(57)【要約】【課題】ハードディスクパターンを描画するにあたり、パターン描画の精度を低下させることなく、描画時間を短縮する。【解決手段】多数の同心円トラックの描画を順次行うに際して、１つの描画トラックの描画後、隣接描画トラックの描画を行うためのトラック送り方法として、低速偏向アンプ５４の出力に基づいた偏向手段２１によるトラック送りおよびステージ直線移動手段４８による回転ステージ４１を半径方向に直線移動させることによるトラック送りに併せて、高速偏向アンプ５３の出力により偏向可能な範囲において、偏向手段２１が高速偏向アンプ５３の出力に基づいてトラック送りを行う。【選択図】図４
2009211757.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転ステージ上に載置された、レジストが塗布された基板上に、前記回転ステージを一方向に回転させつつ、電子ビームを走査して、複数のエレメントから構成される微細パターンを描画する電子ビーム描画方法において、
前記電子ビームを、少なくとも前記回転ステージの半径方向へ偏向させる偏向手段と、前記偏向手段により前記電子ビームの照射位置を半径方向に偏向させてトラック送りを行うための低速偏向アンプと、前記偏向手段により前記エレメントを描画する際に前記電子ビームを高速偏向させるための、前記低速偏向アンプより周波数限界の高い高速偏向アンプを備えた偏向手段制御部と、前記回転ステージを前記半径方向に直線移動させるステージ直線移動手段とを備えた電子ビーム描画装置を用い、
前記微細パターンが、周方向にサーボ領域とデータ領域を交互に有する同心円トラック状のハードディスクパターンであり、多数の同心円トラックの描画を順次行うに際して、トラック送り方法として、
前記低速偏向アンプの出力に基づいた前記偏向手段によるトラック送りおよび前記ステージ直線移動手段による回転ステージを半径方向に直線移動させることによるトラック送りに併せて、前記高速偏向アンプの出力により偏向可能な範囲において、前記偏向手段が前記高速偏向アンプの出力に基づいてトラック送りを行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。
【請求項２】
前記偏向手段が、前記電子ビームを前記半径方向と直交する方向にも偏向させるものであり、
前記微細パターンの描画は、前記基板を一方向に回転させつつ、前記偏向手段により、前記電子ビームを、前記直交する方向に高速に往復振動させると共に、前記半径方向および前記直交する方向に偏向を行い、前記エレメントの形状を順次塗りつぶすように走査制御して行うことを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画方法。
【請求項３】
前記高速偏向アンプおよび前記低速偏向アンプの出力を初期値に設定し、このときの前記電子ビームの照射位置を基準位置とし、
（ａ）前記基準位置から所定の複数番目の描画トラックまで、前記回転ステージが１回転する毎に高速偏向アンプの出力を変化させて１描画トラックピッチ分ずつ前記電子ビームの照射位置を半径方向に移動させてトラック送りを行い、
（ｂ）前記高速偏向アンプの出力を前記初期値に戻すと共に、前記低速偏向アンプの出力を変化させて前記複数番目の描画トラックから１描画トラックピッチ分、前記電子ビームの照射位置を半径方向に移動させてトラック送りを行い、
（ｃ）  （ｂ）の工程後に前記電子ビームが照射されている半径方向位置を新たな基準位置として、少なくとも（ａ）を１回、もしくは（ａ）、（ｂ）を少なくとも１回行い、
（ｄ）前記高速偏向アンプおよび前記低速偏向アンプの出力を前記初期値に戻すと共に、前記回転ステージ直線移動手段により前記回転ステージを前記半径方向に直線移動させてさらにトラック送りを行い、このトラック送りの後に前記電子ビームが照射している位置を新たな基準位置とし、
（ａ）〜（ｄ）の工程を複数回繰り返して順次トラック送りを行うことを特徴とする請求項１または２記載の電子ビーム描画方法。
【請求項４】
前記回転ステージがロータリエンコーダを備え、
（ｂ）の工程において、前記低速偏向アンプの出力を変化させて行うトラック送りは、前記回転ステージの所定の回転位置で前記ロータリエンコーダから発生する第１のエンコーダパルスに基づいて行うものであり、該トラック送り後の描画開始を、前記第１のエンコーダパルスの発生位置から前記回転ステージが１回転する前に生じる第２のエンコーダパルスに基づいて行うことを特徴とする請求項３記載の電子ビーム描画方法。
【請求項５】
前記第２のエンコーダパルスが、前記サーボ領域もしくはデータ領域のうち、前記トラック送り後に描画位置に最初に先頭が位置する領域の直前に発生するエンコーダパルスであることを特徴とする請求項４記載の電子ビーム描画方法。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法を実現するための描画データ信号を送出する信号送出装置と、
電子ビームを走査する電子ビーム描画装置であって、レジストが塗布された基板が載置される回転ステージ、前記レジスト上に微細パターンを描画するための電子ビームを出射する電子銃、前記電子銃から出射された前記電子ビームの照射位置を、前記被描画体上において前記同心円の半径方向に偏向させる偏向手段、該偏向手段により前記電子ビームの照射位置を半径方向に偏向させてトラック送りを行うための低速偏向アンプと、前記偏向手段により前記エレメントを描画する際に前記電子ビームを高速偏向させるための、前記低速偏向アンプより周波数限界の高い高速偏向アンプとを備えた偏向手段制御部、前記回転ステージを前記半径方向に直線移動させるステージ直線移動手段、および、前記微細パターンとして、周方向にサーボ領域とデータ領域を交互に有する同心円トラック状のハードディスクパターンを描画する際のトラック送り時に、前記低速偏向アンプの出力に基づいた前記偏向手段によるトラック送りおよび前記ステージ直線移動手段により回転ステージを半径方向に直線移動させることによるトラック送りに併せて、前記高速偏向アンプの出力により偏向可能な範囲において、前記偏向手段が前記高速偏向アンプの出力に基づいてトラック送りを行うように、前記描画データ信号に基づいて前記偏向手段制御部と前記ステージ直線移動手段とを制御するトラック送り制御部を備えた電子ビーム描画装置とからなることを特徴とする微細パターン描画システム。
【請求項７】
レジストが塗布された基板に、請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法により所望の微細パターンを描画露光し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て、表面に凹凸パターンを有するインプリントモールドを製造することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
【請求項８】
所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを有する磁気ディスク媒体をインプリント法により製造する製造方法であって、
