(57)【要約】【課題】基板上における膜形成領域の配列方向が異なっていても効率よく液状体を塗布することが可能な液状体の吐出方法、これを用いたカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。【解決手段】本適用例の液状体の吐出方法は、マザー基板Ｐは、膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂが複数配列した第１塗布領域Ｅ１と、膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'が複数配列した第２塗布領域Ｅ２とを有し、膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂに液滴を吐出する複数回の走査を行うと共に、膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'に少なくとも１滴の液滴を吐出する第１吐出工程と、少なくとも膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'に所定量に対して不足する液状体を液滴として吐出する第２吐出工程と、を備えた。なお、膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂの長手方向と、膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'の長手方向とは直交している。【選択図】図８
2009247918.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜形成領域が第１の方向と前記第１の方向に直交する第２の方向とに複数配列した基板
に対して、複数のノズルを相対的に走査することにより、前記走査の間に少なくとも１つ
の前記ノズルから液状体を液滴として前記膜形成領域に吐出する液状体の吐出方法であっ
て、
前記膜形成領域は、配列方向が互いに直交する第１膜形成領域と第２膜形成領域とから
なり、
前記基板は、前記第１膜形成領域が複数配列した第１塗布領域と、前記第２膜形成領域
が複数配列した第２塗布領域とを有し、
前記第２膜形成領域に比べて前記第１膜形成領域に掛かる前記ノズルの数が多くなるよ
うに前記複数のノズルを相対配置して、前記第１膜形成領域に前記液滴を吐出する複数回
の前記走査を行うと共に、前記第２膜形成領域に少なくとも１滴の前記液滴を吐出する第
１吐出工程と、
前記第１膜形成領域に比べて前記第２膜形成領域に掛かる前記ノズルの数が多くなるよ
うに前記複数のノズルを相対配置して、少なくとも前記第２膜形成領域に所定量に対して
不足する前記液状体を前記液滴として吐出する第２吐出工程と、を備えたことを特徴とす
る液状体の吐出方法。
【請求項２】
前記第１膜形成領域の面積が前記第２膜形成領域の面積よりも小さく、且つ前記第１塗
布領域の面積が前記第２塗布領域の面積よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の
液状体の吐出方法。
【請求項３】
前記第２吐出工程では、前記第１吐出工程における前記基板と前記複数のノズルとの相
対配置に対して、前記基板を平面的に９０度旋回させて相対配置することを特徴とする請
求項１または２に記載の液状体の吐出方法。
【請求項４】
前記第１膜形成領域と前記第２膜形成領域とにそれぞれ吐出する前記液状体の前記所定
量を前記第１吐出工程と前記第２吐出工程とに配分して前記液滴を吐出することを特徴と
する請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法。
【請求項５】
前記第１吐出工程は、前記第２吐出工程で前記第２膜形成領域に前記所定量の前記液状
体を前記液滴として付与するために要する前記走査の回数をｍ（ｍは２以上の自然数）回
とするとき、前記所定量の少なくとも１／ｍの前記液状体を前記液滴として前記第２膜形
成領域に吐出することを特徴とする請求項４に記載の液状体の吐出方法。
【請求項６】
前記第２吐出工程は、前記第１吐出工程で前記液滴を吐出したときに、前記複数のノズ
ルと前記基板との前記走査において前記第１膜形成領域に前記液滴を配置し得ない部位に
対して少なくとも１滴の前記液滴を吐出することを特徴とする請求項４または５に記載の
液状体の吐出方法。
【請求項７】
基板上の複数の膜形成領域に複数色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法であっ
て、
前記複数の膜形成領域は、配列方向が互いに直交する第１膜形成領域と第２膜形成領域
とからなり、
前記基板は、前記第１膜形成領域が複数配列した第１塗布領域と、前記第２膜形成領域
が複数配列した第２塗布領域とを有し、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法を用いて、着色層形成材料を
含む複数色の液状体を前記複数の膜形成領域に吐出する吐出工程と、
吐出された前記液状体を固化して前記複数色の着色層を形成する成膜工程と、を備えた
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
基板上の複数の膜形成領域に発光層を含む機能層を有する有機ＥＬ素子を複数備えた有
機ＥＬ装置の製造方法であって、
前記複数の膜形成領域は、配列方向が互いに直交する第１膜形成領域と第２膜形成領域
とからなり、
前記基板は、前記第１膜形成領域が複数配列した第１塗布領域と、前記第２膜形成領域
が複数配列した第２塗布領域とを有し、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法を用い、発光層形成材料を含
む液状体を前記複数の膜形成領域に吐出する吐出工程と、
吐出された前記液状体を固化して前記発光層を形成する成膜工程と、を備えたことを特
徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能性材料を含む液状体の吐出方法、これを用いたカラーフィルタの製造方
法、有機ＥＬ装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
機能性材料を含む液状体の吐出方法として、複数のノズルを有するインクジェットヘッ
ドと、膜形成材料を塗布する対象物を載置するステージとを備え、インクジェットヘッド
及び／又はステージが移動し、且つステージが３６０度旋回する機能を有した膜形成装置
を用いて、インクジェットヘッドからインクを吐出しつつ対象物を走査して、対象物に対
して２以上の異なる方向から重ね塗りを行う塗布工程を有する膜形成方法が知られている
（特許文献１）。
【０００３】
上記膜形成方法によれば、インクジェットヘッドのノズルから吐出された液滴の着弾後
の濡れ広がりに起因する乾燥むらや塗布むらを低減でき、対象物上に均一な薄膜を形成で
きるとしている。薄膜の例としては、液晶表示装置において液晶材料を所定の方向に配向
させる配向膜が挙げられている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２９６８５４号公報  頁４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来の液滴吐出法（インクジェット法）を用いた膜形成方法では、対象物上に均一
な薄膜を形成するために重ね塗りを行う。しかしながら、重ね塗りを行うことにより、生
産性の低下は免れない。
液滴吐出法を用いた膜形成方法は、均一な薄膜の形成と、生産性の確保の両立が求めら
れているという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の
形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例の液状体の吐出方法は、膜形成領域が第１の方向と前記第１の方
向に直交する第２の方向とに複数配列した基板に対して、複数のノズルを相対的に走査す
ることにより、前記走査の間に少なくとも１つの前記ノズルから液状体を液滴として前記
膜形成領域に吐出する液状体の吐出方法であって、前記膜形成領域は、配列方向が互いに
直交する第１膜形成領域と第２膜形成領域とからなり、前記基板は、前記第１膜形成領域
が複数配列した第１塗布領域と、前記第２膜形成領域が複数配列した第２塗布領域とを有
し、前記第２膜形成領域に比べて前記第１膜形成領域に掛かる前記ノズルの数が多くなる
ように前記複数のノズルを相対配置して、前記第１膜形成領域に前記液滴を吐出する複数
回の前記走査を行うと共に、前記第２膜形成領域に少なくとも１滴の前記液滴を吐出する
第１吐出工程と、前記第１膜形成領域に比べて前記第２膜形成領域に掛かる前記ノズルの
数が多くなるように前記複数のノズルを相対配置して、少なくとも前記第２膜形成領域に
所定量に対して不足する前記液状体を前記液滴として吐出する第２吐出工程と、を備えた
ことを特徴とする。
【０００８】
この方法によれば、第１吐出工程では、第１膜形成領域に液状体を吐出する走査の間に
、第１膜形成領域に対して配列方向が直交する第２膜形成領域に少なくとも１滴の液滴を
吐出する。したがって、第２吐出工程の走査において第２膜形成領域に配置される液滴の
