(57)【要約】【課題】表面平滑性、非タック性（表面ベトツキ抑制）及び臭気抑制に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を用いて得られるオーバープリント及びその製造方法を提供すること。【解決手段】（Ａ）光重合開始剤残基を有する高分子化合物、及び、（Ｂ）重合性化合物を含有することを特徴とする光硬化性コーティング組成物。前記高分子化合物の光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、オニウム塩、ボレート塩、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、アゾ化合物、過酸化物、ロフィン二量体及びベンゾイル化合物よりなる群から選択された残基を有することが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光重合開始剤残基を有する高分子化合物、及び、
（Ｂ）重合性化合物を含有することを特徴とする
光硬化性コーティング組成物。
【請求項２】
前記高分子化合物の光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、オニウム塩、ボレート塩、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、アゾ化合物、過酸化物、ロフィン二量体及びベンゾイル化合物よりなる群から選択された残基を有する、請求項１に記載の光硬化性コーティング組成物。
【請求項３】
可視域に実質的に吸収を有しない、請求項１又は２に記載の光硬化性コーティング組成物。
【請求項４】
オーバープリント用である、請求項１〜３いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物。
【請求項５】
電子写真印刷物のオーバープリント用である、請求項１〜４いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物。
【請求項６】
印刷物上に請求項１〜５いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有するオーバープリント。
【請求項７】
電子写真印刷物上に請求項１〜５いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有するオーバープリント。
【請求項８】
前記オーバープリント層の厚みが１μｍ以上１０μｍ以下である、請求項６又は７に記載のオーバープリント。
【請求項９】
印刷基材上に電子写真印刷して電子写真印刷物を得る工程、
前記電子写真印刷物上に請求項１〜５いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、
前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含む
オーバープリントの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、電子線、紫外線等の活性放射線の照射により硬化可能な光硬化性コーティング組成物に関する。特に、平版、凸版、凹版、スクリーン印刷、インクジェット、電子写真等の方法でインク及び／又はトナーを印刷基材（受像基材）上に配置して作成した画像に対してコーティングを行うための光硬化性コーティング組成物に関する。さらに詳しくは、電子写真法により印刷されたトナーベースの印刷物をコーティングするために特に好適に用いることができる光硬化性オーバープリント組成物（ｏｖｅｒｐｒｉｎｔ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光硬化性組成物、特に紫外線による硬化性組成物が多量に使用されてきている。例えば、印刷インキ、オーバーコートワニス、塗料、接着剤、フォトレジスト等を挙げることができる。
特に、電子写真法のようなトナーベースの画像情報の上にオーバープリントコーティングを施すことにより印刷物の保護性向上、光沢性付与された印刷物は銀塩写真プリントの代替商品として商品化されており、注目を集めている。
トナーベースの印刷物が得られる電子写真法とは、潜像保持体表面、例えば感光体（ｐｈｏｔｏｒｅｃｅｐｔｏｒ）に均一に帯電させることによって、静電荷を潜像保持体表面に形成させる。次いで、その均一帯電させた領域を、原稿の画像に対応する活性化照射のパターンにより選択的に電荷を逃がす。その表面に残る潜像電荷パターンは、照射に暴露されなかった領域に対応する。次いで、その感光体を、トナーを含む１つ又は複数の現像ハウジングに通すことにより、トナーが、静電引力によって電荷パターンで付着するので、その潜像電荷パターンが可視化される。次いでその現像された画像を、画像形成表面に定着させるか、又は、印刷基材、例えば紙に転写させ、適切な定着技術によりそれに定着させて、電子写真印刷物、すなわちトナーベースの印刷物が得られる。
【０００３】
印刷物を保護するための公知の方法としては、印刷物にオーバープリントコーティングを施すことが提案されている。例えば、特許文献１及び２には、電子写真法のような、トナーベースの画像の上に、透明トナーを転写した後に定着を行い、表面を被覆する方法が提案されている。
また、特許文献３には、紫外線などによって硬化させることが可能な液膜コーティングを施し、光によってコーティング成分を重合（架橋）させることにより、オーバープリントコーティングを施す方法が提案されている。
さらに、特許文献４には、三官能不飽和アクリル樹脂からなる群より選択される放射線硬化性オリゴマーと、１種又は複数のジ−アクリレート又はトリ−アクリレートを含む、多官能アルコキシル化アクリルモノマー又はポリアルコキシル化アクリルモノマー、からなる群より選択される放射線硬化性モノマーと、少なくとも１種の光重合開始剤と、少なくとも１種の界面活性剤と、を含むオーバープリント組成物が開示されている。
【０００４】
一方、重合開始剤に関してはカルボン酸を含有する重量平均分子量５０００以上の付加重合ポリマーと、水酸基を含有するフェニルケトン化合物とをエステル化反応させて得られる光開始剤が特許文献５に開示されている。
また、共重合可能なモノアクリレート光重合開始剤も特許文献６に開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−７０６４７号公報
【特許文献２】特開２００３−２４１４１４号公報
【特許文献３】特開昭６１−２１０３６５号公報
【特許文献４】特開２００５−３２１７８２号公報
【特許文献５】特開平７−３３８１１号公報
【特許文献６】欧州特許第３７７１９１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、表面平滑性、非タック性（表面ベトツキ抑制）及び臭気抑制に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を用いて得られるオーバープリント及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記課題は、以下の＜１＞、＜６＞〜＜８＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜５＞と共に以下に記載する。
＜１＞  （Ａ）光重合開始剤残基を有する高分子化合物、及び、（Ｂ）重合性化合物を含有することを特徴とする光硬化性コーティング組成物、
＜２＞  前記高分子化合物の光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、オニウム塩、ボレート塩、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、アゾ化合物、過酸化物、ロフィン二量体及びベンゾイル化合物よりなる群から選択された残基を有する、上記＜１＞に記載の光硬化性コーティング組成物、
＜３＞  可視域に実質的に吸収を有しない、上記＜１＞又は上記＜２＞に記載の光硬化性コーティング組成物、
＜４＞  オーバープリント用である、上記＜１＞〜上記＜３＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物、
＜５＞  電子写真印刷物のオーバープリント用である、上記＜１＞〜上記＜４＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物、
＜６＞  印刷物上に上記＜１＞〜上記＜５＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有するオーバープリント、
＜７＞  電子写真印刷物上に上記＜１＞〜上記＜５＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有するオーバープリント、
＜８＞  前記オーバープリント層の厚みが１μｍ以上１０μｍ以下である、上記＜６＞又は上記＜７＞に記載のオーバープリント、
＜９＞  印刷基材上に電子写真印刷して電子写真印刷物を得る工程、前記電子写真印刷物上に上記＜１＞〜上記＜５＞いずれか１つに記載の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含むオーバープリントの製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、表面平滑性、非タック性（表面ベトツキ抑制）、及び、臭気抑制に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を用いてして得られるオーバープリント及びその製造方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明を詳細に説明する。
＜光硬化性コーティング組成物＞
本発明の光硬化性コーティング組成物（以下、単に「コーティング組成物」ともいう。）は、（Ａ）光重合開始剤残基を有する高分子化合物、及び、（Ｂ）重合性化合物を含有することを特徴とする。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、可視域に実質的に吸収を有しないことが好ましい。「可視域に実質的に吸収を有しない」とは、４００〜７００ｎｍの可視域に吸収を有しないか、又は、光硬化性コーティング組成物として支障のない程度の吸収しか可視域に吸収を有しないことを意味する。具体的には、コーティング組成物の５μｍ光路長の透過率が、４００〜７００ｎｍの波長範囲において、７０％以上、好ましくは８０％以上であることを意味する。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、オーバープリント用として好適に使用することができ、印刷物、特に、電子写真印刷物のオーバープリント用として特に好適に使用することができる。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、画像部がトナー分の厚みを有する電子写真印刷物に対してオーバープリント層を形成する場合においても、非タック性及び表面平滑性に優れ、艶や光沢のあるオーバープリントを与え、視覚的に従来からの銀塩写真プリントに近い印象を与えることができる。
また、本発明の光硬化性コーティング組成物は、画像表面にフェザーオイル層が存在するトナー画像であっても、非タック性と表面平滑性に優れ、艶や光沢があり、反りの少ない柔軟性に富む画像印刷物を与え、視覚的に銀塩写真プリントに近いオーバープリントを得ることができる。
【００１０】
電子写真法のようなトナーベースの画像において、画像表面にフェザーオイル層が存在する場合には、印刷物表面が疎水的であり、かつ表面エネルギーが低いために、硬化性、表面平滑性、強度、保存安定性等の全てにおいて満足する光硬化性組成物を得ることは難しい現状にある。
しかしながら、本発明の光硬化性コーティング組成物は、画像表面にフェザーオイル層が存在するトナー画像であっても、非タック性と表面平滑性に優れ、艶や光沢があり、反りの少ない柔軟性に富む画像印刷物を与え、視覚的に銀塩写真プリントに近いオーバープリントを得ることができる。
【００１１】
また、特に、トナーベースの画像情報の上にオーバープリントコーティングを施して銀塩写真プリントの代替商品として扱う場合、一般消費者が直接手にするために、商品の臭気・安全性が重要な品質の一つとなる。
臭気発生の原因としては、重合性化合物モノマーのような揮発性を有する化合物の残存（未硬化モノマー）や、硬化性組成物と共重合性を有さないために、硬化皮膜における樹脂中に取り込まれない重合開始剤の分解物などが挙げられる。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、重合開始剤残基を有する高分子化合物を用いることにより、表面平滑性及び非タック性（表面ベタツキ抑制）に優れ、かつ、オーバープリントにおける臭気を抑制することができた。
【００１２】
（Ａ）光重合開始剤残基を有する高分子化合物
本発明の光硬化性コーティング組成物（以下、単に「コーティング組成物」ともいう。）は、光重合開始剤残基を有する高分子化合物（以下、「特定開始剤」ともいう。）を含有することを特徴とする。
ここでいう光重合開始剤とは、光エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進させる、従来より知られている光重合開始剤の機能を有する化合物、及び、光エネルギーにより酸を発生し、カチオン重合を生起する化合物を指す。
光重合開始剤残基を有する高分子化合物は、光重合開始剤残基を含むモノマー単位を有し、該モノマー単位は、オニウム塩、ボレート塩、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、アゾ化合物、過酸化物、ロフィン二量体及びベンゾイル化合物よりなる群から選択された残基を有することが好ましい。
以下詳述する。
【００１３】
（オニウム型特定開始剤）
本発明で用いられる特定開始剤の好ましい例として、オニウム塩をモノマー単位として有する開始剤（オニウム型特定開始剤）が挙げられる。なお、オニウム塩のカチオン母核を側鎖に有する高分子化合物でもよく、カウンターアニオンを側鎖に有する高分子化合物であってもよい。
＜カウンターアニオンを側鎖に有するオニウム型特定開始剤＞
カウンターアニオンを側鎖に有するオニウム型特定開始剤としては、下記式（Ｉ）で表される構造を有する高分子化合物を挙げることができる。
＊−Ｚ-  Ｍ+                式（Ｉ）
【００１４】
