(57)【要約】【課題】  表示素子に用いた場合、高いガスバリア性能と、高い初期性能（高効率低抵抗発光）の両立を図ることができる、透明導電性フィルムを提供する。【解決手段】基材フィルムの少なくとも片面に、少なくとも有機領域と無機領域とを有するガスバリア層を有するガスバリアフィルムを、加熱処理および／または真空処理した後、透明導電性層を設けることを特徴とする、透明導電性フィルムの製造方法。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも片面に、少なくとも有機領域と無機領域とを有するガスバリア層を有するガスバリアフィルムを、加熱処理および／または真空処理した後、透明導電性層を設けることを特徴とする、透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記ガスバリア層は、少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層とからなる、請求項１に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記ガスバリア層は、少なくとも１層の有機層と、少なくとも２層の無機層とからなる、請求項１に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記透明導電性層表面の表面粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記加熱処理および／または真空処理は、加熱真空処理である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項６】
透明導電性層の上に、さらにバスラインを設けることを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項７】
さらに、前記ガスバリアフィルムを、ＵＶ/オゾン処理および／またはプラズマ処理することを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記ＵＶ／オゾン処理またはプラズマ処理を、前記加熱処理および／または真空処理後、透明導電性層を設ける前に行う、請求項１〜７のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記有機層または有機領域が、ビスフェノール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む組成物を塗布し、硬化してなる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法により製造された透明導電性フィルム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の透明導電性フィルムを用いた表示素子。
【請求項１２】
前記表示素子が、有機ＥＬ素子である、請求項１１に記載の表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性フィルムの製造方法および該方法により製造された透明導電性フィルムに関する。また、かかる透明導電性フィルムを用いた表示素子、特に、有機ＥＬ素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、透明導電性フィルムについて、検討されている。特許文献１には、透明重合体フィルムの少なくとも片面に金属酸化物を主成分とする透明ガスバリア性薄膜及び有機物架橋体を主成分とする保護膜が順次形成され、さらに該保護膜の少なくとも片面に透明導電性薄膜が形成されたものであることを特徴とする透明導電性フィルムが開示されている。
【０００３】
【特許文献１】特許第３８５５３０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記透明導電性フィルムでは、ガスバリア性能が必ずしも十分ではない。そのため、このような透明導電性フィルムを、有機ＥＬ素子等の表示素子に用いると、該表示素子の初期性能（高効率低抵抗発光）が劣る傾向にある。一方、高いガスバリア性を有するガスバリアフィルムを用いると、ガスバリア性能は改善されるが、透明導電性フィルムの低抵抗化が実現できない。
本発明は上記課題を解決することを目的としたものであって、高いガスバリア性能が確保された透明導電性フィルムを提供することを目的とする。特に、表示素子に用いた場合、高いガスバリア性能と、高い初期性能（高効率低抵抗発光）の両立を図ることができる、透明導電性フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題のもと、発明者が鋭意検討を行った結果、ガスバリアフィルムのガスバリア層として、有機領域と無機領域の両方を有するものを用い、特定の前処理をした後、透明導電性層を設けることにより、上記課題を解決しうることを見出した。具体的には、以下の手段により達成された。
（１）基材フィルムの少なくとも片面に、少なくとも有機領域と無機領域とを有するガスバリア層を有するガスバリアフィルムを、加熱処理および／または真空処理した後、透明導電性層を設けることを特徴とする、透明導電性フィルムの製造方法。
（２）前記ガスバリア層は、少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層とからなる、（１）に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
（３）前記ガスバリア層は、少なくとも１層の有機層と、少なくとも２層の無機層とからなる、（１）に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
（４）前記透明導電性層表面の表面粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下である、（１）〜（３）のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