数を減らすことができる。よって、液状体を液滴として吐出する走査の回数を低減するこ
とが可能となる。ゆえに、基板上の第１塗布領域と第２塗布領域とに液状体を吐出する走
査の時間を短縮することができるので、生産性を向上させて液状体を塗布することができ
る。
【０００９】
［適用例２］上記適用例の液状体の吐出方法において、前記第１膜形成領域の面積が前
記第２膜形成領域の面積よりも小さく、且つ前記第１塗布領域の面積が前記第２塗布領域
の面積よりも小さいことを特徴とする。
面積が大きい第２膜形成領域に掛かるノズルの数が多くなるように複数のノズルを相対
配置して液滴を吐出する走査を行う場合には、面積の小さい第１膜形成領域に掛かるノズ
ルの数を確保することが困難となる。この方法によれば、第１吐出工程では、第２膜形成
領域に比べて面積の小さい第１膜形成領域に掛かるノズルの数が多くなるように複数のノ
ズルが相対配置される。したがって、先に面積が小さい方の第１塗布領域に液状体を効率
よく塗布し、後に、第２吐出工程において面積が大きい第２膜形成領域に液状体を塗布す
る。第２膜形成領域には予め少なくとも１滴の液滴が吐出されているので、基板の第１塗
布領域と第２塗布領域とにより効率的に液状体を塗布することができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例の液状体の吐出方法において、前記第２吐出工程では、前記第
１吐出工程における前記基板と前記複数のノズルとの相対配置に対して、前記基板を平面
的に９０度旋回させて相対配置することが好ましい。
この方法によれば、複数のノズルの配置が第１膜形成領域や第２膜形成領域の配置に比
べて高精細となった場合には、基板を９０度旋回させるほうが、第１膜形成領域に比べて
第２膜形成領域により多くのノズルが掛かるように容易に複数のノズルを位置決めして効
率よく液状体を吐出することができる。
【００１１】
［適用例４］上記適用例の液状体の吐出方法において、前記第１膜形成領域と前記第２
膜形成領域とにそれぞれ吐出する前記液状体の前記所定量を前記第１吐出工程と前記第２
吐出工程とに配分して前記液滴を吐出することが好ましい。
この方法によれば、同一膜形成領域に掛かるノズルの組み合わせは、第１吐出工程と第
２吐出工程とで異なることになる。したがって、同一膜形成領域に掛かるノズルの組み合
わせを変えることにより、ノズル間における液滴の吐出量のばらつきに起因する液状体の
塗布量のばらつきを抑制することができる。
【００１２】
［適用例５］上記適用例の液状体の吐出方法において、前記第１吐出工程は、前記第２
吐出工程で前記第２膜形成領域に前記所定量の前記液状体を前記液滴として付与するため
に要する前記走査の回数をｍ（ｍは２以上の自然数）回とするとき、前記所定量の少なく
とも１／ｍの前記液状体を前記液滴として前記第２膜形成領域に吐出するとしてもよい。
この方法によれば、第１吐出工程において所定量の１／ｍを第２膜形成領域に予め吐出
するので、第２吐出工程における走査の回数を少なくとも１回減らすことができる。すな
わち、走査回数を低減して生産性を向上させることができる。
【００１３】
［適用例６］上記適用例の液状体の吐出方法において、前記第２吐出工程は、前記第１
吐出工程で前記液滴を吐出したときに、前記複数のノズルと前記基板との前記走査におい
て前記第１膜形成領域に前記液滴を配置し得ない部位に対して少なくとも１滴の前記液滴
を吐出することが好ましい。
この方法によれば、第１膜形成領域に液滴を偏り無く着弾させ液状体を行き渡らせるこ
とができる。
【００１４】
［適用例７］本適用例のカラーフィルタの製造方法は、基板上の複数の膜形成領域に複
数色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法であって、前記複数の膜形成領域は、配
列方向が互いに直交する第１膜形成領域と第２膜形成領域とからなり、前記基板は、前記
第１膜形成領域が複数配列した第１塗布領域と、前記第２膜形成領域が複数配列した第２
塗布領域とを有し、上記適用例の液状体の吐出方法を用いて、着色層形成材料を含む複数
色の液状体を前記複数の膜形成領域に吐出する吐出工程と、吐出された前記液状体を固化
して前記複数色の着色層を形成する成膜工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１５】
この方法によれば、配列方向が互いに直交する第１膜形成領域と第２膜形成領域とに効
率よく液状体を吐出して、着色層の配列方向が異なる少なくとも２種のカラーフィルタを
高い生産性で製造することができる。
【００１６】
［適用例８］本適用例の有機ＥＬ装置の製造方法は、基板上の複数の膜形成領域に発光
層を含む機能層を有する有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記複
数の膜形成領域は、配列方向が互いに直交する第１膜形成領域と第２膜形成領域とからな
り、前記基板は、前記第１膜形成領域が複数配列した第１塗布領域と、前記第２膜形成領
域が複数配列した第２塗布領域とを有し、上記適用例の液状体の吐出方法を用い、発光層
形成材料を含む液状体を前記複数の膜形成領域に吐出する吐出工程と、吐出された前記液
状体を固化して前記発光層を形成する成膜工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１７】
この方法によれば、配列方向が互いに直交する第１膜形成領域と第２膜形成領域とに効
率よく液状体を吐出して、有機ＥＬ素子の配列方向が異なる少なくとも２種の有機ＥＬ装
置を高い生産性で製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本実施形態の液状体の吐出方法について、これを適用したカラーフィルタの製造
方法を例に説明する。なお、説明に用いる図面は、実際の寸法に対して説明上適宜縮小ま
たは拡大されている。
【００１９】
（実施形態１）
＜液滴吐出装置＞
まず、機能性材料を含む液状体を液滴として被吐出物の表面に吐出描画可能な液滴吐出
装置について図１〜図４を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜
視図である。
【００２０】
図１に示すように、液滴吐出装置１０は、被吐出物であるマザー基板Ｐを第１の方向と
しての主走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるワーク移動機構２０と、ヘッドユニット９を
主走査方向に直交する第２の方向としての副走査方向（Ｙ軸方向）に移動させるヘッド移
動機構３０とを備えている。
【００２１】
ワーク移動機構２０は、一対のガイドレール２１と、一対のガイドレール２１に沿って
移動する移動台２２と、移動台２２上に回転機構６を介して配設されたマザー基板Ｐを載
置するステージ５とを備えている。
移動台２２は、ガイドレール２１の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（図
示省略）により主走査方向に移動する。移動台２２には、タイミング信号生成部としての
エンコーダ１２（図４参照）が設けられている。
エンコーダ１２は、移動台２２の主走査方向への相対移動に伴って、ガイドレール２１
に並設されたリニアスケール（図示省略）の目盛を読み取って、タイミング信号としての
エンコーダパルスを生成する。なお、エンコーダ１２の配設は、これに限らず、例えば、
移動台２２を回転軸に沿ってＸ軸方向に相対移動するよう構成し、回転軸を回転させる駆
動部を設けた場合には、エンコーダ１２を駆動部に設けてもよい。駆動部としては、サー
ボモータなどが挙げられる。
ステージ５はマザー基板Ｐを吸着固定可能であると共に、回転機構６によってマザー基
板Ｐ内の基準軸を正確に主走査方向、副走査方向に合わせることが可能となっている。
また、マザー基板Ｐ上において液状体が吐出される膜形成領域の配置に応じて、マザー
基板Ｐを例えば９０度旋回させることも可能である。
【００２２】
ヘッド移動機構３０は、一対のガイドレール３１と、一対のガイドレール３１に沿って
移動する移動台３２とを備えている。移動台３２には、回転機構７を介して吊設されたキ
ャリッジ８が設けられている。
キャリッジ８には、複数の液滴吐出ヘッド５０（図２参照）が搭載されたヘッドユニッ
ト９が取り付けられている。
また、液滴吐出ヘッド５０に液状体を供給するための液状体供給機構（図示省略）と、
複数の液滴吐出ヘッド５０の電気的な駆動制御を行うためのヘッドドライバ４８（図４参
照）とが設けられている。
移動台３２がキャリッジ８をＹ軸方向に移動させてヘッドユニット９をマザー基板Ｐに
対して対向配置する。
【００２３】
液滴吐出装置１０は、上記構成の他にも、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐
出ヘッド５０のノズル目詰まり解消、ノズル面の異物や汚れの除去などのメンテナンスを
行うメンテナンス機構が、複数の液滴吐出ヘッド５０を臨む位置に配設されている。
また、液滴吐出ヘッド５０ごとに吐出された液状体を受けて、その重量を計測する電子
天秤などの計測器を有する重量計測機構６０（図４参照）を備えている。そして、これら
の構成を統括的に制御する制御部４０を備えている。
