(57)【要約】【課題】本発明は、耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムを提供し、さらに詳細には、画像表示素子の表面の光反射を効果的に防止し、かつ製造費用が低い反射防止フィルムを提供する。【解決手段】本発明の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムは、基材フィルム１００の少なくとも一方の面に、（メタ）アクリレート化合物を含有するハードコーティング層１１０、バインダー樹脂と導電性粒子とを含有する高屈折層１２０及びフッ素化合物を含有する低屈折層１３０が順に積層された反射防止フィルムであって、前記低屈折層の表面は、微細な凹凸を有し、また前記低屈折層側の表面摩擦係数のうち、静摩擦係数は０．５以下であり、動摩擦係数は０．７以下であることを特徴とし、前記低屈折層１３０は、バインダー樹脂１００重量対比１５重量部〜２５重量部の中空シリカを含むことを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム１００の少なくとも一方の面に、（メタ）アクリレート化合物を含有するハードコーティング層１１０、バインダー樹脂と導電性粒子とを含有する高屈折層１２０及びフッ素化合物を含有する低屈折層１３０が順に積層された反射防止フィルムであって、
前記低屈折層１３０の表面は、微細な凹凸を有し、前記低屈折層１３０側の表面摩擦係数のうち、静摩擦係数は０．５以下であり、動摩擦係数は０．７以下であることを特徴とする、耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項２】
前記低屈折層１３０は、バインダー樹脂１００重量対比１５重量部〜２５重量部の中空シリカを含むことを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項３】
前記反射防止フィルムは、ヘイズが３．０％未満であることを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項４】
前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍの波長領域で透過率が５％未満であることを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項５】
前記ハードコーティング層１１０の層厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲であることを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項６】
前記高屈折層１２０の層厚さは、０．０１μｍ〜１．０μｍの範囲であり、前記低屈折層１３０の層厚さは、０．０１〜１．０μｍの範囲であることを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項７】
前記高屈折層１２０の導電性粒子は、金属酸化物微粒子であることを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項８】
前記高屈折層１２０の前記バインダー樹脂と導電性粒子の重量割合は、１０／９０〜３０／７０であることを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項９】
前記低屈折層１３０の前記フッ素化合物は、主鎖中にビニルエーテル構造を有する含フッ素系共重合体であることを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項１０】
前記低屈折層１３０は、粒径０．００１μｍ〜０．２μｍの範囲のシリカ微粒子をさらに含有することを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項１１】
前記シリカ微粒子は、２成分以上の粒径分布を有する微粒子であることを特徴とする、請求項１０に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項１２】
前記低屈折層１３０は、次の化学式（１）
Ｒ（１）ａＲ（２）ｂＳｉＸ４−（ａ＋ｂ）    （１）
（式中、Ｒ（１）、Ｒ（２）は、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリル基、又はハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基、又はシアノ基を有する炭化水素基であり、Ｘは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン基、アシルオキシ基の中から選択された加水分解可能な置換基であり、ａとｂは、それぞれ０、１又は２であり、また（ａ＋ｂ）は、１、２又は３である。）
で表されるシランカップリング剤又はその加水分解物又はその反応物をさらに含有することを特徴とする、請求項１に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【請求項１３】
前記低屈折層１３０のフッ素化合物は、次の化学式（２）
Ｒ（３）ｃＲ（４）ｄＳｉＸ４−（ｃ＋ｄ）    （２）
（式中、Ｒ（３）、Ｒ（４）は、それぞれフッ素置換されたアルキル基、アルケニル基、アリル基、メタクリルオキシ基、又は（メタ）アクリロイル基を有する炭化水素基であり、Ｘは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン基又はアシルオキシ基の中から選択された加水分解可能な置換基であり、ｃとｄは、それぞれ０、１、２又は３であり、また（ｃ＋ｄ）は、１、２又は３である。）
で表されるアルコキシシリル基を有するフッ素樹脂又はこの加水分解生成物をさらに含有することを特徴とする、請求項１〜１２の何れか一項に記載の耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムに関し、さらに詳細には、画像表示素子の表面の光反射を効果的に防止し、耐擦傷性と表面スリップ性に優れ、かつ製造費用が低い耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤ等のディスプレイにおいては、外部から画面に入射された光の反射によって表示画像を見難くするという問題が発生するが、特に、最近フラットパネルディスプレイの大型化につれて前記問題を解決することがますます重要な課題となっている。
【０００３】
前記問題を解決するために、今までいろいろなディスプレイに対して反射防止処理や防眩処理が施されているが、一つの例として反射防止フィルムを各種のディスプレイに使用している。図１は、反射防止フィルムの原理を示す図である。
【０００４】
このような反射防止フィルムは、従来の蒸着又はスパッタリングなどのドライコーティングプロセス法により基材フィルム上に低屈折率の物質（ＭｇＦ２）を薄膜化する方法又は屈折率の大きな物質［ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（錫ドープ酸化アンチモン）、ＺｎＯ、ＴｉＯ２等］と屈折率の小さな物質（ＭｇＦ２、ＳｉＯ２等）を交互に積層する方法などにより製作されてきた。しかしながら、このようなドライコーティングプロセス法により製造された反射防止フィルムは、製造費用が高いという商業的短所があった。
【０００５】
そのため、最近では、前記問題点を解決するために、ウェットコーティングを利用した反射防止フィルムを製造することが試みられており、実際に商業用として使用されている。しかしながら、このようなウェットコーティングにより製作された反射防止フィルムは、前記ドライコーティングプロセス法により製造された反射防止フィルムに比べて、表面の耐擦傷性が落ちるという問題が発生する。
【０００６】
