(57)【要約】【課題】基板上にインク（有機溶液）を均一に塗布することができるとともに、残留インクによる表示品位や信頼性の低下を抑制することができる表示パネル製造装置及び表示パネルの製造方法を提供する。【解決手段】表示パネル製造装置のインク吐出機構部は、液流状のインクを吐出して、パネル基板ＰＳＢの所定の領域に塗布するノズルヘッド１１を備え、該ノズルヘッド１１に適用されるノズルプレート１１３に、インク塗布動作の際に吐出口ＰＨの周囲に残留するインクを吸着してパネル基板ＰＳＢへの落下や飛散を防止するためのインクトラップＴＲａが配置されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の表示画素が配列された表示パネルの製造装置において、
前記基板上に設定された前記表示画素の各形成領域に材料液を吐出して塗布するノズルが設けられた材料液吐出部を有し、
前記ノズルの前記材料液の吐出口の周囲に、前記材料液の残留物を吸着して保持する残留物吸着部が設けられていることを特徴とする表示パネルの製造装置。
【請求項２】
前記残留物吸着部は、前記ノズルの前記吐出口が設けられた面に対して、凹凸状の断面形状を有して形成されていることを特徴とする請求項１記載の表示パネルの製造装置。
【請求項３】
前記残留物吸着部は、前記吐出口を中心として前記ノズルの移動方向に配置されていることを特徴とする請求項１又は２記載の表示パネルの製造装置。
【請求項４】
前記残留物吸着部は、前記吐出口を中心として同心円状に配置されていることを特徴とする請求項１又は２記載の表示パネルの製造装置。
【請求項５】
前記残留物吸着部は、前記吐出口を中心として放射状に配置されていることを特徴とする請求項１又は２記載の表示パネルの製造装置。
【請求項６】
前記残留物吸着部は、前記吐出口を中心として複数配置されていることを特徴とする請求項３乃至５のいずれかに記載の表示パネルの製造装置。
【請求項７】
前記ノズルの前記吐出口が設けられた面を洗浄して前記残留物を除去する残留物洗浄部をさらに有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の表示パネルの製造装置。
【請求項８】
前記材料液吐出部による前記材料液の塗布動作中に、前記ノズルを所定の時間間隔で前記残留物洗浄部に移動させて、前記吐出口が設けられた面を洗浄するノズル動作制御部をさらに有することを特徴とする請求項７記載の表示パネルの製造装置。
【請求項９】
前記ノズルの近傍に、前記材料液が塗布される前記表示画素の形成領域以外の前記基板上面が露出しないように形成された遮蔽部をさらに有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の表示パネルの製造装置。
【請求項１０】
基板上に複数の表示画素が配列された表示パネルの製造方法において、
材料液を吐出するノズルが設けられた材料液吐出部と、
前記ノズルの前記材料液の吐出口の周囲に、前記材料液の残留物を吸着して保持する残留物吸着部と、を備えた表示パネル製造装置を用いて、
前記基板上に設定された前記表示画素の各形成領域に材料液を吐出することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記残留物吸着部は、前記ノズルの前記吐出口が設けられた面に対して、凹凸状の断面形状を有して形成されていることを特徴とする請求項１０記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル製造装置及び表示パネルの製造方法に関し、特に、液状材料を塗布することにより形成される発光機能層を有する発光素子が複数配列された表示パネルを製造するための製造装置及び表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話や携帯音楽プレーヤ等の電子機器の表示デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と略記する）等の発光素子を２次元配列した表示パネル（発光素子型表示パネル）を適用したものが知られている。特に、アクティブマトリクス駆動方式を適用した発光素子型表示パネルにおいては、広く普及している液晶表示装置に比較して、表示応答速度が速く、視野角依存性も小さく、また、高輝度・高コントラスト化、表示画質の高精細化等が可能であるとともに、液晶表示装置のようにバックライトや導光板を必要としないので、一層の薄型軽量化が可能であるという極めて優位な特徴を有している。
【０００３】
上述した発光素子の一例である有機ＥＬ素子は、周知のように、概略、例えばガラス基板等の一面側に、アノード（陽極）電極と、有機ＥＬ層（発光機能層）と、カソード（陰極）電極と、を順次積層した素子構造を有し、有機ＥＬ層に発光しきい値を越えるようにアノード電極に正電圧、カソード電極に負電圧を印加することにより、有機ＥＬ層内で注入されたホールと電子が再結合する際に生じるエネルギーに基づいて光（励起光）が放射されるものである。
【０００４】
ここで、有機ＥＬ層となる正孔輸送層や発光層、電子輸送層を形成する手法としては、有機材料（正孔輸送材料や発光材料、電子輸送材料）に応じて、蒸着法や塗布法等が知られている。具体的には、低分子系の有機材料を用いた有機ＥＬ素子の場合、一般に蒸着法が適用される。この手法では、発光素子形成領域や画素形成領域のアノード電極上にのみ低分子系の有機膜を選択的に薄膜形成する際に、上記アノード電極以外の領域への低分子材料の蒸着を防止するためのマスクを用いる場合があり、当該マスクの表面にも低分子材料が付着することになるため、製造時の材料ロスが大きくなるうえ、製造プロセスが非効率的であるという問題を有している。
【０００５】
一方、高分子系の有機材料を用いた有機ＥＬ素子の場合には、湿式成膜法（塗布法）としてインクジェット法やノズルコート法等が適用される。これらの手法では、アノード電極上、又は、アノード電極を含む特定の領域にのみ選択的に上記有機材料の溶液を塗布することができるので、材料ロスが少なく効率的な製造プロセスで良好に有機ＥＬ層（正孔輸送層や電子輸送性発光層）の薄膜を形成することができるという利点を有している。
このような塗布法を適用した有機ＥＬ素子（表示パネル）の製造方法やその製造装置については、例えば、特許文献１等に詳しく説明されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報  （第３頁〜第５頁、図３〜図７）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したような塗布法のうち、ノズルコート法においては、発光層や電荷輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）を形成する有機材料を溶媒に溶解させたインク（有機溶液）を、ノズル（吐出口）から連続的に一定の流量で吐出して塗布することができるので、インクジェット法に比較して、均一な塗布状態を実現することができるという特徴を有している。
【０００８】
