(57)【要約】【課題】簡易な構成で、高い表示性能を有することができるエレクトロクロミック表示デバイスを提供する。【解決手段】第１基板１０と、第１電極２０…と、第２基板３０と、第２電極３０…と、エレクトロクロミック組成物層５０と、を備え、第１電極２０…と第２電極４０…とが立体交差する領域に画素６０が形成されるエレクトロクロミック表示デバイス１００において、エレクトロクロミック組成物層５０は、第１基板１０及び第２基板３０に対して略垂直方向に貫通する、画素６０のサイズよりも小さい細孔５１ａ…を有する多孔質体５１と、多孔質体５１の細孔５１ａ…内に導入されたエレクトロクロミック組成物５２と、を備えるよう構成し、エレクトロクロミック組成物５２は、第１電極２０…と第２電極４０…との間に通電すると、エレクトロクロミック組成物層５０と第２電極４０との界面にて発色するようになっている。【選択図】図１
2009048072.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、前記第１基板の上面に設けられた第１電極と、前記第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられた第２基板と、前記第２基板の下面に設けられた第２電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備え、前記第１電極は、並行して延びる複数の電極であるとともに、前記第２電極は、前記第１電極と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、前記第１電極と前記第２電極とが立体交差する領域に画素が形成されるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第１基板及び前記第２基板に対して略垂直方向に貫通する、前記画素のサイズよりも小さい細孔を有する多孔質体と、前記多孔質体の細孔内に導入されたエレクトロクロミック組成物と、を備え、
前記エレクトロクロミック組成物は、前記第１電極と前記第２電極との間に通電すると、前記エレクトロクロミック組成物層と前記第２電極との界面にて発色することを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。
【請求項２】
第１基板と、前記第１基板の上面に設けられた第１電極と、前記第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられた第２基板と、前記第２基板の下面に設けられた第２電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備え、前記第１電極は、並行して延びる複数の電極であるとともに、前記第２電極は、前記第１電極と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、前記第１電極と前記第２電極とが立体交差する領域に画素が形成されるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第１基板及び前記第２基板に対して略垂直方向に貫通する、前記画素のサイズよりも小さい細孔を有する多孔質体と、前記多孔質体の細孔内に導入されたエレクトロクロミック組成物と、前記多孔質体の細孔の底部を閉じる導電性部材と、を備え、
前記エレクトロクロミック組成物は、前記第１電極と前記第２電極との間に通電すると、前記エレクトロクロミック組成物層と前記第２電極との界面にて発色することを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記多孔質体は、少なくとも一部が、陽極酸化アルミナにより構成されていることを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記多孔質体は、少なくとも一部が、所定の繊維を網目状に配して形成したフィルタにより構成されていることを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。
【請求項５】
第１基板と、前記第１基板の上面に設けられた第１電極と、前記第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられた第２基板と、前記第２基板の下面に設けられた第２電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備え、前記第１電極は、並行して延びる複数の電極であるとともに、前記第２電極は、前記第１電極と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、前記第１電極と前記第２電極とが立体交差する領域に画素が形成されるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第１基板及び前記第２基板に対して略垂直方向に貫通する、前記画素のサイズよりも小さい細孔を有する多孔質体と、前記多孔質体の細孔内に導入されたエレクトロクロミック組成物と、を備え、
前記多孔質体は、少なくとも一部が、陽極酸化アルミナ又は所定の繊維を網目状に配して形成したフィルタにより構成されており、
前記エレクトロクロミック組成物は、前記第１電極と前記第２電極との間に通電すると、前記エレクトロクロミック組成物層と前記第２電極との界面にて発色することを特徴とするエレクトロクロミック表示デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロクロミック表示デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子情報ネットワークの普及に伴い、従来の印刷技術による書籍に代わり、電子書籍の形での出版、すなわち電子出版が盛んに行われるようになってきた。こうしたネットワークで配信される電子情報を表示させる装置としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイやバックライト型液晶ディスプレイが用いられている。しかしながら、これらのディスプレイを用いた表示は、紙に印刷した慣用の表示に比べ、読む場所が制限され、取り扱いの面においても重量、大きさ、形状、携帯性の点で劣る。また、これらのディスプレイは消費電力が大きいため、電池による駆動であれば表示時間にも制限が生じてしまう。さらに、これらのディスプレイは、何れも発光型のディスプレイであり、長時間凝視すると高度の疲労を招くことがあるという問題もある。
【０００３】
したがって、上記のような問題を解決できる表示デバイス、さらには、書き換え可能な表示デバイスが望まれている。このような表示デバイスとして、ペーパーライクディスプレイ或いは電子ペーパーと称するものが提案されている。具体的には、例えば、反射型液晶方式の表示デバイス、電気泳動方式の表示デバイス、二色性の粒子を電場で回転させる方式の表示デバイス、エレクトロクロミック方式の表示デバイスなどが、これまでに提案されている。
【０００４】
ところで、エレクトロクロミック方式の表示デバイス（エレクトロクロミック表示デバイス）においては、表示材料として、例えば、電極の表面で発色するロイコ染料などを必須成分とするエレクトロクロミック組成物が用いられている。このエレクトロクロミック組成物は溶液系であるため、画素間の分離不良（画素同士のクロストーク）を防止するために、画素同士の間に画素間を分離するための隔壁を形成する必要がある。隔壁材料としては、例えば、ガラスや感光性樹脂などを用いることができ、隔壁形成方法としては、例えば、スクリーン印刷法やホトリソグラフィー法などを用いることができる。そして、隔壁は、画素と同期し、画素を取り囲むように作製されることとなる。
【０００５】
このように隔壁を形成することによって、画素間のクロストークは大幅に減少するが、その作製過程においては、位置あわせなどの正確性及び緻密性が要求され、作製にかかる負担が大きいという問題がある。
【０００６】
そこで、例えば、エレクトロクロミック組成物を多孔質体（多孔質膜）に含浸させて（例えば、特許文献１及び２参照）、隔壁を省略する手法が考えられる。
【特許文献１】特開２００３−２４１２２８号公報
【特許文献２】特開２００３−３０２６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１及び２に示すような、細孔がランダムに形成された多孔質体を使用すると、特に表示材料として電極の表面で発色するロイコ染料などを必須成分とするエレクトロクロミック組成物を用いた場合、表示される画像の解像力やコントラストが低くなり、表示性能が低下するという問題がある。
【０００８】
