(57)【要約】【課題】隔壁によってストライプ状となっている基板又は電極上に、オリゴマー材料からなる薄膜を安定かつ再現性よくパターニングするための有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。【解決手段】陽極と陰極との間に挟持される有機化合物層を、以下の工程（ａ）及び（ｂ）により形成することを特徴とする、有機ＥＬ素子の製造方法。    （ａ）オリゴマー材料及び高分子材料を有機溶剤に溶解し、塗布液を調製する工程    （ｂ）該塗布液を隔壁によってストライプ状となっている陽極又は陰極上に連続して塗布する工程【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と陰極との間に挟持される有機化合物層を、以下の工程（ａ）及び（ｂ）により形成することを特徴とする、有機ＥＬ素子の製造方法。
（ａ）オリゴマー材料及び高分子材料を有機溶剤に溶解し、塗布液を調製する工程
（ｂ）該塗布液を隔壁によってストライプ状となっている陽極又は陰極上に連続して塗布する工程
【請求項２】
前記高分子材料の主鎖を構成する分子ユニットが前記オリゴマー材料の主鎖を構成する分子ユニットと同一であることを特徴とする、請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記分子ユニットがフルオレンユニットであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の製造方法により製造することを特徴とする、有機ＥＬ素子。
【請求項５】
請求項４に記載の有機ＥＬ素子を具備することを特徴とする、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電場発光素子は、自発光型のため、視認性が高く、表示性能に優れ、高速応答が可能であり、さらには薄型化が可能であることから、平板状ディスプレイ等の表示素子として注目を集めている。
【０００３】
中でも、有機化合物を発光体とする有機ＥＬ素子は、無機ＥＬ素子と比較して低電圧駆動が可能なこと、大面積化が容易なこと、適当な色素を選ぶことにより、所望の発光色を容易に得られること等の特徴を有する。このため、有機ＥＬ素子は次世代ディスプレイとして活発に開発が行われている。
【０００４】
有機発光材料を使用した有機ＥＬ素子を製造する方法としては、低分子化合物を真空蒸着法等のドライプロセスによって成膜するタイプと、有機材料を有機溶剤に溶解し塗布するプロセスによって成膜するタイプがある。
【０００５】
ここで塗布法により製造される有機ＥＬ素子（以下、塗布型有機ＥＬ素子という。）はドライプロセスにより製造される有機ＥＬ素子と比べて、以下の特長を有する。
【０００６】
（ａ）低コストである
（ｂ）大面積化が容易である
（ｃ）微量なドーピングの制御性に優れる
【０００７】
ところで塗布型有機ＥＬ素子の構成材料として、一般的に高分子化合物が使用される。これは、高分子化合物が高いアモルファス性を有しているため、低分子系に比べて結晶化が起こりにくく塗布プロセスに適しているためである。しかし、高分子化合物を構成材料として使用した塗布型有機ＥＬ素子は、寿命が十分でないといった課題がある。
【０００８】
寿命が十分でない原因については、様々なことが考えられるが、その原因の一つとしては、高分子化合物の精製が困難であり高純度化ができないことが挙げられる。この問題の解決手段の一つとして、高分子材料と比較して精製が容易であり、低分子材料と比較してアモルファス性が高い性質を有するオリゴマー材料を使用する方法が考えられる。
【０００９】
オリゴマー材料を有機ＥＬ素子に適用した例として、例えば、非特許文献１乃至３及び特許文献１が挙げられる。
【００１０】
一方、塗布型有機ＥＬ素子の製造方法として、量産性に優れたノズルプリンティング法（非特許文献４参照）等が採用され、研究、開発がなされている。
【００１１】
【特許文献１】特開２００３−５５２７５号公報
【非特許文献１】Ｓ．Ｗ．Ｃｕｌｌｉｇａｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌ，２００３，１５，Ｎｏ．１４，ｐ１１７６．
【非特許文献２】Ａ．Ｌ．Ｋａｎｉｂｏｌｏｔｓｋｙ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，２００４，１２６，ｐ１３６９５．
【非特許文献３】Ｇ．Ｌ．Ｆｅｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．Ｌｅｔｔ．，２００６，４７，ｐ７０８９．
【非特許文献４】０５  ＳＩＤ  Ｄｉｇｅｓｔ  Ｐ．１１９２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ここで、ノズルプリンティング法は、隔壁を設けることによってストライプ状となった基板又は電極上に、有機ＥＬ素子の構成材料を溶解した溶液を連続塗布する方法として有用である。しかし、連続塗布する溶液がオリゴマー材料を溶解した溶液である場合は、当該隔壁の周辺でオリゴマー材料溶液がはじかれるため、塗布によって形成される薄膜の安定性・再現性が得られないといった課題があった。またオリゴマー材料溶液がはじかれる現象は、特に、フルオレンユニットを有するオリゴマー材料等で顕著であることが見出されている。
