(57)【要約】【課題】カラーフィルタの製造方法うち、カラーフィルタパターン検査工程において、検査機で検出するカラーフィルタ基板の欠陥に対し、Ｘ方向またはＹ方向の同一座標位置上に多数の欠陥を検出したカラーフィルタ基板を共通欠陥は発生した製品異常として検出結果を出力するカラーフィルタパターン検査機における軸方向の共通欠陥処理方法を提供すること。【解決手段】基板上に、カラーフィルタパターンを備えたカラーフィルタを製造する工程で、基板上複数のチップを多面付け形成したカラーフィルタの欠陥を検出するカラーフィルタパターン検査機の検査工程が、画像からデータ画像へ変換し、該データ画像の特徴抽出、比較照合よる欠陥異常を抽出し、欠陥の位置座標が、Ｘ軸方向、又はＹ軸方向に同一となる複数の欠陥を軸方向共通欠陥とし、追加して分類するカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法。【選択図】図１
2009115884.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタ基板上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラー画素からなるカラーフィルタパターンを備えたカラーフィルタを製造する工程で、
同一基板上に複数のチップを多面付け形成したカラーフィルタの欠陥を検出するカラーフィルタパターン検査機による検査工程が、
装置の撮像部による画像から装置のデータ処理部によるデータ画像へ変換し、該データ画像の特徴抽出、比較照合よる欠陥異常を抽出し、
欠陥と判定したあと、欠陥の種類、形状、位置座標の、欠陥特徴を出力する欠陥処理と、処理した欠陥の位置座標が同一となる基板間共通欠陥、又はチップ間の共通欠陥とし、分類するカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法において、
欠陥の位置の座標値が、
Ｘ軸方向、又はＹ軸方向に同一となる複数の欠陥を軸方向共通欠陥とし、追加して分類することを特徴とするカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法。
【請求項２】
前記軸方向共通欠陥が、基板上座標（Ｘ、Ｙ）のＸ軸方向、若しくはＹ軸方向に同一となる基板間共通欠陥と、チップ上座標（ｘ、ｙ）のｘ軸方向、若しくはｙ軸方向に同一となるチップ間共通欠陥とに分類することを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの製造工程で、そのカラーフィルタパターンの欠陥を検出するカラーフィルタパターン検査機による検査工程が、装置の撮像部、データ処理部による欠陥異常を抽出し、欠陥の位置座標等の、欠陥特徴を出力する欠陥処理方法であり、特に位置座標が同一となる欠陥に係る、カラーフィルタパターン検査機における軸方向の共通欠陥処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来技術では、カラーフィルタパターン検査機へ連続して検査投入されたカラーフィルタ基板の検査結果において、基板上の同一座標位置に欠陥がある場合、該欠陥を基板間共通欠陥としていた。基板間共通欠陥を検出した場合、その是正のための再点検の範囲が狭められ、且つ基板間共通欠陥の技術情報データベースとの照合、例えば、位置の特徴、形状の類似、等の発生履歴データとの比較、照合され、その結果から制限された複数の点検部位がリストアップされ、極短時間に是正される。すなわち欠陥特徴に注目し、そのグループ分類の手順がルールかされ、グループ毎に発生履歴のデータベース化とノウハウを構築することが重要な課題となる。欠陥是正の効率化は、欠陥のグループ分類の可否が重要となる。
【０００３】
図３は、従来のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法の事例を説明する上面図であり、（ａ）カラーフィルタであり、（ｂ）は、基板間共通欠陥であり、（ｃ）は、チップ間共通欠陥である。
【０００４】
