(57)【要約】【課題】処理対象物のサイズが比較的小さい場合でも保持テーブルに保持された処理対象物において隣接する２辺周辺の各処理対象箇所に対する処理を適切に行える処理技術を提供する。【解決手段】組立システム(処理システム)では、ステージ(テーブル)４１上に保持された組立途中品(処理対象物)９における第１辺Ｌ１の処理対象箇所Ｅ１を処理ユニット３２にセットし、この処理対象箇所Ｅ１への処理を実行する。次に、ステージ４１の移動および回動により組立途中品９における第２辺Ｌ２の処理対象箇所Ｅ２を処理ユニット３２にセットし、この処理対象箇所Ｅ２への処理を実行する。ここでは、ステージ４１の回転軸Ｒｏに対して組立途中品９の中心Ｃｏが第１辺Ｌ１および第２辺Ｌ２の各法線方向外向きにずれるようにステージ４１上に保持されている。これにより、組立途中品９が比較的小さい場合でも各処理対象箇所Ｅ１、Ｅ２に対する処理を適切に行える。【選択図】図４
2009109797.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面視で略四辺形の形状を持った処理対象物の保持が可能な保持テーブルを備えた処理システムであって、
(a)前記処理対象物の四辺で隣接する第１辺および第２辺の周辺における各処理対象箇所に対して所定の処理を順次に実行可能な処理部と、
(b)前記処理対象物を前記保持テーブルに保持させる保持手段と、
(c)所定の回転軸を中心として前記保持テーブルを回動させる回動手段と、
(d)前記処理部に対して前記保持テーブルを相対的に移動させる移動手段と、
(e)前記保持手段によって前記処理対象物が保持された保持テーブルを前記移動手段により前記処理部に接近させ前記第１辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第１辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第１処理制御手段と、
(f)前記第１処理制御手段による前記所定の処理が終了した後に、前記移動手段および前記回動手段を用いた前記保持テーブルの移動および回動により前記第２辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第２辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第２処理制御手段と、
を備え、
前記保持手段では、前記所定の回転軸に対して前記処理対象物の中心を前記第１辺の法線方向外向きおよび前記第２辺の法線方向外向きにずらすことで、前記第１辺に係る処理対象箇所および前記第２辺に係る処理対象箇所が前記保持テーブルからはみ出すように前記処理対象物を前記保持テーブルに保持させることを特徴とする処理システム。
【請求項２】
平面視で略四辺形の形状を持った処理対象物の保持が可能な保持テーブルを備えた複数の処理装置を有する処理システムであって、
前記複数の処理装置それぞれは、
(a)前記処理対象物の四辺で隣接する第１辺および第２辺の周辺における各処理対象箇所に対して所定の処理を順次に実行可能な処理部と、
(b)前記処理対象物を前記保持テーブルに保持させる保持手段と、
(c)所定の回転軸を中心として前記保持テーブルを回動させる回動手段と、
(d)前記処理部に対して前記保持テーブルを相対的に移動させる移動手段と、
(e)前記保持手段によって前記処理対象物が保持された保持テーブルを前記移動手段により前記処理部に接近させ前記第１辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第１辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第１処理制御手段と、
(f)前記第１処理制御手段による前記所定の処理が終了した後に、前記移動手段および前記回動手段を用いた前記保持テーブルの移動および回動により前記第２辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第２辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第２処理制御手段と、
を備えるとともに、
前記複数の処理装置における処理装置間での前記処理対象物の授受は、前記処理対象物の載置が可能な載置台を介して行われ、
前記保持手段では、前記所定の回転軸に対して前記処理対象物の中心を前記第１辺の法線方向外向きおよび前記第２辺の法線方向外向きにずらすことで、前記第１辺に係る処理対象箇所および前記第２辺に係る処理対象箇所が前記保持テーブルからはみ出すように前記処理対象物を前記保持テーブルに保持させることを特徴とする処理システム。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の処理システムにおいて、
前記保持テーブルの中心は、前記所定の回転軸に対して前記第１辺の法線方向外向きおよび前記第２辺の法線方向外向きにずれていることを特徴とする処理システム。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の処理システムにおいて、
前記保持テーブルは、平面視でＬ字状の形状を有していることを特徴とする処理システム。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載の処理システムにおいて、
