(57)【要約】【課題】基板の大型化に伴って塗布装置を分割化する場合であっても不良基板が生産されるのを抑えることのできる塗布装置を提供する。【解決手段】基板を載置するステージと、前記ステージに沿って特定方向に延びるレールと、前記レール上を走行しつつ塗布液を吐出することにより、前記ステージ上に載置された基板上に塗布液を塗布する塗布ユニットと、を備えており、前記ステージには、このステージを分割する分割部が形成されており、この分割部は、前記特定方向におけるステージの一方側端部から他方側端部に亘って延びるように形成される構成とする。【選択図】図１
2009011892.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置するステージと、
前記ステージに沿って特定方向に延びるレールと、
前記レール上を走行しつつ塗布液を吐出することにより、前記ステージ上に載置された基板上に塗布液を塗布する塗布ユニットと、
を備えており、
前記ステージには、このステージを分割する分割部が形成されており、この分割部は、ステージの一方側端部から他方側端部に亘って前記特定方向に延びるように形成されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記ステージを載置する基台を有しており、この基台には、基台を分割する基台分割部が形成されており、この基台分割部は、前記基台の一方側端部から他方側端部に亘って前記特定方向に延びるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記ステージは、前記分割部により複数のステージ部片に分割され、それぞれの前記ステージ部片は、前記基台上に支持部材によって支持されており、それぞれの前記支持部材には、ステージの高さ寸法を調節する高さ調節機構を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記レールは、前記塗布ユニットが塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する塗布走行部と、この塗布走行部から前記特定方向に延長された延長部とを有しており、前記塗布走行部は、連続状に一体成形されており、前記延長部にはレールを分割するレール分割部が形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス基板上にレジスト液が塗布されたもの（塗布基板と称す）が使用されている。この塗布基板は、レジスト液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。
【０００３】
すなわち、塗布装置は、ガラス基板を載置するステージと、レジスト液を吐出する口金と、この口金をステージ上に支持するとともにステージに沿って移動させる門型のガントリとを有しており、口金のスリットノズルからレジスト液を吐出させながら、ガントリをガラス基板に沿う方向に走行させることにより、均一厚さのレジスト液膜が塗布された塗布基板が形成されるようになっている。そして、これらを載置する基台上には、一方向に延びるレールが設置されており、ガントリは、このレールに沿って走行するように構成されている。
【０００４】
近年では、フラットパネルディスプレイの大型化に伴い、大型の塗布基板を生産すべく、ステージの大型化及びレールの長尺化が余儀なくされている。しかし、ステージやレールが大型化、長尺化するにしたがって、納入先まで塗布装置を運送する際に、塗布装置の運送規制上の問題（特に道路の幅方向寸法規制の問題）から塗布装置を分割化する必要がある。そのため、下記特許文献１では、レールを分割したステージ装置が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−９５６６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記特許文献１に示されたステージ装置を塗布装置に適用すると、レールの継ぎ目の存在により、不良基板を生産されやすいという問題がある。すなわち、上記ステージ装置のレールには、そのほぼ中央部分にレールの継ぎ目が設けられているため、ガントリがレールの分割部分を通過する際にガントリの定速走行に乱れが生じる虞れがある。