本発明の課題は、簡易な構成で、高い表示性能を有することができるエレクトロクロミック表示デバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、
第１基板と、前記第１基板の上面に設けられた第１電極と、前記第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられた第２基板と、前記第２基板の下面に設けられた第２電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備え、前記第１電極は、並行して延びる複数の電極であるとともに、前記第２電極は、前記第１電極と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、前記第１電極と前記第２電極とが立体交差する領域に画素が形成されるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第１基板及び前記第２基板に対して略垂直方向に貫通する、前記画素のサイズよりも小さい細孔を有する多孔質体と、前記多孔質体の細孔内に導入されたエレクトロクロミック組成物と、を備え、
前記エレクトロクロミック組成物は、前記第１電極と前記第２電極との間に通電すると、前記エレクトロクロミック組成物層と前記第２電極との界面にて発色することを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、
第１基板と、前記第１基板の上面に設けられた第１電極と、前記第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられた第２基板と、前記第２基板の下面に設けられた第２電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備え、前記第１電極は、並行して延びる複数の電極であるとともに、前記第２電極は、前記第１電極と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、前記第１電極と前記第２電極とが立体交差する領域に画素が形成されるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第１基板及び前記第２基板に対して略垂直方向に貫通する、前記画素のサイズよりも小さい細孔を有する多孔質体と、前記多孔質体の細孔内に導入されたエレクトロクロミック組成物と、前記多孔質体の細孔の底部を閉じる導電性部材と、を備え、
前記エレクトロクロミック組成物は、前記第１電極と前記第２電極との間に通電すると、前記エレクトロクロミック組成物層と前記第２電極との界面にて発色することを特徴とする。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、
請求項１又は２に記載のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記多孔質体は、少なくとも一部が、陽極酸化アルミナにより構成されていることを特徴とする。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、
請求項１〜３の何れか一項に記載のエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記多孔質体は、少なくとも一部が、所定の繊維を網目状に配して形成したフィルタにより構成されていることを特徴とする。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、
第１基板と、前記第１基板の上面に設けられた第１電極と、前記第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられた第２基板と、前記第２基板の下面に設けられた第２電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備え、前記第１電極は、並行して延びる複数の電極であるとともに、前記第２電極は、前記第１電極と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、前記第１電極と前記第２電極とが立体交差する領域に画素が形成されるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、
前記エレクトロクロミック組成物層は、前記第１基板及び前記第２基板に対して略垂直方向に貫通する、前記画素のサイズよりも小さい細孔を有する多孔質体と、前記多孔質体の細孔内に導入されたエレクトロクロミック組成物と、を備え、
前記多孔質体は、少なくとも一部が、陽極酸化アルミナ又は所定の繊維を網目状に配して形成したフィルタにより構成されており、
前記エレクトロクロミック組成物は、前記第１電極と前記第２電極との間に通電すると、前記エレクトロクロミック組成物層と前記第２電極との界面にて発色することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、第１基板と、第１基板の上面に設けられた第１電極と、第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられた第２基板と、第２基板の下面に設けられた第２電極と、第１基板と第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備え、第１電極は、並行して延びる複数の電極であるとともに、第２電極は、第１電極と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、第１電極と第２電極とが立体交差する領域に画素が形成されるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、エレクトロクロミック組成物層は、第１基板及び第２基板に対して略垂直方向に貫通する、画素のサイズよりも小さい細孔を有する多孔質体と、多孔質体の細孔内に導入されたエレクトロクロミック組成物と、を備え、エレクトロクロミック組成物は、第１電極と第２電極との間に通電すると、エレクトロクロミック組成物層と第２電極との界面にて発色するようになっている。
すなわち、エレクトロクロミック組成物を多孔質体の細孔内に導入するだけで、緻密で煩雑な工程を経て形成される隔壁を備えなくても、画素間のクロストークを抑えることができる。さらに、多孔質体に形成された細孔は、第１基板及び第２基板に対して略垂直方向に貫通しているため、細孔がランダムに形成された多孔質体を使用する場合と比較して、解像力やコントラストが高くなり、簡易な構成で、高い表示性能を有することができる。
【００１５】
また、本発明によれば、第１基板と、第１基板の上面に設けられた第１電極と、第１基板の上方に当該第１基板に対向して設けられた第２基板と、第２基板の下面に設けられた第２電極と、第１基板と第２基板との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層と、を備え、第１電極は、並行して延びる複数の電極であるとともに、第２電極は、第１電極と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、第１電極と第２電極とが立体交差する領域に画素が形成されるエレクトロクロミック表示デバイスにおいて、エレクトロクロミック組成物層は、第１基板及び第２基板に対して略垂直方向に貫通する、画素のサイズよりも小さい細孔を有する多孔質体と、多孔質体の細孔内に導入されたエレクトロクロミック組成物と、多孔質体の細孔の底部を閉じる導電性部材と、を備え、エレクトロクロミック組成物は、第１電極と第２電極との間に通電すると、エレクトロクロミック組成物層と第２電極との界面にて発色するようになっている。
すなわち、エレクトロクロミック組成物を多孔質体の細孔内に導入するだけで、緻密で煩雑な工程を経て形成される隔壁を備えなくても、画素間のクロストークを抑えることができる。さらに、多孔質体に形成された細孔は、第１基板及び第２基板に対して略垂直方向に貫通しているため、細孔がランダムに形成された多孔質体を使用する場合と比較して、解像力やコントラストが高くなり、簡易な構成で、高い表示性能を有することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図を参照して、本発明にかかるエレクトロクロミック表示デバイスの最良の形態を詳細に説明する。なお、発明の範囲は、図示例に限定されない。
【００１７】
＜エレクトロクロミック表示デバイスの構成＞
図１は、本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００を模式的に示す平面図（ａ）及び断面図（ｂ）である。
