(57)【要約】【課題】  耐久性に優れた光学フィルタを提供する。【解決手段】  透明基板、その表面に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成された機能層とを含む光学フィルタにおいて、電磁波シールド層の表面粗さ（Ｒａ）が、０．０２μｍを超えていることを特徴とする光学フィルタ及びこれを有するディスプレイ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、その表面に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成された機能層を含む光学フィルタにおいて、
電磁波シールド層の表面粗さ（Ｒａ）が、０．０２μｍを超えていることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
表面粗さ（Ｒａ）が０．０２μｍを超え、０．５０μｍ以下である請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項３】
メッシュ状の電磁波シールド層が、金属層及びその上の黒化層からなる請求項１又は２に記載の光学フィルタ。
【請求項４】
メッシュ状の電磁波シールド層が、金属層、金属めっき層、及び黒化層がこの順で積層されてなる請求項１又は２に記載の光学フィルタ。
【請求項５】
黒化層が、ニッケル及び亜鉛の合金、又はニッケル及びスズの合金からなる請求項３又は４に記載の光学フィルタ。
【請求項６】
メッシュ状の電磁波シールド層の厚さが、０．０１〜８μｍである請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項７】
機能層が、ハードコート層又は近赤外線吸収層である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項８】
ハードコート層上にさらに低屈折率層が設けられている請求項７に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
透明基板のメッシュ状の電磁波シールド層上に、機能層としてハードコート層が設けられ、透明基板の、メッシュ状の電磁波シールド層が設けられていない表面に、近赤外線吸収層が設けられている請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
近赤外線吸収層上にさらに透明粘着層が設けられている請求項９に記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
ディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルタが、透明粘着剤層によりガラス板に貼り合わされていることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のディスプレイ前面に有利に用いられる、電磁波シールド性、反射防止性又は近赤外遮蔽性等の機能を有する光学フィルタに関する。さらに、本発明は、ディスプレイ用光学フィルタ及びこれを備えたディスプレイ並びにプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）及び表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイ等のディスプレイが、表示装置として広く普及している。近年では、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。
【０００３】
ＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがある。このため、従来のＰＤＰには、電磁波シールド層を有するディスプレイ用フィルタが一般に設けられている。
【０００４】
電磁波シールド層を有するディスプレイ用フィルタとしては、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄層が設けられた透明フィルム、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、（３）透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、（４）透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００５】
また、ディスプレイ表面に傷が付くとディスプレイに表示される画像の視認性が低下するため、ハードコート層を有するディスプレイ用フィルタなども知られている。さらに、従来のＰＤＰを初めとする大型ディスプレイにおいては、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射により表示された画像が見え難いという問題があった。そこで、反射防止層を有するディスプレイ用フィルタ等も広く用いられている。
【０００６】
電磁波シールド層、ハードコート層及び反射防止層は、ディスプレイ用フィルタの用途に応じて積層して用いられる。例えば、特許文献１には、透明基板上に電磁波シールド層、ハードコート層及び反射防止層が、この順で積層されたディスプレイ用フィルタが開示されている。
【０００７】
また、特許文献２には、１枚の基材フィルム（透明基板）上に、メッシュ状の導電層の上に、ハードコート層又は近赤外線吸収層が設けられたディスプレイ用フィルタが開示されている。このようなディスプレイ用フィルタは、基材フィルムを一枚しか用いていないため、厚みが小さく、多機能なフィルタが得られる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−１６３７５２号公報
【特許文献２】ＷＯ２００６／１２３６１２Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
前記特許文献２に記載されているような光学フィルタは、基板が１枚で、メッシュ状の電磁波シールド層（導電層）を有しているため、厚みが小さく、電磁波シールド性に優れ、多機能なフィルタということができる。しかしながら、本発明者の検討によれば、このような光学フィルタを、例えば、長期使用、或いは高温高湿条件で使用した場合に、メッシュ状の電磁波シールド層とその上に設けられたハードコート層や近赤外線吸収層等の機能層との間で剥離が生ずる場合があることが明らかとなった。
【００１０】
従って、本発明は、メッシュ状の電磁波シールド層とその上の機能層との接着性が向上した、耐久性に優れた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１１】
また本発明は、電磁波シールド性、及び反射防止性及び／又は近赤外遮蔽性に優れ、且つ耐久性に優れたディスプレイ光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１２】
さらに本発明は、電磁波シールド性、及び反射防止性及び／又は近赤外遮蔽性に優れ、且つ耐久性に優れたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１３】
さらにまた本発明は、電磁波シールド性、及び反射防止性及び／又は近赤外遮蔽性に優れ、且つ耐久性に優れたプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者の検討により、メッシュ状の電磁波シールド層とその上に設けられたハードコート層や近赤外線吸収層等の機能層との間の接着性は、メッシュ状の電磁波シールド層の表面粗さの程度に大きく依存することが見いだされた。さらに本発明者が検討を重ねたところ、メッシュ状の電磁波シールド層の表面粗さが特定範囲にあると、特に優れた接着性が得られることが見いだされた。
【００１５】
即ち、本発明は、
透明基板、その表面に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成された機能層とを含む光学フィルタにおいて、
電磁波シールド層の表面粗さ（Ｒａ）が、０．０２μｍを超えていることを特徴とする光学フィルタ
にある。
【００１６】
