(57)【要約】【課題】高い光取り出し効率を有し、且つ、画像ボケが少ない有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。【解決手段】基板上に形成された下部電極と、下部電極上に形成された有機エレクトロルミネッセンス層と、有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上部電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、上部電極上に散乱部材を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された下部電極と、
下部電極上に形成された有機エレクトロルミネッセンス層と、
有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上部電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
上部電極上に散乱部材を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記散乱部材が光拡散フィルムであることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
前記光拡散フィルムが、透明基材フィルムと、透明基材フィルム上に形成された光拡散層とを含むフィルムであって、当該光拡散層が透明な樹脂組成物と屈折率の異なる光散乱粒子を含み、当該光拡散層に含まれる当該透明な樹脂組成物の屈折率が１．６以上であることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
前記光拡散層の前記樹脂組成物に、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子が含まれることを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
前記光拡散層に含まれる前記光散乱粒子の屈折率が、１．５５以下であることを特徴とする請求項３又は４に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項６】
前記光拡散層に含まれる前記光散乱粒子の平均直径が、０．１μｍ以上、２．０μｍ以下であることを特徴とする請求項３から５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項７】
前記光拡散フィルムが、透明基材フィルムと、透明基材フィルム上に形成された光拡散層とを含むフィルムであって、当該光拡散層が透明な樹脂組成物内に平均粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍのＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯから選ばれる少なくとも一種の微粒子を含むことを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項８】
前記光拡散フィルムが、前記透明基材フィルムと前記光拡散層の間に低屈折率層を有することを特徴とする請求項３から７のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項９】
前記低屈折率層の屈折率が１．４５以下であることを特徴とする請求項８に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１０】
前記低屈折率層に中空シリカが含有されることを特徴とする請求項８から９のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１１】
前記散乱部材がカラーフィルタであることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１２】
前記カラーフィルタが着色剤と光散乱粒子を含有する硬化性組成物を硬化して得られることを特徴とする請求項１１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１３】
前記硬化性組成物の前記硬化時の屈折率が１．６以上であることを特徴とする請求項１２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１４】
前記硬化性組成物に、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子が含まれることを特徴とする請求項１２から１３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１５】
前記光散乱粒子の屈折率が１．５５以下であることを特徴とする請求項１２から１４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１６】
前記光散乱粒子の平均直径が、０．１μｍ以上、２．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１２から１５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１７】
前記光散乱粒子が平均粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍのＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯから選ばれる少なくとも一種の微粒子であることを特徴とする請求項１２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１８】
前記散乱部材が前記上部電極上に直接貼り付けられることを特徴とする請求項１から１７のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１９】
前記散乱部材が前記上部電極上にバリア層を介してバリア層に直接貼り付けられることを特徴とする請求項１から１７のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表
示装置。
【請求項２０】
前記光拡散フィルムが、接着層を介して、前記上部電極上、又は前記上部電極上に設けられたバリア層上、に貼り付けられることを特徴とする請求項２から１０のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２１】
前記接着層の屈折率が１．６以上であることを特徴とする請求項２０に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２２】
前記接着層に、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子が含まれることを特徴とする請求項２０または２１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、散乱部材を用いて発光効率を高めた有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置）は自発光型の表示装置であり、ディスプレイや照明の用途に用いられる。有機ＥＬディスプレイは、従来のＣＲＴやＬＣＤと比較して視認性が高い、視野角依存性がないといった表示性能の利点を有する。またディスプレイを軽量化、薄層化できるといった利点もある。一方、有機ＥＬ照明は軽量化、薄層化といった利点に加え、フレキシブルな基板を用いることでこれまで実現できなかった形状の照明を実現できる可能性を持っている。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置や無機ＥＬ表示装置は上記のように優れた特徴を有するが、一般に、発光層を含め表示装置を構成する各層の屈折率は空気より高い。例えば、有機ＥＬ表示装置では、発光層など有機薄膜層の屈折率は１．６〜２．１である。このため、発光した光は界面で全反射しやすく、その光取り出し効率は２０％に満たず、大部分の光を損失している。
【０００４】
この有機ＥＬ表示装置における光損失に関して、図１を参照にして概観する。
有機ＥＬ表示装置は基本的には、図１に示すように、ＴＦＴ基板１の上に、背面電極２、発光層を含み２層又は３層からなる有機層３、及び透明電極４、透明基板５が積層された構成を有し、背面電極２から注入された正孔と透明電極４から注入された電子が有機層３で再結合し、蛍光性物質などを励起することにより発光するものである。そして、有機層３から発光した光は、直接、またはアルミニウムなどで形成される背面電極２で反射して、透明基板５から出射する。
しかしながら、図１に示すように、表示装置内部で発生した光は、屈折率の異なる隣接層界面に入射する角度によっては全反射を起こし、表示装置内部を導波してしまい外部に取り出すことができない（図１のＬｂ、Ｌｃの光）。この導波する光の割合は隣接層との相対屈折率で決まり、一般的な有機ＥＬ表示装置（空気（ｎ＝１．０）／透明基板（ｎ＝１．５）／透明電極（ｎ＝２．０）／有機層（ｎ＝１．７）／背面電極）の場合には、大気（空気）に放出されず表示装置内部を導波する光の割合は約８１％となる。すなわち、発光量全体の約１９％しか有効に利用できないこととなる。
【０００５】
このため、光取り出し効率を向上させるには、（ａ）透明基板／空気界面で全反射し「有機層＋透明電極＋透明基板」を導波する光（図１のＬｂ）を取り出す、（ｂ）透明電極／透明基板界面で全反射し「有機層＋透明電極」を導波する光（図１のＬｃ）を取り出す施策が必須である。
これらのうち、（ａ）に関しては、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板／空気界面での全反射を防ぐ方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
また、（ｂ）に関しては、透明電極／透明基板界面や発光層／隣接層界面を回折格子状に加工する方法（例えば、特許文献２や特許文献３を参照）が提案されている。さらに、積層された有機層間の界面を凹凸に加工して発光効率を増加させる方法（例えば、特許文献４を参照）も提案されている。そのうち、上記の発光層／隣接層界面に回折格子を形成する方法は、隣接層が導電性媒体からなり、回折格子の凹凸の深さは発光層の膜厚に対して４０％程度で、凹凸のピッチと深さを特定の関係にすることで、導波光を取り出すものである。また、有機層間の界面に凹凸を形成する方法は、凹凸を挟んで隣接する層は導電性媒体からなり、発光層の膜厚に対する深さが２０％程度、界面の傾斜角が３０°程度の凹凸を有機層間の界面に形成し、有機層同士の接合界面を大きくすることで発光効率を増大させるものである。
しかしながら、上記方法は加工が難しく、また通電時に絶縁破壊を起こし易い等の問題があり、有用な光の取り出し方法の更なる開拓が表示装置の高効率化のために望まれている。
【０００６】
これらの問題を解決する一つの手段として、例えば有機ＥＬ面発光体の表面に光散乱層を付与することで、取り出し効率を改善する手段が提案されている（例えば、特許文献５や特許文献６を参照）。しかし、表面で光散乱を起こすと、光の滲みが大きくなり、解像度が劣化するという問題があった。
これに対し、上部電極の直上に光拡散層を配置することで、光取り出し効率を改善しつつ、画像のボケを低減させる方法が提案されている（例えば、特許文献７を参照）。
ところが、この方法は光拡散層のベース材料として１．５〜１．６を用いており、有機層＋透明電極を導波する光を効率的に取り出すための屈折率としては不適当であった。
【０００７】
【特許文献１】米国特許第４７７４４３５号明細書
【特許文献２】特開平１１−２８３７５１号公報
【特許文献３】特開２００２−３１３５５４号公報
【特許文献４】特開２００２−３１３５６７号公報
【特許文献５】特開２００３−１０９７４７号公報
【特許文献６】特開２００３−１７３８７７号公報
【特許文献７】特開２００６−１０７７４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって本発明の課題は、発光部位の屈折率が空気の屈折率よりも高い自発光型の発光表示装置において、高い光取り出し効率を有し、且つ、画像ボケが少ない発光表示装置を提供することにある。特に、「有機層＋透明電極」を導波する光の取り出し効率を高めた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の課題は、下記（１）から（２２）に記載した有機エレクトロルミネッセンス表示装置により達成された。
【００１０】
（１）基板上に形成された下部電極と、下部電極上に形成された有機エレクトロルミネッセンス層と、有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上部電極とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、上部電極上に散乱部材を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（２）前記散乱部材が光拡散フィルムであることを特徴とする（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（３）前記光拡散フィルムが、透明基材フィルムと、透明基材フィルム上に形成された光拡散層とを含むフィルムであって、当該光拡散層が透明な樹脂組成物と屈折率の異なる光散乱粒子を含み、当該光拡散層に含まれる当該透明な樹脂組成物の屈折率が１．６以上であることを特徴とする（２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（４）前記光拡散層の前記樹脂組成物に、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子が含まれることを特徴とする（３）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（５）前記光拡散層に含まれる前記光散乱粒子の屈折率が、１．５５以下であることを特徴とする（３）又は（４）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（６）前記光拡散層に分散された前記光散乱粒子の平均直径が、０．１μｍ以上、２．０μｍ以下であることを特徴とする（３）から（５）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（７）前記光拡散フィルムが、透明基材フィルムと、透明基材フィルム上に形成された光拡散層とを含むフィルムであって、当該光拡散層が透明な樹脂組成物内に平均粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍのＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯから選ばれる少なくとも一種の微粒子を含むことを特徴とする（２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（８）前記拡散フィルムが、前記透明基材フィルムと前記光拡散層の間に低屈折率層を有することを特徴とする（３）から（７）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（９）前記低屈折率層の屈折率が１．４５以下であることを特徴とする（８）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１０）前記低屈折率層に中空シリカが含有されることを特徴とする（８）から（９）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１１）前記散乱部材がカラーフィルタであることを特徴とする（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１２）前記カラーフィルタが着色剤と光散乱粒子を含有する硬化性組成物を硬化して得られることを特徴とする（１１）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１３）前記硬化性組成物の前記硬化時の屈折率が１．