(57)【要約】【課題】低コストで色変換膜のパターニングが行える方法を提案する。【解決手段】透明基板上にそれぞれ異なる波長域の光を透過する複数種のカラーフィルタ層を形成するカラーフィルタ層形成工程と、異種のカラーフィルタ層の境界部分に無機化合物からなるバンク層をドライエッチング法にて形成するバンク形成工程と、互いに隣接するバンク層間の前記複数種のうちの少なくとも１種のカラーフィルタ層の上に、インクジェット法にて、特定の波長の光を吸収し、この波長とは異なる波長を含む光を出力する色変換層を形成する色変換層形成工程を有し、前記カラーフィルタ層形成工程で形成されるカラーフィルタ層のそれぞれおよび前記バンク形成工程で形成されるバンクのそれぞれが第１の方向に伸びる複数のストライプ形状部分から構成され、前記ドライエッチング法が、フッ素系ガスでエッチング後、酸素系ガスでオーバーエッチングしてカラーフィルタ層表面に凹凸を形成するものであることを特徴とする色変換フィルタの製造方法。【選択図】図１
2009211894.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上にそれぞれ異なる波長域の光を透過する複数種のカラーフィルタ層を形成するカラーフィルタ層形成工程と、
カラーフィルタ層の上に無機化合物を積層し、ドライエッチング法を用いて他の部分の無機化合物をエッチングして異種のカラーフィルタ層の境界部分に無機化合物からなるバンク層を形成するバンク形成工程と、
互いに隣接するバンク層間の前記複数種のカラーフィルタ層のうちの少なくとも１種のカラーフィルタ層の上に、インクジェット法にて、特定の波長の光を吸収し、吸収した光の波長とは異なる波長を含む光を出力する色変換層を形成する色変換層形成工程とを有し、
前記カラーフィルタ層形成工程で形成されるカラーフィルタ層のそれぞれは、第１の方向に伸びる複数のストライプ形状部分から構成され、前記バンク形成工程で形成されるバンクも第１の方向に伸びる複数のストライプ形状部分から構成され、
前記ドライエッチング法が、はじめにフッ素系ガスでエッチングし、その後、酸素系ガスでオーバーエッチングを行うことを特徴とする色変換フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色変換フィルタの製造方法に関する。本発明の色変換フィルタの製造方法によれば、高精度なパターンの色変換フィルタを低コストで得ることができる。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子を用いて多色発光を実現する方法の一つとして色変換法がある。色変換法は有機ＥＬ素子の発光を吸収し、吸収波長と異なる波長分布の発光を行う色変換膜を有機ＥＬ素子の前面に配設して多色を表現する方法であり、色変換膜としては高分子樹脂へ蛍光色素を分散させたものが開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
本方式は有機ＥＬが単色でよいため製造が容易であり、大画面ディスプレイへの展開が積極的に検討されている。
また、色変換膜とカラーフィルタを組み合わせることによって良好な色再現性が得られる等の特徴を有している。しかし開示されている色変換膜で十分な効率を得るためにはその膜厚を１０μｍ程度まで厚くする必要があり、その上面に有機ＥＬ素子を形成するためには色変換層の凹凸を平滑にする技術や、色変換層から生じる水分を遮断する技術等、特殊な技術を要し、パネルのコストアップにつながる。
【０００４】
上記問題点を解決する方策として、有機ＥＬ素子の電極間にドライプロセスにて色変換能を有する層を配設することが挙げられる（例えば、特許文献２参照。）。最適な色変換材料を選択できれば、これらに開示された構造にて、水分発生の問題のない高効率且つ薄膜（１μｍ以下）の色変換有機ＥＬ素子が実現できる。
【０００５】
上述の解決策を更に発展させた方法として、構成材料をインク化し、インクジェット法で色変換膜をパターニングする方法が考えられる。しかし、精密パターニングをインクジェット法により行う際は、微量液滴を精密塗出させる必要性があることから、増粘原因となるインク固形分比をあまり上げられない。従って、必要膜厚に対して液滴の体積は必然的に大きなものとなるため、精度良くパターンを形成する解決策として、基板側にバンクを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。バンクは形状だけでなく、濡れ性の制御も重要である。具体的には壁面はインクに対して撥液性を有し、下地は親液性を有する状態にすることが必要となる。
