(57)【要約】【課題】近赤外線およびネオン光の放出を防止することができる透明基材、このような透明基材を備えた表示装置用フィルタ、およびフィルタ付表示装置を提供する。【解決手段】本発明による表示装置用フィルタ１０は、ＰＤＰ３０の前面に設置される。この表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一面上に設けられ、導電性を有するとともにＰＤＰ３０からの電磁波を遮蔽する電磁波シールド層１２と、透明基材１１の他面上に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層２０とを備えている。このうち透明基材１１は、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。【選択図】図１
2009034852.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、
透明基材と、
透明基材の一面上に設けられた電磁波シールド層と、
透明基材の他面上に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層と、を備え、
透明基材は、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層と、近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層とからなることを特徴とする表示装置用フィルタ。
【請求項２】
表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、
透明基材と、
透明基材上に設けられた電磁波シールド層と、
電磁波シールド層上に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層と、を備え、
透明基材は、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層と、近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層とからなることを特徴とする表示装置用フィルタ。
【請求項３】
表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、
透明基材と、
透明基材上に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層と、
光学機能層上に設けられた電磁波シールド層と、を備え、
透明基材は、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層と、近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層とからなることを特徴とする表示装置用フィルタ。
【請求項４】
反射防止層を更に設けたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の表示装置用フィルタ。
【請求項５】
支持用基材を更に設けたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の表示装置用フィルタ。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか記載の表示装置用フィルタと、
表示装置とを備えたことを特徴とするフィルタ付表示装置。
【請求項７】
表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタに組込まれる透明基材において、
近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層と、
近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層と、からなることを特徴とする透明基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば表示装置の表示面のような光透過面等に配置されて用いられ、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能（近赤外線カット／ネオンカット機能）を有する透明基材、このような透明基材を備えた表示装置用フィルタ、およびこのような表示装置用フィルタを備えたフィルタ付表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種の映像表示装置が、種々の分野で利用されている。そして、映像表示装置のうち、とりわけプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）からは電磁波だけでなく、近赤外線（ＮＩＲ）、あるいは封入ガスからネオン光（Ｎｅ）が放出してオレンジ色が強くなり、色純度が低下することも考えられる。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、近赤外線およびネオン光をカットする層（近赤外線／ネオンカット材）が設けられている。
【０００３】
また映像表示装置に表示される映像を明瞭に観察することができるようにするためには、映像のコントラストを高めることが有効である。そして、映像のコントラストを高めるための種々の研究がなされており（例えば、特許文献１）、外光の表示面への入射を抑制することが有効とされている。とりわけ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）においては、その構造的特徴から表示面が全体的に白っぽくなり、映像のコントラストが低下しやすい。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、外光を吸収する遮光材が配置される。
【０００４】
また近年、各種映像表示装置から発生される電磁波による、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference; EMI）が問題となっている。例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、データ電極と蛍光層を有するガラス板と透明電極を有するガラス板との組合体であり、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電体を含む電磁波シールド材が配置される。そして、この電磁波シールド材によって、映像表示装置から発生する電磁波を遮蔽するようになっている。
【特許文献１】特許第２６２４４６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、映像表示装置の表示面の前面に配置される近赤外線／ネオンカット材、遮光材、および電磁波シールド材は、互いに全く異なる特殊な構造を有しており、別部材として作製されている。そして、近赤外線／ネオンカット材、遮光材、および電磁波シールド材を表示装置の表示面上へ配置する場合、近赤外線／ネオンカット材、遮光材、および電磁波シールド材が別個に表示面上に配置される、あるいは、近赤外線／ネオンカット材、遮光材、および電磁波シールド材とが予め積層され、得られた積層体が表示面上に配置される。この結果、表示装置の構成が複雑化するとともに、表示装置の製造コストが高くなってしまう。