反射防止フィルムは、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤなどのディスプレイにおいて最外郭に位置して、外部から入る光に対する反射による画質の低下を防止するための反射防止特性、外部汚染物に対する防汚特性、外部機械的摩擦に対する耐擦傷性などに主要特性を有している。
【０００７】
しかしながら、最近では、前記主要特性の他に追加的に表面スリップ性が主要特性として台頭しており、仮に表面スリップ性が良くない場合にディスプレイをクリーニングする場合又は視野角の調整のために位置移動時にフレームと反射防止フィルムとの間の摩擦によってきしむ騷音が発生し、これによって消費者の不満を引き起こすことができるという弱点を有している。
【０００８】
そのため、品質が優れた反射防止フィルムになるためには、前記主要特性の他に優れた表面スリップ性を必須的に有しなければならず、このための反射防止フィルムが求められているのが現状である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、画像表示素子の表面の光反射を効果的に防止し、耐擦傷性と表面スリップ性に優れ、製造費用が低い耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムを提供することにある。
【００１０】
本発明の上記の目的及び他の目的とその利点は、添付図面を参照して好ましい実施例を説明した下記の説明からより明確になるはずである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的は、基材フィルム１００の少なくとも一方の面に、（メタ）アクリレート化合物を含有するハードコーティング層１１０、バインダー樹脂と導電性粒子とを含有する高屈折層１２０及びフッ素化合物を含有する低屈折層１３０が順に積層された反射防止フィルムであって、前記低屈折層１３０の表面は、微細な凹凸を有し、また前記低屈折層１３０側の表面摩擦係数のうち、静摩擦係数は０．５以下であり、動摩擦係数は０．７以下であることを特徴とする、耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムにより達成される。
【００１２】
ここで、前記低屈折層１３０は、バインダー樹脂１００重量対比１５重量部〜２５重量部の中空シリカをさらに含むことを特徴とする。
【００１３】
また、前記反射防止フィルムは、ヘイズが３．０％未満であることを特徴とする。
【００１４】
また、前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍの波長領域で透過率が５％未満であることを特徴とする。
【００１５】
また、前記ハードコーティング層１１０の層厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲であることを特徴とする。
【００１６】
また、前記高屈折層１２０の層厚さは、０．０１μｍ〜１．０μｍの範囲であり、前記低屈折層１３０の層厚さは、０．０１〜１．０μｍの範囲であることを特徴とする。
【００１７】
また、前記高屈折層１２０の導電性粒子は、金属酸化物微粒子であることを特徴とする。
【００１８】
また、前記高屈折層１２０の前記バインダー樹脂と導電性粒子の重量割合は、１０／９０〜３０／７０であることを特徴とする。
【００１９】
また、前記低屈折層１３０の前記フッ素化合物は、主鎖中にビニルエーテル構造を有する含フッ素系共重合体であることを特徴とする。
【００２０】
また、前記低屈折層１３０は、粒径０．００１μｍ〜０．２μｍの範囲のシリカ微粒子をさらに含有することを特徴とする。
【００２１】
また、前記シリカ微粒子は、２成分以上の粒径分布を有する微粒子であることを特徴とする。
【００２２】
また、前記低屈折層１３０は、以下の化学式（１）で表されるシランカップリング剤又はその加水分解物又はその反応物をさらに含有することを特徴とする。
Ｒ（１）ａＲ（２）ｂＳｉＸ４−（ａ＋ｂ）    （１）
（式中、Ｒ（１）、Ｒ（２）は、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリル基、又はハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基、又はシアノ基を有する炭化水素基であり、Ｘは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン基、アシルオキシ基の中から選択された加水分解可能な置換基であり、ａとｂは、それぞれ０、１又は２であり、また（ａ＋ｂ）は、１、２又は３である。）
【００２３】
また、前記低屈折層１３０のフッ素化合物は、下記の化学式（２）で表されるアルコキシシリル基を有するフッ素樹脂又はこの加水分解生成物をさらに含有することを特徴とする。
Ｒ（３）ｃＲ（４）ｄＳｉＸ４−（ｃ＋ｄ）    （２）
（式中、Ｒ（３）、Ｒ（４）は、それぞれフッ素置換されたアルキル基、アルケニル基、アリル基、メタクリルオキシ基、又は（メタ）アクリロイル基を有する炭化水素基であり、Ｘは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン基又はアシルオキシ基の中から選択された加水分解可能な置換基であり、ｃとｄは、それぞれ０、１、２又は３であり、また（ｃ＋ｄ）は、１、２又は３である。）
【発明の効果】
【００２４】
本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムによると、表面摩擦係数を下げることによって耐擦傷性が向上し、表面スリップ性に優れるから、視野角の調整などのためのディスプレイ位置調整時に発生可能な摩擦騷音の発生を抑制することができ、製造費用が低いなどの効果がある。
【００２５】
したがって、本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムは、例えば、プラズマディスプレイのような大画面の平面テレビの前面、液晶テレビの前面などに反射防止フィルムとして適用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施例と図面を参照して、本発明を詳細に説明する。これらの実施例は、単に本発明をより具体的に説明するために例示的に提示したものに過ぎず、本発明の範囲がこれらの実施例により制限されないということは、当業界における通常の知識を有する者にとって自明である。
【００２７】
図２は、反射防止フィルムの積層構造を模式的に示したフィルム断面図であり、このような反射防止フィルムは、基材フィルム１００上にハードコーティング層１１０、高屈折層１２０及び低屈折層１３０が順次積層されたフィルム（以下、100+110+120+130を「積層フィルム」とする）であり、このような反射防止フィルムに保護フィルム１４０と基材フィルム１００の反対面に粘着層１５０及び離型フィルム１６０が積層されうる。
【００２８】
本発明は、低屈折層の表面のスリップ性を下げることによって、耐擦傷性を改善し、視野角の調整時に摩擦騷音の発生を抑制した反射外観が優れた反射防止フィルムを提供することができ、また表面反射率が低く色目が中性である反射外観が優れた反射防止フィルムを提供することができる。
【００２９】
このような目的を達成するために、本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、基材フィルムの少なくとも片面にハードコーティング層１１０、高屈折層１２０、低屈折層１３０が順次積層され、また低屈折層１３０の表面摩擦係数を静摩擦係数は０．５以下、動摩擦係数は０．７以下にする構成により、その目的を達成できる反射防止フィルムからなるということを発見した。
【００３０】
また、本発明は、前記反射防止フィルムを画像表示面又は前面板の表面に粘着してなる画像表示装置を備える。
【００３１】
