(57)【要約】【課題】水蒸気などのガスの遮断性が高い透明基板を提供する。【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。そしてフィルム基材２の表面にガスバリア性を有するガスバリア層３を設けて形成される透明なガスバリアフィルム４が透明積層板１に積層されている。ガスバリアフィルム４のガスバリア層３で水蒸気などのガスが透過することを遮断することができ、水蒸気などのガスの透過を遮断するガス遮断性が高い透明基板を得ることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板を備え、フィルム基材の表面にガスバリア性を有するガスバリア層を設けて形成される透明なガスバリアフィルムが透明積層板に積層されていることを特徴とする透明基板。
【請求項２】
ガスバリアフィルムは水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、ガスバリア層は樹脂層と無機層を積層して形成されていることを特徴とする請求項１に記載の透明基板。
【請求項３】
ガスバリアフィルムは、熱プレス、熱ラミネート、粘着剤による接着、接着剤による接着から選ばれる方法で透明積層板に積層されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明基板。
【請求項４】
ガスバリアフィルムは、ガラス繊維基材に樹脂組成物を含浸して半硬化させたものにガスバリアフィルムを重ねて加熱加圧することによって、ガラス繊維基材に含浸した樹脂が硬化して形成される透明積層板に積層されるものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明基板。
【請求項５】
ガスバリアフィルムのフィルム基材はガラス転移点が１５０℃以上であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか1項に記載の透明基板。
【請求項６】
ガスバリア層を形成する樹脂層は、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリアミド、セルロース、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも１種により形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の透明基板。
【請求項７】
ガスバリア層を形成する無機層は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種により形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の透明基板。
【請求項８】
ガスバリアフィルムの片面にＩＴＯ膜が形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の透明基板。
【請求項９】
透明積層板を作製する樹脂組成物の高屈折率樹脂として、シアネートエステル樹脂が用いられることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の透明基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイなどに用いられる透明基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明積層板によって形成される透明基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイなどにおいて、ガラス板に代わる材料として検討されている（例えば特許文献１等）。
【０００３】
透明基板として用いられるこのような透明積層板の一例として、ガラスクロスなどガラス繊維からなる基材に、ガラス繊維と屈折率が近似する透明熱硬化性樹脂を含浸してプリプレグを調製し、このプリプレグを加熱加圧成形することによって作製したものを挙げることができる。透明熱硬化性樹脂としては一般にエポキシ樹脂が使用されているが、樹脂の屈折率をガラス繊維の屈折率に近似させるために、ガラス繊維より屈折率の大きいエポキシ樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さいエポキシ樹脂とを混合し、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように混合比率を調整した樹脂組成物を用いるようにしている。このように基材のガラス繊維とマトリクス樹脂の屈折率を合わせることによって、透明積層板内での光の屈折を抑え、視認性に優れたディスプレイの透明基板として使用することができるものである。
【０００４】
図３はこのような透明積層板によって形成される透明基板Ａを用いて作製した液晶ディスプレイの概略構成の一例を示すものであり、一対の透明基板Ａを平行に配置し、この透明基板Ａ間に駆動素子１０が搭載されるようになっている。この駆動素子１０は、一方の透明基板Ａに設けられた画素電極１１とＴＦＴ１２、他方の透明基板Ａに設けられた共通電極１３、透明基板Ａ間に充填される液晶分子１４などを備えて形成されるものである。
