(57)【要約】【課題】成形室への必要以上に多量の不活性ガスの供給を必要とすることなく、成形室内の酸素濃度を効果的に低下させることができもとともに、酸素濃度を低下させる物質の寿命を延ばすことが可能な光学素子の製造技術を提供する。【解決手段】型セット４０が順次移動されることによって光学素子の型成形が行われる第１加熱ステージ１１、第２加熱ステージ１２、プレスステージ１３、第１冷却ステージ１４が設けられた成形室１０に不活性ガス供給源２１から供給される不活性ガス２１ａの雰囲気を形成するとともに、成形室１０に不活性ガス循環路３２を介して触媒チャンバ３１を接続し、成形室１０内の不活性ガス２１ａが触媒チャンバ３１を循環して酸素の除去が行われるようにして、多量の不活性ガス２１ａを成形室１０に供給することなく、成形室１０の低酸素雰囲気を効果的に維持して型セット４０による型成形が行われるようにした。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形素材を収容した型セットを成形室に投入して光学素子を成形する光学素子の製造装置であって、
前記成形室に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
循環路を介して前記成形室に接続され、前記成形室内の前記不活性ガスに含まれる酸素を吸収する触媒が配置された触媒チャンバと、
前記循環路に設けられた流路を開閉する開閉弁と、
を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。
【請求項２】
請求項１記載の光学素子の製造装置において、
さらに、前記成形室内の不活性ガスに含まれる酸素の濃度を測定し、前記濃度の値を濃度測定信号として外部に出力できる酸素濃度計を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。
【請求項３】
請求項２記載の光学素子の製造装置において、
さらに、前記酸素濃度計から出力される前記濃度測定信号を受信し、当該濃度測定信号によって前記循環路に設けられた開閉弁の開閉を制御するコントロールユニットを含むことを特徴とする光学素子の製造装置。
【請求項４】
請求項１記載の光学素子の製造装置において、
さらに、前記循環路に設けられ前記成形室内の不活性ガスを前記触媒チャンバに強制的に循環させる送風手段を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。
【請求項５】
請求項１記載の光学素子の製造装置において、
さらに、前記触媒チャンバの前記触媒を加熱する加熱手段を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。
【請求項６】
請求項１記載の光学素子の製造装置において、
さらに、前記循環路内を流れる前記不活性ガスの流量を制御する流量制御手段を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。
【請求項７】
請求項１記載の光学素子の製造装置において、
さらに、前記循環路の前記成形室に対する接続部に設けられ、前記触媒チャンバを経由して前記循環路から前記成形室に流入する前記不活性ガスの流入経路を偏向させるガス偏向手段を含むことを特徴とする光学素子の製造装置。
【請求項８】
成形素材を収容した型セットを成形室に投入して光学素子を成形する光学素子の製造方法であって、
前記成形室に不活性ガスを供給し、酸素を吸収する触媒を備えた触媒チャンバに前記成形室内の雰囲気を循環させつつ、前記光学素子を成形することを特徴とする光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子の製造技術に関し、成形素材から型成形によって光学素子を製造する技術に適用して有効な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子の製造分野では、ガラスや樹脂等の熱可塑性の成形素材を加熱および押圧して型成形することで、所望の光学機能面を有する光学素子を製造することが知られている。
その場合、たとえば特許文献１に開示されているように、加熱雰囲気における成形素材や光学素子、さらには成形型等の酸化を防止する目的で、成形工程が実施される成形室の内部を不活性ガス雰囲気に置換することが行われている。
【０００３】
