(57)【要約】【課題】  医農薬中間体として有用な光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンを、安価且つ入手容易な原料から安価且つ安全で効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】  光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンを、安価且つ入手容易な光学活性なＮ−アリール−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体から、安価且つ取扱いが容易で安全な水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを用いて収率よく製造する。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）；
【化１】
2009161441.tif 000015
（式中、Ｒ1は置換基を有してもよい炭素数１〜１５のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基を表す。＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性なＮ−フェニル−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体の環化を、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを用いて行うことを特徴とする、下記式（２）；
【化２】
2009161441.tif 000016
（式中、＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造法。
【請求項２】
Ｒ1がメチル基である、請求項１に記載の製造法。
【請求項３】
前記化合物（１）が、下記式（３）；
【化３】
2009161441.tif 000017
で表されるＮ−フェニル−３−オキソブタン酸アミドを不斉還元することにより、下記式（４）；
【化４】
2009161441.tif 000018
（式中、＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性なＮ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドを製造し、更にスルホニル化することにより製造することを特徴とする、請求項１または２に記載の製造法。
【請求項４】
前記不斉還元が不斉遷移金属触媒存在下に水素化する方法である、請求項３に記載の製造法。
【請求項５】
前記不斉遷移金属触媒が（光学活性ＢＩＮＡＰ）ＲｕＢｒ2、（光学活性ＢＩＮＡＰ）ＲｕＣｌ2、又は［（光学活性ＢＩＮＡＰ）ＲｕＣｌ2］2ＮＥｔ3である、請求項４に記載の製造法（ＢＩＮＡＰは２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルを表す。）。
【請求項６】
前記不斉還元が、アースロバクター（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ）属、バチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）属、クロストリジウム（Ｃｌｏｓｔｒｉｄｉｕｍ）属、ルテオコッカス（Ｌｕｔｅｏｃｏｃｃｕｓ）属、シュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）属、セラチア（Ｓｅｒｒａｔｉａ）属、キャンディダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属、デバリオマイセス（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ）属、クルイベロマイセス（Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ）属、メシェニコビア（Ｍｅｔｓｃｈｅｎｉｋｏｗｉａ）属、ロードスポリジウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ）属、ウィロプシス（Ｗｉｌｌｉｏｐｓｉｓ）属、ピキア（Ｐｉｃｈｉａ）属、チゴサッカロマイセス（Ｚｙｇｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ）属、デボシア（Ｄｅｖｏｓｉａ）属、ブレブンディモナス（Ｂｒｅｖｕｎｄｉｍｏｎａｓ）、セルロモナス（Ｃｅｌｌｕｌｏｍｏｎａｓ）属、ガラクトマイセス（Ｇａｌａｃｔｏｍｙｃｅｓ）属、パキゾレン（Ｐａｃｈｙｓｏｌｅｎ）属、ロドトルーラ（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ）属、ロードスポリジウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ）属、トリコスポロン（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ）属、及びパエニバチラス（Ｐａｅｎｉｂａｃｉｌｌｕｓ）に属する微生物からなる群より選ばれた微生物の培養物及び／又はこれらの微生物から得られる酵素源を作用させることによる、請求項３に記載の製造法。
【請求項７】
前記不斉還元が、アースロバクター（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ）属、バチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）属、クロストリジウム（Ｃｌｏｓｔｒｉｄｉｕｍ）属、ルテオコッカス（Ｌｕｔｅｏｃｏｃｃｕｓ）属、シュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）属、セラチア（Ｓｅｒｒａｔｉａ）属、キャンディダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属、デバリオマイセス（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ）属、クルイベロマイセス（Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ）属、メシェニコビア（Ｍｅｔｓｃｈｅｎｉｋｏｗｉａ）属、ロードスポリジウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ）属、ウィロプシス（Ｗｉｌｌｉｏｐｓｉｓ）属、ピキア（Ｐｉｃｈｉａ）属、チゴサッカロマイセス（Ｚｙｇｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ）属、デボシア（Ｄｅｖｏｓｉａ）属、及びブレブンディモナス（Ｂｒｅｖｕｎｄｉｍｏｎａｓ）属に属する微生物からなる群より選ばれた微生物の培養物及び／又はこれらの微生物から得られる酵素源を作用させ、生成物の絶対配置が（Ｓ）体である、請求項６に記載の製造法。
【請求項８】
酵素源が、アースロバクター・パラフィネウス（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ ｐａｒａｆｆｉｎｅｕｓ）、バチルス・リケンフォルミス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｌｉｃｈｅｎｉｆｏｒｍｉｓ）、バチルス・アミロリクファシエンス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ａｍｙｌｏｌｉｑｕｅｆａｃｉｅｎｓ）、バチルス・サチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｉｓ）、クロストリジウム・シリンドロスポラム（Ｃｌｏｓｔｒｉｄｉｕｍ ｃｙｌｉｎｄｒｏｓｐｏｒｕｍ）、ルテオコッカス・ジャポニカス（Ｌｕｔｅｏｃｏｃｃｕｓ ｊａｐｏｎｉｃｕｓ）、シュードモナス・シュツテリ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｓｔｕｔｚｅｒｉ）、セラチア・マルセッセンス（Ｓｅｒｒａｔｉａ ｍａｒｃｅｓｃｅｎｓ）、キャンディダ・インターメディア（Ｃａｎｄｉｄａ ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａ）、キャンディダ・メリニ（Ｃａｎｄｉｄａ ｍｅｌｉｎｉｉ）、キャンディダ・ニトラトフィラ（Ｃａｎｄｉｄａ ｎｉｔｒａｔｏｐｈｉｌａ）、キャンディダ・オレオフィラ（Ｃａｎｄｉｄａ ｏｌｅｏｐｈｉｌａ）、キャンディダ・モリシアーナ（Ｃａｎｄｉｄａ ｍｏｌｉｓｃｈｉａｎａ）、キャンディダ・マグノリエ（Ｃａｎｄｉｄａ ｍａｇｎｏｌｉａｅ）、キャンディダ・マリス（Ｃａｎｄｉｄａ ｍａｒｉｓ）、デバリオマイセス・オシデンタリス・バー・オシデンタリス（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ  ｖａｒ．  ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）、クルイベロマイセス・ポリスポラス（Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ ｐｏｌｙｓｐｏｒｕｓ）、メシェニコビア・グルシー（Ｍｅｔｓｃｈｅｎｉｋｏｗｉａ ｇｒｕｓｓｉｉ）、ロードスポリディウム・トルロイデス（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ ｔｏｒｕｌｏｉｄｅｓ）、ウィロプシス・サチュマス・バー・シャベオレンス（Ｗｉｌｌｉｏｐｓｉｓ ｓａｔｕｍｕｓ  ｖａｒ．  ｓｕａｖｅｏｌｅｎｓ）、ピキア・ファリノサ（Ｐｉｃｈｉａ ｆａｒｉｎｏｓａ）、チゴサッカロマイセス・ロイジー（Ｚｙｇｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ ｒｏｕｘｉｉ）、デボシア・リボフラビナ（Ｄｅｖｏｓｉａ ｒｉｂｏｆｌａｖｉｎａ）、ブレブンディモナス・ディミニュータ（Ｂｒｅｖｕｎｄｉｍｏｎａｓ ｄｉｍｉｎｕｔａ）からなる群より選ばれた微生物由来のものである、請求項６又は７に記載の製造法。
【請求項９】
前記不斉還元が、セルロモナス（Ｃｅｌｌｕｌｏｍｏｎａｓ）属、キャンディダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属、デバリオマイセス（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ）属、ガラクトマイセス（Ｇａｌａｃｔｏｍｙｃｅｓ）属、パキゾレン（Ｐａｃｈｙｓｏｌｅｎ）属、ロドトルーラ（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ）属、ロードスポリジウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ）属、トリコスポロン（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ）属、ピキア（Ｐｉｃｈｉａ）属、及びパエニバチラス（Ｐａｅｎｉｂａｃｉｌｌｕｓ）属に属する微生物からなる群より選ばれた微生物の培養物及び／又はこれらの微生物から得られる酵素源を作用させ、生成物の絶対配置が（Ｒ）体である、請求項６に記載の製造法。
【請求項１０】
