(57)【要約】【課題】装置構成を複雑化することなく、処理液の漏れを回収することができる洗浄装置を提供する。【解決手段】処理液を外部に排出するための排出口７が形成されているチャンバ１と、チャンバ１内で複数枚の基板Ｗを水平面内で回転可能に支持するとともに、各基板Ｗに処理液を供給する管路が形成された回転支持機構１１と、この管路と連通した状態で回転支持機構１１（上部回転軸３１）と摺動可能に接続されて、回転支持機構１１の管路に処理液を供給する供給体４１と、チャンバ１内であって排出口７の上方に設けられ、液供給体４１と回転支持機構１１との接続部位から処理液が漏れることを防止する第１回転シール部４３とを備えている。このように構成される洗浄装置では、第１回転シール部４３から処理液が漏れたとしても、漏れた処理液がチャンバ１の外部に漏れるおそれがない。【選択図】図３
2009026937.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を洗浄する洗浄装置において、
処理液を外部に排出するための排出口が形成されているチャンバと、
前記チャンバ内で複数枚の基板を水平面内で回転可能に支持するとともに、各基板に処理液を供給する管路が形成された回転支持機構と、
前記管路と連通した状態で前記回転支持機構と摺動可能に接続されて、前記管路に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記チャンバ内であって前記排出口の上方に設けられ、前記処理液供給手段と前記回転支持機構との接続部位から処理液が漏れることを防止する処理液供給手段用回転シール部と、
を備えていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の洗浄装置において、
前記回転支持機構はその上部に上部回転軸を有し、
前記処理液供給手段は前記上部回転軸と摺動可能に接続し、
前記上部回転軸の内部には中空部が前記管路として形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項３】
請求項２に記載の洗浄装置において、
前記上部回転軸は前記チャンバを貫通して設けられ、
前記上部回転軸が貫通する部位から前記チャンバ外に処理液が漏れることを防止する上部回転軸用回転シール部をさらに備えていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の洗浄装置において、
前記回転支持機構は、前記チャンバの下部を貫通して、前記チャンバ外に設けられる回転駆動手段と連結されている駆動軸を有し、
前記駆動軸が前記チャンバを貫通する部位から処理液が漏れることを防止する駆動軸用回転シール部をさらに備えていることを特徴とする洗浄装置。  
【請求項５】
請求項１に記載の洗浄装置において、
前記回転支持機構は最上部の基板の上方に天板を有し、
前記処理液供給手段は前記天板と摺動可能に接続し、
前記天板の内部には空洞部が前記管路として形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項６】
請求項１に記載の洗浄装置において、
前記回転支持機構は、前記チャンバの下部を貫通して、前記チャンバ外に設けられる回転駆動手段と連結されている駆動軸を有し、
前記処理液供給手段は前記駆動軸と摺動可能に接続し、
前記駆動軸の内部には中空部が前記管路として形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項７】
請求項６に記載の洗浄装置において、
前記駆動軸が前記チャンバを貫通する部位から処理液が漏れることを防止する駆動軸用回転シール部を備えていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれかに記載の洗浄装置において、
前記チャンバの底部は、流下してくる処理液を受ける平皿形状を呈することを特徴とする洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、太陽電池用のシリコンあるいは化合物半導体、太陽電池用のガラス基板等（以下、単に「基板」と称する）に洗浄やエッチング（以下、単に「洗浄」という）を行う洗浄装置に係り、特に、複数枚の基板を回転させつつ洗浄する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、図７、図８に示すものがある。図７は従来例に係る洗浄装置の斜視図であり、図８は従来例に係る洗浄装置の要部の断面図である。図示するように、チャンバ７１と、チャンバ７１内で基板を縦軸芯Ｐ回りに回転させる回転機構７３とを備えている。回転機構７３は、複数の支柱７７に支持されて基板Ｗ間に配置される雰囲気遮断板７９と、チャンバ７１外に設けられるモータ８１に連結されている駆動軸８３とを有している。各雰囲気遮断板７９には基板Ｗに処理液を吐出する吐出口７９ａ（図８参照）が形成されている。
