(57)【要約】【課題】例えば低コストなアルミニウム基体を用いても、白筋・色点・色むら等の画質欠陥がない電子写真感光体を得る。【解決手段】電子写真感光体は、中空円筒状基体の上に、少なくとも中間層、電荷発生層、電荷輸送層を積層した電子写真感光体であって、前記中空円筒状基体は、表面を切削加工したアルミニウム或いはアルミニウム合金からなり、前記中空円筒状基体の表面粗度は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９８２年）に準じ、Ｒｍａｘ（断面曲線の最大高さ）にて１．２μｍ以上５μｍ以下であり、その山ピッチは０．２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であり、粗さ曲線のスキューネスがプラスであり、前記中間層はカップリング剤を用いて被覆処理された金属酸化物粒子と、バインダー樹脂とを含み、前記中間層の層厚が１７μｍよりも大きく５０μｍ以下であり、接触帯電器を用いて帯電されるものである。【選択図】図１
2009098484.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中空円筒状基体の上に、少なくとも中間層、電荷発生層、電荷輸送層を積層した電子写真感光体であって、
前記中空円筒状基体は、表面を切削加工したアルミニウム或いはアルミニウム合金からなり、前記中空円筒状基体の表面粗度は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準じ、Ｒｍａｘ（断面曲線の最大高さ）にて１．２μｍ以上５μｍ以下であり、その山ピッチは０．２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であり、粗さ曲線のスキューネスがプラスであり、
前記中間層はカップリング剤を用いて被覆処理された金属酸化物粒子と、バインダー樹脂とを含み、前記中間層の層厚が１７μｍよりも大きく５０μｍ以下であり、
接触帯電器を用いて帯電されることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
請求項１に記載の電子写真感光体と、接触帯電手段、現像手段、クリーニング手段又は除電手段の少なくとも一つの手段とを一体に有し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項３】
請求項１に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる接触帯電手段と、前記帯電手段により帯電される前記電子写真感光体を露光する露光手段と、前記露光手段により露光された部分を現像する現像手段と、前記現像手段により前記電子写真感光体に現像された像を転写する転写手段と、を備えることを特徴とする電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真感光体は、高速、かつ高印字品質が得られるという利点を有するため、複写機及びレーザビームプリンター等の分野において多く利用されている。これら電子写真装置において用いられる電子写真感光体として、従来からのセレン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、硫化カドミウム等無機光導電材料を用いた電子写真感光体に比べ、安価で製造性及び安全性の点で優れた利点を有するフタロシアニン系の顔料等の有機光導電材料を電荷発生物質として含有した電子写真感光体が主流を占めるようになってきている。
【０００３】
中でも、露光により電荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層とからなる感光層を有する機能分離型感光体は、感度・帯電性及びその繰り返し安定性等、電子写真特性の点で優れており、種々の提案が成され、実用化されている。
【０００４】
この機能分離型感光体の場合、現在ではアルミニウム基体等の導電性支持体層（以降、単に基体と表記する）上に下引層を形成し、その後、下引層上に電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成する場合が多い。
【０００５】
また、これらの電子写真感光体には、電子写真装置より出力される画像が鮮明かつ濃度が均一になるようにするためには、感光層の厚さがアルミニウム等の導電性材料からなる電子写真感光体全面にわたって均等なことが必要であり、そのため基体上に直接感光層を作成するようにした従来技術では、基体の表面を著しく高い精度で平坦にすることが必要であった。
【０００６】
このように電子写真感光体に高い精度の表面を形成させるための加工方法としては、先端が平坦な単結晶ダイヤモンドバイトや多結晶ダイヤモンドバイトを使用した切削加工によって、或いは研削加工、バニシング等によってさらに表面の平坦化することが行なわれている。
【０００７】
しかしながら、上記の先端が平坦な単結晶ダイヤモンドバイトは高価なばかりでなく、その先端の平坦度を極めて高い精度で管理しなければならないため、比較的安価で刃先の管理が比較的容易な先端が円弧形状の多結晶ダイヤモンドバイトを用いて切削加工を行い、その後仕上げ切削加工や研削加工を行い基体の表面を平坦化することが行なわれている。
【０００８】
一方で、これらの電子写真感光体を用いる電子写真装置には年々低コスト化し続けているが、企業努力等の施策だけでは限界があり、技術手的な低コスト化が期待されている。具体的な施策としては、アルミニウム素管を切削する際の送り速度を上げることが考えられるが、コスト効果を期待するほど上げてしまうと、切削ピッチが画質上に現れてしまうという現象があった。
【０００９】
なお、基体の表面にブラスト処理、研磨処理、切削加工などを行い、基体表面に粗さを形成した基板ドラムを用いた電子写真感光体が提案されている（例えば、特許文献１から特許文献４等）。
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−３０７８６６号公報
【特許文献２】実開平７−１４６５７７号公報
