(57)【要約】【課題】基板の端部に近い領域部分と基板の中央部に近い領域部分とでは乾燥速度が異なるため、発光層の厚さが、１つの被吐出領域内において、基板の端部に近い領域部分と基板の中央部に近い領域部分とで異なる場合が生ずる。【解決手段】ステップＳ１３０にて、各画素について、画素領域範囲における機能液の乾燥速度プロファイルを取得する処理を行う。ステップＳ１４０にて、乾燥速度プロファイルから各画素における機能液の吐出位置を設定処理する。この処理によって、１つの画素領域における乾燥速度の違いによって生ずる機能膜の膜厚差を相殺するように液状体を吐出する位置を設定する。この結果、各画素に吐出された液状体は、その液面の基板Ｐからの高さが最も高くなる位置が、基板の中央部に片寄ることになる。従って、画素領域内における乾燥速度の違いを相殺して、乾燥処理後に形成される機能膜の膜厚がほぼ均一になる。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に形成された液状体の被吐出領域に対して、前記液状体を吐出する液状体吐出方法であって、
前記被吐出領域の前記基板に対する形成位置を特定する特定工程と、
前記被吐出領域における前記液状体の吐出位置を、特定された前記被吐出領域の形成位置に応じて設定する設定工程と、
設定された前記吐出位置に前記液状体を吐出する吐出工程と、
を有することを特徴とする液状体吐出方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液状体吐出方法であって、
前記設定工程は、吐出された前記液状体が形成する液面の前記基板からの高さが前記被吐出領域内において最も高くなる位置が、前記被吐出領域の中心位置に対して前記基板の中心位置方向に片寄るように、前記被吐出領域の形成位置に応じて前記液状体の吐出位置を設定することを特徴とする液状体吐出方法。
【請求項３】
請求項２に記載の液状体吐出方法であって、
前記設定工程は、前記被吐出領域における前記液状体の乾燥速度を定めた乾燥速度プロファイルを用いて、前記被吐出領域に吐出された前記液状体が形成する液面が前記基板から最も高くなる位置の片寄り量を取得し、取得した前記片寄り量に基づいて前記液状体の吐出位置を設定することを特徴とする液状体吐出方法。
【請求項４】
正孔注入層と発光層とを含む機能層を、陽極および陰極で挟持した構造の有機ＥＬパネルの製造方法であって、
請求項１ないし３のいずれか一項に記載の液状体吐出方法を用いて、少なくとも正孔注入層もしくは発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項５】
ガラス基板に、複数色の光フィルタ層領域が形成されたカラーフィルタの製造方法であって、
請求項１ないし３のいずれか一項に記載の液状体吐出方法を用い、少なくとも１つの色の光フィルタ層を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
請求項４に記載の有機ＥＬパネルの製造方法によって製造された有機ＥＬパネルを表示手段として備えた表示装置。
【請求項７】
白色光をカラーフィルタによってカラー光に変換する表示装置であって、
前記カラーフィルタは、請求項５に記載のカラーフィルタの製造方法によって製造されたカラーフィルタであることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項６または７に記載の表示装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液状体吐出方法、この液状体吐出方法を用いた有機ＥＬパネルの製造方法およびカラーフィルタの製造方法、それぞれの製造方法で製造された有機ＥＬパネルおよびカラーフィルタを備えた表示装置、およびこれらの表示装置をそれぞれ備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型の自発光素子であるエレクトロルミネッセンス素子（ＥＬ素子）を表示素子として用いた表示装置が多く使われるようになってきた。ＥＬ素子は、発光材料によって形成された発光層に電流を流すことによって、所望する明るさの発光光を射出するものである。発光層の形成は、例えば、所定の基板上にバンクによって区画形成された被吐出領域（画素）に対して、発光材料を含む液状体を吐出ヘッドから吐出し、その後真空乾燥や加熱乾燥などの乾燥処理により液状体を固化することによって行われる。
【０００３】
ところで、周知のように、発光光の輝度は形成された発光層の厚さに依存する。このため、形成される発光層の厚さムラがそのまま輝度ムラになってしまう。従って、１つの被吐出領域内において発光層の厚さが均一になるように形成することが重要である。
【０００４】
しかしながら、液状体の乾燥処理において、乾燥時における液状体に含まれる溶媒の蒸発状態の違いに起因して、基板の端部に位置する液状体の方が、基板の中心部に位置する液状体よりも速く乾燥することが多々発生する。このため、１つの被吐出領域内において基板の端部に近い領域部分と基板の中心部に近い領域部分とでは乾燥速度が異なり、その結果、液状体が固化して形成された発光層の厚さが、その被吐出領域内において、基板の端部に近い領域部分と基板の中心部に近い領域部分とで異なる場合が生ずる。すると、上述したように、１つの被吐出領域内において、発光光に輝度ムラが発生してしまうのである。
【０００５】
そこで、例えば特許文献１には、基板上に吐出形成された液状膜（液状体）の各部位に対する加熱温度を異ならせることで、形成する薄膜の厚さを均一化する乾燥装置が提案されている。あるいは、特許文献２には、基板に対向配置された乾燥手段を具備し、基板と乾燥手段との間の距離を変更することで、形成する薄膜の厚さを均一化する乾燥装置が提案されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３３０１３６号公報
【特許文献２】特開２００５−２７５２７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１および特許文献２に提案された乾燥装置では、基板の大きさや、基板に形成された被吐出領域の形状や数に応じて、加熱温度や乾燥手段を調節して乾燥処理条件を変更する必要がある。このため、乾燥処理条件の調節作業など作業負荷が重くなったり、乾燥装置そのものが複雑になったりしてしまうという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００９】
［適用例１］基板に形成された液状体の被吐出領域に対して、前記液状体を吐出する液状体吐出方法であって、前記被吐出領域の前記基板に対する形成位置を特定する特定工程と、前記被吐出領域における前記液状体の吐出位置を、特定された前記被吐出領域の形成位置に応じて設定する設定工程と、設定された前記吐出位置に前記液状体を吐出する吐出工程と、を有することを特徴とする。
