(57)【要約】【課題】  製造コストの大幅な上昇を招くことのない長期間データ保存が可能なガラスディスクを製造する。【解決手段】  第１ステップにて、ガラス基板１１の上面に石英層１２を形成する。第２ステップにて、石英層１２の上面にフォトレジスト層１３を形成する。第３，第４ステップにて、フォトレジスト層１３にレーザ光を照射した後、現像液でレーザ反応跡１４を除去してフォトレジスト層１３に２値化データを表すピット列１５を形成する。第５ステップにて、ガスエッチングを作用させて石英層１２に２値化データを表すピット列１６を形成する。第６ステップにて、フォトレジスト層１３を剥離する。【選択図】  図１
2009289386.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学ガラスからなる平坦ドーナツ盤状のガラス基板と、
前記ガラス基板の少なくとも一方の平坦面に固着され、２値化データを表すピット列が形成された石英層とを備えたことを特徴とするガラスディスク。
【請求項２】
前記石英層は、前記ガラス基板の片側平坦面において周縁部を除いた領域に固着されるとともに、平面形状が前記ガラス基板の平面形状と略同一で周縁部が前記ガラス基板の周縁部と接着される固定基板により、前記ガラス基板と前記固定基板との間に挟まれて設けられることを特徴とする請求項１記載のガラスディスク。
【請求項３】
前記石英層の２値化データを表すピット列は、前記ガラス基板の厚さに応じた形状で形成されていることを特徴とする請求項１または２記載のガラスディスク。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項記載のガラスディスクのデータ再生方法であって、
レーザ光を前記ガラス基板を通過させて前記石英層に照射し、前記ピット列の形成部からの前記レーザ光の反射光に基づいて前記ガラスディスクのデータを再生することを特徴とするガラスディスクのデータ再生方法。
【請求項５】
請求項１記載のガラスディスクの製造方法であって、
平坦ドーナツ盤状のガラス基板の少なくとも一方の平坦面に石英層を形成する石英層形成ステップと、
前記石英層の上に、レーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層を形成するレジスト層形成ステップと、
前記レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、前記レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、前記レジスト層に２値化データを表すピット列を形成する第１ピット列形成ステップと、
前記ピット列の形成されたレジスト層をマスクとしてエッチングにより前記石英層に２値化データを表すピット列を形成する第２ピット列形成ステップと、
前記第２ピット列形成ステップの後、前記レジスト層を前記石英層から剥離する剥離ステップと
を含むことを特徴とするガラスディスクの製造方法。
【請求項６】
請求項１記載のガラスディスクの製造方法であって、
平坦ドーナツ盤状のガラス基板の少なくとも一方の平坦面に、二酸化珪素を主成分としレーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層を形成するレジスト層形成ステップと、
前記レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、前記レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、前記レジスト層に２値化データを表すピット列を形成するピット列形成ステップと、
前記ピット列形成ステップの後、前記レジスト層を形成したガラス基板を加熱処理して前記レジスト層を焼結することにより、前記レジスト層から２値化データを表すピット列が形成された石英層を形成する石英層形成ステップと
を含むことを特徴とするガラスディスクの製造方法。
【請求項７】
請求項２記載のガラスディスクの製造方法であって、
平坦ドーナツ盤状のガラス基板の片側平坦面に、前記ガラス基板の周縁部を除いた領域において石英層を形成する石英層形成ステップと、
前記石英層の上に、レーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層を形成するレジスト層形成ステップと、
前記レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、前記レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、前記レジスト層に２値化データを表すピット列を形成する第１ピット列形成ステップと、
前記ピット列の形成されたレジスト層をマスクとしてエッチングにより前記石英層に２値化データを表すピット列を形成する第２ピット列形成ステップと、
前記第２ピット列形成ステップの後、前記レジスト層を前記石英層から剥離する剥離ステップと、
前記剥離ステップの後、前記ガラス基板の周縁部に、前記固定基板の周縁部を接着することにより前記石英層を前記固定基板で密着して覆う固定基板接着ステップと
を含むことを特徴とするガラスディスクの製造方法。
【請求項８】
請求項２記載のガラスディスクの製造方法であって、
平坦ドーナツ盤状のガラス基板の片側平坦面に、前記ガラス基板の周縁部を除いた領域において二酸化珪素を主成分としレーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層を形成するレジスト層形成ステップと、
前記レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、前記レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、前記レジスト層に２値化データを表すピット列を形成するピット列形成ステップと、
前記ピット列形成ステップの後、前記レジスト層を形成したガラス基板を加熱処理して前記レジスト層を焼結することにより、前記レジスト層から２値化データを表すピット列が形成された石英層を形成する石英層形成ステップと、
前記石英層形成ステップの後、前記ガラス基板の周縁部に、前記固定基板の周縁部を接着することにより前記石英層を前記固定基板で密着して覆う固定基板接着ステップと
を含むことを特徴とするガラスディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＤやＤＶＤなどの光ディスクとして用いるガラスディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、光ディスク等の記録媒体、例えば、ＣＤやＤＶＤは、ポリカーボネート（ＰＣ）などの有機系材料を用いて製造されているため、長期間経過するうちに有機系材料が劣化してデータの再生が不能になる。従って、数百年レベルといった長期間のデータ保存はできない。そこで、特許文献１、特許文献２等において、データの保存期間を長くする技術が提案されている。例えば、特許文献１には、光ディスクの素材としてのポリカーボネート樹脂材料を、芳香族ビスフェノール類とホスゲンより合成され、分子鎖末端のクロロホルメート基として存在する塩素が、０．１ｐｐｍ以下であり、残存する遊離塩素が０．１ｐｐｍ以下であり、全塩素量が４０ｐｐｍ以下としたものが提案されている。しかしながら、こうした技術を用いても、光ディスクが再生不能になるまでの時間をある程度延ばすことはできても、データの長期保存は難しい。
【０００３】
データの長期保存が可能な光ディスクとして、ガラス基板に２値化データを表すピット列を形成したガラスディスクが知られている。このようなガラスディスクは、例えば、特許文献３に示されているように、ガラス原盤を作製するときと同じ製造方法により製造される。ガラスディスクは、以下の工程により製造される。