酵素源が、セルロモナス・ツバータ（Ｃｅｌｌｕｌｏｍｏｎａｓ ｔｕｒｂａｔａ）、キャンディダ・カンタレリー（Ｃａｎｄｉｄａ ｃａｎｔａｒｅｌｌｉｉ）、キャンディダ・マルトーサ（Ｃａｎｄｉｄａ ｍａｌｔｏｓａ）、デバリオマイセス・カルソニー（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ ｃａｒｓｏｎｉｉ）、ガラクトマイセス・レジー（Ｇａｌａｃｔｏｍｙｃｅｓ ｒｅｅｓｓｉｉ）、パキゾレン・タンノフィラス（Ｐａｃｈｙｓｏｌｅｎ ｔａｎｎｏｐｈｉｌｕｓ）、ロドトルーラ・マリーナ（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ ｍａｒｉｎａ）、ロードスポリディウム・ダクリオデウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ ｄａｃｒｙｏｉｄｅｕｍ）、トリコスポロン・クタネウム（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｃｕｔａｎｅｕｍ）、トリコスポロン・アステロイデス（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ａｓｔｅｒｏｉｄｅｓ）、トリコスポロン・アサヒ（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ａｓａｈｉｉ）、トリコスポロン・デベウラマンニマウム（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｄｅｂｅｕｒｍａｎｎｉａｎｕｍ）、ロドトルーラ・グルチニス・バー・ダイアレンシス（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ ｇｌｕｔｉｎｉｓ  ｖａｒ．  ｄａｉｒｅｎｅｎｓｉｓ）、ピキア・ミニューター・バー・ミニューター（Ｐｉｃｈｉａ ｍｉｎｕｔａ  ｖａｒ．  ｍｉｎｕｔａ）、パエニバチラス・アルベイ（Ｐａｅｎｉｂａｃｉｌｌｕｓ ａｌｖｅｉ）からなる群より選ばれた微生物由来のものである、請求項６又は９に記載の製造法。
【請求項１１】
酸化型ニコチンアミド・アデニンジヌクレオチド及び／または、酸化型ニコチンアミド・アデニンジヌクレオチドりん酸をそれぞれの還元型へ還元する酵素と、該還元のための基質を共存させることを特徴とする、請求項６〜１０のいずれかに記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は医農薬中間体として有用な光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造法に関するものである。尚、前記光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンは、Ｃａｎａｄｉａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８０，５８，２０６１−２０６８．、Ｉｚｖｅｓｔ  Ａｋａｄ．  Ｎａｕｋ  Ｓ．Ｓ．Ｓ．Ｒ．，Ｏｔｄｅｌ．Ｋｈｉｍ．Ｎａｕｋ，１９５５，１０３７−１０４２．等に記載の方法により、加水分解反応や加アルコール分解反応を経て、医農薬中間体として有用なβ−アミノ酸誘導体又はβ−アミノエステル誘導体に簡便に誘導可能であるという点においても意義がある。
【背景技術】
【０００２】
光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造法としては光学活性なＮ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミドを、水素化ナトリウムを用いて環化させることにより製造する方法が唯一知られている（非特許文献１）。しかしながら、水素化ナトリウムは高価で、更に発火性があるため取扱いが難しく、また反応は完全に無水状態を保つ必要があり、更には反応で副生する水素ガスを安全に排気する特別な設備が必要であるなどの理由から、工業的に実施することが困難であった。
【非特許文献１】Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．、１９８９、３７、２９５２−２９６０．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記に鑑み、本発明の目的は医農薬中間体として有用な光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンを、入手容易な光学活性なＮ−フェニル−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体から、安価且つ取扱いが容易で安全な塩基を用いて、収率よく簡便に製造できる方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは鋭意検討を行った結果、安価且つ入手容易な光学活性なＮ−フェニル−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体から、安価且つ取扱いが容易で安全な塩基である水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを用いることにより、競争する副反応を最大限に抑制し、且つ収率よく簡便に光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンを製造できる方法を開発するに至った。
【０００５】
即ち、本発明は、下記式（１）；
【０００６】
【化５】
2009161441.tif 000002
（式中、Ｒ1は置換基を有してもよい炭素数１〜１５のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基を表す。＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性なＮ−フェニル−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体の環化を、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを用いて行うことを特徴とする、下記式（２）；
【０００７】
【化６】
2009161441.tif 000003
（式中、＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造法である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、医農薬中間体として有用な光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンを、入手容易な光学活性なＮ−フェニル−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体から、安価且つ取扱いが容易で安全な水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを用いて、収率よく簡便に製造することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
まず、本発明で使用する出発原料、並びに生成物について説明する。
【００１０】
本発明の出発原料である光学活性なＮ−フェニル−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体は、下記式（１）；
【００１１】
【化７】
2009161441.tif 000004
で表される。ここで、Ｒ1として好ましくは、メチル基、エチル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基等であり、更に好ましくはメチル基である。
【００１２】
また、＊は不斉炭素原子を表す。なお両対掌体のうち、一方の対掌体が過剰なものは全て本発明に含まれる。
【００１３】
次に、本発明の生成物である光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンは、下記式（２）；
【００１４】
【化８】
2009161441.tif 000005
で表される。ここで、＊は前記に同じである。
【００１５】
次に、前記式（１）で表される光学活性なＮ−フェニル−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体の環化を、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを用いて行うことにより、前記式（２）で表される光学活性な１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンを製造する方法について説明する。
【００１６】
本反応においては、前記化合物（１）の２位の水素と３位のスルホニルオキシ基が脱離することに伴う、下記式（５）；
【００１７】
【化９】
2009161441.tif 000006
で表されるＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドの副生が問題となる（β−脱離反応）。本反応において水素化ナトリウムを用いた場合は、この副反応を最小限に抑制することができるため、目的の環化反応は高収率で進行することが既に知られているものの（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．  １９８９、３７、２９５２−２９６０．）、水素化ナトリウムは高価で、更に発火性のため取扱いが難しく、また反応は完全に無水状態を保つ必要があること、更には副生する水素ガスを安全に排気する特別な設備が必要であることなどの理由から工業的に実施することが困難であった。
【００１８】
そこで本発明者らは鋭意検討を行った結果、安価且つ取扱い容易で安全な水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを用いることによって、前記副反応（β−脱離反応）を最小限に抑制することができ、目的の環化が高収率で進行することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１９】
水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの使用量として好ましくは、前記化合物（１）に対して１〜５０倍モル量であり、更に好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００２０】
前記水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの好ましい形態は、市販のペレット状（ｐｅｌｌｅｔ、小球状、直径５ｍｍ程度）若しくはフレーク状（ｆｌａｋｅ、薄片状）のものよりも更に細かいものが好ましく、実験室では乳鉢等ですり潰すか、又は工業的には粉砕機等で細かく砕いて調製したものを使用するとよい。
【００２１】
更に、ふるいを用いて粒子径分布を調節してもよい。平均的な粒子径としては、好ましくは１ｍｍ以下であり、更に好ましくは０．５ｍｍ以下のものを使用するとよい。
【００２２】
また、物理的に細かく砕く方法以外にも、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを溶媒、例えば水に溶解し、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、又はジメチルホルムアミド等の溶媒と混合して微細なものを析出させる方法等により調製してもよい。
【００２３】
若しくは、アルミナ、又はセライト等の不活性な担体に分散保持させたものを用いてもよい。更には、水素化ナトリウム；水素化カリウム；ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のナトリウムアルコキシド；カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のカリウムアルコキシド等の塩基をテトラヒドロフラン、アセトニトリル、又はジメチルホルムアミド等の溶媒に溶解又は懸濁し、前記塩基に対して１〜３倍モル量の水を加えて微細な水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを析出させる等の方法により懸濁溶液を調製してもよい。
