(57)【要約】【課題】周期性のあるパターン、特にハーフトーンマスクのように可視光による検査が困難とされるような被検査体に対しても、ムラを高精度に撮像、検出可能な周期性パターンのムラ検査装置、および方法を提供する。【解決手段】透過照明部１０と、反射照明部２０と、透過照明および反射照明が可能なＸＹステージ部３０と、光源部４０と、被検査基板７０の画像を撮像するための撮像部５０と、撮像部５０からの出力をディジタル化した画像情報として画像入力を行い、画像強調処理等の演算処理を行い、さらに画像を表示する機能を有する処理部６０から構成されていることを特徴とする。【選択図】図２
2009098053.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に周期性パターンが形成されたパターン基板を検査対象基板とし、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査装置であって、
Ｘ軸およびＹ軸方向に駆動する機構を具備する搬送手段と、
前記搬送手段に設置された検査対象基板上の前記周期性パターンに対して、照明ヘッド部の垂直方向角度および水平方向角度調整が可能であり、かつ照明の照射位置が一定であるように制御可能な照明駆動部を具備する透過照明部および反射照明部を有する照明手段と、
前記照明手段によって透過照明または反射照明された前記周期性パターンにおいて生じる回折光を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段の出力をディジタル化した画像情報とする画像入力手段と、
前記画像入力手段により得られた画像情報について、欠陥部抽出・判定処理を行う画像処理手段と、
前記撮像手段で撮像した画像、および前記画像処理手段による処理画像を表示する表示手段と、
を具備し、かつ前記照明手段において、
可視光が照射可能な光源及び紫外光が照射可能な光源と、
光源からの導光手段切替機構と、
各々の光源の点灯および消灯手段とを具備する照明光切替手段と、
前記透過照明部および前記反射照明部において、それぞれ可視光照射のための前記照明ヘッド部および紫外光照射のための前記照明ヘッド部と、
を備えることを特徴とするムラ検査装置。
【請求項２】
前記撮像手段が、少なくとも紫外域〜可視域において撮像可能な受光感度を有し、かつ前記照明手段における紫外光導光手段および紫外光照射のための照明ヘッド部は紫外光透過特性を有する光学部材から成ることを特徴とする、請求項１に記載のムラ検査装置。
【請求項３】
前記照明手段における光源が、メタルハライドランプおよび水銀キセノンランプであることを特徴とする、請求項１、２のいずれかに記載のムラ検査装置。
【請求項４】
前記照明手段が前記周期性パターンに対して平行光を照射し、前記撮像手段が前記周期性パターンに対して垂直な透過回折光および反射回折光のみを抽出する光学系を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のムラ検査装置。
【請求項５】
前記照明手段における光源の動作時間に対する光量変動幅が１％以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のムラ検査装置。
【請求項６】
前記照明手段における光源において、内部にバンドパスフィルターが複数設置可能であり、かつ前記バンドパスフィルターを切り替え可能なフィルターチェンジャー部を内蔵していることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のムラ検査装置。
【請求項７】
基板上に周期性パターンが形成されたパターン基板を検査対象基板とし、照明手段により照明光を前記検査対象基板に斜め入射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査方法であって、
検査対象基板に応じて、前記照明手段について、透過回折光または反射回折光、可視光又は紫外光、照明角度を設定する検査条件設定工程と、
前記検査条件に応じて前記照明手段を切替え、透過照明または反射照明された前記周期性パターンにおいて生じる回折光を撮像する撮像工程と、
前記撮像段階の出力をディジタル化した画像情報とする画像入力工程と、
前記画像入力段階により得られた画像情報について、欠陥部抽出・判定処理を行う画像処理工程と、
