(57)【要約】【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備えるディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの描画を、基板を一方向に回転させつつ、電子ビームをＸ−Ｙ偏向によりサーボエレメント13を走査するサーボパターン12の描画に続いて、グルーブパターン15を所定角度で分割した複数のグルーブエレメント16の整列で構成し、電子ビームを周方向Ｘへ大きく偏向走査してグルーブエレメント16を順に時間的間隔をもって描画して連続したグルーブパターン15を描画する。【選択図】図３
2009122217.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンを、レジストが塗布され回転ステージに設置された基板上に、前記回転ステージを回転させつつ、電子ビーム描画装置により電子ビームを走査して描画する電子ビーム描画方法において、
前記微細パターンは、電子ビームの照射径より大きいトラック方向長さのサーボエレメントで構成されるサーボパターンと、隣接するデータトラック間を溝状に分離するトラック方向に延びるグルーブパターンとを備え、
前記サーボパターンの描画に続いて、前記グルーブパターンを所定角度で分割した複数のグルーブエレメントの整列で構成し、前記電子ビームを半径方向と直交する方向へ偏向走査し、前記基板の回転に伴って前記グルーブエレメントを順に時間的間隔をもって描画して前記グルーブパターンの描画を行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。
【請求項２】
前記サーボパターンの描画は、前記基板を一方向に回転させつつ、前記電子ビームを、前記回転ステージの半径方向と直交する方向へ高速に往復振動させるとともに、半径方向へ送る偏向を行い、前記サーボエレメントの形状を塗りつぶすように走査し、順次サーボエレメントの描画を行うことを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画方法。
【請求項３】
前記グルーブパターンの各グルーブエレメントの描画を、前記基板を一方向に回転させながら、前記電子ビームを半径方向と直交する方向に、１個のグルーブエレメントの長さ分だけ偏向走査させて行うことを特徴とする請求項１または２に記載の電子ビーム描画方法。
【請求項４】
前記グルーブパターンのグルーブエレメントを描画する際に、該グルーブエレメントの描画開始点の直前のエンコーダパルスに基づき、該グルーブエレメントの描画開始および描画終了を決定することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法。
【請求項５】
前記請求項１〜請求項４のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法を実現するための描画データ信号を送出する信号送出装置および電子ビームを走査する電子ビーム描画装置を備えたことを特徴とする微細パターン描画システム。
【請求項６】
前記電子ビーム描画装置は、レジストが塗布された基板を回転させつつ半径方向に移動可能な回転ステージと、電子ビームを出射する電子銃と、前記電子ビームを前記基板の半径方向および該半径方向と直交する方向にＸ−Ｙ偏向するとともに該半径方向と直交する方向に高速振動させる偏向手段と、描画部分以外は電子ビームの照射を遮断するブランキング手段と、前記各手段による作動を連係制御するコントローラとを備え、
前記信号送出装置は、前記基板に描画する微細パターンの形態に応じたデータに基づき、前記電子ビーム描画装置のコントローラに描画データ信号を送出することを特徴とする請求項５に記載の微細パターン描画システム。
【請求項７】
レジストが塗布された基板に、前記請求項１〜請求項４のいずれか１項記載の電子ビーム描画方法によりディスクリートトラックメディアに形成する前記微細パターンを描画露光し、該微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て作製されたことを特徴とする凹凸パターン担持体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスクリートトラックメディアを作製する際に、その微細パターン（凹凸パターン）を形成するために基板に設けたレジストに対して電子ビームの照射によってパターン描画を行う電子ビーム描画方法、電子ビーム描画を行うための微細パターン描画システムに関するものである。
