(57)【要約】【課題】植物の植え付け作業が簡単で、植物の生育が促進され、各植生穴における植物の繁茂の差が少ない法面植生保護工とする。【解決手段】保護ブロックを並べて敷設した法面保護工の表面に植生穴を形成し、隣り合う植生穴の上部空間が保護工表面に形成した溝により連通するようにすることで、植生した植物の茎や根が溝の上を這って他の植生穴に至り、そこで生育するので、植物の生育が促進され、前記課題が解決される。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
保護ブロックを並べて敷設した法面保護工であって、該保護工の表面に植生穴が形成され、隣り合う植生穴の上部空間が該保護工表面に形成された溝により連通しており、前記植生穴に植生基材を充填すると共に、該植生基材に植物を繁茂させることを特徴とする法面植生保護工。
【請求項２】
前記保護ブロックが、植生穴及び／又は保護ブロックを並べて敷設したときに植生穴が形成される外周部の凹部を有するものである請求項１に記載の法面植生保護工。
【請求項３】
前記植生穴が表裏貫通している請求項１又は２に記載の法面植生保護工。
【請求項４】
前記溝の幅が２ｃｍ以上、深さが１ｃｍ以上である請求項１〜３のいずれかに記載の法面植生保護工。
【請求項５】
前記植物がイワダレソウである請求項１〜４のいずれかに記載の法面植生保護工。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、法面の崩壊を防ぎ、地山の安定を図ると共に、法面に植生を施し、自然環境を保護する法面植生保護工に関する。
【背景技術】
【０００２】
法面植生保護工として、例えば下記特許文献１には、植生穴を有する保護ブロックを並べて敷設し、その植生穴に客土などの植生基材を充填し、その植生基材に植生を施す技術が開示されている。
【特許文献１】特開平５−３３９９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
この種の法面植生保護工は、植生穴に植生基材を充填し、その植生基材に芝などの植物を植え付け、繁茂させるのであるが、次のような問題点がある。
（１）全ての植生穴に植物の植え付けをしなければならないので、植え付け作業がきわめて煩雑である。
（２）各植生穴によって植物の繁茂の状態が異なり、美感を損ねるおそれがある。
（３）一部の植生穴において植物が傷んだり枯れてしまうおそれがあり、その場合再び植え付けを行わないと復旧しない。
【０００４】
本発明は、上記の問題点を改善し、植物の植え付け作業が簡単で、植物の生長繁茂に適し、各植生穴における植物の繁茂の差が少なく、一部の植生穴において植物が傷んだり枯れてしまうおそれが少ない法面植生保護工を開発することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
〔請求項１〕
本発明は、保護ブロックを並べて敷設した法面保護工であって、該保護工の表面に植生穴が形成され、隣り合う植生穴の上部空間が保護工表面に形成された溝により連通しており、前記植生穴に植生基材を充填すると共に、該植生基材に植物を繁茂させることを特徴とする法面植生保護工である。
本発明において植生基材とは、通常の土砂、腐葉土など、植物が根を張って生育できる床を形成するもの全てを含む。
【０００６】
〔請求項２〕
また本発明は、前記保護ブロックが、植生穴及び／又は保護ブロックを並べて敷設したときに植生穴が形成される外周部の凹部を有するものである請求項１に記載の法面植生保護工である。
【０００７】
〔請求項３〕
また本発明は、前記植生穴が表裏貫通している請求項１又は２に記載の法面植生保護工である。
【０００８】
〔請求項４〕
また本発明は、前記溝の幅が２ｃｍ以上、深さが１ｃｍ以上である請求項１〜３のいずれかに記載の法面植生保護工である。
【０００９】
〔請求項５〕
また本発明は、前記植物がイワダレソウである請求項１〜４のいずれかに記載の法面植生保護工である。
本発明においてイワダレソウとは、クマツヅラ科イワダレソウ属の植物全てを含む。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は上記の構成であるので、植生穴に植生した植物の茎や根が、溝の上を這って他の植生穴に至り、そこで生育するので、植物の生育が促進されると共に、各植生穴における植物の繁茂の差が少なくなくなり、万一、何らかの理由で一部の植生穴の植物が傷んだり枯れてしまった場合に自然再生される可能性がある。
また、全ての植生穴に植生を施す必要がなく（例えば５つの植生穴につき１つの植生穴に植生する）、植生作業がきわめて容易になる。
【００１１】
溝の幅は２ｃｍ以上が適当で、幅が２ｃｍに満たないと隣の植生穴から茎や根が這ってくる効果が少なくなる。
溝の深さは１ｃｍ以上が適当で、１ｃｍに満たないと隣の植生穴から茎や根が這ってくる効果が少なくなる。