６以上であることを特徴とする（１２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１４）前記硬化性組成物に、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子が含まれることを特徴とする（１２）から（１３）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１５）前記光散乱粒子の屈折率が１．５５以下であることを特徴とする（１２）から（１４）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１６）前記光散乱粒子の平均直径が、０．５μｍ以上、２．０μｍ以下であることを特徴とする（１２）から（１５）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１７）前記光散乱粒子が平均粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍのＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯから選ばれる少なくとも一種の微粒子であることを特徴とする（１２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１８）前記散乱部材が上部電極上に直接貼り付けられることを特徴とする（１）から（１７）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（１９）前記散乱部材が上部電極上にバリア層を介してバリア層に直接貼り付けられることを特徴とする（１）から（１７）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（２０）前記光拡散フィルムが、接着層を介して、前記上部電極上、又は前記上部電極上に設けられたバリア層上、に貼り付けられることを特徴とする（２）から（１０）のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（２１）前記接着層の屈折率が１．６以上であることを特徴とする（２０）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（２２）前記接着層に、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子が含まれることを特徴とする（２０）または（２１）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
背景技術で述べたように、自発光表示装置の光取り出し効率が低い原因は、表示装置内部で発生した光が、屈折率の異なる隣接層界面に入射する角度が大きいときに全反射を起こし、表示装置内部を導波してしまい外部に取り出すことができないことによる。
これに対し、透明な樹脂組成物と、当該樹脂組成物と屈折率の異なる光散乱粒子で構成される光散乱層を有する散乱部材を有機ＥＬ表示装置中に導入することで、これらの光を外部に取り出すことができるようになる。これは、全反射により層内を導波していた光の進む方向を、光散乱の作用によって曲げることで実現される。
このとき、透明な樹脂組成物の屈折率を有機発光層の屈折率と同等以上の大きさにすることで、有機発光層を含む高屈折率層内で導波する光を取り出すことが可能となる。
さらに、上部電極の直上に光散乱層が形成されるように散乱部材を導入することで、発光点と散乱層の距離を近づけることができ、光散乱による画像の解像度の劣化を抑制することができる。また、光取り出し効率を、さらに上げるためには、光散乱が起こる回数を増やすことが好ましい。このためには、有機発光層を含む高屈折率層内での全反射の回数を増やすことが好ましく、この点については、有機発光層を含む高屈折率層を薄層化することによって実現することが可能となる。
【００１２】
また、有機発光層を含む高屈折率層に接する層の屈折率を低屈折率とすることで、光取り出し効率をさらに、向上させることができる。
【００１３】
そして、予め光散乱層を有する散乱部材を形成しておくことで、有機ＥＬ表示装置への光散乱層の組み込み加工が容易となる。さらに事前に、光散乱層を有する散乱部材を形成することで、散乱層へ任意の散乱特性を付与することが容易となる。
このことにより、本発明である有機ＥＬに最適な散乱部材を得ることが可能となる。従って、本発明である散乱部材、光拡散フィルム又はカラーフィルタ、及びこれらを貼り付ける方法は、加工適性及び光学特性の両観点から有用といえる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、基板上に形成された下部電極と、下部電極上に形成された有機エレクトロルミネッセンス層と、有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上部電極とを含み、上部電極上に散乱部材を有していることを特徴とする。
以下、本発明における散乱部材、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、接着剤について詳細に説明する。
【００１５】
＜＜散乱部材＞＞
散乱部材として、光拡散フィルム、及びカラーフィルタを選択することができる。以下、本発明における光拡散フィルム、及びカラーフィルタについて詳細に述べる。
【００１６】
＜光拡散フィルム＞
図２は、光拡散フィルムの基本構成を示す断面模式図である。図２に示す光拡散フィルム（１０）は、透明基材フィルム（２０）と光拡散層（３０）を積層してなる。光拡散層（３０）は、透光性樹脂（３１）中に、光散乱粒子（４１）を含む。光拡散層（３０）は複数の層からなっていてもよい。また２種類以上の光散乱粒子を用いてもよい。また図３に示す、透明基材フィルム（２０）と光拡散層（３０）の間に低屈折率層（５０）を挿入する構成の光拡散フィルム（１１）も、光取り出し効率を向上させることができる。
【００１７】
＜光拡散層＞
光拡散層（３０）は、光散乱粒子（４１）と透光性樹脂（３１）からなる。光散乱粒子（４１）と透光性樹脂（３１）それぞれの屈折率及び粒子サイズにより散乱光プロファイル及びヘイズ値を調整する。
【００１８】
光拡散層（３０）の光散乱粒子（４１）の屈折率は、透光性樹脂層との屈折率差が０．０５以上になり、十分な散乱量が得られるという理由で、１．５５以下であることが好ましく、１．３６〜１．５０であることがより好ましい。低屈折率層（５０）の屈折率は、空気との屈折率差が０．４５以下となり、全反射を抑制できるという理由で、１．４５以下であることが好ましく、１．３０〜１．４５であることがより好ましい。透明基材フィルム（２０）として好ましく用いられるトリアセチルセルロースの屈折率は、１．４８である。光拡散層（３０）の屈折率を高くすることで、優れた光取り出し効率の向上効果が得られる。
【００１９】
＜光散乱粒子＞
光散乱粒子（４１）は、光拡散層（３０）全体を構成する透光性樹脂（３１）との屈折率の差が０．０２以上であることが好ましい。屈折率差が０．０２未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、光拡散効果が得られない。本発明では、光取り出し効率を上げるために、界面で全反射する光を拡散させる事が必要である。拡散効果が大きければ大きい程、光取り出し効率は向上する。
【００２０】
光散乱粒子（４１）は一種類だけを用いても良く、また複数の種類の粒子を組み合わせて用いても良い。
【００２１】
光散乱粒子（４１）の種類は限定されず、有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよい。有機微粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミンビーズ、ポリカーボネートビーズ、スチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ等が用いられる。無機微粒子としては、ＳｉＯ２（例えば、アモルファスシリカ系ビーズ）、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、等が用いられる。  
光散乱粒子（４１）の平均直径（粒径）は、散乱量を十分に得られ、且つ光散乱の指向性がほぼ等方散乱になるという理由で、０．１μｍ以上、２．０μｍ以下であることが好ましい。等方散乱に近い散乱指向性にすることで、より多くの光を取り出すことができる。
【００２２】
上記のような光散乱粒子（４１）の場合には、透光性樹脂（３１）中で光散乱粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、光散乱粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、透光性樹脂（３１）に対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。
【００２３】
＜透光性樹脂＞
透光性樹脂（３１）としては、主として紫外線・電子線・熱のいずれかによって硬化する樹脂、即ち、光硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。またこれらの硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したものも使用される。光拡散層（３０）の厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍ、最も好ましくは３μｍ乃至７μｍとすると良い。
【００２４】
透光性樹脂（３１）に用いるバインダーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００２５】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。これらのなかでも、少なくとも３つの官能基を有するアクリレートもしくはメタアクリレートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有するアクリレートモノマーが、膜硬度、即ち耐傷性の観点で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物が市販されており、特に好ましく用いられる。
【００２６】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶解、塗布、乾燥後、光、電離放射線または熱による重合反応により硬化することができる。
【００２７】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００２８】
透光性樹脂（３１）は、上記バインダポリマーに加えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等から形成されることが好ましい。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、ＩｎおよびＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ２が好ましく用いられる。高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、透光性樹脂（３１）の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。
【００２９】
透光性樹脂（３１）と透明基材フィルム（２０）が接する場合、透光性樹脂（３１）を形成するための塗布液の溶剤は、防眩性の発現および支持体と防眩層間との密着性の両立を図るために、透明基材フィルム（２０）（例えばトリアセチルセルロース支持体）を溶解する少なくとも一種類以上の溶剤と、透明基材フィルム（２０）を溶解しない少なくとも一種類以上の溶剤から構成する。より好ましくは、透明基材フィルム（２０）を溶解しない溶剤のうちのすくなくとも一種類が、透明基材フィルム（２０）を溶解する溶剤うちの少なくとも一種類よりも高沸点であることが好ましい。さらに好ましくは、透明基材フィルム（２０）を溶解しない溶剤のうち最も沸点の高い溶剤と、透明基材フィルム（２０）を溶解する溶剤のうち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が３０℃以上であることであり、最も好ましくは５０℃以上であることである。
【００３０】
透明基材フィルム（２０）を溶解する溶剤として、炭表示装置数が３〜１２のエーテル類：具体的には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等、炭素数が３〜１２のケトン類：具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等、炭素数が３〜１２のエステル類：具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等、２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具体的には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、およびアセト酢酸エチル等が挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。透明基材を溶解する溶剤としてはケトン系溶剤が好ましい。
【００３１】
透明基材フィルム（２０）を溶解しない溶剤として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノンが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３２】
透明基材フィルムを溶解する溶剤の総量（Ａ）と透明基材フィルムを溶解しない溶剤の総量（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、５／９５〜５０／５０が好ましく、より好ましくは１０／９０〜４０／６０であり、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。
【００３３】
上記のような光硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記光硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、即ち、紫外線の照射によって硬化することができる。また電離放射線型硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射型硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、即ち、電子線の照射によって硬化することができる。
【００３４】
例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００３５】
＜低屈折率層＞
低屈折率層（５０）は、更なる光取り出し効率向上機能を付与する目的で、透明基材フィルム（２０）と光拡散層（３０）の間に設けられる（図３参照）。低屈折率層（５０）による光取り出し効率向上効果は、光拡散層（３０）と組み合わせることで得られる。低屈折率層の屈折率は、上述のとおり好ましくは１．３０〜１．４５である。また低屈折率層の厚みは、λ／４程度よりも大きい方が好ましく、１００ｎｍ以上である。
【００３６】
