(57)【要約】【課題】  薄型化により光源との距離が短縮されても、輝度低下を起こさず、十分な均斉度をもった出光が可能で、光利用効率の向上ならびに一体化や省部材化による生産性向上も兼ね備えた光拡散体とその製造方法、およびかかる光拡散体を用いた面発光装置、表示装置及び照明装置を提供する。【解決手段】  出光面側の最表面に異方性拡散または等方性拡散の凹凸構造を有し、かつ該凹凸構造より入光面側に放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡層を一層以上積層し、かつ該発泡層の気泡密度が所定の分布パターンを有することを特徴とする光拡散体であり、前記発泡層の気泡占有面積率が６５％以下の範囲で分布し、さらに気泡占有面積率が０．５％以下である低発泡領域と１％以上である高発泡領域とを有することが好ましい。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
出光面側の最表面に異方性拡散または等方性拡散の凹凸構造を有し、かつ該凹凸構造より入光面側に放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡層を一層以上積層し、かつ該発泡体の気泡密度が所定の分布パターンを有することを特徴とする光拡散体。
【請求項２】
前記発泡層の気泡占有面積率が６５％以下の範囲で分布する請求項１に記載の光拡散体。
【請求項３】
前記発泡層が、気泡占有面積率が０．５％未満である低発泡領域と１％以上である高発泡領域とを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光拡散体。
【請求項４】
請求項３に記載の低発泡領域と高発泡領域との間に、両領域の間をつなぐように、低発泡領域に隣接する側から高発泡領域に隣接する側に向かって気泡占有面積率が漸増する中発泡領域を備えることを特徴とする光拡散体。
【請求項５】
前記発泡層は、高発泡領域と低発泡領域を含む１以上の区域から成り、該区域中において高発泡領域または低発泡領域の一方が連続相をなし、他方が複数の非連続ドメインを形成していることを特徴とする請求項１から請求項４に記載の光拡散体。
【請求項６】
請求項１から請求項５の何れかに記載の発泡層の光線反射率が、前記気泡の分布パターンに沿って０％から９９.５％の範囲で分布していることを特徴とする光拡散体。
【請求項７】
請求項１から請求項６の何れかに記載の発泡層が透光性支持体の表面上に設けられていることを特徴とする光拡散体。
【請求項８】
前記発泡体からなり気泡占有面積率が１５％以上である光反射部を、前記光拡散部の表面の一部に隣接して備える請求項１から請求項７の何れかに記載の光拡散体。
【請求項９】
導光部を前記発泡層よりも入光側に備える請求項１から請求項８の何れかに記載の光拡散体。
【請求項１０】
前記発泡層が、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を発泡させたものである請求項１から請求項９の何れかに記載の光拡散体。
【請求項１１】
前記異方性拡散の凹凸構造が蛇行した波状の凹凸パターンであって、凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０以上であることを特徴とする請求項1から請求項１０の何れかに記載の光拡散体。
【請求項１２】
入光側の最表面に反射防止性能のある凹凸構造を有する請求項1から請求項１１の何れかに記載の光拡散体。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２の何れかに記載の光拡散体の製造方法であって、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形体に放射線エネルギー及び熱エネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備え、（ａ）前記成形体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（ｃ）前記成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発生剤の濃度のいずれか１以上が、所定の不均一分布とされていることを特徴とする光拡散体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１から請求項１３の何れかに記載の光拡散体と、該光拡散体の１表面に近接ないし接触して配置された光源とを備える面発光装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の面発光装置を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載の面発光装置を備えることを特徴とする照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光拡散体、並びにこれを用いた面発光装置、液晶表示装置等の表示装置及び
照明装置に関する。さらに詳しくは、出光面側の最表面に光拡散性の凹凸構造を有し、かつ該光拡散構造より入光面側に光拡散性の発泡層を一層以上積層し、かつ該発泡層の気泡が分布パターンを有することを特徴とする光拡散体及びその製造方法、並びにこれを用いた面発光装置、表示装置及び照明装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光拡散体は、光源からの光を拡散させる機能を有し、光源表面や面発光装置の光学部材として使用されている。例えば、特許文献１に記載のＬＥＤ光源ユニットの表面に被覆された光拡散体、特許文献２から特許文献６に記載の直下型バックライトに搭載された光拡散体、特許文献７に記載のエッジ型バックライトに搭載された光拡散体などが挙げられる。
直下型バックライトで光源自体の輝線、エッジ型バックライトでは光源近傍に発生する輝度の明暗（目玉現象）や光出射面内の輝線暗線模様における輝度むらを各々解消して、視認される出射面における輝度の均一化を図ったものである。
拡散体の構成としては、拡散剤を均一に分布させたタイプと不均一に分布させたタイプの二つのグループに大きく分けられる。前者グループは、顔料や樹脂ビーズからなる拡散剤をマトリックス樹脂に内添したものであり、光源からの光をランダムに拡散させる。一方、後者グループは光拡散剤が入ったインクによるパターン印刷や、光隠蔽性もしくは光反射性膜をパターン被覆したものが一般的に挙げられ、光源からの光を前者よりも効率よく均一化させることが可能である。
これら光拡散体を備えた面発光装置は、液晶表示装置のバックライトや照明装置の面発光装置に広く使用されている。とくに液晶表示装置が搭載される用途は、近年飛躍的に広がり、携帯電話やデジタルカメラ、カーナビゲーション、パーソナルコンピューター、テレビジョン、ゲーム機器などが挙げられる。
【特許文献１】特開２００６ー１８２６１号公報
【特許文献２】特開２００４−２７１５６７号公報
【特許文献３】特開平１１−２１２０９０号公報
【特許文献４】特開２０００−１６２４１１号公報
【特許文献５】特開平５−４７７号公報
【特許文献６】特開２００６ー３０９１０号公報
【特許文献７】特開２００２−２２９６５号公報
【特許文献８】特開２００４−３２５９５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
液晶表示装置のように表示品位を最重要視する用途に用いられる面発光装置、とくにバックライトでは、輝度にむらや偏りがあっては本来の品位を損ねてしまう。そのため、光源からの光を均一に出光させるための光拡散体の活用が非常に重要となっている。また、液晶表示装置は、携帯電話やデジタルカメラなどにみられるポータブル性能を付与した傾向が強まっていることからも、軽薄短小のニーズが強い。そのため、面光源装置、そして搭載される光拡散体およびその周辺光学部材において、薄物化や省部材化も強く求められている。さらには、高輝度化についても常なる要求物性となっている。
例えば、直下型バックライトにおいては光源近傍で輝度が明るくなってしまうのを防ぐため、光拡散体が使われている。しかし、その中で、従来の光拡散体は次に述べる課題を持っている。まず、顔料や樹脂ビーズからなる拡散剤をマトリックス樹脂に内添したタイプでは、均一拡散させるために光拡散体と光源との距離をある程度離さなければ均一出光とならない。面光源装置自体を薄物化しようとする場合、その距離は短くする方がよいが、均一発光を考慮するとその距離を縮めるには限界があった。すなわち薄型化に限界があ
った。また、拡散剤とマトリクスのマッチングで拡散性能をあげても、光線透過率が低下してしまい発光利用効率が悪くなるという悪循環な傾向にあった。
もう一つの光拡散体として、光遮蔽あるいは光拡散インクによるパターン加工をしたタイプでは、前記の拡散剤内添した光拡散体に比べて発光利用効率アップや光源との距離を縮めやすい傾向にある。しかしながら、精度限界から、数１００μｍ以上の大きいパターン加工となり、そのままではパターンが視認されやすかった。したがって、そのパターンを視認されにくく、かつ、ぼかすためには、前記の拡散剤内添した光拡散体を併用しなければならなず、省部材のニーズを満足しうるものではなかった。さらには、パターン加工にはスクリーン印刷などの印刷形式が使用されていることから、印刷はがれや遮蔽インクの紫外線による劣化や色温度変化による表示性能の低下も起こっていた。
以上のことから、従来の光拡散体では、液晶表示装置のような面発光装置における要求を十分に満足させるのには限度があった。なお、特許文献８には内部に気泡が設けられた素材からなる板状の基材と当該基材の光源側に光を均一化するパターン郡が形成された拡散板が例示されているが、均一に気泡が分散しただけの状態では、バックライトユニットの薄型化にともなう光源との距離の短縮化には対応できず、均一な輝度分布を得られるものではなく、さらに光源側に光を均一化するパターン郡を形成しても、十分な拡散性を得られず、輝度の均一化には不十分であった。
本発明は、上記事情に鑑みて、薄型化により光源との距離が短縮されても、輝度低下を起こさず、十分な輝度の均一性をもった出光が可能で、光利用効率の向上ならびに一体化や省部材化による生産性向上も兼ね備えた光拡散体とその製造方法、およびかかる光拡散体を用いた面発光装置、表示装置及び照明装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、出光面側の最表面に異方性拡散または等方性拡散の凹凸構造を有し、かつ該凹凸構造より入光面側に放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡層を一層以上積層し、かつ該発泡層の気泡密度が所定の分布パターンを設けた。その結果、薄型化による光源との距離短縮において発泡層のパターン化だけでは十分な輝度の均一性が得られないところ、異方性拡散または等方性拡散の凹凸構造の付与により、輝度低下を起こさず、均一性も十分な性能を有し、さらに一体化や省部材化による生産性向上も兼ね備えた光拡散体を得られることを見いだした。すなわち、本発明は上記課題を解決するため、以下の［１］〜［１６］構成を採用した。
【０００５】
［１］  出光面側の最表面に異方性拡散または等方性拡散の凹凸構造を有し、かつ該凹凸構造より入光面側に放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡層を一層以上積層し、かつ該発泡体の気泡密度が所定の分布パターンを有することを特徴とする光拡散体。
［２］  前記発泡層の気泡占有面積率が６５％以下の範囲で分布する［１］に記載の光拡散体。
［３］  前記発泡層が、気泡占有面積率が０．５％未満である低発泡領域と１％以上である高発泡領域とを有することを特徴とする［１］又は［２］に記載の光拡散体。
［４］［３］に記載の低発泡領域と高発泡領域との間に、両領域の間をつなぐように、低発泡領域に隣接する側から高発泡領域に隣接する側に向かって気泡占有面積率が漸増する中発泡領域を備えることを特徴とする光拡散体。
［５］  前記発泡層は、高発泡領域と低発泡領域を含む１以上の区域から成り、該区域中において高発泡領域または低発泡領域の一方が連続相をなし、他方が複数の非連続ドメインを形成していることを特徴とする［１］から［４］に記載の光拡散体。
［６］［１］から［５］の何れかに記載の発泡層の光線反射率が、前記気泡の分布パターンに沿って０％から９９.５％の範囲で分布していることを特徴とする光拡散体。
［７］［１］から［６］の何れかに記載の発泡層が透光性支持体の表面上に設けられていることを特徴とする光拡散体。
［８］  前記発泡体からなり気泡占有面積率が１５％以上である光反射部を、前記光拡散部の表面の一部に隣接して備える［１］から［７］の何れかに記載の光拡散体。
［９］  導光部を発泡層よりも入光側に備える［１］から［８］の何れかに記載の光拡散体。
［１０］  前記発泡層が、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を発泡させたものである［１］から［９］の何れかに記載の光拡散体。
［１１］  前記異方性拡散構造が蛇行した波状の凹凸パターンであって、凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０以上であることを特徴とする［１］から［１０］の何れかに記載の光拡散体。
［１２］  入光側の最表面に反射防止性能のある凹凸構造を有する［１］から［１１］の何れかに記載の光拡散体。
［１３］  ［１］から［１２］の何れかに記載の光拡散体の製造方法であって、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形体に放射線エネルギー及び熱エネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備え、（ａ）前記成形体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（ｃ）前記成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発生剤の濃度のいずれか１以上が、所定の不均一分布とされていることを特徴とする光拡散体の製造方法。
［１４］［１］から［１３］の何れかに記載の光拡散体と、該光拡散体の１表面に近接ないし接触して配置された光源とを備える面発光装置。
［１５］［１４］に記載の面発光装置を備えることを特徴とする表示装置。
［１６］［１４］に記載の面発光装置を備えることを特徴とする照明装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、光源からの不均一な輝度分布（あるいは照度分布）をもつ偏った出光を均一にさせるだけでなく、薄物化と、一体化や省部材化による光利用効率の向上と生産性向上もともに両立する光拡散体とその製造方法、およびかかる光拡散体を用いた面発光装置、表示装置及び照明装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
