(57)【要約】【課題】ＰＳＡ方式の透過反射両用型液晶表示装置の製造に好適に用いられ、反射領域におけるポリマー構造物の形成を好適に行い得る製造方法を提供する。【解決手段】本発明による液晶表示装置の製造方法は、反射領域Ｒに対応する領域に設けられた反射層１２ｒを有する第１基板１０と、透過領域Ｔおよび反射領域Ｒの両方に対応する領域に設けられたカラーフィルタ２２を有する第２基板２０とを用意する工程と、用意された第１基板１０および第２基板２０を用いて、液晶層３０中に重合性組成物を含む液晶表示パネル１００ａを作製する工程と、液晶表示パネル１００ａの液晶層３０に光を照射することによって、液晶層３０中の重合性組成物を重合してポリマー構造物３２を形成する工程と、を包含する。第２基板２０のカラーフィルタ２２は、反射領域Ｒに対応する領域に少なくとも１つの開口部２２ａを有し、ポリマー構造物３２を形成する工程は、液晶層３０に第１基板１０側と第２基板２０側の両方から光を照射することによって実行される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた垂直配向型の液晶層とを含む液晶表示パネルを備え、
マトリクス状に配列された複数の画素を有し、
前記複数の画素のそれぞれは、前記第１基板側から入射する光を用いて透過モードの表示を行う透過領域と、前記第２基板側から入射する光を用いて反射モードの表示を行う反射領域とを有し、
前記液晶表示パネルは、前記液晶層に含まれる液晶分子の配向方向を規定するためのポリマー構造物を有する、液晶表示装置の製造方法であって、
前記反射領域に対応する領域に設けられた反射層を有する前記第１基板と、前記透過領域および前記反射領域の両方に対応する領域に設けられたカラーフィルタを有する前記第２基板と、を用意する工程と、
用意された前記第１基板および前記第２基板を用いて、前記液晶層中に重合性組成物を含む前記液晶表示パネルを作製する工程と、
前記液晶表示パネルの前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中の重合性組成物を重合して前記ポリマー構造物を形成する工程と、を包含し、
前記第２基板の前記カラーフィルタは、前記反射領域に対応する領域に少なくとも１つの開口部を有し、
前記ポリマー構造物を形成する工程は、前記液晶層に前記第１基板側と前記第２基板側の両方から光を照射することによって実行される、液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記ポリマー構造物を形成する工程の後に、前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる工程をさらに包含し、
前記重合性組成物の濃度を低減させる工程は、前記液晶層に前記第１基板側と前記第２基板側の両方から光を照射することによって実行される、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた垂直配向型の液晶層とを含む液晶表示パネルを備え、
マトリクス状に配列された複数の画素を有し、
前記複数の画素のそれぞれは、前記第１基板側から入射する光を用いて透過モードの表示を行う透過領域と、前記第２基板側から入射する光を用いて反射モードの表示を行う反射領域とを有し、
前記液晶表示パネルは、前記液晶層に含まれる液晶分子の配向方向を規定するためのポリマー構造物を有する、液晶表示装置の製造方法であって、
前記反射領域に対応する領域に設けられた反射層を有する前記第１基板と、前記透過領域および前記反射領域の両方に対応する領域に設けられたカラーフィルタを有する前記第２基板と、を用意する工程と、
用意された前記第１基板および前記第２基板を用いて、前記液晶層中に重合性組成物を含む前記液晶表示パネルを作製する工程と、
前記液晶表示パネルの前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中の重合性組成物を重合して前記ポリマー構造物を形成する工程と、
前記ポリマー構造物を形成する工程の後に、前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる工程と、を包含し、
前記第２基板の前記カラーフィルタは、前記反射領域に対応する領域に少なくとも１つの開口部を有し、