【００１０】
この方法によれば、被吐出領域の形成位置に応じて吐出位置を設定するので、吐出された液状体の被吐出領域における液量の分布具合を、その被吐出領域の基板に対する形成位置に応じて変更することができる。この結果、被吐出領域内において生ずる乾燥速度の違いを相殺するように液量の分布を形成することができるので、乾燥処理後に液状体によって形成される機能膜の膜厚が被吐出領域内においてほぼ均一になり、機能膜の性能バラツキが抑制されることが期待できる。従って、乾燥装置による乾燥処理条件を変更して調節する必要がない。
【００１１】
［適用例２］上記液状体吐出方法であって、前記設定工程は、吐出された前記液状体が形成する液面の前記基板からの高さが前記被吐出領域内において最も高くなる位置が、前記被吐出領域の中心位置に対して前記基板の中心位置方向に片寄るように、前記被吐出領域の形成位置に応じて前記液状体の吐出位置を設定することを特徴とする。
【００１２】
液状体の乾燥は基板の端部に対して基板の中心部の方が遅い場合が多い。そこで、この吐出方法によれば、各々の被吐出領域について、吐出された液状体が形成する液面の基板からの高さが最も高くなる位置、つまり液状体の液量が最も多くなる位置を、被吐出領域の中心位置から基板の中心位置に近づけることによって、液状体の液量の分布を偏らせることができる。従って、液状体の乾燥処理によって形成される機能膜の膜厚が、ほぼ均一化する確率が高くなる。
【００１３】
なお、本適用例において、被吐出領域の中心および基板の中心は、どちらも領域形状が点対称図形である場合は対称点であり、それ以外の図形である場合は、重心である。
【００１４】
［適用例３］上記液状体吐出方法であって、前記設定工程は、前記被吐出領域における前記液状体の乾燥速度を定めた乾燥速度プロファイルを用いて、前記被吐出領域に吐出された前記液状体が形成する液面が前記基板から最も高くなる位置の片寄り量を取得し、取得した前記片寄り量に基づいて前記液状体の吐出位置を設定することを特徴とする。
【００１５】
この方法によれば、乾燥速度の分布に応じて液状体の液量の分布を調整することができる。この結果、基板上の被吐出領域の位置に応じて各々の被吐出領域における液状体の乾燥速度が異なっている場合でも、被吐出領域に吐出する液状体の液量の分布を、その被吐出領域における乾燥速度に応じて偏らせることができるので、被吐出領域に存在する液状体によって形成される機能膜の膜厚のバラツキが抑制されることになる。
【００１６】
［適用例４］正孔注入層と発光層とを含む機能層を、陽極および陰極で挟持した構造の有機ＥＬパネルの製造方法であって、上記液状体吐出方法を用いて、少なくとも正孔注入層もしくは発光層を形成することを特徴とする。
【００１７】
この製造方法によれば、乾燥処理後に液状体によって形成される正孔注入層もしくは発光層の膜厚がほぼ均一になり、輝度ムラが抑制された有機ＥＬパネルを製造することができる。
【００１８】
［適用例５］ガラス基板に、複数色の光フィルタ層領域が形成されたカラーフィルタの製造方法であって、上記液状体吐出方法を用い、少なくとも１つの色の光フィルタ層を形成することを特徴とする。
【００１９】
この製造方法によれば、乾燥処理後に液状体によって形成されるカラーフィルタ層の膜厚がほぼ均一になり、透過する透過光の輝度ムラが抑制されたカラーフィルタを製造することができる。
【００２０】
［適用例６］上記有機ＥＬパネルの製造方法によって製造された有機ＥＬパネルを表示手段として備えた表示装置。
【００２１】
この表示装置によれば、輝度ムラが抑制された有機ＥＬパネルを備えた表示装置を得ることができる。
【００２２】
［適用例７］白色光をカラーフィルタによってカラー光に変換する表示装置であって、前記カラーフィルタは、上記カラーフィルタの製造方法によって製造されたカラーフィルタであることを特徴とする。
【００２３】
この表示装置によれば、透過光の輝度ムラが抑制されたカラーフィルタを備えた表示装置を得ることができる。
【００２４】
［適用例８］上記表示装置を備えた電子機器。
【００２５】
上記表示装置によれば、輝度ムラが抑制された表示装置を得ることができるので、この表示装置を備えることによって、表示品質のよい画像を表示できる電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を実施形態に基づいて説明する。図１は、基板Ｐにバンクによって区画形成された被吐出領域に対して、本発明の液状体吐出方法を用いて、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）各色についての所定の機能材料を含む液状体を吐出する液状体吐出装置の一実施形態を示す構成図である。
【００２７】
図１に示すように、一実施形態としての液状体吐出装置１００は、直線的に設けられた一対のガイドレール１０１と、ガイドレール１０１の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（図示せず）により１つの直線軸方向（これを本実施形態ではＹ軸方向とする）に移動する移動台１０３を備えている。移動台１０３上には、基板Ｐを載置するためのステージ１０５が設けられている。ステージ１０５は基板Ｐを吸着固定できる構成となっている。
【００２８】
ステージ１０５に対して移動台１０３と反対側には、所定の距離をおいて、Ｙ軸方向と異なる１つの直線軸方向（これを本実施形態ではＸ軸方向とする）を呈するように一対のガイドレール１０２が設けられている。
【００２９】
液状体吐出装置１００は、この一対のガイドレール１０２に沿って移動するキャリッジ２００が備えられている。すなわち、キャリッジ２００は、その両側にキャリッジ２００と一体若しくは別体でキャリッジ移動台１１２が設けられ、ガイドレール１０２の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（いずれも図示せず）により、Ｘ軸方向に沿って移動可能に構成されている。
【００３０】
キャリッジ２００には、所定の配列方向を呈するように穿設された複数のノズルと、ノズル毎に液状体を吐出する吐出機構と、が形成されたノズルヘッド２０が、ステージ１０５と対向する側に備えられている。そして、図示しない液状体供給装置からキャリッジ２００に供給された液状体は、図示しない流路を経由してノズルヘッド２０に供給され、ノズル毎に形成された吐出機構（後述する）によって各ノズルから液滴として吐出する。
【００３１】
また、液状体吐出装置１００はコントロール装置１０を備えている。このコントロール装置１０は、コンピュータ機能を有し、入力される吐出制御データに基づいて、移動台１０３のＹ軸方向の移動制御と、キャリッジ２００に設けられたキャリッジ移動台１１２のＸ軸方向の移動制御と、ノズルヘッド２０に形成された吐出機構の駆動制御つまり液状体の吐出制御とを行う。本実施形態では、吐出制御データは、基板Ｐにバンクによって区画形成された複数の被吐出領域の各々について、基板Ｐに対する位置を示す位置データを含むデータであるものとする。
