(57)【要約】【課題】薄膜型のセンサは、電気力線密度の最も高い個所が保護膜に覆われてしまっていて感度が低いため、測定部位が口腔内等の柔らかい部位の場合には、その部位に対してセンサを一様に接触させないと再現性の良い測定結果を得ることができない。しかしセンサを測定部位に押しつける力を大きくすると、その力に抗するための構造が必要になり、角度調整機構を設けた場合には、測定器のセンサ側の構造が複雑化し、大型化してしまう。【解決手段】そこで、本発明では、静電容量検出回路２に接続する２系統のセンシング用エナメル線３、４が空間５を介して近接配置状態で保持されている静電容量式水分センサを提案する。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電容量検出回路に接続する２系統のセンシング用エナメル線が空間を介して近接配置状態で保持されていることを特徴とする静電容量式水分センサ。
【請求項２】
センシング用エナメル線が、剛性を有する支持体により近接配置状態で保持されていることを特徴とする請求項１に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項３】
支持体が、エナメル線であることを特徴とする請求項２に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項４】
支持体が、エナメル線の枠であることを特徴とする請求項２に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項５】
センシング用エナメル線が、剛性を有し、且つ厚さ方向に弾性変形可能な薄板状絶縁部材から構成される支持体により近接配置状態で保持されていることを特徴とする請求項１に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項６】
薄板状絶縁部材がフレキシブルプリント基板であることを特徴とする請求項５に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項７】
２系統のセンシング用エナメル線が、自体の剛性により、近接配置状態で保持されていることを特徴とする請求項１に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項８】
２系統のセンシング用エナメル線が、対向した櫛形状に近接配置されていることを特徴とする請求項１〜７までのいずれか１項に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項９】
２系統のセンシング用エナメル線が、並行した蛇行形状に近接配置されていることを特徴とする請求項１〜７までのいずれか１項に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項１０】
２系統のセンシング用エナメル線が、格子状に近接配置されていることを特徴とする請求項１〜７までのいずれか１項に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項１１】
格子状に近接配置された２系統のセンシング用エナメル線が網状に編成されていることを特徴とする請求項１０に記載の静電容量式水分センサ。
【請求項１２】
近接配置した２系統のセンシング用エナメル線間に線状体を配置したことを特徴とする請求項１〜１１までのいずれか１項に記載の静電容量式水分センサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば口腔内の舌等の部分の水分を測定するため等に使用する静電容量式水分センサに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
口腔内の水分、即ち唾液の量を測定する口腔内水分センサの一つとして、静電容量式水分センサが使用されている。
【０００３】
静電容量式水分センサは、水分の誘電率が人体の他の部分と比較して高いことを利用して、静電容量により水分量を測定するものであり、近年は、小型で静電容量を大きくすることが容易であることから、薄膜型のセンサが関心を集めている。
【０００４】
図２３、図２４は薄膜型の静電容量式水分センサの一例を概念的に示す説明図であり、図２３は平面図を含む系統図、図２４は図２３のＧ−Ｇ線断面図である。符号ａは絶縁物の基板であり、この基板ａ上に、センシング用の一対の電極としての２系統の導体ｂ，ｃを、対向させた櫛形形状に形成し、その後、これらの導体ｂ，ｃを保護するために保護膜ｄを、塗布や貼り付け等により形成している。そしてこれらの２系統の導体ｂ，ｃは、リード線ｅ，ｆにより静電容量検出回路ｇに接続している。
【０００５】
