(57)【要約】【課題】  遮光性、耐腐食性及び安定した電波透過性を有する加飾シートとその製造方法、加飾成形品を提供することを目的とする。【解決手段】  本発明の加飾シート１１０は、表面の一部または全部に多数かつ微細な凹凸部３を備え、その断面の凸部の上部が平らである形状を有し、平らである部分の平面形状が島状である基体シート１の上に、基体シート１の凸部の上部の上のみに金属薄膜層２が少なくとも形成されるように構成されている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の一部または全部に多数かつ微細な凹凸部を備え、その断面の凸部の上部が平らである形状を有し、平らである部分の平面形状が島状である基体シートの上に、基体シートの凸部の上部のみに金属薄膜層が少なくとも形成されたことを特徴とする加飾シート。
【請求項２】
基体シートの上に、表面の一部または全部に多数かつ微細な凹凸部を備え、その断面の凸部の上部が平らである形状を有し、平らである部分の平面形状が島状である塗膜層が形成され、その凸部の上部のみに金属薄膜層が少なくとも形成されたことを特徴とする加飾シート。
【請求項３】
金属薄膜層の上にレジスト層が形成された請求項１〜２の加飾シート。
【請求項４】
接着層が加飾シートの最外面に形成された請求項１〜３に記載の加飾シート。
【請求項５】
凸部の上部の各間隔が０．０１μｍ〜２μｍであり、かつ凹部のアスペクト比が０．０１〜５である請求項１〜４のいずれかに記載の加飾シート。
【請求項６】
凸部の上部の面積が０．００１μｍ２〜４μｍ２である請求項１〜５にいずれかに記載の加飾シート。
【請求項７】
基体シートが離型性を有するものである請求項１〜６のいずれかに記載の加飾シート。
【請求項８】
基体シートが密着性を有するものである請求項１〜６のいずれかに記載の加飾シート。
【請求項９】
金属薄膜層がアルミニウム、銅、クロム、ニッケル、銀、金のいずれかからなる請求項１〜８のいずれかに記載の加飾シート。
【請求項１０】
金属薄膜層の厚さが０．０１μｍ〜１μｍである請求項１〜９のいずれかに記載の加飾シート。
【請求項１１】
基体シートの表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と凹部を形成し、次いで凹部の底部に水溶性パターン層を形成し、次いで凸部の上部および凹部の水溶性パターン層の上に金属薄膜層を形成し、次いで凹部にある水溶性パターン層と金属薄膜層を水洗処理で剥離除去することにより、金属薄膜層を微細な島状に形成することを特徴とする加飾シートの製造方法。
【請求項１２】
塗膜層が形成された基体シートの塗膜層の上にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と凹部を形成し、次いで凹部の底部に水溶性パターン層を形成し、次いで凸部の上部および凹部の水溶性パターン層の上に金属薄膜層を形成し、次いで凹部にある水溶性パターン層と金属薄膜層を水洗処理で剥離除去することにより、金属薄膜層を微細な島状に形成することを特徴とする加飾シートの製造方法。
【請求項１３】
基体シートの表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と凹部を形成し、次いで凸部の上部および凹部の底部に金属薄膜層を形成し、次いで凸部の上部にある金属薄膜層の上にレジスト層を形成し、次いで凹部の底部にある金属薄膜層をウエットエッチング法で除去することにより、金属薄膜層を微細な島状に形成することを特徴とする加飾シートの製造方法。
【請求項１４】
塗膜層が形成された基体シートの塗膜層の上に表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と凹部を形成し、次いで凸部の上部および凹部の底部に金属薄膜層を形成し、次いで凸部の上部にある金属薄膜層の上にレジスト層を形成し、次いで凹部の底部にある金属薄膜層をウエットエッチング法で除去することにより、金属薄膜層を微細な島状に形成することを特徴とする加飾シートの製造方法。
【請求項１５】
接着層が加飾シートの最外面に形成された請求項１１〜１４のいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項１６】
凸部の上部の各間隔が０．０１μｍ〜２μｍであり、かつ凹部のアスペクト比が０．０１〜５である請求項１１〜１５のいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項１７】
凸部の上部の面積が０．００１μｍ２〜４μｍ２である請求項１１〜１５にいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項１８】
基体シートが離型性を有するものである請求項１１〜１７のいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項１９】
基体シートが密着性を有するものである請求項１１〜１７のいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項２０】
金属薄膜層がアルミニウム、銅、クロム、ニッケル、銀、金のいずれかからなる請求項１１〜１９のいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項２１】
金属薄膜層が真空蒸着法により形成される請求項１１〜２０のいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項２２】
金属薄膜層の厚さが０．０１μｍ〜１μｍである請求項１１〜２１のいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項２３】
ウエットエッチング法がディップ式である請求項１１〜２２のいずれかに記載の加飾シートの製造方法。
【請求項２４】
請求項１〜１０のいずれかに記載の加飾シートを金型内に配置し、樹脂を射出することによって成形されたことを特徴とする加飾成形品。
【請求項２５】
請求項１〜１０のいずれかに記載の加飾シートを金型内に配置し、樹脂を射出し、基体シートを剥離することによって成形されたことを特徴とする加飾成形品。
【請求項２６】
請求項１〜１０のいずれかに記載の加飾シートを表面に一体に接合したことを特徴とする加飾成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属光沢を有するとともに、絶縁性及び遮光性を兼ね備えた加飾シートとその製造方法と加飾成形品に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話などの通信機器、自動車内部の情報機器、家電製品などにおいて、プラスチック成形品の表面に、電波透過性の金属光沢を表現するため、加飾シートを用いて装飾を行う方法がある。
【０００３】
