(57)【要約】【課題】着色パターンの角（コーナー）の形成性が向上し、角（コーナー）の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となる着色パターンの形成方法を提供する。【解決手段】基板上の着色層のうち、少なくとも１つの角を有する孤立パターン状の第１領域１を露光する第１露光工程と、前記第１露光工程後の着色層のうち、少なくとも、前記第１領域以外の領域であって前記第１領域の角と近接する角を有する孤立パターン状の第２領域２を露光する第２露光工程と、前記第１露光工程及び前記第２露光工程で露光された着色層を現像して着色パターンを得る現像工程と、を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の着色層のうち、少なくとも１つの角を有する孤立パターン状の第１領域を露光する第１露光工程と、
前記第１露光工程後の着色層のうち、少なくとも、前記第１領域以外の領域であって前記第１領域の角と近接する角を有する孤立パターン状の第２領域を露光する第２露光工程と、
前記第１露光工程及び前記第２露光工程で露光された着色層を現像して着色パターンを得る現像工程と、
を有する着色パターンの形成方法。
【請求項２】
前記第１領域の形状及び／又は前記第２領域の形状が、四角形であることを特徴とする請求項１に記載の着色パターンの形成方法。
【請求項３】
前記着色パターンの配列は、市松模様状の配列であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の着色パターンの形成方法。
【請求項４】
前記第１露光工程における露光と前記第２露光工程における露光とを、同一のフォトマスクを用いて行うことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の着色パターンの形成方法。
【請求項５】
前記着色層が、ネガ型の感光性層であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の着色パターンの形成方法。
【請求項６】
前記着色パターンが、緑色パターンであることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の着色パターンの形成方法。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の着色パターンの形成方法を用いて形成された着色パターンを有するカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色パターンの形成方法及びカラーフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラーフィルタの製造方法としては、製造コスト、製造容易性の観点から、いわゆるフォトリソ法が用いられてきた。
ここでいうフォトリソ法は、基板上に着色硬化性組成物等の感放射線性組成物（着色層）をスピンコータやロールコーター等により塗布し乾燥させて塗膜を形成し、該塗膜をパターン露光・現像・ベーキングすることによって着色画素を形成し、この操作を各色ごとに繰り返し行ってカラーフィルタを作製する方法である。
【０００３】
前記フォトリソ法に関する技術として、着色剤、アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、及び光重合開始剤を併用したネガ型感光性組成物を用いる技術が知られている（例えば、特許文献１〜４参照）。
【０００４】
図１０は、前記従来のフォトリソ法により、着色層を図１１に示す市松模様状の着色パターン５２に形成するためのフォトマスクを示したものである。このフォトマスクにおいては、石英ガラス上に、クロム膜を用いて、市松模様状に配列された正方形の遮光パターン４２と、遮光パターン４２の群を取り囲む周辺部に、いわゆるベタパターン状の遮光部４４が形成されている。ここで、遮光パターン４２と遮光部４４とにより、透過部４６が離画されている。このフォトマスクを介して着色層を露光することにより、該フォトマスクの透過部４６を通過した光のみが着色層に照射される。露光された着色層は現像されて市松模様状の着色パターンとなる。
【０００５】
しかしながら、上述のフォトリソ法においては、露光の解像力限界付近では、図１２（ａ）に示すように、各着色パターンの角が近接する領域に着色パターンが形成されない領域６０を生ずる問題がある。この領域６０をなくすために、露光エネルギーを増加させると、図１２（ｂ）に示すように、着色パターンの角同士が結合する箇所６２を生ずる問題や、二点鎖線で示した設計寸法に対し着色パターン５２のサイズが拡大する問題がある。
また、各着色パターンについて所望の膜厚が得られない問題もある。例えば、各着色パターンの断面において、パターンエッジ部の角が丸まってしまい、この部分の膜厚が所望の膜厚よりも薄くなってしまう。
【０００６】
一方、フォトレジストの限界解像力向上の手段として、二重露光により、一層微細化された線幅及び間隔を有するライン＆スペース状の感光性パターンを形成する技術が知られている（例えば、特許文献５参照）。
【特許文献１】特開平２−１８１７０４号公報
【特許文献２】特開平２−１９９４０３号公報
【特許文献３】特開平５−２７３４１１号公報
【特許文献４】特開平７−１４０６５４号公報
【特許文献５】特開２００７−７２４２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献５に記載の方法では、１つの方向についての線幅及び間隔（例えば、Ｘ軸方向の線幅及び間隔）の限界解像力を向上させることはできるものの、着色パターンの角（コーナー）同士が近接する場合の光近接の影響を排除することはできず、着色パターンの角（コーナー）の形成性を向上することはできない。
【０００８】
本発明は上記に鑑みなされたものであり、着色パターンの角（コーナー）の形成性が向上し、角（コーナー）の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となる着色パターンの形成方法、画素の形状が良好なカラーフィルタを提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、角同士が互いに近接する着色パターンを形成する際、各々のパターン領域の露光時期を分けることで前記課題を解決できるとの知見を得、該知見に基づき本発明を完成した。
即ち、前記課題を解決するための具体的手段は以下のとおりである。
【００１０】