【特許文献１】特開２００４−３０７８５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような液晶ディスプレイにあって、透明基板Ａ間に搭載される駆動素子１０の液晶分子１４は、水蒸気や酸素などのガスが作用すると劣化し易く、水蒸気などガスの作用で液晶ディスプレイの寿命が低下するおそれがある
しかし透明基板Ａは、ガラス基材に樹脂を含浸・硬化して作製した透明積層板によって形成されているものであり、樹脂をマトリクスとするため、ガラス板のような高いガス遮断性を有するものではない。従ってこのような透明基板Ａを液晶ディスプレイの基板として用いる場合、水蒸気や酸素などのガスが透明基板Ａを透過することを完全に遮断することができず、液晶分子１４に水蒸気や酸素などが作用して劣化するおそれがあるという問題があった。
【０００６】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、水蒸気などのガスの遮断性が高い透明基板を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る透明基板は、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備え、フィルム基材２の表面にガスバリア性を有するガスバリア層３を設けて形成される透明なガスバリアフィルム４が透明積層板１に積層されていることを特徴とするものである。
【０００８】
この発明によれば、ガスバリアフィルム４のガスバリア層３で水蒸気などのガスが透過することを遮断することができるものであり、水蒸気などのガスの透過を遮断するガス遮断性が高い透明基板を得ることができるものである。
【０００９】
また本発明において、ガスバリアフィルム４は水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、ガスバリア層３は樹脂層５と無機層６を積層して形成されていることを特徴とするものである。
【００１０】
透明基板の水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることによって、水蒸気などのガスがディスプレイの駆動素子に作用して劣化させることを有効に防ぐことができるものである。
【００１１】
また本発明おいて、ガスバリアフィルム４は、熱プレス、熱ラミネート、粘着剤による接着、接着剤による接着から選ばれる方法で透明積層板１に積層されていることを特徴とするものである。
【００１２】
この発明によれば、ガスバリアフィルム４を透明積層板１に貼り付けることによって、ガス遮断性が高い透明基板を容易に得ることができるものである。
【００１３】
また本発明において、ガスバリアフィルム４は、ガラス繊維基材に樹脂組成物を含浸して半硬化させたものにガスバリアフィルム４を重ねて加熱加圧することによって、ガラス繊維基材に含浸した樹脂が硬化して形成される透明積層板１に積層されるものであることを特徴とするものである。
【００１４】
この発明によれば、透明積層板１を作製する際に、同時にガスバリアフィルム４を透明積層板１に積層することができるものであり、少ない工数で透明基板を製造することができるものである。
【００１５】
また本発明において、ガスバリアフィルム４のフィルム基材２はガラス転移点が１５０℃以上であることを特徴とするものである。
【００１６】
この発明によれば、ガスバリアフィルム４の耐熱性が高く、耐熱性に優れた透明基板を得ることができるものである。
【００１７】
また本発明において、ガスバリア層３を形成する樹脂層５は、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリアミド、セルロース、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも１種により形成されていることを特徴とするものであり、ガス遮断性の高いガスバリア層３を形成することができるものである。
【００１８】
また本発明において、ガスバリア層３を形成する無機層６は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムから選ばれる少なくとも１種により形成されていることを特徴とするものであり、ガス遮断性の高いガスバリア層３を形成することができるものである。
【００１９】
また本発明は、ガスバリアフィルム４の片面にＩＴＯ膜７が形成されていることを特徴とするものである。
【００２０】
この発明によれば、ＩＴＯ膜７を設けたガスバリアフィルム４を透明積層板１に積層することによって、透明基板に駆動素子１０の透明電極を同時に組み込むことができるものである。
【００２１】
また本発明は、透明積層板１を作製する樹脂組成物の高屈折率樹脂として、シアネートエステル樹脂を用いるようにしたことを特徴とするものである。
【００２２】
この発明によれば、シアネートエステル樹脂によって透明積層板１の樹脂のガラス転移温度を高めることができ、耐熱性に優れた透明基板を得ることができるものである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、ガスバリアフィルム４のガスバリア層３で水蒸気などのガスが透過することを遮断することができるものであり、水蒸気などのガスの透過を遮断するガス遮断性が高い透明基板を得ることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００２５】