【特許文献３】特開平６−２８２０８９号公報
【特許文献４】特開平１−２０６３５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
そこで、本発明は、切削加工した平滑とは言えないアルミニウム或いはアルミニウム合金製の中空円筒状基体を使いこなすことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置は、以下の特徴を有する。
【００１３】
（１）中空円筒状基体の上に、少なくとも中間層、電荷発生層、電荷輸送層を積層した電子写真感光体であって、前記中空円筒状基体は、表面を切削加工したアルミニウム或いはアルミニウム合金からなり、前記中空円筒状基体の表面粗度は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準じ、Ｒｍａｘ（断面曲線の最大高さ）にて１．２μｍ以上５μｍ以下であり、その山ピッチは０．２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であり、粗さ曲線のスキューネスがプラスであり、前記中間層はカップリング剤を用いて被覆処理された金属酸化物粒子と、バインダー樹脂とを含み、前記中間層の層厚が１７μｍよりも大きく５０μｍ以下であり、接触帯電器を用いて帯電される電子写真感光体である。
【００１４】
（２）上記（１）に記載の電子写真感光体と、接触帯電手段、現像手段、クリーニング手段又は除電手段の少なくとも一つの手段とを一体に有し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジである。
【００１５】
（３）上記（１）に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる接触帯電手段と、前記帯電手段により帯電される前記電子写真感光体を露光する露光手段と、前記露光手段により露光された部分を現像する現像手段と、前記現像手段により前記電子写真感光体に現像された像を転写する転写手段と、を備える電子写真装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の電子写真感光体によれば、低コストなアルミニウム基体を用いても、白筋・色点・色むら等の画質欠陥がない感光体を得ることが出来、そして、これを備えることにより、長期にわたり繰り返し使用しても高い解像品質を得ることのできるプロセスカートリッジ並びに電子写真装置を提供することできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
［電子写真感光体］
本実施の形態の電子写真感光体は、中空円筒状基体の上に、少なくとも中間層、電荷発生層、電荷輸送層を積層してなる。
【００１８】
＜中空円筒状基体＞
本実施の形態の電子写真感光体に用いる中空円筒状基体は、表面を切削加工したアルミニウム或いはアルミニウム合金からなり、前記中空円筒状基体の表面粗度は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９８２年）に準じ、Ｒｍａｘ（断面曲線の最大高さ）にて１．２μｍ以上５μｍ以下であり、その山ピッチ（Ｓｍ）はＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９９４年）に準じ０．２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であり、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１年）に準じた粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）が図１に示すようにプラスである。スキューネスがマイナスの場合、加工時間が長時間化してしまう。
【００１９】
アルミニウム或いはアルミニウム合金をポートホール法或いはマンドレル法により熱間押出加工、続いて冷間抽伸加工を施したものを切削前素管とし、旋盤にて表面を加工することが一般的である。このとき、先端が円弧形状で、多結晶ダイヤモンドを有するバイトが望ましい。
【００２０】
また、この切削加工は、従来行われていた「荒加工」および「仕上げ加工」という往復の加工ではなく、片道のみでの加工が望ましい。
【００２１】
なお、旋盤での切削加工では、先端が円弧状のバイトを用いた片道のみの加工を施した場合、切削管表面は、ねじ上の加工跡が残り、このピッチはバイトの送り速度でほぼ決定される。即ち、バイトの送り速度が０．１ｍｍ／ｒｅｖであれば山ピッチは０．１ｍｍとなり、バイトの送り速度が１ｍｍ／ｒｅｖであれば山ピッチは１ｍｍとなる。
【００２２】
低コスト化の観点から、送り速度は早いほうが望ましく、０．２ｍｍ／ｒｅｖ未満に設定した場合、従来行われていた「荒加工」および「仕上げ加工」という往復の加工との加工時間に大きな差はない。逆に０．５ｍｍ／ｒｅｖを超えてしまうと真円度・真直度等の悪化が顕著となり、さらには基体表面粗度もどんどん大きくなり、実使用に耐えかねる。
【００２３】
＜中間層＞
本実施の形態における電子写真感光体の中間層は、カップリング剤を用いて被覆処理された金属酸化物粒子と、バインダー樹脂とを含み、前記中間層の層厚が１７μｍよりも大きく５０μｍ以下である。
【００２４】
中間層は、カップリング剤を用いて被覆処理された金属酸化物粒子と、バインダー樹脂とを含んでいる。そして、中間層は、感光層の帯電時において、導電性支持体層から感光層への電荷の注入を阻止する機能を有する。また、この中間層は、感光層を導電性支持体層に対して一体的に接着保持せしめる接着層としても機能する。更に、この中間層は、導電性支持体層の光反射を防止する機能を有する。
【００２５】
そして、中間層の層厚は、上述したように１７μｍよりも大きく５０μｍ以下である。バインダー樹脂となる熱硬化性樹脂としては尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂及びポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂が好ましい。１７μｍ未満であると、カーボンファイバー等の外来異物が混入したときにリークして画質欠陥を発生しやすく、また、５０μｍを超えると膜が均一に生成できなくなり、ムラが発生し、結果として画質ムラになりやすい。
