(57)【要約】【課題】照明むらを低減し、また、開口絞りの特性を任意に制御可能とした照明装置、それを用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法を提供する。【解決手段】複数のレーザ光源と、インテグレータと、前記複数のレーザ光源のそれぞれから出射されるレーザ光が実質的に重ならないように前記インテグレータに入射させるビーム拡大光学系と、前記インテグレータから出射されたレーザ光を集光する光学系と、を備えたことを特徴とする照明装置が提供される。また、その照明装置を用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法が提供される。【選択図】図１
2009109382.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレーザ光源と、
インテグレータと、
前記複数のレーザ光源のそれぞれから出射されるレーザ光が実質的に重ならないように前記インテグレータに入射させるビーム拡大光学系と、
前記インテグレータから出射されたレーザ光を集光する光学系と、
を備えたことを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記複数のレーザ光源の光量を制御し、開口絞り形状を制御可能としたことを特徴とする請求項１記載の照明装置。
【請求項３】
前記複数のレーザ光源は、第１のレーザ光源と第２のレーザ光源とを含み、
前記ビーム拡大光学系は、前記第２のレーザ光源から出射された第２のレーザ光の光束の直径を前記第１のレーザ光源から出射された第１のレーザ光の光束の直径よりも拡大し、前記第２のレーザ光の光束のほぼ中心部を遮蔽板により遮光してなることを特徴とする請求項１または２に記載の照明装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の照明装置と、
ステージと、
結像光学系と、
撮像システムと、
検査処理システムと、
を備えたことを特徴とするマスク検査装置。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の照明装置を用いてマスクに照明光を入射し、
前記マスクから出射した光を結像し、
前記結像した像を撮像し、
前記撮像された撮像データを検査処理することを特徴とするマスク検査方法。
【請求項６】
マスクを作製し、
前記マスクを請求項５記載のマスク検査方法により検査すること
を特徴とするマスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明装置、及びそれを用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の微細化に伴い、半導体装置の製造に用いられるマスクの欠陥検査の精度の向上が強く望まれている。マスク検査装置に用いられる光源にはレーザ光が用いられることが多いが、レーザ光は干渉性が高いため、干渉による照明むらが発生することが問題とされ、解決が求められている。
【０００３】
また、マスク検査装置に用いられる照明装置において、開口絞りの特性（σ値や開口絞り形状）を制御することが求められている。すなわち、検査されるマスクの特性に合わせて開口絞りの特性を変えることにより、マスク検査装置の感度を調整することができ、それにより、マスク検査の感度の向上とマスク検査装置の応用範囲の拡大が図れるためである。
【０００４】
これらのニーズに対し、特許文献１では、マスク検査装置と類似の構成を有す露光装置において、光の干渉性を低減するために光遅延部を利用した構成が提案されている。すなわち、１つの光源を複数の光線に分離し、その後その光線を合成する。これにより、干渉による照明むらを低減させようと試みているが、インテグレータ等で集光する際に干渉による照明ムラが発生しやすい。また、開口絞りが機械的であるため、開口絞りのサイズを任意に可変できない。
