(57)【要約】【課題】中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布することができる塗布装置を提供する。【解決手段】本発明の塗布装置１は、中心開口部２ａを有する被処理基板２の両主面に塗液を塗布する塗布装置であって、被処理基板２を、その中心開口部２ａを閉塞して保持するチャッキング部１１を有する回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、これを被処理基板２の一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の旋回駆動機構１７と、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８と、これを被処理基板３の他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の旋回駆動機構３１と、第１の塗液噴出口２３における塗液の噴出量と、第２の塗液噴出口２９における塗液の噴出量を独立に制御する機能を有する。【選択図】図３
2009070507.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心開口部を有する被処理基板の両主面に塗液を供給し、前記被処理基板を回転操作して前記塗液を両主面に拡げることにより前記被処理基板の両主面に塗膜を形成する両面塗布装置であって、
前記被処理基板をその中心開口部を介して保持する保持機構を有し、前記被処理基板をその周回りに回転させる回転駆動機構と、
前記被処理基板の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズルと、この第１の塗液用ノズルを、その塗液噴出口が前記被処理基板の一方の主面と離間しつつ、この一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の塗液用ノズル移動機構と、
前記被処理基板の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズルと、この第２の塗液用ノズルを、その塗液噴出口が前記被処理基板の他方の主面と離間しつつ、この他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の塗液用ノズル移動機構とを備え、
前記第１の塗液用ノズル移動機構により移動操作される第１の塗液用ノズルと、前記第２の塗液用ノズル移動機構により移動操作される第２の塗液用ノズルが、いずれも、前記保持機構に保持された被処理基板の中心開口部には塗液を噴出せず、同被処理基板の内周縁よりも外側にのみ塗液を噴出自在にしてなることを特徴とする両面塗布装置。
【請求項２】
中心開口部を有する被処理基板の両主面に塗液を供給し、前記被処理基板を回転操作して前記塗液を両主面に拡げることにより前記被処理基板の両主面に塗膜を形成する両面塗布装置であって、
前記被処理基板をその中心開口部を介して保持する保持機構を有し、前記被処理基板をその周回りに回転させる回転駆動機構と、
前記被処理基板の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズルと、この第１の塗液用ノズルを、その塗液噴出口が前記被処理基板の一方の主面と離間しつつ、この一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の塗液用ノズル移動機構と、
前記被処理基板の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズルと、この第２の塗液用ノズルを、その塗液噴出口が前記被処理基板の他方の主面と離間しつつ、この他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の塗液用ノズル移動機構とを備え、
前記第１の塗液用ノズルに隣接させて前記被処理基板に塗布された塗液を洗浄する第１のリンス液用ノズルと、前記第２の塗液用ノズルに隣接させて前記被処理基板に塗布された塗液を洗浄する第２のリンス液用ノズルを設け、
これら第１のリンス液用ノズルと第２のリンス液用ノズルを前記被処理基板の一方の主面あるいは他方の主面に沿って移動自在に設け、これら第１のリンス液用ノズルと第２のリンス液用ノズルによるリンス液の噴出により、被処理基板上の塗膜を部分的に洗浄除去する機能を具備したことを特徴とする両面塗布装置。
【請求項３】
前記保持機構が前記被処理基板を保持した状態において該被処理基板の中心開口部を閉塞して中心開口部への塗液の進入を防止する機能を具備したことを特徴とする請求項１または２に記載の両面塗布装置。
【請求項４】
前記第１のリンス液用ノズルの先端を前記保持機構に保持された被処理基板の一方の主面に対峙させた状態でリンス液噴出口を介して前記被処理基板の一方の主面の外周縁側に向けて斜め方向にリンス液を噴出自在に構成し、前記第２のリンス液用ノズルを前記保持機構に保持された被処理基板の他方の主面に対峙させた状態でリンス液噴出口を介して前記被処理基板の他方の主面の外周縁側に向けて斜め方向にリンス液を噴出自在に構成したことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の両面塗布装置。
【請求項５】
前記第１の塗液用ノズルを支持する第１のノズル旋回アームと、前記第２の塗液用ノズルを支持する第２のノズル旋回アームを前記保持機構の周囲に個別に設け、各旋回アームの前記被処理基板と平行な面に沿う旋回動作に応じて前記第１の塗布用ノズルと前記第２の塗布用ノズルをそれらの塗液噴出口を前記被処理基板の各主面に対峙させて移動自在に支持してなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の両面塗布装置。
【請求項６】
前記第１のノズル旋回アームと前記第２のノズル旋回アームを前記保持機構を中心として左右対象に配置し、前記第１のノズル旋回アームの塗液噴出口と前記第２のノズル旋回アームの塗液噴出口を各自独立に前記被処理基板の中心開口部側の内周縁側から前記被処理基板の外周縁側まで移動自在に支持してなることを特徴とする請求項５に記載の両面塗布装置。
【請求項７】
中心開口部を有する被処理基板の両主面に塗液を供給し、前記被処理基板を回転操作して前記塗液を両主面に拡げることにより前記被処理基板の両主面に塗膜を形成する両面塗布方法であって、
前記被処理基板を水平に保持し、前記被処理基板の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズルと、前記被処理基板の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズルを用い、前記被処理基板の両主面に塗液を噴出させ、前記被処理基板を回転させて被処理基板の両主面に塗膜を形成した後、
前記被処理基板の一方の主面にリンス液を噴出する第１のリンス液用ノズルと、前記被処理基板の他方の主面にリンス液を噴出する第２のリンス液用ノズルを用い、前記被処理基板の外周縁側に形成されている塗膜の厚い部分にリンス液を噴出させ、前記被処理基板を回転させて該塗膜の厚い部分を部分的にリンス液とともに除去して膜厚を均一化することを特徴とする塗液の両面塗布方法。
【請求項８】
前記第１のリンス液用ノズルのリンス液噴出口と前記第２のリンス液用ノズルのリンス液噴出口をいずれも前記被処理基板の外周縁側よりも内周側に配置した状態において、リンス液を被処理基板の内周側から外周縁側に向けて斜め方向に噴出して前記塗膜にリンス液を吹き付けた後、前記被処理基板を回転させて該被処理基板外周縁側の塗膜の厚い部分を部分的に除去することを特徴とする請求項７に記載の塗液の両面塗布方法。
【請求項９】
前記被処理基板を水平に保持する際、被処理基板の中心開口部を閉塞して塗液の浸入を阻止した後、前記第１の塗液用ノズルと第２の塗液用ノズルを用いて塗液を噴出することを特徴とする請求項７または請求項８に記載の塗液の両面塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置及び塗液の両面塗布方法に関し、特に、中心開口部を有する基板の両主面に塗液を塗布するのに好適な両面塗布装置と塗液の両面塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク装置、フレキシブルディスク装置、磁気テープ装置等の磁気記録装置の適用範囲は著しく増大されその重要性が増すと共に、これらの装置に用いられる磁気記録媒体について、その記録密度の著しい向上が図られつつある。特にＭＲ（Magneto-Resistive）ヘッド、およびＰＲＭＬ（Partial Response Maximum Likelihood）技術の導入以来、磁気記録媒体の面記録密度の上昇はさらに激しさを増し、近年ではさらにＧＭＲ（Giant Magneto-Resistive）ヘッド、ＴＭＲ（Tunnel Magneto-Resistive）ヘッドなども導入され、１年に約１００％ものペースで増加を続けている。これらの磁気記録媒体については、今後更に高記録密度を達成することが要求されており、そのために磁気記録層の高保磁力化と高信号対雑音比（ＳＮＲ）、高分解能を達成することが要求されている。また、近年では線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようとする努力も続けられている。
【０００３】
