(57)【要約】【課題】比較的安価な導電性材料を用いて、製造原価を低減することができるプラズマディスプレイパネル用光学フィルタを提供する。【解決手段】本発明によるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用光学フィルタ１は、透明基材７と、透明基材７のＰＤＰ２側に設けられた電磁波シールド層４と、透明基材７と、電磁波シールド層４とを外方から囲んで保持するとともに、前面側に設けられた接地部５ａを有する金属フレーム５とを備えている。また、透明基材７および電磁波シールド層４に、透明基材７と電磁波シールド層４とを貫通する貫通穴１３が形成されている。この貫通穴１３内に、電磁波シールド層４と金属フレーム５の接地部５ａとを接続する導電性材料１０ｄが充填された導電部１０が形成されている。【選択図】図１
2009094639.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルの前面に配置されるプラズマディスプレイパネル用光学フィルタにおいて、
基材と、
基材のプラズマディスプレイパネル側に設けられた電磁波シールド層と、
基材と、電磁波シールド層とを外方から囲んで保持するとともに、前面側に設けられた接地部を有する金属フレームと、を備え、
基材および電磁波シールド層に、基材と電磁波シールド層とを貫通する貫通穴が形成され、
貫通穴内に、電磁波シールド層と金属フレームの接地部とを接続する導電性材料が充填された導電部が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【請求項２】
導電部は、基材の前面側から貫通穴内に形成される第１の導電性ペースト層と、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から貫通穴内に形成される第２の導電性ペースト層とからなることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【請求項３】
第１の導電性ペースト層の上面に、電解メッキによりメッキ層が形成されることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【請求項４】
導電部は、基材の前面側に配置され、基材の前面側から貫通穴内に充填される第１の導電性テープと、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側に配置され、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から貫通穴内に充填される第２の導電性テープとからなることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【請求項５】
第１の導電性テープおよび第２の導電性テープは、基材の前面側および電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から各々超音波接合機により充填されることを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【請求項６】
第１の導電性テープおよび第２の導電性テープは、基材の前面側および電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から各々熱ロールにより充填されることを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【請求項７】
導電部は、金属フレームの接地部に、導電性ガスケットを介して接続されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【請求項８】
貫通穴は、基材および電磁波シールド層の全周に渡って複数形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【請求項９】
各貫通穴間の間隙は、プラズマディスプレイパネルから発生する電磁波の波長よりも短いことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの前面に配置されたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタに係り、とりわけ基材と電磁波シールド層とを貫通する貫通穴内に、導電性材料が充填され、製造原価を低減することができるプラズマディスプレイパネル用光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種映像表示装置から発生される電磁波によって、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害が問題となっている。このうちプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、ＰＤＰの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電層を含む電磁波シールド層が設けられている。この電磁波シールド層の導電層において、ＰＤＰから発生する電磁波が電荷に変換され、電磁波が遮蔽されるようになっている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この電磁波シールド層は、電気的に接地されている金属フレームに、導電性テープを介して接続さている。一般に、この導電性テープは、内部に導電性粒子等を含み導電性を有する導電性接合材と導電材とからなっている。この場合、電磁波シールド層に溜まった電荷は、導電性テープの導電性接合材を通って導電材へ流れ、その後、導電性テープに接続されている金属フレームへ流れていく。このようにして、電磁波シールド層により、電磁波が遮蔽される。
【特許文献１】特開２００２−２５１１４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、導電性テープの導電性接合材は、一般に高価である。このため、ＰＤＰ用光学フィルタの製造原価を低減することが困難になっている。
