(57)【要約】【課題】基準ディスク及びヘッド検査方法において、比較的安価な基準ディスクを用いて高精度のヘッド検査を可能とすることを目的とする。【解決手段】検査ヘッドの浮上量を測定するための基準ディスクは、約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、基板の上方に設けられた保護層を備えた構成を有する。【選択図】図３
2009289332.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査ヘッドの浮上量を測定するための基準ディスクであって、
約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、
前記基板の上方に設けられた保護層を備えた、
基準ディスク。
【請求項２】
前記保護層は、約６．００ｎｍ〜約８．００ｎｍの膜厚を有する、
請求項１記載の基準ディスク。
【請求項３】
約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、前記基板の上方に設けられた保護層を備えた基準ディスクの回転速度を低下させるステップと、
アームの先端に設けられたセンサが前記基準ディスクと接触した時のセンサ出力により前記先端に設けられたグライドヘッドの前記基準ディスクとの接触を検出するステップと、
前記接触を検出した時のセンサ出力に基づいて前記センサの感度校正処理を行うステップを有する、
ヘッド検査方法。
【請求項４】
前記接触を検出するステップは、前記基準ディスク上の複数のトラックで接触を検出し、
前記感度校正処理は、前記複数のトラックでのセンサ出力の平均値に基づいて行われる、
請求項３記載のヘッド検査方法。
【請求項５】
前記回転速度を低下させるステップは、前記基板と前記保護層の各々と直接接触している接着層を更に備えた基準ディスクを用いる、請求項３又は４記載のヘッド検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基準ディスク及びヘッド検査方法に係り、特に磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量を検査するための基準ディスク及びヘッド検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタルハイビジョン対応機器等に代表される大容量のデータ記録機器の普及に伴い、磁気ディスク装置等の磁気記憶装置の更なる大容量化への要求が一層高まってきている。このため、磁気ディスク等の磁気記録媒体の記録密度の向上が求められている。
【０００３】
磁気ディスクの記録密度を向上する１つの方法として、磁気ディスク装置に搭載される磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量（以下、ヘッド浮上量と言う）を低減させる方法がある。ヘッド浮上量は磁気ディスク装置の信頼性を大きく左右するため、安定したヘッド浮上量が確保できるように磁気ディスクの媒体表面の平滑化が要求される。
【０００４】
磁気ディスクの検査工程には、媒体表面の平滑度を検査する浮上検査、又は、グライドテスト（Glide Test）が含まれる。グライドテストは、媒体表面の微小な傷や付着物等の、磁気ヘッドの安定浮上を阻害する要因を検出して除去することを目的とする。グライドテストには、圧電素子等のセンサが設けられていると共に、磁気ディスク装置の磁気ヘッドよりも少ないヘッド浮上量で媒体表面から浮上するように調整された専用の検査ヘッド、又は、グライドヘッド（Glide Head）が使用される。
【０００５】
グライドヘッドのヘッド浮上量は、個々のグライドヘッドの製造バラツキ等に起因して異なる場合が多く、個々のグライドヘッド間のヘッド浮上量の差がセンサの感度に影響を及ぼし、グライドヘッドを備えたテスト装置の信頼性を左右することがある。このため、グライドヘッドのセンサについては、グライドヘッドの使用の都度、或いは、一定周期で基準ディスクを用いた感度評価を行う。センサの感度を評価することで、グライドヘッドの良否判定や感度校正を、適用する検査条件に合わせて行うことができる。
【０００６】
従来、グライドヘッドのセンサの感度評価は、主にバンプディスクと呼ばれる基準ディスクを用いて行う。バンプディスクの表面には、所定の高さの微小突起、即ち、バンプが形成されている。
【０００７】