【００１３】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、隔壁によってストライプ状となっている基板又は電極上に、オリゴマー材料からなる薄膜を安定かつ再現性よくパターニングするための有機ＥＬ素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、陽極と陰極との間に挟持される有機化合物層を、以下の工程（ａ）及び（ｂ）により形成することを特徴とする。
【００１５】
（ａ）オリゴマー材料及び高分子材料を有機溶剤に溶解し、塗布液を調製する工程
（ｂ）該塗布液を隔壁によってストライプ状となっている陽極又は陰極上に連続して塗布する工程
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、隔壁によってストライプ状となっている基板又は電極上に、オリゴマー材料からなる薄膜を安定かつ再現性よくパターニングするための有機ＥＬ素子の製造方法が提供できる。オリゴマー材料と高分子材料とを混合した塗布液を調製することにより、塗布後における当該塗布液のはじきを抑制し、塗布によって形成される薄膜の安定性・再現性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
まず本発明の有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、陽極と陰極との間に挟持される有機化合物層を、以下の工程（ａ）及び（ｂ）により形成することを特徴とする。
【００１８】
（ａ）オリゴマー材料及び高分子材料を有機溶剤に溶解し、塗布液を調製する工程
（ｂ）該塗布液を隔壁によってストライプ状となっている陽極又は陰極上に連続して塗布する工程
まず工程（ａ）について説明する。
【００１９】
工程（ａ）において使用されるオリゴマー材料とは、分子量が１０００乃至１００００であり、材料全体の９５％以上が同一分子量である化合物である材料をいう。このオリゴマー材料は、例えば、カラムクロマトグラフィーやゲル浸透クロマトグラフィー等の精製法により、高純度化が可能である。
【００２０】
工程（ａ）において使用されるオリゴマー材料の具体例を以下に示す。しかし、本発明はこれに限定されない。
【００２１】
【化１】
2009094180.tif 000002
【００２２】
【化２】
2009094180.tif 000003
【００２３】
【化３】
2009094180.tif 000004
【００２４】
一方、工程（ａ）において使用される高分子材料とは、好ましくは、分子量１万以上の高分子化合物である。尚、当該高分子化合物の分子量分布は特に限定されない。
【００２５】
工程（ａ）において使用される高分子材料は、好ましくは、主鎖を構成する分子ユニットがオリゴマー材料の主鎖を構成する分子ユニットと同一である。主鎖を構成する分子ユニットを同一にすることにより、高分子材料とオリゴマー材料との相溶性を高めることができると共にオリゴマー材料同士が凝集するのを抑制することができる。これにより隔壁周辺部で起こり得る塗布液のはじきが抑制されるので、塗布の安定性・再現性を向上させることが可能となる。
【００２６】
上記分子ユニットとして、好ましくは、フルオレンユニットである。フルオレン骨格は、化学的・熱的・電気化学的に安定であり、有機ＥＬ材料として優れた性能を示すことが知られている。このため主鎖がフルオレンユニットで構成されるオリゴマー材料及び高分子材料を使用することにより、優れた性能を示す有機ＥＬ素子を安定性・再現性よく製造することが可能となる。
【００２７】
工程（ａ）において使用される高分子材料の具体例を以下に示す。しかし、本発明はこれに限定されない。
【００２８】
【化４】
2009094180.tif 000005
【００２９】
【化５】
2009094180.tif 000006
【００３０】
工程（ａ）において、オリゴマー材料と高分子材料との混合比率は、特に限定されることはなく、素子の性能、塗布の安定性・再現性等所望の目的に従って適宜選択することができる。ここでオリゴマー材料と高分子材料との混合物に対する高分子材料の重量濃度は、好ましくは、０．１重量％乃至５０重量％であり、さらに好ましくは、１重量％乃至３０重量％である。基本的に不純物が混入する可能性が高い高分子材料は少量である方が好ましい。ただし材料の組み合わせ等によっては、高分子材料の重量濃度を大きくすることで、素子のキャリアバランス等が改善され、オリゴマー材料のみ及び高分子材料のみの場合よりも高効率あるいは長寿命となる場合もある。
【００３１】
工程（ａ）において、使用する有機溶剤としては、上記のオリゴマー材料及び高分子材料が溶解するものであれば特に限定はされない。具体的には、トルエン、ｐ−キシレン、クロロベンゼン、アニソール、４−メチルアニソール、テトラリン、メシチレン等が挙げられる。これらの溶剤は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を混合して使用してもよい。ただし、使用する有機溶剤の沸点が低いと、ノズルの目詰まりを起こしたり、表面張力の小さいために安定した塗布ができなかったりする等の問題があるため、好ましくは、沸点が１００℃以上の有機溶剤を使用する。
