(57)【要約】【課題】所望の偏光特性を示す偏光板を安定的に連続して製造可能な方法の提供。【解決手段】（ａ）未処理又は少なくとも第１の処理を施された長尺のポリマーフィルムを準備すること、（ｂ）未処理又は少なくとも第２の処理を施された長尺の偏光膜を準備すること、（ｃ）少なくとも（ａ）で準備された長尺のポリマーフィルムと（ｂ）で準備された長尺の偏光膜とを貼り合せ処理して長尺の積層体を得ることを連続的に行ない、（ｄ）（ｃ）で得られた長尺の積層体の偏光特性を示す少なくとも一の特性値αを得ること、（ｅ）（ｄ）で測定された特性値αと、あらかじめ決定されている設計値α0とを比較すること、（ｆ）（ｅ）の比較に基づいて、（ａ）の第１の処理、（ｂ）の第２の処理、及び（ｃ）の貼り合せ処理から選ばれる少なくとも一の処理中の少なくとも一の条件を制御することを含む偏光板の製造方法である。【選択図】図１
2009048162.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（ａ）〜（ｃ）：
（ａ）  未処理又は少なくとも第１の処理を施された長尺のポリマーフィルムを準備すること、
（ｂ）  未処理又は少なくとも第２の処理を施された長尺の偏光膜を準備すること、
（ｃ）  少なくとも（ａ）で準備された長尺のポリマーフィルムと（ｂ）で準備された長尺の偏光膜とを貼り合せ処理して長尺の積層体を得ること、
を連続的に行なう偏光板の製造方法であって、
（ｄ）  （ｃ）で得られた長尺の積層体の偏光特性を示す少なくとも一の特性値αを得ること、
（ｅ）  （ｄ）で得られた特性値αと、あらかじめ決定されている設計値α0とを比較すること、
（ｆ）  （ｅ）における比較に基づいて、（ａ）における第１の処理、（ｂ）における第２の処理、及び（ｃ）の貼り合せ処理から選ばれる少なくとも一の処理の少なくとも一の条件を制御すること、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２】
特性値αが、積層体の二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ｅ）において、積層体の二色性ベクトルＤと二色性ベクトルの設計値Ｄ0との差ΔＤ、及び／又は、積層体の偏光能ベクトルＰと偏光解消性の設計値ＤＰ0との差ΔＤＰを算出することを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
（ｄ）において、デュアル・ローテート・リターダー方式の偏光測定器を用いて、積層体を通過した偏光を検出し、その検出値から積層体の二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰを算出することを特徴とする請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
（ｄ）において、積層体の表面に対して極角θ（０°＜θ＜９０°）だけ傾けた方向から入射した光の偏光状態を検出して、その検出値から二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰを算出することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
（ｄ）において、長尺の積層体の長手方向を基準として、方位角φ（０°＜φ＜９０°）の方向において、積層体の表面に対して極角θだけ傾けた方向から入射した光の偏光状態を検出して、その検出値から二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰを算出することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
（ｄ）において、少なくとも、偏光膜、及びその両面のそれぞれにポリマーフィルムを有する積層体の特性値を得ることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
第１の処理が、ポリマーフィルムの面内レターデーション及び／又は厚さ方向のレターデーションに影響を与える処理であり、（ｆ）において、第１の処理の少なくとも一の条件が制御されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
