(57)【要約】      （修正有）【課題】光源からの偏った出光を均一にさせるだけでなく、光利用効率の向上や、薄物化、一体化や省部材化による生産性向上も兼ね備えた光拡散体とその製造方法、およびかかる光拡散体を用いた面発光装置、表示装置及び照明装置を提供する。【解決手段】放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなり、気泡密度が所定の分布パターンを有する光拡散部を備える光拡散体であり、該光拡散部は、高発泡領域と低発泡領域を含む１以上の区域から成り、該区域中において高発泡領域または低発泡領域の一方が連続相をなし、他方が複数の非連続ドットを形成していることを特徴とする光拡散体。前記発泡体の気泡占有面積率が６５％以下の範囲で分布するのが好ましく、前記光拡散部が、気泡占有面積率が０．５％以下である低発泡領域と１％以上である高発泡領域とを有することが好ましい。【選択図】図１
2009098607.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなり、気泡密度が
所定の分布パターンを有する光拡散部を備える光拡散体であり、該光拡散部は、高発泡領
域と低発泡領域を含む１以上の区域から成り、該区域中において高発泡領域または低発泡
領域の一方が連続相をなし、他方が複数の非連続ドットを形成していることを特徴とする
光拡散体。
【請求項２】
前記発泡体の気泡占有面積率が６５％以下の範囲で分布する請求項１に記載の光拡散体。
【請求項３】
前記光拡散部が、気泡占有面積率が０．５％以下である低発泡領域と１％以上である高発
泡領域とを有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光拡散体。
【請求項４】
請求項１から請求項３の何れかに記載の低発泡領域と高発泡領域との間に、両領域の間を
つなぐように、低発泡領域に隣接する側から高発泡領域に隣接する側に向かって気泡占有
面積率が漸増する中発泡領域を備えることを特徴とする光拡散体。
【請求項５】
請求項１から請求項４の何れかに記載の光拡散部の全光線透過率が、前記気泡密度の分布
パターンに沿って０％から９９.５％の範囲で分布していることを特徴とする光拡散体。
【請求項６】
請求項１から請求項５の何れかに記載の光拡散部の少なくとも一方の表面に透光性支持体
が設けられていることを特徴とする光拡散体。
【請求項７】
前記発泡体からなり気泡占有面積率が１５％以上である光反射部を、前記光拡散部の表面
の一部に隣接、あるいは他の機能性フィルムを間に挟む形で備える請求項１から請求項６
の何れかに記載の光拡散体。
【請求項８】
導光部を前記光拡散体の表面の一部に隣接、あるいは他の機能性フィルムを間に挟む形で
備える請求項１から請求項７の何れかに記載の光拡散体。
【請求項９】
プリズム部を、前記光拡散体の表面の一部に隣接、あるいは他の機能性フィルムを間に挟
む形で備える請求項１から請求項８の何れかに記載の光拡散体。
【請求項１０】
前記発泡体が、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生
する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離す
る分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を発泡させたも
のである請求項１から請求項９の何れかに記載の光拡散体。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０の何れかに記載の光拡散体の製造方法であって、放射線エネルギ
ーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩
基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分
解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形体に放射
線エネルギー及び熱エネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備え、（ａ）前記成形
体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（ｃ）前記
成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発生剤の濃
度のいずれか１以上が、所定の不均一分布とされていることを特徴とする光拡散体の製造
方法。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１の何れかに記載の光拡散体と、該光拡散体の１表面に近接ないし
接触して配置された光源とを備える面発光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の面発光装置を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の面発光装置を備えることを特徴とする照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光拡散体、並びにこれを用いた面発光装置、液晶表示装置等の表示装置及び
照明装置に関する。さらに詳しくは、放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により
発泡した発泡体からなる光拡散体及びその製造方法、並びにこれを用いた面発光装置、表
示装置及び照明装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光拡散体は、光源からの光を拡散させる機能を有し、光源表面や面発光装置の光学部材と
して使用されている。例えば、特許文献１に記載のＬＥＤ光源ユニットの表面に被覆され
た光拡散体、特許文献２から特許文献６に記載の直下型バックライトに搭載された光拡散
体、特許文献７に記載のエッジ型バックライトに搭載された光拡散体などが挙げられる。
直下型バックライトで光源自体の輝線、エッジ型バックライトでは光源近傍に発生する輝
度の明暗（目玉現象）や光出射面内の輝線暗線模様における輝度むらを各々解消して、視
認される出射面における輝度の均一化を図ったものである。拡散体の構成としては、拡散
剤を均一に分布させたタイプと不均一に分布させたタイプの二つのグループに大きく分け
られる。前者グループは、顔料や樹脂ビーズからなる拡散剤をマトリックス樹脂に内添し
たものであり、光源からの光をランダムに拡散させる。一方、後者グループは光拡散剤が
入ったインクによるパターン印刷や、光隠蔽性もしくは光反射性膜をパターン被覆したも
のが一般的に挙げられ、光源からの光を前者よりも効率よく均一化させることが可能であ
る。
これら光拡散体を備えた面発光装置は、液晶表示装置のバックライトや照明装置の面発
光装置に広く使用されている。とくに液晶表示装置が搭載される用途は、近年飛躍的に広
がり、携帯電話やデジタルカメラ、カーナビゲーション、パーソナルコンピューター、テ
レビジョン、ゲーム機器などが挙げられる。さらに薄型化に伴い、フレキシブルディスプ
レイへのニーズも高くなっており、工程がロールツーロールで一体成形される部材に対す
るフレキシビリティも要求されている。
【特許文献１】特開２００６−１８２６１号公報
【特許文献２】特開２００４−２７１５６７号公報
【特許文献３】特開平１１−２１２０９０号公報
【特許文献４】特開２０００−１６２４１１号公報
【特許文献５】特開平５−４７７号公報
【特許文献６】特開２００６−３０９１０号公報
【特許文献７】特開２００２−２２９６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
液晶表示装置のように表示品位を最重要視する用途に用いられる面発光装置、とくにバッ
クライトでは、輝度にむらや偏りがあっては本来の品位を損ねてしまう。そのため、光源
からの光を均一に出光させるための光拡散体の活用が非常に重要となっている。また、液
晶表示装置は、携帯電話やデジタルカメラなどにみられるポータブル性能を付与した傾向
が強まっていることからも、軽薄短小のニーズが強い。そのため、面光源装置、そして搭
載される光拡散体およびその周辺光学部材において、薄物化や省部材化も強く求められて
いる。さらには、高輝度化についても常なる要求物性となっている。例えば、直下型バッ
クライトにおいては光源近傍で輝度が明るくなってしまうのを防ぐため、光拡散体が使わ
れている。しかし、その中で、従来の光拡散体は次に述べる課題を持っている。まず、顔
料や樹脂ビーズからなる拡散剤をマトリックス樹脂に内添したタイプでは、均一拡散させ
るために光拡散体との光源との距離をある程度離さなければ均一出光とならない。面光源
装置自体を薄物化しようとする場合、その距離は短くする方がよいが、均一発光を考慮す
るとその距離を縮めるには限界があった。すなわち薄型化に限界があった。また、拡散剤
とマトリクスのマッチングで拡散性能をあげても、光線透過率が低下してしまい発光利用
効率が悪くなるという悪循環な傾向にあった。もう一つの光拡散体として、光遮蔽あるい
は光拡散インクによるパターン加工をしたタイプでは、前記の拡散剤内添した光拡散体に
比べて発光利用効率アップや光源との距離を縮めやすい傾向にある。しかしながら、精度
限界から、数１００μｍ以上の大きいパターン加工となり、そのままではパターンが視認
されやすかった。したがって、そのパターンを視認されにくく、かつ、ぼかすためには、
前記の拡散剤内添した光拡散体を併用しなければならず、省部材のニーズを満足しうるも
のではなかった。さらには、パターン加工にはスクリーン印刷などの印刷形式が使用され
ていることから、印刷はがれや遮蔽インクの紫外線による劣化や色温度変化による表示性
能の低下も起こっていた。以上のことから、従来の光拡散体では、液晶表示装置のような
面発光装置における要求を十分に満足させるのには限度があった。本発明は、上記事情に
鑑みて、光源からの不均一な輝度分布（あるいは照度分布）をもつ偏った出光を均一にさ
せるだけでなく、光利用効率の向上や、薄物化、フレキシビリティ、一体化や省部材化に
よる生産性向上も兼ね備えた光拡散体とその製造方法、およびかかる光拡散体を用いた面
発光装置、表示装置及び照明装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、微細気泡群が内在する光拡散
体を、放射線エネルギーおよび熱エネルギーにより発泡した発泡体で形成することにより
、光源からの偏った出光を均一にさせるだけでなく、光利用効率の向上や、薄物化、フレ
キシビリティ、一体化や省部材化による生産性向上も兼ね備えた光拡散体を得られること
を見いだした。すなわち、上記課題を解決するため、本発明は以下の［１］〜［１４］の
構成を採用した。
【０００５】
［１］  放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなり、
気泡密度が所定の分布パターンを有する光拡散部を備える光拡散体であり、該光拡散部は
、高発泡領域と低発泡領域を含む１以上の区域から成り、該区域中において高発泡領域ま
たは低発泡領域の一方が連続相をなし、他方が複数の非連続ドットを形成していることを
特徴とする光拡散体。
［２］  前記発泡体の気泡占有面積率が６５％以下の範囲で分布する［１］に記載の光
拡散体
［３］  前記光拡散部が、気泡占有面積率が０．５％以下である低発泡領域と１％以上
である高発泡領域とを有することを特徴とする［１］または［２］に記載の光拡散体。
［４］  ［１］から［３］の何れかに記載の低発泡領域と高発泡領域との間に、両領域
の間をつなぐように、低発泡領域に隣接する側から高発泡領域に隣接する側に向かって気
泡占有面積率が漸増する中発泡領域を備えることを特徴とする光拡散体。
［５］  ［１］から［４］の何れかに記載の光拡散部の全光線透過率が、前記気泡密度
の分布パターンに沿って０％から９９.５％の範囲で分布していることを特徴とする光拡
散体。
［６］  ［１］から［５］の何れかに記載の光拡散部の少なくとも一方の表面に透光性
支持体が設けられていることを特徴とする光拡散体。
［７］  前記発泡体からなり気泡占有面積率が１５％以上である光反射部を、前記光拡
散部の表面の一部に隣接、あるいは他の機能性フィルムを間に挟む形で備える［１］から
［６］の何れかに記載の光拡散体。
［８］  導光部を前記光拡散部の表面の一部に隣接、あるいは他の機能性フィルムを間
に挟む形で備える［１］から［７］の何れかに記載の光拡散体。
［９］  プリズム部を、前記光拡散部の表面の一部に隣接、あるいは他の機能性フィル
ムを間に挟む形で備える［１］から［８］の何れかに記載の光拡散体。
［１０］  前記発泡体が、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤また
は塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質
を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を
発泡させたものである［１］から［９］の何れかに記載の光拡散体。
［１１］  ［１］から［１０］の何れかに記載の光拡散体の製造方法であって、放射線
エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸
または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を
有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形
体に放射線エネルギー及び熱エネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備え、（ａ）
前記成形体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（
ｃ）前記成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発