＜１＞  基板上の着色層のうち、少なくとも１つの角を有する孤立パターン状の第１領域を露光する第１露光工程と、前記第１露光工程後の着色層のうち、少なくとも、前記第１領域以外の領域であって前記第１領域の角と近接する角を有する孤立パターン状の第２領域を露光する第２露光工程と、前記第１露光工程及び前記第２露光工程で露光された着色層を現像して着色パターンを得る現像工程と、を有する着色パターンの形成方法である。
【００１１】
＜２＞  前記第１領域の形状及び／又は前記第２領域の形状が、四角形であることを特徴とする＜１＞に記載の着色パターンの形成方法である。
＜３＞  前記着色パターンの配列が、市松模様状の配列であることを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載の着色パターンの形成方法である。
【００１２】
＜４＞  前記第１露光工程における露光と前記第２露光工程における露光とを、同一のフォトマスクを用いて行うことを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の着色パターンの形成方法である。
【００１３】
＜５＞  前記着色層が、ネガ型の感光性層であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の着色パターンの形成方法である。
＜６＞  前記着色パターンが、緑色パターンであることを特徴とする＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の着色パターンの形成方法である。
【００１４】
＜７＞  ＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の着色パターンの形成方法を用いて形成された着色パターンを有するカラーフィルタである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、着色パターンの角（コーナー）の形成性が向上し、角（コーナー）の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となる着色パターンの形成方法、画素の形状が良好なカラーフィルタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の着色パターンの製造方法は、基板上の着色層のうち、少なくとも１つの角を有する孤立パターン状の第１領域を露光する第１露光工程と、前記第１露光工程後の着色層のうち、少なくとも、前記第１領域以外の領域であって前記第１領域の角と近接する角を有する孤立パターン状の第２領域を露光する第２露光工程と、前記第１露光工程及び前記第２露光工程で露光された着色層を現像して着色パターンを得る現像工程と、を有して構成される。
上記構成とすることにより、角（コーナー）同士が互いに近接する配列で配置された複数の着色パターンを形成する場合であっても、近接するパターン領域同士は第１露光工程と第２露光工程とに分けて別個に露光されるため、光が近接することはない。このため、光近接により、着色パターンの角の解像度が低下する現象（例えば、着色パターンの角同士が近接する領域に着色パターンが形成されない領域が生じたり、着色パターンの角同士が結合したりする現象）が抑えられ、着色パターンの角がより設計に近い形状で形成され、着色パターンの角の形成性が向上する。
即ち、着色パターンの角同士が近接する領域に着色パターンが形成されない領域が発生せず、かつ、着色パターンの角同士が結合する現象も発生しない露光エネルギーのラチチュードが向上し、露光エネルギーのマージンを広く確保することができる。
この結果、角の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成限界が向上し（即ち、角の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成下限を下げることができ）、より微細なパターンの形成が可能となる。
【００１７】
以下、前記光近接により着色パターンの角の解像度が低下する現象に関し、推定される原因の１つを説明する。
一般に、フォトリソグラフィにおけるパターン形成に関し、パターンの解像力を向上させるためにはパターンを形成させる結像面での光のコントラストを高くするのが効果的である。即ち、コントラストが高い程、現像処理後のパターンエッジ部断面は矩形に近い形状となるが、コントラストがなだらかであると、現像処理後のパターンエッジ部断面は角が丸まったなだらかな形状となる。
角同士が互いに近接する複数のパターン領域を露光する場合、該パターン領域外周部、特に、該パターン領域の角付近では、光の回折の影響を強く受け、光のコントラストが落ち、現像後のパターン断面がなだらかな形状となるものと考えられる。この結果、パターン形成面に垂直な方向からみたときに、パターンの角が丸まり、パターンの解像度が低下する現象となって現れるものと推定される。
【００１８】
本発明において、少なくとも１つの角を有する領域としては特に限定はなく、例えば、扇形、水滴形、多角形（三角形、四角形、五角形、六角形等）の領域を挙げることができる。本発明による効果をより効果的に得る観点からは、多角形の領域であることが好ましく、四角形の領域であることがより好ましく、長方形又は正方形の領域であることが特に好ましく、正方形の領域であることが最も好ましい。また、第１領域及び第２領域は同じ形状であることが好ましい（例えば、図１（ａ）中の第１領域１、図１（ｂ）の第２領域２の形状）。
また、本発明において、孤立パターン状の領域とは、該領域の外周部から、該領域を露光する波長をλとしたときの２λの範囲内（好ましくは０．８μｍの範囲内、より好ましくは１．０μｍの範囲内）に、別の露光領域が存在しない状態の領域を意味する。
また、本発明において、第２領域の角と第１領域の角とが「近接」する状態とは、第２領域の角と第１領域の角との距離が、該第２領域を露光する波長をλとしたときの２λ以下（好ましくは１．０μｍ以下、より好ましくは０．８μｍ以下）である配置をいう。
【００１９】
本発明による効果をより効果的に得る観点からは、第１露光工程における露光領域と第２露光工程における露光領域との合成領域である着色パターンの配列は、市松模様状の配列であることがより好ましい（例えば、図２中、第１領域１と第２領域２との合成領域の配列）。
【００２０】
＜第１の露光工程及び第２の露光工程＞
第１露光工程の露光及び第２露光工程の露光における光源としては特に限定はなく、ｈ線、ｇ線、ｉ線、エキシマーレーザー（ＫｒＦ、ＡｒＦ等）を用いることができる。第１露光工程の露光の光源と第２露光工程の露光における光源とは、同じ光源を用いることが好ましい。
露光に用いることができる露光装置には特に限定はなく、ステッパー、アライナー、プロキシミティ型露光装置等、公知の露光装置を特に制限なく用いることができる。中でも、高解像度、重ね合わせ位置決め精度の観点からは、ステッパーが好ましい。