＜発泡性組成物＞
（発泡性組成物の種類）
本発明の光拡散体を構成する発泡層は、発泡性組成物に放射線エネルギーおよび熱エネルギーを付与して発泡させたものである。
このような発泡性組成物の具体的な例としては、（Ａ）光照射によってガスを発生させる光発泡性化合物や、（Ｂ）光重合性化合物と熱発泡性化合物を組み合わせたもの（特許３４２２３８４号公報、特開平５−４７７号公報参照）、（Ｃ）放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤と、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物とを含有する発泡性組成物（特開２００４−２８１２号公報参照）を含む。
とりわけ、（Ｃ）の発泡性組成物（以下「組成物（Ｃ）」という。）は、気泡の直径を１０μｍ以下にすることができ、かつ、気泡分布パターンを広範囲に精密制御できるので好ましい。
【０００８】
組成物（Ｃ）は、放射線エネルギー及び熱エネルギーの作用により発泡性が発現する組成物である。その発泡性組成物は、少なくとも次の２つの成分を含有する。
その一つは、放射線エネルギーの作用によって酸を発生する酸発生剤、または塩基を発生する塩基発生剤である。他の一つは、前記発生した酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性化合物を分解脱離する分解発泡性化合物である。
【０００９】
（酸発生剤及び塩基発生剤）
組成物（Ｃ）に用いられる酸発生剤又は塩基発生剤には、一般的に化学増幅型フォトレジスト、及び光カチオン重合などに利用されている光酸発生剤や光塩基発生剤と呼ばれているものを用いることができる。
【００１０】
組成物（Ｃ）に好適な光酸発生剤としては、
（１）ジアゾニウム塩系化合物
（２）アンモニウム塩系化合物
（３）ヨードニウム塩系化合物
（４）スルホニウム塩系化合物
（５）オキソニウム塩系化合物
（６）ホスホニウム塩系化合物
などから選ばれた芳香族もしくは脂肪族オニウム化合物のＰＦ6−、ＡｓＦ6−、ＳｂＦ6−、ＣＦ3ＳＯ3−塩を挙げることができる。その具体例を下記に列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。
【００１１】
ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｐ−メチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、
ベンゾイルフェニルスルホニルジアゾメタン、
【００１２】
トリフルオロメタンスルホネート、
トリメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
２，４，６−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ｐ−トリルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
１−（２−ナフトイルメチル）チオラニウムヘキサフルオロアンチモネート、
１−（２−ナフトイルメチル）チオラニウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
（２−オキソ−１−シクロヘキシル)(シクロヘキシル）メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
（２−オキソ−１−シクロヘキシル）（２−ノルボルニル）メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムパーフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウムパーフルオロオクタンスルホネート、
ジフェニル−４−メトキシフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、
【００１３】
ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−４−メトキシフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−４−イソプロピルフェニルスルホニウムトシレート
【００１４】
ジフェニルヨードニウム、
ジフェニルヨードニウムトシレート、
ジフェニルヨードニウムクロライド、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ジフェニルヨードニウムナイトレート、
ジフェニルヨードニウムパークロレート、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
【００１５】
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、
【００１６】
２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリ（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−フェニル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−(ｐ−メトキシフェニル)−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−ナフチル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−ビフェニル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（４’−ヒドロキシ−４−ビフェニル）−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（４’−メチル−４−ビフェニル）−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシ−１−ナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（ベンゾ［ｄ］［１，３］ジオキソラン−５−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（３，４，５−トリメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（３，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−メトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−ブトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
【００１７】
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリリウムトリフロオロメタンスルホネート、
トリメチルオキシニウムテトラフロオロボレート、
トリエチルオキシニウムテトラフロオロボレート、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ−ヒドロキシナフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
（α−ベンゾイルベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（β−ベンゾイル−β−ヒドロキシフェネチル）ｐ−トルエンスルホネート、
１，２，３−ベンゼントリイルトリスメタンスルホネート、
（２，６−ジニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（２−ニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（４−ニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
などが挙げられる。なかでも、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物が好ましい。
【００１８】
また、前記オニウム化合物以外にも、活性エネルギー線照射によりスルホン酸を光発生するスルホン化物、例えば２−フェニルスルホニルアセトフェノン、活性エネルギー線照射によりハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物、例えば、フェニルトリブロモメチルスルホン、及び１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、並びに活性エネルギー線照射により燐酸を光発生するフェロセニウム化合物、例えば、ビス（シクロペンタジエニル）フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェート、及びビス（ベンジル）フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェートなどを用いることができる。
【００１９】
さらには、下記に挙げる酸発生能を有するイミド化合物誘導体も使用できる。
Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフタルイミド、
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ナフタルイミド。
【００２０】
組成物（Ｃ）に好適な光塩基発生剤としては、
（１）オキシムエステル系化合物
（２）アンモニウム系化合物
（３）ベンゾイン系化合物
（４）ジメトキシベンジルウレタン系化合物
（５）オルトニトロベンジルウレタン系化合物
などが挙げられ、これらは光エネルギーの照射により塩基としてアミンを発生する。その他にも、光の作用によりアンモニアやヒドロキシイオンを発生する塩基発生剤を用いてもよい。これらは、例えばＮ−（２−ニトロペンジルオキシカルボニル）ピペリジン、１，３−ビス〔Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−ピペリジル〕プロパン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ジヘキシルアミン、及びＯ−ベンジルカルボニル−Ｎ−（１−フェニルエチリデン）ヒドロキシルアミンなどから選ぶことができる。さらには加熱により塩基が発生する化合物を上記光塩基発生剤と併用してもよい。
【００２１】
また、光酸発生剤または光塩基発生剤が活性化する光エネルギーの波長領域をシフトまたは拡大するために、適宜光増感剤を併用してもよい。例えば、オニウム塩化合物に対する光増感剤には、アクリジンイエロー、ベンゾフラビン、アクリジンオレンジなどが挙げられる。
【００２２】
必要な酸を生成しながらも酸発生剤または塩基発生剤の添加量や光エネルギーを最小限に抑制するために、酸増殖剤や塩基増殖剤（Ｋ．Ｉｃｈｉｍｕｒａ ｅｔ ａｌ.,Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，５５１−５５２（１９９５）、特開平８−２４８５６１号公報、特開２０００−３３０２７００号公報参照 ）を酸発生剤または塩基発生剤とともに用いることができる。酸増殖剤は、常温付近で熱力学的に安定であるが、酸によって分解し、自ら強酸を発生し、酸触媒反応を大幅に加速させる。この反応を利用することにより、酸または塩基の発生効率を向上させて、発泡生成速度や発泡構造をコントロールすることも可能である。
【００２３】
（分解発泡性化合物）
組成物（Ｃ）に用いられる分解発泡性化合物（以下、分解性化合物と略す）は、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質（低沸点揮発性化合物）が分解脱離する化合物である。
低沸点とは、発泡時にガス化が可能な沸点、すなわち、発泡時の温度よりも低い沸点を有することを意味する。低沸点揮発性物質の沸点は、通常１００℃以下であり、常温以下であることが好ましい。
低沸点揮発性物質としては、例えばイソブテン（沸点；−７℃） 、二酸化炭素（沸点；−７９℃）、窒素（沸点；−１９６℃）などがあげられる。
【００２４】
分解性化合物には、低沸点揮発性物質を発生し得る分解性官能基があらかじめ導入されていなければならない。
分解性官能基の内、酸と反応するものとしては、−O−ｔBuの構造式で示されるｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、−CO−O−ｔBuの構造式で示されるｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、−O−CO−O−ｔBu の構造式で示されるｔｅｒｔ−ブチルカーボネート基、ケト酸およびケト酸エステル基などが挙げられる。このとき、−ｔBuは−C(CH3)3を示す。酸と反応して、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基およびｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基はイソブテンガスを、ｔｅｒｔ−ブチルカーボネート基はイソブテンガスと二酸化炭素を、ケト酸部位は二酸化炭素を、ケト酸エステルたとえばケト酸ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基は二酸化炭素とイソブテンガスを発生する。
塩基と反応するものとしては、ウレタン基、カーボネート基などが挙げられる。塩基と反応して、ウレタン基、カーボネート基は二酸化炭素ガスを発生する。
【００２５】
分解性化合物の形態は、モノマー、オリゴマー、高分子化合物（ポリマー）の何れであってもよい。分解性化合物は、以下のような化合物群に分類することができる。
（１）非硬化性低分子系の分解性化合物群
（２）硬化性低分子系の分解性化合物群
（３）高分子系の分解性化合物群
【００２６】
（１）の非硬化性低分子系の分解性化合物群は、放射線エネルギーを付与しても、重合反応を生じない低分子系の分解性化合物群である。（２）の硬化性低分子系の分解性化合物群は、放射線エネルギーの付与により重合反応を生じて硬化するような化合物群であり、たとえばビニル基のような重合性基を含んでいる。また、（３）の高分子系の分解性化合物群は、すでに重合体となっている高分子化合物（ポリマー）である。
上記分解性化合物群は単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。
