(57)【要約】【課題】カラーフィルタ層の非着色領域に形成された段差による位相のずれを抑制し、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな表示が得られる半透過反射型の液晶表示装置を提供する。【解決手段】本発明の液晶表示装置１００は、一対の基板１０Ａ，２５Ａと、前記一対の基板間に挟持された液晶層５０と、前記一対の基板のうちの一方の基板１０Ａの液晶層側に設けられた液晶層厚調整層４１と、前記一対の基板のうちの他方の基板２５Ａの液晶層側に設けられた着色層２２Ｒと、着色層２２Ｒの反射表示流域の一部に設けられた非着色領域（開口部）２２ｒとを備えている。液晶層厚調整層４１は、反射表示領域Ｒの非着色領域における液晶層５０の層厚を反射表示領域Ｒの非着色領域以外の領域（着色領域）における液晶層５０の層厚よりも大きくするように層厚が調節されている。【選択図】図２
2009086062.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
前記一対の基板間に挟持された液晶層と、
複数のサブ画素からなる表示領域と、
前記複数のサブ画素の各々に設けられた透過表示領域及び反射表示領域と、
前記一対の基板のうちの一方の基板の液晶層側に設けられ、互いに色の異なる複数の着色層が前記複数のサブ画素の各々に配置されてなるカラーフィルタ層と、
前記複数の着色層のうちの少なくとも１つの着色層の平面領域内において前記反射表示領域の一部に設けられた、前記着色層が配置されない非着色領域と、
前記反射表示領域において前記カラーフィルタ層と前記液晶層との間に設けられた位相差層と、
前記一対の基板のうちの他方の基板の液晶層側に設けられ、前記反射表示領域の非着色領域における液晶層の層厚を前記反射表示領域の非着色領域以外の領域における液晶層の層厚よりも大きくする液晶層厚調整層と、を備えていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記着色層が配置された着色領域と前記着色層が配置されない非着色領域との間の段差が前記位相差層によって平坦化されており、
前記液晶層厚調整層の前記非着色領域と平面的に重なる領域に凹部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記着色層が配置された着色領域と前記着色層が配置されない非着色領域との間の段差に倣って前記位相差層の表面に凹部が形成されており、
前記液晶層厚調整層の前記非着色領域と平面的に重なる領域に凸部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の一形態として、反射モードと透過モードを兼ね備えた半透過反射型のカラー液晶表示装置が知られている。半透過反射型の液晶表示装置においては、反射モード時には２回、透過モード時には１回着色層（カラーフィルタ）を透過することによってカラー表示が行われる。そのため、着色層を２回透過する反射モードの表示を重視して淡い色の着色層を使用すると、着色層を１回しか透過しない透過モードにおいて発色のよい表示を得ることができない。逆に、着色層を１回透過する透過モードの表示を重視して濃い色の着色層を使用すると、着色層を２回透過する反射モードの表示が暗くなってしまう。
【０００３】
この問題を解決するために、特許文献１では、反射表示領域に配置される着色層の一部に、着色層が配置されない非着色領域を設けた液晶表示装置が記載されている。この液晶表示装置では、反射モードで得られる光の一部は着色層を透過しない光となる。そのため、全ての光が２回着色層を透過する従来の反射モードに比べて色の濃度が小さくなる。一方、透過モードで得られる光は全て着色層を透過した光であるため、透過モードの色の濃度は従来と同じである。したがって、反射モードと透過モードの色の濃淡差が小さくなり、透過モードと反射モードの双方で発色の良い表示が得られる。
【特許文献１】特開２００６−７２０８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
半透過反射型の液晶表示装置では、反射表示と透過表示とを単一の液晶層を用いて実現するために、表示モード間での位相差の調整が必要である。従来は、反射表示領域と透過表示領域の一方に位相差層を形成し、透過表示と反射表示の位相差のずれを調整している。このような位相差層は液晶パネルの内面側に形成されることから、内面位相差層と呼ばれることがある。この液晶表示装置によれば、液晶パネル内部に位相差層を内蔵しているため、液晶パネルの外側に厚い位相差板を設ける場合に比べて、液晶表示装置の薄型化や低コスト化を実現できる。
【０００５】