前記重合性組成物の濃度を低減させる工程は、前記液晶層に前記第１基板側と前記第２基板側の両方から光を照射することによって実行される、液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１基板は、前記複数の画素のそれぞれに対応する領域ごとに設けられた透明電極と反射電極とを有し、
前記反射電極が前記反射層として機能する、請求項１から３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、特に、ＰＳＡ方式の透過反射両用型液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータのディスプレイや携帯情報端末機器の表示部に用いられる表示装置として、薄型軽量の液晶表示装置が利用されている。しかしながら、従来のツイストネマチック型（ＴＮ型）やスーパーツイストネマチック型（ＳＴＮ型）の液晶表示装置は、視野角が狭いという欠点を有しており、それを解決するために様々な技術開発が行われている。
【０００３】
視野角特性が改善された液晶表示装置として、垂直配向型の液晶層を備えた配向分割型液晶表示装置が知られている。このような液晶表示装置は、ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶表示装置と呼ばれる。ＶＡモードの１つとして、特許文献１には、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モードが開示されている。ＭＶＡモードでは、液晶層を介して対向する一対の基板のそれぞれに、液晶分子の配向を規制する配向規制構造が設けられる。配向規制構造は、具体的には、凸部や、電極に形成されたスリットである。凸部やスリットのような配向規制構造が設けられていることにより、液晶層に電圧が印加されたときに、液晶分子の傾斜する方位が互いに異なる複数の領域が形成されるので、視野角特性が向上する。
【０００４】
また、特許文献２には、他のＶＡモードとして、ＣＰＡ（Continuous Pinwheel Alignment）モードが提案されている。ＣＰＡモードでは、液晶層を介して対向する一対の電極の一方に開口部や切欠き部を形成し、開口部や切欠き部上に生成される斜め電界を用いて液晶分子を放射状に傾斜配向させることによって、広視野角を実現する。
【０００５】
さらに、特許文献３には、ＣＰＡモードにおける液晶分子の放射状傾斜配向を安定化させる技術が開示されている。この技術によれば、一方の基板に設けた配向規制構造（斜め電界を生成する電極の開口部や切欠き部）によって形成される放射状傾斜配向が、他方の基板に設けた配向規制構造（例えば凸部）によって安定化される。
【０００６】
一方、液晶分子のプレチルト角およびプレチルト方向を規定するためのポリマー構造物を形成する方式が特許文献４や特許文献５などに提案されている。この方式はＰＳＡ（Polymer-Sustained Alignment）方式と呼ばれる。ポリマー構造物は、予め液晶層に混入しておいた重合性組成物を、液晶層に電圧が印加された状態で光重合や熱重合することによって形成される。このようなポリマー構造物をＶＡモードの液晶表示装置に設けることにより、配向の安定性や応答特性を向上させることができる。
【０００７】
光重合によってポリマー構造物を形成する場合、液晶層へは、アクティブマトリクス基板側から紫外光が照射される。これは、カラーフィルタ基板（対向基板とも呼ばれる。）側から紫外光を照射すると、カラーフィルタによって紫外光が吸収されて十分な量の紫外光が液晶層に到達せず、ポリマー構造物の形成を十分に行うことができないからである。
【０００８】
また、ポリマー構造物を形成した後、さらに液晶層への光の照射を行うことによって、液晶層中に残存している重合性組成物の濃度を低減することが好ましい。残存している重合性組成物は、液晶表示装置の信頼性低下の原因となるため、このような二次的な光の照射（以下では「二次照射」とも呼ぶ。）を行うことにより、信頼性が向上する。この二次照射の際にも、ポリマー構造物の形成の際の光の照射と同様の理由から、アクティブマトリクス基板側から紫外光を照射することが好ましい。
【特許文献１】特開平１１−２４２２２５号公報
【特許文献２】特開２００３−４３５２５号公報
【特許文献３】特開２００２−２０２５１１号公報
【特許文献４】特開２００３−２７９９９３号公報