（５）前記加熱処理および／または真空処理は、加熱真空処理である、（１）〜（４）のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
（６）透明導電性層の上に、さらにバスラインを設けることを含む、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
（７）さらに、前記ガスバリアフィルムを、ＵＶ/オゾン処理および／またはプラズマ処理することを含む、（１）〜（６）のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
（８）前記ＵＶ／オゾン処理またはプラズマ処理を、前記加熱処理および／または真空処理後、透明導電性層を設ける前に行う、（１）〜（７）のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
（９）前記有機層または有機領域が、ビスフェノール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む組成物を塗布し、硬化してなる、（１）〜（８）のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
（１０）（１）〜（９）のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムの製造方法により製造された透明導電性フィルム。
（１１）（１０）に記載の透明導電性フィルムを用いた表示素子。
（１２）前記表示素子が、有機ＥＬ素子である、（１１）に記載の表示素子。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、高いガスバリア性を有する透明導電性フィルムを提供することが可能になった。特に、表示素子に用いた場合に、水分の浸入による表示素子の劣化を抑止できるとともに、表示素子の初期性能を向上させることが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【０００８】
本発明の透明導電性フィルムの製造方法は、基材フィルムの少なくとも片面に、少なくとも有機領域と無機領域とを有するガスバリア層を有するガスバリアフィルムを、加熱処理および／または真空処理した後、透明導電性層を設けることを特徴とする。このような方法で製造された透明導電性フィルムは、表示素子に用いた場合に、低抵抗が実現でき、素子の長寿命化を図ることができる。
本発明では、ガスバリアフィルムを、加熱処理および／または真空処理するが、加熱真空処理であることが好ましい。ここで、加熱処理としては、６０〜１２０℃、０．５〜５０時間加熱することが好ましく、７０〜９０℃、１〜１２時間加熱することがより好ましい。特に、８０℃、２時間以上加熱することが好ましい。真空処理としては、１０-2〜１０-6Ｐａの範囲で真空処理することが好ましく、１０-3Ｐａ以下の範囲で真空処理することがより好ましい。加熱真空処理とは、前記加熱処理および真空処理の両方を行ったものであり、具体的には、１０-3Ｐａ以下、７０℃以上で処理することが好ましく、１０-3Ｐａ以下、８０℃以上で処理することがより好ましい。加熱真空処理時間としては、真空度等に応じて適宜定めることができるが、例えば、１時間以上とすることもできる。このような手段を採用することにより、得られる透明導電性フィルムを表示素子に用いたときに、該表示素子の耐久性が大きく改善される。特に従来のガスバリアフィルムに透明導電性層を設けた態様に比べ、素子の超寿命化を図ることはでき、低抵抗化の実現の点でも本発明では、優位性がある。
【０００９】
本発明におけるガスバリアフィルムは、さらに、ＵＶ/オゾン処理またはプラズマ処理することが好ましい。このような手段を採用することにより、より、表示素子の長寿命化を図ることができる。ここで、ＵＶ／オゾン処理またはプラズマ処理は、加熱処理および／または真空処理後、透明導電性層を設ける前に行うことが好ましい。
ＵＶ／オゾン処理は、酸素が存在する下で紫外光を基板に照射することによって行われる。詳細には、例えば、減圧チャンバー内に基板を配した後に該減圧チャンバー内の空気を排気し、さらに酸素ガスを供給して基板に紫外光を照射することによって、ＵＶ／オゾン処理が実施される。なお、ＵＶ／オゾン処理は大気中で行われてもよい。紫外光源は、例えば、１５０ｎｍ〜３５０ｎｍの波長を有する紫外光を出射できる水銀ランプ及び重水素ランプが使用できる。紫外光を基板に照射すると、該紫外光により酸素が分解されてオゾンおよび活性酸素が発生し、該オゾン及び活性酸素が透明導電性層上の有機物等の汚染物質と反応する。該反応によって汚染物質が除去される。また、該オゾン及び活性酸素が陽極材料と反応して、透明導電性層が酸化されるなどの透明導電性層の改質も行われる。かかる酸化によって、透明導電性層のイオン化ポテンシャルが上昇する。
プラズマ処理は、例えば、平行平板型プラズマ装置において実施される酸素プラズマ処理である。酸素プラズマ処理は、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノンの何れかと酸素との混合ガス、またはハロゲンガスを含む酸素との混合ガスを雰囲気ガスとして用いて、この雰囲気ガス内にてプラズマ放電を生ぜしめる処理である。具体的には、例えば、基板が配されかつ減圧状態になっているチャンバー内に上記の如き混合ガスが導入され、該チャンバー内に高周波電圧が印加される。その結果、酸素プラズマが発生し、該酸素プラズマが透明導電性層上の有機物質等の汚染物質と反応し、該汚染物質が除去される。また、該酸素プラズマは透明導電性層とも反応し、透明導電性層が改質される。
【００１０】
以下、本発明の製造方法により製造された透明導電性フィルムを有機ＥＬ素子に用いた場合を例にとってさらに詳しく説明する。本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでも無い。
