(57)【要約】【課題】従来の有機ＥＬ素子では、輝度ムラを軽減することが困難である。【解決手段】第１基板４１上に設けられた第１発光層６９と、第１発光層６９上に設けられた第２発光層７７とを有し、平面視で第１発光層６９と第２発光層７７とが重なっている有機ＥＬ素子２７の製造方法であって、第１発光層６９を形成する第１工程と、前記第１工程の後に第２発光層７７を形成する第２工程と、を有し、前記第１工程には、第１発光層６９の材料を含む液状体を、前記基板上に塗布法で配置する工程が含まれており、前記第２工程には、第２発光層７７の材料を含む液状体を、平面視で前記第１発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれており、前記第１工程及び前記第２工程のそれぞれは、互いに異なる工程を含んでいる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に設けられた第１発光層と、前記第１発光層上に設けられた第２発光層とを有し、平面視で前記第１発光層と前記第２発光層とが重なっている有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記第１発光層を形成する第１工程と、
前記第１工程の後に前記第２発光層を形成する第２工程と、を有し、
前記第１工程には、前記第１発光層の材料を含む液状体を、前記基板上に塗布法で配置する工程が含まれており、
前記第２工程には、前記第２発光層の材料を含む液状体を、平面視で前記第１発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれており、
前記第１工程及び前記第２工程のそれぞれは、互いに異なる工程を含んでいることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記第１工程は、前記液状体を配置する前記工程の後に前記液状体を乾燥させる第１乾燥工程を含んでおり、
前記第２工程は、前記液状体を配置する前記工程の後に前記液状体を乾燥させる第２乾燥工程を含んでおり、
前記第１乾燥工程及び前記第２乾燥工程は、乾燥条件が互いに異なる工程であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記第１乾燥工程及び前記第２乾燥工程は、乾燥速度が互いに異なる工程であることを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記第１乾燥工程及び前記第２乾燥工程のそれぞれでは、各前記液状体を減圧乾燥法で乾燥させることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
前記第１乾燥工程及び前記第２乾燥工程は、減圧速度が互いに異なる工程であることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
基板上に設けられた第１発光層と、前記第１発光層上に設けられた第２発光層とを有し、平面視で前記第１発光層と前記第２発光層とが重なっている有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記第１発光層を形成する第１工程と、
前記第１工程の後に、前記第２発光層を形成する第２工程と、を有し、
前記第１工程には、前記基板上に前記第１発光層の材料を含む第１液状体を塗布法で配置する工程が含まれており、
前記第２工程には、平面視で前記第１発光層に重なる領域に前記第２発光層の材料を含む第２液状体を塗布法で配置する工程が含まれており、
前記第１液状体と前記第２液状体とは、互いに組成が異なることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記第１液状体と前記第２液状体とは、それぞれ有機物を含んでおり、
前記第１液状体に含まれる前記有機物と、前記第２液状体に含まれる前記有機物とは、互いに分子量が異なることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
前記第１液状体と前記第２液状体とは、それぞれ、液体と有機物とが混合した構成を有しており、
前記第１液状体に含まれる前記液体と、前記第２液状体に含まれる前記液体とは、互いに種類が異なることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
前記第１工程の後に、前記第２液状体に対して耐性を有する中間層を前記第１発光層上に形成する第３工程を有し、
前記第２工程では、前記第２発光層を前記中間層に重ねて形成することを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１０】
前記第１工程は、前記基板上に配置された前記第１液状体に、前記第２液状体に対する耐性を付与する工程を含んでおり、
前記第２工程では、前記第２発光層を前記第１発光層に重ねて形成することを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１１】
基板と、
前記基板上に設けられた第１発光層と、
前記第１発光層上に設けられた第２発光層と、を有し、
前記第２発光層は、平面視で前記第１発光層に重なっており、
前記第１発光層と前記第２発光層とは、それぞれにおける膜厚の薄い部分を互いに補完していることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項１２】
前記第１発光層と前記第２発光層とは、中間層を介して重なっていることを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項１３】
複数の画素が設定されており、
各前記画素に対応して、請求項１１又は１２に記載の有機ＥＬ素子を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、有機材料で構成された発光層が一対の電極間に介在し、一対の電極間に電圧を印加することによって発光層を発光させることができる有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子が知られている。そして、複数の有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ装置が、画像を表示する表示装置として利用されてきている。
このような有機ＥＬ装置では、発光層の形成材料を含む液状体を液滴吐出法で基板上に配置してから、液状体に乾燥処理を施すことによって、各有機ＥＬ素子の発光層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１１０１５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、有機ＥＬ素子において、液滴吐出法などの塗布法で形成した発光層では、断面の形状が、基板側に向かって凹となる凹状や、基板とは反対側に向かって凸となる凸状になることがある。断面の形状が凹状や凸状になっていると、発光層には、厚みが厚い部分と薄い部分とを有する膜厚分布が生じることがある。発光層に厚みが厚い部分と薄い部分とがあると、厚い部分と薄い部分との間で輝度に差異が生じやすい。
つまり、従来の有機ＥＬ素子では、輝度ムラを軽減することが困難であるという未解決の課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
【０００６】
［適用例１］基板上に設けられた第１発光層と、前記第１発光層上に設けられた第２発光層とを有し、平面視で前記第１発光層と前記第２発光層とが重なっている有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１発光層を形成する第１工程と、前記第１工程の後に前記第２発光層を形成する第２工程と、を有し、前記第１工程には、前記第１発光層の材料を含む液状体を、前記基板上に塗布法で配置する工程が含まれており、前記第２工程には、前記第２発光層の材料を含む液状体を、平面視で前記第１発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれており、前記第１工程及び前記第２工程のそれぞれは、互いに異なる工程を含んでいることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【０００７】
適用例１の製造方法にかかる有機ＥＬ素子は、第１発光層と、第２発光層とを有している。第１発光層は、基板上に設けられている。第２発光層は、第１発光層上に設けられている。第１発光層と第２発光層とは、平面視で重なっている。
この有機ＥＬ素子の製造方法は、第１発光層を形成する第１工程と、第１工程の後に第２発光層を形成する第２工程とを有している。第１工程には、第１発光層の材料を含む液状体を、基板上に塗布法で配置する工程が含まれている。第２工程には、第２発光層の材料を含む液状体を、平面視で第１発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれている。そして、第１工程及び第２工程のそれぞれは、互いに異なる工程を含んでいる。このため、第１発光層と第２発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第１発光層と第２発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第１発光層と第２発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機ＥＬ素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
