(57)【要約】【課題】製造コストの低減が可能であるとともに、信頼性の高い液晶表示装置を提供する。【解決手段】第１セル領域及び第２セル領域を有し各セル領域のアクティブエリア外に信号供給源を接続するための接続部１３１を備えた第１マザー基板２０と、第１マザー基板に対向配置された第２マザー基板３０と、各セル領域のアクティブエリアを囲むように配置され液晶層を保持するためのセルギャップを形成した状態の第１マザー基板と第２マザー基板とを貼り合わせるシール材１１０と、を備え、  第１セル領域Ｃ１に配置されたシール材は、第２セル領域Ｃ２の接続部に対向して第１セル領域のセルギャップに液晶材料を注入するための第１ギャップＧ１の注入口１１１を形成するように配置され、  さらに、第１セル領域Ｃ１の注入口１１１と第２セル領域Ｃ２の接続部１３１との間に第１ギャップＧ１より小さい第２ギャップＧ２を形成する狭ギャップ部４０を備えたことを特徴とする。【選択図】図３
2009025637.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１セル領域及び第２セル領域を有し、各セル領域のアクティブエリアに対応してマトリクス状に配置された画素電極を備えるとともに各セル領域のアクティブエリア外に信号供給源を接続するための接続部を備えた第１マザー基板と、
前記第１マザー基板に対向配置された第２マザー基板と、
各セル領域のアクティブエリアを囲むように配置され、液晶層を保持するためのセルギャップを形成した状態の前記第１マザー基板と前記第２マザー基板とを貼り合わせるシール材と、を備え、
前記第１セル領域に配置された前記シール材は、前記第２セル領域の前記接続部に対向して、前記第１セル領域のセルギャップに液晶材料を注入するための第１ギャップの注入口を形成するように配置され、
さらに、前記第１セル領域の前記注入口と前記第２セル領域の前記接続部との間に第１ギャップより小さい第２ギャップを形成する狭ギャップ部を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１セル領域と前記第２セル領域とは隙間なく接して配置され、
前記狭ギャップ部は、前記第２セル領域内に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記狭ギャップ部は、前記第１セル領域の前記注入口と前記第２セル領域の前記接続部との並び方向に対して交差する方向に延在することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２マザー基板は、各セル領域に樹脂層を備え、
前記狭ギャップ部は、前記第２マザー基板上において前記樹脂層と同一材料によって形成された突起を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記接続部は、信号供給源のバンプと接続可能な電極パッドを備え、
前記狭ギャップ部は、前記第１マザー基板上において前記電極パッドと同一材料によって形成された突起を有することを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
アクティブエリアに対応してマトリクス状に配置された画素電極を備えるとともにアクティブエリア外に信号供給源を接続するための接続部を備えた第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
アクティブエリアを囲むように配置され、液晶層を保持するためのセルギャップを形成した状態の前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、を備え、
前記シール材は、セルギャップに液晶材料を注入するための第１ギャップの注入口を形成するように配置され、
さらに、前記注入口の外において、前記注入口から前記第１基板または前記第２基板の端部に沿って延在するとともに第１ギャップより小さい第２ギャップを形成する狭ギャップ部を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
前記第２基板は、樹脂層を備え、
前記狭ギャップ部は、前記第２基板上において前記樹脂層と同一材料によって形成された突起を有することを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記接続部は、信号供給源のバンプと接続可能な電極パッドを備え、