しかしながら、ノズルコート法においては、インクジェット法に比較して、ノズルの周囲にインクが残留しやすく、またインクジェット法に比較して少数のノズルで塗布を行うためノズルが基板上を往復する回数が増えるという欠点を有している。そのため、このインクが乾燥、固化するとダストとなって飛散し基板表面に落下して付着したり、また、このようなダストの飛散や落下を防止するために塗布工程後にブロアー等で残留インクを除去しようとした場合に、未乾燥状態のインクが基板表面に落下したりすると、ダークスポット等の原因となり、表示パネルの表示品位や信頼性を低下させる恐れがあるという問題点を有していた。
【０００９】
そこで、本発明は、上述した問題点に鑑み、基板上にインク（有機溶液）を均一に塗布することができるとともに、残留インクによる表示品位や信頼性の低下を抑制することができる表示パネル製造装置及び表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１記載の発明は、基板上に複数の表示画素が配列された表示パネルの製造装置において、前記基板上に設定された前記表示画素の各形成領域に材料液を吐出して塗布するノズルが設けられた材料液吐出部を有し、前記ノズルの前記材料液の吐出口の周囲に、前記材料液の残留物を吸着して保持する残留物吸着部が設けられていることを特徴とする。
【００１１】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の表示パネルの製造装置において、前記残留物吸着部は、前記ノズルの前記吐出口が設けられた面に対して、凹凸状の断面形状を有して形成されていることを特徴とする。
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の表示パネルの製造装置において、前記残留物吸着部は、前記吐出口を中心として前記ノズルの移動方向に配置されていることを特徴とする。
請求項４記載の発明は、請求項１又は２記載の表示パネルの製造装置において、前記残留物吸着部は、前記吐出口を中心として同心円状に配置されていることを特徴とする。
請求項５記載の発明は、請求項１又は２記載の表示パネルの製造装置において、前記残留物吸着部は、前記吐出口を中心として放射状に配置されていることを特徴とする。
請求項６記載の発明は、請求項３乃至５のいずれかに記載の表示パネルの製造装置において、前記残留物吸着部は、前記吐出口を中心として複数配置されていることを特徴とする。
請求項７記載の発明は、請求項１乃至６のいずれかに記載の表示パネルの製造装置において、前記ノズルの前記吐出口が設けられた面を洗浄して前記残留物を除去する残留物洗浄部をさらに有することを特徴とする。
請求項８記載の発明は、請求項７記載の表示パネルの製造装置において、前記材料液吐出部による前記材料液の塗布動作中に、前記ノズルを所定の時間間隔で前記残留物洗浄部に移動させて、前記吐出口が設けられた面を洗浄するノズル動作制御部をさらに有することを特徴とする。
請求項９記載の発明は、請求項１乃至８のいずれかに記載の表示パネルの製造装置において、前記ノズルの近傍に、前記材料液が塗布される前記表示画素の形成領域以外の前記基板上面が露出しないように形成された遮蔽部をさらに有することを特徴とする。
【００１２】
請求項１０記載の発明は、基板上に複数の表示画素が配列された表示パネルの製造方法において、材料液を吐出するノズルが設けられた材料液吐出部と、前記ノズルの前記材料液の吐出口の周囲に、前記材料液の残留物を吸着して保持する残留物吸着部と、を備えた表示パネル製造装置を用いて、前記基板上に設定された前記表示画素の各形成領域に材料液を吐出することを特徴とする。
請求項１１記載の発明は、請求項１０記載の表示パネルの製造方法において、前記残留物吸着部は、前記ノズルの前記吐出口が設けられた面に対して、凹凸状の断面形状を有して形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る表示パネル製造装置によれば、基板上に薄膜を形成する際にインク（有機溶液）を均一に塗布することができるとともに、ノズルに残留するインクによる表示品位や信頼性の低下を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明に係る表示パネル製造装置について、実施の形態を示して詳しく説明する。
＜第１の実施形態＞
＜表示パネル製造装置＞
図１は、本発明に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）の第１の実施形態を示す概略構成図である。
【００１５】
第１の実施形態に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）は、大別して、インクジェットのように複数の液滴を不連続に吐出するものと異なり、パネル基板（基板）に対して特定方向に走査しながら担体輸送層や発光層となるインクの液流を連続的に流し続ける機能を備えたインク吐出機構部（材料液吐出部）と、上記インク吐出機構部に設けられたノズルヘッドの走査方向に対して垂直方向（パネル基板平面内で直交する方向）にパネル基板を移動させることにより、ノズルヘッドがパネル基板に対して相対的に２次元座標方向に移動するように制御する基板可動機構部と、を有している。
【００１６】
ここで、本実施形態に係る表示パネル製造装置により製造される表示パネルにおいて、上記パネル基板に配列される各表示画素に発光素子として有機ＥＬ素子が設けられる場合には、正孔輸送層（担体輸送層）を形成するための正孔輸送材料として、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェンＰＥＤＯＴと、ドーパントであるポリスチレンスルホン酸ＰＳＳ（以下、「ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ」と略記する）を、水やエタノール、エチレングリコール等の水系溶媒に溶解又は分散させた強酸性の水系インク（材料液）や、電子輸送層（担体輸送層）兼発光層となる電子輸送性発光層を形成するための電子輸送性発光材料として、例えばポリフェニレンビニレン系ポリマーやポリフルオレン系ポリマー等の共役系高分子を、水やテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン、トルエン等の芳香族系の有機溶媒に溶解又は分散させた水系インク或いは有機溶剤系インク（材料液）を適用することができる。
【００１７】
以下、各機構部について具体的に説明する。
（インク吐出機構部）
インク吐出機構部は、例えば図１に示すように、上記インクを吐出するノズルヘッド（ノズル）１１と、当該ノズルヘッド１１に対して上記インクを供給するポンプ部１２と、当該ポンプ部１２におけるノズルヘッド１１へのインクの供給量や供給タイミング等の供給状態を制御するポンプ制御部１３と、インクを貯蔵するインクタンク１４と、上記ノズルヘッド１１から吐出するインクの量（吐出量）を制御する吐出制御部１６と、ノズルヘッド１１を、後述する基板可動機構部（基板ステージ２１）に載置されたパネル基板ＰＳＢに対して特定方向（主走査方向；図中、両矢印Ｘｍで表記）に走査するためのガイドレール１１５を備えたヘッド走査部１５と、備えている。
