(57)【要約】【課題】記録磁性部がドット状に配列された磁気ディスクにおいて、記録層表面が、傾斜することなく高い表面平坦性を有する磁気ディスクを提供する。【解決手段】本発明の磁気ディスクＡ１は、磁性体からなる複数の記録磁性部２１１Ａが非磁性部２１１Ｂによって分離された状態でディスク周方向（Ｘ方向）およびディスク径方向（Ｙ方向）に沿って配列された構成を有する記録領域２１と、記録領域２１に対しディスク径方向外方に位置する外周側非記録領域２２と、記録領域２１に対しディスク径方向内方に位置する内周側非記録領域２３とを有する記録層を備え、外周側非記録領域２２は、非磁性部２１１Ｂよりも硬い材料からなるガード領域２２１と、非磁性部２１１Ｂと同じ材料からなる非磁性領域２２２とを含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性体からなる複数の記録磁性部が非磁性部によって分離された状態でディスク周方向およびディスク径方向に沿って配列された構成を有する記録領域と、この記録領域に対しディスク径方向外方に位置する外周側非記録領域と、上記記録領域に対しディスク径方向内方に位置する内周側非記録領域とを有する記録層を備え、
上記外周側非記録領域は、上記非磁性部よりも硬い材料からなるガード領域と、上記非磁性部と同じ材料からなる非磁性領域とを含む、磁気ディスク。
【請求項２】
上記ガード領域は、上記複数の記録磁性部を構成する磁性体と同じ材料からなる、請求項１に記載の磁気ディスク。
【請求項３】
上記ガード領域の面積と上記非磁性領域の面積とは、略同一とされている、請求項１または２に記載の磁気ディスク。
【請求項４】
上記内周側非記録領域は、上記非磁性部よりも硬い材料からなる第２のガード領域を含む、請求項１ないし３のいずれかに記載の磁気ディスク。
【請求項５】
上記記録領域は、複数の上記記録磁性部を含むデータ領域と、所定の磁気パターンを有するサーボ領域とがディスク周方向に沿って交互に配置されており、
上記データ領域と上記サーボ領域との間には、上記非磁性部よりも硬い材料からなる第３のガード領域が形成されている、請求項１ないし４のいずれかに記載の磁気ディスク。
【請求項６】
磁性体からなる複数の記録磁性部が非磁性部によって分離された状態でディスク周方向およびディスク径方向に沿って配列された構成を有する記録領域と、この記録領域に対しディスク径方向外方に位置し、上記非磁性部よりも硬い材料からなるガード領域および上記非磁性部と同じ材料からなる非磁性領域を含む外周側非記録領域と、上記記録領域に対しディスク径方向内方に位置する内周側非記録領域とを有する記録層を備えた磁気ディスクと、
上記磁気ディスクを回転駆動させるための駆動部と、
上記磁気ディスクの上記記録領域に情報を書き込むための磁気ヘッドと、
を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドット状に配列された複数の記録磁性部を有する磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクなどの記憶装置を構成するための記録媒体として、磁気ディスクが知られている。コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、磁気ディスクについては高記録密度化の要求が高まっている。
【０００３】
磁気ディスクへのデータ記録に際しては、磁気ディスクの記録面に対して記録用の磁気ヘッドが近接配置（浮上配置）され、当該磁気ヘッドにより、記録層に対し、その保磁力より強い記録磁界が印加される。磁気ディスクに対して磁気ヘッドを相対移動させつつ磁気ヘッドからの記録磁界の向きを適宜反転させることにより、記録層の記録領域において、磁化方向が適宜反転する複数の記録マーク（磁区）がディスク周方向に沿って形成される。このとき、記録磁界方向を反転させるタイミングが制御されることにより、各々に所定の長さで記録マークが形成される。このようにして、記録層において、磁化方向の変化として所定のデータが記録される。なお、磁気ディスクにおいては、一般に、当該磁気ディスクの取り扱いや製造上の便宜から、記録層における記録領域の外周側および内周側には、それぞれ非記録領域が設けられている。
【０００４】
磁気ディスクの技術分野においては、高記録密度化を図るのに好ましい媒体として、ディスクリートトラックメディアやパターンドメディアなどといった磁気ディスクが知られている（例えば、特許文献１，２を参照）。パターンドメディアは、その記録領域において、例えば磁性体からなる複数の記録磁性部が非磁性部によって分離された状態でディスク周方向およびディスク径方向に沿って規則的に配列された構成とされている。