前記狭ギャップ部は、前記第１基板上において前記電極パッドと同一材料によって形成された突起を有することを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置に係り、特に、一対の基板間に封止される液晶材料を注入するための注入口を備えた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平面表示装置として代表的な液晶表示装置は、シール材を介して貼り合わせられたアレイ基板と対向基板との間に液晶層を保持して構成された液晶表示パネルを備えている。この液晶表示パネルは、マトリクス状の表示画素によって構成されたアクティブエリアを備えている。
【０００３】
シール材は、液晶材料を注入するための注入口を確保するように配置されている。液晶層は、アレイ基板と対向基板との間のセルギャップに注入口から液晶材料を注入した後に、封止材によって注入口を封止することによって形成されている。このような構成の液晶表示パネルにおいて、注入口を封止材によって封止した際、封止材が有効領域（アクティブエリア）内に浸透し、表示不良を生ずることがある。
【０００４】
このような課題に対して、特許文献１によれば、注入口を十分な機密性及び接着強度で封止することができ封止剤の過剰な浸透により有効領域への影響を防ぐ目的で、注入口を囲んで形成される誘導パターンを備え、注入口を封止剤樹脂で封止するとき、樹脂を誘導パターンにしたがって浸透させることにより、封止剤樹脂の流れを有効領域外に留めることが開示されている。
【特許文献１】特開２００６−１７１１２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、近年、対角寸法が比較的小さな液晶表示パネルを製造するにあたり、大型の基板を用いて複数のチップ（すなわち分断後に液晶表示パネルとなる単個のセル）を形成する手法（いわゆる多面取り）が広く採用されている。このような製造過程において、製造ラインにより使用できる基板のサイズは決まっており、基板内にどれだけ多くのチップを作り込めるかが、液晶表示パネルの製造コストを大きく左右する。そのため、基板内のチップの面付け（レイアウト）設計が重要となる。
【０００６】
この発明の目的は、製造コストの低減が可能であるとともに、信頼性の高い液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の第１の態様による液晶表示装置は、
第１セル領域及び第２セル領域を有し、各セル領域のアクティブエリアに対応してマトリクス状に配置された画素電極を備えるとともに各セル領域のアクティブエリア外に信号供給源を接続するための接続部を備えた第１マザー基板と、
前記第１マザー基板に対向配置された第２マザー基板と、
各セル領域のアクティブエリアを囲むように配置され、液晶層を保持するためのセルギャップを形成した状態の前記第１マザー基板と前記第２マザー基板とを貼り合わせるシール材と、を備え、
前記第１セル領域に配置された前記シール材は、前記第２セル領域の前記接続部に対向して、前記第１セル領域のセルギャップに液晶材料を注入するための第１ギャップの注入口を形成するように配置され、
さらに、前記第１セル領域の前記注入口と前記第２セル領域の前記接続部との間に第１ギャップより小さい第２ギャップを形成する狭ギャップ部を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この発明の第２の態様による液晶表示装置は、
アクティブエリアに対応してマトリクス状に配置された画素電極を備えるとともにアクティブエリア外に信号供給源を接続するための接続部を備えた第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
アクティブエリアを囲むように配置され、液晶層を保持するためのセルギャップを形成した状態の前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、を備え、
前記シール材は、セルギャップに液晶材料を注入するための第１ギャップの注入口を形成するように配置され、
さらに、前記注入口の外に第１ギャップより小さい第２ギャップを形成する狭ギャップ部を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、製造コストの低減が可能であるとともに、信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置、特に液晶表示装置について図面を参照して説明する。
【００１１】
図１に示すように、液晶表示装置は、液晶表示パネル１００を備えている。すなわち、液晶表示パネル１００は、一対の基板すなわちアレイ基板（第１基板）２００及び対向基板（第２基板）３００と、アレイ基板２００と対向基板３００との間に保持された液晶層４００と、によって構成されている。この液晶表示パネル１００は、画像を表示するアクティブエリア１２０を備えている。このアクティブエリア１２０は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸによって構成されている。
