(57)【要約】【課題】シール材が配置された額縁領域の幅を可及的に狭くする。【解決手段】互いに対向して配置された第１基板２０及び第２基板３０と、第１基板２０及び第２基板３０の間に設けられた液晶層２５と、第１基板２０及び第２基板３０を互いに接着すると共に、液晶層２５を封入するためのシール材２８ｃとを備えた液晶表示パネル５０であって、シール材２８ｃは、側面に接着層２７が形成され液晶層２５の周囲に沿って延びる線状のファイバーを備えている。【選択図】図１
2009098426.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置された第１基板及び第２基板と、
上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層と、
上記第１基板及び第２基板を互いに接着すると共に、上記液晶層を封入するためのシール材とを備えた液晶表示パネルであって、
上記シール材は、側面に接着層が形成され上記液晶層の周囲に沿って延びる線状のファイバーを備えていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
請求項１に記載された液晶表示パネルにおいて、
上記ファイバーは、互いに平行に延びるように設けられた複数のファイバー素線を備えていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項３】
請求項１に記載された液晶表示パネルにおいて、
上記ファイバーは、互いに平行に延びるように設けられた一対の第１ファイバーと、該各第１ファイバーに交差する方向に互いに平行に延びるように設けられた一対の第２ファイバーとを備えていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
請求項１に記載された液晶表示パネルにおいて、
上記第１基板には、上記液晶層の厚さを規定するための柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】
請求項１に記載された液晶表示パネルにおいて、
上記ファイバーは、ガラス製であることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
互いに対向して配置された第１基板及び第２基板と、
上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層と、
上記第１基板及び第２基板を互いに接着すると共に、上記液晶層を封入するためのシール材とを備えた液晶表示パネルを製造する方法であって、
上記第１基板に対し、側面に接着層がそれぞれ形成された線状の一対の第１ファイバーを互いに平行に配置する第１ファイバー配置工程と、
上記一対の第１ファイバーが配置された第１基板に対し、該一対の第１ファイバーの間に上記液晶層を構成する液晶材料を供給する液晶供給工程と、
上記第２基板に対し、側面に接着層がそれぞれ形成された線状の一対の第２ファイバーを互いに平行に配置する第２ファイバー配置工程と、
上記液晶材料が供給された第１基板と上記一対の第２ファイバーが配置された第２基板とを上記各第１ファイバーと該各第２ファイバーとが互いに交差するように貼り合わせることにより、該各第１ファイバー及び各第２ファイバーにより上記シール材を形成する貼り合わせ工程とを備えることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載された液晶表示パネルの製造方法において、
上記第１ファイバー配置工程では、上記各第１ファイバーに引っ張り荷重を付加しながら該各第１ファイバーを上記第１基板に配置することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項８】
請求項６に記載された液晶表示パネルの製造方法において、
上記第２ファイバー配置工程では、上記各第２ファイバーに引っ張り荷重を付加しながら該各第２ファイバーを上記第２基板に配置することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネル及びその製造方法に関し、特に、液晶表示パネルの狭額縁化に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話などのモバイル用途の液晶表示パネルでは、画像表示を行う表示領域を大きくするために、表示領域の周囲に配置され液晶層を封入するためのシール材などが設けられた額縁領域の幅を狭くする、いわゆる、狭額縁化の要望が益々強くなっている。
【０００３】