図２４中の実線ｈは、このようなセンサにおいて生じる電気力線を示すものであり、本来は、電気力線密度が高い個所に測定対象の水分を位置させると効率が良く、高感度となるのであるが、電気力線密度が最も高い個所は保護膜ｄに覆われてしまっているため測定対象の水分はその個所まで到達できず、効率的にはあまり良くない。
【０００６】
一方、剛性を有するセンサを把持部材に固定し、測定者が把持部材を持ってセンサを測定部位に押しつけ、接触させて測定するようにした従来の接触式測定器では、センサを測定部位に押しつけて接触させる力の方向やその力の程度によって、接触状況が変化すると測定値にバラツキが生じてしまうため、それを防ぐための手段として、例えば特許文献１に記載された発明では、センサを対象部位に押しつける力の方向が、常にセンサと測定部位との接触面に直角となるようにセンサを把持部材に対して傾動可能とする角度調整機構を設け、更に接触圧を検出する圧力センサを設けている。
【特許文献１】特開２００５−２０５０４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したとおり薄膜型のセンサは、電気力線密度の最も高い個所が保護膜に覆われてしまっていて感度が低いため、測定部位が口腔内等の柔らかい部位の場合には、その部位に対してセンサを一様に接触させないと再現性の良い測定結果を得ることができない。
【０００８】
しかしながら、薄膜型のセンサは、保護膜により測定部位に接触する面積が大きく、しかも表面が平坦でないため、特許文献１に示されるようなセンサの角度調整機構を設けるか、あるいはセンサを測定部位に押しつける力を大きくしなければ、測定部位に対してセンサを一様に接触させるのが困難である。特に、測定部位が口腔内の場合には、測定時に測定部位に対してのセンサの接触状況を目視することができないので、正確な測定が更に困難である。
【０００９】
またセンサを測定部位に押しつける力を大きくすると、その力に抗するための構造が必要になり、特許文献１に示されるような角度調整機構では、測定器のセンサ側の構造が複雑化し、大型化してしまうという問題点が生じる。
本発明は、以上の課題を解決することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明では、上述した目的を達成するために、静電容量検出回路に接続する２系統のセンシング用エナメル線が空間を介して近接配置状態で保持されている静電容量式水分センサを提案する。
【００１１】
そして本発明では、上記構成において、センシング用エナメル線が、剛性を有する支持体により保持されている構成とすることができる。この場合、支持体は、太いエナメル線としたり、エナメル線の枠とすることができる。
【００１２】
また本発明では、上記構成において、センシング用エナメル線が、剛性を有し、且つ厚さ方向に弾性変形可能な薄板状絶縁部材から構成される支持体により近接配置状態で保持されている静電容量式水分センサを提案する。この場合、薄板状絶縁部材はフレキシブルプリント基板とすることができる。
【００１３】
また本発明では、上記構成において、２系統のセンシング用エナメル線が、支持体によってではなく、自体の剛性により、近接配置状態で保持されている静電容量式水分センサを提案する。
【００１４】
また本発明では、以上の構成において、２系統のセンシング用エナメル線が、対向した櫛形状又は並行した蛇行形状に近接配置されている静電容量式水分センサを提案する。
【００１５】
また本発明では、以上の構成において、２系統のセンシング用エナメル線が、格子状に近接配置されている静電容量式水分センサを提案する。更に本発明では、この格子状に近接配置された２系統のセンシング用エナメル線が網状に編成されている静電容量式水分センサを提案する。
【００１６】
また本発明では、以上の構成において、近接配置した２系統のセンシング用エナメル線間に線状体を配置した静電容量式水分センサを提案する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の静電容量式水分センサでは、静電容量検出回路に接続する２系統のセンシング用エナメル線が、空間を介して近接配置状態で保持されている構成のため、測定において口腔内等の測定部位に接触するのはセンシング用エナメル線の部分であり、接触面積が小さいので、小さな力で安定的に接触が可能である。
【００１８】
センシング用エナメル線は、それ自体の弾性により変形が可能であるため、角度調整機構を用いなくても小さな力で測定部位との良好な接触が可能であり、耐久性にも優れる。
【００１９】
センシング用エナメル線を保持する支持体は、剛性を有する太いエナメル線としたり、エナメル線の枠とすることができるが、この他、剛性を有し、且つ厚さ方向に弾性変形可能な薄板状絶縁部材、例えばフレキシブルプリント基板から構成される支持体により近接配置状態で保持する構成とすれば、センサ本体部の薄型化と、測定部位の面に追従する変形性を得ることができる。
【００２０】