本発明によると、基材フィルムに（メタ）アクリレート化合物を含有するハードコーティング層１１０、導電性無機粒子を含有する高屈折層１２０、フッ素化合物を及び／又は中空シリカ粒子を含有する低屈折層１３０を積層してなる積層フィルムに表面動摩擦係数（μｋ）を０．7以下、静摩擦係数（μｓ）を０．5以下にすることによって、表面スリップ性を改善して耐擦傷性が向上して優れた機械的特性を有する反射防止フィルムを得ることができた。また、摩擦係数を下げて表面スリップ性を改善することによって、視野角の調整などのためのディスプレイ位置の調整時に発生可能な摩擦騷音を抑制するために、例えばプラズマディスプレイのような大画面の平面テレビの前面、液晶テレビの前面などに適用される反射防止フィルムとして適している。
【００３２】
本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムの基材フィルム１００は、表示装置用部材（以下、表示部材とする）として使用するために、光線透過率が高く、ヘイズ値が低いことが好ましい。例えば、波長４００〜８００ｎｍでの光線透過率は、好ましくは、４０％以上、さらに好ましくは、６０％以上であり、また、ヘイズ値は、好ましくは、５％以下、さらに好ましくは、３％以下である。これらの条件の一つ又はすべてを満足させない場合には、表示部材として使用したときに、画像の鮮明性が欠如するという傾向がある。また、このような効果を発揮する点から、光線透過率の上限値は、９９．５％程度まで、そしてヘイズ値の下限値は、０．１％程度までが製作可能な範囲である。
【００３３】
前記基材フィルム１００は、特に限定されるものではなく、公知のプラスチック基材フィルムに利用される樹脂素材の中から適切に選択して使用することができる。このような基材フィルム１００用樹脂素材として、例えば、エステル、エチレン、プロピレン、ジアセテート、トリアセテート、スチレン、カーボネート、メチルペンテン、スルホン、エーテルエチルケトン、イミド、フッ素、ナイロン、アクリレート、脂環族オレフィン系等から選択される一つを構成単位にするポリマー又は共重合ポリマーを使用することができる。
【００３４】
好ましくは、これらの樹脂のうち、ポリエチレンテレフタレートなどのエステル系、トリアセチルセルロースなどのアセテート系、及びポリメチルメタクリルレートなどのアクリレート系から選択される一つを構成単位にするポリマー又は共重合ポリマーが好ましいが、これらは、透明性、強度及び厚さの均一性に優れているからである。特に、透明性、ヘイズ値、機械特性の面で、エステル系を構成単位にするポリマーからなる基材フィルム１００が特に好ましい。
【００３５】
このようなポリエステル系樹脂には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−α，β−ビス（２−クロロフェノキシ）エタン−４，４´−ジカルボキシレートなどを例に挙げることができる。また、これらのポリエステルには、また他のジカルボン酸成分又はジオール成分が２０モル％以下であると、共重合されていても良い。その中でも品質、経済性などを総合的に判断すると、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【００３６】
これらの構成樹脂成分は、１種のみを使用しても良く、２種以上を併用しても良い。
【００３７】
また、本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムの基材フィルム１００の厚さは、特に限定されないが、透明性、ヘイズ値、機械特性の面で、通常５〜８００μｍ、好ましくは、１０〜２５０μｍである。
【００３８】
また、２枚以上のフィルムを公知の方法で接合したものであっても良い。
【００３９】
また、前記基材フィルム１００は、ハードコーティング層１１０を形成する前に、各種の表面処理（例えば、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、エッチング処理、又は粗面化処理等）を施したものであっても良い。また、接着を促進させるために、基材フィルムの表面にプライマー層としてコーティング（例えば、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエステルアクリレート系、ポリウレタンアクリレート系、ポリエポキシアクリレート系、チタネート系化合物などのコーティング）を施した後に、ハードコーティング層１１０を形成しても良い。特に、親水基含有ポリエステル樹脂にアクリル系化合物をグラフト化させた共重合体と架橋結合剤からなる組成物をプライマー塗布したものは、接着性が向上し、耐熱性、耐水性などの耐久性に優れているから、基材フィルム１００として好ましい。
【００４０】
次に、本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムのハードコーティング層１１０は、前記基材フィルム１００上に形成されるが、（メタ）アクリレート化合物を含有することが必須である。（メタ）アクリレート化合物は、活性光線の照射によりラジカル重合され、形成される膜の耐溶剤性や硬度を向上させる。具体的に、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレート化合物を例に挙げることができる。また、（メタ）アクリロイル基が分子内に２個以上である多官能（メタ）アクリレート化合物は、耐溶剤性などが向上するので、本発明においては、特に好ましい。多官能（メタ）アクリレートの具体的な例には、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロルプロパントリ（メタ）アクリレートなどを例に挙げることができる。これらの単量体は、１種又は２種以上混合して使用しても良い。
【００４１】
本発明におけるハードコーティング層１１０を形成するための構成樹脂の成分には、ハードコート層１１０の硬度を向上させる目的で、アルキルシリケート類及びその加水分解物、コロイドシリカ、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタンなどの無機粒子、コロイド状に分散されたシリカ微粒子などを含有させても良い。
【００４２】
前記ハードコート層１１０の厚さは、用途によって適宜に選択されるが、通常、１μｍ〜５０μｍ、好ましくは、２μｍ〜３０μｍである。
【００４３】
ハードコーティング層１１０の厚さが１μｍ未満では、表面の硬度が不充分であるから傷が生じやすくて好ましくない。また、５０μｍを超える場合には、透明性が低下してヘイズ値が高くなりやすく、また硬化膜が弱くなり、フィルムを折り曲げたときにハードコーティング層１１０にクラックが生じやすくなるため、好ましくない。
【００４４】
次に、本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムの高屈折層１２０は、前記ハードコーティング層１１０上に形成されるが、導電性粒子とバインダー成分を含有することが必須である。本発明での導電性粒子とは、金属微粒子あるいは金属酸化物微粒子を意味する。その中でも金属酸化物微粒子は、透明性が高いから好ましい。金属酸化物微粒子には、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子などが特に好ましく、さらに好ましくは、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）である。
【００４５】
前記導電性粒子は、平均１次粒径（ＢＥＴ法により測定される球相当の直径）が０．５μｍ以下である粒子が好ましく使用されるが、さらに好ましくは、０．００１〜０．３μｍ、さらに好ましくは、０．００５〜０．２μｍの粒径のものが利用される。前記平均粒径が前記範囲を超過すると、生成される被膜（導電層１２０）の透明性を低下させ、前記範囲未満では、前記粒子が凝集されやすいから、生成被膜（高屈折層１２０）のヘイズ値が増大して如何なる場合にも、所望のヘイズ値を得ることが困難であるからである。