【００１８】
なお、図１（ａ）は、ノズルヘッド１１及び基板ステージ２１を上方から俯瞰した構造図であり、基板ステージ２１は、１軸ロボット２２によって上述したヘッド走査部１５によるノズルヘッド１１の走査方向（Ｘｍ方向）に対して直交する方向（副走査方向；図中、両矢印Ｙｍで表記）の任意の位置に移動自在である。図１（ｂ）は、ノズルヘッド１１及び基板ステージ２１を側方から俯瞰した制御系構成図である。なお、ノズルヘッド１１は、基板ステージ２１との間のクリアランス（パネル基板ＰＳＢに対する垂直方向の離間距離）を調整することができるように、図１（ｂ）に示すように、主走査方向（Ｘｍ方向）の移動に加え、基板ステージ２１の基板載置面（パネル基板平面）に対して垂直方向（つまり、主走査方向（Ｘｍ方向）及び副走査方向（Ｙｍ方向）に直交するＺｍ方向；図中、両矢印Ｚｍで表記）の任意の位置に昇降自在に制御されるものであってもよい。
【００１９】
（ノズルヘッド）
図２は、本実施形態に係る表示パネル製造装置に適用されるノズルヘッドの一具体例を示す要部構成図であり、ここで、図２（ａ）は、本構成例に係るノズルヘッドの斜視図であり、図２（ｂ）は、本構成例に係るノズルヘッドにおいて吐出口が設けられる面（ノズルプレート）を示す下面図であり、図２（ｃ）、（ｄ）は、図２（ｂ）におけるノズルプレートのIIＡ−IIＡ線（本明細書においては図２（ｂ）中に示したローマ数字の「２」に対応する記号として便宜的に「II」を用いる）に沿った断面を示す概略断面図であり、図２（ｅ）、（ｆ）は、本構成例に係るノズルプレートの他の具体例を示す要部構成図である。また、図３は、本実施形態に係る表示パネル製造装置に適用されるノズルヘッド（ノズルプレート）のさらに他の具体例を示す要部構成図である。
【００２０】
本実施形態に適用されるノズルヘッド１１は、例えば図１に示したように、基板ステージ２１の基板載置面側の上方であって、該基板ステージ２１の移動方向（副走査方向；図１（ａ）のＹｍ方向）に対して直交する主走査方向（Ｘｍ方向）に走査しつつ、液流状のインクを吐出してパネル基板ＰＳＢに連続的に塗布する。
【００２１】
ノズルヘッド１１は、例えば図２（ａ）、（ｂ）に示すように、中空の筐体構造を有し、インクを貯留するインク貯留部１１１と、当該インク貯留部１１１の上面側等に設けられ、後述するポンプ部１２から供給されるインクをインク貯留部１１１に注入するための注入口１１２と、インク貯留部１１１の下部に設けられ、インク貯留部１１１に注入されたインクを吐出するための吐出口ＰＨが設けられたノズルプレート１１３と、所定量のインクを吐出口ＰＨから吐出するように制御信号を出力する吐出制御部１６に接続された制御配線１１４と、ガイドレール１１５に接続されて主走査方向（Ｘｍ方向）に移動するための支持部材（図示を省略）と、を備えている。
【００２２】
特に、本実施形態に係るノズルヘッド１１に適用されるノズルプレート１１３においては、図２（ｂ）に示すように、後述するインク塗布動作の際に吐出口ＰＨの周囲に残留するインク（残留物）を吸着してパネル基板ＰＳＢへの落下や飛散を防止するためのインクトラップ（残留物吸着部）ＴＲａが配置されている。図２（ｂ）は図２（ａ）におけるノズルプレート１１３を下面側から見た図であり、図２（ｃ）（ｄ）は図２（ｂ）のＩＩＡ断面図である。図２（ｃ）（ｄ）においてインクの吐出方向は上向きであり、インクトラップＴＲａは図２(ａ)においてノズルプレートの下面側に設けられている。ここで、インクトラップＴＲａの具体的な形状や配置パターンは、例えば図２（ｂ）〜（ｄ）に示すように、平面形状が円弧状（又は直線状）のパターンを有するとともに、断面形状が凹状（又は溝状）又は凸状（又は山状）に形成された構造を有し、かつ、吐出口ＰＨを中心としてノズルヘッド１１の移動方向（主走査方向；Ｘｍ方向）に、例えば複数条配置されたものを適用することができる。
【００２３】
なお、インクトラップＴＲａの形状や配置パターンは、上述した図２（ｂ）〜（ｄ）に示したものに限定されるものではなく、例えば図２（ｅ）に示すように、直線状に形成された凹部（溝部）又は凸部（山部）が吐出口ＰＨを中心として主走査方向（Ｘｍ方向）に複数条配置されたもの（インクトラップＴＲｂ）や、図２（ｆ）に示すように、直線状に配列された点状の凹部又は凸部が吐出口ＰＨを中心として主走査方向（Ｘｍ方向）に複数条配置されたもの（インクトラップＴＲｃ）であってもよい。ここで、これらのインクトラップＴＲａ〜ＴＲｃは、吐出口ＰＨを中心として主走査方向（Ｘｍ方向）に複数条配置されたものに限らず、一条だけ配置されたものであってもよい。
【００２４】
また、本実施形態に係るノズルヘッド１１（ノズルプレート１１３）に適用可能なインクトラップの他の具体例は、例えば図３（ａ）に示すように、吐出口ＰＨを中心として円状に配列された凹部（溝部）又は凸部（山部）が同心円状に複数条配置されたもの（インクトラップＴＲｄ）や、図３（ｂ）に示すように、吐出口ＰＨを中心として円状に配列された点状の凹部又は凸部が同心円状に複数条配置されたもの（インクトラップＴＲｅ）であってもよい。ここで、これらのインクトラップＴＲｄ、ＴＲｅは、吐出口ＰＨを中心として同心円状に複数条配置されたものに限らず、一条だけ配置されたものであってもよい。
【００２５】
インクトラップのさらに他の具体例は、例えば図３（ｃ）に示すように、直線状の凹部（溝部）又は凸部（山部）が吐出口ＰＨを中心として外周方向に放射状に複数条配置されたもの（インクトラップＴＲｆ）や、図３（ｄ）に示すように、直線状に配列された点状の凹部又は凸部が吐出口ＰＨを中心として外周方向に放射状に複数条配置されたもの（インクトラップＴＲｇ）であってもよい。
【００２６】
このような構造を有するノズルヘッド１１により、インク塗布動作の際に吐出口ＰＨの周囲に残留したインクは、ノズルヘッド１１の走査に伴って主走査方向（Ｘｍ方向）に流れ、当該主走査方向に配置されたインクトラップＴＲａ〜ＴＲｇの凹部（溝部）又は凸部（山部）に吸着、保持され、ノズルヘッド１１（ノズルプレート１１３）からの落下や飛散が防止される。
【００２７】
また、上述したノズルヘッド１１に設けられた注入口１１２は、後述するポンプ部１２の送出口とチューブ（又は配管）を用いて接続されており、吐出制御部１６が演算した吐出口ＰＨから吐出された量に基づき、ポンプ制御部１３が適宜ポンプ部１２を駆動することにより、インクタンク１４からインクが注入されてインク貯留部１１１に常に充填された状態になっている。ノズルヘッド１１は、例えばピエゾ素子等の圧電素子或いはインクを加熱して気化膨張させてインクを排出する発熱抵抗素子を備え、制御配線１１４を介して入力された制御信号にしたがって上記吐出口ＰＨから所定量のインクが基板ステージ２１上のパネル基板ＰＳＢに向けて吐出される。
【００２８】
