(57)【要約】【課題】生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のない反射防止フィルムを提供することにある。【解決手段】透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、下記［１］〜［２］を満たす反射防止フィルム。［１］０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ［２］０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５  （ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、下記［１］〜［２］を満たす反射防止フィルム。
［１］０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ
［２］０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５
（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）
【請求項２】
前記高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角が、前記透明フィルム表面と水との接触角よりも高く、且つ、
前記低屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角が、前記高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角よりも高い、
請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記高屈折率層の屈折率が１．６０以上、１．７０以下であり、
高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面の算術平均粗さＲａｈが０．１μｍ以下である、
請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記低屈折率層の屈折率が１．４０未満であり、
低屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面の算術平均粗さＲａｌが０．０６μｍ以下である、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５度で測定した前記低屈折率層が積層された面で測定した反射率の最小値が１．５％以下である、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関する。より具体的には、表示装置のコントラストおよび鮮明性の低下を伴うことなく色ムラが抑制された反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、透明基材上に透明薄膜層を形成させた積層フィルムにおいて、透明基材表面で反射した光と積層フィルム表面で反射した光とが干渉することにより、干渉縞と呼ばれる模様（干渉ムラ）が視認されて、表示ムラとなる問題があった。
そこで、上記問題を解決するために様々な提案がなされてきた。
【０００３】
例えば、特許文献１には、積層フィルムを得る際に、干渉縞を防止するための手段として、屈折率の差がある２層の境界面の粗さを制御する方法が開示されている。この方法によれば、干渉縞の無くヘイズが１％以下の積層体が得られることが記載されている。
【０００４】
特許文献２には、凹凸面を有する透明基材フィルム上にハードコート層と反射防止層とを設け、ハードコート層の屈折率を反射防止層の屈折率よりも高くしたヘイズの小さい反射防止フィルムが開示されており、ここでは、その凸凹の表面粗さを０．０５〜０．１５μｍの範囲とすることが記載されている。そして、この反射防止フィルムは、表示装置の干渉ムラ（色ムラ）や面のギラツキを抑制することができると記載されている。
【０００５】
また、特許文献３には、第一の透明層と第二の透明層との接触界面を光散乱性界面とした光学フィルムが開示されており、ここでは、その接触界面を１０点平均粗さで０．４μｍ以上とすることが記載されている。そして、この光学フィルムは、干渉縞の発生を抑制できるとあり、好ましい態様として反射防止層を備えることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−０８００１３号公報
【特許文献２】特開２００４−０６９８６７号公報
【特許文献３】特開２００５−１０７００５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の積層体を表示装置に適用すると、境界面の粗さを制御する事により干渉ムラは解消されるものの、平均粗さが０．５μｍ以上と大きい為に表示画像の鮮明性が低下し、高精細のディスプレイ用途としては不向きなものであった。
【０００８】
また、特許文献２や特許文献３に記載の反射防止フィルムにおいては、凹凸は、微粒子を含む層を支持体上に塗布することで付与されるものとなっている。従って、特許文献２や特許文献３に開示された方法では、少なくとも支持体上に干渉縞を防止する為の層を塗布・硬化する工程を別途設ける必要があり、また、支持体の性状によっては防止層の剥離を防止するための表面処理等の手段を施すことが必要になる等、製造工程はより複雑となり、生産性の低下を招く恐れがある。
従って、本発明の目的は、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のない反射防止フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、本発明者は、上記目的を達成するために検討した結果、表面形状に関する指標の内、凹凸の平均の高さ／深さに加え、凹凸の平均間隔を制御し、更にこの二つの指標が一定の関係を満たすような凹凸を、透明基材を変形することによって透明フィルムに付与し、この透明フィルムに設けられた凹凸上に反射防止層を積層することによって、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のないディスプレイに好適な反射防止フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
かくして本発明は以下のものを含む。
透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、下記［１］〜［２］を満たす反射防止フィルム。
［１］０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ
［２］０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５
（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）
（２）前記高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角が、前記透明フィルム表面と水との接触角よりも高く、且つ、前記低屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角が、前記高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角よりも高い、（１）に記載の反射防止フィルム。
（３）前記高屈折率層の屈折率が１．６０以上、１．７０以下であり、高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面の算術平均粗さＲａｈが０．１μｍ以下である、（１）または（２）に記載の反射防止フィルム。
