(57)【要約】【課題】  パターン投影方式の焦点検出において、所要時間の短い焦点調節装置を提供すること。【解決手段】  対物レンズの瞳の一部を介して被測定対象物へパターンを投影する投影手段と、被測定対象物から反射したパターン像を受光する複数の焦点検出用受光素子からなる受光素子列を備える受光手段と、受光手段からの受光信号に基づいて、受光素子列上に投影されたパターン像の位置を検出し、パターン像の位置と、受光素子列上の予め決められた位置との横ずれ量を求める焦点検出手段と、焦点検出手段により求められた横ずれ量に基づき、対物レンズと被測定対象物との相対的間隔を調整する調整速度を設定し、合焦状態に導く焦点調節手段とを備える。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対物レンズの瞳の一部を介して被測定対象物へパターンを投影する投影手段と、
前記被測定対象物から反射した前記パターン像を受光する複数の焦点検出用受光素子からなる受光素子列を備える受光手段と、
前記受光手段からの受光信号に基づいて、前記受光素子列上に投影された前記パターン像の位置を検出し、前記パターン像の位置と、前記受光素子列上の予め決められた位置との横ずれ量を求める焦点検出手段と、
前記焦点検出手段により求められた前記横ずれ量に基づき、前記対物レンズと前記被測定対象物との相対的間隔を調整する調整速度を設定し、合焦状態に導く焦点調節手段と
を備えたことを特徴とする焦点調節装置。
【請求項２】
請求項１に記載の焦点調節装置において、
前記焦点検出手段は、前記パターン像の位置を検出するために、前記受光素子列上の各画素のセンサ信号を信号処理して分布を求め、前記受光素子列上の画素位置を求める
ことを特徴とする焦点調節装置。
【請求項３】
請求項２に記載の焦点調節装置において、
前記焦点検出手段は、前記各画素のセンサ信号が閾値を超えたか否かを検出し、前記パターン像のエッジを求め、前記エッジに相当する画素位置に基づき、前記パターン像の位置を検出し、前記パターン像の位置と前記受光素子列上に予め決められた位置とから前記横ずれ量を求める
ことを特徴とする焦点調節装置。
【請求項４】
請求項２に記載の焦点調節装置において、
前記焦点検出手段は、偽信号（前記被測定対象物の種類や前記対物レンズを含む光学系に起因する迷光により生じる信号）の発生する前記受光素子列上の画素位置を記憶する記憶部を有し、前記パターン像の分布する前記受光素子列上の画素位置と前記記憶部に記憶された前記偽信号の画素位置とを比較し、前記両画素位置が一致していないことを判断して前記横ずれ量を求める
ことを特徴とする焦点調節装置。
【請求項５】
請求項１に記載の焦点調節装置において、
前記焦点調節手段は、前記横ずれ量に基づき段階的な駆動速度設定を行う
ことを特徴とする焦点調節装置。
【請求項６】
対物レンズが捉えた像を観察するための顕微鏡光学系と、
前記対物レンズの焦点調節を行う請求項１から請求項５の何れか１項に記載の焦点調節装置と
を備えたことを特徴とする顕微鏡装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顕微鏡装置などに適用される焦点調節装置、及びそれを備えた顕微鏡装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レンズの焦点検出方式には、主に工業顕微鏡に搭載されるスリット投影方式がある。スリット投影方式の焦点検出は、対物レンズの瞳の一部を介して物体へパターンを投影し、ラインセンサ上に結像される反射光に基づきデフォーカス信号（差分信号）を生成して焦点検出を行っている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−２７７７２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながらこの方法によると、焦点制御曲線は横軸にデフォーカス量、縦軸にデフォーカス信号の出力レベルを取ると、Ｓ字カーブとなる。そして、このデフォーカス信号から求められるのはデフォーカス方向のみであり、このデフォーカス方向に従い、Ｓ字カーブに沿った焦点調節速度で制御される。そのため、デフォーカス量が大きくなると、デフォーカス信号の出力レベルが小さくなり、結果として駆動速度も遅くなり焦点調節の所要時間が長期化される傾向にある。