【０００６】
また、映像表示装置に限られず、近赤外線／ネオンカット材、遮光材、および電磁波シールド材が積層されて用いられる場合がある。そしてこの場合、同様の問題が生じ得る。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、観察側に近赤外線およびネオン光が放出することを防止できる透明基材、このような透明基材を備えた表示装置用フィルタ、およびフィルタ付表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、透明基材と、透明基材の一面上に設けられた電磁波シールド層と、透明基材の他面上に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層と、を備え、透明基材は、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層と、近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層とからなることを特徴とする表示装置用フィルタである。
【０００９】
本発明は、表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、透明基材と、透明基材上に設けられた電磁波シールド層と、電磁波シールド層上に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層と、を備え、透明基材は、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層と、近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層とからなることを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１０】
本発明は、表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、透明基材と、透明基材上に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層と、光学機能層上に設けられた電磁波シールド層と、を備え、透明基材は、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層と、近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層とからなることを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１１】
本発明は、反射防止層を更に設けたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１２】
本発明は、支持用基材を更に設けたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１３】
本発明は、表示装置用フィルタと、表示装置とを備えたことを特徴とするフィルタ付表示装置である。
【００１４】
本発明は、表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタに組込まれる透明基材において、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層と、近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層と、からなることを特徴とする透明基材である。
【発明の効果】
【００１５】
以上のように本発明によれば、近赤外線／ネオンカット層を支持する透明基材、電磁波シールド層を支持する透明基材、および光学機能層を支持する透明基材を別々に設ける必要がない。このため透明基材の数を減らすことができ、かつ表示装置用フィルタの透過率を向上させ、製造コストの低減および軽量化を図ることができる。
【００１６】
また本発明によれば、透明基材は、近赤外線／ネオンカット層と、近赤外線／ネオンカット層を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層とからなっている。このため、透明基材上に電磁波シールド層または光学機能層を形成する際、一対の色素保護樹脂層により近赤外線／ネオンカット層を保護することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
図１乃至図６は、本発明による表示装置用フィルタを示す構成図であり、図７は比較例としての表示装置用フィルタを示す構成図であり、図８は、本発明による透明基材の製造方法を示す工程図であり、図９乃至図１４は本発明による表示装置用フィルタの製造方法を示す工程図であり、図１５乃至図２０は電磁波シールド層の製造工程を示す図であり、図２１乃至図２２は映像のコントラストを高める光学機能層の製造工程を示す図である。
【００１８】
表示装置用フィルタの構成
まず、図１乃至図７により本実施の形態による表示装置用フィルタについて説明する。
【００１９】
図１に示すように、本実施の形態による表示装置用フィルタ１０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）３０等の映像表示装置の前面に設置されるものである。
【００２０】
このような表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一面上に設けられた電磁波シールド層１２と、透明基材１１の他面上に設けられ、ＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高める光学機能層２０とを備えている。このうち電磁波シールド層１２はＰＤＰ３０から放出され人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものであり、光学機能層２０は外光を効果的に吸収してＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高めるものである。
【００２１】
透明基材１１は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。
【００２２】
このうち近赤外線／ネオンカット層２５は、アクリル樹脂からなる透明樹脂と、この透明樹脂中に混入された近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素とからなっている。近赤外線吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっており、ネオン吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。また近赤外線／ネオンカット層２５を構成する樹脂としては、アクリル樹脂の他、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。
【００２３】
近赤外線吸収色素としては、イモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物が挙げられ、ネオン吸収色素としては、シアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン系色素等が挙げられる。
