(57)【要約】【課題】特定構造の金属イオン含有化合物および近赤外線吸収色素を含有した、耐候性、特に耐光性および耐熱性に優れた光学フィルタ及びディスプレイ用前面フィルタを提供する。【解決手段】少なくとも１種類の近赤外線吸収色素および少なくとも１種類の下記一般式（Ｘ−１）で表される金属イオン含有化合物を含有することを特徴とする光学フィルタ及びディスプレイ用前面フィルタ。一般式（Ｘ−１）  Ｍ（Ｘ1）m（Ｘ2）l・（Ｗ1）s【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種類の近赤外線吸収色素および少なくとも１種類の下記一般式（Ｘ−１）で表される金属イオン含有化合物を含有することを特徴とする光学フィルタ。
一般式（Ｘ−１）
Ｍ（Ｘ1）m（Ｘ2）l・（Ｗ1）s
［式中、Ｍは，Ｚｎ又はＣｕの２価イオンを表し、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に１座または２座配位子を表し、同一であっても異なっていても良く、Ｘ1とＸ2は連結していてもよい。ｍ、ｌ及びｓはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｍ＋ｌ＞１である。（Ｗ1）sは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表す。ただし、Ｘ1又はＸ2で表される配位子の少なくとも１つは下記一般式（Ｘ−１ａ）である。］
【化１】
2009025601.tif 000019
［式中、Ｅ1は置換基、Ｅ2は水素原子または置換基を表し、Ｒはアルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基を表す。］
【請求項２】
前記一般式（Ｘ−１）で表される金属イオン含有化合物の金属イオンがＣｕであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学フィルタを用いることを特徴とするディスプレイ用前面フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は近赤外線吸収色素を少なくとも１種および金属イオン含有化合物を少なくとも１種含有する光学フィルタおよびディスプレイ用前面フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとして、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、蛍光表示管、液晶ディスプレイ等、様々なディスプレイが開発され、その需要が増大している。また、ＥＬディスプレイやＦＥＤディスプレイなど新規ディスプレイ技術も実用化の域に達しており、今後もディスプレイの需要は大幅に拡大するものを推測されている。
【０００３】
近年、薄型大画面ディスプレイとして注目されているプラズマディスプレイは、プラズマディスプレイから放出される近赤外線（概ね波長８００〜１２００ｎｍ）により、近赤外線リモコンを使用する家電製品、電子機器が誤動作を起こす問題がある。上記問題点の解決策の一つに、プラズマディスプレイの前面フィルタに近赤外線吸収色素を用いた光学フィルムを構成要素とする近赤外線吸収用光学フィルタをプラズマディスプレイ前面に配し、該ディスプレイから放出される近赤外線を吸収することが行われているが、プラズマディスプレイからは上記の近赤外線以外にも電磁波、熱線、紫外線が放射されているため前面フィルタは劣化しやすい。さらに近年はコストダウン目的、光線透過率の向上のため前面フィルタは薄膜化が求められているが、薄膜化によって前面フィルタはディスプレイから放出される電磁波や熱線、紫外線のみならず外気の影響も受けやすくなってきており、従来の前面フィルタでは耐久性が十分であるとはいえなかった。
【０００４】
近赤外線吸収用光学フィルタに用いられる近赤外線吸収色素は種々提案されているがその中でも有機色素は、分子設計の自由度が大きいことから吸収波長の制御が容易であり、また、光学フィルム作製においても、例えば樹脂に色素を分散または溶解させた層を基材上に積層させるといった簡便な方法を選択することができ、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きいことから、広範に使用されている。しかしながら有機色素は一般的に熱、光、外気による変色・褪色を受けやすいといった一面を持つため、光学フィルムへの添加の際には耐久性向上を目的とした種々の方法（例えば、特許文献１〜６参照）が提案されている。
【０００５】
特許文献１では特定構造の近赤外線吸収色素と劣化防止剤との塩化合物を含有する光学フィルタが開示されている。しかしながら、耐光性は改良されているが、耐熱性および前面フィルタの薄膜化が及ぼす影響についてはなんら記載されていない。
【０００６】
可視光線透過率および赤外線吸収性能、耐光性改良を目的として、特許文献２においては特定構造の近赤外線吸収色素の金属錯体化合物を含有する光学フィルタが開示されているが、耐光性向上を示す実施例は無く、耐熱性および前面フィルタの薄膜化が及ぼす影響についてはなんら記載されていない。特許文献３および特許文献４においては、金属錯体化合物を含有する光学フィルタが開示され、特許文献５および特許文献６においては、金属錯体化合物および金属錯体化合物と他の特定構造の近赤外線吸収色素を含有する光学フィルタが開示されているが、いずれもここに記載の金属錯体化合物自体に由来する光学フィルタの耐光性、耐熱性、耐熱湿性については開示されているものの、他の特定構造の近赤外線吸収色素を組み合わせた場合の耐久性および前面フィルタの薄膜化が及ぼす影響についてはなんら記載されていない。
【０００７】
一方、有機色素含有組成物に金属含有化合物を併用し、種々の物性のなかでも有機色素含有組成物の耐光性、耐熱性が改良された試み（例えば、特許文献７〜９参照）も提案されている。しかしながら、これらの試みはいずれも可視光吸収色素に対して有効ではあるものの、近赤外線吸収光学フィルタの更なる耐久性の改良を目的とした場合、近赤外線色素を含有する光学フィルタおよびディスプレイ用前面フィルタにおける上述した問題点である、耐光性、耐熱性、さらにはディスプレイから放出される電磁波や熱線、紫外線のみならず外気の影響をも改良する手段として、特定の金属イオン含有化合物を用いた例は皆無であり、特定の金属イオン含有化合物および近赤外線吸収色素を含有する光学フィルタおよびディスプレイ用前面フィルタについては未だ知られていない。
【特許文献１】特開２００２−３５０６３２号公報
【特許文献２】特開２０００−１５９７７６号公報
