(57)【要約】【課題】偏光素子の金属線を介して電気的な短絡が生じることを抑制することができる液晶装置および基板を提供する。【解決手段】データ配線層２０と同層に、多数の金属線３１を入射光の波長の半分以下の周期で平行に配置した偏光素子３０を形成する。この偏光素子３０の金属線３１に、金属線３１の延長方向と交差する方向に切れ目３２を設ける。データ配線層２０のソースバスラインまたはドレイン配線と金属線３１とが、製造工程で付着した導電性異物などを介して短絡した場合にも、切れ目３２によりソースバスラインとドレイン配線との電気的接続が切断ないし阻止される。よって、金属線３１を介してソースバスラインとドレイン配線との間に電気的な短絡が生じることが抑制される。【選択図】図４
2009098307.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板の間に液晶層を備えた液晶表示装置であって、
前記一対の基板の一方は、
絶縁膜を間にして形成されたゲート配線層およびデータ配線層と、
前記ゲート配線層および前記データ配線層のうち少なくとも一方と同層に形成され、入射光の波長の半分以下の周期で金属線を平行に配置した偏光素子と
を有し、
前記偏光素子の金属線は、前記金属線の延長方向と交差する方向に切れ目を有する
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記切れ目は、隣接する金属線の切れ目と同一線上を回避して設けられている
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
一対の基板の間に液晶層を備えた液晶表示装置であって、
前記一対の基板の一方は、
絶縁膜を間にして形成され、複数の配線をそれぞれ有するゲート配線層およびデータ配線層と、
前記ゲート配線層および前記データ配線層のうち少なくとも一方と同層に形成され、入射光の波長の半分以下の周期で金属線を平行に配置した偏光素子と
を有し、
前記偏光素子は、前記ゲート配線層あるいは前記データ配線層の一つの配線と前記金属線との間、または隣接する金属線間にブリッジが設けられたブリッジ領域を有し、前記ブリッジ領域内の金属線は、前記ブリッジを介して前記ゲート配線層または前記データ配線層の一つの配線と電気的に接続されており、
前記ブリッジ領域と前記ゲート配線層あるいは前記データ配線層の他の配線との間、または前記ブリッジ領域どうしの間に、前記金属線が、前記金属線の延長方向と交差する方向に切れ目を有する切れ目領域が設けられている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
前記ブリッジ領域および前記切れ目領域は、前記データ配線層と同層に形成されている
ことを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記ブリッジ領域は、前記データ配線層と同層に形成され、
前記切れ目領域は、前記ゲート配線層と同層に形成されている
ことを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記切れ目領域の一部と、前記ブリッジ領域の一部とは、平面的に重なり合っている
ことを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記ブリッジ領域は、
前記データ配線層と同層に、前記データ配線層の一つの配線に電気的に接続された第１ブリッジ領域と
前記ゲート配線層と同層に、前記データ配線層の他の配線の輪郭に沿って形成され、前記ゲート配線層の複数の配線にそれぞれ電気的に接続された複数の第２ブリッジ領域と、
を含み、
前記切れ目領域は、前記複数の第２ブリッジ領域の間に設けられている
ことを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１ブリッジ領域の一部と、前記複数の第２ブリッジ領域および前記切れ目領域の一部とは、平面的に重なり合っている
ことを特徴とする請求項７記載の液晶表示装置。
【請求項９】
絶縁膜を間にして形成されたゲート配線層およびデータ配線層と、
前記ゲート配線層および前記データ配線層のうち少なくとも一方と同層に形成され、入射光の波長の半分以下の周期で金属線を平行に配置した偏光素子と
を有し、
前記偏光素子の金属線は、前記金属線の延長方向と交差する方向に切れ目を有する
ことを特徴とする基板。
【請求項１０】
絶縁膜を間にして形成され、複数の配線をそれぞれ有するゲート配線層およびデータ配線層と、
前記ゲート配線層および前記データ配線層のうち少なくとも一方と同層に形成され、入射光の波長の半分以下の周期で金属線を平行に配置した偏光素子と
を有し、
前記偏光素子は、前記ゲート配線層あるいは前記データ配線層の一つの配線と前記金属線との間、または隣接する金属線間にブリッジが設けられたブリッジ領域を有し、前記ブリッジ領域内の金属線は、前記ブリッジを介して前記ゲート配線層または前記データ配線層の一つの配線と電気的に接続されており、
前記ブリッジ領域と前記ゲート配線層あるいは前記データ配線層の他の配線との間、または前記ブリッジ領域どうしの間に、前記金属線が、前記金属線の延長方向と交差する方向に切れ目を有する切れ目領域が設けられている
