(57)【要約】【課題】リブを安定して精度よく形成することができるＰＤＰ用背面板の製造方法を提供する。【解決手段】製造方法は、表示エリアをなすようになる領域２７ａを含む中央領域２７と、表示エリアをなすようになる領域外に位置する縁部領域２８と、を含む背面板用基板２０上にリブ層４０を形成する工程と、第１ブラストマスク５０側からリブ層４０へブラスト材７５を噴射してリブ層を削る工程と、第２ブラストマスク６０側からリブ層へブラスト材を噴射してリブ層を削る工程と、を備える。ブラストマスク５０，６０は、中央領域に対面する中央部マスク５１，６１と、縁部領域に対面する縁部マスク５７，６７と、を含む。縁部マスクの平面視形状は、第１および第２のブラストマスク間で異なる。【選択図】図１１
2009170164.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示エリアを含んだプラズマディスプレイパネルに用いられる背面板を製造する製造方法であって、
前記表示エリアをなすようになる領域を含む中央領域と、前記表示エリアをなすようになる領域外に位置する縁部領域と、を含む背面板用基板の前記中央領域および前記縁部領域上にリブ層を形成する工程と、
前記中央領域に対面する位置に配置された第１中央部マスクと、前記縁部領域に対面する位置に配置された第１縁部マスクと、を含む第１ブラストマスクを前記リブ層上に形成する工程と、
前記第１ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射して、前記リブ層の一部分を削る工程と、
前記一部分が削られたリブ層上から前記第１ブラストマスクを除去する工程と、
前記中央領域に対面する位置に配置された第２中央部マスクと、前記縁部領域に対面する位置に配置された第２縁部マスクと、を含む第２ブラストマスクを前記一部分が削られたリブ層上に形成する工程と、
前記第２ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射して、前記リブ層のさらに一部分を削る工程と、を備え、
前記第１縁部マスクおよび前記第２縁部マスクは、平面視において、異なる形状を有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項２】
前記第１縁部マスクは、前記縁部領域に対面する位置を面状に覆うように形成され、
前記第２縁部マスクは、前記縁部領域上に形成されるべきリブの形状に対応したパターンで形成される
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項３】
前記第１縁部マスクは、前記縁部領域上に形成されるべきリブの形状に対応したパターンで形成され、
前記第２縁部マスクは、前記縁部領域に対面する位置を面状に覆うように形成される
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項４】
前記第１縁部マスクおよび前記第２縁部マスクは、前記縁部領域上に形成されるべきリブの形状に対応したパターンで形成され、
前記第２縁部マスクのパターンの線幅は、前記第１縁部マスクのパターンの線幅よりも細い
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項５】
前記第１中央部マスクは、前記背面板用基板上の第１方向に沿って延びる複数の線状部を有するように形成され、
前記第２中央部マスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記背面板用基板上の第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有するように形成される
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項６】
前記第１中央部マスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記背面板用基板上の第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有するように形成され、
前記第２中央部マスクは、前記背面板用基板上の第１方向に沿って延びる複数の線状部を有するように形成される
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項７】
前記第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第２方向に沿って前記第１リブ間を延び、前記背面板用基板からの高さが前記第１リブよりも低い複数の第２リブと、を含む段差マトリクスリブが、前記中央領域に形成される
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項８】
画像を表示する表示エリアを含んだプラズマディスプレイパネルに用いられる背面板であって、
前記表示エリアをなすようになる領域を含む中央領域と、前記表示エリアをなすようになる領域外に位置する縁部領域と、を含む背面板用基板と、
前記背面板用基板の前記縁部領域上に形成された保護リブと、を含み、
前記保護リブは、前記縁部領域の少なくとも一部分を被覆する被覆部と、前記被覆部上から所定のパターンで突出したパターン部と、を有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項９】
前記被覆部は、前記縁部領域の全領域上を被覆している
ことを特徴とする請求項８に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブラスト加工を二回以上行ってプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する方法に係り、とりわけ、所望のパターンを有したリブを安定して精度よく形成することができるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法に関する。
【０００２】
また、本発明は、ブラスト加工を二回以上行って製造されるプラズマディスプレイパネル用背面板に係り、とりわけ、所望のパターンを有したリブを安定して精度よく形成され得るプラズマディスプレイパネル用背面板に関する。
【背景技術】
【０００３】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも呼ぶ）に用いられる背面板は、背面板用基板と、背面板用基板上に所定のパターンで配列されたリブと、背面板用基板およびリブの側面上に形成された蛍光体層と、を有している。一般的に、背面板用基板は、ガラス基板と、ガラス基板上に配列された電極（アドレス電極とも呼ばれる）と、電極を覆うようにしてガラス基板上に積層された誘電体層と、を含んでいる。
【０００４】
この背面板は、電極を有する前面板と重ね合わされて、ＰＤＰを構成するようになる。背面板と前面板との間の空間は、一旦排気された後にキセノン等の希ガスを充填され、放電空間として機能する。この放電空間でプラズマ放電を起こすと、紫外線が発生し、この紫外線が蛍光体に到達すると可視光が発生する。そして、放電空間での放電を制御することにより、ＰＤＰが表示装置として機能するようになる。
【０００５】
なお、放電空間は、表示エリア内に形成されたリブによって区画される。従来のＰＤＰ用背面板において、表示エリア内のリブは、ストライプ状、または、複数の第１リブおよび第１リブと交差する複数の第２リブからなるマトリクス状に形成されていた。このうち、マトリクス状に形成されたマトリクスリブによれば、ストライプ状に形成されたストライプリブと比較して蛍光体を支持する面積を広げることが可能となる。このため、マトリクスリブを有する背面板は、輝度向上の観点において優れている。
【０００６】
一方、近年においては、第２リブが第１リブよりも低くなっている段差マトリクスリブを有した背面板が注目を集めている（例えば、特許文献１）。この段差マトリクスリブを有した背面板は、蛍光体の支持面積を増やせるだけでなく、前面板と重ね合わせた後の排気工程を容易に行うことができる、といった利点も有している。
【０００７】
このような段差マトリクスリブは、複数回のブラスト加工を行うことによって形成され得る。例えば、特許文献１に開示された方法においては、１回目のブラスト加工により、第１リブと第２リブとを有するマトリクスリブを形成し、その後、二回目のブラスト加工により、第２リブの先端部分を削って第２リブの高さを低くしている。
【特許文献１】特許第３４４０９０７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、背面板の製造、前面板の製造および背面板と前面板との組み合わせ等を含むプラズマディスプレイパネルの全製造工程内において、所定の寸法精度内のリブを形成することは、最も困難な工程のうちの一つとなっている。とりわけ、段差マトリクスリブを形成する場合のように、ブラストマスクの形成およびブラスト加工を複数回行う場合には、所望のパターンを有したリブを精度良く安定して形成することが困難となっている。
【０００９】
ところで、背面板用基板上に形成されるリブは、表示エリア内に配置され蛍光体を塗布されるリブだけでなく、表示エリア外に配置されたリブも含んでいる。とりわけ、ブラスト加工によって、すなわち、ブラスト材をリブ層（リブ形成材料層）へ打ち込み、リブ層を所定のパターンに削り込んでリブを形成する場合、表示エリア外に位置するリブには、最縁部に配置された保護リブが含まれる。ブラスト加工を行う場合、直接衝突してくるブラスト材だけでなく、他の部分に衝突し跳ね返ってきたブラスト材によっても、リブ層は削られていく。とりわけ、縁部に配置されたリブは、縁部側に露出していることから、跳ね返ってきたブラスト材によって当該縁部側から側方に削り込まれやすくなり、結果として、断面における左右対称性が失われやすくなる。このような断面非対称なリブは、その後の焼成工程における熱応力によってさらに変形し、リブの高さばらつきを生じさせる原因となる。そして、保護リブは、表示エリア内に配置されたリブが非対称に削り込まれないようにすることを一つの目的として、設けられている。
【００１０】
今般、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、複数回のブラスト加工を行ってリブを形成する場合、所定のパターンを有した保護リブを精度良く安定して形成することができず、これが一原因となって、表示エリア内のリブを精度良く安定して形成することが困難となっていることが知見された。本発明はこのような知見に基づくものである。
【００１１】
すなわち、本発明は、ブラスト加工を二回以上行ってプラズマディスプレイパネル用背面板を製造する方法であって、とりわけ、所望のパターンを有したリブを安定して精度よく形成することができるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、ブラスト加工を二回以上行って製造されるプラズマディスプレイパネル用背面板であって、とりわけ、所望のパターンを有したリブを安定して精度よく形成され得るプラズマディスプレイパネル用背面板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法は、画像を表示する表示エリアを含んだプラズマディスプレイパネルに用いられる背面板を製造する製造方法であって、前記表示エリアをなすようになる領域を含む中央領域と前記表示エリアをなすようになる領域外に位置する縁部領域とを含む背面板用基板の前記中央領域および前記縁部領域上にリブ層を形成する工程と、前記中央領域に対面する位置に配置された第１中央部マスクと、前記縁部領域に対面する位置に配置された第１縁部マスクと、を含む第１ブラストマスクを前記リブ層上に形成する工程と、前記第１ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射して、前記リブ層の一部分を削る工程と、前記一部分が削られたリブ層上から前記第１ブラストマスクを除去する工程と、前記中央領域に対面する位置に配置された第２中央部マスクと、前記縁部領域に対面する位置に配置された第２縁部マスクと、を含む第２ブラストマスクを前記一部分が削られたリブ層上に形成する工程と、前記第２ブラストマスク側から前記リブ層へブラスト材を噴射して、前記リブ層のさらに一部分を削る工程と、を備え、前記第１縁部マスクおよび前記第２縁部マスクは、平面視において、異なる形状を有することを特徴とする。