まず、本発明において使用する透明積層板について説明する。この透明積層板は、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製されるものである。
【００２６】
上記のガラス繊維より高屈折率の樹脂として、シアネートエステル樹脂を用いるのが好ましい。シアネートエステル樹脂は、１分子中に２個以上のシアネート基を有するシアネートエステル化合物が３量化でトリアジン環を生成して重合したものであり、シアネートエステル化合物としては、例えば、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチル−４−シアナートフェニル）メタン、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）エタン等、あるいはこれらの誘導体など、芳香族シアネートエステル化合物を用いることができる。これらは単独で用いる他、複数種を組み合わせて用いるようにしてもよい。このシアネートエステル樹脂は剛直な分子骨格を有するものであり、このため、硬化物に高いガラス転移温度を与えるものである。またシアネートエステル樹脂は常温で固形であるので、後述のように樹脂組成物をガラス繊維の基材に含浸して乾燥することによってプリプレグを調製する際に、指触乾燥することが容易になるので、プリプレグの取り扱い性が良好になるものである。
【００２７】
ここで、ガラス繊維の屈折率が例えば１．５６２である場合、高屈折率樹脂として用いるシアネートエステル樹脂は屈折率が１．６前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ＋０．０３〜ｎ＋０．０６の範囲のものであることが望ましい。尚、本発明において、樹脂の屈折率は、いずれも硬化した樹脂の状態での屈折率をいうものであり、ＡＳＴＭ  Ｄ５４２で試験した値である。
【００２８】
一方、上記のガラス繊維より低屈折率の樹脂としては、低屈折率であれば任意のエポキシ樹脂を用いることができるが、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。ガラス繊維の屈折率が例えば１．５６２である場合、この低屈折率のエポキシ樹脂としては屈折率が１．５前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ−０．０４〜ｎ−０．０８の範囲のものであることが望ましい。
【００２９】
低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂において、ビスフェノール型としては、ビスフェノールＡ型の他に、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型などを用いることもできる。
【００３０】
また、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、常温で固形の固形型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。常温で液状の液状型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を使用することもできるが、プリプレグを調製する際に、指触で粘着性のある状態にまでしか乾燥することができず、プリプレグの取り扱い性が悪くなるので、固形型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を使用するのが好ましいのである。さらに、低屈折率のエポキシ樹脂として、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂以外のものを併用することも可能であり、例えば１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル)シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂を併用することができる。このエポキシ樹脂は屈折率を微調整するために併用するものであり、また常温で固体であるために透明積層板の製造を容易にするためにも最適な樹脂である。
【００３１】
そして、上記の高屈折率のシアネートエステル樹脂と、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などエポキシ樹脂とを混合して、ガラス繊維の屈折率に近似した樹脂組成物を調製して用いるものである。高屈折率のシアネートエステル樹脂と低屈折率のエポキシ樹脂の混合比率は、ガラス繊維の屈折率に近似させるように、任意に調整されるものである。ここで、樹脂組成物の屈折率はガラス繊維の屈折率にできるだけ近いことが望ましいが、ガラス繊維の屈折率をｎとすると、ｎ−０．０２〜ｎ＋０．０２の範囲で近似するように調整するのが好ましい。
【００３２】