【０００４】
そこで本発明は、パターン投影方式の焦点検出において、所要時間の短い焦点調節装置を提供することを目的とする。また、高性能な顕微鏡装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の焦点調節装置は、対物レンズの瞳の一部を介して被測定対象物へパターンを投影する投影手段と、前記被測定対象物から反射した前記パターン像を受光する複数の焦点検出用受光素子からなる受光素子列を備える受光手段と、前記受光手段からの受光信号に基づいて、前記受光素子列上に投影された前記パターン像の位置を検出し、前記パターン像の位置と、前記受光素子列上の予め決められた位置との横ずれ量を求める焦点検出手段と、前記焦点検出手段により求められた前記横ずれ量に基づき、前記対物レンズと前記被測定対象物との相対的間隔を調整する調整速度を設定し、合焦状態に導く焦点調節手段とを備える。
【０００６】
なお、好ましくは、前記焦点検出手段は、前記パターン像の位置を検出するために、前記受光素子列上の各画素のセンサ信号を信号処理して分布を求め、前記受光素子列上の画素位置を求めても良い。
【０００７】
また、好ましくは、前記焦点検出手段は、前記各画素のセンサ信号が閾値を超えたか否かを検出し、前記パターン像のエッジを求め、前記エッジに相当する画素位置に基づき、前記パターン像の位置を検出し、前記パターン像の位置と前記受光素子列上に予め決められた位置とから前記横ずれ量を求めても良い。
【０００８】
また、好ましくは、前記焦点検出手段は、偽信号（前記被測定対象物の種類や前記対物レンズを含む光学系に起因する迷光により生じる信号）の発生する前記受光素子列上の画素位置を記憶する記憶部を有し、前記パターン像の分布する前記受光素子列上の画素位置と前記記憶部に記憶された前記偽信号の画素位置とを比較し、前記両画素位置が一致していないことを判断して前記横ずれ量を求めても良い。
【０００９】
また、好ましくは、前記焦点調節手段は、前記横ずれ量に基づき段階的な駆動速度設定を行っても良い。
【００１０】
本発明の顕微鏡装置は、対物レンズが捉えた像を観察するための顕微鏡光学系と、前記対物レンズの焦点調節を行う上述した何れかの焦点調節装置とを備える。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、パターン投影方式の焦点検出において、所要時間の短い焦点調節装置が実現する。また、高性能な顕微鏡装置が実現する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の焦点調節装置の実施形態を説明する。
【００１３】
図１は、本実施形態の焦点調節装置の構成図である。図１に示す焦点調節装置は、スリット投影方式の焦点検出光学系が搭載された焦点調節装置である。
【００１４】
図１においてＬＥＤ７は、スリット投影方式用の赤外光を発する。以下、この赤外光を「スリット投影方式のＡＦ光」という。ＬＥＤ７から発せられたスリット投影方式のＡＦ光は、スリット板８、コレクタレンズ９、瞳マスク１０、ハーフミラー１６、色収差補正レンズ３０、ダイクロイックミラー４、第１対物レンズ３、標本２、第１対物レンズ３、ダイクロイックミラー４、色収差補正レンズ３０、ハーフミラー１６、第２対物レンズ１７を順に経由してからラインセンサ２２に入射する。
【００１５】
ここで、上述したスリット板８の中央には、図１（ａ）に示すとおりスリット開口が形成されている。よって、スリット投影方式のＡＦ光は、物体面（ここでは標本面２ａ）の近傍にスリット状の赤外像を形成する。また、このとき標本面２ａで反射したスリット投影方式のＡＦ光は、ラインセンサ２２にスリット状の赤外像を形成する。以下、この赤外像を「スリット像」という。このスリット像のスリット幅方向と、ラインセンサ２２のライン方向とは、互いに交差する。
