(57)【要約】【課題】本発明の目的は、光学特性の特徴を確保しつつ、耐擦傷性に優れ、引裂強度、耐折強度が改良された光学フィルムを提供することである。更には、そのような光学フィルムを基材とした機能性フィルムを提供することであり、該機能性フィルムを具備した偏光板および画像表示装置を提供することである。【解決手段】セルロースエステルを主成分とし、ポリロタキサンを含有するポリマーからなることを特徴とする光学フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルを主成分とし、ポリロタキサンを含有するポリマーからなることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
ポリロタキサンの含有量がポリマーに対して０．１から３０質量部であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム
【請求項３】
上記ポリロタキサンの環状分子がシクロデキストリンであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
上記ポリロタキサンの環状分子が、水酸基が疎水性修飾基によって修飾されたシクロデキストリンであり、疎水性修飾基による修飾度は、該シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数を１とすると、０．０２以上であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルム。
【請求項５】
上記ポリロタキサンが架橋ポリロタキサンであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
セルロースのＯＨ基の一部または全部がアシル基で置換されていて、アシル基置換度が２．０から３．０の範囲にあることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項７】
該アシル基の少なくとも１種が炭素数３から２０のアシル基であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項８】
上記ポリロタキサンの直鎖上分子がポリエチレングリコール鎖を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８に記載とした光学フィルムを基材とし、さらに機能性層が積層されていることを特徴とする光学機能性フィルム。
【請求項１０】
前記機能性層がハードコート層、防眩層、反射防止層、ポリマー層、光学補償層のいずれかであるか、又はこれらから選ばれる複数の層であることを特徴とする請求項９に記載の光学機能性フィルム。
【請求項１１】
偏光板保護フィルムとして、請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルムが用いられることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリロタキサンを含有する光学フィルムに関する。とりわけ、セルロースアシレートを主成分とした光学フィルム、及びそれを基材とした機能性フィルム、並びにそのような機能性フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースアシレートフィルムは優れた透明性や機械強度、光学等方性等の特性を生かして光学フィルムとして広く用いられている。
例えば液晶表示装置では、セルロースアシレートフィルムは位相差フィルムや反射防止フィルムの基材として、また偏光板の保護フィルム、などに利用されている。
ところで、このような光学フィルムはそれが搭載される液晶表示装置の低価格化に伴って、高い生産性が要求されている。生産性を上げるためには反射防止加工（ハードコート層や反射防止層の積層）や、偏光板加工をより高速で行うことが必要であり、セルロースアシレートフィルムにはより高速でのハンドリング適性が要求されて来ている。
【０００３】
セルロースアシレートフィルムは、そのままでは、引裂強度、耐折強度が低く、特に低湿度の状態下では、非常に脆くなり裂け易い欠点があった。このため、これらを改良するために、セルロースアシレートの溶液流延製膜方法を用い、セルロースアシレート溶液に可塑剤（例えば、リン酸エステル類、フタル酸エステル類等）を適宜選択して単独又は混合したドープ組成物を用いることで引裂強度、耐折強度の改良が行われている。しかしながら、これらのフィルムでも引き裂き強度や、耐折強度は充分ではなく、高速ハンドリング時に切断を起こす原因となる。そのため、より高い引裂強度、耐折強度が要求されて来ている。
【０００４】
近年、斬新な手法を用いて物理ゲル、化学ゲルのいずれにも分類されない新しい種類のゲル、即ち「環動ゲル又はトポロジカルゲル」が提案されており、このような環動ゲルにはポリロタキサンが用いられている。ポリロタキサンは環状化合物とこの環状化合物を複数貫通する直鎖状高分子体からなり、この直鎖状高分子体の両末端をキャップした構造を持つ概念的化合物である。
特許文献１には環状化合物としてα−シクロデキストリンを、直鎖状高分子としてポリエチレングリコールを用いたポリロタキサンが開示されている。
【０００５】
特許文献２には、このポリロタキサンを複数架橋して、環動ゲルに適用可能な架橋ポリロタキサンが開示されている。
この架橋ポリロタキサンは直鎖状分子に串刺し状に貫通されている環状分子が当該直鎖状に沿って移動可能なため（滑車効果）、粘弾性を有し、張力が加わっても、この滑車効果によって当該張力を均一に分散させることができるので、従来の架橋ポリマーとは異なり、クラックや傷が極めて生じ難いという優れた性質を有するものである。
【０００６】
このようなポリロタキサンまたは架橋ポリロタキサンはさまざまな分野への応用研究が進められているが、このようなポリロタキサンを光学フィルム特に液晶表示装置用偏光板保護フィルムへの適用研究は進められて来なかった。
【０００７】
また、プラスチック板への応用として、特許文献３にポリロタキサンを含有した自動車用の着色プラスチック板が開示されている。
【特許文献１】特許第２８１０２６４号公報
【特許文献２】特許第３４７５２５２号公報
【特許文献３】特開２００７−０９９９８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、光学特性の特徴を確保しつつ、耐擦傷性に優れ、引裂強度、耐折強度が改良されたセルロースエステルフィルムを提供することである。更には、そのような光学フィルムを基材とした機能性フィルムを提供することであり、該機能性フィルムを具備した偏光板および画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、ポリロタキサンを含有させることで、可撓性、高透明性、低ヘイズ、光学異方性のコントロール性を維持したまま、耐擦傷性に優れ、引裂強度や耐折強度が改良されたセルロースエステルフィルム、特にセルロースアシレートを主体とした光学フィルムが得られることを見出した。
【００１０】
すなわち、本発明者は以下の各構成により、上記目的を達したものである。
（１）セルロースエステルを主成分とし、ポリロタキサンを含有するポリマーからなることを特徴とする光学フィルム。
（２）ポリロタキサンの含有量がポリマーに対して０．１から３０質量部であることを特徴とする（１）に記載の光学フィルム。
（３）上記ポリロタキサンの環状分子がシクロデキストリンであることを特徴とする（１）または（２）に記載の光学フィルム。
（４）上記ポリロタキサンの環状分子が、水酸基が疎水性修飾基によって修飾されたシクロデキストリンであり、疎水性修飾基による修飾度は、該シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数を１とすると、０．０２以上であることを特徴とする（３）に記載の光学フィルム。
（５）上記ポリロタキサンが架橋ポリロタキサンであることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の光学フィルム。
（６）セルロースのＯＨ基の一部または全部がアシル基で置換されていて、アシル基置換度が２．０から３．０の範囲にあることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の光学フィルム。
（７）該アシル基の少なくとも１種が炭素数３から２０のアシル基であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の光学フィルム。
（８）上記ポリロタキサンの直鎖上分子がポリエチレングリコール鎖を有することを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載の光学フィルム。
（９）（１）〜（８）に記載とした光学フィルムを基材とし、さらに機能性層が積層されていることを特徴とする光学機能性フィルム。
（１０）前記機能性層がハードコート層、防眩層、反射防止層、ポリマー層、光学補償層のいずれかであるか、又はこれらから選ばれる複数の層であることを特徴とする（９）に記載の光学機能性フィルム。
（１１）偏光板保護フィルムとして（１）〜（８）のいずれかに記載の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板。
（１２）（１）〜（８）のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とする画像表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、可撓性、高透明性、低ヘイズ、光学異方性のコントロール性を維持したまま、耐擦傷性に優れ、引裂強度や耐折強度が改良された光学フィルムを作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の光学フィルムの作製方法等について説明する。ただし、本発明は、以下の記載により制限されない。
なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は、「数値１以上〜数値２以下」の意味を表す。
「樹脂」とは、モノマー、オリゴマー、プレポリマーを包含する意味を表す。
「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを意味する。
【００１３】
＜ポリロタキサン＞
