(57)【要約】      （修正有）【課題】最高転写濃度に優れ画像欠陥のない感熱転写受像シートを提供する。【解決手段】支持体の一面に中空粒子を含有する断熱層、受容層が順次形成された感熱転写受像シートであって、該断熱層および該受容層の少なくとも一方の層に下記式〔Ｉ〕、で代表される化合物を少なくとも１種含有し、かつ該断熱層の単位塗布量あたりの空隙量（Ｖｏ）と該断熱層に含まれる中空粒子から計算される空隙量（Ｖｃ）との関係が下記式（Ｉ）で表される感熱転写受像シート。式（Ｉ）１．２≦Ｖｏ／Ｖｃ≦２．０2009096196.tif 000032［式〔Ｉ〕中、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、ヒドロキシ基または低級アルキル基を、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アリール基、低級アルキル基などを表す。ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは６−ｍを表す。］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の一面に中空粒子を含有する断熱層、受容層が順次形成された感熱転写受像シートであって、該断熱層および該受容層の少なくとも一方の層に下記一般式〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕または〔ＩＶ〕のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含有し、かつ該断熱層の単位塗布量あたりの空隙量（Ｖｏ）と該断熱層に含まれる中空粒子から計算される空隙量（Ｖｃ）との関係が下記式（Ｉ）で表されることを特徴とする感熱転写受像シート。
式（Ｉ）    １．２  ≦  Ｖｏ／Ｖｃ  ≦  ２．０
【化１】
2009096196.tif 000028
［一般式〔Ｉ〕中、Ｒ１およびＲ２は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシ基または低級アルキル基を表す。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アリール基、低級アルキル基、低級アルケニル基、アラルキル基、アルコキシ基、−ＣＯＲ３、−ＳＯ２Ｒ４または−Ｎ（Ｒ５）Ｒ６を表し、Ｒ３およびＲ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子、−ＯＭ、低級アルキル基、低級アルコキシ基または−Ｎ（Ｒ７）Ｒ８を表す。
Ｒ５およびＲ６は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、−ＣＯＲ９または−ＳＯ２Ｒ１０を表わす。Ｒ９およびＲ１０は同じでも異なっていてもよく、低級アルキル基または−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１２を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１１およびＲ１２は同じであっても異なっていてもよく、水素原子または低級アルキル基を表す。
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子または１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表わし、ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは６−ｍを表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｘが複数存在する時はそれぞれが互いに異なっていてもよい。］
【化２】
2009096196.tif 000029
［一般式〔ＩＩ〕中、Ｒ１３は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基または
【化３】
2009096196.tif 000030
を表し、Ｒ１４およびＲ１５は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、複素環基、アルキルチオ基、アルキルスルホキシ基またはアルキルスルホニル基を表し、Ｒ１４とＲ１５は互いに結合して芳香環を形成していても良い。
Ｒ１６およびＲ１７は同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。］
【化４】
2009096196.tif 000031
［一般式〔ＩＶ〕式中、Ｒ２０は低級アルキレン基を表し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、−ＣＯＲ２１、−Ｎ（Ｒ２２）Ｒ２３または−ＳＯ３Ｍを表し、Ｒ２１は水素原子、−ＯＭ、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基または−Ｎ（Ｒ２４）Ｒ２５を表す。
Ｒ２２およびＲ２３は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基、−ＣＯＲ２６または−ＳＯ２Ｒ２６を表し、互に同じであっても異なっていてもよく、Ｒ２４およびＲ２５は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｒ２６は低級アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子または１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表し、ｐは０または１を表し、ｑは０〜５の整数を表す。］
【請求項２】
前記断熱層において、中空粒子以外の固形分が３０質量％以下であることを特徴とする請求項１に記載の感熱転写受像シート。
【請求項３】
前記断熱層のダイナミック硬度が１０以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の感熱転写受像シート。
【請求項４】
前記中空粒子の空隙率が３０〜５０％であることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載の感熱転写受像シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感熱転写シートに含有される色素を熱により画像受容層に転写し、画像を形成するプリンターに使用する感熱転写受像シートに関するものである。特に、濃淡ムラあるいは白抜けを起こしにくく、かつ最高転写濃度に優れた感熱転写受像シートを提供するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている（例えば、特許文献１及び２）。しかも、銀塩写真に比べて、ドライであること、デジタルデータから直接可視像化できる、複製作りが簡単であるなどの利点を持っている。
【０００３】
この染料拡散転写記録方式では、色素を含有する感熱転写シート（以下、単にインクシートとも称す）と感熱転写受像シート（以下、単に受像シートとも称す）を重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルヘッドによってインクシートを加熱することでインクシート中の色素（以下、染料とも称す）を受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色あるいはこれにブラックを加えた４色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
【０００４】
近年、コンピューターによるデジタル画像処理技術の発達により、記録画像の画質が向上し、染料拡散転写記録方式はその市場を拡大しており、これに伴い、プリントシステムの高速化、高濃度化への要求が高まってきている。そのためサーマルヘッド等の加熱デバイスの発熱量を、如何に効率よく画像形成に利用するかが重要な技術課題となっている。
【０００５】
発熱量を効率よく利用する例として、紙支持体と受容層の間に中空粒子を含有する断熱層を設けた受像シートが提案されている。（例えば、特許文献３参照）これは、中空粒子の空隙が持つ断熱効果によるものであるが、要求されている高濃度化には不十分であり、更なる断熱効率向上が要求されている。
上記問題を改良するため検討を行ったところ、粒子サイズの大きい中空粒子を使用することにより、転写濃度の向上が可能であることがわかった。しかしながら、粒子サイズを大きくするに従い、インクシートと受像シートとの密着が不均一となり、印画の濃淡ムラが発生するという新たな問題が発生した。
【０００６】
上記の問題を解決するため鋭意検討を進めたところ、断熱層における中空粒子以外の固形分を減らすことにより、改良できることがわかった。原因は定かではないが、断熱層の空隙が中空粒子の空隙から計算される空隙量よりも増加することが認められ、断熱性が向上したと推定している。更に、断熱層のクッション性向上も認められ、濃淡ムラも改善されることがわかった。
【０００７】
一方、特許文献４では、断熱層の細孔容積に着目しているが、濃淡ムラの改善効果が見られるものの、最高転写濃度に関して全く言及していない。特に、断熱層の空隙量が中空粒子の空隙から計算されるよりも減少しており、本発明の範囲には含まれない。
【特許文献１】特開平８−２５８１３号公報
【特許文献２】特開平１１−３２１１２８号公報
【特許文献３】米国特許第８６６，２８２号明細書
【特許文献４】特開２００６−１０３３０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、最高転写濃度に優れ画像欠陥のない感熱転写受像シートを提供することを目的とする。具体的には、最高転写濃度が高く、出力画像に生じる濃淡ムラが少ない感熱転写受像シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）支持体の一面に中空粒子を含有する断熱層、受容層が順次形成された感熱転写受像シートであって、該断熱層および該受容層の少なくとも一方の層に下記一般式〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕または〔ＩＶ〕のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含有し、かつ該断熱層の単位塗布量あたりの空隙量（Ｖｏ）と該断熱層に含まれる中空粒子から計算される空隙量（Ｖｃ）との関係が下記式（Ｉ）で表されることを特徴とする感熱転写受像シート。
式（Ｉ）    １．２  ≦  Ｖｏ／Ｖｃ  ≦  ２．０
【００１０】
【化１】
2009096196.tif 000002
【００１１】