被転写物面を装飾する方法として、インサート法および転写法がある。インサート法とは、基体シート上に金属薄膜層などが形成された加飾シートを用い、加熱加圧して加飾層を被加飾物に密着させ装飾を行う方法である。また、被加飾物が樹脂成形品である場合に、インサート法をより合理的に行う方法として、成形同時インサート法がある。成形同時インサート法とは、加飾シートを成形金型内に挟み込み、金型内に樹脂を射出充満させ、冷却して樹脂成形品を得るのと同時に成形品表面にインサートシートを接着させ装飾を行う方法である。
転写法とは、基体シート上に、剥離層、金属薄膜層などからなる転写層を形成した転写シートを用い、加熱加圧して転写層を被転写物に密着させた後、基体シートを剥離して、被転写物面に転写層のみを転移して装飾を行う方法である。また、被転写物が樹脂成形品である場合に、転写法をより合理的に行う方法として、成形同時転写法がある。成形同時転写法とは、転写シートを成形金型内に挟み込み、金型内に樹脂を射出充満させ、冷却して樹脂成形品を得るのと同時に成形品表面に転写シートを接着させた後、基体シートを剥離して、被転写物面に転写層を転移して装飾を行う方法である。
【０００４】
これらの方法に用いる金属光沢と電波透過性を兼ね備えた加飾シートとして、真空蒸着法を用い、基体シートの上に形成する金属薄膜層を島状に形成したことを特徴とするものがある（たとえば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開昭６２−１７４１８９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記加飾シートにおいて、島状に形成される金属薄膜層は極めて薄く構成されているので、上記加飾シートは、遮光性を有さずディスプレイ窓部など照光機能が必須とされるものには適用できない上に、高温高湿の環境下では容易に腐食され、金属薄膜層にピンホール不良が発生しやすいという問題があった。また上記の製造方法で作成された加飾シートは、金属薄膜層内において金属薄膜が一定に形成されていないので、その電波透過性は不安定なものであるという問題もあった。
【０００７】
したがって、本発明は、上記のような問題点を解消し、遮光性、耐腐食性及び安定した電波透過性を有する加飾シートとその製造方法、加飾成形品を提供することを目的とする。
【０００８】
本発明の加飾シートとその製造方法、加飾成形品は上記の目的を達成するために、次のように構成した。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち、本発明の加飾シートは、表面の一部または全部に多数かつ微細な凹凸部を備え、その断面の凸部の上部が平らである形状を有し、平らである部分の平面形状が島状である基体シートの上に、基体シートの凸部の上部のみに金属薄膜層が少なくとも形成されるように構成した。
【００１０】
また、本発明の第２態様の加飾シートは、基体シートの上に、表面の一部または全部に多数かつ微細な凹凸部を備え、その断面の凸部の上部が平らである形状を有し、平らである部分の平面形状が島状である塗膜層が形成され、その凸部の上部のみに金属薄膜層が少なくとも形成されるように構成した。
【００１１】
また、本発明の第３態様として、第１〜２態様の加飾シートは、金属薄膜層の上にレジスト層が形成されるように構成することもできる。
【００１２】
また、本発明の第４態様として、第１〜３態様の加飾シートは、接着層が加飾シートの最外面に形成されるように構成することもできる。
【００１３】
また、本発明の第５態様として、第１〜４態様の加飾シートは、凸部の上部の各間隔が０．０１μｍ〜２μｍであり、かつ凹部のアスペクト比が０．０１〜５であるように構成することもできる。
【００１４】
また、本発明の第６態様として、第１〜５態様の加飾シートは、凸部の上部の面積が０．００１μｍ２〜４μｍ２であるように構成することもできる。
【００１５】
本発明の第７態様として、第１〜６態様の加飾シートは、基体シートが離型性を有するものであるように構成することもできる。
【００１６】
本発明の第８態様として、第１〜６態様の加飾シートは、基体シートが密着性を有するものであるように構成することもできる。
【００１７】
本発明の第９態様として、第１〜８態様の加飾シートは、金属薄膜層がアルミニウム、銅、クロム、ニッケル、銀、金のいずれかからなるように構成することもできる。
【００１８】
本発明の第１０態様として、第１〜９態様の加飾シートは、金属薄膜層の厚さが０．０１μｍ〜１μｍであるように構成することもできる。
【００１９】
本発明の第１１態様の加飾シートの製造方法は、基体シートの表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と凹部を形成し、次いで凹部の底部に水溶性パターン層を形成し、次いで凸部の上部および凹部の水溶性パターン層の上に金属薄膜層を形成し、次いで凹部にある水溶性パターン層と金属薄膜層を水洗処理で剥離除去することにより、金属薄膜層を微細な島状に形成するように構成した。
【００２０】
本発明の第１２態様の加飾シートの製造方法は、塗膜層が形成された基体シートの塗膜層の上にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と凹部を形成し、次いで凹部の底部に水溶性パターン層を形成し、次いで凸部の上部および凹部の水溶性パターン層の上に金属薄膜層を形成し、次いで凹部にある水溶性パターン層と金属薄膜層を水洗処理で剥離除去することにより、金属薄膜層を微細な島状に形成するように構成した。
【００２１】
本発明の第１３態様の加飾シートの製造方法は、基体シートの表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と凹部を形成し、次いで凸部の上部および凹部の底部に金属薄膜層を形成し、次いで凸部の上部にある金属薄膜層の上にレジスト層を形成し、次いで凹部の底部にある金属薄膜層をウエットエッチング法で除去することにより、金属薄膜層を微細な島状に形成するように構成した。
【００２２】
本発明の第１４態様の加飾シートは、塗膜層が形成された基体シートの塗膜層の上に表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と凹部を形成し、次いで凸部の上部および凹部の底部に金属薄膜層を形成し、次いで凸部の上部にある金属薄膜層の上にレジスト層を形成し、次いで凹部の底部にある金属薄膜層をウエットエッチング法で除去することにより、金属薄膜層を微細な島状に形成するように構成した。
【００２３】
本発明の第１５態様として、第１１〜１４態様の加飾シートの製造方法は、接着層が加飾シートの最外面に形成されるように構成することもできる。
【００２４】
本発明の第１６態様として、第１１〜１５態様の加飾シートの製造方法は、凸部の上部の各間隔が０．０１μｍ〜２μｍであり、かつ凹部のアスペクト比が０．０１〜５であるように構成することもできる。
【００２５】
本発明の第１７態様として、第１１〜１６態様の加飾シートの製造方法は、凸部の上部の面積が０．００１μｍ２〜４μｍ２であるように構成することもできる。
