(57)【要約】【課題】傾斜面におけるコア端面の視認性が向上すると共に、光路変換による良好な光結合が行われる光導波路、及びその製造方法を提供すること。【解決手段】例えば、少なくとも一方の長手方向端部に傾斜面１３を有し、互いに伝播光が並進するように配列される複数の導波路コア１２と、導波路コア１２の配列方向に沿って帯状に形成される帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に延在して傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂとを有する金属層１６と、導波路コア１２及び金属層１６の周囲を取り囲むクラッド１４と、を備えることを特徴とする光導波路、及びその製造方法である。【選択図】図２
2009025552.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方の長手方向端部に傾斜面を有し、互いに伝播光が並進するように配列される複数の導波路コアと、
前記複数の導波路コアの配列方向に沿って連なる前記傾斜面間を接続し、輪郭の一部に直線を有する基準部、及び前記基準部から凸状に突出して前記傾斜面を覆う凸状部を有する金属層と、
前記導波路コア及び前記金属層の周囲を取り囲むクラッドと、
を備えることを特徴とする光導波路。
【請求項２】
前記凸状部の幅が、前記導波路コアの幅と同じであることを特徴とする請求項１に記載の光導波路。
【請求項３】
前記金属層における、前記基準部が前記複数の導波路コアの配列方向に沿って帯状に形成される帯状部であり、前記凸状部が前記帯状部から凸状に突出していることを特徴とする請求項１に記載の光導波路。
【請求項４】
前記帯状部が、第１の幅を持つ領域と当該領域よりも小さい第２の幅を持つ領域とを有することを特徴とする請求項３に記載の光導波路。
【請求項５】
前記光導波路の長手方向端部の少なくとも一方が、非傾斜構造であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光導波路。
【請求項６】
前記光導波路が、柔軟性を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光導波路。
【請求項７】
少なくとも、第１クラッド層及びコア層が積層された積層体を準備する工程と、
前記積層体の長手方向端部の少なくとも一方を切削し、前記第１クラッド層及び前記コア層に傾斜面を形成する工程と、
前記第１クラッド層及び前記コア層に形成された傾斜面に、金属層を形成する工程と、
前記傾斜面に前記金属層が形成されたコア層を切削し、互いに伝播光が並進するように配列される複数の導波路コアを形成する工程と、
前記導波路コア及び前記金属層を覆うように、第２クラッド層を形成する工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項８】
少なくとも、第１クラッド層及びコア層が積層された積層体を準備する工程と、
前記積層体の長手方向端部の少なくとも一方を切削し、前記第１クラッド層及び前記コア層に傾斜面を形成する工程と、
前記第１クラッド層及び前記コア層に形成された傾斜面に、金属層を形成する工程と、
前記コア層及び前記金属層を覆うように、第２クラッド層を形成する工程と、
前記第２クラッド層と共に前記傾斜面に前記金属層が形成された前記コア層を切削し、導波路コアを形成する工程と、
前記導波路コアを覆うように、第３クラッド層を形成する工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項９】
少なくとも、第１クラッド層、コア層、及び第２クラッド層がこの順で積層された積層体を準備する工程と、
前記積層体の長手方向端部の少なくとも一方を切削し、前記第１クラッド層、前記コア層、及び第２クラッド層に傾斜面を形成する工程と、
前記第１クラッド層、前記コア層、及び前記第２クラッド層に形成された傾斜面に、金属層を形成する工程と、
前記第２クラッド層と共に前記傾斜面に前記金属層が形成された前記コア層を切削し、互いに伝播光が並進するように配列される複数の導波路コアを形成する工程と、
前記導波路コア及び前記金属層を覆うように、第３クラッド層を形成する工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項１０】
前記光導波路コアに形成される傾斜面による伝播光の反射によって当該伝播光が前記光導波路コアへ入射又は前記光導波路コアから出射される側のクラッド層が前記第２クラッド層となるように、前記第１クラッド層、前記コア層、及び第２クラッド層に傾斜面を形成することを特徴とする請求項９に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１１】
前記複数の導波路コアを形成する工程において、前記傾斜面に前記金属層が形成されたコア層をダイシングソーにより切削することを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光導波路を機器内及び機器間の光配線へ適用していく際の形態の一例として、直線状のコアを所望のピッチで配置した単純な構造のマルチモード光導波路がある。この直線導波路を作製する方法としては、例えば基板上にクラッド層とコア層の二層の樹脂層を形成し、コア層をダイシングソーによって部分的に切削除去することにより光導波路コア部を形成し、クラッド層と同じ高分子樹脂でコア部を覆い、基板を除去することによりフレキシブルな高分子光導波路を作製する方法がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、光インターコネクション用の光源としては、直接変調性と低消費電力等の観点から面発光型の素子である垂直共振器面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）が好適に用いられ、フォトダイオードに代表される通常の受光素子は、一般に主表面で光を受光する面受光型である。このことから、光インターコネクションに用いる光導波路では、面受発光型の光素子と光導波路との９０度光路変換による光結合が重要な技術となる。９０度光路変換の手法のひとつとして、光導波路に４５度の傾斜面を形成することによって作製される４５度マイクロミラーによる方法が挙げられる。例えば、特許文献２では、刃先に傾斜構造を有するブレードを用いてダイシングソーにより光導波路を切断することで４５度マイクロミラー面を形成する方法が提案されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２８６０６４公報
【特許文献２】特許第３７５３５０８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、光素子に接続する光導波路に対して、光導波路端部に４５度の傾斜面を形成することによって、４５度マイクロミラー面が傾斜面に露出する構造を有するものと比べ、良好な光結合が可能となる光導波路、及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
少なくとも一方の長手方向端部に傾斜面を有し、互いに伝播光が並進するように配列される複数の導波路コアと、
前記複数の導波路コアの配列方向に沿って連なる前記傾斜面間を接続し、輪郭の一部に直線を有する基準部、及び前記基準部から凸状に突出して前記傾斜面を覆う凸状部を有する金属層と、
前記導波路コア及び前記金属層の周囲を取り囲むクラッドと、