【特許文献３】特開昭６３−１１２５９２号公報
【特許文献４】特許第３８１２７５１号公報
【特許文献５】特開２００５−１６５２６５号公報
【特許文献６】特開２００６−１２６２２６号公報
【特許文献７】特開平３−１９７０８８号公報
【特許文献８】特開２００１−３４２３６４号公報
【特許文献９】特開２００７−３１４２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明者が検討したところ、特定構造の金属イオン含有化合物および近赤外線吸収色素を含有した光学フィルタおよびディスプレイ用前面フィルタによって、上記の問題点を解決することができることを見出した。本発明の目的は、特定構造の金属イオン含有化合物および近赤外線吸収色素を含有した光学フィルタ及びディスプレイ用前面フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
【００１０】
１．少なくとも１種類の近赤外線吸収色素および少なくとも１種類の下記一般式（Ｘ−１）で表される金属イオン含有化合物を含有することを特徴とする光学フィルタ。
一般式（Ｘ−１）
Ｍ（Ｘ1）m（Ｘ2）l・（Ｗ1）s
［式中、Ｍは，Ｚｎ又はＣｕの２価イオンを表し、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に１座または２座配位子を表し、同一であっても異なっていても良く、Ｘ1とＸ2は連結していてもよい。ｍ、ｌ及びｓはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｍ＋ｌ＞１である。（Ｗ1）sは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表す。ただし、Ｘ1又はＸ2で表される配位子の少なくとも１つは下記一般式（Ｘ−１ａ）である。］
【００１１】
【化１】
2009025601.tif 000002
【００１２】
［式中、Ｅ1は置換基、Ｅ2は水素原子または置換基を表し、Ｒはアルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基を表す。］
２．前記一般式（Ｘ−１）で表される金属イオン含有化合物の金属イオンがＣｕであることを特徴とする前記１に記載の光学フィルタ。
【００１３】
３．前記１又は２に記載の光学フィルタを用いることを特徴とするディスプレイ用前面フィルタ。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によって、耐候性、特に耐光性および耐熱性に優れた光学フィルタを提供することができた。さらにはこの光学フィルタを用いて、優れた分光吸収特性および耐候性、特に前面フィルタを薄膜化しても十分な耐候性を有するディスプレイ用前面フィルタを提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明を更に詳しく説明する。
【００１６】
以下、本発明の金属イオン含有化合物および近赤外線吸収色素を含有した光学フィルタおよびディスプレイ用前面フィルタについて説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００１７】
（金属イオン含有化合物）
本発明は前記一般式（Ｘ−１）で表される金属イオン含有化合物を少なくとも１種含有する。
【００１８】
前記一般式（Ｘ−１）において、ＭはＺｎ又はＣｕの２価イオンを表すが、好ましくはＣｕである。
【００１９】
Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に１座または２座の配位子を表し、同一であっても異なっていても良く、Ｘ1とＸ2は連結していても良い。Ｘ1およびＸ2として、例えば特開２０００−２５１９５７号、特開２０００−３１１７２３号、特開２０００−３２３１９１号、特開２００１−６７６０号、特開２００１−５９０６２号、特開２００１−６０４６７号等に記載されているようなものが挙げられる。具体的にはハロゲンイオン、水酸イオン、アンモニア、ピリジン、アミン（たとえばメチルアミン、ジエチルアミン、トリブチルアミン等）、シアン化物イオン、シアン酸イオン、チオラートイオン、チオシアン酸イオン、およびビピリジン類、アミノポリカルボン酸類、８−ヒドロキシキノリン等の各種のキレート配位子が挙げられ、キレート配位子については上野景平著「キレート化学」等に例示されている。
【００２０】
１座配位子としてはアシル基、カルボニル基、チオシアネート基、イソシアネート基、シアネート基、イソシアネート基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基で配位する配位子、或いはジアルキルケトン又はカルボンアミドからなる配位子が好ましい。
【００２１】
２座配位子としてはアシルオキシ基、オキザリレン基、アシルチオ基、チオアシルオキシ基、チオアシルチオ基、アシルアミノオキシ基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオカルボネート基、ジチオカルボネート基、トリチオカルボネート基、アルキルチオ基又はアリールチオ基で配位する配位子、或いはジアルキルケトン又はカルボンアミドからなる配位子が好ましい。
【００２２】
以下に配位子例を示すが、本発明はこれらに限定される事はない。尚、ここに示す構造式は幾つも取り得る共鳴構造の中の１つの極限構造に過ぎず、共有結合（−で示す）と配位結合（…で示す）の区別も形式的なもので、絶対的な区別を表すものではない。
【００２３】
【化２】
2009025601.tif 000003
【００２４】
【化３】
2009025601.tif 000004
【００２５】
【化４】
2009025601.tif 000005
【００２６】
【化５】
2009025601.tif 000006
【００２７】
【化６】
2009025601.tif 000007
【００２８】
【化７】
2009025601.tif 000008
【００２９】
本発明において一般式（Ｘ−１）で表される金属イオン含有化合物のＸ1又はＸ2で表される配位子の少なくとも１つは前記一般式（Ｘ−１ａ）である。
【００３０】
