(57)【要約】      （修正有）【課題】ダイから支持体上に塗布液を塗布した位置の２次側に発生する空気の振動に起因する塗布ムラの発生を防止し、製品不良の発生を減少させることのできる塗布装置を提供する。【解決手段】連続走行する長尺状支持体１２の表面に向かってスロットダイ１８から塗布液を吐出して、長尺状支持体１２上に塗布液を塗布して塗布膜を形成させる塗布装置において、塗布位置の２次側には、空気振動を減衰させる振動減衰部材５４が塗布膜に面するように設けられていることを特徴とする塗布装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続走行する長尺状支持体の表面に向かってスロットダイから塗布液を吐出して、前記長尺状支持体上に塗布液を塗布して塗布膜を形成させる塗布装置において、
塗布位置の２次側には、空気振動を減衰させる振動減衰部材が前記塗布膜に面するように設けられていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記振動減衰部材は、前記スロットダイの表面で、且つ、前記塗布膜に面する表面に配置されることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記振動減衰部材は、前記塗布位置の２次側に配置された塗布直後設備に設けられていることを特徴とする請求項１又は２のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布直後設備は、ケーシングを有する乾燥装置であり、前記振動減衰部材は、前記ケーシングの内面で、且つ、前記塗布面に対向する内面に配置されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記振動減衰部材は、１０００Ｈｚ未満の空気振動に対しての吸音率が１０％以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記スロットダイと前記長尺状支持体との間のクリアランスをＤとし、前記長尺状支持体上に形成された塗布膜の厚さをｔとしたとき、ｔ／Ｄが０．３未満であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布膜を作成する塗布装置に係り、特に、連続的に走行する帯状支持体に対してスロットダイから塗布液を吐出して、該帯状支持体上に塗布膜を作成する塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、搬送される支持体上に塗布液を塗布して塗布膜を形成するにあたっては、ダイの先端部に備えられた幅広のスリット（吐出口）から、連続搬送される支持体表面に向けて連続的に押し出された塗布液を、支持体表面に均一な厚さで塗布していた（特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、塗布液の供給方法として、ポンプやピストン等の供給装置を用いると、少なからず塗布液中に脈動が生じ、塗布ムラの発生の原因となってしまうことがわかっている。
【０００４】
このような問題点に対しては、除振装置（脈動除去装置）を設けることによって、塗布ムラを解消する塗布装置が提案されている（特許文献２参照）。
【０００５】
また、前記供給装置を用いることから生じる塗布液中の脈動を抑制すべく、塗布液タンクからダイまでの区間に前記供給装置を用いることなく、塗布液タンク中の塗布液の液面を制御しながらダイに塗布液を供給する塗布方法が提案されている（特許文献３参照）。
【０００６】
さらに、生産性向上のための塗布速度の上昇とともに、支持体表面に同伴する空気の量及び速度が増加し、いわゆる空気同伴と呼ばれる現象が見られるようになってきたことから、支持体の走行によって生じる同伴空気を支持体の幅方向に渡って遮断する同伴空気除去部材を備えた塗布装置が提案されている（特許文献４参照）。
【０００７】
そして、この他にも、ダイと支持体との間に形成される塗布液のビードを安定化させるために、ビードの両サイドにエアーカーテンを設けて支持体全面にわたって塗布ムラが生じない塗布方法又は塗布装置が提案されている（特許文献５参照）。
【０００８】
このように従来は、送液による振動、減圧による振動、エア同伴による振動を抑制することによって塗布ムラを防止している。
