(57)【要約】【課題】装置が大型化する場合であっても、ガイドレールを全長に亘って水平に保ち、移動体を安定的に移動させることができるステージ装置を提供する。【解決手段】ガイドレール１７をアジャストプレート２５の取付面２５ａに固定し、高さ調節機構２６によって、アジャストプレート２５の高さ位置を調節することを可能とする。ガイドレール１７の長手方向において、水平に保たれていない部分があった場合は、その部分の近くに設けられている高さ調節機構２６の高さ調節ネジ２７の締め込み量を調整することにより、トッププレート１０に対するアジャストプレート２５の高さ位置を調整し、これによって、ガイドレール１７の高さ位置を精密に調整する。このような調整をガイドレール１７の全長に亘って行う。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺の支持部材の上方で当該支持部材の長手方向に沿ってガイドレールが延在し、前記ガイドレールに沿って移動体が案内されるステージ装置において、
前記ガイドレールが固定される取付面を有すると共に、前記支持部材の上面で、高さ方向に移動可能に支持されるアジャストプレートと、
前記アジャストプレートの高さ位置を調節すると共に、前記長手方向に沿って前記アジャストプレートに複数設けられている高さ調節機構と、を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記アジャストプレートの前記取付面には、前記移動体に設けられた読取手段によって読み取られる読取対象物が設置されることを特徴とする請求項１記載のステージ装置。
【請求項３】
前記読取手段は位置検出センサであり、前記読取対象物はリニアスケールであることを特徴とする請求項２記載のステージ装置。
【請求項４】
前記高さ調節機構は、
前記アジャストプレートに対して、螺着されると共に貫通する高さ調節ネジと、
前記高さ調節ネジを上下方向に貫通して、前記支持部材に対して、螺着されると共に頭部で前記高さ調節ネジの上端に当接する固定ネジと、を有することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項記載のステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に、大型の液晶ディスプレイ等の製造や検査に利用されるステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のこのような分野の発明として、特開２００６−４９３８４号公報がある。この公報に記載されたステージ装置は、液晶ディスプレイのガラス基板などの対象物が載置される石定盤と、石定盤の両端で各々延在する一対のガイドベース（支持部材）と、ガイドベース上の直動案内軸受（ガイドレール）に案内されて対象物の上方で移動するガントリ部（移動体）とを備えている。
【特許文献１】特開２００６−４９３８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ここで、近年液晶ディスプレイ等の大型化によって対象物も大きくなる傾向にあるため、それらに伴い装置が大型化し、支持部材とガイドレールが長尺化してしまう。従って、上記ステージ装置にあっては、製造時において、ガイドレールを全長に亘って水平に保つことが困難となり、移動体を一定の高さ位置で安定的に移動させることができないという問題を生じる。また、例えば、ガイドレールをアジャストプレートに固定し、製造後に、アジャストプレートと支持部材との間にスペーサなどを配置することによってガイドレールの高さ位置を調整する場合は、精度良く高さ調整を行うことができず、ガイドレールを全長に亘って水平に保つことができないという問題を生じる。また、一枚一枚スペーサを入れて微調整するのは非常に難しく、手間がかかるという問題を生じる。
【０００４】
本発明は、装置が大型化する場合であっても、ガイドレールを全長に亘って水平に保ち、移動体を安定的に移動させることができるステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係るステージ装置は、長尺の支持部材の上方で支持部材の長手方向に沿ってガイドレールが延在し、ガイドレールに沿って移動体が案内されるステージ装置において、ガイドレールが固定される取付面を有すると共に、支持部材の上面で、高さ方向に移動可能に支持されるアジャストプレートと、アジャストプレートの高さ位置を調節すると共に、長手方向に沿ってアジャストプレートに複数設けられている高さ調節機構と、を備えることを特徴とする。
【０００６】
このステージ装置では、ガイドレールがアジャストプレートの取付面に固定されており、そのアジャストプレートの高さ位置を調節する高さ調節機構が、支持部材の長手方向に沿ってアジャストプレートに複数設けられている。従って、高さ調節機構によるアジャストプレートの高さ位置の調節を、長手方向に沿って複数箇所で行うことができるため、ガイドレールの高さ位置の精密な調整を全長に亘って行うことができる。これによって、装置が大型化する場合であっても、ガイドレールを全長に亘って水平に保ち、移動体を安定的に移動させることができる。
【０００７】