【００２４】
本反応に用いることができる反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；ジメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒；ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒が挙げられる。好ましくは、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、又はジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合、その混合比は特に制限されない。
【００２５】
前記反応溶媒の使用量としては、前記化合物（１）に対して、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは５〜２０倍重量である。
【００２６】
反応温度として好ましくは、反応時間の短縮や収率向上の観点から、−２０〜６０℃であり、更に好ましくは０〜４０℃である。
【００２７】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜２０時間であり、更に好ましくは３０分〜５時間である。
【００２８】
反応の際の前記化合物（１）、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム、及び溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されないが、好ましくは水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムに溶媒を加えた懸濁溶液を調製し、ここに前記化合物（１）に溶媒を加えて均一溶液としたものを滴下するとよい。
【００２９】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、及び一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を加えて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。
【００３０】
このようにして得られた目的物は十分な純度を有しているが、純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により精製してもよい。
【００３１】
なお本環化反応は、３位の立体化学の反転を伴って進行する。即ち、前記化合物（１）の絶対配置がＳの場合、前記化合物（２）の絶対配置はＲとなることを意味する。同様に、前記化合物（１）の絶対配置がＲの場合は、前記化合物（２）の絶対配置はＳとなる。
【００３２】
次に、前記式（１）で表される光学活性なＮ−フェニル−３−スルホニルオキシブタン酸アミド誘導体の製造法について説明する。
【００３３】
即ち、前記化合物（１）は、例えば、下記式（４）；
【００３４】
【化１０】
2009161441.tif 000007
で表される光学活性なＮ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドをスルホニル化することにより製造することができる。ここで、＊は前記に同じである。
【００３５】
本工程は、塩基存在下にスルホニル化剤を用いることにより行うことができる。ここで、前記スルホニル化剤としては、ハロゲン化スルホニル、又はスルホン酸無水物等が挙げられる。ハロゲン化スルホニルとしては例えば、塩化メタンスルホニル、塩化エタンスルホニル、塩化クロロメタンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化４−メチルベンゼンスルホニル、塩化４−クロロベンゼンスルホニル、塩化２−ニトロベンゼンスルホニル、塩化３−ニトロベンゼンスルホニル、塩化４−ニトロベンゼンスルホニル等が挙げられ、スルホン酸無水物としては例えば、無水トリフルオロメタンスルホン酸等が挙げられる。好ましくは塩化メタンスルホニルである。前記スルホニル化剤の使用量としては、好ましくは前記化合物（４）に対して１〜１０倍モル量であり、更に好ましくは１〜３倍モル量である。また、前記塩基としては特に制限されないが、第３級アミン類が好ましく、例えばトリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。更に好ましくはトリエチルアミンである。前記塩基の使用量としては、好ましくは前記化合物（４）に対して１〜１００倍モル量であり、更に好ましくは１〜３倍モル量である。
【００３６】
反応溶媒としては、塩基をそのまま反応溶媒として使用してもよいし、又はテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；ジメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒；ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒を用いてもよい。好ましくは、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合、その混合比は特に制限されない。前記反応溶媒の使用量としては、前記化合物（４）に対し、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは５〜２０倍重量である。
【００３７】
反応温度として好ましくは、反応時間の短縮や収率向上の観点から−３０〜８０℃であり、更に好ましくは−１０〜５０℃である。
【００３８】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から５分〜２０時間であり、更に好ましくは３０分〜５時間である。
【００３９】
反応の際の前記化合物（４）、スルホニル化剤、塩基、及び溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【００４０】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、また必要に応じて水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液、或いは塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。
【００４１】
このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【００４２】
次に、前記式（４）で表される光学活性なＮ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの製造法について説明する。
【００４３】
即ち、前記化合物（４）は、例えば、下記式（３）；
【００４４】
【化１１】
2009161441.tif 000008
で表されるＮ−フェニル−３−オキソブタン酸アミドを不斉還元することにより製造することができる。なお、前記化合物（３）は塗料などの原料として広く使用されており、工業的規模で安価に入手可能である。
【００４５】
前記不斉還元方法としては、前記化合物（３）のカルボニル基を立体選択的に還元できる方法であれば特に限定されず、例えば、（ａ）光学活性化合物によって修飾されたヒドリド還元剤を用いて還元する方法、（ｂ）不斉遷移金属触媒存在下に水素化する方法、（ｃ）不斉金属触媒存在下に水素移動型で還元する方法、若しくは（ｄ）微生物あるいは微生物由来の酵素を用いて還元する方法が挙げられる。
【００４６】
まず（ａ）の方法において、光学活性化合物によって修飾されたヒドリド還元剤として、具体的には、光学活性な酒石酸と水素化ホウ素ナトリウムから調製される還元剤、光学活性なオキサボロリジン誘導体とボランから調製される還元剤、光学活性なケトイミナト型コバルト錯体と水素化ホウ素ナトリウムとテトラヒドロフラン−２−メタノールから調製される還元剤、光学活性な１，１’−ビ−２−ナフトールと水素化リチウムアルミニウムから調製される還元剤等が挙げられる。
【００４７】
前記光学活性化合物によって修飾されたヒドリド還元剤の使用量として前記化合物（３）に対して５倍モル量以下であり、更に好ましくは０．５〜２倍モル量である。
【００４８】
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒が挙げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。好ましくは、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒である。混合溶媒を用いる場合、その混合比率は特に制限されない。
【００４９】
反応温度として好ましくは、反応時間の短縮や還元の選択性向上、収率向上の観点から−１００〜６０℃であり、更に好ましくは−７８〜２０℃である。
【００５０】
反応の際の前記化合物（３）、不斉還元剤、及び溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【００５１】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、また必要に応じて水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液、或いは塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸水溶液を加えて中和し、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、さらに純度を高めてもよい。
【００５２】
次に、不斉遷移金属触媒存在下に水素化する場合（（ｂ）の方法）について説明する。この方法において、不斉遷移金属触媒としては、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、又は白金等の周期律表第ＶＩＩＩ族元素の金属錯体が好ましく、錯体の安定性や入手容易さ、経済性の観点からルテニウム錯体がより好ましい。
【００５３】
該金属錯体中の不斉配位子としてはホスフィン系配位子が好ましく、ホスフィン系配位子として好ましくは二座配位子である。二座配位子として好ましくは、ＢＩＮＡＰ（２，２’−ビスジフェニルホスフィノ−１，１’−ビナフチル）；Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ（２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ−１，１’−ビナフチル）等のＢＩＮＡＰ誘導体；ＢＤＰＰ（２，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン）；ＤＩＯＰ（４，５−ビス（ジフェニルホスフィノメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン；ＢＰＰＦＡ（１−［１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン）；ＣＨＩＲＡＰＨＯＳ（２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン）；ＤＥＧＰＨＯＳ（１−置換−３，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン）；ＤｕＰＨＯＳ（１，２−ビス（２，５−置換ホスホラノ）ベンゼン）；ＤＩＰＡＭＰ（１，２−ビス［（ｏ−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ］エタン）等が挙げられ、更に好ましくはＢＩＮＡＰ（２，２’−ビスジフェニルホスフィノ−１，１’−ビナフチル）である。尚、いずれのホスフィン配位子も光学的に純粋であることが好ましい。ここで、光学活性ＢＩＮＡＰ錯体として好ましくは、（光学活性ＢＩＮＡＰ）ＲｕＢｒ2、（光学活性ＢＩＮＡＰ）ＲｕＣｌ2、又は［（光学活性ＢＩＮＡＰ）ＲｕＣｌ2］2ＮＥｔ3等が挙げられる。
