(57)【要約】【課題】ガラス基板に傷を生じることなく良好で簡単に基板収納用ケースから基板を取り出すことができる基板取り出し治具を提供する。【解決手段】開口部がある底部を有し、略同一の円板形状の基板を、前記底部から起立させて、前記基板の厚みの方向に規則的に配列して収納し、前記底部の反対側の上端が、前記基板を自由に出し入れ可能に開放されている基板収納用ケースから、前記基板を取り出す基板取り出し治具において、前記開口部から前記基板収納用ケースの内側に挿入される柱状部材を有し、前記柱状部材は、該柱状部材の先端面に前記基板の下部を受ける溝を備え、前記溝が前記基板の下部を受けた後から、前記柱状部材の挿入が完了するまでの、前記柱状部材が挿入される長さが、前記基板収納用ケースに収納されている前記基板の中心から、前記基板収納用ケースの前記上端を面内とする上端面までの距離より長い。【選択図】図１
2009073544.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部がある底部を有し、
略同一の円板形状の基板を、前記底部から起立させて、前記基板の厚みの方向に配列して収納し、
前記底部の反対側の上端が、前記基板を自由に出し入れ可能に開放されている基板収納用ケースから、前記基板を取り出す基板取り出し治具において、
前記開口部から前記基板収納用ケースの内側に挿入される柱状部材を有し、
前記柱状部材は、該柱状部材の先端面に前記基板の下部を受ける溝を備え、
前記溝が前記基板の下部を受けた後から、前記柱状部材の挿入が完了するまでの、前記柱状部材が挿入される長さが、
前記基板収納用ケースに収納されている前記基板の中心から、前記基板収納用ケースの前記上端を面内とする上端面までの距離より長いことを特徴とする基板取り出し治具。
【請求項２】
前記溝の延伸方向の底の形状は、前記溝の両端の深さが同じで、前記両端の深さより中央の深さが深い、前記基板の半径以下の円弧形状であることを特徴とする請求項１に記載の基板取り出し治具。
【請求項３】
前記溝の幅方向の断面形状は、底に向かって次第に幅が狭くなるＶ字形状を有することを特徴とする請求項２に記載の基板取り出し治具。
【請求項４】
前記基板取り出し治具は、ＡＢＳ樹脂又はポリアセタールを材料とすることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の基板取り出し治具。
【請求項５】
前記溝は、前記先端面に前記溝の幅の方向に配列されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の基板取り出し治具。
【請求項６】
前記基板は、ガラスを材料とするガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の基板取り出し治具。
【請求項７】
前記ガラス基板を研磨する工程を有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
請求項６に記載の基板取り出し治具を使用することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板取り出し治具及び記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、記録媒体用基板としては、デスクトップ用コンピュータやサーバなどの据え置き型の情報機器にはアルミニウム合金が使用され、ノート型コンピュータやモバイル型コンピュータなどの携帯型の情報機器にはガラス基板が一般に使用されていた。アルミニウム合金は変形しやすく、また硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。さらに、記録用ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板が、携帯型のみならず据え置き型の情報機器やその他のテレビ等の家庭用機器にも今後広く使用されていくものと予測されている。
【０００３】
記録媒体用ガラス基板は、ブランク材と呼ばれる円板状のガラス板をプレス成形法等により形成した後、いくつかの研磨工程等を施すことによって製造される。こうしたブランク材から製品として完成した記録媒体用ガラス基板となる間の仕掛品を、以降、ガラス基板と称する。記録媒体用ガラス基板の製造工程において、複数のガラス基板を同時に保持して効率良く移動、保管するための基板収納用ケースを使用する場合がある。
【０００４】
基板収納用ケースの例として、図５に示すような、プラスチックなどを材料とした軽く可搬性のよいキャリア、又はプロセスカセット（以降。プロセスカセットと称する。）等と称されるものがある。プロセスカセットには、図５に示すように、ガラス基板５０が起立し、一枚ずつ分離して規則的に配列された状態で収納されている。