最新の磁気記録装置においてはトラック密度が１１０ｋＴＰＩにも達している。しかし、トラック密度を上げていくと、隣接するトラック間の磁気記録情報が互いに干渉し合い、その境界領域の磁化遷移領域がノイズ源となりＳＮＲを損なうという問題が生じやすくなる。このことはそのままビットエラーレート（Bit Error rate）の低下につながるため、磁気記録媒体における磁気記録密度向上に対して障害となっている。
【０００４】
面記録密度をこれまで以上に上昇させるためには、磁気記録媒体上の各記録ビットのサイズをより微細なものとし、各記録ビットに可能な限り大きな飽和磁化と磁性膜厚を確保する必要がある。しかし、記録ビットを微細化していくと、１ビット当たりの磁化最小体積が小さくなり、熱揺らぎによる磁化反転で記録データが消失するという問題が生じる。
また、トラック間距離が近づくために、磁気記録装置は極めて高精度のトラックサーボ技術を要求されると同時に、記録を幅広く実行し、再生は隣接トラックからの影響をできるだけ排除するために、記録時よりも狭く実行する方法が一般的に用いられている。この方法ではトラック間の影響を最小限に抑えることができる反面、再生出力を十分得ることが困難であり、そのために十分にＳＮＲを確保することが難しいという問題がある。
【０００５】
このような熱揺らぎの問題やＳＮＲの確保、あるいは十分な出力確保を達成する方法の一つとして、磁気記録媒体の表面にトラックに沿った凹凸を形成し、記録トラック同士を物理的に分離することによってトラック密度を上げようとする試みがなされている。このような技術を以下にディスクリートトラック法、それによって製造された磁気記録媒体をディスクリートトラック媒体と称する。
【０００６】
ディスクリートトラック媒体の一例として、表面に凹凸パターンを形成した非磁性基板に磁気記録媒体を形成して、物理的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成してなる磁気記録媒体が知られている(例えば、特許文献１参照)。
この磁気記録媒体は、表面に複数の凹凸のある基板の表面に軟磁性層を介して強磁性層が形成されており、その表面に保護膜を形成したものである。この磁気記録媒体では、凸部領域に周囲と物理的に分離された磁気記録領域が形成されている。
この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため熱揺らぎの影響が出にくく、隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされている。
【０００７】
ディスクリートトラック法には、何層かの薄膜からなる磁気記録媒体を形成した後にトラックを形成する方法と、予め基板表面に直接、あるいはトラック形成のための薄膜層に凹凸パターンを形成した後に、磁気記録媒体の薄膜形成を行う方法とがある（例えば、特許文献２、特許文献３参照。）。このうち、前者の方法が、磁気層加工型とよばれ、表面に対する物理的加工が媒体形成後に実施されるため、媒体が製造工程において汚染されやすいという欠点があり、かつ製造工程が極めて複雑であった。
一方で、後者の方法は、エンボス加工型と呼ばれ、製造工程中の汚染は発生し難いが、基板に形成された凹凸形状が、成膜後の膜にも引き継がれることになるため、磁気記録媒体上を浮上しながら記録再生を行う記録再生ヘッドの浮上姿勢、浮上高さが安定しないという問題点がある。
また、基板にコーティングを施す装置として、円盤状の基板を垂直面に沿って保持しながらその周回りに回転させるとともに、液体材料を収容したコーティング容器に対し回転中の基板を上下させて基板を液体材料に浸漬し、液体材料から基板を引き上げ、該基板に付着した余分な液体材料を基板の回転により振り落として均一化することができる装置が知られている（特許文献４参照）。
更に、レジスト塗布装置として、円盤状のウエハの外周部を爪により把持して水平な面内で回転自在に保持し、該基板の上方と下方に個別にノズルを配置して回転している基板の上下両面にレジストの塗布ができる装置が知られている（特許文献５参照）。また、この例のレジストの塗布装置では、ウエハの回転によりレジスト液の振り切りを行うことが開示されている。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−１６４６９２号公報
【特許文献２】特開２００４−１７８７９３号公報
【特許文献３】特開２００４−１９８７９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本願発明者らが、ディスクリートトラック法における以上のような問題点を解消すべく検討を重ねた結果、磁性層を形成した後に、磁気記録トラック及びサーボ信号パターン（磁気記録パターン）以外の領域を反応性プラズマに曝すことにより、磁気記録トラック同士を磁気的に分離可能である、との知見を得ている。
即ち、この方法では、具体的には磁性層の全面にレジストを塗布し、このレジスト層を磁気記録パターンに対応するようにパターニングした後、磁性層を反応性プラズマにさらす。これにより、磁性層のレジスト層が形成されていない領域の磁気特性が改質され、磁性層の磁気記録トラック同士が磁気的に分離される。
【００１０】
本発明者らが研究しているこの方法では、凹凸加工を行っていないので、凹凸加工に起因する媒体の汚染を回避しつつ、簡易な工程でディスクリートトラック媒体を製造することができる。また、得られたディスクリートトラック媒体は、凹凸を有していないので、浮上型ヘッドを安定に浮上走行させることができる。
【００１１】
ところで、先に説明した方法では、前述のように磁性層の全面にレジストを塗布する工程を行う必要がある。
ここで、例えば、磁気ディスク装置で用いられる磁気記録媒体（磁気ディスク）では、両面に磁性層が形成されることから、レジストも両面に塗布することになる。しかし、例えば半導体プロセス等で汎用されている従来のレジストの塗布装置は、レジストを、片面にのみ塗布するように構成されているため、この塗布装置を用いて基板の両面にレジストを塗布しようとすると、同じレジストの塗布工程を２回繰り返し行うことになる。このため、工程数が多くなり、また、レジストの塗布工程に要する時間が長くなるという不都合が生じる。
【００１２】
また、磁気ディスクは、その中心部に、磁気ディスク装置へのチャッキングに使用される中心開口部を有しており、この中心開口部にレジストのような異物が残存していると、チャッキング位置が不正確になり、磁気ディスク自体やチャッキング装置が汚染されてしまう。しかし、前述した従来の塗布装置は、単にディスク基板の表面全域にレジストを塗布するように構成されているため、従来の塗布装置を用いてディスク基板にレジストを塗布すると、中心開口部にもレジストが侵入してしまう。この結果、後工程において中心開口部に塗布されたレジストが除去しきれず、得られる磁気ディスクの中心開口部にレジストが残存するおそれがある。
この点に鑑み、先の特許文献４に記載されたコーティング装置にあっては、基板の両面に同時に液体材料を塗布できるものの、垂直面に沿って支持した基板を液体材料に対し上下させて浸漬する機構であるため、基板中心開口部にも液体材料を塗布してしまうおそれが高い装置であった。また、先の特許文献５に記載されたレジスト塗布装置にあっても、基板の上下両面にレジスト液を塗布できるものの、中心開口部を有していない半導体ウエハを適用対象とした塗布装置であり、中心開口部を有する基板へのレジスト液の塗布の際の上述の問題については何等配慮されていない。
【００１３】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、その主な目的は、中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布し、塗膜を形成することができる両面塗布装置及び両面塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の課題を解決するため、本願発明者は鋭意研究した結果、本願発明に到達した。
（１）本発明の両面塗布装置は、中心開口部を有する被処理基板の両主面に塗液を供給し、前記被処理基板を回転操作して前記塗液を両主面に拡げることにより前記被処理基板の両主面に塗膜を形成する両面塗布装置であって、前記被処理基板をその中心開口部を介して保持する保持機構を有し、前記被処理基板をその周回りに回転させる回転駆動機構と、前記被処理基板の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズルと、この第１の塗液用ノズルを、その塗液噴出口が前記被処理基板の一方の主面と離間しつつ、この一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の塗液用ノズル移動機構と、前記被処理基板の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズルと、この第２の塗液用ノズルを、その塗液噴出口が前記被処理基板の他方の主面と離間しつつ、この他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の塗液用ノズル移動機構とを備え、前記第１の塗液用ノズル移動機構により移動操作される第１の塗液用ノズルと、前記第２の塗液用ノズル移動機構により移動操作される第２の塗液用ノズルが、いずれも、前記保持機構に保持された被処理基板の中心開口部には塗液を噴出せず、同被処理基板の内周縁よりも外側にのみ塗液を噴出自在にしてなることを特徴とする。
【００１５】