【０００８】
［適用例２］上記の有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１工程は、前記液状体を配置する前記工程の後に前記液状体を乾燥させる第１乾燥工程を含んでおり、前記第２工程は、前記液状体を配置する前記工程の後に前記液状体を乾燥させる第２乾燥工程を含んでおり、前記第１乾燥工程及び前記第２乾燥工程は、乾燥条件が互いに異なる工程であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【０００９】
適用例２では、第１工程が第１乾燥工程を含み、第２工程が第２乾燥工程を含んでいる。第１乾燥工程では、第１発光層の材料を含む液状体を乾燥させる。第２乾燥工程では、第２発光層の材料を含む液状体を乾燥させる。そして、第１乾燥工程と第２乾燥工程とは、乾燥条件が互いに異なる工程である。
この製造方法では、第１乾燥工程の乾燥条件と第２乾燥工程の乾燥条件が互いに異なるので、第１発光層と第２発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第１発光層と第２発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第１発光層と第２発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機ＥＬ素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
【００１０】
［適用例３］上記の有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１乾燥工程及び前記第２乾燥工程は、乾燥速度が互いに異なる工程であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１１】
適用例３では、第１乾燥工程と第２乾燥工程とは、乾燥速度が互いに異なっている。この製造方法では、第１乾燥工程の乾燥速度と第２乾燥工程の乾燥速度が互いに異なるので、第１発光層と第２発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第１発光層と第２発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第１発光層と第２発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機ＥＬ素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
【００１２】
［適用例４］上記の有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１乾燥工程及び前記第２乾燥工程のそれぞれでは、各前記液状体を減圧乾燥法で乾燥させることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１３】
適用例４では、第１乾燥工程及び第２乾燥工程のそれぞれにおいて、各液状体を減圧乾燥法で乾燥させることができる。
【００１４】
［適用例５］上記の有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１乾燥工程及び前記第２乾燥工程は、減圧速度が互いに異なる工程であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１５】
適用例５では、第１乾燥工程と第２乾燥工程とは、減圧速度が互いに異なっている。これにより、第１乾燥工程の乾燥速度と第２乾燥工程の乾燥速度とを互いに異ならせやすくすることができる。
【００１６】
［適用例６］基板上に設けられた第１発光層と、前記第１発光層上に設けられた第２発光層とを有し、平面視で前記第１発光層と前記第２発光層とが重なっている有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１発光層を形成する第１工程と、前記第１工程の後に、前記第２発光層を形成する第２工程と、を有し、前記第１工程には、前記基板上に前記第１発光層の材料を含む第１液状体を塗布法で配置する工程が含まれており、前記第２工程には、平面視で前記第１発光層に重なる領域に前記第２発光層の材料を含む第２液状体を塗布法で配置する工程が含まれており、前記第１液状体と前記第２液状体とは、互いに組成が異なることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１７】
適用例６の製造方法にかかる有機ＥＬ素子は、第１発光層と、第２発光層とを有している。第１発光層は、基板上に設けられている。第２発光層は、第１発光層上に設けられている。第１発光層と第２発光層とは、平面視で重なっている。
この有機ＥＬ素子の製造方法は、第１発光層を形成する第１工程と、第１工程の後に第２発光層を形成する第２工程とを有している。第１工程には、第１発光層の材料を含む第１液状体を、基板上に塗布法で配置する工程が含まれている。第２工程には、第２発光層の材料を含む第２液状体を、平面視で第１発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれている。
そして、第１液状体と第２液状体とは、互いに組成が異なっている。このため、第１発光層と第２発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第１発光層と第２発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第１発光層と第２発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機ＥＬ素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
【００１８】
［適用例７］上記の有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１液状体と前記第２液状体とは、それぞれ有機物を含んでおり、前記第１液状体に含まれる前記有機物と、前記第２液状体に含まれる前記有機物とは、互いに分子量が異なることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１９】
適用例７では、第１液状体と第２液状体とは、それぞれ有機物を含んでいる。そして、第１液状体に含まれる有機物と、第２液状体に含まれる有機物とは、互いに分子量が異なっている。このため、第１発光層と第２発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第１発光層と第２発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第１発光層と第２発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機ＥＬ素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
【００２０】
［適用例８］上記の有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１液状体と前記第２液状体とは、それぞれ、液体と有機物とが混合した構成を有しており、前記第１液状体に含まれる前記液体と、前記第２液状体に含まれる前記液体とは、互いに種類が異なることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２１】
適用例８では、第１液状体と第２液状体とは、それぞれ、液体と有機物とが混合した構成を有している。そして、第１液状体に含まれる液体と、第２液状体に含まれる液体とは、互いに種類が異なっている。このため、第１発光層と第２発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第１発光層と第２発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第１発光層と第２発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機ＥＬ素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
【００２２】
［適用例９］上記の有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１工程の後に、前記第２液状体に対して耐性を有する中間層を前記第１発光層上に形成する第３工程を有し、前記第２工程では、前記第２発光層を前記中間層に重ねて形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２３】
適用例９の製造方法は、第１発光層上に中間層を形成する第３工程を有している。中間層は、第２液状体に対して耐性を有している。そして、第２工程では、第２発光層を中間層に重ねて形成する。このため、第１発光層を第２液状体から保護しつつ、第２発光層を形成することができる。
【００２４】