図１は、バンプディスクの一部を拡大して示す断面図である。図１に示すように、バンプディスク１は、アルミ又はガラス等の基板２上に、所定の高さを有する複数のバンプ３及び下地層や磁性層等の媒体層４がスパッタリングにより積層され、媒体層４は保護層５及び潤滑層６によりコーティングされている。バンプ３の高さＨは、磁気ディスク装置の磁気ヘッドのヘッド浮上量の設計値に合わせて例えば約１０ｎｍ〜約５０ｎｍに形成されている。
【０００８】
しかし、バンプディスク１を用いてグライドヘッドのセンサの感度評価を行う場合、グライドヘッドとバンプ３の接触状態が点接触であるため、バンプディスク１の表面の潤滑層６の成分がバンプ３やグライドヘッドに付着する等の要因でグライドヘッドとバンプディスク１の接触状態が不安定となる。このため、センサの感度が変動したり、バンプ３の損耗が発生したりする。
【０００９】
一方、グライドヘッドのセンサの感度評価に用いられるバンプディスク１は、感度評価のために作成された専用の基準ディスクであり、バンプディスク製造メーカ等の限られた環境で製造されるものであるため高価であり、量産性に乏しい。
【００１０】
グライドチェックの評価方法は、例えば特許文献１等にて提案されている。
【特許文献１】特開平８−４５２１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
バンプディスクを用いてグライドヘッドのセンサの感度評価を行う従来のヘッド検査方法では、高価なバンプディスクを用いる必要があるという問題があった。又、バンプディスクの表面の潤滑層の成分がバンプやグライドヘッドに付着する等の要因でグライドヘッドとバンプディスクの接触状態が不安定となり、センサの感度が変動したり、バンプの損耗が発生したりして、高精度のヘッド検査を行うことは難しいという問題があった。
【００１２】
そこで、本発明は、比較的安価な基準ディスクを用いて高精度のヘッド検査を可能とする基準ディスク及びヘッド検査方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の一観点によれば、検査ヘッドの浮上量を測定するための基準ディスクであって、約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、前記基板の上方に設けられた保護層を備えた基準ディスクが提供される。
【００１４】
本発明の一観点によれば、約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、前記基板の上方に設けられた保護層を備えた基準ディスクの回転速度を低下させるステップと、アームの先端に設けられたセンサが前記基準ディスクと接触した時のセンサ出力により前記先端に設けられたグライドヘッドの前記基準ディスクとの接触を検出するステップと、前記接触を検出した時のセンサ出力に基づいて前記センサの感度校正処理を行うステップを有するヘッド検査方法が提供される。
【発明の効果】
【００１５】
開示の基準ディスク及びヘッド検査方法によれば、比較的安価な基準ディスクを用いて高精度のヘッド検査を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
開示の基準ディスクの基板は、グライドヘッドと媒体表面との接触状態が面接触となるように表面加工が施され、約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する比較的安価な構成を有する。従来のバンプディスクと比較すると、グライドヘッドと基準ディスクの媒体表面の接触状態がより安定したものとなる。
【００１７】
開示のヘッド検査方法は、上記の表面粗さＲａの媒体表面を有する基準ディスクを用いてグライドヘッドのセンサの感度評価を行うので、高精度のヘッド検査を行うことができる。
【００１８】
以下に、本発明の基準ディスク及びヘッド検査方法の各実施例を、図２以降と共に説明する。
【実施例】
【００１９】
図２は、本発明の一実施例における基準ディスクの表面形状を示す斜視図である。図２では、基準ディスク１１の層構造の図示は省略する。
【００２０】
図３は、基準ディスク１１の一部を拡大して示す断面図である。基準ディスク１１は、図３に示すように、基板１２上に下地層１４−１や磁性層１４−２等の媒体層１４がスパッタリングにより積層され、媒体層１４は保護層１５及び潤滑層１６によりコーティングされている。基準ディスク１１の基板１２は、グライドヘッドと媒体表面との接触状態が面接触となるように表面加工が施され、約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する。