【００５４】
前記不斉遷移金属触媒の使用量として好ましくは、前記化合物（３）に対して０．１倍モル量以下であり、更に好ましくは０．０５〜０．０００１倍モル量である。
【００５５】
本工程の水素圧として好ましくは、１〜１００ｋｇ／ｃｍ2であり、更に好ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ2である。
【００５６】
反応溶媒としては、水；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；ジメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒；ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒が挙げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。好ましくは、水；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒であり、更に好ましくはメタノールである。前記溶媒の使用量としては、前記化合物（３）に対して、好ましくは５０倍重量以下、更に好ましくは５〜２０倍重量である。
【００５７】
反応温度として好ましくは、反応時間短縮、還元の選択性向上、及び収率向上の観点から０〜１２０℃であり、更に好ましくは４０〜１００℃である。
【００５８】
反応時間として好ましくは、収率向上の観点から３０分〜４０時間であり、更に好ましくは１〜２０時間である。
【００５９】
反応の際の前記化合物（３）、不斉遷移金属触媒、及び溶媒の添加方法や添加順序は特に制限されない。
【００６０】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液から減圧濾過、若しくは加圧濾過にて遷移金属触媒を除去した後、減圧加熱等の操作により、反応溶媒を留去すると目的物が得られる。
【００６１】
このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製方法により、さらに純度を高めても良い。
【００６２】
また、不斉遷移金属触媒存在下に水素移動型で還元する方法（（ｃ）の方法）として、具体的には、下記式（６）；
【００６３】
【化１２】
2009161441.tif 000009
で表される光学活性ジアミン触媒存在下に水素供与性化合物を用いる方法が挙げられる。
【００６４】
前記触媒（６）において、＊は不斉炭素原子を表す。Ｍは遷移金属を表し、例えば、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、白金、ジルコニウム、チタン、クロム、コバルト、銅、ニッケル、亜鉛、マンガン、鉄、イッテルビウム、ランタン、サマリウム等が挙げられ、中でもルテニウム、ロジウム、イリジウムが好ましい。
【００６５】
Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ同一、又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表し、Ｒ2とＲ3が一緒になって環を形成してもよい。置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基としては例えば、フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基としては例えば、ベンジル基が挙げられる。Ｒ2とＲ3が一緒になって環を形成しているものとしては例えば、テトラメチレン基等が挙げられる。Ｒ2、Ｒ3としては反応の立体選択性の観点からフェニル基、又はテトラメチレン基が好ましい。
【００６６】
Ｒ4は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、具体的には前述のものが挙げられる。収率、立体選択性の観点から水素原子、又はメチル基が好ましく、より好ましくは水素原子である。
【００６７】
Ａｒは置換されていてもよい芳香族化合物を表し、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサメチルベンゼン、エチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、ｐ−シメン、クメン、又はペンタメチルシクロペンタジエニル等が挙げられ、中でもベンゼン、メシチレン、又はｐ−シメンが好ましい。
【００６８】
Ｚはハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキルスルホニルオキシ基、置換基を有していてもよいアリールスルホニルオキシ基、又は置換基を有していてもよいアラルキルスルホニルオキシ基を表し、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基などが挙げられ、中でも塩素原子、又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基が好ましい。
【００６９】
Ｙは酸素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルスルホニルアミド基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリールスルホニルアミド基、又は置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキルスルホニルアミド基を表し、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルスルホニルアミド基としては例えば、メタンスルホニルアミド基、トリフルオロメタンスルホニルアミド基、又はカンファースルホニルアミド基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリールスルホニルアミド基としては例えば、ベンゼンスルホニルアミド基、ｐ−トルエンスルホニルアミド基、メシチレンスルホニルアミド基、ｐ−トリフルオロメチルベンゼンスルホニスアミド基、１−ナフタレンスルホニルアミド基、又は２−ナフタレンスルホニルアミド基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキルスルホニルアミド基としては例えば、ベンジルスルホニルアミド基等が挙げられる。中でも収率、立体選択性の観点からｐ−トルエンスルホニルアミド基、カンファースルホニルアミド基、メシチレンスルホニルアミド基、１−ナフタレンスルホニルアミド基、又は２−ナフタレンスルホニルアミド基が好ましい。
【００７０】
前記触媒（６）として具体的には、例えば、ＲｕＣｌ[（Ｒ，Ｒ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体、ＲｕＣｌ[（Ｓ，Ｓ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体、ＲｕＯＴｆ[（Ｒ，Ｒ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体又はＲｕＯＴｆ[（Ｓ，Ｓ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体等が挙げられる。ここで、（Ｓ，Ｓ）−ＮｐＤＰＥＮとは（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−モノ（１−ナフタレンスルホニル）−１，２−ジフェニルエチレンジアミンを表し、ＯＴｆとはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。例えば、ＲｕＣｌ[（Ｒ，Ｒ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体は下記式（７）；
【００７１】
【化１３】
2009161441.tif 000010
で表され、ＲｕＯＴｆ[（Ｒ，Ｒ）−ＮｐＤＰＥＮ]（ｐ−ｃｙｍｅｎ）錯体は下記式（８）；
【００７２】
【化１４】
2009161441.tif 000011
で表される。
【００７３】
本工程で使用する前記触媒（７）はＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９６,１１８,２５２１に記載の方法に従って合成してもよいし、市販のものを用いてもよい。本工程で使用する前記触媒（６）は前もって調製し、単離精製したものを用いても良く、系中で調製したものをそのまま用いてもよい。
【００７４】
本工程で使用する前記触媒（７）の使用量は特に制限されないが、前記化合物（３）に対して通常０．００００１〜１倍モル量であるが、好ましくは０．０００１〜０．２倍モル量である。
【００７５】
本工程で使用する水素供与性化合物としては、特に制限されないが例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール；ギ酸；ギ酸ナトリウム、ギ酸アンモニウム等のギ酸塩などが挙げられ、特に収率の観点からギ酸、又はギ酸ナトリウムが好ましく、とりわけギ酸が好ましい。
【００７６】
本工程で使用する水素供与性化合物の使用量は特に制限されないが、前記化合物（３）に対して通常１〜１００倍モル量であり、好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００７７】
また、本工程は反応を促進させる目的で更に塩基を共存させてもよい。
【００７８】
塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又は炭酸カリウム等の無機塩基；ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；トリエチルアミン、トリメチルアミン、又はアンモニアなどのアミンが挙げられる。水素供与性化合物としてギ酸を使用する場合は塩基を共存させることが好ましく、トリエチルアミン、トリメチルアミン、又はアンモニアなどのアミンを共存させるとよい。特に好ましくはトリエチルアミンである。
【００７９】
本工程で塩基を使用する場合、その使用量に制限はないが、前記化合物（３）に対して通常０．０１〜１００倍モル量であり、好ましくは０．１〜１０倍モル量であり、より好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００８０】
本工程において水素供与性化合物が液体であったり、共存させる塩基が液体である場合は、特に反応溶媒は必要ではない。無溶媒で反応を行った方が短時間で反応を完結でき、触媒使用量を削減できる点で好ましいが、反応基質の溶解度が低い場合などは更に反応溶媒を使用してもよい。
【００８１】
反応溶媒は、反応を阻害しない溶媒であれば特に制限は無いが、例えば前述の炭化水素系溶媒；エステル系溶媒；ニトリル系溶媒；エーテル系溶媒；アミド系溶媒；スルホキシド系溶媒；ハロゲン系溶媒；アルコール溶媒；ギ酸、酢酸などのカルボン酸系溶媒；水が挙げられる。また、これらの溶媒の２種以上を混合して用いても良い。混合溶媒を用いる場合、その混合比に特に制限はない。
【００８２】
反応を行う際の前記化合物（３）の濃度は用いる反応溶媒によって異なるが、一般的には１〜９０重量％で反応を実施することができ、好ましくは４〜３０重量％である。
【００８３】
本工程の反応温度は、用いる光学活性な遷移金属錯体及び水素供与性化合物の種類と使用量、反応溶媒の種類によって異なるが、通常は用いる反応溶剤の凝固点から沸点以下の範囲である。反応を短時間で完了させる為には温度を高めて実施するほうが良く、副反応を抑える観点からは温度を低く設定して実施するほうが良い。一般的には−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜７０℃である。
