(57)【要約】      （修正有）【課題】垂直磁気記録用ハードディスクに使用する研磨布であって、従来の研磨布では実現できなかった電波変換特性の高いハードディスクに使用する織物からなる研磨布を提供する。【解決手段】数平均による単繊維繊度が１×１０-8〜４×１０-4ｄｔｅｘである熱可塑性ポリマーからなる極細繊維が凝集した繊維束を一部に有する織物からなり、径糸が繊維束の撚糸の撚角度が１０度以上７０度以下であり、縦糸が繊維束の撚糸の撚角度が２０度以上８０度以下である研磨布。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
数平均による単繊維繊度が１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘである熱可塑性ポリマーからなる極細繊維が凝集した繊維束を一部に有する織物からなる研磨布。
【請求項２】
経糸が前記極細繊維が凝集した繊維束を含む撚糸であって、該撚糸の撚角度が１０度以上７０度以下であることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。
【請求項３】
緯糸が前記極細繊維が凝集した繊維束を含む撚糸であって、該撚糸の撚角度が２０度以上８０度以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の研磨布。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨布に関し、更に詳しくは、特に垂直磁気記録用ハードディスクに使用する研磨布に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク等の磁気記録媒体は、近年、めざましい技術革新により高容量化、高記憶密度化の要求が高まり、このため各種基板の表面加工の高精度化が要求されている。
【０００３】
近年、高容量化、高記憶密度化に伴い、記録ディスクと磁気ヘッドとの間隔、つまり、磁気ヘッドの浮上高さは小さくなってきており、磁気ヘッドの浮上高さが著しく小さくなることにより、磁気ディスクの表面に突起があるとその突起と磁気ヘッドとが接触してヘッドクラッシュを起こし、ディスク表面に傷が発生する。また、ヘッドクラッシュには至らない程度の微小な突起でも、磁気ヘッドとの接触により情報の読み書きの際に発生するエラーの原因となる。さらには磁気ヘッドが記録ディスク表面とが密着し、浮上しなくなるというトラブルを引き起こす。
【０００４】
さらに、近年は従来の長手磁気記録から垂直磁気記録へプロセスが移行しつつある。垂直磁気記録とは磁性体が垂直に配列しているため、２００ＧＢ以上の高容量化が可能になる。
【０００５】
従来の長手磁気記録では、この記録ディスクと磁気ヘッドとの密着を防止する手段として、記録ディスクの基板表面に微細な条痕を形成するテクスチャー加工という表面処理が行われているが、垂直磁気記録ではこのテクスチャー加工は不要となりさらなる平滑化、ならびに残留砥粒の確実な除去が求められている。
【０００６】
従来の長手磁気記録用研磨布では繊維をより細く、より柔らかいシートが要求されていた。例えば熱収縮の異なる２種以上のポリマーを使用し、かつ０．５デニール以下の微細ループを形成することで研磨表面平滑性が高くなる研磨布（特許文献１参照）や、また単糸繊度０．０００１以上、０．１ｄｔｅｘ未満のマルチファイラメントと収縮糸を混繊することを特徴とするワイピングクロスが提案されている（特許文献２参照）。これらの方法は長手磁気記録用研磨の方法であり、テクスチャー加工痕を付与するために研磨加工時に研磨布に与えるテンションを高く設定し、被研磨体への研磨布の当たりを強くする方法がとられていた。しかし、垂直磁気記録ではテクスチャー加工痕は不要となり、より精度の高い表面平滑性が必要であるため、研磨圧力が低い状態での研磨性能が求められる。しかし、これらの研磨布は開繊したマイクロファイバーであるため、研磨圧力が低い状態での研磨は難しいものであった。また研磨不足により砥粒や突起物が残ってしまう等の問題があった。
【特許文献１】特許第３３３６３７４号公報
【特許文献２】特開２００６−３３６１１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、非常に研磨特性に優れた新規な研磨布を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の目的は、下記構成の研磨布とすることにより達成される。
【０００９】