【０００２】
また、本発明は、上記電子ビーム描画方法を用いた描画を行う工程を経て作製される、凹凸パターン表面を有するインプリントモールドを含む凹凸パターン担持体に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
磁気ディスク媒体にはサーボパターン等の微細パターンが設けられるが、この微細パターンの作製方法としては、レジストが塗布された基板を回転させながら、パターン形状に対応した電子ビームの照射によってパターン描画を行う電子ビーム描画方法が考えられている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００４】
特許文献１の電子ビーム描画方法は、例えばサーボパターンを構成するトラックの幅方向に延びる矩形または平行四辺形のエレメントを描画する際に、電子ビームを周方向に高速振動させつつ半径方向に偏向させて、このエレメントを塗りつぶすように走査して描画する方法である。
【０００５】
また、特許文献２の電子ビーム描画方法は、トラック幅方向の長さが一定で、トラック方向の長さが異なる記録ビット列のエレメントを描画する際に、基板の回転に伴って電子ビームを半径方向に振幅を調整しつつ高速振動させて描画する方法である。
【０００６】
さらに、オン・オフ描画方法として、レジストが塗布された基板を回転させながら、パターン形状に対応して電子ビームをオン・オフ照射し、基板または電子ビーム照射装置を１回転に１ビーム幅ずつ半径方向に移動させてパターン描画を行う方法も知られている。
【特許文献１】特開２００４−１５８２８７号公報
【特許文献２】特開２００３−２４８９８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、近年、磁気ディスク媒体の記録密度のさらなる高密度化の要請から、隣接するデータトラックを溝（グルーブ）からなるグルーブパターン（ガードバンド）で分離し、隣接トラック間の磁気的干渉を低減するようにしたディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）が注目されている。
【０００８】
前述の電子ビーム描画方法によって上記ディスクリートトラックメディアの微細パターンの描画を行う場合に、そのグルーブパターンの描画を所定の幅に正確に行うことは困難である。
【０００９】
つまり、前記特許文献１の描画方法によれば、サーボパターンの描画については記載された所定の特性で行えるが、このサーボパターンに続いてディスクリートトラックメディアのグルーブパターンを描画する際に、電子ビームを固定照射し、基板の回転によりトラック方向に円弧状にグルーブパターンを描画すると、その電子ビームの照射線量が過大で露光滲みによって線幅が大きくなり、トラック幅に対する所定幅の描画が行えない問題がある。これは、サーボパターンでの描画においては基板の一定回転中に、電子ビームをトラック方向に高速振動させつつ所定面積の描画走査が行えるよう、その照射面積が所定の露光量となるように電子ビーム強度が大きく設定されているためで、サーボパターンの描画からグルーブパターンの描画に移行した際に、ビーム強度が小さくなるように変更することは、電子ビーム照射装置の動作応答性の点から困難である。
【００１０】
一方、前記特許文献２の描画方法においても、グルーブパターンの描画は特許文献１と同様の態様での描画となり、同様に照射線量が過大となってグルーブパターンの幅を所望値に描画することが困難である。
【００１１】
なお、前述のオン・オフ描画方法は、グルーブパターンの描画には適した方法ではあるが、基板全体へのサーボパターンの描画には多大の時間を要するとともに、基板１回転での電子ビームのオン・オフ位置精度、内外周での位置精度を確保して、所定形状のパターン描画を行うことが困難な問題を有している。
【００１２】
本発明は上記事情に鑑みて、ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高速かつ正確に描画できるようにした電子ビーム描画方法および電子ビーム描画を行うための微細パターン描画システムを提供することを目的とするものである。
【００１３】
