(57)【要約】【課題】可視光線透過率が高く、近赤外線の選択反射性が高く、耐剥離性にも優れた熱線遮蔽膜と、基板上にこの熱線遮蔽膜を形成した積層体を提供する。さらに、この熱線遮蔽膜とその積層体を比較的低温で製造する。【解決手段】波長７５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長領域における最低透過率（ＴＭＩＮ）が９０％以下である熱線遮蔽膜において、無機粒子を含有する樹脂層よりなる屈折率が１．７５以上の高屈折率層を有することを特徴とする熱線遮蔽膜。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長７５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長領域における最低透過率（ＴＭＩＮ）が９０％以下である熱線遮蔽膜において、無機粒子を含有する樹脂層よりなる、屈折率が１．７５以上の高屈折率層を有することを特徴とする熱線遮蔽膜。
【請求項２】
単層膜又は積層数が７層以下の積層膜よりなることを特徴とする請求項１に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項３】
該高屈折率層において、無機粒子の重量含有量が４０重量％以上であり、下記式で算出される層厚ｔ（ｎｍ）と平行光線透過率Ｔｐ（％）との関係Ｙ（％／ｎｍ）が０．０００１〜１であることを特徴とする請求項１又は２に記載の熱線遮蔽膜。
Ｙ＝（１００−Ｔｐ）／ｔ
【請求項４】
熱線遮蔽膜を構成する層の１層当たりの膜厚が５ｎｍ〜１０００ｎｍであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項５】
該高屈折率層において、樹脂の屈折率が１．４５以上で、無機粒子の屈折率が１．６５以上であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項６】
該高屈折率層と、該高屈折率層より屈折率が低い低屈折率層とを交互に積層してなる積層膜よりなることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項７】
該高屈折率層の膜厚が該低屈折率層の膜厚より小さいことを特徴とする請求項６に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項８】
該無機粒子がルチル型酸化チタンであることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項９】
該無機粒子が金属水酸化物及び／又は金属酸化物で被覆されていることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項１０】
該高屈折率層の樹脂が熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項１１】
該低屈折率層に樹脂を含むことを特徴とする請求項６ないし１０のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項１２】
可視光線透過率が２０％以上で、近赤外線透過率が９０％以下であることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の熱線遮蔽膜と基板とが積層されてなることを特徴とする積層体。
【請求項１４】
ヘーズが２０％以下で、近赤外線透過率が８０％以下であることを特徴とする請求項１３に記載の積層体。
【請求項１５】
少なくとも該高屈折率層を湿式法により形成する塗布工程を含むことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の積層体の製造方法。
【請求項１６】
該高屈折率層の形成工程に、塗布工程と、その後の硬化工程を含むことを特徴とする請求項１５に記載の積層体の製造方法。
【請求項１７】
塗布工程において、塗膜形成面に塗布して塗膜を形成するための塗布液に対する、該塗膜形成面の接触角が９０°以下であることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の積層体の製造方法。
【請求項１８】
積層体のいずれか１層の形成工程において、表面改質工程を含むことを特徴とする請求項１５ないし１７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１９】
積層体のいずれか１層を形成する塗布液が水を溶媒とすることを特徴とする請求項１５ないし１８のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【請求項２０】
樹脂と、溶媒と、無機粒子とを含み、固形分中に含まれる該無機粒子の含有量が４０重量％以上であり、かつ、分散剤を該無機粒子に対して６０重量％以下含む無機粒子含有組成物を用いて、湿式法により該高屈折率層を形成する塗布工程を含むことを特徴とする請求項１５ないし１９のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱線遮蔽膜に関し、詳しくは可視光線を透過し、近赤外線を選択的に反射する熱線遮蔽膜に関する。
本発明はまた、この熱線遮蔽膜を含む積層体と、この積層体を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれの光学膜厚を揃えて交互に積層させた積層膜は、特定波長を選択的に反射する性質を有している（特許文献１）。そのため、窓や車両用部材などに用いる熱線遮蔽膜として、可視光線は透過し、近赤外線を選択的に反射する選択反射性を有する積層膜の利用が試みられている。
【０００３】
これまでに、蒸着法、スパッタ法などドライ製膜法で各層を積層させて積層膜を作製する方法が報告されているが（特許文献２）、ドライ製膜法の場合、製造コストが高く、大面積化が困難であり、使用できる材料や基板が耐熱性のあるものに限定されるという問題点がある。
【０００４】
一方、溶液塗布などウェット製膜法で製膜すれば、製造コストが安く、比較的大面積化しやすくなるという利点がある。特許文献３ではウェット製膜法により積層膜を作製しているが、実施例を見る限り２０〜４０層の積層が必要であり、層数が多いとコスト面や大面積化しづらいという点から工業的に製造が困難である。
【０００５】
また、特許文献４では金属化合物の前駆体の塗布により、少ない積層数で熱線反射ガラスを作製することを提案しているが、実施例を見る限り強化炉による焼成が必要であり、ドライ製膜法同様、基板や各層に用いる材料が限定されるという問題点がある。
【０００６】
さらに、特許文献５では、実施例において微粒子ゾルの塗布により６層以上の積層膜を比較的低温で作製しているが、本発明者が実施したところ、目視による膜質も悪く、各層の耐剥離性が極めて悪いという問題点が明らかとなった。これは、各層の造膜性や密着性が不良であるためと推測される。
【０００７】
従って、これまで、可視光線透過率が良好で近赤外線の選択反射性に優れ、耐剥離性にも優れ、かつ積層数が少ない積層膜を得ることは困難とされてきた。また、従来の技術ではドライ製膜や焼成等のため耐熱性の高い材料や基板に限定されるという問題があった。
【特許文献１】特許第３３８９３６０号公報
【特許文献２】特開２００３−１２１６３６号公報
【特許文献３】特開平６−１１６０８号公報
【特許文献４】特開平６−３４５４８８号公報
【特許文献５】特開２００３−２６６５７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、可視光線透過率が高く、また近赤外線の選択反射性が高く、耐剥離性にも優れた熱線遮蔽膜と、基板上にこの熱線遮蔽膜を形成した積層体を提供することにある。さらに、この熱線遮蔽膜とその積層体を比較的低温で製造することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、近赤外線領域での透過率を抑える熱線遮蔽膜であり、それを構成する層が無機粒子を混合して屈折率１．７５以上の高屈折率な樹脂層であることにより、高い可視光線透過率と高い近赤外線の選択反射性、高い耐剥離性を示す熱線遮蔽膜及び積層体が得られ、さらに本発明を満たすことで造膜性が高くなり、良好な膜が得られることも見出し、本発明に至った。また、この熱線遮蔽膜及び積層体を溶液塗布で作製することで比較的低温で製造可能であることも見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、以下を要旨とする。
【００１０】
［１］  波長７５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長領域における最低透過率（ＴＭＩＮ）が９０％以下である熱線遮蔽膜において、無機粒子を含有する樹脂層よりなる、屈折率が１．７５以上の高屈折率層を有することを特徴とする熱線遮蔽膜。
【００１１】
［２］  単層膜又は積層数が７層以下の積層膜よりなることを特徴とする［１］に記載の熱線遮蔽膜。
【００１２】
［３］  該高屈折率層において、無機粒子の重量含有量が４０重量％以上であり、下記式で算出される層厚ｔ（ｎｍ）と平行光線透過率Ｔｐ（％）との関係Ｙ（％／ｎｍ）が０．０００１〜１であることを特徴とする［１］又は［２］に記載の熱線遮蔽膜。
Ｙ＝（１００−Ｔｐ）／ｔ
【００１３】
［４］  熱線遮蔽膜を構成する層の１層当たりの膜厚が５ｎｍ〜１０００ｎｍであることを特徴とする［１］ないし［３］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
【００１４】
［５］  該高屈折率層において、樹脂の屈折率が１．４５以上で、無機粒子の屈折率が１．６５以上であることを特徴とする［１］ないし［４］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
【００１５】
［６］  該高屈折率層と、該高屈折率層より屈折率が低い低屈折率層とを交互に積層してなる積層膜よりなることを特徴とする［１］ないし［５］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
【００１６】
［７］  該高屈折率層の膜厚が該低屈折率層の膜厚より小さいことを特徴とする［６］に記載の熱線遮蔽膜。
【００１７】
［８］  該無機粒子がルチル型酸化チタンであることを特徴とする［１］ないし［７］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
【００１８】
［９］  該無機粒子が金属水酸化物及び／又は金属酸化物で被覆されていることを特徴とする［１］ないし［８］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
【００１９】
［１０］  該高屈折率層の樹脂が熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂であることを特徴とする［１］ないし［９］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
【００２０】
［１１］  該低屈折率層に樹脂を含むことを特徴とする［６］ないし［１０］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
【００２１】
［１２］  可視光線透過率が２０％以上で、近赤外線透過率が９０％以下であることを特徴とする［１］ないし［１１］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
【００２２】
［１３］  ［１］ないし［１２］のいずれかに記載の熱線遮蔽膜と基板とが積層されてなることを特徴とする積層体。
【００２３】
［１４］  ヘーズが２０％以下で、近赤外線透過率が８０％以下であることを特徴とする［１３］に記載の積層体。
【００２４】
［１５］  少なくとも該高屈折率層を湿式法により形成する塗布工程を含むことを特徴とする［１３］又は［１４］に記載の積層体の製造方法。
【００２５】
［１６］  該高屈折率層の形成工程に、塗布工程と、その後の硬化工程を含むことを特徴とする［１５］に記載の積層体の製造方法。
【００２６】
［１７］  塗布工程において、塗膜形成面に塗布して塗膜を形成するための塗布液に対する、該塗膜形成面の接触角が９０°以下であることを特徴とする［１５］又は［１６］に記載の積層体の製造方法。