【００２１】
本発明において、第１露光工程における露光と第２露光工程における露光とは、各露光工程用のフォトマスクをそれぞれ用いて行ってもよいし（後述の第１の実施形態参照）、同一のフォトマスクを用いて行ってもよい。同一のフォトマスクを用いて露光する場合、該フォトマスク中の同一のマスクパターンを各露光工程共通のマスクパターンとして用いてもよい（後述の第２の実施形態参照）し、該フォトマスク中に個別に設けられた各露光工程用のマスクパターンを用いてもよい。
【００２２】
また、前記第１露光工程では、基板上の着色層のうち、少なくとも１つの角を有する孤立パターン状の第１領域を露光する。この露光の際、前記第１領域に加え、前記第１領域以外の領域を露光してもよい。例えば、図３（ａ）に示すように、第１露光工程における露光領域として、第１領域１の他に第３領域３が存在していてもよい。図３（ａ）で示す第１露光工程における露光領域と、図３（ｂ）に示す第２露光工程における露光領域とを合成すると、第２領域２と第３領域３とが重複するが、この場合においても、現像後においては、着色パターンの角同士が近接する領域に着色パターンが形成されない領域が生じたり、着色パターンの角同士が結合したりする現象は生じない。
【００２３】
また、前記第２露光工程では、少なくとも、前記第１領域以外の領域であって前記第１領域の角と近接する角を有する孤立パターン状の第２領域を露光する。この露光の際、前記第２領域に加え、前記第２領域以外の領域を露光してもよい。例えば、図４（ｂ）に示すように、第２露光工程における露光領域として、第２領域２の他に第３領域３が存在していてもよい。図４（ａ）で示す第１露光工程における露光領域と、図４（ｂ）に示す第２露光工程における露光領域とを合成すると、第１領域１と第３領域３とが重複するが、この場合においても、現像後においては、着色パターンの角同士が近接する領域に着色パターンが形成されない領域が生じたり、着色パターンの角同士が結合したりする現象は生じない。
以上のように、本発明のパターン形成方法では、少なくとも前記第１領域と前記第２領域とは重複することはないが、前記第１領域及び前記第２領域以外の領域が存在し、前記第１領域又は前記第２領域と重複して露光されることがあってもよい。
【００２４】
また、本発明においては、第１露光工程の前、第１露光工程と第２露光工程との間、及び／又は、第２露光工程と現像工程との間に、その他の露光工程を１工程以上有していてもよい。即ち、本発明のパターン形成方法は、いわゆる二重露光の用途のみに限定されることはなく、三重露光以上の多重露光にも適用できるものである。
【００２５】
また、本発明においては、前記第１露光工程及び前記第２露光工程の処理を、１箇所についてのみ行って現像する形態に限られず、前記第１露光工程及び前記第２露光工程の処理を、露光座標の異なる複数箇所についてそれぞれ行った後、現像する形態であってもよい。
【００２６】
本発明における現像工程は特に限定はなく、現像液を用いた公知の方法を特に制限なく適用できる。該現像液としては、着色層には影響を与えず、未硬化部（ポジ型の場合は露光部、ネガ型の場合は未露光部）を溶解するものであればいかなるものも用いることができる。具体的には、種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液等を用いることができる。
また、本発明の着色パターンの形成方法は、上記工程以外にも、ポスト露光工程、ポストベーク工程等の熱処理工程等、その他工程が設けられていてもよい。
【００２７】
＜第一の実施形態＞
以下、本発明の第一の実施形態について説明する。
第一の実施形態は、露光装置としてステッパーを用い、第１露光工程及び第２露光工程ごとにフォトマスク（「レチクル」ともいう。以下同じ。）を別々に用意し、これらのレチクルを用いて第１の露光工程における露光及び第２の露光工程における露光をそれぞれ行い、図５に示す市松模様状に配列された着色パターン１０を形成する形態である。なお、図５において、着色パターン１０及び着色パターンが形成されていない領域１２は、すべて同じサイズの正方形である。そして着色パターン１０の角同士は接している。
この際、図５に示す市松模様状に配列された着色パターン１０のデータを、第１のパターンのデータ（例えば、図１（ａ）に示す第１領域１の群のデータ）と第２のパターンのデータ（例えば、図１（ｂ）に示す第２領域２の群のデータ）とに分離し、第１のパターン群のデータをレチクル１に、第２のパターン群のデータをレチクル２に、それぞれ描画する。ここで、第１のパターン及び第２のパターンは、パターンの角同士が接しなくなるように分離されている。また、各データは、着色層がネガ形の感光性層の場合は反転させてレチクル上に描画し、着色層がポジ形の感光性層の場合は反転させずにレチクル上に描画する。
【００２８】
次に、第一の実施形態における工程フローを図６を参照して説明する。
まず、ａ）上記レチクル１をステッパー内の縮小投影レンズ上に配置し、ｂ）着色層が形成された基板（以下、「処理基板」ともいう）を前記ステッパー内に搬入し（ロードし）、処理ステージ上に載置する。
次に、ｃ）ステッパーのアライメント手段により、処理基板のアライメントズレを採取する。具体的には、処理基板に既に刻印されているアライメントマーク等を検出し、処理基板がステッパーの基準位置に対し、どの位置にあるかを検出する。
次に、ｄ）検出されたアライメントズレを補正するための重ね合わせ補正値を計算し、該補正値に基づきショットデータ（ステッパーの基準位置に対する露光座標等が入力してある）を補正し、予め決められた露光量で、どの位置に露光を実施すべきかを計算する。  ここで、補正値は、ステッパーのＸ軸方向及びＹ軸方向についてのズレ（ｓｈｉｆｔ）、直交度（ｏｒｔｈ）、倍率、回転（ｒｏｔａｔｉｏｎ）等のパラメータについて計算される。
次に、ｅ）前記計算結果に基づいて、処理基板上の着色層の、例えば５×５ショットの露光座標（計２５箇所）に、レチクル１を用いて第１のパターンをステップ＆リピート露光する（第１露光工程）。
ここで、ステップ＆リピート露光は、同じ像の露光（例えば、図１（ａ）に示す９つの第１のパターンの像）を、基板の複数箇所（例えば、上記５×５ショットの計２５箇所）に順次繰り返し行う操作である。
次に、ｆ）前記レチクル２をステッパー内の縮小投影レンズ上に配置し、ｇ）前記第１露光工程と同じ露光座標（例えば、上記５×５ショットの計２５箇所）に、レチクル２を用いて第２のパターンをステップ＆リピート露光する。
前記第１露光工程及び前記第２露光工程により、第１のパターンによる潜像と第２のパターンによる潜像とが合成されて、着色層上に、市松模様状に配列された潜像が形成される。
