(57)【要約】【課題】高解像度化による画線部面積の微小化に伴う画線部（凹部）の高アスペクト比化に対して、画線部の着インキ性を高く維持し、微小網点再現性を良好に保つことにより、印刷特性を高解像度化することが可能なオフセット印刷版、およびその製造方法を提供する。【解決手段】インキ材料に対して撥液性を有する非画線部２１と親液性を有する画線部２２を有するオフセット印刷版であって、非画線部２１が、インキ材料に対して撥液性を有する官能基で終端された主鎖を含有する感光性樹脂材料によって構成された表面層４と、この表面層４の下でにおいてインキ親液性樹脂層３によって構成された中間層とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
インキ材料に対して撥液性を有する非画線部と親液性を有する画線部を有するオフセット印刷版であって、前記非画線部が、インキ材料に対して撥液性を有する官能基で終端された主鎖を含有する感光性樹脂材料によって構成された表面層を含むオフセット印刷版。
【請求項２】
インキ材料に対して撥液性を有する非画線部と親液性を有する画線部とを有するオフセット印刷版であって、
前記非画線部が、インキ材料に対して撥液性を有する官能基で終端された主鎖を含有する感光性樹脂材料によって構成された表面層と、該表面層の下でインキ材料に対して親液性を有する樹脂材料によって構成された中間層とを含むオフセット印刷版。
【請求項３】
前記感光性樹脂材料の表面層が、熱処理によりインキ撥液性を発現された表面を有し、かつ、前記画線部の凹部の内側面は親液性側面を有する、請求項１または２に記載のオフセット印刷版。
【請求項４】
前記感光性樹脂材料がネガ型感光性を有する請求項１または２に記載のオフセット印刷版。
【請求項５】
前記表面層は、感光性塗布型絶縁性材料に含有され、主鎖あるいは側鎖を終端しているインキ撥液性を有する官能基がフルオロ基を含むモノマーである、請求項１〜３のいずれかに記載のオフセット印刷版。
【請求項６】
インキ材料に対して撥液性を有する非画線部と親液性を有する画線部とを有するオフセット印刷版の製造方法であって、
前記印刷版の支持体の上側に、インキ材料に対して撥液性を有する官能基で終端された主鎖を含有する感光性樹脂材料を塗布して表面層を形成する工程と、
前記感光性樹脂材料表面に撥液性を発現させる工程と、
露光および現像により前記感光性樹脂材料を所定の形状にパターニングする工程と、
前記感光性樹脂材料を焼成することにより所定の非画線部パターンを形成する工程とを備える、オフセット印刷版の製造方法。
【請求項７】
インキ材料に対して撥液性を有する非画線部と親液性を有する画線部とを有するオフセット印刷版の製造方法であって、
前記印刷版の支持体の上側に、インキ材料に対して親液性を有する樹脂材料によって構成された中間層を形成する工程と、
該中間層の上側にインキ材料に対して撥液性を有する官能基で終端された主鎖を含有する感光性樹脂材料を塗布して表面層を形成する工程と、
前記感光性樹脂材料表面に撥液性を発現させる工程と、
露光および現像により前記感光性樹脂材料を所定の形状にパターニングする工程と、
前記感光性樹脂材料を焼成することにより所定の非画線部パターンを形成する工程とを備える、オフセット印刷版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体上にインキ材料に対して撥液性を有する非画線部と親液性を有する画線部を設けた水なし感光性オフセット印刷版、およびその製造方法に関するものであり、特に微小網点の印刷再現性に優れ、高解像度化に適した新たな水なし感光性オフセット印刷版、およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
オフセット印刷に用いられる印刷版として、湿し水を用いることなく印刷を行うことができる水なし平版印刷版に関しては、既に種々のものが提案されている。中でも、支持体上にプライマー層（密着層）、感光層、およびインキ反撥層を積層形成した印刷版が極めて優れた印刷特性を有しており、インキ反撥層としてシリコーンゴムを用いたものが例えば特許文献１などに、フッ素樹脂を用いたものが例えば特許文献２などに開示されている。
これらの水なし平版印刷版の一般的な製造方法に関して、前記感光層がネガ型の場合を例に図３を用いて以下に詳細に説明する。まず、図３（a）に示したように支持体１００上にプライマー層（密着層）１０１、感光層１０２、およびインキ反撥層１０３を積層形成する。このインキ反撥層１０３の表面は、インキ撥液部１０８となる。そのあと、公知の方法によりフォトマスク１０４を用いて非画線部１０５のみを露光処理する（図３（ｂ）参照）。