また、本発明は、電子ビームにより精度よく描画された微細パターンを有するインプリントモールドなどの凹凸パターン担持体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の電子ビーム描画方法は、ディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンを、レジストが塗布され回転ステージに設置された基板上に、前記回転ステージを回転させつつ、電子ビーム描画装置により電子ビームを走査して描画する電子ビーム描画方法において、
前記微細パターンは、電子ビームの照射径より大きいトラック方向長さのサーボエレメントで構成されるサーボパターンと、隣接するデータトラック間を溝状に分離するトラック方向に延びるグルーブパターンとを備え、
前記サーボパターンの描画に続いて、前記グルーブパターンを所定角度で分割した複数のグルーブエレメントの整列で構成し、前記電子ビームを半径方向と直交する方向へ偏向走査し、前記基板の回転に伴って前記グルーブエレメントを順に時間的間隔をもって描画して前記グルーブパターンの描画を行うことを特徴とするものである。
【００１５】
その際、前記サーボパターンの描画は、前記基板を一方向に回転させつつ、前記電子ビームを、前記回転ステージの半径方向と直交する方向へ高速に往復振動させるとともに、半径方向へ送る偏向を行い、前記サーボエレメントの形状を塗りつぶすように走査し、順次サーボエレメントの描画を行うことが好適である。
【００１６】
また、前記グルーブパターンの各グルーブエレメントの描画を、前記基板を一方向に回転させながら、前記電子ビームを半径方向と直交する方向に、１個のグルーブエレメントの長さ分だけ偏向走査させて行うことが好適である。
【００１７】
さらに、上記電子ビーム描画方法において、前記グルーブパターンのグルーブエレメントを描画する際に、該グルーブエレメントの描画開始点の直前のエンコーダパルスに基づき、該グルーブエレメントの描画開始および描画終了を決定することが好ましい。
【００１８】
本発明の微細パターン描画システムは、上記電子ビーム描画方法を実現するための描画データ信号を送出する信号送出装置および電子ビームを走査する電子ビーム描画装置を備えたことを特徴とするものである。
【００１９】
前記微細パターン描画システムにおける前記電子ビーム描画装置は、レジストが塗布された基板を回転させつつ半径方向に移動可能な回転ステージと、電子ビームを出射する電子銃と、前記電子ビームを前記基板の半径方向および該半径方向と直交する方向にＸ−Ｙ偏向するとともに該半径方向と直交する方向に高速振動させる偏向手段と、描画部分以外は電子ビームの照射を遮断するブランキング手段と、前記各手段による作動を連係制御するコントローラとを備え、前記信号送出装置は、前記基板に描画する微細パターンの形態に応じたデータに基づき、前記電子ビーム描画装置のコントローラに描画データ信号を送出するように構成するのが好適である。
【００２０】
本発明の凹凸パターン担持体は、レジストが塗布された基板に、上記電子ビーム描画方法によりディスクリートトラックメディアに形成する前記微細パターンを描画露光し、該微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て作製されたことを特徴とするものである。ここで、凹凸パターン担持体とは、表面に所望の凹凸パターン形状を有する担体であり、その凹凸パターンの形状を被転写媒体に転写するためのインプリントモールドなどである。
【００２１】
前記「インプリントモールド」とは、上記のような電子ビーム描画に基づいて微細凹凸パターンが形成された原版（スタンパーとも呼ばれる）であり、インプリント技術を用いて形状パターニングを行う方法において、所定の形状パターンを備えた上記モールドを磁気ディスク媒体の形成過程でのマスクとなる樹脂層表面に圧接することにより、媒体表面に一括して形状転写することが可能である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の電子ビーム描画方法によれば、電子ビームの照射径より大きいトラック方向長さのサーボエレメントで構成されるサーボパターンと、隣接するデータトラック間を溝状に分離するトラック方向に延びるグルーブパターンとを備えるディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの描画を、前記サーボパターンの描画に続いて、前記グルーブパターンを所定角度で分割した複数のグルーブエレメントの整列で構成し、前記電子ビームを半径方向と直交する方向へ偏向走査し、前記基板の回転に伴って前記グルーブエレメントを順に時間的間隔をもって描画して前記グルーブパターンの描画を行うようにしたことにより、サーボパターンおよびグルーブパターンが１トラックにつき１回転で均等な照射線量で描画することが可能であり、基板の全面にディスクリートトラックメディアに形成するサーボパターンとグルーブパターンとで構成される微細パターンを高速に高精度に描画でき、描画効率の向上による描画時間の短縮化が図れる。
