(57)【要約】  【課題】高発光効率のＰＤＰ部材を高性能かつ簡便に製造する方法を提供する。  【解決手段】  基板上に透光性を有する壁状構造物を形成し、該壁状構造物間に感光性有機成分を含む有機成分および無機成分を含む感光性ペーストを塗布、乾燥し、フォトマスクを介して該壁状構造物上面のみをマスク露光した後に現像することで該壁状構造物の側面に感光性ペーストパターンを形成することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。【選択図】図２
2009181764.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に透光性を有する壁状構造物を形成し、該壁状構造物間に感光性有機成分を含む有機成分および無機成分を含む感光性ペーストを塗布、乾燥し、フォトマスクを介して該壁状構造物上面のみを露光した後に現像することで該壁状構造物の側面に感光性ペーストパターンを形成することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項２】
基板上に低軟化点ガラス粉末を含む無機成分と感光性有機成分を含む有機成分からなる感光性隔壁ペーストを塗布、乾燥、露光、現像して第１隔壁パターンを形成し、該第１隔壁パターン間に感光性有機成分および導電性粒子を含む感光性電極ペーストを塗布、乾燥し、フォトマスクを介して該第１隔壁パターン上面のみを露光した後に現像することで該第１隔壁パターンの側面に電極パターンを形成し、該第１隔壁パターンおよびその側面に形成された電極パターンを覆うように感光性隔壁ペーストを塗布、乾燥して第２隔壁ペースト層を形成し、該第２隔壁ペースト層を露光、現像して、該第１隔壁パターン、該電極パターン、およびこれらを覆う第２隔壁パターンからなる積層隔壁パターンを形成し、該積層隔壁パターンを一括焼成することによって内部に電極を有する隔壁を形成することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイ用部材の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」とする）は、前面板と背面板との間に備えられた放電空間内で対向するアノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、放電空間内に封入されているＸｅ−Ｎｅ混合ガスなどの放電ガスから発生した１４７ｎｍ、１７２ｎｍといった非常に波長が短い紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体に照射することにより表示を行うものである。また、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、均一な放電空間を確保するために、隔壁（障壁、リブともいう）が設けられている。隔壁の形状としては、およそ幅２０〜１２０μｍ、高さ５０〜２５０μｍのストライプ状や格子状のものが一般によく用いられている。
【０００３】
交流（ＡＣ）型ＰＤＰは、一般に図１に示すような構造を有す。すなわち、前面板１は、ガラス基板２に透明電極（スキャン電極３およびサステイン電極４）、バス電極５、透明誘電体層６、ＭｇＯ保護膜７が形成された構成を有する。また、背面板８は、ガラス基板９にアドレス電極１０、誘電体層１１、隔壁１２、蛍光体（赤色蛍光体１３、緑色蛍光体１４、青色蛍光体１５）が形成された構造を有する。前面板１において、スキャン電極３とバス電極５およびサステイン電極４とバス電極５はそれぞれ積層され電気的に導通している。このスキャン電極３およびバス電極５の積層体とその隣に位置するサステイン電極４とバス電極５の積層体に交流のパルス電圧を印加することで、これらの透明電極間のギャップから放電を開始し、保護膜表面での面放電が維持されて表示発光動作を行っている。この放電により発生した紫外線によって背面板８に形成された蛍光体（赤色蛍光体１３、緑色蛍光体１４、青色蛍光体１５）が励起されて発生した光を表示光として用いる。
【０００４】