【００１３】
本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１縁部マスクは、前記縁部領域に対面する位置を面状に覆うように形成され、前記第２縁部マスクは、前記縁部領域上に形成されるべきリブの形状に対応したパターンで形成されてもよい。あるいは、本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１縁部マスクは、前記縁部領域上に形成されるべきリブの形状に対応したパターンで形成され、前記第２縁部マスクは、前記縁部領域に対面する位置を面状に覆うように形成されてもよい。あるいは、本発明による本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１縁部マスクおよび前記第２縁部マスクは、前記縁部領域上に形成されるべきリブの形状に対応したパターンで形成され、前記第２縁部マスクのパターンの線幅は、前記第１縁部マスクのパターンの線幅よりも細くなっていてもよい。
【００１４】
また、本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１中央部マスクは、前記背面板用基板上の第１方向に沿って延びる複数の線状部を有するように形成され、前記第２中央部マスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記背面板用基板上の第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有するように形成されてもよい。あるいは、前記第１中央部マスクは、前記第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部と、前記第１方向と交差する前記背面板用基板上の第２方向に沿って延びる複数の第２パターン部と、を有するように形成され、前記第２中央部マスクは、前記背面板用基板上の第１方向に沿って延びる複数の線状部を有するように形成されてもよい。
【００１５】
さらに、本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法において、前記第１方向に沿って延びる複数の第１リブと、前記第２方向に沿って前記第１リブ間を延び、前記背面板用基板からの高さが前記第１リブよりも低い複数の第２リブと、を含む段差マトリクスリブが、前記中央領域に形成されてもよい。
【００１６】
本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板は、画像を表示する表示エリアを含んだプラズマディスプレイパネルに用いられる背面板であって、前記表示エリアをなすようになる領域を含む中央領域と、前記表示エリアをなすようになる領域外に位置する縁部領域と、を含む背面板用基板と、前記背面板用基板の前記縁部領域上に形成された保護リブと、を含み、前記保護リブは、前記縁部領域の少なくとも一部分を被覆する被覆部と、前記被覆部上から所定のパターンで突出したパターン部と、を有するようにしてもよい。
【００１７】
本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板において、前記被覆部は、前記縁部領域の全領域上を被覆しているようにしてもよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、第１縁部マスクおよび第２縁部マスクは、平面視において、異なる形状を有するように形成される。したがって、複数回にわたるブラスト加工中に、リブ層の同一箇所において、側方削り込み量が漸増的に増加することを回避することができる。これにより、所望のパターンを有したリブを縁部領域上に精度良く安定して形成することが可能となる。また、所望のパターンを有した縁部領域上のリブが期待した効果を奏することにより、所望のパターンを有したリブを中央領域上に精度良く安定して形成することも可能となる。結果として、所望のパターンを有したリブが精度良く形成されたＰＤＰ用背面板を安定的に得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比を、実物のそれらと変更し誇張してある。
【００２０】
図１乃至図１５は本発明によるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の一実施の形態を説明するための図である。
【００２１】
＜ＰＤＰ用背面板＞
このうち図１は、プラズマディスプレイパネル用背面板（ＰＤＰ用背面板とも呼ぶ）の製造方法によって形成され得るプラズマディスプレイパネル用背面板の一例を示す平面図である。また、図２および図３は、ＰＤＰ用背面板のうちの、プラズマディスプレイ（ＰＤＰとも呼ぶ）に組み込まれた際に画像を表示する表示エリアに配置されるようになる領域（表示エリア形成領域とも呼ぶ）２７ａの一部分を示す斜視図および断面図である。また、図４は、図２および図３に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板の背面板用基板を説明するための図である。なお、図２は、プラズマディスプレイパネル用背面板の中央部における一部分を示す部分斜視図である。また、図３に示された断面は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面に対応している。まず、図１乃至図４を参照して、本実施の形態による製造方法を用いて製造され得るプラズマディスプレイパネル用背面板１０について説明する。
【００２２】
図１乃至図３に示すように、ＰＤＰ用背面板１０は、リブを支持するようになる部材である板状のリブ形成用基板（背面板用基板）２０と、背面板用基板２０の一方の面２０ａ上に形成されたリブ３０と、を有している。背面板用基板２０は、表示エリアをなすようになる領域２７ａを含む中央領域２７と、表示エリア２７ａをなすようになる領域２７ａの外に位置する縁部領域２８と、を含んでいる。
【００２３】
背面板用基板２０上に形成されたリブ３０は、段差マトリクスリブ３１と、段差マトリクスリブ３１の隣に配置されたダミーリブ３５と、ダミーリブ３５の隣に配置された保護リブ３７と、を含んでいる。このうち、段差マトリクスリブ３１およびダミーリブ３５が背面板用基板２０の中央領域２７上に形成され、保護リブ３７が背面板用基板２０の縁部領域２８に形成されている。また、段差マトリクスリブ３１のみが、中央領域２７のうちの、表示エリアをなすようになる領域２７ａ上に配置されている。また、図２に示すように、ＰＤＰ用背面板１０は、背面板用基板２０の一方の面２０ａ上および段差マトリクスリブ３１の側面上に形成された蛍光体層１８を、さらに有している。
【００２４】
まず、背面板用基板２０について説明する。背面板用基板２０は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な背面板用基板を用いることができる。
【００２５】
一例として、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように、背面板用基板２０は、板状の支持基板２２と、支持基板２２の一方の面上の所定の領域に形成された電極２４と、支持基板２２の一方の面上に積層された誘電体層２６と、を含んでいる。支持基板２２は、焼成工程における加熱を考慮して、耐熱性を有する材料、例えばガラスから構成される。図４（ａ）に示すように、電極２４は、いわゆるアドレス電極として機能するよう、支持基板２２の一方の面上にストライプ状の形態で配置され得る。このような電極２４は、種々の導電性材料、例えば銀から構成され得る。また、誘電体２６は、アドレス電極２４を覆うようにして、所定の誘電率を有する材料を支持基板２２の一方の面上に成膜することによって、形成され得る。
【００２６】
なお、図４に示された背面板用基板２０は、以下のようにして製造され得る。まず、ガラス等からなる支持基板２２を準備し、この支持基板２２の一方の面上に感光性材料を含んだ導電性ペーストからなる層を形成する。このときの塗布装置としては、スクリーン印刷機や種々のコーター等の既知の装置を採用することができる。その後、フォトリソグラフィー技術を用いた露光および現像を行い、導電性ペースト層を所望のパターンにパターニングする。次に、焼成により銀ペーストを焼結することにより、支持基板２２上に電極２４が形成される（図４（ａ）参照）。
【００２７】
その後、所望の誘電率を有する材料を、電極２４を覆うようにして支持基板２２の一方の面上に塗工する。このとき、スクリーン印刷機や種々のコーター等の種々の既知な機器を用いて、支持基板２２上に成膜することができる。その後、焼成を行うことによって、所望の誘電率を有する材料から誘電体層２６が形成されるようになる。以上のようにして、図４（ｂ）に示された背面板用基板２０が得られる。
【００２８】
次に、リブ３０について説明する。リブ３０は、背面板用基板２０の一方の面２０ａ上、図示する例においては、誘電体層２６上に形成されている。また、上述したように、本実施の形態におけるＰＤＰ用背面板１０のリブ３０は、中央に配置された段差マトリクスリブ３１と、ある方向に沿って段差マトリクスリブ３１の両外方に配置されたダミーリブ３５と、ダミーリブ３５のさらにある方向に沿った外方に配置された保護リブ３７と、を含んでいる。
【００２９】
このうち段差マトリクスリブ３１は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を取り得る。図２に示すように、本実施の形態における段差マトリクスリブ３１は、背面板用基板２０の板面上の第１方向に沿って延びる第１リブ３２と、第１方向と交差する背面板用基板２０の板面上の第２方向に沿って延びる第２リブ３３と、を有している。第１リブ３２は、第１方向に直交する方向に沿って略一定の間隔を空け、複数形成されている。第２リブ３３は、隣り合う二つの第１リブ３２間を第２方向に沿って延びている。第２リブ３３は、第２方向に直交する方向に沿って略一定の間隔を空けて複数形成されている。
【００３０】
本発明において必須ではないが、図示する例において、第１方向および第２方向は互いに直交している。なお、「交差」とは、直角に交わること（直交すること）、および、９０°以外の角度で互いに傾斜して交わること、の両方を含むものとする。
【００３１】