本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００は、例えば、第１基板１０と、第１基板１０の上面に設けられた第１電極２０…と、第１基板１０の上方に第１基板１０に対向して設けられた第２基板３０と、第２基板３０の下面に設けられた第２電極４０…と、第１基板１０と第２基板３０との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層５０と、を備えて構成される。
第１電極２０…は、並行して延びる複数の電極であり、第２電極４０…は、第１電極２０…と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極である。そして、第１電極２０…と第２電極４０…とが立体交差する領域に画素６０…が形成されている。
【００１８】
第１基板１０は、例えば、平面状に形成されており、エレクトロクロミック表示デバイス１００の基体としての機能を有する。
【００１９】
第１基板１０の材質は、電気的に絶縁性であれば、特に限定されるものではなく、例えば、ガラスやプラスチックを用いることができる。ガラスとしては、例えば、ソーダライム系ガラス、低アルカリ・ホウケイ酸ガラス、無アルカリ・ホウケイ酸ガラス、無アルカリ・アミノケイ酸ガラス、石英ガラスなどが挙げられる。また、プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリアミド類、ポリカーボネート類、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素ポリマー類、ポリエーテル類、ポリスチレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン類、ポリイミド類などが挙げられる。
【００２０】
第１基板１０は、白色に見えるのが好ましい。したがって、第１基板１０の材質をガラスやプラスチックとした場合、例えば、二酸化チタン、硫酸バリウム、カオリンなどの白色顔料を配合することによって、白色に見える第１基板１０を形成することができる。また、透明基板の下面に、前記白色顔料を塗布したり、白色紙や白色ＰＥＴシートなどの白色シートを配置したりすることによって、白色に見える第１基板１０を形成することができる。
【００２１】
第１電極２０…は、例えば、幅を有するライン状に形成されており、互いに平行な等間隔の縞状に設けられている。
第１電極２０…は、エレクトロクロミック組成物層５０に接するように、且つ、第２電極４０…に対向してエレクトロクロミック組成物層５０を挟むように、第１基板１０の上面に設けられている。
第１電極２０…は、第２電極４０…と対になり、エレクトロクロミック組成物層５０に通電する機能を有する。
第１電極２０…は、第２電極４０…と立体交差、すなわち、間隔を有して交差し、その交点の領域に画素６０を形成している。
【００２２】
第１電極２０…の材質は、特に限定されるものではなく、金属電極を構成する材質や透明電極を構成する材質を用いることができる。金属電極を構成する材質としては、例えば、金、白金、銀、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銅、ニッケル、これらの合金などが挙げられる。また、透明電極を構成する材質としては、例えば、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＦＴＯなどが挙げられる。
【００２３】
第２基板３０は、例えば、平面状に形成された透明基板であり、第２電極４０…の支持体としての機能を有する。
【００２４】
第２基板３０の材質は、電気的に絶縁性の透明基板であれば、特に限定されるものではなく、例えば、ガラスやプラスチックを用いることができる。ガラスとしては、例えば、ソーダライム系ガラス、低アルカリ・ホウケイ酸ガラス、無アルカリ・ホウケイ酸ガラス、無アルカリ・アミノケイ酸ガラス、石英ガラスなどが挙げられる。また、プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリアミド類、ポリカーボネート類、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素ポリマー類、ポリエーテル類、ポリスチレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン類、ポリイミド類などが挙げられる。
【００２５】
第２電極４０…は、例えば、幅を有するライン状に形成されており、互いに平行な等間隔の縞状に設けられている。
第２電極４０…は、エレクトロクロミック組成物層５０に接するように、且つ、第１電極２０…に対向してエレクトロクロミック組成物層５０を挟むように、第２基板３０の下面に設けられている。
第２電極４０…は、第１電極２０…と対になり、エレクトロクロミック組成物層５０に通電する機能を有する。
第２電極４０…は、第１電極２０…と立体交差、すなわち、間隔を有して交差し、その交点の領域に画素６０を形成している。
【００２６】
第２電極４０の材質は、透明電極を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではない。透明電極を構成可能な材質としては、例えば、ＩＴＯ膜やＳｎＯ２又はＩｎＯ２をコーティングした薄膜などが挙げられる。また、ＩＴＯ膜やＳｎＯ２又はＩｎＯ２をコーティングした薄膜などにＳｎやＳｂなどをドーピングしたものであっても良く、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＦＴＯなどであっても良い。さらに、第２電極４０は、例えば、その材質が金や白金などであっても薄膜であれば、その機能を果たすことができる。
【００２７】
エレクトロクロミック組成物層５０は、第１基板１０及び第２基板３０に対して略垂直方向に貫通する細孔５１ａ…を有する多孔質体５１と、多孔質体５１の細孔５１ａ…内に導入されたエレクトロクロミック組成物５２と、などを備えて構成される。
【００２８】
多孔質体５１は、第１基板１０と第２基板３０との間に、一定の体積で、エレクトロクロミック組成物５２を保持する役割を有する。すなわち、多孔質体５１は、エレクトロクロミック組成物５２を含むことによって、エレクトロクロミック組成物５２を第１電極１０と第２電極３０との間で支えるとともに、多孔質体５１の厚みによって、エレクトロクロミック組成物５２の量を均一に制御するスペーサの役割を有する。
【００２９】
多孔質体５１の厚みは、特に限定されるものではないが、好ましくは１０μｍ〜５００μｍ、より好ましくは３０μｍ〜２００μｍに設定することによって、エレクトクロミック組成物５２の表示機能を効果的に発現させることができる。
【００３０】
多孔質体５１の細孔５１ａのサイズは、特に限定されるものではないが、例えば、図２に示すように、画素６０のサイズよりも小さいのが好ましい。すなわち、例えば、図２に示すように、細孔５１ａの形状が円形であるとともに、画素６０の形状（図２においては一点鎖線で示す）が正方形である場合は、多孔質体５１の細孔５１ａの直径（孔径）は、画素６０の幅（すなわち、第１電極２０の幅や第２電極４０の幅）よりも小さいのが好ましい。
無論、細孔５１ａの形状は円形に限ることはなく、矩形などの多角形であっても良い。また、画素６０の形状は正方形に限ることはなく、その他の多角形であっても良く、円形であっても良い。
【００３１】
例えば、多孔質体５１の細孔５１ａのサイズが大きい場合（具体的には、例えば、孔径が画素６０の幅の１／５以上である場合）、或いは、例えば、多孔質体５１の細孔５１ａ，５１ａ同士の間の距離が短い場合（具体的には、例えば、開孔率が５０％以上である場合）、エレクトロクロミック表示デバイス１００による表示画像は、高濃度で、コントラストが高い画像となる。一方、多孔質体５１の細孔５１ａのサイズが小さい場合（具体的には、例えば、孔径が画素６０の幅の１／５０以下である場合）、或いは、例えば、多孔質体５１の細孔５１ａ，５１ａ同士の間の距離が長い場合（具体的には、例えば、開孔率が２０％以下である場合）、エレクトロクロミック表示デバイス１００による表示画像は、解像力の高い、鮮鋭度に優れたクリアな画像となる。
【００３２】
多孔質体５１の材質は、上述した厚みや形状を有するものとすることができるのであれば、特に限定されるものではなく、無機材料及び有機材料の何れも用いることができる。
【００３３】
