(57)【要約】【課題】バンクと称せられる高さ寸法の大きな隔壁を形成しなくても、所定の領域内に液状組成物を塗布することのできる電気光学装置、およびその製造方法を提供すること。【解決手段】有機ＥＬ装置１００の製造工程において、有機機能層１２の正孔注入層１２ａを液滴吐出法で形成する際、樹脂層１７の表面に対するプラズマ処理に形成した撥液性領域４によって、正孔注入層１２ａの形成領域を囲んでおく一方、正孔注入層１２ａが上層に形成される画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面を親液性領域３ａとして利用する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂層と、該樹脂層の上層側に塗布法により所定領域内に形成された塗布膜とを備えた電気光学装置において、
前記樹脂層の表面側には、前記塗布膜の形成領域内に形成された親液性領域と、該親液性領域の周りを囲む撥液性領域とが形成され、
当該撥液性領域は、前記樹脂層の表面によって形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記親液性領域は、前記樹脂層の表面に形成された無機膜により形成され、
前記撥液性領域は、前記樹脂層の表面に対して撥液処理が施された領域であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記樹脂層は、撥液性樹脂材料を用いて構成され、
前記親液性領域は、前記樹脂層の表面に親液化処理が施された領域であり、
前記撥液性領域は、前記樹脂層の表面のうち、前記親液化処理が施されていない領域であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記樹脂層では、前記撥液性樹脂材料中に前記親液化処理としての光照射処理により親液性が高まる光触媒粒子が分散されており、
前記親液性領域は、前記樹脂層の表面に前記光照射処理が施された領域であり、
前記撥液性領域は、前記樹脂層の表面のうち、前記光照射処理が施されていない領域であることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記樹脂層の上層側に、無機導電膜からなる複数の画素電極と、当該画素電極の周りを囲む無機絶縁膜と、前記画素電極および前記無機絶縁膜の上層に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子用の有機機能層と、該有機機能層の上層側に積層された対極層とを備え、
前記有機機能層は、前記画素電極および前記無機絶縁膜の表面を前記親液性領域として塗布法により形成されてなる層を前記塗布膜として含んでいることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記樹脂層の上層側に、無機導電膜からなる複数の画素電極と、当該画素電極の周りを囲む無機絶縁膜と、前記画素電極および前記無機絶縁膜の上層に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子用の有機機能層と、該有機機能層の上層側に積層された対極層とを備え、
前記画素電極は、前記塗布膜として前記親液性領域上に形成されてなることを特徴とする請求項３または４に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記樹脂層の上層側に、無機導電膜からなる複数の画素電極と、当該画素電極の周りを囲む無機絶縁膜と、前記画素電極および前記無機絶縁膜の上層に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子用の有機機能層と、該有機機能層の上層側に積層された対極層と、前記樹脂層の表面側において隣接する前記画素電極の間を通るとともに前記対極層に電気的に接続された補助配線層とを備え、
前記補助配線層は、前記塗布膜として前記親液性領域上に形成されてなることを特徴とする請求項２乃至４に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記樹脂層の下層側には、前記画素電極に電気的に接続されたトランジスタが形成されていることを特徴とする請求項５乃至７の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記画素電極は、複数の色に各々対応する複数の画素の各々に形成され、
前記有機機能層は、前記複数の画素の各々に独立して形成された発光層を含んでいることを特徴とする請求項５乃至８の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記画素電極は、複数の色の各々に対応する複数の画素の各々に形成され、
前記有機機能層は、同色に対応する複数の画素に跨って形成された発光層を含んでいることを特徴とする請求項５乃至８の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
前記複数の画素において、同一の色に対応する隣接画素間の隙間寸法は、異なる色に対応する隣接画素間の隙間寸法に比較して狭いことを特徴とする請求項９または１０に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
樹脂層と、該樹脂層の上層側に塗布法により所定領域内に形成された塗布膜とを備えた電気光学装置の製造方法において、
前記塗布膜を形成するための液状組成物を前記樹脂層の上層側に塗布する際、前記樹脂層の表面側には、前記塗布膜の形成領域内に親液性領域を形成しておくとともに、当該親液性領域の周りを囲むように、前記樹脂層の表面からなる撥液性領域を形成しておくことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布法により形成された塗布膜を樹脂層の上層側に備えた電気光学装置、および電気光学装置に関するものである。
【０００２】
携帯電話機、パーソナルコンピュータやＰＤＡ（Personal Digital Assistants）などの電子機器のカラー表示装置としては、液晶装置や有機エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬ（Electroluminescence）という）装置が用いられている。かかる電気光学装置を製造するにあたっては、カラーフィルタや有機ＥＬ素子の発光層などといった各色の有機機能層を形成する必要があり、かかる有機機能層を形成する際、インクジェット法などの塗布法を用いることが提案されている。また、有機機能層を形成するための液状組成物が隣接する画素にはみ出さないように、有機機能層を形成する際の機能層形成領域を規定する隔壁を基板上に形成することが提案されており、かかる隔壁は、高さ寸法が高いので、バンクとも称せられている（例えば、特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開２００４−１０３５０２号公報
【特許文献２】特開２００４−１９８４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、有機ＥＬ装置に隔壁を形成すると、その内側に液状組成物を塗布した際、液状組成物が隔壁の撥液性によって押し退けられ、有機機能層などに膜厚ムラが発生しやすいという問題点がある。また、隔壁を形成すると、表面に大きな凹凸が形成されることになり、その結果、対極層を好適に形成できないなどの問題点もある。かといって、隔壁の形成を省略すると、例えば、カラー表示用の有機ＥＬ装置を製造する際、赤色（Ｒ）の発光層を形成すべき液状組成物が隣接する緑色（Ｇ）や青色（Ｂ）の画素にはみ出てしまうという問題点がある。