を備えることを特徴とする光導波路である。
【０００７】
請求項２に係る発明は、
前記凸状部の幅が、前記導波路コアの幅と同じであることを特徴とする請求項１に記載の光導波路である。
【０００８】
請求項３に係る発明は、
前記金属層における、前記基準部が前記複数の導波路コアの配列方向に沿って帯状に形成される帯状部であり、前記凸状部が前記帯状部から凸状に突出していることを特徴とする請求項１に記載の光導波路である。
【０００９】
請求項４に係る発明は、
前記帯状部が、第１の幅を持つ領域と当該領域よりも小さい第２の幅を持つ領域とを有することを特徴とする請求項３に記載の光導波路である。
【００１０】
請求項５に係る発明は、
前記光導波路の長手方向端部の少なくとも一方が、非傾斜構造であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光導波路である。
【００１１】
請求項６に係る発明は、
前記光導波路が、柔軟性を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光導波路である。
【００１２】
請求項７に係る発明は、
少なくとも、第１クラッド層及びコア層が積層された積層体を準備する工程と、
前記積層体の長手方向端部の少なくとも一方を切削し、前記第１クラッド層及び前記コア層に傾斜面を形成する工程と、
前記第１クラッド層及び前記コア層に形成された傾斜面に、金属層を形成する工程と、
前記傾斜面に前記金属層が形成されたコア層を切削し、互いに伝播光が並進するように配列される複数の導波路コアを形成する工程と、
前記導波路コア及び前記金属層を覆うように、第２クラッド層を形成する工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法である。
【００１３】
請求項８に係る発明は、
少なくとも、第１クラッド層及びコア層が積層された積層体を準備する工程と、
前記積層体の長手方向端部の少なくとも一方を切削し、前記第１クラッド層及び前記コア層に傾斜面を形成する工程と、
前記第１クラッド層及び前記コア層に形成された傾斜面に、金属層を形成する工程と、
前記コア層及び前記金属層を覆うように、第２クラッド層を形成する工程と、
前記第２クラッド層と共に前記傾斜面に前記金属層が形成された前記コア層を切削し、導波路コアを形成する工程と、
前記導波路コアを覆うように、第３クラッド層を形成する工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法である。
【００１４】
請求項９に係る発明は、
少なくとも、第１クラッド層、コア層、及び第２クラッド層がこの順で積層された積層体を準備する工程と、
前記積層体の長手方向端部の少なくとも一方を切削し、前記第１クラッド層、前記コア層、及び第２クラッド層に傾斜面を形成する工程と、
前記第１クラッド層、前記コア層、及び前記第２クラッド層に形成された傾斜面に、金属層を形成する工程と、
前記第２クラッド層と共に前記傾斜面に前記金属層が形成された前記コア層を切削し、互いに伝播光が並進するように配列される複数の導波路コアを形成する工程と、
前記導波路コア及び前記金属層を覆うように、第３クラッド層を形成する工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法である。
【００１５】
請求項１０に係る発明は、
前記光導波路コアに形成される傾斜面による伝播光の反射によって当該伝播光が前記光導波路コアへ入射又は前記光導波路コアから出射される側のクラッド層が前記第２クラッド層となるように、前記第１クラッド層、前記コア層、及び第２クラッド層に傾斜面を形成することを特徴とする請求項９に記載の光導波路の製造方法である。
【００１６】
請求項１１に係る発明は、
前記複数の導波路コアを形成する工程において、前記傾斜面に前記金属層が形成されたコア層をダイシングソーにより切削することを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法である。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に係る発明によれば、光素子に接続する光導波路に対して、光導波路端部に４５度の傾斜面を形成することによって、４５度マイクロミラー面が傾斜面に露出する構造を有するものと比べ、傾斜面におけるコア端面の視認性が向上するため、コア端面に対する他の光素子との光接続時の位置合わせが容易となり、光接続損失が低減される、といった効果を奏する。
【００１８】
請求項２に係る発明によれば、より傾斜面におけるコア端面の視認性が向上する、といった効果を奏する。
【００１９】
請求項３に係る発明によれば、光素子に光導波路を実装する際、帯状部を傾き補正の基準線として利用することができるため、より光接続時の位置合わせが容易となる、といった効果を奏する。
【００２０】
請求項４に係る発明によれば、より傾斜面におけるコア端面の視認性が向上する、といった効果を奏する。
【００２１】
請求項５に係る発明によれば、より傾斜面におけるコア端部の視認性が向上し、基準面への当てつけによる実装の精度が向上する、といった効果を奏する。
【００２２】
請求項６に係る発明に依れば、取り扱い性が良く破損し難くなると共に、設置上の制約が低減される、といった効果を奏する。
【００２３】
請求項７に係る発明によれば、傾斜面におけるコア端面の視認性が向上するため、光素子に対する接続における光接続時の位置合わせが容易な光導波路が簡易に得られ、このため光接続損失が低減される、といった効果を奏する。
【００２４】
請求項８に係る発明によれば、より傾斜面におけるコア端面の視認性が向上すると共に、金属層の破損を抑制しつつ光導波路を簡易に得られる、といった効果を奏する。
【００２５】
請求項９に係る発明によれば、より傾斜面におけるコア端面の視認性が向上すると共に、導波路コアの破損を抑制しつつ光導波路を簡易に得られるといった効果を奏する。
【００２６】
請求項１０に係る発明によれば、伝播光が光導波路コアへ入射又は光導波路コアから出射される側の第２クラッド層が薄く形成でき、光素子に対する接続において良好な光結合が実現され、光接続損失をより低減できる光導波路が得られる、といった効果を奏する。
【００２７】
請求項１１に係る発明によれば、真直な光導波路コアが簡易に得られる、といった効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、実質的に同一の機能・作用を有する部材には、全図面を通じて同じ符合を付与し、重複する説明は省略することがある。
【００２９】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る光導波路フィルムを示す斜視図である。図２は、第１実施形態に係る光導波路フィルムを示す部分断面図である。図３は、第１実施形態に係る光導波路フィルムが柔軟性を有することを示す斜視図である。
【００３０】
第１実施形態に係る光導波路フィルム１０（光導波路）は、例えば、光インターコネクションにおいて使用され、特に９０度光路変換による面型の受発光素子と光結合を行う光導波路である。
【００３１】
本実施形態に係る光導波路フィルム１０は、図１乃至図２に示すように、例えば、長尺状の光導波路であり、クラッド１４と、クラッド１４に埋設された導波路コア１２と、クラッド１４に埋設され、光導波路コアの長手方向両端面を覆うように形成された櫛状の金属層１６と、を有している。
【００３２】
