(57)【要約】【課題】模様付きパターンの作成時間を短縮できるパターン形成方法を提供する。【解決手段】図形パターンの座標に基づいて、少なくともこの図形パターンを図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成する。分割パターンのうち図形パターン上に位置するものの上に図形セルを重ねる。図形パターンと分割パターン上に配置した図形セルとを演算して模様付きパターンを形成する。図形セルを容易に配置でき、模様付きパターンの作成時間を短縮できる。【選択図】図１
2009145404.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の座標空間上に配置された図形パターンの座標に基づいて、少なくとも前記図形パターンを、所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成する分割工程と、
前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置工程と、
前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算工程と
を具備したことを特徴としたパターン形成方法。
【請求項２】
所定の図形パターンを所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを基準線に基づいて形成する分割工程と、
前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置工程と、
前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算工程と
を具備したことを特徴としたパターン形成方法。
【請求項３】
前記図形セルを、複数の模様を有する第１図形セルと、少なくとも１つの前記模様を含む前記第１図形セルの一部と同形状の第２図形セルとにより構成し、
前記分割パターンを、前記第１図形セルに対応させた第１分割パターンと、前記第２図形セルに対応させた第２分割パターンとにより構成する
ことを特徴とした請求項２記載のパターン形成方法。
【請求項４】
所定の座標空間上に配置された図形パターンの座標に基づいて、少なくとも前記図形パターンを、所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成する分割手段と、
前記分割パターン上に前記図形セルを重ねて演算することで、模様付きパターンを形成する演算手段と
を具備したことを特徴としたパターン形成装置。
【請求項５】
所定の図形パターンを所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを基準線に基づいて形成する分割手段と、
前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置手段と、
前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算手段と
を具備したことを特徴としたパターン形成装置。
【請求項６】
前記図形セルは、
複数の模様を有する第１図形セルと、
少なくとも１つの前記模様を含む前記第１図形セルの一部と同形状の第２図形セルとを備え、
前記分割パターンは、
前記第１図形セルに対応させた第１分割パターンと、
前記第２図形セルに対応させた第２分割パターンとを備えている
ことを特徴とした請求項５記載のパターン形成装置。
【請求項７】
所定の座標空間上に配置された図形パターンの座標に基づいて、少なくとも前記図形パターンを、所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成する分割ステップと、
前記分割パターン上に前記図形セルを重ねて演算することで、模様付きパターンを形成する演算ステップと
を具備したことを特徴としたパターン形成プログラム。
【請求項８】
所定の図形パターンを所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを基準線に基づいて形成する分割ステップと、
前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置ステップと、
前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算ステップと
を具備したことを特徴としたパターン形成プログラム。
【請求項９】
前記図形セルを、複数の模様を有する第１図形セルと、少なくとも１つの前記模様を含む前記第１図形セルの一部と同形状の第２図形セルとにより構成し、