【０００４】
（１）基板を研磨して平坦度のよい面を形成し、この面にレジスト膜を形成する。
（２）元データから変調された２値化データを基に、レーザ光強度がハイレベルとローレベルのパルス列からなるレーザ光をレジスト膜に照射する。
（３）レジスト膜を現像して選択的にレジスト膜を除去し、２値化データであるピット列を形成する。
（４）レジスト膜をマスクとして基板をエッチングし、基板に２値化データであるピット列を形成する。
（５）レジスト膜を剥離する。
【０００５】
このように製造されたガラスディスクは、劣化しにくく、破損しない限りデータの長期間保存が可能となる。しかしながら、非晶質のガラス基板へエッチングによりピット列を形成する方法は、ピットの形成精度が良くない。そこで、例えば、特許文献４に示されているように、石英板へエッチングによりピット列を形成して原盤を作製することが多く行われている。石英原盤は、スタンパーを作製する際の元になるものであるため、それ自身高価であっても、その作製数量は極少量でよく、スタンパーを用いて光ディスクを大量生産すれば、光ディスクの製造コストの上昇を招かない。
【特許文献１】特開２００３−２６１６６８号公報
【特許文献２】特開２００４−２８０８６８号公報
【特許文献３】特公平６−４８５４６号公報
【特許文献４】特開平９−２９７９４０号公報
【発明の開示】
【０００６】
しかしながら、特許文献４に記載の技術は、あくまでも原盤を製造する技術であって、長期間データ保存が可能な光ディスクとして、石英板にピット列を形成したディスクを製造しようとすると、製造コスト（材料コスト）が高額となってしまうという問題を生じる。
【０００７】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、その目的は、非晶質のガラス基板によるガラスディスクに比べてピット形成精度が良く、製造コストの大幅な上昇を招くことのない長期間データ保存が可能なガラスディスク、そのガラスディスクの再生方法、そのガラスディスクの製造方法を提供することにある。
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明のガラスディスクの特徴は、光学ガラスからなる平坦ドーナツ盤状のガラス基板と、前記ガラス基板の少なくとも一方の平坦面に固着され、２値化データを表すピット列が形成された石英層とを備えたことにある。
【０００９】
この発明のガラスディスクは、ガラス基板上に石英層を形成し、この石英層に２値化データを表すピット列を形成したものであるため、データの長期間保存が可能であり、しかも、非晶質のガラス基板にピット列を形成したガラスディスクに比べて製造コストの大幅な上昇を招かない。
【００１０】
この発明のガラスディスクの製造方法の特徴は、平坦ドーナツ盤状のガラス基板の少なくとも一方の平坦面に石英層を形成する石英層形成ステップと、前記石英層の上に、レーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層を形成するレジスト層形成ステップと、前記レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、前記レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、前記レジスト層に２値化データを表すピット列を形成する第１ピット列形成ステップと、前記ピット列の形成されたレジスト層をマスクとしてエッチングにより前記石英層に２値化データを表すピット列を形成する第２ピット列形成ステップと、前記第２ピット列形成ステップの後、前記レジスト層を前記石英層から剥離する剥離ステップとを含むことにある。
【００１１】
この発明によれば、まず、石英層形成ステップにおいて、平坦ドーナツ盤状のガラス基板の少なくとも一方の平坦面に石英層が形成される。続いて、レジスト層形成ステップにおいて、石英層の上にレーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層が形成される。次に、第１ピット列形成ステップにおいて、レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、レジスト層に２値化データを表すピット列（ピットの列）が形成される。このレジスト層に形成されるピット列の各ピットは、レジスト層を貫通する開口であることが望ましい。一般に、ピットとは凹部を意味するが、この発明におけるピットは、ガラスディスク全体としてとらえた凹部であって、各層ごとにみれば貫通した開口を含むものである。
【００１２】
次に、第２ピット列形成ステップにおいて、ピット列の形成されたレジスト層をマスクとして使用してエッチングにより石英層に２値化データを表すピット列が形成される。この場合、レジスト層に形成されたピット列を介して、その下の石英層にエッチングガスやエッチング液などが作用し、石英層にピット列が形成される。続いて、剥離ステップにおいて、石英層の上に残っているレジスト層が剥離される。
【００１３】
こうして、ガラス基板に、ピット列が形成された石英層を固着したガラスディスクを製造することができる。従って、従来の非晶質のガラス基板にピット列を形成したガラスディスクの製造方法に比べて、ピットの形成精度が良好となる。また、大幅な製造コストの上昇を招くことなく、データの長期間保存が可能なガラスディスクを製造することができる。
【００１４】
また、本発明のガラスディスクの製造方法の他の特徴は、平坦ドーナツ盤状のガラス基板の少なくとも一方の平坦面に、二酸化珪素を主成分としレーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層を形成するレジスト層形成ステップと、前記レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、前記レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、前記レジスト層に２値化データを表すピット列を形成するピット列形成ステップと、前記ピット列形成ステップの後、前記レジスト層を形成したガラス基板を加熱処理して前記レジスト層を焼結することにより、前記レジスト層から２値化データを表すピット列が形成された石英層を形成する石英層形成ステップとを含むことにある。
【００１５】
この発明によれば、まず、レジスト層形成ステップにおいて、平坦ドーナツ盤状のガラス基板の少なくとも一方の平坦面に二酸化珪素（ＳｉＯ2）を主成分としたレジスト層が形成される。続いて、ピット列形成ステップにおいて、レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、レジスト層に２値化データを表すピット列が形成される。次に、石英層形成ステップにおいて、レジスト層を形成したガラス基板を加熱処理してレジスト層を焼結することにより、２値化データを表すピット列が形成された石英層がガラス基板に固着して形成される。
【００１６】
こうして、ガラス基板に、ピット列が形成された石英層を固着したガラスディスクを製造することができる。従って、従来の非晶質のガラス基板にピット列を形成したガラスディスクの製造方法に比べて、ピットの形成精度が良好となる。また、大幅な製造コストの上昇を招くことなく、データの長期間保存が可能なガラスディスクを製造することができる。
【００１７】
本発明のガラスディスクの他の特徴は、前記石英層は、前記ガラス基板の片側平坦面において周縁部を除いた領域に固着されるとともに、平面形状が前記ガラス基板の平面形状と略同一で周縁部が前記ガラス基板の周縁部と接着される固定基板により、前記ガラス基板と前記固定基板との間に挟まれて設けられることにある。
【００１８】