この場合には、測定部位の面とのセンシング用エナメル線の接触面積をより広くすることができるため、高感度化が可能となり、接触に際しての押圧力や接触角度が異なることによる誤差を低減することができる。
【００２１】
また本発明の静電容量式水分センサにおいては、測定対象の水分は、電気力線密度の最も高いセンシング用エナメル線間の空間に到達できるので、効率良く、高感度の測定を行うことができる。
【００２２】
本発明の静電容量式水分センサでは、静電容量式水分センサの一対の電極を、エナメル線により構成しているので、それらを近接配置する形態において非常に自由度が高く、それらの間隔を狭くして、センシング用エナメル線の配置密度を高くすることにより感度の増大を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
次に本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。
まず図１は本発明に係る静電容量式水分センサの第１の実施の形態を概念的に示す説明図であり、図１は平面図を含む系統図、図２は図１のＡ−Ａ線断面図である。
符号１は静電容量式水分センサを示すものであり、このセンサ１は、静電容量検出回路２に接続する２系統のセンシング用エナメル線３、４を空間５を介して近接配置状態で保持した構成である。符号６、７はセンシング用エナメル線３、４と静電容量検出回路２とを接続するリード線である。この実施の形態では、エナメル線３、４は、対向した櫛形状に近接配置し、この状態で適宜の保持機構により保持しているが、近接配置の形態や、その保持機構の例は後述する。
【００２４】
尚、本発明において、エナメル線３、４は、銅線やアルミニウム線等の良導電性線材に、エナメル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリイミド、ポリビニルホルマール、ナイロン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、エポキシ等の樹脂系絶縁層を被覆したものを称している。エナメル線３、４における絶縁被膜９のは、測定性能的には薄いほど良いが、使用時における損傷等を考慮して、適宜に設定することができる。例えば市販されているエナメル線を使用する場合、その膜厚は、0.039〜0.044mm程度である。
【００２５】
以上の構成において、本発明の静電容量式水分センサでは、静電容量検出回路に接続する２系統のセンシング用エナメル線３、４が、空間５を介して近接配置状態で保持されている構成のため、図２の（ｂ）に示すように、測定において口腔内等の測定部位１０に接触するのはセンシング用エナメル線３、４の部分のみであり、従って導体の表面に保護膜を形成している従来の薄膜型のセンサと比較して、測定部位１０との接触面積が小さいので、センシング用エナメル線３、４を小さな力で安定的に測定部位１０に接触させることが可能である。
【００２６】
また、センシング用エナメル線３、４は、それ自体の弾性により変形が可能であるため、上述した特許文献１に記載されているような角度調整機構を用いなくても小さな力で測定部位１０との良好な接触が可能であり、耐久性にも優れる。
【００２７】
更にこの静電容量式水分センサ１では、図２の（ａ）に示すように電気力線１１が生じるが、（ｂ）に示す測定状態において測定対象の水分１２は、電気力線密度の最も高い、センシング用エナメル線３、４間の空間５に位置するので、効率良く、高感度の測定を行うことができる。
【００２８】
次に図３、図４は本発明に係る静電容量式水分センサの第２の実施の形態を示すもので、図３は平面図、図４は図３のＢ−Ｂ線断面図である。この実施の形態は、２系統のエナメル線３、４を、対向した櫛形状に近接配置して保持する具体例に相当するものである。
この実施の形態では、リード線６、７は太いエナメル線とし、その先端側を結合部材１３により結合して剛性を持たせることにより、リード線６、７の先端自体をセンシング用エナメル線３、４の支持体として構成している。
即ち、リード線６、７の先端側には絶縁物１４を部分的に取り除いた導体の露出部１５を形成すると共に、センシング用エナメル線３、４は、リード線６、７に直交するように複数を交互に配置して、それらに対応するリード線６、７側において、端部の絶縁被膜９を剥がして導体８を露出し、これらの導体８とリード線６、７の露出部１５を接触させて溶接、ろう接等により接合することにより、センシング用エナメル線３、４を、夫々に対応するリード線６、７に電気的に接続している。符号１６は接合部を模式的に示すもので、これらの電気的接続個所には、図４に示すように（図３においては省略）接着剤１７を塗布して、リード線６、７とセンシング用エナメル線３、４との固定に供すると共に電気的接続個所の絶縁に供する。またセンシング用エナメル線３、４において、リード線６、７と電気的接続をしていない側の端部にも接着剤１７を塗布して端部の絶縁処理を行っている。