（４）前記低屈折率層の屈折率が１．４０未満であり、低屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面の算術平均粗さＲａｌが０．０６μｍ以下である、（１）〜（３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（５）波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５度で測定した前記低屈折率層が積層された面で測定した反射率の最小値が１．５％以下である、（１）〜（４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のない反射防止フィルムが得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明にかかる反射防止積層体を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
上記の本発明について、図面等を用いて以下に詳述する。
図１は本発明にかかる反射防止フィルムの構成図である。図中の１は透明フィルム、２は高屈折率層、３は低屈折率層、４は凹凸をそれぞれ示す。
【００１４】
本発明の反射防止フィルムは、透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、［１］〜［２］を満たすものである。
［１］０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ
［２］０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５
（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）
透明フィルムの凹凸を有する面のＲａが上記値以上であると、反射防止フィルムを表示装置に適用した際、表示画像の鮮明性が低下する傾向がある。透明フィルムの凹凸を有する面のＲａが上記値以下であると、後述する高屈折率層および低屈折率層を形成した際に干渉ムラが発生し、表示装置の視認性が低下する傾向がある。
透明フィルムの凹凸を有する面のＲａ／Ｓｍが上記値以上であると、反射防止フィルムを表示装置に適用した際、表示画像の鮮明性が低下する傾向がある。透明フィルムの凹凸を有する面のＲａ／Ｓｍが上記値以下であると、後述する高屈折率層および低屈折率層を形成した際に干渉ムラが発生し、表示装置の視認性が低下する傾向がある。
【００１５】
透明フィルムの凹凸を有する面のＲａは０．０５μｍ以上、０．２μｍ以下が好ましく、透明フィルムの凹凸を有する面のＲａ／Ｓｍは０．００１２以上、０．００４５以下が好ましい。
【００１６】
前記凹凸面を有する透明フィルムを得る方法としては、透明基材の表面を変形することにより前記条件を満たす凹凸が得られる方法であれば特に制限が無く、例えば、凹凸を有する賦型ロールを用いて、溶融押出成形法において得られた押出直後の透明基材を押圧して凹凸を転写するニップ成形法や、透明基材を、凹凸を有する離型フィルムで挟圧して離型フィルムの凹凸を転写した後、離型フィルムを剥離する方法、透明基材の表面に微粒子を噴射して透明基材の表面を切削する方法などが挙げられる。
中でも、凹凸の転写ムラのない透明フィルムを広幅で得られる事から、凹凸を有する賦型ロールを用いたニップ形成法が好ましく、鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールを用いて、透明基材を挟圧することが好ましい。
それぞれのロールの表面材質は、金属、ゴム、樹脂などが挙げられる。これらは透明基材に目的とする凹凸形状が転写できるように適宜選ばれるが、賦型ロールの硬さは、鏡面ロールの硬さ以上であることが好ましい。また、前記条件を満たすために、例えば、鏡面ロールと同等の表面性を持ち、賦型ロールより軟らかい樹脂フィルムなどを介して狭圧させても良い。
【００１７】
上記鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールは、それぞれ独立に温度調節ができるものであるのが好ましい。鏡面ロールの温度は、４０℃以上１６０℃以下あることが好ましく、かつ、凹凸を有する賦型ロールの温度は、６０℃以上２００℃以下であることが好ましい。鏡面ロールの温度は、６０℃以上１３０℃以下がさらに好ましく、凹凸を有する賦型ロールの温度は、８０℃以上１８０℃以下がさらに好ましい。
【００１８】
ニップ形成法において、透明フィルムのＲａは、挟圧時における透明基材および各ロールの温度、ロール速度、透明基材を挟圧する際の圧力、それぞれのロールの表面の材質を、後述する透明樹脂の特性に合わせて、適宜選定することで調整することができるが、鏡面ロールおよび賦形ロール温度は、後述する透明樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、（Ｔｇ−６０）〜（Ｔｇ＋２０）℃とするのが好ましい。
【００１９】
例えば、アクリル樹脂を透明基材として用いる場合、好ましい圧力は、５ｋ〜１３ｋＮ／ｍである。フィルムに加える圧力が上記値を超えると、フィルムが破断する恐れがある。フィルムに加える圧力が上記値以下であると、フィルムの幅方向において凹凸の転写ムラが発生する傾向がある。
鏡面ロールおよび賦形ロールの好ましい温度は、６０〜１３０℃である。鏡面ロールまたは賦形ロールの温度がこれ以上であると、フィルムがロールに巻きつく恐れがある。鏡面ロールまたは賦形ロールの温度がこれ以下であるとフィルム面内で凹凸の転写ムラが生じる傾向がある。
ロール速度は２０ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。ロール速度がこれ以上であると、フィルム面内で凹凸の転写ムラが生じる傾向がある。
【００２０】
透明フィルムのＳｍは、賦形ロールを所定の凹凸周期を有する賦形ロールに交換する事で調整することができる。
【００２１】
前記凹凸は透明基材の両面にあってもよい。両面のＲａ及びＳｍは同じであっても異なっていてもよい。鮮明性の観点から、凹凸は一方の面のみに形成されている事が好ましい。
【００２２】
本発明の透明フィルムを得る為に用いることのできる透明基材は、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものである。透明基材を構成する材料としては、透明樹脂があげられる。
本発明で用いることのできる透明樹脂は、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものである。例えば、脂環式構造を有する樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等が挙げられる。
【００２３】
本発明に用いる透明基材は、透明樹脂の他に、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤；染料や顔料等の着色剤；帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、透明樹脂１００重量部に対して、通常０〜５重量部、好ましくは０〜３重量部である。
【００２４】
透明基材は単層であっても複数の層からなる積層体であっても良い。透明基材を構成する各層の合計の厚みは、好ましくは２０〜３００μｍである。
【００２５】
透明フィルムの凹凸を有する面には表面改質処理をすることもできる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましい。
薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が挙げられる。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、処理時間などを調整する必要がある。