【０００６】
濡れ性を制御する方法としては、プラズマ処理等の表面処理を行う方法が提案されている（例えば、特許文献４参照。）。
また、上記バンクをドライエッチング法で形成する方法が提案されている（例えば、特許文献５参照。）。
また、色変換膜構成材料をインクジェット法で塗布する面に、塗布前にスジ状の溝を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献６参照。）。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−６４１３５号公報
【特許文献２】特開２００２−７５６４３号公報
【特許文献３】特開２００５−２０３２１５号公報
【特許文献４】国際公開第９９／４８３３９号パンフレット
【特許文献５】特開２００６−１６２８８２号公報
【特許文献６】特開２００５−２９４２０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
インクジェット法の利点はインクの利用効率が非常に高く、膜の作製コストを抑えられる点にある。しかしながらそれに付随して、特許文献４等に見られるように、濡れ性の制御を必要とするため、バンク形成後に濡れ性を制御する膜を形成する複雑な工程が必要となり、かえってコストが高くなってしまう。
【０００９】
また、特許文献５に記載の、深さ方向に組成比が異なるレジスト塗布膜をドライエッチング法にてバンクを形成する方法も、バンク表面の濡れ性を制御するためフッ素プラズマ処理を行っており、工程が複雑になりコストが高くなってしまう。
【００１０】
また、特許文献６のようにインクジェット法で塗布する面にスジ状の溝を形成するためにエッチング処理を行う方法も、その工程後、無機バンクおよび有機バンクを形成し、表面に撥液性を付与するための表面処理を行うため、工程が複雑になりコストが高くなってしまう。
【００１１】
従って、本発明が解決しようとする課題は、バンク形成後の濡れ性を制御する工程を抑え、低コストで色変換膜のパターニングが行える方法を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の色変換フィルタ基板の製造方法は、透明基板上にそれぞれ異なる波長域の光を透過する複数種のカラーフィルタ層を形成するカラーフィルタ層形成工程と、
カラーフィルタ層の上に無機化合物を積層し、ドライエッチング法を用いて他の部分の無機化合物をエッチングして異種のカラーフィルタ層の境界部分に無機化合物からなるバンク層を形成するバンク形成工程と、
互いに隣接するバンク層間の前記複数種のカラーフィルタ層のうちの少なくとも１種のカラーフィルタ層の上に、インクジェット法にて、特定の波長の光を吸収し、吸収した光の波長とは異なる波長を含む光を出力する色変換層を形成する色変換層形成工程を有し、前記カラーフィルタ層形成工程で形成されるカラーフィルタ層のそれぞれは、第１の方向に伸びる複数のストライプ形状部分から構成され、前記バンク形成工程で形成されるバンクも第１の方向に伸びる複数のストライプ形状部分から構成され、
前記ドライエッチング法が、はじめにフッ素系ガスでエッチングした後、その後、酸素系ガスでオーバーエッチングを行うことにより、下地であるカラーフィルタ層表面に凹凸を形成するものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の色変換フィルタ基板の製造方法によれば、ドライエッチング法にてバンクを形成する際に、下地であるカラーフィルタ層表面に凹凸を形成することにより、新たに表面処理を行う工程を増加させることなく、下地を親インク性にすることができ、高精細な色変換フィルタ基板を低コストで形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は、本発明の単なる一例であって、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
図１は本発明の製造方法で製造された色変換フィルタの一例を示す図である。
【００１５】
図１の色変換フィルタは、支持体たる透明基板１０上に、ブラックマトリクス４０および赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の３種のカラーフィルタ層３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、異種のカラーフィルタ層３０の境界に設けられたバンク層５０、隣接するバンク層の間のカラーフィルタ層３０の上に設けられた色変換層２０、少なくとも色変換層２０を覆うように設けられたバリア層６０を有している。色変換層２０としては、図１では赤色カラーフィルタ層３０Ｒの上に設けられた赤色色変換層２０Ｒと緑色カラーフィルタ層３０Ｇの上に設けられた緑色色変換層２０Ｇのみであり、青色カラーフィルタ層３０Ｂの上には色変換層が設けられていない。