第１の処理が、鹸化処理、延伸処理及び粘着剤塗布処理から選ばれる少なくとも一の処理であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
（ａ）において、少なくとも鹸化処理が施されたポリマーフィルムが準備され、（ｆ）において、鹸化処理の時間、温度、及び処理液の塩基濃度から選ばれる少なくとも一の条件が制御されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
（ａ）において、少なくとも延伸処理が施されたポリマーフィルムが準備され、（ｆ）において、延伸処理の延伸倍率が制御されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
（ａ）において、少なくとも粘着剤塗布処理が施されたポリマーフィルムが準備され、及び／又は、（ｂ）において、少なくとも粘着剤塗布処理が施された偏光膜が準備され、（ｆ）において、（ａ）及び／又は（ｂ）における粘着剤塗布処理の時間、温度、粘着剤濃度、塗布量、及び乾燥時間の少なくとも一の条件が制御されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は偏光板の製造方法に関し、特に長尺の偏光板を連続的に製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光板の偏光特性は、それが用いられる液晶表示装置等のモードなどに応じて、最適化されることが望ましい。ところで、偏光板は、一般的には、偏光膜とその両面にポリマーフィルムからなる保護フィルムを有する積層体であるので、積層体である偏光板の偏光特性は、保護フィルムとして用いられるポリマーフィルムの光学特性、具体的には面内レターデーション及び厚み方向のレターデーション等、に大きく影響される。そのため、通常、所望の偏光特性の偏光板を得るように保護フィルムが設計され、その設計に沿ったポリマーフィルムが製造され、偏光板の製造に用いられている。従って、従来は、所望の偏光特性の偏光板を連続的に安定的に製造するという課題は、通常、偏光板保護フィルム用に設計されたポリマーフィルムを、光学特性の変動がないように、連続して安定的に製造し、偏光膜と連続して貼り合せることで達成していた。
フィルム全面にわたってレターデーションのバラツキが小さい位相差フィルムを製造する方法の一例が、特許文献１に記載されている。
また、偏光板の製造方法として、特許文献２〜５に記載の方法も提案されている。
【特許文献１】特開２００１−２７２５３７号公報
【特許文献２】特許第３９０８４７０号公報
【特許文献３】特許第３６１５５３８号公報
【特許文献４】特許第３３１５２５６号公報
【特許文献５】特許第３４２７１３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、所望の偏光特性を示す偏光板を、安定的に連続して製造可能な方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
従来、偏光板の製造においては、保護フィルムとして用いるポリマーフィルムの光学特性を設計値から変動させないように、ポリマーフィルムの処理工程や、該ポリマーフィルムと偏光膜との貼り合せ処理の条件が管理されていたが、本発明は、従来技術のこの考え方とは全く異なり、ポリマーフィルム及び偏光膜の積層体の偏光特性を示す特性値を測定し、その測定値と設計値とを比較して、保護フィルム用のポリマーフィルムに施す処理、偏光膜に施す処理、又はそれらの貼り合せ処理の条件を制御するものである。
【０００５】
即ち、前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］下記（ａ）〜（ｃ）：
（ａ）  未処理又は少なくとも第１の処理を施された長尺のポリマーフィルムを準備すること、
（ｂ）  未処理又は少なくとも第２の処理を施された長尺の偏光膜を準備すること、
（ｃ）  少なくとも（ａ）で準備された長尺のポリマーフィルムと（ｂ）で準備された長尺の偏光膜とを貼り合せ処理して長尺の積層体を得ること、
を連続的に行なう偏光板の製造方法であって、
（ｄ）  （ｃ）で得られた長尺の積層体の偏光特性を示す少なくとも一の特性値αを得ること、
（ｅ）  （ｄ）で得られた特性値αと、あらかじめ決定されている設計値α0とを比較すること、