【０００５】
図８は、パターンドメディアとして構成された磁気ディスクのディスク径方向に沿った部分断面図であり、記録領域および非記録領域の境界近傍を表す。磁気ディスク５０は、ディスク基板５１、および記録層５２および図示しない保護層を含む積層構造を有する。記録層５２は、記録領域５２１および非記録領域５２２を有する。記録領域５２１は、複数の記録磁性部５２１Ａと記録磁性部５２１Ａ間に介在する非磁性部５２１Ｂとを有する。非記録領域５２２は、非磁性部５２１Ｂと同じ材料によって構成された非磁性領域である。
【０００６】
図９および図１０は、磁気ディスク５０の製造方法を表す。図９および図１０は、ディスク径方向に沿った部分断面図であり、記録領域５２１に対応する部分を表す。磁気ディスクの製造においては、まず、図９（ａ）に示すように、ディスク基板５０上に磁性膜５２Ａ’およびレジスト膜６１を順次形成する。磁性膜５２Ａ’は、所定の磁性材料を製膜することによって形成される。次に、図９（ｂ）に示すように、レジスト膜６１について部分的に除去することにより、所定のレジストパターン６２を形成する。レジストパターン６２は、上述の非磁性部５２１Ｂに対応する開口部６２ａを有する。レジストパターン６２の形成は、例えばナノインプリント法を用いて行うことができる。この後、図９（ｃ）に示すように、レジストパターン６２をマスクとして磁性膜５２Ａ’に対して所定のエッチング処理を施すことにより、上述の記録磁性部５２１Ａがパターン形成される。
【０００７】
次に、図１０（ａ）に示すように、レジストパターン６２を除去したうえで非磁性材料５２Ｂ’を堆積させる。具体的には、例えばスパッタリング法により記録磁性部５２１Ａ間および記録磁性部５２１Ａ上に非磁性材料５２Ｂ’が堆積される。次に、図１０（ｂ）に示すように、堆積された非磁性材料５２Ｂ’のうち上層側の不要部分を研磨除去し、記録磁性部５２１Ａの頂部を露出させる。当該研磨は、非磁性材料５２Ｂ’の表面に対して研磨部材を所定の加工面圧で押圧しながら行う。
【０００８】
このような磁気ディスクの製造においては、非磁性材料５２Ｂ’の硬さは研磨工程に要する処理時間に大きな影響を与える。非磁性材料５２Ｂ’が硬いと研磨速度が遅くなり、処理時間は長くなる傾向にある。そのため、非磁性材料５２Ｂ’としては、磁性膜５２Ａ’を構成する磁性材料と比べて相対的に軟らかい材料が用いられる。
【０００９】
しかしながら、上記構成の磁気ディスク５０においては、図１１を参照して説明する以下の問題があった。図１１（ａ）は、上述の図１０（ａ）と同様の工程を示しており、記録領域５２１と非記録領域５２２の境界近傍に対応する部分を表す。非記録領域５２２に対応する部分については、堆積された非磁性材料５２Ｂ’の下層側には、比較的に広い範囲において磁性材料が介在していない。このため、非磁性材料５２Ｂ’は、記録領域５２１と非記録領域５２２との境界に対応する部分において、ディスク径方向に対する傾きが生じるおそれがある。この場合、後の研磨工程においても上記傾斜に対応する傾斜が残ったまま研磨される。また、非磁性領域５２２に対応する部分は、非磁性材料５２Ｂ’よりも相対的に硬い磁性材料が当該非磁性材料５２Ｂ’の下層側に介在していないため、記録領域５２１に対応する部分よりも非磁性材料５２Ｂ’の研磨が促進され、傾斜度が大きくなる傾向にある。その結果、研磨後においては、図１１（ｂ）に示すように、記録領域５２１と非記録領域５２２の境界近傍においては、記録層５２表面が傾斜することになる。この場合、記録磁性部５２１Ａの頂部が過剰に削られると、当該記録磁性部５２１Ａにおいては適切な磁気特性が得られないという不都合がある。また、記録層５２表面が傾斜していると、磁気ヘッドの安定浮上を阻害する要因となり、好ましくない。
【００１０】
【特許文献１】特開２００５−７１４６７号公報
【特許文献２】特開２００３−１５７５０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、記録磁性部がドット状に配列された磁気ディスクにおいて、記録層表面が、傾斜することなく高い表面平坦性を有する磁気ディスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を講じている。
【００１３】