（２）本発明の両面塗布装置は、中心開口部を有する被処理基板の両主面に塗液を供給し、前記被処理基板を回転操作して前記塗液を両主面に拡げることにより前記被処理基板の両主面に塗膜を形成する両面塗布装置であって、前記被処理基板をその中心開口部を介して保持する保持機構を有し、前記被処理基板をその周回りに回転させる回転駆動機構と、前記被処理基板の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズルと、この第１の塗液用ノズルを、その塗液噴出口が前記被処理基板の一方の主面と離間しつつ、この一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の塗液用ノズル移動機構と、前記被処理基板の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズルと、この第２の塗液用ノズルを、その塗液噴出口が前記被処理基板の他方の主面と離間しつつ、この他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の塗液用ノズル移動機構とを備え、前記第１の塗液用ノズルに隣接させて前記被処理基板に塗布された塗液を洗浄する第１のリンス液用ノズルと、前記第２の塗液用ノズルに隣接させて前記被処理基板に塗布された塗液を洗浄する第２のリンス液用ノズルを設け、これら第１のリンス液用ノズルと第２のリンス液用ノズルを前記被処理基板の一方の主面あるいは他方の主面に沿って移動自在に設け、これら第１のリンス液用ノズルと第２のリンス液用ノズルによるリンス液の噴出により、被処理基板上の塗膜を部分的に洗浄除去する機能を具備したことを特徴とする。
（３）本発明の両面塗布装置は、（１）または（２）に記載の保持機構が前記被処理基板を保持した状態において該被処理基板の中心開口部を閉塞して中心開口部への塗液の進入を防止する機能を具備したことを特徴とする。
【００１６】
（４）本発明の両面塗布装置は、前記第１のリンス液用ノズルの先端を前記保持機構に保持された被処理基板の一方の主面に対峙させた状態でリンス液噴出口を介して前記被処理基板の一方の主面の外周縁側に向けて斜め方向にリンス液を噴出自在に構成し、前記第２のリンス液用ノズルを前記保持機構に保持された被処理基板の他方の主面に対峙させた状態でリンス液噴出口を介して前記被処理基板の他方の主面の外周縁側に向けて斜め方向にリンス液を噴出自在に構成したことを特徴とする。
（５）本発明の両面塗布装置は、（１）〜（４）のいずれかに記載の第１の塗液用ノズルを支持する第１のノズル旋回アームと、前記第２の塗液用ノズルを支持する第２のノズル旋回アームを前記保持機構の周囲に個別に設け、各旋回アームの前記被処理基板と平行な面に沿う旋回動作に応じて前記第１の塗布用ノズルと前記第２の塗布用ノズルをそれらの塗液噴出口を前記被処理基板の各主面に対峙させて移動自在に支持してなることを特徴とする。
（６）本発明の両面塗布装置は、前記第１のノズル旋回アームと前記第２のノズル旋回アームを前記保持機構を中心として左右対象に配置し、前記第１のノズル旋回アームの塗液噴出口と前記第２のノズル旋回アームの塗液噴出口を各自独立に前記被処理基板の中心開口部側の内周縁側から前記被処理基板の外周縁側まで移動自在に支持してなることを特徴とする。
（７）本発明の塗液の両面塗布方法は、中心開口部を有する被処理基板の両主面に塗液を供給し、前記被処理基板を回転操作して前記塗液を両主面に拡げることにより前記被処理基板の両主面に塗膜を形成する両面塗布方法であって、前記被処理基板を水平に保持し、前記被処理基板の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズルと、前記被処理基板の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズルを用い、前記被処理基板の両主面に塗液を噴出させ、前記被処理基板を回転させて被処理基板の両主面に塗膜を形成した後、前記被処理基板の一方の主面にリンス液を噴出する第１のリンス液用ノズルと、前記被処理基板の他方の主面にリンス液を噴出する第２のリンス液用ノズルを用い、前記被処理基板の外周縁側に形成されている塗膜の厚い部分にリンス液を噴出させ、前記被処理基板を回転させて該塗膜の厚い部分を部分的にリンス液とともに除去して膜厚を均一化することを特徴とする。
（８）本発明の塗液の両面塗布方法は、（７）に記載の第１のリンス液用ノズルのリンス液噴出口と前記第２のリンス液用ノズルのリンス液噴出口をいずれも前記被処理基板の外周縁側よりも内周側に配置した状態において、リンス液を被処理基板の内周側から外周縁側に向けて斜め方向に噴出して前記塗膜にリンス液を吹き付けた後、前記被処理基板を回転させて該被処理基板外周縁側の塗膜の厚い部分を部分的に除去することを特徴とする。
（９）本発明の塗液の両面塗布方法は、前記被処理基板を水平に保持する際、被処理基板の中心開口部を閉塞して塗液の浸入を阻止した後、前記第１の塗液用ノズルと第２の塗液用ノズルを用いて塗液を噴出することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、塗布装置が、一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズルと、他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズルとを備えることにより、被処理基板の両主面に同時に塗液を供給することができるので、被処理基板の一方の主面に塗液を供給した後、他方の主面に塗液を供給する必要があった従来装置に比べて、被処理基板の両方の主面に、簡易な工程で、短時間に塗液を塗布し、塗膜を形成することができる。
【００１８】
第１、第２の塗液用ノズルに加えて第１、第２のリンス液用ノズルを備えることにより、被処理基板の両面に塗液を噴出して塗膜を形成後、第１、第２のリンス液用ノズルから塗膜上にリンス液を噴出して塗膜の一部を洗い流し、塗膜形成後にその厚みを部分的に調整することができる。
被処理基板に噴出する塗液として粘性の高い塗液を用いた場合、被処理基板の回転後に生成される塗膜は被処理基板の外周縁側が厚く形成される傾向がある。この場合、被処理基板の外周縁側に第１、第２のリンス液用ノズルからリンス液を噴出させて被処理基板を回転させることにより、被処理基板の外周縁側の塗膜を部分的に除去することができるので、内周側から外周側まで均一な厚さの塗膜を得ることができる。
【００１９】
また、本発明の塗布装置では、被処理基板を保持す保持機構が、被処理基板の中心開口部を閉塞する機能を有しているので、塗液を塗布した時、被処理基板の中心開口部に塗液が侵入するのを防止でき、中心開口部を避けてレジスト層などの塗膜を形成することができる。
従って、被処理基板として磁気記録媒体の非磁性基板に適用した場合、得られた磁気記録媒体は、記録再生装置のチャッキング装置を中心開口部に係合させてチャッキングした際、正確な位置にチャッキングすることができ、中心開口部に残存したレジストに起因するチャッキング装置等の汚染を回避することができる。また、記録密度が向上していて磁気記録トラックが微細化されている磁気記録媒体にあっても正確なチャッキングができることで、磁気情報の良好な読出精度を確保できる磁気記録媒体の提供に寄与する。
【００２０】
本発明の両面塗布方法によれば、被処理基板の一方の面と他方の面に第１の塗液用ノズルと第２の塗液用ノズルにより別々に塗液を噴出した後、第１のリンス液用ノズルと第２のリンス液用ノズルによって被処理基板の両面にリンス液を吹き付けて被処理基板を回転することにより、塗液の噴出と被処理基板の回転により形成した塗膜において必要以上に厚い部分が生じた場合であっても、塗膜の厚い部分にリンス液を噴出した後に被処理基板を回転させて塗膜の厚い部分を両面同時に除去できるので、被処理基板の両面に均一な膜厚の塗膜を形成できる。
被処理基板を回転させて塗膜を形成する場合、リンス液を被処理基板の内周側から外周側に向けて斜め方向に噴出して塗膜の厚い部分に効果的にリンス液を吹き付けることができ、被処理基板の内周側にリンス液を到達させることなく、外周側に集中的に供給できるので、粘性の高い塗液を用いて被処理基板を回転させて塗膜とした場合、外周側に生成し易い厚い塗膜を部分的に除去して塗膜の均一化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
次に、本発明の両面塗布装置について、図面を参照しながら詳細に説明する。
＜ディスクリート型磁気記録媒体の構成＞
本発明の両面塗布装置を用いて塗膜が形成される被処理基板の一例としてのディスクリート型磁気記録媒体の一例について説明する。図１６にディスクリート型磁気記録媒体の断面構造を例示する。
この磁気記録媒体１００は、中心開口部１０１ａを有する非磁性基板１０１の両方の主面（上面と下面）に、それぞれ、軟磁性層、中間層などを含む複層構造の下地層１０２と、磁気的パターンが形成された磁性層１０３と、改質部１０４と、保護膜１０５が形成されており、さらに最表面に図示略の潤滑膜が形成された構造を有している。
なお、図１６においては非磁性基板１０１の厚さより、下地層１０２、磁性層１０３、改質部１０４、保護膜１０５の厚さをそれぞれ誇張して大きく記載しているが、実際の積層構造において非磁性基板１０１の厚さがこれらの層や膜より遙かに厚いことは勿論であり、図１６においてはこれらの層や膜を見易くするために誇張して実際より厚く記載している。
【００２２】
磁気記録媒体１００においては記録密度を高めるため、磁気的パターンを有する磁性層１０３の磁性部の幅Ｗは２００ｎｍ以下、改質部１０４である非磁性部の幅Ｌは１００ｎｍ以下とすることが好ましい。従ってトラックピッチＰ（＝Ｗ＋Ｌ）は３００ｎｍ以下の範囲で、記録密度を高めるためにはできるだけ狭くする。