【００４６】
前記高屈折層１２０を構成するバインダー成分は、（メタ）アクリレート化合物が利用される。（メタ）アクリレート化合物は、活性光線の照射によりラジカル重合され、形成される膜の耐溶剤性や硬度を向上させるために好ましく、また、（メタ）アクリロイル基が分子内に２個以上である多官能（メタ）アクリレート化合物は、耐溶剤性などが向上するので、本発明においては特に好ましい。例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロルプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロルプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアン酸エステルトリ（メタ）アクリレートなどの３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの４官能以上の（メタ）アクリレートなどを例に挙げることができる。
【００４７】
高屈折層１２０を構成するバインダー成分は粒子の分散性を向上させるために、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基などの酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーには、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェートなどのリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレートなどを例に挙げることができる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を有した結合を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。また、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーなどのウレタン結合を有している樹脂であると、極性も高く粒子の分散性が良くなるので、特に好ましい。
【００４８】
本発明でハードコート層１１０及び高屈折層１２０を形成するとき、塗布したバインダー成分の硬化を進行させるために開始剤を使用しても良い。前記開始剤には、塗布したバインダー成分を、ラジカル反応、負イオン反応、陽イオン反応などによる重合及び／又は架橋反応を開始又は促進させるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤を使用することができる。具体的には、ソディウムメチルジチオカルバメートスルフィド、ジフェニルモノスルフィド、ジベンゾチアゾイルモノスルフィド及びジスルフィドなどのスルフィド類；チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン誘導体；ヒドラゾーン、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物；ベンゼンジアゾニウム塩などのジアゾ化合物; ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノンなどの芳香族カルボニル化合物；ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピルなどのジアルキルアミノ安息香酸エステル；ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドなどの過酸化物；９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジンなどのアクリジン誘導体；９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジンなどのフェナジン誘導体；６，４´，４´´−トリメトキシ−２，３−ジフェニルキノキサリンなどのキノキサリン誘導体;２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム４フッ化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３´−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニール）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノンなどを例に挙げることができる。
【００４９】
また、本発明でハードコーティング層１１０及び高屈折層１２０を形成するとき、前記開始剤の、酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させても良い。このようなアミン化合物には、例えば、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物などの不揮発性のものであれば特に限定されない。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミンなどが適切である。
【００５０】
本発明において、高屈折層１２０の構成成分の配合割合は、バインダー成分と導電粒子との重量割合が１０／９０〜３０／７０であるものが必要であり、好ましくは、１５／８５〜２５／７５である。粒子が前記範囲より少ないと、得られる膜は、透明性が充分であっても導電性が悪くなり、逆に多すぎると、得られる膜の各種物理的、化学的強度が悪くなるので、好ましくない。光重合開始剤の量は、バインダー成分１００重量部に対して、通常、０．１〜２０重量部、好ましくは、１．０〜１５．０重量部の範囲で添加される。０．１重量部未満では、光重合が遅くなり、硬度及び耐擦過性を満たすために長時間の光照射を必要とする傾向があり、時には、未硬化になりやすい。一方、２０重量部を超過して添加すると、塗膜の導電性、耐摩耗性、耐厚性などの機能が低下しやすい。
【００５１】
本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムの高屈折層１２０の構成成分は、以上説明したバインダー成分、導電性粒子、光重合開始剤を必須構成成分とし、また必要によって、例えば、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤などの各種添加剤を含有しても良い。
【００５２】
本発明では、前記高屈折層１２０の構成成分に導電性の付与を目的としてポリピロール及びポリアニリンなどの導電性ポリマー、金属アルコラート及びキレート化合物などの有機金属化合物をさらに含有させることができる。また、この高屈折層１２０の構成成分に、表面硬度を向上させる目的で、アルキルシリケート類及びその加水分解物、コロイドシリカ、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタンなどの無機粒子、コロイド状に分散されたシリカ微粒子などをさらに含有させることもできる。
【００５３】
本発明の高屈折層１２０により所望の水準の帯電防止性が付与されるためには、前記高屈折層１２０の表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以下であるものが好ましく、さらに好ましくは、１×１０１０Ω／□以下である。
【００５４】
本発明における高屈折層１２０は、鮮明性、透明性の面で、全光線透過率が好ましくは、４０％以上、さらに好ましくは、６０％以上である層である。
【００５５】
次に、本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムの低屈折層１３０は、高屈折層１２０上に形成され、フッ素化合物を含有することが必須である。
【００５６】