前記インプリント法に用いるインプリントモールドとして、レジストが塗布された基板に、請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法により前記所望の微細パターンを描画露光し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て製造されたインプリントモールドを用いることを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスクリートトラックメディアやビットパターンメディアなどの高密度磁気記録媒体用のインプリントモールドや磁気転写用マスター担体などを作製する際に、所望の凹凸パターンに応じたパターンを描画するための電子ビーム描画方法および該電子ビーム描画方法を実施するための微細パターン描画システムに関するものである。
【０００２】
また、本発明は、上記電子ビーム描画方法を用いた描画を行う工程を経て製造する、凹凸パターン表面を有するインプリントモールドの製造方法、さらにはインプリントモールドを用いた磁気ディスク媒体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
現状の磁気ディスク媒体では一般に同心円状のトラック配置が採用されており、サーボパターンなどの情報パターンは同心円状のトラックに沿って形成されている。また、記録密度のさらなる高密度化の要請から、隣接するデータトラックを溝（グルーブ）からなるグルーブパターン（ガードバンド）で分離し、隣接トラック間の磁気的干渉を低減するようにしたディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）が注目されている。さらに高密度化を図るために提案されているビットパターンメディア（ＢＰＭ）は単磁区を構成する磁性体（単磁区微粒子）が物理的に孤立して規則的に配列されてなり、微粒子１個に１ビットを記録するメディアである。
【０００４】
上記サーボパターン等の微細パターンを備えた磁気ディスク媒体の製造には、磁気転写用マスター担体やインプリントモールドの原盤を用いる方法が提案されている。この原盤の製造には、レジストが塗布された基板上に電子ビームを用いて微細パターンをパターニングする方法が提案されている。この電子ビームによる微細パターンの描画方法は、レジストが塗布された基板を回転ステージ上に載置し、該回転ステージを回転させることにより基板を回転させながら、パターン形状に対応して変調した電子ビームを照射することによって行うものである（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００５】
上記特許文献１には、サーボパターンを構成するトラックの幅方向に延びる矩形または平行四辺形のエレメントを描画する際に、電子ビームを周方向に高速振動させつつ半径方向に偏向させて、このエレメントを塗りつぶすように走査して１回転で１トラック分のパターンを描画する電子ビーム描画方法が開示されている。
【０００６】
また、特許文献２には、オン・オフ描画方法として、レジストが塗布された基板を回転させながら、パターン形状に対応して電子ビームをオン・オフ照射し、基板または電子ビーム照射装置を１回転に１ビーム幅ずつ半径方向に移動させて複数回転（例えば８回転、あるいは１６回転など）で１トラック分のパターン描画を行う方法、およびパターンのトラック幅方向に電子ビームを往復振動させて１回転で１トラック分のパターン描画を行う方法が開示されている。なお、ここで１回転で描画する領域を１描画トラックと称する、したがって、電子ビームを往復振動させて１回転で１トラック分のパターンを描画する場合は、１トラックと１描画トラックは同一であるが、オン・オフ描画の場合には、複数描画トラックで１トラック（例えば、８描画トラックで１トラックあるいは１６描画トラックで１トラックなど）である。
【０００７】
これらのパターン描画の際には、複数の同心円トラックを１描画トラック毎描画し、順次隣接描画トラックに描画位置を移動するトラック送り（半径方向送り）を行い、全ての同心円トラックの描画を順次行っている。トラック送りの際に回転ステージの回転を一旦止め、トラック送り後に回転を再開すると、回転が安定するまでの間、描画を開始することができず、時間ロスが大きいことから、通常は全面の描画を終えるまで回転ステージの回転を止めることなく、回転させたまま、１描画トラックの描画に引き続きトラック送りを行って、順次隣接描画トラックの描画を行っている。
【０００８】
トラック送りの方法としては、１つの描画トラックを描画した後、回転ステージを半径方向に描画トラックピッチ分移動させ隣接描画トラックの描画を行う方法も考えられるが、回転ステージを移動させると、回転ステージを安定させるまで描画を開始することができないため、やはり時間ロスが大きく、全面の描画を行うためには非常に時間がかかるという問題がある。
【０００９】
この問題を解決する手法として、同心円状のトラックパターンを順次形成するためのトラック送り方法が特許文献３および非特許文献１などに提案されている。非特許文献１および特許文献３は電子ビーム記録装置を用いた高密度パターニングに関するものであり、１回転させる間に回転ステージを半径方向に１トラックピッチ分移動させるよう制御して、同時に１回転中で１トラックピッチ分徐々に半径方向にビームを偏向させることにより、１回転分描画を行って円の始点と終点をつなぎ合わせ１トラックを描画した後、電子ビームを偏向させその外側のトラックの描画に移る方法が開示されている。
【００１０】
これら非特許文献１あるいは特許文献３の手法では、同心円を描画しようとすると、電子ビームの露光軌跡が隣接トラックと繋がってしまったり、トラックの始点と終点が一致せずトラック内に途切れが生じてしまったりするが、従前の磁気ディスク媒体を製造するための磁気転写用マスター担体の原盤へのパターン描画では、周方向に交互に設けられるサーボ領域とデータ領域のうち、サーボ領域内にのみ微細パターンを描画することから、データ領域に相当する箇所でビーム照射をオフとした状態でビームを偏向させてトラック送りを行えば、信号品位の低下等に問題にはならなかった。
【特許文献１】特開２００４−１５８２８７号公報
【特許文献２】特開２００６−１８４９２４号公報
【特許文献３】特開２００２−３６７２４１号公報
【非特許文献１】PIONNER R&D Vol.14 No.1 p.1-8「電子ビーム記録装置を用いた高密度パターニング」
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
既述の通り、トラック送りに、回転ステージ移動を伴うトラック送りを行うと回転ステージが安定するまでに時間がかかることから、回転ステージ移動の回数を少なくするため、できるだけ多くのトラック送りを電子ビームの偏向により行った方がよい。そのためには、電子ビーム描画装置においては、長距離偏向可能な比較的低速な偏向アンプを備え、該偏向アンプの出力に基づいて偏向を行うことが望ましいと考えられる。