【００２６】
本発明の第１８態様として、第１１〜１７態様の加飾シートの製造方法は、基体シートが離型性を有するものであるように構成することもできる。
【００２７】
本発明の第１９態様として、第１１〜１７態様の加飾シートの製造方法は、基体シートが密着性を有するものであるように構成することもできる。
【００２８】
本発明の第２０態様として、第１１〜１９態様の加飾シートの製造方法は、金属薄膜層がアルミニウム、銅、クロム、ニッケル、銀、金のいずれかからなるように構成することもできる。
【００２９】
本発明の第２１態様として、第１１〜２０態様の加飾シートの製造方法は、金属薄膜層が真空蒸着法により形成されるように構成することもできる。
【００３０】
本発明の第２２態様として、第１１〜２１態様の加飾シートの製造方法は、金属薄膜層の厚さが０．０１μｍ〜１μｍであるように構成することもできる。
【００３１】
本発明の第２３態様として、第１１〜２２態様の加飾シートの製造方法は、ウエットエッチング法がディップ式であるように構成することもできる。
【００３２】
本発明の第２４態様の加飾成形品は、第１〜１０態様のいずれかの加飾シートを金型内に配置し、樹脂を射出することによって成形されるように構成した。
【００３３】
本発明の第２５態様の加飾成形品は、第１〜１０態様のいずれかの加飾シートを金型内に配置し、樹脂を射出し、基体シートを剥離することによって成形されるように構成した。
【００３４】
本発明の第２６態様の加飾成形品は、第１〜１０態様のいずれかの加飾シートを表面に一体に接合するように構成することもできる。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の加飾シートは、表面の一部または全部に多数かつ微細な凹凸部を備え、その断面の凸部の上部が平らである形状を有し、平らである部分の平面形状が島状である基体シートの上に、基体シートの凸部の上部のみに金属薄膜層が少なくとも形成されるように構成したので、遮光性及び耐腐食性を有するものである。また本発明の加飾シートの製造方法において、金属薄膜層は一定に島状に形成したので、本発明の加飾シートは安定した電波透過性を有するものでもある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
図面を参照しながら本発明の実施の形態について詳しく説明する。
【００３７】
図１は本発明の加飾シート１１０の斜視図である。図中、１は基体シート、２は金属薄膜層、３は微細な凹凸部、４は微細な凹部である。なお各図において同じ構成部分については同じ符号を付している。
【００３８】
本発明の加飾シート１１０は、表面の一部または全部に多数かつ微細な凹凸部３を備え、その断面の凸部の上部が平らである形状を有し、平らである部分の平面形状が島状である基体シート１の上に、基体シート１の凸部の上部のみに金属薄膜層２が少なくとも形成されるように構成されている（図１参照）。
【００３９】
本発明の加飾シート１１０に用いる基体シート１は、離型性を有してもよいし、密着性を有してもよい。以下に、まず基体シート１が離型性を有する場合の加飾シート１１０の態様、すなわち、基体シートが離型性を有しかつ加飾シートの構成要素に塗膜層を含まない場合（以下ケース１という）と、基体シート１が離型性を有しかつ加飾シートの構成要素に塗膜層を含む場合（以下ケース２という）について説明する。次に、基体シート１が密着性を有する場合の加飾シート１１０の態様、すなわち、基体シートが密着性を有し、かつ加飾シートの構成要素に塗膜層を含まない場合（以下ケース３という）と、基体シート１が密着性を有し、かつ加飾シートの構成要素に塗膜層を含む場合（以下ケース４という）について説明する。
【００４０】
まず、ケース１の加飾シート１１０について説明する。離型性を有する基体シート１とは、転写後に金属薄膜層２から離型するシートのことである。離型性を有する基体シート１の厚みは０．０２〜５ｍｍの範囲にするのが好ましい。厚みが０．０２ｍｍ未満であるとしわが入り加工しづらくなり、５ｍｍを超えるであると剛性がありすぎて、後加工しにくいからである。また材質としては、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂などの樹脂シートなどの樹脂シート、アルミニウム箔、銅箔などの金属箔、グラシン紙、コート紙、セロハンなどのセルロース系シート、あるいは以上の各シートの複合体など、通常の転写材の基体シート１として離型性を有するものを使用することができる。
【００４１】
基体シート１に微細な凹凸部３を形成する方法としては、機械による切削加工、レーザーまたは電子線照射による加工、ナノインプリントなどの方法が挙げられる。その中でも１０ｎｍ〜７０ｎｍの範囲の非常に微細な加工を安価かつ容易にできるという点でナノインプリント法が好ましい。ナノインプリント法は、微細な凸部を設けたスタンパー１００を基体シート１に押し付け、基体シート１に微細な凹部４を形成する方法である。ナノインプリント法の代表的な方式としては、熱ナノインプリント法があげられる。以下に、熱ナノインプリント法を用いて、基体シート１に微細な凹部４を形成する方法について説明する。
【００４２】
熱ナノインプリント法を用い、基体シート１に微細な凹凸部３を形成する方法としては、まず電子線などで描いた母型の金型からニッケル電鋳からなるスタンパー１００を作製し（図２（ａ）参照）、次にそれを基体シート１に載置し、高温高圧下で押し付け（図２（ｂ）参照）、冷却後スタンパー１００を基体シート１から外して基体シート１に微細な凹凸部３を形成する。また押し付ける際の温度は基体シート１の軟化点以上でかつ熱分解温度未満に設定し、圧力は一般的に数ＭＰａ〜数十ＭＰａに設定する。条件下、数秒から数分間スタンパー１００を基体シート１に押圧した後、急速冷却または自然冷却して、基体シート１の表面が軟化点以下になるまで放置する（図２（ｃ）参照）。なお、ロールによる熱ナノインプリント法では、高温高圧下での押し付け時間、冷却時間が少なくて済み、生産性が向上する。
【００４３】
ここで、上記各種ナノインプリント法で、基体シート１の一部または全部に形成された多数かつ微細な凹凸部３の形状等について、以下に説明する。
【００４４】
まず、微細な凹凸部３の断面形状としては、例えばＵ字型、Ｖ字型、コの字型等が挙げられる（図３（ａ）〜（ｃ）参照）。また微細な凹凸部３の凸部の平面形状としては、その表面が平らであればよく、いずれの幾何学形状であってもよい。例えば多角形や円形形状等が挙げられる。これら微細な凹凸部３の形状について、上記に示したものは一例に過ぎず、以上の形状に限定されない。次に、基体シート１の微細な凸部の上部の間隔（以下、基準島間距離Ｌという）は、０．０１μｍ〜２μｍの範囲で形成するのが好ましい（図４参照、なお図４は図１のＡ−Ａ断面図である）。これは基準島間距離Ｌが２μｍを超えると、後述の金属薄膜層２を基体シート１の微細な凸部の上に形成しても、基準島間距離Ｌから光が漏れて加飾シート１１０の遮光性が失われるようになり、その一方で島間距離Ｌが０．０１μｍ未満になると、基準島間距離Ｌがあまりにも短いために、金属薄膜層２を基体シート１の微細な凸部の上部に形成した時に、島状の金属薄膜層部の間が接近しすぎ、その結果、島状の金属薄膜層部の間でトンネル電流が生じ、金属薄膜層２が電波透過性を有さなくなり、加飾シート１１０も電波透過性を有さなくなるからである。