【００２３】
また、電子ビームを回転ステージの半径方向と直交する方向へ高速に往復振動させるとともに半径方向へ送る偏向を行い、サーボエレメントの形状を塗りつぶすように走査させてサーボパターンの描画を行うと、１回転で１トラック中のサーボパターンの描画が高速で高精度に行うことが可能である。
【００２４】
また、グルーブパターンの各グルーブエレメントの描画を、基板を一方向に回転させながら、電子ビームを半径方向と直交する方向に、１個のグルーブエレメントの長さ分だけ偏向走査させて行うと、グルーブパターンの描画が、各グルーブエレメントの整列描画によって、照射線量が過大となることなくエレメント幅を設定値に描画することが可能となる。
【００２５】
また、前記データグルーブのグルーブエレメントを描画する際に、グルーブエレメントの描画開始点の直前のエンコーダパルスに基づき、描画開始および描画終了を決定するように設定すると、ディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの特にグルーブパターンの形成位置精度を高めることができ、これにより、基板全面のパターン形成が高精度に可能となる。
【００２６】
一方、本発明の微細パターン描画システムは、電子ビーム描画方法を実現するための描画データ信号を送出する信号送出装置および電子ビームを走査する電子ビーム描画装置を備えたことにより、ディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンを高速に高精度に描画でき、描画効率の向上による描画時間の短縮化を図ることができる。
【００２７】
特に、前記微細パターン描画システムにおける電子ビーム描画装置を、レジストが塗布された基板を回転させつつ半径方向に移動可能な回転ステージと、電子ビームを出射する電子銃と、前記電子ビームを前記基板の半径方向および該半径方向と直交する方向にＸ−Ｙ偏向するとともに該半径方向と直交する方向に高速振動させる偏向手段と、描画部分以外は電子ビームの照射を遮断するブランキング手段と、前記各手段による作動を連係制御するコントローラとを備え、前記信号送出装置は、前記基板に描画する微細パターンの形態に応じたデータに基づき、前記電子ビーム描画装置のコントローラに描画データ信号を送出するように構成することで好適にシステムが構築できるものである。
【００２８】
さらに、本発明の凹凸パターン担持体によれば、レジストが塗布された基板に、上記電子ビーム描画方法によりディスクリートトラックメディアに形成する前記微細パターンを描画露光し、該微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て作製されたことにより、表面に高精度の凹凸パターン形状を有する担体が簡易に得られるものである。特に、インプリントモールドの場合には、ディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンを表面上に有するため、インプリント技術を用いて形状パターニングを行う際に、このモールドを磁気ディスク媒体の形成過程でのマスクとなる樹脂層表面に圧接することにより、媒体表面に一括して形状転写し、特性の優れたディスクリートトラックメディアを簡易に作成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。図１は本発明の電子ビーム描画方法により基板に描画するディスクリートトラックメディアの微細パターンを示す全体平面図、図２はこの微細パターンの一部の拡大図、図３は微細パターンを構成するエレメントの基本的描画方式を示す拡大模式図(Ａ)およびその描画方式における偏向信号等の各種制御信号（Ｂ）〜（Ｆ）を示す図である。図４は本発明の電子ビーム描画方法を実施する一実施形態の微細パターン描画システムの要部側面図(ａ)および部分平面図(ｂ)である。