【００２９】
以上の構成では、センシング用エナメル線３、４は、剛性を有するリード線６、７の先端側で両端部が支持されることにより、センサとしての形状が維持され、測定値の再現性の良いセンサを構成することができる。リード線６、７の先端側は、ある程度弾性変形が可能であるので、センシング用エナメル線３、４の弾性変形と伴って、測定部位１０との良好な接触が可能である。
【００３０】
次に図５、図６は本発明に係る静電容量式水分センサの第３の実施の形態を示す説明図であり、図５は平面図を含む系統図、図６は図３のＣ−Ｃ線断面図である。
この実施の形態では、エナメル線で構成した一対のリード線６、７の一方側、この場合、リード線７の先端を直角に屈曲させて、リード線６、７の先端にエナメル線で構成した方形枠１８を固定している。そしてこの方形枠１８に複数のセンシング用エナメル線３、４を縦横に格子状に配置し、網状に編成して支持している。即ち、この構成では、方形枠１８が上述した剛性を有する支持体に相当する。
【００３１】
そして縦横に格子状に配置したセンシング用エナメル線３、４の、夫々リード線６、７側の端部は、絶縁被膜９を剥がして導体８を露出すると共に、対応するリード線６、７の先端にも絶縁物１４を部分的に取り除いた導体の露出部１５を形成し、導体８と露出部１５を接触させて上述と同様に溶接、ろう接等により接合することにより、センシング用エナメル線３、４を、夫々に対応するリード線６、７に電気的に接続する。一方、センシング用エナメル線３、４の他端部は、一端側と同様に溶接、ろう接等により相互に電気的接続を行う。そして、これらの電気的接続個所には、図６に示すように（図５においては省略）接着剤１７を塗布して、リード線６、７とセンシング用エナメル線３、４及び方形枠１８との固定に供すると共に電気的接続個所の絶縁に供する。尚、第２の実施の形態と同様に、符号１６は接合部を模式的に示すものである。
【００３２】
ここで上記方形枠１８は、絶縁体により構成する他、センシング用エナメル線３、４の導体８との電気的接触が行われない構成とすれば、金属等の導体により構成することもできる。またリード線６、７の先端への方形枠１８の固定方法も適宜である。
【００３３】
以上の構成では、センシング用エナメル線３、４は、方形枠１８とリード線６、７で両端部が支持されることにより、センサとしての形状が維持され、測定値の再現性の良いセンサを構成することができる。また、この構成では、センシング用エナメル線３、４の両端部は方形枠１８により変形しないように維持されるが、中間部は、ある程度、弾性変形が可能であるので、測定部位との良好な接触が可能である。
【００３４】
またこの構成では、センシング用エナメル線３、４で構成される格子に表面張力により水分を保持することができるので、測定の安定化と、感度の増大を図ることができる。
【００３５】
次に図７、図８は本発明に係る静電容量式水分センサの第４、第５の実施の形態を示す平面図であり、これらの実施の形態は、２系統のセンシング用エナメル線３、４を、格子状に近接配置して保持する具体例に相当するものである。
【００３６】
まず図７では、センシング用エナメル線３、４は、互いに直交する方向に蛇行させて、隣接する２本毎に網状に編成し、一端側は開放すると共に他端側にはリード線６、７との接続部１９、２０を設けた構成である。この構成において、網状に編成したセンシング用エナメル線３、４は、それら自体の剛性により保持させる他、それらの交差個所において接着剤で固定する等により保持することができる。
【００３７】
次に図８では、センシング用エナメル線３、４は、互いに直交する方向に蛇行させて、隣接する１本毎に網状に編成し、一端側は開放すると共に他端側にはリード線６、７との接続部１９、２０を設けた構成である。この構成においても、網状に編成したセンシング用エナメル線３、４は、それら自体の剛性により保持させる他、それらの交差個所において接着剤で固定する等により保持することができる。
【００３８】
以上の第４、第５の実施の形態においては、センシング用エナメル線３、４を近接配置した状態で保持するために、第２の実施の形態における方形枠１８や第３の実施の形態におけるリード線６、７自体のような支持体を必要としないので、構成を非常に簡素化することができる。
【００３９】
次に図９、図１０、図１１は、本発明に係る静電容量式水分センサの夫々第６、第７、第８の実施の形態を示す平面図である。これらの実施の形態では、第４、第５の実施の形態とは異なり、センシング用エナメル線３、４は、同方向に蛇行させている。
そして図９の第６の実施の形態では、センシング用エナメル線３、４は蛇行部が重ならないように並行して配置されており、また図１０の第７の実施の形態ではセンシング用エナメル線３、４の蛇行部が重ねられており、また図１１の第８の実施の形態ではセンシング用エナメル線３、４の蛇行部が交差するように重ねられている。
