(57)【要約】【課題】生産性を高めることができるフォトスピナー装置を提供する。【解決手段】スピンコータ１１０は複数のウェハー上にフォトレジストを塗布する。ベーク装置１２０は、スピンコータ１１０によって塗布された前記フォトレジストを硬化させる。現像器は、ベーク装置１２０によって硬化されたフォトレジストを現像する。トランスファー１４０は、現像器、ベーク装置１２０、およびスピンコータ１１０の間で前記複数のウェハーを移送する。トランスファー１４０によって移送される複数のウェハーは複数のウェハーキャリア１７０に収納される。インデクサー１５０は、トランスファー１４０によって移送されるウェハーキャリア１７０を垂直方向に積層して配置させることができるウェハーキャリアローダー１６０を有する。【選択図】  図２
2009170904.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のウェハー上にフォトレジストを塗布するスピンコータと、
前記スピンコータによって塗布された前記フォトレジストを硬化させるベーク装置と、
前記ベーク装置によって硬化されたフォトレジストを現像する現像器と、
前記現像器、前記ベーク装置、および前記スピンコータの間で前記複数のウェハーを移送するトランスファーと、
前記トランスファーによって移送される複数のウェハーを収納する複数のウェハーキャリアを垂直に積層配置させるウェハーキャリアローダーを有するインデクサーと、
を備えることを特徴とするフォトスピナー装置。
【請求項２】
前記ウェハーキャリアローダーは、第１レベルで前記複数のウェハーキャリアを支持する第１棚と、前記第１棚上部の第２レベルで前記複数のウェハーキャリアを支持するように形成された第２棚とを含むことを特徴とする請求項１に記載のフォトスピナー装置。
【請求項３】
前記第１棚は、４個のウェハーキャリアを水平に支持する第１ブロックから第４ブロックを含むことを特徴とする、請求項２に記載のフォトスピナー装置。
【請求項４】
前記第２棚は、前記第１棚の第２ブロックおよび第３ブロックの上部において、複数のウェハーキャリアを支持する第５ブロックおよび第６ブロックを含むことを特徴とする請求項３に記載のフォトスピナー装置。
【請求項５】
前記第１ブロックは、ウェハーキャリアをローディングさせるローディングポートであり、前記第４ブロックはウェハーキャリアをアンローディングさせるアンローディングポートであることを特徴とする請求項３に記載のフォトスピナー装置。
【請求項６】
前記第１棚は、ウェハーキャリアを水平移動させる水平移動装置と、前記水平移動装置によって水平移動される前記ウェハーキャリアを整列させる複数のガイドバーとを含むことを特徴とする請求項２に記載のフォトスピナー装置。
【請求項７】
前記水平移動装置は、前記第１ブロックから第４ブロックで支持されるウェハーキャリアを前記複数のガイドバー以上の高さに上昇させるリフターと、前記リフターによって前記整列バー以上の高さに上昇させた前記ウェハーキャリアを水平に移動させるコンベヤーとを含むことを特徴とする請求項６に記載のフォトスピナー装置。
【請求項８】
複数のウェハーキャリアをウェハーキャリアローダーの第１棚の第１ブロックに順次ローディングさせるステップと、
複数のウェハーキャリアを前記第１棚の前記第１ブロックから第２ブロックおよび第３ブロックを経て第４ブロックまでに移動させながら、前記ウェハーキャリア内の複数のウェハーを取り出してフォトリソグラフィー工程を行うステップと、
前記ウェハーキャリア内にフォトリソグラフィー工程が完了した前記複数のウェハーを再搭載するステップと、
前記第１棚の前記第４ブロックにおいて前記複数のウェハーが再搭載された前記ウェハーキャリアをアンローディングさせるステップと、
前記ウェハーキャリアがアンローディングされたか否かを確認するステップと、
前記第１棚の前記第４ブロックにおいて前記ウェハーキャリアがアンローディングされない場合、フォトリソグラフィー工程が行われる複数のウェハーが搭載されたウェハーキャリア、または他のウェハーキャリアを前記第２棚の第５ブロックまたは第６ブロックにローディングさせ、フォトスピナー装置においてフォトリソグラフィー工程が連続的に行われるようにするステップと、