本発明で必須の成分であるポリロタキサンについて説明する。
ポリロタキサンは、環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に貫かれ、複数の環状分子が直鎖状分子を包接してなる擬ポリロタキサンの両末端（直鎖状分子の両末端）に、環状分子が遊離しないようにブロック基を配置してなる。
【００１４】
（直鎖状分子）
本発明の化合物に含まれる直鎖状分子は、環状分子に包接され、非共有結合的に一体化することができる分子又は物質であって、直鎖状のものであれば、特に限定されない。なお、本発明において、「直鎖状分子」とは、高分子を含めた分子、及びその他上記の要件を満たす全ての物質をいう。
また、本発明において、「直鎖状分子」の「直鎖」は、実質的に「直鎖」であることを意味する。即ち、回転子である環状分子が回転可能、もしくは直鎖状分子上で環状分子が摺動又は移動可能であれば、直鎖状分子は分岐鎖を有していてもよい。また、「直鎖」の長さは、直鎖状分子上で環状分子が摺動又は移動可能であれば、その長さに特に制限はない。
【００１５】
本発明の直鎖状分子として、親水性ポリマー、例えばポリビニルアルコールやポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、セルロース系樹脂（カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等及び／またはこれらの共重合体など；疎水性ポリマー、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、およびその他オレフィン系単量体との共重合樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル−スチレン共重合樹脂等のポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレートや（メタ）アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合樹脂などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等；及びこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
【００１６】
これらのうち、親水性ポリマーであることが好ましい。
【００１７】
親水性のポリマーの中でも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、及びポリプロピレンが好ましい。ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール及ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体がより好ましく、ポリエチレングリコールが特に好ましい。
【００１８】
本発明の直鎖状分子は、その分子量が１，０００以上、例えば１，０００〜１，０００，０００、好ましくは５，０００以上、例えば５，０００〜１，０００，０００又は５，０００〜５００，０００、より好ましくは１０，０００以上、例えば１０，０００〜１，０００，０００、１０，０００〜５００，０００又は１０，０００〜３００，０００であるのがよい。
また、本発明の直鎖状分子が、生分解性分子であるのが「環境にやさしい」点で好ましい。
【００１９】
本発明の直鎖状分子は、その両末端に反応基を有するのが好ましい。この反応基を有することにより、ブロック基と容易に反応することができる。反応基は、用いるブロック基に依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基などを挙げることができる。
【００２０】
（環状分子）
本発明の環状分子は、上記直鎖状分子と包接可能な環状分子であれば、いずれの環状分子であっても用いることができる。
なお、本発明において、「環状分子」とは、環状分子を含めた種々の環状物質をいう。また、本発明において、「環状分子」とは、実質的に環状である分子又は物質をいう。即ち、「実質的に環状である」とは、英字の「Ｃ」のように、完全に閉環ではないものを含む意であり、英字の「Ｃ」の一端と多端とが結合しておらず重なった螺旋構造を有するものも含む意である。さらに、後述する「ビシクロ分子」についての環についても、「環状分子」の「実質的に環状である」と同様に定義することができる。即ち、「ビシクロ分子」の一方の環又は双方の環は、英字の「Ｃ」のように、完全に閉環ではないものであってもよく、英字の「Ｃ」の一端と他端とが結合しておらず重なった螺旋構造を有するものであってもよい。
【００２１】
本発明の環状分子として例えば、種々のシクロデキストリン類（例えばα−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、ジメチルシクロデキストリン及びグルコシルシクロデキストリン、これらの誘導体又は変性体など）、クラウンエーテル類、ベンゾクラウン類、ジベンゾクラウン類、及びジシクロヘキサノクラウン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
【００２２】
上述のシクロデキストリン類及びクラウンエーテル類などは、その種類により環状分子の開口部の大きさが異なる。したがって、用いる直鎖状分子の種類、具体的には用いる直鎖状分子を円柱状と見立てた場合、その円柱の断面の直径、直鎖状分子の疎水性又は親水性などにより、用いる環状分子を選択することができる。また、開口部が相対的に大きな環状分子と、相対的に直径が小さな円柱状の直鎖状分子を用いた場合、環状分子の開口部に２以上の直鎖状分子を包接することもできる。
このうち、シクロデキストリン類は、生分解性を有するため、上述の「環境にやさしい」点で好ましい。
【００２３】
環状分子としてα−シクロデキストリンを用いるのが好ましい。
直鎖状分子に包接される環状分子の個数（包接量）は、環状分子がシクロデキストリンの場合、その最大包接量を１とすると、０．０５〜０．６０が好ましく、０．１０〜０．５０が更に好ましく、０．２０〜０．４０が更に好ましい。０．０５未満では滑車効果が発現しないことがあり、０．６０を超えると、環状分子であるシクロデキストリンが密に配置され過ぎてシクロデキストリンの可動性が低下することがあり、またシクロデキストリン自体の有機溶剤に対する非溶解性が強化されてしまい、得られるポリロタキサンの有機溶剤への溶解性も低下することがある。
【００２４】
本発明の環状分子は、その環の外側に反応基を有するのが好ましい。環状分子同士を結合又は架橋する際、この反応基を用いて容易に反応を行うことができる。反応基は、用いる架橋剤などにも依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、アルデヒド基などを挙げることができる。また、上述のブロック化反応の際にブロック基と反応しない基を用いるのがよい。
【００２５】
（ブロック基）
本発明のブロック基は、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持する基であれば、いかなる基を用いてもよい。このような基として、例えば「嵩高さ」を有する基及び／又は「イオン性」を有する基などを挙げることができる。ここで、「基」というのは、分子基及び高分子基を含めた種々の基を意味する。また、「イオン性」を有する基の「イオン性」と、環状分子の有する「イオン性」とが影響しあうことにより、例えば反発しあうことにより、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持することができる。
【００２６】
また、本発明のブロック基は、上述のように、串刺し状になった形態を保持するものであれば、高分子の主鎖であっても側鎖であってもよい。ブロック基が高分子Ａである場合、マトリクスとして高分子Ａがありその一部に本発明の化合物が含まれる形態であっても、逆にマトリクスとして本発明の化合物がありその一部に高分子Ａが含まれる形態であってもよい。このように、種々の特性を有する高分子Ａと組み合わせることにより、本発明の化合物の特性と高分子Ａの特性とを組み合わせて有する複合材料を形成することができる。
【００２７】
具体的には、分子基のブロック基として、２，４−ジニトロフェニル基、３，５−ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類及びピレン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。より具体的には、環状分子としてα−シクロデキストリン、及び直鎖状分子としてポリエチレングリコールを用いる場合であっても、シクロデキストリン類、２，４−ジニトロフェニル基、３，５−ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類及びピレン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
【００２８】
次に本発明に好ましく用いることのできる変性ポリロタキサンについて説明する。本発明では以下に説明する変性を複数併用したポリロタキサンを好ましく用いることができる。
【００２９】
＜架橋ポリロタキサン＞
架橋ポリロタキサンは、２つ以上のポリロタキサンがその環状分子同士が化学結合されている化合物をいい、この２つの環状分子は同じでも異なっていてもよい。この際、化学結合は、単なる結合であっても、種々の原子又は分子を介する結合であってもよい。
また、環状分子が架橋環構造を有する分子、即ち第１の及び第２の環を有する「ビシクロ分子」を用いることができる。この場合、例えば「ビシクロ分子」と直鎖状分子とを混合し、「ビシクロ分子」の第１環及び第２環に直鎖状分子を串刺し状に包接して架橋ポリロタキサンを得ることができる。
この架橋ポリロタキサンは直鎖状分子に串刺し状に貫通されている環状分子が当該直鎖状に沿って移動可能なために（滑車効果）、粘弾性を有し、張力が加わっても、この滑車効果によって当該張力を均一に分散させ、内部応力を緩和できる。
【００３０】
＜疎水化修飾ポリロタキサン＞
ポリロタキサンの環状分子がα−シクロデキストリンなどのシクロデキストリン類である場合、本発明ではシクロデキストリンの水酸基の少なくとも一つが他の有機基（疎水基）によって置換された疎水化修飾ポリロタキサンは、ハードコートフィルム層形成組成物に含まれる溶剤への溶解性が向上するため、さらに好ましく用いられる。