しかしながら、液晶パネルの内部に設けられる位相差層は、液晶モノマーをカラーフィルタ基板の表面に塗布することにより形成されるため、カラーフィルタ基板の表面に段差が存在すると、液晶モノマーが段差の底部に溜まり易くなり、段差の上部と底部で異なった膜厚（位相差）の位相差層が形成されてしまう。例えば位相差層の表面に、非着色領域の段差を反映した凹部が形成されると、凹部が形成された部分の液晶層の層厚が他の部分の液晶層の層厚よりも大きくなる。その結果、非着色領域とその周辺部（着色領域）で位相差がずれてしまい、十分なコントラストが得られなくなる。また、位相差層が非着色領域の段差を平坦化してフラットに形成された場合には、非着色領域の位相差層の膜厚はその周辺部の位相差層の膜厚よりも大きくなるため、やはり十分なコントラストが得られない。
【０００６】
本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、カラーフィルタ層の非着色領域に形成された段差による位相のずれを抑制し、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな表示が得られる半透過反射型の液晶表示装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明の液晶表示装置は、一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、複数のサブ画素からなる表示領域と、前記複数のサブ画素の各々に設けられた透過表示領域及び反射表示領域と、前記一対の基板のうちの一方の基板の液晶層側に設けられ、互いに色の異なる複数の着色層が前記複数のサブ画素の各々に配置されてなるカラーフィルタ層と、前記複数の着色層のうちの少なくとも１つの着色層の平面領域内において前記反射表示領域の一部に設けられた、前記着色層が配置されない非着色領域と、前記反射表示領域において前記カラーフィルタ層と前記液晶層との間に設けられた位相差層と、前記一対の基板のうちの他方の基板の液晶層側に設けられ、前記反射表示領域の非着色領域における液晶層の層厚を前記反射表示領域の非着色領域以外の領域における液晶層の層厚よりも大きくする液晶層厚調整層と、を備えていることを特徴とする。この構成によれば、非着色領域における液晶層の層厚が着色領域における液晶層の層厚よりも小さくなるため、非着色領域において厚く形成された位相差層との間で位相差のずれが相殺される。その結果、非着色領域と着色領域の位相差のずれが小さくなり、従来に比べて高輝度、高コントラストな液晶表示装置が提供できる。
【０００８】
本発明においては、前記着色層が配置された着色領域と前記着色層が配置されない非着色領域との間の段差が前記位相差層によって平坦化されており、前記液晶層厚調整層の前記非着色領域と平面的に重なる領域に凹部が形成されている構成を採用することができる。また、前記着色層が配置された着色領域と前記着色層が配置されない非着色領域との間の段差に倣って前記位相差層の表面に凹部が形成されており、前記液晶層厚調整層の前記非着色領域と平面的に重なる領域に凸部が形成されている構成を採用することができる。いずれの構成を採用するかは、位相差層の表面に形成される凹部の深さや、着色領域と非着色領域との間の位相差のずれ量等に基づいて決定することができる。
【０００９】
本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶表示装置を備えていることを特徴とする。この構成によれば、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな表示が得られる半透過反射型の表示部を備えた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００１１】
また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。この際、水平面内における所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。例えば本実施形態においては、Ｘ軸方向をデータ線の延在方向、Ｙ軸方向を走査線の延在方向、Ｚ軸方向を観察者による液晶パネルの観察方向としている。
【００１２】
［第１の実施の形態］
図１は本発明の第１実施形態の液晶表示装置１００の１画素の平面図である。液晶表示装置１００は、画素スイッチング素子として薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；以下「ＴＦＴ」という。）を備えた半透過反射型の液晶表示装置である。
【００１３】