図１では、メンテナンス機構および重量計測機構６０は、図示省略した。
【００２４】
図２は液滴吐出ヘッドの構造を示す概略図である。同図（ａ）は斜視図、同図（ｂ）は
ノズルの配置状態を示す平面図である。
【００２５】
図２（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド５０は、所謂２連のものであり、２連の接続
針５４を有する液状体の導入部５３と、導入部５３に積層されたヘッド基板５５と、ヘッ
ド基板５５上に配置され内部に液状体のヘッド内流路が形成されたヘッド本体５６とを備
えている。接続針５４は、前述した液状体供給機構（図示省略）に配管を経由して接続さ
れ、液状体をヘッド内流路に供給する。ヘッド基板５５には、フレキシブルフラットケー
ブル（図示省略）を介してヘッドドライバ４８（図４参照）に接続される２連のコネクタ
５８が設けられている。
【００２６】
ヘッド本体５６は、駆動手段としての圧電素子で構成されたキャビティを有する加圧部
５７と、ノズル面５１ａに２つのノズル列５２ａ，５２ｂが相互に平行に形成されたノズ
ルプレート５１とを有している。
【００２７】
図２（ｂ）に示すように、２つのノズル列５２ａ，５２ｂは、それぞれ複数（１８０個
）のノズル５２がピッチＰ１でほぼ等間隔に並べられており、互いにピッチＰ１の半分の
ピッチＰ２ずれた状態でノズル面５１ａに配設されている。この場合、ピッチＰ１は、お
よそ１４１μｍである。よって、ノズル列５２ｃに直交する方向から見ると３６０個のノ
ズル５２がおよそ７０．５μｍのノズルピッチで配列した状態となっている。また、ノズ
ル５２の径は、およそ２７μｍである。
【００２８】
液滴吐出ヘッド５０は、ヘッドドライバ４８から電気信号としての駆動信号が圧電素子
に印加されると加圧部５７のキャビティの体積変動が起こり、これによるポンプ作用でキ
ャビティに充填された液状体が加圧され、ノズル５２から液状体を液滴として吐出するこ
とができる。
【００２９】
液滴吐出ヘッド５０における駆動手段は、圧電素子に限らない。アクチュエータとして
の振動板を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、液状体を加熱してノズル５２
から液滴として吐出させる電気熱変換素子（サーマル方式）でもよい。
【００３０】
図３は、ヘッドユニットにおける液滴吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。詳し
くは、マザー基板Ｐに対向する側から見た図である。
【００３１】
図３に示すように、ヘッドユニット９は、複数の液滴吐出ヘッド５０が配設されるヘッ
ドプレート９ａを備えている。ヘッドプレート９ａには、３つの液滴吐出ヘッド５０から
なるヘッド群５０Ａと、同じく３つの液滴吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ｂの合計
６個の液滴吐出ヘッド５０が搭載されている。この場合、ヘッド群５０ＡのヘッドＲ１（
液滴吐出ヘッド５０）とヘッド群５０ＢのヘッドＲ２（液滴吐出ヘッド５０）とは同種の
液状体を吐出する。他のヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同
様である。すなわち、３種の異なる液状体を吐出可能な構成となっている。
【００３２】
１つの液滴吐出ヘッド５０によって描画可能な描画幅をＬ0とし、これをノズル列５２
ｃの有効長とする。以降、ノズル列５２ｃとは、３６０個のノズル５２から構成されるも
のを指す。
【００３３】
この場合、ヘッドＲ１とヘッドＲ２は、主走査方向（Ｘ軸方向）から見て隣り合うノズ
ル列５２ｃが主走査方向と直交する副走査方向（Ｙ軸方向）に１ノズルピッチを置いて連
続するように主走査方向に並列して配設されている。したがって、同種の液状体を吐出す
るヘッドＲ１とヘッドＲ２の有効な描画幅Ｌ1は、描画幅Ｌ0の２倍となっている。ヘッド
Ｇ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様に主走査方向に並列して配置
されている。
【００３４】
なお、液滴吐出ヘッド５０に設けられるノズル列５２ｃは、２連に限らず、１連でもよ
い。また、ヘッドユニット９における液滴吐出ヘッド５０の配置は、これに限定されるも
のではない。
【００３５】
次に液滴吐出装置１０の制御系について説明する。図４は、液滴吐出装置の制御系を示
すブロック図である。図４に示すように、液滴吐出装置１０の制御系は、液滴吐出ヘッド
５０、ワーク移動機構２０、ヘッド移動機構３０、重量計測機構６０などを駆動する各種
ドライバを有する駆動部４６と、駆動部４６を含め液滴吐出装置１０を統括的に制御する
制御部４０とを備えている。
【００３６】
駆動部４６は、ワーク移動機構２０およびヘッド移動機構３０の各リニアモータをそれ
ぞれ駆動制御する移動用ドライバ４７と、液滴吐出ヘッド５０を駆動制御するヘッドドラ
イバ４８と、重量計測機構６０を駆動制御する重量計測用ドライバ４９とを備えている。
この他にもメンテナンス機構を駆動制御するメンテナンス用ドライバなどを備えているが
図示省略した。
【００３７】
制御部４０は、ＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、Ｐ−ＣＯＮ４４とを備え
、これらは互いにバス４５を介して接続されている。Ｐ−ＣＯＮ４４には、上位コンピュ
ータ１１が接続されている。ＲＯＭ４２は、ＣＰＵ４１で処理する制御プログラムなどを
記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理などを行うための制御データな
どを記憶する制御データ領域とを有している。
【００３８】
ＲＡＭ４３は、マザー基板Ｐに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶
部、マザー基板Ｐおよび液滴吐出ヘッド５０（実際には、ノズル列５２ａ，５２ｂ）の位
置データを記憶する位置データ記憶部などの各種記憶部を有し、制御処理のための各種作
業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ４４には、駆動部４６の各種ドライバなどが接続さ
れており、ＣＰＵ４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱う
ための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ４４は、上位コン
ピュータ１１からの各種指令などをそのままあるいは加工してバス４５に取り込むと共に
、ＣＰＵ４１と連動して、ＣＰＵ４１などからバス４５に出力されたデータや制御信号を
、そのままあるいは加工して駆動部４６に出力する。
【００３９】
そして、ＣＰＵ４１は、ＲＯＭ４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ４４を介
して各種検出信号、各種指令、各種データなどを入力し、ＲＡＭ４３内の各種データなど
を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して駆動部４６などに各種の制御信号を出力すること
により、液滴吐出装置１０全体を制御している。例えば、ＣＰＵ４１は、液滴吐出ヘッド
５０、ワーク移動機構２０およびヘッド移動機構３０を制御して、ヘッドユニット９とマ
ザー基板Ｐとを対向配置させる。そして、ヘッドユニット９とマザー基板Ｐとの相対移動
に同期して、ヘッドユニット９に搭載された各液滴吐出ヘッド５０の複数のノズル５２か
らマザー基板Ｐに液状体を液滴として吐出するようにヘッドドライバ４８に制御信号を送
出する。この場合、Ｘ軸方向へのマザー基板Ｐの移動に同期して液状体を吐出することを
主走査と呼び、Ｙ軸方向にヘッドユニット９を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施形
態の液滴吐出装置１０は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより液
状体を吐出描画することができる。主走査は、液滴吐出ヘッド５０に対して一方向へのマ
ザー基板Ｐの移動に限らず、マザー基板Ｐを往復させて行うこともできる。
【００４０】
エンコーダ１２は、ヘッドドライバ４８に電気的に接続され、主走査に伴ってエンコー
ダパルスを生成する。主走査では、所定の移動速度で移動台２２を移動させるので、エン
コーダパルスが周期的に発生する。
【００４１】
例えば、主走査における移動台２２の移動速度を２００ｍｍ／ｓｅｃ、液滴吐出ヘッド
５０を駆動する駆動周波数（言い換えれば、連続して液滴を吐出する場合の吐出タイミン
グ）を２０ｋＨｚとすると、主走査方向における液滴の吐出分解能は、移動速度を駆動周
波数で除することにより得られるので、１０μｍとなる。すなわち、１０μｍのピッチで
液滴をマザー基板Ｐ上に配置することが可能である。実際の液滴の吐出タイミングは、周
期的に発生するエンコーダパルスをカウントして生成されるラッチ信号に基づいている。
【００４２】
上位コンピュータ１１は、制御プログラムや制御データなどの制御情報を液滴吐出装置
１０に送出する。また、マザー基板Ｐ上の膜形成領域ごとに所定量の液状体を液滴として