次に、ｈ）基板をステッパー外にアンロードし（搬出し）、その後、現像処理を行うことで基板上に図５に示す市松模様状の着色パターン１０が形成される。
【００２９】
以上で説明した第一の実施形態では、市松模様状のパターン領域を、第１露光工程と第２露光工程とに分けて露光するため、各露光工程内では光が近接する領域は存在しない。即ち、矩形の露光領域の角同士が接触することはない。このため、光近接により矩形領域の角の解像度が低下する現象を抑え、角の形状が良好な市松模様状パターンを寸法精度よく形成できる。
なお、１ショット内の着色パターンの個数、露光箇所（ショット数）は、上記に限定されることはなく、目的に応じて適宜設定することができる。
【００３０】
＜第二の実施形態＞
本発明の第二の実施形態は、露光装置としてステッパーを用い、同一のレチクル中における同一パターンを用い、第１の露光工程における露光座標と第２の露光工程における露光座標とを、１つのパターンのサイズ分だけＸ軸方向及びＹ軸方向にシフトさせて（ずらして）露光し、前記第一の実施形態と同様に、図５に示す市松模様状の着色パターン１０を形成する形態である。
【００３１】
第二の実施形態における工程フローを図７に示す。
まず、第一の実施形態と同様にして、ａ）前記レチクル１をステッパー内の縮小投影レンズ上に配置し、ｂ）処理基板を前記ステッパー内に搬入し、処理ステージ上に載置し、ｃ）処理基板のアライメントズレを採取し、ｄ）重ね合わせ補正値を計算し、どの位置に露光を実施すべきかを計算する。
次に、ｅ）前記計算結果に基づいて、処理基板上の着色層の１ショット目の露光座標に、レチクル１を用いて第１のパターンの露光を行う（第１露光工程）。
次に、ｆ）前記第１露光工程における１ショット目の露光座標をパターンサイズ分だけＸ軸方向及びＹ軸方向にｓｈｉｆｔさせ、ｇ）レチクル１を用いて第２のパターンの露光を行う（第２露光工程）。
ｇ）工程終了後、ショットデータ中にまだ露光すべき座標が残っている場合には、次のショットに移動して、ｅ）〜ｆ）の操作を繰り返し行う（ステップ＆リピート露光）。一方、ショットデータ中の全ての座標の露光が終了し、露光すべき座標が残っていない場合には、下記ｉ）工程に進む。
以上により、第一の実施形態と同様に、市松模様状に配列された潜像が形成される。
次に、ｉ）基板をステッパー外にアンロード（搬出）し、その後、処理基板を現像処理することで基板上に図５に示す市松模様状の着色パターン１０が形成される。
【００３２】
上記第二の実施形態においては、上記ｅ）〜ｈ）の工程を、図８に示すように変更してもよい。
即ち、ｅ）処理基板上の着色層の、例えば５×５ショットの露光座標（計２５箇所）に、レチクル１を用いて第１のパターンをステップ＆リピート露光する（第１露光工程）。
次に、ｆ）前記第１露光工程における、例えば５×５ショットの露光座標全体をパターンサイズ分だけＸ軸方向及びＹ軸方向にｓｈｉｆｔさせ、ｇ）レチクル１を用い、５×５ショットについて、第２のパターンをステップ＆リピート露光する（第２露光工程）。
なお、上記第二の実施形態におけるステップ＆リピート露光では、処理ステージの移動距離が最短となるようにステップを設定することができる。
【００３３】
上記Ｘ軸方向及びＹ軸方向のｓｈｉｆｔの精度は、ステッパーのステージ移動精度で決まる値であり、その精度は一般的に０．０５μｍ以下であるため、問題になることはない。例えば、後述するカラーフィルタを形成する場合、画素サイズは１．５μｍ程度であるため、重ね合わせ精度は画素サイズの５％以下であり、製造歩留まりを悪化させる要因にはならない。
【００３４】
以上で説明した第二の実施形態では、市松模様状の着色パターンのうちコーナー同士が近接するパターンを、第１露光工程と第２露光工程とに分けて露光するため、各露光工程内では光が近接する領域は存在しない。即ち、矩形の露光領域の角同士が接触することはない。このため、光近接により矩形領域の角の解像度が低下する現象を抑え、角の形状が良好な市松模様状パターンを寸法精度よく形成できる。
なお、１ショット内の着色パターンの個数、露光箇所（ショット数）は、上記に限定されることはなく、目的に応じて適宜設定することができる。
【００３５】
＜支持体＞
本発明における支持体としては特に制限はないが、例えば、液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板、酸化膜、窒化シリコン等が挙げられる。また、これら支持体と着色パターンとの間には本発明を損なわない限り中間層などを設けてもよい。
【００３６】
＜着色層＞
（着色光硬化性組成物）
本発明における支持体上の着色層は、着色剤を含有する着色光硬化性組成物を支持体上に付与（例えば、スピン塗布、スリット塗布等）する等、公知の手段により設けることができる。
前記着色光硬化性組成物は、着色剤、光硬化性成分を少なくとも含むものを用いることができる。この内「光硬化性成分」としては、フォトリソ法に通常用いられる光硬化性組成物であり、バインダー樹脂（アルカリ可溶性樹脂等）、感光性重合成分（光重合成モノマー等）、光重合開始剤等を少なくとも含む組成物を用いることができる。
着色光硬化性組成物については、例えば特開２００５−３２６４５３号公報の段落番号００１７〜００６４に記載の事項をそのまま適用することができる。
【００３７】
〜着色剤〜
本発明に用いることができる着色剤としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を挙げることができる。
前記顔料は、無機顔料であれ有機顔料であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮すると、なるべく粒子サイズの小さいものの使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、顔料の平均粒子径としては０．０１〜０．１μｍが好ましく、０．０１〜０．０５μｍがより好ましい。
一般には、着色光硬化性組成物に顔料を含む場合、該顔料により露光光が分散され、光重合が拡散されて、一般的なフォトレジストに対し解像力が劣る場合があるが、着色パターンの形成方法として、前述の本発明の構成とすることにより、顔料を有する場合でも着色パターンのコーナーの形成性を良好に保つことができる。
【００３８】
前記無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で表される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、および前記金属の複合酸化物等を挙げることができる。
【００３９】
