(57)【要約】【課題】製造歩留まりの高い、軽量かつ薄型の表示パネルの製造方法を提供する。【解決手段】表示パネルの製造方法は、第１基板と、第２基板と、を用意し、第１基板及び第２基板を接合し、第１基板及び第２基板の一方の基板に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、第１基板の表面及び第２基板の表面を第１化学研磨し、第１化学研磨された上記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、第１基板及び第２基板の厚みを算出し、第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、上記研磨速度の少なくとも一方を基に、第２化学研磨の時間を設定し、第１基板の表面及び第２基板の表面の少なくとも一方を第２化学研磨する。【選択図】      図７
2009053626.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
前記アレイ基板を形成する第１基板と、前記対向基板を形成する第２基板と、を用意し、
前記第１基板及び第２基板を接合し、
前記第１基板及び第２基板の一方の基板の前記第１基板及び第２基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第１基板及び第２基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第１基板及び第２基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第１基板の表面及び第２基板の表面を第１化学研磨し、
前記第１化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第１基板及び第２基板の厚みを算出し、
前記第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第２化学研磨の時間を設定し、前記第１基板の表面及び第２基板の表面の少なくとも一方を第２化学研磨する表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記第１化学研磨及び第２化学研磨する際、前記第１基板及び第２基板をフッ酸が含有された化学研磨液に浸漬する請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記形状保持部として塩化ビニル板を用いる請求項１又は２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記第１基板及び第２基板としてガラス基板を用いる請求項１乃至３の何れか１項に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項５】
アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
第１有効領域及び前記第１有効領域の外側に位置した第１非有効領域を有し、前記アレイ基板を形成する第１基板と、第２有効領域及び前記第２有効領域の外側に位置した第２非有効領域を有し、前記対向基板を形成する第２基板と、を用意し、
前記第１有効領域及び第２有効領域の周縁部に塗布した製品シール材と、前記第１非有効領域及び第２非有効領域に空気抜き口を設けて塗布した外周シール材により前記第１基板及び第２基板を互いに接合した後、前記空気抜き口をメインシール材により封止し、
前記第１基板及び第２基板の一方の基板の前記第１基板及び第２基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第１基板及び第２基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第１基板及び第２基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第１基板の表面及び第２基板の表面を第１化学研磨し、
前記第１化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第１基板及び第２基板の厚みを算出し、