【００３２】
次に、工程（ｂ）について説明する。
【００３３】
以下図面を参照しながら、工程（ｂ）を含めた有機ＥＬ素子の製造方法を詳細に説明する。
【００３４】
図１は、工程（ｂ）を断面方向からみた模式図である。図１において、基板１０１上には、陽極１０２が設けられると共に、陽極１０２を両端からはさむ隔壁１０３が設けられている。工程（ｂ）を行うときは、両端の隔壁１０３にはさまれている陽極１０２又は基板１０１の真上の位置に吐出部１０４の先端を合わせて、吐出部１０４より塗布液１０５を吐出することにより行う。
【００３５】
吐出部１０４は、通常シリンジにフッ素加工した金属ニードルやセラミック製のニードルを装着したものが使用される。このときシリンジ内の塗布液は圧力により吐出される。圧力はエアー式により加圧するタイプやメカニカルに加圧するタイプ等があるが、特にこれに限定されるものではない。またシリンジに一定の圧力がかかると、吐出部１０４の先端より塗布液１０５が連続的に吐出され隔壁１０３と隔壁１０３と間にある基板１０１又は陽極１０２上に有機化合物層となる薄膜が成膜される。
【００３６】
また、図２は、工程（ｂ）を行う際に使用される基板の平面図である。基板１０１上に隔壁１０３を設けることにより、基板１０１上に設けられている陽極１０２、及び基板１０１はストライプ状に分割されている。工程（ｂ）は、このストライプに工程（ａ）で調製した塗布液を塗布することにより行われる。
【００３７】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、上述した塗布液調製工程である工程（ａ）、塗布工程である工程（ｂ）、及びそのほかの工程からなるものである。これらの工程を経て製造される有機ＥＬ素子について、図面を参照しながら説明する。
【００３８】
図３は、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法によって製造される有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。図３の有機ＥＬ素子１は、基板１０１上に陽極１０２が設けられ、この陽極１０２の両端に隔壁１０３が設けられている。また、陽極１０２上には、正孔注入層２、発光層３、電子輸送層４及び陰極５が順次設けられている。尚、電子輸送層４及び陰極５は、隔壁１０３上及びその周辺部にも設けられている。図３に示される素子構成は塗布型有機ＥＬ素子における最も一般的な素子構成であるが、本発明においてはこれに限定されるものではい。
【００３９】
図３で示される有機ＥＬ素子１を製造する場合、陽極１０２、隔壁１０３、正孔注入層２、発光層３、電子注入層４、陰極５の順番で形成される。以下に具体的方法を述べる。
【００４０】
陽極１０２は、一般的に、スパッタ法等により形成される。隔壁１０３は、一般的に、ポリイミド等の感光性有機材料をフォトリソグラフィーによりパターニングすることにより形成される。また隔壁１０３を設けることにより、基板１０１及び陽極１０２がストライプ状に分割されるので、隔壁１０３のパターニングで使用されるフォトマスクもストライプ状である。正孔注入層２を形成する方法は特に限定されないが、塗布法で形成する場合は工程（ａ）及び（ｂ）によって行ってもよい。発光層３は、工程（ａ）及び（ｂ）を経ることにより形成される。一方、電子注入層４及び陰極５は真空蒸着法により形成される。
【００４１】
次に、有機ＥＬ素子を構成する部材について説明する。
【００４２】
基板１０１となる材料としては、透明性の高いものであれば特に限定されるものではない。例えば、ガラス等の無機材料や、透明樹脂等の有機材料フィルム等が挙げられる。
【００４３】
陽極１０２の構成材料としては、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）や酸化亜鉛インジウム等の透明金属酸化物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４４】
隔壁１０３の構成材料としては、ポリイミド等の感光性有機材料が挙げられるが、これらに限定されるものではない。ここで隔壁１０３を形成する際に、隔壁１０３の表面は塗布液１０５の塗布性を向上させるために撥水性にすることが重要である。撥水性を向上させる方法として、隔壁１０３の表面に撥水処理を施す方法等が挙げられる。ここで撥水処理の方法としては、フッ素、フッ素化合物を含んだガスを導入したプラズマ処理による方法が一般的だが、特に限定されるものではない。
【００４５】
正孔注入層２の構成材料としては、正孔輸送性を有する材料であれば何でもよく、塗布型有機ＥＬ素子で広く使用されるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ等を使用してもよいが、これに限定されるものではない。
【００４６】
発光層３は、上述したオリゴマー材料及び高分子材料からなる有機化合物層である。また発光層３の構成材料としては、上記オリゴマー材料及び高分子材料のほかに別途発光ドーパントを添加してもよい。発光ドーパントとしては、一重項発光材料であるか三重項発光材料であるかを問わず発光材料であれば何でもよい。