【００２１】
基板１２の材料は特に限定されず、例えばＮｉＰメッキを施されたＡｌ合金、ガラス、化学強化ガラス、結晶化ガラス、Ｓｉ、プラスチック等を用いることができる。ＮｉＰメッキを施されたＡｌ合金基板の場合、表面加工を施される基板表面はＮｉＰメッキされた基板表面を言う。
【００２２】
基板１２の表面加工は、テキスチャリングや研磨処理等の、所謂メカニカルな加工処理により行われる。例えば、加工処理は、＃６１００番（ダイヤ粒子径：２．０μｍ）の加工液を用いた研削処理を約９秒間行い、その後に＃１５０００番（ダイヤ粒子径：０．５μｍ）の加工液を用いた仕上げ加工処理を約１５秒間行うものであっても良く、基板１２の表面を約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａに加工する。
【００２３】
下地層１４−１や磁性層１４−２等の媒体層１４、保護層１５及び潤滑層１６の材料は、特に限定されず、磁気記録再生に用いられる一般的な磁気ディスクで用いられる材料を使用可能である。又、基準ディスク１１には、一般的な磁気ディスクで用いられる記録層に相当する磁性層１４−２を設ける必要はなく、省略しても良い。従って、基準ディスク１１には、媒体層１４を設ける必要はないが、媒体層１４を省略する場合、基板１２と保護層１５との密着性を向上させるために図４に示すように接着剤等で形成された接着層１９を基板１２上に形成することが望ましい。接着層１９は、基板１２及び保護層１５の各々と直接接触している。図４は、媒体層１４を省略した基準ディスク１１の一部を拡大して示す断面図であり、図３と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。
【００２４】
尚、基準ディスク１１の保護層１５は、一般的な磁気ディスクの保護層よりも厚く形成して基準ディスク１１の耐久性を十分高くすることが望ましい。本実施例では、保護層１５の膜厚は約６．００ｎｍ〜約８．００ｎｍであり、一般的な磁気ディスクの保護層と比較すると厚い。一方、潤滑層１６の膜厚は、潤滑層１６の成分の基準ディスク１１やグライドヘッドへの付着を抑制するため、一般的な磁気ディスクの潤滑層と同様の膜厚に形成することが望ましい。
【００２５】
基準ディスク１１の基板１２の両面に積層構造を形成しても良く、この場合、基板１２の両面に設けられた積層構造を同じにしても、異ならせても良い。いずれにしても、基準ディスク１１は、従来のバンプディスクとは異なり、一般的な磁気ディスクと同様の製造工程により製造可能であるため、比較的安価に製造可能である。
【００２６】
一般的な磁気ディスクの表面粗さＲａは、例えば約０．１５ｎｍ〜約０．２０ｎｍであり、基準ディスク１１の表面粗さＲａと比較すると極めて小さい。
【００２７】
図５は、グライドヘッドを示す図である。同図（ａ）はアームを示す平面図であり、同図（ｂ）はアームを基準ディスク１１と共に示す側面図である。図５において、グライドヘッド３２及びセンサ３３は、アーム３１の先端部に設けられている。アーム３１は、アクチュエータ等からなる機構を有し、グライドヘッド３２を基準ディスク１１の半径方向に沿って移動する周知の構成を有する。グライドヘッド３２の基準ディスク１１からのヘッド浮上量はＦＨで示す。センサ３３は、例えば圧電素子であり、基準ディスク１１の表面と接触すると一定値以上のセンサ出力を生成して、グライドヘッド３２が基準ディスク１１と接触したことを検出する周知の構成を有する。センサ３３の出力を測定する際には、グライドヘッド３２を基準ディスク１１上の所定のトラックを走査させる。所定のトラックの位置は、例えば基準ディスク１１の外周エッジからの距離で決めることができるので、グライドヘッド３２を所定のトラックに対して位置決めするのに基準ディスク１１から磁気的に信号を読み取る必要はない。
【００２８】
