(57)【要約】【課題】指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムおよびそれを用いた部材を提供する。【解決手段】基材２の一方の面上に、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満である低屈折率層４，６および波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上である高屈折率層５を含む薄膜層３を有し、前記薄膜層３の面上に、乾燥膜厚が２０μｍであるオレイン酸を塗布したときに、前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のＤ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）が５以下であることを特徴とする光学薄膜フィルム。該フィルムを具備する耐指紋痕用途部材。【選択図】図１
2009122416.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一方の面上に、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満である低屈折率層、または、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層を形成してなる光学薄膜フィルムであって、
前記薄膜層の面上に、乾燥膜厚が２０μｍであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のＤ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）が５以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルム。
【請求項２】
基材の一方の面上に、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満である低屈折率層、または、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層と、防汚層と、を順次積層してなる光学薄膜フィルムであって、
前記防汚層の面上に、乾燥膜厚が２０μｍであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のＤ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）が５以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルム。
【請求項３】
前記低屈折率層または高屈折率層またはその両方が真空成膜法により形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の光学薄膜フィルム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の光学薄膜フィルムを具備してなることを特徴とする耐指紋痕用途部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、携帯ゲーム機部材、パーソナルコンピューター部材、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等に用いられる光学薄膜フィルムであって、指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
物の表面に人の指が触れることによって指紋が付着すると、指紋痕が認識されて見た目が汚れたような不快な印象を与えるという問題がある。例えば、携帯電話の筐体を掴むことで指紋が付着し、指紋痕が目立って清潔感が損なわれるというようなことである。特に最近では指で操作する電子機器が増加しており、例えば、携帯電話・ＰＤＡのキー操作盤、タッチパネル、パーソナルコンピューターのキーボード、テレビ・エアコンのリモコン等である。
【０００３】
更に、画像表示機器の画像表示部、警告灯などの信号表示部、レンズ・鏡の表面等に指紋が付着すると、表示画像、表示信号、反射像における不鮮明感や、指紋が付着している箇所と付着していない箇所の反射率の違いになどよって視認性が悪化するという問題がある。例えば、携帯電話・ＰＤＡ・テレビ・カーナビゲーション・パーソナルコンピューターの液晶画面、案内・警告・避難誘導のための信号表示灯、メガネ・サングラス・望遠鏡・カメラのレンズ、時計の文字盤の透明カバー、車のバックミラー・ルームミラー等である。これらの機器に一旦指紋が付着すると指紋痕によって対象物の視認性が低下するばかりでなく、安全性が損なわれて時には危険なことさえある。
【０００４】
指紋痕を目立たなくする方法としては特許文献１が開示されている。しかし、特許文献１の方法は基材の表面に微細な凹凸を形成した防眩性フィルムであるため、表示画像の鮮明感に欠け、明瞭な画像とはならない。
【特許文献１】特開平９−１２７３０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムおよびそれを用いた部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、基材の一方の面上に、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満である低屈折率層、または、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層を形成してなる光学薄膜フィルムであって、
前記薄膜層の面上に、乾燥膜厚が２０μｍであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のＤ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）が５以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルムである。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、基材の一方の面上に、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満である低屈折率層、または、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層と、防汚層と、を順次積層してなる光学薄膜フィルムであって、