ことを特徴とする基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直視型あるいは投射型の表示装置などに好適な液晶表示装置およびこれに用いられる基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の構成部品である液晶パネルは、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板（背面基板）とＣＦ（カラーフィルタ）基板とを張り合わせ、両者の間に液晶層を設けたものである。従来の液晶表示装置または投射型の表示装置では、液晶パネルのほかに、偏光板を別に設ける必要がある。偏光板は、多層で構成され、入射光を偏光させる高分子偏光物質の両側に、ＴＡＣ（tri-acetyl-cellulose）よりなる支持体を有し、接着層によりＣＦ基板またはＴＦＴ基板に貼り合わせられて用いられている。偏光板の貼り合わせ工程は、異物の混入などにより、あまり歩留まりが良くない。通常は、剥離、再生して、再貼り付けを行ったりしているが、偏光板自体のコストばかりでなく、その再生コストも少なくなく、昨今の液晶パネルの低価格競争化を鑑みると、その影響は大きくなっている。
【０００３】
一方、バックライトから放射される光の利用効率は、現在大変低い値になっており、改善が求められている。利用効率低下の要因としては、バックライトのランダムな偏光を直線偏光にそろえるために偏光板が必要であるが、これにより光がおおよそ半分以下に低下していることがあげられる。
【０００４】
例えば特許文献１にはその対策が示されており、ＤＢＥＦという商品名で実際に使用されている。このＤＢＥＦでは、一方向の光の反射率はおおよそ９０％程度、直交する偏光方向の光はおおよそ８５％程度の透過率を有しているが、それでも反射率、透過率共に完全ではないので、液晶パネルとＤＢＥＦとの間には完全な直線偏光を得るための偏光板が必要であった。そのため、ＤＢＥＦで偏光方向をそろえられた入射光も、その偏光板を通過することで２０〜２５％程度は吸収されると考えられ、照明光の利用効率低下を引き起こしていた。
【０００５】
これに対して、ワイヤーグリッド偏光子とよばれる偏光素子が知られている。ワイヤーグリッド偏光子は、金属線に平行に振動する電界ベクトルを持つような偏光を反射し、金属線に直交に振動する電界ベクトルを持つ偏光を透過することにより、直線偏光を得るものであり、偏光効率に優れ、透過率が高く、視野角が広い平板偏光子である。
【０００６】
ワイヤーグリッド偏光子の金属線の材料としては、例えばアルミニウム（Ａｌ）が用いられ、各金属線の高さは例えば１４０ｎｍ程度である。また、各金属線の幅は格子周期（格子周期は入射光の波長の半分以下でなければならない）の半分であると仮定する場合、格子周期が短くなるほど偏光効率が向上する。例えば、青（４５０ｎｍ）、緑（５５０ｎｍ）、赤（６５０ｎｍ）の波長で偏光消滅率が１００００以上になるためには格子周期が１２０ｎｍ以下でなければならない。ここで、金属線の幅は例えば６０ｎｍである。
【０００７】
ワイヤーグリッド偏光子の製造方法としては、液晶パネルとは別部材として作製し、転写または貼り付ける方法（例えば、特許文献２参照。）、または、ナノインプリントリソグラフィおよびドライエッチングを用いる方法（例えば、特許文献３参照。）などがとられている。
【０００８】
このようなワイヤーグリッド偏光子は、例えば特許文献４に記載されたように、ＴＦＴ基板側に配置されて反射型偏光板として利用されており、反射された偏光成分を有効に再活用することによりバックライトの光の利用効率向上が図られている。
【特許文献１】特表平９−５０６９８４号公報
【特許文献２】特開２００６−２０１５４０号公報
【特許文献３】特開２００６−１０６７５８号公報
【特許文献４】特開２００３−５１７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ワイヤーグリッド偏光子をＴＦＴ基板上のデータ配線層と同層に形成する場合、金属線が微細なピッチであるので、金属線を介して隣り合うデータ配線の間で電気的短絡が発生しやすいという問題があった。
【００１０】
また、一般的にＴＶ（テレビジョン）用途に用いられるアモルファスＴＦＴ基板では、データ配線層において、ＴＦＴを構成しているソース領域とドレイン領域とを含む配線パターンが、同一層にて同一材料により構成されている。このような場合、ワイヤーグリッド偏光子をデータ配線層と同層に形成すると、金属線を介してソースとドレインとが電気的により短絡しやすくなってしまうという問題があった。
【００１１】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、偏光素子の金属線を介して電気的な短絡が生じることを抑制することができる液晶表示装置および基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明による第１の液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層を備えたものであって、一対の基板の一方は、絶縁膜を間にして形成されたゲート配線層およびデータ配線層と、ゲート配線層およびデータ配線層のうち少なくとも一方と同層に形成され、入射光の波長の半分以下の周期で金属線を平行に配置した偏光素子とを有し、偏光素子の金属線は、金属線の延長方向と交差する方向に切れ目を有するものである。
【００１３】