【００２６】
上述の硬化剤は、イソシアネートであることが好ましい。イソシアネートとしては、ポリイソシアネート化合物にブロック剤となる活性水素を有する化合物を反応させて得られるイソシアネートのうち、常温で安定であり、所定の条件（例えば、５０℃から２００℃）の下で加熱するとブロック剤が解離して、イソシアネート基が再生されるイソシアネートが好ましい。
【００２７】
上述のポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイシアネート、ジフェニルメタン−４、４’−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェルポリイソシアネート等が挙げられる。
【００２８】
上述のブロック剤としては、例えば、カプロラクトム等のラクタム類、メチルエチルケトオキシムやアセトオキシム等のオキシム類、マロン酸ジエチル、アセト酢酸ジエチル等のβ−ジケトン類が挙げられる。
【００２９】
中間層の電気抵抗値（体積抵抗率）は１０4Ω・ｃｍから１０13Ω・ｃｍであることが好ましく、１０8Ω・ｃｍから１０13Ω・ｃｍであることがより好ましく、１０9Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍであることが更に好ましい。体積抵抗率が１０4Ω・ｃｍ未満であると、十分なリーク耐性を得ることが困難となる傾向が大きくなり、１０13Ω・ｃｍを超えると、残留電位上昇を引き起こしてしまう傾向が大きくなる。中間層の電気抵抗値は金属酸化物粒子自体の電気抵抗値とその添加量を変化させること、金属酸化物粒子のバインダー樹脂中への分散状態を変化させることで制御することができる。
【００３０】
金属酸化物粒子は、酸化錫、酸化チタン及び酸化亜鉛からなる群から選択される少なくとも１種の粒子であることが好ましい。
【００３１】
金属酸化物粒子の粒径は、平均粒子径で１００ｎｍ以下が好ましい。なお、ここでいう粒径とは、平均１次粒径を意味する。金属酸化物粒子としては、粉体抵抗値（体積抵抗率）が１０2Ω・ｃｍから１０11Ω・ｃｍであるものが利用可能であるが、中間層の優れたリーク耐性を得る観点から、特に、粉体抵抗値（体積抵抗率）が１０4Ω・ｃｍから１０1０Ω・ｃｍであるものが好ましい。１０2Ω・ｃｍ未満であると、十分なリーク耐性が得られず、１０11Ω・ｃｍを超えると残留電位の上昇がおこる傾向が大きくなる。
【００３２】
使用環境における温度や湿度の変動による中間層の電気抵抗値の変動を抑制する観点から、金属酸化物粒子はカップリング剤で表面処理されている。これにより、中間層の電気抵抗に大きな影響を与える金属酸化物粒子の分散状態を上述の好適な電気抵抗値をえるのに適した状態に容易にコントロールすることができる。
【００３３】
ここで、表面処理とは、金属酸化物粒子の表面にカップリング剤を吸着させ、そこでカップリング剤のアルコキシ基を加水分解反応させる処理を示す。
【００３４】
カップリング剤は、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤及びアルミネート系カップリング剤からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。また、シランカップリング剤を用いた金属酸化物粒子の被覆処理は、金属酸化物微粒子の全体を覆う処理でもよく、一部分を覆う処理でもよい。
【００３５】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００３６】
チタネート系カップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス（ジオクチルピロホフェート）、イソプロピルトリ（Ｎ―アミノエチルーアミノエチル）チタネート等が挙げられる。
【００３７】
アルミネート系カップリング剤としては、例えば、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、これらのカップリング剤は２種以上を混合して使用してもよい。
【００３８】
また、カップリング剤の使用量は金属酸化物粒子の０．１質量％から１０質量％であることが好ましい。カップリング剤の使用量が金属酸化物粒子の０．１質量％未満であると、画質欠陥が発生する傾向が大きくなる。また、カップリング剤の使用量が金属酸化物粒子の１０質量％を超えると、感光体の電気特性が低下して感度が低下するおそれがある。
【００３９】
カップリング剤による金属酸化物粒子の表面処理の方法は特に限定されず、例えば、乾式法、湿式法、気相法など公知の方法を使用してよい。
【００４０】
例えば、乾式法に基づいて表面処理を行う場合の手順の一例を説明する。先ず、表面処理前に金属酸化物粒子を１００℃から１５０℃の温度で予備乾燥し、表面吸着水を除去する。この表面吸着水を処理前に除去することによって、金属酸化物粒子表面に均一にカップリング剤を吸着させることができる。このとき、金属酸化物粒子はせん断力の大きなミキサで攪拌しながら予備乾燥させてもよい。
【００４１】
次に、カップリング剤を金属酸化物粒子の表面に吸着させる。このとき、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサで攪拌しながら、カップリング剤を乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させるか、あるいは、カップリング剤を溶剤（有機溶媒、水等）に溶解させた液を乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させる。これにより、金属酸化物粒子の表面にカップリング剤が均一吸着させられる。
【００４２】
カップリング剤を金属酸化物粒子の表面に吸着させる際の温度は、５０℃以上の温度で行われることが好ましい。また、溶剤を使用する場合には溶剤の沸点付近の温度で行うことが好ましい。
