(57)【要約】【課題】耐久性ないしは耐環境性に優れるとともに良好な光学特性を備えた赤外用多層膜を提供する。【解決手段】赤外光学用基板２、１２に形成される赤外用多層膜３、１３。この赤外用多層膜３、１３は、前記基板側から、屈折率の低い低屈折層４、１４、この低屈折層４、１４よりも屈折率の高い中間屈折層５、１５、この中間屈折層５、１５よりも屈折率の高い高屈折層６、１６、中間屈折層７、１７、低屈折層８、１８、及び非酸化物材料からなる保護層９、１９がこの順に積層された積層体からなっている。前記低屈折層４、１４、８、１８はフッ化物膜からなり、前記中間屈折層５、１５、７、１７はＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなり、且つ前記高屈折層６、１６はＧｅ膜からなる。  【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤外光学用基板に形成される赤外用多層膜であって、
この赤外用多層膜は、前記基板側から、屈折率の低い低屈折層、この低屈折層よりも屈折率の高い中間屈折層、この中間屈折層よりも屈折率の高い高屈折層、中間屈折層、低屈折層、及び非酸化物材料からなる保護層がこの順に積層された積層体からなっており、
前記低屈折層はフッ化物膜からなり、
前記中間屈折層はＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなり、且つ
前記高屈折層はＧｅ膜からなることを特徴とする赤外用多層膜。
【請求項２】
基板から遠い方の低屈折層を構成するフッ化物膜の膜厚が、１２００ｎｍ以下で所望の光学特性が得られるように設定された請求項１に記載の赤外用多層膜。
【請求項３】
前記フッ化物膜が、ＹＦ3又はＹｂＦ3からなる請求項１又は２に記載の赤外用多層膜。
【請求項４】
Ｇｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ及びＧａＡｓのいずれかからなる基板上に請求項１記載の赤外用多層膜が形成されてなることを特徴とする赤外反射防止膜。
【請求項５】
基板から遠い方の低屈折層を構成するフッ化物膜の膜厚が、１２００ｎｍ以下で所望の光学特性が得られるように設定された請求項４に記載の赤外反射防止膜。
【請求項６】
前記フッ化物膜が、ＹＦ3又はＹｂＦ3からなる請求項４又は５に記載の赤外反射防止膜。
【請求項７】
表面にＡｕがコーティングされたＳｉ又はＣｕからなる基板上に請求項１記載の赤外用多層膜が形成されてなることを特徴とする赤外レーザ用反射ミラー。
【請求項８】
基板から遠い方の低屈折層を構成するフッ化物膜の膜厚が、１２００ｎｍ以下で所望の光学特性が得られるように設定された請求項７に記載の赤外レーザ用反射ミラー。
【請求項９】
前記フッ化物膜が、ＹＦ3又はＹｂＦ3からなる請求項７又は８に記載の赤外レーザ用反射ミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は赤外用多層膜、赤外反射防止膜及び赤外レーザ用反射ミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、赤外光を利用した光学機器の開発が盛んに行われ、特に８〜１４μｍ領域の赤外光の利用が注目されている。これに伴い、この領域の赤外光に有効な赤外線用光学部品が種々提案されている。かかる赤外線用光学部品は、透過部材又は反射部材からなる基板の表面にコーティング膜が形成されたものであるが、このコーティング膜は、多層構造（多層膜）であることから、層間の剥離や、この剥離に起因する耐久性ないしは耐環境性の低下という問題を有している。
【０００３】
そこで、多層膜の耐久性ないしは耐環境性を向上させるために、当該多層膜の構成や膜材料について、従来、種々の工夫がなされている（例えば、特許文献１〜２参照）。
【０００４】
特許文献１には、ＺｎＳｅからなる基板上に形成される赤外反射防止膜が開示されており、この赤外反射防止膜は、基板側から順に中間屈折率のＺｎＳ膜、低屈折率のＹＦ3膜、中間屈折率のＺｎＳ膜及び低屈折率のＹＦ3膜が積層されている。また、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ3、ＴｉＯ及びＴｉＯ2からなる群より選ばれる密着力強化層を設けること、最外層にＹ2Ｏ3からなる耐磨耗性強化層を設けることが記載されている。そして、特許文献１記載の構成によれば、膜全体の内部応力の不均衡を緩和し、膜剥離などを生じることのない、耐久性に優れた赤外反射防止膜が得られる、とされている。
