(57)【要約】【課題】厚みの均一性の高い有機ＥＬ層を提供する。【解決手段】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液は、フルオロカーボンを含有した溶媒又は分散媒に、有機エレクトロルミネッセンス材料を含有させた液状体である。フルオロカーボンは、ｎ−Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＯＣＨ３等のハイドロフルオロエーテル、若しくは、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２等のフルオロケトンとすることも可能である。フルオロカーボンの沸点は４５℃以上６５℃以下とすることが好適である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フルオロカーボンを含有した溶媒又は分散媒に、有機エレクトロルミネッセンス材料を含有させた液状体である、
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液。
【請求項２】
前記フルオロカーボンが、ハイドロフルオロエーテルである、
ことを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液。
【請求項３】
前記フルオロカーボンが、フルオロケトンである、
ことを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液。
【請求項４】
前記フルオロカーボンの沸点が、４５℃以上６５℃以下である、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液。
【請求項５】
フルオロカーボンを含有した溶媒又は分散媒に、有機エレクトロルミネッセンス材料を含有させた液状体である有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液を、
基板上の所定の領域に塗布して有機エレクトロルミネッセンス層を形成する工程、を有する、
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記フルオロカーボンが、ハイドロフルオロエーテルである、
ことを特徴とする請求項５記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記フルオロカーボンが、フルオロケトンである、
ことを特徴とする請求項５記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記フルオロカーボンの沸点が、４５℃以上６５℃以下である、
ことを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）層の形成に用いられる有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液、及び、その有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液を用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造工程では、特許文献１や特許文献２に記載されるように、正孔注入材料や有機エレクトロルミネッセンス発光材料を溶媒に含有させた溶液を、インクジェットプリンタ等を用いて、隣接するバンク間で囲まれた画素電極等に塗布する。
【０００３】
しかし、正孔注入層を水に分散させた正孔注入層形成用塗布液を用いると、バンクの壁面に溶液が這い上がり、画素電極の周縁部での膜厚が厚くなることがある。その結果、その上部に積層し形成された有機エレクトロルミネッセンス発光層に印加される電圧が不均一となり、このような有機エレクトロルミネッセンス発光層を発光させると発光ムラが生じる。また、有機エレクトロルミネッセンス発光層形成用塗布液の溶媒としてキシレンやトルエン等を用いてもこのような膜厚の不均一性が生じることがある。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−０４０３５８号公報
【特許文献２】特開平１１−０５４２７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、発光ムラの少ない有機エレクトロルミネッセンス層を得ることができる有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液、及び、そのような塗布液を用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を提供することを目的とする。また、厚みの均一性に優れた有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液、及び、そのような塗布液を用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、この発明の第１の観点に係る有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液は、
フルオロカーボンを含有した溶媒又は分散媒に、有機エレクトロルミネッセンス材料を含有させた液状体である、ことを特徴とする。
【０００７】
また、前記フルオロカーボンが、ハイドロフルオロエーテルである、ことも可能である。
【０００８】
また、前記フルオロカーボンが、フルオロケトンである、ことも可能である。