導波路コア１２は、同一平面上であって光導波路フィルム１０の幅方向に互いに伝播光が並進するように並列に配列して複数配設されている。なお、本実施形態では、４本の導波路コア１２が配列されている。導波路コア１２は、その長手方向端部が、当該長手方向に対して傾斜する傾斜面１３が形成されている。当該傾斜面１３は、導波路コア１２の長手方向に対して、例えば４５°の角度をなすように形成されている。この傾斜面１３では、導波路コア１２内を伝播する光が傾斜面に到達すると、傾斜面１３と隣接する層（本実施形態では金属層１６）により、反射され、光の伝播方向が変換される。なお、傾斜面の角度を４５°と標記しているが、厳密な角度ではなく、機械的精度上例えば±１０％程度振れていてもよい。
【００３３】
金属層１６は、光導波路フィルム１０の幅方向（導波路コア１２の配列方向）に沿って帯状に形成される帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に延在して傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂとで、櫛状に構成されている。
【００３４】
金属層１６において、帯状部１６Ａは、導波路コア１２の傾斜面１３による伝播光の反射によって伝播光が導波路コア１２へ入射又は導波路コア１２から出射される面側に同一幅で配設されている。言い換えれば、帯状部１６Ａは、光導波路フィルム１０の２つの主面のうち、当該主面と傾斜面１３とがなす角度が鋭角となる面側に同一幅で配設されている。
【００３５】
一方、金属層１６において、傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂは、帯状部１６Ａの長手方向に対して交差（本実施形態では垂直）するように当該帯状部１６Ａ側辺から突出して形成されている。また、凸状部１６Ｂの幅は、導波路コア１２の幅、即ち傾斜面１３の幅と同一となるように形成されている。
【００３６】
クラッド１４は、導波路コア１２よりも屈折率が低い材料で構成され、導波路コア１２の周囲を取り囲んで配設されている。また、クラッド１４は、傾斜面１３に形成された金属層１６を覆い、光導波路フィルム１０の長手方向端部を構成している。本実施形態では、光導波路フィルム１０の長手方向端部は、傾斜構造を持たず、即ち、非傾斜構造であり、直方体構造としている。
【００３７】
光導波路フィルム１０は、柔軟性（フレキシブル）を有しており、図３（Ａ）に示すように折り曲げたり、図３（Ｂ）に示すようにねじったりした場合に、これらの変形に対して追従するようになっている。このため、光導波路フィルム１０は、図３に示すように変形した状態でも、光導波路フィルム１０に接続された光送信部（図示省略）から送信された光信号が、光導波路フィルム１０に形成された導波路コア１２を伝播（導波）して、光受信部に受信される。このため、光導波路フィルム１０は、取り扱い性が良く破損し難くなると共に、設置上の制約が低減される。
【００３８】
ここで、光導波路フィルム１０が柔軟性を有するとは、光導波路フィルム１０が曲率半径１０ｍｍ以下の可撓性を有していることを意味する。そして、「曲率半径」は、光導波路フィルム１０を折り曲げたときに光導波路フィルム１０の内側に形成される曲線の微小な部分を円と近似したとき、その円の半径の長さを表す値であり、ＭＩＴ耐折試験（ＡＳＴＭ  Ｄ２１７６）に従いその許容値が測定される。
【００３９】
光導波路フィルム１０は、その厚さが５０μｍ以上５００μｍ以下であることが望ましく、より望ましくは、７０μｍ以上２００μｍ以下である。一方、光導波路フィルム１０は、その幅が０．２ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが望ましく、より望ましくは、０．５ｍｍ〜４ｍｍである。光導波路フィルム１０の厚さ及び幅を上記範囲とすることで、柔軟性を確保させつつ、強度が得やすくなる。
【００４０】
以下、本実施形態に係る光導波路フィルム１０の製造方法について説明する。図４乃至図６は、第１実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。なお、図４は、光導波路フィルムの平面図（フィルム厚み方向からから見た図）での工程図である。図５は、光導波路フィルムの側面図（フィルム幅方向から見た図）での工程である。図６は、光導波路フィルムの正面図（フィルム長手方向から見た図）での工程図である。
【００４１】
本実施形態に係る光導波路フィルム１０の製造方法では、まず、図４（Ａ）乃至図６（Ａ）に示すように、クラッド層１４Ａ及びコア層１２Ａがこの順で積層された高分子フィルム１０Ａ（積層体）を準備する。この高分子フィルム１０Ａは、クラッド層１４Ａとコア層とで屈折率差が設定され得る材質であれば、特に制限されるわけではなく、例えば、脂環式オレフィンフィルム、アクリル系フィルム、エポキシ系フィルム、ポリイミド系フィルム等が用いられる。
【００４２】
次に、図４（Ｂ）乃至図６（Ｂ）に示すように、高分子フィルム１０Ａの長手方向両端部を切削し、高分子フィルム１０Ａの長手方向に対して例えば４５°傾斜した傾斜面（傾斜構造）をクラッド層１４Ａの端面及びコア層１２Ａの端面に形成する。このクラッド層１４Ａの端面及びコア層１２Ａの端面を傾斜面とするための切削は、例えば、刃先に４５°の傾斜構造を有するブレードを用いたダイシングソーにより高分子フィルム１０Ａを切断することで形成される。
【００４３】
そして、傾斜面となったクラッド層１４Ａの端面及びコア層１２Ａの端面に、金属層１６を形成する。この金属層１６は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法等により行われる。金属層１６としては、例えば、アルミニウム、金、銀、チタン、銅、クロム、ロジウム、白金、ニッケル、及び、それらの合金等の層が好適に適応される。
【００４４】
次に、図４（Ｃ）乃至図６（Ｃ）に示すように、高分子フィルム１０Ａをコア層１２Ａ側から切削、即ちコア層１２Ａを切削し、導波路コア１２を形成する。導波路コア１２の形成は、例えば、ダイシングソーにより、高分子フィルム１０Ａの長手方向に沿って行う切削を、高分子フィルム１０Ａの幅方向に所定間隔（この間隔が導波路コア１２の幅となる）で実施することで行われる。この切削により、クラッド層１４Ａの同一平面上であって高分子フィルム１０Ａの幅方向に互いに伝播光が並進するように並列に配列して、導波路コア１２が複数配設される。
【００４５】
そして、この切削により、金属層１６は、光導波路フィルム１０の幅方向（導波路コア１２の配列方向）に沿って帯状に形成される帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に突出して傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂとで、櫛状に形成される。
【００４６】
ここで、ダイシングソーの機械精度と高分子フィルム１０Ａの厚さ精度による切り込み深さ（切削深さ）のバラツキを考慮し、切削側から見てコア層１２Ａの下層に位置するクラッド層１４Ａの層厚は例えば１０μｍ以上（望ましくは２０μｍ以上）であることが望ましい。クラッド層１４Ａの厚みを上記範囲とすることで、所望の位置でコア層１２Ａを完全に切削除去し、且つクラッド層１４Ａを切断（フルカット）しない切り込み深さでの加工が保証される。なお、クラッド層１４Ａの厚みの上限は、例えば５０μｍ以下であることがよい。
【００４７】