すなわち、特許文献１の技術では、成形室内に不活性ガスを供給して酸素濃度を低下させる光学素子の製造方法において、成形室とは別個のチャンバに、酸化されやすい物質を配置し、成形室内に流入する前の不活性ガスが当該チャンバを通過するようにして、成形室に供給される不活性ガスの酸素濃度を低下させる製造方法が提案されている。
【０００４】
ところが、上述の特許文献１記載の技術では、成形室に流入する前の不活性ガスの酸素濃度を低下させるだけであるため、成形室内の酸素濃度が、成形室内の雰囲気の不活性ガスによる置換状況等の影響を大きく受け、成形室内の不活性ガスの酸素濃度をそれほど低下させることができない懸念がある。
【０００５】
そのため、成形室内の酸素濃度を低くするためには、成形室内を常に正圧に維持して不活性ガス雰囲気に維持するために、多量の不活性ガスを供給する必要がある、という技術的課題がある。
【０００６】
また、何らかの装置障害で型セットを成形室に搬入するための投入口シャッタが開放されたままの状態や、型セットを成形室内から排出するための排出口シャッタが開放されたままの状態が発生した場合、成形室が大気に開放されて成形室内、および当該成形室とは別個のチャンバにも酸素が流入してしまい、チャンバ内の酸化されやすい物質は激しく酸化が促進され、その酸素除去性能が著しく低下し、寿命が短くなる、という技術的課題もある。
【特許文献１】実開平２−１０４３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、成形室への必要以上に多量の不活性ガスの供給を必要とすることなく、成形室内の酸素濃度を効果的に低下させることができもとともに、酸素濃度を低下させる物質の寿命を延ばすことが可能な光学素子の製造技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の観点は、成形素材を収容した型セットを成形室に投入して光学素子を成形する光学素子の製造装置であって、
前記成形室に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
循環路を介して前記成形室に接続され、前記成形室内の前記不活性ガスに含まれる酸素を吸収する触媒が配置された触媒チャンバと、
前記循環路に設けられた流路を開閉する開閉弁と、
を含む光学素子の製造装置を提供する。
【０００９】
本発明の第２の観点は、成形素材を収容した型セットを成形室に投入して光学素子を成形する光学素子の製造方法であって、
前記成形室に不活性ガスを供給し、酸素を吸収する触媒を備えた触媒チャンバに前記成形室内の雰囲気を循環させつつ、前記光学素子を成形する光学素子の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、成形室への必要以上に多量の不活性ガスの供給を必要とすることなく、成形室内の酸素濃度を効果的に低下させることができもとともに、酸素濃度を低下させる物質の寿命を延ばすことが可能な光学素子の製造技術を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
まず、本実施の形態の各態様につき概括し、その後、図面を参照して詳細な説明を行う。
本実施の形態の第１態様にかかる光学素子の製造装置は、成形素材を収容した型セットを成形室に投入して、光学素子を成形する光学素子の製造装置において、上記成形室に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、不活性ガスに含まれる酸素を吸収する触媒が配置された触媒チャンバと、循環入口及び循環出口が上記成形室に位置し、この成形室内の不活性ガスを上記触媒チャンバに循環させる不活性ガス循環路と、循環入口に配される循環路と、循環出口に配される循環路にそれぞれの開閉弁と、不活性ガスに含まれる酸素の濃度を測定し、その濃度値を信号として外部に出力できる酸素濃度計と、酸素濃度計で測定しその濃度値の信号を受信しその信号によって前記循環路の開閉弁の開閉具合を制御することのできるコントロールユニットを備える。
【００１２】
また、第２態様として上述の第１態様における上記成形室内の不活性ガスを上記触媒チャンバに強制的に循環させる送風手段を更に備える構成とすることができる。
また、第３態様として上述の第１態様における上記触媒を加熱する加熱手段を更に備える構成とすることができる。
【００１３】