前記保持テーブルは、平面視で平行四辺形状の形状を有していることを特徴とする処理システム。
【請求項６】
請求項１または請求項２に記載の処理システムにおいて、
前記保持テーブルは、平面視で台形状の形状を有していることを特徴とする処理システム。
【請求項７】
請求項１または請求項２に記載の処理システムにおいて、
前記保持テーブルは、平面視でＴ字状の形状を有していることを特徴とする処理システム。
【請求項８】
請求項１または請求項２に記載の処理システムにおいて、
前記保持テーブルは、平面視で十字状の形状を有していることを特徴とする処理システム。
【請求項９】
請求項２に記載の処理システムにおいて、
前記載置台は、平面視でＬ字状の形状を有していることを特徴とする処理システム。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の処理システムにおいて、
前記処理対象物は、表示パネルを有していることを特徴とする処理システム。
【請求項１１】
平面視で略四辺形の形状を持った処理対象物の保持が可能な保持テーブルと、前記処理対象物の四辺で隣接する第１辺および第２辺の周辺における各処理対象箇所に対して所定の処理を順次に実行可能な処理部とを備えた処理装置を用いて、前記処理対象物に対する処理を行う処理方法であって、
(a)前記処理対象物を前記保持テーブルに保持する保持工程と、
(b)前記処理部に対して前記保持テーブルを相対的に移動させる移動手段を用いて、前記保持工程により前記処理対象物が保持された保持テーブルを前記処理部に接近させ前記第１辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第１辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第１処理制御工程と、
(c)前記第１処理制御工程における前記所定の処理が終了した後に、所定の回転軸を中心として前記保持テーブルを回動させる回動手段および前記移動手段を用いた前記保持テーブルの移動および回動により前記第２辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第２辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第２処理制御工程と、
を備え、
前記保持工程では、前記所定の回転軸に対して前記処理対象物の中心を前記第１辺の法線方向外向きおよび前記第２辺の法線方向外向きにずらすことで、前記第１辺に係る処理対象箇所および前記第２辺に係る処理対象箇所が前記保持テーブルからはみ出すように前記処理対象物を前記保持テーブルに保持することを特徴とする処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理対象物の保持が可能な保持テーブルを用い処理対象物に対して所定の処理を行う処理技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルなどの表示パネルを備えた矩形状の表示装置を組み立てる際には、組立途中の表示装置(組立途中品)において隣接する２辺の周辺に配置された端子群からなる各処理対象箇所に、液晶駆動用ＩＣが搭載された電子部品等を実装する処理工程がある（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
このような処理工程においては、例えば組立途中品の中心がステージ(テーブル)の回転軸に合致するように保持されたステージの回動(および移動)により、電子部品の実装などを行う処理部に上記２辺の各処理対象箇所を順次にセットできるようになっている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−９８９８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述のように回動可能なステージで組立途中品(処理対象物)を保持しつつ各処理対象箇所を処理部にセットするのでは、ステージ程度以下の大きさの組立途中品に対する処理が難しい。すなわち、組立途中品の中心をステージの回転軸に合わせたのでは組立途中品のサイズが小さくなると、ステージの外周より内側に処理対象箇所が配置されてしまう。このような状態において組立途中品の各処理対象箇所を処理部にセットしようとすれば、ステージ等が処理部(の側面)に衝突することとなって各処理対象箇所への処理を適切に行えない。