そして、後述するように、ノズルヘッド１１が基板ステージ２１に対して主走査方向（Ｘｍ方向）に延在するガイドレール１１５に沿って相対的に移動し（走査され）、かつ、基板ステージ２１がノズルヘッド１１の主走査方向（Ｘｍ方向）に対して直交する副走査方向（Ｙｍ方向）に所定のピッチ（所定の間隔）で相対的に移動する（走査される）ことにより、結果的に、ノズルヘッド１１がパネル基板ＰＳＢに対して、Ｘ−Ｙ２軸方向（２次元座標方向）に相対的に移動することになり、パネル基板ＰＳＢ上の所定の領域（発光素子形成領域や画素形成領域）に所定量のインクが塗布される。
【００２９】
なお、図２、図３に示したノズルヘッド１１においては、インク貯留部１１１下部のノズルプレート１１３に唯一の吐出口ＰＨが設けられた場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば当該ノズルヘッド１１の主走査方向（Ｘｍ方向）に対して直交する方向に、所定の間隔（例えば隣接する発光素子又は表示画素相互のピッチ）で複数の吐出口ＰＨがノズルプレート１１３に設けられているものであってもよい。この場合、各吐出口ＰＨに対して上述したようなインクトラップＴＲａ〜ＴＲｇが設けられている。
【００３０】
（ポンプ部）
ポンプ部１２は、ポンプ制御部１３から出力される駆動信号に基づいて、インクタンク１４に貯蔵されたインクを取り込んで上記ノズルヘッド１１に送出することにより、インク貯留部１１１がインクで満たされた（充填された）状態に保持する。
【００３１】
（吐出制御部）
吐出制御部１６は、後述する画像処理部２４が画像情報データを解析した結果に基づいて、ノズルヘッド１１がパネル基板ＰＳＢの所定領域に吐出するインクの量（吐出量）を制御する制御信号を制御配線１１４を介して出力するとともに、吐出量データをポンプ制御部１３に出力する。
【００３２】
（基板可動機構部）
基板可動機構部は、例えば図１に示すように、パネル基板ＰＳＢが載置、固定される基板ステージ２１と、当該基板ステージ２１を上述したノズルヘッド１１の主走査方向（Ｘｍ方向）に対して直交する副走査方向（Ｙｍ方向）に移動させる１軸ロボット２２と、ノズルヘッド１１及び基板ステージ２１を所定の基準位置に設定した状態で、ノズルヘッド１１に対する基板ステージ２１上のパネル基板ＰＳＢの載置位置を検出するアライメント（位置合わせ）用カメラ２３と、該アライメント用カメラ２３により撮像された画像を解析する画像処理部２４と、該解析結果に基づいて、ノズルヘッド１１及び基板ステージ２１間の相対的な位置関係を調整するロボット制御部２５と、を備えている。
【００３３】
ここで、基板ステージ２１は、図示を省略したが、載置されたパネル基板ＰＳＢを所定の位置に固定するための、真空吸着機構や機械的な固定機構を備えている。また、基板ステージ２１は、パネル基板ＰＳＢに対するノズルヘッド１１の初期吐出位置のアライメント（位置合わせ）のために、上記副走査方向（Ｙｍ方向）の１軸の移動方向に加え、図１（ａ）に示すように、基板ステージ２１の載置面の重心を軸として当該載置面を回転させる回転方向（θ方向）に対しても微調整移動が可能な構造になっている。なお、このような基板ステージ２１を回転させる移動構造に換えて、ノズルヘッド１１を走査移動させるガイドレール１１５を、基板ステージ２１（パネル基板平面）に平行な面内で回転させることにより、ノズルヘッド１１の初期吐出位置を調整するものであってもよい。また、予めパネル基板ＰＳＢ上に形成したアライメント用マークを検出するためのアライメント用カメラ２３は、相互に位置関係が固定されているヘッド走査部１５のガイドレール１１５（すなわちノズルヘッド１１の主走査）及び基板可動機構部の１軸ロボット２２（すなわち基板ステージ２１の副走査）に対して、所定の位置に固定されている。
【００３４】
＜表示パネルの製造方法＞
次に、上述したような表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）を適用した表示パネルの製造方法について説明する。
まず、本実施形態に係る表示パネル製造装置を適用して製造される表示パネルについて説明する。
【００３５】
（表示パネル）
図４は、本実施形態に係る表示装置の製造方法により製造される表示パネルの画素配列の一例を示す要部概略図である。ここで、図４（ａ）は、表示パネルの平面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）における表示パネルのIVＢ−IVＢ線（本明細書においては図４（ａ）中に示したローマ数字の「４」に対応する記号として便宜的に「IV」を用いる）に沿った断面を示す概略断面図である。なお、図４（ａ）に示す平面図においては、説明の都合上、表示パネル（パネル基板ＰＳＢ）の一面側（有機ＥＬ素子の形成側）から見た場合の、各表示画素（色画素）に設けられる画素電極と、各表示画素の形成領域（画素形成領域）を画定する隔壁（バンク）と、の配置関係のみを示し、また、画素電極及び隔壁の配置を明瞭にするために、便宜的にハッチングを施して示した。
【００３６】
図４（ａ）に示すように、本実施形態に係る製造装置（ノズルコート成膜装置）により製造される表示パネル３０は、ガラス等の絶縁性基板からなるパネル基板ＰＳＢの一面側に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色からなる色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂを一組として、この組が行方向（図面左右方向）に順次繰り返し配列されるとともに、列方向（図面上下方向）に同一色の色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂが複数配列されている。ここでは、隣接するＲＧＢ３色の色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂを一組として一の表示画素ＰＩＸが形成されている。
【００３７】
また、表示パネル３０は、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、パネル基板ＰＳＢの一面側から突出し、柵状又は格子状の平面パターンを有して配設された隔壁（バンク）３１により、パネル基板ＰＳＢの一面側に２次元配列された複数の表示画素ＰＩＸ（色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂ）のうち、図４（ａ）の列方向（図面上下方向）に配列された同一色の複数の色画素ＰＸｒ、又は、ＰＸｇ、ＰＸｂの画素形成領域を含む領域（各色画素領域）が画定される。
【００３８】
そして、各色画素ＰＸｒ、又は、ＰＸｇ、ＰＸｂの画素形成領域には、各々、画素電極（例えばアノード電極）３２と、各画素電極３２上を含む色画素領域に、上述した本実施形態に係る製造装置（ノズルコート成膜装置）により形成された有機ＥＬ層３３（例えば正孔輸送層３３ａ及び電子輸送性発光層３３ｂ）と、該有機ＥＬ層３３を介して各画素電極３２に共通に対向するように、単一の電極層（べた電極）により形成された対向電極（例えばカソード電極）３４と、が設けられて、各有機ＥＬ素子が形成されている。なお、図４（ｂ）において、３５は保護絶縁膜又は封止樹脂層であり、３６は封止基板である。