疎水基の具体例として、例えばアルキル基、ベンジル基、ベンゼン誘導体含有基、アシル基、シリル基、トリチル基、硝酸エステル基、トシル基、光硬化部位としてアルキル置換エチレン性不飽和基、熱硬化部位としてアルキル置換エポキシ基などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。また、上記の疎水性修飾ポリロタキサンにおいては、上述の疎水基の１種を単独で又は２種以上を組み合わせて有していてもよい。
【００３１】
上記疎水性修飾基による修飾度は、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数を１とすると、０．０２以上であることが好ましく、０．０４以上であることがより好ましく、０．０６以上であることが更に好ましい。
０．０２未満であると、有機溶剤への溶解性が十分なものとならず、不溶性ブツ（異物付着などに由来する突起部）が生成することがある。
ここで、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数とは、換言すれば、修飾する前にシクロデキストリンが有していた全水酸基数のことである。修飾度とは、換言すれば、修飾された水酸基数の全水酸基数に対する比のことである。
なお、疎水性修飾基は少なくとも１つでよいが、その場合、シクロデキストリン環１つに対して１つの疎水性修飾基を有するのが好ましい。
また、官能基を有している疎水性修飾基を導入することにより、他のポリマーとの反応性を向上させることが可能になる。
【００３２】
ポリロタキサンの配合量は、ポリマー１００重量部に対し、０．１〜３０重量部が好ましく、３〜２５重量部がより好ましく、３〜２０重量部が更に好ましい。０．１重量部未満ではポリロタキサンの耐擦傷性改良効果が得られず、３０重量％を超えると、ポリロタキサン同士の凝集に起因するヘイズ上昇の問題が顕在化する。
本発明では用いるポリロタキサンは疎水化修飾ポリロタキサンが好ましい。
【００３３】
本発明の光学フィルムは、セルロースエステルを主成分として含むものである。セルロースエステルを主成分として含むとは、光学フィルムに含まれる最も質量分率の高いポリマーがセルロースエステルであることをいう。
本発明の光学フィルムにおいて、併用することができるポリマー材料の例には、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４、４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等）、ポリスチレン（例えばシンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましい。
特に、本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いる場合、偏光板加工のし易さ、負均一な光学異方性発生しない点でセルロースアシレートフィルムが好ましい。
【００３４】
本発明のセルロースエステルとしては、公知なセルロースエステルを用いることができる。例えば好ましいセルロースエステル炭素原子数２０以下の脂肪酸のエステルであり、更に好ましくは炭素原子数が６以下の脂肪酸のエステルである。具体例としては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等の有機酸エステルが挙げられる。また、上記セルロースエステルは、例えば、セルロースの水酸基の一部がアセチル基で置換され別の一部がプロピオニル基で置換されたような混合有機酸エステル（例えば、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート）であってもよい。上記セルロースエステルは、任意の適切な方法（例えば、特開２００１−１８８１２８号公報に記載の方法）により製造される。
【００３５】
本発明のセルロースエステルがアセチル基を含む場合には、そのアセチル置換度は、好ましくは２．０〜２．９８であり、さらに好ましくは２．２〜２．９６である。上記セルロースエステルがプロピオニル基を含む場合には、そのプロピオニル置換度は、好ましくは0．5〜3．0であり、さらに好ましくは0．5〜2．5である。また、上記セルロースエステルが、セルロースの水酸基の一部がアセチル基で置換され別の一部がプロピオニル基で置換された混合有機酸エステルである場合には、アセチル置換度とプロピオニル置換度の合計は、好ましくは２．０〜３．０であり、さらに好ましくは２．２〜３．０である。この場合、アセチル置換度は好ましくは１．０〜２．８であり、プロピオニル置換度は好ましくは１．０〜２．０である。
【００３６】
なお、本明細書において、アセチル置換度（またはプロピオニル置換度）とは、セルロース骨格における２、３、６位の炭素についた水酸基をアセチル基（またはプロピオニル基）で置換した数を示す。セルロース骨格における２、３、６位の炭素のどれかにアセチル基（またははプロピオニル基）が偏ってもよく、また平均的に存在してもよい。上記アセチル置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）によって求めることができる。また、上記プロピオニル置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６（セルロースアセテート等の試験法）によって求めることができる。
【００３７】
特に好ましいセルロースエステルの具体例は、アセチル基の置換度をＸとした時、下記式（Ｉ）を満たすセルロースアセテートである。
２．６≦Ｘ≦３．０ ・・・（Ｉ）
別の好ましいセルロースエステルの具体例は、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０ ・・・（ＩＩ）
０≦Ｘ≦２．５ ・・・（ＩＩＩ）
中でも、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、特に１．９≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。
【００３８】
上記セルロースエステルは、テトラヒドロフラン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）が好ましくは３０，０００〜５００，０００、さらに好ましくは５０，０００〜４００，０００、最も好ましくは８０，０００〜３００，０００である。重量平均分子量が上記の範囲であれば、機械的強度に優れ、溶解性、成形性、流延の操作性が良いものができる。
上記セルロースエステルの分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、好ましくは１．５〜５．５であり、さらに好ましくは２．０〜５．０であり、特に好ましくは２．５〜５．０であり、最も好ましくは３．０〜５．０である。
【００３９】
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明の光学フィルムに対しては特に限定されるものではない。
これらのセルロースエステルは、単独で、あるいは２種以上を適宜組み合わせて使用することができる。例えば、綿花リンタ由来セルロース／木材パルプ（針葉樹）由来セルロース／木材パルプ（広葉樹）由来セルロースを、１００／０／０、９０／１０／０、８５／１５／０、５０／５０／０、２０／８０／０、１０／９０／０、０／１００／０、０／０／１００、８０／１０／１０、８５／０／１５、または４０／３０／３０の比率で用いることができる。
【００４０】
<セルロースエステルフィルムの形成方法>
本発明のセルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ソルベントキャスト法はセルロースエステルを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を支持体上に流延した後乾燥する方法である。
以下に、具体的に説明する。
【００４１】
（１）溶解工程
本発明のセルロースエステルを溶解するための主溶媒としては、ハロゲン化炭化水素、エステル、ケトン、エーテル、アルコールおよび炭化水素などが挙げられ、これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。また、前記主溶媒は、エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールの官能基（即ち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれかを二つ以上有していてもよい。さらに、前記エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子（特に、フッ素原子）で置換されていてもよい。
なお、前記ハロゲン化炭化水素としては、塩素化炭化水素がより好ましく、例えば、ジクロロメタンおよびクロロホルムなどが挙げられ、ジクロロメタンがさらに好ましい。
【００４２】
前記エステルとしては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートなどが挙げられる。
前記ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
前記エーテルとしては、例えば、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどが挙げられる。
前記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノールなどが挙げられる。
前記炭化水素としては、例えば、ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。
なお、本発明の主溶媒とは、単一の溶媒からなる場合には、その溶媒のことを示し、複数の溶媒からなる場合には、構成する溶媒のうち、最も質量分率の高い溶媒のことを示す。
【００４３】
これら主溶媒と併用される有機溶媒としては、ハロゲン化炭化水素、エステル、ケトン、エーテル、アルコールおよび炭化水素などが挙げられ、これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。また、前記有機溶媒としては、エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールの官能基（即ち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれか二つ以上を有していてもよい。さらに、前記エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子（特に、フッ素原子）で置換されていてもよい。