（ｆ）  （ｅ）における比較に基づいて、（ａ）における第１の処理、（ｂ）における第２の処理、及び（ｃ）の貼り合せ処理から選ばれる少なくとも一の処理の少なくとも一の条件を制御すること、を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
［２］  特性値αが、積層体の二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰであることを特徴とする［１］の方法。
［３］  （ｅ）において、積層体の二色性ベクトルＤと二色性ベクトルの設計値Ｄ0との差ΔＤ、及び／又は、積層体の偏光能ベクトルＰと偏光解消性の設計値ＤＰ0との差ΔＤＰを算出することを特徴とする［２］の方法。
［４］  （ｄ）において、デュアル・ローテート・リターダー方式の偏光測定器を用いて、積層体を通過した偏光を検出し、その検出値から積層体の二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰを算出することを特徴とする［２］又は［３］の方法。
［５］  （ｄ）において、積層体の表面に対して極角θ（０°＜θ＜９０°）だけ傾けた方向から入射した光の偏光状態を検出して、その検出値から二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰを算出することを特徴とする［４］の方法。
［６］  （ｄ）において、長尺の積層体の長手方向を基準として、方位角φ（０°＜φ＜９０°）の方向において、積層体の表面に対して極角θだけ傾けた方向から入射した光の偏光状態を検出して、その検出値から二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰを算出することを特徴とする［５］の方法。
［７］  （ｄ）において、少なくとも、偏光膜、及びその両面のそれぞれにポリマーフィルムを有する積層体の特性値を得ることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかの方法。
［８］  第１の処理が、ポリマーフィルムの面内レターデーション及び／又は厚さ方向のレターデーションに影響を与える処理であり、（ｆ）において、第１の処理の少なくとも一の条件が制御されることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの方法。
［９］  第１の処理が、鹸化処理、延伸処理及び粘着剤塗布処理から選ばれる少なくとも一の処理であることを特徴とする［８］の方法。
［１０］  （ａ）において、少なくとも鹸化処理が施されたポリマーフィルムが準備され、（ｆ）において、鹸化処理の時間、温度、及び処理液の塩基濃度から選ばれる少なくとも一の条件が制御されることを特徴とする［１］〜［９］のいずれかの方法。
［１１］  （ａ）において、少なくとも延伸処理が施されたポリマーフィルムが準備され、（ｆ）において、延伸処理の延伸倍率が制御されることを特徴とする［１］〜［１０］のいずれかの方法。
［１２］  （ａ）において、少なくとも粘着剤塗布処理が施されたポリマーフィルムが準備され、及び／又は、（ｂ）において、少なくとも粘着剤塗布処理が施された偏光膜が準備され、（ｆ）において、（ａ）及び／又は（ｂ）における粘着剤塗布処理の時間、温度、粘着剤濃度、塗布量、及び乾燥時間の少なくとも一の条件が制御されることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの方法。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、二色性ベクトル及び偏光能ベクトル等の偏光板そのものの偏光特性に基づいて、保護フィルムとして用いられるポリマーフィルム、又は偏光膜に施される処理の条件を制御するので、安定して、連続的に所望の偏光特性を示す偏光板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明の偏光板の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
図１は本発明の偏光板の製造方法の一例を示す概略模式図である。
ロール状に巻き取られた長尺のポリマーフィルム１２は、回転ロール１３及び１５によって、長手方向に搬送される（ポリマーフィルム１２ａ）。ポリマーフィルム１２ａには、回転ロール１３及び１５の回転速度差によって延伸処理が施されるとともに、処理手段１４によって処理され（ポリマーフィルム１２ｂ）、さらに処理手段１６によって処理され（ポリマーフィルムｃ）、一対の加圧ロール２６のニップ部に送られる。