【０００５】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、比較的安価な導電性材料を用いて、製造原価を低減することができるＰＤＰ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの前面に配置されるプラズマディスプレイパネル用光学フィルタにおいて、基材と、基材のプラズマディスプレイパネル側に設けられた電磁波シールド層と、基材と、電磁波シールド層とを外方から囲んで保持するとともに、前面側に設けられた接地部を有する金属フレームと、を備え、基材および電磁波シールド層に、基材と電磁波シールド層とを貫通する貫通穴が形成され、貫通穴内に、電磁波シールド層と金属フレームの接地部とを接続する導電性材料が充填された導電部が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【０００７】
本発明は、導電部は、基材の前面側から貫通穴内に形成される第１の導電性ペースト層と、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から貫通穴内に形成される第２の導電性ペースト層とからなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【０００８】
本発明は、第１の導電性ペースト層の上面に、電解メッキによりメッキ層が形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【０００９】
本発明は、導電部は、基材の前面側に配置され、基材の前面側から貫通穴内に充填される第１の導電性テープと、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側に配置され、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から貫通穴内に充填される第２の導電性テープとからなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【００１０】
本発明は、第１の導電性テープおよび第２の導電性テープは、基材の前面側および電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から各々超音波接合機により充填されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【００１１】
本発明は、第１の導電性テープおよび第２の導電性テープは、基材の前面側および電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から各々熱ロールにより充填されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【００１２】
本発明は、導電部は、金属フレームの接地部に、導電性ガスケットを介して接続されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【００１３】
本発明は、貫通穴は、基材および電磁波シールド層の全周に渡って複数形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【００１４】
本発明は、各貫通穴間の間隙は、プラズマディスプレイパネルから発生する電磁波の波長よりも短いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基材のプラズマディスプレイパネル側に電磁波シールド層が設けられ、基材と電磁波シールド層が、前面側に設けられた接地部を有する金属フレームにより外方から囲んで保持される。また、基材および電磁波シールド層に、基材と電磁波シールド層とを貫通する貫通穴が形成され、導電部が、この貫通穴内に導電性材料が充填されて形成され、電磁波シールド層と金属フレームの接地部を接続し、さらにこの導電性材料は、導電性接合材料を有する導電性テープよりも比較的安価な材料からなっている。このことにより、電磁波シールド層を、導電部を介して金属フレームの接地部に確実に電気的に接続し、電磁波シールド層を接地することができる。このため、プラズマディスプレイパネルから発生する電磁波を確実に遮蔽することができるとともに、プラズマディスプレイパネル用光学フィルタの製造原価を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
第１の実施の形態
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。ここで、図１乃至図４は、本発明の第１の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用光学フィルタを示す図である。このうち、図１は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタの構成を示す図であり、図２（ａ）は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、外光反射防止膜に導電部が設けられた状態を示す平面図であり、図２（ｂ）は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、電磁波シールド層に導電部が設けられた状態を示す平面図である。また図３は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、貫通穴が形成された状態を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図４は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタの構成を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図５は、比較例としてのＰＤＰ用光学フィルタの構成を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【００１７】
まず、図１により、本実施の形態によるＰＤＰ用光学フィルタ１について説明する。ここで、ＰＤＰ用光学フィルタ１は、ＰＤＰ２の前面に設置され、ＰＤＰ２の視認性を向上させるものである。
【００１８】