【０００３】
吐出口７９ａへの処理液の供給は駆動軸８３を介して行う。駆動軸８３の内部には各吐出口７９ａに処理液を供給するための中空部８３ａが形成されるとともに駆動軸８３の側部には、チャンバ７１外の位置で中空部８３ａと連通する注入口８３ｂが形成されている。駆動軸８３はこの注入口８３ｂの位置で、固定的に設置されている処理液供給部８５と摺動自在に接続されている。この接続部位には処理液が外部に漏れることを防止する回転シール部８７が設けられている。なお、駆動軸８３がチャンバ７１を貫通する部位にも別途、回転シール部８９が設けられて、チャンバ７１外に処理液が漏液することが防止されている。
【０００４】
この装置では、回転機構７３が複数の基板Ｗを回転させつつ、各吐出口７９ａから基板Ｗに処理液を供給する。これにより、基板Ｗを好適に処理することができる（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−６６４７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、処理液供給部８５はポンプ等の圧送手段によって処理液を供給するため、回転シール部８７を備えていても回転シール部８７から処理液が漏液するおそれがある。漏液した処理液が回収されなければモータ８１の損傷等の甚大な被害を与える。このため、図８に示すようにチャンバ７１の下方に、回転シール部８７からの漏液を回収する密閉された漏液回収室９１を設けている。また、この漏液回収室９１を駆動軸８３が貫通する部位には回転シール部９３を設けている。結果、チャンバ７１を駆動軸８３が貫通する部位、駆動軸８３と処理液供給部８５とが接続する部位、漏液回収室９１を駆動軸８３が貫通する部位の３箇所に回転シール部８９、８７、９３をそれぞれ設置している。
【０００６】
このような漏液回収室９１や多くの回転シール部を設けることで、装置が大きくなり、コストが上昇するという不都合を招く。また、漏液回収室９１の密閉化により、仮に回転シール部８７以外から漏液したとしても漏液箇所や原因を特定することが困難である。このため、漏液が部品破損などの大きなトラブルなのか、回転シール部の僅か漏液などある程度予定されていた微小なトラブルなのかの判別ができない。このため、漏液があれば大きなトラブルとみなして対応することになり、装置のダウンタイムが長く、稼働率が低い。また、漏液回収室９１の密閉化によりメンテナンスに手間がかかるという問題点がある。
【０００７】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、装置構成を複雑化することなく、処理液の漏れを回収することができる洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板を洗浄する洗浄装置において、処理液を外部に排出するための排出口が形成されているチャンバと、前記チャンバ内で複数枚の基板を水平面内で回転可能に支持するとともに、各基板に処理液を供給する管路が形成された回転支持機構と、前記管路と連通した状態で前記回転支持機構と摺動可能に接続されて、前記管路に処理液を供給する処理液供給手段と、前記チャンバ内であって前記排出口の上方に設けられ、前記処理液供給手段と前記回転支持機構との接続部位から処理液が漏れることを防止する処理液供給手段用回転シール部と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００９】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、処理液供給手段用回転シール部がチャンバ内であって排出口の上方に配置されているので、処理液供給手段用回転シール部から処理液が漏れたとしても、漏れた処理液をチャンバで受け止めてその排出口まで導くことができるので、チャンバの外部に処理液が漏れるおそれがない。よって、処理液供給手段用回転シール部から漏れた処理液を回収するための部材（たとえば漏液回収室等）やそれに装着される回転シール部を別途備えることなく、処理液供給手段用回転シール部から処理液が漏れた場合であっても確実に回収することができる。
【００１０】
また、本発明において、前記回転支持機構はその上部に上部回転軸を有し、前記処理液供給手段は前記上部回転軸と摺動可能に接続し、前記上部回転軸の内部には中空部が前記管路として形成されていることが好ましい（請求項２）。処理液供給手段と接続する上部回転軸は回転支持機構の上部であるため、処理液供給手段用回転シール部をチャンバの上部位置に配置することができる。よって、処理液供給手段用回転シール部から漏れた処理液を確実に排出口で回収できる。
【００１１】
また、本発明において、前記上部回転軸は前記チャンバを貫通して設けられ、前記上部回転軸が貫通する部位から前記チャンバ外に処理液が漏れることを防止する上部回転軸用回転シール部をさらに備えていることが好ましい（請求項３）。チャンバの上部から処理液が漏れることを好適に防止することができる。