すなわち、「数平均による単繊維繊度が１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘである熱可塑性ポリマーからなるナノファイバーが凝集した繊維束を一部に有する織物からなる研磨布」である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、非常に研磨特性に優れた、具体的には被研磨物に精度の高い表面平滑性を与えられる、新規な研磨布を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、さらに詳しく本発明の研磨布について説明をする。
【００１２】
まず、本発明の研磨布は、数平均による単繊維繊度が１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘである極細繊維が凝集した繊維束を一部に有する織物からなるものである。
【００１３】
ここで、本発明で言う極細繊維とは、数平均による単繊維繊度が１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘ（ナイロン６の場合、単繊維直径が１〜２００ｎｍに相当する。）の繊維からなり、形態的にはその単繊維が凝集した集合体であって、束状に凝集した集合体（凝集した繊維束）であることが重要である。ただし、その繊維長や断面形状などには限定されない。  
【００１４】
数平均による単繊維繊度とは、ナノファイバーを含む織物の横断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）あるいは走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、同一横断面内で無作為に抽出した５０本以上の単繊維直径を測定するものであるが、これを３カ所以上で行い、少なくとも合計１５０本以上の単繊維直径を測定することによって求めることができる。このとき、２００ｎｍ（ナイロン６（比重１．１４ｇ／ｃｍ３）の場合では４×１０−４ｄｔｅｘ）相当を超える他の繊維は除き、それ以下の１〜２００ｎｍの範囲内の単繊維直径のものだけを無作為に選び測定するのである。
【００１５】
また、織物に含まれる極細繊維が異形断面の場合、まず、単繊維の断面積を測定し、その面積を仮に断面が円の場合の面積とする。その面積から直径を算出することによって単繊維直径を求めることができる。
【００１６】
ここで、単繊維繊度の平均値は、以下のようにして求める。まず、単繊維直径をｎｍ単位で小数点の１桁目まで測定し、小数点以下を四捨五入する。その単繊維直径とポリマーの比重とから単繊維繊度を算出し、それの単純な平均値を求める。これを「数平均による単繊維繊度」と本発明では呼ぶ。ここで、本発明の研磨布に用いられる極細繊維の繊維横断面写真の一例を図１に示す。この図１には、１００ｎｍのスケールも併せて示しているが、ほぼ全てが単繊維直径が１００ｎｍよりも小さいものであることがわかる。
【００１７】
本発明の研磨布では、極細繊維の数平均による単繊維繊度が１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘ（ナイロン６（比重１．１４ｇ／ｃｍ３）の場合では単繊維直径で１〜２００ｎｍ相当）であることが重要である。これは、従来の海島複合紡糸による研磨布に比べて、単繊維直径が１／１０〜１／１０００という細さであり、従来の研磨布とは全く異なる質感を持ったもの、あるいは従来よりもはるかにハードディスクの平滑性を向上し得る研磨布を得ることを実現できるものである。
【００１８】
数平均による単繊維繊度は、好ましくは１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘ（ナイロン６（比重１．１４ｇ／ｃｍ３）の場合では単繊維直径で１〜１５０ｎｍ相当）、より好ましくは１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘ（ナイロン６（比重１．１４ｇ／ｃｍ３）の場合では単繊維直径で１〜１００ｎｍ相当）、さらに好ましくは０．８×１０−５〜６×１０−５ｄｔｅｘ（ナイロン６（比重１．１４ｇ／ｃｍ３）の場合では単繊維直径で３０〜８０ｎｍ相当）である。
前記のとおり、本発明では極細繊維は凝集した繊維束であることが必要である。凝集しているということは、低荷重下での歪みの大きさが小さい、すなわち、研磨時に織物を被研磨体に低荷重で押し当てた際に局所的に圧力が変動した場合にも織物の歪みの差が小さいことを意味している。これにより、織物の平滑性が維持されて、研磨圧力が低い状態での高精度の研磨が可能となり、被研磨体にスクラッチなどの傷をつけずに残留砥粒や突起物を除去することができる。単繊維間が開繊したマイクロファイバーや極細繊維織物では、研磨圧力が低い状態での平滑性が劣るために残留砥粒や突起物を完全に除去することができない。