そのため、ガントリの定速走行が乱れることにより、塗布液の供給状態が不安定となることから塗布ムラが発生して不良基板が生産されやすくなるという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、基板の大型化に伴って塗布装置を分割化する場合であっても不良基板が生産されるのを抑えることのできる塗布装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに沿って特定方向に延びるレールと、前記レール上を走行しつつ塗布液を吐出することにより、前記ステージ上に載置された基板上に塗布液を塗布する塗布ユニットと、を備えており、前記ステージには、このステージを分割する分割部が形成されており、この分割部は、ステージの一方側端部から他方側端部に亘って前記特定方向に延びるように形成されていることを特徴としている。
【０００９】
上記塗布装置によれば、ステージを分割する分割部がステージの一方側端部から他方側端部に亘って前記特定方向に延びるように形成されているため、ステージがほぼレールの延びる方向に沿って分割される。すなわち、ステージをレールの延びる方向に沿って適当な大きさに分割することができる。したがって、従来のように、レールを分割することによりレールの長手方向中央部分にレールの継ぎ目ができる場合に比べて、塗布ユニットの定速走行の乱れを抑えることができるため、不良基板が発生するという問題を抑えることができる。
【００１０】
また、前記ステージを載置する基台を有しており、この基台には、基台を分割する基台分割部が形成されており、この基台分割部は、前記基台の一方側端部から他方側端部に亘って前記特定方向に延びるように形成されている構成とすることもできる。
【００１１】
この構成によれば、レール及び基台共に分割することができるため、塗布装置全体を運送に適した大きさに分割することができる。
【００１２】
そして、前記ステージには、前記分割部により複数のステージ部片に分割され、それぞれの前記ステージ部片は、前記基台上に支持部材によって支持されており、それぞれの前記支持部材には、ステージの高さ寸法を調節する高さ調節機構が備えられている。
【００１３】
この構成によれば、ステージ部片を支持する支持部材が高さ調節機構を有しているため、それぞれのステージ部片の高さ寸法を独立して調節することができる。したがって、納入先における基台の組付けが、精度よく行われていない場合であってもそれぞれのステージ部片の高さ寸法を独立して調節することにより、ステージ全体の高さ寸法を精度よく調節することができる。すなわち、基板を載置させるステージの表面の平坦度を精度よく調節することができる。
【００１４】
また、前記レールは、前記塗布ユニットが塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する塗布走行部と、この塗布走行部から特定方向に延長された延長部とを有しており、前記塗布走行部は、連続状に一体成形されており、前記延長部にはレールを分割するレール分割部が形成されている構成とすることが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、塗布装置において、ステージ等を前記分割部で分割してもなお、レールの長尺化が運送に影響を与えるためレールを分割せざるを得ない場合がある。このような場合には、レール分割部をレールの前記延長部に設ける構成をとることにより、塗布ユニットが塗布液の吐出中に走行する塗布走行部にはレール分割部が形成されることがないため、レール分割部が、塗布液吐出中の塗布ユニットの定速走行性に影響することはない。したがって、不良基板が生産されるのを抑えることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の塗布装置によれば、基板の大型化に伴って塗布装置を分割化する場合であっても不良基板が生産されるのを抑えることのできる塗布装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態における塗布装置１を示す概略上面図、図２は、その側面図、図３は、図１におけるＡ−Ａ矢視図である。なお、図１においては、塗布ユニット５等は省略している。
【００１９】