を有することを特徴とするムラ検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、周期性パターンを有する被検査体においてパターンのムラを検査するための装置および方法に関する。周期性パターンとは、一定の間隔を有するパターンの集合体を称し、例えば、パターンが所定のピッチで配列したストライプ状の周期性パターン、または開口部のパターンが所定の周期で２次元的に配列したマトリクス状のパターン等が該当する。周期性パターンを有する被検査体としては特に、半導体装置、撮像デバイスおよび表示デバイス等を製造する際にフォトリソグラフィー処理の露光工程で用いられるフォトマスクが挙げられる。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置、撮像デバイスおよび表示デバイス等の製造工程で用いられるフォトマスクとしては、ガラス等の透明基板上にクロム等の遮光膜が一定のパターンに部分的に除去されて構成されたものが知られている。
【０００３】
フォトマスクのような周期性パターンにおけるムラ欠陥は、通常微細なピッチズレや位置ズレが規則的に配列していることが原因であることが多いため、個々のパターン検査では発見することが困難であるが、周期性パターンを広い領域において観察した時に初めて認識される欠陥である。
【０００４】
従来の周期性パターンにおけるムラ検査では、同軸の透過照明や平面照明を用いて透過率画像を撮像し、各々の画像での光強度を比較することによって正常部とムラ部の視認を行っている。しかし、正常部とムラ部における光の強度差は決して大きいわけではなく、得られる画像のコントラストは低い。そのため、コントラストの低い画像に対しその強度差の処理方法を工夫することでコントラストアップを図り、ムラ部を抽出し検査を行っている（特許文献１参照）。
【０００５】
しかし、上記従来技術においては、格子状周期性パターンのブラックマトリクスのムラ、特に開口部の大きいブラックマトリクスのムラの撮像において、正常部とムラ部でのコントラスト向上が期待されず、強度差の処理を工夫したとしても元画像のコントラストが低い画像の場合の検査では、目視での官能検査方法より低い検査能力しか達成できないという問題がある。
【０００６】
一方、半導体の微細化や、微細な表示と明るい画面の電子部品の増加により、前記周期性パターンでは微細化、または開口部比率の増大傾向が進んでいる。将来的には、より開口部の大きい、より微細形状の周期性パターンのムラ検査装置およびその方法が必要となる。すなわち、従来の光の振幅による光の強度（明るさ）の強弱のみの出力では限界がある。
【０００７】
そこで、周期性のあるパターン、例えばブラックマトリクスムラを安定的、高精度に撮像、検出可能な周期性パターンムラ検査装置を提供することを目的として、照明光が被検査体に照射され、周期性パターンによって生じる透過回折光を画像検査する、例えば特許文献２のような検査装置が提案された。周期性パターンの正常部では開口部の形状・ピッチが一定となるため互いに干渉し一定の方向に回折光を生じる。それに対し、ムラ部では開口部の形状、ピッチが不規則になるため、形状、ピッチに応じて種々の方向に、種々の強さで回折光が生じる。この検査装置では、正常部とムラ部における回折光強度コントラストの違いから、ムラ部を検出する方式をとっている。
【０００８】
ところで、周期性パターン、例えばフォトマスクにおいては、パターンの微細化が進んでおり、フォトリソグラフィー処理の露光工程時において、ステッパの解像力に限界が迫りつつあることや、レンズ縮小系だけで解像力を向上させることが困難となりつつある。このため各種の解像力向上技法が提案されてきており、その中の１つに位相シフトマスクが挙げられる。位相シフトマスクはガラスと遮光部の透過位相を１８０度ずらし、光の干渉効果を利用して微細パターンを解像するマスクである。この中では、遮光部を半透明膜にしたハーフトーンマスクが多く利用されている。図１に、従来のＣｒマスクとハーフトーンマスクとの比較を模式的に示す。
【０００９】
ハーフトーンマスクは従来のＣｒマスクと異なり、露光波長で高いコントラストが得られるように膜の透過率と位相が決められている。半透膜材質としては、ＭｏＳｉ系の単層膜が広く用いられており、その分光透過率は可視域において５０〜６０％におよぶ場合もあり、Ｃｒ遮光膜に比べて高い値となる特性を有している。
【００１０】
前述した透過回折光を用いる検査装置では、照明光として可視光を用いている。そのため、ハーフトーンマスクを検査対象とした場合、ほとんどの光の成分はパターン部にて遮光されずに透過してしまう。その結果得られる検査画像では明暗のコントラストが低くなり、正常部とムラ部とのコントラストが著しく低くなってしまうため、回折光強度コントラストの違いからムラ部を検出する方法は困難となってしまう。
【００１１】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開２００２−１４８２１０号