【００２３】
本発明で使用する非磁性基板１０１としては、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂からなる基板など、非磁性基板であれば任意のものを用いることができる。中でもＡｌ合金基板や結晶化ガラス等のガラス製基板またはシリコン基板を用いることが好ましい。またこれら基板の平均表面粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以下、さらには０．５ｎｍ以下であることが好ましく、中でも０．１ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２４】
上記のような非磁性基板１０１の表面に形成される磁性層１０３は、面内磁気記録層でも垂直磁気記録層でもかまわないがより高い記録密度を実現するためには垂直磁気記録層が好ましい。これら磁気記録層は主としてＣｏを主成分とする合金から形成するのが好ましい。
例えば、面相磁気記録媒体用の磁気記録層としては、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層からなる積層構造が利用できる。
垂直磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢなど）等からなる裏打ち層と、Ｐｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどの配向制御膜と、必要によりＲｕ等の中間膜、及び６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金からなる磁性層を積層したものを利用することができる。
【００２５】
磁気記録層の厚さは、例えば３ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とする。磁気記録層は使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成すればよい。磁性層１０３の膜厚は再生の際に一定以上の出力を得るにはある程度以上の磁性層膜厚が必要であり、一方で記録再生特性を表す諸パラメータは出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、最適な膜厚に設定する必要がある。
【００２６】
本実施形態において、磁気記録トラック及びサーボ信号パターン部に相当する磁性層１０３以外の領域の磁気特性が改質されて非磁性部である改質部１０４とされており、これら磁気記録パターンが改質部１０４により磁気的に分離されている。これにより、隣接する磁性層１０３の磁気記録パターン間の信号干渉が防止される。
磁性層１０３の磁気特性の改質とは、具体的には、基板上に均一膜として形成した磁性層の保磁力、残留磁化等を部分的に変化させることを指し、その変化の一例として、保磁力を下げ、残留磁化を下げることを指す。このような磁気特性の改質は、一例として、非磁性基板上に均一成膜した磁性層の磁気記録パターン以外の領域を、後述する反応性プラズマに曝すことによってなすことができ、反応性プラズマに曝した部分が改質部１０４とされる。
ところで、改質方法の一例として、スタンパなどにより版押しして凹凸を形成し、磁性膜の一部をパターン化して磁気記録パターンと改質部に物理的に区分けする方法により得られるディスクリートトラック媒体用の被処理基板に本発明の両面塗布装置を適用できるのは勿論であるので、先に説明した磁気記録媒体１００は本発明の両面塗布装置を適用することができる被処理基板の一例として説明している。
【００２７】
保護膜１０５としては、炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨｘＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アモルファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層やＳｉＯ２、Ｚｒ２Ｏ３、ＴｉＮなど、通常用いられている保護膜材料を用いることができる。また、保護膜１０５が２層以上の層から構成されていてもよい。
保護膜１０５の膜厚は１０ｎｍ未満とすることが好ましい。保護膜１０５の膜厚が１０ｎｍを越えるとヘッドと磁性層１０３との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなるおそれがある。
保護膜１０５の上には適宜潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられ、通常１〜４ｎｍの厚さで潤滑層を形成する。
【００２８】
この一例としての磁気記録媒体１００であるならば、磁性層１０３の磁気記録パターン以外の領域の磁気特性が改質されて改質部１０４とされていることにより、磁気記録パターンが磁気的に確実に分離され、隣接パターン間の信号干渉の影響を受けず、優れた高記録密度特性を得ることができる。また、この例の磁気記録媒体１００であれば、基板上に凹凸を形成していないので表面の平滑性に優れ、磁気ヘッドの低浮上化を実現することができる。
【００２９】
＜両面塗布装置の構成＞
次に、本発明の両面塗布装置の一実施形態について説明する。
図１は、本発明の塗布装置の全体構成を示すもので、一の方向から見た部分断面図、図２は同塗布装置の全体構成を他の方向から見た部分断面図、図３（Ａ）は塗布装置の主要部を示す上面図、図３（Ｂ）は塗布装置の主要部を模式的に示す縦断面図、図４は、塗布装置が備える収納カップ開閉機構を示す上面図、図５は、塗布装置が備える収納カップ開閉機構を模式的に示す縦断面図である。
図１〜図３に示すように、本発明の両面塗布装置１は、ドーナツ円盤状の被処理基板２を保持して回転駆動するための回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の面に液材を供給するための第１の塗液供給手段４と、被処理基板２の他方の面に塗液を供給するための第２の塗液供給手段５と、回転駆動機構３に保持された被処理基板２を収納するための被処理基板収納部６とを有しており、これら各部は、装置本体外壁を構成する金属材よりなる筐体内７に配設されている。
【００３０】
回転駆動機構３は、図３に拡大して示すようにスピンドルモータ８と、このスピンドルモータ８の駆動軸であるスピンドル軸９の先端に取り付けられたプーリ１０と、被処理基板２を保持するチャッキング部（保持機構）１１が設けられた回転軸１２と、回転軸１２の下端側に取り付けられたプーリ１３を具備して構成されている。プーリ１０とプーリ１３はベルト１４を介して連動するように構成されている。
被処理基板１のためのチャッキング部（保持機構）１１は、回転軸１２の上端に一体的に設けられていて、水平向きとした被処理基板２の中心開口部２ａを嵌め込み固定できる構成とされている。このチャッキング部１１は回転軸１２の上端部に設けられて被処理基板２の中心開口部２ａを嵌め込む受部１１ａと、その受部１１ａの上端に形成されているネジ軸にねじ込まれて螺合されているナット部１１ｂとを具備してなる。このチャッキング部１１では、受部１１ａに被処理基板２の中心開口部２ａを嵌め込み挿通させ、ナット部１１ｂをネジ締めすることにより、被処理基板２を水平に固定し、被処理基板２を回転軸１２とともに一体に回転できるように構成されている。また、チャッキング部１１の受部１１ａに装着された状態において被処理基板２の中心開口部２ａが受部１１ａにより閉塞された状態になる。
回転軸１２のチャッキング部１１の下方には、後述するエアの流れを制御する傘型のエア制御部１５が回転軸１２に設けられている。エア制御部１５は、回転軸１２の外周面に沿って張り出すように設けられ、下方にポケット１５ａが形成されるように傘型をなしている。
【００３１】
以上のように構成された回転駆動機構３では、スピンドルモータ８が駆動されることによってプーリ１０が回転駆動されると、その回転がベルト１４を介してプーリ１３に伝達され、回転軸１２が水平回りに回転駆動される。回転軸１２が回転駆動されることにより、回転軸１２に保持された被処理基板２が、スピンドルモータ８の回転方向および回転数に応じて水平回りに回転操作されるようになっている。
【００３２】
第１の塗液供給手段４は、図３（Ａ）中矢印Ａ１方向および矢印Ｂ１方向に旋回自在に設けられた第１のノズル旋回アーム１６と、第１のノズル旋回アーム１６を旋回駆動する第１の旋回駆動機構（第１の塗液用ノズル移動機構）１７と、第１のノズル旋回アーム１６の左右両側に取り付けられた第１の塗液用ノズル１８及び第１のリンス液用ノズル１９と、第１の塗液用ノズル１８に塗液を供給する第１の塗液供給手段２０（図１参照）と、第１のリンス液用ノズル１９にリンス液を供給する第１のリンス液供給手段２１（図１参照）とを有する。
【００３３】
第１のノズル旋回アーム１６は、帯板状に形成され、この第１のノズル旋回用アーム１６の左右両側に第１の塗液用ノズル１８と第１のリンス液用ノズル１９が配置されている。図３（Ｂ）に詳細に示すように、第１のノズル旋回アーム１６の先端部は、下方に屈曲され、その先端部側に、第１の塗液用ノズル１８及び第１のリンス液用ノズル１９を支持するためのノズル取付部が設けられている。後述する第１の塗液供給手段２０および第１のリンス液供給手段２１によって供給される塗液やリンス液は、各ノズル１８、１９に供給される。
第１の塗液用ノズル１８及び第１のリンス液用ノズル１９の先端側は、それぞれ、チャック部１１に水平支持した状態の被処理基板２の上面の高さ位置より若干上方の位置となるように第１のノズル旋回アーム１６に取り付けられている。第１の塗液用ノズル１８及び第１のリンス液用ノズル１９は、パイプ状に構成されている。