図１〜図３に示すように、塗布装置は、供給される薄板状の基板２に薬液やレジスト等の液状物（以下塗布液と称す）を塗布するものであり、基台３と、その基台３上に基板２を載置するためのステージ４と、このステージ４に対し特定方向に延びるレール６とを有しており、塗布ユニット５が、このレール６上を走行するように構成されている。すなわち、塗布ユニット５がステージ４上に載置された基板２上を特定方向に移動しつつ、塗布液を吐出することによって基板２上に均一厚さの塗布液が塗布されるようになっている。
【００２０】
なお、以下の説明では、塗布ユニット５が移動する方向をＸ軸方向（本発明の特定方向）、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向とし、基台３に基板２が載置される側を上方、基板２が載置される側と反対側を下方として説明を進めることとする。
【００２１】
前記基台３は、基準ベース部３１とこの基準ベース部３１に連結される４体の分割ベース部３２とを有している。この基準ベース部３１には、ステージ４が載置されており、このステージ４を挟むようにレール６が配置されている。すなわち、基準ベース部３１及び分割ベース部３２上には、レール６がステージ４に沿って特定方向（Ｘ軸方向）に延びている。レール６は、塗布ユニット５の走行をガイドするものである。このレール６は、基準ベース部３１のレール部６１及び分割ベース部３２のレール部６２が連結されることによって構成されており、塗布走行部６ａと延長部６ｂとを有している。
【００２２】
ここで、塗布走行部６ａは、前記塗布ユニット５が塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する部分であり、図２において、塗布液の吐出が開始される位置（吐出開始位置Ｓ）から塗布液の吐出が終了する位置（吐出終了位置Ｔ）までに相当する部分である。また、延長部６ｂは、この塗布走行部６ａからＸ軸方向に延長される部分である。そして、塗布走行部６ａは、分割されることなく連続的に一体成形されており、延長部６ｂには、レール６が分割されるレール分割部６３が形成されている。
【００２３】
基準ベース部３１は、ステージ４を載置する部分であり、石材によって形成されている。基準ベース部３１は、図３に示すように、断面凹状の立体形状を有しており、そのＹ軸方向両端部分にはＺ軸方向に突出するレール部６１を有している。そして、この基準ベース部３１は、複数の基準ベース部片３１ａ、３１ｂに分割できるように構成されている。
【００２４】
具体的には、図３に示すように、基準ベース部３１のＹ軸方向中央部分には、Ｘ軸方向に延びるベース分割部８ａが形成されており、このベース分割部８ａで２つの基準ベース部片３１ａ、３１ｂに分離できるようになっている。すなわち、ベース分割部８ａ（本発明の基台分割部）は、基準ベース部３１のＸ軸方向一方側端部３１ｃ（図１参照）から他方側端部３１ｄ（図１参照）に亘って直線状に形成されている。この一方側端部３１ｃ、他方側端部３１ｄは、基準ベース部３１の特定方向（Ｘ軸方向）における端部（Ｙ軸方向に延びる縁端部分）である。本実施形態では、この一方側端部３１ｃ、他方側端部３１ｄのＹ軸方向ほぼ中央部分にベース分割部８ａが設けられている。そして、基準ベース部３１をベース分割部８ａで分割することにより、基準ベース部片３１ａ、３１ｂのＹ軸方向寸法が、運送規制寸法以下になるようになっている。したがって、大型基板に対応するために基台３のＹ軸方向寸法が運送規制寸法よりも大きくなる場合であっても、基台３をベース分割部８ａで分割することにより、運送規制上の問題を回避して基台３を運送することができる。
【００２５】
また、レール部６１は、Ｘ軸方向に延びるように形成されており、図１〜図３に示すように、このレール部６１は、基準ベース部３１のＸ軸方向に亘って連続して形成されており、塗布走行部６ａと延長部６ｂとを有している。そして、このレール部６１には、平坦かつ平滑なガイド面６１ａが形成されている。すなわち、このガイド面６１ａは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４と対向する位置に形成されており、本実施形態では、それぞれのレール部６１に、Ｚ軸方向に垂直をなす方向と、Ｙ軸方向に垂直をなす方向との２カ所にガイド面６１ａが形成されている。
【００２６】