本発明による第２の液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層を備えたものであって、一対の基板の一方は、絶縁膜を間にして形成され、複数の配線をそれぞれ有するゲート配線層およびデータ配線層と、ゲート配線層およびデータ配線層のうち少なくとも一方と同層に形成され、入射光の波長の半分以下の周期で金属線を平行に配置した偏光素子とを有し、偏光素子は、ゲート配線層あるいはデータ配線層の一つの配線と金属線との間、または隣接する金属線間にブリッジが設けられたブリッジ領域を有し、ブリッジ領域内の金属線は、ブリッジを介してゲート配線層またはデータ配線層の一つの配線と電気的に接続されており、ブリッジ領域とゲート配線層あるいはデータ配線層の他の配線との間、またはブリッジ領域どうしの間に、金属線が、金属線の延長方向と交差する方向に切れ目を有する切れ目領域が設けられているものである。
【００１４】
本発明による第１の基板は、絶縁膜を間にして形成されたゲート配線層およびデータ配線層と、ゲート配線層およびデータ配線層のうち少なくとも一方と同層に形成され、入射光の波長の半分以下の周期で金属線を平行に配置した偏光素子とを有し、偏光素子の金属線は、金属線の延長方向と交差する方向に切れ目を有するものである。
【００１５】
本発明による第２の基板は、絶縁膜を間にして形成され、複数の配線をそれぞれ有するゲート配線層およびデータ配線層と、ゲート配線層およびデータ配線層のうち少なくとも一方と同層に形成され、入射光の波長の半分以下の周期で金属線を平行に配置した偏光素子とを有し、偏光素子は、ゲート配線層あるいはデータ配線層の一つの配線と金属線との間、または隣接する金属線間にブリッジが設けられたブリッジ領域を有し、ブリッジ領域内の金属線は、ブリッジを介してゲート配線層またはデータ配線層の一つの配線と電気的に接続されており、ブリッジ領域とゲート配線層あるいはデータ配線層の他の配線との間、またはブリッジ領域どうしの間に、金属線が、金属線の延長方向と交差する方向に切れ目を有する切れ目領域が設けられているものである。
【００１６】
本発明の第１の液晶表示装置、または本発明の第１の基板では、ゲート配線層またはデータ配線層において、ある配線と金属線とが、製造工程で付着した導電性異物などを介して短絡した場合、金属線に設けられた切れ目により、その配線と他の配線との電気的接続が切断ないし阻止される。よって、偏光素子の金属線を介して配線間に電気的な短絡が生じることが抑制される。
【００１７】
本発明の第２の液晶表示装置、または本発明の第２の基板では、ブリッジ領域内の金属線が、ブリッジを介してゲート配線層またはデータ配線層の一つの配線と電気的に接続されているので、その配線の配線抵抗が低減される。また、ブリッジ領域とゲート配線層あるいはデータ配線層の他の配線との間、またはブリッジ領域どうしの間の切れ目領域では、金属線に設けられた切れ目により、ブリッジ領域に電気的に接続された配線と他の配線との間の電気的接続、または各ブリッジ領域に電気的に接続された配線どうしの電気的接続が、確実に切断ないし阻止される。よって、偏光素子の金属線を介して配線間に電気的な短絡が生じることが抑制される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の第１の液晶表示装置、または本発明の第１の基板によれば、偏光素子の金属線に、その延長方向と交差する方向に切れ目を設けるようにしたので、偏光素子の金属線を介して電気的な短絡が生じることを抑制することができる。
【００１９】
本発明の第２の液晶表示装置、または本発明の第２の基板によれば、偏光素子が、ゲート配線層あるいはデータ配線層の一つの配線と金属線との間、または隣接する金属線間にブリッジを設けたブリッジ領域を有するようにし、このブリッジ領域内の金属線を、ブリッジを介してゲート配線層またはデータ配線層の一つの配線と電気的に接続するようにしたので、データ配線層またはゲート配線層の配線抵抗を低減することができる。また、ブリッジ領域とゲート配線層あるいはデータ配線層の他の配線との間、またはブリッジ領域どうしの間には、金属線に切れ目を設けた切れ目領域を配置するようにしたので、ブリッジ領域に電気的に接続された配線と他の配線との間の電気的接続、または各ブリッジ領域に電気的に接続された配線どうしの電気的接続を、確実に切断ないし阻止することができる。よって、偏光素子の金属線を介して配線間に電気的な短絡が生じることを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００２１】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の全体構成を表したものである。この液晶表示装置は、液晶テレビ等に用いられるものであり、例えば、バックライト１，ＴＦＴ基板２，液晶層３，ＣＦ基板４および偏光板５を順に配置したものである。
【００２２】
バックライト１は、液晶表示装置に光を照射する光源であり、例えば、ＣＣＦＬ（Cold Cathode Fluorescent Lamp ：冷陰極傾向ランプ）や、ＬＥＤ（Light Emitting Diode：発光ダイオード）などを含んで構成されている。
【００２３】
ＴＦＴ基板２は、ガラス基板に、後述するゲート配線層１０およびデータ配線層２０（図１には図示せず、図３参照。）、並びに画素電極（図示せず）等が形成されたものである。また、このＴＦＴ基板２には、後述する偏光素子３０が形成されている。