【特許文献１】特開２００２−８６０４１号公報
【特許文献２】特開平５−３１４３４号公報
【特許文献３】特開２００４−３５１２９１号公報
【特許文献４】特開平６−２３８２１９号公報
【特許文献５】特開２０００−１６７４６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来のように振動を抑制しても、塗布膜が薄くなるにつれて、塗布ムラが発生し易くなるという問題があった。
【００１０】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、ダイから支持体上に塗布液を塗布した位置の２次側に発生する空気の振動に起因する塗布ムラの発生を防止し、製品不良の発生を減少させることのできる塗布装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１の発明は、前記目的を達成するために、連続走行する長尺状支持体の表面に向かってスロットダイから塗布液を吐出して、前記長尺状支持体上に塗布液を塗布して塗布膜を形成させる塗布装置において、塗布位置の２次側には、空気振動を減衰させる振動減衰部材が前記塗布膜に面するように設けられていることを特徴とする塗布装置を提供する。
【００１２】
本発明者は、塗布ムラが発生する原因として塗布位置の２次側（下流側）の空気振動に着目し、塗布液を塗布した位置の２次側に空気振動を減衰させる振動減衰部材を設けることにより、塗布液を塗布した位置の２次側に発生する空気振動を振動減衰部材により吸収し、塗布ムラの発生を抑制することができるという知見を得た。
【００１３】
請求項１に記載の発明によれば、長尺状支持体上に塗布膜を形成する場合において、塗布液を塗布した位置の２次側に発生する空気振動により塗布膜が揺動して発生する塗布ムラを抑制することができる。
【００１４】
請求項２の発明は、請求項１において、前記振動減衰部材は、前記スロットダイの表面で、且つ、前記塗布膜に面する表面に配置されることを特徴とする。
【００１５】
請求項２に記載の発明によれば、塗布位置の２次側で発生した空気の振動も振動減衰部材により減衰させることができるので、塗布膜の揺動に起因する塗布ムラの発生を抑制することができる。
【００１６】
請求項３の発明は、請求項１又は２のいずれかにおいて、前記振動減衰部材は、前記塗布位置の２次側に配置された塗布直後設備に設けることを特徴とする。
【００１７】
請求項３に記載の発明によれば、塗布位置の２次側の広範囲の領域において発生した空気の振動を振動減衰部材により減衰させることができるので、塗布膜の振動に起因する塗布ムラも抑制することができる。
【００１８】
請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれかにおいて、前記塗布直後設備は、ケーシングを有する乾燥装置であり、前記振動減衰部材は、前記ケーシングの内面で、且つ、前記塗布面に対向する内面に配置されることを特徴とする。
【００１９】
請求項４に記載の発明によれば、塗布位置の２次側の領域のうち、特に塗布膜の上方に発生した空気の振動を振動減衰部材により減衰させることができるので、走行する長尺状支持体の上に既に形成されている塗布膜の振動に起因する塗布ムラも抑制することができる。
【００２０】
請求項５の発明は、請求項１〜４のいずれかにおいて、前記振動減衰部材は、１０００Ｈｚ未満の空気振動に対しての吸音率が１０％以上であることを特徴とする。
【００２１】
請求項５に記載の発明によれば、塗布膜に塗布ムラを生じさせる空気の振動を効率良く吸収し減衰させることができる振動減衰部材が配置されているので、空気振動に起因する塗布ムラの発生を抑制することができる。
【００２２】
請求項６の発明は、請求項１〜５のいずれかにおいて、前記スロットダイと前記長尺状支持体と間のクリアランスをＤとし、前記長尺状支持体上に形成された塗布膜の厚さをｔとしたとき、ｔ／Ｄが０．３未満であることを特徴とする。
【００２３】