【００２６】
透明フィルムのヘイズは３０〜５％であることが好ましく、２５〜１０％であることがより好ましい。透明フィルムのヘイズがこれ以上であると、反射防止フィルムとした時の透明性が低下し、これ以下であると反射防止フィルムにした時に干渉ムラが発生する傾向がある。
【００２７】
本発明における反射防止フィルムは、前述の透明フィルムの凹凸が形成された面に透明フィルムの凹凸が形成された層の屈折率よりも高い高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い低屈折率層とを、この順に形成することによって得られるものである。
【００２８】
（高屈折率層）
高屈折率層は、前述の透明フィルムの凹凸が形成された層の屈折率よりも高い屈折率を有する層である。本発明においては、高屈折率層の屈折率は１．６０〜１．７０であることが好ましい。高屈折率層の屈折率がこの範囲にあると、高屈折率層上に後述する低屈折率層を積層した場合に、外光の反射を抑制し、映り込みを防止することができる。
屈折率の調整は、例えば、前記高屈折率層を金属酸化物微粒子を含む材料を用いて形成する事で行う。
金属酸化物微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タングステン等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
【００２９】
本発明においては、高屈折率層は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験（試験は、試験試料をガラス板に乗せた状態で測定する）で「２Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。高屈折率層の鉛筆硬度が前記範囲であることにより、高屈折率層がハードコート層を兼ねることができ、この場合、ハードコート層を別途設ける必要がなくなり、その結果反射防止フィルム全体の厚みを薄くすることができる。
また、高屈折率層の平均厚みは、通常０．３〜２０μｍ、好ましくは０．８〜１０μｍであり、より好ましくは１．０〜３μｍである。
【００３０】
前記高屈折率層を形成する材料としては、無機材料、合成樹脂またはこれらの混合物を用いることができるが、生産性に優れるという観点から樹脂材料が好ましい。
前記合成樹脂としては、高屈折率層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、さらに透明性のあるものを特に制限なく使用できる。前記合成樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂が挙げられるが、皮膜の強度、加工性の点で、熱硬化型樹脂又は電離放射線硬化型樹脂が好ましい。
【００３１】
熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が挙げられる。
また、これらの熱硬化性樹脂には、溶剤、触媒、前述した微粒子等を必要に応じて加えてもよい。
【００３２】
電離放射線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーまたはモノマーが、電離放射線の照射により硬化する樹脂である。電離放射線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線を用いる。
紫外線または電子線により硬化する樹脂としては特に制限はなく、従来から使用されているものの中から、適宜選択して用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、光重合性プレポリマー、又は光重合性モノマーと光重合開始剤や光増感剤を含有するもの、また、電子線硬化型樹脂としては、光重合性プレポリマー又は光重合性モノマーを含有するものが挙げられる。
【００３３】
前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。また，光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリアクリレート、ポリメチロールプロパントリメタクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、ヘキサンジオールメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等が挙げられる。
本発明においては、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート若しくはジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートを用いることが好ましい。
【００３４】
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を単独又は混合して用いることができる。
【００３５】
本発明においては、高屈折率層は、導電性微粒子を含むことが好ましい。高屈折率層を導電性微粒子を含むものとすることにより、高屈折率層としての機能だけでなく、帯電防止層としての機能を付与することができる。
【００３６】
導電性微粒子は、導電性を有する微粒子であれば特に制約はないが、透明性に優れることから、金属酸化物の微粒子が好ましい。
【００３７】
導電性の金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、五酸化アンチモン、酸化スズ、リンがドープされた酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＡＴＯ）、スズがドープされた酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛がドープされた酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素がドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れること等から、五酸化アンチモン微粒子及びリンがドープされた酸化スズ微粒子から選ばれる少なくとも一種が好ましい。
【００３８】
また本発明においては、導電性の金属酸化物微粒子として、導電性を持たない金属酸化物微粒子に、導電性金属酸化物を被覆することによって、導電性が付与された微粒子も使用することもできる。例えば、屈折率は高いが導電性を有しない酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム等の微粒子の表面に、前記導電性金属酸化物を被覆して導電性を付与して用いることができる。
【００３９】
また、導電性を持たない金属酸化物粒子と導電性金属酸化物微粒子を併用することもできる。
【００４０】
導電性微粒子の数平均粒子径は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５０〜１５ｎｍである。数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、又は動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる
【００４１】
本発明においては、高屈折率層における導電性微粒子の含有量は、３０体積％以上であることが好ましく、４０〜６０体積％であることがさらに好ましい。
【００４２】
本発明において、高屈折率層は、前述の高屈折率層を形成する材料を含む高屈折率層形成用組成物を必要に応じて溶媒で希釈し、透明フィルムの前記凹凸が施された面に直接又は透明フィルム前記凹凸が施された面に形成されたその他の層の上に塗布し、得られた塗膜に、必要に応じて熱及び／又は電離放射線を照射することで形成することができる。透明フィルムに高屈折率層形成用組成物を塗布する手段としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、バーコート法、グラビア法など公知の方法を用いることができる。