【００１６】
また、瞳マスク１０は、光軸を含む平面でスリット投影方式のＡＦ光を分割してできる２つの光の一方を透過し、かつ他方を遮光する。したがって、スリット投影方式のＡＦ光は第１対物レンズ３を往復する際、往路と復路とで第１対物レンズ３の瞳上の互いに異なる位置を通過する。したがって、ラインセンサ２２上に形成されるスリット像は、第１対物レンズ３のデフォーカス量（第１対物レンズ３の焦点と標本面２ａとの光軸方向のずれ）に応じて横ずれする。なお、第１対物レンズ３のデフォーカス量がゼロであるときにラインセンサ２２に形成されるスリット像の重心位置は、予め測定されているものとする。
【００１７】
以上の焦点調節装置において、ＣＰＵ２４は、スリット投影方式の光源であるＬＥＤ７を制御する。ＬＥＤ７が点灯している期間には、スリット投影方式のスリット像が形成されるので、ラインセンサ２２からスリット像に対応する出力信号を得ることができる。
【００１８】
ラインセンサ２２の出力信号は、信号処理部２３へ取り込まれる。信号処理部２３は、取り込まれた信号を基に幾つかの信号を生成すると、それをＣＰＵ２４へ与える。ＣＰＵ２４は、与えられた信号に基づきスリット投影方式の信号を生成すると、その信号に応じた駆動方向及び駆動速度を上下動駆動部（パルスモータなど）２５へ指定する。上下動駆動部２５は、指定された駆動方向及び駆動速度で第１対物レンズ３を光軸方向へ駆動することにより、第１対物レンズ３の焦点調節を行う。なお、その上下動駆動部２５の駆動対象は、第１対物レンズ３の代わりにステージ１としても良いが、ここでは第１対物レンズ３であるという前提で説明する。
【００１９】
また、ＣＰＵ２４は、ＬＥＤ７の光量を制御することもでき、ラインセンサ２２の電荷蓄積時間（走査時間）を必要に応じて切り替えることもできる。
【００２０】
次に、信号処理部２３及びＣＰＵ２４の信号生成動作を説明する。
【００２１】
図２，図３，図４は、信号生成動作を説明する図である。図２，図３，図４は、第１対物レンズ３のデフォーカス量と、ラインセンサ２２のセンサ信号との関係を示している。（ａ）はデフォーカス量、（ｂ）はラインセンサ２２に入射する光の振る舞い、（ｃ）は、ラインセンサ２２のセンサ信号を示している。
【００２２】
信号処理部２３は、センサ信号をピークホールドして得られるピーク電圧信号Ｖ102と、後述する方法で得られる代表位置ＰＸCとを取得し、ＣＰＵ２４へ与える。
【００２３】
ＣＰＵ２４は、信号処理部２３から与えられるピーク電圧信号Ｖ102を、スリット投影方式のデフォーカス信号の生成状態を評価するための評価値として使用する。また、ＣＰＵ２４は、信号処理部２３から与えられる代表位置ＰＸCを、後述する速度設定に使用する。
【００２４】
図２（ａ）に示すように、第１対物レンズ３の焦点位置が標本面２ａより奥側（後ピン位置）にあるとき、ラインセンサ２２のセンサ信号は、図２（ｃ）に示すように合焦位置１００よりもＲ側に分布する。また、代表位置ＰＸCは、合焦位置１００よりもＲ側に分布する。
【００２５】
図３（ａ）に示すように、第１対物レンズ３の焦点位置が標本面２ａ（合焦位置）にあるとき、ラインセンサ２２のセンサ信号は、図３（ｃ）に示すように合焦位置１００に分布する。また、代表位置ＰＸCは、合焦位置１００と略重なる位置にある。
【００２６】
図４（ａ）に示すように、第１対物レンズ３の焦点位置が標本面２ａより手前（前ピン位置）にあるときは、ラインセンサ２２のセンサ信号は、図４（ｃ）に示すように合焦位置１００よりもＦ側に分布する。また、代表位置ＰＸCは、合焦位置１００よりもＦ側に分布する。
【００２７】
以上説明した傾向によれば、代表位置ＰＸCがＦ側に分布するときには、第１対物レンズ３の駆動方向を上方向（標本２から離れる方向）とし、代表位置ＰＸCがＦ側に分布するときには、第１対物レンズ３の駆動方向を下方向（標本２に近づく方向）とすれば良い。