【００１２】
比較的低速な、例えば、１ＭＨｚ帯、偏向距離±１０μｍ程度の偏向アンプを用いた場合、トラックピッチが例えば２３０ｎｍのとき、最大で８６トラックピッチ分の偏向が可能である。一方、低速なアンプは応答性が低いためにトラック送り時に、電子ビームが送られた先のトラック上で安定するまでに、例えば、回転線速度Ｖ＝500ｍｍ／secの時、周方向距離ΔＬ＝ｖ／ｆ、すなわち５００ｎｍ程度を要する。
【００１３】
ＤＴＭあるいはＢＰＭのパターン描画を行う場合には、データ領域中でもパターン描画を行う必要があることから、トラック送りの際に電子ビームが安定するまでの５００ｎｍの間、パターンに乱れが生じてしまうことから、上記のトラック送り方法では信号品位の低下に繋がるという問題がある。
【００１４】
一般に、各トラック毎の描画は所定の回転角度位置を基準として（１回転中に１回発生する特定のエンコーダパルスを基準として）開始するように制御されており、上記問題を解決する方法としては、１つのトラックの描画はエンコーダパルスｚを起点として開始し、１回転後にカウントされる同一のエンコーダパルスｚを終点として終了し、さらにこのパルスｚを起点としてビームが隣接トラックにトラック送りされて１回転後にカウントされる同一のエンコーダパルスｚを起点として該隣接トラックの描画を開始する隔周描画（回転ステージが２回転する間に１トラック描画）を行うことが考えられる。
【００１５】
この方法であれば、パターンの描画精度は良好なものとすることができるが、トラック送りの度に描画待機する必要があることから、待機時間が長くなってしまい、全面描画を終えるまでの時間を十分に短縮することができないという問題がある。
【００１６】
本発明は上記事情に鑑みて、全面に亘って描画すべきハードディスクパターンを描画するにあたり、パターン描画の精度を低下させることなく、描画時間を短縮することができる電子ビーム描画方法および該電子ビーム描画方法を実現する微細パターン描画システムを提供することを目的とするものである。
【００１７】
また、本発明は、電子ビームにより精度よく描画されたパターンを有する、インプリントモールドの製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の電子ビーム描画方法は、回転ステージ上に載置された、レジストが塗布された基板上に、前記回転ステージを一方向に回転させつつ、電子ビームを走査して、複数のエレメントから構成される微細パターンを描画する電子ビーム描画方法において、
前記電子ビームを、少なくとも前記回転ステージの半径方向へ偏向させる偏向手段と、前記偏向手段により前記電子ビームの照射位置を半径方向に偏向させてトラック送りを行うための低速偏向アンプと、前記偏向手段により前記エレメントを描画する際に前記電子ビームを高速偏向させるための、前記低速偏向アンプより周波数限界の高い高速偏向アンプを備えた偏向手段制御部と、前記回転ステージを前記半径方向に直線移動させるステージ直線移動手段とを備えた電子ビーム描画装置を用い、
前記微細パターンが、周方向にサーボ領域とデータ領域を交互に有する同心円トラック状のハードディスクパターンであり、多数の同心円トラックの描画を順次行うに際して、トラック送り方法として、
前記低速偏向アンプの出力に基づいた前記偏向手段によるトラック送りおよび前記ステージ直線移動手段による回転ステージを半径方向に直線移動させることによるトラック送りに併せて、前記高速偏向アンプの出力により偏向可能な範囲において、前記偏向手段が前記高速偏向アンプの出力に基づいてトラック送りを行うことを特徴とする。
【００１９】
ここで、前記偏向手段が、前記電子ビームを前記半径方向と直交する方向にも偏向させるものであり、前記微細パターンの描画は、前記基板を一方向に回転させつつ、前記偏向手段により、前記電子ビームを、前記直交する方向に高速に往復振動させると共に、前記半径方向および前記直交する方向に偏向を行い、前記エレメントの形状を順次塗りつぶすように走査制御して行うものであることが好ましい。
【００２０】
なお、ここで、高速、低速とは、相対的な動作速度（周波数限界）が高いあるいは低いことを示すものであり、その絶対値を意味するものではない。高速偏向アンプは、基板を回転させつつ、電子ビームを高速に往復振動させてエレメントの形状を順次塗りつぶすように偏向制御部に対して信号を送ることが可能な動作速度を有し、低速偏向アンプと比較してその周波数限界は高い。なお、低速偏向アンプは高速偏向アンプと比較して応答性は低いが、偏向可能な距離は長い。
【００２１】
また、本明細書において「トラック送り」とは、１回転で描画する１描画トラックのトラック送りをいうものとする。従って、電子ビームを往復振動させて１回転で１トラック分のパターンを描画する場合は、所望の描画パターンにおける１トラックと１描画トラックは同一であるが、オン・オフ描画の場合には、複数描画トラックで所望の描画パターンにおける１トラックとなる。
【００２２】
本発明の電子ビーム描画方法においては、前記高速偏向アンプおよび前記低速偏向アンプの出力を初期値に設定し、このときの前記電子ビームの照射位置を基準位置とし、
（ａ）前記基準位置から所定の複数番目の描画トラックまで、前記回転ステージが１回転する毎に高速偏向アンプの出力を変化させて１描画トラックピッチ分ずつ前記電子ビームの照射位置を半径方向に移動させてトラック送りを行い、
（ｂ）前記高速偏向アンプの出力を前記初期値に戻すと共に、前記低速偏向アンプの出力を変化させて前記複数番目の描画トラックから１描画トラックピッチ分、前記電子ビームの照射位置を半径方向に移動させてトラック送りを行い、
（ｃ）  （ｂ）の工程後に前記電子ビームが照射されている半径方向位置を新たな基準位置として、少なくとも（ａ）を１回、もしくは（ａ）、（ｂ）を少なくとも１回行い、
（ｄ）前記高速偏向アンプおよび前記低速偏向アンプの出力を前記初期値に戻すと共に、前記回転ステージ直線移動手段により前記回転ステージを前記半径方向に直線移動させてさらにトラック送りを行い、このトラック送りの後に前記電子ビームが照射している位置を新たな基準位置とし、
（ａ）〜（ｄ）の工程を複数回繰り返して順次トラック送りを行うことが特に好ましい。
【００２３】
なお、ここで、基準位置を１番目の描画トラックとし、隣接する描画トラックを２番目、さらにそれに隣接する描画トラックを３番目…とすることとし、前記所定の複数番目の描画トラックとしては、基準位置の１番目の描画トラックに隣接する２番目以降の描画トラックであればよい。
【００２４】
（ｃ）の工程において、「（ａ）、（ｂ）を少なくとも１回行い、」とは、（ａ）、（ｂ）を少なくとも１回行っていればよく、さらに（ａ）を行ってトラック送りを行ってよいし、（ａ）、（ｂ）を交互に複数回行い、さらに（ａ）を行ってもよい。また、同様に、「（ａ）〜（ｄ）の工程を複数回繰り返して」とは（ａ）〜（ｄ）をこの順に複数回繰り返していればよく、最後はどの工程で終了してもよい。
【００２５】