上記液晶層を封入する方法としては、例えば、カラーフィルター（color filter、以下、「ＣＦ」と称する）が形成されたＣＦ基板、及び液晶層を駆動させるための薄膜トランジスタ（thin film transistor、以下、「ＴＦＴ」と称する）が形成されたＴＦＴ基板の一方の基板にシール材を枠状に形成し、そのシール材の内側に液晶材料を滴下した後に、それらの両基板を貼り合わせる液晶滴下貼り合わせ法、並びに上記一方の基板に上記シール材を注入口を有する枠状に形成し、それらの両基板を貼り合わせた後に、液晶材料を毛細管現象及び圧力差を利用して注入口から基板間に注入する真空注入法などがある。
【０００４】
また、基板上に上記シール材を形成する方法としては、シール形成領域がメッシュ状に開口したスクリーン版上にシール材料を供給して、そのシール材料をスキージと呼ばれるヘラによりスクリーン版の下に配置させた基板上に押し出すスクリーン印刷法、及びディスペンサを構成するノズルからシール材料を吐出させながら、基板又はノズルを平行移動させることにより、シール材料を基板上に描画するディスペンサ法などがある。
【０００５】
ここで、上記スクリーン印刷法では、スクリーン版の版厚が５０μｍ〜１００μｍ程度であり、それに対応して、基板上に供給されるシール材料の高さが５０μｍ〜１００μｍ程度となるので、貼り合わせた後の基板間に挟持されるシール材の幅は、数１００μｍになってしまう。一方、上記ディスペンサ法では、高粘度のシール材料を吐出させるために、ノズルの内径が３００μｍ以上必要であるので、シール吐出量を少なくすることが難しい。また、上記ディスペンサ法では、シール材料を吐出する際の押し出す圧力の変動、及びノズルと基板との間隔のばらつきに起因する吐出量の安定性を考慮すると、基板上に描画されるシール材の幅を狭くすることが困難であるので、貼り合わせた後の基板間に挟持されるシール材の幅が上記スクリーン印刷法よりも広くなってしまう。
【０００６】
このように、上記スクリーン印刷法及びディスペンサ法では、基板上に形成されるシール材の幅に製造上の制約があるので、額縁領域の狭額化には、基板上に形成されるシール材の幅に起因する限界があった。
【０００７】
ここで、特許文献１には、表示領域の外側におけるシール材の内側に染み出し抑制パターンが形成された液晶装置が開示されている。そして、これによれば、表示領域へ向けて染み出すシール材の進行が染み出し抑制パターンによって阻止されるので、額縁領域を狭くできる、と記載されている。
【０００８】
また、特許文献２には、ガラス基板の端部にシール材拡散防止壁が形成された液晶表示装置が開示されている。そして、これによれば、シール材が外側に向かって不要に拡散するのをシール材拡散防止壁によって防止することができ、したがってシール材の幅方向外側がばらつかないようにすることができ、ひいては額縁の幅を小さくすることができる、と記載されている。
【特許文献１】特開２０００−１８０８７２号公報
【特許文献２】特開２００２−９８９８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記特許文献１及び２に開示された各発明は、基板を貼り合わせる際のシール材の広がりを抑制するものであり、貼り合わせる前の基板上に形成するシール材の線幅については、何ら規制されていないので、改善の余地がある。
【００１０】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、シール材が配置された額縁領域の幅を可及的に狭くすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明は、第１基板及び第２基板を互いに接着して液晶層を封入するシール材が側面に接着層を有するファイバーを備えるようにしたものである。
【００１２】
具体的に本発明に係る液晶表示パネルは、互いに対向して配置された第１基板及び第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層と、上記第１基板及び第２基板を互いに接着すると共に、上記液晶層を封入するためのシール材とを備えた液晶表示パネルであって、上記シール材は、側面に接着層が形成され上記液晶層の周囲に沿って延びる線状のファイバーを備えていることを特徴とする。
【００１３】
上記の構成によれば、第１基板及び第２基板を互いに接着して液晶層を封入するためのシール材が側面に接着層を有する線状のファイバーを備えているので、液晶表示パネルを構成する第１基板及び第２基板がファイバーの側面に形成された接着層を介して互いに接着されている。ここで、液晶層の周囲に沿って延びるファイバーが例えば直径３μｍ程度のガラスファイバーである場合には、そのガラスファイバーの側面に膜厚３μｍ程度の接着層を形成することにより、直径１０μｍ程度のシール材が構成されるので、第１基板及び第２基板の間に挟持されるシール材の広がり幅が数１０μｍ程度に抑制される。したがって、第１基板及び第２基板を貼り合わせる前の基板上に形成されるシール材の線幅が抑制されることにより、貼り合わせた後に第１基板及び第２基板の間に挟持されるシール材の広がり幅が抑制されるので、シール材が配置された額縁領域の幅を可及的に狭くすることが可能になる。