【００２４】
このような近赤外線／ネオンカット層２５は、上述したように透明樹脂中に近赤外線カット色素およびネオンカット色素を混入させて形成されるほか、近赤外線カット色素およびネオンカット色素を一方の色素保護樹脂層１６ａ（１６ｂ）上に蒸着させることにより形成されても良い。あるいは、近赤外線／ネオンカット層２５は、一方の色素保護樹脂層１６ａ（１６ｂ）上にスピンコート、ディップコート、ダイコート、キャストコート等の方法により形成されても良い。
【００２５】
なお、近赤外線／ネオンカット層２５は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能の双方の機能を有しているが、近赤外線／ネオンカット層２５を、近赤外線カット機能を有する近赤外線カット層と、ネオンカット機能を有するネオンカット層の２層構造としてもよい。また近赤外線／ネオンカット層２５は近赤外線カット機能またはネオンカット機能のいずれか一方のみの機能をもっていてもよい。
【００２６】
電磁波シールド層１２は導電性メッシュフィルムまたは金属薄膜等からなり、電磁波を効果的に遮蔽することができる。
【００２７】
一方、光学機能層２０は、透明樹脂部２１と、この透明樹脂部２１内に埋め込まれた黒化樹脂部２２とからなり、この黒化樹脂部２２により外光を効果的に吸収することができる。
【００２８】
また、透明基材１１上には、反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４が設けられ、他方、光学機能層２０上には画像表示部側粘着材２４が設けられている。
【００２９】
反射防止層１４は空気と表示装置用フィルタ１０との間の屈折率差による反射を防止するとともに、ＰＤＰ３０表面の反射を防止するものである。この反射防止層１４は光学薄膜を積層することにより構成される。なお、反射防止層１４は、電磁波シールド層１２上にウエット塗布または真空製膜を施すことにより形成されても良い。
【００３０】
また反射防止層用粘着材１３および画像表示部側粘着材２４としては、粘着性をもつアクリル樹脂等を用いることができる。
【００３１】
なお画像表示部側粘着材２４は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させるものである。そして表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させることにより、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０とからなるフィルタ付ＰＤＰ（フィルタ付表示装置）が得られる。
【００３２】
なお、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に装着する方法として、上述のように表示装置用フィルタ１０を画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着させる方法の他、ガラス、フィルム等からなる支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を準備し、この支持用基材１０ＡとＰＤＰ３０とを接着させても良い。また支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を支持用基材１０ＡがＰＤＰ３０側を向くように配置し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定しても良い。さらにまた支持用基材１０Ａを有しない表示装置用フィルタ１０を準備し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定しても良い。
【００３３】
図１において、透明基材１１の一面上に電磁波シールド層１２を設けるとともに、透明基材１１の他面上に光学機能層２０が設けられている。このため電磁波シールド層１２および光学機能層２０を有する表示装置用フィルタ１０を構成するために、電磁波シールド層１２を支持する透明基材と、光学機能層２０を支持する透明基材とを別々に設ける必要はなくなる。このように２つの透明基材を別々に設ける必要がなくなるので、透明基材の数を減らすことができ、かつ２つの透明基材を接合するための接着層が不要となる。さらには２つの透明基材を別々に設けた場合に比べて表示装置用フィルタ１０の透過率を向上させ、製造コストの低減を図り、かつ表示装置用フィルタ１０の軽量化を図ることができる。
【００３４】
また透明基材１１は、近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。このため、透明基材１１上に電磁波シールド層１２および光学機能層２０を形成する際、一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより近赤外線／ネオンカット層２５を保護することができる。
【００３５】
例えば、後述するように、透明基材１１上にエッチング法により電磁波シールド層１２を形成する場合、近赤外線／ネオンカット層２５を塩化第二鉄液等の酸溶液やアルカリ溶液から保護することができる。あるいは、透明基材１１上に光学機能層２０を形成する場合、透明基材１１上にＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１を硬化させるために紫外線を照射する際、近赤外線／ネオンカット層２５を紫外線から保護することができる。
【００３６】
一方、比較例として図７に示す表示装置用フィルタ４０は、近赤外線およびネオン光をカットする機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、この近赤外線／ネオンカット層２５を支持する第３透明基材１１ｃと、粘着材１５ａを介して第３透明基材１１ｃに接合された第１透明基材１１ａとを有している。そして第１透明基材１１ａ上に電磁波シールド層１２が設けられ、電磁波シールド層１２に反射防止用粘着材１３を介して反射防止層１４が設けられている。
【００３７】
また近赤外線／ネオンカット層２５は、粘着材１５ｂを介して第２透明基材１１ｂに接合されている。そして第２透明基材１１ｂ上に光学機能層２０が設けられ、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４が設けられている。
【００３８】
図７に示す比較例としての表示装置用フィルタ４０において、電磁波シールド層１２と光学機能層２０との間に、３枚の透明基材（第１透明基材１１ａ、第２透明基材１１ｂ、および第３透明基材１１ｃ）が配置されている。すなわち、電磁波シールド層１２を支持する第１透明基材１１ａと、近赤外線／ネオンカット層２５を支持する第３透明基材１１ｃと、光学機能層２０を支持する第２透明基材１１ｂとが設けられている。
【００３９】
これに対して図１に示すように本発明によれば、透明基材１１は、近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなり、また透明基材１１の一面上に電磁波シールド層１２を設けるとともに、透明基材１１の他面上に光学機能層２０が設けられている。このため、近赤外線およびネオン光を効果的にカットすることができるとともに、近赤外線／ネオンカット層２５を設けるための透明基材（第３透明基材１１ｃ）と、電磁波シールド層１２を設けるための透明基材（第１透明基材１１ａ）と、光学機能層２０を設けるための透明基材（第２透明基材１１ｂ）とを別々に設ける必要がない。
