(57)【要約】【課題】βをパラメータにしたＯＰＣ手法により、最適記録パワーを決定可能な極めて高密度の光記録媒体を提供すること。【解決手段】案内溝を形成した基板２１上に、順次積層された反射層２１と、色素を主成分とする記録層２２と、界面層３０と、カバー層２４と、を備える膜面入射型の光記録媒体２０であって、適当な界面層３０を選択することにより、βと記録パワーとの間に線形の関係を有するようにし、最適記録パワーの決定を容易にした光記録媒体２０。【選択図】図２
2009026378.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
案内溝が形成された基板と、
前記基板上に少なくとも光反射機能を有する層と、
未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、
前記記録層に接する界面層と、
前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、
前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、
前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加する光記録媒体において、
下記条件で記録再生した場合に、
最適記録パワーＰｗｏの±１０％の範囲（０．９Ｐｗｏ〜１．１Ｐｗｏ）におけるβと記録パワーＰｗの間に、
β＝ａ×Ｐｗ／Ｐｗｏ＋ｂという線形近似の関係があるとしたときの
ａの絶対値が０．５以上であり且つ相関係数の二乗が０．９以上であることを特徴とする光記録媒体。
＜記録再生条件＞
記録再生波長４０５ｎｍ±５ｎｍ
対物レンズＮＡ０．８５±０．０１
記録線速度４．９ｍ／ｓ
再生線速度４．９ｍ／ｓ
変調方式（１−７ＰＰ）
基準クロック周期Ｔ＝１５．１５ｎｓｅｃ（チャンネルクロック周波数６６ＭＨｚ）
【請求項２】
前記ａの絶対値が０．６以上である請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記界面層にＩＴＯ（Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2）が含有されることを特徴とする請求項１または２記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記界面層の厚みが１−５０ｎｍであることを特徴とする請求項３記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、主として位相変化により、当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体等に関し、より詳しくは、色素を含有する記録層を有する光記録媒体等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、超高密度の記録が可能となる青色レーザの開発は急速に進んでおり、それに対応した追記型の光記録媒体の開発が行なわれている。中でも、比較的安価のコストで効率的な生産が可能となる色素塗布型の追記型媒体の開発が強く望まれている。
【０００３】
本発明者等は、安定に成形できる比較的浅い溝深さの基板を用いて、良好な記録再生特性を有する極めて高密度の色素塗布型の追記型光記録媒体を提案している（特許文献１）。即ち、案内溝が形成された基板と、基板上に少なくとも光反射機能を有する層と、未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、主として位相変化により当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加するように構成された光記録媒体である。
【特許文献１】特開２００７−０２６５４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような光記録媒体においても、以下のような課題があった。通常、このような光記録媒体の場合、実際に記録媒体に情報を記録する前に、レーザの記録パワーを記録媒体あるいは記録装置ごとに最適化する必要がある。このような手順をオプティマム・パワー・コントロール（以下、ＯＰＣと記載）と呼ぶ。通常、光記録媒体上のユーザーデータ領域以外の領域に、パワーキャリブレーションエリア（以下、ＰＣＡと呼ぶ）と呼ばれるテスト領域が確保されており、ＯＰＣはこの領域に記録パワーを変更しながら記録再生を行い、その結果により最適な記録パワーを決定している。
【０００５】
ここで、記録パワーを変更した際に測定されるパラメータとして、βが使用される。以下、図１を用いて説明する。βは、イコライザーを通す前の再生信号波形のＡＣ結合した信号において、最長記録マークのプラス側のピークレベル（Ａ１）とマイナス側のピークレベル（Ａ２）の差（Ａ１＋Ａ２）を最長記録マークの振幅（Ａ１−Ａ２）で規格化した値と定義される。具体的には下記式
（Ａ１＋Ａ２）／（Ａ１−Ａ２）
で表される。本来、最適記録パワーは、記録媒体の特性上最も重要であるジッタが最も良好な値とするのが好ましいが、ジッタの測定には専用の回路が必要であり、且つ測定に時間がかかるため好ましくない。従来の光記録媒体においては、βとジッタの値に良好な相関関係が存在し、β＝０となる記録パワーで、ジッタも最も良好になる傾向にあった。しかしながら、特許文献１に記載の光記録媒体においては、このジッタとβの相関が低下し、従来のようにβを測定することによって最適記録パワーを見出すことが困難であることが判明した。
【０００６】
本発明は、このような課題を解決するためになされたものである。
すなわち、特許文献１に記載の光記録媒体において、従来どおりのβをパラメータにしたＯＰＣ手法により、最適記録パワーを決定可能な光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
そこで本発明者等は、特許文献１に記載の光記録媒体において、βとジッタが良好な相関関係を有する光記録媒体について鋭意検討を行った結果本発明に到達した。
即ち、本発明によれば、案内溝が形成された基板と、前記基板上に少なくとも光反射機能を有する層と、未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、前記記録層に接する界面層と、前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加する光記録媒体において、下記条件で記録再生した場合に、最適記録パワーＰｗｏの＋／−１０％の範囲（０．９Ｐｗｏ〜１．１Ｐｗｏ）におけるβと記録パワーＰｗの間に、β＝ａ×Ｐｗ／Ｐｗｏ＋ｂという線形近似の関係があるとしたときのａの絶対値が０．５以上であり且つ相関係数の二乗が０．９以上であることを特徴とする光記録媒体が提供される。
