５，Ａ６，Ａ９，Ｂ１，Ｂ２，Ｂ５，Ｂ６のように、ＣｅＺｒ系複合酸化物に陽イオンとしてＮｄ、Ｌａ或いはＰｒを添加したケースでは、Ｃｅ及びＺｒのみのケースよりも排ガス浄化性能が高くなっている。
【００５４】
さらに、触媒金属としてＰｄを採用した実施例Ａ３，Ｂ３，Ａ７，Ｂ７と、触媒金属としてＰｔを採用した実施例Ａ４，Ｂ４，Ａ８，Ｂ８との比較から、低温浄化性能（Ｔ５０）に関しては、触媒金属としてはＰｄを用いた方が有利であり、高温浄化性能（Ｃ４００）に関しても、ＨＣ及びＮＯｘの浄化についてはＰｄの方が有利であり、ＣＯについては上記ジルコニアリッチ（実施例Ａ７，Ｂ７）ではＰｄの方が有利であるということができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明に係る排ガス浄化用触媒材を模式的に示す斜視図である。
【図２】排ガス浄化用触媒材の酸素放出機構のモデル図である。
【符号の説明】
【００５６】
１    ＣｅＺｒ系複合酸化物粒子
２    触媒金属粒子
３    一次粒子
４    表面凹陥部
【図１】
2009078203.tif 000005
【図２】
2009078203.tif 000006