【００３０】
図１および図２に示すように、微細凹凸形状によるディスクリートトラックメディア用の微細パターンは、サーボ領域に形成されるサーボパターン１２と、データ領域に形成されるグルーブパターン１５とで構成され、円盤状の基板１０に、外周部１０ａおよび内周部１０ｂを除く円環状領域に形成される。
【００３１】
サーボパターン１２は、基板１０の同心円状トラックに等間隔で、各セクターに中心部からほぼ放射方向に延びる細幅の領域に形成されてなる。なお、この例のサーボパターン１２の場合には、半径方向に連続した湾曲放射状に形成されている。その一部を拡大した図２に例示するように、同心円状のトラックＴ1〜Ｔ4には、例えば、プリアンブル、アドレス、バースト信号に対応する矩形状の微細なサーボエレメント１３が配置される。１つのサーボエレメント１３は、１トラック幅で電子ビームの照射径より大きいトラック方向長さを有し、バースト信号の一部のサーボエレメント１３は隣接するトラックに跨るように半トラックずれて配置される。
【００３２】
一方、前記グルーブパターン１５は、データトラック間のガードバンド部分に、隣接する各トラックＴ1〜Ｔ4を溝状に分離するようトラック方向に延びる同心円状に形成され、このグルーブパターン１５は所定角度で分割した複数のグルーブエレメント１６の整列で構成されている。
【００３３】
最終的なディスクリートトラックメディアでは、サーボエレメント１３およびグルーブエレメント１６の部分が凹部に、その他の部分が磁性層による平坦部（ランド）となる。
【００３４】
上記サーボパターン１２およびグルーブパターン１５の各サーボエレメント１３およびグルーブエレメント１６の描画は、表面にレジスト１１が塗布された基板１０を後述の回転ステージ４１（図４参照）に設置して回転させつつ、例えば、内周側のトラックより外周側トラックへ順に、またはその反対方向へ、１トラックずつ電子ビームＥＢでエレメント１３、１６を順に走査しレジスト１１を照射露光するものである。
【００３５】
図３は、本発明の電子ビーム描画方法の実施形態を示す図であり、この実施形態の描画は、１トラック分のサーボパターン１２のサーボエレメント１３ａ，１３ｂに続いて、グルーブパターン１５のグルーブエレメント１６ａ，１６ｂを順に、基板１０（回転ステージ４１）の１回転（１周）で一度に描画するものである。
【００３６】
つまり、基板１０（回転ステージ４１）を一方向Ａに回転させつつ、基板１０の半径方向Ｙに対して直交する周方向Ｘに、微視的に見れば直線状に延びる同心円状のトラックＴ（トラック幅：Ｗ）の所定位相位置に、前記サーボエレメント１３ａ，１３ｂを連続して一度にその形状を塗りつぶすように微小径の電子ビームＥＢで走査して、１回転で１トラック内のサーボエレメント１３を描画する。なお、隣接するトラックにまたがる半トラックずれたサーボエレメント１３は、半分に分割することなく、描画基準を半トラックずらせて一度に描画する。
【００３７】
上記走査は、サーボエレメント１３ａ，１３ｂの最小トラック方向長さより小さいビーム径の電子ビームＥＢを、後述のブランキング手段２４（アパーチャ２５，ブランキング２６）の描画部位に応じたオン・オフ動作により照射しつつ、半径方向Ｙおよび半径方向と直交する方向Ｘ（以下周方向Ｘ）電子ビームＥＢをＸ−Ｙ偏向させて、基板１０の回転速度に応じてトラック幅Ｗの送りを行うとともに、図３（Ａ）のように、半径方向Ｙと直交する周方向Ｘへ一定の振幅で高速に往復振動させて振らせることで、露光描画する。
【００３８】
上記サーボエレメント１３ａ，１３ｂの描画に続いて、前記グルーブパターン１５の描画を行うものであり、所定角度で分割された１つのグルーブエレメント１６ａを、その描画開始点より電子ビームＥＢを周方向Ｘへ大きく偏向させて描画し、次のグルーブエレメント１６ｂは時間的間隔をもって同様に、その描画開始点より電子ビームＥＢを周方向Ｘへ大きく偏向させて描画して、順に連続したグルーブパターン１５の描画を行う。その際、サーボエレメント１３の描画時における周方向Ｘへの高速往復振動は停止している。
【００３９】
図３に基づき順に説明する。図３(Ａ)は電子ビームＥＢの半径方向Ｙ（外周方向）および周方向Ｘ（回転方向）の電子ビームＥＢの描画動作を示し、図３(Ｂ)に半径方向Ｙの偏向信号Ｄef(Y)を、(Ｃ)に周方向Ｘの偏向信号Ｄef(X)を、(Ｄ)に周方向Ｘの振動信号Ｍod(X)を、(Ｅ)にブランキング信号ＢＬＫのオン・オフ動作を、(Ｆ)にエンコーダパルスによる同期特性をそれぞれ示している。なお、横軸は時間（回転角度）を示している。