［適用例１０］上記の有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記第１工程は、前記基板上に配置された前記第１液状体に、前記第２液状体に対する耐性を付与する工程を含んでおり、前記第２工程では、前記第２発光層を前記第１発光層に重ねて形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２５】
適用例１０では、第１工程は、基板上に配置された第１液状体に、第２液状体に対する耐性を付与する工程を含んでいる。そして、第２工程では、第２発光層を第１発光層に重ねて形成する。このため、第１発光層を第２液状体から保護しつつ、第２発光層を形成することができる。
【００２６】
［適用例１１］基板と、前記基板上に設けられた第１発光層と、前記第１発光層上に設けられた第２発光層と、を有し、前記第２発光層は、平面視で前記第１発光層に重なっており、前記第１発光層と前記第２発光層とは、それぞれにおける膜厚の薄い部分を互いに補完していることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【００２７】
適用例１１の有機ＥＬ素子は、基板と、第１発光層と、第２発光層とを有している。第１発光層は、基板上に設けられている。第２発光層は、第１発光層上に設けられており、平面視で第１発光層に重なっている。そして、第１発光層と第２発光層とは、それぞれにおける膜厚の薄い部分を互いに補完している。このため、膜厚分布に起因する輝度ムラが第１発光層と第２発光層とで互いに補完されるので、有機ＥＬ素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
【００２８】
［適用例１２］上記の有機ＥＬ素子であって、前記第１発光層と前記第２発光層とは、中間層を介して重なっていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【００２９】
［適用例１３］複数の画素が設定されており、各前記画素に対応して、上記の有機ＥＬ素子を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【００３０】
適用例１３の有機ＥＬ装置は、複数の画素の各画素に対応して、有機ＥＬ素子を有している。このため、画素ごとに有機ＥＬ素子を駆動することにより、画像を表示させることができる。
また、各有機ＥＬ素子では、第１発光層と第２発光層とが、それぞれにおける膜厚の薄い部分を互いに補完している。このため、膜厚分布に起因する輝度ムラが第１発光層と第２発光層とで互いに補完されるので、有機ＥＬ素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。そして、この有機ＥＬ装置は、輝度ムラが軽減された有機ＥＬ素子を有しているので、画像の表示品位の向上が図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
実施形態について、有機ＥＬ装置を利用した表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示面３を有している。
【００３２】
ここで、表示装置１には、複数の画素５が設定されている。複数の画素５は、表示領域７内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。表示装置１は、複数の画素５から選択的に表示面３を介して表示装置１の外に光を射出することで、表示面３に画像を表示することができる。なお、表示領域７とは、画像が表示され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すため、画素５が誇張され、且つ画素５の個数が減じられている。
【００３３】
表示装置１は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、素子基板１１と、封止基板１３とを有している。
素子基板１１には、表示面３側すなわち封止基板１３側に、複数の画素５のそれぞれに対応して、後述する有機ＥＬ素子などが設けられている。
【００３４】
封止基板１３は、素子基板１１よりも表示面３側で素子基板１１に対向した状態で設けられている。素子基板１１と封止基板１３とは、接着剤１６を介して接合されている。表示装置１では、有機ＥＬ素子は、接着剤１６によって表示面３側から覆われている。
また、素子基板１１と封止基板１３との間は、表示装置１の周縁よりも内側で表示領域７を囲むシール材１７によって封止されている。つまり、表示装置１では、有機ＥＬ素子と接着剤１６とが、素子基板１１及び封止基板１３並びにシール材１７によって封止されている。
【００３５】
ここで、表示装置１における複数の画素５は、それぞれ、表示面３から射出する光の色が、図３に示すように、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭを構成する複数の画素５は、Ｒの光を射出する画素５ｒと、Ｇの光を射出する画素５ｇと、Ｂの光を射出する画素５ｂとを含んでいる。
なお、以下においては、画素５という表記と、画素５ｒ、５ｇ及び５ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００３６】
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
【００３７】
マトリクスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素５が、１つの画素列１８を構成している。また、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素５が、１つの画素行１９を構成している。１つの画素列１８内の各画素５は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素５ｒがＹ方向に配列した画素列１８ｒと、複数の画素５ｇがＹ方向に配列した画素列１８ｇと、複数の画素５ｂがＹ方向に配列した画素列１８ｂとを有している。そして、表示装置１では、画素列１８ｒ、画素列１８ｇ及び画素列１８ｂが、この順でＸ方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列１８という表記と、画素列１８ｒ、画素列１８ｇ及び画素列１８ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００３８】
表示装置１は、回路構成を示す図である図４に示すように、画素５ごとに、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子２１と、ＴＦＴ素子２３と、保持容量２５と、有機ＥＬ素子２７とを有している。各有機ＥＬ素子２７は、画素電極２９と、有機層３１と、共通電極３３とを有している。
また、表示装置１は、走査線駆動回路３４と、データ線駆動回路３５と、複数の走査線３６と、複数のデータ線３７と、複数の電源線３８とを有している。
【００３９】
複数の走査線３６は、それぞれ走査線駆動回路３４につながっており、Ｙ方向に互いに間隔をあけた状態でＸ方向に延びている。
複数のデータ線３７は、それぞれデータ線駆動回路３５につながっており、Ｘ方向に互いに間隔をあけた状態でＹ方向に延びている。
複数の電源線３８は、Ｘ方向に互いに間隔をあけた状態で、且つ各電源線３８と各データ線３７とがＸ方向に間隔をあけた状態でＹ方向に延びている。
【００４０】
各画素５は、各走査線３６と各データ線３７との交差に対応して設定されている。各走査線３６は、図３に示す各画素行１９に対応している。各データ線３７及び各電源線３８は、それぞれ、図３に示す各画素列１８に対応している。
図４に示す各ＴＦＴ素子２１のゲート電極は、対応する各走査線３６に電気的につながっている。各ＴＦＴ素子２１のソース電極は、対応する各データ線３７に電気的につながっている。ＴＦＴ素子２１のドレイン電極は、ＴＦＴ素子２３のゲート電極及び保持容量２５の一方の電極に電気的につながっている。
【００４１】
保持容量２５の他方の電極と、ＴＦＴ素子２３のソース電極は、それぞれ、対応する各電源線３８に電気的につながっている。
各ＴＦＴ素子２３のドレイン電極は、各画素電極２９に電気的につながっている。各画素電極２９と共通電極３３とは、画素電極２９を陽極とし、共通電極３３を陰極とする一対の電極を構成している。
ここで、共通電極３３は、マトリクスＭを構成する複数の画素５間にわたって一連した状態で設けられており、複数の画素５間にわたって共通して機能する。
各画素電極２９と共通電極３３との間に介在する有機層３１は、有機材料で構成されており、後述する発光層を含んだ構成を有している。
【００４２】
ＴＦＴ素子２１は、このＴＦＴ素子２１につながる走査線３６に走査信号が供給されるとＯＮ状態となる。このとき、このＴＦＴ素子２１につながるデータ線３７からデータ信号が供給され、ＴＦＴ素子２３がＯＮ状態になる。ＴＦＴ素子２３のゲート電位は、データ信号の電位が保持容量２５に一定の期間だけ保持されることによって、一定の期間だけ保持される。これにより、ＴＦＴ素子２３のＯＮ状態が一定の期間だけ保持される。
【００４３】
