(57)【要約】【課題】本発明は、欠陥部を有する触媒層付電解質膜を破棄することなく、有効に利用できる技術を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の触媒層付電解質膜の補修方法は、欠陥部を有する触媒層が電解質膜の少なくとも一方面に積層された触媒層付電解質膜を補修する方法であって、プロトン伝導性高分子物質と炭素材料とを含有する補修層が転写基材の一方面上に積層された補修用転写フィルムを用いて転写することにより、前記補修層を前記触媒層の欠陥部に形成させる工程を備えることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
欠陥部を有する触媒層が電解質膜の少なくとも一方面に積層された触媒層付電解質膜を補修する方法であって、
プロトン伝導性高分子物質と炭素材料とを含有する補修層が転写基材の一方面上に積層された補修用転写フィルムを用いて転写することにより、前記補修層を前記触媒層の欠陥部に形成させる工程、
を備えた、触媒層付電解質膜の補修方法。
【請求項２】
炭素材料が、カーボンブラックである、請求項１に記載の補修方法。
【請求項３】
補修層に含有される炭素材料とプロトン導電性高分子物質との重量比（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）が、触媒層に含有される炭素材料とプロトン伝導性高分子物質との重量比（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）よりも大きい、請求項１又は２に記載の補修方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の補修方法によって得られる、触媒層付電解質膜。
【請求項５】
欠陥部を有する触媒層が電解質膜の少なくとも一方面に積層された触媒層付電解質膜から欠陥部を有さない触媒層付電解質膜を製造する方法であって、
プロトン伝導性高分子物質と炭素材料とを含有する補修層が転写基材の一方面上に積層された補修用転写フィルムを用いて転写することにより、前記補修層を前記触媒層の欠陥部に形成させる工程、
を備えた、触媒層付電解質膜の製造方法。
【請求項６】
触媒層付電解質膜を補修するためのフィルムであって、
プロトン伝導性高分子物質及び炭素材料を含有する補修層が、転写基材の一方面上に積層されてなる、ことを特徴とする補修用転写フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、触媒層付電解質膜の補修方法及び補修用転写フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
固体高分子型燃料電池は、通常、電解質膜として水素イオン伝導性高分子電解質膜を用い、その両面に触媒層を配置し、次いでその両面に電極基材を配置し、更にこれをセパレータで挟んだ構造をしている。電解質膜層の両面に触媒層を配置し、次いでその両面に電極基材を配置したもの（即ち、電極基材／触媒層／電解質膜／触媒層／電極基材の層構成のもの）は、電極−電解質膜接合体と称されている。
【０００３】
従来、この電極−電解質膜接合体の製造方法としては、例えば、（１）電解質膜の両面に印刷法又はスプレー法を適用して触媒層を形成し、各々の触媒層面に電極基材が接するように配置し、熱プレスする方法、（２）転写基材に、印刷法又はスプレー法を適用して触媒層を形成した触媒転写フィルムを作製し、該触媒転写フィルムの触媒層面が電解質膜の両面に接するように配置し熱プレスする方法等が知られている（特許文献１及び特許文献２）。
【０００４】
しかしながら、これらの方法では、固体高分子型燃料電池用の触媒層は触媒形成用インキを乾燥させることにより形成されているが、その乾燥工程中において、触媒層中に含まれるカーボン粒子及び電解質成分が凝集してしまうため、得られる触媒層に、大きなクラック、ピンホール等といった欠陥部が生じるおそれがある。
【０００５】
このようなクラックが発生すると、触媒層が電解質膜から剥がれ落ちて生産の歩留まりが低下する問題だけでなく、クラック部での電導性能の低下、触媒層−電極界面での接触抵抗の上昇等を招き、そのため電池の内部抵抗が上昇することを回避できない。
【０００６】