また、アジャストプレートの取付面には、移動体に設けられた読取手段によって読み取られる読取対象物が設置されることが好ましい。ガイドレールと共に読取対象物をアジャストプレートの取付面に設置することにより、読取対象物と移動体の読取手段との相対的な位置関係を変化させることなく、ガイドレールの高さ位置の調整を行うことができる。
【０００８】
具体的には、読取手段は位置検出センサであり、読取対象物はリニアスケールである。
【０００９】
また、高さ調節機構は、アジャストプレートに対して、螺着されると共に貫通する高さ調節ネジと、高さ調節ネジを上下方向に貫通して、支持部材に対して、螺着されると共に頭部で高さ調節ネジの上端に当接する固定ネジと、を有することが好ましい。アジャストプレートに対して貫通する高さ調節ネジの下端が支持部材と当接し、アジャストプレートと支持部材との間にギャップを形成するため、高さ調節ネジの締め込み量を調節することによって、容易にガイドレールの高さ位置の調整を行うことができる。更に、固定ネジが、高さ調節ネジを上下方向に貫通して、支持部材に対して、螺着されると共に頭部で高さ調節ネジの上端に当接することによって、高さ調節ネジを介してアジャストプレートを支持部材に固定することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係るステージ装置によれば、装置が大型化する場合であっても、ガイドレールを全長に亘って水平に保ち、移動体を安定的に移動させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明によるステージ装置の好適な実施形態について添付図面を参照しながら説明する。
【００１２】
図１に示すように、ステージ装置１は、水平面内で互いに平行となるように並設された長尺の一対の支持部材２と、支持部材２の延在方向に沿って移動するように両端部がそれぞれ支持部材２で支持される移動体３とを備えている。移動体３には、例えば、加工装置や検査装置などが搭載される。
【００１３】
支持部材２は、長手方向の両端部が脚部４，６で支持され、長手方向の略中央位置が脚部７で支持されている。また、支持部材２の下方には、脚部４と脚部７との間にＸＹステージ装置８が配置されている。このＸＹステージ装置８は、吸着盤９の上面に載置された対象物１１を水平面内で移動させるものである。対象物１１としては、液晶ディスプレイのガラス基板などが挙げられ、移動体３に搭載された加工装置や検査装置などによって、この対象物１１に対して加工や検査がなされる。また、脚部６と脚部７との間の区間は、移動体３に搭載された装置のメンテナンス用のスペースとして用いられる。支持部材２の全長は６〜１０ｍ程度（図１における長さＣ）、支持部材２の脚部４と脚部７との間は３〜５ｍ程度（図１における長さＡ）、支持部材２の脚部６と脚部７との間は３〜５ｍ程度（図１における長さＢ）とされている。なお、請求項１における「高さ」とは、対象物１１と移動体３に搭載された装置との相対距離を示す。
【００１４】
図２に示すように、支持部材２は、支持部材２の水平方向側の短手方向で中空部材１２，１３，１４を並設してすることによって形成されるガイドベース５と、ガイドベース５の上面５ａに固定されるトッププレート１０とを備えている。なお、「短手方向」とは、移動体３の移動方向と直交する方向である。ガイドベース５は、断面略長方形状の中空部材１２，１３，１４のそれぞれの長辺側の外周面を接合面として、互いに連結することによって断面略正方形状に形成されている。具体的には、中空部材１２，１３，１４は、中空部材１２の側面壁１２ａと中空部材１３の一方の側面壁１３ａとを面接触させると共に、中空部材１３の他方の側面壁１３ｂと中空部材１４の側面壁１４ａとを面接触させた状態で、外周側のそれぞれの角部同士を溶接し、支持部材２の長手方向に沿って延在する溶接部１５を形成することによって互いに連結されている。なお、各中空部材１２，１３，１４は、複数本の部材を長手方向に連結させることにより長尺化させたものではなく、一本の長尺な部材であることが好ましい。これによって、支持部材２で支持されるガイドレール１７やリニアスケール（読取対象物）１６などの部品の長手方向の位置精度を確保することができる。
【００１５】
ガイドベース５の上面５ａには、ガイドベース５の略全長に亘って延在するトッププレート１０が固定されている。トッププレート１０は、隣接する中空部材１２及び中空部材１３に亘って固定されている。トッププレート１０の上面１０ａ（図３参照）には、トッププレート１０と同形状のアジャストプレート２５が、高さ方向へ調節可能に固定されている。このアジャストプレート２５の上側の取付面２５ａには、移動体３の位置を測定するためのリニアスケール１６と、移動体３をガイドするためのガイドレール１７と、移動体３を移動させるためのリニアモータ１８の固定子１８ａとが、支持部材２の長手方向に沿って延在するように取り付けられている。このアジャストプレート２５の取付面２５ａは、位置精度が必要とされるリニアスケール１６とガイドレール１７とリニアモータ１８の固定子１８ａとが取り付けられるため、製造時に高精度な平面加工がなされることによって十分な平面度が確保されている。
【００１６】
支持部材２の上方を移動する移動体３には、アジャストプレート２５の取付面２５ａと対向する連結板１９が両端部に設けられており、この連結板１９の下面には、移動可能にガイドレール１７に嵌合されるスライダ２０と、リニアスケール１６と対向配置されて、リニアスケール１６の目盛りを読み取ることによって移動体３の位置を検出する位置検出センサ（読取手段）２１と、リニアモータ１８の可動子１８ｂとが取り付けられている。なお、位置検出センサ２１としては、ＣＣＤカメラや光学式センサなど、いずれのセンサを適用してもよい。