従来のＰＤＰを高精細化する場合、発光効率（一定発光面積への投入電力に対する輝度）が低下しやすいという課題がある。この理由として、放電ギャップの確保が困難になること、放電領域が小さくなること、等が挙げられる。先ず、高精細化に伴いセルのサイズが小さくなることで放電空間が小さくなる一方、隣接セルとの放電干渉防止のために隣接セル間の電極間距離を一定値以上とする結果、放電ギャップをあまり大きく取ることができないために微少領域での放電になりやすい上に、放電形態が面放電であるため、紫外線の発生効率の高い陽光柱が生成されず、放電モードが負グローに制約される。従って、紫外線生成効率は低くなるため、蛍光体からの表示光の発光効率も低くなりやすい。特に、ハイビジョン用途などの高精細ＰＤＰにおいては、放電部位と隔壁、蛍光体の距離が相対的に短くなり、イオンや電子などの荷電粒子が拡散しやすいため、より一層放電領域が狭まる。放電形態が面放電であることは、発生した紫外線が、蛍光体が形成されていない前面板１の方向にも照射され、そのほとんどが蛍光体の励起、表示光の発生に利用されないという点からも発光効率低下の要因となる。
【０００５】
また、前面板１には表示画素を選択するアドレス時の電荷蓄積機能や、表示光の透過機能も必要とされる。そのため、厚み２０〜５０μｍの透明誘電体層６が形成される。透明誘電体層６の可視光透過率は７０〜８０％程度であり、表示光の一部が吸収され、全てが表示として利用されず、ロスが生じている。表示光の透過性という観点では、前面板１上に存在するＩＴＯ等で形成された透明電極（スキャン電極３およびサステイン電極４）の存在も妨げとなる。
【０００６】
さらに、放電領域が透明電極付近に限定されるため、効率的に紫外線を発生させることが難しかった。さらに、上述のような構成を持つ前面板１は作製プロセスが多く、歩留まり低下、ひいてはコストの上昇の要因となっていた。
【０００７】
以上述べたように、ＰＤＰの大きな課題は、高発光効率化および低コスト化である。この課題に対して、対向放電型のＰＤＰが提案されている（特許文献１）。特許文献１に記載された対向放電型のＰＤＰは、隔壁に相当する部分を格子状の厚膜セラミックシート化し、書込電極、隔壁および蛍光体を形成した背面板と隔壁および蛍光体を形成した前面板で厚膜セラミックシートを挟む３層構造としたもので、厚膜セラミックシート内にサステイン電極を形成し、対向放電とすることで発光効率の向上を狙うものである。しかし、プロセス上厚膜セラミックシートの高精細化は困難である。また、電極ギャップ（＝放電ギャップ）が長いために放電開始電圧が高くなり、これまで以上の高耐圧ＩＣが必要となり駆動回路のコストが上昇してしまうことや、背面板、厚膜セラミックシート、前面板の位置合わせに精度が必要であり、歩留まり低下、コストの上昇を招いてしまうという問題があった。
これに対して、背面板の隔壁内部に電極を有する対向放電型のＰＤＰが提案されている（特許文献２参照）。特許文献２に記載されたＰＤＰは、隔壁内部に形成した電極を、例えば表示電極として用いることによって、電極間ギャップを大きく取ることができ、陽光柱を伴う放電モードにより近くなるため、紫外線の発生効率を高くすることができ、その結果、蛍光体からの表示光の発光効率も大きくすることができる。また、表面に蛍光体を設けた隔壁の内部に存在する電極間の対向放電であるため、紫外線が効率よく蛍光体の励起に利用される。さらに、前面板に誘電体層や透明電極を設ける必要がないため、前面板における吸収によるロスも少ない。
このような電極を内蔵した隔壁を形成する方法として、特許文献２には公知の感光性電極ペーストを用いたフォトリソグラフィー法による方法が記載されている。しかし、公知の感光性電極ペーストを用いる方法では、感光性電極ペースト塗布層の光線透過率が小さいため、１回の露光で光硬化できる膜厚が薄くなり、対向放電の放電領域を広げるためには塗布と露光を数回繰り返さなければならないという課題があった。
この課題に対して特許文献３、４ではパターン印刷や充填法を用いて隔壁内蔵電極層を厚膜化している。しかしこれらの方法でもプロセス数が多いことや高精細化に対応できないという課題がある。
【特許文献１】特開２００４−２３５０４２号公報（第５頁〜第８頁）
【特許文献２】特開２００４−２４１３７９号公報（第１０頁〜第１１頁）
【特許文献３】特開２００６−２６９４１２号公報
【特許文献４】特開２００７−１０３３５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記従来技術の問題点に着目し、高発光効率のＰＤＰ用部材を簡便に製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明は以下の構成を有する。すなわち本発明は、基板上に透光性を有する壁状構造物を形成し、該壁状構造物間に感光性有機成分を含む有機成分および無機成分を含む感光性ペーストを塗布、乾燥し、フォトマスクを介して該壁状構造物上面のみを露光した後に現像することで該壁状構造物の側面に感光性ペースト層を形成することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、高発光効率のＰＤＰ用部材を簡便に製造する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