本発明の第１の側面によって提供される磁気ディスクは、磁性体からなる複数の記録磁性部が非磁性部によって分離された状態でディスク周方向およびディスク径方向に沿って配列された構成を有する記録領域と、この記録領域に対しディスク径方向外方に位置する外周側非記録領域と、上記記録領域に対しディスク径方向内方に位置する内周側非記録領域とを有する記録層を備え、上記外周側非記録領域は、上記非磁性部よりも硬い材料からなるガード領域と、上記非磁性部と同じ材料からなる非磁性領域とを含むことを要件とする。
【００１４】
本発明に係る磁気ディスクにおいては、外周側非記録領域には、非磁性材料からなる非磁性領域の他に、適所にガード領域が設けられている。このような構成によれば、記録磁性部の頂部を露出させる研磨の際には、非記録領域に対応する部分においても、非磁性部よりも硬い材料からななる当該ガード領域の存在によって、非磁性領域となるべき非磁性材料の研磨が促進されることは抑制される。したがって、記録層における記録領域と外周側非記録領域との境界近傍について、その表面が傾斜することはなく、高い表面平坦性が確保される。
【００１５】
好ましくは、上記ガード領域は、上記複数の記録磁性部を構成する磁性体と同じ材料からなる。このような構成によれば、ガード領域については記録磁性部と同時に形成することができる。
【００１６】
好ましくは、上記ガード領域の面積と上記非磁性領域の面積とは、略同一とされている。
【００１７】
好ましくは、上記内周側非記録領域は、上記非磁性部よりも硬い材料からなる第２のガード領域を含む。このような構成によれば、記録層における記録領域と内周側非記録領域とに跨る部分についても高い表面平坦性が確保される。
【００１８】
好ましくは、上記記録領域は、複数の上記記録磁性部を含むデータ領域と、所定の磁気パターンを有するサーボ領域とがディスク周方向に沿って交互に配置されており、上記データ領域と上記サーボ領域との間には、上記非磁性部よりも硬い材料からなる第３のガード領域が形成されている。このような構成によれば、記録層における記録領域内についても高い表面平坦性が確保される。
【００１９】
本発明の第２の側面によれば、磁気ディスク装置が提供される。この磁気ディスク装置は、磁性体からなる複数の記録磁性部が非磁性部によって分離された状態でディスク周方向およびディスク径方向に沿って配列された構成を有する記録領域と、この記録領域に対しディスク径方向外方に位置し、上記非磁性部よりも硬い材料からなるガード領域および上記非磁性部と同じ材料からなる非磁性領域を含む外周側非記録領域と、上記記録領域に対しディスク径方向内方に位置する内周側非記録領域とを有する記録層を備えた磁気ディスクと、上記磁気ディスクを回転駆動させるための駆動部と、上記磁気ディスクの上記記録領域に情報を書き込むための磁気ヘッドと、を有することを特徴としている。
【００２０】
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しつつ具体的に説明する。図１は、本発明に係る磁気ディスクＡ１を示す平面図であり、図２は、磁気ディスクＡ１の部分拡大平面図であり、図３は、磁気ディスクＡ１の部分拡大断面図である。
【００２２】
磁気ディスクＡ１は、図３に表れているように、ディスク基板１、記録層２および図示しない保護層を含む積層構造を有し、パターンドメディアとして構成されたものである。
【００２３】
ディスク基板１は、主に磁気ディスクＡ１の剛性を確保するためのものであり、例えば、アルミニウム合金、またはガラスよりなる。
【００２４】
記録層２は、図１ないし図３に表れているように、ユーザデータが記録されうる記録領域２１と、記録領域２１に対してディスク径方向外方に位置する外周側非記録領域２２と、記録領域２１に対してディスク径方向内方に位置する内周側非記録領域２３とを有する。
【００２５】
記録領域２１は、図２に表れているように、データ領域２１１とサーボ領域２１２とを備え、これらデータ領域２１１およびサーボ領域２１２は、ディスク周方向に沿って交互に配置されている。
【００２６】
サーボ領域２１２は、磁気ヘッド（図示略）の位置決めに用いられるものであり、磁性部２１２Ａおよび非磁性部２１２Ｂからなる所定の磁気パターンを有する。サーボ領域２１２は、例えばプリアンブル、サーボマーク、アドレスマーク、および位相パターンを含み、磁気ヘッドによって所定のサーボ情報やアドレス情報を読み取り可能に構成されたものである。
【００２７】
データ領域２１１は、磁性体からなる複数の記録磁性部２１１Ａ、および非磁性体からなる非磁性部２１１Ｂを有する。複数の記録磁性部２１１Ａは、ディスク周方向（矢印Ｘ方向）およびディスク径方向（矢印Ｙ方向）に沿ってマトリックス状に配列されており、各記録磁性部２１１Ａは、非磁性部２１１Ｂによってディスク径方向およびディスク周方向のいずれにおいても物理的に孤立した状態で設けられている。記録磁性部２１１Ａにおいては、磁気ヘッドからの記録磁界の印加によって磁化方向が制御されることにより、データが記録される。