【０００８】
一方、ロール状に巻き取られた長尺の偏光膜１８は、長手方向に搬送され（偏光膜１８ａ）、処理手段２０によって処理された後（偏光膜１８ｂ）、加圧ロール２６のニップ部に送られる。同様に、ロール状に巻き取られた長尺のポリマーフィルム２２は、長手方向に搬送され（ポリマーフィルム２２ａ）、処理手段２４によって処理された後（ポリマーフィルム２２ｂ））、加圧ロール２６のニップ部に送られる。
【０００９】
ポリマーフィルム１２ｃ、偏光膜１８ｂ、及びポリマーフィルム２２ｂは、一対の加圧ロール２６のニップ部で積層状態で加圧され、一体となった積層体２８ａとなり、長手方向に搬送され、処理手段３０によって処理された後（積層体２２ｂ）、偏光板２８となりロール状に巻き取られる。ロール状に巻き取られる前に、積層体２８ｂの偏光特性が検出器３２によって検出され、計算機３４に入力される。計算機３４は入力された検出値に基づいて、偏光特性を示す所定の特性値αを算出するとともに、あらかじめ入力されていた対応する設計値α0と比較する。例えば、αとα0との差Δαが算出され、モニタ（不図示）などに表示される。
【００１０】
処理条件の制御に用いられる特性値αは、積層体２８ｂの偏光特性を示す値であるのが好ましく、二色性（ディアテニュエーション）ベクトルＤ、又は偏光能（ポラリザンス）ベクトルＰであるのが好ましい。二色性（ディアテニュエーション）ベクトルＤとは、ポアンカレ球上において、透過光量が最大となる偏光状態を表し、偏光能（ポラリザンス）ベクトルＰとは、ポアンカレ球上において、無偏光を入射した時の出射偏光状態を表す。検出器３２として、デュアル・ローテート・リターダー方式の偏光測定器を用いると、偏光膜と、複屈折性ポリマーフィルムとの積層体のＤ及びＰが測定できるので好ましい。デュアル・ローテート・リターダー方式の偏光測定器は、測定ヘッドが、偏波を作り出す偏光ジェネレータと、偏波を検出する偏光アナライザとを含み、双方のヘッドが、高速回転する波長板と偏光子とで構成されている偏光測定器である。市販品として、Axometrics社のミュラーマトリクス・ポラリメータがあり、これを用いることができる。
特性値αは、その他、繰り込みエリプソメトリーや、一般化エリプソメトリーにより求められる成分でもよいし、ストークスパラメータ（Ｓ１２３）、消光度、透過率、反射率、リタデーション、ヘイズ、散乱率、遅相軸、偏光軸、透湿度、弾性率、水分量、帯電率、導電率、及び抵抗値から選択される少なくとも一種であってもよい。
【００１１】
繰り込みエリプソメトリーにて得られる特性値としては、tpp、tps、tsp、tss等があり、これらの特性値は、下記の式を満たす。
【００１２】
【数１】
2009048162.tif 000003
【００１３】
等方性媒質ではジョーンズマトリクスにおける非対角成分は０になるが、光学異方性媒質では、一般的に０以外の値を持つ。繰り込みエリプソメトリーでは、ψ及びΔが測定値として得られので、この測定値を用いて、次式により解析する。
【００１４】
【数２】
2009048162.tif 000004
【００１５】
一方、一般化エリプソメトリーでは、非対角成分を含めた次式の三項目が測定される。
【００１６】
【数３】
2009048162.tif 000005
【００１７】
一般的には、ΔはＰ波Ｓ波の位相差、ΨはＰ波Ｓ波の強度比に主に関係するパラメータである。よって、これらの値を解析することによって、試料のリターダンスやアブソーバンスに関する情報を得ることができる。多層モデルによる理論値と計測値を比較し、その差が最小になるようにモデルのパラメータをフィッティングすることができる。
【００１８】
以上の方法は、繰り込みエリプソメトリーについては、N. Tanaka, M. Kimura and T. Akahane: Jpn. J. Appl. Phys. 42(2003) 486-491；及び、一般化エリプソメトリーについては、M. Schubert, B. Rheinlander, C. Cremer, H. Schmiedel, J. A. Woollam, C. M. Herzinger and B. Johs: J. Opt. Soc. Am. A13(1996) 1930-1940 に詳細が記載されている。
【００１９】