を含むことを特徴とするフォトスピナー装置の制御方法。
【請求項９】
前記ウェハーキャリアは、前記フォトスピナー装置に近接する遊休搬送装置がない場合、または、前記フォトスピナー装置内におけるフォトリソグラフィー工程が遅滞した場合、前記第４ブロックにおいてアンローディングされないことを特徴とする請求項８に記載のフォトスピナー装置の制御方法。
【請求項１０】
前記第２棚の前記第５ブロックまたは前記第６ブロックにローディングされた前記また他のウェハーキャリア内に搭載された前記複数のウェハーを取り出してフォトリソグラフィー工程を行うようにし、前記第１棚の前記第４ブロックにおいて前記ウェハーキャリアをアンローディングさせるステップをさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載のフォトスピナー装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はフォトスピナー装置およびその制御方法に関する。より詳しくは、複数のウェハーキャリアに搭載された複数のウェハーにフォトレジストを塗布および現像するフォトスピナー（ｐｈｏｔｏ  ｓｐｉｎｎｅｒ）装置、およびその装置におけるウェハーキャリアのローディングまたはアンローディング方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、半導体素子を製造するためにはウェハーに半導体回路を形成するステップを数回繰り返し行い、各ステップは膜質の成長および蒸着工程、フォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）の塗布、前記フォトレジスト上に該当する半導体回路を転写するフォトリソグラフィー（ｐｈｏｔｏ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程、前記半導体回路に該当しない部分を除去するエッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）工程、および各ステップにおいて所望する不純物を注入するイオン注入（ｉｍｐｌａｎｔ）工程などを含む。前記フォトリソグラフィー工程において前記フォトレジストを塗布および現像するためには主にフォトスピナー装置を使用する。
【０００３】
以下、従来技術のフォトスピナー装置を説明する。
図１は従来技術のフォトスピナー装置を示す斜視図である。
図１に示すように、従来技術のフォトスピナー装置は、複数のウェハー上にフォトレジストを順次塗布するスピンコータ１０と、スピンコータ１０によって塗布された前記フォトレジストを硬化させるベーク装置２０と、前記ウェハーのエッジにおいて硬化された前記フォトレジストを感光させるエッジ露光器３０と、エッジ露光器３０、ベーク装置２０、およびスピンコータ１０の間で複数のウェハーを移送するトランスファー４０と、トランスファー４０によって移送される複数のウェハーを複数のウェハーキャリアに搭載させ、前記複数のウェハーキャリアを水平に配列するように形成されたインデクサー５０とを含む。
【０００４】
図示してはいないが、フォトスピナー装置に隣接して設けられる露光装置において、パターンマスク膜に対応するように感光されるフォトレジストを現像してウェハー上にフォトレジストパターン膜を形成する現像器がさらに含まれる。
ここで、インデクサー５０は、複数のウェハーキャリア内に搭載された複数のウェハーを１枚毎に取り出してトランスファー４０に渡す。トランスファー４０から移送されるウェハーは前記複数のウェハーキャリア内に再搭載するようになっている。よって、インデクサー５０は、前記複数のウェハーキャリアを水平に配置させるウェハーキャリアローダー６０と、ウェハーキャリアローダー６０に位置する複数のウェハーキャリア内から複数のウェハーを順次取り出したり収納したりするようになっているインデックスアーム５２とを含む。このとき、複数のウェハーキャリアは半導体生産ライン内の天井に設けられるレールに沿って移送されるＯＨＴ（Ｏｖｅｒ−Ｈｅａｄ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ）のような自動搬送装置によってウェハーキャリアローダー６０に載置させることができる。