【００１９】
本発明でいう熱可塑性ポリマーとは、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと呼ぶことがある）、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンレテフタレート、などのポリエステルやナイロン６（以下、Ｎ６と呼ぶことがある）、ナイロン６６等のポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリフェニレンスルフィド（以下、ＰＰＳと呼ぶことがある）等が挙げられるが、ポリエステルやポリアミドに代表される重縮合系ポリマーは融点が高いものが多く、より好ましい。ポリマーの融点は１６５℃以上であると極細繊維の耐熱性が良好であり好ましい。例えば、ポリ乳酸（以下、ＰＬＡと呼ぶことがある）は１７０℃、ＰＥＴは２５５℃、ナイロン６は２２０℃である。また、ポリマーには粒子、難燃剤、帯電防止剤等の添加物を含有させていてもよい。また、ポリマーの性質を損なわない範囲で他の成分が共重合されていてもよい。さらに、溶融紡糸の容易さから、融点が３００℃以下のポリマーが好ましい。
【００２０】
本発明においては、極細繊維は凝集した繊維束として織物を構成する糸（経糸および／または緯糸）に含まれることが好ましい。極細繊維が凝集した繊維束のみで糸（経糸および／または緯糸）を構成することももちろん可能である。
また、本発明の研磨布は極細繊維が凝集した繊維束を含む糸を経糸に用いる際には、撚りが施されていることが好ましく、織物にしたときの撚角度は１０度〜７０度であることが好ましい。経糸極細繊維の撚角度が１０度〜７０度であることで、研磨加工時に極細繊維が研磨性能を維持しながら、研磨砥粒を外部へ逃がす力を与えることができるので、より高精度な平滑化を実現することができ好ましい。ここで１０度以下であれば、織物表面を構成するナノファイバーが研磨方向と同方向となるので、研磨力が弱くなり、砥粒が残りやすくなるので、好ましくない。一方、７０度以上であれば、研磨力は増大するが、砥粒を押さえつける力も強くなるため、スクラッチを発生しやすくなり、好ましくない。さらに好ましい範囲は２０度〜６０度の範囲である。なお、本発明において撚角度とは、極細繊維を含む織物の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、無作為に抽出した３０本の極細繊維が凝集した繊維束の撚線を読みとり、繊維軸方向からの傾きを測定、平均して（ｎ＝３０）、撚角度としたものである。
【００２１】
また、本発明の研磨布は極細繊維が凝集した繊維束を含む糸を緯糸に用いる際には、撚りが施されていることが好ましく、織物にしたときの撚角度が２０度〜８０度であることが好ましい。緯糸極細繊維の撚角度が２０度〜８０度であることで、研磨加工時に極細繊維が研磨性能を維持しながら、研磨砥粒を外部へ逃がす力を与えることができるので、より高精度な平滑化を実現することができ好ましい。ここで８０度以上であれば、織物表面を構成する極細繊維が研磨方向と同方向となるので、研磨力が弱くなり、砥粒が残りやすくなるので、好ましくない。一方、２０度以下であれば、研磨力は増大するが、砥粒を押さえつける力も強くなるため、スクラッチを発生しやすくなり、好ましくない。さらに好ましい範囲は３０度〜７０度の範囲である。
【００２２】
一般的に織物を研磨布に用いるときには経方向が研磨方向として用いられる。したがって、経糸においては撚角度は１０度〜７０度が好ましいが、緯糸においては、好ましい撚角度の位相が９０度ずれ、撚角度は２０度〜８０度が好ましいことになる。
【００２３】
なお、上記撚角度を満たす好ましい撚数は５００〜３５００（Ｔ／ｍ）の範囲である。
【００２４】
研磨布においては、砥粒を研磨布に均一に担持するために、表面繊維の緻密性が高く、かつ、表面繊維密度の粗密ムラの少ないものが好まれ、高密度織物が好適である。
【００２５】
高密度織物の場合は、織物のカバーファクター値がそれぞれ２０００以上になるように織密度を調整することが好ましく、カバーファクターが２０００未満の場合、単繊維間空隙が大きく緻密性に劣ってしまう。
【００２６】
ここでカバーファクター値は、それぞれ以下に示す式で表されるものである。
経カバーファクター値＝経織密度［本／２．５４ｃｍ］×（経糸繊度［ｄｔｅｘ］）１／２
＋緯織密度［本／２．５４ｃｍ］×（緯糸繊度［ｄｔｅｘ］）１／２
カバーファクター値が大きいと、研磨持に織物の耐久性が向上するばかりでなく、織物の形態安定性が良くなるために織物表面の平滑性も保持され、さらに織物がある程度の硬さを有しているため、研磨時の研削効率が向上する。