ここで、前記回転ステージがロータリエンコーダを備え、（ｂ）の工程において、前記低速偏向アンプの出力を変化させて行うトラック送りは、前記回転ステージの所定の回転位置で前記ロータリエンコーダから発生する第１のエンコーダパルスに基づいて行うものであり、該トラック送り後の描画開始を、前記第１のエンコーダパルスの発生位置から前記回転ステージが１回転する前に生じる第２のエンコーダパルスに基づいて行うことが望ましく、さらに、前記第２のエンコーダパルスは、前記サーボ領域もしくはデータ領域のうち、前記トラック送り後に描画位置に最初に先頭が位置する領域の直前に発生するエンコーダパルスであることが特に好ましい。このとき、前記トラック送り後の描画開始は、前記トラック送り前の描画トラックにおける描画開始位置とは異なる回転位置からなされることとなる。
【００２６】
本発明の微細パターン描画システムは、請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法を実現するための描画データ信号を送出する信号送出装置と、
電子ビームを走査する電子ビーム描画装置であって、レジストが塗布された基板が載置される回転ステージ、前記レジスト上に微細パターンを描画するための電子ビームを出射する電子銃、前記電子銃から出射された前記電子ビームの照射位置を、前記被描画体上において前記同心円の半径方向に偏向させる偏向手段、該偏向手段により前記電子ビームの照射位置を半径方向に偏向させてトラック送りを行うための低速偏向アンプと、前記偏向手段により前記エレメントを描画する際に前記電子ビームを高速偏向させるための、前記低速偏向アンプより周波数限界の高い高速偏向アンプとを備えた偏向手段制御部、前記回転ステージを前記半径方向に直線移動させるステージ直線移動手段、および、前記微細パターンとして、周方向にサーボ領域とデータ領域を交互に有する同心円トラック状のハードディスクパターンを描画する際のトラック送り時に、前記低速偏向アンプの出力に基づいた前記偏向手段によるトラック送りおよび前記ステージ直線移動手段により回転ステージを半径方向に直線移動させることによるトラック送りに併せて、前記高速偏向アンプの出力により偏向可能な範囲において、前記偏向手段が前記高速偏向アンプの出力に基づいてトラック送りを行うように、前記描画データ信号に基づいて前記偏向手段制御部と前記ステージ直線移動手段とを制御するトラック送り制御部を備えた電子ビーム描画装置とからなることを特徴とするものである。
【００２７】
本発明のインプリントモールドの製造方法は、レジストが塗布された基板に、請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法により所望の微細パターンを描画露光し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て、表面に凹凸パターンを有するインプリントモールドを製造することを特徴とする。
【００２８】
本発明の磁気ディスク媒体の製造方法は、所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを有する磁気ディスク媒体をインプリント法により製造する製造方法であって、
前記インプリント法に用いるインプリントモールドとして、レジストが塗布された基板に、請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法により前記所望の微細パターンを描画露光し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て製造されたインプリントモールドを用いることを特徴とする。この方法で製造される磁気ディスク媒体としては、具体的には、ディスクリートトラックメディアやビットパターンメディアが挙げられる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の電子ビーム描画方法および微細パターン描画システムによれば、トラック送り方法として、低速偏向アンプの出力に基づいた偏向手段によるトラック送りおよびステージ直線移動手段による回転ステージを半径方向に直線移動させることによるトラック送りに併せて、高速偏向アンプの出力により偏向可能な範囲において、偏向手段が前記高速偏向アンプの出力に基づいてトラック送りを行うので、高速偏向アンプの出力に基づく偏向は低速偏向アンプの出力に基づく偏向と比較して電子ビームの照射が次の描画トラック位置で安定する時間が格段に早く、安定するまでの待機時間を短縮できることから、パターンの精度を低下することなく、直線移動手段のみによるトラック送り、あるいは低速偏向アンプと直線移動手段によるトラック送りと比較して、全てのトラックを描画するまでにかかる時間を相当に短縮することができる。
【００３０】
本発明のインプリントモールドの製造方法によれば、レジストが塗布された基板に、請求項１〜請求項４のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法により所望の微細パターンを描画露光し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て、表面に凹凸パターンを有するインプリントモールドを製造することにより、凹凸パターンが精度よく形成されたインプリントモールドを効率よく得ることができる。
【００３１】
本発明の磁気ディスク媒体の製造方法によれば、インプリント法に用いるインプリントモールドとして、レジストが塗布された基板に、請求項１〜請求項４のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法により所望の微細パターンを描画露光し、該所望の微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て製造されたインプリントモールドを用いることから、効率よく特性の優れたディスクリートトラックメディアやビットパターンメディアなどの磁気ディスク媒体を効率よく得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。図１は本発明の電子ビーム描画方法により基板に描画する磁気ディスク媒体の微細パターン（ハードディスクパターン）を示す全体平面図、図２はこの微細パターンの一部の拡大図である。
【００３３】
図１および図２に示すように、微細凹凸形状によるディスクリートトラックメディア用の微細パターンは、サーボ領域１２に形成されるサーボパターンと、データ領域１５に形成されるグルーブパターンとで構成され、円盤状の基板１０に、外周部１０ａおよび内周部１０ｂを除く円環状領域に形成される。
【００３４】
サーボパターンは、基板１０の同心円状トラックに等間隔で、各セクタに中心部からほぼ放射方向に延びる細幅の領域１２に形成されてなる。なお、この例のサーボパターンの場合には、半径方向に連続した湾曲放射状に形成されている。その一部を拡大した図２に例示するように、同心円状のトラックＴ1〜Ｔ4には、例えば、プリアンブル、アドレス、バースト信号に対応する矩形状の微細な複数のサーボエレメント１３が配置される。１つのサーボエレメント１３は、１トラック幅で電子ビームの照射径より大きいトラック方向長さを有し、バースト信号の一部のサーボエレメント１３は隣接するトラックに跨るように半トラックずれて配置される。