【００３２】
次に、ノズルヘッド２０に形成されたノズルについて、図２を用いて説明する。図２は、ノズルヘッド２０に穿設されたノズルの配列具合を示す模式図であり、図１においてキャリッジ２００を図面下方向（図中白抜き矢印方向）から見た状態を示したものである。なお、ここでは図面左右方向をＸ軸方向として図示している。
【００３３】
本実施形態では、図示するように、ノズルヘッド２０はＲ、Ｇ、Ｂに対応した液状体を吐出するノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂを備えている。各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂには、それぞれ所定のピッチで数十個〜数百個のノズルが穿設されている。そして、各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂに穿設された複数のノズルはほぼ一直線に配列され、その配列方向はＸ軸方向と一致している。
【００３４】
なお、各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂに穿設されたノズルは、２列など複数のノズル列数を有する場合もあり、例えば２列の場合は、ノズルの穿設位置が、ノズル列間で互いに半ピッチずれた千鳥配列をなす関係となる場合もある。また、ノズルヘッド２０もそれぞれ複数個備えられていることもある。さらにキャリッジ２００を複数備えることもある。このように、被吐出領域の形成数や形成範囲、あるいは基板Ｐの大きさに応じて、必要な数のノズルヘッドやキャリッジが備えられるのである。
【００３５】
穿設された各ノズルには、前述したようにノズル毎に吐出機構がそれぞれ形成され、ノズルヘッド２０内の各液状体に圧力を発生させて、所定量の液状体をノズルから吐出するように構成されている。もとより、吐出機構は、総てのノズルについて同様な構造を有している。
【００３６】
吐出機構は、本実施形態では図２の吹出し部に示した構造を有し、圧電素子２を駆動体（アクチュエータ）とするものである。すなわち、圧電素子２は、その両端の電極ＣＯＭとＧＮＤとの間に電圧波形が印加されると、電歪性によって収縮あるいは伸長変形し、振動板３を矢印方向に撓ませて液状体流路途中に形成された加圧室４に存在する液状体を加圧する。この結果、加圧された液状体は、ノズルヘッド２０の底面部材８に穿設されたノズルから、液滴９として吐出されるのである。なお、吐出機構は、例えば、駆動体として加熱素子を用いた所謂サーマル方式などであってもよい。
【００３７】
次に、この液状体吐出装置１００を用いて形成する表示装置について説明する。図３は、本実施形態の液状体吐出装置１００を用いて形成した表示装置の一例となる有機ＥＬパネル５０を搭載した電子機器としての携帯電話１を示す説明図である。
【００３８】
有機ＥＬパネル５０は、エレクトロルミネッセンス素子としての有機ＥＬ素子を表示素子とするものであり、バックライトが不要で薄型化が可能であることから、画像や文字を表示する薄型の電子機器には好適な表示装置である。従って、本実施例の如く、携帯電話１に搭載する表示装置として有効である。
【００３９】
有機ＥＬパネル５０は、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちいずれか１色を発光可能な画素がそれぞれ複数形成され、画像や文字などの所定のカラー画像を表示するように構成されている。なお、ここでは、以降の説明を簡単にするために、図３に示すように、有機ＥＬパネル５０は、Ｙ軸方向（図面縦方向）に４画素、Ｘ軸方向（図面横方向）に６画素の計２４個の画素が形成されているものとする。もとより、実際には、Ｘ軸、Ｙ軸それぞれの方向に数百画素といった多くの画素が形成されていることは言うまでもない。
【００４０】
図４は、有機ＥＬパネル５０の全体のレイアウトを回路構成とともに示した模式図である。有機ＥＬパネル５０は、図示するように画素ごとに表示駆動されるアクティブマトリックス型の表示装置である。各画素は、長手方向をＹ軸方向とする長円形状にバンクによって、矩形形状を有する基板Ｐ上に区画された領域を有し、基板Ｐのほぼ中央部分にＸ軸方向およびＹ軸方向に規則正しく配列されて形成されている。もとより、各画素は矩形形状や円形状など長円形状以外の領域形状に区画されていてもよいことは勿論である。なお、各画素は請求項記載の被吐出領域に相当する。
【００４１】
各画素には、有機ＥＬ素子が表示素子として、また、有機ＥＬ素子を表示（つまり発光）駆動するためのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）５４，５５と保持容量５６とが駆動素子として、それぞれ形成されている。なお、ここでは有機ＥＬ素子はトップエミッション構造を有しているものとする。従って、駆動素子は表示素子と平面的に重なる位置であって、基板Ｐと表示素子との間に形成されている。もとより、有機ＥＬ素子は、トップエミッション構造でなくボトムエミッション構造であっても差し支えない。
【００４２】
基板Ｐの外周部分には、走査駆動回路５１とデータ駆動回路５２、および給電端子５３とが形成されている。走査駆動回路５１からは走査線Ｇａｔｅが、データ駆動回路５２からはデータ線Ｓｉｇが、また、給電端子５３からはこれに接続された電源供給線Ｃｏｍが、それぞれ各画素に形成された駆動素子に対して図４に示したように配線され、表示素子を発光駆動する。
【００４３】
まず、走査線Ｇａｔｅは、ＴＦＴ５４のゲートに接続され、走査線Ｇａｔｅを介して供給される電流信号に応じて、ＴＦＴ５４をオン／オフ制御する。そしてＴＦＴ５４がオンすると、ＴＦＴ５４のソースに接続されたデータ線Ｓｉｇから供給される画像信号に応じて、電源供給線Ｃｏｍから供給される電源によって保持容量５６に所定の電圧が保持される。すると、保持容量５６に保持された電圧は、ＴＦＴ５５のゲートに印加され、ＴＦＴ５５をオン状態にする。ＴＦＴ５５のソースおよびドレインはそれぞれ電源供給線Ｃｏｍと陽極に接続され、保持容量５６に保持された電圧に応じた、つまり画像信号に応じた電流が、電源供給線Ｃｏｍを介して陽極に印加される。
【００４４】
各画素に形成される表示素子は、陽極と陰極との間に電流を流すことによって発光する。つまり、陽極に印加された電流が、総ての画素の表面に渡って形成された陰極に流れることによって、画像信号に応じた明るさで発光するのである。有機ＥＬパネル５０は、こうして画像を表示する。従って、陽極と陰極との間に挟持された発光層の膜厚にムラがあると、そのまま輝度ムラになってしまうのである。
【００４５】