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、処理対象物のサイズが比較的小さい場合でも保持テーブルに保持された処理対象物において隣接する２辺周辺の各処理対象箇所に対する処理を適切に行える処理技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の局面に係る処理システムは、平面視で略四辺形の形状を持った処理対象物の保持が可能な保持テーブルを備えた処理システムであって、(a)前記処理対象物の四辺で隣接する第１辺および第２辺の周辺における各処理対象箇所に対して所定の処理を順次に実行可能な処理部と、(b)前記処理対象物を前記保持テーブルに保持させる保持手段と、(c)所定の回転軸を中心として前記保持テーブルを回動させる回動手段と、(d)前記処理部に対して前記保持テーブルを相対的に移動させる移動手段と、(e)前記保持手段によって前記処理対象物が保持された保持テーブルを前記移動手段により前記処理部に接近させ前記第１辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第１辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第１処理制御手段と、(f)前記第１処理制御手段による前記所定の処理が終了した後に、前記移動手段および前記回動手段を用いた前記保持テーブルの移動および回動により前記第２辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第２辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第２処理制御手段とを備え、前記保持手段では、前記所定の回転軸に対して前記処理対象物の中心を前記第１辺の法線方向外向きおよび前記第２辺の法線方向外向きにずらすことで、前記第１辺に係る処理対象箇所および前記第２辺に係る処理対象箇所が前記保持テーブルからはみ出すように前記処理対象物を前記保持テーブルに保持させることを特徴とする。
【０００８】
本発明の第２の局面に係る処理システムは、平面視で略四辺形の形状を持った処理対象物の保持が可能な保持テーブルを備えた複数の処理装置を有する処理システムであって、前記複数の処理装置それぞれは、(a)前記処理対象物の四辺で隣接する第１辺および第２辺の周辺における各処理対象箇所に対して所定の処理を順次に実行可能な処理部と、(b)前記処理対象物を前記保持テーブルに保持させる保持手段と、(c)所定の回転軸を中心として前記保持テーブルを回動させる回動手段と、(d)前記処理部に対して前記保持テーブルを相対的に移動させる移動手段と、(e)前記保持手段によって前記処理対象物が保持された保持テーブルを前記移動手段により前記処理部に接近させ前記第１辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第１辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第１処理制御手段と、(f)前記第１処理制御手段による前記所定の処理が終了した後に、前記移動手段および前記回動手段を用いた前記保持テーブルの移動および回動により前記第２辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第２辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第２処理制御手段とを備えるとともに、前記複数の処理装置における処理装置間での前記処理対象物の授受は、前記処理対象物の載置が可能な載置台を介して行われ、前記保持手段では、前記所定の回転軸に対して前記処理対象物の中心を前記第１辺の法線方向外向きおよび前記第２辺の法線方向外向きにずらすことで、前記第１辺に係る処理対象箇所および前記第２辺に係る処理対象箇所が前記保持テーブルからはみ出すように前記処理対象物を前記保持テーブルに保持させることを特徴とする。
【０００９】
本発明の第３の局面に係る処理方法は、平面視で略四辺形の形状を持った処理対象物の保持が可能な保持テーブルと、前記処理対象物の四辺で隣接する第１辺および第２辺の周辺における各処理対象箇所に対して所定の処理を順次に実行可能な処理部とを備えた処理装置を用いて、前記処理対象物に対する処理を行う処理方法であって、(a)前記処理対象物を前記保持テーブルに保持する保持工程と、(b)前記処理部に対して前記保持テーブルを相対的に移動させる移動手段を用いて、前記保持工程により前記処理対象物が保持された保持テーブルを前記処理部に接近させ前記第１辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第１辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第１処理制御工程と、(c)前記第１処理制御工程における前記所定の処理が終了した後に、所定の回転軸を中心として前記保持テーブルを回動させる回動手段および前記移動手段を用いた前記保持テーブルの移動および回動により前記第２辺に係る処理対象箇所を前記処理部にセットするとともに、前記処理部にセットされた前記第２辺に係る処理対象箇所に対して前記所定の処理を実行する第２処理制御工程とを備え、前記保持工程では、前記所定の回転軸に対して前記処理対象物の中心を前記第１辺の法線方向外向きおよび前記第２辺の法線方向外向きにずらすことで、前記第１辺に係る処理対象箇所および前記第２辺に係る処理対象箇所が前記保持テーブルからはみ出すように前記処理対象物を前記保持テーブルに保持することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、処理対象物が保持された保持テーブルを処理部に接近させ処理対象物の第１辺に係る処理対象箇所を処理部にセットするとともに処理部にセットされた第１辺に係る処理対象箇所に対して所定の処理を実行する。