【特許文献１】特開２００１−１３５５６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記の課題に基づいたものであり、その目的は、照明むらを低減し、また、開口絞りの特性を任意に制御可能とした照明装置、及び、それを用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、複数のレーザ光源と、インテグレータと、前記複数のレーザ光源のそれぞれから出射されるレーザ光が実質的に重ならないように前記インテグレータに入射させるビーム拡大光学系と、前記インテグレータから出射されたレーザ光を集光する光学系と、を備えたことを特徴とする照明装置が提供される。
【０００７】
本発明の別の一態様によれば、上記の照明装置と、ステージと、結像光学系と、撮像システムと、検査処理システムと、を備えたことを特徴とするマスク検査装置が提供される。
【０００８】
本発明の別の一態様によれば、上記の照明装置を用いてマスクに照明光を入射し、前記マスクから出射した光を結像し、前記結像した像を撮像し、前記撮像された撮像データを検査処理することを特徴とするマスク検査方法が提供される。
【０００９】
本発明の別の一態様によれば、マスクを作製し、前記マスクを上記のマスク検査方法により検査することを特徴とするマスクの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、照明むらを低減し、また、開口絞りの特性を任意に制御可能とした照明装置、及び、それを用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。  
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係る照明装置の構成を例示する模式図である。  
図１に表したように、本発明の第１の実施形態の照明装置１００は、複数のレーザ光源１１０ａ、１１０ｂ、ビーム拡大光学系１２０ａ、１２０ｂ、及び、干渉性低減光学系１３０、インテグレータ１４０、リレーレンズ１５１、１５２、コンデンサレンズ１６０を有す。干渉性低減光学系１３０は、例えば、深さの異なる段差が設けられた円板を回転させる回転位相板などで構成することができる。また、インテグレータ１４０は、例えば、フライアイレンズなどで構成することができる。第１の実施形態は、レーザ光源が２つの場合、すなわち、第１のレーザ光源１１０ａ及び第２のレーザ光源１１０ｂを有する場合である。
【００１２】
第１のレーザ光源１１０ａから出射された第１のレーザ光１１１ａは、ビーム拡大光学系１２０ａを通り、干渉性低減光学系１３０に入り、次にインテグレータ１４０に入る。一方、第２のレーザ光源１１０ｂから出射された第２のレーザ光１１１ｂは、遮蔽板１１５ｂを有するビーム拡大光学系１２０ｂを通り、ミラー１１６ｂ、１１７ｂ、１１８ｂを経て、干渉性低減光学系１３０に入り、次にインテグレータ１４０に入る。これら２つのレーザ光１１１ａと１１１ｂが、インテグレータ１４０を出た後、リレーレンズ１５１、１５２により視野絞り位置１５４で合成される。この後、レーザ光は、コンデンサレンズ１６０を経て、被照射体１７０（マスク等）に照射される。
このとき、第２のレーザ光１１１ｂの中心部は、遮蔽板１１５ｂにより遮蔽されているため、インテグレータ１４０を通過する前は、第１のレーザ光１１１ａと実質的に重ならない。すなわち、本実施形態においては、レーザ光源１１０ａ、１１０ｂから出射されたレーザ光１１１ａ、１１１ｂとは、ビーム拡大光学系１２０ａ、１２０ｂにより拡大され、実質的に重ならないにようにインテグレータ１４０に入射される。これにより、インテグレータ１４０でレーザ光が合成される際に、これらレーザ光１１１ａとレーザ光１１１ｂとが互いに干渉性が無いために、干渉ノイズを低減できる。
【００１３】
このように、本発明の第１の実施形態の照明装置１００は、複数のレーザ光源を有しているが、これらレーザ光源から出射された複数のレーザ光は実質的に重なりあうことがなく、インテグレータでレーザ光が合成される際に、干渉ノイズを低減できる。
【００１４】
第１のレーザ光源１１０ａと第２のレーザ光源１１０ｂは同じ波長を有するように設定できる。また、波長としては、例えば、２５７ｎｍ、２４８ｎｍ、２００ｎｍ、１９３ｎｍなど、各種の波長とすることができる。
【００１５】
また、第１の実施形態の照明装置１００は、開口絞り位置１５５における照明形状、すなわち、開口絞りの特性を制御できる。  