前記分割パターンを、前記第１図形セルに対応させた第１分割パターンと、前記第２図形セルに対応させた第２分割パターンとにより構成する
ことを特徴とした請求項８記載のパターン形成プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、模様付きパターンを作成するパターン形成方法、その装置、および、そのプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置は、例えば走査線や信号線などの配線、画素電極などの電極、あるいは薄膜トランジスタなどのスイッチ素子を有するアレイ基板と、カラーフィルタおよび対向電極などを有する対向基板とを、例えば紫外線硬化樹脂(ＵＶ硬化樹脂)などにより貼り合わせ、これら基板間に液晶層を介在して構成されている。
【０００３】
そして、このような液晶表示装置などのレイアウトは、例えばＣＡＤシステムを用いて、様々な形状の図形パターンを組み合わせることによって形成される。
【０００４】
近年、液晶表示装置の高性能化に伴い、設計レイアウトが微細化・複雑化しており、パターンを切り抜いて形状を変えたり、パターンを重ねて形状を変えたりといった操作を数多く行って液晶表示装置のレイアウトを設計している。その中に、例えば基板同士を貼り合わせるＵＶ硬化樹脂を硬化させるためのＵＶ光を、配線などの非透過性のパターン中を透過させるために、これら配線などのパターンに多数のスリットを配置する操作がある。
【０００５】
これらＵＶ光を透過させるスリットは、設けるパターンの形状など、様々な条件により形状が異なり、その都度、最適な形状のものを配置する(例えば、特許文献１参照。)。
【特許文献１】特開２００７−２３３０２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記レイアウト設計方法では、多くの人手が必要となるため、操作が増えることにより、設計ミスが発生することがある。そのため、様々なＣＡＤ機能や自動化ツールを用いて設計を行っている。
【０００７】
レイアウト設計の一手法として、例えば形状の異なるパターンを用意しておき、図形演算を行うことによって形状を変更する方法がある。
【０００８】
上記の方法で配線などの図形パターンにＵＶ光を透過させるスリットをつける作業を実施するに当たっては、ＣＡＤ機能により図形パターン上のスリットとなる部分を１つずつ切り取ったり、図形パターン上にスリットのパターンを配置し、その図形パターンとスリットのパターンとを図形演算したりする。
【０００９】
しかしながら、このような方法では、設計データが複雑化することにより、スリットのパターン数が増加し、スリットを形成したパターンの作成時間が長くなってしまう問題がある。
【００１０】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、模様付きパターンの作成時間を短縮できるパターン形成方法、その装置、および、そのプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、所定の座標空間上に配置された図形パターンの座標に基づいて、少なくとも前記図形パターンを、所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成する分割工程と、前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置工程と、前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算工程とを具備したものである。
【００１２】
また、本発明は、所定の座標空間上に配置された図形パターンの座標に基づいて、少なくとも前記図形パターンを、所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成する分割手段と、前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置手段と、前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算手段とを具備したものである。
【００１３】
さらに、本発明は、所定の座標空間上に配置された図形パターンの座標に基づいて、少なくとも前記図形パターンを、所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成する分割ステップと、前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置ステップと、前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算ステップとを具備したものである。