【００３４】
図３（Ａ）に示すように第１の塗液用ノズル１８は、平面視した状態において、第１のノズル旋回アーム１６から少し先に突き出た部分から鈍角をなすように水平面に沿って折り曲げられ、その先端部１８ａが図３（Ａ）に示す第１の塗液用ノズル１８の１つの旋回位置において被処理基板２の円状の中心開口部２ａの周縁に外接するように延出され、第１の塗液用ノズル１８の先端は図３（Ｂ）に示すように更に略９０゜下向きに折り曲げられていて、この第１の塗液用ノズル１８の先端開口が、被処理基板２の上面に向いて下向きに塗液を噴出する第１の塗液噴出口２３を構成する。この第１の塗液噴出口２３は、第１の塗液噴出口２３を被処理基板２の上面直上に位置させたとき、被処理基板２の上面と所定距離離間して対峙される。
【００３５】
図３（Ａ）に示すように第１のリンス液用ノズル１９は、先の第１の塗液用ノズル１８と同じように第１のノズル旋回アーム１６に装着されている。また、第１のリンス液用ノズル１９は、第１のノズル旋回アーム１６から少し先に突き出た部分から鈍角をなすように水平面に沿って折り曲げられ、先の第１の塗液用ノズル１８とほぼ平行に同じ向きに延出されている。また、第１のリンス液用ノズル１９の先端は、先の第１の塗液用ノズル１８の先端部１８ａが図３（Ａ）に示す如く被処理基板２の円状の中心開口部２ａの周縁に外接した位置において、被処理基板２の半径の中央部側の上面中央位置に配置されるとともに、その先端開口２４の向きを被処理基板２の外周端側であって、第１の塗液用ノズル１８側に向くようにして、折り曲げられている。この第１のリンス液用ノズル１９の先端開口２４は、被処理基板２の一方の主面（上面）の外周縁部にリンス液を噴出する第１のリンス液噴出口２４を構成する。
【００３６】
第１の旋回駆動機構１７は、第１の駆動モータ２５と、第１の駆動モータ２５の駆動軸の先端に取り付けられた第１の旋回支軸２２とを有する。第１の旋回支軸２２の上端には、第１のノズル旋回アーム１６の基端部が取り付けられている。この第１のノズル旋回アーム１６は水平面に沿って旋回し、先の第１の塗液用ノズル１８と第１のリンス液用ノズル１９とを水平方向に旋回させながら各ノズルを被処理基板２に対して接近させるか離間させる。即ち、第１の駆動モータ２５が駆動されることにより第１の旋回支軸２２が旋回駆動されると、第１のノズル旋回アーム１６は、第１の駆動モータ２５の回転方向に応じて図２中矢印Ａ１方向あるいはＢ１方向に旋回操作される。
ここで、第１のノズル旋回アーム１６の長さ及び屈曲位置、旋回支軸２２の長さは、第１の塗液噴出口２３及び第１のリンス液噴出口２４と、被処理基板２の上面との離間距離が、適正範囲となるように設定されている。
【００３７】
第１の塗液供給手段２０は、塗液が貯留された塗液用加圧タンク５１と、その一端が第１の塗液用ノズル１８の基端部に接続され、他端が塗液用加圧タンク５１に接続された第１の塗液供給管５２と、この塗液供給管５２と塗液用加圧タンク５１との間に設けられた図示略の第１の塗液用バルブを具備し、図示略の制御部よってバルブの開閉が制御されるように構成されており、この第１の塗液用バルブの開閉操作により、第１の塗液噴出口２３からの塗液噴出量及び塗液噴出時間が制御される。
塗液としては、熱硬化型樹脂、ＵＶ硬化型樹脂、ＳＯＧ等の各種レジストを溶媒に溶解した溶液等が挙げられる。塗液の粘度は、０．５〜１ｃＰの範囲のものが好ましい。
【００３８】
リンス液供給手段２１は、リンス液が貯留されたリンス液用加圧タンク５３と、その一端が第１のリンス液用ノズル１９の基端部に接続され、他端がリンス液用加圧タンク５３に接続された第１のリンス液供給管５４と、この第１のリンス液供給管５４とリンス液用加圧タンク５３との間に設けられた図示略の第１のリンス液用バルブを有する。第１のリンス液用バルブは、図示略の制御部よって開閉が制御されるように構成されており、この第１のリンス液用バルブの開閉操作により、第１のリンス液噴出口２４からのリンス液噴出量及びリンス液噴出時間が制御される。
リンス液は、塗膜に供給されることにより、塗膜の一部を溶解除去して、その厚さを均一化する機能を有するものである。
リンス液としては、塗液を溶解し、且つ、塗液との反応性が低いものが用いられる。
【００３９】
以上のように構成された第１の塗液供給手段４では、第１の駆動モータ２５が駆動されると、第１のノズル旋回アーム１６が、第１の駆動モータ２５の回転方向に応じて図２中矢印Ａ１方向または矢印Ｂ１方向に旋回操作され、第１の塗液用ノズル１８の第１の塗液噴出口２３及び第１のリンス液用ノズル１９の第１のリンス液噴出口２４が、旋回支軸２２を中心に円弧状に水平移動して被処理基板２に対して接近するか離間する方向に移動するようになっている。
【００４０】
以上の構成により、第１の塗液噴出口２３は、後述する収納カップ３４から離れた第１の位置（初期位置）、被処理基板２の外周縁部の近傍である第２の位置（待機位置）、被処理基板２の上面の内周縁部の直上である第３の位置（塗布開始位置）、被処理基板２の上面の外周縁側の直上である第４の位置（塗布終了位置）の間を相互に移動する。また、第１のリンス液噴出口２４も、この第１の塗液噴出口２３の移動に追従して移動する。
【００４１】
第１の塗液噴出口２３が、被処理基板２の上面上にあるとき、第１の塗液用ノズル１８に塗液が供給されると、その塗液は第１の塗液噴出口２３から下向きに噴出され、被処理基板２の上面に供給される。
また、第１のリンス液噴出口２４が、図３（Ａ）、（Ｂ）に示す如く被処理基板２の上面上にあるとき、第１のリンス液用ノズル１９にリンス液が供給されると、そのリンス液は第１のリンス液噴出口２４から被処理基板２の外周縁部に向かって噴出され、被処理基板２の上面外周縁部に供給される。
【００４２】
第２の塗液供給手段５は、第２のノズル旋回アーム２６、第２の塗液用ノズル２８及び第２のリンス液用ノズル２７の構成が、先の第１のノズル旋回アーム１６、第１の塗液用ノズル１８及び第１のリンス液用ノズル１９と同等であり、第１の塗液供給手段４と同様の構成とされている。
即ち、第２の塗液供給手段５において、第２のノズル旋回アーム２６は、第１のノズル旋回アーム１６と同様に帯板状に形成されている。図３（Ｂ）に示すように、第２のノズル旋回アーム２６は、その途中で大きく下方に屈曲され、その先端側のノズル取付部に、第２の塗液用ノズル２８及び第２のリンス液用ノズル２７が支持されている。第２のノズル旋回アーム２６に取り付けられた各ノズル２７、２８は、被処理基板２の下面の高さ位置より若干下方側に延出配置されている。
【００４３】
第２の塗液用ノズル２８と第２のリンス液用ノズル２７は、先の第１の塗液供給手段４に設けられている第１の塗液用ノズル１８と第１のリンス液用ノズル１９と対象な向きに折り曲げられ、各々配置されている。
この形態の第２の塗液用ノズル２８の先端開口は、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液噴出口２９を構成する。この第２の塗液噴出口２９は、第２の塗液噴出口２９が被処理基板２の下面の直下にあるとき、被処理基板２の下面と所定距離離間して対峙する。第２のリンス液用ノズル２７の先端開口は、被処理基板２の下面外周縁部に向いてリンス液を噴出する第２のリンス液噴出口３０を構成する。この第２のリンス液噴出口３０は、第２のリンス液噴出口３０が、被処理基板の他方の主面の内周縁部の直下にあるとき、被処理基板２の他方の主面の外周縁部と、所定距離離間して対峙する。
【００４４】
第２の塗液供給手段５において、第２のノズル旋回アーム２６を旋回駆動する第２の旋回駆動機構（第２の塗液用ノズル移動機構）３１、第２の塗液用ノズル２８に塗液を供給する第２の塗液供給手段及び第２のリンス液供給手段２８にリンス液を供給する第２のリンス液供給手段は、それぞれ、第１の旋回駆動機構１７、第１の塗液供給手段２０及び第１のリンス液供給手段２１と同様の構成とされている。
以上のように構成された第２の塗液供給手段５では、第２の駆動モータ３２が駆動されると、第２のノズル旋回アーム２６が、第２の駆動モータ３２の駆動方向に応じて図２中矢印Ａ２方向または矢印Ｂ２方向に旋回操作され、第２の塗液用ノズル２８の第２の塗液噴出口２９及び第２のリンス液用ノズル２７の第２のリンス液噴出口３０が、旋回支軸３３を中心に円弧状に移動する。
【００４５】
以上により、第２の塗液噴出口２９は、後述する収納カップ３４から離れた第１´の位置（初期位置）、被処理基板２の外周縁部の近傍である第２´の位置（待機位置）、被処理基板２の下面の内周縁部の直下である第３´の位置（塗布開始位置）、被処理基板２の他方の主面の外周縁部の直下である第４´の位置（塗布終了位置）の間を相互に移動する。また、第２のリンス液噴出口３０も、この第２の塗液噴出口２９の移動に追従して移動する。
【００４６】
第２の塗液噴出口２９が、被処理基板２の下面直下にあるとき、第２の塗液用ノズル２８に塗液が供給されると、その塗液は第２の塗液噴出口２９から噴出され、被処理基板２の下面に供給される。
また、第２のリンス液噴出口３０が、被処理基板２の下面の内周縁部の直下にあるとき、第２のリンス液用ノズル２７にリンス液が供給されると、そのリンス液は第２のリンス液噴出口３０から噴出され、被処理基板２の下面の外周縁部に向いて供給される。
【００４７】
被処理基板収納部６は、塗液の塗布工程に際して、回転駆動機構３に保持された被処理基板２を収納する収納カップ３４と、収納カップ３４を昇降操作する収納カップ移動機構３５と、収納カップ３４の開放側を開閉する収納カップ開閉機構３６とを有する。