また、触媒層にピンホールが発生すると、外部から供給される酸素・水素ガス、メタノール溶液等の燃料が当該ピンホールを通過して未反応のままに直接電解質膜に到達する現象、いわゆるクロスリークが生じ易く、この結果、電池の長期安定性が損なわれる等、電池性能が低下する問題が生じる。
【０００７】
このような欠陥部を有する触媒層付電解質膜は、工業製品として不適切であり、不良品として破棄されていた。また、これらの触媒層付電解質膜には、希少金属である白金だけでなく、電解質成分も多く含んでいるため、コスト面でも大きな問題が生じている。
【特許文献１】特公平２−４８６３２号公報
【特許文献２】特開平１０−６４５７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記欠陥部を有する触媒層付電解質膜を破棄することなく、有効に利用できる技術を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、本発明者は、上記問題点に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、特定の転写フィルムを用いた補修工程を行うことにより、今まで破棄せざるを得なかった触媒層付電解質膜を有効に利用できることを見出した。すなわち、本発明は、このような知見に基づき、完成されたものである。
【００１０】
項１．欠陥部を有する触媒層が電解質膜の少なくとも一方面に積層された触媒層付電解質膜を補修する方法であって、
プロトン伝導性高分子物質と炭素材料とを含有する補修層が転写基材の一方面上に積層された補修用転写フィルムを用いて転写することにより、前記補修層を前記触媒層の欠陥部に形成させる工程、
を備えた、触媒層付電解質膜の補修方法。
【００１１】
項２．炭素材料が、カーボンブラックである、項１に記載の補修方法。
【００１２】
項３．補修層に含有される炭素材料とプロトン導電性高分子物質との重量比（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）が、触媒層に含有される炭素材料とプロトン伝導性高分子物質との重量比（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）よりも大きい、項１又は２に記載の補修方法。
【００１３】
項４．項１〜３のいずれかに記載の補修方法によって得られる、触媒層付電解質膜。
【００１４】
項５．欠陥部を有する触媒層が電解質膜の少なくとも一方面に積層された触媒層付電解質膜から欠陥部を有さない触媒層付電解質膜を製造する方法であって、
プロトン伝導性高分子物質と炭素材料とを含有する補修層が転写基材の一方面上に積層された補修用転写フィルムを用いて転写することにより、前記補修層を前記触媒層の欠陥部に形成させる工程、
を備えた、触媒層付電解質膜の製造方法。
【００１５】
項６．触媒層付電解質膜を補修するためのフィルムであって、
プロトン伝導性高分子物質及び炭素材料を含有する補修層が、転写基材の一方面上に積層されてなる、ことを特徴とする補修用転写フィルム。
【００１６】
本発明の方法は、欠陥部を有する触媒層が電解質膜の少なくとも一方面に積層された触媒層付電解質膜を補修する方法であって、プロトン伝導性高分子物質と炭素材料とを含有する補修層が転写基材の一方面上に積層された補修用転写フィルムを用いて転写することにより、前記補修層を前記触媒層の欠陥部に形成させる工程、を備えることを特徴とする。以下、これを詳述する。
【００１７】
１．補修用転写フィルム
本発明の補修用転写フィルムにおいて、プロトン伝導性高分子物質及び炭素材料を含有する補修層（プロトン伝導性電気伝導性膜）は、転写基材の一方面上に積層されている。
【００１８】
転写基材上に積層されている補修層は、プロトン伝導性高分子物質及び炭素材料を含有する。これにより、当該補修層にプロトン伝導性能及び導電性能を付与することができ、そのため、当該補修層が、補修されるべき触媒層欠陥部に埋められた際に、当該触媒層の電池性能を損なわず、優れた電池性能を維持することができる。
【００１９】
プロトン伝導性高分子物質は、水素イオン伝導性を有している限り限定的でなく、公知又は市販のものを使用することができる。例えば、パーフルオロスルホン酸系のフッ素イオン交換樹脂、炭化水素系のイオン交換樹脂等が挙げられる。具体的には、デュポン社製の「Ｎａｆｉｏｎ」、旭硝子（株）製の「Ｆｌｅｍｉｏｎ」、旭化成（株）製の「Ａｃｉｐｌｅｘ」、ゴア（Ｇｏｒｅ）社製の「Ｇｏｒｅ  Ｓｅｌｅｃｔ」等が挙げられる。