次に、有機ＥＬパネル５０における具体的な画素構成について図５を用いて説明する。図５は、有機ＥＬパネル５０におけるＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の各画素が有する機能層の構成を示す模式図である。図５（ａ）は、図４に示した各画素のうち、Ｘ軸方向（図面横方向）にＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が並んだ表示部分を示した平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）におけるＡ−Ａ断面を示した模式断面図で、有機ＥＬ素子の形成が終了した状態を示している。また、図５（ｃ）は、有機ＥＬ素子の機能層を液状体の吐出によって塗布して形成する様子を示した模式図である。なお、各寸法は、説明の都合上必要に応じて誇張しているため、実際の寸法とは必ずしも一致していないことは言うまでもない。
【００４６】
各画素は、図５（ａ）に示したように、エッチングなどによって形成された絶縁有機材料（例えばアクリル樹脂やポリイミド樹脂）からなるバンク（図中ハッチング部分）によって区画された画素領域を有し、それぞれ長円形状を呈している。そして各画素の画素領域には、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちいずれか１色を発光可能な表示素子が形成されている。
【００４７】
また、有機ＥＬ素子は、図５（ｂ）に示したように、陽極と陰極との間に、正孔注入層と発光層（Ｒ発光層、Ｇ発光層、Ｂ発光層のいずれか）とが形成されたものである。従って、形成される発光層が異なることによって、図５（ａ）に示すように、それぞれ発光色の異なるＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素となる。
【００４８】
ちなみに、本実施形態では、正孔注入層は、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を溶質とし、エチレングリコールを溶媒とした機能液を、液状体として画素領域に吐出後、真空乾燥などによって乾燥処理を行い、溶媒を除去して所定の厚さのＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ膜を形成したものである。また、各発光層は、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれかの色を示す蛍光材料（例えば、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン））を溶質とし、１，３，５−トリメチルベンゼンを溶媒とした機能液を、液状体として各画素領域に噴射し、同じく以降真空乾燥などによって乾燥処理を行って、それぞれ所定の厚さの蛍光材料膜を形成したものである。
【００４９】
バンクと陽極との間には、長円形状の画素領域の外周に沿って所定幅が画素領域内に露出するように、無機絶縁膜が形成されている。これは、正孔注入層や各発光層を形成する機能液との親液性を高め、正孔注入層や各発光層がバンク近傍まで形成されることによって、陽極と陰極との短絡を防止するようにするためである。もとより、正孔注入層や各発光層がバンク近傍まで形成できる場合は、無機絶縁膜は形成する必要はない。
【００５０】
また、本実施形態の表示素子は、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であることから、発光光が陰極側から射出するように、陽極の基板Ｐと対向する面側には、反射層が形成されている。もとより、陽極が反射層を兼ねる場合は、反射層を形成する必要はない。
【００５１】
また、前述した表示素子を発光駆動するための駆動素子は、表示素子と平面的に重なる位置であって、基板Ｐと表示素子との間に形成されている。本実施形態では、駆動素子であるＴＦＴ５４，５５や保持容量５６は、図５（ｂ）に示したように基板Ｐとの間に位置し、表面全体が平坦化されたデバイス層の内部に形成されている。
【００５２】
さて、本実施形態では正孔注入層と各発光層について、それぞれ対応する画素領域に機能液を吐出して塗布することによって形成する。具体的には、図５（ｃ）に示したように、ノズルヘッド２０に設けられたノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂのノズルから、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素に対応するそれぞれの画素領域にそれぞれの機能液を吐出することによって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各機能液を塗布する。その後、前述したように乾燥処理を行うことによって各画素領域についての正孔注入層と発光層を形成するのである。
【００５３】
こうして、基板Ｐ上に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素に対応した有機ＥＬ素子が表示素子として形成され、さらに陰極が形成されて有機ＥＬパネルが出来上がる。なお、本実施例では、前述したように正孔注入層を形成する機能液の材料は、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素について同じである。
【００５４】
さて、このように形成されたＲ、Ｇ、Ｂの各画素を有する表示装置について、各画素の発光輝度は、形成される発光層の厚さ、あるいは、発光層を流れる電流の大きさに依存する。従って、基板Ｐに形成された総ての画素について、陽極と陰極との間に挟持される発光層の厚さを画素領域内で均一にすることが重要である。均一化することによって発光層が呈する電気抵抗は画素領域内の全体に渡って均一になり、この結果、発光層を流れる電流も画素領域内において全体に均一になるからである。
【００５５】
また、発光層に流れる電流に差異が生じないようにするためには、発光層以外の正孔注入層についても同様である。正孔注入層の厚さを、基板Ｐに形成された総ての画素について、１つの画素領域内において正孔注入層の厚さを均一にすることによって、発光層に流れる電流を、１つの画素領域内で均一にすることができるからである。
【００５６】
しかしながら、前述したように、機能液の乾燥処理において、基板の端部における機能液の乾燥速度が基板の中心部における機能液の乾燥速度よりも速くなるために、例えば機能液が固化して形成された発光層の厚さが、１つの画素領域において基板の周辺に近い領域部分と、基板の中央に近い領域部分とで異なる場合が生ずる。この結果、上述したように、１つの画素領域内における発光光の輝度が均一にならず、輝度ムラが発生してしまうのである。
【００５７】
そこで、本実施形態の液状体吐出装置１００では、乾燥処理における基板上での乾燥速度の違いによって生ずる画素領域内での機能膜の膜厚差を抑制する吐出方法を用いて機能液を吐出する。この吐出方法について、以下説明する。なお、本実施形態では、機能層として発光層を形成するものとして説明する。もとより、以下の説明は、正孔注入層についても同様に適用可能である。