本発明の低屈折率層（５０）には、熱硬化性または光硬化型の架橋性含フッ素化合物が硬化した含フッ素樹脂が用いられる。これにより、フッ化マグネシウムやフッ化カルシウムを用いた低屈折率層に比べ、最外層として用いても耐傷性に優れている。熱硬化性または光硬化型の架橋性含フッ素化合物の屈折率としては１．３０以上１．４５以下が好ましい。硬化した含フッ素樹脂の動摩擦係数は、好ましくは０．０３〜０．１５、水に対する接触角は好ましくは９０〜１２０度である。このような架橋性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００３７】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
【００３８】
架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。
【００３９】
また、低屈折率層には、上記含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーとの共重合体だけでなく、これにその他のモノマーが共重合したポリマーを用いてもよい。共重合してもよいその他のモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。
【００４０】
低屈折率層（５０）に用いる含フッ素樹脂には、耐傷性を付与するために、平均粒径が好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．００１〜０．０５μｍのＳｉの酸化物超微粒子を添加して用いるのが好ましい。光取り出し効率向上の観点からは屈折率が低いほど好ましいが、含フッ素樹脂の屈折率を下げていくと堅牢性が悪化する。そこで、含フッ素樹脂の屈折率とＳｉの酸化物超微粒子の添加量を最適化することにより、耐傷性と低屈折率のバランスの最も良い点を見出すことができる。Ｓｉの酸化物超微粒子としては、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布液に添加しても、市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用してもよい。またＳｉ微粒子中に気泡を含有する中空シリカ粒子を用いることで、更なる低屈折率化を実現することができる。
【００４１】
以上に説明した光拡散フイルムの好ましい実施形態は、透明基材フィルム（２０）と、透明基材フィルム上に形成された光拡散層とを有するフィルムであって、当該光拡散層が透明な樹脂組成物内に樹脂組成物と屈折率の異なる光散乱粒子を分散してなり、当該光拡散層の樹脂組成物の屈折率が１．６以上であり、これによって、有機ＥＬ発光層における全反射の量が半分以下となる。この形態においては、光拡散層の樹脂組成物に、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子が含まれるのが好ましく、これによって、透光性樹脂層が高屈折率となる。
【００４２】
また、光拡散フイルムの別の好ましい実施形態においては、前記光拡散フィルムが、透明基材フィルムと、透明基材フィルム上に形成された光拡散層とを含むフィルムであって、当該光拡散層が透明な樹脂組成物内に平均粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍのＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯから選ばれる少なくとも一種の微粒子を分散してなり、これによって、透光性樹脂が光散乱性を有する高屈折率層となる。
【００４３】
＜透明基材フィルム＞
透明基材フィルム（２０）の素材としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートがある。透明樹脂フィルムとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（屈折率１．４８）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム等が使用できる。又、厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とする。
【００４４】
＜＜カラーフィルタ＞＞
以下、本発明のカラーフィルタについて詳細に説明する。カラーフィルタは着色剤と光散乱粒子を含有する硬化性組成物を硬化して得ることができ、例えば、透明基板上、もしくはバリア層上に塗布し、マスクパターンを用いて紫外線硬化することで、ＲＧＢ各色のパターンを形成することができる。また画素毎にインクジェット法を用いて形成することも可能である。
【００４５】
＜硬化性組成物＞
本発明の硬化性組成物は、アルカリ可溶性樹脂、光散乱粒子、着色剤、感光性重合成分、および光重合開始剤を少なくとも含んでなり、一般には溶剤（以下、有機溶剤ともいう）を含んでなるものである。本発明の硬化性組成物は、上記の感光性重合成分および光重合開始剤を含有することでネガ型に構成することができ、更に膜の硬化度を向上させるための架橋剤や、他の成分を含有して構成することができる。
【００４６】
＜着色剤＞
本発明において好ましく用いられる着色剤は、例えば、有機顔料、有機色素、フラーレン、ポリジアセチレン、ポリイミドなどの高分子有機材料、芳香族炭化水素もしくは脂肪族炭化水素（例えば、配向性を有する芳香族炭化水素もしくは脂肪族炭化水素、または昇華性を有する芳香族炭化水素もしくは脂肪族炭化水素）などからなる粒子が挙げられ、有機顔料、有機色素、または高分子有機材料が好ましく、有機顔料が特に好ましい。また、有機粒子は、単独で用いても、複数であっても、これらを組み合わせたものであってもよい。
【００４７】
有機剤は、色相的に限定されるものではなく、例えば、ペリレン、ペリノン、キナクリドン、キナクリドンキノン、アントラキノン、アントアントロン、ベンズイミダゾロン、ジスアゾ縮合、ジスアゾ、アゾ、インダントロン、フタロシアニン、トリアリールカルボニウム、ジオキサジン、アミノアントラキノン、ジケトピロロピロール、チオインジゴ、イソインドリン、イソインドリノン、ピラントロンもしくはイソビオラントロン化合物顔料、またはそれらの混合物などが挙げられる。
【００４８】
更に詳しくは、たとえば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９０（Ｃ．Ｉ．番号７１１４０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４（Ｃ．Ｉ．番号７１１２７）、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９（Ｃ．Ｉ．番号７１１２９）等のペリレン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３（Ｃ．Ｉ．番号７１１０５）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド１９４（Ｃ．Ｉ．番号７１１００）等のペリノン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９（Ｃ．Ｉ．番号７３９００）、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２（Ｃ．Ｉ．番号７３９１５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２（Ｃ．Ｉ．番号７３９０７）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０７（Ｃ．Ｉ．番号７３９００、７３９０６）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド２０９（Ｃ．Ｉ．番号７３９０５）のキナクリドン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０６（Ｃ．Ｉ．番号７３９００／７３９２０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４８（Ｃ．Ｉ．番号７３９００／７３９２０）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ４９（Ｃ．Ｉ．番号７３９００／７３９２０）等のキナクリドンキノン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４７（Ｃ．Ｉ．番号６０６４５）等のアントラキノン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８（Ｃ．Ｉ．番号５９３００）等のアントアントロン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５（Ｃ．Ｉ．番号１２５１０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３２（Ｃ．Ｉ．番号１２５１７）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０（Ｃ．Ｉ．番号２１２９０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８１（Ｃ．Ｉ．番号１１７７７）、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６２（Ｃ．Ｉ．番号１１７７５）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド１８５（Ｃ．Ｉ．番号１２５１６）等のベンズイミダゾロン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３（Ｃ．Ｉ．番号２０７１０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９４（Ｃ．Ｉ．番号２００３８）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９５（Ｃ．Ｉ．番号２００３４）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２８（Ｃ．Ｉ．番号２００３７）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６（Ｃ．Ｉ．番号２００３５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３４（Ｃ．Ｉ．番号２１１１５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３（Ｃ．Ｉ．番号２１１１０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３１（Ｃ．Ｉ．番号２００５０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４４（Ｃ．Ｉ．番号２０７３５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６６（Ｃ．Ｉ．番号２０７３０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０（Ｃ．Ｉ．番号２００５５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２１（Ｃ．Ｉ．番号２００６５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４２（Ｃ．Ｉ．番号２００６７）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６２、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントブラウン２３（Ｃ．Ｉ．番号２００６０）等のジスアゾ縮合化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３（Ｃ．Ｉ．番号２１１００）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３（Ｃ．Ｉ．番号２１１０８）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８８（Ｃ．Ｉ．番号２１０９４）等のジスアゾ化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８７（Ｃ．Ｉ．番号１２４８６）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７０（Ｃ．Ｉ．番号１２４７５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー７４（Ｃ．Ｉ．番号１１７１４）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０（Ｃ．Ｉ．番号４８５４５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８（Ｃ．Ｉ．番号１５８６５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５３（Ｃ．Ｉ．番号１５５８５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４（Ｃ．Ｉ．番号１２７６０）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド２４７（Ｃ．Ｉ．番号１５９１５）等のアゾ化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０（Ｃ．Ｉ．番号６９８００）等のインダントロン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７（Ｃ．Ｉ．番号７４２６０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６（Ｃ．Ｉ．番号７４２６５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７（Ｃ．Ｉ．番号７４２５５）、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１６（Ｃ．Ｉ．番号７４１００）、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー７５（Ｃ．Ｉ．番号７４１６０：２）、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（Ｃ．Ｉ．番号７４１６０）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３（Ｃ．Ｉ．番号７４１６０）等のフタロシアニン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー５６（Ｃ．Ｉ．番号４２８００）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー６１（Ｃ．Ｉ．番号４２７６５：１）等のトリアリールカルボニウム化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３（Ｃ．Ｉ．番号５１３１９）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７（Ｃ．Ｉ．番号５１３４５）等のジオキサジン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（Ｃ．Ｉ．番号６５３００）等のアミノアントラキノン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（Ｃ．Ｉ．番号５６１１０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５５（Ｃ．Ｉ．番号５６１０５０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２７２（Ｃ．Ｉ．番号５６１１５０）、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ７３等のジケトピロロピロール化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８８（Ｃ．Ｉ．番号７３３１２）等のチオインジゴ化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９（Ｃ．Ｉ．番号５６２９８）、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６６（Ｃ．Ｉ．番号４８２１０）等のイソインドリン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９（Ｃ．Ｉ．番号５６２８４）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５（Ｃ．Ｉ．番号５６２９０）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１（Ｃ．Ｉ．番号１１２９５）等のイソインドリノン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４０（Ｃ．Ｉ．番号５９７００）、もしくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド２１６（Ｃ．Ｉ．番号５９７１０）等のピラントロン化合物顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８等のキノフタロン系顔料、またはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット３１（６００１０）等のイソビオラントロン化合物顔料が挙げられる。なかでも、キナクリドン化合物顔料、ジケトピロロピロール化合物顔料、ジオキサジン化合物顔料、フタロシアニン化合物顔料、またはアゾ化合物顔料であることが好ましく、ジケトピロロピロール化合物顔料、ジオキサジン化合物顔料、フタロシアニン化合物顔料がより好ましい。
