(57)【要約】【課題】重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層の黄変を防止又は軽減することできる画像表示装置用基板の製造方法の提供。【解決手段】重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層の表面を２５０ｎｍ以下の波長の光で照射する工程；及び他の層を上記表面に接するように設ける工程をこの順に含む、画像表示装置用基板の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層の表面を２５０ｎｍ以下の波長の光で照射する工程；及び他の層を上記表面に接するように設ける工程をこの順に含む、画像表示装置用基板の製造方法。
【請求項２】
２５０ｎｍ以下の波長の光が、２２２ｎｍ±５ｎｍ、２０６ｎｍ±５ｎｍ、１９１ｎｍ±５ｎｍ、１７２ｎｍ±５ｎｍ、１４６ｎｍ±５ｎｍ、又は、１２６ｎｍ±５ｎｍのいずれかの波長の光である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
照射がエキシマランプで行われる請求項１に記載の方法。
【請求項４】
重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層が、重合性組成物を透明支持体上に塗布し、硬化させて形成された層である請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項５】
重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層が液晶性化合物を含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項６】
重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層が、光学異方性層である請求項１〜５のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項７】
他の層が、カラーフィルタ層である請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項８】
他の層をアルカリ現像処理する工程を含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項９】
重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層及び他の層を含む積層体を２００℃以上の温度で加熱する工程を含む請求項１〜８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の製造方法により製造された画像表示装置用基板。
【請求項１１】
請求項１０に記載の画像表示装置用基板を含む画像表示装置。
【請求項１２】
液晶表示装置である請求項１１に記載の画像表示装置。
【請求項１３】
ＶＡモード、ＩＰＳモード、またはＦＦＳモードの液晶表示装置である請求項１１に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は画像表示装置用基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置用基板の製造において、カラーフィルタや光学異方性層などの複数層を積層する場合、積層される側の層にはしばしば表面処理が施される。この表面処理は、例えば、高分子化合物を含む層に他の層を積層する場合において、相互の層の密着性を向上させるための親水化処理として行われ、その方法としては、従来紫外線照射処理又は波長２５４nmの水銀灯照射処理などが行われてきた。（例えば特許文献１）
【０００３】
しかし、上記の従来の方法で表面処理を行った層に他の層を積層し、その後、画像表示装置用基板の製造において通常必要となる熱処理や、カラーフィルタ形成などのための現像処理の過程を経ることにより、上記の表面処理を行った層が黄色に着色する（黄変）という問題が生じていた。
【特許文献１】特開平5-011107号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層に他の層を積層する際の表面処理として、重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層に起こりうる黄変を防止又は軽減することが可能な表面処理を含む画像表示装置用基板の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは上記課題の解決のために鋭意研究を行った結果、ポリマーを含む層に表面処理のために照射する光の波長として、従来より短い波長を用いることによって、上記の黄変を防止又は軽減できることを見出した。そしてこの知見を基に本発明を完成させた。
すなわち、本発明は下記[１]〜[１３]を提供するものである。
[１]重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層の表面を２５０ｎｍ以下の波長の光で照射する工程；及び他の層を上記表面に接するように設ける工程をこの順に含む、画像表示装置用基板の製造方法。
【０００６】
[２]２５０ｎｍ以下の波長の光が、２２２ｎｍ±５ｎｍ、２０６ｎｍ±５ｎｍ、１９１ｎｍ±５ｎｍ、１７２ｎｍ±５ｎｍ、１４６ｎｍ±５ｎｍ、又は、１２６ｎｍ±５ｎｍのいずれかの波長の光である[１]に記載の製造方法。
[３]照射がエキシマランプで行われる[１]に記載の方法。
[４]重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層が、重合性組成物を透明支持体上に塗布し、硬化させて形成された層である[１]〜[３]のいずれか一項に記載の製造方法。
[５]重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層が液晶性化合物を含む[１]〜[４]のいずれか一項に記載の製造方法。
【０００７】
[６]重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層が、光学異方性層である[１]〜[５]のいずれか一項に記載の製造方法。
[７]他の層が、カラーフィルタ層である[１]〜[６]のいずれか一項に記載の製造方法。
[８]他の層をアルカリ現像処理する工程を含む[１]〜[７]のいずれか一項に記載の製造方法。
【０００８】
[９]重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層及び他の層を含む積層体を２００℃以上の温度で加熱する工程を含む[１]〜[８]のいずれか一項に記載の製造方法。
[１０] [１]〜[９]のいずれか一項に記載の製造方法により製造された画像表示装置用基板。
[１１] [１０]に記載の画像表示装置用基板を含む画像表示装置。
[１２]液晶表示装置である[１１]に記載の画像表示装置。
[１３]ＶＡモード、ＩＰＳモード、またはＦＦＳモードの液晶表示装置である[１１]に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層に起こりうる黄変を防止又は軽減することが可能な表面処理を含む画像表示装置用基板の製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００１１】