【００１６】
本発明の製造方法においては、必ずしも必須の工程ではないが、支持体たる透明基板１０の上に、有機層としてブラックマトリクス４０を形成する。
【００１７】
本発明のディスプレイで用いる透明基板１０は、光透過性に富み、且つ、ブラックマトリクス４０、カラーフィルタ層３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、および後述する色変換層２０、および有機ＥＬ素子（電極、有機発光層等）の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものを用いて形成される。さらに寸法安定性に優れている材料を用いて形成されていることが好ましい。また、多色発光ディスプレイの性能低下を引き起こさない材料を用いて形成されていることが好ましい。このような材料の例としては、ガラス、各種プラスチック、各種フィルム等が挙げられる。
【００１８】
ブラックマトリクス４０は可視光を遮断してコントラストを向上させるための層であり、通常のフラットパネルディスプレイ用のブラックマトリクスを形成する材料を用いて形成することができる。ブラックマトリクス４０の膜厚は、前述の機能を満たす限り、任意に設定することができる。
【００１９】
次に、基板上にそれぞれ異なる波長域の光を透過する、少なくとも２種類のカラーフィルタ層を独立して形成する。図１に示す例では、ＲＧＢの３種のカラーフィルタ層３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を独立して形成している。カラーフィルタ層３０は、可視光の特定波長域を透過させて透過光を所望の色相とし、および透過光の色純度を向上させるための層である。カラーフィルタ層３０はフラットパネルディスプレイ用の市販の材料を用いて形成することができる。近年では、フォトレジストに顔料を分散させた、顔料分散型材料がよく用いられている。
【００２０】
図１に示すように３種のカラーフィルタ層を用いる場合、４００ｎｍ〜５５０ｎｍの波長を透過する青色カラーフィルタ層、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長を透過する緑色カラーフィルタ層、６００ｎｍ以上の波長を透過する赤色カラーフィルタ層を用いることが好ましい。３種のカラーフィルタ層３０(Ｒ，Ｇ，Ｂ)のそれぞれは、第１の方向に伸びる複数のストライプ形状部分から構成される。
【００２１】
上述のカラーフィルタ層３０のそれぞれは、スピンコート法などの塗布法を用いて透明基板１０上全面に形成した後にフォトリソグラフ法などを用いてパターニングを実施することによって形成してもよく、スクリーン印刷法などを用いてパターン状に形成してもよい。
【００２２】
次に、異種のカラーフィルタ層３０の境界部分に無機化合物からなるバンク層５０を形成する。バンク層５０を形成する無機化合物としては、例えば、ＳｉＯx、ＳｉＮx、ＳｉＮxＯy、ＡｌＯx、ＴｉＯx、ＴａＯx、ＺｎＯx等の無機酸化物、無機窒化物等を挙げることができる。本発明において、バンク層５０は第１の方向に延びる複数のストライプ形状部分から構成される。
【００２３】
即ち、バンク層５０の形成にあたっては、まず、無機化合物をカラーフィルタ層３０の上全面に塗布し、バンク層の無機化合物と選択比の取れるフォトレジストによりパターンをバンク層５０上に形成し、無機化合物からなるバンク層のみをエッチングするＣＦ4、ＳＦ6、ＣＨＦ3等のフッ素系ガスを用いてドライエッチングを行い、バンク層５０をパターニングする。次いで、ガスをＯ2もしくは、ＣＨ4／Ｏ2、ＣＯ／Ｏ2、Ｃ2Ｈ5ＯＨ／Ｏ2等の酸素系ガスに変え、下地に対しオーバーエッチングを行うことにより、下地のカラーフィルタの表面に凹凸を形成する。その際、凹凸は３０〜１００ｎｍの範囲で形成され、島状形状で形成され、画素内に均一に配置される。酸素系ガスのエッチングでカラーフィルタ層表面が親インク性になり、更にこの微細な凹凸により表面積が増大するため後述する色変換インクに対する親インク性が向上する。
【００２４】