【００１２】
アレイ基板２００は、アクティブエリア１２０において、画素ＰＸの行方向に沿って延在する複数の走査線Ｙ（１、２、３、…、ｍ）と、画素ＰＸの列方向に沿って延在する複数の信号線Ｘ（１、２、３、…、ｎ）と、各画素ＰＸにおける信号線Ｘと走査線Ｙとの交差部を含む領域に配置されたスイッチ素子２２０と、を備えている。また、このアレイ基板２００は、アクティブエリア１２０に対応してマトリクス状に配置された画素電極２３０などを備えている。
【００１３】
スイッチ素子２２０は、薄膜トランジスタなどによって構成されている。このスイッチ素子２２０のゲート電極２２２は、走査線Ｙに接続されている（あるいは、ゲート電極２２２は、走査線Ｙと一体的に形成されている）。スイッチ素子２２０のソース電極２２５は、信号線Ｘに接続されている（あるいは、ソース電極２２５は、信号線Ｘと一体的に形成されている）。スイッチ素子２２０のドレイン電極２２７は、画素電極２３０に接続されている。
【００１４】
バックライト光を選択的に透過して画像を表示する透過型液晶表示パネルにおいては、画素電極２３０は、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの光透過性を有する導電性部材によって形成されている。また、外光を選択的に反射して画像を表示する反射型液晶表示パネルにおいては、画素電極２３０は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）やモリブデン（Ｍｏ）などの光反射性を有する導電性部材によって形成されている。
【００１５】
対向基板３００は、アクティブエリア１２０において、複数の画素ＰＸに共通の対向電極３３０を備えている。この対向電極３３０は、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどの光透過性を有する導電性部材によって形成されている。
【００１６】
上述したような構成のアレイ基板２００と対向基板３００との間には、図示しないスペーサが介在している。アレイ基板２００及び対向基板３００は、これらの基板間に液晶層４００を保持するための所定のセルギャップを形成した状態で配置され、シール材によって貼り合わせられている。液晶層４００は、これらのアレイ基板２００と対向基板３００との間のセルギャップに封入された液晶材料によって形成されている。この実施の形態においては、液晶モードについて特に制限はなく、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなどが適用可能である。
【００１７】
カラー表示タイプの液晶表示装置では、液晶表示パネル１００は、複数種類の画素、例えば赤（Ｒ）を表示する赤色画素、緑（Ｇ）を表示する緑色画素、青（Ｂ）を表示する青色画素を有している。すなわち、赤色画素は、赤色の主波長の光を透過する赤色カラーフィルタを備えている。緑色画素は、緑色の主波長の光を透過する緑色カラーフィルタを備えている。青色画素は、青色の主波長の光を透過する青色カラーフィルタを備えている。これらのカラーフィルタは、アレイ基板２００または対向基板３００の主面に配置される。
【００１８】
また、液晶表示パネル１００は、アクティブエリア１２０の外側に位置する外周部１３０に配置された接続部１３１を備えている。この接続部１３１は、信号供給源として機能する駆動ＩＣチップやフレキシブル配線基板のバンプと接続可能な電極パッドを備えて構成されている。図１に示した例では、接続部１３１は、対向基板３００の端部３００Ａより外方に延在したアレイ基板２００の延在部２００Ａ上に配置されている。
【００１９】
アクティブエリア１２０に配置された走査線Ｙ（１、２、３、…、ｍ）のそれぞれは、外周部１３０に引き出され、接続部１３１に接続されている。また、信号線Ｘ（１、２、３、…、ｎ）のそれぞれも同様に、外周部１３０に引き出され、接続部１３１に接続されている。
【００２０】
ところで、図１に示すように、液晶材料をセルギャップに注入するための注入口１１１は、液晶表示パネル１００において接続部１３１が配置される側とは対向する側の端部１００Ａに配置されている。シール材１１０は、アクティブエリア１２０を囲むように配置されるとともに、注入口１１１を確保するために、その両端１１０Ａ及び１１０Ｂが所定の距離を置いて対向するとともに端部１００Ａに向かって略Ｌ字状に折り曲げられたパターンを有している。
【００２１】