【００４３】
高屈折率層形成用組成物中の固形分濃度は、溶液安定性を損なわない範囲で適宜調整することができる。通常、０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の程度とするのが好ましい。固形分濃度がこれ以下になると、塗布液の対流が発生し、高屈折率層形成後の表面凹凸が大きくなる。
【００４４】
高屈折率層形成用組成物には、層厚の均一性や密着性向上等を目的としてレベリング剤や分散剤を含有させてもよい。レベリング剤としては、界面活性剤や、シリコーンオイル、フッ素化ポリオレフィン、ポリアクリル酸エステル等の表面張力を低下させる化合物が挙げられ、分散剤としては、シランカップリング剤等が挙げられる。
【００４５】
シリコーンオイルとしては、未変性のジメチルシリコーンオイル、変性シリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、長鎖アルキル変性ジメチルシリコーンオイル、フッ素変性ジメチルシリコーンオイル、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル、カルビノール変性ジメチルシリコーンオイル、及びメチルスチリル変性ジメチルシリコーンオイルが挙げられる。
【００４６】
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系の界面活性剤としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ-４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ-１７１、Ｆ-１７２、Ｆ-１７３、Ｆ-１７６ＰＦ、Ｆ-４７０、Ｆ-４７１等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
高屈折率層形成用組成物中に含まれる界面活性剤の含有量は、高屈折率層形成用組成物の固形分に対して０．1〜２．５重量％が好ましく、より好ましくは０．５〜２．０重量％である。
【００４７】
本発明においては、高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の界面の算術平均粗さ（Ｒａｈ）とＲａとの関係が、Ｒａｈ＜Ｒａとなることが好ましい。更に、Ｒａｈは０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０７μｍ以下であることがより好ましい。Ｒａｈが上記数値よりも大きくなると、後述する低屈折率層を形成した後の凹凸が大きくなり、反射防止フィルムを表示装置に取り付けた際に、表示装置の鮮明性が低下する傾向がある。
【００４８】
高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の界面の算術平均粗さを前記範囲にする方法としては、前述した蒸発速度の小さい溶媒を用いる方法の他、高屈折率層形成用組成物の表面張力を小さくする方法が挙げられる。
高屈折率層形成用組成物の表面張力を小さくする方法としては、高屈折率層形成用組成物に前述のレベリング剤を添加する方法や、高屈折率層形成用組成物の固形分濃度を小さくする方法が挙げられる。
【００４９】
高屈折率層の表面には、表面処理を施すことができる。表面処理の手段としては、前述した透明フィルムの表面処理方法と同様の方法が挙げられる。
【００５０】
高屈折率層形成後の高屈折率層表面と水との接触角は、透明フィルム表面と水との接触角よりも高いことが好ましい。
【００５１】
［低屈折率層］
本発明の反射防止フィルムは、前記高屈折率層上に低屈折率層を有する。低屈折率層は前述の高屈折率層よりも低い屈折率を有する層である。低屈折率層の屈折率は、１．４未満であることが好ましい。
低屈折率層の屈折率の調整は、例えば、前記低屈折率層中に空孔を分散する事で行うことができる。
前記低屈折率層中に空孔を分散する方法としては、後述する外殻の内部に空洞が形成された中空の構造を有する微粒子を分散させる方法や、低屈折率層を発泡性の物質を含む材料を用いて形成する方法が挙げられる。
空孔を有する低屈折率層の屈折率は好ましくは１．２５〜１．３９、さらに好ましくは１．３０〜１．３８である。低屈折率層の屈折率を前記範囲にすることにより、反射防止性に加えて、耐擦傷性を付与することができる。
【００５２】
低屈折率層の平均厚みは、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは２０〜５００ｎｍである。
【００５３】
低屈折率層を形成する材料は、熱または電離放射線の照射により硬化する樹脂を含む材料であることが好ましい。
【００５４】
（熱硬化樹脂）
熱により硬化する樹脂としては、一般式、Ｒ１ｎＳｉ（ＯＲ２）ｍ（式中、Ｒ１は置換基を有していてもよい一価の炭化水素基、ＯＲ２は加水分解性基を表し、ｎ、ｍは整数を表し、ｍは１〜４であり、ｍ＋ｎは４である。）で表されるケイ素化合物を、全部又は部分的に加水分解して得られるものを用いることができる。
置換基を有してもよい一価の炭化水素基Ｒとしては、アルキル基、フェニル基、シクロアルキル基、アリール基、ハロアルキル基；アルケニルカルボニルオキシアルキル基；エポキシ基を有するアルキル基、メルカプト基を有するアルキル基、アミノ基を有するアルキル基、パーフルオロアルキル基等を挙げることができる。この中でも、合成の容易性から、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
【００５５】
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ１（Ｒ２））、エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ１）＝Ｃ（Ｒ２）Ｒ３）、アミノ基、アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２）、アミド基（−Ｎ（Ｒ１）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２）等を挙げることができる。これらの基において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、ＯＲとしては、強固な硬化物が得られる点からアルコキシル基が好ましい。
【００５６】
Ｒ１ｎＳｉ（ＯＲ２）ｍで表されるケイ素化合物としては、ｎが０〜２の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等を挙げることができる。これらの中でも、強固な硬化物が得られる点からアルコキシシラン類がより好ましい。
【００５７】
ｎが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ｎが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。ｎが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。
【００５８】
前記ケイ素化合物は、フッ素を含有するものであることが好ましい。フッ素を含有するケイ素化合物としてはパーフルオロアルキルアルコキシシランが挙げられ、たとえば、一般式  ＣＦ３（ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＲ４）３（式中、Ｒ４は、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物があげられる。より具体的には、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。