【００２４】
ＣＦ基板４は、ガラス基板に共通電極，カラーフィルタおよびブラックマトリクス（いずれも図示せず）等が形成されたものである。
【００２５】
偏光板５は、例えば、入射光を偏光させる高分子偏光物質（図示せず）の両側に、ＴＡＣよりなる支持体（図示せず）を有しており、接着層（図示せず）によりＣＦ基板４に貼り合わせられている。この偏光板５と、ＴＦＴ基板２側の偏光素子３０とは、その光学軸が互いに直交するように配置されている。なお、図１には、白表示時におけるバックライト１０からの光Ｌ１および外光（太陽光）Ｌ２の進行方向、および各構成要素における光Ｌ１，外光Ｌ２の偏光方向を併せて示している。
【００２６】
図２は、ＴＦＴ基板２の一つの画素Ｐ１の等価回路を表したものである。画素Ｐ１は、中間調における視野角特性を高めるため一つの画素Ｐ１を二つのサブ画素に分けたマルチ画素とよばれる構成を有しており、例えば、ＴＦＴ１，ＴＦＴ２と、一つのサブ画素を構成する液晶素子Ｃｌｃ１と、もう一つのサブ画素を構成する液晶素子Ｃｌｃ２と、容量素子Ｃｓｔ１，Ｃｓｔ２とを有している。
【００２７】
ＴＦＴ１，ＴＦＴ２は、サブ画素Ａ，Ｂに対して、映像信号を供給するためのスイッチング素子としての機能を有するものであり、例えばＭＯＳ−ＦＥＴ（Metal Oxide Semiconductor-Field Effect Transistor ）により構成され、３つの電極、ゲート、ソースおよびドレインを有している。ＴＦＴ１，ＴＦＴ２のゲートは、左右方向に延在するゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２に接続されている。このゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２には、上下方向に延在するソースバスラインＳＬが直交している。ＴＦＴ１のソースはソースバスラインＳＬに接続され、ドレインは液晶素子Ｃｌｃ１の一端および容量素子Ｃｓｔ１の一端に接続されている。ＴＦＴ２のソースはソースバスラインＳＬに接続され、ドレインは液晶素子Ｃｌｃ２の一端および容量素子Ｃｓｔ２の一端に接続されている。
【００２８】
液晶素子Ｃｌｃ１，Ｃｌｃ２は、ＴＦＴ１，２を介して供給される信号電圧に応じて表示のための動作を行う表示素子としての機能を有するものである。液晶素子Ｃｌｃ１の他端および液晶素子Ｃｌｃ２の他端は液晶を挟んで対向する基板表面に形成されたコモン電極（図示せず）となる。
【００２９】
容量素子Ｃｓｔ１，Ｃｓｔ２は、両端間に電位差を発生させるものであり、具体的には電荷を蓄積させる誘電体を含んで構成されている。容量素子Ｃｓｔ１の他端および容量素子Ｃｓｔ２の他端は、ゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２に平行すなわち左右方向に延在する容量素子バスラインＣＬに接続されている。
【００３０】
図３は、画素Ｐ１のゲート配線層１０およびデータ配線層２０の平面構成を表したものであり、図３（Ｂ）はゲート配線層１０、図３（Ｃ）はデータ配線層２０、図３（Ａ）は図３（Ｂ）に示したゲート配線層１０と図３（Ｃ）に示したデータ配線層２０とを平面的に重ね合わせた状態を表している。なお、画素Ｐ１は、例えば、長辺が３００μｍ〜４００μｍ、短辺が１００μｍ程度の長方形であり、赤，緑および青の三色の画素Ｐ１が一組となっている。
【００３１】
ゲート配線層１０は、ゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２および容量素子バスラインＣＬを有している。これらゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２および容量素子バスラインＣＬの各ライン間は独立しており電気的に接続されていない。データ配線層２０は、ソースバスラインＳＬおよびドレイン配線ＤＬを有している。ソースバスラインＳＬおよびドレイン配線ＤＬの各ライン間は独立しており電気的に接続されていない。ゲート配線層１０およびデータ配線層２０は、例えば窒化ケイ素（ＳｉＮ）よりなる絶縁膜（図示せず）を間にして積層されている。
【００３２】
図４（Ａ）は、偏光素子３０の平面構成を表し、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）の領域Ａ１を拡大して表したものである。偏光素子３０は、データ配線層２０と同層に形成され、多数の金属線３１を入射光の波長の半分以下の周期で平行に配置したワイヤーグリッド偏光子である。具体的には、偏光素子３０は、データ配線層２０以外の領域Ｂに形成されている。
【００３３】
データ配線層２０と偏光素子３０との間には、電気的短絡を抑えるための隙間４０が設けられている。この隙間４０の幅は、バックライト１からの光漏れが生じない程度であることが望ましい。なお、偏光素子３０は、接地されていてもよいし、あるいは、浮遊した状態となっていてもよい。
【００３４】
図５は、図４（Ａ）の領域Ａ２を拡大して表したものである。ＴＦＴ１，ＴＦＴ２のソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの間の領域は、通常、チャネルと呼ばれているが、偏光素子３０は、チャネル２１には配置しない。より好ましくは、チャネル２１を形成しているａ−Ｓｉ層２２の上に偏光素子３０を配置しない。ａ−Ｓｉ層２２上に偏光素子３０が無いほうが、短絡しにくいからである。
