(57)【要約】【課題】適正な位置にスペーサを配置することにより、明るさを向上させることが可能な液晶装置を提供する。【解決手段】液晶装置１００は、第一基板と、第一基板に対向する位置に配置され、かつ、液晶を挟持するための第二基板と、第一基板を複数の画素領域２６と遮光領域２５とに区画する遮光膜２５Ｍと、第一基板と第二基板との間の隙間を確保するスペーサ４３と、液晶を特定方向に配向させる配向膜とを、備えている液晶装置１００であって、スペーサ４３が、頂部４３ａと頂部４３ａの面積より広い底部４３ｂとを有する円錘状の柱状形状をなしており、頂部４３ａと底部４３ｂとの間に配向膜で覆われた傾斜部４３ｃを備え、頂部４３ａが遮光領域２５内に位置し、傾斜部４３ｃの少なくとも一部が、画素領域２６内に配置されている。【選択図】図１
2009002981.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基板と、
前記第一基板に対向する位置に配置され、かつ、液晶を挟持するための第二基板と、
前記第一基板を複数の画素領域と遮光領域とに区画する遮光膜と、
前記第一基板と前記第二基板との間の隙間を確保するスペーサと、
前記液晶を特定方向に配向させる配向膜とを、備えた液晶装置であって、
前記スペーサが、頂部と前記頂部の面積より広い底部とを有する錘状の柱状形状をなしており、前記頂部と前記底部との間に前記配向膜で覆われた傾斜部を備え、
前記頂部が前記遮光領域内に位置し、前記傾斜部の少なくとも一部が、前記画素領域内に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置であって、
前記傾斜部の少なくとも一部が、隣り合う前記画素領域内に跨って配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液晶装置であって、
前記複数の画素領域は、少なくとも赤、緑、青の３色のカラーフィルタを有し、
前記傾斜部の少なくとも一部が、青のカラーフィルタを有する画素領域に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
請求項２に記載の液晶装置であって、
前記複数の画素領域は、少なくとも赤、緑、青の３色のカラーフィルタを有し、
前記傾斜部の少なくとも一部が、青のカラーフィルタを有する画素領域と赤のカラーフィルタを有する画素領域とに跨って配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記スペーサが配置された前記第一基板または前記第二基板において、
前記画素領域内に配置された前記傾斜部の方向から前記配向膜がラビング処理されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項６】
請求項４に記載の液晶装置であって、
前記スペーサが配置された前記第一基板または前記第二基板において、
赤のカラーフィルタを有する前記画素領域内に配置された前記傾斜部の方向から前記配向膜がラビング処理されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記スペーサが、円錐形状、多角錘形状、楕円錘形状、のうちのいずれかであることを特徴とする液晶装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の液晶装置を搭載していることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スペーサを備えた液晶装置および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、一対の基板により液晶層を挟持した液晶装置は、液晶層を所定の厚みとするために、一対の基板間にスペーサ（ギャップ材）を有している。このようなスペーサの例として柱状のスペーサが種々提案されていた。
【０００３】
例えば、断面形状において、その頂部がラビング処理による配向方向の上流に向けて存在しており、その一部が配向方向の上流から下流に向けて高くなるように形成されたスペーサが提案されていた（特許文献１）。また、断面形状におけるその底辺と側辺とのなす角度が８５度以内であるスペーサが提案されていた（特許文献２）。さらに、断面形状におけるその底辺と側辺とのなす角度が３０度〜９０度の範囲内であるスペーサが提案されていた（特許文献３）。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−７３０８８号公報