また、上記の計測方法は、パネルと偏光板が貼合された状態や、パネルのみの計測にも応用できる。パネルは、液晶、配向膜、カラーフィルター、透明電極、ＩＴＯ、透明絶縁膜、ガラス等を含む多層構造からなっている。それらをモデル化して、モデルによる理論値と計測値とを比較し、その差が最小となるように、モデルのパラメータをフィッティングすることで、上記各層の物理パラメータ（屈折率、吸収係数、複屈折率、膜厚等）を得ることができる。これらのパラメータを用いて設計を行うことで、光学フィルム及び、パネルのパラメータを得ることができる。さらに、上記計測を波長ごとに行うことにより、良好な色味についても、理想のパラメータを得ることが可能である。また、セルに電圧を印加した状態で上記計測を行うと、黒状態や白状態だけでなく、中間調の表示性能についても、理想のパラメータを得ることができる。
【００２０】
さらに、干渉を含むような複雑な系については、Y. Ohno, T. Ishinabe, T. Miyashita and T. Uchida, IDW' 07 p. 47 (2007)のように、拡張ジョーンズベクトルをさらに拡張した方法を用いて、より正確なパラメータを得ることもできる。
【００２１】
図２に、検出器３２として、デュアル・ローテート・リターダー方式の偏光測定器を用いて、積層体２８ｂ（図中、積層構造は省略し、単層として示した）の二色性ベクトルＤ、及び偏光能ベクトルＰを測定する方法の一例を示す。検出器３２は、偏光ジェネレータ３２ａによって偏波を作り出し、積層体２８ｂに入射させ、積層体２８ｂを通過した偏波を偏光アナライザ３２ｂで検出する。
偏光膜１８ｂに積層したポリマーフィルム１２ｃ及び／又はポリマーフィルム２２ｂが、レターデーションを示す複屈折フィルムである場合は、積層体２８ｂの表面の法線方向に対して極角θ（０°＜θ＜９０°）だけ傾けた方向から偏波を入射させるのが好ましく、積層体２８ｂの長手方向ｄ１を基準として、方位角φ（０°＜φ＜９０°）の方向において、法線から極角θだけ傾けた方向から偏波を入射した光の偏光状態を検出するのが好ましい。
θは３０〜７０°であるのが好ましく、φは±３０〜±６０°であるのが好ましい。偏光アナライザ３２ｂで検出された偏光状態を示す検出値は、計算機３４に入力され、二色性ベクトルＤ及び／又は偏光能ベクトルＰが算出される。計算機３４にはあらかじめ、偏光板の用途に応じて設計された偏光板の、最適な設計値Ｄ0及び／又はＰ0を、実装評価又はモデル化による理論計算より入力されていて、算出したＤ及びＰと設計値Ｄ0又はＰ0との差ΔＤ0又はΔＰ0が算出される。連続して検出し、ΔＤ0又はΔＰ0をモニタリングしてもよい。また、ＤとＰ、Ｄ0とＰ0は規格化しても、同様に扱うことができる。
以上の方法は、Y. Ootani :O plus E 29 p.20 (2007)）；及びS-Y. Lu and R.A.Chipman : J.Opt.Soc.Am.A 13 p.1106(1996)；に詳細が記載されていて、その内容を参照して、極角θ及び方位角φ等を決定することができる。
【００２２】
再び図１において、計算機３４は、Δαが０になるように、ポリマーフィルム１２、偏光膜１８、ポリマーフィルム２２及び積層体２８ａに施される処理の条件を制御可能に構成されている。
図１に示す例では、ポリマーフィルム１２には、他の部材と積層される前に、回転ロール１３、１５の回転速度差による延伸処理、並びに処理手段１４及び１６による処理が施される。処理手段１４及び１６によって施される処理の例としては、鹸化処理、及び粘着剤塗布処理が挙げられる。延伸処理は、ポリマーフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）及び／又は厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）に影響を与える処理であり、延伸処理の延伸倍率や延伸方向を制御することで、Δαが０になるように、ポリマーフィルム１２のＲｅ及び／又はＲｔｈを調整可能になっている。また、鹸化処理及び粘着剤塗布処理は、主には偏光膜との貼り合せのために接着性の改善等を目的に行なわれる処理であるが、これらの処理も、ポリマーフィルムのＲｅ及び／Ｒｔｈに影響するので、これらの処理の条件を制御することで、Δαが０になるように、ポリマーフィルム１２のＲｅ及び／又はＲｔｈを調整可能になっている。
【００２３】