【０００８】
＜記録再生条件＞
記録再生波長４０５ｎｍ＋／−５ｎｍ
対物レンズＮＡ０．８５＋／−０．０１
記録線速度４．９ｍ／ｓ
再生線速度４．９ｍ／ｓ
変調方式（１−７ＰＰ）
基準クロック周期Ｔ＝１５．１５ｎｓｅｃ（チャンネルクロック周波数６６ＭＨｚ）
【０００９】
ここで、前記ａの絶対値が０．６以上であることが好ましい。また、前記界面層が、ＩＴＯ（Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2）を含む材料により構成されることが好ましい。更には、前記界面層の厚みが１−５０ｎｍであることが好ましい。また、前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、主として位相変化により、当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加することが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
かくして本発明によれば、良好なジッタとβの相関を有する極めて高密度な光記録媒体が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。
【００１２】
図２は、本実施の形態が適用される色素を主成分とする記録層を有する膜面入射構成の追記型媒体を説明する図である。本実施の形態においては、溝を形成した基板２１上に、少なくとも反射機能を有する層（反射層２３）と、未記録（記録前）状態において記録再生光に対して吸収を有する色素を主成分とする光吸収機能を有する記録層２２、前記記録層２２に接する界面層３０及びカバー層２４が順次積層された構造を有し、記録再生を、カバー層側から対物レンズ２８を介して集光された記録再生光ビーム２７を入射して行う。即ち、「膜面入射構成」（Ｒｅｖｅｒｓｅ  ｓｔａｃｋともいう）をとる。以下においては、反射機能を有する層２３を単に「反射層２３」、色素を主成分とする光吸収機能を有する記録層２２を単に「記録層２２」と呼ぶ。膜面入射構成のカバー層側に記録再生光ビーム２７を入射するに当たり、高密度記録のために、通常、ＮＡ（開口数）＝０．６〜０．９程度の高ＮＡ（開口数）の対物レンズが用いられる。記録再生光波長λは、赤色から青紫色波長（３５０ｎｍ〜６００ｎｍ程度）がよく用いられる。さらに、高密度記録のためには、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域を用いることが好ましいが、必ずしもこれに限定されない。
【００１３】
本実施の形態においては、図２において、記録再生光ビーム２７のカバー層２４への入射面（記録再生光ビームが入射する面）から見て遠い側の案内溝部（記録再生光ビームが入射する面から遠い側の案内溝部）を記録溝部とし、記録溝部に形成した記録ピット部の反射光強度が記録溝部の未記録時の反射光強度より高くなるような記録（以下、ＬｔｏＨ記録と記載）を行う。その主たるメカニズムは、反射光強度の増加が主として前記記録ピット部での反射光の位相変化による。即ち、主として記録溝部における反射光の往復光路長の記録前後で変化を利用する。
【００１４】
ここで、膜面入射型の光記録媒体では、記録再生光ビーム２７のカバー層２４への入射面（記録再生光ビームが入射する面）から遠い案内溝部（基板の溝部と一致）をカバー層溝間部２５（ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ）、記録再生光ビーム２７が入射する面から近い案内溝間部（基板の溝間部と一致）をカバー層溝部２６（ｏｎ−ｇｒｏｏｖｅ）と呼ぶことにする。
ここで、溝形状や各層の屈折率等の光学特性を制御することにより、カバー層溝間部２５（ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ）を記録トラックとする（以下、ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ記録と記載）ＬｔｏＨ記録を実現することが可能となる。
【００１５】
また、ここで、前記界面層に適当な層を選択することにより、ジッタとβの相関の良好な光記録媒体とすることが出来る。即ち、下記条件で記録再生した場合に、最適記録パワーＰｗｏの±１０％の範囲（０．９Ｐｗｏ〜１．１Ｐｗｏ）におけるβと記録パワーＰｗの間に、β＝ａ×Ｐｗ／Ｐｗｏ＋ｂという線形近似の関係があるとしたときのａの絶対値が０．５以上であり且つ相関係数の二乗が０．９以上となるようにすることにより、このような光記録媒体の実現が可能である。
【００１６】
＜記録再生条件＞
記録再生波長４０５ｎｍ±５ｎｍ
対物レンズＮＡ０．８５±０．０１
記録線速度４．９ｍ／ｓ
再生線速度４．９ｍ／ｓ
変調方式（１−７ＰＰ）
基準クロック周期Ｔ＝１５．１５ｎｓｅｃ（チャンネルクロック周波数６６ＭＨｚ）
【００１７】
ここで、最適記録パワーＰｗｏとは、ジッタの測定値が最小となる記録パワーである。また、上記測定内容の詳細は以下の通りである。即ち、最適記録パワーＰｗｏの＋／−１０％の範囲（０．９Ｐｗｏ〜１．１Ｐｗｏ）で測定することとは、記録パワーＰｗが０．９Ｐｗｏ、０．９５Ｐｗｏ、１．０Ｐｗｏ、１．０５Ｐｗｏ、１．１Ｐｗｏの５点について測定を行うことと定義する。次に、これらの各記録パワーにおけるβの値を測定し、横軸をＰｗ／Ｐｗｏとしてグラフにプロットした場合に、回帰分析による線形近似を用いて、β＝ａ×Ｐｗ／Ｐｗｏ＋ｂという近似式を算出する。このようにして算出された近似式の、ａの絶対値が０．５以上であり且つ相関係数の二乗が０．９以上となる場合とは、即ち、逆にβを測定することにより、より正確なＰｗｏを算出することが出来ることに他ならない。ａの絶対値が０．５未満である場合は、βの変化に対してＰｗｏの変化が大きいことになり、βの測定精度の影響によりＰｗｏの数値が変動しやすくなる。また、相関係数の二乗が０．９未満である場合は、そもそもβとＰｗｏの相関が低いために、当然正確なＰｗｏを算出することが困難となる。
【００１８】
（具体的な層構成及び材料の好ましい態様について）
以下において、図２で示す層構成の具体的材料・態様について、青色波長レーザの開発が進んでいる状況を考慮して、特に、記録再生光ビーム２７の波長λが４０５ｎｍ近傍の場合を想定して説明する。