発明者らは、高発光効率のＰＤＰ等のディスプレイ用部材を低コストで作製する方法について鋭意検討を行った結果、以下に述べる製造方法によって達成されることを見出した。すなわち本発明は、基板上に透光性を有する壁状構造物を形成し、該壁状構造物間に感光性有機成分を含む有機成分および無機成分を含む感光性ペーストを塗布、乾燥し、フォトマスクを介して該壁状構造物上面のみを露光した後に現像することで該壁状構造物の側面に感光性ペースト層を形成することが重要である。
図２は、本発明のディスプレイ用部材の製造方法を模式的に示したフロー図である。
以下、図２に示す（ａ）〜（ｄ）の工程に沿って本発明のディスプレイ用部材の製造方法を説明するが、本発明はこれに限定されない。
【００１２】
まず、（ａ）工程において、ガラス基板２上に隔壁１２（透光性の隔壁パターン）を形成する。隔壁の製造方法としては、サンドブラスト法、型転写法、印刷法、フォトリソグラフィー法等が挙げられる。
次に（ｂ）工程において、隔壁１２間に後述の感光性有機成分と無機成分を主成分とする感光性ペーストを塗布、乾燥し、感光性ペースト層１６を形成する。感光性ペーストの塗布方法としては、ディスペンサー塗布、スクリーン印刷等を用いることができる。
次に（ｃ）工程において、露光用ネガ型フォトマスク１７を用いて隔壁１２の上面のみを露光することで、隔壁１２内での散乱光を利用して隔壁側面の感光性ペースト層を露光し、感光性ペースト層露光部１８を形成する。露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。
次に（ｄ）工程において、感光性ペースト層１６を現像し、隔壁１２の側面に感光性ペーストパターン１９を要する隔壁を形成する。現像は通常、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行う。現像液としては感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒やアルカリ水溶液を用いることができる。アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウムや、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム水溶液、アミノエタノール水溶液等を使用することができる。
感光性ペーストパターンの線幅は隔壁１２の光の透過性、（ｃ）工程においての露光量及び感光性ペースト層の光の透過性によりコントロールすることができ、高さは隔壁１２の高さにより決定することができる。
（ａ）工程においての隔壁材料としては公知の有機成分と無機成分からなるものを用いると良いが、パターン形成後の隔壁が透光性を有する必要がある。ここで透光性を有するとは、３６５ｎｍ（ｉ線）、４０５ｎｍ（ｈ線）、４３６（ｇ線）の波長の光のうち、少なくとも１つの全光線透過率が４０％以上のことをいう。ここで隔壁の全光線透過率は、隔壁に用いた材料で隔壁高さと同じ膜厚の塗膜を作製し、その塗膜の全光線透過率を分光光度計を用いて測定することで得られる。無機成分と有機成分の屈折率が近いものを用いると隔壁の光の直進透過性が向上し、隔壁底部側面まで感光性ペーストパターンを形成できより好ましい。
（ｂ）工程においての感光性ペーストとは、塗布、乾燥を行った後の塗膜に対し活性光線を照射することによって、照射部分が光架橋、光重合、光解重合、光変性などの反応を通し化学構造が変化して現像液による現像が可能になるようなペーストをいう。本発明に用いる感光性ペーストは、無機成分、さらに、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーから選ばれた少なくとも１種類の感光性有機成分を含む有機成分を必須成分とする。他の有機成分としては、重合開始剤、有機溶媒さらに必要に応じて、非感光性ポリマー成分や、酸化防止剤、有機染料、増感剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、分散剤、沈殿防止剤などの添加剤成分を用いることができる。本発明に用いる感光性ペーストの無機成分としては、低軟化い点ガラス、フィラー、金属、金属酸化物等を用いることができる。