一般式（Ｘ−１ａ）において、Ｅ1およびＥ2が置換基である場合は、具体的には、置換基の例としてはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロアリール基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基（複素環基とも呼び、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、ホスホリル基（例えばジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキ���ルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ヒドロキシル基などが挙げられ、より好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、シアノ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルケニル気、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、シアノ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルケニル基であり、より好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アミド基、カルバモイル基、シアノ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルケニル基である。
【００３１】
これら置換基は更に同様の置換基よって置換されても良く、また置換基同士が更に互いに結合して環を形成しても良い。
【００３２】
Ｅ1及びＥ2はいずれか一方もしくは両方とも電子吸引性基であることが好ましく、電子吸引性の度合いを示す指標としてハメット置換基定数（σｐ）が０．１以上０．９以下の電子吸引性基であることが好ましく、より好ましくは、Ｅ1がハメット置換基定数（σｐ）０．３５以上０．９以下であることが好ましく、さらに好ましくはＥ1およびＥ2がともにハメット置換基定数（σｐ）が０．３５以上０．９以下であることである。
【００３３】
電子吸引性の度合いを示すハメットの置換基定数（σｐ）が０．１以上０．９以下の置換基について説明する。ここでいうハメットの置換基定数σｐの値としては、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．Ｌｅｏらの報告（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１６、１２０７（１９７３）；ｉｂｉｄ．２０、３０４（１９７７））に記載の値を用いるのが好ましい。
【００３４】
例えば、σｐの値が０．１０以上の置換基または原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基（例えばトリクロロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチルチオメチル、トリフルオロメタンスルホニルメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族、芳香族もしくはヘテロ環アシル基（例えばホルミル、アセチル、ベンゾイル）、脂肪族・芳香族もしくはヘテロ環スルホニル基（例えばトリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、置換アリール基（例えばペンタクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル、２−トリフルオロメチルフェニル）、ヘテロ環基（例えば２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンズチアゾリル、１−フェニル−２−ベンズイミダゾリル、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えばフェニルアゾ）、ジトリフルオロメチルアミノ基、トリフルオロメトキシ基、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アシロキシ基（例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えばジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−（２−ドデシルオキシエチル）スルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル）などが挙げられる。
【００３５】
また、σｐの値が０．３５以上の置換基としてはシアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、フッ素置換アルキル基（例えば、トリフルオロメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族、芳香族もしくはヘテロ環アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル）、脂肪族、芳香族もしくはヘテロ環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、フッ素又はスルホニル基置換芳香族基（例えば、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えば、ジメトキシホスホリル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基などが挙げられる。
【００３６】
σｐの値が０．６０以上の置換基としては、シアノ基、ニトロ基、脂肪族・芳香族もしくはヘテロ環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、ジフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）などが挙げられる。
【００３７】
また、Ｅ1およびＥ2で表される置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積が７５Å3以下であることが好ましく、４５Å3以下であることがより好ましい。特にＥ2はファンデルワールス（ＶＤＷ）体積が３５Å3以下であることが好ましい。
【００３８】
置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積とは、アクセルリス社製分子シミュレーションソフトＣｅｒｉｕｓ２を用いて求められるパラメーターを用いるが、ベンゼン環に置換基を導入し、Ｄｒｅｉｄｉｎｇ  Ｆｏｒｃｅ  Ｆｉｅｌｄを用いて、ＭＭ計算で分子構造を最適化して、Ｃｏｎｎｏｌｙ  Ｓｕｒｆａｃｅを用いて求めたＶｏｌｕｍｅ値と定義する。具体的な置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積の例を数例以下に示す。