【特許文献２】特開平１１−１０９３７２号公報
【特許文献３】特開２００２−１４８６３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１〜特許文献３に示すスペーサは、画素領域を区画する遮光領域内に配置されていることから、スペーサの大きさ（面積）の関係から、安易に遮光領域の幅を狭くすることができず、遮光領域により区画された画素領域の開口率に起因して、液晶装置の明るさを向上させることが困難であった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態、または適用例として実現されることが可能である。
【０００７】
［適用例１］第一基板と、前記第一基板に対向する位置に配置され、かつ、液晶を挟持するための第二基板と、前記第一基板を複数の画素領域と遮光領域とに区画する遮光膜と、前記第一基板と前記第二基板との間の隙間を確保するスペーサと、前記液晶を特定方向に配向させる配向膜とを、備えた液晶装置であって、前記スペーサが、頂部と前記頂部の面積より広い底部とを有する錘状の柱状形状をなしており、前記頂部と前記底部との間に前記配向膜で覆われた傾斜部を備え、前記頂部が前記遮光領域内に位置し、前記傾斜部の少なくとも一部が、前記画素領域内に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【０００８】
これによれば、スペーサの配向膜で覆われた傾斜部の少なくとも一部が、画素領域内に配置されているから、傾斜部をも表示に利用することができる。よって、遮光領域を頂部の大きさに合わせて狭くし、画素領域を広くすることができる。ゆえに、明るさを向上させた液晶装置を提供することができる。
【０００９】
［適用例２］上記液晶装置であって、前記傾斜部の少なくとも一部が、隣り合う前記画素領域内に跨って配置されていることを特徴とする液晶装置。
【００１０】
これによれば、傾斜部の少なくとも一部が、隣り合う画素領域内に跨って配置されているから、スペーサの底部を広くすることができるので、スペーサの機械的強度を向上させることができる。
【００１１】
［適用例３］上記液晶装置であって、前記複数の画素領域は、少なくとも赤、緑、青の３色のカラーフィルタを有し、前記傾斜部の少なくとも一部が、青のカラーフィルタを有する画素領域に配置されていることが好ましい。
これによれば、視感度が最も低い青のカラーフィルタを有する画素領域に、傾斜部の少なくとも一部が配置されているので、傾斜部において、配向性に不具合が有っても目立ち難い。
【００１２】
［適用例４］上記液晶装置であって、前記複数の画素領域は、少なくとも赤、緑、青の３色のカラーフィルタを有し、前記傾斜部の少なくとも一部が、青のカラーフィルタを有する画素領域と赤のカラーフィルタを有する画素領域とに跨って配置されているとしてもよい。
これによれば、緑に比べて視感度が低い青のカラーフィルタを有する画素領域と赤のカラーフィルタを有する画素領域とに、傾斜部の少なくとも一部が配置されているので、傾斜部において、配向性に不具合が有っても目立ち難い。
【００１３】
［適用例５］上記液晶装置であって、前記スペーサが配置された前記第一基板または前記第二基板において、前記画素領域内に配置された前記傾斜部の方向から前記配向膜がラビング処理されていることが好ましい。
これによれば、画素領域内に配置された傾斜部に向かってラビング処理が施されるので、傾斜部を覆う配向膜を確実にラビング処理することができる。言い換えれば、ラビング方向において、頂部を越えた側の傾斜部は、ラビング処理による摩擦抵抗が減少する側になり、配向不良が生じ易い。よって、画素領域内に配置された傾斜部の方向から配向膜のラビング処理を行う方が、配向ムラが目立ち難い。
【００１４】
［適用例６］上記液晶装置であって、前記スペーサが配置された前記第一基板または前記第二基板において、赤のカラーフィルタを有する前記画素領域内に配置された前記傾斜部の方向から前記配向膜がラビング処理されていることが好ましい。
これによれば、青に比べて視感度が高い赤のカラーフィルタを有する画素領域内に配置された傾斜部の方向からラビング処理されているので、配向ムラが目立ち難い。
【００１５】
［適用例７］上記液晶装置であって、前記スペーサが、円錐形状、多角錘形状、楕円錘形状、のうちのいずれかであることを特徴とする液晶装置。