【特許文献５】特開２００３−３０７７２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、透過モードでの表示と反射モードでの表示の両方が可能な透過反射両用型液晶表示装置では、上述したようにアクティブマトリクス基板側から液晶層に紫外光を照射しても、ポリマー構造物の形成や重合性組成物の濃度の低減を好適に行うことができない。透過反射両用型液晶表示装置のアクティブマトリクス基板は、反射モードで表示を行う領域（反射領域）に、光を反射する反射層（典型的には電極としても機能する反射電極）を有しているため、この反射層によって紫外光が反射されてしまい、反射領域の液晶層に十分な量の紫外光が到達しないためである。照射時間を長くすることにより、ポリマー構造物の形成や重合性組成物の濃度の低減を行うことも考えられるが、その場合には生産性が低下してしまう。このように、従来は、透過反射両用型液晶表示装置にＰＳＡ方式を採用することが困難であった。
【００１０】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＰＳＡ方式の透過反射両用型液晶表示装置の製造に好適に用いられ、反射領域におけるポリマー構造物の形成を好適に行い得る製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明による液晶表示装置の製造方法は、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた垂直配向型の液晶層とを含む液晶表示パネルを備え、マトリクス状に配列された複数の画素を有し、前記複数の画素のそれぞれは、前記第１基板側から入射する光を用いて透過モードの表示を行う透過領域と、前記第２基板側から入射する光を用いて反射モードの表示を行う反射領域とを有し、前記液晶表示パネルは、前記液晶層に含まれる液晶分子の配向方向を規定するためのポリマー構造物を有する、液晶表示装置の製造方法であって、前記反射領域に対応する領域に設けられた反射層を有する前記第１基板と、前記透過領域および前記反射領域の両方に対応する領域に設けられたカラーフィルタを有する前記第２基板と、を用意する工程と、用意された前記第１基板および前記第２基板を用いて、前記液晶層中に重合性組成物を含む前記液晶表示パネルを作製する工程と、前記液晶表示パネルの前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中の重合性組成物を重合して前記ポリマー構造物を形成する工程と、を包含し、前記第２基板の前記カラーフィルタは、前記反射領域に対応する領域に少なくとも１つの開口部を有し、前記ポリマー構造物を形成する工程は、前記液晶層に前記第１基板側と前記第２基板側の両方から光を照射することによって実行される。
【００１２】
ある好適な実施形態において、本発明による液晶表示装置の製造方法は、前記ポリマー構造物を形成する工程の後に、前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる工程をさらに包含し、前記重合性組成物の濃度を低減させる工程は、前記液晶層に前記第１基板側と前記第２基板側の両方から光を照射することによって実行される。
【００１３】
あるいは、本発明による液晶表示装置の製造方法は、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた垂直配向型の液晶層とを含む液晶表示パネルを備え、マトリクス状に配列された複数の画素を有し、前記複数の画素のそれぞれは、前記第１基板側から入射する光を用いて透過モードの表示を行う透過領域と、前記第２基板側から入射する光を用いて反射モードの表示を行う反射領域とを有し、前記液晶表示パネルは、前記液晶層に含まれる液晶分子の配向方向を規定するためのポリマー構造物を有する、液晶表示装置の製造方法であって、前記反射領域に対応する領域に設けられた反射層を有する前記第１基板と、前記透過領域および前記反射領域の両方に対応する領域に設けられたカラーフィルタを有する前記第２基板と、を用意する工程と、用意された前記第１基板および前記第２基板を用いて、前記液晶層中に重合性組成物を含む前記液晶表示パネルを作製する工程と、前記液晶表示パネルの前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中の重合性組成物を重合して前記ポリマー構造物を形成する工程と、前記ポリマー構造物を形成する工程の後に、前記液晶層に光を照射することによって、前記液晶層中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる工程と、を包含し、前記第２基板の前記カラーフィルタは、前記反射領域に対応する領域に少なくとも１つの開口部を有し、前記重合性組成物の濃度を低減させる工程は、前記液晶層に前記第１基板側と前記第２基板側の両方から光を照射することによって実行される。
