(57)【要約】【課題】光触媒を含む層を装置基板側に残さずに形状精度良好に転写によるパターンを形成することが可能な転写シート、および転写シートの作製方法を提供する。【解決手段】支持基板１と、支持基板１上の光触媒層７と、光触媒層７上に設けられた転写材料パターンとしての有機材料パターン９ｒ，９ｇ，９ｂを備えた転写シート１１において、光触媒層７の表面側は、光触媒層７への光照射によって親水性となった親水性領域７ａと疎水性領域７ｂとで構成されている。有機材料パターン９ｒ，９ｇ，９ｂは、親水性領域７ａ上のみに形成されている。【選択図】図２
2009094031.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、当該支持基板上の光触媒層と、当該光触媒層上に設けられた転写材料パターンとを備えた転写シートにおいて、
前記光触媒層の表面側は、当該光触媒層への光照射によって親水性となった親水性領域と、当該親水性領域以外の疎水性領域とで構成されており、
前記転写材料パターンは、前記親水性領域上または前記疎水性領域上の一方のみに形成されている
ことを特徴とする転写シート。
【請求項２】
請求項１記載の転写シートにおいて、
前記転写材料パターンは、水溶性インクの塗布によって前記親水性領域上のみに形成されている
ことを特徴とする転写シート。
【請求項３】
請求項２記載の転写シートにおいて、
前記光触媒層の表面には複数の前記親水性領域が設けられており、各親水性領域に異なる種類の前記転写材料パターンが設けられている
ことを特徴とする転写シート。
【請求項４】
請求項１記載の転写シートにおいて、
前記転写材料パターンは、油性インクの塗布によって前記疎水性領域上のみに形成されている
ことを特徴とする転写シート。
【請求項５】
支持基板上に成膜された光触媒層に対して光照射を行うことにより、当該光触媒層の表面の光照射部に親水性領域を形成し、その他の部分を疎水性領域として残す第１工程と、
前記光触媒層上に転写材料を含む水溶性または油性のインクを塗布することにより、当該親水性領域上または当該疎水性領域上の一方のみに転写材料パターンを形成する第２工程とを行う
ことを特徴とする転写シートの作製方法。
【請求項６】
請求項５記載の転写シートの作製方法において、
前記第２工程では前記インクとして水溶性インクを用いると共に、
前記第１工程と第２工程とを複数回繰り返すことにより、前記親水性領域上に前記転写材料パターンが形成された光触媒層上にさらに新たな親水性領域を形成し、前記転写材料パターンとは異なる種類の転写材料パターンを新たな親水性領域上に形成する
ことを特徴とする転写シートの作製方法。
【請求項７】
装置基板上に複数の有機電界発光素子を配列してなる表示装置の製造方法であって、
支持基板上に光触媒層が設けられると共に当該光触媒層における親水性領域上または疎水性領域上の一方のみに転写材料パターンが設けられた転写シートを、前記装置基板側に当該転写材料パターンを向けた状態で当該装置基板に対向配置させる工程と、
前記転写シート側からエネルギー線を照射することにより、前記転写材料パターンを転写してなる発光層を前記装置基板上に形成する工程とを行う
ことを特徴とする表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写シートとこの転写シートの作製方法、およびこの転写シートを用いた表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機材料のエレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：以下ＥＬと記す。）を利用した有機ＥＬ素子は、下部電極と上部電極との間に有機正孔輸送層や有機発光層を積層させてなる有機層を設けてなり、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。
【０００３】
近年、上記有機ＥＬ素子を用いたフルカラーの表示装置の製造において有機層をパターン形成する技術として、マスク蒸着法やインクジェット法と比較して、大型基板を用いることができると共に作製時間を大幅に短縮することが可能な転写法が注目されている。なかでも光触媒作用を用いた転写法は、転写先の装置基板上に有機層を一括でパターン転写する事が出来る。このため表示装置の製造工程の簡略化に有利であるとされている。
【０００４】