【０００５】
ウェハーキャリアローダー６０は、複数のウェハーキャリアを水平に支持する平板と、前記平板上で支持される複数のウェハーキャリアを整列させるガイドバー６２とを含む。例えば、ウェハーキャリアローダー６０の平板は約４個のウェハーキャリアを支持するようになっている。また、ウェハーキャリアは約２５個のウェハーを搭載している。従来のフォトスピナー装置は７０個〜７５個くらいのウェハーに対してフォトリソグラフィー工程を進行させることができる。よって、該当ウェハーキャリアにフォトリソグラフィー工程が完了した複数のウェハーが収納されると同時に自動搬送装置によってアンローディングした後、新しいフォトリソグラフィー工程を行うために後続のウェハーキャリアがローディングされなければならない。
【０００６】
しかし、自動搬送装置によるウェハーキャリアのローディングまたはアンローディングの余裕時間が充分ではなくてフォトリソグラフィー工程の遊休が生じ得るために生産性が落ちる問題点があった。
また、ウェハーキャリアローダー６０の平板の平面積を広くして５個くらいのウェハーキャリアを平面配列させることもできるが、ウェハーの大口径化による平面使用面積と半導体生産ラインの平面使用面積の増加が発生するために生産性が減少する短所があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のような問題点を解決するために、本発明の目的は、自動搬送装置の遅滞によりフォトリソグラフィー工程の遊休が発生することを防止して、生産性を高めることが可能なフォトスピナー装置およびその制御方法を提供することにある。
【０００８】
また、本発明のもう一つの目的は、ウェハーの大口径化による平面使用面積の増加と、半導体生産ラインの平面使用面積増加の発生を抑制して、生産性を高めることが可能なフォトスピナー装置およびその制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するための本発明の一態様によるフォトスピナー装置は、複数のウェハー上にフォトレジストを塗布するスピンコータと、前記スピンコータによって塗布された前記フォトレジストを硬化させるベーク装置と、前記ベーク装置によって硬化されたフォトレジストを現像する現像器と、前記現像器、前記ベーク装置、および前記スピンコータの間で前記複数のウェハーを移送するトランスファーと、前記トランスファーによって移送される複数のウェハーを収納する複数のウェハーキャリアを垂直に積層配置させるウェハーキャリアローダーを有するインデクサーと、を備えることを特徴とする。
【００１０】
ここで、前記ウェハーキャリアローダーは、第１レベルで前記複数のウェハーキャリアを支持する第１棚と、前記第１棚上部の第２レベルで前記複数のウェハーキャリアを支持するように形成された第２棚とを含む。前記第１棚は４個のウェハーキャリアを水平に支持する第１ブロック〜第４ブロックを含み、前記第２棚は前記第１棚の第２ブロックおよび第３ブロックの上部において複数のウェハーキャリアを支持する第５ブロックおよび第６ブロックを含むことが好ましい。
【００１１】
本発明の一態様によるフォトスピナー装置の制御方法は、複数のウェハーキャリアをウェハーキャリアローダーの第１棚の第１ブロックに順次ローディングさせるステップと、複数のウェハーキャリアを前記第１棚の前記第１ブロックから第２ブロックおよび第３ブロックを経て第４ブロックまでに移動させながら、前記ウェハーキャリア内の複数のウェハーを取り出してフォトリソグラフィー工程を行うステップと、前記ウェハーキャリア内にフォトリソグラフィー工程が完了した前記複数のウェハーを再搭載するステップ；前記第１棚の前記第４ブロックにおいて前記複数のウェハーが再搭載された前記ウェハーキャリアをアンローディングさせるステップと、前記ウェハーキャリアがアンローディングされたか否かを確認するステップと、前記第１棚の前記第４ブロックにおいて前記ウェハーキャリアがアンローディングされない場合、フォトリソグラフィー工程が行われる複数のウェハーが搭載されたまた他のウェハーキャリアを前記第２棚の第５ブロックまたは第６ブロックにローディングさせ、フォトスピナー装置においてフォトリソグラフィー工程が連続的に行われるようにするステップと、を含むことを特徴とする。
