(57)【要約】【課題】  複数の工具を複数の露光装置で共有し、多対多の関係で運用が行われる場合にも、管理及びマニュアル操作によるミスの発生が防止され、効率的な管理を実現できる露光装置を提供する。【解決手段】【請求項１】  露光装置の性能および特性の少なくとも一方を計測するために前記露光装置に脱着可能に搭載される工具を有する前記露光装置であって、互いに同じ計測を行なう複数の前記工具を個体毎に識別する識別手段を有することを特徴とする。露光装置の性能および特性の少なくとも一方を計測するために前記露光装置に脱着可能に搭載される工具を有する前記露光装置であって、互いに同じ計測を行なう複数の前記工具が搭載された場合に用いる、予め指定された基準となる基準工具に対する相対差を補正するための補正量である前記工具の個体毎のオフセット補正パラメータを記憶する手段を有することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置の性能および特性の少なくとも一方を計測するために前記露光装置に脱着可能に搭載される工具を有する前記露光装置であって、
互いに同じ計測を行なう複数の前記工具を個体毎に識別する識別手段を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記識別手段は、前記工具の表面および内部の少なくともいずれかに刻印された個体識別マークを読込む手段を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記識別手段は通信機能を備え、前記工具が前記露光装置との通信のためのプロトコルを有し、
前記プロトコルが前記工具の個体特有の識別コードを有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記工具の前記識別マークまたは前記識別コードに基づく個体識別の結果に応じて露光処理を分岐することを特徴とする請求項２または３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
予め指定された基準となる基準工具の識別コードに一致しない前記識別コードを有する前記工具が搭載された場合は、オペレーションエラーを表示することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項６】
露光装置の性能および特性の少なくとも一方を計測するために前記露光装置に脱着可能に搭載される工具を有する前記露光装置であって、
互いに同じ計測を行なう複数の前記工具が搭載された場合に用いる、予め指定された基準となる基準工具に対する相対差を補正するための補正量である前記工具の個体毎のオフセット補正パラメータを記憶する手段を有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記工具の個体毎の前記オフセット補正パラメータを計測し、記憶する計測記憶手段を有することを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
搭載された前記工具毎の前記オフセット補正パラメータに基づき前記計測を行うことを特徴とする請求項６または７記載の露光装置。
【請求項９】
前記工具は、レチクルステージに搭載される、有効光源計測に使うレチクルであることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１０】
前記工具は、ウェハステージに搭載される絶対照度計であることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の露光装置を用いてウェハを露光する工程と、
前記ウェハを現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハを露光する露光装置およびその露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置において用いる着脱可能な工具の例としては、特開平１１−３５４４２５号公報（特許文献１）で開示されているウェハステージ上の絶対照度計が挙げられる。
すなわち、絶対照度計は着脱可能な構成になっており、通常は取り外されているが、照度計１３と照度モニター１０の照度のキャリブレーションを行う場合に取り付けられる。
【特許文献１】特開平１１−３５４４２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