【０００５】
また、特許文献２には、８〜１２μｍ帯の赤外線を透過する赤外光学用基板上に設けられる赤外域用反射防止膜が開示されており、この赤外域用反射防止膜は、基板側から順にＺｎＳ層、Ｇｅ層、ＣｅＦ3層及びＣｅＯ2層が積層されている。そして、特許文献２記載の構成によれば、耐環境性、特に耐水性に優れた赤外域用反射防止膜が得られる、とされている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１４９６０６号公報
【特許文献２】特開２００６−７２０３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１〜２記載の反射防止膜によれば、一定の耐久性向上の効果が得られるものの、層間の密着力を強化するための層や耐磨耗性を強化するための最外層として、金属酸化物を用いているので、良好な光学特性を得るのが困難である。すなわち、Ａｌ2Ｏ3、ＣｅＯ2などの金属酸化物は赤外域での吸収が大きいことから、この部分で赤外光が吸収されてしまい、照射した赤外光の透過率が低下してしまう。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、耐久性ないしは耐環境性に優れるとともに良好な光学特性を備えた赤外用多層膜、赤外反射防止膜及び赤外レーザ用反射ミラーを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の赤外用多層膜は、赤外光学用基板に形成される赤外用多層膜であって、
この赤外用多層膜は、前記基板側から、屈折率の低い低屈折層、この低屈折層よりも屈折率の高い中間屈折層、この中間屈折層よりも屈折率の高い高屈折層、中間屈折層、低屈折層、及び非酸化物材料からなる保護層がこの順に積層された積層体からなっており、
前記低屈折層はフッ化物膜からなり、
前記中間屈折層はＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなり、且つ
前記高屈折層はＧｅ膜からなることを特徴としている（請求項１）。
【００１０】
本発明の赤外用多層膜では、Ｇｅ膜をＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜で挟持する構造を有しているので、膜の耐剥離性、ひいては耐湿・耐水性を向上させることができ、また最外層に保護層を設けているので膜の耐磨耗性を向上させることができる。この場合に、本発明の赤外用多層膜では、密着性を強化したり、耐磨耗性を強化したりするための膜材料として、赤外域での吸収の大きい酸化物材料を用いていないので、所望の光学特性を実現させることができる。
【００１１】
前記赤外用多層膜において、基板から遠い方の低屈折層を構成するフッ化物膜の膜厚が、１２００ｎｍ以下で所望の光学特性が得られるように設定されているが好ましい。この場合、所望の光学特性を確保しつつ、引っ張り応力が大きいフッ化物膜の膜厚を制限することで、引っ張り応力を緩和して、膜の剥離を抑制することができる。
【００１２】
前記赤外用多層膜において、前記フッ化物膜が、ＹＦ3又はＹｂＦ3からなるのが好ましい。ＹＦ3又はＹｂＦ3は、透過率が大きいので膜全体としての透過率を高めることができる。
【００１３】
また、本発明の赤外反射防止膜は、Ｇｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ及びＧａＡｓのいずれかからなる基板上に請求項１記載の赤外用多層膜が形成されてなることを特徴としている（請求項４）。
【００１４】
本発明の赤外反射防止膜では、Ｇｅ膜をＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜で挟持する構造を有しているので、膜の耐剥離性、ひいては耐湿・耐水性を向上させることができ、また最外層に保護層を設けているので膜の耐磨耗性を向上させることができる。この場合に、本発明の赤外反射防止膜では、密着性を強化したり、耐磨耗性を強化したりするための膜材料として、赤外域での吸収の大きい酸化物材料を用いていないので、所望の光学特性を実現させることができる。
【００１５】
前記赤外反射防止膜において、基板から遠い方の低屈折層を構成するフッ化物膜の膜厚が、１２００ｎｍ以下で所望の光学特性が得られるように設定されているが好ましい。この場合、所望の光学特性を確保しつつ、引っ張り応力が大きいフッ化物膜の膜厚を制限することで、引っ張り応力を緩和して、膜の剥離を抑制することができる。