（２）の硬化性低分子系の分解性化合物群、または（３）の高分子系の分解性化合物群を用いると、均一な微細気泡の形成が容易であり、強度的に優れた発泡体を得ることが可能であり好ましい。以下に分解性化合物の具体例を列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。
【００２７】
（１）−ａ、非硬化性低分子系の分解性化合物群（酸分解性）
１−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−エトキシエタン、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フタルイミド、
２，２−ビス[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル]プロパンなど
（１）−ｂ、非硬化性低分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）ピペリジンなど
【００２８】
（２）−ａ、硬化性低分子系の分解性化合物群（酸分解性）
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルアクリレート、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル）フェニルアクリレート、
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルアクリレート、
４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−８−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジルアクリレート、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチルアクリレート、
６−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ヘキシルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベンジルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチル）ベンジルアクリレート、
（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）アクリレート、
（３−ｔｅｒｔ−ブトキシプロピル）アクリレート、
（１−ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ−１−メチル）エチルアクリレート、
３，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）プロピルアクリレート、
４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）ブチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、
ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、
ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、
アクリロイル酢酸、メタクロイル酢酸、
ｔｅｒｔ−ブチルアクロイルアセテート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクロイルアセテートなど
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）マレイミド
【００２９】
（２）−ｂ、硬化性低分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
４−［（１、１−ジメチル−２−シアノ）エトキシカルボニルオキシ］スチレン、
４−[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレ
ン、
４−[（１、１−ジメチル−２−メトキシカルボニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレ
ン、
４−（２−シアノエトキシカルボニルオキシ）スチレン、
（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エチルメタクリレート、
（１、１−ジメチル−２−シアノ）エチルメタクリレートなど
【００３０】
（３）−ａ、高分子系の分解性化合物群（酸分解性）
ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）、
ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）、
ポリ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルアクリレート）、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル）フェニルアクリレート]、
ポリ[１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルアクリレート]、
ポリ｛４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−８−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン｝、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジルアクリレート]、
ポリ[２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチルアクリレート]、
ポリ[６−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ヘキシルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベンジルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチル）ベンジルアクリレート]、
ポリ（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルアクリレート）、
ポリ（３−ｔｅｒｔ−ブトキシプロピルアクリレート）、
ポリ[（１−ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ−１−メチル）エチルアクリレート]、
ポリ[３，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）プロピルアクリレート]、
ポリ[４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）ブチルアクリレート]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン]、
ポリ[ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン]、
ポリ[ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリ[ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリアクリロイル酢酸、ポリメタクロイル酢酸、
ポリ[ｔｅｒｔ−ブチルアクロイルアセテート]、
ポリ[ｔｅｒｔ−ブチルメタクロイルアセテート]
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）マレイミド／スチレン共重合体など
【００３１】
（３）−ｂ、高分子系の分解性化合物群（塩基分解性）
ポリ｛ｐ−［（１、１−ジメチル−２−シアノ）エトキシカルボニルオキシ］スチレン｝、
ポリ｛ｐ−[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレン｝、
ポリ｛ｐ−[（１、１−ジメチル−２−メトキシカルボニル）エトキシカルボニルオキシ]スチレン｝、
ポリ[ｐ−（２−シアノエトキシカルボニルオキシ）スチレン]、
ポリ[（１、１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エチルメタクリレート]、
ポリ[（１、１−ジメチル−２−シアノ）エチルメタクリレート]、
【００３２】
分解性官能基を導入したポリエーテル、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、デンドリマーなどの有機系高分子化合物も酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物として用いることができる。さらには、シリカなどの無機系化合物に分解性官能基を導入した酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物も用いることができる。なかでも、分解性官能基は、カルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる官能基を有する化合物群に導入されることが好ましい。
【００３３】
発泡体の耐水性をあげるために、少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物を用いることもできる。疎水性官能基は、主に脂肪族基、脂肪環族基、芳香族基、ハロゲン基、ニトリル基からなる群の中から選ばれることが好ましい。
ただし、分解発泡性官能基は、主にカルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる親水性官能基に導入されやすいので、分解性化合物としては、親水性官能基に分解発泡性官能基を導入した分解性ユニットと、疎水性官能基を含む疎水性ユニットからなる複合化合物が好ましい。特に、ビニル系の共重合体化合物であることが好ましい。
疎水性ユニットとしては、メチル（メタ）アクリレートやエチル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート群、スチレン、メチルスチレン、ビニルナフタレンなどの芳香族ビニル化合物群、（メタ）アクリロニトリル化合物群、酢酸ビニル化合物群、塩化ビニル化合物群などが挙げられる。
【００３４】
分解性ユニットと疎水性ユニットの複合化合物からなる分解性化合物の具体例を以下に示す。
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／メチルアクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／メチルメタクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／メチルアクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタアクリレート／メチルメタクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／エチルメタクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／エチルアクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／エチルメタクリレート共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／スチレン共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／塩化ビニル共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／アクリロニトリル共重合体、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン／スチレン共重合体。
【００３５】
また、分解性化合物中の分解性ユニットおよび疎水性ユニットは、一種単独でまたは２種以上併用することができる。共重合の形式は、ランダム共重合、ブロック共重合、グラフト共重合などの任意の形式をとることができる。また、疎水性ユニットの共重合比は、分解性化合物全量に対して５〜９５質量％であることが好ましく、分解性化合物の分解発泡性および発泡構造の環境保存性を勘案すると、２０〜８０質量％がより好ましい。上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。上記分解性化合物は、分解発泡性官能基が分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物となる。
【００３６】
発泡体の耐水性をあげるために、発泡性組成物として、温度３０℃相対湿度６０％の環境雰囲気下においてＪＩＳＫ７２０９Ｄ法で測定した平衡吸水率が１０％未満の低吸湿性化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物を用いることもできる。分解発泡性官能基を導入しやすい構造を有する低吸湿性化合物としては、例えばｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンなどが挙げられる。したがって、分解性化合物は、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルオキシ）スチレン、ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレンが挙げられる。これらは硬化性モノマーでも一種類以上を混合した重合体でもよい。
【００３７】
また、吸水率が１０％以上の高吸湿性化合物と、吸水率１０％未満の低吸湿性化合物との組合わせからなる複合化合物に分解発泡性官能基を導入してもよい。ただし、複合化合物は、適切な組合わせにより１０％未満の吸水率を有していることが好ましい。例えば、高吸湿性化合物であるアクリル酸と低吸湿性化合物であるｐ−ヒドロキシスチレンの共重合体（複合化合物）は、その共重合比がアクリル酸／ｐ−ヒドロキシスチレン＝９０／１０〜０／１００であることが好ましい。
【００３８】
高吸湿性化合物と低吸湿性化合物との組合わせからなる分解性化合物の具体的な例を以下に示す。
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン
共重合体、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン共重合体。
【００３９】