露光パターンの微細化が進むことによって、昨今では露光量や露光量の制御及び照明光の偏光強度分布等に関する管理精度が厳しくなり、従来例に掲げた工具による調整が頻繁に行われることが予測される。
露光装置内の照度センサの原点ドリフトは絶対照度管理制度が厳しくなることによってセンサ校正の頻度が上がり、有効光源計測工具は顧客のカスタム照明モードが追加されるたびに再計測が必要となる。
一つのユーザーにおいて露光装置の校正を行うための着脱可能な工具は、従来例においては一つの部品を複数の露光装置において共用する運用が行われてきた。
しかし、上記背景から露光装置に搭載される工具は複数用意され、複数の工具を複数の露光装置で共有し、多対多の関係で運用が行われるため、管理及びマニュアル操作によるミス防止が困難となる。
そこで、本発明は、複数の工具を複数の露光装置で共有し、多対多の関係で運用が行われる場合にも、管理及びマニュアル操作によるミスの発生が防止され、効率的な管理を実現できる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するための本発明の露光装置は、露光装置の性能および特性の少なくとも一方を計測するために前記露光装置に脱着可能に搭載される工具を有する前記露光装置であって、互いに同じ計測を行なう複数の前記工具を個体毎に識別する識別手段を有することを特徴とする。
さらに、本発明の露光装置は、露光装置の性能および特性の少なくとも一方を計測するために前記露光装置に脱着可能に搭載される工具を有する前記露光装置であって、互いに同じ計測を行なう複数の前記工具が搭載された場合に用いる、予め指定された基準となる基準工具に対する相対差を補正するための補正量である前記工具の個体毎のオフセット補正パラメータを記憶する手段を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、互いに同じ計測を行なう複数の前記工具を個体毎に識別する識別手段を有する。
このため、複数の工具を複数の露光装置で共有し、多対多の関係で運用が行われる場合にも、管理及びマニュアル操作によるミスの発生が防止され、効率的な管理を実現できる。
さらに、本発明によれば、互いに同じ計測を行なう複数の前記工具が搭載された場合に用いる、予め指定された基準となる基準工具に対する相対差を補正するための補正量である前記工具の個体毎のオフセット補正パラメータを記憶する手段を有する。
このため、オフセット補正値の誤反映を防止し、複数の工具を複数の露光装置で共有し、多対多の関係で運用が行われる場合にも、管理及びマニュアル操作によるミスの発生が防止され、効率的な管理を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、図面を参照して、本発明の実施例を説明する。
【実施例１】
【０００７】
図１の概要図を参照して、本発明の実施例の半導体露光装置１００に、その有効光源照度分布を計測するための計測工具である有効光源計測用レチクル１０４をロードした状態を説明する。
本発明の実施例の半導体露光装置１００は、露光装置１００の性能および特性の少なくとも一方を計測するために、露光装置１００に脱着可能に搭載される工具である有効光源計測用レチクル１０４を有する。  
ここで、有効光源計測用レチクル１０４は、レチクルステージ１０３に搭載される、有効光源計測用レチクル１０４、ウェハステージ１０８に搭載される絶対照度計１１０である。
さらに、互いに同じ計測を行なう（同一種類の）複数の工具である複数の有効光源計測用レチクル１０４を個体毎に識別する識別手段を有する。
この識別手段は、有効光源計測用レチクル１０４の表面および内部の少なくともいずれかに刻印された個体識別マークを読込む手段を有する。
さらに、識別手段は、通信機能を備え、有効光源計測用レチクル１０４が露光装置１００との通信のためのプロトコルを有し、このプロトコルが有効光源計測用のレチクル１０４の個体特有の識別コードを有する。
さらに、有効光源計測用レチクル１０４の識別マークまたは識別コードに基づく個体識別の結果に応じて露光装置１００の露光処理を分岐する。
さらに、予め指定された基準となる基準工具の識別コードに一致しない前記識別コードを有する有効光源計測用レチクル１０４が搭載された場合は、オペレーションエラーを表示する。
【０００８】
さらに、本発明の実施例の露光装置１００は、露光装置１００の性能および特性の少なくとも一方を計測するために、露光装置１００に脱着可能に搭載される有効光源計測用レチクル１０４を有する。
