(57)【要約】【課題】泡やガラス破片や凹凸が少ないガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】溶融ガラスを受容する下型と、前記下型との間で前記溶融ガラスを加圧するための上型と、を用いて、流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスをプレス成形して情報記録媒体に用いるガラス基板を製造するガラス基板の製造方法において、前記流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスに括れを形成する外力を加える括れ形成工程と、前記括れ形成工程で形成された前記溶融ガラスの括れた位置で、該溶融ガラスをブレードで切断して前記下型に該溶融ガラスを供給する工程と、前記下型及び前記上型で前記溶融ガラスを加圧しながら冷却してガラス基板を得る加圧工程と、前記加圧工程の後、前記ガラス基板への加圧を解除して型開きを行う離型工程と、を有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融ガラスを受容する下型と、
前記下型との間で前記溶融ガラスを加圧するための上型と、を用いて、
流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスをプレス成形して情報記録媒体に用いるガラス基板を製造するガラス基板の製造方法において、
前記流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスに括れを形成する外力を加える括れ形成工程と、
前記括れ形成工程で形成された前記溶融ガラスの括れた位置で、該溶融ガラスをブレードで切断して前記下型に該溶融ガラスを供給する工程と、
前記下型及び前記上型で供給された前記溶融ガラスを加圧しながら冷却してガラス基板を得る加圧工程と、
前記加圧工程の後、前記ガラス基板への加圧を解除して型開きを行う離型工程と、を有することを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記括れ形成工程は、前記流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスにガスを吹き付けることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板を研磨する工程を有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板に記録層を形成する工程を有することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来アルミニウム基板が広く用いられていた。しかし、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請に伴い、アルミニウム基板よりも表面の平滑性に優れ、しかも表面欠陥が少ないことから磁気ヘッド浮上量の低減を図ることができるガラス基板を磁気ディスク用基板として用いる割合が増えてきている。
【０００３】
このような磁気ディスク等の情報記録媒体用ガラス基板は、ブランク材と呼ばれるガラス基板に研磨加工等を施すことによって製造される。このガラス基板は、プレス成形によって製造する方法や、フロート法等によって作製された板ガラスを切断して製造する方法等が知られている。これらの方法うち、溶融ガラスを直接プレス成形することによってガラス基板を製造する方法は、特に高い生産性が期待できることから注目されている。
【０００４】
プレス成形によってガラス基板を製造する方法においては、溶融ガラスをプレス型に供給する必要がある。プレス成型によりガラス基板を成型する工程を図５に模式的に示す。流出ノズル２から溶融ガラスを流出して下型２４に溶融ガラス塊２８供給する（図５（ａ））。その後、溶融ガラス塊２８が所定量に達するとブレード２３によって溶融ガラスを切断し、溶融ガラス塊２８を分離する（図５（ｂ））。溶融ガラス塊２８が供給された下型２４は、上型２５と対向する位置まで水平移動し、その後下型２４の成型面２６と上型２５の成型面２７とで溶融ガラス塊２８を加圧する。溶融ガラス塊２８は、成型面２６及び成型面２７との接触面から放熱することによって、冷却・固化し、ガラス基板２９となる（図５（ｃ））。
【０００５】
溶融ガラスを型に供給する方法として、流出ノズルのズルの開口から流出してくる溶融ガラスに、その溶融ガラスに働く自重、表面張力に加えて、溶融ガラスに括れを生じさせる外力を加えて所要の溶融ガラスを分離・切断してレンズ、プリズム等の光学ガラス素子を製造するためのガラスゴブを得る方法がある（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００２−１２８５２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のプレス成型により得たガラス基板２９には、その表裏両面の中央に線状に見える無数の泡やガラス破片や凹凸が存在する。これは、溶融ガラスをブレード２３で切断する際に、溶融ガラスが空気を巻き込んだ状態でプレス成型することで、ガラス基板２９に発生する泡、ガラスの切断により飛散するガラス破片、ガラスの切り口の表面凹凸である。
