(57)【要約】【課題】  防眩層にシリカ粒子を含有しても、シリカ粒子が適度に凝集し、光学特性に優れた光学積層体を提供する。【解決手段】  光透過性基材と、シリカ粒子を含有する防眩層とを有し、上記シリカ粒子は、比誘電率が４.０未満である光学積層体。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材と、シリカ粒子を含有する防眩層とを有し、前記シリカ粒子は、比誘電率が４.０未満であることを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
シリカ粒子は、比表面積が、２０００ｍ2／ｇ以下である請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
シリカ粒子は、不定形シリカ粒子である請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項４】
シリカ粒子の含有量が、防眩層の樹脂成分１００質量部に対して、１０〜５０質量部である請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項５】
防眩層の上に、更に低屈折率層を有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項６】
最表面に請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項７】
偏光素子を備え、偏光素子表面に請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項８】
最表面に請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項９】
最表面に請求項７記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１０】
光透過性基材と、シリカ粒子を含有する防眩層とを有し、その光学特性が改善された光学積層体の製造方法において、
（ａ）シリカ粒子の比誘電率を４.０未満に調整する工程、
（ｂ）バインダー樹脂および、所望によりその他の成分とともに前記シリカ粒子を溶媒に分散、混合して、防眩層形成用組成物を調製する工程であって、その際、該シリカ粒子間の静電的な引力が抑制され、該シリカ粒子の凝集が制御された組成物が得られる工程、
（ｃ）光透過性基材を提供する工程、
（ｄ）前記光透過性基材に工程（ｂ）で調製した防眩層形成用組成物を塗布して、塗布膜を形成する工程、
（ｅ）前記塗布膜を乾燥、硬化させて光学積層体を得る工程、
ここで、得られた光学積層体は、優れた黒色再現性および防眩性を兼ね備えたものである、
以上の工程（ａ）〜（ｅ）を含んでなることを特徴とする上記製造方法。
【請求項１１】
工程（ａ）で、シリカ粒子として中空シリカ粒子を用い、その空隙率を変化させることにより、前記シリカ粒子の比誘電率を４.０未満に調整する請求項１０記載の製造方法。
【請求項１２】
工程（ａ）で、シリカ粒子をドーピングすることにより、前記シリカ粒子の比誘電率を４.０未満に調整する請求項１０記載の製造方法。
【請求項１３】
工程（ａ）で、シリカ粒子の表面に化学修飾を施すことにより、前記シリカ粒子の比誘電率を４.０未満に調整する請求項１０記載の製造方法。
【請求項１４】
シリカ粒子の表面化学修飾が、シリコーン材料を用いる疎水化表面化学処理である請求項１３記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、その製造方法、並びに前記光学積層体を備える偏光板及びそれらのいずれかを備える画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置の最表面には、種々の機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。このような光学積層体としては、基材上に防眩層及び低屈折率層等の機能層を順次設けた積層構造を有し、これらの機能層に、防眩剤として微粒子を含有したものが知られている（例えば、特許文献１および２参照）。これは、防眩性において優れた性能を有するものである。
このような光学積層体における防眩層には、防眩剤としてシリカ粒子が汎用されており、防眩剤としてシリカ粒子を含有する防眩層は、例えば、シリカ粒子と硬化性樹脂とを含有する防眩層形成用樹脂組成物を基材上に塗布することで形成されている。
【０００３】
しかし、防眩剤としてシリカ粒子を含有する防眩層形成用樹脂組成物を用いて光学積層体を形成する場合、防眩層形成用樹脂組成物中のシリカ粒子の分散性安定性が低下して凝集し、形成する防眩層の光学特性が低下するという問題があった。
【特許文献１】特開２００７−０９０７１７号公報
【特許文献２】特開２００６−２６７５５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記現状に鑑みて、シリカ粒子を含有する防眩層を形成するための防眩層形成用樹脂組成物中で、シリカ粒子が適度に凝集し、且つ、分散安定性に優れる組成物を用いて、光学特性に優れる光学積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、光透過性基材と、シリカ粒子を含有する防眩層とを有し、上記シリカ粒子は、比誘電率が４.０未満であることを特徴とする光学積層体である。
シリカ粒子は、比表面積が、２０００ｍ2/ｇ以下であることが好ましい。
シリカ粒子は、不定形シリカ粒子が好ましい。
シリカ粒子の含有量は、防眩層の樹脂成分１００質量部に対して、１０〜５０質量部であることが好ましい。
【０００６】
本発明はまた、最表面に上記光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
本発明はまた、偏光素子を備え、偏光素子表面に上記光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上記光学積層体、又は、上記偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
【０００７】
本発明はまた、光透過性基材と、シリカ粒子を含有する防眩層とを有し、その光学特性が改善された光学積層体の製造方法において、
（ａ）シリカ粒子の比誘電率を４.０未満に調整する工程、
（ｂ）バインダー樹脂および、所望によりその他の成分とともに前記シリカ粒子を溶媒に分散、混合して、防眩層形成用組成物を調製する工程であって、その際、該シリカ粒子間の静電的な引力が抑制され、シリカ粒子の凝集が制御された組成物が得られる工程、
（ｃ）光透過性基材を提供する工程、
（ｄ）前記光透過性基材に工程（ｂ）で調製した防眩層形成用組成物を塗布して、塗布膜を形成する工程、
