(57)【要約】【課題】載置台の撓みに起因する塗布精度の低下を抑えることができるペースト塗布装置を提供する。【解決手段】ペースト塗布装置において、塗布対象物Ｋが載置される載置台２と、載置台２上の塗布対象物Ｋにペーストを塗布する塗布ヘッドと、載置台２を支持して平面内で回転させる回転機構８と、回転機構８による載置台２の回転を可能に載置台２の周縁部を支持する複数の撓み防止部材９とを備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前記塗布対象物が載置される載置台と、
前記載置台上の前記塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、
前記載置台を支持して平面内で回転させる回転機構と、
前記回転機構による前記載置台の回転を可能に前記載置台の周縁部を支持する複数の撓み防止部材と、
を備えることを特徴とするペースト塗布装置。
【請求項２】
前記複数の撓み防止部材は、前記周縁部として前記載置台の複数の角部をそれぞれ支持していることを特徴とする請求項１記載のペースト塗布装置。
【請求項３】
前記回転機構は、前記載置台の中心を回転中心として回転させる機構であって、前記回転中心を中心とする円周上に配設され前記載置台を回転方向に案内する複数の案内部材を具備しており、
前記複数の撓み防止部材は、前記周縁部として前記複数の案内部材から前記載置台の周縁までの間の領域をそれぞれ支持していることを特徴とする請求項１記載のペースト塗布装置。
【請求項４】
前記複数の撓み防止部材は、
前記載置台に取り付けられたクロスローラベアリングと、
前記クロスローラベアリングを平面方向に沿う第１方向及び前記平面方向に沿って前記第１方向に直交する第２方向に移動させるローラリング移動機構と、
をそれぞれ具備していることを特徴とする請求項１、２又は３記載のペースト塗布装置。
【請求項５】
前記ローラリング移動機構は、
前記クロスローラベアリングを前記第１方向に移動させる第１移動機構と、
前記第１移動機構を前記第２方向に移動させる第２移動機構と、
を具備していることを特徴とする請求項４記載のペースト塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布対象物にペーストを塗布するペースト塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ペースト塗布装置は、液晶表示パネル等の様々な装置を製造するために用いられている。このペースト塗布装置は、塗布対象物が載置されるステージ（載置台）及びそのステージ上の塗布対象物に対してペーストを塗布する塗布ヘッドを備えており、その塗布ヘッドを移動させながら塗布対象物にペーストを塗布し、塗布対象物上に所定のペーストパターンを形成する（例えば、特許文献１参照）。特に、液晶表示パネルの製造では、２枚の基板を貼り合わせるため、ペースト塗布装置は、塗布対象物である基板に対して液晶表示パネルの表示領域を囲むように、シール剤等のシール性及び接着性を有するペーストを塗布する。
【０００３】
ペースト塗布装置の中には、ステージが回転機構により水平面内で回転可能に形成されているペースト塗布装置が開発されている。回転機構は、ステージを支持して回転方向に案内する複数のＲガイドを具備している。これらのＲガイドはステージの中心を中心とする円周上に配設されており、ステージを平面方向に沿って回転可能に支持している。この回転可能なステージは、近年の液晶表示パネルの大型化に伴って大型化してきている。
【特許文献１】特開平９−３２３０５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ステージ（載置台）が液晶表示パネルの大型化に伴って大型化された場合でも、そのステージは複数のＲガイドだけにより支持されているため、それらのＲガイドにより支持されてない部分、特に、ステージの四隅が下方に撓んでしまう。このため、ステージ上の塗布対象物に対する塗布精度が低下してしまう。
【０００５】
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、その目的は、載置台の撓みに起因する塗布精度の低下を抑えることができるペースト塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の実施の形態に係る特徴は、ペースト塗布装置において、塗布対象物が載置される載置台と、載置台上の塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、載置台を支持して平面内で回転させる回転機構と、回転機構による載置台の回転を可能に載置台の周縁部を支持する複数の撓み防止部材とを備えることである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、載置台の撓みに起因する塗布精度の低下を抑えることができるペースト塗布装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の実施の一形態について図面を参照して説明する。