【０００５】
図５（ａ）は、プロセスカセット１００にガラス基板５０を８枚保持している様子を模式的に示す上面図である。図５（ｂ）は、保持されているガラス基板５０の平面部側からプロセスカセット１００を模式的に示す正面図である。
【０００６】
プロセスカセット１００は、図５に示すように、上側は円板形状のガラス基板５０を自由に出し入れできるように開放されている。側壁１０２の対向する内壁面１０３には、ガラス基板５０の厚みの方向に、ガラス基板５０が等間隔に整列するように、ガラス基板５０の外周を、ガラス基板５０の出し入れ時は案内し、収納時はガラス基板５０を起立した状態で保持する支持片１０４を備えている。また、底部１０６は、対向する内壁面１０３の間の中央で、内壁面１０３の複数の支持片１０４が並んだ方向に沿って側壁１０２の両端間に亘って所定の幅の略四角形の開口部１０８があり、且つガラス基板５０が落下しないように保持している。
【０００７】
このようなプロセスカセット１００からガラス基板５０を出し入れするための治具の例として、以下のガラス基板操作治具がある（特許文献１参照）。ガラス基板操作治具は、支柱と、支柱を設置面に固定する足部と、ガラス基板を載置する載置部を有するアーム部と、支柱に設けられ、アーム部を水平方向に移動させる水平移動機構と、支柱に設けられ、アーム部を垂直方向に移動させる垂直移動機構を備えている。すなわち、収納されているガラス基板の平面部が水平方向となるようにプロセスカセットを設置する。次に、ガラス基板操作治具のアーム部を水平移動させて収納されているガラス基板の間の隙間に挿入する。次に、ガラス基板を保持しているプロセスカセットの支持片から浮かす様に垂直にアーム部を垂直移動させ、ガラス基板が支持片から浮いた状態を維持して、アーム部をプロセスカセットより引き出すように水平移動させて、ガラス基板をプロセスカセットより取り出す。
【特許文献１】特開２００２−２５５３４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
図５に示すプロセスカセット１００において、ガラス基板５０が収納されている間隔は使用するプロセスカセットにもよるが、５ｍｍから７ｍｍ程度である。このため、収納されているガラス基板５０をプロセスカセット１００より取り出す場合、ガラス基板５０の外周の上端付近の表裏面を指でつまみ出そうとするには、整列しているガラス基板５０の間隔が狭い。よって、指でガラス基板５０を保持することが不安定となり、取り出すまでの時間が長くなったり、保持が十分でなくて取り出し途中で落下させて破損したり、隣のガラス基板に接触させてキズを生じてしまう場合がある。
【０００９】
樹脂等の柔らかい材料で構成したピンセットの様なものでガラス基板５０の表裏面を挟んで保持することも考えられるが、作業性が悪く、ガラス基板５０の表裏面にキズを生じることなく、ガラス基板５０の質量を十分に安定して支えることも困難である。特に、加工されたガラス基板５０の表面精度が非常に高精度となる仕上げ工程では、ガラス基板５０の表裏面を保持することは一層困難である。
【００１０】
また、プロセスカセット１００の側壁１０２の高さＨは、収納されているガラス基板５０を保護することからも、少なくともガラス基板５０の半径以上の部分をプロセスカセット１００の内側に収納するようになっている。よって、プロセスカセット１００の上部から露出するガラス基板５０は、上に凸の半円以下の形状で、ガラス基板５０の外周が中心５２を間にして対向する外周端５１がプロセスカセット１００の外側にないため安定して保持することは困難である。
【００１１】
特許文献１に記載のガラス基板操作治具は、１ｍ×１ｍ等の大きなガラス基板を想定している治具であるが、プロセスカセットからガラス基板を取り出す方法は、小さい記録媒体用ガラス基板であっても同様にしてできる。しかしながら、アーム部が接触するガラス基板の平面部にキズが発生することが推測され、また、手動で操作するには、操作方法が煩雑であり、モータ等を用いた自動制御とすると高価で大掛かりな装置となる。
【００１２】
本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、ガラス基板に傷を生じることなく良好で簡単に基板収納用ケース（プロセスカセット）からガラス基板を取り出すことができる基板取り出し治具、及び基板取り出し治具を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の課題は、以下の構成により解決される。
【００１４】
１．  開口部がある底部を有し、
略同一の円板形状の基板を、前記底部から起立させて、前記基板の厚みの方向に配列して収納し、
前記底部の反対側の上端が、前記基板を自由に出し入れ可能に開放されている基板収納用ケースから、前記基板を取り出す基板取り出し治具において、