互いに同じ計測を行う同一種類の複数の有効光源計測用レチクル１０４が搭載された場合に用いる記憶する手段を有する。
この記憶する手段は、予め指定された基準となる基準工具に対する相対差を補正するための補正量である有効光源計測用レチクル１０４の個体毎のオフセット補正パラメータを記憶する手段である。
さらに、有効光源計測用レチクル１０４の個体毎のオフセット補正パラメータを計測し、記憶する計測記憶手段を有する。
さらに、搭載された有効光源計測用レチクル１０４毎のオフセット補正パラメータに基づき計測を行う。
【０００９】
有効光源計測用レチクル１０４は、本実施例においてはレチクルと形状を共有するように構成され、レチクル搬送系ロボット１１１によってレチクル搬送時と同様な手順でレチクルステージ１０３にロードされる。
有効光源計測用レチクル１０４が搭載されているためレチクルは図１において図示されないが、有効光源計測用レチクル１０４と同じ場所に搭載できるものである。
レチクルステージ１０３には真空吸着パッドが装備され、有効光源計測用レチクル１０４がレチクルステージ１０３上にロードされると吸引を開始し、レチクルステージ１０３上に搭載物を固定する。
露光照明系１０１は、水銀ランプもしくはエキシマレーザー光源から生成される露光光を導入し、レチクルステージ１０３上にロードされたレチクル面をケーラー照明する。
光路１０５は、その照明光の光路である。レチクルパターン面を透過した露光光は投影レンズ１１５によってウェハステージ１０８上のウェハ１３０に縮小投影される。
近年の露光装置は、レチクルステージはスキャンステージから成り、ショット内の部分的な領域を照明しながら投影レンズ１１５の縮小倍率にあわせた相対速度で走査するウェハステージに対してスキャン露光を行う。
【００１０】
レチクル面観察装置１０２は、レチクル上の位置合わせ用マーク、および、レチクルステージ１０３に載置された不図示のレチクル基準プレートの位置合わせマークを内蔵する撮像素子１１５上で画像検出する。
この画像検出により、レチクルとレチクルステージ１０３の相対位置を合せる。
レチクル面観察装置１０２は、レチクル上の位置合わせ用マーク、および鏡筒定盤１０６に搭載された投影光学系１１５を通してステージ定盤１０７上を移動するウェハステージ１０８に載置された不図示のステージ基準プレートの位置合わせマークを画像検出する。
この画像検出により、レチクルとウェハステージ１０８の相対位置を合せる。
また、レチクル面観察装置１０２は、有効光源計測を行うために、キャリブレーション光入力口が設けられ、光ファイバー１１６で導入されている。
また、レチクル面観察装置１０２は、有効光源計測用レチクル１０４及び途中に介在するレチクル面観察装置内の光学素子による強度及び偏光等の影響を自己計測するためにキャリブレーション光入力口が設けられ、光ファイバー１１６で導入されている。
このレチクル面観察装置１０２を用いて、図３に示されるＥ面に形成された有効光源分布像の観察を行うものとする。
【００１１】
一方、近年の投影露光装置では、レチクルストッカー１１２が構成されており、露光工程によりレチクル搬送系ロボット１１１により、レチクルストッカー１１２内のレチクルとレチクルステージ上のレチクルを自動搬入、自動搬出するものである。
レチクルバーコード読み込み装置１１３は、有効光源計測用レチクル１０４に刻印されたバーコード識別子を読み込む装置である。
上記バーコードにはレチクルの個体識別及び、本発明の特徴とするところの有効光源計測工具の個体識別を行うためのＩＤが刻印されている。
これら装置内外に複数存在する可能性のある有効光源計測工具の個体識別ができるようにするための手段としてバーコードを用いることは、レチクルバーコードの識別と読み込み装置１１３を兼用できることから露光装置の設計コスト上好ましい手段である。
しかし、本発明の主旨においては、バーコード刻印の手段によらず、その他何らかの形状の識別手段を講じてもよいし、工具上にアクティブな通信手段を搭載し露光装置との通信を行うパケット上に工具の識別情報を載せることによって実現してもかまわない。
出し入れ口１１４は有効光源計測用レチクル１０４の出し入れ口であり、有効光源計測用レチクル１０４の装置内への導入および搬出はレチクルと同様な手順で行うことが可能である。
【００１２】
メンテナンスロボット１０９は、ロボットハンドの先端部分に装着する部品を用途に応じて交換することによってメンテナンス機能を行う。