ＴＦＴ素子２３のＯＮ状態が保持されているときに、ＴＦＴ素子２３のゲート電位に応じた電流が、電源線３８から画素電極２９と有機層３１を経て共通電極３３に流れる。そして、有機層３１に含まれる発光層が、有機層３１を流れる電流量に応じた輝度で発光する。表示装置１は、有機層３１に含まれる発光層が発光し、発光層からの光が封止基板１３を介して表示面３から射出されるトップエミッション型の有機ＥＬ装置の１つである。なお、表示装置１では、表示面３側という表現が上側とも表現され、底面１５側という表現が下側とも表現される。
【００４４】
ここで、素子基板１１及び封止基板１３のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
素子基板１１は、図３中のＣ−Ｃ線における断面図である図５に示すように、第１基板４１を有している。なお、図５では、構成をわかりやすく示すため、ＴＦＴ素子２１及び保持容量２５並びにデータ線３７が省略されている。
第１基板４１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面３側に向けられた第１面４２ａと、底面１５側に向けられた第２面４２ｂとを有している。
【００４５】
第１基板４１の第１面４２ａには、ゲート絶縁膜４３が設けられている。ゲート絶縁膜４３の表示面３側には、絶縁膜４５が設けられている。絶縁膜４５の表示面３側には、絶縁膜４７が設けられている。
また、第１基板４１の第１面４２ａには、各画素５のＴＦＴ素子２３に対応して、半導体層５１が設けられている。半導体層５１は、ゲート絶縁膜４３によって表示面３側から覆われている。なお、ゲート絶縁膜４３の材料としては、例えば酸化シリコンなどの材料が採用され得る。
【００４６】
ゲート絶縁膜４３の表示面３側には、平面視で半導体層５１に重なる領域にゲート電極５３が設けられている。ゲート電極５３の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。ゲート電極５３は、絶縁膜４５によって表示面３側から覆われている。
【００４７】
絶縁膜４５の表示面３側には、平面視で半導体層５１のソース領域（図示せず）に重なる領域にソース電極５５が設けられている。ソース電極５５は、絶縁膜４５及びゲート絶縁膜４３に設けられたコンタクトホール５７を介して半導体層５１のソース領域（図示せず）につながっている。ソース電極５５の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。ソース電極５５は、絶縁膜４７によって表示面３側から覆われている。
【００４８】
絶縁膜４７の表示面３側には、画素電極２９が設けられている。画素電極２９は、絶縁膜４７、絶縁膜４５及びゲート絶縁膜４３に設けられたコンタクトホール５９を介して半導体層５１のドレイン領域（図示せず）につながっている。画素電極２９の材料としては、例えば、銀、白金、アルミニウム、銅などの光反射性を有する金属や、これらを含む合金などが採用され得る。
【００４９】
画素電極２９を陽極として機能させる場合には、銀、白金などの仕事関数が比較的高い材料を用いることが好ましい。また、画素電極２９としてＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やインジウム亜鉛酸化物（Indium Zinc Oxide）などを用い、光反射性を有する部材を画素電極２９と第１基板４１との間に設けた構成も採用され得る。
また、絶縁膜４５及び４７の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの材料が採用され得る。
【００５０】
隣り合う画素電極２９同士の間には、各画素５を区画する絶縁膜６１が領域６２にわたって設けられている。絶縁膜６１は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されており、平面視で格子状に設けられている。絶縁膜６１は、表示領域７にわたって設けられている。このため、表示領域７は、絶縁膜６１によって複数の画素５の領域に区画されている。なお、各画素電極２９は、絶縁膜６１によって囲まれた各画素５の領域に平面視で重なっている。
【００５１】
絶縁膜６１の表示面３側には、各画素５の領域を囲むバンク６３が設けられている。バンク６３は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有するアクリル系の樹脂やポリイミドなどの樹脂で構成されており、平面視で格子状に設けられている。
画素電極２９の表示面３側には、バンク６３に囲まれた領域内に、有機層３１が設けられている。ここで、表示装置１では、有機層３１は、第１有機層３１ａと、第２有機層３１ｂとを有している。
【００５２】
第１有機層３１ａは、各画素５に対応して設けられており、正孔注入層６５と、第１正孔輸送層６７と、第１発光層６９とを有している。
正孔注入層６５は、有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜６１によって囲まれた領域内で、画素電極２９の表示面３側に設けられている。
正孔注入層６５の有機材料としては、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等との混合物が採用され得る。正孔注入層６５の有機材料としては、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやこれらの誘導体なども採用され得る。
【００５３】
第１正孔輸送層６７は、有機材料で構成されており、平面視でバンク６３によって囲まれた領域内で、正孔注入層６５の表示面３側に設けられている。
第１正孔輸送層６７の有機材料としては、例えば、下記化合物１として示されるＴＦＢなどのトリフェニルアミン系ポリマーを含んだ構成が採用され得る。
【００５４】
【化１】
2009181932.tif 000003
【００５５】
第１発光層６９は、有機材料で構成されており、平面視でバンク６３によって囲まれた領域内で、第１正孔輸送層６７の表示面３側に設けられている。
Ｒの画素５ｒに対応する第１発光層６９の有機材料としては、例えば、下記化合物２として示されるＦ８（ポリジオクチルフルオレン）と、ペリレン染料とを混合したものが採用され得る。
【００５６】
【化２】
2009181932.tif 000004
【００５７】
Ｇの画素５ｇに対応する第１発光層６９の有機材料としては、例えば、下記化合物３として示されるＦ８ＢＴと、上記化合物１として示されるＴＦＢと、上記化合物２として示されるＦ８とを混合したものが採用され得る。
【００５８】
【化３】
2009181932.tif 000005
【００５９】
Ｂの画素５ｂに対応する第１発光層６９の有機材料としては、例えば、上記化合物２として示されるＦ８が採用され得る。
【００６０】
第１有機層３１ａの表示面３側には、図５に示すように、バンク６３に囲まれた領域内に、電子注入層７１が設けられている。電子注入層７１の材料としては、例えばカルシウムなどが採用され得る。
電子注入層７１の表示面３側には、バンク６３に囲まれた領域内に、電荷発生層７３が設けられている。電荷発生層７３の材料としては、例えば酸化バナジウムなどが採用され得る。
【００６１】
電荷発生層７３の表示面３側には、バンク６３に囲まれた領域内に、第２有機層３１ｂが設けられている。
第２有機層３１ｂは、各画素５に対応して設けられており、第２正孔輸送層７５と、第２発光層７７とを有している。
第２正孔輸送層７５は、有機材料で構成されており、平面視でバンク６３によって囲まれた領域内で、電荷発生層７３の表示面３側に設けられている。第２正孔輸送層７５の有機材料としては、例えば、上記化合物１として示されるＴＦＢなどが採用され得る。
【００６２】
第２発光層７７は、有機材料で構成されており、平面視でバンク６３によって囲まれた領域内で、第２正孔輸送層７５の表示面３側に設けられている。
Ｒの画素５ｒに対応する第２発光層７７の有機材料としては、例えば、上記化合物２として示されるＦ８と、ペリレン染料とを混合したものが採用され得る。
Ｇの画素５ｇに対応する第２発光層７７の有機材料としては、例えば、上記化合物１として示されるＴＦＢと、上記化合物２として示されるＦ８と、上記化合物３として示されるＦ８ＢＴとを混合したものが採用され得る。
Ｂの画素５ｂに対応する第２発光層７７の有機材料としては、例えば、上記化合物２として示されるＦ８が採用され得る。
【００６３】
第２発光層７７の表示面３側には、バンク６３に囲まれた領域内に、電子注入層７８が設けられている。電子注入層７８の材料としては、例えばカルシウムなどが採用され得る。
【００６４】
電子注入層７８の表示面３側には、共通電極３３が設けられている。共通電極３３は、例えば、ＩＴＯやインジウム亜鉛酸化物等の光透過性を有する材料や、マグネシウム銀等を薄膜化して光透過性を付与したものなどで構成され、電子注入層７８及びバンク６３を表示面３側から複数の画素５間にわたって覆っている。
なお、表示装置１では、各画素５において発光する領域は、平面視で画素電極２９と有機層３１と共通電極３３とが重なる領域であると定義され得る。また、画素５ごとに発光する領域を構成する要素の一群が１つの有機ＥＬ素子２７であると定義され得る。表示装置１では、１つの有機ＥＬ素子２７は、１つの画素電極２９と、１つの有機層３１と、１つの電子注入層７１と、１つの電荷発生層７３と、１つの電子注入層７８と、１つの画素５に対応する共通電極３３とを含んだ構成を有している。
【００６５】
封止基板１３は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面３側に向けられた外向面７９ａと、底面側に向けられた対向面７９ｂとを有している。