さらには、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、デンドリマーからなる群の中から選ばれた低吸湿性高分子材料などに分解発泡性官能基を導入してもよい。上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。上記分解性化合物は、分解発泡性官能基が分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、低吸湿性化合物となる。
【００４０】
（その他の樹脂）
組成物（Ｃ）には、酸発生剤または塩基発生剤と分解発泡性化合物以外に、成形体の骨格となる一般の樹脂を混合する必要がある場合がある。即ち、非硬化性低分子系の分解性化合物群を用いる場合は単独では成形できないので、下記の一般に用いられる樹脂と混合して用いる必要がある。一般の樹脂は、分解性化合物と混合した時に相溶でも非相溶でもどちらでもかまわない。
一般の樹脂としてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系複合樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、アクリロイル樹脂、ＡＢＳ樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリサルホン樹脂、塩化ビニル樹脂、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、及びシリコーン樹脂など一般に用いられる樹脂から適宜選択して用いることができる。また、分解性化合物から分解してガス化する低沸点揮発性物質を成形体内に内在させることを目的として、ガスバリヤ性樹脂を用いることもできる。ガスバリヤ性樹脂は、混合しても被覆または積層してもよく、低沸点揮発性物質を成形体内により内在させるには、成形体表面に被覆または積層するのが好ましい。分解性発泡化合物のうち、硬化性低分子系の分解性化合物群および高分子系の分解性化合物群は単独で用いてもよいし、上記の一般に用いられる樹脂と混合して用いてもよい。
【００４１】
上記一般の樹脂を用いる場合でも、そうでない場合でも、放射線エネルギーで硬化する他の不飽和有機化合物を併用することができる。併用化合物の例としては、
（１）脂肪族、脂環族、芳香族の１〜６価のアルコール及びポリアルキレングリコールの（メタ）アクリレート類
（２）脂肪族、脂環族、芳香族の１〜６価のアルコールにアルキレンオキサイドを付加させて得られた化合物の（メタ）アクリレート類
（３）ポリ（メタ）アクリロイルアルキルリン酸エステル類
（４）多塩基酸とポリオールと（メタ）アクリル酸との反応生成物
（５）イソシアネート、ポリオール、（メタ）アクリル酸の反応生成物
（６）エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸の反応生成物
（７）エポキシ化合物、ポリオール、（メタ）アクリル酸の反応生成物
（８）メラミンと（メタ）アクリル酸の反応生成物
等を挙げることができる。
【００４２】
併用できる化合物の中で、硬化性モノマーや樹脂は、発泡体の強度や耐熱性といった物性の向上効果や発泡性の制御効果などが期待できる。また分解性化合物および併用化合物に硬化性モノマーを用いれば、無溶剤成形ができ、環境負荷の少ない製造方法を提供できる。たとえば特開平８−１７２５７号公報や、特開平９−１０２２３０号公報ではこのような材料が用いられている。
併用化合物の具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、 ２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロヘキシルアクリレート、イソボロニルアクリレート、イソボロニルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸ダイマー、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、アクリル酸−９，１０−エポキシ化オレイル、マレイン酸エチレングリコールモノアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチレンアクリレート、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、３−メチル−５，５−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシ化リン酸アクリレート、エタンジオールジアクリレート、エタンジオールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−ブチル−２−エチルプロパンジオールジアクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ポリオキシエチレンエピクロロヒドリン変性ビスフェノールＡジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート、エチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることが出来るが、これらに限られるものではない。
【００４３】
さらに、前記の併用活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物の一部または全部として、分子鎖末端に（メタ）アクリロイル基を有する分子量が４００〜５０００程度の活性エネルギー線硬化性樹脂を組み合わせることもできる。このような硬化性樹脂として、例えば、ポリウレタン変性ポリエーテルポリ（メタ）アクリレートやポリウレタン変性ポリエステルポリ（メタ）アクリレートなどのポリウレタンポリ（メタ）アクリレートポリマー類を用いることが好ましい。
【００４４】
（添加物）
本発明に使用する発泡性組成物は、必要により、酸発生剤又は塩基発生剤と分解性化合物以外の添加物を含ませることができる。添加物としは、無機系または有機系化合物充填剤、並びに各種界面活性剤などの分散剤、多価イソシアネート化合物、エポキシ化合物、有機金属化合物などの反応性化合物および酸化防止剤、シリコーンオイルや加工助剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤、スリップ防止剤、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、光安定剤、滑剤、軟化剤、有色染料、その他の安定剤等を一種類以上含ませてもよい。添加剤を用いることにより、成形性や発泡性、光学的物性（とくに白色顔料の場合）、電気および磁気的特性（とくにカーボン等の導電性粒子の場合）などの向上が期待できる。
【００４５】
無機系化合物充填剤の具体例としては、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、珪酸カルシウム、水酸化アルミニウム、クレー、タルク、シリカ等の顔料、ステアリン酸亜鉛のような金属石鹸、並びに各種界面活性剤などの分散剤、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、カオリン、珪酸白土、珪藻土、酸化亜鉛、酸化珪素、水酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、マイカ、アスベスト粉、ガラス粉、シラスバルーン、ゼオライトなどが遂げられる。
有機系化合物充填剤としては、例えば、木粉、パルプ粉などのセルロース系粉末、ポリマービーズなどが挙げられる。ポリマービーズとしては、例えばアクリル樹脂、スチレン樹脂又はセルロース誘導体、ポリビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリウレタン及びポリカーボネート、架橋用モノマーなどから製造されたものが使用できる。
これらの充填剤は、１種単独で用いることができるが、２種類以上混合したものであってもよい。
【００４６】
紫外線吸収剤の具体例としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、またはベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤から選ばれる。サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレートなどが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００４７】
酸化防止剤の具体例としては、モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などが挙げられる。光安定剤の代表的なものとしては、ヒンダードアミン系化合物が挙げられる。
【００４８】
軟化剤は、成形性または成形体の加工性を向上させる目的で使用でき、具体的には、エステル化合物類、アミド化合物類、側鎖を有する炭化水素重合体類、鉱油類、流動パラフィン類、ワックス類などが挙げられる。軟化剤として用いるエステル化合物としては、アルコールとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリエステルであれば特に制限はなく、ヒドロキシル基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、エステル基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリルステアレート、ソルビタントリステアレート、エポキシ大豆油、精製ひまし油、硬化ひまし油、脱水ひまし油、エポキシ大豆油、極度硬化油、トリメリット酸トリオクチル、エチレングリコールジオクタノエート、ペンタエリスリトールテトラオクタノエートなどが挙げられる。アミド化合物としては、アミンとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリアミド化合物であれば特に制限はなく、アミノ基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、アミド基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、トリメチレンビスオクチル酸アミド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、トリオクタトリメリット酸アミド、ジステアリル尿素、ブチレンビスステアリン酸アミド、キシリレンビスステアリン酸アミド、ジステアリルアジピン酸アミド、ジステアリルフタル酸アミド、ジステアリルオクタデカ二酸アミド、イプシロンカプロラクタム、およびこれらの誘導体が挙げられる。
【００４９】
側鎖を有する炭化水素重合体としては、ポリα−オレフィン類で、炭素数４以上の側鎖を有する通常オリゴマーに分類されるものが好ましい。具体的には、エチレン−プロピレンの共重合体やそのマレイン酸誘導体、イソブチレンの重合体、ブタジエン、イソプレンのオリゴマーおよびその水添物、１−ヘキセンの重合物、ポリスチレンの重合物およびこれらから誘導される誘導体、ヒドロキシポリブタジエンやその水添物、末端ヒドロキシポリブタジエン水添物などが挙げられる。
【００５０】
（光散乱性微粒子）
組成物（Ｃ）等の発泡性組成物には、輝度向上や輝度ムラ抑制のために、補助的に光散乱性微粒子を添加しても良い。光散乱性微粒子としては、例えば、アクリル系、スチレン−アクリル系、ポリエチレン系の有機架橋ポリマービーズや、シリコンビーズ、中空粒子などが挙げられる。また、光散乱微粒子をナノスケールで相分離させてもよく、その場合、発泡性組成物から形成される気泡の微小化や数密度増加の効果が得られる。
【００５１】
組成物（Ｃ）等の発泡性組成物は、一般的な混練機を用いて調製することができる。例えば、二本ロール、三本ロール、カウレスデゾルバー、ホモミキサー、サンドグラインダー、プラネタリーミキサー、ボールミル、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザーなどである。また超音波分散機などを使用することもできる。
【００５２】
＜発泡体の製造方法＞
本発明の発泡層を構成する発泡体は、上記発泡性組成物に放射線エネルギーおよび熱エネルギーを付与して発泡させたものである。発泡性組成物から発泡体を製造する製造方法は、発泡性組成物を成形体とする成形工程と、前記成形体に放射線エネルギー及び熱エネルギーを付与して発泡させる発泡工程とを備える。
【００５３】
（成形工程）
発泡性組成物の成形工程は、発泡性組成物を所望の形状の成形体に成形する工程である。成形体の形状としては、シート状物（フィルム状を含む）が好ましい。シート状物においては、支持体を用いない独立のシートであっても支持体上に密着したシート層であってもよい。
本発明における成形工程は、形状を決定するための工程である。成形工程の段階における成形体は、固体でなく流動体であってもよい。例えば、特定の型に流し込んだ液状物も、本発明における成形体に含まれる。
【００５４】
シート状物の成形方法は、特開２００４−２８１２号公報や、特開２００５ー５４１７６号公報、特開２００５−５５８８３号公報に記載される方法を用いることができる。一般的には、溶融押出成形や射出成形、塗工成形、プレス成形が好ましい。特に、塗工成形は、光拡散体自身の薄型化が可能となり、また透光性樹脂支持体の表面上にも容易に積層できるので好ましい。
また、バッチ式でも連続式でもかまわない。発泡性組成物が溶液の場合は、溶剤の乾燥処理を加えてもよい。また、複数の成形体を積層することも可能である。
【００５５】
塗工成形の場合、支持体に塗工ヘッドを用いて発泡性組成物を塗工した後、発泡性組成物が溶剤等で希釈された溶液ならば、乾燥器にて溶剤分を除去し、支持体上に発泡性組成物からなるシート層を得る。このとき、支持体からシート層を剥離することで、発泡性組成物からなる単独のシート状物を得ることもできる。塗工方法には、バーコート法、エアードクターコート法、ブレードコート法、スクイズコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、グラビアコート法、トランスファーコート法、コンマコート法、スムージングコート法、マイクログラビアコート法、リバースロールコート法、マルチロールコート法、ディップコート法、ロッドコート法、キスコート法、ゲートロールコート法、落下カーテンコート法、スライドコート法、ファウンテンコート法、およびスリットダイコート法などがあげられる。
【００５６】