好ましい材質としては、例えば、電気的に絶縁性の無機材料としてアルミナ（特に陽極酸化アルミナ）、シリカ、酸化ジルコニウム、ＳｉＣ、ガラス等、電気的に絶縁性の有機材料及び高分子物質としてテフロン（米国デュポン社の登録商標）、ナイロン、ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等、半導体を含む金属酸化物材料としてＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＩｎＳｎＯＸ、Ｎｂ２Ｏ３、ＷＯ３、ＣｕＯ、ＣｏＯ２、ＭｎＯ２、Ｖ２Ｏ５等、化合物半導体を含む金属カルコゲナイド及び他元素複合化合物としてＣｄＳ、ＺｎＳ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＦｅＳ２、ＰｂＳ、ＣｕＩｎＳ２、ＣｕＩｎＳｅ等に代表される化合物半導体、ペロブスカイト構造を有する化合物や複合化合物等、金属及び半金属材料として金、白金、銀、銅、クロム、亜鉛、錫、チタン、タングステン、アルミニウム、ニッケル、鉄、シリコン、ゲルマニウム等、炭素材料としてグラファイト、グラシーカーボン、ダイヤモンド等、などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００３４】
多孔質体５１は、単一の材料から構成されていても良く、複数の材料から構成されていても良い。複数の材料から構成される場合は、細孔５１ａ…の壁部分とその他の部分、細孔５１ａ…の上部と下部、といったように部分毎に材料を変えて構成しても良い。
多孔質体５１の細孔５１ａ…の内部の少なくとも一部（多孔質体５１の細孔５１ａ…の壁）を構成している材料は、絶縁体材料又は半導体材料が好ましい。具体的には、金属のカルコゲナイド（例えば、酸化物、硫化物、セレン化物など）、シリコンが好ましく、金属酸化物がより好ましく、アルミニウム、アルミナ、所定の繊維（例えば、テフロン、ナイロン（米国デュポン社の登録商標）、ポリエステルなど）が最も好ましい。
【００３５】
多孔質体５１の作成方法は、上述した厚みや形状を有するものとすることができるのであれば、特に限定されるものではない。
【００３６】
好ましい作成方法の一例として、例えば、量産のために、広い面積にわたって細孔ピッチを制御しながら作成する方法、具体的には、例えば、化学反応において、イオンや分子の拡散及び輸送が関わる自己組織化反応を制御することで多孔質体５１を作成する方法が挙げられる。この自己組織化によって規則的細孔配列を持つ多孔質体５１（多孔性ナノ構造体、多孔質膜）を作成する方法としては、下記に示すような公知の技術を応用することができる。
公知の技術としては、例えば、（１）陽極電解酸化によって作成される陽極酸化アルミナ（例えば、Science,268,1466(1995)）、（２）ダイヤモンドフィルム上にポーラスアルミナ膜を鋳型として置いてプラズマエッチングを行い、その後、ソフトエッチング（例えば、リン酸によるソフトエッチング等）によりポーラスアルミナ膜を溶かすことによって作成されるダイヤモンド多孔性ナノ構造体（例えば、Advanced Materials,12,444(2000)）、（３）転写によって作成される金属多孔性構造体（例えば、特開平６−２００３７８号公報）、（４）スパッタリング法によって基板上にアルミニウムシリコン混合膜を成膜し、混合膜中のアルミニウム領域（アルミニウムを含む柱状構造体領域）のみを選択的にエッチング（エッチング法としては、アルミニウムのみを選択的に溶解する酸やアルカリを用いたウエットエッチングが好ましい。）することによって作成されるシリコン多孔質膜（例えば、特開平８−１８６２４５号公報）、（５）自己組織化により作製した陽極酸化アルミナを用いて、細孔の凹凸構造をポリメタクリル酸メチルなどの重合体に一度転写した後、転写体上にゾルゲル反応などにより無機金属酸化物の層を形成させることによって作成される各種材料からなる多孔性ナノ構造体（例えば、特開平６−３２６７５号公報）、（６）ブロック共重合体を利用して、数十ナノメートル間隔で膜方向に垂直に配向したミクロ相分離構造を形成することによりミクロ相分離構造膜を作成し、例えばシリンダー部分を溶解することによって作成される多孔質膜（例えば、特開２００４−１２４０８８号公報、特開２００５−３１４５２６号公報）、（７）高分子、金属、プラスチックなどに選択的エッチングにより細孔を形成することによって作成される多孔質膜、若しくは、作成された多孔質膜を鋳型として用い、他の高分子、金属、プラスチックなどに転写することによって作成される多孔質膜、などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００３７】
また、好ましい作成方法の一例として、例えば、スクリーン印刷法やホトリソグラフィー法を用いて、適宜、格子状などに形成された多孔質体５１を作成する方法が挙げられる。
【００３８】
スクリーン印刷法による場合は、細孔５１ａ，５１ａ同士の間の距離に制限（およそ３０μｍ以上）があるとともに、開孔率に制限があるが、上述した厚みや形状を有する多孔質体５１を作成することができる。
好ましい材料としては、エレクトロクロミック組成物５２は極性溶剤を必須成分としていることから、その極性溶剤に対して耐性のあるものが良く、例えば、ガラスペーストや極性溶剤耐性のある熱硬化性樹脂などを用いることができる。ガラスペーストとしては、例えば、旭硝子株式会社製ＡＰ誘電体ペーストＡＰ５３４６Ｇ，ＡＰ５６９５ＢＤ、日本電気硝子株式会社製ガラスペーストＰＬＳ−３１２４、日本電気硝子株式会社製粉末ガラスＬＳ−０２４１などが挙げられるが、これに限定されるものではない。極性溶剤耐性のある熱硬化性樹脂としては、例えば、１液性のエポキシ樹脂（具体的には、例えば、株式会社スリーボンド製スリーボンド２２００シリーズのうち、２２１７，２２１７Ｂ，２２１９Ｄなど）などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００３９】
ホトリソグラフィー法による場合は、微細な構造を有する多孔質体５１を作成することができる。
好ましい材料としては、上述のとおり極性溶剤に対して耐性のあるものが良く、具体的には、例えば、アスペクト比の高い多孔質体５１を、１回露光で得ることができる東京応化工業株式会社製ＭＥＭＳ用永久レジストＴＭＭＲＳ−２０００などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４０】
また、多孔質体５１は、上述した厚みや形状を有するものであれば、市販のものであっても良い。市販の多孔質体５１としては、例えば、Whatman社製アノディスクメンブレンフィルタとして入手できる酸化アルミによるメンブレンフィルタ（厚み：６０μｍ、孔径：０．２μｍ，０．１μｍ，０．０２μｍ）、ミリポア社製オム二ポアメンブレン（厚み：８０μｍ，１００μｍ、孔径：０．１μｍ，０．２μｍ，０．４５μｍ，１．０μｍ，５μｍ，１０μｍ）、ミリポア社製ナイロンネットフィルタ（厚み：５５μｍ、目開き（糸と糸との間の隙間の大きさ）：１１μｍ，２０μｍ，４１μｍ，６０μｍ，８０μｍ）、ミリポア社製アイソポアメンブレン（厚み：１０μｍ、孔径：０．０５μｍ，０．１μｍ，０．２２μｍ，０．４μｍ，０．６μｍ，０．８μｍ，１．２μｍ，２μｍ，３μｍ，５μｍ，８μｍ，１０μｍ，１２μｍ）、日東電工株式会社製超高分子量ポリエチレン多孔質フィルムサンマップ（厚み：１００μｍ，２００μｍ、孔径：１７μｍ）、Sefar Inc.製ＮＹＴＡＬ（ナイロンメッシュクロス）ＮＹ−２０ＨＣ（厚み５５μｍ、目開き：２０μｍ），２１Ｔ−５３（厚み１００μｍ、目開き：53μｍ），ＡＳＴＭ２７０−５３（厚み６０μｍ、目開き：５３μｍ），ＮＹ５−ＨＣ（厚み１００μｍ、目開き：５μｍ），ＮＹ１−ＨＤ（厚み７５μｍ、目開き：１μｍ）、Sefa Inc.製ＰＥＴＥＸ（ポリエステルメッシュクロス）ＰＥＴ５１ＨＣ（厚み６０μｍ、目開き：５１μｍ），ＰＥＴ２４（厚み７０μｍ、目開き：２４μｍ），ＰＥＴ１１ＨＣ（厚み６０μｍ、目開き：１１μｍ）などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４１】
エレクトロクロミック組成物５２は、必須成分として、ロイコ染料５２ａと、一般式が下記の式（１）で表される化合物と、支持電解質と、極性溶剤とを含んでいる。
エレクトロクロミック組成物５２に添加する成分としては、例えば、一般式が下記の式（２）及び／又は一般式が下記の式（３）で表される化合物などが挙げられる。これらの化合物は、エレクトロクロミック表示デバイス１００において、さらに良好な表示を行うために、適宜添加することができる。
また、エレクトロクロミック組成物５２に添加する成分としては、例えば、エレクトロクロミック組成物５２の物性（例えば、増粘など）を調整するためのポリマー化合物なども挙げられる。
【化１】
2009048072.tif 000003
【００４２】
ここで、式（１）中のＭ１は、周期律表１５族の元素であって、窒素を含まない。式（１）中のＲ１、Ｒ２及びＲ３は、置換基を有するアリル基又は置換基を有さないアリル基であって、互いに同一でも異なっていても良い。