前記開口部から前記基板収納用ケースの内側に挿入される柱状部材を有し、
前記柱状部材は、該柱状部材の先端面に前記基板の下部を受ける溝を備え、
前記溝が前記基板の下部を受けた後から、前記柱状部材の挿入が完了するまでの、前記柱状部材が挿入される長さが、
前記基板収納用ケースに収納されている前記基板の中心から、前記基板収納用ケースの前記上端を面内とする上端面までの距離より長いことを特徴とする基板取り出し治具。
【００１５】
２．  前記溝の延伸方向の底の形状は、前記溝の両端の深さが同じで、前記両端の深さより中央の深さが深い、前記基板の半径以下の円弧形状であることを特徴とする１に記載の基板取り出し治具。
【００１６】
３．  前記溝の幅方向の断面形状は、底に向かって次第に幅が狭くなるＶ字形状を有することを特徴とする２に記載の基板取り出し治具。
【００１７】
４．  前記基板取り出し治具は、ＡＢＳ樹脂又はポリアセタールを材料とすることを特徴とする１乃至３の何れか一つに記載の基板取り出し治具。
【００１８】
５．  前記溝は、前記先端面に前記溝の幅の方向に配列されていることを特徴とする１乃至４の何れか一つに記載の基板取り出し治具。
【００１９】
６．  前記基板は、ガラスを材料とするガラス基板であることを特徴とする１乃至５の何れか一つに記載の基板取り出し治具。
【００２０】
７．  前記ガラス基板を研磨する工程を有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
６に記載の基板取り出し治具を使用することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、基板収納用ケースの開口部から基板取り出し治具の柱状部材を基板収納用ケースの内側へ挿入する。基板の下部を柱状部材の先端面の溝が受けて、柱状部材が挿入されるに従って、基板は基板収納用ケースの上端方向に押されて移動する。柱状部材の挿入が完了すると、基板収納用ケースに収納されている基板の中心は、基板収納用ケースの上端より外側にある。
【００２２】
よって、基板の中心を間にして対向する外周端を挟むことができ、基板を安定して保持することができる。
【００２３】
従って、基板に傷を生じることなく良好で簡単に基板収納用ケース（プロセスカセット）から基板を取り出すことができる基板取り出し治具、及びこの基板取り出し治具を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限らない。
【００２５】
記録媒体用ガラス基板の製造工程において、円板状のガラス基板の保管・工程間の移動等に使用する基板収納用ケースとして、例えばこれまで説明した図５に示すプロセスカセット１００を使用する。
【００２６】
このようなプロセスカセット１００に収納されたガラス基板５０を取り出す場合、例として図１に示すような本発明に係る基板取り出し治具１を使用する。図１（ａ）は上面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）の上面図におけるＡ−Ａ’で示す部分断面を含む側面図、図１（ｃ）は、正面図をそれぞれ示している。
【００２７】
柱状部材である基板取り出し治具１の使用方法は、例えば作業台の上に設置面２で設置し、この上からプロセスカセット１００を降下させて、その開口部１０８から基板取り出し治具１を挿入し、プロセスカセット１００は作業台の上に着地させる。従って、基板取り出し治具１は、完全にプロセスカセット１００の内側に挿入された状態となる。基板取り出し治具１の挿入時の先端面３には、プロセスカセット１００の支持片１０４で構成される溝と同じ間隔で同じ数の溝４を設けてある。溝４の延伸方向の底の形状は円弧状であり、また幅方向の断面形状は、溝４の開口位置での幅が深さ方向に一定の部分と、この幅より底に向かって狭くなっているＶ字形状の部分とで構成される形状としている。これに関しては後述する。
【００２８】
プロセスカセット１００から基板取り出し治具１を用いてガラス基板５０を取り出すことに関して図２を用いて説明する。
【００２９】
基板取り出し治具１は、例えば作業台Ｄの上に溝４を上側にした状態で設置し、基板取り出し治具１の上方から、ガラス基板５０を収納したプロセスカセット１００を降下させる（図２（ａ））。次に、プロセスカセット１００の開口部１０８から基板取り出し治具１を挿入する（図２（ｂ））。基板取り出し治具１を挿入する際、ガラス基板５０の外周の下部を基板取り出し治具１の溝４の開口と一致させる。
【００３０】
この後、引き続きプロセスカセット１００を降下させると、ガラス基板５０の外周の下部が溝４に入り、溝４に入ったガラス基板５０は、溝４で支持されて、これまで支持していたプロセスカセット１００の底部１０６より離れていく（図２（ｃ））。さらにプロセスカセット１００を降下させて作業台Ｄに着地させる（図２（ｄ））。プロセスカセット１００が作業台Ｄに着地すると、ガラス基板５０は、８枚とも起立し、プロセスカセット１００より外側へ押し出されて移動した状態で、基板取り出し治具１が保持している。