図１は、本発明の製造方法により製造された透明導電性フィルムを有機ＥＬ素子に用いた一例であって、１は基材フィルムを、２はガスバリア層を、３は透明導電性層を、４はバスラインを、５は有機化合物層を、６は電極層を、７は封止材をそれぞれ示している。本実施形態に置いて、本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルム１と、ガスバリア層２と、透明導電性層３と、バスライン４とから構成されるが、バスライン４は設けられていなくてもよい。但し、バスラインを設けると印加電圧の低減という観点から有利である。かかる透明導電性フィルムは有機ＥＬ素子の基板となり、この上に、透明導電性層３を電極の一方として、さらに、有機化合物層５、電極層６が設けられる。また、本実施形態では、有機ＥＬ素子を封止材７で封止している。
本発明における透明導電性フィルムの厚さは、５〜５００μｍであることが好ましく２〜２００μｍであることがより好ましい。
尚、本発明における「透明」とは、光線透過率が６０％以上をいう。
【００１１】
（ガスバリアフィルム）
本発明におけるガスバリアフィルムは大気中の酸素、水分を遮断する機能を有するバリア層を有するフィルムである。本発明におけるバリア層は、有機領域と無機領域もしくは有機層と無機層を交互積層した有機無機積層型である。以下、「有機無機積層型ガスバリアフィルム」ということがある。
有機領域と無機領域もしくは有機層と無機層は、通常、交互に積層している。有機領域と無機領域より構成される場合、各領域が膜厚方向に連続的に変化するいわゆる傾斜材料層であってもよい。前記傾斜材料の例としては、キムらによる論文「Journal of Vacuum Science and Technology A Vol. 23 p971−977(2005 American Vacuum Society) ジャーナル オブ バキューム サイエンス アンド テクノロジー Ａ 第２３巻 ９７１頁〜９７７ページ（２０００５年刊、アメリカ真空学会）」に記載の材料や、米国公開特許２００４−４６４９７号明細書に開示してあるように有機層と無機層が界面を持たない連続的な層等が挙げられる。以降、簡略化のため、有機層と有機領域は「有機層」として、無機層と無機領域は「無機層」として記述する。
カスバリアフィルムを構成する層数に関しては特に制限はないが、典型的には２層〜３０層が好ましく、３層〜２０層がさらに好ましい。
本発明では特に、少なくとも１層の有機層と、少なくとも２層の無機層とからなることが好ましい。このような構成とすることにより、より、本発明の効果が顕著に発揮される。
【００１２】
基材フィルム
本発明におけるガスバリアフィルムは、通常、基材フィルムとして、プラスチックフィルムを用いる。用いられるプラスチックフィルムは、有機層、無機層等の積層体を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記プラスチックフィルムとしては、具体的には、金属支持体（アルミニウム、銅、ステンレス等）ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。
【００１３】
本発明におけるガスバリアフィルムは、プラスチックフィルムは耐熱性を有する素材からなることが好ましい。具体的には、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１００℃以上および／または線熱膨張係数が４０ｐｐｍ／℃以下で耐熱性の高い透明な素材からなることが好ましい。Ｔｇや線膨張係数は、添加剤などによって調整することができる。このような熱可塑性樹脂として、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：１２０℃）、ポリカーボネート（ＰＣ：１４０℃）、脂環式ポリオレフィン（例えば日本ゼオン(株)製 ゼオノア１６００：１６０℃）、ポリアリレート（ＰＡｒ：２１０℃）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ：２２０℃）、ポリスルホン（ＰＳＦ：１９０℃）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：特開２００１−１５０５８４号公報の化合物：１６２℃）、ポリイミド（例えば三菱ガス化学（株）ネオプリム：２６０℃）、フルオレン環変性ポリカーボネート（ＢＣＦ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の化合物：２２５℃）、脂環変性ポリカーボネート（ＩＰ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の化合物：２０５℃）、アクリロイル化合物（特開２００２−８０６１６号公報の化合物：３００℃以上）が挙げられる（括弧内はＴｇを示す）。特に、透明性を求める場合には脂環式ポレオレフィン等を使用するのが好ましい。
【００１４】
本発明におけるガスバリアフィルムを偏光板と組み合わせて使用する場合、ガスバリアフィルムのバリア性積層体がセルの内側に向くようにし、最も内側に（素子に隣接して）配置することが好ましい。このとき偏光板よりセルの内側にガスバリアフィルムが配置されることになるため、ガスバリアフィルムのレターデーション値が重要になる。このような態様でのガスバリアフィルムの使用形態は、レターデーション値が１０ｎｍ以下の基材フィルムを用いたガスバリアフィルムと円偏光板（１／４波長板＋（１／２波長板）＋直線偏光板）を積層して使用するか、あるいは１／４波長板として使用可能な、レターデーション値が１００ｎｍ〜１８０ｎｍの基材フィルムを用いたガスバリアフィルムに直線偏光板を組み合わせて用いるのが好ましい。
【００１５】
レターデーションが１０ｎｍ以下の基材フィルムとしてはセルローストリアセテート（富士フイルム（株）：富士タック）、ポリカーボネート（帝人化成（株）：ピュアエース、（株）カネカ：エルメック）、シクロオレフィンポリマー（ＪＳＲ（株）：アートン、日本ゼオン（株）：ゼオノア）、シクロオレフィンコポリマー（三井化学（株）：アペル（ペレット）、ポリプラスチック（株）：トパス（ペレット））ポリアリレート（ユニチカ（株）：Ｕ１００（ペレット））、透明ポリイミド（三菱ガス化学（株）：ネオプリム）等を挙げることができる。
また１／４波長板としては、上記のフィルムを適宜延伸することで所望のレターデーション値に調整したフィルムを用いることができる。