図６は、センサ３３の出力と基準ディスク１１の表面粗さＲａの関係を示す図である。同図中、縦軸はセンサ出力をｍＶで示し、横軸は表面粗さＲａをｎｍで示す。◆印で示すデータは、図５に示すグライドヘッド３２と表面粗さＲａが１．４ｎｍ〜２．４ｎｍの基準ディスク１１を用いて測定したセンサ出力を示す。ハッチングＩは、図１に示すような従来のバンプディスク１を用いた場合に例えば約６５０ｍＶ〜約８００ｍＶの良好なセンサ出力が得られた範囲を示す。バンプディスク１の表面粗さＲａは、例えば約１４ｎｍである。一方、ハッチングＩＩは、ハッチングＩと同様に良好なセンサ出力が得られる基準ディスク１１の表面粗さＲａの範囲を示し、この範囲は約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍであった。ハッチングＩＩで示す表面粗さＲａの範囲は、グライドヘッド３２の最小浮上量の設計値に合わせてグライドヘッド３２を基準ディスク１１から浮上させた時に、グライドヘッド３２を従来のバンプディスク１に接触させた時と同様のセンサ出力が得られる範囲とした。図６に示すデータは、ヘッド浮上量をｙ、基準ディスク１１の回転速度をｘ、相関係数をＲ２で表すと、ｙ＝４４７．３７ｘ−１０７．９、Ｒ２＝０．９６０９の場合について示す。
【００２９】
図７は、基準ディスク１１及びバンプディスク１を用いた場合のセンサ出力の再現性を比較する図である。同図中、縦軸はセンサ出力をｍＶで示し、横軸はセンサ出力の測定回数（回）を示す。□印で示すデータは、バンプディスク１を用いた場合のセンサ出力を示し、◆印で示すデータは、表面粗さＲａが約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの範囲にある基準ディスク１１を用いた場合のセンサ出力を示す。同図からもわかるように、バンプディスク１を用いた場合、センサ出力は測定する度に大きく変動して安定せず、再現性が低いことが確認された。一方、基準ディスク１１を用いた場合、センサ出力は測定する度に大きく変動することもなく概ね安定しており、再現性が高いことが確認された。
【００３０】
バンプディスク１を用いた場合、センサ出力が測定する度に大きく変動して安定しないのは、図８に示すように、グライドヘッド３２とバンプディスク１のバンプ３との接触状態が大きく異なることによる。図８は、グライドヘッド３２とバンプディスク１の接触状態の一例を示す図である。図８からもわかるように、グライドヘッド３２とバンプディスク１のバンプ３との接触状態は、グライドヘッド３２の浮上量やグライドヘッド３２が衝突するバンプ３の箇所に応じて大きく変化する。
【００３１】
これに対し、基準ディスク１１を用いた場合、センサ出力が測定する度に大きく変動することもなく概ね安定しているのは、図９に示すように、グライドヘッド３２と表面粗さＲａが約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの基準ディスク１１との接触状態が大きく異なることなく概ね安定していることによる。図９は、グライドヘッド３２と基準ディスク１１の接触状態の一例を示す図である。図９からもわかるように、グライドヘッド３２と基準ディスク１１との接触状態は、グライドヘッド３２の浮上量やグライドヘッド３２が衝突する基準ディスク１１上の箇所に応じて大きく変化することはない。
【００３２】
図１０は、基準ディスク１１及びバンプディスク１の耐久性を比較する図である。同図中、縦軸はセンサ出力をｍＶで示し、横軸はセンサ出力の測定回数（回）を示す。バンプディスク１１の保護層５の膜厚及び潤滑層１６の膜厚は、基準ディスク１１の保護層１５の膜厚及び潤滑層１６の膜厚と同じに設定した。同図からもわかるように、バンプディスク１を用いた場合、測定回数が２５００回を超えるとセンサ出力が低下しており、バンプディスク１のバンプが消耗していることが確認された。一方、基準ディスク１１を用いた場合、測定回数が２５００回を超えてもセンサ出力は概ね安定しており、基準ディスク１１の耐久性がバンプディスク１より向上することが確認された。
【００３３】
次に、センサ３３の感度校正処理を、図１１と共に説明する。図１１は、センサ感度校正処理を説明するフローチャートである。
【００３４】
図１１において、ステップＳ１では、グライドヘッド３２を含むアーム３１を搭載したテスト装置（図示せず）に基準ディスク１１をセットする。テスト装置は、基本的には一般的な磁気ディスク装置と同様の構成を有する。
【００３５】
ステップＳ２では、テスト装置内で基準ディスク１１を一定の回転速度で回転させ、グライドヘッド３２を基準ディスク１１上の規定の測定位置へ移動する。ここでは説明の便宜上、グライドヘッド３２が３本のトラックＲ１，Ｒ２，Ｒ３に順次位置決めされるものとする。
【００３６】
ステップＳ３では、グライドヘッド３２の基準ディスク１１からヘッド浮上量が所定値になるまで基準ディスク１１の回転速度を低下させる。例えば、基準ディスク１１の回転速度が９．４ｍ／ｓの場合のヘッド浮上量は６．５ｎｍであり、回転速度を８．６ｍ／ｓまで低下させるとヘッド浮上量は６ｎｍとなる。
【００３７】