【００５９】
前記ケイ素化合物は、それぞれ単独で、又は２種以上混合して用いることができる。また、２種以上のケイ素化合物の混合および加水分解の順番は、逐次であっても同時であってもよい。
【００６０】
（電離放射線硬化型樹脂）
電離放射線の照射により硬化する樹脂としては、アクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有するモノマー、プレポリマーを好ましく用いる事ができる。
モノマーとしては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどの単官能アクリレートもしくは単官能メタクリレート；ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリレートもしくは多官能メタクリレートが挙げられる。
プレポリマーとしてはポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレート等を挙げることができる。
【００６１】
（フィラー）
低屈折率層にはフィラーを添加してもよい。フィラーとしては無機化合物の微粒子であれば、特に制限されない。無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３等の一種または二種以上を挙げることができる。
【００６２】
（中空微粒子）
微粒子は外殻の内部に空洞が形成された中空の構造を有することが好ましく、このようなものとしては、シリカ系中空微粒子が特に好ましい。低屈折率層に、中空のシリカ微粒子が添加されることにより、低屈折率性に加えて耐擦傷性の向上を図ることができる。
【００６３】
中空微粒子としては、（Ａ）単一の無機酸化物からなる単一層、（Ｂ）種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、（Ｃ）上記（Ａ）と（Ｂ）との二重層を包含するものを利用できる。
【００６４】
中空微粒子の平均粒子径は、特に限定されないが、５〜２０００ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましい。５ｎｍよりも小さいと、中空による低屈折率化の効果が小さくなる。２０００ｎｍより大きいと、透明性が低下し、拡散反射による散乱が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【００６５】
中空微粒子の配合量は、特に限定されないが、低屈折率層全体に対して、１０〜３０重量％であることが好ましい。この範囲であれば、低屈折率性と耐擦傷性とをともに有することができる。
【００６６】
（その他の成分）
低屈折率層形成用組成物には、他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、光重合開始剤；界面活性剤等のレベリング剤、シランカップリング剤等の分散剤、増粘剤などが挙げられる。レベリング剤、分散剤としては、前述の高屈折率層形成用組成物に用いるのと同様のレベリング剤、分散剤が挙げられる。
【００６７】
低屈折率層形成用組成物は界面活性剤を含むことが好ましい。低屈折率層形成用組成物中に含まれる界面活性剤の含有量は、低屈折率層形成用組成物の固形分に対して０．1〜２．５重量％が好ましく、より好ましくは０．５〜２．０重量％である。界面活性剤の含有量が前記範囲よりも少ないと、塗布液の対流が発生し、低屈折率層表面の凹凸を小さくすることができない。
界面活性剤としては、前述の高屈折率層形成用組成物に用いるのと同様の界面活性剤が挙げられる。
【００６８】
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤が挙げられ、具体的にはアリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシムエステル類など）；含硫黄系光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン類など）；アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤；その他の光重合開始剤がある。また、光重合開始剤はアミン類などの光増感剤と組み合わせても使用できる。
光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化樹脂１００重量部に対して０．０１〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００６９】
本発明において、低屈折率層は、前述の低屈折率層を構成する材料を必要に応じて溶媒で希釈した低屈折率層形成用組成物を調整し、高屈折率層上に塗工した後、乾燥、硬化することにより低屈折率層の硬化膜を形成することができる。
【００７０】
塗工方法は特に制限されず、通常の方法、例えば、ドクターブレード法、グラビアロールコーター法、ディッピング法、スピンコート法、刷毛塗り法フレキソ印刷法などがあげられる。
【００７１】
低屈折率層形成用組成物の調製に用いることのできる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。
これらの中でも、塗布液の対流を抑制し、得られる低屈折率層の表面凹凸を低減する目的から、ＡＳＴＭ  Ｄ３５３９−８７に従い測定した酢酸ｎ-ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対蒸発速度で３以下である溶媒を用いることが好ましく、２以下である溶媒を用いることがより好ましい。このような有機溶剤としては、イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
【００７２】
低屈折率層形成用組成物中の固形分濃度は、溶液安定性を損なわない範囲で適宜調整することができる。低屈折率層を厚み精度よく形成することが好ましいため、通常、０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の程度とするのが、取扱い易く好ましい。
【００７３】
硬化は、低屈折率層形成用組成物に応じて、加熱および／または電離放射線を照射することにより行うことができる。硬化条件は使用する溶媒の沸点や飽和蒸気圧、透明基材の種類等により適宜に決定できるが、透明基材の着色や分解を抑えるため、加熱する場合には、通常１６０℃以下、ＵＶ照射する場合には通常６００ｍＪ／ｃｍ２以下とするのが好ましい。
【００７４】
また、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の表面の算術平均粗さ（Ｒａｌ）とＲａｈとの関係が、Ｒａｌ＜Ｒａｈとなることが好ましい。更に、Ｒａｌは０．０６μｍ以下であることが好ましく、０．０４μｍ以下であることがより好ましい。Ｒａｌがこれ以上であると、表面凹凸による外光の散乱が大きなり、表示画像の鮮明性が低下する傾向がある。
Ｒａｌを上記範囲にする方法としては、前述した範囲の蒸発速度を有する溶媒を用いることの他、低屈折率層形成用組成物の表面張力を小さくする方法が挙げられる。
低屈折率層形成用組成物の表面張力を小さくする方法としては、低屈折率層形成用組成物に前述の界面活性剤を添加する方法や、低屈折率層形成用組成物の固形分濃度を小さくする方法が挙げられる。
【００７５】
低屈折率層表面の水との接触角は、高屈折率層表面の水との接触角よりも高いことが好ましい。低屈折率層表面の水との接触角を、高屈折率層表面の水との接触角よりも高くすることによって、防汚性が向上する効果が得られる。
【００７６】
本発明においては、低屈折率層の上に防汚層を有していても良い。防汚層は、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために設けるものである。