【特許文献２】特開２００６−２０８０８４号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、周期性のあるパターン、特にハーフトーンマスクのように可視光による検査が困難とされるような被検査体に対しても、ムラを高精度に撮像、検出可能な周期性パターンのムラ検査装置、および方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために為された請求項１に記載の発明は、基板上に周期性パターンが形成されたパターン基板を検査対象基板とし、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査装置であって、Ｘ軸およびＹ軸方向に駆動する機構を具備する搬送手段と、前記搬送手段に設置された検査対象基板上の前記周期性パターンに対して、照明ヘッド部の垂直方向角度および水平方向角度調整が可能であり、かつ照明の照射位置が一定であるように制御可能な照明駆動部を具備する透過照明部および反射照明部を有する照明手段と、前記照明手段によって透過照明または反射照明された前記周期性パターンにおいて生じる回折光を撮像する撮像手段と、前記撮像手段の出力をディジタル化した画像情報とする画像入力手段と、前記画像入力手段により得られた画像情報について、欠陥部抽出・判定処理を行う画像処理手段と、前記撮像手段で撮像した画像、および前記画像処理手段による処理画像を表示する表示手段と、を具備し、かつ前記照明手段において、可視光が照射可能な光源及び紫外光が照射可能な光源と、光源からの導光手段切替機構と、各々の光源の点灯および消灯手段とを具備する照明光切替手段と、前記透過照明部および前記反射照明部において、それぞれ可視光照射のための前記照明ヘッド部および紫外光照射のための前記照明ヘッド部と、を備える特徴とするムラ検査装置としたものである。
【００１４】
また請求項２に記載の発明は、前記撮像手段が、少なくとも紫外域〜可視域において撮像可能な受光感度を有し、かつ前記照明手段における紫外光導光手段および紫外光照射のための照明ヘッド部は紫外光透過特性を有する光学部材から成ることを特徴とする、請求項１に記載のムラ検査装置としたものである。
【００１５】
また請求項３に記載の発明は、前記照明手段における光源が、メタルハライドランプおよび水銀キセノンランプであることを特徴とする、請求項１、２のいずれかに記載のムラ検査装置としたものである。
【００１６】
また請求項４に記載の発明は、前記照明手段が前記周期性パターンに対して平行光を照射し、前記撮像手段が前記周期性パターンに対して垂直な透過回折光および反射回折光のみを抽出する光学系を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のムラ検査装置としたものである。
【００１７】
また請求項５に記載の発明は、前記照明手段における光源の動作時間に対する光量変動幅が１％以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のムラ検査装置としたものである。
【００１８】
また請求項６に記載の発明は、前記照明手段における光源において、内部にバンドパスフィルターが複数設置可能であり、かつ前記バンドパスフィルターを切り替え可能なフィルターチェンジャー部を内蔵していることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のムラ検査装置としたものである。
【００１９】
また請求項７に記載の発明は、基板上に周期性パターンが形成されたパターン基板を検査対象基板とし、基板上に周期性パターンが形成されたパターン基板を検査対象基板とし、照明手段により照明光を前記検査対象基板に斜め入射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査方法であって、被検査基板に応じて、照明手段について、透過回折光または反射回折光、可視光又は紫外光、照明角度を設定する検査条件設定工程と、前記検査条件に応じて前記照明手段を切替え、透過照明または反射照明された前記周期性パターンにおいて生じる回折光を撮像する撮像工程と、前記撮像段階の出力をディジタル化した画像情報とする画像入力工程と、前記画像入力段階により得られた画像情報について、欠陥部抽出・判定処理を行う画像処理工程と、を有することを特徴とするムラ検査方法としたものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の周期性パターンのムラ検査装置および方法によれば、周期性のあるパターン、特にハーフトーンマスクのように可視光による検査が困難とされるような被検査体に対しても、ムラを高精度に撮像、検出することができる。