【００１２】
また、本発明において、前記回転支持機構は、前記チャンバの下部を貫通して、前記チャンバ外に設けられる回転駆動手段と連結されている駆動軸を有し、前記駆動軸が前記チャンバを貫通する部位から処理液が漏れることを防止する駆動軸用回転シール部をさらに備えていることが好ましい（請求項４）。チャンバの下部から処理液が漏れることを好適に防止することができる。これにより、回転駆動手段を処理液から保護することができる。
【００１３】
また、本発明において、前記回転支持機構は最上部の基板の上方に天板を有し、前記処理液供給手段は前記天板と摺動可能に接続し、前記天板の内部には空洞部が前記管路として形成されていることが好ましい（請求項５）。処理液供給手段と接続する天板は回転支持機構の上部であるため、処理液供給手段用回転シール部をチャンバの上部位置に配置することができる。よって、処理液供給手段用回転シール部から漏れた処理液を確実に排出口で回収できる。
【００１４】
また、本発明において、前記回転支持機構は、前記チャンバの下部を貫通して、前記チャンバ外に設けられる回転駆動手段と連結されている駆動軸を有し、前記処理液供給手段は前記駆動軸と摺動可能に接続し、前記駆動軸の内部には中空部が前記管路として形成されていることが好ましい（請求項６）。駆動軸内に管路を形成して処理液供給手段と駆動軸とを接続した場合であっても、処理液供給手段用回転シール部から漏れた処理液を確実に排出口で回収できる。よって、チャンバの外部（下方）に設けられて、駆動軸と連結される回転駆動手段を好適に保護することができる。
【００１５】
また、本発明において、前記駆動軸が前記チャンバを貫通する部位から処理液が漏れることを防止する駆動軸用回転シール部を備えていることが好ましい（請求項７）。チャンバの下部から処理液が漏れることを好適に防止することができる。よって、回転駆動手段を処理液から保護することができる。
【００１６】
また、本発明において、前記チャンバの底部は、流下してくる処理液を受ける平皿形状を呈することが好ましい（請求項８）。処理液をチャンバの底部で一旦受けることができる。よって、排出口に処理液を円滑に導くことができ、排出口から処理液を円滑に排出することができる。
【００１７】
なお、本明細書は、次のような洗浄装置に係る発明も開示している。
【００１８】
（１）請求項１から請求項８のいずれかに記載の洗浄装置において、前記排出口は前記チャンバの底部に形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【００１９】
前記（１）に記載の発明によれば、処理液供給手段用回転シール部から漏れた処理液をチャンバの排出口に確実に導くことができる。
【００２０】
（２）請求項１から請求項８のいずれかに記載の洗浄装置において、前記排出口は前記チャンバの側方に形成され、横方向に向けて処理液を排出することを特徴とする洗浄装置。
【００２１】
前記（２）に記載の発明によれば、チャンバの下方に配置される機器と干渉することなく排出口に接続される排出ラインを設けることができる。
【００２２】
（３）請求項１から請求項８のいずれかに記載の洗浄装置において、前記管路は基板の両面に処理液を供給可能に形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【００２３】
前記（３）に記載の発明によれば、基板の両面を好適に洗浄することができる。
【００２４】
（４）請求項１から請求項８のいずれかに記載の洗浄装置において、前記回転支持機構には、前記管路に連通する吐出口が形成されており、前記吐出口から基板に処理液が吐出されることを特徴とする洗浄装置。
【００２５】
前記（４）に記載の発明によれば、回転支持機構には吐出口が形成されているので、基板に処理液を好適に供給することができる。
【００２６】
（５）前記（４）に記載の洗浄装置において、前記回転支持機構は、隣接する基板間の雰囲気を遮断するための雰囲気遮断板を各基板の間に備えており、前記吐出口は前記雰囲気遮断板に形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【００２７】
前記（５）に記載の発明によれば、雰囲気遮断板と対向する各基板の表面に処理液を好適に供給することができる。
【００２８】
（６）前記（５）に記載の洗浄装置において、前記吐出口は前記雰囲気遮断板の両面に形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【００２９】
前記（６）に記載の発明によれば、基板の両面に処理を好適に供給することができる。
【００３０】
（７）前記（５）または前記（６）に記載の洗浄装置において、前記雰囲気遮断板の内部には前記吐出口と連通する空洞部が形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【００３１】