【００３５】
偏光素子３０の金属線３１は、例えばアルミニウム（Ａｌ）により構成され、各金属線３１の高さは例えば１４０ｎｍ程度である。また、各金属線３１の幅は格子周期（格子周期は入射光の波長の半分以下でなければならない）の半分であると仮定する場合、格子周期が短くなるほど偏光効率が向上する。例えば、青（４５０ｎｍ）、緑（５５０ｎｍ）、赤（６５０ｎｍ）の波長で偏光消滅率が１００００以上になるためには格子周期が１２０ｎｍ以下でなければならない。ここで、金属線３１の幅は例えば６０ｎｍである。
【００３６】
この偏光素子３０の金属線３１は、金属線３１の延長方向と交差（例えば、直交）する方向に切れ目３２を有している。これにより、この液晶表示装置では、偏光素子３０の金属線３１を介して、データ配線層２０のソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの間に電気的な短絡が生じることを抑制することができるようになっている。
【００３７】
切れ目３２は、隣接する金属線３１の切れ目３２と同一線上を回避して設けられていることが好ましい。切れ目３２をランダムな位置に設けることにより、透過むらを抑え、また、偏光機能を損なわないようにすることができるからである。切れ目３２の数は、多すぎると輝度むらの原因となり、少なすぎると電気的短絡を十分に抑制することができないので、適切な密度で設けられていることが望ましい。切れ目３２の寸法（幅）についても、輝度への影響と電気的短絡の抑制とを考慮して適切に設定することが望ましい。
【００３８】
この液晶表示装置は、データ配線層２０を形成すると共に偏光素子３０を形成することを除いては、通常の液晶表示装置の製造方法により製造することができる。
【００３９】
この液晶表示装置では、外部から供給された映像信号に基づいて、ゲートドライバおよびデータドライバ（図示せず）から出力される各画素Ｐ１内への駆動電圧によって、各画素Ｐ１ごとに線順次表示駆動動作がなされる。具体的には、ゲートドライバからゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２を介して供給される選択信号に応じて、ＴＦＴ１，ＴＦＴ２のオンオフが切り替えられ、ソースバスラインＳＬと画素Ｐ１を選択的に導通するようになっている。これにより、バックライト１からの照明光が偏光素子３０，液晶層３および偏光板５により変調され、表示光として出力される。
【００４０】
ここでは、偏光素子３０の金属線３１に、金属線３１の延長方向と交差する方向に切れ目３２が設けられているので、データ配線層２０のソースバスラインＳＬまたはドレイン配線ＤＬと金属線３１とが、製造工程で付着した導電性異物などを介して短絡した場合にも、切れ目３２によりソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの電気的接続が切断ないし阻止される。よって、金属線３１を介してソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの間に電気的な短絡が生じることが抑制される。
【００４１】
このように本実施の形態では、偏光素子３０の金属線３１に、金属線３１の延長方向と交差する方向に切れ目３２を設けるようにしたので、偏光素子３０の金属線３１を介して電気的な短絡が生じることを抑制することができる。
【００４２】
なお、上記実施の形態では、金属線３１の延長方向をソースバスラインＳＬに平行にしたが、金属線３１をソースバスラインＳＬに直交する方向に設けるようにしてもよい。
【００４３】
また、上記実施の形態では、偏光素子３０をデータ配線層２０と同層に設けた場合について説明したが、図６に示したように、偏光素子３０をゲート配線層１０と同層に、ゲート配線層１０以外の領域ＢＧに設けるようにしてもよい。この場合も、金属線３１の延長方向は、ソースバスラインＳＬに平行な方向でもよいし、ソースバスラインＳＬに直交する方向でもよい。
【００４４】
（第２の実施の形態）
図７（Ａ）は、本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置の偏光素子３０の平面構成を表したものである。この偏光素子３０は第１の実施の形態と同様に、データ配線層２０と同層に形成され、多数の金属線３１を入射光の波長の半分以下の周期で平行に配置したワイヤーグリッド偏光子である。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【００４５】
偏光素子３０は、データ配線層２０以外の領域Ｂのうち、ゲート配線層１０と重なる領域Ｂ１を除いた領域Ｂ２（図７（Ａ）において薄い網掛けおよび濃い網掛けを施した領域）に形成されている。その理由は、領域Ｂ１ではゲート配線層１０で光が遮られること、また、領域Ｂ１に偏光素子３０を設けることでゲート−ソース間の容量を増やすことになるからである。なお、偏光素子３０は、領域Ｂ２を超えて、領域Ｂ１に多少重なって形成されていてもよい。
【００４６】