【００４５】
また、微細な凸部の上部の面積（以下島状面積Ｓという）は０．００１μｍ２〜４μｍ２からなることが好ましい（図４参照）。島状面積Ｓを０．００１μｍ２未満のサイズにすると、後述の基体シート１の微細な凸部の上に形成した金属薄膜層２の金属光沢性が低下し、ホログラム調の意匠を呈しようになり、加飾シート１１０が金属光沢性としての意匠性を生じにくくなる一方で、島状面積Ｓが４μｍ２を超えると、後述の基体シート１の微細な凸部の上に形成される金属薄膜層２がそのサイズの導電パターンを形成することとなり、加飾シート１１０が絶縁性や電波透過性を示さなくなるようになるからである。
【００４６】
最後に基体シート１に形成される微細な凹部４のアスペクト比Ｈ（基体シート１の微細な凹部４の深さ）／Ｌ（基体シート１の微細な凹部４の幅）は、０．０１〜５の範囲にあるのが好ましい（図４参照）。微細な凹部４のアスペクト比が０．０１未満であれば、基体シート１の微細な凸部の上に金属薄膜層２を設けることが困難となり、逆に、微細な凹部４のアスペクト比が５を超えると、スタンパー１００と基体シート１との剥離性が悪くなり、生産性が低下するからである。
【００４７】
金属薄膜層２は、金属光沢を表現するためのものであり、主として島状パターンに形成された基体シート１の微細な凸部の上に形成する。形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法などが挙げられるが、より好ましくは真空蒸着法を用いるとよい。それは金属薄膜層２が主として凸部に選択的に形成され、その結果基体シート１の微細な凹部４には、ほとんど形成されず、別途金属薄膜層２を除去する必要性が低いためである。これは、おそらく真空蒸着法を用いて基体シート１上に金属薄膜層を形成すると、基体シート１に形成された微細な凸部の方が、微細な凹部４よりも蒸着源から若干近いため、まず微細な凸部の上部に金属の核が形成され、そして一度、基体シートの凸部の上部に金属の核が形成されると加速度的に、その部分に集中して蒸着金属が堆積するため、選択的に微細な凸部の上に蒸着金属が形成されると考えられる。また表現したい金属光沢色に応じて、アルミニウム、スズ、ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、インジウム、銀、チタニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合金または化合物を使用するとよい。これらの金属は通常導電性が高く、絶縁性・電波透過性を呈することはないが、本発明によって基体シート１の微細な凸部の上部に０．００１μｍ２〜４μｍ２といった微細なサイズの島状パターンで形成されることにより、絶縁性または電波透過性を呈するようになる。また金属薄膜層２の厚みは０．０１〜１μｍの範囲で形成することが好ましい。厚さが０．０１μｍ未満であると金属薄膜層２の金属光沢が低下し、反対に１μｍを超えると前記微細な凹部４のアスペクト比が小さい場合に、金属薄膜層２が微細な凹部４を埋めてしまい金属薄膜層２が島状パターンでなくなってしまう可能性があるからである。基体シート１の微細な凸部の上に形成される金属薄膜層２が上記の条件を満たす範囲において、金属薄膜層２が導電性の高い材質で形成されていても、加飾シート１１０は絶縁性または電波透過性を呈するようになる。
【００４８】
また、この得られた金属薄膜層における島状部位は金属薄膜層２の一部のみに形成することもでき、外見上の意匠は全面に金属薄膜層２が形成された場合と殆ど変わらないため、全面に単一の金属薄膜層２が形成されているように見えていながら、電気性能的には導電性と絶縁性といった相反する機能をもった金属薄膜層２をパターンで形成することもできる（図５参照）。
【００４９】
なお、金属薄膜層２は基体シート１の微細な凹凸部３の凸部の上だけでなく、僅かであれば微細な凹部４に形成されていても構わない（図示せず）。ただし、絶縁性能等をより確実にするためには微細な凹部４に形成された金属薄膜層２はできるかぎり除去しておいた方が好ましい。
【００５０】
微細な凹部４に形成された金属薄膜層（以下、不要金属薄膜層部５という）を除去するためには、基体シート１の上に金属薄膜層２を形成した後（図６（ａ）参照）、基体シート１の微細な凸部の上に形成された金属薄膜層２の上のみにレジスト層６を形成し（図６（ｂ）参照）、ウエットエッチング法により不要金属薄膜層部５を取り除くとよい（図６（ｃ）参照）。
【００５１】
レジスト層６は後述のウエットエッチング法による金属薄膜除去工程において、基体シート１の微細な凸部の上部に形成された金属薄膜層２を保護し、レジスト層６が上に形成された金属薄膜層２のみを残存させることができる層である。レジスト層６の材質としてはビニル系樹脂、アミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、適宜体質顔料などの添加剤や顔料または染料などの着色剤を含有するインキを用いるとよい。レジスト層６の膜厚としては、０．０５〜５μｍの厚さに形成するが好ましい。これはレジスト層６の厚さが０．０５μｍ未満になると耐薬品性が不足して、不要金属薄膜層部５以外の部分もエッチングされやすくなり、また逆にレジスト層６の厚さが５μｍを超えると微細な凹部４をかなり深く形成する必要があり、その結果、アスペクト比がかなり高いナノインプリント加工となって、スタンパー１００とレジスト層６との離型性が悪くなり生産性が低下するからである。レジスト層６の形成方法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法など通常の印刷法やワイピング、ディッピングなどの方法で形成するとよい。
【００５２】
ここでウエットエッチング法には金属エッチング液を満たした容器内に金属薄膜層２及びレジスト層６が形成された基体シート１を浸漬させて、露出した金属薄膜層２を侵食するディップ式、金属エッチング液を霧状にしてふき出させて前記基体シート１に散布するスプレー式及び前記基体シート１をスピナーとよばれる回転台に取り付け金属エッチング液を滴下するスピン式があるが、いずれの方法を用いて不要金属薄膜層部５を除去してもよい。これらの方式のうちディップ式が最も簡便に行えるのでより好ましい。金属エッチング液としては、弱酸性または弱アルカリ性の水溶液を用い、金属薄膜層２の材質や厚みによって、金属エッチング液の濃度、浸漬温度、浸漬時間を適宜選択するとよい。
【００５３】