（ｅ）前記塗布膜を乾燥、硬化させて光学積層体を得る工程、
ここで、得られた光学積層体は、優れた黒色再現性および防眩性を兼ね備えたものである、
以上の工程（ａ）〜（ｅ）を含んでなることを特徴とする上記製造方法でもある。
工程（ａ）で、シリカ粒子として中空シリカ粒子を用い、その空隙率を変化させることにより、前記シリカ粒子の比誘電率を４.０未満に調整することが好ましい。
また、工程（ａ）で、シリカ粒子をドーピングすることにより、前記シリカ粒子の比誘電率を４.０未満に調整することが好ましい。
また、工程（ａ）で、シリカ粒子の表面に化学修飾を施すことにより、前記シリカ粒子の比誘電率を４.０未満に調整することが好ましい。
さらに、シリカ粒子の表面化学修飾が、シリコーン材料を用いる疎水化表面化学処理であることがより好ましい。
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明では、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、特別な記載がない限り、総称して“樹脂”と表記する。
【０００８】
本発明の光学積層体は、光透過性基材上に、シリカ粒子を含有する防眩層を有する。
上記シリカ粒子は、比誘電率が１.５以上、４.０未満である。このようなシリカ粒子を含有する防眩層を有する本発明の光学積層体が優れた光学特性を示す理由は、以下のように推測される。
すなわち、従来の光学積層体は、シリカ粒子を含有させて高い防眩性を付与している。しかし、従来のシリカ粒子は、一般に、高い比誘電率を示すものが用いられていたため、防眩層形成用樹脂組成物中で凝集が生じていた。このため、シリカ粒子が均一に分散した防眩層が得られず、形成された光学積層体の光学特性が低下していたと考えられる。
【０００９】
これに対して、本発明の光学積層体は、防眩層に含有されるシリカ粒子を特定の範囲の比誘電率を示すものとしているために、シリカ粒子間の静電気的な引力が抑制されてシリカ粒子が適度に凝集し、優れた光学特性を示す。
【００１０】
上記シリカ粒子は比誘電率が４.０未満である。４.０以上であるとシリカ粒子が凝集し易くなり、光学特性が低下する。上記比誘電率は、小さいほど好ましい。現在得られる下限の比誘電率は１.５であり、２.０であることがより好ましい。上記比誘電率の上限は、３.３であることが好ましく、３.０であることがより好ましい。
【００１１】
シリカ粒子の比誘電率は、シリカ粒子状態又はシリカ粒子を含有したインキ組成物の状態及びその組成物を使用し、塗工、硬化した光学積層体のフィルム状態のいずれでも測定が可能である。その方法としては、プローブ法、開放型共振器法、摂動空洞共振法、伝播遅延法、エリプソメトリー法などがあり、比誘電率の範囲にあわせて、各測定方法を適宜選択する。測定物がゲル状又は液体形態の場合は、専用の測定セルを用いて導通をとり、比誘電率を決定できる。測定物が、硬化膜状である場合、シリカ粒子が含まれる層が最表面になった光学積層体の導通をとり、比誘電率を決定できる。硬化膜のシリカ粒子が含まれる層部分だけを切削等により切り出して測定すると、更に良好に比誘電率を決定できる。
【００１２】
シリカの比誘電率は、例えば、中空シリカ粒子の空隙率を変える、シリカ粒子にドーピングする、シリカ粒子表面に化学修飾を施すなどの方法により変化させることができる。
シリカ粒子にドーピングする場合、フッ素、ホウ素、リン等の非金属元素ドープ、チタン、ビスマス、ニッケル等の遷移金属、金属元素ドープ、又は多元ドープ、酸化物ドープなどが挙げられ、ドープする元素を適宜選択するか、或いはドーピング濃度を調整して比誘電率を変えることができる。前記化学修飾については、後述するが、シリカ粒子表面を誘起物処理するに際して、表面処理の程度を調整するか、又は表面処理剤を適宜選択することにより比誘電率を変えることができる。
【００１３】
上記シリカ粒子として、比表面積が２０００ｍ2／ｇ以下であることが好ましい。２０００ｍ2／ｇを超えると多孔質的となり、凝集制御が困難となるおそれがある。  上記比表面積の上限は、１５００ｍ2／ｇであることがより好ましい。また、上記比表面積の下限は、１００ｍ2／ｇであることが好ましく、５００ｍ2／ｇであることがより好ましい。上記比表面積は、ＢＥＴ比表面積測定装置（島津製作所製  トライスター３０００）により測定することができる。
【００１４】
上記シリカ粒子は、表面に有機物処理を施すことが好ましい。このようなシリカ粒子を使用することで、以下で詳述する防眩層形成用樹脂組成物の粘度上昇を生じることなくシリカ粒子の分散性を良好なものとすることができる。
上記有機物処理を施されるシリカ粒子としては、特に限定されず、結晶性、ゾル状、ゲル状、中空、多孔質などのいずれの状態のシリカ粒子であってもよい。また、不定形シリカ粒子であってもよい。また、上記有機物処理を施されるシリカ粒子としては、市販品を使用することができ、例えば、不定形シリカ（大日精化工業社製）、アエロジル（デグサ社製）、コロイダルシリカ（日産化学工業製）等、を挙げることができる。
上記シリカ粒子は、効果的な凹凸形状形成、防眩性発現の点から不定形シリカ粒子であることが好ましい。
【００１５】
上記有機物処理には、シリカ粒子表面に化合物を化学的に結合させる方法や、粒子表面とは化学的な結合なしに、粒子内又は粒子間にある空隙などに浸透させるような物理的な方法があり、どちらを使用してもよい。
一般的には、水酸基またはシラノール基等のシリカ粒子表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。
上記有機物処理を施すことによる疎水化は、トリメチルクロルシラン等のシリル化剤等により行われ、シリル化剤の添加量、反応温度等により、疎水化率を調整して処理させることができる。シリル化処理シリカ粒子の分散安定性等を考慮し、疎水化率は５０〜９０％程度が好ましい。
【００１６】
処理に使用する化合物としては、上記シリカ粒子表面の活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系材料などが用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単基置換シリコーン材料、分岐アルキル単置換シリコーン材料、或いはジ−ｎ−ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン材料、シラザン材料も有効に使用することができる。
必要機能に応じ、アルキル鎖の末端、乃至中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用しても構わない。
これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理材料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子材料とも、高い親和性を得ることができる。