請求項６に記載の発明によれば、長尺状支持体に極めて近い位置から塗布液を吐出して、長尺状支持体上に極めて薄い厚さの塗布膜を形成する場合においても、空気振動に起因する塗布ムラを抑制して、塗布ムラの無い塗布膜を形成することができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の塗布装置によれば、連続走行する長尺状支持体に対して塗布膜を形成する場合において、塗布ムラの無い塗布膜を長尺状支持体上に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、添付図面により本発明の塗布装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２６】
図１は、本発明に係る塗布装置を組み込んだ塗布膜形成ライン１０の一例を示す概念図である。
【００２７】
塗布膜形成ライン１０は、ロール状に巻回されたウエブ１２を送り出す送出装置１４、ウエブ１２に塗布液を塗布するためバックアップロール１６とスロットダイ１８とを備えた塗布装置、ウエブ１２上に塗布形成された塗布膜（以下、塗布層とも称する）２０を乾燥する乾燥装置（塗布直後設備）２２、ウエブ１２（以下の説明において、塗布膜２０が形成されたものを含む意味でも用いる）が走行する搬送経路を形成する多数のロール２４、２６、２８および塗布・乾燥により製造された製品３０を巻き取る巻取装置３２とを備えている。
【００２８】
乾燥装置２２内にはガイドロール３４、３６が備えられ、それらガイドロール３４、３６により形成される搬送経路を塗布済みのウエブ１２が走行することにより乾燥される。なお、乾燥装置２２に備えられている加熱装置４０、４２、４４には、赤外線ヒーターを用いることが好ましい。
【００２９】
また、乾燥装置２２に複数のガイドロール３４、３６を配置することで、搬送上の制約を受けることなくケーシング２２ａの長さを自在に決めることが出来る。ガイドロール３４、３６が加熱装置４０、４２、４４によって加熱されて温度が高くなってしまう場合には、ガイドロール３４、３６をジャケットロールにして温度制御することが望ましい。
【００３０】
乾燥装置２２で乾燥が進行した塗布済みウエブ１２をさらに乾燥させるために２次側（下流側）に熱風乾燥装置３８を備えていることが好ましい。ロール２４で支持しながら熱風乾燥装置３８に塗布済みウエブ１２を送り、さらに乾燥を進行させる。その後に、ロール２６、２８などで支持しながら製品３０として巻取装置３２で巻き取る。なお、ロール２４、２６、２８は自由ロール、駆動ロールのいずれを用いても良い。
【００３１】
熱風乾燥装置３８としては、従来技術として使用されている各種の乾燥装置を使用できる。例えば、非塗布面側をロールで支持すると共に、塗布面側にエア・ノズルからの風を吹いて乾燥させるローラ搬送ドライヤ方式、塗布面側と非塗布面側の両方に配置されたエア・ノズルから風を吹いて、ウエブ１２を浮上させた状態、すなわちウエブ１２がロール等に接触しないで乾燥させる非接触式のエアフローティング塗布ドライヤ方式、非接触式の乾燥方式の一種であってスペースを効率良く利用し、かつ効率良く乾燥させる弦巻き型の乾燥方式、等の乾燥装置が使用できる。いずれの方式の乾燥装置であっても、乾燥した空気を塗布膜の表面に供給して塗布膜を乾燥させる点では共通する。
【００３２】
ウエブ１２の材料としては、ＰＥ（ポリエチレン）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）等の樹脂フイルム、紙、金属箔等を使用できる。また、塗布液としては、例えば、光学補償シートを製造する際に用いられるディスコティック液晶を含むものや、熱現像用感光材料に用いられるハロゲン化銀粒子を含むものなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、本発明においては、有機溶剤の組成比が５０質量％以上の塗布液を用いることが好ましい。
【００３３】
図２は、本発明に係る塗布装置の実施の形態を示す概略図である。
【００３４】
図２に示すように、本実施の形態に係る塗布装置は、主としてスロットダイ１８と乾燥装置２２とで構成されている。
【００３５】
スロットダイ１８の内部には、マニホールド４６とそれに接続されたスリット４８が設けられている。このマニホールド４６により、塗布液は幅方向に拡散されたのち、スリット４８を介してスロットダイ１８の先端部から走行するウエブ１２に向けて吐出される。
【００３６】
スロットダイ１８の先端部から吐出された塗布液は、ウエブ１２との間にビード５０を形成しながら、ウエブ１２上に塗布膜２０を形成する。そして、スロットダイ１８は、塗布液を吐出しながらウエブ１２の上方をウエブ１２に沿って移動しながら塗布液を吐出することにより、ウエブ１２上に塗布膜２０を形成する。