ここで、式（Ｉ）中、Ｚ-は、ＣＯＣＯＯ-、ＣＯＯ-、ＳＯ3-、又は、ＳＯ2−Ｎ-−Ｒを表し、Ｒは一価の有機基を表す。一価の有機基としては、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、カルボキシル基、Ｒ1−ＣＯ−Ｏ−、Ｒ1−Ｏ−ＣＯ−、Ｒ1−Ｏ−、Ｒ1−Ｓ−、Ｒ1−ＣＯ−（ここで、Ｒ1は炭素数２０以下の脂肪族基（例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等）又は芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）である。）が挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、プロピル基、Ｒ1−ＣＯ−Ｏ−、Ｒ1−ＣＯ−が好ましく挙げられる。これら一価の有機基はさらに水酸基、カルボキシル基、Ｒ1−ＣＯ−Ｏ−、Ｒ1−Ｏ−ＣＯ−、Ｒ1−Ｏ−、Ｒ1−Ｓ−、Ｒ1−ＣＯ−（ここで、Ｒ1は炭素数２０以下の脂肪族基（例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等）又は芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）である。）よりなる群から選択される置換基を有していてもよい。
【００１５】
Ｍ+は、オニウムカチオンを表す。具体的には、スルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アジニウム、ホスホニウム、アンモニウムなどから選択されるカチオンである。
また、＊は、側鎖への結合位置を示す。
【００１６】
ここでアジニウムとは、その構造内に窒素原子を含む六員環であるアジン環を有するものであり、ピリジニウム、ジアジニウム、トリアジニウムを含む。また、アジニウムはアジン環と縮合した１個以上の芳香族環をも含むものであり、例えば、キノリニウム、イソキノリニウム、ベンゾアジニウム、ナフトアジニウムなどを包含する。具体的には、例えば、米国特許第４，７４３，５２８号明細書、特開昭６３−１３８３４５号、同６３−１４２３４５号、同６３−１４２３４６号、特公昭４６−４２３６３号の各公報に記載されているものが挙げられ、１−メトキシ−４−フェニルピリジニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩類などを形成する対カチオンが例示される。
【００１７】
また、本発明における好ましいオニウムカチオンとしては、下記式（ＲＩ−１）〜（ＲＩ−３）で表されるジアゾニウムイオン、ヨードニウムイオン、スルホニウムイオンが挙げられる。
【００１８】
【化１】
2009209275.tif 000002
【００１９】
式（ＲＩ−１）中、Ａｒ11は、置換基を１〜６有していてもよい炭素原子数２０以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルケニル基、炭素原子数１〜１２のアルキニル基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素原子数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素原子数６〜１２のアリールアミノ基、炭素原子数１２〜２４のジアリールアミノ基、炭素原子数１２以下のアルキルアミド基又はアリールアミド基、炭素原子数１〜１２のアルキルカルボニル基、炭素数１〜１２のアリールカルボニル基、カルボキシ基、シアノ基、スルホニル基、炭素原子数１２以下のチオアルキル基、炭素原子数１２以下のチオアリール基が挙げられる。
【００２０】
式（ＲＩ−２）中、Ａｒ21とＡｒ22は、それぞれ独立に、置換基を１〜６有していてもよい炭素原子数２０以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルケニル基、炭素原子数１〜１２のアルキニル基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素原子数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素原子数１２以下のアルキルアミド基又はアリールアミド基、炭素原子数１２以下のアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基、カルボキシ基、シアノ基、スルホニル基、炭素原子数１２以下のチオアルキル基、炭素原子数１２以下のチオアリール基が挙げられる。
【００２１】
式（ＲＩ−３）中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を１〜６有していてもよい炭素原子数２０以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、反応性、安定性の面からアリール基であることが好ましい。導入可能な好ましい置換基としては、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルケニル基、炭素原子数１〜１２のアルキニル基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素原子数１〜１２のジアルキルアミノ基、炭素原子数１２以下のアルキルアミド基又はアリールアミド基、炭素原子数１２以下のアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシ基、シアノ基、スルホニル基、炭素原子数１２以下のチオアルキル基、炭素原子数１２以下のチオアリール基、水酸基が挙げられる。
反応性の面から、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、いずれもアリール基で、これらのうち少なくとも１つはハメットの置換基定数（σ）が０より大きい置換基を有することが好ましい。
【００２２】
前記オニウムのなかでも、反応性と安定性のバランスから下記式（ＲＩ−４）で表されるスルホニウムカチオンが最も好ましい。
【００２３】
【化２】
2009209275.tif 000003
【００２４】
上記式（ＲＩ−４）中、Ｒ1は炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、Ｘ1、Ｘ2はそれぞれ独立にハロゲン原子を表す。
【００２５】
このような構造をポリマーに連結する場合、Ｚ-がポリマーに連結されていることが好ましい。主鎖となるポリマーには特に制限はなく、ウレタンポリマー、アミドポリマー、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、スチレンポリマー、ブチラールポリマー、ノボラック樹脂等いずれのポリマーでもよい。
【００２６】
これらのポリマー主鎖を構成するモノマー単位の少なくとも一部に前記式（Ｉ）で表される側鎖構造を有するものが存在すればよい。
本発明において、特定開始剤は、前記式（Ｉ）で表される側鎖構造を有しないモノマー単位（構造単位）を有していてもよいが、式（Ｉ）で表される側鎖構造を有するモノマー単位（構造単位）が少なくとも５０モル％以上であることが好ましく、６０モル％以上であることがより好ましく、７０モル％以上であることがより好ましく、８０モル％以上であることが特に好ましい。
カウンターアニオンを側鎖に有するオニウム型特定開始剤としては、下記式（II）で表されるモノマー単位（構造単位）を有する高分子化合物であることが好ましい。
【００２７】
【化３】
2009209275.tif 000004
【００２８】
式（II）中、Ｘは、水素原子又は一価の有機基を表す。Ｘが一価の有機基を表すとき、Ｘとしては、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、スルホニル基、スルホネート基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨＲ1、−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ1、Ｒ1−ＣＯ−ＮＨ−、Ｒ1−ＣＯ−Ｏ−、Ｒ1−Ｏ−ＣＯ−、Ｒ1−Ｏ−、Ｒ1−Ｓ−（ここで、Ｒ1は炭素数２０以下の脂肪族基（例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）又は芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基））が例示できる。
なかでも、Ｘとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、Ｒ1−ＣＯ−Ｏ−、Ｒ1−Ｏ−ＣＯ−、カルボキシル基が好ましく挙げられる。なお、一価の有機基はさらに置換されていてもよく、該置換基としては、Ｘで挙げた一価の有機基が例示できる。
【００２９】
Ｙは単結合又は二価の有機連結基を表す。Ｙが単結合の場合、この側鎖構造であるＺ-は単結合でポリマー主鎖に連結することになる。Ｙとしては、例えば、エーテル結合（−Ｏ−）、−ＳＯ2−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−ＮＨ−、炭素数１〜１４のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基や、これらの基を組み合わせた基（例えば、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−）などが挙げられ、これらの有機連結基は、さらに、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、スルホネート基、アミド基、スルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、水酸基、アルキルアミド基、アリールアミド基、Ｎ−アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ハロゲン原子、アミノ基又はこれらを２〜５組み合わせた置換基で置換されていてもよい。
Ｚ-は、ＣＯＣＯＯ-、ＣＯＯ-、ＳＯ3-、又は、ＳＯ2−Ｎ-−Ｒを表し、ここでＲは一価の有機基を表すが、この一価の有機基は、前記Ｘにおける一価の有機基と同義である。反応性と安定性とのバランスの観点からはＺ-がＣＯＣＯＯ-構造であることが好ましい。
Ｍ+は、オニウムカチオンを表す。具体的には、スルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アジニウム、ホスホニウム、アンモニウムなどから選択されるカチオンである。
【００３０】
本発明において、特定開始剤は、式（Ｉ）で表される側鎖構造を有するモノマー単位、また、その好ましい例である式（II）で表されるモノマー単位のみで構成されていてもよいが、他のさまざまな公知のモノマーとの共重合体であってもよい。
【００３１】
＜カチオン母核を側鎖に有するオニウム型特定開始剤＞
特定開始剤は、オニウム塩のカチオン母核を側鎖に有する高分子化合物であってもよく、カチオン母核を側鎖に有するオニウム型特定開始剤としては、下記式（III）で表される構造を有する高分子化合物を挙げることができる。
＊−Ｍ+  Ｚ-                式（III）
【００３２】
ここで、Ｍ+はオニウムカチオンを表す。具体的には、スルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アジニウム、ホスホニウム、アンモニウムなどから選択されるカチオンである。Ｍ+として好ましくは、ジアゾニウム及び／又はアジニウムが例示できる。
【００３３】
Ｚ-は、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホン酸イオン、及び、カルボン酸イオンからなる群より選択される対イオンである。具体的には、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-及びＣＦ3ＳＯ3-、並びに、−ＣＯＣＯＯ-、−ＣＯＯ-、−ＳＯ3-、及び、−ＳＯ2−Ｎ-−Ｒ1（ここで、Ｒ1は炭素数２０以下の脂肪族基（例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）又は芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基））を有する有機アニオンが例示できる。
＊は、側鎖への結合位置を示す。
【００３４】
オニウム塩のカチオン母核を側鎖に有する特定開始剤としては、下記式（IV）で表されるモノマー単位を有する高分子化合物を挙げることができる。
【００３５】
【化４】
2009209275.tif 000005
【００３６】
式（IV）中、Ｘ及びＹは式（II）におけるＸ及びＹとそれぞれ同義であり、その好ましい範囲も同じである。
式（IV）中、Ｍ+はオニウムカチオンを表す。具体的には、スルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アジニウム、ホスホニウム又はアンモニウムである。Ｍ+として好ましくは、ジアゾニウム及び／又はアジニウムが例示できる。
式（IV）中、Ｚ-は、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホン酸イオン、及び、カルボン酸イオンからなる群より選択される対イオンである。具体的には、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-及びＣＦ3ＳＯ3-、並びに、−ＣＯＣＯＯ-、−ＣＯＯ-、−ＳＯ3-、及び、−ＳＯ2−Ｎ-−Ｒ1（ここで、Ｒ1は炭素数２０以下の脂肪族基（例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）又は芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基））を有する有機アニオンが例示できる。
【００３７】
式（IV）中、Ｍ+としては、アジニウムが好ましく例示でき、Ｍ+としては、アジニウム化合物から水素原子を１つ除いた残基が例示できる。なお、アジニウム化合物とは、その構造内に窒素原子を含む六員環であるアジン環を有するものであり、ピリジニウム、ジアジニウム、トリアジニウムから１つの水素原子を除いた基を有する化合物が例示できる。また、アジニウム化合物はアジン環と縮合した１個以上の芳香族環をも含み、例えば、キノリニウム、イソキノリニウム、ベンゾアジニウム、ナフトアジニウムから水素原子を１つ除いた基を有する化合物などを包含する。また、これらの残基は、環上の水素原子がさらに置換されていてもよい。
本発明において、Ｍ+は、以下の式（V-1）で表されるピリジニウム残基であることが好ましい。
【００３８】
【化５】
2009209275.tif 000006
【００３９】