【００１７】
上記シリカ粒子の含有量は、防眩層の樹脂成分１００質量部に対して、１０〜５０質量部であることが好ましい。１０質量部未満であると、防眩性が不十分であるおそれがある。
上記含有量の下限は、２０質量部であることがより好ましい。また、５０質量部を超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした場合に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記含有量の上限は、４０質量部であることがより好ましい。
【００１８】
上記シリカ粒子は、平均粒径が０.５〜１０.０μｍであることが好ましい。０.５μｍ未満であると、凝集力が増し、凝集制御が困難となるおそれがあり、さらに防眩性が低下し、大量に添加する必要が生じるおそれもある。１０.０μｍを超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記平均粒径は、１.０〜５.０μｍであることがより好ましい。
上記平均粒径は、コールターカウンターにより測定して得られた値である。
【００１９】
上記シリカ粒子は単独で使用してもよいし、有機樹脂ビーズと併用して使用してもよい。
上記有機樹脂ビーズとしては、ポリスチレンビーズ（屈折率１.６０）、メラミンビーズ（屈折率１.５７）、アクリルビーズ（屈折率１.４９〜１.５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１.５４〜１.５８）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１.６６）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物（屈折率１.６６）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１.５７）、ポリエチレンビーズ（屈折率１.５０）、等が挙げられる。上記有機樹脂ビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、このようなビーズとしては、例えば、ポリスチレンビーズや屈折率を変更しやすいアクリル−スチレンビーズを挙げることができる。
上記有機樹脂ビーズは、粒子形が整っているか等の基準で選択することが好ましい。
【００２０】
上記有機樹脂ビーズは、平均粒径が０.５〜１０.０μｍであることが好ましい。０.５μｍ未満であると、凝集力が増し、凝集制御が困難となるおそれがあり、さらに十分な防眩性が得られず、大量に添加する必要が生じるおそれもある。１０.０μｍを超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記平均粒径は、１.０〜５.０μｍであることがより好ましい。
上記平均粒径は、コールカウンター測定により得られた値である。
【００２１】
上記有機樹脂ビーズの含有量は、シリカ粒子１００質量部に対して１０〜５０質量部であることが好ましい。１０質量部未満であると、十分な防眩性が得られないおそれがある。
５０質量部を超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記含有量の下限は、２０質量部であることがより好ましい。また、上限は、４０質量部であることがより好ましい。
【００２２】
防眩層は、更に、防汚剤を含有することが好ましい。
従来の光学積層体では、防汚性を付与するために、防眩層形成用樹脂組成物に防汚剤を含有させると、防汚剤とシリカ粒子が凝集して防眩層の光学特性を低下させるという問題があった。
しかし、本発明の光学積層体の防眩層を形成するための防眩層形成用樹脂組成物に含まれるシリカ粒子は、上述したように特定の範囲の比誘電率を示すため、防眩層形成用樹脂組成物中に上記防汚剤を含有する場合であっても、静電気的な引力が抑制されて、シリカ粒子と防汚剤とが凝集しにくい。このため、製造される光学積層体に高い防汚性が要求され、防眩層形成用樹脂組成物に防汚剤が添加された場合であっても、光学特性を低下させることなく、高い防汚性を示す光学積層体を得ることができる。
上記防汚剤は、特に限定されず、公知のものを使用することができ、例えば、フッ素系化合物及び／又はケイ素系化合物を挙げることができる。具体的には、大日本インキ化学工業社製メガファックＦ−４８２を挙げることができる。
【００２３】
上記防眩層は、防汚剤を含有する場合は、特に最表面を構成することが好ましい。これにより、上記光学積層体が防汚性を十分に発揮することができる。
【００２４】
上記シリカ粒子を含有する防眩層は、表面に凹凸形状を有し、外光による像の映り込みや反射、面ギラ（シンチレーション）等による視認性の低下を抑制するための層である。
上記表面に凹凸形状を形成する方法としては、上記シリカ粒子、及び、所望により上記有機樹脂ビーズによって凹凸を形成する方法やエンボス賦型処理を施すことにより形成する方法を挙げることができる。
上記防眩層は、上記シリカ粒子、バインダー樹脂、溶媒及び任意成分を含む防眩層形成用樹脂組成物を調製して形成することができる。
【００２５】
上記防眩層形成用樹脂組成物において、バインダー樹脂としては透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。
【００２６】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
【００２７】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
【００２８】
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性のという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００２９】
本発明の光学積層体において、後述する光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材や所望により形成する帯電防止層等の層との密着性と透明性とを向上させることができる。更に、上述のセルロース系樹脂の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００３０】
上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
【００３１】
上記防眩層形成用樹脂組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形分１００質量部に対して、０.１〜１０質量部であることが好ましい。