配置する吐出制御データとしての配置情報を生成する配置情報生成部の機能を有している
。配置情報は、膜形成領域における液滴の吐出位置（言い換えれば、マザー基板Ｐとノズ
ル５２との相対位置）、液滴の配置数（言い換えれば、ノズル５２ごとの吐出数）、主走
査における複数のノズル５２のＯＮ／ＯＦＦ、吐出タイミングなどの情報を、例えば、ビ
ットマップとして表したものである。上位コンピュータ１１は、上記配置情報を生成する
だけでなく、ＲＡＭ４３に一旦格納された上記配置情報を修正することも可能である。
【００４３】
＜液状体の吐出方法並びにカラーフィルタの製造方法＞
次に、本実施形態の液状体の吐出方法を適用したカラーフィルタの製造方法について図
５〜図１１を参照して説明する。図５（ａ）はカラーフィルタを示す概略平面図、同図（
ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ’線で切った断面図、図６はカラーフィルタの製造方法を示す
フローチャート、図７（ａ）〜（ｄ）はカラーフィルタの製造方法を示す概略断面図であ
る。
【００４４】
図５（ａ）および（ｂ）に示すように、カラーフィルタ２は、透明なガラスなどの基板
１上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）３色のフィルタエレメントである着色層３を有して
いる。着色層３が形成される矩形状の膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂは隔壁部４によりマト
リクス状に区画されている。本実施形態のカラーフィルタ２は、同色の着色層３が直線的
に配列する所謂ストライプ方式のカラーフィルタである。
【００４５】
図５（ｂ）に示すように、隔壁部４は、第１隔壁部４ａと第２隔壁部４ｂとからなる二
層構造となっている。第１隔壁部４ａは、例えば、ＣｒやＡｌなどの金属薄膜からなり遮
光性を有している。第２隔壁部４ｂは、例えば、樹脂材料からなる。なお、二層構造に限
定されず、遮光性を有する部材を含む樹脂材料により隔壁部４を構成する一層構造でもよ
い。
【００４６】
着色層３は、着色材料を含む透光性樹脂材料からなる。本実施形態では、このようなカ
ラーフィルタ２を液滴吐出法（インクジェット法）を用いて製造する。
【００４７】
図６に示すように、本実施形態のカラーフィルタ２の製造方法は、隔壁部４を形成する
隔壁部形成工程（ステップＳ１）と、隔壁部４が形成された基板１の表面を表面処理する
表面処理工程（ステップＳ２）と、着色層形成材料を含む液状体を吐出する液状体の吐出
工程（ステップＳ３）と、吐出された液状体を乾燥させて着色層３を形成する乾燥工程（
ステップＳ４）とを基本的に備えるものである。
【００４８】
図６のステップＳ１では、まず、基板１の表面にＣｒやＡｌなどの金属薄膜を成膜する
。成膜方法としては真空蒸着法、スパッタ法などが挙げられる。膜厚は、例えば遮光性が
得られるように０．１μｍ程度とする。これをフォトリソグラフィ法によりパターニング
して開口させた第１隔壁部４ａを形成する。
次に、第１隔壁部４ａを覆って感光性樹脂を厚み２μｍ程度に塗布し、同じくフォトリ
ソグラフィ法によりパターニングして、第１隔壁部４ａ上に第２隔壁部４ｂを形成する。
これにより図７（ａ）に示すように基板１上に開口した矩形状の膜形成領域３ｒ，３ｇ，
３ｂを形成する。そして、ステップＳ２へ進む。
【００４９】
図６のステップＳ２では、後の液状体の吐出工程において、吐出された液状体が膜形成
領域３ｒ，３ｇ，３ｂに着弾して濡れ拡がるように、基板１の表面を親液処理する。また
、吐出された液状体の一部が第２隔壁部４ｂに着弾したとしても膜形成領域３ｒ，３ｇ，
３ｂ内に収まるように、第２隔壁部４ｂの少なくとも頭頂部を撥液処理する。
【００５０】
表面処理方法としては、隔壁部４が形成された基板１に対して、Ｏ2を処理ガスとする
プラズマ処理とフッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、膜形成
領域３ｒ，３ｇ，３ｂが親液処理され、その後感光性樹脂からなる第２隔壁部４ｂの表面
（壁面を含む）が撥液処理される。なお、第２隔壁部４ｂを形成する材料自体が撥液性を
有していれば後者の処理を省くこともできる。そして、ステップＳ３へ進む。
【００５１】
図６のステップＳ３では、液滴吐出装置１０のステージ５に表面処理された基板１を載
置する。異なる着色層形成材料を含む３色の液状体をそれぞれ吐出する。したがって、図
３に示したヘッドユニット９の構成を採用している。
そして、図７（ｂ）および（ｃ）に示すように、基板１と液滴吐出ヘッド５０との主走
査方向への相対移動に同期して、液滴吐出ヘッド５０のノズル５２から３色の液状体のそ
れぞれを液滴Ｄとして所望の膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂに吐出する。膜形成領域３ｒ，
３ｇ，３ｂに吐出される液状体の塗布量は、予め膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂごとに選択
されるノズル５２の選択パターンと液滴Ｄの吐出数などが主走査ごとに設定された吐出デ
ータに基づいて、制御部４０のＣＰＵ４１から適正な制御信号がヘッドドライバ４８に送
られて制御される。これにより、ほぼ一定量の液状体が膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂごと
に塗布される。そして、ステップＳ４へ進む。
【００５２】
図６のステップＳ４では、図７（ｄ）に示すように、基板１に吐出された液状体から溶
媒成分を蒸発させて、着色層形成材料からなる着色層３を形成する。本実施形態では、溶
媒の蒸気圧を一定にして乾燥することが可能な減圧乾燥装置に基板１をセットして減圧乾
燥し、Ｒ、Ｇ、Ｂ、３色の着色層３を形成した。なお、１色の液状体を吐出して乾燥する
工程を３回繰り返してもよい。
【００５３】
先の液状体の吐出工程（ステップＳ３）において、着色層３の膜厚は、色ごとに設定す
ればよく、必ずしも３色が同一でなくてもよい。必要な膜厚の設定に基づいて、所定量の
液状体を対応する膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂに吐出すればよい。
【００５４】
着色層３が形成された基板１の表面に凹凸が生じる場合には、隔壁部４と各着色層３と
を覆って透明な例えばアクリル系樹脂材料からなる平坦化層を形成してもよい。
【００５５】
カラーフィルタ２が形成される基板１の大きさは、これを用いる表示装置の大きさに寄
る。また、同一の大きさの表示装置であっても画素が高密度に配置されている場合、対応
するカラーフィルタ２の着色層３の配置も高密度な配置が要求される。
【００５６】
カラーフィルタ２をより効率的に生産する方法として、一般的には基板１よりも面積が
大きいマザー基板Ｐに多面取りする方法が採用されている。だが、マザー基板Ｐの大きさ
によって面積的に効率的なカラーフィルタ２のサイズが決まる。面積的に非効率なサイズ
のカラーフィルタ２を多面取りすると、空きスペースが生ずる。よって、この空きスペー
スに異なるサイズのカラーフィルタ２を面付けしてマザー基板Ｐを面積的に無駄なく利用
する方法がある。
マザー基板Ｐ上に異なるサイズのカラーフィルタ２を面付けする場合、膜形成領域３ｒ
，３ｇ，３ｂの配列方向すなわちストライプ方向が互いに直交することがある。
前述したように膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂにおける液滴の配置は、主走査におけるエ
ンコーダ１２のエンコーダパルスをカウントして吐出タイミングが規定され、これに基づ
いて液滴が吐出されることにより実現される。
主走査方向から見た複数のノズル５２の間隔は、前述したように７０．５μｍである。
したがって、マザー基板Ｐ上において矩形状の膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂの配列方向が
異なる場合には、配列方向によって膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂに掛かるノズル５２の数
が異なる。よって、主走査における配置情報の生成の仕方が複雑になるという課題がある
。
【００５７】
そこで、本実施形態の液滴吐出装置１０並びに液状体の吐出方法を用いたカラーフィル
タ２の製造方法は、マザー基板Ｐにおける膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂの配置に基づいて
、好適な液滴の吐出方法を提供するものである。詳しくは実施例を参照して説明する。
【００５８】
（実施例）
図８〜図１１は、実施例のカラーフィルタの製造方法を示す概略図である。詳しくは、
図８は第１吐出工程におけるヘッドユニットとマザー基板との相対配置を示す概略平面図
、図９（ａ）および（ｂ）は第１吐出工程における液滴の配置を示す概略平面図である。
また、図１０は第２吐出工程におけるヘッドユニットとマザー基板との相対配置を示す概
略平面図、図１１（ａ）および（ｂ）は第２吐出工程における液滴の配置を示す概略平面
図である。
【００５９】
図８に示しように、本実施例におけるマザー基板Ｐは、長辺に沿って複数（７つ）面付