【００１６】
本発明におけるガスバリアフィルムは、プラスチックフィルムは透明であること、すなわち、光線透過率が通常８０％以上、好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。
本発明のガスバリアフィルムをディスプレイ用途に用いる場合であっても、観察側に設置しない場合などは必ずしも透明性が要求されない。したがって、このような場合は、プラスチックフィルムとして不透明な材料を用いることもできる。不透明な材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、公知の液晶ポリマーなどが挙げられる。
本発明のガスバリアフィルムに用いられるプラスチックフィルムの厚みは、用途によって適宜選択されるので特に制限がないが、典型的には１〜８００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。これらのプラスチックフィルムは、透明導電層、プライマー層等の機能層を有していても良い。機能層については、特開２００６−２８９６２７号公報の段落番号００３６〜００３８に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。
【００１７】
無機層
無機層は、通常、金属化合物からなる薄膜の層である。無機層の形成方法は、目的の薄膜を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、塗布法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２−３２２５６１号、特開２００２−３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。
前記無機層に含まれる成分は、上記性能を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、またはＴａ等から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物、酸化窒化炭化物などを用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉから選ばれる金属の酸化物、窒化物または酸化窒化物が好ましく、特に、ＳｉまたはＡｌの金属酸化物、窒化物または酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。
前記無機層の厚みに関しては特に限定されないが、５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは、１０ｎｍ〜２００ｎｍである。また、２層以上の無機層を積層してもよい。この場合、各層が同じ組成であっても異なる組成であっても良い。また、上述したとおり、米国公開特許２００４−４６４９７号明細書に開示してあるように有機層との界面が明確で無く、組成が膜厚方向で連続的に変化する層であっても良い。
【００１８】
有機層
本発明においては、ポリマーとして好ましくはラジカル重合性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機層である。
（重合性化合物）
本発明で用いる重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を末端または側鎖に有する化合物、および／または、エポキシまたはオキセタンを末端または側鎖に有する化合物である。これらのうち、エチレン性不飽和結合を末端または側鎖に有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和結合を末端または側鎖に有する化合物の例としては、（メタ）アクリレート系化合物（アクリレートとメタクリレートをあわせて（メタ）アクリレートと表記する）、アクリルアミド系化合物、スチレン系化合物、無水マレイン酸等が挙げられる。
【００１９】
（メタ）アクリレート系化合物としては、（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートやポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が好ましい。
スチレン系化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、４−ヒドロキシスチレン、４−カルボキシスチレン等が好ましい。
【００２０】
以下に、（メタ）アクリレート系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【化１】
2009094051.tif 000002
【００２１】
【化２】
2009094051.tif 000003
【００２２】
【化３】
2009094051.tif 000004
【００２３】
【化４】
2009094051.tif 000005
【００２４】
【化５】
2009094051.tif 000006
【００２５】
【化６】
2009094051.tif 000007
【００２６】
有機層は、平滑で、膜硬度が高いことが好ましい。有機層の平滑性は１０μｍ角の平均粗さ（Ｒａ値）として１０ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以下であることがより好ましい。有機層の膜硬度は鉛筆硬度としてＨＢ以上の硬さを有することが好ましく、Ｈ以上の硬さを有することがより好ましい。
有機層の膜厚については特に限定はないが、薄すぎると膜厚の均一性を得ることが困難となるし、厚すぎると外力によりクラックを発生し、バリア性能が低下する。かかる観点から、有機層の厚みは、１０ｎｍ〜２０００ｎｍが好ましく、１００ｎｍ〜１０００ｎｍさらに好ましい。
【００２７】
有機層の形成方法としては、通常の溶液塗布法、あるいは真空成膜法等を挙げることができる。溶液塗布法としては、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストル−ジョンコート法により塗布することができる。真空成膜法としては、特に制限はないが、蒸着、プラズマＣＶＤ等の成膜方法が好ましい。