前記ハロゲン化炭化水素としては、塩素化炭化水素がより好ましく、例えば、ジクロロメタンおよびクロロホルムなどが挙げられ、ジクロロメタンがさらに好ましい。
前記エステルとしては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテートなどが挙げられる。
前記ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノンなどが挙げられる。
前記エーテルとしては、例えば、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトールなどが挙げられる。
前記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどが挙げられる。
前記炭化水素としては、例えば、ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。
前記２種類以上の官能基を有する有機溶媒としては、例えば、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、メチルアセトアセテートなどが挙げられる。
さらに、全溶媒中に５〜３０質量％、より好ましくは７〜２５質量％、さらに好ましくは１０〜２０質量％のアルコールを含有することが好ましい。
【００４４】
本発明の溶媒として好ましく用いられる有機溶媒の組み合せの具体例を以下に挙げるが、本発明で採用することができる有機溶媒の組み合わせはこれらに限定されるものではない。なお、比率の数値は、質量部を意味する。
【００４５】
（ａ）ジクロロメタン／メタノール／エタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５
（ｂ）ジクロロメタン／イソブチルアルコール＝９０／１０
（ｃ）ジクロロメタン／アセトン／メタノール／プロパノール＝８０／５／５／１０
（ｄ）ジクロロメタン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン＝８０／８／１０／２
（ｅ）ジクロロメタン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５
（ｆ）ジクロロメタン／ブタノール＝９０／１０
（ｇ）ジクロロメタン／シクロペンタノン／メタノール／ペンタノール＝８０／２／１５／３
（ｈ）ジクロロメタン／メチルアセテート／エタノール／ブタノール＝７０／１２／１５／３
（ｉ）ジクロロメタン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール＝８５／７／３／５
（ｊ）ジクロロメタン／メタノール／ブタノール＝８３／１５／２
（ｋ）ジクロロメタン＝１００
（ｌ）アセトン／エタノール／ブタノール＝８０／１５／５
（ｍ）メチルアセテート／アセトン／メタノール／ブタノール＝７５／１０／１０／５
（ｎ）１，３−ジオキソラン＝１００
（ｏ）ジクロロメタン／メタノール＝９２／８
（ｐ）ジクロロメタン／メタノール＝９０／１０
（ｑ）ジクロロメタン／メタノール＝８７／１３
（ｒ）ジクロロメタン／エタノール＝９０／１０
【００４６】
また、非ハロゲン系有機溶媒を主溶媒とした場合については、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日、発明協会発行）に記載があり、適宜使用することができる。
【００４７】
本発明のセルロースエステル溶液（ドープ）の調製に際して、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解でもよく、また冷却溶解あるいは高温溶解、さらにはこれらの組み合わせであってもよい。本発明におけるセルロースエステル溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【００４８】
上記セルロースエステルは、クロスニコルに配置した一対の偏光板に挟んで光を当てた場合に、光漏れによる輝点ができる限り少ないことが望ましい。光漏れによる輝点をできる限り少なくする手段としては、代表的には、未酢化セルロースを除去すること、溶融セルロースエステルを濾過して不純物を除去することが挙げられる。濾過して不純物を除去する場合には、セルロースエステルを単独で溶融させるよりも、セルロースエステルと後述の可塑剤とを含む組成物を溶融濾過するほうが好ましい。
【００４９】
（２）流延工程
本発明のセルロースエステルフィルムを製造する方法及び設備は、例えばセルローストリアセテートフィルム製造に供される、公知の溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。一例をあげると、溶解機（釜）で調製されたドープを貯蔵機で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、次いでドープを加圧型ダイの口金（スリット）から支持体上に流延する。支持体としてはエンドレスに走行している金属支持体または金属ドラムが用いられる。
支持体は温度を制御することが好ましい。支持体の好ましい温度範囲は通常−２０℃〜４０℃の範囲である。
流延は１層で行ってもよいし、２層以上(共流延)で行ってもよい。共流延の場合にはセルロースエステル溶液の組成は共通でも、互いに異なっていてもよい。２層以上の構成の場合、ポリロタキサンは少なくとも１層に含有していれば良い。３層以上の構成で外側２層がポリロタキサンを含有する構成も、硬度と耐擦傷性を両立でき、好ましい態様である。
【００５０】
（３）乾燥、巻き取り工程
ついで、乾燥又は半乾燥状態のドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を支持体から剥離する。剥離したウェブは両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。これらについては、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されている。
【００５１】
（４）延伸工程
本発明のセルロースエステルフィルムは、必要に応じて延伸してもよい。延伸方向は、長手方向であってもよく幅方向であってもよい。延伸は、一段延伸であってもよく多段延伸であってもよい。延伸手段は、任意の適切な手段（例えば、ロール、テンター）が採用され得る。
また、必要に応じて延伸は、長手方向および幅方向の２方向に行ってもよい。この場合長手方向と幅方向の延伸を同時に行ってもよいし、長手方向と幅方向の延伸を２段階で行ってもよい。
延伸温度は、代表的には、当該フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）から（Ｔｇ＋１５０℃）の範囲である。加熱手段もまた、任意の適切な手段（例えば、赤外線ヒーター）を利用することができる。
延伸されたフィルムは必要に応じて、その最終延伸温度以下で、かつ（Ｔｇ−４０℃）以上の温度で、０．０１〜５分間保持される。このような加熱保持を行うことにより、幅方向の物性の分布を低減させて均一なフィルムを得ることができる。
【００５２】
必要に応じて、延伸したフィルムは延伸後に熱固定してもよい。代表的には、熱固定は、その最終延伸温度より高温で、かつ、（Ｔｇ−２０℃）以下の温度で、０．５〜３００秒間フィルムを保持することにより行われる。
熱固定されたフィルムは、通常Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、かつＴｇ以上の温度で、幅方向および／または長手方向に０．１〜１０％弛緩処理することが好ましい。また、冷却は、最終熱固定温度からＴｇまで徐冷することが好ましい。冷却および弛緩処理する手段としては、任意の適切な手段が採用される。
【００５３】
（５）熱処理工程
本発明のセルロースエステルフィルムは必要に応じて熱処理を行ってもよい。
熱処理を行う場合、熱処理温度は、好ましくは１６０℃以上でセルロースエステルフィルムの融点未満、さらに好ましくは１８０℃以上でセルロースエステルフィルムの融点−１０℃未満の温度範囲が好ましい。
熱処理の時間は５秒〜１０分、より好ましくは１０秒〜５分の範囲が好ましい。
加熱方法には特に制限は無く、温風、赤外線ヒーター、過熱ローラーを用いる方法等の公知の方法を用いることができる。
熱処理を行う場合、フィルムの幅や長さを一定に保っておく方法、幅及び/又は長さ方向に延伸を行う方法と熱収縮を利用してフィルムの幅及び/又は長さ方向に収縮させる方法があるが、本発明の熱処理ではいずれを採用してもよい。
前記熱処理後のセルロースエステルフィルムの残留溶媒量は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがあることがより好ましく、０．３質量％以下であることがさらに好ましく０．１質量％以下であることが最も好ましい。
【００５４】
＜添加剤＞
本発明のセルロースエステルフィルムには、必要に応じて適切な添加剤を添加してもよい。添加剤の具体例としては、上記の可塑剤、紫外線吸収剤およびマット剤に加えて、熱安定剤、光安定剤、滑剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。添加剤の使用量は、代表的には、当該高分子フィルムの全固形分１００に対して、０．１〜１０（重量比）以下である。
可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルが挙げられる。リン酸エステルの具体例としては、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルフォスフェート（ＴＣＰ）が挙げられる。カルボン酸エステルの代表例としては、フタル酸エステル、クエン酸エステルが挙げられる。フタル酸エステルの具体例としては、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）が挙げられる。クエン酸エステルの具体例としては、ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ｏ−ＡＣＴＥ）、ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ｏ−ＡＣＴＢ）が挙げられる。