次に、この所定の処理が終了した後に、保持テーブルの移動および回動により処理対象物の第２辺に係る処理対象箇所を処理部にセットするとともに処理部にセットされた第２辺に係る処理対象箇所に対して所定の処理を実行する。ここで、保持テーブルでの処理対象物の保持については、保持テーブルの回動に関する回転軸に対して処理対象物の中心を第１辺の法線方向外向きおよび第２辺の法線方向外向きにずらすことで、第１辺に係る処理対象箇所および第２辺に係る処理対象箇所が保持テーブルからはみ出すように処理対象物を保持テーブルに保持させる。その結果、処理対象物のサイズが比較的小さい場合でも上記の各処理対象箇所に対する処理を適切に行える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
＜実施の形態１＞
＜組立システムの構成＞
図１は、本発明の実施の形態１に係る組立システム１Ａの要部構成を示す図である。ここで、図１(ａ)は、組立システム１Ａの平面図を示し、図１(ｂ)は、組立システム１Ａの側面図を示している。
【００１２】
組立システム(処理システム)１Ａは、液晶表示装置の組み立てを行うための５つの組立装置(処理装置)２ａ〜２ｅを備えている。各組立装置２ａ〜２ｅには、以下で説明する液晶表示装置の組立工程を順次に実行可能な処理部３０(３ａ〜３ｅ)が設けられている。
【００１３】
図２および図３は、液晶表示装置の組立工程を説明するための図である。ここで、図２および図３(ａ)は、液晶表示装置の組み立てに関して組立途中の状態にある部品群（以下では「組立途中品」ともいう）９(９ａ、９ｂ)の上面図を示しており、図３(ｂ)は、図３(ａ)の組立途中品９ｂの右側面図を示している。これらの組立途中品９ａ、９ｂは、平面視で略直角四辺形の形状を持った処理対象物として構成されている。
【００１４】
組立システム１Ａには、図２に示す液晶表示装置の組立途中品９ａが供給される。この組立途中品９ａは、２枚のガラス基板の間に液晶を挟んだ液晶パネル９０と、組立システム１Ａで実装される電子部品等との電気的な接続を行うための複数の接続端子９１とを備えている。
【００１５】
このような組立途中品９ａが供給された組立システム１Ａでは、まず接続端子９１に対するクリーニングが実施される。そして、クリーニングされた接続端子９１に対しては、図３に示すようにゲート用の液晶駆動用ＩＣなどで構成される電子部品９２と、ソース用の液晶駆動用ＩＣが搭載されたＴＡＢ(Tape Automated Bonding)などの電子部品９３とが実装される。その後に、電子部品９３に回路基板９４が実装されることで、図３に示す組立途中品９ｂが組み上げられて組立システム１Ａから取り出されることとなる。
【００１６】
上述した電子部品９２、９３等の実装では、図３(ｂ)のように異方性導電部材９５を用いて電気的な接続を確実に行うようにする。具体的には、異方性導電部材９５を接続端子９１(図２)の上面に貼り付けておき、熱圧着することで電気的な接続を確保する。
【００１７】
以上のような液晶表示装置の組み立てに関しては、各組立装置２ａ〜２ｅに作業分担させている。具体的には、組立装置２ａの処理部３ａにおいて組立途中品９ａ(図２)の接続端子９１をクリーニングする作業を行い、組立装置２ｂの処理部３ｂにおいて組立途中品９ａの接続端子９１の上面に異方性導電部材９５を貼り付ける作業を行う。また、組立装置２ｃの処理部３ｃにおいて異方性導電部材９５上に電子部品９２、９３を搭載する作業を行い、その電子部品９２、９３を熱圧着して実装する作業を組立装置２ｄの処理部３ｄで行う。そして、組立装置２ｅの処理部３ｅにおいて回路基板９４を実装する作業を行うことにより、図３に示す組立途中品９ｂが組み上がることとなる。
【００１８】
より詳細には、各組立装置２ａ〜２ｅの処理部３０は、その形態が処理部３０の作業内容に応じて異なっている上側処理ユニット３１(図４(ｂ)参照)と、上側処理ユニット３１の形態に応じて上側処理ユニット３１や組立途中品９を支える受け部としての下側処理ユニット３２とを有している。具体的には、処理部３ａの上側処理ユニット３１は、ワイパ材を把持したクリーニングユニットとして構成され、処理部３ｂの上側処理ユニット３１は、異方性導電部材９５の貼り付けユニットとして構成されている。また、処理部３ｃおよび処理部３ｄの上側処理ユニット３１は、電子部品９３等の搭載ユニットおよび圧着ユニットとして構成されるとともに、処理部３ｅの上側処理ユニット３１は、回路基板９４の圧着ユニットとして構成されている。以上のような上側処理ユニット３１と下側処理ユニット３２との間に、組立途中品９が挟まれることで各処理部３ａ〜３ｅによる作業が行われることとなる。
【００１９】
また、組立システム１Ａは、各組立装置２ａ〜２ｅにおいて組立途中品９を保持し搬送する搬送部４を備えている。この搬送部４は、組立途中品９を載置して保持可能なテーブル(保持テーブル)として構成される矩形板状のステージ４１と、ステージ４１を支持する架台４２とを有しており、架台４２に設けられたモータなどのアクチュエータによってステージ４１の中央を通る回転軸Ｒｏを中心としたステージ４１の回転(回動)やステージ４１の昇降が可能となっている。また、架台４２自体は、例えばモータ駆動によりＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って移動できる構成となっており、これにより処理部３０に対してステージ４１をＸ・Ｙ方向に相対的に並進移動させることが可能となる。