【００３７】
スロットダイ１８の先細形状なリップ面のうち、スリット４８から塗布液が吐出される塗布位置の２次側（ウエブ走行から見た下流側）表面であって、且つ、塗布膜２０に面する表面には、振動減衰部材５２が設けられている。振動減衰部材５２は、塗布液を吐出する位置の２次側に発生する空気振動を減衰することによって、この空気振動がスロットダイ１８の表面で反射して塗布膜２０に伝わることを防止する。
【００３８】
ここで、ウエブ１２上に形成される塗布膜２０のウエット膜厚ｔは、１０μｍ以下であることが好ましい。その理由としては、１０μｍを超えると、空気振動に起因する塗布膜上の塗布ムラの発生を考慮する必要が小さくなるからである。すなわち、本発明は、ウエット膜厚ｔは、１０μｍ以下の薄膜の場合に発生する塗布ムラを抑制する際に特に効果を発揮する。なお、本発明においてウエット膜厚とは、塗布時にウエブ１２に付与される総塗布厚みを意味している。
【００３９】
また、ウエット膜厚ｔを、ウエブ１２とスロットダイ１８先端との間の距離であるクリアランスＤで除した値ｔ／Ｄは、０．３未満であることが好ましい。その理由としては、０．３以上であると、空気振動に起因する塗布膜上の塗布ムラの発生を考慮する必要が小さくなるからである。すなわち、本発明は、ｔ／Ｄが０．３未満の場合に発生する塗布ムラを抑制する際に特に効果を発揮する。なお、ｔ／Ｄ値は、０．０５以上０．２以下であることがより好ましい。
【００４０】
図３は、本実施の形態の変形例で、塗布位置の２次側に配置された塗布直後設備に振動減衰部材を設けた一例であり、塗布直後設備として乾燥装置の場合である。
図３は、乾燥装置２２の断面概略図である。
【００４１】
この乾燥装置２２は、ケーシング２２ａを有し、その内部を塗布膜２０が塗布されたウエブ１２が走行しながら乾燥されるように構成されている。
【００４２】
乾燥装置２２のケーシング２２ａの内面で、且つ、塗布膜２０面に対向する内面には、振動減衰部材５４が設けられている。振動減衰部材５４は、スロットダイ１８の付近に限定されない塗布位置の２次側の広範囲の領域において発生した空気振動を減衰し、この空気振動がケーシング２２ａの内面で反射して塗布膜２０に伝わることを防止する。
【００４３】
なお、振動減衰部材５２、５４の吸音率は、１０００Ｈｚ未満の空気振動に対して１０％以上であることが好ましい。その理由としては、１０％未満であると、空気振動の減衰の効果が十分に得られ難くなるからである。なお、吸音率は、５０％以上１００％以下であることがより好ましい。ここで、吸音率とは、残響室法で測定した残響室法吸音率のことをいう。
【００４４】
また、振動減衰部材５２、５４の材質としては、ウレタンゴム、エチレン・プロピレンゴム、セラミックス、アルミニウム等を用いることが好ましいが、アルミニウムを用いることがより好ましい。
【００４５】
なお、乾燥装置２２は、図１に示すようにケーシング２２ａにより覆われており、乾燥装置２２の出入口以外を密閉し、乾燥装置２２内の大気が吸排気しない形態とする。これにより、塗布膜２０の乾燥を行う際に、塗布面近傍の風の乱れを防止することが可能となる。また、乾燥装置２２は、塗布液を塗布した直後の自然対流の発生による塗布膜２０の乾燥ムラを防止するため、塗布位置のできるだけ近くに配設することが好ましい。具体的には、乾燥装置２２の入口と塗布位置との間隔Ｌ１を２ｍ以内となるように配設することがより好ましく、０．７ｍ以内の位置になるように配設することが最も好ましい。
【００４６】
ウエブ１２の走行速度は、スロットダイ１８による塗布後３秒以内に乾燥装置２２に到達する速度であることが好ましい。具体的には、ウエブ１２の走行速度は４０ｍ／分〜２００ｍ／分に設定することが好ましい。
【００４７】
塗布膜のムラは、乾燥初期で特に発生しやすいので、乾燥装置２２が塗布液中の有機溶剤の７０質量％以上を乾燥、若しくは凝縮（凝縮乾燥の場合）させて、回収し、残りの塗布液中の有機溶剤を熱風乾燥装置３８で乾燥させることが好ましい。塗布液中の有機溶剤の何質量％を乾燥させるかは、塗布膜２０の乾燥ムラへの影響、生産効率、等を総合的に判断して決定すればよい。
【００４８】