［一般式〔Ｉ〕中、Ｒ１およびＲ２は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシ基または低級アルキル基を表す。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アリール基、低級アルキル基、低級アルケニル基、アラルキル基、アルコキシ基、−ＣＯＲ３、−ＳＯ２Ｒ４または−Ｎ（Ｒ５）Ｒ６を表し、Ｒ３およびＲ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子、−ＯＭ、低級アルキル基、低級アルコキシ基または−Ｎ（Ｒ７）Ｒ８を表す。
Ｒ５およびＲ６は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、−ＣＯＲ９または−ＳＯ２Ｒ１０を表わす。Ｒ９およびＲ１０は同じでも異なっていてもよく、低級アルキル基または−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１２を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１１およびＲ１２は同じであっても異なっていてもよく、水素原子または低級アルキル基を表す。
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子または１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表わし、ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは６−ｍを表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｘが複数存在する時はそれぞれが互いに異なっていてもよい。］
【００１２】
【化２】
2009096196.tif 000003
【００１３】
［一般式〔ＩＩ〕中、Ｒ１３は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基または
【００１４】
【化３】
2009096196.tif 000004
【００１５】
を表し、Ｒ１４およびＲ１５は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、複素環基、アルキルチオ基、アルキルスルホキシ基またはアルキルスルホニル基を表し、Ｒ１４とＲ１５は互いに結合して芳香環を形成していても良い。
Ｒ１６およびＲ１７は同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。］
【００１６】
【化４】
2009096196.tif 000005
【００１７】
［一般式〔ＩＶ〕式中、Ｒ２０は低級アルキレン基を表し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、−ＣＯＲ２１、−Ｎ（Ｒ２２）Ｒ２３または−ＳＯ３Ｍを表し、Ｒ２１は水素原子、−ＯＭ、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基または−Ｎ（Ｒ２４）Ｒ２５を表す。
Ｒ２２およびＲ２３は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基、−ＣＯＲ２６または−ＳＯ２Ｒ２６を表し、互に同じであっても異なっていてもよく、Ｒ２４およびＲ２５は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｒ２６は低級アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子または１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表し、ｐは０または１を表し、ｑは０〜５の整数を表す。］
（２）前記断熱層において、中空粒子以外の固形分が３０質量％以下であることを特徴とする（１）に記載の感熱転写受像シート。
（３）前記断熱層のダイナミック硬度が１０以下であることを特徴とする（１）または（２）に記載の感熱転写受像シート。
（４）前記中空粒子の空隙率が１０〜７０％であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の感熱転写受像シート。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の感熱転写受像シートにより、最高転写濃度に優れ画像欠陥のない高画質な画像を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の感熱転写受像シートは、支持体上に少なくとも１層の受容層（染料受容層）を有し、支持体と受容層との間に少なくとも１層の断熱層（多孔質層）を有する。また、支持体と受容層との間に、例えば白地調整、帯電防止、接着性、レベリングなどの各種機能を付与した中間層が形成されていてもよい。また、転写シートと重ね合わせられる面の最外層には、離型層が形成されてもよい。
本発明においては、受容層、断熱層、および中間層の少なくとも１層は水系塗布で塗設される。各層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、ダイコート、スライドコート、カーテンコート等の一般的な方法で行われる。受容層、断熱層、および中間層は、各層それぞれ別々に塗布されてもよく、任意の層を組み合わせて同時重層塗布をしてもよい。
支持体の、受容層を塗設した面の他方の面にはカール調整層、筆記層、帯電調整層を設けてもよい。
【００２０】
本発明では、断熱層あるいは受容層の少なくとも一方の層に下記一般式〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕または〔ＩＶ〕のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含有する。
【００２１】
【化５】
2009096196.tif 000006
【００２２】
一般式〔Ｉ〕中、Ｒ１およびＲ２は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシ基、又は低級アルキル基（炭素数１〜１０のアルキル基、以下同じ）を表す。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アリール基、低級アルキル基、低級アルケニル基（炭素数２〜１０のアルケニル基、以下同じ）、アラルキル基、アルコキシ基、−ＣＯＲ３、−ＳＯ２Ｒ４、又は−Ｎ（Ｒ５）Ｒ６を表し、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、−ＯＭ、低級アルキル基、低級アルコキシ基、又は−Ｎ（Ｒ７）Ｒ８を表す。
Ｒ５、Ｒ６は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、−ＣＯＲ９、又は−ＳＯ２Ｒ１０を表わす。Ｒ９、Ｒ１０は低級アルキル基、又は−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１２を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１２は同じであっても異なっていてもよく水素原子又は低級アルキル基を表す。
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子又は１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表わし、ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは６−ｍの整数を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｘが各々複数存在する時はそれぞれが互いに異なっていてもよい。
【００２３】
【化６】
2009096196.tif 000007
【００２４】
一般式〔ＩＩ〕中、Ｒ１３は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、
【００２５】
【化７】
2009096196.tif 000008
【００２６】
を表し、Ｒ１４、Ｒ１５は各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、複素環基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホキシ基、アルキルスルホニル基を表し、Ｒ１４とＲ１５は互いに結合して芳香環を形成していても良い。
Ｒ１６、Ｒ１７は各々水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。
これらの中でも、Ｒ１４、Ｒ１５が水素原子であり、Ｒ１３がメチル基であるもの（以下、化合物ＩＩ−ａと称する）が好ましい。また、Ｒ１４とＲ１５が互いに結合して芳香環を形成しＲ１３が水素原子であるものと化合物ＩＩ−ａとの組み合わせ、および、Ｒ１４が塩素原子、Ｒ１５が水素原子、Ｒ１３がメチル基であるものと化合物ＩＩ−ａとの組み合わせはさらに好ましい。
【００２７】
【化８】
2009096196.tif 000009
【００２８】
［一般式〔ＩＶ〕式中、Ｒ２０は低級アルキレン基を表し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、−ＣＯＲ２１、−Ｎ（Ｒ２２）Ｒ２３、または−ＳＯ３Ｍを表し、Ｒ２１は水素原子、−ＯＭ、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、または−Ｎ（Ｒ２４）Ｒ２５を表す。
Ｒ２２、Ｒ２３は各々、水素原子、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基、−ＣＯＲ２６、または−ＳＯ２Ｒ２６を表し、互に同じであっても異なっていてもよく、Ｒ２４、Ｒ２５は各々、水素原子、低級アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表し、互に同じであっても異なっていてもよく、Ｒ２６は低級アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表わし、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、または１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表し、ｐは０または１を表わし、ｑは０〜５の整数を表す。］
【００２９】
これらの化合物は、１種類を単独で用いてもよいし、任意の化合物を２種類以上選んで組み合わせて使用してもかまわない。これらの化合物はそのまま添加してもかまわないが、水又はメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、エチレングリコールなどの有機溶媒に溶解し、溶液として断熱層塗布液に添加してもよい。または中空粒子の分散物中に添加してもよい。あるいは高沸点溶媒、低沸点溶媒、もしくは両者の混合溶媒に溶解した後、界面活性剤の存在下に乳化分散して、断熱層塗布液中に添加することも可能である。また、受容層塗布液に添加する場合も、そのまま添加することも可能であるし、上記溶媒に溶解した後、溶液として受容層塗布液に添加しても良く、上記と同様に乳化分散後に添加してもよい。