【００１４】
上記ファイバーは、互いに平行に延びるように設けられた複数のファイバー素線を備えていてもいよい。
【００１５】
上記の構成によれば、ファイバーが互いに平行に延びる複数のファイバー素線を備えているので、シール材を構成するファイバーの強度が、単数のファイバー素線を備えた場合よりも向上する。これにより、引っ張り荷重を十分に付加しながら基板上にファイバーを配置させることが可能になり、シール材の直線性を向上させることが可能になる。
【００１６】
上記ファイバーは、互いに平行に延びるように設けられた一対の第１ファイバーと、該各第１ファイバーに交差する方向に互いに平行に延びるように設けられた一対の第２ファイバーとを備えていてもよい。
【００１７】
上記の構成によれば、互いに平行に延びる各第１ファイバーの側面に形成された接着層、及び互いに平行に延びる各第２ファイバーの側面に形成された接着層により、第１基板及び第２基板が互いに接着され、互いに接着された両基板の間における各第１ファイバー及び各第２ファイバーに囲まれた領域に液晶層が具体的に封入される。
【００１８】
上記第１基板には、上記液晶層の厚さを規定するための柱状スペーサが設けられていてもよい。
【００１９】
上記の構成によれば、第１基板に液晶層の厚さを規定するための柱状スペーサが設けられているので、シール材を構成するファイバーの径に影響することなく、液晶層の厚さ、すなわち、セル厚が設定される。
【００２０】
上記ファイバーは、ガラス製であってもよい。
【００２１】
上記の構成によれば、ファイバーがガラス製であるので、ファイバーが交差する部分において、交差するファイバーの少なくとも一方の一部が砕けて、その周囲の接着層が第１基板及び第２基板を互いに接着することにより、第１基板及び第２基板が所定の間隔に保持される。
【００２２】
また、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法は、互いに対向して配置された第１基板及び第２基板と、上記第１基板及び第２基板の間に設けられた液晶層と、上記第１基板及び第２基板を互いに接着すると共に、上記液晶層を封入するためのシール材とを備えた液晶表示パネルを製造する方法であって、上記第１基板に対し、側面に接着層がそれぞれ形成された線状の一対の第１ファイバーを互いに平行に配置する第１ファイバー配置工程と、上記一対の第１ファイバーが配置された第１基板に対し、該一対の第１ファイバーの間に上記液晶層を構成する液晶材料を供給する液晶供給工程と、上記第２基板に対し、側面に接着層がそれぞれ形成された線状の一対の第２ファイバーを互いに平行に配置する第２ファイバー配置工程と、上記液晶材料が供給された第１基板と上記一対の第２ファイバーが配置された第２基板とを上記各第１ファイバーと該各第２ファイバーとが互いに交差するように貼り合わせることにより、該各第１ファイバー及び各第２ファイバーにより上記シール材を形成する貼り合わせ工程とを備えることを特徴とする。
【００２３】
上記の方法によれば、貼り合わせ工程において、第１ファイバー配置工程で互いに平行に延びるように一対の第１ファイバーが配置された第１基板と、第２ファイバー配置工程で互いに平行に延びるように一対の第２ファイバーが配置された第２基板とを貼り合わせることにより、各第１ファイバー及び各第２ファイバーによりシール材が形成されるので、液晶表示パネルを構成する第１基板及び第２基板が各第１ファイバー及び各第２ファイバーの側面に形成された接着層を介して互いに接着されている。ここで、各第１ファイバー及び各第２ファイバーが例えば直径３μｍ程度のガラスファイバーである場合には、そのガラスファイバーの側面に膜厚３μｍ程度の接着層を形成することにより、直径１０μｍ程度のシール材が構成されるので、第１基板及び第２基板の間に挟持されるシール材の広がり幅が数１０μｍ程度に抑制される。したがって、第１ファイバー配置工程及び第２ファイバー配置工程において、第１基板及び第２基板を貼り合わせる前の各基板上に形成されるシール材の線幅が抑制されることにより、貼り合わせ工程において、貼り合わせた後に第１基板及び第２基板の間に挟持されるシール材の広がり幅が抑制されるので、シール材が配置された額縁領域の幅を可及的に狭くすることが可能になる。
【００２４】
上記第１ファイバー配置工程では、上記各第１ファイバーに引っ張り荷重を付加しながら該各第１ファイバーを上記第１基板に配置してもよい。
【００２５】
上記の方法によれば、第１基板に各第１ファイバーを配置させる際に、各第１ファイバーに引っ張り荷重がそれぞれ付加されるので、各第１ファイバーが構成するシール材の直線性を向上させることが可能になる。
【００２６】
上記第２ファイバー配置工程では、上記各第２ファイバーに引っ張り荷重を付加しながら該各第２ファイバーを上記第２基板に配置してもよい。