この発明のガラスディスクにおいては、ガラス基板の片側平坦面で周縁部を除いた領域に石英層が固着され、さらに、その上から固定基板が設けられる。この固定基板は、その平面形状がガラス基板の平面形状と略同一で石英層の周囲を囲むようにガラス基板と接着される。これにより、石英層は、ガラス基板と固定基板との間に挟まれて確実に固定される。従って、石英層がガラス基板から剥離してしまうことを防止することができる。
【００１９】
また、例えば、固定基板を光反射板として兼用すれば、データ再生時におけるレーザ光を照射したときの反射光の強度変化を大きくすることができ、データ再生精度を向上させることができる。この場合、固定基板と石英層との間に固定基板よりも高反射率の光反射層を介装して固定基板と光反射層とで光反射板を構成する、あるいは、固定基板を高反射率の材料にて形成して光反射板とすればよい。尚、石英層は、ガラス基板の片側平坦面において周縁部を除いた領域に固着されるものであるため、その外径はガラス基板の外径よりも小さく、内径はガラス基板よりも大きな平坦ドーナツ膜状に形成される。
【００２０】
また、この固定基板を設けたガラスディスクの製造方法の特徴は、平坦ドーナツ盤状のガラス基板の片側平坦面に、前記ガラス基板の周縁部を除いた領域において石英層を形成する石英層形成ステップと、前記石英層の上に、レーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層を形成するレジスト層形成ステップと、前記レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、前記レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、前記レジスト層に２値化データを表すピット列を形成する第１ピット列形成ステップと、前記ピット列の形成されたレジスト層をマスクとしてエッチングにより前記石英層に２値化データを表すピット列を形成する第２ピット列形成ステップと、前記第２ピット列形成ステップの後、前記レジスト層を前記石英層から剥離する剥離ステップと、前記剥離ステップの後、前記ガラス基板の周縁部に、前記固定基板の周縁部を接着することにより前記石英層を前記固定基板で密着して覆う固定基板接着ステップとを含むことにある。
【００２１】
この発明によれば、まず、石英層形成ステップにおいて、平坦ドーナツ盤状のガラス基板の片側平坦面に、ガラス基板の周縁部を除いた領域において石英層が形成される。続いて、レジスト層形成ステップにおいて、石英層の上にレーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層が形成される。次に、第１ピット列形成ステップにおいて、レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、レジスト層に２値化データを表すピット列が形成される。
【００２２】
次に、第２ピット列形成ステップにおいて、ピット列が形成されたレジスト層をマスクとして使用してエッチングにより石英層に２値化データを表すピット列が形成される。この場合、レジスト層に形成されたピット列を介して、その下の石英層にエッチングガスやエッチング液などが作用し、石英層にピット列が形成される。続いて、剥離ステップにおいて、石英層の上に残っているレジスト層が剥離される。次に、固定基板接着ステップにおいて、ガラス基板の周縁部に固定基板の周縁部を接着することにより石英層が固定基板で密着して覆われる。
【００２３】
こうして、ガラス基板と固定基板とにより石英層を挟んだガラスディスクを製造することができる。このため、石英層がガラス基板に確実に固定されて剥がれにくくなる。従って、一層データの長期間保存が可能なガラスディスクを製造することができる。
【００２４】
また、固定基板を設けたガラスディスクの製造方法の他の特徴は、平坦ドーナツ盤状のガラス基板の片側平坦面に、前記ガラス基板の周縁部を除いた領域において二酸化珪素を主成分としレーザ光照射により反応跡またはピットの形成可能なレジスト層を形成するレジスト層形成ステップと、前記レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、前記レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、前記レジスト層に２値化データを表すピット列を形成するピット列形成ステップと、前記ピット列形成ステップの後、前記レジスト層を形成したガラス基板を加熱処理して前記レジスト層を焼結することにより、前記レジスト層から２値化データを表すピット列が形成された石英層を形成する石英層形成ステップと、前記石英層形成ステップの後、前記ガラス基板の周縁部に、前記固定基板の周縁部を接着することにより前記石英層を前記固定基板で密着して覆う固定基板接着ステップとを含むことにある。
【００２５】
この発明によれば、まず、レジスト層形成ステップにおいて、平坦ドーナツ盤状のガラス基板の片側平坦面に、ガラス基板の周縁部を除いた領域において二酸化珪素（ＳｉＯ2）を主成分としたレジスト層が形成される。続いて、ピット形成ステップにおいて、レジスト層にレーザ光を照射することにより、または、レジスト層にレーザ光を照射したうえで現像液を作用させることにより、レジスト層に２値化データを表すピット列が形成される。次に、石英層形成ステップにおいて、レジスト層を形成したガラス基板を加熱処理してレジスト層を焼結することにより、２値化データを表すピット列が形成された石英層がガラス基板に固着して形成される。次に、固定基板接着ステップにおいて、石英層が形成されたガラス基板の周縁部に、固定基板の周縁部を接着することにより石英層が固定基板で密着して覆われる。
【００２６】
こうして、ガラス基板と固定基板とにより石英層を挟んだガラスディスクを製造することができる。このため、石英層がガラス基板に確実に固定されて剥がれにくくなる。従って、一層データの長期間保存が可能なガラスディスクを製造することができる。
【００２７】
また、本発明のガラスディスクの他の特徴は、前記石英層の２値化データを表すピット列は、前記ガラス基板の厚さに応じた形状で形成されていることにある。
【００２８】
この発明のガラスディスクにおいては、石英層の２値化データを表すピット列が、ガラス基板の厚さに応じた形状で形成されているため、汎用の光ディスク再生装置を用いてデータを再生することができる。例えば、ガラス基板の厚さをＣＤ（Compact Disc）の透明基板（従来のポリカーボネートの層）と同じ厚さ（１．２ｍｍ）にした場合には、ＣＤの規格と同じように信号長が３Ｔ〜１１Ｔとなるピット列を形成する。この場合、通常のＣＤ再生装置により再生することができる。同様に、ガラス基板の厚さをＤＶＤ（Digital Versatile Disc）の透明基板と同じ厚さ（０．６ｍｍ）にした場合には、ＤＶＤの規格と同じように信号長が３Ｔ〜１１Ｔおよび１４Ｔとなるピット列を形成する。この場合、通常のＤＶＤ再生装置により再生することができる。尚、光学ガラスの屈折率（例えば、１．５３）は、従来の光ディスクの基板材となるポリカーボネートの屈折率（例えば、１．５９）と近いため、基板の厚さが同じであれば、球面収差の発生が微量となるため、適正に再生することができる。また、この屈折率の差分に基づいて、ガラス基板の厚さをＣＤやＤＶＤの透明基板の厚さから微量変化させれば、球面収差の発生を抑制でき、さらに適正に再生することができる。
【００２９】
また、この発明のガラスディスクの再生方法の特徴は、レーザ光を前記ガラス基板を通過させて前記石英層に照射し、前記ピット列の形成部からの前記レーザ光の反射光に基づいて前記ガラスディスクのデータを再生することにある。
【００３０】