【００１２】
ここで、前記第２棚の前記第５ブロックまたは前記第６ブロックにローディングされた前記また他のウェハーキャリア内に搭載された前記複数のウェハーを取り出してフォトリソグラフィー工程を行うようにし、前記第１棚の前記第４ブロックにおいて前記ウェハーキャリアをアンローディングさせるステップをさらに含むことが好ましい。
（発明の効果）
【００１３】
本発明によれば、複数のウェハーキャリアを垂直に積層構造で支持する第１棚および第２棚からなるウェハーキャリアローダーを備え、自動搬送装置に遅滞によるフォトリソグラフィー工程の遊休が発生することを防止できるため、生産性を高める効果がある。
【００１４】
また、第１棚および第２棚で積層された構造を有するウェハーキャリアローダーを用いることにより、ウェハーの大口径化による平面使用面積の増加と、半導体生産ラインの平面使用面積増加の発生を抑制できるため、生産性を高める効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。但し、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形することができ、本発明の範囲が下記で詳述する実施形態によって限定されるとして解釈してはいけない。本発明の実施形態は当業界で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。よって、図面における要素の形状などはより明らかな説明を強調するために誇張されたものであり、図面上で同一符号で表示された要素は同一要素を意味する。また、本発明を説明するにおいて、関連の公知機能或いは構成に対する具体的な説明が本発明の要旨を濁す恐れがあると判断される場合にはその詳細な説明は省略する。
【００１６】
（第１実施形態）
図２は本発明の第１実施形態によるフォトスピナー装置を概略的に示す斜視図であり、図３は図２のウェハーキャリアローダーおよび自動搬送装置の模式図であり、図４は図２のフォトスピナー装置が設けられる領域と露光装置が設けられる領域を示す模式図である。
【００１７】
図２および図３に示すように、本実施形態のフォトスピナー装置は複数のウェハー１７２を搭載する複数のウェハーキャリア１７０が垂直に積層された構成を有するように設計されている。ここで、複数のウェハーキャリア１７０は第１レベルで水平に移動するように形成された第１棚１６４で支持されるか、第１棚１６４の第１レベルより高い第２レベルの第２棚１６６で支持される。第１棚１６４および第２棚１６６は複数のウェハーキャリア１７０を支持するウェハーキャリアローダー１６０である。
【００１８】
例えば、第１棚１６４は約４個のウェハーキャリア１７０を支持しつつ水平方向に移動させ、第２棚１６６は約２個のウェハーキャリア１７０を支持するように形成されている。ウェハーキャリア１７０は約２５枚のウェハー１７２を搭載することができる。よって、約７０枚〜約７５枚くらいのウェハー１７２に対してフォトリソグラフィー工程を行うフォトスピナー装置は少なくとも２個ぐらいのウェハーキャリア１７０が十分な遊休を持って待機するようにすることができる。
【００１９】
第１棚１６４の両側端部の第１ブロック１と第４ブロック４とは、半導体生産ラインの天井に設けられたレールに沿って移動されるＯＨＴのような自動搬送装置がウェハーキャリア１７０を垂直にローディングしアンローディングする、ローディングポートおよびアンローディングポートである。第２棚１６６の第５ブロック５と第６ブロック６とは、第１棚１６４の中心上部において複数のウェハーキャリア１７０を単純支持するように形成されている。第５ブロック５と第６ブロック６とはローディングポートおよびアンローディングポートの区分があり得ない。よって、第１棚１６４の中心部分で支持される複数のウェハーキャリア１７０は第１棚１６４の両側端部に水平に移動した後に前記自動搬送装置によってアンローディングされ得る。