【００３１】
ここで、溝４がガラス基板５０の下部を受けた後から、基板取り出し治具１の挿入が完了するまでに、基板取り出し治具１が挿入される長さを次の通りにしている。基板取り出し治具１が挿入される長さは、基板収納用ケースに収納されているガラス基板５０の中心５２から、基板収納用ケースの上端を面内とする上端面１１０までの距離Ｌより長くしている（図２（ｂ）参照）。
【００３２】
このようにすると、基板取り出し治具１がプロセスカセット１００の内側に完全に挿入されると、ガラス基板５０の中心５２は、プロセスカセット１００の上端より外側に移動する（図２（ｄ）参照）。よって、ガラス基板５０の中心５２を間にして外周が対向する外周端５１を指等で挟むことによって、ガラス基板を安定して保持することができ、ガラス基板５０を傷つけることなく良好で簡単にプロセスカセット１００より取り出すことができる。
【００３３】
溝４の延伸方向の底面形状は、平坦面としても良いが、平坦面とすると、ガラス基板５０の外周が円形状であるため、溝４の底面でガラス基板５０を支持した場合に、１点支持となり支持状態が安定し難い。このため、溝４の延伸方向の底の形状は、溝の両端の深さが同じで、両端の深さより中央の深さが深い、ガラス基板５０の半径以下の円弧形状とすることが好ましい。
【００３４】
具体例として、図１（ｃ）を用いて説明する。図１（ｃ）において、正面から見た基板取り出し治具１の中心線上に円弧の中心Ｃ１を定め、ガラス基板５０の半径より小さい半径Ｒの円弧を描く。この円弧形状を点線で示し、この位置に溝４の底が位置する。このようにすることで、溝４の底の形状は円弧状で、溝４の両端の溝の深さが同じで、さらに溝４の中央部が両端より深い形状とすることができる。このようにすることで、ガラス基板５０の外周の下部を２点で安定して支持することができる。
【００３５】
溝４の幅方向の断面形状を溝の開口から底まで一定の幅としている例を図３に示す。図３（ａ）は、ガラス基板５０の平坦面方向から見た様子を示している。図３（ｂ）は、基板取り出し治具１の側面方向から見た様子を示している。図３（ｃ）は、図３（ａ）におけるＢ−Ｂ’における断面を見た様子を示している。この溝４の幅ｄ１と両端の溝４の両端の深さｈ１とを適宜決めると、以下の様になる。
【００３６】
溝４の両端の点Ｐ１、Ｐ２でガラス基板５０の外周端を重力方向に支持する。この点Ｐ１，Ｐ２で回転しようとするガラス基板５０の外周の最下端部の表裏のいずれか一方が、点Ｐ３で溝４の中央部の側壁面に接触して、ガラス基板５０の厚み方向の倒れを規制することができる。このようにすると、ガラス基板５０の表裏の平坦面に基板取り出し治具１の溝４がほとんど触れることなく、ガラス基板５０を起立した状態で保持することができる。
【００３７】
さらに、溝４の幅方向の断面形状は、図４に示すように、底に向かって幅が狭くなっているＶ字形状を有するのが好ましい。このようにすることで、溝４の開口の一定幅をガラス基板５０が入りやすい様にある程度広くしても、又、ガラス基板５０の厚みが変動しても、ガラス基板５０の厚み方向の中心位置をほぼ溝４の幅の中央に位置させることができる。又、溝４の中央部でも溝の幅が底に向かって狭くなっているため、ガラス基板５０の厚み方向の倒れをより規制することになる。よって、ガラス基板５０は、より倒れ度合いが少なく、より等間隔に整列されて基板取り出し治具１により保持される。
【００３８】
溝の底をＶ字形状とする場合、溝の開口側に、深さ方向に溝の開口位置での幅と同じ一定幅である部分を有するのが好ましい。幅が一定の部分を有すると、溝を深くしても開口幅が広がらないため、溝をその幅方向に配列する場合に溝の間隔を狭くすることができ、プロセスカセット１００に規則的に配列されるガラス基板の間隔に容易に合わせることができる。
【００３９】
底に向かって幅が狭くなっている部分の角度は、１５°から５０°程度とするのが好ましい。角度が狭すぎると、ガラス基板の外周がきつく挟まれて取りだし難くなり、又角度が広すぎると、角度を持たせることの効果が薄れてしまう。
【００４０】
ガラス基板５０を２点で重力方向に支持する位置（図３の点Ｐ１、Ｐ２や図４の点Ｐ１０、Ｐ１１の位置）は、先端面３から５ｍｍから２５ｍｍ程度が好ましい。浅すぎると、ガラス基板の取り扱い時に浮かしすぎて倒してしまう場合が生じ、又深すぎると取り出し時に上方向に引き出す長さが長くなって取り出し効率が悪くなったり、取り出し方向を軸にガラス基板を回転させてしまい溝の壁面と接触させて破損してしまう場合がある。
【００４１】