【００１９】
（基板２１）
基板２１は、膜面入射構成では、適度な加工性と剛性を有するプラスチック、金属、ガラス等を用いることができる。従来の基板入射構成と異なり、透明性や複屈折に対する制限はない。表面に案内溝を形成するのであるが、金属、ガラスでは、表面に光や熱硬化性の薄い樹脂層を設け、そこに、溝を形成する必要がある。この点、プラスチック材料を用い、射出成型によって、基板２１形状、特に円盤状、と表面の案内溝を一挙に形成するほうが製造上は好ましい。
【００２０】
射出成型できるプラスチック材料としては、従来ＣＤやＤＶＤで用いられたポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。基板の厚みとしては０．５ｍｍ〜１．２ｍｍ程度とするのが好ましい。基板厚とカバー層厚を合わせて、従来のＣＤやＤＶＤと同じ１．２ｍｍとすることが好ましい。従来のＣＤやＤＶＤで使われるケ−ス等をそのまま用いることができるからである。基板厚を１．１ｍｍ、カバー層厚みを０．１ｍｍとすることが、ブルーレイ・ディスクでは規定されている。
【００２１】
基板２１にはトラッキング用の案内溝が形成されている。本実施の形態では、カバー層溝間部２５が記録溝部となるトラックピッチは、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒより高密度化を達成するためには、０．１μｍ〜０．６μｍとするのが好ましく、０．２μｍ〜０．４μｍとするのがより好ましい。溝深さは、概ね３０ｎｍ〜７０ｎｍの範囲にあることが好ましい。溝深さは、前記範囲内で、未記録状態の記録溝部反射率、記録信号の信号特性、プッシュプル信号特性、記録層２２の光学特性等を考慮して適宜最適化される。
【００２２】
本実施の形態では、主として記録溝部と記録溝間部とにおけるそれぞれの反射光の位相差による干渉を利用しているから、両方が集束光スポット内に存在することが好ましい。このため、記録溝幅（カバー層溝間部の幅）は、記録再生光ビーム２７の記録層面におけるスポット径（溝横断方向の直径）より小さくするのが好ましい。記録再生光波長λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ（開口数）＝０．８５の光学系で、トラックピッチを０．３２μｍとする場合、０．１μｍ〜０．２μｍの範囲とするのが好ましい。これらの範囲外では、溝または溝間部の形成が困難となる場合が多い。
【００２３】
案内溝の形状は、通常、矩形となる。特に、後述の塗布による記録層２２形成時に、色素を含む溶液の溶剤がほとんど蒸発するまでの数十秒間に、基板溝部上に、色素が選択的に溜まることが望ましい。このため、矩形溝の基板溝間の肩を丸くして色素溶液が、基板溝部に落下して溜まりやすくすることも好ましい。このような丸い肩を有する溝形状は、プラスチック基板もしくは、スタンパの表面を、プラズマやＵＶオゾン等に数秒から数分さらしてエッチングすることで得られる。プラズマによるエッチングでは、基板の溝部の肩（溝間部のエッジ）のようなとがった部分が選択的に削られる性質があるので、丸まった溝部の肩の形状を得るのに適している。
【００２４】
案内溝は、通常は、アドレスや同期信号等の付加情報を付与するために、溝蛇行、溝深さ変調等の溝形状の変調、記録溝部あるいは記録溝間部の断続による凹凸ピット等による付加信号を有する。例えば、ブルーレイ・ディスクでは、ＭＳＫ（ｍｉｎｉｍｕｍ−ｓｈｉｆｔ−ｋｅｙｉｎｇ）とＳＴＷ（ｓａｗ−ｔｏｏｔｈ−ｗｏｂｂｌｅｓ）という２変調方式を用いたウォブル・アドレス方式が用いられている。
【００２５】
（光反射機能を有する層２３）
光反射機能を有する層（反射層２３）には、記録再生光波長に対する反射率が高く、記録再生光波長に対して７０％以上の反射率を有するものが好ましい。記録再生用波長として用いられる可視光、特に、青色波長域で高反射率を示すものとして、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ及びこれらを主成分とする合金が挙げられる。より好ましくは、λ＝４０５ｎｍでの反射率が高く、吸収が小さいＡｇを主成分とする合金である。Ａｇを主成分として、Ａｕ、Ｃｕ、希土類元素（特に、Ｎｄ）、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ等を０．０１原子％〜１０原子％添加することで、水分、酸素、硫黄等に対する耐食性が高めることができ好ましい。この他に、誘電体層を複数積層した誘電体ミラーを用いることも可能である。
【００２６】
反射層２３の膜厚は、基板表面の溝段差を保持するために、７０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは６５ｎｍ以下とする。後述の、２層媒体を形成する場合を除いて、反射層膜厚の下限は、３０ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは４０ｎｍ以上とする。反射層２３の表面粗さＲａは、５ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以下であることがより好ましい。Ａｇは添加物の添加によって平坦性が増す性質があり、この意味でも、上記の添加元素を０．１原子％以上が好ましく、さらに好ましくは、０．５原子％以上とするのが好ましい。反射層２３はスパッタリング法、イオンプレーティング法や、電子ビーム蒸着法などで形成することができる。
【００２７】
（色素を主成分とする記録層２２）
本実施の形態において使用する色素は、３００ｎｍ〜８００ｎｍの可視光（及びその近傍）波長領域に、その構造に起因した顕著な吸収帯を有する有機化合物をいう。このような色素を記録層２２として形成した未記録（記録前）の状態において記録再生光ビーム２７の波長λに吸収を有し、記録により変質して記録層に再生光の反射光強度の変化として検出されうる光学的変化を起こす色素を、「主成分色素」と呼ぶ。主成分色素は、複数の色素の混合物として、上記の機能を発揮するものであってもよい。
【００２８】
主成分色素含有量は、重量％にして５０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。主成分色素は単独の色素が記録再生光ビーム２７の波長λに対して吸収があり、記録によって変質して上記光学的変化を生じることが好ましいが、記録再生光ビーム２７の波長λに対する吸収を有し、発熱することで、間接的に他方の色素を変質させ光学的変化を起こさせるように機能分担されていてもよい。主成分色素にはこの他、光吸収機能を有する色素の経時安定性（温度、湿度、光に対する安定性）を改善するためのいわゆるクエンチャーとしての色素が混合されていてもよい。主成分色素以外の含有物としては、低・高分子材料からなる結合剤（バインダー）、誘電体等が挙げられる。