またこの樹脂組成物は、その硬化樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上になるように調製されるのが好ましい。ガラス転移温度が１７０℃以上であることによって、透明積層板の耐熱性を高めることができるものである。ガラス転移温度の上限は特に設定されるものではないが、実用的には２８０℃程度がガラス転移温度の上限である。ガラス転移温度の調整は、樹脂組成物中の上記のシアネートエステル樹脂の配合比率を変えることによって行なうことができるものであり、併用する低屈折率樹脂の種類に左右されるが、樹脂組成物の樹脂分中、シアネートエステル樹脂が約３０質量％以上であれば、樹脂組成物のガラス転移温度を１７０℃以上に調整することができる。ここで、本発明において、ガラス転移温度は、ＪＩＳ  Ｃ６４８１  ＴＭＡ法に準拠して測定した値である。
【００３３】
さらに樹脂組成物には、硬化開始剤（硬化剤）を配合することができる。この硬化開始剤としては、有機金属塩を用いることができる。この有機金属塩としては、例えば、オクタン酸、ステアリン酸、アセチルアセトネート、ナフテン酸、サリチル酸等の有機酸と、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ等の金属との塩を挙げることができる。これらは一種を単独で用いる他に、二種以上を併用することもできるが、中でも、オクタン酸亜鉛が好ましい。硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を用いることによって、硬化樹脂のガラス転移温度を高めることができるものである。樹脂組成物中のオクタン酸亜鉛など有機金属塩の含有量は、特に限定されるものではないが、０．０１〜０．１ＰＨＲの範囲が好ましい。
【００３４】
また硬化開始剤として、カチオン系硬化剤を用いることもできる。このようにカチオン系硬化剤を用いることによって樹脂の透明性を高めることができるものである。カチオン系硬化剤としては、特に限定されるものではないが、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体などを用いることができる。樹脂組成物中のカチオン系硬化剤の含有量は、特に限定されるものではないが、０．２〜３．０ＰＨＲの範囲が好ましい。
【００３５】
さらに硬化開始剤として、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の３級アミン、２−エチル−４−イミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−イミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）などの硬化触媒を用いることもできる。樹脂組成物中の硬化触媒の含有量は、特に限定されるものではないが、０．５〜５ＰＨＲの範囲が好ましい。
【００３６】
上記のように高屈折率のシアネートエステル樹脂、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などエポキシ樹脂、硬化開始剤を配合することによって樹脂組成物を調製することができるものである。この樹脂組成物は、必要に応じて溶剤に溶解乃至分散して樹脂ワニスとして使用するものである。この溶剤としては、特に限定されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、２−ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコール、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。
【００３７】
一方、ガラス繊維としては、透明積層板の耐衝撃性を高める効果の点からＥガラスやＮＥガラスであることが好ましい。Ｅガラスは無アルカリガラスとも称され、樹脂強化用ガラス繊維として汎用されるガラスであり、ＮＥガラスはＮｅｗＥガラスのことである。またガラス繊維には、耐衝撃性を向上させる目的で、ガラス繊維処理剤として通常使用されているシランカップリング剤によって表面処理しておくことが好ましい。ガラス繊維の屈折率は１．５５〜１．５７の範囲であることが好ましく、１．５５５〜１．５６５の範囲であることがさらに好ましい。ガラス繊維の屈折率がこの範囲であれば、視認性に優れた透明積層板を得ることができるものである。ガラス繊維の基材としては、ガラス繊維の織布あるいは不織布を使用することができる。
【００３８】
そしてガラス繊維の基材に樹脂組成物のワニスを含浸し、加熱して乾燥することによって、プリプレグを調製することができる。乾燥条件は特に限定されるものではないが、乾燥温度１００〜１６０℃、乾燥時間１〜１０分間の範囲が好ましい。
【００３９】
次にこのプリプレグを１枚、あるいは複数枚重ね、加熱加圧成形することによって、樹脂組成物を硬化させて、透明積層板を得ることができるものである。加熱加圧成形の条件は、特に限定されるものではないが、温度１５０〜２００℃、圧力１〜４ＭＰａ、時間１０〜１２０分間の範囲が好ましい。
【００４０】