この再生方法によれば、ガラスディスクに記憶したデータを通常の光ディスクの再生方法により再生することができる。特に、ガラス基板の厚さをＣＤあるいはＤＶＤと同じ厚さにするとともに、石英層に形成したピット列をＣＤあるいはＤＶＤの規格と同じ形状とした場合には、汎用の光ディスク再生装置（ＣＤ再生装置、あるいは、ＤＶＤ再生装置）を使って再生することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
＜第１実施形態＞
以下、本発明の一実施形態について図面を用いて説明する。図１は、第１実施形態としてのガラスディスクの製造方法をステップ毎に説明するガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。
【００３２】
＜第１ステップ＞
まず、ガラス基板１１をスパッタリング装置（図示略）へセットし、スパッタリングによりガラス基板１１の表面（この例では片側面）に石英（ＳｉＯ2）の層１２（以下、石英層１２と呼ぶ）を形成する。本実施形態のガラス基板１１は、ＣＤ，ＤＶＤといった光ディスクと同様に、中心に円孔１１ａ（図２参照）を形成した平坦ドーナツ盤状であって、外径が１２０ｍｍ、円孔１１ａの内径が１５ｍｍに形成されている。ガラス基板１１は、透明な光学ガラスを素材としたものであり、石英ガラスを素材としたものではない。ガラス基板１１の厚さは、最終的に製造されたガラスディスク１００のデータをＣＤ再生装置で再生する場合にはＣＤの透明基板（従来のポリカーボネートの基板）と同じ１．２ｍｍ、ＤＶＤ再生装置で再生する場合にはＤＶＤの透明基板（従来のポリカーボネートの基板）と同じ０．６ｍｍとする。ガラス基板１１は、両面が研磨されて平坦に形成されている。また、スパッタリングによりガラス基板１１の表面に形成される石英層１２は、その厚さが０．１０μｍ〜１．００μｍに設定される。従って、石英層１２は、ガラス基板１１に比べて極めて薄い膜状の層である。尚、図中においては、分かりやすいように石英層１２の厚さを、ガラス基板１１の厚さに比べて拡大して表している。
【００３３】
＜第２ステップ＞
続いて、石英層１２が形成されたガラス基板１１をスピンコータ（回転塗布装置）にセットし、石英層１２の表面にフォトレジスト１３を塗布する。このとき、石英層１２が形成されたガラス基板１１の中心部分に円孔が形成されていると均一にフォトレジスト１３を塗布できないため、図示しないキャップにて円孔を塞いでおく。フォトレジスト１３の塗布量は、プリベイクした後のフォトレジスト１３の厚さが０．１０μｍ〜１．００μｍの範囲におさまるように調整する。次に、フォトレジスト１３を塗布したガラス基板１１をホットプレートでプリベイクする。プリベイクは、９０℃〜１３５℃で５分〜１０分間行う。以下、このように石英層１２の上でプリベイクされたフォトレジスト１３をフォトレジスト層１３と呼ぶ。フォトレジスト層１３は、上述した低い温度条件でプリベイクされたものであるため、レーザ光に対して反応跡の形成可能な層となる。尚、フォトレジスト１３は、色々な種類のものを使用することができるが、本実施形態においては、東京応化工業製のＯＦＰＲ−８００ＬＢを使用する。
【００３４】
以下、石英層１２およびフォトレジスト層１３が形成されたガラス基板１１を積層板１０と呼ぶ。また、フォトレジスト層１３が形成されていない段階（第１ステップ終了後）のガラス基板１１、あるいは、後述するようにフォトレジスト層１３が石英層１２から除去されたガラス基板１１についても積層板１０と呼ぶ。
【００３５】
＜第３ステップ＞
続いて、最上面にフォトレジスト層１３が形成された積層板１０の中央部分の円孔から上記キャップを外す。そして、その積層板１０をレーザ加工装置（図２参照）にセットし、記録型光ディスクにレーザ光を照射する際と同様のパルス状のレーザ光を照射して、フォトレジスト層１３に反応跡１４を形成する。これにより、フォトレジスト層１３には、再生型光ディスクに２値化データとして形成されるピット列と同じ形状の反応跡１４が形成される。尚、レーザ加工装置については、後述する。
【００３６】
＜第４ステップ＞
続いて、フォトレジスト層１３に反応跡１４が形成された積層板１０を現像液の入った容器に数分間浸し、反応跡１４を除去する。その後、容器から積層板１０を取り出し、洗浄して現像液を除去し乾燥させる。この第４ステップにより、フォトレジスト層１３には２値化データを表す複数のピット１５の列（ピット列１５と呼ぶ）が周方向にそって螺旋状に形成される。尚、図１は、ガラスディスクの中心を通る径方向の縦断面図を示しているため、ピット列１５は、紙面の手前から奥方向に沿って形成されている。従って、図中に示された左右方向に並んだピット１５は、隣接するピット列１５における個々のピット１５を表している。
【００３７】
各ピット１５は、フォトレジスト層１３を貫通した開口となる。次に、フォトレジスト層１３にピット列１５が形成された積層板１０をホットプレートでポストベイクする。ポストベイクは、１２０℃〜１５０℃で２分〜５分間行う。尚、現像液は、フォトレジスト１３に対応したものを使用すれば良く、本実施形態においては、東京応化工業製ＯＦＰＲ−８００ＬＢに対応する現像液である東京応化工業製ＮＭＤ−３を使用する。
【００３８】
＜第５ステップ＞
続いて、フォトレジスト層１３にピット列１５が形成された積層板１０をエッチング装置（図示略）に装填し、エッチングガスを積層板１０の上面に対して垂直方向に作用させる。この場合、フォトレジスト層１３がマスクとなって、石英層１２におけるフォトレジスト層１３の各ピット１５に臨む部位にピット１６が形成される。従って、石英層１２には、ピット列１５に対応した螺旋状に延びたピット列１６が形成される。図１中において示されるピット１６は、各ピット列１６（トラック）における個々のピット１６を表す。
【００３９】
各ピット１６は、石英層１２を貫通しない凹部となる。エッチングガスは、フォトレジスト層１３と石英層１２とを同時にエッチングするが、フォトレジスト層１３が目減りしてマスク機能が失われる前に、石英層１２に適正深さのピット１６を形成させることができるものを使用すれば良い。ピット１６の適正な深さは、０．１０μｍ〜０．２０μｍとする。本実施形態においては、エッチングガスとして四弗化炭素（ＣＦ4）を使用する。
【００４０】
＜第６ステップ＞
続いて、石英層１２にピット列１６が形成された積層板１０を、剥離液の入った容器に数分間浸し、積層板１０からフォトレジスト層１３を除去する。その後、容器から積層板１０を取り出し、洗浄して剥離液を除去し乾燥させる。こうして、ガラス基板１１の上面には、２値化データを表すピット列１６が形成された石英層１２が固着形成される。尚、剥離液は、フォトレジスト１３に対応したものを使用すれば良く、本実施形態においては、東京応化工業製ＯＦＰＲ−８００ＬＢに対応する剥離液である東京応化工業製１０４を使用する。
【００４１】
第１ステップ〜第６ステップにより製造された積層板１０が、本実施形態におけるガラスディスク１００に相当する。従って、ガラスディスク１００は、光学ガラスからなる平坦ドーナツ盤状のガラス基板１１と、ガラス基板１１の片側の平坦面に固着され、２値化データを表すピット列１６が形成された面をガラス基板１１との固着面とは反対側に形成した石英層１２とを備えた光ディスクとなる。尚、図１の第６ステップにおける断面は、ガラスディスク１００の断面を表す。
【００４２】
次に、第３ステップにおいて使用するレーザ加工装置について説明する。図２は、レーザ加工装置の全体概略構成図である。このレーザ加工装置は、最上面にフォトレジスト層１３が形成された積層板１０を固定支持する支持部材としてのテーブル３１と、積層板１０の上面に向けてレーザ光を照射して積層板１０をレーザ加工する加工ヘッド４０とを備えている。テーブル３１は、円形に形成されていて、スピンドルモータ３２及びフィードモータ３３によって駆動される。