前記防汚層の面上に、乾燥膜厚が２０μｍであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のＤ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）が５以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルムである。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、前記低屈折率層または高屈折率層またはその両方が真空成膜法により形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の光学薄膜フィルムである。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の光学薄膜フィルムを具備してなることを特徴とする耐指紋痕用途部材である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の光学薄膜フィルムは、指紋付着した部分と未付着の部分の光学的な変化が小さく、結果として指紋痕が目立たないものとすることができる。
【００１１】
更に、本発明の光学薄膜フィルムは、透明性を有する基材を用いた場合、薄膜層を形成する際に、材料を適宜選択する、および／または薄膜層の膜厚を適正化することにより、光透過性を有するものとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
図１は、本発明の光学薄膜フィルムの一例を示す断面図である。図１に示す光学薄膜フィルム１は、基材２上に耐指紋痕の薄膜層３が設けられたものである。
【００１３】
（基材）
本発明における基材２としては、プラスチック、ガラス、金属、あるいはこれらを複合した素材が挙げられる。
プラスチック素材としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリパラキシレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニルオキサイド、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、珪素樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＢＳアロイ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ガラス素材としては、例えば、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
金属素材としては、例えば、アルミニウム、ステンレス、鉄、ニッケル、クロム、ニクロム、亜鉛、錫、鉛、金、銀、銅、パラジウム、めっき鋼板等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、これらプラスチック素材、ガラス素材、金属素材を各種複合した素材でも構わない。
【００１４】
また、基材２の形状は、特に限定されず、例えば、板状、ロール状等とすることができる。
【００１５】
基材２の表面は、平滑であることが好ましい。また、基材２の表面は、薄膜層３を形成する前に、必要に応じて表面処理を施してもよい。ここでの表面処理法としては、例えば、コロナ処理法、蒸着処理法、電子ビーム処理法、高周波放電プラズマ処理法、スパッタリング処理法、イオンビーム処理法、大気圧グロー放電プラズマ処理法、アルカリ処理法、酸処理法等が挙げられる。
【００１６】
基材２の厚さは、目的の用途に応じて適宜選択され、通常５μｍ以上１０ｍｍ以下とされる。プラスチック素材には、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
【００１７】
（薄膜層）
図１に示す光学薄膜フィルム１を構成する薄膜層３は、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満である低屈折率層、または、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層である。
【００１８】
図１には、基材２に近い側から低屈折率層４、高屈折率層５、低屈折率層６の３層が順次積層してなる薄膜層３が示されているが、これは一実施例にすぎず、基材２の一方の面上に、低屈折率層、高屈折率層の少なくとも一層以上を形成していれば、１層であっても、２層以上であってもよく、層数に制限はない。
【００１９】
（低屈折率層）
本発明における低屈折率層とは、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満の層である。光の透過性に優れた低屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を０．０１未満にすれば良く、一方、光吸収性を有する低屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を０．０１以上にすれば良い。
【００２０】
低屈折率層の材料としては、例えば、
銀（Ａｇ）（屈折率  ０．０５５、消衰係数  ３．３２）、
金（Ａｕ）（屈折率  ０．３３１、消衰係数  ２．３２）、
銅（Ｃｕ）（屈折率  ０．６７０、消衰係数  ２．８６）、
アルミニウム（Ａｌ）（屈折率  ０．８３４、消衰係数  ６．０３）、
一窒化チタン（ＴｉＮ）（屈折率  １．２５、消衰係数  ２．１０）、
クライオライト（Ｎａ３ＡｌＦ６）（屈折率  １．３５、消衰係数  ０）、
二弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）（屈折率  １．３８、消衰係数  ０）、
一弗化リチウム（ＬｉＦ）（屈折率  １．３９、消衰係数  ０）、
二弗化カルシウム（ＣａＦ２）（屈折率  １．４３、消衰係数  ０）、
二酸化珪素（ＳｉＯ２）（屈折率  １．４６、消衰係数  ０）、
二弗化ストロンチウム（ＳｒＦ２）（屈折率  １．４６、消衰係数  ０）、
二弗化バリウム（ＢａＦ２）（屈折率  １．４８、消衰係数  ０）、
三弗化イッテルビウム（ＹｂＦ３）（屈折率  １．５２、消衰係数  ０）、
タングステンとチタンの窒化物（ＴｉＮｘＷｙ）（屈折率  １．５４、消衰係数  １．５２）、
四弗化トリウム（ＴｈＦ４）（屈折率  １．５６、消衰係数  ０）、
四弗化ハフニウム（ＨｆＦ４）（屈折率  １．５７、消衰係数  ０）、
三弗化ランタン（ＬａＦ３）（屈折率  １．５８、消衰係数  ０）、
三弗化ネオジウム（ＮｄＦ３）（屈折率  １．６０、消衰係数  ０）、
三弗化セリウム（ＣｅＦ３）（屈折率  １．６４、消衰係数  ０）、
パラジウム（Ｐｄ）（屈折率  １．６４、消衰係数  ３．８５）、
三酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）（屈折率  １．６７、消衰係数  ０）、
一酸化マグネシウム（ＭｇＯ）（屈折率  １．７４、消衰係数  ０）、
または、これら材料の混合物が挙げられる。屈折率、消衰係数は光の波長５５０ｎｍにおける値である。
【００２１】
光吸収性を有する低屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数が０．０１以上の材料を使用すればよいが、可視光領域の光透過性を有する程度の膜厚とする必要がある。膜厚が厚過ぎると光透過性のない層になり、逆に、膜厚が薄過ぎると光吸収性が不十分な層になる。光透過性と光吸収性を両立させる好ましい膜厚は０．３ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【００２２】
ここで、図１に示す低屈折率層４、および６とは、必ずしも同一の材料でなくてもよく、目的に合わせて適宜選択されるものである。
【００２３】
（高屈折率層）
本発明における高屈折率層とは、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上の層である。
光の透過性に優れた高屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を０．０１未満にすれば良く、一方、光吸収性を有する高屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を０．０１以上にすれば良い。
【００２４】
高屈折率層の材料としては、例えば、
テルル化鉛（ＰｂＴｅ）（屈折率  １．７５、消衰係数  ２．９０）、
三酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）（屈折率  １．７９、消衰係数  ０）、
二酸化トリウム（ＴｈＯ２）（屈折率  １．８０、消衰係数  ０）、
ニッケル（Ｎｉ）（屈折率  １．８７、消衰係数  ３．３２）、
三酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）（屈折率  １．９１、消衰係数  ０）、
三酸化ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ３）（屈折率  １．９３、消衰係数  ０）、
三酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）（屈折率  １．９５、消衰係数  ０）、
十一酸化プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１）（屈折率  １．９５、消衰係数  ０）、
ロジウム（Ｒｈ）（屈折率  １．９７、消衰係数  ５．０２）、
二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）（屈折率  １．９９、消衰係数  ０）、
三酸化ネオジウム（Ｎｄ２Ｏ３）（屈折率  ２．００、消衰係数  ０）、
一酸化珪素（ＳｉＯ）（屈折率  ２．００、消衰係数  ０．０３）、
三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）（屈折率  ２．０４、消衰係数  ０）、
一窒化珪素（ＳｉＮ）（屈折率  ２．０６、消衰係数  ０）、
二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）（屈折率  ２．０６、消衰係数  ０）、
白金（Ｐｔ）（屈折率  ２．１３、消衰係数  ３．７１）、
五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）（屈折率  ２．１４、消衰係数  ０）、
二酸化セリウム（ＣｅＯ２）（屈折率  ２．２０、消衰係数  ０）、
三酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）（屈折率  ２．２４、消衰係数  ０．０７）、
五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）（屈折率  ２．２７、消衰係数  ０）、
二酸化チタン（ＴｉＯ２）（屈折率  ２．３２、消衰係数  ０）、
一硫化亜鉛（ＺｎＳ）（屈折率  ２．３５、消衰係数  ０）、
タンタル（Ｔａ）（屈折率  ２．４８、消衰係数  １．８３）、
チタン（Ｔｉ）（屈折率  ２．５４、消衰係数  ３．３４）、
一炭化珪素（ＳｉＣ）（屈折率  ２．６６、消衰係数  ０）、
セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）（屈折率  ２．６９、消衰係数  ０．０２）、
鉄（Ｆｅ）（屈折率  ２．８９、消衰係数  ３．３５）、
三硫化アンチモン（Ｓｂ２Ｓ３）（屈折率  ３．００、消衰係数  ０）、