これによれば、スペーサが、円錐形状、多角錘形状、楕円錘形状、のうちのいずれかであれば、それぞれ頂部と、底部と、傾斜部とを有し、上記適用例の作用・効果を奏する。
【００１６】
［適用例８］上記液晶装置を搭載していることを特徴とする電子機器。
これによれば、明るさを向上させた液晶装置を搭載しているから、表示性能を向上させた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
（実施形態）
本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００１８】
図１は、本実施形態における液晶装置の概略平面図である。図２は、液晶装置の構造を説明するための断面図であって、図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【００１９】
図１に示すように、液晶装置１００は、遮光膜２５Ｍが設けられた遮光領域２５と、この遮光領域２５によって区画された複数の画素領域２６とを有している。各画素領域２６は、矩形状に形成されている。各画素領域２６には、カラーフィルタ２０を備えており、このカラーフィルタ２０は、カラーフィルタ２０Ｒ（Ｒ：赤色）、カラーフィルタ２０Ｇ（Ｇ：緑色）、カラーフィルタ２０Ｂ（Ｂ：青色）の３色の色に対応している。なお、カラーフィルタ２０は、３色の色にこだわることはなく、例えば６色（Ｒ：赤、Ｇ：緑、Ｂ：青、Ｃ：シアン、Ｍ：マゼンタ、Ｙ：黄）に対応するような構成にしてもよい。また、その他の色の種類で構成してもよい。
【００２０】
遮光領域２５は、遮光膜２５Ｍを配置することにより形成されている。遮光膜２５Ｍは、いわゆるブラックマトリクスである。そして、スペーサ４３が、この遮光領域２５と、画素領域２６とに、跨って配置されている。
【００２１】
同図、右の拡大図に示すように、スペーサ４３は、ほぼ円錐形状となっており、頂部４３ａとこの頂部４３ａより広い面積の底部４３ｂとを有している。頂部４３ａと底部４３ｂとの間に傾斜部４３ｃを備えている。頂部４３ａと底部４３ｂの形状は円形である。そして、頂部４３ａの円の直径Ｄ１は、約２μｍであり、底部４３ｂの円の直径Ｄ２は、約１６μｍである。スペーサ４３の高さｈは、液晶層５（図２参照）の厚みを所望の値とすべく、１．５μｍ〜４μｍの範囲で形成可能である。
【００２２】
本実施形態では、スペーサ４３の頂部４３ａが遮光領域２５内にあり、底部４３ｂが遮光領域２５と画素領域２６とに跨るように配置されている。したがって、傾斜部４３ｃの一部が、カラーフィルタ２０Ｂ（青色）を有する画素領域２６に配置され、残りの部分が遮光領域２５に配置されている。なお、ラビング処理時におけるラビング方向は、同図に示す矢印方向であり、画素領域２６内に配置された傾斜部４３ｃの方向からラビング処理が施されている。ラビング方向は液晶装置１００の光学設計に関連するので、画素領域２６内の傾斜部４３ｃの方向からラビング処理が行われるように、スペーサ４３を画素領域２６に対して配置した。
【００２３】
図２に示すように、液晶装置１００は、第一基板としての対向基板３、液晶としての液晶層５と、第二基板としての素子基板２、遮光膜２５Ｍと、対向基板３と素子基板２との間の隙間を確保するスペーサ４３とで、概略構成されている。そして、対向基板３には、遮光膜２５Ｍと、カラーフィルタ２０Ｂ（青色）と、平坦化膜２７とが形成されている。また、平坦化膜２７上に対向電極２３が形成されている。スペーサ４３は、頂部４３ａが素子基板２側に向くように対向電極２３上に形成され、さらに、一方の配向膜２８がスペーサ４３の少なくとも傾斜部４３ｃを覆うように形成されている。スペーサ４３の頂部４３ａは、遮光領域２５内に位置しているので、配向膜２８が頂部４３ａを覆わなくてもよい。
【００２４】
素子基板２には、遮光領域２５によってマトリクス状に区画された画素領域２６内に、下地絶縁膜３２の表面に配置された半導体層３９と、ゲート絶縁膜３３の表面に配置されたゲート電極３７（走査線３ａの一部）と、層間絶縁膜３４の表面に配置されたデータ線６ａと、ドレイン電極３８と、平坦化膜３５の表面に配置された画素電極１３とが備えられている。また、画素電極１３を覆うように配向膜１２が設けられている。複数の画素領域２６を区画する遮光領域２５に沿って、走査線３ａとデータ線６ａとが形成されている。
【００２５】