図１に示すように、液晶表示装置１００の１画素領域には、それぞれ赤、緑、青に対応した３つのサブ画素Ｄが設けられている。各々サブ画素Ｄに３原色のうちの１色の着色層（カラーフィルタ）が形成され、３つのサブ画素Ｄ１〜Ｄ３で３色の着色層２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂを含む画素領域が形成されている。なお、着色層２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂは、それぞれＸ軸方向に延びるストライプ状に形成され、その延在方向で複数のサブ画素Ｄに跨って形成されるとともに、Ｙ軸方向にて周期的に配列されている。
【００１４】
サブ画素Ｄの平面領域において反射表示領域Ｒに対応する領域の中央部には、着色層が配置されない非着色領域（開口部２２ｒ、２２ｇ、２２ｂ）が設けられている。非着色領域２２ｒ、２２ｇ、２２ｂは、着色層の一部を切り欠いて形成されている。反射表示領域Ｒの一部に着色層の開口部２２ｒ、２２ｇ、２２ｂを設けることで、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの色度の調和を図ることができる。また、反射表示領域Ｒの明るさを向上させることができ、反射表示と透過表示の双方で輝度及び色度のバランスのとれた高画質の画像表示が可能となる。
【００１５】
サブ画素Ｄの平面領域には、平面視略矩形状の画素電極９が設けられている。液晶表示装置１００の表示領域には、画素電極９の境界部に沿ってＸ軸方向に延在する複数のデータ線６ａとＹ軸方向に延在する複数の走査線３ａとが設けられている。データ線６ａと走査線３ａとに囲まれた各々の領域はサブ画素Ｄであり、データ線６ａと走査線３ａとの交差部近傍にはサブ画素Ｄを駆動するＴＦＴ素子３０が設けられている。サブ画素Ｄは走査線３ａとデータ線６ａに沿ってマトリクス状に配置されており、マトリクス状に配置された複数のサブ画素Ｄによって、全体としての表示領域が形成されている。
【００１６】
サブ画素ＤはＸ軸方向において２つの領域に分割されている。図示左側の領域は、反射表示用画素電極９ｒを備えた反射表示領域Ｒであり、図示右側の領域は、透過表示用画素電極９ｔを備えた透過表示領域Ｔである。本実施形態の場合、反射表示用画素電極９ｒは、アルミニウムや銀等の光反射性導電膜からなる平面視矩形状の反射電極であり、透過表示用画素電極９ｔは、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電膜からなる平面視矩形状の透明電極である。反射表示用画素電極９ｒと透過表示用画素電極９ｔとは、平面視でほぼ同一の形状及び大きさを有し、サブ画素領域の中央部で互いに接続されている。
【００１７】
走査線３ａとデータ線６ａとの交差部近傍には、反射表示用画素電極９ｒと走査線３ａ及びデータ線６ａとを接続するＴＦＴ素子３０が設けられている。ＴＦＴ素子３０は、半導体層３５と、半導体層３５の下層側に設けられたゲート電極部３２と、半導体層３５の上層側に設けられたソース電極部３３及びドレイン電極部３４と、を備えている。半導体層３５のゲート電極部３２と対向する領域にはチャネル領域が形成されており、チャネル領域の両側にソース領域とドレイン領域とが形成されている。ゲート電極部３２は、走査線３ａの一部をデータ線６ａの延在方向（Ｘ軸方向）に延出して形成されており、その先端側で半導体層３５のチャネル領域と図示略のゲート絶縁膜を介して対向している。ソース電極部３３は、データ線６ａの一部を走査線３ａの延在方向（Ｙ軸方向）に延出して形成されており、半導体層３５のソース領域と電気的に接続されている。ドレイン電極３４は、その一端側で半導体層３５のドレイン領域と電気的に接続されており、他端側で反射表示用画素電極９ｒと電気的に接続されている。
【００１８】
図２は図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。液晶表示装置１００は、素子基板（第１基板）１０と、素子基板１０に対向配置された対向基板（第２基板）２５とを備えている。素子基板１０と対向基板２５との間には液晶層５０が挟持されている。素子基板１０の外面側には偏光板１９が設けられ、対向基板２５の外面側には偏光板１７が設けられている。さらに、偏光板１９の外面側には、透過表示用の照明装置であるバックライト１５が配設されている。
【００１９】
素子基板１０は、石英、ガラス等の透光性基板１０Ａを基体としてなる。基体１０Ａの内面側にはＴＦＴ素子（図２では走査線３ａのみが図示されている）が形成されている。基体１０ＡとＴＦＴ素子を覆って、アクリル樹脂等の透光性絶縁材料からなる第１絶縁膜４１が形成されている。第１絶縁膜４１の反射表示領域Ｒに対応する領域の中央部には凹部４１ａが形成されている。凹部４１ａは着色層２２Ｒの開口部２２ｒと平面的に重なる位置に形成されている。凹部４１ａの平面形状、大きさは、着色層２２Ｒの開口部２２ｒの平面形状、大きさと略同じである。