【００２７】
［１８］  積層体のいずれか１層の形成工程において、表面改質工程を含むことを特徴とする［１５］ないし［１７］のいずれかに記載の積層体の製造方法。
【００２８】
［１９］  積層体のいずれか１層を形成する塗布液が水を溶媒とすることを特徴とする［１５］ないし［１８］のいずれかに記載の積層体の製造方法。
【００２９】
［２０］  樹脂と、溶媒と、無機粒子とを含み、固形分中に含まれる該無機粒子の含有量が４０重量％以上であり、かつ、分散剤を該無機粒子に対して６０重量％以下含む無機粒子含有組成物を用いて、湿式法により該高屈折率層を形成する塗布工程を含むことを特徴とする［１５］ないし［１９］のいずれかに記載の積層体の製造方法。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、可視光線透過率が高く、高い近赤外線の選択反射性を示し、耐剥離性が高く、さらに比較的積層数が少ない熱線遮蔽膜と、この熱線遮蔽膜を基板上に積層した積層体が提供される。
【００３１】
本発明の熱線遮蔽膜及びその積層体は、屋外又は屋内で使用される各種資材に適用でき、例えば、室内の温度上昇を抑制するため建物、車、電車などの窓、透明植物容器、冷凍冷蔵ショーケースの保冷効果を向上する用途、プラズマディスプレイなど表示画面の前面でリモコンの誤作動を防止する光学フィルター、固体撮影素子（ＣＣＤ）カメラ用光学フィルター等の資材として使用することができる。
【００３２】
本発明の熱線遮蔽膜は、構成層の積層数が少ないため、製造しやすく、製造工程で消費される材料やエネルギーが抑制されることから、比較的低いコストで製膜可能であり、環境面からも優れている。また、積層数が少ないために比較的広い波長領域において選択反射でき、膜歪や選択反射性の環境依存性も抑制される。
【００３３】
しかも、溶液の状態で湿式法により製造可能であることから、非平面状の基板にも熱線遮蔽膜を形成することができ、造膜性が良好であるため、良好な膜質の熱線遮蔽膜が得られ、比較的低い製造コストで大面積化が図れる。
さらに、比較的低温で製膜できるため、組み合わせる材料の制限を受けず、耐熱性の低い材料やプラスチック基板も使用可能となる。
【００３４】
また、耐剥離性に優れているため、寸法安定性がよく、耐久性も高い。
さらに、近赤外線の良好な選択反射性を示すため、遮熱性が高く、可視光線透過率も高い。光学膜厚を調整すれば可視光も反射して着色して見えることから、顔料を添加しなくても意匠性を高めることができる。
また、ガラス基板の場合は万一ガラスが破損しても樹脂層によりガラスの飛散を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に特定はされない。
【００３６】
［熱線遮蔽膜］
本発明の熱線遮蔽膜は、日射（波長３００ｎｍ〜２５００ｎｍ）のうち、可視光線（波長３８０〜７８０ｎｍ）を透過し、近赤外線（波長７８０ｎｍ〜１３００ｎｍ）を選択的に反射する膜であり、この膜は波長７５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長領域における最低透過率（ＴＭＩＮ）が９０％以下で、無機粒子を含有した樹脂層よりなる、屈折率が１．７５以上の高屈折率層を少なくとも有することを特徴とする。
本発明の熱線遮蔽膜は、最も単純には高屈折率層を有するものであるが、選択反射率を  高めるために高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した交互積層膜であることが好ましい。
【００３７】
以下に、本発明の熱線遮蔽膜が、主に高屈折率層と低屈折率層との交互積層膜である場合を例示して本発明を詳細に説明するが、本発明の熱線遮蔽膜は、何らこの交互積層膜に限定されるものではなく、後掲の図１、図２に示すように高屈折率層のみからなるものであっても良く、また、図１２に示すように高屈折率層と他の機能層とからなるものであっても良い。
【００３８】
また、本発明の熱線遮蔽膜は、高屈折率層と低屈折率層以外に、後述の機能層を有していても良いが、この場合、高屈折率層又は低屈折率層と高屈折率層又は低屈折率層との間に介入して設けられた高屈折率層及び低屈折率層以外の後述する機能層は、本発明の熱線遮蔽膜の構成層とみなし、高屈折率層や高屈折率層と低屈折率層とを含む積層膜の外側に形成された層は本発明の熱線遮蔽膜には含まれない他の層とみなす。従って、後掲の図７や図１２における赤外線吸収層１３や図１１における金属層１７は、本発明の熱線遮蔽膜に含まれる層であるが、図８及び図１５におけるハードコート層１４や、図９及び図１６における接着層１５、図１０の紫外線吸収層１６、図１４の着色層１８、図１６，１７における中間膜層１９は、本発明の熱線遮蔽膜に含まれない。
ただし、図１５で示すように金属層１７が高屈折率層１１又は低屈折率層に隣接している場合、金属層はとりわけ熱線遮蔽性が高いため、金属層も含めて熱線遮蔽膜とする。
【００３９】
なお、以下において、本発明の熱線遮蔽膜が基板上に積層形成されたものである場合、熱線遮蔽膜の積層膜の基板側の層を「基層」と称し、熱線遮蔽膜の基層と反対側の層を「表面層」と称す場合がある。
【００４０】
＜層構成＞
熱線遮蔽膜の表面層は、高屈折率層であることが好ましい。
また、高屈折率層と低屈折率層が積層されている場合、高屈折率層と低屈折率層との界面は完全に分かれていても、あるいは界面で高屈折率層材料と低屈折率層材料が混合した状態になっていても良い。ただし、この時の混合した層の厚みは高屈折率層の膜厚に対して１０％以下が良い。これ以上混合層が厚いと、反射率が低下してしまうため好ましくない。
【００４１】
また、高屈折率層及び低屈折率層は、いずれもその厚み方向に屈折率が段階的又は連続的に変化するものであっても良く、また、厚み方向の屈折率が均一であるものであっても良い。また面方向の屈折率は均一であることが好ましい。
【００４２】
また、各界面は非周期的な凹凸を有していても良い。この時、界面の表面粗さＲａは０．１ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、０．３ｎｍ〜３００ｎｍがより好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍがさらに好ましい。ここでＲａが０．１ｎｍより小さいと高屈折率層に生じた凹凸により高屈折率層と低屈折率層との剥離が抑制される効果が小さくなるため好ましくない。また、Ｒａが５００ｎｍより大きいと、界面での光の散乱が増加し、膜の透明性が低下するため好ましくない。さらに、膜厚ムラが大きいとさまざまな波長の光が干渉・反射することになるため選択反射性が低下し、好ましくない。この界面の表面粗さＲａは、接触式表面粗さ計で測定することができる。
【００４３】
熱線遮蔽膜を構成する高屈折率層と低屈折率層との交互積層膜の中間又は外側（表面層の上又は基層の下）には、高屈折率層及び低屈折率層以外に更なる機能付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、本発明の熱線遮蔽膜以外の熱線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層等の機能層の１又は２以上を積層形成しても良い。
本発明の熱線遮蔽膜に含まれる樹脂層の耐久性向上の観点から、熱線遮蔽膜よりも先に太陽光が透過する位置に紫外線吸収層を加えることが好ましく、その場合には、紫外線透  過率は６０％以下、好ましくは３０％以下、より好ましくは１０％以下とする。
【００４４】
ここで着色層とは色を調整するために特定波長を吸収又は反射する層のことである。この層の吸収又は反射波長は常に同じでも良いし、電気や光、温度などの外部信号により変化しても良い。また、熱線カット層とは金属層やコレステリック液晶層など高屈折率層及び低屈折率層以外に赤外線（波長７８０〜２５００ｎｍ）の反射が可能な層のことである。本発明の熱線遮蔽膜に熱線カット層を組み合わせることにより、遮光性や遮熱性を向上させることができる。この金属層にはアルミニウム、金、銀、銅等の金属が使用可能である。また、ＳｂをドープしたＳｎＯ２、ＳｎをドープしたＩｎ２Ｏ３（ＩＴＯ）等の広い光学バンドギャップと高い自由電子密度を有する無機酸化物層も熱線カット層として使用可能である。こうした金属層や無機酸化物層の形成方法には特に制限はなく、真空蒸着法、スパッタ法、気相成長法、プラズマＣＶＤ法、塗布法などのいずれを採用しても良い。
【００４５】
これらの機能層が高屈折率層又は低屈折率層と高屈折率層又は低屈折率層との間にある場合、その膜厚は通常５ｎｍ〜１００μｍである。膜厚が５ｎｍより薄いと当該機能層の機能の発現が不十分となるため好ましくない。膜厚が１００μｍより厚いと可視光線透過率が低下して透明性が低くなる恐れがあるため好ましくない。
一方、これらの機能層が高屈折率層や高屈折率層と低屈折率層とを含む積層膜の外側に形成される場合、その膜厚はこの限りではなく、膜厚は５ｎｍ〜３ｍｍとすることができる。膜厚が５ｎｍより薄いと当該機能層の機能の発現が不十分となるため好ましくない。膜厚が３ｍｍより厚いと透明性が低下する恐れがあるため好ましくない。  
【００４６】
なお、上述の機能層は、高屈折率層と低屈折率層との交互積層膜に組み合わせるものに何ら限定されず、高屈折率層のみからなる熱線遮蔽膜に積層して形成しても良いことは言うまでもない。
【００４７】
＜膜厚＞
本発明の熱線遮蔽膜を構成する高屈折率層、低屈折率層等のそれぞれの層の膜厚は、通常５〜１０００ｎｍ、より好ましくは２０〜６００ｎｍ、さらに好ましくは４０〜３００ｎｍである。ここで膜厚が５ｎｍより薄いと、表面粗さが大きくなり選択反射性が低下しやすくなるため好ましくない。また、製造時の膜厚制御が困難となるため好ましくない。膜厚が１０００ｎｍより厚いと、無機粒子を含有した層の場合、膜内での多重散乱が増加して透明性が低下するため好ましくない。
【００４８】
なお、高屈折率層の膜厚は低屈折率層の膜厚より小さいことが好ましい。即ち、高屈折率層は、無機粒子と樹脂の界面において光の散乱により白濁しやすいため、高屈折率層は極力薄くする方が好ましい。各層の好適な膜厚は上述の通りであるが、この膜厚の範囲内において、高屈折率層は低屈折率層よりも５〜５００ｎｍ程度膜厚が小さいことが好ましい。
【００４９】
これらの層の膜厚は段差・表面粗さ・微細形状測定装置や、反射分光膜厚計で測定することができる。
【００５０】
層全体での膜厚ムラ（即ち、１つの層において、最も膜厚の厚い部分の膜厚と、最も膜厚の薄い部分の膜厚との差）は選択反射性能を損なわない限り特に制限されないが、一般に膜厚の２／３以内であり、好ましくは１／２以内、より好ましくは１／３以内である。
【００５１】
なお、本発明の熱線遮蔽膜自体の膜厚は通常２０ｎｍ〜５００μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜３００μｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜１００μｍ、さらに好ましくは１００ｎｍ〜５０μｍである。熱線遮蔽膜の膜厚が２０ｎｍより薄い場合、選択反射性が低くなるため好ましくない。熱線遮蔽膜の膜厚が５００μｍより厚い場合、無機粒子と樹脂の界面で散乱される光が増加し、熱線遮蔽膜の透明性が低下するため好ましくない。従って、本発明の熱線遮蔽膜が高屈折率層と低屈折率層以外の他の機能層を高屈折率層と低屈折率層との積層膜内に有する場合、この機能層を含めて、熱線遮蔽膜全体の膜厚が上記範囲となるようにすることが好ましい。
【００５２】
＜積層数＞
本発明の熱線遮蔽膜は、１層の高屈折率層のみからなる単層膜であっても良く、高屈折率層と低屈折率層の積層体であっても良く、更には他の機能層を有する積層膜であっても良い。積層膜構造の場合、積層数は機能層を除いて７層以下であり、好ましくは５層以下であり、さらに好ましくは３層以下である。
積層数が７層より多くなると、反射率の温度依存性が大きくなるため好ましくない。また、積層数が多くなると高屈折率層と低屈折率層の接する界面での散乱光や、無機粒子による膜内での散乱光が増加するため透明性が悪くなり、さらに製造も困難となるため好ましくない。
【００５３】
＜屈折率＞