インクジェット法にて色変換層２０を形成する際に、色変換インクのもれによる混色を防ぐため、バンク層５０の膜厚は２μｍ以上が好ましい。５μｍより厚くなると成膜時間がかかってしまうため、さらに好ましくは、３〜５μｍの範囲である。
【００２５】
次いで、互いに隣接するバンク層５０間の一部のまたは全てのカラーフィルタ層３０の上に、インクジェット法にて、色変換層２０を形成する。この色変換層は、特定の波長の光を吸収し、吸収した光の波長とは異なる波長を含む光を出力する。
図１においては、赤色変換層２０Ｒおよび緑色変換層２０Ｇを形成する例を示した。必要に応じて、赤色変換層２０Ｒのみを設けてもよく、赤色変換層２０Ｒ、緑色変換層２０Ｇに加えて青色変換層２０Ｂを設けてもよい。青色変換層２０Ｂを設ける場合は、青色カラーフィルタ層３０Ｂの上に設けられる。
【００２６】
表面にカラーフィルタ層３０を有する基板１０は、無機物材料によって隔壁（バンク層５０）が形成され、また下地のカラーフィルタ層３０には微細な凹凸が形成されているため、インクが必要部位以外には広がらず、色変換層２０を形成することができる。
【００２７】
色変換層２０は光源からの光を吸収し、異なる波長分布の蛍光を発する機能を有する。色変換層２０を形成するためのインクは少なくとも１種の色変換色素と、溶媒とを含む。本発明において用いることのできる色変換色素としては、Ａｌｑ3［トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体］などのアルミキレート系色素；３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、クマリン１３５などのクマリン系色素；ソルベントイエロー４３、ソルベントイエロー４４のようなナフタルイミド系色素のような低分子系有機蛍光色素を用いることができる。また、ポリフェニレン、ポリアリーレン、ポリフルオレンに代表される高分子蛍光材料を色変換色素として用いてもよい。
【００２８】
また、必要に応じて色変換色素としてこれらの色素を複数混合して使用することもできる。青色から緑色、赤色への変換時など、波長シフト巾が広い際には有効な手段である。
色素混合物は前述の色素同士の混合物であってもよい。あるいはまた、前述の色素と下記の色素との混合物であってもよい。
（１）  ジエチルキナクリドン（ＤＥＱ）などのキナクリドン誘導体；
（２）  ４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ−１）、ＤＣＭ−２、およびＤＣＪＴＢなどのシアニン色素；
（３）  ４，４−ジフルオロ−１，３，５，７−テトラフェニル−４−ボラ−３ａ，４ａ−ジアザ−ｓ−インダセン；
（４）  ルモゲンＦレッド；
（５）  ナイルレッド；
（６）  ローダミンＢ、ローダミン６Ｇなどのキサンテン系色素；
（７）  ピリジン１などのピリジン系色素。
【００２９】
色変換層２０形成のためのインク溶媒は、上記色素を溶解できる溶媒であればよく、トルエン等の非極性溶媒、クロロホルム、アルコール、ケトン系などの極性溶媒を用いることができ、単一成分からなる溶媒であってもよく、あるいは、粘度、蒸気圧、溶解性、流動性および／または濡れ性の調整を目的として複数の溶媒からなる混合溶媒として使用してもよい。バンク形成時にカラーフィルタが親水性になるため、上記溶媒の中では極性溶媒が好ましい。
【００３０】
色変換層２０を形成するためのインクは、少なくとも１種の色変換色素を溶媒中に混合することにより得られる。また、色変換層２０の屈折率をカラーフィルタ層３０と同じにするために、熱硬化型樹脂組成物に上述の色変換色素を分散させたものを色変換色素として用いてもよい。
このインクは、水分および酸素の影響を排除するために窒素、あるいはアルゴンなどの希ガスに代表される不活性ガス雰囲気下で作製されることが好ましい。また、インクを作成する前に、溶媒中の水分および溶存酸素を除去するために、脱気処理、水分吸収剤による処理、酸素吸収剤による処理、蒸留などの当該技術において知られている任意の手段を用いて溶媒を前処理してもよい。
【００３１】
作製したインクは、所望される解像度での塗布が可能であることを条件として、当該技術で知られる任意のインクジェット装置および方法を用いて、バンク層５０で異種のカラーフィルタ層３０と分離され、表面にオーバーエッチングにより凹凸が形成された目的とするカラーフィルタ層３０の上に付着される。インクジェット装置および方法はサーマルインクジェット方式であってもよく、ピエゾインクジェット方式であってもよい。インクジェット方式を用いて付着されたインクはバンク層５０によって必要部位以外に拡散することを防止されるとともに、カラーフィルタ層３０表面に形成された凹凸により、カラーフィルタ層３０表面への密着性がより高められる。