【０００４】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、バンクと称せられる高さ寸法の大きな隔壁を形成しなくても、所定の領域内に液状組成物を塗布することのできる電気光学装置、およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明では、樹脂層と、該樹脂層の上層側に塗布法により所定領域内に形成された塗布膜とを備えた電気光学装置において、前記樹脂層の表面側には、前記塗布膜の形成領域内に形成された親液性領域と、該親液性領域の周りを囲む撥液性領域とが形成され、当該撥液性領域は、前記樹脂層の表面によって形成されていることを特徴とする。
【０００６】
本発明では、樹脂層と、該樹脂層の上層側に塗布法により所定領域内に形成された塗布膜とを備えた電気光学装置の製造方法において、前記塗布膜を形成するための液状組成物を前記樹脂層の表面側に塗布する際、前記樹脂層の表面側には、前記塗布膜の形成領域内に親液性領域を形成しておくとともに、当該親液性領域の周りを囲むように、前記樹脂層の表面からなる撥液性領域を形成しておくことを特徴とする。
【０００７】
本発明では、塗布膜を形成するための液状組成物を樹脂層の表面側に塗布する際、樹脂層の上層側には、塗布膜の形成領域内に親液性領域を形成しておくとともに、親液性領域の周りを撥液性領域で囲んでおくため、液状組成物は、親液性領域内に選択的に塗布されるので、所定の領域から不用意にはみ出すことを防止することができる。ここで、撥液性領域は、樹脂層の表面自身によって形成されているため、塗布膜を形成する領域の周りに隔壁を形成する必要がない。それ故、液状組成物が隔壁の撥液性によって押し退けられることがないので、塗布膜に膜厚ムラが発生することを防止することができる。また、隔壁を形成する必要がないので、樹脂層の上層側に大きな凹凸が無駄に形成されることもない。
【０００８】
本発明において、前記親液性領域は、前記樹脂層の表面に形成された無機膜により形成され、前記撥液性領域は、前記樹脂層の表面に対して撥液処理が施された領域である構成を採用することができる。このように構成すると、無機膜の表面からなる親液性領域と、撥液性領域との間で液状組成物の親和性に大きな差を設けることができるので、液状組成物が所定の領域から不用意にはみ出すことを確実に防止することができる。
【０００９】
本発明において、前記樹脂層については撥液性樹脂材料を用いて構成し、前記親液性領域については、前記樹脂層の表面に親液化処理が施された領域により構成し、前記撥液性領域については、前記樹脂層の表面のうち、前記親液化処理が施されていない領域により構成してもよい。例えば、前記樹脂層では、前記撥液性樹脂材料中に前記親液化処理としての光照射処理により親液性が高まる光触媒粒子が分散させておけば、前記親液性領域については、前記樹脂層の表面に前記光照射処理が施された領域により構成でき、前記撥液性領域については、前記樹脂層の表面のうち、前記光照射処理が施されていない領域により構成することができる。
【００１０】
本発明は、有機ＥＬ装置に適用することができる。この場合、前記樹脂層の上層側に、無機導電膜からなる複数の画素電極と、当該画素電極の周りを囲む無機絶縁膜と、前記画素電極および前記無機絶縁膜の上層に積層された有機ＥＬ素子用の有機機能層と、該有機機能層の上層側に積層された対極層とを備えている。
【００１１】
かかる有機ＥＬ装置において、前記有機機能層は、前記画素電極および前記無機絶縁膜の表面を前記親液性領域として塗布法により形成されてなる層を前記塗布膜として含んでいる構成を採用することができる。このように構成すると、無機絶縁膜については、隣接する画素間に画素間分離膜として構成することができ、新たな無機絶縁膜を追加する必要がないという利点がある。
【００１２】
本発明を適用した有機ＥＬ装置では、前記画素電極は、前記塗布膜として前記親液性領域上に形成されてなる構成を採用することができる。
【００１３】
本発明を適用した有機ＥＬ装置において、前記樹脂層の表面側において隣接する前記画素電極の間を通るとともに前記対極層に電気的に接続された補助配線層とを備える場合、前記補助配線層は、前記塗布膜として前記親液性領域上に形成されてなる構成を採用することができる。
【００１４】
本発明は、前記樹脂層の下層側に、前記画素電極に電気的に接続されたトランジスタが形成されている場合に適用することが好ましい。このように構成すると、トランジスタにより発生する凹凸を樹脂膜で平坦化することができる。
【００１５】
本発明において、前記画素電極は、複数の色に各々対応する複数の画素の各々に形成される場合があり、この場合、前記有機機能層は、前記複数の画素の各々に独立して形成された発光層を含んでいる構成を採用することができる。
【００１６】
また、本発明において、前記画素電極は、複数の色の各々に対応する複数の画素の各々に形成され、前記有機機能層は、同色に対応する複数の画素に跨って形成された発光層を含んでいる構成を採用してもよい。
【００１７】
本発明では、前記複数の画素において、同一の色に対応する隣接画素間の隙間寸法は、異なる色に対応する隣接画素間の隙間寸法に比較して狭いことが好ましい。
【００１８】
本発明を適用した電気光学装置は、例えば、当該電気光学装置を表示部として備えた携帯電話機、パーソナルコンピュータやＰＤＡなどの電子機器に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。また、以下の説明では、各実施の形態を説明する前に各実施の形態で共通の構成を説明しておく。
【００２０】
［発明の概要］
（本発明の第１の基本形態）
図１を参照して、本発明の第１の基本形態を説明する。図１は、本発明の第１の基本形態を示す説明図であり、その左側部分に塗布膜を形成する際の断面図を模式的に示し、右側部分に塗布膜を形成する際の平面図を模式的に示してある。
【００２１】
インクジェット法等の液滴吐出法を用いて、図１（ｃ）に示すように、樹脂層１７の上層側に塗布膜２を形成するにあたって、本形態では、図１（ａ）に示すように、樹脂層１７の表面側には、塗布膜２が形成される親液性領域３と、親液性領域３の周りを囲む撥液性領域４とを形成しておく。ここで、撥液性領域４は、樹脂層１７の表面によって形成されている。
【００２２】
かかる親液性領域３および撥液性領域４を形成するにあたって、本発明では、まず、樹脂層１７の表面にスパッタ法などで形成した膜をフォトリソグラフィ技術を用いてエッチングして無機膜５を形成した後、酸素プラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行なって、樹脂層１７および無機膜５の表面を活性化することにより、無機膜５の表面を親液化する。次に、撥液処理として、ＣＦ4プラズマ処理を行なう。その結果、樹脂層１７の表面のうち、フッ素化により撥液性が付与された領域によって撥液性領域４が形成され、無機膜５の表面によって親液性領域３が形成される。
【００２３】
次に、図１（ｂ）に示すように、インクジェット法等の液滴吐出法を用いて液状組成物Ｍの液滴を親液性領域３に吐出して、液状組成物Ｍを親液性領域３に塗布した後、液状組成物Ｍから溶媒を蒸発、乾燥させ、図１（ｃ）に示す塗布膜２を形成する。
【００２４】