【０００３】
露光後、現像液に浸漬することにより未露光部である画線部１０６では、インキ反撥層１０３ｂ、感光層１０２ｂは現像液によって膨潤してしまい、インキ反撥層１０３ｂと感光層１０２ｂの密着性は大きく低減する（図３（ｃ）参照）。この状態で、図３（ｄ）に示すように、印刷版表面をブラシ１０７を用いて擦ることにより膨潤したインキ反撥層１０３ｂのみが剥ぎ取られ、未露光の感光性層１０２ｂが表面に露出し、インキ着肉性を有する画線部が形成される。
【０００４】
一方、露光部分である非画線部１０５においては、インキ反撥層１０３ａは現像液により膨潤するものの、感光層１０２ａは露光により光重合反応が進んでいるため現像液によって侵食されず、インキ反撥層１０３ａとの密着性は光重合反応に伴いより強固なものとなる。そのため、印刷版表面をブラシ１０７を用いて擦った場合にも、図３（ｅ）に示すように、インキ反撥層１０３ａは剥ぎ取られることなく残存し、表面および側面にインキ撥液性を有する非画線部が形成され、水なし平版印刷版が製版される。
【０００５】
なお、感光層がポジ型の場合には、露光処理に用いるマスクの遮光部分が逆転し、画線部１０６のみを露光処理することにより同様の水なし平版印刷版が製版される。
【０００６】
このようにして作成された水なし平版印刷版では、画線部１０６、つまりインキ受容部はインキ反撥層がブラシ処理により除去された部分の感光層表面であり、非画線部１０５はブラシ処理後に残存するインキ反撥層表面である。したがって、インキ反撥層１０３ｂの側面がこの材料自体によるインキ撥液部１０８となる。印刷特性の高解像度化においては、印刷機のインキ付けローラから水なし平版印刷版の画線部感光性層上のみにインキが充分に転移されることが重要であり、そのためには画線部の着インキ性、非画線部のインキ撥液性をそれぞれ向上させることが必要不可欠である。
【０００７】
非画線部のインキ撥液性を向上させる手段としては、一般的にインキ反撥層を厚くする方法が効果的であると考えられるが、インキ反撥層の撥液性樹脂層を厚くした場合、画線部の微小網点（凹部）のアスペクト比が高くなり、画線部への着インキ性が悪化するという問題があった。この画線部微小網点のアスペクト比は、印刷版の高解像度化に伴いさらに高くなり、着インキ性が大きく低下し、得られた印刷物の微小網点再現性の低下を招いてしまう。
【０００８】
この問題点を解消する方法として、特許文献３で開示されているものは、予め支持体の上方かつ感光層下層に加熱／加圧処理により流動可能な層を形成し、印刷版形成後に加熱／加圧処理することによって流動可能層を流動させて画線部を埋めるようにしている。そうすることにより、画線部のアスペクト比を低下させて画線部の着インキ性を向上させ、印刷特性の高解像度化を図っている。
【０００９】
また、特許文献４には、印刷版形成後、画線部にインキ着肉性物質（インキ親液性樹脂）を半充填／硬化させてアスペクト比を低くすることにより、画線部の着インキ性を向上させ、印刷特性の高解像度化を図る方法が開示されている。
【特許文献１】特開平２−２３６５５０号公報
【特許文献２】特開平２−１０３０４７号公報
【特許文献３】特開平１−１５４１５８号公報
【特許文献４】特開平１−１５４１５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
特許文献３では、前述の通り、加熱処理あるいは加圧処理を施すことにより感光層下層の流動可能層を流動させ、画線部（凹部）を埋めることにより画線部のアスペクト比を低減させる方法が開示されている。しかしながら上記処理を行う際、温度分布や押圧圧力分布の不均一性により前記流動可能層の流動状態が変化するため、印刷版の平坦性が低下してしまい、印刷特性が低下する危険性がある。
【００１１】
また、特許文献４では、インキ着肉性物質の充填により画線部（凹部）を低アスペクト化する方法が開示されている。しかし、元々の画線部（凹部）形状が高アスペクト比であり、かつ画線部（凹部）側面がインキ撥液性樹脂によって構成されている状態では、画線部（凹部）に十分にインキ着肉性物質（インキ親液性樹脂）が充填されず、低アスペクト化の効果が十分に得ることが難しい。仮に前記インキ着肉性物質の充填によりアスペクト比を低くすることができたとしても、残存凹部側面はインキ撥液性を維持しているため、画線部（凹部）に十分なインキが付着せず、高解像度化することは困難である。