このようなＰＤＰ用光学フィルタ１は、図１に示すように、透明基材７と、透明基材７のＰＤＰ２側に設けられた電磁波シールド層４と、透明基材７の前面側に近赤外線／ネオンカット粘着材層８を介して設けられたＵＶカットフィルム９と、ＵＶカットフィルム９の前面側に設けられた外光反射防止膜１１とを備えている。また、透明基材７と、近赤外線／ネオンカット粘着材層８と、ＵＶカットフィルム９と、外光反射防止膜１１と、電磁波シールド層４とは、前面側に設けられた接地部５ａを有する金属フレーム５により、外方から囲んで保持される。
【００１９】
このうち、透明基材７と、近赤外線／ネオンカット粘着材層８と、ＵＶカットフィルム９と、外光反射防止膜１１と、電磁波シールド層４とにより、後述のように光学フィルタ積層体３が構成される。また、電磁波シールド層４は、ＰＤＰ２から放出される人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものであり、例えば開口４ａを有する銅メッシュからなっている。
【００２０】
一般的に、電磁波シールド層４としては、接地された金属メッシュが用いられるが、合成樹脂や金属繊維のメッシュに金属被覆したものを用いることもできる。電磁波シールド層４を構成する金属の材質としては、例えば銅、クロム、ニッケル、銀、モリブデン、タングステン、アルミニウムなど電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００２１】
また、図３に示すように、光学フィルタ積層体３に、光学フィルタ積層体３を貫通する貫通穴１３が形成されている。この貫通穴１３は、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、四角形状からなり、光学フィルタ積層体３の全周に渡って複数形成されている。さらに、一の貫通穴１３とこれに隣接する貫通穴１３との間の間隙（寸法ｇ）は、ＰＤＰ２から発生する電磁波の波長よりも短くなっている。
【００２２】
また、図１および図４に示すように、各々の貫通穴１３内に、電磁波シールド層４と金属フレーム５の接地部５ａとを接続する導電性材料１０ｄが充填された導電部１０が形成されている。この導電部１０は、光学フィルタ積層体３を構成する外光反射防止膜１１の前面側から各貫通穴１３内に導電性ペーストが塗布されて形成される第１の導電性ペースト層１０ａと、光学フィルタ積層体３を構成する電磁波シールド層４のＰＤＰ２側から各貫通穴１３内に導電性ペーストが塗布されて形成される第２の導電性ペースト層１０ｂとからなっている。これらの第１の導電性ペースト層１０ａは、各貫通穴１３内に充填されるとともに、かつ図２（ａ）に示すように、外光反射防止膜１１表面の全周に渡って延び、第２の導電性ペースト層１０ｂは、各貫通穴１３内に充填されるとともに、かつ図２（ｂ）に示すように、電磁波シールド層４表面の全周に渡って延びている。
【００２３】
また、第１の導電性ペースト層１０ａの上面に、電解メッキによりメッキ層１０ｃが形成されている。このメッキ層１０ｃは、例えば銅メッキにより形成されている。
【００２４】
ところで、第１の導電性ペースト層１０ａおよび第２の導電性ペースト層１０ｂを形成する導電性ペーストは、導電性金属を樹脂中に分散させたものであり、前記導電性金属の比抵抗値が０．５×１０−５Ω・ｃｍ以下となることが好ましい。
【００２５】
前記第１の導電性ペースト層１０ａおよび第２の導電性ペースト層１０ｂに用いる導電性金属としては、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、金ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属あるいはこれらの２種以上を組み合わせた合金等を使用できるが、導電性や樹脂分散の容易性、価格の点から、銀、銅、ニッケルが適している。
【００２６】
前記第１の導電性ペースト層１０ａおよび第２の導電性ペースト層１０ｂにおいて、導電性金属を分散させる前記樹脂としては、ゴム系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂または共重合体の熱可塑性樹脂を使用することができる。これらの他に、アクリルモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート等の重合性モノマーも使用できる。これらの重合性モノマーは前記熱可塑性樹脂と組み合わせて使うことができる。更に、これらの樹脂を汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤等とともに攪拌・混合して使用することができる。
【００２７】
なお、これらの重合性モノマーに、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂等の熱硬化性樹脂を添加することも可能である。これらのポリマーは必要に応じて２種以上共重合してもよいし、ブレンドして使用することも可能である。これらは通常汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散材等とともに攪拌・混合して使用することができる。
【００２８】
また、図１に示すように、金属フレーム５の接地部５ａと導電部１０との間に、導電性ガスケット６が設けられている。この導電性ガスケット６は、例えば、スポンジ状やゴム状に形成されたポリウレタンからなる芯材と、この芯材の外側を覆う銅−ニッケルメッキポリエステル織布または金属メッシュなどの導電性の材料とからなっている。このことにより、導電部１０を構成する第１の導電性ペースト層１０ａおよび第２の導電性ペースト層１０ｂは、メッキ層１０ｃおよび導電性ガスケット６を介して金属フレーム５の接地部５ａに接続されている。
【００２９】
次に、各構成部材の材料について述べる。まず、透明基材７としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルム、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルム、あるいは強化ガラスまたは半強化ガラス等を用いることができる。
【００３０】
透明基材７を構成するプラスチックフィルムは高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては、可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ＰＥＴ製のフィルムを用いることが望ましい。
【００３１】