次に、図４（Ｄ）乃至図６（Ｄ）に示すように、導波路コア１２及び金属層１６を覆う、即ち、複数の導波路コア１２同士の間隙を埋め込むと共に金属層１６を覆うように、硬化性樹脂を塗布し、これを硬化してクラッド層１４Ｂを形成する。これによりクラッド１４（クラッド層１４Ａ、１４Ｂ）が、導波路コア１２の周囲を取り囲むと共に、傾斜面１３に形成された金属層１６を覆い、光導波路フィルム１０の長手方向端部を構成するように形成される。
【００４８】
ここで、クラッド層１４Ｂを形成するための硬化性樹脂は、液状の物質であり、例えば、放射線硬化性、電子線硬化性、熱硬化性等の樹脂を用いられる。中でも、硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂が望ましく用いられるが、紫外線硬化性樹脂を選択することが望ましい。紫外線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、紫外線硬化性、熱硬化性のモノマー、オリゴマーあるいはモノマーとオリゴマーの混合物が望ましく用いられる。紫外線硬化性樹脂としては、エポキシ系、アクリル系の紫外線硬化性樹脂が望ましく用いられ、熱硬化性樹脂としては、ポリイミド系、シリコーン系の樹脂が望ましく用いられる。
【００４９】
このようにして、光導波路が作製される。
【００５０】
以上説明した本実施形態では、金属層１６が、光導波路フィルム１０の幅方向（導波路コア１２の配列方向）に沿って帯状に形成される帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に突出して傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂとで、櫛状に構成されるので、金属層１６の輪郭、特に導波路コア１２の傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂの輪郭により、導波路コア１２の端面が視認される。
【００５１】
特に、金属層１６の凸状部１６Ｂの幅を、導波路コア１２の幅（傾斜面１３の幅）と同等にすることで、当該金属層１６の凸状部の輪郭幅が、導波路コア１２の幅と一致するため、導波路コア１２の端面が視認され易くなる。つまり、櫛型の金属層１６が輪郭（形状）が位置認識マークとして機能し、導波路コア１２の位置が直接特定され得る。
【００５２】
また、金属層１６で覆われた傾斜面１３（導波路コア１２の端面）は、クラッド１４（クラッド層１４Ｂ）により覆われて補強され、当該クラッド１４が光導波路フィルム１０の長手方向端部を構成している。このため、光導波路フィルム１０の長手方向端部を、光送信部や光受信部のサブマウントなどに設置する際、サブマウントへの光導波路フィルム１０を突き当てても、当該光導波路フィルム１０の端部の変形、即ち、導波路コア１２の傾斜面１３（端部）の変形が抑制される。
【００５３】
ここで、光導波路フィルム１０の長手方向両端部が傾斜構造を持つ場合、実装の際、同軸落射照明による位置認識カメラを使用する実装機では傾斜面で反射された照明光がカメラの光学系へ戻らない為に、傾斜面の観察が困難となる。一方、光導波路フィルム１０の長手方向両端部がクラッド層で覆われ、傾斜構造を持たない場合、受発光素子との光結合に関る位置、即ち導波路コア１２の端面（傾斜面１３）を実装機のカメラでより良好に認識することが可能となる。
【００５４】
なお、クラッド１４で構成される光導波路フィルムの端面から導波路コア１２の端面（傾斜面１３）までの距離Ｒは、５μｍ以上１００μｍ以下（望ましくは２０μｍ以上８０μｍ以下）であることがよい（図２参照）。この距離Ｒを上記範囲とすると、光導波路フィルム１０の長手方向端部を、光送信部や光受信部のサブマウントなどに設置する際、導波路コア１２の傾斜面１３（端部）の変形がより抑制される。加えて、レンズ等の光学系を介さず受発光素子（不図示）と光導波路フィルム１０との直接接合を行う場合、通常の受発光素子（不図示）における受発光面と電極パッドとの距離は５０μｍ以上８０μｍ以下程度であることから、光導波路フィルム１０の端部が受発光素子の電極パッド部（不図示）を覆うことを避けるために、光導波路フィルム１０の端面から導波路コア１２の端面（傾斜面１３）の距離Ｒは上記範囲であることがよい。なお、距離Ｒは、光導波路フィルム１０の端面から導波路コア１２の端面までの、光導波路フィルム１０長手方向に沿った最短距離を示す。
【００５５】
次に、光導波路フィルムの実装方法について詳しく説明する。発光素子や受光素子及び光導波路等の光素子の実装方法としては、光素子を駆動させ光入力強度を監視して位置合わせを行うアクティブアライメントと、光部品に用意された位置認識マークを手がかりに高精度の多軸ステージを用いて位置合わせを行うパッシブアライメントがある。経済的な光技術が求められている光インターコネクションの分野では、コスト的に有利なパッシブアライメントが主流となっている。
【００５６】
光導波路フィルムの発光素子アレイに対するパッシブアライメントによる実装を例に挙げると、図７（Ａ）に示すように、光導波路フィルム１０、及び発光素子アレイ２０をそれぞれ撮像装置により撮像し、光導波路フィルム１０の端部、及び発光素子アレイ２０の画像情報を取得する。次に、図７（Ｂ）に示すように、得られた画像情報から光導波路フィルム１０の発光素子アレイ２０に対する傾きを補正する。そして、図７（Ｃ）に示すように、傾きが補正された光導波路フィルム１０と発光素子アレイ２０とを、例えば発光素子アレイ２０に予め設けた位置認識マークを基準として、特定位置同士を接合することで実装がなされる。
【００５７】
なお、図７は、光導波路フィルム１０の発光素子アレイ２０に対するパッシブアライメントによる実装を説明するための工程図である。この工程図では、光導波路フィルム１０及び光部品としての発光素子アレイ２０の上面図と側面図を共に示す。
【００５８】
このように、光導波路フィルム１０は実装されることから、当該実装において光部品における受発光点（受発光素子配設領域）と光導波路フィルムの導波路コアとを一致させるためには、撮像装置により得られる画像情報に基づく光導波路フィルムの実装面内での傾き補正が極めて重要である。即ち、光導波路フィルムの導波路コアの視認性が重要であり、これに加え、傾き補正を行うための基準部（基準線）を有することも重要である。
【００５９】
次に、本実施形態に係る光導波路フィルム１０における導波路コア１２端面の視認性について説明する。図８は、光導波路フィルムを示す３面図である。図８（Ｃ）には、本実施形態に係る光導波路フィルム１０の３面図を示す。比較のために、図８（Ａ）には、端部が傾斜構造を有し、露出した導波路コア端面のみに金属層を有する光導波路フィルム１０−１の３面図を示し、図８（Ｂ）には、端部が非傾斜構造を有し、クラッドに埋設された導波路コア端面のみに金属層を有する光導波路フィルム１０−２の３面図を示す。なお、図８（Ａ）乃至図８（Ｃ）では、上面図（側面図におけるＰ矢視図）、側面図、下面図（側面図におけるＱ矢視図）の３面図を示す。そして、各図の下面図における斜線で示す領域は、反射光が矢視側へ反射しない領域を示す。
【００６０】
本実施形態に係る光導波路フィルム１０は、図８（Ｃ）に示すように、下面側（裏面側）からみたとき、帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に突出た凸状部１６Ｂ（導波路コア１２端面）とで、櫛状に構成された金属層１６の形成領域において反射光が到達ぜず、それ以外の領域とのコントラストで帯状部１６Ａと凸状部１６Ｂで構成された金属層１６の輪郭、即ち導波路コア１２端面が認識され易い構成となっている。