このような方法によれば、塗布膜２を形成するための液状組成物Ｍを樹脂層１７の表面側に塗布する際、親液性領域３の周りが撥液性領域４で囲まれているため、液状組成物Ｍは、親液性領域３内に選択的に塗布され、所定の領域から不用意にはみ出すことがない。ここで、撥液性領域４は、樹脂層１７の表面自身によって形成されているため、塗布膜２を形成する領域の周りに隔壁を形成する必要がない。それ故、液状組成物Ｍが隔壁の撥液性によって押し退けられることがないので、塗布膜２に膜厚ムラが発生することを防止することができる。また、隔壁を形成する必要がないので、樹脂層１７の上層側に大きな凹凸が無駄に形成されることもない。なお、インクジェット法以外の液滴吐出法として、ジェットディスペンサ法、あるいはディスペンサ法などを採用してもよい。
【００２５】
（本発明の第２の基本形態）
図２を参照して本発明の第２の基本形態を説明する。図２は、本発明の第２の基本形態を示す説明図であり、その左側部分に塗布膜を形成する際の断面図を模式的に示し、右側部分に塗布膜を形成する際の平面図を模式的に示してある。
【００２６】
インクジェット法等の液滴吐出法を用いて、図２（ｃ）に示すように、樹脂層１７の上層側に塗布膜２を形成するにあたって、本形態では、図２（ａ）に示すように、樹脂層１７の表面側には、塗布膜２の形成領域内に形成された親液性領域３と、親液性領域３の周りを囲む撥液性領域４とを形成しておく。ここで、撥液性領域４は、樹脂層１７の表面によって形成されている。
【００２７】
かかる親液性領域３および撥液性領域４を形成するにあたって、本発明では、樹脂層１７については撥液性樹脂材料を用いて構成し、親液性領域３については、樹脂層１７の表面に親液化処理が施された領域により構成し、撥液性領域４については、樹脂層１７の表面のうち、親液化処理が施されていない領域により構成する。例えば、樹脂層１７では、フッ素樹脂などといった撥液性樹脂材料中に、親液化処理としての光照射処理により親液性が高まる酸化チタンなどの光触媒粒子を分散させておき、親液性領域３については、樹脂層１７の表面に光照射処理が施された領域により構成し、撥液性領域４については、樹脂層の表面のうち、光照射処理が施されていない領域により構成する。
【００２８】
次に、図２（ｂ）に示すように、インクジェット法を用いて液状組成物Ｍの液滴を親液性領域３に吐出して、液状組成物Ｍを親液性領域３に塗布した後、液状組成物Ｍから溶媒を蒸発、乾燥させ、図２（ｃ）に示す塗布膜２を形成する。
【００２９】
このような方法によれば、塗布膜２を形成するための液状組成物Ｍを樹脂層１７の表面側に塗布する際、親液性領域３の周りが撥液性領域４で囲まれているため、液状組成物Ｍは、親液性領域３内に選択的に塗布され、所定の領域から不用意にはみ出すことがない。ここで、撥液性領域４は、樹脂層１７の表面自身によって形成されているため、塗布膜２を形成する領域の周りに隔壁を形成する必要がない。それ故、液状組成物Ｍが隔壁の撥液性によって押し退けられることがないので、塗布膜２に膜厚ムラが発生することを防止することができる。また、隔壁を形成する必要がないので、樹脂層１７の上層側に大きな凹凸が無駄に形成されることもない。
【００３０】
［有機ＥＬ表示装置の全体構成］
図３および図４を参照して、本発明が適用される電気光学装置の一例としての有機ＥＬ装置の構成を説明する。図３および図４は各々、本発明を適用した有機ＥＬ装置（電気光学装置）の平面図、およびこの有機ＥＬ装置の電気的構成を示すブロック図である。
【００３１】
図３および図４において、有機ＥＬ装置１００は、発光層に駆動電流が流れることによって発光するＥＬ素子を薄膜トランジスタで駆動制御する有機ＥＬ装置であり、このタイプのＥＬ装置を表示装置として用いた場合、発光素子が自己発光するため、バックライトを必要とせず、また、視野角依存性が少ないなどの利点がある。ここに示す有機ＥＬ装置１００では、素子基板２０上の略中央領域には、複数の画素１０ａがマトリクス状に配列された矩形の発光領域１１０と、この発光領域１１０を外周側で囲む矩形枠状の非発光領域１２０とを有しており、非発光領域１２０には、相対向する領域に一対の走査線駆動回路５４が形成され、他の相対向する領域にデータ線駆動回路５１および検査回路５８が形成されている。
【００３２】
発光領域１１０では、複数の走査線６３と、この走査線６３の延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線６４と、これらのデータ線６４に並列する複数の共通給電線６５とが形成され、データ線６４と走査線６３との交差点に対応して画素１０ａが構成されている、データ線６４に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ線駆動回路５１が構成されている。走査線６３に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査線駆動回路５４が構成されている。画素１０ａの各々には、走査線６３を介して走査信号がゲート電極に供給される画素スイッチング用の薄膜トランジスタ６と、この薄膜トランジスタ６を介してデータ線６４から供給される画像信号を保持する保持容量３３と、この保持容量３３によって保持された画像信号がゲート電極に供給される電流制御用の薄膜トランジスタ７と、薄膜トランジスタ７を介して共通給電線６５に電気的に接続したときに共通給電線６５から駆動電流が流れ込む有機ＥＬ素子１０とが構成されている。本形態の有機ＥＬ装置１００はカラー表示用であり、各画素１０ａは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に対応することになる。ここで、複数の画素１０ａは、対応する色が同一の画素同士が直線状に配列されている。
【００３３】
［実施の形態１］
（画素の構成）
図５（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ装置の発光領域の平面構成を模式的に示す断面図、およびそのＡ１−Ａ１′断面図である。図６（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、有機機能層を形成する前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図である。なお、本形態は、図１を参照して説明した第１の基本形態を利用する。
【００３４】
本形態の有機ＥＬ装置１００において、素子基板２０上の発光領域１１０では、図５（ａ）に示すように、複数の画素１０ａ（画素電極４）がマトリクス状に配置されている。画素１０ａの平面形状は、円形、楕円、四角など、いずれの形状でも構わないが、液状組成物には表面張力があるため、本形態では、角部が丸みを帯びているように、画素１０ａを楕円の平面形状を有するように形成してある。但し、図６（ａ）、（ｂ）では、複数の画素１０ａ（画素電極４）を、矩形の平面形状をもつように示してある。
【００３５】
かかる素子基板２０は、例えば、図５（ｂ）に示すように、基体たる基板２０ｂの上に、図４に示す薄膜トランジスタ７、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜１６、アクリル樹脂などからなる樹脂層１７（平坦化層）、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などの透光性導電膜からなる画素電極１１、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜１８、有機機能層１２、および陰極層１５（対極層）がこの順に形成されたものとして表され、画素電極１１、有機機能層１２および陰極層１５によって、有機ＥＬ素子１０が形成されている。本形態において、有機機能層１２は、画素電極１１の上層に積層された正孔注入層１２ａと、この正孔注入層１２ａの上層に積層された発光層１２ｂとを含んでいる。