【００１４】
そして、図形パターンの座標に基づいて、少なくともこの図形パターンを図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成し、この分割パターンのうち図形パターン上に位置するものの上に図形セルを重ねて、図形パターンと分割パターン上に配置した図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する。
【００１５】
また、本発明は、所定の図形パターンを所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを基準線に基づいて形成する分割工程と、前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置工程と、前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算工程とを具備したものである。
【００１６】
さらに、本発明は、所定の図形パターンを所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを基準線に基づいて形成する分割手段と、前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置手段と、前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算手段とを具備したものである。
【００１７】
また、所定の図形パターンを所定の模様を有する図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを基準線に基づいて形成する分割ステップと、前記分割パターンのうち、前記図形パターン内に位置するものの上に前記図形セルを重ねる配置ステップと、前記図形パターンと、前記分割パターン上に配置された前記図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する演算ステップとを具備したものである。
【００１８】
そして、図形パターンの基準線に基づいて、この図形パターンを図形セルに対応する形状に分割する分割パターンを形成し、この分割パターンのうち図形パターン上に位置するものの上に図形セルを重ねて、図形パターンと分割パターン上に配置した図形セルとを演算することで、模様付きパターンを形成する。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、図形セルを容易に配置でき、模様付きパターンの作成時間を短縮できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の第１の実施の形態を図１ないし図６を参照して説明する。
【００２１】
本実施の形態のパターン形成装置は、図示しないコンピュータ、例えば表示素子としての液晶表示素子である液晶パネルのアレイ基板の基板パターンの設計などに用いるパターン形成プログラムであるパターンレイアウトソフト、すなわちＣＡＤソフトなどを含むコンピュータシステムである。
【００２２】
ここで、液晶パネルは、アレイ基板と、このアレイ基板に対向配置される対向基板との間に、液晶層を介在して構成され、アレイ基板上には、走査線、信号線、薄膜トランジスタなどの各種図形パターンが形成され、対向基板上には、アレイ基板側と対応する位置に、カラーフィルタや画素電極などの各種図形パターンが形成されている。また、アレイ基板と対向基板とは、周縁部がシール剤により接着されている。
【００２３】
シール剤は、例えば紫外線硬化樹脂などであり、外部から照射される紫外線(ＵＶ)によって硬化することで、アレイ基板と対向基板とを強固に貼り合わせている。
【００２４】
さらに、コンピュータには、記憶手段としてのハードディスク、一時記憶手段としてのメモリ、所定の座標空間上に図形パターンP1や図形セルＣを作成するパターン作成手段、作成した図形パターンP1の座標に基づいて配置原点O1を抽出する配置原点抽出手段、この抽出した配置原点O1に基づいて分割パターンPDを形成する分割手段、この分割パターンPD上に、所定の模様であるスリットＳを有する図形セルＣを重ねる配置手段、および、図形パターンP1と、配置手段により配置した図形セルＣとを演算して模様付きパターンP2を形成する演算手段などの機能を有するＣＰＵなどの制御手段がそれぞれ設けられている。
【００２５】
図形パターンP1は、図２ないし図６において、任意のパターンをその対象とすることが可能であるが、本実施の形態では、例えば設計段階での配線パターンなどとする。
【００２６】