これに対し、図８（Ａ）に示す光導波路フィルム１０−１では、下面側（裏面側）からみたとき、端部の傾斜構造全体において反射光が到達せず、導波路コア１２端面の輪郭が視認され難くなる。
また、図８（Ｂ）に示す光導波路フィルム１０−２では、下面側（裏面側）からみたとき、導波路コア１２端面にのみ設けられた金属層１６の形成領域において反射光が到達せず、それ以外の領域とのコントラストで金属層１６の輪郭、即ち導波路コア１２端面が認識される構成となっている。
【００６１】
しかし、ここで、上記実装における撮像装置で得られる光導波路フィルム端部の画像の例を示すと、図９（Ａ）に示すように、本実施形態に係る光導波路フィルムの端部は、帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に突出た凸状部１６Ｂ（導波路コア１２端面）とを有する金属層が映し出され、この帯状部１６Ａに沿った線が傾き補正用基準線（基準部：図中点線で標記）となり、当該基準線の候補が一つのみとなり一意に決まることとなる。しかも、この帯状部１６Ａは直線区間が長く、撮像した画像の画像処理が正確に行われ、より正確な傾き補正が行われる。
【００６２】
これに対し、図８（Ｂ）に示す光導波路フィルム１０−２では、図９（Ｂ）に示すように、金属層１６（光導波路コア１２端面）が矩形の場合、この矩形の金属層１６（光導波路コア１２端面）の２つの直行する側辺に沿った線が傾き補正用基準線（基準部：図中点線で標記）となり、当該基準線の候補が２つ存在し、一意に決まることなく誤認を招くことがある。しかも、金属層１６（光導波路コア１２端面）の側辺だけでは直線区間が短く、撮像した画像の画像処理が正確に行われ難く、正確な傾き補正が困難となることがある。
【００６３】
なお、図９は、実装における撮像装置により得られる光導波路フィルム端部の画像の一例を示す模式図である。
【００６４】
以上から、本実施形態に係る光導波路フィルム１０では、傾斜面における光導波路コア端面の視認性が向上し、導波路コア傾斜面の変形が抑制され、光路変換による良好な光結合が行われる。結果、例えば、光部品に用意された位置認識マークを手がかりに位置合わせを行うパッシブアライメントや実装部品の機械精度を利用し基準面への突き当て等で位置合わせを行うセルフアライメントによる実装において、光導波路フィルム１０の実装精度が保証される。
【００６５】
（第２実施形態）
図１０乃至図１２は、第２実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。なお、図１０は、光導波路フィルムの平面図（フィルム厚み方向からから見た図）での工程図である。図１１は、光導波路フィルムの側面図（フィルム幅方向から見た図）での工程である。図１２は、光導波路フィルムの正面図（フィルム長手方向から見た図）での工程図である。
【００６６】
第２実施形態に係る光導波路フィルム１０は、その構成は第１実施形態と同様であり、製造方法が異なる形態である。
【００６７】
第２実施形態に係る光導波路フィルム１０では、まず、図１０（Ａ）乃至図１２（Ａ）に示すように、クラッド層１４Ａ及びコア層１２Ａがこの順で積層された高分子フィルム１０Ａ（積層体）を準備する。
【００６８】
次に、図１０（Ｂ）乃至図１２（Ｂ）に示すように、高分子フィルム１０Ａの長手方向両端部を切削し、高分子フィルム１０Ａの長手方向に対して例えば４５°傾斜した傾斜面（傾斜構造）をクラッド層１４Ａの端面及びコア層１２Ａの端面に形成する。
【００６９】
そして、傾斜面となったクラッド層１４Ａの端面及びコア層１２Ａの端面に、金属層１６を形成する。
【００７０】
次に、図１０（Ｃ）乃至図１２（Ｃ）に示すように、コア層１２Ａ及び金属層１６を覆うように、硬化性樹脂を塗布し、これを硬化してクラッド層１４Ｃを形成する。これによりクラッド層１４Ｃが、コア層１２Ａ表面を覆うと共に、金属層１６を覆って光導波路フィルム１０の長手方向端部を構成するように形成される。
【００７１】
ここで、クラッド層１４Ｃを形成するための硬化性樹脂は、液状の物質であり、例えば、放射線硬化性、電子線硬化性、熱硬化性等の樹脂を用いられる。中でも、硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂が望ましく用いられるが、紫外線硬化性樹脂を選択することが望ましい。紫外線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、紫外線硬化性、熱硬化性のモノマー、オリゴマーあるいはモノマーとオリゴマーの混合物が望ましく用いられる。紫外線硬化性樹脂としては、エポキシ系、アクリル系の紫外線硬化性樹脂が望ましく用いられ、熱硬化性樹脂としては、ポリイミド系、シリコーン系の樹脂が望ましく用いられる。
【００７２】
次に、図１０（Ｄ）乃至図１２（Ｄ）に示すように、高分子フィルム１０Ａをクラッド層１４Ｃ側から当該クラッド層１４Ｃと共にコア層１２Ａを切削し、導波路コア１２を形成する。
【００７３】
そして、この切削により、金属層１６は、光導波路フィルム１０の幅方向（導波路コア１２の配列方向）に沿って帯状に形成される帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に突出して傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂとで、櫛状に形成される。
【００７４】
次に、図１０（Ｅ）乃至図１２（Ｅ）に示すように、導波路コア１２を覆う、即ち、複数の導波路コア１２同士の間隙を埋め込むように、硬化性樹脂を塗布し、これを硬化してクラッド層１４Ｂを形成する。これによりクラッド１４（クラッド層１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ）が、導波路コア１２の周囲を取り囲むと共に、傾斜面１３に形成された金属層１６を覆い、光導波路フィルム１０の長手方向端部を構成するように形成される。
【００７５】
このようにして、光導波路が作製される。なお、これら以外は、第１実施形態と同様であるため説明を省略する。
【００７６】
以上説明した本実施形態では、第１実施形態と同様に、傾斜面における光導波路コア端面の視認性が向上すると共に導波路コア傾斜面の変形が抑制され、光導波路を光素子に接続する場合、良好な光結合が行われる。特に、本実施形態では、切削による導波路コア１２の形成前に、クラッド層１４Ｃにより金属層１６を覆っているため、当該導波路コア１２を形成するときの切削によって、当該金属層１６が欠けたり破損したりすることが抑制される。
【００７７】
（第３実施形態）
図１３乃至図１５は、第３実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。なお、図１３は、光導波路フィルムの平面図（フィルム厚み方向からから見た図）での工程図である。図１４は、光導波路フィルムの側面図（フィルム幅方向から見た図）での工程である。図１５は、光導波路フィルムの正面図（フィルム長手方向から見た図）での工程図である。
【００７８】
第３実施形態に係る光導波路フィルム１０は、その構成は第１実施形態と同様であり、製造方法が異なる形態である。
【００７９】
本実施形態に係る光導波路フィルム１０では、まず、図１３（Ａ）乃至図１５（Ａ）に示すように、クラッド層１４Ａ、コア層１２Ａ、及びクラッド層１４Ｄがこの順で積層された高分子フィルム１０Ａ（積層体）を準備する。即ち、２つのクラッド層１４Ａ、１４Ｄによりコア層１２Ａが挟まれて積層された高分子フィルム１０Ａを準備する。