図２（ａ）〜（ｄ）は、第１の実施形態に係る照明装置における開口絞りの特性を例示する模式図である。  
図２（ａ）は、第１の実施形態の開口絞り位置１５５において、光軸（光の進行方向）を紙面に垂直とした場合の、照明光の平面分布を例示する模式図である。また、図２（ｂ）〜（ｄ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ線の断面の照明光の強度プロファイルを例示する模式図である。図２（ｂ）〜（ｄ）において、横軸はＡ−Ａ線上の位置を示し、また縦軸は照明光の強度を示す。
【００１６】
図２（ａ）に表したように、第１の実施形態の照明装置における、開口絞り位置１５５での照明絞りの特性は、直径の異なる２つの同心円が合成された形状となる。すなわち、第１のレーザ光源１１０ａから出射された第１のレーザ光１１１ａは、直径の小さい円１５６ａの照明形状となる。一方、第２のレーザ光源１１０ｂから出射された第２のレーザ光１１１ｂは、ドーナツ状の直径の大きい円１５６ｂの照明形状を持つ。それは、図１に表したように、第２のレーザ光１１１ｂは、ビーム拡大光学系１２０ｂにおいて、光束が拡大され光束の直径が大きくなり、また、光路の中心部に設置された遮蔽板１１５ｂにより中心部の光が遮蔽されているためである。このように、第１の実施形態の照明装置１００は、開口絞り位置１５５において、直径の異なる２つの円が合成される特性を持つため、種々の開口絞りの特性（照明形状あるいは照明分布）を持たせることができる。
【００１７】
例えば、図２（ｂ）に表したように、周辺部で強度が高い照明形状とすることもできる。また、図２（ｃ）に表したように、ほぼ台形の形状の照明形状とすることもできる。また、図２（ｄ）に表したように、周辺部付近で照明強度の傾斜を緩やかにした照明形状とすることもできる。  
上記のような各種の開口絞りの特性は、２つのレーザ光源１１０ａ、１１０ｂの光量を変化させることで、簡単に、任意に制御できる。すなわち、開口数（Numerical Aperture）ＮＡｃを、機械的機構の絞りによらず、複数のレーザ光源の出力を電気的に調整することで、簡単に、任意に制御できる。これは、例えば図１に表されるレーザ光源１１０ａ、１１０ｂの制御装置１０５の動作により可能である。
【００１８】
一般に、照明光学系の出射側開口数をＮＡｃ、投射光学系の入射側開口数をＮＡｏとすると、照明のコヒーレンシィσは、ＮＡｃ／ＮＡｏで表される。そして、σ値を制御することによって、焦点深度や解像力を向上することができる。すなわち、検査されるマスクの設計仕様によって、σ値を任意に変えることでマスクの検査精度を向上させることができる。  
本発明の第１の実施形態の照明装置１００は、上に述べたように、開口絞りの特性、すなわち、上記の照明光学系の出射側開口数ＮＡｃを簡単に、任意に変えることができる。このため、σ値を簡単に制御することができ、焦点深度や解像力を向上させ、マスクの検査精度を向上させることができる。
【００１９】
さらに、必要に応じて、複数のレーザ光源の位相を制御することにより、干渉性をさらに低くすることができる。例えば、図１に表された制御装置１０５により、複数のレーザ光源１１０ａ、１１０ｂの位相が実質上一致しないように、レーザを構成する電源やハーフミラー等の動作を変更し、干渉性をさらに低下でき、より均一な照明を得ることができる。
【００２０】
ここでは２つのレーザ光源を用いた場合について説明したが、後に説明するように、３つ以上のレーザ光源を用いても良い。これにより、より均一な照明が実現できる。また、複数のレーザ光源のそれぞれの出力を調整することで、開口絞りの特性（照明形状）を変えることが可能となる。
【００２１】
（比較例）  
以下、比較例について説明する。  
図３は、比較例の照明装置の構成を例示する模式図である。  
図３に表したように、比較例の照明装置８００は、１つのレーザ光源８１０を有している。レーザ光源８１０から出射されたレーザ光８１１は、ビーム拡大光学系８２０を通り、干渉性低減光学系８３０に入り、次にインテグレータ８４０に入り、視野絞り位置８５４で合成される。このとき、レーザ光は、干渉性が高いため、干渉による、例えば周期的な縞状の照明むらが発生する。
【００２２】