【０００９】
図１に示すように、本発明の実施の形態に係るペースト塗布装置１は、塗布対象物としての基板Ｋが水平状態（基板Ｋのペーストが塗布される面が図１に示すＸ軸方向とそれに直交するＹ軸方向に沿う状態）で載置される基板ステージ２と、その基板ステージ２上の基板Ｋにシール剤等のシール性及び接着性を有するペーストをそれぞれ塗布する第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂと、それらの第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３ＢをＸ軸方向に移動可能に支持してＸ軸方向に沿って移動させるＸ軸移動機構４と、そのＸ軸移動機構４を支持する支持部材５と、その支持部材５をＹ軸方向に移動可能に支持してＹ軸方向に沿って移動させる一対のＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂと、それら各部が載置される架台７とを備えている。
【００１０】
基板ステージ２は、架台７の上面に回転機構８及び複数の撓み防止部材９（図２及び図３参照）を介して設けられた載置台である。この基板ステージ２は、基板Ｋを吸着する吸着機構（図示せず）を備えており、その吸着機構により上面の載置面に基板Ｋを固定して保持する。なお、吸着機構としては、例えばエアー吸着機構等を用いる。このような基板ステージ２の載置面には、ガラス基板等の基板Ｋが載置される。
【００１１】
回転機構８は、図２及び図３に示すように、基板ステージ２を支持し、その基板ステージ２の中心を回転中心Ｔとして水平面（図２及び図３に示すＸ軸方向とそれに直交するＹ軸方向に沿う平面）内で回転させる機構である。この回転機構８は、基板ステージ２を回転方向（図２に示すθ方向）に案内するＲガイド等の複数の案内部材８ａにより構成されている。これらの案内部材８ａは、基板ステージ２を支持するようにその下方に位置付けられて架台７の上面に設けられ、さらに、回転中心Ｔを中心とする２つの円（内円Ｃ１及び外円Ｃ２）の円周上にそれぞれ配設されている。各案内部材８ａは、円弧状に曲率を有するガイドレール８ａ１と、ガイドレール８ａ１上にそのガイドレール８ａ１に沿って移動可能にそれぞれ設けられた複数のブロック８ａ２とをそれぞれ具備している。これらの案内部材８ａの各ブロック８ａ２上に基板ステージ２が固定され載置される。このような回転機構８は、駆動モータ等の駆動源（図示せず）により基板ステージ２を各案内部材８ａに沿ってθ方向に回転させる。
【００１２】
各撓み防止部材９は、回転機構８による基板ステージ２の回転を可能にその基板ステージ２の周縁部を支持する部材である。これらの撓み防止部材９は、周縁部として基板ステージ２の複数の角部、例えば四隅をそれぞれ支持するように架台７の上面に設けられている。特に、各撓み防止部材９は、基板ステージ２におけるその周縁から各案内部材８ａ（外円Ｃ２の円周上に位置する各案内部材８ａ）までの間の領域をそれぞれ支持するように配設されている。
【００１３】
撓み防止部材９は、図４に示すように、基板ステージ２の下面に取り付けられたクロスローラベアリング９ａと、そのクロスローラベアリング９ａを平面方向に沿うＸ軸方向及び平面方向に沿ってＸ軸方向に直交するＹ軸方向に移動させるローラリング移動機構９ｂとを具備している。この構造により、基板ステージ２がθ方向に回転する際に、その基板ステージ２を支持する撓み防止部材９が基板ステージ２のθ方向への回転を妨げることがないので、基板ステージ２はθ方向にスムーズに回転することができる。
【００１４】
クロスローラベアリング９ａは、内側の内リング９ａ１と、その内リング９ａ１に対して回転可能に内リング９ａ１の外周に設けられた外リング９ａ２とを有している。内リング９ａ１はネジ等の固定部材Ｎ１によりローラリング移動機構９ｂに固定されている。また、外リング９ａ２はネジ等の固定部材Ｎ２により基板ステージ２に固定されている。
【００１５】
ローラリング移動機構９ｂは、クロスローラベアリング９ａをＹ軸方向に移動させる第１移動機構９ｂ１と、その第１移動機構９ｂ１をＸ軸方向に移動させる第２移動機構９ｂ２とにより構成されている。この場合には、Ｙ軸方向が第１方向となり、Ｘ軸方向が第２方向となる。第２移動機構９ｂ２が架台７の上面に設けられており、その第２移動機構９ｂ２上に第１移動機構９ｂ１が設けられており、その第１移動機構９ｂ１上にクロスローラベアリング９ａが設けられている。第１移動機構９ｂ１は、Ｙ軸方向に直線状に伸びるレールＲ１と、そのレールＲ１上にそのレールＲ１に沿って移動可能に設けられたブロックＢ１とを有している。このブロックＢ１には、クロスローラベアリング９ａの内リング９ａ１が固定されている。また、第２移動機構９ｂ２は、Ｘ軸方向に直線状に伸びるレールＲ２と、そのレールＲ２上にそのレールＲ２に沿って移動可能に設けられたブロックＢ２とを有している。このブロックＢ２には、第１移動機構９ｂ１のレールＲ１が固定されている。