【００３５】
一方、データ領域１５に設けられるグルーブパターンは、データトラック間のガードバンド部分に、隣接する各トラックＴ1〜Ｔ4を溝状に分離するようトラック方向に延びる同心円状に形成され、このグルーブパターンは所定角度で分割した複数のグルーブエレメント１６の整列で構成されている。
【００３６】
このような描画パターンを描画するための本発明の微細パターン描画システムの実施形態について図３を参照して説明する。図３は本発明の電子ビーム描画方法を実施する一実施形態の微細パターン描画システムの要部側面図(Ａ)および部分平面図(Ｂ)である。
【００３７】
図３に示す微細パターン描画システム２０は、被描画体が設置されて電子ビーム照射によるパターン描画を行う電子ビーム描画装置４０、該電子ビーム描画装置の各種手段を制御する各種制御部５１,５２,５６および５８、各種制御部に対して制御信号を入力するフォーマッタ５０、および描画すべき微細パターン情報および描画方法などに基づいて設計データをフォーマッタ５０に送出する信号送出装置６０を備えている。
【００３８】
電子ビーム描画装置４０は、筐体内に電子ビーム用レジスト１１が塗布された基板１０が載置される回転ステージ４１および該ステージ４１の中心軸４２と一致するように設けられたモータ軸を有するスピンドルモータ４３および、回転ステージ４１の回転量を検出するためエンコーダスリットの読み取りによって所定回転位相で等間隔にエンコーダパルスを発生するロータリエンコーダ４４を備えた回転ステージユニット４５と、該回転ステージユニット４５の一部を貫通し、回転ステージ４１の一半径方向（図中矢印Ｙ方向）に延びる一本のシャフト４６および、該回転ステージユニット４５をシャフト４６に沿って移動させるための駆動手段４７からなる回転ステージ直線移動手段４８とを筐体４９内に備えている。シャフト４６には、精密なネジきりが施され、パルスモータ等の駆動手段４７によって正逆回転されるようになっている。
【００３９】
電子ビーム描画装置４０は、さらに、筐体４９上に備えられた鏡筒２８内に電子ビームを出射する電子銃２３、電子ビームＥＢをＹ方向（基板径方向）およびＹ方向に直交するＸ方向（円周方向）へ偏光させる偏光手段２１、２２、電子ビームＥＢの照射をオン・オフするためのブランキング手段２４としてアパーチャ２５およびブランキング２６（偏向器）を備えている。なお、筐体２８内には、図示されていない電磁レンズからなる集光レンズ、対物レンズなどが適宜備えられており、電子銃２３から出射された電子ビームＥＢは偏向手段２１、２２および集光レンズ、対物レンズ等を経て、レジスト１１上に照射される。
【００４０】
ブランキング手段２４における上記アパーチャ２５は、中心部に電子ビームＥＢが通過する透孔を備え、ブランキング２６はオン・オフ信号の入力に伴って、オン信号時には電子ビームＥＢを偏向させることなくアパーチャ２５の透孔を通過させて照射し、一方、オフ信号時には電子ビームＥＢを偏向させてアパーチャ２５の透孔を通過させることなくアパーチャ２５で遮断して、電子ビームＥＢの照射を行わないように作動する。
【００４１】
ブランキング手段２４は、ブランキング制御部（ＢＬＫ制御部）５１からの制御信号に基づいてオン・オフされる。偏向手段２１、２２は偏向制御部５２からの信号に基づいて電子ビームＥＢを偏向させる。スピンドルモータ４３は回転制御部５６からの信号に基づいて回転が制御されるものであり、直線移動手段４８の駆動手段４７は、ステージ移動制御部５８からの信号に基づいて回転ステージ４１を半径方向に移動する。
【００４２】
ここで、偏向制御部５２は、偏向手段２１，２２により電子ビームＥＢを高速偏向させ微細エレメントを描画するための高速偏向アンプ５３および、偏向手段２１により電子ビームＥＢの照射位置を半径方向に偏向させてトラック送りを行うための、高速偏向アンプ５３に相対的に低速な低速偏向アンプ５４を備えている。ここでは、高速偏向アンプ５３として例えば５０ＭＨｚ帯のもの、低速偏向アンプ５４として例えば１ＭＨｚ帯のものを備える。このとき、高速偏向アンプ５３による偏向可能距離は±１μｍであり、低速偏向アンプ５４による偏向可能距離は±１０μｍである。
【００４３】
信号送出装置６０は、前述のサーボパターンなどの微細パターンの描画データ（描画パターンや描画タイミングを示すデータ）を記憶し、前述のフォーマッタ５０に描画データ信号を送出するものである。
【００４４】
フォーマッタ５０は、信号送出装置６０から入力された描画データ信号を、ブランキングのオン・オフ制御、電子ビームＥＢのＸ−Ｙ偏向制御、回転ステージ４１の回転速度制御、および回転ステージ４１の直線移動の制御等の制御信号として、ＢＬＫ制御部５１、偏向制御部５２、回転制御部５６およびステージ移動制御部５８に振り分けるものであり、それぞれの制御信号はエンコーダ４４から入力されたエンコーダパルス信号と同期させて所定のタイミングで送出される。そして、ＢＬＫ制御部５１、偏向制御部５２、回転制御部５６およびステージ移動制御部５８は、フォーマッタ５０からの信号に基づいて、それぞれ、ブランキング手段２４、偏向手段２１，２２、スピンドルモータ４３、直線移動手段４８を駆動制御し、電子ビーム描画装置４０により被描画体の全面に所望の微細パターンを描画するものであり、このフォーマッタ５０がトラック送り制御部でもある。
【００４５】
本実施形態においては、サーボパターンおよびグルーブパターンの各サーボエレメント１３およびグルーブエレメント１６の描画は、表面にレジスト１１が塗布された基板１０を後述の回転ステージ４１（図４参照）に設置して回転させつつ、例えば、内周側のトラックより外周側トラックへ順に、またはその反対方向へ、１描画トラックずつ（ここでは＝１トラックずつ）電子ビームＥＢでエレメント１３、１６を順に走査しレジスト１１を照射露光して行われる。１つのトラックを１周描画した後、次のトラックに移動し同様に描画して、基板１０の全領域に所望の微細パターンを描画する。
【００４６】
まず、上述の微細パターン描画システム２０を用いた、本発明の電子ビーム描画方法の第１の実施の形態のトラック送りについて図４および図５を参照して具体的に説明する。図４（Ａ）は、回転ステージ４１の回転に伴ってトラック送りを行うために変化する高速偏向アンプ５３の出力を示し、図４（Ｂ）は低速偏向アンプ５４の出力の変化、図４（Ｃ）は電子ビーム照射位置の半径方向位置変化を示すものである。図５は回転ステージ４１の回転回数とステージ直線移動距離をトラック位置で示したステージ直線移動位置を示すものである。
【００４７】
まず、高速偏向アンプ５３および低速偏向アンプ５４の出力をそれぞれ初期値Ｈin、Ｌinに設定し、このときの電子ビームの照射位置をトラック送り基準位置とする。
【００４８】