【００２７】
本発明において、織物組織はなんら制限されるものではないが、高密度化しやすいという観点から浮き組織の多いツイルやサテン組織が好ましい。
【００２８】
本発明の研磨布を用いて、研磨を行う方法としては、かかる研磨布を加工効率と安定性の観点から、３０〜５０ｍｍ幅のテープ状にカットして、研磨加工用テープとして用いる。ここでカットは溶断カッターやレーザーカッターを使用して、カット端がほつれることなく処理することが好ましい。
【００２９】
次いで、基板（被研磨物）を連続回転させた状態で、テープ状とした該研磨布を基板に押し付けながら、基板の径方向に研磨布または基板を往復運動させ、連続的に研磨布を走行させる。その際に、遊離砥粒を含むスラリーを研磨布表面に供給し、テープ状とした該研磨布の表面に遊離砥粒を含むスラリーを付着させて、アルミニウム合金磁気記録ディスクやガラス磁気記録ディスクの表面の研磨を行うのが好適な方法である。研磨条件としては、スラリーはダイヤモンド微粒子などの高硬度砥粒を水系分散媒に分散したものが好ましく用いられる。
【００３０】
本発明の研磨布に用いる極細繊維はポリマーアロイ繊維から好ましく製造される。ポリマーアロイ繊維の製造方法は特に限定されないが、例えば、以下のような方法を採用することができる。
【００３１】
すなわち、２種類以上の溶剤に対する溶解性の異なる易溶解性ポリマーと難溶解性ポリマーをアロイ化してポリマーアロイ溶融体となし、これを海成分とし、前記した難溶解性ポリマーと帯電性の異なる難溶解性ポリマーを島成分として特公昭６２−２５７６３号公報等に代表される２成分海島型複合口金を用い紡糸した後、冷却固化して繊維化する。そして必要に応じて延伸・熱処理を施し海島型複合糸であるポリマーアロイ繊維を得る。そして、易溶解性ポリマーを溶剤で除去することにより本発明の極細繊維を得ることができる。
【００３２】
ここで、極細繊維繊維の前駆体であるポリマーアロイ繊維の海成分で易溶解性ポリマーがマトリックス、難溶解性ポリマーがドメインとなり、そのドメインサイズを制御することが重要である。
【００３３】
前駆体中でのドメインサイズにより極細繊維の直径がほぼ決定されるため、ドメインサイズの分布は本発明の極細繊維の直径分布に準じて設計される。このため、アロイ化するポリマーの混練が非常に重要であり、本発明では混練押出機や静止混練器等によって高混練することが好ましい。具体的に混練を行う際の目安としては、組み合わせるポリマーにもよるが、混練押出機を用いる場合は、２軸押出混練機を用いることが好ましく、静止混練器を用いる場合は、その分割数は１００万以上とすることが好ましい。
【００３４】
また、ドメインを数十ｎｍサイズで超微分散させるには、ポリマーの組み合わせも重要である。
【００３５】
ポリマー同士の融点差が２０℃以下であると、特に押出混練機を用いた混練の際、押出混練機中での融解状況に差を生じにくいため高効率混練しやすく、好ましい。また、熱分解や熱劣化し易いポリマーを１成分に用いる際は、混練や紡糸温度を低く抑える必要があるが、これにも有利となるのである。ここで、非晶性ポリマーの場合は融点が存在しないためガラス転移温度やビカット軟化温度あるいは熱変形温度でこれに代える。
【００３６】
さらに、溶融粘度も重要であり、ドメインを形成するポリマーの方を低く設定すると剪断力によるドメインポリマーの変形が起こりやすいため、ドメインポリマーの微分散化が進みやすく極細繊維化の観点からは好ましい。ただし、ドメインポリマーを過度に低粘度にするとマトリックス化しやすくなり、繊維全体に対するブレンド比を高くできないため、ドメインポリマー粘度はマトリックスポリマー粘度の１／１０以上とすることが好ましい。
【００３７】
ポリマーアロイ中では、ドメインポリマーとマトリックスポリマーが非相溶であるため、ドメインポリマー同士は凝集した方が熱力学的に安定である。しかし、ドメインポリマーを無理に超微分散化するために、このポリマーアロイでは通常の分散径の大きいポリマーブレンドに比べ、非常に不安定なポリマー界面が多くなっている。このため、このポリマーアロイを単純に紡糸すると、不安定なポリマー界面が多いため、口金からポリマーを吐出した直後に大きくポリマー流が膨らむ「バラス現象」が発生したり、ポリマーアロイ表面の不安定化による曳糸性不良が発生し、糸の太細斑が過大となるばかりか、紡糸そのものが不能となる場合がある（超微分散ポリマーアロイの負の効果）。このような問題を回避するため、口金から吐出する際の、口金孔壁とポリマーとの間の剪断応力を低くすることが好ましい。そのためには、口金孔径は大きく、口金孔長は短くする傾向であるが、過度にこれを行うと口金孔でのポリマーの計量性が低下し、繊度斑や紡糸性悪化が発生してしまうため、吐出孔より上部にポリマー計量部を有する口金を用いることが好ましい。ポリマー計量部は、具体的には特公昭６２−２５７６３号公報の第１図に記載のように島成分の導入孔に絞った部位、海成分はパイプとの間に狭隘部で計量することが好ましい。