前記式（V-1）中、Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基を表し、該アルキル基及びアリール基は、さらに置換されていても良い。該置換基としてはハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜２０のアルキル基が例示できる。また、トリアジン環は、置換されていてもよく、該置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２以下のアルキル基、炭素原子数１２以下のアルコキシ基、炭素原子数１２以下のアリールオキシ基、炭素原子数１２以下のアルキルアミノ基、炭素数１２以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数１２以下のアリールアリールアミノ基、又は、炭素数１２以下のジアリールアミノ基が例示できる。
【００４０】
Ｍ+がアジニウムである特定開始剤は、エチレン性不飽和基を有するアジニウム塩を重合することにより得ることができる。なお、前記特定開始剤は、ホモポリマーに限定されず、コポリマーとすることができる。共重合可能なモノマーは、特に限定されない。
【００４１】
式（IV）中、Ｍ+としては、ジアゾニウムが好ましく例示でき、側鎖にジアゾ基（−Ｎ+≡Ｎ）を有していれば特に限定されないが、以下の式（V-2）に示す構造を有することが好ましい。
【００４２】
【化６】
2009209275.tif 000007
【００４３】
式（V-2）中、Ｒ51は置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリーレン基を表す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数１２以下のアルキル基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素数１２以下のアリールオキシ基、炭素数１２以下のアルキルアミノ基、炭素数１２以下の時アルキルアミノ基、炭素数１２以下のアリールアミノ基、又は、炭素数１２以下のジアリールアミノ基が例示できる。
【００４４】
本発明において、特定開始剤は、式（III）で表される側鎖構造を有するモノマー単位、また、その好ましい例である式（IV）で表されるモノマー単位のみで構成されていてもよいが、他のさまざまな公知のモノマーとの共重合体であってもよい。共重合可能なモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるラジカル重合性のモノマー単位が挙げられる。
【００４５】
（非オニウム型特定開始剤）
非オニウム型特定開始剤の好ましい例としては、重合開始剤残基を含むモノマー単位が、ボレート塩、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、アゾ化合物、過酸化物、ロフィン二量体及びベンゾイル化合物よりなる群から選択された残基を有する特定開始剤が挙げられる。これらの中でも、ボレート塩、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、アゾ化合物、過酸化物及びロフィン二量体がより好ましく、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、過酸化物及びロフィン二量体がより好ましい。
以下、それぞれについて詳述する。
【００４６】
＜ボレート塩特定開始剤＞
重合開始剤残基を含むモノマー単位がボレート塩化合物残基である特定開始剤（ボレート塩特定開始剤ともいう。）としては、下記式（VI）で表されるモノマー単位を有する特定開始剤が好ましい。
【００４７】
【化７】
2009209275.tif 000008
【００４８】
式（VI）中、Ｒ61、Ｒ62、及び、Ｒ63は互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、又は、置換もしくは非置換の複素環基を表し、Ｒ61、Ｒ62、及び、Ｒ63はその２個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。Ｚ+はアルカリ金属カチオン又は第４級アンモニウムカチオンを示す。また、Ｘ及びＹは式（II）におけるＸ及びＹと同義であり、好ましい範囲も同様である。ただし、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63及びＹのうち、少なくとも１つは、ホウ素との連結基が飽和脂肪族基である。
【００４９】
上記Ｒ61〜Ｒ63のアルキル基としては、直鎖、分枝、環状のものが含まれ、炭素原子数１〜１８のものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子（例えば−Ｃｌ、−Ｂｒなど）、シアノ基、ニトロ基、アリール基（好ましくはフェニル基）、ヒドロキシ基、−ＮＲ64Ｒ65（Ｒ64及びＲ65はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基、又は、アリール基を表す。）、−ＣＯＯＲ66（Ｒ66は水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基、又は、アリール基を表す。）、−ＯＣＯＲ67又は−ＯＲ68（ここでＲ67及びＲ68は、炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を表す。）を置換基として有するものが含まれる。
上記Ｒ61〜Ｒ63のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などの１〜３環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数１〜１４のアルキル基を有するものが含まれる。
上記Ｒ61〜Ｒ63のアルケニル基としては、炭素数２〜１８の直鎖、分枝、環状のものが含まれ。置換アルケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。
上記Ｒ61〜Ｒ63のアルキニル基としては、炭素数２〜２８の直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。
また、上記Ｒ61〜Ｒ63の複素環基としてはＮ、Ｓ又はＯの少なくとも１つを含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。さらに置換基として前述の置換アリール基の置換基として挙げたものを有していてもよい。
これらの中でも、Ｒ61〜Ｒ63がフェニル基であることが好ましい。
【００５０】
＜イミド構造を有する特定開始剤＞
本発明において、特定開始剤は、光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、イミド構造を有する化合物の残基を有する高分子化合物（以下、「イミド構造を有する特定開始剤」ともいう。）とすることができる。
イミド構造を有する特定開始剤としては、イミド残基を側鎖に有する高分子化合物が例示でき、下記式（VII）で表されるモノマー単位を有する特定開始剤であることが好ましい。
【００５１】
【化８】
2009209275.tif 000009
【００５２】
式（VII）中、Ｘ及びＹは式（II）におけるＸ及びＹとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（VII）中、Ｒ70はイミド残基を表し、下記式（VII-1）〜（VII-4）で表されるイミド残基が例示できる。
【００５３】
【化９】
2009209275.tif 000010
式（VII-1）〜式（VII-4）中、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73及びＲ74は、カルボニル基、又は、−ＳＯ2−を表す。
【００５４】
また、イミド構造を有する特定開始剤は、イミド構造及びエチレン性不飽和基を有するモノマーを重合することにより得ることができる。イミド構造を有する特定開始剤は、ホモポリマーに限定されず、コポリマーとすることができ、共重合可能なモノマーは、特に限定されない。
【００５５】
＜トリアジン構造を有する特定開始剤＞
本発明において、特定開始剤は、光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、トリアジン構造を有する化合物の残基を有する高分子化合物（以下、「トリアジン構造を有する特定開始剤」ともいう。）とすることができる。
トリアジン構造を有する特定開始剤としては、トリアジン残基を側鎖に有する高分子化合物が例示でき、下記式（VIII）で表されるモノマー単位を有する特定開始剤であることが好ましい。
【００５６】
【化１０】
2009209275.tif 000011
【００５７】
式（VIII）中、Ｘ及びＹは、式（II）におけるＸ及びＹとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（VIII）中、Ｒ８０はトリアジン残基を表し、該トリアジン残基は下記式（VIII-1）で表される基であることが好ましい。
【００５８】
2009209275.tif 000012
【００５９】
上記式（VIII-1）中、Ｒは一価の置換基を表し、該置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基が例示できる。前記アルキル基及びアリール基はさらに置換されていてもよく、該置換基としては、ハロゲン原子が例示できる。ｎは０〜２の整数を表す。
トリアジン構造を有する特定開始剤としては、モノマー単位がこれらの基を側鎖に有する高分子化合物が例示でき、主鎖との結合としては、単結合又は前記式（II）におけるＹと同様な連結基による結合が例示できる。
また、トリアジン構造を有する特定開始剤は、トリアジン構造及びエチレン性不飽和基を有するモノマーを重合することにより得ることができる。トリアジン構造を有する特定開始剤は、ホモポリマーに限定されず、コポリマーとすることができ、特に限定されない。
【００６０】
＜アゾ特定開始剤＞
本発明において、特定開始剤は、光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、アゾ化合物の残基を有する高分子化合物（以下、「アゾ特定開始剤」ともいう。）とすることができる。
アゾ化合物としては、構造内にアゾ基（−Ｎ＝Ｎ−）を有するものであれば特に限定されない。アゾ特定開始剤としては、モノマー単位がアゾ基を主鎖に有する高分子化合物であってもよく、また、側鎖に有する高分子化合物であってもよい。これらの中でもアゾ基を主鎖に有する化合物であることが好ましい。
好ましくは、以下の式（IX）で表される部分構造を主鎖内に有する特定開始剤が例示できる。
【００６１】
【化１１】
2009209275.tif 000013
【００６２】
式（IX）中、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93、及び、Ｒ94は、それぞれ独立に炭素数１２以下のアルキル基又はシアノ基を表し、炭素数１〜４のアルキル基又はシアノ基であることが好ましく、メチル基又はシアノ基であることがさらに好ましい。
アゾ特定開始剤は特開２００５−０９７５１８号公報に記載の方法を参照して合成することができる。
【００６３】
＜過酸化物特定開始剤＞
本発明において、特定開始剤は、光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、過酸化物の残基を有する高分子化合物（以下、「過酸化物特定開始剤」ともいう。）とすることができる。
過酸化物としては、その構造内に−Ｏ−Ｏ−の構造を有していれば特に限定されないが、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−Ｏ−Ｈの構造を有するものがより好ましい。
過酸化物特定開始剤としては、下記式（Ｘ）で表されるモノマー単位を有する特定開始剤であることが好ましい。
【００６４】
【化１２】
2009209275.tif 000014
【００６５】
式（Ｘ）中、Ｘ及びＹは、前記式（II）におけるＸ及びＹとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ100は以下の式（X-1）で表される
【００６６】
【化１３】
2009209275.tif 000015
【００６７】
＜ロフィン二量体特定開始剤＞
本発明において、特定開始剤は、光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、ロフィン二量体の残基を有する高分子化合物（以下、「ロフィン二量体特定開始剤」ともいう。）とすることができる。
ロフィン二量体特定開始剤は、下記式（XI）に示すモノマー単位を有することが好ましい。
【００６８】
【化１４】
2009209275.tif 000016
【００６９】
式（XI）中、Ｘ及びＹは式(II)におけるＸ及びＹとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
また、式（XI）中、Ｒ110は以下の式（XI-1）に示す構造から、１つの水素原子を除いた基（ロフィン二量体残基）である。
【００７０】
【化１５】
2009209275.tif 000017
【００７１】
式（XI-1）中、Ｘ、Ｙ及びＺはそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、ｐ、ｑ及びｒは０〜５の整数である。
また、ロフィン二量体特定開始剤は、ロフィン二量体残基及びエチレン性不飽和基を有するモノマーを重合することにより得ることができる。ロフィン二量体特定開始剤は、ホモポリマーに限定されず、コポリマーとすることができ、共重合可能なモノマーは、特に限定されない。
【００７２】
＜ベンゾイル特定開始剤＞
本発明において、特定開始剤は、光重合開始剤残基を含むモノマー単位が、ベンゾイル化合物の残基を有する高分子化合物（以下、「ベンゾイル特定開始剤」ともいう。）とすることができる。
ベンゾイル化合物としては、ベンゾイル基を有する化合物であれば特に限定されないが、下記式（XII）に示すモノマー単位を有することが好ましい。
【００７３】
【化１６】
2009209275.tif 000018
【００７４】
式（XII）中、Ｘ及びＹは、式（II）におけるＸ及びＹとそれぞれ同義であり、その好ましい範囲も同様である。Ｒ120は、以下の式(XII-1)〜式（XII-3）で表される基である。
【００７５】
【化１７】
2009209275.tif 000019
【００７６】