また、第４態様として上述の第１態様における上記不活性ガス循環路内を流れる上記不活性ガスの流量を制御する流量制御手段を更に備える構成とすることができる。
また、第５態様として上述の第１態様における上記不活性ガス循環路の上記循環出口又はその近傍に設けられ、上記不活性ガス循環路から上記成形室に流入する不活性ガスを偏向させるガス偏向手段を更に備える構成とすることができる。
【００１４】
第６態様として、成形素材を収容した型セットを成形室に投入して光学素子を成形する光学素子の製造方法において、上記成形室に不活性ガスを供給し、且つ、不活性ガスに含まれる酸素を吸収する触媒が配置された触媒チャンバに上記成形室内の不活性ガスを循環させた状態で、上記光学素子を成形するようにする。
【００１５】
上述した本実施の形態の各態様では、成形室内の不活性ガスを触媒チャンバに循環させた状態で光学素子を成形することで、成形室内に酸素が流入した場合にも触媒により酸素を吸収することができる。
【００１６】
そのため、成形室内の酸素濃度を低下させるために成形室内に多量の不活性ガスを供給する必要がなくなる。
よって、本実施の形態によれば、成形室への不活性ガスの供給量を低減することができると共に成形室内の酸素濃度を低下させることができる。
【００１７】
更には何らかの事故によって大量の酸素が流入した場合でも、高価な設備が酸化によって損なわれることを防止できる。
以下、本発明の実施の形態に係る光学素子の製造装置及び製造方法について、図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施の形態に係る光学素子製造装置の構成例を示す断面図である。図２は、本実施の形態の光学素子製造装置に供される型セットの構成例を示す断面図である。
【００１９】
図１に示す光学素子製造装置１は、成形室１０、不活性ガス供給手段としての不活性ガス供給源２１及び不活性ガス供給路２２、触媒チャンバ３１、不活性ガス循環路３２等を備えている。
【００２０】
成形室１０には成形室１０内の不活性ガス等から構成される雰囲気に含まれる酸素の濃度を測定し、その濃度値を濃度測定信号５３ａとして外部に出力できる酸素濃度計５３を備えている。
【００２１】
光学素子製造装置１は、成形室１０において、型セット４０に収容された成形素材６０から光学素子を型成形する。
図２に例示されるように、本実施の形態型セット４０は、上型４１の上型成形面４１ａおよび下型４２の下型成形面４２ａを胴型４３の内部に対向するように収容し、上型成形面４１ａと下型成形面４２ａの間には、たとえば、熱可塑性の成形素材であるガラスや樹脂からなる成形素材６０が実装される。
【００２２】
そして、上型成形面４１ａおよび下型成形面４２ａと胴型４３の内周面で構成される成形空間の中で、後述のように、成形素材６０を加熱および加圧して、成形素材６０に上型成形面４１ａおよび下型成形面４２ａの形状を転写するように成形することで、上型成形面４１ａおよび下型成形面４２ａと凹凸が逆の図示しない光学機能面を備えた光学素子６０ａ（図２の例では凸レンズ）が成形される。
【００２３】
なお、本実施の形態の型セット４０は、上型４１、下型４２及び胴型４３から構成されているが、型セット４０としては、他の組み合わせからなるものであってもよい。
図１に例示されるように、光学素子製造装置１の成形室１０内には、第１加熱ステージ１１、第２加熱ステージ１２、プレスステージ１３、第１冷却ステージ１４、及び、第２冷却ステージ１５が配設されている。
【００２４】
第１加熱ステージ１１は、型セット４０の上面に当接する上ヒータブロック１１ａと、この上ヒータブロック１１ａの上部に配置された上断熱ブロック１１ｂと、この上断熱ブロック１１ｂに接続されたプレス軸１１ｃと、このプレス軸１１ｃを昇降させるシリンダ１１ｄと、型セット４０が載置される下ヒータブロック１１ｅと、この下ヒータブロック１１ｅの下部に配置された下断熱ブロック１１ｆとから構成されている（他の第２加熱ステージ１２から第２冷却ステージ１５も同一の構成であるため、図１に同様の符号を付して説明を省略する）。
【００２５】
第１加熱ステージ１１が配設された側の成形室１０の外側には、成形室１０へ投入される型セット４０が載置される投入台１６が設けられ、第２冷却ステージ１５が配設された側の成形室１０の外側には、成形室１０から排出される型セット４０が載置される排出台１７が設けられている。
【００２６】