けされた第１塗布領域Ｅ１と、長辺と短辺とに沿ってマトリクス状に複数（４つ）面付け
された第２塗布領域Ｅ２と、を有している。第１塗布領域Ｅ１の面積は第２塗布領域Ｅ２
の面積よりも小さい。
【００６０】
第１塗布領域Ｅ１には、第１膜形成領域としての矩形状の膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂ
がマトリクス状に複数配列している。同様に、第２塗布領域Ｅ２には、第２膜形成領域と
しての矩形状の膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'がマトリクス状に複数配列している。
膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂの面積は、膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'の面積よりも
小さい。
膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂと膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'とは、同種（同色）の
液状体が吐出されるストライプ方向が直交している。
また、それぞれに所望の液状体が所定量塗布されて着色層３が形成される。したがって
、以降、第１塗布領域Ｅ１をカラーフィルタＥ１と呼び、第２塗布領域Ｅ２をカラーフィ
ルタＥ２と呼ぶこともある。
【００６１】
このようなマザー基板Ｐに３種（３色）の液状体を液滴として吐出する吐出工程（ステ
ップＳ３）は、第１吐出工程と第２吐出工程とを有している。
【００６２】
第１吐出工程では、ヘッド移動機構３０において副走査方向（Ｙ軸方向）に複数（８つ
）配列したヘッドユニット９（図８ではヘッドユニットＵ１〜Ｕ８として図示）に対して
、マザー基板Ｐの長辺がほぼ平行となるようにマザー基板Ｐを位置決めする。
そして、主走査方向（Ｘ軸方向）にステージ５を移動させる間にヘッドユニット９に搭
載された液滴吐出ヘッド５０からマザー基板Ｐに向けて液状体を吐出する。
【００６３】
この場合、膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂのストライプ方向は副走査方向（Ｙ軸方向）に
合致している。膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'のストライプ方向は主走査方向（Ｘ軸方
向）に合致している。
【００６４】
図９（ａ）に示すように、複数のノズル５２からなるノズル列５２ａ，５２ｂ（ノズル
列５２ｃ）は、矩形状の膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂの長手方向に沿って配置されている
。例えば、主走査において、赤の液状体が吐出される膜形成領域３ｒには、３つのノズル
５２が掛かりそれぞれから液滴Ｄ1を吐出する。吐出タイミングを制御することにより膜
形成領域３ｒの主走査方向におけるほぼ中央部に液滴Ｄ1を着弾させることができる。こ
れにより各膜形成領域３ｒにはそれぞれ３滴の液滴Ｄ1が塗布される。着弾した液滴Ｄ1は
、膜形成領域３ｒ内に濡れ広がるが、副走査方向（Ｙ軸方向）における着弾位置は、膜形
成領域３ｒの副走査方向における配置ピッチとノズルピッチ（前述したように本実施形態
ではおよそ７０．５μｍ）との関係から膜形成領域３ｒごとに必ずしも同一とは限らない
。なお、第１塗布領域Ｅ１における他の膜形成領域３ｇ，３ｂにおいても同様に所望の液
状体を液滴Ｄ1として３滴ずつ吐出する。
【００６５】
図９（ｂ）に示すように、上記主走査において、例えば、膜形成領域３ｒに対して面積
が大きく配列方向が直交する膜形成領域３ｒ'には、２つのノズル５２が掛かる。そして
、それぞれのノズル５２から主走査方向に複数（８滴）の液滴Ｄ1を吐出する。これによ
り各膜形成領域３ｒ'ごとに１６滴の液滴Ｄ1が塗布される。
吐出タイミングを制御することにより膜形成領域３ｒ'の主走査方向におけるほぼ中央
部付近に液滴Ｄ1を着弾させることができる。一方、副走査方向（Ｙ軸方向）における着
弾位置は、膜形成領域３ｒ'の副走査方向における配置ピッチとノズルピッチとの関係か
ら膜形成領域３ｒ'ごとに２つのノズル５２が掛かるものの必ずしも同一とは限らない。
なお、第２塗布領域Ｅ２における他の膜形成領域３ｇ'，３ｂ'においても同様に所望の
液状体を液滴Ｄ1として１６滴ずつ吐出する。
【００６６】
上述したように第１吐出工程では、膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'に対して面積の小
さい膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂにより多くのノズル５２が掛かるようにヘッドユニット
９とマザー基板Ｐとを位置決めして少なくとも１回の主走査を行う。これにより、膜形成
領域３ｒ，３ｇ，３ｂと膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'とに液滴Ｄ1を吐出する。
【００６７】
次に、図１０に示すように、第２吐出工程では、液滴吐出装置１０の回転機構６（図１
参照）を駆動して、回転中心Ｐ0を中心にマザー基板Ｐを９０度旋回させて位置決めする
。
これにより、膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂのストライプ方向は主走査方向（Ｘ軸方向）
に合致し、膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'のストライプ方向は副走査方向（Ｙ軸方向）
に合致することになる。
【００６８】
図１１（ａ）に示すように、主走査において膜形成領域３ｒに対して面積が大きく配列
方向が直交する膜形成領域３ｒ'には８つのノズル５２が掛かる。そしてそれぞれのノズ
ル５２から２滴ずつ液滴Ｄ2を吐出する。吐出タイミングを制御することにより膜形成領
域３ｒ'の主走査方向（Ｘ軸方向）におけるほぼ中央部付近に液滴Ｄ2を着弾させることが
できる。
これにより膜形成領域３ｒ'には、合計３２滴の液滴が塗布される。副走査方向（Ｙ軸
方向）における液滴Ｄ2の着弾位置は、必ずしも膜形成領域３ｒ'ごとに同一ではない。
なお、第２塗布領域Ｅ２における他の膜形成領域３ｇ'，３ｂ'においても同様に所望の
液状体を液滴Ｄ2として１６滴ずつ吐出する。
【００６９】
図１１（ｂ）に示すように、上記主走査において膜形成領域３ｒ'に対して面積が小さ
く配列方向が直交する膜形成領域３ｒには１つのノズル５２が掛かる。そして当該ノズル
５２から液滴Ｄ2を３滴吐出する。この場合、第１吐出工程で吐出された液滴Ｄ1は膜形成
領域３ｒの副走査方向（Ｙ軸方向）におけるほぼ中央部に着弾している。一方、第２吐出
工程で吐出された液滴Ｄ2は、膜形成領域３ｒの副走査方向（Ｙ軸方向）における配置ピ
ッチとノズルピッチとの関係から必ずしも膜形成領域３ｒの副走査方向（Ｙ軸方向）にお
けるほぼ中央部に着弾するとは限らない。しかしながら、吐出タイミングを制御すること
により、第１吐出工程において着弾させることができなかった位置に液滴Ｄ2を着弾させ
ることができる。
【００７０】
例えば、図１１（ｂ）において、ノズル列５２ｃに近い側の膜形成領域３ｒでは、先に
着弾した液滴Ｄ1に対して、主走査における１発目の液滴Ｄ2の吐出位置が左側になるよう
に吐出タイミングを設定する。ノズル列５２ｃから遠い側の膜形成領域３ｒでは、先に着
弾した液滴Ｄ1に対して、主走査における３発目の液滴Ｄ2の吐出位置が右側になるように
吐出タイミングを設定する。
これにより、６つの液滴をほぼ万遍なく膜形成領域３ｒごとに着弾させることができる
。
【００７１】
上記実施例の液状体の吐出方法によれば、第１吐出工程で予め面積の大きい膜形成領域
３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'に所定量（３２滴の液滴の量）のうち１／２の液状体を液滴Ｄ1とし
て吐出するので、第２吐出工程において残り１／２の液状体を液滴Ｄ2として吐出すれば
よい。したがって、第１塗布領域Ｅ１と第２塗布領域Ｅ２への液状体の塗布を完全に打ち
分ける場合に比べて主走査の回数を低減することができる。
【００７２】
また、膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂと膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'とにおいて、そ
れぞれに吐出すべき所定量の液状体を第１吐出工程と、第２吐出工程とに分けて吐出する
。第２吐出工程では、マザー基板Ｐを９０度旋回させてから液状体を吐出するので、主走
査において掛かるノズル５２の組み合わせが第１吐出工程と異なる。したがって、ノズル
５２間において液滴の吐出量がばらついていたとしても、異なるノズル５２の組み合わせ
で同種且つ同一膜形成領域に液滴を吐出するので、塗布量のばらつきを抑制して所定量の
液状体を安定的に塗布することができる。
また、副走査方向（Ｙ軸方向）に配列した複数のヘッドユニット９に対してマザー基板