【００４９】
本発明に係る着色剤の硬化性組成物中における総量としては、該組成物中の質量に対して、２０〜６０質量％が好ましく、より好ましくは３０〜５５質量％、更に好ましくは３５〜５０質量％である。なお、着色剤を構成する材料の比率は、色相などの目的に応じて適宜選択することができる。
【００５０】
上記の着色剤は、アクリル系樹脂、マレイン酸系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、エチルセルロース樹脂、等に微分散させた粉末状加工顔料として用いることによって、分散性および分散安定性を良好なものとすることができる。
【００５１】
次に、顔料の処理法について説明する。本発明においては、顔料をあらかじめ種々の樹脂で処理しておくことが好ましい。すなわち、顔料は一般に合成後、種々の方法で乾燥が行なわれ、通常は水媒体から乾燥させて粉末体として供給されるが、水が乾燥するには大きな蒸発潜熱を必要とし、乾燥粉末とするには大きな熱エネルギーを与える。そのため、顔料は一次粒子が集合した凝集体（二次粒子）を形成しているのが普通であり、かかる凝集体を形成している顔料を微粒子に分散するのは容易ではないため、あらかじめ樹脂で処理しておくことが望ましい。ここでの樹脂としては、後述のアルカリ可溶性樹脂を挙げることができる。
【００５２】
処理の方法としては、フラッシング処理やニーダー、エクストルーダー、ボールミル、２本または３本ロールミル等による混練方法がある。このうち、フラッシング処理や２本または３本ロールミルによる混練法が微粒子化に好適である。
前記フラッシング処理は、通常顔料の水分散液と水と混和しない溶媒に溶解した樹脂溶液を混合し、水媒体中から有機媒体中に顔料を抽出し、顔料を樹脂で処理する方法である。この方法によれば、顔料の乾燥を経ることがないので、顔料の凝集を防ぐことができ、分散が容易となる。また、上記の２本または３本ロールミルによる混練では、顔料と樹脂または樹脂の溶液とを混合した後、高いシェア（せん断力）をかけながら、顔料と樹脂を混練することによって顔料表面に樹脂をコーティングすることにより顔料を処理する方法である。この過程で凝集していた顔料粒子はより低次の凝集体から一次粒子にまで分散される。
【００５３】
また、あらかじめアクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、マレイン酸樹脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂等で処理した加工顔料として用いることもできる。この加工顔料の形態としては、樹脂と顔料が均一に分散している粉末、ペースト状、ペレット状、ペースト状が好ましい。また、樹脂がゲル化した不均一な塊状のものは好ましくない。
【００５４】
上記の顔料の分散性を向上させる目的で、従来公知の顔料分散剤や界面活性剤を併用することができる。顔料分散剤や界面活性剤としては、多種の化合物が挙げられるが、例えば、フタロシアニン誘導体（エフカ社製のＥＦＫＡ−７４５）、ソルスパース５０００（ゼネカ社製）；オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業社製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社油脂化学工業社製）、Ｗ００１（裕商社製）等のカチオン系界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤；Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商社製）等のアニオン系界面活性剤；ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０（以上、森下産業社製）、ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００（サンノプコ社製）等の高分子分散剤；ソルスパース３０００、同５０００、同９０００、同１２０００、同１３２４０、同１３９４０、同１７０００、同２４０００、同２６０００、同２８０００などの各種ソルスパース分散剤（ゼネカ社製）；アデカプルロニックＬ３１，同Ｆ３８，同Ｌ４２，同Ｌ４４，同Ｌ６１，同Ｌ６４，同Ｆ６８，同Ｌ７２，同Ｐ９５，同Ｆ７７，同Ｐ８４，同Ｆ８７、同Ｐ９４，同Ｌ１０１，同Ｐ１０３，同Ｆ１０８、同Ｌ１２１、同Ｐ−１２３（旭電化社製）、およびイソネットＳ−２０（三洋化成社製）、などが挙げられる。
【００５５】
＜アルカリ可溶性樹脂＞
本発明の硬化性組成物は、アルカリ可溶性樹脂の少なくとも一種を含有する。アルカリ可溶性樹脂としては、特に限定されるものではなく、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液で現像できるものが好ましい。
【００５６】
このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が挙げられ、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体が挙げられる。上記のほか、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等も有用である。
【００５７】
これらの中でも特に、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。このほか、水溶性ポリマーとして、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアルコール等も有用である。また、硬化膜の強度をあげる点では、アルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロルヒドリンのポリエーテルなども有用である。これらのポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
【００５８】
また、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられる。
【００５９】
本発明において好ましいアルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基を、特には側鎖に有するものである。また、露光後の現像性および塗布性を良好に維持する観点から、酸価が３０〜２００のものが好ましい。
【００６０】
以上のように、アルカリ可溶性樹脂は一般にその多くはその共重合性モノマーに不飽和カルボン酸を使用したアクリル系共重合体である。中でも、側鎖にポリアルキレンオキサイド鎖を有したアクリル系共重合体は、硬化性組成物を塗布液状に調製したときの液特性を改良し、塗布配管内での液残りの問題が少なく、また、薄膜でかつ均一な厚さの塗膜を得やすくなる点で好ましい。特に、広幅で大面積の基板への塗布に好適なスリット塗布に対して得率が高く良好な塗膜を得ることができる。
【００６１】
前記アルカリ可溶性樹脂の硬化性組成物中における総量としては、全固形成分に対して５〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜６０質量％である。該総量が、５質量％以上であると充分な膜強度が得られ、８０質量％以下であると酸性分が多くなりすぎないために溶解性のコントロールが容易であり、また相対的に顔料量が多くなるので充分な画像濃度が得られる。
【００６２】
また、本発明の硬化性組成物の架橋効率を向上させるために、重合性基をアルカリ可溶性樹脂の側鎖に有してもよく、アリル基、（メタ）アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したポリマー等も有用である。これら重合性基を含有するポリマーの例を示すが、ＣＯＯＨ基、ＯＨ基、アンモニウム基等のアルカリ可溶性基と炭素間不飽和結合が含まれていれば下記に限定されない。
【００６３】
具体例として、ＯＨ基を有する例えば２−ヒドロキシエチルアクリレートと、ＣＯＯＨ基を含有する例えばメタクリル酸と、これらと共重合可能なアクリル系若しくはビニル系化合物等のモノマーとの共重合体に、ＯＨ基に対し反応性を有するエポキシ環と炭素間不飽和結合基を有する化合物（例えばグリシジルアクリレートなどの化合物）を反応させて得られる化合物、等を使用できる。ＯＨ基との反応ではエポキシ環のほかに酸無水物、イソシアネート基、アクリロイル基を有する化合物も使用できる。また、特開平６−１０２６６９号公報、特開平６−１９３８号公報に記載のエポキシ環を有する化合物にアクリル酸のような不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物に、飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる反応物も使用できる。ＣＯＯＨ基のようなアルカリ可溶化基と炭素間不飽和基とを併せ持つ化合物として、例えば、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）；Ｐｈｏｔｏｍｅｒ ６１７３（ＣＯＯＨ基含有Ｐｏｌｙｕｒｅｔ
ｈａｎｅ ａｃｒｙｌｉｃ ｏｌｉｇｏｍｅｒ、Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．Ｌｔｄ．，製）；ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業（株）製）；サイクロマーＰシリーズ、プラクセルＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業（株）製）；Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー（株）製）、などが挙げられる。
【００６４】
＜感光性重合成分＞
本発明の硬化性組成物は、感光性重合成分の少なくとも一種を含有する。感光性重合成分としては、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、常圧下で１００℃以上の沸点を持つ化合物が好ましく、中でも４官能以上のアクリレート化合物がより好ましい。
【００６５】
前記「少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、常圧下で１００℃以上の沸点を持つ化合物」としては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートを挙げることができる。更に、日本接着協会誌Ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。
【００６６】
また、上記した多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化した化合物として、特開平１０−６２９８６号公報においてその具体例と共に一般式（１）又は（２）として記載されたものも感光性重合成分として用いることができる。
【００６７】
中でも、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよびこれらのアクリロイル基が、エチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。
【００６８】
また、オリゴマータイプも好適であり、モノマーの繰り返し単位が３〜２０（好ましくは３〜１０）であるアクリル系オリゴマーが好ましい。
【００６９】
感光性重合成分としてアクリル系オリゴマーを用いた場合には、露光感度が大きく、重合強度が大きくなるので、現像液で現像処理する際のパターンの剥離が起こり難くなり、現像での適性時間が広がる、つまり現像ラチチュードを拡げることができる。
なお、上記した感光性重合成分は、一種単独のみならず二種以上を組合わせて使用することができる。
【００７０】
＜光重合開始剤＞
本発明の硬化性組成物は、光重合開始剤の少なくとも一種を含有する。光重合開始剤としては、ハロメチルオキサジアゾールやハロメチル−ｓ−トリアジン等の活性ハロゲン化合物、３−アリール置換クマリン化合物、少なくとも一種のロフィン二量体等を挙げることができる。特にはハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物が好ましい。以下、これらの化合物について詳述する。
【００７１】
ハロメチルオキサジアゾールやハロメチル−ｓ−トリアジン等の活性ハロゲン化合物のうち、ハロメチルオキサジアゾール化合物としては、２−ハロメチル−５−ビニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物が挙げられる。具体例としては、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、等が挙げられる。
【００７２】
ハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物としては、特公昭５９−１２８１号公報に記載のビニル−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物および４−（ｐ−アミノフェニル）−２，６−ジ−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。
【００７３】
前記ビニル−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物の具体例としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（１−ｐ−ジメチルアミノフェニル−１，３−ブタジエニル）−ｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−４−アミノ−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、等が挙げられる。