【００８０】
次に、図１３（Ｂ）乃至図１５（Ｂ）に示すように、高分子フィルム１０Ａの長手方向両端部を切削し、高分子フィルム１０Ａの長手方向に対して例えば４５°傾斜した傾斜面（傾斜構造）をクラッド層１４Ａ、１４Ｄの端面及びコア層１２Ａの端面に形成する。ここで、傾斜面を形成するための切削は、クラッド層１４Ａが、導波路コア１２の傾斜面１３による伝播光の反射によって伝播光が導波路コア１２へ入射又は導波路コア１２から出射される面側となるように実施している。
【００８１】
そして、傾斜面となったクラッド層１４Ａ、１４Ｄの端面及びコア層１２Ａの端面に、金属層１６を形成する。
【００８２】
次に、図１３（Ｃ）乃至図１５（Ｃ）に示すように、高分子フィルム１０Ａをクラッド層１４Ｄ側から当該クラッド層１４Ｄと共にコア層１２Ａを切削し、導波路コア１２を形成する。ここで、導波路コア１２を形成するための切削は、導波路コア１２の傾斜面１３による伝播光の反射によって伝播光が導波路コア１２へ入射又は導波路コア１２から出射される面とは反対側へ積層されたクラッド層１４Ｄ側から実施している。
【００８３】
そして、この切削により、金属層１６は、光導波路フィルム１０の幅方向（導波路コア１２の配列方向）に沿って帯状に形成される帯状部１６Ａと帯状部１６Ａから凸状に延在して傾斜面１３を覆う凸状部１６Ｂとで、櫛状に形成される。
【００８４】
次に、図１３（Ｄ）乃至図１５（Ｄ）に示すように、導波路コア１２及び金属層１６を覆う、即ち、複数の導波路コア１２同士の間隙を埋め込むと共に金属層１６を覆うように、硬化性樹脂を塗布し、これを硬化してクラッド層１４Ｂを形成する。これによりクラッド１４（クラッド層１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｄ）が、導波路コア１２の周囲を取り囲むと共に、傾斜面１３に形成された金属層１６を覆い、光導波路フィルム１０の長手方向端部を構成するように形成される。
【００８５】
このようにして、光導波路が作製される。なお、これら以外は、第１実施形態と同様であるため説明を省略する。
【００８６】
以上説明した本実施形態では、第１実施形態と同様に、傾斜面における光導波路コア端面の視認性が向上し、光導波路を光素子に接続する場合、光伝播損失が低減される。特に、本実施形態では、コア層１２Ａが２つのクラッド層１４Ａ、１４Ｄに挟まれ保護された状態で取り扱いや切削が実施されるので、切削により形成される導波路コア１２が欠けたり破損したりすることが抑制される。
【００８７】
なお、本実施形態では、クラッド層１４Ａ、１４Ｄの端面及びコア層１２Ａの端面に傾斜面を形成するための切削は、クラッド層１４Ａが、導波路コア１２の傾斜面１３による伝播光の反射によって伝播光が導波路コア１２へ入射又は導波路コア１２から出射される面側となるように実施し、当該クラッド層１４Ａとは反対側に積層したクラッド層１４Ｄ側から、導波路コア１２を形成するための切削を実施した形態を説明したが、これに限られるわけではない。
【００８８】
具体的には、図１６に示すように、クラッド層１４Ａ、１４Ｄの端面及びコア層１２Ａの端面に傾斜面を形成するための切削は、クラッド層１４Ａが、導波路コア１２の傾斜面１３による伝播光の反射によって伝播光が導波路コア１２へ入射又は導波路コア１２から出射される面側となるように実施し、当該クラッド層１４Ａ側から導波路コア１２を形成するための切削を実施する形態であってもよい。ここで、図１６は、導波路コアを形成するための切削方向を説明するための概念図である。
【００８９】
図１６に示す切削方向により導波路コアを形成する場合、上述したが、ダイシングソーの機械精度と高分子フィルム１０Ａの厚さ精度による切り込み深さ（切削深さ）のバラツキを考慮しなければならないことから、切削側から見てコア層１２Ａの下層に位置するクラッド層１４Ｄの層厚をある一定の厚み以上必要であるが、切削側から見てコア層１２Ａの上層に位置するクラッド層１４Ａは厚みの制限はない。このため、切削側から見てコア層１２Ａの上層に位置するクラッド層１４Ａを、導波路コア１２の傾斜面１３による伝播光の反射によって伝播光が導波路コア１２へ入射又は導波路コア１２から出射される面側となるクラッド層とすることで、当該クラッド層を薄膜化でき、光導波路の良好な光結合が実現され、光伝播損失が低減される。
【００９０】
ここで、レンズ等の光学系を介さない発光素子（例えば半導体レーザ）からの出射光は平行光ではなく広がり角を持つことから、発光面と該発光面に接続される導波路コア１２の端面（傾斜面１３）との距離の増加に伴い、良好な光結合のために必要とされる実装位置の公差は厳しくなる。一方、受光素子（例えばフォトダイオード）と導波路コア１２の端面（傾斜面１３）との光結合も同様であり、例えば、導波路コア１２の径（幅）が５０μｍの光導波路フィルム１０においてＮＡ（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  Ａｐｅｒｔｕｒｅ：開口数）が０．４の信号光が導波路コア１２の端面（傾斜面１３）による光路変換を受けて有効受光径が８０μｍの受光素子へ入射する場合、実装公差を±１０μｍ程度確保するためには、導波路コア１２の端面（傾斜面１３）と受光素子の受光面との最短距離を５０μｍよりも小さくすることがよい。このため、クラッド層の光の閉じ込め効果を考慮し、且つ受発光素子と光導波路フィルム１０との良好な光結合を得る為には、光路変換により光の入出射面となる光導波路の表面と導波路コア１２との距離、即ち導波路コア１２の傾斜面１３による伝播光の反射によって伝播光が導波路コア１２へ入射又は導波路コア１２から出射される面側のクラッド層の厚みは、１０μｍ以上５０μｍ以下であることが望ましい。
【００９１】
また、図１６に示す切削方向により導波路コアを形成する場合、金属層１６は、図１７に示すように、その帯状部１６Ａが、導波路コア１２の傾斜面１３による伝播光の反射によって伝播光が導波路コア１２へ入射又は導波路コア１２から出射される面側とは反対側に同一幅で配設される。言い換えれば、帯状部１６Ａは、光導波路フィルム１０の２つの主面のうち、当該主面と傾斜面１３とがなす角度が鈍角となる面側に同一幅で配設される。
【００９２】
なお、上記いずれの実施形態に係る光導波路フィルム１０では、金属層１６の帯状部１６Ａが同一幅で形成した形態を説明したが、これに限られず、帯状部１６Ａが第１の幅を持つ領域と当該領域よりも小さい第２の幅を持つ領域とを有していてもよい。この幅の異なる領域や、当該領域同士の境が位置認識マークとして機能し、より導波路コア１２の視認性が向上される。
【００９３】
この形態として具体的には、例えば、図１８に示すように、凸状部１６Ｂと帯状部１６Ａ端部との間の全幅が他の領域幅よりも短い形態、図１９に示すように、複数の凸状部１６Ｂ間及び凸状部１６Ｂと帯状部１６Ａ端部と間の一部の幅が他の領域の幅よりも短い形態、等が挙げられる。図１８に示す形態は、導波路コア１２を形成する際、ダイシングソーによる切削深さを変えることで実現される。また、図１９に示す形態は、ダイシングソーによって導波路コア１２を形成した後、当該ダイシングソー幅よりも短い幅のダイシングソーを用いて、複数の凸状部１６Ｂ間及び凸状部１６Ｂと帯状部１６Ａ端部と間に相当するクラッド層の一部を切削することで実現される。ここで、図１８は、他の金属層の形状を示す平面図である。図１９は、他の金属層の形状を示す平面図である。
【００９４】
上記いずれの実施形態に係る光導波路フィルム１０では、金属層１６の帯状部１６Ａが