【００３２】
付着の後に溶媒を蒸発させて除去し、少なくとも１種の色変換色素からなる色変換層２０を形成する。色変換色素として熱硬化性樹脂組成物に分散させたものを用いた場合は溶媒の蒸発とともに熱硬化性樹脂を硬化させる温度に加熱する。溶媒の除去は、前述の不活性ガス雰囲気かまたは真空中で行うことが好ましい。この際に、インク中の色変換色素の劣化もしくは熱分解が生じないように加熱温度を設定することが好ましい。
【００３３】
本発明において溶媒を用いて形成した色変換層２０は、２０００ｎｍ（２μｍ）以下であることが好ましく、より好ましくは１００〜２０００ｎｍ、さらに好ましくは１００〜１０００ｎｍの膜厚を有する。また、熱硬化性樹脂組成物を用いて形成した色変換層２０は１００〜２０００ｎｍの膜厚を有することが好ましい。
【００３４】
形成した色変換層２０が水や酸素の介在により劣化するような物質を使用する際には、色変換膜形成後にバリア層６０を形成することが好ましい。バリア層６０を形成することで色変換層の特性を維持することができる。
【００３５】
バリア層６０の材料としては、ガスおよび有機溶剤に対するバリア性を有し、可視域における透明性が高い材料（４００〜７００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）を使用することができる。例えば、ＳｉＯx、ＳｉＮx、ＳｉＮxＯy、ＡｌＯx、ＴｉＯx、ＴａＯx、ＺｎＯx等の無機酸化物、無機窒化物等を使用することができる。バリア層６０の形成方法としては、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等の手法により形成できるが、色変換層２０へのダメージを回避するためには１００℃以下の低温で形成でき、且つ粒子が有するエネルギーが弱いＣＶＤ法が好ましい。
【００３６】
以上の説明においては、図１を参照して３種のカラーフィルタ層３０を用いた例を示した。しかし、異種のカラーフィルタ層３０の境界部分にストライプ状のバンク層５０を形成すること、その上に色変換層２０を形成するカラーフィルタ層３０の表面をオーバーエッチングして表面に凹凸を形成することを条件として、本発明の製造方法が２種または４種以上のカラーフィルタ層３０を用いた色変換フィルタの製造に適用できるのは明らかである。
【実施例】
【００３７】
＜実施例１＞
（カラーフィルタ）
２００ｍｍ×２００ｍｍ×０．７ｍｍ厚の１７３７ガラス（コーニング社製）上に、カラーモザイクＣＫ−７００１（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を塗布し、フォトリソグラフ法を用いて、複数の矩形状開口部を有するブラックマトリクス４０を形成した。ブラックマトリクス４０は１μｍの膜厚を有した。矩形状開口部のそれぞれ（サブピクセルに相当）は、縦方向３００μｍ×横方向１００μｍを有し、隣接する矩形状開口部間の間隔は縦方向３０μｍ、横方向１０μｍであった。
【００３８】
次に、カラーモザイクＣＲ−７００１（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を塗布し、フォトリソグラフ法を用いて、複数のストライプ形状部分からなる赤色カラーフィルタ層３０Ｒを形成した。複数のストライプ形状部分のそれぞれは、図１に示すようにストライプ形状部分の両側縁がブラックマトリクス４０に重畳し、１μｍの膜厚、１１０μｍの幅を有し、２２０μｍの間隔で配置された。
【００３９】
次に、カラーモザイクＣＧ−７００１およびＣＢ−７００１（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を用いた以外は赤色カラーフィルタ層３０Ｒを形成したときと同様の手順で緑色カラーフィルタ層３０Ｇおよび青色カラーフィルタ層３０Ｂを形成した。緑色カラーフィルタ層３０Ｇおよび青色カラーフィルタ層３０Ｂの両方においても、複数のストライプ形状部分のそれぞれは、ストライプ形状部分の両側縁がブラックマトリクス４０に重畳し、１μｍの膜厚、１１０μｍの幅を有し、２２０μｍの間隔で配置された。
【００４０】
（バンク層）
次に、スパッタリング装置を用い、バンク層としてＳｉＯ2膜を３μｍ成膜した。その際の条件は、単結晶シリコンをターゲットとし、スパッタガスとしてアルゴンと酸素の分圧比を１対１とするスパッタガスを用いてパワー２．５ｋＷ、ガス圧０．５Ｐａで行った。
【００４１】