そして、図２および図３に示すように、第２リブ３３の背面板用基板２０からの高さ（より厳密には、背面板用基板２０の板面の法線に沿った第２リブ３３の基端部から頂部までの長さ）は、第１リブ３２の背面板用基板２０からの高さよりも低くなっている。第１リブ３２の高さと第２リブ３３の高さの差は、上述したように、完成したＰＤＰ用背面板１０をＰＤＰ用前面板と組み合わせた後に、隣り合う二つの第１リブ３２間の全域を、第１方向における一方の側または両側から排気することができる程度に設定され得る。また、第２リブ３３の高さは、蛍光体の支持面積を十分に増大させることを可能とし得るように、設定され得る。一例として、第２リブ３３の高さを、第１リブ３２の高さの１／５〜９５／１００程度に設定することができる。
【００３２】
ダミーリブ３５は、上下基板をクリップで繋ぎ合わせる際に支持台として機能させること、表示エリアへの不純物の流入を防止すること、電荷蓄積による絶縁破壊を防止すること等を目的として設けられたリブである。本実施の形態において、ダミーリブ３５は、段差マトリクスリブ３１の第１方向に沿った延長上に配置されている。また、保護リブ３７は、リブ３０の形成中に段差マトリクスリブ３０を保護することを主目的として設けられたリブであって、本実施の形態においては、第１方向に沿ったダミーリブ３５外方に配置されている。保護リブ３７は、段差マトリクスリブ３１およびダミーリブ３５よりも第２方向に沿って長く延び出ている。この結果、第１方向側から観察して、保護リブ３７は、段差マトリクスリブ３１およびダミーリブ３５の全体を覆い隠すようになっている。なお、ダミーリブ３５および保護リブ３７について図示するパターンは、単なる例示に過ぎず、ＰＤＰ用背面板に用いられているダミーリブや保護リブの種々のパターンを採用することができる。
【００３３】
また、段差マトリクスリブ３１（第１リブ３２および第２リブ３３）、ダミーリブ３５および保護リブ３７の具体的な形状や寸法については、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を取り得る。例えば、各リブ３０は、その長手方向に直交する断面において、略四角形形状または略台形形状とすることができる。また、各リブ３０の焼成後における頂部（背面板用基板２０から離れる側の部分）の幅は、５μｍ〜１２０μｍとすることができる。さらに、各リブ３０の配置ピッチは、５０μｍ〜２０００μｍとすることができる。さらに、各リブ３０の焼成後における高さは、２０μｍ〜３００μｍとすることができる。
【００３４】
以上のようなリブ３０は、後述する製造方法に対応し、例えば、ガラスフリットと無機粉体とを含む混合物から構成される。
【００３５】
蛍光体層１８は、段差マトリクスリブ３１の隣り合う二つの第１リブ３２および隣り合う二つの第２リブ３３によって囲まれた背面板用基板２０の一方の面２０ａ上、段差マトリクスリブ３１の第１リブ３２の側面上、および、段差マトリクスリブ３１の第２リブ３３の側面上に支持されている。蛍光体層１８の構成は、ＰＤＰ用背面板に用いられ得る種々の既知な構成を採用することができる。
【００３６】
＜ＰＤＰ用背面板の製造方法＞
次に、主に図５乃至図１５を参照して、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法について、この製造方法の実施に用いられる製造装置の一例とともに、説明する。
【００３７】
本実施の形態において、ＰＤＰ用背面板の製造方法は、背面板用基板２０上にリブ層（リブ形成材料層）４０を形成するリブ層形成工程（図５参照）と、リブ層４０の一部分を削る第１ブラスト加工工程と、リブ層４０のさらに一部分を削る第２ブラスト加工工程と、を備えている。さらに詳細には、ＰＤＰ用背面板の製造方法は、第１ブラストマスク５０をリブ層４０上に形成する第１ブラストマスク形成工程を第１ブラスト加工工程の前にさらに備え、一部分が削られたリブ層４０上から第１ブラストマスク５０を除去する第１ブラストマスク除去工程を第１ブラスト加工工程の後にさらに備えている。また、ＰＤＰ用背面板の製造方法は、一部分が削られたリブ層４０上に第２ブラストマスク６０を形成する第２ブラストマスク形成工程を第２ブラスト加工工程の前にさらに備え、さらに一部分が削られたリブ層４０上から第２ブラストマスク６０を除去する第２ブラストマスク除去工程を第２ブラスト加工工程の後にさらに備えている。
【００３８】
また、この製造方法の実行に用いられ得るＰＤＰ用背面板の製造装置７０は、製造方法に対応して、背面板用基板２０上にリブ層４０を形成するリブ層形成装置７１と、ブラストマスク５０，６０を形成するマスク形成装置と、背面板用基板２０上のリブ層４０へブラストマスク５０，６０の側からブラスト材７５を噴射するブラスト加工装置８０と、ブラストマスク５０を除去する除去装置と、を備えている。以下、各工程について、各工程で用いられる装置（手段）とともに説明していく。
【００３９】
（リブ層形成工程）
まず、リブ層形成工程について説明する。リブ層形成工程においては、まず、背面板用基板２０を準備し、次に、背面板用基板２０の誘電体層２６上に、第１リブ３２および第２リブ３３をなすようになるリブ層（リブ形成材料層）４０を形成する。リブ層４０は、背面板用基板２０の一方の面２０ａ上のうちの、少なくとも中央領域２７上および縁部領域２８上に配置される。
【００４０】
本実施の形態においては、リブ層形成工程は、背面板用基板２０上に第１リブ層４１を形成する工程と、第１リブ層４１上に、第１リブ層４１よりもブラスト加工性の低い第２リブ層４２を形成する工程と、第２リブ層４２上に、第２リブ層４２よりもブラスト加工性の高い第３リブ層４３を形成する工程と、を含んでいる。すなわち、図６に示すように、形成されたリブ層４０は、第１リブ層４１と、第２リブ層４２と、第３リブ層４３と、を含む三層構造となっている。
【００４１】
ここで、ブラスト加工性とは、同一のブラスト加工条件により比較対象となる層へブラスト材７５を噴射した場合における、切削量によって評価する。なお、評価に当たり、切削量の測定は、比較対象層間において同一の方法（例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面像の確認等）で行うこととする。そして、同一条件での切削量が多い場合に、ブラスト加工性が高い（良い）と評価し、同一条件での切削量が少ない場合に、ブラスト加工性が低い（悪い）と評価する。また、二つ以上の層間でブラスト加工性を対比する場合、同一条件での切削量（切削深さ）を用いて対比する。例えば、一方の層の切削深さが３０μｍで、同一ブラスト加工条件における他方の層の切削深さが１０μｍである場合、一方の層のブラスト加工性は他方の層のブラスト加工性の３倍である、と評価する。
【００４２】
本件発明者らは、鋭意研究を重ねることによって、第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下、さらに好ましくは、２倍以上２５倍以下であることが、好ましいことを知見した。すなわち、第２リブ層４２を１０μｍ削る間に、同一のブラスト加工条件により、第１リブ層４１が１５μｍ〜１０００μｍ、さらに好ましくは２０μｍ〜２５０μｍ削られるようになっていることが好ましい。また、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下であることが好ましく、１．５倍以上１０倍以下であることがさらに好ましいことも、知見された。これらの点については、その理由を後に詳述する。
【００４３】
第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３は、例えば、溶剤を含んだリブ層形成組成物４８を塗工し、リブ層形成組成物４８を乾燥させて溶剤を除去することにより、形成され得る。リブ層形成組成物４８の塗工方法および塗工装置としては、従来既知の種々の方法および装置を用いることができる。例えば、リブ層形成装置７１が、ダイコーター（図６参照）やスクリーン印刷機等を塗工装置７１ａとして含み、この塗工装置７１ａによって、第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３をなすようになるリブ層形成組成物４８が背面板用基板２０上に塗工されていくようにしてもよい。このような方法によれば、背面板用基板２０上に、それぞれ均一な膜厚を有した第１乃至第３のリブ層４１，４２，４３を形成し、これにより、背面板用基板２０の板面上において均一な膜厚を有したリブ層４０を得ることができる。
【００４４】
リブ層形成組成物４８としては、ＰＤＰ用背面板１０のリブに用いられている種々の既知な組成物を、リブ層４０の形成方法（リブ層形成組成物４８の塗工方法）に応じて適宜選択することができる。一例として、リブ層形成組成物４８が、上述したガラスフリットおよび無機粉体と、樹脂成分と、溶剤と、を含むようにしてもよい。ガラスフリットは後述する焼成工程において、骨材として機能する無機粉体に融着して、第１リブ３２および第２リブ３３を形成するようになる。樹脂成分は、リブ層形成組成物４８中においてバインダーとして機能する。溶剤は、リブ層形成組成物４８の塗工方法に応じて省くことが可能である。また、リブ層形成組成物４８が、無機顔料等のさらに他の成分を含むようにしてもよい。
【００４５】
なお、例えば、樹脂成分の含有割合を調節することによって、リブ層形成組成物４８から形成される第１乃至第３リブ層４１，４２，４３のブラスト加工性を調整することができる。具体的には、樹脂成分の含有量を増加させることにより、当該リブ層形成組成物４８から形成されるリブ層のブラスト加工性を低くすることができ、樹脂成分の含有量を減少させることにより、当該リブ層形成組成物４８から形成されるリブ層のブラスト加工性を高くすることができる。ただし、これに限られず、別の方法を用いて、各リブ層４１，４２，４３のブラスト加工性を操作するようにしてもよい。
【００４６】
ところで、第１乃至第３リブ層４１，４２，４３の各厚みは種々設定することができる。ただし、後述するように第２リブ３３の高さを高精度に制御する観点から、第２リブ３３が、第３リブ層４３からなる部分を除く、第１リブ層４１からなる部分と第２リブ層４２からなる部分とから構成されるようにすることが好ましい。この場合、第１リブ３２と第２リブ３３との高低差は、第３リブ層４３の厚さによって決定されるようになる。また、比較的にブラスト加工により切削しにくい第２リブ層４２の厚みが厚いと、ブラスト加工工程に要する時間が長くなってしまう。これらの点を考慮して、第１リブ層４１の乾燥後における厚さを１０μｍ〜２５０μｍ程度とし、第２リブ層４２の乾燥後における厚さを１μｍ〜３０μｍ程度とし、第３リブ層４３の乾燥後における厚さを５μｍ〜１５０μｍ程度としてもよい。
【００４７】
（第１ブラストマスク形成工程）
次に、第１ブラストマスク形成工程について説明する。第１ブラストマスク形成工程は、レジスト層を形成する第１レジスト層形成工程と、形成されたレジスト層をパターニングする第１レジスト層パターニング工程と、を含んでいる。この二つの工程を経て、背面板用基板２０上に形成されたリブ層４０上に、所定のパターンを有した第１ブラストマスク５０が形成されるようになる。
【００４８】
本実施の形態においては、第１レジスト層形成工程として、背面板用基板２０上に形成されたリブ層４０上に、耐ブラスト加工性を有したドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を積層する。ドライフィルムレジストは、少なくとも背面板用基板２０の中央領域２７に対面する位置および背面板用基板２０の縁部領域２８に対面する位置を含む範囲に、配置される。
【００４９】
第１ドライフィルムレジストの積層方法および積層装置としては、従来既知の種々の方法および装置を用いることができる。一例として、ラミネータを用い、第１ドライフィルムレジストが、例えば熱圧着によって、リブ層４０上に積層されていくようにしてもよい。このようなラミネータは、後述する第２ブラストマスク形成工程においても用いられ得る。
