(57)【要約】【課題】  マスク移載容器の遮蔽式入出気構造を提供する。【解決手段】  移載容器は相対蓋合する底台とハウジングを含み、底台頂面には２個のサポート部品と１個の接触支持部品により組成する「コの字型」サポート体を設置しフォトマスクを支え、入出気構造は底台上に少なくとも２個の選択的に気密作用を生じる入出気部品を設置し、入出気部品は中空の底台範囲内に設置し、移載容器置は装置上に設置する開閉部品により移載容器の２個の入出気部品を選択的に開閉し、移載容器内部にクリーンな気体を注入し、移載容器内部の気体を導出し、これにより気体は該移載容器内部で循環流動状態を形成し、移載容器内部環境の清浄度を長期間維持可能で、同時に入出気構造はサポート部品下方に設置するため、気流がフォトマスク表面に直接衝撃を与え、フォトマスク表面に損傷を加える現象を回避可能である。【選択図】図２
2009227305.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移載容器の遮蔽式入出気構造の該移載容器はフォトマスクの容器に用い、底台、ハウジング、少なくとも２個の入出気部品を含み、
前記底台の頂面には２個のサポート部品と１個の接触支持部品により取り囲み形成するサポート体を設置し、前記フォトマスクを支え、及び該フォトマスクを側辺に寄せることができ、前記サポート部品底面には中空の空気回流空間を形成し、前記２個のサポート部の相互に異なる外側にはそれぞれ複数の内部と外部に連通する通気孔を形成し、
前記ハウジングは前記底台と相対し蓋合と開放を選択し、該ハウジングは該底台上に形成するフォトマスクを容置することができる容置空間を蓋合可能で、
少なくとも２個の前記入出気部品は前記底台上に設置し、該２個の入出気部品は該底台の２個のサポート部品下方に設置し、しかも該サポート部品と空気回流空間は連通し、
これにより、移載容器を装置に設置する時、該装置上の相対する入出気部品の開閉部品を通して、選択的に入出気部品を同時に開放し、気体は移載容器に注入及び排出され、２個の入出気部品は気体を空気回流空間を経て移載容器に注入或いは排出する設計を利用し、気流はフォトマスク上、下表面に沿って水平に流動し、気流がフォトマスクパターンに損傷を及ぼさず、しかも長期間清浄度を保持可能な移載容器の遮蔽式入出気構造を構成することを特徴とするマスク移載容器の遮蔽式入出気構造。
【請求項２】
前記移載容器の底台は該サポート部品に連通する受け台を備え、該受け台下段にはナットを埋設し、これにより前記入出気部品は該移載容器外部から前記底台受け台上に螺合され、こうして該入出気部品は該移載容器外部からの組み立てと分解に便利となることを特徴とする請求項１記載のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造。
【請求項３】
前記底台上には前記サポート部品と前記接触支持部品により圧迫固定される金属板を設置し、しかも該金属板は該受け台に対応する位置において対応する貫通孔を形成し、これにより該金属板は位置限定作用を獲得可能であることを特徴とする請求項２記載のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造。
【請求項４】
前記入出気部品は管体及び可動部品を備え、該管体内部中段には気体が通過する中空隔絶片を形成し、また該可動部品両端には直径がより大きい押し上げ端と直径がより小さい封鎖端をそれぞれ形成し、これにより該可動部品は該封鎖端により復位ばねを貫通後、隔絶片に穿進し、ピストンワッシャを利用し該封鎖端上に嵌設し、こうして該可動部品は該管体内において復位ばねが提供する弾性偏圧力を受け浮動を生じ、該可動部品のピストンワッシャを利用し該管体隔絶片から相対的に離れ或いは接近し、気体を隔絶し、或いは気体を連通させることを特徴とする請求項１或いは２記載のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造。
【請求項５】
前記移載容器は注気を行う前記入出気部品の出気端にフィルターと圧迫抵触ワッシャを圧迫設置し、これにより該入出気部品が導入する気体をさらにろ過することを特徴とする請求項４記載のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスク移載容器の遮蔽式入出気構造に関する。特に、気流がフォトマスクに傷害を与えることを回避可能な移載容器で、しかも移載容器内部の清浄度と環境条件を長期間維持及び制御可能なマスク移載容器の遮蔽式入出気構造に係る。