【００２０】
組立システム１Ａは、各処理部３０での処理が完了した組立途中品９を次の処理部３０に引き渡すために組立途中品９の仮置きが可能な中間載置台５を備えている。この中間載置台５は、平面視でＬ字状の形状を有している。そして、例えば各組立装置２ａ〜２ｄで処理が完了した組立途中品９を搬送部４を用いて中間載置台５上の位置Ｐａに載置するとともに、中間載置台５に載置された組立途中品９を組立装置２ｂ〜２ｅの搬送部４によって保持するようにすれば、各組立装置２ａ〜２ｄから各組立装置２ｂ〜２ｅに組立途中品９を引き渡すことが可能となる。換言すれば、隣接した各組立装置２ａ〜２ｅ間での組立途中品９の授受は、組立途中品９の載置が可能な中間載置台５を介して行われる。
【００２１】
また、組立システム１Ａは、例えばＣＰＵおよびメモリを有して各組立装置２ａ〜２ｅを統括的に制御する制御装置６を備えている。この制御装置６により、後述するステージ４１への組立途中品９の位置決め制御が行われる。
【００２２】
以上のような構成を有する組立システム１Ａの処理部３０では、組立途中品９の外周を構成する四辺のうち隣接する第１辺Ｌ１および第２辺Ｌ２(図２)の周辺において接続端子９１の配列された領域(以下では「処理対象領域」ともいう)Ｅ１、Ｅ２(図２)それぞれに対してクリーニングや電子部品９２、９３の実装を順次に実行することとなるが、この組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理について以下で詳しく説明する。
【００２３】
＜組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理について＞
図４は、組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理を説明するための図である。ここで、図４(ａ)および図４(ｃ)は、組立途中品９を保持した搬送部４を上方から見た図を示しており、図４(ｂ)および図４(ｄ)は、図４(ａ)および図４(ｃ)に表される組立途中品９および搬送部４を側方から見た図を示している。
【００２４】
各組立装置２ａ〜２ｅでは、図４(ａ)に示すようにステージ４１の回転軸Ｒｏに対して組立途中品９の中心Ｃｏを斜め方向のベクトルＢｋに従ってずらすように保持されている。具体的には、ステージ４１の回転軸Ｒｏに対して組立途中品９の中心Ｃｏを、ステージ４１が並進移動される２方向（Ｘ軸方向およびＹ軸方向）、換言すれば組立途中品９における第１辺Ｌ１の法線方向外向きおよび第２辺Ｌ２の法線方向外向きの２方向にずらすことで、処理対象領域Ｅ１および処理対象領域Ｅ２がステージ４１からはみ出すように組立途中品９のステージ４１上での保持が図られている。このようなステージ４１に対する組立途中品９の位置決め制御(保持制御)については、例えば組立途中品９のサイズおよび処理対象領域(処理対象箇所)Ｅ１、Ｅ２の位置やステージ４１の大きさのデータが予め入力された制御装置６で位置決めに用いるベクトルＢｋ(図４(ａ))が求められ、左隣の中間載置台５(図１)に載置された組立途中品９を搬送部４を用いて各組立装置２ｂ〜２ｄで受け取る際に自動的に実行される。なお、左端の組立装置２ａにおける組立途中品９の位置決め制御は、例えば左隣に中間載置台５と同様の載置台を設けるようにすれば、各組立装置２ｂ〜２ｄと同様に搬送部４を用いた制御装置６による自動制御が可能となる。
【００２５】
以上のようなステージ４１に対する組立途中品９の位置決めにより、各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理をスムーズに行えることとなる。
【００２６】
すなわち、架台４２を(＋Ｙ)方向に前進させることにより組立途中品９を保持したステージ４１を処理部３０に接近させ、図４(ｂ)のようにステージ４１と下側処理ユニット３２との間隔Ｇａを確保しつつ組立途中品９の処理対象領域Ｅ１を処理部３０に適切にセットできる。これにより、処理対象領域Ｅ１に対しての処理(クリーニングや電子部品の実装)が可能となる。
【００２７】
一方、組立途中品９の処理対象領域Ｅ１に対しての処理が終了した後には、架台４２を後退させるとともにステージ４１を時計回りに９０度回転させることによって組立途中品９の処理対象領域Ｅ２を処理部３０に振り向けてから架台４２を前進させることで、図４(ｄ)のようにステージ４１が下側処理ユニット３２に接触することなく一定の間隔Ｇｂを確保しつつ組立途中品９の処理対象領域Ｅ２を処理部３０に適切にセットできる。これにより、処理対象領域Ｅ２に対しての処理が可能となる。
【００２８】
そして、組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理が完了すると、その組立途中品９が次の処理を実行する右隣の組立装置に引き渡されるためにＬ字形状の中間載置台５に載置される。この際には、図５に示す位置Ｐａに組立途中品９が配置されように搬送部４を中間載置台５に接近させて中間載置台５の端部のＬ字状領域Ｆ０(平行斜線部)で組立途中品９が保持されることとなる。このようなＬ字状の中間載置台５により、矩形状のステージ４１に保持された組立途中品９に関する組立装置間での授受を適切に行える。