【００１６】
なお、図４に示す撓み防止部材９（図３に示す右側の撓み防止部材９）に隣接する撓み防止部材９（例えば、図３に示す左側の撓み防止部材９）では、ローラリング移動機構９ｂが、図３に示すように、クロスローラベアリング９ａをＸ軸方向に移動させる第１移動機構９ｂ１と、その第１移動機構９ｂ１をＹ軸方向に移動させる第２移動機構９ｂ２とにより構成されている。この場合には、Ｘ軸方向が第１方向となり、Ｙ軸方向が第２方向となる。このように隣接する撓み防止部材９においては、第１移動機構９ｂ１がクロスローラベアリング９ａを移動させる方向が異なっており、さらに、第２移動機構９ｂ２が第１移動機構９ｂ１を移動させる方向が異なっている。この構造により、各撓み防止部材９が基板ステージ２のθ方向への回転を妨げることが確実になくなるので、基板ステージ２はθ方向によりスムーズに安定して回転することができる。
【００１７】
図１に戻り、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂは、ペーストを収容するシリンジ等の収容筒３ａと、その収容筒３ａに連通してペーストを吐出するノズル３ｂとをそれぞれ有している。これらの第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂは、気体供給チューブ等を介して気体供給部（いずれも図示せず）にそれぞれ接続されている。第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂは、収容筒３ａ内に供給される気体により、その内部のペーストをノズル３ｂからそれぞれ吐出する。なお、ペーストとしては、シール性及び接着性を有するペーストを用いているが、これに限るものではなく、例えば、シール性及び接着性のどちらか一方を有するペーストや他の特性を有するペースト等を用いるようにしてもよい。
【００１８】
このような第１塗布ヘッド３Ａは、第１Ｚ軸移動機構１０Ａを介してＸ軸移動機構４に設けられている。同様に、第２塗布ヘッド３Ｂも、第２Ｚ軸移動機構１０Ｂを介してＸ軸移動機構４に設けられている。第１Ｚ軸移動機構１０Ａは、第１塗布ヘッド３Ａを支持して水平面に直交するＺ軸方向に移動させる移動機構である。同様に、第２Ｚ軸移動機構１０Ｂも、第２塗布ヘッド３Ｂを支持してＺ軸方向に移動させる移動機構である。なお、第１Ｚ軸移動機構１０Ａ及び第２Ｚ軸移動機構１０Ｂとしては、例えば送りねじ機構等を用いる。これらの第１Ｚ軸移動機構１０Ａ及び第２Ｚ軸移動機構１０Ｂには、基板ステージ２上の基板Ｋのアライメントマーク等を撮像する撮像部１１Ａ、１１Ｂがそれぞれ取り付けられている。これらの撮像部１１Ａ、１１Ｂによる撮像によって、基板ステージ２に対する基板Ｋの位置ずれが検出される。なお、撮像部１１Ａ、１１Ｂとしては、例えば、ＣＣＤカメラ等を用いる。
【００１９】
Ｘ軸移動機構４は、支持部材５の前面に設けられている。このＸ軸移動機構４は、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３ＢをＸ軸方向に移動可能にそれぞれ支持しており、それらの第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３ＢをＸ軸方向、すなわち支持部材５に沿って移動させる移動機構である。なお、Ｘ軸移動機構４としては、リニアモータ機構や送りねじ機構等を用いる。
【００２０】
支持部材５は、Ｘ軸移動機構４、すなわち第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂを支持するコラムである。この支持部材５は、その移動方向に交差する方向、例えば直交する方向に延伸させて形成されている。さらに、支持部材５は、例えば直方体形状に形成されており、基板ステージ２の載置面に対して平行に設けられている。このような支持部材５は、一対のＹ軸移動機構６Ａ、６ＢによりＹ軸方向に移動し、基板ステージ２の載置面に対向する位置に第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂを位置付ける。
【００２１】