【００３２】
上記防眩層形成用樹脂組成物は、本発明の効果に影響を与えない程度において、必要に応じてその他の任意成分を添加することができる。上記任意成分としては、上記有機樹脂ビーズ、上記防汚剤、上述した以外の樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、顔料又は染料等の着色剤、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を挙げることができる。これらは、防眩層に通常使用される公知のものを使用することができる。
【００３３】
上記防眩層形成用樹脂組成物は、例えば、上述したシリカ粒子、バインダー樹脂、光重合開始剤及びその他の任意成分を溶媒と混合して分散処理することにより得ることができる。上記混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用することができる。
【００３４】
上記溶媒としては、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例えば、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例えば、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、これらの溶剤は適宜１種類以上混合して用いることができる。なかでも、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類であることが好ましく、分散性、分散安定性、安全性の点において、特にケトン系溶媒を少なくとも１種類用いることがより好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンであることがさらに好ましい。
【００３５】
上記防眩層は、上記防眩層形成用樹脂組成物を、光透過性基材上に塗布し、必要に応じて乾燥し、活性エネルギー線照射により硬化させて形成することが好ましい。
上記防眩層形成用樹脂組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の塗布方法が挙げられる。
【００３６】
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００３７】
上記防眩層の厚みとしては、１.０〜７.５μｍであることが好ましい。
１.０μｍ未満であると十分な防眩性が得られないおそれがある。７.５μｍを超えると、透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記厚みの下限は、２.０μｍであることがより好ましい。また、上限は、３.０μｍであることがより好ましい。
【００３８】
なお、上記防眩層の厚みは、レーザー顕微鏡、ＳＥＭ、ＴＥＭによる断面観察で測定することができる。例えば、レーザー顕微鏡での膜厚測定方法としては、共焦点レーザー顕微鏡（ＬｅｉｃａＴＣＳ−ＮＴ：ライカ社製：倍率  ２００〜１０００倍）を用いて、防眩層の断面を透過観察する。例えば具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に湿式の対物レンズを使用し、かつ、対物レンズと防眩層断面との間の空気層を消失させるために防眩層断面の上に屈折率１.５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察することができる。そして、顕微鏡の観察１画面につき  凹凸のＭａｘ部、Ｍｉｎ部の膜を１点ずつ、計２点測定する。５画面分、計１０点測定値し、平均値を算出することにより、平均膜厚を求めることができる。ＳＥＭ、ＴＥＭの断面観察においても、上記のように５画面分観察し、平均値を求めることができる。
【００３９】
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又はポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。
【００４０】
上記光透過性基材としては、また、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられている基材であり、例えば、日本ゼオン(株)製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト(株)製スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ(株)製  アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学(株)製  アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製  Ｔｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成(株)製  オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ(株)製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
【００４１】
上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。
【００４２】
上記光透過性基材の厚さは、２０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さ３００μｍ〜５０００μｍであってもよい。基材は、その上に帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【００４３】
本発明の光学積層体は、上記防眩層の上に、更に低屈折率層を有することが好ましい。上記低屈折率層は、防眩層の表面に形成されてなり、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が１.４８以上であり、低屈折率層の屈折率が１.４８未満であり、好ましくは１.４５以下で構成されてなるものが好ましい。
【００４４】
低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、２）低屈折率樹脂であるフッ素系材料、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。
【００４５】
上記フッ素系材料とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。
【００４６】
フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２,２−ジメチル−１,３−ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２,２,２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２,２,３,３,３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
【００４７】
フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。
【００４８】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００４９】
フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３,３,３−トリフルオロプロピレン、１,１,２−トリクロロ−３,３,３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；などが挙げられる。
【００５０】
また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００５１】
上記したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；なども、フッ素系材料として用いることができる。
【００５２】
低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤等の添加剤は、例えば、防眩層で上述したものが挙げられる。
【００５３】
溶剤も防眩層で上述したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ等である。
【００５４】
上記組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、防眩層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。
【００５５】
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、防眩層の形成で上述した各種方法を用いることができる。
【００５６】
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。
【００５７】
上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は防眩層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１.３０〜１.４５に調節することが可能である。
【００５８】
空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１.２０〜１.４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
【００５９】
被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【００６０】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、防眩層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法などという方法によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０.１〜５００質量部程度、
好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。
【００６１】
低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０.５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０.７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
【００６２】
樹脂の硬化手段は、防眩層の項で説明した手段と同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
【００６３】
低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（Ｉ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）          （Ｉ）
（上記式中、ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）を満たすものが好ましい。
【００６４】
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＩＩ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５        （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００６５】
本発明の光学積層体は、上記防眩層及び低屈折率層の他にも必要に応じて、任意の層として防汚染層、帯電防止層、高屈折率層又は中屈折率層等を備えているものであってよい。
上記防汚染層、帯電防止層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される防汚剤、高屈折率剤、中屈折率剤、帯電防止剤又は樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。
【００６６】
本発明の光学積層体は、表面に凹凸形状を有するものであることが好ましい。上記凹凸形状としては、光学積層体の最表面の層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、（Ｓｍ、θａ、Ｒｚの定義は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１  １９９４に準拠する）Ｓｍが４０μｍ以上６００μｍ以下であり、θａが０.３度以上５.０度以下であり、Ｒｚが０.３μｍ以上４.０μｍ以下であるものが好ましい。
なお、これらＳｍ、θａ、Ｒｚを求めるために用いた表面粗さ測定器の測定条件は、以下の通りである。
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／(株)小坂研究所製）
１）表面粗さ検出部の触針：
型番／ＳＥ２５５５Ｎ（２μ標準）(株)小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０.８ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４.０ｍｍ