Ｐを９０度旋回させて位置決めするので、固定されたマザー基板Ｐに対して複数のヘッド
ユニット９を位置決めする場合比べて、装置構成を簡略化し、液滴吐出ヘッド５０に対し
て精度よく、容易に位置決めが可能である。
【００７３】
本実施形態の液状体の吐出方法において、第２吐出工程では、面積が小さい膜形成領域
３ｒ，３ｇ，３ｂの長手方向が主走査方向に合致しているものの、副走査方向に配列する
ノズル５２のノズルピッチとの関係において、同種の液状体を吐出する各膜形成領域３ｒ
に必ずしも１つのノズル５２が掛からない場合が考えられる。そのときには、確実にノズ
ル５２が掛かる第１吐出工程で所要量（この場合は、６滴の液滴の量）の液状体を液滴Ｄ
１としてすべて吐出する方法や、第２吐出工程でヘッドユニット９を副走査して、液滴Ｄ
２を吐出する主走査を繰り返すことにより、すべての膜形成領域３ｒに所定量に対して不
足する液状体を液滴Ｄ２として吐出する方法が挙げられる。
【００７４】
また、各膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂ，３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'に塗布される液状体の所
定量は、各膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂ，３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'の面積や形成される機能
膜（この場合は、着色層３）のねらいの膜厚によって、必ずしも同一ではない。
したがって、第１吐出工程では、面積の大きい膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'に少な
くとも１滴の液滴を吐出すれば、第２吐出工程における膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'
の主走査の回数を低減することが可能である。
【００７５】
さらには、図９（ａ）および図１１（ｂ）に示したように、面積の小さい第１塗布領域
Ｅ１の膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂに着目すると、第１吐出工程では、３つのノズル５２
を用いて主走査し、第２吐出工程では１つのノズル５２を用いて主走査する。仮に第２吐
出工程を先に実施した場合には、液滴吐出装置１０の吐出分解能にもよるが、所定量の液
状体を液滴として膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂに吐出する主走査の回数が増えるおそれが
ある。これに対して、本実施実施形態の液状体の吐出方法を用いれば、複数のノズル５２
を効率よく用いて膜形成領域３ｒ、３ｇ、３ｂおよび膜形成領域３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'に
液滴を吐出することができる。すなわち、より効率よく３種の液状体を塗布することがで
きる。
【００７６】
本実施形態の液状体の吐出方法を適用したカラーフィルタ２の製造方法によれば、膜形
成領域３ｒ，３ｇ，３ｂ，３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'ごとにほぼ所定量の液状体が無駄なく安
定して塗布されるので、ほぼ一定の膜厚を有する着色層３を形成することができる。
また、効率よく３種の液状体がマザー基板Ｐに吐出され、高い生産性でカラーフィルタ
Ｅ１とカラーフィルタＥ２とを製造することができる。
【００７７】
（実施形態２）
次に、上記実施形態１の液状体の吐出方法を適用した有機ＥＬ（Electro-Luminessence
）装置の製造方法について、図１２および図１３を参照して説明する。図１２は有機ＥＬ
装置の要部構造を示す概略断面図、図１３（ａ）〜（ｆ）は有機ＥＬ装置の製造方法を示
す概略断面図である。
【００７８】
＜有機ＥＬ装置＞
図１２に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置６００は、有機ＥＬ素子としての発光
素子部６０３を有する素子基板６０１と、素子基板６０１と空間６２２を隔てて封着され
た封止基板６２０とを備えている。また素子基板６０１は、素子基板６０１上に回路素子
部６０２を備えており、発光素子部６０３は、回路素子部６０２上に重畳して形成され、
回路素子部６０２により駆動されるものである。発光素子部６０３には、有機発光材料か
らなる３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂがそれぞれ膜形成領域としての発光層
形成領域Ａに形成され、ストライプ状となっている。素子基板６０１は、３色の発光層６
１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに対応する３つの発光層形成領域Ａを１組の絵素とし、この
絵素が素子基板６０１の回路素子部６０２上にマトリクス状に配置されたものである。す
なわち、有機ＥＬ装置６００は、発光素子部６０３からの発光が素子基板６０１側に射出
するものである。
【００７９】
封止基板６２０は、ガラスまたは金属からなるもので、封止樹脂を介して素子基板６０
１に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤６２１が貼り付けられてい
る。ゲッター剤６２１は、素子基板６０１と封止基板６２０との間の空間６２２に侵入し
た水または酸素を吸収して、発光素子部６０３が侵入した水または酸素によって劣化する
ことを防ぐものである。なお、このゲッター剤６２１は省略してもよい。
【００８０】
素子基板６０１は、回路素子部６０２上に複数の発光層形成領域Ａを有するものであっ
て、複数の発光層形成領域Ａを区画するバンク６１８と、複数の発光層形成領域Ａに形成
された電極６１３と、電極６１３に積層された正孔注入／輸送層６１７ａとを備えている
。また複数の発光層形成領域Ａ内に発光層形成材料を含む３種の液状体を付与して形成さ
れた発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する発光素子部６０３を備えている。バン
ク６１８は、絶縁材料を用いて形成され、正孔注入／輸送層６１７ａ上に積層された発光
層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂと電極６１３とが電気的に短絡しないように、電極６１
３の周囲を覆っている。
【００８１】
素子基板６０１は、例えばガラスなどの透明な基板からなり、素子基板６０１上にシリ
コン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上に多結晶シリ
コンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。なお、半導体膜６０７には、ソー
ス領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されて
いる。なお、Ｐイオンが導入されなかった部分がチャネル領域６０７ｃとなっている。さ
らに下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され
、ゲート絶縁膜６０８上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗなどからなるゲート電極６０９
が形成され、ゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には透明な第１層間絶縁膜６
１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。ゲート電極６０９は半導体膜６０７
のチャネル領域６０７ｃに対応する位置に設けられている。また、第１層間絶縁膜６１１
ａおよび第２層間絶縁膜６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ド
レイン領域６０７ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成さ
れている。そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などか
らなる透明な電極６１３が所定の形状にパターニングされて配置され、一方のコンタクト
ホール６１２ａがこの電極６１３に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール
６１２ｂが電源線６１４に接続されている。このようにして、回路素子部６０２には、各
電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５が形成されている。なお、回路
素子部６０２には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成されているが、
図１２ではこれらの図示を省略している。
【００８２】
発光素子部６０３は、陽極としての電極６１３と、電極６１３上に順次積層された正孔
注入／輸送層６１７ａ、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ（総称して発光層Ｌｕ）
