(57)【要約】【課題】位相差層の硬度の影響を抑制して液晶層厚管理を行うことで、高品質な画像表示が可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】互いに対向して配置される素子基板１０及び対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０との間に挟持された液晶層３０と、対向基板２０の液晶層３０側に設けられた位相差層４２と、位相差層４２の素子基板１０と対向する面及び該面と連なる位相差層４２の側面を覆い、位相差層４２の下地となる下地面に接する保護層４４と、保護層４４と重なる位置に配置され、素子基板１０と対向基板２０とを所定の間隔で離間した状態に保持するスペーサ５０と、を備え、保護層４４は位相差層４２よりも高い硬度を示すことを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置される第１基板及び第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に挟持された液晶層と、
前記第２基板の前記液晶層側に設けられた位相差層と、
前記位相差層の前記第１基板と対向する面及び該面と連なる前記位相差層の側面を覆い、前記位相差層の下地となる下地面に接する保護層と、
前記保護層と重なる位置に配置され、前記第１基板と前記第２基板とを所定の間隔で離間した状態に保持するスペーサと、を備え、
前記保護層は前記位相差層よりも高い硬度を示すことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
１画素領域内に反射表示領域と透過表示領域とが設けられ、
前記位相差層は、前記反射表示領域に配置され、
前記保護層は、１画素領域内において前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界に位置する前記位相差層の側面以外の側面を覆って前記下地面と接していることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記画素領域が、一方向に複数配列され、
前記画素領域のうち、当該画素領域の中心を通って前記画素領域の配列方向に平行に延びる中心線を挟んで一方側に前記反射表示領域が配置され、他方側に前記透過表示領域が配置され、
前記位相差層は、前記画素領域の配列方向に沿って並んだ複数の前記反射表示領域にまたがって帯状に形成され、
前記保護層は、帯状に形成された前記位相差層の前記第１基板と対向する面、及び該面と連なり前記中心線とは反対側の前記位相差層の側面を覆って前記下地面に接していると共に、
前記スペーサは、隣接する前記画素領域の境界部に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記スペーサは、前記反射表示領域の中心を通って前記画素領域の配列方向と平行に延びる中心線よりも前記透過表示領域とは反対側に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
１画素領域内に反射表示領域と透過表示領域とが設けられ、
前記位相差層は、前記反射表示領域に配置され、
前記保護層は、１画素領域内において前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界に位置する前記位相差層の側面を含む側面を覆って前記下地面と接していることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記位相差層は、前記第１基板と対向する面に平坦面を有し、前記スペーサは、前記平坦面と重なって配置されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記保護層は、前記透過表示領域と前記反射表示領域とで前記液晶層の層厚を調整するための液晶層厚調整層として機能することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記位相差層は、液晶化合物を材料として形成されており、
前記保護層は、無機物を材料として形成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記保護層は、前記スペーサの硬度と同じかそれよりも高い硬度を有することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記スペーサは、前記保護層と一体に設けられていることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記スペーサは、前記第１基板と一体に設けられていることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
様々な電気光学装置の光変調装置として、液晶表示装置が用いられている。液晶表示装置では、装置内を光が透過する際の光路長の違いや、装置を構成する複数種の材料の複屈折率差により、透過光に位相差を生じることが多く、表示画像にぼやけやにじみなどの不具合が生じることがある。そのため、この位相差に対して様々な方法で光学的な補償を行うことが一般的となっている。複屈折率に起因する位相差に対しては、位相差を解消するための位相差層を設ける構成が知られている。
【０００３】
このような液晶表示装置の表示方法としては、光の入射側へ変調した光を射出する反射型の表示方法と、光の入射側とは異なる他方側へ変調した光を射出する透過型の表示方法がある。更に、これらの２つの表示方式を兼ね備えた半透過半反射型の液晶表示装置が知られている。半透過半反射型の液晶表示装置は、周囲の明るさに応じて反射モードまたは透過モードのいずれかの表示方式を使い分けることにより、消費電力を低減しつつ周囲が暗い場合でも明瞭な表示を行うことができるという特長を備えている。
【０００４】
このような半透過半反射型の液晶表示装置では、反射表示を行う反射表示領域と透過表示を行う透過表示領域とにおいて同質な表示を行い高品質な画像表示を実現するため、通常、様々な光学補償を行っている。
【０００５】
例えば、反射表示領域の液晶層厚を透過表示領域の液晶層厚よりも薄くする液晶層厚調整層を設ける、いわゆるマルチギャップ構造を用いることで、反射表示領域と透過表示領域との光路差を解消する方法が知られている。特許文献１から４には、このようなマルチギャップ構造に加え、更に、液晶層厚調整層上に配置されたスペーサにより液晶層厚を制御する構成が開示されている。また、特許文献５及び６には、カラーフィルタ層上に位相差層を設け、更に位相差層をマルチギャップ構造として光学補償を行い、位相差を解消する構成が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−２４２２９７号公報
【特許文献２】特開２００３−１６７２５３号公報
【特許文献３】特開２００４−３６１８２５号公報
【特許文献４】特開２００３−３４４８３９号公報
【特許文献５】特開２００５−３３８２５６号公報
【特許文献６】特開２００４−２２６８２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、液晶層厚調整層上にスペーサを配置する構成に、位相差層を液晶層厚調整層として光学補償を行う構成を適用すると、新たな課題が生じる。
【０００７】