【００２７】
上記の方法によれば、第２基板に各第２ファイバーを配置させる際に、各第２ファイバーに引っ張り荷重がそれぞれ付加されるので、各第２ファイバーが構成するシール材の直線性を向上させることが可能になる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、第１基板及び第２基板を互いに接着して液晶層を封入するシール材が側面に接着層を有するファイバーを備えているので、シール材が配置された額縁領域の幅を可及的に狭くすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００３０】
《発明の実施形態１》
図１〜図５は、本発明に係る液晶表示パネル及びその製造方法の実施形態１を示している。ここで、図１は、本実施形態の液晶表示パネル５０を示す断面図である。
【００３１】
液晶表示パネル５０は、図１に示すように、第１基板として設けられたＴＦＴ基板２０と、ＴＦＴ基板２０に対向して配置された第２基板として設けられた対向基板３０と、ＴＦＴ基板２０及び対向基板３０の間に設けられた液晶層２５と、ＴＦＴ基板２０及び対向基板３０を互いに接着すると共に液晶層２５を封入するために枠状に設けられたシール材２８ｃとを備えている。また、液晶表示パネル５０では、図１に示すように、画像を表示するための矩形状の表示領域Ｄ、及び表示領域Ｄの周囲に枠状の額縁領域Ｆがそれぞれ規定されている。ここで、額縁領域Ｆには、シール材２８ｃが配置されている。さらに、液晶表示パネル５０では、その１辺において、ＴＦＴ基板２０が対向基板３０よりも突出しており、ＴＦＴ基板２０の突出した領域が端子領域Ｔを構成している（図５の右下図参照）。
【００３２】
ＴＦＴ基板２０は、図１に示すように、絶縁基板１０ａと、絶縁基板１０ａ上に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線（不図示）と、各ゲート線と交差（直交）する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線（不図示）と、各ゲート線及び各ソース線の交差部毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ（不図示）と、各ＴＦＴを覆うように設けられた有機膜１１と、有機膜１１上にマトリクス状に設けられた複数の画素電極（不図示）とを備えている。
【００３３】
また、ＴＦＴ基板２０には、図１に示すように、表示領域Ｄに第１柱状スペーサ１２ａが設けられ、額縁領域Ｆに第２柱状スペーサ１２ｂが設けられている。ここで、有機膜１１の膜厚が３μｍである場合には、第１柱状スペーサ１２ａの高さは、３μｍとなり、第２柱状スペーサ１２ｂの高さは、６μｍとなる。
【００３４】
上記各ＴＦＴは、例えば、上記各ゲート線が側方に突出したゲート電極と、そのゲート電極を覆うように設けられたゲート絶縁膜と、そのゲート絶縁膜上でゲート電極に対応する位置に島状に設けられた半導体層と、その半導体層上で互いに対峙するように設けられたソース電極及びドレイン電極とを備えている。ここで、上記ソース電極は、上記各ソース線が側方に突出した部分である、そして、上記ドレイン電極は、その上層の有機膜１１に形成されたコンタクトホールを介して上記各画素電極にそれぞれ接続されている。
【００３５】
ＣＦ基板３０は、図１に示すように、絶縁基板１０ｂと、絶縁基板１０ｂ上の額縁領域Ｆに枠状に且つその枠内の表示領域Ｄに格子状に設けられたブラックマトリクス２１ｄと、ブラックマトリクス２１ｄの各格子間にそれぞれ設けられた赤色層２１ａ、緑色層２１ｂ及び青色層２１ｃを含むカラーフィルター層と、そのカラーフィルター層を覆うように設けられた共通電極（不図示）とを備えている。
【００３６】
シール材２８ｃは、図１に示すように、ガラスファイバーなどのガラス製のファイバー素線２６と、ファイバー素線２６の側面に形成された接着層２７とを備えたファイバーにより構成されている。そして、上記ファイバー（シール材２８ｃ）は、後述するように、互いに平行に延びる一対の第１ファイバー２８ａと、各第１ファイバー２８ａに交差（直交）する方向に互いに平行に延びる一対の第２ファイバー２８ｂとにより構成されている。
【００３７】
液晶層２５は、電気光学特性を有するネマチックの液晶材料などにより構成されている。
【００３８】
上記構成の液晶表示パネル５０は、画像の最小単位である各画素を構成するサブ画素において、ゲート線からのゲート信号がＴＦＴのゲート電極に送られてＴＦＴがオン状態になったときに、ソース線からのソース信号がＴＦＴに送られてＴＦＴの半導体層を介して画素電極に所定の電荷が書き込まれることにより、ＴＦＴ基板２０の各画素電極とＣＦ基板３０の共通電極との間において電位差が生じ、液晶層２５に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示パネル５０では、液晶層２５の印加電圧の大きさに応じて液晶層２５の配向状態が変わることを利用して、バックライトから入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される。