【００２０】
プロトン伝導性高分子物質のガラス転移温度も限定的でなく、通常５０〜２００℃程度、好ましくは１００〜１５０℃程度のものを使用すればよい。
【００２１】
炭素材料は導電性能を有している限り限定的でなく、公知又は市販のものを使用することができる。例えば、チャンネルブラック、ファーネスブラック、ケッチェンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック等のカーボンブラック；黒鉛；活性炭；カーボンナノチューブ、気相成長法炭素繊維（ＶＧＣＦ）等の炭素繊維；などを１種単独又は２種以上で用いることができる。これらの中でも、特にカーボンブラックが好ましい。炭素材料の形状は限定的でなく、例えば粒状の場合その算術平均粒子径は、通常５ｎｍ〜２００ｎｍ程度、好ましくは２０ｎｍ〜８０ｎｍ程度とすればよい。
【００２２】
補修層は、プロトン伝導性高分子物質及び炭素材料以外にも、例えば、白金を含有してもよい。ただし、本発明においては、白金を実質的に含有しないことが好ましい。本発明の転写フィルムは、ピンホール、クラック等の欠陥部の補修に用いるものであり、これら欠陥部は補修対象である触媒層全表面に比して通常格段に小さい。このため、触媒活性成分である白金が当該欠陥部にのみ存在しなくても、当該欠陥部にも白金を含む触媒層と実質的に遜色ない程度に、電池性能を発揮できる。その一方、白金を含有させると、希少金属であるため、コスト面で不利となる。
【００２３】
その他、補修層には、さらに必要に応じて、公知又は市販の添加剤が配合されていてもよい。
【００２４】
補修層中に含まれるプロトン伝導性高分子物質の含有量は、限定的でないが、膜全量に対して、通常５〜９５重量％程度、好ましくは２０〜８０重量％程度とすればよい。
【００２５】
補修層に含まれる炭素材料も限定的でないが、膜全量に対して、通常５〜９５重量％程度、好ましくは２０〜８０重量％程度とすればよい。
【００２６】
膜厚は、補修対象である触媒層付電解質膜の触媒層の厚み等に応じて適宜決定すればよく、通常１μｍ〜１００μｍ程度、好ましくは５μｍ〜６０μｍ程度とすればよい。
【００２７】
転写基材は限定的でなく、公知又は市販のものを使用することができる。例えば、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリパルバン酸アラミド、ポリアミド（ナイロン）、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテル・エーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン等の高分子フィルムを挙げることができる。また、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、テトラフルオロパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等を用いることもできる。また、高分子フィルム以外にも、アート紙、コート紙、軽量コート紙等の塗工紙、ノート用紙、コピー用紙等の非塗工紙等の紙であってもよい。これらの中でも、安価で入手が容易な高分子フィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレート等がより好ましい。
【００２８】
転写基材の厚さは限定的でないが、例えば、取り扱い性及び経済性の観点からは、６μｍ〜１００μｍ程度、特に１０μｍ〜６０μｍ程度とすればよい。
【００２９】
転写基材と補修層との間には、さらに離型層が積層されていてもよい。離型層としては、例えば、公知のワックスから構成されたもの、公知のフッ素系樹脂でコーティングされたプラスチックフィルム等が挙げられる。
【００３０】
２．補修用転写フィルムの製造方法
本発明の補修用転写フィルムは、例えば、プロトン伝導性高分子物質、炭素材料、溶剤及び必要に応じてその他の成分を混合して得られる触媒層形成用ペースト組成物（触媒インキ）を転写基材に塗布及び乾燥することにより、製造することができる。
【００３１】