【０００９】
また、前記フルオロカーボンの沸点が、４５℃以上６５℃以下である、ことも可能である。
【００１０】
また、上記目的を達成するため、この発明の第２の観点に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、
フルオロカーボンを含有した溶媒又は分散媒に有機エレクトロルミネッセンス材料を含有させた液状体である有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液を、
基板上の所定の領域に塗布して有機エレクトロルミネッセンス層を形成する工程、を有する、ことを特徴とする。
【００１１】
また、前記フルオロカーボンが、ハイドロフルオロエーテルである、ことも可能である。
【００１２】
また、前記フルオロカーボンが、フルオロケトンである、ことも可能である。
【００１３】
また、前記フルオロカーボンの沸点が、４５℃以上６５℃以下である、ことも可能である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス層形成用塗布液を用いることにより、厚みの均一性に優れた有機エレクトロルミネッセンス層を得ることができる。また、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法で製造された有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、発光ムラが少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
［有機エレクトロルミネッセンス表示装置］
まず、実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬという。）表示装置の製造方法により製造される有機ＥＬ表示装置８００について説明する。
【００１６】
有機ＥＬ表示装置８００は、図１（ａ）に示されるように、ガラス基板１１０と、画素電極（陽極）１２０と、正孔注入層１９０と、バンク１３０と、有機ＥＬ発光層１４０と、層間絶縁膜１５０と、上部電極（陰極）１６０と、封止ガラス１７０と、を有する。
尚、本発明における実施形態では、有機ＥＬ層は、正孔注入層１９０と有機ＥＬ発光層１４０の二層構造としているが、有機ＥＬ層として電子注入層を設けることもできる。したがって、正孔注入層１９０、有機ＥＬ発光層１４０、電子注入層の三層構造であっても良いし、有機ＥＬ発光層１４０、電子注入層からなる二層構造であっても良いし、有機ＥＬ発光層１４０からなる一層構造であっても良い。有機ＥＬ層の層構造は任意に設定することができる。
【００１７】
有機ＥＬ表示装置８００の発光方式は、ボトムエミッション型である。有機ＥＬ層は、後述するように、実施形態に係る有機ＥＬ層形成用塗布液を用いてノズルプリント法にて形成するものである。
有機ＥＬ層形成用塗布液は、溶媒又は分散媒に、有機ＥＬ材料を含有させた液状体である。有機ＥＬ材料には、有機ＥＬ発光材料の他に、キャリアを輸送する性質を持っている材料（正孔注入材料、電子注入材料等）が含まれる。
【００１８】
ガラス基板１１０の上には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなる画素電極１２０と層間絶縁膜１５０が設けられている。層間絶縁膜１５０は、隣り合う画素電極１２０どうしを電気的に絶縁する。層間絶縁膜１５０の上には隔壁として機能するバンク１３０が設けられている。バンク１３０により囲まれた開口内の画素電極１２０の上に、正孔注入層１９０と、有機ＥＬ発光層１４０、上部電極１６０がこの順に積層されている。さらに、上部電極１６０の上には、接着層１８０を介して封止ガラス１７０が設けられている。
【００１９】
［正孔注入層形成用塗布液］
次に、正孔注入層をノズルプリント法等で形成するのに使用する正孔注入層形成用塗布液について説明する。
【００２０】
正孔注入材料は、化学式１に示すように、ポリチオフェン誘導体であるＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）とＰＳＳ（ポリスチレンスルフォン酸）の混合物である。また、有機ＥＬ発光層との相溶を防ぐため、加熱処理により架橋するシランカップリング剤として、ガンマ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランを添加する。
【００２１】
【化１】
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【００２２】
液状媒体として、メチルノナフルオロイソブチルエーテル（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＯＣＨ３）とメチルノナフルオロブチルエーテル（ｎ−Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）をそれぞれ５０重量％ずつ含有させた混合物であるハイドロフルオロエーテルを使用する。この混合物の沸点は６１℃であり、オゾン破壊係数（ＯＤＰ）はゼロである。
【００２３】
そして、正孔注入材料を上述の液状媒体に３０重量％含有させることにより正孔注入層形成用塗布液を形成する。なお、濃度は２０重量％〜８０重量％とすることが望ましい。濃度が２０重量％よりも低くなると必要な膜厚を得るために塗布回数が多くなってしまい生産効率が悪くなるおそれがあるからであり、一方濃度が８０重量％よりも高くなると正孔注入層形成用塗布液の粘度が高くなってしまい正孔注入層形成用塗布液の塗布が困難となるおそれがあるからである。