【００３９】
（表示パネルの成膜方法）
図５及び図６は、本実施形態に係る製造装置を適用した表示装置の製造方法（表示パネルの成膜方法）の一例を示す工程断面図である。ここでは、図４に示した、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂを一組とする表示画素ＰＩＸを備えたカラー表示パネルを製造する場合について説明し、各色画素へのインクの塗布工程については、上述した表示パネル製造装置の説明（図１〜図３）を適宜参照する。
【００４０】
本実施形態に係る表示装置の製造方法、まず、図５（ａ）に示すように、ガラス基板等からなるパネル基板ＰＳＢの一面側（図面上面側）に設定された各表示画素ＰＩＸ（色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂ）の形成領域（画素形成領域）Ａpxごとに、少なくとも最上層の表面が錫ドープ酸化インジウム（Indium Thin
Oxide；ＩＴＯ）や亜鉛ドープ酸化インジウム等の透明電極材料からなる画素電極（例えばアノード電極）３２を形成した後、図５（ｂ）に示すように、隣接する表示画素（画素形成領域Ａpx）との境界領域に絶縁性の樹脂材料等からなる隔壁（バンク）３１を形成する。ここで、隔壁３１は、例えば画素電極３２の上面が露出する平面形状（図４（ａ）参照）を有するように形成されている。
【００４１】
次いで、上記画素電極３２及び隔壁３１が形成されたパネル基板ＰＳＢを純水やアルコールにより洗浄した後、例えば酸素プラズマ処理やＵＶオゾン処理等を施すことにより、各画素形成領域Ａpxに露出する画素電極３２の表面を、少なくとも後述する有機ＥＬ層３３（例えば正孔輸送層３３ａ及び電子輸送性発光層３３ｂ）を形成する際に塗布される有機溶液（インク）ＨＬＦ、ＥＬＦに対して親液性を有するように親液化する（親液化処理）。
【００４２】
次いで、パネル基板ＰＳＢを例えばフッ素系（フッ素化合物）の撥液処理溶液に浸漬して取り出した後、アルコールや純水で洗浄、乾燥させて、隔壁３１の表面に撥液性の薄膜（被膜）を形成してもよい（撥液化処理）。ここで、撥液処理溶液として例えばフッ化アルキルアミン等を適用した場合、酸化膜や窒化膜とは反応しないので、画素形成領域Ａpx内に露出する画素電極３２表面のＩＴＯ等の金属酸化物表面には撥液性の薄膜は形成されず、上述した親液化処理（酸素プラズマ処理やＵＶオゾン処理）により付与された親液性を保持する。
【００４３】
なお、本実施形態において使用する「撥液性」とは、後述する正孔輸送層３３ａとなる正孔輸送材料を含む有機溶液ＨＬＦや、電子輸送性発光層３３ｂとなる電子輸送性発光材料を含む有機溶液ＥＬＦの液滴、もしくは、これらの溶液に用いる有機溶媒を、絶縁性基板上等に滴下して、接触角の測定を行った場合に、当該接触角が５０°以上になる状態と規定する。また、「撥液性」に対する後述する「親液性」とは、本実施形態においては、上記接触角が４０°以下になる状態と規定する。
【００４４】
また、本実施形態においては、各画素形成領域Ａpxに形成される画素電極３２として、単層の電極材料からなる導電層を適用した場合を図示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば表示パネル３０が、後述する有機ＥＬ層３３において発光した光を、パネル基板ＰＳＢの一面側（図４（ｂ）の図面上方側）に出射するトップエミッション型の発光構造を有している場合にあっては、例えば下層側にアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銀（Ａｇ）、パラジウム銀（ＡｇＰｄ）系の合金等の光反射特性を有する反射金属膜からなる反射金属層と、その上層側に上記ＩＴＯ等の透明電極材料からなる（光透過特性を有する）導電性酸化金属層と、を積層した電極構造を有しているものであってもよい。
【００４５】
また、本実施形態においては、図示の都合上、各画素形成領域Ａpxに画素電極３２のみが形成された構造を示したが、少なくとも当該画素電極３２の各々に接続され、後述する有機ＥＬ層３３（有機ＥＬ素子）に供給する発光駆動電流を制御する駆動制御素子が、各画素電極３２の下層側に平坦化膜を介して設けられているものであってもよい。また、表示パネル３０は、駆動制御素子を備えていないパッシブ駆動型であってもよい。
【００４６】
次いで、上述した表示パネル製造装置（図１〜図３参照）を適用して、図５（ｃ）に示すように、ノズルヘッド１１Ａ（上述したノズルヘッド１１と同等の構成を有する）の吐出口ＰＨから正孔輸送材料（例えば、上述したＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を水性溶剤（例えば水９９〜８０wt％、エタノール１〜２０wt％）に加えた水系分散液である有機溶液（材料液；上述したインクに相当する）ＨＬＦを、上述した吐出制御部１６により設定される所定量の液流状にして吐出させ、パネル基板ＰＳＢの列方向に配列された複数の画素形成領域Ａpxに対して、当該ノズルヘッド１１Ａをガイドレール１１５に沿って主走査方向である列方向（紙面に垂直方向；上述した実施形態におけるＸｍ方向に相当する）に走査しつつ塗布する。
【００４７】
ここで、ノズルヘッド１１Ａの吐出口ＰＨから液流状となって吐出される有機溶液ＨＬＦは、パネル基板ＰＳＢ表面に着液し、少なくとも画素電極３２の上面に広がる。このとき、隔壁３１の表面は撥液性を有している（撥液化処理が施されている）ので、画素形成領域Ａpxに塗布された有機溶液ＨＬＦの液流が隔壁３１上に着滴した場合であってもはじかれて、親液性を有する各画素形成領域Ａpx内にのみ塗布される。
【００４８】
次いで、パネル基板ＰＳＢが載置された基板ステージ２１を１軸ロボット２２により副走査方向（行方向であって紙面の左右方向；上述した実施形態におけるＹｍ方向に相当する）に所定ピッチだけ移動させて、例えば隣接する列、もしくは、所定間隔離れた列の画素形成領域Ａpxに対しても上記と同様の有機溶液ＨＬＦの塗布動作を実行する。以下、パネル基板ＰＳＢの全ての列に対して同様の有機溶液ＨＬＦの塗布動作を繰り返して、図５（ｄ）に示すように、各画素形成領域Ａpxの画素電極３２上に正孔輸送層３３ａを形成する。
【００４９】
次いで、上述した表示パネル製造装置（図１〜図３参照）を適用して、図５（ｅ）に示すように、ノズルヘッド１１Ｂ（上述したノズルヘッド１１と同等の構成を有する）の吐出口ＰＨから特定の発光色（例えば赤（Ｒ））に対応した有機高分子系の電子輸送性発光材料（例えば、上述したポリフェニレンビニレン系ポリマー）を溶剤に加えてなる有機溶液（材料液；上述したインクに相当する）ＥＬＦを、上述した吐出制御部１６により設定される所定量の液流状にして吐出させ、パネル基板ＰＳＢの列方向に配列された当該特定色（赤（Ｒ））の色画素ＰＸｒの画素形成領域Ａpxに対して、当該ノズルヘッド１１Ｂを順次主走査方向である列方向（紙面に垂直方向；Ｘｍ方向）に走査して、上述した工程において画素電極３２上に形成された正孔輸送層３３ａ上に塗布する。