位相差層は、屈折率の異方性を備える液晶高分子を形成材料として用いるのが一般的であるが、液晶高分子の性質により位相差層は硬度が低いものとなる。そのため、液晶表示装置に加わる応力が、スペーサを介して液晶層厚調整層に伝わった場合、位相差層の硬度が低いため液晶層厚調整層が容易に位相差層に陥没し、層厚を一定に管理することが難しい。スペーサが位相差層上に直接接する場合も同様に、スペーサが位相差層に陥没してしまい、容易に液晶層内の光路長が変化してしまうために、表示画像に乱れが生じやすくなる。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、位相差層の硬度の影響を抑制して液晶層厚管理を行うことで、高品質な画像表示が可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。また、このような液晶表示装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するため、本発明の液晶表示装置は、互いに対向して配置される第１基板及び第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持された液晶層と、前記第２基板の前記液晶層側に設けられた位相差層と、前記位相差層の前記第１基板と対向する面及び該面と連なる前記位相差層の側面を覆い、前記位相差層の下地となる下地面に接する保護層と、前記保護層と重なる位置に配置され、前記第１基板と前記第２基板とを所定の間隔で離間した状態に保持するスペーサと、を備え、前記保護層は前記位相差層よりも高い硬度を示すことを特徴とする。
この構成によれば、スペーサが配置される箇所は、位相差層よりも高硬度を示す保護層に覆われており、液晶表示装置に外力が加わった場合には、応力が高硬度の保護層を介して位相差層に分散する。加えて、位相差層よりも高硬度の保護層が下地面に接して形成されているため、同様に外力が加わった場合には、側面を覆う保護層が、あたかも衝立または柱のように支持部材として機能して応力に拮抗し、位相差層に加わる応力が位相差層の側面を覆う保護層を介して下地面に拡散する。これらのことから、位相差層の変形を抑制すると共に、スペーサによって第１基板と第２基板との離間距離を良好に制御することが可能となり、高品質な画像表示が可能な液晶表示装置とすることができる。
【００１０】
本発明においては、１画素領域内に反射表示領域と透過表示領域とが設けられ、前記位相差層は、前記反射表示領域に配置され、前記保護層は、１画素領域内において前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界に位置する前記位相差層の側面以外の側面を覆って前記下地面と接していることが望ましい。
この構成によれば、保護層が、反射表示領域と透過表示領域との境界に位置する位相差層の側面以外の側面を覆って、つまり反射表示領域の周囲を囲む辺に沿って下地面と接する。そのため、側面を覆う保護層を広く形成して、応力に拮抗する広面積の支持部材として用い、より強固に位相差層の変形を抑制することができる。
【００１１】
本発明においては、前記画素領域が、一方向に複数配列され、前記画素領域のうち、当該画素領域の中心を通って前記画素領域の配列方向に平行に延びる中心線を挟んで一方側に前記反射表示領域が配置され、他方側に前記透過表示領域が配置され、前記位相差層は、前記画素領域の配列方向に沿って並んだ複数の前記反射表示領域にまたがって帯状に形成され、前記保護層は、帯状に形成された前記位相差層の前記第１基板と対向する面、及び該面と連なり前記中心線とは反対側の前記位相差層の側面を覆って前記下地面に接していると共に、前記スペーサは、隣接する前記画素領域の境界部に配置されていることが望ましい。
一定の高さのスペーサを用いて液晶層厚を均一に管理するためには、スペーサが配置される箇所の厚みが略均一である必要がある。この構成によれば、位相差層及び保護層が連続して形成され、画素間に層厚差が生じる箇所がなくなる。すると、画素間の領域にスペーサを配置することが可能となるため、スペーサが表示画像を遮る事がなく画素開口率を向上させることが可能となる。また、パターニングによる形成も容易である。そのため、設計自由度が増すとともに、製造が容易な液晶表示装置とすることができる。
【００１２】
本発明においては、前記スペーサは、前記反射表示領域の中心を通って前記画素領域の配列方向と平行に延びる中心線よりも前記透過表示領域とは反対側に配置されていることが望ましい。
この構成によれば、位相差層の側面を覆う保護部とスペーサとが平面的に近接した位置に配置されるため、スペーサと保護部とが一体となって応力に拮抗し、液晶表示装置の外部からの圧力を効果的に支えることができる。
【００１３】
本発明においては、１画素領域内に反射表示領域と透過表示領域とが設けられ、前記位相差層は、前記反射表示領域に配置され、前記保護層は、１画素領域内において前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界に位置する前記位相差層の側面を含む側面を覆って前記下地面と接していることが望ましい。
この構成によれば、保護層が、反射表示領域と透過表示領域との境界を含め反射表示領域の周囲を囲む辺に沿って下地面と接する。そのため、より一層位相差層の変形を低く抑えることができる。
【００１４】
本発明においては、前記位相差層は、前記第１基板と対向する面に平坦面を有し、前記スペーサは、前記平坦面と重なって配置されていることが望ましい。
例えばフォトリソグラフィを用いてパターニングし位相差層を形成すると、位相差層の側面がテーパ形状となり厚みが一定しない場合がある。側面にこのような形状を備える位相差層では、平坦面にスペーサを配置することで、確実な液晶層厚管理を実現することができる。
【００１５】
本発明においては、前記保護層は、前記透過表示領域と前記反射表示領域とで前記液晶層の層厚を調整するための液晶層厚調整層として機能することが望ましい。
この構成によれば、保護層の厚みを適宜設定することにより、位相差層の厚みを変えなくても透過表示領域における液晶層の層厚と反射表示領域における液晶層の層厚とを調整できる。このため、液晶層厚調整層として透過表示領域と反射表示領域とにおける液晶層の層厚を調整するために必要な厚みと、位相差層により透過する光に付与される位相差と、をそれぞれ独立に制御することができる。
【００１６】
本発明においては、前記位相差層は、液晶化合物を材料として形成されており、前記保護層は、無機物を材料として形成されていることが望ましい。
この構成によれば、保護層は無機物を材料として形成されているので、液晶化合物を材料として形成された位相差層よりも保護層の硬度を格段に高めることができる。
【００１７】
本発明においては、前記保護層は、前記スペーサの硬度と同じかそれよりも高い硬度を有することが望ましい。
この構成によれば、スペーサが配置される箇所における保護層自体の陥没や変形が抑えられるので、さらに位相差層の変形を低く抑えることができる。
【００１８】
本発明においては、前記スペーサは、前記保護層と一体に設けられていることが望ましい。
この構成によれば、位相差層及び保護層との関係において、液晶層厚管理に好適な位置に予めスペーサを形成することで、良好に液晶層厚管理をすることが可能となる。
【００１９】
本発明においては、前記スペーサは、前記第１基板と一体に設けられていることが望ましい。