【００２４】
［有機ＥＬ発光層形成用塗布液］
次に、有機ＥＬ発光層をノズルプリント法等で形成するのに使用する有機ＥＬ発光層形成用塗布液について説明する。
【００２５】
有機ＥＬ発光材料は、緑色発光材料としてポリ（パラフェニレンビニレン）（ＰＰＶ）を用いる。そして、キナクリドン、ルブレン、ＤＣＪＴおよびそれらの誘導体等の蛍光色素を添加する。これらの蛍光色素は低分子であるため液体に可溶又は分散可能であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。
【００２６】
液状媒体は、メチルノナフルオロイソブチルエーテル（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＯＣＨ３）とメチルノナフルオロブチルエーテル（ｎ−Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）をそれぞれ５０重量％ずつ含有させたハイドロフルオロエーテルの混合物を使用する。
【００２７】
そして、有機ＥＬ発光材料を２．０重量％含有させることにより有機ＥＬ発光層形成用塗布液を形成する。なお、濃度は０．５重量％〜５．０重量％とすることが望ましい。濃度が０．５重量％よりも低くなると必要な膜厚を得るために有機ＥＬ発光層形成用塗布液の塗布回数が多くなるおそれがあるからであり、一方濃度が５．０重量％よりも高くなると有機ＥＬ発光層形成用塗布液の粘度が高くなるおそれがあるからである。
【００２８】
［有機ＥＬ表示装置の製造方法］
次に、上述した実施形態に係る正孔注入層形成用塗布液及び有機ＥＬ発光層形成用塗布液を使用する有機ＥＬ表示装置８００の製造方法について説明する。
【００２９】
まず、ガラス基板１１０の上に均一的な厚さでスパッタや蒸着等によりＩＴＯ成膜を形成する。そして、そのＩＴＯ成膜に、レジストとしてフェノールノボラック樹脂等を使用して、フォトリソグラフィー処理により、ガラス基板１１０の上に所定の間隔でストライプ形状に画素電極１２０を形成する。画素電極１２０の厚さは３０ｎｍ〜１００ｎｍである。なお、ウエットエッチング処理若しくはドライエッチング処理等を施すことにより画素電極１２０を形成することが可能である。
【００３０】
次に、画素電極１２０を設けたガラス基板１１０の上に、層間絶縁膜１５０を形成する。層間絶縁膜１５０は、ガラス基板１１０の画素電極１２０の間の領域に設けられており、画素電極１２０の周縁部を覆うことにより、隣接する画素電極１２０同士の短絡を防止する。層間絶縁膜１５０は、複数の開口を有する編み目状で、厚さが１５０ｎｍ〜３００ｎｍの膜から構成されている。層間絶縁膜１５０は、例えば窒化珪素または酸化珪素等の硅素化合物から形成される。
【００３１】
次に、バンク１３０を層間絶縁膜１５０の上に形成する。バンク１３０の形成は、例えばポリイミド等のポジ型の感光性樹脂にフォトマスクを介して光を照射することで形成される。バンク１３０は、有機ＥＬ表示装置８００に２次元配列される複数の表示画素相互の境界領域（各画素電極１２０間の領域）であって、有機ＥＬ表示装置８００の列方向に（図１（ｂ）に示すように柵状又は格子状の平面パターンを有するように）配列されている。
【００３２】
そして、酸素プラズマ処理若しくはＵＶオゾン処理により画素電極１２０の親液化を行う。この酸素プラズマ処理若しくはＵＶオゾン処理をすることで、画素電極１２０に塗布を行う正孔注入材料が画素電極１２０全体に広がり、均一な膜厚を形成することができる。
【００３３】
次に、上述した実施形態に係る正孔注入層形成用塗布液をノズルプリント法にてバンク１３０で囲まれた画素電極１２０の上に塗布する。塗布は、図２（ａ）（ｂ）に示されるように、有機ＥＬ表示装置８００の列方向（矢印２００の方向）に正孔注入層形成用塗布液をノズルコータ４００から連続的に塗布される。
塗布後は、ホットプレート上で１００℃以上の温度条件で乾燥を行うことで、正孔注入層１９０が形成される。
【００３４】
次に、形成された正孔注入層１９０の上に実施形態に係る有機ＥＬ発光層形成用塗布液が塗布される。塗布は、ノズルコータ４００から連続的に塗布される。塗布は、窒素ガス雰囲気中で行うことが望ましい。有機ＥＬ発光材料は酸素や水蒸気等に接触すると特性変化を生じることがありうる。そのため、窒素ガス雰囲気中で塗布することで、有機ＥＬ発光材料の特性変化を起こりにくくすることが可能となる。
【００３５】
有機ＥＬ発光層形成用塗布液の粘度は４ｍＰａ・ｓである。有機ＥＬ発光層形成用塗布液の粘度は１〜２０ｍＰａ・ｓであり、好ましくは２〜８ｍＰａ・ｓである。粘度が１ｍＰａ・ｓより少ないと、吐出量の制御が困難になるばかりでなく、固型分濃度が過少となることで十分な膜厚を形成できないおそれがある。一方、有機ＥＬ発光層形成用塗布液の粘度が２０ｍＰａ・ｓより大きいと、ノズルコータ４００から円滑に吐出させることができないおそれがあり、ノズルコータ４００を大きくする等の装置の仕様を変更する必要が生じうる。
【００３６】
有機ＥＬ発光層形成用塗布液が塗布された後は、窒素雰囲気中でホットプレートによる乾燥、あるいは、真空中でのシーズヒータによる乾燥を行い、残留液体の除去をすることで、有機ＥＬ発光層１４０が形成される。
【００３７】
その後は、有機ＥＬ発光層１４０の上に、膜厚が例えば１００ｎｍの上部電極１６０が設けられる。上部電極１６０は、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を用いて形成することができる。