ウェハステージ１０８のウェハチャックを交換するときには、ウェハチャック着脱用のフォークが装着される。
さらに、ウェハステージ１０８とメンテナンスロボットの協調動作によりウェハチャックがウェハステージ１０８からフォークに渡され、ウェハチャックは装置外に搬出される。
ウェハチェックをクリーニングする時にはクリーニングプレートが装着され、クリーニングポジションにプレートが搬送される。
また、規定条件における投影レンズ下の照度を計測する場合は、ロボットハンドの先端部分に絶対照度計１１０を装着し、メンテナンスロボット１０９により絶対照度計を投影レンズ下まで搬送する。
【００１３】
次に、図７の概要図を参照して、絶対照度計１１０を説明する。
絶対照度計１１０のユニットはセンサモジュール７０１とコントローラ部７０３、赤外線通信モジュール７０２、電源７０４から構成される。
赤外線通信モジュール７０１や電源７０４はメンテナンスロボット１０９に対する着脱容易性の観点から、絶対照度計１１０のモジュールはケーブルレスな構成にすることが好適である。
本実施例においては、着脱可能な絶対照度計１１０のコントローラ７０３は個体識別を可能とするために、露光装置本体とのデータ通信データに絶対照度計のＩＤを包含したものとなっている。
絶対照度計１１０がメンテナンスロボット１０９に搭載され、初めて露光装置と通信を確立する過程において、絶対照度計１１０の識別ＩＤを露光装置に送信する。
これによって露光装置は、接続された絶対照度計１１０の個体識別を行い、個体毎に適された補正オフセットを計測結果に反映できるようになる。
【００１４】
図２は、本発明の実施例の露光装置が有する有効光源計測用レチクル１０４を装置露光照明光の照明側の方向から見た図である。
領域２０１は、露光照明系１０１から照射される照明光１０５が照射される領域である。  
有効光源計測用レチクル１０４は、レチクルステージ１０３にロードされた後、図１に示されるＹ方向１２０にステップして、照明光１０５が図２に示される領域２０１に移動する。矢印方向１２１にスキャンされる。
アライメントマーク２０２は、有効光源計測用レチクル１０４のベースフレーム２０５上に固定されたアライメントマークである。
レチクルステージ上に固定された不図示のレチクル基準プレートと位置合わせを行い、有効光源計測用レチクル１０４がロードされる際にＸＹ方向およびθ方向に発生するずれ量をレチクルステージ１０３の目標位置に加算して補正する。
バーコード刻印２０４は、有効光源計測用レチクル１０４の個体識別用の印である。
露光照明系１０１から照射される照明光１０５は領域２０１の形状で有効光源計測用レチクル１０４上に照射され、インレット２０６Ｌ〜２０６Ｒを経由して内部の光学系にて反射されてアウトレット２０３Ｌ〜２０３Ｒより紙面手前に向けて出力される。
レチクル面観察装置１０２は、１眼の計測モジュールであり、図２に示される位置２０３Ｃはレチクル面観察装置１０２の対物レンズをスリット中心に移動させて観察させている状態を示す。
レチクル面観察装置１０２はスリット長手方向１次元に移動可能であり、観察の必要に応じてスリット中心の位置２０３Ｃから位置２０３Ｌ、位置２０３Ｒに移動して計測を行うことが可能である。
【００１５】
図３は、有効光源計測を行っている状態で有効光源計測用レチクル１０４の横断面を表した図である。
露光に用いるレチクルの上面位置相当をＡ面、通常レチクルに貼り付けられたペリクル枠の最下位置に相当するＢ面とする。
Ｃ面は、レチクル硝材厚みを考慮した光学的にレチクルのパターン面に相当する位置であり、このＣ面にピンホール３０３を位置させることが望ましい。
照明系３０１から照射されてピンホール３０３を透過した光束は、フーリエ変換レンズ３０４により、ほぼ平行光となり、折り曲げミラー３０５により向きを変えられ、２点鎖線で示すＤ面に照明系１０２の有効光源分布像を形成する。
（Ｄ面は、像面であるＣ面に対して、瞳面となっている。）
Ｄ面に形成された有効光源分布像は、さらにリレー光学系３０６、折り曲げミラー３０７を経て、Ｅ面に再度、有効光源分布像を形成する。
Ｅ面は、レチクル面観察装置の観察面であり、Ｃ面同様にレチクル硝材厚みを考慮した光学的にレチクル２のパターン面に相当する位置である。
リレー光学系は、入射側（Ｄ面側）、出射側（Ｅ面側）ともにテレセントリックな光学系であることが望ましい。
リレー光学系３０６をテレセントリックとすることで、リレー光学系３０６を構成する光学素子等の許容製造誤差によるＥ面での結像倍率誤差を最小に押さえることが可能となる。