【００３９】
置換基                    Å3
メチル基                  ２５．４
エチル基                  ４２．６
イソプロピル基            ５９．５
ｔｅｒｔ−ブチル基        ７６．２
フェニル基                ７４．９
メトキシ基                ３４．０
アミノ基                  ２２．２
ヒドロキシル基            １６．７
塩素原子                  ２２．４
臭素原子                  ２６．５
フッ素原子                １３．３
トリフルオロメチル基      ４２．５
Ｅ1及びＥ2で表される置換基の好ましい例として、具体的にはハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基等が挙げられる。また、Ｅ1がハロゲン置換アルキル基、シアノ基であることがより好ましく、さらに好ましくはハロゲン置換アルキル基であることであって、最も好ましくはフッ素置換アルキル基であることである。Ｅ2はシアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基あるいはカルボニル基であることがより好ましく、さらに好ましくはシアノ基、ニトロ基であることであって、最も好ましくはシアノ基であることである。
【００４０】
Ｒはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基であることが好ましく、より好ましい置換基としては炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基が挙げられ、更に好ましくは炭素数２〜１８のアルキル基又は炭素数１〜１８のアルコキシ基、アリールオキシ基であり、最も好ましくは炭素数１〜１６のアルコキシ基である。
【００４１】
以下に前記一般式（Ｘ−１ａ）で示される配位子の具体例を示すが本発明はこれらに限定される事はない。
【００４２】
【化８】
2009025601.tif 000009
【００４３】
【化９】
2009025601.tif 000010
【００４４】
【化１０】
2009025601.tif 000011
【００４５】
【化１１】
2009025601.tif 000012
【００４６】
Ｗは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表し、例えば、ある金属イオン含有化合物が陽イオン、陰イオンであるか、あるいは正味のイオン電荷を持つかどうかは、その金属、配位子、および置換基に依存する。置換基が解離性基を有する場合、解離して負電荷を持っても良く、この場合にも分子全体の電荷はＸによって中和される。典型的な陽イオンは無機または有機のアンモニウムイオン（例えばテトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン）、アルカリ金属イオンおよびプロトンであり、一方、陰イオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、例えば、ハロゲン陰イオン、（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン）、置換アリールスルホン酸イオン（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、アルキル硫酸イオン（例えば、メチル硫酸イオン）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、エノレート（アセチルアセトナート、ヘキサフルオロアセチルアセトナート）、水酸イオン、亜硫酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、炭酸イオン、過塩素酸イオン、アルキルカルボン酸イオン、アリールカルボン酸イオン、テトラアルキルボレート、サリシネート、ベンゾエート、ヘキサフルオロアンチモン等が挙げられる。ｓは０〜２の整数であって、好ましくは０である。
【００４７】
以下に、前記一般式（Ｘ−１）で表される金属イオン含有化合物の代表的な具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４８】
【表１】
2009025601.tif 000013
【００４９】
【表２】
2009025601.tif 000014
【００５０】
（近赤外線吸収色素）
本発明は少なくとも１種類の近赤外線吸収色素を含有する。
【００５１】
近赤外線吸収色素としては、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、ポリメチン系色素（シアニン系、オキソノール系、クロコニウム系、スクアリリウム系、ピリリウム系、アズレヌウム系）、ジチオール錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、などが挙げられる。
【００５２】
この中でも特にインモニウム系色素またはジインモニウム系色素またはナフトキノン系化合物またはアントラキノン系化合物またはアミノ化合物またはアミニウム塩系化合物またはポリメチン系色素またはトリアリルメタン系色素が好ましく、より好ましくはインモニウム系色素またはジインモニウム系色素またはアミニウム塩系化合物またはポリメチン系色素またはトリアリルメタン系色素であり、さらに好ましくはインモニウム系色素またはジインモニウム系色素またはポリメチン系色素であり、ジインモニウム系色素またはポリメチン系色素がより一層好ましい。ポリメチン系色素の中ではクロコニウム系、スクアリリウム系、ピリリウム系のポリメチン色素が好ましい。ジインモニウム系色素は下記一般式（Ｉ）で示されるものが好ましい。
【００５３】
【化１２】
2009025601.tif 000015
【００５４】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1〜Ｒ8は、夫々同一または異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基を表す。Ｒ9〜Ｒ12は、それぞれ同一でも、異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシル基を表す。Ｒ1〜Ｒ12で、置換基を結合できるものは置換基を有してもよい。Ｘ-は陰イオンを表す。