【００３６】
かかる構成の有機ＥＬ装置１００において、有機ＥＬ装置１００が、有機ＥＬ素子１０で発光した光を陰極層１５の側から出射するトップエミッション型である場合には、基板２０ｂは不透明であってもよく、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施した基板、樹脂製基板などを用いることができる。これに対して、有機ＥＬ装置１００が、有機ＥＬ素子１０で発光した光を基板２０ｂ側から出射するボトムエミッション型である場合には、基板２０ｂとしてはガラスなどの透光性基板が用いられる。なお、陰極層１５の表面側には、有機機能層１２や陰極層１５が水分や酸素により劣化しないように、シリコン窒化膜などからなる封止膜が形成された構成や、接着層を介して封止基板を貼った構成が採用される。
【００３７】
ここで、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂはいずれも、図１を参照して説明した塗布膜であるが、有機機能層１２の周りには、いわゆるバンクと称せられる、高さ寸法の高い隔壁が形成されていない。その代わりに、本形態では、図６（ａ）に示すように、樹脂層１７の表面側には、有機機能層１２（塗布膜）の形成領域内に親液性領域３ａが形成され、かかる親液性領域３ａの周りは撥液性領域４により囲まれている。このため、図６（ｂ）に示すように、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂはいずれも、複数の画素１０ａの各々に独立して形成され、かつ、隣接する画素１０ａに向けてはみ出していない。
【００３８】
かかる親液性領域３ａおよび撥液性領域４を形成するにあたって、本形態では、詳しくは図７を参照して後述するように、画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面によって親液性領域３ａが形成され、樹脂層１７の表面によって撥液性領域４が形成されている。
【００３９】
（有機ＥＬ装置の製造方法）
図７は、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素電極および画素分離用絶縁膜を形成した以降の工程を模式的に示す工程断面図である。
【００４０】
本形態の有機ＥＬ装置１００を製造するには、まず、図７（ａ）に示すように、基板２０ｂ上に、薄膜トランジスタ７、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜１６、アクリル樹脂などからなる樹脂層１７、ＩＴＯ膜などの透光性導電膜からなる画素電極１１、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜１８を形成する。ここで、樹脂層１７は、薄膜トランジスタ７などに起因する凹凸が上層側まで反映するのを防止する平坦化膜である。画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８は、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法などにより成膜した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより形成することができる。
【００４１】
次に、酸素プラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行なって、樹脂層１７、画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面を活性化して親液化した後、撥液処理として、ＣＦ4プラズマ処理を行ない、樹脂層１７の表面のうち、露出している部分をフッ素化し、撥液性を付与する。その結果、図６（ａ）および図７（ｂ）に示すように、画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面によって親液性領域３ａが形成され、樹脂層１７の表面によって撥液性領域４が形成される。
【００４２】
次に、図７（ｃ）に示すように、インクジェットヘッドから、正孔注入層形成材料を含む液状組成物１２ｅを親液性領域３ａ（画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面）に向けて吐出し、親液性領域３ａに正孔注入層形成用の液状組成物１２ｅを塗布する。次に、真空および／または熱処理、あるいは窒素ガスなどのフローにより、溶媒を除去し、図７（ｄ）に示すように、正孔注入層１２ａを形成する。
【００４３】
このような正孔注入層形成用の液状組成物１２ｅとしては、ポリオレフィン誘導体である３、４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１、１−ビス−（４−Ｎ、Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン等の正孔注入・輸送層形成材料を極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノンおよびその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正孔注入形成材料は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各画素１０ａで同じ材料を用いても良く、各画素１０ａで組成を変えても良い。
【００４４】
本形態では、極性溶媒として、ジエチエングリコールの５０％水溶液を用い、正孔注入層形成用の液状組成物１２ｅを塗布した後は、真空乾燥を行ない、しかる後に、窒素雰囲気中においてホットプレート上２００℃、１０分での熱処理により、液状組成物１２ｅを乾燥させ、厚さが５０ｎｍの正孔注入層１２ａを形成する。
【００４５】
次に、図７（ｅ）に示すように、インクジェットヘッドから、発光層形成材料を含む液状組成物１２ｆを正孔注入層１２ａの表面に向けて吐出し、正孔注入層１２ａに発光層形成用の液状組成物１２ｆを塗布する。次に、真空および／または熱処理、あるいは窒素ガスなどのフローにより、溶媒を除去し、図７（ｆ）に示すように、発光層１２ｂを形成する。その際、正孔注入層１２ａの表面は、発光層形成用の液状組成物１２ｆに対する親液性領域３ｂとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。
【００４６】
ここで、発光層１２ｂとして、赤色、緑色、青色の各色に対応する層を形成するには、これらの色に発光するポリフルオレン系材料を用いて、赤色発光層用の液状組成物、緑色発光層用の液状組成物、青色発光層用の液状組成物を調製し、これらの液状組成物１２ｆを所定色に対応する親液性領域３ａに全て塗布した後、液状組成物１２ｆを乾燥させ、各色用の発光層１２ｂを形成する。
【００４７】