上記の構成を有する素子基板１１及び封止基板１３は、素子基板１１の共通電極３３と封止基板１３の対向面７９ｂとの間が、接着剤１６を介して接合されている。
【００６６】
表示装置１では、図２に示すシール材１７は、図５に示す第１基板４１の第１面４２ａと、封止基板１３の対向面７９ｂとによって挟持されている。つまり、表示装置１では、有機ＥＬ素子２７及び接着剤１６が、第１基板４１及び封止基板１３並びにシール材１７によって封止されている。なお、シール材１７は、対向面７９ｂ及び共通電極３３の間に設けられていてもよい。この場合、有機ＥＬ素子２７及び接着剤１６は、素子基板１１及び封止基板１３並びにシール材１７によって封止されているとみなされ得る。
【００６７】
ここで、表示装置１の製造方法について説明する。
表示装置１の製造方法は、素子基板１１を製造する工程と、表示装置１を組み立てる工程とに大別される。
素子基板１１を製造する工程では、図６（ａ）に示すように、まず、第１基板４１の第１面４２ａに駆動素子層８１を形成する。この駆動素子層８１には、前述したＴＦＴ素子２１、ＴＦＴ素子２３、保持容量２５、画素電極２９、ゲート絶縁膜４３、絶縁膜４５、絶縁膜４７などが含まれている。
【００６８】
次いで、図６（ｂ）に示すように、平面視で画素電極２９の周縁及び絶縁膜４７に重なる領域（図５に示す領域６２）に絶縁膜６１を形成する。
次いで、図６（ｃ）に示すように、平面視で絶縁膜６１に重なる領域にバンク６３を形成する。
次いで、画素電極２９をＯ2プラズマ処理などで活性化させてから、バンク６３の表面にＣＦ4プラズマ処理などで撥液性を付与する。
【００６９】
次いで、図７（ａ）に示すように、絶縁膜６１によって囲まれた各画素５の領域内に後述する液滴吐出ヘッド８３から、正孔注入層６５を構成する有機材料が含まれた液状体６５ａを液滴６５ｂとして吐出することで、各画素５の領域内に液状体６５ａを配置する。
なお、液滴吐出ヘッド８３から液状体６５ａなどを液滴として吐出する技術は、インクジェット技術と呼ばれる。そして、インクジェット技術を活用して液状体６５ａなどを所定の位置に配置する方法は、インクジェット法と呼ばれる。このインクジェット法は、塗布法の１つである。
【００７０】
ここで、液滴吐出ヘッド８３の構成について説明する。
液滴吐出ヘッド８３は、斜視図である図８に示すように、ノズルプレート８５と、振動板８７と、複数の圧電素子８９と、複数の隔壁部９１とを有している。ノズルプレート８５には、液状体を液滴９３として吐出する複数個のノズル９５が、図中Ｘ'方向に沿って所定間隔で形成されている。また、振動板８７には、図示しない外部タンクから供給される液状体の受け口となる孔９７が形成されている。
【００７１】
複数の隔壁部９１は、Ｘ'方向に沿って所定間隔で並び、ノズルプレート８５と振動板８７とに挟まれている。また、ノズルプレート８５と振動板８７との間には、孔９７に連通し、孔９７を介して液状体が充填される液たまり９９が形成されている。そして、Ｘ'方向に隣り合う隔壁部９１同士間には、供給路１０１を介して液たまり９９に連通するキャビティ１０３が形成されている。なお、各ノズル９５は、各キャビティ１０３に連通している。
上記の構成を有する液滴吐出ヘッド８３は、圧電素子８９が駆動されると、キャビティ１０３内の液状体を、各ノズル９５から液滴９３として吐出する。
【００７２】
各画素５の領域内に配置された液状体６５ａを減圧乾燥法で乾燥させてから焼成を行うことによって、図７（ｂ）に示す正孔注入層６５が形成され得る。なお、正孔注入層６５を構成する有機材料が含まれた液状体６５ａは、ＰＥＤＯＴとＰＳＳとの混合物を、溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノールなどが採用され得る。なお、減圧乾燥法は、減圧環境下で行う乾燥方法であり、真空乾燥法とも呼ばれる。また、液状体６５ａの焼成条件は、環境温度が約２００℃で、保持時間が約１０分間である。
【００７３】
次いで、図７（ｂ）に示すように、バンク６３によって囲まれた領域内に液滴吐出ヘッド８３から、第１正孔輸送層６７を構成する有機材料が含まれた液状体６７ａを液滴６７ｂとして吐出することで、バンク６３によって囲まれた領域内に液状体６７ａを配置する。このとき、正孔注入層６５は、液状体６７ａによって覆われる。なお、液状体６７ａは、ＴＦＢを溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。
【００７４】
次いで、液状体６７ａを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図７（ｃ）に示す第１正孔輸送層６７が形成され得る。なお、液状体６７ａの焼成条件は、環境温度が約１３０℃で、保持時間が約１時間である。
【００７５】
次いで、図７（ｃ）に示すように、バンク６３によって囲まれた各領域内に、第１発光層６９を構成する有機材料が含まれた液状体６９ａを配置する。液状体６９ａは、液滴吐出ヘッド８３から液状体６９ａを液滴６９ｂとして吐出することによって配置される。このとき、第１正孔輸送層６７は、液状体６９ａによって覆われる。なお、液状体６９ａは、画素５ｒ、５ｇ及び５ｂのそれぞれに対応する前述した有機材料を溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。
【００７６】
次いで、液状体６９ａを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図５に示す第１発光層６９が形成され得る。液状体６９ａの焼成条件は、環境温度が約１３０℃で、保持時間が約１時間である。
【００７７】
次いで、蒸着技術などを活用してカルシウム等の膜を、バンク６３に囲まれた領域内に形成することにより、図９（ａ）に示す電子注入層７１が形成され得る。
次いで、蒸着技術などを活用して酸化バナジウム等の膜を、バンク６３に囲まれた領域内に形成することにより、図９（ａ）に示す電荷発生層７３が形成され得る。
なお、電子注入層７１及び電荷発生層７３は、それぞれ、バンク６３をマスクで表示面３側から覆った状態で形成され得る。
【００７８】
次いで、図９（ａ）に示すように、バンク６３によって囲まれた領域内に液滴吐出ヘッド８３から、第２正孔輸送層７５を構成する有機材料が含まれた液状体７５ａを液滴７５ｂとして吐出することで、バンク６３によって囲まれた領域内に液状体７５ａを配置する。このとき、電荷発生層７３は、液状体７５ａによって覆われる。なお、液状体７５ａは、ＴＦＢを溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。
【００７９】
次いで、液状体７５ａを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図９（ｂ）に示す第２正孔輸送層７５が形成され得る。液状体７５ａの焼成条件は、環境温度が約１３０℃で、保持時間が約１時間である。
【００８０】
次いで、図９（ｂ）に示すように、バンク６３によって囲まれた各領域内に、第２発光層７７を構成する有機材料が含まれた液状体７７ａを配置する。液状体７７ａは、液滴吐出ヘッド８３から液状体７７ａを液滴７７ｂとして吐出することによって配置される。このとき、第２正孔輸送層７５は、液状体７７ａによって覆われる。なお、液状体７７ａは、画素５ｒ、５ｇ及び５ｂのそれぞれに対応する前述した有機材料を溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。
【００８１】
次いで、液状体７７ａを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図５に示す第２発光層７７が形成され得る。液状体７７ａの焼成条件は、環境温度が約１３０℃で、保持時間が約１時間である。
【００８２】
次いで、蒸着技術などを活用してカルシウム等の膜を、バンク６３に囲まれた領域内に形成することにより、図５に示す電子注入層７８が形成され得る。このとき、電子注入層７８は、バンク６３をマスクで表示面３側から覆った状態で形成され得る。
次いで、スパッタリング技術などを活用してＩＴＯ等の膜を形成してから、この膜をフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用してパターニングすることにより、図５に示す共通電極３３が形成され得る。これにより、素子基板１１が製造され得る。
【００８３】
表示装置１を組み立てる工程では、図２に示すように、素子基板１１及び封止基板１３を、接着剤１６及びシール材１７を介して接合する。
このとき、素子基板１１及び封止基板１３は、図５に示すように、第１基板４１の第１面４２ａと、封止基板１３の対向面７９ｂとが向き合った状態で接合される。これにより、表示装置１が製造され得る。
【００８４】
ここで、表示装置１では、各有機ＥＬ素子２７において、図５中のＤ部の拡大図である図１０に示すように、第１発光層６９と第２発光層７７とで膜厚分布の傾向が異なっている。第１発光層６９は、表示面３側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有している。これに対し、第２発光層７７は、表示面３側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有している。第１発光層６９及び第２発光層７７は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。