【背景技術】
【０００２】
電子製品はコンパクト、高出力、高性能等の特性に向って絶えず発展を続けているが、その影響で、電子製品中に用いられるコアチップはさらに微小化と高性能化が求められている。チップを微小化、高性能化するためには、チップ上のIC線径の微細化が必要で、これにより、より多くのIC及び部品を搭載することができる。よって、既存のＩＣ線径は既に早期の0.25ミクロンから90〜45ナノ等の製造工程へと発展している。チップ上のIC線径微細化の勝敗を握るカギは、主に半導体製造工程中の黄色光リソグラフィー製造工程技術である。そのキー設備はスキャナー(Scanner)とフォトマスク(Reticle)の使用にある。
これらの内、フォトマスクを例とすると、フォトマスク表面に微粒子が付着、或いは表面に霧化が生じると、ウエハーの歩留りに直接影響を及ぼす。よってその製造工程は極めて高いレベルのクリーンルームにおいて行われる。しかし、半導体のクリーンルーム中では、洗浄、製造、スパッタリング、黄色光リソグラフィー或いはエッチング等の段階ではすべて非常に多くの溶剤を使用する。これら有害物質は製造工程の加熱或いは露光等の動作を経ると、環境中の水蒸気等と化学作用を生じ、ウエハー或いはフォトマスク表面に付着し、或いは他の歩留りに影響を及ぼす付加物を生じてしまう。
【０００３】
これら問題を解決するため、業界では米国特許第4,532,970号(特許文献１)、米国特許第4,534,389号(特許文献２)のウエハー、フォトマスク密閉移転システムなどを開発し、微粒子、水蒸気等の有害物質がフォトマスクとウエハーに隣接する環境中に進入しないようにしている。
しかし、前記の密閉移転システムは容器内に残留する有害物質が発生する問題までは克服することができない。フォトマスクを例とすれば、フォトマスク汚損の原因は微粒子以外に、環境中の水蒸気、有毒気体、プラスチック製移載容器が放出する硫化物、フォトマスク製造工程中に残留或いはフォトマスク上のパターン材質そのものが放出するアンモニア（NH4+）、及びフォトマスク洗浄過程中に残留する化学分子等有害物質を含む。結晶を例とすれば、その化学式はNH42SO4で、この結晶物は前記異なる原因により放出されるアンモニア（NH4+）及び硫酸イオン（SO42-）が、高エネルギー光源と環境水蒸気等の化合を経て生成されるため、しばしばフォトマスクの洗浄後に発生する。これがある程度の期間たまり、黄色光リソグラフィー製造工程中の紫外線照射を受け露光すると、結晶の現象を発生する。
この問題の主要な原因は、保存容器の気密性不足である。移載容器外の環境空気中の微粒子、水分子が絶えず浸入するため、その化学反応が必要な元素を提供することになってしまう。さらに、該移載容器は主にプラスチック製であるが、プラスチック材料は絶えず硫化物等有害物質を放出しており、しかも外部気体はフォトマスクに浸入し、フォトマスクパターン材質そのもの、或いは、移載容器内のアンモニアガスと反応を生じ、有害物質はフォトマスク表裏両面とフォトマスク保護膜表面に付着してしまう。
【０００４】
これら問題を解決するため、業界はフォトマスクの移載容器内にステンレス内カバーを設置し、靜電導出の効果を生じることができる他、プラスチック材質が放出する硫化物を吸収することができる構造を開発した。同時に移載容器上に充填気構造を設置し、これによりクリーンなイナートガスを該移載容器内に注入し、移載容器内の有害気体を押し出し、さらに該移載容器の気密性を向上させ、外部微粒子の進入を防止する。
すなわち、台湾特許公告第223680号(特許文献３)及び第I262164号(特許文献４)等のように、該移載容器構造の改変を通して、移載容器の気密性を向上させている。
しかし、気密性の改良は重大な工程であるため、開発、モールディング、組み立てのコストが拡大してしまい、しかも、材質、蓋合力量、蓋合接触面積等素因の影響を受け、移載容器は完全気密の効果を達成することはできない。よって移載容器内の気体はやはり徐々に外へと流失し、微粒子と水分子は極めて小さいため、移載容器は長期間の保存後、外部環境中の微粒子と水分子等の有害物質は徐々に該移載容器内部に滲入する。これによりフォトマスク清浄度を維持する作用を失ってしまい、同じようにフォトマスクとフォトマスク保護膜の汚損、霧化と結晶等を引き起こし、後続ウエハー加工の歩留り、生産量、コストに悪影響を及ぼす。