【００２９】
以上のように組立システム１Ａでは、ステージ４１の回転軸Ｒｏに対してＸ方向およびＹ方向に組立途中品９の中心Ｃｏをずらせた位置決め制御が行われるため、組立途中品９のサイズが比較的小さい場合でも、組立途中品９の２辺に沿った各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理を適切に行えることとなる。
【００３０】
なお、組立システム１Ａにおいては、ステージ４１の中心を通る回転軸Ｒｏを備えた搬送部４を採用するのは必須でなく、図６(ａ)に示すようにステージ４１の中心Ｃｐを通らない回転軸Ｒｏを備えた搬送部４Ａを採用しても良い。このような搬送部４Ａを用いた組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理を、以下で説明する。
【００３１】
図６は、図４に対応しており、搬送部４Ａを用いた組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理を説明するための図である。
【００３２】
搬送部４Ａは、図４(ａ)に示す搬送部４に対してステージ４１の中心Ｃｐが、組立途中品９の中心Ｃｏに向かう方向、つまり図６(ａ)のベクトルＢｊの方向にずらされている。具体的には、架台４２の回転軸Ｒｏに対してステージ４１の中心Ｃｐが、ステージ４１を並進移動させる２方向（Ｘ軸方向およびＹ軸方向）、換言すれば組立途中品９における第１辺Ｌ１および第２辺Ｌ２の各法線方向外向きにずらされている。
【００３３】
このような構成の搬送部４Ａにより、上述した搬送部４と同様に組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理をスムーズに行えることとなる。
【００３４】
すなわち、架台４２を前進させることにより組立途中品９が保持されたステージ４１を処理部３０に接近させ、図６(ｂ)のようにステージ４１と下側処理ユニット３２との間隔Ｇｃを確保しつつ組立途中品９の処理対象領域Ｅ１を処理部３０に適切にセットできる。これにより、処理対象領域Ｅ１に対してクリーニングや電子部品の実装が可能となる。
【００３５】
一方、組立途中品９の処理対象領域Ｅ１に対しての処理が終了した後には、架台４２を後退させるとともにステージ４１を時計回りに９０度回転させることによって組立途中品９の処理対象領域Ｅ２を処理部３０に振り向けてから架台４２を前進させることで、図６(ｄ)のように間隔Ｇｄを確保しつつ組立途中品９の処理対象領域Ｅ２を処理部３０に適切にセットできる。これにより、処理対象領域Ｅ２に対しての処理が可能となる。
【００３６】
以上のようにステージ４１の中心Ｃｐが架台４２の回転軸Ｒｏに対してずれていることにより、上述した搬送部４に比べてステージ４１の小型化が可能となる。すなわち、搬送部４のように架台４２の回転軸Ｒｏがステージ４１の中心を通る場合には、組立途中品９のサイズ低下に伴ってステージ４１を小型化しようとすると、ステージ４１の大きさが架台４２の外形(外周)より小さくなる場合がある。このような場合に、処理対象領域Ｅ１、Ｅ２を処理部３０にセットしようとするとステージ４１より先に架台４２が下側処理ユニット３２に衝突することとなり、架台４２の大きさによる組立途中品９のサイズの制約が生じることとなる。一方、このような制約は、ステージ４１の中心Ｃｐが架台４２の回転軸Ｒｏに対してずれている搬送部４Ａでは発生しないため、組立途中品９のサイズ低下に応じたステージ４１の小型化も可能となる。
【００３７】
＜実施の形態２＞
＜組立システムの構成＞
図７は、本発明の実施の形態２に係る組立システム１Ｂの要部構成を示す図である。ここで、図７(ａ)は、組立システム１Ｂの平面図を示し、図７(ｂ)は、組立システム１Ｂの側面図を示している。
【００３８】
組立システム１Ｂは、実施の形態１に係る組立システム１Ａと類似の構成を有しているが、搬送部の構成が異なっている。
【００３９】
すなわち、組立システム１Ｂの搬送部７は、実施の形態１に係る架台４２と同様の構成を有する架台７２と、実施の形態１に係るステージ４１と形状が異なるステージ７１とを備えている。具体的には、ステージ７１は、図８(ａ)に示すようなＬ字型の形状を有している。
【００４０】
このようなステージ７１を備えた組立システム１Ｂにおける組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２への処理について、以下で詳しく説明する。
【００４１】
＜組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理について＞
図８は、組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理を説明するための図である。ここで、図８(ａ)および図８(ｃ)は、組立途中品９を保持した搬送部７を上方から見た図を示しており、図８(ｂ)および図８(ｄ)は、図８(ａ)および図８(ｃ)に表される組立途中品９および搬送部７を側方から見た図を示している。
【００４２】