【００４３】
そして、その後、１００℃以上の温度で焼き付け処理を行う。これにより、カップリング剤の加水分解反応を十分に進行させることができる。焼き付け処理は１５０℃から２５０℃の温度で行うことが好ましい。１５０℃未満であると、十分にカップリング剤の加水分解反応を十分に進行させることができなくなるおそれがある。２５０℃を超えるとカップリング剤の分解が起こるおそれがある。
【００４４】
次に、必要に応じて、表面処理後の金属酸化物粒子を粉砕する。これにより、金属酸化物粒子の凝集体を粉砕することができるので、中間層中における金属酸化物粒子の分散性を向上させることができる。
【００４５】
中間層には、その電気特性の向上、使用環境における形状安定性の向上、画質向上のために、他の添加物を含有させることができる。
【００４６】
例えば、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−t−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３'，５，５'テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物等の公知の材料を含有させることができる。
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
【００４７】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。なお、これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。
【００４８】
また、接触帯電時の電流リークの一因となる、外部からの導電性粉等の異物が感光体を貫くことを防止し、耐久性の高い中間層を形成する観点から、中間層の硬度を高くすることが有効であり、硬度の指標として中間層のビッカース硬度を３０以上好ましくは３５以上とすることが好ましい。
【００４９】
また、モアレ像防止の観点から、中間層の表面粗さは、使用される露光用レーザ波長λとした場合に、１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）〜λに調整されていることが好ましい。なお、ここでいう表面とは、中間層の感光層の側の表面である。また、この表面粗さ調整のために中間層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメチルメタクリレート樹脂（ＰＭＭＡ）の粒子等を用いることができる。
【００５０】
更に、表面粗さ調整のために中間層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることもできる。
【００５１】
この中間層は、上述の金属酸化物粒子をカップリング剤を用いて表面処理した後、バインダー樹脂中に分散させて得られる塗布液を導電性支持体層上に塗布することにより形成することができる。
【００５２】
中間層の形成用の塗布液を調整するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。
【００５３】
例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。
【００５４】
また、これらの分散に用いる溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。
【００５５】
カップリング剤を用いて表面処理した金属酸化物をバインダー樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。さらにこの下引層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。
【００５６】
＜電荷発生層＞
電荷発生層に含有される顔料（電荷発生物質）は特に限定されず、公知の顔料を使用することができる。
【００５７】
赤外光を利用する感光体では、例えば、フタロシアニン顔料、スクアリリウム顔料、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、ジチオケトピロロピロール顔料を使用することができる。また、可視光レーザを利用する感光体では、例えば、縮合多環顔料、ビスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリゴナルセレン、色素増感した金属酸化物等を使用することができる。
【００５８】
上述した顔料の中では、優れた画像を得られることから、フタロシアニン系顔料を使用することが好ましい。これにより、特に高感度で、繰り返し使用しても良好な画質を安定して得ることのできる電子写真感光体を構成することが容易にできる。
【００５９】
フタロシアニン顔料は一般に数種の結晶型を有しており、目的にあった感度が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に、フタロシアニン顔料の中でも下記式（１）から（６）に示されるフタロシアニン顔料が好ましく用いられる。
【００６０】
【化１】
2009098484.tif 000003
【００６１】
上記の式（１）から（６）中、クロルガリウムフタロシアニンとしては、Ｃｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）の値が７．４°，１６．６°，２５．５°，２８．３°である位置に回折ピークを少なくとも有するものが好ましい。また、チタニルフタロシアニンとしては、Ｃｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）の値が９．６°，２４．１°，２７．３°である位置に回折ピークを少なくとも有し、最大ピークを２７．３°に有するものが好ましい。
【００６２】