【００８５】
ところで、第１発光層６９や第２発光層７７に膜厚分布があると、第１発光層６９や第２発光層７７には膜厚分布に応じて輝度の分布が生じやすくなる。そして、輝度の分布は、輝度ムラとして表れる。
これに対し、表示装置１では、第１発光層６９及び第２発光層７７が互いに膜厚の薄い部分を補完し合っているので、第１発光層６９及び第２発光層７７は、互いに輝度の分布を補完し合う。これにより、画素５における発光の領域内で、輝度が均一になりやすい。
【００８６】
なお、表示装置１では、第１発光層６９が表示面３側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有し、第２発光層７７が表示面３側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有している例を示したが、それぞれの膜厚分布の傾向はこれに限定されない。それぞれの膜厚分布は、図１１に示すように、第１発光層６９が底面１５側に向かって凹となる傾向を有し、第２発光層７７が底面１５側に向かって凸となる傾向を有していてもよい。
【００８７】
第１発光層６９の膜厚分布の傾向と、第２発光層７７の膜厚分布の傾向とを異ならせることは、第１発光層６９の形成条件と第２発光層７７の形成条件とを異ならせることによって実現され得る。これにより、有機ＥＬ素子２７における輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
【００８８】
表示装置１において、第１基板４１が基板に対応し、液状体６９ａが第１液状体に対応し、液状体７７ａが第２液状体に対応し、溶媒が液体に対応している。
【００８９】
表示装置１では、第１発光層６９の膜厚分布の傾向と、第２発光層７７の膜厚分布の傾向とが異なっている。第１発光層６９及び第２発光層７７は、互いに膜厚の薄い部分を補完し合っている。このため、第１発光層６９及び第２発光層７７は、互いに輝度の分布を補完し合う。この結果、有機ＥＬ素子２７における輝度ムラの軽減が図られる。
【００９０】
なお、表示装置１では、有機層３１からの光を封止基板１３を介して表示面３から射出するトップエミッション型の有機ＥＬ装置を例に説明したが、有機ＥＬ装置はこれに限定されない。有機ＥＬ装置は、有機層３１からの光を素子基板１１を介して底面１５から射出するボトムエミッション型も採用され得る。
ボトムエミッション型の場合、有機層３１からの光が底面１５から射出されるので、底面１５側に表示面３が設定される。つまり、ボトムエミッション型では、表示装置１の底面１５と表示面３とが入れ替わる。そして、ボトムエミッション型では、底面１５側が上側に対応し、表示面３側が下側に対応する。
【００９１】
また、表示装置１では、各有機ＥＬ素子２７が、図５に示すように、第１有機層３１ａと第２有機層３１ｂとの間に、電子注入層７１及び電荷発生層７３が介在した構成を有しているが、有機ＥＬ素子２７の構成はこれに限定されない。
有機ＥＬ素子２７の構成としては、電子注入層７１及び電荷発生層７３が省略された構成も採用され得る。
電子注入層７１及び電荷発生層７３が省略された有機ＥＬ素子２７ａは、図１２に示すように、第１発光層６９と第２発光層７７とが中間層１１１を介して重なった構成が採用され得る。
【００９２】
有機ＥＬ素子２７ａを有する表示装置１０は、有機ＥＬ素子２７ａを除いては表示装置１と同様の構成を有している。このため、表示装置１０において表示装置１と同様の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００９３】
中間層１１１は、第２発光層７７を構成する有機材料が含まれた液状体７７ａ中の溶媒が第１発光層６９側に移行するのを妨げるためのもので、紫外線硬化型の液晶や、紫外線硬化樹脂、熱硬化型の樹脂等によって形成され得る。つまり、中間層１１１は、液状体７７ａ中の溶媒に対する耐性を有している。これにより、第１発光層６９を液状体７７ａから保護することができる。
【００９４】
紫外線硬化型の液晶としては、例えば、重合性を有する棒状液晶を含有する重合性液晶組成物が採用され得る。
紫外線硬化型樹脂としては、例えば、マレイミド骨格を持つ紫外線硬化型樹脂を主成分とし、かつ、可溶性ポリイミド樹脂を含有してなる紫外線硬化型樹脂組成物が採用され得る。
熱硬化型樹脂としては、例えば、ポリシロキサン樹脂が採用され得る。
【００９５】
表示装置１０においても、第１発光層６９の膜厚分布の傾向と、第２発光層７７の膜厚分布の傾向とが、図１２中のＥ部の拡大図である図１３に示すように、異なっている。第１発光層６９及び第２発光層７７は、互いに膜厚の薄い部分を補完し合っている。このため、第１発光層６９及び第２発光層７７は、互いに輝度の分布を補完し合う。この結果、有機ＥＬ素子２７ａにおける輝度ムラの軽減が図られる。
さらに、表示装置１０では、表示装置１における電子注入層７１、電荷発生層７３及び第２正孔輸送層７５が省略されているので、薄型化が図られる。
【００９６】
なお、表示装置１０では、各有機ＥＬ素子２７ａが、第１発光層６９と第２発光層７７との間に中間層１１１が介在した構成を有しているが、有機ＥＬ素子２７ａの構成はこれに限定されない。
有機ＥＬ素子２７ａの構成としては、中間層１１１が省略された構成も採用され得る。
中間層１１１が省略された有機ＥＬ素子２７ｂは、図１４に示すように、第１発光層６９と第２発光層７７とが重なっている。
【００９７】
有機ＥＬ素子２７ｂを有する表示装置１００は、有機ＥＬ素子２７ｂを除いては表示装置１や表示装置１０と同様の構成を有している。このため、表示装置１００において表示装置１や表示装置１０と同様の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００９８】
表示装置１００での第１発光層６９の形成においては、第１発光層６９の構成する有機材料が含まれた液状体６９ａに、有機材料を化学的に架橋する架橋剤と、光重合開始剤とが含まれている。そして、第１正孔輸送層６７上に配置された液状体６９ａに紫外線を照射することによって、液状体６９ａが化学的に架橋されている。液状体６９ａが化学的に架橋された状態で形成された第１発光層６９は、液状体７７ａ中の溶媒に対する耐性が付与されている。これにより、第１発光層６９を液状体７７ａから保護することができる。
【００９９】
なお、架橋剤としては、例えば、１，４−ブタンジオールジメタクリレートや、トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが採用され得る。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエチルエーテルなどが採用され得る。
【０１００】
表示装置１００においても、第１発光層６９の膜厚分布の傾向と、第２発光層７７の膜厚分布の傾向とが、図１４中のＦ部の拡大図である図１５に示すように、異なっている。第１発光層６９及び第２発光層７７は、互いに膜厚の薄い部分を補完し合っている。このため、第１発光層６９及び第２発光層７７は、互いに輝度の分布を補完し合う。この結果、有機ＥＬ素子２７ｂにおける輝度ムラの軽減が図られる。
さらに、表示装置１００では、表示装置１０における中間層１１１が省略されているので、一層の薄型化が図られる。
【０１０１】
ここで、第１発光層６９の膜厚分布の傾向と、第２発光層７７の膜厚分布の傾向とを異ならせる実施例について説明する。
（実施例１）
第１発光層６９を形成する液状体６９ａの乾燥速度と、第２発光層７７を形成する液状体７７ａの乾燥速度とを異ならせて有機ＥＬ素子２７を形成した。
この実施例１における第１発光層６９及び第２発光層７７のそれぞれの形成条件を、下記表１に示す。
【０１０２】
【表１】
2009181932.tif 000006
【０１０３】
まず、液状体６９ａや液状体７７ａとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ５００ｋ（５００×１０3）とした。また、それぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。
【０１０４】
次いで、液状体６９ａをインクジェット法で第１正孔輸送層６７上に配置した。
次いで、液状体６９ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体６９ａに窒素ガス中で焼成を施して、第１発光層６９を形成した。
次いで、第１発光層６９上に、電子注入層７１、電荷発生層７３及び第２正孔輸送層７５をこの順に形成した。
【０１０５】
次いで、液状体７７ａをインクジェット法で第２正孔輸送層７５上に配置した。
次いで、液状体７７ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体７７ａに窒素ガス中で焼成を施して、第２発光層７７を形成した。
次いで、第２発光層７７上に、電子注入層７８及び共通電極３３をこの順に形成した。
【０１０６】
実施例１では、減圧乾燥において、液状体６９ａに対する減圧速度を液状体７７ａに対する減圧速度よりも速くすることによって、液状体６９ａの乾燥速度が液状体７７ａの乾燥速度よりも速く設定されている。
実施例１における有機ＥＬ素子２７を観察した結果、第１発光層６９と第２発光層７７とは、図１０に示すように、膜厚分布の傾向が異なっていた。
【０１０７】