組立システム１Ｂの各組立装置２ａ〜２ｅでは、図８(ａ)に示すように平面視でＬ字状の形状を有するステージ７１の先端部に組立途中品９を載置し、ステージ７１の回転軸Ｒｏに対して組立途中品９の中心Ｃｏを斜め方向のベクトルＢｐに従ってずらすように保持されている。具体的には、ステージ７１の回転軸Ｒｏに対して組立途中品９の中心Ｃｏを、ステージ７１が並進移動される２方向（Ｘ軸方向およびＹ軸方向）、換言すれば組立途中品９における第１辺Ｌ１および第２辺Ｌ２の各法線方向にずらすことで、２つの処理対象領域Ｅ１、Ｅ２がステージ７１より外側に配置されるように保持されている。このようなステージ７１に対する組立途中品９の位置決め制御については、実施の形態１と同様に、制御装置６により左隣の中間載置台５０(図７)に載置された組立途中品９を搬送部７を用いて各組立装置２ｂ〜２ｄで受け取る際に自動的に実行される。なお、左端の組立装置２ａにおける組立途中品９の位置決め制御は、例えば左隣に中間載置台５０と同様の載置台を設けるようにすれば、各組立装置２ｂ〜２ｄと同様に搬送部７を用いた制御装置６による自動制御が可能となる。
【００４３】
以上のようなステージ７１に対する組立途中品９の位置決めにより、各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理をスムーズに行えることとなる。
【００４４】
すなわち、架台７２を前進させることにより組立途中品９を保持したステージ７１を処理部３０に接近させ、図８(ｂ)のようにステージ７１と下側処理ユニット３２との間隔Ｇｅを確保しつつ組立途中品９の処理対象領域Ｅ１を処理部３０に適切にセットできる。これにより、処理対象領域Ｅ１に対しての処理が可能となる。
【００４５】
一方、組立途中品９の処理対象領域Ｅ１に対しての処理が終了した後には、架台７２を後退させるとともにステージ７１を時計回りに９０度回転させることによって組立途中品９の処理対象領域Ｅ２を処理部３０に振り向けてから架台７２を前進させることで、図８(ｄ)のようにステージ７１が下側処理ユニット３２に接触することなく一定の間隔Ｇｆを確保しつつ組立途中品９の処理対象領域Ｅ２を処理部３０に適切にセットできる。これにより、処理対象領域Ｅ２に対しての処理が可能となる。
【００４６】
そして、組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理が完了すると、その組立途中品９が次の処理を実行する右隣の組立装置に引き渡されるために２つの中間載置台５１、５２上に載置される。この際には、図９に示すようにＹ方向に離間した２つの方形状の中間載置台５１、５２により、ステージ７１の先端部分Ｖｐが中間載置台５１、５２に接触することなく各中間載置台５１、５２上の端部領域Ｆ１、Ｆ２(平行斜線部)で組立途中品９における前後方向の端部を適切に保持できることなる。
【００４７】
なお、中間載置台については、図９のようにＹ方向に離間した２つの中間載置台５１、５２を採用るのは必須でなく、図１０に示すように平面視でコ字状の形状を有する中間載置台５３を採用しても良い。この場合には、中間載置台５３の凹部Ｖｑにステージ７１の先端部分Ｖｐが差し込まれることにより、各中間載置台５３上の端部領域Ｆ３、Ｆ４（平行斜線部）で組立途中品９における左右方向の端部を適切に保持できることとなる。
【００４８】
以上のような組立システム１Ｂでは、組立途中品９のサイズが比較的小さい場合でも、Ｌ字型形状のステージ７１を用いて、回転軸Ｒｏに対してＸ方向およびＹ方向に組立途中品９の中心Ｃｏを適切にずらすことができるため、組立途中品９の２辺に沿った各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する適切な処理が可能となる。
【００４９】
なお、組立システム１Ｂにおいては、Ｌ字型形状のステージ７１を有した搬送部７を採用するのは必須でなく、他の形状のステージを有した搬送部７を採用しても良い。具体的には、図１１に示すような平面視で平行四辺形状(例えば菱形状)の形状を有するステージ７１Ａを備えた搬送部７Ａや、図１２に示す平面視で台形状の形状を有するステージ７１Ｂを備えた搬送部７Ｂを採用しても良い。この場合にも、架台７２の回転軸Ｒｏに対して組立途中品９の中心を斜め方向(Ｘ方向およびＹ方向)にずらすように配置すれば、組立途中品９の２辺に係る各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する適切な処理が可能となる。なお、図１１〜図１２に示す各形状のステージ７１Ａ、７１Ｂにおいても、図９〜図１０に示す中間載置台５１〜５３に相当する載置台を用いれば、各組立装置間での組立途中品９の授受をスムーズに行えることとなる。
【００５０】
また、組立システム１Ｂでは、図１３に示す平面視でＴ字状の形状を有するステージ７１Ｃを備えた搬送部７Ｃや、図１４に示す平面視で十字状の形状を有するステージ７１Ｄを備えた搬送部７Ｄを採用しても良い。
【００５１】
図１３に示すＴ字型形状のステージ７１Ｃは、組立途中品９を載置可能な２つの部分、具体的にはＴ字の左側張出部分Ｑａおよび右側張出部分Ｑｂを有している。これにより、回転軸Ｒｏに対してステージ７１Ｃに保持される組立途中品９の中心を適切にずらすことができる。そして、Ｔ字型形状のステージ７１Ｃでは、図１３(ａ)のように左側張出部分Ｑａに組立途中品９を載置した状態で処理部３０での処理を行えるとともに、図１３(ｂ)のように右側張出部分Ｑｂに組立途中品９を載置した状態で処理部３０での処理を行える。ここで、図１３(ｂ)に表される組立途中品９ｑは、図２に示す組立途中品９ａと同様な処理対象領域Ｅ１、Ｅ２を有しているが、図１３(ａ)に表される組立途中品９ｐについては、図２に示す組立途中品９ａに対して鏡面対象となる処理対象領域Ｅ１、Ｅ３を有している。すなわち、Ｔ字型形状のステージ７１Ｃを用いれば、このような２種類の組立途中品９ｐ、９ｑに対してステージの変更を伴わずに処理部３０での処理を行えることとなる。