また、投入台１６側の成形室１０の外側には、型セット４０が投入台１６から成形室１０へ投入される際に開放する投入シャッタ１０ａが設けられ、排出台１７側の成形室１０の外側には、型セット４０が成形室１０から排出台１７へ排出される際に開放する排出シャッタ１０ｂが設けられている。
【００２７】
成形室１０の型セット４０投入側の上部には、図示しない供給機構によって、窒素等の不活性ガス２１ａ（矢印Ａ１）が不活性ガス供給源２１から不活性ガス供給路２２を介して供給されている。
【００２８】
なお、成形室１０には、成形室１０内の酸素を不活性ガス２１ａと共に外部に追い出して、成形室１０の雰囲気を迅速に不活性ガス２１ａに置換するための図示しない微細な隙間を形成することができる。
【００２９】
このようにしても、不活性ガス供給源２１から、成形室１０の図示しない微細な隙間から流出する少量の不活性ガス２１ａ（矢印Ａ１）を補うように供給するだけで成形室１０の正圧が維持されるため、多量の不活性ガス２１ａを成形室１０に供給することなく、上述の微細な隙間からの成形室１０内への酸素の流入を抑えることができる。
【００３０】
成形室１０に対して並設された触媒チャンバ３１は、触媒チャンバ３１の一端と他端の不活性ガス循環路３２を介して、第２冷却ステージ１５が配設された側で、成形室１０と接続されている。
【００３１】
触媒チャンバ３１には、成形室１０内から取り込まれた不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）等の雰囲気に含まれる酸素を吸収する粒状の触媒３１ａが配置されている。
この触媒３１ａには、例えば、鉄、銅、ニッケル、これらを含む合成物等、酸素を吸収し得るものであれば用いることができる。そのため、触媒３１ａが粒状である必要もない。
【００３２】
なお、触媒３１ａは、後述する触媒加熱ヒータ３５により加熱されて酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル等へと変化していくと、酸素を吸収しづらくなるため、定期的に交換することが望ましい。
【００３３】
不活性ガス循環路３２には、その両端である循環入口３２ｃ及び循環出口３２ｄが成形室１０に位置し、成形室１０内の不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）等の雰囲気を触媒チャンバ３１に循環させている。
【００３４】
不活性ガス循環路３２は、成形室１０（循環入口３２ｃ）と触媒チャンバ３１とに接続された第１循環路３２ａ、及び、触媒チャンバ３１と成形室１０（循環出口３２ｄ）とに接続された第２循環路３２ｂから構成されている。
【００３５】
図２に示すように、触媒チャンバ３１内の底面には、触媒３１ａが第２循環路３２ｂに落下しないように、触媒３１ａの粒径よりも小さい網目を有するネット３１ｂが配置されている。
【００３６】
このネット３１ｂは、触媒チャンバ３１の底部を貫通する両端段付孔３１ｃの上側段部に配置されている。
また、両端段付孔３１ｃの下側段部には、第２循環路３２ｂの端部が嵌合している。
【００３７】
なお、触媒チャンバ３１は、例えば、不活性ガス循環路３２の内部（流路）において触媒３１ａを保持する部分等のように、触媒３１ａが配置される部分であればよい。
第１循環路３２ａには流路を遮る為の第１循環路開閉弁５０が設置されており、同様に第２循環路３２ｂには流路を遮る為の第２循環路開閉弁５１が設置されている。
【００３８】
上記第１循環路開閉弁５０と第２循環路開閉弁５１には図示しない遠隔で開閉を駆動できるアクチュエータを備えており、更にそれらの開閉を制御する弁開閉コントロールユニット５２が接続されている。
【００３９】
上記弁開閉コントロールユニット５２は上述した酸素濃度計５３によって不活性ガスに含まれる酸素の濃度を測定し、その値の濃度測定信号５３ａを受信し、この濃度測定信号５３ａによって第１循環路開閉弁５０と第２循環路開閉弁５１の開閉具合を制御する。
【００４０】
図１に示すように、不活性ガス循環路３２（第２循環路３２ｂ）の循環出口３２ｄには、不活性ガス循環路３２から成形室１０に流入する不活性ガス（矢印Ａ３）を偏向させるガス偏向手段としての風偏向板１８が設けられている。
【００４１】
風偏向板１８は、成形室１０に流入する不活性ガス２１ａ（矢印Ａ３）が成形中の型セット４０に直接的に接触しにくくなるように、不活性ガス（矢印Ａ３）を型セット４０から遠ざける方向に偏向させる位置に配置することが望ましい。
【００４２】