このようなシール材１１０は、例えば熱硬化性樹脂などの樹脂材料を含んでおり、液晶表示パネル１００を構成する一方の基板、例えばアレイ基板２００のアクティブエリア１２０を囲むとともに注入口１１１を形成するように塗布される。その後、他方の基板、例えば対向基板３００をアレイ基板２００に対向配置した状態で、一対の基板を貼り合わせる方向に加圧しながら加熱する。これにより、シール材１１０が硬化し、アレイ基板２００と対向基板３００とが貼り合わせられる。その後、さらに、注入口１１１から液晶材料を注入する。その後、封止材１１２として、例えば紫外線硬化型樹脂などの感光性樹脂を注入口１１１に塗布し、紫外線を照射することにより液晶材料が封止される。これにより、アレイ基板２００と対向基板３００との間に保持された液晶層４００が形成される。
【００２２】
以下に、対角寸法が比較的小さな液晶表示パネルを製造するにあたり、大型の基板を用いて複数のチップを形成する手法を採用した場合について説明する。
【００２３】
図２は、分割後にチップとなる複数のセル領域Ｃを有したマザーセル１０を示す平面図である。すなわち、マザーセル１０は、分割後にアレイ基板となる複数のセル領域ＣＡを有する第１マザー基板２０と、分割後に対向基板となる複数のセル領域ＣＣを有する第２マザー基板３０とを備えている。
【００２４】
第１マザー基板２０は、各セル領域ＣＡのアクティブエリア１２０に対応して図１に示したようなマトリクス状に配置された画素電極２３０を備えるとともに、各セル領域ＣＡのアクティブエリア１２０の外に接続部１３１を備えている。第２マザー基板３０は、第１マザー基板２０に対向配置されている。この第２マザー基板３０は、各セル領域ＣＣのアクティブエリア１２０に対応して図１に示したような対向電極３３０を備えている。
【００２５】
これらの第１マザー基板２０と第２マザー基板３０とは、各セル領域Ｃに液晶層を保持するためのセルギャップを形成した状態で配設され、各セル領域Ｃのアクティブエリア１２０を囲むように配置された各シール材１１０によって貼りあわせられている。各シール材１１０は、上述したように、各セル領域Ｃにおいて接続部１３１が配置される側とは対向する側に注入口１１１を形成するようなパターンで配置されている。つまり、複数のセル領域Ｃを同じ向きで複数列にわたってレイアウトした場合、ある列のセル領域Ｃにおける注入口１１１とこの列に隣接する列のセル領域Ｃにおける接続部１３１とが対向することになる。
【００２６】
図２に示した例では、互いに隣接する第１セル領域Ｃ１及び第２セル領域Ｃ２について、第１セル領域Ｃ１におけるシール材１１０の注入口１１１は、第２セル領域Ｃ２における接続部１３１と対向している。各セル領域Ｃにおいて、シール材１１０は、注入口１１１を形成するために各セル領域Ｃの端部（すなわち分割後の液晶表示パネルの端部１００Ａに相当する）に向けて折り曲げるように配置されている。
【００２７】
このようなレイアウトのマザーセル１０においては、第１マザー基板２０と第２マザー基板３０とを貼り合わせた際に、シール材１１０からの染み出し成分（例えばシール材１１０に含まれる樹脂材料など）１１０Ｘが隣接するセル領域Ｃの接続部１３１における電極パッドに付着し、実装不良を起こすことが懸念される。このため、隣接するセル領域の注入口辺と接続部辺の間に隙間を設けるようなレイアウト設計が必要となっている。つまり、図２に示したように、第１セル領域Ｃ１を含む列と、第２セル領域Ｃ２を含む列との間に、シール材１１０の染み出しを考慮した幅の隙間が必要となる。
【００２８】
このように、隣接するセル領域間に隙間の幅が大きいほど電極パッドへの染み出し成分の付着を防止できるが、製造ラインにより使用できるマザー基板のサイズが決まっているため、マザーセル内にレイアウト可能なセル領域の数が減少して製造コストの増大を招くおそれがある。
【００２９】
マザーセル内にレイアウト可能なセル領域の数を増やすためには、隣接するセル領域間の隙間を小さくするあるいは無くすことが望ましいが、シール材１１０の染み出し成分１１０Ｘによる隣接するセル領域の接続部の汚染を防止することが課題となる。
【００３０】
そこで、この実施の形態においては、図３に示すように、第１セル領域Ｃ１における注入口１１１と第２セル領域Ｃ２における接続部１３１とが対向するレイアウトのマザーセル１０において、第１セル領域Ｃ１の注入口１１１と第２セル領域Ｃ２の接続部１３１との間に狭ギャップ部４０が備えられている。
【００３１】
すなわち、この狭ギャップ部４０は、注入口１１１における第１マザー基板２０と第２マザー基板３０との間の第１ギャップＧ１より小さい第２ギャップＧ２を形成している。つまり、シール材１１０の染み出し成分がギャップの狭い部分に流れること（毛細管現象）を利用して、狭ギャップ部４０のパターンにより染み出す方向を制御することが可能となる。これにより、シール材１１０から接続部１３１の電極パッドＰに向かって染み出した染み出し成分１１０Ｘを狭ギャップ部４０で留めることができる。したがって、染み出し成分１１０Ｘによる接続部１３１の汚染を防止することができ、信頼性を向上することが可能となる。