データ線６ａは半導体層３９のソース領域に接続され、この半導体層３９のドレイン領域にドレイン電極３８が電気的に接続されている。さらに、このドレイン電極３８は、平坦化膜３５に形成されたコンタクトホールＨ１を介して画素電極１３に接続されている。
【００２６】
液晶装置１００は、上記画素領域２６内に設けられたスイッチング素子としてのＴＦＴ素子１４により、画素電極１３と対向電極２３との間に駆動電圧を供給して、所望のカラー画像を表示することができる。３色のカラーフィルタ２０を備えた３つの画素領域２６を１つの絵素として、絵素ごとにスペーサ４３が設けられているので、素子基板２と対向基板３とが所定の間隔で保たれている。すなわち、液晶層５が一定のセル厚で挟持されているので、安定した表示特性が得られる。
【００２７】
次に、スペーサを製造するための製造方法について説明する。図３は、スペーサを製造する手順を示す図であり、（ａ）〜（ｋ）は、製造工程図である。図４は、スペーサを製造する手順を示すフローチャートである。
【００２８】
図４に示すステップＳ１は、基板洗浄工程である。ステップＳ１では、図３（ａ）に示すように、対向基板３の洗浄を行う。対向基板３の洗浄方法は、湿式洗浄または乾式洗浄、あるいはこれら湿式洗浄および乾式洗浄の組み合わせで実施され、清浄な表面を得ることができる。なお、対向基板３は、透明なガラス基板であり、その表面を平坦化するために、光学研磨することもある。
【００２９】
次に、図４に示すステップＳ２は、遮光層形成工程である。ステップＳ２では、図３（ｂ）に示すように、遮光膜２５Ｍ（遮光層）を形成する。遮光膜２５Ｍの形成方法は、例えば感光性黒色樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により感光性黒色樹脂をパターニングすることによって、画素領域２６を区画するように遮光領域２５（図１参照）を形成する。
【００３０】
次に、図４に示すステップＳ３〜ステップＳ５は、着色層形成工程である。ステップＳ３では、図３（ｃ）に示すように、画素領域２６に赤色の着色層（Ｒ）を形成する。着色層（Ｒ）を形成する方法は、例えば赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂を配置させて形成する。なお、この紫外線硬化型アクリル樹脂はネガ型である。これによりカラーフィルタ２０Ｒができる。以下同様にして、ステップＳ４では、図３（ｄ）に示すように、青色の着色層（Ｂ）を形成し、ステップＳ５では、図３（ｅ）に示すように、緑色の着色層（Ｇ）を形成する。
【００３１】
次に、図４に示すステップＳ６は、平坦化層形成工程である。ステップＳ６では、図３（ｆ）に示すように、平坦化膜２７を形成する。平坦化膜２７を形成する方法は、例えば紫外線硬化型アクリル樹脂または熱硬化型樹脂を配置させて形成する。なお、この紫外線硬化型アクリル樹脂はネガ型である。
【００３２】
次に、図４に示すステップＳ７は、対向電極形成工程である。ステップＳ７では、図３（ｇ）に示すように、対向電極２３を形成する。対向電極２３は、透明導電膜である例えばＩＴＯからなり、スパッタリング法や、蒸着法によって形成可能である。
【００３３】
次に、図４に示すステップＳ８は、貝柱形成工程である。ステップＳ８では、図３（ｈ）に示すように、スペーサ４３の元となる貝柱４０を形成する。貝柱４０を形成する方法は、感光性アクリル樹脂を対向基板３の表面に塗布して形成する。塗布方法は、スピンコート法である。なお、この感光性アクリル樹脂はポジ型であって、紫外線を照射しない部分が現像処理後に残る。貝柱４０の材料としては、例えばＪＳＲ株式会社製のＰＣ４１５Ｇなどを使用することができる。
【００３４】
次に、図４に示すステップＳ９は、柱状スペーサ形成工程である。ステップＳ９では、図３（ｉ）に示すように、柱状スペーサ４１を形成する。この柱状スペーサ４１を形成する方法は、フォトマスクを用いた露光方法や、現像液を用いた現像処理法の組み合わせによってできる。なお、露光時に使用されるフォトマスクとしては、例えば多階調マスクなどを用いてもよい。多階調マスクを用いれば、露光されている部分と、半露光部分と、未露光部分とを、形成することができ、マスクを何枚も使用することなく露光ができるので、効率的である。しかも、露光するときの光の強度を調整するから、次のステップＳ１０において傾斜面を簡単に形成することができる。
【００３５】