【００２８】
データ領域２１１とサーボ領域２１２との間には、ディスク径方向に沿って磁性体からなるガード領域２１３が形成されている。ガード領域２１３のディスク周方向の長さは、サーボ領域２１２の磁性部２１２Ａの長さよりも充分に大きくされている。これにより、ガード領域２１３が磁気ヘッドによって誤ってサーボ領域２１２の一部として読み取られることは防止される。ガード領域２１３は、上記した記録磁性部２１１Ａを構成する磁性体と同じ材料からなる。なお、図２においては、磁性体からなる領域にはハッチングを付している。
【００２９】
図２（ａ）に表れているように、外周側非記録領域２２は、磁性体からなるガード領域２２１と、非磁性体からなる非磁性領域２２２とを備えている。ガード領域２２１および非磁性領域２２２は、それぞれディスク周方向に沿って所定幅で延びる同心リング状とされており、ディスク径方向に沿って交互に並ぶように形成されている。本実施形態では、ガード領域２２１の幅と非磁性領域２２２の幅とは、同程度とされている。これにより、外周側非記録領域２２におけるガード領域２２１の面積と非磁性領域２２２の面積とは、略同一となっている。ガード領域２２１は、記録領域２１の記録磁性部２１１Ａを構成する磁性体と同じ材料からなり、非磁性領域２２２は、非磁性部２１１Ｂを構成する非磁性体と同じ材料からなる。
【００３０】
図２（ｂ）に表れているように、内周側非記録領域２３は、磁性体からなるガード領域２３１と、非磁性体からなる非磁性領域２３２とを備えている。ガード領域２３１および非磁性領域２３２は、それぞれディスク周方向に沿って所定幅で延びる同心リング状とされており、ディスク径方向に沿って交互に並ぶように形成されている。本実施形態では、ガード領域２３１の幅と非磁性領域２３２の幅とは、同程度とされている。これにより、内周側非記録領域２３におけるガード領域２３１の面積と非磁性領域２３２の面積とは、略同一となっている。ガード領域２３１は、記録領域２１の記録磁性部２１１Ａを構成する磁性体と同じ材料からなり、非磁性領域２３２は、非磁性部２１１Ｂを構成する非磁性体と同じ材料からなる。
【００３１】
記録層２上に形成される上記保護層は、いわゆるヘッドタッチなどの衝撃や塵埃から記録層２を保護するために設けられる非磁性層であり、例えばＤＬＣ（ダイアモンドライクカーボン）からなる。
【００３２】
以上のようなディスク基板１、記録層２、および上記保護層を含む磁気ディスクＡ１の積層構造中には、必要に応じて軟磁性層などの他の層が含まれてもよい。
【００３３】
次に、磁気ディスクＡ１の製造方法の一例を図４および図５を参照して説明する。
【００３４】
磁気ディスクＡ１は、例えばスタンパを用いたナノインプリント法を利用して製造される。ナノインプリント法においては、まず、スタンパを作製する。スタンパの作製においては、例えば基板上のレジスト膜に電子ビーム描画装置によって所定パターンを露光形成した後、当該レジスト膜に現像処理を施してレジストパターンを形成する。次に、このレジストパターンをマスクとして上記基板にＲＩＥなどのドライエッチングを施して凹部を形成し、レジストパターンを除去する。これにより、所定パターンの凹部を有する基板（スタンパの原盤）が得られる。次に、当該基板に対して電鋳処理を行うことにより、Ｎｉなどの金属からなるスタンパが得られる。スタンパの表面には、上記基板の凹凸形状が転写されており、上記基板の凹部に対応する箇所において凸部が形成される。本実施形態においては、上記の方法により、磁気ディスクＡ１の記録磁性部２１１Ａやガード領域２２１，２３１，２１３などの磁性体からなるべき部位を凹部３ａとし、非磁性部２１１Ｂや非磁性領域２２２，２３２などの非磁性体からなるべき部位を凸部３ｂとする凹凸パターンを有するスタンパ３（図４（ａ）参照）が作製される。
【００３５】
次に、図４（ａ）に示すように、ディスク基板１上に磁性膜２Ａ’およびレジスト膜４１を順次形成する。磁性膜２Ａ’の形成は、例えばスパッタリング法により所定の磁性材料を製膜することにより行う。当該磁性材料としては、例えばＣｏＣｒＰｔ合金が挙げられる。レジスト膜４１を構成する材料としては、例えばＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）が挙げられる。なお、図４（ａ）に表されたスタンパ３は、記録領域２１となるべき部分と外周側非記録領域２２となるべき部分の境界近傍におけるディスク径方向に沿った断面である。