前記第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第２化学研磨の時間を設定し、前記第１基板の表面及び第２基板の表面の少なくとも一方を第２化学研磨する表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、表示パネルとして液晶表示パネルを用いた様々な機器が供給されており、それらの機器の小型軽量化が求められている。液晶表示パネルは、アレイ基板と、このアレイ基板に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板と、これら両基板の間に挟持された液晶層と、を備えている。アレイ基板および対向基板は、それぞれガラス基板を備えている。機器の軽量化および薄膜化は、アレイ基板および対向基板を構成したガラス基板の厚みを薄くすることで実現できる。
【０００３】
液晶表示パネルを製造する場合、アレイ基板より寸法の大きいマザーガラス上にアレイパターンを形成し、対向基板より寸法の大きい他のマザーガラス上に所定パターンを形成した後、これらマザーガラスおよび他のマザーガラスを貼り合せることで製造される。  
最初から薄いガラス基板を用いて液晶表示パネルを形成しようとする場合、薄いガラス基板は、取り扱いが難しく、液晶表示パネルの製造装置に対する制約が多くなる。特に、ガラス基板の厚みが薄くなるほど、反りやたわみ量、温度に対するガラス基板の変形のしやすさが増大し、液晶表示パネルの生産性が悪くなる。従って、液晶表示パネルを希望通りに薄くしようとする場合、コスト上昇を招く。
【０００４】
そこで、最近、上記したようにマザーガラス同士を貼り合わせた後、これらマザーガラスを機械研磨（メカニカルエッチング）や化学研磨（ケミカルエッチング）の手法により研磨して、薄型化した液晶表示パネルが開発されている（例えば、特許文献１、２参照）。この方法によれば、製造コストの上昇を招くことなく、液晶表示パネルの軽量化および薄型化を図ることが可能となる。  
そして、アレイ基板の表面及び対向基板の表面間（液晶表示パネル）の厚みが所望の値となるよう研磨するものである。
【特許文献１】特開２００３−１５１１１号公報
【特許文献１】特開２００３−４３５０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、研磨後の厚みが０．３ｍｍｔクラスの液晶表示パネルも開発され始めている。このように、液晶表示パネル（基板）の薄型化が進むと、基板強度が低下する。これに対して、アレイ基板の板厚及び対向基板の板厚のアンバランス化が実施され、アレイ基板の板厚を厚く仕上げている。これにより、製造工程、特に、セル工程及びモジュール実装工程での基板強度の確保を図ることができ、製造歩留まりを高くすることができる。
【０００６】
液晶表示パネルの厚みが０．３ｍｍｔまで薄くなると、対向基板の板厚は０．１ｍｍｔとなる。また、アレイ基板に実装されるＩＣの高さ等を考慮すると、対向基板の板厚の下限値を設定する必要がある。しかしながら、液晶表示パネルの厚みを所望の値となるよう研磨する方法では、アレイ基板の板厚及び対向基板の板厚をそれぞれ所望の値となるよう研磨することが困難である。
【０００７】
このため、アレイ基板及び対向基板を、同一の時間、研磨する研磨工程において、アレイ基板の板厚と、対向基板の板厚とをそれぞれ所望の値となるよう研磨する研磨方法が望まれている。  
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、製造歩留まりの高い、軽量かつ薄型の表示パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の態様に係る表示パネルの製造方法は、
アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
前記アレイ基板を形成する第１基板と、前記対向基板を形成する第２基板と、を用意し、
前記第１基板及び第２基板を接合し、
前記第１基板及び第２基板の一方の基板の前記第１基板及び第２基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第１基板及び第２基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第１基板及び第２基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第１基板の表面及び第２基板の表面を第１化学研磨し、
前記第１化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第１基板及び第２基板の厚みを算出し、