【００４０】
まず、ａ点で(Ｅ)のブランキング信号ＢＬＫのオンにより電子ビームＥＢを照射し、サーボエレメント１３ａの描画を開始するものであり、基準位置にある電子ビームＥＢを(Ｄ)の振動信号Ｍod(X)により周方向Ｘに往復振動させつつ、(Ｂ)の偏向信号Ｄef(Y)により半径方向（−Ｙ）に偏向させて送るとともに、Ａ方向への基板１０の回転に伴う電子ビームＥＢの照射位置のずれを補償するために、(Ｃ)の偏向信号Ｄef(X)によりＡ方向と同方向の周方向Ｘに偏向させて送ることにより、矩形状のサーボエレメント１３ａを塗りつぶすように走査し、ｂ点でのブランキング信号ＢＬＫのオフにより電子ビームＥＢの照射を停止し、サーボエレメント１３ａの描画を終了する。ｂ点後に、半径方向Ｙおよび周方向Ｘの偏向を基準位置に戻す。
【００４１】
次に、基板１０が回転してｃ点になると、同様にして次のサーボエレメント１３ｂの描画を開始し、同様の偏向信号に基づいて同様に描画し、ｄ点でサーボエレメント１３ｂの描画を終了する。
【００４２】
続いて、ｅ点でブランキング信号ＢＬＫのオンにより電子ビームＥＢを照射し、グルーブパターン１５の最初のグルーブエレメント１６ａの描画を開始する。この場合には、(Ｄ)の振動信号Ｍod(X)の振動停止により周方向Ｘの往復振動は停止している。そして、(Ｃ)の偏向信号Ｄef(X)により、Ａ方向と逆向きの周方向（−Ｘ）に大きく偏向させて送り、所定長さのグルーブエレメント１６ａを描画し、ｆ点で描画を終了する。描画長さは、（−Ｘ）方向の偏向量に基板１０のＡ方向の回転量を加算した長さである。なお、(Ｂ)の半径方向Ｙの偏向信号Ｄef(Y)は無偏向であることから、円弧状ではなく直線的に描画しているが、微小範囲では直線としても大きく円弧からずれることはない。ｆ点後に、周方向Ｘの偏向を基準位置に戻す。
【００４３】
そして、上記グルーブエレメント１６ａの描画が終了してから所定時間が経過し、基板１０の回転により次のグルーブエレメント１６ｂの描画開始位置が到達したｇ点において、同様に電子ビームＥＢの照射を開始するとともに、（−Ｘ）方向に大きく偏向させて、次のグルーブエレメント１６ｂを描画するものである。
【００４４】
上記グルーブエレメント１６ａ，１６ｂの長さは、サーボエレメント１３の高速振動描画でレジスト１１の露光が十分に行える程度に設定されている電子ビームＥＢのビーム強度に対応して設定される。つまり、電子ビームＥＢによる描画幅（実質露光幅）は、照射時間に応じて照射ビーム径より広くなる特性があり、最終的なエレメント幅の描画を行うためには、その描画幅となる所定の照射線量で走査するために、偏向速度を調整することによって照射線量を規定するものである。例えば、エレメント幅を狭くするためには偏向速度を速くし、単位面積の照射線量を少なくすることによって行う。なお、描画途中でのビーム強度を変更することは、回転ステージ４１の回転に対する応答性の面で困難である。
【００４５】
さらに、上記グルーブエレメント１６ａ，１６ｂを描画する場合に、その描画開始点、つまり、図３のｅ点、ｇ点は、（Ｆ）のエンコーダパルス信号に基づいて正確な位置決めがなされ、データ領域の終点におけるグルーブパターン１５の描画終了位置の精度を高めている。具体的には、図３（Ｆ）で、ｅ点はその直前のパルス信号Ｓ１に基づき、また、ｇ点はその直前のパルス信号Ｓ２に基づき、それから規定時間（設計時間）t1またはt2経過したｅ点またはｇ点で描画を開始するように、エンコーダパルスとの同期をとるように構成されている。
【００４６】
１つのトラックを１周描画した後、次のトラックに移動し同様に描画して、基板１０の全領域に所望の微細パターン１２，１５を描画する。この電子ビームＥＢのトラック移動は、後述の回転ステージ４１を半径方向Ｙに直線移動させて行う。その移動は１トラックの描画毎に行うか、電子ビームＥＢの半径方向Ｙの偏向可能範囲に応じて複数トラック（例えば８トラック）の描画毎に行うものである。また、上記サーボエレメント１３の周方向Ｘの描画長さは、電子ビームＥＢの周方向往復振動の振幅で規定する。
【００４７】