前記有機顔料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメント  イエロー  １１，  ２４，  ３１，  ５３，  ８３，  ９３，  ９９，  １０８，  １０９，  １１０，  １３８，  １３９，  １４７，  １５０，  １５１，  １５４，  １５５，  １６７，  １８０，  １８５，  １９９；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  オレンジ  ３６，  ３８，  ４３，  ７１；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  レッド  ８１，  １０５，  １２２，  １４９，  １５０，  １５５，  １７１，  １７５，  １７６，  １７７，  ２０９，  ２２０，  ２２４，  ２４２，  ２５４，  ２５５，  ２６４，  ２７０；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  バイオレット  １９，  ２３，  ３２，  ３７，  ３９；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブルー  １，  ２，  １５，  １５：１，  １５：３，  １５：６，  １６，  ２２，  ６０，  ６６；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  グリーン  ７，  ３６，  ３７；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブラウン  ２５，  ２８；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブラック  １，  ７；
カーボンブラック等を挙げることができる。
【００４０】
本発明では、特に、顔料の構造式中に塩基性のＮ原子をもつものを好ましく用いることができる。これら塩基性のＮ原子をもつ顔料は本発明の組成物中で良好な分散性を示す。その原因については十分解明されていないが、組成物中の成分と顔料との親和性の良さが影響しているものと推定される。
【００４１】
本発明においては特に限定されるものではないが、下記の顔料がより好ましい。
Ｃ．Ｉ．ピグメント  イエロー  １１，  ２４，  １０８，  １０９，  １１０，  １３８，  １３９，  １５０，  １５１，  １５４，  １６７，  １８０，  １８５，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  オレンジ  ３６，  ７１，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  レッド  １２２，  １５０，  １７１，  １７５，  １７７，  ２０９，  ２２４，  ２４２，  ２５４，  ２５５，  ２６４，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  バイオレット  １９，  ２３，  ３７，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブルー  １５：１，  １５：３，  １５：６，  １６，  ２２，  ６０，  ６６，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブラック  ７
【００４２】
これら有機顔料は、単独もしくは、色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。組合せの具体例を以下に示す。
例えば、赤色の用途に用いられる顔料としては、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、若しくはジケトピロロピロール系顔料単独、または、それらの少なくとも一種と、ビスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料若しくはペリレン系赤色顔料との混合物などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７が挙げられ、ペリレン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４が挙げられる。色再現性の点で、これらとＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９との混合物が好ましい。また、赤色の用途に用いられる顔料における、赤色顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５〜１００：５０が好ましい。前記質量比が１００：５以上であると、４００ｎｍ〜５００ｎｍの光透過率をより低減させることができ、色純度をより向上させることができる。また、１００：５０以下であると、主波長が短波長よりになる現象や、ＮＴＳＣ目標色相からのずれが大きくなる現象をより効果的に抑制できる。
特に、前記質量比としては、１００：１０〜１００：３０の範囲が最適である。尚、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、色度に併せて調整することができる。
【００４３】
また、緑色の用途に用いられる顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料（例えば、ピグメントグリーン７及びピグメントグリーン３６その他の下記一般式（Ｉ）で表される化合物、ピグメントグリーン３７、等）単独、または、これとビスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料若しくはイソインドリン系黄色顔料との混合物を用いることができる。
【００４４】
【化１】
2009025629.tif 000003
【００４５】
一般式（Ｉ）中、Ｘ１〜Ｘ１６は、それぞれ独立に、塩素原子又は臭素原子を表す。
【００４６】
また、緑色の用途に用いられる顔料の組み合わせの例としては、ピグメントグリーン７及びピグメントグリーン３６その他の下記一般式（Ｉ）で表される化合物、ピグメントグリーン３７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１，２４，１０８，１０９，１１０，１３８，１３９，１５０，１５１，１５４，１６７，１８０，及び１８５の中から選択される少なくとも２種の組み合わせが挙げられる。
可視光領域である４００ｎｍから７００ｎｍの波長領域において、５００ｎｍから５７０ｎｍの範囲に透過率のピークが８０％以上であるグリーンの分光特性であれば、上記ピグメントの組み合わせはいかなる組み合わせでもよい。