収納カップ３４は、ドーナツ円盤状の底部３７と、底部３７の外周縁に沿って設けられた側壁部３８とを有する。
底部３７の中心開口部には、回転駆動機構３の回転軸１２が挿通され、回転駆動機構３のチャッキング部１１及びエア制御部１５は底部３７より上方に位置されている。また、底部３７の内周縁部３７ａは、上方に屈曲し、回転軸１２との間に隙間ｄ１を形成している。収納カップ３４が後述する収納位置にあるとき、底部３７の内周縁部３７ａの上端部は、回転軸１２に設けられた傘型のエア制御部１５のポケット１５ａ内に収容された状態になる。
底部３７の外周側には、排気管４０Ａにより区画された排気口３９が設けられている。排気口３９には、排気管４０Ａを介して排気ポンプが接続されている。収納カップ３４内に供給されたエアは、排気ポンプが動作状態にあるとき、排気口３９から排気され、排気管を通過して外部に排出される。
【００４８】
側壁部３８の上端部には、収納カップ内に供給されるエアの流れを制御するエア制御部材４０が取り付けられている。
エア制御部材４０は、平面視でドーナツ円盤状をなしている。エア制御部材４０の外周縁は側壁部３８の上端部に取り付けられ、エア制御部材４０の内周側の開口は、被処理基板２や各ノズル１８、１９、２７、２８を収納カップ３４内に搬入出する開放部を構成する。また、エア制御部材４０は、内周側の端部から外周側に向かって下向きに下降する傾斜面４０ａを有している。後述するエアの流れによって開放部から収納カップ３４内に供給されるエアは、この傾斜面４０ａに沿って外周側に送流され、先の排気口３９に到達する。なお、収納カップ３４の内部側のコーナ部分には排出管４０Ｂが形成されていて、この排出管４０Ｂが両面塗布装置の筐体７に収容された回収タンクＴに接続されて処理済みの塗液を回収できるように構成されている。
【００４９】
収納カップ移動機構３５は、収納カップ３４を、回転軸１２の軸方向に沿って上下に移動操作（昇降操作）する。これにより、収納カップ３４は、被処理基板２より下方となる非収納位置から被処理基板２が該収納カップ３４の内部に収納された状態になる収納位置との間を相互に移動する。
収納カップ移動機構３５においては、装置全体を取り囲む筐体７の内部に水平に架設されたフレーム３５Ａにピストン装置３５Ｂ、３５Ｂが取り付けられ、これらのピストン装置３５Ｂに上下移動自在に設けられているピストンロッド３５Ｃを有し、これらのピストンロッド３５Ｃに収納カップ３４の底部フレーム３４Ａが支持されることで収納カップ３４が上下移動自在に支持されている。
【００５０】
図４及び図５に示すように、収納カップ開閉機構３６は、図４中矢印Ｃ方向及び矢印Ｄ方向に旋回自在に設けられた旋回アーム４１と、旋回アーム４１を旋回駆動する旋回駆動機構４２と、旋回アーム４１の先端に取り付けられたカバー４３とを有する。
カバー４３は、収納カップ３４の開放部より大径の円盤状をなし、その上面中央に旋回アーム取り付け部４４が設けられ、この旋回アーム取り付け部４４に、旋回アーム４１の先端が取り付けられている。すなわち、カバー４３は、この旋回アーム取り付け部４４を介して旋回アーム４１の先端に取り付けられている。
旋回駆動機構４２は、旋回モータ４５と、旋回モータ４５の駆動軸の先端に、該駆動軸と同軸方向となるように取り付けられた旋回支軸４６とを有する。旋回支軸４６には、旋回アーム４４がその軸方向と直交するように固定されている。
なお、旋回支軸４６の長さ及び旋回アーム４１の固定位置は、カバー４３が後述する閉位置にあるとき、カバー４３が、エア制御部材４０より若干上方であって第１、第２の旋回アーム１６、２６に干渉しない位置に配置されるように設定されている。
【００５１】
以上のように構成された収納カップ開閉機構３６では、旋回モータ４５が駆動されると、旋回支軸４６が回転駆動され、旋回アーム４１が、旋回モータ４５の回転方向に応じて図４中矢印Ｃ方向及び矢印Ｄ方向に旋回操作される。このように旋回アーム４１が旋回操作されることにより、カバー４３は、旋回支軸４６を中心に水平移動し、収納カップ３４から離れた開位置と収納カップ３４の開放部を覆う閉位置との間を移動する。
【００５２】
また、この形態の被処理基板収納部６では、カバー４３が閉位置にあるとき、排気口３９から排気することによって、カバー４３とエア制御部材４０との隙間ｄ２、及び、回転軸１２と収納カップ３４の底部３７との隙間ｄ１からエアが供給される。カバー４３とエア制御部材４０との隙間ｄ２から供給されたエアは、エア制御部材４０の傾斜面４ａに沿って外周側に送流され、排気口３９から排気される。また、回転軸１２と収納カップ３４の底部３７との隙間ｄ１から供給されたエアは、傘型のエア制御部１５の下側のポケット１５ａ内を通過して底部３７に沿って外周側に送流され、排気口３９から排気される。収納カップ３４内に、このようなエアの流れが生じることにより、被処理基板２に塗布された塗液が効率よく乾燥される。エアの種類は、特に限定されないが、マイクロダストを除去したクリーンエアなどの空気流あるいは窒素等の不活性ガスを混合したガスなどを適用することができる。
【００５３】
そして、この形態の塗布装置１は、各種情報の入力を行う操作部と、各部の動作を制御する制御部とを備えている。
操作部としては、例えば、キーボードやタッチパネル等を用いることができる。
制御部は、演算部やメモリー等を内蔵するコンピュータで構成されており、操作部からの信号（入力）が随時入力され、この信号に基づき、予め設定されたプログラムに従って、各部の動作を制御する。特に、この形態の塗布装置において、それらの制御部は、被処理基板２の両主面に塗液を供給する工程で、第１の塗液噴出口２３から噴出する塗液の噴出量及び第１の塗液噴出口２３の走査速度と、第２の塗液噴出口２９から噴出する塗液の噴出量及び第２の塗液噴出口２９の走査速度を、被処理基板２の両主面で形成される塗膜の厚さが略等しくなるように、それぞれ、独立に制御する機能を有することが好ましい。  また、塗膜の外周縁部にリンス液を供給する工程で、第１のリンス液噴出口２４から噴出するリンス液の噴出量及び第１のリンス液噴出口２４の走査速度と、第２のリンス液噴出口３０から噴出するリンス液の噴出量及び第２のリンス液噴出口３０の走査速度を、被処理基板２の両主面でリンス液の供給量が略等しくなるように、それぞれ、独立に制御する機能を有することが好ましい。
【００５４】
＜ディスクリート磁気記録媒体の製造＞
次に、この塗布装置１による塗液の塗布工程を、図１６に示すディスクリート磁気記録媒体の製造工程の一部に適用した場合を例にして説明する。
図６〜図１５は、塗布装置の動作を工程順に説明する模式図、図１６は、被処理基板の一例を示す縦断面図、図１７は非磁性基板１０１上に下地層１０２と磁性層１０３を形成した状態を示す縦断面図、図１８は本発明の塗布装置によってレジスト層が形成された状態を示す縦断面図、図１９は、レジスト層をパターニングすることによって形成されたレジストパターンを示す縦断面図である。
【００５５】
まず、中心開口部を有する非磁性基板１０１の両方の主面に、常法に従って、軟磁性層及び中間層などからなる下地層１０２を形成する。次にこの下地層１０２の上に磁性層１０３を形成する。磁性層１０３は、例えばスパッタ法などの成膜法により薄膜として下地層１０２の上面全域に形成する。以上のようにして各膜が形成された被磁性基板１０１の断面構造を図１７に示す。
次に、磁性層１０３の表面に、全面的にレジスト層を形成した後、このレジスト層を磁気記録パターンに対応する平面形状でパターニングし、レジストパターンを形成する。
レジスト層の形成は、先に説明した形態の両面塗布装置１を用い、磁性層１０３が形成された非磁性基板１０１を被処理基板２として、以下のようにして行う。
【００５６】
まず、図６に示すように、両面塗布装置１は、初期状態では、各塗液用ノズル１８、２８、各リンス液用ノズル１９、２７、収納カップ３４及びカバー４３が、それぞれ、第１の位置、第１‘の位置、非収納位置及び開位置とされている。
次に、被処理基板２の中心開口部２ａを、チャッキング部１１の受部１１ａに装着し、ナット部１１ｂをネジ締めすることにより、チャッキング操作する。これにより被処理基板２を水平となるように回転軸１２に保持する。
【００５７】
次に、各部の作動をオンにする。
これにより、図７に示すように、第１の旋回駆動機構１７は、第１の塗液噴出口２３が、第１の位置（初期位置）から第２の位置（待機位置）に移動するように、第１のノズル旋回アーム１６を図２中矢印Ａ１方向に旋回駆動する。また、第２の旋回駆動機構３１も、同様に、第２の塗液噴出口２９が、第１‘位置（初期位置）から第２‘の位置（待機位置）に移動するように、第２のノズル旋回アーム２６を図２中矢印Ａ２方向に旋回駆動する。また、このとき、第１のリンス液噴出口２４及び第２のリンス液噴出口３０は、それぞれ、第１の塗液噴出口２３及び第２の塗液噴出口２９に追従して移動する。
【００５８】
次に、図８に示すように、収納カップ開閉機構３６は、収納カップ３４を非収納位置から収納位置に移動操作する。これにより、回転軸１２に保持された被処理基板２が、収納カップ３４の内部に収納される。
次に、図９に示すように、旋回駆動機構４２は、カバー４３を開位置から閉位置に移動するように、旋回アーム４１を図中矢印Ｃ方向に旋回駆動する。また、排気口３９からエアを吸い出すことで、カバー４３とエア制御部材４０との隙間ｄ２から、及び、収納カップ３４の底部３７と回転軸１２との隙間ｄ１からエアを供給する。供給されたエアは、収納カップ３４内を送流され、排気口３９から排気される。このとき、エアが供給される空間（被処理基板２が存する空間）は、収納カップ３４及びカバー４３によって囲まれていることにより、エアが均一に送流される。