【００３２】
また、電極パッドＰへの染み出し成分１１０Ｘの広がりを防止できるため、隣接するセル領域間の隙間を小さくすることが可能となる。このため、マザーセル内にレイアウト可能なセル領域の数を増やすことが可能となる。特に、図３に示したように、隣接するセル領域間に隙間を設けないようなレイアウトが可能となり、マザーセル１０から取り出されるチップ数を増やすことができる。したがって、製造コストの低減が可能となる。
【００３３】
図３に示したようなレイアウトのマザーセル１０においては、第１セル領域Ｃ１において注入口１１１を形成するシール材１１０の両端１１０Ａ及び１１０Ｂがセル領域Ｃの端部まで引き出されているが、このシール材１１０の端部と電極パッドＰとの間の狭ギャップ部４０は、第２セル領域Ｃ２内に配置されている。このため、第１セル領域Ｃ１と第２セル領域Ｃ２との間に染み出し成分１１０Ｘの染み出しを考慮した隙間がなく接して配置されているにもかかわらず、染み出し成分１１０Ｘの電極パッドＰへの広がりを防止することができる。
【００３４】
上述したような狭ギャップ部４０は、第１セル領域Ｃ１の注入口１１１と第２セル領域Ｃ２の接続部１３１との並び方向（図中のＸ方向）に対して交差する方向に延在している。図３に示した例では、複数のセル領域Ｃは、Ｙ方向に並んで配置されて列を成している。各列は、Ｙ方向に直交するＸ方向に並んで配置されている。ここで、第１セル領域Ｃ１及び第２セル領域Ｃ２は、Ｘ方向に並んで配置されている。このようなレイアウトにおいて、狭ギャップ部４０は、注入口１１１と接続部１３１との間において、Ｙ方向に沿って略平行に延在している。より望ましくは、図３に示したように、狭ギャップ部４０は、電極パッドＰから離間する方向に延在し、第２セル領域Ｃ２から第１セル領域Ｃ１にまたがって配置されている。
【００３５】
このような構成により、注入口１１１付近で発生するシール材１１０からの染み出し成分１１０Ｘの染み出しについて、隣接するセル領域Ｃの電極パッドＰに染み出さないように染み出し成分１１０Ｘが流れる誘導パスが形成される。この誘導パスにより、注入口１１１及び電極パッドＰから遠ざかる方向に染み出し成分１１０Ｘを誘導することが可能となり、電極パッドＰの染み出し成分１１０Ｘによる汚染を防止することが可能となる。
【００３６】
上述したような狭ギャップ部４０は、第１マザー基板２０及び第２マザー基板３０の少なくとも一方に形成された突起を有している。
【００３７】
例えば、図３に示すように、第２マザー基板３０が各セル領域Ｃに樹脂層を備える構成においては、狭ギャップ部４０は、第２マザー基板３０上において樹脂層と同一材料によって形成された突起４１を有している。この突起４１は、第２マザー基板３０を構成する絶縁基板３１から第１マザー基板２０側に向かって突出している。この突起４１の高さは、絶縁基板３１から突起４１の先端までの樹脂層の厚みに相当する。
【００３８】
樹脂層としては、画素毎に配置されたカラーフィルタ、画素間に配置されたブラックマトリクス、アクティブエリアを囲むような額縁状の遮光層、セルギャップを形成する柱状スペーサなどがある。突起４１は、これらのうちの１種類以上の樹脂層と同一材料を用いて樹脂層と同時に形成される。
【００３９】
これにより、突起４１を形成するための新規の工程が不要となり、製造コストを抑制できる。また、２種類以上の樹脂層を積層して突起４１を形成することにより、突起として必要な高さを容易に実現できる。図３に示した例では、突起４１は、ブラックマトリクスと同一材料によって形成された第１樹脂層４１Ａ及び複数色のカラーフィルタのうちの１色のカラーフィルタと同一材料によって形成された第２樹脂層４１Ｂを積層することによって形成されている。
【００４０】
また、第１マザー基板２０が接続部１３１において電極パッドＰを備える構成においては、狭ギャップ部４０は、第１マザー基板２０上において電極パッドＰと同一の金属材料によって形成された突起４２を有している。この突起４２は、第１マザー基板２０を構成する絶縁基板２１から第２マザー基板３０側に向かって突出している。この突起４２の高さは、絶縁基板２１から突起４２の先端までの金属材料の厚みに相当する。
【００４１】
電極パッドＰは、例えば走査線Ｙと同一材料によって形成され、絶縁層ＩＬから露出している。突起４２は、このような電極パッドＰと同一材料を用いて電極パッドＰなどと同時に形成される。これにより、突起４２を形成するための新規の工程が不要となり、製造コストを抑制できる。
【００４２】