【００３９】
次に、液晶表示パネル５０の製造方法について、図２〜図５を用いて説明する。なお、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、ＴＦＴ母基板作製工程、ＣＦ母基板作製工程、第１ファイバー配置工程、液晶供給工程、第２ファイバー配置工程、貼り合わせ工程及びパネル分断工程を備える。ここで、図２及び図３は、第２ファイバー配置工程及び貼り合わせ工程をそれぞれ示す斜視図である。また、図４は、貼り合わせ工程を示す側面図であり、図５は、パネル分断工程を示す斜視図である。なお、本実施形態では、複数のセル単位をマトリクス状に同時に作製する多面取りによる液晶表示パネル５０の製造方法を例示する。
【００４０】
＜ＴＦＴ母基板作製工程＞
まず、ガラス基板などの絶縁基板（１０ａ）の基板全体に、アルミニウムなどの金属膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、各セル単位毎に、ゲート線及びゲート電極を形成する。
【００４１】
続いて、上記ゲート線及びゲート電極が形成された基板全体に、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により窒化シリコン膜などを成膜し、ゲート絶縁膜を形成する。
【００４２】
さらに、上記ゲート絶縁膜が形成された基板全体に、ＣＶＤ法により真性アモルファスシリコン膜、及びリンがドープされたｎ＋アモルファスシリコン膜を連続して成膜し、その後、各セル単位毎に、フォトリソグラフィによりゲート電極上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層及びｎ＋アモルファスシリコン層からなる半導体層を形成する。
【００４３】
そして、上記半導体層が形成された基板全体に、チタンなどの金属膜をスパッタリング法により成膜し、その後、各セル単位毎に、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線、ソース電極及びドレイン電極を形成する。
【００４４】
続いて、各セル単位毎に、上記ソース電極及びドレイン電極をマスクとして半導体層のｎ＋アモルファスシリコン層をエッチングすることにより、チャネル部をパターニングして、ＴＦＴを形成する。
【００４５】
さらに、上記ＴＦＴが形成された基板全体に、スピンコーティング法を用いて、感光性アクリル樹脂などを成膜し、その後、各セル単位毎に、フォトリソグラフィによりドレイン電極上にコンタクトホールをパターニングして、有機膜１１を形成する。
【００４６】
そして、有機膜１１が形成された基板全体に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜をスパッタリング法により成膜し、その後、各セル単位毎に、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極を形成する。
【００４７】
さらに、上記画素電極が形成された基板全体に、スピンコーティング法を用いて、感光性アクリル樹脂などを成膜し、その後、各セル単位毎に、フォトリソグラフィによりパターニングして、第１柱状スペーサ１２ａ及び第２柱状スペーサ１２ｂを形成する。
【００４８】
最後に、第１柱状スペーサ１２ａ及び第２柱状スペーサ１２ｂが形成された基板全体に、印刷法により、ポリイミド樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。
【００４９】
以上のようにして、複数のセル単位が構成されたＴＦＴ母基板１２０を作製することができる。
【００５０】
＜ＣＦ母基板作製工程＞
まず、ガラス基板などの絶縁基板（１０ｂ）の基板全体に、スパッタリング法により、例えば、クロム薄膜を成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、各セル単位毎に、ブラックマトリクス２１ｄを形成する。
【００５１】
続いて、ブラックマトリクス２１ｄの格子間のそれぞれに、例えば、赤、緑又は青に着色された感光性レジスト材料などを塗布した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、選択した色の着色層（例えば、赤色層２１ａ）を形成する。その後、他の２色についても同様な工程を繰り返すことにより、他の着色層（例えば、緑色層２１ｂ及び青色層２１ｃ）を形成して、各セル単位毎に、カラーフィルター層を形成する。