また、特許文献１には、上記の問題を解決すべく、１つのレーザ光源８１０の直後にハーフミラー等を設置し、レーザ光源８１０を出射したレーザ光８１１を２つに分離する方法が提案されている。すなわち、レーザ光源８１０を出射したレーザ光８１１を２つに分離し、その一方を光遅延部を通過させ干渉性を低下させるものである。そして、その後、分離した光を合成することにより、干渉に起因した照明むらを低減させることを意図したものである。また、光路中に回折格子を配置し、開口絞りの特性としてＮＡｃを制御することが提案されている。しかしながら、インテグレータ等で集光する際に干渉による照明ムラが発生しやすい。また、開口絞りが機械的であるため、開口絞りのサイズを任意に可変できない。
【００２３】
このように、従来の照明装置は、レーザ光源は１つであり、これから出射された光を一旦分離して光遅延させた後で再度合成する工夫を行ったとしても、干渉性の低減には限界があった。さらには、このような照明光を、離散的に被照射体（被検査体であるマスク）に照射すると、検査のための処理の周期と干渉し、干渉ノイズによる照明むらが発生する。また、開口絞りの特性も任意には可変できなかった。
【００２４】
これに対し、本発明の第１の実施形態の照明装置１００は、レーザ光源を複数有しており、これらから出射された複数の光は相互の干渉性が低い。このため、干渉ノイズによる照明むらを非常に効果的に低減でき、干渉ノイズによる照明むらは実質上発生しない。
【００２５】
このように、本発明の第１の実施形態の照明装置１００によれば、照明むらを低減し、また、開口絞りの特性を制御可能とした照明装置が提供できる。
【００２６】
（第２の実施の形態）  
以下、第２の実施形態であるマスク検査装置について説明する。  
図４は、本発明の第２の実施形態に係るマスク検査装置の構成を例示する模式図である。  
図４に表したように、本発明の第２の実施形態のマスク検査装置４００は、照明装置１００、ステージ２４０、結像光学系２６０、撮像システム２７０、検査処理システム３００を備えている。照明装置１００には、上に述べた本発明の第１の実施形態の照明装置を用いることができる。ステージ２４０は被検査体であるマスクＭを保持する。また、ステージ２４０は、ステージ駆動部２３０により、例えば照明光の光軸と垂直な平面内で移動し、その上に設置されたマスクをその平面内で移動させることができる。
【００２７】
照明装置１００から出射された均一な照明光は、ステージ２４０に保持されたマスクＭに照射され、結像光学系２６０を経て、撮像システム２７０上に結像される。撮像システム２７０は、例えば、互いに直交する方向に画素が配列したＴＤＩ（Time Delay and Integration）センサなどにより構成することができる。撮像システム２７０により、被検査体であるマスクＭの撮像データＤ１が得られる。  
検査処理システム３００は、参照データ生成部３１０とデータ比較部３４０を有している。参照データ生成部３１０は、設計データ３０５から参照データＤ２を生成する。そして、データ比較部３４０は、撮像データＤ１と参照データＤ２とを比較し、比較データＤ３を作成し、欠陥Ｐを検出する。
【００２８】
このような構成を持つマスク検査装置４００において、照明装置１００として、複数のレーザ光源１１０ａ、１１０ｂを有し、そして複数のレーザ光が実質的に重ならないようにインテグレータに入射した後合成される構成の照明装置を用いる。これにより、干渉ノイズによる照明むらは実質上なく、また、開口絞りの特性を簡単に任意に制御することができる。これにより、精度の高いマスク検査が可能となる。
【００２９】
なお、図４に表したマスク検査装置４００は、レーザ光源が２つである照明装置を用いた例であるが、レーザ光源の数は、２つだけではなく３つ以上であっても良い。
【００３０】
（第３の実施形態）
以下、第３の実施形態であるマスク検査方法について説明する。  
第３の実施形態のマスク検査方法は、複数のレーザ光源を有する照明装置を用いて被検査体であるマスクに照明光を入射し、マスクから出射した光を結像する。そして、その結像した像を撮像し、撮像された撮像データを検査処理する。複数のレーザ光源を有する照明装置としては、第１の実施形態で説明した照明装置を用いることができる。また、上記の検査処理においては、第２の実施形態で説明したマスク検査装置を用いることができる。