本発明の熱線遮蔽膜はもっとも単純には屈折率が１．７５以上の高屈折率層であるが、高屈折率層と低屈折率層との交互積層膜である場合、高屈折率層と低屈折率層の各々の屈折率は後述の［高屈折率層］及び［低屈折率層］の項で説明する通りであり、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差は０．２以上が好ましく、０．３以上がより好ましく、０．４以上がさらに好ましく、０．５以上がことさら好ましい。この屈折率差が小さ過ぎると選択反射性が低くなるため好ましくない。この屈折率差の上限には特に制限はないが通常１．４以下である。
【００５４】
なお、本発明の熱線遮蔽膜は高屈折率層と低屈折率層との交互積層膜に限らず、高屈折率層と低屈折率層との中間の屈折率を有する中屈折率層も組み合わされていても良い。
好適な積層構成の具体例は、後述の積層体の具体例を示す図１〜１７に例示される。
【００５５】
＜波長７５０〜１３００ｎｍでの最低透過率＞
本発明の熱線遮蔽膜は、波長７５０〜１３００ｎｍの波長領域における最低透過率（ＴＭＩＮ）が９０％以下であることを特徴とする。
この最低透過率が９０％を超えると遮熱性が不十分となるため好ましくない。この最低透過率は、好ましくは８０％以下、より好ましくは７０％以下、更に好ましくは６５％以下である。なお、最低透過率の下限は通常５％以上であり、好ましくは１０％以上である。
この最低透過率は、分光光度計で測定した７５０〜１３００ｎｍの波長範囲で一番低い透過率の値と定義する。本発明の熱線遮蔽膜が基板上に形成されたものである場合には、基板のみの可視光線透過率と基板と熱線遮蔽膜の積層体の可視光線透過率の両方を測定しておき、積層体の可視光線透過率を基板の可視光線透過率で割った値のうち、７５０〜１３００ｎｍの波長範囲で一番低い値をＴＭＩＮとする。
【００５６】
＜可視光線透過率＞
本発明の熱線遮蔽膜の可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は通常２０〜９９％であり、好ましくは６０〜９９％、より好ましくは７０〜９９％、さらに好ましくは８０〜９８％である。ＴＶＩＳが２０％より低いと、可視光線透過率の下限が規定された車両用ガラスやディスプレイの表示用ガラス等の用途において、可視光線透過率を高めるために膜厚を薄くする、あるいは積層数を少なくするために選択反射性が低くなり好ましくない。また、基板と積層する時に使用可能な基板の種類が制限されることからも好ましくない。ＴＶＩＳが９９％より高いと基板表面での反射を抑制する効果が無くなり、基板表面のギラツキを抑えられなくなる恐れがあるため好ましくない。
ここで、熱線遮蔽膜のＴＶＩＳは、分光光度計で測定した５５０ｎｍにおける透過率と定義する。本発明の熱線遮蔽膜が基板上に形成されたものである場合には、基板のみのＴＶＩＳと基板と熱線遮蔽膜の積層体のＴＶＩＳの両方を測定しておき、積層体のＴＶＩＳを基板のＴＶＩＳで割った値を熱線遮蔽膜のＴＶＩＳとする。
【００５７】
＜近赤外線透過率＞
本発明の熱線遮蔽膜の近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は通常９０％以下、好ましくは８５％以下、より好ましくは８０％以下、さらに好ましくは７０％以下である。これよりＴＮＩＲが高い場合、遮光性、遮熱性が不十分となるため好ましくない。
ここで、熱線遮蔽膜のＴＮＩＲは、分光光度計で測定した１０５０，１１００，１０５０ｎｍの透過率の平均値と定義する。本発明の熱線遮蔽膜が基板上に形成されたものである場合には、基板のみのＴＮＩＲと基板と熱線遮蔽膜の積層体のＴＮＩＲの両方の近赤外線透過率を測定しておき、積層体のＴＮＩＲを基板のＴＮＩＲで割った値を熱線遮蔽膜の近赤外線透過率とする。
なお、熱線遮蔽膜のＴＮＩＲの下限については特に制限はなないが、通常０．１％以上である。
【００５８】
＜選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）＞
本発明の熱線遮蔽膜の可視光線透過率（ＴＶＩＳ）と近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）との比で求められる選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．０１以上が好ましく、１．０２以上がより好ましく、１．０５以上がさらに好ましい。選択透過性が１．０１より低い場合、可視光線透過率を高めると近赤外線透過率も高くなり、その結果遮光性や遮熱性が不十分となるため好ましくない。ここで選択透過性が高いということは、可視光線に対する近赤外線の選択反射性が高いことを意味する。
【００５９】
［高屈折率層］
以下に本発明の熱線遮蔽膜に含まれる高屈折率層について説明する。
【００６０】
＜高屈折率層の屈折率＞
高屈折率層の屈折率は通常１．７５以上であることが好ましく、１．８以上であることがより好ましく、１．９以上であることが更に好ましく、２．０以上であることがことさら好ましい。また３．０以下であることが好ましく、２．７以下であることがより好ましく、２．５以下であることが更に好ましい。高屈折率層の屈折率が１．７５より低いと選択反射性が低下し、赤外線透過率を低下させるために可視光線透過率も低下してしまい、透明性の低い材料となるため好ましくない。高屈折率層の屈折率が３．０より高いと透明性が損なわれる恐れや、靭性が悪化する恐れがあり、また基板や他の材料への造膜性が低下する可能性があるため好ましくない。
高屈折率層の屈折率は、分光エリプソメーター、反射率測定、プリズムカップラー、多波長アッベ屈折計などで測定することができる。
【００６１】
＜高屈折率層の透過率＞
高屈折率層の可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は通常４０〜９９％であり、好ましくは６０〜９９％、より好ましくは７０〜９９％、さらに好ましくは８０〜９８％である。高屈折率層のＴＶＩＳが４０％より低いと、可視光線透過率の下限が規定された車両用ガラス等の用途において、可視光線透過率を高めるために膜厚を薄くする、あるいは積層数を少なくするために選択反射性が低くなり、好ましくない。また、積層体として基板に組み合わせる時に透明性の高い基板に制限されるため好ましくない。ＴＶＩＳが９９％より高いと基板表面での反射  を抑制する効果が無くなり、基板表面のギラツキを抑えられなくなる恐れがあるため好ましくない。  
【００６２】
＜Ｙ＞
高屈折率層において、下記式で算出される層厚ｔ（ｎｍ）と平行光線透過率Ｔｐ（％）との関係Ｙ（％／ｎｍ）は０．０００１〜１であることが好ましい。
Ｙ＝（１００−Ｔｐ）／ｔ
なお、高屈折率層の平行光線透過率Ｔｐはヘーズメーターにより測定される。また、膜  厚は段差・表面粗さ・微細形状測定装置や、反射分光膜厚計により測定される。
このＹ値は好ましくは０．００１〜０．５である。ここでＹが１より大きい場合、拡散光が増加して透明性が低下するため好ましくない。Ｙ値を０．０００１より小さくするには無機粒子含有量を低下させる方法があるが、高屈折率層の屈折率を１．７５以上とすることが困難となるため好ましくない。また、無機粒子の粒径を小さくする方法もあるが、粒子が凝集しやすくなり、これを抑制するために分散剤添加量を増加させた場合、高屈折率層中の無機粒子含有量が低くなり、高屈折率層の屈折率を１．７５以上とすることが困難となるため好ましくない。
【００６３】
＜無機粒子の種類＞
高屈折率層に含まれる無機粒子としてはＴｉＯ２（酸化チタン）、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｒＳｉＯ４、ゼオライトなどが挙げられる。これらの粒子は可視光波長領域に殆ど吸収を持たない性質を有するため好ましい。高屈折率層には、これらの粒子の２種類以上を組み合わせて使用しても良い。
高屈折率層の樹脂（バインダー樹脂）との親和性の観点で、無機粒子としては、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２がより好ましく、高屈折率層を形成するための後述の無機粒子含有組成物の安定性の観点ではＴｉＯ２が更に好ましい。また、ＴｉＯ２の中でも特にアナターゼ型よりルチル型の方が触媒活性が低いために高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高いことから好ましい。
【００６４】
また、これらの無機粒子は、高屈折率層を形成するための後述の無機粒子含有組成物における分散性向上や長期安定性向上のために、表面処理が施されていても良い。この場合、表面処理の具体的な材料としては酸化ジルコニウム、酸化ケイ素などの金属酸化物、水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物、オルガノシロキサン、ステアリン酸などの有機酸などが挙げられる。これらは１種を単独で用いても良く、複数種を組み合わせて用いても良い。高屈折率層を形成するための後述の無機粒子含有組成物の安定性の観点から、無機粒子の表面処理材としては、金属酸化物及び／又は金属水酸化物が好ましく、この中でも特に金属水酸化物が好ましい。
無機粒子がこれらの材料で表面被覆処理されている場合、その被覆量（一般的にはこの被覆量は、無機粒子の重量に対する当該無機粒子の表面に用いた表面処理材料の重量割合で示される。）は、０．０１〜９９重量％であることが好ましい。この被覆量が少な過ぎると、表面処理による分散性や安定性の向上効果を十分に得ることができないため好ましくなく、多過ぎると高屈折率層の屈折率が低下し、熱線遮蔽膜における近赤外線の選択反射性が低下するため好ましくない。
【００６５】
＜無機粒子の屈折率＞
高屈折率層に含まれる無機粒子の屈折率はバルクの状態で１．６５以上であることが好ましく、１．７５以上であることがより好ましく、２．０以上であることが更に好ましく、２．５以上であることが更に好ましい。また３．０以下であることが好ましい。無機粒子の屈折率が１．６５より低いと熱線遮蔽膜における近赤外線透過率が高くなるため好ましくない。無機粒子の屈折率が３．０より高いと膜中での多重散乱が増加し、透明性が低下するため好ましくない。
【００６６】
＜無機粒子の粒径＞
高屈折率層に含まれる無機粒子の粒径は通常５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、３０ｎｍ以上であることが更に好ましい。また、７０ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。無機粒子の粒径が５ｎｍより小さい場合、無機粒子が凝集しやすく、透明性がむしろ低くなるため好ましくない。  また、粒径が小さいと表面積が大きくなり、触媒活性が高まり、高屈折率層や隣接した層の劣化が促進される恐れがあるため好ましくない。無機粒子の粒径が７０ｎｍより大きいと高屈折率層の透明性が低下するため好ましくない。本発明の効果を損なわない限り、粒径の分布は制限されず、広くても狭くても複数の分布を持っていてもよい。
【００６７】
＜無機粒子の含有量＞
高屈折率層における無機粒子含有量は４０重量％以上であることが好ましく、５０重量％以上であることがより好ましく、６０重量％以上であることが更に好ましい。また、９５重量％以下であることが好ましく、８５重量％以下であることがより好ましく、８０重量％以下であることが更に好ましい。高屈折率層の無機粒子含有量が４０重量％より少ないと造膜性が低下して、不均質な膜になる恐れがあるため好ましくない。高屈折率層の無機粒子含有量が９５重量％より多いと高屈折率層の脆性が大きくなり、耐衝撃性が低下する恐れがあるため好ましくない。
【００６８】
＜高屈折率層用樹脂＞
高屈折率層の樹脂（バインダー樹脂）としては熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂が使用できる。ここでいう電離放射線硬化性樹脂とは電子線、紫外線により硬化する樹脂のことである。
【００６９】
バインダー樹脂は可視光波長領域に殆ど吸収を持たない性質を有するものが好ましく、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリへキシルメタクリレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ホリアミド、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリアクリル酸エステル、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、ポリ  ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸などが挙げられる。これらは２種以上を組み合わせて使用しても良い。