【００５８】
まず、機能液の吐出の手順について、その概要を図６を用いて説明する。図６は、基板Ｐに形成されたＹ軸方向（図面縦方向）に４画素、Ｘ軸方向（図面横方向）に６画素の計２４個の画素に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色発光層を形成する発光材料と溶媒とを含むＲ、Ｇ、Ｂ各機能液を吐出する様子を示す模式図である。
【００５９】
図示するように、本実施例では、Ｙ軸方向に基板Ｐが移動することによって、図面上から下方向を主走査方向として相対移動するノズルヘッド２０に設けられたノズルから、基板Ｐ上に形成されたＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素に対応する画素領域に、それぞれＲ機能液、Ｇ機能液、Ｂ機能液を吐出する。
【００６０】
本実施形態では、ノズルヘッド２０を所謂スキャン走査することによって、一回の主走査によってＸ軸方向に連続する３つの画素領域に対して機能液を吐出するものとする。すなわち、基板Ｐに形成された総ての画素領域に対して、まず１回目の主走査によって図中破線で示した主走査領域に含まれる画素領域に機能液が吐出される。その後、基板Ｐの図面下から上方向へのＹ軸方向の移動とキャリッジ２００のＸ軸方向の移動とによって副走査されたノズルヘッド２０（図中、二点鎖線）によって２回目の主走査が行われて総ての画素領域に機能液が吐出される。なお、機能液の吐出がスキャン走査以外の走査方法によって行われるものとしても差し支えない。
【００６１】
ここで、本実施形態では、説明を簡略化するため、各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂに形成されたノズルはそれぞれ１個であるものとした。もとより、前述するように、通常各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂには多数のノズルが形成され、通常基板Ｐに区画形成された多数の画素領域に対して、それぞれ対応するノズルから機能液を吐出することは言うまでもない。
【００６２】
さて、このように主走査および副走査を行って総ての画素領域に機能液の吐出を行うと、Ｒ機能液については画素Ｒ１から画素Ｒ８の順序で、Ｇ機能液については画素Ｇ１から画素Ｇ８の順序で、Ｂ機能液については画素Ｂ１から画素Ｂ８の順序で、それぞれ機能液が吐出される。
【００６３】
さて、このような吐出手順によって、本実施形態の液状体吐出装置１００が行う機能液の吐出方法は、前述するように、画素領域内に形成される発光層について、乾燥処理における基板Ｐ上での乾燥速度の違いによって生ずる膜厚差を抑制する吐出方法である。そこで、この吐出方法についての処理内容を説明する前に、この吐出方法による膜厚差の抑制のしくみについて、図７および図８を用いて説明する。
【００６４】
図７は、基板に形成された画素領域における機能液の乾燥速度の違いを示す模式図である。図８は、乾燥処理後に形成されるＲ、Ｇ、Ｂの各発光層の膜厚の様子を示す模式図であり、図７において基板ＰのＢ−Ｂ断面を示したものである。
【００６５】
まず、図７に示すように、基板Ｐにおいて、各画素に吐出された機能液を、真空乾燥や加熱乾燥などの乾燥処理によって乾燥したとき、各画素における機能液が乾燥する速度は通常基板Ｐの中心部よりも端部の方が速くなる。この理由の一つとして、基板Ｐの端部における溶媒の蒸気圧が低いことや、基板Ｐの端部に加わる熱量が多いことなどに起因して生ずるということが、従来から報告されている。従って、例えば、図７の上部に一例を示したように、基板ＰのＣ−Ｃ断面部分における乾燥速度は、基板Ｐの中心部から端部に近づく程、乾燥速度が速くなるという分布プロファイルを呈することになる。
【００６６】
そこで、本実施形態では、図７に示したように、基板Ｐの中心位置、つまり矩形形状の対称点位置の乾燥速度を１としたとき、乾燥速度が１．１倍、１．２倍、１．３倍・・の位置が、基板Ｐの平面において図示する位置になる分布プロファイルを有するものとした。このような場合、それぞれの画素の形成位置が、基板Ｐにおいて何処の位置であるかによって、それぞれの画素について、画素領域内における機能液の乾燥速度の分布状況が異なることになる。
【００６７】
このように１つの画素領域内における乾燥速度の分布状況が異なる状態で、各画素領域に吐出された機能液を乾燥処理すると、１つの画素領域内において、例えばＸ軸方向あるいはＹ軸方向のそれぞれについて、基板Ｐの端部に近い部分の方が、基板Ｐの中心部に近い部分よりも速く乾燥してしまう。このため、形成される発光層の膜厚が、画素領域内におけるＸ軸方向あるいはＹ軸方向のそれぞれの位置で異なるため、画素領域内において輝度ムラが発生することになる。
【００６８】
そこで、本実施形態では、１つの画素領域内において、機能液の吐出位置を画素の中心位置に対して基板Ｐの中心位置方向に片寄るようにする。こうすることによって、吐出された機能液の液量が最も多くなる位置は、画素の中心位置に対して基板Ｐの中心位置方向に片寄ることになる。この結果、乾燥速度が速くなる基板Ｐの端部に近い画素領域部分は、乾燥速度が遅くなる基板Ｐの中心部に近い画素領域部分に存在する機能液の液量よりも少なくなるので、乾燥処理によって形成される発光層の厚さをほぼ均一に形成することができる。これを、図８を用いて説明する。なお、図８においては、図５（ｂ）に示した正孔注入層を省略して図示している。
【００６９】
図８（ａ）は、画素の中心位置を吐出位置としてＢ機能液をそれぞれ吐出した状態の画素Ｂ１、画素Ｂ２、画素Ｂ３を示したものである。このように、各画素について画素の中心位置を吐出位置として機能液を吐出すると、画素領域内における機能液の液面の基板Ｐからの高さが最も高くなる位置、つまり液量が最も多くなる位置が、各画素の中心位置になる。
【００７０】
この状態で、乾燥処理を行うと、図８（ｂ）に示すように、各画素Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３の画素領域において、乾燥速度の違いに起因して基板Ｐの端部に近い領域部分から乾燥が始まるために、形成されるＢ発光層の厚さは、基板Ｐの中心部に近い領域部分よりも基板Ｐの端部に近い領域部分に形成されるＢ発光層の厚さが厚くなってしまう。
【００７１】
そこで、図８（ｃ）に示すように、それぞれの画素について、Ｂ機能液の吐出位置を画素の中心位置から基板Ｐの中心位置方向に所定量オフセットし、このオフセットした位置を吐出位置としてＢ機能液を吐出する。すると、吐出されたＢ機能液は、Ｂ機能液が有する粘性によって吐出位置に多く留まるため、Ｂ機能液の液面の基板Ｐからの高さが最も高くなる位置、つまり液量が最も多くなる位置は、画素の形状中心から基板Ｐの中心部に片寄った位置になる。
【００７２】
