(57)【要約】【課題】ペン書き耐久性を高めるとともに、ペンでの書き心地を改善する透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法を提供することである。【解決手段】透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、を備え、クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、
前記透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、
前記クッション層上に形成されたハードコート層と、
前記透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、
を備えることを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２】
前記クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、前記クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
前記クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の透明導電性フィルム。
【請求項４】
前記第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項５】
透明基材と、
前記透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、
前記クッション層上に形成されたハードコート層と、
前記透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、
前記第１の透明導電膜にスペーサを介して対向配置された第２の透明導電膜と、
を備えることを特徴とするタッチパネル。
【請求項６】
前記クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、前記クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項５または６に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項９】
透明基材を準備し、
前記透明基材上の一方の面にクッション層を形成し、
前記クッション層上にハードコート層を形成し、
前記透明基材上のもう一方の面に第１の透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、前記クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項９または１０に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項１３】
透明基材を準備し、
前記透明基材上の一方の面にクッション層を形成し、
前記クッション層上にハードコート層を形成し、
前記透明基材上のもう一方の面に第１の透明導電膜を形成し、
前記第１の透明導電膜にスペーサを介して第２の透明導電膜を対向配置することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、前記クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項１３または１４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記第１の透明導電膜の膜厚は、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法に関し、特に、透明電極、タッチパネル、電磁波遮蔽膜として有用な透透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明導電膜は、導電性と光学的な透明性とを合わせ持つという特性を有しているため、産業的には、透明電極、電磁波遮蔽膜、面状発熱膜及び反射防止膜等として使用されている。近年、透明導電膜はタッチパネル向け電極として注目を集めている。
【０００３】
タッチパネルには静電容量結合方式、光学方式及び抵抗膜方式等多様な方式が存在する。その中で、透明導電膜が使用されるのは、上下の電極が接触することでタッチ位置を特定する抵抗膜方式や静電容量の変化を感知する静電容量結合方式である。特に抵抗膜方式は、ペン入力が可能であり、比較的安価であることから、携帯用端末及び携帯ゲーム機等幅広く利用されている。この抵抗膜方式は動作原理上導電膜同士の接触がさけられず、タッチパネルの打点寿命を延ばすため、打点耐久性の高い透明導電性フィルムの開発が進められてきている。また、ペンでの入力は通常の紙に書く際の書き心地を得るには至っておらず、今後の改善が望まれている。
【０００４】
液晶パネルの細額縁化や使用環境の多様化により、ディスプレイに組み込まれるタッチパネルの高耐久化が求められている。そのためには、電極となる透明導電性フィルムの高耐久化が必要不可欠である（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００７−２１３８８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、ペン書き耐久性を高めるとともに、ペンでの書き心地を改善する透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１に係る発明は、透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、を備えることを特徴とする透明導電性フィルムとしたものである。
【０００７】
本発明の請求項２に係る発明は、クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルムとしたものである。
【０００８】
本発明の請求項３に係る発明は、クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の透明導電性フィルムとしたものである。
【０００９】
本発明の請求項４に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルムとしたものである。
【００１０】
本発明の請求項５に係る発明は、透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、第１の透明導電膜にスペーサを介して対向配置された第２の透明導電膜と、を備えることを特徴とするタッチパネルとしたものである。
【００１１】
本発明の請求項６に係る発明は、クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネルとしたものである。
【００１２】
本発明の請求項７に係る発明は、クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項５または６に記載のタッチパネルとしたものである。
【００１３】
本発明の請求項８に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネルとしたものである。
【００１４】
本発明の請求項９に係る発明は、透明基材を準備し、透明基材上の一方の面にクッション層を形成し、クッション層上にハードコート層を形成し、透明基材上のもう一方の面に第１の透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法としたものである。
【００１５】