【０００５】
さらに、前記の充填気構造を備えるフォトマスクボックスは主にその充気バルブをフォトマスクボックスの底台或いはハウジング上に設置し、これにより直接フォトマスクボックスの内部に連通する。こうして充気設備は充気バルブを通して注気する時、その気流は直接フォトマスク表面に衝突し、気体中に残留する微粒子が直接フォトマスク表面のパターン材質に衝撃を与えることになってしまう。さらに強力な気流はパターンを傷つけ、フォトマスクパターンが損傷を受け、ウエハー製造時に不良品を形成してしまい、さらなる改良の必要がある。
【特許文献１】米国特許第4,532,970号明細書
【特許文献２】米国特許第4,534,389号明細書
【特許文献３】台湾専利公告第223680号明細書
【特許文献４】台湾専利公告第I262164号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
よって前記移載容器の充気気流がカバーパターンを傷つけ易いという問題を深く検討し、しかも長期間にわたって内部清浄度を維持したいとの需要に応えるため、解決の道を積極的に探り、研究と試作を絶えず行い、ついに移載容器の遮蔽式入出気構造の開発に成功した。これにより、既存の移載容器が充気時にフォトマスクパターンを傷つけ易いという困難を克服し、同時にさらに移載容器内部の清浄度を維持し、環境条件を制御する必要があった。
本発明が解決しようとする第一の課題は、フォトマスクパターンの損傷を防止することが可能な移載容器の遮蔽式入出気構造を提供し、フォトマスクの使用寿命を延ばすことができ、
本発明が解決しようとする第二の課題は、内部の清浄度を長期間維持可能な移載容器の遮蔽式入出気構造を提供し、これにより微粒子或いは水蒸気等有害物質の進入を回避し、移載容器中有害物質の放出を加速し、フォトマスク洗浄と再製造の回数を減少させ、運営コストの低下に有効で、
本発明が解決しようとする第三の課題は、環境条件を制御可能な移載容器の遮蔽式入出気構造を提供し、それは移載容器内部の環境条件を改変可能で、後続製造工程の期間を節約することができ、後続製造工程のコストを低下させることができるマスク移載容器の遮蔽式入出気構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明は下記の移載容器の遮蔽式入出気構造を提供するもので、前記の目的と性能を具体的に実現するため、請求項１の発明は、マスク移載容器の遮蔽式入出気構造において、移載容器はフォトマスクの容器に用い、底台、ハウジング、少なくとも２個の入出気部品を含み、前記底台の頂面には２個のサポート部品と１個の接触支持部品により取り囲み形成するサポート体を設置し、前記フォトマスクを支え、及び該フォトマスクを側辺に寄せることができ、前記サポート部品底面には中空の空気回流空間を形成し、前記２個のサポート部の相互に異なる外側にはそれぞれ複数の内部と外部に連通する通気孔を形成し、前記ハウジングは前記底台と相対し蓋合と開放を選択し、該ハウジングは該底台上に形成するフォトマスクを容置することができる容置空間を蓋合可能で、少なくとも２個の前記入出気部品は前記底台上に設置し、該２個の入出気部品は該底台の２個のサポート部品下方に設置し、しかも該サポート部品と空気回流空間は連通する。
これにより、移載容器を装置に設置する時、該装置上の相対する入出気部品の開閉部品を通して、選択的に入出気部品を同時に開放し、気体は移載容器に注入及び排出され、２個の入出気部品は気体を空気回流空間を経て移載容器に注入或いは排出する設計を利用し、気流はフォトマスク上、下表面に沿って水平に流動し、気流がフォトマスクパターンに損傷を及ぼさず、しかも長期間清浄度を保持可能な移載容器の遮蔽式入出気構造を構成することを特徴とする。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１記載のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造において、前記移載容器の底台は該サポート部品に連通する受け台を備え、該受け台下段にはナットを埋設し、これにより前記入出気部品は該移載容器外部から前記底台受け台上に螺合され、こうして該入出気部品は該移載容器外部からの組み立てと分解に便利となることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項２記載のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造において、前記底台上には前記サポート部品と前記接触支持部品により圧迫固定される金属板を設置し、しかも該金属板は該受け台に対応する位置において対応する貫通孔を形成し、これにより該金属板は位置限定作用を獲得可能であることを特徴とする。