【００５５】
上記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ8が、（ａ）アルキル基、（ｂ）アリール基、（ｃ）アルケニル基、（ｄ）アラルキル基の場合、それぞれ以下の基が例示できる。
【００５６】
（ａ）アルキル基：メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−シアノプロピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基など
（ｂ）アリール基：フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基、ジエチルアミノフェニル基、ナフチル基など
（ｃ）アルケニル基：ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基など。
【００５７】
（ｄ）アラルキル基：ベンジル基、ｐ−フルオロベンジル基、ｐ−クロロフェニル基、フェニルプロピル基、ナフチルエチル基など。
【００５８】
また、上記一般式（Ｉ）のＲ9〜Ｒ12の（ｅ）ハロゲン原子、（ｆ）アミノ基、（ｇ）アルキル基、（ｈ）アルコキシル基としては、それぞれ、以下の基が例示できる。
【００５９】
（ｅ）ハロゲン原子：フッ素、塩素、臭素など
（ｆ）アミノ基：ジエチルアミノ基、ジメチルアミノ基など
（ｇ）アルキル基：メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基など
（ｈ）アルコキシル基：メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基など。
【００６０】
また、上記一般式（Ｉ）におけるＸ-としては、例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンなどの陰イオンが挙げられる。
【００６１】
上記一般式（Ｉ）で示されるジインモニウム塩系化合物は、市販品を用いることができる。例えば、Ｋａｙａｓｏｒｂ  ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０２４（以上、日本化薬社製）、ＣＩＲ−１０８０、ＣＩＲ−１０８１、ＣＩＲ−１０８３、ＣＩＲ−１０８５（以上、日本カーリット社製）などが好適である。
【００６２】
好適に使用できる近赤外線吸収色素の具体例としては例えば、特開２００４−９３７６７号、特開２００４−６９７５９号、特開２００２−２８６９３１号、特開２００２−１２２７２９号、特開２００１−１１５０５０号、特開２００１−１１５０５０号、特開２０００−１６２４３１号、特開平１１−１０９１２６号、特開２００６−１３９３１１号の各公報に記載のものをあげることが出来るが、本発明はこれらに限定されることは無い。
【００６３】
さらに、上述した近赤外線吸収色素の他に、無機物であるカーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期律表４Ａ、５Ａまたは６Ａ族に属する金属の酸化物、もしくは炭化物、またはホウ化物などを含んでいても良い。
【００６４】
本発明の金属イオン含有化合物および近赤外線吸収色素を含有する光学フィルタは、バインダー（分散剤）との組成物、もしくはこれに更に溶媒を加えた組成物として用いられることが好ましい。
【００６５】
バインダーとしては、（メタ）アクリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、アミノ系樹脂、フッ素系樹脂、フェノール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アラミド樹脂などが挙げられるが、好ましくは（メタ）アクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂などが好ましく用いられ、最も好ましくは（メタ）アクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂である。また、これらの共重合体も同様に好ましい。
【００６６】
（メタ）アクリレート系樹脂とは、種々のメタクリレート系モノマー、もしくはアクリレート系モノマーを単独重合、もしくは共重合することにより合成され、モノマー種及びモノマー組成比を種々変えることによって、望みの（メタ）アクリレート系樹脂を得ることができる。また本発明においては、（メタ）アクリレート系モノマーと一緒に（メタ）アクリレート系モノマー以外の不飽和二重結合を有する共重合可能なモノマーと共に共重合しても使用可能であり、更に本発明においては、ポリ（メタ）アクリレート系樹脂と一緒に他の複数の樹脂を混合しても使用可能である。
【００６７】
本発明において用いられる（メタ）アクリレート系樹脂を形成するモノマー成分としては、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジ（エチレングリコール）エチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールメチルエーテル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、塩化エチルトリメチルアンモニウム（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、２−アセトアミドメチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、３−トリメトキシシランプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、２−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられるが、好ましくは（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートである。
【００６８】