この構成によれば、スペーサ形成加工により、保護層や位相差層が損傷するおそれがなく、信頼性の高い液晶表示装置とすることができる。
【００２０】
本発明の電子機器は、前述の液晶表示装置を備えることを特徴とする。
この構成によれば、確実な液晶層厚管理がなされ、高品質な画像表示が可能な表示部を備えた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
［液晶表示装置］
（第１実施形態）
以下、図１〜図６を参照しながら、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置について説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００２２】
図１は、液晶表示装置１の１画素の平面図である。液晶表示装置１は複数の画素（画素領域）Ｘを備えており、各々の画素Ｘは図において水平方向及び垂直方向に延在する２つの配列軸方向に配列し、マトリクス状に配置している。図に示すように、液晶表示装置１の１画素領域には、それぞれ赤、緑、青に対応した平面視略矩形の３つのサブ画素Ｐ（Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂ）が設けられている。なお、「ｒ」「ｇ」「ｂ」は、それぞれ赤色、緑色、青色を示す。
【００２３】
各々の画素に設けられた３つのサブ画素Ｐは、各々の長軸方向に垂直な配列軸に並んで配列して１つの画素Ｘを形成しており、各画素Ｘに配置された平面視略矩形のサブ画素Ｐは、配列軸方向を互いに同じ方向として配置している。１つのサブ画素Ｐには、それぞれ対応して後述するカラーフィルタ層が形成されており、赤色、緑色、青色の３原色のうち１色を表示可能となっている。各々の画素間は非表示領域ＤＡとなっている。非表示領域ＤＡには、例えばカラーフィルタ層が備える遮光部材であるブラックマトリクスが設けられている。
【００２４】
サブ画素Ｐは長軸方向において２つの領域に分割されている。図示上側の領域は、反射表示領域Ｒであり、図示下側の領域は、透過表示領域Ｔである。反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとは、平面視でほぼ同一の形状及び大きさを有し、サブ画素領域の中央部で互いに隣接している。また、隣接するサブ画素間の反射表示領域Ｒ同士は、平面視略矩形のサブ画素の短軸方向に平行な配列方向に沿って配列している。
【００２５】
隣接する反射表示領域Ｒと平面的に重なって、本発明の特徴部分である平面視帯状の内面位相差部４０が延在している。内面位相差部４０の延在方向に直交する方向の端部の一端は、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界に接しており、他端は画素間の領域に配置されている。
【００２６】
図２は、本実施形態の液晶表示装置１の断面図であり、図１の線分Ａ−Ａに対応する矢視断面図である。本実施形態の液晶表示装置１は、液晶層３０に対して基板面方向の電界成分（横電界）を作用させ、液晶材料の方位角を制御することにより画像表示を行う横電界方式のうち、ＦＦＳ方式を採用したものである。また、カラーフィルタを備えたカラー液晶装置であり、１個の画素がＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色光を射出する３個のサブ画素から構成されている。
【００２７】
図に示すように、液晶表示装置１は、駆動素子や配線等が形成された素子基板（第１基板）１０と、素子基板１０と対になり対向配置された対向基板（第２基板）２０と、素子基板１０と対向基板２０とに挟持される液晶層３０と、対向基板２０の液晶層３０側面に、反射表示領域Ｒと平面的に重なって形成された内面位相差部４０と、内面位相差部４０と素子基板１０との間に配置されたスペーサ５０と、を備えている。
【００２８】
液晶表示装置１は、バックライト６０からの光を液晶層３０で変調し表示を行う透過表示領域Ｔと、対向基板２０側から装置内に差し込む外光を液晶層３０で変調し表示を行う反射表示領域Ｒと、を備えた半透過半反射型の表示方式を採用している。なお、本発明の技術思想によると、マルチギャップ構造を備えるならば、ＦＦＳ方式に限らず他の表示方式を用いた半透過半反射型の液晶表示装置であっても良好に効果を奏する。図２における以下の説明では、バックライト６０を配置している方向を下、対向基板２０が配置されている方向を上として、各構成部材の上下関係を示す。
【００２９】
素子基板１０が備える基板本体１０Ａは、例えばガラス、窒化ケイ素等の無機物や、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の有機高分子（樹脂）、またはこれらの複合材料など光透過性を備えた材料で形成されている。
【００３０】
基板本体１０Ａの上には、駆動素子、配線、及びこれらを電気的に絶縁する無機物または有機物の絶縁膜などを備えた素子層１２が形成されている。各種配線や駆動素子はフォトリソグラフィによりパターニングした後エッチングすることにより、また、絶縁膜は蒸着法やスパッタ法など通常知られた方法により適宜形成することができる。
【００３１】
素子層１２の上には、反射表示領域Ｒと平面的に重なって反射層１４が形成されている。反射層１４は、アクリル樹脂等の樹脂層の上に、銀やアルミニウム等の金属反射膜が形成されてなる。該樹脂層の表面は凹凸形状を有しており、金属反射膜はこの凹凸形状を反映して形成されるため、反射層１４は全体として凹凸面を有した光散乱性の反射手段を構成している。その他、銀やアルミニウム等の光反射性の金属膜や、屈折率の異なる誘電体膜（ＳｉＯ2とＴｉＯ2等）を積層した誘電体積層膜（誘電体ミラー）を、例えばマスクを介して蒸着法やスパッタ法により選択的に成膜して形成し、形成した膜の表面に凹凸形状を形成することによっても得られる。
【００３２】
更に素子層１２の上には、反射層１４と素子層１２とを覆って、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとに重なる共通電極１５が形成されている。共通電極１５は、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電材料で形成されている。
【００３３】
共通電極１５上には、表面を覆って全面に酸化シリコン等の無機絶縁膜からなる層間絶縁膜１６が形成されており、層間絶縁膜１６上には、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとに重なる画素電極１７が形成されている。画素電極１７はＩＴＯ等の透明導電材料からなるものであり、平面視した状態では梯子（開口スリット）形状或いは櫛歯形状を備えている。更に、層間絶縁膜１６上には、画素電極１７の表面を覆ってポリイミド等からなる配向膜１８が形成されている。
【００３４】
また、対向基板２０が備える基板本体２０Ａには、素子基板１０の基板本体１０Ａと同様、透明性を備える基板を用いることができ、例えばガラス、石英ガラス、窒化ケイ素等の無機物や、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の有機高分子（樹脂）が使用可能である。また、光透過性を備えるならば、前記材料を積層または混合して形成された複合材料を用いることもできる。本実施形態では、基板本体２０Ａの材料としてガラスを用いる。
【００３５】