次に、図４に示すステップＳ１０は、傾斜面形成工程である。ステップＳ１０では、図３（ｊ）に示すように、柱状スペーサ４１に傾斜面４２を形成する。この傾斜面４２を形成する方法は、例えばメルトベーク法である。メルトベーク法を実施することにより柱状スペーサ４１に傾斜面４２を形成できる。なお、露光するときの光の強度をステップＳ９で調整してあるから、容易にできる。メルトベーク法で採用される温度条件としては、約１１０℃である。
【００３６】
次に、図４に示すステップＳ１１は、固化工程である。ステップＳ１１では、図３（ｋ）に示すように、傾斜面４２が形成された柱状スペーサ４１を固化してスペーサ４３を成形する。固化方法は、例えば焼成法である。この焼成法で採用される温度条件としては、約２２０℃である。そして、焼成後に出来上がるスペーサ４３は、頂部４３ａ、底部４３ｂ、傾斜部４３ｃを有している（図１参照）。
【００３７】
次に、上記スペーサの製造方法で成形可能なスペーサの形状は、種々あり、これらのスペーサの形状について説明する。図５は、スペーサの形状を説明するための図である。（ａ）は円錐形状、（ｂ）は多角錘形状、（ｃ）は楕円錘形状を示す図である。
【００３８】
図５（ａ）に示すように、スペーサ４４は、円錐形状である。スペーサ４４は頂部４４ａ、底部４４ｂ、傾斜部４４ｃを有している。なお、スペーサ４４は、図１に示すスペーサ４３の形状よりその先端が鋭利になっており、頂部４４ａの面積は、頂部４３ａの面積より狭く形成されている。スペーサ４４がスペーサ４３に比べてより鋭利な円錐形状であるから、ラビング時のラビング材の進行を妨げることが少なくなるので、スペーサ４４の傾斜部４４ｃの一部が配置された画素領域２６（図１参照）を充分ラビングすることができる。
【００３９】
図５（ｂ）に示すように、スペーサ４５は、多角錘形状である。スペーサ４５は頂部４５ａ、底部４５ｂ、傾斜部４５ｃを有している。このように、スペーサ４５を多角錘形状にしたとしても、スペーサ４５の傾斜部４５ｃの一部が配置された画素領域２６（図１参照）を充分ラビングすることができるとともに、その傾斜部４５ｃを表示に利用することができる。
【００４０】
図５（ｃ）に示すように、スペーサ４６は、楕円錘形状である。スペーサ４６は頂部４６ａ、底部４６ｂ、傾斜部４６ｃを有している。このように、スペーサ４６を楕円錘形状にしたとしても、同様に画素領域２６（図１参照）を充分ラビングすることができるとともに、その傾斜部４６ｃを表示に利用することができる。
【００４１】
次に、液晶装置１００の全体構成について説明する。図６は、本実施形態における液晶装置の全体構成を示す平面図である。図７は、図６のＨ−Ｈ線に沿う断面図である。
【００４２】
図６および図７に示すように、液晶装置１００は、素子基板２と対向基板３とがシール材４によって貼り合わされ、このシール材４によって区画された領域内に、正の誘電率異方性を有する液晶が封入されて、液晶層５を構成している。シール材４の内側には、表示領域Ａを囲むように遮光性材料からなる遮光膜（周辺見切り）６が形成されている。シール材４の外側の周辺回路領域には、データ線駆動回路７および外部回路実装端子８が素子基板２の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路９が形成されている。素子基板２の残る一辺には、表示領域Ａの両側に設けられた走査線駆動回路９の間を接続するための複数の配線１０が設けられている。また、対向基板３の角部においては、素子基板２と対向基板３との間で電気的導通をとるための基板間導通材１１が配設されている。なお、対向基板３には、本実施形態で説明したスペーサ４３（またはスペーサ４４、スペーサ４５、スペーサ４６）を有している。
【００４３】
図８は、本実施形態における液晶装置の等価回路図である。
【００４４】
液晶装置１００の表示領域Ａ（図６参照）を構成すべくマトリクス状に配置された複数の画素には、画素電極１３がそれぞれ形成されている。また、画素電極１３への通電制御を行うためのスイッチング素子であるＴＦＴ素子１４が形成されている。このＴＦＴ素子１４のソースには、データ線６ａが電気的に接続されている。各データ線６ａには画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎがそれぞれ供給される。なお画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎは、各データ線６ａに対してこの順に線順次で供給してもよく、相隣接する複数のデータ線６ａに対してグループ毎に供給してもよい。
【００４５】