支持体の具体例としては、紙、合成紙、プラスチック樹脂シート、金属シート、金属蒸着シート等が挙げられ、これらは単独で用いられてもよく、或は、互いに積層されていてもよい。プラスチック樹脂シートは、例えば、ポリスチレン樹脂シート、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂シート、並びにポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂シート等の汎用プラスチックシートやポリイミド樹脂シート、ＡＢＳ樹脂シート、ポリカーボネート樹脂シート等のエンジニアリングプラスチックシートなどが挙げられ、また金属シートを構成する金属としては、アルミニウムおよび銅などが挙げられる。金属蒸着シートとしては、アルミ蒸着シート・金蒸着シート・銀蒸着シートなどが挙げられる。このとき支持体としては、透光性支持体であることが好ましく、さらには透光性樹脂シートであることが好ましい。透光性の光透過特性は、使用により適切に調整されたものであれば限定はされないが、可視光領域での光透過率で９０％以上であることが好ましい。
また、光反射シートや導光シート（あるいは導光板）のような光学機能シートを支持体とすれば、発泡体からなる光拡散部とこれらの機能性シートとの一体化を容易に行うことができる。
【００５７】
押出成形の場合、スクリュー状の押出軸を用いた一般の押出成形法、ピストン状押出軸を用いたラム押出成形法などがあげられる。例えば、押出成形機から押出された発泡性組成物はダイから押出されロールなどを介してシート状物を得ることができる。
【００５８】
発泡性組成物は、組成によって、例えば１５０℃以上の加熱により分解してしまう場合もある。そのため、発泡工程の前に正味の発泡性能を失わないよう留意する必要がある。
例えば、押出成形において、樹脂の溶融粘度まで加熱してしまうと発泡性能が損なわれる場合、塗工成形と同様に溶媒を用いて発泡性組成物の溶液を調整し、常温で成形する溶液キャスト法のような方法をとることもできる。
【００５９】
（発泡工程）
発泡工程は、成形体に放射線エネルギーと熱エネルギーとを付与して発泡させる工程である。発泡工程は、成形体に放射線を照射する放射線照射工程と、成形体を加熱する加熱工程とを含み、微細な気泡のみを作るときには、放射線照射工程後に加熱工程が行われることが好ましい。放射線照射工程と加熱工程とを順次行うことにより、安定した発泡体が形成できる。これは、組成物（ｃ）の発泡機構が、放射線により酸又は塩基を発生させ、
その酸又は塩基と加熱とにより分解発泡性化合物が分解し発泡するという機構であるためである。組成物（ｃ）は比較的低い温度で気泡核を多数発生させ、更に温度を上げて気泡を成長させると微細な気泡が均一にできる。しかし、初めから高温にしておきそこに放射線を当てると、大きな気泡ができてしまう。
なお、各工程は、連続的に行っても不連続的に行ってもよい。
【００６０】
（放射線照射工程）
放射線照射工程で使用する放射線としては、電子線、紫外線、可視光線、γ線等の電離性放射線などが好ましい。これらの中では電子線又は紫外線を用いることが特に好ましい。
【００６１】
電子線を照射する場合は、充分な透過力を得るために、加速電圧が３０〜１０００ｋＶ、より好ましくは３０〜３００ｋＶである電子線加速器を用い、ワンパスの吸収線量を０.５〜２０Ｍｒａｄにコントロールすることが好ましい（１ｒａｄ＝０．０１Ｇｙ）。加速電圧、あるいは電子線照射量が上記範囲より低いと、電子線の透過力が不充分になり、成形体の内部まで充分に透過することができない。また、この範囲より大きすぎると、エネルギー効率が悪化するばかりでなく、得られた成形体の強度が不充分になり、それに含まれる樹脂及び添加剤の分解を生じ、得られる発泡体の品質が不満足なものになることがある。
【００６２】
紫外線を照射する場合は、半導体・フォトレジスト分野や紫外線硬化分野などで一般的に使用されている紫外線ランプを用いることができる。一般的な紫外線ランプとしては、例えば、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーターランプ、キセノンショートアークランプ、キセノンフラッシュランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、ディープＵＶランプ、メタルハライドランプ、希ガス蛍光ランプ、クリプトンアークランプ、エキシマランプなどがあり、近年では、極短波長（２１４ｎｍにピーク）を発光するＹ線ランプもある。これらのランプには、オゾン発生の少ないオゾンレスタイプもある。これらの紫外線は、散乱光であっても、直進性の高い平行光であってもよい。
【００６３】
気泡分布の位置制御を精度よく行うためには、放射線として平行光を用いることが好ましい。紫外線照射には、ＡｒＦエキシマーレーザー、ＫｒＦエキシマーレーザーや、非線形光学結晶を含む高調波ユニットを介したＹＡＧレーザーなどに挙げられる種々のレーザーや、紫外発光ダイオードを用いることもできる。紫外線ランプやレーザー、紫外発光ダイオードの発光波長は、発泡性組成物の発泡性を妨げないものであれば限定はないが、好ましくは、光酸発生剤または光塩基発生剤が酸または塩基を効率よく発生させられる発光波長がよい。すなわち、使用する光酸発生剤または光塩基発生剤の感光波長領域と重なる発光波長が好ましい。さらには、それら発生剤の感光波長領域における極大吸収波長または最大吸収波長と重なる発光波長が、発生効率が高くなるためより好ましい。紫外線のエネルギー照射強度は、発泡性組成物によって適宜決められる。
【００６４】
種々の水銀ランプやメタルハライドランプなどに代表される照射強度が高い紫外線ランプを使用する場合は、生産性を高めることができ、その照射強度（ランプ出力）は３０Ｗ／ｃｍ以上が好ましい。紫外線の積算照射光量（Ｊ／ｃｍ2）は、エネルギー照射強度に照射時間を積算したものであり、発泡性組成物および所望の気泡分布によって適宜決められる。酸発生剤や塩基発生剤の吸光係数に応じて設定することもある。安定かつ連続的に製造する上では、１.０ｍＪ／ｃｍ2〜２０Ｊ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
紫外線ランプを使用する場合は、照射強度が高いため、照射時間を短縮することができる。エキシマランプやエキシマレーザーを使用する場合は、その照射強度は弱いが、ほぼ単一光に近いため、発光波長が発生剤の感光波長に最適化したものであれば、より高い発生効率および発泡性が可能となる。照射光量を多くした場合、紫外線ランプによっては熱の発生が発泡性を妨げる場合がある。そのときは、コールドミラーなどの冷却処置を行なうことができる。
【００６５】
（加熱工程）
加熱工程で用いることのできる加熱器に特に制限はないが、接触加熱、誘導加熱、抵抗加熱、誘電加熱（およびマイクロ波加熱）、赤外線加熱により加熱ができるもの等が例示できる。具体的には、放射熱を利用した電気あるいはガス式の赤外線ドライヤーや、電磁誘導を利用したロールヒーター、油媒を利用したオイルヒーター、電熱ヒーター、およびこれらの熱風を利用した熱風ドライヤーなどが挙げられる。成形体に加熱体を接触させて加熱する接触加熱では、金属ブロック、金属板、金属ロールなどの加熱体が使用できる。接触加熱では加圧しながら加熱してもよい。この場合、プレス成形の際に使用する加熱プレス機を用いることができる。
【００６６】
さらに、一般の熱記録用プリンターに使用されている加熱方式も利用できる。例えば、電流を流すことで発熱する感熱ヘッドやレーザー熱転写が挙げられ、熱の書き込みによって同パターンの発泡体を得ることができる。高精細や高解像度を得るときは、感熱ヘッドよりもレーザー熱転写の方が好ましい。
【００６７】
＜不均一発泡＞
本発明に用いる発泡体は、光拡散体としての機能を備えさせるため、気泡占有面積率が位置によって異なる不均一発泡体である。本発明において気泡占有面積率（％）とは、気泡密度を評価するための指標であり、発泡体断面の観察画像から画像解析して、最大気泡径が１μｍ未満の場合は１００μｍ２の断面中、最大気泡径が１μｍ以上５μｍの場合は２５００μｍ２の断面中、最大気泡径が５μｍ以上の場合は１００００μｍ２の断面中に、気泡断面が占める面積の割合である。
所望の気泡占有面積率の分布（以下「気泡分布」という場合がある。）は、（ａ）前記成形体に付与する放射線エネルギー、（ｂ）前記成形体に付与する熱エネルギー、（ｃ）前記成形体中の分解発泡性官能基濃度、（ｄ）前記成形体中の酸発生剤または塩基発生剤の濃度のいずれか１以上を、所定の不均一分布とすることにより得られる。
【００６８】
（放射線エネルギーの不均一化）
成形体に付与する放射線エネルギーを、所定の不均一分布とする手法を説明する。
放射線エネルギーの分布は、電子線または紫外線照射用のフォトマスクの使用により、照射エネルギー強度を調整することにより制御できる。また、紫外線レーザーや電子線を用いた描画装置により照射エネルギー分布を与えることもできる。
フォトマスクのパターン種類は、放射線エネルギーの透過性が、連続的に変化する傾斜パターンや、ある一定間隔で段階的に変化する階調パターン、透過性の有無で区分けされた区分パターンなど様々であり、これらは所望の気泡分布パターンに適したものを設計し使用する。
フォトマスクの材質は、クロムマスクやメタルマスク、銀塩ガラスマスク、銀塩フィルム、スクリーンマスクなどが使用できる。ガラスをイオンエッチングしたマスクや、集光機能を有する平面レンズの干渉縞を電子線描画したマスクなどが利用できる。波長３００ｎｍ以下の紫外線を照射する場合は、フォトマスクの基材は石英ガラスを使用することが好ましい。
【００６９】
フォトマスクを使用して照射する場合、密着照射、投影照射など方式が採用できる。フォトマスクのパターンを精度良く転写させるためには、照射する光が均一平行光であることが好ましい。
平行光を照射するための露光システムとしては、例えば、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系、フレネルレンズを利用した光学系、ハニカムボードと拡散板を利用した光学系などが挙げられる（http://www.kuranami.co.jp/toku_guide01.htm参照）。高い均一性を得るには、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系が一般的に好ましく、この光学系に用いる光源としては、ショートアークランプが好ましい。ショートアークランプには、メタルハライドランプや超高圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、ナトリウムランプ、Ｙ線ランプが挙げられる。発泡性組成物からなる成形体にフォトマスクを密着させた後、紫外線の平行光を照射して加熱発泡することで、数μｍ幅のライン＆スペースパターンをもつ部分発泡が得られる。そのときのエッジも鮮明に転写することができる。また、干渉縞を発生させた放射線を照射する方法も可能である。
【００７０】
（熱エネルギーの不均一化）
成形体に付与する熱エネルギーを、所定の不均一分布とするためには、加熱工程において、熱エネルギーの強度分布が生じるように加熱処理を施す。具体的には、加熱温度により制御することが好ましい。例えば、熱記録用プリンターを用いて印加熱エネルギーが連続的な勾配となるように加熱する方法が挙げられる。
【００７１】
（発泡性組成物の不均一化）
成形体中の分解発泡性官能基濃度、及び／又は成形体中の酸発生剤（あるいは塩基発生剤）の濃度分布は、組成の異なる複数の発泡性組成物を用いることによって調整することが好ましい。
たとえば、分解性化合物と光酸発生剤の混合比が異なる発泡性組成物を、支持体上に並列塗工して成形する方法が挙げられる。
【００７２】
（３次元の気泡分布）
気泡分布の不均一化のための手法として上述した放射線エネルギーの不均一化、熱エネルギーの不均一化、及び発泡性組成物の不均一化の各手法は、各々他の手法と互いに独立して気泡分布に影響を与えることができる。したがって、これらの手法の２以上を組み合わせることにより、同一発泡体内でその気泡分布の方向を３次元に制御することが可能である。もちろん、これらの各手法のうちどれか一つだけを活用して気泡分布の方向を３次元に制御することも可能である。例えば、各々異なったパターンに放射線を照射した複数の発泡性組成物の成形体を、積層しながら加熱発泡させることで、気泡分布が３次元的にパターン化された発泡体を得ることができる。
【００７３】
（気泡径）
上記の手法により、気泡分布を制御することができる。この場合、気泡占有面積率で評価される気泡密度と共に、気泡径も変化することは差し支えない。気泡密度が増加するときは気泡径も増加し、気泡密度が減少すると気泡径も減少する傾向にある。
しかし、発泡性組成物の組成を調整すること等により、気泡密度を重点的に変化させることも可能である。たとえば、発泡性組成物のガラス転移点を高めにすることにより、気泡径を比較的小さく保ったままで、主として気泡密度を変化させることも可能である。また、３次元架橋性の発泡性組成物を用いることにより、気泡径を比較的小さく保ったままで、主として気泡密度を変化させることも可能である。すなわち、気泡径と気泡数密度を発泡性組成物の組成調整から制御することも可能である。
本発明の発泡体における気泡は、２０μｍ以下の気泡径で構成されることが好ましく、１０μｍ以下の気泡径で構成されることがより好ましい。さらには、液晶表示装置や照明装置に一般的に使用される光源の波長に近い１μｍ以下の気泡径で構成されることがより好ましい。２０μｍ以下にすることで、光学機能を十分に発揮させるだけでなく、光拡散体自身の薄型化も可能となる。
【００７４】
＜光拡散体＞
本発明の発泡層は、気泡占有面積率が所定の分布パターンを有している。好ましくは、０．５％未満である低発泡領域と１％以上である高発泡領域とを有する。その分布パターンに伴って光線反射率あるいは光線透過率を分布させた光拡散体を得ることができる。具体的には気泡占有面積率が低くなるほど光線反射率は低く（あるいは光線透過率が高く）なり、気泡占有面積率が高くなるほど光線反射率は高く（あるいは光線透過率が低く）なる。例えば、直下型バックライトであれば、光拡散体の光線反射率が光源直上で一番高く、光源直上から遠ざかるにつれて段階的または漸次的に低くなることが輝度均一化にとって望ましい。そのような光学物性を発泡により付与するには、気泡占有面積率が光源直上で一番高く、光源直上から遠ざかるにつれて段階的または漸次的に低くさせるようにすればよい。
低発泡領域の気泡占有面積率は０％であってもよい。低発泡領域の気泡占有面積率を低くすれば、光拡散部全体の気泡占有面積率の変化量を大きくすることができるので、光拡散部から出光する輝度分布をコントロールして輝度均一化することが容易となる。
高発泡領域の気泡占有面積率は、１５％（発泡倍率約１．１倍に相当）以上であることがより好ましく、３０％（発泡倍率約１．２倍に相当）以上であることがさらに好ましい。高発泡領域の気泡占有面積率を高くすれば、光拡散部全体の気泡占有面積率の変化量を大きくすることができるので、導光部から出射する光の分布を充分にコントロールして均一化することが容易となる。ただし、高発泡領域であっても、６５％（発泡倍率約２倍に相当）以下の気泡占有面積率を有することが好ましい。これにより、光拡散部の強度を維持しやすくなる。