（リレー光学系３０６の構成は、一般にはビームエクスパンダーとして知られるものである。）
【００１６】
レチクル面観察装置３０８は、レチクル上の位置合わせ用マーク、および、レチクルステージ１０３に載置されたレチクル基準プレート（不図示）の位置合わせマークを画像検出し、レチクルとレチクルステージ１０３の相対位置を合わせる。
また、レチクル面観察装置３０８は、レチクル上の位置合わせ用マーク、および、投影光学系を通してウェハステージ１０８に載置されたステージ基準プレート（不図示）の位置合わせマークを画像検出する。
この画像検出により、レチクル面観察装置３０８は、レチクルとウェハステージ１０８の相対位置を合せるために用いられる。
このレチクル面観察装置３０８を用いて、Ｅ面に形成された有効光源分布像の観察を行うものとする。
Ｅ面に形成された有効光源分布像は、さらにレチクル面観察光学系３０８に入光し、対物レンズ３０９を通る。
さらに、対物レンズ３０９の瞳面Ｆ上で集光光束となった後、折り曲げミラー３１０で向きを変えられ、レンズ３１１を経て平行光束となって、再度Ｇ面に、有効光源分布像を形成するものである。
このとき、対物レンズ３０９とレンズ３１１より構成される光学系は、前述の理由で、入射側（Ｅ面側）、出射側（Ｇ面側）ともにテレセントリックな光学系であることが望ましい。
この有効光源分布像を、Ｇ面の置かれた二次元画像検出素子３１２で観察を行うものである。
また、レンズ３１１と画像検出素子３１２の間には、偏光計測を可能とするために、透過光に複屈折性を示す不図示位相子と偏光素子を構成する。（光源側から位相子、偏光素子の順番に配置する。）
レチクル面観察装置３０８上のプロファイルは、有効光源計測用レチクル１０４により計測される。
このレチクル面観察装置３０８上のプロファイルは、照明光学系から出射される照明光の光源分布及び偏光分布だけでなく、有効光源計測用レチクル１０４およびレチクル面観察装置３０８内の光学系によるオフセットが包含されている。
本実施例では、代表となる有効光源計測用レチクル１０４による有効光源計測結果を基準とし、それ以外の有効光源計測工具で計測したときの差分値をオフセット管理する。
【００１７】
上記差分値の具体的な計測方法を図８に示す。
光源は照明系光源を用いずに、キャリブレーション光源からの計測光８０２をファイバー１１６からレチクル面観察装置３０８に与える。
ハーフミラー８０３により図３で説明した光路の逆を通って反射鏡キャップ８０１に到達する。
反射光キャップは到達したキャリブレーション光を全反射し、再び有効光源計測用レチクル１０４内の光学系を折り返してハーフミラー８０３に達する。
ハーフミラー８０３で反射された光は画像検出素子３１２に照射され、２次元画像として観察される。
同様な方法を用いて別の有効光源計測用レチクル１０４を計測した場合に発生した差分は工具毎のオフセットの差分となる。
例えば、これが偏向有効光源の計測を行う場合には、偏向に影響を与える光学系である有効光源計測用レチクル１０４の伝達関数Ｍは、一例として
Ｍｕｅｌｌｅｒ 行列［４ｘ４］（以下）で表現されることが知られている。
【００１８】
【数１】
2009026879.tif 000003
【００１９】
従って、本実施例における工具毎の差分管理は、図５に示されるマンマシンインターフェース（Ｔｏｏｌ
Ｏｆｆｓｅｔ Ｍａｎａｇｅｒ）によって行われる。
すなわち、工具ＩＤ = ０１ の有効光源計測用レチクル１０４を基準として、工具ＩＤ = ０２
の有効光源計測用レチクル１０４は ＩＤ = ０１ の工具に対する Ｍｕｅｌｌｅｒ 行列値の差分が表記されている。
工具ＩＤに基づいたオフセット識別及び管理ができることで、同一種類の複数工具を用いた有効光源計測の運用が本発明によって可能となる。
工具毎の基準工具からの差分値は有効光源計測を行う前に予め計測しておかなければいけないことは言うまでもない。
工具の種類は上記有効光源計測用レチクル１０４以外においても適用可能である。
ここに挙げた有効光源計測工具以外の適用例として、ウェハステージ側のレチクル結像面上での露光光照度を計測する絶対照度計にも、本発明の適用により複数基の運用及び管理が可能となる(図５に示される”ｉｌ_ｃａｌｉｂ”)。
絶対照度計（図７）には暗電流値、照明光の入射角度特性を包含したゲイン、リニアリティーのばらつきが個体毎に存在する。
絶対照度計においても同様に基準となる絶対照度計の原器を予めユーザーが定義しておき、それに対する絶対照度計個体ごとの差分管理をＴｏｏｌ
Ｏｆｆｓｅｔ Ｍａｎａｇｅｒに記憶し、計測値の補正に用いる。