【００３８】
また、溶融紡糸での曳糸性や紡糸安定性を十分確保する観点から、口金面温度はマトリックスポリマーの融点＋２５℃以上とすることが好ましい。
【００３９】
上記したように、本発明で用いる超微分散化したポリマーアロイを海成分として紡糸する際は、紡糸口金設計が重要であるが、糸の冷却条件も重要である。上記したようにポリマーアロイは非常に不安定な溶融流体であるため、口金から吐出した後に速やかに冷却固化させることが好ましい。このため、口金から冷却開始までの距離は１〜１５ｃｍとすることが好ましい。ここで、冷却開始とは糸の積極的な冷却が開始される位置のことを意味するが、実際の溶融紡糸装置ではチムニー上端部でこれに代える。
【００４０】
また、紡糸されたポリマーアロイ繊維には延伸・熱処理を施すことが好ましいが、延伸の際の予熱温度はドメインポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度することで、糸斑を小さくすることができ、好ましい。
【００４１】
製造方法は、以上のようなポリマーの組み合わせ、紡糸・延伸条件の最適化を行うことで、マトリックスポリマーが数十ｎｍに超微分散化し、しかも糸斑の小さなポリマーアロイを海成分とした海島型複合糸であるポリマーアロイ繊維を得ることを可能にするものである。このようにして得た前駆体を用いることで、ある断面だけでなく長手方向のどの断面をとっても単繊維繊度ばらつきの小さな、単繊維繊度が１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘの極細繊維を得ることができるのである。
【００４２】
このようにして得られたポリマーアロイ繊維からマトリックスポリマーである易溶解ポリマーを溶剤で溶出することで、極細繊維を得るのであるが、その際、溶剤としては水溶液系のものを用いることが環境負荷を低減する観点から好ましい。具体的にはアルカリ水溶液や熱水を用いることが好ましい。このため、易溶解ポリマーとしては、ポリエステル等のアルカリ加水分解されるポリマーやポリアルキレングリコールやポリビニルアルコールおよびそれらの誘導体等の熱水可溶性ポリマーが好ましい。より好ましい組み合わせとしては、島成分にアルカリ水溶液に難溶解性を示すポリアミドを用い、海成分に易溶解性を示すポリ乳酸を用いることなどが挙げられる。
【００４３】
このような製造方法により繊維長が数十μｍから場合によってはｃｍオーダー以上の極細繊維がところどころ接着したり絡み合ったりした、単繊維繊度が１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘの極細繊維が凝集した繊維束が得られるのである。極細繊維はずれながら凝集しているため繊維束は長さ方向続いており、あたかもフィラメントのごとく扱えるのである。
【００４４】
好ましい撚糸数は上記の撚角度を満たす５００〜３５００（Ｔ／ｍ）の範囲である。
【００４５】
本発明において、極細繊維は織物とした後に脱海することで得ることができる。すなわち、上記ポリマーアロイ繊維からなるマルチフィラメントに撚りを施し、織物とした後に、脱海して極細繊維化を行う。上記の撚角度はポリマーアロイ繊維の際の撚り条件によって調整することができるのである。
【００４６】
海成分の除去処理は、好ましくは、１０〜１００ｇ／Ｌ、さらに好ましくは２０〜８０ｇ／Ｌのアルカリ溶液の中で行うことができる。アルカリ溶液としては、通常、水酸化ナトリウム溶液を用い、６０〜１２０℃の温度で処理すれば良い
以上のように本発明の研磨布により、基板表面粗さを０．１ｎｍ以下であり、残留砥粒のないハードディスクを得ることができる。
【００４７】
本発明の研磨布は、垂直記録媒体や水平記録媒体のハードディスクの研磨用途のみに限らず、その表面平滑性、しなやかさや拭き取り性を活かしたＩＴ部品用途などの精密機器の研磨、ポリッシングやワイピングクロスとしても好適に用いることができる。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明する。なお、実施例中の測定方法は以下の方法を用いた。
【００４９】
Ａ．ポリマーの溶融粘度
東洋精機製作所（株）製キャピログラフ１Ｂによりポリマーの溶融粘度を測定した。なお、サンプル投入から測定開始までのポリマーの貯留時間は１０分とした。
【００５０】
Ｂ．融点
Ｐｅｒｋｉｎ ＥｌｍａｅｒＤＳＣ−７を用いて２ｎｄ ｒｕｎでポリマーの融解を示すピークトップ温度をポリマーの融点とした。このときの昇温速度は１６℃／分、サンプル量は１０ｍｇとした。