生剤の濃度のいずれか１以上が、所定の不均一分布とされていることを特徴とする光拡散
体の製造方法。
［１２］  ［１］から［１１］の何れかに記載の光拡散体と、該光拡散体の１表面に近
接ないし接触して配置された光源とを備える面発光装置。
［１３］  ［１２］に記載の面発光装置を備えることを特徴とする表示装置。
［１４］  ［１３］に記載の面発光装置を備えることを特徴とする照明装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、光源からの不均一な輝度分布（あるいは照度分布）をもつ偏った出光
を均一にさせるだけでなく、薄物化と、一体化や省部材化による光利用効率の向上と生産
性向上もともに両立する光拡散体とその製造方法、およびかかる光拡散体を用いた面発光
装置、表示装置及び照明装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
＜発泡性組成物＞
（発泡性組成物の種類）
本発明の光拡散体を構成する発泡体は、発泡性組成物に放射線エネルギーおよび熱エネ
ルギーを付与して発泡させたものである。
このような発泡性組成物の具体的な例としては、（Ａ）光照射によってガスを発生させ
る光発泡性化合物や、（Ｂ）光重合性化合物と熱発泡性化合物を組み合わせたもの（特許
３４２２３８４号公報参照、特開平５−４７７号公報参照）、（Ｃ）放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物（特開２００４−２８１２号公報参照）を含む。
とりわけ、（Ｃ）の発泡性組成物（以下「組成物（Ｃ）」という。）は、気泡の直径を
１０μｍ以下にすることができ、かつ、気泡分布パターンを広範囲に精密制御できるので
好ましい。
【０００８】
組成物（Ｃ）は、放射線エネルギー及び熱エネルギーの作用により発泡性が発現する組
成物である。その発泡性組成物は、少なくとも次の２つの成分を含有する。
その一つは、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤、または塩基を発
生する塩基発生剤である。他の一つは、前記発生した酸または塩基と反応して一種類以上
の低沸点揮発性化合物を分解脱離する分解発泡性化合物である。
【０００９】
（酸発生剤及び塩基発生剤）
組成物（Ｃ）に用いられる酸発生剤又は塩基発生剤には、一般的に化学増幅型フォトレ
ジスト、及び光カチオン重合などに利用されている光酸発生剤や光塩基発生剤と呼ばれて
いるものを用いることができる。
【００１０】
組成物（Ｃ）に好適な光酸発生剤としては、
（１）ジアゾニウム塩系化合物
（２）アンモニウム塩系化合物
（３）ヨードニウム塩系化合物
（４）スルホニウム塩系化合物
（５）オキソニウム塩系化合物
（６）ホスホニウム塩系化合物
などから選ばれた芳香族もしくは脂肪族オニウム化合物のＰＦ6−、ＡｓＦ6−、ＳｂＦ6
−、ＣＦ3ＳＯ3−塩を挙げることができる。その具体例を下記に列挙するが、これら例示
したものに限定されるものではない。
【００１１】
ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｐ−メチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、
ベンゾイルフェニルスルホニルジアゾメタン、
【００１２】
トリフルオロメタンスルホネート、
トリメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
２，４，６−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、
ｐ−トリルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
１−（２−ナフトイルメチル）チオラニウムヘキサフルオロアンチモネート、
１−（２−ナフトイルメチル）チオラニウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
（２−オキソ−１−シクロヘキシル)(シクロヘキシル）メチルスルホニウムトリフルオロ
メタンスルホネート、
（２−オキソ−１−シクロヘキシル）（２−ノルボルニル）メチルスルホニウムトリフル
オロメタンスルホネート、
ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムパーフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウムパーフルオロオクタンスルホネ
ート、
ジフェニル−４−メトキシフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、
【００１３】
ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−４−メトキシフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−４−イソプロピルフェニルスルホニウムトシレート
【００１４】
ジフェニルヨードニウム、
ジフェニルヨードニウムトシレート、
ジフェニルヨードニウムクロライド、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ジフェニルヨードニウムナイトレート、
ジフェニルヨードニウムパークロレート、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
【００１５】
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、
【００１６】
２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリ（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−フェニル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−(ｐ−メトキシフェニル)−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−ナフチル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−ビフェニル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（４’−ヒドロキシ−４−ビフェニル）−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５
−トリアジン、
２−（４’−メチル−４−ビフェニル）−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−ト
リアジン、
２−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５
−トリアジン、
２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリア
ジン、
２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリア
ジン、
２−（４−メトキシ−１−ナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５
−トリアジン、
２−（ベンゾ［ｄ］［１，３］ジオキソラン−５−イル）−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリア
ジン、
２−（３，４，５−トリメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，
３，５−トリアジン、
２−（３，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５
−トリアジン、
２−（２，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５
−トリアジン、
２−（２−メトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリア
ジン、
２−（４−ブトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリア
ジン、
２−（４−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５
−トリアジン、
【００１７】
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリリウムトリフロオロメタンスルホネート
、トリメチルオキシニウムテトラフロオロボレート、
トリエチルオキシニウムテトラフロオロボレート、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ−ヒドロキシナフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
（α−ベンゾイルベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（β−ベンゾイル−β−ヒドロキシフェネチル）ｐ−トルエンスルホネート、
１，２，３−ベンゼントリイルトリスメタンスルホネート、
（２，６−ジニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（２−ニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（４−ニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
などが挙げられる。なかでも、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物が好ま
しい。
【００１８】
また、前記オニウム化合物以外にも、酸発生能を有するフルオレン化合物誘導体も使用できる。例えば、
２−[２,２,３,３,４,４,４−ヘプタフルオロ−１−（ノナフルオロブチルスルフォニルオキシイミノ）−ブチル]フルオレンや、２−[２,２,３,３,４,４,５,５−オクタフルオロ−１−（ノナフルオロブチルスルフォニルオキシイミノ）−ペンチル]フルオレンなどがあり、また、活性エネルギー線照射によりスルホン酸を光発生するスルホン化物、例えば２−フェニルスルホニルアセトフェノン、活性エネルギー線照射によりハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物、例えば、フェニルトリブロモメチルスルホン、及び１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、並びに活性エネルギー線照射により燐酸を光発生するフェロセニウム化合物、例えば、ビス（シクロペンタジエニル）フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェート、及びビス（ベンジル）フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェートなどを用いることができる。
【００１９】
さらには、下記に挙げる酸発生能を有するイミド化合物誘導体も使用できる。
Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキ
シイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフタルイミド、
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ナフタルイミド。
【００２０】
組成物（Ｃ）に好適な光塩基発生剤としては、
（１）オキシムエステル系化合物
（２）アンモニウム系化合物
（３）ベンゾイン系化合物
（４）ジメトキシベンジルウレタン系化合物
（５）オルトニトロベンジルウレタン系化合物
などが挙げられ、これらは光エネルギーの照射により塩基としてアミンを発生する。その
他にも、光の作用によりアンモニアやヒドロキシイオンを発生する塩基発生剤を用いても
よい。これらは、例えばＮ−（２−ニトロペンジルオキシカルボニル）ピペリジン、１，
３−ビス〔Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−ピペリジル〕プロパン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ジヘキシルアミン、及びＯ−ベ
ンジルカルボニル−Ｎ−（１−フェニルエチリデン）ヒドロキシルアミンなどから選ぶこ
とができる。さらには加熱により塩基が発生する化合物を上記光塩基発生剤と併用しても
よい。
【００２１】
また、光酸発生剤または光塩基発生剤が活性化する光エネルギーの波長領域をシフトま
たは拡大するために、適宜光増感剤を併用してもよい。例えば、オニウム塩化合物に対す
る光増感剤には、アクリジンイエロー、ベンゾフラビン、アクリジンオレンジなどが挙げ
られる。    
【００２２】
必要な酸を生成しながらも酸発生剤または塩基発生剤の添加量や光エネルギーを最小限
に抑制するために、酸増殖剤や塩基増殖剤（Ｋ．Ｉｃｈｉｍｕｒａ ｅｔ ａｌ.,Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，５５１−５５２（１９９５）、特開平８−２４８５６１号
公報、特開２０００−３３０２７００号公報参照 ）を酸発生剤または塩基発生剤ととも
に用いることができる。酸増殖剤は、常温付近で熱力学的に安定であるが、酸によって分
解し、自ら強酸を発生し、酸触媒反応を大幅に加速させる。この反応を利用することによ
り、酸または塩基の発生効率を向上させて、発泡生成速度や発泡構造をコントロールする
ことも可能である。
【００２３】
（分解発泡性化合物）
組成物（Ｃ）に用いられる分解発泡性化合物（以下、分解性化合物と略す）は、酸また
は塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質（低沸点揮発性化合物）が分解脱離する
化合物である。
低沸点とは、発泡時にガス化が可能な沸点、すなわち、発泡時の温度よりも低い沸点を
有することを意味する。低沸点揮発性物質の沸点は、通常１００℃以下であり、常温以下
であることが好ましい。
低沸点揮発性物質としては、例えばイソブテン（沸点；−７℃） 、二酸化炭素（沸点
；−７９℃）、窒素（沸点；−１９６℃）などがあげられる。
【００２４】
分解性化合物には、低沸点揮発性物質を発生し得る分解性官能基があらかじめ導入され
ていなければならない。
分解性官能基の内、酸と反応するものとしては、−O−ｔBuの構造式で示されるｔｅｒ
ｔ−ブチルオキシ基、−CO−O−ｔBuの構造式で示されるｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、−O−CO−O−ｔBu の構造式で示されるｔｅｒｔ−ブチルカーボネート基、ケト酸およびケト酸エステル基などが挙げられる。このとき、−ｔBuは−C(CH3)3を示す。酸と反応して、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基およびｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基はイソブテンガスを、ｔｅｒｔ−ブチルカーボネート基はイソブテンガスと二酸化炭素を、ケト酸部位は二酸化炭素を、ケト酸エステルたとえばケト酸ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基は二酸化炭素とイソブテンガスを発生する。
塩基と反応するものとしては、ウレタン基、カーボネート基などが挙げられる。塩基と
反応して、ウレタン基、カーボネート基は二酸化炭素ガスを発生する。
【００２５】
分解性化合物の形態は、モノマー、オリゴマー、高分子化合物（ポリマー）の何れであ
ってもよい。分解性化合物は、以下のような化合物群に分類することができる。
（１）非硬化性低分子系の分解性化合物群
（２）硬化性低分子系の分解性化合物群
（３）高分子系の分解性化合物群
【００２６】
（１）の非硬化性低分子系の分解性化合物群は、放射線エネルギーを付与しても、重合反
応を生じない低分子系の分解性化合物群である。（２）の硬化性低分子系の分解性化合物
群は、放射線エネルギーの付与により重合反応を生じて硬化するような化合物群であり、
たとえばビニル基のような重合性基を含んでいる。また、（３）の高分子系の分解性化合
物群は、すでに重合体となっている高分子化合物（ポリマー）である。
上記分解性化合物群は単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。
（２）の硬化性低分子系の分解性化合物群、または（３）の高分子系の分解性化合物群を
用いると、均一な微細気泡の形成が容易であり、強度的に優れた発泡体を得ることが可能
であり好ましい。以下に分解性化合物の具体例を列挙するが、これら例示したものに限定
されるものではない。
【００２７】
（１）−ａ、非硬化性低分子系の分解性化合物群（酸分解性）
１−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−エトキシエタン、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フタルイミド、
２，２−ビス[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル]プロパンなど
（１）−ｂ、非硬化性低分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）ピペリジンなど
【００２８】
（２）−ａ、硬化性低分子系の分解性化合物群（酸分解性）
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルアクリレート、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル）フェニルアクリレート、
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルアクリレート、
４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−８−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ［５．２
．１．０2,6］デカン、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジルアクリレート、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチルアクリレート、
６−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ヘキシルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベンジルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチル）ベンジルアクリレート、
（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）アクリレート、
（３−ｔｅｒｔ−ブトキシプロピル）アクリレート、
（１−ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ−１−メチル）エチルアクリレート、
３，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）プロピルアクリレート、
４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）ブチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、
ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、
ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、
アクリロイル酢酸、メタクロイル酢酸、
ｔｅｒｔ−ブチルアクロイルアセテート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクロイルアセテートなど
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）マレイミド
【００２９】
（２）−ｂ、硬化性低分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
４−［（１、１−ジメチル−２−シアノ）エトキシカルボニルオキシ］スチレン、
４−[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレ
ン、
４−[（１、１−ジメチル−２−メトキシカルボニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレ
ン、
４−（２−シアノエトキシカルボニルオキシ）スチレン、
（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エチルメタクリレート、
（１、１−ジメチル−２−シアノ）エチルメタクリレートなど
【００３０】
（３）−ａ、高分子系の分解性化合物群（酸分解性）
ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）、
ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）、
ポリ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルアクリレート）、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル）フェニルアクリレート]、
ポリ[１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルアクリレート]、
ポリ｛４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−８−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ［
５．２．１．０2,6］デカン｝、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジルアクリレート]、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチルアクリレート]、
ポリ[６−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ヘキシルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベンジルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチル）ベンジルアクリレート]、
ポリ（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルアクリレート）、
ポリ（３−ｔｅｒｔ−ブトキシプロピルアクリレート）、
ポリ[（１−ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ−１−メチル）エチルアクリレート]、
ポリ[３，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）プロピルアクリレート]、
ポリ[４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）ブチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン]、
ポリ[ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリ[ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリアクリロイル酢酸、ポリメタクロイル酢酸、
ポリ[ｔｅｒｔ−ブチルアクロイルアセテート]、
ポリ[ｔｅｒｔ−ブチルメタクロイルアセテート]
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）マレイミド／スチレン共重合体など
【００３１】
（３）−ｂ、高分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
ポリ｛ｐ−［（１、１−ジメチル−２−シアノ）エトキシカルボニルオキシ］スチレン｝
、
ポリ｛ｐ−[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エトキシカルボニルオキシ]
スチレン｝、
ポリ｛ｐ−[（１、１−ジメチル−２−メトキシカルボニル）エトキシカルボニルオキシ]
スチレン｝、
ポリ[ｐ−（２−シアノエトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリ[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エチルメタクリレート]、
ポリ[（１、１−ジメチル−２−シアノ）エチルメタクリレート]、
【００３２】
分解性官能基を導入したポリエーテル、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリ
ビニルアルコール、デンドリマーなどの有機系高分子化合物も酸分解性又は塩基分解性重
合体系化合物として用いることができる。さらには、シリカなどの無機系化合物に分解性
官能基を導入した酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物も用いることができる。なかで
も、分解性官能基は、カルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる
官能基を有する化合物群に導入されることが好ましい。
【００３３】
発泡体の耐水性をあげるために、少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物に
分解発泡性官能基を導入した化合物を用いることもできる。疎水性官能基は、主に脂肪族
基、脂肪環族基、芳香族基、ハロゲン基、ニトリル基からなる群の中から選ばれることが
好ましい。
ただし、分解発泡性官能基は、主にカルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の
中から選ばれる親水性官能基に導入されやすいので、分解性化合物としては、親水性官能
基に分解発泡性官能基を導入した分解性ユニットと、疎水性官能基を含む疎水性ユニット
からなる複合化合物が好ましい。特に、ビニル系の共重合体化合物であることが好ましい
。
疎水性ユニットとしては、メチル（メタ）アクリレートやエチル（メタ）アクリレート
などの脂肪族（メタ）アクリレート群、スチレン、メチルスチレン、ビニルナフタレンな
どの芳香族ビニル化合物群、（メタ）アクリロニトリル化合物群、酢酸ビニル化合物群、
塩化ビニル化合物群などが挙げられる。
【００３４】
分解性ユニットと疎水性ユニットの複合化合物からなる分解性化合物の具体例を以下に
示す。