【００３０】
本発明において断熱層に含有する前記化合物〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕、〔ＩＶ〕について、詳細に説明する。
なお、本発明において、低級アルキル基、低級アルコキシ基等において使用される低級とは、炭素数が１〜１０であり、好ましくは１〜８である。また、低級アルケニル基における低級とは炭素数が２〜１０であり、好ましくは２〜８であり、低級アルキレン基における低級とは炭素数が１〜１０であり、好ましくは１〜８である。
また、本発明において、アルキル基の好ましい炭素数は１〜１８であり、アルケニル基の好ましい炭素数は２〜１８であり、アラルキル基の好ましい炭素数は７〜１８であり、アリール基の好ましい炭素数は６〜１８であり、複素環基の好ましい炭素数は０〜１８であり、アルコキシ基の好ましい炭素数は１〜１８であり、アラルキルオキシ基の好ましい炭素数は７〜１８である。
一般式〔Ｉ〕において、Ｒ１、Ｒ２は同じでも異なっていてもよく水素原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基）、を表わす。Ｘは水素原子、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子）、ニトロ基、シアノ基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基）、低級アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基）、低級アルケニル基（例えば、アリル基、プロペニル基）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ｎ−ブトキシ基、２−メトキシエトキシ基）、−ＣＯＲ３、−ＳＯ２Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ６を表し、Ｒ３、Ｒ４は、水素原子、−ＯＭ、低級アルキル基（例えばメチル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基）、低級アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基）、−Ｎ（Ｒ７）Ｒ８を表す。Ｒ５、Ｒ６は同じでも異なっていてもよく水素原子、低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、２−エチルヘキシル基）、−ＣＯＲ９、−ＳＯ２Ｒ１０を表わす。Ｒ９、Ｒ１０は低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、２−メトキシエチル基）、−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１２を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１２は同じでも異なっていてもよく水素原子、低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、２−エチルヘキシル基）を表わす。Ｍは、水素原子、アルカリ金属（例えばナトリウム、カリウムなど）および、１価のカチオンを形成するに必要な原子群（例えば、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンなど）を表し、ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表わし、ｎは６−ｍの整数を表わす。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｘが各々複数存在する時はそれぞれが互いに異なっていてもよい。
【００３１】
上記一般式〔Ｉ〕で示される化合物においては、Ｒ１、Ｒ２で規定される低級アルキル基と、Ｘで表される低級アルコキシ基が、好ましくは炭素数２〜８の範囲のものである。より好ましくは、Ｒ１、Ｒ２で規定される低級アルキル基、Ｘで表される低級アルコキシ基が、それぞれ炭素数２〜４の範囲であるか、Ｘは水素原子、低級アルキル基であり、Ｒ１、Ｒ２は水素原子、低級アルキル基であり、ｍは１、２の整数であり、ｎは、５、４の整数で表わされる化合物である。
次に一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物の代表的具体例を示すが本発明に用いる一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物はこれらに限定されるものではない。なお、以下の例示化合物は、試薬として一般的に市販されており、容易に入手可能である。
【００３２】
【化９】
2009096196.tif 000010
【００３３】
【化１０】
2009096196.tif 000011
【００３４】
次に一般式〔ＩＩ〕の化合物について記述する。
Ｒ１３は水素原子、直鎖もしくは分岐鎖の置換または無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクタデシル基、２−ヒドロキシエチル基、２−カルボキシエチル基、２−シアノエチル基、スルホブチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基）、置換または無置換の環状アルキル基（例えば、シクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、２−オキソシクロペンチル基）、置換または無置換のアルケニル基（例えば、アリル基、メチルアリル基）、置換または無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｏ−クロロベンジル基、ｐ−イソプロピルベンジル基）、置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｏ−メチルフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基）、複素環基（２−イミダゾリル基、２−フリル基、２−チアゾリル基、２−ピリジル基）、
【００３５】
【化１１】
2009096196.tif 000012
【００３６】
を表し、Ｒ１４、Ｒ１５は各々水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、置換または無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、クロロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基）、置換または無置換の環状アルキル基（例えば、シクロヘキシル基、２−オキソシクロペンチル基）、置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基、４−ニトロフェニル基、４−アミノフェニル基、３−アセトアミドフェニル基）、シアノ基、複素環基（例えば、２−イミダゾリル基、２−チアゾリル基、２−ピリジル基）、置換または無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、２−シアノエチルチオ基、２−エトキシカルボニルチオ基）、置換または無置換のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、２−カルボキシフェニルチオ基、ｐ−メトキシフェニルチオ基）、置換または無置換のアルキルスルホキシ基（例えば、メチルスルホキシ基、２−ヒドロキシエチルスルホキシ基）、置換または無置換のアルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニル基、２−ブロモエチルスルホニル基）を表わし、Ｒ１４とＲ１５は互に結合して芳香環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環）を形成してもよい。
【００３７】
Ｒ１６、Ｒ１７は各々水素原子、置換または無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、２−シアノエチル基、２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル基、２−シアノエチル基）、置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、２−メトキシフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、３−アセトアミドフェニル基）、置換または無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、ｐ−イソプロピルベンジル基、ｏ−クロロベンジル基、ｍ−メトキシベンジル基）を表わす。
【００３８】
さらに、上記一般式〔ＩＩ〕で好ましいのは、Ｒ１３は、水素原子、低級アルキル基を表わし、Ｒ１４、Ｒ１５は互いに結合して芳香環を形成する場合である。
次に一般式〔ＩＩ〕で表わされる化合物の代表的具体例を以下に示すが、本発明に用いることができる一般式〔ＩＩ〕で表される化合物はこれらに限定されるものではない。以下の化合物の一部は市販されており容易に入手することが可能であり、またフランス国特許１，５５５，４１６号明細書に記載の合成法に準じて製造することができる。
【００３９】
【化１２】
2009096196.tif 000013
【００４０】
【化１３】
2009096196.tif 000014
【００４１】
【化１４】
2009096196.tif 000015
【００４２】
【化１５】
2009096196.tif 000016
【００４３】
次に一般式〔ＩＶ〕の化合物について記述する。
一般式〔ＩＶ〕において、Ｒ２０は低級アルキレン基（例えば、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基）を表し、特に炭素数１〜６のアルキレン基が好ましい。Ｘは水素元素、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子）、ニトロ基、ヒドロキシル基、シアノ基、低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基）、低級アルコキシ基（例えば、メトキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メトキシエトキシ基）、−ＣＯＲ２１、−Ｎ（Ｒ２２）Ｒ２３、−ＳＯ３Ｍを表し、Ｒ２１は水素原子、−ＯＭ、低級アルキル基（例えばメチル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基）、アリール基（例えば、フェニル基、４−クロロフェニル基、３−ニトロフェニル基）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、ｐ−イソプロピルベンジル基、ｏ−メチルベンジル基）、低級アルコキシ基（例えば、メトキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基、４−ニトロフェノキシ基）、アラルキルオキシ基（例えば、ベンジルオキシ基、ｐ−クロロベンジルオキシ基）、−Ｎ（Ｒ２４）Ｒ２５を表す。