前記（７）に記載の発明によれば、雰囲気遮断板内の空洞部は処理液の管路である。このように雰囲気遮断板内に管路を形成することで、別途配管設備を備えるなど装置構成が複雑になることを防止できる。
【００３２】
（８）請求項５に記載の洗浄装置において、前記天板には、前記管路に連通する吐出口が形成されており、前記吐出口から基板に処理液が吐出されることを特徴とする洗浄装置。
【００３３】
前記（８）に記載の発明によれば、最上部の基板に処理液を好適に供給することができる。
【００３４】
（９）請求項１から請求項８のいずれかに記載の洗浄装置において、前記処理液供給手段は、前記チャンバ内であって前記排出口の上方位置で前記回転支持機構と接続し、前記処理液供給手段用回転シール部は、前記処理液供給手段と前記回転支持機構との接続部位に設けられることを特徴とする洗浄装置。
【００３５】
前記（９）に記載の発明によれば、前記処理液供給手段用回転シール部を前記チャンバ内であって前記排出口の上方位置に配置することができる。
【００３６】
（１０）請求項１から請求項８のいずれかに記載の洗浄装置において、前記管路に連通する注入口が前記回転支持機構に形成されており、前記処理液供給手段は、前記注入口を通じて前記管路に処理液を供給可能な状態で前記回転支持機構に接続されていることを特徴とする洗浄装置。
【００３７】
前記（１０）に記載の発明によれば、処理液供給手段と管路とを好適に連通することができる。
【００３８】
（１１）請求項２に記載の洗浄装置において、前記接続部位における前記上部回転軸の表面には、前記上部回転軸内の中空部と連通する注入口が形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【００３９】
前記（１１）に記載の発明によれば、処理液供給手段と管路とを好適に連通することができる。
【００４０】
（１２）請求項５に記載の洗浄装置において、前記接続部位における前記天板の表面には、前記天板内の空洞部と連通する注入口が形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【００４１】
前記（１２）に記載の発明によれば、処理液供給手段と管路とを好適に連通することができる。
【００４２】
（１３）請求項６に記載の洗浄装置において、前記接続部位における前記駆動軸の表面には、前記駆動軸内の中空部と連通する注入口が形成されていることを特徴とする洗浄装置。
【００４３】
前記（１３）に記載の発明によれば、処理液供給手段と管路とを好適に連通することができる。  
【００４４】
（１４）請求項２に記載の洗浄装置において、前記上部回転軸は横方向に移動不能に保持されていることを特徴とする洗浄装置。
【００４５】
前記（１４）に記載の発明によれば、回転軸の横方向へのぶれを規制することで、回転支持機構を縦軸芯回りに安定して回転させることができる。
【００４６】
（１５）基板を洗浄する洗浄装置において、処理液を外部に排出するための排出口が形成されているチャンバと、前記チャンバ内で複数枚の基板を水平面内で回転可能に支持するとともに、各基板に処理液を吐出する吐出口および前記吐出口と連通して各基板に吐出する処理液の供給を受けるための注入口がそれぞれ形成されている回転支持機構と、を備え、前記注入口は前記チャンバ内であって前記排出口の上方位置であることを特徴とする洗浄装置。
【００４７】
前記（１５）に記載の発明によれば、回転する注入口がチャンバ内であって排出口の上方に配置されているので、注入口へ処理液を注入する際に処理液が漏れたとしても、漏れた処理液をチャンバで受け止めてその排出口まで導くことができる。このように、漏れた処理液を回収する部材（たとえば漏液回収室等）やそれに装着される回転シール部を別途備えることなく、漏れた処理液を確実に回収することができる。
【００４８】
（１６）前記（１５）に記載の洗浄装置において、前記注入口と連通した状態で前記回転支持機構と摺動可能に接続されて、前記注入口を通じて処理液を供給する処理液供給手段と、前記処理液供給手段と前記回転支持機構との接続部位から処理液が漏れることを防止する処理液供給手段用回転シール部と、を備えることを特徴とする洗浄装置。
【００４９】
前記（１６）に記載の発明によれば、処理液供給手段用回転シール部を備えることで、注入口へ処理液を圧送しても処理液が漏れることを防止できる。
【発明の効果】
【００５０】
この発明に係る洗浄装置によれば、処理液供給手段用回転シール部がチャンバ内であって排出口の上方に配置されているので、処理液供給手段用回転シール部から処理液が漏れたとしても、漏れた処理液をチャンバで受け止めてその排出口まで導くことができる。このように、処理液供給手段用回転シール部から漏れた処理液を回収する部材（たとえば漏液回収室等）やそれに装着される回転シール部を別途備えることなく、漏れた処理液を確実に回収することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