延伸処理、鹸化処理、及び粘着剤塗布処理を例として、より具体的に、ポリマーフィルム１２ａ、１２ｂの処理条件の制御例を以下に列挙するが、これらに限定されるものではない。
（１）  Δαの値に基づいて、回転ロール１３、１５の回転速度を制御し、ポリマーフィルム１２ａに施される延伸処理の延伸倍率を調整して、Δαが０になるように、ポリマーフィルム１２ａのレターデーション（Ｒｅ及び／又はＲｔｈ）を増減させる。
（２）  Δαの値に基づいて、処理手段１４によって施される鹸化処理の処理条件、例えば、処理時間、処理温度（液温度及び雰囲気温度のいずれであってもよい）、及び鹸化処理液の塩基濃度、を制御し、Δαが０になるように、ポリマーフィルム１２ｂのレターデーション（Ｒｅ及び／又はＲｔｈ）を増減させる。処理時間の制御は具体的には回転ロール１３、１５の回転速度の制御等で；処理温度の制御は、ヒータ、クーラのＯＮ・ＯＦＦ制御や、温度設定を高低させる制御等で；及び鹸化処理液の塩基濃度の制御は、処理液槽中への水や塩基性物質の供給機構のＯＮ・ＯＦＦ制御や、供給量を増減させる制御等で；行なうことができる。
（３）  Δαの値に基づいて、処理手段１６によって施される粘着剤塗布処理の処理条件、例えば、処理時間、処理温度（粘着剤温度及び雰囲気温度のいずれであってもよい）、粘着剤濃度、塗布量、及び乾燥時間、を制御し、Δαが０になるように、ポリマーフィルム１２ｃのレターデーション（Ｒｅ及び／又はＲｔｈ）を増減させる。処理時間の制御は具体的には回転ロール１３、１５の回転速度の制御等で；処理温度の制御は、ヒータ、クーラのＯＮ・ＯＦＦ制御や、温度設定を高低させる制御等で；粘着剤濃度の制御は、粘着剤塗布液槽への水等の溶媒や粘着剤の供給機構のＯＮ・ＯＦＦ制御や、供給量を増減させる制御等で；及び塗布量の制御は、搬送時間（回転ロール１５、加圧ロール２６の回転速度）の制御や、コーターへの粘着剤の供給量を増減させる制御等で；行なうことができる。
【００２４】
処理手段１４又は１６によって施される処理の例としては、その他、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理等の表面活性化処理が挙げられる。これらの表面活性化処理は、鹸化処理と同様、偏光膜との接着性の改善のために主に行なわれるが、鹸化処理と同様、ポリマーフィルムのＲｅ及び／又はＲｔｈにも影響するので、その条件を制御することで、Δαが０となる様に、ポリマーフィルム１２ａ、１２ｂのＲｅ及び／又はＲｔｈを調整してもよい。具体的には、表面活性化処理に用いられる光線等の出力の制御、処理時間の制御等である。
【００２５】
図１に示す例では、偏光膜１８には、他の部材と積層される前に、処理手段２０による処理が施される。処理手段２０によって施される処理手段としては、粘着剤塗布処理が挙げられる。偏光膜への粘着剤塗布処理は、積層されるポリマーフィルム１２やポリマーフィルム２２の積層後のＲｅ及び／又はＲｔｈに影響を与える処理であり、図１では、この処理条件を制御することで、積層後のポリマーフィルム１２又は２２のＲｅ及び／又はＲｔｈを、Δαが０になるように調整可能に構成されている。具体的な制御方法は、上記した、ポリマーフィルム１２ｂに処理手段１６によって施される粘着剤塗布処理の処理条件の制御方法と同様である。また、偏光膜１８に処理手段２０によって施される処理は、偏光膜の偏光度に影響を与える処理であってもよく、例えば、延伸処理等であってもよい。
【００２６】
図１に示す例では、ポリマーフィルム２２には、他の部材と積層される前に、処理手段２４による処理が施される。処理手段２４によって施される処理手段としては、延伸処理、鹸化処理、上記表面活性化処理、及び粘着剤塗布処理が挙げられ、これらから選択される複数の処理が施されてもよい。これらの処理は、上記した通り、ポリマーフィルム２２のＲｅ及び／又はＲｔｈに影響を与える処理であり、この処理条件を制御することで、ポリマーフィルム２２のＲｅ及び／又はＲｔｈを、Δαが０になるように調整可能に構成されている。具体的な制御方法は、上記した、ポリマーフィルム１２に、回転ロール１３、１５、処理手段１４及び１６によって施される各処理の処理条件の制御方法と同様である。
【００２７】