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／メチルアクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／メチルメタクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／メチルアクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタアクリレート／メチルメタクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／エチルメタクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／エチルアクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／エチルメタクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／スチレン共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／塩化ビニル共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／アクリロニトリル共重合体、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン／スチレン共重合体。
【００３５】
また、分解性化合物中の分解性ユニットおよび疎水性ユニットは、一種単独でまたは２
種以上併用することができる。共重合の形式は、ランダム共重合、ブロック共重合、グラ
フト共重合などの任意の形式をとることができる。また、疎水性ユニットの共重合比は、
分解性化合物全量に対して５〜９５質量％であることが好ましく、分解性化合物の分解発
泡性および発泡構造の環境保存性を勘案すると、２０〜８０質量％がより好ましい。上記
分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。上記分
解性化合物は、分解発泡性官能基が分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、少なくと
も一種類以上の疎水性官能基を含む化合物となる。
【００３６】
発泡体の耐水性をあげるために、発泡性組成物として、温度３０℃相対湿度６０％の環
境雰囲気下においてＪＩＳＫ７２０９Ｄ法で測定した平衡吸水率が１０％未満の低吸湿性
化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物を用いることもできる。分解発泡性官能基を
導入しやすい構造を有する低吸湿性化合物としては、例えばｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ
−ヒドロキシスチレンなどが挙げられる。したがって、分解性化合物は、ｐ−（ｔｅｒｔ
−ブトキシ）スチレン、ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルオキシ）スチレン、ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン
が挙げられる。これらは硬化性モノマーでも一種類以上を混合した重合体でもよい。
【００３７】
また、吸水率が１０％以上の高吸湿性化合物と、吸水率１０％未満の低吸湿性化合物と
の組合わせからなる複合化合物に分解発泡性官能基を導入してもよい。ただし、複合化合
物は、適切な組合わせにより１０％未満の吸水率を有していることが好ましい。例えば、
高吸湿性化合物であるアクリル酸と低吸湿性化合物であるｐ−ヒドロキシスチレンの共重
合体（複合化合物）は、その共重合比がアクリル酸／ｐ−ヒドロキシスチレン＝９０／１
０〜０／１００であることが好ましい。
【００３８】
高吸湿性化合物と低吸湿性化合物との組合わせからなる分解性化合物の具体的な例を以
下に示す。
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン
共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン
共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレ
ン共重合体。
【００３９】
さらには、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリ
ロニトリル、フェノール樹脂、デンドリマーからなる群の中から選ばれた低吸湿性高分子
材料などに分解発泡性官能基を導入してもよい。上記分解性化合物は、単独で用いてもよ
いし、異なる２種以上を混合併用してもよい。上記分解性化合物は、分解発泡性官能基が
分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、低吸湿性化合物となる。
【００４０】
（その他の樹脂）
組成物（Ｃ）には、酸発生剤または塩基発生剤と分解発泡性化合物以外に、成形体の骨
格となる一般の樹脂を混合する必要がある場合がある。即ち、非硬化性低分子系の分解性
化合物群を用いる場合は単独では成形できないので、下記の一般に用いられる樹脂と混合
して用いる必要がある。一般の樹脂は、分解性化合物と混合した時に相溶でも非相溶でも
どちらでもかまわない。
一般の樹脂としてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポ
リエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン、ポリ
プロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系複合樹脂、ポリスチレン樹脂、
ポリブタジエン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、アクリロイル樹脂、ＡＢＳ樹脂、フッ素樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリサルホン樹脂、塩化ビニル樹脂、メチル
セルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、でんぷん、ポリビニル
アルコール、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂
、エポキシ樹脂、及びシリコーン樹脂など一般に用いられる樹脂から適宜選択して用いる
ことができる。また、分解性化合物から分解してガス化する低沸点揮発性物質を成形体内
に内在させることを目的として、ガスバリヤ性樹脂を用いることもできる。ガスバリヤ性
樹脂は、混合しても被覆または積層してもよく、低沸点揮発性物質を成形体内により内在
させるには、成形体表面に被覆または積層するのが好ましい。分解性発泡化合物のうち、
硬化性低分子系の分解性化合物群および高分子系の分解性化合物群は単独で用いてもよい
し、上記の一般に用いられる樹脂と混合して用いてもよい。
【００４１】
上記一般の樹脂を用いる場合でも、そうでない場合でも、放射線エネルギーで硬化する
他の不飽和有機化合物を併用することができる。併用化合物の例としては、
（１）脂肪族、脂環族、芳香族の１〜６価のアルコール及びポリアルキレングリコールの
（メタ）アクリレート類
（２）脂肪族、脂環族、芳香族の１〜６価のアルコールにアルキレンオキサイドを付加さ
せて得られた化合物の（メタ）アクリレート類
（３）ポリ（メタ）アクリロイルアルキルリン酸エステル類
（４）多塩基酸とポリオールと（メタ）アクリル酸との反応生成物
（５）イソシアネート、ポリオール、（メタ）アクリル酸の反応生成物
（６）エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸の反応生成物
（７）エポキシ化合物、ポリオール、（メタ）アクリル酸の反応生成物
（８）メラミンと（メタ）アクリル酸の反応生成物
等を挙げることができる。
【００４２】
併用できる化合物の中で、硬化性モノマーや樹脂は、発泡体の強度や耐熱性といった物
性の向上効果や発泡性の制御効果などが期待できる。また分解性化合物および併用化合物
に硬化性モノマーを用いれば、無溶剤成形ができ、環境負荷の少ない製造方法を提供でき
る。たとえば特開平８−１７２５７号公報や、特開平９−１０２２３０号公報ではこのよ
うな材料が用いられている。
併用化合物の具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ラウリル
アクリレート、ステアリルアクリレート、 ２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアク
リレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート
、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル
アクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロ
ヘキシルアクリレート、イソボロニルアクリレート、イソボロニルメタクリレート、ベン
ジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールアク
リレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリプロピレン
グリコールアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−エ
チルヘキシルカルビトールアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリ
レート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸ダイマー、２−ヒドロ
キシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、アクリル酸−９，１０−エポキシ化オレイ
ル、マレイン酸エチレングリコールモノアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチレ
ンアクリレート、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のア
クリレート、３−メチル−５，５−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付
加物のアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシ化
リン酸アクリレート、エタンジオールジアクリレート、エタンジオールジメタクリレート
、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート
、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレー
ト、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート
、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリ
プロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−
ブチル−２−エチルプロパンジオールジアクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノ
ールＡジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポ
リエチレンオキシド変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、プロピレンオキシド変性
ビスフェノールＡジアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジアク
リレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、ペンタエリスリトール
ジアクリレートモノステアレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアク
リル酸付加物、ポリオキシエチレンエピクロロヒドリン変性ビスフェノールＡジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロール
プロパントリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアク
リレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリプロ
ピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート、エチレンオキ
シド変性グリセロールトリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性グリセロールトリア
クリレート、プロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリプロピレンオ
キシド変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリカプロ
ラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることが出来るが、こ
れらに限られるものではない。
【００４３】
さらに、前記の併用活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物の一部または全部として
、分子鎖末端に（メタ）アクリロイル基を有する分子量が４００〜５０００程度の活性エ
ネルギー線硬化性樹脂を組み合わせることもできる。このような硬化性樹脂として、例え
ば、ポリウレタン変性ポリエーテルポリ（メタ）アクリレートやポリウレタン変性ポリエ
ステルポリ（メタ）アクリレートなどのポリウレタンポリ（メタ）アクリレートポリマー
類を用いることが好ましい。
【００４４】
（添加物）
本発明に使用する発泡性組成物は、必要により、酸発生剤又は塩基発生剤と分解性化合
物以外の添加物を含ませることができる。添加物としは、無機系または有機系化合物充填
剤、並びに各種界面活性剤などの分散剤、多価イソシアネート化合物、エポキシ化合物、
有機金属化合物などの反応性化合物および酸化防止剤、シリコーンオイルや加工助剤、紫