【００４３】
積層板１０は、テーブル３１の上面に、その中心と回転中心とが一致するように載置される。テーブル３１の上面には、図示しない複数の吸引孔が形成されており、吸引装置の作動により吸引孔に負圧を発生させて積層板１０をテーブル３１の上面に吸引固定する。尚、積層板１０の固定は、吸引装置に限らず、他の固定装置を用いて行うこともできる。
【００４４】
スピンドルモータ３２は、その回転により、回転軸３２ａを介してテーブル３１を回転駆動する。スピンドルモータ３２内には、同モータ３２すなわちテーブル３１の回転を検出して、同回転を表す回転検出信号を出力するエンコーダ３２ｂが組み込まれている。エンコーダ３２ｂは、スピンドルモータ３２の回転を検出して同回転を表す回転検出信号をスピンドルモータ制御回路４１に出力する。スピンドルモータ制御回路４１は、後述するコントローラ６０によって制御され、エンコーダ３２ｂから供給される回転検出信号を用いて、スピンドルモータ３２がコントローラ６０の指示する回転速度で回転するように制御する。
【００４５】
フィードモータ３３は、スクリューロッド３４を回転させて、テーブル３１を半径方向に移動する。スクリューロッド３４は、その一端にてフィードモータ３３の回転軸に一体回転するように連結され、その他端に支持部材３５に固着されたナット（図示しない）に螺合している。支持部材３５は、スピンドルモータ３２を固定支持するとともに、テーブル３１の径方向への移動のみが許容されている。したがって、フィードモータ３３が回転すると、スピンドルモータ３２、テーブル３１及び支持部材３５はスクリューロッド３４及びナットからなるねじ機構によりテーブル３１の径方向に移動する。
【００４６】
フィードモータ３３内にも、フィードモータ３３の回転を検出して、前記エンコーダ３２ｂと同様な回転検出信号を出力するエンコーダ３３ａが組み込まれている。この回転検出信号は、半径位置検出回路４３及びフィードモータ制御回路４４に出力される。半径位置検出回路４３は、エンコーダ３３ａからの回転検出信号をカウントするカウント回路を有し、このカウント回路のカウント値に基づいてレーザ光が照射されるテーブルの半径位置を検出して、半径位置を表す検出信号を出力する。なお、カウント回路の初期設定は、コントローラ６０による指示により、フィードモータ制御回路４４と協働して行われる。
【００４７】
すなわち、コントローラ６０は、初期において、フィードモータ制御回路４４に支持部材３５の初期位置への移動及び半径位置検出回路４３に初期設定を指示する。この指示により、フィードモータ制御回路４４は、フィードモータ３３を回転させて支持部材３５を初期位置に移動させる。なお、この初期位置は、フィードモータ３３によって駆動される支持部材３５の駆動制限位置である。半径位置検出回路４３は、この支持部材３５の移動中、エンコーダ３３ａからの回転検出信号を入力し続けている。そして、支持部材３５が初期位置まで達してフィードモータ３３の回転が停止すると、半径位置検出回路４３はエンコーダ３３ａからの回転検出信号の入力停止を検出して、内蔵のカウント回路のカウント値を「０」にリセットする。このとき、半径位置検出回路４３は、フィードモータ制御回路４４に出力停止のための信号を出力し、これにより、フィードモータ制御回路４４はフィードモータ３３への駆動信号の出力を停止する。
【００４８】
フィードモータ制御回路４４は、コントローラ６０の指示により、フィードモータ３３を駆動制御して、レーザ光の照射位置をテーブル３１の指定半径位置へ移動させたり、テーブル３１を半径方向に指定速度で移動させたりする。具体的には、フィードモータ制御回路４４は、コントローラ６０によって指定される半径位置へのレーザ光の照射位置の移動が指示されたときには、半径位置検出回路４３によって検出される半径位置を用いてフィードモータ３３の回転を制御し、検出される半径位置がコントローラ６０から指定された半径位置に等しくなるまでフィードモータ３３を回転させる。また、フィードモータ制御回路４４は、コントローラ６０によって指定される移動速度でレーザ光の照射位置をテーブル３１の半径方向に移動させることが指示されたときには、エンコーダ３３ａからの回転検出信号からテーブル３１の半径方向への移動速度を計算して、計算された移動速度がコントローラ６０によって指定される移動速度に等しくなるようにフィードモータ３３の回転を制御する。
【００４９】
加工ヘッド４０は、レーザ光源４０ａ、コリメートレンズ４０ｂ、偏光ビームスプリッタ４０ｃ、１／４波長板４０ｄ、対物レンズ４０ｅ、凸レンズ４０ｆ、シリンドリカルレンズ４０ｇ、４分割フォトディテクタ４０ｈ、フォーカスアクチュエータ４０ｉなどを備え、レーザ光源４０ａからのレーザ光を積層板１０の表面に集光させるとともに積層板１０からの反射光を受光する。レーザ光源４０ａは、コントローラ６０によって作動制御される記録信号供給回路４５及びレーザ駆動回路４６によって駆動制御される。
【００５０】
記録信号供給回路４５は、コントローラ６０から供給される元データを、データ変換（エンコード）して、変換したデータを基に、ＣＤの場合は信号長が３Ｔ〜１１Ｔ、ＤＶＤの場合は信号長が３Ｔ〜１１Ｔと１４Ｔからなるパルス信号を出力する。この場合、１Ｔあたりの信号出力時間は、光ディスクの規格と設定された線速度とから計算される。レーザ駆動回路４６は、コントローラ６０によって制御されて、記録信号供給回路４５からのパルス列信号に対応した駆動信号をレーザ光源４０ａに供給する。
【００５１】
また、この積層板１０に照射されたレーザ光による反射光は、４分割フォトディテクタ４０ｈに導かれて受光される。４分割フォトディテクタ４０ｈは、ＨＦ信号増幅回路４７を介して４つの信号からなる受光信号をフォーカスエラー信号生成回路４８に供給する。フォーカスエラー信号生成回路４８は、４分割フォトディテクタ４０ｈにより検出されてＨＦ信号増幅回路４７にて増幅された受光信号に基づいて、フォーカスエラー信号を生成してフォーカスサーボ回路４９に出力する。フォーカスサーボ回路４９は、フォーカスエラー信号に基づいてフォーカスサーボ信号を生成し、ドライブ回路５０に供給する。ドライブ回路５０は、このフォーカスサーボ信号に応じて加工ヘッド４０内のフォーカスアクチュエータ４０ｉを駆動制御して、レーザ光が積層板１０のフォトレジスト層１３で合焦するように制御する。なお、フォーカスアクチュエータ４０ｉは、加工ヘッド４０内に設けられて対物レンズ４０ｅをレーザ光の光軸方向に変位させるものである。
【００５２】
コントローラ６０は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、ハードディスクなどの記憶装置などからなるコンピュータによって構成されており、キーボード、マウスなどからなる入力装置６１からの指示に従って、プログラムを実行することにより、レーザ加工装置を作動させる。また、コントローラ６０には、作動指示及び作動状況を作業者に対して視覚的に知らせるための表示装置６２も接続されている。
【００５３】
コントローラ６０は、第３ステップにおいてフォトレジスト層１３にパルス状のレーザ光を照射するとき、半径位置検出回路４３が出力する半径位置を所定の時間間隔で入力し、設定された線速度になるための回転速度を計算して、回転速度指令をスピンドルモータ制御回路４１に出力する。また、コントローラ６０は、計算した回転速度と設定されている半径方向の記録ピッチとから半径方向への移動速度（送り速度）を計算し、移動速度指令をフィードモータ制御回路４４に出力する。また、コントローラ６０は、記録信号供給回路４５に対してガラスディスク１００に記録する２値化データの元データを出力する。この結果、積層板１０の上面のフォトレジスト層１３に、再生型光ディスクに２値化データとして形成されるピット列と同様形状の反応跡１４が周方向に沿って螺旋状に形成される。
【００５４】