また、２点で支持する間隔は、収納するガラス基板の半径以上とするのが好ましい。収納するガラス基板の半径以上とすることでガラス基板５０を安定して保持することができる。尚、上限値は、使用対象とする基板収納用ケースの開口部１０８の大きさに合わせて、取り扱いが容易なように適宜決めれば良い。
【００４２】
溝４の幅は、ガラス基板５０の厚み以上からガラス基板５０の厚みの５倍程度までが好ましい。基板収納用ケースの規則的な配列の間隔がガラス基板５０の厚みの概ね１０倍程度であることから、溝４の幅を５倍程度までとすることで、溝４を成す側壁の厚みを溝の形状を安定して維持することができる十分な耐久性を備えたものとすることができる。
【００４３】
基板取り出し治具１をなす材料は、適度に柔らかく吸水による変形が生じない吸水率の低い材料であることが好ましい。例えば、硬度が７５から１２０（ロックウエル硬度Ｍスケール）程度で吸水率が０．５％程度以下と低い、ＡＢＳ樹脂やポリアセタール（デルリン（登録商標）、ジュラコン（登録商標）等）が好ましい材料として挙げられる。
【００４４】
これまで説明したように、基板取り出し治具１を用いることで、プロセスカセット１００よりガラス基板５０を、ガラス基板５０の高精度を必要とする表裏の平坦面にほとんど触れることなく、安定して保持した状態で他のガラス基板と接触することによるキズや欠けの発生を抑えて良好で簡単に取り出すことができる。
【００４５】
本基板取り出し治具を適用する基板は、プロセスカセット１００を使用する円板形状の基板であれば、ガラス基板に限定されることはなく、例えば、シリコンウエハに対して適用することもできる。
【００４６】
次にガラス基板の製造工程において、本発明に係る基板取り出し治具１の使用例について説明する。
【００４７】
本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限らない。
【００４８】
（製造工程）
記録媒体用ガラス基板の製造方法について説明する。図６に、記録媒体用ガラス基板の製造工程の例をフロー図で示す。まず、ガラス素材を溶融し（ガラス溶融工程）、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円板形状のガラス基板（前駆体）を得る（プレス成形工程）。なお、円板形状のガラス基板（前駆体）は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
【００４９】
プレス成形されたガラス基板（前駆体）には、コアドリル等で中心部に孔が開けられる（コアリング工程）。そして、ガラス基板の両表面が研磨加工され、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みが予備調整される（第１ラッピング工程）。
【００５０】
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面が研削により面取りされて、ガラス基板の外径寸法および真円度、孔の内径寸法、並びにガラス基板と孔との同心度が微調整された後（内・外径加工工程）、ガラス基板の内周端面が研磨されて微細なキズ等が除去される（内周端面加工工程）。
【００５１】
次に、ガラス基板の両表面が再び研磨加工されて、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みが微調整される（第２ラッピング工程）。そして、ガラス基板の外周端面が研磨されて微細なキズ等が除去される（外周端面加工工程）。
【００５２】
次に、ガラス基板が洗浄された後、２８０℃から６６０℃程度の化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する（化学強化工程）。この後、ガラス基板の表面を精密に仕上げる研磨加工を行う（ポリッシング工程）。そして洗浄及び検査が行われ、製品としての記録媒体用ガラス基板とされる。
【００５３】
上記の記録媒体用ガラス基板の製造工程において、ガラス基板が円板形状であって、化学強化工程の様な高温環境下で使用する必要がなければ、ガラス基板の保管や工程間の移動に、図４に示すプロセスカセット１００を用いることができる。又、プロセスカセット１００からガラス基板を取り出す際に、本発明の基板取り出し治具１を使用することができる。尚、製造工程の初期の段階で、ガラス基板同士を直接重ねる等で保管、移動しても問題とならない場合もあるので、作業効率を考慮してプロセスカセット１００や本発明の基板取り出し治具１を用いればよい。特に本発明の基板取り出し治具１が効果をもっとも発揮するのは、化学強化工程後のポリッシング工程である。このポリッシング工程で、本発明に係わる基板取り出し治具１を用いることで、化学強化工程後にプロセスカセット１００に収納されたガラス基板をその表面にキズを生じないように良好で簡単に取り出すことができ、効率よく表面を精密に仕上げることができる。