【００８４】
反応時の反応時間は用いる光学活性ジアミン触媒や水素供与性化合物の種類と使用量、反応溶媒の種類及び反応温度により異なるが、反応温度を０〜７０℃で実施した場合、通常１〜３６時間である。
【００８５】
本反応に用いる前記化合物（３）、前記式（６）で表される光学活性ジアミン、水素供与性化合物、塩基、及び反応溶媒等の混合順序は任意であり、特に制限されないが、前記化合物（３）と前記式（６）で表される光学活性ジアミンの混合物に、水素供与性化合物を添加する順序が好ましい。塩基を添加する場合も、前記化合物（３）と前記式（６）で表される光学活性ジアミンと塩基の混合物に水素供与性化合物を添加する順序が好ましい。水素供与性化合物は一括添加して反応させても良いし、連続的又は断続的に添加しながら反応させても良い。反応の進行に伴って気体が発生する場合は、安全性の面から反応の進行に合わせて逐次添加するのが好ましい。
【００８６】
反応後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液から減圧濾過、若しくは加圧濾過にて遷移金属触媒を除去した後、減圧加熱等の操作により、反応溶媒を留去すると目的物が得られる。
【００８７】
このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、若しくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製方法により、さらに純度を高めても良い。
【００８８】
次に、微生物、或いは微生物由来の酵素を用いて還元する場合（（ｄ）の方法）について説明する。この方法においては、工業的に実施するには微生物由来の酵素を用いて還元する方法が好ましい。以下に、例えば前記化合物（３）のカルボニル基を立体選択的に還元する能力を有する酵素源の存在下、前記化合物（３）を立体選択的に還元することにより前記化合物（４）を得る方法について説明する。パン酵母を用いて（３）のカルボニル基をＳ体の（４）に還元する例は報告されているが、反応の際に使用する酵母菌の使用量が多く、更に生成物の濃度が低いなど実用的とは言い難い（Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａｌ．Ｂ：Ｅｎｚｙｍａｔｉｃ，１１，８９３（２００１））。
【００８９】
本発明で使用される酵素源は、前記化合物（３）を前記化合物（４）に不斉還元する能力を有する微生物由来のものを用いることができる。ここで言う「微生物由来のもの」としては、該微生物の菌体そのもの、微生物の培養液、あるいは菌体処理物、または該微生物から得られる酵素であってもよいし、さらには該微生物由来の上記還元活性を有する酵素をコードするＤＮＡが導入された形質転換体も含む。これらを単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、これら酵素源は周知の方法で固定化して用いても構わない。
【００９０】
前記化合物（３）を前記化合物（４）に不斉還元する能力を有する微生物は、以下に説明する方法によって見いだすことができる。例えば、以下のようにして行なう。グルコース４０ｇ、酵母エキス３ｇ、リン酸水素二アンモニウム６．５ｇ、リン酸二水素カリウム１ｇ、硫酸マグネシウム７水和物０．８ｇ、硫酸亜鉛７水和物６０ｍｇ、硫酸鉄７水和物９０ｍｇ、硫酸銅５水和物５ｍｇ、硫酸マンガン４水和物１０ｍｇ、塩化ナトリウム１００ｍｇ（いずれも１Ｌ当たり）の組成からなる液体培地（ｐＨ７）５ｍｌを試験管に入れて殺菌後、無菌的に微生物を接種し、３０℃で２〜３日間振とう培養する。その後、菌体を遠心分離により集め、グルコース２〜１０％を含んだリン酸緩衝液１〜５ｍｌに懸濁し、あらかじめ前記化合物（３）を２．５〜２５ｍｇいれた試験管に加えて、２〜３日間３０℃で振とうする。この際、遠心分離により得た菌体をデシケーター中またはアセトンにより乾燥したものを用いることもできる。更に、これら微生物もしくはその処理物と前記化合物（３）を反応させる際に、ＮＡＤ+及び／またはＮＡＤＰ+と、グルコース脱水素酵素及びグルコース、もしくはギ酸脱水素酵素及びギ酸を添加してもよい。また、反応系に有機溶媒を共存させても構わない。変換反応の後、適当な有機溶媒で抽出を行ない、生成する前記化合物（４）を高速液体クロマトグラフィーなどにより分析する。
【００９１】
本発明に使用しうる微生物としては、前記化合物（３）を前記化合物（４）に不斉還元する能力を有する微生物であればいずれも使用しうるが、例えば、アースロバクター（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ）属、バチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）属、クロストリジウム（Ｃｌｏｓｔｒｉｄｉｕｍ）属、ルテオコッカス（Ｌｕｔｅｏｃｏｃｃｕｓ）属、シュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）属、セラチア（Ｓｅｒｒａｔｉａ）属、キャンディダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属、デバリオマイセス（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ）属、クルイベロマイセス（Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ）属、メシェニコビア（Ｍｅｔｓｃｈｅｎｉｋｏｗｉａ）属、ロードスポリジウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ）属、ウィロプシス（Ｗｉｌｌｉｏｐｓｉｓ）属、ピキア（Ｐｉｃｈｉａ）属、チゴサッカロマイセス（Ｚｙｇｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ）属、デボシア（Ｄｅｖｏｓｉａ）属、ブレブンディモナス（Ｂｒｅｖｕｎｄｉｍｏｎａｓ）、セルロモナス（Ｃｅｌｌｕｌｏｍｏｎａｓ）属、、ガラクトマイセス（Ｇａｌａｃｔｏｍｙｃｅｓ）属、パキゾレン（Ｐａｃｈｙｓｏｌｅｎ）属、ロドトルーラ（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ）属、ロードスポリジウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ）属、トリコスポロン（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ）属、及びパエニバチラス（Ｐａｅｎｉｂａｃｉｌｌｕｓ）に属する微生物等が挙げられる。
【００９２】
特に、絶対配置が（Ｓ）体の前記化合物（４）に変換しようとする場合には、アースロバクター（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ）属、バチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）属、クロストリジウム（Ｃｌｏｓｔｒｉｄｉｕｍ）属、ルテオコッカス（Ｌｕｔｅｏｃｏｃｃｕｓ）属、シュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）属、セラチア（Ｓｅｒｒａｔｉａ）属、キャンディダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属、デバリオマイセス（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ）属、クルイベロマイセス（Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ）属、メシェニコビア（Ｍｅｔｓｃｈｅｎｉｋｏｗｉａ）属、ロードスポリジウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ）属、ウィロプシス（Ｗｉｌｌｉｏｐｓｉｓ）属、ピキア（Ｐｉｃｈｉａ）属、チゴサッカロマイセス（Ｚｙｇｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ）属、デボシア（Ｄｅｖｏｓｉａ）属、ブレブンディモナス（Ｂｒｅｖｕｎｄｉｍｏｎａｓ）属に属する微生物が好ましい。更に好ましくは、アースロバクター・パラフィネウス（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ ｐａｒａｆｆｉｎｅｕｓ）、バチルス・リケンフォルミス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｌｉｃｈｅｎｉｆｏｒｍｉｓ）、バチルス・アミロリクファシエンス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ａｍｙｌｏｌｉｑｕｅｆａｃｉｅｎｓ）、バチルス・サチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｕｂｔｉｌｉｓ）、クロストリジウム・シリンドロスポラム（Ｃｌｏｓｔｒｉｄｉｕｍ ｃｙｌｉｎｄｒｏｓｐｏｒｕｍ）、ルテオコッカス・ジャポニカス（Ｌｕｔｅｏｃｏｃｃｕｓ ｊａｐｏｎｉｃｕｓ）、シュードモナス・シュツテリ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｓｔｕｔｚｅｒｉ）、セラチア・マルセッセンス（Ｓｅｒｒａｔｉａ ｍａｒｃｅｓｃｅｎｓ）、キャンディダ・インターメディア（Ｃａｎｄｉｄａ ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａ）、キャンディダ・メリニ（Ｃａｎｄｉｄａ ｍｅｌｉｎｉｉ）、キャンディダ・ニトラトフィラ（Ｃａｎｄｉｄａ ｎｉｔｒａｔｏｐｈｉｌａ）、キャンディダ・オレオフィラ（Ｃａｎｄｉｄａ ｏｌｅｏｐｈｉｌａ）、キャンディダ・モリシアーナ（Ｃａｎｄｉｄａ ｍｏｌｉｓｃｈｉａｎａ）、キャンディダ・マグノリエ（Ｃａｎｄｉｄａ ｍａｇｎｏｌｉａｅ）、キャンディダ・マリス（Ｃａｎｄｉｄａ  ｍａｒｉｓ）、デバリオマイセス・オシデンタリス・バー・オシデンタリス（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ  ｖａｒ．  ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）、クルイベロマイセス・ポリスポラス（Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ ｐｏｌｙｓｐｏｒｕｓ）、メシェニコビア・グルシー（Ｍｅｔｓｃｈｅｎｉｋｏｗｉａ ｇｒｕｓｓｉｉ）、ロードスポリディウム・トルロイデス（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ ｔｏｒｕｌｏｉｄｅｓ）、ウィロプシス・サチュマス・バー・シャベオレンス（Ｗｉｌｌｉｏｐｓｉｓ ｓａｔｕｍｕｓ  ｖａｒ．  ｓｕａｖｅｏｌｅｎｓ）、ピキア・ファリノサ（Ｐｉｃｈｉａ ｆａｒｉｎｏｓａ）、チゴサッカロマイセス・ロイジー（Ｚｙｇｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ ｒｏｕｘｉｉ）、デボシア・リボフラビナ（Ｄｅｖｏｓｉａ ｒｉｂｏｆｌａｖｉｎａ）、ブレブンディモナス・ディミニュータ（Ｂｒｅｖｕｎｄｉｍｏｎａｓ ｄｉｍｉｎｕｔａ）などがあげられる。
【００９３】