【００４７】
一重項発光材料として、ペリレン、クマリン等が挙げられるが、本発明はこれに限られるものではない。
【００４８】
三重項発光材料として、以下に示す化合物が挙げられるが、本発明はこれに限られるものではない。
【００４９】
【化６】
2009094180.tif 000007
【００５０】
電子注入層４の構成材料としては、例えばＬｉＦやＣｓＣＯ3、ＣａＯ等のアルカリ金属やアルカリ土類金属のフッ化物、炭酸化合物、酸化物等が利用できる。また、電子輸送性を有する有機化合物も使用できるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００５１】
陰極５の構成材料としては、一般的に、アルミニウムが挙げられるが、特にこれに限定するものではない。
【００５２】
尚、作製した素子に対して、酸素や水分等との接触を防止する目的で保護層あるいは封止層を設けることもできる。保護層としては、金属酸化物、金属窒化物等の無機材料膜、フッソ樹脂、ポリパラキシレン、ポリエチレン、ポリスチレン樹脂等の高分子膜、光硬化性樹脂等が挙げられる。また、ガラス、気体不透過性フィルム、金属等をカバーし、適当な封止樹脂により素子自体をパッケージングすることもできる。
【００５３】
ところで図３に示した有機ＥＬ素子はボトムエミッション構造であるが、本発明の製造方法はトップエミッション構造の素子においても適用可能である。
【００５４】
また、本発明の製造方法は有機化合物層であれば発光層以外にも容易に応用可能である。例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層等有機ＥＬ素子を構成する層が挙げられる。
【００５５】
次に、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法によって製造された有機ＥＬ素子を具備する表示装置について説明する。以下、図面を参照しながら、アクティブマトリクス形式を例にとってその表示装置について説明する。
【００５６】
図４は、表示装置の一形態である、本発明の有機ＥＬ素子と駆動手段とを具備した表示装置の構成例を模式的に示す図である。図４の表示装置６は、走査信号ドライバー６０１、情報信号ドライバー６０２、電流供給源６０３が配置され、それぞれゲート選択線Ｇ、情報信号線Ｉ、電流供給線Ｃに接続される。ゲート選択線Ｇと情報信号線Ｉの交点には、画素回路２４が配置される。走査信号ドライバー６０１は、ゲート選択線Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３・・・Ｇｎを順次選択し、これに同期して情報信号ドライバー６０２から画像信号が情報信号線Ｉ１、Ｉ２、Ｉ３・・・Ｉｎのいずれかを介して画素回路６０４に印加される。
【００５７】
次に、画素の動作について説明する。図５は、図４の表示装置に配置されている１つの画素を構成する回路を示す回路図である。図５に示される画素回路８は、第一のトランジスタ８０１、第二のトランジスタ８０２、キャパシタ８０３及び有機ＥＬ素子８０４よりなる。図５の画素回路８においては、ゲート選択線７０１に選択信号が印加されると、第一の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１）８０１がＯＮになり、キャパシタ８０３に画像信号７０２が供給され、第二の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ２）８０２のゲート電圧を決定する。有機電界発光素子８０４には第二の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ２）（８０２）のゲート電圧に応じて電流供給線７０３より電流が供給される。ここで、第二の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ２）８０２のゲート電位は、第一の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１）８０１が次に走査選択されるまでキャパシタ８０３に保持される。このため、有機電界発光素子８０４には、次の走査が行われるまで電流が流れ続ける。これにより１フレーム期間中常に有機電界発光素子８０４を発光させることが可能となる。
【００５８】
図６は、図４の表示装置で用いられるＴＦＴ基板の断面構造の一例を示した模式図である。ＴＦＴ基板の製造工程の一例を示しながら、構造の詳細を以下に説明する。図６の表示装置９００を製造する際には、まずガラス等の基板９０１上に、上部に作られる部材（ＴＦＴ又は有機層）を保護するための防湿膜９０２がコートされる。防湿膜９０２を構成する材料として、酸化ケイ素又は酸化ケイ素と窒化ケイ素との複合体等が用いられる。次に、スパッタリングによりＣｒ等の金属を製膜することで、所定の回路形状にパターニングしてゲート電極９０３を形成する。続いて、酸化シリコン等をプラズマＣＶＤ法又は触媒化学気相成長法（ｃａｔ−ＣＶＤ法）等により製膜し、パターニングしてゲート絶縁膜９０４を形成する。次に、プラズマＣＶＤ法等により（場合によっては２９０℃以上の温度でアニールして）シリコン膜を製膜し、回路形状に従ってパターニングすることで半導体層９０５を形成する。