一対のＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂは、基板ステージ２を両側から挟むように架台７の上面にそれぞれ設けられている。これらのＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂは、支持部材５をＹ軸方向に移動可能にその延伸方向の両端部を支持しており、その支持部材５をＹ軸方向に移動させる移動機構である。これらのＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂには、支持部材５が架け渡されて設けられている。なお、一対のＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂとしては、例えばリニアモータ機構や送りねじ機構を用いる。
【００２２】
架台７は、床面上に設置され、基板ステージ２及び一対のＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂを床面から所定の高さ位置に支持する架台である。架台７の上面は、平面状に形成されており、この架台７の上面には、一対のＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂが載置されており、基板ステージ２が回転機構８及び各撓み防止部材９を介して載置されている。このような架台７内には、各部を制御する制御部（図示せず）が設けられている。この制御部は、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータと、ペースト塗布に関する塗布情報や各種のプログラム等を記憶する記憶部とを備えている。塗布情報は、所定の塗布パターンや吐出圧力、移動速度（描画速度）等に関する情報を含んでいる。
【００２３】
次に、前述のペースト塗布装置１が行う塗布動作について説明する。
【００２４】
まず、基板Ｋはロボットハンドリング等の搬送装置により基板ステージ２上に載置される。このとき、通常、基板ＫはＹ軸方向に対してθ方向に、ある角度だけ傾いて基板ステージ２上に載置されてしまう。この場合には、基板Ｋ上のペーストが塗布されるＹ軸方向と、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂが移動するＹ軸方向とが平行とならない。したがって、ペースト塗布装置１は、回転機構８により基板ステージ２をθ方向に所定角度だけ回転させ、基板Ｋの位置を調整する。これにより、基板Ｋ上のペーストが塗布されるＹ軸方向と、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂが移動するＹ軸方向とが平行となる。なお、この基板Ｋの位置調整では、基板ステージ２に対する基板Ｋの位置ずれが各撮像部１１Ａ、１１Ｂによる撮像によって検出され、その位置ずれ量に基づいて基板ステージ２の回転量が求められる。
【００２５】
次いで、ペースト塗布装置１は、一対のＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂにより支持部材５をＹ軸方向に移動させ、Ｘ軸移動機構４により第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３ＢをＸ軸方向にそれぞれ移動させ、基板ステージ２上の基板Ｋの各塗布開始位置に第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂをそれぞれ対向させる。さらに、ペースト塗布装置１は、第１Ｚ軸移動機構１０Ａ及び第２Ｚ軸移動機構１０Ｂにより第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３ＢをＺ軸方向にそれぞれ移動させ、待機位置から塗布位置に第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂをそれぞれ位置付ける。
【００２６】
ここで、待機位置及び塗布位置は、基板ステージ２上の基板Ｋに対して所定のギャップを隔てた高さ位置である。塗布位置は、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂが塗布を行う際の高さ位置である。このときの各塗布ヘッド３Ａ、３Ｂにおけるノズル３ｂの先端と基板Ｋとの表面との間に形成されるギャップは、基板Ｋの表面にペーストを所定の塗布量で塗布するのに必要な大きさに設定される。また、待機位置は、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂが塗布を行わない場合の高さ位置であり、このときのギャップは、塗布位置におけるギャップよりもはるかに大きい。
【００２７】