【００２０】
第１絶縁膜４１上には凹部４１ａを覆って、アクリル樹脂等の透光性絶縁材料からなる第２絶縁膜２４が形成されている。第２絶縁膜２４の表面には、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜、又はこれらの金属膜とＩＴＯ等の透光性導電膜との積層膜からなる反射表示用画素電極９ｒと、ＩＴＯ等の透光性導電膜からなる透過表示用画素電９ｔとが形成されている。また、第２絶縁膜２４の表面には、反射表示用画素電極９ｒと透過表示用画素電極９ｔとを覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が形成されている。
【００２１】
第２絶縁膜２４の表面には、第１絶縁膜４１の凹部４１ａに倣う凹面形状（凹部）が付与されている。また、第２絶縁膜２４の反射表示領域Ｒに対応する領域には、凹凸形状２４ａが付与されている。反射表示用画素電極９ｒの表面には、凹凸形状２４ａに倣う凹凸面が形成されている。反射表示用画素電極９ｒは、外光を反射する反射表示用の散乱反射膜を兼ねており、反射表示用画素電極９ｒが形成された領域が反射表示領域Ｒであり、透過表示用画素電極９ｔが形成された領域が透過表示領域Ｔである。反射表示用画素電極９ｒは、凹凸形状２４ａによって付与された凹凸面によって光散乱性を付与され、外部からの映り込み防止、並びに視野角の拡大を実現している。一方、第２絶縁膜２４において反射表示領域Ｒ以外の領域は平坦面となっている。透過表示用画素電極９ｔは、この平坦面上に形成されている。
【００２２】
対向基板２５は、石英、ガラス等の透光性基板２５Ａを基体としてなる。基体２５Ａの内面側には、着色層２２Ｒを含むカラーフィルタ層と、アクリル樹脂等からなるオーバーコート膜２３とが積層されている。着色層２２Ｒの反射表示領域Ｒに対応する領域には開口部２２ｒが形成されている。開口部２２ｒはサブ画素の反射表示領域Ｒの中央部に形成されている。開口部２２ｒが形成された領域は、着色層２２Ｒが配置されない非着色領域となる。オーバーコート膜２３は開口部２２ｒを覆って形成されており、オーバーコート膜２３の開口部２２ｒに対応する領域には、開口部２２ｒを反映した凹面形状（凹部）が付与されている。
【００２３】
オーバーコート膜２３上には、反射表示領域Ｒに位相差層４０が形成されている。また、位相差層４０とオーバーコート膜２３を覆ってＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電膜からなる共通電極３１が形成され、共通電極３１を覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が形成されている。位相差層４０は液晶材料により形成されており、例えば、液晶モノマーや液晶オリゴマーを基板上に塗布し、所定の配向状態で配向させた状態で重合硬化することにより作製される。位相差層４０はオーバーコート膜２３の表面を覆って形成され、オーバーコート膜２３の表面に形成された前記凹部による段差を平坦化している。位相差層４０の非着色領域２２ｒに対応する部分の厚みは、着色層２２Ｒが配置された着色領域における位相差層４０の厚みよりも大きくなっている。
【００２４】
素子基板１０では、非着色領域と着色領域との間の位相のずれ（位相差層４０における位相差の面内分布）に応じて第１絶縁膜４１の膜厚の大きさが設計されている。第１絶縁膜４１は、自身の膜厚を着色領域と非着色領域とで異ならせることで、着色領域と非着色領域の液晶層の層厚を調節する液晶層厚調整層として機能する。すなわち、位相差層４０の層厚ｄ１、位相差Δｎ１と、液晶層５０の層厚ｄ２、位相差Δｎ２とが決まっている場合、下式（１）の条件を満たせば、対向基板側から入射した直線偏光は反射膜（反射表示用画素電極９ｒ）に到達するときに円偏光に変換される。位相差層４０と液晶層５０の層厚が変化しても、式（１）の関係を満たす限り偏光がずれることはない。したがって、着色領域と非着色領域の双方で式（１）を満たすように位相差層４０と液晶層５０の層厚、位相差が調節されれば、反射表示領域Ｒ全体に亘って良好な表示特性が得られる。
【００２５】
【数１】
2009086062.tif 000003
【００２６】