また、基準ベース部３１の下面には、基準ベース部３１を支持する支持部３１ｅが取り付けられており、この支持部３１ｅにより、基準ベース部３１が水平となる姿勢を維持できるようになっている。そして、支持部３１ｅは、高さ調節部（不図示）を有しており、支持部３１ｅが高さ方向（Ｚ軸方向）に変位可能になっている。これにより、基準ベース部３１上面のガイド面６１ａの高さ位置を所定の高さ位置に調節することができるようになっている。
【００２７】
分割ベース部３２は、基準ベース部３１と同様に石材で形成されており、ブロック状に形成された分割ベース本体部３２ａ（図２参照）と、この分割ベース本体部３２ａの上方に配置されるレール部６２とを有している。レール部６２は、分割ベース本体部３２ａにボルトで固定されており、基準ベース部３１のレール部６１と同様に、分割ベース部３２のＸ軸方向に亘って連続して形成されている。そして、このレール部６２は、その全体が延長部６ｂとして構成されている。
【００２８】
また、レール部６２は、平坦かつ平滑なガイド面６２ａを有しており、このガイド面６２ａは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４と対向する位置に形成されている。すなわち、ガイド面６２ａは基準ベース部３１と同様に、Ｚ軸方向に垂直をなす方向と、Ｙ軸方向に垂直をなす方向との２カ所にガイド面６２ａが形成されている。そして、基準ベース部３１と分割ベース部３２とが連結された状態では、レール部６１，６２がＸ軸方向に延びるように連結され、レール部６１，６２のガイド面６１ａ、６２ａがレール分割部６３を形成しつつ連続状に連結される。すなわち、レール６のレール分割部６３においては、それぞれのレール部６１，６２のガイド面６１ａ，６２ａ同士が連続し、平坦かつ平滑に連結される。これにより、塗布ユニット５が基準ベース部３１のレール部６１及び分割ベース部３２のレール部６２上をスムーズに移動できるようになっている。
【００２９】
また、図１に示すように、分割ベース部３２の下面には、分割ベース部３２を支持する支持部３２ｅが取り付けられている。これにより、分割ベース部３２は、基準ベース部３１と連結に適した姿勢を維持できるようになっている。また、支持部３２ｅは、高さ調節部を有しており、支持部３２ｅが高さ方向（Ｚ軸方向）に変位可能になっている。これにより、分割ベース部３２のガイド面６２ａの高さ位置を所定の高さ位置に調節することができるようになっている。
【００３０】
前記ステージ４は、搬入された基板２をその表面に載置して保持するものである。具体的には、ステージ４には、その表面に開口する複数の吸引孔（不図示）が形成されており、これらの吸引孔と真空ポンプとが連通して接続されている。そして、ステージ４の表面に基板２が載置された状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し基板２がステージ４の表面側に吸引されて吸着保持されるようになっている。
【００３１】
また、ステージ４には、基板２を昇降動作させる基板昇降機構（不図示）が設けられている。すなわち、ステージ４の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピンが埋設されている。これにより、ステージ４の表面に基板２を載置した状態でリフトピンを上昇又は下降させることにより、基板２にリフトピンの先端部分が当接した状態で、基板２の昇降動作、及び、基板２を所定の高さ位置に保持できるようになっている。
【００３２】
また、ステージ４は、複数のステージ部片４１ａ、４１ｂに分割できるようになっている。具体的には、図３に示すように、ステージ４には、Ｘ軸方向に延びる分割部８ｂが形成されており、この分割部８ｂで２つのステージ部片４１ａ、４１ｂに分割できるようになっている。すなわち、分割部８ｂは、ステージ４におけるＸ軸方向一方側端部４ａから他方側端部４ｂに亘って直線的に形成されている。この一方側端部４ａ、他方側端部４ｂは、ステージ４の特定方向（Ｘ軸方向）における端部（Ｙ軸方向に延びる縁端部分）である。本実施形態では、この一方側端部４ａ、他方側端部４ｂのＹ軸方向ほぼ中央部分に分割部８ｂが設けられている。そして、本実施形態では、分割後のステージ部片４１ａ、４１ｂのＹ軸方向寸法が運送規制寸法以下になっている。したがって、大型基板に対応するためにステージ４のＹ軸方向寸法が運送規制寸法よりも大きくなる場合であっても、ステージ４を分割部８ｂでステージ部片４１ａ、４１ｂに分割することにより運送規制上の問題を回避してステージ４を運送することができる。