【００２９】
主成分色素は、特に、構造によって限定されるものではない。本実施の形態においては、記録により、記録層内に屈折率が減少する変化を生じるものであり、未記録（記録前）状態での吸収係数が０より大きい値である限り、原則として光学的特性に対する強い制約はない。主成分色素が記録再生光ビーム２７の波長λに対する吸収を有し、且つ、自らの吸光、発熱によって、変質を起こし、屈折率の低下を生じればよい。ここで、変質とは、具体的には、主成分色素の吸収・発熱による膨張、分解、昇華、溶融等の現象をいう。主成分となる色素そのものが変質して、なんらかの構造変化を伴い、屈折率が低下してもよい。また、屈折率の低下は記録層内及び／または界面に空洞が形成されてもよいし、記録層２２の熱膨張による屈折率低下であってもよい。
【００３０】
このような変質を示す温度としては、１００℃〜５００℃の範囲にあることが好ましく、１００℃から３５０℃の範囲にあることがより好ましい。保存安定性、耐再生光劣化の観点からは、１５０℃以上であることがさらに好ましい。また、分解温度が３００℃以下であれば、特に１０ｍ／ｓ以上の高線速度でのジッタ特性が良好になる傾向があり好ましい。分解温度が２８０℃以下であることが、さらに高速記録での特性を良好にする可能性があるので、好ましい。通常は、以上で述べた、変質挙動は主成分色素の熱特性として測定され、熱重量分析−示差熱分析（ＴＧ−ＤＴＡ）法によって、重量減少開始温度として大まかな挙動を測定できる。
【００３１】
上記のような特性を有する色素としては、メチン系、（含金）アゾ系、ピロン系、ポルフィリン系化合物等及びこれらの混合物が挙げられる。より具体的には、含金アゾ系色素（特開平９−２７７７０３号公報、特開平１０−０２６６９２号公報等）、ピロン系色素（特開２００３−２６６９５４号公報）は、本来、耐光性に優れ、かつ、ＴＧ−ＤＴＡでの重量減少開始温度Ｔdが、１５０℃〜４００℃にあり、急峻な減量特性（分解物の揮発性が高く、空洞を形成しやすい）を有する点で好ましい。特に好ましいのは、含金アゾ色素である。
【００３２】
アゾ系色素としては、より具体的には、６−ヒドロキシ−２−ピリドン構造からなるカップラー成分と、イソキサゾールトリアゾール、ピラゾールから選ばれるいずれか１種のジアゾ成分とを有する化合物と、該有機色素化合物が配位する金属イオンとから構成される金属錯体化合物が挙げられる。特に、下記一般式［Ｉ］〜［III］を有する含金属ピリドンアゾ化合物が好ましい。
【００３３】
【化１】
2009026378.tif 000003
【００３４】
（式中、Ｒ1〜Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。）
また、下記一般式［IV］または［Ｖ］で示される環状β−ジケトンアゾ化合物と金属イオンからなる含金属環状β−ジケトンアゾ化合物が好ましい。
【００３５】
【化２】
2009026378.tif 000004
【００３６】
（式中、環Ａは、炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環であり、Ｘ、Ｘ’、Ｙ、Ｙ’、Ｚは各々独立に、水素原子以外に置換基（スピロ含む）を有していてもよい炭素原子、酸素原子、硫黄原子、Ｎ−Ｒ11で表される窒素原子、Ｃ＝Ｏ、Ｃ＝Ｓ、Ｃ＝ＮＲ12のいずれかを表し、βジケトン構造とともに５または６員環構造を形成する。Ｒ1は水素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、−ＣＯＲ13で表されるアシル基、−ＮＲ14Ｒ15を表すアミノ基のいずれかを表し、Ｒ12は水素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、アリール基を表す。Ｒ13は炭化水基、又は複素環基を表し、Ｒ14、Ｒ15は水素原子、炭化水素基または複素環基を表す。またこれらは必要に応じて置換されてもよい。またＸ、Ｘ’、Ｙ、Ｙ’、Ｚが炭素原子またはＮ−Ｒ11で表される窒素原子の場合、隣接する両者の結合は単結合であっても二重結合であってもよい。さらに、Ｘ、Ｘ’、Ｙ、Ｙ’、Ｚが炭素原子、Ｎ−Ｒ11で表される窒素原子、Ｃ＝ＮＲ12の場合、隣接するもの同士で互いに縮合して、飽和又は不飽和の炭化水素環あるいは複素環を形成してもよい。）
下記、一般式［VI］で示される化合物と金属からなる含金族アゾ化合物もまた好ましい。
【００３７】
【化３】
2009026378.tif 000005
【００３８】
（式中Ａ及びＡ’は、これが結合している炭素原子及び窒素原子とともに複素芳香環を形成する残基を表し、Ｘは活性水素を有する基を表し、Ｒ16及びＲ17は各々独立に水素または任意の置換基を表す。）
さらに、下記一般式［VII］で表される含金族アゾ化合物も挙げられる。
【００３９】
【化４】
2009026378.tif 000006
【００４０】
（式［VII］中、環Ａは、炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環であり、ＸＬは、Ｌが脱離することによりＸが陰イオンとなり金属が配位可能となる置換基を表す。Ｒ18、Ｒ19は、それぞれ独立に、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基又はアルケニル基を表し、これらは各々隣接する置換基同士または互いに縮合環を形成してもよい。Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22は各々独立に水素または任意の置換基を表す。）
【００４１】
これらのアゾ系色素は、従来ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒで用いられたアゾ系色素より、さらに、短波長よりの主吸収帯を有しており、４００ｎｍ近傍での吸収係数ｋdが、０．３〜１程度の大きな値となるので好ましい。金属イオンとしては、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｍｎの２価の金属イオンが上げられるが、特に、Ｎｉ、Ｃｏを含有する場合が、耐光性、耐高温高湿環境性に優れており、好ましい。なお、式［VIII］で表される含金アゾ系色素は、長波長化して後述の化合物Ｙとしても用いることができる。