なお、風偏向板１８は、循環出口３２ｄの近傍、例えば、第２循環路３２ｂの内部、成形室１０の側壁等に配置してもよい。
また、ガス偏向手段としては、風偏向板１８の代わりに、例えば、不活性ガス（矢印Ａ３）の流れを多方向に分散させるべく複数の貴通孔が形成された部材を用いることもできる。
【００４３】
第１循環路３２ａには、成形室１０内の雰囲気を構成する不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）を触媒チャンバ３１に強制的に循環させる送風手段としての送風機３３が配設されている。
【００４４】
なお、送風機３３（送風手段）に代えて、コンプレッサ等の他の強制循環手段を配設することでも、成形室１０内の不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）を触媒チャンバ３１に強制的に循環させることは可能である。
【００４５】
また、第１循環路３２ａには、第１循環路３２ａを流れる不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）の流量を制御する流量制御手段としての流量調整器３４が、送風機３３よりも触媒チャンバ３１側に配設されている。
【００４６】
流量調整器３４は、絞り弁のみからなるものでもよいが、例えば、絞り弁に加えて流量表示部や調整操作部等を含んだ装置とすることができる。
触媒チャンバ３１の外周には、触媒３１ａを加熱する加熱手段としての触媒加熱ヒータ３５が配設されている。
【００４７】
また、触媒チャンバ３１内の触媒３１ａには、両端段付孔３１ｃから温度測定器３６が挿入されている。
そして、これら触媒加熱ヒータ３５及び温度測定器３６には、温度制御装置３７が接続されている。
【００４８】
温度制御装置３７は、触媒加熱ヒータ３５へ制御信号を送信すると共に温度測定器３６からの温度測定値信号を受信することで、任意の温度に触媒チャンバ３１の触媒３１ａを加熱することが可能となっている。
【００４９】
以下、本実施の形態の光学素子の製造方法について説明する。
まず、図１に示す上ヒータブロック１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａ，１５ａ及び下ヒータブロック１１ｅ，１２ｅ，１３ｅ，１４ｅ，１５ｅを、図示しない制御手段により、加熱ステージ、プレスステージ、冷却ステージの各々に適した温度に設定し、その温度を保持しておく。
【００５０】
また、不活性ガス供給源２１から、図示しない供給機構によって、窒素等の不活性ガス２１ａ（矢印Ａ１）を、不活性ガス供給路２２を介して成形室１０に供給し続けておく。
これにより、成形室１０内の酸素が上記微細な隙間又は開放した投入シャッタ１０ａ若しくは排出シャッタ１０ｂから排出され、成形室１０内の雰囲気が不活性ガス２１ａに置換されると共に正圧に維持される。
【００５１】
そして、成形素材６０を収容した型セット４０を投入台１６に搬送し、投入シャッタ１０ａを開放させて型セット４０を成形室１０内に投入する。
成形室１０内に投入された型セット４０は、第１加熱ステージ１１の下ヒータブロック１１ｅ上に載置される。
【００５２】
そして、シリンダ１１ｄの駆動によりプレス軸１１ｃを降下させて、上ヒータブロック１１ａ及び下ヒータブロック１１ｅからの熱伝導により型セット４０及びこの型セット４０に収容された成形素材６０を加熱する。
【００５３】
第１加熱ステージ１１において加熱された型セット４０は、図示しない移送手段により、第２加熱ステージ１２に移送され、第１加熱ステージ１１と同様に上ヒータブロック１２ａおよび下ヒータブロック１２ｅによって加熱される。
【００５４】
このように加熱されることで、型セット４０内の成形素材６０は軟化する。
次に、型セット４０はプレスステージ１３に移送され、プレスステージ１３において、シリンダ１３ｄおよびプレス軸１３ｃに押圧力により、上断熱ブロック１３ｂと下ヒータブロック１３ｅの間で型セット４０を挟圧することで、成形素材６０が目的の厚さになるまでプレスされる。
【００５５】
成形素材６０がプレスされた後、型セット４０は、第１冷却ステージ１４及び第２冷却ステージ１５の上ヒータブロック１４ａおよび下ヒータブロック１４ｅ、上ヒータブロック１５ａおよび下ヒータブロック１５ｅの間に順に移送されて挟持されることにより、徐々に冷却される。
【００５６】
これにより、型セット４０の内部で成形素材６０は光学素子６０ａとして固化し、光学素子が成形される。