上記式（XII-1）〜式（XII-3）中、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125及びＲ127は、それぞれ独立にハロゲン原子、カルボキシル基、炭素原子数１２以下のアルキル基、炭素原子数１２以下のアルコキシ基、炭素原子数１２以下のアリールオキシ基、炭素数１２以下のアルキルチオ基、炭素数１２以下のアリールチオ基、炭素数１２以下のジアルキルアミノ基、炭素数１２以下のアシルオキシ基、又は、炭素数１２以下のアリールオキシカルボニル基を表し、前記アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基及びアリールオキシ基は、さらに置換されていてもよく、該置換基としては、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125及びＲ127で挙げた基が例示できる。ｎは０〜５の整数を表し、ｍは０〜４の整数を表す。また、Ｒ121とＲ122は、互いに結合して環を形成してもよく、形成される環は、硫黄原子、窒素原子を含む複素環であってもよい。
式（XII-3）中、Ｒ126は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、これらの中でも、Ｒ121として好ましくは、ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ジアルキルアミノ基、アリールチオ基が例示できる。
【００７７】
ベンゾイル特定開始剤は、上記式（XII）で表されるモノマー単位のホモポリマーに限定されず、コポリマーとすることができ、共重合可能なモノマーは、特に限定されない。
【００７８】
（共重合成分）
本発明において、特定開始剤は、光重合開始剤残基を有するモノマー単位のみを有するホモポリマーであってもよく、また他のモノマー単位を含むコポリマーとすることができる。共重合可能なモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるラジカル重合性のモノマー単位が挙げられる。
具体的には、例えば、アルキルアクリレート（該アルキル基の炭素原子数は１〜２０のものが好ましい）等のアクリル酸エステル類、（具体的には、例えば、ベンジルアクリレート、４−ビフェニルアクリレート、ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、４−ｔ−ブチルフェニルアクリレート、４−クロロフェニルアクリレート、ペンタクロロフェニルアクリレート、４−シアノベンジルアクリレート、シアノメチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、エチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ヘプチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、イソボロニルアクリレート、イソプロピルアクリレート、メチルアクリレート、３，５−ジメチルアダマンチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、ネオペンチルアクリレート、オクチルアクリレート、フェネチルアクリレート、フェニルアクリレート、プロピルアクリレート、トリルアクリレート、アミルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、アリルアクリレート、２−アリロキシエチルアクリレート、プロパギルアクリレートなど）
【００７９】
アルキルメタクリレート（該アルキル基の炭素原子は１〜２０のものが好ましい）等のメタクリル酸エステル類（例えば、ベンジルメタクリレート、４−ビフェニルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、４−ｔ−ブチルフェニルメタクリレート、４−クロロフェニルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、４−シアノフェニルメタクリレート、シアノメチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、エチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ヘプチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、メチルメタクリレート、３，５−ジメチルアダマンチルメタクリレート、２−ナフチルメタクリレート、ネオペンチルメタクリレート、オクチルメタクリレート、フェネチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、プロピルメタクリレート、トリルメタクリレート、アミルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−アリロキシエチルメタクリレート、プロパギルメタクリレートなど）
【００８０】
アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド等のアクリルアミド類（例えば、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、モルホリルアクリルアミド、ピペリジルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ナフチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−アリルアクリルアミド、Ｎ−プロパギルアクリルアミド、４−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、２−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｓｅｃ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロパギルアクリルアミドなど）
【００８１】
メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド等のメタクリルアミド類（例えば、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、モルホリルメタクリルアミド、ピペリジルメタクリルアミド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ナフチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−アリルメタクリルアミド、Ｎ−プロパギルメタクリルアミド、４−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、２−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｓｅｃ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロパギルメタクリルアミドなど）
【００８２】
スチレン、アルキルスチレン等のスチレン類、（例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン（例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレンなど）、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。
【００８３】
これら重合性のモノマー単位のうち、好適に使用されるのは、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類であり、特に好適に使用されるのは、ベンジルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、４−ｔ−ブチルフェニルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、４−シアノフェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、エチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、メチルメタクリレート、３，５−ジメチルアダマンチルメタクリレート、２−ナフチルメタクリレート、ネオペンチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、モルホリルアクリルアミド、ピペリジルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ナフチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−アリルアクリルアミド、４−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、２−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、モルホリルメタクリルアミド、ピペリジルメタクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ナフチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−アリルメタクリルアミド、４−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、２−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルメタクリルアミド、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、シクロへキシルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン等である。
【００８４】
これらの共重合成分は、１種あるいは２種以上用いることができる。また、特定開始剤が共重合体であるとき、共重合成分の好適に使用される含有量は、０〜６０モル％であることが好ましく、より好ましくは０〜５０モル％であり、さらに好ましくは０〜４０モル％であり、特に好ましくは、０〜２０モル％である。共重合成分が６０モル％以下であると、反応性が高く、非タック性（表面ベタツキ抑制）に優れるので好ましい。換言すれば、光重合剤残基を有するモノマー単位が４０〜１００モル％であることが好ましく、より好ましくは５０〜１００モル％であり、さらに好ましくは６０〜１００モル％であり、特に好ましくは８０〜１００モル％である。
【００８５】
本発明の特定開始剤の好ましい重量平均分子量Ｍｗは、１，０００〜１００，０００であり、さらに好ましくは３，０００〜７０，０００の範囲であり、最も好ましくは４，０００〜４０，０００の範囲である。分子量が１，０００以上であると、特定開始剤及びその分解物の揮発性が低く、臭気抑制効果が高いので好ましい。また、分子量が１００，０００以下であると光硬化性コーティング組成物の粘度が低く、優れた表面平滑性を得ることができるので好ましい。
【００８６】
本発明において、オニウム型特定開始剤及び非オニウム型特定開始剤のいずれを用いることもできるが、光重合開始剤残基を有するモノマー単位が、オニウム塩、ボレート塩、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、アゾ化合物、過酸化物、ロフィンニ量体、ベンゾイル化合物よりなる群から選択された残基を有することが好ましく、オニウム塩、ボレート塩、イミド構造を有する化合物、トリアジン構造を有する化合物、アゾ化合物、過酸化物及びロフィンニ量体よりなる群から選ばれた残基を有することがより好ましく、オニウム塩残基を有することがさらに好ましい。前記特定開始剤を用いると、硬化性が高く、また、臭気の発生が少ないので好ましい。
【００８７】
以下、本発明に係る特定開始剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。例示化合物（Ｉ−１）〜（ＩＶ−７）はスルホニウム系及びヨードニウム系化合物、例示化合物（Ｎ−１）〜（Ｎ−１１）、及び、（Ｎ−１３）〜（Ｎ−３０）はジアゾニウム系の特定開始剤、イミド構造を有する特定開始剤、アジニウム系の特定開始剤、トリアジン構造を有する特定開始剤、ベンゾイン特定開始剤、アゾ特定開始剤、過酸化物特定開始剤、ロフィン二量体特定開始剤、ボレート塩特定開始剤である。
また、各構造単位に記載された数値は重合モル比を表し、１００は当該モノマー単位のみで構成されたホモポリマーであることを意味する。
【００８８】
【化１８】
2009209275.tif 000020
【００８９】
【化１９】
2009209275.tif 000021
【００９０】
【化２０】
2009209275.tif 000022
【００９１】
【化２１】
2009209275.tif 000023
【００９２】
【化２２】
2009209275.tif 000024
【００９３】
【化２３】
2009209275.tif 000025
【００９４】
【化２４】
2009209275.tif 000026
【００９５】
【化２５】
2009209275.tif 000027
【００９６】
【化２６】
2009209275.tif 000028
【００９７】
【化２７】
2009209275.tif 000029
【００９８】
【化２８】
2009209275.tif 000030
【００９９】
【化２９】
2009209275.tif 000031
【０１００】
【化３０】
2009209275.tif 000032
【０１０１】
【化３１】
2009209275.tif 000033
【０１０２】
【化３２】
2009209275.tif 000034
【０１０３】
【化３３】
2009209275.tif 000035
【０１０４】
【化３４】
2009209275.tif 000036
【０１０５】
【化３５】
2009209275.tif 000037
【０１０６】
【化３６】
2009209275.tif 000038
【０１０７】
【化３７】
2009209275.tif 000039
【０１０８】
特定開始剤は、公知の方法を用いて容易に合成することができる。以下に具体例（Ｉ−１）の合成例を挙げる。
（特定開始剤（Ｉ−１）の合成）
室温で塩化アルミニウム１３３ｇとニトロベンゼン３５０ｍｌを混合し、０〜１０℃に保つ。０〜１０℃でクロロギ酸エチル１３６．５ｇを１５分で滴下し、１５分撹拌後、２，６−ジメチルフェノール１１６．１ｇをニトロベンゼン１５０ｍｌに溶解して０〜１０℃に保ち、３０分で滴下する。０〜１０℃で２時間撹拌後、室温で１時間撹拌する。氷水２Ｌに濃塩酸６０ｍｌを混合し、ここへ反応液を静かに投入する。酢酸エチル１５００ｍｌで抽出後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮、さらにニトロベンゼンを減圧留去することで固体が得られる。この固体をジイソプロピルエーテル３００ｍｌでリスラリー、ろ過することにより下記固体（Ａ）を１４９ｇ得た（収率：６６．８％）。