図形セルＣは、例えば幅寸法L1、高さ寸法L2の四角形状のセル本体Caの略中央部に、例えば横長四角形状のスリットＳが形成されている。なお、図形セルＣの形状は、分割パターンPDの形成を容易にするために、四角形状とすることが好ましいが、四角形状以外の任意とすることも可能である。同様に、スリットＳも、任意の形状とすることが可能である。
【００２７】
分割パターンPDは、図形セルＣのセル本体Caの大きさに対応する形状に形成されている。本実施の形態では、例えば図中横方向の寸法がL1、縦方向の寸法がL2の四角形状であり、これら分割パターンPDは、座標の軸方向に沿ってマトリクス状に形成されている。
【００２８】
模様付きパターンP2は、図形パターンP1にスリットＳを形成したもので、例えば最終的に製造する配線パターンなどとする。ここで、この模様付きパターンP2の模様であるスリットＳは、模様付きパターンP2が配線である場合、例えばアレイ基板と対向基板とを貼り合わせるシール剤を硬化させる際に、液晶パネルの外部から照射された紫外線を透過させてシール剤に照射させるようにするためのものである。
【００２９】
次に、上記第１の実施の形態のパターン形成方法(パターン形成プログラム)を、図１に示すフローチャートも参照しながら説明する。なお、図１中の丸数字は、それぞれステップ番号を示す。
【００３０】
まず、パターン作成手段の機能により、図形パターンP1を所定の座標空間、ここではｘｙ平面上に作成する(ステップ１(図形パターン作成工程(図形パターン作成ステップ)))。
【００３１】
次いで、パターン作成手段の機能により、図４に示すように、所定のスリットＳを設計した図形セルＣを作成する(ステップ２(図形セル作成工程(図形セル作成ステップ)))。
【００３２】
また、配置原点抽出手段の機能により、ステップ１で作成した図形パターンP1の座標に基づいて、配置原点O1を抽出する(ステップ３(配置原点抽出工程(配置原点抽出ステップ)))。具体的に、例えば図２に示すような図形パターンP1の場合には、この図形パターンP1の図中最も下側に位置する点を通りｘ軸に平行な直線Lxと、図形パターンP1の図中最も左側に位置する点を通りｙ軸に平行な直線Lyとの交点を配置原点O1とする。この配置原点O1は、ｘ軸とｙ軸との交点である座標空間上の原点Ｏと一致していても、異なっていてもよい。
【００３３】
さらに、分割手段の機能により、ステップ３で抽出した配置原点O1に基づいて、図形パターンP1全体を含む座標空間の一部を図形セルＣに対応する形状に分割する分割パターンPDを形成する(ステップ４(分割工程(分割ステップ)))。具体的に、図３に示すように、配置原点O1から、直線Lyに対してｘ軸方向に沿って図形セルＣの幅寸法であるL1ずつ離間する仮想的な直線Ly1を複数作成するとともに、直線Lxに対してｙ軸方向に沿って図形セルＣの高さ寸法であるL2ずつ離間する仮想的な直線Lx1を複数作成し、これら直線Lx1，Lx1と直線Ly1，Ly1とによって囲まれる領域を分割パターンPDとする。
【００３４】
次いで、配置手段の機能により、分割パターンPDのうち、図形パターンP1内に位置する分割パターンPDaの上に、ステップ２で作成した図形セルＣを順次重ねる(ステップ５(配置工程(配置ステップ)))。具体的に、図５に示すように、全体が図形パターンP1内に収まる例えば２０個の分割パターンPDa上、それぞれ図形セルＣを配置する。
【００３５】
そして、演算手段の機能により、図形パターンP1と、分割パターンPDa上に重ねた図形セルＣとを演算して、図６に示すように、模様付きパターンP2を作成する(ステップ６(演算工程(演算ステップ)))。
【００３６】
上述したように、上記第１の実施の形態によれば、図形パターンP1の座標に基づいて、この図形パターンP1を含む座標空間の一部を図形セルＣに対応する形状に分割する分割パターンPDを形成し、この分割パターンPDのうち図形パターンP1上に位置する分割パターンPDa上に図形セルＣを重ね、図形パターンP1と図形セルＣとを演算することで、模様付きパターンP2を形成する。
【００３７】
すなわち、設計データが複雑な図形パターンP1に対しても、この図形パターンP1の座標に基づいて抽出した配置原点O1から、それぞれｘ軸およびｙ軸に平行な仮想的な直線Lx，Lx1，Ly，Ly1を、図形セルＣの寸法L1，L2の間隔で作成することで容易に分割パターンPDを形成でき、この分割パターンPDに基づいて図形セルＣを容易に配置できる。
【００３８】
この結果、例えば図形パターンからスリットを１つずつ切り抜いたり、図形パターンのスリットとなる部分にパターンを配置して図形演算したりする従来の構成と比較して、模様付きパターンP2の作成時間を短縮できる。
【００３９】