このような発光層形成用の液状組成物１２ｆとしては、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９、１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープした発光層形成材料を非極性溶媒に配合したものを用いる。発光層形成材料としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、例えば特開平１１−４０３５８号公報に示される有機ＥＬ素子用組成物、すなわち共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも１種の蛍光色素とを含んでなる有機ＥＬ素子用組成物も、発光層形成材料として使用可能である。また、非極性溶媒としては、正孔注入層１２ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。
【００４８】
本形態では、赤色発光層用の液状組成物、緑色発光層用の液状組成物、青色発光層用の液状組成物のいずれにおいても、非極性溶媒としてシクロへキシルベンゼンを用い、発光層形成用の液状組成物１２ｆを塗布した後は、真空乾燥を行ない、しかる後に、窒素雰囲気中においてホットプレート上１３０℃、１時間での熱処理により、液状組成物を乾燥させ、厚さが１００ｎｍの発光層１２ｂを形成する。なお、赤色発光層用の液状組成物、緑色発光層用の液状組成物、青色発光層用の液状組成物において非極性溶媒の種類を変えてもよく、例えば、赤色発光層用の液状組成物についてはトリエチルベンゼンを用い、緑色発光層用の液状組成物についてはシクロヘキシルベンゼンを用い、青色発光層用の液状組成物についてはイソプロピルビフェニルを用いてもよい。
【００４９】
このようにして、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂからなる有機機能層１２を形成した後、図５（ｂ）に示す陰極層１５を形成する。例えば、陰極層１５として、厚さが５ｎｍのフッ化リチウム層、および厚さが３００ｎｍのアルミニウム層の積層膜を真空加熱蒸着などにより形成した後、封止を行う。
【００５０】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、薄膜トランジスタ７の上層側に樹脂層１７が形成されているため、薄膜トランジスタ７に起因する凹凸が上層側に反映されない。それ故、画素電極１１および有機機能層１２を平坦な領域に形成することができる。
【００５１】
また、正孔注入層１２ａ（塗布膜）を形成するための液状組成物１２ｅを樹脂層１７の表面側に塗布する際、親液性領域３ａ（画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面）の周りが撥液性領域４（樹脂層１７の表面）で囲まれているため、液状組成物１２ｅは、親液性領域３ａ内に選択的に塗布され、所定の領域から不用意にはみ出すことを防止することができる。ここで、撥液性領域４は、樹脂層１７の表面自身によって形成されているため、正孔注入層１２ａを形成する領域の周りに隔壁を形成する必要がない。それ故、液状組成物１２ｅが隔壁の撥液性によって押し退けられることがないので、正孔注入層１２ａ（液状組成物１２ｅ）に膜厚ムラが発生することを防止することができる。また、隔壁を形成する必要がないので、樹脂層１７の上層側（基板１０ｂの表面側）に大きな凹凸が無駄に形成されることもない。
【００５２】
さらに、本形態では、発光層１２ｂ（塗布膜）を形成するための液状組成物１２ｆを樹脂層１７の表面側に塗布する際、正孔注入層１２ａの表面が親液性領域３ｂとして機能し、かかる親液性領域３ｂ（正孔注入層１２ａ）の周りは撥液性領域４（樹脂層１７の表面）で囲まれている。このため、液状組成物１２ｆは、親液性領域３ｂ内に選択的に塗布され、所定の領域から不用意にはみ出すことを防止することができる。
【００５３】
［実施の形態２］
図８（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、有機機能層を形成する前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図、および図８（ａ）のＡ２−Ａ２′線に相当する位置で有機ＥＬ装置を切断した様子を模式的に示す断面図である。なお、本形態は基本的な構成が実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。また、本形態は、図１を参照して説明した第１の基本形態を利用する。
【００５４】
実施の形態１では、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂのいずれについても画素１０ａ毎に独立して形成したが、図８（ａ）に示すように、複数の画素１０ａにおいては、同一の色に対応する隣接画素間の隙間寸法Ｌ２が、異なる色に対応する隣接画素間の隙間寸法Ｌ１に比較して狭い。そこで、本形態で、図８（ｂ）、（ｃ）に示すように、電気的抵抗の低い正孔注入層１２ａについては画素１０ａ毎に独立して形成する一方、電気的抵抗の高い発光層１２ｂについては、同色に対応する複数の画素１０ａに跨って形成してある。このように構成すると、発光層１２ｂの形成を塗布法により行なう際、発光層形成用の液状組成物を効率よく塗布することができる。かかる構造の有機ＥＬ装置１００は、実施の形態１と同様な方法で製造できるので、その説明を省略する。
【００５５】
［実施の形態３］
図９（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態３に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、有機機能層を形成する前の様子を模式的に示す平面図、および補助配線を形成した後の様子を模式的に示す平面図、および図９（ａ）のＡ３−Ａ３′線に相当する位置で有機ＥＬ装置を切断した様子を模式的に示す断面図である。なお、本形態は基本的な構成が実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。また、本形態は、図１を参照して説明した第１の基本形態を利用する。
【００５６】
実施の形態１では、画素分離用絶縁膜１８が画素１０ａ毎に独立して形成されていたため、親液性領域３ａ（画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面）も、画素１０ａ毎に独立して形成されている。このため、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂのいずれもが、画素１０ａ毎に独立して形成したが、図９（ａ）に示すように、同一の色に対応する複数の画素１０ａに跨って、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜１８を帯状に形成してもよい。
【００５７】
この場合、親液性領域３ａ（画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面）が複数の画素１０ａに跨って帯状に形成されるため、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂのいずれもが、複数の画素１０ａに跨って帯状に形成されることになる。このように構成すると、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂの形成を塗布法により行なう際、正孔注入層形成用の液状組成物、および発光層形成用の液状組成物を効率よく塗布することができる。かかる構造の有機ＥＬ装置１００は、実施の形態１と同様な方法で製造できるので、その説明を省略する。
【００５８】
［実施の形態４］
（画素の構成）