上記電磁波シールド層の表面粗さ（Ｒａ）は、機能層を設ける前の電磁波シールド層の表面（メッシュの上側表面）の表面粗さ（Ｒａ）を、デジタルレーザー顕微鏡（商品名：ＶＫ−８５００；キーエンス（株）製）を用いて、以下の条件（レーザ波長６８５ｎｍ、出力０．４５ｍＷ、倍率２０００倍及び分解能０．０１μｍ）で測定することにより求められる。なお、測定長さは１５０μｍで行った。
【００１７】
本発明の光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）表面粗さ（Ｒａ）が０．０２μｍを超え、０．５０μｍ以下の範囲である。表面粗さ（Ｒａ）が０．０２μｍ以下であると接着性が不十分であり、０．５０μｍを超えるように製造するのは生産性、コストの点で不利である。
（２）メッシュ状の電磁波シールド層が、金属層及びその上の黒化層からなる層である。黒化の程度により接着性（Ｒａ）を調整することができる。
（３）メッシュ状の電磁波シールド層が、金属層、金属めっき層、及び黒化層がこの順で積層されてなる層である。黒化の程度により接着性（Ｒａ）を調整することができる。
（４）黒化層が、ニッケル及び亜鉛の合金、又はニッケル及びスズの合金からなる。これらの合金によれば、黒色度合い及び導電性に優れる黒色合金導電層が得られ、電磁波シールド層全体の厚さを薄くして電磁波シールド層と機能層との優れた接着性を向上させることができる。
（５）メッシュ状の電磁波シールド層の厚さが、０．０１〜８μｍである。このような厚さを有する電磁波シールド層によれば、電磁波シールド層と機能層との優れた接着性を確保できるだけでなく、表面平滑性、透明性及び視認性に優れる機能性層を電磁波シールド層上に形成することができる。
（６）機能層が、ハードコート層又は近赤外線吸収層である。特に、ハードコート層の場合に、接着性が低下しやすいので、本発明の表面粗さ（Ｒａ）を有するメッシュ状の電磁波シールド層が好適である。
（７）ハードコート層上にさらに低屈折率層が設けられている。
（８）透明基板のメッシュ状の電磁波シールド層上に、機能層としてハードコート層が設けられ、透明基板の、メッシュ状の電磁波シールド層が設けられていない表面に、近赤外線吸収層が設けられている。
（９）近赤外線吸収層上に、さらに透明粘着層が設けられている。
（１０）透明基板がプラスチックフィルムである。
（１１）ディスプレイパネル用フィルタである。
【００１８】
また、本発明は、上記光学フィルタが、透明粘着層によりガラス板の貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタにもある。
【００１９】
さらに本発明は、上記の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、特定の表面粗さ（Ｒａ）を有する電磁波シールド層上にハードコート層等の機能層が形成することにより、電磁波シールド層に対する機能層の接着性が向上し、耐久性に優れたディスプレイに好適な光学フィルタを得ることができる。従って、本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイなどのディスプレイの表面に貼付することにより耐久性に優れたディスプレイを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
まず、本発明の光学フィルタについて図面を用いて説明する。
【００２２】
図１は、本発明の光学フィルタの、機能層が設けられる前の概略断面図である。
【００２３】
図１において、透明基板１１の表面に、電磁波シールド層１２が格子状に設けられている。電磁波シールド層１２の格子は、実際は遙かに多数も設けられている。
【００２４】
これを上から見た平面図を図２に示す。透明基板１１の表面に電磁波シールド層１２が格子状に形成されており、本発明では、電磁波シールド層１２の表面が特定の範囲の表面粗さ（Ｒａ）を有している。
【００２５】
図３に図２の透明基板１１の表面に設けられた電磁波シールド層１２の部分拡大斜視図を示す。電磁波シールド層１２の表面は、電磁波シールド層上面１２Ａと電磁波シールド層側面１２Ｂからなるものであるが、本発明では、一般に電磁波シールド層上面１２Ａの表面粗さ（Ｒａ）を測定している。電磁波シールド層側面１２Ｂも同様の表面粗さ（Ｒａ）を有する。
【００２６】
本発明では、電磁波シールド層１２の表面粗さ（Ｒａ）は０．０２μｍを超えている。電磁波シールド層の表面粗さ（Ｒａ）は、機能層を設ける前の電磁波シールド層の表面（メッシュの上側表面）の表面粗さ（Ｒａ）を、デジタルレーザー顕微鏡（商品名：ＶＫ−８５００；キーエンス（株）製）を用いて、以下の条件（レーザ波長６８５ｎｍ、出力０．４５ｍＷ、倍率２０００倍及び分解能０．０１μｍ）で測定することにより求められる。なお、測定長さは１５０μｍで行った。
【００２７】
電磁波シールド層１２の表面は、一般に金属層又は金属を含む層であるため、その表面に形成される（好ましくは塗布により）ハードコート層等の機能層の電磁波シールド層１２に対する接着性は十分ではなく、剥離しやすい傾向にある。特に、ハードコート層等を塗布により形成した場合に、その傾向が顕著である。そこで、本発明者は、電磁波シールド層１３の表面の粗さの程度を制御することにより、その接着性を向上させるべく検討を重ね、上記のように表面粗さ（Ｒａ）を、０．０２μｍを超えるようにすることにより大幅に接着性が改善されることを見いだした。さらに表面粗さ（Ｒａ）が０．０２μｍを超え０．５０μｍ以下の範囲が好ましく、特に０．０７〜０．１５μｍの範囲にあることが好ましい。一般に、表面粗さ（Ｒａ）が０．０２μｍ未満であると接着性が不十分であり、０．５０μｍを超えるように製造すると生産性、コストの点で不利となる傾向がある。
【００２８】
上記メッシュ状の電磁波シールド層１２は、一般に金属層又は金属を含む層（例えば金属蒸着層、金属箔層、金属粒子がバインダ中に分散した層）、或いはその上のメッキ層及び／又は黒化層からなる層である。本発明では、メッシュ状の電磁波シールド層が、金属層、或いは金属層とその上のメッキ層の積層膜、或いは金属層とその上の黒化層の積層膜、或いは金属層とメッキ層と黒化層がこれらの順で積層された積層膜であることが好ましい。金属蒸着層は、表面の粗面の程度を制御しやすく、またメッシュ線幅、線厚さ（線高さ）を小さくすることができ、高い開口率が得られやすい。またメッキ層を設けることにより、容易に導電性、接着性（Ｒａ）を調整することができるので望ましい。また金属層及びその上の黒化層からなる積層膜は、黒化の程度により接着性（Ｒａ）を調整することができるので好ましい。
【００２９】
このような表面粗さ（Ｒａ）を有する電磁波シールド層１２は、例えば、金属蒸着層の場合は蒸着条件を適宜設定することにより、メッキ層の場合はメッキ条件を適宜設定することにより、また黒化層の場合は黒化条件を適宜設定することにより得られる。詳細は後述する。
【００３０】
機能層としては、ハードコート層又は近赤外線吸収層が好ましいが、粘着剤層等でも良い。特に、ハードコート層等の塗布層の場合に、接着性が低下しやすいので、本発明の表面粗さ（Ｒａ）を有するメッシュ状の電磁波シールド層が好適である。
【００３１】
図４に、図１の光学フィルタにさらに、機能層としてハードコート層が設けられた好ましい態様を示す。透明基板４１の表面に、電磁波シールド層４２が設けられ、その上にハードコート層４３が設けられている。本発明では、電磁波シールド層４２が上記特定のＲａを有しているため、電磁波シールド層４２上に、ハードコート層４３が強力に接着している。
【００３２】
図５に、図４の光学フィルタにさらに他の機能層が設けられた好ましい態様を示す。図５において、透明基板５１の一方の表面に、電磁波シールド層５２、ハードコート層５３及び低屈折率層５４がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層５５及びその上に透明粘着剤層５６が設けられている。電磁波シールド層５２上に、ハードコート層５３が強力に接着している。透明粘着剤層５６を有しているため、ディスプレイの画像表示面に貼付が容易である。
【００３３】
図６に、本発明の光学フィルタ別の好ましい態様を示す。図６において、透明基板６１の一方の表面に、ハードコート層６３及び低屈折率層６４がこの順で設けられ、他方の表面に電磁波シールド層６２、近赤外線吸収層６５及び透明粘着剤層６６がこの順で設けられている。電磁波シールド層６２上に、近赤外線吸収層６５が強力に接着している。低屈折率層６４は設けなくても良い。