【００２０】
図５に示される”ＣＡＳ_ＴＯＯＬ”は、さらに上記以外の工具の適用例であり、“ＣＡＳ_ＴＯＯＬ ”はレチクル面観察装置１０２自体の偏光特性を露光装置に自己計測させるための有効光源計測工具と同様なレチクルタイプの計測工具である。
近年の露光装置においては露光照明系１０１内の照明モード切り替え用のターレット上にユーザーカスタマイズ可能な照明光学素子を搭載する機能が設けられる例がある。  
このような事例においても照明光学素子の個体識別とそれに呼応した照明系光学素子の特性にまつわるオフセット管理に対して本発明を適用することも可能である。
【００２１】
図４は、本発明における有効光源計測工具間の個体差オフセットを計測するシーケンスである。
まず、有効光源計測工具間の個体差オフセットの計測が開始される。（ステップ４００）
複数ある有効光源計測用レチクル１０４間の中で基準（原器＝校正工具）とする工具を決定し、校正工具をレチクルステージにロードする。（ステップ４０１）
オフセット計測シーケンスにおいては図８に示される有効光源計測用レチクル１０４に反射鏡キャップ８０１を装着する。
【００２２】
次に、図２に示されるアウトレット２０３Ｌ、２０３Ｃ、２０３Ｒにおいて説明したような工具上のポイントをレチクル面観察装置１０２が観察できる位置までレチクルステージ１０３を駆動する（ステップ４０２）。
光ファイバー１１６から予め偏光面の揃えられたキャリブレーション光がレチクル面観察装置１０２に入力され（ステップ４０３）、有効光源計測用レチクル１０４を通過する。
さらに、反射鏡キャップ８０１で反射された照明光が再びレチクル面観察装置１０２に帰還し、二次元画像検出素子３１２において照明光強度分布が計測される（ステップ４０４）。
校正工具においては、ここで計測された照明光強度分布が瞳面内において全て均一で偏光成分シフトがない状態と定義する（オフセットフィードバック＝ステップ４０５）。
次に校正工具をアンロードし（ステップ４０６）、別の有効光源計測用レチクル１０４をレチクルステージにロードする（ステップ４０７、４０８）。
有効光源計測用レチクル１０４のロードの際には、図１に示されるバーコードリーダー等の方法で工具の識別子を露光装置内に読み込む。
ステップ４０９〜４１１は、ステップ４０２〜４０４と同様に校正工具で行った計測手順を行う。
ステップ４１１で得られた照明特性とステップ４０４で得られた照明特性との差分は工具間のオフセット、本実施例では基準となる校正工具からの差分値として、工具の識別ＩＤと共に露光装置に記録される（ステップ４１２）。
ここで記録された差分値に対応した識別ＩＤをもった有効光源計測用レチクル１０４は以降、当該露光装置上における有効光源計測に用いることが許可され（ステップ４１３）、終了する。（ステップ４１４）
【００２３】
一方、図６に示されるように上記差分値に対応した識別ＩＤの記録がない有効光源計測用レチクル１０４をロードして有効光源を行おうとした場合は、オフセット未計測の工具による計測結果が出力及び反映されない対処が行われる。
図６は、露光装置の定期的なメンテナンス及び、プロセス開発時に行われる転写パターンシミュレーションに用いる照明系有効光源計測の一般的なシーケンスである。
有効光源の計測が開始される。（ステップ６００）
有効光源計測用レチクル１０４は、出し入れ口１１４より装置内に搬入され（ステップ６０１）、不図示のバーコードリーダーで識別ＩＤを読込まれる。
読み込んだ工具の識別ＩＤが図４で説明した校正工具に対する差分管理データとして登録済みであるかどうかを判断する。（ステップ６０９）
未登録の場合は露光装置のＵｓｅｒ Ｉ/Ｆ にＮＧすなわち当該工具における計測不可のメッセージを出力して終了する。（ステップ６１０、６１１、６１２）
リカバー手段として、既に装置内に搬入した有効光源計測用レチクル１０４の校正工具に対するオフセットをあらためて計測する手段を設けても良いし、計測だけは行っておいて校正工具との差分の計測および反映は後日行うようにしても良い。
しかし、本実施例の場合、差分値計測には有効光源計測用レチクル１０４に反射鏡キャップ８０１を装着する必要があることから単純化のためリジェクトするシーケンスとなっている。
ＩＤ登録済みの工具と判断された場合は、有効光源の計測工程に進む。（ステップ６０９）
次に、有効光源計測用レチクル１０４はレチクルステージにロードされる。（ステップ６０２）
ステップ６０２に続き（もしくはステップ６０２と並列処理でも構わない）、露光装置の照明系の照明モードを有効光源計測を行う対象となるモードに切り替える（ステップ６０３）。