【００２０】
第１棚１６４は自動搬送装置によって第１ブロック１にウェハーキャリア１７０がローディングされると、前記ウェハーキャリア１７０を前記第１ブロック１から第２ブロック２および第３ブロック３を経て第４ブロックまでに水平に移動させる。その後、自動搬送装置は第１棚１６４の第４ブロック４においてウェハーキャリア１７０をアンローディングすることができる。第１棚１６４は、ウェハーキャリア１７０を水平移動させる水平移動装置１６５と、水平移動装置１６５によって水平移動されるウェハーキャリア１７０を整列する複数のガイドバー１６２とを含む。また、第２棚１６６は複数のウェハーキャリア１７０を整列させる複数の整列バーを含む。
【００２１】
水平移動装置１６５は該当ブロックで支持されるウェハーキャリア１７０を整列バー以上の高さに上昇させるリフター１６１と、リフター１６１によって前記整列バー以上の高さに上昇するウェハーキャリア１７０を水平に移動させるコンベヤー１６３とを含む。
よって、本実施形態のフォトスピナー装置は、複数のウェハーキャリア１７０を垂直に積層構造で支持する第１棚１６４および第２棚１６６からなるウェハーキャリアローダー１６０を備え、自動搬送装置に遅滞によるフォトリソグラフィー工程の遊休が発生することを防止できるため、生産性を高めることができる。
【００２２】
ウェハーキャリアローダー１６０で支持される複数のウェハーキャリア１７０に搭載された複数のウェハー１７２は、インデックスアーム１５２によって順次取り出されてトランスファー１４０に渡される。図示してはいないが、インデックスアーム１５２によって取り出される複数のウェハー１７２は、アラインメントステージにおいて一方向に整列した後にトランスファー１４０に渡されることもできる。インデックスアーム１５２およびウェハーキャリアローダー１６０は、複数のウェハーキャリア１７０を該当位置に位置させ、複数のウェハーキャリア１７０内に搭載された複数のウェハー１７２を取り出したり再搭載したりするインデクサー１５０である。
【００２３】
トランスファー１４０は、ウェハー１７２の移送効率を高めるために複数のウェハー１７２を移送するように形成されており、複数のウェハー１７２を個別的に支持する複数のメインアームを含む。トランスファー１４０は、複数のウェハー１７２をスピンコータ１１０、ベーク装置１２０、エッジ露光器１３０、およびインターフェースに渡すように形成されている。よって、スピンコータ１１０、ベーク装置１２０、エッジ露光器１３０、およびインターフェースはスピナーユニットといい、トランスファー１４０によって移送されるウェハー１７２のフォトリソグラフィー工程がつながって行われるように位置している。
【００２４】
スピンコータ１１０は、所定量のフォトレジストが滴下されるウェハー１７２を高速回転させ、前記フォトレジストが遠心力で押し出されながら、ウェハー１７２上に所定厚さで塗布されるようになっている。例えば、スピンコータ１１０は、約１０秒〜約２０秒間に約２０００ｒｐｍ程度で高速回転しながらフォトレジストを塗布することができる。このとき、スピンコータ１１０は前記フォトレジストが塗布される前に吸着性を高めるために所定厚さの吸着剤を塗布することもできる。また、フォトレジストは粘性に優れており、ウェハー１７２の中心に滴下された後にウェハー１７２が高速回転する過程でエッジ方向に滲んでウェハー１７２の全面に均一な厚さで塗布され得る。
【００２５】