【００３４】
上記電磁波シールド層１２，４２，５２のメッシュの空隙は、前記のように、ハードコート層４３，５３、或いは防眩層で埋められている。これにより透明性が向上する。ハードコート層で埋めない場合は、他の層、例えば近赤外線吸収層或いはそれ専用の透明樹脂層で埋められるのが好ましい。
【００３５】
上記低屈折率層５４，６４は、反射防止層を構成している。即ち、ハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を効率良くに示す。この低屈折率層とハードコート層との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
【００３６】
また低屈折率層は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層のみであっても良い。ハードコート層、低屈折率層等は、一般に塗工により形成される。生産性、経済性の観点から好ましい。
【００３７】
上記近赤外線吸収層５５，６５等は、ＰＤＰのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層５６，６６は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層の上に剥離シートを設けても良い。
【００３８】
上記のディスプレイ用光学フィルタは透明基板（一般に透明フィルム）を１枚用いているが、透明基板は２枚用いても良い。例えば、電磁波シールド層を有する透明基板（一般に裏面に近赤外線吸収層等有する）の電磁波シールド層上に、ハードコート層及び低屈折率層等の反射防止層を有する透明基板の裏面を粘着剤層を介して積層することによっても得られる。或いは、透明基板の表面に、電磁波シールド層、ハードコート層及び低屈折率層等の反射防止層がこの順で設けられ、別の透明基板の表面には近赤外線吸収層及びその上に透明粘着剤層が設けられ、２枚の透明基板の層が設けられていない表面同士で接着された構成を有する。この場合、前者の積層体が、本発明の方法により製造される。
【００３９】
透明基板２枚は、製造上有利である場合に採用されるが、厚さが大きくなるので嵩高くなる点で不利である。
【００４０】
上記透明基板を１枚用いるディスプレイ用光学フィルタは、例えば、プラスチックフィルムの一方の全表面に、電磁波シールド層を形成し、次いで電磁波シールド層上に、ハードコート層及び低屈折率層等の反射防止層を形成し、端部の電磁波シールド層を除去して電極部（アース電極）を形成することもできる。あるいは、電極部の形成は、電磁波シールド層を予めはみ出させて積層することにより行うこともできる。
【００４１】
以下、本発明の光学フィルタに使用される材料について詳細に説明する。
【００４２】
透明基板は、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性が優れているので好ましい。
【００４３】
透明基板の厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜５ｍｍ程度が好ましい。
【００４４】
透明基板上に形成されるメッシュ状の電磁波シールド層としては、（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなるもの、（２）銅などの金属からなる層、（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもの、等を挙げることができる。さらに、これらの層の上に、メッキ層が設けられたもの、或いは黒化処理されたもの、を挙げることができる。またメッキ層がニッケル系金属などの黒色系のものであることも好ましい。
【００４５】
本発明のメッシュ状の電磁波シールド層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。
【００４６】
（１）メッシュ状の電磁波シールド層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００４７】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００４８】
（２）金属層の場合、前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００４９】
このような電磁波シールド層（２）は、例えば、透明基板上に蒸着などにより前記金属の金属箔を形成した後、メッシュ状にパターンエッチングすることにより得られる。金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５０】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００５１】
上記の他に、メッシュ状の電磁波シールド層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層（好ましくは金属蒸着層）を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状の電磁波シールド層を用いることができ、好ましい。
【００５２】
上記の他に、無電解めっき触媒インクを透明基材上にメッシュ状に印刷し、これにより得られたメッシュ状の無電解めっき触媒層上に上述した金属を無電解めっきすることによりメッシュ状の電磁波シールド層を得ることができる。
【００５３】
無電解めっき触媒インクとしては、種々のものを用いることができ、無電解めっき触媒、バインダ樹脂、及び有機溶剤を含むインクなどが挙げられる。無電解めっき触媒としては、高い触媒活性が得られることから、パラジウム、銀、白金、および金などの金属原子の塩化物、水酸化物、酸化物、硫酸塩、アンモニウム塩などのアンミン錯体などが用いられる。特に、パラジウム化合物、中でも塩化パラジウムが好ましい。この他、無電解めっき触媒としては、複合金属酸化物及び複合金属酸化物水化物を用いることもできる。前記複合金属酸化物としては、ＰｄＳｉＯ3、Ａｇ2ＳｉＯ3、ＰｄＴｉＯ3、Ａｇ2ＴｉＯ3、ＰｄＺｒＯ3及びＡｇ2ＴｉＯ3などが挙げられる。バインダ樹脂として好ましくは、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、及び塩化ビニル樹脂などが挙げられる。また、透明基板上に印刷した無電解めっき触媒インクは、８０〜１６０℃、特に９０〜１３０℃で加熱することにより乾燥させるのが好ましい。
【００５４】
前記無電解めっきは、無電解めっき浴を用いて常法に従って常温または加温下で行うことができる。
【００５５】
上記のようにして得られる電磁波シールド層は、その厚さ（高さ）を０．０１〜８μｍと薄くできる点で優れている。厚さが０．０１〜８μｍ程度に薄くすることができると、その上の機能層を塗工で形成する場合に有利である。また、この方法で電磁波シールド層を形成する場合、導電材料層の下地層（透明基板と導電材料層と接着確保のため）の材料の選択の自由度が大きくなるため、塗工層に含まれる溶剤による下地層の変色が起こりに難くすることができるため、高品質の光学フィルタを得ることができる。
【００５６】
（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させた電磁波シールド層において、前記導電性粒子としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。
【００５７】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００５８】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００５９】
メッシュ状の電磁波シールド層におけるメッシュとしては、線幅１μｍ〜５０μｍ、開口率６０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線幅は１０μｍ〜４０μｍ、特に２０μｍ〜４０μｍ、開口率は６０〜８０％である。メッシュ状の電磁波シールド層において、線幅が５０μｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、電磁波シールド層の線が目立つようになり好ましくない。また、線幅が１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えると電磁波シールド性が不足する傾向にあり、６０％未満ではディスプレイの表示面からの光量が不足する傾向にある。