図７（Ｂ）は図７（Ａ）の領域Ｃ１、図８は図７（Ａ）の領域Ｄ１を拡大して表したものである。偏光素子３０は、データ配線層２０のソースバスラインＳＬと金属線３１との間、または隣接する金属線３１間にブリッジ３３が設けられたブリッジ領域Ｃ（図７（Ａ）において薄い網掛けを施した領域）を有し、ブリッジ領域Ｃ内の金属線３１は、ブリッジ３３を介してソースバスラインＳＬに電気的に接続されている。また、ブリッジ領域Ｃとドレイン配線ＤＬとの間には、金属線３１が切れ目３２を有する切れ目領域Ｄ（図７（Ａ）において濃い網掛けを施した領域）が設けられている。これにより、この液晶表示装置では、ソースバスラインＳＬの配線抵抗を低減すると共に、偏光素子３０の金属線３１を解して、データ配線層２０のソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの間に電気的な短絡が生じることを抑制することができるようになっている。
【００４７】
ブリッジ３３は、第１の実施の形態の切れ目３２と同様に、金属線３１の延長方向と交差（例えば、直交）する方向に設けられている。また、ブリッジ３３は、第１の実施の形態の切れ目３２と同様に、隣接する金属線３１のブリッジ３３と同一線上を回避して設けられていることが好ましい。ブリッジ３３をランダムな位置に設けることにより、透過むらを抑え、また、偏光機能を損なわないようにすることができるからである。ブリッジ３３の数は、多すぎると輝度むらの原因となり、少なすぎるとソースバスラインＳＬの配線抵抗を十分に小さくすることができないので、適切な密度で設けられていることが望ましい。ブリッジ３３の寸法（幅）についても、輝度への影響と電気的短絡の抑制とを考慮して適切に設定することが望ましい。
【００４８】
切れ目領域Ｄは、ソースバスラインＳＬおよびブリッジ領域Ｃ内の金属線３１と、ドレイン配線ＤＬとの間に、電気的な短絡が生じることを抑制するためのものである。切れ目３２は、第１の実施の形態と同様に、隣接する金属線３１の切れ目３２と同一線上を回避して設けられていることが好ましい。ドレイン配線ＤＬと切れ目領域Ｄとの間には、短絡を防ぐため、第１の実施の形態と同様の隙間４０が設けられている。なお、切れ目領域Ｄは、接地されていてもよいし、あるいは、浮遊した状態となっていてもよい。
【００４９】
ブリッジ領域Ｃと切れ目領域Ｄとの面積比は特に限定されないが、ブリッジ領域Ｃを大きくするほどソースバスラインＳＬの配線抵抗を小さくすることができる。よって、切れ目領域Ｄは、ドレイン配線ＤＬ近傍の領域に、ソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの電気的短絡が生じない程度に形成することが望ましい。
【００５０】
この液晶表示装置は、データ配線層２０を形成すると共に偏光素子３０を形成することを除いては、通常の液晶表示装置の製造方法により製造することができる。
【００５１】
この液晶表示装置では、外部から供給された映像信号に基づいて、第１の実施の形態と同様にして各画素Ｐ１ごとに線順次表示駆動動作がなされる。ここでは、偏光素子３０が、ソースバスラインＳＬと金属線３１との間または隣接する金属線３１間にブリッジ３３が設けられたブリッジ領域Ｃを有しており、このブリッジ領域Ｃ内の金属線３１が、ブリッジ３３を介してソースバスラインＳＬに電気的に接続されているので、ソースバスラインＳＬの配線抵抗が低減される。一方、切れ目領域Ｄでは、金属線３１に設けられた切れ目３２により、ブリッジ領域Ｃに電気的に接続されたソースバスラインＳＬと、ドレイン配線ＤＬとの間の電気的接続が、確実に切断ないし阻止される。よって、ソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの電気的な短絡が抑制される。
【００５２】
このように本実施の形態では、偏光素子３０に、ソースバスラインＳＬと金属線３１との間または隣接する金属線３１間にブリッジ３３を設けたブリッジ領域Ｃを設け、このブリッジ領域Ｃ内の金属線３１をソースバスラインＳＬと電気的に接続するようにしたので、ソースバスラインＳＬの配線抵抗を小さくすることができる。
【００５３】
また、ブリッジ領域Ｃとドレイン配線ＤＬとの間には、金属線３１に切れ目３２を設けた切れ目領域Ｄを配置するようにしたので、ブリッジ領域Ｃに電気的に接続されたソースバスラインＳＬと、ドレイン配線ＤＬとの間の電気的接続を、確実に切断ないし阻止することができる。よって、ソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの間に電気的な短絡が生じることを抑制することができる。
【００５４】
なお、上記実施の形態では、金属線３１の延長方向をソースバスラインＳＬに平行になるようにしたが、金属線３１をソースバスラインＳＬに直交する方向に設けるようにしてもよい。
【００５５】
（第３の実施の形態）
図９（Ａ）は、本発明の第３の実施の形態に係る液晶表示装置の偏光素子３０の平面構成を表したものであり、図１０（Ａ）および図１１は、図９（Ａ）をゲート配線層１０とデータ配線層２０とにそれぞれ分けて表したものである。また、図９（Ｂ）は図９（Ａ）および図１１の領域Ｃ１、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）の領域Ｄ２をそれぞれ拡大して表したものである。
【００５６】