本発明の請求項１０に係る発明は、クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の透明導電性フィルムの製造方法としたものである。
【００１６】
本発明の請求項１１に係る発明は、クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項９または１０に記載の透明導電性フィルムの製造方法としたものである。
【００１７】
本発明の請求項１２に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の透明導電性フィルムの製造方法としたものである。
【００１８】
本発明の請求項１３に係る発明は、透明基材を準備し、透明基材上の一方の面にクッション層を形成し、クッション層上にハードコート層を形成し、透明基材上のもう一方の面に第１の透明導電膜を形成し、第１の透明導電膜にスペーサを介して第２の透明導電膜を対向配置することを特徴とするタッチパネルの製造方法としたものである。
【００１９】
本発明の請求項１４に係る発明は、クッション層の弾性係数は１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネルの製造方法としたものである。
【００２０】
本発明の請求項１５に係る発明は、クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項１３または１４に記載のタッチパネルの製造方法としたものである。
【００２１】
本発明の請求項１６に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネルの製造方法としたものである。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、ペン書き耐久性を高めるとともに、ペンでの書き心地を改善する透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を、図面を参照しつつ詳細に説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、重複する説明は省略する。
【００２４】
図１に示すように、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、透明基材２、透明基材２の一方の面にクッション層３、クッション層３上にハードコート層４、透明基材２のもう一方の面に第１の透明導電膜５を備えている。
【００２５】
本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、ハードコート層４と透明基材２との間にクッション層３を備えている。ハードコート層４と透明基材２との間にクッション層３を備えることにより、透明導電性フィルム１をタッチパネルに搭載したときの、ペン書き耐久性を高めることができる。
【００２６】
本発明の実施の形態に係る透明基材２の材料としては、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド；ポリイミド；ポリアリレート；ポリカーボネート；ポリアクリレート；ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン及びこれらの共重合体の無延伸あるいは延伸されたプラスチックフィルムを用いることができる。また、透明性の高い他のプラスチックフィルムを用いることもできる。透明基材２の厚さは基材の可撓性を考慮し、１０μｍ以上２００μｍ以下程度のものが用いられる。上記、透明基材２の材料においてはポリエチレンテレフタレートなどを好ましく用いることができる。
【００２７】
なお、透明基材２は、易接着処理、プラズマ処理及びコロナ処理などの表面処理が施されていてもよい。また、他の機能層を備えていてもよい。
【００２８】
本発明の実施の形態に係るクッション層３の硬さは、弾性係数において１０４Ｎ／ｍ２以上１０６Ｎ／ｍ２以下であり、クッション層３の層厚は、１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴としている。より好ましくは、クッション層３の層厚を５μｍ以上１０μｍ以下とする。
【００２９】
クッション層３の硬さを表す弾性係数が１０６Ｎ／ｍ２を超えると、クッション層３が硬くなり、クッション性を得られなくなり、第１の透明導電膜５であるＩＴＯ（後述する）にクラックが発生する。一方、１０４Ｎ／ｍ２未満ではクッション層３が非弾性となり、加圧により容易に変形が維持された状態となってしまう。
【００３０】
クッション層３の層厚が１μｍ未満では良好なクッション性を得られず、クッション層３の層厚が５０μｍより厚くなると透明性を損なうことになる。
【００３１】
クッション層３を形成する透明樹脂材料としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン系樹脂、またこれらの共重合体を用いることができる。また上記クッション層３の特性を満たす他の透明樹脂を用いることができる。
【００３２】
また、クッション層３の形成材料としては紫外線硬化型材料を用いることができ、紫外線硬化型材料を完全硬化させるのではなく、半硬化させることにより、クッション性を発現させることができる。紫外線硬化型材料としては、２官能以上の（メタ）アクリレートと多官能アクリレートとを用いることができる。反応性アクリル基が分子内に２個以上持つ化合物ならばどんな材料を用いてもよい。例えばポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１,１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００３３】
また、クッション層３の形成材料には、多官能（メタ）アクリレートとしてウレタン（メタ）アクリレートを使用することができる。ウレタン（メタ）アクリレートとしては分子内にウレタン結合と（メタ）アクリレート構造を持つものであればどの材料を用いてもよい。例えばジイソシアネートとジオール及び水酸基含有（メタ）アクリレートから生成されるものを使用することができる。ジイソシアネートとしてはテトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２,４−トリレンジイソシアネート、４,４−ジフェニルジイソシアネート、１,５−ナフタレンジイソシアネート、３,３−ジメチル−４,４−ジフェニルジイソシアネート、きしりレンジイソシアネート等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。ジオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、１,３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、１,６−ヘキサンジオール、１,９−ナノンジオール、ネオペンチルグリコール、１,４−シクロヘキサンジオール、ポリエチレンオキサイドジオール、ポリプロピレンオキサイドジオール、ポリテトラメチレンオキサイドジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルジール及びポリカーボネートジオール等を挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。また、水酸基を持ったアクリレートとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン変性物、２−ヒドロキシエチルアクリレートオリゴマー、２−ヒドロキシプロピルアクリレートオリゴマー及びペンタエリスリトールトリアクリレートを挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００３４】