【００６０】
なお、電磁波シールド層の開口率とは、当該電磁波シールド層の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００６１】
電磁波シールド層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けることが好ましい。本発明では、このような層を含めて電磁波シールド層という。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。また、金属メッキ層上に前記黒化処理を行っても良い。
【００６２】
電磁波シールド層、特に金属層の表面に黒化処理を行うことも好ましい。
【００６３】
黒化処理は、電磁波シールド層の金属に応じた公知の黒化処理をすることができ、これに応じた公知の黒化処理液を使用することができる。黒化処理としては、一般に酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及び黒色合金メッキ処理を挙げることができる。電気メッキ槽でのメッキ金属が銅である場合には、酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及び合金メッキ処理をあげることができ、特に廃液処理の簡易性及び環境安全性の点から、酸化処理が好ましい。
【００６４】
上記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。
【００６５】
上記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫化カリウム、硫化バリウム及び硫化アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫化カリウム及び硫化アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫化アンモニウムを使用することが好ましい。
【００６６】
上記黒化処理として、クロムメッキ処理を行う場合には、黒化処理液として、一般にはクロム酸と酢酸の水溶液、及びクロム酸とケイフッ化水素酸の水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、クロム酸と酢酸の水溶液を使用することが好ましい。
【００６７】
上記黒化処理として、黒色合金めっき処理を行う場合には、電解めっき又は無電解めっき等の方法を用いて行えばよい。黒色合金としては、ニッケル及び亜鉛の合金、又はニッケル及びスズの合金が好ましく挙げられる。これらの合金によれば、黒色度合い及び導電性に優れる黒色合金導電層が得られ、電磁波シールド層全体の厚さを薄くして電磁波シールド層と機能層との優れた接着性を向上させることができる。
【００６８】
ニッケルと亜鉛又はスズとの合金からなる黒化層におけるニッケルと亜鉛又はスズとの質量比（Ｎｉ／Ｚｎ）は、０．４〜１．４、特に０．２〜１．２とするのが好ましい。これにより黒色の色調が均質な黒化層を得ることができ、厚さが薄くても高い防眩性を有する電磁波シールド層を得ることができる。
【００６９】
このように防眩性を付与するための黒色合金からなる黒化層が形成されても、電磁波シールド層の導電性を十分に確保することができる。このような電磁波シールド層は、１Ω／□以下、特に０．３Ω／□以下の表面抵抗値を有する。なお、電磁波シールド層の表面抵抗値は、四探針法（ロレスタＡＰ：三菱油化製）により測定することができる。
【００７０】
本発明において、電磁波シールド層には、上述した通り、金属層、金属を含む層、金属めっき層、及び黒化層が用いられる。電磁波シールド層は、金属層と黒化層とがこの順で積層された積層膜、金属層と金属めっき層と黒化層とがこの順で積層された積層膜からなるのが特に好ましい。
【００７１】
このような電磁波シールド層の厚さは、０．０１〜８μｍ、特に０．０２〜６μｍとするのが特に好ましい。このような厚さを有する電磁波シールド層によれば、電磁波シールド層と機能層との優れた接着性を確保できるだけでなく、表面平滑性、透明性及び視認性に優れる機能性層を電磁波シールド層上に形成することができる。
【００７２】
したがって、金属層と黒化層とがこの順で積層されてなる電磁波シールド層では、金属層の厚さを０．００９〜７μｍ、特に０．０１〜５μｍとし、黒化層の厚さを０．００１〜１μｍ、特に０．０１〜１μｍとするのが好ましい。
【００７３】
また、金属層と金属めっき層と黒化層とがこの順で積層されてなる電磁波シールド層では、金属層の厚さを０．００９〜３μｍ、特に０．０５〜３μｍとし、金属めっき層の厚さを０．０１〜４μｍ、特に１〜２μｍとし、黒化層の厚さを０．００１〜１μｍ、特に０．０１〜１μｍとするのが好ましい。
【００７４】
電磁波シールド層の厚さが上述の通りに最適化されることにより、前記電磁波シールド層上に形成される機能性層が優れた平坦性を有する。具体的には、機能性層の表面粗さＲａを、０．３μｍ以下とすることができる。なお、機能性層の表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１に従って、表面粗さ計（サーフコム４８０Ａ  東京精密株式会社製）を用いて測定することができる。
【００７５】
本発明の特定の表面粗さ（Ｒａ）を有する電磁波シールド層は、例えば、以下のように形成することができる。
【００７６】
金属蒸着層の場合、例えば、銅を用いて真空蒸着する場合、圧力：１０-7〜１０-3Torr、基板温度：１０〜３０℃、析出速度：３０〜１００ｎｍ／分の条件で行うことが好ましい。
【００７７】
金属層の場合、例えば、無電解めっきを用いる場合、硫酸銅等の水溶性銅塩１〜１００ｇ／Ｌ、特に１〜２０ｇ／Ｌ、ホルムアルデヒド等の還元剤０．５〜１０ｍｌ／Ｌ、特に１〜１０ｍｌ／Ｌ、ＥＤＴＡ等の錯化剤２０〜１００ｇ／Ｌ、特に３０〜７０ｇ／Ｌを含み、ｐＨ１２〜１３．５、特に１２．５〜１３、温度５０〜９０℃に調整した無電解めっき浴に、無電解めっき触媒層を有する透明基材を３０秒〜６０分浸漬する方法が用いられる。
【００７８】
上記蒸着膜や金属層に、メッキを行う場合、硫酸銅、硫酸及び水の混合液をメッキ液として、蒸着膜付きフィルムをカソードとして用い、カソード電流密度を０．１〜１５Ａ／ｃｍ2程度で１〜１０分間メッキ処理することが好ましい。
【００７９】
金属層の表面を黒化処理する場合、例えば、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を処理液とすることが好ましい。また、バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもので形成する場合、例えば、導電性粒子の平均粒径を１〜５００ｎｍの範囲にする等が好ましい。
【００８０】
また、亜鉛−ニッケル合金めっき処理により黒化処理を行う場合、塩化亜鉛、塩化ニッケル及び塩化カリウムの混合水溶液を用い、混合水溶液のｐＨを９〜１２とし、カソード電流密度を０．１〜１５Ａ／ｄｍ2としてメッキ処理するのが好ましい。
【００８１】
本発明では、反射防止層は、一般に基板である透明フィルムとその上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層との複合膜からなる。ハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層を設けても良い。低屈折率層は、隣接する層（ハードコート層又は高屈折率層）の屈折率より低い屈折率を有する層である。
【００８２】