【００５１】
Ｃ．極細繊維の数平均による単繊維繊度
極細繊維を含む織物の横断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）あるいは走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、同一横断面内で無作為に抽出した５０本以上の単繊維直径を測定する。測定は、ＴＥＭあるいはＳＥＭによる織物の横断面写真を画像処理ソフト（ＷＩＮＲＯＯＦ）を用いて単繊維直径および繊度を求めるものであり、これを３カ所以上で行い、少なくとも合計１５０本以上の単繊維直径を測定することで求めるものである。このとき、４×１０−４ｄｔｅｘ（ナイロン６（比重１．１４ｇ／ｃｍ３）の場合では、２００ｎｍ）を超える繊維は除き、１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘに相当する繊維（ナイロン６ならば、１〜２００ｎｍの単繊維直径のもの）だけを無作為に選び測定する。なお、織物を構成する極細繊維が異形断面の場合、まず単繊維の断面積を測定し、その面積を仮りに断面が円の場合の面積とする。その面積から直径を算出することによって単繊維直径を求めるものである。単繊維繊度の平均値は、以下のようにして求める。まず、単繊維直径をｎｍ単位で小数点の１桁目まで測定し、小数点以下を四捨五入する。その単繊維直径から単繊維繊度を算出し、それの単純な平均値を求める。本発明では、これを「数平均による単繊維繊度」とする。
【００５２】
Ｄ．繊度
ＪＩＳ Ｌ１０１３ ８．３の繊度測定に準じて測定した。
Ｅ．伸度、強度
ＪＩＳ−Ｌ−１０１３に基づいて測定した。
【００５３】
Ｆ．撚角度
極細繊維を含む織物の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、無作為に抽出した３０本の極細繊維が凝集した繊維束の撚線を読みとり、繊維軸方向からの傾きの平均を撚角度とした。
【００５４】
Ｇ．ハードディスクの研磨評価
研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、被研磨物として市販アルミニウム板にＮｉ−Ｐメッキ後ポリッシュ加工した基板（平均表面粗さ＝０．２８ｎｍ）を用い、研磨布に２０Ｎの加工張力をかけた状態で、５ｃｍ／分の速度で研磨布を走行させ、研磨布表面に平均粒径０．２μｍのダイヤモンド結晶からなる遊離砥粒スラリーを滴下し、２５秒間研磨を実施した。
【００５５】
また、被研磨物の平均表面粗さとスクラッチ点数は、以下のようにして求めた。
【００５６】
＜基板表面粗さ＞
ＪＩＳＢ０６０１に準拠して、ディスク基板サンプル表面の任意の１０カ所について平均粗さを測定し、１０カ所の測定値を平均することにより基板表面粗さを算出した。
【００５７】
＜スクラッチ点数＞
研磨加工後の基板５枚の両面すなわち計１０表面を測定対象として、Ｃａｎｄｅｌａ５１００光学表面分析計を用いて、深さ３ｎｍ以上の溝をスクラッチ点数を測定し、１０表面の測定値の平均値で評価し、３００点以下を合格とした。
【００５８】
＜残突起物点数＞
原糸間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて、研磨加工後の基板サンプルの表面を任意の１０ヶ所（１ヶ所あたりの観察領域はディスク表面上の５μｍ×５μｍの領域である）について、高さ５ｎｍ以上の突起を残突起物として、その個数を測定し、その合計点数を残突起物点数とした。
【００５９】
（実施例１）
溶融粘度２５０Ｐａ・ｓ（２４０℃、１２１．６ｓｅｃ−１）のＮ６を４０重量％と重量平均分子量１２万、溶融粘度３５Ｐａ・ｓ（２４０℃、１２１．６ｓｅｃ−１）、融点１７０℃のポリＬ乳酸（光学純度９９．５％以上）とを６０重量％を混練温度を２３５℃として溶融混練し、ポリマーアロイペレットを得た。
【００６０】
なお、ポリ乳酸の重量平均分子量は以下のようにして求めた。試料のクロロホルム溶液にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を混合し測定溶液とした。これをWaters社製ゲルパーミテーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）Waters2690を用いて２５℃で測定し、ポリスチレン換算で重量平均分子量を求めた。
【００６１】