【００５０】
次に、第１ドライフィルムレジストを製版し、所定のパターンを有する第１ブラストマスク５０を形成する。具体的には、第１ブラストマスク形成工程として、フォトリソグラフィー技術を用いた露光および現像を行い、第１ドライフィルムレジストを所望のパターンにパターニングする。この結果、図６に示すように、背面板用基板２０の中央領域２７に対面する位置に配置された第１中央部マスク５１と、縁部領域２８に対面する位置に配置された第１縁部マスク５７と、を含む第１ブラストマスク５０が、リブ層４０上に形成される。
【００５１】
なお、このような第１ブラストマスク５０の形成方法にともない、図示しないマスク形成装置は、ドライフィルムレジストのパターニングに用いられる露光装置および現像装置等を含むようになる。これらの装置類としては、従来既知の種々の装置を用いることができる。また、このようなマスク形成装置は、後述する第２ブラストマスク形成工程においても用いられ得る。
【００５２】
ここで、図６を主に参照して、形成された第１ブラストマスクの平面視（ブラストマスクの法線方向（本実施の形態においては、背面板用基板２０の法線方向およびＰＤＰ用背面板１０の法線方向と一致する）から観察した場合）における形状について説明する。なお、図６は、リブ形成中（厳密には、第１ブラストマスク形成工程後）におけるＰＤＰ用背面板を示す平面図である。そして、図６に示された範囲は、図１において点線で囲まれたＰＤＰ用背面板の端部領域である。
【００５３】
図６に示すように、第１ブラストマスク５０の第１中央部マスク５１は、背面板用基板２０の表示エリア形成領域２７ａに対面する位置において、表示エリア形成領域２７ａ上に形成されるべき段差マトリクスリブ３１の平面視における形状に対応し、平面視においてマトリクス状に形成されている。すなわち、第１中央部マスク５１は、表示エリア形成領域２７ａに対面する位置内に、段差マトリクスリブ３１の第１リブ３２に対応するように配置された複数の第１パターン部５２と、段差マトリクスリブ３１の第２リブ３３に対応するように配置され、隣り合う二つの第１パターン部５２間を延びる複数の第２パターン部５３と、を有するようになる。第１パターン部５２は背面板用基板２０上の第１方向と平行に延び、第２パターン部５３は背面板用基板２０上の第２方向と平行に延びている。
【００５４】
また、図６に示すように、第１ブラストマスク５０の第１中央部マスク５１は、表示エリア形成領域２７ａ以外の中央領域２７に対面する位置に、当該位置に形成されるべきダミーリブ３５のパターニングに用いられるダミーリブ用マスク５５を有している。ダミーリブ用マスク５５は、形成されるべきダミーリブ３５の平面視における形状に対応したパターンを有している。
【００５５】
一方、第１ブラストマスク５０の第１縁部マスク５７は、背面板用基板２０の縁部領域２８に対面する領域を面状に覆うように、つまり、いわゆるベタマスクをなすように、形成されている。したがって、第１縁部マスク５７は、背面板用基板２０の縁部領域２８上に形成されたリブ層４０の全面を隙間なく被覆している。
【００５６】
（第１ブラスト加工工程）
次に、形成された第１ブラストマスク５０側からリブ層４０へブラスト材７５を噴射し、リブ層４０の一部分を削り取る第１ブラスト加工工程について説明する。第１ブラスト加工工程においては、リブ層４０のうちの第１ブラストマスク５０に覆われていない部分が、削られるようになる。
【００５７】
まず、主に図１４および図１５を参照して、第１ブラスト加工工程に用いられるブラスト加工装置８０について説明する。なお、ここで説明するブラスト加工装置８０は、後述する第２ブラスト加工工程においても用いられ得る。
【００５８】
図１４および図１５に示すように、ブラスト加工装置８０は、ブラスト材７５を噴射するブラストノズル８５と、ブラストノズル８５に連結された配管８１と、配管８１に連結された圧縮ガス源８２およびブラスト材供給源８３と、被加工体Ｗを保持する保持装置８８と、を有している。このブラスト加工装置８０においては、圧縮ガス源８２からガスを供給するとともにブラスト材供給源８３からブラスト材７５を供給するようになっている。供給されたブラスト材７５は圧縮ガスとともに、ブラストノズル８５から噴射され、保持装置８８に保持された被加工体Ｗに衝突する。この結果、被加工体Ｗがブラスト材７５によって切削されていくようになっている。ここで、本実施の形態における被加工体Ｗは、背面板用基板２０とリブ層４０とブラストマスク５０（６０）との積層体であって、実際に切削されるのはリブ層４０である。
【００５９】
ブラストノズル８５は、図示しない保持手段を介して保持されている。保持手段は、ブラストノズル８５の被加工体Ｗに対する相対位置を調節することができる。これにより、ブラストノズル８５の被加工体Ｗに対する高さ位置（背面板用基板２０の板面の法線に沿った位置）、被加工体Ｗに対する平面方向位置（背面板用基板２０の板面上における位置）を制御することができる。
【００６０】
なお、ブラストノズル８５の吐出口８６の形態は、特に限定されず、例えばスリット状、円状、楕円状および多角形状等の種々の既知な形態を採用することができる。このうち、被加工体Ｗを広範囲に渡って一度に加工することができ、これにより、均一かつ効率的な加工を実現することができることから、図１５に示すように、ブラストノズル８５がスリット状の開口８６を有していることが好ましい。この場合の吐出口８６の幅（吐出口８６の長手方向に直交する方向の開口幅）は、例えば５０μｍ〜１００００μｍの範囲内、好ましくは１００μｍ〜５０００μｍの範囲内とすることができる。
【００６１】
次に、このようなブラスト加工装置８０を用いて実行される第１ブラスト加工工程について説明する。
【００６２】
第１ブラスト加工工程では、ブラストノズル８５からブラスト材７５を噴射して、リブ層４０を切削する。このとき、ブラストノズル８５を保持する保持手段は、背面板用基板２０の板面の略法線ＮＬに沿ってブラスト材７５が噴射されるように、ブラストノズル８５を保持装置８８に保持された背面板用基板２０とリブ層４０とブラストマスク５０との積層体（被加工体）Ｗに対して位置決めする。なお、ブラスト材７５はブラストノズル８５からある程度の幅を持って噴射されるようになるが、ここでは、ある程度の幅のうちの中心方向が、背面板用基板２０の板面の法線に概ね平行となるように、ブラストノズル８５の位置を調整することを意味している。
【００６３】
第１ブラスト加工において用いられるブラスト材７５としては、特に限定されないが、例えばダイアモンド、アルミナ、炭化シリコン、炭酸カルシウム、ガラスビーズ、ステンレス等が挙げられる。また、ブラスト材７５の粒径は、特に限定されないが、例えば３μｍ〜２００μｍの範囲内、好ましくは７μｍ〜１００μｍの範囲内とすることができる。
【００６４】
また、第１ブラスト加工工程において、ブラストノズル８５からブラスト材７５が噴射される際の噴射圧力や、ブラスト材７５の噴射量等のブラスト加工条件は、リブ層４０をブラスト加工する際における通常の設定値を採用することができる。さらに、第１ブラスト加工工程において、ブラストノズル８５の吐出口８６と切削対象となるリブ層４０との離間距離も、リブ層をブラスト加工する際における通常の設定値を採用することができる。
【００６５】
そして、第１ブラスト加工工程においては、ブラストノズル８５と、保持装置８８に保持された被加工体（積層体）Ｗと、の相対位置を、背面板用基板２０の板面上において変化させ、ブラスト材７５が被加工体Ｗの全域に噴射されるようになる。本実施の形態においては、図１５に示すように、保持装置８８により第２方向に沿うようにして被加工体Ｗをブラストノズル８５に対して移動させるとともに、図示しない保持手段により第１方向に沿うようにしてブラストノズル８５を被加工体Ｗに対して往復移動させる。
【００６６】
このとき、ブラストノズル８５のスリット状の吐出口は、図１５に示すように、ブラストノズル８５の移動方向に直交する方向（つまり、第２方向）に沿って延びている。したがって、ブラストノズル８５の一回の移動により、被加工体Ｗを広範囲にわたって加工することができる。なお、ブラストノズル８５を第２方向に沿って複数設けた場合には、さらに、効率的かつムラなく被加工体Ｗを加工していくことができる。
【００６７】
また、ブラストノズル８５の第１方向に沿った往復移動の速度は、被加工体Ｗの第２方向に沿った移動の速度よりも格段に速く設定されている。具体的には、被加工体Ｗがブラストノズル８５の吐出口８６の長手方向長さ分だけ第２方向に沿って移動する間に、ブラストノズル８５が被加工体Ｗの直上を第１方向に沿って一往復する。この結果、図１５に点線で示すように、ブラストノズル８５は、被加工体Ｗの直上をジグザグに移動する。さらに詳細には、ブラストノズル８５は、第１方向に沿った往復移動しながら、被加工体Ｗの直上を第２方向に沿ってしだいに移動していくようになる。以上のようにして、背面板用基板２０の板面の法線方向からブラスト材７５がリブ層４０の全領域に対して噴射されていく。
【００６８】
なお、本件で用いる「直上」とは、背面板用基板２０の板面の法線に沿った上方（背面板用基板２０よりもブラストマスク（ドライフィルムレジスト）側）を意味し、「直下」とは、背面板用基板２０の板面の法線に沿った下方（ブラストマスク（ドライフィルムレジスト）よりも背面板用基板２０側）を意味するものとする。
【００６９】
このようにして背面板用基板２０の法線ＮＬの方向に沿って噴射されたブラスト材７５は、第１ブラストマスク５０、あるいは、リブ層４０のうちの第１ブラストマスク５０によって覆われていない部分に衝突する。この結果、リブ層４０のうちの第１ブラストマスク５０によって覆われていない部分がブラスト材７５によって削られていき、リブ層４０が第１ブラストマスク５０の形状に対応した形状にパターニングされていく。最終的には、ブラストマスク５０によって覆われていない領域においては、リブ層４０が除去され、背面板用基板２０の一方の面２０ａが露出するようになる。
【００７０】
これにより、背面板用基板２０の縁部領域２８上には、図７に示すように、第１縁部マスク５７の直下にリブ層４０が面状に残留する。ここで、図７は、図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面において、第１ブラスト加工工程後の被加工体Ｗを示している。
【００７１】
一方、背面板用基板２０の中央領域２７のうちの、表示エリア形成領域２７ａ以外の領域上には、第１中央部マスク５１のダミーリブ用マスク５５の直下にダミーリブ３５が形成される。
【００７２】
また、図８および図９に示すように、背面板用基板２０の縁部領域２８上には、第１中央部マスク５１の第１パターン部５２および第２パターン部５３の形状に対応してマトリクスリブ３１ａが形成される。ここで、図８は、図２に示された部分に対応する部分を示す図であって、第１ブラスト加工工程後における被加工体Ｗを示す斜視図であり、図９は、図８のＩＸ−ＩＸ線に沿った断面図である。図８に示すように、マトリクスリブ３１ａは、第１方向に沿って延びる複数の第１リブ３２と、第２方向に沿って第１リブ３２間を延びる複数の第２リブ３３と、を含んでいる。ただし、図９に示すように、マトリクスリブ３１ａの第１リブ３２および第２リブ３３は、第１リブ層４１からなる部分と、第２リブ層４２からなる部分と、第３リブ層４３からなる部分と、をともに含んでおり、互いに同一な高さとなっている。
【００７３】