式（２）中のＲ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基及びアルコキシカルボニル基の中から選択される基を表す。ただし、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、すべてが同時に水素原子であることはない。隣り合うＲ４とＲ５は、互いに縮合し、５員又は６員の縮合環を形成しても良い。隣り合うＲ６とＲ７は、互いに縮合し、５員又は６員の縮合環を形成しても良い。
式（３）中のＲ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、すべてが同時に水素原子であることはない。隣り合うＲ８とＲ９及び隣り合うＲ１０とＲ１１は、一方又は両方が５員又は６員の縮合環を形成する。隣り合うＲ８とＲ９及び隣り合うＲ１０とＲ１１の一方が縮合環を形成する場合は、他方の２つの基は、共に水素原子である。
【００４３】
エレクトロクロミック組成物５２は、エレクトロクロミック表示デバイス１００の表示にかかる発色及び消色の機能を有する。
具体的には、エレクトロクロミック組成物５２は、第１電極２０…と第２電極４０…との間に通電することによって発色し、発色のための通電とは逆方向の電流を供給することによって、又は、発色のための通電を遮断することによって消色する。
エレクトロクロミック組成物５２は、流動性があれば良く、例えば、低粘度の液体状であっても良いし、高粘度のペースト状であっても良いし、流動性の小さいゲル状であっても良い。
【００４４】
エレクトロクロミック組成物５２の必須成分であるロイコ染料５２ａは、無色又は淡色の電子供与性染料であり、フェノール性化合物などの顕色剤、酸性物質、電子受容性物質によって発色する化合物である。
ロイコ染料５２ａとしては、例えば、部分骨格にラクトン、ラクタム、スルトン、スピロピラン、エステル又はアミド構造を有する実用上無色となり得る化合物などが挙げられる。具体的には、例えば、トリアリルメタン化合物、ビスフェニルメタン化合物、キサンテン化合物、フルオラン化合物、チアジン化合物、スピロピラン化合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４５】
ロイコ染料５２ａは、前記化合物の中から適宜選択することによって、各種カラーの発色を行うことができる。したがって、ロイコ染料５２ａを用いたエレクトロクロミック表示デバイス１００の表示色は、ロイコ染料５２ａによって適宜選択することができる。具体的には、例えば、ブラックに発色するロイコ染料５２ａを用いる場合は、白黒及びグレー表示が可能となる。
【００４６】
ロイコ染料５２ａの配合量は、ロイコ染料５２ａの溶解度に依存するため、一概に表すことは難しいが、ロイコ染料５２ａは、発色のために充分な量が配合されている必要がある。溶解度が小さいロイコ染料５２ａの場合は、必要な量が含まれるように、例えば、各画素６０に対応するエレクトロクロミック組成物層５０（多孔質体５１）の体積を大きくするなどして、ロイコ染料５２ａの配合量を調節すると良い。
例えば、ロイコ染料５２ａが下記の式（１４）で表される化合物、下記の式（１５）で表される化合物及び下記の式（４）で表される化合物であれば、配合量は、エレクトロクロミック組成物５２全体に対して３〜２０重量％とすることができる。
【００４７】
以下に、ロイコ染料５２ａの例を、その発色によって分類して示すが、これらは例示であり、ロイコ染料５２ａを限定するものではない。
【００４８】
下記の式（４）及び式（５）は、イエローに発色するロイコ染料５２ａである。
【化２】
2009048072.tif 000004
【００４９】
下記の式（６）〜式（８）は、マゼンダに発色するロイコ染料５２ａである。
【化３】
2009048072.tif 000005
【００５０】
下記の式（９）〜式（１２）は、シアンに発色するロイコ染料５２ａである。
【化４】
2009048072.tif 000006
【００５１】
下記の式（１３）及び式（１４）は、レッドに発色するロイコ染料５２ａである。
【化５】
2009048072.tif 000007
【００５２】
下記の式（１５）は、ブルーに発色するロイコ染料５２ａである。
【化６】
2009048072.tif 000008
【００５３】
下記の式（１６）及び式（１７）は、ブラックに発色するロイコ染料５２ａである。
【化７】
2009048072.tif 000009
【００５４】
エレクトロクロミック組成物５２の必須成分である一般式が式（１）で表される化合物は、ロイコ染料５２ａの発色、消色の繰り返し動作に伴うエレクトロクロミック表示デバイス１００の表示品質の劣化を抑制する機能を有する。
一般式が式（１）で表される化合物は、ロイコ染料５２ａの含有量に対して、１〜５０重量％となるように添加することが好ましく、前記劣化抑制機能の十分な発現のためには、１０〜５０重量％となるように添加することがより好ましい。
【００５５】
以下に、一般式が式（１）で表される化合物の例を示すが、これらは例示であり、一般式が式（１）で表される化合物を限定するものではない。なお、一般式が式（１）で表される化合物は、各化合物を単独で用いても、複数を混合して用いても良い。
【００５６】
一般式が式（１）で表される化合物の一例として、トリフェニルホスフィンの化学式を、式（１８）に示す。
【化８】
2009048072.tif 000010
【００５７】
一般式が式（１）で表される化合物の一例として、トリオルトトリルホスフィンの化学式を、下記の式（１９）に示す。
【化９】
2009048072.tif 000011
【００５８】
一般式が式（１）で表される化合物の一例として、トリフェニルアンチモンの化学式を、下記の式（２０）に示す。
【化１０】
2009048072.tif 000012
【００５９】
一般式が式（１）で表される化合物の一例として、トリフェニルアーシンの化学式を、下記の式（２１）に示す。
【化１１】
2009048072.tif 000013
【００６０】
一般式が式（１）で表される化合物の一例として、トリフェニルビスマスの化学式を、下記の式（２２）に示す。
【化１２】
2009048072.tif 000014
【００６１】
エレクトロクロミック組成物５２の必須成分である支持電解質は、エレクトロクロミック組成物５２内を電流が流れ易くするための機能を有する。支持電解質は、一般に溶融塩と称する化合物を含む。支持電解質は、各化合物を単独で用いても、複数を混合して用いても良い。
支持電解質は、エレクトロクロミック組成物５２全体の重量に対して、０．０１〜２重量％となるように添加することが好ましく、前記機能の十分な発現のためには、０．１〜２重量％となるように添加することがより好ましい。
【００６２】
具体的には、支持電解質は、特に限定されるものではなく、例えば、一般式が“Ｍ２Ｘ１”又は“（Ｒ４）ｎ（Ｒ５）ｍＮＸ２”で表される化合物である。
ここで、“Ｍ２Ｘ１”中のＭ２は、元素Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ又は化合物ＮＨ４の何れかであり、Ｘ１は、化合物ＣｌＯ４、ＢＦ４、ＣＦ３ＳＯ３又はＰＦ６の何れかである。
また、“（Ｒ４）ｎ（Ｒ５）ｍＮＸ２”中のＲ４は、アルキル基又はアリル基であり、Ｒ５は、アルキル基である。Ｒ４がアルキル基のときは、Ｒ４及びＲ５は同一であっても良い。Ｎは、窒素を表し、Ｘ２は、元素Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、化合物ＣｌＯ４、ＢＦ４、ＣＦ３ＳＯ３、ＰＦ６を表す。ｎは、０、１又は２であり、ｍは、４−ｎの関係を有する。
【００６３】
一般式が“Ｍ２Ｘ１”で表される化合物の具体例としては、例えば、ＮａＣｌＯ４、ＬｉＣｌＯ４、ＫＣｌＯ４、ＲｂＣｌＯ４、ＣｓＣｌＯ４、ＮＨ４ＣｌＯ４、ＬｉＢＦ４、ＬｉＰＦ６などが挙げられる。
また、一般式が“（Ｒ４）ｎ（Ｒ５）ｍＮＸ２”で表される化合物の具体例としては、例えば、（ＣＨ３）４ＮＣｌＯ４、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＣｌＯ４、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＣｌＯ４、（ＣＨ３）４ＮＢＦ４、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＢＦ４、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＢＦ４、（ＣＨ３）４ＮＣｌ、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＣｌ、（ＣＨ３）４ＮＢｒ、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＢｒ、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＢｒ、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＩ、Ｃ６Ｈ５（ＣＨ３）３ＮＣｌＯ４、Ｃ６Ｈ５（Ｃ２Ｈ５）３ＮＣｌＯ４、Ｃ８Ｈ１７（ＣＨ３）３ＮＣｌＯ４、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＰＦ６、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）４ＮＰＦ６、（ＣＨ３）４ＮＣＦ３ＳＯ３、（Ｃ２Ｈ５）４ＮＣＦ３ＳＯ３などが挙げられる。