また、下記式（１）〜（６）に示されるフタロシアニン顔料以外に、式（４）の配位中心となるＧａに結合しているＣｌ原子を−ＯＨ基に置換したヒドロキシガリウムフタロシアニンも好ましい。このようなヒドロキシガリウムフタロシアニンとしては、Ｃｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）の値が７．５°，９．９°，１２．５°，１６．３°，１８．６°， ２５．１°，２８．１°である位置に回折ピークを少なくとも有するものが好ましい。
【００６３】
更に、このような顔料は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００６４】
上記の湿式粉砕処理において使用される溶剤としては、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、さらには数種の混合系、水とこれら有機溶剤の混合系が挙げられる。
【００６５】
また、この溶剤は、顔料結晶に対して、１〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部の範囲で使用する。更に、処理温度は、０℃〜溶剤の沸点、好ましくは１０〜６０℃の範囲で行う。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。
【００６６】
そして、磨砕助剤は顔料に対し０．５〜２０倍、好ましくは１〜１０倍用いればよい。また、公知の方法で製造される顔料結晶を、アシッドペースティングあるいはアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕あるいは湿式粉砕を組み合わせることにより、結晶制御することもできる。
【００６７】
アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、濃度（質量パーセント濃度）７０％から１００％、好ましくは９５％から１００％のものが使用され、溶解温度は、−２０℃から１００℃、好ましくは−２０℃から６０℃の範囲に設定される。濃硫酸の量は、顔料結晶の質量に対して、１倍から１００倍、好ましくは３倍から５０倍の範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるいは、水と有機溶剤の混合溶剤、アンモニア水等が任意の量で用いられる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【００６８】
また、顔料の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、１０質量％から９０質量％であることが好ましく、４０質量％から７０質量％であることがより好ましい。顔料の含有量がそれぞれ上記の数値範囲の下限値未満となると、十分な感度が得られにくくなる。一方、顔料の含有量がそれぞれ上記の数値範囲の上限値を超えると、帯電性の低下、感度の低下などの弊害が発生する傾向が大きくなる。
【００６９】
電荷発生層に含有されるバインダー樹脂は、絶縁性樹脂であれば特に限定されるものではなく、広範な絶縁性樹脂から選択して使用することができる。例えば、好ましいバインダー樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができる。
【００７０】
電荷発生層用のバインダー樹脂としては、顔料の分散性の観点から、特にポリビニルアセタール樹脂及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が好ましく用いられる。なお、上記のバインダー樹脂は、単独あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
【００７１】
また、顔料とバインダー樹脂との配合比（質量比）は、電荷発生層の場合、１０：１から１：１０の範囲が好ましい。顔料の質量に対してバインダー樹脂の質量が上記の配合比で示される値未満となると、成膜性が悪くなる等の弊害が発生する傾向が大きくなる。一方、顔料の質量に対してバインダー樹脂の質量が上記の配合比で示される値を超えると、膜中の含有量が相対的に少なくなるため十分な感度が得られなくなる傾向が大きくなる。
更に、電荷発生層を形成するための塗布液に含まれる有機溶剤は、バインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であり、かつ、顔料（電荷発生物質）の結晶型を変化させる影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではなく、公知の有機溶剤を使用することができる。
【００７２】
例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。そして、これらの有機溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００７３】
この電荷発生層には、その電気特性の向上、画質向上などのために中間層の説明において記載したものと同じ他の添加剤を添加することもできる。
【００７４】
更に、電荷発生層の層厚は、良好な電気特性と画質を与えるために、０．０５μｍから５μｍであることが好ましく、０．１μｍから１μｍであることがより好ましい。電荷発生層の厚みが０．０５μｍ未満であると、十分な感度を与えることができない。一方、電荷発生層の厚みが５μｍを超えると、帯電性の不良などの弊害を生じさせ易い。
【００７５】
電荷発生層は、顔料（電荷発生物質）、有機溶剤、バインダー樹脂、添加剤（例えば、顔料の分散助剤等）等を混合して塗布液を調製し、これを中間層上に塗布して更に乾燥させることにより形成することができる。また、電荷発生層は、電荷発生物質を中間層上に真空蒸着することによっても形成することができる。
【００７６】
電荷発生層の形成用の塗布液を調製するには、顔料、バインダー樹脂、有機溶剤、その他の添加剤（例えば、顔料の分散助剤等）等とともに混合する。顔料を液中に高分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの分散方法を用いることができる。
【００７７】