【００５２】
また、図１４に示す十字型形状のステージ７１Ｄは、組立途中品９を載置可能な３つの部分、具体的には十字の左側張出領域Ｑｃ、右側張出領域Ｑｄおよび中央張出領域Ｑｅを有している。これにより、回転軸Ｒｏに対してステージ７１Ｄに保持される組立途中品９の中心を適切にずらすことができる。そして、十字型形状のステージ７１Ｄでは、図１４(ａ)および図１４(ｂ)のように左側張出部分Ｑｃまたは右側張出部分Ｑｄに組立途中品９を載置した状態で処理部３０での処理を行えるとともに、図１４(ｃ)のように中央張出部分Ｑｅに組立途中品９を載置した状態で処理部３０での処理を行える。ここで、図１４(ａ)および図１４(ｂ)に表される組立途中品９ｐ、９ｑは、図１３(ａ)および図１３(ｂ)の組立途中品９ｐ、９ｑと同様の構成を有しているが、図１４(ｃ)に表される組立途中品９ｒについては、１つの処理対象領域Ｅ４のみを有するものとして構成されている。すなわち、十字型形状のステージ７１Ｄを用いれば、このような３種類の組立途中品９ｐ〜９ｒに対してステージの変更を伴わずに処理部３０での処理を行えることとなる。
【００５３】
以上のようなステージ７１Ｃ、７１Ｄ(図１３、１４)においても、図９〜１０に示す中間載置台５１〜５３に相当する載置台を用いれば、各組立装置間での組立途中品９の授受をスムーズに行える。
【００５４】
＜変形例＞
・上記各実施の形態における各組立装置では、それぞれのステージに載置する組立途中品９の位置決めを搬送部等を用いて制御装置６で統括的に制御するのは必須でなく、各組立装置毎に個別に設けられた制御装置を用いて自動制御するようにしても良い。
【００５５】
また、組立途中品９の位置決めを搬送部等を用いて行うのは必須でなく、ロボットによる位置決めや、人の手による位置決めを行うようにしても良い。この手動による位置決めでは、例えばステージ上にピンを立て、そこに組立途中品の外形を合わせるように位置決めを行うようにすれば良い。
【００５６】
・上記各実施の形態の組立システムにおいては、液晶パネル９０を備えた液晶表示装置を組み立てるのは必須でなく、プラズマ表示装置や有機ＥＬ表示装置、フィールドミッション表示装置などの平面表示装置を組み立てるようにしても良い。
【００５７】
また、組立システムでは、表示デバイスを備えた装置の組み立てに限らず、表示デバイスのない装置(処理対象物)の組み立てを行うようにしても良い。
【００５８】
・上記各実施の形態においては、固定された処理部に対しステージを移動させることで処理部に組立途中品をセットするのは必須でなく、処理部の方をステージに移動させることで処理部に組立途中品をセットするようにしても良い。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施の形態１に係る組立システム１Ａの要部構成を示す図である。
【図２】液晶表示装置の組立工程を説明するための図である。
【図３】液晶表示装置の組立工程を説明するための図である。
【図４】組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理を説明するための図である。
【図５】中間載置台５上への組立途中品９の載置を説明するための図である。
【図６】搬送部４Ａを用いた組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理を説明するための図である。
【図７】本発明の実施の形態２に係る組立システム１Ｂの要部構成を示す図である。
【図８】組立途中品９の各処理対象領域Ｅ１、Ｅ２に対する処理を説明するための図である。
【図９】中間載置台５１、５２上への組立途中品９の載置を説明するための図である。
【図１０】中間載置台５３上への組立途中品９の載置を説明するための図である。
【図１１】平行四辺形状のステージ７１Ａを有した搬送部７Ａの構成を示す図である。
【図１２】台形状のステージ７１Ｂを有した搬送部７Ｂの構成を示す図である。
【図１３】Ｔ字状のステージ７１Ｃを有した搬送部７Ｃの構成を示す図である。
【図１４】十字状のステージ７１Ｄを有した搬送部７Ｄの構成を示す図である。
【符号の説明】
【００６０】
１Ａ，１Ｂ  組立システム、２ａ〜２ｅ  組立装置、３ａ〜３ｅ，３０  処理部、４，４Ａ，７，７Ａ〜７Ｄ  搬送部、５，５１〜５３  中間載置台、６  制御装置、９，９ａ〜９ｂ，９ｐ〜９ｒ  組立途中品、３１  上側処理ユニット、３２  下側処理ユニット、４１，４１Ａ，７１，７１Ａ〜７１Ｄ  ステージ、４２，７２  架台、Ｃｏ  組立途中品の中心、Ｅ１〜Ｅ４  処理対象領域、Ｒｏ  回転軸。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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