【００４０】
以上の第６〜第８の実施の形態の構成においても、センシング用エナメル線３、４は、それら自体の剛性により保持させる他、それらの重なり個所又は交差個所において接着剤で固定する等により保持することができ、センシング用エナメル線３、４を近接配置した状態で保持するために、第２の実施の形態における方形枠１８や第３の実施の形態におけるリード線６、７自体のような支持体を必要としないので、構成を非常に簡素化することができる。
【００４１】
次に図１２は本発明に係る静電容量式水分センサの第９の実施の形態を示す斜視図であり、この実施の形態では、センサを構成するセンシング用エナメル線３、４の少なくとも一部を撚り線として構成することができる。
【００４２】
この構成では、撚り線を構成するセンシング用エナメル線３、４間に浸入した水分による静電容量の変化を高感度に検出することができる。
【００４３】
次に図１３は本発明に係る静電容量式水分センサの第１０の実施の形態を概念的に示す斜視図であり、この実施の形態では、センシング用エナメル線３、４間に、線状体２１を配置している。
【００４４】
この構成では、センシング用エナメル線３、４と線状体２１で構成される格子に、表面張力により水分を保持することができるので、測定の安定化と、感度の増大を図ることができる。
【００４５】
次に図１４〜図２２は本発明に係る静電容量式水分センサの第１１の実施の形態を示すものであり、この実施の形態は、センシング用エナメル線３、４を、剛性を有し、且つ厚さ方向に弾性変形可能な薄板状絶縁部材から構成される支持体により近接配置状態で保持するものである。
【００４６】
まず図１４、図１５は、支持体を構成するための薄板状絶縁部材１０１の平面図で、この薄板状絶縁部材１０１は厚さ方向に弾性変形可能な材質であり、この実施の形態では、ポリイミド板１０２の表面に銅箔１０３を設けたフレキシブルプリント基板を用いている。この薄板状絶縁部材１０１の図中左側は方形枠状部１０４に形成すると共に右側には帯板状部１０５を形成しており、この方形枠状部１０４により、図１７に示す格子網状に編成したセンシング用エナメル線３、４を電気的及び機械的に接続して保持すると共に、帯板状部１０５にはセンシング用エナメル線３、４と、図示を省略している静電容量検出回路とを電気的に接続するための導体パターンを形成するものとしている。
している。
【００４７】
即ち、上記薄板状絶縁部材１０１を処理して図１６に示すように、方形枠状部１０４に、センシング用エナメル線３、４との接続用の２対の対向した導体パターン１０６ａ，１０６ａ；１０６ｂ，１０６ｂを形成すると共に、帯板状部１０５に、静電容量検出回路に接続するためのリード線として使用する導体パターン１０７ａ，１０７ｂを形成しており、これらの導体パターン１０７ａ，１０７ｂは、帯板状部１０５側の夫々の導体パターン１０６，１０６ｂと連なって形成されている。
【００４８】
そして、この実施の形態では、帯板状部１０５の一端側の一部の裏面に補強板１０８を積層している。（図２２参照）また、上記のように形成した導体パターン１０６，１０７には、必要に応じて別の金属メッキ等の補強加工を行うことができる。
【００４９】
次いで図１７に示すように格子網状に編成したセンシング用エナメル線３、４の両端側の皮膜を除去し、これらの皮膜除去部１０９を導体パターン１０６ａ，１０６ｂ上に位置させるようにして、センシング用エナメル線３、４を方形枠状部１０４に載せる。
【００５０】
この状態で、ハンダ１１０、導電性接着剤又は導電性シートの溶着等により皮膜除去部１０９を導体パターン１０６ａ，１０６ｂに電気的及び機械的に接合する。
【００５１】
次いで、図１９〜図２２に示すように、帯板状部１０５の一端側の一部を除いて薄板状絶縁部材１０１の表面側に、絶縁皮膜１１１を積層して、センサが構成される。
【００５２】
以上のように構成された静電容量式水分センサでは、格子網状に編成したセンシング用エナメル線３、４は薄板状絶縁部材１０１により保持されるため、センサの薄型化が達成できると共に、この薄板状絶縁部材１０１は、その厚さ方向に弾性変形可能であるため、測定部位の面に追従する変形性を得ることができる。
【００５３】
従って、例えば口腔内の測定部位の面に対してのセンシング用エナメル線３、４の接触面積をより広くすることができるため、高感度化が可能となり、また測定部位の面に追従することから、接触に際しての押圧力や接触角度が異なることによる誤差を低減することができる。
【００５４】
そしてこの構成では、口腔内の水分センサとして利用する場合には、センサ本体を口腔内に入れ出しするのが容易で測定時に口を閉じることも可能であり、非常に使い易く、また被測定者に痛み等の不快感を与えないというような利点がある。
【００５５】