防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長（ＣＶＤ）法；湿式コーティング法；等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。
【００７７】
本発明の反射防止フィルムの反射率は、波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５度で測定した最小値が１．５％以下であることが好ましい。最小反射率を１．５％以下にすることで、干渉ムラが更に抑制される。
最小反射率が１％以下の反射防止フィルムは、Ｒａｌを小さくし、且つ高屈折率層の屈折率ｎHと低屈折率層の屈折率ｎLとを、ｎH1/2−０．２＜ｎL＜ｎH1/2＋０．２の関係を有するように、高屈折率層と低屈折率層を積層することで得ることができる。
【００７８】
本発明の反射防止フィルムのヘイズは２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましい。ヘイズがこれ以上であると表示画像が白っぽくなる傾向があり視認性が低下する。
ヘイズが２％以下の反射防止フィルムは、高屈折率層及び／又は低屈折率層を、前述したレベリング剤を含む材料を用いて形成することで得ることができる。
【００７９】
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパー，タッチパネルなどの表示装置に、直接に貼合することにより、または偏光板保護フィルム、前面板など表示装置に組み込まれる表面部材と置き換えることにより用いることができる。
【実施例】
【００８０】
本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び％は特に断りのない限り重量基準である。
（透明フィルムの膜厚）
フィルムをエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム（大和工業社製、製品名「ＲＵＢ−２１００」）を用いてスライスし、走査電子顕微鏡を用いて断面を観察し、測定した。
（透明基材の屈折率）
透明基材の材料を単層で凹凸を設けずにをフィルム状に成形し、プリズムカプラー（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製、製品名「ｍｏｄｅｌ２０１０」）を用い、波長６３３ｎｍ，温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で測定した。
（高屈折率層および低屈折率層の屈折率）
高速分光エリプソメトリ(Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、製品名「Ｍ−２０００Ｕ」)を用い,入射角度をそれぞれ５５，６０，６５度、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で測定した場合の、波長領域４００〜１０００ｎｍのスペクトルから算出した
（耐擦傷性）
スチールウール＃００００に荷重０．０２５ＭＰａをかけた状態で、反射防止フィルムの低屈折率層の表面を１０往復させ、往復させた後の表面状態を目視で観測した。
○：傷が認められない。
△：スジ傷が３本以上ある。
×：スジ傷が８本以上ある。
（ヘイズ）
濁度計（日本電色社製、製品名「ＮＤＭ  ２０００」）を用いて測定した。
（最小反射率）
分光光度計（日本分光社製、製品名「Ｖ−５５０」）を用いて、波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５度での反射率を測定し（測定波長間隔は１ｎｍ）、前記波長域における最小反射率を算出した。
（Ｒａ、Ｓｍ測定）
表面粗さ計（ミツトヨ社製、製品名「ＳＪ４００」）を用い、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：１９９４に基づき測定を行った。
Ｓｍ（凹凸の平均間隔）とは、測定される断面曲線から、カットオフ値λｃの高域フィルタによって長波長成分を遮断して得られた輪郭曲線（粗さ曲線）を求め、粗さ曲線の平均線に対して基準長さ（Ｌ）を抜き取り、基準長さ上の隣り合う山と谷の長さ（Ｘｓｉ）の平均値のことである。Ｒａ（算術平均粗さ）とは、前記したような方法で粗さ曲線を求め、その曲線の基準長さにおける高さ（平均線から測定曲線までの距離）の絶対値の平均値のことである。
（接触角測定）
接触角測定器（協和界面科学社製、製品名「ＤＭ５００」）にて蒸留水を滴下し、２秒後の接触角を測定した。
（干渉ムラ）
反射防止フィルムの裏面に黒ビニールテープ（日東電工社製、Ｎｏ．２１）を貼り、暗室内で３波長の光源下に置き、反射防止フィルムの法線方向から方位角０°で観察し、干渉ムラの有り無しを目視検査する。
○：干渉ムラ無
×：干渉ムラ有
（鮮明性）
ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準じ、写像鮮明性測定装置（スガ試験機社製）により、０．５ｍｍ幅の光学くしで測定した。数値が高いほど鮮明性が高いことを意味する。
写像鮮明性は、試料からの透過光を移動する光学クシを通して測定し、その値を計算によって求めるものである。試料がボケを生じるものの場合、光学クシ上に結像されるスリットの像は、そのボケの影響で太くなるため、透過部の位置ではスリット像の両端が不透明部にかかり、１００％あった光量が減少する。また、不透明部の位置ではスリット像の両端は不透明部から光が漏れて、０％の光量が増加する。
鮮明性の値は、光学クシの透明部の透過光最大値Ｍと、不透明部の最小値ｍから次式によって定義される。
鮮明性の値 Ｃ（％）＝[（Ｍ−ｍ）／（Ｍ＋ｍ）] × １００
（コントラスト）
市販の液晶表示装置から反射防止フィルムを外して試験装置とした。
反射防止フィルムの反射防止層が形成されていない側をグリセリン（屈折率１．４９）を介して表示装置と密着させ、表示装置の黒表示、白表示を行い、輝度計（トプコン社製、製品名「ＢＭ−５」）にて反射防止フィルムの中心部分の輝度をはかり、コントラスト比＝白表示時の輝度／黒表示時の輝度として算出した。
【００８１】
（製造例１）透明フィルム１の作製
２種３層の多層共押出装置を使用して、両表面層を構成するポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＨＴ２０Ｙ」）、中間層を構成する耐熱性の高いポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＭＨ」）をそれぞれ、２０ｋｇ／ｈｒ、１０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させ、これを直後に線圧９ｋＮ／ｍ、ロール速度２０ｍ／ｍｉｎで、表面温度９０℃に加熱したＳｍが２５μｍの凹凸を有する賦形ロールと、表面温度９０℃に加熱した鏡面ロールでニップし、凹凸をフィルムに転写したのち、冷却を行い、３層構成の透明フィルム１を得た。
透明フィルム１を構成する各層の厚みは、凹凸が形成された側の表面層（表面層１）の厚みが４０μｍ、中間層が４０μｍ、凹凸が形成されていない側の表面層（表面層２）が４０μｍであり、透明フィルム１の総厚は１２０μｍであった。
透明フィルム１の凹凸が形成された面のＲａは０．０８μｍ、Ｓｍは２５μｍであり、表面層１の屈折率は１．４９、透明フィルムＳ１の凹凸が形成された面の接触角は８０度であった。
【００８２】
（製造例２）透明フィルム２の作製
製造例１において、鏡面ロール及び賦形ロールの温度を７０℃とし、Ｓｍが９０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ２を得た。透明フィルムＳ２の凹凸が形成された面のＲａは０．１１μｍ、Ｓｍは９０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１２であった。