光導波路フィルム１０の幅方向（導波路コア１２の配列方向）に沿って帯状に形成された形態を説明したが、これに限られず、当該帯状部１６Ａは、複数の導波路コア１２の配列方向に沿って連なる導波路コア１２端面（傾斜面）間を接続し、輪郭の一部に直線を有し、配列の基準となる基準部（基準線）として機能する形状であればよい。具体的には、例えば、図２０に示すように帯状部１６Ａに矩形の切欠けを有する形状、図２１に示すように帯状部１６Ａに三角形の切欠けを有する形状の金属層が挙げられる。なお、図２０及び図２１における点線は、基準部（基準線）を示す。ここで、図２０は、他の金属層の形状を示す平面図である。図２１は、他の金属層の形状を示す平面図である。
【実施例】
【００９５】
以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。
【００９６】
（実施例１）
まず、厚さ１００μｍのアートンフィルム（クラッド層：ＪＳＲ社製、屈折率１．５１）上に厚さ５０μｍのアクリル系樹脂層（コア層：屈折率１．５７）が形成された２層の高分子フィルムを準備した。そして、刃先に４５°の傾斜角を有する厚さ３００μｍのダイシングブレードを用いて、当該高分子フィルムを１００．１ｍｍの間隔で２本切断した。これにより、長手方向両端面を４５°の傾斜面とした高分子フィルムを得た。
【００９７】
次に、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｃｕｒｒｅｎｔ）スパッタリング法により厚さ１００ｎｍのＡｇ層を、４５°の傾斜面に形成した。
【００９８】
次に、厚さ１２０μｍのブレードを取り付けたダイシングソーを用いて、高分子フィルム最下面（設置面）より９５±５μｍの位置が切削深さとなり、幅５０μｍの光導波路コアが高分子フィルム幅方向に２５０μｍピッチで整列するように、アクリル系樹脂層を切削した。このようにして、導波路コアを形成した。
【００９９】
次に、形成された導波路コアとＡｇ層とを覆うように５０μｍの厚さでアクリル系紫外線硬化性樹脂（屈折率１．５１）を塗布し、紫外線露光により硬化させた。これにより、硬化性樹脂の硬化物（クラッド層）により光導波路コアの周囲と共に長手方向両端部が覆われ、Ａｇ層が埋設された光導波路フィルムが得られた。
【０１００】
この光導波路フィルムの櫛型のＡｇ層はダイシングソーの位置認識カメラで観察可能であり、当該光導波路フィルムの長手方向両端を、オートアライメント機能を用いて１００ｍｍ幅、１．２ｍｍの非傾斜構造で直方体状に整形した。なお、光導波路フィルムと光導波路コアの端面（傾斜面）との距離は、５０μｍであった。
【０１０１】
得られた光導波路フィルムの長手方向の一端部を、受発光素子を備えたサブマウント（直交する２面への突き当てによる位置決め構造を持つシリコン・サブマウント）に突き当てて位置合わせ行い、セルフアライメントによる実装を行った。この際、光導波路フィルムの長手方向の一端部の変形は見られず、
位置認識マークとしてＡｇ層を利用したため、実装精度良く実装することができ、良好な光接合が実現できた。１０回の実装実験の結果、設計値からのズレの平均値は８μｍ最大値は１５μｍであった。
【０１０２】
なお、得られた光導波路コア、Ａｇ層の端辺を観察したところ、実用上問題ないが、若干の欠けが生じているのが確認された。また、光導波路フィルムは、曲率半径１０ｍｍの可撓性を有しており、柔軟性を有していることが確認された。
【０１０３】
（実施例２）
厚さ１００μｍのアートンフィルム（クラッド層：ＪＳＲ社製、屈折率１．５１）上に厚さ５０μｍのアクリル系樹脂層（コア層：屈折率１．５７）が形成された２層の高分子フィルムを準備した。そして、刃先に４５°の傾斜角を有する厚さ３００μｍのダイシングブレードを用いて、当該高分子フィルムを１００．１ｍｍの間隔で２本切断した。これにより、長手方向両端面を４５°の傾斜面とした高分子フィルムを得た。
【０１０４】
次に、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｃｕｒｒｅｎｔ）スパッタリング法により厚さ１００ｎｍのＡｇ層を、４５°の傾斜面に形成した。
【０１０５】
次に、コア層とＡｇ層とを覆うように５０μｍの厚さでアクリル系紫外線硬化性樹脂（屈折率１．５１）を塗布し、紫外線露光により硬化させた。これにより、長手方向両端部が、Ａｇ層が硬化性樹脂の硬化物（クラッド層）で覆われた、即ちＡｇ層が硬化性樹脂の硬化物（クラッド層）に埋設された高分子フィルムが得られた。
【０１０６】
次に、厚さ１２０μｍのブレードを取り付けたダイシングソーを用いて、高分子フィルム最下面（設置面）より９５±５μｍの位置が切削深さとなり、幅５０μｍの光導波路コアが高分子フィルム幅方向に２５０μｍピッチで整列するように、アクリル系樹脂層を切削した。このようにして、導波路コアを形成した。
【０１０７】
次に、形成された導波路コアとＡｇ層とを覆うように５０μｍの厚さでアクリル系紫外線硬化性樹脂（屈折率１．５１）を塗布し、紫外線露光により硬化させた。これにより、長手方向両端部が、硬化性樹脂の硬化物（クラッド層）で覆われた光導波路フィルムが得られた。
【０１０８】
次に、形成された光導波路コアを覆う、即ち光導波路コア同士の間隙（切削部）にアクリル系紫外線硬化樹脂（屈折率１．５１）を塗布し、紫外線露光により硬化させた。これにより、硬化性樹脂の硬化物（クラッド層）により光導波路コアの周囲が覆われると共に、Ａｇ層が埋設された光導波路フィルムが得られた。
【０１０９】
この光導波路フィルムの櫛型のＡｇ層はダイシングソーの位置認識カメラで観察可能であり、当該光導波路フィルムの長手方向両端を、オートアライメント機能を用いて１００ｍｍ幅、１．２ｍｍの非傾斜構造で直方体状に整形した。なお、光導波路フィルムと光導波路コアの端面（傾斜面）との距離は、５０μｍであった。
【０１１０】
得られた光導波路フィルムの長手方向の一端部を、受発光素子を備えたサブマウント（直交する２面への突き当てによる位置決め構造を持つシリコン・サブマウント）に突き当てて位置合わせ行い、セルフアライメントによる実装を行った。この際、光導波路フィルムの長手方向の一端部の変形は見られず、位置認識マークとしてＡｇ層を利用したため、実装精度良く実装することができ、良好な光接合が実現できた。１０回の実装実験の結果、設計値からのズレの平均値は８μｍ最大値は１５μｍであった。
【０１１１】
なお、得られたＡｇ層の端辺を観察したところ、欠けなどが生じることなくＡｇ層が形成されていることが確認された。また、光導波路フィルムは、曲率半径１０ｍｍの可撓性を有しており、柔軟性を有していることが確認された。
【０１１２】
（実施例３）
厚さ５０μｍのエポキシ系樹脂層（コア層：屈折率１．６０）の両面が厚さ１０μｍと４０μｍのエポキシ系樹脂（クラッド層：屈折率１．５５）で覆われた３層の高分子フィルムを準備した。そして、高分子フィルムを厚さ１０μｍのエポキシ系樹脂層を設置面（下面）にしてダイシングソーに設置し、刃先に４５°の傾斜角を有する厚さ３００μｍのダイシングブレードを用いて、当該高分子フィルムを厚さ４０μｍのエポキシ系樹脂層側から１００ｍｍの間隔で２本切断した。これにより、長手方向両端面を４５°の傾斜面とした高分子フィルムを得た。このように、厚さ１０μｍのエポキシ系樹脂層が、光導波路コアの傾斜面による伝播光の反射によって伝播光が光導波路コアへ入射又は光導波路コアから出射される面側のクラッド層となるように、傾斜面を形成した。
【０１１３】