基板本体２０Ａの装置内面側の面には、着色層２２ａ及びブラックマトリクス２２ｂを備えたカラーフィルタ層２２が形成されている。カラーフィルタ層２２で、バックライト６０から入射して装置前方に射出する光、及び装置前方より入射し反射層１４で反射して装置前方に射出する光を赤色、緑色、青色に変調し、各色の光を混色することでフルカラー表示が可能となる。また、カラーフィルタ層２２の装置内面側の面には、カラーフィルタ層２２を物理的または化学的に保護するために、図示略のオーバーコート層が形成されている。なお、カラーフィルタ層２２は、素子基板１０側に形成することもできる。
【００３６】
カラーフィルタ層２２の装置内面側の面には、反射表示領域Ｒと重なって本発明の特徴部である内面位相差部４０が設けられている。内面位相差部４０は、反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚を透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚よりも薄くするための液晶層厚調整層としての機能を備える。反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚は、透過する光にλ／４波長の位相差を付与する厚みとなっている。
【００３７】
内面位相差部４０は、位相差層４２と保護層４４とを含んで形成されている。位相差層４２は、反射表示領域Ｒと重なって設けられており、位相差層４２の透過表示領域Ｔとは反対側の端部は、非表示領域ＤＡにまで延在して形成されている。このような位相差層４２は、紫外線硬化性の液晶材料（液晶モノマーあるいは液晶オリゴマー）を重合して得られる液晶ポリマーを形成材料として用い、通常知られた方法により形成する。位相差層４２は、対向基板２０の内面側に設けられたいわゆる内面位相差層となっている。位相差層４２は、透過表示領域Ｔの画像と反射表示領域Ｒの画像との位相差を補償する機能を備えている。位相差層４２は、例えば透過する光にλ／２波長の位相差を付与する。
【００３８】
また、位相差層４２の表面を覆って、保護層４４が形成されている。保護層４４は、非表示領域ＤＡに配置された位相差層４２の端部を覆い、位相差層４２の下地面であるカラーフィルタ層２２の表面に接して形成されている。保護層４４は、位相差層４２よりも高い硬度を示す形成材料、例えば感光性を備えたアクリル樹脂やエポキシ樹脂を形成材料として用い、通常知られた方法により形成する。感光性としては、ポジ型及びネガ型のいずれも好適に用いることができる。
【００３９】
非表示領域ＤＡに形成された保護層４４に接して、液晶層３０の厚みを一定に制御するスペーサ５０が形成されている。スペーサ５０は、保護層４４の形成材料と同様の材料を用いて形成することができる。スペーサ５０の形状には特に限定がなく、円柱状、多角柱状等の柱状の形状であっても良く、また幅広く壁状のスペーサとしても良い。
【００４０】
スペーサ５０は、保護層４４と重なる位置、つまり反射表示領域Ｒに配置されている。ところで、スペーサ５０が透過表示領域Ｔに配置された場合、反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚は内面位相差部４０の厚みがばらつくとその影響を受けることとなる。本実施形態では、スペーサ５０が反射表示領域Ｒに配置されているので、内面位相差部４０の厚みのばらつきに関わらず反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚を所定の厚みに制御することができる。
【００４１】
更に、カラーフィルタ層２２の装置内面側の面には、内面位相差部４０表面を覆って全面に、配向膜２８が形成されている。配向膜２８はポリイミド膜を用いて形成する有機配向膜であり、カラーフィルタ層２２と位相差層４２の上にポリイミド膜を成膜した後に、ラビングして配向処理を行い形成する。
【００４２】
その他、素子基板１０は液晶層３０と反対側に偏光板１９を備えており、対向基板２０は液晶層３０と反対側に偏光板２９を備えている。本実施形態の液晶表示装置１は、以上のような構成となっている。
【００４３】
図３は、本発明の特徴部である内面位相差部４０及びスペーサ５０の周辺を示す概略図である。図３（ａ）は斜視図、図３（ｂ）は断面図、図３（ｃ）は平面図を示す。図３では図を見やすくするために、図２とは上下を反転させて図示している。
【００４４】
図３（ａ）に示すように、内面位相差部４０はサブ画素Ｐが備える反射表示領域Ｒに重なり、隣接する画素Ｘにまたがって帯状に延在している。延在方向に垂直な方向の一端は、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界に接しており、また、他端は画素間の領域である非表示領域ＤＡに平面的に重なっている。
【００４５】
内面位相差部４０が備える位相差層４２は、内面位相差部４０の延在方向に、反射表示領域Ｒに重なり隣接する画素Ｘにまたがって帯状に延在している。延在方向に垂直な方向の一端は、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界に接しており、また、他端は画素間の領域である非表示領域ＤＡのカラーフィルタ層２２に平面的に重なっている。
【００４６】
保護層４４も同様に、内面位相差部４０の延在方向に、反射表示領域Ｒに重なり隣接する画素Ｘにまたがって帯状に延在している。保護層４４は、位相差層４２の上部及び非表示領域ＤＡに面する側部を覆って形成されており、非表示領域ＤＡのカラーフィルタ層２２に接する位相差層４２の端部に沿って、カラーフィルタ層２２に接して形成されている。保護層４４が非表示領域ＤＡでカラーフィルタ層２２と接しているため、保護層４４とカラーフィルタ層２２との接触面が表示画像を遮ることがない。そして、保護層４４が透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界側でカラーフィルタ層２２と接していないため、この部分における光漏れが低く抑えられる。また、位相差層４２と保護層４４とが、いずれも隣接する画素Ｘにまたがって帯状に形成されているために、内面位相差部４０は画素間の領域においても層厚差を有さずに一様な厚みで形成されている。
【００４７】
図３（ｂ）に示すように、内面位相差部４０が備える位相差層４２は、断面視で一様の厚みを備えて構成されているものではなく、図２に示す素子基板１０と対向する面に平坦面４３を有し、略均一な厚みを備えて形成されている平坦部４２ａと、平坦部４２ａの周辺（断面視で平坦部４２ａの両側）に設けられ厚みが変化する側壁部４２ｂと、で構成されている。位相差層４２を、通常知られた形成方法であるフォトリソグラフィ法により形成すると、現像・エッチング等の工程において端部がテーパ状になるためである。この位相差層４２の形状に対応して、保護層４４は、平坦部４２ａを覆って形成される第１保護部４４ａと、側壁部４２ｂを覆ってカラーフィルタ層２２に当接する第２保護部４４ｂと、で構成されている。
【００４８】
スペーサ５０は、平坦部４２ａと重なる第１保護部４４ａ上に配置されている。均一な厚みを備える平坦部４２ａの平坦面４３と重なる位置に配置されているため、精度良い液晶層厚規定が可能となる。
【００４９】