【００５０】
ここで、上述したように、ノズルヘッド１１Ｂの吐出口ＰＨから液流状となって吐出される有機溶液ＥＬＦは、パネル基板ＰＳＢ表面に着液し、少なくとも正孔輸送層３３ａ上に広がる。このとき、隔壁３１の表面は撥液性を有している（撥液化処理が施されている）ので、画素形成領域Ａpxに塗布された有機溶液ＥＬＦの液流が隔壁３１上に着滴した場合であってもはじかれて、親液性を有する各画素形成領域Ａpx内にのみ塗布される。
【００５１】
次いで、パネル基板ＰＳＢが載置された基板ステージ２１を副走査方向（行方向であって紙面の左右方向；Ｙｍ方向）に、例えば３列分、もしくは、３の倍数列分だけ移動させて、当該列の特定色（赤（Ｒ））の色画素ＰＸｒの画素形成領域Ａpxに対しても上記と同様の有機溶液ＥＬＦの塗布動作を実行する。以下、パネル基板ＰＳＢの当該特定色（赤（Ｒ））の全ての列に対して同様の有機溶液ＥＬＦの塗布動作を繰り返す。
【００５２】
そして、このような各発光色に対応した電子輸送性発光材料を含む有機溶液ＥＬＦの塗布動作を、図６（ａ）、図６（ｂ）に示すように、緑（Ｇ）色の色画素ＰＸｇ、青（Ｂ）色の色画素ＰＸｂの各画素形成領域Ａpxを含む列に対しても順次繰り返し実行することにより、図６（ｃ）に示すように、各色の色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂの画素形成領域Ａpxの正孔輸送層３３ａ上に各色に対応した電子輸送性発光材料を薄膜状に定着させた電子輸送性発光層３３ｂが成膜され、各画素電極３２上に正孔輸送層３３ａ及び電子輸送性発光層３３ｂからなる有機ＥＬ層３３が形成される。
【００５３】
次いで、図６（ｄ）に示すように、少なくとも上述した正孔輸送層３３ａ及び電子輸送性発光層３３ｂからなる有機ＥＬ層３３を介して、各画素形成領域Ａpxの画素電極３２に共通に対向する単一の電極層（べた電極）からなる対向電極（例えばカソード電極）３４を形成した後、図４（ｂ）に示したように、対向電極３４を含むパネル基板ＰＳＢ上に、保護絶縁膜や封止樹脂層３５を形成し、さらに封止基板３６を接合することにより、有機ＥＬ素子を備えた表示画素ＰＩＸ（色画素ＰＸｒ、ＰＸｇ、ＰＸｂ）が２次元配列された表示パネル３０が完成する。
【００５４】
このように、本実施形態によれば、各表示画素（各色画素）の有機ＥＬ層（例えば正孔輸送層及び電子輸送性発光層）の形成工程において、上述した表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）を用いて各列の画素形成領域に有機溶液（インク）を塗布する際に、ノズルヘッドから吐出された液流状の有機溶液がノズルプレートの吐出口の周囲に残留した場合であっても、当該吐出口周辺に設けられたインクトラップにより吸着、保持されるので、有機溶液の塗布動作（ノズルヘッドの主走査方向への移動動作）中に残留した有機溶液（残留インク）や当該有機溶液が乾燥して形成されるダストのパネル基板表面への落下や飛散を防止することができ、表示パネルの表示品位や信頼性の低下を抑制することができる。
【００５５】
＜第２の実施形態＞
図７は、本発明に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）の第２の実施形態を示す概略構成図である。ここで、上述した第１の実施形態と同等の構成については同一の符号を付してその説明を簡略化する。
【００５６】
第２の実施形態に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）は、上述した第１の実施形態に示したインク吐出機構部（材料液吐出部）及び基板可動機構部に加え、ノズルヘッドの下面（ノズルプレート）に残留したインクを除去するための残留インク洗浄機構部（残留物洗浄部）を有している。
【００５７】
すなわち、上述した第１の実施形態に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）においては、インク塗布動作の際に、ノズルヘッド１１（ノズルプレート１１３）の吐出口ＰＨの周囲に設けられたインクトラップＴＲａ〜ＴＲｇにより、残留したインク（有機溶液）が吸着、保持されてパネル基板ＰＳＢへの落下や飛散を防止することができることを示したが、第２の実施形態においては、ノズルヘッド１１（ノズルプレート１１３）のインクトラップＴＲａ〜ＴＲｇに吸着した残留インクを除去する洗浄動作を行って、インクトラップＴＲａ〜ＴＲｇにおける残留インクの吸着機能を維持、回復するようにした構成を有している。
【００５８】
具体的には、第２の実施形態に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）に設けられる残留インク洗浄機構部は、例えば図７に示すように、ガイドレール１１５の一方の端部側（例えば図面左端部側）に配置され、少なくともノズルヘッド１１の下面部分（ノズルプレート１１３）が浸漬するように洗浄液が貯留された洗浄槽２６ａを有するノズル洗浄部２６と、洗浄槽２６ａに清浄な洗浄液を供給するためのタンク２７ａを有する洗浄液供給部２７と、を備えている。
【００５９】
ここで、図７に示すように、ノズル洗浄部２６は、洗浄槽２６ａに貯留され、ノズルヘッド１１の洗浄により汚濁した洗浄液を排出するためのドレインバルブ２６ｂを有し、また、洗浄液供給部２７は、タンク２７ａの清浄な洗浄液を洗浄槽２６ａに供給するための供給ポンプ（又は供給バルブ）２７Ｂを有している。また、洗浄槽２６ａは、ノズルヘッド１１がガイドレールの左方端部側の所定の位置（洗浄位置）に移動した際に、当該ノズルヘッド１１の直下に位置するように設置され、ノズルヘッド１１を基板ステージ２１の基板載置面（パネル基板平面）に対して垂直なＺｍ方向に下降させることにより、ノズルヘッド１１の下面部分（ノズルプレート１１３）が洗浄液に浸漬するように構成されている。
【００６０】
次に、上述したような表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）を適用した表示パネルの製造方法について説明する。
図８は、本実施形態に係る製造装置を適用した表示装置の製造方法（表示パネルの成膜方法）の一例を示すフローチャートである。ここでは、本実施形態に特有のノズルヘッドの洗浄動作について詳しく説明し、上述した第１の実施形態（図５、図６参照）と同等の製造工程についてはその説明を簡略化する。また、図９は、本実施形態に係る製造装置におけるノズルヘッドの洗浄動作の一例を示す動作概念図である。
【００６１】
本実施形態に係る製造装置（ノズルコート成膜装置）における表示パネルの成膜動作及びノズルヘッドの洗浄動作は、図８に示すように、まず、ステップＳ１０１において、ロボット制御部２５からの制御信号によりガイドレール１１５上のノズルヘッド１１、及び、１軸ロボット２２上の基板ステージ２１を、各々初期位置に移動させて初期状態に設定する。ここで、ノズルヘッド１１の初期位置は、例えば図４に示した表示パネル３０に配列される１列目の表示画素ＰＩＸ（パネル基板ＰＳＢに設定された画素形成領域）の延長線上であって、パネル基板ＰＳＢの外方の任意の位置（１列目の画素形成領域に対応する走査位置）に設定される。図８中では、説明の都合上、列位置を示す記号を便宜的に「Ｌｘ」と表記し、変数ｘにより特定の列を示すものとする。ステップＳ１０１では初期位置が１列目であるので「Ｌｘ＝Ｌ１」と表記する。