【００２８】
モノマー重合法としては特に限定は無いが、加熱重合、光（紫外線、可視光線）重合、電子ビーム重合、プラズマ重合、あるいはこれらの組み合わせが好ましく用いられる。加熱重合を行う場合、基材となるプラスチックフィルムは相応の耐熱性を有する必要がある。この場合、少なくとも、加熱温度よりもプラスチックフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が高いことが必要である。
光重合を行う場合は、光重合開始剤を併用する。光重合開始剤の例としてはチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から市販されているイルガキュア（Irgacure）シリーズ（例えば、イルガキュア６５１、イルガキュア７５４、イルガキュア１８４、イルガキュア２９５９、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９など）、ダロキュア（Darocure)シリーズ（例えば、ダロキュアＴＰＯ、ダロキュア１１７３など）、クオンタキュア（Quantacure）ＰＤＯ、サートマー(Sartomer）社から市販されているエザキュア（Ezacure）シリーズ（例えば、エザキュアＴＺＭ、エザキュアＴＺＴなど）等が挙げられる。
照射する光は、通常、高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線である。照射エネルギーは０．５Ｊ／ｃｍ2以上が好ましく、２Ｊ／ｃｍ2以上がより好ましい。アクリレート、メタクリレートは、空気中の酸素によって重合阻害を受けるため、重合時の酸素濃度もしくは酸素分圧を低くすることが好ましい。窒素置換法によって重合時の酸素濃度を低下させる場合、酸素濃度は２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましい。減圧法により重合時の酸素分圧を低下させる場合、全圧が１０００Ｐａ以下であることが好ましく、１００Ｐａ以下であることがより好ましい。また、１００Ｐａ以下の減圧条件下で２Ｊ／ｃｍ2以上のエネルギーを照射して紫外線重合を行うのが特に好ましい。
【００２９】
このとき、モノマーの重合率は８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。ここでいう重合率とはモノマー混合物中の全ての重合性基（アクリロイル基およびメタクリロイル基）のうち、反応した重合性基の比率を意味する。
【００３０】
機能層
本発明のガスバリアフィルムは、バリア層上に機能層を有していても良い。機能層の例としては、プラスチックフィルムの項で述べたものと同様の層が用いられる。
【００３１】
（透明導電性層）
本発明における透明導電性層は、透明かつ導電性を有するものであれば、特に定めるものではなく、公知のものを広く採用でき、例えば、 特開２００３−１３３０８０号公報等に記載にしたがって設けることができる。具体例としてはアンチモンはフッ素等をドープした酸化錫（ＡＴＯ、ＦＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫(ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の半導性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物の混合物または積層物、よう化銅、硫化銅などの無機導電性物質、前記半導性金属酸化物または金属化合物の分散物、ポリアニオン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物が挙げられる。陽極として機能させる場合は仕事関数が４．０ｅＶ以上の材料が好ましい。本発明における透明導電性層の厚さは、１０ｎｍ 〜５０μｍが好ましく、５０ｎｍ〜２０μｍがより好ましい。また、本発明における透明導電性層の全光線透過率は６０％以上が好ましく、さらに好ましくは８５％以上である。透明導電性層の表面粗さは、触針式粗さ測定器で測定した中心線平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下であるのが好ましく、さらに好ましくは、５ｎｍ以下である。
【００３２】
（バスライン）
本発明では、バスラインを設けることが好ましい。透明導電性層の抵抗が高い場合、該抵抗の存在によって、有機ＥＬ素子が発熱してしまうことがあるが、このような場合にバスラインを設けることにより、発熱を防止することができる。バスラインは、図２に示すように、通常、線状に設けられ、１≦ｂ／ａ≦５０（ａはバスライン巾、ｂはバスライン電極間隔を示す）であることが好ましい。上記図１で示した有機ＥＬ素子を上方向から見た図であって、透明導電性層３、有機化合物層５、電極層６、封止材７は省略している。すなわち、ガスバリア層３の上に、バスライン４を設けた状態が示されている。また、バスラインは上記態様以外に格子状の配置等もとることができる。この場合も、上記バスライン巾、バスライン電極であること好ましい。バスラインを設ける方法は、透明導電性層の上にマスクを設けて真空製膜する方法、ＡＣＰパターンを用いる方法、銀塩含有層を露光処理して設ける方法、研磨して設ける方法等を採用できる。具体的は、特開２００３−１３３０８０号公報、特開平２００６−１２７１４号公報、特開２００２−２２９０１０号公報、特開２００４−２２１５６４号公報等に記載の方法が好ましく採用できる。
【００３３】
本発明の製造方法により製造される透明導電性フィルムは、表示素子の電極付基板として好ましく用いることができる。表示素子としては、有機ＥＬ素子のほか、円偏光板・液晶表示素子、タッチパネルが挙げられる。
【００３４】
（有機ＥＬ素子）
有機ＥＬ素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。有機ＥＬ素子は、基板上に陰極と陽極を有し、両電極の間に発光層を含む有機化合物層を有する。本発明におけるガスバリアフィルムは、有機ＥＬ素子の基板となり、透明導電性層が、有機ＥＬ素子の電極の一方となる。