【００１２】
また、特許文献１から４に記載された水なし平版印刷版の製造方法では、感光性層を露光することにより感光性層／インキ反撥性層間の層間密着性を低下させ、画線部のインキ反撥層のみを擦り取るという方法である。したがって、高解像度化による画線部面積の微小化に伴い、画線部インキ反撥層の剥離不良や、周辺の非画線部表面を擦ってしまうことによる非画線部インキ撥液性の劣化を招き、印刷特性が低下してしまうといった危険性をも伴う。
【００１３】
また、上述のような製造方法では該インキ反撥層をブラシで擦ることにより機械的に剥離除去する必要性があるため、剥離除去されたインキ反撥層かすを含んだ現像廃液が大量に発生してしまい、ブラシ使用寿命の低下や廃液処理費用が増大してしまうという問題がある。
【００１４】
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、高解像度化による画線部面積の微小化に伴う画線部（凹部）の高アスペクト比化に対しても、画線部の着インキ性を高く維持し、印刷特性を高解像度化することが可能なオフセット印刷版、およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するための、本発明のオフセット印刷版は、一つの局面においては、インキ材料に対して撥液性を有する非画線部と親液性を有する画線部を有するオフセット印刷版であって、非画線部が、インキ材料に対して撥液性を有する官能基を含有する感光性樹脂材料によって構成されている。
【００１６】
また、本発明の他の局面におけるオフセット印刷版は、インキ材料に対して撥液性を有する非画線部と親液性を有する画線部を有するオフセット印刷版であって、非画線部が、インキ材料に対して撥液性を有する官能基で終端された主鎖を含有する感光性樹脂材料によって構成された表面層と、該表面層の下でインキ材料に対して親液性を有する樹脂材料によって構成された中間層を含む。
【００１７】
本発明の一実施形態においては、上記各局面におけるオフセット印刷版の感光性樹脂材料がネガ型感光性を有している。また、本発明の上記一つの局面におけるオフセット印刷版の一実施形態においては、感光性樹脂材料の表面層が、熱処理によりインキ撥液性を発現された表面を有し、かつ、画線部の凹部の内側面は親液性の側面を有する。さらに、本発明の上記各局面におけるオフセット印刷版において、表面層として、感光性塗布型絶縁性材料に含有され、主鎖を終端しているインキ撥液性を有する官能基がフルオロ基を含むモノマーを用いることができる。
【００１８】
本発明のオフセット印刷版の製造方法は、インキ材料に対して撥液性を有する非画線部と親液性を有する画線部を有するオフセット印刷版の製造方法である。この製造方法の発明は、一つの局面においては、印刷版の支持体上に、インキ材料に対して撥液性を有する官能基を含有する感光性樹脂材料を塗布する工程と、感光性樹脂材料表面に撥液性を発現させる工程と、露光/現像により感光性樹脂材料を所定の形状にパターニングする工程と、感光性樹脂材料を焼成することにより所定の非画線部パターンを形成する工程とを含む。
【００１９】
また、本発明のオフセット印刷版の製造方法は、他の局面において、印刷版の支持体上側に、インキ材料に対して親液性を有する樹脂材料によって構成された中間層を形成する工程と、該中間層の上側にインキ材料に対して撥液性を有する官能基で終端された主鎖を含有する感光性樹脂材料を塗布して表面層を形成する工程と、感光性樹脂材料表面に撥液性を発現させる工程と、露光および現像により感光性樹脂材料を所定の形状にパターニングする工程と、感光性樹脂材料を焼成することにより所定の非画線部パターンを形成する工程とを含む。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のオフセット印刷版においては、非画線部が、インキ材料に対して撥液性を有する官能基にて終端された主鎖を含有する感光性樹脂材料によって構成されており、感光性樹脂材料の表面層が、熱処理によりインキ撥液性を発現されている。その結果、画線部（凹部）の底面および側面はインキ親液性を有しており、高解像度化による画線部面積の微小化に伴う画線部（凹部）の高アスペクト比化に対しても画線部の着インキ性を高く維持することができ、印刷特性の高解像度化が可能となる。
【００２１】