また、近赤外線／ネオンカット粘着材層８は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能の双方の機能を有しているが、近赤外線カット機能またはネオンカット機能のいずれか一方のみの機能をもっていてもよい。
【００３２】
また、近赤外線／ネオンカット粘着材層８は、粘着性を有するアクリル樹脂と、アクリル樹脂中に含まれたＮＩＲ吸収色素およびＮｅ吸収色素とを有している。近赤外線／ネオンカット粘着材層８を構成する樹脂としては、アクリル樹脂の他、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、またはポリウレタンエステル系等の接着剤、あるいは、主成分としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、または２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を含有したアクリル系粘着剤によって形成された樹脂が挙げられる。なお、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタアクリレートの双方を意味する。接合剤層を形成するにあたっては、必要に応じて、その原料にイソシアネート系、ポリチオール系、イミド系等の硬化剤を含有させることができる。ＮＩＲ吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっており、Ｎｅ吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。また近赤外線／ネオンカット粘着材層８は、ＵＶカットフィルム９を透明基材７の前面側に接着させるものである。
【００３３】
また、ＵＶカットフィルム９は、例えば、紫外線を遮蔽、散乱、または拡散する酸化亜鉛または酸化チタンの微粒子を含む塗料をコーティングすることにより得られる。
【００３４】
また、外光反射防止膜１１は、空気とＰＤＰ用光学フィルタ１との間の屈折率差による反射を防止するとともに、ＰＤＰ２表面の反射を防止するものである。この外光反射防止膜は、光学薄膜を積層することにより構成される。
【００３５】
また、図１に示すように、電磁波シールド層４のＰＤＰ２側に、着色粘着材層１２が設けられている。この着色粘着材層１２は、ＰＤＰ用光学フィルタ１をＰＤＰ２の前面に接着させるものであり、粘着性をもつアクリル樹脂等を用いることができる。
【００３６】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわちＰＤＰ用光学フィルタ１の製造方法について説明する。
【００３７】
まず、図１および図４に示すように、透明基材７の一方（ＰＤＰ２側）の面に電磁波シールド層４を形成し、次に、透明基材７の他方（前面側）の面に近赤外線／ネオンカット粘着材層８を介してＵＶカットフィルム９および外光反射防止膜１１を順次形成する。このようにして透明基材７と、近赤外線／ネオンカット粘着材層８と、ＵＶカットフィルム９と、外光反射防止膜１１と、電磁波シールド層４とからなる光学フィルタ積層体３が得られる。
【００３８】
次に、図３に示すように、光学フィルタ積層体３に、この光学フィルタ積層体３を貫通する複数の貫通穴１３が形成される。この場合、各貫通穴１３は、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、四角形状からなり、光学フィルタ積層体３の全周に渡って複数形成され、一の貫通穴１３とこれに隣接する貫通穴１３との間の間隙（寸法ｇ）は、ＰＤＰ２から発生する電磁波の波長よりも短くなるように形成される。このことにより、ＰＤＰ２から発生する電磁波が、各貫通穴１３間の間隙を通って漏れることを防止することができる。
【００３９】
次に、図１および図４に示すように、各貫通穴１３内に充填され、電磁波シールド層４と、金属フレーム５の接地部５ａとを接続するための導電性材料１０ｄからなる導電部１０が以下のように形成される。まず、光学フィルタ積層体３を構成する外光反射防止膜１１の前面側から各貫通穴１３内に、導電性材料１０ｄとしての導電性ペーストが塗布されて硬化または乾燥され、第１の導電性ペースト層１０ａが形成される。同時に、光学フィルタ積層体３を構成する電磁波シールド層４のＰＤＰ２側から各貫通穴１３内に、導電性材料１０ｄとしての導電性ペーストが塗布されて硬化または乾燥され、第２の導電性ペースト層１０ｂが形成される。この場合、第１の導電性ペースト層１０ａと第２の導電性ペースト層１０ｂは、各貫通穴１３内において互いに接合される。また、第１の導電性ペースト層１０ａは、各貫通穴１３内に充填されるとともに、かつ図２（ａ）に示すように、外光反射防止膜１１表面の全周に渡って延びて形成され、第２の導電性ペースト層１０ｂは、各貫通穴１３内に充填されるとともに、かつ図２（ｂ）に示すように、電磁波シールド層４表面の全周に渡って延びて形成されている。
【００４０】
次に、第１の導電性ペースト層１０ａの上面に電解メッキが施されメッキ層１０ｃが形成される。このようにして、第１の導電性ペースト層１０ａと、第２の導電性ペースト層１０ｂと、メッキ層１０ｃとからなる導電部１０が得られる。メッキ層１０ｃを第１の導電性ペースト層１０ａの上面に形成することにより、メッキ層１０ｃが導電性ガスケット６（後述）に接続されるため、導電性ガスケット６と第１の導電性ペースト層１０ａとの間における抵抗値を改善することができる。
【００４１】
次に、電磁波シールド層４のＰＤＰ２側に、着色粘着材層１２が設けられ、光学フィルタ積層体３が、着色粘着材層１２を介してＰＤＰ２の前面に接着される。次に、外光反射防止膜１１前面側の導電部１０上に、導電性ガスケット６が当接される。その後、光学フィルタ積層体３を外方から囲んで保持するようにして金属フレーム５が装着される。この場合、金属フレーム５の前面側に設けられた接地部５ａは、導電性ガスケット６に当接され、電磁波シールド層４は、導電部１０および導電性ガスケット６を介して金属フレーム５の接地部５ａに接続される。このようにして、本実施の形態によるＰＤＰ用光学フィルタ１が得られる。
【００４２】