溶剤としては、例えば、各種アルコール、各種エーテル、各種ジアルキルスルホキシド、水又はこれらの混合物等が挙げられる。アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール等の炭素数１〜４の一価アルコール、プロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール等が挙げられる。これらの溶剤は１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００３２】
ペースト組成物には、炭素材料及びプロトン伝導性高分子物質が所定の割合となるように配合される。ペースト組成物中の固形分（炭素材料及びプロトン伝導性高分子物質）は、通常５〜９５重量％程度、好ましくは２０〜８０重量％程度である。
例えば、炭素材料１重量部に対して、プロトン伝導性高分子物質（固形分）が０．０５〜２０重量部、溶剤が２〜５０重量部程度含まれているようにすればよい。
【００３３】
ペースト組成物の塗布方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スプレー、ディップコーター、スピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーター、スクリーン印刷等の一般的な方法を適用できる。
【００３４】
塗布後、乾燥工程を行う。乾燥工程は、例えば、大気雰囲気中、５０〜１５０℃（好ましくは８０〜１２０℃）程度で行えばよい。
【００３５】
３．補修方法
本発明の補修方法は、欠陥部を有する触媒層が電解質膜の少なくとも一方面に積層された触媒層付電解質膜を補修する方法であって、上記本発明の補修用転写フィルムを用いて転写することにより、前記補修層を前記触媒層の欠陥部に形成させる工程を備えている。
【００３６】
補修対象は、欠陥部を有する触媒層が電解質膜の少なくとも一方面に積層された触媒層付電解質膜である。  
【００３７】
欠陥部は、電解質膜上に積層された触媒層の一部が欠落又は欠損している箇所であって、電解質膜が露出している箇所をいう。
【００３８】
通常は、電解質膜上に触媒層を形成する場合に生じる、触媒層のクラック、ピンホール等の欠陥部であるが、形成時のみならず、形成後の移動等による衝撃に破損した場合に生じるクラック等も含まれる。欠陥部が生じる原因となる触媒層の形成方法は、触媒層形成用転写フィルムによる転写方法、触媒層形成用インクを電解膜上に直接塗布することによる塗布方法等のいずれであってもよい。
【００３９】
このような触媒層付電解質膜、さらには原料である触媒層及び電解質膜は固体高分子型燃料電池等に使用されるものであれば限定されず、公知又は市販のものを広く使用することができる。
【００４０】
本発明の補修方法は、上記本発明の補修用転写フィルムと欠陥部を有する触媒層付電解質膜とを用いて、補修用転写フィルムの補修層と、欠陥部の有する触媒層表面とを接触させ、少なくとも欠陥部及びその周辺部に、熱及び／又は圧力を加えることにより行う。これにより、欠陥部に当該補修層の一部が入り込み、電解質膜と補修層とが結着して、当該欠陥部を埋める結果、触媒層付電解質膜が修復されることとなる。これにより、欠陥部の存在により生じていた電池性能の劣化を回復させることができる。
【００４１】
また、補修する触媒層は、欠陥部を有している限り限定されず、カソード側及びアノード側の触媒層のどちらであってもよい。
【００４２】
なお、接触させる場合、（１）欠陥部及びその周辺部のみに、当該周辺部の形にパターニングさせた補修用転写フィルムを接触させてもよく、（２）電解質膜に形成されている触媒層全面に補修用転写フィルムを接触させてもよい。なお、触媒層全面に補修用転写フィルムを接触させる工程の方が、補修用転写フィルムをパターニングする工程を必要としないため、生産効率の観点から優れている。
【００４３】
本発明では、補修層に含有される炭素材料とプロトン導電性高分子物質との重量比（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質、すなわち炭素材料の含有量をプロトン伝導性高分子物質の含有量で除した値）が、触媒層に含有される炭素材料とプロトン伝導性高分子物質との重量比（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）よりも大きくなるように、設定して転写することが好ましい。これにより、転写時に、補修層が、欠陥部以外の箇所（触媒層表面）に結着しにくくなるため、欠陥部のみに対して、より選択的に転写することができ、欠陥部以外における補修層の転写を防止できる。そのため、補修転写フィルムのパターニングが不要になる。さらに、欠陥部及びその周辺部又は外縁部のみに注意深く加熱及び／加圧する必要がなくなる。このため、例えば、補修用転写フィルムの全面加熱及び全面加圧がより容易に実現でき、生産効率が一段と向上する。