また、本発明にかかるオフセット印刷版の製造方法によれば、非画線部を露光／現像処理のみで形成できる。したがって、従来の製造方法における高解像度化に伴う画線部面積の微小化に起因するインキ反撥層剥離不良や周辺非画線部の撥インキ性低下、さらには該剥離除去されたインキ反撥層かすを含んだ現像廃液によるブラシ使用寿命の低下や廃液処理費用の増大といった課題を回避することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明にかかるオフセット印刷版、およびその製造方法について、図面に基づいて詳細に説明する。
【００２３】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。第１実施形態では、インキ撥液性を有する支持体上に、非画線部をインキ親液性樹脂層と表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層の積層体によって形成しており、図１（ａ）〜（e）は本発明にかかるオフセット印刷版の製造方法の第１実施形態を段階的に示した断面図である。
【００２４】
まず、図１（ａ）に示すように支持体１上にプライマー層（密着層）２、中間層としてのインキ親液性樹脂層３を積層形成する。ここで、一度２００〜２３０℃×１０分程度のポストベーク処理を施し、インキ親液性樹脂層３を焼成する。ここで、支持体１の材質としては、印刷時にかかる荷重に耐え得る材質である必要があるため、一般的にはＡｌ薄板のような金属薄板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチックフィルム、ゴム、石英ガラスなど、あるいはそれらの複合体を挙げることができる。
【００２５】
また、プライマー層（密着層）２は、支持体１とインキ親液性樹脂層３との密着性を向上させるための層であり、経時安定性、および現像液に対する耐溶剤性に優れていることが必要不可欠である。材質としては、例えば、種々の感光性ポリマーやエポキシ樹脂、ゼラチン、ウレタン樹脂等を熱硬化させたものを挙げることができる。
【００２６】
また、インキ親液性樹脂層３は、インキ親液性を有する熱硬化性樹脂材料であり、材質としては、例えば、種々の感光性ポリマーやエポキシ樹脂等を含有する熱硬化性樹脂材料を挙げることができる。
【００２７】
次に、表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４を積層成膜する。ここで、表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４は、アルカリ可溶性のアクリル系光重合性ネガ型レジストであり、光重合開始剤、熱硬化性樹脂、および少なくとも1個以上の光重合可能な不飽和基を有するモノマーからなる主鎖を含有し、その主鎖が部分的にインキ撥液性を有するフルオロ基により終端されているものである。
【００２８】
表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４を積層膜形成後、１００〜１３０℃の温度で２〜３分程度印刷版に予備加熱処理を施すことにより、表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４の表面に表面エネルギーの小さなフルオロ基が集積し、これにより、図１（ｂ）に示すインキ撥液部５が形成される。
【００２９】
続いて、配線パターンを描画したフォトマスク６を表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４の上方に配置し、図１（ｃ）に示すように、画線部２１に対して選択的にＵＶ露光処理を行う。ＵＶ露光処理を行なうことにより、非画線部２１の表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４はともに光重合反応が進み、架橋／硬化が促進されることにより現像液に対して不溶となる。一方、画線部２２の表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４は、未露光のため現像液に対して可溶の状態で維持される。
【００３０】