また、ＴＦＴ素子１４のゲートには、走査線３ａが電気的に接続されている。走査線３ａには、所定のタイミングでパルス的に走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍが供給される。なお、走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍは、各走査線３ａに対してこの順に線順次で印加される。また、ＴＦＴ素子１４のドレインには、画素電極１３が電気的に接続されている。そして、走査線３ａから供給された走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍにより、スイッチング素子であるＴＦＴ素子１４を一定期間だけオン状態にすると、データ線６ａから供給された画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎが、各画素の液晶に所定のタイミングで書き込まれる。
【００４６】
液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎは、画素電極１３と対向電極２３（図２参照）との間に形成される液晶容量で一定期間保持される。なお、保持された画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎがリークするのを防止するため、画素電極１３と容量配線１７との間に蓄積容量１８が形成され、液晶容量と並列に配置されている。このように、液晶に電圧信号が印加されると、印加された電圧レベルにより液晶分子の配向状態が変化して、画像信号に基づく表示を行うことができる。
【００４７】
次に、電子機器について説明する。図９は、本実施形態における電子機器を示す図である。
【００４８】
図９に示すように、本実施形態における電子機器としての大型液晶テレビ２００は、上記液晶装置１００を表示手段として搭載した表示部２０１を備えている。明るさを向上させた液晶装置１００を備えているので、表示性能を向上させた電子機器としての大型液晶テレビ２００を提供することができる。
【００４９】
以上のような本実施形態の構成によれば、以下の効果が得られる。
【００５０】
（１）スペーサ４３において、傾斜部４３ｃの少なくとも一部が、画素領域２６内に配置されているから、傾斜部４３ｃをも表示に使用することができるので、遮光領域２５の幅を頂部４３ａの大きさに合わせて狭くすることができる。したがって、画素領域２６を広くすることができ、明るさを向上させた液晶装置１００を提供できる。
（２）スペーサ４３において、傾斜部４３ｃの少なくとも一部が、最も視感度が低い青色のカラーフィルタ２０Ｂを有する画素領域２６内に配置されているので、傾斜部４３ｃにおいて、配向不良が生じたとしても目立ち難い。また、スペーサ４３を覆う配向膜２８のラビング処理が、スペーサ４３に対して画素領域２６内の傾斜部４３ｃの方向から施されているので、当該傾斜部４３ｃにおける配向不良が生じ難い。
（３）明るさを向上させた液晶装置１００を搭載しているから、表示性能を向上させた電子機器としての大型液晶テレビ２００を提供することができる。
【００５１】
上記実施形態の他にも、様々な変形を加えることができる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００５２】
（変形例１）上記実施形態において、スペーサ４３は、カラーフィルタ２０Ｂを有する画素領域２６の隅部に配置されていたが、これに限らない。図１０は変形例の液晶装置の概略平面図である。例えば、図１０に示すように、傾斜部４３ｃが、カラーフィルタ２０Ｂを有する画素領域２６と、カラーフィルタ２０Ｒを有する画素領域２６とに跨って配置された液晶装置１０１の構成にしてもよい。このようにすれば、本実施形態と同様の効果を得ることができるとともに、スペーサ４３の底部４３ｂの面積を広く設定することができるので、スペーサ４３の機械的強度を向上させることができる。なお、この場合のラビング方向としては、同図の矢印方向にラビングすることが好ましい。すなわち、青（Ｂ）の画素領域２６に比べて視感度が高い赤（Ｒ）の画素領域２６の側からラビングしている。視感度が高い赤（Ｒ）の画素領域２６において、充分なラビング処理が施されるので、配向不良による表示ムラをより目立ち難くすることができる。
【００５３】