【００４０】
なお、図１において電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設けた例を示したが、これに限らず反射防止層１４の代わりに表面に凹凸をつけて外光を散乱させるぎらつき防止層を設けてもよい。
【００４１】
次に図２乃至図６により表示装置用フィルタ１０の他の構成について説明する。図２乃至図６において、図１に示す表示装置用フィルタ１０と同一部分には、同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４２】
図２に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、透明基材１１の他方の面に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４と、電磁波シールド層１２上に設けられ、透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、光学機能層２０上に設けられた画像表示部側粘着材２４とを備えている。
【００４３】
このうち透明基材１１は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。
【００４４】
図３に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、透明基材１１の他方の面に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４と、光学機能層２０上に設けられた電磁波シールド層１２と、電磁波シールド層１２上に設けられた画像表示部側粘着材２４とを備えている。
【００４５】
このうち透明基材１１は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。
【００４６】
図４に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、透明基材１１の他方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、光学機能層２０上に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４と、電磁波シールド層１２上に設けられた画像表示部側粘着材２４とを備えている。
【００４７】
このうち透明基材１１は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。
【００４８】
図５に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、透明基材１１の他方の面に設けられた画像表示部側粘着材２４と、電磁波シールド層１２上に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、光学機能層２０上に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４とを備えている。
【００４９】
このうち透明基材１１は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。
【００５０】
図６に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、透明基材１１の他方の面に設けられた画像表示部側粘着材２４と、光学機能層２０上に設けられた電磁波シールド層１２と、電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４とを備えている。
【００５１】
このうち透明基材１１は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。
【００５２】
図２乃至図６において、画像表示部側粘着材２４は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させるものである。そして表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させることにより、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０とからなるフィルタ付ＰＤＰ（フィルタ付表示装置）が得られる。
【００５３】
なお図２乃至図６において、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に装着する方法として、上述のように表示装置用フィルタ１０を画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着させる方法の他、ガラス、フィルム等からなる支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を準備し、この支持用基材１０ＡとＰＤＰ３０とを接着させても良い。また支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を支持用基材１０ＡがＰＤＰ３０側を向くように配置し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定しても良い。さらにまた支持用基材１０Ａを有しない表示装置用フィルタ１０を準備し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定しても良い。
【００５４】
また、図２乃至図６において、近赤外線／ネオンカット層２５は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能の双方の機能を有しているが、近赤外線／ネオンカット層２５を、近赤外線カット機能を有する近赤外線カット層と、ネオンカット機能を有するネオンカット層の２層構造としてもよい。また近赤外線／ネオンカット層２５は近赤外線カット機能またはネオンカット機能のいずれか一方のみの機能をもっていてもよい。
【００５５】
なお図２乃至図６において、反射防止層１４の代わりに、ぎらつき防止層を設けてもよい。あるいは反射防止層１４は、透明基材１１、電磁波シールド層１２、または光学機能層２０上にウエット塗布または真空製膜することにより形成されても良い。
【００５６】
表示装置用フィルタの製造方法
次に表示装置用フィルタの製造方法について説明する。
【００５７】
まず透明基材１１の製造方法について、図８（ａ）〜（ｃ）により説明する。
まず図８（ａ）に示すように、一方の色素保護樹脂層１６ｂを準備する。次に色素保護樹脂層１６ｂの一方の面に、近赤外線／ネオンカット層２５が形成される（図８（ｂ））。
【００５８】
この場合、近赤外線／ネオンカット層２５は、透明樹脂中に近赤外線カット色素およびネオンカット色素を混入させたものを色素保護樹脂層１６ｂの一方の面に接着することにより構成されている。なお近赤外線／ネオンカット層２５は、一方の色素保護樹脂層１６ｂ上にスピンコート、ディップコート、ダイコート、キャストコート等の湿式法、あるいは蒸着等の乾式法により設けられてもよい。