ピロン系色素としては、より具体的には、下記一般式［VII］又は［IX］を有する化合物が好ましい。
【００４２】
【化５】
2009026378.tif 000007
【００４３】
（式［VIII］中、Ｒ23〜Ｒ26は水素原子または任意の置換基を表すか、Ｒ23とＲ24、Ｒ25とＲ26が各々縮合して炭化水素環または複素環構造を形成する。該炭化水素環及び該複素環は、置換基を有していてもよい。Ｘ1は電子吸引性基を表し、Ｘ2は水素原子または−Ｑ−Ｙ（Ｑは直接結合、炭素数１または２のアルキレン基、アリーレン基またはヘテロアリーレン基を表し、Ｙは電子吸引性基を表す。該アルキレン基、該アリーレン基、ヘテロアリーレン基はＹ以外に任意の置換基を有していてもよい。Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＮＲ27−（Ｒ27は水素原子、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、−ＮＲ28Ｒ29（Ｒ28，Ｒ29は各々独立して水素原子、置換されてもよい炭化水素基または置換されてもよい複素環基、−ＣＯＲ30−（Ｒ30は置換されてもよい炭化水素基または置換されてもよい複素環基を表す。）、−ＣＯＲ31（Ｒ31は置換されてもよい炭化水素基または置換されてもよい複素環基を表す。）を表す。）を表す。）を表す。）を表す。）
【００４４】
【化６】
2009026378.tif 000008
【００４５】
（式［IX］中、Ｒ32〜Ｒ35は水素原子または任意の置換基を表すか、Ｒ32とＲ33，Ｒ34とＲ35が各々縮合して炭化水素環または複素環構造を形成する。該炭化水素環及び該複素環は、置換基を有していてもよい。環ＡはＣ＝Ｏと共に置換基を有していてもよい炭素環式ケトン環または複素環式ケトン環を表し、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＮＲ36−（Ｒ36は水素原子、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、−ＮＲ37Ｒ38（Ｒ37，Ｒ38は各々独立して水素原子、置換されてもよい炭化水素基または置換されてもよい複素環基、−ＣＯＲ39−（Ｒ39は置換されてもよい炭化水素基または置換されてもよい複素環基を表す。）、−ＣＯＲ40（Ｒ40は置換されてもよい炭化水素基または置換されてもよい複素環基を表す。）を表す。）を表す。）を表す。）
【００４６】
尚、本実施の形態が適用される光記録媒体２０においては、記録層の未記録時の記録再生光波長λにおける屈折率ｎdが２程度より大きい色素Ｘに、ｎd＜ｎc（ｎcはカバー層の前記記録再生光波長λにおける屈折率）なる色素または他の有機物、無機物材料を混合し（混合物Ｙ）、記録層２２の平均的なｎdを低下させて、ｎcと同等以下とすることも可能である。この場合、ｎd＞ｎcなる色素は、主として、ｋdの大きな色素を用いて光吸収機能を実現し、ｎd＜ｎcなる色素は、主として、分解によって、変形を生じせしめる材料を混合することが好ましい。尚、この場合、材料は色素であっても良い。
色素Ｘは、ｎd＞ｎc、特に、ｎd＞２、であって、主吸収帯が記録再生光波長の長波長側で、高屈折率を有する色素である。このような色素としては、主吸収帯のピークが３００ｎｍ〜４００ｎｍにあるもので、屈折率ｎdが２〜３の範囲にあるものが好ましい。
【００４７】
色素Ｘとしては、具体的には、ポルフィリン、スチルベン、（カルボ）スチリル、クマリン、ピロン、カルコン、トリアゾ−ル、メチン系（シアニン系、オキソノール系）、スルホニルイミン系、アズラクトン系化合物等及びこれらの混合物が挙げられる。特に、クマリン系色素（特開２０００−０４３４２３号公報）、カルボスチリル系色素（特開２００１−２８７４６６号公報）、前述のピロン系色素（特開２００３−２６６９５４号公報）等は適度な分解または昇華温度を有するので好ましい。また、主吸収帯ではないが、それに準じた強い吸収帯を３５０ｎｍ〜４００ｎｍ付近に有するフタロシアニン、ナフタロシアニン化合物及びその誘導体、さらにはこれらの混合物も好ましい。
【００４８】
混合物Ｙとしては、含金アゾ系色素で、主吸収帯が６００ｎｍ〜８００ｎｍの波長帯にあるものが挙げられる。ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの使用に適した色素で、４０５ｎｍ近傍では、吸収係数ｋdが０．２以下さらには、０．１以下であるものが好ましい。その屈折率ｎdは、長波長端λLでは、２．５以上と非常に高くても、短波長端では吸収のピークから、十分離れているので、１．５程度となり都合が良い。
より具体的には、特開平６−６５５１４号公報において開示される一般式［Ｘ］で示される含金族アゾ化合物が挙げられる。
【００４９】
【化７】
2009026378.tif 000009
【００５０】
（式［Ｘ］中、Ｒ41、Ｒ42は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、フッ素化アルキル基、分岐アルキル基、ニトロ基、シアノ基、ＣＯＯＲ45、ＣＯＲ46、ＯＲ47、ＳＲ48（Ｒ45〜Ｒ48は炭素数１〜６のアルキル基、フッ素化アルキル基、分岐アルキル基、環状アルキル基を表す）を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、分岐アルキル基、ＯＲ49、ＳＲ50（Ｒ49、Ｒ50は炭素数１から３のアルキル基を表す）を表し、Ｒ43、Ｒ44は水素原子、炭素数１から１０のアルキル基、分岐アルキル基、環状アルキル基を表し、隣接するベンゼン環と結合していても、また。窒素原子、Ｒ43、Ｒ44でひとつの環を形成していても差し支えはない。）
あるいは、特開２００２−１１４９２２で開示される一般式［XI］で示される含金族アゾ化合物も好ましい。
【００５１】
【化８】
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【００５２】
（式［XI］中、Ｒ51、Ｒ52は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、フッ素化アルキル基、分岐アルキル基、ニトロ基、シアノ基、ＣＯＯＲ55、ＣＯＲ56、ＯＲ57、ＳＲ58（Ｒ55〜Ｒ58は炭素数１〜６のアルキル基、フッ素化アルキル基、分岐アルキル基、環状アルキル基を表す）を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、分岐アルキル基、ＯＲ59、ＳＲ60（Ｒ59、Ｒ60は炭素数１から３のアルキル基を表す）を表し、Ｒ53、Ｒ54は水素原子、炭素数１から３のアルキル基をあらわす。）が挙げられる。