なお、乾燥装置である乾燥装置２２の形態は、図示したものに限定されるものではない。その他、本発明の塗布膜の乾燥方法および装置が適用される乾燥装置を組み込んだ塗布・乾燥ラインに使用されている送出装置、ロール、巻取装置等には慣用の部材を使用しており、それらの説明は省略する。
【００４９】
また、塗布装置の上流側に除塵設備（図示しない）を設置したり、ウエブ１２の表面に前処理等を施したりしてもよい。ゴミ等の殆どない高い品質が求められる光学性フイルム等では、これらを同時に採用することで、高品質な塗布、乾燥膜を得ることができる。
【００５０】
本発明は、光学補償シート等の光学的機能性フイルムシート、感光材料用のフイルムの溶剤下塗り、熱現像感光材料、ナノ粒子等の微細構造粒子を含む機能性フイルム、写真用フイルム、写真用印画紙、磁気記録テープ、接着テープ、感圧記録紙、オフセット版材、電池等の製造に好ましく使用される。
【００５１】
以上説明した本実施の形態に係る塗布装置によれば、連続走行するウエブ１２にスロットダイ１８から塗布液を吐出してウエブ１２上に塗布膜２０を形成するにあたり、ウエブ１２の塗布膜２０に面した位置の各所に振動減衰部材５２、５４が配置されているので、外部からの振動が直接塗布膜２０に伝わったり、この振動がスロットダイ１８やケーシング２２ａの内面で反射して塗布膜２０に伝わったりすることを防止できる。
【００５２】
なお、本発明は上述の実施の形態に限られることなく、種々の変更を行うことができる。
【００５３】
例えば、上記実施の形態においては、塗布直後設備として乾燥装置２２を例として説明したが、本発明はこれに限られず、入口と出口とを備えたケーシング等により囲まれた内部にウエブ１２を搬送させることができるものであればいかなるものであっても良い。
【実施例】
【００５４】
以下に、本発明の塗布装置の実施例を説明する。本実施例では、光学補償シートの製造ラインにおいて、液晶用の塗布液を塗布するスロットダイの直後に、塗布面近傍の風の流れを防止するケーシングで囲った乾燥装置を配設し、スロットダイと乾燥装置との少なくとも一方に、振動減衰部材を設けた場合の塗布ムラ防止効果を調べた。
【００５５】
（実施例１）
光学補償シートの製造ラインは、たとえば下記の工程により行われる。
１）透明フイルム（ウエブ）の送出工程；
２）透明フイルムの表面に配向膜形成用樹脂を含む塗布液を塗布、乾燥する配向膜形成用樹脂層の形成工程；
３）表面に配向膜形成用樹層が形成された透明フイルム上に、樹脂層の表面にラビング処理を施し透明フイルム上に配向膜を形成するラビング工程；
４）液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を、配向膜上に塗布する液晶性ディスコティック化合物の塗布工程；
５）前記塗布膜を乾燥して該塗布膜中の溶媒を蒸発させる乾燥工程；
６）前記塗布膜をディスコティックネマティック相形成温度に加熱して、ディスコティックネマティック相の液晶層を形成する液晶層形成工程；
７）前記液晶層を固化する（すなわち、液晶層形成後急冷して固化させるか、または、架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物を使用した場合には液晶層を光照射（または加熱）により架橋させる）工程；
８）該配向膜および液晶層が形成された透明フイルムを巻き取る巻取り工程。
【００５６】
光学補償シートの製造方法は、長尺状透明フイルムを送り出す工程から、得られた光学補償シートを巻き取る工程まで一貫して連続的に行なった。トリアセチルセルロース（フジタック、富士写真フイルム（株）製、厚さ：１００μｍ、幅：５００ｍｍ）の長尺状の透明フイルムの一方の側に、長鎖アルキル変成ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製、なおポバールは登録商標）５重量％溶液を塗布し、９０℃で４分間乾燥させて膜厚２．０μｍの配向膜形成用樹脂層を形成した。フイルムの搬送速度は、５０ｍ／分であった。
【００５７】
上記トリアセチルセルロースフイルムは、フイルム面内の直交する二方向の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚ、そしてフイルムの厚さをｄとしたとき、
（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ＝１６ｎｍ、