【００３６】
次に、レジスト膜４１をガラス転移点以上の温度に加熱したうえで、図４（ｂ）に示すように、スタンパ３を当該レジスト膜４１に押圧することにより、当該スタンパ３の凹凸パターンが転写される。ここで、上述したように、磁気ディスクＡ１の外周側非記録領域２２においては、ガード領域２２１と非磁性領域２２２の面積は略同一であるため、外周側非記録領域２２となるべき部分では、ガード領域２２１に対応する凹部３ａと非磁性領域に対応する凸部３ｂとが占める範囲も略同一となっている。このように凸部３ｂを設けておけば、スタンパ３が押し込まれることにより、当該凸部３ｂによって押しのけられたレジスト膜４１の一部が周囲の凹部３ａに入り込む。したがって、このような構成によれば、レジスト膜４１に対してスタンパ３を押し込む際に、外周側非記録領域２２となるべき部分から記録領域２１になるべき部分にかけてバランスよく均一な押し込み深さとすることができ、後の工程で形成されるレジストパターン４２の形状の安定化を図ることができる。この点については、図示しない内周側非記録領域２３となるべき部分から記録領域２１になるべき部分にかけても同様である。
【００３７】
次に、図５（ａ）に示すように、レジスト残渣を例えば酸素プラズマを利用したアッシングにより除去し、磁性膜２Ａ’表面を部分的に露出させて、レジストパターン４２を形成する。次に、図５（ｂ）に示すように、レジストパターン４２をマスクとして磁性膜２Ａ’に対して例えばドライエッチングを施すことにより、磁性膜２Ａ’の露出部が除去される。これにより、記録磁性部２１１Ａやガード領域２２１などの磁性体からなる部位がパターン形成される。
【００３８】
次に、図５（ｃ）に示すように、レジストパターン４２を例えば酸素プラズマを利用したアッシングにより除去したうえで非磁性材料２Ｂ’を堆積させる。具体的には、例えばスパッタリング法により、記録磁性部２１１Ａ間やガード領域２２１間、および記録磁性部２１１Ａ上やガード領域２２１上に非磁性材料２Ｂ’が堆積される。当該非磁性材料２Ｂ’としては、例えばＳｉＯ2が挙げられる。
【００３９】
このとき、外周側非磁性領域２２となるべき部分においてガード領域２２１が設けられているため、当該部分における非磁性材料２Ｂ’表面の最上位は、記録領域２１となるべき部分における非磁性材料２Ｂ’表面の最上位と同程度の高さとなっている。
【００４０】
次に、図５（ｄ）に示すように、堆積された非磁性材料２Ｂ’のうち上層側の不要部分を研磨除去し、記録磁性部２１１Ａの頂部を露出させる。当該研磨の手法としては、例えばケミカルメカニカルポリッシング（ＣＭＰ）を採用することができる。ＣＭＰによる研磨では、例えば、非磁性材料２Ｂ’の表面に対して定盤に張られた研磨布を所定の加工面圧で押圧しつつ、研磨布と非磁性材料２Ｂ’との間に研磨スラリを供給することにより行う。当該研磨スラリとしては、一般に、酸化セリウム砥粒を主成分とするものが用いられる。このような研磨工程を経て、記録層２が形成される。次いで、記録層２上に図示しない保護膜を形成することにより、磁気ディスクＡ１を得ることができる。
【００４１】
本実施形態の磁気ディスクＡ１の製造において、非磁性材料２Ｂ’を研磨する際には、ガード領域２２１の存在により、非磁性材料２Ｂ’の表面については、外周側非記録領域２２に対応する部分の最上位と記録領域２１に対応する部分の最上位とが同程度の高さで面一状となっている。このため、当該研磨の際には、研磨部材の片当たりなどの不都合が生じることはなく、記録領域２１ないし外周側非記録領域２２の表面が不当に傾くことはない。したがって、記録領域２１と外周側非記録領域２２との境界近傍において、高い表面平坦性が確保され、磁気ディスクＡ１の特性劣化を防止することができる。
【００４２】
また、外周側非記録領域２２と記録領域２１との境界部分は比較的に広い範囲に及ぶことから、ガード領域２２１を設けることによって広い範囲において高い表面平坦性が確保されることとなる。したがって、外周側非記録領域２２にガード領域２２１を設けることは、磁気ディスクＡ１の表面平坦性を向上させるうえでは最も効果がある。本実施形態では、内周側非記録領域２３および記録領域２１においてもガード領域２３１，２１３が適宜設けられているため、磁気ディスクＡ１全体として高い表面平坦性が確保され、磁気ディスクＡ１の特性劣化を防止するうえでより好ましい。
【００４３】