（ａ）回転ステージ４１を回転させつつパターン描画を行い、図４（Ａ）で示すように、トラック送り基準位置から所定の複数番目として５番目の描画トラックまで、回転ステージが１回転する毎に高速偏向アンプの出力を変化させて１描画トラックピッチ分ずつ電子ビームの照射位置を半径方向に移動させてトラック送りを行う。ここでは、４回のトラック送りを順次行っている。
【００４９】
（ｂ）高速偏向アンプ５３の出力を初期値に戻すと共に、図４（Ｂ）で示すように、低速偏向アンプ５４の出力を変化させて複数番目の描画トラックから１描画トラックピッチ分、電子ビームの照射位置を半径方向に移動させて描画トラック送りを行う。このとき、低速偏向アンプ５４の出力を５描画トラックピッチ分偏向する値となるよう変化させる。低速偏向アンプ５４の出力に基づく偏向の場合、ビームの照射位置が所望の位置で安定するのに１ビット長よりも十分に長い距離を要することから、１回転待機した後に、所定のエンコーダパルスを起点として描画を開始する。高速偏向アンプ５３の出力は初期値に戻すが、図４（Ｃ）に示すように、低速偏向アンプ５４の出力基づいて電子ビームの照射位置は径方向にトラック送りされる。
【００５０】
（ｃ）  （ｂ）の工程後に電子ビームが照射されている半径方向位置を新たなトラック送り基準位置として、少なくとも（ａ）を１回、もしくは（ａ）、（ｂ）を少なくとも１回行う。
【００５１】
本実施形態においては、初期のトラック送り基準位置であるトラックＴ1から（ａ)、（ｂ)を順に１５回繰り返し、最後に（ａ)を行うことにより、図４（Ｃ）に示すように、８０トラックＴ80までの７９トラックピッチ分、高速偏向アンプもしくは低速偏向アンプの出力に基づく偏向によりトラック送りを行う。
【００５２】
（ｄ）ｎ回転目で高速偏向アンプおよび低速偏向アンプの出力を初期値に戻すと共に、図５に示すように、回転ステージ直線移動手段４８により回転ステージ４１を半径方向に直線移動させてさらにトラック送りを行う。ここでは、８０トラックピッチ分回転ステージ４１を半径方向に移動させる。
【００５３】
（ｄ）のトラック送りの後に電子ビームＥＢが照射している位置Ｔ81を新たなトラック送り基準位置とし、（ａ）〜（ｄ）の工程を複数回繰り返して順次トラック送りを行って全トラックの描画を行う。すなわち、図４（Ａ）に示す工程（ａ）の高速偏向アンプによる高速偏向トラック送りと同図（Ｂ）に示す工程（ｂ）の低速偏向アンプ５４による低速偏向トラック送りを交互に繰り返し、図５に示す回転ステージ４１の直線移動手段４８による直線移動を伴うトラック送りは８０トラック毎に行う。
【００５４】
ここで、１描画トラックピッチを例えば230ｎｍとすると、高速偏向アンプで４回偏向する場合、920ｎｍ分を高速偏向アンプで偏向させることとなる。（ａ)、（ｂ）を１５回繰り返した場合、低速偏向アンプによる偏向量は、７５トラック分（17.25μｍ）となる。さらに、高速偏向アンプで４回偏向させた後、直線移動手段による回転ステージの移動を行う。この直線移動手段による回転ステージの移動は、高速偏向アンプと低速偏向アンプの出力を共に初期値に戻したとき、電子ビームＥＢの照射位置がＴ1から８０トラック目のＴ81となるように、18.4μｍ半径方向に移動させる。
【００５５】
なお、高速偏向アンプにより偏向する描画トラック数、低速偏向アンプにより偏向する描画トラック数は、それぞれの能力の範囲で適宜設定すればよく、上記実施形態の数値に限定されるものではない。また、何描画トラック毎に回転ステージ直線移動手段による移動を行うかについても同様に適宜設定すればよい。
【００５６】
偏向アンプの応答速度はその周波数ｆの逆数に比例し、回転ステージの回転線速度をＶとしたとき、偏向した電子ビームが所定のトラック上に安定し描画を開始することができるまでに距離ΔＬ＝v／ｆ程度を要する。このとき、微細パターンを構成する微細なエレメントを描画する際に電子ビーム偏向可能な高速偏向アンプであれば、周方向に１ビット長の隙間で隣接トラックへの偏向が可能であるため、サーボ領域とデータ領域との間で偏向を行うことにより、サーボ信号パターンやグルーブに途切れや隣接トラックとのつながり部を生じることなく、隣接トラックに移動させることができ、移動直後からそのトラックの描画を開始することができる。例えば、回転ステージの回転線速度Ｖ＝500ｍｍ／secとした場合、５０ＭＨｚ帯の高速偏向アンプの場合、ΔＬhight＝１０ｎｍであり、１ＭＨｚ帯の低速偏向アンプの場合、ΔＬlow＝５００ｎｍである。現状の最短ビット長は内周トラック側で８０ｎｍ程度であるが、高速偏向アンプを用いれば１ビット長の隙間で十分に隣接トラックへの偏向が可能である。一方、低速偏向アンプを用いた場合、安定するまでに複数ビットを経るため、パターン精度を維持するためにはこの間描画を開始することができない。
【００５７】
図６は第１の実施形態のトラック送り方法におけるトラック送り位置を示す模式図であり、トラック送り位置に相当する箇所の部分を拡大して示したものである。トラック送りおよび各トラックにおけるパターン描画は、回転ステージが１回転する間に１回、特有の角度位置でカウントされるエンコーダパルスｚに基づいて行われる。図中ｚはその特有の角度位置を示すものである。このエンコーダパルスｚに基づいて、トラック送りがなされ、また各トラックにおけるパターン描画もこのエンコーダパルスｚに基づいて開始される。トラック送りは、サーボ領域１２Ａとデータ領域１５Ｎとの境界で行われる。サーボ領域１２Ａ，１２Ｂ・・・ではサーボパターンを描画し、データ領域１５Ａ，１５Ｂ・・・１５Ｎではグルーブを描画するが、この両領域の間には少なくとも１ビット分の隙間（描画しない部分）が設けられることから、この境界においてトラック送りを行う。図６において、高速偏向によるトラック送りは実線矢印で、低速偏向によるトラック送りは二点鎖線矢印で示している。高速偏向によるトラック送りの場合、トラック送り後のサーボ領域１２Ａの先頭位置Ｐａからパターン描画Ｐ2、Ｐ3・・・を開始することができる。一方、低速偏向によるトラック送りの場合、エンコーダパルスｚに基づいてトラック送りを行った後、次のエンコーダパルスｚに基づいてサーボ領域１２Ａのパターン描画Ｐ６を開始している。「エンコーダパルスに基づいて」とは、単にそのエンコーダパルスを基準として動作タイミングがカウントされることを意味するものであり、必ずしもエンコーダパルスの発生する角度位置とトラック送り位置や描画開始位置とが一致するものではない。トラック送り、描画開始は所定のエンコーダパルスから予め定められた所定時間後になされるように設定すればよい。
【００５８】
従来は、偏向によるトラック送りはすべて低速偏向アンプを用いて行っており、トラック送り、パターン描画を常に１回転中に１度生じる特定のエンコーダパルスに基づいて開始するよう制御されているため、精度の高いパターン描画を行うためには、低速偏向アンプによる偏向制御を行う時には偏向し、描画開始するまでに１回転待機する必要があり、１トラック送るたびに、１回転待機しており、１トラック描画するのにステージ２回転分の時間を要していた。しかし、上記実施形態の場合、高速偏向アンプを有効に活用し、高速偏向アンプで偏向可能な範囲では高速偏向アンプを用いて偏向していることから、高速偏向したときは１回転待機することなく隣接トラック描画を行うことができ、全体として描画時間を大幅に短縮することができる。