本発明における有機化合物層の積層の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と発光層との間、または、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。陽極と正孔輸送層との間に、正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間には、電子注入層を有してもよい。また、発光層としては一層だけでもよく、また、第一発光層、第二発光層、第三発光層等に発光層を分割してもよい。さらに、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。
【００３５】
陰極
陰極は、通常、有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
【００３６】
陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられる。具体例としては２属金属（たとえばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。
【００３７】
これらの中でも、陰極を構成する材料としては、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１〜１０質量％のアルカリ金属または２属金属との合金（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）をいう。なお、陰極の材料については、特開平２−１５５９５号公報、特開平５−１２１１７２号公報に詳述されている。また、陰極と前記有機化合物層との間に、アルカリ金属または２属金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を０．１〜５ｎｍの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。
【００３８】
陰極の厚みは、陰極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常１０ｎｍ〜５μｍ程度であり、５０ｎｍ〜１μｍが好ましい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を１〜１０ｎｍの厚さに薄く成膜し、さらにＩＴＯやＩＺＯ等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
【００３９】
発光層
有機ＥＬ素子は、発光層を含む少なくとも一層の有機化合物層を有しており、有機発光層以外の他の有機化合物層としては、前述したごとく、正孔輸送層、電子輸送層、電荷ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
【００４０】
−有機発光層−
有機発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、または正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、または電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子との再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。発光層は、発光材料のみで構成されていてもよく、ホスト材料と発光材料の混合層とした構成でもよい。発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、ドーパントは１種であっても２種以上であってもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料とを混合した構成が挙げられる。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。また、発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
【００４１】
前記蛍光発光材料の例としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、縮合芳香族化合物、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジン誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体やピロメテン誘導体の金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体などの化合物等が挙げられる。
【００４２】
前記燐光発光材料は、例えば、遷移金属原子またはランタノイド原子を含む錯体が挙げられる。
前記遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、および白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、および白金である。
前記ランタノイド原子としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、およびガドリニウムが好ましい。
【００４３】
錯体の配位子としては、例えば、G.Wilkinson等著，Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press社１９８７年発行、H.Yersin著，「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 Springer−Verlag社１９８７年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社１９８２年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
【００４４】