なお、λは入射光の波長であり、式（１）でプラスマイナス（±）があるのは、右回り円偏光と左回り円偏光があるためである。液晶層５０の層厚が凹凸形状２４ａによって変化する場合には、非着色領域２２ｒの平均の液晶層５０の層厚を「液晶層の層厚ｄ２」とする。着色領域と非着色領域との間に位相差層の側面がテーパ状に形成されている部分があるときは、そのテーパ部分を含めた平均の液晶層の層厚を「液晶層の層厚ｄ２」としても良いし、テーパ部分を除く部分の平均の液晶層の層厚を「液晶層の層厚ｄ２」としても良い。同様に、位相差層の層厚ｄ１については、テーパ部分を含む平均の位相差層の層厚を「位相差層の層厚ｄ１」としても良いし、テーパ部分を除く部分の平均の位相差層の層厚を「位相差層の層厚ｄ１」としても良い。
【００２７】
本実施形態の場合、位相差層４０は非着色領域の段差（開口部２２ｒに起因するオーバーコート膜２３の表面の凹部の段差）を平坦化している。そのため、位相差層４０の液晶層側の面は、着色領域と非着色領域とを含む反射表示領域全体で略平坦な面となる。着色領域に形成された位相差層４０と非着色領域に形成された位相差層４０との間で大きな位相のずれが発生しており、その位相のずれを相殺するために、非着色領域の液晶層５０の層厚を着色領域の液晶層５０の層厚よりも大きくする必要がある。本実施形態では、非着色領域の第１絶縁膜４１の膜厚を小さくし、その分液晶層５０の厚みを大きくしている。
【００２８】
なお、図２では、位相差層４０の液晶層側の面が平坦面となっているが、位相差層４０の断面形状はこのようなものに限定されない。位相差層の形成条件（位相差層の塗布方法、着色層の開口部の深さ、位相差層を構成する液晶モノマー又は液晶オリゴマーの粘度等）によっては、位相差層４０が基板表面の段差に沿って形成され、位相差層４０の表面に開口部２２ｒに起因した凹面形状（凹部）が付与される場合がある。そのような場合には、非着色領域の液晶層５０の層厚が着色領域に比べて大きくなるため、式（１）との関係から、非着色領域の第１絶縁膜４１を凹状又は凸状のいずれに形成するかが決定される。
【００２９】
一般に、液晶材料を基板に塗布して位相差層を形成する場合、基板の表面に段差が形成されると、段差の底面に液晶材料が溜まり易くなり、段差の上部よりも段差の底部の方が位相差層の膜厚（位相差）は大きくなる。したがって、第１絶縁膜４１の膜厚を設計するに当たっては、この性質を考慮し、非着色領域の液晶層５０の層厚を着色領域の液晶層５０の層厚よりも大きくするように第１絶縁膜４１の膜厚を制御する。こうすることで、非着色領域において厚く形成された位相差層４０との間で位相差のずれを相殺することができる。その結果、非着色領域と着色領域の位相差のずれが小さくなり、従来に比べて高輝度、高コントラストな液晶表示装置が提供できる。
【００３０】
上記構成を備えた液晶表示装置１００によれば、着色層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの反射表示領域Ｒの一部に開口部２２ｒ、２２ｇ、２２ｂ（非着色領域）が形成されているので、反射表示と透過表示の双方で高輝度、高コントラストな画像表示が実現される。この場合、開口部２２ｒ、２２ｇ、２２ｂを形成した領域に段差が形成されるため、その段差に起因した位相差のずれが発生する場合があるが、本実施形態では、反射表示領域Ｒの着色領域と非着色領域の第１絶縁膜４１の膜厚が式（１）によって制御されているため、着色領域と非着色領域の位相差のずれが小さくなり、反射表示領域全体で高コントラストな表示が可能となる。
【００３１】
なお、本実施形態では全てのサブ画素Ｄに非着色領域（開口部２２ｒ、２２ｇ、２２ｂ）が設けられているが、非着色領域は全てのサブ画素Ｄに設ける必要はなく、１画素内の１つ又は２つのサブ画素Ｄにのみ設けられていても良い。
【００３２】
［第２の実施の形態］
図３は本発明の第２実施形態の液晶表示装置２００の断面図である。液晶表示装置２００の基本構成は第１実施形態の液晶表示装置１００と同じである。異なるのは、位相差層４５の表面に凹面形状が付与され、その凹面部に向けて突出した凸部を有するように第１絶縁膜４６の膜厚が制御されている点である。したがって、第１実施形態の液晶表示装置１００と共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００３３】
図３に示すように、基体１０Ａの表面には、アクリル樹脂等の透光性絶縁材料からなる第１絶縁膜４６が形成されている。第１絶縁膜４６の反射表示領域Ｒの中央部には凸部４６ａが形成されている。凸部４６ａは着色層２２Ｒの開口部２２ｒと重なる位置に形成されている。凸部４６ａの平面形状、大きさは、着色層２２Ｒの開口部２２ｒの平面形状、大きさと略同じである。
【００３４】