【００１４】
ある好適な実施形態において、前記第１基板は、前記複数の画素のそれぞれに対応する領域ごとに設けられた透明電極と反射電極とを有し、前記反射電極が前記反射層として機能する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明による液晶表示装置の製造方法は、第１基板側から入射する光を用いて透過モードの表示を行う透過領域と、第２基板側から入射する光を用いて反射モードの表示を行う反射領域とを有する透過反射両用型液晶表示装置の製造方法であり、より具体的には、液晶表示パネルが液晶分子の配向方向を規定するためのポリマー構造物を有するＰＳＡ方式の透過反射両用型液晶表示装置の製造方法である。
【００１６】
本発明による製造方法によれば、第２基板として、カラーフィルタの反射領域に対応する領域に開口部が形成された基板を用意し、液晶層に第１基板側と第２基板側の両方から光を照射することによってポリマー構造物の形成を行うので、反射領域の液晶層にも十分に光を照射することができ、反射領域におけるポリマー構造物の形成を好適に行うことができる。そのため、反射領域における配向の安定性や応答特性を十分に向上させることができる。このように、本発明による製造方法は、ＰＳＡ方式の透過反射両用型液晶表示装置の製造に好適に用いられ、反射領域におけるポリマー構造物の形成を好適に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１８】
図１および図２に、本実施形態におけるＣＰＡモードの液晶表示装置１００を示す。図１は、液晶表示装置１００の１つの画素に対応した領域を模式的に示す平面図である。図２は、図１中の２Ａ−２Ａ’線に沿った断面図であり、液晶層に電圧が印加されていない状態（しきい値電圧未満の電圧が印加されている状態）を示している。
【００１９】
液晶表示装置１００は、液晶表示パネル１００ａを備えている。液晶表示パネル１００ａは、アクティブマトリクス基板（第１基板）１０と、アクティブマトリクス基板１０に対向するカラーフィルタ基板（第２基板）２０と、アクティブマトリクス基板１０とカラーフィルタ基板２０との間に設けられた垂直配向型の液晶層３０とを含んでいる。
【００２０】
また、液晶表示装置１００は、マトリクス状に配列された複数の画素を有している。複数の画素のそれぞれは、アクティブマトリクス基板１０側から入射する光（バックライトからの光）を用いて透過モードの表示を行う透過領域Ｔと、カラーフィルタ基板２０側から入射する光（周囲光）を用いて反射モードの表示を行う反射領域Ｒとを有している。
【００２１】
アクティブマトリクス基板１０は、透明基板（例えばガラス基板やプラスチック基板）１１と、透明基板１１上に設けられた画素電極１２とを有する。画素電極１２は、複数のサブ画素電極１２ａを有している。なお、本実施形態では、３つのサブ画素電極１２ａを有する画素電極１２を例示しているが、１つの画素電極１２に含まれるサブ画素電極１２ａの個数はこれに限定されるものではない。また、各サブ画素電極１２ａの形状も、例示しているような円弧状の角部を有する略矩形に限定されるものではなく、高い回転対称性を有する形状（略正方形や略長方形、略円形等）が好適に用いられる。
【００２２】
複数のサブ画素電極１２ａのうち、一部のサブ画素電極１２ａは、光を透過する導電材料（例えばＩＴＯ）から形成された透明電極１２ｔであり、残りのサブ画素電極１２ａは、高い光反射率を有する導電材料（例えばアルミニウム）から形成された反射電極１２ｒである。透明電極１２ｔによって透過領域Ｔが規定され、反射電極１２ｒによって反射領域Ｒが規定される。なお、反射モードの表示を行うためには、アクティブマトリクス基板１０が、反射領域Ｒに対応する領域に光を反射する反射層を有していればよく、必ずしも本実施形態のように画素電極１２の一部（反射電極１２ｒ）が反射層として機能しなくてもよい。つまり、反射領域Ｒに対応する領域にも透明電極を設け、それとは別途に、電極として機能しない反射層を設けてもよい。