ところで、図７に示すように、背面板用基板２０の法線方向に沿って移動（飛行）してきたブラスト材７５は、リブ層４０または露出した背面板用基板２０に衝突して、不規則な方向に跳ね返るようになる。跳ね返ったブラスト材７５の一部は、リブ層４０のうちのブラストマスク５０の直下に位置する部分に衝突する。このとき、ブラスト材７５が十分な移動速度を有していれば、リブ層４０のうちの、本来削られることのない第１ブラストマスク５０に覆われた部分が削られていくことになる。すなわち、リブ層４０のうちの第１ブラストマスク５０に覆われている部分も、リブ層４０または露出した背面板用基板２０に衝突して跳ね返ったブラスト材７５によって、側方から削り込まれることになる（以下において、この側方への削り込みをサイドエッチとも呼ぶ）。そして、この側方削り込みは、リブ層４０のうちの、側方に露出した部分、および、ブラスト加工中に側方に露出するようになる部分において、より促進されるようになる。
【００７４】
また、本実施の形態においては、上述したように、ブラストノズル８５の第１方向に沿った往復移動の速度が、被加工体Ｗの第２方向に沿った移動の速度よりも格段に速く設定されている。このため、図１５に点線で示すように、平面視（背面板用基板２０の法線方向から観察した場合）において、ブラストノズル８５の被加工体Ｗに対する相対移動方向は、背面板用基板２０の板面上において、第１方向となす角度が４５°未満の小さな角度となる。そして、ブラストノズル８５は、第１方向に沿った被加工体Ｗの縁部外方において進行方向の転換を繰り返して第１方向に沿って往復移動しながら、被加工体Ｗの直上を第２方向の一側から他側へ向け進んでいく。
【００７５】
このような本実施の形態においては、第１ブラスト加工工程後に背面板用基板２０上に残留するようになるリブ層４０のうちの、第１方向に沿った縁部に位置する部分が、最も激しく当該縁部側から側方に削り込まれるようになる。つまり、図７に示すように、縁部領域２８上に位置するリブ層４０のうちの、第１方向に沿った最外方に位置する部分における側方削り込み量が最も大きくなる。
【００７６】
なお、上述したように、また、図１に示すように、背面板用基板２０の縁部領域２８は、第２方向に沿った全範囲において中央領域２７を第１方向から覆っている。この結果、縁部領域２８上に位置するリブ層４０が側方から大きく削り込まれるものの、中央領域２７上に位置するリブ層４０に対する側方削り込みは大幅に緩和される。
【００７７】
また、本実施の形態においては、上述したように、リブ層４０の表面層をなす第３リブ層４３の下方には、ブラスト加工性の低い、すなわち、ブラスト加工によって削られにくい第２リブ層４２が配置されている。このようなリブ層４０をブラスト加工した場合、図７に二点差線で示すように、まず、第３リブ層４３が削られて、第２リブ層４２が露出することになる。しかしながら、第２リブ層４２はブラスト加工によって切削しにくい層であることから、第２リブ層４２の切削にしばらく時間がかかる。この間、第２リブ層４２に入射して反射したブラスト材７５は、図７に点線で示すように、第２リブ層４２よりも上方に配置され、第２リブ層４２よりも削り取られやすい第３リブ層４３を側方から削り込むようになる。すなわち、第３リブ層４３の下方に第３リブ層４３よりもブラスト加工性の低い第２リブ層４２が設けられていることによって、第３リブ層４３における側方削り込み（サイドエッチ）が促進されるようになる。
【００７８】
以上のような第１ブラスト加工工程が終了すると、一部分が切削されたリブ層４０上から第１ブラストマスク５０が除去される。第１ブラストマスク５０の除去方法としては、ＰＤＰ用背面板の製造において用いられ得る種々の既知の方法を採用することができる。例えば、苛性ソーダを用いて第１ブラストマスク５０を除去することができる。この場合のブラストマスク除去装置は、苛性ソーダを噴射する噴射機構あるいは苛性ソーダを貯留する苛性ソーダ貯留槽を含むようになる。このようにして、背面板用基板２０の一方の面２０ａ上にリブ層４０が再び露出するようになる。
【００７９】
（第２ブラストマスク形成工程）
次に、第２ブラストマスク形成工程について説明する。第２ブラストマスク形成工程は、一部分が削られたリブ層４０上にレジスト層を形成する第２レジスト層形成工程と、形成されたレジスト層をパターニングする第２レジスト層パターニング工程と、を含んでいる。この二つの工程を経て、一部分が削られたリブ層４０上に、所定のパターンを有した第２ブラストマスク６０が形成されるようになる。
【００８０】
本実施の形態においては、第２レジスト層形成工程として、背面板用基板２０上に形成されたリブ層４０上に、耐ブラスト加工性を有した第２ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を積層する。第２ドライフィルムレジストは、少なくとも背面板用基板２０の中央領域２７に対面する位置および背面板用基板２０の縁部領域２８に対面する位置を含む範囲に、配置される。第２ドライフィルムレジストの積層方法および積層装置は、上述したドライフィルムレジストの積層に用いられ得る方法および装置を採用することができる。
【００８１】
次に、第２ドライフィルムレジストを製版し、所定のパターンを有する第２ブラストマスク６０を形成する。具体的には、第２ブラストマスク形成工程として、フォトリソグラフィー技術を用いた露光および現像を行い、第２ドライフィルムレジストを所望のパターンにパターニングする。第２ブラストマスク６０の形成に用いられるマスク形成装置は、第１ブラストマスク５０の形成に用いられ得る装置を採用することができる。この結果、図１０に示すように、背面板用基板２０の中央領域２７に対面する位置に配置された第２中央部マスク６１と、縁部領域２８に対面する位置に配置された第２縁部マスク６７と、を含む第２ブラストマスク６０が、一部分が削られたリブ層４０上に形成される。
【００８２】
ここで、図１０を主に参照して、形成された第２ブラストマスクの平面視（ブラストマスクの法線方向（本実施の形態においては、背面板用基板２０の法線方向およびＰＤＰ用背面板１０の法線方向と一致する）から観察した場合）における形状について説明する。なお、図１０は、図６に対応する図であって、リブ形成中（厳密には、第２ブラストマスク形成工程後）におけるＰＤＰ用背面板を示す平面図である。そして、図１０に示された範囲は、図６に示された範囲と同様であり、図１において点線で囲まれたＰＤＰ用背面板の端部領域である。
【００８３】
図１０に示すように、第２ブラストマスク６０の第２中央部マスク６１は、背面板用基板２０の表示エリア形成領域２７ａに対面する位置内に、互いに平行に線状に延びる複数の線状部６２を有している。すなわち、第２中央部マスク６１は、表示エリア形成領域２７ａに対面する位置において、平面視においてストライプ状に形成されている。線状部６２は、図１２および図１３に示すように、マトリクスリブ３１ａ（段差マトリクスリブ３０）の第１リブ３２上に配置され、背面板用基板２０上の第１方向と平行に延びている。結果として、第２中央部マスク６１の線状部６２は、平面視において、上述した第１中央部マスク５１の第１パターン部５２と略同一の形状を有している。ここで、図１２は、図２に示された部分に対応する部分を示す図であって、第２ブラスト加工工程後における被加工体Ｗを示す斜視図であり、図１３は、図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に沿った断面図である。
【００８４】
また、図１０に示すように、第２ブラストマスク６０の第２中央部マスク６１は、表示エリア形成領域２７ａ以外の中央領域２７に対面する位置に、当該位置に形成されるべきダミーリブ３５のパターニングに用いられるダミーリブ用マスク６５を有している。ダミーリブ用マスク６５は、ダミーリブ３５の平面視における形状に対応したパターンを有している。結果として、第２中央部マスク６１のダミーリブ用マスク６５は、平面視において、上述した第１中央部マスク５１のダミーリブ用マスク５５と略同一の形状を有している。
【００８５】
一方、第２ブラストマスク６０の第２縁部マスク６７は、平面視において、上述した第１ブラストマスク５０の第２縁部マスク５７とは異なる形状を有している。具体的には、第２縁部マスク６７は、縁部領域２８上に形成されるべき保護リブ３７の形状に対応したパターンを有している。
【００８６】
（第２ブラスト加工工程）
次に、形成された第２ブラストマスク６０側から一部分が削られたリブ層４０へブラスト材７５を噴射する第２ブラスト加工工程について説明する。第２ブラスト加工工程においては、一部分が削られたリブ層４０がさらに削られ、所望のパターンを有したリブ３０が当該リブ層４０から形成される。
【００８７】
第２ブラスト加工工程に用いられるブラスト加工装置は、上述した第１ブラスト加工工程において用いられたブラスト加工装置８０と同一とすることができる。また、第２ブラスト加工工程において、ブラストノズル８５からブラスト材７５が噴射される際の噴射圧力や、ブラスト材７５の噴射量等のブラスト加工条件は、第１ブラスト加工工程と同様に選択され得る。さらに、第２ブラスト加工工程において、ブラストノズル８５の吐出口８６と切削対象となるリブ層４０との離間距離も、第１ブラスト加工工程と同様に選択され得る。
【００８８】
ただし、ブラスト材７５の噴射量については、第２ブラスト加工工程におけるブラスト材７５の単位時間あたりの噴射量は、第１ブラスト加工工程におけるブラスト材７５の単位時間あたりの噴射量よりも少ないことが好ましい。具体的には、第２ブラスト加工工程におけるブラスト材７５の単位時間あたりの噴射量が、第１ブラスト加工工程におけるブラスト材７５の単位時間あたりの噴射量の１／４０以上３／４０以下となっていることが好ましい。後述するように、第２ブラスト加工工程においては、第２リブ３３のうちの、比較的にブラスト加工性の高い第３リブ層４３からなる先端部分のみを切削することになる。また、第２ブラスト加工工程における噴射量を低くすることにより、第２リブ層４２を切削してしまうことを効果的に防止し、リブ層４０を所望の形状に精度良く安定して切削することができる。その一方で、第２ブラスト加工工程における噴射量を少なくし過ぎると、第２ブラスト加工工程の加工時間が長時間化する。以上のことから、第２ブラスト加工工程におけるブラスト材７５の噴射量および第２ブラスト加工工程におけるブラスト材７５を上記範囲に設定しておくことが好ましい。
【００８９】
また、第２ブラスト加工工程において、ブラスト材７５の噴射方向は、概ね背面板用基板２０の板面の法線ＮＬに沿って噴射される。なお、第１ブラスト加工工程においても言及したが、ブラスト材７５はブラストノズル８５からある程度の幅を持って噴射されるようになる。そしてここでは、ある程度の幅のうちの中心方向が、背面板用基板２０の板面の法線に概ね平行となることを意味している。
【００９０】
以上のような条件の下、第２ブラスト加工工程として、ブラストノズル８５と、保持装置８８に保持された被加工体（積層体）Ｗと、の相対位置を、背面板用基板２０の板面上において変化させ、ブラスト材７５が被加工体Ｗの全域に噴射される。本実施の形態においては、上述した第１ブラスト加工工程と同様にして、保持装置８８により第２方向に沿うようにして被加工体Ｗをブラストノズル８５に対して移動させるとともに、図示しない保持手段により第１方向に沿うようにしてブラストノズル８５を被加工体Ｗに対して往復移動させる。これにより、図１５に点線で示すように、ブラストノズル８５は、第１方向に沿って往復移動しながら、被加工体Ｗの直上を第２方向に沿ってしだいに移動していく。このようにして、第２ブラスト加工工程として、背面板用基板２０の板面の法線方向からブラスト材７５がリブ層４０の全領域に対して噴射されていく。