【０００７】
近年、ガラス基板の薄板化に伴い、製造効率を高めるため研磨前のガラス基板（ブランク材）の厚みを薄くすることが要求されている。このため、研磨工程での取り代を削減することが要求され、ブランク材における表面の欠陥を極力少なくすることが、最終製品の品質の良否に大きな影響を与えるようになってきている。
【０００８】
上述のプレス成形によって得られるブランク材には泡やガラス破片や凹凸が存在するため、研磨工程で泡や凹凸を十分に取り除く必要がある。このため、製品としてのガラス基板の厚みを薄くすることが望まれている中で、泡や凹凸を取り除くために十分な研磨の取り代を必要とするため、ブランク材を薄くすることができない。また、泡やガラス破片や凹凸を取り除くため、研磨量が多くなり製造効率が低下してしまうという問題があった。
【０００９】
特許文献１においては、型に供給される溶融ガラスがレンズ、プリズム等の光学ガラス素子を対象としているため、磁気ディスク用基板を対象とする溶融ガラスと比較してその粘度が低い。このため、比較的粘度の高い溶融ガラスを用いて、所定量の溶融ガラスの自重と表面張力とガラス流に外力を加えることによる括れを組み合わせることで所定量の溶融ガラス得ようとすると、以下の問題がある。分離時に糸を引く状態になって完全に分離できなかったり、分離しても溶融ガラスの糸を引いた部分が下型の上に受容された溶融ガラスの表面に倒れ込む等により空気を巻き込んだ入り糸状の形が残ったりしてしまう。また、十分に分離できるように粘度を低くすると、下型に受容された溶融ガラスが必要以上に広がってしまい、所望の大きさと厚みのガラス基板を得ることが困難となる。
【００１０】
本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、泡やガラス破片や凹凸が少ないガラス基板（ブランク材）の製造方法、該ガラス基板の製造方法で製造したガラス基板を用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題は、以下の構成により解決される。
【００１２】
１．  溶融ガラスを受容する下型と、
前記下型との間で前記溶融ガラスを加圧するための上型と、を用いて、
流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスをプレス成形して情報記録媒体に用いるガラス基板を製造するガラス基板の製造方法において、
前記流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスに括れを形成する外力を加える括れ形成工程と、
前記括れ形成工程で形成された前記溶融ガラスの括れた位置で、該溶融ガラスをブレードで切断して前記下型に該溶融ガラスを供給する工程と、
前記下型及び前記上型で供給された前記溶融ガラスを加圧しながら冷却してガラス基板を得る加圧工程と、
前記加圧工程の後、前記ガラス基板への加圧を解除して型開きを行う離型工程と、を有することを特徴とするガラス基板の製造方法。
【００１３】
２．  前記括れ形成工程は、前記流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスにガスを吹き付けることを特徴とする１に記載のガラス基板の製造方法。
【００１４】
３．  １又は２に記載のガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板を研磨する工程を有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１５】
４．  ３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板に記録層を形成する工程を有することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のガラス基板の製造方法によれば、下型に流出ノズルの開口から流出する溶融ガラスを供給する際に、溶融ガラスに外力を加えて括れを形成する。この括れた位置で溶融ガラスを切断して、下型に溶融ガラスを供給し、下型と上型とで下型に供給された溶融ガラスを加圧し、その後、離型する。溶融ガラスを下型に供給する際に、溶融ガラスを切断する断面積を小さくすることができる。このため、下型に供給される溶融ガラスは、切断時に巻き込む空気の量を少なくすることができ、この巻き込まれた空気が少ない溶融ガラスをプレス成型することができる。また、切断する断面積を小さくできることにより、発生するガラスの破片も少なく、ガラスの切り口の表面凹凸も小さくすることができる。
【００１７】