【００３１】
第３の実施形態のマスク検査方法においては、複数のレーザ光源を用い、そして複数のレーザ光が実質的に重ならないようにインテグレータに入射した後合成される構成の照明装置を用いるため、照明むらが低減されて、また複数のレーザ光源の光量を調整することによって開口絞りの特性を制御でき、高い精度の検査が可能である。
【００３２】
図５は、本発明の第３の実施形態に係るマスク検査方法を例示するフローチャート図である。  
図５に表したように、第３の実施形態のマスク検査方法においては、まず、被検査体（マスクＭ）をステージ２４０に設置する（ステップＳ１１０）。  
次に、参照データＤ２の生成と撮像データＤ１（基本パターン）の撮像を行う（ステップＳ１２０）。ここで、撮像データＤ１（基本パターン）は、以下で行われる照明条件を決めるためのメインパターンである。  
次に、複数のレーザ光源の光量を調整する（ステップＳ１３０）。この調整は、例えば、図１に表された第１のレーザ光源１１０ａ及び第２のレーザ光源１１０ｂに接続された制御装置１０５により、レーザ出力を変えることにより実現できる。これにより、図２（ａ）〜（ｄ）に例示した開口絞りの特性が制御できる。  
次に、ステップＳ１３０で調整した光量に対して、適否の判断を行い（ステップＳ１４０）、調整が不十分であればステップＳ１３０に戻り再度レーザ光源の調整を行う。そして、調整が適切に行われると次のステップＳ１５０に進行する。  
次のステップＳ１５０では、マスクＭから出射した光を撮像して撮像データＤ１を得る。  
次に、撮像データＤ１と参照データＤ２を比較し、比較データＤ３を作成する（ステップＳ１６０）。これにより、マスクの欠陥Ｐが検出できる。  
なお、上記において、参照データＤ２は、図４に表した設計データ３０５から得る場合と、マスクＭ内に設けられた他の同一パターンをセンサで撮像して得る場合とが例示できる。  
また、初期の欠陥感度を適切に調整する際に、上記で説明したプロセス（の一部）を複数回繰り返し、最適照明条件を出すこともできる。これは、例えば欠陥の位置とサイズ（例えば、走査電子顕微鏡などで評価される）が既知の標準欠陥マスク（欠陥位置やサイズを変えたマスク）を用いて、マスク上の微小欠陥の検出ができる照明条件を見つける場合に有効である。
【００３３】
このように、本発明の第３の実施形態のマスク検査方法によれば、被検査体マスクＭの特性に合わせて、複数のレーザ光源の光量を調整し、開口絞りの特性を変えることができ、精度の高い検査が可能となる。
【００３４】
このような開口絞りの特性の制御は、比較データＤ３の結果に基づいてレーザ光源の光量を手動で制御してもよいし、複数のレーザ光源の光量を自動で変化させ、そのときの比較データＤ３を取得し、これのデータ処理を行うことによって、最適の開口絞りの特性を得るようにしても良い。
【００３５】
なお、上記のステップＳ１１０〜Ｓ１６０の処理の順番は、技術的に可能な範囲で任意とすることができる。また、その一部を省略する、または、変形することもできる。例えば、参照データＤ２は、設計データから得る（Die to Data Base検査）こともできるし、また、時間差で取り込んだマスク内同一パターンの撮像データを基に得る（Die to Die検査）こともできる。なお、この際、光学特性を考慮して、撮像データに適切なフィルタ処理を施し、参照データＤ２を得ることができる。
【００３６】
（第４の実施形態）
以下、第４の実施形態であるマスクの製造方法について説明する。  
第４の実施形態のマスクの製造方法は、本発明の第１〜第３の実施形態の照明装置、マスク検査装置、及びマスク検査方法を利用する。
【００３７】
図６は、本発明の第４の実施形態に係るマスクの製造方法を例示するフローチャート図である。  
図６に表したように、第４の実施形態のマスクの製造方法においては、まず、マスクＭを作製する（ステップＳ２１０）。  
次に、そのマスクＭを本発明の第１〜第３の実施形態の照明装置、マスク検査装置、及びマスク検査方法を利用して検査する（ステップＳ２２０）。これにより、複数のレーザ光源を有した照明むらのない光源を用いることができ、また、複数のレーザ光源の光量を調整し、開口絞りの形状を変えることができ、精度の高い検査が可能となる。  