光触媒作用を用いた転写法においては、光触媒を含有する層（光触媒含有層）を設けた転写シートを用いる。この転写シートは、基材上に光触媒含有層を介して有機層が設けられた構成となっている。光触媒含有層には、レーザ光照射によって親水性領域がパターン形成され、他の領域が疎水性領域としてパターン形成されている。またこのような転写シートを用いた転写においては、装置基板に対して有機層を対向させて転写シートを接触配置する。そして、転写シートの裏面側から全面に光照射を行い、次いで装置基板から転写シートを引き剥がす。これにより、親水性領域上の有機膜部分は転写シート側に残って装置基板から引き剥がされる。これに対して疎水性領域上の有機膜部分は、転写シートから引き剥がされて装置基板側に転写され、疎水性領域のパターンと同一の有機膜パターンが装置基板上に転写形成される（以上、下記特許文献１参照）。
【０００５】
また、光触媒作用は、上述したような転写法への適用以外にも、有機電界発光素子の製造方法に適用されている。例えば、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を装置基板側に設ける方法が提案されている。この場合、電極が形成された装置基板上を濡れ性変化層で覆い、パターン状にエネルギーを照射することにより撥液性領域と親液性領域とを形成しておく。そして、この濡れ性変化層上に、有機層を塗布形成する（以上、下記特許文献２参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１００４５４号公報
【特許文献２】特開２００７−１２３５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら上述した光触媒の作用を用いた有機電界発光素子の製造方法には、次のような課題があった。
【０００８】
すなわち光触媒作用を用いた転写法では、転写シートの全面に有機層が設けられた転写シートが装置基板に対して接触配置される構成である。このため、装置基板の表面と有機層との密着性によっては、転写シートの親水性領域上の有機膜も装置基板側に転写されてしまう場合があった。
【０００９】
一方、特開２００７−１２３５６号のように転写法を用いずに光触媒層による濡れ性の差を利用したパターニング方法も提案されているが、装置基板側に光触媒を含む層がそのまま残されるため、有機電界発光素子の素子特性を阻害する要因となっていた。
【００１０】
そこで本発明は、光触媒を含む層を装置基板側に残さずに形状精度良好に転写によるパターンを形成することが可能な転写シート、および転写シートの作製方法を提供すること、さらにはこの転写シートを用いた表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
このような目的を達成するための転写シートは、支持基板と、当該支持基板上の光触媒層と、当該光触媒層上に設けられた転写材料パターンとを備えている。そして、光触媒層の表面側は、当該光触媒層への光照射によって親水性となった親水性領域と、当該親水性領域以外の疎水性領域とで構成されており、親水性領域上または前記疎水性領域上の一方のみに転写材料パターンが形成されている。
【００１２】
また本発明の転写シートの作製方法は、上記構成の転写シートの作製方法であり、次の工程を行う。第１工程では、支持基板上に成膜された光触媒層に対して光照射を行うことにより、当該光触媒層の表面の光照射部に親水性領域を形成し、その他の部分を疎水性領域として残す。その後第２工程では、光触媒層上に転写材料を含む水溶性または油性のインクを塗布することにより、当該親水性領域上または当該疎水性領域上の一方のみに転写材料パターンを形成する。
【００１３】
さらに本発明は、上記構成の転写シートを用いた表示装置の製造方法でもあり、基板上に複数の有機電界発光素子を配列してなる表示装置の製造に適用される。この場合、上記構成の転写シートを、装置基板側に転写材料パターンを向けた状態で当該装置基板に対向配置させる。そして、転写シート側からエネルギー線を照射することにより、転写材料パターンを転写してなる発光層を装置基板上に形成する。
【００１４】
上記構成の転写シートでは、転写シート側の光触媒層における親水性領域または疎水性領域上のみに、予め転写材料パターンが形成されている。このため、全面に転写材料が成膜されている構成と比較して、不必要な部分に転写材料パターンが転写されることが防止される。また、光触媒層は転写シート側に形成されているため、光触媒層上の転写パターンのみを装置基板側に転写することにより、光触媒層が装置基板側に残ることはない。
【発明の効果】
【００１５】