図３（ａ）は、カラーフィルタであり、基板１にはチップ２が４面配置されている。カラーフィルタは、検査前の状態であり、完成品若しくは仕掛品である。図上、基板の左上に基板原点があり、ＸＹ（０、０）の位置であり、縦方向がＸ軸であり、横方向がＹ軸である。欠陥検査の欠陥情報は、座標系ＸＹ（ｎ、ｍ）で欠陥位置を出力する。なお、基板の搬送方向は、横方向（Ｙ）であり、基板原点ＸＹ（０、０）のＸ軸上の原点位置と、製造装置のＸ軸（装置の幅方向）の位置は決められている。このため、装置の特定部位での基板上のＸ軸位置は同一となる。すなわち、製造装置上の部位と、基板上の座標位置若しくはチップ上の座標位置は双方向に演算することができる。
【０００５】
図３（ｂ）は、検査が完了した状態である。１枚目のカラーフィルタ基板１上には、４個のカラーフィルタのチップ２が配置形成され、うち１個のチップに欠陥１１が１個を検出した。同様に、２枚目のカラーフィルタ基板１でも欠陥１１が１個を検出した。この場合、１枚目及び２枚目の欠陥１１は、両欠陥１１の発生位置を算出し、同一位置であるため基板間共通欠陥２１にグループ分類した。この場合は、基板間共通欠陥としてその原因追跡と、原因除去し是正をする。前記位置は、座標値で算出されており、基板原点の位置は規定されており、その算出方法は検査装置内のデータ処理部に手順が収納されている。図３（ｂ）では、基板原点ＸＹ（０、０）は、例えば、基板左上角とし、縦方向がＸ軸、横方向がＹ軸となる。
【０００６】
同様に、カラーフィルタパターン検査機に投入されたカラーフィルタ基板に対して、複数のチップを配列した多面付け基板で、チップ上の同一座標位置に欠陥がある場合、該欠陥をチップ間共通欠陥とした。
【０００７】
図３（ｃ）は、検査が完了した状態である。１枚目のカラーフィルタ基板１上には、４個のカラーフィルタのチップ２が配置形成され、すべてのチップ毎に欠陥１２が１個を検
出した。この場合、１枚目の欠陥１２は、その欠陥の発生位置を算出し、同一座標位置であるためチップ間共通欠陥２２にグループ分類した。その原因追跡と、原因を除去する。前記位置は、座標値で算出されており、通常チップ原点の位置が規定され、検査装置内のデータ処理部にその算出手順が収納されている。
【０００８】
図３（ｃ）では、チップ原点ｘｙ（０、０）は、例えば、各チップ左上角とし、縦方向がｘ軸、横方向がｙ軸となる。通常では、基板上の座標系は、例えば、グローバル座標系ＸＹ（０、０）と、チップ内の座標系は、例えば、ローカル座標系ｘｙ（０、０）とし、検査装置のデータ処理部で双方向に座標変換する手順が収納されている。すなわち、座標ＸＹ（０，０）と座標ｘｙ（０，０）は、座標値の変換ができる。
【０００９】
次に、カラーフィルタの製造方法を説明する。カラーフィルタ基板は、１枚の基板上に、１画面のカラーフィルタパターン（以下チップと記す）を一個、又は複数個を配列したものである。通常、カラーフィルタ基板は多面付けのレイアウトにより製造される。基板は、カラーフィルタ生産工程へ枚葉式に１枚、１枚と連続して投入する。最初に、基板全面に遮光膜等を形成する。製造プロセスは、例えば、感光性レジストの塗布、フォトマスクを介した転写露光、現像等による、すなわちフォトリソグラフィー法によるパターン形成する。次いで、フォトリソグラフィーのレジスト塗布、露光、現像の処理を用いた、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々のカラー画素を形成する。この工程で、基板上にはカラーフィルタパターンが形成され、次いで、カラーフィルタの検査、主として欠陥検査を実行する。次いで、基板からカラーフィルタパターンまでの全面に透明電極層を形成する。以上によりカラーフィルタが完成する。
【００１０】
カラーフィルタパターン検査機は、基板を連続投入し、撮像部で、透過若しくは反射の光を照射しながら、撮影した画像（以下撮像画像と記す）を抽出し、撮像画像からデジタル画像化の処理、例えば、公知の技術であるデータ処理方法等の演算により所望のデジタルデータ（以降データと記す）を算出する。次いで、装置のデータ処理部による該データからデータ画像を作成する。カラーフィルタパターン検査機では、そのデータ処理部がデータ画像から、特徴抽出、比較照合等々の欠陥抽出を実行し、所定の手順で欠陥判定し、欠陥の種類、形状、位置座標、欠陥特徴等を出力する。カラーフィルタ検査機は、工程内の品質、特に欠陥関連で異常点を抽出する場合と、製品としての品質保証の役割がある。製造工程内で欠陥の異常点を検出した場合、製造工程を停止し、是正処置を行う場合がある。