外線吸収剤、蛍光増白剤、スリップ防止剤、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、
光安定剤、滑剤、軟化剤、有色染料、その他の安定剤等を一種類以上含ませてもよい。添
加剤を用いることにより、成形性や発泡性、光学的物性（とくに白色顔料の場合）、電気
および磁気的特性（とくにカーボン等の導電性粒子の場合）などの向上が期待できる。
【００４５】
無機系化合物充填剤の具体例としては、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニ
ウム、酸化珪素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、珪酸カルシウム、
水酸化アルミニウム、クレー、タルク、シリカ等の顔料、ステアリン酸亜鉛のような金属
石鹸、並びに各種界面活性剤などの分散剤、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、カオリ
ン、珪酸白土、珪藻土、酸化亜鉛、酸化珪素、水酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸
化マグネシウム、アルミナ、マイカ、アスベスト粉、ガラス粉、シラスバルーン、ゼオラ
イトなどが遂げられる。
有機系化合物充填剤としては、例えば、木粉、パルプ粉などのセルロース系粉末、ポリ
マービーズなどが挙げられる。ポリマービーズとしては、例えばアクリル樹脂、スチレン
樹脂又はセルロース誘導体、ポリビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリウレ
タン及びポリカーボネート、架橋用モノマーなどから製造されたものが使用できる。
これらの充填剤は、１種単独で用いることができるが、２種類以上混合したものであっ
てもよい。
【００４６】
紫外線吸収剤の具体例としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、またはベンゾトリ
アゾール系の紫外線吸収剤から選ばれる。サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニル
サリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレー
トなどが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オ
クトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが
挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５
‘−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００４７】
酸化防止剤の具体例としては、モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノ
ール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などが挙げられる。光安定剤の
代表的なものとしては、ヒンダードアミン系化合物が挙げられる。
【００４８】
軟化剤は、成形性または成形体の加工性を向上させる目的で使用でき、具体的には、エ
ステル化合物類、アミド化合物類、側鎖を有する炭化水素重合体類、鉱油類、流動パラフ
ィン類、ワックス類などが挙げられる。軟化剤として用いるエステル化合物としては、ア
ルコールとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリエステルであれば特に制限はなく、
ヒドロキシル基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、エステル基の形で
封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリルステアレート、ソルビタントリステ
アレート、エポキシ大豆油、精製ひまし油、硬化ひまし油、脱水ひまし油、エポキシ大豆
油、極度硬化油、トリメリット酸トリオクチル、エチレングリコールジオクタノエート、
ペンタエリスリトールテトラオクタノエートなどが挙げられる。アミド化合物としては、
アミンとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリアミド化合物であれば特に制限はなく
、アミノ基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、アミド基の形で封鎖さ
れた化合物でもよい。具体的には、ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、ヘキサメチ
レンビスステアリン酸アミド、トリメチレンビスオクチル酸アミド、ヘキサメチレンビス
ヒドロキシステアリン酸アミド、トリオクタトリメリット酸アミド、ジステアリル尿素、
ブチレンビスステアリン酸アミド、キシリレンビスステアリン酸アミド、ジステアリルア
ジピン酸アミド、ジステアリルフタル酸アミド、ジステアリルオクタデカ二酸アミド、イ
プシロンカプロラクタム、およびこれらの誘導体が挙げられる。
【００４９】
側鎖を有する炭化水素重合体としては、ポリα−オレフィン類で、炭素数４以上の側鎖
を有する通常オリゴマーに分類されるものが好ましい。具体的には、エチレン−プロピレ
ンの共重合体やそのマレイン酸誘導体、イソブチレンの重合体、ブタジエン、イソプレン
のオリゴマーおよびその水添物、１−ヘキセンの重合物、ポリスチレンの重合物およびこ
れらから誘導される誘導体、ヒドロキシポリブタジエンやその水添物、末端ヒドロキシポ
リブタジエン水添物などが挙げられる。  
【００５０】
（光散乱性微粒子）
組成物（Ｃ）等の発泡性組成物には、輝度向上や輝度ムラ抑制のために、補助的に光散
乱性微粒子を添加しても良い。光散乱性微粒子としては、例えば、アクリル系、スチレン
−アクリル系、ポリエチレン系の有機架橋ポリマービーズや、シリコンビーズ、中空粒子
などが挙げられる。また、光散乱微粒子をナノスケールで相分離させてもよく、その場合
、発泡性組成物から形成される気泡の微小化や数密度増加の効果が得られる。
【００５１】
組成物（Ｃ）等の発泡性組成物は、一般的な混練機を用いて調製することができる。例
えば、二本ロール、三本ロール、カウレスデゾルバー、ホモミキサー、サンドグラインダ
ー、プラネタリーミキサー、ボールミル、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザーなど
である。また超音波分散機などを使用することもできる。
【００５２】
＜発泡体の製造方法＞
本発明の光拡散体を構成する発泡体は、上記発泡性組成物に放射線エネルギーおよび熱
エネルギーを付与して発泡させたものである。発泡性組成物から発泡体を製造する製造方
法は、発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形体に放射線エネルギー及び熱エ
ネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備える。
【００５３】
（成形工程）
発泡性組成物の成形工程は、発泡性組成物を所望の形状の成形体に成形する工程である
。成形体の形状としては、シート状物（フィルム状を含む）が好ましい。シート状物にお
いては、支持体を用いない独立のシートであっても支持体上に密着したシート層であって
もよい。
本発明における成形工程は、形状を決定するための工程である。成形工程の段階におけ
る成形体は、固体でなく流動体であってもよい。例えば、特定の型に流し込んだ液状物も
、本発明における成形体に含まれる。
【００５４】
シート状物の成形方法は、特開２００４−２８１２号公報や、特開２００５ー５４１７
６号公報、特開２００５−５５８８３号公報に記載される方法を用いることができる。一
般的には、溶融押出成形や射出成形、塗工成形、プレス成形が好ましい。特に、塗工成形
は、光拡散体自身の薄型化が可能となり、また透光性樹脂支持体の表面上にも容易に積層
できるので好ましい。
また、バッチ式でも連続式でもかまわない。発泡性組成物が溶液の場合は、溶剤の乾燥
処理を加えてもよい。また、複数の成形体を積層することも可能である。
【００５５】
塗工成形の場合、支持体に塗工ヘッドを用いて発泡性組成物を塗工した後、発泡性組成
物が溶剤等で希釈された溶液ならば、乾燥器にて溶剤分を除去し、支持体上に発泡性組成
物からなるシート層を得る。このとき、支持体からシート層を剥離することで、発泡性組
成物からなる単独のシート状物を得ることもできる。塗工方法には、バーコート法、エア
ードクターコート法、ブレードコート法、スクイズコート法、エアーナイフコート法、ロ
ールコート法、グラビアコート法、トランスファーコート法、コンマコート法、スムージ
ングコート法、マイクログラビアコート法、リバースロールコート法、マルチロールコー
ト法、ディップコート法、ロッドコート法、キスコート法、ゲートロールコート法、落下
カーテンコート法、スライドコート法、ファウンテンコート法、およびスリットダイコー
ト法などがあげられる。
【００５６】
支持体の具体例としては、紙、合成紙、プラスチック樹脂シート、金属シート、金属蒸
着シート等が挙げられ、これらは単独で用いられてもよく、或は、互いに積層されていて
もよい。プラスチック樹脂シートは、例えば、ポリスチレン樹脂シート、ポリエチレン、
ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂シート、並びにポリエチレンテレフタレートな
どのポリエステル系樹脂シート等の汎用プラスチックシートやポリイミド樹脂シート、Ａ
ＢＳ樹脂シート、ポリカーボネート樹脂シート等のエンジニアリングプラスチックシート
などが挙げられ、また金属シートを構成する金属としては、アルミニウムおよび銅などが
挙げられる。金属蒸着シートとしては、アルミ蒸着シート・金蒸着シート・銀蒸着シート
などが挙げられる。このとき支持体としては、透光性支持体であることが好ましく、さら
には透光性樹脂シートであることが好ましい。透光性の光透過特性は、使用により適切に
調整されたものであれば限定はされないが、可視光領域での光透過率で９０％以上である
ことが好ましい。
また、光反射シートや導光シート（あるいは導光板）、プリズムシートのような光学機
能シートを支持体とすれば、発泡体からなる光拡散部とこれらの機能性シートとの一体化
を容易に行うことができる。
【００５７】
押出成形の場合、スクリュー状の押出軸を用いた一般の押出成形法、ピストン状押出軸
を用いたラム押出成形法などがあげられる。例えば、押出成形機から押出された発泡性組
成物はダイから押出されロールなどを介してシート状物を得ることができる。
【００５８】
発泡性組成物は、組成によって、例えば１５０℃以上の加熱により分解してしまう場合
もある。そのため、発泡工程の前に正味の発泡性能を失わないよう留意する必要がある。
例えば、押出成形において、樹脂の溶融粘度まで加熱してしまうと発泡性能が損なわれ
る場合、塗工成形と同様に溶媒を用いて発泡性組成物の溶液を調整し、常温で成形する溶
液キャスト法のような方法をとることもできる。
【００５９】
（発泡工程）
発泡工程は、成形体に放射線エネルギーと熱エネルギーとを付与して発泡させる工程で
ある。発泡工程は、成形体に放射線を照射する放射線照射工程と、成形体を加熱する加熱
工程とを含み、微細な気泡のみを作るときには、放射線照射工程後に加熱工程が行われる
ことが好ましい。放射線照射工程と加熱工程とを順次行うことにより、安定した発泡体が
形成できる。これは、組成物（ｃ）の発泡機構が、放射線により酸又は塩基を発生させ、
その酸又は塩基と加熱とにより分解発泡性化合物が分解し発泡するという機構であるため
である。組成物（ｃ）は比較的低い温度で気泡核を多数発生させ、更に温度を上げて気泡
を成長させると微細な気泡が均一にできる。しかし、初めから高温にしておきそこに放射
線を当てると、大きな気泡ができてしまう。
なお、各工程は、連続的に行っても不連続的に行ってもよい。
【００６０】
（放射線照射工程）
放射線照射工程で使用する放射線としては、電子線、紫外線、可視光線、γ線等の電離
性放射線などが好ましい。これらの中では電子線又は紫外線を用いることが特に好ましい
。
【００６１】
電子線を照射する場合は、充分な透過力を得るために、加速電圧が３０〜１０００ｋＶ
、より好ましくは３０〜３００ｋＶである電子線加速器を用い、ワンパスの吸収線量を０
.５〜２０Ｍｒａｄにコントロールすることが好ましい（１ｒａｄ＝０．０１Ｇｙ）。加
速電圧、あるいは電子線照射量が上記範囲より低いと、電子線の透過力が不充分になり、
成形体の内部まで充分に透過することができない。また、この範囲より大きすぎると、エ
ネルギー効率が悪化するばかりでなく、得られた成形体の強度が不充分になり、それに含
まれる樹脂及び添加剤の分解を生じ、得られる発泡体の品質が不満足なものになることが
ある。
【００６２】
電子線加速器としては、例えば、エレクトロカーテンシステム、スキャンニングタイプ
、ダブルスキャンニングタイプ等を用いることができる。電子線照射に際しては照射雰囲
気の酸素濃度が高いと、酸もしくは塩基の発生、および／または硬化性分解性化合物の硬
化が妨げられることがある。このため照射雰囲気の空気を、窒素、ヘリウム、二酸化炭素
等の不活性ガスにより置換することが好ましい。照射雰囲気の酸素濃度は１０００ｐｐｍ
以下であることが好ましく、さらに安定的な電子線エネルギーを得るため、５００ｐｐｍ
以下に抑制されることがより好ましい。
【００６３】
紫外線を照射する場合は、半導体・フォトレジスト分野や紫外線硬化分野などで一般的
に使用されている紫外線ランプを用いることができる。一般的な紫外線ランプとしては、
例えば、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーターランプ、キセノンショートアークランプ、キ
セノンフラッシュランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中圧水