【００５３】
本実施の形態においては、記録層２２は塗布法、真空蒸着法等で形成するが、特に、塗布法で形成することが好ましい。即ち、上記色素を主成分に結合剤、クエンチャー等とともに適当な溶剤に溶解して記録層２２塗布液を調整し、前述の反射層２３上に塗布する。溶解液中の主成分色素の濃度は、通常、０．０１重量％〜１０重量％の範囲であり、好ましくは、０．１重量％〜５重量％、さらに好ましくは、０．２重量％〜２重量％とする。これにより、通常、１ｎｍ〜１００ｎｍ程度の厚みに記録層２２が形成される。その厚みを５０ｎｍ未満とするために、上記色素濃度を１重量％未満とするのが好ましく、０．８重量％未満とするのがより好ましい。また、塗布の回転数をさらに調整することも好ましい。
【００５４】
主成分色素材料等を溶解する溶剤としては、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；テトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）、オクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）等のフッ素化炭化水素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；ジクロルメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン等を挙げることができる。これらの溶剤を溶解すべき主成分色素材料等の溶解性を考慮して適宜選択し、また、２種以上を混合して用いることができる。
【００５５】
結合剤としては、セルロース誘導体、天然高分子物質、炭化水素系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニールアルコール、エポキシ樹脂等の有機高分子等を使うことができる。さらに、記録層２２には、耐光性を向上させるために、種々の色素又は色素以外の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、前記記録層材料に対して、通常、０．１重量％〜５０重量％であり、好ましくは、１〜３０重量％であり、さらに好ましくは、５重量％〜２５重量％である。
【００５６】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロ−ルコート法等が挙げられるが、特に、ディスク上記録媒体においては、スピンコート法が膜厚の均一性を確保しかつ、欠陥密度を低減できて好ましい。
【００５７】
（界面層３０）
本実施の形態においては、特に、記録層２２とカバー層２４の間に適当な界面層３０を設けることで、光学的に好ましい特性を得ることができ、かつ、βとＰｗｏの相関関係を好ましい状態にすることが出来る。
【００５８】
界面層３０は、金属、半導体等の酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）等のフッ化物等の誘電体化合物やその混合物が好ましい。界面層の屈折率は、前述のように、記録層やカバー層の屈折率との差が１以下のものが好ましく、値としては１〜２．５の範囲にあることが望ましい。界面層の硬度や厚みにより、記録層の変形、特に、カバー層側へのふくらみ変形を促進したり、抑制したりすることができる。ふくらみ変形を有効に活用するためには、比較的、硬度の低い誘電体材料が好ましく、特に、ＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｇａ2Ｏ3、ＺｎＳや希土類金属の硫化物に、他の金属、半導体の酸化物、窒化物、炭化物を混合した材料が好ましい。また、プラスチックのスパッタ膜、炭化水素分子のプラズマ重合膜を用いることもできる。
界面層として特に好ましいのは、ＩＴＯ（Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2）を含有する材料である。膜厚は１〜５０ｎｍが好ましく、更には５〜３０ｎｍが好ましい。
【００５９】
界面層材料及び膜厚によりβとＰｗｏの相関関係が好ましい状態になるメカニズムの詳細は不明であるが、界面層材料の硬度が重要であると推定される。すなわち、界面層材料の硬度が硬すぎると、そもそも変形の抑制効果が大きすぎ良好な記録状態を得ることができない。一方で界面層材料の硬度が柔らかすぎると、まず、低パワーの記録においては、通常長マークよりマーク幅の狭い短マークが、界面層材料が柔らかいために溝幅一杯まで広がり、長マークと同程度のマーク幅を持つようになる。このことはβの低下（通常プラスが０に近づく方向）につながる。また、高パワーの記録においては、特にエネルギー投入量の大きい長マークの記録波形が歪みやすいが、界面層材料が柔らかいと変形の抑制効果が小さくこの歪みが顕著となる。長マークの記録波形歪みは記録部の反射率の低下となって現れる。このことはβの増大（通常マイナスが０に近づく方向）につながる。
以上から、界面層材料が柔らかすぎるとβのＰｗ依存性が低下する。また、界面層３０の膜厚が厚過ぎると変形の抑制効果が大きすぎ、逆に薄すぎると抑制効果が小さすぎることになり、βのＰｗ依存性が低下する。
【００６０】
（カバー層２４）
カバー層２４は、記録再生光ビーム２７に対して透明で複屈折の少ない材料が選ばれ、通常は、プラスチック板（シートと呼ぶ）を接着剤で貼り合せるか、塗布後、光、放射線、または熱等で硬化して形成する。カバー層２４は、記録再生光ビーム２７の波長λに対して透過率７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【００６１】
シート材として用いられるプラスチックは、ポリカーボネート、ポリオレフィン、アクリル、三酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート等である。接着には、光、放射線硬化、熱硬化樹脂や、感圧性の接着剤が用いられる。感圧性接着剤としては、また、アクリル系、メタクリレート系、ゴム系、シリコン系、ウレタン系の各ポリマーからなる粘着剤を使用できる。
【００６２】
例えば、接着層を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を記録層または界面層３０上に塗布して塗布膜を形成し、塗布膜上にポリカーボネートシートを重ね合わせる。その後、必要に応じて重ね合わせた状態で、媒体を回転させるなどして塗布液をさらに延伸展開した後、ＵＶランプで紫外線を照射して硬化させる。あるいは、感圧性接着剤をあらかじめシートに塗布しておき、シートを記録層２２あるいは界面層３０上に重ね合わせた後、適度な圧力で押さえつけて圧着する。