【０１０９】
【化３８】
2009209275.tif 000040
【０１１０】
上記固体（Ａ）  １１１ｇをピリジン８０ｇに溶解させ、０〜１０℃に冷却し、ｐ−スチレンスルホニルクロリド１５２ｇを滴下する。滴下後、０〜１０℃で２時間、室温で２時間撹拌し、氷水２Ｌに濃塩酸８０ｍｌを混合し、ここへ反応液をアセトン１５０ｍｌで薄め静かに投入すると、固体が析出し、ろ過を行いろ物をメタノール３００ｍｌでリスラリーすることにより、下記固体（Ｂ）を１５１ｇ得た（収率：７７．５％）。
【０１１１】
【化３９】
2009209275.tif 000041
【０１１２】
上記固体（Ｂ）３１．０７ｇをメチルエチルケトン６４ｇに溶解させ、窒素雰囲気下、７０℃で撹拌し、和光純薬製重合開始剤Ｖ−６５を０．６４ｇ加え、２時間撹拌し、さらにＶ−６５を０．３２ｇ加え、２時間撹拌し、さらにＶ−６５を０．１６ｇ加え２時間撹拌する。室温に冷却後、２−プロパノールを５％含むヘキサン溶液１ｋｇへ投入することにより、ポリマー体２７ｇが得られた。該ポリマー７ｇをＤＭＡｃ３０ｍｌ、１−メトキシ−２−プロパノール７０ｍｌに溶解させ、室温で水酸化カリウム１．０２ｇの水７０ｍｌの水溶液を滴下し、２時間撹拌後、氷水５００ｍｌ濃塩酸２０ｍｌの混合溶液へ投入することにより、カルボン酸の個体が析出し、ろ過乾燥することにより、ＣＯＣＯＯＨユニットを有するポリマー（Ｃ）が得られた。
【０１１３】
【化４０】
2009209275.tif 000042
【０１１４】
【化４１】
2009209275.tif 000043
【０１１５】
上記スルホニウム塩（Ｄ）１．４２ｇをメタノール５０ｍｌに溶解し、酸化銀０．７２ｇを投入し、室温で４時間撹拌する。撹拌後、ろ過し、さらにろ液を０．１μｍのフィルターでろ過を行い、ろ液へ上記ポリマー（Ｃ）のアセトン５０ｍｌ、メタノール１０ｍｌの溶液を滴下し、滴下後、濃縮すると半固体が析出する。半固体を酢酸エチル、ジイソプロピルエーテルで洗浄することで特定開始剤（Ｉ−１）が得られた。上記特定開始剤（Ｉ−１）を東ソー（社）製ＴＳＫ−ＧＥＬα−カラムにより、分子量を測定したところ、Ｍｗ＝６，３００であった。
上記と同様の手法、又は公知の酸基含有ポリマーを用いることにより、各種の特定開始剤を合成することが可能である。
【０１１６】
（非オニウム型特定開始剤の合成例（Ｎ−１４））
以下の重合性モノマー（１）（０．２モル）及び２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬社製）（０．０１モル）の１−メトキシ−２−プロパノ−ル（３００ｇ）溶液を、窒素気流下、５０℃の１−メトキシ−２−プロパノ−ル（３００ｇ）中に６時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに５０℃で１８時間撹拌し、本発明の化合物Ｎ−１４を得た。得られたポリマー（Ｐ−１）はＮＭＲにより構造を同定した。
【０１１７】
【化４２】
2009209275.tif 000044
【０１１８】
本発明において、これらの特定開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の光硬化性コーティング組成物全固形物中に含まれる特定開始剤の含有量は１〜４０重量％であることが好ましく、５〜３５重量％であることがよりに好ましく、５〜３０重量％であることが最も好ましい。添加量が１重量％以上であると、感度に優れ、非タック性（表面ベトツキ）性が向上するので好ましい。また、４０重量％以下であると、粘度が適当で、良好な表面平滑性を得ることができるので好ましい。
なお、光コーティング組成物全固形物とは、光硬化性コーティング組成物から溶媒を除いた全成分を意味する。
特定開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１９】
本発明の光硬化性コーティング組成物には、必要に応じて、本発明の効果を妨げない範囲において公知の重合開始剤であるトリアジン化合物、ボレート化合物、アゾ化合物、過酸化物、ロフィンダイマー、アシルフォスフィン化合物等を添加することができる。これらの化合物は光硬化性コーティング組成物に含まれる、前記特定開始剤も含めた開始剤の全量の０〜３０重量％、好ましくは０〜１０重量％の範囲で添加することができる。
【０１２０】
本発明において用いられる（Ａ）特定開始剤は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、さらに３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、透明性の高いコーティング組成物が得られる。
【０１２１】
（Ｂ）重合性化合物
本発明のコーティング組成物は、（Ｂ）重合性化合物を含有する。
重合性化合物として、ラジカル重合性化合物を使用することもでき、また、カチオン重合性化合物を使用することもできる。
＜ラジカル重合性化合物＞
本発明において、ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。
本発明におけるラジカル重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であれば、どのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。
ラジカル重合性化合物は、１種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用してもよい。反応性、物性などの性能を制御する点から、２種以上のラジカル重合性化合物を併用することが好ましい。
【０１２２】
ラジカル重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和結合を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。
【０１２３】
具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニル化合物類、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー社）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、オリゴマー、及びポリマーを用いることができる。
【０１２４】
また、ラジカル重合性化合物としては、例えば、特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特開平８−２２４９８２号、特開平１０−８６３号、特開平９−１３４０１１号等の各公報に記載されている光重合性組成物に用いられる光硬化型の重合性化合物材料が知られており、これらも本発明のコーティング組成物に適用することができる。
【０１２５】
さらに、ラジカル重合性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いることも好ましい。好適に用いられるビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、ヒドロキシノニルモノビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度の観点から、ジビニルエーテル化合物又はトリビニルエーテル化合物が好ましく、ジビニルエーテル化合物が特に好ましい。ビニルエーテル化合物は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１２６】
本発明の用いることができる他の重合性化合物としては、（メタ）アクリル系モノマー若しくはプレポリマー、エポキシ系モノマー若しくはプレポリマー、又は、ウレタン系モノマー若しくはプレポリマー等の（メタ）アクリル酸エステル（以下、適宜、「アクリレート化合物」ともいう。）が好ましく用いられる。さらに好ましくは、下記化合物である。
【０１２７】
すなわち、２−エチルヘキシルジグリコールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、ノニルフェノールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物アクリレート、変性グリセリントリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールＡジアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド（ＰＯ）付加物ジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、ステアリルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ラクトン変性アクリレート等が挙げられる。
【０１２８】
また、ここに列挙されているアクリレート化合物は、反応性が高く、粘度が低く、印刷基材への密着性に優れる。
【０１２９】
本発明において、非タック性（表面ベトツキ）、透明性をより改善するためには、前述のラジカル重合性化合物に記載の中でも、多官能アクリレート化合物とを併用することが好ましい。
多官能アクリレートとしては、ビスフェノールＡエポキシジアクリレートやトリプロピレングリコールジアクリレートを特に好ましく例示できる。
また、多官能エチレン性不飽和化合物を使用する場合、多官能エチレン性不飽和化合物の含有量としては、コーティング組成物の全重量に対し、５〜８０重量％であることが好ましく、４０〜７０重量％であることがより好ましい。上記範囲であると、非タック性に優れる。
【０１３０】
なお、本発明において、種々の目的に応じて、ラジカル重合性化合物とラジカル光重合開始剤との組み合わせや、カチオン重合性化合物とカチオン光重合開始剤との組み合わせの他、これらを組み合わせた、ラジカル・カチオンのハイブリッド型コーティング組成物としてもよい。
【０１３１】
＜カチオン重合性化合物＞
本発明におけるカチオン重合性化合物としては、何らかのエネルギー付与によりカチオン重合反応を生起し、硬化する化合物であれば特に制限はなく、モノマー、オリゴマー、ポリマーの種を問わず使用することができるが、特に、前述のカチオン重合開始剤から発生する開始種により重合反応を生起する、光カチオン重合性モノマーとして知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。また、カチオン重合性化合物は単官能化合物であっても、多官能化合物であってもよい。
【０１３２】
本発明におけるカチオン重合性化合物としては、硬化性及び耐擦過性の観点から、オキセタン環含有化合物及びオキシラン環含有化合物が好適であり、オキセタン環含有化合物及びオキシラン環含有化合物の両方を含有する態様がより好ましい。
ここで、本明細書において、オキシラン環含有化合物（以下、適宜「オキシラン化合物」と称する場合がある。）とは、分子内に、少なくとも１つのオキシラン環（オキシラニル基、エポキシ基）を含む化合物であり、具体的にはエポキシ樹脂として通常用いられているものの中から適宜選択することができ、例えば、従来公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂が挙げられる。モノマー、オリゴマー及びポリマーのいずれであってもよい。また、オキセタン環含有化合物（以下、適宜「オキセタン化合物」と称する場合がある。）とは、分子内に少なくとも１つのオキセタン環（オキセタニル基）を含む化合物である。
【０１３３】
以下、本発明に適用しうるカチオン重合性化合物について詳細に説明する。
カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平６−９７１４号、特開２００１−３１８９２号、同２００１−４００６８号、同２００１−５５５０７号、同２００１−３１０９３８号、同２００１−３１０９３７号、同２００１−２２０５２６号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。
【０１３４】
本発明に用いうる単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
【０１３５】
また、多官能エポキシ化合物の例としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−７，８−エポキシ−１，３−ジオキサスピロ［５．５］ウンデカン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、１，１３−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、１，２，５，６−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。
これらのエポキシ化合物のなかでも、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが、硬化速度に優れるという観点から好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。
【０１３６】
本発明に用いうる単官能ビニルエーテルの例としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフリフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、クロロブチルビニルエーテル、クロロエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
【０１３７】
また、多官能ビニルエーテルの例としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、ジ又はトリビニルエーテル化合物が、硬化性、被記録媒体との密着性、形成された画像の表面硬度などの観点から好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。
【０１３８】
本発明におけるオキセタン化合物としては、特開２００１−２２０５２６号、同２００１−３１０９３７号、同２００３−３４１２１７号の各公報に記載される如き、公知のオキセタン化合物を任意に選択して使用できる。
【０１３９】
本発明に使用しうるオキセタン化合物としては、その構造内にオキセタン環を１〜４個有する化合物が好ましい。このような化合物を使用することで、インクジェット記録用液体の粘度をハンドリング性の良好な範囲に維持することが容易となり、また、硬化後のインクの被記録媒体との高い密着性を得ることができる。