従って、第１ステップ〜第６ステップにより製造されるガラスディスク１００は、再生型光ディスクに２値化データとして形成されるピット列と同様な形状のピット列１６をガラス基板１１の上面の石英層１２に形成したものとなる。しかも、ガラス基板１１は、その厚さが通常の光ディスク（例えば、ＣＤ，ＤＶＤ等）と同一であり、また、屈折率（１．５３）が通常の光ディスクの基板材料であるポリカーボネートの屈折率（１．５９）と近い。
【００５５】
このため、本実施形態のガラスディスク１００は、汎用の光ディスク再生装置（ＣＤ再生装置、ＤＶＤ再生装置等）を用いて再生することができる。この場合、図３に示すように、ピット列１６が形成された面とは反対側の面、つまり、ガラス基板１１における石英層１２との固着面の反対側面からレーザ光がピット列１６の形成部に向けて照射されるように、ガラスディスク１００を光ディスク再生装置Ａにセットすればよい。
【００５６】
光ディスク再生装置Ａは、レーザ光を照射するレーザ発光素子とその反射光を受光する受光素子とを備えたピックアップヘッドＡ１を備える。光ディスク再生装置ＡのピックアップヘッドＡ１から照射されたレーザ光は、通常の光ディスクと同様に、透明基板（この例ではガラス基板１１）を通過して、ピット列１６が形成された石英層１２にて合焦し、ピット列１６の形成部（ガラス基板１１との固着面とは反対側となるピット列形成面）で反射する。光ディスク再生装置Ａは、ピックアップヘッドＡ１にて反射光の強度の変化を検出することにより、ガラスディスク１００に記録されたデータを再生する。従って、ガラスディスク１００は、汎用の光ディスク再生装置と同様な再生方法で再生することができる。尚、図３は、光ディスク再生装置Ａの概念図であり、符号Ａ２は、ガラスディスク１００を回転させるためのスピンドルモータ、符号Ａ３は、ガラスディスク１００を円孔１１ａで保持した状態でスピンドルモータＡ２の回転をガラスディスク１００に伝達する保持軸を表す。
【００５７】
以上説明した本実施形態のガラスディスク１００によれば、ガラス基板１１の平坦面上に石英層１２を形成し、この石英層１２に２値化データを表すピット列１６を設けたものであるため、データの長期間保存が可能な光ディスクとなる。しかも、ガラス基板にピット列を形成した従来のガラスディスクに比べてピットの形成精度が良好となる。また、石英層１２がガラス基板１１よりも極めて薄い膜状に形成されたものであるため、石英板を透明基板としたものに比べて安価であり、ガラス基板にピット列を形成したガラスディスクに比べても大幅なコストアップを招かない。また、通常の光ディスクと同様に、汎用の光ディスク再生装置を使って再生することができる。
【００５８】
また、本実施形態のガラスディスク１００の製造方法によれば、ガラス基板にピット列を形成した従来のガラスディスクの製造工程に、石英層１２を形成するステップを追加するだけで、ピット１６の形成精度が良好となり、大幅な製造コストの上昇を招くことなく、データの長期間保存が可能な光ディスクを製造することができる。
【００５９】
尚、この第１実施形態における第１ステップが本発明（請求項５）の石英層形成ステップに相当し、第２ステップが本発明のレジスト層形成ステップに相当し、第３ステップおよび第４ステップが本発明の第１ピット列形成ステップに相当し、第５ステップが本発明の第２ピット列形成ステップに相当し、第６ステップが本発明の剥離ステップに相当する。
【００６０】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態としてのガラスディスクおよびその製造方法について説明する。図４は、第２実施形態としてのガラスディスクの製造方法をステップ毎に説明するガラスディスクの半径方向の概略縦断面図である。
【００６１】
＜第１ステップ＞
まず、ガラス基板１１を図示しないスピンコータ（回転塗布装置）にセットし、ガラス基板１１の表面に二酸化珪素（ＳｉＯ2）を主成分とするフォトレジスト２１を塗布する。このとき、ガラス基板１１の円孔１１ａを図示しないキャップで塞いでおく。ガラス基板１１は、第１実施形態のガラス基板１１と同一である。フォトレジスト２１の塗布量は、最終的に形成する石英層２４の厚さが０．１０μｍ〜１．００μｍの範囲におさまるように調整する。次に、フォトレジスト２１を塗布したガラス基板１１をホットプレートでプリベイクする。プリベイクは、９０℃〜１３５℃で５分〜１０分間行う。以下、このようにガラス基板１１の上でプリベイクされたフォトレジスト２１をフォトレジスト層２１と呼ぶ。フォトレジスト層２１は、上述した低い温度条件でプリベイクされたものであるため、レーザ光に対して反応跡の形成可能な層となる。尚、図４中においては、分かりやすいようにフォトレジスト層２１の厚さを、ガラス基板１１の厚さに比べて拡大して表している。
【００６２】
＜第２ステップ＞
次に、フォトレジスト層２１が形成されたガラス基板１１をレーザ加工装置（第１実施形態で使用したものと同じ）にセットし、記録型光ディスクにレーザ光を照射する際と同様のパルス状のレーザ光を照射して、フォトレジスト層２１に反応跡２２を形成する。これにより、フォトレジスト層２１には、再生型光ディスクに２値化データとして形成されるピット列と同じ形状の反応跡２２が形成される。
【００６３】
＜第３ステップ＞
続いて、フォトレジスト層２１が形成されたガラス基板１１を現像液の入った容器に数分間浸し、フォトレジスト層２１の反応跡２２を除去する。その後、容器からガラス基板１１を取り出し、洗浄して現像液を除去し乾燥させる。この第３ステップにより、フォトレジスト層２１には２値化データを表す複数のピット２３の列（ピット列２３と呼ぶ）が周方向に沿って螺旋状に形成される。
【００６４】
＜第４ステップ＞
続いて、フォトレジスト層２１が形成されたガラス基板１１をホットプレートにセットして加熱処理する。これにより、フォトレジスト層２１の二酸化珪素以外の成分が蒸発し、残った二酸化珪素が焼結して石英層２４となりガラス基板１１に固着する。加熱処理は、３００℃〜５００℃で１０分〜２０分程度行う。
【００６５】
こうして、ピット列２３が形成された石英層２４をガラス基板１１に固着したガラスディスク２００が製造される。このガラスディスク２００においても、第１実施形態と同様に、汎用の光ディスク再生装置Ａ（ＣＤ再生装置、ＤＶＤ再生装置等）を用いて再生することができる。この場合、レーザ光を発光するピックアップヘッドＡ１側にガラス基板１１が向くようにしてガラスディスク２００を光ディスク再生装置Ａにセットすればよい。ピックアップヘッドＡ１から照射されたレーザ光は、ガラス基板１１を通過し、ピット列２３が形成された石英層２４にて合焦し反射する。この実施形態においては、各ピット２３が石英層２４を貫通しているため、レーザ光は、ガラス基板１１の上面に石英層２４が固着されている箇所では石英層２４を通って石英層２４の上面で反射し、ガラス基板１１の上面に石英層２４が固着されていない箇所では、ガラス基板１１の上面で反射することになる。つまり、第２実施形態におけるガラスディスク２００は、石英層２４の厚さ全体を使ってピット列２３の形成部を構成している。尚、第２ステップにおけるレーザ光の照射強度等を調整して、石英層２４を貫通しないピット列を形成するようにしてもよい。この場合には、レーザ光は、第１実施形態と同様に、石英層２４の上面（ガラス基板１１と固着していない側の面）にて反射する。
【００６６】
以上説明した第２実施形態のガラスディスク２００によれば、ガラス基板１１上に石英層２４を形成し、この石英層２４に２値化データを表すピット列２３を形成したものであるため、第１実施形態のガラスディスク１００と同様の作用効果を奏する。また、本実施形態のガラスディスク２００の製造方法によれば、第１実施形態の作用効果に加えて、ガスエッチング処理が不要となるという効果も奏する。
【００６７】