【００４４】
Ｒ２２、Ｒ２３は各々、水素原子、低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、２−エチルヘキシル基）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、２−メトキシフェニル基、３−アセトアミドフェニル基）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、ｏ−クロロベンジル基）、−ＣＯＲ２６、−ＳＯ２Ｒ２６を表わし、互に同じであっても異なっていてもよく、Ｒ２４、Ｒ２５は各々、水素原子、低級アルキル基（例えば、メチル基、イソプロピル基、２−シアノエチル基）、アリール基（例えば、フェニル基、４−エトキシカルボニルフェニル基、３−ニトロフェニル基）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基）を表し、互に同じであっても異なっていてもよく、Ｒ２６は低級アルキル基（例えば、エチル基、２−メトキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、４−スルホフェニル基、４−カルボキシフェニル基）、またはアラルキル基（例えば、ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基）を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子（例えば、ナトリウム、カリウム）および１価のカチオン形成するに必要な原子群（例えば、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン）を表わし、ｐは０または１を表わし、ｑは０または１から５までの整数を表わす。
【００４５】
上記一般式〔ＩＶ〕で記述される低級アルキル基、低級アルコキシ基の好ましい炭素数は１〜８である。さらに好ましくは、Ｒ２０は、炭素数１〜３のアルキレン基、Ｘは、低級アルキル基、ｐは１、ｑは、０または１で表される化合物である。次に一般式〔ＩＶ〕で表わされる化合物の代表的具体例を示すが、本発明で用いることができる一般式〔ＩＶ〕で表される化合物はこれらに限定されるものではない。以下の例示化合物の大部分は試薬として市販されており、容易に入手することが可能であり、また既存の合成法で容易に合成することも可能である。例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，第４１巻，６６９頁（１９１９）に記載の方法でｍ＝１の化合物の一部は容易に合成することが可能である。
【００４６】
【化１６】
2009096196.tif 000017
【００４７】
【化１７】
2009096196.tif 000018
【００４８】
【化１８】
2009096196.tif 000019
【００４９】
これらの化合物の好ましい添加量は、塗布後の固形分量換算で、０．００１〜１質量％が好ましく、より好ましくは０．００１〜０．１質量％であり、更に好ましくは０．０１〜０．１質量％である。添加量が０．００１質量％より少ないと効果を発揮することができず、１質量％より多いと印画後の画像保存性に影響を及ぼす場合がある。
【００５０】
（断熱層）
断熱層は、サーマルヘッド等を用いた加熱転写時における熱から支持体を保護する役割を果たす。また、高いクッション性を有するので、支持体として紙を用いた場合であっても、印字感度の高い感熱転写受像シートを得ることができる。断熱層は１層でも２層以上でも良い。断熱層は、受容層より支持体側に設けられる。
【００５１】
本発明の受像シートにおいて、断熱層は中空粒子を含有する。
本発明における中空粒子とは粒子内部に独立した気孔を有するポリマー粒子であり、好ましくはポリマーラテックスであり、例えば、１）ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂等により形成された隔壁内部に水などの分散媒が入っており、塗布乾燥後、粒子内の水が粒子外に蒸発して粒子内部が中空となる非発泡型の中空粒子、２）ブタン、ペンタンなどの低沸点液体を、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステルのいずれか又はそれらの混合物もしくは重合物よりなる樹脂で覆っており、塗工後、加熱により粒子内部の低沸点液体が膨張することにより内部が中空となる発泡型マイクロバルーン、３）上記の２）をあらかじめ加熱発泡させて中空ポリマーとしたマイクロバルーンなどが挙げられる。
これらの中でも、１）の非発泡型の中空粒子が好ましい。２）のマイクロバルーンは、塗布方式により断熱層を形成させた後、加熱等の方法によりマイクロバルーンを発泡させる必要があり、平滑な面の形成が困難になる。３）のあらかじめ過熱発泡させたマイクロバルーン内部に気体を含有しているため、塗布方式で製造する際に均一な塗布液を調整することが困難となり、やはり平滑な面の形成が困難になる。
【００５２】
非発泡型の中空粒子の製造方法は特に制限はなく、例えば、特開昭５６−３２５１３号公報、特開昭６３−２１３５０９号公報、特開昭６４−１７０４号公報、特開平３−２６７２４号公報、特開平５−２７９４０９号公報、特開平６−２４８０１２号公報、特開平１０−１８２７６１号公報等に記載された方法等が例示される。
【００５３】
これらの中空粒子の平均粒子径は０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．２〜３．０μｍであることがさらに好ましく、０．３〜１．０μｍであることが特に好ましい。
このサイズが小さすぎると、空隙率が下がる傾向があり望まれる断熱性が得られなくなり、サイズが大きすぎると、断熱層の膜厚に対して中空粒子の粒子径が大きすぎて平滑な面が得られにくくなり、粗大粒子に起因する塗布故障が発生しやすくなるためである。
また、中空粒子は、空隙率が１０〜７０％のものが好ましく、２０〜６０％のものがより好ましく、３０〜５０％が最も好ましい。空隙率が小さすぎると望まれる断熱性が得られなくなり、大きすぎると割れやすい中空粒子および不完全な中空粒子の比率が増えて、印画欠陥が生じ、また、十分な膜強度が得られない。
【００５４】
本発明において、中空粒子のサイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、その外径の円相当換算直径を測定し算出する。平均粒径は、中空粒子を少なくとも３００個透過電子顕微鏡を用いて観察し、その外形の円相当径を算出し、平均して求める。中空粒子の空隙率も透過型電子顕微鏡を用いて、粒子の外径と内径を測定し算出する。上記サイズ測定と同様に中空粒子を少なくとも３００個、透過電子顕微鏡を用いて観察し、その空隙率を算出し、平均して求める。本発明における空隙率とは、空隙を含む中空粒子の体積に対する空隙部分の割合である。
【００５５】
本発明の断熱層は、単位塗布量あたりの空隙量（Ｖｏ）と含有される中空粒子から計算される空隙量（Ｖｃ）との関係が下記式（Ｉ）で表される。
式（Ｉ）    １．２  ≦  Ｖｏ／Ｖｃ  ≦  ２．０
ここで、単位塗布量とは、１平方メートルあたり固形分１ｇの塗布量を指す。Ｖｃは中空粒子の質量、比重、空隙率、および断熱層に含まれる中空粒子以外の固形分の質量、比重から求めることができる。また、Ｖｏは断熱層の塗布量および膜厚から求めることができる。断熱層の膜厚は、走査型顕微鏡を用いて、塗布試料の断面を観察することによる求めることができる。Ｖｏの値がＶｃの値より大きくなるのは、塗布後の断熱層中に、中空粒子由来の粒子内空隙とは別に、層中に粒子間空隙が存在することによる。Ｖｏ／Ｖｃの値が１．２より小さいと、濃淡ムラの改善効果が見られず、２．０より大きい場合は、粒子間空隙割合が大きくなるため、断熱層の力学的強度を保つことができず、ひび割れの原因となる。
【００５６】
Ｖｏ／Ｖｃの値は、中空粒子とバインダーの比率を変化させたり、断熱層バインダーの種類、塗布液中の水分量、塗布液粘度、乾燥速度をコントロールすることによって制御することができる。この中でも、中空粒子とバインダーの比率を変化させることによりＶｏ／Ｖｃを制御することが好ましい。
【００５７】
本発明において、断熱層における中空粒子以外の固形分が３０質量％以下であることが望ましく、５〜２０％の範囲がより好ましい。ここで中空粒子以外の固形分とは、断熱層に含まれるバインダー、無機塩など中空粒子を除く固形分の合計である。
【００５８】
中空粒子は必要に応じて２種以上混合して使用することができる。前記１）の具体例としてはロームアンドハース社製ローペイク１０５５、大日本インキ社製ボンコートＰＰ−１０００、ＪＳＲ社製ＳＸ８６６（Ｂ）、日本ゼオン社製ニッポールＭＨ５０５５（いずれも商品名）などが挙げられる。前記２）の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０、Ｆ−５０（いずれも商品名）などが挙げられる。前記３）の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０Ｅ、日本フェライト社製エクスパンセル４６１ＤＥ、５５１ＤＥ、５５１ＤＥ２０（いずれも商品名）が挙げられる。断熱層に用いられる中空粒子はラテックス化されていてもよい。
【００５９】
中空粒子を含む断熱層中には、中空粒子以外にバインダーとして水溶性ポリマーを含有することが好ましい。好ましい例としては、受容層の項で記載する水溶性ポリマーが挙げられる。これら水溶性ポリマーのなかで、ゼラチン、ポリビニルアルコールが好ましい。これらの樹脂は単独又は混合して用いることができる。
【００６０】
本発明において、中空粒子を含有する断熱層は、高いクッション性を有しており、このクッション性をダイナミック硬度で規定できる。
【００６１】
ダイナミック硬度は次のように定義できる。
稜間角１１５°の三角錐圧子に荷重Ｐ（ｇ重）をかけたときの侵入深さをＤ（μｍ）としたときのダイナミック硬度ＤＨは以下の式で求めることができる。
ＤＨ＝３７．８３８Ｐ／Ｄ２
このダイナミック硬度は、例えば島津製作所製ダイナミック超微小硬度計ＤＵＨ−２０１型（商品名）で測定できる。
【００６２】
本発明において、断熱層のダイナミック硬度は１０．０以下（好ましくは０．１以上）が好ましく、０．１〜３．０の範囲がより好ましい。ダイナミック硬度が１０．０を超えると断熱層としてのクッション性が不足し、印画時にインクシートとの密着性に不均一が生じ画質が低下することがある。一方、ダイナミック硬度が過度に小さいと、例えば０．１を下まわると、傷つき易くハンドリング性が劣ることがある。
【００６３】
ダイナミック硬度は、断熱層の中空粒子含有比率を変えたり、バインダー種を変えたり、或いは塗布膜厚を変化させたりすることで制御することができる。