このように本実施の形態によれば、透明基材７のＰＤＰ２側に電磁波シールド層４が設けられ、光学フィルタ積層体３を構成する透明基材７と、近赤外線／ネオンカット粘着材層８と、ＵＶカットフィルム９と、外光反射防止膜１１と、電磁波シールド層４とが、前面側に設けられた接地部５ａを有する金属フレーム５により外方から囲んで保持される。また、光学フィルタ積層体３に、光学フィルタ積層体３を貫通する貫通穴１３が形成され、導電部１０が、この貫通穴１３内に導電性材料１０ｄとしての導電性ペーストが充填されて形成される。すなわち、導電部１０は、第１の導電性ペースト層１０ａと、第２の導電性ペースト層１０ｂと、メッキ層１０ｃとからなっている。このことにより、導電部１０を電磁波シールド層４に確実に電気的に接続することができる。さらに、貫通穴１３が、光学フィルタ積層体３の全周に渡って複数形成され、導電部１０は、各貫通穴１３内に充填されるとともに、光学フィルタ積層体３の全周に渡って電磁波シールド層４と金属フレーム５の接地部５ａとの間に延び、金属フレーム５の接地部５ａに導電性ガスケット６を介して接続される。このため、電磁波シールド層４が確実に接地され、ＰＤＰ２から発生する電磁波を確実に遮蔽することができるとともに、ＰＤＰ用光学フィルタ１の製造原価を低減することができる。
【００４３】
すなわち、比較例としての図５に示すＰＤＰ用光学フィルタ３０において、導電性テープ３１は、導電性接合材３１ａと導電材３１ｂとからなり、導電性テープ３１は、電磁波シールド層４のＰＤＰ２側に導電性接合材３１ａを向けて配置され、導電性テープ３１が電磁波シールド層４に接着されている。このことにより、電磁波シールド層４は、導電性テープ３１の導電性接合材３１ａを介して導電性テープ３１の導電材３１ｂと電気的に接続することができる。しかしながら、導電性接合材３１ａは比較的高価であるため、ＰＤＰ用光学フィルタ３０の製造原価を低減することが困難になっている。
【００４４】
これに対して図１および図４に示すように本発明によれば、導電部１０は、第１の導電性ペースト層１０ａと、第２の導電性ペースト層１０ｂと、メッキ層１０ｃとからなることから、導電性接合材３０ａを有する導電性テープ３１よりも比較的安価である。また、この導電部１０は、光学フィルタ積層体３を貫通する各貫通穴１３に充填され、電磁波シールド層４と金属フレーム５の接地部５ａとを接続している。このことにより、電磁波シールド層４は、導電部１０を介して金属フレーム５に確実に電気的に接続される。このように、第１の導電性ペースト層１０ａと第２の導電性ペースト層１０ｂとメッキ層１０ｃとからなる比較的安価な導電部１０を用いているため、ＰＤＰ用光学フィルタ１の製造原価を低減することができる。
【００４５】
第２の実施の形態
次に、図６および図７（ａ）、（ｂ）により、本発明の第２の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタについて説明する。ここで、図６は、本発明の第２の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、導電性テープが貼り付けられた状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図７（ａ）は、本発明の第２の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、超音波接合機により導電性テープが互いに接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図７（ｂ）は、本発明の第２の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、超音波接合機により電磁波シールド層に導電性テープが接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【００４６】
図６および図７（ａ）、（ｂ）に示す第２の実施の形態は、ＰＤＰ用光学フィルタ１において、導電部１０を構成する第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とが、超音波接合機２０によって各貫通穴１３内に充填され、互いに接合されている点が異なるのみであり、他の構成は、図１乃至図４に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、図６および図７（ａ）、（ｂ）において、図１乃至図４に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４７】
本実施の形態によれば、図６および図７（ａ）、（ｂ）に示すように、導電部１０は、光学フィルタ積層体３を構成する外光反射防止膜１１の前面側に配置され、外光反射防止膜１１の前面側から各貫通穴１３内に充填される第１の導電性テープ１５と、光学フィルタ積層体３を構成する電磁波シールド層４のＰＤＰ２側に配置され、電磁波シールド層４のＰＤＰ２側から各貫通穴１３内に充填される第２の導電性テープ１６とからなっている。
【００４８】
また、この第１の導電性テープ１５は、図６および図７（ａ）、（ｂ）に示すように第１の絶縁性接合材１５ａと、第１の導電材１５ｂとからなり、第２の導電性テープ１６は、第２の絶縁性接合材１６ａと、第２の導電材１６ｂとからなっている。このうち第１の導電材１５ｂおよび第２の導電材１６ｂは、例えばアルミ箔または銅箔からなっており、第１の絶縁性接合材１５ａおよび第２の絶縁性接合材１６ａは、例えば、アクリル系の粘着材若しくは粘着シート、または熱可塑系接着材からなっている。
【００４９】
また、図６および図７（ａ）、（ｂ）に示すように、第１の導電性テープ１５は、外光反射防止膜１１の前面側に第１の絶縁性接合材１５ａを向けて配置されるとともに、金属フレーム５の接地部５ａに第１の導電材１５ｂを向けて配置されている。また、第２の導電性テープ１６は、電磁波シールド層４のＰＤＰ２側に第２の絶縁性接合材１６ａを向けて配置されている。
【００５０】