この状態で、乾燥処理を行うと、図８（ｄ）に示すように、各画素Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３のそれぞれの画素領域において、基板Ｐの端部に近い領域部分における液量は少なくなるので、乾燥によって形成されるＢ発光層の厚さが抑制されることになる。つまり、機能液の吐出量が最も多くなる位置を片寄らせることで乾燥速度の違いを相殺し、もって均一な膜厚の発光層を形成しようとするものである。もとより、上述した説明は、他のＢ画素である画素Ｂ４〜画素Ｂ８、および総てのＧ画素である画素Ｇ１〜画素Ｇ８、総てのＲ画素である画素Ｒ１〜画素Ｒ８についても同様である。
【００７３】
それでは、本実施形態の機能液の吐出方法について、図９の処理フローチャートに従って説明する。図９に示した処理は、図１においてコントロール装置１０内に設けられた図示しないメモリに格納された処理プログラムに従って、コントロール装置１０が上述した各種制御動作を行うことによって実行される。なお、本実施形態では、１つの画素領域について１つの機能液の吐出位置を設定するものとして説明する。
【００７４】
この処理が開始されると、まずステップＳ１１０にて、吐出制御データから位置データの読み込み処理を行う。位置データは、基板Ｐにバンクによって区画形成された機能液の被吐出領域、すなわち基板Ｐにおける画素領域を示すデータである。具体的には、コントロール装置１０は、基板Ｐに区画形成された各画素領域の座標を読み込む。
【００７５】
次に、ステップＳ１２０にて、各画素の領域範囲と基板に対する位置を特定処理する。コントロール装置１０は、ステップＳ１１０にて読み込んだ位置データから、各画素について、それぞれの画素の領域範囲と基板Ｐに対する位置データを抽出することによって、それらを特定する。ここでは、位置データは、図７に示したように、基板Ｐの図面上左上隅を原点（０，０）とするＸ，Ｙ座標で示された座標データであるものとする。従って、コントロール装置１０は、各画素の領域範囲に含まれる位置を示すＸ，Ｙ座標データを抽出する。なお、このＸ，Ｙ座標データの抽出によって、各画素の基板Ｐに対する位置も同時に抽出されることになる。
【００７６】
次に、ステップＳ１３０にて、各画素について、画素領域範囲における機能液の乾燥速度プロファイルを取得する処理を行う。本実施例では、基板Ｐについて図７に示した乾燥速度の分布プロファイルが、コントロール装置１０内のメモリに予め格納されているものとする。従って、コントロール装置１０は、各画素の領域範囲として抽出された座標データが示す総てのＸ，Ｙ座標位置における乾燥速度を分布プロファイルから読み取り、コントロール装置１０内のメモリに記憶する。
【００７７】
もとより、基板Ｐにおける乾燥速度の分布プロファイルは、液状体吐出装置１００の使用者が、所定の入力手段を用いて、液状体の吐出処理開始に先立って、分布プロファイルのデータをメモリに入力して記憶することとしてもよい。なお、乾燥速度の分布プロファイルは、各画素に機能液が吐出された基板Ｐを、予め実際に乾燥処理して求めておくことが好ましい。
【００７８】
次に、ステップＳ１４０にて、乾燥速度プロファイルから各画素における機能液の吐出位置を設定処理する。この処理によって、１つの画素領域における乾燥速度の違いによって生ずる機能膜の膜厚差を相殺するように液状体を吐出する位置を設定する。なお、ここでの処理については後述する。
【００７９】
次に、ステップＳ１５０にて、基板の主走査（Ｙ軸方向）、キャリッジの副走査（Ｘ軸方向）について、その移動工程と、機能液の吐出タイミングと、を算出する処理を行う。つまり、ノズルヘッド２０について、基板Ｐに対して相対移動する総ての工程と、各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂからの機能液の吐出タイミングとを算出する。コントロール装置１０は、各画素について設定された吐出位置に各機能液を吐出するため、ステップＳ１４０にて設定された各画素における吐出位置において、機能液を吐出するように移動工程を算出するのである。
【００８０】
次に、ステップＳ１６０にて、画素位置に合わせて基板の主走査（Ｙ軸方向）、キャリッジの副走査（Ｘ軸方向）を開始処理する。具体的に、コントロール装置１０は、図１に示すように、基板Ｐを一対のガイドレール１０１に沿ってＹ軸方向に主走査し、キャリッジ２００を一対のガイドレール１０２に沿ってＸ軸方向に副走査して、各画素における吐出位置にノズルヘッド２０を移動する。
【００８１】
次に、ステップＳ１７０にて、設定された吐出位置で機能液を吐出処理する。コントロール装置１０は、基板Ｐの主走査移動において、各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの位置がそれぞれの画素に対して機能液を吐出すべき位置に来る毎に、吐出機構（図２参照）を作動制御して各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０ＢからＲ、Ｇ、Ｂ各々の機能液（ここでは発光材料と溶媒の混合液）を所定量吐出する。本実施例では、各吐出位置において、Ｒ機能液、Ｇ機能液、Ｂ機能液とも総て同じ体積または同じ重量の液量が吐出されるものとする。もとより、Ｒ機能液、Ｇ機能液、Ｂ機能液のそれぞれの機能液について、同じ体積または同じ重量の液量が吐出されるものとしてもよい。
【００８２】
そしてステップＳ１８０にて、基板の主走査（Ｙ軸方向）、キャリッジの副走査（Ｘ軸方向）を終了処理する。こうして、総ての画素について機能液の吐出が終了したところで、本実施形態における液状体吐出装置１００が行う機能液の吐出方法による吐出処理が終了する。この処理によって、各画素に吐出された機能液は、その液面の基板Ｐからの高さが最も高くなる位置、すなわち液量が最も多くなる位置が、図８（ｃ）に示したように基板Ｐの中心位置に片寄ることになる。その結果、前述したように、画素領域内における乾燥速度の違いを相殺して、乾燥処理後に形成される機能膜の膜厚が、図８（ｄ）に示したようにほぼ均一になるのである。
【００８３】
それでは、ステップＳ１４０の機能液の吐出位置設定処理について、図１０に示したフローチャートを参照して説明する。まず、ステップＳ１４１にて、各画素の中心位置を算出処理する。コントロール装置１０は、読み込んだ各画素領域の座標データから、画素の中心位置となるＸ，Ｙ座標を算出する。本実施形態では、例えば図３に示したように、各画素はＹ軸方向に長手方向を有する長円形状であることから、中心位置はその形状の点対称点となる。従って、コントロール装置１０は、画素領域の座標データにおいてＸ座標の最大値と最小値の平均値、Ｙ座標の最大値と最小値の平均値、をそれぞれＸ座標、Ｙ座標とする位置を中心位置として算出する。
【００８４】