また、ベーク装置１２０はウェハー１７２を所定温度まで上昇させ、スピンコータ１１０によって塗布されたフォトレジストを硬化させることもできる。例えば、ベーク装置１２０は常温から約２００℃までに徐々にウェハー１７２を加熱し、フォトレジスト内に残存するシンナー成分を揮発させることによって前記フォトレジストを硬化させることができる。このとき、ベーク装置１２０によって硬化されるウェハー１７２上のフォトレジストはシンナー成分が揮発されるとその厚さが減少する。スピンコータ１１０によって塗布されたフォトレジストをベーク装置１２０で硬化させる作業をソフトベーク処理という。その後、後続の露光装置によって露光工程が完了したウェハー１７２上のフォトレジストを硬化させる作業をハードベーク処理という。
【００２６】
図示してはいないが、ベーク装置１２０によって所定温度に加熱されたウェハー１７２を常温に冷却させる冷却装置がベーク装置１２０の近くにさらに形成されることもできる。
インターフェースは、ベーク装置１２０によってソフトベーク処理されたフォトレジストが形成されたウェハー１７２を後続の露光装置に渡し、前記露光装置からウェハー１７２を受け取る装置である。よって、インターフェースはスピナー領域１００と露光領域２００との間のインターフェース領域３００に図４のように設けられる。ここで、スピナー領域１００は、約３００ｍｍの大きさの直径を有するウェハー１７２が搭載されるウェハーキャリア１７０が水平方向に４個配列される大きさのウェハーキャリアローダー１６０領域と同じかまたは類似する大きさを有する。
【００２７】
よって、本実施形態によるフォトスピナー装置では、ウェハーキャリアローダー１６０を、水平方向に第１ブロック１〜第４ブロック４に分けられる第１棚１６４と、前記第１棚１６４の上部において第５ブロック５および第６ブロック６に分けられる第２棚１６６とが積層構造を有するように形成している。
また、第１棚１６４および第２棚１６６で積層された構造を有するウェハーキャリアローダー１６０を用いることにより、ウェハー１７２の大口径化による平面使用面積の増加と、半導体生産ラインの平面使用面積増加の発生を抑制できるため、生産性を高めることができる。
【００２８】
一方、一般的な露光装置は特定パターンが形成されたマスク膜を用いて紫外線でフォトレジストを感光させるものであり、前記紫外線の波長大きさに応じてＧ−ｌｉｎｅ、ｉ−ｌｉｎｅ、ＫｒＦ、ＡｒＦ、ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  ＡｒＦに区分することができる。紫外線の波長が減少することに伴い、より微細な大きさのパターンを縮小投影させるレンズの大きさが幾何学的に大きくなり得ない制約がある。よって、露光装置は１つのチップの大きさに対応するパターンをレンズ全体に投影させるステッパタイプと、レンズの直径に対応するチップの断面を漸進的にスキャニングさせながらパターンを投影させるスキャナタイプに区分することができる。露光装置によってかかる露光時間に応じてフォトリソグラフィー工程の生産時間が決められる。従って、露光装置における露光工程時間が減少することにより、ウェハーキャリアローダー１６０においてウェハーキャリア１７０のローディングまたはアンローディングの遊休がなく移送が速く行われなければならない。
【００２９】
エッジ露光器１３０は、ウェハー１７２のエッジに形成されたフォトレジストを感光させて現像器で現像されるようにすることができる。よって、エッジ露光器１３０は、ソフトベーク処理が完了したウェハー１７２のエッジに形成されたフォトレジストを感光させるか、ハードベーク処理前後のウェハー１７２エッジに形成されたフォトレジストを感光させるようになっている。
図示してはいなが、エッジ露光器１３０と同じように、スピンコータ１１０において全面にフォトレジストが塗布されたウェハー１７２のエッジに沿って前記フォトレジストを洗浄するように形成されたウェハーエッジリンス装置を採用することができる。
【００３０】