【００３８】
そして、上部電極１６０の上に接着層１８０を設け、さらに接着層１８０の上に封止ガラス１７０を形成する。具体的には、封止ガラス１７０の一方の面にディスペンサを用いてエポキシ系紫外線硬化樹脂からなる接着剤を塗布する。そして封止ガラス１７０の接着剤が塗布された面と上部電極１６０が配置された面とを位置あわせして貼り合わせて、紫外線を照射させて接着剤を硬化させる。これにより接着剤は接着層１６０となり、封止ガラス１７０と上部電極１６０が配置された面とが固定される。これにより、上述の実施形態に示した有機ＥＬ表示装置８００が形成される。
【００３９】
上述した有機ＥＬ表示装置の製造方法において形成される正孔注入層１９０及び有機ＥＬ発光層１４０の厚みの均一性は高い。なぜなら、本実施形態に係る正孔注入層又は有機ＥＬ発光層形成用塗布液は、フルオロカーボン（炭素−フッ素結合を持つ有機化合物）を含有した溶媒又は分散媒を用いる。そのため、本実施形態に係る有機ＥＬ発光層又は正孔注入層形成用塗布液の溶媒又は分散媒の蒸発速度は、水の蒸発速度よりも早い。ゆえに早く乾燥してバンクの壁面への這い上がり量を少なくさせる。図３（ａ）で示されるように、実施形態に係る正孔注入層形成用塗布液５２０は、画素電極１２０の端部における這い上がり量が少ない。一方、図３（ｂ）に示すように、水を溶媒又は分散媒として用いる正孔注入層形成用塗布液は、画素電極１２０の端部における這い上がり量が多い。しかしながら本実施形態に係る正孔注入層形成用塗布液は、バンクの壁面への這い上がり量が少ないから、正孔注入層の厚みの均一性に優れる。
【００４０】
また、図４（ａ）で示されるように、本実施形態に係る有機ＥＬ発光層形成用塗布液材５３０においても、塗布面の端部における這い上がり量が少ない。一方、図４（ｂ）に示すように、水を溶媒又は分散媒として用いる有機ＥＬ発光層形成用塗布液は、塗布面の端部における這い上がり量が多い。したがって、本実施形態に係る有機ＥＬ発光層形成用塗布液は、有機ＥＬ発光層の厚みの均一性が高く、発光ムラを少なくすることができる。
【００４１】
ここで、フルオロカーボンの沸点は４５℃以上６５℃以下であることが好ましい。フルオロカーボンの沸点が６５℃よりも大きくなると、含有するフルオロカーボンの量によっては溶媒又は分散媒の蒸発速度が遅くなる可能性があるからであり、一方、フルオロカーボンの沸点が４５℃よりも小さくなると、単位時間あたりの蒸発量が多くなる可能性がありそのため塗布液の保存が困難となる可能性がありうるからである。
【００４２】
本実施形態に係る有機ＥＬ発光層又は正孔注入層形成用塗布液のフルオロカーボンは、オゾン破壊係数がゼロである。ここで、オゾン破壊係数とは、トリクロロモノフルオロメタン（ＣＦＣ−１１：ＣＣｌ３Ｆ）の単位重量当たりのオゾン破壊量を１とした場合の相対値を意味する。そしてオゾン破壊係数がゼロとは、オゾン破壊作用がないか、あるいは、オゾン破壊作用があったとしてもオゾン破壊係数が０．０１以下であることを意味する。本実施形態に係る有機ＥＬ発光層又は正孔注入層形成用塗布液のフルオロカーボンのオゾン破壊係数はゼロだから、蒸発しても地球環境に悪影響を及ぼすことは少ない。なお、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２の地球温暖化係数（ＧＷＰ）は１であり、優れた環境特性を有する。ここで地球温暖化係数とは、特定の積算時間にわたる一つのガス１キログラム当たりの放出による温暖化度合いとＣＯ２１キログラム当たりの放出による温暖化度合いとの相対値である。
【００４３】
［その他の実施形態］
上述の実施形態では、正孔注入層形成用塗布液又は有機ＥＬ発光層形成用塗布液に使用される液状媒体として、メチルノナフルオロイソブチルエーテル（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＯＣＨ３）とメチルノナフルオロブチルエーテル（ｎ−Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）をそれぞれ５０重量％ずつ含有させた混合物であるハイドロフルオロエーテルを使用した。もっともこれに限定されない。
【００４４】
正孔注入層形成用塗布液又は有機ＥＬ発光層形成用塗布液に使用される液状媒体として、ＣＨＦ２ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３を用いることも可能である。ＣＨＦ２ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３の沸点は５６．２℃である。また、液状媒体としてＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ３を用いることも可能である。ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ３の沸点は５４．３℃である。また、液状媒体としてＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨＦ２を用いることも可能である。ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨＦ２の沸点は４５．９℃である。また、液状媒体としてＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨ２Ｆを用いることも可能である。ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨ２Ｆの沸点は６５．０℃である。さらには、ｎ−Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３、（ＣＦ３）２ＣＦＯＣＨ３、ｎ−Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＯＣ２Ｈ５、（ＣＦ３）３ＣＯＣＨ３、ＣＨ３Ｏ（ＣＦ２）４ＯＣＨ３及びＣＨ３Ｏ（ＣＦ２）６ＯＣＨ３を使用することができる。