【００６２】
次いで、ステップＳ１０２において、例えばロボット制御部（ノズル動作制御部）２５に内蔵されたカウンタにより動作時間の計測を開始（タイムカウントｔ＝０）するとともに、ステップＳ１０３において、ノズルヘッド１１の走査及びインクの塗布動作を開始する。これにより、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、ノズルヘッド１１をガイドレール１１５に沿って主走査方向である列方向（Ｘｍ方向）に走査しつつ、インク（上述した第１の実施形態に示したような有機溶液）ＩＮＫを１列目（Ｌ１）の画素形成領域に塗布する。
【００６３】
次いで、ステップＳ１０４において、例えばロボット制御部２５により動作時間（ｔ）が所定時間（Ｔcln）を経過したか否かが判定され、未経過の場合（t≠Ｔcln）には、ステップＳ１０５において、インクの塗布動作が行われた列（Ｌｘ）が最終列（Ｌend）か否かが判定される。ステップＳ１０５において、インクの塗布動作が行われた列（Ｌｘ）が最終列（Ｌend）でない場合（Ｌｘ≠Ｌend）には、ステップＳ１０６において、１軸ロボット２２により基板ステージ２１を例えば１列分に相当するピッチだけ移動させ（Ｌｘ←Ｌｘ＋１）、ノズルヘッド１１を２列目の画素形成領域に対応する走査位置（Ｌｘ＝Ｌ２）に設定する。その後、再びステップＳ１０３に戻って、ノズルヘッド１１の走査及びインクの塗布動作を再開し、２列目（Ｌ２）の画素形成領域にインクを塗布する。
【００６４】
このようなステップＳ１０３〜Ｓ１０６の一連の処理を、ステップＳ１０４において、動作時間（ｔ）が所定時間（Ｔcln）を経過したと判断されるまで（ｔ≧Ｔcln）、あるいは、ステップＳ１０５において、インクの塗布動作が行われた列（Ｌｘ）が最終列（Ｌend）に到達したと判断されるまで（Ｌｘ＝Ｌend）、繰り返し実行する。
【００６５】
そして、ステップＳ１０４において、動作時間（ｔ）が所定時間（Ｔcln）を経過したと判断された場合（ｔ≧Ｔcln）には、ステップＳ１０７において、図９（ｃ）、（ｄ）に示すように、ノズルヘッド１１をガイドレール１１５に沿って洗浄位置（図面左方端部の所定位置）まで移動させた後、ステップＳ１０８において、ノズルヘッド１１を基板ステージ２１に垂直なＺｍ方向（図９（ｄ）の下方）に下降させて、ノズルヘッド１１の下部、具体的には、少なくともノズルプレート１１３の吐出口ＰＨの周囲に設けられたインクトラップＴＲａ〜ＴＲｇ部分を洗浄液に浸漬させる。ここで、ノズルヘッド１１の下部の洗浄液への浸漬方法は、例えば、一定時間浸漬状態を保持するものであってもよいし、ノズルヘッド１１の上昇及び下降を繰り返して、洗浄液に複数回浸漬するものであってもよい。
【００６６】
これにより、インクの塗布動作において液流状に吐出されたインクＩＮＫのうち、吐出口ＰＨの周囲に残留し、インクトラップにより吸着、保持された残留インクが洗浄液に溶解して除去され、ノズルプレート１１３（インクトラップＴＲａ〜ＴＲｇ）表面が清浄な状態に改善される。その後、再びステップＳ１０２に戻って、カウンタをリセットし、動作時間の計測を再度開始（タイムカウントｔ＝０）するとともに、ステップＳ１０３において、ノズルヘッド１１の走査及びインクの塗布動作を再開する。
【００６７】
以上のような一連の表示パネルの成膜動作及びノズルヘッドの洗浄動作を繰り返し実行し、ステップＳ１０５において、インクの塗布動作が行われた列（Ｌｘ）が最終列（Ｌend）に到達したと判断された場合（Ｌｘ＝Ｌend）には、パネル基板ＰＳＢへのインクＩＮＫの塗布動作（有機膜の成膜動作）が完了したものと判断して、ノズルヘッド１１の走査及びインクの塗布動作を終了する。
【００６８】
このように、本実施形態によれば、各表示画素（各色画素）の有機ＥＬ層（例えば正孔輸送層及び電子輸送性発光層）の形成工程において、パネル基板の各列の画素形成領域にインクを塗布する際に、吐出口周辺に設けられたインクトラップにより吸着、保持された残留インクを、残留インク洗浄機構部により所定の時間ごとに除去して、インクトラップ表面を正常な状態に改善することができるので、残留インクの吸着機能を定期的に維持又は回復することができる。したがって、残留インクや当該残留インクが乾燥して形成されるダストのパネル基板表面への落下や飛散を一層防止することができ、表示パネルの表示品位や信頼性の低下をさらに抑制することができる。
【００６９】
なお、本実施形態においては、残留インク洗浄機構部（残留インクの洗浄方法）として、洗浄液が貯留された洗浄槽２６ａにノズルヘッド１１の下面部分（ノズルプレート１１３）を浸漬させて、インクトラップＴＲａ〜ＴＲｇに吸着、保持された残留インクを溶解させて除去する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば洗浄槽２６ａに振動部を備え、ノズルヘッド１１の下面部分（ノズルプレート１１３）が浸漬された洗浄液を超音波振動させて、インクトラップＴＲａ〜ＴＲｇに吸着された残留インクを除去するもの（超音波洗浄）であってもよいし、洗浄槽２６ａ中にスポンジ等の拭き取り部材を備え、洗浄液を染み込ませた拭き取り部材によりノズルヘッド１１の下部（ノズルプレート１１３）表面をワイプして残留インクを除去するものであってもよい。ここで、拭き取り部材は、ノズルヘッドの洗浄動作ごとにノズルヘッド１１の下部（ノズルプレート１１３）表面との接触面が異なるように、拭き取り部材自体が移動や回転する構成や、新たなものに交換される構成を有しているものであってもよい。
【００７０】
＜第３の実施形態＞
図１０は、本発明に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）の第３の実施形態を示す要部構成図であり、図１０（ａ）は、ノズルヘッド及び基板ステージとシャッター板のスリットとの位置関係を上方から俯瞰した概略図であり、図１０（ｂ）は、ノズルヘッド及び基板ステージとシャッター板との位置関係を側方から俯瞰した（つまり図１０（ａ）におけるＸＣ−ＸＣ線（本明細書においては図１０（ａ）中に示したローマ数字の「１０」に対応する記号として便宜的に「Ｘ」を用いる）に沿って矢視した）概略図である。ここで、上述した第１又は第２の実施形態と同等の構成については同一の符号を付してその説明を簡略化する。
【００７１】
第３の実施形態に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）は、図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、上述した第１又は第２の実施形態に示した表示パネル製造装置の構成に加え、ノズルヘッド１１と基板ステージ２１上に載置されるパネル基板ＰＳＢとの間に配置され、かつ、ノズルヘッド１１の走査方向（主走査方向；Ｘｍ方向）に対応してスリットＳＴが設けられた単一又は複数の平板からなるシャッター板（遮蔽部）１７を有している。