以下、図面を参照してこの発明の実施例を説明する。
図１は実施例に係る洗浄装置の要部の斜視図であり、図２は実施例に係る洗浄装置の概略構成を示す図であり、図３は洗浄装置の垂直断面図であり、図４は雰囲気遮断板を示した断面図である。
【００５２】
この実施例に係る洗浄装置は、チャンバ１とチャンバ１内で複数枚の基板Ｗを水平面内で回転可能に支持する回転支持機構１１を備えている。チャンバ１は縦置きされた略円筒形状を呈する。チャンバ１の下部は内径が漸次小さくなって比較的小径の円筒部に連結している。この小径の円筒部が、円形平皿形状を呈するチャンバ１の底部（以下、「バット部」という）１ａを構成している。このバット部１ａの一側方には、処理液を外部に排出するための排出口７が形成されている。排出口７には、チャンバ１の外部に処理液を排出するための排出ライン（図示省略）が連通接続されている。チャンバ１の側部には複数枚の基板Ｗを同時に搬送可能な大きさの搬送口３ａが形成されている。チャンバ１にはこの搬送口３ａを開閉するための開閉カバー３が取り付けられている。チャンバ１は、開閉カバー３が搬送口３ａを閉塞することで密閉される。チャンバ１の内壁には不活性ガスを噴射する気体供給ノズル５が取り付けられている。不活性ガスとしては窒素ガス（Ｎ２）が例示される。
【００５３】
回転支持機構１１は、電動モータ１３に連結されている駆動軸１５を備えている。電動モータ１３はチャンバ１の外部（下方）に配置されており、駆動軸１５を縦軸芯Ｐ回りに回転させる。駆動軸１５はバット部１ａを貫通してチャンバ１内部に進入している。駆動軸１５の貫通部位には第３回転シール部１７とベアリング１９が設けられている。第３回転シール部１７は駆動軸１５の貫通部位からチャンバ１外に処理液が漏れることを防止する。また、ベアリング１９は駆動軸１５を回転可能に保持する。
【００５４】
駆動軸１５の上端はターンテーブル２１の下面中央に連結されている。ターンテーブル２１の上面外周側には、適当な間隔をあけて３本の支柱２３が設けられている。３本の支柱２３にはそれぞれ溝部２３ａが複数形成されている（図４参照）。この溝部２３ａに基板Ｗを当接することで、３本の支柱２３は複数枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。本実施例では、支柱２３の配置の関係で、支持される基板Ｗの中心は縦軸芯Ｐからずれている。電動モータ１３は、この発明における回転駆動手段に相当する。第３回転シール部１７はこの発明における駆動軸用回転シール部に相当する。
【００５５】
支柱２３には、さらに隣接する基板Ｗ間の雰囲気を遮断するための雰囲気遮断板２５が取り付けられている。雰囲気遮断板２５は基板面と平行となるように、各基板Ｗの間に１枚ずつ配置されている。雰囲気遮断板２５の大きさは、平面視で基板Ｗを覆うことができる程度であることが好ましい。また、雰囲気遮断板２５は基板Ｗに近接して配置されることが好ましい。支柱２３の上端は天板２７の下面外周部に連結されている。天板２７は雰囲気遮断板２５と同形状で、最上部で支持される基板Ｗの上方の雰囲気を遮断している。
【００５６】
天板２７の上面中央部には縦軸芯Ｐを中心とする上部回転軸３１の下端が連結されている。上部回転軸３１はチャンバ１の上部を貫通している。上部回転軸３１の貫通部位には、ベアリング３３と第２回転シール部３５が設けられている。ベアリング３３は、上部回転軸３１を縦軸芯Ｐ回りに回転可能に、かつ、横方向に移動不能に保持する。第２回転シール部３５は、上部回転軸３１の貫通部位からチャンバ１外に処理液が漏れることを防止する。なお、上述した駆動軸１５、ターンテーブル２１、支柱２３、雰囲気遮断板２５、天板２７、上部回転軸３１は回転支持機構１１を構成する。第２回転シール部３５は、この発明における上部回転軸用回転シール部に相当する。
【００５７】
本実施例の回転支持機構１１には基板Ｗに処理液を供給する管路が形成されている。上部回転軸３１の内部には中空部３１ａが形成されている。また、上部回転軸３１の側壁（表面）には中空部３１ａと連通する注入口３１ｂが形成されている。なお、注入口３１ｂの位置はチャンバ１内である。中空部３１ａは上部回転軸３１の下端まで形成されている。
【００５８】
天板２７の内部には上部回転軸３１の中空部３１ａと連通する空洞部２７ａが形成されている。この空洞部２７ａは、一の支柱２３が連結される位置まで形成されている。一の支柱２３の内部にはこの空洞部２７ａと連通する中空部２３ｂが形成されている。支柱２３内の中空部２３ｂは最も下に配置される雰囲気遮断板２５の高さ位置まで形成されている。天板２７内にはさらに、空洞部２７ａとは別個に、支柱２３内の中空部２３ｂと連通する空洞部２７ｂが形成されている。この空洞部２７ｂは天板２７の下面に形成される吐出口２７ｃに連通している。吐出口２７ｃは基板Ｗの略中心に対向する位置に配置されている。
【００５９】