次に、ステップＳ１４２にて、各画素について、中心位置を通るＸ軸方向の線分において乾燥速度の最大差ＫＳｘを算出処理する。コントロール装置１０は、読み込んだ各画素領域の座標データから、各画素毎に、その中心位置を示すＹ座標値を有する総てのＸ，Ｙ座標位置についての乾燥速度を読み出し、その最大差を算出する。ちなみに、図７における画素Ｒ１については、最大値が１．２５、最小値が１．１７と読み出されたとすると、最大差ＫＳｘは０．０８と算出される。
【００８５】
次に、ステップＳ１４３にて、各画素について、中心位置を通るＹ軸方向の線分において乾燥速度の最大差ＫＳｙを算出処理する。コントロール装置１０は、読み込んだ各画素領域の座標データから、各画素毎に、その中心位置を示すＸ座標値を有する総てのＸ，Ｙ座標位置についての乾燥速度を読み出し、その最大差を算出する。ちなみに、前のステップＳ１４２と同様、図７における画素Ｒ１については、最大値が１．３、最小値が１．１５と読み出されたとすると、最大差ＫＳｙは０．１５と算出される。
【００８６】
次に、ステップＳ１４４にて、対応テーブルＴＢを用いて、乾燥速度の最大差ＫＳｘ、ＫＳｙに応じたＸ軸方向およびＹ軸方向のオフセット量ＯＳｘ、ＯＳｙを取得処理する。本実施形態では、図１１に示したように、乾燥速度の最大差ＫＳｘとオフセット量ＯＳｘとの対応関係を定めた直線ＬＸと、乾燥速度の最大差ＫＳｙとオフセット量ＯＳｙとの対応関係を定めた直線ＬＹとが、対応テーブルとしてコントロール装置１０内のメモリに予め格納されているものとする。また、格納されたオフセット量は、各画素の形状中心位置からＸ軸方向およびＹ軸方向についての画素領域端部までの長さに対する比率であるものとする。なお、対応テーブルＴＢは、液状体吐出装置１００の使用者が、所定の入力手段を用いて、液状体の吐出処理開始に先立って、対応テーブルＴＢのデータをメモリに入力して記憶することとしてもよい。
【００８７】
この処理では、例えば、図７における画素Ｒ１については、算出された乾燥速度のＸ軸方向の最大差ＫＳｘが０．０８であったとすると、直線ＬＸからＸ軸方向のオフセット量ＯＳｘは０．２と取得される。また、算出された乾燥速度のＹ軸方向の最大差ＫＳｙが０．１５であったとすると、直線ＬＹからＹ軸方向のオフセット量ＯＳｙは０．５と取得されることになる。ところで、機能液を吐出する位置と吐出された機能液の液面が最も高くなる位置とは、画素領域の形状や機能液の粘性に依存して実際に異なる場合が多い。例えば、粘性が低くなると、機能液の液面が最も高くなる位置は、吐出位置に対して画素の中心位置（あるいは重心位置）に近づくようになる。そこで対応テーブルＴＢにおける直線ＬＸと直線ＬＹは、実施に使用する機能液や基板を用いて、予め実験を行って求めておくことが好ましい。
【００８８】
図１０に戻り、次のステップＳ１４５にて、各画素の中心位置を、基板の中心位置の方向へ、Ｘ軸方向にＯＳｘ、Ｙ軸方向にＯＳｙオフセットした位置を吐出位置として設定処理する。こうして、コントロール装置１０は、取得されたオフセット量を用いて、各画素における液状体の吐出位置を、画素の中心位置から基板Ｐの中心位置に近づくように変更して設定する。例えば図８（ｃ）に示すように、画素Ｂ１、画素Ｂ２、画素Ｂ３は、Ｙ軸方向について、吐出位置が画素の中心位置から、基板の中心位置に近づくようにそれぞれオフセットされた位置が、機能液の吐出位置として設定されることになる。この結果、乾燥処理後に形成される各画素の機能膜の膜厚は、図８（ｄ）に示したようにほぼ均一になるのである。
【００８９】
上述したように、本実施形態によれば、吐出された機能液の液面が画素領域内において最も高くなる位置、つまり液量が最も多くなる位置を、その画素領域の基板Ｐに対する形成位置に応じて設定する。従って、基板Ｐの位置に応じた乾燥速度の違いに起因して生ずる機能膜の膜厚の違いを相殺するように、液量が最も多くなる位置を設定することができるので、乾燥処理後に機能液によって形成される機能膜の膜厚が画素領域内全体においてほぼ均一になり、機能膜の性能バラツキを抑制することが期待できる。従って、乾燥装置による乾燥処理条件を変更して調節する必要がない。
【００９０】
以上、本発明について、一実施形態を用いて説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において様々な形態で実施し得ることは勿論である。以下変形例を挙げて説明する。
【００９１】
（変形例）
上記実施形態では、ステップＳ１４０の処理において、画素の中心位置を通るＸ軸方向およびＹ軸方向についての線分についてのみ乾燥速度の最大差を算出するものとしたが、これに限らず、画素の中心位置を通るさらに多くの方向を有する線分について、乾燥速度の最大差を算出することとしてもよい。こうすれば、各画素について、画素領域内において生ずる乾燥速度の最大差の値をより正しく算出できるとともに、オフセット方向を、実際に最大差の値を呈する方向により近づくように設定することができるので、画素領域において液量が最も多くなる位置を、その画素領域の基板に対する形成位置に応じてさらに適切に設定することが可能となる。
【００９２】
また、上記実施形態では、図９のフローチャートに示したように、乾燥速度プロファイルから、各画素における機能液の吐出位置を設定するものとしたが、これに限るものでないことは勿論である。例えば、乾燥速度プロファイルを用いることなく、各画素について、基板Ｐに対する画素位置に応じて、予め画素の中心位置からのオフセット量（およびオフセット方向）を設定しておくこととしてもよい。
【００９３】
例えば、基板Ｐに対する画素の位置と、基板Ｐの中心位置から画素の中心位置までの距離と、に応じてＸ軸方向とＹ軸方向のオフセット量を予め定めておき、この予め定めた値を用いて、各画素に吐出する機能液の吐出位置を設定することとしてもよい。実際に基板Ｐについて測定した乾燥条件の違いが、どの基板についてもおおよそ同じであるような場合は、このように予めオフセット量を設定しておいても実用上差し支えない。
【００９４】
さらに、基板の中心位置から画素の中心位置までの距離に関わらず、予め各画素について画素の中心位置から吐出位置までのオフセット量を一定値として定めておき、各画素の基板Ｐにおける位置に応じて定まる基板Ｐの中心位置の方向へ、画素の中心位置をこの一定値分移動した位置を、各画素に吐出する機能液の吐出位置に設定することとしてもよい。実際に基板Ｐについて測定した乾燥速度の分布プロファイルが、ほぼ直線で近似される場合は、各画素におけるＸ軸方向およびＹ軸方向の乾燥速度の最大差が各画素で同じになる。そこで、このような場合は、このように予めオフセット量を一定値に設定しても、実用上、乾燥処理後に機能液によって形成される機能膜の膜厚が画素領域全体においてほぼ均一になることが期待できる。
【００９５】