【００５９】
図７は、第２の実施形態のトラック送り方法におけるトラック送り位置を示す模式図である。図７において、高速偏向によるトラック送りは実線矢印で、低速偏向によるトラック送りは二点鎖線矢印で示している。
【００６０】
ここでは、第１のエンコーダパルスＡ１を基準としてＴ１トラックのパターン描画Ｐ１を開始し、１回転後の第１のエンコーダパルスＡ１を基準として高速偏向によるトラック送りを行っている。Ｔ５トラックまでこれを繰り返し、Ｔ５のパターン描画後に低速偏向によるトラック送りを行う。このとき、先の実施形態では１回転待機した後同一のエンコーダパルスを基準として描画を開始するものとしたが、ここでは、低速偏向によるトラック送り後、次の第１のエンコーダパルスＡ１を待つことなく、第２のエンコーダパルスＡ２を基準としてＴ６のパターン描画Ｐ６を開始する。ここで、トラック送り後とは、電子ビームを偏向させた後次のトラック上に安定に照射した後を意味する。本実施形態においては、第２のエンコーダパルスＡ2は、サーボ領域もしくはデータ領域のうち、トラック送り後に描画位置に最初に先頭が位置する領域１２Ｂの直前に発生するエンコーダパルスである。前述のトラック送り後、図７で示すように、エンコーダパルスＡ2に基づいて、サーボ領域１２Ｂの先頭位置ＰｂからＴ６のパターン描画を開始し、１回転後の第２のエンコーダパルスＡ２に基づいて高速偏向によるトラック送りを行う。このように、低速偏向によるトラック送りのたびに、次のパターン開始位置が徐々にずれていく。低速偏向によるトラック送り後のパターン開始を、電子ビームの照射位置が安定した後、第１のエンコーダパルス発生前に行えば、１回転待機して、常に特定のエンコーダパルスを基準として描画していた場合と比較して、描画時間の短縮の効果を得ることができる。もっとも、サーボ領域とデータ領域とからなる１セクタ単位は続けて描画するように、サーボ領域あるいはデータ領域の先頭位置からパターン描画を行うようにすれば制御の複雑化を避けることができ好ましい。なお、ステージ直線移動手段によるトラック送りの後は、回転ステージが安定するまでに複数回転待機する必要があり、次にどのセクタから描画を開始するかは適宜設定すればよい。
【００６１】
なお、説明の都合上、図４、５、６および７において、トラックＴ1、Ｔ2・・・は各トラックのトラック描画の基準位置を示している。実際にはこの描画基準間が図２に示すトラックに相当する。
【００６２】
１トラック中における微細パターンの描画方法の一例を図８を参照して説明する。図８は微細パターンを構成するエレメントの基本的描画方式を示す拡大模式図(Ａ)およびその描画方式における偏向信号等の各種制御信号（Ｂ）〜（Ｆ）を示す図である。
【００６３】
基板１０（回転ステージ４１）を一方向Ａに回転させつつ、基板１０の半径方向Ｙに対して直交する周方向Ｘに、微視的に見れば直線状に延びる同心円状のトラックＴ（トラック幅：Ｗ）の所定位相位置に、サーボエレメント１３ａ，１３ｂを連続して一度にその形状を塗りつぶすように微小径の電子ビームＥＢで走査して、１回転で１トラック内のサーボエレメント１３を描画する。なお、隣接するトラックにまたがる半トラックずれたサーボエレメント１３は、半分に分割することなく、描画基準を半トラックずらせて一度に描画する。
【００６４】
上記走査は、サーボエレメント１３ａ，１３ｂの最小トラック方向長さより小さいビーム径の電子ビームＥＢを、後述のブランキング手段２４（アパーチャ２５，ブランキング２６）の描画部位に応じたオン・オフ動作により照射しつつ、半径方向Ｙおよび半径方向と直交する方向Ｘ（以下周方向Ｘ）電子ビームＥＢをＸ−Ｙ偏向させて、基板１０の回転速度に応じてトラック幅Ｗの送りを行うとともに、図８（Ａ）のように、半径方向Ｙと直交する周方向Ｘへ一定の振幅で高速に往復振動させて振らせることで、露光描画する。なお、この描画における偏向および高速振動は高速偏向アンプ５３の出力に基づいて行う。
【００６５】
上記サーボエレメント１３ａ，１３ｂの描画に続いて、グルーブパターンの描画を行う。このとき、所定角度で分割された１つのグルーブエレメント１６ａを、その描画開始点より電子ビームＥＢを周方向Ｘへ大きく偏向させて描画し、次のグルーブエレメント１６ｂは時間的間隔をもって同様に、その描画開始点より電子ビームＥＢを周方向Ｘへ大きく偏向させて描画して、順に連続したグルーブパターンの描画を行う。その際、周方向Ｘへの高速往復振動は停止している。
【００６６】
図８に基づき順に説明する。図８(Ａ)は電子ビームＥＢの半径方向Ｙ（外周方向）および周方向Ｘ（回転方向）の電子ビームＥＢの描画動作を示し、図８(Ｂ)に半径方向Ｙの偏向信号Ｄef(Y)を、(Ｃ)に周方向Ｘの偏向信号Ｄef(X)を、(Ｄ)に周方向Ｘの振動信号Ｍod(X)を、(Ｅ)にブランキング信号ＢＬＫのオン・オフ動作を、(Ｆ)にエンコーダパルスによる同期特性をそれぞれ示している。なお、横軸は時間（回転角度）を示している。
【００６７】
まず、ａ点で(Ｅ)のブランキング信号ＢＬＫのオンにより電子ビームＥＢを照射し、サーボエレメント１３ａの描画を開始するものであり、基準位置にある電子ビームＥＢを(Ｄ)の振動信号Ｍod(X)により周方向Ｘに往復振動させつつ、(Ｂ)の偏向信号Ｄef(Y)により半径方向（−Ｙ）に偏向させて送るとともに、Ａ方向への基板１０の回転に伴う電子ビームＥＢの照射位置のずれを補償するために、(Ｃ)の偏向信号Ｄef(X)によりＡ方向と同方向の周方向Ｘに偏向させて送ることにより、矩形状のサーボエレメント１３ａを塗りつぶすように走査し、ｂ点でのブランキング信号ＢＬＫのオフにより電子ビームＥＢの照射を停止し、サーボエレメント１３ａの描画を終了する。ｂ点後に、半径方向Ｙおよび周方向Ｘの偏向を基準位置に戻す。ここで基準位置とは、各トラック毎の描画基準位置をいい、トラック送りにおける基準位置とは異なる。
【００６８】
次に、基板１０が回転してｃ点になると、同様にして次のサーボエレメント１３ｂの描画を開始し、同様の偏向信号に基づいて同様に描画し、ｄ点でサーボエレメント１３ｂの描画を終了する。
【００６９】
続いて、ｅ点でブランキング信号ＢＬＫのオンにより電子ビームＥＢを照射し、グルーブパターン１５の最初のグルーブエレメント１６ａの描画を開始する。この場合には、(Ｄ)の振動信号Ｍod(X)の振動停止により周方向Ｘの往復振動は停止している。そして、(Ｃ)の偏向信号Ｄef(X)により、Ａ方向と逆向きの周方向（−Ｘ）に大きく偏向させて送り、所定長さのグルーブエレメント１６ａを描画し、ｆ点で描画を終了する。描画長さは、（−Ｘ）方向の偏向量に基板１０のＡ方向の回転量を加算した長さである。なお、(Ｂ)の半径方向Ｙの偏向信号Ｄef(Y)は無偏向であることから、円弧状ではなく直線的に描画しているが、微小範囲では直線としても大きく円弧からずれることはない。ｆ点後に、周方向Ｘの偏向を基準位置に戻す。
【００７０】