図３（ｃ）には、スペーサ５０の配置位置を示す。スペーサ５０は、隣接するサブ画素Ｐの間の領域で、サブ画素Ｐと重ならない位置に設けられている。前述したように、内面位相差部４０が帯状に形成されているため、画素間の領域においても層厚差がない。そのため、画素間の領域にスペーサ５０を配置すると、確実な層厚制御ができると共に、スペーサ５０により画像が遮られることが無いため、画素開口率を向上させることができる。
【００５０】
続いて、図を用いて本発明の効果について説明する。図４は本発明の効果について説明する説明図であり、内面位相差部４０及びスペーサ５０の周辺を示す液晶表示装置の概略断面図であり、図２に対応する視界方向の断面図である。
【００５１】
図４（ａ）には、比較説明のために、内面位相差部４０の保護層４４が対向基板２０に接していない場合を示し、図４（ｂ）及び（ｃ）には本発明の構成を備える場合を示す。図４（ｂ）は、反射表示領域Ｒの中心を通って画素領域の配列方向と平行に延びる中心線Ｃよりも透過表示領域Ｔ側にスペーサ５０を配置した場合、図４（ｃ）は、中心線Ｃよりも透過表示領域Ｔとは反対側にスペーサ５０を配置した場合を示す。
【００５２】
ここで、内面位相差部４０とスペーサ５０との形成材料について説明しておく。位相差層４２は前述のように液晶ポリマーで形成されているが、位相差層４２の形成に用いられる一般的な液晶ポリマーは鉛筆硬度で６Ｂ程度の硬度であり、非常に硬度が低い。対して、保護層４４やスペーサ５０の形成材料であるアクリル樹脂やエポキシ樹脂は、鉛筆硬度で４Ｈから６Ｈ程度の高い硬度を示す。ここで言う「鉛筆硬度」は、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４「塗料一般試験方法−第５部：塗膜の機械的性質−第４節：引っかき硬度（鉛筆法）」に準じて測定することにより得られる値である。
【００５３】
図４（ａ）に示すように、保護層４４が対向基板２０に接していない構成の液晶表示装置において、装置外部から外力Ｆが加わる場合を想定する。その場合、スペーサ５０を介して内面位相差部４０に応力が伝わり、保護層４４全体に圧力が分散する。そのため、スペーサ５０が位相差層４２に陥没することは防ぐことができる。しかし、保護層４４を介して位相差層４２に伝わる応力が、位相差層４２の全体を変形させるため、液晶層３０の層厚変化を防ぐことが困難となる。
【００５４】
一方で、図４（ｂ）に示すように、保護層４４が対向基板２０に接する構成の液晶表示装置の場合にも、同様にスペーサ５０及び保護層４４を介して位相差層４２に応力が伝わる。しかし、保護層４４が下地面である対向基板２０に接しているため、位相差層４２の側壁部を覆う第２保護部４４ｂが応力に拮抗して支え、対向基板２０へと応力を分散させる。そのため、第２保護部４４ｂの近傍での位相差層４２の変形を抑制することができる。
【００５５】
更に、図４（ｃ）に示すように、保護層４４が対向基板２０に接する構成の液晶表示装置であって、スペーサ５０と第２保護部４４ｂとが隣接して配置されているとより効果的である。
【００５６】
図４（ｂ）のような配置であると、装置外部から外力Ｆが加わる場合に、第２保護部４４ｂを支点、スペーサ５０と保護層４４とが接する箇所を力点、位相差層４２のスペーサ５０と平面的に重なる領域を作用点として、てこの原理で位相差層４２が変形しやすい。そのため、図４（ａ）の構成よりは位相差層４２の変形を抑制可能であるものの、まだ十分とは言えない。しかし図４（ｃ）のように、第２保護部４４ｂとスペーサ５０とが隣接して配置していると、支点−力点間の距離が短いため、てこが働きにくく、より効率的に応力を対向基板２０へと分散させ、位相差層４２の変形を防ぐことが可能となる。
【００５７】
このように、位相差層４２よりも高い硬度の保護層４４は、硬度の低い位相差層４２を保護すると同時に、保護層４４の一部が対向基板２０と接して形成されていることにより、位相差層４２の変形を効率的に抑制する。そのため、液晶層３０の層厚を均一に保つことが可能となる。
【００５８】
上述したスペーサ５０は、素子基板１０または対向基板２０のいずれかと一体として設けることができる。図５は、スペーサ５０の形成箇所について説明する概略断面図である。スペーサ５０は図５（ａ）に示すように、保護層４４上に保護層４４と一体として形成しても良く、また、図５（ｂ）に示すように、素子基板１０側に一体として形成しても良い。
【００５９】
本発明は、図４で説明したように、スペーサ５０の配置位置の違いによって効果に違いが出る。図５（ａ）のように保護層４４上に形成すると、予め高い効果を奏する箇所にスペーサ５０を形成することが可能であるため、良好な液晶層厚管理が可能となる。
【００６０】
一方で、図５（ｂ）のように素子基板１０側に形成すると、位相差層４２や保護層４４をスペーサ５０の形成工程にさらすことなくスペーサ５０を設けることができる。そのため、スペーサ５０形成工程における位相差層４２や保護層４４の損傷を防ぎ、信頼性の高い液晶表示装置とすることが可能となる。
【００６１】
以上のような構成の液晶表示装置１によれば、スペーサ５０が配置される箇所は、位相差層４２よりも高硬度を示す保護層４４に覆われているため、液晶表示装置１に外力が加わった場合に、応力が高硬度の保護層４４を介して位相差層４２に分散する。加えて、第２保護部４４ｂが下地面であるカラーフィルタ層２２に接して形成されているため、同様に外力が加わった場合には、位相差層４２の側面を覆う第２保護部４４ｂがあたかも衝立または柱のように支持部材として機能して応力に拮抗し、位相差層４２に加わる応力が位相差層４２の側面を覆う第２保護部４４ｂを介してカラーフィルタ層２２に拡散する。これらのことから、位相差層４２の変形を抑制すると共に、スペーサ５０によって基板間の離間距離を良好に制御することが可能となり、高品質な画像表示が可能な液晶表示装置１とすることができる。
【００６２】
また、本実施形態では、液晶表示装置が１画素内に反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを有する半透過半反射型の液晶表示装置であり、位相差層４２は、反射表示領域Ｒに平面的に重なって設けられており、保護層４４は、１画素内の反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界に位置する位相差層４２の側面以外の側壁部４２ｂを覆ってカラーフィルタ層２２と接して設けられている。この構成によれば、保護層４４が、反射表示領域Ｒの周囲を囲んでカラーフィルタ層２２と接するため、第２保護部４４ｂを広く形成して応力に拮抗する広面積の支持部材として用い、より強固に位相差層４２の変形を抑制することができる。
【００６３】
また、本実施形態では反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとを有する複数の画素Ｘがマトリクス状に配列し、画素の配列軸方向に画素Ｘの各々に設けられた反射表示領域Ｒが配列しており、位相差層４２及び保護層４４は、配列軸方向に複数の画素Ｘにまたがって帯状に延在していることとしている。加えて、保護層４４は、帯状に形成された位相差層４２の透過表示領域Ｔとは反対側の位相差層４２の側面を覆ってカラーフィルタ層２２に接しており、スペーサ５０は、隣接する画素領域の境界部に配置されている。位相差層４２及び保護層４４が連続して形成されるため、画素間に層厚差が生じる箇所がなくなり、画素間の領域にスペーサ５０を配置することが可能となる。すると、スペーサ５０が表示画像を遮る事がなく、また、このような形状の位相差層４２及び保護層４４はパターニングによる形成も容易である。そのため、設計自由度が増すとともに、製造が容易な液晶表示装置１とすることができる。