【００７５】
低発泡領域と高発泡領域との間には、両領域の間をつなぐように、低発泡領域に隣接する側から高発泡領域に隣接する側に向かって気泡占有面積率が漸増する中発泡領域を備えても良い。
例えば、光源が複数あるような直下型バックライトや、輝線暗線が複数発生しているエッジ型バックライトにおいて有効となる。複数の光源を備えた直下型バックライトは、ある一つの光源からもう一方の光源に向かって、高発泡領域、低発泡領域、高発泡領域と順に配置させることが好ましい。
各発泡領域内の気泡分布は、均一であることが好ましいが、微細気泡群からなるドット状部が点在するような構成でもかまわない。ドット状部を点在させる場合、点在の密度を小さくすれば低発泡領域となり、点在の密度を大きくすれば高発泡領域となる。なお、各ドット状部内は、後述の光反射部と同程度に、高い気泡占有面積率であることが好ましい。
また、複数の区域を設け、該区域内で連続する低発泡領域中に、高発泡領域を非連続の複数のドメインに形成し、更にそのドメインの分布を付けることにより不均一発泡区域を形成しても良い。また、逆に、高発泡領域を連続相とし、低発泡領域のドメインを形成しても良い。ここで、低発泡領域のドメインとは、微細な無数の発泡が一群となって一つのドット状のドメインを形成することを意味している。
非連続相ドメインを形成する場合、最大サイズの非連続ドメインの１００００倍の面積以下の区域内で他方が連続相を形成することが好ましい。連続相を形成することにより、一方向への曲げに対する耐久性、外部からの熱、湿度、振動、など力学的強度、寸法安定性などに優れる光拡散体を構成することが可能である。高発泡領域が連続相であり、低発泡領域が不連続相ドメインである例として、低発泡ドメインの面方向断面形状が円、多角形、不定形などの構造をもち、その周囲を高発泡領域が連続的に分布する構造があげられる。また、これらのような構造を有する複数の光拡散体を積層しても良い。
【００７６】
本発明の光拡散体の使用時において、光拡散部の高発泡領域は光源により近い場所もしくは輝線により近い場所に、低発泡領域は光源から離れたところもしくは暗線により近い場所に適切に配置される。すなわち、光源に最も近い場所は占有面積率が最大であり、最も遠い場所で気泡占有面積率が最小になるような配置で使用される。また、微細気泡群からなるドット状部が点在するような構成においては、そのドットの数密度は、光源により近い方が密で、より遠くなるほど疎になるような配置で使用される。
光拡散部における気泡は、０．１〜２０μｍの範囲の気泡径で構成されることが好ましく、０．１〜１０μｍの範囲の気泡径で構成されることがより好ましい。気泡径を可視光の波長以下とすることにより、気泡やドット状部を視認されにくくなる。そのため、他の光拡散体を併用をしなくてもよくなる。
光拡散部における具体的な気泡分布は、光源もしくは輝線暗線の形状や位置、光拡散体の面積などに関するパラメーターを設定して、幾何光学やＭｉｅ散乱、多重散乱を考慮した光学シミュレーションソフトや光線追跡法などを駆使することで最適化することができる。
【００７７】
本発明の光反射部は、気泡占有面積率が１５％以上、好ましくは３０％以上である。光反射部の気泡占有面積率を高くすれば、光線反射率を高くすることができる。ただし、光反射部であっても、６５％以下の気泡占有面積率を有することが好ましい。これにより、光反射部の強度を維持しやすくなる。
光反射部の気泡分布は、光反射むらを防ぐため均一であることが好ましい。また、光反射部における気泡は、０．１〜１０μｍの範囲の気泡径で構成されることが好ましく、０．２〜１μｍの範囲の気泡径で構成されることがより好ましい。
気泡占有面積率が３０〜６５％、気泡径が０．２〜１μｍの範囲の場合、５０μｍ以下の厚みで、全光線反射率を８０％以上とすることが可能となる。
【００７８】
＜光拡散性凹凸構造＞
本発明では出光面側の最表面に異方性拡散または等方性拡散の光拡散性の凹凸構造を有する。これは、発泡層の気泡により拡散した光をさらに均一拡散するために必須であり。その凹凸構造は光源の種類や配置および気泡の分布パターンにより異方性拡散構造または等方性拡散構造が選択される。
すなわち、光源が冷陰極管のように平行線状の場合は、冷陰極管の長手方向に対して略垂直方向に光が拡散する異方性拡散構造を選択し、ＬＥＤのような点光源が間隔を設けて設置されているような場合はＬＥＤからの光を全方位方向に拡散させるため等方性拡散構造が選択される。
拡散構造の作成方法については切削加工による直接構造掘り込む方法やマスクパターンを用いてウェットエッチングやドライエッチングにより構造を作りこむなどの公知の技術を用いてもよいが、いずれも切削加工に長時間を要したり、マスク費用が高価である等の難点がある。そこで、本発明では短時間かつ安価に構造が作成可能な方法として、後述する熱収縮フィルムに硬質樹脂層を積層して加熱収縮により光拡散性凹凸構造を形成する方法を用いることが好ましい。
【００７９】
＜異方性拡散構造の形態＞
図１に、本実施形態の異方性拡散構造体の一例を示す。異方性拡散凹凸構造は、蛇行した波状の凹凸パターン１が形成された透明樹脂層２からなるものである。
凹凸パターン１の最頻ピッチＡは１μｍを超え２０μｍ以下、好ましくは１μｍを超え１０μｍ以下である。最頻ピッチＡが１μｍ未満であると、可視光の波長以下となり、可視光が凹凸にて屈折せずに光が透過してしまい、２０μｍを超えると、拡散の異方性が低くなり、輝度にむらが生じやすくなる。
【００８０】
凹凸パターン１の最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ、以下、アスペクト比という。）が０．１〜３．０である。アスペクト比が０．１未満であると、拡散の異方性が低くなり、輝度にむらが生じやすくなる。一方、アスペクト比が３．０より大きくなると、構造転写時に凹凸パターン１を形成しにくくなる。ここで、平均深さＢとは、凹凸パターン１の底部１ａの平均深さのことである。また、底部１ａとは、凹凸パターン１の凹部の変曲点であり、平均深さＢは、異方性拡散構造体３を長さ方向に沿って切断した断面（図２参照）を見た際の、異方性拡散構造体３全体の面方向と平行な基準線Ｌ１から各凸部の頂部までの長さＢ１，Ｂ２，Ｂ３・・・の平均値（ＢＡＶ）と、基準線Ｌ１から各凹部の底部までの長さｂ１，ｂ２，ｂ３・・・の平均値（ｂＡＶ）との差（ｂＡＶ−ＢＡＶ）のことである。
平均深さＢを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターン１の断面の画像にて各底部１ａの深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。
【００８１】
本発明における蛇行とは、以下の方法で求められる凹凸の配向度が０．３以上になっていることである。この配向度は、凹凸の配向のばらつきの指標であり、その値が大きいほど、配向がばらついていることを示す。
配向度を求めるためには、まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等）に変換する。グレースケールのファイルの画像（図３参照）では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い（白度が高いところ程、凸部の頂部が高い）ことを表している。
2009086577.tif 000003
次いで、図４の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図５参照）する。図５のプロットの横軸はピッチを、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Ｘが凹凸パターン１の最頻ピッチを表す。
次いで、図４において、補助線Ｌ２と値Ｘの部分にて直交する補助線Ｌ３を引き、その補助線Ｌ３上の輝度をプロット（図６参照）する。ただし、図６の横軸は、各種の凹凸構造との比較を可能にするため、Ｘの値で割った数値とする。図６の横軸は、凹凸の形成方向（図３における上下方向）に対する傾きの程度を示す指標（配向性）を、縦軸は頻度を表す。図６のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が凹凸パターンの配向度を表す。半値幅Ｗ１が大きい程、蛇行して配向がばらついていることを表す。
【００８２】
上記配向度が０．３未満であると、凹凸パターン１の配向のばらつきが小さくなるため、光の拡散の異方性が小さくなる。
また、配向度は１．０以下であることが好ましい。配向度が１．０を超えると、凹凸パターンの方向がある程度ランダムになるため、光拡散性は高くなるが、異方性が低くなる傾向にある。
配向度を０．３以上にするためには、例えば、後述する製造において、加熱収縮性フィルムと表面が平滑な硬質層とを適宜選択すればよい。例えば、加熱収縮性フィルムの収縮率が高いほど、あるいは、表面が平滑な硬質層のヤング率が小さいほど、配向性が大きくなる。この製造方法により得られた異方性拡散構造体３は、２層の樹脂層から構成されたものとなる。
また、配向度が０．３以上の凹凸パターンが一表面に形成された金型を用いて透明樹脂を成形する方法を採用してもよい。この製造方法により得られた拡散導光体は、１層の樹脂層から構成されたものとなる。
【００８３】
なお、上記のようにフーリエ変換を利用して求めた凹凸パターンの最頻ピッチは平均ピッチと同等となる。
【００８４】
透明樹脂層２は、可視光の透過率の高い（具体的には、可視光の全光線透過率が８５％）透明樹脂により構成される。
また、透明樹脂層２には、耐熱性、耐光性を向上させる目的で、光透過率等の光学特性を損なわない範囲内で、添加剤を含有することができる。添加剤としては、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、光拡散剤などが挙げられる。中でも、光安定剤を添加することが好ましく、その添加量は、透明樹脂１００質量部に対して０．０３〜２．０質量部であることが好ましい。光安定剤の添加量が０．０３質量部以上であれば、その添加効果を充分に発揮できるが、２．０質量部を超えると、過剰量になり、不要なコストの上昇を招く傾向にある。
【００８５】
また、透明樹脂層２には、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、無機化合物からなる光拡散剤、有機化合物からなる有機光拡散剤を含有させることができる。
無機光拡散剤としては、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸アルミ化ナトリウム、珪酸亜鉛、ガラス、マイカ等が挙げられる。
有機光拡散剤としては、スチレン系重合粒子、アクリル系重合粒子、シロキサン系重合粒子、ポリアミド系重合粒子等が挙げられる。これらの光拡散剤はそれぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、これらの光拡散剤は、優れた光散乱特性を得るために、花弁状又は球晶状等の多孔質構造とすることもできる。
光拡散剤の含有量は、光透過性を損ないにくいことから、透明樹脂１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。
【００８６】
透明樹脂層２の厚さは０．０２〜３．０ｍｍが好ましく、０．０５〜２．５ｍｍがより好ましく、０．１〜２．０ｍｍが特に好ましい。透明樹脂層１２の厚さが０．０２ｍｍ未満であると、凹凸パターンの深さよりも小さいことがあるため適当でなく、３．０ｍｍよりも厚いと異方性拡散構造体３の質量が大きくなるため取り扱いにくくなるおそれがある。
透明樹脂層２は２層以上の樹脂層から構成されていてもよい。透明樹脂層２が２層以上の層から構成されている場合も、透明樹脂層２の厚さは０．０２〜３．０ｍｍであることが好ましい。
【００８７】
＜異方性拡散構造の製造法＞
異方性拡散構造を製造する方法の例について説明する。
［第１の製造方法］
第１の製造方法は、加熱収縮性フィルムを用いて、異方性拡散構造体３を製造する方法である。
すなわち、第１の製造方法は、加熱収縮性フィルムの片面に、表面が平滑な樹脂製の硬質層（以下、表面平滑硬質層という。）を設けて積層シートを形成する工程（以下、第１の工程という。）と、加熱収縮性フィルムを加熱収縮させて積層シートの少なくとも表面平滑硬質層を折り畳むように変形させる工程（以下、第２の工程という。）とを有して、凹凸パターン形成シートからなる異方性拡散構造体３を製造する方法である。
ここで、表面平滑硬質層１４は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下の層である。
【００８８】
・第１の工程
図７に示すように、加熱収縮性フィルム４の片面に表面平滑硬質層５を設けて積層シート６を形成する方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム４の片面に、第２の樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、加熱収縮性フィルム４の片面に、あらかじめ作製した表面平滑硬質層５を積層する方法などが挙げられる。
【００８９】
加熱収縮性フィルム４としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルムなどの一軸収縮性フィルムを用いることができる。
加熱収縮性フィルム４の中でも、５０〜７０％収縮するものが好ましい。５０〜７０％収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を５０％以上でき、凹凸パターン１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、アスペクト比０．１以上の凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。あるいは、（変形した長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。
【００９０】
表面平滑硬質層５は、蛇行した波状の凹凸パターン１が形成しやすいことから、加熱収縮性フィルム４を構成する樹脂（第１の樹脂）よりガラス転移温度が１０℃以上高い樹脂（第２の樹脂）で構成する。
第２の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。
【００９１】