また、絶対配置が（Ｒ）体の前記化合物（４）に変換しようとする場合には、セルロモナス（Ｃｅｌｌｕｌｏｍｏｎａｓ）属、キャンディダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属、デバリオマイセス（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ）属、ガラクトマイセス（Ｇａｌａｃｔｏｍｙｃｅｓ）属、パキゾレン（Ｐａｃｈｙｓｏｌｅｎ）属、ロドトルーラ（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ）属、ロードスポリジウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ）属、トリコスポロン（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ）属、ピキア（Ｐｉｃｈｉａ）属、及びパエニバチラス（Ｐａｅｎｉｂａｃｉｌｌｕｓ）属に属する微生物が好ましい。更に好ましくは、セルロモナス・ツバータ（Ｃｅｌｌｕｌｏｍｏｎａｓ ｔｕｒｂａｔａ）、キャンディダ・カンタレリー（Ｃａｎｄｉｄａ ｃａｎｔａｒｅｌｌｉｉ）、キャンディダ・マルトーサ（Ｃａｎｄｉｄａ ｍａｌｔｏｓａ）、デバリオマイセス・カルソニー（Ｄｅｂａｒｙｏｍｙｃｅｓ ｃａｒｓｏｎｉｉ）、ガラクトマイセス・レジー（Ｇａｌａｃｔｏｍｙｃｅｓ ｒｅｅｓｓｉｉ）、パキゾレン・タンノフィラス（Ｐａｃｈｙｓｏｌｅｎ ｔａｎｎｏｐｈｉｌｕｓ）、ロドトルーラ・マリーナ（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ ｍａｒｉｎａ）、ロードスポリディウム・ダクリオデウム（Ｒｈｏｄｏｓｐｏｒｉｄｉｕｍ ｄａｃｒｙｏｉｄｅｕｍ）、トリコスポロン・クタネウム（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｃｕｔａｎｅｕｍ）、トリコスポロン・アステロイデス（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ａｓｔｅｒｏｉｄｅｓ）、トリコスポロン・アサヒ（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ａｓａｈｉｉ）、トリコスポロン・デベウラマンニマウム（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｄｅｂｅｕｒｍａｎｎｉａｎｕｍ）、ロドトルーラ・グルチニス・バー・ダイアレンシス（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ ｇｌｕｔｉｎｉｓ  ｖａｒ．  ｄａｉｒｅｎｅｎｓｉｓ）、ピキア・ミニューター・バー・ミニューター（Ｐｉｃｈｉａ ｍｉｎｕｔａ  ｖａｒ．  ｍｉｎｕｔａ）、パエニバチラス・アルベイ（Ｐａｅｎｉｂａｃｉｌｌｕｓ ａｌｖｅｉ）などが挙げられる。
【００９４】
これら微生物は、一般に入手または購入が容易な保存株から得ることができるが、自然界から分離することもできる。なお、これらの微生物に変異を生じさせて、より本反応に有利な性質を有する菌株を得ることもできる。
【００９５】
これらの微生物の培養には、通常これらの微生物が資化しうる栄養源を含む培地であれば何でも使用しうる。例えば、グルコース、シュークロース、マルトース等の糖類、乳酸、酢酸、クエン酸、プロピオン酸等の有機酸類、エタノール、グリセリン等のアルコール類、パラフィン等の炭化水素類、大豆油、菜種油等の油脂類、またはこれらの混合物等の炭素源；硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、尿素、酵母エキス、肉エキス、ペプトン、コーンスチープリカー等の窒素源；更に、その他の無機塩、ビタミン類等の栄養源；を適宜混合・配合した通常の培地を用いることができる。これら培地は用いる微生物の種類によって適宜選択すればよい。
【００９６】
微生物の培養は通常一般の条件により行うことができ、例えば、ｐＨ４．０〜９．５、温度範囲２０℃〜４５℃の範囲で、好気的に１０〜９６時間培養するのが好ましい。
【００９７】
前記化合物（３）に微生物を反応させる場合においては、通常、上記微生物の菌体を含んだ培養液をそのまま反応に使用することもできるが、培養液の濃縮物も用いることができる。また、培養液中の成分が反応に悪影響を与える場合には、培養液を遠心分離等により処理して得られる菌体または菌体処理物も、目的の還元反応を達成する酵素活性を有する限りにおいては用いることができる。
【００９８】
上記微生物の菌体処理物としては特に限定されず、例えば、アセトンや五酸化二リンによる脱水処理またはデシケーターや扇風機を利用した乾燥によって得られる乾燥菌体、界面活性剤処理物、溶菌酵素処理物、固定化菌体または菌体を破砕した無細胞抽出標品などを挙げることができる。更に、培養物より不斉還元反応を触媒する酵素を精製し、これを使用してもよい。
【００９９】
還元反応の際には、基質である化合物（３）を反応の初期に一括して添加してもよく、反応の進行にあわせて分割して添加してもよい。反応時の温度は通常１０〜６０℃、好ましくは２０〜４０℃であり、反応時のｐＨは２．５〜９、好ましくは５〜９の範囲である。反応液中の酵素源の量はこれらの基質を還元する能力に応じて適宜決定すればよい。また、反応液中の基質濃度は０．０１〜８０％（Ｗ／Ｖ）が好ましく、より好ましくは０．１〜６０％（Ｗ／Ｖ）である。反応は通常、振とうまたは通気攪拌しながら行う。反応時間は基質濃度、酵素源の量及びその他の反応条件により適宜決定される。通常、２〜１６８時間で反応が終了するように各条件を設定することが好ましい。
【０１００】
還元反応を促進させるために、反応液にグルコース、エタノール、イソプロパノールなどのエネルギー源を０．５〜５０％の割合で加えると優れた結果が得られるので好ましい。一般に生物学的方法による還元反応に必要とされている還元型ニコチンアミド・アデニンジヌクレオチド（以降ＮＡＤＨと省略する）、還元型ニコチンアミド・アデニンジヌクレオチドりん酸（以降ＮＡＤＰＨと省略する）等の補酵素を添加することにより、反応を促進させることもできる。この場合、具体的には、反応液に直接これらを添加する。
【０１０１】
また、還元反応を促進させるために、ＮＡＤ+及び／またはＮＡＤＰ+をそれぞれの還元型へ還元する酵素と、該還元のための基質を共存させて反応を行うと優れた結果が得られるので好ましい。例えば、還元型へ還元する酵素としてグルコース脱水素酵素、還元のための基質としてグルコースをそれぞれ共存させるか、または、還元型へ還元する酵素としてギ酸脱水素酵素、還元のための基質としてギ酸をそれぞれ共存させる。
【０１０２】
本発明の還元反応を触媒する酵素のかわりに、該酵素をコードするＤＮＡを含む形質転換体を使用しても、同様に光学活性な前記化合物（４）を製造することができる。また、該酵素をコードするＤＮＡ、および、補酵素再生能を有するポリペプチドをコードするＤＮＡの両者を含む形質転換体を使用しても、同様に前記化合物（４）を製造することができる。とりわけ、該酵素をコードするＤＮＡ、および、補酵素再生能を有するポリペプチドをコードするＤＮＡの両者を含む形質転換体を使用した場合には、補酵素を再生するための酵素を別途調製・添加する必要がなく、前記化合物（４）の製造をより効率良く行うことができる。
【０１０３】
なお、本発明のポリペプチドをコードするＤＮＡを含む形質転換体、若しくは、本発明のポリペプチドをコードするＤＮＡおよび補酵素再生能を有するポリペプチドをコードするＤＮＡの両者を含む形質転換体は、培養菌体は言うまでもなく、その処理物としても前記化合物（４）の製造に使用することができる。ここで言う形質転換体の処理物とは、例えば、界面活性剤や有機溶媒で処理した細胞、乾燥細胞、破砕処理した細胞、細胞の粗抽出液等のほか、公知の手段でそれらを固定化したものを意味する。
【０１０４】
該酵素をコードするＤＮＡ、および、補酵素再生能を有するポリペプチドをコードするＤＮＡの両者を含む形質転換体は、該酵素をコードするＤＮＡ、および、補酵素再生能を有するポリペプチドをコードするＤＮＡの両者を、同一のベクターに組み込み、これを宿主細胞に導入することにより得られるほか、これら２種のＤＮＡを不和合性グループの異なる２種のベクターにそれぞれ組み込み、それら２種のベクターを同一の宿主細胞に導入することによっても得られる。
【０１０５】
該酵素をコードするＤＮＡ及び補酵素再生能を有するポリペプチドをコードするＤＮＡの両者が組込まれたベクターの例としては、ＷＯ２００４／０２７０５５公報に記載のデボシア・リボフラビナ由来の還元酵素遺伝子とバシラス・メガテリウム由来のグルコース脱水素酵素遺伝子を導入したｐＮＴＤＲＧ１が挙げられる。また、該酵素をコードするＤＮＡ、および、補酵素再生能を有するポリペプチドをコードするＤＮＡの両者を含む形質転換体の例としては、当該ベクターでＥ．ｃｏｌｉ  ＨＢ１０１を形質転換して得られる、Ｅ．ｃｏｌｉ  ＨＢ１０１（ｐＮＴＤＲＧ１）（ＦＥＲＭ  ＢＰ−８４５８）が挙げられる。なお、当該形質転換微生物は、２００２年５月２９日に、独立行政法人産業技術総合研究所特許生物寄託センター（〒３０５−８５６６  日本国茨城県つくば市東１丁目１番地１  中央第６）に寄託されたＦＥＲＭ  Ｐ−１８８７２号を、２００３年８月２５日に、ブタペスト条約に基づく寄託へ移管したものである。
【０１０６】
該酵素をコードするＤＮＡを含む形質転換体の培養、および、該酵素をコードするＤＮＡと補酵素再生能を有するポリペプチドをコードするＤＮＡの両者を含む形質転換体の培養は、それらが増殖する限り、通常の炭素源、窒素源、無機塩類、有機栄養素などを含む液体栄養培地を用いて実施できる。
【０１０７】
また更に、トリトン（ナカライテスク株式会社製）、スパン（関東化学株式会社製）、ツイーン（ナカライテスク株式会社製）などの界面活性剤を反応液に添加することも効果的である。更に、基質及び／または還元反応の生成物であるアルコール体による反応の阻害を回避する目的で、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソプロピルエーテル、トルエン、ヘキサンなどの水に不溶な有機溶媒を反応液に添加してもよい。更に、基質の溶解度を高める目的で、メタノール、エタノール、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドなどの水に可溶な有機溶媒を添加することもできる。
【０１０８】
還元反応により生成した化合物（４）の採取は、特に限定されないが、反応液から直接、あるいは菌体等を分離後、酢酸エチル、トルエン、ｔ−ブチルメチルエーテル、ヘキサン等の溶剤で抽出し、脱水後、結晶化あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィー等により精製すれば高純度の前記化合物（４）を容易に得ることができる。
【実施例】
【０１０９】
以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【０１１０】
なお、以下で用いる微生物は、下記の寄託機関から入手可能である。
ＦＥＲＭ：独立行政法人産業技術総合研究所  特許生物寄託センター
ＮＢＲＣ：独立行政法人製品評価基盤技術機構  生物遺伝資源センター
ＩＡＭ：東京大学分子生物学研究所  バイオリソース研究分野
ＣＢＳ：Ｔｈｅ  Ｃｅｎｔｒａａｌｂｕｒｅａｕ  ｖｏｏｒ  Ｓｃｈｉｍｍｅｌｃｕｌｔｕｒｅｓ（Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｒｏｙａｌ  Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ  Ａｃａｄｅｍｙ  ｏｆ  Ａｒｔｓ  ａｎｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）
【０１１１】
参考例１  Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの製造