得られたポリマーアロイペレットを溶融温度２４０℃、紡糸温度２４０℃、紡糸速度３０００ｍ／分で溶融紡糸を行った。この時、口金として口金孔径０．３ｍｍの口金を使用した。紡糸性は良好であり、２４時間の連続紡糸で糸切れは０回であった。得られた高配向未延伸糸を第１ホットローラ温度９０℃、延伸倍率１．３９倍、第２ホットローラ温度１３０℃として延伸熱処理し、１２０ｄｔｅｘ、３６フィラメント、強度４．０ｃＮ／ｄｔｅｘ、伸度３５％のポリマーアロイ繊維を得た。
【００６２】
得られたポリマーアロイ繊維に、ダブルツイスター撚糸機を用いて、１０００Ｔ／ｍの追撚を施し、その後、７０℃×２０分のスチーム撚止めセットを実施した。得られた追撚糸を経糸に用いた。また、緯糸用として、１００ｄｔｅｘ、３６フィラメント、強度４．５ｃＮ／ｄｔｅｘ、伸度３７％であるナイロン６繊維を用い、経密度：２３０本／２．５４ｃｍ、緯密度：１００本／２．５４ｃｍの５枚サテン織物を作製した。次いで、得られた織物に、常法に従いソフサー精練処理後、９０℃３％苛性ソーダ水溶液中に６０分浸漬し、海成分を脱落、極細繊維織物を得た。その後、水洗し乾燥した後、最後に１６０℃で仕上げセットを実施した。
【００６３】
得られた織物は極細繊維が凝集した繊維束からなる経糸で構成され、カバーファクターは３０５０であり、緻密感を有するものであった。また経糸の撚角度は３５度であった。
ＴＥＭ写真から解析した結果、数平均による単繊維繊度が３×１０−５ｄｔｅｘであった。
【００６４】
経糸浮き面を表側にして、織物を研磨布評価した結果、基板の平均表面粗さは０．０８ｎｍと小さく、スクラッチ点数５個、残突起物点数０個と欠点が著しく少なく、電磁変換特性に優れるものであった。
【００６５】
（実施例２）
実施例と１と同じポリマーアロイ繊維を用い、ダブルツイスター撚糸機を用いて、２０００Ｔ／ｍの追撚を施し、その後、８０℃×３０分のスチーム撚止めセットを実施し、得られた追撚糸を経糸に用いた。それ以外は実施例１と同じように製織・加工を施した。
【００６６】
得られた織物は極細繊維が凝集した繊維束からなる経糸で構成され、カバーファクターは３０２０であり、緻密感を有するものであった。また経糸の撚角度は６５度であった。
得られた織物のカバーファクターは３０２０であり、緻密感を有するものであった。
ＴＥＭ写真から解析した結果、数平均による単繊維繊度が３×１０−５ｄｔｅｘであった。
【００６７】
経糸浮き面を表側にして、織物を研磨布評価した結果、基板の平均表面粗さは０．０７ｎｍと小さく、スクラッチ点数７個、残突起物点数０個と欠点が著しく少なく、電磁変換特性に優れるものであった。
【００６８】
（実施例３）
実施例１と同じポリマーアロイ繊維を用い、ダブルツイスター撚糸機を用いて、１０００Ｔ／ｍの追撚を施し、その後、７０℃×２０分のスチーム撚止めセットを実施し、得られた追撚糸を緯糸に用いた。また、経糸用として、１００ｄｔｅｘ、３６フィラメント、強度４．５ｃＮ／ｄｔｅｘ、伸度３７％であるナイロン６繊維を用い、経密度：１２０本／２．５４ｃｍ、緯密度：２００本／２．５４ｃｍの５枚サテン織物を作成した。
それ以外は実施例１と同じように製織・加工を施した。
【００６９】
得られた織物は極細繊維が凝集した繊維束からなる緯糸で構成され、カバーファクターは２８６０であり、緻密感を有するものであった。また緯糸の撚角度は３２度であった。
得られた織物のカバーファクターは２８５０であり、緻密感を有するものであった。
ＴＥＭ写真から解析した結果、数平均による単繊維繊度が３×１０−５ｄｔｅｘであった。
【００７０】
緯糸浮き面を表側にして、織物を研磨布評価した結果、基板の平均表面粗さは０．０８ｎｍと小さく、スクラッチ点数１０個、残突起物点数０個と欠点が著しく少なく、電磁変換特性に優れるものであった。
【００７１】
（実施例４）
実施例１と同じポリマーアロイ繊維を用い、ダブルツイスター撚糸機を用いて、２５００Ｔ／ｍの追撚を施し、その後、８０℃×３０分のスチーム撚止めセットを実施し、得られた追撚糸を緯糸に用いた。それ以外は実施例３と同じように製織・加工を施した。
得られた織物は極細繊維が凝集した繊維束からなる緯糸で構成され、カバーファクターは２８３０であり、緻密感を有するものであった。また経糸の撚角度は６２度であった。
ＴＥＭ写真から解析した結果、数平均による単繊維繊度が数平均による単繊維繊度が３×１０−５ｄｔｅｘであった。緯糸浮き面を表側にして、織物を研磨布評価した結果、基板の平均表面粗さは０．０８ｎｍと小さく、スクラッチ点数９個、残突起物点数０個と欠点が著しく少なく、電磁変換特性に優れるものであった。
（実施例５）