【００２３】
ここでは図示しないが、アクティブマトリクス基板１０は、さらに、画素電極１２に電気的に接続されたＴＦＴ、ＴＦＴに走査信号を供給する走査配線、ＴＦＴに映像信号を供給する信号配線、補助容量を形成するための補助容量配線等を含んでいる。画素電極１２は、これらの配線群やＴＦＴを覆う層間絶縁膜１３上に形成されている。
【００２４】
カラーフィルタ基板２０は、透明基板２１（例えばガラス基板やプラスチック基板）と、透明基板２１上に設けられたカラーフィルタ２２と、カラーフィルタ２２上に設けられた対向電極２３とを有する。画素電極１２が複数の画素のそれぞれに配置されているのに対し、対向電極２３は、典型的には、すべての画素電極１２に対向する１つの透明導電膜として形成される。
【００２５】
カラーフィルタ２２は、透過領域Ｔおよび反射領域Ｒの両方にわたって設けられている。ただし、本実施形態におけるカラーフィルタ２２は、反射領域Ｒに対応する領域に少なくとも１つの（図２では複数の）開口部２２ａを有している。
【００２６】
アクティブマトリクス基板１０および対向基板２０の液晶層３０側の表面には、垂直配向膜（不図示）が設けられている。また、典型的には、アクティブマトリクス基板１０およびカラーフィルタ基板２０の外側に、位相差板や偏光板が設けられる。
【００２７】
垂直配向型の液晶層３０は、負の誘電異方性を有する液晶分子３１を含み、必要に応じてさらにカイラル剤を含んでいる。液晶層３０内の液晶分子３１は、液晶層３０に電圧が印加されていないときに、垂直配向膜の表面に対してほぼ垂直に配向する。ただし、本実施形態では、後述するポリマー構造物が設けられているので、液晶分子３１は垂直配向膜の表面に対して厳密に９０°の角度では配向しない。
【００２８】
なお、図２には、透過領域Ｔと反射領域Ｒとで液晶層３０の厚さ（セルギャップ）がほぼ同じ構成を示しているが、透過モードの表示に用いられる光（液晶層３０を一回だけ通過する）と反射モードの表示に用いられる光（液晶層３０を二回通過する）との光路長の差を小さくするために、反射領域Ｒの液晶層３０の厚さが透過領域Ｔの液晶層３０の厚さよりも小さい（もっとも好ましくは１／２）構成（「マルチギャップ構造」と呼ばれる。）とすることが好ましい。マルチギャップ構造を実現するためには、アクティブマトリクス基板１０またはカラーフィルタ基板２０の反射領域Ｒに対応する領域に、液晶層３０の厚さを調整するための層（液晶層厚調整層）を形成すればよい。液晶層厚調整層は、例えば、透明な樹脂材料から形成される。
【００２９】
図３および図４に、画素電極１２と対向電極２３との間に所定の電圧（しきい値電圧以上の電圧）が印加されたときの液晶分子３１の配向状態を示す。画素電極１２と対向電極２３との間に所定の電圧が印加されると、図３および図４に示すように、各サブ画素電極１２ａ上に液晶ドメインが形成される。液晶ドメイン内で液晶分子３１は放射状に傾斜した配向（放射状傾斜配向）をとる。
【００３０】
サブ画素電極１２ａごとに、放射状傾斜配向をとる液晶ドメインが形成されるのは、サブ画素電極１２ａが独立した島に近い外縁を有し、このサブ画素電極１２ａのエッジ部に生成される斜め電界の配向規制力が液晶分子３１に作用するからである。サブ画素電極１２ａのエッジ部に生成される電界は、サブ画素電極１２ａの中心に向かって傾斜し、液晶分子３１を放射状に傾斜配向させるように作用する。
【００３１】
また、本実施形態では、カラーフィルタ基板２０に、放射状傾斜配向を安定化させるための凸部２４が設けられている。凸部２４は、液晶ドメインの中心に対応する領域（つまり各サブ画素電極１２ａの中心に対応する領域）に配置されている。凸部２４は、透明な誘電体材料（例えば樹脂）から形成されている。なお、必ずしも凸部２４を設ける必要はなく、各画素内に設けられた複数の凸部２４の一部あるいはすべてを省略してもよい。また、凸部２４に代えて、他の配向規制構造（例えば対向電極２３に形成した開口部など）を設けてもよい。
【００３２】