また、図形セルＣを用いるので、例えばスリットＳの形状を変更する場合などでも、図形セルＣの設計を変更するだけで模様付きパターンP2のスリットＳ全体の形状を容易に変更できる。
【００４０】
次に、第２の実施の形態を図７ないし図１５を参照して説明する。なお、上記第１の実施の形態と同様の構成および作用については、同一符号を付してその説明を省略する。
【００４１】
この第２の実施の形態は、上記第１の実施の形態において、コンピュータが、記憶手段としてのハードディスク、一時記憶手段としてのメモリ、所定の座標空間上に図形パターンP3や図形セルＣを構成する第１図形セルC1および第２図形セルC2を作成するパターン作成手段、作成した図形パターンP3の基準線である中心線CLを抽出する基準線抽出手段、この抽出した中心線CLに基づいて、分割パターンPDを構成する第１分割パターンPD1および第２分割パターンPD2を形成する分割手段、各種判断をする判断手段、各分割パターンPD1，PD2上に、所定の模様であるスリットＳを有する各図形セルC1，C2を重ねる配置手段、および、図形パターンP3と、配置手段により配置した各図形セルC1，C2とを演算して模様付きパターンP4を形成する演算手段などの機能を有するＣＰＵなどの制御手段がそれぞれ設けられている。
【００４２】
図形パターンP3は、図８ないし図１５において、任意のパターンをその対象とすることが可能であるが、本実施の形態では、例えば設計段階での配線パターンなどとし、例えば直線状の図形パターンP3a，P3bとが、傾斜状の図形パターンP3cにより接続された形状をなしている。
【００４３】
中心線CLは、例えば図形パターンP3の左右方向の中心に位置する仮想線である。
【００４４】
第１図形セルC1は、図１３(a)に示すように、例えば幅寸法L3、高さ寸法L4の四角形状の第１セル本体C1aに、複数、例えば２つの縦長のスリットＳが形成されている。なお、第１図形セルC1の形状は、分割パターンPDの形成を容易にするために、四角形状とすることが好ましいが、四角形状以外の任意とすることも可能である。同様に、スリットＳも、任意の形状とすることが可能である。
【００４５】
第２図形セルC2は、図１３(b)に示すように、第１図形セルC1の図中の左右方向半分の形状を有する四角形状に形成されている。すなわち、第２図形セルC2は、第１図形セルC1のスリットＳの１つを含み、かつ、第１セル本体C1aの幅寸法L3の半分である幅寸法L5および高さ寸法L4の四角形状の第２セル本体C2aを有している。なお、第２図形セルC2の形状は、分割パターンPDの形成を容易にするために四角形状とすることが好ましいが、少なくともいずれかのスリットＳを含む第１図形セルC1の一部の形状であれば、四角形状以外の任意とすることも可能である。
【００４６】
第１分割パターンPD1は、図９ないし図１４に示すように、第１図形セルC1の第１セル本体C1aの大きさに対応する形状に形成されている。本実施の形態では、例えば図中横方向の寸法がL3、縦方向の寸法がL4の四角形状である。
【００４７】
また、第２分割パターンPD2は、第２図形セルC2の第２セル本体C2aの大きさに対応する形状、すなわち第１セル本体C1a(第１分割パターンPD1)の半分の形状に形成されている。本実施の形態では、例えば図中横方向の寸法がL5、縦方向の寸法がL4の四角形状である。
【００４８】
なお、第１分割パターンPD1の幅寸法L3および高さ寸法L4は、図形パターンP3の大きさに応じて任意に設定することが可能である。
【００４９】
模様付きパターンP4は、図形パターンP3にスリットＳを形成したもので、例えば最終的に製造する配線パターンなどとする。ここで、この模様付きパターンP4の模様であるスリットＳは、模様付きパターンP4が配線である場合、例えばアレイ基板と対向基板とを貼り合わせるシール剤を硬化させる際に、液晶パネルの外部から照射された紫外線を透過させてシール剤に照射させるようにするためのものである。
【００５０】
次に、上記第２の実施の形態のパターン形成方法(パターン形成プログラム)を、図７に示すフローチャートも参照しながら説明する。なお、図７中の丸数字は、それぞれステップ番号を示す。
【００５１】
まず、パターン作成手段の機能により、図形パターンP3を所定の座標空間上に作成する(ステップ11(図形パターン作成工程(図形パターン作成ステップ)))。
【００５２】
次いで、基準線抽出手段の機能により、ステップ11で作成した図形パターンP3の座標に基づいて、中心線CLを抽出する(ステップ12(基準線抽出工程(基準線抽出ステップ)))。具体的に、例えば図８に示すような図形パターンP3の場合には、この図形パターンP3の図形パターンP3a，P3b，P3cのそれぞれの中心線を接続することで中心線CLとする。この中心線CLは、必ずしも直線となるわけではない。