｛（ｎｘ−ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ＝７５ｎｍであった。また、上記配向膜形成用樹脂層の形成の際に、乾燥装置（塗布直後設備）（加熱装置有り（○），入口温度２５℃，出口温度２１℃）２２を備えた塗布・乾燥ラインを用いて行なった。
【００５８】
続いて、得られた配向膜形成用樹脂層を有するフイルムを、連続して５０ｍ／分で搬送しながら、樹脂層表面にラビング処理を施して配向膜を形成した。ラビング処理は、ラビングローラの回転数を３００ｒｐｍにて行い、次いで得られた配向膜の除塵を行った。
【００５９】
次いで、得られた配向膜を有するフイルムを、連続して５０ｍ／分の速度で搬送しながら、配向膜上に、塗布速度が５０ｍ／分、塗布量が６．５ｃｃ／ｍ２ となるようにスロットダイから液晶層用の塗布液を塗布して液晶層（塗布膜）を形成し、次いで乾燥装置および熱風乾燥装置を通過させた。熱風乾燥装置は１３０℃に調整した。塗布後３秒後に乾燥装置に入り、３秒後に熱風乾燥装置に入った。熱風乾燥装置は約３分で通過した。
【００６０】
使用した液晶層用の塗布液は、下記に示すディスコティック化合物ＴＥ−（１）とＴＥ−（２）の重量比率４：１の混合物に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を１質量％添加した混合物を、４０重量％メチルエチルケトンに溶解して調製した。
【００６１】
【化１】
2009213976.tif 000003
【００６２】
また、液晶層の湿潤膜厚ｔは６．５μｍであり、ウエブ１２とスロットダイ１８先端との間隔Ｄは６５μｍであった。なお、ｔ／Ｄの値は０．１であった。
【００６３】
さらに、図４に示す位置Ａ（乾燥装置）及びＢ（スロットダイの塗布位置２次側）に、アルミニウム製で吸音率が５０％の振動減衰部材を配置した。なお、塗布膜付近に発生した空気の振動数のピーク値は４００Ｈｚであった。
【００６４】
続いて、この配向膜および液晶層が塗布されフイルムを、連続して５０ｍ／分で搬送しながら、液晶層の表面に紫外線ランプにより紫外線を照射した。すなわち、上記加熱ゾーンを通過したフイルムは、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、液晶層を架橋させた。
【００６５】
（実施例２）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＡのみであることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００６６】
（実施例３）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＢのみであることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００６７】
（実施例４）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＡのみであり、配向膜とスロットダイの間隔Ｄが３０μｍで、ｔ／Ｄの値が０．２であることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００６８】
（実施例５）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＡのみであり、且つ、振動減衰部材の材質が吸音率５％のウレタンゴムであることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００６９】
（実施例６）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＡのみであり、且つ、振動減衰部材の材質が吸音率１０％のエチレン・プロピレンゴムであることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００７０】
（比較例１）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＣ（スロットダイの塗布位置１次側）のみであることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００７１】