【００４７】
例えば、このような例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、３７と、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０またはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５との混合物が好ましい。緑色の用途に用いられる顔料における、緑色顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５〜１００：１５０が好ましい。前記質量比が１００：５以上であると、４００ｎｍ〜４５０ｎｍの光透過率をより低減させることができ、色純度をより向上させることができる。また、１００：１５０以下であると、主波長が長波長よりになる現象や、ＮＴＳＣ目標色相からのずれが大きくなる現象をより効果的に抑制できる。
質量比としては１００：３０〜１００：１２０の範囲が特に好ましい。
【００４８】
青色の用途に用いられる顔料としては、フタロシアニン系顔料単独、または、これとジオキサジン系紫色顔料との混合物を用いることができる。例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３との混合物が好ましい。青色の用途に用いられる顔料における、青色顔料と紫色顔料との質量比は、１００：０〜１００：５０が好ましく、より好ましくは１００：５〜１００：３０である。
【００４９】
また、ブラックマトリックス用の顔料としては、カーボン、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン単独またはこれらの混合が挙げられ、カーボンとチタンブラックとの組合せが好ましい。また、カーボンとチタンブラックとの質量比は、１００：０〜１００：６０の範囲が好ましい。１００：６０以下であれば、分散安定性をより向上させることができる。
【００５０】
顔料の非水系顔料分散組成物中における含有量としては、該組成物の全固形分（質量）に対して、４０〜９０質量％が好ましく、５０〜８０質量％がより好ましい。顔料の含有量が前記範囲内であると、色濃度が充分で優れた色特性を確保するのに有効である。
【００５１】
〜各種添加物〜
本発明における着色性硬化性組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、各種添加物、例えば、バインダー、硬化剤、硬化触媒、溶剤、充填剤、前記以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、分散剤、等を配合することができる。
【００５２】
〜〜  バインダー  〜〜
前記バインダーは、顔料分散液調製時に添加する場合が多く、アルカリ可溶性を必要とせず、有機溶剤に可溶であればよい。
【００５３】
前記バインダーとしては、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶であるものが好ましい。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば、特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が挙げられ、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体が有用である。
【００５４】
これら各種バインダーの中でも、耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
【００５５】
前記アクリル系樹脂としては、ベンジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド等から選ばれるモノマーからなる共重合体、例えばベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸、ベンジルメタアクリレート／ベンジルメタアクリルアミドのような各共重合体、ＫＳレジスト−１０６（大阪有機化学工業（株）製）、サイクロマーＰシリーズ（ダイセル化学工業（株）製）等が好ましい。
これらのバインダー中に前記着色剤を高濃度に分散させることで、下層等との密着性を付与でき、これらはスピンコート、スリットコート時の塗布面状にも寄与している。
【００５６】
〜〜  溶剤  〜〜
前記着色光硬化性組成物は各種溶剤に溶解された溶液として用いることができる。本発明における着色光硬化性組成物に用いられるそれぞれの溶剤は、各成分の溶解性や着色光硬化性組成物の塗布性を満足すれば基本的に特に限定されない
【００５７】
〜〜  分散剤  〜〜
また、前記分散剤は顔料の分散性を向上させるために添加することができる。前記分散剤としては、公知のものを適宜選定して用いることができ、例えば、カチオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、高分子分散剤等が挙げられる。
これらの分散剤としては、多くの種類の化合物が用いられるが、例えば、フタロシアニン誘導体（市販品ＥＦＫＡ−７４５（エフカ社製））、ソルスパース５０００（日本ルーブリゾール社製）；オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮo.７５、Ｎo.９０、Ｎo.９５（共栄社油脂化学工業（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等のカチオン系界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤；Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）製）等のアニオン系界面活性剤；ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０（以上森下産業（株）製）、ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００（サンノプコ（株）製）等の高分子分散剤；ソルスパース３０００、５０００、９０００、１２０００、１３２４０、１３９４０、１７０００、２４０００、２６０００、２８０００などの各種ソルスパース分散剤（日本ルーブリゾール社製）；アデカプルロニックＬ３１、Ｆ３８、Ｌ４２、Ｌ４４、Ｌ６１、Ｌ６４、Ｆ６８、Ｌ７２、Ｐ９５、Ｆ７７、Ｐ８４、Ｆ８７、Ｐ９４、Ｌ１０１、Ｐ１０３、Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３（旭電化（株）製）およびイソネットＳ−２０（三洋化成（株）製）が挙げられる