前記第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第２化学研磨の時間を設定し、前記第１基板の表面及び第２基板の表面の少なくとも一方を第２化学研磨している。
【０００９】
また、本発明の他の態様に係る表示パネルの製造方法は、
アレイ基板と、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えた表示パネルの製造方法において、
第１有効領域及び前記第１有効領域の外側に位置した第１非有効領域を有し、前記アレイ基板を形成する第１基板と、第２有効領域及び前記第２有効領域の外側に位置した第２非有効領域を有し、前記対向基板を形成する第２基板と、を用意し、
前記第１有効領域及び第２有効領域の周縁部に塗布した製品シール材と、前記第１非有効領域及び第２非有効領域に空気抜き口を設けて塗布した外周シール材により前記第１基板及び第２基板を互いに接合した後、前記空気抜き口をメインシール材により封止し、
前記第１基板及び第２基板の一方の基板の前記第１基板及び第２基板の他方の基板と対向した面上であるとともに、前記第１基板及び第２基板の平面に平行な方向に前記他方の基板から外れた位置に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部を設け、
前記第１基板及び第２基板を前記化学研磨液に浸漬して、前記第１基板の表面及び第２基板の表面を第１化学研磨し、
前記第１化学研磨された前記一方の基板及び形状保持部の総厚みを測定し、前記第１基板及び第２基板の厚みを算出し、
前記第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を算出し、
前記第１基板の研磨速度及び第２基板の研磨速度の少なくとも一方を基に、第２化学研磨の時間を設定し、前記第１基板の表面及び第２基板の表面の少なくとも一方を第２化学研磨している。
【発明の効果】
【００１０】
この発明によれば、製造歩留まりの高い、軽量かつ薄型の表示パネルの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照しながら、この発明の表示パネルの製造方法を液晶表示パネルの製造方法に適用した実施の形態について詳細に説明する。  
始めに、この製造方法によって製造される液晶表示パネルの構成を説明する。
【００１２】
図１および図２に示すように、液晶表示パネル１０は、アレイ基板１１及び対向基板１３を備えている。アレイ基板１１は、透明な絶縁基板として、例えばガラス基板１２を備えている。対向基板１３は、透明な絶縁基板として、例えばガラス基板１４を備えている。アレイ基板１１及び対向基板１３は、これら基板間に設けられた複数本の柱状スペーサ１５により所定の隙間をおいて対向配置されている。
【００１３】
ガラス基板１２上には、図示しない複数の走査線、複数の信号線、複数のスイッチング素子、複数の画素電極及び配向膜等のアレイパターンが形成され、アレイ基板１１を構成している。また、ガラス基板１４には、図示しない共通電極および配向膜等の特定パターンが形成され、対向基板１３を構成している。
【００１４】
アレイ基板１１および対向基板１３は、これらの基板これらの周縁部に設けられた枠状の製品シール材１６により接合されている。製品シール材１６には液晶注入口１８が形成されている。アレイ基板１１、対向基板１３及び製品シール材１６によって囲まれた領域には、液晶が注入され、液晶層１７を形成している。なお、液晶注入口１８は、封止材１９によって封止されている。アレイ基板１１及び対向基板１３の外面には、図示しない偏光板がそれぞれ配設されている。
【００１５】
アレイ基板１１及び対向基板１３は、矩形状に形成されている。アレイ基板１１及び対向基板１３は、各々の３辺がほぼ重なるように配置されている。アレイ基板１１の残る一辺において、アレイ基板１１は、対向基板１３よりも外側へ延出している。対向基板１３から外れたアレイ基板１１上に、ＩＣ（集積回路）３が実装されている。
【００１６】
次に、上記形成された液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置について詳述する。  
図３及び図６に示すように、まず、アレイ基板１１より大きな寸法の透明な絶縁基板としてガラスからなる第１基板（以下、マザーガラスと称する）２を用意する。マザーガラス２は、矩形状に形成されている。マザーガラス２の１つの角部にはオリフラ部２ａが形成されている。オリフラ部２ａは、例えば、マザーガラス２の角部を三角形状に分断することで形成されている。分断された分断部において、直角を共有する２辺の長さＬは１０ｍｍである。