したがって、ＴＭＡＨあるいはＫＯＨ等のアルカリ水溶液による現像処理を施すことにより、未露光部である画線部の表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４ｂが除去され、画線部（凹部）２２が形成される（図１（ｄ），（e）参照）。この現像処理によって形成された画線部（凹部）２２は、底面は熱硬化性樹脂材料３ｂで形成されており、側面は表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４で形成されている。ここで、画線部（凹部）２２の側面（表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４ａの側面）は、露光／現像処理により新しく生成された表面であるため、フルオロ基の集積度合いが非常に低く、インキに対しては親液性を示す。結果的に、画線部（凹部）２２は底面／側面ともにインキ親液性を有する面により形成されることになる。
【００３１】
本実施形態で用いられる現像液は、従来から使用されている汎用のレジスト現像液であるアルカリ水溶液が用いられる。具体的には、ＴＭＡＨ（Tetramethyl ammonium hydroxide：水酸化テトラメチルアンモニウム）水溶液、ＫＯＨ（水酸化カリウム）水溶液に界面活性剤を微量添加した水溶液が用いられる。
【００３２】
最後に、２００〜２３０℃×１０分程度の最終焼成（ポストベーク）処理を施し、全ての感光樹脂層を焼成／硬化することにより、本発明にかかるオフセット印刷版が形成される。本最終焼成処理において、非画線部２１上の表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４ａも硬化処理される。ここで、既に露光処理により光重合／架橋反応が十分に進んでいるため、表面へのフルオロ基の集積は起こらず、表面インキ撥液性は発現しないため、画線部（凹部）２２の側面（表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４ａの側面）のインキ親液性はそのまま保持される。
【００３３】
以上説明したように、第１実施形態のオフセット印刷版では、非画線部がインキ材料に対して撥液性を有する官能基を含有する感光性樹脂材料によって構成されている。また、本実施形態のオフセット印刷版の製造方法では、感光性樹脂材料表面が熱処理によりインキ撥液性を発現されていることを特徴としている。そして、該熱処理を実施後に画線部（凹部）を露光および現像処理によって形成しているため、画線部（凹部）底面だけでなく側面もインキ親液性を有している。したがって、高解像度化による画線部面積の微小化に伴う画線部（凹部）の高アスペクト比化に対しても画線部の着インキ性を高く維持することができ、印刷特性の高解像度化が可能となる。
【００３４】
また、本実施の形態のオフセット印刷版の製造方法では、非画線部を露光および現像処理のみで形成できる。このため、従来の製造方法における高解像度化に伴う画線部面積の微小化に起因するインキ反撥層剥離不良や周辺非画線部の撥インキ性低下、さらには該剥離除去されたインキ反撥層かすを含んだ現像廃液によるブラシ使用寿命の低下や廃液処理費用の増大といった課題を回避できるため、設備投資や製造コストの削減が可能となる。
【００３５】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。第２実施形態では、非画線部を、第１実施形態におけるインキ親液性樹脂層３を形成することなく、表面層としての表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４のみで形成している。図２（ａ）〜（e）は、本実施形態のオフセット印刷版の製造方法を段階的に示した断面図である。なお、本実施形態における各層は第１実施形態の同一番号を付与した各層と同一材料を示すものとする。
【００３６】
まず、図２（ａ）に示すように支持体１１上にプライマー層（密着層）２、表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４を積層形成する。なお、この積層形成に際して、支持体１１の表面はインキに対して親液性を示す必要があるため、砂目立て処理や陽極酸化処理、フッ化ジルコニウム／ケイ酸ナトリウムによる表面化学処理を施されたアルミニウム基板が用いられる。このようにして積層膜を形成した後、１００〜１３０℃×２〜３分程度の条件で印刷版に予備加熱処理を施して、表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４の表面に表面エネルギーの小さなフルオロ基が集積することにより、図２（ｂ）に示すように、インキ撥液部５が形成される。
【００３７】