【００１１】
従来のカラーフィルタパターン検査機の技術では、検出した欠陥は、その形状、寸法、欠陥層の区分、欠陥層形成の区分等を個別にデータベース化し、各々欠陥の属性として付与され、欠陥発生の対策に活用する。また、前記属性うちから、欠陥位置に注目し、同一座標の欠陥のグループを共通欠陥と認識し、発生原因の追跡に活用、解決対策に効果がある。近年、カラーフィルタでは、品質への要求レベルが高まり、品質の微細化と超洗浄化が必要条件となっている。基板の大型化及び生産装置の高速化に伴い、基板汚染等の欠陥発生時の、短時間の是正処理が重要な課題となってきた。
【００１２】
近年、製造装置の大型化、高速度化、等により、例えば装置の部位に起因し、連続性で、間欠の欠陥が目立ち、その欠陥の検出と、その是正処置の短時間化が重要となってきた。例えば、基板の汚染や、キズ欠陥では、基板に接触した装置の部位が主原因となり、基板の搬送方向に直行（Ｘ軸方向）か、又は平行（Ｙ軸方向）で、連続性のある、間歇性ある欠陥がある。この場合、カラーフィルタパターン検査機における軸方向での同一位置の延長線上に発生する共通欠陥である。その欠陥の位置座標値のうち、例えばＸ軸、又はＹ軸の座標値が同一となる特徴がある。なお、軸方向での同一位置とは、その同一となる範囲に幅を設定する場合もある。共通欠陥とは、含まれる欠陥数を制限、例えば３個以上と制限することもある。
【００１３】
従来技術の、基板間共通欠陥２１及びチップ間共通欠陥２２では、基板間やチップ間の同一座標のみを共通欠陥として分類していた。例えば、パターン共通欠陥は、Ｘ座標、Ｙ座標ともに同一座標の場合のみであり、それ以外は共通欠陥として認識されていない。当然、Ｘ座標、又はＹ座標のみ同一座標の場合、該パターンは共通欠陥と認識されずに、単独欠陥と認識されており、欠陥分類不備による、原因対策の是正が遅れ、すなわち、迅速性に問題が発生する場合がある。
【００１４】
図４は、従来のカラーフィルタパターン検査機における単独欠陥処理方法の事例を説明する上面図であり、（ａ）検査の１枚面のカラーフィルタであり、（ｂ）は、２枚目のカラーフィルタである。図４（ａ）は、検査完了の状態である。１枚目のカラーフィルタ基板１上には、４個のカラーフィルタのチップ２が配置形成され、すべてのチップ上に個別となる欠陥１３が８個検出されている。この場合、１枚目の欠陥１３は、各々欠陥１３の発生位置ＸＹ（ｎ、ｍ）を算出し、共通となるグループ化から除外されている。その欠陥が単独とされ、その原因追跡と、原因除去をする。すなわち、従来技術では、図４（ａ）では、基板間、又はチップ間の共通欠陥の分類から除外されており、座標値から算出された特徴性が活用されていない問題がある。図４（ｂ）では、検査完了の状態であり、単独の欠陥１３に分類されている。図４（ａ）（ｂ）では、位置Ｘ軸，Ｙ軸方向に顕著な規則性があり、共通欠陥に近似した欠陥グループと視認できるし、各々欠陥１３が個別で、共通欠陥でないと判断するには問題がある。
【００１５】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開平８−１９４１１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の課題は、カラーフィルタの製造方法うち、カラーフィルタパターン検査工程において、検査機で検出するカラーフィルタ基板の欠陥に対し、Ｘ方向またはＹ方向の同一座標位置上に多数の欠陥を検出したカラーフィルタ基板を共通欠陥は発生した製品異常として検出結果を出力するカラーフィルタパターン検査機における軸方向の共通欠陥処理方法を提供すること。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の請求項１に係る発明は、カラーフィルタ基板上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラー画素からなるカラーフィルタパターンを備えたカラーフィルタを製造する工程で、
同一基板上に複数のチップを多面付け形成したカラーフィルタの欠陥を検出するカラーフィルタパターン検査機による検査工程が、
装置の撮像部による画像から装置のデータ処理部によるデータ画像へ変換し、該データ画像の特徴抽出、比較照合よる欠陥異常を抽出し、