【００５２】
さらに、上記カラーフィルター層が形成された基板上に、スパッタリング法により、ＩＴＯ膜を成膜して、各セル単位毎に、共通電極を形成する。
【００５３】
最後に、上記共通電極が形成された基板全体に、印刷法により、ポリイミド樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。
【００５４】
以上のようにして、複数のセル単位が構成されたＣＦ母基板１３０を作製することができる。
【００５５】
＜第１ファイバー配置工程＞
後述する第２ファイバー配置工程で図面を用いて詳細に説明するように、まず、例えば、直径３μｍのＥ−ガラスファイバーからなるファイバー素線をそれぞれ巻き付けた複数の巻き出しロールから各ファイバー素線をそれぞれ巻き出し、シール材タンクを経由させることにより、各々、ファイバー素線の側面に膜厚３μｍの接着層が被覆された複数の第１ファイバー２８ａをそれぞれ形成した後に、形成された各第１ファイバー２８ａに０．２Ｎ程度の引っ張り荷重を付加しながら、上記ＴＦＴ母基板作製工程で作製したＴＦＴ母基板１２０上に各第１ファイバー２８ａを各セル単位の表示領域Ｄにおける一方の対辺（図中の左辺及び右辺）に沿って互いに平行に配置する（図２及び図３参照）。ここで、各第１ファイバー２８ａは、例えば、表示領域Ｄの周端から２００μｍ程度離間した位置に配置する。
【００５６】
続いて、上記ＴＦＴ母基板１２０上に配置された各第１ファイバー２８ａにＵＶ光を１０００ｍＪで照射することにより、ＴＦＴ母基板１２０上に各第１ファイバー２８ａを仮固定する。
【００５７】
さらに、上記ＴＦＴ母基板１２０上に仮固定された各第１ファイバー２８ａをホイールカッターなどにより基板端部から１ｍｍ程度突出した位置で切断する。
【００５８】
＜液晶供給工程＞
上記第１ファイバー配置工程で各第１ファイバー２８ａが配置されたＴＦＴ母基板１２０の各セル単位の表示領域Ｄ上に液晶材料２５を滴下により供給する（図３参照）。
【００５９】
＜第２ファイバー配置工程＞
まず、図２に示すように、例えば、直径３μｍのＥ−ガラスファイバーからなるファイバー素線２６をそれぞれ巻き付けた複数の巻き出しロール６５から各ファイバー素線２６をそれぞれ巻き出し、シール材タンク６０を経由させることにより、各々、ファイバー素線２６の側面に膜厚３μｍの接着層２７が被覆された複数の第２ファイバー２８ｂをそれぞれ形成した後に、それらの形成された各第２ファイバー２８ｂに０．２Ｎ程度の引っ張り荷重を付加しながら、上記ＣＦ母基板作製工程で作製したＣＦ母基板１３０上に各第２ファイバー２８ｂを各セル単位の表示領域Ｄにおける他方の対辺（図中の上辺及び下辺）に沿って互いに平行に配置する。ここで、各第２ファイバー２８ｂは、例えば、表示領域Ｄの周端から２００μｍ程度離間した位置に配置する。なお、この各第２ファイバー２８ｂ（及び上述した各第１ファイバー２８ａ）の位置を表示領域Ｄの周端から１００μｍ程度とした場合には、液晶層２５の配向乱れが懸念されるので、各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂの位置は、表示領域Ｄの周端から２００μｍ程度離間した位置であることが好ましい。また、上記シール材タンク６０は、図２に示すように、その前方側面（図中右側面）に各第２ファイバー２８ｂを外部にそれぞれ排出するための複数の搬出口が形成され、その後方側面（図中左側面）に各ファイバー素線２６を内部にそれぞれ搬入するための複数の搬入口が形成されている。また、シール材タンク６０の内部には、例えば、積水化学工業（株）製のフォトレックＳ−ＷＢなどの熱硬化及びＵＶ硬化併用型の接着剤が充填されている。そして、シール材タンク６０は、上記各搬入口から搬入されたファイバー素線２６の側面に接着剤を付着させることにより、ファイバー素線２６の側面に接着層２７を形成して、その接着層２７が形成されたファイバー素線２６を上記各搬出口から第２ファイバー２８ｂとして排出するように構成されている。
【００６０】
続いて、上記ＣＦ母基板１３０上に配置された各第２ファイバー２８ｂにＵＶ光を１０００ｍＪで照射することにより、ＣＦ母基板１３０上に各第２ファイバー２８ｂを仮固定する。
【００６１】
さらに、上記ＣＦ母基板１３０上に仮固定された各第２ファイバー２８ｂをホイールカッターなどにより基板端部から１ｍｍ程度突出した位置で切断する。
【００６２】
＜貼り合わせ工程＞
まず、上記液晶供給工程で液晶材料が供給されたＴＦＴ母基板１２０と、上記第２ファイバー配置工程で各第２ファイバー２８ｂが配置されたＣＦ母基板１３０とを、図３及び図４に示すように、減圧下で各セル単位が重畳するように貼り合わせることにより、貼合体１５０（図５参照）を作製した後に、その貼合体１５０を大気圧に開放することにより、貼合体１５０の表面及び裏面を加圧する。
【００６３】