Ｎ−フェニル−３−オキソブタン酸アミド２４．１ｇ（１２６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２４０ｍＬ）に、水素化ホウ素ナトリウム３．３３ｇ（８８．２ｍｍｏｌ、０．７倍モル量）を内温１５〜２５℃で１時間かけて分割添加した。エタノール１ｍＬ、酢酸１ｍＬを添加して３０分攪拌後、５重量％硫酸水溶液７０ｍＬを加えて更に２時間攪拌した。酢酸エチル１００ｍＬ、水５０ｍＬを加えて抽出し、有機層を更に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍＬで２回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下に溶媒を留去することにより、白色固体を得た。このものに酢酸エチル１００ｍＬを加えて７０℃で加熱溶解させ、ヘキサン１５０ｍＬを加えることで結晶が析出し、室温まで冷却後、減圧濾別することにより、Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドを白色結晶として得た（１９．２７ｇ、収率：７９％）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：δ１．２９（３Ｈ，ｄ）、２．５１（２Ｈ，ｍ）、３．２９（１Ｈ，ｄ）、４．３０（１Ｈ，ｍ）、７．１１（１Ｈ，ｄｄ）、７．３２（２Ｈ，ｄｄ）、７．４９（２Ｈ，ｄ）、７．８４（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０１１２】
参考例２  Ｎ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミドの製造
参考例１にて製造したＮ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミド１０．０ｇ（５２ｍｍｏｌ）、塩化メタンスルホニル７．７１ｇ（６７．６ｍｍｏｌ、１．３倍モル量）、酢酸エチル１５０ｍＬからなる溶液を３℃に冷却し、ここにトリエチルアミン７．８５ｇ（７８．０ｍｍｏｌ、１．５倍モル量）の酢酸エチル溶液（５０ｍＬ）を、内温３〜５℃を維持しながら１時間で滴下した。更に３時間攪拌後、水５０ｍＬを加えて水解し、水層を分離後、有機層を更に水５０ｍＬで洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮することにより、白色固体が得られた。このものを酢酸エチル５０ｍＬに溶解し、ヘキサン１００ｍＬを加えて結晶を析出させ、１時間攪拌後、減圧濾別することにより、Ｎ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミドを白色結晶として得た（１３．８５ｇ、収率：９９％）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：δ１．５６（３Ｈ，ｄ）、２．７２（２Ｈ，ｄ）、３．０３（３Ｈ，ｓ）、５．２４（１Ｈ，ｍ）、７．１３（１Ｈ、ｄｄ）、７．３２（２Ｈ、ｄｄ）、７．５０（２Ｈ、ｄ）、７．５８（１Ｈ、ｂｒｓ）。
【０１１３】
実施例１  １−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造
水酸化カリウム（純度８５重量％、粉末状）２６４ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ、２倍モル量）のテトラヒドロフラン懸濁溶液（５ｍＬ）に、参考例２にて製造したＮ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミド５１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）を２５℃、３０分で滴下し、更に３０分攪拌した。酢酸エチル３０ｍＬ、水２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を更に水２０ｍＬで洗浄した。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィー（カラム：資生堂  ＣＡＰＣＥＬＬＰＡＫ  Ｃ１８  ４．６×２５０ｍｍ、溶離液：アセトニトリル／リン酸緩衝液＝１／１、流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：４０℃、検出器：ＵＶ２１０ｎｍ）にて定量分析した結果、目的の１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの収率は９４％であり、副生成物（β−脱離体）であるＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドの収率は３％と算出された。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：δ１．５２（３Ｈ，ｄ）、２．６８（１Ｈ，ｄｄ）、３．２４（１Ｈ、ｄｄ）、４．１７（１Ｈ、ｍ）、７．０８（１Ｈ、ｍ）、７．３−７．５（４Ｈ，ｍ）
【０１１４】
比較例１  １−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造
６０重量％水素化ナトリウム１２０ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ、１．５倍モル量）の塩化メチレン４ｍＬ、ジメチルホルムアミド１ｍＬからなる溶液に、実施例２にて製造したＮ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミド５１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン４ｍＬ、ジメチルホルムアミド１ｍＬからなる溶液を２５℃、３０分で滴下し、更に３０分攪拌した。酢酸エチル３０ｍＬ、水２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を更に水２０ｍＬで洗浄した。得られた有機層を実施例１に記載の分析方法により分析した結果、目的の１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの収率は９９％であり、副生成物（β−脱離体）であるＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドは１％であった。
【０１１５】
比較例２〜９  １−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造
用いる塩基を変更した以外は、実施例１に記載の方法と同様であり、以下の表１にＨＰＬＣで算出した収率を示す。尚、表中の環化体は目的物の１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンを表し、β−脱離体は副生成物のＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドを表す。
【０１１６】
【表１】
2009161441.tif 000012
【０１１７】
実施例２  １−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造
水酸化カリウム（純度８５重量％、粉末状）２６４ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ、２倍モル量）のアセトニトリル懸濁溶液（５ｍＬ）に、参考例２にて製造したＮ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミド５１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（５ｍＬ）を２５℃、３０分で滴下し、更に３０分攪拌した。酢酸エチル３０ｍＬ、水２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を更に水２０ｍＬで洗浄した。得られた有機層を実施例１に記載の分析方法により分析した結果、目的の１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの収率は８６％であり、副生成物（β−脱離体）であるＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドは８％であった。
【０１１８】
実施例３  １−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造
水酸化カリウム（純度８５重量％、粉末状）２６４ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ、２倍モル量）のジメチルホルムアミド懸濁溶液（５ｍＬ）に、参考例２にて製造したＮ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミド５１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（５ｍＬ）を２５℃、３０分で滴下し、更に３０分攪拌した。酢酸エチル３０ｍＬ、水２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を更に水２０ｍＬで洗浄した。得られた有機層を実施例１に記載の分析方法により分析した結果、目的の１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの収率は８３％であり、副生成物（β−脱離体）であるＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドは５％であった。
【０１１９】
実施例４  １−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造
水酸化ナトリウム（粉末状）１６０ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ、２倍モル量）のテトラヒドロフラン懸濁溶液（５ｍＬ）に、参考例２にて製造したＮ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミド５１４ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）を２５℃、３０分で滴下し、更に３０分攪拌した。酢酸エチル３０ｍＬ、水２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を更に水２０ｍＬで洗浄した。得られた有機層を実施例１に記載の分析方法により分析した結果、目的の１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの収率は９３％であり、副生成物（β−脱離体）であるＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドは５％であった。
【０１２０】
実施例５  １−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造
カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド４４９ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ、２倍モル量）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）に、水１０８ｍｇ（６．０ｍｍｏｌ、３倍モル量）を加えて２５℃、１０分攪拌することにより白色の懸濁溶液となった。ここに、参考例２にて製造したＮ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミド５１４ｍｇ（２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）を２５℃、３０分で滴下し、更に３０分攪拌した。酢酸エチル３０ｍＬ、水２０ｍＬを加えて抽出し、有機層を更に水２０ｍＬで洗浄した。得られた有機層を実施例１に記載の分析方法により分析した結果、目的の１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの収率は７４％であり、副生成物（β−脱離体）であるＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドは１９％であった。