銀ランプ、ディープＵＶランプ、メタルハライドランプ、希ガス蛍光ランプ、クリプトン
アークランプ、エキシマランプなどがあり、近年では、極短波長（２１４ｎｍにピーク）
を発光するＹ線ランプもある。これらのランプには、オゾン発生の少ないオゾンレスタイ
プもある。これらの紫外線は、散乱光であっても、直進性の高い平行光であってもよい。
【００６４】
気泡分布の位置制御を精度よく行うためには、放射線として平行光を用いることが好ま
しい。紫外線照射には、ＡｒＦエキシマーレーザー、ＫｒＦエキシマーレーザーや、非線
形光学結晶を含む高調波ユニットを介したＹＡＧレーザーなどに挙げられる種々のレーザ
ーや、紫外発光ダイオードを用いることもできる。紫外線ランプやレーザー、紫外発光ダ
イオードの発光波長は、発泡性組成物の発泡性を妨げないものであれば限定はないが、好ましくは、光酸発生剤または光塩基発生剤が酸または塩基を効率よく発生させられる発光波長がよい。すなわち、使用する光酸発生剤または光塩基発生剤の感光波長領域と重なる発光波長が好ましい。さらには、それら発生剤の感光波長領域における極大吸収波長または最大吸収波長と重なる発光波長が、発生効率が高くなるためより好ましい。紫外線のエネルギー照射強度は、発泡性組成物によって適宜決められる。
【００６５】
種々の水銀ランプやメタルハライドランプなどに代表される照射強度が高い紫外線ラン
プを使用する場合は、生産性を高めることができ、その照射強度（ランプ出力）は３０Ｗ
／ｃｍ以上が好ましい。紫外線の積算照射光量（Ｊ／ｃｍ2）は、エネルギー照射強度に
照射時間を積算したものであり、発泡性組成物および所望の気泡分布によって適宜決めら
れる。酸発生剤や塩基発生剤の吸光係数に応じて設定することもある。安定かつ連続的に
製造する上では、１.０ｍＪ／ｃｍ2〜２０Ｊ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
紫外線ランプを使用する場合は、照射強度が高いため、照射時間を短縮することができ
る。エキシマーランプやエキシマーレーザーを使用する場合は、その照射強度は弱いが、
ほぼ単一光に近いため、発光波長が発生剤の感光波長に最適化したものであれば、より高
い発生効率および発泡性が可能となる。照射光量を多くした場合、紫外線ランプによって
は熱の発生が発泡性を妨げる場合がある。そのときは、コールドミラーなどの冷却処置を
行なうことができる。
【００６６】
（加熱工程）
加熱工程で用いることのできる加熱器に特に制限はないが、接触加熱、誘導加熱、抵
抗加熱、誘電加熱（およびマイクロ波加熱）、赤外線加熱により加熱ができるもの等が例
示できる。具体的には、放射熱を利用した電気あるいはガス式の赤外線ドライヤーや、電
磁誘導を利用したロールヒーター、油媒を利用したオイルヒーター、電熱ヒーター、およ
びこれらの熱風を利用した熱風ドライヤーなどが挙げられる。成形体に加熱体を接触させ
て加熱する接触加熱では、金属ブロック、金属板、金属ロールなどの加熱体が使用できる
。接触加熱では加圧しながら加熱してもよい。この場合、プレス成形の際に使用する加熱
プレス機を用いることができる。
【００６７】
誘電加熱や赤外線加熱の場合，材料内部を直接加熱する内部加熱方式なので，熱風ドラ
イヤーなどの外部加熱法よりも瞬時に均一な加熱を行うのに好ましい。誘電加熱の場合，
周波数１MHzから300MHz（波長３０ｍ〜１ｍ）の高周波エネルギーを用いる。6MHz〜40MHzの周波数が用いられることが多い。誘電加熱のうち特にマイクロ波加熱では周波数が300MHzから300GHz（波長が１ｍ〜1ｍｍ）のマイクロ波をもちいるが、2450MHz、915MHz（電子レンジと同じ）を使うことが多い。
赤外線加熱の場合，赤外領域の波長０．７６〜１０００μｍの電磁波を利用する。ヒー
タ表面温度および被加熱材料の赤外吸収スペクトルなどから、状況により選択される波長
の最適帯は変化するが、好ましくは１．５〜２５μｍ、さらに好ましくは２〜１５μｍの
波長帯を用いることができる。
【００６８】
さらに、一般の熱記録用プリンターに使用されている加熱方式も利用できる。例えば、
電流を流すことで発熱する感熱ヘッドやレーザー熱転写が挙げられ、熱の書き込みによっ
て同パターンの発泡体を得ることができる。高精細や高解像度を得るときは、感熱ヘッド
よりもレーザー熱転写の方が好ましい。
【００６９】
＜不均一発泡＞
本発明に用いる発泡体は、光拡散体としての機能を備えさせるため、気泡占有面積率が
位置によって異なる不均一発泡体である。本発明において気泡占有面積率（％）とは、気
泡密度を評価するための指標であり、発泡体断面の観察画像から画像解析して、最大気泡
径が１μｍ未満の場合は１００μｍ２の断面中、最大気泡径が１μｍ以上５μｍの場合は
２５００μｍ２の断面中、最大気泡径が５μｍ以上の場合は１００００μｍ２の断面中に
、気泡断面が占める面積の割合である。
所望の気泡占有面積率の分布（以下「気泡分布」という場合がある。）は、（ａ）前記
成形体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（ｃ）
前記成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発生剤
の濃度のいずれか１以上を、所定の不均一分布とすることにより得られる。
【００７０】
（放射線エネルギーの不均一化）
成形体に付与する放射線エネルギーを、所定の不均一分布とする手法を説明する。
放射線エネルギーの分布は、電子線または紫外線照射用のフォトマスクの使用により、
照射エネルギー強度を調整することにより制御できる。また、紫外線レーザーや電子線を
用いた描画装置により照射エネルギー分布を与えることもできる。
フォトマスクのパターン種類は、放射線エネルギーの透過性が、連続的に変化する傾斜
パターンや、ある一定間隔で段階的に変化する階調パターン、透過性の有無で区分けされ
た区分パターンなど様々であり、これらは所望の気泡分布パターンに適したものを設計し
使用する。
フォトマスクの材質は、クロムマスクやメタルマスク、銀塩ガラスマスク、銀塩フィル
ム、スクリーンマスクなどが使用できる。ガラスをイオンエッチングしたマスクや、集光
機能を有する平面レンズの干渉縞を電子線描画したマスクなどが利用できる。
また、透明樹脂フイルムに放射線を遮断する物質でパターンを設けたものをマスクとして用いることもできる。透明樹脂フイルムとしてはポリエステルフイルム、ポリアミドフイルム、ポリイミドフイルム、ポリカーボネートフイルム、ポリオレフィンフイルム、アセチルセルロースフイルム、ポリアクリルフイルム、ポリスチレンフイルム、ポリメチルメタアクリレート−スチレンフイルム、ポリシクロオレフィンフイルム、ポリオレフィンフイルムなどを例示することができる。これらのフイルムはそのままでも用いうるが、易接着処理や印刷適性向上を目的とした処理や塗工層を設けたものでも良い。
波長３００ｎｍ以下の紫外線を照射する場合は、フォトマスクの基材は石英ガラスや、ポリプロピレンフイルムなどのポリオレフィンフイルムを使用することが好ましい。
【００７１】
透明樹脂フイルムにパターンを設ける方法としては、クロムマスクのように感光性材料を塗布し、パターン焼付けとエッチングを行なう方法や、印刷による方法があげられる。ことに印刷による方法は、ほとんどの放射線エネルギー遮断物質を用いることが可能であり、また短時間で多量のマスクを生産することができるので好ましい。放射線エネルギーが紫外線である場合には、通常のシアン、イエロー、マゼンタ、ブラックの印刷用インクを用いることができ、紫外線吸収性を有している場合には、透明の印刷用インクでも構わない。また、金色や銀色などの所謂特色インクでも良く、紫外線硬化型インクも好ましい。印刷の方法に制限はなく、凸版印刷（フレキソ印刷を含む）、凹版印刷、平板印刷（オフセット印刷を含む）、孔版印刷（スクリーン印刷を含む）、版なし印刷が例示される。版なし印刷とは基材上に直接パターンを設ける方式を指し、近年発達したインクジェット印刷や、乾式又は湿式トナーを用いる電子写真方式などが知られている。
【００７２】
フォトマスクを使用して照射する場合、密着照射、投影照射など方式が採用できる。フ
ォトマスクのパターンを精度良く転写させるためには、照射する光が均一平行光であるこ
とが好ましいが、拡散光も利用可能である。
平行光を照射するための露光システムとしては、例えば、インテグレーターと放物鏡を
利用した光学系、フレネルレンズを利用した光学系、ハニカムボードと拡散板を利用した
光学系などが挙げられる（http://www.kuranami.co.jp/toku_guide01.htm参照）。高い均一性を得るには、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系が一般的に好ましく、この光学系に用いる光源としては、ショートアークランプが好ましい。ショートアークランプ
には、メタルハライドランプや超高圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、ナトリウムラン
プ、Ｙ線ランプが挙げられる。発泡性組成物からなる成形体にフォトマスクを密着させた
後、紫外線の平行光を照射して加熱発泡することで、数μｍ幅のライン＆スペースパター
ンをもつ部分発泡が得られる。そのときのエッジも鮮明に転写することができる。また、
干渉縞を発生させた放射線を照射する方法も可能である。
【００７３】
（熱エネルギーの不均一化）
成形体に付与する熱エネルギーを、所定の不均一分布とするためには、加熱工程におい
て、熱エネルギーの強度分布が生じるように加熱処理を施す。具体的には、加熱温度によ
り制御することが好ましい。例えば、熱記録用プリンターを用いて印加熱エネルギーが所
定のドットパターンとなるように加熱する方法が挙げられる。
【００７４】
（不均一化の分布作成法）  
気泡分布を不均一化させるにあたり、輝度を均一化させるような分布を作成する。分布の作成方法として本発明の光拡散体を組み込む前の状態で輝度分布を測定し、面内座標と輝度との関係を調べる。次にその分布に沿ってなめらかな曲面になるような近似曲面を作成し、近似曲面と輝度分布との差を座標毎に補正するように光拡散体の光散乱性を制御する。
補正の具体的な手法として、気泡密度が面内に均一になるように作成した光拡散体を気泡密度に変えて何点か作成し、面状発光装置に組み込むことによる輝度変化と、気泡密度との関係を分析し、近似曲面に輝度が一致するような気泡密度を面内座標毎に特定して、気泡密度を不均一化させる分布を作成する。
最終的に近似曲面が輝度均一化後の輝度分布となるが、必ずしも近似曲面は平面である必要はなく、用途に応じて光源の大きさのより大きいスケールで部分的に凸部分や凹部分があっても良い。
【００７５】
また、気泡密度と透過・反射率などの実測データの関係を元に、市販の照明設計解析用ソフトウェアを用いてシミュレーションを行い、不均一化の分布を作成しても良い。代表的なソフトウェアとしてはＬｉｇｈｔＴｏｏｌｓ（米ＯＲＡ社製）、ＳＰＥＯＳ（仏ＯＰＴＩＳ社製）、ＳＰＥＣＴＥＲ（ＩＮＴＥＧＲＡ社製）、ＴｒａｃｅＰｒｏ（Ｌａｍｂｄａ  Ｒｅｓｅａｃｈ社製）などがある。
【００７６】
（気泡径）
上記の手法により、気泡分布を制御することができる。この場合、気泡占有面積率で評
価される気泡密度と共に、気泡径も変化することは差し支えない。気泡密度が増加すると
きは気泡径も増加し、気泡密度が減少すると気泡径も減少する傾向にある。
しかし、発泡性組成物の組成を調整すること等により、気泡密度を重点的に変化させる
ことも可能である。たとえば、発泡性組成物のガラス転移点を高めにすることにより、気
泡径を比較的小さく保ったままで、主として気泡密度を変化させることも可能である。ま
た、３次元架橋性の発泡性組成物を用いることにより、気泡径を比較的小さく保ったまま
で、主として気泡密度を変化させることも可能である。すなわち、気泡径と気泡数密度を
発泡性組成物の組成調整から制御することも可能である。
本発明の発泡体における気泡は、２０μｍ以下の気泡径で構成されることが好ましく、
１０μｍ以下の気泡径で構成されることがより好ましい。さらには、液晶表示装置や照明
装置に一般的に使用される光源の波長に近い１μｍ以下の気泡径で構成されることがより
好ましい。２０μｍ以下にすることで、光学機能を十分に発揮させるだけでなく、光拡散
体自身の薄型化も可能となる。
【００７７】
＜光拡散体＞
本発明の光拡散体は少なくとも光拡散部を備え、必要に応じて光反射部、導光部、プリ
ズム部を適宜組み合わせてなる。本発明の光拡散部は、気泡占有面積率が所定の分布パタ
ーンを有している。好ましくは、０．５％以下である低発泡領域と１％以上である高発泡
領域とを有する。その分布パターンに伴って光線反射率あるいは光線透過率を分布させた
光拡散体を得ることができる。具体的には気泡占有面積率が低くなるほど光線反射率は低
く（あるいは光線透過率が高く）なり、気泡占有面積率が高くなるほど光線反射率は高く
（あるいは光線透過率が低く）なる。例えば、直下型バックライトであれば、光拡散体の
光線反射率が光源直上で一番高く、光源直上から遠ざかるにつれて段階的または漸次的に
低くなることが輝度均一化にとって望ましい。そのような光学物性を発泡により付与する
には、気泡占有面積率が光源直上で一番高く、光源直上から遠ざかるにつれて段階的また
は漸次的に低くさせるようにすればよい。
低発泡領域の気泡占有面積率は０％以上０．５％以下が好ましく、より好ましくは０．
０１％以上０．５％以下の気泡占有面積率である。低発泡領域の気泡占有面積率を低くす
れば、光拡散部全体の気泡占有面積率の変化量を大きくすることができるので、光拡散部
から出光する輝度分布をコントロールして輝度均一化することが容易となる。
高発泡領域の気泡占有面積率は、１５％（発泡倍率約１．１倍に相当）以上であること
がより好ましく、３０％（発泡倍率約１．２倍に相当）以上であることがさらに好ましい
。高発泡領域の気泡占有面積率を高くすれば、光拡散部全体の気泡占有面積率の変化量を
大きくすることができるので、導光部から出射する光の分布を充分にコントロールして均