【０１４０】
本発明で用いられる単官能オキセタン化合物の例としては、例えば、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−（メタ）アリルオキシメチル−３−エチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルベンゼン、４−フルオロ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル［ベンゼン、４−メトキシ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）エチル］フェニルエーテル、イソブトキシメチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−エチルヘキシル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチルジエチレングリコール（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンタジエン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラヒドロフルフリル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−テトラブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−トリブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシプロピル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ブトキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタクロロフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。
【０１４１】
多官能オキセタン化合物の例としては、例えば、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、３，３’−（１，３−（２−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメチレン））ビス−（３−エチルオキセタン）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ポリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、プロピレンオキサイド（ＰＯ）変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦ（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等の多官能オキセタンが挙げられる。
【０１４２】
このようなオキセタン化合物については、前記特開２００３−３４１２１７号公報、段落００２１乃至００８４に詳細に記載され、ここに記載の化合物は本発明にも好適に使用しうる。
本発明で使用するオキセタン化合物のなかでも、オキセタン環を１〜２個有する化合物を使用することが好ましい。
本発明においては、これらのカチオン重合性化合物は、１種のみを用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１４３】
本発明の光硬化性コーティング組成物における（Ｂ）重合性化合物の含有量は、硬化性と表面平滑性の観点から、コーティング組成物全体の重量に対して、１０〜９７重量％の範囲であることが好ましく、３０〜９５重量％の範囲がより好ましく、５０〜９０重量％の範囲であることが特に好ましい。
また、（Ｂ）重合性化合物は、１種で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１４４】
＜増感剤＞
本発明のコーティング組成物には、前記光重合開始剤の活性放射線の照射による分解を促進させるために増感剤を添加することができる。
増感剤は、特定の活性放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、光重合開始剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用を生じ、これにより光重合開始剤の化学変化、すなわち、分解、ラジカル、酸又は塩基の生成を促進させるものである。
また、本発明に用いることのできる増感剤は、本発明のコーティング組成物をオーバープリントに使用した際に、着色等の影響が小さい化合物又は量を使用することが好ましい。
本発明における増感剤の含有量は、コーティング組成物の全重量に対して、０．００１〜５重量％であることが好ましく、０．０１〜３重量％であることがさらに好ましい。この添加量であると、硬化性が向上し、着色の影響が少ない。
【０１４５】
増感剤は、使用する光重合開始剤に開始種を発生させる活性放射線の波長に応じた化合物を使用すればよいが、一般的なコーティング組成物の硬化反応に使用されることを考慮すれば、好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ３５０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有するものを挙げることができる。
多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン）、ベンゾフェノン類（例えば、ベンゾフェノン）等が挙げられる。
【０１４６】
より好ましい増感剤の例としては、下記式（II）〜（VI）で表される化合物が挙げられる。
【０１４７】
【化４３】
2009209275.tif 000045
【０１４８】
式（II）中、Ａ1は硫黄原子又はＮＲ50を表し、Ｒ50はアルキル基又はアリール基を表し、Ｌ2は隣接するＡ1及び隣接炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ51、Ｒ52はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表し、Ｒ51、Ｒ52は互いに結合して、酸性核を形成してもよい。Ｗは酸素原子又は硫黄原子を表す。
【０１４９】
【化４４】
2009209275.tif 000046
【０１５０】
式（III）中、Ａｒ1及びＡｒ2はそれぞれ独立にアリール基を表し、−Ｌ3−による結合を介して連結している。ここでＬ3は−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。また、Ｗは式（II）に示したものと同義である。
【０１５１】
【化４５】
2009209275.tif 000047
【０１５２】
式（IV）中、Ａ2は硫黄原子又はＮＲ59を表し、Ｌ4は隣接するＡ2及び炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57及びＲ58はそれぞれ独立に一価の非金属原子団の基を表し、Ｒ59はアルキル基又はアリール基を表す。
【０１５３】
【化４６】
2009209275.tif 000048
【０１５４】
式（V）中、Ａ3、Ａ4はそれぞれ独立に−Ｓ−又は−ＮＲ62−又は−ＮＲ63−を表し、Ｒ62、Ｒ63はそれぞれ独立に置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基を表し、Ｌ5、Ｌ6はそれぞれ独立に、隣接するＡ3、Ａ4及び隣接炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ60、Ｒ61はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団であるか又は互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。
【０１５５】
【化４７】
2009209275.tif 000049
【０１５６】
式（VI）中、Ｒ66は置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、Ａ5は酸素原子、硫黄原子又はＮＲ67を表す。Ｒ64、Ｒ65及びＲ67はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表し、Ｒ67とＲ64、及び、Ｒ65とＲ67はそれぞれ互いに脂肪族性又は芳香族性の環を形成するため結合することができる。
【０１５７】
式（II）〜（VI）で表される化合物の好ましい具体例としては、以下に示すものが挙げられる。なお、下記具体例におけるＰｈは、フェニル基を表し、Ｍｅはメチル基を表す。
【０１５８】
【化４８】
2009209275.tif 000050
【０１５９】
【化４９】
2009209275.tif 000051
【０１６０】
＜共増感剤＞
本発明のコーティング組成物は、共増感剤を含有することもできる。
本発明において共増感剤は、増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、又は、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えばＭ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−２０１８９号公報、特開昭５１−８２１０２号公報、特開昭５２−１３４６９２号公報、特開昭５９−１３８２０５号公報、特開昭６０−８４３０５号公報、特開昭６２−１８５３７号公報、特開昭６４−３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  ３３８２５号記載の化合物等が挙げられる。
具体的には、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチオジメチルアニリン等が例示できる。
【０１６１】
共増感剤の別の例としてはチオール及びスルフィド類、例えば、特開昭５３−７０２号公報、特表昭５５−５００８０６号公報、特開平５−１４２７７２号公報記載のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号公報記載のジスルフィド化合物等が挙げられる。
具体的には、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が例示できる。
【０１６２】
また別の例としては、アミノ酸化合物（例えば、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例えば、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５−３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６−３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例えば、トリチアン等）、特開平６−２５０３８７号公報記載のリン化合物（例えば、ジエチルホスファイト等）、特開平８−５４７３５号公報記載のＳｉ−Ｈ、Ｇｅ−Ｈ化合物等が挙げられる。
【０１６３】
＜界面活性剤＞
本発明のコーティング組成物は、界面活性剤を含有していてもよい。
界面活性剤としては、特開昭６２−１７３４６３号、同６２−１８３４５７号の各公報に記載されたものが挙げられる。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。また、前記界面活性剤として有機フルオロ化合物やポリシロキサン化合物を用いてもよい。前記有機フルオロ化合物は、疎水性であることが好ましい。前記有機フルオロ化合物としては、例えば、フッ素系界面活性剤、オイル状フッ素系化合物（例、フッ素油）及び固体状フッ素化合物樹脂（例、四フッ化エチレン樹脂）が含まれ、特公昭５７−９０５３号（第８〜１７欄）、特開昭６２−１３５８２６号の各公報に記載されたものが挙げられる。これらの中でも、界面活性剤としては、ポリジメチルシロキサンが好ましく例示できる。
これらの界面活性剤は、１種単独で使用しても、２種類以上を併用してもよい。
【０１６４】
＜その他の成分＞
本発明のコーティング組成物には、必要に応じて、他の成分を添加することができる。その他の成分としては、例えば、重合禁止剤、溶剤、無機粒子、有機粒子等が挙げられる。
重合禁止剤は、保存性を高める観点から添加され得る。重合禁止剤は、本発明のコーティング組成物全量に対し、２００〜２０，０００ｐｐｍ添加することが好ましい。
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ベンゾキノン、ｐ−メトキシフェノール、ＴＥＭＰＯ、ＴＥＭＰＯＬ、クペロンＡｌ等が挙げられる。
アエロジル（デグサ社製二酸化ケイ素粒子）のような無機粒子や、架橋したポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のような有機粒子を本発明のコーティング組成物に添加して、意図的に表面光沢を下げたオーバープリント層又はオーバープリントを形成することができる。
【０１６５】
本発明のコーティング組成物が放射線硬化性コーティング組成物であることに鑑み、塗布後に速やかに反応しかつ硬化し得るよう、本発明のコーティング組成物は溶剤を含まないことが好ましい。しかし、コーティング組成物の硬化速度等に影響がない限り、所定の溶剤を含めることができる。
本発明において、溶剤としては、有機溶剤が使用でき、硬化速度の観点から水は実質的に添加しないことが好ましい。有機溶剤は、印刷基材（紙などの受像基材）との密着性を改良するために添加され得る。
有機溶剤を使用する場合も、その量は少ないほど好ましく、本発明のコーティング組成物全体の重量に対し、０．１〜５重量％であることが好ましく、０．１〜３重量％であることがより好ましい。
【０１６６】
この他に、必要に応じて公知の化合物を本発明のコーティング組成物に添加することができる。
例えば、界面活性剤、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類等を適宜選択して添加することができる。
【０１６７】