【０１２１】
実施例６  （Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの製造
Ｎ−フェニル−３−オキソブタン酸アミド８８５ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）、［（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）ＲｕＢｒ2］（０．０２９ｍｍｏｌ、０．００５８倍モル量）、メタノール１１ｍＬからなる溶液を、３ｋｇ／ｃｍ２の水素圧条件下で７０℃、３．５時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することにより、（Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドを褐色固体として得た（９４４ｍｇ、純度：８７．７重量％、収率：９３％）。この化合物の光学純度（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ−Ｈ  ４．６×２５０ｍｍ、溶離液：イソプロパノール／ヘキサン＝５／９５、流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：３０℃、検出器：ＵＶ２１０ｎｍ、保持時間：（Ｓ）体＝２２．４分、（Ｒ）体＝２０．７分）を測定すると、９２．３％ｅｅ．であった。
【０１２２】
実施例７  （Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミドの製造
実施例６にて製造した（Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミド８７９．８ｍｇ（４．３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン６５３ｍｇ（６．５ｍｍｏｌ、１．５倍モル量）、酢酸エチル１０ｍＬからなる溶液を５℃に冷却し、ここに塩化メタンスルホニル６４０ｍｇ（５．６ｍｍｏｌ、１．３倍モル量）の酢酸エチル溶液（５ｍＬ）を１５分で滴下、更に１時間攪拌した。酢酸エチル１５ｍＬ、水２０ｍＬを加えて抽出し、更に有機層を水２０ｍＬで洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮することにより淡黄色固体を得た。これにヘキサンを加えて攪拌、減圧濾過することにより、（Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミドを白色結晶として得た（１０７８．２ｍｇ、純度：９８重量％、収率：９５％）。
【０１２３】
実施例８  （Ｒ）−１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの製造
水酸化カリウム（純度８５重量％、粉末状）３５１ｍｇ（５．３ｍｍｏｌ、２倍モル量）のテトラヒドロフラン懸濁溶液（１０ｍＬ）に、実施例７にて製造した（Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−メタンスルホニルオキシブタン酸アミド７００ｍｇ（２．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）を２０℃、３０分で滴下し、更に１時間攪拌した。トルエン２０ｍＬ、水１０ｍＬを加えて抽出し、有機層を更に水１０ｍＬで洗浄した。得られた有機層を実施例３に記載の分析方法により分析した結果、目的の（Ｒ）−１−フェニル−４−メチル−２−アゼチジノンの収率は９１％であり、副生成物（β−脱離体）であるＮ−フェニル−２−ブテン酸アミドは７％であった。また、これの光学純度（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ−Ｈ  ４．６×２５０ｍｍ、溶離液：イソプロパノール／ヘキサン＝１／９、流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：３０℃、検出器：ＵＶ２１０ｎｍ、保持時間：（Ｓ）体＝７．５分、（Ｒ）体＝６．５分）を測定すると、９２．２％ｅｅ．であった。
【０１２４】
実施例９  Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの製造
グルコース４０ｇ、酵母エキス３ｇ、リン酸水素二アンモニウム６．５ｇ、リン酸二水素カリウム１ｇ、硫酸マグネシウム７水和物０．８ｇ、硫酸亜鉛７水和物６０ｍｇ、硫酸鉄７水和物９０ｍｇ、硫酸銅５水和物５ｍｇ、硫酸マンガン４水和物１０ｍｇ、塩化ナトリウム１００ｍｇ（いずれも１Ｌ当たり）の組成からなる液体培地（ｐＨ７）５ｍｌを大型試験管に分注し、１２０℃で２０分間蒸気殺菌を行った。これらの液体培地に表２に示す微生物を無菌的に一白金耳接種して、３０℃で７２時間振とう培養した。培養後、各培養液を遠心分離にかけて菌体を集め、菌体をグルコース１％を含んだ１００ｍＭリン酸緩衝液０．５ｍｌ（ｐＨ６．５）に懸濁した。この菌体懸濁液を、あらかじめＮ−フェニル−３−オキソブタン酸アミド１ｍｇをいれた試験管に加えて、３０℃で２４時間反応させた。反応後、各反応液に１ｍｌの酢酸エチルを加えてよく混合し、有機層の一部を下記分析条件で分析して、Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの収率と光学純度を求めた。
［高速液体クロマトグラフィー分析条件］
カラム：ダイセル化学工業株式会社製Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ−Ｈ（２５０ｍｍ×４．６ｍｍ
溶離液：ｎ−ヘキサン／エタノール＝８５／１５、流速：１ｍｉｎ／ｍｌ、検出：２１５ｎｍ）
結果を表２にまとめた。
【０１２５】
【表２】
2009161441.tif 000013
【０１２６】
実施例１０  Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの製造
肉エキス１０ｇ、ペプトン１０ｇ、酵母エキス５ｇ、塩化ナトリウム３ｇ（いずれも１Ｌ当たり）の組成からなる液体培地（ｐＨ７）７ｍｌを大型試験管に分注し、１２０℃で２０分間蒸気殺菌を行った。これらの液体培地に表３に示す微生物を無菌的に一白金耳接種して、３０℃で７２時間振とう培養した。培養後、各培養液を遠心分離にかけて菌体を集め、菌体をグルコース１％を含んだ１００ｍＭリン酸緩衝液０．５ｍｌ（ｐＨ６．５）に懸濁した。この菌体懸濁液を、あらかじめＮ−フェニル−３−オキソブタン酸アミド１ｍｇをいれた試験管に加えて、３０℃で２４時間反応させた。反応後、各反応液に１ｍｌの酢酸エチルを加えてよく混合し、有機層の一部を上記と同様に分析して、Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの収率と光学純度を求めた。
【０１２７】
結果を表３にまとめた。
【０１２８】
【表３】
2009161441.tif 000014
【０１２９】
実施例１１  （Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの製造 
５００ｍｌの１００ｍＭりん酸緩衝液（ｐＨ６．５）に、グルコース９．２ｇ、デボシア・リボフラビナ（Ｄｅｖｏｓｉａ ｒｉｂｏｆｌａｖｉｎａ）ＮＢＲＣ１３５８４から調製した還元酵素ＲＤＲ（ＷＯ２００４／０２７０５５公報）１０ｋＵ、グルコース脱水素酵素「ＧＬＵＣＤＨ“Ａｍａｎｏ２”」（天野エンザイム株式会社製）５００ｍｇ、ＮＡＤ+５０ｍｇ、Ｎ−フェニル−３−オキソブタン酸アミド５ｇを加えて、３０℃で攪拌した。その間、反応液のｐＨは６ＮＮａＯＨによって６．５に維持した。２４時間の反応ののち、反応液を１，０００ｍｌの酢酸エチルで３回抽出し、得られた有機層をあわせて、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過によって硫酸ナトリウムを除去し、減圧下有機溶媒を留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって、４．５ｇの（Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドを得た。この化合物の光学純度は９９％ｅｅ以上であった。
［α］20 −３７°（ｃ＝１，ＣＨＣｌ3）
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、δｐｐｍ）：１．２６（ｄ，３Ｈ），２．３６−２．５５（ｍ，２Ｈ），３．２０（ｓ，１Ｈ），４．１０−４．３１（ｍ，１Ｈ），７．０９（ｔ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，２Ｈ），７．４７（ｄ，２Ｈ）、７．８３（ｓ、１Ｈ）．
【０１３０】
実施例１２  （Ｒ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの製造
５００ｍｌの１００ｍＭりん酸緩衝液（ｐＨ６．５）に、グルコース９．２ｇ、ロドトルーラ・グルチニス・バー・ダイアレンシス（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ ｇｌｕｔｉｎｉｓ  ｖａｒ．  ｄａｉｒｅｎｅｎｓｉｓ）ＮＢＲＣ４１５から調製したカルボニル還元酵素ＲＲＧ（ＷＯ２００３／０９３４７７公報）１０ｋＵ、グルコース脱水素酵素「ＧＬＵＣＤＨ“Ａｍａｎｏ２”」（天野エンザイム株式会社製）５００ｍｇ、ＮＡＤＰ+５０ｍｇ、Ｎ−フェニル−３−オキソブタン酸アミド５ｇを加えて、３０℃で攪拌した。その間、反応液のｐＨは６ＮＮａＯＨによって６．５に維持した。２４時間の反応ののち、反応液を１，０００ｍｌの塩化メチレンで５回抽出し、得られた有機層をあわせて、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過によって硫酸ナトリウムを除去し、常圧下に有機溶媒を留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって、４．５ｇの（Ｒ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロシキブタン酸アミドを得た。この化合物の光学純度は９９％ｅｅ以上であった。
［α］20 ＋３７°（ｃ＝１，ＣＨＣｌ3）
【０１３１】
実施例１３  （Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシブタン酸アミドの製造
エシェリキア・コリ（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ）ＨＢ１０１（ｐＮＴＤＲＧ１）（ＦＥＲＭ  ＢＰ−８４５８）を、５００ｍｌ容坂口フラスコ中で滅菌した５０ｍｌの２ｘＹＴ培地（バクト・トリプトン１．６％、バクト・イーストエキス１％、ＮａＣｌ０．５％、ｐＨ７．０）に接種し、３７℃で１８時間振とう培養した。なお、当該微生物は、還元酵素ＲＤＲとグルコース脱水素酵素を同時に生産する（ＷＯ２００４／０２７０５５公報）。得られた培養液２０ｍｌにＮ−フェニル−３−オキソブタン酸アミド２ｇ、ＮＡＤ+３ｍｇ、グルコース３ｇを添加し、３０℃で攪拌した。その間、反応液のｐＨは６ＮＮａＯＨによって６．５に維持した。５時間後、実施例９に記載の方法によって、生成物である（Ｓ）−Ｎ−フェニル−３−ヒドロシキブタン酸アミドの生成量とその光学純度を定量したところ、１．８ｇ、９９％ｅｅ以上であった。