【００７２】
ここで、シャッター板１７は、インクの塗布対象となっている領域（スリットＳＴにより露出した領域）以外の領域を塞いで（覆って）露出しないように形成され、かつ、相互に位置関係が固定されているヘッド走査部１５のガイドレール１１５及び基板可動機構部の１軸ロボット２２に対して、上記スリットＳＴが所定の位置に固定されるように基板ステージ２１（パネル基板平面）に平行に配置されている。
【００７３】
すなわち、本実施形態においては、ノズルヘッド１１は、図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、シャッター板１７との位置関係が固定されているガイドレール１１５に沿って主走査方向（Ｘｍ方向）に連続的に移動することにより、吐出口ＰＨから吐出されたインクＩＮＫがスリットＳＴを介してパネル基板ＰＳＢの主走査方向（Ｘｍ方向）に塗布される。また、基板ステージ２１は、シャッター板１７との位置関係が固定されている１軸ロボット２２に沿って副走査方向（Ｙｍ方向）に所定のピッチで移動することにより、インクＩＮＫがスリットＳＴを介してパネル基板ＰＳＢの副走査方向（Ｙｍ方向）に順次塗布される。
【００７４】
このように、本実施形態によれば、各表示画素（各色画素）の有機ＥＬ層（例えば正孔輸送層及び電子輸送性発光層）の形成工程において、パネル基板の各列の画素形成領域にインクを塗布する際に、ノズルヘッドから吐出された液流状のインクが、ノズルヘッドとパネル基板との間に配置されたシャッター板に設けられたスリットを介してパネル基板表面に着滴して塗布されるので、ノズルヘッド（ノズルプレート）の吐出口の周囲に残留し、インクトラップに吸着、保持されたインクやその乾燥物であるダストが、仮にノズルヘッドから脱落又は飛散したとしても、シャッター板の上面に落下し、パネル基板表面への落下を防止することができ、残留インクに起因する表示パネルの表示品位や信頼性の低下を抑制することができる。
【００７５】
なお、本実施形態においては、シャッター板１７がノズルヘッド１１とパネル基板ＰＳＢとの間に配置された構成を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えばノズルヘッド１１（ノズルプレート）の下面と略同程度の高さ（パネル基板ＰＳＢ又は基板ステージ２１からの高さ）に配置され、ノズルヘッド１１の外形寸法よりも広い幅のスリットＳＴを設けたシャッター板１７を適用するものであってもよい。
【００７６】
また、本実施形態に適用されるシャッター板１７は、スリットＳＴの端部が例えばＬ字型に上方に屈曲した形状を有するものであってもよいし、シャッター板１７の上面に粘着性の部材が設けられているものであってもよい。これによれば、ノズルヘッド１１から落下又は飛散し、一旦シャッター板１７の上面に落下したインクやダストの、パネル基板ＰＳＢ表面への再落下を防止することができる。
【００７７】
また、シャッター板１７に高電圧を印加する構成を有するものであってもよく、これにより、ノズルヘッド１１から落下又は飛散したインクやダストを静電引力によってシャッター板１７に吸着（静電吸着）させることできるとともに、一旦シャッター板１７の上面に落下したダストを再び飛散しないようにすることができ、さらに、パネル基板ＰＳＢ表面に落下したダストを静電引力によってシャッター板１７に吸着させることもできるので、ダストに起因する表示パネルの表示品位や信頼性の低下を一層抑制させることができる。乾燥したインクに起因するダストは、ノズルの動きにより空気との摩擦により正に帯電しやすいので、シャッター部は負に帯電させることが望ましい。
【００７８】
なお、上述した第１〜第３の実施形態においては、ノズルヘッド１１はヘッド操作部１５により走査方向（Ｘｍ方向）に移動し、基板ステージ２１が１軸ロボット２２により走査方向と直交する副走査方向（Ｙｍ方向）に移動しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えばノズルヘッド１１がガイドレール１１５により主走査方向（Ｘｍ方向）に移動するとともに、主走査方向に直交する副走査方向（Ｙｍ方向）にも移動し、かつ、基板ステージ２１が固定された構成を有するものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）の第１の実施形態を示す概略構成図である。
【図２】第１の実施形態に係る表示パネル製造装置に適用されるノズルヘッドの一具体例を示す要部構成図である。
【図３】第１の実施形態に係る表示パネル製造装置に適用されるノズルヘッド（ノズルプレート）のさらに他の具体例を示す要部構成図である。
【図４】第１の実施形態に係る表示装置の製造方法により製造される表示パネルの画素配列の一例を示す要部概略図である。
【図５】第１の実施形態に係る製造装置を適用した表示装置の製造方法（表示パネルの成膜方法）の一例を示す工程断面図（その１）である。
【図６】第１の実施形態に係る製造装置を適用した表示装置の製造方法（表示パネルの成膜方法）の一例を示す工程断面図（その２）である。
【図７】本発明に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）の第２の実施形態を示す概略構成図である。
【図８】第２の実施形態に係る製造装置を適用した表示装置の製造方法（表示パネルの成膜方法）の一例を示すフローチャートである。
【図９】第２の実施形態に係る製造装置におけるノズルヘッドの洗浄動作の一例を示す動作概念図である。
【図１０】本発明に係る表示パネル製造装置（ノズルコート成膜装置）の第３の実施形態を示す要部構成図である。
【符号の説明】
【００８０】
１１      ノズルヘッド
１２      ポンプ部
１３      ポンプ制御部
１４      インクタンク
１５      ヘッド走査部
１６      吐出制御部
２１      基板ステージ
２２      １軸ロボット
２３      アライメント用カメラ
２４      画像処理部
２５      ロボット制御部
２６      ノズル洗浄部
２７      洗浄液供給部
３０      表示パネル
１１３    ノズルプレート
１１５    ガイドレール
ＰＨ      吐出口
ＴＲａ〜ＴＲｇ    インクトラップ
ＰＳＢ    パネル基板
【図１】
2009163938.tif 000003
【図２】
2009163938.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2009163938.tif 000009
【図８】
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【図９】
2009163938.tif 000011
【図１０】
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