本発明の製造方法における、「重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層」としては特に限定されず、例えば、画像表示装置の光学補償のための光学異方性層、カラーフィルタ作製等のための感光性樹脂層などが挙げられる。これらのうち、光学異方性層であることが特に好ましい。画像表示装置用基板に光学異方性層を設ける場合、その上に設けられる他の層形成のための現像処理や焼成によって、特に光学異方性層に黄変の問題が生じやすいからである。
重合性化合物としては特に限定されないが、上記層が、光学異方性層である場合は、液晶性化合物（下記）であることが好ましい。
【００１２】
［光学異方性層］
光学異方性層は、塗布又は延伸などにより形成されたフィルム状の層であればよく、位相差（Ｒｅ：レターデーション）を与える層であれば、特に限定されない。
光学異方性層の１例としては、高分子を含む層が挙げられる。高分子はアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、オキセタン基、及びエポキシ基からなる群から選択される少なくとも1つの重合性基を有することが好ましい。例えば、光学異方性層は少なくとも１つの反応性基を有する化合物を含む延伸フィルムであってもよい。延伸フィルは、直接もしくは他の層を介して、粘着剤により基板と貼り合わされて用いればよい。
さらに、光学異方性層の好ましい１例としては、液晶性化合物を含む材料から形成された層が挙げられる。特に光学異方性層が、液晶性化合物を含む溶液が塗布され、液晶相形成温度で熟成・配向されたあと、その状態のまま熱または電離放射線照射して固化することによって得られた層であることが好ましい。この態様につき、以下に詳しく説明する。
【００１３】
［液晶性化合物］
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井  正男  著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００１４】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
【００１５】
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表す。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００１６】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、反応性基を示す。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００１７】
【化１】
2009276583.tif 000002
【００１８】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1およびＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００１９】
Ａ1およびＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２のアルキレン基、アルケニレン基、およびアルキニレン基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００２０】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状アルキレン基もしくは環状アルケニレン基、二価のアリール基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
【００２１】
Ｗ1およびＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1およびＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００２２】
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００２３】
【化２】
2009276583.tif 000003
【００２４】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【００２５】
【化３】
2009276583.tif 000004
【００２６】
【化４】
2009276583.tif 000005
【００２７】
【化５】
2009276583.tif 000006
【００２８】
【化６】
2009276583.tif 000007
【００２９】
【化７】
2009276583.tif 000008
【００３０】
【化８】
2009276583.tif 000009
【００３１】
液晶性化合物はディスコティック化合物であってもよい。ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００３２】
本発明では、下記一般式（III）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いることが好ましい。
一般式（III）：  Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【００３３】
前記式（III）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
【００３４】
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【００３５】
【化９】
2009276583.tif 000010
【００３６】
【化１０】
2009276583.tif 000011
【００３７】
【化１１】
2009276583.tif 000012
【００３８】
【化１２】
2009276583.tif 000013
【００３９】
【化１３】
2009276583.tif 000014
【００４０】
【化１４】
2009276583.tif 000015
【００４１】
【化１５】
2009276583.tif 000016
【００４２】
【化１６】
2009276583.tif 000017
【００４３】
【化１７】
2009276583.tif 000018
【００４４】
【化１８】
2009276583.tif 000019
【００４５】
【化１９】
2009276583.tif 000020
【００４６】
光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。
【００４７】
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。水平配向とは円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。
【００４８】
光学異方性層は2層以上の層からなっていてもよく、液晶性化合物からなる層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の層を積層してもよい。