クロム（Ｃｒ）（屈折率  ３．１２、消衰係数  ４．４２）、
タングステン（Ｗ）（屈折率  ３．２４、消衰係数  ２．４９）、
モリブデン（Ｍｏ）（屈折率  ３．７９、消衰係数  ３．５１）、
ゲルマニウム（Ｇｅ）（屈折率  ３．９５、消衰係数  １．９８）、
珪素（Ｓｉ）（屈折率  ４．０８、消衰係数  ０．０４）、
または、これら材料の混合物が挙げられる。屈折率、消衰係数は光の波長５５０ｎｍにおける値である。
【００２５】
光吸収性を有する高屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数が０．０１以上の材料を使用すればよいが、可視光領域の光透過性を有する程度の膜厚とする必要がある。膜厚が厚過ぎると光透過性のない層になり、逆に、膜厚が薄過ぎると光吸収性が不十分な層になる。光透過性と光吸収性を両立させる好ましい膜厚は０．３ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【００２６】
屈折率、および、消衰係数の光学定数に関しては、分光エリプソメトリー法を用いて、薄膜層試料の表面から反射してくる光の偏光状態の変化を測定することで求めることが可能である。消衰係数に関しては、０．０１以上になると光の吸収が大きくなり、一方、０．０１未満では光の吸収が小さくなるため、光吸収性を有する光吸収薄膜と光透過性に優れた透明薄膜を消衰係数の値で使い分けることが可能である。
【００２７】
本発明における薄膜層の低屈折率層、および高屈折率層は、蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法により形成することが好ましい。
【００２８】
真空成膜法では基材表面の形状を保持したまま薄膜を形成することが可能である。真空成膜法で堆積していく薄膜形成材料のサイズはオングストロームオーダーの原子・分子であるため、例えば、マイクロメーターオーダーの微細な凹凸を有する基材上に成膜しても表面に均一の厚さで堆積して凹部分を埋めずに元の凹凸形状を保持するため、光学的なムラのない表面を得ることができる。
【００２９】
薄膜層の上に、表面についた水滴、指紋等の拭き取りを容易にし、かつ、表面への衝撃による擦り傷等の外傷を防止することができる防汚層を形成しても良い。防汚層の材料としては、撥水性、撥油性および低摩擦性を有するものであればよく、例えば、珪素酸化物、弗素含有シラン化合物、フルオロアルキルシラザン、フルオロアルキルシラン、弗素含有珪素系化合物、パーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤等が挙げられる。
【００３０】
防汚層は、蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法、プラズマ重合法等の真空ドライプロセスの他、グラビアコート法、スクリーンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、オフセットコート法等のウェットプロセスにより形成でき、防汚層の厚さは、物理膜厚で５ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度である。
【００３１】
本発明の光学薄膜フィルムにおいては、前記薄膜層の面上に、乾燥膜厚が２０μｍであるオレイン酸を塗布したときに、前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のＤ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）が５以下であることを特徴とする。色差ΔＥ＊ａｂが５を超えると指紋付着箇所と指紋未付着箇所の明度、色相、彩度の差異が目視で明確に判別できるようになり、結果として指紋痕が目立ってしまう。色差ΔＥ＊ａｂは５以下が好ましいが、より好ましくは３以下、最も好ましくは１未満である。
人間の指先には、水分、塩分、タンパク質、アミノ酸、脂肪などが付着しているため、手が触れた所には上記成分が指紋として付着する。
本発明では、特に脂肪（屈折率１．４６程度）の付着による指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムを提供することを目的としている。
また、ＪＩＳ  Ｋ  ２２４６に規定される人工指紋液は、鉄鋼を主とした金属材料および製品のさびの発生具合を判定するために用いるのであって、人の指紋の光学的な特性を反映させるような組成とはなっていない。一方、人の指紋は脂肪分を含むことが知られているが、オレイン酸は動物性脂肪や植物油に含まれる生体由来の脂肪酸であるため、人の指紋の光学的特性を反映しているとみなすことができる。したがって、本発明では指紋痕の判定に、上記条件を採用した。
【００３２】
本発明の光学薄膜フィルムにおけるＣＩＥＬＡＢの明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊、ｂ＊は、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光を用いて、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠して測定したものである。光透過性を有する基材を用いる場合は、薄膜層３を形成した側と反対側の基材表面を黒く塗り、基材を通して光の漏れがないように加工した。測定光源に関しては、基材の薄膜層を形成した面の側に設置している。
【００３３】
本発明の光学薄膜フィルムにおいては、耐指紋痕光学薄膜層上の指紋付着箇所と指紋未付着箇所でのＤ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）を５以下とするために、薄膜層上の指紋付着箇所の反射スペクトルと指紋未付着箇所の反射スペクトルがほぼ一致していることが好ましい。もし一致させることが困難な場合、以下の２通りの方法で対処することが可能である。
【００３４】