【００６３】
前記粘着剤としては、透明性、耐久性の観点から、アクリル系、メタクリレート系のポリマー粘着剤が好ましい。より具体的には、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉｓｏ−オクチルアクリレートなどを主成分モノマーとし、これらの主成分モノマーを、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等の極性モノマーを共重合させる。主成分モノマーの分子量調整、その短鎖成分の混合、アクリル酸による架橋点密度の調整により、ガラス転移温度Ｔｇ、タック性能（低い圧力で接触させたときに直ちに形成される接着力）、剥離強度、せん断保持力等の物性を制御することができる。アクリル系ポリマーの溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン等が用いられる。上記粘着剤は、さらに、ポリイソシアネート系架橋剤を含有することが好ましい。
【００６４】
また、粘着剤は、前述のような材料を用いるが、カバー層シート材の記録層側に接する表面に所定量を均一に塗布し、溶剤を乾燥させた後、記録層側表面（界面層を有する場合はその表面）に貼り合わせローラー等により圧力をかけて硬化させる。該粘着剤を塗布されたカバー層シート材を記録層を形成した記録媒体表面に接着する際には、空気を巻き込んで泡を形成しないように、真空中で貼り合せるのが好ましい。
また、離型フィルム上に上記粘着剤を塗布して溶剤を乾燥した後、カバー層シートを貼り合わせ、さらに離型フィルムを剥離してカバー層シートと粘着剤層を一体化した後、記録媒体と貼りあわせても良い。
【００６５】
塗布法によってカバー層２４を形成する場合には、スピンコート法、ディップ法等が用いられるが、特に、ディスク状媒体に対してはスピンコート法を用いることが多い。塗布によるカバー層材料としては、同様に、ウレタン、エポキシ、アクリル系の樹脂等を用い、塗布後、紫外線、電子線、放射線を照射し、ラジカル重合もしくは、カチオン重合を促進して硬化する。
【００６６】
カバー層２４は、さらにその入射光側表面に耐擦傷性、耐指紋付着性といった機能を付与するために、表面に厚さ０．１μｍ〜５０μｍ程度の層を別途設けることもある。カバー層の厚みは、記録再生光ビーム２７の波長λや対物レンズ２８のＮＡ（開口数）にもよるが、０．０１ｍｍ〜０．３ｍｍの範囲が好ましく、０．０５ｍｍ〜０．１５ｍｍの範囲がより好ましい。接着層やハードコート層等の厚みを含む全体の厚みが、光学的に許容される厚み範囲となるようにするのが好ましい。たとえば、いわゆるブルーレイ・ディスクでは、１００μｍ±３μｍ程度以下に制御するのが好ましい。
【００６７】
（その他の構成）
本実施の形態においては、前述の記録層２２とカバー層２４との界面層３０の他に、基板２１、反射層２３、記録層２２、のそれぞれの界面に、相互の層の接触・拡散防止や、位相差及び反射率の調整のために界面層を挿入することができる。
【００６８】
（他の実施の態様）
（多層記録用半透明記録媒体）
本実施の形態が適用される光記録媒体において、反射層の膜厚を薄くし、記録再生光の略５０％以上が反射層を透過するような薄さにすると、いわゆる多層記録媒体が可能になる。即ち、基板上に、複数の記録層及び反射層（以下、併せて情報層と呼ぶ）を設けた記録媒体である。
【００６９】
図３は、２層の情報層を設けた光記録媒体を説明する図である。記録再生光ビーム１０７が入射する側の情報層をＬ１層、奥側にある情報層をＬ０層と呼ぶ。Ｌ１層は、透過率５０％以上であることが好ましい。Ｌ１層の半透明反射層１１３が、例えば、Ａｇ合金であれば、Ａｇ合金の膜厚を１ｎｍ〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは、５ｎｍ〜３０ｎｍ、さらに好ましくは、５ｎｍ〜２０ｎｍとすることが好ましい。このような透過性の高い反射層は半透明反射層と呼ばれる。Ｌ０層とＬ１層との間には、それぞれの信号の混信を防止するために、透明な中間層１１４が設けられる。尚、図３におけるＬ０層における反射層１０３には、前述の反射層２３（図２）と同様の材料が使用できる。例えば、記録再生光ビーム１０７波長λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ（開口数）＝０．８５の光学系では、中間層１１４の厚みは約２５μｍ、カバー層１１１の厚みは約７５μｍ程度とされる。中間層１１４の厚み分布は、同様に±２μｍ程度以下とするのが好ましい。
更に、図示していないが、記録層１１２とカバー層１１１の間には、図２の場合と同様、適当な界面層を設けることが必要である。記録層１０２と中間層１１４の間も同様に界面層を設けても良い。
【００７０】
Ｌ０層、Ｌ１層それぞれに、本実施の形態が適用される光記録媒体１００における層構成の範囲において異なる層構成を用いてもよいし、同一の層構成を用いてもよい。それぞれの情報層に用いる色素を主成分とする記録層の組成や材料が異なっていても良いし、同じでもよい。
【００７１】
本実施の形態においては、特に、主として位相変化を利用しているので、記録前後でＬ１層を透過する光量がほとんど変化しないことが期待される。これは、Ｌ１層が記録・未記録であるにかかわらず、Ｌ０層への透過光量、Ｌ０層からの反射光量がほとんど変化しないことを意味し、Ｌ１層の状態に関わらず、安定的にＬ０層の記録再生ができるので好ましいことである。
【００７２】
（本発明に用いる光記録装置について）
本発明に用いる記録装置の基本構造は、従来の光記録装置と同じものを用いることができる。例えば、そのフォーカスサーボ方式や、トラッキングサーボ方式は、従来公知の方式を適用できる。集束ビームの焦点位置のスポットが、カバー層溝間部に照射され、トラッキングサーボによって、該カバー層溝間部を追従するようになっていればよい。通常は、プッシュプル信号が利用されている。
【００７３】
カバー層溝間部に記録を行う場合、集束された記録再生光ビームは、記録層主成分色素を昇温・発熱せしめて、変質（膨張、分解、昇華、溶融等）を起こさせる。マーク長変調記録を行う場合、記録再生光ビームのパワー（記録パワー）をマーク長に従って、強弱変調させる。なお、マーク長変調方式は、特に制限は無く、通常用いられるＲｕｎ−Ｌｅｎｇｔｈ−Ｌｉｍｉｔｅｄ符号である、ＥＦＭ変調（ＣＤ）、ＥＦＭ＋変調（ＤＶＤ）、１−７ＰＰ変調（ブルーレイ）等を適用できる。