現像器は露光装置およびエッジ露光器１３０によって感光されたフォトレジストを現像してウェハー１７２上に特定パターンを形成する装置である。現像器は、脱イオン水、エーテル、および界面活性剤が混合された現像液をウェハー１７２上で流動させながら、ウェハー１７２上のフォトレジストを現像するようになっている。このとき、現像液は、ベンゼン構造の単結合または二重結合を有するフォトレジストが紫外線を受けてこれらの結合が切れると、これらを溶解させることができる。よって、現像器は、ウェハー１７２に所定の圧力で現像液を噴射する噴射方式と、現像液で満たされた容器内にウェハー１７２を挿入するディップ方式によってフォトレジストを現像することができる。また、噴射方式とディップ方式が混合した混合方式を採用することもできる。現像器における現像作業が完了すると、フォトリソグラフィー工程を終えたウェハー１７２は、乾燥された後に、トランスファー１４０によってインデクサー１５０のウェハーキャリア１７０内に再搭載され得る。
【００３１】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態として、前述のように構成された第１実施形態によるフォトスピナー装置の制御方法を以下で説明する。この制御方法は、フォトスピナー装置においてウェハーキャリアのローディングまたはアンローディングを制御する方法である。
第２実施形態によるフォトスピナー装置の制御方法を図５のフローチャートに示す。
【００３２】
図５に示すように、本実施形態のフォトスピナー装置の制御方法は、以下のステップを含む。
まず、フォトリソグラフィー工程が行われる複数のウェハー１７２を搭載する複数のウェハーキャリア１７０をウェハーキャリアローダー１６０の第１棚１６４の第１ブロック１に順次ローディングさせる（Ｓ１０）。ここで、自動搬送装置は、複数のウェハーキャリア１７０を第１棚１６４の第１ブロック１に順次載置させる。また、第１棚１６４の水平移動装置１６５は複数のウェハーキャリア１７０を第１ブロック１から第２ブロック２および第３ブロック３を経て第４ブロック４までに順次移動させる。
【００３３】
次に、複数のウェハーキャリア１７０を第１棚１６４の第１ブロック１から第２ブロック２および第３ブロック３を経て第４ブロック４までに移動させながら、前記ウェハーキャリア１７０内の複数のウェハー１７２を取り出してフォトリソグラフィー工程を行う（Ｓ２０）。ここで、インデックスアーム１５２は第１レベルの第１棚１６４で支持される複数のウェハーキャリア１７０内から複数のウェハー１７２を順次取り出す。また、トランスファー１４０はインデックスアーム１５２によって取り出された複数のウェハー１７２をスピンコータ１１０、ベーク装置１２０、エッジ露光器１３０、インターフェース、現像器に移動させながらフォトリソグラフィー工程を行う。インターフェースを介して移動される複数のウェハー１７２は、露光装置によって露光工程が行われ、前記露光工程が完了したウェハー１７２は現像器によって現像された後に乾燥され、ウェハーキャリア１７０に搭載される。例えば、約７０個〜約７５個のウェハー１７２がスピナー領域１００、インターフェース領域３００、露光領域２００からフォトリソグラフィー領域に移動しながら、フォトリソグラフィー工程が行われる。
【００３４】
次に、第１棚１６４の第１ブロック１から第２ブロック２および第３ブロック３を経て第４ブロック４に移動されるウェハーキャリア１７０内にフォトリソグラフィー工程が完了した複数のウェハー１７２を再搭載させる（Ｓ３０）。ここで、トランスファー１４０およびインデックスアーム１５２は、現像器によって現像作業が終わり、フォトリソグラフィー工程が完了した複数のウェハー１７２を順次ウェハーキャリア１７０に再搭載させる。そして、該当するウェハーキャリア１７０内に複数のウェハー１７２が全て再搭載されると第１棚１６４の第４ブロック４に水平に移動される。
【００３５】
次に、第１棚１６４の第４ブロック４において複数のウェハー１７２が再搭載されたウェハーキャリア１７０をアンローディングさせる（Ｓ４０）。ここで、自動搬送装置は、フォトリソグラフィー工程が完了した複数のウェハー１７２が該当するウェハーキャリア１７０に再搭載されると、このウェハーキャリア１７０を後続のエッチング工程または洗浄工程が行われる半導体製造装置にアンローディングさせる。このとき、自動搬送装置は半導体生産ライン内においてフォトスピナー装置の近くに位置するものからウェハーキャリア１７０をアンローディングするように制御することができる。