また、上記実施形態では、基板Ｐの中心位置に近づくように吐出位置をオフセットしたが、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。前述したように、通常、乾燥処理においては、基板Ｐの端部に近づくほど乾燥速度が速くなる乾燥速度プロファイルを呈するため、乾燥速度が遅い方向すなわち基板Ｐの中心位置の方向へオフセットした。しかしながら、例えば、基板Ｐの中心部分が開口状態である場合は、逆に基板Ｐの中心位置に近い画素の方が乾燥速度が早い場合が起こり得る。このような場合は、画素の領域内において乾燥速度が遅い領域の方向に、吐出位置をオフセットすることが好ましい。
【００９６】
また、上記実施形態では、機能液の吐出位置が、１つの画素領域において１箇所であるものとして説明したが、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。前述したように、ノズルヘッド２０には多くのノズルが穿設されていることから、通常、１つの画素領域について複数の吐出位置にて機能液が吐出される。そこで、このような場合は、機能液の吐出位置を複数設定することとしてもよい。
【００９７】
もとより、この場合は、設定された複数の吐出位置から吐出された機能液が形成する液面について、基板Ｐからの高さが最も高くなる位置が、上記実施形態において設定されるオフセット位置に一致するように、複数の吐出位置を設定する。こうすれば、吐出位置が複数であっても、画素領域において吐出された機能液の液面が最も高くなる位置、つまり液量が最も多くなる位置を、その画素領域の基板に対する形成位置に応じて適切に設定することが可能となる。
【００９８】
また、上記実施形態の液状体吐出装置１００では、表示装置の一例として有機ＥＬパネル５０を形成することとして説明したが、これに限るものでないことは勿論である。例えば、カラーフィルタを形成するものとしてもよい。
【００９９】
形成されるカラーフィルタの一例を図１２に示した。図１２（ａ）は、カラーフィルタの形成の様子を示す模式図である。図１２（ｂ）は、トップエミッション構造を有する有機ＥＬパネルであって、蒸着工程によって表示面全面に形成された有機ＥＬ素子が陽極と陰極間で発光する白色光を、形成されたカラーフィルタによってカラー光として射出する表示装置の構成を示す断面図である。
【０１００】
図１２（ａ）に示すように、カラーフィルタは、ガラス板を基板とし、このガラス板に設けられた遮光領域（ＢＭ）によって区画された領域に、各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂから、それぞれＲ、Ｇ、Ｂ色のフィルタ材料と溶媒とを含む機能液を吐出し、その後、吐出した機能液を乾燥処理して形成される。従って、乾燥処理後に形成されるＲフィルタ、Ｇフィルタ、Ｂフィルタには、ガラス板の位置に応じて異なる乾燥処理条件の違いによって、固化して形成される膜厚にバラツキが生じることがある。そこで、上記実施例による機能液の吐出方法を用いれば、上述した有機ＥＬパネルにおける発光層の形成と同様に、乾燥処理後に形成されるＲフィルタ、Ｇフィルタ、Ｂフィルタは、それぞれほぼ均一な膜厚を有することになる。
【０１０１】
この結果、図１２（ｂ）に示したように、蒸着工程によって膜厚が均一に形成され、陽極と陰極との間で均一に白色発光する有機ＥＬ素子の発光光を、その均一性を保持した状態で、各カラー光（Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光）に変える表示装置を提供することができる。なお、このカラーフィルタは、液晶によって明るさを制御した白色のバックライト光を、カラー光に変える所謂液晶表示装置にも適用することができる。
【０１０２】
また、上記実施形態では、エレクトロルミネッセンス素子として有機ＥＬ素子を形成することとし、液滴の噴射によって塗布して形成する機能層が、正孔注入層と発光層であることとして説明したが、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。例えば、陰極とは別に電子注入層を形成する場合は、この電子注入層を液滴の噴射によって形成する機能層としてもよい。あるいは発光層が正孔注入層を兼用する場合は、発光層のみが液滴の噴射によって塗布形成される機能層であることとしてもよい。
【０１０３】
また、上記実施形態では、携帯電話に搭載される表示装置として説明したが、これに限らず携帯電話以外の電子機器に搭載されることとしてもよい。例えばビデオカメラやデジタルカメラ、あるいは携帯型パーソナルコンピュータなど、輝度バラツキが抑制された表示が所望される電子機器には本実施例によって形成される表示装置は好適である。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】本発明の液状体吐出装置の一実施形態を示す構成図。
【図２】本実施形態の液状体吐出装置が具備するノズルヘッドに穿設されたノズルの配列具合を示す模式図。
【図３】本実施形態の液状体吐出装置を用いて形成した表示装置を搭載した電子機器を示す説明図。
【図４】表示装置の全体のレイアウトを回路構成とともに示した模式図。
【図５】表示装置におけるＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の各画素が有する機能層の構成を示す模式図で、（ａ）はその平面図、（ｂ）はその断面図、（ｃ）は機能液を噴射するときの様子を示す模式図。
【図６】基板に形成された画素に、Ｒ、Ｇ、Ｂ各機能液を吐出する様子を示す模式図。
【図７】基板に形成された画素領域における機能液の乾燥速度の違いを示す模式図。
【図８】乾燥処理後に形成されるＲ、Ｇ、Ｂの各発光層の膜厚の様子を示す模式図で、（ａ）は吐出位置が画素の形状中心位置である状態図、（ｂ）はその乾燥処理後形成されるＢ発光層の膜厚の様子を示す状態図、（ｃ）は吐出位置をオフセットした状態図、（ｄ）はその乾燥処理後形成されるＢ発光層の膜厚の様子を示す状態図。
【図９】本実施形態の液状体吐出装置が行う機能液の吐出方法を示す処理フローチャート。
【図１０】本実施形態の液状体吐出装置が行う機能液の吐出方法で、機能液の吐出位置設定処理を示す処理フローチャート。
【図１１】乾燥速度差とオフセット量との対応テーブルを説明するための説明図。
【図１２】（ａ）は、本実施形態の液状体吐出装置が形成するカラーフィルタを示す模式図、（ｂ）はそのカラーフィルタを用いた有機ＥＬパネルの断面図。
【符号の説明】
【０１０５】
１０…コントロール装置、２０…ノズルヘッド、２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ…ノズルブロック、５０…有機ＥＬパネル、５１…走査駆動回路、５２…データ駆動回路、５３…給電端子、５４，５５…ＴＦＴ、５６…保持容量、１００…液状体吐出装置、１０１…ガイドレール、１０２…ガイドレール、１０３…移動台、１０５…ステージ、１１２…キャリッジ移動台、２００…キャリッジ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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