【００１６】
前記赤外反射防止膜において、前記フッ化物膜が、ＹＦ3又はＹｂＦ3からなるのが好ましい。ＹＦ3又はＹｂＦ3は、透過率が大きいので膜全体としての透過率を高めることができる。
【００１７】
さらに、本発明の赤外レーザ用反射ミラーは、表面にＡｕがコーティングされたＳｉ又はＣｕからなる基板上に請求項１記載の赤外用多層膜が形成されてなることを特徴としている（請求項７）。
【００１８】
本発明の赤外レーザ用反射ミラーでは、Ｇｅ膜をＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜で挟持する構造を有しているので、膜の耐剥離性、ひいては耐湿・耐水性を向上させることができ、また最外層に保護層を設けているので膜の耐磨耗性を向上させることができる。この場合に、本発明の赤外反射防止膜では、密着性を強化したり、耐磨耗性を強化したりするための膜材料として、赤外域での吸収の大きい酸化物材料を用いていないので、所望の光学特性を実現させることができる。
【００１９】
前記赤外レーザ用反射ミラーにおいて、基板から遠い方の低屈折層を構成するフッ化物膜の膜厚が、１２００ｎｍ以下で所望の光学特性が得られるように設定されているが好ましい。この場合、所望の光学特性を確保しつつ、引っ張り応力が大きいフッ化物膜の膜厚を制限することで、引っ張り応力を緩和して、膜の剥離を抑制することができる。
【００２０】
前記赤外レーザ用反射ミラーにおいて、前記フッ化物膜が、ＹＦ3又はＹｂＦ3からなるのが好ましい。ＹＦ3又はＹｂＦ3は、透過率が大きいので膜全体としての透過率を高めることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の赤外用多層膜、赤外反射防止膜及び赤外レーザ用反射ミラーによれば、耐久性ないしは耐環境性を向上させることができるとともに、光学特性を良好なものにすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、添付図面を参照しつつ、本発明の赤外用多層膜、赤外反射防止膜及び赤外レーザ用反射ミラーの実施の形態を詳細に説明する。
【００２３】
図１は、本発明の一実施の形態に係る赤外反射防止膜１の断面説明図であり、この赤外反射防止膜１は、赤外光学用基板２に赤外用多層膜３が形成された構成を備えている。赤外光学用基板２としては、厚さ２〜１０ｍｍ程度のＧｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、又はＧａＡｓからなる基板を用いることができるが、耐久性の点より、Ｇｅからなる基板を用いるのが好ましい。
【００２４】
また、前記赤外用多層膜３は、前記赤外光学用基板２側から、屈折率の低い低屈折層４、この低屈折層４よりも屈折率の高い中間屈折層５、この中間屈折層５よりも屈折率の高い高屈折層６、中間屈折層７、低屈折層８、及び保護層９がこの順に積層された積層体からなっている。
【００２５】
前記低屈折層４及び低屈折層８は、ＹＦ3膜、ＹｂＦ3膜等のフッ化物膜からなり、前記中間屈折層５及び中間屈折層７はＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなり、また前記高屈折層６はＧｅ膜からなっている。保護層９は、主に耐磨耗性を向上させるために赤外用多層膜３の最外層に設けられ、前記中間屈折層５及び中間屈折層７と同じＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなっている。赤外用多層膜３を構成する各膜の形成方法としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の、従来公知の真空薄膜堆積技術を用いることができる。
【００２６】
また、各膜の厚さは、所望の透過率を満たすように、例えば市販されている膜設計ソフトを用いて決定することができるが、赤外光学用基板２から遠い方の低屈折層８を構成するフッ化物膜については、所望の透過率（光学特性）を満たす範囲において１２００ｎｍ以下とするのが好ましい。ＹＦ3膜、ＹｂＦ3膜等のフッ化物膜は、取り扱いの容易な低屈折率材料であることから、所望の光学特性を得るのに好適な材料であるが、一方において、フッ化物膜は引っ張り応力が大きいので、その膜厚を１２００ｎｍ以下とすることで引っ張り応力を緩和し、膜の剥離を抑制することができる。
【００２７】