と、バンク６１８と発光層Ｌｕとを覆うように積層された陰極６０４とを備えている。正
孔注入／輸送層６１７ａと発光層Ｌｕとにより発光が励起される機能層６１７を構成して
いる。なお、陰極６０４と封止基板６２０およびゲッター剤６２１を透明な材料で構成す
れば、封止基板６２０側から発光する光を射出させることができる。
【００８３】
有機ＥＬ装置６００は、ゲート電極６０９に接続された走査線（図示省略）とソース領
域６０７ａに接続された信号線（図示省略）とを有し、走査線に伝わった走査信号により
スイッチング用の薄膜トランジスタ（図示省略）がオンになると、そのときの信号線の電
位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ６１５
のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のチャネル領域６
０７ｃを介して、電源線６１４から電極６１３に電流が流れ、さらに正孔注入／輸送層６
１７ａと発光層Ｌｕとを介して陰極６０４に電流が流れる。発光層Ｌｕは、これを流れる
電流量に応じて発光する。有機ＥＬ装置６００は、このような発光素子部６０３の発光メ
カニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。また、有機ＥＬ装置６
００は、発光層Ｌｕが上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いて形成されているため、
所定量の液状体が安定的に各発光層形成領域Ａに付与され、発光ムラ、輝度ムラなどの表
示不具合の少ない高い表示品質を有している。
【００８４】
＜有機ＥＬ装置の製造方法＞
次に本実施形態の有機ＥＬ装置６００の製造方法について図１３を参照して説明する。
なお、図１３（ａ）〜（ｆ）においては、素子基板６０１上に形成された回路素子部６０
２は、図示を省略している。
【００８５】
本実施形態の有機ＥＬ装置６００の製造方法は、素子基板６０１の複数の発光層形成領
域Ａに対応する位置に電極６１３を形成する工程と、電極６１３に一部が掛かるようにバ
ンク６１８を形成するバンク形成工程とを備えている。またバンク６１８で区画された発
光層形成領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された発光層形成領域Ａに正孔注入／
輸送層形成材料を含む液状体を付与して正孔注入／輸送層６１７ａを吐出描画する工程と
、吐出された液状体を乾燥して正孔注入／輸送層６１７ａを成膜する工程とを備えている
。また、発光層形成領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体を吐出する吐出工程と、
吐出された３種の液状体を乾燥して発光層Ｌｕを成膜する成膜工程とを備えている。さら
に、バンク６１８と発光層Ｌｕを覆うように陰極６０４を形成する工程と、発光素子部６
０３が形成された素子基板６０１と封止基板６２０とを接合する封止工程とを備えている
。各液状体の発光層形成領域Ａへの付与は、上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いて
行う。よって、図３に示したヘッドユニット９における液滴吐出ヘッド５０の配置を適用
する。
【００８６】
電極（陽極）形成工程では、図１３（ａ）に示すように、素子基板６０１の発光層形成
領域Ａに対応する位置に電極６１３を形成する。形成方法としては、例えば、素子基板６
０１の表面にＩＴＯなどの透明電極材料を用いて真空中でスパッタ法あるいは蒸着法で透
明電極膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ法にて必要な部分だけを残してエッチ
ングして電極６１３を形成する方法が挙げられる。そしてバンク形成工程へ進む。
【００８７】
バンク形成工程では、図１３（ｂ）に示すように、まず、素子基板６０１の複数の電極
６１３の一部を覆うように下層バンク６１８ａを形成する。下層バンク６１８ａの材料と
しては、無機材料である絶縁性のＳｉＯ2（酸化珪素）を用いている。下層バンク６１８
ａの形成方法としては、例えば、後に形成される発光層Ｌｕに対応して、各電極６１３の
表面をレジストなどを用いてマスキングする。そしてマスキングされた素子基板６０１を
真空装置に投入し、ＳｉＯ2をターゲットあるいは原料としてスパッタリングや真空蒸着
することにより下層バンク６１８ａを形成する方法が挙げられる。レジストなどのマスキ
ングは、後に剥離する。なお、下層バンク６１８ａは、ＳｉＯ2により形成されているた
め、その膜厚が２００ｎｍ以下であれば十分な透明性を有しており、後に正孔注入／輸送
層６１７ａおよび発光層Ｌｕが積層されても発光を阻害することはない。
【００８８】
続いて、各発光層形成領域Ａを実質的に区画するように下層バンク６１８ａの上に上層
バンク６１８ｂを形成する。上層バンク６１８ｂの材料としては、後述する発光層形成材
料を含む３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの溶媒に対して耐久性を有するもの
であることが望ましく、さらに、フッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理により撥液
化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有
機材料が好ましい。上層バンク６１８ｂの形成方法としては、例えば、下層バンク６１８
ａが形成された素子基板６０１の表面に感光性の上記有機材料をロールコート法やスピン
コート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、
発光層形成領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板６０１と所定
の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク６１８ｂを形成する方法が挙
げられる。これにより下層バンク６１８ａと上層バンク６１８ｂとを有するバンク６１８
が形成される。そして、表面処理工程へ進む。
【００８９】
発光層形成領域Ａを表面処理する工程では、バンク６１８が形成された素子基板６０１
の表面を、まずＯ2ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより電極６１３の表
面、バンク６１８の表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。次にＣＦ4などの
フッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂
からなる上層バンク６１８ｂの表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。そし
て、正孔注入／輸送層形成工程へ進む。
【００９０】
正孔注入／輸送層形成工程では、図１３（ｃ）に示すように、正孔注入／輸送層形成材
料を含む液状体９０を発光層形成領域Ａに付与する。液状体９０を付与する方法としては
、上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いる。液滴吐出ヘッド５０から吐出された液状
体９０は、液滴として素子基板６０１の電極６１３に着弾して濡れ拡がる。液状体９０は
発光層形成領域Ａの面積に応じて、所定量が液滴として吐出される。そして乾燥・成膜工
程へ進む。
【００９１】
乾燥・成膜工程では、素子基板６０１を例えばランプアニールなどの方法で加熱するこ
とにより、液状体９０の溶媒成分を乾燥させて除去し、電極６１３のバンク６１８により
区画された領域に正孔注入／輸送層６１７ａが形成される。本実施形態では、正孔注入／
輸送層形成材料として３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォ
ン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いた。なお、本実施形態では、各発光層形成領域Ａに同
一材料からなる正孔注入／輸送層６１７ａを形成したが、後に形成される発光層Ｌｕに対
応して正孔注入／輸送層６１７ａの材料を発光層形成領域Ａごとに変えてもよい。そして
次の液状体の吐出工程へ進む。
【００９２】
液状体の吐出工程では、図１３（ｄ）に示すように、液滴吐出装置１０を用いて複数の
液滴吐出ヘッド５０から複数の発光層形成領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体１
００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを付与する。液状体１００Ｒは発光層６１７Ｒ（赤色）を形
成する材料を含み、液状体１００Ｇは発光層６１７Ｇ（緑色）を形成する材料を含み、液
状体１００Ｂは発光層６１７Ｂ（青色）を形成する材料を含んでいる。
【００９３】
各発光層形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料
が用いられる。