図１に示す例では、Δαに基づいて、一対の加圧ロール２６によるニップ部にかかる圧力や加圧ロール２６による送り出し速度（加圧時間）が制御可能になっている。ポリマーフィルム１２ｃ、偏光膜１８ｂ及びポリマーフィルム２２ｂは、一対の加圧ロール２６によって積層された状態で、加圧ロール２６により加圧されて、一体化された積層体２８ａになる。この貼り合せ時の圧力や加圧時間等が、Δαが０になるように制御される。さらに、図１に示す例では、積層体２８ａは、処理手段３０によって処理を施される。処理手段３０によって施される処理の例としては、加熱乾燥処理等が挙げられる。乾燥時の温度や乾燥時間は、積層されたポリマーフィルム１２ｃ及びポリマーフィルム２２ｂのＲｅ及び／又はＲｔｈに影響を与え、又積層された偏光膜１８ｂの偏光度等に影響を与えるので、Δαが０になるように、乾燥時間及び乾燥温度を制御してもよい。
【００２８】
その他、例えば、製造工程の一部又は全部を温度・湿度が調整可能なコンパートメント内で行なってもよく、その場合は、コンパートメント内の温度及び／又は湿度を、Δαに基づいて制御してもよい。
【００２９】
積層体２８ｂは、検出器３２によって所定の特性値の測定が行なわれた後、長尺の偏光板２８としてロール状に巻き取られ、搬送・保管等される。その後、用途に応じて所望の大きさに切断されて、液晶表示装置等に組み込まれる。
【００３０】
本発明の製造方法は、図１に示した例に限定されるものではない。図１では、処理手段１４、１６、２０、２４、３０、回転ロール１３、１５、及び一対の加圧ロール２６のいずれに対しても制御可能な構成を示したが、少なくとも１つの処理条件を制御可能に構成すればよい。また、ポリマーフィルム１２、偏光膜１８、ポリマーフィルム２２及び積層体２８ａのそれぞれに対する処理工程をすべて含む必要はなく、ポリマーフィルム１２、偏光膜１８、ポリマーフィルム２２及び積層体２８ａの少なくとも１つの処理工程を含み、該処理工程の処理条件が、Δαに基づいて制御されている限り、本発明の範囲となる。
【００３１】
また、図１に示した例では、積層体２８ｂのαを測定しているが、処理手段３０による処理を施される前の積層体２８ａのαを測定してもよい。但し、その場合は、処理手段３０によって施される処理が、ポリマーフィルム１２ｃ及びポリマーフィルム２２ｂのＲｅ及びＲｔｈに影響を与えない処理であるのが好ましい。
【００３２】
また、図１に示した例では、ポリマーフィルム１２ｃ、偏光膜１８ｂ、及びポリマーフィルム２２ｂの３枚を積層した積層体２８ｂのαを測定しているが、例えば、ポリマーフィルム１２ｃ及びポリマーフィルム２２ｂの一方と、偏光膜１８ｂをあらかじめ積層した積層体を一旦作製し、その後、他方を積層する場合は、積層体２８ｂのαの測定に代えて又は加えて、ポリマーフィルム１２ｃ又は２２ｂと偏光膜１８ｂとの積層体のαを測定し、あらかじめ決定した設計値α0’との差Δα’を算出して、Δα’の値に基づいて、処理工程の条件を制御してもよい。
【００３３】
本発明の製造方法によって製造される偏光板は、３層構造の偏光板に限定されない。一方又は双方の保護フィルムとして、積層構造のポリマーフィルムを有する偏光板を製造する方法としても有用である。積層構造のポリマーフィルムとしては、例えば、ポリマーフィルムを支持体とし、その上に液晶組成物から形成された光学異方性層を有するポリマーフィルムや、２以上のポリマーフィルムを積層したもの等、いずれの形態であってもよい。前者の態様では、光学異方性層の形成の条件を、Δαに基づいて制御してもよい。光学異方性層の形成処理における制御可能な条件としては、液晶組成物の塗布条件（液晶組成物の組成及び塗布量等）、配向処理条件（配向温度及び配向時間等）、及び固定化処理条件（温度、紫外線等の照射エネルギー及び照射時間等）等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の製造方法の一例を示す概略模式図である。
【図２】本発明の製造方法の一例の一部の工程を説明するために用いた概略模式図である。
【符号の説明】
【００３５】
１２、１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、２２、２２ａ、２２ｂ    ポリマーフィルム
１３、１５    回転ロール
１４、１６、２０、２４、３０    処理手段
１８、１８ａ、１８ｂ    偏光膜
２６    一対の加圧ロール
２８    偏光板
２８ａ、２８ｂ    積層体
３２    検出器
３４    計算機
【図１】
2009048162.tif 000006
【図２】
2009048162.tif 000007