その後、ペースト塗布装置１は、塗布情報（吐出圧力や移動速度等）に基づいて、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂの各ノズル３ｂからペーストを吐出させながら、一対のＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂにより支持部材５をＹ軸方向に移動させ、Ｘ軸移動機構４により第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３ＢをＸ軸方向に移動させ、基板ステージ２上の基板Ｋの表面にペーストを塗布し、所定のペーストパターンを形成する。ここで、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂが形成するペーストパターン（塗布パターン）は同一であり、例えば矩形枠状である。所定のペーストパターンの形成が完了すると、ペースト塗布装置１は、第１Ｚ軸移動機構１０Ａ及び第２Ｚ軸移動機構１０Ｂにより第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３ＢをＺ軸方向にそれぞれ移動させ、塗布位置から元の待機位置に第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂをそれぞれ位置付ける。なお、吐出圧力は、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂ内のペーストを各ノズル３ｂからそれぞれ吐出させるための気体圧力であり、移動速度は、ペーストを塗布する場合のノズル３ｂと基板Ｋとの相対移動速度である。
【００２８】
最後に、ペースト塗布装置１は、一対のＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂにより支持部材５をＹ軸方向の退避位置、すなわち第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂが基板ステージ２上の基板Ｋに対向しない退避位置まで移動させ、基板ステージ２上の基板Ｋの交換に待機する。基板Ｋの交換が完了すると、前述の基板Ｋの位置調整動作を含む塗布動作を繰り返す。
【００２９】
このようなペースト塗布装置１では、複数の撓み防止部材９が基板ステージ２の周縁部としてその四隅の角部にそれぞれ設けられている。これにより、基板ステージ２における各案内部材８ａにより支持されてない部分、すなわち基板ステージ２の四隅が各撓み防止部材９によりそれぞれ支持されているので、基板ステージ２の下方への撓みが抑えられている。したがって、基板ステージ２の撓みに起因する塗布精度の低下を抑えることができる。なお、Ｒガイド等の円弧状の案内部材８ａは、かなりの重さがある基板ステージ２を支持してθ方向に案内するため、ある程度の大きさが必要であり、その円弧状の案内部材８ａを基板ステージ２の角部を支持するように設けることはできない。一方、撓み防止部材９の設置自由度は案内部材８ａに比べ高く、基板ステージ２の周縁部の一部である角部を支持するように撓み防止部材９を設けることが可能であり、基板ステージ２の撓みを確実に抑えることができる。また、各撓み防止部材９は基板ステージ２の回転に応じてその回転を妨げないように動作するので、各撓み防止部材９が基板ステージ２のθ方向への回転を妨げることはなく、基板ステージ２はθ方向にスムーズに回転することができる。
【００３０】
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、回転機構８による基板ステージ２の回転を可能にその基板ステージ２の周縁部を支持する複数の撓み防止部材９を設けることによって、基板ステージ２における各案内部材８ａにより支持されてない部分、すなわち基板ステージ２の周縁部が支持されるので、基板ステージ２の下方への撓みを抑えることが可能になる。そのため、基板Ｋを基板ステージ２に載置したときに基板Ｋの下面が基板ステージ２の載置面上に全面で接触しやすく、エアー吸着機構等による基板Ｋの吸着を確実に行うことができるので、吸着不良による基板Ｋの位置ずれを防止することができる。また、基板ステージ２の撓みに起因して基板Ｋの表面高さが四隅で急激に下がることが防止される。これにより、ノズル３ｂの先端と基板Ｋの表面との間の距離を設定値に維持するためにレーザ変位計を用いて基板Ｋの表面までの距離を測定しつつ基板Ｋ上にペーストを塗布する場合であっても、予期せぬ基板Ｋの表面高さの変化によってレーザ変位計の測定範囲から基板Ｋの表面が外れるということが防止され、ノズル３ｂの先端と基板Ｋの表面との間の距離を設定値に確実に維持することができるので、ペーストの塗布を良好に行うことができる。これにより、基板ステージ２の撓みに起因する塗布精度の低下を抑えることができ、製造される液晶表示パネルの品質を向上させることができる。
【００３１】