一つの対処法は、薄膜層上の指紋付着箇所の反射スペクトルと指紋未付着箇所の反射スペクトルの形がほぼ同じで、かつ、ΔＬ＊が５以下の範囲にある関係とすることである。このとき、両者の反射スペクトルは色相・彩度ａ＊・ｂ＊がほぼ一致し、明度Ｌ＊、つまり反射率Ｙが異なる関係にある。両者の反射スペクトルの形が一致していて、明度Ｌ＊、あるいは反射率Ｙが異なる場合、色差ΔＥ＊ａｂはほぼΔＬ＊だけに依存するからである。明度Ｌ＊は三刺激値のうちのＹにのみ関連する因子である。つまり、横軸に可視光領域の波長３８０〜７８０ｎｍ、縦軸に反射率Ｙを採ったとき、どちらか一方の反射スペクトルを縦軸に沿って平行移動させると、もう一方の反射スペクトルにほぼ重なり、かつΔＬ＊が５以下であれば、本発明の指紋痕が目立たない光学薄膜フィルムとすることができる。
【００３５】
もう一つの対処法は、薄膜層上の指紋付着箇所と指紋未付着箇所の明度Ｌ＊、あるいは反射率Ｙがほぼ等しく、かつ、｛（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２が５以下の範囲にある関係とすることである。このとき、両者の反射スペクトルは明度Ｌ＊がほぼ一致し、色相・彩度ａ＊・ｂ＊が異なる関係にある。両者の反射スペクトルの明度Ｌ＊、つまり反射率Ｙが一致していて、色相・彩度ａ＊・ｂ＊が異なる場合、色差Ｅ＊ａｂはΔａ＊、およびΔｂ＊に依存し、ΔＬ＊に依存しないからである。つまり、横軸に可視光領域の波長３８０〜７８０ｎｍ、縦軸に反射率Ｙを採ったとき、両者の反射スペクトルは明度Ｌ＊、あるいは反射率Ｙがほぼ一致し、かつ｛（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２が５以下であれば、本発明の指紋痕が目立たない光学薄膜フィルムとすることができる。
【００３６】
本発明の光学薄膜フィルムは、具体的には、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、携帯ゲーム機部材、パーソナルコンピューター部材、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等に適用される。
【００３７】
本発明の光学薄膜フィルムを、携帯電話・ＰＤＡのキー操作盤、タッチパネル、パーソナルコンピューターのキーボード、テレビ・エアコンのリモコン等に貼り合わせれば、指での操作により付着した指紋痕が目立たなくなるため、清潔感が維持され不快な印象を与えない。
【００３８】
更に、本発明の光学薄膜フィルムを、携帯電話・ＰＤＡ・テレビ・カーナビゲーション・パーソナルコンピューターの液晶画面、案内・警告・避難誘導のための信号表示灯、メガネ・サングラス・望遠鏡・カメラのレンズ、時計の文字盤の透明カバー、車のバックミラー・ルームミラー等に貼り合わせれば、指紋痕によって対象物の視認性が悪化することなく、安全で快適な視認環境を提供できる。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明の実施例を具体的に説明する。
＜実施例１＞
図１に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、低屈折率層４、高屈折率層５、低屈折率層６の３層が順次積層されてなる薄膜層３を形成した。
【００４０】
まず、基材２上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚２８ｎｍの低屈折率層４を形成した。低屈折率層４の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．４６、消衰係数は０であった。
【００４１】
低屈折率層４の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚９ｎｍの高屈折率層５を形成した。高屈折率層５の波長５５０ｎｍにおける屈折率は２．３２、消衰係数は０であった。
【００４２】
高屈折率層５の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚６１ｎｍの低屈折率層６を形成し（波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．４６、消衰係数は０）、薄膜層３を完成させて、図１に示す実施例１の光学薄膜フィルム１を完成させた。
【００４３】
得られた光学薄膜フィルム１について、薄膜層３を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、基材２の薄膜層３を形成した面の側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊・ｂ＊を、薄膜層３上にオレイン酸（和光純薬工業株式会社製、屈折率１．４６）を乾燥膜厚２０μｍとして塗布した場合と、未塗布の場合の両方に関して測定した：
（オレイン酸塗布の箇所）  Ｌ＊＝２２．７１、ａ＊＝０．４７、ｂ＊＝−１．５９
（オレイン酸未塗布の箇所）Ｌ＊＝２３．８８、ａ＊＝０．３０、ｂ＊＝−２．５５
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）は１．５２であった。
【００４４】
得られた光学薄膜フィルム１を液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、指紋が付着しても指紋痕が目立たず、不快感のない清潔な印象であった。
【００４５】
加えて、得られた光学薄膜フィルム１は光透過性を有していたため、薄膜層３上に指紋痕が存在していても光学薄膜フィルム１を通してディスプレイに写し出された画像が明瞭に視認できた。
【００４６】