溝の幅及び深さの上限は、保護ブロックの強度に支障をきたさない範囲であればよい。
【００１２】
本発明で植生する植物は、イワダレソウや芝生など、茎や根が地表又は地表近くを這って増殖するものが好ましいが、特にイワダレソウは好適である。イワダレソウは茎が細長く、基部で枝分かれして地表を這い、節々から根を下ろして盛んに増殖し、地表を密に被覆するので雑草の繁殖も抑制され、植生基材の流出も防止される。さらに芝生のような刈り込み作業もほとんど不要で、耐踏圧性にも優れ、酸性土壌からアルカリ土壌まで適応する。
【００１３】
イワダレソウなど、根が深く地中に達する植物を植生する場合は、植生穴を表裏貫通したものとするのがよい。また、植生穴を表裏貫通したものとすることで、適度の雨水を地山に浸透させることができる。
【実施例】
【００１４】
図１は本発明の法面植生保護工に使用される保護ブロック１の平面図、図２は図１のＡ−Ａ線断面図、図３は図１のＢ−Ｂ線断面図、図４は保護ブロック１を並べて敷設した状態の平面説明図である。
【００１５】
保護ブロック１はコンクリート製で、塊状をなし、中央に表裏貫通する１つの植生穴１０を有し、外周に凹部１１、１２がそれぞれ４個ずつ形成されている。図４に示されるように、保護ブロック１を並べて敷設すると、隣り合う４個の保護ブロックの凹部１１により植生穴１５が形成され、隣り合う２個の保護ブロックの凹部１２により植生穴１６が形成される。
保護ブロック１の上面には、植生穴１０から凹部１１に至る溝１３と、植生穴１０から凹部１２に至る溝１４が形成されている。図４に示されるように、溝１３によって隣り合う植生穴１０、１５の上部空間が連通し、溝１４によって隣り合う植生穴１０、１６の上部空間が連通している。
したがって、本実施例では、全ての植生穴が、他の全ての植生穴と、溝１３、１４によって直接又は間接に、上部空間が連通している。
【００１６】
図５は、図４に示すパターンで基礎ブロック１並べて敷設した保護工に植生が完了した状態を表している。この場合は、地山２の上にブロックの敷設高さを調整するための調整砂３を敷き、その上に保護ブロック１を図４のパターンで敷設している。保護工の植生穴１０、１５、１６の中には植生基材４を充填し、その植生基材４に植物５（イワダレソウなど）を植生している。植物５は茎５ａが溝１３、１４を越えて複数の植生穴１０、１５、１６に這い込み、節々から根５ｂを植生基材４の中に下ろし、増殖する。
【００１７】
図６は本発明の法面植生保護工に使用される保護ブロック１’の平面図、図７は図６のＡ−Ａ線断面図、図８は保護ブロック１’を並べて敷設した状態の平面説明図である。
保護ブロック１’は、凹部１３、１４を除く周辺の上部に切欠部１７を形成していることを除き、前記の保護ブロック１と同じである。
図８に示されるように、本実施例では、溝１３、１４によって隣り合う植生穴の上部空間が連通するのに加え、切欠部１７によって隣り合う植生穴１５、１６の上部空間が連通している。隣り合う保護ブロック１’、１’の切欠部１７、１７が合わさることにより、法面保護工の上面に断面がＶ字状の溝が形成される。
したがって、本実施例では、全ての植生穴が、他の全ての植生穴と、溝１３、１４、切欠部１７によって直接又は間接に、上部空間が連通しており、さらに、全ての植生穴の上部空間が、隣り合う植生穴全部の上部空間と直接に連通している。
【００１８】
本発明において、各植生穴は隣り合う少なくとも１つの植生穴と上部空間が連通していればよいが、全ての植生穴が、他の全ての植生穴と、溝によって直接又は間接に、上部空間が連通していることが望ましく、さらには、全ての植生穴が、隣り合う全ての植生穴と上部空間が直接に連通していることが望ましい。
【００１９】
保護ブロックの材質は、本実施例の場合コンクリート製としたが、陶磁製とするなど、他の種々の材質を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】保護ブロック１の平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】保護ブロック１を並べて敷設した状態の平面説明図である。
【図５】実施例の法面植生保護工の断面説明図である。
【図６】保護ブロック１’の平面図である。
【図７】図６のＡ−Ａ線断面図である。
【図８】保護ブロック１’を並べて敷設した状態の平面説明図である。
【符号の説明】
【００２１】
１  保護ブロック
１’  保護ブロック
１０  植生穴
１１  凹部
１２  凹部
１３  溝
１４  溝
１５  植生穴
１６  植生穴
１７  切欠部
２  地山
３  調整砂
４  植生基材
５  植物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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