【００５３】
さらに、分割手段の機能により、ステップ12で抽出した中心線CL上でかつ図形パターンP3の所定の分割基点位置にて、任意のセルサイズを指定した第１図形セルC1に対応する形状に分割する第１分割パターンPD1を形成する(ステップ13(第１分割工程(第１分割ステップ)))。具体的に、図９に示すように、中心線CLに対して、任意の大きさの第１図形セルC1に対応する第１分割パターンPD1を、この第１分割パターンPD1の左右方向の中心位置を合わせて図形パターンP3に形成する。
【００５４】
次いで、判断手段の機能により、上記ステップ13で形成した第１分割パターンPD1の左右両側に、第１分割パターンPD1がさらに形成できるかどうかを判断する(ステップ14(第１判断工程(第１判断ステップ)))。具体的に、中心線CL上に形成した第１分割パターンPD1の両側と、図形パターンP3の両側との間の距離を演算し、その距離が第１分割パターンPD1の幅寸法L3以上かどうかによって、第１分割パターンPD1の左右両側に、第１分割パターンPD1がさらに形成できるかどうかを判断する。
【００５５】
中心線CL上に形成した第１分割パターンPD1の両側と、図形パターンP3の両側との間の距離が第１分割パターンPD1の幅寸法L3以上である場合には、図１０に示すように、分割手段の機能により、第１分割パターンPD1の両側にさらに第１分割パターンPD1を形成し(ステップ15(第２分割工程(第２分割ステップ)))、ステップ14に戻る。また、中心線CL上に形成した第１分割パターンPD1の両側と、図形パターンP3の両側との間の距離が第１分割パターンPD1の幅寸法L3よりも小さい場合には、判断手段の機能により、第１分割パターンPD1の側部に、第１図形セルC1の一部に対応する形状を有する第２図形セルC2の一部に対応する第２分割パターンPD2が形成できるかを判断する(ステップ16(第２判断工程(第２判断ステップ)))。
【００５６】
このステップ16は、具体的に、その第１分割パターンPD1の側部と、図形パターンP3の側部との間の距離を演算し、その距離が第２分割パターンPD2の幅寸法L5以上かどうかによって、第２分割パターンPD2が形成できるかどうかを判断する。
【００５７】
第１分割パターンPD1の側部と、図形パターンP3の側部との間の距離が第２分割パターンPD2の幅寸法L5以上である場合には、図１１に示すように、第１分割パターンPD1の側部に第２分割パターンPD2を形成し(ステップ17(第３分割工程(第３分割ステップ)))、判断手段の機能により、分割パターンPDにより図形パターンP3全体を分割したかどうかを判断する(ステップ18(第３判断工程(第３判断ステップ)))。
【００５８】
一方、ステップ16において、第１分割パターンPD1の側部と、図形パターンP3の側部との間の距離が第２分割パターンPD2の幅寸法L5より小さい場合には、そのままステップ18に進む。
【００５９】
そして、ステップ18において、図形パターンP3全体を分割していないと判断した場合には、分割基点位置を中心線CLに沿って移動させて(ステップ19(基点移動工程(基点移動ステップ)))、ステップ13に戻り、図形パターンP3全体を分割したと判断した場合には、ステップ20(配置工程(配置ステップ))に進む。
【００６０】
上記第１分割工程(第１分割ステップ)ないし第３分割工程(第３分割ステップ)などにより、図１２に示すように、図形パターンP3を、各図形セルC1，C2に対応する形状に分割する各分割パターンPD1，PD2を形成する分割工程が構成されている。
【００６１】
ステップ20では、配置手段の機能により、図１４に示すように、図形パターンP3内に位置する第１分割パターンPD1の上に、図１３(a)に示す第１図形セルC1を重ね、図形パターンP3内に位置する第２分割パターンPD2の上に、図１３(b)に示す第２図形セルC2を重ねる。
【００６２】
そして、演算手段の機能により、図形パターンP3と、各分割パターンPD1，PD2上に重ねた各図形セルC1，C2とを演算して、図１５に示すように、模様付きパターンP4を作成する(ステップ21(演算工程(演算ステップ)))。
【００６３】
このように、上記第２の実施の形態によれば、図形パターンP3の中心線CLに基づいて、この図形パターンP3を図形セルＣ(第１図形セルC1および第２図形セルC2)に対応する形状に分割する分割パターンPD(第１分割パターンPD1および第２分割パターンPD2)を形成し、この分割パターンPD上に図形セルＣを重ね、図形パターンP3と図形セルＣとを演算することで、模様付きパターンP4を形成する。
【００６４】