（受容層）
本発明の感熱転写受像シートは、少なくとも染料を受容し得る熱可塑性の受容ポリマーを有する少なくとも１層（好ましくは少なくとも２層）の受容層を有する。
好ましい受容ポリマーの例としては、ポリ酢酸ビニル、エチレン酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルアクリル酸エステル共重合体、塩化ビニルメタクリル酸エステル共重合体、ポリアクリルエステル、ポリスチレン、ポリスチレンアクリル等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール等のアセタール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカプロラクトン等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、尿素樹脂・メラミン樹脂・ベンゾグアナミン樹脂等のアミノ樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、相溶する範囲内で任意にブレンドして用いることもできる。
上記ポリマー中でもポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトンまたはこれらの混合物を含有することが好ましく、ポリエステル、ポリ塩化ビニル共重合体あるいはこれらの混合物がさらに好ましい。
以上に挙げたポリマーは、有機溶剤（メチルエチルケトン、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）を適宜用いて溶解させることで、支持体上に塗布することができるし、ポリマーラテックスとして水系の塗工液に加えて支持体上に塗布することもできる。
【００６４】
また受容層には、紫外線吸収剤、離型剤、滑剤、酸化防止剤、防腐剤、界面活性剤を含有させてもよい。
【００６５】
＜ポリマーラテックス＞
本発明の感熱転写受像シートに塗設される受容層には少なくとも１種（好ましくは、少なくとも２種）のポリマーラテックスを含有させることが好ましい。
受容層に用いるポリマーラテックスは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれでもよく、分散粒子の平均粒径は１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍの範囲が好ましい。
本発明に用いるポリマーラテックスのガラス転移温度（Ｔｇ）は、−３０℃〜１００℃が好ましく、０℃〜８０℃がより好ましく、１０℃〜７０℃がさらに好ましく、１５℃〜６０℃が特に好ましい。
【００６６】
本発明の感熱転写受像シートに用いるポリマーラテックスの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリエステル類、ゴム類（例えばＳＢＲ樹脂）、ポリウレタン類、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルアクリル酸エステル共重合体、塩化ビニルメタアクリル酸共重合体等の共重合体を含めたポリ塩化ビニル共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体等の共重合体を含めたポリ酢酸ビニル共重合体、ポリオレフィン等のポリマーラテックスを好ましく用いることができる。これらポリマーラテックスとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの分子量は数平均分子量で５０００〜１００００００が好ましく、より好ましくは１００００〜５０００００である。
本発明のポリマーラテックスとしては、ポリエステルラテックス、塩化ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス等の塩化ビニル共重合体ラテックスのいずれか１つまたは任意の組み合わせが好ましい。
【００６７】
このような塩化ビニル共重合体としては、前述のものが挙げられるが、なかでもビニブラン２４０、ビニブラン２７０、ビニブラン２７６、ビニブラン２７７、ビニブラン３７５、ビニブラン３８０、ビニブラン３８６、ビニブラン４１０、ビニブラン４３０、ビニブラン４３２、ビニブラン５５０、ビニブラン６０１、ビニブラン６０２、ビニブラン６０９、ビニブラン６１９、ビニブラン６８０、ビニブラン６８０Ｓ、ビニブラン６８１Ｎ、ビニブラン６８３、ビニブラン６８５Ｒ、ビニブラン６９０、ビニブラン８６０、ビニブラン８６３、ビニブラン６８５、ビニブラン８６７、ビニブラン９００、ビニブラン９３８、ビニブラン９５０（以上いずれも日信化学工業（株）製）、ＳＥ１３２０、Ｓ−８３０（以上いずれも住友ケムテック（株）製）が好ましい。
【００６８】
また、ポリエステル系ラテックスとしては、バイロナール  ＭＤ１２００、バイロナール  ＭＤ１２２０、バイロナール  ＭＤ１２４５、バイロナール  ＭＤ１２５０、バイロナール  ＭＤ１５００、バイロナール  ＭＤ１９３０、バイロナール  ＭＤ１９８５（以上いずれも東洋紡（株）製）が好ましい。
これらのなかでも、塩化ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス等の塩化ビニル共重合体ラテックスが最も好ましい。
【００６９】
＜水溶性ポリマー＞
本発明の感熱転写受像シートにおいては、受容層は水溶性ポリマーを含有することも好ましい態様の一つである。
ここで、水溶性ポリマーとは、２０℃における水１００ｇに対し０．０５ｇ以上溶解すればよく、より好ましくは０．１ｇ以上、さらに好ましくは０．５ｇ以上、特に好ましくは１ｇ以上である。水溶性ポリマーとしては、天然高分子、半合成高分子および合成高分子のいずれも好ましく用いられる。
【００７０】
本発明の感熱転写受像シートに用いることのできる水溶性ポリマーのうち、天然高分子および半合成高分子について詳しく説明する。植物系多糖類としては、κ−カラギーナン、ι−カラギーナン、λ−カラギーナン、ペクチンなど、微生物系多糖類としては、キサンタンガム、デキストリンなど、動物系天然高分子としては、ゼラチン、カゼインなどが挙げられる。セルロース系としては、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどが挙げられる。
本発明に用いることのできる天然高分子、半合成高分子のうちゼラチンが好ましい。本発明に用いるゼラチンは分子量１００００から１００００００までのものを用いることができる。本発明に用いられるゼラチンはＣｌ−、ＳＯ４２−等の陰イオンを含んでいてもよいし、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｎ２＋、Ｚｎ２＋などの陽イオンを含んでいても良い。ゼラチンは水に溶かして添加することが好ましい。
【００７１】
本発明の感熱転写受像シートに用いることのできる水溶性ポリマーのうち、合成高分子については、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、水溶性ポリエステルなどである。
本発明に用いることのできる合成高分子のうちポリビニルアルコール類が好ましい。
【００７２】
ポリビニルアルコールについては、完全けん化物、部分けん化物、変性ポリビニルアルコール等、各種ポリビニルアルコールを用いることができる。これらポリビニルアルコールについては、長野浩一ら共著，「ポバール」（高分子刊行会発行）に記載のものが用いられる。
【００７３】
ポリビニルアルコールは、その水溶液に添加する微量の溶剤あるいは無機塩類によって粘度調整をしたり粘度安定化させたりすることが可能であって、詳しくは上記文献、長野浩一ら共著，「ポバール」，高分子刊行会発行，１４４〜１５４頁記載のものを使用することができる。その代表例としてホウ酸を含有させることで塗布面質を向上させることができ、好ましい。ホウ酸の添加量は、ポリビニルアルコールに対し０．０１〜４０質量％であることが好ましい。
【００７４】
ポリビニルアルコールの具体例としては、完全けん化物としてはＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈなど、部分けん化物としてはＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２２０など、変性ポリビニルアルコールとしてはＣ−１１８、ＨＬ−１２Ｅ、ＫＬ−１１８、ＭＰ−２０３が挙げられる(いずれも商品名、(株)クラレ製)。
【００７５】
ポリマーラテックスの添加量は、ポリマーラテックスの固形分が受容層中の全ポリマーの５０〜９８質量％であることが好ましく、７０〜９５質量％であることがより好ましい。
【００７６】
本発明の感熱転写受像シートでは受容層の少なくとも１層を水系の塗布液で塗布するものであるが、複数の受容層を有する場合、これらの全ての受容層を水系の塗布液を塗布後乾燥して調製することが好ましい。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒（分散媒）の６０質量％以上が水であることをいう。塗布液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、オキシエチルフェニルエーテルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。
【００７７】
（紫外線吸収剤）
本発明の感熱転写受像シートには、紫外線吸収剤を含有させてもよい。その紫外線吸収剤としては、従来公知の無機系紫外線吸収剤、有機系紫外線吸収剤が使用できる。有機系紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、置換アクリロニトリル系、ヒンダードアミン系等の非反応性紫外線吸収剤や、これらの非反応性紫外線吸収剤に、例えば、ビニル基やアクリロイル基、メタアクリロイル基等の付加重合性二重結合、あるいは、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基等を導入し、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂に共重合若しくは、グラフトしたものを使用することができる。また、樹脂のモノマーまたはオリゴマーに紫外線吸収剤を溶解させた後、このモノマーまたはオリゴマーを重合させる方法が開示されており（特開２００６−２１３３３号公報）、こうして得られた紫外線遮断性樹脂を用いることもできる。この場合には紫外線吸収剤は非反応性のもので良い。
これら紫外線吸収剤に中でも、特にベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系が好ましい。これら紫外線吸収剤は画像形成に使用する染料の特性に応じて、有効な紫外線吸収波長域をカバーするように組み合わせて使用することが好ましく、また、非反応性紫外線吸収剤の場合には紫外線吸収剤が析出しないように構造が異なるものを複数混合して用いることが好ましい。