図１０（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ装置の発光領域の平面構成を模式的に示す断面図、およびそのＡ４−Ａ４′断面図である。図１１（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素有機機能層を形成する前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図である。また、本形態は、図１を参照して説明した第１の基本形態を利用する。
【００５９】
図１０（ａ）に示すように、本形態の有機ＥＬ装置１００においても、実施の形態１と同様、素子基板２０上の発光領域１１０では、複数の画素１０ａ（画素電極４）がマトリクス状に配置されている。かかる素子基板２０は、例えば、図１０（ｂ）に示すように、基体たる基板２０ｂの上に、図４に示す薄膜トランジスタ７、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜１６、アクリル樹脂などからなる樹脂層１７（平坦化層）、ＩＴＯ膜などの透光性導電膜からなる画素電極１１、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜１８、有機機能層１２、および陰極層１５がこの順に形成されたものとして表され、画素電極１１、有機機能層１２および陰極層１５によって、有機ＥＬ素子１０が形成されている。
【００６０】
ここで、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂはいずれも、図１を参照して説明した塗布膜であるが、有機機能層１２の周りには、いわゆるバンクと称せられる、高さ寸法の高い隔壁が形成されていない。その代わりに本形態では、図１０（ｂ）および図１１（ａ）に示すように、実施の形態１と同様、樹脂層１７の表面側には、画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面によって親液性領域３ａが形成され、樹脂層１７の表面によって撥液性領域４が形成されている。
【００６１】
かかる構成の有機ＥＬ装置１００において、本形態では、有機ＥＬ装置１００が有機ＥＬ素子１０で発光した光を陰極層１５の側から出射するトップエミッション型として構成されている。このため、陰極層１５は、膜厚が薄く、電気的抵抗が大きい。そこで、本形態では、異なる色に対応する隣接画素の間の領域には、図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、陰極層１５の下層に補助配線１９ａが形成され、補助配線１９ａは、陰極層１５と電気的に接続している。このため、補助配線１９ａは、陰極層１５の電気的抵抗が大きいことに起因する問題を解消することができる。
【００６２】
ここで、補助配線１９ａは、銅、ニッケル、コバルト、銀、モリブデン、チタンなどの金属微粒子を分散媒中に分散させた液状組成物（金属微粒子分散体）を、インクジェット法、ジェットディスペンサ法、あるいはディスペンサ法などの液滴塗布法や、転写法などといった塗布法により塗布した後、加熱処理してなる塗布型金属膜である。但し、本形態では、補助配線１９ａの周りにも、補助配線１９ａの形成位置（液状組成物）の塗布範囲を規定するための隔壁が形成されていない代わりに、補助配線１９の下層側に、画素電極１１あるいは画素分離用絶縁膜１８と同時形成された無機膜１４が形成されており、かかる無機膜１４によって、樹脂層１７の表面には親液性領域３ｃが形成され、その周りは、樹脂層１７の表面によって撥液性領域４が形成されている。
【００６３】
（有機ＥＬ装置の製造方法）
図１２は、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素電極および画素分離用絶縁膜を形成した以降の工程を模式的に示す工程断面図である。
【００６４】
本形態の有機ＥＬ装置１００を製造するには、まず、図１２（ａ）に示すように、基板２０ｂ上に、薄膜トランジスタ７、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜１６、アクリル樹脂などからなる樹脂層１７、ＩＴＯ膜などの透光性導電膜からなる画素電極１１、シリコン酸化膜などからなる画素分離用絶縁膜１８を形成する。その際、図１０（ｂ）、図１１（ａ）に示すように、異なる色に対応する隣接画素の間の領域において補助配線１９ａを形成すべき領域に、無機膜１４を画素電極１１あるいは画素分離用絶縁膜１８と同時形成する。
【００６５】
次に、酸素プラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行なって、樹脂層１７、画素電極１１、画素分離用絶縁膜１８、および無機膜１４の表面を活性化した後、撥液処理として、ＣＦ4プラズマ処理を行ない、樹脂層１７の表面をフッ素化し、撥液性を付与する。その結果、画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面によって親液性領域３ａが形成され、無機膜１４の表面によって親液性領域３ｃが形成され、樹脂層１７の表面によって撥液性領域４が形成される。
【００６６】
次に、図１１（ｂ）および図１２（ｂ）に示すように、インクジェットヘッドから、正孔注入層形成材料を含む液状組成物を親液性領域３ａ（画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面）に向けて吐出し、親液性領域３ａに正孔注入層形成用の液状組成物を塗布した後、真空および／または熱処理、あるいは窒素ガスなどのフローにより、溶媒を除去し、正孔注入層１２ａを形成する。次に、インクジェットヘッドから、発光層形成材料を含む液状組成物を正孔注入層１の表面に向けて吐出し、正孔注入層１２ａに発光層形成用の液状組成物を塗布する。次に、真空および／または熱処理、あるいは窒素ガスなどのフローにより、溶媒を除去し、発光層１２ｂを形成する。その際、正孔注入層１２ａの表面は、発光層形成用の液状組成物に対する親液性領域３ｂとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。このようにして、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂからなる有機機能層１２を形成する。
【００６７】
次に、図１２（ｃ）に示すように、異なる色に対応する隣接画素の間に形成された無機膜１４の表面（親液性領域３ｃ）に対して、銅、ニッケル、コバルト、銀、モリブデン、チタンなどの金属微粒子を分散媒中に分散させた液状組成物１９ｅ（金属微粒子分散体）をインクジェット法、ジェットディスペンサ法、あるいはディスペンサ法などの液滴塗布法や、転写法により塗布した後、加熱処理し、図１２（ｄ）に示すように、補助配線１９（塗布型金属膜）を形成する。しかる後には、図１０（ｂ）に示す陰極層１５を形成した後、封止を行う。
【００６８】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、正孔注入層１２ａ（塗布膜）を塗布法により形成する際には、画素電極１１および画素分離用絶縁膜１８の表面が親液性領域３ａとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。また、発光層１２ｂ（塗布膜）を塗布法により形成する際には、正孔注入層１２ａの表面が親液性領域３ｂとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。さらに、補助配線１９（塗布膜）を塗布法により形成する際には、画素電極１１あるいは画素分離用絶縁膜１８と同時形成した無機膜１４の表面が親液性領域３ｃとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。それ故、隔壁を形成しなくても、所定領域内に正孔注入層１２ａ、正孔注入層１２ａ、および補助配線１９などの塗布膜を形成することができる。なお、無機膜１４をＩＴＯ膜によって画素電極１１と同時形成した場合には、無機膜１４（ＩＴＯ膜）自身も補助配線１９の一部として利用でき、補助配線１９の電気的抵抗を低減することができるという利点がある。