【００４４】
本発明では、特に補修層中に含まれるプロトン伝導性高分子物質のガラス転移温度が、触媒層付電解質膜中に含まれるプロトン伝導性高分子物質のガラス転移温度よりも、小さくなるように設定して転写することが好ましい。これにより、転写時に、補修層の一部が欠陥部に埋まり易くなる。また、加熱により転写する場合は、より低い温度で転写することができるため、加熱による触媒層及び電解質膜の損傷を抑制できる。
【００４５】
加熱及び加圧は常法に従って行えばよい。例えば、平均圧力は、通常０．１ＭＰａ〜２０ＭＰａ程度、好ましくは１ＭＰａ〜５ＭＰａ程度とすればよい。加熱温度は１００〜１９０℃、好ましくは１２０〜１５０℃である。特に電解質膜のガラス転移点に対し、１０〜８０℃程度高い温度で行なうことが好ましい。
【発明の効果】
【００４６】
本発明の補修方法によれば、欠陥部を有する触媒層付電解質膜を修復し、今まで破棄せざるを得なかった触媒層付電解質膜を有効に使用することができる。
【００４７】
また、補修層に含有される炭素材料とプロトン導電性高分子物質との重量比（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）を、触媒層に含有される炭素材料とプロトン伝導性高分子物質との重量比（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）よりも大きくすれば、パターニングが不要になり、より簡易な方法によって、触媒層付電解質膜を修復することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４８】
以下に、実施例を挙げて、本発明を更に詳しく説明する。なお、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
【００４９】
＜補修用転写フィルムの作製＞
実施例１
炭素材料としてケッチェンブラック(ライオン株式会社製、「カーボンＥＣＰ６００ＪＤ」）０．７ｇ、プロトン伝導性高分子物質としてＮａｆｉｏｎの２０重量％溶液（デュポン社製、「ＤＥ−２０２０」）３．０ｇ、及び蒸留水１４ｇを配合し分散機にて攪拌混合することにより、補修層形成用ペースト組成物を調製した。このペースト組成物をアプリケーターで、ポリプロピレンフィルムからなる転写基材（東レ社、「トレファン２５００」）上に乾燥後の膜重量が約１０ｇ／ｍ２となるように塗布し、次いで、８０℃で３０分間乾燥させることにより、実施例１の補修用転写フィルムを作製した。
【００５０】
補修用転写フィルムに形成された補修層の（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）の重量比は１．１６であった。
【００５１】
実施例２
Ｎａｆｉｏｎの２０重量％溶液の配合量を３．０ｇから４．５ｇに、蒸留水の配合量を１４ｇから１３ｇにして、補修層形成用ペースト組成物を調製した以外は実施例１と同様にして、実施例２の補修用転写フィルムを作製した。
【００５２】
形成された補修層の（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）の重量比は０．７８であった。
【００５３】
実施例３
Ｎａｆｉｏｎの２０重量％溶液の配合量を４．５ｇから７．５ｇに、蒸留水の配合量を１４ｇから１０ｇにして、補修層形成用ペースト組成物を調製した以外は実施例１と同様にして、実施例３の補修用転写フィルムを作製した。
【００５４】
形成された補修層の（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）の重量比は０．４６であった。
【００５５】
実施例４
Ｎａｆｉｏｎの２０重量％溶液の配合量を４．５ｇから１０．５ｇに、蒸留水の配合量を１４ｇから８ｇにして、補修層形成用ペースト組成物を調製した以外は実施例１と同様にして、実施例４の補修用転写フィルムを作製した。
【００５６】
形成された補修層の（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）の重量比は０．３３であった。