一化することが容易となる。ただし、高発泡領域であっても、６５％（発泡倍率約２倍に
相当）以下の気泡占有面積率を有することが好ましい。これにより、光拡散部の強度を維
持しやすくなる。
【００７８】
低発泡領域と高発泡領域との間には、両領域の間をつなぐように、低発泡領域に隣接す
る側から高発泡領域に隣接する側に向かって気泡占有面積率が漸増する中発泡領域を備え
ていても良い。
【００７９】
本発明の光拡散部は、単一の区域からなり、該区域内で連続する低発泡領域中に、高発
泡領域を非連続の複数のドット状に形成し、更にそのドットの分布を付けることにより不
均一発泡区域を形成しても良い。また、逆に、高発泡領域を連続相とし、低発泡領域のド
ットを形成しても良い。ここで、高発泡領域のドットとは、微細な無数の発泡が一群とな
って一つのドットを形成することを意味している。
また、複数の区域を形成し、区域間で、連続相とドットの密度を変化させることが好ま
しい態様である。この場合でも、高発泡領域あるいは低発泡領域のいずれかを連続相とす
れば良い。
【００８０】
平均値としての気泡占有面積率が高い区域と低い区域が、交互に複数配置されてもよい
。例えば、光源が複数あるような直下型バックライトや、輝線暗線が複数発生しているエ
ッジ型バックライトにおいて有効となる。複数の光源を備えた直下型バックライトは、あ
る一つの光源からもう一方の光源に向かって、高気泡占有面積率の区域、低気泡占有面積
率の区域、高気泡占有面積率の区域と順に配置させることが好ましい。例えば、１区域に
おいて、高発泡領域のドット状部を低発泡領域の連続相に点在させる場合、点在の密度に
より区画内の平均な気泡占有面積率を制御することが可能となるし、また、ドット内の気
泡数あるいは気泡体積を変化させることにより気泡占有面積率を制御することも可能であ
る。なお、気泡占有面積率は、実施例１の（５）に記載する測定法により定められる値で
ある。
【００８１】
また、高発泡領域と低発泡領域を光拡散体の面方向に配置して光拡散機能や光反射率、
光透過率を制御するに当たり、何れか一方が非連続のドットを形成するに際し、最大サイ
ズの非連続ドットの１００００倍の面積以下の区域内で他方が連続相を形成することが好
ましい。連続相を有する区域を形成することにより、一方向への曲げに対する耐久性、外
部からの熱、湿度、振動、など力学的強度、寸法安定性などに優れる光拡散体を構成する
ことが可能である。
また、このような複数の区域を形成することにより、透過率の制御が容易に行えるとと
もに、製造方法、マスクの作成などが比較的簡単になる。
高発泡領域が連続相であり、低発泡領域が不連続相ドットである例として、低発泡領域の
面方向断面形状が円、多角形、不定形などの構造をもち、その周囲を高発泡領域が連続的
に分布する構造があげられる。また、これらのような構造を有する複数の光拡散体を積層
しても良い。
【００８２】
光拡散シートの平面を上から見た俯瞰模式図を例にして、前記気泡、ドット、区域の大
きさ、形状の概略を例示する。
ドットが概略円形、区域が矩形であり、複数の区域が縦横に並ぶ場合、気泡径が0.1〜1
0μｍに対応するドット直径は5〜200μｍ、矩形の短辺長さは0.5〜20ｍｍ、矩形の長辺／
短辺比率は1〜2程度が想定される。
【００８３】
本発明の光拡散体の使用時において、光拡散部の高発泡領域は光源により近い場所もし
くは輝線により近い場所に、低発泡領域は光源から離れたところもしくは暗線により近い
場所に適切に配置される。すなわち、光源に最も近い場所は占有面積率が最大であり、最
も遠い場所で気泡占有面積率が最小になるような配置で使用される。また、微細気泡群か
らなるドット状部が点在するような構成においては、そのドットの数密度は、光源により
近い方が密で、より遠くなるほど疎になるような配置で使用される。
光拡散部における気泡は、０．１〜２０μｍの範囲の気泡径で構成されることが好まし
く、０．１〜１０μｍの範囲の気泡径で構成されることがより好ましい。気泡径を可視光
の波長以下とすることにより、気泡やドット状部を視認されにくくなる。そのため、他の
光拡散体を併用をしなくてもよくなる。
光拡散部における具体的な気泡分布は、光源もしくは輝線暗線の形状や位置、光拡散体
の面積などに関するパラメーターを設定して、幾何光学やＭｉｅ散乱、多重散乱を考慮し
た光学シミュレーションソフトや光線追跡法などを駆使することで最適化することができ
る。
【００８４】
本発明の光反射部は、気泡占有面積率が１５％以上、好ましくは３０％以上である。光
反射部の気泡占有面積率を高くすれば、光線反射率を高くすることができる。ただし、光
反射部であっても、６５％以下の気泡占有面積率を有することが好ましい。これにより、
光反射部の強度を維持しやすくなる。
光反射部の気泡分布は、光反射むらを防ぐため均一であることが好ましい。また、光反
射部における気泡は、０．１〜１０μｍの範囲の気泡径で構成されることが好ましく、０
．２〜１μｍの範囲の気泡径で構成されることがより好ましい。
気泡占有面積率が３０〜６５％、気泡径が０．２〜１μｍの範囲の場合、５０μｍ以下
の厚みで、全光線反射率を８０％以上とすることが可能となる。
【００８５】
本発明のプリズム部は、プリズム機能を奏するように、一方の面にＶ溝が刻まれた層と
して構成される。プリズム部には、気泡は不要であり、一般の樹脂で形成される。ただし
、発泡性組成物を発泡させずに用いることも可能である。
【００８６】
本発明の光拡散部と上記光反射部、プリズム部とは隣接してもよいし、他の機能性フィ
ルムを間に挟む形でも良い。機能性フィルムの例としては、透明性の高い透明フィルムが
好ましく、それ以外に液晶用バックライトなどに使用されている光拡散フィルム、輝度上
昇フィルム（例えば３Ｍ社製ＢＥＦ、ＤＢＥＦシートなど）なども使用できる。
【００８７】
以下、図面を参照しつつ、本発明の導光体の実施形態について説明する。ただし、本発
明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００８８】
図１は、本発明の第1実施形態（光拡散体）の一例を示す図である。この例では光拡散
体は面方向に矩形区域１、２、３、４によって形成されており、それぞれの区域内で低発
泡領域５が非連続であり、高発泡領域６が連続となっている。高発泡領域６は、マトリク
ス内に気泡が多数形成された発泡体からなり、光源７に近い中央位置から遠ざかる端面方
向にかけて気泡占有面積率が漸減するような気泡分布パターンとなっている。すなわち、
端面近傍が高透過率区域４、中央位置近傍が低透過率区域１、その間が区域２、３とされ
ている。なお、中央から端面にかけて気泡占有面積率と共に気泡径も漸減していてもよい
。
本実施形態の光拡散体は、かかる気泡分布パターンを備えることにより、入射面８に対
して不均一な輝度分布を持つ偏った入射光を、出射面９から略均一な光として出射される
ようになっている。
【００８９】
図２は、高発泡領域が連続であり、低発泡領域が非連続である領域の平面図と断面図の
拡大図である。高発泡領域中には気泡が高密度に含まれている。
図３は、逆に低発泡領域が連続で、高発泡領域が非連続である領域の平面図と断面図の
拡大図である。
【００９０】
図４は、本発明の第２実施形態（光拡散体）を示す断面図である。本実施形態の光拡散体も光拡散部のみで構成されているが、光拡散部は、発泡部と透明樹脂１０の積層体とされている。このようにすると、発泡体が極めて薄い場合に、透明樹脂１０が支持体として機能する。
発泡体は第１実施形態の光拡散部とほぼ同等である。すなわち、マトリクス内に気泡が
多数形成された発泡体からなり、光源７に近い中央位置から遠ざかる端面方向にかけて気
泡占有面積率が漸減するような気泡分布パターンとなっている。一方の透明樹脂１０は気
泡を有しない。透明樹脂１０の材質としては、例えばポリメチルメタクリレートなどのア
クリル樹脂やメタクリル樹脂、ノルボルネンなどの環状オレフィン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、三酢酸セルロールなどのセルロース類、スチレン系樹脂およびこれらの材料を２
種以上ブレンドした混合樹脂が好ましい。
本実施形態では、端面近傍が高透過率区域４、中央位置近傍が高透過率区域１であり、
区域１と区域４との間が区域２、３とされている。なお、第１実施形態の光拡散部と同様
に、光源７に近い中央位置から遠ざかる端面方向にかけて、気泡占有面積率と共に気泡径
も漸減していてもよい。
本実施形態の光拡散体は、かかる気泡分布パターンを備えることにより、入射面８に対
して不均一な輝度分布を持つ偏った入射光を、出射面９（透明樹脂１０の上面）全体から
、略均一な光が出射されるようになっている。
【００９１】
本発明の面発光装置における直下型バックライトでは、上記本発明の光拡散体が、当該
光拡散体の直下に配置された光源から入射される不均一な輝度分布を持つ偏った入射光を
輝度均一化して出射させるため、輝度均一性の高い面発光が得られる。
また、本発明の面発光装置におけるエッジ型バックライトでは、上記本発明の光散乱体
が、エッジに配置された光源近傍での輝度むら（目玉現象）や、導光部から出射された時
点で発生する輝線暗線の輝度むらを、最終的に輝度均一化して出射させるため、輝度均一
性の高い面発光が得られる。
【００９２】
面発光装置に用いられる光源２００としては、冷陰極管などの線光源や、発光ダイオード（ＬＥＤ）などの点光源を適宜採用できる。光源は１灯でも複数灯でもよく、複数の場合は各種異なる光源を組合わせたものでもよい。
【実施例】
【００９３】
＜実施例１＞
・高発泡領域が連続相となる光拡散体
（１） 発泡性組成物のシート化
分解性化合物であるｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（６０重量％）とメチルメタクリレ
ート（３０重量％）とメチルメタクリル酸（１０重量％）の共重合体１００部に対して、
ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパ
ーフルオロブタンスルホネート（ＢＢＩ−１０９、ミドリ化学製）３部を混合し、それら
を溶解させた酢酸エチル溶液を調製した（固形分含有量：２５％）。この溶液を、シリコ
ンＰＥＴシート（ルミラーＳＰ−ＰＥＴ−０１−７５ＢＵ、パナック製）のシリコン処理
表面上に塗布厚２００μｍのアプリケーターバー（ドクターブレードＴＤ型、ＹＯＳＨＩ
ＭＩＴＳＵ  ＳＥＩＫＩ製）を用いてコーティングした後、温度１１０℃の恒温乾燥機内
で溶媒を蒸発除去し、無色透明な塗布層を得た。この塗布層を、シリコンＰＥＴシートか
ら剥離させて、厚さ３５μｍの発泡性シートを得た。
【００９４】
（２）平板成形
前記工程（１）で作成した発泡性シートを、縦５０ｍｍ・横５０ｍｍの寸法に切り出し
、それを３枚重ねて、図５の（ａ）、（ｂ）に示すように、表面平滑な平押し金型（寸法
；縦５０ｍｍ・横３５ｍｍ）に挟み、ハンドプレス機（ＴＯＹＯＳＥＩＫＩ製  Ｍｉｎｉ
ＴＥＳＴ  ＰＲＥＳＳ−１０）を用いて加熱プレスした（プレス圧力；６ＭＰａ、プレ
ス温度；１５０℃３分）。その後、図５の（ｃ）に示すように、常圧に戻して、４０℃ま
で空冷したところで、金型を取り去り、無色透明な発泡性シートを得た。
【００９５】
（３）紫外線照射
前記工程（２）で得られた発泡性シートの上面に、図５の（ｄ）に示すように、石英ガ
ラス製のフォトマスク（寸法；縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ）を全面覆うように被せ、その上
から紫外線照射した。フォトマスクは、１００μｍ径の光遮蔽性ドットの密度を制御する
ことにより、１０ｍｍ角の矩形領域毎に中央位置から対向する端面に向かう２方向に沿っ
てその光線透過率を各々４５％から０％（測定波長２５４ｎｍ）まで段階的に漸減する傾
斜パターンを用いた。即ち、図４のようなパターンを形成した。紫外線は、メタルハライ
ドランプ（紫外線硬化用マルチメタルランプＭ０３−Ｌ３１、アイグラフィック（株）製
）を光源として用い、照射線量２０００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射した。照射後にフ
ォトマスクを取り去り、工程（１）と同様の無色透明な発泡性シートを得た。
【００９６】
（４）加熱発泡
前記工程（３）で紫外線照射した発泡性シートを、図５の（ｅ）に示すように、平押し
金型に挟みハンドプレス機で加熱プレスしながら発泡させた（プレス圧力；４ＭＰａ、プ
レス温度；１３０℃２分）。その後、図５の（ｆ）に示すように、加圧したまま直ちに金
型内部に冷却水を循環させて５０℃にまで急冷した。続いて、図５の（ｇ）に示すように
、常圧に戻し４０℃まで空冷したところで、金型を取り去り、図５の（ｈ）に示すように
、発泡体からなる光拡散体を得た。得られた光拡散体は、厚さが均一な平板シート状であ
り、その厚さは１００μｍであった。厚さ測定はマイクロメーター（Ｍｉｔｕｔｏｙｏ製
ＭＣＤ−２５Ｍ）を用いた。また、このシート状光拡散体、その光線透過性が中央位置
から対向する端面に向かう２方向に沿って各々漸減する傾斜パターンとなった。
【００９７】
（５）発泡構造の評価
前記工程（３）で得られたシート状光拡散体の気泡径（気泡直径の平均値）および気泡
占有面積率（最大気泡径が１μｍ未満の場合は１００μｍ２の断面中、最大気泡径が１μ
ｍ以上５μｍ未満の場合は２５００μｍ２の断面中、最大気泡径が５μｍ以上の場合は１
００００μｍ２の断面中に、気泡断面が占める面積の割合）を、走査電子顕微鏡による断
面の観察画像から算出した。
断面の観察画像は、液体窒素中に浸したシート状光拡散体を、光線反射性が傾斜変化す
る方向（中央位置から対向する端面に向かう２方向）に沿って凍結割断し、その割断面を
金属蒸着処理した後、走査型電子顕微鏡（Ｓ−５１０、日立製作所製、拡大倍率５０００
倍）にて観察することにより得た。そして、観察画像中の気泡とマトリックスとを２値化
処理した後、画像解析装置（イメージアナライザーV１０、TOYOBO製）を用いて気泡径および気泡占有面積率を算出した。
得られたシート状光拡散体は、光源に近い中央位置から遠ざかる端面方向にかけて連続
相部分が漸減する傾斜分布となっていた。連続相部分における最大気泡径は０.４μｍ、