上記のようにして得られる透明積層板にあって、高屈折率のシアネートエステル樹脂と低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が重合して形成される樹脂マトリクスは、シアネートエステル樹脂を含有することによってガラス転移温度が高いものであり、耐熱性に優れた透明積層板を得ることができるものである。またシアネートエステル樹脂や水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂はいずれも透明性に優れるものであり、高い透明性を確保した透明積層板を得ることができるものである。この透明積層板において、ガラス繊維の基材の含有率は２５〜６５質量％の範囲であることが好ましく、この範囲であれば、ガラス繊維による補強効果で高い耐衝撃性を得ることができると共に、十分な透明性を得ることができるものである。
【００４１】
ここで、ガラス繊維の基材としては、透明性を高く得るために、厚みの薄いもの複数枚重ねて用いるのが好ましい。具体的には、ガラス繊維基材として厚み５０μｍ以下のものを用い、この５０μｍ以下の厚みのガラス繊維基材を２枚以上重ねて使用するのが好ましい。ガラス繊維基材の厚みの下限は特に限定されるものではないが、１０μｍ程度が実用上の下限である。またガラス繊維基材の枚数も特に限定されるものではないが、２０枚程度が実用上の上限である。このように複数枚のガラス繊維基材を用いて透明積層板を製造する場合、各ガラス繊維基材に樹脂組成物を含浸・乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを複数枚重ねて加熱加圧成形することによって透明積層板を得ることができるが、複数枚のガラス繊維基材を重ねた状態で樹脂組成物を含浸・乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを加熱加圧成形して透明積層板を得るようにしてもよい。
【００４２】
そして、上記のように作製した透明積層板１の表面に透明なガスバリアフィルム４を積層して設けることによって、図１に示すような本発明に係る透明基板Ａを得ることができるものである。
【００４３】
このガスバリフィルム４は、透明なフィルム基材２の片面に透明なガスバリア層３を設けて形成されるものである。そして図１の実施の形態では、このガスバリア層３が外側になるように、つまりガスバリア層３を設けていない側の面で、ガスバリアフィルム４を透明積層板１に積層するようにしてあるが、ガスバリア層３の側でガスバリアフィルム４を透明積層板１に積層するようにしてもよい。
【００４４】
ガスバリア層３は透明な樹脂層５と無機層６の２層の積層で形成されるものである。図１の実施の形態では、フィルム基材２の表面に無機層６を設け、無機層６の外側に樹脂層５を設けた積層構成でガスバリア層３を形成するようにしたが、樹脂層５と無機層６の積層構成はこの逆であってもよいし、また樹脂層５や無機層６は複数層を積層するようにしてもよい。
【００４５】
フィルム基材２としては、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルムや、ＰＥＴ等のポリエステルフィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）フィルムなど任意の透明樹脂フィルムを用いることができるが、ガラス転移点（Ｔｇ）が１５０℃以上のものが好ましい。このようにガラス転移点が１５０℃以上のフィルム基材２を用いることによって、ガスバリアフィルム４の耐熱性を高く得ることができ、耐熱性に優れた透明基材Ａを作製することができるものである。フィルム基材２のガラス転移点は高いほど望ましいものであり、その上限は特に設定されない。またこのフィルム基材２の厚みは特に限定されるものではないが、２５〜２００μｍ程度の範囲が好ましい。
【００４６】
フィルム基材２のガスバリア層３を形成する側の表面には、予めプラズマ処理やコロナ放電処理、オゾン処理等を施しておき、フィルム基材２に対するガスバリア層３の密着強度を高めるようにするのが好ましい。
【００４７】
このフィルム基材２のガスバリア層３を形成する側と反対側の表面、つまり透明積層板１に貼り付ける側の表面には、接着処理を施しておくのが好ましい。この接着処理としては、化成処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタリング処理などがあるが、さらにフィルム基材２にアンカー樹脂をコーティングして接着処理をすることもできる。このアンカー樹脂としては、貼り付ける相手である透明積層板１の樹脂と接着性が高いものを用いるものであり、例えばウレタン系、アクリル系、シリコン系、ポリエステル系などの樹脂を用いることができる。アンカー樹脂の厚みは０．０５〜０．５μｍ程度が好ましい。このようにフィルム基材２の片面に接着処理を施すことによって、樹脂積層板１にガスバリアフィルム４をこのフィルム基材２の接着処理を施した面で、密着強度高く積層することができるものである。
【００４８】
またガスバリア層３を形成する透明な樹脂層５は、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリアミド、セルロース、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる樹脂で形成するのが好ましい。これらは１種を単独で用いる他、複数種を併用するようにしてもよい。これらの樹脂を用いることによって、ガス遮断性の高い樹脂層５を形成することができるものである。
【００４９】