この実施の形態では、突起４１の高さは、１．５乃至３μｍ程度となっている。また、突起４２の高さは０．２μｍ程度となっており、絶縁層ＩＬの厚さは０．３μｍ程度となっている。注入口１１１での第１ギャップＧ１が７乃至８μｍ程度であるため、狭ギャップ部４０での第２ギャップ（つまり突起４１と突起４２との間隔）Ｇ２は５μｍ程度となる。
【００４３】
次に、狭ギャップ部４０の他の構成例について説明する。
【００４４】
図４に示すように、この構成例においては、狭ギャップ部４０は、第１セル領域Ｃ１の注入口１１１の外において、注入口１１１から第１セル領域Ｃ１の端部（すなわち第１セル領域Ｃ１と第２セル領域との境界）に沿って延在している。この狭ギャップ部４０は、注入口１１１における第１ギャップＧ１より小さい第２ギャップＧ２を形成している。
【００４５】
このような構成例においては、シール材１１０から染み出した染み出し成分１１０Ｘを第１セル領域Ｃ１の端部に沿って誘導することが可能となる。このため、隣接する第２セル領域Ｃ２の染み出し成分１１０Ｘによる接続部１３１の汚染を防止することができ、信頼性を向上することが可能となる。
【００４６】
また、隣接するセル領域間の隙間を小さくすることが可能となり、マザーセル内にレイアウト可能なセル領域の数を増やすことが可能となる。したがって、製造コストの低減が可能となる。
【００４７】
上述したような狭ギャップ部４０は、図３に示した構成例と同様に、第１マザー基板２０及び第２マザー基板３０の少なくとも一方に形成された突起を有している。このような狭ギャップ部４０を有するマザーセル１０を分割し、単個のチップとして取り出された液晶表示パネル１００の主要部は、図１に示したような構成であり、また、液晶表示パネル１００の注入口１１１の近傍には、図５に示したような狭ギャップ部４０が残る。
【００４８】
すなわち、対向基板３００が樹脂層を備える構成においては、狭ギャップ部４０は、対向基板３００上において樹脂層と同一材料によって形成された突起４１を有している。この突起４１は、対向基板３００を構成する絶縁基板３１０からアレイ基板２００側に向かって突出している。樹脂層としては、図３に示した構成例と同様のものが挙げられ、突起４１は、これらのうちの１種類以上の樹脂層と同一材料を用いて樹脂層と同時に形成される。
【００４９】
また、アレイ基板２００が接続部１３１において電極パッドＰを備える構成においては、狭ギャップ部４０は、アレイ基板２００上において電極パッドＰと同一の金属材料によって形成された突起４２を有している。この突起４２は、アレイ基板２００を構成する絶縁基板２１０から対向基板３００側に向かって突出している。突起４２は、このような電極パッドＰと同一材料を用いて電極パッドＰなどと同時に形成される。
【００５０】
このような構成例においても図３に示した構成例と同様の効果が得られる。
【００５１】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００５２】
例えば、アレイ基板２００がアクティブエリア１２０において画素ＰＸ毎に配置されたカラーフィルタを備えたカラーフィルタ・オン・アレイ（ＣＯＡ）構造を採用した場合には、樹脂層からなる突起４１は、アレイ基板２００側に備えられても良い。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、分割後に図１に示した液晶表示パネルに相当するチップとなる複数のセル領域を有したマザーセルを示す平面図である。
【図３】図３は、この実施の形態において適用可能なセル領域のレイアウトを施したマザーセルを示す平面図である。
【図４】図４は、この実施の形態において適用可能なセル領域のレイアウトを施したマザーセルの他の構成例を示す平面図である。
【図５】図５は、図４に示したマザーセルから取り出された液晶表示パネルにおいて、注入口付近の構造を概略的に示す平面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１０…マザーセル  ２０…第１マザー基板  ３０…第２マザー基板  ４０…狭ギャップ部  ４１…突起  ４２…突起  Ｃ…セル領域  Ｃ１…第１セル領域  Ｃ２…第２セル領域
１００…液晶表示パネル  １１０…シール材  １１１…注入口  １１２…封止材  １２０…アクティブエリア  １３１…接続部  ＰＸ…画素  Ｙ…走査線  Ｘ…信号線  Ｐ…電極パッド
２００…アレイ基板  ２１０…絶縁基板  ２２０…スイッチ素子  ２３０…画素電極
３００…対向基板  ３１０…絶縁基板  ３３０…対向電極  ４００…液晶層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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