欠陥と判定したあと、欠陥の種類、形状、位置座標の、欠陥特徴を出力する欠陥処理と、処理した欠陥の位置座標が同一となる基板間共通欠陥、又はチップ間の共通欠陥とし、分類するカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法において、
欠陥の位置の座標値が、
Ｘ軸方向、又はＹ軸方向に同一となる複数の欠陥を軸方向共通欠陥とし、追加して分類することを特徴とするカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法である。
【００１８】
本発明の請求項２に係る発明は、前記軸方向共通欠陥が、基板上座標（Ｘ、Ｙ）のＸ軸
方向、若しくはＹ軸方向に同一となる基板間共通欠陥と、チップ上座標（ｘ、ｙ）のｘ軸方向、若しくはｙ軸方向に同一となるチップ間共通欠陥とに分類することを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のカラーフィルタパターン検査機における軸方向の共通欠陥処理方法を用いることにより、カラーフィルタ基板上のＸ軸方向、又はＹ軸方向のみの同一座標にある欠陥グループに対し、カラーフィルタパターン検査機が軸方向共通欠陥として認識できるため、軸方向共通欠陥のカラーフィルタ基板を製品異常と早期判定、早期是正が可能となり、製品異常の大量発生する問題を解消できる効果がある。
【００２０】
本発明のカラーフィルタパターン検査機における軸方向の共通欠陥処理方法を用いることにより、カラーフィルタ基板上のＸ軸方向、又はＹ軸方向のみの同一座標にある欠陥グループに対し、カラーフィルタパターン検査機が基板間、又はチップ間の、軸方向共通欠陥として認識できるため、パターンムラ、広域のパターン領域等、軸方向共通欠陥の早期発見が可能となり、軸方向共通欠陥グループの、個別欠陥の解析やレビュー時間が短縮され、製品異常の早期是正ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明のカラーフィルタパターン検査機における軸方向の共通欠陥処理を一実施形態に基づいて以下説明する。
【００２２】
カラーフィルタ基板上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラー画素からなるカラーフィルタパターンを備えたカラーフィルタを製造する工程で、同一基板上に複数のチップを多面付け形成したカラーフィルタの欠陥を検出するカラーフィルタパターン検査機による検査工程が、装置の撮像部による画像から装置のデータ処理部によるデータ画像へ変換し、該データ画像の特徴抽出、比較照合よる欠陥異常を抽出し、欠陥と判定したあと、欠陥の種類、形状、位置座標の、欠陥特徴を出力する欠陥処理と処理した欠陥の位置座標が同一となる基板間共通欠陥、又はチップ間の共通欠陥とし、分類するカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理において、本発明のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法では、欠陥の位置の座標値が、Ｘ軸方向、又はＹ軸方向に同一となる複数の欠陥を軸方向共通欠陥とし、追加して分類することを特徴とする。
【００２３】
図１は、本発明のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法の一事例を説明する上面図である。
【００２４】
図１は、基板１上にチップ２が配列されている。欠陥の位置の座標値が、Ｘ軸方向に同一となる複数の欠陥１３を軸方向共通欠陥とし、Ｘ軸方向共通欠陥２３ａと分類し、Ｙ軸方向に同一となる複数の欠陥１３を軸方向共通欠陥とし、Ｙ軸方向共通欠陥２３ｂに分類される。本発明では、Ｘ軸方向共通欠陥２３ａとＹ軸方向共通欠陥２３ｂを合わせて、軸方向共通欠陥２３としてデータ管理する。Ｘ軸方向共通欠陥２３ａは、４個の欠陥の座標ＸＹのうち、Ｙ軸上の座標値が同一となる特徴がある。一方、Ｙ軸方向共通欠陥２３ｂは、４個の欠陥の座標ＸＹのうち、Ｘ軸上の座標値が同一となる特徴がある。
【００２５】