【００５９】
その後、図８（ｃ）に示すように、近赤外線／ネオンカット層２５上に他方の色素保護樹脂層１６ａを設ける。このようにして、近赤外線／ネオンカット層２５を一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより上下方向から挟み、透明基材１１が構成される。
【００６０】
次に、図１に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について、図８（ａ）〜（ｃ）および図９（ａ）〜（ｅ）により説明する。
【００６１】
はじめに図８（ａ）〜（ｃ）に示す工程により、近赤外線／ネオンカット層２５を一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより上下方向から挟んで構成された透明基材１１を準備する（図９（ａ））。
【００６２】
次に、透明基材１１の一方の面に透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布し、このＵＶ硬化樹脂２１上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させて、凹部を形成する（図９（ｂ））。
【００６３】
次にＵＶ硬化樹脂２１の凹部内に黒化樹脂部２２となる黒化インキを充てんし乾燥または硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる（図９（ｃ））。
【００６４】
その後、透明基材１１の他方の面に電磁波シールド層１２が形成される（図９（ｄ））。
【００６５】
さらに電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図１に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる（図９（ｅ））。
【００６６】
なお、図９（ｂ）〜（ｄ）において、透明基材１１の一方の面に光学機能層２０が形成された後、透明基材１１の他方の面に電磁波シールド層１２が形成されるが、これに限らず、まず透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２が形成され、その後透明基材１１の他方の面に光学機能層２０が形成されても良い。
【００６７】
次に図８、図１０乃至図１４により、図２乃至図６に示す表示装置用フィルタの製造方法について説明する。
【００６８】
まず図８（ａ）〜（ｃ）および図１０（ａ）〜（ｅ）により、図２に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００６９】
はじめに図８（ａ）〜（ｃ）に示す工程により、近赤外線／ネオンカット層２５を一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより上下方向から挟んで構成された透明基材１１を準備する（図１０（ａ））。
【００７０】
次に透明基材１１上に電磁波シールド層１２が形成される（図１０（ｂ））。
【００７１】
次に、電磁波シールド層１２上に透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布し、このＵＶ硬化樹脂２１上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させて、凹部を形成する（図１０（ｃ））。
【００７２】
次にＵＶ硬化樹脂２１の凹部内に黒化樹脂部２２となる黒化インキを充てんし乾燥または硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる（図１０（ｄ））。
【００７３】
さらに透明基材１１上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図２に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる（図１０（ｅ））。
【００７４】
まず図８（ａ）〜（ｃ）および図１１（ａ）〜（ｅ）により、図３に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００７５】
はじめに図８（ａ）〜（ｃ）に示す工程により、近赤外線／ネオンカット層２５を一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより上下方向から挟んで構成された透明基材１１を準備する（図１１（ａ））。
【００７６】
次に透明基材１１上に透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布し、このＵＶ硬化樹脂２１上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させて、凹部を形成する（図１１（ｂ））。
【００７７】
次にＵＶ硬化樹脂２１の凹部内に黒化樹脂部２２となる黒化インキを充てんし乾燥または硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる（図１１（ｃ））。
【００７８】
次に、光学機能層２０上に電磁波シールド層１２が形成される（図１１（ｄ））。
【００７９】
さらに透明基材１１上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、電磁波シールド層１２上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図３に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる（図１１（ｅ））。
【００８０】
まず図８（ａ）〜（ｃ）および図１２（ａ）〜（ｅ）により、図４に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００８１】
はじめに図８（ａ）〜（ｃ）に示す工程により、近赤外線／ネオンカット層２５を一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより上下方向から挟んで構成された透明基材１１を準備する（図１２（ａ））。
【００８２】
次に、透明基材１１の一方の面に、導電性インクからなる黒色樹脂を用い、フォトリソグラフィー、インクジェット、その他の印刷法により凸状のパターンからなる黒化樹脂部２２を形成する（図１２（ｂ））。
【００８３】
次に、黒化樹脂部２２全面を覆って透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布し、このＵＶ硬化樹脂２１にＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる（図１２（ｃ））。
【００８４】
次に、透明基材１１の他方の面に電磁波シールド層１２が形成される（図１２（ｄ））。
【００８５】
さらに光学機能層２０上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、電磁波シールド層１２上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図４に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる（図１２（ｅ））。