ここで切り替えられる照明モードは、定期的な有効光源強度分布の検査であれば常に固定の標準的な照明モードであり、プロセス開発時に行われるものであればユーザーの指定による。
図２に示される２０３Ｌ，２０３Ｃ，２０３Ｒのような工具上のポイントをレチクル面観察装置１０２が観察できる位置までレチクルステージ１０３を駆動する。（ステップ６０４）
このレチクルステージ位置はレチクル面観察装置１０２が観察できる位置であると同時に、照明系３０１の光源からの照明光１０５が有効光源計測工具のピンホール３０３に投下される位置でもある。
照明系から露光光を照射させ（ステップ６０５）、レチクル面観察装置１０２で有効光源計測を行う（ステップ６０６）。
計測された２次元の有効光源マップは、有効光源計測用レチクル１０４毎の差分オフセットで補正され（ステップ６０７）、データファイルなどの形式で照明特性データが出力され（ステップ６０８）、終了する。（ステップ６１２）
【００２４】
次に、図９及び図１０を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図９は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
露光装置を用いてウェハを露光する工程と、前記ウェハを現像する工程とを備え、具体的には、以下の工程から成る。
ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。
ステップ３（ウェハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップ４（ウェハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップ５（組立）は、後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップ６（検査）では、ステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップ７）される。
【００２５】
図１０は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
ステップ１１（酸化）では、ウェハの表面を酸化させる。
ステップ１２（ＣＶＤ）では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップ１３（電極形成）では、ウェハに電極を形成する。
ステップ１４（イオン打込み）では、ウェハにイオンを打ち込む。
ステップ１５（レジスト処理）では、ウェハに感光剤を塗布する。
ステップ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウェハに露光する。
ステップ１７（現像）では、露光したウェハを現像する。
ステップ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施例の露光装置の構成図である。
【図２】有効光源計測工具を露光照明光の照明側の方向から見た構成図である。
【図３】有効光源計測工具の横断面図である。
【図４】有効光源計測工具間の個体差オフセットを計測するシーケンス図である。
【図５】露光装置のマンマシンインターフェース(Ｔｏｏｌ Ｏｆｆｓｅｔ Ｍａｎａｇｅｒ)の説明図である。
【図６】照明系有効光源計測の一般的なシーケンス図である。
【図７】絶対照度計の概要図である。
【図８】有効光源計測工具間差分値の具体的な計測方法の説明図である。
【図９】露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。
【図１０】図９に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【符号の説明】
【００２７】
１０１  露光照明系
１０４  有効光源計測用レチクル
２０４  有効光源計測用レチクルの個体識別用のバーコード刻印
３０８  レチクル面観察装置
１０３  レチクルステージ
１０８  ウェハステージ
１０９  メンテナンスロボット
１１６  光ファイバー
３１２  二次元画像検出素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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