更に、成膜性の観点から、電荷発生層を形成するための塗布液に含まれる顔料などの分散粒子の粒子径は、０．５μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以下であることがより好ましく、０．１５μｍ以下であることが更に好ましい。分散粒子の粒子径が０．５μｍを超えると、電荷発生層の成膜性が悪くなり、画質欠陥を生じ易い。
【００７８】
電荷発生層の形成用の塗布液を中間層上に塗布する場合の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。
【００７９】
＜電荷輸送層＞
電荷輸送層について説明する。電荷輸送層に含有される電荷輸送物質は、特に限定されるものではなく、公知の物質を使用することができる。
【００８０】
例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体等の正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−t−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３'，５，５'テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送物質等が挙げられる。
【００８１】
更には、電荷輸送物質は、以上例示した化合物の基本構造を主鎖又は側鎖に有する重合体等も挙げられる。そして、これらの電荷輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００８２】
また、電荷輸送層に含有されるバインダー樹脂は特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができるが、電機絶縁性のフィルムを形成することが可能な樹脂が好ましい。
【００８３】
例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられる。
【００８４】
そして、これらのバインダー樹脂は、単独又は２種類以上混合して用いることができる。特に、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れているので、好ましく用いられる。
【００８５】
また、バインダー樹脂と電荷輸送物質との配合比（質量比）は電気特性低下、膜強度低下に考慮しつつ任意に設定することができる。この電荷輸送層の層厚は５μｍから５０μｍであることが好ましく、１０μｍから３５μｍであることがより好ましい。が適当である。
【００８６】
電荷輸送層は、電荷輸送物質、有機溶剤、バインダー樹脂等を混合して塗布液を調製し、これを電荷発生層上に塗布して更に乾燥させることにより形成することができる。電荷輸送層の形成用の塗布液を調製するには、電荷輸送物質、有機溶剤、バインダー樹脂等とともに混合する。電荷輸送物質を液中に高分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの分散方法を用いることができる。
【００８７】
更に、成膜性の観点から、電荷輸送層を形成するための塗布液に含まれる顔料などの分散粒子の粒子径は、０．５μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以下であることがより好ましく、０．１５μｍ以下であることが更に好ましい。分散粒子の粒子径が０．５μｍを超えると、電荷輸送層の成膜性が悪くなり、画質欠陥を生じ易い。
【００８８】
更に、電荷輸送層の形成用の塗布液に用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００８９】
電荷輸送層の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。
【００９０】
以上、本発明の電子写真感光体の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の電子写真感光体は上記実施形態に限定されるものではない。
【００９１】
以上説明した本実施の形態の電子写真感光体は、近赤外光もしくは可視光に発光するレーザビームプリンター、デイジタル複写機、ＬＥＤプリンタ、レーザファクシミリなどの電子写真装置や、このような電子写真装置に備えるプロセスカートリッジに搭載することができる。また、本実施の形態の電子写真感光体は一成分系、二成分系の正規現像剤あるいは反転現像剤とも合わせて用いることができる。また本実施の形態の電子写真感光体は帯電ローラや帯電ブラシを用いた接触帯電方式の電子写真装置に搭載されても良好な特性が得られる。
【００９２】
次に、本発明の本発明の電子写真感光体を搭載した電子写真装置及びプロセスカートリッジについて説明する。
【００９３】
［プロセスカートリッジおよび電子写真装置］
本実施の形態のプロセスカートリッジは、上述した本実施の形態の電子写真感光体と、後述する接触帯電手段、現像手段、クリーニング手段又は除電手段の少なくとも一つの手段とを一体に有し、電子写真装置本体に着脱自在に装着される。
【００９４】
また、本実施の形態の電子写真装置には、像担持体である電子写真感光体と、電子写真感光体を均一に帯電するコロナ放電方式により帯電させるコロトロンやスコロトロンなどの帯電手段と、電子写真感光体表面を露光し静電潜像を形成する露光手段と、露光手段により露光された部分を現像する現像手段と、現像手段により電子写真感光体に現像された像を転写する転写手段と、電子写真感光体に付着したトナーやゴミ等を除去するクリーニング装置と、像担持体表面に残留している静電潜像を除去する除電器と、定着装置とを必要に応じて公知の方法で任意に備えることができる。
【００９５】
本実施の形態の電子写真装置は、特に電子写真感光体を接触方式により帯電させる帯電手段を備えている。特に、直流電圧に交流電圧を重畳した接触式の帯電手段を採用する電子写真装置においては、優れた耐摩耗性を有するため、好ましく使用できる。なお、この場合には、除電器が設けられていないものもある。
【００９６】
このような電子写真装置の具体例について図面を用いて以下に説明する。
【００９７】