樹脂層５の形成は、例えば樹脂コーティング剤の塗装によって行なうことができる。コーティング剤の塗布は、スプレー、グラビア等の印刷、ロールコート、スピンコート、バーコートなど適宜の手法を用いて行なうことができる。樹脂層５の膜厚は特に限定されるものではないが、０．０１〜５０μｍの範囲が好ましい。樹脂層５の膜厚が０．０１μｍ未満であると、ガスバリア層３のガス遮断性能が不十分になり、逆に５０μｍを超えると、樹脂層５にクラックが発生し易くなって、この場合もガスバリア層３のガス遮断性能が不十分になるおそれがある。
【００５０】
またガスバリア層３を形成する透明な無機層６は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムから選ばれる材料で形成するのが好ましい。これらは１種を単独で用いる他、複数種を併用するようにしてもよい。これらの材料を用いることによって、ガス遮断性の高い無機層６を形成することができるものである。
【００５１】
無機層６の形成は、気相蒸着法を用いて行なうことができるものであり、例えば、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザＣＶＤなどの化学蒸着法（ＣＶＤ）や、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、レーザアブレーションなどの物理蒸着法（ＰＶＤ）を採用することができる。無機層６の膜厚は、特に限定されるものではないが、１０〜３００ｎｍ程度の範囲が好ましい。
【００５２】
上記のようにフィルム基材２に樹脂層５と無機層６からなるガスバリア層３を設けることによって、水蒸気や酸素などのガスの遮断性の高いガスバリアフィルム４を得ることができるものである。このガスバリアフィルム４にあって、そのガス遮断性は、水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）が０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが望ましい。透明基板Ａの水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）が０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることによって、水蒸気などのガスが駆動素子１０に作用して劣化させることを有効に防ぐことができるものである。水蒸気透過率は低いほど望ましいものであり、下限は特に設定されない。尚、本発明において水蒸気透過率は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８（１９７６）に準拠した方法で測定された値である。
【００５３】
透明積層板１へのガスバリアフィルム４の積層の方法は、熱プレスや熱ラミネートで透明積層板１にガスバリアフィルム４を貼り付ける方法や、透明積層板１とガスバリアフィルム４の少なくとも一方の表面に粘着剤や接着剤を塗布し、この粘着剤や接着剤で透明積層板１にガスバリアフィルム４を接着して貼り付ける方法などがある。
【００５４】
また、上記のように樹脂組成物をガラス繊維基材に含浸・乾燥して半硬化状態のプリプレグを作製した後に、このプリプレグにガスバリアフィルム４を重ね、そしてこれを加熱加圧成形することによって、プリプレグの樹脂を硬化させて透明積層板１を作製すると同時に、透明積層板１にガスバリアフィルム４を積層一体化するようにしてもよい。このとき、ガスバリアフィルム４の基材フィルム２に上記のように接着処理をしてアンカー樹脂の層を形成している場合には、加熱加圧成形の際にこのアンカー樹脂と透明積層板１の樹脂とが溶融し合うことで、透明積層板１に対するガスバリアフィルム４の密着強度を高く得ることができるものである。
【００５５】
上記のようにガスバリアフィルム４を透明積層板１の表面に積層して透明基板Ａを形成することによって、ガスバリアフィルム４のガスバリア層３で水蒸気や酸素などのガスの遮断性を高めることができるものであり、外気の水蒸気や酸素等のガスが透明基板Ａを透過することを防ぐことができるものである。従って、透明基板Ａにディスプレイの駆動素子１０を搭載するにあたって、これらのガスが駆動素子１０に作用し、駆動素子１０の液晶分子１４を劣化させたりすることを防ぐことができるものである。
【００５６】
図２は本発明の他の実施の形態を示すものであり、ガスバリアフィルム４の片面にＩＴＯ膜７が形成してある。このＩＴＯ膜７はガスバリア層３の表面に設けてあり、ＩＴＯ膜７によって透明電極を形成することができるものである。ＩＴＯ膜７の膜厚は特に限定されるものではないが、１０〜２００ｎｍ程度が好ましい。
【００５７】
そしてこのようにＩＴＯ膜７を設けたガスバリアフィルム４を外側になるように透明積層板１に積層することによって、図２のようなＩＴＯ膜７を備えた透明基板Ａを得ることができるものである。従ってこの透明基板Ａに図３のように駆動素子１０を搭載するにあたっては、ＩＴＯ膜７で駆動素子１０の画素電極１１や共通電極１３を形成することができるものであり、組み立ての工数を低減することができるものである。
【実施例】
【００５８】
次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００５９】
（実施例１）