【００６４】
本発明においては、スペーサ５０は反射表示領域Ｒの中心を通って画素領域の配列方向と平行に延びる中心線よりも透過表示領域Ｔとは反対側に配置されていることとしている。スペーサ５０と第２保護部４４ｂとが近接した位置に配置されると、スペーサ５０と第２保護部４４ｂとが一体となって効率的に応力に拮抗し、液晶表示装置１の外部からの外力Ｆを効果的に支えることができる。
【００６５】
本実施形態では、位相差層４２は、素子基板１０と対向する面に平坦面４３を有し、スペーサ５０は平坦面４３と重なって配置されていることとしている。パターニング等の形成方法をもちいて位相差層４２を形成すると、位相差層４２の側面がテーパ形状となり厚みが一定しない場合があるが、平坦面４３にスペーサ５０を配置することで、確実な液晶層厚管理を実現することができる。
【００６６】
なお、本実施形態においては、保護層４４の形成材料としてエポキシ樹脂やアクリル樹脂と示したが、位相差層４２よりも高い硬度を示すならば他の形成材料を用いることとしても構わない。その場合には、用いる形成材料の硬度によって、位相差層４２の側壁部４２ｂを覆う第２保護部４４ｂの厚みを変化させ、硬度の低い材料を用いる場合には厚く形成することで、保護層４４の支持部材としての機能を確保することができる。
【００６７】
また、本実施形態においては、保護層４４とスペーサ５０とに同じ形成材料を用いること、つまり保護層４４とスペーサ５０とが同じ硬度であることとしたが、保護層４４の形成材料としてスペーサ５０よりも硬度の高い形成材料を用いることとしても構わない。例えば、スペーサ５０の形成材料にエポキシ樹脂やアクリル樹脂を用いる場合、保護層４４の形成材料として酸化ケイ素（ＳｉＯ2）や窒化ケイ素（ＳｉＮ）等の無機物を用いることで、保護層４４の硬度をスペーサ５０の硬度よりも高くすることができる。保護層４４の硬度がスペーサ５０の硬度よりも高いと、スペーサ５０が配置される箇所における保護層４４自体の陥没や変形が低く抑えられる。したがって、スペーサ５０が位相差層４２に陥没することをより確実に抑えることができるとともに、より一層位相差層４２の変形を低く抑えることができる。
【００６８】
また、本実施形態においては、位相差層４２には厚みが変化する側壁部４２ｂを備えることとしたが、位相差層４２が精度良く成形され、テーパ状に厚みが変化する側壁部４２ｂをもたない構成であっても構わない。その場合には、位相差層４２の側面を覆う保護層４４と平面的に重なってスペーサ５０を配置すると、一層確実に層厚管理が可能となる。
【００６９】
また、本実施形態においては、スペーサ５０を隣接する２つのサブ画素Ｐの間の領域に配置することとしたが、隣接する２つの画素の隅部近傍に配置するとより良い。図６は、スペーサの配置を説明するための平面図である。図ではスペーサ５０Ａを、サブ画素Ｐの隅部近傍であって、内面位相差部４０の延在方向に対して平行及び直交する方向でサブ画素Ｐと隣り合っていない位置に配置することとしている。このような位置は、マトリクス状に形成された画素間の領域の交点となっている。
【００７０】
符号５０Ｂ，５０Ｃで示すような位置にスペーサを配置する際には、内面位相差部４０の延在方向に対して平行及び直交する方向にややずれると、スペーサがサブ画素Ｐ上に配置されてしまう。しかし、交点付近に配置するスペーサ５０Ａは、水平方向または垂直方向にややずれたとしても、サブ画素Ｐ上に配置されない。したがって、多少のずれを許容するため、スペーサの配置が容易になり製造工程の効率化や簡素化が図れ、好適である。
【００７１】
（第２実施形態）
以下、図７〜図９を参照しながら、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置について説明する。第２実施形態に係る液晶表示装置は、第１実施形態に係る液晶表示装置に対して、保護層が反射表示領域と透過表示領域との境界に位置する位相差層の側面を含む側面を覆って下地面に接している点が異なっているが、その他の構成は同じである。第１実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付し重複する説明を省略する。
【００７２】
図７は、第２実施形態に係る液晶表示装置２の断面図である。図７に示すように、液晶表示装置２は、素子基板１０と、対向基板２０と、液晶層３０と、対向基板２０の液晶層３０側面に、反射表示領域Ｒと平面的に重なって形成された内面位相差部７０と、内面位相差部７０と素子基板１０との間に配置されたスペーサ５０と、を備えている。
【００７３】
内面位相差部７０は、位相差層４２と保護層７４とを含んで形成されている。保護層７４は、位相差層４２の表面を覆って形成されている。保護層７４は、非表示領域ＤＡに配置された位相差層４２の端部、及び反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界に配置された位相差層４２の端部を覆い、位相差層４２の下地面であるカラーフィルタ層２２の表面に接して形成されている。保護層７４は、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂等の位相差層４２よりも高い硬度を示す形成材料を用いて形成される。保護層７４の形成材料として、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）や窒化ケイ素（ＳｉＮ）等の無機物を用いても良い。
【００７４】
図８は、内面位相差部７０及びスペーサ５０の周辺を示す概略図である。図８（ａ）は斜視図、図８（ｂ）は断面図、図８（ｃ）は平面図を示す。図８では図を見やすくするために、図７とは上下を反転させて図示している。
【００７５】
図８（ａ）に示すように、内面位相差部７０はサブ画素Ｐが備える反射表示領域Ｒに重なり、隣接する画素Ｘにまたがって帯状に延在している。延在方向に垂直な方向の一端は、透過表示領域Ｔにおける反射表示領域Ｒとの境界近傍に位置しており、また、他端は画素間の領域である非表示領域ＤＡに平面的に重なっている。
【００７６】
内面位相差部７０が備える保護層７４は、内面位相差部７０の延在方向に、反射表示領域Ｒに重なり隣接する画素Ｘにまたがって帯状に延在している。保護層７４は、位相差層４２の上部、非表示領域ＤＡに面する側部、及び透過表示領域Ｔに面する側部を覆っており、非表示領域ＤＡ及び透過表示領域Ｔにおいてカラーフィルタ層２２に接する位相差層４２の端部に沿って、カラーフィルタ層２２に接して形成されている。
【００７７】
図８（ｂ）に示すように、保護層７４は、位相差層４２の平坦部４２ａを覆って形成される第１保護部７４ａと、非表示領域ＤＡ側の側壁部４２ｂ及び透過表示領域Ｔ側の側壁部４２ｂを覆ってカラーフィルタ層２２に当接する第２保護部７４ｂと、で構成されている。図８（ｃ）に示すように、保護層７４の透過表示領域Ｔ側の端部は、透過表示領域Ｔに平面的に重なっている。
【００７８】
続いて、図９を用いて第２実施形態の効果について説明する。図９は第２実施形態の効果について説明する説明図であり、内面位相差部７０及びスペーサ５０の周辺を示す液晶表示装置の概略断面図であり、図７に対応する視界方向の断面図である。
【００７９】