上記した反射明度、および反射色相・彩度の分光測定は、Ｕ−４０００形  自記分光光度計（株式会社  日立製作所製）を用いて行った。測定手順は次に示すとおりである。まず、光透過性を有する基材の場合は光学薄膜フィルム１の薄膜層３を形成した側と反対側の基材２表面全面を黒い塗料でムラの出ないように塗りつぶした。黒い塗料で塗りつぶした基材２を太陽光の自然光あるいは蛍光灯などの人工光にかざして、基材２を通して光が漏れていないか確認した。次に、基材２の薄膜層３を形成した面側をＵ−４０００形  自記分光光度計の測定光源に向けて設置した。このとき、薄膜層３を形成した基材２表面における鉛直線に対して測定光が５°の角度を持って基材２表面に入射するように設置した。基材２表面で正反射される光の方向で、かつ、２°視野になる位置に測光器を設置して可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）における分光反射率を測定し、ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１に規定される三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求めた。三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚの計算は５ｎｍ間隔で実施した。続いて、三刺激値を用いてＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系の明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊、ｂ＊を求めた。
【００４７】
なお、本発明におけるＣＩＥＬＡＢの明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊、ｂ＊は、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野の条件でＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠して求めたものである。
【００４８】
＜実施例２＞
図２に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、低屈折率層４の単層が形成されてなる薄膜層３を形成した。
【００４９】
まず、基材２上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚４０ｎｍの低屈折率層４を形成し、薄膜層３を完成させた。低屈折率層４の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．４６、消衰係数は０であった。
【００５０】
更に、薄膜層３の上に、防汚剤の弗素含有シラン化合物をマイクログラビア法で塗布して、物理膜厚６ｎｍの防汚層７を形成し、図２に示す実施例２の光学薄膜フィルム１を完成させた。
【００５１】
得られた光学薄膜フィルム１について、薄膜層３を形成した側と反対側の基材２表面を黒く塗り、基材２の薄膜層３を形成した面の側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊・ｂ＊を、薄膜層３上にオレイン酸（和光純薬工業株式会社製、屈折率１．４６）を乾燥膜厚２０μｍとして塗布した場合と、未塗布の場合の両方に関して測定した：
（オレイン酸塗布の箇所）  Ｌ＊＝２３．３２、ａ＊＝−０．１７、ｂ＊＝−０．０６
（オレイン酸未塗布の箇所）Ｌ＊＝２２．９１、ａ＊＝０．５４、ｂ＊＝３．３５
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）は３．５０であった。
【００５２】
得られた光学薄膜フィルム１を液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、指紋が付着しても指紋痕が目立たず、不快感のない清潔な印象であった。
【００５３】
加えて、得られた光学薄膜フィルム１は光透過性を有していたため、薄膜層３上に指紋痕が存在していても光学薄膜フィルム１を通してディスプレイに写し出された画像が明瞭に視認できた。
【００５４】
以下、本発明の実施例に対する比較例を具体的に説明する。
【００５５】
＜比較例１＞
【００５６】
図３に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルムの一方の表面を黒く塗り、基材２の黒く塗らなかった面の側に測定光源を設置したとき、Ｄ６５光源、５°入射、２°視野、正反射光におけるＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９に準拠）の明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊・ｂ＊を、黒塗りしなかった面にオレイン酸（和光純薬工業株式会社製、屈折率１．４６）を乾燥膜厚２０μｍとして塗布した場合と、未塗布の場合の両方に関して測定した：
（オレイン酸塗布の箇所）  Ｌ＊＝２２．９１、ａ＊＝０．０１、ｂ＊＝−０．２６
（オレイン酸未塗布の箇所）Ｌ＊＝２８．６８、ａ＊＝０．０２、ｂ＊＝−０．８３
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔＥ＊ａｂ（＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２）は５．８０であった。
【００５７】
基材２を液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、指紋が付着すると指紋痕が目立ち、清潔感のない不快な印象であった。
【００５８】
加えて、基材２表面に指紋が付着すると、指紋痕による不鮮明感を生じ、基材２を通してディスプレイに写し出された画像が不明瞭となり、視認性が悪化した。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の光学薄膜フィルムの一例を示した断面図である。
【図２】実施例２の光学薄膜フィルムを示す断面図である。
【図３】比較例１の基材を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１……光学薄膜フィルム、２……基材、３……薄膜層、４……低屈折率層、５……高屈折率層、６……低屈折率層、７……防汚層。
【図１】
2009122416.tif 000003
【図２】
2009122416.tif 000004
【図３】
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