高屈折率樹脂として、固形型のシアネートエステル樹脂（Ｌｏｎｚａ社製「ＢＡＤＣｙ」、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン：屈折率１．５９）を５２質量部、低屈折率樹脂として、固形型の１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂（ダイセル化学工業（株）製「ＥＨＰＥ３１５０」：屈折率１．５１）を４８質量部配合し、さらに硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を０．０２質量部配合し、これにトルエン５０質量部、メチルエチルケトン５０質量部を添加して、温度７０℃で攪拌溶解することによって、樹脂組成物のワニスを調製した。この樹脂組成物の硬化物の屈折率は１．５６であった。
【００６０】
次に、厚み２５μｍのガラス繊維クロス（旭化成エレクトロニクス（株）製品番「１０３７」、Ｅガラス、屈折率１．５６２）に、上記の樹脂組成物のワニスを含浸し、１５０℃で５分間加熱することによって、溶剤を除去すると共に樹脂を半硬化させてプリプレグを調製した。
【００６１】
そしてこのプリプレグを２枚重ね、離型処理をしたガラス板に挟んでプレス機にセットし、１７０℃、２ＭＰａ、１５分の条件で加熱加圧成形することによって、樹脂の含有率が６３質量％、厚みが８０μｍの透明積層板１を得た。
【００６２】
一方、ノルボルネン系樹脂押出フィルム（日本ゼオン社製「ＺＦ１６」、ガラス転移点１６１℃、水蒸気透過率０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ）の片面に、水性ポリウレタン樹脂水溶液（大日本インキ（株）製「ハイドランＡＰ−４０」、ガラス転移点４９℃、固形分２２質量％）を乾燥膜厚が０．１μｍになるように塗布して乾燥することによって、アンカー樹脂の層を形成する接着処理を施し、さらに他方の片面にプラズマ処理を施し、これを基材フィルム２として用いた。
【００６３】
そしてフィルム基材２のプラズマ処理をした面に、イオンプレーティング方式で酸化珪素膜（ＳｉＯ２）を成膜することによって、膜厚１００ｎｍの無機層６を形成し、さらにその上にポリビニルアルコール溶液（１５質量％濃度、溶剤：水／ＩＰＡ（質量比９０／１０））をスピンコーターで塗布・乾燥してポリビニルアルコールを成膜することによって、膜厚０．５μｍの樹脂層５を形成した。このようにして、フィルム基材２の片面に無機層６と樹脂層５からなるガスバリア層３を積層して設けたガスバリアフィルム４を得た。このガスバリアフィルム４の水蒸気透過率は０．０７ｇ／ｍ２・ｄａｙであった。
【００６４】
次に、上記の透明積層板１の片側の表面にアクリル系粘着剤（綜研化学社製「ＳＫダイン１８５０Ｇ」、固形分２５質量％）を乾燥後の膜厚が２５μｍとなるように塗布して乾燥させ、そして上記のガスバリアフィルム４を接着処理した面で重ねて接着することによって、透明積層板１にガスバリアフィルム４を積層した透明基板Ａを得た。
【００６５】
（実施例２）
実施例１で調製したプリプレグを２枚重ね、このプリプレグに実施例１で得たガスバリアフィルムを接着処理した面で重ね、離型処理をしたステンレス板に挟んでプレス機にセットし、１７０℃、２ＭＰａ、１５分の条件で加熱加圧成形することによって、樹脂含有率６３質量％、厚み８０μｍに成形される透明積層板１の片面にガスバリアフィルム４を積層し、透明基板Ａを得た。
【００６６】
（実施例３）
実施例１で得たガスバリアフィルム４のガスバリア層３の表面にＩＴＯをスパッタリングすることによって、厚み５０ｎｍのＩＴＯ膜７を形成した。そしてこのガスバリアフィルム４を実施例１で得た透明積層板１に、実施例１と同様にして接着することによって、透明積層板１の片面にガスバリアフィルム４を積層した透明基板Ａを得た。
【００６７】
（比較例１）
ガスバリアフィルム４の代わりに、厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（水蒸気透過率は５．８ｇ／ｍ２・ｄａｙ）を用い、実施例１で得た透明積層板１に、実施例１と同様にして接着して積層した。
【００６８】
上記の実施例１〜３及び比較例１で得た透明基板について、水蒸気透過率を評価し、実施例３については電気導電性を評価した。尚、電気導電性は、三菱化学社製の低抵抗率計「ロレスタＥＰ  ＭＣＰ−Ｔ３６０」を用いて、透明基板のＩＴＯ膜の表面抵抗（Ω／□）を、四探針法にて測定した。結果を表１に示す。
【００６９】
【表１】
2009241521.tif 000003
【００７０】
表１にみられるように、各実施例のものは水蒸気透過率が低くなっており、ガス遮断性が高いことが確認される。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の他の実施の形態の一例を示す概略図である。
【図３】液晶ディスプレイの概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００７２】
１  透明積層板
２  フィルム基材
３  ガスバリア層
４  ガスバリアフィルム
５  樹脂層
６  無機層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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