本発明に利用されるフッ素化合物は、熱又は電離放射線により架橋されるフッ素化合物が好ましい。架橋されるフッ素化合物には、不飽和基を有する含フッ素モノマー、架橋性基を有するフッ素ポリマー、あるいは含フッ素モノマーと架橋性基を付与するためのモノマーを構成単位にする含フッ素系共重合体を使用しても良い。特に、主鎖中にビニルエーテル構造を有する含フッ素系共重合体で構成されることが好ましい。含フッ素系共重合体は、フッ素含有量が３０重量％以上であり、ポリスチレン換算による数平均分子量が５００以上、好ましくは、５０００以上であるフッ素含有オレフィン鎖を有することが好ましい。このような含フッ素系共重合体は、含フッ素化合物及びビニルエーテル含有化合物を含有する硬化性組成物を重合反応させることによって得られるものであり、好ましくは、フッ素含有オレフィン化合物、このフッ素含有オレフィン化合物と共重合可能なビニルエーテル含有化合物、及び必要によって配合される反応性乳化剤からなる硬化性組成物を重合反応させることによって得ることができる。含フッ素系共重合体を形成するために使用する硬化性組成物には、反応性乳化剤を１成分として含有させることが好ましい。この反応性乳化剤成分を使用することによって、塗布液中に含まれている含フッ素系共重合体を、良好な塗布性及びレベリング性で塗布できる。この反応性乳化剤には、特に非イオン性反応性乳化剤を使用することが好ましい。
【００５７】
前記低屈折層１３０を構成する含フッ素系共重合体において、フッ素含有オレフィン化合物成分に由来する構造単位は、２０〜７０モル％、好ましくは、２５〜６５モル％、さらに好ましくは、３０〜６０モル％である。フッ素含有オレフィン化合物成分に由来する構造単位の割合が２０モル％未満では、得られる含フッ素系共重合体中のフッ素含有量が過小になりやすいので、得られる低屈折層１３０は、屈折率が十分に低いものにはならない。一方、フッ素含有オレフィン化合物成分に由来する構造単位の割合が７０モル％を超過すると、塗布液の均一性が悪化して均質の塗布被膜の形成が難しくなり、また、透明性及び基材への密着性が低くなって好ましくない。含フッ素系共重合体において、ビニルエーテル構造含有化合物成分に由来する構造単位は、１０〜７０モル％、好ましくは、１５〜６５モル％、さらに好ましくは、３０〜６０モル％である。ビニルエーテル構造含有化合物成分に由来する構造単位の割合が１０モール％未満では、塗布液の均一性が悪化して均質の塗布被膜の形成が難しくなり、７０モル％を超過すると、得られる低屈折層１３０は、透明性及び低反射率の光学特性が悪化したものになりやすいから好ましくない。このようなビニルエーテル構造含有化合物成分として、水酸基又はエポキシ基などの反応性官能基を含有する単量体を使用することによって、得られる硬化性樹脂組成物を塗布剤として使用した場合の硬化膜の強度を向上させることができるので好ましい。水酸基又はエポキシ基を含有する単量体の全単量体における割合は、０〜２０モル％であり、好ましくは、１〜２０モル％、さらに好ましくは、３〜１５モル％である。この割合が２０モル％を超過すると、得られる樹脂層１３０は、光学的特性が悪化しやすく、また、硬化膜が脆弱なものになりやすい。反応性乳化剤を含有する含フッ素系共重合体において、反応性乳化剤成分由来の構成単位の割合は、通常０〜１０モール％であり、好ましくは、０．１〜５モル％である。この割合が１０モール％を超過すると、得られる樹脂層１３０が粘着性を帯びたものになるため、取り扱い難く、また、塗布剤の耐湿性が低下するため好ましくない。
【００５８】
また、本発明においての低屈折層１３０は、バインダー樹脂１００重量対比１５重量部〜２５重量部の中空シリカを含むことを特徴とするが、前記中空シリカ粒子含有量が１５重量部未満である場合には、屈折率の上昇による反射防止特性が低下、すなわち反射率が上昇するという問題点があり、中空シリカ粒子含有量が２５重量部を超過する場合には、表面粗度の上昇によるスリップ性減少及び高価の中空シリカ粒子によるコスト上昇という問題点があるためである。
【００５９】
本発明における低屈折層１３０には、含フッ素系共重合体の他に、また、架橋性化合物を配合することが好ましく、所定の硬化性を付与して、硬化特性を改善するために効果的である。
【００６０】
前記架橋性化合物には、例えば各種アミノ化合物、ペンタエリスリトール、ポリフェノール、グリコール、アルキルシリケート類及びその加水分解物などの各種水酸基含有化合物などを挙げることができる。前記架橋性化合物として利用されるアミノ化合物は、フッ素化合物中に存在する水酸基又はエポキシと反応可能なアミノ基、例えばヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のうち、何れか一方又は両方を２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えばメラミン系化合物、要素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物などを挙げることができる。メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合された骨格を有する化合物として知られているものであり、具体的には、メラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミンなどを例に挙げることができるが、１分子中にメチロール基及びアルコキシ化メチル基のうち、何れか一方又は両方を２個以上有することが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドを塩基性条件下で反応させて得られるメチロール化メラミン、アルコキシ化メチルメラミン、又はこれらの誘導体が好ましく、特に硬化性樹脂組成物に良好な保存安定性が得られる点、及び良好な反応性が得られる点でアルコキシ化メチルメラミンが好ましい。架橋性化合物として利用されるメチロール化メラミン及びアルコキシ化メチルメラミンには、特に制約はなく、例えば文献「プラスチック材料講座［８］ユリアメラミン樹脂」（日刊工業新聞社）に記載されている方法で得られる各種の樹脂形状物の使用も可能である。また、尿素化合物には、尿素の他に、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、ウロン環を有するメチロール化ウロン及びアルコキシ化メチルウロンなどを例に挙げることができる。そして、尿素誘導体などの化合物に対しても、上記の文献に記載されている各種の樹脂形状物の使用が可能である。
【００６１】
このような架橋性化合物の使用量は、含フッ素系共重合体１００重量部に対して、７０重量部以下であり、好ましくは、３〜５０重量部、さらに好ましくは、５〜３０重量ブイである。架橋性化合物の使用量が３重量部未満では、塗布・硬化により形成される薄膜の耐久性が不充分になる場合があり、７０重量部を超えると、含フッ素系共重合体との反応においてゲル化を回避することが困り、また硬化膜が低屈折率のものにならないから硬化物が弱いものになる場合がある。
【００６２】
また、前記低屈折層１３０には、耐擦過性を付与するためにシリカ微粒子、又は／及びシランカップリング剤、又は／及びアルコキシシリル基を有するフッ素樹脂を含有することが好ましい。
【００６３】
前記シリカ微粒子成分は、乾式シリカ、湿式シリカ、コロイド状に分散されたシリカ微粒子などを含有させることが好ましく、またコロイド状に分散されたシリカ微粒子を含有させることが好ましい。前記シリカ微粒子の粒径は、平均１次粒径（球相当直径：ＢＥＴ法）が０．００１〜０．２μｍのものを一般に使用することができるが、好ましくは、０．００５〜０．１５μｍの粒径のものが利用される。前記平均粒径が、このような好ましい範囲であれば、生成被膜（樹脂層）の透明性が低下することはなく、一方、表面の硬度を向上させ難いこともない。また、前記シリカ微粒子の形状は、球状、数珠状が好ましく利用される。前記シリカ粒子は、平均粒径が異なる２成分以上の粒子を使用することができる。また、前記シリカ微粒子は、表面処理を実施して使用することもできる。表面処理方法には、プラズマ放電処理やコロナ放電処理などの物理的表面処理とカップリング剤を使用した化学的表面処理があるが、化学的処理が好ましく利用される。化学的処理に利用されるカップリング剤には、シランカップリング剤が特に好ましく利用される。シリカ微粒子由来の成分は、固形分比で５〜５０％、また５〜４０％、特に５〜３０％にすることが好ましい。シリカ微粒子由来の成分がこのような好ましい範囲内であると、得られる樹脂層１３０の表面硬度が充分であり、一方、透明性及び低反射率などの光学特性も優れたものにすることができる。