【００２８】
次に、上述した代表位置ＰＸCの求め方について説明する。図５（ａ）は、ラインセンサ２２のセンサ信号を表す図である。横軸はラインセンサ２２上の画素位置を示し、縦軸はセンサ信号の大きさを示す。信号処理部２３は、ラインセンサ２２からのセンサ信号を順次閾値Ｔと比較する。閾値Ｔは第１対物レンズ３の焦点位置を認識するための閾値であり、実験などにより予め定められる。信号処理部２３は、センサ信号が閾値Ｔと交わる最も前ピン側の画素位置ＰＸSと、センサ信号が閾値Ｔと交わる最も後ピン側の画素位置ＰＸLと求め、以下の式により代表位置ＰＸCを算出する。
【００２９】
代表位置ＰＸC＝（ＰＸS＋ＰＸL）／２・・・（式１）
このようにして求めた代表位置ＰＸCは、現在の対物レンズの焦点位置を示し、後述する速度の設定に用いられる。
【００３０】
なお、代表位置として、上述したピーク電圧信号Ｖ102に対応する画素位置ＰＸPを用いても良い。また、上述した代表位置ＰＸCとピーク電圧信号Ｖ102に対応する画素位置ＰＸPとに適宜重み付けをして加算したものを代表値として用いても良い。
【００３１】
また、センサ信号が図５（ｂ）に示すようになめらかな凸形状を有さない場合にも、同様に代表位置ＰＸC及び画素位置ＰＸPを算出することができる。すなわち、図５（ｂ）に示すように、センサ信号が閾値Ｔと交わる最も前ピン側の画素位置ＰＸSと、センサ信号が閾値Ｔと交わる最も後ピン側の画素位置ＰＸLと求め、式１により代表位置ＰＸCを算出することができる。
【００３２】
次に、本実施形態の焦点調節時における第１対物レンズ３の駆動速度の変化パターンを詳しく説明する。
【００３３】
図６の横軸は、横軸はラインセンサ２２上の画素位置を示しており、図６（ａ）の縦軸は、ラインセンサ２２により生成されるセンサ信号を示す。また、図６（ｂ）は、駆動速度の変化パターンを示し、図６（ｂ）の縦軸は、駆動速度を示す。
【００３４】
図６（ａ）において、Ｔは上述した閥値Ｔを示す。図６（ａ）においてＰＸS（Ｘ＝１〜７）は、センサ信号が閾値Ｔと交わる最も前ピン側の点を示し、ＰＸL（Ｘ＝１〜７）は、センサ信号が閾値Ｔと交わる最も後ピン側の点を示す。
【００３５】
信号処理部２３は、上述したように、式１を用いて代表位置ＰＸC（Ｘ＝１〜７）を算出し、代表位置ＰＸC（Ｘ＝１〜７）をＣＰＵ２４に出力する。ＣＰＵ２４は、代表位置ＰＸC（Ｘ＝１〜７）に基づいて駆動速度を設定する。
【００３６】
図６（ａ）において、代表位置ＰＸC（Ｘ＝１〜３）は、図４で示したように第１対物レンズ３の焦点位置が標本面２ａより手前側（前ピン位置）にあるときの代表位置である。また、代表位置Ｐ４ＸCは、図３に示したように第１対物レンズ３の焦点位置が標本面２ａ上にあるときの代表位置である。また、代表位置ＰＸC（Ｘ＝５〜７）は、図２に示したように第１対物レンズ３の焦点位置が標本面２ａより奥側（後ピン位置）にあるときの代表位置である。
【００３７】
ＣＰＵ２４は、図６（ｂ）に示すように、Ｐ１Cよりデフォーカス側の領域Ａ１及びＰ７Cよりデフォーカス側の領域Ａ７では、駆動速度の絶対値をＶ１に設定する。また、ＣＰＵ２４は、図６（ｂ）に示すように、Ｐ１C〜Ｐ２Cの領域Ａ２及びＰ６C〜Ｐ７Cの領域Ａ６では、駆動速度の絶対値をＶ２に設定する。また、ＣＰＵ２４は、図６（ｂ）に示すように、Ｐ２C〜Ｐ３Cの領域Ａ３及びＰ５C〜Ｐ６Cの領域Ａ５では、駆動速度の絶対値をＶ３に設定する。また、ＣＰＵ２４は、図６（ｂ）に示すように、Ｐ３C〜Ｐ５Cの領域Ａ４では、合焦したと判断して駆動速度をＶ４＝０に設定する。なお、Ｖ３＜Ｖ２＜Ｖ１である。
【００３８】
その結果、第１対物レンズ３の駆動速度の絶対値は、合焦状態から遠いときほど速く、合焦点状態に近いときほど小さく遅くれることになる。
【００３９】