図１に示すように、個別欠陥を検出した場合、欠陥グループ２３ａでは、Ｙ軸座標が同一であるため、Ｘ軸方向共通欠陥２３ａとして認識する。欠陥グループ２３ａは、Ｙ軸座標値が同一であるため、設備の幅方向に配置した設備部位と強い因果関係がある。一方、欠陥グループ２３ｂでは、Ｘ軸座標が同一であるため、Ｙ軸方向共通欠陥２３ａとして認識する。欠陥グループ２３ｂは、Ｘ軸座標値が同一であるため、設備の長さ方向、すなわち、基板の搬送方向に配置した設備部位と強い因果関係がある。
【００２６】
本発明のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法では、前記軸方向共通欠陥を基板上座標（Ｘ、Ｙ）のＸ軸方向、若しくはＹ軸方向に同一となる基板間共通欠陥と、チップ上座標（ｘ、ｙ）のｘ軸方向、若しくはｙ軸方向に同一となるチップ間共通欠陥とに分類する。このため、基板間、又はチップ間共通欠陥、及び設備の幅方向、又は基板搬送方向の軸方向共通欠陥に細分化され、共通欠陥のグループが増加し、単独欠陥の数の減少に伴い、各々の欠陥の解析やレビュー時間が短縮され、製品異常の早期是正ができる。
【００２７】
図２は、本発明のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法の一事例を説明する上面図であり、（ａ）は、Ｘ軸方向基板間共通欠陥であり、（ｂ）は、Ｘ軸方向チップ間共通欠陥である。
【００２８】
図２（ａ）は、Ｘ軸方向共通欠陥２３ａのグループに分類した、事例であり、各欠陥１３の座標の特徴面、例えば基板間を比較した場合同一となる場合では軸方向基板間共通欠陥３１とした。
【００２９】
図２（ｂ）は、Ｘ軸方向共通欠陥２３ａのグループに分類した、事例であり、各欠陥１３の座標の特徴面、例えばチップ間を比較した場合同一となる場合では軸方向チップ間共通欠陥３２とした。
【００３０】
図２（ａ）〜（ｂ）では、個別欠陥を検出した場合、その欠陥が軸方向共通欠陥、例えば、Ｘ軸方向共通欠陥２３ａの場合、その配置位置の一致の特徴から分類される場合がある。図２（ａ）は、１枚目と２枚目であり、基板上の座標、すなわち、グローバル座標（Ｘ、Ｙ）で両基板を照合した場合に、同一の座標値、すなわち、Ｙ軸座標が同一であるため、Ｘ軸方向基板間共通欠陥３１として認識する。
【００３１】
図２（ｂ）は、チップ上の座標、すなわち、ローカル座標（ｘ、ｙ）で基板上のチップ間を照合した場合に、同一の座標値、すなわち、ｙ軸座標が同一であるため、ｘ軸方向チップ間共通欠陥３２として認識する。
【００３２】
本発明では、共通欠陥でのグループ分類が基板間、チップ間と、追加して分類した軸方向基板間共通欠陥、軸方向チップ間共通欠陥に細分化されることとなり、欠陥の異常を検知した場合、欠陥の発生での原因追及の時間が大幅に短縮される。蓄積された技術ノウハウや、技術データベース等を駆使し工程内の品質変動、特に欠陥関連項目を常時モニターする監視体制が可能となり、欠陥発生のための設備停止の予防、品質不良の発生を抑止する。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法の一事例を説明する上面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法の一事例を説明する上面図であり、（ａ）は、Ｘ軸方向共通欠陥であり、（ｂ）は、Ｘ軸方向チップ間共通欠陥である。
【図３】従来のカラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法の事例を説明する上面図であり、（ａ）カラーフィルタであり、（ｂ）は、基板間共通欠陥であり、（ｃ）は、チップ間共通欠陥である。
【図４】従来のカラーフィルタパターン検査機における単独欠陥処理方法の事例を説明する上面図であり、（ａ）検査１枚面のカラーフィルタであり、（ｂ）は、２枚目のカラーフィルタである。
【符号の説明】
【００３４】
１…カラーフィルタ基板、基板
２…チップ
１１…欠陥
１２…欠陥
１３…欠陥
２１…基板間共通欠陥
２２…チップ間共通欠陥
２３…軸方向共通欠陥
２３ａ…Ｘ軸方向共通欠陥
２３ｂ…Ｙ軸方向共通欠陥
３１…軸方向基板間共通欠陥
３２…軸方向チップ間共通欠陥
【図１】
2009115884.tif 000003
【図２】
2009115884.tif 000004
【図３】
2009115884.tif 000005
【図４】
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