多官能アクリレートとしてはポリエステルアクリレートを用いることができる。ポリエステルアクリレートとしては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシアクリレート及び２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００３５】
またクッション層３の形成材料には、エポキシアクリレートを使用することができる。エポキシアクリレートとしては、エポキシ樹脂のエポキシ基を開環しアクリル酸でアクリル化することにより得られるアクリレートであり、芳香環、脂環式のエポキシを用いたものがより好ましく用いることができる。
【００３６】
上記アクリレートは１種類のみを用いても２種以上混合して使用してもよい。
【００３７】
このとき、クッション層３の形成材料には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類及びチオキサントン類等の光重合開始剤が添加される。また、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン及びポリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤が含有されていてもよい。
【００３８】
ハードコート層４の形成材料としては、電離放射線硬化型材料を用いることができる。電離放射線硬化型材料は、紫外線や電子線といった電離放射線により硬化する材料であり、２官能以上の（メタ）アクリレートと多官能アクリレートとを用いることができる。反応性アクリル基が分子内に２個以上持つ化合物ならばどの材料を用いてもよい。例えばポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１,１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００３９】
また、ハードコート層４の形成材料には、多官能（メタ）アクリレートとしてウレタン（メタ）アクリレートを使用することができる。ウレタン（メタ）アクリレートとしては分子内にウレタン結合と（メタ）アクリレート構造を持つものであればどの材料を用いてもよい。例えばジイソシアネートとジオール及び水酸基含有（メタ）アクリレートから生成されるものを使用することができる。ジイソシアネートとしてはテトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２,４−トリレンジイソシアネート、４,４−ジフェニルジイソシアネート、１,５−ナフタレンジイソシアネート、３,３−ジメチル−４,４−ジフェニルジイソシアネート、きしりレンジイソシアネート等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。ジオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、１,３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、１,６−ヘキサンジオール、１,９−ナノンジオール、ネオペンチルグリコール、１,４−シクロヘキサンジオール、ポリエチレンオキサイドジオール、ポリプロピレンオキサイドジオール、ポリテトラメチレンオキサイドジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルジール、ポリカーボネートジオール等を挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。また、水酸基を持ったアクリレートとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン変性物、２−ヒドロキシエチルアクリレートオリゴマー、２−ヒドロキシプロピルアクリレートオリゴマー及びペンタエリスリトールトリアクリレート等を例として挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００４０】
多官能アクリレートとしてはポリエステルアクリレートを用いることができる。ポリエステルアクリレートとしては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシアクリレート及び２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させて容易に形成されるものを挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。
【００４１】
またエポキシアクリレートを使用することができる。エポキシアクリレートとしては、エポキシ樹脂のエポキシ基を開環しアクリル酸でアクリル化することにより得られるアクリレートであり、芳香環、脂環式のエポキシを用いたものがより好ましく用いることができる。
【００４２】
上記アクリレートは１種類のみを用いても２種以上混合して使用してもよい。
【００４３】
さらに光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類及びチオキサントン類等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン及びポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
【００４４】
これらの樹脂及び光重合開始剤は溶媒に溶かし固形分を３０重量％以上８０重量％以下、より好ましくは４０重量％以上６０重量％以下に調整し基材上に塗工することができる。
【００４５】
クッション層３及びハードコート層４の塗布方法としては、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法及びスプレー法などの方法を用いることができる。
【００４６】
本発明の実施の形態に係る第１の透明導電膜５を形成する導電性材料としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛等の酸化物及びその混合酸化物等を挙げることができる。特に酸化インジウムと酸化錫との混合酸化物（ＩＴＯ）が好適に用いられる。
【００４７】
第１の透明導電膜５の導電性材料には、必要に応じて、Ａｌ、Ｚｒ、Ｇａ、Ｓｉ及びＷ等の添加物を含有させることができる。
【００４８】
第１の透明導電膜５の膜厚としては５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好適である。第１の透明導電膜５の膜厚が５ｎｍ未満になると膜の均一性が得にくくなり、また５０ｎｍを超えると透明性の低下が起こる。
【００４９】
本発明の実施の形態に係る第１の透明導電膜５の製造方法については特に限定はないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の真空成膜法を用いて好ましく製造することができる。
【００５０】
図３に示すように、本発明の実施の形態に係るタッチパネル１０は、透明基材２の一方の面にクッション層３、クッション層３上にハードコート層４、透明基材２のもう一方の面に第１の透明導電膜５を備える透明導電性フィルム１、透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜５にスペーサ８を介して対向配置された第２の透明導電膜６及び基板７を備えている。
【００５１】