不要金属薄膜層部５を除去する他の方法としては、前記ナノインプリント法を用いて基体シート１に微細な凹凸部３を形成し（図７（ａ）参照）、次に微細な凹部４のみに脱離層７を形成し（図７（ｂ）参照）、次に金属薄膜層２を基体シート１の全面に形成した後（図７（ｃ）参照）、微細な凹部４に形成された金属薄膜層２を、水洗処理によって脱離層７とともに脱離除去する方法があげられる（図７（ｄ）参照）。すなわち、脱離層７は後述の水洗処理によって、脱離層７の上に形成された金属薄膜層２とともに基体シート１から除去される層である。この層の存在によって、金属薄膜層２を形成した後、水洗処理を経ることで脱離層７が形成されなかった領域のみに金属光沢を有する金属薄膜層２を形成できるようになる。脱離層７としては、ポリビニルアルコール、デンプン、アルギド、エポキシ、ポリウレタンなどに代表される水溶性樹脂をバインダーとするインキ用い、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法により形成するとよい。
【００５４】
なお、本発明によって得られる加飾シート１１０は、基体シート１の一部または全部の表面に微細な凹凸部３が形成され、微細な凹凸部３の凸部の上のみに金属薄膜層２が形成される場合と、基体シート１の一部または全部の表面に微細な凹凸部３が設けられ、微細な凹凸部３の凸部の上に金属薄膜層２が形成され、その上にレジスト層６が形成される場合があるが、これらの層以外に、加飾シート１１０の最外面に接着層８などが形成されていてもよい（図８（ａ）〜（ｄ）参照）。
【００５５】
接着層８は、被加飾面に上記の各層を接着するものである。また接着層８は、接着させたい部分に形成する。すなわち、接着させたい部分が全面的なら、接着層８を全面的に形成する。接着させたい部分が部分的なら、接着層８を部分的に形成する。接着層８としては、被加飾の素材に適した感熱性あるいは感圧性の樹脂を適宜使用する。たとえば、被加飾の材質がアクリル系樹脂の場合はアクリル系樹脂を用いるとよい。また、被加飾の材質がポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン共重合体系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用すればよい。さらに、被加飾の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂が使用可能である。接着層８の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００５６】
また、本発明によって得られる加飾シート１１０において、特に基体シート１の一部のみに微細な凹凸部３が設けられ、微細な凹凸部３の凸部の上に金属薄膜層２が形成されている場合、または基体シート１の一部のみに微細な凹凸部３が形成され、次に微細な凹凸部３の凸部の上に金属薄膜層２が形成され、その上にのみレジスト層６が形成されている場合があるが、これらの場合において基体シート１の微細な凹凸部３が形成されていない領域について、金属薄膜層２と基体シート１の間に、図柄層９やアンカー層１０を形成してもよい。ここで金属薄膜層２、図柄層９の材質、形成方法は前述と同様である（図９（ａ）、図９（ｂ）参照）。
【００５７】
図柄層９は金属薄膜層２の金属光沢の模様以外に、種々のパターンや文字などの装飾を行うための層である。図柄層９の材質としては、ポリビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用いるとよい。印刷層の形成方法としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法などの通常の印刷法などを用いるとよい。特に、多色刷りや階調表現を行うには、オフセット印刷法やグラビア印刷法が適している。また、単色の場合には、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法を採用することもできる。図柄層９は、表現したい図柄に応じて任意のパターンに設けるとよい。
【００５８】
アンカー層１０は図柄層９と剥離層１２の密着性を向上させる層であるが、図柄層９と塗膜層１３、金属薄膜層２と接着層８の密着性を向上させる層でもあり、これらの間に形成してもよい（図示せず）。アンカー層１０の材質としては、ニ液性硬化ウレタン樹脂、熱硬化ウレタン樹脂、メラミン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、塩素含有ゴム系樹脂、塩素含有ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ビニル系共重合体樹脂などを使用するとよい。アンカー層１０の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００５９】
上記の様に構成した結果、従来は金属光沢を呈する意匠としての役割しか果たさなかった金属薄膜層２が、意匠としての金属光沢性に加え、電波透過性、耐腐食性、遮光性の機能を有するようになる。また以上に加え、金属薄膜層２は導電回路としての役割を果たすこともでき、外部のプリント基板と接続すれば、タッチスイッチやアンテナなどの用途に用いることができる。
【００６０】
第二に、ケース２の加飾シート１１０について説明する（図１０（ａ）参照）。離型性を有する基体シート１は、転写後に金属薄膜層２から離型するシートであり、使用する基体シート１の厚さ、材質については、ケース１の加飾シート１１０に使用する基体シート１と同様である。
【００６１】
また、必要に応じて、離型層１１を基体シート１の上に形成してもよい（図１０（ａ）参照）。離型層１１は、転写後に基体シート１を剥離した際に、基体シート１とともに金属薄膜層２から離型する（図１０（ｂ）参照）。離型層１１の材質としては、メラミン樹脂系離型剤、シリコーン樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤、セルロース誘導体系離型剤、尿素樹脂系離型剤、ポリオレフィン樹脂系離型剤、パラフィン系離型剤およびこれらの複合型離型剤などを用いることができる。離型層１１の形成方法としては、ロールコート法、スプレーコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００６２】
また、必要に応じて、離型層１１の上に剥離層１２を全面的に形成してもよい（図１０（ａ）参照）。剥離層１２は、転写後または成形同時転写後に基体シート１を剥離した際に、基体シート１または離型層１１から剥離して被転写物の最外面となる層である（図１０（ｂ）参照）。剥離層１２の材質としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ゴム系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂などのほか、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂などのコポリマーを用いるとよい。剥離層１２に硬度が必要な場合には、紫外線硬化性樹脂などの光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などの放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などを選定して用いるとよい。剥離層１２は、着色したものでも、未着色のものでもよい。剥離層１２の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００６３】