以上説明したように本発明によれば、光触媒を含む層を装置基板側に残さずに形状精度良好に転写によるパターンを形成することが可能になる。そしてこのような転写シートを用いた転写によって有機電界発光素子の発光層を形成することにより、材料純度が高く形状精度良好な発光層を備えることで素子特性の良好な有機電界発光素子で構成された表示装置を得ることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の転写パターンの形成方法および表示装置の製造方法を、有機電界発光素子を用いた表示装置に適用した実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１７】
≪第１実施形態≫
図１〜図４は、第１実施形態の製造方法を示す断面工程図である。この図に従って第１実施形態の製造方法を、転写シートの作製方法から順に説明する。
【００１８】
＜転写シートの作製＞
先ず図１（１）に示すように、支持基板１上に、光熱変換層３、保護膜５、および光触媒層７をこの順に成膜する。
【００１９】
支持基板１は、十分に平滑で光透過性を有し、かつ加熱処理の温度に対する耐久性を有する材質であれば良く、ガラス基板、石英基板、または透光性セラミック基板等からなる。また、加熱温度に対する寸法制御性に問題がない範囲であれば、樹脂基板を用いても良い。
【００２０】
光熱変換層３は、次に行う熱転写の工程において熱源として用いるエネルギー線（例えばレーザ光）の波長範囲に対して低い反射率を持つ材料が好ましく用いられる。例えば、固体レーザ光原からの波長８００ｎｍ程度のレーザ光を用いる場合には、クロム（Ｃｒ）やモリブデン（Ｍｏ）等が低反射率、高融点を持つ材料として好ましいが、これらに限定されることは無い。ここでは例えば、スパッタリング法により、Ｍｏを２００ｎｍの膜厚に成膜してなる光熱変換層３を形成することとする。
【００２１】
保護層５は、光熱変換層３の酸化を防止するための層であり、例えば窒化シリコン（ＳｉＮX）や酸化シリコン（ＳｉＯ2）等からなることとする。ここでは例えば、ＣＶＤ(chemical vapor deposition)法を用いて保護層５を形成することとする。
【００２２】
光触媒層７は、本発明に特徴的な層であり、光触媒作用を備えた材料を用いて構成されている。光触媒作用を備えた材料としては、例えばＴｉＯ2，ＺｎＯ，ＳｎＯ2，ＳｒＴｉＯ3，ＷＯ3，Ｂｉ2Ｏ3，Ｆｅ2Ｏ3が例示され、これらの材料のうちの１つまたは複数を主成分として光触媒層７が構成されている。
【００２３】
次に、図１（２）に示すように、赤色発光性の有機電界発光素子が形成される部分に対応して光触媒層７に光を照射し、光照射部のみを親水性領域７ａとする。これにより、光照射部以外の光触媒層７部分を疎水性領域７ｂとして残す。尚、親水性領域７ａは、光触媒層７の表面層のみに形成されていても良い。またここでの光照射は、光透過窓がパターン形成された遮光マスクを介して行っても良い。
【００２４】
その後、図１（３）に示すように、表面が親水性領域７ａと疎水性領域７ｂとからなる光触媒層７上に、赤色の発光層を構成する有機材料からなる有機層パターン９ｒを形成する。この際、赤色の発光層を構成する有機材料を水溶性インクとして用いることが重要であり、この水溶性インクを光触媒層７上の全面に塗布成膜する。これにより、親水性領域７ａ上のみに水溶性インクが付着する一方、疎水性領域７ｂには水溶性インクが付着せず、親水性領域７ａ上に有機層パターン９ｒが形成される。
【００２５】
ここで、赤色の発光層を構成する有機材料が特に限定されることはないが、一例としては主に正孔輸送性を有するホスト材料と、赤色発光性のゲスト材料とで構成されることとする。これにより、赤色の発光層を形成するための有機層パターン９ｒが形成される。
【００２６】
次いで乾燥処理を行うことにより、有機層パターン９ｒ中の余分な水分を除去する。
【００２７】
その後は、図１（２）および図1（３）を用いて説明した工程を、さらに２回繰り返す。
【００２８】
すなわち、図１（４）に示すように、緑色発光性の有機電界発光素子が形成される部分に対応して光触媒層７に光を照射し、親水性領域７ａを形成する。
【００２９】
次に、図１（５）に示すように、赤色の発光層を形成するための有機層パターン９ｒが形成され、表面が親水性領域７ａと疎水性領域７ｂとからなる光触媒層７上に、緑色の発光層を構成する有機材料を水溶性インクとして光触媒層７上の全面に塗布成膜する。これにより、親水性領域７ａ上のみに有機層パターン９ｒを形成する。尚、緑色の発光層を構成する有機材料が特に限定されることはないが、一例としては主に電子輸送性を有するホスト材料と、緑色発光性のゲスト材料とで構成されることとする。
【００３０】
次いで乾燥処理を行うことにより、有機層パターン９ｇ中の余分な水分を除去する。
【００３１】
次に、図２（１）に示すように、青色発光性の有機電界発光素子が形成される部分に対応して光触媒層７に光を照射し、親水性領域７ａを形成する。