具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘
導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）
、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラ
ン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料
に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレ
ン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイル
レッド、クマリン６、キナクリドンなどの低分子材料をドープして用いることもできる。
【００９４】
着弾した各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂは、発光層形成領域Ａに濡れ拡がって
断面形状が円弧状に盛り上がる。これらの液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを付与す
る方法としては、上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いた。そして、乾燥・成膜工程
へ進む。
【００９５】
乾燥・成膜工程では、図１３（ｅ）に示すように、吐出された各液状体１００Ｒ，１０
０Ｇ，１００Ｂの溶媒成分を乾燥させて除去し、各発光層形成領域Ａの正孔注入／輸送層
６１７ａに各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが積層されるように成膜する。各液状
体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが吐出された素子基板６０１の乾燥方法としては、溶媒
の蒸発速度をほぼ一定とすることが可能な、減圧乾燥が好ましい。そして陰極形成工程へ
進む。
【００９６】
陰極形成工程では、図１３（ｆ）に示すように、素子基板６０１の各発光層６１７Ｒ，
６１７Ｇ，６１７Ｂとバンク６１８の表面とを覆うように陰極６０４を形成する。陰極６
０４の材料としては、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌなどの金属やＬｉＦなどのフッ化物を組み合わせ
て用いるのが好ましい。特に発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに近い側に仕事関数が
小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＡｌなどの膜を形成
するのが好ましい。また、陰極６０４の上にＳｉＯ2、ＳｉＮなどの保護層を積層しても
よい。このようにすれば、陰極６０４の酸化を防止することができる。陰極６０４の形成
方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法などが挙げられる。特に発光層６１７Ｒ，
６１７Ｇ，６１７Ｂの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
【００９７】
このようにして出来上がった素子基板６０１は、所定量の各液状体１００Ｒ，１００Ｇ
，１００Ｂが液滴として発光層形成領域Ａに量的なばらつきが抑制されて付与され、乾燥
・成膜化後の膜厚が、それぞれの発光層形成領域Ａにおいて、ほぼ一定となった各発光層
６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ（総称して発光層Ｌｕ）を有する。そして、封止工程へ進
む。
【００９８】
封止工程では、発光素子部６０３が形成された素子基板６０１と封止基板６２０とを対
向させ空間６２２を置いて接着剤を用いて接合する（図１２参照）。接着剤としては、耐
久性があり熱硬化性の例えばエポキシ系樹脂接着剤を用いることが好ましい。これにより
発光素子部６０３を封止する。
【００９９】
上記実施形態２の有機ＥＬ装置６００の製造方法によれば、液状体１００Ｒ，１００Ｇ
，１００Ｂの吐出工程では、上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いて液滴を吐出する
。したがって、それぞれの発光層形成領域Ａに所定量の各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１
００Ｂが安定的に塗布される。したがって、乾燥・成膜後の膜厚が、それぞれの発光層形
成領域Ａにおいて、ほぼ一定となった各発光層Ｌｕが得られる。
各発光層Ｌｕの膜厚がほぼ一定であるため、各発光層Ｌｕごとの抵抗がほぼ一定となる
。よって、回路素子部６０２により発光素子部６０３に駆動電圧を印加して発光させると
、各発光層Ｌｕごとの抵抗ムラによる発光ムラや輝度ムラなどが低減される。すなわち、
発光ムラや輝度ムラなどが少ない有機ＥＬ装置６００を歩留りよく製造することができる
。
【０１００】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【０１０１】
（変形例１）上記実施形態１のカラーフィルタ２において、Ｒ、Ｇ、Ｂ、３色の着色層
３の配置および形状は、これに限定されない。図１４（ａ）〜（ｄ）は、変形例の着色層
の配置および形状を示す概略平面図である。例えば、図１４（ａ）に示すように、同色の
着色層３が斜め方向に配列するモザイク方式や、図１４（ｂ）に示すように、各色の着色
層３が三角形の頂点の位置に配列するデルタ方式のカラーフィルタにおいても、上記実施
形態１のカラーフィルタ２の製造方法を適用することができる。
さらには、着色層３すなわち膜形成領域３ｒ，３ｇ，３ｂの形状は矩形に限定されず、
図１４（ｃ）に示すような平行四辺形や、図１４（ｄ）に示すような「くの字形状」にお
いても、上記実施形態１のカラーフィルタ２の製造方法を適用することができる。
【０１０２】
（変形例２）上記実施形態１のカラーフィルタ２の製造方法を適用するカラーフィルタ
２の構成は、３色の着色層３を有するものに限定されない。例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂ、３色に
他の色を加えた多色構成でも適用することができる。
【０１０３】
（変形例３）上記実施形態２の有機ＥＬ装置６００において、有機ＥＬ素子としての発
光素子部６０３の構成は、これに限定されない。例えば、発光層形成領域Ａに白色の発光
が得られる機能層６１７を形成する。そして、封止基板６２０側にカラーフィルタ２を配
置することによって、フルカラー表示が可能で高い色再現性を有するトップエミッション
型の有機ＥＬ装置６００を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。
【図２】（ａ）は液滴吐出ヘッドを示す斜視図、（ｂ）はノズルの配置状態を示す平面図。
【図３】ヘッドユニットにおける液滴吐出ヘッドの配置を示す概略平面図。
【図４】液滴吐出装置の制御系を示すブロック図。
【図５】（ａ）はカラーフィルタの構成を示す概略平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ'線で切った断面図。
【図６】カラーフィルタの製造方法を示すフローチャート。
【図７】カラーフィルタの製造方法を示す概略断面図。
【図８】第１吐出工程におけるヘッドユニットとマザー基板との相対配置を示す概略平面図。
【図９】（ａ）および（ｂ）は第１吐出工程における液滴の配置を示す概略平面図。
【図１０】第２吐出工程におけるヘッドユニットとマザー基板との相対配置を示す概略平面図。
【図１１】（ａ）および（ｂ）は第２吐出工程における液滴の配置を示す概略平面図。
【図１２】有機ＥＬ装置の要部構造を示す概略断面図。
【図１３】（ａ）〜（ｆ）は有機ＥＬ装置の製造方法を示す概略断面図。
【図１４】（ａ）〜（ｄ）は変形例の着色層の配置と形状とを示す概略平面図。
【符号の説明】
【０１０５】
１…基板、２…カラーフィルタ、３…着色層、３ｒ，３ｇ，３ｂ…第１膜形成領域とし
ての膜形成領域、３ｒ'，３ｇ'，３ｂ'…第２膜形成領域としての膜形成領域、５２…ノ
ズル、１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ…発光層形成材料を含む液状体、６０１…基板とし
ての素子基板、６０３…有機ＥＬ素子としての発光素子部、６１７…機能層、６１７Ｒ，
６１７Ｇ，６１７Ｂ…発光層、Ａ…膜形成領域としての発光層形成領域、Ｅ１…第１塗布
領域、Ｅ２…第２塗布領域、Ｐ…基板としてのマザー基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2009247918.tif 000010
【図９】
2009247918.tif 000011
【図１０】
2009247918.tif 000012
【図１１】
2009247918.tif 000013
【図１２】
2009247918.tif 000014
【図１３】
2009247918.tif 000015
【図１４】
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