また、発光層に含有されるホスト材料としては、例えば、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するものおよびアリールシラン骨格を有するものや、後述の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の項で例示されている材料が挙げられる。
【００４５】
−正孔注入層、正孔輸送層−
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極または陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。
【００４６】
−電子注入層、電子輸送層−
電子注入層、電子輸送層は、陰極または陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
【００４７】
−正孔ブロック層−
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。また、電子輸送層・電子注入層が正孔ブロック層の機能を兼ねていてもよい。
正孔ブロック層を構成する有機化合物の例としては、ＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
また、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層を、発光層と陽極側で隣接する位置に設けることもできる。正孔輸送層・正孔注入層がこの機能を兼ねていてもよい。
【００４８】
（封止材）
本発明において、封止材を設けてもよい。封止材としては、ガラス基板やガスバリアフィルムが挙げられる。ガスバリアフィルムとしては、上述したガスバリアフィルムのほか、特開２００４−１３６４６６号公報、特開２００４−１４８５６６号公報、特開２００５−２４６７１６号公報、特開２００５−２６２５２９号公報等に記載のガスバリアフィルムも好ましく用いることができる。
【実施例】
【００４９】
以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００５０】
実施例１
（ガスバリアフィルムの作製）
可撓性支持基板上に無機層と有機層を設けたガスバリアフィルム（試料Ｎｏ．１０１〜１０３）を下記の手順にしたがって作製した。各ガスバリアフィルムの構造の詳細は表１に記載されるとおりである。可撓性支持基板には、厚み１００μｍのＰＥＮ（帝人デュポン（株）製、Ｑ６５Ａ）フィルムを用いた。
【００５１】
［１］無機層（Ｘ）の形成
リアクティブスパッタリング装置を用いて、酸化アルミニウムの無機層を形成した。以下に具体的な成膜条件を示す。
リアクティブスパッタリング装置の真空チャンバーを、油回転ポンプとターボ分子ポンプとで到達圧力５×１０-4Ｐａまで減圧した。次にプラズマガスとしてアルゴンを導入し、プラズマ電源から電力２０００Ｗを印加した。チャンバー内に高純度の酸素ガスを導入し、成膜圧力を０．３Ｐａになるように調整して一定時間成膜し、酸化アルミニウムの無機層を形成した。得られた酸化アルミニウム膜は、膜厚が４０ｎｍで、膜密度が３．０１ｇ／ｃｍ3であった。
【００５２】
［２］有機層（Ｙ、Ｚ、Ｗ）の形成
有機層は、常圧下での溶剤塗布による成膜方法（有機層Ｙ、Ｗ）と、減圧下でフラッシュ蒸着法による成膜方法（有機層Ｚ）の二通りを用いて行った。以下に具体的な成膜内容を示す。
［２−１］常圧下での溶剤塗布による成膜（有機層Ｙ）
光重合性アクリレートとしてトリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ：ダイセル・サイテック製）９ｇ、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製、イルガキュア９０７）０．１ｇを、メチルエチルケトン１９０ｇに溶解させて塗布液とした。この塗布液を、ワイヤーバーを用いて可撓性支持基板に塗布し、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して有機層Ｙを形成した。膜厚は、約５００ｎｍであった。
【００５３】
［２−２］減圧下でフラッシュ蒸着法による成膜（有機層Ｚ）
光重合性アクリレートとして下記組成物９．７ｇ、および光重合開始剤（Ｌａｍｂｅｒｔｉ  ｓｐａ製、ＥＺＡＣＵＲＥ−ＴＺＴ）０．３ｇを混合し蒸着液とした。この蒸着液を、真空チャンバーの内圧が３Ｐａの条件でフラッシュ蒸着法により基板に蒸着した。続いて同じ真空度の条件で、照射量２Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射して有機層Ｚを形成した。膜厚は、約１２００ｎｍであった。有機層Ｚの形成には、有機無機積層成膜装置Ｇｕａｒｄｉａｎ２００（ヴァイテックス・システムズ社製）を用いて実施した。
【００５４】
［２−３］常圧下での溶剤塗布による成膜（有機層Ｗ）
［２−１］において、光重合性アクリレートを下記化合物９ｇに代え、他は同様に行った。
【化７】
2009094051.tif 000008
【００５５】
［光重合性アクリレート組成物］
２−ブチル−２−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート（ＢＥＰＧＡ）６０重量％
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）        ２０重量％
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ−４ＥＯ）          ２０重量％
【００５６】
【化８】
2009094051.tif 000009
【００５７】
［３］積層
ガスバリアフィルムは、可撓性支持基板に上記の無機層と有機層を表１に記載された各試料の構成に従って順次形成することで作製した。また作製の方法は、次の三通りで行った。
［３−１］溶剤塗布による有機層形成と減圧下での無機層形成を繰り返す方法（積層Ａ）
基板上に有機層と無機層を交互に積層した。有機層の上に無機層を積層する時は、溶剤塗布で有機層を成膜した後に真空チャンバーに入れて減圧し、真空度が１０-3Ｐａ以下の状態で一定時間保持してから無機層を成膜した。また無機層の上に有機層を積層する時は、無機層を成膜後直ちに、溶剤塗布で有機層を成膜した。