さらに、各撓み防止部材９は周縁部として基板ステージ２の複数の角部をそれぞれ支持していることから、基板ステージ２の隅部分、例えば四隅が支持されるので、基板ステージ２の撓みを確実に抑えることができる。特に、各撓み防止部材９は、周縁部として各案内部材８ａ（外円Ｃ２の円周上に位置する各案内部材８ａ）から基板ステージ２の周縁までの間の領域をそれぞれ支持していることから、基板ステージ２の隅部分、例えば四隅を確実に支持することができる。
【００３２】
加えて、各撓み防止部材９は、基板ステージ２に取り付けられたクロスローラベアリング９ａと、そのクロスローラベアリング９ａを平面方向に沿うＸ軸方向及び平面方向に沿ってＸ軸方向に直交するＹ軸方向に移動させるローラリング移動機構９ｂとをそれぞれ具備していることから、各撓み防止部材９が基板ステージ２のθ方向への回転を妨げることがないので、基板ステージ２はθ方向にスムーズに回転することができる。その結果、基板ステージ２の振動等の発生を防止することが可能になり、回転時の基板ステージ２の振動に起因する基板Ｋの位置調整の精度低下を抑えることができる。
【００３３】
また、ローラリング移動機構９ｂは、クロスローラベアリング９ａをＹ軸方向（又はＸ軸方向）に移動させる第１移動機構９ｂ１と、その第１移動機構９ｂ１をＸ軸方向（又はＹ軸方向）に移動させる第２移動機構９ｂ２とを具備していることから、簡略な構成によりローラリング移動機構９ｂを構築することができる。その結果、コストを抑えることができる。
【００３４】
（他の実施の形態）
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
【００３５】
例えば、前述の実施の形態においては、第１塗布ヘッド３Ａ及び第２塗布ヘッド３Ｂとして塗布ヘッドを２つ設けているが、これに限るものではなく、例えば、塗布ヘッドを４つ以上設けるようにしてもよく、その数は限定されない。
【００３６】
また、前述の実施の形態においては、支持部材５を１つだけ設けているが、これに限るものではなく、例えば、支持部材５を２つ以上設けるようにしてもよく、その数は限定されない。
【００３７】
さらに、前述の実施の形態においては、ペーストとしてシール性や接着性を有するシール剤を用いているが、これに限るものではなく、ペーストとしては必ずしもシール性及び接着性を有する必要はなく、シール性及び接着性のいずれか一方のみを有するペースト等、他の性状を有するペーストを用いるようにしてもよい。
【００３８】
加えて、前述の実施の形態においては、基板ステージ２を固定状態とし、支持部材５及び塗布ヘッド３Ａ、３Ｂを移動させて基板Ｋの表面にペーストを塗布するようにしたが、これに限るものではなく、例えば、基板ステージ２を支持部材５の移動方向（Ｙ軸方向）と同じ方向に移動可能に構成するようにしてもよい。この場合には、基板Ｋと塗布ヘッド３Ａ、３ＢとをＹ軸方向に相対移動させるとき、基板ステージ２と支持部材５とを互いに相反する方向に移動させれば、支持部材５のみの移動による場合に比べて、基板ステージ２及び支持部材５の移動速度を半分にすることができる。このため、基板ステージ２及び支持部材５の移動に伴う慣性力が小さくなるので、基板ステージ２及び支持部材５の加速あるいは減速に起因して生じる振動を低減させることができる。その結果、Ｙ軸方向に沿うペーストパターンの始端及び終端の形状や塗布方向が転換するペーストパターンのコーナー部の形状を所望の形状で精度良く塗布することが可能となるので、品質の良い液晶表示パネルを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施の形態に係るペースト塗布装置の概略構成を示す外観斜視図である。
【図２】図１に示すペースト塗布装置が備える回転機構及び撓み防止部材の概略構成を示す平面図である。
【図３】図１に示すペースト塗布装置が備える回転機構及び撓み防止部材の概略構成を示す側面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ線断面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１          ペースト塗布装置
２          載置台（基板ステージ）
３Ａ        塗布ヘッド（第１塗布ヘッド）
３Ｂ        塗布ヘッド（第２塗布ヘッド）
８          回転機構
８ａ        案内部材
９          撓み防止部材
９ａ        クロスローラベアリング
９ｂ        ローラリング移動機構
９ｂ１      第１移動機構
９ｂ２      第２移動機構
Ｋ          塗布対象物（基板）
【図１】
2009208852.tif 000003
【図２】
2009208852.tif 000004
【図３】
2009208852.tif 000005
【図４】
2009208852.tif 000006