その他の添加剤については例えば特開2006-138120号明細書に記載されているものを用いることができる。
【００５５】
本発明において、前記セルロースエステルフィルムの厚みは、１０〜５００μｍが好ましく、２０〜３００μｍがより好ましく、３０〜２００μｍが特に好ましい。この範囲であると膜強度と可撓性を両立する。
【００５６】
［表面処理］
本発明の光学フィルムには、適宜、表面処理を行うことにより、各機能層（例えば、下塗層、バック層、光学異方性層、ハードコート層、防眩層、反射防止層）との接着を改善することが可能となる。前記表面処理には、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、鹸化処理（酸鹸化処理、アルカリ鹸化処理）が含まれ、特にグロー放電処理およびアルカリ鹸化処理が好ましい。ここでいう「グロー放電処理」とは、プラズマ励起性気体存在下でフィルム表面にプラズマ処理を施す処理である。これらの表面処理方法の詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載があり、適宜、使用することができる。
【００５７】
フィルム表面と機能層との接着性を改善するため、表面処理に加えて、或いは表面処理に代えて、本発明の光学フィルム上に下塗層（接着層）を設けることもできる。前記下塗層については、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁や、４５頁（文献中では「易接着層」と記載されている）に記載があり、これらを適宜、使用することができる。また、本発明の光学フィルム上に設けられる機能性層については、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に記載があり、これに記載のものを適宜、使用することができる。
【００５８】
《機能性層》
本発明の光学フィルムは、場合により、ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへ適用してもよい。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上させたり、フィルムの透湿度を調整したりする目的で、本発明の光学フィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れか或いは全てを付与することができる。
【００５９】
［ハードコート層］
ハードコート層に関する実施態様は、特開２００５−１０４１４８号公報の１８７〜１８９頁に詳細に記載されており、本発明の光学フィルムにおいても好ましく用いることができる。
【００６０】
［防眩層］
防眩層に関する実施態様は、特開２００５−１０４１４８号公報の１９７〜１９９頁に詳細に記載されており、本発明の光学フィルムにおいても好ましく用いることができる。
【００６１】
［反射防止層］
反射防止層に関する実施態様は、特開２００５−１０４１４８号公報の１８９〜１９７頁に詳細に記載されており、本発明の光学フィルムにおいても好ましく用いることができる。
【００６２】
［ポリマー層］
ポリマー層として用いられるポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、および、セルロースエステル（例、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート）が含まれ、前記ポリマーとしては、これらポリマーの共重合体若しくはポリマー混合物を用いてもよい。これらのポリマー層は、ポリマー溶液を本発明の光学フィルム上に塗布することによっても形成させることができ、前記本発明の光学フィルムを流延する際に逐次流延方式や共流延方式を用いて形成させることもできる。また、予め作製しておいたポリマーフィルムと本発明の光学フィルムとを、粘着剤や接着剤を用いて積層して実施することもできる。
【００６３】
《光学補償フィルム》
本発明の光学フィルムは、場合により、光学補償フィルムとして用いることもできる。なお、「光学補償フィルム」とは、一般に液晶表示装置等の表示装置に用いられ、光学異方性を有する光学材料のことを意味し、位相差フィルム、位相差板、光学補償フィルム、光学補償シートなどと同義である。液晶表示装置において、光学補償フィルムは表示画面のコントラストを向上させたり、視野角特性や色味を改善したりする目的で用いられる。
本発明の光学フィルムは、そのまま光学補償フィルムとして用いることもできる。また、本発明の光学フィルムを複数枚積層したり、本発明の光学フィルムと本発明外のフィルムとを積層したりしてＲｅやＲｔｈを適宜調整して光学補償フィルムとして用いることもできる。フィルムの積層は、粘着剤や接着剤を用いて実施することができる。
また、場合により、本発明の光学フィルムを光学補償フィルムの支持体として用い、その上に液晶等からなる光学異方性層を設けて光学補償フィルムとして使用することもできる。本発明の光学補償フィルムに適用される光学異方性層は、例えば、液晶性化合物を含有する組成物から形成してもよいし、複屈折を持つセルロースアシレートフィルムから形成してもよい。
前記液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。
【００６４】
［ディスコティック液晶性化合物］
本発明において前記液晶性化合物として使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（例えば、C.Destrade et al.,Mol.Crysr.Liq.Cryst.,vol.71,  page 111(1981)；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（1994）；B.Kohne et al.,Angew.Chem.Soc.Chem.Comm.,page 1794  (1985)；J.Zhang et al.,J.Am.Chem.Soc.,vol.116,page 2655(1994)）に記載の化合物が含まれる。
前記光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。また、ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子については、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。
【００６５】
［棒状液晶性化合物］
本発明において前記液晶性化合物として使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。また、前記棒状液晶性化合物としては、以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【００６６】
前記光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例は、例えば、Makromol.Chem.,１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Advanced Materials ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４，６８３，３２７号明細書、同５，６２２，６４８号明細書、同５，７７０，１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号パンフレット、同９５／２４４５５号パンフレット、同９７／００６００号パンフレット、同９８／２３５８０号パンフレット、同９８／５２９０５号パンフレット、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報等に記載の化合物が含まれる。
【００６７】
（ポリマーフィルムからなる光学異方性層）
前記光学異方性層は、ポリマーフィルムから形成してもよい。前記ポリマーフィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成することができる。前記光学異方性を発現し得るポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、および、セルロースエステル（例、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート）が含まれる。また、前記ポリマーとしては、これらポリマーの共重合体若しくはポリマー混合物を用いてもよい。光学異方性を増大させるため、本発明の光学フィルム上に前記ポリマーフィルム層を形成させた後に、フィルムを延伸することもできる。
【００６８】
《偏光板》
本発明の光学フィルムまたは光学補償フィルムは、偏光板（本発明の偏光板）の保護フィルムとして用いることができる。本発明の偏光板は、偏光膜とその両面を保護する二枚の偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）からなり、本発明の光学フィルムまたは光学補償フィルムは少なくとも一方の偏光板保護フィルムとして用いることができる。また、本発明の光学フィルムは、接着剤を用いて偏光膜とロールツーロールで貼合することができる。
【００６９】
本発明の光学フィルムを前記偏光板保護フィルムとして用いる場合、本発明の光学フィルムには前記表面処理（特開平６−９４９１５号公報、同６−１１８２３２号公報にも記載）を施して親水化しておくことが好ましく、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、または、アルカリ鹸化処理などを施すことが好ましく、特に、前記表面処理としてはアルカリ鹸化処理が最も好ましく用いられる。
【００７０】
また、前記偏光膜としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸したもの等を用いることができる。ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸した偏光膜を用いる場合、接着剤を用いて偏光膜の両面に本発明の光学フィルムの表面処理面を直接貼り合わせることができる。本発明の製造方法においては、このように前記光学フィルムが偏光膜と直接貼合されていることが好ましい。前記接着剤としては、ポリビニルアルコールまたはポリビニルアセタール（例、ポリビニルブチラール）の水溶液や、ビニル系ポリマー（例、ポリブチルアクリレート）のラテックスを用いることができる。特に好ましい接着剤は、完全鹸化ポリビニルアルコールの水溶液である。