反射防止膜は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００８３】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の合成樹脂組成物を主成分とする層である。通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１５μｍである。合成樹脂組成物は、一般に熱硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性樹脂組成物であり、紫外線硬化性樹脂組成物が好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物は、短時間で硬化させることができ、生産性に優れ、またレーザにより除去し易い点からも好ましい。
【００８４】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００８５】
硬化性樹脂組成物としては、特に制限されず、熱、活性光線、放射線などで重合可能な硬化性樹脂、例えば多官能の（メタ）アクリレート、エポキシ系、オキセタン系の硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー、ポリマー）を挙げることができる。なかでも、多官能（メタ）アクリレート等を主として含む紫外線硬化性樹脂組成物が好ましい。
【００８６】
多官能（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール（メタ）テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。
【００８７】
多官能（メタ）アクリレートとしては、優れたハードコート性を有し、傷が付きにくいハードコート層を形成できることから、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを硬化性樹脂の全量に対して、少なくとも１５質量％、特に２０〜８０質量％含むのが好ましい。
【００８８】
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとして、好ましくは、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、（ポリ）アルキレングリコールモノアクリレート、及びこれらのモノマ−とラクトン（例えば、ε−カプロラクトン等）との付加物、例えばカプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００８９】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、２，２−ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４)が好ましい。
【００９０】
光重合開始剤の量は、硬化性樹脂に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００９１】
このように紫外線硬化性樹脂を用いることにより高い硬度を有するハードコート層を形成することが容易である。一般に、ＪＩＳ−Ｋ−５４００で規定される鉛筆引っ掻き試験方法で、２Ｈ以上の硬度を有することが好ましく、特に３Ｈ以上の硬度を有することが好ましい。
【００９２】
ハードコート層は、上述した硬化性樹脂中に、好ましくは０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．１μｍの平均粒径を有する微粒子を含んでいることが好ましい。微粒子の平均粒径は、ディスプレイ用フィルタの断面を電子顕微鏡（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観測し、少なくとも１００個の前記粒子の面積円相当径を求めた数平均値とする。
【００９３】
微粒子のハードコート層における含有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、５〜９００質量部、さらに２００〜８００質量部、特に５００〜８００質量部が好ましい。これにより、ハードコート層に透明性を低下させずに適度な表面粗さを付与することができる。
【００９４】
ハードコート層は、高い反射防止性を得るために、透明基板よりも高い屈折率を有するのが好ましい。ハードコート層の屈折率は、１．４９〜１．８０、特に１．７０〜１．８０の範囲内とするのが好ましい。
【００９５】
上記微粒子としては、ハードコート層の屈折率を高くするために、高い屈折率を有する微粒子が好ましく用いられる。例えば、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3などの金属酸化物粒子が用いられる。これらは一種単独で用いられてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。ＴｉＯ2が好ましい。
【００９６】
ハードコート層の厚さは、一般に１〜２００μｍ、特に３〜１５μｍが好ましい。
【００９７】
本発明のディスプレイ用フィルタでは、反射防止性をさらに向上させるために、上述したハードコート層上に、前記ハードコート層よりも屈折率が低い低屈折率層を有していてもよい。低屈折率層の屈折率としては、１．２０〜１．５０、特に１．２５〜１．４５の範囲内であればよい。微粒子を用いる場合は、後述の低屈折率層に使用される微粒子を用いても良い。
【００９８】
低屈折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、シリカ、フッ素樹脂などの粒子を硬化性樹脂中に分散させた硬化層など、公知のものが用いられる。
【００９９】
微粒子としては、中空シリカを用いるのが好ましい。前記中空シリカは、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍであり、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものを用いるのがよい。また、硬化性樹脂としては、ハードコート層において上述したものと同様のものが用いられる。
【０１００】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【０１０１】
本発明においては、反射防止膜は、上述のように、一般に、透明基板より屈折率の高い本発明のハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜である。ハードコート層と低屈率折との間に高屈折率層があっても良い。本発明の反射防止膜に近赤外線遮蔽機能を付与する場合は、上記ハードコート層等に近赤外線を吸収する後述する材料（例、色素）を混合及び／又は混練して導入しても良いし、或いは透明基板のメッシュ層の無い裏面に導入しても良い。
【０１０２】
さらに、本発明の光学フィルタにおいて、電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に近赤外線吸収層をさらに有するのが好ましい。これにより、ディスプレイ用フィルタが赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射を防止することが可能となる。
【０１０３】
近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明基板の表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダとしての合成樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の合成樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。
【０１０４】
色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【０１０５】
バインダとしての合成樹脂の例としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、およびノルボルネン樹脂などが好ましく用いられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１０６】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【０１０７】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【０１０８】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【０１０９】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【０１１０】