尚、この第２実施形態における第１ステップが本発明（請求項６）のレジスト層形成ステップに相当し、第２ステップおよび第３ステップが本発明のピット列形成ステップに相当し、第４ステップが本発明の石英層形成ステップに相当する。
【００６８】
次に、第１実施形態あるいは第２実施形態において適用可能な２つの変形例について説明する。ここでは、第１実施形態への適用について説明するが、第２実施形態においても適用できるものである。
【００６９】
＜変形例１＞
石英層１２のピット列１６の形成面を反射する反射光（データ再生用の反射光）の強度が不足する場合には、図５に示すように、第６ステップを行った後に、以下の第７ステップを行うようにして光反射層１７を設けるとよい。
【００７０】
＜第７ステップ＞
石英層１２にピット例１６が形成された積層板１０をスパッタリング装置（図示略）へセットし、スパッタリングにより石英層１２の表面（ピット列１６が形成された側の面）に銀合金の膜を厚さ０．１０μｍ〜０．２０μｍにて形成する。この銀合金の膜が光反射層１７となる。
【００７１】
こうして製造されたガラスディスク１５０は、光学ガラスからなる平坦ドーナツ盤状のガラス基板１１と、ガラス基板１１の片側の平坦面に固着され、２値化データを表すピット列１６が形成された面をガラス基板１１との固着面とは反対側に形成した石英層１２と、石英層１２のピット列１６が形成された面に固着される光反射層１７とを備えた光ディスクとなる。これによれば、データ再生時におけるレーザ光のピット列１６の形成面での反射率を増すことができ、反射光の強度不足を招かない。従って、汎用の光ディスク再生装置を用いても、精度良く再生することができる。
【００７２】
尚、この変形例１を第２実施形態に適用する場合には、第２実施形態の第４ステップを行った後に、この第７ステップを行って、石英層２４の上面およびピット２３内に銀合金の光反射層１７を形成する。
【００７３】
＜変形例２＞
上述した第１実施形態，第２実施形態においては、ガラス基板１１の片側面に石英層１２（２４）を形成したガラスディスク１００（２００）について説明したが、図６に示すように、ガラス基板１１の両側の平坦面に石英層１２（２４）を形成したガラスディスク２５０であってもよい。このガラスディスク２５０の製造方法は、各製造ステップをガラス基板１１の各面（表面と裏面）について行うようにすればよい。このガラスディスク２５０によれば、データの記録量を２倍にすることができる。
【００７４】
この変形例２においては、光ディスク再生装置Ａにて再生するとき、ピックアップヘッドＡ１から照射されたレーザ光は、一方の石英層１２（２４）（ピックアップヘッドＡ１側の石英層）とガラス基板１１とを通過し、他方の石英層１２（２４）にて合焦してピット列１６（２３）の形成部から反射する。そして、光ディスク再生装置Ａは、ピックアップヘッドＡ１にて反射光の強度の変化を検出することにより、ガラスディスク２５０に記録されたデータを再生する。従って、ガラスディスク２５０は、汎用の光ディスク再生装置と同様な再生方法で再生することができる。尚、この変形例２においては、変形例１のように光反射層１７を設けることができない。従って、データの再生時に反射光の強度不足が生じる場合には、光反射率の高い反射シートをガラスディスク２５０の片側面（レーザ光を照射しない側）に付着させるようにするとよい。
【００７５】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態としてのガラスディスクおよびその製造方法について説明する。図７（図７Ａ，図７Ｂ）は、第３実施形態としてのガラスディスクの製造方法をステップ毎に説明するガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。尚、第３実施形態においては、ガラスディスクの周縁部（外周部および内周部）について説明する必要があるため、図７においては、厚さや幅等の寸法比率、および、ピットの数等が実際とは異なる概念的な断面図にて表している。
【００７６】
＜第１ステップ＞
まず、ガラス基板１１の片側面の周縁部にマスク１８を設ける。次に、マスク１８を設けたガラス基板１１をスパッタリング装置（図示略）へセットし、スパッタリングによりガラス基板１１の片側面に石英層１２を形成する。ガラス基板１１は、第１実施形態、第２実施形態のガラス基板１１と同様であり、中心に円孔１１ａを形成した平坦ドーナツ盤状であって、外径が１２０ｍｍ、円孔１１ａの内径が１５ｍｍに形成されている。ガラス基板１１の厚さは、ＣＤあるいはＤＶＤの透明基板の厚さと同じ１．２ｍｍあるいは０．６ｍｍである。マスク１８は、ガラス基板１１の外周部１１ｂおよび内周部１１ｃを、それぞれ５ｍｍ〜１０ｍｍの幅でリング状に覆う。従って、ガラス基板１１のマスク１８で覆われた部分には、石英層１２が形成されない。以下、石英層１２が形成されたガラス基板１１、あるいは、石英層１２と後述のフォトレジスト層１３が形成されたガラス基板１１を積層板１０と呼ぶ。
【００７７】
＜第２ステップ〜第６ステップ＞
続いて、ガラス基板１１からマスク１８を除去した後、第１実施形態と同様に、石英層１２の表面にフォトレジスト層１３を形成する（第２ステップ）。次に、フォトレジスト層１３にレーザ光を照射して２値化データとして形成されるピット列と同じ形状の反応跡１４を形成する（第３ステップ）。続いて、フォトレジスト層１３に反応跡１４が形成された積層板１０を現像液の入った容器に数分間浸し、反応跡１４を除去し、ポストベイクを行う（第４ステップ）。続いて、フォトレジスト層１３にピット１５が形成された積層板１０をエッチング装置（図示略）に装填し、エッチングガスを積層板１０の上面に対して垂直方向に作用させて、石英層１２に適正深さのピット列１６を形成する（第５ステップ）。続いて、石英層１２にピット列１６が形成された積層板１０を、剥離液の入った容器に数分間浸し、積層板１０からフォトレジスト層１３を除去する（第６ステップ）。この第２ステップから第６ステップまでの処理は、第１実施形態と同一である。
【００７８】
＜第７ステップ＞
続いて、積層板１０の周縁部（ガラス基板１１の外周部１１ｂと内周部１１ｃ）にマスク１８を設ける。次に、マスク１８を設けた積層板１０をスパッタリング装置（図示略）へセットし、スパッタリングにより石英層１２の表面（ピット１６が形成された面）に銀合金の膜を厚さ０．１０μｍ〜０．２０μｍにて形成する。この銀合金の膜が光反射層１９となる。尚、スパッタリングに代えて蒸着を行ってもよい。
【００７９】
＜第８ステップ＞
続いて、積層板１０からマスク１８を取り外した後、積層板１０の上面に低融点ガラス板２０を重ね、ガラス基板１１と低融点ガラス板２０とで光反射層１９を挟んだ状態で、低融点ガラス２０付き積層板１０を電気炉（図示略）にセットする。低融点ガラス板２０は、ガラス基板１１と平面形状が同一であって、中央に円孔２０ａを有する厚さ０．１ｍｍ〜０．２ｍｍの平坦ドーナツ盤状であり、ガラス基板１１と同心状に整合されて積層板１０の上面に取り付けされる。この低融点ガラス板２０の融点は、ガラス基板１１よりも低く、例えば、３５０℃である。
【００８０】
そして、電気炉において、低融点ガラス板２０を重ねた積層板１０を４００℃で３０分〜６０分間加熱する。低融点ガラス板２０は、この加熱により全体が溶ける。一方、ガラス基板１１は、この加熱条件では溶けず変形しない。従って、溶けた低融点ガラス板２０の外周部２０ｂと内周部２０ｃが、それぞれガラス基板の外周部１１ｂと内周部１１ｃに密着する。冷却後、低融点ガラス板２０は、固化してガラス基板１１の外周部１１ｂと内周部１１ｃに接着する。
【００８１】