また、ポリオレフィンやポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の印刷基材への密着性を改善するために、重合を阻害しないタッキファイヤー（粘着付与剤）を含有させることも好ましい。具体的には、特開２００１−４９２００号公報の５〜６頁に記載されている高分子量の粘着性ポリマー（例えば、（メタ）アクリル酸と炭素数１〜２０のアルキル基を有するアルコールとのエステル、（メタ）アクリル酸と炭素数３〜１４の脂環族アルコールとのエステル、（メタ）アクリル酸と炭素数６〜１４の芳香族アルコールとのエステルからなる共重合物）や、エチレン性不飽和結合を有する低分子量粘着付与性樹脂などが挙げられる。
【０１６８】
＜光硬化性コーティング組成物の性質＞
本発明の光硬化性コーティング組成物における好ましい物性について説明する。
光硬化性コーティング組成物として使用する場合には、塗布性を考慮し、２５〜３０℃における粘度が、５〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、７〜７５ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。
２５℃〜３０℃における粘度を上記の値に設定することにより、非タック性に優れ（表面ベトツキがなく）、表面平滑性に優れたオーバープリント層を有するオーバープリントが得られる。
本発明の光硬化性コーティング組成物の表面張力は、１６〜４０ｍＮ／ｍであることが好ましく、１８〜３５ｍＮ／ｍであることがより好ましい。
【０１６９】
（オーバープリント及びその製造方法）
本発明のオーバープリントは、印刷物上に本発明のコーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有する。
前記オーバープリントとは、電子写真印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、平版印刷、凹版印刷又は凸版印刷等の印刷方法により得られた印刷物の表面上に、少なくとも１層のオーバープリント層を形成したものである。
本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層は、印刷物の一部に形成しても、印刷物の表面全体に形成してもよく、また、両面印刷物の場合には印刷基材の両方側全面に形成することが好ましい。また、前記オーバープリント層は、印刷物における印刷されていない部分に形成してもよいことは言うまでもない。
本発明のオーバープリントに使用する印刷物は、電子写真印刷物であることが好ましい。電子写真印刷物上に本発明のコーティング組成物の硬化層であるオーバープリント層を形成することにより、非タック性、表面平滑性、光沢性に優れ、視覚的に銀塩写真プリントに類似したオーバープリントを得ることができる。
また、本発明のオーバープリントは、非タック性に優れるため、複数作製した本発明のオーバープリントを重ねて長期間保存しても、オーバープリント同士が張り付いたりせず、保管性に優れる。
本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層の厚みは、１〜１０μｍであることが好ましく、３〜６μｍであることがより好ましい。
【０１７０】
本発明のオーバープリントの製造方法は、印刷基材上に印刷して印刷物を得る工程、前記印刷物上に本発明の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含むことが好ましい。
また、本発明のオーバープリントの製造方法は、潜像担持体の上に静電潜像を発生させる工程と、前記静電潜像をトナーにより現像する工程と、現像された静電画像を印刷基材へ転写させ電子写真印刷物を得る工程と、前記電子写真印刷物上に本発明の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程とを含むことがより好ましい。
前記印刷基材としては、特に制限はなく、公知のものを使用することができるが、受像用紙であることが好ましく、普通紙又はコート紙であることがより好ましく、コート紙であることがさらに好ましい。コート紙としては、両面コート紙が、フルカラー画像を美しく両面印刷できるので好ましい。印刷基材が紙又は両面コート紙である場合、好ましい坪量は２０〜２００ｇ／ｍ2であり、より好ましい坪量は４０〜１６０ｇ／ｍ2である。
【０１７１】
電子写真法における画像を現像させるための方法に特に制限はなく、当業者には公知の方法から任意に選択することができる。例えば、カスケード法、タッチダウン法、パウダー・クラウド（ｐｏｗｄｅｒ ｃｌｏｕｄ）法、磁気ブラシ法などが挙げられる。
また、現像された画像を印刷基材に転写させるための方法としては、コロトロン又はバイアスロールを使用する方法が例示できる。
電子写真法における画像を定着させるための定着工程（ｆｉｘｉｎｇ ｓｔｅｐ）は、各種適切な方法により実施することができる。例えば、フラッシュ定着、加熱定着、加圧定着、蒸気定着（ｖａｐｏｒ ｆｕｓｉｎｇ）などが挙げられる。
電子写真法による画像形成方法、装置及びシステムとしては、特に制限はないが、公知のものを使用することができる。具体的には、以下の米国特許明細書に記載されているようなものである。
米国特許第４，５８５，８８４号明細書、米国特許第４，５８４，２５３号明細書、米国特許第４，５６３，４０８号明細書、米国特許第４，２６５，９９０号明細書、米国特許第６，１８０，３０８号明細書、米国特許第６，２１２，３４７号明細書、米国特許第６，１８７，４９９号明細書、米国特許第５，９６６，５７０号明細書、米国特許第５，６２７，００２号明細書、米国特許第５，３６６，８４０号明細書；米国特許第５，３４６，７９５号明細書、米国特許第５，２２３，３６８号明細書、及び、米国特許第５，８２６，１４７号明細書。
【０１７２】
光硬化性コーティング組成物を塗布するためには、通常使用される液膜コーティング装置（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ ｃｏａｔｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅ）を使用することができる。具体的には、ロールコーター、ロッドコーター、ブレード、ワイヤバー、浸漬（ｄｉｐｓ）、エアナイフ、カーテンコーター、スライドコーター、ドクターナイフ、スクリーンコーター、グラビアコーター、オフセットグラビアコーター、スロットコーター、及び、押出しコーターなどが例示できる。それらの装置は、通常と同じようにして使用することができるが、例えば、ダイレクトロールコーティング及びリバースロールコーティング（ｄｉｒｅｃｔ ａｎｄ ｒｅｖｅｒｓｅ ｒｏｌｌ ｃｏａｔｉｎｇ）、ブランケットコーティング（ｂｌａｎｋｅｔ ｃｏａｔｉｎｇ）、ダンプナーコーティング（ｄａｍｐｎｅｒ ｃｏａｔｉｎｇ）、カーテンコーティング、平版コーティング、スクリーンコーティング、及び、グラビアコーティングなどがある。好ましい実施の態様においては、本発明のコーティング組成物の塗布及び硬化は、２台又は３台のロールコーターとＵＶ硬化ステーションを使用して実施する。
また、本発明のコーティング組成物の塗設時や硬化時においては、必要に応じ、加熱を行ってもよい。
本発明のコーティング組成物の塗布量の典型的なレベルは、単位面積当たりの重量で表して、１ｇ／ｍ2〜１０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、３ｇ／ｍ2〜６ｇ／ｍ2であることがより好ましい。
また、本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層の形成量は、単位面積当たり、１ｇ／ｍ2〜１０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、３ｇ／ｍ2〜６ｇ／ｍ2であることがより好ましい。
【０１７３】
本発明のコーティング組成物に含まれる重合性化合物の重合を開始させるために使用するエネルギー源としては、例えば、スペクトルの紫外線又は可視光線の波長を有する放射線のような、化学線作用のある（ａｃｔｉｎｉｃ）もの（活性放射線）が挙げられる。活性放射線の照射による重合は、重合の開始及び重合速度の調節に優れる。
好適な活性放射線照射源としては、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、タングステンフィラメントランプ、レーザー、太陽光などが挙げられる。
【０１７４】
紫外線照射（ＵＶ光照射）の下で、高速コンベヤ（好ましくは、２０〜７０ｍ／分）を用いた中圧（ｍｅｄｉｕｍ ｐｒｅｓｓｕｒｅ）水銀ランプによる照射が好ましく、その場合ＵＶ光照射は、波長２００〜５００ｎｍで、１秒未満の間与えることが好ましい。高速コンベヤの速度を１５〜３５ｍ／分とし、波長２００〜４５０ｎｍのＵＶ光を１０〜５０ミリ秒（ｍｓ）間照射するのがより好ましい。ＵＶ光源の発光スペクトルは通常、ＵＶ重合開始剤の吸収スペクトルと重なっている。場合によっては使用される硬化装置（ｃｕｒｉｎｇ ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ）としては、ＵＶ光を焦点に集めたり拡散させたりする反射板や、ＵＶ光源により発生する熱を除去するための冷却システムなどがあるが、これらに限定される訳ではない。
【０１７５】
＜光硬化性コーティング硬化物の性質＞
本発明の光硬化性コーティング組成物を紫外線照射（ＵＶ光照射）により硬化させた硬化物は、可視域に実質的に吸収を有しないことが好ましい。「可視域に実質的に吸収を有しない」とは、４００〜７００ｎｍの可視域に吸収を有しないか、又は、光硬化性コーティングとして支障のない程度の吸収しか可視域に吸収を有しないことを意味する。具体的には、コーティング組成物の５μｍ光路長の透過率が、４００〜７００ｎｍの波長範囲において、７０％以上、好ましくは８０％以上であることを意味する。
【実施例】
【０１７６】
以下実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例における形態に限定されるものではない。
【０１７７】
〔実施例１〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性コーティング組成物１を得た。
ＦＡ−５１３Ａ（日立化成工業）                                ２５重量％
２−フェノキシエチルアクリレート（東京化成）                  ２５重量％
Ｎ−ビニルカプロラクタム（アルドリッチ）                      ２０重量％
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
特定開始剤（Ｉ−１）                                          １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０１７８】
【化５０】
2009209275.tif 000052
【０１７９】
〔実施例２〜実施例１５〕
実施例２〜１５は、実施例１の特定開始剤（Ｉ−１）を表１に記載の化合物に変えた以外は、実施例１と同様にして光硬化性コーティング組成物２〜１５を得た。
【０１８０】
〔実施例１６〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性コーティング組成物１６を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ）        ３０重量％
アクリル酸ラウリル（東京化成）                                １５重量％
ＯＴＡ−４８０                                                ２５重量％
（ＣＹＴＥＣ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＳＰＥＣＩＡＬＴＩＥＳ）
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
特定開始剤（Ｉ−１）                                          １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０１８１】
【化５１】
2009209275.tif 000053
【０１８２】
〔実施例１７〜３３〕
実施例１７〜３３は、実施例１６の特定開始剤（Ｉ−１）を表１に記載の化合物に変えた以外は、実施例１６と同様にして光硬化性コーティング組成物１７〜３３を得た。
【０１８３】
〔実施例３４〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性オーバープリント組成物３４を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ）        ３０重量％
ＮＫ  Ｅｓｔｅｒ  Ａ−ＴＭＰＴ（新中村化学）                  １０重量％
ＤＰＣＡ−６０（日本化薬）                                    １０重量％
アクリル酸ラウリル（東京化成）                                ２０重量％
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
特定開始剤（Ｉ−１）                                          １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０１８４】
【化５２】
2009209275.tif 000054
【０１８５】
【化５３】
2009209275.tif 000055
【０１８６】
〔実施例３５（カチオン硬化系）〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性オーバープリント組成物３５を得た。
セロキサイド２０２１Ａ：ダイセルユーシービー社製              ２０重量％
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）
ＯＸＴ−２２１（東亞合成製）                                  ４５重量％
（３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサノナン）
ＯＸＴ−２１１（東亞合成製）                                  ２０重量％
（３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン）
特定開始剤（Ｉ−１）                                          １３重量％
９，１０−ジブトキシアントラセン                                ２重量％
【０１８７】
【化５４】