さらに、液晶表示装置１００の液晶層３０は、図２中に模式的に示しているように、液晶分子３１の配向方向を規定するためのポリマー構造物３２を含んでいる。ポリマー構造物３２は、液晶層３０を構成する液晶材料に重合性組成物（重合性を有するモノマーやオリゴマー）を予め混入しておき、この重合性組成物を光重合することによって垂直配向膜上に形成される。ポリマー構造物３２は、電圧印加時と同じように液晶分子３１を配向させる配向規制力を有しており、ポリマー構造物３２周辺の液晶分子３１は、電圧無印加状態においても、電圧印加時の傾斜方向と同じ方向にプレチルトしている。つまり、ポリマー構造物３２が形成されていることによって、液晶分子３１は、電圧無印加状態においても、電圧印加時の放射状傾斜配向と整合するようにプレチルト方位を規定されている。そのため、配向の安定性や応答特性が向上する。
【００３３】
続いて、図５（ａ）〜（ｄ）を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置１００の製造方法を説明する。
【００３４】
まず、図５（ａ）に示すように、反射領域Ｒに対応する領域に設けられた反射層（反射電極１２ｒ）を有するアクティブマトリクス基板１０と、透過領域Ｔおよび反射領域Ｒの両方に対応する領域に設けられたカラーフィルタ２２を有するカラーフィルタ基板２０とを用意する。アクティブマトリクス基板１０およびカラーフィルタ基板２０を作製するに際しては、公知の種々の手法を用いることができるが、カラーフィルタ基板２０を作製するときには、カラーフィルタ２２の反射領域Ｒに対応する領域に少なくとも１つの開口部２２ａを形成しておく。開口部２２ａ内には、典型的には、無色透明な誘電体層（例えば樹脂層）が形成されている。
【００３５】
次に、図５（ｂ）に示すように、用意されたアクティブマトリクス基板１０およびカラーフィルタ基板２０を用いて、液晶表示パネル１００ａを作製する。液晶表示パネル１００ａは、液晶層３０中に重合性組成物を含んでいる。重合性組成物としては、ＰＳＡ方式のポリマー構造物の形成に用いられる種々の材料（例えば特開２００３−３０７７２０号公報に開示されている材料）を用いることができる。
【００３６】
続いて、図５（ｃ）に示すように、液晶表示パネル１００ａの液晶層３０に光（典型的には紫外光）を照射することによって、液晶層３０中の重合性組成物を重合してポリマー構造物３２を形成する。この工程（一次照射工程）は、液晶層３０に所定の電圧（しきい値以上の電圧）を印加した状態で行われる。また、この工程は、図５（ｃ）に示しているように、液晶層３０にアクティブマトリクス基板１０側とカラーフィルタ基板２０側の両方から光を照射することによって実行される。光の照射強度および照射時間は、用いる重合性組成物に応じて適宜設定される。
【００３７】
その後、図５（ｄ）に示すように、液晶層３０に光（典型的には紫外光）を照射することによって、液晶層３０中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる。この工程（二次照射工程）も、液晶層３０にアクティブマトリクス基板１０側とカラーフィルタ基板２０側の両方から光を照射することによって実行される。二次照射工程は、液晶層３０に電圧を印加していない状態で行われる。また、典型的には、二次照射工程における光の照射強度は、一次照射工程における光の照射強度の２０％〜５０％程度であり、二次照射工程における光の照射時間は、一次照射工程における光の照射時間の５倍〜５０倍程度である。
【００３８】
このようにして、図２に示したようにポリマー構造物３２を含むＣＰＡモードの液晶表示装置１００が得られる。本実施形態の製造方法によれば、カラーフィルタ２２の反射領域Ｒに対応する領域に開口部２２ａが形成されたカラーフィルタ基板２０を用意し、液晶層３０にアクティブマトリクス基板１０側とカラーフィルタ基板２０側の両方から光を照射することによってポリマー構造物３２の形成（一次照射工程）を行うので、反射領域Ｒの液晶層３０にも十分に光を照射することができ、反射領域Ｒにおけるポリマー構造物３２の形成を好適に行うことができる。そのため、反射領域Ｒにおける配向の安定性や応答特性を十分に向上させることができる。反射領域Ｒ内に設けられる開口部２２ａの個数や大きさ、配置等は、後述するような好適な反射特性、すなわち、所望の反射率と色純度とを得られるように適宜設定される。なお、反射特性（反射領域Ｒの光学特性）は、反射領域Ｒにおいてカラーフィルタ２２が実際に形成されている領域と開口部２２ａとの面積比率によって決定されるが、反射領域Ｒの液晶層３０に効率よく光を照射するためには、比較的小さな複数の開口部２２ａを散在させることが好ましい。例えば、カラーフィルタ２２の加工精度に応じて、極力小さい開口部２２ａを多数設けたり、細い筋状の開口部２２ａを長く設けたりすることが好ましい。