図２は、本発明の一実施の形態に係る赤外レーザ用反射ミラー１１の断面説明図であり、この赤外レーザ用反射ミラー１１は、表面にＡｕのコーティング膜２０及びＺｎＳｅからなる付着力強化層２１がこの順に形成された赤外光学用基板１２に赤外用多層膜１３が形成された構成を備えている。赤外光学用基板１２としては、厚さ２〜２５ｍｍ程度のＳｉ又はＣｕからなる基板を用いることができる。
【００２８】
また、前記赤外用多層膜１３は、前記赤外光学用基板１２側から、屈折率の低い低屈折層１４、この低屈折層１４よりも屈折率の高い中間屈折層１５、この中間屈折層１５よりも屈折率の高い高屈折層１６、中間屈折層１７、低屈折層１８、及び保護層１９がこの順に積層された積層体からなっている。
【００２９】
前記低屈折層１４及び低屈折層１８は、ＹＦ3膜、ＹｂＦ3膜、ＣａＦ3膜又はＢａＦ2膜等のフッ化物膜からなり、前記中間屈折層１５及び中間屈折層１７はＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなり、また前記高屈折層１６はＧｅ膜からなっている。保護層１９は、主に耐磨耗性を向上させるために赤外用多層膜３の最外層に設けられ、前記中間屈折層１５及び中間屈折層１７と同じＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなっている。赤外用多層膜１３を構成する各膜の形成方法としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の、従来公知の真空薄膜堆積技術を用いることができる。また、各膜の厚さは、所望の透過率を満たすように、例えば市販されている膜設計ソフトを用いて決定することができる。なお、付着力強化層２１としては、ＺｎＳｅに代えてＺｎＳからなる層を用いることができる。
【００３０】
つぎに実施例に基づいて、本発明の赤外反射防止膜及び赤外レーザ用反射ミラーを説明するが、本発明はもとよりかかる実施例にのみ限定されるものではない。
【００３１】
実施例１
赤外広域において高透過率を必要とする赤外広域反射防止膜を作製した。
厚さ５ｍｍのＧｅ製基板の上に以下の第１〜第６層からなる６層構造の赤外用多層膜を形成した。各層は、真空蒸着法により形成した。中心波長はλ＝１０μｍであり、所望の透過率を満たすように、市販の膜設計ソフト（ソフトウェア  スペクトラ社（Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．）のＴＦＣａｌＣ）を用いて各層の厚さを決めた。ただし、第５層については、中心波長にかかわらず、所望の透過率を満たす範囲において１２００ｎｍ以下の最低限の膜厚に設定した。
【００３２】
材料 厚さ
第１層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．０７５λ
第２層（中屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．０５λ
第３層（高屈折層）    Ｇｅ          ０．２５λ
第４層（中屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．６６λ
第５層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．６６λ
第６層（保護層）      ＺｎＳｅ      ０．８５λ
【００３３】
比較例１
実施例１における第２層及び第４層を省略し、且つＧｅ膜の上に設けるＹｂＦ3の膜厚には制限をかけず所望の透過率を満たすように、市販の膜設計ソフト（ソフトウェア  スペクトラ社（Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．）のＴＦＣａｌＣ）を用いて他の各層の厚さを決めた以外は、実施例１と同様にして赤外広域反射防止膜を作製した。中心波長はλ＝１０μｍであった。膜厚設計において、第３層のＹｂＦ3の膜厚は１４２５ｎｍとなった。
【００３４】
材料 厚さ
第１層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．１７λ
第２層（高屈折層）    Ｇｅ          ０．４０λ
第３層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．７９λ
第４層（保護層）      ＺｎＳｅ      ０．１１λ
【００３５】
比較例２