本発明のディスプレイ用フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【０１１１】
近赤外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、近赤外線の吸収性及び可視光透過性の点で、０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【０１１２】
近赤外線吸収層は、色調補正用の色素を含有していることが好ましい。或いは色調補正用の色素を含む色調補正層を、近赤外線吸収層と同様にして設けても良い。
【０１１３】
色調補正用の色素としては、近赤外線遮蔽層の黄褐色〜緑色の色調を中性化してカラーバランスを整えるために、それらの補色となるようなものが好ましい。このような色素としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等一般的なものが挙げることができる。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等を挙げることができ、有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等を挙げることができ、前記有機系染料及び色素には、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等を挙げることができるが、これらの内で、発色性と耐久性の兼合いから有機系顔料が好適に用いられる。近赤外線吸収層は粘着性を有することも好ましい。
【０１１４】
本発明の光学フィルタでは、上述した近赤外線吸収層上にさらに透明粘着剤層を有するのが好ましい。透明粘着剤層により本願発明の光学フィルタをディスプレイの画像表示ガラス板などへ容易に貼り合わせることが可能となる。
【０１１５】
透明粘着剤層は、ディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。透明粘着剤層における接着機能を有する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１１６】
透明粘着剤層の厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。ディスプレイ用フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することにより装備することができる。
【０１１７】
なお、本発明に係る透明粘着剤層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１１８】
透明粘着剤層上にはさらに剥離シートが設けられるのが好ましい。剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１１９】
本発明によれば、耐久性に優れたディスプレイ用フィルタを得ることが可能となる。このような本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１２０】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルム等を使用しているので、本発明のディスプレイ用フィルタをその表面である画像表示ガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１２１】
本発明の光学フィルタでは、上記のように作製した電磁波シールド層上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用塗布液を塗布することにより、ハードコート層を形成することが好ましい。
【０１２２】
ハードコート層形成用塗布液に用いられる硬化性樹脂としては、前述の多官能の（メタ）アクリレート、エポキシ系、オキセタン系の硬化性樹脂が挙げられる。本発明の硬化性樹脂は、（メタ）アクリレート等の重合により樹脂形成するものを含んでいる。なかでも、前述のように、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。さらに、多官能（メタ）アクリレートとしては、優れたハードコート性を有し、傷が付きにくいハードコート層を形成できることから、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％以上、特に２０〜８０質量％含むのが好ましい。
【０１２３】
ハードコート層形成用塗布液の粘度を調整するために、一般に溶剤が使用される。溶剤の濃度は、通常は８０質量％以下であり、好ましくは１０〜７０質量％である。
【０１２４】
溶剤としては、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール等のアルコール；メチルエチルケト、イソブチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテル；トルエン、キシレン等の芳香族溶剤を挙げることができる。
【０１２５】
ハードコート層形成用塗布液には、さらに必要に応じて、増感剤、消泡剤、レべリング剤、酸化防止剤など、公知の各種添加剤を含んでいてもよい。
【０１２６】
ハードコート層形成用塗布液を電磁波シールド層上に塗布するには、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スプレーコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ディップコート法、スピンコート法、グラビアコート法など、公知の塗布方法を用いて行えばよい。
【０１２７】
電磁波シールド層上に塗布したハードコート層形成用塗布液は、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。
【０１２８】
乾燥は、通常は、室温〜２５０℃程度で行えばよい。また、紫外線を照射する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。
【０１２９】
また、ハードコート層上に低屈折率層を形成する場合には、０．００１〜２μｍの平均粒径を有する粒子に代えて、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、シリカ、フッ素樹脂などの粒子を用いる以外は、上述したハードコート層の形成方法と同様の方法を用いて行えばよい。
【０１３０】
また、本発明のディスプレイ用フィルタにおいて、前記電磁波シールド層の周縁部の少なくとも一部は、機能性層が形成されずに露出しているのが好ましい。電磁波シールド層の露出部は、ＰＤＰなどのディスプレイ本体と接地（アース）するための電極部（アース電極）となる。この露出部によって、ディスプレイに装着し易く且つ接地し易いディスプレイ用フィルタとすることができる。
【０１３１】
前記電磁波シールド層の露出部は、ディスプレイに接地し易いように電磁波シールド層の周縁部の少なくとも一部に形成されればよい。例えば、電磁波シールド層の周縁部に間欠的に露出部が形成されていてもよく、電磁波シールド層の周縁部全体に露出部が形成されていてもよい。このとき、電磁波シールド層の周縁部のうち最端部上には、機能性層が形成されて電磁波シールド層が露出しないようにして前記露出部が形成されていてもよい。
【０１３２】
このように電磁波シールド層に露出部を形成するには、機能性層を塗工により形成する際に塗工部位を調整する方法、機能性層の所定部位をレーザー照射して燃焼又は分解させることで除去する方法などが用いられる。レーザ照射技術としては、ラインビーム成形技術、レーザ光分岐技術、ダブルパルス技術等を、単独または組み合わせて用いることができる。レーザ光としては、ＹＡＧレーザ（２倍波、３倍波）、ルビーレーザ、エキシマレーザ、半導体レーザ、ＣＯ2レーザ、アルゴンレーザ等を用いることができる。
【０１３３】