次いで、ポジ型レジスト(東京応化工業株式会社製：ＴＦＲ−１２５０)を塗布し、所定のパターンのマスクを用いて露光、現像を行い、レジストパターンを形成した。
【００４２】
次いで、ＩＣＰプラズマ型ドライエッチング装置を用い、雰囲気をＳＦ6ガス１００ＳＣＣＭ、ＣＨＦ3ガス１００ＳＣＣＭ、Ａｒガス２５０ＳＣＣＭを流して、ガス圧２０Ｐａ、印加電力１５００Ｗとし、エッチングを行った。その後前記装置でＯ2ガス５００ＳＣＣＭ、４０Ｐａ、印加電力２ｋＷで５秒間オーバーエッチングを行い、下地のカラーフィルタ層３０に凹凸を形成した。その際凹凸は約５０ｎｍであった。
【００４３】
（緑色色変換層）
２−プロパノール１０００重量部、第１色素であるクマリン６と第２色素であるジエチルキナクリドン（ＤＥＱ）の混合物（モル比はクマリン６：ＤＥＱ＝４８：２）５０重量部を混合してインクを調製した。調製したインクをインクジェット装置（ライトレックス製Ｌｉｔｒｅｘ １２０Ｌ）に装填し、窒素雰囲気中で、マルチノズルにより１副画素につき３滴（１滴：約１４ｐｌ）滴下した。窒素雰囲気を破ることなく、真空乾燥炉を用い、１．０×１０-3Ｐａの圧力の下で、１００℃に加熱して２−プロパノールを除去して、インクを乾燥させ、膜厚５００ｎｍの緑色色変換層２０Ｇを作成した。
【００４４】
（赤色色変換層）
２−プロパノール１０００重量部、第１色素であるクマリン６と第２色素であるＤＣＭの混合物（モル比はクマリン６：ＤＣＭ＝４８：２）５０重量部を混合してインクを調製した。調製したインクをインクジェット装置（ライトレックス製Ｌｉｔｒｅｘ １２０Ｌ）に装填し、窒素雰囲気中で、マルチノズルにより１副画素につき３滴（１滴：約１４ｐｌ）滴下した。窒素雰囲気を破ることなく、真空乾燥炉を用い、１．０×１０-3Ｐａの圧力の下で、１００℃に加熱して２−プロパノールを除去して、インクを乾燥させ、膜厚５００ｎｍの赤色色変換層２０Ｒを作成した。
【００４５】
（バリア層）
次いで、真空を破ることなしに、緑色色変換層２０Ｇと赤色色変換層２０Ｒをその上に形成したカラーフィルタをプラズマＣＶＤ装置内に移動させ、プラズマＣＶＤ法を用いて膜厚１μｍの窒化シリコン（ＳｉＮ）を堆積させ、バリア層６０を形成した。ここで、バリア層６０の形成にはモノシラン（ＳｉＨ4）、アンモニア（ＮＨ3）及び窒素（Ｎ2）を原料ガスとして用いた。また、バリア層６０形成時の色変換層２０、カラーフィルタ層３０の温度を１００℃以下に維持した。
【００４６】
＜比較例１＞
バンク層５０の形成時にオーバーエッチングを行わなかったこと以外は実施例１と同様にして基板上にカラーフィルタ層３０、バンク層５０、色変換層２０、バリア層６０を形成した。
【００４７】
＜比較例２＞
バンク層５０の形成時にＳｉＯ2のエッチング条件でオーバーエッチングを行ったこと以外は実施例１と同様にして基板上にカラーフィルタ層３０、バンク層５０、色変換層２０、バリア層６０を形成した。
【００４８】
＜評価＞
実施例１、比較例１，２の色変換フィルタの、色変換層２０形成前のカラーフィルタ層３０表面の凹凸の深さを調べた。また色変換層２０形成後の混色の発生の有無も調べた。「混色」は、インクが、バンク層５０を越えて、隣接する他の色の画素領域に入りこんで、インクが混ざってしまう（例えば、Ｒ画素用インクがあふれてＧ画素に入りんでしまう）ことを意味する。
結果を表１に示す。
【００４９】
【表１】
2009211894.tif 000003
【００５０】
表１より、比較例１，２に見られるように、下地凹凸が小さいとインク滴下の際に、インクが隣接する副画素にあふれてしまい、混色がおきてしまう。これに対し、下地凹凸が５０ｎｍの場合、混色することなくパターン形成が可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本方法を用いることでバンクの高さを厚くすることなくインクジェット法にて色変換層を形成でき、低コストで高精細度のパターン形成が可能な、色変換フィルタ基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の製造方法で製造された色変換フィルタの１例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１０    透明基板
４０    ブラックマトリクス
３０Ｒ  赤色カラーフィルタ層
３０Ｇ  緑色カラーフィルタ層
３０Ｂ  青色カラーフィルタ層
２０Ｒ  赤色色変換層
２０Ｇ  緑色色変換層
５０    バンク層
６０    バリア層
【図１】
2009211894.tif 000004