請求項４の発明は、請求項１或いは２記載のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造において、前記入出気部品は管体及び可動部品を備え、該管体内部中段には気体が通過する中空隔絶片を形成し、また該可動部品両端には直径がより大きい押し上げ端と直径がより小さい封鎖端をそれぞれ形成し、これにより該可動部品は該封鎖端により復位ばねを貫通後、隔絶片に穿進し、ピストンワッシャを利用し該封鎖端上に嵌設し、こうして該可動部品は該管体内において復位ばねが提供する弾性偏圧力を受け浮動を生じ、該可動部品のピストンワッシャを利用し該管体隔絶片から相対的に離れ或いは接近し、気体を隔絶し、或いは気体を連通させることを特徴とする。
請求項５の発明は、請求項４記載のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造において、前記移載容器は注気を行う前記入出気部品の出気端にフィルターと圧迫抵触ワッシャを圧迫設置し、これにより該入出気部品が導入する気体をさらにろ過することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
上記のように、本発明は、少なくとも以下の機能、作用と効果を奏することができる。
１．本発明のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造は、入出気部品はサポート部品内部に設置し、激しく上昇する気流を遮蔽し、適当に導引後、気流はフォトマスク上、下の水平表面に沿って流動し、フォトマスク表面のパターンに垂直方向の衝撃を与えることがないため、フォトマスクパターンに損傷を及ぼさず、しかも、有害物質をスムーズに排出することができ、フォトマスクの使用寿命延長に有効で、移載容器中の有害物質の放出を加速し、フォトマスク洗浄と再製造の回数を減少させ、運営コストの低下に有効である。
２．本発明のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造は、移載容器は入出気部品の設計を利用し、これにより移載容器内部は正圧状態を保持可能で、外部の微粒子、水分子等の進入を不可能とし、移載容器内部環境の清浄度を長期間保持することができ、既存の移載容器では絶えず気密度を向上させなければならない困難と不便を解決することができる。
【００１０】
３．本発明のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造は、気体の絶え間ない注入と排出を通して、一種の循環気流を形成し、これにより既存の構造では長期間の保存後に正圧が消失する状況を生じないようにし、移載容器とフォトマスクが放出する有害物質を排出可能とし、これにより該移載容器の内部環境は長期間清浄度を維持することができ、フォトマスク表面の微粒子付着と霧化、結晶等の現象を減少させ、ウエハー製造の歩留りを向上させることができる。
４．本発明の移載容器内部は、長期間その清浄度を維持可能であるため、フォトマスクの保存時に、早く入れたものから出すという原則の制限を受ける必要がなく、フォトマスク管理の利便性が増進可能である。
５．本発明は、マスク移載容器の遮蔽式入出気構造に対して循環流動のクリーンな気体を提供することができ、さらに異なる製造工程の需要に対応可能で、予め入出気部品を通して必要な材料を注入し、湿度、温度を改変し、或いは特殊製造工程気体或いは物質等などその内部環境を制御し、後続製造工程処理の期間とコストを減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造の最適実施例を図を用いて説明する。
本発明は保存或いは運輸に用いる製造工程中のフォトマスクの移載容器であるが、図１、２に示すように、本実施例のマスク移載容器1は、フォトマスク50を承置する底台10、該底台10を蓋合し密閉空間を形成するハウジング20、及び少なくとも２個の容置空間に対して注気或いは排気を行う入出気部品3を含む。