【００１７】
この実施の形態において、マザーガラス２は、２枚のアレイ基板１１を形成するための２つの有効領域Ｒ１と、これら有効領域の周囲に位置した非有効領域Ｒ２とを有している。マザーガラス２の板厚Ｔ１は、０．７ｍｍである。続いて、マザーガラス２上の各有効領域Ｒ１に、アレイパターンおよび複数本の柱状スペーサ１５（図１）を形成する。これにより、２枚分のアレイ基板１１がマザーガラス２を用いて形成される。
【００１８】
図４及び図６に示すように、対向基板１３より大きな寸法の透明な絶縁基板としてガラスからなる第２基板（以下、マザーガラスと称する）４を用意する。マザーガラス４は、矩形状に形成されている。マザーガラス４は、マザーガラス２と同一のガラス材で形成されている。なお、マザーガラス４は、オリフラ部を有していない。
【００１９】
マザーガラス４は、有効領域Ｒ１にそれぞれ対応した２つの有効領域Ｒ３と、有効領域Ｒ３の周囲に位置した非有効領域Ｒ４とを有している。マザーガラス４の板厚Ｔ２は、０．５ｍｍである。マザーガラス４の各有効領域Ｒ３に、共通電極および配向膜等の特定パターンを形成する。これにより、２枚分の対向基板１３がマザーガラス４を用いて形成される。
【００２０】
次に、図３乃至図６に示すように、マザーガラス２の周縁部に空気抜き口８を有した外周シール材６を塗布するとともに、各有効領域Ｒ１の周縁部に液晶注入口１８を有した製品シール材１６を塗布する。その後、有効領域Ｒ１、Ｒ３の表示領域同士が対向するようにマザーガラス２及びマザーガラス４を配置する。
【００２１】
続いて、マザーガラス２及びマザーガラス４を加圧して、両マザーガラスを外周シール材６及び製品シール材１６により貼り合わせるとともに、空気抜き口８を通して両マザーガラス間の空気を排出する。次いで、外周シール材６及び製品シール材１６を硬化し、その後、メインシール材として、例えばエポキシ樹脂系からなる封止材９により空気抜き口８を封止する。上記した工程により、２枚のマザーガラス２、４が固着され、２組の空の液晶表示パネルを有した液晶表示セル１が完成する。
【００２２】
次いで、オリフラ部２ａ近傍のマザーガラス４上に、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない形状保持部として、塩ビ板（塩化ビニル板）５を設ける。より詳しくは、塩ビ板５は、マザーガラス２と対向したマザーガラス４の面上に設けられている。マザーガラス２、４の平面に平行な方向において、塩ビ板５は、マザーガラス２から外れている。塩ビ板５は、所定の厚みＴ３（例えば、２ｍｍ）を有している。
【００２３】
塩ビ板５を設ける際、例えば、熱硬化型樹脂を用いてマザーガラス４上に塩ビ板５を接着する。ここで用いた熱硬化型樹脂は、加熱することで粘着力が低下するタイプの樹脂である。
【００２４】
続いて、マイクロメータを使用し、液晶表示セル１の厚みを測定する。測定する際、マザーガラス４及び塩ビ板５の総厚みＴ４と、液晶表示セル１（マザーガラス２の表面及びマザーガラス４の表面間）の厚みＴ５とを測定する。
【００２５】
次に、製造装置２０を用いて液晶表示セル１を化学研磨する。  
図７に示すように製造装置２０は、化学研磨室としての研磨チャンバ２１を有している。この研磨チャンバ２１は、液晶表示セル１やエッチング液３１等を収容する研磨室として機能する。研磨チャンバ２１内には、液晶表示セル１を化学研磨する化学研磨部３０及び化学研磨を行った後に液晶表示セルを洗浄する洗浄部５０が設けられている。
【００２６】
化学研磨部３０は、化学研磨液として、例えばフッ酸を含有するエッチング液３１を収容した液槽３２と、液晶表示セル１を支持しエッチング液３１に浸漬させる基板支持機構としてのキャリア３３とを有している。  
洗浄部５０は、液晶表示セル１の表面に付着した溶液を洗浄するための洗浄装置５１を有している。
【００２７】
次に、上記のように構成された製造装置２０によって研磨される液晶表示セル１の研磨方法について詳述する。  
まず、前述した工程により製造された液晶表示セル１を複数用意し、複数の液晶表示セル１を研磨チャンバ２１内に搬入する。なお、図７に示した液晶表示セル１は、便宜上、マザーガラス２、４及び塩ビ板５のみ示している。また、研磨チャンバ２１内に搬入された液晶表示セル１において、塩ビ板５は、１つの液晶表示セル１にのみ設けられている。残りの液晶表示セル１は、塩ビ板５を設けない構成としている。
【００２８】