従って、泡やガラス破片や凹凸が少ないガラス基板の製造方法を提供することができる。更に、このガラス基板の製造方法で製造したガラス基板を用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、この情報記録媒体用ガラス基板の製造方法で製造された情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限らない。以下、本発明に係わる実施の形態を、添付図面を参照して、具体的に説明する。
【００１９】
図１は、本発明に係わる溶融ガラスをプレス成形のための下型に供給する溶融ガラス供給装置の構成の例を示した断面図である。１はガラス溶融るつぼ、２はパイプ状のガラスの流出ノズルであって、溶融るつぼ１に接続され、２４はプレス成型用の下型である。５は溶融るつぼ１の加熱ヒータ、６は流出ノズル２の加熱ヒータであり、それぞれ溶融るつぼ１、流出ノズル２の外周に配置され、溶融るつぼ１、流出ノズル２が所望の温度を満足するように加熱するようになっている。
【００２０】
７は溶融ガラス、８は流出ノズルから下型２４へ流出したガラス流である。また、１０は撹拌棒であり、溶融るつぼ１の中の溶融ガラス７を均質にするために、駆動機構（図示せず）によって駆動されて、撹拌可能としている。
【００２１】
また、１１はガス噴出装置、１２はガラス流８の外周方向より中心に向かって吹付けられるガスである。ガス噴出装置１１は、流出ノズル２の開口（流出口）下端２ａの下に配置され、ガラス流８の外周方向よりその中心に向かって、所望の温度に制御されたガス１２を吹付ける。ガス噴出装置１１の下には、ガラス流８を切断するためのブレード２３が設けてある。なお、溶融るつぼ１、流出ノズル２の各部材は、白金および白金合金製である。
【００２２】
流出ノズル２から供給される溶融ガラスは、以下のようして準備される。溶融るつぼ１の投入部（図示せず）より、溶融るつぼ１の内部へ投入されたガラス原料は、加熱ヒータ５で、所定の溶融温度に制御され、溶解・清澄の各工程を経て、要求する溶融状態にする。その後、撹拌棒１０により、十分に均質化された後、加熱ヒータ６で所定の温度に制御された流出ノズル２から、ガラス流８として流出される。尚、溶融るつぼを数個繋ぎ、投入・溶解・清澄・均質の各工程を連続的に実施してもよい。
【００２３】
次に、流出されたガラス流８は、流出ノズル２の下方にて下型２４により所定量の溶融ガラス塊２８として受け取られる。下型２４は、複数個が回転テーブルの上に固定されており、溶融ガラス塊２８を受け取った下型２４は水平移動してプレス成形工程へ移り、流出ノズル２の下方には新しい下型２４が供給される。
【００２４】
流出ノズル２から流出したガラス流８の外周より中心に向かって、ガスの吹付けを行うガス噴出装置１１について、図２を参照しながら説明する。図２は、図１の位置Ａ−Ａにおける断面を示す図である。図２に示すガス噴出装置１１において、１３はガスホルダー、１４はガス噴出口、１６はガスホルダーにガスを供給する配管通路、１５は配管分岐通路（図２では、２分岐型）である。ガス供給源（図示しない）に接続されているガス供給通路１９を通り配管通路１６から供給されたガスは、配管分岐通路１５を経て、ガス噴出口１４へ分配されている。各通路は、ガスホルダー１３の中心に対して、等分の角度で配設されており、複数のガス噴出口１４（図２では、８分岐）からガラス流８の中心に向かって、ガスを吹き付けるようになっている。各配管通路１６には、ガス噴出口１４から噴出されるガス圧がほぼ同程度となるように調整するためのガス流量調節器１７が設けてある。
【００２５】
２０は加熱ヒータであり、ガスホルダー１３の中に、その軸中心に対して、等配分で設置されている。加熱ヒータ２０により、複数（この場合８分岐）のガス噴出口１４から噴出されるガス１２の温度を、所定の温度に調整することができる。
【００２６】
これまで説明した溶融ガラス供給装置を使用して、溶融ガラスを流出ノズル２から流出させ、ガラス基板をプレス成形する方法について説明する。ここで、ガラス溶融、および流出ノズルのガラス流出条件を以下に示す。
投入・溶解・清澄工程段階：１２００℃〜１６００℃
均質工程段階：１２００℃〜１４００℃
・流出ノズル径；内径：φ６ｍｍ以上
・流出ノズル制御温度；１０００℃〜１４００℃
・ガラス流出量：３０ｍｌ／分以上
また、ガス噴出装置１１の仕様、および、ガス１２の吹付け条件について下記する。
・ガス噴出口；直径φ０．５ｍｍ〜１．０ｍｍ
・ガス吹き出し口個数；８ケ（４５°等配分）
・ガス供給圧；９．８  ×  １０3  〜  ９．８  ×  １０4Ｐａ
・使用ガス；ガラスと反応しないガス。例えば、空気、窒素ガス（Ｎ2）、不活性ガス（ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン）等が挙げられ、可燃性ガスとしてもよい。
・ガス流量；０．５〜４．０リットル／分
・ガス温度；６００℃〜１５００℃