各雰囲気遮断板２５の内部にも、支柱２３の中空部２３ｂと連通する２つの空洞部２５ａ、２５ｂが形成されている。各空洞部２５ａ、２５ｂはそれぞれ雰囲気遮断板２５の上面と下面に形成される吐出口２５ｃ、２５ｄに連通している。これら吐出口２５ｃ、２５ｄは、それぞれ基板Ｗの略中央に対向する位置に配置される。上述した上部回転軸３１内の中空部３１ａと、天板２７内の空洞部２７ａ、２７ｂと、支柱２３内の中空部２３ｂと、各雰囲気遮断板２５内の空洞部２５ａ、２５ｂとは、回転支持機構１１の管路である。そして、この管路は、上部回転軸３１に形成された注入口３１ｂと連通するとともに、雰囲気遮断板２５に形成された吐出口２５ｃ、２５ｄおよび天板２７に形成された吐出口２７ｃにそれぞれ連通する。
【００６０】
一方、上部回転軸３１には、チャンバ１内において、注入口３１ｂを含む周面を囲むように供給体４１が接続されている。上部回転軸３１と供給体４１とは摺動可能に接続されている。この供給体４１は内部に環状の供給路４１ａを有している。このため、上部回転軸３１が摺動回転しても、供給体４１は注入口３１ｂ（回転支持機構１１の管路）と連通した状態を保つことができる。
【００６１】
供給体４１と上部回転軸３１との接続部位には第１回転シール部４３が設けられている。よって、第１回転シール部４３もチャンバ１の内部に位置する。第１回転シール部４３は、上部回転軸３１と供給体４１との接続部位から外部に処理液が漏れることを防止する。第１回転シール部４３は、この発明における処理液供給手段用回転シール部に相当する。
【００６２】
なお、第１回転シール部４３および上述した第２、第３回転シール部３５、１７としては、グランドパッキンやメカニカルシールなどの接触式シールや、磁性流体シールやラビリンシールなどの非接触式シールが例示される。
【００６３】
供給体４１には、処理液配管４５の一端が連結されている。処理液配管４５は固定的に設置されており、チャンバ１を貫通してチャンバ１外部に引き出されている。処理液配管４５の他端側は、２つに分岐されてそれぞれ処理液供給源と不活性ガス供給源に接続されている。処理液供給源が供給する処理液としては純水が例示される。不活性ガス供給源が供給する不活性ガスとしては窒素ガス（Ｎ２）が例示される。分岐された処理液配管４５にはそれぞれ開閉弁４７、４８が設けられて、処理液配管４５および供給体４１に処理液と不活性ガスとを選択的に供給可能に構成されている。この結果、供給体４１は、上部回転軸３１に形成された注入口３１ｂを通じて、回転支持機構１１の管路に処理液を供給と不活性ガスをそれぞれ供給する。供給体４１と処理液配管４５は、この発明における処理液供給手段に相当する。
【００６４】
次に、実施例１に係る洗浄装置の動作について説明する。開閉カバー３によって開放された搬送口３ａを通じて基板Ｗがチャンバ１内に搬入される。回転支持機構１１は搬入された複数枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。基板Ｗをチャンバ１内に搬入すると、開閉カバー３によって搬送口３ａを閉塞する。これによりチャンバ１は密閉される。そして、気体供給ノズル５から不活性ガスを供給させてチャンバ１内を不活性ガス雰囲気にする。
【００６５】
次に、電動モータ１３を駆動して回転支持機構１１を縦軸芯Ｐ回りに回転させる。これにより、複数枚の基板Ｗは縦軸芯Ｐ回りに回転する。続いて、開閉弁４７を開放して処理液供給源から処理液を供給させる。処理液は、供給体４１から注入口３１ｂを通じて管路に供給される。具体的には、処理液は、上部回転軸３１内の中空部３１ａおよび天板２７内の空洞部２７ａを経由して支柱２３内の中空部２３ｂへ流れる。支柱２３内の中空部２３ｂに供給された処理液は、天板２７内の空洞部２７ｂを流れて天板２７の吐出口２７ｃから吐出されるとともに、雰囲気遮断板２５内の各空洞部２５ａ、２５ｂをそれぞれ流れて雰囲気遮断板２５の各吐出口２５ｃ、２５ｄから吐出される。
【００６６】
吐出された処理液は遠心力を受けて基板Ｗの表面、または、雰囲気遮断板２５の表面に沿って水平全方向に広がる。このとき、基板Ｗと雰囲気遮断板２５とは近接しているので、基板Ｗと雰囲気遮断板２５の間は処理液で満たされる。同様に、基板Ｗと天板２７とは近接しているので、基板Ｗと天板２７の間も処理液で満たされる。よって、基板Ｗの上下面が処理液で覆われた液密状態になる。この液密状態において各基板Ｗが洗浄処理される。処理液は、雰囲気遮断板２５の周縁まで達すると、雰囲気遮断板２５等の外周から振り切られて捨てられる。
【００６７】
捨てられた処理液はチャンバ１内を流下し、バット部１ａで受け止められる。バット部１ａで受けられた処理液は排出口７に導かれ、排出口７から横方向へ向けて排出される。これにより、チャンバ１の外部に処理液が捨てられる。また、万が一、第１回転シール部４３から仮に漏液した場合も、チャンバ１内を流下して排出口７に導かれ、排出口７からチャンバ１外へ排出される。
【００６８】