【００７０】
また、電離放射線硬化性樹脂として分子内に重合性不飽和基を含む重合性モノマー由来のものも選択できる。例えば、アクリレートあるいはメタクリレート系のＵＶ硬化性・熱硬化性オリゴマーあるいはこれらの複合物などが挙げられる。以下、アクリレートとメタクリレートを（メタ）アクリレートと記す。
【００７１】
単官能アクリレートあるいはメタクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェニルグリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノメチル（メタ）アクリレート、フェニルセロソルブ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ビフェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリロイルフォスフェート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。
【００７２】
多官能（メタ）アクリレートとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサメチレンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレートなどが挙げられる。
【００７３】
また上記の単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレート以外に、硫黄含有（メタ）アクリレート化合物を使用することもできる。
【００７４】
硫黄含有（メタ）アクリレート化合物としては、下記一般式［Ｉ］で示される硫黄含有ビス（メタ）アクリレート化合物及び／又は下記一般式［II］で示される硫黄含有ビス（メタ）アクリレート化合物を用いることができる。
【００７５】
【化１】
2009086659.tif 000003
【００７６】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立してエーテル型酸素原子又はチオエーテル型硫黄原子を含んでいても良い炭素数１〜６の二価の炭化水素基を表し、Ｘはフッ素原子を除くハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を表し、ｒは０〜４の整数を表す。）
【００７７】
【化２】
2009086659.tif 000004
【００７８】
（式中、Ｒ４は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ５はエーテル型酸素原子又はチオエーテル型硫黄原子を含んでいても良い炭素数１〜１２の二価の炭化水素基を表し、Ｚはフッ素原子を除くハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を表し、ｋ及びｍはそれぞれ独立して１〜３の整数を表し、Ｙは−ＳＯ２−又は−ＣＯ−を表し、ｐ及びｑは０〜４の整数を表す。）
【００７９】
一般式［Ｉ］で表される硫黄含有ビス（メタ）アクリレート化合物において、Ｒ２及びＲ３の「エーテル型酸素原子又はチオエーテル型硫黄原子を含んでいても良い炭素数１〜６の二価の炭化水素基」の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＳＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−等が挙げられる。Ｘで定義されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、炭素数１〜６のアルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜６のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００８０】
一般式［Ｉ］で表される硫黄含有ビス（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、例えばｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン、ｐ−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン、ｍ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン、ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）テトラブロムキシリレン、ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）テトラクロルキシリレン等を挙げることができる。これらの中でも好ましいのは、ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレンである。
【００８１】
また、一般式［II］で表される硫黄含有ビス（メタ）アクリレート化合物において、Ｒ５の「エーテル型酸素原子又はチオエーテル型硫黄原子を含んでいても良い炭素数１〜６の二価の炭化水素基」としては、上記Ｒ２及びＲ３で説明したものと同様のものが挙げられ、またＺのハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基としては、上記Ｘで説明したものと同様のものが挙げられる。
【００８２】
一般式［II］で表される硫黄含有ビス（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、例えば４，４’−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，４’ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，４’−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルケトン、４，４’−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルケトン、４，４’−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）３，３’，５，５’−テトラブロムジフェニルケトン等を挙げることができる。中でも好ましいのは、４，４’−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホンである。
【００８３】
これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００８４】
後述の高屈折率層形成の際の溶媒除去時の粒子分散安定性の点から、樹脂としては熱硬化性樹脂、又は電離放射線硬化性樹脂が好ましい。また上層を塗布した時の下層の溶解性が低いという観点からも熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂を硬化させる際に硬化させる層の上部と下部で不均一構造が形成される恐れがあるため、特に電離放射線硬化性樹脂が好ましい。
【００８５】
＜高屈折率層用樹脂の線熱膨張係数＞
高屈折率層用樹脂の線熱膨張係数は通常２０×１０−５／Ｋ以下であり、好ましくは１０×１０−５／Ｋ以下である。高屈折率層用樹脂の線熱膨張係数が２０×１０−５／Ｋより高いと、高屈折率層の膜厚の温度変化により選択反射波長の温度依存性が大きくなるため好ましくない。また、温度変化に対して無機粒子と樹脂の界面で空隙が生じて白濁の原因となるため好ましくない。高屈折率層用樹脂の線熱膨張係数は、熱機械分析装置により測定することができる。
【００８６】
＜高屈折率層用樹脂の屈折率＞
高屈折率層用樹脂の屈折率は、下限値として１．４５以上が好ましく、１．５０以上が好ましく、１．６０以上が更に好ましく、１．６５以上がことさら好ましい。高屈折率層用樹脂の屈折率が１．４５より低いと高屈折率層の屈折率が１．７５以上にならず、近赤外線の選択反射性が低くなるため好ましくない。高屈折率層用樹脂の屈折率の上限値としては、好ましくは２．１以下、より好ましくは２．０以下、さらに好ましくは１．９以下、ことさら好ましくは１．７以下である。屈折率が２．１より高い樹脂は着色する恐れがあるため、透明性の観点から好ましくない。
【００８７】
＜高屈折率層用樹脂のガラス転移温度＞
高屈折率層用樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、通常２０〜５００℃である。Ｔｇが２０℃より低いと長期使用安定性が低いため好ましくない。Ｔｇが５００℃より高いと内部応力の発生や歪に対して割れやすくなる恐れがあるため好ましくない。
【００８８】
＜高屈折率層用樹脂の高分子構造＞
高屈折率層用樹脂の高分子構造は、線状であっても、分岐状であっても構わない。さらにこれらを架橋した構造であっても構わない。
【００８９】
＜重合開始剤＞
高屈折率層の樹脂として前述の分子内に重合性不飽和基を含む重合性モノマーを用いる場合、これらのモノマーの重合のための重合開始剤を併用することができる。使用される重合開始剤は特に限定されず、公知のものの中から適宜選択することができる。
具体的には、ベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−メチル−１（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパンー１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、それらの誘導体などが挙げられ、それらの中から１種、又は２種以上を混合して用いることができる。
また、重合開始剤の種類によっては、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなど  の反応促進剤、重合禁止剤を併用しても良い。
重合開始剤の配合割合は、前述のモノマー成分に対して、０．０１〜２０重量％であることが好ましい。
【００９０】
＜分散剤＞
高屈折率層は、無機粒子の分散安定性を高めるために、分散剤を含んでいても良い。この分散剤としては、低分子分散剤、高分子分散剤、バインダー樹脂以外の樹脂など適時選択可能である。この中でも特に粒子の分散安定性の観点で高分子分散剤が好ましい。高分子分散剤としては、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレングリコールジエステル系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性ポリエステル系分散剤等を挙げることができる。これらの分散剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００９１】
高屈折率層における分散剤含有量は通常０．１〜６０重量％である。分散剤含有量が０．１重量％より少ないと無機粒子に対する分散剤の量が不十分となり、無機粒子の凝集により透明性が低下するため好ましくない。分散剤含有量が６０重量％より多いと分散剤同士で化学的、あるいは物理的な相互作用が無い場合に膜の機械的強度が低くなり好ましくない。
高屈折率層中の無機粒子に対する分散剤含有量は０．１〜６０重量％が好ましく、０．５〜３５重量％がより好ましく、１〜３０重量％が更に好ましく、２〜２５重量％が最も好ましい。無機粒子に対する分散剤の含有割合が０．１重量％を下回ると、高屈折率層を形成するための後述の無機粒子含有組成物中における無機粒子の分散安定性が悪くなる恐れがあり、６０重量％を超えると硬化物、即ち、形成された高屈折率層の耐熱性が極端に悪くなり、着色や白濁の原因となる恐れがあるため好ましくない。
【００９２】
＜その他の成分＞
高屈折率層には、その特性を損なわない範囲において、酸化防止剤、離型剤、表面処理剤、無機充填、着色剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、レベリング剤などが含まれていても良い。
【００９３】
［低屈折率層］
以下に本発明の熱線遮蔽膜に含まれる低屈折率層について説明する。
低屈折率層は樹脂で構成されることが好ましい。
【００９４】
＜低屈折率層用樹脂の種類＞