第１発光層６９は、表示面３側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。これに対し、第２発光層７７は、表示面３側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例１では、第１発光層６９及び第２発光層７７は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。
【０１０８】
（実施例２）
液状体６９ａの溶媒の種類と、液状体７７ａの溶媒の種類とを異ならせることによって、液状体６９ａの組成と、液状体７７ａの組成とを異ならせた。これにより、有機ＥＬ素子２７を形成した。
この実施例２における第１発光層６９及び第２発光層７７のそれぞれの形成条件を、下記表２に示す。
【０１０９】
【表２】
2009181932.tif 000007
【０１１０】
まず、液状体６９ａや液状体７７ａとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ５００ｋ（５００×１０3）とした。また、液状体６９ａの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用し、液状体７７ａの溶媒としてイソプロピルビフェニルを採用した。
【０１１１】
次いで、液状体６９ａをインクジェット法で第１正孔輸送層６７上に配置した。
次いで、液状体６９ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体６９ａに窒素ガス中で焼成を施して、第１発光層６９を形成した。
次いで、第１発光層６９上に、電子注入層７１、電荷発生層７３及び第２正孔輸送層７５をこの順に形成した。
【０１１２】
次いで、液状体７７ａをインクジェット法で第２正孔輸送層７５上に配置した。
次いで、液状体７７ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体７７ａに窒素ガス中で焼成を施して、第２発光層７７を形成した。
次いで、第２発光層７７上に、電子注入層７８及び共通電極３３をこの順に形成した。
【０１１３】
実施例２における有機ＥＬ素子２７を観察した結果、第１発光層６９と第２発光層７７とは、図１１に示すように、膜厚分布の傾向が異なっていた。
第１発光層６９は、底面１５側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。これに対し、第２発光層７７は、底面１５側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例２では、第１発光層６９及び第２発光層７７は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。
【０１１４】
（実施例３）
液状体６９ａの有機材料の分子量と、液状体７７ａの有機材料の分子量とを異ならせることによって、液状体６９ａの組成と、液状体７７ａの組成とを異ならせた。これにより、有機ＥＬ素子２７を形成した。
この実施例３における第１発光層６９及び第２発光層７７のそれぞれの形成条件を、下記表３に示す。
【０１１５】
【表３】
2009181932.tif 000008
【０１１６】
まず、液状体６９ａや液状体７７ａとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、液状体６９ａの有機材料の分子量を５００ｋとし、液状体７７ａの有機材料の分子量を５０ｋ（５０×１０3）とした。また、液状体６９ａ及び液状体７７ａのそれぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。
【０１１７】
次いで、液状体６９ａをインクジェット法で第１正孔輸送層６７上に配置した。
次いで、液状体６９ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体６９ａに窒素ガス中で焼成を施して、第１発光層６９を形成した。
次いで、第１発光層６９上に、電子注入層７１、電荷発生層７３及び第２正孔輸送層７５をこの順に形成した。
【０１１８】
次いで、液状体７７ａをインクジェット法で第２正孔輸送層７５上に配置した。
次いで、液状体７７ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体７７ａに窒素ガス中で焼成を施して、第２発光層７７を形成した。
次いで、第２発光層７７上に、電子注入層７８及び共通電極３３をこの順に形成した。
【０１１９】
実施例３における有機ＥＬ素子２７を観察した結果、第１発光層６９と第２発光層７７とは、膜厚分布の傾向が異なっていた。実施例３における第１発光層６９と第２発光層７７とは、膜厚分布の傾向が実施例２と同様であった。
つまり、実施例３における第１発光層６９は、図１１に示すように、底面１５側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。同様に、実施例３における第２発光層７７は、底面１５側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例３では、第１発光層６９及び第２発光層７７は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。
【０１２０】
（実施例４）
第１発光層６９を形成する液状体６９ａの乾燥速度と、第２発光層７７を形成する液状体７７ａの乾燥速度とを異ならせて有機ＥＬ素子２７ａを形成した。
この実施例４における第１発光層６９及び第２発光層７７のそれぞれの形成条件を、下記表４に示す。
【０１２１】
【表４】
2009181932.tif 000009
【０１２２】
まず、液状体６９ａや液状体７７ａとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ５００ｋ（５００×１０3）とした。また、それぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。
【０１２３】
次いで、液状体６９ａをインクジェット法で第１正孔輸送層６７上に配置した。
次いで、液状体６９ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体６９ａに窒素ガス中で焼成を施して、第１発光層６９を形成した。
次いで、第１発光層６９上に、中間層１１１を形成した。なお、中間層１１１の材料として熱硬化型樹脂であるポリシロキサン樹脂を採用し、溶媒としてジプロピルケトンとメチルシクロヘキサノンとを混合したものを採用した。
【０１２４】
次いで、液状体７７ａをインクジェット法で中間層１１１上に配置した。
次いで、液状体７７ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体７７ａに窒素ガス中で焼成を施して、第２発光層７７を形成した。
次いで、第２発光層７７上に、電子注入層７８及び共通電極３３をこの順に形成した。
【０１２５】
実施例４では、減圧乾燥において、液状体６９ａに対する減圧速度を液状体７７ａに対する減圧速度よりも速くすることによって、液状体６９ａの乾燥速度が液状体７７ａの乾燥速度よりも速く設定されている。
実施例４における有機ＥＬ素子２７ａを観察した結果、第１発光層６９と第２発光層７７とは、図１３に示すように、膜厚分布の傾向が異なっていた。
【０１２６】
第１発光層６９は、表示面３側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。これに対し、第２発光層７７は、表示面３側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例４では、第１発光層６９及び第２発光層７７は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。
【０１２７】
（実施例５）
第１発光層６９を形成する液状体６９ａの乾燥速度と、第２発光層７７を形成する液状体７７ａの乾燥速度とを異ならせて有機ＥＬ素子２７ｂを形成した。
この実施例５における第１発光層６９及び第２発光層７７のそれぞれの形成条件を、下記表５に示す。
【０１２８】
【表５】
2009181932.tif 000010
【０１２９】
まず、液状体６９ａや液状体７７ａとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ５００ｋ（５００×１０3）とした。また、それぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。
【０１３０】
次いで、架橋剤と光重合開始剤とを含む液状体６９ａをインクジェット法で第１正孔輸送層６７上に配置した。
次いで、液状体６９ａに紫外線を照射して、液状体６９ａを化学的に架橋させた。
次いで、液状体６９ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体６９ａに窒素ガス中で焼成を施して、第１発光層６９を形成した。
【０１３１】
次いで、液状体７７ａをインクジェット法で第１発光層６９上に配置した。
次いで、液状体７７ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体７７ａに窒素ガス中で焼成を施して、第２発光層７７を形成した。
次いで、第２発光層７７上に、電子注入層７８及び共通電極３３をこの順に形成した。