【００９１】
第２ブラスト加工工程においては、リブ層４０の第２ブラストマスク６０によって覆われていない部分をリブ層４０の全厚み未満の厚み分だけ削る。すなわち、リブ層４０の第２ブラストマスク６０によって覆われていないリブ層をすべて削り取ってしまうことはない。より具体的には、図１１乃至図１３に示すように、第２ブラスト加工工程において、第３リブ層４３からなる部分が削り取られ、第２リブ層４２が露出するようになる。なお、図１１は、図１０のＸＩ−ＸＩ線に沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面において、第２ブラスト加工工程後の被加工体Ｗを示している。
【００９２】
上述したように、第２リブ層４２のブラスト加工性は、リブ層４０の表面層をなす第３リブ層４３のブラスト加工性よりも低くなっている。したがって、第３リブ層４３からなる部分が除去され第２リブ層４２からなる部分が露出してくると、ブラスト加工による切削性が大きく変化し、ブラスト条件が一定であれば第２リブ層４２の切削にはより長い時間を要するようになる。このため、第３リブ層４３からなる部分が除去され、第２リブ層４２からなる部分が露出している状態で、第１ブラスト加工工程におけるブラスト材７５の噴射を停止することは極めて容易となっている。
【００９３】
以上のようにして、リブ層４０の第２ブラストマスク６０によって覆われている領域を残しながら、リブ層４０の第２ブラストマスク６０によって覆われていない領域のうちの第３リブ層４３からなる部分が除去されていく。
【００９４】
これにより、図１２および図１３に示すように、背面板用基板２０の縁部領域２８上には、第１ブラスト加工工程によって形成された第２リブ３３が、略そのままの状態で、第２中央部マスク６１の線状部６２の直下に残留する。したがって、第１リブ３２の背面板用基板２０からの高さは、リブ層４０の全厚みと同一になる。一方、第１ブラスト加工工程によって形成された第１リブ３２は、第２ブラストマスク６０によって被覆されていないため、第３リブ層４３からなる先端部分を削り取られる。このため、第２リブ３３の背面板用基板２０の背面板用基板２０からの高さは、第１リブ層４１と第２リブ層４２との厚みを足し合わせた高さとなる。すなわち、第２リブ層４２の高さは、第１リブ層４１の高さよりも第３リブ層４３の厚み分だけ低くなる。この結果、第１ブラスト加工工程で形成されたマトリクスリブ３１ａから、第１リブ３２と、第１リブ３２よりも高さの低い第２リブ３３と、を有した段差マトリクスリブ３１が形成されるようになる。
【００９５】
また、背面板用基板２０の中央領域２７のうちの、表示エリア形成領域２７ａ以外の領域上には、第１ブラスト加工工程によって形成されたダミーリブ３５が、略そのままの状態で、第１中央部マスク６１のダミーリブ用マスク６５の直下に残留する。
【００９６】
一方、背面板用基板２０の縁部領域２８上には、図１１に示すように、第２縁部マスク６７の直下に保護リブ３７が形成される。得られた保護リブ３７は、第２リブ層４２および第３リブ層４３からなり、縁部領域２８を被覆する被覆部４７ａと、被覆部４７ａ上から所定のパターンで突出したパターン部４７ｂと、を含むようになる。
【００９７】
ところで、背面板用基板２０の縁部領域２８上に形成されるリブ（本実施の形態においては保護リブ３７）には、当該リブの設置目的等から、段差マトリクスリブ３１における第１リブ３２と第２リブ３３とのように段差を設ける必要はない。したがって、複数回のブラスト加工を行う際、上述した実施の形態において、第１中央部マスク５１のダミーリブ用マスク５５と第２中央部マスク６１のダミーリブ用マスク６５とが平面視同一形状であったように、従来のブラストマスクにおいては、縁部領域２８上のリブ層４０を覆う縁部マスク５７，６７の形状は平面視において同一に形成されていた。しかしながら、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、複数回のブラスト加工を行う際に、縁部領域２８に対面する位置に配置される縁部マスク５７，６７の形状を平面視同一形状にすると、縁部領域２８上に所望のパターンのリブを精度良く安定して形成することが困難となること、さらには、中央領域２７上にも所望のパターンのリブを精度良く安定して形成しにくくなることが、確認された。
【００９８】
このような現象が生じるメカニズムは明らかではないが、その一要因と考えられ得るメカニズムについて以下に説明する。ただし、本件発明は以下のメカニズムの限定されるものではない。
【００９９】
上述したように、縁部領域２８上におけるリブ層４０に対しては、跳ね返ったブラスト材７５による縁部側の端面からの側方削り込みが促進される。とりわけ、ブラスト加工が複数回実施され、ブラスト加工時に用いられるマスク形状が同一の場合には、この側方削り込みが漸次進行していき、保護リブ３７自体の断面形状は対称形状から大きく異なった形状を有するようになる。また、保護リブ３７の断面形状は、その後の焼成工程において発生する熱応力に起因し、さらに変形する。このような変形は、一例として、保護リブ３７の高さばらつきを来たす。そして、リブの高さばらつきは、ＰＤＰ用背面板１０を前面板と組み合わせる際に、種々の不具合を生じさせる。
【０１００】
また、縁部領域２８上に形成される保護リブ３７を精度良く予定した形状に形成することができなくなると、保護リブ３７が期待された効果を奏することができなくなる。つまり、中央領域２７に配置されたリブ、例えば表示エリア形成領域２７ａ内に位置する段差マトリクスリブ３１に対する側方削り込みを有効に防止することができなくなる。この結果、中央領域２７上にも所望のパターンのリブ３１，３５を精度良く安定して形成することができなくなる。
【０１０１】
そもそも、一回以上のブラスト加工が実施され一部分が削り取られたリブ層４０上に、ブラストマスクを精度良く形成することは容易ではない。とりわけ、縁部領域２８上のリブ層４０は、縁部側の端面からの側方削り込みによって、それまでのブラスト加工で用いられた縁部マスクの形状とは異なる平面形状を有するようになっている。したがって、一回以上のブラスト加工が実施された後に、縁部領域２８内のリブ層４０上に同一形状を有した微細な縁部マスクを形成することは極めて困難となる。
【０１０２】
また、少なくとも一回のブラスト加工が実施され一部分が削り取られたリブ層４０上に、ブラストマスクを安定的に固定することは困難である。とりわけ、縁部領域２８上のリブ層４０は、縁部側の端面からの側方削り込みによって、縁部マスクの平面形状よりも小さい形状となる。すなわち、縁部マスクのリブ層４０側の表面のうちの縁部側の一部分は、リブ層４０に接触しておらず浮き上がってしまう。したがって、縁部マスクのリブ層側面のこの部分に、他の部分に衝突して跳ね返ったブラスト材７５が衝突するようになる。この結果、この部分の周囲において、リブ層４０から引き剥がそうとする力が縁部マスクに作用するようになる。つまり、縁部領域２８に対面する位置に形成された縁部マスクはリブから引き剥がされやすくなる。縁部マスクがリブ層４０から引き剥がされると、予定した保護リブ３７を縁部領域２８に形成することができないだけでなく、中央領域２７に配置されたリブ、例えば表示エリア形成領域２７ａ内に位置する段差マトリクスリブ３１に対する側方削り込みを有効に防止することができなくなる。また、引き剥がされた縁部マスクが、本来配置されるべきではない領域に残留することにより、当該領域に配置されたリブ、例えば表示エリア形成領域２７ａ内に位置する段差マトリクスリブ３１の形状を損なう、つまり削り残しを生じさせてしまう。
【０１０３】
一方、本実施の形態によれば、第１ブラストマスク５０の第１縁部マスク５７および第２ブラストマスク６０の第２縁部マスク６７は、平面視において、異なる形状を有するように形成されている。したがって、複数回にわたるブラスト加工中に、リブ層４０の同一箇所に対する側方削り込み量の漸増的な増加を回避することができる。これにより、所望のパターンを有した保護リブ３７を縁部領域２８上に精度良く安定して形成することが可能となる。
【０１０４】
とりわけ、本実施の形態によれば、図１０に示すように、第２縁部マスク６７の第１方向に沿った最外方位置（最も中央領域２７から離れる位置）Ｐ２は、第２方向に沿ったいずれの位置においても、第１縁部マスク５７の第１方向に沿った最外方位置Ｐ１よりも、第１方向に沿って内方（中央領域に近い側）に位置している。したがって、図７および図１１から容易に理解することができるように、第２ブラスト加工工程においては、第１ブラスト加工工程における側方削り込み量が最も多くなっていた部分（つまり、第１縁部マスク５７の第１方向に沿った最外方位置Ｐ１直下近傍に位置していた部分）を削り取って、保護リブ３７が形成されるようになる。この結果、従来と比較して、側方削り込みの影響を大幅に排除することができ、これにより、保護リブ３７を極めて精度良く形成することができる。
【０１０５】
また、このように所望のパターンを有した保護リブ３７は、期待した機能、すなわち、中央領域２７内のリブ層４０が大きく側方から削り込まれることを防止する機能を効果的に発揮することができる。これにより、中央領域２７上に所望のパターンを有したリブ、例えば、表示エリア形成領域２７ａ内に所望のパターンを有した段差マトリクスリブ３１を形成することが可能となる。
【０１０６】
さらに、縁部マスク５７，６７の形状を各ブラスト加工工程間で変更することによって、所定のパターンを有した縁部マスク５７，６７を精度良く安定して形成すること、および、縁部マスク５７，６７をリブ層４０上に安定して固定することも可能となる。これらのことから、本実施の形態によれば、所望のパターンを有したリブ３０を精度良く安定して形成することができるようになる。
【０１０７】
なお、本実施の形態によれば、上述したように、リブ層４０の表面層をなす第３リブ層４３の下方には、ブラスト加工性の低い、すなわち、ブラスト加工によって削られにくい第２リブ層４２が配置されている。このため、第２リブ層４２の切削に時間がかかり、第２ブラスト加工工程においても、リブ層４０の第３リブ層４３からなる部分が側方削り込み（サイドエッチ）によっていくらか切削される。そこで、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、上述したように、第３リブ層４３のブラスト加工性は、第２リブ層４２のブラスト加工性の１．１倍以上２０倍以下に設定されていることが好ましく、１．５倍以上１０倍以下に設定されていることがさらに好ましい。第２リブ層４２のブラスト加工性が、第３リブ層４３のブラスト加工性に比較して低過ぎると、つまり、第３リブ層４３と比較して第２リブ層４２が削られにく過ぎると、ブラスト加工工程中における側方削り込み（サイドエッチ）が促進され過ぎ、得られた第１リブ３２の第３リブ層４３からなる部分が第２リブ層４２からなる部分と比較して大きく削り込まれる。これにより、第１リブ３２の外輪郭に凹凸が形成され、可視光を発する蛍光体層１８を支持する面として不都合が生じる。
【０１０８】
一方、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第３リブ層４３が削られにく過ぎると、第２ブラスト加工工程において、第３リブ層４３からなる部分を優先的に切削することが困難となり、第２リブ層４２の一部または全部が削れてしまうことになる。この結果、第２ブラスト加工工程後における第２リブ３３の形状、とりわけ、第２リブ３３の高さおよび第２リブ３３の上面の平坦性を安定させることができない。また、第３リブ層４３のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第３リブ層４３が削られにく過ぎると、ブラスト加工工程において、リブ層４０の第３リブ層４３を削り取るのに長時間を要するようになる。すなわち、生産性を悪化させてしまう。