図２は本発明の電子写真装置の一例を示す概略模試図である。図２に示す電子写真装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図２に示す電子写真装置２００は、電子写真感光体７と、電子写真感光体７をコロナ放電方式により帯電させるコロトロンやスコロトロンなどの帯電手段８と、帯電手段８に接続された電源９と、帯電手段８により帯電される電子写真感光体７を露光する露光手段１０と、露光手段１０により露光された部分を現像する現像手段１１と、現像手段１１により電子写真感光体７に現像された像を転写する転写手段１２と、クリーニング装置１３と、除電器１４と、定着装置１５とを備える。
【００９８】
そして、以上説明した電子写真装置においては、帯電手段８として非接触式のコロトロンやスコロトロンについて説明したが、電子写真感光体７と接触する接触式の帯電手段を用いることもできる。その一例として本実施の形態における接触式の帯電手段（以下「接触帯電手段」という場合がある）について以下に詳細に説明する。
【００９９】
［接触帯電手段］
接触帯電手段（帯電用部材）は、感光体の表面に接触するように配置され、感光体に電圧を均一に印加し、感光体表面を所定の電位に帯電させるものである。接触帯電手段にはアルミニウム、鉄、銅などの金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェンなどの導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボンブラック、沃化銅、沃化銀などの金属沃化物、硫化亜鉛などの金属硫化物、炭化けい素、金属酸化物などの粒子を分散したものなどを用いることができる。
【０１００】
この金属酸化物の例としてはＺ2Ｏ、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ2、ＭｏＯ2等、あるいはこれらの複合酸化物が挙げられる。また、帯電手段にはエラストマー材料中にイオン導電剤である過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用しても良い。
【０１０１】
更に、帯電手段にはその表面に被覆層を設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用いられる。また、エマルジョン樹脂系材料、たとえば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることも出来る。
【０１０２】
これらの被覆層にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。また、この接触帯電用部材の形状としては、ローラ型、ブレード型、ベルト型、ブラシ型、などが挙げられる。
【０１０３】
さらに、帯電手段の電気抵抗率（体積抵抗率）は、好ましくは１０2Ω・ｃｍから１０14Ω・ｃｍ、さらに好ましくは１０2Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲が良い。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、交流いずれも用いることができる。又、直流及び交流の形で印加することもできる。
【実施例】
【０１０４】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置の内容をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１０５】
以下に示す方法により金属酸化物粒子をカップリング剤で表面処理した。そして、これらを用いて、電子写真感光体と同様の構成を有する電子写真感光体を作製した。
【０１０６】
［基体Ａの準備］
アルミニウム基体は、ＪＩＳ  Ｈ４０８０に規定されたＡ６０６３ＴＤ、即ち、ポートホール法にて熱間押出加工して管形状を形成し、これを冷間抽伸加工して精度を整えてＨ１４とし、切削用素管を得た。外径はφ３０．３、内径はφ２８．５、全長は４０６ｍｍであった。
【０１０７】
該素管の外側を把持し、両端にインロー加工を施した。インロー加工された内径はφ２８．５ｍｍで、その深さは１０ｍｍであった。両端加工も同時に施し、その全長は４０４ｍｍであった。
【０１０８】
該インロー加工済み素管を旋盤（昌運工作所製ＳＰＡ５）にて外径切削加工した。バイトは多結晶ダイヤモンドを刃先とした円弧状バイトである。送り速度を０．３ｍｍ／ｒｅｖに設定し、φ３０ｍｍに仕上げた。この表面を表面粗度計（東京精密社製サーフコム１４００）にて、Ｒｍａｘ、山ピッチ（Ｓｍ）、粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）を測定した。Ｒｍａｘは１．９μｍであり、山ピッチ（Ｓｍ）は０．３ｍｍ、スキューネス（Ｒｓｋ）は０．４５（プラス）であった。
【０１０９】
［基体Ｂの準備］
基体Ａの準備と同様に切削用素管を得、インロー加工を施した。同じバイトを用い、送り速度を０．２に設定し、φ３０ｍｍに仕上げた。この表面を表面粗度計（東京精密社製サーフコム１４００）にて、Ｒｍａｘ、山ピッチ（Ｓｍ）、粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）を測定した。Ｒｍａｘは１．２μｍであり、山ピッチ（Ｓｍ）は０．２ｍｍ、スキューネス（Ｒｓｋ）は０．４４（プラス）であった。
【０１１０】
［基体Ｃの準備］
基体Ａの準備と同様に切削用素管を得、インロー加工を施した。同じバイトを用い、送り速度を０．５ｍｍ／ｒｅｖに設定し、φ３０ｍｍに仕上げた。この表面を表面粗度計（東京精密社製サーフコム１４００）にて、Ｒｍａｘ、山ピッチ（Ｓｍ）、粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）を測定した。Ｒｍａｘは４．９μｍであり、山ピッチ（Ｓｍ）は０．５ｍｍ、スキューネス（Ｒｓｋ）は０．４３（プラス）であった。
【０１１１】
［基体Ｄの準備］