【００７１】
一般に液晶表示装置は二枚の偏光板の間に液晶セルが設けられるため、４枚の偏光板保護フィルムを有する。本発明の光学フィルムは、４枚の偏光板保護フィルムのいずれにも好適に用いることができる。中でも、本発明の光学フィルムを液晶表示装置における偏光膜と液晶層（液晶セル）との間に配置されない外側の保護フィルムとして用いることが特に好ましく、この場合、ハードコート層、防眩層、反射防止層などを設けることができる。
【００７２】
《液晶表示装置》
本発明の光学フィルム、光学補償フィルムおよび偏光板は、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
【００７３】
以下にこれらのフィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。これらの液晶表示装置は、透過型、反射型および半透過型のいずれでもよい。
【００７４】
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体として用いることができる。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置とについては、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号および特開平９−２６５７２号の各公報の他、モリ（Mori）他の論文（Jpn.J.Appl.Phys.Vol.36(1997)p.143や、Jpn.J.Appl.Phys.Vol.36(1997)p.1068）に記載がある。
【００７５】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【００７６】
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償フィルムや光学補償フィルムの支持体として用いることができる。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
【００７７】
（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償フィルムや光学補償フィルムの支持体、または偏光板の保護フィルムとして用いることができる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。
【００７８】
（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置或いはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置或いはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償フィルムの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置或いはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置或いはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Mori）他の論文（Jpn.J.Appl.Phys.Vol.38(1999)p.2837）に記載がある。
【００７９】
（反射型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Guest-Host）型の反射型液晶表示装置の光学補償フィルムとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、国際公開第９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。
【００８０】
（その他の液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置とについては、クメ（Kume）他の論文（Kume et al.,SID 98 Digest 1089(1998)）に記載がある。
【実施例】
【００８１】
本発明を詳細に説明するために、以下の実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００８２】
［ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサンの調製］
ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサンの調製は特許第２８１０２６４号公報および特許第３４７５２５２号公報に記載の下記調製方法を参考にして行った。
「環状分子としてα−シクロデキストリン、直鎖状分子としてポリエチレングリコール、ブロック基として２，４−ジニトロフェニル基、疎水基としてアセチル基、不飽和二重結合基としてアクリロイル基を用いた場合の化合物の調製方法を記載する。
後に行うブロック化処理のために、ポリエチレングリコールの両末端をアミノ基に変性してポリエチレングリコール誘導体を得る。α−シクロデキストリン及びポリエチレングリコール誘導体を混合してポリロタキサンを調製する。調製に際して、最大包接量を１とした場合、包接量が１に対して、０．００１〜０．６となるように、例えば混合時間を１〜４８時間とし、混合温度を０℃〜１００℃とすることができる。
一般に、ポリエチレングリコールの平均分子量２０，０００に対して、α−シクロデキストリンは、最大２３０個包装することができる。したがって、この値が最大包接量である。上記条件は、ポリエチレングリコールの平均分子量２０，０００を用いて、α−シクロデキストリンが平均６０〜６５個（６３個）、即ち最大包接量の０．２６〜０．２９（０．２８）の値で包接するための条件である。α−シクロデキストリンの包接量は、ＮＭＲ、光吸収、元素分析などにより確認することができる。
得られたポリロタキサンを、ＤＭＦに溶解した２，４−ジニトロフルオロベンゼンと反応させることにより、ブロック化ポリロタキサン（未修飾ポリロタキサン）を得る。
次いで、得られた未修飾ポリロタキサンを、無水酢酸を用いて、シクロデキストリン環の水酸基を、疎水性基であるアセチル基で修飾し疎水化修飾ポリロタキサンを得る。
更に、疎水化修飾ポリロタキサンの、シクロデキストリン環の未修飾の水酸基をアクリル酸クロライドでアクリロイル基に修飾し、疎水化修飾し且つ、不飽和二重結合基を有するポリロタキサンを得る。」
【００８３】
［未修飾ポリロタキサン（ＰＲ−１）の調製］
＜末端封止したポリロタキサンの調製＞
数平均分子量２万のポリエチレングリコールビスアミン４．５ｇとα−シクロデキストリン１８．０ｇとを水１５０ｍＬに加え、８０℃に加熱して溶解させた。その溶液を冷却し５℃で１６時間静置した。生成した白いペースト状の沈殿を分取、乾燥した。
【００８４】
前記乾燥物に、２，４−ジニトロフルオロベンゼン１２．０ｇとジメチルホルムアミド５０ｇの混合溶液に加えて室温で５時間攪拌した。その反応混合物にジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）２００ｍＬを加えて溶解した後、水３７５０ｍＬに注いで析出物を分取した。析出物を２５０ｍＬのＤＭＳＯに再溶解した後、再び３５００ｍＬの０．１％食塩水へ注いで析出物を分取した。その析出物を水とメタノールで各３回ずつ洗浄後、５０℃で１２時間真空乾燥することで、ポリエチレングリコールビスアミンがα−シクロデキストリンに串刺し状に包接され、かつ両末端アミノ基に２，４−ジニトロフェニル基が結合した包接化合物２．０ｇを得た。これを未修飾ポリロタキサン（ＰＲ−１）とした。
【００８５】
得られた包接化合物（末端封止されたブロック化ポリロタキサン）の紫外光吸収測定及び１Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、α−シクロデキストリンの包接量を算出したところ、包接量は７２個であった。
包接量は、紫外光吸収測定および１Ｈ−ＮＭＲ測定から算出できるが、具体的には紫外光吸収測定では、合成した包接化合物および２，４-ジニトロアニリンそれぞれの３６０ｎｍにおけるモル吸光係数を測定することで、シクロデキストリンの包接量を算出した。また、１Ｈ−ＮＭＲ測定では、ポリエチレン部の水素原子とシクロデキストリン部の水素原子の積分比から算出した。
【００８６】
［疎水化修飾ポリロタキサン（ＰＲ−２）の調製］
＜末端封止されたブロック化ポリロタキサンのアセチル修飾＞
上記で合成した未修飾ポリロタキサン（ＰＲ−１）１ｇを塩化リチウム／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８％溶液５０ｇに溶解させた。そこに無水酢酸６．７ｇ、ピリジン５．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１００ｍｇを加え、室温にて一晩攪拌した。反応溶液をメタノールに流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離した。分離した固体を乾燥した後、アセトンに溶解させた。溶液を水に流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離し乾燥させることで、１．２ｇのアセチル修飾した、疎水化修飾ポリロタキサン（ＰＲ−２）を得た。
【００８７】
得られたアセチル修飾したポリロタキサンの１Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、アセチル導入量を算出したところ、導入量は７５％であった。
【００８８】
［架橋ポリロタキサン（ＰＲ−３）の調製］
＜重合性基の導入＞
［架橋ポリロタキサン化合物（ＰＲ−３）の調製］
塩化シアヌル０．１８ｇをアセトン２０ｇに溶かした溶液を、激しく攪拌されている氷水８０ｇの中にゆっくり滴下した。こうして塩化シアヌルの分散液（液Ａ）を得た。別途、α−シクロデキストリン２．４ｇと炭酸ナトリウム０．５３ｇを水２００ｇに溶解した溶液（液Ｂ）を作成した。
上記液Ａを、ゆっくり攪拌されている液Ｂに、滴下した。