低屈折率層用樹脂としては、高屈折率層用の樹脂として例示した熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂を適時選択して使用することができる。
【００９５】
熱可塑性樹脂としてはポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸２−ヒドロキシエチル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ブチラール樹脂、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体等が挙げられるが、特に、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸等の水溶性樹脂が水溶媒を用いて塗布法により形成することができるため、環境の観点から好ましい。これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００９６】
電離放射線硬化性樹脂としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、マレイン酸、イタコン酸、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタクリレート、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレ  ート、ポリエチレングリコール４００ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリールメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
また低屈折率層は多孔質であってもよく、そのため、中空微粒子が含まれていても良い。
【００９７】
＜低屈折率層の屈折率＞
低屈折率層の屈折率は通常１．１〜１．６、好ましくは１．３〜１．６、より好ましくは１．４〜１．５である。低屈折率層の屈折率を１．１より低くするには過剰の空孔やフッ素含有化合物を用いることなどが必要となり、いずれにおいても機械的強度や透明性の観点で好ましくない。低屈折率層の屈折率が１．６より高いと選択反射性を高くするために高屈折率の材料が制限されてしまい好ましくない。
低屈折率層の屈折率は、分光エリプソメーター、反射率測定、プリズムカップラー、多波長アッベ屈折計などで測定することができる。
【００９８】
＜低屈折率層用樹脂のガラス転移温度＞
低屈折率用樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、通常２０〜５００℃である。Ｔｇが２０℃より低いと長期使用安定性が低いため好ましくない。Ｔｇが５００℃より高いと内部応力の発生や歪に対して割れやすくなる恐れがあるため好ましくない。
【００９９】
＜低屈折率層用樹脂の高分子構造＞
低屈折率層用樹脂の高分子構造は、線状であっても、分岐状であっても構わない。さらにこれらを架橋した構造であっても構わない。
【０１００】
［積層体］
本発明の積層体は少なくとも基板と熱線遮蔽膜とを有するものである。
【０１０１】
＜積層体構成＞
本発明の積層体において、熱線遮蔽膜は基板の一方の面にのみ形成されていても、両面に形成されていても良い。また、基板の上に構成された熱線遮蔽膜の上、あるいは、基板と熱線遮蔽膜との間、又は基板の上に熱線遮蔽膜以外の機能層が形成されていても良い。ここで熱線遮蔽膜以外の機能層としては、例えば、前述の［熱線遮蔽膜］の項で例示した導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、積層膜以外の熱線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、中間膜層等が挙げられる。これらは２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、高屈折率層や低屈折率層がこれらの機能層を兼ねても良い。
【０１０２】
＜具体的構成＞
本発明の熱線遮蔽膜を基板に積層形成した本発明の積層体の実施の形態を示す図１〜１７を参照して、本発明の熱線遮蔽膜及び積層体の具体的な層構成を説明する。
図１は、基板１の一方の面に１層の高屈折率層１１よりなる熱線遮蔽膜２Ａを形成した積層体１０Ａを示す。
図２は、基板１の両面にそれぞれ１層の高屈折率層１１よりなる熱線遮蔽膜２Ａを形成した積層体１０Ｂを示す。
図３は、基板１の一方の面に基層側から高屈折率層１１、低屈折率層１２及び高屈折率層１１の３層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｂを形成した積層体１０Ｃを示す。
図４は、図３におけるような３層積層膜の熱線遮蔽膜２Ｂを基板１の両面にそれぞれ形  成した熱線遮蔽膜１０Ｄを示す。
図５は、基板１の一方の面に基層側から高屈折率層１１、低屈折率層１２、高屈折率層１１、低屈折率層１２及び高屈折率層１１の５層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｃを形成した積層体１０Ｅを示す。
図６は、図５におけるような５層積層膜の熱線遮蔽膜２Ｃを基板１の両面にそれぞれ形成した積層体１０Ｆを示す。
図７は、基板１の一方の面に基層側から高屈折率層１１、赤外線吸収層１３、低屈折率層１２及び高屈折率層１１の４層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｄを形成した積層体１０Ｇを示す。
図８は、図３におけるような３層積層膜の熱線遮蔽膜２Ｂを基板１の一方の面に形成し、更にその上にハードコート層１４を形成した積層体１０Ｈを示す。
図９は、図３におけるような３層積層膜の熱線遮蔽膜２Ｂと基板１との間に接着層１５を形成した積層体１０Ｉを示す。
図１０は、図３におけるような３層積層膜の熱線遮蔽膜２Ｂを基板１の一方の面に形成し、基板１の他方の面に紫外線吸収層１６を形成した積層体１０Ｊを示す。
図１１は、基板１の一方の面に基層側から高屈折率層１１、低屈折率層１２、金属層１７及び高屈折率層１１の４層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｅを形成した積層体１０Ｋを示す。
図１２は、基板１の一方の面に、赤外線吸収層１３を介して２層の高屈折率層１１，１１を積層した３層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｆを形成した積層体１０Ｌを示す。
図１３は、基板１の一方の面に、高屈折率層１１と低屈折率層１２との２層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｇを形成した積層体１０Ｍを示す。
図１４は、基板１の一方の面に、図３におけるような３層積層膜の熱線遮蔽膜２Ｂを、着色層１８を介して形成した積層体１０Ｎを示す。
図１５は、基板１の一方の面に、基層側から、金属層１７及び高屈折率層１１の２層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｈと、更にその上にハードコート層１４を形成し、基板１の他方の面にもハードコート層１４を形成した積層体１０Ｏを示す。
図１６は、２枚の基板１，１を用い、これらの基板１，１間に、接着層１５と、図３におけるような３層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｂと、中間膜層１９とを積層形成した積層体１０Ｐを示す。
図１７は、２枚の基板１，１を用い、これらの基板１，１間に、中間膜層１９と、図３におけるような３層積層膜よりなる熱線遮蔽膜２Ｂと、中間膜層１９とを積層形成した積層体１０Ｑを示す。
なお、図１〜１７は本発明の積層体の一例を示すものであって、本発明は何ら図示のものに限定されるものではない。
【０１０３】
＜基板の材料＞
本発明の積層体に使用することができる基板としては、各種樹脂やガラス等を用いることができる。基板に使用可能な材料の例としては、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスルフィド系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、繊維素系樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでも良く、これらを２種以上混合して用いても良い。
本発明で使用することができる基板は、押出し、カレンダー、射出、中空、圧縮形成等公知の方法で製造することができる。
【０１０４】
なお、基板は以下のような機能を有していてもよい。
この機能としては導電性、帯電防止性、ガスバリア性、易接着性（接着性）、防汚性、消臭性、流滴性、易滑性、ハードコート性、耐摩耗性、反射防止性、電磁波シールド性、紫外線吸収、赤外線吸収、剥離性、粘着性、金属層や液晶層などによる本発明の熱線遮蔽膜以外の熱線カット性、色補正性等の機能が挙げられる。
【０１０５】
＜基板のその他の添加物＞
基板を構成する上記材料には、熱安定剤、紫外吸収剤、酸化防止剤、防腐剤防カビ剤等、熱線遮蔽膜の効果を持続させる目的で各種添加剤を加えても良い。更に、特定の波長の可視光、近赤外線、赤外線を吸収あるいは反射する色素や顔料、色素等の着色剤や無機酸化物微粒子など、更なる機能付与を目的として各種添加剤を加えても良い。
【０１０６】
＜基板のガラス転移温度＞
基板に樹脂を用いた場合、その樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、通常６０〜５００℃であり、好ましくは８０〜３００℃、より好ましくは１００〜３００℃である。ここでＴｇが６０℃より低いと、長期使用中に積層体が変形し、選択反射波長が変化してしまい好ましくない。Ｔｇが５００℃より高い  と、内部応力の発生や歪に対して割れやすくなるため好ましくない。
【０１０７】
＜基板の線熱膨張係数＞
基板の線熱膨張係数は本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、通常２０×１０−５／Ｋ以下が好ましく、１０×１０−５／Ｋ以下がより好ましい。線熱膨張係数がこれより大きいと高温時の変形量が大きく、歪んでしまい好ましくない。線熱膨張係数の下限については特に制限はないが通常１×１０−７／Ｋ以上である。これより小さいと基板から熱線遮蔽膜が剥離する恐れがあり好ましくない。
【０１０８】
＜基板の厚み＞
基板の厚みは通常０．１ｍｍ〜１０ｃｍである。基板が０．１ｍｍより薄いと積層体の機械的強度が低くなるため好ましくない。また基板が１０ｃｍより厚いと透明性が低くなり、用途が制限されるため好ましくない。
【０１０９】
＜可視光線透過率＞
積層体の可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は通常５％以上であり、好ましくは１０％以上、より好ましくは２０％以上である。ＴＶＩＳが５％より低い場合は、用途が制限されるため好ましくない。ＴＶＩＳの上限については特に制限はないが通常９９％以下である。
ここで、積層体のＴＶＩＳは、分光光度計で測定した５５０ｎｍにおける透過率と定義する。
【０１１０】
＜近赤外線透過率＞
積層体の近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は通常８０％以下であり、好ましくは７０％以下、より好ましくは６５％以下、更に好ましくは６０％以下である。ＴＮＩＲがこれより高い場合は、近赤外線の選択反射性が低いため好ましくない。
ここで、積層体のＴＮＩＲは、分光光度計で測定した１０５０，１１００，１１５０ｎｍの透過率の平均値と定義する。
なお、積層体のＴＮＩＲの下限については特に制限はないが、通常０．１％以上である。
【０１１１】
＜選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）＞
本発明の積層体の可視光線透過率（ＴＶＩＳ）と近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）との比で求められる選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は通常１．０５以上であり、好ましくは１．１０以上である。選択透過性が１．０５より低いと可視光線透過率を高めるために赤外線透過率も高くなってしまい、遮光性、遮熱性が不十分となるため好ましくない。