ポリスチレン系樹脂とはスチレンモノマーの単独重合物、あるいはスチレンモノマーと共重合可能な他の不飽和二重結合を有するモノマーを共重合したランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体が挙げられる。更に、かかるポリマーに他のポリマーを配合したブレンド物やポリマーアロイも含まれる。前記スチレンモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−メチルスチレン−ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、などの核アルキル置換スチレン、ｏ−クロルスチレン、ｍ−クロルスチレン、ｐ−クロルスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ジクロルスチレン、ジブロモスチレン、トリクロルスチレン、トリブロモスチレンなどの核ハロゲン化スチレンなどが挙げられるが、この中でスチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
【００６９】
これらを単独重合、もしくは共重合することによって本発明で用いられる樹脂は合成され、例えば、ベンジルメタクリレート／エチルアクリレート、あるいはブチルアクリレート等の共重合体樹脂、またメチルメタクリレート／２−エチルヘキシルメタクリレート等の共重合体樹脂、またメチルメタクリレート／メタクリル酸／ステアリルメタクリレート／アセトアセトキシエチルメタクリレートの共重合体樹脂、またスチレン／アセトアセトキシエチルメタクリレート／ステアリルメタクリレートの共重合体樹脂、また、スチレン／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ステアリルメタクリレートの共重合体、更には、２−エチルヘキシルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の共重合体樹脂等が例として挙げられる。
【００７０】
《光学フィルタおよびディスプレイ用前面フィルタ》
本発明の光学フィルタおよびディスプレイ用前面フィルタは、基材中に金属イオン含有化合物および近赤外線吸収色素をそれぞれ少なくとも１種含有する組成物を含むことを特徴とする。本発明でいう基材に含有するとは、基材の内部に含有されることは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と基材の間に挟まれた状態等を意味する。
【００７１】
本発明における光学フィルタは、可視域に吸収極大を少なくとも一つ有する事が特徴であって、いわゆるカラーフィルタとして知られるような、ＲＧＢ三色を１組として格子状に多数並び全体として四角形に配置され、ＣＣＤイメージセンサなど固体撮像素子、あるいは液晶を使用したカラーディスプレイに用いられる部品のように特定の色の光を透過させ、それ以外を遮るものではなく、特定の波長域の光を減色させる、あるいは遮り、それ以外の光は透過させるために用いられるものである。
【００７２】
また、本発明におけるディスプレイ用前面フィルタは、プラズマディスプレイや有機ＥＬディスプレイのような自発光型表示装置の前面に配置され、色調補整や不要な波長域の発光を遮るために用いられる。
【００７３】
本発明において近赤外線吸収フィルタとは、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域の透過率が低く、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの可視光領域の透過率が高いフィルタのことである。近赤外領域の透過率は低いほど好ましく、具体的には４０％以下、より好ましくは３０％以下である。前記の近赤外線領域の透過率が高い場合には、本発明の近赤外線吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面フィルタの構成部材として使用した場合に、プラズマディスプレイから放出される近赤外線の吸収が不足し、近赤外線リモコンを用いる電子機器の誤動作を防止することができない。また、ディスプレイ用フィルタとして使用する場合、前記の可視光領域の透過率は高ければ高いほどよく、好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上である。可視光領域の透過率が低い場合には、ディスプレイの発色を妨げ、輝度の低い映像となる。
【００７４】
前記の透過率の調整は、上述の近赤外線吸収色素の種類、単位面積あたりの近赤外線吸収色素の存在量により制御することができる。
【００７５】
基材としては、透明樹脂板、透明フィルム、透明ガラス等が挙げられ、波長４００〜７００ｎｍの光線透過率が４０％以上の透明性があれば特に制限はない。例えば、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が好ましく用いられる。
【００７６】
基材の厚さは、ある程度の機械的強度があれば特に制限はないが、通常は、２０μｍ〜１０ｍｍであり、２０μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０μｍ〜２００μｍが特に好ましい。
【００７７】
上記光学フィルタ用組成物を用いて本発明の光学フィルタおよびディスプレイ用前面フィルタを作製する方法としては、特に限定されるものではないが、
（１）透明粘着剤に含有させる方法
（２）高分子成形体へ含有させる方法
（３）高分子成形体又はガラス表面にコーティングする方法等が挙げられる。
【００７８】
（１）に挙げた透明粘着剤の具体的な例としては、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール粘着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤等を挙げることができ、この中でもアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤が好ましい。色素の添加量は、通常１０ｐｐｍ〜３０質量％であり、１０ｐｐｍ〜２０質量％が好ましく、１０ｐｐｍ〜１０質量％が特に好ましい。
【００７９】
（２）に挙げた高分子樹脂成形体へ含有させる方法としては、（Ａ）樹脂に色素混合物を混錬し、加熱成形する方法と（Ｂ）有機溶剤に、樹脂または樹脂モノマーと色素混合物を分散、溶解させ、キャスティング法により高分子成形体を作製する方法が挙げられる。
【００８０】
（Ａ）で使用される樹脂としては、板またはフィルム作製した際に、できるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることができる。
【００８１】