また、表面平滑硬質層５の厚さを０．１〜１．０μｍとすることが好ましい。表面平滑硬質層５の厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、表面平滑硬質層１４の厚さを０．１μｍ未満とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、１．０μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、蛇行した波状の凹凸パターン１をより容易に形成できることから、表面平滑硬質層５のヤング率を０．０１〜３００ＧＰａにすることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａにすることがより好ましい。
【００９２】
・第２の工程
第２の工程にて、加熱収縮性フィルム４を熱収縮させることにより、表面平滑硬質層５に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン１を形成させる。
加熱収縮性フィルム４を加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱水に通す方法が好ましい。
【００９３】
この製造方法では、表面平滑硬質層５の厚さが薄いほど、表面平滑硬質層５のヤング率が低いほど、凹凸パターン１の最頻ピッチＡが小さくなり、基材の変形率が高いほど、平均深さＢが深くなる。
【００９４】
上記第１の製造方法では、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度では、表面平滑硬質層５のヤング率が加熱収縮性フィルム４より高くなる。
その上、表面平滑硬質層５の厚さを１．０μｍ以下とするため、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度で加工した際には、表面平滑硬質層５は厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、表面平滑硬質層５は加熱収縮性フィルム４に積層されているため、加熱収縮性フィルム４の収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、上記製造方法によれば、表面平滑硬質層５を折り畳むように変形させることにより、異方性拡散構造体３となる凹凸パターン形成シートを得ること
ができる。
【００９５】
上記のようにして得た凹凸パターン形成シートはそのまま異方性拡散構造体３として用いることができる。その場合、加熱収縮性フィルム４と表面平滑硬質層５とにより透明樹脂層２が構成される。
【００９６】
［第２の製造方法］
第２の製造方法は、金型と該金型を加熱冷却する加熱冷却手段と該金型を加圧する加圧手段とを備える成形装置を用いて、未成形の透明熱可塑性樹脂から異方性拡散構造体３を製造する方法である。使用する透明熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＭＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＥＴ−Ｇ、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂などが挙げられる。これらの中でも、成形加工の観点からは、ＭＳ、ＰＭＭＡ、ＰＳ、ＣＯＰ、ＰＣが好ましく、吸湿性及びコストの観点からは、ＭＳのうちスチレン含有率が３０〜９０質量％のものがさらに好ましい。
これらの透明熱可塑性樹脂は単層もしくは多層構造とすることもできる。例えば、ＰＳ層の両面にＰＭＭＡ層を設けた３層構造の透明熱可塑性樹脂などを用いることができる。
さらに、前記透明熱可塑性樹脂の表面に、高屈折率の樹脂を設けたものを使用することもできる。高屈折率の樹脂としては、例えば、フルオレン系エポキシ化合物、フルオレン系アクリレート化合物、フルオレン系ポリエステル（ＯＫＰ）、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）、ポリジフェニルシラン（ＰＤＰＳ）などが挙げられる。
【００９７】
具体的に、第２の製造方法では、まず、透明熱可塑性樹脂のペレットまたは粉体を金型内に充填し、加熱冷却手段により金型を加熱すると共に加圧手段により金型内を加圧する。次いで、加熱冷却手段により金型内を冷却し、加圧を停止して、異方性拡散構造体３を得る。
この製造方法では、金型を作成する原版として、例えば、第１の製造方法により得た異方性拡散構造体３からニッケル電鋳により型取りしたものを用いることができる。なお、成形手段としては例えば、プレス成形法、射出成形法を適用することができる。
【００９８】
前記の製造方法以外にも、第１の製造方法で得た異方性拡散構造体３を工程シート原版として、紫外線硬化樹脂等で構造を他のフィルム基材に写し取る方法がある。
【００９９】
＜等方性拡散構造の製造法＞
等方性拡散構造を製造する方法の例について説明する。
前記の異方性拡散構造の製造における第２の工程で、加熱収縮性フィルム４を熱収縮させる際に、２軸方向に等しく収縮させることにより、表面平滑硬質層５に、方向性の無い波状の凹凸パターンが形成される。これ以外は異方性拡散構造の製造に準じることにより等方性拡散構造体を得ることができる。
【０１００】
本発明の光拡散体は、前記の気泡層と異方性拡散構造または等方性拡散構造を組み合わせたものであるが、その方法として一例を示すと、前記で形成した異方性構造体や等方性構造体を発泡層に接着層を介して積層する方法や異方性構造体や等方性構造体をベースにして、ニッケル電鋳等により金型を作成し、発泡層の加温加圧発泡処理の段階で、発泡層に接する基材シート表面あるいは発泡層表面に金型の構造を転写する方法などがある。
【０１０１】
なお、前記の異方性拡散構造または等方性拡散構造は出光面全面に均一に形成されていてもよいが、発泡層の分布パターンに対応して拡散性をコントロールするように構造の位置およびまたは凹凸の形状を変えて配置することがより好ましい。具体的には、表面平滑硬質層５の塗工量やガラス転移温度を部分的に変えて形成することにより、熱収縮処理後に拡散構造のピッチや深さをコントロールできる。
【０１０２】
以下、図面を参照しつつ、本発明の光拡散体の実施形態について説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【０１０３】
図８は、本発明の第１実施形態における光拡散体の一例を示す平面図（光拡散凹凸構造を省略し発泡層のみ）と断面図である。本実施形態の光拡散体は波状の凹凸パターン１が形成された基材シート７、発泡層８、ならびに基材シート９を積層することにより構成されている。基材シートを使用することにより発泡層を極めて薄くすることが可能である。発泡層８は面方向に棒状光源（冷陰極管）１０に平行な帯状領域Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの繰り返しによって形成されており、それぞれの領域内で低発泡ドメイン１１が非連続であり、高発泡ドメイン１２が連続となっている。高発泡ドメイン１２は、マトリクス内に気泡が多数形成された発泡体からなり、光源１０に近い中央位置から遠ざかるにつれて気泡占有面積率が漸減するような気泡分布パターンとなっている。すなわち、光源間中央直上が高透過率領域Ｄ、光源直上部が低透過率領域Ａ、その間が領域Ｂ、Ｃとされている。なお、光源直上から光源間中央直上にかけて気泡占有面積率と共に気泡径も漸減していてもよい。
基材シート７、９は気泡を有しない。基材シートの材質としては、例えばポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂やメタクリル樹脂、ノルボルネンなどの環状オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、三酢酸セルロールなどのセルロース類、スチレン系樹脂およびこれらの材料を２種以上ブレンドした混合樹脂が好ましい。
【０１０４】
図９は、本発明の第１実施形態における発泡層において、高発泡ドメイン１２が連続であり、低発泡ドメイン１１が非連続である領域の平面図と断面図の拡大図である。高発泡ドメイン中には気泡が高密度に含まれている。
【０１０５】
図１０は、本発明の第１実施形態における拡大斜視図である。波状の凹凸パターン１は基材シート７の出光側表面に形成され、発泡層８に積層されている。
【０１０６】
図１１は、本発明の第１実施形態における製造方法の一例である。
【０１０７】
図１２は、第１実施形態とは逆に低発泡ドメイン１１が連続であり、高発泡ドメイン１２が非連続である第２実施形態の発泡層の平面図と断面図の拡大図である。発泡ドメインの違い以外は第１実施形態と同一である。
【０１０８】
図１３は、本発明の第３実施形態のを示す。波状の凹凸パターン１を金型による構造転写では行わず、凹凸パターン１が形成されたフィルムを粘着剤層で積層して光拡散体を得た。
【０１０９】
図１４は、本発明の第３実施形態のにおける光拡散体の拡大斜視図である。本実施形態における異方性拡散構造体３は、加熱収縮性フィルムの片面に、表面平滑硬質層５を設けて積層シートを形成する工程と、加熱収縮性フィルムを加熱収縮させて積層シートの少なくとも表面平滑硬質層を折り畳むように変形させて波状硬質層１３に変わる工程により、凹凸構造を形成したフィルムであり、透明粘着剤層１４により発泡層８に貼り合わせたものでありそれ以外は第１実施形態と同様である。
【０１１０】
なお、本発明の光拡散体は上述した実施形態に限定されない。例えば入光面側には光の入射効率を向上させるために、反射防止機能を有する微細な凹凸が形成されていることが好ましい。微細な凹凸の形状としては円錐形や波状構造のように、底部から頂部にかけて傾斜構造をとるものが優れており、最頻ピッチは１μｍ以下、かつ、アスペクト比が０．１以上。さらに好ましくは最頻ピッチが１００〜４００ｎｍ、アスペクト比が１〜４であることが好ましい。なお、上記範囲を超えると、良好な反射防止性能が得られず、入射効率が低下する。
【０１１１】
＜面発光装置＞
本発明の面発光装置は、上記本発明の光拡散体と当該光拡散体の直下に近接ないし接触して配置された光源とを備えた直下型バックライトである。直下型バックライトの面発光装置は、また、本発明の面発光装置は、上記本発明の光拡散体と当該光拡散体の直下に近接ないし接触して配置された導光板と、かつ導光板の少なくとも一側面に光源および下面に光反射シートとを備えたエッジ型バックライトである。
【０１１２】
本発明の面発光装置における直下型バックライトでは、上記本発明の光拡散体が、当該光拡散体の直下に配置された光源から入射される不均一な輝度分布を持つ偏った入射光を輝度均一化して出射させるため、輝度均一性の高い面発光が得られる。
また、本発明の面発光装置におけるエッジ型バックライトでは、上記本発明の光散乱体が、エッジに配置された光源近傍での輝度むら（目玉現象）や、導光部から出射された時点で発生する輝線暗線の輝度むらを、最終的に輝度均一化して出射させるため、輝度均一性の高い面発光が得られる。
【０１１３】
面発光装置に用いられる光源としては、冷陰極管などの線光源や、発光ダイオード（ＬＥＤ）などの点光源を適宜採用できる。光源は１灯でも複数灯でもよく、複数の場合は各種異なる光源を組合わせたものでもよい。
【実施例】
【０１１４】
＜実施例１＞  
・高発泡領域が連続相となる光拡散体
（１）発泡性組成物のシート化
分解性化合物であるｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（６０重量％）とメチルメタクリレート（３０重量％）とメチルメタクリル酸（１０重量％）の共重合体１００部に対して、ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート（ＢＢＩ−１０９、ミドリ化学製）３部を混合し、それらを溶解させた酢酸エチル溶液を調製した（固形分含有量：２５％）。この溶液を、図１１の（ａ）に示すように厚み２００μｍのＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）基材シートＡに塗布厚２００μｍのアプリケーターバー（ドクターブレードＴＤ型、ＹＯＳＨＩＭＩＴＳＵ  ＳＥＩＫＩ製）を用いてコーティングした後、温度１１０℃の恒温乾燥機内で溶媒を蒸発除去し、発泡性樹脂の厚みが３５μｍの発泡性シートを得た。
【０１１５】
（２）紫外線照射
前記工程（１）で得られた発泡性シートの上面に、図１１の（ｃ）に示すように、石英ガラス製のフォトマスク（寸法；縦５０ｍｍ、横６５ｍｍ）を全面覆うように被せ、その上から紫外線照射した。フォトマスクは、１００μｍ径の光遮蔽性ドットの密度を制御することにより、５ｍｍ幅の帯状領域毎に光源直上位置から光源間中央直上位置に向かってその光線透過率を各々４５％から０％（測定波長２５４ｎｍ）まで４段階に漸減する傾斜パターンを用いた。（図８を参照）。紫外線は、メタルハライドランプ（紫外線硬化用マルチメタルランプＭ０３−Ｌ３１、アイグラフィック（株）製）を光源として用い、照射線量２０００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射した。照射後にフォトマスクを取り去り、発泡性シートを得た。
【０１１６】
（３）異方性拡散構造および構造転写用金型形成
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、トルエンに希釈したポリメチルメタクリレート（ポリマーソース株式会社製Ｐ４８３１−ＭＭＡ、ガラス転移温度１００℃）４％溶液をバーコーターにより乾燥後の厚さが０．４μｍになるように塗工し、硬質層積層シートを得た。次いで、その積層シートを８０℃で１分間加熱することにより、一軸方向に加熱前の長さの４０％に熱収縮させ（すなわち、変形率６０％で変形させ）、硬質層が、収縮方向に対して直交方向に沿って周期性を有する波状の凹凸パターンを有する厚さ１２５μｍのシートを得た。凹凸パターンの最頻ピッチは４μｍ、凹凸の平均深さは０．８μｍ、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）は０．８。凹凸パターンの配向度は０．３であった。続いて、上記シートの凹凸パターンにフッ素系離型剤による離型処理を施したのち、ニッケル電鋳により厚み２００μｍの構造転写用金型を得た。
【０１１７】
（４）加熱発泡
前記工程（３）で得た構造転写用金型を図１１の（ｄ）のようにプレス上熱板に固定し、前記工程（２）で紫外線照射した発泡性シートを、図１１の（ｄ）に示すように、プレス下熱板に設置し、その上に構造転写用の厚み２００μｍのＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）基材シートＢを挟みハンドプレス機で加熱プレスしながらパターン発泡させた（プレス圧力；４ＭＰａ、プレス温度；１３０℃２分）。その後、図１１の（ｆ）に示すように、加圧したまま直ちに金型内部に冷却水を循環させて５０℃にまで急冷した。続いて、図１１の（ｇ）に示すように、常圧に戻し４０℃まで空冷したところで、金型を取り去り、図１１の（ｈ）に示すように、異方性拡散構造と発泡層を積層してなる光拡散体を得た。その厚さは４３５μｍであった。