【００４９】
光学異方性層は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００５０】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができる。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェートなどが好ましく用いられる。
【００５１】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２５〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、４０〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５２】
［偏光照射による光配向］
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現した層であってもよい。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。大きな面内レターデーションを得るためには、偏光照射は液晶化合物層塗布、配向後に最初に行うことが好ましい。偏光照射は、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
偏光照射による光配向によって発生した面内のレターデーションを示す光学異方性層は、特に、ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に適している。
【００５３】
［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
前記光学異方性層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良すると共に、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は、不活性ガス置換してもしなくてもよいが、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００５４】
液晶化合物を含む溶液などの光学異方性層形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物および一般式（４）のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
以下、下記一般式（１）〜（４）について、順に説明する。
【００５５】
【化２０】
2009276583.tif 000021
【００５６】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−およびＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
【００５７】
【化２１】
2009276583.tif 000022
【００５８】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げたものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【００５９】
【化２２】
2009276583.tif 000023
【００６０】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（１）におけるＲ1、Ｒ2およびＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−９９２４８号公報の段落番号［００９２］〜［００９６］に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【００６１】
【化２３】
2009276583.tif 000024
【００６２】
式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚは水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上１２以下の整数を表す。一般式（４）を含む含フッ素ポリマー以外にも、塗布におけるムラ改良ポリマーとして特開２００５−２０６６３８号公報および特開２００６−９１２０５号公報に記載の化合物を水平配向剤として用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【００６３】
水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（４）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００６４】
［配向層］
上記した様に、光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明仮支持体上又は該透明仮支持体に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
【００６５】
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
【００６６】
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。
【００６７】
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成工業（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００６８】
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００６９】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ2を代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ2等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【００７０】
光学異方性層、ならびに所望により形成される感光性樹脂層、配向層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。
【００７１】
［支持体］
本発明の製造方法において用いられる支持体は、透明であれば特に限定はなく、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板でも、ポリマーからなる透明基板でもよい。画像表示装置用基板作製工程においてカラーフィルタや配向膜のベークのために１８０℃以上の高温プロセスを要するため、耐熱性を有することが好ましい。そのような耐熱性基板としては、ガラス板もしくはポリイミド、ポリエーテルスルホン、耐熱性ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、特に価格、透明性、耐熱性の観点からガラス板が好ましい。また、支持体は、予めカップリング処理を施しておいてもよい。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報に記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、支持体の膜厚としては、１００〜１２００μｍが一般的に好ましく、３００〜１０００μｍが特に好ましい。