【００４５】
また、液状媒体としてＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２を用いることも可能である。ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２の沸点は４９℃であり、オゾン破壊係数はゼロである。なおＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２の地球温暖化係数は１である。また、液状媒体としてＣＦ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ３を用いることも可能である。ＣＦ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ３の沸点は６８〜７１℃である。さらには、（ＣＦ３）２ＣＦＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２、ＣＦ３（ＣＦ２）５Ｃ（Ｏ）ＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２、ペルフルオロシクロヘキサノン等を使用することもできる。また、さらには、ＨＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２、Ｃ２Ｈ５Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２、ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、（ＣＦ３）２ＣＦＣ（Ｏ）ＣＨ３、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨＦ２、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｆ、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨＦ２、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨＦ２、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２Ｆ、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨＦＣＨ３、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨＦＣＨＦ２、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＨＦＣＨ２Ｆ、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ２ＣＨＦ２、ＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、（ＣＦ３）２ＣＦＣ（Ｏ）ＣＨＦ２、（ＣＦ３）２ＣＦＣ（Ｏ）ＣＨ２Ｆ、ＣＦ３ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）Ｃ（Ｏ）ＣＨＦ２、ＣＦ３ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｆ及びＣＦ３ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）Ｃ（Ｏ）ＣＦ３等を使用することもできる。
【００４６】
上述の実施形態では、フルオロカーボンは、ハイドロフルオロエーテルやフルオロケトンを示したが、これらに限定されるものではない。フルオロカーボンとしては、１，１，１，２，２−ペンタフルオロブタン（沸点 ：４０℃）のようなペンタフルオロブタン、１，１，１，２，３，３，４−ヘプタフルオロブタン（沸点 ：４２℃）、１，１，１，２，３，４，４−ヘプタフルオロブタン（沸点 ：４８℃）、１，１，２，２，３，４，４−ヘプタフルオロブタン（沸点 ：５７℃）のようなヘプタフルオロブタン、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブタン（沸点 ：４４℃）のようなオクタフルオロブタン、２−トリフルオロメチル−１，１，１，２，４，４−ヘキサフルオロペンタン（沸点 ：４６℃）のようなヘキサフルオロペンタン、１，１，１，２，２，５，５，５−オクタフルオロペンタン（沸点 ：４９℃）、２−トリフルオロメチル−１，１，１，２，３，３，４，４−オクタフルオロペンタン（沸点 ：５５℃）のようなオクタフルオロペンタン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン（沸点 ：５５℃）のようなデカフルオロペンタン、２−トリフルオロメチル−１，１，１，４，４，５，５，５−オクタフルオロヘキサン（沸点 ：５７℃）のようなオクタフルオロヘキサン、２−トリフルオロメチル−１，１，１，２，３，４，５，５，５−ノナフルオロヘキサン（沸点 ：６５℃）のようなフルオロヘキサン、２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，３，４，４，５，５，５−デカフルオロヘキサン（沸点 ：６２℃）のようなデカフルオロヘキサン、さらに１，１，２，２−テトラフルオロシクロブタン（沸点 ：５０℃）や、１，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロシクロブタン（沸点 ６３℃）等も使用することができる。