【００１２】
本発明の実施例の詳細構成については、図２、３、４に示すように、該底台10頂面には金属板13を設置し、さらに、該底台10上には２個のサポート部品15と接触支持部品16を設置する。しかも、該サポート部品15と該接触支持部品16は金属板13を該底台10頂面に圧迫固定することができ、また該２個のサポート部品15と該接触支持部品16は該金属板13において取り囲み「コの字型」サポート体を形成し、該フォトマスク50を支え、及び該フォトマスク50を側辺に寄せることができる。
しかも、前記各サポート部品15の底面には空気回流空間150を形成し、さらに、該２個のサポート部品15の相互に異なる外側頂縁にはそれぞれ複数の内部と外部に連通する通気孔151を形成する。しかも、該底台10は少なくとも２個の凸出頂面と底面を備える受け台11を形成し、前記金属板13は対応する貫通孔14を形成する。これにより、前記受け台11の両側の貫通孔14はそれぞれサポート部品15の空気回流空間150に対応し連通することができる(図４参照)。
しかも、これにより前記金属板13の位置を限定し、さらに、受け台11の下段内縁にはネジヤマ段303を形成し、或いはナット12を埋設する。本発明の実施例はナット12の埋設した構成を主要実施例とし、前記の入出気部品3を螺設し、これにより使用者は該移載容器1外部からの前記入出気部品3を組み立て或いは分解に便利となる。
【００１３】
前記ハウジング20は、外ケース21と把手24と金属製ライナー25により組成し、該外ケース21の周縁には保存部品22を設置し、該保存部品22は実施例ではＲＦＩＤシステムを装備する。該保存部品22は該移載容器1内にフォトマスク50の関連情報を記録し、また、金属製ライナー25は該外ケース21の内縁に固定する。該ライナー25内には若干の圧迫抵触部品26を設置し、該圧迫抵触部品26は該フォトマスク50の頂面と側面を圧迫定位し、押し支えることができ、これによりフォトマスク50は該底台10の「コの字型」サポート体上に定位される。
また、前記入出気部品3は選択的に開閉する機能を備え、該入出気部品3は該底台10の受け台11内に設置し、該入出気部品3は管体30及び選択的開閉管体30の可動部品32により組成する。該管体30の内部中段にはそれぞれ気体が通過する中空隔絶片300を形成し、これにより該管体30の内部は該隔絶片300の両側にそれぞれ第一槽孔301と第二槽孔302を形成する。しかも、該入出気部品3の管体30は該第二槽孔302の外縁に対応しネジヤマ段303を形成し、これにより、該入出気部品3は該管体30を前記受け台11のナット12上に螺設する。さらに、前記可動部品32の両端には直径がより大きい押し上げ端33と直径がより小さい封鎖端34をそれぞれ形成する。該可動部品32の封鎖端34は復位ばね35を貫通後、前記管体30の第一槽孔301により該隔絶片300を経由し第二槽孔302に進入する。
【００１４】
並びに、該開合端34上にはピストンワッシャ36を嵌設し、こうして該可動部品32は該管体30内において選択的に移動し、該復位ばね35は弾性偏圧力を提供し、該可動部品32を押し移動後に自動復位し、こうして、該可動部品32上のピストンワッシャ36は該管体30の隔絶片300を開放或いは密閉し、該第一槽孔301と該第二槽孔302間での気体の流動を隔絶する。しかも、該可動部品32が外力を受け押されると、該可動部品32のピストンワッシャ36を該隔絶片300から離れさせ、これにより、該気体は該管体30の第一槽孔301から該第二槽孔302へと流動する。さらに注気に用いる入出気部品3は該移載容器1外部から該底台10受け台11に螺設される時、順番に圧迫抵触ワッシャ38とフィルター37を圧迫固定し、さらに、該移載容器1内に進入するクリーンな気体をろ過し、微粒子或いは有害物質の移載容器1内への進入を防止する。
移載容器1の２個の入出気部品3の設計を通して、該移載容器1の内部に注入される気流はフォトマスク50表面に沿って水平に流動するため、フォトマスク50の表面のパターンに直接衝撃を与えることはない。しかも、該移載容器1の内部の気体は循環流動を生じ、クリーンな気体を絶えず移載容器1内に注入し正圧を形成し、これにより外部微粒子と有害物質の進入を回避することができる。同時に、放出された有害物質を流動気体を利用し絶えず持ち出し、フォトマスクパターンを傷つけず、しかも清浄度を長期間維持可能で、内部環境条件を制御可能な移載容器の遮蔽式入出気構造を構成する。