【０１１８】
（５）発泡構造の評価
前記工程（４）で得られたシート状光拡散体の気泡径（気泡直径の平均値）および気泡占有面積率（最大気泡径が１μｍ未満の場合は１００μｍ２の断面中、最大気泡径が１μｍ以上５μｍの場合は２５００μｍ２の断面中、最大気泡径が５μｍ以上の場合は１００００μｍ２の断面中に、気泡断面が占める面積の割合）を、走査電子顕微鏡による断面の観察画像から算出した。
断面の観察画像は、液体窒素中に浸したシート状光拡散体を、光線反射性が傾斜変化する方向（光源直上位置から光源間中央直上位置）に沿って凍結割断し、その割断面を金属蒸着処理した後、走査型電子顕微鏡（Ｓ−５１０、日立製作所製、拡大倍率５０００倍）にて観察することにより得た。そして、観察画像中の気泡とマトリックスとを２値化処理した後、画像解析装置（イメージアナライザーV１０、ＴＯＹＯＢＯ製）を用いて気泡径および気泡占有面積率を算出した。
得られたシート状光拡散体は、光源直上位置から光源間中央直上位置方向にかけて連続相部分が漸減する傾斜分布となっていた。連続相部分における最大気泡径は０.４μｍ、気泡占有面積率は５２％（光線透過率で約１０％）で連続相内ではほぼ均一であった。ドット部分には気泡は見られなかったことから、光拡散体全体としての気泡占有面積率は０％から５２％まで変化していた。
【０１１９】
（６）面発光装置と発光評価
前記工程（４）で得られたシート状光拡散体を、冷陰極管が間隔３０ｍｍで２灯配置された直方形箱型のランプハウス（縦５０ｍｍ・横６５ｍｍ）の上面に光源との距離が１０ｍｍになるように配置することで、直下型バックライトとなる面発光装置を得た。このとき、シート状光拡散体の配置は、冷陰極管の長軸方向とシート状光拡散体の光線反射性が傾斜変化する方向が直交するように合わせた。すなわち光源近傍から遠ざかる方向に沿って、光線反射率が低く（気泡占有面積率が低く）なるようにシート状光拡散体を配置した。輝度均一性は、以下の式より算出した輝度ばらつきから評価した。
輝度ばらつきの大きさ（％）＝（輝度最大値−輝度最小値）／輝度平均値×１００
非常に良好◎：ばらつきが  ７％未満
良好○：ばらつきが７％以上１０％未満
不良×：ばらつきが１０％以上
輝度最大値、輝度最小値、輝度平均値は、面発光装置の出射面において５×５の合計２５箇所を想定し、その各箇所について測定した輝度値（冷陰極管が安定発光しているときの輝度値）をもとにした。発光利用効率は、前記ランプハウスの上面に隙間なくＰＭＭＡ透明シートを設置したときの輝度平均値に対して、前記の光拡散体を設置したときの輝度平均値の比から評価した。
非常に良好◎：８５％以上  
良好○：７０％以上８５％未満
不良×：７０％未満
得られた面発光装置の厚さは全体で１５ｍｍ程度と薄く、輝度均一性は良好で、発光利用効率は非常に良好であった。
【０１２０】
＜実施例２＞
・低発泡領域が連続相となる光拡散体
実施例１の工程（１）において、分解性化合物であるｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（６０重量％）とメチルメタクリレート（３０重量％）とメチルメタクリル酸（１０重量％）の共重合体１００部に代わり、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート（６２重量％）とメチルメタクリレート（３８重量％）の共重合体１００部を用い、かつ、塗布厚２００μｍのアプリケーターバーの変わりに塗布厚３００μｍのアプリケーターバーを用いることで、厚さ５２μｍの発泡性シートを得た。この得られた発泡性シートに、実施例１の工程（２）においてドットパターンのフォトマスクを介して紫外線照射した（照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2）。このとき、フォトマスクは１００μｍ径の光透過性ドットの密度を制御することにより、５ｍｍ幅の帯状領域毎に光源直上位置から光源間中央直上位置に向かってその光線透過率を各々４５％から０％（測定波長２５４ｎｍ）まで４段階に漸減する傾斜パターンを用いた。また、光照射で使用する紫外線はＤｅｅｐ−ＵＶ光源の平行光を用いた。紫外線照射後に、実施例１の工程（４）の加熱発泡を同様に行うことで異方性拡散構造と発泡層を積層してなる光拡散体を得た。その厚さは４５２μｍであった。得られたシート状光拡散体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１の（５）と同様にして求めたところ、発泡体からなる部分については、光源直上位置から光源間中央直上位置方向にかけて連続相部分が漸減する傾斜分布となっていた。ドット状部における最大気泡径は０.４μｍ、気泡占有面積率は５２％（光線反射率で約９０％）でドット内ではほぼ均一であった。ドット以外には気泡は見られなかったことから、光拡散体全体としての気泡占有面積率は０％から５２％まで変化していた。得られたシート状光拡散体を備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したところ、輝度均一性は良好で、発光利用効率は非常に良好であった。
【０１２１】
＜実施例３＞
・異方性拡散構造シートを発泡層に積層してなる光拡散体
実施例１の工程（３）において得た硬質層が収縮方向に対して直交方向に沿って周期性を有する波状の凹凸パターンを有するシートに光学用高透明粘着剤を２０μｍの厚みに積層し粘着剤付構造シートを得た。続いて、実施例１の工程（４）において、図１３の（ｄ）のように、プレス上熱板には構造転写用金型を設置しないで前記工程（３）で紫外線照射した発泡性シートを、図１３の（ｄ）に示すように、プレス下熱板に設置し、基材シートＢを挟まず直接ハンドプレス機で加熱プレスしながらパターン発泡させた（プレス圧力；４ＭＰａ、プレス温度；１３０℃２分）。その後、実施例１と同様にして、発泡性シートを取り出し、前記の粘着剤層付異方性拡散構造体と発泡層を積層してなる光拡散体を得た。その厚さは３８０μｍであった。
得られたシート状光拡散体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、発泡体からなる部分については光源直上位置から光源間中央直上位置方向にかけて連続相部分が漸減する傾斜分布となっていた。連続相部分における最大気泡径は０.４μｍ、気泡占有面積率は５２％（光線透過率で約１０％）で連続相内ではほぼ均一であった。ドット部分には気泡は見られなかったことから、光拡散体全体としての気泡占有面積率は０％から５２％まで変化していた。得られたシート状光拡散体を備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価したところ輝度均一性が良好で、発光利用効率ともに良好であった。
【０１２２】
＜実施例４＞
・異方性拡散構造をパターン化した光拡散体
実施例１の工程（３）においてポリメチルメタクリレート（ポリマーソース株式会社製Ｐ４８３１−ＭＭＡ、ガラス転移温度１００℃）のトルエン希釈溶液の濃度変更品３種類（２％、４％、６％）を準備し、マスクを利用して塗工幅方向に幅１．９ｃｍごとに乾燥後の厚さが領域ａ；０．２μｍ、領域ｂ；０．４μｍ、領域ｃ；０．６μｍの繰り返しパターンになるように塗り分けた硬質層積層シートを得た。次いで、その積層シートを８０℃で１分間加熱することにより、塗工幅方向に加熱前の長さの４０％に熱収縮させ（すなわち、変形率６０％で変形させ）、収縮後の構造の大きさが７.６ｍｍ単位で変化する、波状の凹凸パターンを有する厚さ１２５μｍの構造パターン化シートを得た。凹凸パターンの最頻ピッチは領域ａ、ｂ、ｃに該当する順番に２.０μｍ、４.０μｍ、６.０μｍであり、凹凸の平均深さは領域ａ、ｂ、ｃに該当する順番に１.２μｍ、３．２μｍ、６.０μｍ。最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）は領域ａ、ｂ、ｃに該当する順番に０．６、０．８、１．０。凹凸パターンの配向度は各領域とも０．３であった。次に得られた構造パターン化シートに光学用高透明粘着剤を２０μｍの厚みに積層し粘着剤付構造シートを作成し、実施例３と同様にして平均厚さ３８０μｍの光拡散体を得た。なお、構造パターン化シートの貼り合わせ時には、領域ｃに該当する部分を光源の直上に来るようにした。この際、領域ａに該当する部分は光源間中央に位置した。得られたシート状光拡散体の気泡径および気泡占有面積率を実施例１と同様にして求めたところ、発泡体からなる部分については、光源直上位置から光源間中央直上位置方向にかけて連続相部分が漸減する傾斜分布となっていた。連続相部分における最大気泡径は０.４μｍ、気泡占有面積率は５２％（光線透過率で約１０％）で連続相内ではほぼ均一であった。ドット部分には気泡は見られなかったことから、光拡散体全体としての気泡占有面積率は０％から５２％まで変化していた。得られたシート状光拡散体を備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価した。得られた面発光装置の厚さは全体で１５ｍｍ程度と薄く、輝度均一性は非常に良好で、発光利用効率は良好であった。
【０１２３】
＜比較例１＞  
実施例１の工程（４）において、前記工程（３）で得た構造転写用金型を使用せず、プレス上熱板は平滑面の状態にし、前記工程（３）で紫外線照射した発泡性シートを、プレス下熱板に設置し、その上に厚み２００μｍのＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）基材シートＢを挟みハンドプレス機で加熱プレスしながらパターン発泡させた以外は実施例１と同様とし、表面に異方性拡散構造の無い光拡散体を得た。その厚みは４３５μｍであった。得られた光拡散体の発光利用効率は良好であったが、輝度均一性が不良であった。
【０１２４】
＜比較例２＞  
実施例１の工程（２）において、石英ガラス製のフォトマスクの１００μｍ径の光遮蔽性ドットの密度を一定にし、その光線透過率を全領域において４５％（測定波長２５４ｎｍ）になるパターンを用いて、全面に均一な発泡を有する発泡性シートを得た以外は実施例１と同様にし光拡散体を得た。得られた光拡散体の発光利用効率は良好であったが、輝度均一性が不良であった。
【０１２５】
＜比較例３＞
・ドット印刷した光拡散体
透明樹脂シート（縦５０ｍｍ・横６５ｍｍ・厚さ１００μｍ、樹脂組成はポリメチルメタクリレート）に白色インキ（二酸化チタン、硫酸バリウムが含まれる）でドットパターンを印刷（スクリーン印刷）したシート状光拡散体を得た。このとき、ドット径および密度が、５ｍｍ幅の帯状領域毎に光源直上位置から光源間中央直上位置に向かって漸減するドットパターンを用いた。ドット径は最小直径でも２００μｍであった。シート状光拡散体の厚さは１００μｍであった。得られたシート状光拡散体には気泡は存在せず、それを備えた面発光装置の輝度均一性や発光利用効率は、実施例1の工程（６）とほぼ同様にして評価した結果、ともに不良であった。
【０１２６】
光拡散凹凸構造を出光側に有し、微細気泡群を内在させ、かつ気泡分布を有する実施例１から実施例４においては、光源からの不均一な輝度分布（あるいは照度分布）をもつ偏った出光を均一化することができるだけでなく、光利用効率も良好で、かつ薄物化も両立することが容易にできた。一方、光拡散凹凸構造を有しなかったり、気泡分布が無い比較例１や比較例２は、発光利用効率は良好なものの、不均一な輝度分布となった。また、白色インクをドットパターン印刷した比較例３は、光源との距離が短い状態に対応できず、輝度均一性、発光利用効率ともに悪かった。実施例で得られた光拡散体の特性を表１に、比較例で得られた光拡散体の特性を表２に示す。
【０１２７】
【表１】
2009086577.tif 000004
【０１２８】
【表２】
2009086577.tif 000005
【産業上の利用可能性】
【０１２９】
本発明の面発光装置は、様々な表示装置に用いることが可能である。例えば、テレビジョンや携帯電話、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、携帯電話、ＰＤＡ、デジタルカメラ、ビデオカメラ、各種ゲーム機、自動車等のディスプレイに使用される液晶表示装置のバックライトまたはフロントライトとして用いることができる。また、駅や公共施設などにおける案内標示板や看板や交通標識、ライトボックス、投影用スクリーン、シャーカステン、複写機、プロジェクター等に使用される表示装置の内照式照明としても用いることができる。さらに、オフィスや家庭で使用される一般照明用としても用いることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１３０】
【図１】本発明の異方性拡散構造体の一実施形態の示す拡大斜視図である。
【図２】図１の異方性拡散構造体を、凹凸パターンの形成方向と直交方向に切断した際の断面図である。
【図３】凹凸パターンの表面を表面光学顕微鏡により撮影して得た画像の、グレースケール変換画像である。
【図４】図３の画像をフーリエ変換した画像である。
【図５】図４の画像における円環の中心からの距離に対する輝度をプロットしたグラフである。
【図６】図４の画像における補助線Ｌ３上の輝度をプロットしたグラフである。
【図７】本発明の異方性拡散構造を製造する際に使用する積層シートを示す断面図である。
【図８】本発明の第１実施形態における光拡散体の一例を示す平面図（異方性拡散構造を省略し発泡層のみ）と断面図である。
【図９】本発明の第１実施形態の高発泡ドメインが連続であり、低発泡ドメインが非連続である領域の平面図と断面図を示す図である。
【図１０】本発明の第１実施形態を示す拡大斜視図である。
【図１１】本発明の第１実施形態の光拡散体の製造方法を示す図である。
【図１２】本発明の第１実施形態の低発泡ドメインが連続であり、高発泡ドメインが非連続である領域の平面図と断面図を示す図である。
【図１３】本発明の第３実施形態における光拡散体の製造過程の一例を示す図である。
【図１４】本発明の第３実施形態を示す拡大斜視図である。
【符号の説明】
【０１３１】
１    蛇行した波状の凹凸パターン
１ａ  底部
２    透明樹脂層
３    異方性拡散構造体
４    加熱収縮性フィルム
５    表面平滑硬質層
６    積層シート
７    基材シート
８    発泡層
９    基材シート
１０  光源
１１  低発泡ドメイン
１２  高発泡ドメイン
１３  波状硬質層
１４  透明粘着剤層
【図１】
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【図２】
2009086577.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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