【００３２】
その後、図２（２）に示すように、有機層パターン９ｒ，９ｇが形成され、表面が親水性領域７ａと疎水性領域７ｂとからなる光触媒層７上に、青色の発光層を構成する有機材料を水溶性インクとして光触媒層７上の全面に塗布成膜する。これにより、親水性領域７ａ上のみに有機層パターン９ｂを形成する。尚、青色の発光層を構成する有機材料が特に限定されることはないが、一例としては主に電子輸送性を有するホスト材料と、青色発光性のゲスト材料とで構成されることとする。
【００３３】
次いで乾燥処理を行うことにより、有機層パターン９ｂ中の余分な水分を除去する。
【００３４】
以上により、光触媒層７上における各色発光性の有機電界発光素子に対応する位置に、有機層パターン９ｒ，９ｇ，９ｂを設けてなる転写シート１１が得られる。
【００３５】
尚、以上のような転写シート１１の形成においては、有機層パターン９ｒ，９ｇ，９ｂの形成順が、上述したような有機層パターン９ｒ，有機層パターン９ｇ，有機層パターン９ｂの順に限定されることはない。
【００３６】
＜表示装置の作製＞
次に、以上の転写シート１１を用いた表示装置の製造を説明する。
【００３７】
先ず、図３（１）に示すように、装置基板２１上に、下部電極２３をパターン形成する。
【００３８】
装置基板２１は、ガラス、シリコン、プラスチック基板、さらにはＴＦＴ（thin film transistor）が形成されたＴＦＴ基板などからなる。特にここで作製する表示装置が基板１側から発光を取り出す透過型である場合には、この基板１は光透過性を有する材料で構成されることとする。
【００３９】
そしてこの上部に形成される下部電極２３は、陽極（または陰極）として形成される。この下部電極２３は、ここで作製する表示装置の駆動方式によって適する形状にパターンニングされていることとする。例えば、この表示装置の駆動方式が単純マトリックス方式である場合には、この下部電極２３は例えば複数の画素で連続したストライプ状に形成される。また、表示装置の駆動方式が画素毎にＴＦＴを備えたアクティブマトリックス方式である場合には、下部電極３は複数配列された各画素に対応させてパターン形成され、同様に各画素に設けられたＴＦＴに対して、これらのＴＦＴを覆う層間絶縁膜に形成されたコンタクトホール（図示省略）を介してそれぞれが接続される状態で形成されることとする。
【００４０】
またこの下部電極２３は、ここで作製する表示装置の光取り出し方式によってそれぞれ適する材質が選択して用いられることとする。すなわち、この表示装置が支持基板２１と反対側から発光光を取り出す上面発光型である場合には、高反射性材料で下部電極２３を構成する。一方、この表示装置が、支持基板２１側から発光光を取り出す透過型または両面発光型である場合には、光透明性材料で下部電極２３を構成する。
【００４１】
次に、以上のような下部電極２３（ここでは陽極）を形成した後、これらの下部電極２３の周縁を覆う状態で、絶縁膜２５をパターン形成する。これにより、この絶縁膜２５に形成された窓から下部電極２３を露出させた部分を、各有機電界発光素子が設けられる画素領域とする。この絶縁膜２５は、例えばポリイミドやフォトレジスト等の有機絶縁材料や、酸化シリコンのような無機絶縁材料を用いて構成さることとする。
【００４２】
その後、下部電極２３および絶縁膜２５を覆う共通層として、正孔注入層２７および正孔輸送層２９をこの順に成膜する。
【００４３】
以上の後、図３（２）に示すように、装置基板２１の正孔輸送層２９側に転写シート１１を対向配置する。この際、転写シート１１の有機層パターン９ｒ，９ｇ，９ｂ形成面側を装置基板２１側に向ける。そして、有機層パターン９ｒ，９ｇ，９ｂ形成の形成位置が、各色の有機電界発光素子の形成画素と一致するように、装置基板２１と転写シート１１とを位置合わせする。
【００４４】
この状態で、図３（３）に示すように、転写シート１１側から転写用のレーザ光ｈｒを全面に照射する。これにより、転写シート１１側の有機層パターン９ｒ，９ｇ，９ｂを、装置基板２１側の各下部電極２５上に各色の発光層９ｒ，９ｇ，９ｂとしてそれぞれパターン転写する。
【００４５】
次に、図４（１）に示すように、各色発光層９ｒ，９ｇ，９ｂが形成された装置基板２１上の全面を覆う状態で、電子輸送層３１を成膜する。この電子輸送層３１は、装置基板２１上の全面に共通層として蒸着成膜される。またここでの図示は省略したが、電子輸送層３１上に電子注入層を設けても良い。
【００４６】
次いで、電子輸送層３１上に上部電極３３を形成する。この上部電極３３は、下部電極２３が陽極である場合には陰極として用いられ、下部電極２３が陰極である場合には陽極として用いられ、ここでは陰極として形成される。