したがって、本実施形態の焦点調節は効率的である。因みに、従来のスリット投影方式の焦点調節装置では、デフォーカス信号が大きいときほど駆動速度を速く設定し、デフォーカス信号が小さいときほど駆動速度を遅く設定するので、合焦状態から遠くても駆動速度が低く設定される可能性があり、非効率的であった。
【００４０】
なお、本実施形態のＣＰＵ２４は、図６（ｂ）に示したとおり、駆動速度の段階数を一方向につき４としたが、４以外の数としても良い。また、その段階数を第１対物レンズ３の種類に応じて変化させても良い。
【００４１】
また、本実施形態のＣＰＵ２４は、図６（ｂ）に示したとおり、駆動速度の変化を階段状にしたが、その一部を折れ線状又は曲線状にしても良い。
【００４２】
但し、代表位置ＰＸCが領域Ａ３又はＡ５から領域Ａ４へと移行する際には、第１対物レンズ３のオーバーランを防ぐため、階段状とする（つまり急速にゼロへ移行させる）ことが望ましい。また、領域Ａ３及びＡ５における駆動速度Ｖ４は、急停止時におけるモータの脱調を防ぐため、モータの特性によって決まる十分に低い速度（モータの自起動周波数相当）に設定されることが望ましい。
【００４３】
次に、ＣＰＵ２４による焦点調節動作を説明する。はじめに、焦点調節動作に関連する偽信号について図７を用いて説明する。センサ信号には、図７に示すような偽信号が発生する場合がある。偽信号には、ゴースト、フレア、回折光などが含まれ、標本の種類（標本表面の反射率など）や対物レンズを含む光学系に起因して発生する迷光が原因となっている。これらの偽信号が発生すると、本来焦点調節を行うべき信号に基づかず、この偽信号に基づいて焦点調節を行ってしまう場合がある。また、この偽信号は、標本の種類や光学系にかかわらず、ラインセンサ２２上の或る程度決まった画素位置に発生することが知られている。
【００４４】
そこで、本実施形態において、ＣＰＵ２４のメモリ部は、予め偽信号を解析して、偽信号が発生する画素位置を記憶している。
【００４５】
図８は、ＣＰＵ２４による焦点調節動作のフローである。
【００４６】
ステップＳ１：フローの開始時点では、第１対物レンズ３と標本２との間隔は、或る程度広く確保される。
【００４７】
ステップＳ２：ＣＰＵ２４は、ラインセンサ２２の電荷蓄積時間（走査時間）を標準値２．７ｍｓに設定し、このときに信号処理部２３から与えられるピーク電圧信号Ｖ102を参照する。さらにＣＰＵ２４は、そのピーク電圧信号Ｖ102を閾値Ｖ200以上にするべくＬＥＤ７の光量を調節する。
【００４８】
ステップＳ３：ＣＰＵ２４は、調節後に信号処理部２３から与えられるピーク電圧信号Ｖ102を参照し、そのピーク電圧信号Ｖ102が閾値Ｖ200以上となっていた場合は、スリット投影方式のデフォーカス信号を良好に生成できる（スリット投影方式による焦点検出が可能）と判断してステップＳ４へ進み、閾値Ｖ200未満であった場合は、スリット投影方式のデフォーカス信号を良好に生成できない（スリット投影方式による焦点検出が不可能）と判断してステップＳ６へ進む。
【００４９】
ステップＳ４：ＣＰＵ２４は、信号処理部２３から与えられるセンサ信号に基づいて、上述した代表位置ＰＸCを算出することにより焦点位置を確認し、ステップＳ５へ進む。
【００５０】
ステップＳ５：ＣＰＵ２４は、ステップＳ４で確認した焦点位置と、予め記憶した偽信号が発生する画素位置とを比較し、ステップＳ４で確認した焦点位置が、偽信号の位置に該当するか否かを判定する。ＣＰＵ２４は、偽信号の位置に該当する（偽信号に基づいて焦点調節を行っている）と判定した場合、ステップＳ１０へ進む。一方、ＣＰＵ２４は、偽信号の位置に該当しない（偽信号に基づいて焦点調節を行っていない）と判定した場合、ステップＳ８へ進む。
【００５１】
ステップＳ６：ＣＰＵ２４は、ラインセンサ２２の電荷蓄積時間（走査時間）を７ｍｓに変更し、変更後に信号処理部２３から与えられるピーク電圧信号Ｖ102が閾値Ｖ200以上であった場合は、スリット投影方式の焦点検出が可能と判断してステップＳ４へ進み、閾値Ｖ200未満であった場合は、スリット投影方式の焦点検出が不可能と判断してステップＳ７へ進む。
【００５２】