【００４７】
さらに、フルオロカーボンとして、クロロフルオロカーボンも好適に使用でき、例えばトリクロロトリフルオロエタン（ＣＣｌＦ２−ＣＣｌ２Ｆ：沸点は４７．６℃）等を使用することができる。さらにクロロ系に限定されずブロム系についても好適に使用でき、例えばジブロモテトラフルオロエタン（ＣＢｒＦ２−ＣＢｒＦ２：沸点は４７．２℃）等を使用することができる。
【００４８】
上述の実施形態での塗布液は、有機ＥＬ発光材料又は正孔注入材料を、フルオロカーボンを含有する溶媒又は分散媒に含有させたものであった。もっとも、正孔輸送材料を、フルオロカーボンを含有する溶媒又は分散媒に含有させた塗布液を有機ＥＬ表示装置の製造工程に使用することもできる。
正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等を使用することができる。溶媒又は分散媒としてのフルオロカーボンには、例えば、種々のハイドロフルオロエーテルやフルオロケトン等を使用することができる。正孔輸送材料を、フルオロカーボン含有溶媒又は分散媒に溶解または分散させた塗布液は、バンク壁面への溶液の這い上がり量が少ない。
【００４９】
上述の実施形態では、緑色発光材料としてポリ（パラフェニレンビニレン）（ＰＰＶ）を用いた。もっともこれに限定されない。発光層を形成し得る有機化合物としては、ＰＰＶの他に、ＰＴＶ（ポリ（２、５−チエニレンビニレン））等のポリアルキルチオフェン、ＰＦＶ（ポリ（２、５−フリレンビニレン））、ポリパラフェニレン、ポリアルキルフルオレン等のポリアリレンビニレン、ピラゾリンダイマー、キノリジンカルボン酸、ベンゾピリリウムパークロレート、ベンゾピラノキノリジン、フェナントロリンユウロピウム錯体等を使用することができる。これらのなかでも高分子有機化合物からなるものが好ましい。高分子有機化合物は成膜性に優れ、発光層の耐久性は極めて良好である。なお、ＰＰＶ誘導体の前駆体として、ＭＯ−ＰＰＶ（ポリ（２、５−ジメトキシ−１、４−フェニレンビニレン））前駆体、ＣＮ−ＰＰＶ（ポリ（２、５−ビスヘキシルオキシ−１、４−フェニレン−（１−シアノビニレン）））前駆体等を使用することも可能である。
【００５０】
上述の実施形態では、有機ＥＬ発光材料として緑色発光材料を用いた。もっともこれに限定されない。有機ＥＬ発光材料は赤色発光材料を用いることも可能である。赤色発光材料はＰＰＶ前駆体インク組成物に低分子蛍光色素であるローダミン１０１を添加したものである。赤色発光層に用いられる蛍光色素としては、レーザー色素のＤＣＭあるいはローダミンまたはローダミン誘導体、ペリレン等を用いることができる。これらの蛍光色素は、低分子であるため溶媒に可溶であり、ＰＰＶ等と相溶性がよく、均一で安定した発光層の形成が容易である。ローダミン誘導体蛍光色素としては、例えばローダミンＢ，ローダミンＢベース、ローダミン６Ｇ，ローダミン１０１過塩素酸塩等が挙げられる。
【００５１】
また、有機ＥＬ発光材料として青色発光材料を用いることも可能である。青色発光材料は、ポリジオクチルスルフルオレンをキシレンに溶解したものを用いる。蛍光色素としてはジスチリルビフェニルおよびその誘導体を用いるのが好ましい。またクマリン、クマリン−１、クマリン−６、クマリン−７、クマリン１２０、クマリン１３８、クマリン１５２、クマリン１５３、クマリン３１１、クマリン３１４、クマリン３３４、クマリン３３７、クマリン３４３等を用いることも可能である。さらにはテトラフェニルブタジエン（ＴＰＢ）またはＴＰＢ誘導体を用いることも可能である。
【００５２】
上述の実施形態では、正孔注入材料は、ＰＥＤＯＴとＰＳＳの混合物であった。もっともこれに限定されず、正孔注入材料はＰＥＤＯＴ単独でもよい。また、正孔注入材料として化学式２に示すようなスターバースト型化合物（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）を用いることも可能である。スターバースト分子は有機アモルファス材料として合成された分子群で、アモルファス性のため、均一な膜を形成できる。また、駆動時に発生する熱による結晶化などの膜構造の変化が発生しにくい。
【００５３】
【化２】
2009070905.tif 000004
【００５４】
また、正孔注入材料又は有機エレクトロルミネッセンス発光材料を含有させる溶媒又は分散媒として、フルオロカーボン類に加えて、ガンマブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）およびその誘導体などの非プロトン性環状極性溶媒や、またはカルビトールアセテート（ＣＡ）、ブチルカルビトールアセテート（ＢＣＡ）などのグリコールエーテル系酢酸や、メタノール（ＭｅＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、プロピルアルコール等の低級アルコールや、水等を用いることも可能である。また、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されることも可能である。