また、図７（ａ）に示すように、各貫通穴１３内において、第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とは、超音波接合機２０によって第１の導電性テープ１５の例えばアルミ等からなる第１の導電材１５ｂと、第２の導電性テープ１６の例えばアルミ等からなる第２の導電材１６ｂとが、互いに溶着された状態で接合されている。この場合、第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とは、超音波接合機２０によって横方向に超音波振動し、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの間に介在している第１の絶縁性接合材１５ａおよび第２の絶縁性接合材１６ａが、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの間から排除され、かつ第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとが横方向に超音波振動して互いに溶着されている。このことにより、第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とが、互いに溶着された状態で接合されている。
【００５１】
また、図７（ｂ）に示すように、各貫通穴１３間における電磁波シールド層４のＰＤＰ２側の面において、第２の導電性テープ１６は、超音波接合機２０によって第２の導電材１６ｂが電磁波シールド層４に溶着された状態で電磁波シールド層４に接合されている。この場合、第２の導電性テープ１６は、超音波接合機２０によって横方向に超音波振動し、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との間に介在している第２の絶縁性接合材１６ａが、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との間から排除され、かつ第２の導電材１６ｂが横方向に超音波振動して電磁波シールド層４に溶着されている。このことにより、第２の導電性テープ１６が、各貫通穴１３間において、電磁波シールド層４に溶着された状態で電磁波シールド層４に接合されている。
【００５２】
具体的には、超音波接合機２０によって第１の導電性テープ１５および第２の導電性テープ１６を互いに接合する場合、まず、外光反射防止膜１１の前面側の全周に渡って、第１の導電性テープ１５が貼り付けられる（図２（ａ）参照）。この場合、外光反射防止膜１１の前面側に第１の導電性テープ１５の第１の絶縁性接合材１５ａが向けられて貼り付けられる。同様に、電磁波シールド層４のＰＤＰ２側の全周に渡って、第２の導電性テープ１６が貼り付けられる（図２（ｂ）参照）。この場合、電磁波シールド層４のＰＤＰ２側に第２の導電性テープ１６の第２の絶縁性接合材１６ａが向けられて貼り付けられる。
【００５３】
次に、図７（ａ）に示すように、各貫通穴１３内において、第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とが、超音波接合機２０によって第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとが互いに溶着された状態で接合される。この場合まず、例えば外光反射防止膜１１を上側にして、光学フィルタ積層体３が固定される。次に、第１の導電性テープ１５上に、超音波接合機２０の第１のロータリーヘッド２０ａが当接されるとともに、第２の導電性テープ１６上に、超音波接合機２０の第２のロータリーヘッド２０ｂが当接される。次に、超音波接合機２０内で発せられた超音波により、第１のロータリーヘッド２０ａが、第１のロータリーヘッド２０ａの移動方向に対して直交する方向に微細に振動されるとともに、第１の導電性テープ１５上を第１のロータリーヘッド２０ａが移動していく。同時に、第２のロータリーヘッド２０ｂが、第２のロータリーヘッド２０ｂの移動方向に対して直交する方向に微細に振動されるとともに、第２の導電性テープ１６上を第２のロータリーヘッド２０ｂが移動していく。
【００５４】
この間、まず、第１の導電性テープ１５および第２の導電性テープ１６は、第１のロータリーヘッド２０ａおよび第２のロータリーヘッド２０ｂが当接されることにより、貫通穴１３内に充填される。次に、第１の絶縁性接合材１５ａと第２の絶縁性接合材１６ａとが互いに当接される。次に、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの間に介在されている第１の絶縁性接合材１５ａおよび第２の絶縁性接合材１６ａが、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの間から排除される。同時に、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの当接面に摩擦が生じ、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとが互いに溶着される。
【００５５】
このようにして、第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とが、光学フィルタ積層体３の全周に渡って互いに溶着された状態で接合される（図２（ａ）、（ｂ）参照）。
【００５６】
またこの間、図７（ｂ）に示すように、各貫通穴１３間における電磁波シールド層４のＰＤＰ２側の面のうち、第２のロータリーヘッド２０ｂが当接された範囲において、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との間に介在されている第２の絶縁性接合材１６ａが、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との間から排除される。同時に、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との当接面に摩擦が生じ、第２の導電材１６ｂが電磁波シールド層４に溶着される。このようにして第２の導電性テープ１６が、各貫通穴１３間において、電磁波シールド層４の全周に渡って電磁波シールド層４に溶着された状態で電磁波シールド層４に接合される（図２（ｂ）参照）。
【００５７】
このように本実施の形態によれば、光学フィルタ積層体３に、この光学フィルタ積層体３を貫通する貫通穴１３が複数形成され、導電部１０を構成する第１の導電性テープ１５および第２の導電性テープ１６が、超音波接合機２０によって、各貫通穴１３内に充填され、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとが互いに溶着された状態で接合される。また、第２の導電性テープ１６は、超音波接合機２０によって、各貫通穴１３間において、第２の導電材１６ｂが電磁波シールド層４に溶着された状態で接合される。このことにより、導電部１０を電磁波シールド層４に確実に電気的に接続することができる。また、導電部１０は、第１の絶縁性接合材１５ａを含む第１の導電性テープ１５と、第２の絶縁性接合材１６ａを含む第２の導電性テープ１６とからなることにより、導電性接合材３１ａを有する導電性テープ３０（図５参照）よりも比較的安価である。このため、ＰＤＰ用光学フィルタ１の製造原価を低減することができる。