紫外線吸収剤の市販品としては、チヌビン−Ｐ（チバガイギー製）、ＪＦ−７７（城北化学製）、シーソープ７０１（白石カルシウム製）、スミソープ２００（住友化学製）、バイオソープ５２０（共同薬品製）、アデカスタブＬＡ−３２（旭電化製）等が挙げられる。
【００７８】
＜離型剤＞
本発明の感熱転写受像シートには、画像印画時の感熱転写シートと受像シートとの離型性を確保するために離型剤を添加してもよい。
離型剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、脂肪酸エステルワックス、アミドワックス等の固形ワックス類、シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他当該技術分野で公知の離型剤を使用することができる。これらの中で、脂肪酸エステルワックス、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイルおよび／またはその硬化物等のシリコーン系化合物が好ましく用いられる。
【００７９】
＜界面活性剤＞
また、本発明の感熱転写受像シートは、前記の任意の層に界面活性剤を含有させることが出来る。その中でも、受容層及び中間層中に含有させることが好ましい。
界面活性剤の添加量は、全固形分量に対して０．０１〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることがより好ましく、０．０２〜０．２質量％であることが特に好ましい。
界面活性剤としては、アニオン系、ノニオン系、カチオン系など種々の界面活性剤が知られている。本発明で用いることのできる界面活性剤としては、公知のものが使用でき、例えば、「機能性界面活性剤監修／角田光雄、発行／２０００年８月、第６章」で紹介されているもの等を用いることができるが、その中でもアニオン系のフッ素含有界面活性剤が好ましい。
アニオン系のフッ素含有界面活性剤としては、下記の基を有するものが好ましい。
−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘ
式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、ｎは１〜６を表し、ｍは１〜６を表す。ここで、Ｘはフッ素原子が好ましく、ｎは１または２が好ましく、ｍは２〜４が好ましい。また、−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘが結合する原子は酸素原子が好ましく、−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘが分子中に少なくとも２個以上、好ましくは２個有するものが好ましい。また、アニオン基としては−ＯＳＯ３−、−ＯＳＯ２−、−ＣＯ２−が好ましく、−ＯＳＯ３−、−ＯＳＯ２−がより好ましく、−ＯＳＯ３−が最も好ましい。
【００８０】
＜マット剤＞
本発明の感熱転写受像シートにおいて、ブロッキング防止、離型性付与、滑り性付与のためにマット剤を添加しても良い。マット剤は感熱転写受像シートの受容層が塗布される面、受容層が塗布される他方の面、あるいはその両方の面に添加することができる。
【００８１】
マット剤は、一般に水に不溶の有機化合物の微粒子、無機化合物の微粒子を挙げることができるが、本発明では、分散性の観点から、有機化合物を含有する微粒子が好ましい。有機化合物を含有していれば、有機化合物単独からなる有機化合物微粒子であっても良いし、有機化合物だけでなく無機化合物をも含有した有機／無機複合微粒子であっても良い。マット剤の例としては、例えば米国特許第１，９３９，２１３号、同２，７０１，２４５号、同２，３２２，０３７号、同３，２６２，７８２号、同３，５３９，３４４号、同３，７６７，４４８号等の各明細書に記載の有機マット剤を用いることができる。
【００８２】
受容層の塗布量は、０．５〜１０ｇ／ｍ２（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましい。受容層の膜厚は１〜２０μｍであることが好ましい。
【００８３】
（中間層）
受容層と支持体との間には前述の断熱層以外に中間層が形成されていてもよく、中間層の機能としては白地調整、帯電防止、接着性付与、平滑性付与などが挙げられるが、これらに限定されることなく、従来公知の中間層を付与することができる。
【００８４】
＜支持体＞
本発明の感熱転写受像シートに用いる支持体は、従来公知の支持体を用いることができる。その中でも耐水性支持体が好ましく用いられる。耐水性支持体を用いることで支持体中に水分が吸収されるのを防止して、受容層の経時による性能変化を防止することができる。耐水性支持体としては例えばコート紙やラミネート紙、合成紙を用いることができる。なかでもラミネート紙が好ましい。
【００８５】
＜カール調整層＞
本発明に用いる感熱転写受像シートには、必要に応じてカール調整層を形成することが好ましい。カール調整層には、ポリエチレンラミネートやポリプロピレンラミネート等が用いられる。具体的には、例えば特開昭６１−１１０１３５号公報、特開平６−２０２２９５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【００８６】
＜筆記層・帯電調整層＞
本発明に用いる感熱転写受像シートには、必要に応じて筆記層・帯電調整層を設けることができる。筆記層、帯電調整層には、無機酸化物コロイドやイオン性ポリマー等を用いることができる。帯電防止剤として、例えば第四級アンモニウム塩、ポリアミン誘導体等のカチオン系帯電防止剤、アルキルホスフェート等のアニオン系帯電防止剤、脂肪酸エステル等のノニオン系帯電防止剤など任意のものを用いることができる。具体的には、例えば特許第３５８５５８５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【００８７】
以下、本発明の感熱転写受像シートの製造方法について説明する。
本発明の感熱転写受像シートは、各層をロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で塗布し、これを乾燥させることで作製することができる。
また、本発明の感熱転写受像シートは、受容層および断熱層を支持体上に同時重層塗布することでも形成することができる。
【００８８】
支持体上に複数の機能の異なる複数の層（気泡層、断熱層、中間層、受容層など）からなる多層構成の受像シートを製造する場合、特開２００４−１０６２８３号、同２００４−１８１８８８号、同２００４−３４５２６７号等の各公報に示されている如く各層を順次塗り重ねていくか、あらかじめ各層を支持体上に塗布したものを張り合わせることにより製造することが知られている。一方、写真業界では例えば複数の層を同時に重層塗布することにより生産性を大幅に向上させることが知られている。例えば米国特許第２，７６１，７９１号、同第２，６８１，２３４号、同第３，５０８，９４７号、同第４，４５７，２５６号、同第３，９９３，０１９号、特開昭６３−５４９７５号、特開昭６１−２７８８４８号、同５５−８６５５７号、同５２−３１７２７号、同５５−１４２５６５号、同５０−４３１４０号、同６３−８０８７２号、同５４−５４０２０号、特開平５−１０４０６１号、同５−１２７３０５号、特公昭４９−７０５０号の公報または明細書やＥｄｇａｒ  Ｂ．  Ｇｕｔｏｆｆら著，「Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｄｅｆｅｃｔｓ：Ｔｒｏｕｂｌｅｓｈｏｏｔｉｎｇ  Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ  Ｐｒｏｂｌｅｍｓ」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ社，１９９５年，１０１〜１０３頁などに記載のいわゆるスライド塗布（スライドコーティング法）、カーテン塗布（カーテンコーティング法）といわれる方法が知られている。
本発明では、逐次塗布でもその効果を奏するものであるが、同時重層塗布を行うことで、生産性を大幅に向上させると同時に、濃淡ムラを減少させ、所望の空隙率を得ることができる。
【実施例】
【００８９】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。
【００９０】
実施例１
実施例１−１
（感熱転写受像シートの作製）
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。この上に、下記組成の下引き層、断熱層、受容層下層、受容層上層を支持体側からこの順に積層させた状態で、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の第９図に例示された方法により、同時重層塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量が下引き層：６．３ｇ／ｍ２、断熱層：１０．７ｇ／ｍ２、受容層下層：２．３ｇ／ｍ２、受容層上層：３．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行った。また、下記の組成は、固形分としての質量部を表す。
【００９１】
受容層上層
塩化ビニル系ラテックス                                  ２０．０質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス                                    ４．４質量部
（ビニブラン２７６、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液）                                  ５．０質量部
下記エステル系ワックスＥＷ−１                            ２．０質量部
下記界面活性剤Ｆ−１                                    ０．０７質量部
下記界面活性剤Ｆ−２                                    ０．３６質量部
ＩＩ−２５で表される添加物                              ０．０２質量部
受容層下層
塩化ビニル系ラテックス                                  １４．０質量部
（ビニブラン６９０、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス                                  １０．０質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液）                                ２１．０質量部
下記界面活性剤Ｆ−１                                    ０．０４質量部
断熱層
中空粒子（ポリマーラテックス）                          ６０．０質量部