【００５９】
さらに、この半導体膜９０５にドレイン電極９０６とソース電極９０７とを設けることでＴＦＴ素子９０８を作製し、図５に示すような回路を形成する。次に、このＴＦＴ素子９０８の上部に絶縁膜９０９を形成する。次に、コンタクトホール（スルーホール）９１０を、金属からなる有機電界発光素子用の陽極９１１とソース電極９０７とが接続するように形成する。
【００６０】
この陽極９１１の上に、多層あるいは単層の有機層９１２と、陰極９１３とを順次積層することにより、表示装置９を得ることができる。このとき、有機電界発光素子の劣化を防ぐために第一の保護層９１４や第二の保護層９１５を設けてもよい。本発明の有機ＥＬ素子を用いた表示装置を駆動することにより、良好な画質で、長時間表示にも安定な表示が可能になる。
【００６１】
尚、上記の表示装置は、スイッチング素子に特に限定はなく、単結晶シリコン基板やＭＩＭ素子、ａ−Ｓｉ型等でも容易に応用することができる。
【実施例】
【００６２】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。
【００６３】
［実施例１］
まず、以下の方法により図２に示される有機ＥＬ素子用基板を作製した。
【００６４】
ガラスからなる基板（基板１０１）上のうち、表示領域に該当する部分について、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）をスパッタ法により成膜し陽極１０２を形成した。このとき陽極１０２の膜厚は１１０ｎｍであった。
【００６５】
次に、感光性ポリイミド材料（東レ製、フォトニース）からなる隔壁１０３をフォトリソグラフィーにより形成した。具体的には、基板１０１上に感光性ポリイミド材料を塗布し、スピンコーターにて初期回転数を５００ｒｐｍとして１０秒回転させ、二次回転数を１５００ｒｐｍとして３０秒回転させることで成膜した。成膜後、１２０℃に設定したホットプレートを用いて３分間ベークを行った。ベーク後、パターンが形成されたフォトマスクを用い、露光・現像を行った。露光する際に露光量は１５０ｍＪとした。また現像する際に現像液として２．３８％ＴＭＡＨ溶液を使用し、現像作業は４０秒行った。次に、このポリイミド付基板を乾燥した後、温度を２３０℃に設定したクリーンオーブンを用いて３０分間キュアを行った。以上の工程により基板１０１及び陽極１０２上に隔壁１０３を設けた。
【００６６】
ここで、形成された隔壁１０３の高さは３μｍであり、隔壁１０３の幅は３０μｍであり、隔壁間の幅は２００μｍであり、隔壁１０３に挟まれたストライプ状の画素ラインは１００本であった。
【００６７】
次に、隔壁１０３を形成した時に生じた残存有機物を除去するためにＵＶオゾン処理を１０分行った。
【００６８】
次に、ＣＦ4ガスによるフッ素プラズマ処理を行うことで、隔壁１０３に撥液性を付与した。ここで、ＣＦ4プラズマ処理を行うにあたり、プラズマパワーを１５０Ｗとし、四フッ化メタンガス流量を８０ｍｌ／ｍｉｎとした。
【００６９】
次に、以下の工程により正孔注入層２を陽極１０２上に形成した。具体的には、まず隔壁１０３によってストライプ状となっている空間に、連続塗布できる塗布装置を用いて正孔注入材料であるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（バイトロン社製、Ｐ  Ａｌ−４０８３）を連続的に塗布した。次に、温度を２００℃に設定したホットプレートを用いて３０分間ベークすることにより正孔注入層２を形成した。このとき正孔注入層２の膜厚は３０ｎｍであった。尚、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを塗布する際に、ポリテトラフルオロエチレンで加工した口径８０μｍの金属ニードルを使用し、大気中で、ニードルと基板１０１間の距離を３０μｍとし、ニードルと基板１０１との相対速度を４５０ｍｍ／ｓｅｃとして連続的に塗布した。
【００７０】
次に、以下の工程により発光層３を正孔注入層２上に形成した。具体的には、まず以下に示す化合物を４−メチルアニソールに溶解した溶液をそれぞれ用意した。
【００７１】
（ｉ）溶液１：例示化合物Ｎｏ．２（純度９９．９Ｗｔ％、分子量２４８８）の１．０重量％の４−メチルアニソール溶液
【００７２】
（ｉｉ）溶液２：例示化合物Ｎｏ．１０１（平均分子量：７６０００ｇ／ｍｏｌ、サンズ社製）の１．０重量％の４−メチルアニソール溶液
【００７３】
（ｉｉｉ）溶液３：三重項発光材料であるＩｒ（Ｃ8−ｐｉｑ）3の１．０重量％の４−メチルアニソール溶液
【００７４】
次に、溶液１と溶液２とを、重量混合比で９３：７となるように混合した。次いで、溶液３を、溶液１、溶液２及び溶液３の全重量に対して１重量％となるように混合した。以上のようにして発光層用塗布液を調製した。
【００７５】
次に、この塗布液を正孔注入層２上に連続的に塗布した。次に、温度を１５０℃に設定したホットプレートを用いて１０分間ベークすることにより、発光層３を形成した。このとき発光層３の膜厚は９０ｎｍであった。尚、上記塗布液を塗布する際に、窒素雰囲気下で行い、ポリテトラフルオロエチレンで加工した口径８０μｍ金属ニードルを使用し、ニードルと基板１０１との距離を３０μｍとし、ニードルと基板１０１との相対速度を３００ｍｍ／ｓｅｃとして連続的に塗布した。