【００１５】
上記設計を通して、本発明は実際の使用・運用時には、図５に示すように、本発明の実施例の移載容器1は、各式容置或いは運輸の装置60中に使用・運用することができる。該装置60はフォトマスク管理システム保存ケース、フォトマスク充気ケース、フォトマスク運輸設備、及び製造工程設備のフォトマスク進/出ユニット(Load、Unload)等である。
該装置60は、少なくとも移載容器1を設置する受け板61、及び、充、排気作用を備える２個の開閉部品80を含む。
該受け板61上には微粒子の沈積を防止する複数の網孔を備え、該装置60内部の清浄度を保持する。また、該受け板61上には少なくとも１個の定位部品62を設置し、これにより、対応する移載容器1は該受け板61上に安定的に固定される。さらに、該受け板61には少なくとも１個の検知部品64を設置し、該移載容器1が該受け板61上に定位設置されているか否かを感知する。さらに、該装置60上には典型的なＲＦＩＤシステムの読み取り部品63を備え、該読み取り部品63は該移載容器1の保存部品22に対応し、該読み取り部品63は該移載容器1内のフォトマスク50の関連情報を伝送、及び、読み取ることができる。
【００１６】
前記装置60の２個の開閉部品80は、該移載容器1の２個の入出気部品3と対応して連接し、前記開閉部品80は前記の入出気部品3を選択的に開閉することができる。該開閉部品80は管状の管体81と該管体81を選択的に密閉する可動部品83を備える。該管体81の内部中段には気体が通過する中空隔絶片810を形成し、これにより該管体81内部は該隔絶片810両側において、それぞれ第一槽孔811と第二槽孔812を形成する。
しかも、該開閉部品80の管体81第一槽孔811は前記の移載容器1に対応し、また該可動部品83両端には直径がより大きい押し上げ端84と直径がより小さい封鎖端85をそれぞれ形成し、これにより該可動部品83は封鎖端85により復位ばね86を貫通後、該管体81第一槽孔811により該隔絶片810を貫通し第二槽孔812に進入し、ピストンワッシャ87を利用し該封鎖端85上に嵌設する。
こうして、前記可動部品83は該管体81内において浮動する。前記復位ばね86は弾性偏圧力を提供し、該可動部品83上のピストンワッシャ87を押し該管体81の隔絶片810を密閉し、該第一槽孔811と該第二槽孔812間における気体の流動を隔絶する。しかも、該可動部品83が外力を受け押されると、該可動部品83ピストンワッシャ87は該隔絶片810から離れ、該管体81の第一槽孔811と第二槽孔812は相互に連通し、さらに該可動部品83の押し上げ端84は該移載容器1の表面に対応し凸伸し押し上げ凸柱88を形成する。
【００１７】
実際の操作では、図６、７、８に示すように、フォトマスク50を容置する移載容器1を装置60内に置入し、該装置60の検知部品64が該移載容器1の定位を感知後、該読み取り部品63を起動し該移載容器1の保存部品22(記憶素子等)内のフォトマスク50の関連情報を対応し読み取り書込みする。同時に、該移載容器1の２個の入出気部品3と該装置60の２個の開閉部品80は相対し挿入接続し、図６、７に示すように、該入出気部品3の管体30は該開閉部品80の可動部品83を押すことができる。
該開閉部品80可動部品83の押し上げ凸柱88は該入出気部品3の可動部品32を同期に押すことができ、これにより該２個の開閉部品80と該２個の入出気部品3を同期に開放することができ、クリーンな気体は移載容器1の底台10とハウジング20間の空間内において流動することができる。しかもクリーンな気体を注入する時、該開閉部品80は該入出気部品3を経て、該底台10のサポート部品15の空気回流空間150内に入るため、該クリーンな気体はさらに該サポート部品15の外側頂縁の通気孔151より進出する。
【００１８】
こうして、気流はフォトマスク50の表面に沿って流動し、フォトマスク50の表面のパターンに直接衝撃を与えることはなく、パターンの傷害を防止することが可能で、フォトマスク50の使用寿命の延長に有効で、しかも、有害物質をスムーズに持ち去り排出することができるため、移載容器1中の有害物質の放出を加速することができ、フォトマスク50の洗浄と再製造の回数を減少させ、運営コストの低下に有効である。