（球相当径粒子サイズ０．５μｍ、空隙率３５％）
ゼラチン（１０％水溶液）                              １５０．０質量部
ポリビニルアルコール                                      ６．０質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス                          ５．０質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ  アンド  エル（株）製）
下引き層
ポリビニルアルコール                                      ８．７質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス                        ５８．０質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ  アンド  エル（株）製）
下記界面活性剤Ｆ−１                                    ０．０３質量部
【００９２】
【化１９】
2009096196.tif 000020
【００９３】
上記中空粒子（ポリマーラテックス）は、以下のようにして製造した。
３リットルの四つ口フラスコにイオン交換水を３００ｇ入れ、スチレン５．１ｇ、アクリル酸ブチル１．４４ｇ、メタクリル酸０．５ｇを加えて攪拌した。温度を７０℃に上げ１％過硫酸カリウム水溶液７５ｇをフラスコに添加し、反応を開始した。反応開始後２時間経過後、スチレン９７ｇ、アクリル酸ブチル２７．４ｇ、メタクリル酸１９．２ｇの混合物を１２時間かけて滴下し、その後１時間加熱して反応を完結させた。質量法により反応転化率を求めると、９８．９％であった。次に、得られたラテックスに１％のＫＯＨ水溶液１２８５ｇを加え、７０℃にて３時間攪拌し、塩基処理を行った。塩基処理の後、ラテックスに１％の塩酸８４０ｇを加え、７０℃にて３０分攪拌を行い、室温で放置した。
得られた中空粒子５００個を透過電子顕微鏡で観察し、その外形の円相当径を算出し、平均して求めたところ、中空粒子の粒径（球相当径）は０．５μｍであった。また、中空粒子の空隙率は、透過型電子顕微鏡を用いて計算したところ、３５％であった。
【００９４】
実施例１−２
下記断熱層の組成を使用し、中空粒子の塗布量を実施例１−１と等質量となるように断熱層の塗布量を調節した以外は、実施例１−１と同様にして感熱転写受像シートを作製した。
断熱層
中空粒子（ポリマーラテックス）                          ６９．０質量部
（球相当径粒子サイズ０．５μｍ、空隙率３５％）
ゼラチン（１０％水溶液）                              １００．０質量部
ポリビニルアルコール                                      ４．０質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス                          ３．０質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ  アンド  エル（株）製）
【００９５】
実施例１−３
下記断熱層の組成を使用し、中空粒子の塗布量を実施例１−１と等質量となるように断熱層の塗布量を調節した以外は、実施例１−１と同様にして感熱転写受像シートを作製した。
断熱層
中空粒子（ポリマーラテックス）                          ７７．０質量部
（球相当径粒子サイズ０．５μｍ、空隙率３５％）
ゼラチン（１０％水溶液）                                ５０．０質量部
ポリビニルアルコール                                      ２．０質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス                          ２．０質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ  アンド  エル（株）製）
【００９６】
比較例１−１
下記断熱層の組成を使用し、中空粒子の塗布量を実施例１−１と等質量となるように断熱層の塗布量を調節した以外は、実施例１−１と同様にして感熱転写受像シートを作製した。
断熱層
中空粒子（ポリマーラテックス）                          ８２．０質量部
（球相当径粒子サイズ０．５μｍ、空隙率３５％）
ゼラチン（１０％水溶液）                                ２０．０質量部
ポリビニルアルコール                                      １．０質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）  
スチレンブタジエンゴムラテックス                          １．０質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ  アンド  エル（株）製）
【００９７】
比較例１−２
下記断熱層の組成を使用し、中空粒子の塗布量を実施例１−１と等質量となるように断熱層の塗布量を調節した以外は、実施例１−１と同様にして感熱転写受像シートを作製した。
断熱層
中空粒子（ポリマーラテックス）                          ８３．０質量部
（球相当径粒子サイズ０．５μｍ、空隙率３５％）
ゼラチン（１０％水溶液）                                １７．０質量部
ポリビニルアルコール                                      ０．７質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス                          ０．６質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ  アンド  エル（株）製）
【００９８】
比較例１−３
下記断熱層の組成を使用し、中空粒子の塗布量を実施例１−１と等質量となるように断熱層の塗布量を調節した以外は、実施例１−１と同様にして感熱転写受像シートを作製した。
断熱層
中空粒子（ポリマーラテックス）                          ５２．０質量部
（球相当径粒子サイズ０．５μｍ、空隙率３５％）
ゼラチン（１０％水溶液）                              ２００．０質量部
ポリビニルアルコール                                      ８．０質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス                          ６．０質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ  アンド  エル（株）製）
【００９９】
（インクシートの作製）
支持体として片面に易接着処理がされている厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ダイアホイルＫ２００Ｅ−６Ｆ、商品名、三菱化学ポリエステルフィルム（株）製）の易接着処理がされていない面に、乾燥後の固形分塗布量が１ｇ／ｍ２となるように背面層塗工液を塗布した。乾燥後、６０℃で熱処理を行い硬化させた。
このようにして作製したポリエステルフィルムの易接着層塗布側に前記塗工液により、イエロー、マゼンタ、シアンの各染料層および転写性保護層積層体を面順次となるように塗布した感熱転写シートを作製した。各染料層の固形分塗布量は、０．８ｇ／ｍ２とした。
なお、転写性保護層積層体の形成は、離型層用塗工液を塗布し、乾燥した後に、その上に保護層用塗工液を塗布し、乾燥した後に、さらにその上に接着層塗工液を塗布した。
【０１００】
背面層塗工液
アクリル系ポリオール樹脂                                ２５．０質量部
（アクリディックＡ−８０１、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
ステアリン酸亜鉛                                        ０．４３質量部
（ＳＺ−２０００、商品名、堺化学工業（株）製）
リン酸エステル                                          １．２７質量部
（プライサーフＡ２１７、商品名、第一工業製薬（株）製）
イソシアネート（５０％溶液）                              ８．０質量部
（バーノックＤ−８００、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１）                ６２質量部
【０１０１】
イエロー染料層塗工液
染料化合物（Ｙ−１）                                      ４．２質量部
染料化合物（Ｙ−２）                                      ４．２質量部
ポリビニルアセタール樹脂                                  ５．５質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂                                  ２．１質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤                                                  ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤                                                  ０．０３質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤                                                ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１）                ８４質量部
【０１０２】
【化２０】
2009096196.tif 000021
【０１０３】
マゼンタ染料層塗工液
染料化合物（Ｍ−１）                                      ０．１質量部
染料化合物（Ｍ−２）                                      １．２質量部
染料化合物（Ｍ−３）                                      ６．５質量部