なお、この選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）の上限については特に制限はないが、通常１０以下である。
ここで選択透過性が高いということは、可視光線に対する近赤外線の選択反射性が高いことを意味する。
【０１１２】
＜ヘーズ＞
積層体のヘーズは通常０．０５〜２０％であり、好ましくは０．１〜１０％、より好ましくは０．５〜５％である。積層体のヘーズが０．０５％より低いと積層体を安定的に大面積で製造することが困難となるため好ましくない。ヘーズが２０％より高いと用途が制限されるため好ましくない。
【０１１３】
［積層体の製造方法］
本発明の積層体の製造方法には特に制限はないが、少なくとも高屈折率層を湿式法により形成することが好ましく、特に積層体上に形成される熱線遮蔽膜の全構成層を湿式法により形成することが好ましい。
【０１１４】
なお、ここでいう湿式法とは、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ブレードコート法、グラビアロールコート法、カーテンロールコート法、リバースロールコート法、エヤナイフコート法、ロッドコート法、リップダイコート法、オフセット印刷法等である。この中でも特に膜厚制御の観点から、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、カーテンロールコート法が好ましい。
【０１１５】
以下、湿式法による本発明の積層体の製造方法について説明するが、本発明の積層体は湿式法に限らず、基板上に熱線遮蔽膜を接着剤によりラミネートする方法や転写する方法で作製することもできる。また、基板と熱線遮蔽膜とを共押出法で同時に形成することにより製造することもできる。
【０１１６】
湿式法による熱線遮蔽膜の各層の形成は通常、基板又は基板上に形成された層上に、塗布溶液を塗布する塗布工程と、塗膜を硬化させる硬化工程を含む。また、通常は、塗布工程と硬化工程との間に形成された塗膜から溶媒を除去する乾燥工程が行われる。
【０１１７】
＜塗布溶液＞
熱線遮蔽膜を構成する高屈折率層や低屈折率層を湿式法により形成する際に用いられる塗布溶液は、前述の高屈折率層用樹脂、低屈折率層用樹脂に必要に応じて更に添加される添加剤を添加し、また、必要に応じて溶媒で適当な粘度に調製される。
なお、高屈折率層の形成用塗布溶液には前述の無機粒子が含まれる。この高屈折率層形成用塗布溶液は、前述の高屈折率層用樹脂と以下の溶媒（塗布溶媒）と、前述の無機粒子とを含み、固形分中に含まれる無機粒子の含有量が４０重量％以上、好ましくは４０〜９５重量％、より好ましくは５０〜８５重量％、更に好ましくは６０〜８０重量％であり、かつ、前述の分散剤を無機粒子に対して６０重量％以下、好ましくは０．１〜６０重量％、より好ましくは０．５〜３５重量％、更に好ましくは１〜３０重量％、特に好ましくは２〜２５重量％含む無機粒子含有組成物であることが好ましい。
【０１１８】
＜溶媒＞
塗布溶液を調製するための溶媒は水、有機溶媒、又はその混合溶媒であっても良い。
有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ヘプタン、ヘキサン、ペンタン、デカン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素などが挙げられ、これらのうち１種又は２種以上を用いることができる。
環境面からは塗布溶液の溶媒としては特に水、アルコール類の使用が好ましい。
【０１１９】
＜その他の添加物＞
熱線遮蔽膜を構成する各層には熱安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防腐剤、防カビ剤、難燃剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、滑剤、赤外線吸収剤、色素等、熱線遮蔽膜の効果を持続させる目的で各種添加剤を加えても良い。また、特定波長の可視光、近赤外線、赤外線を吸収あるいは反射する色素や顔料等の着色剤や無機酸化物微粒子など、更なる機能付与を目的として各種添加剤を加えても良い。
従って、湿式法により熱線遮蔽膜の各層層を形成する場合は、上述の塗布溶液に必要に応じてこれらの添加剤が配合される。
【０１２０】
＜粘度＞
塗布溶液の２５℃における粘度は通常１×１０−４〜１００Ｐａ・ｓ、好ましくは１×１０−３〜１０Ｐａ・ｓである。溶液粘度が１００Ｐａ・ｓより高いと塗りムラが生じやすく、好ましくない。塗布溶液粘度が１×１０−４Ｐａ・ｓより低いと一定以上の膜厚を得ることが困難となり、好ましくない。溶液粘度が上記範囲内にあれば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂は無溶媒で塗布し、乾燥工程を省略することも可能である。
【０１２１】
＜接触角＞
湿式法により塗膜を形成する際、当該塗膜を形成する面の塗布溶液に対する接触角が９０°以下が好ましく、６０゜以下がより好ましく、３０°以下がさらに好ましい。接触角がこれ以上高いと濡れ性が悪くなり、膜に欠陥が発生する恐れがあり、さらに形成された膜の表面平滑性が悪くなり、透過率が低下してしまうことがある。
また必要に応じて塗膜形成面に表面改質を行っても良い。
表面改質方法としては、プラズマ放電処理、コロナ放電処理、オゾン処理など物理的な方法や、シランカップリング剤などの化学的な方法、樹脂の下塗り等が挙げられる。
なお、この接触角は接触角測定器で測定される。
【０１２２】
＜乾燥＞
塗布溶液の塗布後は、溶媒除去のために必要に応じて加熱乾燥を行ってもよい。
乾燥温度は通常２５〜３００℃が好ましく、５０〜２００℃がより好ましく、６０〜１５０℃が更に好ましい。乾燥温度が２５℃未満では残留溶媒が残ってしまうことがあり、好ましくない。乾燥温度が３００℃を超える高温では使用できる膜材料や基板が制限されて好ましくない。
【０１２３】
乾燥時の基板の昇温速度は本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、一般に４０〜１００００℃／ｍｉｎである。昇温速度が４０℃／ｍｉｎより低いと溶媒乾燥過程で膜内に不均一構造が形成され、透明性が低下することがあるため好ましくない。昇温速度が１００００℃／ｍｉｎより高いと、温度制御が困難となるため好ましくない。
【０１２４】
乾燥時の加熱時間は３０秒〜１時間である。乾燥時間が３０秒より短いと、乾燥が不十分となり残留溶媒が残ることがあるため好ましくない。乾燥時間が１時間より長いと、膜が着色することもあるため、好ましくない。
【０１２５】
加熱乾燥後の塗膜は放冷しても良いし、冷却しても良い。
【０１２６】
＜硬化＞
塗膜の硬化方法は、用いた樹脂の硬化方法によれば良く、特に制限はない。
なお、前述の如く、低屈折率層や高屈折率層を形成する樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでもよく、これらを２種以上混合して用いてもよい。粒子分散安定性の観点から、高屈折率層用の樹脂としては、熱硬化性樹脂、又は電離放射線硬化性樹脂が好ましいが、熱硬化性樹脂は、これを硬化させる際に硬化させる層の上部と下部で不均一構造が形成される恐れがあるため、電離放射線硬化性樹脂が特に好ましい。
【０１２７】
電離放射線硬化性樹脂の場合の、電離放射線照射方法としては、従来の技術がそのまま適用でき、例えば電子線照射の場合はコットクロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を、０．１〜１００Ｍｒａｄ、好ましくは１〜１０Ｍｒａｄ照射することにより硬化させることができる。また、紫外線照射の場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ、高周波マグネトロン等の光源から発せられる紫外線を０．１〜１００００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは１０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２照射することにより硬化させることができる。
硬化後は未反応モノマーが残存し、耐湿熱性が低下する恐れがあるため、この未反応モノマーの熱硬化のために、真空又は不活性ガス雰囲気下で加熱する工程を加えても良い。この場合の加熱温度は１００℃〜１５０℃が好ましく、１１０℃〜１４０℃がさらに好ましい。  
【実施例】
【０１２８】
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
なお、以下において、形成された熱線遮蔽膜等の評価は次の手法で行った。
【０１２９】
＜造膜性の評価＞
塗膜の外観を次の基準で評価した。
○：塗膜の外観にムラのないもの。
△：塗膜の外観にムラがあるが、膜が形成しているもの。
×：膜が形成していないもの。
【０１３０】
＜膜厚の評価＞
膜厚は段差・表面粗さ・微細形状測定装置（ケーエルエー・テンコール株式会社製Ｐ１５）を用い、試料の一部を削り剥がした時の段差から評価した。測定条件は、測定長１ｍｍ、スキャン速度１０μｍ／ｓｅｃ、針圧０．２ｍｇである。
【０１３１】
＜表面粗さの評価＞
中心線表面粗さ（Ｒａ）、最大粗さ（Ｒｔ）は段差・表面粗さ・微細形状測定装置（ケーエルエー・テンコール株式会社製Ｐ１５）により評価した。測定条件は、測定長５００μｍ、スキャン速度２０μｍ／ｓｅｃ、針圧０．２ｍｇである。
【０１３２】
＜剥離性の評価＞
クロスハッチカッター（エルコメーター社製、Ｔ１０７１３７００−２）を用いて１ｍｍ間隔で試料をクロスカット（１００個）し、このクロスカット部分にセロハンテープを圧着し、勢い良く引き剥がした際に剥離したクロスカットの個数を数えることにより、剥離性を評価した。
【０１３３】
＜接触角の評価＞
シリンジから塗布溶液０．７μｌを滴下し、１秒後の接触角を、接触角測定器（協和界面化学株式会社製、ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００）を用いて測定した。
【０１３４】
＜粘度の評価＞
溶液粘度は剪固定の時の動的粘弾性測定装置（Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｆ．Ｅ．Ｌｔｄ社製、
ＡＲＥＳ）を用いて剪断速度１００ｓ−１における粘度を測定した。
【０１３５】
＜可視光線透過率（ＴＶＩＳ）の評価＞
評価試料の可視光線透過率を分光光度計（日立製作所製Ｕ−４０００）により測定した。
熱線遮蔽膜の可視光線透過率は、熱線遮蔽膜と基板との積層体の可視光線透過率を基板の可視光線透過率で割って算出した。また、熱線遮蔽膜と基板との積層体の可視光線透過率は積層体の透過率の測定値を使用した。
ここで、可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は５５０ｎｍにおける透過率とした。
【０１３６】
＜近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）の評価＞
評価試料の近赤外線透過率を分光光度計（日立製作所製Ｕ−４０００）により測定した。
熱線遮蔽膜の近赤外線透過率は、熱線遮蔽膜と基板との積層体の近赤外線透過率を基板の近赤外線透過率で割って算出した。また、熱線遮蔽膜と基板との積層体の近赤外線透過率は積層体の透過率の測定値を使用した。
ここで、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は１０５０，１１００，１１５０ｎｍの透過率の平均値とした。
【０１３７】
＜選択透過性ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲの評価＞
上記可視光線透過率（ＴＶＩＳ）、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）より、選択透過性を下記式で算出した。
選択透過性＝ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ
【０１３８】
＜ヘーズ、平行光線透過率（Ｔｐ）の評価＞
Ｄ６５光におけるヘーズと平行光線透過率をヘーズメーター（スガ試験機株式会社製ＨＺ−２）により測定した。
高屈折率層の平行光線透過率は基板も含めた積層体の測定値とした。基板のヘーズが１．０％以上の場合、ヘーズが１．０％未満の基板を用いて高屈折率層の平行光線透過率を測定する。  