また、前記基板１０の描画領域における、描画部位の半径方向位置の移動つまりトラック移動に対し、基板１０の外周側部位でも内周側部位でも全描画域で同一の線速度となるように、前記回転ステージ４１の回転速度を外周側描画時には遅く、内周側描画時には速くなるように調整して、電子ビームＥＢによる描画を行うのが均一照射線量を得るためおよび描画位置精度を確保する点で好ましい。
【００４８】
前記サーボパターン１２およびグルーブパターン１５の各エレメント１３，１６を描画するためには、前述のように電子ビームＥＢを走査させるものであるが、その電子ビームＥＢの走査制御を行うための描画データ信号を後述の信号送出装置６０（図４参照）より電子ビーム描画装置４０のコントローラ５０に送出する。この送出信号は回転ステージ４１の回転に応じて発生する前述のエンコーダパルスおよび基準クロック信号に基づいてタイミングおよび位相が制御される。
【００４９】
一方、前記パターン１２の記録方式がＣＡＶ（角速度一定）方式の場合には、セクターの長さが内外周で変化するのに応じ、そのエレメント１３，１６のトラック方向の描画長さは、外周側トラックで長く内周側トラックで短く形成されることになる。この場合に、サーボエレメント１３を描画するとき、半径方向Ｙの偏向送りの速度を、外周側トラックの描画での送りが遅く、内周側トラックの描画での送りが速くなるように変更する。すなわち、描画部位の基板１０の回転中心からの距離が大きくなるにつれて遅くなるように変更し、各エレメント１３，１６で単位時間当たりの電子ビームＥＢの描画面積が一定となるようにする。これにより、エレメント１３，１６の露光が同条件で均等に行える。つまり、電子ビームＥＢの周方向往復振動の周波数を一定、電子ビーム強度を一定とした安定条件で行える。なお、周方向Ｘの偏向送り速度は、外周側と内周側トラックの描画で同じとして、送り量を調整して描画長さを変更する。
【００５０】
上記のような描画を行うために、図４に示すような微細パターン描画システム２０を使用する。微細パターン描画システム２０は、電子ビーム描画装置４０および信号送出装置６０備えている。電子ビーム描画装置４０は、基板１０を支持する回転ステージ４１および該ステージ４１の中心軸４２と一致するように設けられたモータ軸を有するスピンドルモータ４４を備えた回転ステージユニット４５と、回転ステージユニット４５の一部を貫通し、回転ステージ４１の一半径方向Ｙに延びるシャフト４６と、回転ステージユニット４５をシャフト４６に沿って移動させるための直線移動手段４９とを備えている。回転ステージユニット４５の一部には、上記シャフト４６と平行に配された、精密なネジきりが施されたロッド４７が螺合され、このロッド４７は、パルスモータ４８によって正逆回転されるようになっており、このロッド４７とパルスモータ４８により回転ステージユニット４５の直線移動手段４９が構成される。また、回転ステージ４１の回転検出のため、エンコーダスリットの読み取りによって所定回転位相で等間隔にエンコーダパルスを発生するエンコーダ５３が設置され、このエンコーダパルス信号がコントローラ５０に送出される。なお、コントローラ５０はタイミング制御における基準クロック信号を発生するクロック手段（不図示）を内蔵している。
【００５１】
さらに、電子ビーム描画装置４０は、電子ビームＥＢを出射する電子銃２３、電子ビームＥＢを半径方向Ｙおよび周方向Ｘへ偏向させるとともに周方向Ｘに一定の振幅で微小往復振動させる偏向手段２１，２２、電子ビームＥＢの照射をオン・オフするためのブランキング手段２４としてアパーチャ２５およびブランキング２６（偏向器）を備えており、電子銃２３から出射された電子ビームＥＢは偏向手段２１、２２および図示しないレンズ等を経て、基板１０上に照射される。
【００５２】
ブランキング手段２４における上記アパーチャ２５は、中心部に電子ビームＥＢが通過する透孔を備え、ブランキング２６はオン・オフ信号の入力に伴って、オン信号時には電子ビームＥＢを偏向させることなくアパーチャ２５の透孔を通過させて照射し、一方、オフ信号時には電子ビームＥＢを偏向させてアパーチャ２５の透孔を通過させることなくアパーチャ２５で遮断して、電子ビームＥＢの照射を行わないように作動する。そして、前述の各エレメント１３，１６を描画している際にはオン信号が入力されて電子ビームＥＢを照射し、エレメント１３，１６の間の移動時にはオフ信号が入力されて電子ビームＥＢを遮断し、露光を行わないように制御される。
【００５３】