【００８３】
（製造例３）透明フィルム３の作製
製造例２において、鏡面ロール及び賦形ロールの温度を９０℃とした以外は、製造例２と同様にして透明フィルムＳ３を得た。透明フィルムＳ３の凹凸が形成された面のＲａは０．１４μｍ、Ｓｍは９０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１６であった。
【００８４】
（製造例４）透明フィルム４の作製
製造例２において、線圧１２ｋＮ／ｍ、ロール速度１０ｍ／ｍｉｎとし、賦形ロールの温度を１２０℃とした以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ４を得た。透明フィルムＳ４の凹凸が形成された面のＲａは０．１８μｍ、Ｓｍは９０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００２であった。
【００８５】
（製造例５）透明フィルム５の作製
製造例１において、線圧１３ｋＮ／ｍ、ロール速度１０ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが１６５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ５を得た。透明フィルムＳ５の凹凸が形成された面のＲａは０．１８μｍ、Ｓｍは１６５μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１１であった。
【００８６】
（製造例６）透明フィルム６の作製
製造例１において、線圧１４ｋＮ／ｍ、ロール速度１０ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが１８０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ６を得た。透明フィルムＳ６の凹凸が形成された面のＲａは０．３μｍ、Ｓｍは１８０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１７であった。
【００８７】
（製造例７）透明フィルム７の作製
製造例１において、線圧７ｋＮ／ｍ、ロール速度３０ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが２０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ７を得た。透明フィルムＳ７の凹凸が形成された面のＲａは０．０３μｍ、Ｓｍは２０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１５であった。
【００８８】
（製造例８）透明フィルム８の作製
製造例１において、線圧１２ｋＮ／ｍとした以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ８を得た。透明フィルムＳ８の凹凸が形成された面のＲａは０．１５μｍ、Ｓｍは２５μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００６であった。
【００８９】
（製造例９）透明フィルム９の作製
製造例２において、Ｓｍが１２０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ９を得た。透明フィルムＳ９の凹凸が形成された面のＲａは０．１μｍ、Ｓｍは１２０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．０００８であった。
【００９０】
（製造例１０）高屈折率層形成用組成物Ｈ１の調製
アクリロイル基を含有するオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ−１７００Ｂ」）の１００部に、Ｓｂ２Ｏ５粒子（触媒化成工業社製、平均粒径３０ｎｍ）２００部と、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２部とを加え、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製、商品名「Ｘ−２２−１６４Ａ」）を１部加え、攪拌機にて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、高屈折率層形成用組成物Ｈ１を得た。
【００９１】
（製造例１１）高屈折率層形成用組成物Ｈ２の調製
製造例１０において、Ｓｂ２Ｏ５粒子２００部に代えて、Ｓｂ２Ｏ５粒子を５０部とした以外は、製造例１０と同様にして高屈折率層形成用組成物Ｈ２を得た。
【００９２】
（製造例１２）高屈折率層形成用組成物Ｈ３の調製
製造例１０において、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイルを加えなかった以外は、製造例１０と同様にして高屈折率層形成用組成物Ｈ３を得た。
【００９３】
（製造例１３）低屈折率層形成用組成物Ｌ１の調製
還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中にテトラエトキシシラン２０部とトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン社製、商品名「ＴＳＬ８２５７」）４部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を５時間続けた後冷却し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈することにより液１を調製した。
次に、中空シリカ微粒子（数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．２９）を前記液１の固形分に対し８０重量％になるように添加し、低屈折率層形成用組成物Ｌ１を調製した。
【００９４】
（製造例１４）低屈折率層形成用組成物Ｌ２の調製
アクリロイル基を含有するモノマー（旭電化工業社製、商品名「オプトマーＫＲ５６６」）１００部に光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２部、中空シリカ微粒子（数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．２９）１５０部と、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製、商品名「Ｘ−２２−１６４Ａ」）１０部を加え、攪拌機にて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、低屈折率層形成用組成物Ｌ２を得た。
【００９５】
（製造例１５）低屈折率層形成用組成物Ｌ３の調製
製造例１４において、中空シリカ微粒子１５０部に代えて、中空シリカ微粒子を１００部とした以外は、製造例１４と同様にして低屈層形成用組成物Ｌ３を得た。
【００９６】
（製造例１６）低屈折率層形成用組成物Ｌ４の調製
製造例１４において、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイルを加えなかった以外は、製造例１４と同様にして低屈層形成用組成物４を得た。
【００９７】
（実施例１）
製造例１で得られた透明フィルムＳ１の凹凸が形成された面に、製造例４で得られた高屈折率層形成用組成物Ｈ１をバーコーターで塗布した後、紫外線照射機を用いて波長３００〜３９０ｎｍの範囲において積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行い硬化させ、厚み３μｍの項屈折率層を形成させて、透明フィルム／高屈折率層となる積層体を得た。高屈折率層の屈折率は１．６２であり、高屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は９０°であった。