【００７４】
前記２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物の具体例としては、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−ブトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−メトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−ブトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（６−メトキシ−５−メチル−ナフト−２−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（６−メトキシ−ナフト−２−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（５−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（６−エトキシ−ナフト−２−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４，５−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、等が挙げられる。
【００７５】
前記４−（ｐ−アミノフェニル）−２，６−ジ−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物の具体例としては、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−メチル−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−メチル−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（フェニル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｐ−Ｎ−クロロエチルカルボニルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）カルボニルアミノフェニル〕２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
【００７６】
４−〔ｍ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
【００７７】
４−〔ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−ブロモ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
【００７８】
４−（ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−ブロモ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、等が挙げられる。
【００７９】
上記の光重合開始剤には増感剤を併用することができる。その具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン、９−フルオレノン、２−クロロ−９−フルオレノン、２−メチル−９−フルオレノン、９−アントロン、２−ブロモ−９−アントロン、２−エチル−９−アントロン、９，１０−アントラキノン、２−エチル−９，１０−アントラキノン、２−ｔ−ブチル−９，１０−アントラキノン、２，６−ジクロロ−９，１０−アントラキノン、キサントン、２−メチルキサントン、２−メトキシキサントン、２−メトキシキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニルスチリルケトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニル−ｐ−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（またはミヒラーケトン）、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾアントロン等や、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール系化合物が挙げられる。
【００８０】
光重合開始剤として挙げられる既述の３−アリール置換クマリン化合物の特に好ましいものとしては、｛（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ｝−３−アリールクマリン化合物類が挙げられる。
【００８１】
光重合開始剤として挙げられる既述のロフィン二量体は、２個のロフィン残基からなる２，４，５−トリフェニルイミダゾリル二量体を意味し、その具体例としては、２−（ｏ−クロルフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体等が挙げられる。
【００８２】
本発明では、以上の光重合開始剤以外の他の公知の化合物も使用することができる。例えば、米国特許第２，３６７，６６０号明細書に記載のビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第２，３６７，６６１号および第２，３６７，６７０号明細書に記載のα−カルボニル化合物、米国特許第２，４４８，８２８号明細書に記載のアシロインエーテル、米国特許第２，７２２，５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３，０４６，１２７号および第２，９５１，７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３，５４９，３６７号明細書に記載のトリアリルイミダゾールダイマー／ｐ−アミノフェニルケトンの組合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール系化合物／トリハロメチール−ｓ−トリアジン系化合物等が挙げられる。また、旭電化（株）製のアデカオプトマーＳＰ−１５０、同１５１、同１７０、同１７１、同Ｎ−１７１７、同Ｎ１４１４等も重合開始剤として使用できる。
【００８３】
前記光重合開始剤の硬化性組成物中における含有量としては、該組成物の全固形分に対して、０．１〜１０．０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５．０質量％である。該含有量が、０．１質量％以上であると重合が確実に進みやすく、１０．０質量％以下であると充分な膜強度を得ることができる。
【００８４】
＜溶剤＞
本発明の硬化性組成物の調製の際には一般に溶剤（本明細書において「有機溶剤」ともいう）を含有する。溶剤は、各成分の溶解性や硬化性組成物の塗布性を満足すれば基本的に特に限定されないが、特に着色剤、樹脂成分の溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
【００８５】
前記溶剤としては、エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、等；
【００８６】
３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル等の３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、等；２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル等の２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、等；ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、等；
【００８７】
エーテル類、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、等；
【００８８】
ケトン類、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、等；芳香族炭化水素類、例えば、トルエン、キシレン、等が好ましい。
【００８９】
これらのうち、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメテルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等がより好ましい。これらの溶剤は、単独で用いてもあるいは二種以上組合わせて用いてもよい。
【００９０】
＜各種添加物＞
本発明の硬化性組成物には、必要に応じて、各種添加物、例えば充填剤、上記以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することができる。
【００９１】
これらの添加物の具体例としては、ガラス、アルミナ等の充填剤；イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの、アルコール可溶性ナイロン、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンから形成されたフェノキシ樹脂などのアルカリ可溶の樹脂；ノニオン系、カチン系、アニオン系等の界面活性剤、具体的にはフタロシアニン誘導体（森下産業社製のＥＦＫＡ−７４５）；オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業社製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、同Ｎｏ．９０、同Ｎｏ．９５（共栄社油脂化学工業社製）、Ｗ００１（裕商社製）等のカチオン系界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、同Ｌ３１、同Ｌ６１、同Ｌ６２、同１０Ｒ５、同１７Ｒ２、同２５Ｒ２、テトロニック３０４、同７０１、同７０４、同９０１、同９０４、同１５０Ｒ１等のノニオン系界面活性剤；エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（新秋田化成社製）、メガファックＦ−１４１、同Ｆ−１４２、同Ｆ−１４３、同Ｆ−１４４（大日本インキ化学工業（株）製）等のフッ素系界面活性剤；Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商社製）等のアニオン系界面活性剤；ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０（以上、森下産業社製）、ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００（サンノプコ社製）等の高分子分散剤；ソルスパース３０００、同５０００、同９０００、同１２０００、同１３２４０、同１３９４０、同１７０００、同２４０００、同２６０００、同２８０００などの各種ソルスパース分散剤（ゼネカ社製）；アデカプルロニックＬ３１，同Ｆ３８，同Ｌ４２，同Ｌ４４，同Ｌ６１，同Ｌ６４，同Ｆ６８，同Ｌ７２，同Ｐ９５，同Ｆ７７，同Ｐ８４，同Ｆ８７、同Ｐ９４，同Ｌ１０１，同Ｐ１０３，同Ｆ１０８、同Ｌ１２１、同Ｐ−１２３（旭電化社製）、およびイソネットＳ−２０（三洋化成社製）；
【００９２】
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；およびポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げることができる。
【００９３】
また、非画像部のアルカリ溶解性を促進し、本発明の硬化性組成物の現像性の更なる向上を図る場合には、該組成物に有機カルボン酸、好ましくは分子量１０００以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行なうことができる。具体的には、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸；トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸；安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸；フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。
【００９４】
また、本発明の硬化性組成物には以上の他に、さらに熱重合防止剤を加えておくことが好ましく、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用である。
【００９５】
＜光散乱粒子＞
本発明における硬化性組成物を構成する光散乱粒子の種類は限定されず、有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよい。有機微粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミンビーズ、ポリカーボネートビーズ、スチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ等が用いられる。無機微粒子としては、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、等が用いられる。光散乱粒子は、平均粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍのＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯから選ばれる少なくとも一種の微粒子であることが好ましく、これによって、透光性樹脂層が光散乱性を有する高屈折率層となる。
【００９６】
以上に説明した本発明における硬化性組成物の硬化物は、１．６以上の屈折率を有するのが好ましく、これによって、有機ＥＬ発光層における全反射の量が半分以下となる。
また、上記硬化性組成物には、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子が含まれるのが好ましく、これによって、等光性樹脂層が高屈折率層となる。
また、上記硬化性組成物において、光散乱粒子の屈折率は１．５５以下であることが好ましく、これによって、散乱量を十分に得られる。
また、上記硬化性組成物において、光散乱粒子の平均直径は、０．１μｍ以上、２．０μｍ以下であることが好ましく、これによって、散乱量を十分に得られ、且つ光散乱の指向性がほぼ等方散乱となる。等方散乱に近い散乱指向性にすることで、より多くの光を取り出すことができる。
【００９７】
本発明の硬化性組成物は、光散乱粒子、着色剤、アルカリ可溶性樹脂、感光性重合成分、および光重合開始剤、並びに更に必要に応じて用いられる各種添加物を一般に溶剤と混合し、各種の混合機、分散機を使用して混合分散することによって調製することができる。
【００９８】
例えば以下のようにして好適に製造することができる。すなわち、本発明の硬化性組成物は、着色剤に表面改質剤若しくは分散剤、アルカリ可溶性樹脂、および溶剤を混合して混練分散する。混練分散に用いる機器は、二本ロール、三本ロール、ボールミル、ディスパー、ニーダー、ホモジナイザー、ブレンダー等であり、強い剪断力を与えながら分散する。次いで、得られた混練分散物に感光性重合成分及び光重合開始剤、並びに必要に応じ更に溶剤、分散剤、アルカリ可溶性樹脂、光散乱粒子、及びその他成分を添加して、主としてサンドグラインダー、ピンミル、スリットミル、超音波分散機等を使用して０．１〜１０ｍｍの粒径のガラス、ジルコニア等でできたビーズを分散メディアとして微分散する。なお、この混練分散処理を省くことも可能である。その場合には、着色剤と分散剤若しくは表面処理剤、アルカリ可溶性樹脂、および溶剤で微分散処理する。