【００５５】
上述の実施形態では、有機ＥＬ層は、正孔注入層１９０と有機ＥＬ発光層１４０の二層構造としていたが、有機ＥＬ層として電子注入層を加えた層構造にすることもできる。したがって、電子注入材料を含有させる溶媒又は分散媒として、フルオロカーボン類等を用いることも可能である。電子注入材料を含有させる溶媒又は分散媒としてフルオロカーボン類を用いた場合、本実施形態に係る有機ＥＬ発光層や正孔注入層の効果と同様、電子注入層形成用塗布液は、バンクの壁面への這い上がり量が少なくなり、電子注入層の厚みの均一性に優れる効果が期待できる。
【実施例】
【００５６】
以下に正孔注入層形成用塗布液についての実施例を説明する。
（実施例１）
正孔注入層形成用塗布液を以下のようにして調整した。
まず、正孔注入材料として、ＰＥＤＯＴとＰＳＳの混合物を用意した。これにガンマ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランを添加した。
次に、メチルノナフルオロイソブチルエーテル（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＯＣＨ３）とメチルノナフルオロブチルエーテル（ｎ−Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）をそれぞれ５０重量％ずつ含有させた液状媒体としての混合物であるハイドロフルオロエーテルを用意した。
調整した正孔注入材料をこの混合物であるハイドロフルオロエーテルに加えることにより正孔注入層形成用塗布液を調整した。調整した正孔注入層形成用塗布液は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳが３０重量％、ハイドロフルオロエーテルが６９．９重量％、ガンマ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランが０．１重量％であった。
画素電極１２０への塗布は、インクジェットプリンター（ブラザー社製）を用いた。塗布前に、酸素ガスプラズマと四フッ化メタンガスプラズマの連続処理を行うことで画素表面を親疎水化した。プラズマ処理は真空中、大気中のいずれの雰囲気であってもよい。正孔注入層形成用塗布液はノズルから連続吐出した。
塗布後、室温、真空中で残留する液状媒体を除去した後、大気中１８０℃で、１０分間熱処理して形成された正孔注入層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察した。画素電極１２０の端部における這い上がり量は少なかった。
【００５７】
（実施例２）
液状媒体としてＣＨＦ２ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３を用いること以外は実施例１と同様であった。形成された正孔注入層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ画素電極１２０の端部における這い上がり量は少なかった。
【００５８】
（実施例３）
液状媒体としてＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ３を用いること以外は実施例１と同様であった。形成された正孔注入層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ画素電極１２０の端部における這い上がり量は少なかった。
【００５９】
（実施例４）
液状媒体としてＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨＦ２を用いること以外は実施例１と同様であった。形成された正孔注入層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ画素電極１２０の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６０】
（実施例５）
液状媒体としてＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨ２Ｆを用いること以外は実施例１と同様であった。形成された正孔注入層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ画素電極１２０の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６１】
（実施例６）
液状媒体としてＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２を用いること以外は実施例１と同様であった。形成された正孔注入層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ画素電極１２０の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６２】
（実施例７）
液状媒体としてＣＦ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ３を用いること以外は実施例１と同様であった。形成された正孔注入層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ画素電極１２０の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６３】
次に有機ＥＬ発光層形成用塗布液についての実施例を説明する。