【０１３９】
＜波長７５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長領域における最低透過率（ＴＭＩＮ）の評価＞
評価試料の波長７５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長領域における最低透過率（ＴＭＩＮ）を分光光度計（日立製作所製Ｕ−４０００）により測定した。
熱線遮蔽膜のＴＭＩＮは、熱線遮蔽膜と基板との積層体の透過率を基板の透過率で割って算出した値のうち、波長７５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長領域において最低の値とした。
【０１４０】
＜屈折率の評価＞
屈折率をプリズムカプラー（米国メトリコン社製２０１０）を用いて波長６３３ｎｍのレーザーにより測定した。
【０１４１】
［実施例１］
＜分散液Ａの調製＞
無機粒子としてルチル型酸化チタン（石原産業株式会社製「ＴＴＯ−５５Ａ」、粒径３０〜５０ｎｍ、水酸化アルミニウム表面処理品、屈折率２．６）を１０９重量部、分散剤としてポリエチレンイミン系ブロックポリマーを１１重量部、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、和光純薬株式会社製）１８０重量部を、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ１４１重量部を用いてビーズミル分散機で２４分間分散させた後、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズに切り替えてビーズミル分散機で１４７分間分散させることにより、分散液Ａを得た。
【０１４２】
＜溶液Ａの調製＞
バインダー樹脂として４，４’−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン（硬化後の屈折率１．６５）を５０重量％、重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを０．２５重量％含有するＰＧＭＥＡ溶液を調製し、溶液Ａとした。
【０１４３】
＜溶液Ｂの調製＞
分散液Ａと溶液Ａの重量混合比１：７の混合液を調製し、溶液Ｂとした。
【０１４４】
＜溶液Ｃの調製＞
溶液ＢとＰＧＭＥＡの重量混合比１：２の混合液を調製し、溶液Ｃとした。
【０１４５】
＜溶液Ｄの調製＞
溶液ＢとＰＧＭＥＡの重量混合比１：１の混合液を調製し、溶液Ｄとした。
【０１４６】
＜熱線遮蔽膜Ａの作製＞
溶液Ｃをスライドガラス（松浪ガラス工業製、７６ｍｍ×５２ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ、ヘーズ０．４％）に２ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件でスピンコーター（ミカサ株式会社製１Ｈ−Ｄ７）により塗布した後、１２０℃で１０分間加熱した。その後、出力１８４Ｗ／ｃｍの無電極水銀ランプ（フュージョンＵＶシステムズ社製）を用いて積算光量２．８Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより高屈折率層Ａを得た。ここで、高屈折率層Ａを熱線遮蔽膜Ａとする。また、ガラス基板上に熱線遮蔽膜Ａが形成された積層体を積層体Ａとする。
この熱線遮蔽膜Ａ中の無機粒子含有量は７７重量％である。
【０１４７】
＜熱線遮蔽膜Ａの評価＞
熱線遮蔽膜Ａの膜厚は１３４ｎｍ程度であった。
熱線遮蔽膜Ａの外観は均一であり、造膜性も良好であった。
剥離試験では剥離が無く、熱線遮蔽膜Ａの耐剥離性は高かった。
この熱線遮蔽膜Ａの平行光線透過率は８７％であるため、膜厚１３４ｎｍに対する平行光線透過率の関係Ｙは０．１０（＝（１００−８７）／１３４）である。
熱線遮蔽膜Ａの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は９５．５％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は８４．４％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．１３、７５０〜１３００ｎｍにおける最低透過率（ＴＭＩＮ）は８２．８％であった。
【０１４８】
＜積層体Ａの評価＞
積層体Ａの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は８７．１％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は７２．４％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．２０、ヘーズは０．７０％であった。
この熱線遮蔽膜Ａの評価結果を表１に、熱線遮蔽膜Ａとガラス基板からなる積層体Ａの評価結果を表２に示す。
なお、熱線遮蔽膜Ａの高屈折率層の膜厚が薄いため、以下の方法で屈折率を測定した。
【０１４９】
＜高屈折率層の屈折率評価＞
溶液Ｄを用いた他は高屈折率層Ａの作製と同様にして膜厚２３６ｎｍ程度の高屈折率層Ｂを作製した。
この高屈折率層Ｂの屈折率は２．０７程度であった。
【０１５０】
［実施例２］
実施例１の高屈折率層Ａと同様に作製した高屈折率層をコロナ放電処理（信光電気計装株式会社製コロナ放電表面改質装置）により表面改質した後、１重量％のヒドロキシエチルセルロース（東京化成工業株式会社製）の水溶液を２ｍＬ滴下し、１分間室温で放置した後、５００ｒｐｍ、３０秒のスピンコート条件で塗布した。塗布直後、すぐさま８０℃のホットプレート（アズワン株式会社製ＨＰＤ−３０００）上に試料を置いて１０分間加熱することにより高屈折率層Ａの上に低屈折率層を積層させた。
更に、低屈折率層の上に実施例１の高屈折率層Ａと同様な操作により高屈折率層を形成し、高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層の３層積層膜からなる熱線遮蔽膜Ｂを作製した。また、ガラス基板上に熱線遮蔽膜Ｂが形成された積層体を積層体Ｂとする。
ヒドロキシエチルセルロース上での高屈折率層の造膜性は高く、良好な膜を得ることができた。
【０１５１】
＜熱線遮蔽膜Ｂの評価＞
熱線遮蔽膜Ｂの外観は均一であり、造膜性も良好であった。
剥離試験では剥離が無く、熱線遮蔽膜Ｂの耐剥離性は高かった。
熱線遮蔽膜Ｂの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は８８．０％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は６３．８％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．３８、７５０〜１３００ｎｍにおける最低透過率（ＴＭＩＮ）は６２．６％であった。
【０１５２】
＜積層体Ｂの評価＞
積層体Ｂの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は８０．２％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は
５４．７％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．４７、ヘーズは０．８８％であった。
この熱線遮蔽膜Ｂの評価結果を表１に、熱線遮蔽膜Ｂとガラス基板からなる積層体Ｂの評価結果を表２に示す。
【０１５３】
［実施例３］
実施例１と同様に作製した高屈折率層Ａをコロナ放電処理（信光電気計装株式会社製コロナ放電表面改質装置）した後、試料をスピンコーターで１００ｒｐｍで５０秒間回転させながら３重量％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ株式会社製）の水溶液を２ｍＬ滴下し、その後、５００ｒｐｍで３０秒間試料を回転させることにより、低屈折率層を塗布した。塗布直後、すぐさま８０℃のホットプレート上に試料を置いて１０分間加熱することにより高屈折率層の上に低屈折率層を積層させた。
更に、低屈折率層の上に溶液Ｃを１．６ｍＬ滴下し、９５０ｒｐｍ、３０秒のスピンコ
ート条件で塗布したこと以外は実施例１の高屈折率層Ａと同様な操作により高屈折率層を形成し、高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層の３層積層膜からなる熱線遮蔽膜Ｃを作製した。また、ガラス基板上に熱線遮蔽膜Ｃが形成された積層体を積層体Ｃとする。
ポリビニルアルコール上での高屈折率層の造膜性は高く、良好な膜を得ることができた。
【０１５４】
＜熱線遮蔽膜Ｃの評価＞
熱線遮蔽膜Ｃの外観は均一であり、造膜性も良好であった。
剥離試験では剥離が無く、熱線遮蔽膜Ｃの耐剥離性は高かった。
熱線遮蔽膜Ｃの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は９７．８％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は７８．５％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．２５、７５０〜１３００ｎｍにおける最低透過率（ＴＭＩＮ）は６１．９％であった。
【０１５５】
＜積層体Ｃの評価＞
積層体Ｃの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は８９．１％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は６７．３％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．３２、ヘーズは０．９８％であった。
この熱線遮蔽膜Ｃの評価結果を表１に、熱線遮蔽膜とガラス基板からなる積層体Ｃの評価結果を表２に示す。
【０１５６】
［実施例４］
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）板（７０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ１ｍｍ、ヘーズ０．２％）に溶液Ｃを１．６ｍＬ滴下し、５００ｒｐｍ、３０秒のスピンコート条件で塗布した。その後、出力１８４Ｗ／ｃｍの無電極水銀ランプ（フュージョンＵＶシステムズ社製）を用いて照射強度２．８Ｊ／ｃｍ２で紫外線を照射することにより高屈折率層を得た。この高屈折率層を熱線遮蔽膜Ｄとする。また、ＰＥＴ基板上に熱線遮蔽膜Ｄが形成された積層体を積層体Ｄとする。
【０１５７】
＜熱線遮蔽膜Ｄの評価＞
熱線遮蔽膜ＤはＰＥＴ基板上の熱線遮蔽膜のみを削ることが困難であるため、透過スペクトルの干渉パターンのピーク波長をもとに、膜厚を求めた。その結果、熱線遮蔽膜Ｄの膜厚は１２８ｎｍ程度と見積もられた。
熱線遮蔽膜Ｄの外観は均一であり、造膜性も良好であった。
剥離試験では剥離が無く、熱線遮蔽膜Ｄの耐剥離性は高かった。
熱線遮蔽膜Ｄの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は９３．２％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は８５．８％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．０９、７５０〜１３００ｎｍにおける最低透過率（ＴＭＩＮ）は８５．３％であった。
【０１５８】
＜積層体Ｄの評価＞
積層体Ｄの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は８３．６％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は７７．１％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．０８、ヘーズは３．１％であった。
この熱線遮蔽膜Ｄの評価結果を表１に、熱線遮蔽膜とＰＥＴ基板からなる積層体Ｄの評価結果を表２に示す。
【０１５９】
［実施例５］
スライドガラス（松浪ガラス工業製、７６ｍｍ×５２ｍｍ、厚さ１ｍｍ、ヘーズ０．４％）を真空蒸着装置（アルバック機工株式会社製、ＶＰＣ−４１０）内に設置した。またモリブデン製抵抗加熱ボートに、銀（フルウチ化学製）を入れ、真空蒸着装置に取付けた。真空蒸着装置の粗排気を油回転ポンプにより行なった後、真空蒸着装置内の真空度が５×１０−５Ｔｏｒｒ以下になるまで拡散ポンプを用いて排気した。その後、加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度１．０〜１．５Å／ｓｅｃでスライドガラス上に銀を蒸着し、銀被覆ガラス基板を得た。  