【００６９】
［実施の形態５］
図１３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態５に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素電極を形成する直前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図、および図１３（ａ）のＡ５−Ａ５′線に相当する位置で有機ＥＬ装置を切断した様子を模式的に示す断面図である。図１４は、本発明の実施の形態５に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、絶縁層を形成した以降の工程を模式的に示す工程断面図である。なお、本形態は基本的な構成が実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。また、本形態は、図１および図２を参照して説明した第１の基本的形態および第２の基本形態を利用する。
【００７０】
実施の形態１では、画素電極１１についてはスパッタ法などの物理堆積法により形成したが、本形態では、画素電極１１については塗布法により形成する。また、実施の形態１では、画素電極１１の周りに画素分離用絶縁膜１８を形成したが、本形態では、図１３（ａ）、（ｃ）に示すように、画素分離用絶縁膜１８を形成しない代わりに、樹脂層１７の表面のうち、画素電極１１を形成すべき領域を親液性領域３ｄとし、その周りを樹脂層１７の表面によって撥液性領域４としてある。
【００７１】
このような親液性領域３ｄおよび撥液性領域４を形成するにあたって、本形態では、以下に詳述するように、樹脂層１７については、撥液性樹脂材料を用いて構成するとともに、樹脂層１７の表面に親液化処理を施して親液性領域３ｄを形成し、樹脂層１７の表面のうち、親液化処理が施されていない領域を撥液性領域４とする。
【００７２】
本形態の有機ＥＬ装置１００を製造するには、まず、図１４（ａ）に示すように、基板２０ｂ上に、薄膜トランジスタ７、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜１６、および樹脂層１７を形成する。ここで、樹脂層１７を形成するには、撥液性樹脂材料としてフッ素樹脂を用い、かかるフッ素樹脂には、親液化処理としての光照射処理により親液性が高まる酸化チタンなどの光触媒粒子が分散されている。また、樹脂層１７については、露光現像の過程で、あるいは樹脂層１７を形成し終えた後、コンタクトホールを形成するともに、層間絶縁膜１６にもコンタクトホールを形成しておく。
【００７３】
次に、図１４（ｂ）に示すように、樹脂層１７の表面のうち、画素電極１１を形成すべき領域にＵＶ光を照射し、親液性領域３ｄを形成する。その際、ＵＶ光が照射されなかった領域が撥液性領域４となる。
【００７４】
次に、図１４（ｃ）に示すように、ＩＴＯを有機溶剤に溶解あるいは分散させた液状組成物１１ｅや、ＩＴＯの前駆体を有機溶剤に溶解あるいは分散させた液状組成物１１ｅをインクジェット法、ジェットディスペンサ法、あるいはディスペンサ法などの液滴塗布法や、転写法により、親液性領域３ｄに塗布した後、加熱処理し、図１４（ｄ）に示すように画素電極１１を形成する。
【００７５】
次に、図１３（ｂ）および図１４（ｅ）に示すように、インクジェットヘッドから、正孔注入層形成材料を含む液状組成物を画素電極１１の表面に向けて吐出し、画素電極１１の表面に正孔注入層形成用の液状組成物を塗布した後、真空および／または熱処理、あるいは窒素ガスなどのフローにより、溶媒を除去し、正孔注入層１２ａを形成する。その際、画素電極１１の表面は、正孔注入層形成用の液状組成物に対する親液性領域３ｅとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。次に、インクジェットヘッドから、発光層形成材料を含む液状組成物を正孔注入層１の表面に向けて吐出し、正孔注入層１２ａに発光層形成用の液状組成物を塗布する。次に、真空および／または熱処理、あるいは窒素ガスなどのフローにより、溶媒を除去し、発光層１２ｂを形成する。その際、正孔注入層１２ａは、発光層形成用の液状組成物に対する親液性領域３ｂとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。このようにして、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂからなる有機機能層１２を形成する。
【００７６】
しかる後には、図１３（ｃ）に示す陰極層１５を形成する。例えば、陰極層１５として、フッ化リチウム層、およびアルミニウム層の積層膜を真空加熱蒸着などにより形成した後、封止を行う。
【００７７】
以上説明したように、本形態では、画素電極１１（塗布膜）を塗布法により形成する際には、樹脂層１７に対して親液化処理（光照射処理）を行なった領域が親液性領域３ｄとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。また、正孔注入層１２ａ（塗布膜）を塗布法により形成する際には、画素電極１１の表面が親液性領域３ｅとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。さらに、発光層１２ｂ（塗布膜）を塗布法により形成する際には、正孔注入層１２ａの表面が親液性領域３ｂとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。それ故、隔壁を形成しなくても、所定領域内に、画素電極１１、正孔注入層１２ａおよび発光層１２ｂなどの塗布膜を形成することができる。
【００７８】
［実施の形態６］
図１５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態６に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素電極を形成する直前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図、および図１５（ａ）のＡ６−Ａ６′線に相当する位置で有機ＥＬ装置を切断した様子を模式的に示す断面図である。なお、本形態は基本的な構成が実施の形態１、５と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。また、図１および図２を参照して説明した第１の基本的形態および第２の基本形態を利用する。
【００７９】
図１５（ａ）、（ｃ）に示すように、本形態の有機ＥＬ装置１００においても、実施の形態５と同様、樹脂層１７の表面のうち、画素電極１１を形成すべき領域を親液性領域３ｄとし、その周りを樹脂層１７の表面によって撥液性領域４としてある。また、本形態では、有機ＥＬ装置１００が有機ＥＬ素子１０で発光した光を陰極層１５の側から出射するトップエミッション型として構成されているため、陰極層１５は、膜厚が薄く、電気的抵抗が大きい。そこで、本形態では、実施の形態４と同様、異なる色に対応する隣接画素の間の領域には、陰極層１５の下層に補助配線１９ｂが形成され、補助配線１９ｂは、陰極層１５と電気的に接続している。このため、補助配線１９は、陰極層１５の電気的抵抗が大きいことに起因する問題を解消することができる。