（実施例８）
有機ＥＬ発光層形成用塗布液を以下のようにして調整した。
まず、有機ＥＬ発光材料として、緑色発光材料としてポリ（パラフェニレンビニレン）（ＰＰＶ）を用いた。これにキナクリドンを添加した。
次に、メチルノナフルオロイソブチルエーテル（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２ＯＣＨ３）とメチルノナフルオロブチルエーテル（ｎ−Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）をそれぞれ５０重量％ずつ含有させた液状媒体としての混合物であるハイドロフルオロエーテルを用意した。
調整した有機ＥＬ発光材料を混合物であるハイドロフルオロエーテルに含有させることにより有機ＥＬ発光層形成用塗布液を調整した。調整した有機ＥＬ発光層形成用塗布液は、ＰＰＶが２．０重量％、ハイドロフルオロエーテル溶媒が９７．０重量％、キナクリドンが１．０重量％であった。
正孔注入層上への塗布は、実施例１と同様にインクジェットプリンター（ブラザー社製）を用いた。
塗布後、１５０℃の不活性ガス（例えばＮ２）雰囲気中で熱処理されることによって形成された有機ＥＬ発光層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ塗布面の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６４】
（実施例９）
液状媒体としてＣＨＦ２ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３を用いること以外は実施例８と同様であった。形成された有機ＥＬ発光層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ塗布面の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６５】
（実施例１０）
液状媒体としてＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ３を用いること以外は実施例８と同様であった。形成された有機ＥＬ発光層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ塗布面の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６６】
（実施例１１）
液状媒体としてＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨＦ２を用いること以外は実施例８と同様であった。形成された有機ＥＬ発光層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ塗布面の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６７】
（実施例１２）
液状媒体としてＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨ２Ｆを用いること以外は実施例８と同様であった。形成された有機ＥＬ発光層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ塗布面の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６８】
（実施例１３）
液状媒体としてＣＦ３ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）２を用いること以外は実施例８と同様であった。形成された有機ＥＬ発光層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ塗布面の端部における這い上がり量は少なかった。
【００６９】
（実施例１４）
液状媒体としてＣＦ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＦ３を用いること以外は実施例８と同様であった。形成された有機ＥＬ発光層の凝集性、平坦性等を顕微鏡で観察したところ塗布面の端部における這い上がり量は少なかった。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法で作成された有機ＥＬ表示装置を説明する図であり、（ａ）は断面図、（ｂ）は上面図である。
【図２】正孔注入層形成用塗布液をノズルコータで塗布する様子を説明する図であり、（ａ）は断面図、（ｂ）は上面図である。
【図３】塗布された正孔注入層形成用塗布液を模式的に説明する図であり、そのうち（ａ）はフルオロカーボンを含有する実施形態に係る塗布液であり、（ｂ）は水を含有する比較例に係る塗布液である。
【図４】塗布された有機ＥＬ発光層形成用塗布液を模式的に説明する図であり、そのうち（ａ）はフルオロカーボンを含有する実施形態に係る塗布液であり、（ｂ）は水を含有する比較例に係る塗布液である。
【符号の説明】
【００７１】
１１０…ガラス基板、１２０…画素電極、１３０…バンク、１４０…有機ＥＬ発光層、１５０…層間絶縁膜、１６０…上部電極、１７０…封止ガラス、１８０…接着層、１９０…正孔注入層、４００…ノズルコータ、８００…有機ＥＬ表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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