次に、図１０に示すように、回転駆動機構３は、回転軸１２を所定の回転数で回転駆動する。これにより、被処理基板２は、回転軸１２の回転方向および回転数に応じて回転する。
【００５９】
次に、図１１に示すように、第１の旋回駆動機構１７が、第１の塗液用噴出口２３を第２の位置（待機位置）から第３の位置（塗布開始位置）に移動するように、第１のノズル旋回アーム１６を図２中矢印Ａ１方向に旋回駆動する。また、第２の旋回駆動機構３１が、同様に、第１の塗液用噴出口２３を第２の位置（待機位置）から第３の位置（塗布開始位置）に移動するように、第２のノズル旋回アーム２６を図中矢印Ａ２方向に旋回駆動する。また、このとき、第１のリンス液噴出口２４及び第２のリンス液噴出口３０は、それぞれ、第１の塗液噴出口２３及び第２の塗液噴出口２９に追従して移動する。
【００６０】
次に、塗液供給手段２０は、第１の塗液用ノズル１８及び第２の塗液用ノズル２８に、それぞれ、第１の塗液噴出口２３及び第２の塗液噴出口２９から所定量の塗液が噴出するように、塗液を供給する。
以上の操作により、第１の塗液噴出口２３は、被処理基板２の上面の直上を内周から外周に亘って走査しつつ塗液を供給することができる。それと同時に、第２の塗液噴出口３０も、被処理基板２の下面の直下を走査しつつ、被処理基板２の下面に塗液を供給することができる。その結果、被処理基板２の上下両面に、同時に塗液を供給することができる。
【００６１】
このとき、制御部は、第１の塗液噴出口２３における塗液噴出量及び走査速度と、第２の塗液噴出口２９における塗液噴出量及び塗液噴出量を、それぞれ独立に制御する。
ここで、第１の塗液噴出口２３は下方に塗液を噴出し、第２の塗液噴出口２９は上方に塗液を噴出することから、各噴出口２３、２９から噴出される塗液はその挙動が異なり、塗液の供給条件（各塗液噴出口における塗液噴出量及び走査速度）を同じにした場合には、上面（一方の主面）と下面（他方の主面）とで形成される塗膜厚が異なってしまう。
これに対して、この塗布装置１では、第１の塗液噴出口２３における塗液噴出量及び走査速度と、第２の塗液噴出口２９における塗液噴出量及び走査速度とを、それぞれ、独立に制御するので、これらパラメータを、被処理基板２の上面と下面の両方で目的とする塗膜厚が得られるように、別々に設定することができる。したがって、被処理基板２の両主面に、目的とする供給量で同時に塗液を供給することができる。
また、このとき、被処理基板２の中心開口部２ａは、チャッキング部１１の受部１１ａによって閉塞されていることと、被処理基板２の回転により塗液が外周方向に移動すること、塗液を噴出する噴出口２３、３０が被処理基板２の中心開口部２ａ周縁位置から外側に塗液を噴出することから、中心開口部２ａの内側に塗液が侵入することを防止できる。
【００６２】
次に、図１２に示すように、第１の旋回駆動機構１７は、第１の塗液噴出口２３が第４の位置（塗布終了位置）から第２の位置（待機位置）に移動するように、第１のノズル旋回アーム１６を図３（Ａ）中矢印Ｂ１方向に旋回駆動する。また、第２の旋回駆動機構３１も、第２の塗液噴出口２９が第４´の位置（塗布終了位置）から第２´の位置（待機位置）に移動するように、第２のノズル旋回アーム２６を図中矢印Ｂ２方向に旋回駆動する。また、このとき、第１のリンス液噴出口２４及び第２のリンス液噴出口３０は、それぞれ、第１の塗液噴出口２３及び第２の塗液噴出口２９に追従して移動する。
【００６３】
また、回転駆動機構３は、回転軸１２の回転数を所定の回転数とする。これにより、被処理基板２は、その回転数に応じて回転し、塗液を被処理基板１の上面側と下面側に拡げることができる。所定時間経過後、回転駆動機構３は被処理基板２の回転を停止する。
被処理基板２が高速で回転することにより、被処理基板２の両主面に供給された塗液は、それぞれ、遠心力によって外周側に振り切られ、厚さが均一化する。その結果、被処理基板２の両主面に、均一な厚さを有する塗膜が形成される。
【００６４】
ただし、塗液の粘度が比較的高い場合には、塗液の表面張力により、塗膜の外周縁部において、塗膜の厚さが厚くなる。この塗膜をそのまま乾燥させてレジスト層を形成した場合、外周縁部の厚さが厚いことになる。このような外周縁部の塗膜が厚い被処理基板２を用いて、スタンパにより凹凸を形成するディスクリート型磁気記録媒体の製造に適用した場合、レジスト層の表面にスタンパを圧着させてパターンを転写する場合に、中央部においてスタンパが浮いてしまい、転写されるパターンが不鮮明になるおそれがある。
これに対して、この実施形態の両面塗布装置１では、次のようなリンス処理を行うことにより、外周縁部の過分な塗膜を除去して、厚さの均一な塗膜を形成することができる。
【００６５】
まず、図１３に示すように、回転駆動機構３は、回転軸１２を所定の回転数で回転駆動する。これにより、被処理基板２は、回転軸１２の回転方向および回転数に応じて回転する。
次に、第１の旋回駆動機構１７は、第１のリンス液噴出口２４が被処理基板２の上面外周縁を向くように、第１のノズル旋回アーム１６を旋回駆動する。また、第２の旋回駆動機構３１も、同様に、第２のリンス液噴出口３０が被処理基板２の下面の外周縁を向くように第２のノズル旋回アーム２６を旋回駆動する。
【００６６】
次に、リンス液供給手段２１は、第１のリンス液用ノズル１９及び第２のリンス液用ノズル２７に、それぞれ、第１のリンス液噴出口２４及び第２のリンス液噴出口３０から所定量の塗液が噴出するように、リンス液を供給する。
これにより、第１のリンス液噴出口２４は、被処理基板２の上面に形成された塗膜の外周縁部にリンス液を供給する。それと同時に、第２のリンス液噴出口３０は、被処理基板２の下面に形成された塗膜の外周縁部にリンス液を供給する。その結果、被処理基板２の両主面に形成された塗膜の外周縁部に、同時にリンス液が供給され、このリンス液に塗液の一部が溶解する。
このとき、制御部は、第１のリンス液噴出口２４におけるリンス液噴出量及び第２のリンス液噴出口３０におけるリンス液噴出量を、それぞれ独立に制御する。
【００６７】
ここで、第１のリンス液噴出口２４は斜め下方に塗液を噴出し、第２のリンス液噴出口３０は上方に塗液を噴出することから、各噴出口２４、３０から噴出されるリンス液はその挙動が異なり、リンス液の供給条件（各リンス液噴出口におけるリンス液噴出量及び走査速度）を同じにした場合には、被処理基板２の上面側と下面とで実際に塗膜に到達供給されるリンス液の量が異なってしまう。
これに対して、この形態の両面塗布装置１では、第１のリンス液噴出口２４におけるリンス液噴出量と第２のリンス液噴出口３０におけるリンス液噴出量とを、それぞれ、独立に制御するので、これらパラメータを、被処理基板２の上面と下面の両方で目的とするリンス液供給量が得られるように、別々に設定することができる。したがって、被処理基板２の上下両面に、目的とする供給量で同時にリンス液を供給することができる。
【００６８】
また、回転駆動機構３は、回転軸１２の回転数を所定の回転数に上昇させる。これにより、被処理基板２は、その回転数に応じて回転する。これにより、被処理基板２も回転を停止する。被処理基板２が高速で回転することにより、塗膜の外周縁部に供給されたリンス液は、塗液の一部を溶解した状態で外周側に振り切られる。その結果、外周縁部における過分な塗膜が除去され、内周から外周に亘って厚さの均一な塗膜を得ることができる。所定時間経過後、回転駆動機構３は、回転を停止する。
【００６９】
次に、図１４に示すように、第１の旋回駆動機構１７は、第１の塗液噴出口２４が待機位置に移動するように、第１のノズル旋回アーム１６を旋回駆動する。また、第２の旋回駆動機構３１も、同様に、第２の塗液噴出口２９が待機位置に移動するように、第２のノズル旋回アーム２６を旋回駆動する。
【００７０】
次に、図１５に示すように、回転駆動機構３は、回転軸１２の回転駆動を停止する。これにより、被処理基板の回転も停止する。その結果、図１８に示すように、磁性層１０３の表面に、レジスト層（厚さ：例えば２００ｎｍ）１０６が得られる。
先の工程においてこの形態の両面塗布装置１では、収納カップ３４及びカバー４３によって囲まれた空間内に均一なエア流れを発生させているので、塗膜の乾燥を均一化できるとともに、塗膜に塵埃等の余計な付着物を付着させ難い。
【００７１】
次に、旋回駆動機構４２は、カバー４３を閉位置から開位置に移動するように、旋回アーム４１を旋回駆動する。
次に、収納カップ移動機構３５は、収納カップ３４が収納位置から非収納位置に移動するように、収納カップ３４を下降操作する。
【００７２】
次に、第１の旋回駆動機構１７は、第１の塗液噴出口２３が第２の位置（待機位置）から第１の位置（初期位置）に移動するように、第１のノズル旋回アーム１６を図２中矢印Ｂ１方向に旋回駆動する。また、第２の旋回駆動機構３１も、同様に、第２の塗液噴出口２９が第２‘の位置（待機位置）から第１’の位置（初期位置）に移動するように、第２のノズル旋回アーム２６を図２中矢印Ａ２方向に旋回駆動する。
次に、上下両面にレジスト層１０６が形成された被処理基板２を両面塗布装置１の回転軸１２から取り外す。
【００７３】
以上のように、この形態の両面塗布装置１では、上面側に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、下面側に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８とを備えることにより、被処理基板２の両主面に同時に塗液を供給することができるので、被処理基板２の一方の主面に塗液を供給した後、他方の主面に塗液を供給するのに比べて、被処理基板２の両方の主面に、簡易な工程で、短時間に塗液を塗布することができる。
【００７４】