本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、タッチパネルの中でも抵抗膜方式のタッチパネルに好適に用いることができる。抵抗膜方式のタッチパネル１０にあっては、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜５と対向配置するように第２の透明導電膜６及び基板７を備えている。第１の透明導電膜５と第２の透明導電膜６とは、スペーサ８により接触しない距離が保たれる。透明導電性フィルム１のハードコート層４側が、タッチパネル１０の前面となり、ペン９により文字等が入力される。
【００５２】
本発明の実施の形態に係るタッチパネル１０において、ペン９とハードコート層４とがタッチしていない状態では、スペーサ８により２枚の電極（第１の透明導電膜５と第２の透明導電膜６）が接触していないために電流は流れない。一方、ペン９によりハードコート層４をタッチすると、圧力によりハードコート層４がたわみ、基板７（ガラス面）側の電極（第２の透明導電膜６）と接触して電流が流れる。このとき、透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜５と基板７の第２の透明導電膜６との抵抗による分圧比を測定することで、ペン９入力された位置を検出することができる。
【００５３】
透明導電性フィルム１の材料は前述しているために省略し、基板７及び第２の透明導電膜６の材料について述べることにする。基板７の材料は、ガラスに限らず透明であれば使用でき、さらに、前述した透明基材２と同じ材料及び同じ形成方法を用いることができる。第２の透明導電膜６は、第１の透明導電膜５と同一材料及び同一製造方法を用いることができ、さらに、第２の透明導電膜６の膜厚は第１の透明導電膜５と同一にしてもよい。
【００５４】
なお、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、ハードコート層４の表面に他の機能層を備えてもよい。他の機能層としては、例えば、反射防止層、防汚層を挙げることができる。
【実施例１】
【００５５】
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
【００５６】
まず、図１に示すように、透明導電膜性フィルム１の透明基材２は、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用いた。
【００５７】
次に、透明基材２上の一方の面にクッション層３を形成した。クッション層３は、新中村化学工業社製、商品名「Ｕ−２ＰＰＡ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー９０７を５重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚１０μｍになるように塗布、乾燥させ、７０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して半硬化させて形成した。
【００５８】
次に、クッション層３上にハードコート層４を形成した。ハードコート層４は、日本合成化学社製、商品名「１７００Ｂ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー１８４を３重量部、チバスペシャルティケミカルズ社製、ダロキュアーＴＰＯを２重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚５μｍになるように塗布、乾燥させ、４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して形成した。
【００５９】
次に、透明基材２のもう一方の面（ハードコート層４とは反対の面）に、第１の透明導電膜５を形成した。第１の透明導電膜５は酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるＩＴＯを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。
【実施例２】
【００６０】
クッション層３の硬化条件が４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射で行った以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルム１を形成した。
【実施例３】
【００６１】
クッション層３の硬化条件が８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射で行った以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルム１を形成した。
【００６２】
［比較例１］
クッション層３の硬化条件が４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射を行い、完全硬化させ、クッション性を消失させた以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルム１を形成した。
【００６３】
［比較例２］
まず、図２に示すように、透明導電性フィルム１の透明基材２は、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用いた。
【００６４】
次に、透明基材２上の一方の面にハードコート層４を形成した。ハードコート層４は、日本合成化学社製、商品名「１７００Ｂ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー１８４を３重量部、チバスペシャルティケミカルズ社製、ダロキュアーＴＰＯを２重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚１５μｍになるように塗布、乾燥させ、４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して形成した。
【００６５】
透明基材２のもう一方の面（ハードコート層４とは反対の面）に、第１の透明導電膜５を形成した。第１の透明導電膜５は、酸化インジウムと酸化錫との混合酸化物であるＩＴＯを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。
【００６６】
以上の実施例及び比較例について、図３に示すように、タッチパネル１０を形成して、ペン書き耐久性の評価を行った。ペン書きのペン９には、ポリアセタールからなるペン先半径０．８ｍｍのタッチペンを用いて、ハードコート層４の上面から、プロッターにより２２０ｇ加重して、アからンまでのカタカナ文字を１０万字の筆記を行った。その結果を表１に示す。
【００６７】
【表１】
2009181881.tif 000003
【００６８】
表１の実施例と比較例とを対比すると、クッション性のある層を有する実施例１〜３の透明導電性フィルム１はペン書き耐久性に優れているとともにペン９での書き心地を向上することができた。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルムを示す概略断面図である。
【図２】比較例の透明導電性フィルムを示す概略断面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るタッチパネルを示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００７０】
１  透明導電性フィルム
２  透明基材
３  クッション層
４  ハードコート層
５  第１の透明導電膜
６  第２の透明導電膜
７  基板
８  スペーサ
９  ペン
１０  タッチパネル
【図１】
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【図２】
2009181881.tif 000005
【図３】
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