触針の送り速さ：０.１ｍｍ／ｓ
【００６７】
本発明の光学積層体の可視光透過率は、９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記可視光透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
【００６８】
上記光学積層体の表面ヘイズ値は、１０％以下であることが好ましい。１０％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記ヘイズは、０.２〜５％であることがより好ましい。上記表面ヘイズ値は、反射・透過率計ＨＭ−１５０（村上色彩技術研究所製）により測定して得られた値である。
【００６９】
上記光学積層体の内部ヘイズ値は、７０％以下であることが好ましい。上記内部ヘイズ値が上記範囲内にあると、本発明の光学積層体をＬＣＤ用等に使用する場合の面ギラ（シンチレーション）を改善する効果が得られる。
【００７０】
上記表面ヘイズ値および、内部ヘイズ値は、後述した方法によって得られる値である。すなわち、光学積層体の最表層（例えば、防眩層又は低屈折率層）の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレートなどの樹脂（モノマー又はオリゴマー等の樹脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、固形分６０％としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布する。これによって、最表層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この最表層を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌ  のＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液  ５５度  ３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オーブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元の光学積層体のヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。
【００７１】
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備える偏光板でもある。
【００７２】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００７３】
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。
上記画像表示装置として、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等が挙げられる。
【００７４】
上記画像表示装置の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、それを背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
【００７５】
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００７６】
上記画像表示装置の一例であるＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
【００７７】
上記画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
【００７８】
本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００７９】
本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、防眩性、防汚性及び色再現性に優れるものである。このため、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００８０】
以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００８１】
（不定形シリカ粒子の調製）
下記の実施例及び比較例で使用した不定形シリカは、ケイ酸ナトリウムと硫酸の中和反応による湿式法（例えば、特許第1781081号、特許第1409252号、特許第2667071号、特許第3719687号）にて製造した。得られた不定形シリカ粒子に、トリメチルクロルシランによる疎水化表面化学処理を行い、その疎水化率を５０〜９０％の範囲で調整し、比誘電率の異なる各種不定形シリカ粒子を得た。
（比誘電率の測定）
各実施例及び比較例に用いる不定形シリカ粒子を1種類ずつ分散した分散液を作製し、比誘電率測定用の試料を作製した。
比誘電率は、ソーラトロン社製１２６０型インピーダンスアナライザ（２端子法）を用い、周波数範囲１ＫＨｚ〜１００ＫＨｚ、測定温度２５℃下にて測定した。
また、比誘電率は、前述のとおり分散液状態以外に、塗布、硬化して光学積層体状態にした後に、硬化膜のシリカが含まれる層部分だけを切削等により切り出して測定も可能である。その場合は、その切り出した膜の両面に金をスパッタリングし、さらに銀ペーストをフィルムの周りに適宜付着させ導通をとり、８０℃加温下減圧乾燥を行い、誘電率測定用試料とすることができる。硬化膜にした場合は、不定形シリカ粒子が何種類か入含有されているときにはそれらの平均値的な値になる。
【００８２】
（防眩層形成用樹脂組成物の調製）
（調製例１）
防眩層形成用樹脂組成物１の調製
紫外線硬化型樹脂：
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１.５１）  ２０質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０,０００）        
０.２５質量部
光硬化開始剤：
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）      １.２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）      ０.２質量部
不定形シリカ粒子（比誘電率２.５）                               １.２４質量部
（平均粒径１.０μｍ、シランカップリング剤による表面疎水処理あり）
シリコーン系レベリング剤                                      ０.０１３質量部