つまり、本発明のムラ検査装置及びムラ検査方法によれば、
１）従来の照射光の波長領域では、回折光パターンのコントラストが小さく、検出が困難であった被検査体においても、可視光域から紫外線領域に渡る波長領域で検査可能であるために、最適な波長を選択し、検出精度を向上させることができた。
２）可視光及び紫外光の選択、さらには反射光及び透過光による照射の選択が導光手段切替機構等により被検査体の特性に合わせて適宜設定することが可能であるため、一つの装置で多品種の被検査体に対応することが可能となった。
３）また各照明ヘッド部の垂直方向角度および水平方向角度、照明駆動部を有することにより、照明の投射位置を変えずに照明角度を変化させることができるため、各光源波長、及び基板の周期性パターンに合わせて観察検査することができた。
４）さらに動作時間に対する光量変動幅が１％以下で光量安定度が高い光源を用いることにより、検査により取得される画像の安定性・検査結果再現性を確保することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明を適用する周期性パターンのムラ検査装置の実施形態について説明する。図２は本発明によるムラ検査装置１の概略構成図である。図２に示すように、本装置は透過照明部１０と、反射照明部２０と、透過照明および反射照明が可能なＸＹステージ部３０と、光源部４０と、被検査基板７０の画像を撮像するための撮像部５０と、撮像部５０からの出力をディジタル化した画像情報として画像入力を行い、画像強調処理等の演算処理を行い、さらに画像を表示する機能を有する処理部６０から構成されている。なお、本装置は外乱光や迷光を極力低減させた暗環境かつ被検査基板への異物付着を防止するクリーン環境で稼動されることが望ましい。
【００２２】
透過照明部１０では、ターンテーブル１１上に円弧レール１２が設置されており、円弧レール１２には可視光照射用照明ヘッド１３、紫外光照射用照明ヘッド１４がそれぞれ設けられている。ターンテーブル１１が回転することにより水平方向の照射角度調整が可能であり、また円弧レール１２を駆動させることによって垂直方向の照射角度調整が可能となっている。これらの機能により、ＸＹステージ部３０上の被検査基板７０に対して、様々な角度・方向からの透過照明が可能となっている。なお、各照明ヘッド部には平行光学系が設けられている。また、紫外光照射用照明ヘッド１４およびライトガイド１６に関しては、紫外光透過特性を有する光学部材から成るものを選定している。
【００２３】
反射照明部２０にも同様にターンテーブル２１上に円弧レール２２、２３が設置されており、円弧レール２２には可視光照射用照明ヘッド２４、円弧レール２３には紫外光照射用照明ヘッド２５がそれぞれ設けられている。ターンテーブル２１が回転することにより水平方向の照射角度調整が可能であり、また円弧レール２２を駆動させることによって垂直方向の照射角度調整が可能となっている。これらの機能により、ＸＹステージ部３０上の被検査基板７０に対して、様々な角度・方向からの反射照明が可能となっている。なお、各照明ヘッド部には平行光学系が設けられている。また、紫外光照射用照明ヘッド２５およびライトガイド２７に関しては、紫外光透過特性を有する光学部材から成るものを選定している。
【００２４】
ＸＹステージ部３０では、被検査基板７０をＸＹステージ部の所定の位置に載置する。前記ＸＹステージ部３０は、測定機能を有し、位置を認知して、被検査基板７０の検査開始位置に装置の光軸を重ねる。Ｘ軸およびＹ軸方向に駆動する手段を用いて、予め設定した動作手順に従ってＸＹステージをＸ軸およびＹ軸方向に駆動する。
【００２５】
光源部４０は、可視光照射用光源４１と、紫外光照射用光源４２と、透過／反射光および可視／紫外光切替を行うための照明光切替機構部４３と、光源点灯／消灯切替動作および照明光切替機構部動作制御を行う光源部制御装置４４から構成される。可視光照射用光源４１にはフィルターチェンジャー機構が設けられており、複数の波長選択フィルタを用いることが可能となっている。また紫外光照射用光源４２にはＵＶバンドパスフィルターが搭載されている。なお本実施例では、可視光照射用光源４１としてメタルハライドランプを、紫外光照射用光源４２として水銀キセノンランプを用いており、どちらの光源においても、動作時間に対する光量変動幅が１％以下で光量安定度が高いものを選定していることが特徴である。照明光切替機構部４３は、図３に示すように入射側には２箇所、出射側には４箇所のライトガイド取付口が設けられており、入射側円盤を図３に示す方向に回転させ、かつ２つの照明の点灯／消灯の切替を行うことにより、図４に示すように透過照明と反射照明の切替を行うことが可能となっている。以上の機能を活用することによって、被検査基板７０のパターン密度・レイアウト・膜種等の製品情報に応じた最適検査波長を設定することが可能となる。