所定の時間が経過すると、開閉弁４７を閉止する。基板Ｗと雰囲気遮断板２５等の間を満たしていた処理液は捨てられ、基板Ｗの周囲は液密状態ではなくなる。このようにして、大まかに基板Ｗの上面および下面から処理液を除去する。
【００６９】
続いて、電動モータ１３の回転数を低下させ、基板Ｗを比較的遅い速度で回転させる。そして、開閉弁４８を開放する。これにより、不活性ガスが供給体４１から回転支持機構１１の管路に供給される。回転支持機構１１の管路に供給された不活性ガスは各吐出口２５ｃ、２５ｄ、２７ｃから基板Ｗに噴射される。これにより、基板Ｗを乾燥する。
【００７０】
所定の時間が経過すると、開閉弁４８を閉止し、電動モータ１３を停止する。これにより、各吐出口２５ｃ、２５ｄ、２７ｃからの不活性ガスの噴射が停止する。また、回転支持機構１１の回転が停止する。そして、気体供給ノズル５からのガス供給を停止させて、開閉カバー３によって搬送口３ａを開放し、基板Ｗをチャンバ１から搬出する。
【００７１】
このように、実施例に係る洗浄装置によれば、第１回転シール部４３をチャンバ１内に設けるとともに、排出口７をチャンバ１の底部に配置することで、第１回転シール部４３はチャンバ１内であって排出口７の上方に位置させることができる。これにより、万が一第１回転シール部４３のシール性能が低下しても、チャンバ１内で漏液することになり、チャンバ１の外部に処理液が漏れることがない。特に、第１回転シール部４３が設けられている上部回転軸３１と供給体４１との接続部位には処理液供給源から圧送されてくる処理液が通じているので、第２、第３回転シール部３５、１７に比べて漏液する可能性が高い。このような第１回転シール部４３をチャンバ１内に設けることで、洗浄装置の信頼性を効果的に向上させることができる。
【００７２】
また、第１回転シール部４３から漏液した処理液をチャンバ１で回収するため、従来技術で説明したように、別途に漏液した処理液を回収する漏液回収室などの部材を備えることを要しない。また、漏液回収室の設置に伴いこの漏液回収室の外部に処理液が漏れることを防止するシール部を別途に設けることも要しない。よって、装置構成を簡略化でき、装置を小型化できる。
【００７３】
また、供給体４１を上部回転軸３１に接続することで、第１回転シール部４３をチャンバ１内の上部位置に配置することができる。よって、仮に第１回転シール部４３から漏液があっても、確実に排出口７で回収できる。また、電動モータ１３と直接連結される駆動軸１５に第１回転シール部４３を設ける場合に比べて、電動モータ１３が処理液によって損傷することをより確実に防止することができる。
【００７４】
また、上部回転軸３１の内部に有する中空部３１ａ等によって、処理液を供給する管路を回転支持機構１１に形成しているので、別途に配管部材を設ける場合に比べて洗浄装置を簡略化でき、小型化できる。
【００７５】
また、上部回転軸３１および駆動軸１５がチャンバ１を貫通する各部位にも第２回転シール部３５、第３回転シール部１７を設置することで、チャンバ１の上部および下部の各貫通部位から外部に処理液が漏れることをそれぞれ確実に防止できる。
【００７６】
また、チャンバ１の底部にバット部１ａを構成することで、流下する処理液を好適に受け止めることができる。
【００７７】
また、上部回転軸３１を横方向に移動不能に保持するベアリング３３を備えているので、回転支持機構１１の回転をより安定して行うことができる。
【００７８】
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００７９】
（１）上述した実施例では、上部回転軸３１に注入口３１ｂを形成し、上部回転軸３１と供給体４１との接続部位に第１回転シール部４３を設けたが、これに限られない。図５、６を参照して説明する。図５は、変形例に係る洗浄装置の垂直断面図である。図示するように、処理液配管４５を、チャンバ１の上部を貫通させるとともに、チャンバ１の内部を縦軸芯Ｐの向きに立ち下げて設置している。この処理液配管４５の下端にはフランジ部５１が連結される。このフランジ部５１の下面を、第１回転シール部４４を介して天板２７の上面に摺動可能に接続する。第１回転シール部４４は、フランジ部５１と天板２７との接続部位から処理液が漏れることを防止する。天板２７の上面の略中央部には注入口２７ｄが形成されている。天板２７がフランジ部５１に対して相対回転した場合であっても、注入口２７ｄと処理液配管４５との連通状態は保たれている。よって、天板２７に形成された注入２７ｄを通じて処理液が回転支持機構１１の管路に供給される。
【００８０】
このような構成によっても、本実施例と同様な作用・効果をそうする。また、上部回転軸３１を省略し、供給体４１に換えてフランジ部５１を備えることで、装置構成をより簡略化できる。第１回転シール部４４はこの発明における処理液供給手段用回転シール部に相当する。処理液配管４５とフランジ部５１はこの発明における処理液供給手段に相当する。
【００８１】