ガス温度は、ガスホルダー１３の内部に設置された熱電対（図示せず）により、温度制御されている。また、ガス噴出口１４からは、上記の圧力、流量、温度に制御されたガス１２が、流出ノズル２の開口径、ガラス流の温度、ガラス流量、所望の溶融ガラス量に応じた一定のタイミングで、間欠的にガラス流８に吹き付けられる。ガス１２の吹き付けによりガラス流８に括れを発生させ、発生した括れの最も細い箇所で切断すると所望の量の溶融ガラスを得ることができる様に上記の各設定やガラス流８を切断するブレード２３の位置を調整する。
【００２７】
このようにすることで、流出ノズル２からガラス流８が連続して流出する状態において、一定のタイミングでガス噴出口１４からガスをガラス流８に向けて吹き付けて、ガラス流８に括れを発生させる。次に、ブレード２３の位置で発生した括れが最も細くなるタイミングに合わせてブレード２３を閉じてガラス流８を切断する。このようにガラス流８を切断する断面積を小さくすると、切断時にガラス流８に巻き込まれる空気を少なくすることができ、この結果、プレス成形されたガラス基板に泡やガラス破片や凹凸の発生を押さえることができる。
【００２８】
また、ガラス基板に発生する泡やガラス破片や凹凸は、ガラス基板のほぼ中央部分に発生する。これを利用して、例えば、本発明に係わるガラス基板を磁気ディスク用基板とする場合、ガラス基板の中央には、スピンドルモータの軸に固定するための穴を設けるため、この穴を開けて除去する領域には、泡やガラス破片や凹凸が有ってもよいことになる。よって、ガラス流８をどの程度の細さに括れさせるかをガラス基板の用途を考慮して決めことで製造効率を高めることもできる。
【００２９】
上記でガラス流８に括れを発生させる方法としてガスを吹き付ける方法を示したが、他の方法として、流出ノズル２に溶融ガラスの流出方向と垂直な方向に圧電素子等により振動を加える方法や流出ノズル２に供給する溶融ガラスに負圧を加えてガラス流８の流出量を一時的に減少させる方法等が挙げられる。
【００３０】
これまで説明した溶融ガラス供給装置を使用したガラス基板の製造方法に関して以下に説明する。
【００３１】
（溶融ガラス供給工程）
溶融ガラス供給工程は、下型２４の成形面２６に溶融ガラスを供給する工程である。図３は、溶融ガラス供給工程における下型２４、溶融ガラス塊２８、溶融ガラス供給装置のガス噴出装置１１の周辺を模式的に示す図である。これまで説明ように、先ず、流出ノズル２から溶融ガラスを流出して下型２４に供給する（図３（ａ））。予め決めたタイミングでガラス流８にガス１２を吹き付けて括れを生じさせ、括れた箇所をブレード２３を用いて溶融ガラスを切断し、溶融ガラス塊２８を分離する（図３（ｂ））。
【００３２】
下型２４は予め所定温度に加熱しておく。下型２４の温度に特に制限はなく、ガラスの種類やガラス基板のサイズ等によって適宜決定すればよい。下型２４の温度が低すぎるとガラス基板の平面度が悪化したり、転写面へのしわの発生等の問題が起こる。逆に、必要以上に温度を高くしすぎると、ガラスとの融着が発生したり、金型の劣化が著しくなることから好ましくない。通常は、成形するガラスのＴｇ（ガラス転移点）−１００℃からＴｇ＋５０℃程度の温度範囲とすることが好ましい。
【００３３】
下型２４の加熱手段にも特に制限はなく、公知の加熱手段の中から適宜選択して用いることができる。例えば、下型２４の内部に埋め込んで使用するカートリッジヒータや、下型２４の外側に接触させて使用するシート状のヒータなどを用いることができる。また、赤外線加熱装置や、高周波誘導加熱装置を用いて加熱することもできる。
【００３４】
（加圧工程）
加圧工程は、下型２４の成形面２６及び上型２５の成形面２７で、溶融ガラスを加圧しながら冷却してガラス基板２９を得る工程である。
【００３５】
溶融ガラス供給工程において溶融ガラス塊２８が供給された下型２４は、上型２５と対向する位置まで水平移動する。その後、下型２４の成形面２６と、上型２５の成形面２７とで溶融ガラスを加圧する。溶融ガラスは成形面２６及び成形面２７との接触面から放熱することによって冷却・固化し、ガラス基板２９となる（図３（ｃ））。
【００３６】
なお、上型２５は、下型２４と同様に所定温度に加熱されている。加熱温度や加熱手段については上述の下型２４の場合と同様である。加熱温度は下型２４と同じであっても良いし異なっていても良い。
【００３７】
下型２４と上型２５に荷重を負荷して溶融ガラスを加圧するための加圧手段は、公知の加圧手段を適宜選択して用いることができる。例えば、エアシリンダ、油圧シリンダ、サーボモータを用いた電動シリンダ等が挙げられる。
【００３８】
（離型工程）
離型工程は、加圧工程の後、ガラス基板への加圧を解除して型開きを行う工程である。型開きの後は、真空吸着等、一般的な回収方法によってガラス基板を回収すれば良い。
【００３９】
（情報記録媒体用ガラス基板の製造方法）
上述の製造方法によって製造されたガラス基板（ブランク材）に、研磨工程等を施すことにより情報記録媒体用ガラス基板を製造することができる。図５は、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造した情報記録媒体用ガラス基板の１例を示す図である。図５（ａ）は斜視図、図５（ｂ）は断面図である。情報記録媒体用ガラス基板３０は中心穴３３が形成された円板状のガラス基板であって、主表面３１、外周端面３４、内周端面３５を有している。外周端面３４と内周端面３５には、それぞれ面取り部３６、３７が形成されている。