銀被覆ガラス基板の銀膜上に、実施例１における高屈折率層Ａと同様な操作により高屈折率層を形成し、熱線遮蔽膜Ｅを作製した。ガラス基板上に熱線遮蔽膜Ｅが形成された積層体を積層体Ｅとする。
【０１６０】
＜熱線遮蔽膜Ｅの評価＞
熱線遮蔽膜Ｅの外観は均一であり、造膜性も良好であった。
剥離試験では剥離が無く、熱線遮蔽膜Ｅの耐剥離性は高かった。
熱線遮蔽膜Ｅの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は２５．０％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は２０．６％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．２１、７５０〜１３００ｎｍにおける最低透過率（ＴＭＩＮ）は１５．０％であった。
【０１６１】
＜積層体Ｅの評価＞
積層体Ｅの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は２２．８％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は１７．７％、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．２９、ヘーズは２．９％であった。
この熱線遮蔽膜Ｅの評価結果を表１に、熱線遮蔽膜とガラス基板からなる積層体Ｅの評価結果を表２に示す。
【０１６２】
［比較例１］
バインダー樹脂として４，４’−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホンを５０重量％、重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを０．２５重量％含有するＰＧＭＥＡ溶液を調製した。
調製した溶液をスライドガラス（松浪ガラス工業製、７６ｍｍ×５２ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ、ヘーズ０．４％）に２ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件でスピンコーターにより塗布した後、１２０℃で１０分間加熱した。
加熱した結果、造膜性が極めて悪く、膜を形成することができなかった。
【０１６３】
［比較例２］
１０重量％のポリエーテルサルホン（屈折率１．７）のＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ、純正化学株式会社製）溶液をスライドガラス（松浪ガラス工業製、７６ｍｍ×５２ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ、ヘーズ０．４％）に２ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件でスピンコーターにより塗布した後、１５０℃で３０分間加熱し、さらに２００℃で２０分間加熱することにより高屈折率層を得た。
この高屈折率層に１重量％のヒドロキシエチルセルロース水溶液を２ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件でスピンコーターにより塗布した後、８０℃で１０分間加熱することにより、低屈折率層を積層させた。
低屈折率層に１０重量％のポリエーテルサルホンのＮＭＰ溶液を２ｍＬ滴下し、１００
０ｒｐｍ、３０秒のスピンコート条件で塗布した後、１５０℃で３０分間加熱することにより高屈折率層を積層させ、熱線遮蔽膜Ｆを作製した。また、ガラス基板上に熱線遮蔽膜Ｆが形成された積層体を積層体Ｆとした。
【０１６４】
＜熱線遮蔽膜Ｆの評価＞
熱線遮蔽膜Ｆの外観はしわが多く不均一であり、造膜性が悪かった。
また、剥離性を評価するためカッターで熱線遮蔽膜に切れ込みを入れる際、試料の大部分がはがれてしまい、また、残った部分もセロハンテープによりすべてはがれてしまった。熱線遮蔽膜Ｆは本発明の条件を満たしていないため、耐剥離性が低かった。
熱線遮蔽膜Ｆの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は９８．０％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は１００％と高く、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は０．９８と低く、７５０〜１３００ｎｍにおける最低透過率（ＴＭＩＮ）は９９．６％と高かった。
【０１６５】
＜積層体Ｆの評価＞
積層体Ｆの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は８９．４％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は８６．６％と高く、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．０３と低く、ヘーズは１．３％であった。
この熱線遮蔽膜Ｆの評価結果を表１に、熱線遮蔽膜とガラス基板からなる積層体Ｆの評価結果を表２に示す。
【０１６６】
［比較例３］
１０重量％のポリエーテルサルホンのＮＭＰ溶液をスライドガラス（松浪ガラス工業製、７６ｍｍ×５２ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ、ヘーズ０．４％）に２ｍＬ滴下し、３０００ｒｐｍ、３０秒の条  件でスピンコーターにより塗布した後、１５０℃で３０分間加熱し、さらに２００℃で２０分間加熱することにより高屈折率層を得た。
高屈折率層に１０重量％のシリコーン樹脂のヘキサン（純正化学株式会社製）溶液を２ｍＬ滴下し、２５００ｒｐｍ、３０秒の条件でスピンコーターにより塗布した後、９０℃で２時間加熱した後１１０℃で１時間加熱し、さらに１５０℃で３時間加熱して硬化させることにより、低屈折率層を積層させた。
低屈折率層をコロナ放電処理により表面改質した後、１０重量％のポリエーテルサルホンのＮＭＰ溶液を２ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ、３０秒のスピンコート条件で塗布した
後、１５０℃で３０分間加熱することにより高屈折率層を積層させ、熱線遮蔽膜Ｇを作製した。また、ガラス基板上に熱線遮蔽膜Ｅが形成された積層体を積層体Ｇとした。
【０１６７】
＜熱線遮蔽膜Ｇの評価＞
低屈折率層上に積層した高屈折率層の造膜性は悪く、熱線遮蔽膜Ｇの外観は不均一で良好な膜が得られなかった。
また、剥離性を評価するためカッターで熱線遮蔽膜に切れ込みを入れる際、試料の大部分がはがれてしまい、また、残った部分もセロハンテープによりすべてはがれてしまった。熱線遮蔽膜Ｇは本発明の条件を満たしていないため、耐剥離性が低かった。
熱線遮蔽膜Ｇの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は９４．９％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は９６．９％と高く、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は０．９８と低く、７５０〜１３００ｎｍにおける最低透過率（ＴＭＩＮ）は９６．３％と高かった。
【０１６８】
＜積層体Ｇの評価＞
積層体Ｇの可視光線透過率（ＴＶＩＳ）は８６．５％、近赤外線透過率（ＴＮＩＲ）は８３．１％と高く、選択透過性（ＴＶＩＳ／ＴＮＩＲ）は１．０４と低く、ヘーズは１．０％であった。
この熱線遮蔽膜Ｇの評価結果を表１に、熱線遮蔽膜とガラス基板からなる積層体Ｇの評価結果を表２に示す。
【０１６９】
【表１】
2009086659.tif 000005
【０１７０】
【表２】
2009086659.tif 000006
【０１７１】
表１、２から明らかなように、実施例１〜５のように無機粒子を含有した高屈折率層を有する熱線遮蔽膜は、可視光線透過率が２５．０〜９７．８％と高く、選択透過性は１．０９〜１．３８と高い。また、これらの膜からなる積層体は可視光線透過率が２２．８〜８９．１％と高く、選択透過性も１．０８〜１．４７と高い。これらの膜は耐剥離性にも優れている。さらにこれらの膜の製造時に加熱する温度は最高で１２０℃と低いため、比較的耐熱性の低い膜材料や基板も使用しうる。
一方、比較例１〜３のように本発明の条件を満たさない熱線遮蔽膜は選択透過性が０．９８と１．０１に満たず、これらの膜からなる積層体も選択透過性が１．０３〜１．０４と低い。また、これらの膜は造膜性が悪く、耐剥離性も悪い。
以上より、本発明の条件を満たすことで可視光線透過率が高く、また選択透過性が高く、すなわち近赤外線の選択反射性が高く、耐剥離性にも優れた熱線遮蔽膜と、基板上にこの熱線遮蔽膜を形成した積層体が得られた。さらに、この熱線遮蔽膜とその積層体は比較的低温で製造することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１７２】
【図１】本発明の積層体の実施の形態の一例を示す模式的な断面図である。
【図２】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図３】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図４】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図５】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図６】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図７】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図８】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図９】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図１０】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図１１】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図１２】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図１３】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図１４】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図１５】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図１６】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【図１７】本発明の積層体の実施の形態の他の例を示す模式的な断面図である。
【符号の説明】
【０１７３】
１  基板
２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ，２Ｅ，２Ｆ，２Ｇ，２Ｈ  熱線遮蔽膜
１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆ，１０Ｇ，１０Ｈ，１０Ｉ，１０Ｊ，１０Ｋ，１０Ｌ，１０Ｍ，１０Ｎ，１０Ｏ，１０Ｐ，１０Ｑ  積層体
１１  高屈折率層
１２  低屈折率層
１３  赤外線吸収層
１４  ハードコート層
１５  接着層
１６  紫外線吸収層
１７  金属層
１８  着色層
１９  中間膜層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2009086659.tif 000015
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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