これにより、第４の実施形態のマスクの製造方法においては、精度の高い検査に基づく、品質の高いマスクを製造できる。
【００３８】
（第５の実施形態）
以下、本発明の第５の実施形態である照明装置について説明する。  
第５の実施形態の照明装置は、第１の実施形態の照明装置の変化例である。
【００３９】
図７は、本発明の第５の実施形態に係る照明装置の構成を例示する模式図である。  
すなわち、図７に表したように、本発明の第５の実施形態の照明装置１０２は、複数のレーザ光源として、第１のレーザ光源１１０ａ、第２のレーザ光源１１０ｂ、及び第３のレーザ光源１１０ｃを有している。そして、それぞれの光源から出射された第１、第２、第３のレーザ光１１１ａ、１１１ｂ及び１１１ｃは、第１、第２、第３のビーム拡大光学系１２０ａ、１２０ｂ、及び、１２０ｃを経由して、干渉性低減光学系１３０、インテグレータ１４０、リレーレンズ１５１、１５２、コンデンサレンズ１６０に到達する。ビーム拡大光学系１２０ｂ、１２０ｃはそれぞれミラーを有しており、第２、第３のレーザ光１１１ｂ、１１１ｃを干渉性低減光学系１３０に入射させる。なお、図７に表した照明装置１０２においては、第１、第２、第３のレーザ光源１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃは直線上に並んで設置されている。  
さらに、レーザ光源の数を増やすこともできる。以下、レーザ光源の個数が上記の３個の場合に加え、レーザ光源の個数が５個、７個、９個の場合の照明装置の開口絞りの特性を説明する。
【００４０】
図８（ａ）〜（ｆ）は、本発明の第５の実施形態に係る照明装置における開口絞りの特性を例示する模式図である。
すなわち、図８（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ、レーザ光源が、３個、５個、７個、９個の場合の一例であり、また図８（ｅ）、（ｆ）は、レーザ光源が９個と３個の場合の別の例である。  
図８（ａ）に表したように、レーザ光源が直線上に並んだ３個のレーザ光源である図７に表された照明装置の場合、開口絞りの特性は、３つのレーザ光源にそれぞれ対応した３つの円が直線上に並んだ形状にすることができる。
また、図８（ｂ）に表したように、レーザ光源が５個の場合、開口絞りの特性は、５つのレーザ光源にそれぞれ対応した５つの円が十字形状に並んだ形状にすることができる。
また、図８（ｃ）に表したように、レーザ光源が７個の場合、開口絞りの特性は、７つのレーザ光源にそれぞれ対応した７つの円が六角形の蜂の巣形状に並んだ形状にすることができる。
また、図８（ｄ）に表したように、レーザ光源が９個の場合、開口絞りの特性は、９つのレーザ光源にそれぞれ対応した９つの円が稠密に配列された形状にすることができる。
さらに、図８（ｅ）に表したように、レーザ光源が９個の場合、レーザ光源を３個ずつ、３行３列に配置することもでき、この場合の開口絞りの特性は、円を３行３列に並べた形状となる。このように、レーザ光源を複数個設ける場合、一つの光源を中心にしてその周囲に他のレーザ光源を配置する形状とすることもできるし、Ｎ×Ｍの行列状に配置することもできる。
また、図８（ｆ）に表したように、３個のレーザ光源の場合、３個のレーザ光源が互いに接する三角形の配置とすることができ、そのとき開口絞りの特性は三角形の形状となる。
【００４１】
このように、複数の光源は任意に配置することができる。さらに、図８（ａ）〜（ｆ）におけるそれぞれの円の直径や配列は、任意に変えることができる。例えば、図８（ｃ）、（ｅ）、（ｆ）に表された複数の円の直径は全て等しく設定されており、逆に図８（ａ）、（ｂ）、（ｄ）に表した各円は、中心の円の直径に対し、周囲の円の直径は小さく設定されている。さらに、例えば、図８（ｄ）に表された各円において、例えば、円１５６ｂと円１５６ｃとの直径を互いに異なるように設定することもでき、またその他の円も同様である。また、レーザ光源の個数に制限はない。
【００４２】
このように、本発明の第５の実施形態の照明装置は、レーザ光源を複数有しているため、照明むらを実質上無くすと同時に、開口絞りの特性を各種の形状とすることが可能である。これにより、被検査体であるマスクＭの特性に合わせた照明をマスクＭに照射することができ、精度の高いマスク検査装置、マスク検査方法、マスクの製造方法を可能にする。