【００３３】
なお、これら２つのステージ部片４１ａ、４１ｂは、ボルトによって連結固定されるようになっており、連結固定された状態では、分割部８ｂにおけるステージ部片４１ａ、４１ｂの対向面が互いに密接するようになっている。
【００３４】
また、ステージ部片４１ａには支持部材４３ａ、ステージ部片４１ｂには支持部材４３ｂが取り付けられており、この支持部材４３ａ、４３ｂによりステージ４１ａ、４１ｂの表面が水平になる姿勢に維持できるようになっている。また、この支持部材４３ａ、４３ｂには、高さ調節機構が備えられており、支持部材４３ａ、４３ｂがＺ軸方向に変位できるようになっている。これにより、それぞれのステージ部片４１ａ、４１ｂにおいて、その表面高さ位置の調節が独立して可能となり、ステージ４の表面全体が所定の高さ位置になるように調節できるようになっている。すなわち、それぞれの基準ベース部片３１ａ、３１ｂの表面高さ位置が異なる場合であっても、支持部材４３ａ、４３ｂを調節することによりステージ４の表面全体が均一の高さ寸法となるように調節することができる。
【００３５】
前記塗布ユニット５は、ステージ４に載置された基板２に塗布液を塗布するためのものであり、図４に示すように、一方向に延び塗布液を吐出する口金部５１と、この口金部５１の両端部分に設けられたユニット支持部５２とを有している。本実施形態では、互いに独立して動作することができる塗布ユニット５が２台設置されている。これら塗布ユニット５は、塗布動作前では、図２に示すように、初期位置Ｐで停止している。すなわち、図２において左側の塗布ユニット５は左側の初期位置Ｐで停止しており（二点鎖線で示す）、右側の塗布ユニット５は右側の初期位置Ｐで停止している。
【００３６】
前記ユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作可能に支持するとともに、この口金部５１をＸ軸方向に移動させるためのものである。すなわち、このユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作させる昇降装置２０と、口金部５１を走行させる走行装置１０とを有している。
【００３７】
昇降装置２０は、図４に示すように、口金部５１を昇降動作させるものであり、Ｚ軸方向に延びるガイドレール２１と、口金部５１と連結されるスライダ２２とを有している。このガイドレール２１には、スライダ２２がガイドレール２１に沿ってスライド自在に取り付けられている。また、スライダ２２にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ２２がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。これにより、口金部５１は、Ｚ軸方向への昇降動作が駆動制御され、ステージ４に対して接離可能に動作するようになっている。
【００３８】
走行装置１０は、図４に示すように、口金部５１をＸ軸方向に走行させるためのものであり、スライド支持部１１とリニアモータ１２とを有している。
【００３９】
このスライド支持部１１は、レール６との間に設けられるエアベアリング１４（本発明の軸受け部）によってレール６上に支持されている。そして、スライド支持部１１に取り付けられたリニアモータ１２を駆動制御することにより、スライド支持部１１がＸ軸方向に移動するようになっている。具体的には、スライド支持部１１に設けられたエアベアリング１４にはコンプレッサが接続されており、このコンプレッサを作動させることにより、エアベアリング１４からガイド面６１ａ、６２ａ側にエアが供給される。そして、エアベアリング１４とガイド面６１ａ、６２ａとの間にエアが供給されることにより、スライド支持部１１がガイド面６１ａ、６２ａから浮上する状態に維持される。そして、スライド支持部１１が浮上する状態においてリニアモータ１２を駆動させることにより、スライド支持部１１がＸ軸方向に移動するようになっている。すなわち、塗布ユニット５は、リニアモータ１２を駆動させることにより、エアベアリング１４がレール６から浮上した状態で、Ｘ軸方向に沿って走行することができるようになっている。
【００４０】