また、第１の塗液噴出口２３における塗液噴出量及び走査速度と、第２の塗液噴出口２９における塗液噴出量及び走査速度を、それぞれ、独立に制御するので、被処理基板２の両方の主面に、略等しい量で塗液を供給して均一膜厚の塗膜を形成することができる。
また、被処理基板２の上面に形成された塗膜の外周縁部に、リンス液を噴出する第１のリンス液用ノズル１９と、被処理基板２の下面に形成された塗膜の外周縁部に、リンス液を噴出する第２のリンス液用ノズル２７とを備えるので、塗液の粘度が比較的高く、表面張力によって塗膜の外周縁部で膜厚が必要以上に厚くなりそうな場合でも、外周縁部における過分の塗膜を溶解除去することができる。
したがって、被処理基板２の両面に、厚さの均一なレジスト層１０６を、簡易な工程で、短時間に形成することができる。その結果、例えば、レジスト層の表面にスタンパを圧着させてパターンを転写する場合に、レジスト層の表面とスタンパとが高度に密着し、レジストの表面に正確な形状のパターンを精密に転写することができる。
【００７５】
また、この形態の両面塗布装置１では、被処理基板２を保持するチャッキング部１１の受部１１ａが、被処理基板２の中心開口部２ａを閉塞する機能を有しているので、塗液を塗布したときに、被処理基板２の中心開口部２ａに塗液が侵入するのを防止することができ、中心開口部２ａを避けてレジスト層１０６を形成することができる。
したがって、被処理基板２として非磁性基板に磁性層を形成して得られる磁気記録媒体は、記録再生装置のチャッキング装置を中心開口部に係合させてチャッキングした際、正確な位置にチャッキングすることができ、また、中心開口部に残存したレジストに起因するチャッキング装置等の汚染を回避することができる。
【００７６】
次に、図１９に示すように、得られたレジスト層１０６を、磁気記録パターンに対応する平面形状でパターニングし、レジストパターン１０７を形成する。
レジスト１０６層をパターニングする方法としては、レジスト層１０６の上から直接スタンパを密着させ、高圧でプレスする方法等を用いることができる。また、レジストとして、ＵＶ硬化型樹脂を用いた場合には、フォトリソグラフィー技術を適用してパターン形成を行うこともできる。
【００７７】
前記のプロセスで用いられるスタンパは、例えば、金属プレートに電子線描画などの方法を用いて微細なトラックパターンを形成したものが使用でき、材料としてはプロセスに耐えうる硬度、耐久性が要求される。たとえばＮｉスタンパなどが使用できるが、前述の目的に合致するものであれば材料は問わない。このスタンパには、通常のデータを記録するトラックの他にバーストパターン、グレイコードパターン、プリアンブルパターンといったサーボ信号のパターンも形成できる。
【００７８】
次に、レジストパターン１０７が形成されていない領域の磁性層の磁気特性を改質し、磁気記録パターンを磁気的に分離する領域を形成する。
この磁気特性の改質の一例としては、レジストパターン１０７が形成された磁性層を、反応性プラズマに曝すことによって行うことができる。
反応性プラズマとしては、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Inductively Coupled Plasma）や反応性イオンプラズマ（ＲＩＥ；Reactive Ion Plasma）が例示できる。
次に、磁性層１０３の上から、レジストパターン１０７を除去する。
レジストの除去は、ドライエッチング、反応性イオンエッチング、イオンミリング、湿式エッチング等の手法を用いることができる。
【００７９】
次に、磁性層１０３の上に、保護膜１０５及び潤滑剤層を形成する。
保護膜１０５の形成は、一般的にはダンヤモンド状カーボン（Diamond Like Carbon）の薄膜をＰ−ＣＶＤ法などを用いて成膜する方法が行われるが特に限定されるものではない。また、潤滑剤層は、例えば、潤滑剤を含有する溶液を、保護膜の表面に塗布した後、乾燥することによって形成することができる。
【００８０】
以上のように、この製造工程では、磁性層の表面に、磁気記録パターンに合致させたレジストパターンを形成後、その表面の反応性プラズマにより処理し、その後、レジストを除去して保護層を再形成後、潤滑材を塗布して磁気記録媒体を製造している。このような方法を採用することにより磁性層と反応性プラズマとの反応性をより高めることが可能となる。
また、以上のような工程の他、次のような工程で磁気記録媒体を製造するようにしてもよい。
すなわち、磁性層の上に保護層を形成し、その表面に、本発明の両面塗布装置を用いて磁気記録パターンに合致させたレジストパターンを形成し、その後、反応性プラズマによる磁性層の改質処理を行う工程も採用できる。このような工程を採用することにより、反応性プラズマ処理の後に保護膜を形成する必要がなくなり、製造工程が簡便になり、生産性の向上および磁気記録媒体の製造工程における汚染の低減の効果が得られる。本発明者らは、磁性層の表面に保護膜を形成した後においても、磁性層と反応性プラズマとの反応を生じさせることが可能であることを実験により確認している。保護膜で覆われているはずの磁性層において反応性プラズマとの反応が生じている理由は、発明者らの考えによると、保護膜の空隙等が存在し、その空隙からプラズマ中の反応性イオンが侵入し、反応性イオンが磁性金属と反応することがある。また、保護膜中を反応性イオンが拡散し、反応性イオンが磁性層まで到達することも考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明の活用例として、中心開口部を有するディスク基板の両側に設けられた磁性層の上に、レジスト層を形成するための塗液を塗布する両面塗布装置が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の両面塗布装置の全体構成を１面から見た模式図である。
【図２】本発明の両面塗布装置の全体構成を他の面から見た模式図である。
【図３】図３（Ａ）は本発明の両面塗布装置の主要部を示す上面図、図３（Ｂ）は本発明の両面塗布装置の主要部を模式的に示す縦断面図である。
【図４】本発明の両面塗布装置が備える収納カップ開閉機構を示す上面図である。
【図５】本発明の両面塗布装置が備える収納カップ開閉機構を模式的に示す縦断面図である。
【図６】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、被処理基板チャック工程を示す模式図である。
【図７】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、ノズルの待機位置移動工程を示す模式図である。
【図８】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、収納カップ上昇工程を示す模式図である。
【図９】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、カバーの閉位置移動工程を示す模式図である。
【図１０】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、被処理基板の低速回転工程を示す模式図である。
【図１１】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、塗液塗布工程を示す模式図である。
【図１２】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、塗液振り切り工程（被処理基板高速回転工程）を示す模式図である。
【図１３】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、リンス液塗布工程を示す模式図である。
【図１４】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、リンス液振り切り工程を示す模式図である。
【図１５】本発明の両面塗布装置の動作を工程順に示すもので、被処理基板の回転停止工程を示す模式図である。
【図１６】本発明の両面塗布装置を用いて製造されるディスクリート磁気記録媒体の一例を示す縦断面図である。
【図１７】本発明の両面塗布装置によって塗液が塗布される被処理基板の一例を示す縦断面図である。
【図１８】本発明の両面塗布装置によってレジスト層が形成された状態を示す縦断面図である。
【図１９】レジスト層をパターニングすることによって形成されたレジストパターンを示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００８３】
１…両面塗布装置、２…被処理基板、２ａ…中心開口部、３…回転駆動機構、
４…第１の塗液供給手段、５…第２の塗液供給手段、６…被処理基板収納部、７…筐体、１１…チャッキング部（保持機構）、１１ａ…受部、１１ｂ…ナット部、１２…回転軸、１６…第１のノズル旋回アーム、
１７…第１の旋回駆動機構（第１の塗液用ノズル移動機構）、
１８…第１の塗液用ノズル、１９…第１のリンス液用ノズル、
２３…第１の塗液噴出口、２４…第１のリンス液噴出口、
２６…第２のノズル旋回アーム、２７…第２のリンス液用ノズル、
２８…第２の塗液用ノズル、２９…第２の塗液噴出口、
３０…第２のリンス液噴出口、
３１…第２の旋回駆動機構（第２の塗液用ノズル移動機構）、３４…収納カップ、
３６…収納カップ開閉機構、３９…排気口、
４０…エア制御部材、４０Ａ…排気管、４３…カバー、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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