【００４３】
なお、本発明の実施形態で説明した照明装置、マスク検査装置、マスク検査方法、マスクの製造方法は、各種のマスクの検査に応用できる。例えば、ハーフトーン（ＨＴ：Half-tone）マスクやレベンソンマスク、エッジ強調マスク、クロムレスマスクなどの各種の位相シフトマスクやＯＰＣ（Optical Proximity Correction）処理を施したマスクに適用できる。  
また、これらマスクは、半導体集積回路等を有する半導体装置の他、撮像装置、表示装置、磁性体装置、回折光学素子など、各種のデバイスに用いることができる。
【００４４】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、照明装置、それを用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法を構成する各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。  
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【００４５】
その他、本発明の実施の形態として上述した照明装置、それを用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての照明装置、それを用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【００４６】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る照明装置の構成を例示する模式図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は、第１の実施形態に係る照明装置における開口絞りの特性を例示する模式図である。
【図３】比較例の照明装置の構成を例示する模式図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係るマスク検査装置の構成を例示する模式図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係るマスク検査方法を例示するフローチャート図である。
【図６】本発明の第４の実施形態に係るマスクの製造方法を例示するフローチャート図である。
【図７】本発明の第５の実施形態に係る照明装置の構成を例示する模式図である。
【図８】（ａ）〜（ｆ）は、第５の実施形態に係る照明装置における開口絞りの特性を例示する模式図である。
【符号の説明】
【００４８】
１００、１０２、８００  照明装置
１０５  制御装置
１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ、８００  レーザ光源
１１１ａ、１１１ｂ、１１１ｃ  レーザ光
１１５ｂ  遮蔽板
１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃ、８２０  ビーム拡大光学系
１３０、８３０  干渉性低減光学系
１４０、８４０  インテグレータ
１５１、１５２、８５１、８５２  リレーレンズ
１５４、８５４  視野絞り
１５５、８５５  開口絞り
１５６ａ〜１５６ｉ  各光の開口絞り位置での照明特性
１６０、８６０  コンデンサレンズ
２３０  ステージ駆動部
２４０  ステージ
２６０  結像光学系
２７０  撮像システム
３００  検査処理システム
３０５  設計データ
３１０  参照データ生成部
３４０  データ比較部
４００  マスク検査装置
【図１】
2009109382.tif 000003
【図２】
2009109382.tif 000004
【図３】
2009109382.tif 000005
【図４】
2009109382.tif 000006
【図５】
2009109382.tif 000007
【図６】
2009109382.tif 000008
【図７】
2009109382.tif 000009
【図８】
2009109382.tif 000010