【００１７】
トッププレート１０とアジャストプレート２５には、アジャストプレート２５の高さ位置を無段階で調節する高さ調節機構２６が設けられている。この高さ調節機構２６は、アジャストプレート２５の長手方向に沿ってそれぞれ０．２〜０．３ｍ程度の間隔で、ガイドレール１７の両側に一対ずつ設けられている。
【００１８】
図３に示すように、高さ調節機構２６は、アジャストプレート２５に対して、螺着されると共に貫通する高さ調節ネジ２７と、高さ調節ネジ２７をロックするロックナット２８と、アジャストプレート２５をトッププレート１０に固定する固定ネジ２９とを備えている。
【００１９】
高さ調節ネジ２７は、アジャストプレート２５に形成された螺子孔２５ｂを貫通しており、その下端部がトッププレート１０の上面１０ａと当接することによってアジャストプレート２５とトッププレート１０との間にギャップを形成している。ギャップの大きさは高さ調節ネジ２７の締め込み量によって無段階で調節可能であり、このギャップの分だけ、アジャストプレート２５とリニアスケール１６とガイドレール１７とが上方へ移動する。このように、高さ調節ネジ２７の締め込み量を調節することによって、容易にリニアスケール１６とガイドレール１７の高さ位置の調整を行うことができる。
【００２０】
また、高さ調節ネジ２７は、その中心位置に上端から下端へ延在する貫通孔２７ａを有しており、この貫通孔２７ａには固定ネジ２９が挿通されている。固定ネジ２９は、その下端側がトッププレート１０に締め込まれると共に、その頭部の下面を高さ調節ネジ２７の頭部の上面に当接させて支持することにより、高さ調節ネジ２７を介してアジャストプレート２５とトッププレート１０とを固定している。
【００２１】
なお、図２及び図３においては、一方の支持部材２及び移動体３の一端側のみが示されているが、他方の支持部材２及び移動体３の他端側も同様の構成である。
【００２２】
以上によって、ステージ装置１では、ガイドレール１７の長手方向において、水平に保たれていない部分があった場合は、その部分の近くに設けられている高さ調節機構２６の高さ調節ネジ２７の締め込み量を調整することにより、トッププレート１０に対するアジャストプレート２５の高さ位置を無段階で調整し、これによって、ガイドレール１７の高さ位置を精度良く調整することができる。このような調整をガイドレール１７の全長に亘って行う。これによって、装置が大型化する場合であっても、ガイドレール１７を全長に亘って水平に保ち、移動体３を安定的に移動させることができる。
【００２３】
特に、下方にＸＹステージ装置８などが配置されるタイプのステージ装置１においては、少なくとも脚部４と脚部７との間の区間で、ＸＹステージ装置８を配置するためのスペースを支持部材２の下方に確保しなくてはならず、ガイドレール１７の撓みや歪を抑制するための補強用の脚部やトラス構造などを、支持部材２の下方に設けることができない。従って、ガイドレール１７の高さ位置を全長に亘って無段階で調整できる本発明は、ステージ装置１のようなタイプのステージ装置に特に有効である。
【００２４】
また、アジャストプレート２５の取付面２５ａに、ガイドレール１７と共にリニアスケール１６を設置することにより、リニアスケール１６と移動体３の位置検出センサ２１との相対的な位置関係を変化させることなく、ガイドレール１７の高さ位置の調整を行うことができる。
【００２５】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。
【００２６】
例えば、本実施形態においては、読取手段は位置検出センサ２１であり、読取対象物はリニアスケール１６であるが、これに代えて、読取対象物を検査用カメラとし、読取対象物を検査の対象となるガラス基板などの対象物としてもよい。また、読取対象物を検査用紙などとして、検査用紙に付着したインクの状態を検査用カメラで読み取る構成としてもよい。なお、読取対象物をガラス基板や検査用紙などとする場合は、アジャストプレートをステージ装置の内側へ延ばして対象物を載置できるような構成とする。
【００２７】
また、支持部材２のガイドベース５は、中空部材１２，１３，１４を用いて複数の部材から構成されているが、これに代えて、一本の中空の角材を用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施形態に係るステージ装置を示す斜視図である。
【図２】図１に示すステージ装置の要部拡大斜視図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１…ステージ装置、２…支持部材、３…移動体、１０ａ…上面、１６…リニアスケール（読取対象物）、１７…ガイドレール、２１…位置検出センサ（読取手段）、２５…アジャストプレート、２５ａ…取付面、２６…高さ調節機構、２７…高さ調節ネジ、２９…固定ネジ。
【図１】
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【図２】
2009241194.tif 000004
【図３】
2009241194.tif 000005