【００５８】
前記分散剤は、単独で用いてもよくまた２種以上組み合わせて用いてもよい。前記分散剤の前記着色光硬化性組成物中の添加量は、通常顔料１００質量部に対して０．１〜５０質量部程度が好ましい。
【００５９】
〜〜  その他の添加剤  〜〜
前記着色光硬化性組成物には、必要に応じて各種添加剤を更に添加することができる。各種添加物の具体例としては、上記の着色光硬化性組成物において説明した各種添加剤を挙げることができる。
【００６０】
＜カラーフィルタ＞
本発明のカラーフィルタは、前述の着色パターンの形成方法を用いて形成された着色パターンを有して構成される。
本発明のカラーフィルタとしては、液晶表示装置用カラーフィルタ、固体撮像素子用カラーフィルタ等が挙げられるが、本発明の効果をより効果的に奏する観点からは、固体撮像素子（ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等）用カラーフィルタが好ましい。
【００６１】
固体撮像素子用カラーフィルタの好ましい形態として、図９に示すカラーフィルタのように、赤色（Ｒ）画素、緑色（Ｇ）画素、及び青色（Ｂ）画素等の複数色を有し、緑色（Ｇ）画素が市松模様状に配列されている形態がある。即ち、赤色（Ｒ）画素、緑色（Ｇ）画素、及び青色（Ｂ）画素を有する固体撮像素子の総画素数をＮとしたとき、Ｇ画素の解像度（画素数）は２／Ｎ、Ｒ画素の画素数は４／Ｎ、Ｂ画素の画素数は４／Ｎとなっている形態である。この形態においては、各画素ごとに周辺の画素の出力を用いて補間演算を行うことによりＮ個のＲＧＢの組を作り出すことができる。補間演算の方式により画質が影響を受けるため、各カメラメーカーは独自に処理方法を採用している。ここで、Ｇ画素を他の画素の２倍設けているのは、人間の眼の分光感度が緑付近をピークとしており、緑の解像度が見かけ上の解像度を向上させるためである。
上記形態では、以上のとおり緑の分光感度は色分離には非常に重要なファクターであるため、緑色画素について透過分光特性の最適化、パターン形成性の安定化が求められる。  以上の観点より、本発明の着色パターンの形成方法を用い市松模様状の緑色画素群を形成する形態が好ましい。
【００６２】
パターン形成性の観点からは、本発明のカラーフィルタは、特に１００万画素を超えるような高解像度の固体撮像素子に好適であり、中でも、着色画素の寸法が２．５μｍ以下であることが好ましく、着色画素の寸法が２．０μｍ以下であることがより好ましく、着色画素の寸法が１．７μｍ以下であることが特に好ましい。
【実施例】
【００６３】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
また、以下の各工程において、市販の処理液を用いた処理を行う場合、特記しない限り各処理液の製造メーカー指定の方法に従って処理を行った。
【００６４】
〔実施例１〕
＜カラーフィルタの作製＞
（フォトマスクの作製）
グリーン画素を形成するためのデータ、即ち、１．６μｍ角の正方形パターンが市松模様状に配列されたデータを、第１のアイランドパターンのデータと第２のアイランドパターンのデータとに分離し、第１のアイランドパターンを描画したレチクル１（フォトマスク）と、第２のアイランドパターンを描画したレチクル２（フォトマスク）とを作製した。前記データの分離は、アイランドパターンの角同士が互いに近接することがないように分離した。
【００６５】
（着色層の形成）
シリコン基板上にＣＴ−４０００Ｌ（富士フイルムエレクトロマテリアルズ製）が形成された基板に、スピンコーターにてグリーンの光硬化性組成物「ＳＧ−５０００Ｌ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を膜厚０．８μｍの塗布膜となるように塗布した後、ホットプレートを使用し、塗布膜の温度又は雰囲気温度が１００℃となる温度で２分間のプリベーク処理を行ってグリーン着色層を得た。その後、クーリングプレートにて基板を２３℃になるようにクーリング処理を行った。
前記シリコン基板には、グリーンの光硬化性組成物を塗布する前に、予めステッパーのウエハアライメント処理に使用するアライメントマークを形成しておいた。
【００６６】
（レチクル１の配置）
前記レチクル１と前記レチクル２とをステッパー（ｉ線ステッパー；キャノン（株）製ＦＰＡ３０００ｉ５＋）に装填し、レチクル１を該ステッパーの縮小投影レンズ上に配置し、アライメント処理を行った。
【００６７】
（第１露光工程）
続いて、ＳＧ−５０００Ｌが塗布形成されたシリコン基板を、前記ステッパー内のウエハステージホルダーにロード（載置）した。次に、シリコン基板に刻印してあるマトリックスと同一の５×５ショット、ショットピッチ２０ｍｍ×２０ｍｍのマトリックスプログラムにて、グローバルアライメント、ファインアライメント処理を行った後、１５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量でレチクル１を介してパターン露光を行った。
【００６８】
（レチクル２の配置）
前記パターン露光後、レチクル１を縮小投影レンズ上からアンロード（搬出）し、次いでレチクル２をステッパーの縮小投影レンズ上に配置し、アライメント処理を行った。
【００６９】
（第２露光工程）
前記第１露光工程による露光が行われたシリコン基板に対し、レチクル１で露光処理したマトリックスと同一の、５×５ショット、ショットピッチ２０ｍｍ×２０ｍｍのマトリックスプログラムにて、１５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量でレチクル２を介してパターン露光を行った。
その後、第１露光工程及び第２露光工程により露光された基板をステッパー外に搬出した。
第１露光工程及び第２露光工程を通じて、シリコン基板１枚あたりの処理時間は１２０秒であった。
【００７０】
（現像処理）
前記第１露光工程及び前記第２露光工程後の基板を、現像液「ＣＤ−２０６０」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）で１分間パドル現像処理を行った。その後、純水による２０秒のリンス処理、スピンドライによる乾燥処理を行った。さらに、２２０℃で５分間ポストベークし、市松模様状に配列された１．６μｍ角のグリーンパターン（グリーン画素）を得た。
以上により、シリコン基板上にグリーン画素を有するカラーフィルタを得た。
【００７１】
＜評価＞
得られたグリーンパターンの形状を、走査型電子顕微鏡Ｓ−９２６０Ａ（日立ハイテクノロジーズ社製）を用い、倍率３万倍でグリーンパターンに垂直な方向（基板に垂直な方向）から観察した。この観察結果に基づき、下記基準に従ってパターンコーナー（パターンの角）の矩形性を評価した。評価結果を表１に示す。