【００５８】
第３の実施の形態
次に、図８（ａ）、（ｂ）により、本発明の第３の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタについて説明する。ここで、図８（ａ）は、本発明の第３の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、熱ロールにより導電性テープが互いに接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図８（ｂ）は、本発明の第３の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、熱ロールにより電磁波シールド層に導電性テープが接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【００５９】
図８（ａ）、（ｂ）に示す第３の実施の形態は、ＰＤＰ用光学フィルタ１において、導電部１０を構成する第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とが、熱ロール２１によって各貫通穴１３内に充填され、互いに接合されている点が異なるのみであり、他の構成は、図６および図７（ａ）、（ｂ）に示す第２の実施の形態と略同一である。なお、図８（ａ）、（ｂ）において、図６および図７（ａ）、（ｂ）に示す第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００６０】
本実施の形態によれば、図８（ａ）に示すように、各貫通穴１３内において、導電部１０を構成する第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とは、熱ロール２１によって第１の導電性テープ１５の第１の絶縁性接合材１５ａと、第２の導電性テープ１６の第２の絶縁性接合材１６ａとが、互いに接着された状態で接合されている。この場合、第１の導電性テープ１５の第１の導電材１５ｂと第２の導電性テープ１６の第２の導電材１６ｂとの間に介在している第１の絶縁性接合材１５ａおよび第２の絶縁性接合材１６ａが、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの間から排除され、かつ第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとが互いに当接されている。このことにより、第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とが、互いに接着された状態で接合されている。
【００６１】
また、図８（ｂ）に示すように、各貫通穴１３間における電磁波シールド層４のＰＤＰ２側の面において、第２の導電性テープ１６は、熱ロール２１によって第２の絶縁性接合材１６ａが電磁波シールド層４に接着された状態で電磁波シールド層４に接合されている。この場合、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との間に介在している第２の絶縁性接合材１６ａが、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との間から排除され、かつ第２の導電材１６ｂが電磁波シールド層４に当接されている。このことにより、第２の導電性テープ１６が、各貫通穴１３間において、電磁波シールド層４に接着された状態で電磁波シールド層４に接合されている。
【００６２】
具体的には、図８（ａ）に示すように、各貫通穴１３内において、熱ロール２１によって第１の導電性テープ１５および第２の導電性テープ１６を互いに接合する場合、まず、例えば外光反射防止膜１１を上側にして、光学フィルタ積層体３が固定される。次に、第１の導電性テープ１５上に、凸部が形成された熱ロール２１の第１のローレットヘッド２１ａが加熱されて当接されるとともに、第２の導電性テープ１６上に、凸部が形成された熱ロール２１の第２のローレットヘッド２１ｂが加熱されて当接される。ここで、凸部は熱ロール２１の第１のローレットヘッド２１ａおよび第２のローレットヘッド２１ｂの表面に軸方向に帯状に延びて各々形成されている。次に、第１の導電性テープ１５上を第１のローレットヘッド２１ａが移動していくとともに、第２の導電性テープ１６上を第２のローレットヘッド２１ｂが移動していく。
【００６３】
この間、まず、第１の導電性テープ１５および第２の導電性テープ１６は、第１のローレットヘッド２１ａおよび第２のローレットヘッド２１ｂが当接されることにより、各貫通穴１３内に各々充填される。次に、第１の絶縁性接合材１５ａと第２の絶縁性接合材１６ａとが互いに当接される。また、第１のローレットヘッド２１ａおよび第２のローレットヘッド２１ｂが各々当接された第１の絶縁性接合材１５ａおよび第２の絶縁性接合材１６ａは加熱され、第１の絶縁性接合材１５ａおよび第２の絶縁性接合材１６ａの粘度が各々低下する。このため、第１の導電性テープ１５のうち第１のローレットヘッド２１ａの外周面の凸部が当接された範囲と、第２の導電性テープ１６のうち第２のローレットヘッド２２ｂの外周面の凸部が当接された範囲とにおいて、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの間に介在されている第１の絶縁性接合材１５ａおよび第２の絶縁性接合材１６ａが、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの間から排除される。同時に、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとが互いに当接される。
【００６４】