【００５４】
（ガラス基板について）
化学強化される記録媒体用ガラス基板としては特に限定はないが、二酸化ケイ素、酸化ナトリウム、酸化カルシウムを主成分としたソーダライムガラス；二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、Ｒ2Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；酸化リチウム−二酸化ケイ素系ガラス；酸化リチウム−酸化アルミニウム−二酸化ケイ素系ガラス；Ｒ’Ｏ−酸化アルミニウム−二酸化ケイ素系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ又はＢａ）を使用することができ、これらガラス材料に酸化ジルコニウムや酸化チタン等を添加したものであってもよい。
【００５５】
また、プロセスカセットが準備できれば、ガラス基板の大きさに限定はなく２．５インチ，１．８インチ、１インチ、０．８５インチあるいはそれ以下の小径ディスクにも本発明に係わる基板取り出し治具１を適用することができる。また、ガラス基板の厚さが２ｍｍや１ｍｍ、０．６３ｍｍ、あるいはそれ以下といった薄型のものにも適用することができる。
【００５６】
（記録媒体の製造方法）
本発明の記録媒体用ガラス基板に、少なくとも記録層を形成することで記録媒体を製造することができる。記録層は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性膜を記録層として用いた記録媒体（磁気ディスク）の製造に好適である。図７は磁気ディスクの斜視図である。この磁気ディスク３００は、上記の製造工程で説明した製造方法で製造された記録媒体用ガラス基板５５の表面に磁性膜２００が直接形成されている。
【００５７】
磁性膜２００に用いる磁性材料としては、特に制限はなく公知の材料を適宜選択して用いることができる。例えば、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。また、磁性膜２００を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成としてもよい。
【００５８】
磁性膜２００として、上記のＣｏ系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性膜２００は、面内型、垂直型の何れであっても良い。
【００５９】
磁性膜２００の形成方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、スパッタリング法、無電解メッキ法、スピンコート法などが挙げられる。
【００６０】
磁気ディスク３００には、更に必要により下地層、保護層、潤滑層等を設けても良い。これらの層はいずれも公知の材料を適宜選択して用いることができる。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどが挙げられる。保護層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｃ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2などが挙げられる。また、潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】基板取り出し治具の一実施形態を示す模式図である。
【図２】基板取り出し治具を用いてプロセスカセットよりガラス基板を取り出す方法を説明する図である。
【図３】基板取り出し治具におけるガラス基板を保持する横溝を説明する図である。
【図４】基板取り出し治具におけるガラス基板を保持する横溝を説明する図である。
【図５】ガラス基板の製造工程で用いるプロセスカセットの例を示す模式図である。
【図６】記録媒体用ガラス基板の製造工程の例を示すフロー図である。
【図７】磁気ディスクの部分断面を含む斜視図である。
【符号の説明】
【００６２】
１  基板取り出し治具
２  設置面
３  先端面
４  溝
５０  ガラス基板
５１  外周端
５２  中心
５５  記録媒体用ガラス基板
１００  プロセスカセット
１０２  側壁
１０３  内壁面
１０４  支持片
１０６  底部
１０８  開口部
２００  磁性膜
Ｃ１  中心
Ｄ  作業台
Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ１０、Ｐ１１、Ｐ１２  点
Ｒ  半径
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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