トルエン                                                        ３４.０質量部
メチルイソブチルケトン                                            ８.５質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５％の防眩層形成用樹脂組成物１を調製した。
【００８３】
（調製例２）
防眩層形成用樹脂組成物２の調製
紫外線硬化型樹脂：
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１.５１）  ３８質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０,０００）         ０.７６質量部
光硬化開始剤：
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）      ２.３質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）      ０.４質量部
不定形シリカ粒子（平均粒径１.５μｍ、比誘電率２.５）            １.１６質量部
不定形シリカ粒子（平均粒径１.０μｍ、比誘電率３.０）            ７.２７質量部
シリコーン系レベリング剤                                      ０.０７９質量部
トルエン                                                        ６０.２質量部
メチルイソブチルケトン                                          １４.１質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３８.５％の防眩層形成用樹脂組成物２を調製した。
【００８４】
（調製例３）
防眩層形成用樹脂組成物３の調製
紫外線硬化型樹脂：
ペンタエリスリトールトリアクリレート（PETA）（屈折率１.５１）   ２.２０質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレート  Ｍ２１５（日本化薬(株)製、屈折率１.５１）
１.２１質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５,０００）                   ０.３４質量部
光硬化開始剤：
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）    ０.２２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）    ０.０４質量部
透光性第一粒子：
単分散アクリルビーズ（粒子径９.５μｍ、屈折率１.５３５）        ０.８２質量部
透光性第二粒子：
不定形シリカインキ                                              １.７３質量部
（平均粒子径１.５μｍ、固形分６０％、比誘電率２.５）
レベリング剤：
シリコーン系レベリング剤                                        ０.０２質量部
溶剤：
トルエン                                                        ５.８８質量部
シクロヘキサノン                                                １.５５質量部
上記材料を十分混合し、固形分４０.５％の組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用樹脂組成物３を調製した。
【００８５】
（調製例４）
防眩層形成用樹脂組成物４の調製
防眩層用樹脂組成物１記載の不定形シリカ粒子（比誘電率２.５）を、不定形シリカ粒子（比誘電率４.０）に変えた他は、配合比等全く同様にして防眩層形成用樹脂組成物４を調製した。
【００８６】
（調製例５）
防眩層形成用樹脂組成物５の調製
防眩層形成用樹脂組成物２記載の不定形シリカ粒子（平均粒径１.５μｍ、比誘電率２.５）を、不定形シリカ粒子（平均粒径１.５μｍ、比誘電率４.０）の材料に変えた他は、配合比等全く同様にして防眩層形成用樹脂組成物５を調製した。
【００８７】
（調製例６）
防眩層形成用樹脂組成物６の調製
防眩層形成用樹脂組成物３記載の「不定形シリカインキ（平均粒子径１.５μｍ、固形分６０％、比誘電率２.５）」を、不定形シリカインキ（平均粒子径１.５μｍ、固形分６０％、比誘電率４.０）の材料に変えた他は、配合比等全く同様にして防眩層形成用樹脂組成物６を調製した。
【００８８】
（調製例７）
防眩層形成用樹脂組成物７の調製
防眩層形成用樹脂組成物３記載の「不定形シリカインキ（平均粒子径１.５μｍ、固形分６０％、比誘電率２.５）」を、不定形シリカインキ（平均粒径１.５μｍ、固形分５０％、比誘電率１.０）の材料に変えた他は、配合比等全く同様にして防眩層形成用樹脂組成物７を調製した。
【００８９】
（調製例８）
防眩層形成用樹脂組成物８の調製
防眩層形成用樹脂組成物３記載の「不定形シリカインキ（平均粒子径１.５μｍ、固形分６０％、比誘電率２.５）」を、不定形シリカインキ（平均粒径１.５μｍ、固形分５０％、比誘電率１.５）の材料に変えた他は、配合比等全く同様にして防眩層形成用樹脂組成物８を調製した。
【００９０】
（調製例９）
防眩層形成用樹脂組成物９の調製
防眩層形成用樹脂組成物３記載の「不定形シリカインキ（平均粒子径１.５μｍ、固形分６０％、比誘電率２.５）」を、不定形シリカインキ（平均粒径１.５μｍ、固形分５０％、比誘電率２.０）の材料に変えた他は、配合比等全く同様にして防眩層形成用樹脂組成物９を調製した。
【００９１】
（調製例１０）
防眩層形成用樹脂組成物１０の調製
防眩層形成用樹脂組成物３記載の「不定形シリカインキ（平均粒子径１.５μｍ、固形分６０％、比誘電率２.５）」を、不定形シリカインキ（平均粒径１.５μｍ、固形分５０％、比誘電率３.０）の材料に変えた他は、配合比等全く同様にして防眩層形成用樹脂組成物１０を調製した。
【００９２】
（調製例１１）
防眩層形成用樹脂組成物１１の調製
防眩層形成用樹脂組成物３記載の「不定形シリカインキ（平均粒子径１.５μｍ、固形分６０％、比誘電率２.５）」を、不定形シリカインキ（平均粒径１.５μｍ、固形分５０％、比誘電率３.３）の材料に変えた他は、配合比等全く同様にして防眩層形成用樹脂組成物１１を調製した。
【００９３】
（調製例１２）
低屈折率層形成用組成物の調製
中空シリカスラリー                                              ９.５７質量部