また、塗布ユニット５はＸ軸方向における位置が検出されるようになっている。すなわち、レール６上には、ガイド面６２ａに沿ってスケール１５ｂが設けられている。そして、スライド支持部１１には、このスケール１５ｂと対向する位置にスケール読取部１５ａが取り付けられており、このスケール読取り部１５ａによりスケール１５ｂを読み取ることにより、塗布ユニット５が走行中であっても、現在における塗布ユニット５の位置を精度よく検出できるようになっている。
【００４１】
これにより、塗布ユニット５は、初期位置ＰからＸ軸方向において移動終了位置Ｑまで移動することができるとともに、これらを含めた任意の位置で停止できるようになっている。なお、この移動終了位置Ｑは、塗布動作終了後、塗布ユニット５が基板２の取出しの妨げになることのない位置である。
【００４２】
前記口金部５１は、基板２上に塗布液を吐出するものである。この口金部５１は、Ｙ軸方向に延びる形状を有する柱状部材であり、ステージ４の表面と対向する側には塗布液を吐出するノズル５１ａ（図４参照）が形成されている。このノズル５１ａは、ステージ４の表面側に突出し、この突出した部分にはＹ軸方向に延びる形状のスリットが形成されている。すなわち、このスリットを通じて口金部５１に供給された塗布液が基板２の表面に吐出されるようになっている。
【００４３】
本実施形態では、塗布ユニット５は、初期位置ＰからＸ軸方向に移動し、吐出開始位置Ｓで塗布液の吐出が開始されるとともに吐出終了位置Ｔで塗布液の吐出を終了させ、さらに、移動終了位置Ｑまで移動できるようになっている。
【００４４】
また、分割ベース部３２上には、口金部５１を清掃する清掃装置７が設けられている。この清掃装置７は、スクレーパとトレイとを有しており、スクレーパにより口金部５１のノズル付近に付着した塗布液の残留物を掻き取って、剥がれた付着物をトレイにて受け取るように構成されている。本実施形態では、清掃装置７が分割ベース部３２上に２カ所設けられており、図２において右側の塗布ユニット５が右側の清掃装置７で清掃されるとともに、左側の塗布ユニット５が左側の清掃装置７で清掃されるようになっている。なお、初期位置Ｐは、この清掃装置７上に口金部５１が位置する状態である。
【００４５】
次に、この塗布装置の組み立て作業について説明する。
【００４６】
まず、基準ベース部３１の組立を行う。具体的には、それぞれの基準ベース部片３１ａ、３１ｂを分割部３１ｂで密着させ、それぞれの支持部３１ｅ、３２ｅの高さ調節機構を調節しながら、ステージ４を載置する表面がほぼ同一高さ位置となるように連結固定させる。
【００４７】
次に、分割ベース部３２を組立後の基準ベース部３１の所定位置に配置する。そして、基準ベース部３１のガイド面６２ａと分割ベース部３２のガイド面６２ａとの高さ位置がほぼ同じになるように、基準ベース部３１及び分割ベース部３２における支持部３１ｅ、３２ｅの高さ調節部を調節する。このとき、基準ベース部３１のガイド面６２ａと分割ベース部３２のガイド面６２ａとの高さ位置の精度がよくない場合、すなわち、ガイド面６２ａとガイド面６２ｂとで形成される段差が大きい場合には、塗布ユニット５の定速走行の乱れにより、塗布ムラが発生する虞がある。したがって、ガイド面６２ａとガイド面６２ｂは精度よく連結する必要がある。本実施形態では、基準ベース部３１及び分割ベース部３２は、それぞれの支持部３１ｅ、３２ｂにより独立して高さ寸法を調節することができるため、これらを用いて基準ベース部３１に対し、それぞれの分割ベース部３２の高さ位置を確実に調節することができる。
【００４８】
次に、分割ベース部３２をボルトにより基準ベース部３１に固定する。すなわち、分割ベース部３２と基準ベース部３１との組付け精度の確認及び調節を行って固定する。具体的には、基準ベース部片３１ａ、３１ｂと、分割ベース部３２のレール部６１、６２のガイド面６１ａ、６２ａとの高さ位置を計測することにより、これらのずれ量が所定範囲になるように調節して固定する。
【００４９】