図６も変形例に係る洗浄装置の垂直断面図である。図６は駆動軸１６に供給体４１が連通接続される構成である。電動モータ１３に連結される駆動軸１６には、チャンバ１内に位置する側面の一部位に注入口１６ａが形成されているとともに、この注入口１６ａと連通する中空部１６ｂが駆動軸１６の内部に形成されている。中空部１６ｂは駆動軸１６の上端まで達している。この駆動軸１６に供給体４１が摺動可能に接続されている。この接続部位には第１回転シール部４３が設けられている。また、本変形例に場合には、駆動軸１６内の中空部１６ｂと支柱２３内の中空部２３ｂとを連通させるために、ターンテーブル２１の内部にも空洞部が管路として形成されている。
【００８２】
このような変形例によっても、万が一第１回転シール部４３から漏液してもチャンバ１外部に処理液が漏れることがない。よって、従来技術で説明した漏液回収室等を要しないので、装置構成を簡略化できる。また、図６に示すように、チャンバ１の内径が比較的小さい部位で処理液配管４５を貫通させているため、チャンバ１内に進入する処理液配管４５の長さを抑えることができる。
【００８３】
（２）上述した実施例では、第１回転シール部４３は上部回転軸３１の側面のように円柱の周面の接合部位に設けられ、図５に示す変形例では第１回転シール部４４はフランジ部５１の下面のように平面の接合部位に設けられたが、これに限られない。相対的に移動する２つの処理液の管路を連通接続するものであれば、球面の接合部位や、異型の接合部位に設けられるものに適宜に変更することができる。
【００８４】
（３）上述した実施例例では、回転支持機構１１が支持する基板Ｗの中心は縦軸芯Ｐから偏心していたが、これに限られない。基板Ｗの中心が縦軸芯Ｐに位置するように基板Ｗを保持してもよい。
【００８５】
（４）上述した実施例では、基板Ｗの両面に処理液を供給可能に構成していたが、これに限られない。たとえば、基板Ｗの一方面のみに処理液を供給可能に構成してもよい。
【００８６】
（５）上述した実施例では、雰囲気遮断板２５に２つの空洞部２５ａ、２５ｂを形成したが、これに限られない。図５に示すように、２つの吐出口２５ｃ、２５ｄに連通する単一の空洞部２５ｅを形成してもよい。
【００８７】
（６）上述した実施例では、基板Ｗの略中央に対向する位置に吐出口２５ｃ、２５ｄ、２７ｃが配置されていたが、これに限られない。たとえば、基板Ｗの中央部以外の位置に吐出するように変更してもよい。または、基板Ｗの中央部と外周部の両方に吐出するように変更してもよい。
【００８８】
（７）上述した実施例では、上部回転軸３１はチャンバ１を貫通するように設けられていたが、図６に示す上部回転軸３２のように、貫通させることなくチャンバ１の内部に上部回転軸３１を納めるように変更してもよい。チャンバ１の貫通部をなくすことができ、処理液が漏れるおそれがない。
【００８９】
（８）上述した実施例では、支柱２３のうち１つだけに中空部２３ｂを形成していたが、これに限られない。複数の支柱２３に中空部２３ｂを形成するように変更してもよい。
【００９０】
（９）上述した実施例では、処理液として純水を例示したが、これに限られない。たとえば、種々の薬液に変更してもよい。また、基板Ｗにエッチング処理を行うように変更してもよい。
【００９１】
（１０）上述した実施例では、不活性ガスを供給する構成であったが、これに限られない。たとえば、ＩＰＡベーパやスチームや乾燥気体を供給するように変更してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】実施例に係る洗浄装置の要部の斜視図である。
【図２】実施例に係る洗浄装置の概略構成を示す図である。
【図３】実施例に係る洗浄装置の垂直断面図である。
【図４】雰囲気遮断板を示した断面図である。
【図５】変形例に係る洗浄装置の垂直断面図である。
【図６】変形例に係る洗浄装置の垂直断面図である。
【図７】従来例に係る洗浄装置の斜視図である。
【図８】従来例に係る洗浄装置の要部断面図である。
【符号の説明】
【００９３】
１  …チャンバ
１ａ  …バット部
７  …排出口
１１  …回転支持機構
１３  …電動モータ
１５、１６  …駆動軸
１６ａ  …注入口
１６ｂ  …中空部
１７  …第３回転シール部
２３  …支柱
２３ｂ  …中空部
２５  …雰囲気遮断板
２５ａ、２５ｂ  …空洞部
２５ｃ、２５ｄ  …吐出口
２７  …天板
２７ａ、２７ｂ  …空洞部
２７ｃ  …吐出孔
２７ｄ  …注入口
２７ｄ  …開口
３１  …上部回転軸
３１ａ  …中空部
３１ｂ  …注入口
３５  …第２回転シール部
４１  …供給体
４３、４４  …第１回転シール部
４５  …処理液配管
５１  …フランジ部
Ｗ  …基板
Ｐ  …縦軸芯
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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