本実施の形態の偏光素子３０では、ブリッジ領域Ｃがデータ配線層２０と同層に形成されている一方、切れ目領域Ｄがゲート配線層１０と同層に形成されており、これにより、更に確実にソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの電気的短絡を抑制することができるようになっている。このことを除いては、本実施の形態の液晶表示装置は、上記第２の実施の形態と同様であるので、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【００５７】
ゲート配線層１０と同層に形成された切れ目領域Ｄは、領域Ｂ２のうちブリッジ領域Ｃ以外の領域のみに形成されていてもよいが、ブリッジ領域Ｃ以外の領域を超えて、更にブリッジ領域Ｃの一部にも延在して形成されていれば、より好ましい。すなわち、ゲート配線層１０と同層に形成された切れ目領域Ｄの一部と、データ配線層２０と同層に形成されたブリッジ領域Ｃの一部とは、平面的に重なり合っていることが好ましい。偏光されていない光の漏れを低減することができるからである。
【００５８】
この液晶表示装置は、ゲート配線層１０を形成すると共に偏光素子３０の切れ目領域Ｄを形成し、データ配線層２０を形成すると共に偏光素子３０のブリッジ領域Ｃを形成することを除いては、通常の液晶表示装置の製造方法により製造することができる。また、本実施の形態の液晶表示装置の作用は上記第２の実施の形態と同様である。
【００５９】
（第４の実施の形態）
図１２（Ａ）は、本発明の第４の実施の形態に係る液晶表示装置の偏光素子３０の平面構成を表したものであり、図１３（Ａ）および図１４は、図１２（Ａ）をゲート配線層１０とデータ配線層２０とにそれぞれ分けて表したものである。また、図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）および図１４の領域Ｆ１、図１３（Ｂ）は図１３（Ａ）の領域Ｆ２、図１５（Ａ）は図１３（Ａ）の領域Ｇ１、図１５（Ｂ）は図１３（Ａ）の領域Ｇ２をそれぞれ拡大して表したものである。
【００６０】
本実施の形態の偏光素子３０は、データ配線層２０と同層に、ソースバスラインＳＬに電気的に接続された第１ブリッジ領域Ｅ１を有している。この第１ブリッジ領域Ｅ１は、第２および第３の実施の形態で説明したブリッジ領域Ｃと同じものであり、ブリッジ領域Ｃと同様にソースバスラインＳＬの配線抵抗を低減するものである。
【００６１】
一方、ゲート配線層１０と同層には、ドレイン配線ＤＬの輪郭に沿って、複数の第２ブリッジ領域Ｅ２が形成されている。第２ブリッジ領域Ｅ２は、ゲート配線層１０のゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２および容量素子バスラインＣＬにそれぞれ電気的に接続されている。また、これらの第２ブリッジ領域Ｅ２どうしの間には、切れ目領域Ｄが設けられている。これにより、この液晶表示装置では、ゲート配線層１０の配線抵抗を低減すると共に、偏光素子３０の金属線３１を介して、ゲート配線層１０のゲートバスラインＧＬ１および容量素子バスラインＣＬ間、ゲートバスラインＧＬ２および容量素子バスラインＣＬ間、またはゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２間に電気的な短絡が生じることを抑制することができるようになっている。
【００６２】
ゲート配線層１０と同層に形成された第２ブリッジ領域Ｅ２の一部と、データ配線層２０と同層に形成された第１ブリッジ領域Ｅ１および切れ目領域Ｄの一部とは、平面的に重なり合うようにすることが好ましい。偏光されていない光の漏れを低減することができるからである。
【００６３】
この液晶表示装置は、ゲート配線層１０を形成すると共に偏光素子３０の第２ブリッジ領域Ｅ２および切れ目領域Ｄを形成し、データ配線層２０を形成すると共に偏光素子３０の第１ブリッジ領域Ｅ１を形成することを除いては、通常の液晶表示装置の製造方法により製造することができる。
【００６４】
この液晶表示装置では、外部から供給された映像信号に基づいて、第１の実施の形態と同様にして各画素Ｐ１ごとに線順次表示駆動動作がなされる。ここでは、データ配線層２０と同層に、ソースバスラインＳＬに電気的に接続された第１ブリッジ領域Ｅ１が形成され、この第１ブリッジ領域Ｅ１内の金属線３１が、ブリッジ３３を介してソースバスラインＳＬに電気的に接続されているので、ソースバスラインＳＬの配線抵抗が低減される。
【００６５】
一方、ゲート配線層１０と同層には、ドレイン配線ＤＬの輪郭に沿って、ゲート配線層１０のゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２および容量素子バスラインＣＬにそれぞれ電気的に接続された複数の第２ブリッジ領域Ｅ２が形成され、これらの第２ブリッジ領域Ｅ２内の金属線３１が、ブリッジ３３を介してゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２または容量素子バスラインＣＬに電気的に接続されているので、それらの配線抵抗も低減される。
【００６６】
また、第２ブリッジ領域Ｅ２どうしの間に設けられた切れ目領域Ｄでは、金属線３１に設けられた切れ目３２により、各第２ブリッジ領域Ｅ２に電気的に接続されたゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２および容量素子バスラインＣＬ間の電気的接続が、確実に切断ないし阻止される。よって、ゲートバスラインＧＬ１および容量素子バスラインＣＬ間、ゲートバスラインＧＬ２および容量素子バスラインＣＬ間、またはゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２間の電気的短絡が抑制される。