【００３６】
しかし、フォトスピナー装置の近くに位置した自動搬送装置がまた他のウェハーキャリア１７０を前記フォトスピナー装置に移送させていたり、遊休自動搬送装置がなかったりする場合には、その移動が円滑に行われない。また、フォトスピナー装置内におけるフォトリソグラフィー工程が一部遅滞すると、自動搬送装置によるウェハーキャリア１７０のアンローディングが円滑に行われ難い。例えば、フォトスピナー装置内においてソフトベーク処理、ハードベーク処理、または現像作業のようなフォトリソグラフィー工程が一部遅滞すると、ウェハーキャリアローダー１６０にて待機する複数のウェハーキャリア１７０の個数が増加する。よって、第１棚１６４の第４ブロック４において複数のウェハー１７２が再搭載されるウェハーキャリア１７０が自動搬送装置によってアンローディングされているか否かを確認する（Ｓ５０）。
【００３７】
第１棚１６４の第４ブロック４において複数のウェハー１７２が再搭載されるウェハーキャリア１７０が自動搬送装置によってアンローディングされない場合、フォトリソグラフィー工程が行われる複数のウェハー１７２が搭載されたウェハーキャリア１７０を第２棚１６６の第５ブロック５または第６ブロック６にローディングさせる（Ｓ６０）。ここで、自動搬送装置は、第２棚１６６の第５ブロック５または第６ブロック６にウェハーキャリア１７０をローディングさせ、後続してフォトリソグラフィー工程が連続的に行われるようにすることができる。よって、本実施形態によるフォトスピナー装置の制御方法は、第１棚１６４で待機する複数のウェハーキャリア１７０の個数が増加しても第２棚１６６にウェハーキャリア１７０をローディングさせ、ウェハーキャリア１７０の待機時間を充分に持たせることができる。
【００３８】
第２棚１６６の第５ブロック５または第６ブロック６にローディングされたウェハーキャリア１７０内に搭載された複数のウェハー１７２を取り出してフォトリソグラフィー工程を行うようにし、第１棚１６４の第４ブロック４においてウェハーキャリア１７０をアンローディングさせる。ここで、第２棚１６６にローディングされたウェハーキャリア１７０から取り出された複数のウェハー１７２のフォトリソグラフィー工程が行われる間に、自動搬送装置を用いて第１棚１６４の第４ブロック４においてウェハーキャリア１７０をアンローディングさせることができる。図示してはいないが、第１棚１６４の第１ブロック１にまた他のウェハーキャリア１７０をローディングさせ、後続のフォトリソグラフィー工程を行うことができる。
【００３９】
従って、本実施形態によるフォトスピナー装置の制御方法は、第１棚１６４および第２棚１６６に複数のウェハーキャリア１７０を分散してローディングさせたりアンローディングさせたりすることによって、自動搬送装置におけるアンローディング遅滞またはフォトスピナー装置内における工程遅延によるフォトリソグラフィー工程の遊休の発生を防止できるため、生産性を高めることができる。
【００４０】
前記実施形態の説明は本発明に対しより徹底した理解を提供するために図面を参照にして例を挙げただけであるため、本発明を限定する意味として解釈してはいけない。また、本発明の技術分野で通常の知識を有する者であれば、本発明の基本的原理から逸脱しない範囲内で多様な変化および変更が可能であることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】従来技術によるフォトスピナー装置を示す斜視図。
【図２】本発明の第１実施形態によるフォトスピナー装置を概略的に示す斜視図。
【図３】図２のウェハーキャリアローダーおよび自動搬送装置を示す模式図。
【図４】図２のフォトスピナー装置が設けられる領域と露光装置が設けられる領域を示す模式図。
【図５】本発明の第２実施形態によるフォトスピナー装置の制御方法を示すフローチャート。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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