【００６４】
前記シランカップリング剤の成分は、以下の化学式（１）で表される化合物又はその加水分解生成物である。
Ｒ（１）ａＲ（２）ｂＳｉＸ４−（ａ＋ｂ）（１）
ここで、Ｒ（１）、Ｒ（２）は、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリル基、又はハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基、又はシアノ基などを有する炭化水素基である。Ｘは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン基又はアシルオキシ基の中から選択された加水分解可能な置換基である。前記化学式（１）においてａ、ｂは、それぞれ０、１又は２であり、また（ａ＋ｂ）は、１、２又は３である。シランカップリング剤由来の成分は、固形分比で５〜７０％、また１５〜６５％、特に２０〜６０％にすることが好ましい。シランカップリング剤由来の成分がこのような好ましい範囲であると、得られる樹脂層の表面硬度が充分で、かつ透明性及び低反射率などの光学特性も優れたものにすることができる。
【００６５】
前記アルコキシシリル基を有するフッ素樹脂は、以下の化学式（２）で表される化合物又はその加水分解生成物である。
Ｒ（３）ｃＲ（４）ｄＳｉＸ４−（ｃ＋ｄ）    （２）
ここで、Ｒ（３）、Ｒ（４）は、それぞれフッ素置換されたアルキル基、アルケニル基、アリル基、メタクリルオキシ基、又はアクリロイル基を有する炭化水素基である。Ｘは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン基又はアシルオキシ基の中から選択された加水分解可能な置換基である。前記化学式（２）において、ｃ、ｄは、それぞれ０、１、２又は３であり、また（ｃ＋ｄ）は、１、２又は３である。アルコキシシリル基を有するフッ素樹脂由来の成分は、固形分比で２０〜９０％、また２５〜８０％、特に３０〜７０％にすることが好ましい。アルコキシシリル基を有するフッ素樹脂由来の成分がこのような好ましい範囲であると、得られる樹脂層の透明性及び低反射率の光学特性が良好であり、一方、樹脂層の表面硬度も良いものにすることができる。
【００６６】
本発明において低屈折層１３０を形成するとき、塗布液の硬化を進めるために、硬化触媒を使用しても良い。硬化触媒には、シランカップリング剤の縮合反応を促進させることが好ましく、このようなものとして酸化合物を挙げることができる。これらのうち、ルイス酸化合物が好ましい。ルイス酸化合物の例として、アセトアセトキシアルミニウムなどの金属アルコキシド又は金属キレートを例に挙げることができる。この硬化触媒の量は、適切に決定できるが、例えば、シランカップリング剤１００重量部に対して通常０．１〜１０重量部である。
【００６７】
本発明では、低屈折層１３０を形成するとき、また必要に応じて、例えば重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、レベリング剤などの各種添加剤を含有しても良い。
【００６８】
本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムが高透明性になるためには、積層フィルムのヘイズを３．０％未満にすることが良く、好ましくは、２．７％未満である。ヘイズが３．０％以上であると、透明性が不充分になりやすいためである。
【００６９】
また、本発明における低屈折層１３０の表面が良好な耐擦過性になるためには、樹脂層の表面に微細な凹凸を有することが必要である。前記凹凸による表面粗度と耐擦過性との関係は、次のような作用機構によるものと考えられる。すなわち、微細凹凸面においては、この凹凸面をスチールウールなどでスライディングすると、スチールウール部分は、凸部分とのみ接してスライディングされるものになって、樹脂層の表面との接触面積が必要最小限に抑制され、その結果、特に耐擦過性が向上するようになる。前記樹脂層１３０の表面の前記凹凸の算術平均照度（Ｒａ）値の範囲は、０．００３μｍ〜０．０２５μｍが必須である。さらに好ましくは、０．００４μｍ〜０．０２２μｍ、さらに好ましくは、０．００４μｍ〜０．０２０μｍである。前記凹凸の平均算術照度（Ｒａ）値がこの範囲を超過すると、樹脂層のヘイズが高まって透明性を低下させる。また、前記凹凸の算術平均照度（Ｒａ）値が前記範囲未満では、耐擦過性を向上させ難くなる。本発明における樹脂層の表面に微細凹凸を形成するために、コロイドシリカ、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタン、ガラスビーズ、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、窒化けい素などの無機粒子、コロイド状に分散されたシリカ微粒子などを含有させることが好ましく、さらに好ましくは、コロイド状に分散されたシリカ微粒子を含有させる。特に好ましくは、シリカ微粒子が２成分以上の粒径分布を有することにより形成できる。例えば、シリカ微粒子の平均粒径が０．００１〜０．０２μｍである粒子と平均粒径が０．０２〜０．２μｍである粒子とが混在することにより、微細な凹凸を形成することができる。
【００７０】
本発明の低屈折層１３０側の前記積層フィルムの表面が低反射性になるためには、前記積層フィルムの最高反射率は４％未満で、かつ最低反射率は０．２％以上にならなければならない。反射率がこの範囲を超えると、外光が射すことが発生しやすくなり、その積層フィルムの表面が低反射性にはならない。
【００７１】
本発明の低屈折層１３０側の前記積層フィルムの表面が低反射性になるためには、高屈折層１２０及び低屈折層１３０の屈折率と厚さとの積が対象光線（通常、可視光線）の波長の１／４になるようにすることが好ましい。したがって、高屈折層１２０及び低屈折層１３０においては、各層の厚さと屈折率ｎとの積の４倍が３８０〜７８０ｎｍの範囲にあることが好ましい。すなわち、前記高屈折層１２０及び低屈折層１３０における屈折率ｎと厚さｄとの関係は、下記の式（Ｉ）を満たす範囲内の厚さであることが好ましい。
ｎ・ｄ＝λ／４    （Ｉ）
（ここで、λは、可視光線の波長範囲であり、通常、３８０ｎｍ≦λ≦７８０ｎｍの範囲になる。）
【００７２】
本発明の積層フィルムに低反射性が付与されるためには、高屈折層１２０の厚さは、０．０１〜１．０μｍであることが好ましく、さらに好ましくは、０．０６〜０．１２μｍである。また、前記低屈折層１３０の好ましい厚さの範囲は、０．０１〜１．０μｍであり、さらに好ましくは、０．０７〜０．１２μｍである。高屈折層１２０及び低屈折層１３０の厚さがこの範囲外になると、前記式（Ｉ）を満たすことができず、低屈折層１３０側の前記積層フィルムの表面が低反射性にならない。
【００７３】
また、本発明の低屈折層１３０側の前記積層フィルムの表面が低反射性になるためには、低屈折層１３０の屈折率は、高屈折層１２０の屈折率より小さなこと、すなわち、低屈折層１３０／高屈折層１２０が１．０未満であることが好ましく、さらに好ましくは、０．６〜０．９５である。また、低屈折層１３０の屈折率は、１．４７以下であることが好ましく、さらに好ましくは、１．３５〜１．４５である。屈折率が１．３５未満である樹脂は、形成されることが現状況では難しく、また、屈折率が１．４７より高いと、反射率は高まる。
【００７４】