【００６４】
エレクトロクロミック組成物５２の必須成分である極性溶剤は、ロイコ染料５２ａの消色を、電圧及び／又は電流の遮断によって行うことができるようにする機能を有する。また、極性溶剤は、エレクトロクロミック組成物５２にポリマー化合物を添加する場合に、そのポリマー化合物の溶剤としての機能も果たす。極性溶剤は、各種を単独で用いても良いし、適宜２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【００６５】
以下に、好適な極性溶剤の例を示すが、これらは例示であり、極性溶剤を限定するものではない。
極性溶剤の具体例としては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピレンカーボネート、ジメチルスルフォキシド、γ-ブチロラクトン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルなどが挙げられる。例示した極性溶剤は、何れもエレクトロクロミック組成物５２の必須成分として用いる極性溶剤として好ましいものであるが、特に好ましいものとしてＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが挙げられる。
【００６６】
エレクトロクロミック組成物５２には、一般式が式（２）で表される化合物及び／又は一般式が式（３）で表される化合物を添加することができる。これらの化合物は、ロイコ染料５２ａの発色、消色の繰り返し動作に伴うエレクトロクロミック表示デバイス１００の表示品質の劣化をさらに抑制する機能を有する。一般式が式（２）で表される化合物は、各種を単独で用いても良いし、適宜２種類以上を組み合わせて用いても良い。また、一般式が式（３）で表される化合物は、各種を単独で用いても良いし、適宜２種類以上を組み合わせて用いても良い。
これらの化合物の添加量は、ロイコ染料５２ａの含有量に対して、１〜２０重量％とすることが好ましく、前記機能の十分な発現のためには、５〜２０重量％とすることがより好ましい。
【００６７】
以下に、一般式が式（２）で表される化合物及び一般式が式（３）で表される化合物の例を示すが、これらは例示であり、これらの化合物を限定するものではない。
一般式が式（２）で表される化合物を、下記の式（２３）〜式（３４）に示すとともに、一般式が式（３）で表される化合物を、下記の式（３５）及び式（３６）に示す。
【化１３】
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2009048072.tif 000017
【００６８】
エレクトロクロミック組成物５２には、ポリマー化合物を添加することができる。ポリマー化合物は、エレクトロクロミック組成物５２の粘度を高め、その取り扱いを容易にする機能を有する。ポリマー化合物は、各種を単独で用いても良いし、適宜２種類以上を組み合わせて用いても良い。
ポリマー化合物は、エレクトロクロミック組成物５２の粘度を高めるために用いるが、この場合のエレクトロクロミック組成物５２の性状は、低粘度の液体状、高粘度のペースト状、流動性の小さいゲル状、とすることができる。
ポリマー化合物の好ましい配合量は、エレクトロクロミック組成物５２全体の重量に対して、０．１〜８０重量％とすることが好ましい。
【００６９】
以下に、好適なポリマー化合物の例を示すが、これらは例示であり、ポリマー化合物を限定するものではない。
ポリマー化合物の具体例としては、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレンオキサイド等のポリアルキレンオキサイド、又は、ポリアルキレンイミン、ポリアルキレンスルフィドの繰返し単位を有する高分子、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポリビニルブチラールのごときポリビニルホルマールなどが挙げられる。特に好ましいものとしては、ポリビニルブチラール、ポリフッ化ビニリデンが挙げられる。
【００７０】
以上に説明したエレクトロクロミック組成物５２は、一例であり、その他にも電気化学的な発色が可能な組成物であれば、これを多孔質体５１に含ませたものをエレクトロクロミック組成物層５０として用いることが可能であり、例えば、フタル酸エステル系の化合物（例えば、特開２００６−７１７６５号公報）などを用いることも可能である。
【００７１】
＜エレクトロクロミック表示デバイスの製造方法＞
エレクトロクロミック表示デバイス１００の製造方法は、以下の［１］〜［６］の工程を含む。
【００７２】
［１］第１基板準備工程
第１基板準備工程は、第１基板１０を準備する工程である。
【００７３】
［２］第１の蒸着工程
第１の蒸着工程は、第１基板１０の片方の面に第１電極２０…を設ける工程である。第１電極２０…は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法などによって成膜され、次いで、フォトリソグラフ法によってパターニングされ、次いで、エッチング法によって縞状に形成される。
【００７４】
［３］第２基板準備工程
第２基板準備工程は、第２基板３０を準備する工程である。
【００７５】
［４］第２の蒸着工程
第２の蒸着工程は、第２基板３０の片方の面に第２電極４０…を設ける工程である。第２電極４０…は、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法によって成膜され、次いで、フォトリソグラフ法によってパターニングされ、次いで、エッチング法によって形成される。
【００７６】
［５］多孔質体設置工程
多孔質体設置工程は、第１電極２０…が形成された第１基板１０と、第２電極４０…が形成された第２基板２０と、の間に多孔質体５１を設置する工程である。
具体的には、例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０と、第２電極４０…が形成された第２基板２０と、の間に、前述の材料（例えば、ミリポア社製ナイロンネットフィルタ（厚み：５５μｍ、目開き：１１μｍ））を挟みこむことによって、多孔質体５１を設置する。
或いは、例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０及び／又は第２電極４０…が形成された第２基板２０における電極が形成された面に、ガラスペースト（例えば、日本電気硝子株式会社製ガラスペーストＰＬＳ−３１２４）などをスクリーン印刷することによって、多孔質体５１を設置する。
或いは、例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０及び／又は第２電極４０…が形成された第２基板２０における電極が形成された面に、例えば、東京応化工業株式会社製ＭＥＭＳ用永久レジストＴＭＭＲＳ−２０００をスピナーなどによって付与し、次いで、所定のマスクを用いて、ホトリソグラフィー法によりパターン状に立体成形することによって多孔質体５１を形成し、設置する。
【００７７】
［６］貼りあわせ工程
貼りあわせ工程は、第１電極２０…が形成された第１基板１０と、第２電極４０…が形成された第２基板２０と、を電極を内側にして貼りあわせ、エレクトロクロミック組成物５２を封入する工程である。
具体的には、例えば、エレクトロクロミック組成物５２を多孔質体５１に浸み込ませてエレクトロクロミック組成物層５０を形成させ、このエレクトロクロミック組成物層５０の両面に、第１電極２０…が形成された第１基板１０と、第２電極４０…が形成された第２基板２０と、を貼りあわせる。
或いは、例えば、一方の基板（例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０）に設置された多孔質体５１にエレクトロクロミック組成物５２を浸み込ませてエレクトロクロミック組成物層５０を形成させ、このエレクトロクロミック組成物層５０に他方の基板（例えば、第２電極４０…が形成された第２基板３０）を貼りあわせる。