化学研磨部３０において、キャリア３３により搬入された複数の液晶表示セル１全体をエッチング液３１に同時に浸漬する。そして、所定時間、第１化学研磨する。これにより、マザーガラス２の表面及びマザーガラス４の表面は化学的に研磨される。言うまでもないが、塩ビ板５は化学的に研磨されない。続いて、複数の液晶表示セル１をエッチング液３１から取り出した後、洗浄部５０に搬送して洗浄する。
【００２９】
洗浄部５０で洗浄する際は、洗浄装置５１を用いて液晶表示セル１表面に付着したエッチング液３１を除去する。その後、複数の液晶表示セル１を研磨チャンバ２１外側に搬出する。なお、第１化学研磨後、複数の液晶表示セル１を洗浄せずに研磨チャンバ２１外側に搬出しても良い。
【００３０】
図８に示すように、次いで、第１化学研磨された複数の液晶表示セル１のうち、塩ビ板５が設けられた液晶表示セル１の厚みを測定する。測定する際、マイクロメータを使用し、第１化学研磨されたマザーガラス４及び塩ビ板５の総厚みＴａ４と、第１化学研磨された液晶表示セル１の厚みＴａ５とを測定する。
【００３１】
そして、総厚みＴ４及び総厚みＴａ４の値を基に、第１化学研磨後のマザーガラス４の板厚Ｔａ２を算出し、マザーガラス４の研磨量を算出する。さらに、マザーガラス４の研磨量及び第１化学研磨の時間を基に、第１化学研磨によるマザーガラス４の研磨速度を算出する。
【００３２】
また、板厚Ｔａ２及び厚みＴａ５の値を基に、第１化学研磨後のマザーガラス２の板厚Ｔａ１を算出し、マザーガラス２の研磨量を算出する。さらに、マザーガラス２の研磨量及び第１化学研磨の時間を基に、第１化学研磨によるマザーガラス２の研磨速度を算出する。
【００３３】
なお、マザーガラス２及びマザーガラス４は、同一のガラス材で形成されているが、これらの研磨速度に誤差が生じる恐れがある。このため、上記したように、マザーガラス４の研磨速度とは別にマザーガラス２の研磨速度を算出している。
【００３４】
次いで、マザーガラス２の研磨速度及びマザーガラス４の研磨速度の少なくとも一方を基に、第２化学研磨の時間を設定する。これにより、マザーガラス２、４のそれぞれの最終板厚を制御することが可能となる。
【００３５】
続いて、複数の液晶表示セル１を研磨チャンバ２１内に再び搬入する。化学研磨部３０において、キャリア３３により搬入された複数の液晶表示セル１全体をエッチング液３１に同時に浸漬する。そして、設定された時間、第２化学研磨する。これにより、マザーガラス２の表面及びマザーガラス４の表面は化学的に研磨される。第２化学研磨終了後、複数の液晶表示セル１をエッチング液３１から取り出す。
【００３６】
なお、第１化学研磨により、マザーガラス２及びマザーガラス４の一方のマザーガラスが所望の最終板厚となった場合、第２化学研磨において、エッチング液３１に他方のマザーガラスを浸漬し、他方のマザーガラスの表面を化学的に研磨すれば良い。
【００３７】
上記したことから、マザーガラス２、４は、それぞれ所望の最終板厚となる。この実施の形態において、マザーガラス２の最終板厚は０．３ｍｍとなり、マザーガラス４の最終板厚は０．１ｍｍとなる。このため、軽量、かつ薄型の複数の液晶表示セル１が得られる。
【００３８】
続いて、複数の液晶表示セル１を洗浄部５０に搬送して洗浄する。洗浄部５０で洗浄する際は、洗浄装置５１を用いて液晶表示セル１表面に付着したエッチング液３１を除去する。その後、複数の液晶表示セル１を研磨チャンバ２１外側に搬出する。
【００３９】
次いで、塩ビ板５が設けられた液晶表示セル１において、液晶表示セル１から塩ビ板５を除去する。除去する際、塩ビ板５を接着させるために使用した熱硬化型樹脂を加熱することにより、塩ビ板５を容易に除去することができる。なお、この実施の形態の製造工程において、液晶表示セル１から塩ビ板５を除去したが、これに限らず、液晶表示セル１から塩ビ板５を除去しなくとも良い。
【００４０】
続いて、マザーガラス２、４を有効領域Ｒ１、Ｒ３の周縁に位置したスクライブラインｅに沿って分割する。これにより、各液晶表示セル１から２組の空状態の液晶表示セルが得られる。その後、真空注入により、液晶表示セルの液晶注入口１８から液晶を注入し、液晶注入口１８を封止材１９によって封止する。これにより、アレイ基板１１および対向基板１３の間に液晶が封入され液晶層１７が形成される。
【００４１】
続いて、アレイ基板１１および対向基板１３の外面に、それぞれ偏光板を配置することにより、液晶表示パネル１０が完成する。完成した液晶表示パネル１０のアレイ基板１１上にはＩＣ３が実装される。
【００４２】