すなわち、設計データが複雑な図形パターンP3に対しても、この図形パターンP3の中心線CLから図形パターンP3の左右両側部までの距離を算出することで、容易に分割パターンPDを形成でき、この分割パターンPDに基づいて図形セルＣを容易に配置できる。
【００６５】
この結果、例えば図形パターンからスリットを１つずつ切り抜いたり、図形パターンのスリットとなる部分にパターンを配置して図形演算したりする従来の構成と比較して、模様付きパターンP4の作成時間を短縮できる。
【００６６】
また、図形セルＣを用いるので、例えばスリットＳの形状を変更する場合などでも、図形セルＣの設計を変更するだけで模様付きパターンP4のスリットＳ全体の形状を容易に変更できる。
【００６７】
さらに、図形セルＣとして、複数のスリットＳを有する第１図形セルC1と、この第１図形セルC1のスリットＳの少なくとも１つを含む一部に対応する形状の第２図形セルC2とを用い、これら各図形セルC1，C2に対応する分割パターンPDとして、第１分割パターンPD1と第２分割パターンPD2とを用いることにより、図形セルＣを配置可能な図形パターンP3中の面積を増加させることが可能になり、模様付きパターンP4全体にスリットＳを広く形成でき、模様付きパターンP4中のデッドスペースを抑制できる。
【００６８】
なお、上記第２の実施の形態において、第２分割パターンPD2は、第１分割パターンPD1の半分の幅寸法としたが、第１分割パターンPD1のスリットＳを少なくとも１つ含む第１分割パターンPD1の一部に対応する形状であれば、任意の大きさに設定できる。
【００６９】
また、上記各実施の形態において、図形パターンP1，P3は、それぞれ配線パターンに限定されるものではなく、図形セルＣに形成する模様もスリットＳに限定されるものではない。
【００７０】
さらに、上記各実施の形態のパターン形成方法、パターン形成装置およびパターン形成プログラムは、それぞれ表示素子のパターン形成用としたが、他の任意のパターン形成に用いることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の第１の実施の形態のパターン形成方法を示すフローチャートである。
【図２】同上パターン形成方法の配置原点抽出工程を示す説明図である。
【図３】同上パターン形成方法の分割工程を示す説明図である。
【図４】同上パターン形成方法に用いる図形セルを示す説明図である。
【図５】同上パターン形成方法の配置工程を示す説明図である。
【図６】同上パターン形成方法の演算工程により作成した模様付きパターンを示す説明図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態のパターン形成方法を示すフローチャートである。
【図８】同上パターン形成方法の基準線抽出工程を示す説明図である。
【図９】同上パターン形成方法の第１分割工程を示す説明図である。
【図１０】同上パターン形成方法の第２分割工程を示す説明図である。
【図１１】同上パターン形成方法の第３分割工程を示す説明図である。
【図１２】同上パターン形成方法の分割工程により分割された図形パターンを示す説明図である。
【図１３】(a)は同上パターン形成方法に用いる第１図形セルを示す説明図、(b)は同上パターン形成方法に用いる第２図形セルを示す説明図である。
【図１４】同上パターン形成方法の配置工程を示す説明図である。
【図１５】同上パターン形成方法の演算工程により作成した模様付きパターンを示す説明図である。
【符号の説明】
【００７２】
Ｃ    図形セル
C1    第１図形セル
C2    第２図形セル
CL    基準線である中心線
P1，P3    図形パターン
P2，P4    模様付きパターン
PD    分割パターン
PD1   第１分割パターン
PD2   第２分割パターン
Ｓ    模様であるスリット
【図１】
2009145404.tif 000003
【図２】
2009145404.tif 000004
【図３】
2009145404.tif 000005
【図４】
2009145404.tif 000006
【図５】
2009145404.tif 000007
【図６】
2009145404.tif 000008
【図７】
2009145404.tif 000009
【図８】
2009145404.tif 000010
【図９】
2009145404.tif 000011
【図１０】
2009145404.tif 000012
【図１１】
2009145404.tif 000013
【図１２】
2009145404.tif 000014
【図１３】
2009145404.tif 000015
【図１４】
2009145404.tif 000016
【図１５】
2009145404.tif 000017