【００８６】
なお、図１２（ｂ）〜（ｄ）において、透明基材１１の一方の面に光学機能層２０が形成された後、透明基材１１の他方の面に電磁波シールド層１２が形成されるが、これに限らず、透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２が形成された後、透明基材１１の他方の面に光学機能層２０が形成されても良い。
【００８７】
まず図８（ａ）〜（ｃ）および図１３（ａ）〜（ｅ）により、図５に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００８８】
はじめに図８（ａ）〜（ｃ）に示す工程により、近赤外線／ネオンカット層２５を一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより上下方向から挟んで構成された透明基材１１を準備する（図１３（ａ））。
【００８９】
次に、透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２が形成される（図１３（ｂ））。
【００９０】
次に、電磁波シールド層１２上に導電性インクからなる黒色樹脂を用い、フォトリソグラフィー、インクジェット、その他の印刷法により凸状のパターンからなる黒化樹脂部２２を形成する（図１３（ｃ））。
【００９１】
次に、黒化樹脂部２２全面を覆って透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布し、このＵＶ硬化樹脂２１にＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる（図１３（ｄ））。
【００９２】
さらに光学機能層２０上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、透明基材１１上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図５に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる（図１３（ｅ））。
【００９３】
まず図８（ａ）〜（ｃ）および図１４（ａ）〜（ｅ）により、図６に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００９４】
はじめに図８（ａ）〜（ｃ）に示す工程により、近赤外線／ネオンカット層２５を一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより上下方向から挟んで構成された透明基材１１を準備する（図１４（ａ））。
【００９５】
次に、透明基材１１の一方の面に導電性インクからなる黒色樹脂を用い、フォトリソグラフィー、インクジェット、その他の印刷法により凸状のパターンからなる黒化樹脂部２２を形成する（図１４（ｂ））。
【００９６】
次に、黒化樹脂部２２全面を覆って透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布し、このＵＶ硬化樹脂２１にＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる（図１４（ｃ））。
【００９７】
次に、光学機能層２０上に電磁波シールド層１２が形成される（図１４（ｄ））。
【００９８】
さらに電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、透明基材１１上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図５に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる（図１４（ｅ））。
【００９９】
なお、図９乃至図１４において、ＵＶ硬化樹脂２１の代わりに熱硬化樹脂を用い加熱して硬化してもよい。あるいは、ＵＶ硬化樹脂２１の代わりに電子線硬化樹脂を用いても良い。
【０１００】
このように本実施の形態によれば、透明基材１１は、近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を上下方向から挟む一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとからなっている。このため、透明基材１１上に電磁波シールド層１２または光学機能層２０を形成する際、一対の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂにより近赤外線／ネオンカット層２５を保護することができる。例えば、透明基材１１上にエッチング法により電磁波シールド層１２を形成する場合、塩化第二鉄液等の酸溶液やアルカリ溶液から近赤外線／ネオンカット層２５を保護することができる。あるいは透明基材１１上に光学機能層２０を形成する場合、透明基材１１上に照射される紫外線から近赤外線／ネオンカット層２５を保護することができる。
【０１０１】
各構成部材の説明
次に表示装置用フィルタ１０を構成する各構成部材について説明する。
【０１０２】
（透明基材の色素保護樹脂層）
透明基材１１の色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂとしては、ＰＥＴ製フィルム、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルム、あるいはガラス板等を用いることができる。
【０１０３】
色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂを構成するプラスチックフィルムは高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のフィルムを用いることが望ましい。
【０１０４】
なお、一般に透明基材の厚さは約１００μｍ乃至２００μｍであるのに対して、上述した色素保護樹脂層１６ａ、１６ｂの厚さはそれぞれ約３０μｍ乃至１００μｍとすることができる。したがって、透明基材１１の厚さは、一般的な透明基材の厚さと同等またはそれ以下とすることができる。
【０１０５】
（電磁波シールド層）
電磁波を遮蔽する電磁波シールド層１２としては、導電性メッシュフィルム、または金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層透明導電膜を用いることができる。また電磁波シールド層１２を導電性ペーストまたは導電性インクにより作製することもできる。なお、電磁波シールド層１２を構成する導電性フィルムまたは導電膜の形状は、メッシュ状（格子状）のほか、ストライプ状またはその他幾何学模様状であってもよい。
【０１０６】
導電性メッシュフィルムとしては一般的には、接地された金属メッシュ、または合成樹脂や金属繊維のメッシュに金属被服したものを用いることができる。導電性メッシュフィルムを構成する金属の材質としては例えば、銅、クロム、ニッケル、銀、モリブデン、タングステン、アルミニウムなど電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【０１０７】