第２層のＧｅ膜上に設ける第３層のＹｂＦ3に１２００ｎｍという制限を付した以外は、比較例１と同様にして膜設計ソフトを用いて所望の透過率を満たすように膜設計を行った。中心波長はλ＝１０μｍであった。膜厚設計において、第３層のＹｂＦ3の膜厚は１２００ｎｍとなった。
【００３６】
材料 厚さ
第１層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．１７λ
第２層（高屈折層）    Ｇｅ          ０．４２λ
第３層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．６６λ
第４層（保護層）      ＺｎＳｅ      ０．１７λ
【００３７】
実施例１及び比較例１で得られた試料（反射防止膜）の付着力及び耐環境性について、以下の方法と同等の方法で試験を行った。結果を表１に示す。
付着力試験（ＭＩＬ−Ｃ−１３５０８Ｃ  ４．４．６）：得られた反射防止膜にセロハンテープを貼り付け、これを剥がしたときに膜が剥がれるかどうかを目視にて観察する。
硬度試験：ダイヤモンド圧子に荷重をかけて膜面に押し付け、圧入痕の大きさ、クラック、剥離の有無を目視にて観察する。
耐湿試験（ＭＩＬ−Ｃ−６７５Ｃ  ４．５．８）：５０±２℃、湿度９５％の環境下に２４時間反射防止膜を放置した後、膜の剥離がないかどうかを目視にて観察するとともに、透過率の変化を確認する。
耐水試験（ＭＩＬ−Ｃ−６７５Ｃ  ４．５．７）：室温の純水に反射防止膜を２４時間浸漬した後、膜の剥離がないかどうかを目視にて観察するとともに、透過率の変化を確認する。
【００３８】
【表１】
2009086533.tif 000003
【００３９】
表１より分かるように、実施例１における第２層及び第４層を省略した比較例１〜２の反射防止膜では、膜の剥離が生じており、実施例１の反射防止膜に比べて、耐剥離性、耐久性に劣っている。
【００４０】
比較例３
密着力を強化するために実施例１における第１層のＹｂＦ3に代えてＴｉＯ2を採用し、耐磨耗性を強化するために実施例１における第６層のＺｎＳｅに代えてＹ2Ｏ3を採用し、所望の透過率を満たすように、市販の膜設計ソフト（ソフトウェア  スペクトラ社（Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．）のＴＦＣａｌＣ）を用いて各層の厚さを決めた以外は、実施例１と同様にして赤外広域反射防止膜を作製した。中心波長はλ＝７．５μｍであった。
【００４１】
材料 厚さ
第１層                ＴｉＯ2      １００ｎｍ
第２層（中屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．０５５λ
第３層（高屈折層）    Ｇｅ          ０．１０９λ
第４層（中屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．２７０λ
第５層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．２５０λ
第６層（保護層）      Ｙ2Ｏ3      １６０ｎｍ
【００４２】
実施例１及び比較例３で得られた試料（反射防止膜）について、赤外分光光度計により透過率を調べた。結果を図３に示す。図３において、実線は実施例１、破線は比較例３の透過率を示している。図３より分かるように、密着力強化又は耐磨耗性強化のために金属酸化物膜を用いた比較例３の反射防止膜は、実施例１の反射防止膜に比べて、全波長域において透過率が数％劣っている。
【００４３】
実施例２
スパッタリング法によりＡｕを３００ｎｍの厚さで積層したＳｉ基板（厚さ６ｍｍ）上に付着力強化層として厚さ５０ｎｍのＺｎＳｅ膜を真空蒸着法により形成し、ついでこのＺｎＳｅ膜の上に、以下の第１〜第６層からなる６層構造の赤外用多層膜を形成した。各層は、真空蒸着法により形成した。中心波長はλ＝１０．６μｍであり、所望の透過率を満たすように、市販の膜設計ソフト（ソフトウェア  スペクトラ社（Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．）のＴＦＣａｌＣ）を用いて各層の厚さを決めた。
【００４４】
材料 厚さ
第１層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．４λ
第２層（中屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．６λ