基体Ａの準備と同様に切削用素管を得、インロー加工を施した。同じバイトを用い、送り速度を０．５５ｍｍ／ｒｅｖに設定し、φ３０ｍｍに仕上げた。この表面を表面粗度計（東京精密社製サーフコム１４００）にて、Ｒｍａｘ、山ピッチ（Ｓｍ）、粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）を測定した。Ｒｍａｘは６．８μｍであり、山ピッチ（Ｓｍ）は０．５５ｍｍ、スキューネス（Ｒｓｋ）は０．４１（プラス）であった。
【０１１２】
［基体Ｅの準備］
基体Ａの準備と同様に切削用素管を得、インロー加工を施した。同じバイトを用い、送り速度を０．４ｍｍ／ｒｅｖに設定し、φ３０ｍｍに仕上げた。この表面を表面粗度計（東京精密社製サーフコム１４００）にて、Ｒｍａｘ、山ピッチ（Ｓｍ）、粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）を測定した。Ｒｍａｘは２．９μmであり、山ピッチ（Ｓｍ）は０．４ｍｍ、スキューネス（Ｒｓｋ）は０．４３（プラス）であった。
【０１１３】
上記基体Ａから基体Ｆを用いて、以下の手順にて電子写真感光体を作製した。
【０１１４】
［下引き層に用いる表面処理例１］
酸化亜鉛粒子（商品名：Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ＺｎＯ シーアイ化成社製）：１００質量部をステンレス製バット内にて１２０℃で２時間加熱し、予備乾燥した。次に、この予備乾燥した酸化亜鉛を攪拌しながら、これにＮ−β（アミノエチル）−γ−アミノフ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン（シランカップリング剤）の４質量％のトルエン溶液：４０質量部を噴霧し、１００℃で攪拌を１時間行った。その後、さらに１７５℃で１時間焼き付け処理を行った後、乳鉢により粉砕処理をした。
【０１１５】
［下引き層（１）の作成］
表面処理例１で表面処理した酸化亜鉛：２５質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール３１７５，住友バイエルンウレタン社製） ：１０質量部と、ブチラール樹脂 ＢＭ−１ （積水化学社製）：９質量部と、メチルエチルケトン：６０質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
【０１１６】
得られた分散液に、シリコーンボール トスパール１２０（東芝シリコーン社製）：３質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、中間層塗布用液を得た。
【０１１７】
この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基体上に塗布し、１６０℃、６０分の乾燥硬化を行い、層厚が２５μｍの中間層を形成した。
【０１１８】
［下引き層（２）の作成］
下引き層（１）と同じ方法で、層厚が１７μｍの中間層を形成した。
【０１１９】
［下引き層（３）の作成］
下引き層（１）と同じ方法で、層厚が４８μｍの中間層を形成した。
【０１２０】
［下引き層（４）の作成］
下引き層（１）と同じ方法で、層厚が１２μｍの中間層を形成した。
【０１２１】
［下引き層（５）の作成］
下引き層（１）と同じ方法で、層厚が５５μｍの中間層を形成した。
【０１２２】
［電荷発生層の作成］
次に、中間層上に層構造の感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてのＣｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有する塩化ガリウムフタロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−ブチルアアセテート：３００質量部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。
【０１２３】
得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布液として中間層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１２４】
［電荷輸送層の作成］
さらに、Ｎ，Ｎ'−シ゛フェニル−Ｎ，Ｎ'−ヒ゛ス（３−メチルフェニル）−［１、１'］ヒ゛フェニル−４，４'−シ゛アミン：４質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万）：６質量部とをクロルベンゼン：８０質量部に加えて溶解した。
【０１２５】
得られた分散液を電荷輸送層形成用の塗布液として電荷発生層上に浸漬塗布し、１３０℃、４０分の乾燥を行うことにより層厚が２５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１２６】
以上の感光体製造方法から、以下の表１に示す組合せで各感光体を製造した。
【０１２７】
【表１】
2009098484.tif 000004
【０１２８】
［画質評価］
このようにして得た感光体を図２に示す電子写真装置（富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒＣｏｌｏｒ  ａ４５０、接触式帯電手段を有する）に装填し、３０％濃度のハーフトーン画像のプリントを行った。画質検査結果を上表に合わせて示す。
【産業上の利用可能性】
【０１２９】
本発明の活用例として、電子写真方式を用いた複写機、プリンタ等の電子写真装置等への適用がある。
【図面の簡単な説明】
【０１３０】
【図１】本発明の電子写真感光体に用いる基体の表面粗度における粗さ曲線のスキューネスを示す概略図である。
【図２】本発明における電子写真装置の他の一実施形態を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【０１３１】
７  電子写真感光体、８  帯電手段、９  電源、１０  露光手段、１１  現像手段、１２  転写手段、１３  クリーニング装置、１４  除電器、２００  電子写真装置。
【図１】
2009098484.tif 000005
【図２】
2009098484.tif 000006