図９（ａ）に示すように、保護層７４は、対向基板２０に接する第２保護部７４ｂを透過表示領域Ｔ側にも有している。したがって、液晶表示装置外部から外力Ｆが加わる場合、スペーサ５０及び保護層７４を介して位相差層４２に伝わる応力を、位相差層４２の側壁部を覆う第２保護部７４ｂが両側で衝立のように支えるので、第１実施形態よりもさらに位相差層４２の変形を低く抑えることができる。
【００８０】
また、第２保護部７４ｂが位相差層４２の側壁部の両側を支持するので、例えば、図９（ｂ）に示すように、スペーサ５０が透過表示領域Ｔ側に配置された場合でも、図９（ａ）に示す場合と同等に位相差層４２の変形を低く抑えることができる。
【００８１】
以上のような構成の液晶表示装置２によれば、保護層７４は、１画素内の位相差層４２のすべての側面の側壁部４２ｂを覆ってカラーフィルタ層２２と接して設けられている。この構成によれば、保護層７４の第２保護部７４ｂが透過表示領域Ｔ側でもカラーフィルタ層２２と接するため、より一層位相差層４２の変形を低く抑えることができるとともに、スペーサ５０が配置される位置の制約が緩和される。
【００８２】
なお、保護層７４のうちカラーフィルタ層２２に接する第２保護部７４ｂが透過表示領域Ｔにも位置しているが、この保護層７４がカラーフィルタ層２２に接する部分に平面的に重なる位置に遮光膜を設ける構成としても構わない。このような構成にすれば、透過表示領域Ｔで保護層７４がカラーフィルタ層２２に接する部分で光漏れが生じても、遮光膜で遮光できるので、遮光膜を設けない場合に比べて表示画像のコントラストを向上することができる。
【００８３】
（第３実施形態）
以下、図１０を参照しながら、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置について説明する。第３実施形態に係る液晶表示装置は、第２実施形態に係る液晶表示装置に対して、保護層が透過表示領域と反射表示領域とで液晶層の層厚を調整するための液晶層厚調整層として機能する点が異なっているが、その他の構成は同じである。第２実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付し重複する説明を省略する。
【００８４】
図１０は、第３実施形態に係る液晶表示装置３の断面図である。図１０に示すように、液晶表示装置３は、素子基板１０と、対向基板２０と、液晶層３０と、対向基板２０の液晶層３０側面に、反射表示領域Ｒと平面的に重なって形成された内面位相差部８０と、内面位相差部８０と素子基板１０との間に配置されたスペーサ５０と、を備えている。
【００８５】
内面位相差部８０は、位相差層４２と保護層８４とを含んで形成されている。保護層８４は、位相差層４２の表面を覆って形成されている。保護層８４は、非表示領域ＤＡに配置された位相差層４２の端部、及び反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界に配置された位相差層４２の端部を覆い、位相差層４２の下地面であるカラーフィルタ層２２の表面に接して形成されている。
【００８６】
保護層８４は、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂等の位相差層４２よりも高い硬度を示す形成材料を用いて形成される。保護層８４の形成材料として、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）や窒化ケイ素（ＳｉＮ）等の無機物を用いても良い。また、保護層８４は、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）や窒化ケイ素（ＳｉＮ）等の無機物で形成された層に、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等で形成された層が積層された構成を有していても良い。
【００８７】
内面位相差部８０は、上記実施形態と同様に反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚Ｌ２を透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１よりも薄くすることに加えて、反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚Ｌ２と透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１とが所定の厚みになるように調整する機能を有している。
【００８８】
半透過反射型の液晶表示装置では、反射表示領域Ｒへの入射光は液晶層３０を２回透過するが、透過表示領域Ｔへの入射光は液晶層３０を１回しか透過しない。そのため、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの双方において高輝度の画像表示を得るには、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの各々で液晶層３０を透過する光に付与される位相差を最適化して光透過率に差異を生じないようにすることが求められる。
【００８９】
液晶層３０を透過する光に付与される位相差を反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの各々で最適化するためには、反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚Ｌ２と透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１とを所定の厚みとすることが望ましい。例えば、反射表示領域Ｒにおいて液晶層３０を透過する光に付与される位相差をλ／４波長とし、透過表示領域Ｔにおいて液晶層３０を透過する光に付与される位相差をλ／２波長とする場合、透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１は反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚Ｌ２の略２倍に設定される。
【００９０】
反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚Ｌ２は、スペーサ５０の高さで制御される。一方、透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１は、スペーサ５０の高さ（Ｌ２）と内面位相差部８０の厚み、すなわち位相差層４２の厚みＭ及び保護層８４の厚みＮとで制御される。したがって、透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１を所定の厚みとするためには、内面位相差部８０の厚み（Ｍ＋Ｎ）を精度良く形成することが望ましい。
【００９１】
ここで、位相差層４２は透過する光にλ／２波長の位相差を付与するように形成される。この位相差層４２と反射表示領域Ｒにおける液晶層３０により、反射表示領域Ｒにおいて透過する光に付与される位相差を反射表示に最適な広帯域のλ／４波長とすることができる。しかしながら、位相差層４２の厚みＭは位相差層４２の形成材料が有する屈折率異方性により左右されるため、位相差層４２の厚みＭを任意の厚みに形成することは困難である。
【００９２】