【００５７】
実施例５
Ｎａｆｉｏｎの２０重量％溶液の配合量を４．５ｇから１３．５ｇに、蒸留水の配合量を１４ｇから１３ｇにして、補修層形成用ペースト組成物を調製した以外は実施例１と同様にして、実施例５の補修用転写フィルムを作製した。
【００５８】
形成された補修層の（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）の重量比は０．２６であった。
【００５９】
＜触媒層付電解質膜の作製＞
白金担持触媒（田中貴金属工業社製、「ＴＥＣ６２Ｅ５８」）１０ｇ、Ｎａｆｉｏｎの５重量％溶液（プロトン伝導性高分子物質：デュポン社製、「ＤＥ−５２０」）１００ｇ、蒸留水３０ｇ及びイソプロピルアルコール１００ｇを配合し分散機にて攪拌混合することにより、アノード用触媒層ペースト組成物を得た。
【００６０】
白金担持触媒（田中貴金属工業製：「ＴＥＣ１０Ｅ５０Ｅ」、Ｐｔ担持率４６．２重量％）１０ｇ、Ｎａｆｉｏｎの５重量％溶液（プロトン伝導性高分子物質：デュポン社製、「ＤＥ−５２０」）１００ｇ、蒸留水３０ｇ、ｎ−ブタノール５０ｇ及びｔ−ブタノール５０ｇを配合し分散機にて攪拌混合することにより、カソード用触媒層ペースト組成物を得た。
【００６１】
これら触媒層ペースト組成物それぞれをアプリケーターでポリエチレンテレフタレートフィルムからなる転写基材（東レ社製、「ルミナーＸ４４」）上にそれぞれ塗布し、次いで、８０℃で３０分間乾燥させることにより、カソード用触媒層転写シート及びアノード用触媒層転写シートを作製した。なお、触媒層は、カソード及びアノードともにＰｔ担持量が０．５５ｍｇ／ｃｍ２となるように形成した。カソード用触媒層における（炭素材料／プロトン伝導性高分子物質）の重量比は１．０８であった。
【００６２】
作製した触媒層転写シートそれぞれを５ｃｍ×５ｃｍに断裁した。カソード用触媒層転写シートにおいては、さらにカソード用触媒層に３ｍｍ×３ｍｍ程度の開口部を５箇所開けることにより、欠陥部を設けた（図１）。
【００６３】
７．５ｃｍ×７．５ｃｍに裁断された電解質膜（デュポン社製、「Ｎａｆｉｏｎ１１２」）の一方の面にカソード用触媒層転写シートを、他方の面にアノード用触媒層転写シートを、１３０℃、平均圧力３．０ＭＰａ下で転写することにより、欠陥部を有した触媒層付電解質膜を作製した。
【００６４】
実施例６
実施例１で得られた補修用転写フィルムを切り取り、５ｍｍ×５ｍｍ程度の補修用転写フィルムを計５枚用意した。この５ｍｍ×５ｍｍ程度の補修用転写フィルムを上記で作製したＣＣＭの各欠陥部（計５箇所）に覆うように配置し、１３０℃に加熱されたプレス機で、平均圧力３．０ＭＰａで加圧することにより、当該欠陥部を補修した。
【００６５】
実施例１の補修用転写フィルムでは、欠陥部にのみに補修用転写フィルムの補修層が転写されており、欠陥部（露出された電解質膜）に対する選択性が良好であった。
【００６６】
実施例７〜１０
実施例２〜５で得られた補修用転写フィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、欠陥部の補修を行った。
【００６７】
実施例２〜５の補修用転写フィルムでは、欠陥部のほか欠陥部周辺の触媒層にも、補修層が一部転写されていた。
【００６８】
試験例
実施例６〜１０で得られた補修済み触媒層付電解質膜を用いて電池セルを作製し、開回路電圧を測定したところ、それぞれ、１．００４Ｖ、１．００３Ｖ、１．００３Ｖ、１．００３Ｖ、１．００４Ｖであった。
【００６９】
なお、補修前の欠陥部を有する触媒層付電解質膜を用いて電池セルを作製し、開回路電圧を測定したところ、０．９８４Ｖであった。
【００７０】
欠陥部を設ける前のカソード用触媒転写シートで作製した触媒層付電解質膜（欠陥部がない触媒層付電解質膜）を用いて電池セルを作製し、開回路電圧を測定したところ、１．００４Ｖであった。
【００７１】
これにより、本発明の補修用転写フィルムを用いると、電池性能が欠陥部を有する前の状態まで回復し、触媒層付電解質の補修が出来ていることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】図１は、本実施例で用いた、欠陥部を有する触媒層の概念図を示す。
【図１】
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