【００４７】
また、ここで作製する表示装置が単純マトリックス方式である場合には、例えば下部電極２３のストライプと交差するストライプ状に上部電極３３が形成される。一方、この表示装置が、アクティブマトリックス方式である場合には、この上部電極３３は、装置基板２１上の一面を覆う状態で成膜されたベタ膜状に形成され、各画素に共通の電極として用いられることとする。
【００４８】
そして、下部電極２３と上部電極３３との積層部において、各色の発光層９ｒ，９ｇ，９ｂが挟持された各部分に、各色の有機電界発光素子、すなわち赤色発光素子３５ｒ、緑色発光素子３５ｇ、および青色発光素子３５ｂがそれぞれ形成される。
【００４９】
尚、この上部電極３３は、ここで作製する表示装置の光取り出し方式によってそれぞれ適する材質が選択して用いられることとする。すなわち、この表示装置が装置基板２１と反対側から各色発光層９ｒ，９ｇ，９ｂでの発光光を取り出す上面発光型または両面発光型である場合には、光透過性材料または半透過性材料で上部電極３３を構成する。一方、この表示装置が、装置基板２１側からのみ発光光を取り出す下面発光型である場合には、高反射性材料で上部電極３３を構成する。
【００５０】
以上のようにして各色の有機電界発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂを形成した後には、部電極３３を覆う状態で保護膜（図示省略）を成膜し、さらに接着用の樹脂材料を介して封止基板を貼り合わせることにより、装置基板２１上に各色発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂを配列形成してなるフルカラーの表示装置３７を完成させる。
【００５１】
以上説明したように本第１実施形態の製造方法では、転写シート１１側の光触媒層７における親水性領域７ａ上のみに、予め転写材料パターンとして有機層パターン９ｒ,９ｇ,９ｂが形成されている。このため、全面に転写材料が成膜されている構成の転写シートを用いた転写と比較して、不必要な部分に有機層パターン９ｒ,９ｇ,９ｂが転写されることを防止できる。また、光触媒層７は転写シート１１側に形成されているため、光触媒層７上の有機層パターン９ｒ,９ｇ,９ｂのみを装置基板２１側に転写することにより、光触媒層７が装置基板２１側に残ることはない。
【００５２】
この結果、光触媒を含む層を装置基板２１側に残さずに形状精度良好に発光層９ｒ，９ｇ，９ｂを形成することが可能になる。これにより、材料純度が高く形状精度良好な発光層を備えることで素子特性の良好な有機電界発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂで構成された表示装置３７を得ることが可能になる。
【００５３】
≪第２実施形態≫
図５〜図８は、第２実施形態の製造方法を示す断面工程図である。この図に従って第２実施形態の製造方法を、転写シートの作製方法から順に説明する。
【００５４】
＜転写シートの作製＞
先ず図５（１）に示すように、支持基板１上に、光熱変換層３、保護膜５、および光触媒層７をこの順に成膜する。これらの各層は、第１実施形態において図１（１）を用いて説明したと同様で有って良い。
【００５５】
次に、図５（２）に示すように、赤色発光性の有機電界発光素子が形成される部分以外の光触媒層７に光を照射し、光照射部のみを親水性領域７ａとする。これにより、赤色発光性の有機電界発光素子が形成される部分に対応する光触媒層７部分を、疎水性領域７ｂとして残す。尚、親水性領域７ａは、光触媒層７の表面層のみに形成されていても良い。またここでの光照射は、光透過窓がパターン形成された遮光マスクを介して行っても良い。
【００５６】
その後、図５（３）に示すように、表面が親水性領域７ａと疎水性領域７ｂとからなる光触媒層７上に、赤色の発光層を構成する有機材料からなる有機層パターン９ｒ’を形成する。この際、赤色の発光層を構成する有機材料を有機溶剤に可溶な油性インクとして用いることが重要であり、この油性インクを光触媒層７上の全面に塗布成膜する。これにより、疎水性領域７ｂ上のみに油性インクが付着する一方、親水性領域７ａには油性インクが付着せず、疎水性領域７ｂ上に有機層パターン９ｒが形成される。
【００５７】
ここで、有機電界発光素子の発光層を構成する有機材料が特に限定されることはないが、一例としては主に正孔輸送性を有するホスト材料と、赤色発光性のゲスト材料とで構成されることとする。これにより、赤色の発光層を形成するための有機層パターン９ｒ’が形成される。
【００５８】