以上のような成形室１０における光学素子の成形が完了した後、第２冷却ステージ１５の型セット４０を、排出シャッタ１０ｂを開放させて、成形室１０から排出台１７へと排出する。
【００５７】
光学素子製造装置１においては、以上のような型セット４０の成形室１０への投入および成形室１０からの排出が順次行われ、光学素子は連続的に製造される。
光学素子の成形中には、成形室１０内の雰囲気を構成する不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）は、不活性ガス循環路３２を流れて、触媒チャンバ３１を循環することになる。
【００５８】
そして、送風機３３を稼働させた場合には、成形室１０内の不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）を触媒チャンバ３１に強制的に循環させることができる。
なお、送風機３３によって不活性ガス循環路３２における不活性ガス２１ａの流量（循環量）を多くし過ぎると、成形室１０内において不必要な対流が起こり、型セット４０の成形温度ひいては光学素子の精度に影響を与え得るため、酸素吸収量と対流の発生とを比較衡量した上で送風機３３により循環する不活性ガス２１ａの流量調整を行うことが望ましい。
【００５９】
また、光学素子の成形中には、流量調整器３４により不活性ガス２１ａの流量を抑えることでも、上述のような成形室１０内における不必要な対流を起こさないようにすることができる。
【００６０】
なお、同時に送風機３３を稼働させている場合には、送風機３３の運転状態（回転数等）を変化させる代わりに流量調整器３４を用いることで、流量調整を容易に実現することもできる。
【００６１】
また、型セット４０による光学素子の成形中には、上述の触媒加熱ヒータ３５により、触媒チャンバ３１の触媒３１ａを任意の温度に加熱することもできる。
この触媒３１ａの加熱温度は、例えば、触媒３１ａが有効に酸素を吸収することができる温度に設定することが望ましい。
【００６２】
なお、触媒３１ａによる酸素の吸収を促進させたい場合には、触媒３１ａが酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル等へと化学変化しやすい温度に合わせて設定することが望ましい。
以上説明した本実施の形態では、成形室１０内の不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）を触媒チャンバ３１に循環させた状態で光学素子を成形することで、成形室１０内に酸素が流入した場合にも触媒３１ａにより酸素を吸収することができる。
【００６３】
そのため、成形室１０内の酸素濃度を低下させるために成形室１０に必要以上に多量の不活性ガス２１ａを供給する必要がなくなる。
よって、本実施の形態によれば、成形室１０への不活性ガス２１ａ（矢印Ａ１）の供給量を低減することができると共に成形室１０内の酸素濃度を効率良く低下させて低濃度に維持することができる。
【００６４】
また、本実施の形態では、成形室１０内の不活性ガス２１ａ（矢印Ａ２）を触媒チャンバ３１に強制的に循環させる送風機３３を配置している。
そのため、成形室１０内の酸素濃度を低下させる速度を早めることができ、したがって、成形室１０への不活性ガス（矢印Ａ１）の供給量をより低減することができると共に成形室１０内の酸素濃度をより迅速に低下させることができ、成形室１０における不活性ガス２１ａの雰囲気形成のための待ち時間を短縮することができる。
【００６５】
また、本実施の形態では、触媒３１ａを加熱する触媒加熱ヒータ３５を配置しているため、触媒３１ａが有効に酸素を吸収することができると共に、触媒３１ａが酸素を吸収する量を調整することができる。
【００６６】
したがって、成形室１０への不活性ガス２１ａ（矢印Ａ１）の供給量をより低減することができると共に成形室１０内の雰囲気の酸素濃度を効果的に低下させることもできる。
また、本実施の形態では、不活性ガス循環路３２内を流れる不活性ガス２１ａの流量を制御する流量調整器３４を配置しているため、触媒３１ａが酸素を吸収する量を調整することができる。
【００６７】
更には、不活性ガス２１ａの循環流量を適宜制御することで、成形室１０内における不必要な対流を抑えることもでき、成形室１０内の雰囲気の対流等による型セット４０の温度変化に起因する光学素子の成形精度の悪化を防ぐことができる。