以下、本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムの製造方法について説明する。
【００７５】
本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムは、基材フィルム１００の少なくとも一方の面に、（メタ）アクリレート化合物を含有するハードコート層１１０、導電性粒子を含有する高屈折層１２０、フッ素化合物を含有する低屈折層１３０を順に積層することにより製造できる。
【００７６】
本発明において高屈折層１２０及び低屈折層１３０は、各構成成分を、好ましくは、溶媒で分散させた塗布液を調整し、その塗布液を基材フィルム上に塗布した後、乾燥・硬化させることによって形成できる。
【００７７】
本発明の高屈折層１２０の形成において使用される溶剤には、本発明の組成物の塗布又は印刷作業性を改善し、また粒子の分散性を改善するために配合するものであり、バインダー成分を溶解するものであれば、従来から公知の各種有機溶媒を使用することができる。特に、本発明においては、組成物の粘度の安定性、乾燥性の観点で沸点が６０〜１８０℃の有機溶媒が好ましく、また、その中で酸素原子を有する有機溶媒が金属粒子との親和性が良いので好ましい。このような有機溶媒には、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、イソプロピルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセチルアセトン、アセチルアセトンなどを好ましく例に挙げることができる。これらは、単一で使用しても良く、２種以上を混合して使用しても良い。
【００７８】
また、有機溶媒の量は、塗布手段、又は印刷手段によって作業性が良い状態の粘度の組成物になるように任意の配合量にしても良いが、通常、組成物の固形分の濃度が６０重量％以下、好ましくは、５０重量％以下にすることが適当である。通常、バインダー成分を有機溶媒で溶解させた溶液中に、粒子（Ｂ）を添加し、ペイントシェーカー、ボールミル、サンドミール、３個ロール、アットライター（ａｔｏｒｉｔｏｒ）、ホモミキサーなどの分散器により分散させ、その後に、光重合開始剤を添加して均一に溶解させる方法が適当である。
【００７９】
また、低屈折層１３０を形成する場合には、主にフッ素化合物からなる硬化性組成物をメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、イソプロピルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセチルアセトン、アセチルアセトンの中から選択される少なくとも１種以上の溶剤に分散させた液を塗布した後、乾燥・硬化させて低屈折層１３０を形成する方法を取ることが好ましい。この場合の溶剤の量も、必要とする組成物の粘度、目的とする硬化被膜の厚さ、乾燥温度条件などによって適宜に変更できる。
【００８０】
本発明による積層フィルムの層構成は、基材フィルム１００の少なくとも一方の面に、（メタ）アクリレート化合物を含有するハードコーティング層１１０、導電性粒子を含有する高屈折層１２０、フッ素化合物を含有する低屈折層１３０を形成することが好ましい。その他の層構成の具体例には、基材フィルム１００の表面両方に高屈折層１２０を形成しても良いが、この場合に、両高屈折層１２０のうち、少なくとも一方の高屈折層１２０上に低屈折層１３０を形成することが好ましい。また、基材フィルム１００の一方の面側に複数の高屈折層１２０を形成する場合には、基材フィルム１００の同一面側の最外表面が低屈折層１３０になるようにして、複数の低屈折層１３０を形成することが好ましい。
【００８１】
又は、基材フィルム１００に対してハードコーティング層１１０とは反対側の面にプライマー層、透明導電層を形成しても良い。又は樹脂層の表面に、防湿層、保護層を形成しても良い。前記防湿層、前記保護層の厚さは、反射防止機能に影響を与えないようにするために、２０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００８２】
本発明のディスプレイ用フィルムは、前記積層フィルムの低屈折層１３０上に粘着層又は接着層を形成し、粘着層又は接着層面に保護フィルムを接着したものである。粘着層又は接着層には、粘着又は接着作用により接着させるものであれば特に限定されない。粘着層又は接着層を形成する粘着剤又は接着剤には、ゴム系、ビニール重合系、縮合重合系、熱硬化性樹脂系及びシリコーン系などを使用することができる。その中で、ゴム系の粘着剤又は接着剤には、ブタジエン−スチレン共重合体系（ＳＢＲ）、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体系（ＮＢＲ）、クロロプレン重合体系、イソブチレン−イソプレン共重合体系（ブチルゴム）などを例に挙げることができる。ビニール重合系の粘着剤又は接着剤には、アクリル樹脂系、スチレン樹脂系、酢酸ビニール−エチレン共重合体系及び塩化ビニル−酢酸ビニール共重合体系などを例に挙げることができる。縮合重合系の粘着剤又は接着剤には、ポリエステル樹脂系を例に挙げることができる。熱硬化樹脂系の粘着剤には、エポキシ樹脂系、ウレタン樹脂系、ホルマリン樹脂系などを例に挙げることができる。これらの樹脂は、単独に使用しても良く、また２種以上混合して使用しても良い。
【００８３】
また、粘着剤又は接着剤は、溶剤型と無溶剤型のうちの何れかを使用することができる。粘着層又は接着層の形成は、前記のような粘着剤又は接着剤を使用して、塗布など通常行なわれている技術を使用して行われる。また、粘着層又は接着層に着色剤を含有させても良い。これは、粘着剤又は接着剤に、例えば、顔料や染料などの色素を含有した着色剤を混合して使用することにより容易に達成される。着色剤を含有している場合に、積層フィルムとして５５０ｎｍでの光線透過率が４０〜８０％の範囲内であるものが好ましい。また、特にプラズマディスプレイ用として利用される場合に、透過光がニュートラルグレイ又はブルーグレイであるもの、ディスプレイの発光色の色純度及びコントラストの向上が要求されているので、色素を含有した粘着層又は接着層を使用することにより達成できる。
【００８４】
保護フィルムを構成する樹脂素材は、特に限定されるものではなく、公知のプラスチック基材フィルムに利用される樹脂素材の中から適切に選択して使用することができる。このような保護フィルム用樹脂素材として、例えば、エステル、エチレン、プロピレン、ジアセテート、トリアセテート、スチレン、カーボネート、メチルペンテン、スルホン、エーテルエチルケトン、ナイロン、アクリレート、脂環族オレフィン系等から選択される１個を構成単位にするポリマー又は共重合ポリマーを例に挙げることができる。これらの樹脂素材のうち、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのエチレン、プロピレン系、ポリエチレンテレフタレートなどのエステル系から選択される１個を構成単位にするポリマー又は共重合ポリマーが好ましく利用される。特に、透明性、機械特性の点からエステル系を構成単位にするポリマーからなる基材フィルムが特に好ましい。
【００８５】
本発明のディスプレイ用フィルタは、前記ディスプレイ用フィルムに粘着層又は接着層を介在して、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、又は陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、ポータブルデジタルアシスタント（ＰＤＡ）などのディスプレイ面の表示面及び／又はその前面板の表面に接着することにより得られる。
【００８６】
また、本発明のディスプレイ用フィルムに粘着層又は接着層を介在して、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、又は陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、ポータブルデジタルアシスタント（ＰＤＡ）などのディスプレイ面の表示面に接着することによりディスプレイを得ることができる。