さらにの該移載容器1内部気体の絶えまない注入と排出を通して、該移載容器1内部環境は気体の循環流動状態を生じる。こうして、該移載容器1内部環境は正圧を形成し、移載容器1外部の微粒子、水蒸気等の有害物質の進入を効果的に防止することができる。さらには、後続製造工程の需要に応じて、循環流動の気体を通して、湿度、温度等の移載容器1内部の環境条件を予め制御することができ、後続製造工程の期間とコストを減少させることができる。
【００１９】
本発明の実施例の機能・作用は、１．移載容器の入出気部品はサポート部品内部に設置し、激しく上昇する気流を遮蔽し、適当に導引後、気流はフォトマスク上、下の水平表面に沿って流動し、フォトマスク表面のパターンに垂直方向の衝撃を与えることがないため、フォトマスクパターンに損傷を及ぼさず、しかも有害物質をスムーズに排出することができ、フォトマスクの使用寿命延長に有効で、移載容器中の有害物質の放出を加速し、フォトマスク洗浄と再製造の回数を減少させ、運営コストの低下に有効であり、２．移載容器は入出気部品の設計を利用し、これにより移載容器内部は正圧状態を保持可能で、外部の微粒子、水分子等の進入を不可能とし、移載容器内部環境の清浄度を長期間保持することができ、既存の移載容器では絶えず気密度を向上させなければならない困難と不便を解決することができる。
【００２０】
さらに、３．本発明のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造は、気体の絶え間ない注入と排出を通して、一種の循環気流を形成し、これにより既存の構造では長期間の保存後に正圧が消失する状況を生じないようにし、移載容器とフォトマスクが放出する有害物質を排出可能とし、これにより該移載容器の内部環境は長期間清浄度を維持することができ、フォトマスク表面の微粒子付着と霧化、結晶等の現象を減少させ、ウエハー製造の歩留りを向上させることができ、４．移載容器内部は長期間その清浄度を維持可能であるため、フォトマスクの保存時に、早く入れたものから出すという原則の制限を受ける必要がなく、フォトマスク管理の利便性を増進可能であり、５．移載容器に対して循環流動のクリーンな気体を提供することができ、さらに異なる製造工程の需要に対応可能で、予め入出気部品を通して必要な材料を注入し、湿度、温度を改変し、或いは特殊製造工程気体或いは物質等などその内部環境を制御し、後続製造工程処理の期間とコストを減少させることができる。
なお、本発明の特徴を損なうものでなければ、上述した実施例に限定されるものでないことは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施例のマスク移載容器の遮蔽式入出気構造の立体外観指示図である。
【図２】本発明の移載容器入出気部品の構成及びその相対関係を説明する底台俯瞰分解指示図である。
【図３】本発明のマスク移載容器の底台底面分解指示図である。
【図４】本発明の移載容器の組合せ断面指示図である。
【図５】本発明の移載容器の実際の使用・運用の装置の外観指示図である。
【図６】本発明の移載容器と装置接合前の局部平面断面図である。
【図７】本発明の移載容器と装置接合後の局部平面断面図である。
【図８】本発明の移載容器の実際使用時の気流指示図である。
【符号の説明】
【００２２】
１  移載容器
１０  底台
１１  受け台
１２  ナット
１３  金属板
１４  貫通孔
１５  サポート部品
１５０  空気回流空間
１５１  通気孔
１６  接触支持部品
２０  ハウジング
２１  外ケース
２２  保存部品
２４   把手
２５  ライナー
２６  圧迫抵触部品
３  入出気部品
３０  管体
３００  隔絶片
３０１  第一槽孔
３０２  第二槽孔
３０３  ネジヤマ段
３２  可動部品
３３  押し上げ端
３４  封鎖端
３５  復位ばね
３６  ピストンワッシャ
３７  フィルター
３８  圧迫抵触ワッシャ
５０  フォトマスク
６０  装置
６１  受け板
６２  定位部品
６３  読み取り部品
６４  検知部品
８０  開閉部品
８１  管体
８１０  隔絶片
８１１  第一槽孔
８１２  第二槽孔
８３  可動部品
８４  押し上げ端
８５  封鎖端
８６  復位ばね
８７  ピストンワッシャ
８８  押し上げ凸柱
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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