加工条件としては、色素混合物をベース高分子の粉体或いはペレットに添加、混合し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して板を作製する方法、押し出し機でフィルム化する方法、押し出し機で原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に１軸乃至２軸に延伸して、１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。尚、混錬する際に可塑性等の通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えても良い。
【００８２】
（Ｂ）のキャスティング法では、樹脂又は樹脂モノマーの有機溶剤溶液もしくは有機溶剤に、色素混合物を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥又は重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、板又はフィルムを製造することができる。
【００８３】
使用される樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＡ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーが挙げられる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。
【００８４】
（３）に挙げた高分子成形体又はガラス表面にコーティングする方法としては、本発明の金属イオン含有化合物および色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて組成物とした後に塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に本発明の金属イオン化合物とスクアリリウム色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料にする方法等が挙げられる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えても良い。
【００８５】
バインダーとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。
【００８６】
溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。
【００８７】
組成物の濃度は、グラム吸光係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の質量に対して、通常、０．１ｐｐｍ〜３０質量％である。また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０質量％である。
【００８８】
上記の方法で作製した塗料は、基材上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等のコーティング法等の公知の方法で薄膜を形成することにより、塗工することができる。
【００８９】
さらに本発明のディスプレイ用前面フィルタには、電磁波シールド機能を持たせることが好ましい。電磁波シールドとしては、銀薄膜を用いた積層体や銅を主として用いる金属のメッシュを用いることができる。銀薄膜を用いた積層体としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン等の誘電体と銀を交互に、積層したようなものが好ましい。金属のメッシュとしては、繊維に金属を蒸着した繊維メッシュ、フォトリソグラフィーの技術を用いパターンを形成してエッチングによりメッシュを得るエッチングメッシュ等を使用することができる。また、金属を含有するインクによるパターニングを行う方法、ハロゲン化銀を塗布、現像定着させる方法なども好適に用いられる。
【００９０】
更に本発明のディスプレイ用前面フィルタには公知の反射防止層、防眩層、ハードコート層、静電防止層、防汚層などの機能性透明層を付加することができる。
【００９１】
また、紫外線カットについては、紫外線カットアクリル板を基板に使っても良いし、基板の一方の面あるいは両面に紫外線吸収層を形成させても良いが、本発明のディスプレイ用前面フィルムに、紫外線吸収剤を含有させても良い。紫外線吸収剤として、例えば、サリチル酸誘導体（ＵＶ−１）、ベンゾフェノン誘導体（ＵＶ−２）、ベンゾトリアゾール誘導体（ＵＶ−３）、アクリロニトリル誘導体（ＵＶ−４）、安息香酸誘導体（ＵＶ−５）又は有機金属錯塩（ＵＶ−６）等があり、それぞれ（ＵＶ−１）としては、サリチル酸フェニル、４−ｔ−チルフェニルサリチル酸等を、（ＵＶ−２）としては、２−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等を、（ＵＶ−３）としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−５′−ジ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等を、（ＵＶ−４）としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、メチル−α−シアノ−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等を、（ＵＶ−５）としては、レゾルシノール−モノベンゾエート、２′、４′−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等を、（ＵＶ−６）としては、ニッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルリン酸のニッケル塩等を挙げることができる。
【００９２】
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子、プラズマディスプレイ等の光学装置の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。
【００９３】
また、これ以外にも酸化防止剤や重合開始剤などを必要に応じて適宜添加することができる。
【００９４】
本発明のディスプレイ用前面フィルタを用いて、電子ディスプレイ、またはプラズマディスプレイパネル表示装置を得るには、表示装置として、公知の表示装置あるいは市販品であれば特に限定なく用いることができる。
【００９５】