続いて、貼合体１５０の各セル単位の額縁領域ＦにＵＶ光を３０００ｍＪで照射した後に、その貼合体１５０を１２０℃で６０分間加熱することにより、各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂの表面の接着層２７を硬化させる。これにより、ＴＦＴ母基板１２０及びＣＦ母基板１３０は、直径３μｍのファイバー素線６の側面に付着させた膜厚３μｍの接着層２７により、表示領域Ｄにおいて３μｍの間隔で、且つ額縁領域Ｆにおいて６μｍの間隔で互いに接着されると共に、ファイバー素線６及び接着層２７により構成されたシール材２８ｃが１００μｍ程度の線幅で形成される。
【００６４】
さらに、接着層２７を硬化させた貼合体１５０の表面及び裏面をエッチングして、絶縁基板（１０ａ）及び（１０ｂ）を薄板化する。
【００６５】
＜パネル分断工程＞
まず、上記貼り合わせ工程で薄板化した貼合体（１５０）のＴＦＴ母基板（１２０）側の表面において、各セル単位の端子領域Ｄの外側位置、及び端子領域Ｆに沿っていない表示領域Ｄの３辺の周端から４００μｍ程度離間した位置に、分断刃の刃先を当接させながら、分断刃を表示領域Ｄの周端に沿って転動させることにより、薄板化されたＴＦＴ母基板（１２０）にクラックを形成すると共に、その形成されたクラックを基板厚さ方向に進行させることにより、貼合体（１５０）を構成するＴＦＴ母基板（１２０）をセル単位毎に分断する。
【００６６】
続いて、上記ＴＦＴ母基板（１２０）がセル単位毎に分断された貼合体（１５０）を表裏反転させた後に、薄板化されたＣＦ母基板（１３０）側の表面において、セル単位の表示領域Ｄの周端から４００μｍ程度の位置に、分断刃の刃先を当接させながら、分断刃を表示領域Ｄの周端に沿って（図５中の分断ラインＬに沿って）転動させることにより、ＣＦ母基板（１３０）にクラックを形成すると共に、その形成されたクラックを基板厚さ方向に進行させることにより、貼合体（１５０）を構成するＣＦ母基板（１３０）をセル単位毎に分断して、貼合体（１５０）全体を各セル単位毎に分断する。
【００６７】
以上のようにして、端子領域Ｆに沿った辺以外の３辺の額縁領域Ｆが４００μｍの幅に形成された本実施形態の液晶表示パネル５０を製造することができる。
【００６８】
以上説明したように、本実施形態の液晶表示パネル５０及びその製造方法によれば、貼り合わせ工程において、第１ファイバー配置工程で互いに平行に延びるように各第１ファイバー２８ａが配置されたＴＦＴ母基板１２０と、第２ファイバー配置工程で互いに平行に延びるように各第２ファイバー２８ｂが配置されたＣＦ母基板１３０とを貼り合わせることにより、各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂによりシール材２８ｃが形成されるので、液晶表示パネル５０を構成するＴＦＴ基板２０及びＣＦ基板３０が各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂの側面に形成された接着層２７を介して互いに接着されている。ここで、各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂが直径３μｍ程度のガラスファイバーであるので、そのガラスファイバーの側面に膜厚３μｍ程度の接着層を形成することにより、直径１０μｍ程度のシール材（各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂ）を構成することができ、ＴＦＴ基板２０及びＣＦ基板３０の間に挟持されるシール材２８ｃの広がり幅が数１０μｍ程度に抑制することができる。したがって、第１ファイバー配置工程及び第２ファイバー配置工程において、ＴＦＴ母基板１２０及びＣＦ母基板１３０を貼り合わせる前の各基板上に形成されるシール材（各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂ）の線幅が抑制されることにより、貼り合わせ工程において、貼り合わせた後にＴＦＴ母基板１２０及びＣＦ母基板１３０の間に挟持されるシール材２８ｃの広がり幅を抑制することができるので、シール材２８ｃが配置された額縁領域Ｆの幅を可及的に狭くすることができる。
【００６９】
また、本実施形態の液晶表示パネル５０の製造方法によれば、ＴＦＴ母基板１２０に各第１ファイバー２８ａを、ＣＦ母基板１３０に各第２ファイバー２８ｂをそれぞれ配置させる際に、各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂに引っ張り荷重がそれぞれ付加されるので、各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｃ、すなわち、シール材２８ｃの直線性を向上させることができる。
【００７０】