この後、液の温度を５０℃に上げて、６時間攪拌を続けた。この後液温を２５℃まで下げて溶液（液Ｃ）を得た。ポリエチレングリコール（平均分子量２００００）１０ｇを水７００ｇに溶かした溶液に、液Ｃを混合して２５℃で２４時間ゆっくり攪拌し続けた。さらに、エバポレータを用いて、この液を全体が５００ｇになるまで濃縮して溶液（液Ｄ）を得た。１−アミノドデカン０．４６ｇをテトラヒドロフラン５００ｇに溶解した溶液（液Ｅ）を、上記液Ｄと混合して、８０℃で６時間攪拌を続けた。さらにこの液に炭酸ナトリウム０．２１ｇを溶解させて溶液（液Ｆ）を得た。
メタクリル酸クロライド０．２１ｇをテトラヒドロフラン２０ｇに溶解したものをトリエチルアミン含有の液Ｆに添加して、攪拌しながら５０℃で６時間反応させた。生成したトリエチルアミンの塩酸塩を濾過除去して溶液（液Ｇ）を得た。この液Gの溶媒をエバポレータを用いて除去して架橋ポリロタキサン化合物（ＰＲ−３）を得た。
【００８９】
［疎水化修飾架橋ポリロタキサン（ＰＲ−４）の調製］
＜末端封止されたブロック化ポリロタキサンのアセチル修飾＞
上記で合成した架橋ポリロタキサン（ＰＲ−３）１ｇを塩化リチウム／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８％溶液５０ｇに溶解させた。そこに無水酢酸６．７ｇ、ピリジン５．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１００ｍｇを加え、室温にて一晩攪拌した。反応溶液をメタノールに流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離した。分離した固体を乾燥した後、アセトンに溶解させた。溶液を水に流し込み、析出した固体を遠心分離にて分離し乾燥させることで、１．２ｇのアセチル修飾した、疎水化修飾架橋ポリロタキサン（ＰＲ−４）を得た。
【００９０】
得られたアセチル修飾したポリロタキサンの１Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、アセチル導入量を算出したところ、導入量は７５％であった。
【００９１】
［セルロースエステル］
実施例−１〜２０および比較例−１においては、下記のセルロースエステルを使用した。各セルロースエステルは１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後使用した。
【００９２】
・セルロースアシレートＣ−１：
置換度が２．８５のセルロースアセテートの粉体を用いた。セルロースエステルＣ−１の粘度平均重合度は３００、６位のアセチル基置換度は０．８９、アセトン抽出分は７質量％、質量平均分子量／数平均分子量比は２．３、含水率は０．２質量％、６質量％ジクロロメタン溶液中の粘度は３０５ｍＰａ・ｓ、残存酢酸量は０．１質量％以下、Ｃａ含有量は６５ｐｐｍ、Ｍｇ含有量は２６ｐｐｍ、鉄含有量は０．８ｐｐｍ、硫酸イオン含有量は１８ｐｐｍ、イエローインデックスは１．９、遊離酢酸量は４７ｐｐｍであった。粉体の平均粒子サイズは１．５ｍｍ、標準偏差は０．５ｍｍであった。
【００９３】
・セルロースアシレートＣ−２：
置換度が２．２５のセルロースエステルの粉体を用いた。セルロース５ｒｗ．Ｃ−２の粘度平均重合度は３００であった。
・セルロースアシレートＣ−３：
全置換度が２．２５、アセチル置換度が１．４５、プルピオニル置換度が０．８のセルロースエステルの粉体を用いた。セルロース５ｒｗ．Ｃ−３の粘度平均重合度は３２０であった。
・セルロースアシレートＣ−４：
全置換度が３．０、アセチル置換度が２．２、プルピオニル置換度が０．８のセルロースエステルの粉体を用いた。セルロース５ｒｗ．Ｃ−４の粘度平均重合度は３００であった。
【００９４】
・セルロースアシレートＣ−５：
全置換度が３．０、アセチル置換度が２．２５、ベンゾイル置換度が０．７５のセルロースエステルの粉体を用いた。セルロース５ｒｗ．Ｃ−５の粘度平均重合度は２８０であった。
・セルロースアシレートＣ−６：
全置換度が３．０、アセチル置換度が２．２５、炭素数６の長鎖アルキル置換度が０．７５のセルロースエステルの粉体を用いた。セルロース５ｒｗ．Ｃ−６の粘度平均重合度は３１５であった。
・セルロースアシレートＣ−７：
全置換度が３．０、アセチル置換度が２．２５、炭素数１２の長鎖アルキル置換度が０．７５のセルロースエステルの粉体を用いた。セルロース５ｒｗ．Ｃ−７の粘度平均重合度は３１０であった。
【００９５】
・セルロースアシレートＣ−８：
全置換度が３．０、アセチル置換度が２．２５、炭素数１８の長鎖アルキル置換度が０．７５のセルロースエステルの粉体を用いた。セルロース５ｒｗ．Ｃ−８の粘度平均重合度は３２０であった。
【００９６】
［置換度］
セルロースアシレートのアシル置換度は、Carbohydr.Res.273(1995)83−91（手塚他）に記載の方法で13Ｃ−ＮＭＲにより求めた。
【００９７】
［重合度］
製造したセルロースアシレートを絶対乾燥した後、約０．２ｇを精秤し、ジクロロメタン：エタノール＝９：１（質量比）の混合溶剤１００ｍＬに溶解した。これをオストワルド粘度計にて２５℃で落下秒数を測定し、重合度ＤＰを以下の式により求めた。
ηrel＝Ｔ／Ｔ0 ［η］＝ｌｎ（ηrel）／Ｃ
ＤＰ＝［η］／Ｋｍ
［式中、Ｔは測定試料の落下秒数、Ｔ0は溶剤単独の落下秒数、ｌｎは自然対数、Ｃは濃度（ｇ／Ｌ）、Ｋｍは６×１０-4である。］
【００９８】
［実施例−１］
＜ポリマー溶液（ドープ）の調製＞
１）セルロースエステル：Ｃ−１                              １５．０質量部
２）可塑剤：ジブチルフォスフェート                            ０．９質量部
３）可塑剤：トリフェニルフォスフェート                        ０．９質量部
４）溶媒： ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８３／１５／２質量部）の混合溶媒                                                        ８５．０質量部
５）微粒子：二酸化ケイ素微粒子（粒子サイズ２０ｎｍ、モース硬度 約７）
０．０８質量部
６）ポリロタキサン化合物(ＰＲ−１)                            ３．０質量部
【００９９】
攪拌羽根を有し密封可能な４００ミリリットルのステンレス製容器に、溶媒と微粒子を投入して撹拌、分散させた後、前記セルロースエステルと可塑剤２種類を徐々に添加した。投入後、室温にて２時間撹拌した。その後攪拌を停止して３時間膨潤させた。 
ついで、試料を５０℃まで加熱し、さらに密封して９０℃まで加熱し、１５分間攪拌して完全溶解した。次に温度を室温まで下げてポリロタキサン化合物を添加して、３０分間攪拌した。続いて得られたセルロースエステル溶液を、絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過してポリマー溶液を得た。
【０１００】
＜フィルムの作製  (流延方法Ａ)＞
得られたポリマー溶液を３０℃に加温し、流延ギーサーを用いて１５℃に設定した鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは５０cm／分、塗布幅は２００mmとした。流延部全体の温度は、１５℃に設定した。流延後フィルムを支持体から剥離した。
剥離時点での揮発分は乾燥フィルムに対して約２７質量％であった。その後４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、さらに１４０℃で１０分乾燥して、膜厚８０μｍの透明なセルロースエステルフィルムを得た。残留溶媒量は、０．４質量％であった。
【０１０１】
［光学フィルムの評価］
（１）耐擦傷性評価：スチールウール試験
セルロースエステルフィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、スチールウールを接地面積１ｃm2、加重２０ｇにて２往復した後、蛍光灯下で目視により傷を判定し、以下の４段階評価を行った。
４：傷が全く認められない
３：極わずかに傷が認められる
２：傷が認められる
１：明瞭な傷が認められる
【０１０２】
（２）引裂強度
試料５０ｍｍ×６４ｍｍを、２３℃・相対湿度６５％で２時間調湿し、軽荷重引裂強度試験器（東洋精機製作所）を用いてＩＳＯ６３８３／２−１９８３に従って引裂に要する加重を測定し、ＭＤ，ＴＤ方向で平均化して評価した。
【０１０３】
（３）耐折強度
試料１２０ｍｍ×１２０ｍｍを、２３℃・相対湿度６５％で２時間調湿し、ＩＳＯ８７７６−１９８８に従って折り曲げによって切断するまでの往復回数を測定した。
【０１０４】
（４）ヘイズの測定
得られたセルロースエステルフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
結果を表−１に示す。
【０１０５】
［実施例−２〜１０、比較例−１］
ポリロタキサン化合物の種類と量を表−１のように変更する以外は実施例−１と同様にして実施例−２〜１０と比較例−１を実施した。結果を表−１に示す。
【０１０６】
［実施例−１１〜１７］
セルロースエステルの種類を表−１のように変更する以外は実施例−６と同様にして実施例−１１〜１７を実施した。結果を表−１に示す。
【０１０７】
［実施例−１８］
流延方法を下記のように変更する以外は実施例−６と同様にして実施例−１１〜１７を実施した。結果を表−１に示す。
【０１０８】
［フィルムの作製  (流延方法Ｂ)］
実施例−１のポリマー溶液を３０℃に加温し、流延ギーサーを用いて−７℃に設定した鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは５０cm／分、塗布幅は２００mmとした。流延部全体の温度は、１５℃に設定した。流延後、乾燥する前にフィルムを支持体から剥離した。
剥離時点での揮発分は乾燥フィルムに対して約２７０質量％であった。その後４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で１５分、さらに１４０℃で１０分乾燥して、膜厚８０μｍの透明なセルロースエステルフィルムを得た。残留溶媒量は、０．５質量％であった。
【０１０９】
［実施例−１９］
実施例−６で得られたセルロースエステルフィルムを流延方向と直行方向に３０％固定端一軸延伸し、ついで流延方向に４％固定端一軸延伸した。延伸時のフィルム温度は１４０℃、延伸速度は１０％／秒であった。