こうした第１ステップから第８ステップにより、ガラスディスク３００が製造される。このガラスディスク３００においては、低融点ガラス板２０が周縁部でガラス基板１１と密着するとともに、中央部で光反射層１９を介して石英層１２を密着して覆っているため、石英層１２がガラス基板１１から剥離してしまうことを一層防止することができる。この結果、ガラスディスク３００は、データの更なる長期間保存が可能な光ディスクとなる。また、光反射層１９を設けているため、データ再生時におけるレーザ光のピット列１６の形成面での反射率を増すことができ、反射光の強度不足を招かない。従って、汎用の光ディスク再生装置を用いても、精度良く再生することができる。
【００８２】
尚、第３実施形態における低融点ガラス板２０が本発明の固定基板に相当する。また、第３実施形態における第１ステップが本発明（請求項７）の石英層形成ステップに相当し、第２ステップが本発明のレジスト層形成ステップに相当し、第３ステップおよび第４ステップが本発明の第１ピット列形成ステップに相当し、第５ステップが本発明の第２ピット列形成ステップに相当し、第６ステップが本発明の剥離ステップに相当し、第８ステップが本発明の固定基板接着ステップに相当する。
【００８３】
また、この第３実施形態のガラスディスク３００は、第２実施形態のガラスディスクの製造方法を組み合わせて製造することもできる。つまり、石英層１２の形成にあたって、第２実施形態のように二酸化珪素を主成分としたフォトレジスト２１を使ってもよい。以下、この例を第４実施形態として図８を用いて説明する。
【００８４】
＜第４実施形態＞
まず、第１ステップにおいて、ガラス基板１１の周縁部（１１ｂ，１１ｃ）にマスク１８を設け、中心部分の円孔１１ａを図示しないキャップで塞いだ状態で、第２実施形態と同様にして、ガラス基板１１の表面に二酸化珪素（ＳｉＯ2）を主成分とするフォトレジスト２１を塗布し、プリベイクによりフォトレジスト層２１を形成する。続いて、マスク１８を除去して、第２ステップ〜第４ステップを行う。この第２ステップ〜第４ステップは、第２実施形態の第２ステップ（レーザ光照射による反応跡形成）、第３ステップ（現像液による反応跡の除去）、第４ステップ（加熱処理）と同じである。
【００８５】
こうして、ガラス基板１１の片側面の周縁部（１１ｂ，１１ｃ）を除く領域に、ピット列２３を有する石英層２４が形成される。続いて、第５ステップにおいて、第３実施形態の第７ステップと同様の処理を行う。つまり、ガラス基板１１の周縁部（１１ｂ，１１ｃ）にマスク１８を設け、スパッタリングあるいは蒸着により石英層２４の上から銀合金の光反射層１９を形成する。
【００８６】
続く第６ステップにおいて、第３実施形態の第８ステップと同様の処理を行う。つまり、光反射層１９の上面に低融点ガラス板２０を重ねて電気炉で加熱し、低融点ガラス板２０を溶かして、その外周部２０ｂと内周部２０ｃをガラス基板１１の外周部１１ｂと内周部１１ｃに接着する。こうした第１ステップから第６ステップにより、ガラスディスク４００が製造される。このガラスディスク４００においても、第３実施形態のガラスディスク３００と同様の作用効果を奏する。
【００８７】
尚、第４実施形態における低融点ガラス板２０が本発明の固定基板に相当する。また、第４実施形態における第１ステップが本発明（請求項８）のレジスト層形成ステップに相当し、第２ステップおよび第３ステップが本発明のピット列形成ステップに相当し、第４ステップが本発明の石英層形成ステップに相当し、第６ステップが本発明の固定基板接着ステップに相当する。
【００８８】
以上、本発明の実施形態について詳しく説明したが、本発明の実施にあたっては、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変形も可能である。
【００８９】
例えば、本実施形態においては、レーザ光照射によりフォトレジスト層に反応跡を形成し、次のステップにて現像液を作用させることによりフォトレジスト層にピット列を形成したが、レーザ光照射によりピット列が形成されるレジスト材料を用いることで、現像液で反応跡を除去するステップを省略するようにしてもよい。これによれば、より効率よく石英層にピット列を形成することができる。
【００９０】
また、本実施形態においては、石英層をガスエッチングすることにより石英層に適正深さのピットを形成したが、フォトレジスト層が目減りしてマスク機能が失われる前に石英層に適正深さのピットを形成することができれば、積層板をエッチング液に浸漬させてエッチングを行うようにしてもよい。
【００９１】
また、本実施形態においては、ガラスの屈折率（１．５３）とＣＤやＤＶＤの透明基板として通常使用されるポリカーボネートの屈折率（１．５９）との差が小さいことから、ガラス基板の厚さをＣＤやＤＶＤの透明基板と同じ厚さとしたが、この屈折率の差分から発生する球面収差が解消されるように、ガラス基板の厚さをＣＤの透明基板の厚さ（１．２ｍｍ）やＤＶＤの透明基板の厚さ（０．６ｍｍ）に対して微量変化させてもよい。これによれば、データの再生精度を向上させることができる。
【００９２】
また、石英層を覆う固定基板を設けるにあたって、第３実施形態、第４実施形態では低融点ガラス２０を用いてガラス基板１１に接着したが、光反射層１９の上からガラス基板（固定基板）をあてて２枚のガラス基板をクリップ等の挟着部材で挟み込んで接着してもよい。また、ガラス基板と固定基板とをその周縁部で接着剤（例えば、エポキシ樹脂系接着剤）にて接着するようにしてもよい。
【００９３】
また、第３実施形態、第４実施形態においては、固定基板として、光の反射率の高い材料で形成した光反射板を石英層１２（２４）の上から覆うように密着して設けてもよい。この場合には、光反射層１９を設ける必要がなくなる。また、光反射膜を表面に形成した固定基板を石英層１２（２４）の上から覆うように密着して設けてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】第１実施形態に係るガラスディスクの製造方法を表すガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。
【図２】第１実施形態に係るレーザ加工装置の概略構成図である。
【図３】第１実施形態に係るガラスディスクを再生する光ディスク再生装置の概略構成図である。
【図４】第２実施形態に係るガラスディスクの製造方法を表すガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。
【図５】変形例１に係るガラスディスクの製造方法を表すガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。
【図６】変形例２に係るガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。
【図７Ａ】第３実施形態に係るガラスディスクの製造方法の前半を表すガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。
【図７Ｂ】第３実施形態に係るガラスディスクの製造方法の後半を表すガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。
【図８】第４実施形態に係るガラスディスクの製造方法を表すガラスディスクの径方向の概略縦断面図である。
【符号の説明】
【００９５】
１０…積層板、１１…ガラス基板、１１ａ…円孔、１１ｂ…外周部、１１ｃ…内周部、１２，２４…石英層、１３、２１…フォトレジスト層、１４，２２…反応跡、１５，１６，２３…ピット（ピット列）、１７，１９…光反射層、１８…マスク、２０…低融点ガラス板、２０ａ…円孔、２０ｂ…外周部、２０ｃ…内周部、１００，１５０，２００，２５０，３００，４００…ガラスディスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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