また、必要に応じて、アンカー層１０を剥離層１２の上に設けてもよい（図１０（ａ）参照）。アンカー層１０は図柄層９と剥離層１２の密着性を向上させる層であるが、図柄層９と塗膜層１３、金属薄膜層２と接着層８の密着性を向上させる層でもあり、これらの間に形成してもよい（図示せず）。アンカー層１０の材質、形成方法は、前述と同様である。
【００６４】
塗膜層１３は機械による切削加工、レーザーまたは電子線照射による加工、ナノインプリント法などの方法によって、その表面に微細な凹凸部３が形成され、形成された凸部の上に金属薄膜層２が形成される層である（図１０（ａ）参照）。微細な凹凸部３の形成方法としては、１０ｎｍ〜７０ｎｍの範囲の非常に微細な加工を安価かつ容易にできるという点でナノインプリント法が好ましい。
【００６５】
ここで、特に塗膜層１３の表面に微細な凹凸部３の形成する際の塗膜層１３の材質について、各種ナノインプリント法を用いて行う場合について説明する。ナノインプリント法による塗膜層１３の微細な凹凸部３の形成工程において、熱ナノインプリント法を用いる場合、塗膜層１３の材質としてはポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂、ビニル系樹脂、アミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、メラミン系樹脂、セルロース系樹脂、アルキド系樹脂などの樹脂が挙げられ、必要に応じて各種添加剤や適切な色の顔料または染料からなる着色剤を含有させたものを用いるとよい。
【００６６】
光ナノインプリント法を用いる場合、塗膜層１３の材質としては、アクリル系樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の光硬化性樹脂を用いて形成するとよい。
【００６７】
室温ナノプリント法を用いる場合、塗膜層１３の材質としては、東レ・ダウコーニング株式会社製ＦＯＸ（登録商標）−１２  ＦＬＯＷＡＢＬＥ  ＯＸＩＤＥ、ＦＯＸ（登録商標）−１４  ＦＬＯＷＡＢＬＥ  ＯＸＩＤＥ、ＦＯＸ（登録商標）−１５  ＦＬＯＷＡＢＬＥ  ＯＸＩＤＥ、ＦＯＸ（登録商標）−１６  ＦＬＯＷＡＢＬＥ  ＯＸＩＤＥ及びこれら混合物等のゾルゲル系材料を用い形成するとよい。塗膜層１３の形成方法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通常の印刷法のほか、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法、リップコート法などのコート法を採用することもできる。
【００６８】
塗膜層１３の厚みは、０．２〜１００μｍの範囲で少なくとも微細な凹部４の深さ以下になるようにするのが好ましい。厚みが０．２ｍｍ未満であると、塗膜層１３の材質の凝集によって、基体シート表面の一部に濡れない部分ができるため、ピンホールが発生しやすくなる一方、厚みが１００ｍｍを越えると塗布形成するのに時間がかかり生産性が低下するからである。また、塗膜層１３の厚みを基体シート１に形成された微細な凹部４の深さ以下に設定した場合は、基体シート１も含めて凹凸加工しないと所望の深さの微細な凹部４が得られないため、極めて生産効率が低下するからである。
【００６９】
金属薄膜層２は、金属光沢を表現するためのものであり、主として島状パターンに形成された塗膜層１３の凸部の上部に形成する（図１０（ａ）参照）。金属薄膜層２の形成方法、膜厚、材質については前述と同様である。
【００７０】
レジスト層６は後述のウエットエッチング法による金属薄膜除去工程において、金属薄膜層２を保護し、レジスト層６が形成された金属薄膜層２の部分のみを残存させることができる層である。レジスト層６の形成方法、膜厚、材質については前述と同様であるが、レジスト層６はあってもよいし、なくてもよい（図１０（ａ）参照）。
【００７１】
これらの層以外に、加飾シート１１０の最外面に接着層８などが形成されていてもよい（図１０（ａ）参照）。接着層８は、被加飾面に上記の各層を接着するものである。接着層８の形成方法、材質については前述と同様である。
【００７２】
また、本発明によって得られる加飾シート１１０において、特に基体シート１の一部のみに微細な凹凸部３が設けられ、微細な凹凸部３の凸部の上に金属薄膜層２のみが形成されている場合か、または基体シート１の一部のみに微細な凹凸部３が設けられ、微細な凹凸部３の凸部の上にのみ金属薄膜層２が形成されその上にレジスト層６が形成されている場合について、基体シート１に微細な凹凸部３が設けられていない領域について、金属薄膜層２と基体シート１の間に、図柄層９やアンカー層１０を形成してもよい（図１１（ａ）、図１１（ｂ）参照）。
【００７３】
アンカー層１０は図柄層９と剥離層１２の密着性を向上させる層であるが、図柄層９と塗膜層１３、金属薄膜層２と接着層８の密着性を向上させる層でもあり、これらの間に形成してもよい（図示せず）。アンカー層１０の材質、アンカー層１０形成方法については前述と同様である。
【００７４】
図柄層９は金属薄膜層２の金属光沢の模様以外に、種々のパターンや文字などの装飾を行うための層である。図柄層９の形成方法、材質については前述と同様である。
【００７５】
第三にケース３の加飾シートについて説明する。
【００７６】
基体シート１としてはポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂シート、またはポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等の熱硬化性シートやセロハンなどのセルロース系シート、あるいは以上の各シートの複合体など、通常の加飾シート１１０の基体シート１として密着性を有するものを使用することができるが以上に限定されない。また基体シート１は、ラミネート後または金型内に基体シート１を配置し成形同時加飾後に被加飾物の最外面となる層である。基体シート１に微細な凹凸部３を形成する方法、条件については、前述のケース１の加飾シート１１０の場合と同様である。
【００７７】
ケース３の本加飾シート１１０における、他の構成として基体シート１の金属薄膜層２が形成された面と相反する面に図柄層９を形成してもよい（図示せず）。図柄層９は金属薄膜層２の金属光沢の模様以外に、種々のパターンや文字などの装飾を行うための層である。図柄層９の形成方法、材質については前述と同様である。またその他の構成については、前述のケース１の加飾シート１１０場合と同様である。