気泡占有面積率は５２％（光線透過率で約１０％）で連続相内ではほぼ均一であった。ド
ット部分には気泡は見られなかったことから、光拡散体全体としての気泡占有面積率は０
％から５２％まで変化していた。
【００９８】
（６）面発光装置と発光評価
前記工程（４）で得られたシート状光拡散体を、冷陰極管が中央に１灯配置された直方
形箱型のランプハウス（縦５０ｍｍ・横５０ｍｍ・厚さ１０ｍｍ）の上面に隙間ができな
いように配置することで、直下型バックライトとなる面発光装置を得た。このとき、シー
ト状光拡散体の配置は、冷陰極管の長軸方向とシート状光拡散体の光線反射性が傾斜変化
する方向が直交するように合わせた。すなわち光源近傍から遠ざかる方向に沿って、光線
反射率が低く（気泡占有面積率が低く）なるようにシート状光拡散体を配置した。輝度均
一性は、以下の式より算出した輝度ばらつきから評価した。
輝度ばらつきの大きさ（％）＝（輝度最大値−輝度最小値）／輝度平均値×１００
良好○：ばらつきが１０％未満
不良×：ばらつきが１０％以上
輝度最大値、輝度最小値、輝度平均値は、面発光装置の出射面において５×５の合計２５
等分の区画を想定し、その各区画について測定した輝度値（冷陰極管が安定発光している
ときの輝度値）をもとにした。発光利用効率は、前記ランプハウスの上面に隙間なくＰＭ
ＭＡ透明シートを設置したときの輝度平均値に対して、前記の光拡散体を設置したときの
輝度平均値の比から評価した。
良好○：７０％以上
不良×：７０％未満
得られた面発光装置の厚さは全体で２０ｍｍ程度であり、輝度均一性、発光利用効率とも
に良好であった。さらに、各区画内における輝度分布のむらについても目視で確認した。
【００９９】
（７）屈曲試験
得られた光拡散体のフレキシビリティを評価するため、直径の異なる円柱状の棒に巻き
付け、クラックや欠陥などが無いかを光学顕微鏡で観察した。評価は欠陥が生じない最小
の曲率半径で比較し、値が小さい方がフレキシビリティが高い。
【０１００】
＜実施例２＞
・低発泡領域が連続相となる光拡散体
実施例１の工程（１）において、分解性化合物であるｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（
６０重量％）とメチルメタクリレート（３０重量％）とメチルメタクリル酸（１０重量％
）の共重合体１００部に代わり、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート（６２重量％）とメチ
ルメタクリレート（３８重量％）の共重合体１００部を用い、かつ、塗布厚２００μｍの
アプリケーターバーの変わりに塗布厚３００μｍのアプリケーターバーを用いることで、
厚さ５０μｍの発泡性シートを得た。この得られた発泡性シートに、実施例１の工程（３
）においてドットパターンのフォトマスクを介して紫外線照射した（照射線量２００ｍＪ
／ｃｍ2）。このとき、フォトマスクは１００μｍ径の光透過性ドットの密度を制御する
ことにより、１０ｍｍ角の矩形領域毎に中央位置から対向する端面に向かう２方向に沿っ
て光線透過率を各々４５％から０％（測定波長２５４ｎｍ）まで段階的に漸減するドット
パターンを用いた。また、光照射で使用する紫外線はＤｅｅｐ−ＵＶ光源の平行光を用い
た。紫外線照射後に、実施例１の工程（４）を同様に行うことで、シート状光拡散体を得
た。シート状光拡散体の厚さは５０μｍであった。得られたシート状光拡散体の気泡径お
よび気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、発泡体からなる部分について
は、光源に近い中央位置から遠ざかる端面方向にかけてドット状部が漸減する傾斜分布と
なっていた。ドット状部における最大気泡径は０.４μｍ、気泡占有面積率は５２％（光
線反射率で約９０％）でドット内ではほぼ均一であった。ドット以外には気泡は見られな
かったことから、光拡散体全体としての気泡占有面積率は０％から５２％まで変化してい
た。得られたシート状光拡散体を備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実施
例1の工程（５）とほぼ同様にして評価したところ、得られた面発光装置の厚さは全体で
２０ｍｍ程度であり、輝度均一性、発光利用効率ともに良好であった。
【０１０１】
＜実施例３＞
・高発泡領域が連続相となる区域と、低発泡領域が連続相となる区域が混在する光拡散体
実施例１の工程（１）において、塗布厚２００μｍのアプリケーターバーの変わりに塗
布厚３００μｍのアプリケーターバーを用いることで、厚さ５０μｍの発泡性シートを得
た。この得られた発泡性シートに、実施例１の工程（３）においてドットパターンのフォ
トマスクを介して紫外線照射した（照射線量２０００ｍＪ／ｃｍ2）。このとき、フォト
マスクの光透過率が２５〜４５％となる部分については１００μｍ径の光透過性ドットの
密度を制御し、０〜２４％となる部分については１００μｍ径の光遮蔽性ドットの密度を
制御して、１０ｍｍ角の矩形領域毎に中央位置から対向する端面に向かう２方向に沿って
各々４５％から０％（測定波長２５４ｎｍ）まで段階的に漸減するドットパターンを用い
た。また、光照射で使用する紫外線はＤｅｅｐ−ＵＶ光源の平行光を用いた。紫外線照射
した後、次に実施例２の工程（４）の加熱プレス時において、発泡性シートと同寸法の透
明樹脂シート（厚さ５０μｍ、樹脂組成はポリメチルメタクリレート）を発泡性シートに
重ね揃えたものを加熱プレスすることで、透明樹脂シート上に光拡散部を密着させたシー
ト状光拡散体を得た。シート状光拡散体の厚さは１００μｍであった。得られたシート状
光拡散体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、高発泡領
域では最大気泡径は０.４μｍ、気泡占有面積率は５２％（光線反射率で約９０％）でほ
ぼ均一であった。低発泡部には気泡は見られず、透明樹脂自体にも気泡がなかったことか
ら、光拡散体全体としての気泡占有面積率は０％から２６％まで変化していた。得られた
シート状光拡散体を備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実施例1の工程（
６）とほぼ同様にして評価した。このとき、シート状光拡散体は、光源側に光拡散部を向
けて、ランプハウスに設置した。得られた面発光装置の厚さは全体で２０ｍｍ程度であり
、輝度均一性、発光利用効率ともに良好であった。
【０１０２】
＜比較例１＞
・拡散剤分散した光拡散体
メタクリル樹脂（三菱レイヨン社製）にシリコーン粒子（東芝シリコーン社、平均粒径
１２μｍ）０．１質量％を均一混合したペレットをＴダイから押出成形することでシート
状光拡散体を得た。シート状光拡散体の厚さは１４５μｍであった。得られたシート状光
拡散体には気泡は存在せず、それを備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実
施例１の工程（６）とほぼ同様にして評価した。その結果、得られた面発光装置の厚さは
全体で２０ｍｍ程度であり、輝度均一性、発光利用効率ともに不良であった。すなわち光
源近傍の中央位置において光源の輝線が目視で見えてしまい、さらにその中央位置から端
面方向にかけて輝度が低くなる現象がおこった。また、得られたシート状光拡散体の光反
射部一体化は、シリコーン粒子を混合するだけでは光反射性が不十分であり一体化は困難
であった。
【０１０３】
＜比較例２＞
・ドット印刷した光拡散体
透明樹脂シート（縦５０ｍｍ・横５０ｍｍ・厚さ１００μｍ、樹脂組成はポリメチルメ
タクリレート）に白色インキ（二酸化チタン、硫酸バリウムが含まれる）でドットパター
ンを印刷（スクリーン印刷）したシート状光拡散体を得た。このとき、ドット径および密
度が、透明樹脂シートの中央位置から対向する端面に向かう２方向に沿って徐々にする漸
減するドットパターンを用いた。ドット径は最小直径でも２００μｍであった。シート状
光拡散体の厚さは１００μｍであった。得られたシート状光拡散体には気泡は存在せず、
それを備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実施例1の工程（６）とほぼ同
様にして評価した。その結果、得られた面発光装置の厚さは全体で２０ｍｍ程度であり、
輝度均一性、発光利用効率ともに良好であった。しかし、印刷したドットの大きさが２０
０μｍ以上と目視できてしまうため、そのドットパターンが視認されてしまい、結局のと
ころこの欠点により不均一な輝度分布を持つ面発光となった。
【０１０４】
＜比較例３＞
・ストライプ状に高発泡領域を形成した光拡散体
実施例１の工程（１）において、分解性化合物であるｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（
６０重量％）とメチルメタクリレート（３０重量％）とメチルメタクリル酸（１０重量％
）の共重合体１００部に代わり、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート（６２重量％）とメチ
ルメタクリレート（３８重量％）の共重合体１００部を用い、かつ、塗布厚２００μｍの
アプリケーターバーの変わりに塗布厚３００μｍのアプリケーターバーを用いることで、
厚さ５０μｍの発泡性シートを得た。この得られた発泡性シートに、実施例１の工程（３
）においてストライプパターンのフォトマスクを介して紫外線照射した（照射線量２００
ｍＪ／ｃｍ2）。このとき、フォトマスクは１００μｍ幅の光透過性ストライプの密度を
制御することにより、中央位置から対向する端面に向かう２方向に沿って光線透過率を各
々４５％から０％（測定波長２５４ｎｍ）まで段階的に漸減するパターンを用いた。また
、光照射で使用する紫外線はＤｅｅｐ−ＵＶ光源の平行光を用いた。紫外線照射後に、実
施例１の工程（４）を同様に行うことで、シート状光拡散体を得た。シート状光拡散体の
厚さは５０μｍであった。得られたシート状光拡散体の気泡径および気泡占有面積率を実
施例１と同様にして求めたところ、発泡体からなる部分については、光源に近い中央位置
から遠ざかる端面方向にかけてストライプ状高発泡部が漸減する傾斜分布となっていた。
高発泡部における最大気泡径は０.４μｍ、気泡占有面積率は５２％（光線反射率で約９
０％）でストライプ内ではほぼ均一であった。ストライプ部分以外には気泡は見られなか
ったことから、光拡散体全体としての気泡占有面積率は０％から５２％まで変化していた
。得られたシート状光拡散体を備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実施例
1の工程（５）とほぼ同様にして評価したところ、得られた面発光装置の厚さは全体で２
０ｍｍ程度であり、輝度均一性、発光利用効率ともに良好であったが、プリズム効果によ
る色分かれが部分的に発生した。また、ストライプと垂直方向の屈曲試験においてクラッ
クが入りやすく、フレキシビリティは劣る結果となった。
【０１０５】
微細気泡群を内在させ、かつ気泡分布を有する実施例１から実施例３においては、光源か
らの不均一な輝度分布（あるいは照度分布）をもつ偏った出光を均一化することができる
だけでなく、光利用効率も良好で、かつフレキシビリティに優れ、薄物化や一体化も両立
することが容易にできた。
一方、拡散剤や中空粒子を分散させた比較例１は、不均一な輝度分布となり、また発光
利用効率も悪かった。白色インクをドットパターン印刷した比較例２は、輝度均一性や巨
視的には良好となるもの、ドットパターンが数１００μｍとなってしまい目視できるため
、微視的には、輝度均一性は悪かった。高発泡領域と低発泡領域両方が非連続であるスト
ライプ状にパターンを形成した比較例３では色分かれが部分的に発生し、さらにストライ
プと垂直方向の屈曲試験において、クラックが発生しやすくなる。実施例で得られた光拡
散体の特性を表１に、比較例で得られた光拡散体の特性を表２に示す。
【０１０６】
【表１】
2009098607.tif 000003
【０１０７】
【表２】
2009098607.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明の面発光装置は、様々な表示装置に用いることが可能である。例えば、テレビジョ
ンや携帯電話、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、携帯電話、ＰＤＡ、デ
ジタルカメラ、ビデオカメラ、各種ゲーム機、自動車等のディスプレイに使用される液晶
表示装置のバックライトまたはフロントライトとして用いることができる。また、駅や公
共施設などにおける案内標示板や看板や交通標識、ライトボックス、投影用スクリーン、
シャーカステン、複写機、プロジェクター等に使用される表示装置の内照式照明としても
用いることができる。さらに、オフィスや家庭で使用される一般照明用としても用いるこ
とが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】本発明の第１実施形態における光拡散体の一例を示す平面図と断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態の高発泡領域が連続であり、低発泡領域が非連続である領域の平面図と断面図を示す図である。
【図３】本発明の第１実施形態の低発泡領域が連続であり、高発泡領域が非連続である領域の平面図と断面図を示す図である。
【図４】本発明の第２実施形態における光拡散体の一例を示す断面図である。
【図５】本発明の実施例における光拡散体の製造過程を示す図である。
【符号の説明】
【０１１０】
１・・・透過率が低い領域  ２・・・１より透過率を高くした領域  ３・・・２より透
過率を高くした領域  ４・・・透過率が高い領域  ５・・・低発泡領域  ６・・・高発泡
領域  ７・・・光源  ８・・・入射面  ９・・・出射面  １０・・・透明支持体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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