【００９９】
なお、混練・分散の詳細については、Ｔ．Ｃ．Ｐａｔｔｏｎ著”Ｐａｉｎｔ  Ｆｌｏｗ  ａｎｄ  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ”（１９６４年  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ社刊）等にも記載されている。
【０１００】
＜カラーフィルタの作成方法＞
本発明のカラーフィルタは、前記硬化性組成物を透明基板上、もしくはバリア層上に塗布し、マスクパターンを用いて紫外線硬化することでＲＧＢ各色のパターンを形成することができる。また画素毎にインクジェット法を用いて形成することも可能である。以下では硬化組成物を基板上、もしくは有機ＥＬの上部電極上、もしくは有機ＥＬのバリア層上に塗布してカラーフィルタを作成する方法について詳細に述べる。
【０１０１】
本発明のカラーフィルタは、それぞれ着色剤の組成が異なる少なくとも３種の硬化性組成物を用いて作成される。前記3種の硬化性組成物のうち、いずれか一つを基板上に塗布
後、マスクを通して露光し、現像して第一色目の画素を形成し、該第一色目の画素形成後、前記着色硬化性組成物から選択される前記第一色目の画素と色相の異なる他の一つを前記基板上に塗布後、マスクを通して露光し、現像して第二色目の画素を形成し、さらに該第二色目の画素形成後、前記着色硬化性組成物から選択される前記第一色および第二色と色相の異なる他の一つを前記基板上に塗布後、マスクを通して露光し、現像して第三色目の画素を形成することにより得られるものである。上記第一色から第三色（例えば緑色、赤色および青色）に加えて更に画素形成し４色以上になるように構成することもできる。
【０１０２】
すなわち、上記の本発明の少なくとも三種の硬化組成物を所望の色相順に、基板上に回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法により塗布し、乾燥させることで感放射線性層を形成し、これに更に所定のマスクパターンを介して露光を行ない、露光後現像液で現像して所望のパターンをなす画素を形成する工程を、着色組成物の数に合わせて少なくとも３回繰り返すことで得ることができる。このとき必要に応じて、形成された画素を加熱および／または露光により硬化させる工程を設けることができる。上記露光は放射線の照射により行なうことができ、該放射線としては、特にｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線が好ましく用いられる。
【０１０３】
カラーフィルタを構成する基板としては、例えば、液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、パイレックス（登録商標）（Ｒ）ガラス、石英ガラスおよびこれらに透明導電膜を付着させたものが挙げられる。またこれらの基板の上に、低屈折率層を予め形成した後、カラーフィルタを構成することも可能である。また、有機EL素子を構成する上部電極上、もしくはバリア層上にカラーフィルタを直接構成することも可能である。これらの基板は、各画素を隔離するブラックストライプが形成されている場合もある。
【０１０４】
前記現像液としては、本発明の硬化性組成物の未硬化部を溶解する一方、硬化部は溶解しない組成よりなるものであればいかなるものも用いることができる。具体的には、種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。前記有機溶剤としては、本発明の硬化性組成物の調製に使用される既述の溶剤が挙げられる。
【０１０５】
前記アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が好適である。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に、現像後水で洗浄する。
【０１０６】
＜＜有機エレクトロルミネッセンス表示装置＞＞
本発明の発光表示装置は陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した表示装置であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。
【０１０７】
陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０１０８】
陽極は通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、通常０．２ｍｍ以上、好ましくは０．７ｍｍ以上のものを用いる。
【０１０９】
前記透明樹脂基板としてバリアフィルムを用いることもできる。バリアフィルムとはプラスチック支持体上にガス不透過性のバリア層を設置したフィルムである。バリアフィルムの例としては酸化ケイ素や酸化アルミニウムを蒸着したもの（特公昭５３−１２９５３、特開昭５８−２１７３４４）、有機無機ハイブリッドコーティング層を有するもの（特開２０００−３２３２７３、特開２００４−２５７３２）、無機層状化合物を有するもの（特開２００１−２０５７４３）、無機材料を積層したもの（特開２００３−２０６３６１、特開２００６−２６３９８９）、有機層と無機層を交互に積層したもの（特開２００７−３０３８７、米国特許６４１３６４５、Ａｆｆｉｎｉｔｏら著  Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ  １９９６年  ２９０−２９１頁）、有機層と無機層を連続的に積層したもの（米国特許２００４−４６４９７）などが挙げられる。
【０１１０】
陽極の作製には材料によって種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾル−ゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理により、表示装置の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理などが効果的である。
【０１１１】
陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の材料としては金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いることができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ等）またはそのフッ化物、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）またはそのフッ化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等である。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。
陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。
【０１１２】
陰極上に前記バリアフィルムを貼り合せて、ガスの浸入を防ぐともに、ディスプレイ表面に保護層を形成しても良い。
【０１１３】
発光層の材料は、電界印加時に陽極または正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであれば何でもよい。好ましくは発光層に本発明の化合物を含有するものであるが、本発明の化合物の他の発光材料を用いることもできる。例えばベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。発光層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。
発光層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、ＬＢ法などの方法が用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。
【０１１４】
正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。正孔注入層、正孔輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
正孔注入層、正孔輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。
【０１１５】
電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層、電子輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
電子注入層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。
【０１１６】
保護層の材料としては水分や酸素等の表示装置劣化を促進するものが表示装置内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。その具体例としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ＭｇＦ２、ＬｉＦ、ＡｌＦ３、ＣａＦ２等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。
保護層の形成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーティング法を適用できる。
【０１１７】
＜光拡散フィルム貼り付け方法＞
本発明の光拡散フィルムもしくはカラーフィルタを、有機ディスプレイ内に設けて使用する方法としては、有機ＥＬの光取り出し側電極上もしくはバリア層上に、接着剤もしくは粘着剤を介して、直接貼合して使用する方法がある。すなわち、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の一つの実施形態においては、前記散乱部材は上部電極上に直接貼り付けられる。
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の別の実施形態においては、散乱部材が上部電極上にバリア層を介してバリア層に直接貼り付けられる。
散乱部材が光拡散フィルムである場合には、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の好適な実施形態として、上部電極上に、又は、上部電極上に設けられたバリア層上に、接着層を介して、光拡散フィルムが貼り付けられる形態を挙げることができる。
【０１１８】
＜接着剤＞
接着剤からなる接着層の屈折率は有機層と同等以上が好ましい。また屈折率が大きすぎると、界面での反射により効率が低下するため、有機層との屈折率差は０．２以下が好ましい。すなわち接着層の屈折率は、有機ＥＬ発光層における全反射が半分以下になるという理由で、１．６以上のものを使用するのが好ましく、１．６０〜２．００のものを使用することがより好ましい。また界面での反射を抑制する別の方法として、接着層に屈折率のグラデーションを作り、接着剤と接着剤の両端の材料を屈折率の飛びなく結びつける方法も可能である。
【０１１９】
また、接着剤は、加熱または加圧により流動する接着剤であることが好ましく、特に、２００℃以下の加熱または１ｋｇｆ／ｃｍ２以上の加圧により流動性を示す接着剤であることが好ましい。このような接着剤を用いることにより、本発明の光拡散フィルムを被着体であるディスプレイやプラスチック板に接着剤を流動させて接着することができる。流動できるので光学フィルムを被着体にラミネートや加圧成形、特に加圧成形により、また曲面、複雑形状を有する被着体にも容易に接着することができる。このためには、接着剤の軟化温度が２００℃以下であると好ましい。光学フィルムの用途から、使用される環境が通常８０℃未満であるので接着層の軟化温度は、８０℃以上が好ましく、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。軟化温度は、粘度が１０12ポイズ（１０13Ｐａ・ｓ以下）以下になる温度のことで、通常その温度では１〜１０秒程度の時間のうちに流動が認められる。
【０１２０】
上記のような加熱または加圧により流動する接着剤としては、主に以下に示す熱可塑性樹脂が代表的なものとしてあげられる。たとえば天然ゴム(屈折率ｎ=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ−１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−ブタジエン(n=1.515)などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリビニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシルエーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.456)などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.467)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポリエステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロース(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリアクリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリエチルアクリレート(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオキシカルボニルテトラメチレン(n=1.465)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタクリレート(n=1.473)、ポリドデシルメタクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.475)、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート(n=1.484)、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.485)、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート(n=1.487)、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.489)、ポリメチルメタクリレート(n=1.489)などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用することも可能である。さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート(n=1.48〜1.60)、ウレタンアクリレート(n=1.5〜1.6)、ポリエーテルアクリレート(n=1.48〜1.49)、ポリエステルアクリレート(n=1.48〜1.54)なども使うこともできる。特に接着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。これらの接着剤となるポリマーの軟化温度は、取扱い性から２００℃以下が好適で、１５０℃以下がさらに好ましい。��拡散フィルムの用途から、使用される環境が通常８０℃以下であるので接着層の軟化温度は、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。一方、ポリマーの質量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様）は、５００以上のものを使用することが好ましい。分子量が５００以上であることにより、接着剤組成物の凝集力が充分に発現されるため、被着体への密着性を確実に得ることができる。本発明で使用する接着剤には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。接着剤の層の厚さは、５〜８０μｍであることが好ましく、１０〜５０μｍとすることが特に好ましい。