【００８７】
上記のようにして製作された積層フィルムとディスプレイ表示面及び／又はその前面板の表面を密着させる手段は、特に限定されないが、例えば、ディスプレイ表示部材あるいは基材フィルム１００に粘着層又は接着層を塗布乾燥させて、積層フィルムの低屈折層１３０が表層になるように圧着ローラなどで接合させ、粘着層又は接着層を介在してディスプレイ表示部材と基材フィルム１００とを接着させることにより、積層フィルムからなるディスプレイ用フィルタ又はディスプレイを得ることができる。
【００８８】
本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムを使用することができるプラズマディスプレイパネル前面保護板（ＰＤＰ前面板）の実施例について、図面に基づいて説明するが、これに限定されない。本発明による耐擦傷性及び表面スリップ性に優れた反射防止フィルムを基材フィルム１００面側に粘着層又は接着層１５０を介在して、ガラス、アクリル、ポリカーボネートなどの材質を両面にラミネートしたものである。また、プラズマディスプレイパネル前面保護板の透明基板と粘着層１５０との間に電磁波遮蔽層、近赤外遮蔽層、紫外線遮蔽層などの層を形成することができる。
【００８９】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
【実施例１】
【００９０】
ハードコート層１１０の形成
多官能アクリル系樹脂を含有する塗料（固形分５０％）（ＪＳＲ(株)製品、ＫＺ７５２８）を厚さ１００μｍのポリエステルフィルム（東レ(株)製品、ルーミラー）からなる基材フィルム１００の面上にマイクログラビアコッターを利用して塗布し、８０℃で５分間乾燥した後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して塗布層を硬化させ、厚さ約１０．０μｍのハードコート層１１０を形成した。
【００９１】
高屈折層１２０の形成
錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）を含有する塗料（固形分１０％）（日本化薬(株)製品、ＨＲＡ−１９６）をイソプロピルアルコールに溶解して、この混合物を攪拌して得た塗布液をハードコート層１１０の面上にマイクログラビアコッターを使用して塗布し、８０℃で５分間乾燥した後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して塗布層を硬化させて、厚さ約０．１μｍ屈折率（ｎ）＝１．６２の高屈折層１２０を形成した。
【００９２】
低屈折層１３０の形成
含フッ素系共重合体（フルオロオレフィン／ビニルエーテル共重合体）を含有する塗料（固形分１０％）（東レ(株)製品、ＬＲ−Ｓ３０２０、バインダー樹脂１００重量対比中空シリカ１５重量部）をイソプロピルアルコールに溶解して、この混合物を攪拌して得た塗布液を高屈折層１２０上にマイクログラビアコッターを使用して約１１２〜１１６ｎｍの厚さに塗布し、８０℃で５分間乾燥した後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して塗布層を硬化させて、厚さ約０．１μｍ、屈折率（ｎ）＝１．３９の低屈折層１３０を形成した。
【実施例２】
【００９３】
基材フィルム１００、ハードコート層１１０、高屈折層１２０は、実施例１と同じ条件と方法で形成した。その後、含フッ素系共重合体（フルオロオレフィン／ビニルエーテル共重合体）を含有する塗料（固形分１０％）（ＪＳＲ(株)製品、ＴＵ−２２０７、バインダー樹脂１００重量対比中空シリカ２０重量部）をイソプロピルアルコールに溶解して、この混合物を攪拌して得た塗布液を高屈折層１２０上にマイクログラビアコッターを使用して約１０６〜１１０ｎｍの厚さに塗布し、８０℃で５分間乾燥した後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して塗布層を硬化させて、厚さ約０．１μｍ、屈折率（ｎ）＝１．３９の低屈折層１３０を形成した。
【比較例１】
【００９４】
積層フィルムにおいて基材フィルム１００、ハードコート層１１０、及び高屈折層１２０は、実施例１と同じ方法で形成した。次に、含フッ素系共重合体（フルオロオレフィン／ビニルエーテル共重合体）を含有する塗料（固形分１０％）（東レ(株)製品、ＬＲ−Ｓ３０００、バインダー樹脂１００重量対比中空シリカ４０重量部）をイソプロピルアルコールに溶解して、この混合物を攪拌して得た塗布液を高屈折層１２０上にマイクログラビアコッターを使用して約１１２〜１１６ｎｍの厚さに塗布し、８０℃で５分間乾燥した後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して塗布層を硬化させて、厚さ約０．１μｍ、屈折率（ｎ）＝１．３７の低屈折層１３０を形成した。
【表１】
2009276738.tif 000003
【００９５】
前記実施例１及び２において、低屈折層屈折率は１．３９で、比較例の屈折率は１．３７であるが、これは、従来の塗料（東レ(株)製品、ＬＲ−Ｓ３０００）に比べて中空シリカの含有量の少ない改善された塗料（ＬＲ−Ｓ３０２０、ＴＵ−２２０７）を使用したためである。前記改善された塗料での中空シリカ含有量の場合に、従来の塗料での中空シリカ含有量に比べて約５０％程度減少したので、表面粗度が低くなって表面スリップ性が向上し、また耐擦傷性が向上する効果を有するようになる。
【００９６】
以下、本発明における評価方法及び測定方法について説明する。
【００９７】
［実験例１：スチールウール硬度評価］
＃００００のスチールウールを使用して、２５０ｇｆ／ｃｍ２の荷重を加えて１０回往復したときの傷の個数を観察した。傷のレベルに応じて硬度を以下の５段階に分類した（レベル５：傷無し、レベル４：１〜５個傷あり、レベル３：５〜１０個傷あり、レベル２：１０個以上の傷あり、レベル１：全体面に傷あり）。
【００９８】
［実験例２：ヘイズ測定］
スガ試験機製の直読ヘイズコンピュータを使用して測定を行った。
【００９９】
［実験例３：表面抵抗値（帯電防止性）評価］
三菱油化製のＨＩＲＥＳＴＡを使用して表面抵抗値の測定を行った。
【０１００】
［実験例４：反射率の測定］
日立計測製の分光光度計Ｕ−３４１０を使用して測定を行った。サンプルフィルムは、３２０〜４００の耐水サンドペーパーで裏面に均一に傷を付け、黒色塗料を塗布して、裏面からの反射を完全になくした状態にし、樹脂層側の表面に対して入射光角度６〜１０゜に測定を行った。また、ここでの反射率は、波長領域３８０ｎｍ≦λ≦７８０ｎｍにおける最小値を表す。
【０１０１】
［実験例５：摩擦係数の測定］
東洋精機製の摩擦係数測定機ＴＲタイプを使用し、測定結果は、日本電子科学製のＵｎｉｃｏｄｅｒ  Ｕ−２２８を使用して測定を行った。測定方法は、ＡＳＴＭ  Ｄ  １８９４規格に基づいて測定した。上板と下板に測定フィルムを位置させ、重さ２００±５ｇ、測定速度１５２±３０ｍｍで摩擦させて、静摩擦係数と動摩擦係数とをそれぞれ測定した。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】反射防止フィルムの原理を示す図である。
【図２】反射防止フィルムの積層構造を模式的に示したフィルム断面図である。
【符号の説明】
【０１０３】
Ａ，Ｂ，Ｃ…入射光
ａ，ｂ，ｃ…反射光
ｄ…低屈折層の厚さ
１００…基材フィルム
１１０…ハードコーティング層
１２０…高屈折層
１３０…低屈折層
１４０…保護フィルム
１５０…粘着層
１６０…離型フィルム
【図１】
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【図２】
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