そこで、本実施形態では、内面位相差部８０のうち保護層８４が実質的に液晶層３０の層厚を調整する役割を果たす構成としている。保護層８４は、位相差層４２よりも容易に厚みＮを調整して形成することができる。したがって、内面位相差部８０の厚み（Ｍ＋Ｎ）が所定の厚みになるように保護層８４の厚みＮを適宜設定することで、反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚Ｌ２と透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１とを所定の厚みに調整できる。例えば、透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１を反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚Ｌ２の略２倍とする場合、保護層８４の厚みＮはスペーサ５０の高さ（Ｌ２）と位相差層４２の厚みＭとの差分に相当する厚みに設定される。なお、ここでは、配向膜１８及び配向膜２８の厚みは無視するものとする。
【００９３】
この構成によれば、内面位相差部８０において、反射表示領域Ｒにおける液晶層３０の層厚Ｌ２と透過表示領域Ｔにおける液晶層３０の層厚Ｌ１とが実質的に保護層８４により調整され、透過する光に付与される位相差が位相差層４２により設定される。つまり、内面位相差部８０の厚みと位相差とを各々独立に制御することができる。このため、液晶層３０の層厚管理をより正確かつ容易に行うことができるとともに、位相差層４２の光学設計をより精密に行うことができる。
【００９４】
なお、本実施形態においては、第２実施形態と同様に保護層８４が反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界に位置する位相差層４２の側面を含む側面を覆ってカラーフィルタ層２２の表面に接していることとしたが、第１実施形態と同様に保護層８４が反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界に位置する位相差層４２の側面以外の側面を覆ってカラーフィルタ層２２の表面に接する構成であっても構わない。このような構成であっても、本実施形態と同様の効果が得られる。
【００９５】
（変形例）
上記実施形態においては、内面位相差部４０，７０，８０は、帯状に形成した位相差層４２と帯状に形成した保護層４４，７４，８４とが複数の画素にまたがって形成されることとしたが、これに限らない。図１１は第１実施形態における内面位相差部４０の変形例を示す概略平面図であり、図３（ｃ）に対応する図である。
【００９６】
図１１（ａ）の内面位相差部４０は、画素Ｘ毎に位相差層４２を設け、画素毎に位相差層４２の周囲を囲んで下地面と接する保護層４４を備えている。このようにすると、外力が加わった場合に応力に拮抗する保護層４４が増えるため、位相差層４２の変形を防ぎ、確実な液晶層厚管理をすることができる。
【００９７】
図１１（ｂ）は、図１１（ａ）の構成を更にサブ画素Ｐ毎にまで細分化したものである。サブ画素Ｐごとに位相差層４２が設けられ、サブ画素毎に位相差層４２の周囲を囲んで下地面と接する保護層４４を備えている。このような構成では、より強固に位相差層４２の変形を防ぎ、確実な液晶層厚管理をすることができる。
【００９８】
図１１（ｃ）は、図１１（ｂ）と同様に位相差層４２をサブ画素Ｐ毎に配置し、複数の位相差層４２を覆う帯状の保護層４４を形成したものである。隣接する位相差層４２の間では保護層４４が下地面に接して形成されている。このような構成では、図１１（ｂ）と同様の効果を得られるが、保護層４４の微細なパターニングが不要となり製造が容易となる。
【００９９】
図１１に示すような内面位相差部４０の構成だと、内面位相差部４０の形状に起因して、内面位相差部４０の厚み差が生じる箇所が増え、非表示領域においてスペーサ５０の配置に適した平坦な箇所が減少する。その場合、画像表示を行う領域にスペーサを配置し、必要に応じて遮光膜で遮光することで画質への影響を小さく留めたうえで、液晶層厚を確実に制御することができる。
【０１００】
また、図１２は第２実施形態及び第３実施形態において、上記と同様に内面位相差部７０，８０の変形例を適用した場合を示す概略平面図であり、図８（ｃ）に対応する図である。また、図１２（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す構成は、それぞれ図１１（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す構成に対応している。第２実施形態及び第３実施形態に上記変形例を適用した場合も、第１実施形態に上記変形例を適用した場合と同様の効果が得られる。
【０１０１】
［電子機器］
次に、本発明の電子機器の実施形態について説明する。図１３は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。図１３に示す携帯電話１３００は、本発明の液晶表示装置を小サイズの表示部１３０１として備え、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。これにより、本発明の液晶表示装置により構成された表示品質に優れる表示部を具備した携帯電話１３００を提供することができる。
【０１０２】
上記各実施の形態の液晶表示装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、かかる構成とすることで、表示品質が高く、信頼性に優れた表示部を備えた電子機器を提供できる。
【０１０３】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】第１実施形態の液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】第１実施形態の液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図３】第１実施形態の液晶表示装置に係る特徴部分の構成を示す概略図である。
【図４】第１実施形態の効果を説明する説明図である。
【図５】スペーサの形成箇所について説明する概略断面図である。
【図６】スペーサの配置を説明するための平面図である。
【図７】第２実施形態の液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図８】第２実施形態の液晶表示装置に係る特徴部分の構成を示す概略図である。
【図９】第２実施形態の効果を説明する説明図である。
【図１０】第３実施形態の液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１１】内面位相差部の変形例を示す概略平面図である。
【図１２】内面位相差部の変形例を示す概略平面図である。
【図１３】本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１０５】
１，２，３…液晶表示装置、１０…素子基板（第１基板）、２０…対向基板（第２基板）、２２…カラーフィルタ層（下地面）、３０…液晶層、４２…位相差層、４２ａ…平坦部、４２ｂ…側壁部、４３…平坦面、４４，７４，８４…保護層、４４ａ，７４ａ…第１保護部、４４ｂ，７４ｂ…第２保護部、５０…スペーサ、１３００…携帯電話（電子機器）、Ｒ…反射表示領域、Ｔ…透過表示領域、Ｘ…画素。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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