図１２は、基準ディスク１１について測定した回転速度とヘッド浮上量の関係を示す図である。同図のデータは、単一の基準ディスク１１の回転速度を変えながら、１０個のグライドヘッドＨＤ０１〜ＨＤ１０をこの単一の基準ディスク１１の表面から浮上させた時の浮上量を示す。グライドヘッドＨＤ０１〜ＨＤ１０は、同一の製造工程及び製造条件で製造されたグライドヘッド３２であり、単一の基準ディスク１１は表面粗さＲａが約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍとなるように製造されたものである。同図中、縦軸はヘッド浮上量（ｎｍ）を示し、横軸は単一の基準ディスク１１の回転速度（ｍ／ｓ）を示す。又、大きな○印は、ヘッド浮上量の平均値Ａｖｇを示し、ＵＬはヘッド浮上量の上限値を示し、ＬＬはヘッド浮上量の下限値を示す。図１２からもわかるように、１０個のグライドヘッドＨＤ０１〜ＨＤ１０の製造ばらつきを考慮しても、単一の基準ディスク１１に対するグライドヘッドＨＤ０１〜ＨＤ１０のヘッド浮上量は、この単一の基準ディスク１１の回転速度に応じて略一定の変化を示すことが確認された。従って、ヘッド浮上量をｙ、基準ディスク１１の回転速度をｘ、相関係数をＲ２で表すと、図１２の場合はｙ＝０．６３４７ｘ＋０．５３９３、Ｒ２＝０．９９７３なる相関式から回転速度に対するヘッド浮上量を算出することができる。
【００３８】
ステップＳ４では、グライドヘッド３２のヘッド浮上量が上記所定値になった時のセンサ３３の出力を測定する。
【００３９】
ステップＳ５では、ステップＳ４のセンサ出力の測定結果を、各トラックＲ１，Ｒ２，Ｒ３について求める。
【００４０】
図１３は、基準ディスク１１（基準ディスクＨＤ０１〜ＨＤ１０）に対するセンサ出力の測定結果を、各トラックＲ１，Ｒ２，Ｒ３について、基準ディスク１１の異なる回転速度について示す図である。同図中、縦軸はセンサ出力（ｍＶ）を示し、横軸は回転速度（ｍ／ｓ）を示す。同図からもわかるように、基準ディスク１１の回転速度が低下してもセンサ出力が概ね安定しているのは、図９に示すように、グライドヘッド３２と基準ディスク１１との接触状態が大きく異なることなく概ね安定していることによる。
【００４１】
図１４は、表面粗さＲａが約１４ｎｍのバンプディスク１に対するセンサ出力の測定結果を、各トラックＲ１，Ｒ２，Ｒ３について、バンプディスク１の異なる回転速度について示す図である。同図中、縦軸はセンサ出力（ｍＶ）を示し、横軸は回転速度（ｍ／ｓ）を示す。同図からもわかるように、バンプディスク１の回転速度が低下するとセンサ出力が大きく変動して安定しないのは、図８に示すように、グライドヘッド３２とバンプディスク１との接触状態が大きく異なることによる。
【００４２】
ステップＳ６では、３本のトラックＲ１，Ｒ２，Ｒ３でのセンサ出力の測定結果の平均値を求め、平均値に基づいてグライドヘッド３２の合否を判定する。例えば、センサ出力の平均値が３００ｍＶ〜１８００ｍＶの範囲内であると、グライドヘッド３２は合格、即ち、良品であると判定される。
【００４３】
ステップＳ７では、良品と判定されたグライドヘッド３２について、センサ出力の平均値に基づいたゲイン調整を行う。ゲイン調整では、テスト装置内の増幅回路のゲインが、センサ感度に応じて調整される。例えば、センサ出力の平均値が約３００ｍＶ〜約４９９ｍＶの範囲内であるとゲインは５３．５ｄＢに調整され、約５００ｍＶ〜約９９９ｍＶの範囲内であるとゲインは５０．０ｄＢに調整され、約１０００ｍＶ〜約１８００ｍＶであると４９．２ｄＢに調整される。
【００４４】
ステップＳ７の後、上記の如くゲインが調整されたテスト装置によりグライドテストが行われる。グライドテスト自体は、従来と同様の方法により行うことが可能である。
【００４５】
本実施例によれば、基準ディスク１１を用いることにより、バンプディスク１を用いた場合と比較するとより精度の高いグライドヘッド３２の検査、即ち、ヘッド浮上量の検査を行うことができるので、テスト装置の信頼性を向上することができる。又、基準ディスク１１の表面粗さＲａを、センサ出力がバンプディスク１を用いた場合と同様な値となるように設定することで、従来のセンサ感度評価条件や作業内容を変えることなく、ヘッド検査を行うことができる。
【００４６】
尚、本発明は、以下に付記する発明をも包含するものである。
（付記１）
検査ヘッドの浮上量を測定するための基準ディスクであって、
約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、