次いで乾燥処理を行うことにより、有機層パターン９ｒ’中の余分な有機溶剤を除去し、光触媒層７上に赤色の発光層を形成するための有機層パターン９ｒ’を設けてなる転写シート１１ｒを得る。
【００５９】
また、以上のような工程を繰り返し行うことにより、緑色発光性の有機電界発光素子が形成される部分に対応して残された光触媒層７の疎水性領域７ｂ上に、緑色の発光層を形成するための有機層パターン９ｇ’を設けてなる転写シート１１ｇを作製する。転写シート１１ｇの形成には、緑色の発光層を構成する有機材料を油性インクとして用いることが重要である。
【００６０】
さらに同様にして、青色発光性の有機電界発光素子が形成される部分に対応して残された光触媒層７の疎水性領域７ｂ上に、青色の発光層を形成するための有機層パターン９ｂ’を設けてなる転写シート１１ｂを作製する。転写シート１１ｂの形成には、青色の発光層を構成する有機材料を油性インクとして用いることが重要である。
【００６１】
＜表示装置の作製＞
次に、以上の転写シート１１ｒ，１１ｇ，１１ｂを用いた表示装置の製造を説明する。
【００６２】
先ず、図６（１）に示すように、装置基板２１上に、下部電極２３をパターン形成し、これらの下部電極２３の周縁を覆う状態で絶縁膜２５をパターン形成し、さらに下部電極２３および絶縁膜２５を覆う共通層として、正孔注入層２７および正孔輸送層２９をこの順に成膜する。以上の工程は、第１実施形態において図３（１）を用いて説明したと同様に行う。
【００６３】
次に、図６（２）に示すように、赤色の発光層を形成するための有機層パターン９ｒ’を設けた転写シート１１ｒを、装置基板２１の正孔輸送層２９側に対向配置する。この際、転写シート１１ｒの有機層パターン９ｒ’形成面側を装置基板２１側に向ける。そして、有機層パターン９ｒ’形成の形成位置が、赤色発光性の有機電界発光素子の形成画素と一致するように、装置基板２１と転写シート１１ｒとを位置合わせする。
【００６４】
この状態で、図６（３）に示すように、転写シート１１ｒ側から転写用のレーザ光ｈｒを全面に照射する。これにより、転写シート１１ｒ側の有機層パターン９ｒ’を、装置基板２１側の下部電極２５上に赤色の発光層９ｒ’としてパターン転写する。
【００６５】
次に、図７（１）に示すように、緑色の発光層を形成するための有機層パターン９ｇ’を設けた転写シート１１ｇを、装置基板２１の正孔輸送層２９側に対向配置し、有機層パターン９ｇ’形成の形成位置が、緑色発光性の有機電界発光素子の形成画素と一致するように、装置基板２１と転写シート１１ｇとを位置合わせする。この状態で、転写シート１１ｇ側から転写用のレーザ光ｈｒを全面に照射することにより、転写シート１１ｇ側の有機層パターン９ｇ’を、装置基板２１側の下部電極２５上に緑色の発光層９ｇ’としてパターン転写する。
【００６６】
さらに続けて、図７（２）に示すように、青色の発光層を形成するための有機層パターン９ｂ’を設けた転写シート１１ｂを、装置基板２１の正孔輸送層２９側に対向配置し、有機層パターン９ｂ’形成の形成位置が、青色発光性の有機電界発光素子の形成画素と一致するように、装置基板２１と転写シート１１ｂとを位置合わせする。この状態で、転写シート１１ｂ側から転写用のレーザ光ｈｒを全面に照射することにより、転写シート１１ｂ側の有機層パターン９ｂ’を、装置基板２１側の下部電極２５上に青色の発光層９ｂ’としてパターン転写する。
【００６７】
以上の後には、第１実施形態において図４を用いて説明したと同様に行う。すなわち、図８に示すように、各色発光層９ｒ’，９ｇ’，９ｂ’が形成された装置基板２１上の全面を覆う状態で、電子輸送層３１を成膜する。この電子輸送層３１は、装置基板２１上の全面に共通層として蒸着成膜される。またここでの図示は省略したが、電子輸送層３１上に電子注入層を設けても良い。
【００６８】
次いで、電子輸送層３１上に上部電極３３を形成する。これにより、下部電極２３と上部電極３３との積層部において、各色の発光層９ｒ’，９ｇ’，９ｂ’が挟持された各部分に、各色の有機電界発光素子、すなわち赤色発光素子３５ｒ、緑色発光素子３５ｇ、および青色発光素子３５ｂがそれぞれ形成される。
【００６９】
また、以上のようにして各色の有機電界発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂを形成した後には、部電極３３を覆う状態で保護膜（図示省略）を成膜し、さらに接着用の樹脂材料を介して封止基板を貼り合わせることにより、装置基板２１上に各色発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂを配列形成してなるフルカラーの表示装置３７を完成させる。
【００７０】