上記スピンドルモータ４４の駆動すなわち回転ステージ４１の回転速度、パルスモータ４８の駆動すなわち直線移動手段４９による直線移動、電子ビームＥＢの変調、偏向手段２１および２２の制御、ブランキング手段２４のブランキング２６のオン・オフ制御等は制御手段であるコントローラ５０から送出された制御信号に基づいて行われる。
【００５４】
前記信号送出装置６０は、前述のディスクリートトラックメディアの微細パターンの描画データを記憶し、前述のコントローラ５０に描画データ信号を送出するものであり、コントローラ５０は描画データ信号に基づいて前述のような連係制御を行い、電子ビーム描画装置４０により微細パターンのサーボパターン１２およびグルーブパターン１５を基板１０の全面に描画するものである。
【００５５】
前記回転ステージ４１に設置する基板１０は、例えばシリコン、ガラスあるいは石英からなり、その表面には予めポジ型電子ビーム描画用レジスト１１が塗設されている。
【００５６】
なお、各エレメント１３、１６の形状と電子ビーム描画用レジスト１１の感度とを考慮しながら、電子ビームＥＢの出力およびビーム径を調整することが望ましい。
【００５７】
次に、図５には、上記のような微細パターン描画システム２０により前述の電子ビーム描画方法によって描画された微細パターンを備えた本発明インプリントモールド７０（凹凸パターン担持体）を用いて微細パターンを転写形成している過程を示す概略断面図である。
【００５８】
上記インプリントモールド７０は、透光性材料による基板７１の表面にレジスト１１が塗布され、前記ディスクリートトラックメディア用のサーボパターン１２およびグルーブパターン１５が描画され、その後、現像、エッチング等の処理を経て形成された微細凹凸パターン７２を備えている。
【００５９】
このインプリントモールド７０を用いて、インプリント法によって磁気記録媒体８０を作製するものである。つまり、一例を示せば、ディスクリートトラックメディアとしての磁気ディスク媒体８０は、基板８１上に磁性層８２を備え、その上にマスク層を形成するためのレジスト樹脂層８３が被覆されている。そして、このレジスト樹脂層８３に、前記インプリントモールド７０の微細凹凸パターン７２が押し当てられて、紫外線照射によって上記レジスト樹脂層８３を硬化させて、微細凹凸パターン７２の凹凸形状を転写形成してなる。その後、レジスト樹脂層８３の凹凸形状に基づき磁性層８２をエッチングし、磁性層８２による微細パターンが形成されたディスクリートトラックメディア用の磁気ディスク媒体８０を作製するものである。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の電子ビーム描画方法により基板に描画するディスクリートトラックメディアの微細パターンを示す全体平面図
【図２】微細パターンの一部の拡大図
【図３】微細パターンを構成するエレメントの基本的描画方式を示す拡大模式図(Ａ)およびその描画方式における偏向信号等の各種制御信号（Ｂ）〜（Ｆ）を示す図
【図４】本発明の電子ビーム描画方法を実施する一実施形態の微細パターン描画システムの要部側面図(ａ)および部分平面図(ｂ)である。
【図５】電子ビーム描画方法または微細パターン描画システムによって描画された微細パターンを備えた本発明インプリントモールドを用いて微細パターンを転写形成している過程を示す概略断面図
【符号の説明】
【００６１】
10    基板
11    レジスト
12    サーボパターン
13    サーボエレメント
15    グルーブパターン
16    グルーブエレメント
EB    電子ビーム
Ｘ    周方向
Ｙ    基板半径方向
20    微細パターン描画システム
21、22    偏向手段
23    電子銃
24    ブランキング手段
25    アパーチャ
26    ブランキング
40    電子ビーム描画装置
41    回転ステージ
44    スピンドルモータ
45    回転ステージユニット
49    直線移動手段
50    コントローラ
53    エンコーダ
60    信号送出装置
70    インプリントモールド
71    基板
72    微細凹凸パターン
80    磁気記録媒体
81    基板
82    磁性層
83    レジスト樹脂層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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