【００７８】
次に、ケース４の加飾シートについて説明する。
【００７９】
基体シート１の材質は、前述のケース３の基体シート１の材質に加えて、ガラス等の硬質透明部材も使用できる。また、基体シート１のその他の態様についてはケース３の場合と同様である。
【００８０】
ケース４の本加飾シート１１０における、他の構成として基体シート１の金属薄膜層２が形成された面と相反する面に図柄層９を形成してもよい（図示せず）。図柄層９は金属薄膜層２の金属光沢の模様以外に、種々のパターンや文字などの装飾を行うための層である。図柄層９の形成方法、材質については前述と同様である。その他のケース４の加飾シート１１０の構成については、離型層１１および剥離層１２を構成要素の一部としないという点を除いて、前述のケース２の加飾シート１１０の場合と同様である。
【００８１】
以上のようにして構成される加飾シート１１０は、次のような製造方法により作成できる。
【００８２】
基体シート１の表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と微細な凹部４を形成し、次いで微細な凹部４の底部に水溶性パターン層を形成し、次いで凸部の上部および微細な凹部４の水溶性パターン層の上に金属薄膜層２を形成し、次いで微細な凹部４にある水溶性パターン層と金属薄膜層２を水洗処理で剥離除去する方法により作成できる。
【００８３】
また、塗膜層１３が形成された基体シート１の塗膜層１３の上にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凸部と微細な凹部４を形成し、次いで微細な凹部４の底部に水溶性パターン層を形成し、次いで凸部の上部および微細な凹部４の水溶性パターン層の上に金属薄膜層２を形成し、次いで微細な凹部４にある水溶性パターン層と金属薄膜層２を水洗処理で剥離除去する方法によって作成することもできる。
【００８４】
また、基体シート１の表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凹凸部３を形成し、次いで凸部の上部および微細な凹部４の底部に金属薄膜層２を形成し、次いで凸部の上部にある金属薄膜層２の上にレジスト層６を形成し、次いで微細な凹部４の底部にある金属薄膜層２をウエットエッチング法で除去する方法により作成することもできる。
【００８５】
また、塗膜層１３が形成された基体シート１の塗膜層１３の上に表面にナノインプリント法を用いてその一部または全部に多数の微細な凹凸部３を形成し、次いで凸部の上部および微細な凹部４の底部に金属薄膜層２を形成し、次いで凸部の上部にある金属薄膜層２の上にレジスト層６を形成し、次いで微細な凹部４の底部にある金属薄膜層２をウエットエッチング法で除去する方法により作成することもできる。
【００８６】
本発明の金属薄膜シートの製造方法は上記のように構成したので、金属薄膜層２を構成する金属の種類は自由に選択できる。そのため金属薄膜層２を耐腐食のある金属や、表現したい金属光沢色に応じた金属で構成することができる。また金属薄膜層２を真空蒸着法で形成する際、蒸着工程の条件のバラツキがあっても、それと関係なく金属薄膜層２を所望の形状、大きさの島状パターンで形成できるので、安定した絶縁性能・電波透過性能を得ることもできる。
【００８７】
以上のような加飾シート１１０は、次のように用いることにより、成形樹脂１７に対して装飾を行うことができる。
【００８８】
まず、前述のケース１またはケース２の加飾シート１１０を用い、射出成形による成形同時転写法を利用して被転写物である樹脂成形品の面に装飾を行う方法について説明する（図１２（ａ）〜（ｆ）参照）。まず、可動型１６と固定型１５とからなる成形用金型内に加飾シート１１０を送り込む（図１２（ａ）参照）。その際、枚葉の加飾材を１枚づつ送り込んでもよいし、長尺の加飾シート１１０の必要部分を間欠的に送り込んでもよい。長尺の加飾シート１１０を使用する場合、位置決め機構を有する送り装置を使用して、加飾シート１１０のパターンと成形用金型との見当が一致するようにするとよい。また、加飾シート１１０を間欠的に送り込む際に、加飾シート１１０の位置をセンサーで検出した後に加飾シート１１０を可動型と固定型とで固定するようにすれば、常に同じ位置で加飾シート１１０を固定することができ、パターンの位置ずれが生じないので便利である。成形用金型を閉じた後、ゲートから溶融樹脂を金型内に射出充満させ、被転写物を形成するのと同時にその面に加飾シート１１０を接着させる（図１２（ｂ）参照）。被転写物である樹脂成形品を冷却した後、成形用金型を開いて加飾成形品を取り出す（図１２（ｃ）、（ｄ）参照）。最後に、基体シート１を剥がすことにより（図１２（ｅ）参照）、転写が完了する（図１２（ｆ）参照）。
【００８９】
次に、前述のケース３またはケース４の加飾シート１１０を用い、射出成形による成形同時インサート法を利用して被加飾である樹脂成形品の面に装飾を行う方法について説明する（図１３（ａ）〜（ｄ）参照）。次に、可動型１６と固定型１５とからなる成形用金型内に加飾シート１１０を送り込む（図１３（ａ）参照）。その際、枚葉の加飾シート１１０を１枚づつ送り込んでもよいし、長尺の加飾シート１１０の必要部分を間欠的に送り込んでもよい。長尺の加飾シート１１０を使用する場合、位置決め機構を有する送り装置を使用して、加飾シート１１０のパターンと成形用金型との見当が一致するようにするとよい。また、加飾シート１１０を間欠的に送り込む際に、加飾シート１１０の位置をセンサーで検出した後に加飾シート１１０を可動型と固定型とで固定するようにすれば、常に同じ位置で加飾シート１１０を固定することができ、パターンの位置ずれが生じないので便利である。成形用金型を閉じた後、ゲートから溶融樹脂を金型内に射出充満させ、被加飾を形成するのと同時にその面に加飾シート１１０を接着させる（図１３（ｂ）参照）。被加飾物である樹脂成形品を冷却した後、成形用金型を開いて加飾成形品を取り出す（図１３（ｃ）、（ｄ）参照）。
【００９０】
最後に前記した層構成の加飾シート１１０を用い、転写法を利用して被転写物面に装飾を行う方法について説明する。まず、被転写物面に、加飾シート１１０の接着層８側を密着させる。次に、シリコンラバーなどの耐熱ゴム状弾性体を備えたロール転写機、アップダウン転写機などの転写機を用い、温度８０〜２６０℃程度、圧力４９０〜１９６０Ｐａ程度の条件に設定した耐熱ゴム状弾性体を介して加飾シート１１０の基体シート１側から熱と圧力とを加える。こうすることにより、接着層８が被転写物表面に接着する。最後に、冷却後に基体シート１を剥がすと、基体シート１と剥離層１２との境界面で剥離が起こり、転写が完了する。
【００９１】