以上説明したように本第２実施形態の製造方法では、転写シート１１ｒ，１１ｇ，１１ｂ側の光触媒層７における疎水性領域７ｂ上のみに、予め転写材料パターンとして有機層パターン９ｒ’,９ｇ’,９ｂ’が形成されている。このため、全面に転写材料が成膜されている構成の転写シートを用いた転写と比較して、不必要な部分に有機層パターン９ｒ’,９ｇ’,９ｂ’が転写されることを防止できる。また、光触媒層７は転写シート１１ｒ，１１ｇ，１１ｂ側に形成されているため、光触媒層７上の有機層パターン９ｒ’,９ｇ’,９ｂ’のみを装置基板２１側に転写することにより、光触媒層７が装置基板２１側に残ることはない。
【００７１】
この結果、光触媒を含む層を装置基板２１側に残さずに形状精度良好に発光層９ｒ’,９ｇ’,９ｂ’を形成することが可能になる。これにより、材料純度が高く形状精度良好な発光層を備えることで素子特性の良好な有機電界発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂで構成された表示装置３７を得ることが可能になる。
【００７２】
≪表示装置の概略構成≫
図９は、上記実施形態によって製造される表示装置３７の全体構成の一例を示す図であり、図９（Ａ）は概略構成図、図９（Ｂ）は画素回路の構成図である。ここでは、アクティブマトリックス方式の表示装置に本発明を適用した実施形態を説明する。
【００７３】
図９（Ａ）に示すように、この表示装置３７の装置基板２１上には、表示領域２１ａとその周辺領域２１ｂとが設定されている。表示領域２１ａは、複数の走査線４１と複数の信号線４３とが縦横に配線されており、それぞれの交差部に対応して１つの画素ａが設けられた画素アレイ部として構成されている。これらの各画素ａに、図４または図８に示した有機電界発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂの何れかが設けられている。また周辺領域２１ｂには、走査線４１を走査駆動する走査線駆動回路ｂと、輝度情報に応じた映像信号（すなわち入力信号）を信号線４３に供給する信号線駆動回路ｃとが配置されている。
【００７４】
図９（Ｂ）に示すように、各画素ａに設けられる画素回路は、例えば有機電界発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂの何れか１つと、駆動トランジスタＴｒ１、書き込みトランジスタ（サンプリングトランジスタ）Ｔｒ２、および保持容量Ｃｓで構成されている。そして、走査線駆動回路ｂによる駆動によって、書き込みトランジスタＴｒ２を介して信号線４３から書き込まれた映像信号が保持容量Ｃｓに保持され、保持された信号量に応じた電流が駆動トランジスタＴｒ１から各有機電界発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂに供給され、この電流値に応じた輝度で有機電界発光素子３５ｒ，３５ｇ，３５ｂが発光する。
【００７５】
尚、以上のような画素回路の構成は、あくまでも一例であり、必要に応じて画素回路内に容量素子を設けたり、さらに複数のトランジスタを設けて画素回路を構成しても良い。また、周辺領域２１ｂには、画素回路の変更に応じて必要な駆動回路が追加される。
【００７６】
以上説明した本発明に係る表示装置は、図１０に開示したような、封止された構成のモジュール形状のものをも含む。例えば、画素アレイ部である表示領域２１ａを囲むようにシーリング部４５が設けられ、このシーリング部４５を接着剤として、透明なガラス等の対向部（封止基板４７）に貼り付けられ形成された表示モジュールが該当する。この透明な封止基板４７には、カラーフィルタ、保護膜、遮光膜等が設けられてもよい。尚、表示領域２１ａが形成された表示モジュールとしての装置基板２１には、外部から表示領域２１ａ（画素アレイ部）への信号等を入出力するためのフレキシブルプリント基板４９が設けられていても良い。
【００７７】
≪適用例≫
以上説明した本発明に係る表示装置は、図１１〜図１５に示す様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。以下に、本発明が適用される電子機器の一例について説明する。
【００７８】
図１１は、本発明が適用されるテレビを示す斜視図である。本適用例に係るテレビは、フロントパネル１０２やフィルターガラス１０３等から構成される映像表示画面部１０１を含み、その映像表示画面部１０１として本発明に係る表示装置を用いることにより作成される。 
【００７９】