〜評価基準〜
○：パターンのコーナー同士の結合がなく、かつ、パターンコーナーが矩形に形成されていた。画素サイズは、設計値１．６μｍに対し、０．１μｍ以下のズレで形成されていた。
△：パターンのコーナー同士の結合がなく、かつ、パターンコーナーが矩形に形成されていた。画素サイズは、設計値１．６μｍに対し、０．１μｍ以上のズレで形成されていた（実用上許容範囲内）。
×：パターンのコーナー同士が結合し、画素のコーナーを矩形に形成できなかった（実用上許容範囲を超えていた）。
【００７２】
〔実施例２〜４〕
実施例１において、第１露光工程及び第２露光工程における露光量を、１２５ｍＪ（実施例２）、１７５ｍＪ（実施例３）、２００ｍＪ（実施例４）に変更した以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製し、実施例１と同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。
第１露光工程及び第２露光工程を通して、シリコン基板１枚あたりの処理時間は、実施例２では１１０秒、実施例３では１３０秒、実施例４では１４０秒であった。
【００７３】
〔実施例５〕
実施例１において、レチクル１のみを用いて第１露光工程及び第２露光工程の露光を行った以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製し、実施例１と同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。
なお、レチクル１の配置、第１露光工程、及び第２露光工程の詳細は以下の通りである。
【００７４】
（レチクル１の配置）
前記レチクル１のみをステッパー（ｉ線ステッパー；キャノン（株）製ＦＰＡ３０００ｉ５＋）に装填し、レチクル１を該ステッパーの縮小投影レンズ上に配置し、アライメント処理を行った。
【００７５】
（第１露光工程）
続いて、ＳＧ−５０００Ｌが塗布された基板をウエハステージホルダーにロードした。シリコン基板に刻印してあるマトリックスと同一の５×５ショット、ショットピッチ２０ｍｍ×２０ｍｍのマトリックスプログラムにて、グローバルアライメント，ファインアライメント処理を行った後、１５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量でレチクル１を介してパターン露光を行った。
【００７６】
（第２露光工程）
前記第１露光工程による露光が行われたシリコン基板に対し、ショットマトリックスの重ね合わせを、Ｘ：＋１．６μｍ、Ｙ：＋１．６μｍシフトさせ、レチクル１を介してパターン露光を行った。
第１露光工程及び第２露光工程を通じて、シリコン基板１枚あたりの処理時間は７０秒であった。
【００７７】
〔実施例６〜８〕
実施例５において、第１露光工程及び第２露光工程における露光量を、１２５ｍＪ（実施例６）、１７５ｍＪ（実施例７）、２００ｍＪ（実施例８）に変更した以外は実施例５と同様にしてカラーフィルタを作製し、実施例１と同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。
第１露光工程及び第２露光工程を通じて、シリコン基板１枚あたりの処理時間は、実施例６では６０秒、実施例７では８０秒、実施例８では９０秒であった。
【００７８】
〔比較例１〕
実施例１のフォトマスクの作製に用いた市松模様状のデータを、分離することなく１枚のレチクルに描画して、レチクル３を作製した。
次に、実施例５において、レチクル１の代わりにレチクル３を用い、第２露光工程は行わず第１露光工程のみを行った以外は実施例５と同様にしてカラーフィルタを作製し、実施例１と同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００７９】
〔比較例２〜４〕
比較例１において、第１露光工程における露光量を、１２５ｍＪ（比較例２）、１７５ｍＪ（比較例３）、２００ｍＪ（比較例４）に変更した以外は比較例１と同様にしてカラーフィルタを作製し、比較例１と同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００８０】
【表１】
2009025629.tif 000004
【００８１】
表１に示すように、実施例１〜８では、広範な露光波長に渡り着色パターンの角（コーナー）の形成性が良好であった。この結果は、従来のパターン形成方法に比べ、角の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となることを示す。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】（ａ）は、本発明の一実施形態における着色層の第１領域を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）と同じ実施形態における着色層の第２領域を示す平面図であり、
【図２】本発明の一実施形態における着色層の、第１領域と第２領域との合成領域を示す平面図である。
【図３】（ａ）は、本発明の別の実施形態における第１領域を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）と同じ実施形態における第２領域を示す平面図である。
【図４】（ａ）は、本発明の別の実施形態における第１領域を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）と同じ実施形態における第２領域を示す平面図である。
【図５】第一の実施形態及び第二の実施形態において形成された、市松模様状に配列された着色パターンを示す平面図である。
【図６】第一の実施形態の工程フローを示す概念図である。
【図７】第二の実施形態の工程フローを示す概念図である。
【図８】第二の実施形態の別の工程フローを示す概念図である。
【図９】本発明の一実施形態におけるカラーフィルタを示す平面図である。
【図１０】従来のフォトマスクのパターンを示す平面図である。
【図１１】従来のフォトマスクを用いて形成しようとする着色パターンを示す平面図である。
【図１２】（ａ）及び（ｂ）は、従来の着色パターンを示す平面図である。
【符号の説明】
【００８３】
１  第１領域
２  第２領域
１０  着色パターン
【図１】
2009025629.tif 000005
【図２】
2009025629.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2009025629.tif 000015
【図１２】
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