図６および図７は、本発明に係る磁気ディスクの他の例を示す。なお、図６および図７においては、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付しており適宜説明を省略する。また、図６および図７においては、磁性体からなる領域にはハッチングを付している。
【００４４】
図６に示された磁気ディスクＡ２においては、外周側非記録領域２２の態様が上記実施形態の磁気ディスクＡ１とは異なっている。本実施形態では、外周側非記録領域２２のガード領域２２１はディスク径方向に沿って放射状に形成されており、ガード領域２２１間が非磁性領域２２２となっている。また、図示しないが、内周側非記録領域２３のガード領域２３１についても、外周側非記録領域２２と同様にディスク周方向に沿って放射状に形成されている。本実施形態によっても、ガード領域２２１，２３１，２１３の存在により、磁気ディスクＡ２全体として高い表面平坦性が確保される。
【００４５】
図７に示された磁気ディスクＡ３においては、外周側非記録領域２２の態様が上記実施形態の磁気ディスクＡ１とは異なっている。本実施形態では、外周側非記録領域２２のガード領域２２１は格子縞状に形成されており、ガード領域２２１間が非磁性領域２２２となっている。また、図示しないが、内周側非記録領域２３のガード領域２３１についても、外周側非記録領域２２と同様に格子縞状に形成されている。本実施形態によっても、ガード領域２２１，２３１，２１３の存在により、磁気ディスクＡ３全体として高い表面平坦性が確保される。
【００４６】
なお、本発明の実施形態としては、上に述べた磁気ディスクと、当該磁気ディスクを回転駆動させるための駆動部と、当該磁気ディスクの記録領域に情報を書き込むための磁気ヘッドとを有した図示しない磁気ディスク装置として構成することも可能である。
【００４７】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明に係る磁気ディスクは、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係る磁気ディスクの各部の具体的な構成は、発明の思想から逸脱しない範囲内で種々な変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明に係る磁気ディスクの一例を示す平面図である。
【図２】図１に示す磁気ディスクの部分拡大平面図であり、（ａ）は、記録領域と外周側非記録領域との境界近傍を表し、（ｂ）は、記録領域と内周側非記録領域との境界近傍を表す。
【図３】図１に示す磁気ディスクの部分拡大断面図である。
【図４】本発明に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を示す部分拡大断面図である。
【図５】図４の後に続く工程を示す部分拡大断面図である。
【図６】本発明に係る磁気ディスクの他の例を示す部分拡大平面図である。
【図７】本発明に係る磁気ディスクの他の例を示す部分拡大平面図である。
【図８】パターンドメディアである従来の磁気ディスクの一例を示す部分拡大断面図である。
【図９】従来の磁気ディスクの製造方法における一部の工程を示す部分拡大断面図である。
【図１０】図９の後に続く工程を示す部分拡大断面図である。
【図１１】従来の磁気ディスクの問題点の説明図である。
【符号の説明】
【００４９】
Ａ１，Ａ２，Ａ３    磁気ディスク
２          記録層
２１        記録領域
２２        外周側非記録領域
２３        内周側非記録領域
２１１      データ領域
２１１Ａ    記録磁性部
２１１Ｂ    非磁性部
２１２      サーボ領域
２１３      ガード領域（第３のガード領域）
２２１      ガード領域
２２２      非磁性領域
２３１      ガード領域（第２のガード領域）
【図１】
2009193649.tif 000003
【図２】
2009193649.tif 000004
【図３】
2009193649.tif 000005
【図４】
2009193649.tif 000006
【図５】
2009193649.tif 000007
【図６】
2009193649.tif 000008
【図７】
2009193649.tif 000009
【図８】
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【図９】
2009193649.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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