ステップＳ７：ＣＰＵ２４は、第１対物レンズ３の焦点位置が調節可能範囲から外れていると判断してフローを終了する。
【００５３】
ステップＳ８：ＣＰＵ２４は、ステップＳ４で算出した代表位置ＰＸCが、図６の領域Ａ４内である場合には、第１対物レンズ３の焦点深度内に標本面２ａが入ったと判断してステップ９に進む。一方、ＣＰＵ２４は、代表位置ＰＸCが、図６の領域Ａ４以外の領域である場合には、第１対物レンズ３の焦点深度内に標本面２ａが入っていないと判断してステップ１０に進む。
【００５４】
ステップＳ９：ＣＰＵ２４は、第１対物レンズ３の駆動速度をゼロに設定してフローを終了する。
【００５５】
ステップＳ１０：ＣＰＵ２４は、ステップＳ４で確認した焦点位置を参照し、図６を用いて説明したように、駆動速度を設定する。そして、ＣＰＵ２４は、ステップＳ２に戻る。
【００５６】
以上説明したように、本実施形態によれば、いわゆるＳ字カーブに対応するデフォーカス信号を用いずに焦点調節が可能である。したがって、スリット投影方式の焦点検出において、所要時間の短い焦点調節装置が実現する。
【００５７】
また本実施形態によれば、焦点調節において偽信号を適宜回避することにより、誤検出及び誤検出に伴う焦点調節の所要時間の長期化を防ぐことができる。
【００５８】
また、本実施形態では、スリット投影方式のみを搭載する焦点調節装置を例に挙げて説明したが、スリット投影方式の焦点検出光学系とコントラスト検出方式の焦点検出光学系との双方を搭載したいわゆるハイブリット型の焦点調節装置にも本発明を同様に適用することができる。
【００５９】
また、本実施形態の焦点調節装置は、工業用又は生物用の顕微鏡装置などに適用することが可能である。その顕微鏡装置の構成は、例えば図９に示すとおりである。図９では、焦点調節装置の大部分（図１に示したハーフミラー１６の先）を省略した。
【００６０】
図９に示すとおり、顕微鏡装置には、観察用の可視光を射出する光源３１と、光源３１の像を第１対物レンズ３の瞳へ投影する照明光学系３２と、照明光学系３からの可視光を第１対物レンズ３へ導くハーフミラー３３と、第１対物レンズ３が捉えた標本２からの可視光（観察光）を結像する観察光学系３４と、観察光学系３４が形成する可視像を撮像する撮像素子３５とが備えられる。この顕微鏡装置に本実施形態の焦点調節装置が適用されれば、所要時間が短い焦点調節が可能となるので、顕微鏡装置の性能も高まる。
【００６１】
また、本実施形態の焦点調節装置は、パターン投影方式の焦点検出光学系として、スリット投影方式の焦点検出光学系（標本２へ投影するパターンの形状がスリット状）を採用したが、標本２へ投影するパターンの形状は、点状など他の形状に代えても良い。但し、スリット状とした方が、ラインセンサ２２等の光学素子の位置合わせが容易という利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】焦点調節装置の構成図である。
【図２】スリット投影方式の後ピン状態を説明する図である。
【図３】スリット投影方式の合焦状態を説明する図である。
【図４】スリット投影方式の前ピン状態を説明する図である。
【図５】代表位置ＰＸCの求め方について説明する図である。
【図６】第１対物レンズ３の駆動速度を説明する図である。
【図７】偽信号について説明する図である。
【図８】焦点調節のフローチャートである。
【図９】焦点調節装置を適用可能な顕微鏡装置の構成図である。
【符号の説明】
【００６３】
１…ステージ，２…標本，３…第１対物レンズ，４…ダイクロイックミラー，７…ＬＥＤ，８…スリット板，９…コレクタレンズ，１０…瞳マスク，１６…ハーフミラー，１７…第２対物レンズ，２２…ラインセンサ，２３…信号処理部，２４…ＣＰＵ，２５…上下動駆動部，２６…ＬＥＤ切替部，３０…色収差補正レンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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