【００７６】
次に、真空蒸着装置を用いて、真空蒸着法によりＣｓ2ＣＯ3を成膜し電子注入層４を形成した。このとき電子注入層４の膜厚を３ｎｍとした。次に、真空蒸着法によりＡｌを成膜し上部電極を形成した。このとき上部電極の膜厚を１５０ｎｍとした。
【００７７】
次に、上部電極まで形成した有機ＥＬ素子を真空から窒素ガス中に移動して、画素部分を覆うように吸湿剤を備えたガラスキャップを接着した。以上により有機ＥＬ素子を得た。
【００７８】
得られた素子について、ＩＴＯを正極、Ａｌを負極にして、直流電圧を印加すると赤色の発光が観測された。このとき色度座標は、ＮＴＳＣ（Ｘ，Ｙ）＝（０．６５，０．３３）であった。また本実施例の有機ＥＬ素子について、輝度、最大外部量子効率、電力効率の性能についても評価した。尚、各特性の評価方法は、有機ＥＬ発光特性評価装置（株式会社クレイドル製）で測定した。上記装置は暗箱、輝度計、マルチチャンネル分光器、素子駆動電源及び解析装置で構成され、素子への駆動電流、駆動電圧をプログラムにより制御して、輝度、素子の電流−輝度特性、電圧−輝度特性、電圧−電流特性が得られる。これにより、輝度、最大外部量子効率、電力効率が測定できる。
【００７９】
結果を表１に示す。
【００８０】
［実施例２］
実施例１において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液１と溶液２との混合比を、溶液１：溶液２＝８５：１５とした以外は、実施例１と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【００８１】
［実施例３］
実施例１において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液１と溶液２との混合比を、溶液１：溶液２＝６０：４０とした以外は、実施例１と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【００８２】
［比較例１］
実施例１において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液１と溶液２との混合比を、溶液１：溶液２＝１００：０とした以外は、実施例１と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【００８３】
［比較例２］
実施例１において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液１と溶液２との混合比を、溶液１：溶液２＝０：１００とした以外は、実施例１と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【００８４】
［比較例３］
実施例１において、溶液１に代えて以下に示す化合物を４−メチルアニソールに溶解した溶液を用意した。
【００８５】
（ｉｖ）溶液４：下記に示す比較化合物Ｎｏ．１の１．０重量％の４−メチルアニソール溶液
【００８６】
【化７】
2009094180.tif 000008
【００８７】
また発光層用塗布液を調製する際に、溶液４と溶液２との混合比を、溶液４：溶液２＝５０：５０とした。これらを除いては、実施例１と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【００８８】
【表１】
2009094180.tif 000009
【００８９】
表１より、発光層の構成材料を、オリゴマー材料（例示化合物Ｎｏ．２）と高分子材料（例示化合物Ｎｏ．１０１）との混合物とすると、オリゴマー材料のみ及び高分子材料のみの場合と比較して素子の高効率化及び低電圧化が確認できた。
【００９０】
［実施例４］
発光層用塗布液を調製するために、以下に示す化合物を４−メチルアニソールに溶解した溶液を用意した。
【００９１】
（ｖ）溶液５：例示化合物Ｎｏ．９（純度９９．９Ｗｔ％、分子量２５１８）の１．０重量％の４−メチルアニソール溶液
【００９２】
（ｖｉ）溶液６：例示化合物Ｎｏ．１０４（平均分子量：１０万ｇ／ｍｏｌ、サンズ社製）の１．０重量％の４−メチルアニソール溶液
【００９３】
次に、溶液５と溶液６とを、重量混合比で９５：５となるように混合した。次いで、溶液３を、溶液５、溶液６及び溶液３の全重量に対して１０重量％となるように混合した。以上のようにして発光層用塗布液を調製した。
【００９４】
上記以外は実施例１と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。
【００９５】
得られた素子について、駆動半減寿命について評価した。
【００９６】
尚、駆動半減寿命とは、初期輝度を１００ｃｄ／ｍ2に設定したときに、有機ＥＬ素子の駆動を開始してから該輝度が５０％に減衰するまでの時間をいう。駆動半減寿命の測定には、最大外部量子効率、電力効率、輝度測定の場合と同様の装置（有機ＥＬ発光特性評価装置、株式会社クレイドル製）を使用して測定した。
【００９７】
結果を表２に示す。
【００９８】
［実施例５］