次に、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｃｕｒｒｅｎｔ）スパッタリング法により厚さ１００ｎｍのＡｇ層を、４５°の傾斜面に形成した。
【０１１４】
次に、厚さ４０μｍのエポキシ系樹脂層を設置面（下面）にしてダイシングソーに設置し、厚さ１２０μｍのブレードを取り付けたダイシングソーを用いて、高分子フィルム最下面（設置面）より９５±５μｍの位置が切削深さとなり、幅５０μｍの光導波路コアが高分子フィルム幅方向に２５０μｍピッチで整列するように、厚さ１０μｍのエポキシ系樹脂層側から厚さ５０μｍのエポキシ系樹脂層を切削した。このようにして、導波路コアを形成した。
【０１１５】
次に、形成された導波路コアとＡｇ層とを覆うように５０μｍの厚さでエポキシ系紫外線硬化樹脂（屈折率１．５５）を塗布し、紫外線露光により硬化させた。これにより、硬化性樹脂の硬化物（クラッド層）により光導波路コアの周囲と共に長手方向両端部が覆われ、Ａｇ層が埋設された光導波路フィルムが得られた。
【０１１６】
この光導波路フィルムの櫛型のＡｇ層はダイシングソーの位置認識カメラで観察可能であり、当該光導波路フィルムの長手方向両端を、オートアライメント機能を用いて１００ｍｍ幅、１．２ｍｍの非傾斜構造で直方体状に整形した。なお、光導波路フィルムと光導波路コアの端面（傾斜面）との距離は、１０μｍであった。
【０１１７】
無負荷状態での実装精度が±１μｍであるダイボンダを用い、Ａｇ層を位置認識マークとして利用した画像認識によるパッシブアライメントにて、得られた光導波路フィルムの長手方向の一端部を、受発光素子を備えたサブマウントに実装した。ボンディング荷重は６Ｎとし、予め塗布しておいた紫外線硬化樹脂を紫外線照射により硬化させ、光導波路フィルムをサブマウント上に接着した。この際、光導波路フィルムの長手方向の一端部の変形は見られず、位置認識マークとしてＡｇ層を利用したため、実装精度良く実装することができ、良好な光接合が実現できた。なお、１０回の実装実験の結果、設計値からのズレの平均値は３μｍ最大値は７μｍであった。
【０１１８】
なお、得られた光導波路コアの端辺を観察したところ、欠けなどが生じることなく光導波路コアが形成されていることが確認された。また、光導波路フィルムは、曲率半径１ｍｍの可撓性を有しており、柔軟性を有していることが確認された。また、光導波路フィルムの光の入射出面を厚さ１０μｍのエポキシ系樹脂層で構成してるため、良好な光結合が実現できた。
【０１１９】
（実施例４）
高分子フィルムを厚さ４０μｍのエポキシ系樹脂層を設置面（下面）にしてダイシングソーに設置し、刃先に４５°の傾斜角を有する厚さ３００μｍのダイシングブレードを用いて、当該高分子フィルムを厚さ１０μｍのエポキシ系樹脂層側から１００ｍｍの間隔で２本切断した。これにより、長手方向両端面を４５°の傾斜面とした高分子フィルムを得た。このように、厚さ４０μｍのエポキシ系樹脂層が、光導波路コアの傾斜面による伝播光の反射によって伝播光が光導波路コアへ入射又は光導波路コアから出射される面側のクラッド層となるように、傾斜面を形成した。
【０１２０】
また、厚さ１０μｍのエポキシ系樹脂層を設置面（下面）にしてダイシングソーに設置し、厚さ１２０μｍのブレードを取り付けたダイシングソーを用いて、高分子フィルム最下面（設置面）より９５±５μｍの位置が切削深さとなり、幅５０μｍの光導波路コアが高分子フィルム幅方向に２５０μｍピッチで整列するように、厚さ４０μｍのエポキシ系樹脂層側から厚さ５０μｍのエポキシ系樹脂層を切削した。このようにして、導波路コアを形成した。
【０１２１】
上記以外は、実施例３と同様にして光導波路フィルムを得た。
【０１２２】
無負荷状態での実装精度が±１μｍであるダイボンダを用い、Ａｇ層を位置認識マークとして利用した画像認識によるパッシブアライメントにて、得られた光導波路フィルムの長手方向の一端部を、受発光素子を備えたサブマウントに実装した。ボンディング荷重は６Ｎとし、予め塗布しておいた紫外線硬化樹脂を紫外線照射により硬化させ、光導波路フィルムをサブマウント上に接着した。この際、光導波路フィルムの長手方向の一端部の変形は見られず、位置認識マークとしてＡｇ層を利用したため、実装精度良く実装することができ、良好な光接合が実現できた。なお、１０回の実装実験の結果、設計値からのズレの平均値は３μｍ最大値は７μｍであった。
【０１２３】
なお、得られた光導波路コアの端辺を観察したところ、欠けなどが生じることなく光導波路コアが形成されていることが確認された。また、光導波路フィルムは、曲率半径１ｍｍの可撓性を有しており、柔軟性を有していることが確認された。また、光導波路フィルムの光の入射出面を厚さ４０μｍのエポキシ系樹脂層で構成してるため、良好な光結合が実現できたものの、実施例３よりも劣るものとなった。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】第１実施形態に係る光導波路フィルムを示す斜視図である。
【図２】第１実施形態に係る光導波路フィルムを示す部分断面図である。
【図３】第１実施形態に係る光導波路フィルムが柔軟性を有することを示す斜視図である。
【図４】第１実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図５】第１実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図６】第１実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図７】光導波路フィルムの発光素子アレイに対するパッシブアライメントによる実装を説明するための工程図である。
【図８】光導波路フィルムを示す３面図である。
【図９】実装における撮像装置により得られる光導波路フィルム端部の画像の一例を示す模式図である
【図１０】第２実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図１１】第２実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図１２】第２実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図１３】第３実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図１４】第３実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図１５】第３実施形態に係る光導波路フィルムの製造方法を示す工程図である。
【図１６】導波路コアを形成するための切削方向を説明するための概念図である。
【図１７】第３実施形態に係る光導波路フィルムの他の例を示す斜視図である。
【図１８】他の金属層の形状を示す平面図である。
【図１９】他の金属層の形状を示す平面図である。
【図２０】他の金属層の形状を示す平面図である。
【図２１】他の金属層の形状を示す平面図である。
【符号の説明】
【０１２５】
１０   光導波路フィルム
１０Ａ 高分子フィルム
１２   導波路コア
１２Ａ コア層
１３   傾斜面
１４   クラッド
１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄ     クラッド層
１６   金属層
１６Ａ 帯状部
１６Ｂ 凸状部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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