次に、高屈折率層の上に、製造例７で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ１をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を６０℃で１分間乾燥・硬化させ、厚み１００ｎｍの低屈折率層を形成し、本発明の反射防止フィルム１を得た。低屈折率層の屈折率は１．３７であり、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は１１０°であった。
反射防止フィルム１の評価結果を表１に示す。
【００９８】
（実施例２）
実施例１において、透明フィルム１の代わりに透明フィルムＳ２を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム２を得た。
反射防止フィルム２の評価結果を表１に示す。
【００９９】
（実施例３）
実施例１において、透明フィルム１の代わりに透明フィルムＳ３を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム３を得た。
反射防止フィルム３の評価結果を表１に示す。
【０１００】
（実施例４）
実施例１において、透明フィルム１の代わりに透明フィルムＳ４を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム４を得た。
反射防止フィルム４の評価結果を表１に示す。
【０１０１】
（実施例５）
実施例１において、透明フィルム１の代わりに透明フィルムＳ５を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム５を得た。
反射防止フィルム５の評価結果を表１に示す。
【０１０２】
（実施例６）
実施例１において、低屈折率層用形成組成物Ｌ１の代わりに、製造例１３で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ２を用い、高屈折率層の上に、低屈折率層用形成組成物Ｌ２をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を６０℃で１分間乾燥させ、波長３００〜３９０ｎｍの範囲において積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行い硬化させた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム６を得た。低屈折率層の屈折率は１．３７であり、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は１１０°であった。
反射防止フィルム６の評価結果を表１に示す。
【０１０３】
（実施例７）
実施例１において、低屈折率層用形成組成物Ｌ１の代わりに、製造例１４で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ３を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム７を得た。低屈折率層の屈折率は１．４２であり、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は１１０°であった。
反射防止フィルム７の評価結果を表１に示す。
【０１０４】
（実施例８）
実施例１において、低屈折率層用形成組成物Ｌ１の代わりに、製造例１５で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ４を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム８を得た。低屈折率層の屈折率は１．３７であり、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は６０°であった。
反射防止フィルム８の評価結果を表１に示す。
【０１０５】
（実施例９）
実施例６において、高屈折率層用形成組成物Ｈ１の代わりに、製造例１０で得られた高屈折率層用形成組成物Ｈ２を用いた以外は実施例６と同様にして反射防止フィルム９を得た。高屈折率層の屈折率は１．５５であり、高屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は９０°であった。
反射防止フィルム９の評価結果を表１に示す。
【０１０６】
（実施例１０）
実施例６において、高屈折率層用形成組成物Ｈ１の代わりに、製造例１１で得られた高屈折率層用形成組成物Ｈ３を用いた以外は実施例６と同様にして反射防止フィルム１０を得た。高屈折率層の屈折率は１．６２であり、高屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は６０°であった。
反射防止フィルム１０の評価結果を表１に示す。
【０１０７】
（比較例１）
実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ６を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１１を得た。
反射防止フィルム１１の評価結果を表１に示す。
【０１０８】
（比較例２）
実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ７を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１２を得た。
反射防止フィルム１２の評価結果を表１に示す。
【０１０９】
（比較例３）
実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ８を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１３を得た。
反射防止フィルム１３の評価結果を表１に示す。
【０１１０】
（比較例４）
実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ９を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１４を得た。
反射防止フィルム１４の評価結果を表１に示す。
【０１１１】
上記で作製した実施例１〜１０、および、比較例１〜４の反射防止積層体について、耐擦傷性、最小反射率、干渉ムラを評価して、その結果を表１に示した。
【０１１２】
【表１】
2009211061.tif 000002
【０１１３】
表１から、本願が規定する凹凸を有する透明フィルムＳ１〜Ｓ５を用いて得られる反射防止フィルムは、色ムラがなく、鮮明性が高いので、表示装置に用いた際に視認性を低下させにくいことがわかる。これに対し、本願が規定する範囲の上限を超えるＲａの値を有する透明フィルムを用いて得られた比較例１の反射防止フィルム、および、本願の規定する範囲の上限を超えるＲａ／Ｓｍの値を有する透明フィルムを用いて得られた比較例３は干渉ムラが抑制されるものの、鮮明性に劣った。
一方、本願が規定する範囲の下限以下のＲａの値を有する透明フィルムを用いて得られた比較例２の反射防止フィルム、および本願が規定する範囲の下限以下のＲａ／Ｓｍの値を有する透明フィルムを用いて得られた比較例４の反射防止フィルムは鮮明性が高いものの、干渉ムラが発生した。
【符号の説明】
【０１１４】
１                  透明フィルム
２                  高屈折率層
３                  低屈折率層
４                  凹凸
５                  反射防止フィルム
【図１】
2009211061.tif 000003