前記基板の上方に設けられた保護層を備えた、
基準ディスク。
（付記２）
前記基板と前記保護層の各々と直接接触している接着層を更に備えた、
付記１記載の基準ディスク。
（付記３）
前記保護層上に設けられた潤滑層を更に備えた、
付記１又は２記載の基準ディスク。
（付記４）
前記保護層は、約６．００ｎｍ〜約８．００ｎｍの膜厚を有する、
付記１乃至３のいずれか１項記載の基準ディスク。
（付記５）
前記基板と前記保護層との間に磁性層を有さない、
付記１乃至４のいずれか１項記載の基準ディスク。
（付記６）
約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、前記基板の上方に設けられた保護層を備えた基準ディスクの回転速度を低下させるステップと、
アームの先端に設けられたセンサが前記基準ディスクと接触した時のセンサ出力により前記先端に設けられたグライドヘッドの前記基準ディスクとの接触を検出するステップと、
前記接触を検出した時のセンサ出力に基づいて前記センサの感度校正処理を行うステップを有する、
ヘッド検査方法。
（付記７）
前記接触を検出するステップは、前記基準ディスク上の複数のトラックで接触を検出し、
前記感度校正処理は、前記複数のトラックでのセンサ出力の平均値に基づいて行われる、
付記６記載のヘッド検査方法。
（付記８）
前記回転速度を低下させるステップは、前記基板と前記保護層の各々と直接接触している接着層を更に備えた基準ディスクを用いる、付記６又は７記載のヘッド検査方法。
（付記９）
前記回転速度を低下させるステップは、前記保護層上に設けられた潤滑層を更に備えた基準ディスクを用いる、付記６乃至８のいずれか１項記載のヘッド検査方法。
（付記１０）
前記保護層は、約６．００ｎｍ〜約８．００ｎｍの膜厚を有する、付記６乃至９のいずれか１項記載のヘッド検査方法。
【００４７】
以上、本発明を実施例により説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能であることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】バンプディスクの一部を拡大して示す断面図である。
【図２】本発明の一実施例における基準ディスクの表面形状を示す斜視図である。
【図３】基準ディスクの一部を拡大して示す断面図である。
【図４】媒体層を省略した基準ディスクの一部を拡大して示す断面図である。
【図５】グライドヘッドを示す図である。
【図６】センサ出力と基準ディスクの表面粗さＲａの関係を示す図である。
【図７】基準ディスク及びバンプディスクを用いた場合のセンサ出力の再現性を比較する図である。
【図８】グライドヘッドとバンプディスクの接触状態の一例を示す図である。
【図９】グライドヘッドと基準ディスクの接触状態の一例を示す図である。
【図１０】基準ディスク及びバンプディスクの耐久性を比較する図である。
【図１１】センサ感度校正処理を説明するフローチャートである。
【図１２】基準ディスクについて測定した回転速度とヘッド浮上量の関係を示す図である。
【図１３】基準ディスクに対するセンサ出力の測定結果を、各トラックについて、基準ディスクの異なる回転速度について示す図である。
【図１４】バンプディスクに対するセンサ出力の測定結果を、各トラックについて、バンプディスクの異なる回転速度について示す図である。
【符号の説明】
【００４９】
１１      基準ディスク
１２      基板
１３      媒体層
１５      保護層
１６      潤滑層
３１      アーム
３２      グライドヘッド
３３      センサ
【図１】
2009289332.tif 000003
【図３】
2009289332.tif 000004
【図４】
2009289332.tif 000005
【図５】
2009289332.tif 000006
【図６】
2009289332.tif 000007
【図７】
2009289332.tif 000008
【図８】
2009289332.tif 000009
【図９】
2009289332.tif 000010
【図１０】
2009289332.tif 000011
【図１１】
2009289332.tif 000012
【図１２】
2009289332.tif 000013
【図１３】
2009289332.tif 000014
【図１４】
2009289332.tif 000015
【図２】
2009289332.tif 000016