【００３９】
また、本実施形態のように、液晶層３０中に残存している重合性組成物の濃度を低減させる工程（二次照射工程）についても、液晶層３０にアクティブマトリクス基板１０側とカラーフィルタ基板２０側の両方から光を照射することによって行うことにより、反射領域Ｒの液晶層３０に二次照射光を十分に照射することができ、残存する重合性組成物を効率よく低減することができる。そのため、残存している重合性組成物に起因する信頼性の低下を抑制したり、二次照射時間の増大による生産性の低下を回避したりすることが可能になる。
【００４０】
なお、一般的に、透過反射両用型の液晶表示装置においては、透過領域と反射領域とで表示光がカラーフィルタを通過する回数が異なる（透過領域では１回であるのに対して反射領域では２回）ので、透過領域および反射領域の両方で明るく、且つ、色純度が高い表示を行うことが難しいという問題がある。透過領域での色純度が最適となるようにカラーフィルタの光学濃度を比較的濃く設定すると、反射領域を通過する光はカラーフィルタによって過度に吸収されるので反射領域での表示が暗くなってしまうし、他方、反射領域での表示が明るくなるようにカラーフィルタの光学濃度を比較的薄く設定すると、透過領域での色純度が低くなってしまうからである。
【００４１】
本実施形態のカラーフィルタ基板２０のように、カラーフィルタ２２が反射領域Ｒに対応する領域に開口部２２ａを有していると、反射領域Ｒを通過する光の一部が開口部２２ａ（つまりカラーフィルタ２２の形成されていない領域）を通過するので、反射領域Ｒにおける透過率を向上することができる。そのため、透過領域Ｔおよび反射領域Ｒの両方で明るく、且つ、色純度が高い表示を行うことができる。
【００４２】
なお、本実施形態では、ＣＰＡモードの液晶表示装置１００を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明は、垂直配向型の液晶層を備え、液晶層に電圧が印加されたときに液晶分子の傾斜する方位が互いに異なる複数の領域が形成される（つまり配向分割型の）液晶表示装置に広く用いることができ、例えばＭＶＡモードの液晶表示装置にも好適に用いられる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明によると、ＰＳＡ方式の透過反射両用型液晶表示装置の製造に好適に用いられ、反射領域におけるポリマー構造物の形成を好適に行い得る製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置１００を模式的に示す図であり、１つの画素に対応した領域を示す平面図である。
【図２】本発明の好適な実施形態における液晶表示装置１００を模式的に示す図であり、図１中の２Ａ−２Ａ’線に沿った断面図である。
【図３】液晶表示装置１００において液晶層に電圧が印加されたときの液晶分子の配向状態を模式的に示す平面図である。
【図４】液晶表示装置１００において液晶層に電圧が印加されたときの液晶分子の配向状態を模式的に示す断面図であり、図３中の４Ａ−４Ａ’線に沿った断面図である。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、液晶表示装置１００の製造工程を模式的に示す工程断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１０    アクティブマトリクス基板（第１基板）
１１    透明基板
１２    画素電極
１２ａ    サブ画素電極
１２ｔ    透明電極
１２ｒ    反射電極
１３    層間絶縁膜
２０    カラーフィルタ基板（第２基板）
２１    透明基板
２２    カラーフィルタ
２２ａ    開口部
２３    対向電極
２４    凸部
３０    液晶層
３１    液晶分子
３２    ポリマー構造物
１００    液晶表示装置
１００ａ    液晶表示パネル
Ｔ    透過領域
Ｒ    反射領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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