次に、精度よく基台３の組付け作業が完了した後、ステージ４を組付ける。具体的には、基台３上の所定の位置にそれぞれのステージ部片４１ａ、４１ｂを配置し、分割部８ｂにおけるそれぞれのステージ部片４１ａ、４１ｂが密着する状態で仮固定する。具体的には、ステージ部片４１ａ、４１ｂを基台３上の所定位置にそれぞれ配置し、ステージ部片４１ａ、４１ｂの高さ位置が同じになるように高さ調節機構で調節する。具体的には、ステージ部片４１ａ、４１ｂの高さ位置とレール６のガイド面６１ａ、６１ｂの高さ位置とが所定の位置関係となるようにそれぞれ独立して調節する。そして、同時に、支持部材４３ａ、４３ｂの高さ調節機構を調節することにより、ステージ部片４１ａ、４１ｂの表面高さ位置が所定の高さ位置になるように調節する。すなわち、分割部８ｂにおいて段差が生じることのないように、ステージ４の表面全体が一様の表面となるように調節する。
【００５０】
次に、塗布ユニット５等を組付ける。すなわち、塗布ユニット５のエアベアリング１４がレール６のガイド面６１ａ、６２ａに対向するように組付けるとともに、分割ベース部３２上に清掃装置７を組付ける。
【００５１】
次に、この塗布装置における動作について、図５に示すフローチャート及び図６に示す塗布ユニット５とレール６等との位置関係を示す概略図を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、一方の塗布ユニット５（図２において左側）によって塗布動作を行う場合について説明するものとし、他方の塗布ユニット５（図２において右側）については、一方の塗布ユニット５の塗布動作と同様であるため説明は省略する。
【００５２】
まず、ステップＳ１において、基板２の搬入が行われる。すなわち、図示しないロボットハンドにより基板２が搬入される。具体的には、ステージ４の表面から複数のリフトピンが突出した状態で待機されており、これらのリフトピンの先端部分に基板２が載置される。そして、リフトピンを下降させて基板２をステージ４の表面に載置し、この状態で真空ポンプを作動させて吸引孔に吸引力を発生させることにより、基板２をステージ４の表面上に吸着させて保持させる。
【００５３】
次に、ステップＳ２において、塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置しているか否かの確認が行われる。具体的には、塗布ユニット５に設けられた位置検出器１５ａ、１５ｂにより、それぞれの塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置しているか否か判断される。そして、塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置していないと判断した場合には、ステップＳ２においてＮＯの方向に進み、リニアモータ１２を駆動制御することにより、それぞれの塗布ユニット５を初期位置Ｐに復帰させる（ステップＳ３）。すなわち、塗布ユニット５は、図６（ａ）に示す位置に配置された状態となる。
【００５４】
ステップＳ２において、塗布ユニット５がそれぞれの初期位置Ｐに位置している場合には、ステップＳ２においてＹＥＳの方向に進み、塗布動作が行われる（ステップＳ４）。具体的には、塗布動作を行う塗布ユニット５（図６において左側）がレール６の延長部６ｂを走行し、吐出開始位置Ｓまで移動する（図６（ｂ））。このとき、レール６のレール分割部６３を通過するため、塗布ユニット５の定速走行性に影響する虞れがあるが、塗布液は未だ吐出されていないため、レール分割部６３の通過が塗布ムラの発生に影響することを抑えることができる。
【００５５】
そして、吐出開始位置Ｓから塗布ユニット５の口金部５１から塗布液が吐出され、その状態で塗布ユニット５がレール６の塗布走行部６ａを走行することにより、基板上に塗布液が塗布される。そして、塗布ユニット５が吐出終了位置Ｔに達すると塗布液の吐出が停止した後、さらにレール６の延長部６ｂを走行して移動終了位置Ｑで停止する（図６（ｃ））。
【００５６】
塗布動作が終了すると、次に初期位置復帰動作が行われる（ステップＳ５）。すなわち、塗布ユニット５のリニアモータ１２を駆動制御することにより、塗布ユニット５をもとの初期位置Ｐに位置させる（図６（ｄ））。このとき、塗布ユニット５がレール６のレール分割部６３を通過するが、塗布液は吐出されていないため、レール分割部６３の通過が塗布ムラの発生に影響することを抑えることができる。
【００５７】
次に、塗布ユニット５の清掃処理が行われる（ステップＳ６）。具体的には、図６（ｅ）に示すように、初期位置Ｐに位置した塗布ユニット５の口金部５１を下降させることにより、口金部５１の下方部分と清掃装置７のスクレーパを接触させる。この状態からスクレーパを口金部５１の延びる方向に移動させることにより、スリットノズル５１ａ付近の付着物が掻き取られ、口金部５１のノズル部分の清掃が完了する。