【００６７】
更に、第１ブリッジ領域Ｅ１がデータ配線層２０と同層に形成されている一方、第２ブリッジ領域Ｅ２および切れ目領域Ｄがゲート配線層１０と同層に形成されており、これにより、更に確実にソースバスラインＳＬとドレイン配線ＤＬとの電気的短絡が抑制される。
【００６８】
このように本実施の形態では、データ配線層２０と同層に、ソースバスラインＳＬに電気的に接続された第１ブリッジ領域Ｅ１を形成する一方、ゲート配線層１０と同層に、ドレイン配線ＤＬの輪郭に沿って、ゲート配線層１０のゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２および容量素子バスラインＣＬにそれぞれ電気的に接続された第２ブリッジ領域Ｅ２を形成し、これらの第２ブリッジ領域Ｅ２どうしの間に切れ目領域Ｄを設けるようにしたので、データ配線層２０およびゲート配線層１０の配線抵抗を低減すると共に、偏光素子３０の金属線３１を介して、データ配線層２０のソースバスラインＳＬおよびドレイン配線ＤＬ間、ゲート配線層１０のゲートバスラインＧＬ１および容量素子バスラインＣＬ間、ゲートバスラインＧＬ２および容量素子バスラインＣＬ間、またはゲートバスラインＧＬ１，ＧＬ２間に電気的な短絡が生じることを抑制することができる。
【００６９】
通常、ＴＦＴ基板のデータ配線層２０とＩＴＯ等よりなる透明電極配線層（図示せず）との間には、窒化ケイ素（ＳｉＮ）またはアクリル系樹脂よりなる絶縁膜が設けられている。上記各実施の形態では、データ配線層２０の面積が偏光素子３０の存在により大きくなり、データ配線層２０と透明電極配線層との容量が大きくなりやすい。そのため、データ配線層２０と透明電極配線層との間の絶縁膜の膜厚を厚くして、データ配線層２０と透明電極配線層との容量を小さくすると、一層高い効果が発揮される。
【００７０】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、各画素が２つのサブ画素に分割される例について説明したが、本発明は、各画素が３つ以上のサブ画素に分割されるようにした場合にも適用可能である。また、本発明は、各画素をサブ画素に分割しない場合にも適用可能である。
【００７１】
また、上記実施の形態では、各画素の等価回路および構造について具体的に説明したが、他の等価回路または他の形状でもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の全体構成を表す図である。
【図２】図１に示した液晶表示装置の画素の等価回路図である。
【図３】図３（Ａ）は図２に示した画素の構成を表す平面図であり、図３（Ｂ）および図３（Ｃ）は図３（Ａ）をゲート配線層およびデータ配線層にそれぞれ分けて表す平面図である。
【図４】図４（Ａ）は図１に示した偏光素子の構成を表す平面図であり、図４（Ｂ）は図４（Ａ）の領域Ａ１を拡大して表す平面図である。
【図５】図４（Ａ）の領域Ａ２を拡大して表す平面図である。
【図６】図４（Ａ）に示した偏光素子の変形例を表す平面図である。
【図７】図７（Ａ）は本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置の偏光素子の構成を表す平面図であり、図７（Ｂ）は図７（Ａ）の領域Ｃ１を拡大して表す平面図である。
【図８】図７（Ａ）の領域Ｄ１を拡大して表す平面図である。
【図９】図９（Ａ）は本発明の第３の実施の形態に係る液晶表示装置の偏光素子の構成を表す平面図であり、図９（Ｂ）は図９（Ａ）の領域Ｃ１を拡大して表す平面図である。
【図１０】図１０（Ａ）は図９（Ａ）に示した偏光素子のゲート配線層における構成を表す平面図であり、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）の領域Ｄ２を拡大して表す平面図である。
【図１１】図９（Ａ）に示した偏光素子のデータ配線層における構成を表す平面図である。
【図１２】図１２（Ａ）は本発明の第４の実施の形態に係る液晶表示装置の偏光素子の構成を表す平面図であり、図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）の領域Ｆ１を拡大して表す平面図である。
【図１３】図１３（Ａ）は図１２（Ａ）に示した偏光素子のゲート配線層における構成を表す平面図であり、図１３（Ｂ）は図１３（Ａ）の領域Ｆ２を拡大して表す平面図である。
【図１４】図１２（Ａ）に示した偏光素子のデータ配線層における構成を表す平面図である。
【図１５】図１５（Ａ）は図１３（Ａ）の領域Ｇ１、図１５（Ｂ）は図１３（Ａ）の領域Ｇ２をそれぞれ拡大して表す平面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１…バックライト、２…ＴＦＴ基板、３…液晶層、４…ＣＦ基板、５…偏光板、１０…ゲート配線層、２０…データ配線層、３０…偏光素子、３１…金属線、３２…切れ目、３３…ブリッジ、Ｃ…ブリッジ領域、Ｄ…切れ目領域、Ｅ１…第１ブリッジ領域、Ｅ２…第２ブリッジ領域、Ｐ１…画素
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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