［３−２］減圧下で有機層と無機層を一貫成膜する方法（積層Ｂ）
上述の有機無機積層成膜装置Ｇｕａｒｄｉａｎ２００を用い、有機層と無機層を積層した。この装置は、有機層および無機層とも減圧環境下で成膜を行い、且つ有機層と無機層の成膜チャンバーが連結しているので、減圧環境下で連続成膜することが可能である。そのため、バリア層が完成するまで大気に開放されることがない。
［３−３］第一層のみ溶剤塗布で有機層を、残る層を減圧下で一貫成膜する方法（積層Ｃ）
基板上に溶剤塗布法で第１の有機層を形成した。続いて第１の有機層を有する基板を真空チャンバーに入れて減圧し、真空度が１０-3Ｐａ以下の状態で一定時間保持した後に、無機層と有機層を交互に成膜した。
【００５８】
【表１】
2009094051.tif 000010
【００５９】
（有機ＥＬ素子の作製）
前記ガスバリアフィルムまたはＰＥＮ（帝人デュポン（株）製、Ｑ６５Ａ）フィルムを基板として用い、表２に示す処理を行った後、ＩＴＯターゲットを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリングにより、厚み０．２μｍのＩＴＯ薄膜からなる透明電極を形成した。
ここで、表２中、「８０℃、２時間」は、８０℃で２時間加熱処理を行ったことを意味しており、「加熱真空処理」は、約１０-2〜１０-6Ｐａの範囲を真空状態とし、その気圧状態下で加熱放置したことを意味しており、「８０℃、２時間、加熱真空処理」とは、８０℃、２時間、１０-3Ｐａ以下で放置している。さらに、これらの処理を行った後のＩＴＯ膜を有するガスバリアフィルムについて、一部の試料については、２−プロパノール中で超音波洗浄した後、３０分間ＵＶ−オゾン処理を行った。また、他の一部の試料については、２−プロパノール中で超音波洗浄して、酸素プラズマ処理を行った。
これらの処理を行った透明導電性フィルムのＩＴＯ電極（陽極）が設けられた側の上に真空蒸着法にて以下の有機化合物層を順次蒸着した。
（第１正孔輸送層）
銅フタロシアニン：膜厚１０ｎｍ
（第２正孔輸送層）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジナフチルベンジジン：膜厚４０ｎｍ
（発光層兼電子輸送層）
トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム：膜厚６０ｎｍ
最後にフッ化リチウムを１ｎｍ、金属アルミニウムを１００ｎｍ順次蒸着して陰極とし、その上に厚さ３μｍ窒化珪素膜を平行平板ＣＶＤ法によって付け、有機ＥＬ素子を作製した。
【００６０】
有機ＥＬ素子の封止
上記で作製した有機ＥＬ素子は、ガラス基板（製造元：コーニング、品番：１７３７、０．７ｍｍ）または上記で作製したガスバリアフィルムＮｏ．１と張り合わされ、封止された。
封止に先立ち、ガラス基板およびガスバリアフィルムは、弱粘着シート（ＥＣ−３１０：スミロン製、粘着力：０．８Ｎ／２０ｍｍ対ガラス板）と貼り合わせ剥離し、表面の異物を除去し、次に真空チャンバーに酸素ガスを導入して真空度を約６Ｐａに調整し、ＲＦ電力２０ＷのＲＦプラズマ装置（ＲＦＸ−５００：アドバンスドエナジー製）で２分間処理して、プラズマ処理によるバリアフィルム表面の付着有機物の除去を行った。
【００６１】
洗浄したガラス基板またはガスバリアフィルムは、表２に記載のとおり、熱硬化型接着剤（エポテック３１０、ダイゾーニチモリ（株））または、紫外線硬化型（ＵＶ硬化型）接着剤（ＸＮＲ５５１６ＨＶ、長瀬チバ（株）製）を用いて貼りあわせた。ここで、上記のバリアフィルムのガスバリア層側と、有機ＥＬ素子基板を貼り合せた。
熱硬化型接着剤を用いた場合、６５℃で３時間加熱して接着剤を硬化させた。ＵＶ硬化型接着剤を用いた場合、２７０ｎｍより短波長の紫外線をカットした高圧水銀ランプ光を照射して接着剤を硬化させて貼り合せた。
【００６２】
［４］有機ＥＬ素子発光面状の評価
作製直後の有機ＥＬ素子をソースメジャーユニット（ＳＭＵ２４００型、Ｋｅｉｔｈｌｅｙ社製）を用いて７Ｖの電圧を印加して発光させた。顕微鏡を用いて発光面状を観察したところ、いずれの素子もダークスポットの無い均一な発光を与えることが確認された。
次に各素子を６０℃・相対湿度９０％の暗い室内に４８時間静置した後、発光面状を観察した。直径３００μｍよりも大きいダークスポットが観察された素子の比率を目視により評価した。結果を表２に示す。表２中、表1中、◎は１個未満を、○は５個未満を、△は１０個未満、×は１０個以上をそれぞれ示している。実用レベルとしては、△以上である。
【００６３】
【表２】
2009094051.tif 000011
【００６４】
以上の結果より、本発明の透明導電性フィルムを用いた、有機ＥＬ素子は、いずれも、ガスバリア性に優れ、かつ、初期性能及び経時性能の良好なものであることが確認された。
また、これらの有機ＥＬ素子は特開２００５−２６２１０号公報に記載の画素に分割された素子の場合でも同様の結果が得られることを確認した。
さらに、上記試料において、特開２００３−１３３０８０号公報の実施例１に記載のバスラインを該方法に従って、設置した場合でも、良好な結果が得られることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の透明導電性フィルムを表示素子に用いることにより、高いガスバリア性と、高い初期性能の両方を備えた表示素子が得られる。さらに、本発明の透明導電性フィルムは、表示素子の初期性能を改善でき歩留が向上することから、生産性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】図１は、本発明の製造方法により製造された透明導電性フィルムを有機ＥＬ素子に用いた一例を示す概略図である。
【図２】図２は、透明導電性層上にバスラインを設けた状態を示す概略図である。
【符号の説明】
【００６７】
１    基材フィルム
２    ガスバリア層
３    透明導電性層
４    バスライン
５    有機化合物層
６    電極層
７    封止材 
【図１】
2009094051.tif 000012
【図２】
2009094051.tif 000013