【００２６】
撮像部５０は、画像を撮像する手段としてのカメラ５１と、光軸に平行な撮像側平行光学系５２から構成される。カメラ５１としては各種のカメラを使用することができるが、その用途に応じてエリアカメラ、ラインカメラ等の選択が可能である。なお本実施例ではカメラ５１はエリアカメラを用いているが、エリアカメラの性能は、被検査基板のパターン密度、レイアウト等を考慮して撮像分解能等が最適な物を選定することが望ましい。また、複数台の性能の異なるカメラとカメラ切替機構を具備することにより、使用カメラの切替で検査毎に最適なものを選択できるようにしてもよい。また、撮像側平行光学系５２は倍率調整機能や絞りの自動調整機能等の機能を具備していても良い。
【００２７】
処理部６０では、透過照明部１０、反射照明部２０、ＸＹステージ部３０、光源部４０、および撮像部５０の動作管理および制御を行う。さらに処理部６０では、撮像部５０からの出力を画像入力装置６４によりディジタル化した画像情報として取り込み、該画像情報に対して所定のデータ処理を行い、該画像情報の特徴量の数値化を行い、合否を判定する。前記データ処理手順としては、シェーディング補正や膨張・収縮処理等のノイズ除去処理や、フィルタリング処理等による画像強調処理、プロジェクション法等による特徴量抽出処理、およびそれらの複合処理等が挙げられる。
【００２８】
図５は、本発明の実施形態による検査方法を示すフローチャート図である。本発明の実施形態による検査方法は、Ｓ１〜Ｓ１５という一連のステップによって行われる。以下、各ステップの内容をステップ順に説明する。
【００２９】
電源の投入や光源の点灯など、装置全体の立ち上げを行う（Ｓ１）。
【００３０】
検査条件設定前の初期条件設定を行う。この段階で、透過光を利用するか、反射光を利用するかどうかも合わせて決定される（Ｓ２）。
【００３１】
被検査基板７０におけるピッチ、Ｌ／Ｓ、チップレイアウト等の製品情報を入力する。この段階で、使用する光源とフィルタの組合せが決定される（Ｓ３）。
【００３２】
ステージ３１を、Ｓ２で設定した初期条件設定の位置まで移動する（Ｓ４）。
【００３３】
ステージ３１の所定の位置に、被検査基板７０を載置する（Ｓ５）。
【００３４】
設定された検査開始位置にステージ３１を移動する（Ｓ６）
【００３５】
透過照明部１０および反射照明部２０、および光源部４０について、光量の設定、水平方向角度、垂直方向角度、および被検査基板７０への投光位置の設定を行う（Ｓ７ａ〜Ｓ７ｄ）。
【００３６】
検査時に用いる撮像部５０の撮像倍率等を設定する（Ｓ８）。
【００３７】
上記Ｓ５〜Ｓ８による検査条件の設定が終了した後、ＸＹステージを所定の動作に従って駆動させ、カメラ５１による撮像により画像情報を取得する。
【００３８】
また、同一範囲での撮像を複数回繰り返し、複数の検査画像を取得してもよい。前記の複数回の撮像を行う場合には、撮像時ごとに透過照明部、反射照明部および撮像部の設定を異なる設定に変更し、複数の異なる検査条件下における検査画像を取得しても良い（Ｓ９）。
【００３９】
以上のようにして得られた検査画像に対して、処理部４０にてシェーディング補正や膨張・収縮処理等のノイズ除去処理、フィルタリング処理等による画像強調処理、プロジェクション法等による特徴量抽出処理等の各種データ処理を行い、検査画像の特徴量を数値化し、被検査基板７０の合否判定および結果出力を行う（Ｓ１０〜Ｓ１３）。
【００４０】
これらの手順により被検査基板７０の検査が終了した後、ステージ３１から被検査基板７０を搬出し、装置全体の立ち下げを行い、本装置における周期性パターンのムラ検査の全工程が終了する（Ｓ１４、Ｓ１５）。
【００４１】
以上に記述した各工程における一連の動作は、対人操作装置６３による操作あるいは予め組み込まれたプログラムによって実行され、これらの検査経過情報や出力結果が表示装置６２に表示される。
【００４２】
前述した手段を具備した周期性パターンのムラ検査装置では、斜め方向からの投光を行うことによって生じる、周期性パターンでの透過回折光あるいは反射回折光を撮像することを特徴とする周期性パターンのムラ検査装置である。
【００４３】
このように構成された本周期性パターンのムラ検査装置において、透過照明部１０あるいは反射照明部２０から照射された光が周期性パターンの被検査基板７０の周期性パターンにて回折され、その回折光が画像として撮像部５０に捉えられる。回折された光においては、スリット部または開口部の形状・ピッチの差異が強調される効果があり、さらに照明の入射角度を少しずつ変化させることによっても回折光の差異は強調される。