上記のように、本発明によれば、耐久性に優れたディスプレイ用に好適な光学フィルタを得ることができる。本発明のディスプレイ用フィルタは、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼り合わされて使用されるのが好ましい。また、ディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【実施例】
【０１３４】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
【０１３５】
［実施例１］
１．メッシュ状電磁波シールド層の形成
表面に接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有するＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）の接着層の全面に、厚さ１０μｍの銅箔を付着させた。この銅箔を、フォトリソグラフィー法によりエッチングし、格子パターンの銅箔（厚さ１０μｍ、線径３０μｍ、ピッチ１６３μｍ）を形成した。
【０１３６】
次亜塩素酸塩（１０質量部）と水酸化ナトリウム（３質量部）の混合水溶液を用いて、８０℃で１０分間処理し、銅箔表面を黒化処理し、銅箔表面を酸化銅に変化させた。
【０１３７】
得られたメッシュ状電磁波シールド層の線幅は３０μｍ、ピッチ１６３μｍ、開口率６７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは３．１μｍであった。表面粗さ（Ｒａ）は、０．１２μｍであった。
【０１３８】
２．ハードコート層の形成
下記組成を有するハードコート層形成用塗布液（固形分濃度：４０質量％；粘度：２５℃、１００ｃＰ）を、電磁波シールド層が形成されたＰＥＴフィルム上にバーコータを用いて乾燥後厚さが１２μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で１分間乾燥させた後、積算光量２４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射させて硬化させた。これによりメッシュ状電磁波シールド層上にハードコート層（厚さ１２μｍ）を有するディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１３９】
（ハードコート層形成用塗布液の組成）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート        ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          ４０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ）                                 １０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製）    ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）                                  ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                    １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ）                                        ２５質量部
【０１４０】
［比較例１］
１．メッシュ状電磁波シールド層の形成
ＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液を、所定のメッシュ間の形状（ドット状）で印刷した。ドット１個の大きさは１辺が１６３μｍの正方形状であり、ドット間の間隔は３０μｍであった。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【０１４１】
その上に、銅を平均膜厚１μｍとなるように真空蒸着した。
【０１４２】
次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることにより帯部を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してＰＥＴフィルム上にメッシュ状の銅層を形成した。
【０１４３】
上記銅層にさらに以下の条件でニッケルメッキを施した。
【０１４４】
（電気めっき液）
硫酸ニッケル：１００ｇ／Ｌ、塩化第１錫：５０ｇ／Ｌ、電流密度：１Ａ／ｄｍ2、温度：４０℃、時間：１０分。
【０１４５】
得られたメッシュ状電磁波シールド層の線幅は３０μｍ、ピッチ１６３μｍ、開口率は６７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは２．８μｍであった。表面粗さ（Ｒａ）は、０．０２μｍであった。
【０１４６】
２．ハードコート層の形成
実施例１と同様にして、メッシュ状電磁波シールド層上にハードコート層（厚さ６．９μｍ）形成し、ディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４７】
［実施例２］
１．メッシュ状の電磁波シールド層の形成
ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）上に、ポリエステル樹脂に対して無電解めっき触媒（ＰｄＣｌ2）を１０質量％混合した無電解めっき触媒インクをメッシュ状にグラビア印刷した後、１００℃で１０分間乾燥することにより、メッシュ状の無電解めっき触媒層を得た。無電解めっき触媒層は、正方形の開口部が規則的に配列した正方格子状であり、線幅が２０μｍであり、開口部（格子）の一辺が１９１μｍであり、開口率が７８％であり、厚さが２μｍであった。
【０１４８】
この無電解めっき触媒層を５％の硫酸により脱脂処理した後、下記組成を有する無電解銅めっき液（液温６０℃）を用いて無電解めっきをすることにより無電解めっき触媒層上にメッシュ状の銅層を形成した。この銅層は、正方形の開口部が規則的に配列した正方格子状であり、線幅が２０μｍであり、開口部（格子）の一辺が１９１μｍであり、開口率が７８％であり、厚さが２μｍであった。
【０１４９】
（無電解銅めっき液）
硫酸銅５水和物：１３ｇ／Ｌ
ＮａＯＨ      ：７．５ｇ／Ｌ
ＨＣＯＨ      ：１３ｍｌ／Ｌ
錯化剤
【０１５０】
下記組成を有する電解銅めっき液（液温３０℃）を用いて電解めっきすることにより、前記銅層上にメッシュ状の銅めっき層を形成した。電解めっき条件は、２０Ａ、１０分間とし、また被着材として銅板（寸法６００×１０００ｍｍ）を用い、アノードとしてチタンケース入り銅球を用いた。この銅めっき層は、正方形の開口部が規則的に配列した正方格子状であり、線幅が２０μｍであり、開口部（格子）の一辺が１９１μｍであり、開口率が７８％であり、厚さが２μｍであった。
【０１５１】
さらに、この銅めっき層を下記黒化処理液を用いて下記条件により亜鉛−ニッケル合金めっきを行うことにより、銅めっき層全面上に黒化層（厚さ２μｍ）を形成した。
【０１５２】
（黒化処理液組成）
ＺｎＣｌ2（Ｚｎ2+濃度２．０ｇ／ｌ）、ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏ（Ｎｉ2+濃度０．５ｇ／ｌ）、及びＫＣｌ（Ｋ+濃度２５０ｇ／ｌ）を含み、ｐＨ１０のめっき液を用いた。
【０１５３】
（黒化処理条件）
めっき液温度：４０℃
電流密度  ：５〜１０Ａ／ｄｍ2
めっき時間：１０秒
めっき液量：１２０ｃｍ3
上記の通りにして得られたメッシュ状の電磁波シールド層は、正方形の開口部が規則的に配列した正方格子状であり、線幅が２０μｍであり、ピッチが１９１μｍであり、開口率が７８％であり、平均厚さが６μｍであり、表面粗さ（Ｒａ）は０．０７μｍであった。
【０１５４】
２．ハードコート層の形成
実施例１と同様にして、メッシュ状の電磁波シールド層上にハードコート層（厚さ７μｍ）形成し、ディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１５５】
［実施例３］
１．メッシュ状の電磁波シールド層の形成
厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【０１５６】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルムの全面にメッシュ状の銅層を形成した。
【０１５７】
このフィルム表面の銅層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、銅層の平均厚さは４μｍであった。
【０１５８】
ＰＥＴフィルム上に形成された銅層に対して下記条件により亜鉛−ニッケル合金めっきを行うことにより、銅層の全面を被覆する黒化層（線幅２０μｍ、開口部（格子）の一辺２３４μｍ、開口率８５％、厚さ０．１μｍ、表面粗さ（Ｒａ）０．０９μｍ）を形成した。これにより、ＰＥＴフィルム上に銅層及び黒化層からなるメッシュ状の電磁波シールド層を形成した。
【０１５９】
（めっき条件）
めっき液の温度：４０℃
電流密度      ：５〜１０Ａ／ｄｍ2
めっき時間    ：１０秒
めっき液量    ：１２０ｍ3
【０１６０】
（めっき液組成）
ＺｎＣｌ2を用いＺｎ2+濃度が２．０ｇ／ｌ、ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏを用いてＮｉ2+濃度が０．５ｇ／ｌ、ＫＣｌを用いてＫ+濃度が２５０ｇ／ｌ、ｐＨ１０めっき液を用いた。
【０１６１】
２．ハードコート層の形成
下記の配合：
ペンタエリスリトールトリアクリレート                        ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ）                                ２０質量部
メチルエチルケトン                                        １００質量部
トルエン                                                  １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）          ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記電磁波シールド層の全面に、バーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、電磁波シールド層上に厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
【０１６２】
３．低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ−７２１２（日本合成ゴム（株）製）          １００質量部
メチルエチルケトン                                        １１７質量部
メチルイソブチルケトン                                    １１７質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１６３】
４．近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                    ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）                        ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ８３８０（有本化学工業（株）製        ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                          ０．６質量部
メチルエチルケトン                                        １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                      １８質量部
を混合して得た塗工液を、ＰＥＴフィルムの裏面全面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。
【０１６４】
５．透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製）                  １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製）                      ０．４５質量部
トルエン                                                    １５質量部
酢酸エチル                                                    ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した。
【０１６５】
上記実施例３で作製したディスプレイ用光学フィルタのヘイズ値を、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５（１９８１年）の手法に従って、全自動直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰ（スガ試験機株式会社製）を用いて測定した。前記ディスプレイ用フィルタのヘイズ値は３．０％であった。また、電磁波シールド層は十分な耐溶剤性を有し、優れた透明性を示した。また、上記実施例３で作製したディスプレイ用フィルタの低屈折率層の表面粗さＲａを、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１に従って、表面粗さ計（サーフコム４８０Ａ  東京精密株式会社製）を用いて測定した。低屈折率層の表面粗さＲａは０．１２であり、優れた平坦性を示した。
【０１６６】
［光学フィルタの評価］
１．電磁波シールド層の表面の表面粗さ（Ｒａ）
上記電磁波シールド層の表面の表面粗さ（Ｒａ）は、ハードコート層を設ける前の電磁波シールド層の表面（メッシュの上側表面）の表面粗さ（Ｒａ）を、デジタルレーザー顕微鏡（商品名：ＶＫ−８５００；キーエンス（株）製）を用いて、以下の条件（レーザ波長６８５ｎｍ、出力０．４５ｍＷ、倍率：２０００倍及び分解能０．０１μｍ）で測定することによる得た。なお、測定長さは１５０μｍで行った。
【０１６７】
２．ハードコート層の接着性
得られた光学フィルタのハードコート層に対して（実施例３で得られた光学フィルタでは低屈折率層に対して）、碁盤目付着試験法（ＪＩＳ−Ｄ−０２０２）に準拠して、接着性を下記のように評価した。
【０１６８】
○：ハードコート層の碁盤目１００個のうち、８０／１００以上の碁盤目が残った場合
△：８０／１００未満、５０／１００以上の碁盤目が残った場合
×：５０／１００未満の碁盤が残った場合
得られた結果を表１に示す。
【０１６９】
【表１】
2009163235.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【０１７０】
【図１】本発明の光学フィルタの一例の概略断面図である。
【図２】図１の光学フィルタの平面図である。
【図３】図２の光学フィルタの部分拡大斜視図である。
【図４】本発明の光学フィルタの別の態様の好ましい１例の概略断面図である。
【図５】本発明の光学フィルタの別の態様の好ましい１例の概略断面図である。
【図６】本発明の光学フィルタの別の態様の好ましい１例の概略断面図である。
【符号の説明】
【０１７１】
１１，４１，５１，６１  透明基板
１２，４２，５２，６２  電磁波シールド層
４３，５３，６３  ハードコート層
５５，６５  近赤外線吸収層
５６，６６  透明粘着剤層
【図１】
2009163235.tif 000004
【図２】
2009163235.tif 000005
【図３】
2009163235.tif 000006
【図４】
2009163235.tif 000007
【図５】
2009163235.tif 000008
【図６】
2009163235.tif 000009