2009209275.tif 000056
【０１８８】
【化５５】
2009209275.tif 000057
【０１８９】
【化５６】
2009209275.tif 000058
【０１９０】
〔比較例１〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物１を得た。
ＦＡ−５１３Ａ（日立化成工業）                                ２５重量％
２−フェノキシエチルアクリレート（東京化成）                  ２５重量％
Ｎ−ビニルカプロラクタム（アルドリッチ）                      ２０重量％
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＡ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０１９１】
【化５７】
2009209275.tif 000059
【０１９２】
〔比較例２〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物２を得た。
ＦＡ−５１３Ａ（日立化成工業）                                ２５重量％
２−フェノキシエチルアクリレート（東京化成）                  ２５重量％
Ｎ−ビニルカプロラクタム（アルドリッチ）                      ２０重量％
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＢ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０１９３】
【化５８】
2009209275.tif 000060
【０１９４】
〔比較例３〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物３を得た。
ＦＡ−５１３Ａ（日立化成工業）                                ２５重量％
２−フェノキシエチルアクリレート（東京化成）                  ２５重量％
Ｎ−ビニルカプロラクタム（アルドリッチ）                      ２０重量％
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＣ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０１９５】
【化５９】
2009209275.tif 000061
【０１９６】
〔比較例４〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物４を得た。
ＦＡ−５１３Ａ（日立化成工業）                                ２５重量％
２−フェノキシエチルアクリレート（東京化成）                  ２５重量％
Ｎ−ビニルカプロラクタム（アルドリッチ）                      ２０重量％
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＤ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０１９７】
【化６０】
2009209275.tif 000062
【０１９８】
〔比較例５〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物５を得た。
ＦＡ−５１３Ａ（日立化成工業）                              ２５重量％
２−フェノキシエチルアクリレート（東京化成）                ２５重量％
Ｎ−ビニルカプロラクタム（アルドリッチ）                    ２０重量％
アクリル酸ヘキシル                                          ２３重量％
比較化合物ＨＤ                                                ５重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                        ２重量％
【０１９９】
〔比較例６〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物６を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ）        ３０重量％
アクリル酸ラウリル（東京化成）                                １５重量％
ＯＴＡ−４８０                                                ２５重量％
（ＣＹＴＥＣ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＳＰＥＣＩＡＬＴＩＥＳ）
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＡ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０２００】
〔比較例７〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物７を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ）        ３０重量％
アクリル酸ラウリル（東京化成）                                １５重量％
ＯＴＡ−４８０                                                ２５重量％
（ＣＹＴＥＣ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＳＰＥＣＩＡＬＴＩＥＳ）
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＢ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０２０１】
〔比較例８〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物８を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ）        ３０重量％
アクリル酸ラウリル（東京化成）                                １５重量％
ＯＴＡ−４８０                                                ２５重量％
（ＣＹＴＥＣ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＳＰＥＣＩＡＬＴＩＥＳ）
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＣ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０２０２】
〔比較例９〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物９を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ）        ３０重量％
アクリル酸ラウリル（東京化成）                                １５重量％
ＯＴＡ−４８０                                                ２５重量％
（ＣＹＴＥＣ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＳＰＥＣＩＡＬＴＩＥＳ）
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＤ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０２０３】
〔比較例１０〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物１０を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ）        ３０重量％
アクリル酸ラウリル（東京化成）                                １５重量％
ＯＴＡ−４８０                                                ２５重量％
（ＣＹＴＥＣ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＳＰＥＣＩＡＬＴＩＥＳ）
アクリル酸ヘキシル                                            ２３重量％
比較化合物ＨＤ                                                  ５重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０２０４】
〔比較例１１〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物１１を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート（アルドリッチ）        ３０重量％
ＮＫ  Ｅｓｔｅｒ  Ａ−ＴＭＰＴ（新中村化学）                  １０重量％
ＤＰＣＡ−６０（日本化薬）                                    １０重量％
アクリル酸ラウリル（東京化成）                                ２０重量％
アクリル酸ヘキシル                                            １５重量％
比較化合物ＨＡ                                                １３重量％
ポリジメチルシロキサン（アルドリッチ）                          ２重量％
【０２０５】
〔比較例１２〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性コーティング組成物１２を得た。
セロキサイド２０２１Ａ：ダイセルユーシービー社製                ２０重量％
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）
ＯＸＴ−２２１（東亞合成製）                                    ４５重量％
（３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサノナン）
ＯＸＴ−２１１（東亞合成製）                                    ２０重量％
（３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン）
比較化合物ＨＡ                                                  １３重量％
９，１０−ジブトキシアントラセン                                  ２重量％
【０２０６】
（性能評価）
得られた光硬化性コーティング組成物を、以下の方法により性能評価した。
＜表面平滑性（レベリング性）評価＞
富士ゼロックス（株）製デジタルプリンター（ＤＣ８０００）で両面コート紙に出力した電子写真印刷物に対して、シナノケンシ（株）製ＵＶニスコーター（ＳＧ６１０Ｖ）を用いて５ｇ／ｍ2の膜厚で片面にコーティングを行い、コーティングされた印刷物表面のタテスジ発生状態を目視にて評価した。評価基準を以下に示す。
◎：タテスジなし
○：少しタテスジが残る
×：著しくタテスジが見られる
【０２０７】
＜非タック性（表面ベトツキ抑制）評価＞
富士ゼロックス（株）製デジタルプリンター（ＤＣ８０００）で両面コート紙に出力した電子写真印刷物に対して、コーティング組成物が膜厚５ｇ／ｍ2となるように片面にバーコートで塗布を行い、得られた塗布膜に対して、浜松ホトニクス（株）製ＵＶランプ（ＬＣ８）を用いて、１．０Ｗ／ｃｍ2の照度で１２０ｍＪ／ｃｍ2露光を行い、オーバープリントのサンプルを作製した。露光後の非タック性を触感で評価した。評価基準を以下に示す。
◎：ベトツキなし
○：ほぼベトツキなし
×：ベトツキあり
【０２０８】
＜臭気評価＞
富士ゼロックス（株）製デジタルプリンター（ＤＣ８０００）で両面コート紙に出力した電子写真印刷物に対して、コーティング組成物が膜厚５ｇ／ｍ2となるように片面にシナノケンシ製ＵＶニスコーター（ＳＧ６１０Ｖ）を用いてコーティングを行なった後に１時間放置した印刷物について、臭気を嗅いで官能評価を行ない、下記の基準に従って臭気のレベルを評価した。
専門パネラー８人で下記評価基準（評価点）で評価した。
評価基準（評価点）：
５（点）：８人中８人が臭気低減効果を認めた。
４（点）：８人中６〜７人が臭気低減効果を認めた。
３（点）：８人中４〜５人が臭気低減効果を認めた。
２（点）：８人中１〜３人が臭気低減効果を認めた。
１（点）：臭気低減効果が認められなかった。
なお、評価点が４点以上の場合、実用使用上問題がないと考えられる。
【０２０９】
【表１】
2009209275.tif 000063
【０２１０】
〔実施例３６〕
Ａ４サイズの両面コート紙（坪量１００ｇ／ｍ2）上の両面に各数コマずつのフルカラー画像を電子写真印刷した２０枚の印刷物を作製し、その印刷物の両面に、前記の実施例１〜３５にて作製した光硬化性コーティング組成物をそれぞれ、実施例１と同様の方法で、５ｇ／ｍ2の塗布量になるように塗布した後、紫外線を照射してオーバープリントを作製した。これらを製本して表紙と共に写真アルバムとしたところ、銀塩写真プリントと同様の視認性が得られる写真アルバムが得られた。
【０２１１】
〔実施例３７〕
Ａ３サイズの両面コート紙（坪量１００ｇ／ｍ2）１０枚の両面に献立写真を含むフルカラー画像とテキストを電子写真印刷した。これらの印刷物の両面に、前記の実施例１〜３５にて作製した光硬化性コーティング組成物をそれぞれ、実施例１と同様の方法で、片面５ｇ／ｍ2の塗布量になるように塗布した後、紫外線を照射して両面オーバープリントを作製した。これらを綴じてレストランメニューとしたところ、銀塩写真プリントと同様の視認性が得られるレストランメニューが得られた。