（ＩＰＡ，ＭＩＢＫ分散、固形分２０％、粒径５０ｎｍ）
ペンタエリスリトールトリアクリレート  ＰＥＴ３０              ０.９８１質量部
（紫外線硬化型樹脂；日本化薬製）
ＡＲ１１０                                                      ６.５３質量部
（フッ素ポリマー；固形分１５％ＭＩＢＫ溶液；ダイキン工業製）
イルガキュア１８４                                            ０.０６９質量部
（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
シリコーン系レベリング剤                                      ０.１５７質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）              ２８.８質量部
メチルイソブチルケトン                                          ５３.９質量部
上記成分を十分混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分４％の低屈折率層形成用組成物を調製した。これは、屈折率が１.４０であった。
【００９４】
（実施例１）
防眩層の形成
トリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム(株)製；厚さ８０μｍ）を透明基材として用い、防眩層形成用樹脂組成物８を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素雰囲気下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させて防眩層を形成した。
【００９５】
低屈折率層の積層
防眩層上に調製例１２で調製した低屈折率層形成用組成物を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素雰囲気下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、低屈折率層を積層し光学積層体１を得た。
【００９６】
（実施例２）
防眩層形成用樹脂組成物８を、防眩層形成用樹脂組成物９に変更した以外は、実施例１と同様にして光学積層体２を得た。
【００９７】
（実施例３）
防眩層形成用樹脂組成物８を、防眩層形成用樹脂組成物１に変更した以外は、実施例１と同様にして光学積層体３を得た。
【００９８】
（実施例４）
防眩層形成用樹脂組成物８を、防眩層形成用樹脂組成物２に変更した以外は、実施例１と同様にして光学積層体４を得た。
【００９９】
（実施例５）
実施例１と同じトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ  富士写真フイルム(株)製；厚さ８０μｍ）を透明基材として用い、防眩層形成用樹脂組成物３を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩層を形成した。
低屈折率層の積層
防眩層上に調製例１２で調製した低屈折率層形成用組成物を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素雰囲気下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、低屈折率層を積層し光学積層体５を得た。
【０１００】
（実施例６）
防眩層形成用樹脂組成物８を、防眩層形成用樹脂組成物１０に変更した以外は、実施例１と同様にして光学積層体６を得た。
【０１０１】
（実施例７）
防眩層形成用樹脂組成物８を、防眩層形成用樹脂組成物１１に変更した以外は、実施例１と同様にして光学積層体７を得た。
【０１０２】
（比較例１）
防眩層形成用樹脂組成物８を、防眩層形成用樹脂組成物４に変更した以外は、実施例１と同様にして光学積層体８を得た。
【０１０３】
（比較例２）
防眩層形成用樹脂組成物８を、防眩層形成用樹脂組成物５に変更した以外は、実施例１と同様にして光学積層体９を得た。
【０１０４】
（比較例３）
防眩層形成用樹脂組成物３を、防眩層形成用樹脂組成物６に変更した以外は、実施例５と同様にして光学積層体１０を得た。
【０１０５】
（評価試験）
下記評価を行い、その結果を表１に記載した。
評価１：光学特性試験、表面形状
実施例と比較例の光学積層体について、本明細書に定義に従って、光学積層体の全体ヘイズＨa値と、前記光学積層体の内部ヘイズ値Ｈiと、Ｈi／Ｈaの値、反射Ｙ値（５度反射）を測定した。
反射率の測定については、５℃正反射測定装置を備えた分光度計（島津製作所(株)製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて測定を行った。なお、反射率は波長５５０ｎｍ付近で極小値（最低反射率）となったときの値を用いた。
【０１０６】
評価２：黒色再現性試験（明室環境）
実施例と比較例の光学積層体のフィルム面と反対側にクロスニコルの偏光板に張り合わせた後、３０Ｗの三波長蛍光下（防眩層面に４５°方向から照射）で官能評価（サンプル面から５０ｃｍ上方、約４５°の角度から目視観察）を行って、黒色再現性（黒が黒く見えるか）を下記基準によって詳細に評価した。その折、黒の基準サンプルとして、クロスニコル偏光板を用い、黒色の比較を行った。
【０１０７】
評価基準
評価◎：黒色再現することができた。（乳白色感がない）
評価○：ほぼ黒色再現することができた。（乳白色感が若干あるが、気にならないレベル）
評価△：黒色再現が不十分であった。（やや乳白色感が気になるレベル）
評価×：黒色再現できなかった。（乳白色感が強く、十分気になるレベル）
【０１０８】
評価３：防眩性評価試験
実施例及び比較例で得られた光学積層体の裏面を粘着処理し、黒アクリル板に貼付したものを評価用サンプルとした。幅２０ｍｍの白黒ストライプ板を用意し、上記サンプル（サンプル面は、３０度くらい上方に傾ける）にこのストライプをサンプル面法線から２０度の角度で写り込ませ、観察した。このときサンプル面の照度は２５０ｌｘ（ルクス）で、ストライプの輝度（白）は６５ｃｄ／ｍ２とした。またストライプ板とサンプルの距離は１.５ｍで、サンプルと観察者の距離は１ｍとした。これを観察者が見たときのストライプの見え方により次のように定義し評価した。
【０１０９】
評価基準
評価◎：ストライプが見えず、防眩性良好
評価○：ストライプが見えるが、気にならないレベル
評価×：ストライプが認識できる
【０１１０】
【表１】
2009098654.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。