図１２は、本発明が適用されるデジタルカメラを示す図であり、（Ａ）は表側から見た斜視図、（Ｂ）は裏側から見た斜視図である。本適用例に係るデジタルカメラは、フラッシュ用の発光部１１１、表示部１１２、メニュースイッチ１１３、シャッターボタン１１４等を含み、その表示部１１２として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。
【００８０】
図１３は、本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータは、本体１２１に、文字等を入力するとき操作されるキーボード１２２、画像を表示する表示部１２３等を含み、その表示部１２３として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 
【００８１】
図１４は、本発明が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。本適用例に係るビデオカメラは、本体部１３１、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ１３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ１３３、表示部１３４等を含み、その表示部１３４として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。
【００８２】
図１５は、本発明が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す図であり、（Ａ）は開いた状態での正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態での正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。本適用例に係る携帯電話機は、上側筐体１４１、下側筐体１４２、連結部（ここではヒンジ部）１４３、ディスプレイ１４４、サブディスプレイ１４５、ピクチャーライト１４６、カメラ１４７等を含み、そのディスプレイ１４４やサブディスプレイ１４５として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】第１実施形態の転写シートの作製手順を示す断面工程図（その１）である。
【図２】第１実施形態の転写シートの作製手順を示す断面工程図（その２）である。
【図３】第１実施形態の表示装置の作製手順を示す断面工程図（その１）である。
【図４】第１実施形態の表示装置の作製手順を示す断面工程図（その２）である。
【図５】第２実施形態の転写シートの作製手順を示す断面工程図である。
【図６】第２実施形態の表示装置の作製手順を示す断面工程図（その１）である。
【図７】第２実施形態の表示装置の作製手順を示す断面工程図（その２）である。
【図８】第２実施形態の表示装置の作製手順を示す断面工程図（その２）である。
【図９】実施形態の表示装置の回路構成の一例を示す図である。
【図１０】本発明が適用される封止された構成のモジュール形状の表示装置を示す構成図である。
【図１１】本発明が適用されるテレビを示す斜視図である。
【図１２】本発明が適用されるデジタルカメラを示す図であり、（Ａ）は表側から見た斜視図、（Ｂ）は裏側から見た斜視図である。
【図１３】本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図１４】本発明が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。
【図１５】本発明が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す図であり、（Ａ）は開いた状態での正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態での正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【符号の説明】
【００８４】
１…支持基板、７…光触媒層、７…光触媒層、７ａ…親水性領域、７ｂ…疎水性領域、９ｒ、９ｒ’，９ｇ，９ｇ’，９ｂ，９ｂ’…有機層パターン（転写材料パターン）、１１，１１ｒ，１１ｇ，１１ｂ…転写シート、２１…装置基板、３５ｒ…赤色発光素子（有機電界発光素子）、３５ｇ…緑色発光素子（有機電界発光素子）、３５ｂ…青色発光素子（有機電界発光素子）、３７…表示装置、Ｈ…光、ｈｒ…レーザ光（エネルギー線）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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