【００６８】
更には、流量調整器３４を送風機３３と共に用いる場合、送風機３３の運転状態（回転数等）を変化させることなく、流量調整器３４の制御によって触媒３１ａが酸素を吸収する量を調整することもできる。
【００６９】
また、本実施の形態では、不活性ガス循環路３２（第２循環路３２ｂ）の循環出口３２ｄに設けられ、不活性ガス循環路３２から成形室１０に流入する不活性ガス２１ａ（矢印Ａ３）を偏向させる風偏向板１８を配置している。
【００７０】
そのため、不活性ガス循環路３２から成形室１０に流入する不活性ガス（矢印Ａ３）が成形中の型セット４０に直接的に当たりにくくすることができ、したがって、型セット４０の温度変化に起因する光学素子の精度悪化を防ぐことができる。
【００７１】
また、何らかの装置障害等に起因して、型セット４０を成形室１０に搬入するための投入シャッタ１０ａが開放されたままの状態や、型セット４０を成形室内から排出するための排出シャッタ１０ｂが開放されたままの状態等が発生し、成形室１０が大気に開放されて成形室内の不活性ガス２１ａの雰囲気の酸素濃度が高濃度となった場合、弁開閉コントロールユニット５２が酸素濃度計５３からの濃度測定信号５３ａを受信する。
【００７２】
この弁開閉コントロールユニット５２は触媒チャンバ３１内の触媒３１ａの性能を著しく低下させる酸素濃度かを判断し、第１循環路開閉弁５０と第２循環路開閉弁５１の図示しない遠隔で開閉を駆動できるアクチュエータに弁を閉じる指令信号を送り、第１循環路開閉弁５０と第２循環路開閉弁５１を閉じることで触媒チャンバ３１内の触媒３１ａに高濃度の酸素を含む不活性ガス２１ａが流入することを防ぐ。
【００７３】
なお、本実施の形態では、光学素子製造装置１を、複数の第１加熱ステージ１１から第２冷却ステージ１５に型セット４０を移送しながら光学素子を成形する循環型の光学素子製造装置１を例示して説明したが、成形素材６０への加熱、プレス、冷却の各工程を同一の場所で行う製造装置等の他の構成の製造装置であっても、本実施の形態のように成形室１０内の不活性ガス（矢印Ａ２）を触媒チャンバ３１に循環させることで、上述の効果を得ることが可能である。
【００７４】
なお、本発明は、上述の実施の形態に例示した構成に限らず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の一実施の形態に係る光学素子製造装置の構成例を示す断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態である光学素子製造装置に供される型セットの構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７６】
１  光学素子製造装置
１０  成形室
１０ａ  投入シャッタ
１０ｂ  排出シャッタ
１１  第１加熱ステージ
１２  第２加熱ステージ
１３  プレスステージ
１４  第１冷却ステージ
１５  第２冷却ステージ
１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａ，１５ａ  上ヒータブロック
１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，１５ｂ  上断熱ブロック
１１ｃ，１２ｃ，１３ｃ，１４ｃ，１５ｃ  プレス軸
１１ｄ，１２ｄ，１３ｄ，１４ｄ，１５ｄ  シリンダ
１１ｅ，１２ｅ，１３ｅ，１４ｅ，１５ｅ  下ヒータブロック
１１ｆ，１２ｆ，１３ｆ，１４ｆ，１５ｆ  下断熱ブロック
１６  投入台
１７  排出台
１８  風偏向板
２１  不活性ガス供給源
２１ａ  不活性ガス
２２  不活性ガス供給路
３１  触媒チャンバ
３１ａ  触媒
３１ｂ  ネット
３１ｃ  両端段付孔
３２  不活性ガス循環路
３２ａ  第１循環路
３２ｂ  第２循環路
３２ｃ  循環入口
３２ｄ  循環出口
３３  送風機
３４  流量調整器
３５  触媒加熱ヒータ
３６  温度測定器
３７  温度制御装置
４０  型セット
４１  上型
４１ａ  上型成形面
４２  下型
４２ａ  下型成形面
４３  胴型
５０  第１循環路開閉弁
５１  第２循環路開閉弁
５２  弁開閉コントロールユニット
５３  酸素濃度計
５３ａ  濃度測定信号
６０  成形素材
６０ａ  光学素子
【図１】
2009096676.tif 000003
【図２】
2009096676.tif 000004