（変形例２）上記実施形態において、スペーサ４３は、傾斜部４３ｃを平らな面になるようにしたが、これに限らない。例えば凹状の面あるいは凸状の面であってもよい。このようにしても、本実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５４】
（変形例３）上記実施形態において、スペーサ４３の傾斜部４３ｃの傾斜角度は、一定に限らない。例えば、画素領域２６内に配置される部分を緩やかにし、遮光領域２５に配置される部分を前者に比べて急な傾斜角度としてもよい。これによれば、画素領域２６内に配置された傾斜部４３ｃのラビング処理における配向状態をより良好なものとすることができる。言い換えれば、頂部４３ａは、平面視で底部４３ｂのほぼ中央に位置しなくてもよい。
【００５５】
（変形例４）上記実施形態において、スペーサ４３を対向基板３にのみ形成するように構成したが、これに限らない。例えば、素子基板２と対向基板３のそれぞれにスペーサ４３を形成し、２つのスペーサ４３が頂部４３ａで接するように配置してもよい。このようにすれば、スペーサ４３を一方の基板に配置する場合に比べて、スペーサ４３の高さｈを半分にして、それぞれのスペーサ４３の大きさを相対的に小さくすることができる。よって、遮光領域２５をより狭くすることができ、画素領域２６をより広くすることができる。
【００５６】
（変形例５）上記実施形態において、傾斜部４３ｃの一部が画素領域２６に位置するようにスペーサ４３を配置したが、これに限らない。例えば、図５（ａ）に示したスペーサ４４のように、頂部４４ａの面積を非常に小さくした場合には、スペーサ４４を画素領域２６内に配置してもよい。すなわち、傾斜部４４ｃのすべての斜面を画素領域２６内に配置してもよい。
【００５７】
（変形例６）上記実施形態において、楕円錘形状のスペーサ４６（図５（ｃ）参照）は、平らな面を有する頂部４６ａにしたが、これに限らない。例えば、なだらかな曲面を有するような曲面形状に頂部４６ａを形成してもよい。このようにしても、本実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５８】
（変形例７）上記実施形態において、スペーサ４３を備える液晶装置１００の構成は、これに限定されない。例えば、一対の基板の双方にストライプ状の画素電極を有するパッシブ型の液晶装置や、一対の基板の一方に表示用の電極をすべて備えたＩＰＳ（In  Plane  Switching）方式、ＦＦＳ（Fringe  Field  Switching）方式のアクティブ型液晶装置においても、上記実施形態のスペーサ４３の配置を適用することができる。
【００５９】
（変形例８）上記実施形態において、液晶装置１００を搭載した電子機器は、大型液晶テレビ２００に限定されない。例えば、ノート型パーソナルコンピュータ、電子手帳、映像情報を表示するビューワーやＤＶＤプレーヤ、携帯型電話機、携帯型情報端末などの電子機器に搭載すれば、好適である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本実施形態における液晶装置の概略平面図。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図。
【図３】スペーサを製造する手順を示す図であり、（ａ）〜（ｋ）は、製造工程図。
【図４】スペーサを製造する手順を示すフローチャート。
【図５】スペーサの形状を説明するための図であり、（ａ）は円錐形状、（ｂ）は多角錘形状、（ｃ）は楕円錘形状を示す図。
【図６】液晶装置の全体構成を示す平面図。
【図７】図６のＨ−Ｈ線に沿う断面図。
【図８】液晶装置の等価回路図。
【図９】電子機器を示す概略斜視図。
【図１０】変形例の液晶装置の概略平面図。
【符号の説明】
【００６１】
２…第二基板としての素子基板、３…第一基板としての対向基板、５…液晶としての液晶層、２５…遮光領域、２５Ｍ…遮光膜、２６…画素領域、２８…配向膜、４３…スペーサ、４３ａ…頂部、４３ｂ…底部、４３ｃ…傾斜部、４４…スペーサ、４４ａ…頂部、４４ｂ…底部、４４ｃ…傾斜部、４５…スペーサ、４５ａ…頂部、４５ｂ…底部、４５ｃ…傾斜部、４６…スペーサ、４６ａ…頂部、４６ｂ…底部、４６ｃ…傾斜部、１００…液晶装置、１０１…液晶装置、２００…電子機器としての大型液晶テレビ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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