多層透明導電膜としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の高屈折透明薄膜と、金、銀、銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜とを交互に積層した材料を用いることができる。
【０１０８】
金属薄膜は、銀（Ａｇ）または銀を含有した合金から構成された薄膜層である。そのうち、銀の単体は、好適に使用できる。
【０１０９】
ＩＴＯ等の高屈折率透明薄膜層は、可視光に対して透過性を有しており、金属薄膜との屈折率の差によって、金属薄膜により可視光線が反射されることを防止する効果を有する。
【０１１０】
次に図１５および図１６により、導電性メッシュフィルムからなる電磁波シールド層１２の製造方法について述べる。
【０１１１】
図１５は電磁波シールド層１２をエッチング法により製造する方法を示す図である。
図１５に示すように、まず透明基材１１上に銅箔をラミネートするか、あるいは透明基材１１上に銅蒸着を施して、透明基材１１上に銅層３１ａを設ける。
【０１１２】
次に透明基材１１の銅層３１ａ上に、パターン状に形成されたレジストを設ける。この場合、銅層３１ａ上に、フォトリソグラフィー法、グラビア印刷、フレキソ印刷あるいは電子印刷により、パターン状にレジストを形成することができる。
【０１１３】
次にパターン状のレジストをマスクとして、銅層３１ａをエッチング除去し、その後レジストを除去することにより、銅層３１ａからなる導電性メッシュフィルムを形成することができる。次に銅層３１ａ上に黒化銅からなる黒化層３１ｂを形成することにより、銅層３１ａと黒化層３１ｂとからなる導電性メッシュフィルムの電磁波シールド層１２が得られる。この場合、黒化層３１ｂはニッケル、クロム、コバルト酸化銅等からなり、蒸着、スパッタリング、めっき、薬液浸漬等を用いて形成される。
【０１１４】
図１５において電磁波シールド層１２の黒化層３１ｂは、反射防止機能を果たす。
【０１１５】
図１６は電磁波シールド層１２をめっき法により製造する方法を示す図である。
図１６に示すように、まず透明基材１１上にパラジウム等を含む触媒３２ｃを印刷により設ける。次に触媒３２ｃ上に銅めっきを施して銅層３２ａを形成し、その後銅層３２ａ上に黒色電解めっきを施して黒化層３２ｂを形成する。
【０１１６】
このようにして触媒３２ｃと、銅層３２ａと、黒化層３２ｂとからなる導電性メッシュフィルムからなる電磁波シールド層１２が得られる。
【０１１７】
次に図１７により、導電性ペーストからなる電磁波シールド層１２の製造方法について説明する。図１７は、導電性ペーストからなる電磁波シールド層１２を製造する方法を示す図である。
【０１１８】
図１７に示すように、まず透明基材１１上に透明なＵＶ硬化樹脂３３ｂを塗布し、このＵＶ硬化樹脂３３ｂ上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂３３ｂを硬化させて凹部を形成する。
【０１１９】
次にＵＶ硬化樹脂３３ｂの凹部内に導電性ペースト３３ａを充てんし硬化または乾燥させることにより、導電性ペースト３３ａを含む電磁波シールド層１２が得られる。
【０１２０】
なお、ＵＶ硬化樹脂３３ｂの代わりに熱硬化樹脂を用い加熱して硬化してもよい。
【０１２１】
導電性ペーストは、導電性金属を樹脂中に分散させたものであり、前記導電性金属の比抵抗値が０．５×１０−５Ω・ｃｍ以下になるようにすることが好ましい。
【０１２２】
導電性金属としては、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、金ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属あるいはこれらの２種以上を組み合わせた合金等を使用できるが、導電性や樹脂分散の容易性、価格の点から、銀、銅、ニッケルが適している。
【０１２３】
導電性金属を分散させる樹脂としては、ゴム系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂または共重合体の熱可塑性樹脂を使用することができる。これらの他に、アクリルモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート等の重合性モノマーも使用できる。これらの重合性モノマーは熱可塑性樹脂と組み合わせて使うことができる。更に、これらの樹脂を汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤等とともに撹拌・混合して使用することができる。
【０１２４】
なお、これらの重合性モノマーに、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂等の熱硬化性樹脂を添加することも可能である。これらのポリマーは必要に応じて２種以上共重合してもよいし、ブレンドして使用することも可能である。これらは通常汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤等とともに撹拌・混合して使用することができる。
【０１２５】
次に図１８により、導電性インクからなる電磁波シールド層１２の製造方法について説明する。図１８は導電性インク法により電磁波シールド層１２を製造する方法を示す図である。
【０１２６】
図１８に示すように、透明基材１１上に導電性インク３４ａを用いて印刷し、この導電性インクを乾燥させることにより、導電性インク３４ａからなる電磁波シールド層１２が得られる。
【０１２７】
導電性インク３４ａとしては、一般に金属微粒子を硬化性有機バインダーと混合したもので、通常使用される金属（フィラー）としては、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、その他および合金類あるいは異種金属混合系などがある。これらの導電性は、例えば塗料のフィラーとしては銀は１０−５Ω・ｃｍ以上、金は１０−６Ω・ｃｍ以上である。また、硬化性有機バインダー類としてはアクリル樹脂系、ポリエステル樹脂系、塩化ビニル樹脂系、エポキシ樹脂系、フェノール樹脂系、ポリオレフィン系、メラミン樹脂系など良く知られている。これらの金属フィラーを用いた導電性インクは一般市販品であり、かつ導電性が１０−３〜１０−６Ω・ｃｍを示すので、例えばＩＴＯの導電性１０１〜１０３Ω・ｃｍに比して高く電磁波遮蔽材料として好適である。
【０１２８】
次に図１９により、金属薄膜と高屈折透明薄膜を交互に積層した電磁波シールド層１２をスパッタリングにより製造する方法について説明する。図１９に示すように、まず透明基材１１上にスパッタリング法によりＡｇからなる導電性の金属薄膜３５ｂを形成する。次に金属薄膜３５ｂ上にスパッタリング法によりＩＴＯからなる高屈折透明薄膜３５ａを形成し、このようにして透明基材１１上に金属薄膜３５ｂと、高屈折透明薄膜３５ａを交互に積層することにより電磁波シールド層１２を得ることができる。
【０１２９】
また、図２０に示すように、透明基材１１上に自己組織化するインク、例えばＩＴＯインクを塗布するだけで、このＩＴＯインクが自己組織化して網目状の電磁波シールド層１２を得ることができる。
【０１３０】
また透明基材１１上に溶剤に分散された針状の金属微粒子または樹脂中に分散された針状の金属微粒子をスピンコート、ディップコート、ダイコートまたはキャストコートにより塗布し、乾燥または硬化させることにより、電磁波シールド層１２を形成しても良い。この場合、透明基材１１上に針状の金属微粒子が配列されてなる金属膜により電磁波シールド層１２が形成される。また電磁波シールド層１２を形成する際、パターニングが不要となる。なお、このような金属微粒子を構成する金属としては、金、銀、銅などが挙げられる。