【００７２】
［表面処理］
本発明の方法において、上記のように得られる光学異方性層などの重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層は、他の層がその上に設けられる側の表面が２５０ｎｍ以下の波長の光で照射される。
照射手段としては２５０ｎｍ以下の波長の光を照射することができるものであれば特に限定されないが、低圧ＵＶランプやエキシマランプが好ましく、エキシマランプが特に好ましい。
エキシマランプとしては、例えば下記の表に示すランプが挙げられる。
【００７３】
【表１】
2009276583.tif 000025
【００７４】
表１に記載のランプを用いて、それぞれ、２２２ｎｍ±５ｎｍ、２０６ｎｍ±５ｎｍ、１９１ｎｍ±５ｎｍ、１７２ｎｍ±５ｎｍ、１４６ｎｍ±５ｎｍ、又は、１２６ｎｍ±５ｎｍの波長の光の照射が可能である。表面処理の際の上記照射の照射エネルギーは１００〜４０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、５００〜３０００ｍJ／ｃｍ2であることがより好ましく、９００〜２０００ｍJ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は５〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５〜１００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１０〜５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。
【００７５】
［他の層］
上記のように表面処理された層の上に他の層を形成し、公知の方法によって所望の画像表示装置用基板を製造することができる。
他の層としては特に限定されず、層の形成において、現像処理や、焼成を要する層を用いることができる。他の層としては例えば、カラーフィルタ層、光学異方性層、配向層が挙げられるが、カラーフィルタ層が好ましい。
【００７６】
カラーフィルタ層は、例えば、ＦＵＪＩＦＩＬＭ  ＲＥＳＥＡＲＣＨ  ＆  ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ  Ｎｏ．４４（１９９９）の２５頁に記載のトランサーシステム（富士写真フイルム（株）製）を用い、表面処理された層の、表面処理した表面に直接、ブラックマトリクスおよびＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタを形成することにより形成することができる。
また、カラーフィルタ層は、感光性樹脂層を露光及び現像することにより得てもよい。本発明の製造方法においては、適切な表面処理を行っているため、カラーフィルタ層形成のために露光及び現像を行っても黄変が生じにくい。
以下、感光性樹脂層を露光及び現像する工程によるカラーフィルタの作製について説明する。
【００７７】
［感光性樹脂層］
感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、マスク等を介して光照射した際に露光部と未露光部に基板への転写密着性の差が生じればポジ型でもネガ型でもよく、特に限定はない。前記感光性樹脂層は、少なくとも（１）アルカリ可溶性樹脂と、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤（４）染料又は顔料のような着色剤を含む着色樹脂組成物から形成することが好ましい。
以下、これら（１）〜（４）の成分について説明する。
【００７８】
（１）アルカリ可溶性樹脂
前記アルカリ可溶性樹脂（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【００７９】
（２）モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるラジカル重合性モノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【００８０】
更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
【００８１】
前記感光性樹脂層は、カチオン重合性モノマー又はオリゴマーを含むことが好ましい。カチオン重合性モノマー又はオリゴマーとしては、環状エーテル，環状ホルマール，アセタール，ビニルアルキルエーテル，チイラン基を含む化合物、ビスフェノール型エポキシ樹脂，ノボラック型エポキシ樹脂，脂環式エポキシ樹脂，エポキシ化不飽和脂肪酸，エポキシ化ポリブタジエンなどのエポキシ化合物を挙げることができる。そのようなモノマー又はオリゴマーの例としては、垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂（１９８５年刊）、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社（１９６９年刊）等に記載された化合物類の他、３官能グリシジルエーテル類（トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレートなど）、４官能以上のグリシジルエーテル類（ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノホ゛ラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど）、３官能以上の脂環式エポキシ類（エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど）、３官能以上のオキセタン類（ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）など）などが挙げられる。
【００８２】
（３）光重合開始剤
前記感光性樹脂層形成のための光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでもよい。
ラジカル重合開始剤としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。感光性樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【００８３】
カチオン重合開始剤としては，エトラフルオロボレート，ヘキサフルオロホスフェノールなどルイス酸のアリールジアゾニウム塩，ジアリールヨードニウム塩，トリアリールスルホニウム塩などの複塩，ベンジルシリルエーテル，ｏ−ニトロベンジルシリルエーテル，トリフェニル（ｔ−ブチル）ペルオキシシランなどのシラノール発生性シラン化合物とトリス（エチルアセト酢酸）アルミニウムなどのアルミニウム錯体との混合系などを挙げることができる。感光性樹脂組成物の全固形分に対するカチオン重合開始剤の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【００８４】