第１絶縁膜４６上には凸部４６ａを覆って、アクリル樹脂等の透光性絶縁材料からなる第２絶縁膜２４が形成されている。第２絶縁膜２４の表面には、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜、又はこれらの金属膜とＩＴＯ等の透光性導電膜との積層膜からなる反射表示用画素電極９ｒと、ＩＴＯ等の透光性導電膜からなる透過表示用画素電９ｔとが形成されている。また、第２絶縁膜２４の表面には、反射表示用画素電極９ｒと透過表示用画素電極９ｔとを覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が形成されている。
【００３５】
第２絶縁膜２４の表面には、第１絶縁膜４６の凸部４６ａに倣う凸面形状（凸部）が付与されている。また、第２絶縁膜２４の反射表示領域Ｔには、凹凸形状２４ａが付与されている。反射表示用画素電極９ｒの表面には、凹凸形状２４ａに倣う凹凸面が形成されている。反射表示用画素電極９ｒは、外光を反射する反射表示用の散乱反射膜を兼ねており、反射表示用画素電極９ｒが形成された領域が反射表示領域Ｒであり、透過表示用画素電極９ｔが形成された領域が透過表示領域Ｔである。反射表示用画素電極９ｒは、凹凸形状２４ａによって付与された凹凸面によって光散乱性を付与され、外部からの映り込み防止、並びに視野角の拡大を実現している。一方、第２絶縁膜２４において反射表示領域Ｒ以外の領域は平坦面となっている。透過表示用画素電極９ｔは、この平坦面上に形成されている。
【００３６】
対向基板２０のオーバーコート膜２３上には、反射表示領域Ｒに位相差層４５が形成されている。また、位相差層４５とオーバーコート膜２３を覆ってＩＴＯ等の透光性導電膜からなる共通電極３１が形成され、共通電極３１を覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が形成されている。位相差層４５は液晶材料により形成されており、例えば、液晶モノマーや液晶オリゴマーを基板上に塗布し、所定の配向状態で配向させた状態で重合硬化することにより作製される。位相差層４５の表面には、オーバーコート膜２３の表面に形成された凹部に倣う凹面形状（凹部）が付与されている。位相差層４５の非着色領域２２ｒに対応する部分の厚みは、着色層２２Ｒが配置された着色領域における位相差層４５の厚みと略同じかそれよりも若干大きくなっている。
【００３７】
素子基板１０では、非着色領域と着色領域との間の位相のずれ（位相差層４５における位相差の面内分布）に応じて第１絶縁膜４６の膜厚の大きさが設計されている。第１絶縁膜４６は、自身の膜厚を着色領域と非着色領域とで異ならせることで、着色領域と非着色領域の液晶層の層厚を調節する液晶層厚調整層として機能する。位相差層４６の層厚をｄ１、位相差をΔｎ１、液晶層５０の層厚をｄ２、位相差をΔｎ２とした場合、これらの大きさは上式（１）に基づいて設計されている。そのため、非着色領域と着色領域の位相差のずれが小さくなり、従来に比べて高輝度、高コントラストな液晶表示装置が提供できる。
【００３８】
［電子機器］
図４は、本発明の電子機器の一例である携帯電話１３００の概略斜視図である。携帯電話１３００は、本発明の液晶表示装置を小サイズの表示部１３０１として備え、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。上記実施形態の液晶表示装置は、携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな画像表示が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】第１実施形態の液晶表示装置の１画素の平面図である。
【図２】同液晶表示装置の断面図である。
【図３】第２実施形態の液晶表示装置の断面図である。
【図４】電子機器の一例である携帯電話の概略斜視図である。
【符号の説明】
【００４０】
１０…素子基板、１０Ａ…基体（透光性基板）、２２ｒ，２２ｇ，２２ｂ…開口部（非着色領域）、２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ…着色層、２５…対向基板、２５Ａ…基体（透光性基板）、４０…位相差層、４１…第１絶縁膜（液晶層厚調整層）、４１ａ…凹部、４５…位相差層、４６…第１絶縁膜（液晶層厚調整層）、４６ａ…凸部、５０…液晶層、１００，２００…液晶表示装置、１３００…携帯電話（電子機器）、Ｄ，Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３…サブ画素、Ｒ…反射表示領域、Ｔ…透過表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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