【０１３１】
なお、図１５乃至図２０において、透明基材１１上に電磁波シールド層１２を設ける場合を示したが、光学機能層２０上に電磁波シールド層１２を設ける場合であっても略同様の方法を用いることができる。
【０１３２】
（光学機能層）
光学機能層２０は透明樹脂部２１と、透明樹脂部２１内に埋込まれた黒化樹脂部２２とからなっている。このうち黒化樹脂部２２はくさび形断面を有しているが、矩形状断面、逆くさび形断面、三角形断面、半円形断面を有していてもよい（図２１および図２２参照）。
【０１３３】
ここで、図２１は光学機能層２０の製造方法を示す断面図であり、図２２は光学機能層２０を示す平面図である。
【０１３４】
図２２に示すように、光学機能層２０の黒化樹脂部２２は、一線状に帯状となって延び、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０に設置した場合、黒化樹脂部２２の方向は左右方向となる。
【０１３５】
光学機能層２０の透明樹脂部２１はＵＶ硬化樹脂で形成され、黒化樹脂部２２は光を吸収することができる黒色無機物および／または有機物、金属等で形成することができる。特に金属の場合には電気伝導度が大きく、電気抵抗が低いため、金属粉末を添加して黒化樹脂部２２を形成した場合、金属粉末の濃度によって電気抵抗の調節が可能である。また、黒化樹脂部２２としては炭素、あるいは炭素を含む樹脂を用いることもできる。
【０１３６】
次に図２１により、光学機能層２０を製造する方法について説明する。図２１に示すように、まず透明基材１１上に透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布し、このＵＶ硬化樹脂２１上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させて、凹部を形成する。
【０１３７】
次にＵＶ硬化樹脂２１の凹部内に黒化樹脂部となる黒化インキを充てんし乾燥または硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる。
【０１３８】
なお、ＵＶ硬化樹脂２１の代わりに熱硬化樹脂を用い加熱して硬化してもよい。あるいは、ＵＶ硬化樹脂２１の代わりに電子線硬化樹脂を用いても良い。
【０１３９】
図２１において、透明基材１１上に光学機能層２０を設ける場合を示したが、電磁波シールド層１２上に光学機能層２０を設ける場合であっても略同様の方法を用いることができる。
【０１４０】
また他の光学機能層２０の製造方法としては、まず透明基材１１または電磁波シールド層１２上に黒色樹脂を用い、フォトリソグラフィー、インクジェット、その他の印刷法により凸状のパターンを形成し、この凸状のパターン上全面を覆って透明樹脂を塗布して光学機能層２０を製造してもよい。この場合黒色樹脂により黒化樹脂部２２が形成され、透明樹脂により透明樹脂部２１が形成される。
【図面の簡単な説明】
【０１４１】
【図１】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態を示す構成図。
【図２】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図３】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図４】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図５】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図６】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図７】比較例としての表示装置用フィルタを示す構成図。
【図８】本発明による本発明による透明基材の製造方法を示す工程図。
【図９】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態を示す工程図。
【図１０】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態の変形例を示す工程図。
【図１１】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態の変形例を示す工程図。
【図１２】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態の変形例を示す工程図。
【図１３】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態の変形例を示す工程図。
【図１４】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態の変形例を示す工程図。
【図１５】電磁波シールド層をエッチング法により製造する工程を示す図。
【図１６】電磁波シールド層をめっき法により製造する工程を示す図。
【図１７】電磁波シールド層を製造する工程を示す図。
【図１８】電磁波シールド層を導電インク法により製造する工程を示す図。
【図１９】電磁波シールド層をスパッタリング法により製造する工程を示す図。
【図２０】電磁波シールド層を自己組織化法により製造する工程を示す図。
【図２１】光学機能層を製造する工程を示す図。
【図２２】光学機能層を示す平面図。
【符号の説明】
【０１４２】
１０  表示装置用フィルタ
１０Ａ  支持用基材
１１  透明基材
１２  電磁波シールド層
１３  反射防止層用粘着材
１４  反射防止層
１６ａ、１６ｂ  色素保護樹脂層
２０  光学機能層
２１  透明樹脂部
２２  黒化樹脂部
２４  画像表示部側粘着材
２５  近赤外線／ネオンカット層
３０  ＰＤＰ
【図１】
2009034852.tif 000003
【図２】
2009034852.tif 000004
【図３】
2009034852.tif 000005
【図４】
2009034852.tif 000006
【図５】
2009034852.tif 000007
【図６】
2009034852.tif 000008
【図７】
2009034852.tif 000009
【図８】
2009034852.tif 000010
【図９】
2009034852.tif 000011
【図１０】
2009034852.tif 000012
【図１１】
2009034852.tif 000013
【図１２】
2009034852.tif 000014
【図１３】
2009034852.tif 000015
【図１４】
2009034852.tif 000016
【図１５】
2009034852.tif 000017
【図１６】
2009034852.tif 000018
【図１７】
2009034852.tif 000019
【図１８】
2009034852.tif 000020
【図１９】
2009034852.tif 000021
【図２０】
2009034852.tif 000022
【図２１】
2009034852.tif 000023
【図２２】
2009034852.tif 000024