このようにして得られたセルロースエステルフィルムを実施例−１と同様の方法で評価した。結果を表−１に示す。
【０１１０】
［実施例−２０］
実施例−１３で得られたセルロースエステルフィルムを１４０℃、延伸速度は１０％／秒で流延方向に４０％自由端一軸延伸し、ついで試料フィルムの４辺を固定して２３０℃で２分間熱処理した。
このようにして得られたセルロースエステルフィルムを実施例−１と同様の方法で評価した。結果を表−１に示す。
【０１１１】
【表１】
2009204834.tif 000002
【０１１２】
表１に示した結果から以下のことが明らかである。
セルロースアシレートフィルムにポリロタキサンを導入することで耐擦傷性、引裂耐強度および耐折強度を改良することができる。（実施例１と比較例１）
ポリロタキサンは疎水化修飾したものを導入することでヘイズの上昇を抑制することができる。（実施例１に対して実施例２）
ポリロタキサンの導入量は０．１〜４０％で有意な耐擦傷性、引裂耐強度、耐折強度を改良することができる。（実施例３〜８）
架橋ポリロタキサンでも同様に耐擦傷性、引裂耐強度、耐折強度を改良することができる。（実施例９、実施例１０）
様々なセルロースエステルフィルムで同様のポリロタキサン導入により、耐擦傷性、引裂耐強度、耐折強度を改良することができる。（実施例１１〜１７）
延伸法Ａ、Ｂ共に同様にポリロタキサン導入により、耐擦傷性、引裂耐強度、耐折強度を改良することができる。（実施例６と実施例１８）
流延フィルム及び流延後に熱処理を行ったフィルムで、ポリロタキサン導入でも引裂耐強度や耐折強度を改良することができる。（実施例１９、２０）
【０１１３】
次に上記で作成したポリロタキサンを含有した基材としたハードコート層と反射防止層（低屈折率層）を積層した反射防止性ハードコートフィルム例に本発明を説明する。
【０１１４】
［実施例−２１］
［ハードコート塗布液（ＨＣＬ−１）の調製］
ＰＥＴ−３０                                            ２９２．５部
イルガキュア９０７                                          ７．５部
ＭＩＢＫ                                                ４９０．０部
ＭＥＫ                                                  ２１０．０部
【０１１５】
上記ハードコート用塗布液に使用した以外の化合物を以下に示す。
ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
イルガキュア９０７：光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
【０１１６】
＜低屈折率層用塗布液の調製＞
［ゾル液ａの調製］
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１８００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００質量％であった。ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１１７】
［中空シリカ微粒子分散液（Ａ−１）の調製］
中空シリカ微粒子ゾル（粒子サイズ約４０〜５０ｎｍ、シェル厚６〜８ｎｍ、屈折率１．３１、固形分濃度２０質量％、主溶媒イソプロピルアルコール、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じて粒子サイズを変更して調製）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート「ケロープＥＰ−１２」｛ホープ製薬（株）製｝１．５質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加し、中空シリカ分散液（Ａ−１）を得た。得られた中空シリカ分散液の固形分濃度は１８質量％、溶媒乾燥後の屈折率は１．３１であった。
【０１１８】
［低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）の調製］
メチルエチルケトン１００質量部に対して、特開平２００４−４５４６２号公報に記載の含フッ素共重合体（Ｐ−３）（重量平均分子量約５００００）４４．０質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝６．０質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン“ＲＭＳ−０３３”（Ｇｅｌｅｓｔ社製）３．０質量部、「イルガキュア９０７」｛チバ・ジャパン（株）製｝を３．０質量部加えて溶解した。その後に中空シリカ微粒子分散液（Ａ−１）を１９５質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）、ゾル液ａ１７．２質量部（固形分として５．０質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を調製した。
なお、本塗布液を塗布して得られる塗布膜の硬化後の屈折率は１．３８であった。
【０１１９】
＜ハードコートフィルムの作製＞
［ハードコート層の塗設］
特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、上記、実施例−１で作製した厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムをロール形態で巻き出して、ハードコート層塗布液（ＨＣＬ−１）を乾燥膜厚が６μｍになるように塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍ以下の雰囲気下で１６０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照射量７０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させたハードコートフィルム（ＨＣ−１）を作製し、巻き取った。
【０１２０】
次に、基材を上記、実施例−１から実施例−６、実施例−９、実施例−１０、比較例−１に示したものに変更し、ハードコートフィルム（ＨＣ−２）〜（ＨＣ−５）を作製した。
【０１２１】
［低屈折率層の塗設］
上記で作製のハードコートフィルム（ＨＣ−１）〜（ＨＣ−５）のハードコート層の上にさらに、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を、特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、低屈折率層の乾燥膜厚が１００ｎｍになるようにウエット塗布し、６０℃で５０秒間乾燥の後、さらに窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍ以下の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層を形成させて巻き取り、反射防止性ハードコートフィルム試料Ｎｏ．１０１〜１０５を作製した。
【０１２２】
［反射防止フィルムの評価］
上記反射防止性ハードコートフィルムにつき、下記方法で評価し、結果を表２に示した。
なお、ヘイズの評価は上記［光学フィルムの評価］（３）と同様の方法で測定した。
【０１２３】
（１）平均反射率
反射防止性ハードコートフィルムのハードコート層を積層していない面をサンドペーパーで粗面化した後、黒色のインクで光吸収処理（３８０〜７８０ｎｍにおける透過率が１０％未満）を行い黒色の台上で下記条件にて測定をおこなった。
分光光度計“Ｖ−５５０”（日本分光（株）製）にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５°の鏡面反射率を測定し、結果には４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。
【０１２４】
（２）鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止性ハードコートフィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する２Ｈ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、４．９Ｎの荷重にて、鉛筆で引っ掻き試験を５回繰り返し、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件で２４時間放置した後に、以下の基準で評価し、ＯＫとなる最も高い硬度を評価値とした。
ＯＫ：ｎ＝５の評価において傷が２つ以下
ＮＧ：ｎ＝５の評価において傷が３つ以上
【０１２５】
（３）ハードコート層の厚み
ミツトヨ社製のマイクロゲージ厚み計を用い、ハードコートフィルム全体の厚みと透明プラスチックフィルム基材の厚みを測定し、ハードコートフィルム全体の厚みから、透明プラスチックフィルム基材の厚みを差し引くことで、ハードコート層の厚みを算出した。
【０１２６】
【表２】
2009204834.tif 000003
【０１２７】
表２に示した結果から以下のことが明らかである。
ポリロタキサンを含有するセルロースエステルフィルムを基材として用いた反射防止性ハードコートフィルムは、ポリロタキサンを含有しないセルロースエステルフィルムを基材として用いた反射防止性ハードコートフィルムに対して、鉛筆硬度が高く、反射防止性にも優れている。
【０１２８】
＜偏光板の作製、液晶表示装置＞
実施例１１−１〜１１−４
ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の片面に、１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）を接着し、偏光子のもう一方の面に実施例−２１〜２４の本発明の反射防止フィルム試料Ｎｏ．１０１〜１０４を各々貼り合わせて反射防止付き偏光板を作製した。
この偏光板を用いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、反射率が低く、外光の映り込みが少なく、反射像が目立たず、優れた視認性を有している。