実施例４において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液５と溶液６との混合比を、溶液５：溶液６＝９０：１０とした以外は、実施例４と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例４と同様に評価した。結果を表２に示す。
【００９９】
［実施例６］
実施例４において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液５と溶液６との混合比を、溶液５：溶液６＝８０：２０とした以外は、実施例４と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例４と同様に評価した。結果を表２に示す。
【０１００】
［実施例７］
実施例４において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液５と溶液６との混合比を、溶液５：溶液６＝７０：３０とした以外は、実施例４と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例４と同様に評価した。結果を表２に示す。
【０１０１】
［比較例４］
実施例４において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液５と溶液６との混合比を、溶液５：溶液６＝１００：０とした以外は、実施例４と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例４と同様に評価した。結果を表２に示す。
【０１０２】
［比較例５］
実施例４において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液５と溶液６との混合比を、溶液５：溶液６＝０：１００とした以外は、実施例４と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例４と同様に評価した。結果を表２に示す。
【０１０３】
［比較例６］
実施例４において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液５の代わりに、比較例３で使用した溶液４を使用し、溶液４と溶液６との混合比を、溶液４：溶液６＝５０：５０とした以外は、実施例４と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例４と同様に評価した。結果を表２に示す。
【０１０４】
【表２】
2009094180.tif 000010
【０１０５】
［実施例８］
発光層用塗布液を調製するために、以下に示す化合物を４−メチルアニソールに溶解した溶液を用意した。
【０１０６】
（ｖｉｉ）溶液７：例示化合物Ｎｏ．１２（純度９９．９Ｗｔ％、分子量２９９２）の１．０重量％の４−メチルアニソール溶液
【０１０７】
次に、溶液７と溶液６とを、重量混合比で８０：２０となるように混合した。次いで、溶液３を、溶液７、溶液６及び溶液３の全重量に対して１０重量％となるように混合した。以上のようにして発光層用塗布液を調製した。
【０１０８】
上記以外は実施例４と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例４と同様に評価した。結果を表３に示す。
【０１０９】
［実施例９］
実施例８において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液７と溶液６との混合比を、溶液７：溶液６＝７０：３０とした以外は、実施例８と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例８と同様に評価した。結果を表３に示す。
【０１１０】
［実施例１０］
実施例８において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液７と溶液６との混合比を、溶液７：溶液６＝６０：４０とした以外は、実施例８と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例８と同様に評価した。結果を表３に示す。
【０１１１】
［比較例７］
実施例８において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液７と溶液６との混合比を、溶液７：溶液６＝１００：０とした以外は、実施例８と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例８と同様に評価した。結果を表３に示す。
【０１１２】
［比較例８］
実施例８において、発光層用塗布液を調製する際に、溶液７と溶液６との混合比を、溶液７：溶液６＝０：１００とした以外は、実施例８と同様の方法により有機ＥＬ素子を作製した。得られた素子について、実施例８と同様に評価した。結果を表３に示す。
【０１１３】
【表３】
2009094180.tif 000011
【０１１４】
表２及び表３より、発光層の構成材料を、オリゴマー材料（例示化合物Ｎｏ．９、Ｎｏ．１２）と高分子材料（例示化合物Ｎｏ．１０４）との混合物とすると、オリゴマー材料のみ及び高分子材料のみの場合と比較して素子の長寿命化が確認できた。