以上のように構成された液晶表示パネルの製造方法によれば、マザーガラス４上には、エッチング液３１による化学研磨の影響を受けない塩ビ板５を設けている。塩ビ板５が設けられた液晶表示セル１を第１化学研磨し、総厚みＴａ４と、厚みＴａ５とを測定している。これにより、マザーガラス２の板厚Ｔａ１、マザーガラス２の研磨速度、マザーガラス４の板厚Ｔａ２、マザーガラス４の研磨速度を算出することができる。
【００４３】
そして、マザーガラス２の研磨速度及びマザーガラス４の研磨速度を基に、第２化学研磨の時間を設定している。これにより、マザーガラス２、４の板厚を所望の最終板厚とすることができる。  
また、上述した化学研磨の工程は容易であるため、液晶表示パネルの大量製造が容易となる。マザーガラス２、４を接合した後、化学研磨して薄型化する手法を採るため、ガラス板の取扱いが容易であり、製造コスト上昇を抑制できる。
【００４４】
上記したことから、製造歩留まりの高い液晶表示パネルの製造方法を得ることができる。これにより、表示品位に優れ、軽量かつ薄型の液晶表示パネルを得ることができる。
【００４５】
なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００４６】
例えば、化学研磨する際、複数の液晶表示セル１を第１化学研磨及び第２化学研磨したが、これに限らず、１つの液晶表示セル１のみを第１化学研磨及び第２化学研磨しても良い。複数の液晶表示セル１をエッチング液３１に同時に浸漬する際、複数の液晶表示セル１の少なくとも１つの液晶表示セル１に塩ビ板５が設けられていれば良い。
【００４７】
マザーガラス４にオリフラ部が形成され、マザーガラス２にオリフラ部が形成されていなくとも良い。この場合、マザーガラス４のオリフラ部近傍のマザーガラス２上に、塩ビ板５を設ければ良い。より詳しくは、塩ビ板５は、マザーガラス４と対向したマザーガラス２の面上に設けられている。マザーガラス２、４の平面に平行な方向において、塩ビ板５は、マザーガラス４から外れている。  
上記形状保持部は、塩ビ板５に限定されるものではなく、化学研磨液による化学研磨の影響を受けない部材で形成されていれば良い。
【００４８】
上記液晶表示セル１は、２組の空の液晶表示パネルを有しているが、これに限らず、１組又は３組以上の空の液晶表示パネルを有していても良い。  
この発明は、液晶表示パネルの製造方法に限らず、有機ＥＬ表示パネルの製造方法等、他の表示パネルの製造方法にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルの製造方法により製造された液晶表示パネルを示す概略断面図。
【図２】図１に示した液晶表示パネルの斜視図。
【図３】上記液晶表示パネルの製造方法において、２つの有効領域を有したマザーガラス上に製品シール材および外周シール材を形成した状態を示す平面図。
【図４】上記液晶表示パネルの製造方法において、２つの有効領域を有した他のマザーガラスを示す平面図。
【図５】上記液晶表示パネルの製造方法において、マザーガラスおよび他のマザーガラスが貼り合わされた状態の液晶表示セルを示す平面図。
【図６】図５の線Ａ−Ａに沿った上記液晶表示セルの断面図。
【図７】上記液晶表示パネルの製造方法を実施する製造装置の概略図。
【図８】上記液晶表示パネルの製造方法において、図６に示した液晶表示セルの第１化学研磨後の状態を示す断面図。
【符号の説明】
【００５０】
１…液晶表示セル、２…マザーガラス、２ａ…オリフラ部、３…ＩＣ、４…マザーガラス、５…塩ビ板、６…外周シール材、８…空気抜き口、９…封止材、１０…液晶表示パネル、１１…アレイ基板、１２…ガラス基板、１３…対向基板、１４…ガラス基板、１５…柱状スペーサ、１６…製品シール材、１７…液晶層、１８…液晶注入口、１９…封止材、２０…製造装置、２１…研磨チャンバ、３０…化学研磨部、３１…エッチング液、３２…液槽、Ｒ１，Ｒ３…有効領域、Ｒ２，Ｒ４…非有効領域、Ｔ１，Ｔ２，Ｔａ１，Ｔａ２…板厚、Ｔ３，Ｔ４，Ｔ５，Ｔａ４，Ｔａ５…厚み。
【図１】
2009053626.tif 000003
【図２】
2009053626.tif 000004
【図３】
2009053626.tif 000005
【図４】
2009053626.tif 000006
【図５】
2009053626.tif 000007
【図６】
2009053626.tif 000008
【図７】
2009053626.tif 000009
【図８】
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