続いて、配線パターンを描画したフォトマスク６を表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４の上方に配置し、図２（ｃ）に示すように、画線部２１に対して選択的にＵＶ露光処理を行う。これにより、非画線部２１の表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４は光重合反応が進み、架橋／硬化が促進されることにより現像液に対して不溶となる。一方、画線部２２の表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４は、未露光のため現像液に対して可溶のままとなる。
【００３８】
したがって、ＴＭＡＨ，ＫＯＨ等のアルカリ水溶液による現像処理を施すことにより、未露光部である画線部の表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４ｂが除去され、画線部（凹部）２２が形成される（図２（ｄ），（e）参照）。ここで、現像処理によって形成された画線部（凹部）２２の側面は、露光により新しく生成された表面であるため、フルオロ基の集積度合いが非常に低く、インキに対しては親液性を示す。結果的に、画線部（凹部）２２は底面／側面ともにインキ親液性を有する面により形成されることになる。
【００３９】
最後に、２００〜２３０℃×１０分程度の最終焼成（ポストベーク）処理を施し、全ての感光樹脂層を焼成／硬化することにより、本発明にかかるオフセット印刷版が形成される。本最終焼成処理において、非画線部２１上の表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４ａも硬化処理される。ここで、既に露光処理により光重合／架橋反応が十分に進んでいるため、表面へのフルオロ基の集積は起こらず、表面インキ撥液性は発現しないため、画線部（凹部）２２の側面（表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層４ａの側面）のインキ親液性はそのまま保持される。
【００４０】
以上説明したように、第２実施形態のオフセット印刷版では、非画線部がインキ材料に対して撥液性を有する官能基を含有する感光性樹脂材料によって構成されている。本実施の形態のオフセット印刷版の製造方法では、感光性樹脂材料表面が熱処理によりインキ撥液性を発現されていることを特徴としている。そして、該熱処理を実施後に画線部（凹部）を露光および現像処理によって形成しているため、画線部（凹部）底面だけでなく側面もインキ親液性を有している。したがって、高解像度化による画線部面積の微小化に伴う画線部（凹部）の高アスペクト比化に対しても画線部の着インキ性を高く維持することができ、印刷特性の高解像度化が可能となる。
【００４１】
また、本実施の形態のオフセット印刷版の製造方法では、非画線部を露光および現像処理のみで形成できる。このため、従来の製造方法における高解像度化に伴う画線部面積の微小化に起因するインキ反撥層剥離不良や周辺非画線部の撥インキ性低下、さらには該剥離除去されたインキ反撥層かすを含んだ現像廃液によるブラシ使用寿命の低下や廃液処理費用の増大といった課題を回避できるため、設備投資や製造コストの削減が可能となる。
【００４２】
なお、今回、開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではなく、本発明の範囲は上記の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】（ａ）〜（ｅ）は、本発明の第１実施形態のオフセット印刷版の製造方法における工程を順次示す断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は、本発明の第２実施形態のオフセット印刷版の製造方法における工程を順次示す断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｅ）は、従来のオフセット印刷版の製造方法における工程を順次示す断面図である。
【符号の説明】
【００４４】
１  支持体、２  プライマー層（密着層）、３，３ａ，３ｂ  インキ親液性樹脂層（中間層）、４，４ａ，４ｂ  表面インキ撥液性光重合性感光樹脂層（表面層）、５  インキ撥液部、６  フォトマスク、２１  非画線部、２２  画線部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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