プラズマディスプレイパネル表示装置とは、次のような原理によってカラー画像の表示を行う装置である。前面ガラス板と背面ガラス板との間に表示電極対と、２枚のガラス板の間に設けた各画素（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））に対応するセルを設け、セルの中にキセノンガスやネオンガスを封入し、一方セル内の背面ガラス板側に各画素に対応する蛍光体を塗布しておく。表示電極間の放電によって、セル中のキセノンガスおよびネオンガスの励起発光し、紫外線が発生する。そしてこの紫外線を蛍光体に照射することによって、各画素に対応する可視光が発生する。そして、背面ガラス板にアドレス用電極を設け、このアドレス用電極に信号を印加することにより、どの放電セルを表示するかを制御し、カラー画像の表示を行うものである。
【実施例】
【００９６】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９７】
実施例１
評価サンプル１−Ａの作製
（光学フィルタ１−Ａ１の製造）
ポリエステル樹脂（バイロン２００；東洋紡績（株）製）１００質量％に対して、
近赤外線吸収色素Ａ：５質量％、
本発明の金属イオン含有化合物ＭＳ−１４：３質量％を秤量した。
【００９８】
秤量したポリエステル樹脂、色素、金属イオン含有化合物を同一の容器に移し、さらにポリエステル樹脂固形分質量が２５質量％となるようにメチルエチルケトンを加え、この本発明の組成物を超音波分散機で十分に分散させた（組成物：１−ａ）。この組成物を二軸延伸を行って製膜した膜厚１００μｍのＰＥＴフィルム基材上に、フィルタの近赤外線の吸収極大波長での近赤外線透過率が３％となるようにバーコーターで塗工し、乾燥し、得られた試料を光学フィルタ１−Ａ１とした。
【００９９】
【化１３】
2009025601.tif 000016
【０１００】
（光学フィルタ１−Ａ２の製造）
光学フィルタ  １−Ａ１の製造のうち、二軸延伸を行って製膜した膜厚１００μｍのＰＥＴフィルム基材を二軸延伸を行って製膜した膜厚２５μｍのＰＥＴフィルムに変更した以外は同様にして、光学フィルタ（試料：１−Ａ２）を作製した。
【０１０１】
作製した本発明の光学フィルタ１−Ａ１および１−Ａ２について耐熱試験を下記基準により評価した。
【０１０２】
（耐熱性試験）
光学フィルタをアダプターに取り付け、温度４０℃湿度９０％に保った温風を用いて基材の色素塗工面の裏面側からのみ１００時間加熱した。尚、試験中、色素塗工面側は窒素雰囲気下に保った。
【０１０３】
１００時間後、光学フィルタ１−Ａ１および１−Ａ２いずれもフィルタの近赤外線の吸収極大波長での近赤外線透過率変化はほとんど観察されなかった（１％未満）。
【０１０４】
評価サンプル２−Ａの作製
（光学フィルタ２−Ａ１の製造）
光学フィルタ１−Ａ１の製造のうち、膜厚１００μｍのＰＥＴフィルム基材を、膜厚８０μｍのＴＡＣフィルム基材に変更した以外は同様にして、光学フィルタ（試料：２−Ａ１）を作製した。
【０１０５】
（光学フィルタ２−Ａ２の製造）
光学フィルタ１−Ａ１の製造のうち、膜厚１００μｍのＰＥＴフィルム基材を、膜厚２０μｍのＴＡＣフィルム基材に変更した以外は同様にして、光学フィルタ（試料：２−Ａ２）を作製した。
【０１０６】
作製した本発明の光学フィルタ２−Ａ１および２−Ａ２について耐熱試験を下記基準により評価した。
【０１０７】
（耐熱性試験）
光学フィルタをアダプターに取り付け、温度４０℃湿度９０％に保った温風を用いて基材の色素塗工面の裏面側からのみ２０００時間加熱した。尚、試験中、色素塗工面側は窒素雰囲気下に保った。
【０１０８】
１００時間後、光学フィルタ２−Ａ１および２−Ａ２いずれもフィルタの近赤外線の吸収極大波長での近赤外線透過率変化はほとんど観察されなかった（１％未満）。
【０１０９】
（評価サンプル：３−Ａ〜２１−Ａの製造）
色素、金属イオン含有化合物、基材を下記表３に示す通りに変更した以外は上記評価サンプル１−Ａの作製と同様にして光学フィルタ３−Ａから２１−Ａを製造した。なお、表中の色素の添加割合（Ｘ）、金属イオン含有化合物の添加割合（Ｙ）は、それぞれ、バインダーの固形分質量を１００質量％とした場合の添加割合である。
【０１１０】
使用した化合物は以下のとおりである。
【０１１１】
色素
近赤外線吸収色素Ａ  スクアリリウム系（化１３に構造は記載）
近赤外線吸収色素Ｂ  クロコニウム系（構造は下記に示す）
近赤外線吸収色素Ｃ  ＩＲ−３０１（山田化学）  ポリメチン系
近赤外線吸収色素Ｄ  アデカアークルズＴＹ−１００（旭電化工業製）シアニン系
近赤外線吸収色素Ｅ  ＩＲＧ−０２２（日本化薬製）ジインモニウム系
近赤外線吸収色素Ｆ  スクアリリウム金属錯体化合物（構造は下記に示す）
近赤外線吸収色素Ｇ  テトラブチルアンモニウムビス（２−メチルアミノベンゼンチオール）ニッケレート錯体
金属イオン含有化合物
比較金属イオン含有化合物Ｈ  ジ・ブチル錫マレート系安定剤［Ｐ−５Ｔ（東京ファインケミカル（株）製）］
比較金属イオン含有化合物Ｉ  ニッケル金属化合物（構造は下記に示す）
基材
基材Ｉ  フィルタＡ１：二軸延伸を行って製膜した膜厚１００μｍのＰＥＴフィルム、フィルタＡ２：二軸延伸を行って製膜した膜厚２５μｍのＰＥＴフィルム
基材II  フィルタＡ１：膜厚８０μｍのＴＡＣフィルム、フィルタＡ２：膜厚４０μｍのＴＡＣフィルム
【０１１２】
【化１４】
2009025601.tif 000017
【０１１３】
【表３】
2009025601.tif 000018
【０１１４】
以上より、本発明の光学フィルタを含む評価サンプル１−Ａ〜１５−Ａは比較の光学フィルタを含むサンプルに較べ、基材の薄膜化による外気の影響を受けにくく、十分に安定なフィルタであることがわかり、本発明によって優れた光学フィルタを提供できた。
【０１１５】
実施例２
（ディスプレイ用前面フィルタの製造）
《ディスプレイ用前面フィルタ》
（本発明のディスプレイ用前面フィルタ１の作製）
アクリル系粘着剤の主剤溶液［オリバインＢＰＳ５８９６（東洋インキ製造株式会社製）］に酢酸エチル、近赤外線吸収色素：０．９質量％／（樹脂固形分）、本発明の金属イオン含有化合物ＭＳ−１４：０．４５０質量％／（樹脂固形分）およびポリイソシアネート系硬化剤［ＢＸＸ４７７３（東洋インキ製造株式会社製）］を加え、この可視光吸収粘着剤をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルム（厚み５０μｍ）にバーコーターで塗工、乾燥し、この面にＰＥＴ製フィルム（厚み５０μｍ）をローラーで貼り合わせディスプレイ用前面フィルタ１を得た。このディスプレイ用前面フィルタの透過率曲線は、８２１ｎｍに極小値を有しており、近赤外線を有効に吸収することのできる近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面フィルタを提供することができた。