【００４０】
研磨工程は、プレス成形によって得られたガラス基板（ブランク材）の主表面を研磨する工程であり、最終的に情報記録媒体用ガラス基板として要求される平滑性に仕上げる工程である。研磨の方法は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として用いられる公知の方法をそのまま用いることができる。例えば、対向配置した２つの回転可能な定盤の対向する面にパッドを貼り付け、２つのパッド間にガラス基板を配置し、ガラス基板表面にパッドを接触させながら回転させると同時に、ガラス基板表面に研磨剤を供給する方法で行うことができる。また、研磨剤の粒度やパッドの種類を変えて、粗研磨工程、精密研磨工程といったように複数の工程に分けて研磨を行うことも好ましい。
【００４１】
研磨剤としては、例えば、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ、ダイヤモンドなどが挙げられる。この中でも、ガラスとの反応性が高く、短時間で平滑な研磨面が得られる酸化セリウムを用いることが好ましい。
【００４２】
パッドは硬質パッドと軟質パッドとに分けられるが、必要に応じて適宜選択して用いることができる。硬質パッドとしては、硬質ベロア、ウレタン発泡、ピッチ含有スウェード等を素材とするパッドが挙げられ、軟質パッドとしては、スウェードやベロア等を素材とするパッドが挙げられる。
【００４３】
また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程の他、内外周加工工程やラッピング工程を行うことが好ましい。内外周加工工程は、中心孔の穿孔加工、外周端面や内周端面の形状や寸法精度確保のための研削加工、内外周端面の研磨加工等を行う工程であり、ラッピング工程は、記録層が形成される面の平面度、厚み、平行度等を満足させるため、研磨工程の前にラッピング加工を行う工程である。更に、ガラス基板の材料として化学強化ガラスや結晶化ガラスを用いる場合には、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬してイオン交換を行う化学強化工程や、熱処理によって結晶化を行う結晶化工程等を必要に応じて適宜行うことができる。これらの内外周加工工程、ラッピング工程、化学強化工程、結晶化工程等の各工程は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として通常用いられている方法により行うことができる。
【００４４】
なお、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上記以外の種々の工程を有していても良い。例えば、ガラス基板の内部歪みを緩和するための熱処理を行うアニール工程、ガラス基板の強度の信頼性確認のためのヒートショック工程、ガラス基板の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する洗浄工程、種々の検査・評価工程等を有していても良い。
【００４５】
ガラス基板の材料に特に制限はなく、情報記録媒体用ガラス基板の材料として用いられる材料を適宜選択して用いることができる。中でも、化学強化ガラスや結晶化ガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため好ましい。化学強化が可能なガラス材料としては、例えば、ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ、ＣａＯを主成分としたソーダライムガラス；ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｒ2Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；Ｌｉ2Ｏ−ＳｉＯ2系ガラス；Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス；Ｒ’Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）などが挙げられる。
【００４６】
ガラス基板の大きさにも特に制限はない。例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチ等種々の大きさのガラス基板を用いることができる。また、ガラス基板の厚みにも制限はない。例えば、１ｍｍ、０．６４ｍｍ、０．４ｍｍ等種々の厚みのガラス基板を用いることができる。
【００４７】
（情報記録媒体の製造方法）