以上に説明した第１１の実施の形態においては、センシング用エナメル線３、４は格子網状に形成しているが、櫛歯状等とすることも可能であり、上述した他の実施の形態におけるセンシング用エナメル線３、４の構成を利用できることは勿論である。
【００５６】
尚、この実施の形態において、上述したように導体パターン１０６ａ，１０６ｂに対してのセンシング用エナメル線３、４の皮膜除去部１０９の接合を、導電性シートの溶着により行う方法では、溶着温度を、ハンダ１１０における温度（240℃以上）よりも低い温度（160±5℃）で接合を行うことができるので、フレキシブルプリント基板の基板材料としては、ポリイミドよりも安価な材料、例えばナイロン等を使用できる可能性が生じる。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明の静電容量式水分センサでは、上述したように、簡素な構成により、測定部位に小さな力で安定的に接触が可能であることと、測定対象の水分は、電気力線密度の最も高いセンシング用エナメル線間の空間に到達できるので、効率良く、高感度の測定を行うことができるということから、口腔内等の水分を測定するセンサとして産業上の利用可能性が非常に大である。
【００５８】
本発明の静電容量式水分センサは、上述したように口腔内の水分センサとして利用する他、身体の他の部位、例えば顔面等の水分センサとしても利用することができ、また人体以外の測定対象に対しての利用も可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明に係る静電容量式水分センサの第１の実施の形態を概念的に示す平面図を含む系統図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】本発明に係る静電容量式水分センサの第２の実施の形態を概念的に示す平面図である。
【図４】図１のＢ−Ｂ線断面図である。
【図５】本発明に係る静電容量式水分センサの第３の実施の形態を概念的に示す平面図を含む系統図である。
【図６】図１のＣ−Ｃ線断面図である。
【図７】本発明に係る静電容量式水分センサの第４の実施の形態を概念的に示す平面図である。
【図８】本発明に係る静電容量式水分センサの第５の実施の形態を概念的に示す平面図である。
【図９】本発明に係る静電容量式水分センサの第６の実施の形態を概念的に示す平面図である。
【図１０】本発明に係る静電容量式水分センサの第７の実施の形態を概念的に示す平面図である。
【図１１】本発明に係る静電容量式水分センサの第８の実施の形態を概念的に示す平面図である。
【図１２】本発明に係る静電容量式水分センサの第９の実施の形態を概念的に示す斜視図である。
【図１３】本発明に係る静電容量式水分センサの第１０の実施の形態を概念的に示す斜視図である。
【図１４】本発明に係る静電容量式水分センサの第１１の実施の形態の要素を示す平面図である。
【図１５】図１４のＤ−Ｄ線断面図である。
【図１６】図１４の要素を加工してセンサを構成する途中の状態を示す平面図である。
【図１７】本発明に係る静電容量式水分センサの第１１の実施の形態の他の要素を示す平面図である。
【図１８】図１４、図１７の要素を加工してセンサを構成する途中の状態を示す平面図である。
【図１９】図１４、図１７の要素を加工してセンサを構成した状態を示す平面図である。
【図２０】図１９のＥ−Ｅ線断面図である。
【図２１】図２０のＦ−Ｆ線断面図である。
【図２２】図１９のＧ−Ｇ線断面図である。
【図２３】従来の薄膜型の静電容量式水分センサの例を概念的に示す平面図を含む系統図である。
【図２４】図１４のＨ−Ｈ線断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１          静電容量式水分センサ
２          静電容量検出回路
３、４      エナメル線
５          空間
６、７      リード線
８          導体
９          絶縁被膜
１０        測定部位
１１        電気力線
１２        水分
１３        結合部材
１４        絶縁物
１５        露出部
１６        半田
１７        接着剤
１８        方形枠
１９、２０  結合部材
２１        線状体
１０１      薄板状絶縁部材
１０２      ポリイミド板
１０３      銅箔
１０４      方形枠状部
１０５      帯板状部
１０６ａ，１０６ｂ    導体パターン
１０７ａ，１０７ｂ    導体パターン
１０８      補強板
１０９      皮膜除去部
１１０      ハンダ
１１１      絶縁皮膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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