【０１３２】
実施例５では、減圧乾燥において、液状体６９ａに対する減圧速度を液状体７７ａに対する減圧速度よりも速くすることによって、液状体６９ａの乾燥速度が液状体７７ａの乾燥速度よりも速く設定されている。
実施例５における有機ＥＬ素子２７ｂを観察した結果、第１発光層６９と第２発光層７７とは、図１５に示すように、膜厚分布の傾向が異なっていた。
【０１３３】
第１発光層６９は、表示面３側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。これに対し、第２発光層７７は、表示面３側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例５では、第１発光層６９及び第２発光層７７は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。
【０１３４】
（比較例）
第１発光層６９の形成条件と、第２発光層７７の形成条件とを同様にした。
この比較例における第１発光層６９及び第２発光層７７のそれぞれの形成条件を、下記表６に示す。
【０１３５】
【表６】
2009181932.tif 000011
【０１３６】
まず、液状体６９ａや液状体７７ａとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ５００ｋ（５００×１０3）とした。また、液状体６９ａ及び液状体７７ａのそれぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。
【０１３７】
次いで、液状体６９ａをインクジェット法で第１正孔輸送層６７上に配置した。
次いで、液状体６９ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体６９ａに窒素ガス中で焼成を施して、第１発光層６９を形成した。
次いで、第１発光層６９上に、電子注入層７１、電荷発生層７３及び第２正孔輸送層７５をこの順に形成した。
【０１３８】
次いで、液状体７７ａをインクジェット法で第２正孔輸送層７５上に配置した。
次いで、液状体７７ａを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約１０分間で１００Ｐａまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体７７ａに窒素ガス中で焼成を施して、第２発光層７７を形成した。
次いで、第２発光層７７上に、電子注入層７８及び共通電極３３をこの順に形成した。
【０１３９】
比較例における有機ＥＬ素子２７を観察した結果、第１発光層６９と第２発光層７７とは、図１６に示すように、膜厚分布の傾向が同様であった。
第１発光層６９は、底面１５側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。また、第２発光層７７も、底面１５側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。比較例では、第１発光層６９及び第２発光層７７は、それぞれの膜厚の厚い部分を互いに助長し合っている。
【０１４０】
実施例１〜３及び比較例における各有機ＥＬ素子２７、実施例４の有機ＥＬ素子２７ａ、並びに実施例５の有機ＥＬ素子２７ｂの発光状態を観察した。その結果、実施例１〜３の有機ＥＬ素子２７、実施例４の有機ＥＬ素子２７ａ、並びに実施例５の有機ＥＬ素子２７ｂのいずれにおいても、比較例よりも輝度ムラが軽減していることが確認された。
【０１４１】
なお、本実施形態では、複数の画素５が設定され、画素５ごとに有機ＥＬ素子２７や有機ＥＬ素子２７ａや有機ＥＬ素子２７ｂを有する表示装置１や表示装置１０や表示装置１００を例に説明したが、実施の形態はこれに限定されない。実施の形態としては、有機ＥＬ素子２７や有機ＥＬ素子２７ａや有機ＥＬ素子２７ｂを表示領域７にわたって一連した状態で設けた照明装置などの形態もある。このような照明装置は、例えば液晶表示装置などの光源に好適である。
【０１４２】
また、表示装置１や表示装置１０や表示装置１００において、マトリクスＭを構成する複数の画素５のそれぞれに液状体６９ａや液状体７７ａを配置するときに、第１基板４１と液滴吐出ヘッド８３との相対移動の方向を複数の方向にわけて配置することが好ましい。これは、液滴吐出ヘッド８３における複数個のノズル９５間の吐出バラツキの影響を分散させることができるためである。
【０１４３】
例えば、まず、液滴吐出ヘッド８３のＸ'方向と、マトリクスＭのＸ方向とを合わせる。そして、第１基板４１と液滴吐出ヘッド８３とをＹ方向に相対移動させながら、複数の画素５のそれぞれに各ノズル９５から液滴６９ｂや液滴７７ｂを吐出させる。
次いで、液滴吐出ヘッド８３のＸ'方向と、マトリクスＭのＹ方向とを合わせる。そして、第１基板４１と液滴吐出ヘッド８３とをＸ方向に相対移動させながら、複数の画素５のそれぞれに各ノズル９５から液滴６９ｂや液滴７７ｂを吐出させる。
【０１４４】
各画素５に液状体６９ａや液状体７７ａを配置するときに、第１基板４１と液滴吐出ヘッド８３との相対移動の方向を複数の方向にわけて配置すれば、１つの画素列１８又は１つの画素行１９が１つのノズル９５に対応することを避けることができる。これにより、画素列１８同士間、又は画素行１９同士間で、第１発光層６９や第２発光層７７の膜厚のバラツキを軽減することができる。この結果、画素列１８同士間、又は画素行１９同士間での輝度ムラを軽減することができ、表示装置１や表示装置１０や表示装置１００における画像の表示品位の向上が図られる。
【０１４５】
上述した表示装置１、表示装置１０及び表示装置１００は、それぞれ例えば、図１７に示す電子機器５００の表示部５１０に適用され得る。この電子機器５００は、携帯電話機である。この電子機器５００は、操作ボタン５１１を有している。表示部５１０は、操作ボタン５１１で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器５００では、表示部５１０に表示装置１、表示装置１０又は表示装置１００が適用されているので、各画素５における輝度ムラが低く抑えられる。
【０１４６】
なお、電子機器５００としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器などの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【０１４７】
【図１】本発明の実施形態における表示装置を示す平面図。
【図２】図１中のＡ−Ａ線における断面図。
【図３】本実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。
【図４】実施形態における表示装置の回路構成を示す図。
【図５】図３中のＣ−Ｃ線における断面図。
【図６】本実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。
【図７】本実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。
【図８】本実施形態での素子基板の製造工程に適用され得る液滴吐出ヘッドの主要構成を示す斜視図。
【図９】本実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。
【図１０】図５中のＤ部の拡大図。
【図１１】本実施形態での第１発光層と第２発光層とにおける膜厚分布の他の傾向例を示す断面図表示領域における温度分布の一例を示す図。
【図１２】本実施形態における表示装置の他の構成例を示す断面図。
【図１３】図１２中のＥ部の拡大図。
【図１４】本実施形態における表示装置のさらに他の構成例を示す断面図。
【図１５】図１４中のＦ部の拡大図。
【図１６】本実施形態での比較例における有機ＥＬ素子を示す断面図。
【図１７】本実施形態における表示装置を適用した電子機器の斜視図。
【符号の説明】
【０１４８】
１，１０，１００…表示装置、３…表示面、５…画素、７…表示領域、１１…素子基板、１３…封止基板、１５…底面、２７，２７ａ，２７ｂ…有機ＥＬ素子、２９…画素電極、３１…有機層、３１ａ…第１有機層、３１ｂ…第２有機層、３３…共通電極、６５…正孔注入層、６７…第１正孔輸送層、６９…第１発光層、６９ａ…液状体、７５…第２正孔輸送層、７７…第２発光層、７７ａ…液状体、８３…液滴吐出ヘッド、１１１…中間層、５００…電子機器、５１０…表示部。
【図１】
2009181932.tif 000012
【図２】
2009181932.tif 000013
【図３】
2009181932.tif 000014
【図４】
2009181932.tif 000015
【図５】
2009181932.tif 000016
【図６】
2009181932.tif 000017
【図７】
2009181932.tif 000018
【図８】
2009181932.tif 000019
【図９】
2009181932.tif 000020
【図１０】
2009181932.tif 000021
【図１１】
2009181932.tif 000022
【図１２】
2009181932.tif 000023
【図１３】
2009181932.tif 000024
【図１４】
2009181932.tif 000025
【図１５】
2009181932.tif 000026
【図１６】
2009181932.tif 000027
【図１７】
2009181932.tif 000028