溶融粘度２５０Ｐａ・ｓ（２４０℃、１２１．６ｓｅｃ−１）のＮ６を５０重量％と溶融粘度３１０Ｐａ・ｓ（２６２℃、１２１．６ｓｅｃ−１）、融点２２５℃のイソフタル酸を８ｍｏｌ％、ビスフェノールＡを４ｍｏｌ％共重合した融点２２５℃の共重合ＰＥＴ５０重量％とを２軸押し出し混練機で混練後、ペレット化せずに、紡糸温度２６０℃、紡糸速度３０００ｍ／分で溶融紡糸を行った。この時、口金として口金孔径０．３ｍｍの口金を使用した。紡糸性は良好であり、２４時間の連続紡糸で糸切れは０回であった。得られた高配向未延伸糸を第１ホットローラ温度９０℃、延伸倍率１．４５倍、第２ホットローラ温度１３０℃として延伸熱処理し、１２０ｄｔｅｘ、３６フィラメント、強度４．１ｃＮ／ｄｔｅｘ、伸度３８％のポリマーアロイ繊維を得た。
【００７２】
得られたポリマーアロイ繊維を、実施例１と同様の方法で追撚糸とした。この追撚糸を経糸として、実施例と同様に織物を製織、加工を実施した。得られた織物は極細繊維が凝集した繊維束からなる経糸で構成され、カバーファクターは３０１５であり、緻密感を有するものであった。また経糸の撚角度は３４度であった。
ＴＥＭ写真から解析した結果、数平均による単繊維繊度が４×１０−５ｄｔｅｘであった。
【００７３】
経糸浮き面を表側にして、織物を研磨布評価した結果、基板の平均表面粗さは０．０７ｎｍと小さく、スクラッチ点数６個、残突起物点数０個と欠点が著しく少なく、電磁変換特性に優れるものであった。
【００７４】
（実施例６）
溶融粘度１２０Ｐａ・ｓ（２６２℃、１２１．６ｓｅｃ−１）のポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）と実施例１で用いたポリＬ乳酸とを、実施例１同様に混練、溶融紡糸した。この時のポリマーのブレンド比はＰＢＴが４０重量％、ポリＬ乳酸が６０重量％、溶融温度は２５５℃、紡糸温度は２６５℃とした。紡糸性は良好であり、２４時間の連続紡糸で糸切れは０回であった。得られた高配向未延伸糸を第１ホットローラ温度９０℃、延伸倍率１．４３倍、第２ホットローラ温度１３０℃として延伸熱処理し、１２０ｄｔｅｘ、３６フィラメント、強度４．３ｃＮ／ｄｔｅｘ、伸度４２％のポリマーアロイ繊維を得た。
【００７５】
得られたポリマーアロイ繊維を、実施例１と同様の方法で追撚糸とした。この追撚糸を経糸として、実施例と同様に織物を製織、加工を実施した。
【００７６】
得られた織物は極細繊維が凝集した繊維束からなる経糸で構成され、カバーファクターは２７８０であり、緻密感を有するものであった。また経糸の撚角度は３６度であった。
【００７７】
ＴＥＭ写真から解析した結果、数平均による単繊維繊度が数平均による単繊維繊度が２×１０−５ｄｔｅｘであった。経糸浮き面を表側にして、織物を研磨布評価した結果、基板の平均表面粗さは０．０７ｎｍと小さく、スクラッチ点数９個、残突起物点数０個と欠点が著しく少なく、電磁変換特性に優れるものであった。
【００７８】
（比較例１）
溶融粘度５０Ｐａ・ｓ（２８０℃、１２１．６ｓｅｃ−１）、融点２２０℃のＮ６と溶融粘度２１０Ｐａ・ｓ（２８０℃、１２１．６ｓｅｃ−１）、融点２５５℃のＰＥＴをＮ６ブレンド比を２０重量％となるようにチップブレンドした後、２９０℃で溶融し、紡糸温度を２９６℃、紡糸速度３０００ｍ／分で溶融紡糸を行った。この時、口金として口金孔径０．３ｍｍの口金を使用した。ただし、単純なチップブレンドであり、ポリマー同士の融点差も大きいためＮ６とＰＥＴのブレンド斑が大きく、口金下で大きなバラスが発生しただけでなく、曳糸性にも乏しく、安定して糸を巻き取ることはできなかったが、少量の未延伸糸を得て、第１ホットローラ温度９０℃、延伸倍率１．４０倍、第２ホットローラ温度１３０℃として延伸熱処理し、１２０ｄｔｅｘ、３６フィラメント、強度３．０ｃＮ／ｄｔｅｘ、伸度３８％のポリマーアロイ繊維を得た。
【００７９】
このポリマーアロイ繊維を用い、ダブルツイスター撚糸機を用いて、１０００Ｔ／ｍの追撚を施し、その後、７０℃×２０分のスチーム撚止めセットを実施し、得られた追撚糸を経糸に用いた。それ以外は実施例１と同じように製織・加工を施した。
ＴＥＭ写真から解析した結果、９×１０−３ｄｔｅｘ（単繊維直径１．０μｍ）と大きいものであった。さらにＮ６超極細繊維の単繊維繊度ばらつきも大きいものであった。
【００８０】
得られた織物はカバーファクターは２９４０であり、緻密感を有するものであったが、極細繊維が一部タルミが発生し開繊した状態であった。また経糸の撚角度は３７度であった。
【００８１】
経糸浮き面を表側にして、織物を研磨布評価した結果、基板の平均表面粗さは０．５３ｎｍと大きく、スクラッチ点数９２個と多発した。また残突起物点数４３個と欠点が多く、電磁変換特性の低いものであった。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
本発明の研磨布はハードディスク用研磨布に代表されるＩＴ部品用途などの精密機器の研磨、ポリッシングやワイピングクロスなどに好適に用いられる。