【０１０９】
さらに、本件発明者らがブラスト加工性について鋭意研究を重ねたところ、上述したように、第１リブ層４１のブラスト加工性は第２リブ層４２のブラスト加工性の１．５倍以上１００倍以下に設定されていることが好ましく、２倍以上２５倍以下に設定されていることがさらに好ましい。結果として、第１リブ層４１のブラスト加工性は、第３リブ層４３のブラスト加工性よりも高いことが好ましいことになる。
【０１１０】
第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に比較して高過ぎると、つまり、第２リブ層４２と比較して第１リブ層４１が削られやす過ぎると、ブラスト加工工程中における第１リブ層４１への側方削り込み（サイドエッチ）が促進され過ぎ、得られた第１リブ３２および第２リブ３３の第１リブ層４１からなる部分が第２リブ層４２からなる部分と比較して大きく削り込まれる。これにより、第１リブ３２の外輪郭および第２リブ３３の外輪郭に凹凸が形成され、可視光を発する蛍光体層１８を支持する面として不都合が生じる。
【０１１１】
一方、第１リブ層４１のブラスト加工性が、第２リブ層４２のブラスト加工性に対して低過ぎると、つまり、第１リブ層４１が削られにく過ぎると、第２ブラスト加工工程において、第１リブ層４１を削り取るのに長時間を要するようになる。すなわち、生産性を悪化させてしまう。
【０１１２】
（その他の工程）
以上のようにして、段差マトリクスリブ３１とダミーリブ３５と保護リブ３７とを含むリブ３０が背面板用基板２０上に形成された後、リブ３０上から第２ブラストマスク６０が除去される。第２ブラストマスク６０が除去されると、背面板用基板２０の一方の面２０ａ上にリブ３０が露出するようになる（図１参照）。なお、第２ブラストマスク６０の除去は、第１ブラストマスク５０をリブ層４０上から除去する装置と同一の装置を用い、第１ブラストマスク５０をリブ層４０上から除去する方法と同様に行うことができる。
【０１１３】
次に、背面板用基板２０上のリブ３０を焼成する。上述したように、本実施の形態によれば、リブ３０を精度良く安定して作製することができる。したがって、焼成によってリブ３０が変形し、結果として、前面板との組み合わせ時に不具合を来してしまうことを効果的に防止することができる。
【０１１４】
最後に、段差マトリクスリブ３１の側面および背面板用基板２０の一方の面２０ａ上に蛍光体層１８を形成する。蛍光体層１８の形成方法は、ＰＤＰ用背面板の製造において用いられ得る種々の既知の方法、例えばスクリーン印刷による成膜方法を採用することができる。
【０１１５】
以上のようにして、図３に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板１０が得られる。
【０１１６】
＜本実施の形態の作用効果の概要＞
以上のような本実施の形態によれば、第１縁部マスク５７および第２縁部マスク６７は、平面視において、異なる形状を有するように形成されている。したがって、複数回にわたるブラスト加工中に、リブ層４０の同一箇所において、側方削り込み量が漸増的に増加してしまうことを回避することができる。これにより、所望のパターンを有した保護リブ３７を縁部領域２８上に精度良く安定して形成することが可能となる。また、所望のパターンを有した縁部領域２８上の保護リブ３７が期待した効果を奏することにより、中央領域２７上に所望のパターンを有したリブ、例えば、表示エリア形成領域２７ａ内に所望のパターンを有した段差マトリクスリブ３１を形成することが可能となる。これにより、所望のパターンを有したリブ３０が精度良く形成されたＰＤＰ用背面板１０を安定的に製造することができる。
【０１１７】
また、本実施の形態によれば、第１縁部マスク５７は、縁部領域２８に対面する位置を面状に覆うように形成され、第２縁部マスク６７は、縁部領域２８上に形成されるべきリブの形状に対応したパターンで形成される。したがって、第１ブラスト加工工程において、縁部領域２８上のリブ層４０は削られることがない。この結果、第２ブラストマスク６０を形成する際に、第２縁部マスク６７は、平坦なリブ層４０の表面上に形成されることになる。このため、第２縁部マスク６７を極めて容易かつ精度良く安定して形成することができる。また、作製された第２縁部マスク６７はリブ層４０に強固に固定されるようになり、第２ブラスト加工工程中にリブ層４０から引き剥がされることを効果的に防止することができる。これらのことから、所望のパターンを有したリブ３０がさらに精度良く形成されたＰＤＰ用背面板１０をさらに安定的に得ることができる。
【０１１８】
＜変形例＞
上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。以下、図面を参照して変形の一例について説明する。なお、以下に参照する図面において、上述した実施の形態と同一部分には同一符号を付し、重複する詳細な説明は省略する。
【０１１９】
（変形例１）
上述した実施の形態においては、第１縁部マスク５７が縁部領域２８に対面する位置を面状に覆うように形成され、第２縁部マスク６７が縁部領域２８上に形成されるべき保護リブ３７の形状に対応したパターンで形成されている例を示したが、これに限られない。例えば、図１６乃至図１９に示すように、第１縁部マスク５７が縁部領域２８上に形成されるべき保護リブ３７の形状に対応したパターンで形成され、第２縁部マスク６７が縁部領域２８に対面する位置を面状に覆うように形成されていてもよい。ここで、図１６は、図６に対応する図であって、リブ形成中におけるＰＤＰ用背面板を示す平面図である。図１７は、図７に対応する図であって、図１６のＸＶＩＩ−ＸＶＩＩ線に沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面において、第１ブラスト加工工程後の被加工体を示している。図１８は、図１０に対応する図であって、リブ形成中におけるＰＤＰ用背面板を示す平面図である。図１９は、図１１に対応する図であって、図１８のＸＩＸ−ＸＩＸ線に沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面において、第２ブラスト加工工程後の被加工体を示している。
【０１２０】
本変形例１によれば、第１ブラスト加工工程において、背面板用基板２０の縁部領域２８上に所望のパターンを有した保護リブ３７を精度良く形成することができる。そして、第２ブラスト加工工程中、第２縁部マスク６７は縁部領域２８に対面する位置を面状に覆う。すなわち、第２ブラスト加工工程中、第１ブラスト加工工程で形成された保護リブ３７上に面状の第２縁部マスク６７が配置されている。このような第２縁部マスク６７は極めて容易かつ安定して形成され得る。また、このような第２縁部マスク６７は、微細なパターンを有するマスクと比較して、より強固に安定して保護リブ３７上に固定されるようになる。また、第２縁部マスク６７はいわゆるシート状に形成されていることから、パターン状に形成され貫通孔や隙間を有するマスクとは異なり、他の部分に衝突して跳ね返ってくるブラスト材７５であって、リブ層４０から引き剥がすように第２縁部マスク６７に衝突してくるブラスト材７５の量を大幅に低減することができる。これらのことから本変形例によっても、所望のパターンを有したリブ３０を精度良く安定して形成することができる。
【０１２１】
（変形例２）
また、上述した実施の形態においては、一方のブラストマスク５０が、縁部領域２８に対面する位置を面状に覆うように形成されている例を示したが、これに限られない。例えば、図２０乃至図２２に示すように、第１縁部マスク５７および第２縁部マスク６７の両方が縁部領域２８上に形成されるべき保護リブ３７の形状に対応したパターンを有するようにしてもよい。ここで、図２０は、第１ブラストマスク形成工程後の被加工体Ｗを縁部領域の一部分（より厳密には、図６に示された範囲の一部分に相当し、第１縁部マスク５７の端部を含む部分）において示す平面図である。図２１は、図２０のＡ−Ａ線に沿った断面において、第１ブラスト加工工程後の被加工体Ｗを示している。図２２は、図２０のＡ−Ａ線に沿った断面において、第２ブラストマスク形成工程後の被加工体Ｗを示している。
【０１２２】
図２０に示すように、本変形例においては、第２縁部マスク６７のパターンの線幅ｗ２ａ，ｗ２ｂが第１縁部マスク５７のパターンの線幅ｗ１ａ，ｗ１ｂよりも細くなっている。ここで、図２０においては、第１縁部マスク５７の輪郭が点線によって示されている。なお、線幅とは、所定のパターンに形成されたブラストマスクの各部分における幅のことであって、当該部分の長手方向に直交する方向に沿った幅（長さ）を意味している。
【０１２３】
このような変形例によれば、図２１に示すように、第１ブラスト加工工程において、背面板用基板２０の縁部領域２８上に所定のパターンを有した保護リブ３７が形成される。ただし、第１ブラスト加工工程で形成された保護リブ３７は、第１ブラスト加工工程中における側方削り込みによって、第１縁部マスク５７の線幅ｗ１ａ，ｗ１ｂよりも細い線幅を有するようになる。とりわけ、図２１に示すように、第１縁部マスク５７に接触する先端面において線幅が細くなる傾向があり、保護リブ３７の先端面は端部において曲面となる。このような保護リブ３７上にブラストマスクを精度良く形成することは困難であり、また、このような保護リブ３７上にブラストマスクを固定することも困難である。
【０１２４】
しかしながら、本変形例によれば、上述したように、第２縁部マスク６７のパターンの線幅ｗ２ａ，ｗ２ｂが第１縁部マスク５７のパターンの線幅ｗ１ａ，ｗ１ｂよりも細くなっている。したがって、図２２に示すように、第１ブラスト加工で形成された保護リブ３７の先端面のうちの平坦な部分の幅ｗ３ａ，ｗ３ｂよりも第２縁部マスク６７のパターンの線幅ｗ２ａ，ｗ２ｂの幅を狭くし、さらに、第１ブラスト加工で形成された保護リブ３７の先端面のうちの平坦な部分上に、第２ブラストマスク６０の第２縁部マスク６７を形成することが可能となる。すなわち、この場合、第２ドライフィルムレジスト６９のうちの保護リブ３７の平坦な端面上に位置している部分から、第２ブラストマスク６０の第２縁部マスク６７が形成されるようになる。これにより、フォトリソグラフィー技術を用いて第２縁部マスク６７を精度良く形成することが可能となる。
【０１２５】
また、このように保護リブ３７の平坦な端面上に配置された第２縁部マスク６７は、保護リブ３７に対して強固に固定されるようになる。さらに、第２縁部マスク６７がその全面において保護リブ３７に密着していれば、他の部分に衝突して跳ね返ってきたブラスト材が、背面板用基板２０側から第２縁部マスク６７に衝突して保護リブ３７を引き剥がすように作用することもない。
【０１２６】
さらに、第２縁部マスク６７のパターンの線幅ｗ２ａ，ｗ２ｂを第１縁部マスク５７のパターンの線幅ｗ１ａ，ｗ１ｂよりも細くしているので、第２ブラスト加工工程中に、線幅が細くなるように保護リブ３７を仕上げ切削することができる。このとき、第１ブラスト加工で形成された保護リブ３７のうちの、第１ブラスト加工中に側方削り込みを受けた部分を削り取ることも可能となる。
【０１２７】
これらのことから、精度良く形成され強固に保護リブ３７へ固定された第２縁部マスク５７を用いて、所望の機能を有する保護リブ３７を精度よく安定して形成することが可能となる。
【０１２８】