第３層（高屈折層）    Ｇｅ          ０．６λ
第４層（中屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．１２λ
第５層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．０４λ
第６層（保護層）      ＺｎＳｅ      ０．０８λ
得られた赤外レーザ用反射ミラーの炭酸ガスレーザ（１０μｍ光）の反射率は９９．７７％であった。
【００４５】
実施例３
スパッタリング法によりＡｕを３００ｎｍの厚さで積層したＳｉ基板（厚さ６ｍｍ）上に付着力強化層として厚さ５０ｎｍのＺｎＳｅ膜を真空蒸着法により形成し、ついでこのＺｎＳｅ膜の上に、以下の第１〜第８層からなる８層構造の赤外用多層膜を形成した。各層は、真空蒸着法により形成した。中心波長はλ＝１０．６μｍであり、所望の透過率を満たすように、市販の膜設計ソフト（ソフトウェア  スペクトラ社（Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．）のＴＦＣａｌＣ）を用いて各層の厚さを決めた。
【００４６】
材料 厚さ
第１層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．６λ
第２層（中屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．２λ
第３層（高屈折層）    Ｇｅ          ０．５７λ
第４層（中屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．２λ
第５層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．０６λ
第６層（高屈折層）    ＺｎＳｅ      ０．０５λ
第７層（低屈折層）    ＹｂＦ3      ０．０６λ
第８層（保護層）      ＺｎＳｅ      ０．０５λ
【００４７】
得られた赤外レーザ用反射ミラーは、実施例２の第６層上にさらにＹｂＦ３とＺｎＳｅの交互層を形成した構成であり（ただし、各層の厚さは異なっている）、炭酸ガスレーザ（１０μｍ光）の反射率は９９．７％であった。さらに、レーザ加工機を調整する際には可視光が用いられるが、実施例３の膜構造では可視光（６３３ｎｍ）の反射率として９０．１４％の値を得ることができた。
【００４８】
図４は、実施例２及び実施例３についての１０μｍ付近の赤外光反射率を示しており、図５は、同じく可視６３３ｎｍ付近の反射率を示している。図４〜５において、太線は実施例２、細線は実施例３を示している。
【００４９】
なお、今回開示された実施の形態はすべての点において単なる例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、前記した意味ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内のすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の赤外反射防止膜の一実施の形態の断面説明図である。
【図２】本発明の赤外レーザ用反射ミラーの一実施の形態の断面説明図である。
【図３】実施例１と比較例３の透過率を示す図である。
【図４】実施例２及び実施例３についての１０μｍ付近の赤外光反射率を示す図である。
【図５】実施例２及び実施例３についての可視６３３ｎｍ付近の反射率を示す図である。
【符号の説明】
【００５１】
１      赤外反射防止膜
２      赤外光学用基板
３      赤外用多層膜
４      低屈折層
５      中間屈折層
６      高屈折層
７      中間屈折層
８      低屈折層
９      保護層
１１      赤外レーザ用反射ミラー
１２      赤外光学用基板
１３      赤外用多層膜
１４      低屈折層
１５      中間屈折層
１６      高屈折層
１７      中間屈折層
１８      低屈折層
１９      保護層
２０      Ａｕコーティング膜
２１      密着力強化層
【図１】
2009086533.tif 000004
【図２】
2009086533.tif 000005
【図３】
2009086533.tif 000006
【図４】
2009086533.tif 000007
【図５】
2009086533.tif 000008