ポリビニルアセタール樹脂                                  ８．０質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂                                  ０．２質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤                                                  ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤                                                  ０．０３質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤                                                ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１）                ８４質量部
【０１０４】
【化２１】
2009096196.tif 000022
【０１０５】
シアン染料層塗工液
染料化合物（Ｃ−１）                                      １．５質量部
染料化合物（Ｃ−２）                                      ６．３質量部
ポリビニルアセタール樹脂                                  ７．４質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂                                  １．２質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤                                                  ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤                                                  ０．０５質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤                                                ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１）                ８３質量部
【０１０６】
【化２２】
2009096196.tif 000023
【０１０７】
（転写性保護層積層体）
染料層の作製に使用したものと同じポリエステルフィルムに、以下に示す組成の離型層、保護層および接着層用塗工液を塗布し、転写性保護層積層体を形成した。乾膜時の塗布量は離型層０．３ｇ／ｍ２、保護層０．６ｇ／ｍ２、接着層２．２ｇ／ｍ２とした。
離型層塗工液
変性セルロース樹脂                                        ６．０質量部
（Ｌ−３０、商品名、ダイセル化学）
メチルエチルケトン                                      ９４．０質量部
保護層塗工液
アクリル樹脂溶液（固形分４０％）                            ８８質量部
（ＵＮＯ−１、商品名、岐阜セラミック（有）製）
メタノール／イソプロパノール（質量比１／１）                １２質量部
接着層塗工液
アクリル樹脂                                                ２７質量部
（ダイアナールＢＲ−７７、商品名、三菱レイヨン（株）製）
下記紫外線吸収剤ＵＶ−１                                      １質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−２                                      １質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−３                                      １質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−４                                      ２質量部
ＰＭＭＡ微粒子（ポリメチルメタクリレート微粒子）          ０．４質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１）                ６８質量部
【０１０８】
【化２３】
2009096196.tif 000024
【０１０９】
「最高濃度」
上記インクシートと、上記受像シートを用いて、熱転写型プリンター（ＡＳＫ−２０００  富士フイルム（株）製）により黒ベタ画像（最高濃度画像）の出力を行い、濃度測定機（Ｘ−Ｒｉｔｅ）を用いてマゼンタ（Ｍ）濃度を測定した。
【０１１０】
ダイナミック硬度は、島津製作所製ダイナミック超微小硬度計ＤＵＨ−２０１型を用いて測定した。
【０１１１】
「濃淡ムラ」
上記インクシートと、上記受像シートを用いて、熱転写型プリンター（ＡＳＫ−２０００  富士フイルム（株）製）により２３℃、５０％ＲＨ雰囲気下で光学濃度が０．３に相当する画像（黒色）を出力し、濃淡ムラについて、５人の評価者が、以下の評価基準を元に目視評価を行った。なお、試料の大きさは、通常の写真プリントＬサイズである。
５：画像中、濃淡ムラが目視では確認できず、実用上問題ない。
４：目視によりわずかに濃淡ムラが認められるが、実用上問題ない。
３：目視により若干の濃淡ムラが認められ、実用上問題となる場合がある。
２：目視により明らかな濃淡ムラが１〜３箇所認められ、実用上問題である。
１：目視により明らかな濃淡ムラが４箇所以上認められ、実用上問題である。
【０１１２】
上記評価結果を下記表１に示す。
【０１１３】
【表１】
2009096196.tif 000025
【０１１４】
実施例２
実施例２−１〜３
中空粒子の粒子サイズ（球相当径）を１．０μｍ、空隙率を７０％に変更した以外は実施例１−１〜３の各々と同様にして感熱転写受像シートを作製した。
【０１１５】
比較例２−１〜３
中空粒子の粒子サイズ（球相当径）を１．０μｍ、空隙率を７０％に変更した以外は比較例１−１〜３の各々と同様にして感熱転写受像シートを作製した。
【０１１６】
なお、実施例２で使用した上記中空粒子を含むラテックスは、以下のようにして製造した。
３リットルの四つ口フラスコにイオン交換水を４００ｇ入れ、メタクリル酸メチル３ｇ、アクリル酸ブチル０．２５ｇ、メタクリル酸１．７５ｇおよびドデシルベンゼン硫酸ナトリウム０．３ｇを加えて攪拌しながら８０℃となるまで加温した。滴下漏斗にて３％の過硫酸カリウム水溶液７ｇをフラスコに添加し、反応を開始した。反応開始して３時間経過後、３％の過硫酸カリウム水溶液を更に１０ｇ添加し、メタクリル酸メチル５４ｇ、アクリル酸６．４ｇおよびメタクリル酸３．２ｇの混合物を５時間かけて滴下し、その後３時間８０℃で反応を完結させた。
その後、３％の過硫酸カリウム水溶液７ｇをフラスコに添加し、スチレン４７．５ｇ、メタクリル酸メチル２．２ｇの混合物を４時間かけて滴下し、滴下後４時間８０℃で反応させた後、室温で放置した。生成したラテックスを含む反応液に、スチレン５ｇを添加し、１０％の水酸化カリウム水溶液を３５ｇ添加し、３時間８０℃にて攪拌した。次いでメタクリル酸の５％水溶液２００ｇとスチレン５０ｇを添加し、３時間８０℃で攪拌した後、酸処理を行った。酸処理の後、３％の過硫酸カリウム水溶液１０ｇをフラスコに添加し、未反応物を重合させた。
得られた中空粒子の３００個を、透過電子顕微鏡を用いて観察し、その外形の円相当径を算出し、個々の値を平均して求めたところ、中空粒子の粒径（球相当径）は１．０μｍであった。中空粒子の空隙率は、透過型電子顕微鏡を用いて計算したところ、７０％であった。
【０１１７】
実施例１と同様のインクシートを用いて、同様の評価を行った。結果を下記表２に示す。
【０１１８】
【表２】
2009096196.tif 000026
【０１１９】
実施例３
実施例３−１〜５
断熱層の中空粒子の粒子サイズ（球相当径）および空隙率、中空粒子以外の固形分の比率を表３の様に変更し、中空粒子の塗布量が同量となるように塗布した以外は実施例１−１と同様にして感熱転写受像シートを作製した。中空粒子以外の固形分とは、ゼラチン、ポリビニルアルコール、スチレンブタジエンゴムラテックスを実施例１−１に記載されているものと同比率で添加したものの総和を指す。これらの総和の添加量を変化させることで中空粒子以外の固形分比率を調整した。
【０１２０】
比較例３−１、２
断熱層の中空粒子の粒子サイズ（球相当径）および空隙率、中空粒子以外の固形分の比率を表３の様に変更した以外は実施例１−１と同様にして感熱転写受像シートを作製した。
【０１２１】
なお、本実施例（実施例３）の中空粒子を含むラテックスは、以下のようにして製造した。
１）実施例３−１で使用の中空粒子
３リットルの四つ口フラスコにイオン交換水を３００ｇ入れ、スチレン９５ｇおよびメタクリル酸５ｇを加えて攪拌しながら７０℃となるまで加温した。滴下漏斗にて３％の過硫酸カリウム水溶液１７ｇをフラスコに添加し、反応を開始した。反応開始して３時間経過後、イオン交換水５２０ｇ、スチレン９４ｇ、アクリル酸６ｇの混合物を６時間かけて滴下し、その後２時間８０℃で反応を完結させた。次に、得られたラテックス混合物１００ｇにイオン交換水８７０ｇ、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１ｇ、トルエン３０ｇ、および１０％のＮａＯＨ水溶液３３ｇを加え、８０℃にて３時間攪拌し、塩基処理を行った。塩基処理の後、１％の塩酸３００ｇを加え、８０℃にて３時間攪拌を行い、室温で放置した後、有機溶剤を減圧除去した。得られた中空粒子の３００個を透過電子顕微鏡で観察し、その外形の円相当径を算出し、個々の値を平均して求めたところ、中空粒子の粒径（球相当径）は０．８μｍであった。中空粒子の空隙率は、透過型電子顕微鏡を用いて計算したところ、５０％であった。
２）実施例３−２〜３−５、比較例で使用の中空粒子
上記中空粒子の製造における、トルエンの量を変化させることで、実施例３−２〜３−５及び比較例の中空粒子ラテックスを得た。
【０１２２】
実施例１と同様のインクシートを用いて、同様の評価を行った。結果を下記表３に示す。
【０１２３】
【表３】
2009096196.tif 000027
【０１２４】
以上から明らかなように、本発明により、最高転写濃度が高く、出力画像に生じる濃淡ムラが少ない感熱転写受像シートを提供することができる。