（４）着色剤
前記着色樹脂組成物には、公知の着色剤（染料、顔料）を添加することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、着色樹脂組成物中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が０．１μｍ以下、特には０．０８μｍ以下であることが好ましい。
上記公知の染料ないし顔料としては、特開２００４−３０２０１５号公報の段落番号［００３３］、米国特許第６，７９０，５６８号明細書カラム１４に記載の顔料等が挙げられる。
【００８５】
上記の着色剤の中でも、（ｉ)Ｒ（レッド）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が、（ii)Ｇ（グリーン）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６が、（iii)Ｂ（ブルー）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６が好適なものとして挙げられる。更に上記顔料は組み合わせて用いてもよい。
【００８６】
好ましい上記記載の顔料の組み合わせとしては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０との組み合わせが挙げられる。
【００８７】
このように併用する場合の顔料中のＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６の含有量は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６は５０質量％以上が好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。
【００８８】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダ）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【００８９】
着色剤（顔料）は、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。顔料数平均粒径が０．００１μｍ未満であると、粒子表面エネルギーが大きくなり凝集し易くなり、顔料分散が難しくなると共に、分散状態を安定に保つのも難しくなり好ましくない。また、顔料数平均粒径が０．１μｍを超えると、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下し、好ましくない。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値を言う。
【００９０】
（露光及び現像）
カラーフィルタ層は前述のように、感光性樹脂層の露光及び現像により得ることができる。カラーフィルタ層作製は、通常、下記工程をこの順で含む方法により作製することができる。
・表面処理された層上に、感光性樹脂層を形成する。
・形成された感光性樹脂層のパターン露光を行う
・上記露光後の層の現像を行う。
例えば、Ｒ（レッド）の着色樹脂組成物からなる感光性樹脂層、Ｇ（グリーン）の着色樹脂組成物からなる感光性樹脂層、Ｂ（ブルー）の着色樹脂組成物からなる感光性樹脂層を用いて上記の工程を繰り返すことにより、カラーフィルタ層を作製することができる。
【００９１】
表面処理された層上に感光性樹脂層を形成する際は、間にさらに別の層を介していてもよいが、表面処理された層に直接感光性樹脂層を形成することが好ましい。また、表面処理された表面上に感光性樹脂層が形成されることが好ましい。
パターン露光は、感光性樹脂層マスクを設置し、マスク上方から露光することにより行うことができる。
【００９２】
感光性樹脂層を露光するための光源としては、樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜１５０ｍＪ／ｃｍ 2 程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ 2 程度であり、更に好ましくは１０〜８０ｍＪ／ｃｍ 2 程度である。露光量が５ｍＪ／ｃｍ 2 未満であると、充分に硬化が進まず、液晶配向制御用突起の形成ができないことがある点で好ましくない。露光量が１５０ｍＪ／ｃｍ 2 を超えると、所定の幅（マスク幅）より広く硬化が進むことがある点で好ましくない。
【００９３】
さらに、感光性樹脂層は、貧酸素雰囲気下で露光することが好ましい。貧酸素雰囲気下が、少なくとも不活性ガス雰囲気下、または、減圧下のうちのどちらか、あるいは同時に選択されることが好ましい。
不活性ガスとは、Ｎ2 、Ｈ2 、ＣＯ2 などの一般的な気体の他、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類を用いることもできる。この中でも安全性や入手の容易さ、コストの問題からＮ2 が好適に利用される。
減圧下とは、０．５ａｔｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．１ａｔｍ以下の状態を指す。
【００９４】
現像は現像液を用いて行うことが好ましい。前記現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。
【００９５】
水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、上記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【００９６】
現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。
ここで、上記シャワー現像について説明すると、露光後の樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
洗浄液としては公知のもの（例えば、燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム製）」、或いは、炭酸ナトリウム・フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ２（富士写真フイルム製）」）が使用できる。
現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【００９７】
（焼成）
さらに、焼成と呼ばれる熱処理を行ことにより、カラーフィルタ層をより硬化させてもよい。上記熱処理の温度は、好ましくは２００〜３００℃、より好ましくは２２０℃〜２６０℃、最も好ましくは２３０℃〜２５０℃である。上記ベークの時間は、好ましくは１０〜１２０分、更に好ましくは２０〜７０分、最も好ましくは３０〜６０分である。このように温度及び時間を設定して上記ベークを行うことで、感光性樹脂成分中の架橋反応が進行しやすく、生産性を高めることができる。
【００９８】
［液晶表示装置（液晶モード）］