或いは、例えば、第１電極２０…が形成された第１基板１０と、第２電極４０…が形成された第２基板２０と、を多孔質体５１が設置された状態で貼りあわせ、多孔質体５１が設置された２枚の基板間の空隙に、ガラスキャピラリなどを別途あらかじめ形成しておき、エレクトロクロミック組成物５２を、そのガラスキャピラリを用いて多孔質体５１内へと吸引することによって封入する。
【００７８】
＜エレクトロクロミック表示デバイスの駆動方法＞
エレクトロクロミック表示デバイス１００は、例えば、パッシブマトリックス駆動によって、以下に述べるように駆動される。
【００７９】
エレクトロクロミック表示デバイス１００の各画素６０は、第１電極２０…と第２電極４０…とによって挟まれたエレクトロクロミック組成物層５０によって構成される。
エレクトロクロミック表示デバイス１００の発色は、第１電極２０…と第２電極４０…との間に通電することによってエレクトロクロミック組成物５２に通電すると、エレクトロクロミック組成物層５０と第２電極４０…との界面にてエレクトロクロミック組成物５２が電気化学的な変化を起こすことによって行われる。また、エレクトロクロミック表示デバイス１００の消色は、発色のための通電とは逆極性の通電によって、或いは、発色のための通電を遮断して放置することによって行われる。エレクトロクロミック表示デバイス１００の発色濃度は、通電する電気量によって任意に調節することができる。さらに、通電は、電流の連続的な供給によっても、電流の間欠的な供給によっても可能である。電流の間欠的な供給とは、例えば、パルスによる駆動を指す。一方、エレクトロクロミック表示デバイス１００の発色は、通電の遮断によって消色するが、電子ペーパーとして利用する場合には、発色を維持する必要がある。エレクトロクロミック表示デバイス１００の発色の維持は、例えば、表示のために印加した電流よりも小さい電流の供給によって行うことができる。連続的な電流の供給であれば、発色の維持は、電圧又は電流を発色時の半分以下にして行うことができる。また、間欠的な電流の供給、すなわち、パルス駆動であれば、発色の維持は、例えば、通電期間を発色時よりも短くしたり、パルスの強度、幅、又は間隔を発色時よりも小さくしたりして行うことができる。
【００８０】
ここで、エレクトロクロミック組成物５２を多孔質体５１の細孔５１ａ…に導入すると、表示デバイスは、表示のメモリ性を有する。
従来、ロイコ染料５２ａを用いた表示デバイスは、基本的にメモリ性を有しないことが知られている。具体的には、例えば、ロイコ染料５２ａは、通電によって、第２電極４０の表面の表示領域へと移動して発色し、通電を遮断することによって、第２電極４０の表面から離脱して消色する。したがって、従来の表示デバイスにおける表示動作、すなわち、多孔質体５１を利用しない表示デバイスにおける表示動作は、（１）通電により表示→（２）表示のための通電量よりも小さな通電量を連続通電することにより表示を維持→（３）通電を遮断により表示を消去、というプロセスを経ていた。
【００８１】
これに対して、本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００においては、上述した従来の表示動作（２）のように、表示維持のための通電を行わなくても、一定期間、表示が維持される。具体的には、エレクトロクロミック組成物５２を多孔質体５１に含浸して、多孔質体５１の細孔５１ａ…内にエレクトロクロミック組成物５２を導入した場合、エレクトロクロミック組成物５２中のロイコ染料５２ａは、例えば、図３に示すように、通電によって、多孔質体５１の細孔５１ａ…内からエレクトロクロミック組成物層５０と第２電極４０との界面の表示領域へと移動して発色し、通電の遮断によって、エレクトロクロミック組成物層５０と第２電極４０との界面から多孔質体５１の細孔５１ａ…内へと移動して消色する。したがって、本発明のロイコ染料５２ａによる第２電極４０の表面からの離脱は、ロイコ染料５２ａが多孔質体５１の細孔５１ａ…内へと移動しないと達成できないため、本発明のロイコ染料５２ａは、多孔質体５１を利用しない表示デバイスのロイコ染料５２ａと比較して、第２電極４０の表面からの離脱に時間がかかる。これにより、本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００においては、表示後、通電遮断後も、ロイコ染料５２ａは、一定期間、第２電極４０の表面に留まることとなって、一定期間、表示された画像の表示が維持されることになる。
【００８２】
したがって、本発明においては、長期間にわたって表示の維持を行いたい場合にのみ、表示維持のための通電を行えば良く、また、通電の遮断後、直ちに表示の消去を行いたい場合は、表示のための通電とは逆極性の通電を行うことにより達成できる。
なお、メモリ性をさらに向上させるためには、多孔質体５１の細孔５１ａ…の孔径を小さくする手法が有効であるが、多孔質体５１の仕様は、上述したように表示される画像のコントラストや解像力などの目的とする表示性能に応じて、また、表示維持のための通電の必要度に応じて決定するのが好ましい。
【００８３】
以上説明した本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００によれば、第１基板１０と、第１基板１０の上面に設けられた第１電極２０…と、第１基板１０の上方に第１基板１０に対向して設けられた第２基板３０と、第２基板３０の下面に設けられた第２電極４０…と、第１基板１０と第２基板３０との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層５０と、を備え、第１電極２０…は、並行して延びる複数の電極であるとともに、第２電極４０…は、第１電極２０…と直交する方向に並行して延びる複数の透明電極によりなる透明表示電極であり、第１電極２０…と第２電極４０…とが立体交差する領域に画素６０が形成されており、エレクトロクロミック組成物層５０は、第１基板１０及び第２基板３０に対して略垂直方向に貫通する、画素５０のサイズよりも小さい細孔５１ａ…を有する多孔質体５１と、多孔質体５１の細孔５１ａ…内に導入されたエレクトロクロミック組成物５２と、を備え、エレクトロクロミック組成物５２は、第１電極２０…と第２電極４０…との間に通電すると、エレクトロクロミック組成物層５０と第２電極４０…との界面にて発色するようになっている。
すなわち、エレクトロクロミック組成物５２を多孔質体５１の細孔５１ａ…内に導入するだけで、緻密で煩雑な工程を経て形成される隔壁を備えなくても、画素６０，６０間のクロストークを抑えることができる。さらに、多孔質体５１に形成された細孔５１ａ…は、第１基板１０及び第２基板３０に対して略垂直方向に貫通しているため、細孔がランダムに形成された多孔質体を使用する場合と比較して、解像力やコントラストが高くなり、簡易な構成で、高い表示性能を有することができる。
【００８４】
また、本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００によれば、多孔質体５１は、少なくとも一部が、陽極酸化アルミナにより構成されているため、細孔５１ａ…の配向を確実に制御することができる。
【００８５】
また、本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００によれば、多孔質体５１は、少なくとも一部が、所定の繊維（例えば、テフロン、ナイロン（米国デュポン社の登録商標）、ポリエステルなど）を網目状に配して形成したフィルタにより構成されているため、確実に細孔５１ａ…の配向を制御することができる。さらに、当該フィルタは柔軟な多孔質体５１であるため、フレキシブルな基板で第１基板１０及び第２電極３０を構成するとともに、フレキシブルな電極で第１電極２０及び第２基板３０を構成することによって、エレクトロクロミック表示デバイス１００のフレキシブル化を実現できる。
【００８６】
また、本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００によれば、エレクトロクロミック組成物５２を多孔質体５１に含浸してエレクトロクロミック組成物５２を多孔質体５１の細孔内の導入したため、メモリ性が付与されることとなって、表示維持のための通電量（電流量）を大幅に減少することができる。
【００８７】
なお、本発明は、上記した実施の形態のものに限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【００８８】
（変形例１）
本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００は、第１電極２０…と第２電極４０…との間に通電することによって、多孔質体５１の細孔５１ａ内に導入されたエレクトロクロミック組成物５２に通電することができれば良く、例えば、図４に示す、エレクトロクロミック表示デバイス１００Ａのように、多孔質体５１の細孔５１ａ…の底部を閉じる導電性部材５３Ａを備えていても良い。