【００５８】
次に、基板２の取出しが行われる（ステップＳ７）。具体的には、リフトピンを上昇させることにより、リフトピンの先端部分で基板２を保持する。そして、図示しないロボットハンドに基板２の受け渡しが行われ、ステージ４表面から基板２が排出される。
【００５９】
このように、本実施形態における塗布装置によれば、ステージ４を分割する分割部８ｂがステージ４のＸ軸方向一方側端部４ａから他方側端部４ｂまで延びるように形成されているため、ステージ４がレール６の延びる方向に沿って適当な大きさに分割される。したがって、従来のように、レール６を分割することによりレール６の長手方向中央部分にレール６の継ぎ目ができる場合に比べて、塗布ユニット５の定速走行の乱れを抑えることができるため、不良基板２が発生するという問題を抑えることができる。
【００６０】
また、上記実施形態によれば、基台３をＸ軸方向に分割することができるため、基板が大型化すると大型化せざるを得ない基台３についても適当な大きさに分割することができる。したがって、塗布装置全体を適当な大きさに分割することができる。
【００６１】
また、上記実施形態によれば、レール６の塗布走行部６ａが一体成形される一方で、レール６の延長部６ｂにレール分割部６３が形成されているため、塗布装置全体がＸ軸方向に大型化するものであってレール６を分割せざるを得ない場合であっても、塗布ユニット５が塗布液の吐出中に走行する塗布走行部６ａにはレール分割部６３が形成されることがないため、レール分割部６３が塗布ユニット５の定速走行に影響することがない。したがって、レール６を分割する場合であっても不良塗布基板２が生産されるのを抑えることができる。そして、塗布装置が分割部８ｂ、ベース分割部８ａ、レール分割部６３で分割されることにより、それぞれ個々のパーツが小型化することができるため、それらの組み立て作業の作業性を向上させることができる。
【００６２】
また、上記実施形態では、ステージ４を２つのステージ部片４１ａ、４１ｂに分割される例について説明したが、２つ以上の分割部８ｂを設けて３つ以上のステージ部片に分割されるものであってもよい。すなわち、分割後のステージ部片のＹ軸方向寸法が所定以下の寸法（例えば輸送規制寸法以下の寸法）になるように分割部８ｂを設けるものであればよい。同様に、基準ベース部３１についても２以上のベース分割部８ａを設けるものであってもよい。
【００６３】
また、上記実施形態では、分割部８ｂ及びベース分割部８ａは、特定方向（レール６の延びる方向）にほぼ平行に設ける例について説明したが、特定方向に対して角度を有するように設けるものであってもよい。いずれの場合であっても、分割後のステージ部片４１ａ、４１ｂ及び基準ベース部片３１ａ、３１ｂのＹ軸方向寸法が所定の寸法以下であればよい。
【００６４】
また、上記実施形態では、レール６にもレール分割部６３を設ける例について説明したが、運送規制上、問題ない場合には、レール６を一体物としレール分割部６３を不要とした構成であってもよい。この場合には、分割部８ｂ、ベース分割部８ａの高さ調節だけでよく、高度な組付け精度が要求されるレール６のガイド面６２ａとガイド面６２ｂとの高さ位置の調節が不要となるため、現地において塗布装置を早急に組み立てることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の一実施形態における塗布装置を示す概略上面図である。
【図２】上記塗布装置の側面図である。
【図３】図１におけるＡ−Ａ矢視図である。
【図４】上記塗布装置のユニット支持部付近を示す図である。
【図５】上記塗布装置の動作を示すフローチャートである。
【図６】塗布ユニットとレールとの位置関係を示す概略図である。
【符号の説明】
【００６６】
２  基板
３  基台
５  塗布ユニット
６  レール
６ａ  塗布走行部
６ｂ  延長部
８ａ  ベース分割部
８ｂ  分割部
３１  基準ベース部
３２  分割ベース部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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