【００７４】
ただし、ＨｔｏＬ極性信号を前提とした記録再生系においては、ＬｔｏＨ記録に当たって、マークとスペースでの記録信号極性が逆になるように記録データ信号の極性を予め反転させておくことがある。こうすれば、記録後の信号は、見かけ上、ＨｔｏＬ極性の信号と同等にできる。
【００７５】
通常は、マーク部で記録パワーを高レベルＰｗとし、マーク間（スペース）で低レベルＰｓとする。Ｐｓ／Ｐｗは、通常０．５以下とする。Ｐｓは一回だけの照射では、記録層に上記変質を生じさせないようなパワーであり、Ｐｗに先行して記録層を予熱したりするために利用される。公知の記録パルスストラテジーは、本発明記録方法及び記録装置においても適宜使用される。例えば、記録マーク部に対応する記録パワーＰｗ照射時間はさらに、短い時間で断続的に照射されたり、複数のパワーレベルに変調したり、Ｐｗ照射後、Ｐｓに移行するまでの一定時間Ｐｓよりもさらに低いパワーレベルＰｂを照射する、等の記録ストラテジーが使用できる。
【実施例】
【００７６】
以下、実施例に基づき本実施の形態をさらに詳細に説明する。尚、本実施の形態は実施例に限定されない。
【００７７】
（実施例１、２及び比較例１）
トラックピッチ０．３２μｍで溝幅約０．１８μｍ、溝深さ約４５ｎｍの案内溝を形成したポリカーボネート樹脂基板上に、Ａｇ98.1Ｎｄ1.0Ｃｕ0.9合金ターゲット（組成はいずれも原子％）をスパッタして厚さ約７０ｎｍの反射層を形成した。この反射層上にＮｂをスパッタすることにより、厚さ約２ｎｍの金属層を形成した。更にその上に、下記構造式で表される配位子Ａと二価のＮｉとからなる含金アゾ色素Ａと、配位子Ｂと二価のＣｏとからなる含金アゾ色素Ｂとを７０：３０重量％比となるように混合し、オクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）で１．０重量％に希釈した混合溶液をスピンコートで成膜した。
【００７８】
【化９】
2009026378.tif 000011
【００７９】
【化１０】
2009026378.tif 000012
【００８０】
スピンコート法の条件は、以下のとおりである。すなわち、前記色素溶液をディスク中央付近に１．５ｇ環状に塗布し、ディスクを１２００ｒｐｍで７秒間回転させ色素を延伸し、その後、９２００ｒｐｍで３秒回転させ色素を振り切ることによる塗布を行った。尚、塗布後にはディスクを８０℃の環境下に１時間保持することで溶媒であるＯＦＰを蒸発除去した。その後、ＩＴＯターゲットまたはＩＴＯ−ＺｎＯ（５０：５０原子％）ターゲットまたはＺｎＳ−ＳｉＯ2（７０：３０原子％）ターゲットをスパッタして約１６ｎｍの厚みの界面層を形成した。その上に、厚さ７５μｍのポリカーボネート樹脂のシートと厚み２５μｍの感圧接着剤層からなる合計１００μｍの透明なカバー層を貼り合わせた。
【００８１】
ディスクの記録再生評価は、記録再生光波長λ＝４０６ｎｍ、ＮＡ（開口数）＝０．８５、集束ビームスポット径約０．４２μｍ（１／ｅ＾２強度となる領域）の光学系を有するパルステック社製ＯＤＵ１０００テスターを用いて行った。ディスクは、線速度４．９ｍ／ｓで回転させ、記録パワーを変化させて記録を行った。再生も線速度を４．９ｍ／ｓとし、再生パワーは０．３０ｍＷとした。記録には、マーク変調信号（１−７ＰＰ）を用いた。基準クロック周期Ｔは１５．１５ｎｓ（チャンネルクロック周波数６６ＭＨｚ）とした。ジッター測定は、記録信号をリミット・イコライザーにより波形等化した後、２値化を行い、２値化した信号の立ち上がりエッジ及び立下りエッジと、チャンネルクロック信号に立ち上がりエッジとの時間差の分布σをタイムインターバルアナライザにより測定し、チャンネルクロック周期をＴとして、σ／Ｔにより測定した（データ・トゥー・クロック・ジッター  Ｄａｔａ  ｔｏ  Ｃｌｏｃｋ  Ｊｉｔｔｅｒ）。これらの測定条件は概ねブルーレイ・ディスクにおける測定条件に準拠している。βは、記録信号をＡＣ結合してデジタルオシロスコープで最長記録マーク（８Ｔ）のハイレベルＡ１とローレベルＡ２を測定し、β＝（Ａ１＋Ａ２）／（Ａ１−Ａ２）という計算式によりβを求めた。
【００８２】
以下、パラメータａと相関係数の２乗の算出手順について説明する。まず、記録パワーを適当な範囲で変更しながらジッタを測定し、ジッタ値が最適となる記録パワーＰｗｏ（最適記録パワー）を求めた。そして、記録パワーＰｗが０．９Ｐｗｏ、０．９５Ｐｗｏ、１．０Ｐｗｏ、１．０５Ｐｗｏ、１．１Ｐｗｏの５点についてβを測定し、横軸をＰｗ／Ｐｗｏとしてグラフにプロットした場合に、回帰分析による線形近似を用いて、β＝ａＸＰｗ／Ｐｗｏ＋ｂという近似式を算出した。
【００８３】
界面層にＩＴＯを用いたものを実施例１と、ＩＴＯ−ＺｎＯを用いたものを実施例２と、ＺｎＳ−ＳｉＯ2を用いたものを比較例１として、このようにして求めたａの絶対値と相関係数Ｒの２乗の値を表１に示す。
【００８４】
【表１】
2009026378.tif 000013
【００８５】
実施例１及び２ではａの絶対値がぞれぞれ０．８９と０．９２であり、且つ相関係数Ｒの２乗が共に０．９以上であり、βを測定することにより正確にＰｗｏを算出することができた。
一方、比較例１では、相関係数Ｒの２乗の値が０．７１と小さいためにβを測定してもＰｗｏとの相関が低い上に、ａの絶対値が０．１６と小さいことからβの変化に対してＰｗｏの変化が大きいことになり、βの測定精度の影響によりＰｗｏの数値が変動し易くなり、正確なＰｗｏを算出することが困難であった。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】βの定義について説明する図である。
【図２】本発明に係る光記録媒体の構成を説明する図である。
【図３】２層の情報層を設けた本発明に係る光記録媒体の構成を説明する図である。
【符号の説明】
【００８７】
２０，１００  光記録媒体
２１，１０１  基板
２２，１０２，１１２  記録層
２３，１０３  反射層
２４，１１１  カバー層
２５  カバー層溝間部
２６  カバー層溝部
２７，１０７  記録再生光ビーム
２８，１０８  対物レンズ
２９  記録再生光ビームが入射する面
３０  界面層
１１３  半透明反射層
１１４  中間層
【図１】
2009026378.tif 000014
【図２】
2009026378.tif 000015
【図３】
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