本発明の情報記録媒体用ガラス基板に、少なくとも記録層を形成することで情報記録媒体を製造することができる。記録層は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性層を記録層として用いた情報記録媒体（磁気ディスク）の製造に好適である。
【００４８】
磁性層に用いる磁性材料としては、特に制限はなく公知の材料を適宜選択して用いることができる。例えば、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。また、磁性層を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成としてもよい。
【００４９】
磁性層として、上記のＣｏ系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型、垂直型の何れであっても良い。
【００５０】
磁性膜の形成方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、スパッタリング法、無電解メッキ法、スピンコート法などが挙げられる。
【００５１】
磁気ディスクには、更に必要により下地層、保護層、潤滑層等を設けても良い。これらの層はいずれも公知の材料を適宜選択して用いることができる。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどが挙げられる。保護層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｃ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2などが挙げられる。また、潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
【実施例】
【００５２】
（実施例１）
図１に示す溶融ガラス供給装置を使用して、図３で示すように、下型２４の成型面２６の上に溶融ガラス塊２８を供給し、その後、上型２５の成型面２７を溶融ガラス塊２８の上にら降下させて加圧する。加圧と同時に冷却してガラス基板２９を得た。
主な条件を以下に示す。
流出ノズル径：φ１５ｍｍ
ガラス流温度（流出ノズル温度）：１３００℃
ガラス流量：７０ｍｌ／分
使用ガス：Ｎ2
ガス供給圧：４．９  ×  １０4Ｐａ
ガス流量：１．５リットル／分
ガス温度：７５０℃
下型２４、上型２５の温度：４００℃
上記の条件で溶融ガラスを所定量の溶融ガラスを下型２４に供給し、３秒間加圧したのち型開きを行ってガラス基板２９を回収した。これを１００回繰り返した。この成型に先立ち、下型２４に供給する溶融ガラス塊２８が所定量となるように、ガス噴出のタイミングとブレード２３でガラス流８を切断するタイミングを予め実験により決めて設定した。
【００５３】
得たガラス基板２９を顕微鏡により観察したところ、１００枚全てのガラス基板のほぼ中央部の直径φ５ｍｍの範囲内に泡や凹凸が観察された。
（比較例１）
ガス噴出を行わない以外は実施例１と同じとした。また、下型２４に供給する溶融ガラスが所定量となるようにブレード２３でガラス流８を切断するタイミングを予め実験により決めて設定した。
【００５４】
得たガラス基板２９を顕微鏡により観察したところ、１００枚全てのガラス基板のほぼ中央部の直径φ１０ｍｍからφ２５ｍｍの範囲内に泡やガラス破片や凹凸が観察された。
【００５５】
以上の結果より、ガラス流８にガスを吹き付けて括れを発生させ、その括れにより細くなったガラス流８を切断した後、プレス成形されたガラス基板の泡やガラス破片や凹凸は、括れを発生させないでガラス流８を切断した場合と比較して大幅に減少していることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】溶融ガラスをプレス成形のための下型に供給する溶融ガラス供給装置の構成の例を示した断面図である。
【図２】流出ノズルから流出したガラス流の外周より中心に向かって、ガスの吹付けを行うガス噴出装置を説明する図である。
【図３】ガラス基板の製造方法を説明する図である。
【図４】情報記録媒体用ガラス基板の１例を示す図である。
【図５】従来のガラス基板の製造方法を説明する図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  ガラス溶融るつぼ
２  流出ノズル
５、６、２０  加熱ヒータ
７  溶融ガラス
８  ガラス流
１０  攪拌棒
１１  ガス噴出装置
１２  ガス
１３  ガスホルダー
１４  ガス噴出口
１５  配管分岐通路
１６  配管通路
１７  ガス流量調節器
２３  ブレード
２４  下型
２５  上型
２６、２７  成型面
２８  溶融ガラス塊
２９  ガラス基板
３０  情報記録媒体用ガラス基板
３３  中心穴
３１  主表面
３４  外周端面
３５  内周端面
３６、３７  面取り部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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