【０１１５】
（塗布不良発生率の評価）
作製した有機ＥＬ素子について、塗布を行った１００本のストライプの中で、有機ＥＬ材料のはじきによる塗布不良の割合を比較した。図７は、実際に有機ＥＬ材料を塗布した場合にはじきが起こらなかった場合の一例を示す光学顕微鏡図である（実施例３）。一方、図８は実際に有機ＥＬ材料を塗布した場合にはじきが起こった場合の一例を示す光学顕微鏡図である（比較例１）。以下の表は、上記の実施例及び比較例において、ストライプ１００本中で塗布不良と判断されたストライプの比率（塗布不良発生率）を示すものである。
【０１１６】
【表４】
2009094180.tif 000012
【０１１７】
表４より、実施例の有機ＥＬ素子は、比較例の有機ＥＬ素子と比較して、塗布不良発生率が低減されていることが確認できた。また比較化合物Ｎｏ．１を発光層の構成材料として使用した場合（比較例３及び比較例６）では、塗布不良発生率は比較的低いものの０ではなかった。これは比較化合物Ｎｏ．１の分子量が８３０と比較的小さいため、オリゴマー材料（実施例）と比較して化合物自体の結晶性がより高かったためであると考えられる。
【０１１８】
また実施例１乃至３において、オリゴマー材料（オリゴフルオレン化合物）と高分子材料（ポリフルオレン化合物）とを混合した発光層を形成することで、素子の高効率化及び低電圧化が確認された。これは、オリゴマー材料に高分子材料を混合することで、オリゴマー材料の結晶化や凝集を抑え、良好な膜質を得ることができたためと考えられる。
【０１１９】
一方実施例４乃至１０において、オリゴマー材料と高分子材料（例示化合物Ｎｏ．１０４）とを混合した発光層を形成することで、素子の長寿命化が確認された。これはアミンユニットを含むポリフルオレン化合物である例示化合物Ｎｏ．１０４を混合することによって、キャリアのバランスが改善され、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ界面に蓄積される電荷を減少させることができたためであると考えられる。
【０１２０】
従って、本発明によればオリゴマー材料と高分子材料を混合することで、隔壁によってストライプ状となっている電極付基板上に、安定かつ再現性良く発光層等の有機化合物層パターニングすることが可能となる。さらにオリゴマー材料と高分子材料との組み合わせによっては素子性能の向上も図ることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
以上のように、本発明の製造方法は、比較的安価な塗布法でより安定性・再現性良く有機ＥＬ素子を製造する方法として有用である。また、本発明の製造方法により製造された有機ＥＬ素子は、デイスプレイパネル、表示装置の構成デバイスとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】工程（ｂ）を断面方向からみた模式図である。
【図２】工程（ｂ）を行う際に使用される基板の平面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ素子の製造方法によって製造される有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。
【図４】表示装置の一形態である、本発明の有機ＥＬ素子と駆動手段とを具備した表示装置の構成例を模式的に示す図である。
【図５】図４の表示装置に配置されている１つの画素を構成する回路を示す回路図である。
【図６】図４の表示装置で用いられるＴＦＴ基板の断面構造の一例を示した模式図である。
【図７】実際に有機ＥＬ材料を塗布した場合にはじきが起こらなかった場合の一例を示す光学顕微鏡図である（実施例３）。
【図８】実際に有機ＥＬ材料を塗布した場合にはじきが起こった場合の一例を示す光学顕微鏡図である（比較例１）。
【符号の説明】
【０１２３】
１  有機ＥＬ素子
２  正孔注入層
３  発光層
４  電子注入層
５  陰極
１０１  基板
１０２  陽極
１０３  隔壁
１０４  吐出部
１０５  塗布液
６，９  表示装置
６０１  走査信号ドライバー
６０２  情報信号ドライバー
６０３  電流供給源
６０４，８  画素回路
７０１  ゲート選択線
７０２  情報信号線
７０３  電源供給線
８０１  第一のトランジスタ
８０２  第二のトランジスタ
８０３  キャパシタ
８０４  有機ＥＬ素子
９０１  基板
９０２  防湿層
９０３  ゲート電極
９０４  ゲート絶縁膜
９０５  半導体膜
９０６  ドレイン電極
９０７  ソース電極
９０８  ＴＦＴ素子
９０９  絶縁膜
９１０  コンタクトホール（スルーホール）
９１１  陽極
９１２  有機層
９１３  陰極
９１４  第一の保護層
９１５  第二の保護層
【図１】
2009094180.tif 000013
【図２】
2009094180.tif 000014
【図３】
2009094180.tif 000015
【図４】
2009094180.tif 000016
【図５】
2009094180.tif 000017
【図６】
2009094180.tif 000018
【図７】
2009094180.tif 000019
【図８】
2009094180.tif 000020