被転写物としては、樹脂成形品など各種材質からなるものを用いることができる。被転写物は、透明、半透明、不透明のいずれでもよい。また、被転写物は、着色されていても、着色されていなくてもよい。樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂などの汎用樹脂を挙げることができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂やポスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエンジニアリング樹脂を使用することもできる。さらに、ガラス繊維や無機フィラーなどの補強材を添加した複合樹脂も使用できる。
【実施例】
【００９２】
（実施例１）以下の実施例および比較例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下、％は重量基準である。
【００９３】
基体シートとして厚さ３８μｍのポリエステル樹脂フィルムを用い、基体シート上に、メラミン樹脂系の離型層、アクリル樹脂系の剥離層、厚さ２μｍのウレタン樹脂系の塗膜層をグラビア印刷により順次形成した後、幅が１００ｎｍ、ピッチが１μｍの正方形の格子パターンが厚さ２００ｎｍで凸状に形成されたニッケル電鋳からなるナノインプリント金型を載せ、塗膜層表面に対して１００℃の加温下で５ＭＰａの圧力で押圧し、水冷して５分間放置し、上記金型を離型したところ塗膜層表面に上記格子パターンの溝からなる凹部が形成された。
【００９４】
次に、真空蒸着法によりアルミニウム蒸着層を塗膜層表面に形成したところ、凸部には厚さ６００ｎｍのアルミニウム蒸着層が形成されたが、凹部にはアルミニウム蒸着層が殆ど形成されなかった。このアルミニウム蒸着層上にアクリル樹脂系の接着層を塗装により塗布し金属薄膜シートを得た後、これを用いて成形同時転写法によりアクリル樹脂成形品の表面に転写して、加飾成形品を得た。
【００９５】
得られた加飾成形品は、外見上は従来の金属調の絵付がされた成形品と変わりがないが、微細な島状パターンに形成された金属薄膜部分が充分な電波透過性を有し、そうでない部分は電磁波シールド性を有するものであった。その結果、微細な島状パターンに形成された金属薄膜部分の下部にある内蔵アンテナの受信は良好で、そうでない部分は有害な電磁波を遮断して電子部品を妨害電波による誤動作から保護することができた。また得られた加飾成形品は耐腐食性と遮光性をも兼ね備えるものであった。
【００９６】
（実施例２）基体シートとして厚さ１００μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを用い、基体シート上に幅が０．０５μｍで一辺が０．４μｍの正六角形のハニカムパターンが厚さ０．０８μｍで凸状に形成されたニッケル電鋳からなるナノインプリント金型を載せ、１２０℃の加温下で１０ＭＰａの圧力で押圧し、水冷して１０分間放置し、上記金型を離型したところ基体シート表面に上記ハニカムパターンの溝からなる凹部が形成された。得られた微細な凹凸のある基体シートを無電解メッキ触媒が付与された水溶液に浸漬し、乾燥後、無電解メッキ法処理をしたところ、厚さ５００ｎｍの銅からなる金属薄膜層が微細な凹凸上の全面に形成された。
【００９７】
その後、微細な凹凸のある基体シートの凸部に形成された金属メッキ層のみに、厚さ０．５μｍのアクリル系樹脂からなるエッチングレジスト層をグラビア印刷により形成した後、０．３％塩化鉄水溶液からなる金属エッチング液に２秒間浸すと、エッチングレジスト層が被覆されない箇所の金属薄膜層のみが除去され、凸部に約２μｍ２のサイズからなる微細な島状パターンに形成された加飾シートが得られた。得られた加飾シートを用いて成形同時インサート法によりアクリル樹脂成形品の表面に接着して、加飾成形品を得た。
【００９８】
得られた加飾成形品は、外見上は従来の金属調の絵付がされた成形品と変わりがないが、微細な島状パターンに形成された金属薄膜部分が絶縁性を有し、そうでない部分は導電性を有するものであった。その結果、この導電パターン部分は静電容量スイッチのパターンとして機能させることができた。また、ディスプレイ窓部など照光機能が必須とされる意匠に適用できる充分な遮光性と耐腐食性を兼ね備えていた。
【００９９】
（実施例３、実施例４）実施例１の凹部を精密ＮＣ工作機械を使って切削加工により、深さ０．５μｍ、幅２μｍ、間隔が１２μｍの正方形の格子パターンに形成する以外は、実施例１と同様にした。また、凹部を電子線ビームの照射により形成する以外は、実施例２と同様にした。上記実施例３、実施例４も、それぞれ実施例１、実施例２と同様の結果が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０１００】
本発明は、携帯電話などの通信機器、自動車内部の情報機器、家電製品など、各種成形品において好適に用いることができ、産業上有用なものである。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す斜視図である。
【図２】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図３】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図４】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図５】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す斜視図である。
【図６】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図７】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図８】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図９】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図１０】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図１１】本発明に係る加飾シート１１０の一実施例を示す断面図である。
【図１２】本発明に係る加飾成形品の製造方法の一実施例を示す断面図である。
【図１３】本発明に係る加飾成形品の製造方法の一実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１ 基体シート
２ 金属薄膜層
３ 微細な凹凸部
４ 微細な凹部
５ 不要金属薄膜層部
６ レジスト層
７ 脱離層
８ 接着層
９ 図柄層
１０  アンカー層
１１  離型層
１２  剥離層
１３  塗膜層
１４  転写層
１５  固定型
１６  可動型
１７  成形樹脂
１００  スタンパー
１１０  加飾シート
１１１  加飾成形品
Ｓ  基準島面積
Ｌ  基準島間距離
Ｈ  微細な凹部の高さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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