（比較例２）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＤのみであることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００７２】
（比較例３）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＥのみであることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００７３】
（比較例４）
振動減衰部材の設置位置が図４に示すＦのみであることを除いては、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００７４】
（比較例５）
振動減衰部材を配置しなかったこと以外は、実施例１と同じ条件により実験を行った。
【００７５】
〈まとめ〉
以上の結果を表１にまとめた。ここで、表１中において、塗布ムラ特性は、◎は塗布ムラが無く特に良好な品質を有する光学フイルムが得られたこと、○は塗布ムラが無く良好な品質を有する光学フイルムが得られたこと、△は塗布ムラが多少あるものの良好な品質を有する光学フイルムが得られたこと、×は塗布ムラが数多く見られ不良な品質を有する光学フイルムが得られたことをそれぞれ示している。
【００７６】
【表１】
2009213976.tif 000004
【００７７】
振動減衰部材を図４に示す位置Ａ及びＢに設置した実施例１において、塗布ムラがなくもっとも品質に優れた◎の光学フイルムが得られていることがわかる。
【００７８】
また、振動減衰部材を図４に示す位置Ａ又はＢのいずれか一方の位置に設置した実施例２又は３において、実施例１の場合よりは劣るものの、品質評価が○の優れた光学フイルムが得られていることがわかる。
【００７９】
実施例４では、振動減衰部材を図４に示す位置Ａに設置した場合においては、クリアランスＤを他の実施例の場合より狭くした場合においても、塗布ムラの無い品質評価が○の優れた配向膜を有する光学フイルムが得られていることがわかる。
【００８０】
実施例５では、振動減衰部材を図４に示す位置Ａに設置し、吸音率が５％のウレタンゴム製の振動減衰部材を用いた場合では、多少の塗布ムラが存在する光学フイルムとなったが、△の強化であり、一応合格ラインであった。
【００８１】
実施例６では、振動減衰部材を図４に示す位置Ａに設置し、吸音率が１０％のエチレン・プロピレンゴム製の振動減衰部材を用いた場合であるが、塗布ムラの無い品質評価が○の優れた光学フイルムを得ることができることがわかる。
【００８２】
比較例１〜４では、振動減衰部材を図４に示す位置Ｃ〜Ｆのそれぞれの位置に吸音率が５０％のアルミニウム製の振動減衰部材を設置した場合には、品質評価が全て×であり、塗布ムラが存在する品質に劣る光学フイルムしか得られないことがわかる。
【００８３】
比較例５では、振動減衰部材を設けない場合には、×の品質評価であり、塗布ムラの存在する品質に劣る光学フイルムしか得られないことがわかる。
【００８４】
以上より、吸音率が５０％のアルミニウム製の振動減衰部材を図４に示す位置Ａ及びＢに設置した場合において、もっとも品質に優れた光学フイルムが得られる一方で、振動部材を図４に示す位置Ｃ〜Ｆに設置した場合や振動減衰部材を設けない場合には、塗布ムラのある不良なフイルムしか得られないことがわかった。そして、本発明に係る塗布装置においては、塗布ムラの無い品質に優れた光学フイルムを得るためには、振動減衰部材が重要な役割を果たしていることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明に係る塗布装置を組み込んだ塗布膜形成ラインの一例を示す概念図
【図２】本実施の形態に係る塗布装置の実施の形態を示す概略図
【図３】本実施の形態における乾燥装置の断面概略図
【図４】振動減衰部材の設置位置を説明する概略図
【符号の説明】
【００８６】
１０…塗布膜形成ライン、１２…ウエブ、１８…スロットダイ、２０…塗布膜、２２…乾燥装置（塗布直後設備）、５０…ビード、５２，５４…振動減衰部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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