本発明の方法において、上記のように得られる光学異方性層が二軸性を示すと、液晶セル、特にＶＡモードの液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、二軸性を発現させるためにはコレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を、偏光照射によって歪ませることが必要である。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法（ＥＰ１３８９１９９  Ａ１）や分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２−６１３８号公報）が挙げられる。本発明においては、いずれも利用できる。
【００９９】
前記光学異方性層が正のａ−ｐｌａｔｅの場合、ＶＡモードもしくは半透過型の液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。
前記光学異方性層が正のｃ−ｐｌａｔｅの場合、ＩＰＳモード、またはＦＦＳモードを正確に光学補償できるので好ましい。
【実施例】
【０１００】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１０１】
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────―
中間層／配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────―
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）          ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ  Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製）  １．４８
蒸留水                                                      ５２．１０
メタノール                                                  ４３．２１
──────────────────────────────────―
【０１０２】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
ＬＣ−１−１は特開２００４−１２３８８２号公報に記載の方法を基に合成した。
ＬＣ−１−２はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法に準じて合成した。
──────────────────────────────────―――――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────―――――
棒状液晶（ＬＣ−１−１）                                    ３２．５１
水平配向剤（ＬＣ−１−２）                                    ０．０２
カチオン光重合開始剤（Ｃｙｒａｃｕｒｅ  ＵＶＩ６９７４、ダウ・ケミカル社製）                                                                  ０．６７
重合制御剤（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）                                                                ０．１０
メチルエチルケトン                                          ６６．７０
──────────────────────────────────―――――
【０１０３】
【化２４】
2009276583.tif 000026
【０１０４】
（光学異方性層付きガラス基板Ｇ−１の作製）
１００ｍｍ角、厚さ１.１ｍｍの無アルカリガラス（＃１７３７、コーニング社製）の上に、配向層用塗布液ＡＬ−１をスピンコート塗布、乾燥した。乾燥膜厚は１．６μｍであった。次いで、配向層表面に対し、ラビング処理を施した。その後、ワイヤーバーを用いてＬＣ−１を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥し、液晶相状態として配向させた後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２４０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射してその配向状態を固定化して、厚さ１．８μｍ、正面レターデーションＲｅ２７５．９ｎｍの光学異方性層を形成し、光学異方性層付きガラス基板Ｇ−１を作製した。この光学異方性層の表面純水接触角は８０．０度であった。
【０１０５】
（位相差測定）
正面レターデーションＲｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をガラス基板法線方向に入射させて測定した。本明細書におけるＲｅは、特に記載がなければ５４５±５ｎｍの波長で測定されたもの意味する。
（表面純水接触角測定）
表面処理の程度を測るために、最表層表面の純水接触角の値を確認した。純水接触角は、接触角計ＣＶ−ＤＴ・Ａ型（協和界面科学（株）製）を用いて測定した。
（色味測定）
光学異方性層の黄変度合いを評価するために、色味測定を行なった。分光光度計ＵＶ−１６５０（島津製作所製）を用いて波長領域３８０〜７８０ｎｍの透過率を測定後、標準光源としてＣ光源を用いた場合の透過光色味Ｙｘｙを算出した。また、各工程により透過光色味がどの程度変動していくかを確認するため、ΔＥxyを算出した。
【０１０６】
（実施例１）
光学異方性層付きガラス基板Ｇ−１を、キセノンエキシマランプ付き紫外線洗浄装置（波長１７２ｎｍ、アイグラフィックス（株）製）にて紫外線照射１５００ｍＪ／ｃｍ2を行なった。
次いで、０．５％濃度のトリメチルアミン水溶液に６０秒（室温）浸漬し、アルカリ処理を施した後、水洗、乾燥した。
その後、クリーンオーブンＤＥ４１０（ヤマト科学（株）製）にて２１０℃で３０分間の焼成を行なった。
各工程終了時に行なった、位相差測定、表面純水接触角測定、色味測定の結果を表１に示す。
【０１０７】
（比較例１）
光学異方性層付きガラス基板Ｇ−１を、キセノンエキシマランプ付き紫外線洗浄装置の代わりにＵＶオゾンクリーナー（波長２５４ｎｍ、フィルジェン（株）製）を用いて、紫外線照射９００ｍＪ／ｃｍ2を行なった。
その後のアルカリ処理工程、焼成工程は実施例１と同様に行なった。各測定結果を表１に示す。
【０１０８】
【表２】
2009276583.tif 000027
【０１０９】
（結果）
表２に示されるように、表面処理のために照射する光の波長として、従来より短い波長を用いることにより、十分な表面処理を達成させながら、色味変動（黄変）を軽減させることができた。
また、正面レターデーションＲｅの変動も軽減させることができ、光学補償性能もほとんど変動させることなくアルカリ処理や焼成などの後工程を実施することができた。