そして、上記グルーブエレメント１６ａの描画が終了してから所定時間が経過し、基板１０の回転により次のグルーブエレメント１６ｂの描画開始位置が到達したｇ点において、同様に電子ビームＥＢの照射を開始するとともに、（−Ｘ）方向に大きく偏向させて、次のグルーブエレメント１６ｂを描画するものである。
【００７１】
１つのトラックから隣接のトラックへトラック送りがなされる前に、各トラックについて上記のようにしてサーボエレメントおよびグルーブエレメントの描画を行う。
【００７２】
ハードディスクパターンを構成する微細パターンを描画するためには、前述のように電子ビームＥＢを走査させ、かつ、トラック送りを行うものであるが、その電子ビームＥＢの走査制御を行うための描画データ信号を前述の信号送出装置６０（図３参照）より電子ビーム描画装置４０のフォーマッタ５０に送出する。フォーマッタ５０では、この描画データ信号を、回転ステージ４１の回転に応じて発生するエンコーダパルスおよびフォーマッタ内で生成される基準クロック信号に基づいて、各制御部に所定のタイミングで振り分け、各制御部はその信号に基づいてパターン描画を行う。
【００７３】
なお、トラック内の微細パターン描画方法として、各微細エレメントの描画は電子ビームを周方向に高速振動させると共に、半径方向に偏向させることによりエレメント形状を塗りつぶすようにする方法について説明したが、レジストが塗布された基板を回転させながら、パターン形状に対応して電子ビームをオン・オフ照射し、基板または電子ビーム照射装置を１回転に１ビーム幅ずつ半径方向に移動させてパターン描画を行う方法、あるいはパターンのトラック幅方向に電子ビームを往復振動させて描画する方法を採用してもよい。
【００７４】
いずれの描画方法を用いた場合であっても、本発明の描画方法におけるトラック送り方法を適用することができ、トラック送りに要する時間を従来と比較して短縮することにより、全面に亘るパターン描画に要する時間を短縮することができる。
【００７５】
次に、上記のような微細パターン描画システム２０により、前述の電子ビーム描画方法によって描画された微細パターンを備えた、本発明インプリントモールドの製造方法およびそのモールドを用いた磁気ディスク媒体の製造方法を説明する。図９は、インプリントモールドを用いて微細凹凸パターンを転写形成している一過程を示す概略断面図である。
【００７６】
まず、インプリントモールド７０の製造方法を説明する。透光性材料による基板７１の表面に、図９では不図示の前述のレジスト１１を塗布し、サーボパターンおよびグルーブパターンが描画する。その後、現像処理して、レジストによる凹凸パターンを基板７１に形成する。このパターン状のレジストをマスクとして基板７１をエッチングし、その後レジストを除去し、表面に形成された微細凹凸パターン７２を備えるインプリントモールド７０を得る。一例としては、上記微細凹凸パターン７２は、ディスクリートトラックメディア用のサーボパターンとグルーブパターンとを備えたものである。
【００７７】
次に、このインプリントモールド７０を用いて、インプリント法によって磁気ディスク媒体８０の製造方法を説明する。具体的には、磁気ディスク媒体８０は、基板８１上に磁性層８２を備え、その上にマスク層を形成するためのレジスト樹脂層８３が被覆されている。そして、このレジスト樹脂層８３に、インプリントモールド７０の微細凹凸パターン７２が押し当てられて、紫外線照射によって上記レジスト樹脂層８３を硬化させ、微細パターン７２の凹凸形状を転写形成してなる。その後、レジスト樹脂層８３の凹凸形状に基づき磁性層８２をエッチングし、磁性層８２による微細凹凸パターンが形成されたディスクリートトラックメディア用の磁気ディスク媒体８０を製造する。
【００７８】
また、上記ではディスクリートトラックメディアの製造について説明したが、ビットパターンメディアも同様の工程で製造することができる。
【００７９】
以上説明した、本発明の電子ビーム描画方法を用いた、上述のインプリントモールドおよび該インプリントモールドを用いたディスクリートトラックメディアの製造方法は一例であり、本発明の電子ビーム描画方法を用いて微細パターンの描画を行い、凹凸パターンを形成する工程を経るインプリントモールドの製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法であればよく、上述の製造方法に限るものではない。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】本発明の電子ビーム描画方法により基板に描画する微細パターン例を示す平面図
【図２】微細パターンの一部の拡大図
【図３】本発明の電子ビーム描画方法を実施する一実施形態の電子ビーム描画システムの要部側面図(Ａ)および部分平面図(Ｂ)
【図４】本発明の電子ビーム描画方法におけるトラック送り方法において、回転ステージの回転回数に伴い変化する（Ａ）高速偏向アンプ出力、（Ｂ）低速偏向アンプ出力、（Ｃ）電子ビーム照射位置を示す図
【図５】本発明の電子ビーム描画方法におけるトラック送り方法において、回転ステージの回転回数と回転ステージ直線移動位置との関係を示す図
【図６】本発明の実施形態のトラック送り方法におけるトラック送り位置を示す図
【図７】他の実施形態のトラック送り方法におけるトラック送り位置を示す図
【図８】エレメントの基本的描画方式を示す拡大模式図(Ａ)およびその描画方式における偏向信号等の各種制御信号（Ｂ）〜（Ｆ）を示す図
【図９】インプリントモールドを用いた磁気ディスクメディアの製造過程を示す概略断面図
【符号の説明】
【００８１】
10    基板
11    レジスト
12,12A,12B,…    サーボ領域
13,13a,13b,…    サーボエレメント
15,15A,…15N    データ領域
16,16a,16b,…    グルーブエレメント
EB    電子ビーム
Ｘ    周方向
Ｙ    ディスク半径方向
20    微細パターン描画システム
21、22    偏向手段
23    電子銃
24    ブランキング手段
25    アパーチャ
26    ブランキング
28    鏡筒
40    電子ビーム描画装置
41    回転ステージ
43    スピンドルモータ
44    ロータリエンコーダ
45    回転ステージユニット
48    回転ステージ直線移動手段
49    筐体
50    フォーマッタ
51    ブランキング制御部
52    偏向制御部
53    高速偏向アンプ
54    低速偏向アンプ
56    回転制御部
58    ステージ移動制御部
60    信号送出装置
70    インプリントモールド
71    ディスク基板
72    微細凹凸パターン
80    磁気記録媒体
81    基板
82    磁性層
83    レジスト樹脂層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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