【００４４】
前記被検査基板７０にて回折される回折光は、フォトマスクやブラックマトリクスの線幅やスリット幅、パターンの寸法や位置ズレ等に微妙な変動があると、その変動部において光の回折角が変化するため、前記撮像部５０に捉えられた画像は変動部に起因したムラを強調した画像となる（図６に模式的に示す）。さらに、透過照明部１０および反射照明部２０、撮像部５０に平行光学系を用いることによって、回折光の変動をより精度良く強調した画像を捉えることが可能となる。
【００４５】
また図７に、被検査基板７０としてハーフトーンマスクを検査した場合における、可視光によるムラの可視化例と、紫外光によるムラの可視化例をそれぞれ模式的に示す。ハーフトーンマスクは従来のＣｒマスクと異なり、露光波長で高いコントラストが得られるように半透膜の透過率と位相が決められている。そのため、図７（ａ）のように例えば波長５５０ｎｍの可視光を照射した場合、ほとんどの光の成分はパターン部にて遮光されずに透過してしまう。その結果得られる検査画像では明暗のコントラストが低くなり、正常部とムラ部とのコントラストが著しく低くなってしまい、合否の判別が困難となってしまう。しかし図７（ｂ）に示すように、露光波長に比較的近い紫外光を照射した場合には、ある程度の光の成分がパターン部にて遮光され、パターン部において生じる回折光の抽出が比較的容易となる。そのため、検査画像においては正常部とムラ部とのコントラスト差が確保されるため、合否の判別が可能となる。
【００４６】
このようにして、被検査基板７０の製品情報からその都度最適な検査光・検査波長帯域を決定し、最適な検査条件を設定することにより、種々の被検査対象物に対して高精度にムラを検出することが可能となる。
【００４７】
また、動作時間に対する光量変動幅が１％以下で光量安定度が高い光源を採用したことにより、検査により取得される画像の安定性・検査結果再現性を確保することが可能となる。
【００４８】
そして、判定されたムラ部の位置やレベルをムラ画像と同時に表示装置６２に表示することで、ムラのモニター用途としての利用も有効となっている。
【００４９】
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、周期性パターンのムラを安定に、高精度に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】Ｃｒマスクとハーフトーンマスクの比較を模式的に示した図である。
【図２】本発明の周期性パターンのムラ検査装置概略構成を示す模式図である。
【図３】本発明における、照明光切替機構部４３の模式図である。
【図４】本発明における、照明光切替機構部４３による照明光切替動作の模式図である。
【図５】本発明の検査方法の実施形態を示すフローチャート図である。
【図６】本発明における、回折光による周期性パターンのムラ可視化の模式図である。
【図７】本発明における、ハーフトーンマスクを被検査基板とした場合における可視光と紫外光を用いた場合でのムラ可視化の差異を模式的に示した図である。
【符号の説明】
【００５１】
１０     透過照明部
１１     ターンテーブル
１２     円弧レール
１３     可視光照射用照明ヘッド
１４     紫外光照射用照明ヘッド
１５     ライトガイド
１６     ライトガイド
２０     反射照明部
２１     ターンテーブル
２２     円弧レール
２３     円弧レール
２４     可視光照射用照明ヘッド
２５     紫外光照射用照明ヘッド
２６     ライトガイド
２７     ライトガイド
３０     ＸＹステージ部
３１     ステージ
３２     Ｘ駆動機構
３３     Ｙ駆動機構
４０     光源部
４１     可視光照射用光源
４２     紫外光照射用光源
４３     照明光切替機構部
４４     光源制御装置
４５     ライトガイド
４６     ライトガイド
５０     撮像部
５１     カメラ
５２     撮像側平行光学系
６０     処理部
６１     演算処理装置
６２     表示装置
６３     対人操作装置
６４     画像入力装置
７０     被検査基板 
【図１】
2009098053.tif 000003
【図２】
2009098053.tif 000004
【図３】
2009098053.tif 000005
【図４】
2009098053.tif 000006
【図５】
2009098053.tif 000007
【図６】
2009098053.tif 000008
【図７】
2009098053.tif 000009