その後、第１のローレットヘッド２１ａおよび第２のローレットヘッド２１ｂが離れると、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとの間から排除された第１の絶縁性接合材１５ａおよび第２の絶縁性接合材１６ａは、冷却されて固化される。このようにして、第１の導電性テープ１５と第２の導電性テープ１６とが、光学フィルタ積層体３の全周に渡って互いに接着された状態で接合される（図２（ａ）、（ｂ）参照）。
【００６５】
またこの間、図８（ｂ）に示すように、各貫通穴１３間における電磁波シールド層４のＰＤＰ２側の面のうち、第２のローレットヘッド２１ｂの外周面の凸部が当接された範囲において、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との間に介在されている第２の絶縁性接合材１６ａが、第２の導電材１６ｂと電磁波シールド層４との間から排除され、第２の導電材１６ｂが電磁波シールド層４に当接される。このようにして第２の導電性テープ１６が、各貫通穴１３間において、電磁波シールド層４の全周に渡って電磁波シールド層４に接着された状態で電磁波シールド層４に接合される（図２（ｂ）参照）。
【００６６】
このように本実施の形態によれば、光学フィルタ積層体３に、この光学フィルタ積層体３を貫通する貫通穴１３が複数形成され、導電部１０を構成する第１の導電性テープ１５および第２の導電性テープ１６が、熱ロール２１によって、各貫通穴１３内に充填され、第１の導電材１５ｂと第２の導電材１６ｂとが互いに当接されるとともに、第１の絶縁性接合材１５ａと第２の絶縁性接合材１６ａとが互いに接着された状態で接合される。また、第２の導電性テープ１６は、熱ロール２１によって、各貫通穴１３間において、第２の導電材１６ｂが電磁波シールド層４に当接されるとともに、第２の絶縁性接合材１６ａが電磁波シールド層４に接着された状態で接合される。このことにより、導電部１０を電磁波シールド層４に確実に電気的に接続することができる。また、導電部１０は、第１の絶縁性接合材１５ａを含む第１の導電性テープ１５と、第２の絶縁性接合材１６ａを含む第２の導電性テープ１６とからなることにより、導電性接合材３１ａを有する導電性テープ３０（図５参照）よりも比較的安価である。このため、ＰＤＰ用光学フィルタ１の製造原価を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタの構成を示す図である。
【図２】図２（ａ）は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、外光反射防止膜に導電部が設けられた状態を示す平面図であり、図２（ｂ）は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、電磁波シールド層に導電部が設けられた状態を示す平面図である。
【図３】図３は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、貫通穴が形成された状態を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【図４】図４は、本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタの構成を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【図５】図５は、比較例としてのＰＤＰ用光学フィルタの構成を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【図６】図６は、本発明の第２の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、導電性テープが貼り付けられた状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【図７】図７（ａ）は、本発明の第２の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、超音波接合機により導電性テープが互いに接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図７（ｂ）は、本発明の第２の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、超音波接合機により電磁波シールド層に導電性テープが接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【図８】図８（ａ）は、本発明の第３の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、熱ロールにより導電性テープが互いに接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図８（ｂ）は、本発明の第３の実施の形態におけるＰＤＰ用光学フィルタにおいて、熱ロールにより電磁波シールド層に導電性テープが接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
【符号の説明】
【００６８】
１      ＰＤＰ用光学フィルタ
２      ＰＤＰ
３      光学フィルタ積層体
４      電磁波シールド層
４ａ    開口
５      金属フレーム
５ａ    接地部
６      導電性ガスケット
７      透明基材
８      近赤外線／ネオンカット粘着材層
９      ＵＶカットフィルム
１０    導電部
１０ａ  第１の導電性ペースト層
１０ｂ  第２の導電性ペースト層
１０ｃ  メッキ層
１０ｄ  導電性材料
１１    外光反射防止膜
１２    着色粘着材層
１３    貫通穴
１５    第１の導電性テープ
１５ａ  第１の絶縁性接合材
１５ｂ  第１の導電材
１６    第２の導電性テープ
１６ａ  第２の絶縁性接合材
１６ｂ  第２の導電材
２０    超音波接合機
２０ａ  第１のロータリーヘッド
２０ｂ  第２のロータリーヘッド
２１    熱ロール
２１ａ  第１のローレットヘッド
２１ｂ  第２のローレットヘッド
３０    ＰＤＰ用光学フィルタ
３１    導電性テープ
３１ａ  導電性接合材
３１ｂ  導電材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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