また、本実施形態の液晶表示パネル５０によれば、ＴＦＴ基板２０に液晶層２５の厚さを規定するための第１柱状スペーサ１２ａ及び第２スペーサ１２ｂが設けられているので、シール材２８ｃを構成するファイバーの径に影響することなく、液晶層２５の厚さ、すなわち、セル厚を設定することができる。
【００７１】
また、本実施形態の液晶表示パネル５０によれば、ファイバー素線２６がガラス製であるので、ファイバーが交差する部分において、交差するファイバーの少なくとも一方の一部が砕けて、その周囲の接着層２７がＴＦＴ基板２０及びＣＦ基板３０を互いに接着することにより、ＴＦＴ基板２０及びＣＦ基板３０を所定の間隔に保持することができる。なお、ファイバー素線２６の砕けた破片は、セル厚を規定するために一般的に用いられているファイバー状のスペーサと変わらないので、その砕けた破片が表示品位に影響を与えることは少ない。
【００７２】
《発明の実施形態２》
図６及び図７は、本発明に係る液晶表示パネル及びその製造方法の実施形態２を示している。具体的に図６は、ファイバー２８及びその形成方法を示す斜視図であり、図７は、ファイバー２８の横断面図である。なお、以下の実施形態において、図１〜図５と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００７３】
上記実施形態１では、シール材２８ｃを構成する各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂが１本のファイバー素線２６を備えていたが、本実施形態では、図６及び図７に示すように、各第１ファイバー２８ａ及び各第２ファイバー２８ｂに対応するファイバー２８が３本のファイバー素線２６を備えている。
【００７４】
本実施形態の液晶表示パネル及びその製造方法によれば、ファイバー２８が互いに平行に延びる複数のファイバー素線２８を備えているので、シール材２８ｃを構成するファイバーのトータルの強度を、単数のファイバー素線を備えた場合よりも向上させることができる。これにより、引っ張り荷重を十分に付加しながら基板上にファイバー２８を配置させることができ、シール材２８ｃの直線性をいっそう向上させることができる。
【００７５】
上記各実施形態では、ファイバー素線２６がガラスファイバーであったが、本発明は、ファイバー素線がプラスチックファイバーなどであってもよい。この場合には、ファイバーが交差する部分においてファイバーが砕けにくいので、絶縁基板の表面に凹部を形成して、その凹部においてファイバーを交差させてもよい。
【００７６】
また、上記各実施形態では、ファイバー素線２６の横断面が円形であったが、本発明は、ファイバー素線の側面に接着剤が付着し易くなるように、ファイバー素線の横断面を三角形や星形などの多角形にしてもよい。
【００７７】
さらに、上記各実施形態では、アクティブマトリクス駆動方式の液晶表示パネルについて例示したが、本発明は、パッシブマトリクス駆動方式の液晶表示パネルについても適用することができる。
【００７８】
さらに、上記各実施形態では、カラーフィルター層がＴＦＴ基板２０に対向して配置された基板（ＣＦ基板３０）に形成された液晶表示パネルについて例示したが、本発明は、カラーフィルター層がＴＦＴ基板に形成されたカラーフィルターオンアレイ構造の液晶表示パネルについても適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
以上説明したように、本発明は、狭額領域の幅を可及的に狭くすることができるので、モバイル用途の液晶表示パネルについて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】実施形態１に係る液晶表示パネル５０の断面図である。
【図２】液晶表示パネル５０の製造工程における第２ファイバー配置工程を示す斜視図である。
【図３】液晶表示パネル５０の製造工程における貼り合わせ工程を示す斜視図である。
【図４】液晶表示パネル５０の製造工程における貼り合わせ工程を示す側面図である。
【図５】液晶表示パネル５０の製造工程におけるパネル分断工程を示す斜視図である。
【図６】実施形態２に係るファイバー２８及びその形成方法を示す斜視図である。
【図７】ファイバー２８の横断面図である。
【符号の説明】
【００８１】
１２ａ    第１柱状スペーサ
１２ｂ    第２柱状スペーサ
２０      ＴＦＴ基板（第１基板）
２５      液晶層（液晶材料）
２６      ファイバー素線
２７      接着層
２８      ファイバー
２８ａ    第１ファイバー
２８ｂ    第２ファイバー
２８ｃ    シール材
３０      ＣＦ基板（第２基板）
５０      液晶表示パネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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