【００８０】
ここで、補助配線１９ｂは、塗布法により、画素電極１１と同時形成された塗布膜であり、樹脂層１７の表面のうち、補助配線１９ｂを形成した領域については親液性領域３ｆになっており、その周りを樹脂層１７の表面からなる撥液性領域４が囲んでいる。
【００８１】
このような親液性領域３ｄ、３ｆおよび撥液性領域４を形成するにあたって、本形態では、実施の形態５と同様、樹脂層１７については撥液性樹脂材料を用いて構成するとともに、樹脂層１７の表面に親液化処理を施して親液性領域３ｄ、３ｆを形成し、樹脂層１７の表面のうち、親液化処理が施されていない領域を撥液性領域４とする。すなわち、樹脂層１７を形成するには、撥液性樹脂材料としてフッ素樹脂を用い、かかるフッ素樹脂には、親液化処理としての光照射処理により親液性が高まる酸化チタンなどの光触媒粒子が分散されている。このため、樹脂層１７の表面のうち、画素電極１１および補助配線１９ｂを形成すべき領域にＵＶ光を照射し、親液性領域３ｄ、３ｆを形成する。その際、ＵＶ光が照射されなかった領域が撥液性領域４となる。
【００８２】
そして、ＩＴＯを有機溶剤に溶解あるいは分散させた液状組成物や、ＩＴＯの前駆体を有機溶剤に溶解あるいは分散させた液状組成物をインクジェット法、ジェットディスペンサ法、あるいはディスペンサ法などの液滴塗布法や、転写法により、親液性領域３ｄ、３ｆに塗布した後、加熱処理し、図１５（ｃ）に示すように画素電極１１および補助配線１９ｂを形成する。
【００８３】
なお、本形態でも、実施の形態５と同様、正孔注入層１２ａ（塗布膜）を塗布法により形成する際には、画素電極１１の表面が親液性領域３ｅとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。また、発光層１２ｂ（塗布膜）を塗布法により形成する際には、正孔注入層１２ａの表面が親液性領域３ｂとして機能し、樹脂層１７の表面が撥液性領域４として機能する。
【００８４】
このため、隔壁を形成しなくても、図１５（ｂ）に示すように、所定領域内に、画素電極１１、正孔注入層１２ａ、発光層１２ｂ、および補助配線１９ｂなどの塗布膜を形成することができる。
【００８５】
なお、本形態では、補助配線を形成する際、実施の形態４と同様、銅、ニッケル、コバルト、銀、モリブデン、チタンなどの金属微粒子を分散媒中に分散させた液状組成物（金属微粒子分散体）をインクジェット法、ジェットディスペンサ法、あるいはディスペンサ法などの液滴塗布法や、転写法により、親液性領域３ｆに塗布した後、加熱処理して補助配線（塗布型金属膜）を形成してもよい。
【００８６】
［他の実施の形態］
上記形態では、有機ＥＬ素子１０の製造に本発明を適用したが、液晶装置（電気光学装置）に用いるカラーフィルタ基板の製造に本発明を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明の第１の基本形態を示す説明図である。
【図２】本発明の第２の基本形態を示す説明図である。
【図３】本発明を適用した有機ＥＬ装置（電気光学装置）の平面図である。
【図４】本発明を適用した有機ＥＬ装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ装置の発光領域の平面構成を模式的に示す断面図、およびそのＡ１−Ａ１′断面図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、有機機能層を形成する前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図である。
【図７】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素電極および画素分離用絶縁膜を形成した以降の工程を模式的に示す工程断面図である。
【図８】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、有機機能層を形成する前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図、および図８（ａ）のＡ２−Ａ２′線に相当する位置で有機ＥＬ装置を切断した様子を模式的に示す断面図である。
【図９】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態３に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、有機機能層を形成する前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図、および図９（ａ）のＡ３−Ａ３′線に相当する位置で有機ＥＬ装置を切断した様子を模式的に示す断面図である。
【図１０】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ装置の発光領域の平面構成を模式的に示す断面図、およびそのＡ４−Ａ４′断面図である。
【図１１】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素有機機能層を形成する前の様子を模式的に示す平面図、および補助配線を形成した後の様子を模式的に示す平面図である。
【図１２】本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素電極および画素分離用絶縁膜を形成した以降の工程を模式的に示す工程断面図である。
【図１３】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態５に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素電極を形成する直前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図、および図１３（ａ）のＡ５−Ａ５′線に相当する位置で有機ＥＬ装置を切断した様子を模式的に示す断面図である。
【図１４】本発明の実施の形態５に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、絶縁層を形成した以降の工程を模式的に示す工程断面図である。
【図１５】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態６に係る有機ＥＬ装置を製造する工程のうち、画素電極を形成する直前の様子を模式的に示す平面図、および有機機能層を形成した後の様子を模式的に示す平面図、および図１５（ａ）のＡ６−Ａ６′線に相当する位置で有機ＥＬ装置を切断した様子を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００８８】
２・・塗布膜、３ａ〜３ｆ・・親液性領域、４・・撥液性領域、５・・無機膜、１０・・有機ＥＬ素子、１０ａ・・画素、１１・・画素電極、１２・・有機機能層、１２ａ・・正孔注入層、１２ｂ・・発光層、１７・・樹脂層、１９ａ、１９ｂ・・補助配線、２０・・素子基板、２０ｂ・・基板、１００・・有機ＥＬ装置、１１０・・発光領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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