【００８９】
具体的には、エレクトロクロミック表示デバイス１００Ａは、例えば、第１基板１０と、第１電極２０…と、第２基板３０と、第２電極４０…と、第１基板１０と第２基板３０との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層５０Ａと、を備えて構成される。
【００９０】
エレクトロクロミック組成物層５０Ａは、例えば、多孔質体５１と、多孔質体５１の細孔５１ａ内に導入されたエレクトロクロミック組成物５２と、多孔質体５１の細孔５１ａの底部を閉じる導電性部材５３Ａと、を備えて構成される。
【００９１】
導電性部材５３Ａは、例えば、平面状に形成されており、導電性部材５３Ａの上面には多孔質体５１が積層されている。
【００９２】
導電性部材５３Ａの材質は、特に限定されるものではなく、例えば、導電性の金属や炭素材料などを用いることができる。また、導電性部材５３Ａは、例えば、単独の材料からなる１つの層により構成されていても良いし、互いに異なる材料からなる２つ以上の層により構成されていても良い。
【００９３】
変形例１のエレクトロクロミック表示デバイス１００によれば、エレクトロクロミック組成物層５０Ａは、第１基板１０及び第２基板３０に対して略垂直方向に貫通する、画素６０のサイズよりも小さい細孔５１ａ…を有する多孔質体５１と、多孔質体５１の細孔５１ａ…内に導入されたエレクトロクロミック組成物５２と、多孔質体５１の細孔５１ａ…の底部を閉じる導電性部材５３Ａと、を備え、エレクトロクロミック組成物５２は、第１電極２０…と第２電極４０…との間に通電すると、エレクトロクロミック組成物層５０Ａと第２電極４０…との界面にて発色するようになっている。
すなわち、エレクトロクロミック組成物５２を多孔質体５１の細孔５１ａ…内に導入するだけで、緻密で煩雑な工程を経て形成される隔壁を備えなくても、画素６０，６０間のクロストークを抑えることができる。さらに、多孔質体５１に形成された細孔５１ａ…は、第１基板１０及び第２基板３０に対して略垂直方向に貫通しているため、細孔がランダムに形成された多孔質体を使用する場合と比較して、解像力やコントラストが高くなり、簡易な構成で、高い表示性能を有することができる。
【００９４】
（変形例２）
本発明のエレクトロクロミック表示デバイス１００は、第１電極２０…と第２電極４０…との間に通電することによって、多孔質体５１の細孔５１ａ内に導入されたエレクトロクロミック組成物５２に通電することができれば良く、第１電極２０…と第２電極４０…は、例えば、図５に示す、エレクトロクロミック表示デバイス１００Ｂの第１電極２０Ｂ…と第２電極４０Ｂ…であっても良い。
【００９５】
具体的には、エレクトロクロミック表示デバイス１００Ｂは、例えば、第１基板１０と、第１電極２０Ｂ…と、第２基板３０と、第２電極４０Ｂ…と、第１基板１０と第２基板３０との間に設けられたエレクトロクロミック組成物層５０と、を備えて構成される。
【００９６】
第１電極２０Ｂ…は、例えば、ライン状に形成されており、互いに平行な等間隔の縞状に設けられている。
第１電極２０Ｂ…は、エレクトロクロミック組成物層５０に接するように、且つ、第２電極４０Ｂ…に対向してエレクトロクロミック組成物層５０を挟むように、第１基板１０の上面に設けられている。
第１電極２０Ｂ…は、第２電極４０Ｂ…と対になり、エレクトロクロミック組成物層５０に通電する機能を有する。
第１電極２０Ｂ…は、第２電極４０Ｂ…の透明表示電極部４１Ｂと立体交差、すなわち、間隔を有して交差し、その交点の領域に画素６０を形成している。
【００９７】
第１電極２０Ｂ…の材質は、特に限定されるものではなく、金属電極を構成する材質や透明電極を構成する材質を用いることができる。金属電極を構成する材質としては、例えば、金、白金、銀、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銅、ニッケル、これらの合金などが挙げられる。また、透明電極を構成する材質としては、例えば、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＦＴＯなどが挙げられる。
【００９８】
第２電極４０Ｂ…は、例えば、画素６０…に対応する位置に設けられた透明表示電極部４１Ｂ…と、ライン状に形成されており、互いに平行な等間隔の縞状に設けられたライン状電極部４２Ｂ…と、などを備えて構成される。透明表示電極部４１Ｂ…は、ライン状電極部４２Ｂと接続されている。
第２電極４０Ｂ…は、エレクトロクロミック組成物層５０に接するように、且つ、第１電極２０Ｂ…に対向してエレクトロクロミック組成物層５０を挟むように、第２基板３０の下面に設けられている。
第２電極４０Ｂ…は、第１電極２０Ｂ…と対になり、エレクトロクロミック組成物層５０に通電する機能を有する。
第２電極４０Ｂ…の透明表示電極４１Ｂ…は、第１電極２０Ｂ…と立体交差、すなわち、間隔を有して交差し、その交点の領域に画素６０を形成している。
【００９９】
透明表示電極部４１Ｂ…の材質は、透明電極を構成可能な材質であれば、特に限定されるものではない。透明電極を構成可能な材質としては、例えば、ＩＴＯ膜やＳｎＯ２又はＩｎＯ２をコーティングした薄膜などが挙げられる。また、ＩＴＯ膜やＳｎＯ２又はＩｎＯ２をコーティングした薄膜などにＳｎやＳｂなどをドーピングしたものであっても良く、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＦＴＯなどであっても良い。さらに、透明表示電極部４１Ｂ…は、その材質が金又は白金などであっても薄膜であれば機能を果たすことができる。
【０１００】
ライン状電極部４２Ｂ…の材質は、特に限定されるものではなく、金属電極を構成する材質や透明電極を構成する材質を用いることができる。金属電極を構成する材質としては、例えば、金、白金、銀、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銅、ニッケル、これらの合金などが挙げられる。また、透明電極を構成する材質としては、例えば、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＦＴＯなどが挙げられる。
【０１０１】
なお、第２電極４０Ｂ…は、上述した［４］第２の蒸着工程（第２基板３０の片方の面に第２電極４０Ｂ…を設ける工程）において、公知の蒸着法、メッキ法、スパッタ法によって成膜され、次いで、フォトリソグラフ法によってパターニングされ、次いで、エッチング法によって形成されるが、透明表示電極部４１Ｂ…とライン状電極部４２Ｂ…とは、１回の蒸着法、メッキ法、スパッタ法による成膜によって同時に形成しても良いし、２回の蒸着法、メッキ法、スパッタ法による成膜によって別個に形成しても良い。
【０１０２】
変形例２のエレクトロクロミック表示デバイス１００Ｂによれば、第１電極２０Ｂ…が、ライン状電極であり、第２電極４０Ｂ…が、透明表示電極部４１Ｂ…とライン状電極部４２Ｂ…とにより構成されている。したがって、第２電極４０Ｂ…（透明表示電極部４１Ｂ…）を薄くすることができるため、発色の度合いを向上させることができるとともに、エレクトロクロミック表示デバイス１００の表示の明るさを向上させることができる。また、ライン状の電極（第１電極２０Ｂ…と第２電極４０Ｂ…のライン状電極部４２Ｂ…）に通電することによって、エレクトロクロミック組成物５２に通電することができるため、画素６０，６０間の電位差が小さくなり、省電力化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明のエレクトロクロミック表示デバイスを模式的に示す図である。
【図２】画素のサイズと、多孔質体の細孔のサイズと、の関係を説明するための図である。
【図３】エレクトロクロミック組成物の発色を説明するための図である。
【図４】変形例１のエレクトロクロミック表示デバイスを模式的に示す図である。
【図５】変形例２のエレクトロクロミック表示デバイスを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１０４】
１０  第１基板
２０，２０Ｂ  第１電極
３０  第２基板
４０，４０Ｂ  第２電極
５０，５０Ａ  エレクトロクロミック組成物層
５１  多孔質体
５１ａ  細孔
５２  エレクトロクロミック組成物
５３Ａ  導電性部材
６０  画素
１００，１００Ａ，１００Ｂ  エレクトロクロミック表示デバイス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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