なお、上述した変形例において、第２縁部マスク６７のパターンの線幅ｗ２ａ，ｗ２ｂが第１ブラスト加工で形成された保護リブ３７の先端面のうちの平坦な部分の幅ｗ３ａ，ｗ３ｂよりもの幅よりも狭くなっていることは必須ではない。
【０１２９】
（変形例３）
さらに、上述した実施の形態において、第１パターン部５２と第２パターン部５３とを有する第１ブラストマスク５０を用いた第１ブラスト加工により、背面板用基板２０の中央領域２８上にマトリクスリブ３１ａを形成し、線状部６２を有する第２ブラストマスク６０を用いた第２ブラスト加工により、背面板用基板２０の表示エリア形成領域２７ａ上に段差マトリクスリブ３１を形成する例を示したが、これに限られない。中央領域２７に対面する位置に配置される中央部マスク５１，６１の形状を種々変更し、その他の種々の方法を用いて、表示エリア形成領域２７ａ上に段差マトリクスリブ３１を形成するようにしてもよい。
【０１３０】
例えば、図２３に示すようにして、段差マトリクスリブ３１を表示エリア形成領域２７ａ上に形成するようにしてもよい。ここで、図２３は、図２に示された部分に対応する部分を示す図であって、段差マトリクスリブ３１の作製方法の一変形例を説明するための斜視図である。具体的には、まず、背面板用基板２０上の第１方向に沿って延びる複数の線状部５２ａを含む第１ブラストマスク５０を、リブ層４０上に形成する。次に、第１ブラストマスク５０の側からリブ層４０へブラスト材７５を噴射して、リブ層４０のうちの第１ブラストマスク５０に覆われていない部分を、その全厚み未満の厚み分だけ、削り、第１方向に沿って延びる複数の線状突出部４６を含む段差リブ層４５を形成する。その後、段差リブ層４５上から第１ブラストマスク５０を除去する。次に、第１方向に沿って延びる複数の第１パターン部６２ａと、第１方向と交差する背面板用基板２０上の第２方向に沿って第１パターン部６２ａ間を延びる複数の第２パターン部６３ａと、を含む第２ブラストマスク６０を、段差リブ層４５上に形成する。次に、第２ブラストマスク６０側からリブ層４０へブラスト材７５を噴射して、段差マトリクスリブ３１を形成する。
【０１３１】
また、そもそも、段差マトリクスリブ３１以外のリブ３０が、表示エリア形成領域２７ａ上に形成されるようにしてもよい。
【０１３２】
（変形例４）
さらに、上述した実施の形態において、第１ブラストマスク５０の第１ダミーリブ用マスク５５と、第２ブラストマスク６０の第２ダミーリブ用マスク６５と、が同一に構成されている例を示したが、これに限られず、第１ダミーリブ用マスク５５と、第２ダミーリブ用マスク６５と、が異なるように構成されていてもよい。
【０１３３】
（変形例５）
さらに、上述した実施の形態において、背面板用基板２０の縁部領域２８が、中央領域２７の表示エリア形成領域２７ａから離間して、第１方向に沿った中央領域２７の両外方に配置されている例を示したが、これに限られない。
【０１３４】
例えば、図１に点線で示すように、中央領域２７が、第１方向に沿ったその中央部分に、第２方向に突出した側方領域２７ｂを含み、この側方領域２７ｂにもリブが形成される場合には、中央領域２７の側方領域２７ｂの第１方向に沿った両外方に追加の縁部領域２８ａが設けられ、この追加縁部領域２８ａ上にも保護リブ３７が形成されるようにしてもよい。この例において、第１ブラストマスク５０のうちの追加縁部領域２８ａに対面する位置に配置される部分（第１追加縁部マスク）と、第２ブラストマスク６０のうちの追加縁部領域２８ａに対面する位置に配置される部分（第２追加縁部マスク）と、が平面視において異なる形状を有していれば、上述したように、追加縁部領域２８ａ上に保護リブを精度良く安定して形成することが可能となり、これにともなって、中央領域２７の側方領域２７ａ上におけるリブも精度良く安定して形成することが可能となる。
【０１３５】
また、上述した実施の形態においては、縁部領域２８が中央領域２７の表示エリア形成領域２７ａから離間している例を示したが、これに限られず、縁部領域２８が中央領域２７の表示エリア形成領域２７ａと隣接していてもよい。
【０１３６】
さらに、上述した実施の形態において、第１ブラストマスク５０の第１縁部マスク５７と第２ブラストマスク６０の第２縁部マスク６７とが、平面視における全域において、異なる形状を有している例を示したが、これに限られず、第１ブラストマスク５０の第１縁部マスク５７と第２ブラストマスク６０の第２縁部マスク６７とが、一部分のみにおいて、異なる形状を有しているようにしてもよい。
【０１３７】
さらに、上述した実施の形態において、背面板用基板２０の縁部領域２８が第１方向に沿った中央領域２７の両外方に配置されている例を示したが、これに限られない。例えば、背面板用基板２０の縁部領域２８が、第１方向に沿った中央領域２７の一方の外方のみに配置され、当該縁部領域２７上に保護リブ３７が形成されるようにしてもよい。あるいは、背面板用基板２０の縁部領域２８が、平面視において中央領域２７を三方または四方から取り囲むようにして配置され、当該縁部領域２７上に保護リブ３７が形成されるようにしてもよい。また、ブラストノズル８５の被加工体Ｗに対する相対移動方向（図１５における点線参照）と第１方向とがなす角度が、ブラストノズル８５の被加工体Ｗ対する相対移動方向と第２方向とがなす角度よりも大きくなっている場合には、背面板用基板２０の縁部領域２８が第２方向に沿った中央領域２７の外方に配置されるとともに、この縁部領域２７上に保護リブ３７が形成されることが有効である。
【０１３８】
（変形例６）
さらに上述した実施の形態において、リブ層４０が第１乃至第３リブ層４１，４２，４３の三層を含んでいる例を示したが、これに限られず、リブ層４０の層構成を適宜変更することができる。例えば、リブ層４０が単一層から形成されているようにしてもよい。このような変形例においても、第２ブラスト加工工程中に、リブ層４０のうちの第２ブラストマスク６０に覆われていない部分を、その全厚み未満の任意の厚み分だけ、削ることによって、上述したリブ３０と同様のリブを形成することができる。
【０１３９】
（変形例７）
上述した実施の形態においては、第１ブラスト加工工程および第２ブラスト加工工程の合計２回のブラスト加工によって、ＰＤＰ用背面板１０を形成する例を示したが、これに限られず、３回以上のブラスト加工によって、ＰＤＰ用背面板１０を形成するようにしてもよい。
【０１４０】
（変形例８）
以上のように上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１４１】
【図１】図１は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法によって形成され得るプラズマディスプレイパネル用背面板の一例を示す平面図である。
【図２】図２は、ＰＤＰ用背面板のうちの、プラズマディスプレイに組み込まれた際に画像を表示する表示エリア内に位置するようになる一部分を示す斜視図である。
【図３】図３は、ＰＤＰ用背面板のうちの、プラズマディスプレイに組み込まれた際に画像を表示する表示エリア内に位置するようになる一部分を示す断面図である。
【図４】図４は、図２および図３に示されたプラズマディスプレイパネル用背面板の背面板用基板を説明するための図である。
【図５】図５は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法のリブ形成工程を説明するための図である。
【図６】図６は、第１ブラストマスク形成工程後における被加工体を示す平面図である。
【図７】図７は、図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面において、第１ブラスト加工工程後の被加工体を示している。
【図８】図８は、図２に対応する図であって、第１ブラスト加工工程後における被加工体Ｗを示す斜視図であり、
【図９】図９は、図８のＩＸ−ＩＸ線に沿った断面図である。
【図１０】図１０は、図６に対応する図であって、第２ブラストマスク形成工程後における被加工体を示す平面図である。
【図１１】図１１は、図１０のＸＩ−ＸＩ線に沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面において、第２ブラスト加工工程後の被加工体Ｗを示している。
【図１２】図１２は、図２に対応する図であって、第２ブラスト加工工程後における被加工体Ｗを示す斜視図であり、
【図１３】図１３は、図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に沿った断面図である。
【図１４】図１４は、ブラスト加工装置の概略構成を示す側面図である。
【図１５】図１５は、図１４に示されたブラスト加工装置の概略構成を示す平面図である。
【図１６】、図１６は、図６に対応する図であって、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の一変形例の第１ブラストマスク形成工程後における被加工体を示す平面図である。
【図１７】図１７は、図７に対応する図であって、図１６のＸＶＩＩ−ＸＶＩＩ線に沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面において、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の一変形例における第１ブラスト加工工程後の被加工体を示している。
【図１８】図１８は、図１０に対応する図であって、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の一変形例の第２ブラストマスク形成工程後における被加工体を示す平面図である。
【図１９】図１９は、図１１に対応する図であって、図１８のＸＩＸ−ＸＩＸ線に沿った断面、すなわち、第１方向に沿った断面において、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の一変形例における第２ブラスト加工工程後の被加工体を示している。
【図２０】図２０は、プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法の他の変形例における第１ブラストマスク形成工程後の被加工体Ｗを縁部領域の一部分において示す平面図である。
【図２１】図２１は、図２０のＡ−Ａ線に沿った断面において、第１ブラスト加工工程後の被加工体を示している。
【図２２】図２２は、図２０のＡ−Ａ線に沿った断面において、第２ブラストマスク形成工程後の被加工体を示している。
【図２３】図２３は、図２に示された部分に対応する部分を示す図であって、段差マトリクスリブ３１の作製方法の一変形例を説明するための斜視図である。
【符号の説明】
【０１４２】
１０  プラズマディスプレイパネル用背面板（ＰＤＰ用背面板）
２０  背面板用基板
２７  中央領域
２７ａ  表示エリア形成領域
２８  縁部領域
３０  リブ
３１  段差マトリクスリブ
３１ａ  マトリクスリブ
３２  第１リブ
３３  第２リブ
３５  ダミーリブ
３７  保護リブ
４０  リブ層
４７ａ  被覆部
４７ｂ  パターン部
５０  第１ブラストマスク
５１  第１中央部マスク
５２  第１パターン部
５３  第２パターン部
５５  ダミーリブ用マスク
５７  第１縁部マスク
６０  第２ブラストマスク
６１  第２中央部マスク
６２  線状部
６５  ダミーリブ用マスク
６７  第２縁部マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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