【０１２１】
接着剤の材料としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂（いずれも屈折率が1.55〜1.60）を使うことができる。エポキシ樹脂以外では天然ゴム（ｎ=1.52）、ポリイソプレン（ｎ=1.521）、ポリ１，２−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリイソブテン（ｎ=1.505〜1.51）、ポリブテン（ｎ=1.5125）、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン（ｎ=1.506）、ポリ−１，３−ブタジエン（ｎ=1.515）などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン（ｎ=1.4563）、ポリオキシプロピレン（ｎ=1.4495）、ポリビニルエチルエーテル（ｎ=1.454）、ポリビニルヘキシルエーテル（ｎ=1.4591）、ポリビニルブチルエーテル（ｎ=1.4563）などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート（ｎ=1.4665）、ポリビニルプロピオネート（ｎ=1.4665）などのポリエステル類、ポリウレタン（ｎ=1.5〜1.6）、エチルセルロース（ｎ=1.479）、ポリ塩化ビニル（ｎ=1.54〜1.55）、ポリアクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリメタクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリスルホン（ｎ=1.633）、ポリスルフィド（ｎ=1.6）、フェノキシ樹脂（ｎ=1.5〜1.6）などを挙げることができる。これらは、好適な可視光透過率を発現する。
【０１２２】
さらに上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート（ｎ=1.4685）、ポリブチルアクリレート（ｎ=1.466）、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ=1.463）、ポリ−ｔ-ブチルアクリレート（ｎ=1.4638）、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート（ｎ=1.465）、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート（ｎ=1.465）、ポリメチルアクリレート（ｎ=1.472〜1.480）、ポリイソプロピルメタクリレート（ｎ=1.4728）、ポリドデシルメタクリレート（ｎ=1.474）、ポリテトラデシルメタクリレート（ｎ=1.4746）、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリエチルメタクリレート（ｎ=1.485）、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.4868）、ポリテトラカルバニルメタクリレート（ｎ=1.4889）、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.4889）、ポリメチルメタクリレート（ｎ=1.4893）などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使うこともできる。
さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使うこともできる。特に接着性の点から、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートは分子内に水酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。接着剤の主成分となるポリマーの質量平均分子量は、１，０００以上のものが使われる。分子量が１，０００以上であることにより、組成物の凝集力が充分に発現されるため、被着体への密着性を確実に得ることができる。
【０１２３】
接着剤は、上記材料に加えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等を含有させても良い。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、ＩｎおよびＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等が挙げられる。特に、接着層は、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、及びＺｎＯの中から選択される少なくとも１種の無機微粒子を含むのが好ましく、これによって、接着層が高屈折率層となる。これらの中でも、特にＺｒＯ２が好ましく用いられる。高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、透光性樹脂（３１）の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。
【０１２４】
接着剤には硬化剤（架橋剤）を用いても良く、架橋剤としては、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなどを使うことができる。 これらは単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。これらの架橋剤の添加量は上記ポリマー１００質量部に対して０．１〜５０質量部、好ましくは１〜３０質量部の範囲で選択するのがよい。この添加量が、０．１質量部未満であると硬化が不十分となり、５０質量部を越えると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。本発明で使用する接着剤の樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。そして、この接着剤の樹脂組成物は、透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料の基材の一部または全面を被覆するために、塗布され、溶媒乾燥、加熱硬化工程をへたのち、本発明に係る接着フィルムにする。上記で得られた電磁波シ−ルド性と透明性を有する接着フィルムは、該接着フィルムの接着剤によりＣＲＴ、ＰＤＰ、液晶、ＥＬなどのディスプレイに直接貼り付け使用したり、アクリル板、ガラス板等の板やシートに貼り付けてディスプレイに使用する。
【０１２５】
接着剤は透明であるものが好ましい。具体的には全光線透過率７０％以上が好ましく、８０％以上が更に好ましく、８５〜９２％が最も好ましい。さらに、霞度が低いことが好ましい。具体的には、０〜３％が好ましく、０〜１．５％が更に好ましい。本発明で用いる接着剤は、ディスプレイ本来の表示色を変化させないために無色であることが好ましい。ただし、樹脂自体が有色であっても接着剤の厚みが薄い場合には実質的には無色とみなすことが可能である。また、後述のように意図的に着色を行なう場合も同様にこの範囲ではない。
【０１２６】
上記の特性を有する接着剤としては例えば、アクリル系樹脂、α−オレフィン樹脂、酢酸ビニル系樹脂、アクリル共重合物系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、エチレン−ビニルアセテート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。これらの内、アクリル系樹脂が好ましい。同じ樹脂を用いる場合でも、接着剤を重合法により合成する際に架橋剤の添加量を下げる、粘着性付与材を加える、分子の末端基を変化させるなどの方法によって、粘着性を向上させることも可能である。また、同じ接着剤を用いても、接着剤を貼り合わせる面、すなわち、透明プラスチックフィルムまたはガラス板の表面改質を行なうことにより密着性を向上させることも可能である。このような表面の改質方法としては、コロナ放電処理、プラズマグロー処理等の物理的手法、密着性を向上させるための下地層を形成するなどの方法が挙げられる。
【０１２７】
透明性、無色性、ハンドリング性の観点から、接着剤の厚みは、１〜５０μｍ程度であることが好ましい。具体的には１〜２０μｍ程度である。ただし、上記のようにディスプレイ自体の表示色を変化させず、透明性も上記の範囲に入っている場合には、厚みが上記範囲を超えてもよい。
【実施例】
【０１２８】
＜＜光拡散フィルムの作製＞＞
【０１２９】
（光拡散層用塗布液(1)の調製）
光拡散層を構成する透光性樹脂としてのジルコニア超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）（ジルコニア超微粒子の平均粒径は０．０５μｍ）１００質量部、及び、重合性モノマー（重合性化合物）（日本化薬製 ＤＰＨＡ ）５７質量部を攪拌混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した後、この溶液に光散乱粒子として、ポリメチルメタクリレート系ビーズ（綜研化学製 ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ、屈折率１．４９）を１７質量部を混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分５０％になるように調整した。ここで、粒子を混合しない状態での透光性樹脂の屈折率を測定するため、別途粒子を混合しない塗布液を塗布し、紫外線硬化して塗膜を作成した。得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
【０１３０】
（光拡散層用塗布液（２）〜（４）の調製）
光拡散層を構成する透光性樹脂としてのジルコニア超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）（ジルコニア超微粒子の平均粒径は０．０５μｍ）１００質量部、及び、重合性モノマー（重合性化合物）（日本化薬製 ＤＰＨＡ ）５７質量部を攪拌混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した後、この溶液に光散乱粒子として、アモルファスシリカ系ビーズを１７質量部混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分５０％になるように調整した。ここでアモルファスシリカ系ビーズとして日本触媒製  ＫＥ−Ｐ１０，ＫＥ−Ｐ３０，ＫＥ−Ｐ５０の三種類を用い、三種類の光拡散層用塗布液（２）〜（４）を作成した。アモルファスシリカ系ビーズＫＥ−Ｐ１０，ＫＥ−Ｐ３０，ＫＥ−Ｐ５０の粒径は、それぞれ、０．１μｍ、０．３μｍ、０．５μｍであり、屈折率はいずれも１．４３であった。ここで、粒子を混合しない状態での透光性樹脂の屈折率を測定するため、別途粒子を混合しない塗布液を塗布し、紫外線硬化して塗膜を作成した。得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
【０１３１】
（光拡散層用塗布液（５）の調製）
光拡散層を構成する透光性樹脂としてのジルコニア超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）を２００質量部、及び、重合性モノマー（重合性化合物）（日本化薬製  ＤＰＨＡ）を５７質量部を攪拌混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解し、固形分５０％になるように調整した。ここで用いた光散乱粒子としてのジルコニア超微粒子の平均粒径は０．０５μｍであり、屈折率は２．１８であった。ここで透光性樹脂の屈折率を測定するため、本塗布液を塗布し、紫外線硬化して塗膜を作成した。得られた塗膜の屈折率は１．７０であった。
【０１３２】
（低屈折率層用塗布液の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３質量部にＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量部のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン（ＭＥＫ）分散物、日産化学（株）製）８質量部、およびメチルエチルケトン１００質量部を添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０１３３】
＜光拡散フィルム１＞
トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、上記光拡散層用塗布液（１）を、１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ２になるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フィルム１を作製した。このフィルムの光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。このフィルムのヘイズ値は６５％であった。
【０１３４】
＜光拡散フィルム２＞
トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ３．０μｍの低屈折率層を形成した。次に、低屈折率層上に上記光拡散層用塗布液（１）を、１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ２になるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フィルム２を作製した。このフィルムの光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。このフィルムのヘイズ値は６５％であった。
【０１３５】
＜光拡散フィルムａ〜ｃ＞
トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、上記光拡散層用塗布液（２）〜（４）を、それぞれアモルファスシリカ系ビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ２になるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フィルムａ〜ｃを作製した。このフィルムの光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。このフィルムのヘイズ値はａ：１５％、ｂ：６５％、ｃ：６５％であった。
【０１３６】
＜光拡散フィルムｄ〜ｆ＞
トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ３．０μｍの低屈折率層を形成した。次に、低屈折率層上に上記光拡散層用塗布液（２）〜（４）を、アモルファスシリカ系ビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ２になるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フィルムｄ〜ｆを作製した。このフィルムの光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。このフィルムのヘイズ値はｄ：１５％、ｅ：６５％、ｆ：６５％であった。
【０１３７】
＜光拡散フィルムｇ＞
トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、上記光拡散層用塗布液（５）を、厚み６μｍとなるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ジルコニア微粒子を含有する光拡散フィルムｇを作製した。このフィルムの光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。このフィルムのヘイズ値は１０％であった。
【０１３８】
＜光拡散フィルムｈ＞
トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ３．０μｍの低屈折率層を形成した。次に、低屈折率層上に上記光拡散層用塗布液（５）を、厚み６μｍとなるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させジルコニア微粒子を含有する光拡散フィルムｈを作製した。このフィルムの光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。このフィルムのヘイズ値は１０％であった。
【０１３９】
＜カラーフィルタ＞
まず下記３色の硬化性組成物を、サンドミルで一昼夜分散した。
（緑色）
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体      ・・・８０質量部
（重量平均分子量３００００、酸価１２０）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・５００質量部
・銅フタロシアニン顔料                              ・・・３３質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５                  ・・・６７質量部
（赤色）
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体      ・・・８０質量部
（重量平均分子量３００００、酸価１２０）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・５００質量部
・ピグメントレッド２５４                            ・・・５０質量部
・ピグメントレッドＰＲ１７７                        ・・・５０質量部
（青色）
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体      ・・・８０質量部
（重量平均分子量３００００、酸価１２０）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・５００質量部
・ピグメントブルー１５：６                          ・・・９５質量部
・ピグメントバイオレット２３                          ・・・５質量部
【０１４０】
次いで、下記の成分を添加した。
・ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト（ＤＰＨＡ）・・・８０質量部
・ＴｉＯ２（チタニア微粒子、平均粒径（平均直径）１５０ｎｍ、屈折率２．５４）                                                ・・・１００質量部
・４−［ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニル）アミノフェニル］２、６−ジ（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン              ・・・５質量部
・７−［｛４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−Ｓ−トリアジン−２−イル｝アミノ］−３−フェニルクマリン                            ・・・２質量部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル              ・・・０．０１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・５００質量部
【０１４１】
上記の各成分を均一に混合した後、孔径５μｍのフィルターで濾過し、本発明の３色の硬化性組成物を得た。このうち緑色の硬化性組成物をカラーフィルタ作製用のガラス基板の上にスピンコーターを用いて乾燥膜厚が２．０μｍとなるように塗布し、１２０℃で２分間乾燥させて緑色の均一な塗膜を形成した。
【０１４２】
次に、露光装置を使用して、塗膜に３６５ｎｍの波長で１００μｍのマスクを通して３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射した。照射後、１０％ＣＤ（富士フイルムアーチ（株）製）現像液を使用して、２６℃で６０秒間現像した。引き続き、流水で２０秒間リンスした後、エアナイフで乾燥させ、２２０℃で６０分間熱処理を行なって緑色のパターン像（緑色画素）を形成した。この操作を赤色の硬化性組成物と青色の硬化性組成物についても同様に、同一のガラス基板に対して行ない、順次赤色のパターン像（赤色画素）および青色のパターン像（青色画素）を形成し、本発明のカラーフィルタを得た。緑色画素、赤色画素及び青色画素（硬化性組成物の硬化物）の屈折率は、それぞれ光を透過する波長５５０ｎｍ、６３０ｎｍ、４５０ｎｍにおいて、１．８０、１．７８及び１．８２であった。
【０１４３】
＜接着剤＞
酸化ジルコニウム超微粒子１０質量部をアクリル酸エステル重合体による透明接着剤９０質量部に含有させて、屈折率１．６１を有する透明接着剤を得た。
【０１４４】
＜＜多色有機ＥＬ表示装置の作製＞＞
【０１４５】
次に、本発明のトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を説明する。
まず、絶縁性基板上にバッファ層を介してＴＦＴを形成し、次いで、全面にＳｉＮ膜からなる層間絶縁膜層を堆積させたのち、通常のフォトエッチング工程を用いてソース領域及びドレイン領域に達するコンタクトホールをそれぞれ形成する。
【０１４６】
次いで、全面にＡｌ／Ｔｉ／Ａｌ多層構造導電層を堆積させたのち、通常のフォトエッチング工程を用いてパターニングすることによって、ＴＦＴ部上にも延在するようにソース電極を形成するとともに、ドレイン電極を形成する。
なお、ソース電極は共通ソース線から４つの分岐線に分岐している。
【０１４７】
次いで、例えば、スピンコート法を用いて全面に感光性樹脂を塗布して層間絶縁膜とし、この層間絶縁膜を所定のマスクを用いて露光した後、所定の現像液を用いて現像することによって、ソース電極の分岐線に対するコンタクトホールを形成する。
【０１４８】
次いで、例えば、スパッタ法によりＡｌ膜を全面に堆積させたのち、通常のフォトエッチング工程を用いて所定の形状にパターニングすることによって、コンタクトホールを介してソース電極の分岐線に接続する分割下部電極を形成する。
【０１４９】
次いで、マスク蒸着法を用いて画素開口部の底部に露出している分割下部電極を覆う有機ＥＬ層を形成したのち、再びマスク蒸着法を用いて有機ＥＬ層を覆う厚さが、例えば、１０ｎｍのＡｌ膜と厚さが、例えば、３０ｎｍのＩＴＯ膜を順次堆積させて共通上部電極を形成し、各分割下部電極に対応する領域がそれぞれ分割画素部となる。
【０１５０】
次いで、全面にＣＶＤ法によりＳｉＮ膜、ＳＩＯＮ膜を順次堆積させて厚みが５μｍのバリア層を形成する。さらにバリア層上に、透明基板としてガラス板を貼り付ける。
【０１５１】
図４に簡略化した有機ＥＬ素子１００の基本構成を示す。ＴＦＴ基板上１１０に下部電極１２０を形成し、その上に順次有機ＥＬ層１３０、上部電極１４０、バリア層１５０、透明基板１６０を形成する。
【０１５２】
＜実施例１＞
実施例１の形態１０１を図５に示す。前記バリア層１５０上に前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布してなる接着層１７０を設け、その上に光拡散フィルム１（図中１０）を光拡散層が接着層１７０に接するように貼り付ける。さらにその上に透明基板１６０を貼り付ける。
【０１５３】
＜実施例２＞
実施例２の形態１０２を図６に示す。前記バリア１５０層上に前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布してなる接着層１７０を設け、その上に光拡散フィルム２（図中１１）を光拡散層が接着層１７０に接するように貼り付ける。さらにその上に透明基板１６０を貼り付ける。
【０１５４】
＜実施例３＞
実施例３として、前記ガラス基板上に形成されたカラーフィルタの色材面を、前記ＺｒＯ２を含有した接着層（厚さ１０μｍ）を介して有機ＥＬ表示装置のバリア層に貼り付けた。
【０１５５】
＜実施例４−６＞
実施例４−６の形態１０１は図５に示される。前記バリア層１５０上に前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布してなる接着層１７０を設け、その上に光拡散フィルム（図中１０）を光拡散層が接着層１７０に接するように貼り付ける。さらにその上に透明基板１６０を貼り付ける。実施例４−６には光拡散フィルムa-cがそれぞれ対応する。
【０１５６】
＜実施例７−９＞
実施例７−９の形態１０２は図６に示される。前記バリア１５０層上に前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布してなる接着層１７０を設け、その上に光拡散フィルム（図中１１）を光拡散層が接着層１７０に接するように貼り付ける。さらにその上に透明基板１６０を貼り付ける。実施例７−９には光拡散フィルムd-fがそれぞれ対応する。
【０１５７】
＜実施例１０＞
実施例１０の形態１０１は図５に示される。前記バリア層１５０上に前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布してなる接着層１７０を設け、その上に光拡散フィルム（図中１０）を光拡散層が接着層１７０に接するように貼り付ける。さらにその上に透明基板１６０を貼り付ける。実施例１０には光拡散フィルムgが対応する。
【０１５８】
＜実施例１１＞
実施例１１の形態１０２を図６は示される。前記バリア１５０層上に前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布してなる接着層１７０を設け、その上に光拡散フィルム（図中１１）を光拡散層が接着層１７０に接するように貼り付ける。さらにその上に透明基板１６０を貼り付ける。実施例１１には光拡散フィルムhが対応する。
【０１５９】
＜比較例１＞
図４の有機ＥＬ素子の基本構成を比較例１とする。前記バリア層１５０上に、前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布し、透明基板１６０を貼り付ける。
【０１６０】
＜比較例２＞
図４における前記バリア層１５０上に、前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布し、厚み０．７ｍｍの透明基板１６０を貼り付ける。さらにその上に前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布し、光拡散フィルム１を光拡散層が接着剤に接するように貼り付ける。
【０１６１】
＜比較例３＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタクリレートの混合物｛“ＤＰＨＡ”、日本化薬（株）製｝１００質量部をメチルイソブチルケトン１００質量部で希釈した。更に、重合開始剤｛「イルガキュア１８４」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝を５質量部添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤（ＦＰ−１４９）０．１質量部、シランカップリング剤｛“ＫＢＭ−５１０３”、信越化学工業（株）製｝２０質量部を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２０であった。光拡散用塗布液の溶液組成に、光散乱粒子として平均粒径３００ｎｍのＴｉＯ２を２５質量部含有させたスピンコート液を調製した。このスピンコート液を、図４における前記バリア層１５０上に厚さ１．５μｍでスピンコートし、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散層を形成した。さらに当該光拡散層の上に、前記接着剤を厚さ１０μｍで塗布し、透明基板１６０を貼り付けた。
【０１６２】
以上、本発明の各実施例を説明してきたが、本発明は各実施例に記載した条件・構成に限られるものではなく、各種の変更が可能であり、例えば、上記の実施例において示した有機ＥＬ層を構成する材料及び層構造は単なる一例にすぎず、発光色に応じて有機層の材料は公知の有機ＥＬ材料の中から適宜選択するものである。
【０１６３】
有機ＥＬ表示装置に画像を表示させ、下記の３段階で輝度を官能評価した。
明るい：    Ａ
やや暗い：  Ｂ
暗い：      Ｃ
【０１６４】
また、有機ＥＬ表示装置に画像を表示させ、下記の３段階で画像の呆けを官能評価した。
画像の呆けが全く判らない：  Ａ
画像がわずかに呆ける：      Ｂ
画像の呆けが認識できる：    Ｃ
【０１６５】
完成したディスプレイの良し悪しを、輝度が向上し、且つ、画像ボケがないこと、という観点に基づいて、下記２段階の判定基準で評価した。
輝度Ａ  ｏｒ  Ｂ、  且つ、  画像ボケＡ  ｏｒ  Ｂ  ：  ○
輝度、画像ボケどちらかがＣ  ：  ×
【０１６６】
実施例１〜３、比較例１〜３の結果を表１に示す。また実施例４〜１１の結果を表２に示す。
【０１６７】
【表１】
2009070814.tif 000002
【０１６８】
【表２】
2009070814.tif 000003
【０１６９】
実施例１０、１１はＺｒＯ２以外の屈折率１．８以上の光散乱粒子を用いたときでも同様の効果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１７０】
【図１】自発光表示装置における光取り出し効率低下の原因を説明する図である。
【図２】本発明における透明基材フィルムと光拡散層からなる光拡散フィルムの断面図である。
【図３】本発明における透明基材フィルムと低屈折率層と光拡散層からなる光拡散フィルムの断面図である。
【図４】本発明における、有機ＥＬ表示装置の基本構成の概略図である。
【図５】本発明の実施例１、４〜６及び１０の構成を示す図である。
【図６】本発明の実施例２、７〜９及び１１の構成を示す図である。
【符号の説明】
【０１７１】
１  ・・・  ＴＦＴ基板
２  ・・・  背面電極
３  ・・・  有機層
４  ・・・  透明電極
５  ・・・  透明基板
１０  ・・・  光拡散フィルム１
１１  ・・・  光拡散フィルム２
２０  ・・・  透明基材フィルム
３０  ・・・  光拡散層
３１  ・・・  透光性樹脂
４１  ・・・  光散乱粒子
５０  ・・・  低屈折率層
１００  ・・・  有機ＥＬ表示装置の基本構成
１０１  ・・・  実施例１の素子構成
１０２  ・・・  実施例２の素子構成
１１０  ・・・  ＴＦＴ基板
１２０  ・・・  下部電極
１３０  ・・・  有機ＥＬ層
１４０  ・・・  上部電極
１５０  ・・・  バリア層
１６０  ・・・  透明基板
１７０  ・・・  接着層
【図１】
2009070814.tif 000004
【図２】
2009070814.tif 000005
【図３】
2009070814.tif 000006
【図４】
2009070814.tif 000007
【図５】
2009070814.tif 000008
【図６】
2009070814.tif 000009