ここで低軟化点ガラス粉末とは、荷重軟化温度が４００〜６００℃の範囲であるガラス粉末を指す。低軟化点ガラス粉末を含むことによって感光性ペーストパターンを形成した後に焼結することによって無機成分からなるパターンを形成することができる。荷重軟化温度がこの範囲にあることで焼結時にパターンの変形がなく、溶融性も適切となる。また、フィラーとは、パターンの強度や、焼成収縮率を改善するために添加されるものであり、焼成温度でも溶融流動しにくい無機粒子を指す。具体的には、６００℃以下で軟化温度や融点、分解温度を有さず、６００℃において固体として存在するような無機粒子をいう。
（ｂ）工程において塗布時に感光性ペーストが隔壁パターン間から隔壁パターン頂部にはみ出した場合、露光用フォトマスク１７の露光線幅を狭くすることで、頂部にかかっている感光性ペースト層の影響を受けずに露光することができるが、露光線幅のマージンを広くするためにも隔壁頂部に感光性ペーストがはみ出さない方がより好ましい。
【００１３】
図３は、本発明を用いたＰＤＰ用部材の作製方法を模式的に示したフロー図である。
以下、図３に示す（ｅ）〜（ｐ）の工程に沿って本発明のＰＤＰ用部材の製造方法を説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、以下で説明する例では、電極が基板に接さないようにするため第１隔壁パターンを形成する前に下地隔壁ペースト層を設けているが、電極を隔壁の下部に設ける場合は、下地隔壁ペースト層を設けず、ガラス基板上に直接第１隔壁パターンを形成すればよい。
まず、（ｅ）工程において、ガラス基板２上に感光性隔壁ペーストを塗布し、乾燥して、下地隔壁ペースト層２０を形成する。ここで、ガラス基板２としては、ガラス基板単体からなるものであってもよいし、後述の図４に示すような構成のＰＤＰ用基板とする場合は、ガラス基板上に銀などの導電性金属によってアドレス電極１０と低誘電ガラスを主成分とする誘電体層１１を形成したものであってもよい。アドレス電極や誘電体層を、有機成分と無機成分からなるペーストを用い、焼成して形成する場合は、あらかじめ焼成したアドレス電極１０および誘電体層１１を形成しておいてもよいし、焼成前のアドレス電極１０の前駆体および誘電体層１１の前駆体を設けたものであってもよい。
本発明に用いる感光性隔壁ペーストは、低軟化点ガラス、さらに、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーから選ばれた少なくとも１種類の感光性有機成分を必須成分とする。他の有機成分としては、重合開始剤、有機溶媒、さらに必要に応じて、フィラー、非感光性ポリマー成分や、酸化防止剤、有機染料、増感剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、分散剤、沈殿防止剤などの添加剤成分を用いることができる。本発明に用いる感光性隔壁ペースト、特に下地隔壁ペースト層に用いる感光性隔壁ペーストは、アルカリ現像性の感光性隔壁ペースト層とすることが好ましい。ここで、アルカリ現像性とは、ネガ型マスクを用いた露光の場合、露光前の状態ではｐＨが９〜１４のアルカリ性の水系現像液には溶解するがｐＨが６〜８の中性の水系現像液には溶解せず、一方、露光後はｐＨが９〜１４のアルカリ性の水系現像液、ｐＨが６〜８の中性の水系現像液のいずれにも溶解しないような性質を有するものを指す。下地隔壁ペースト層に用いる感光性隔壁ペーストをアルカリ現像性の感光性隔壁ペーストとし、後述の第１隔壁パターンの形成に用いる感光性隔壁ペースト層を水現像性の感光性隔壁ペースト層とすることによって、第１隔壁パターンの側面のみに電極を設けることができる。
【００１４】
感光性ポリマーとしては、アルカリ可溶性のポリマーを好ましく用いることができる。感光性ポリマーがアルカリ可溶性を有することで現像液として環境に問題のある有機溶媒ではなくアルカリ水溶液を用いることができるためである。アルカリ可溶性のポリマーとしては、アクリル系共重合体を好ましく用いることができる。アクリル系共重合体とは、共重合成分に少なくともアクリル系モノマーを含む共重合体である。
【００１５】
非感光性ポリマー成分は、例えばメチルセルロース、エチルセルロース等のセルロース化合物、高分子量ポリエーテルなどである。また、感光性モノマーは、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物である。
上記の各種成分を所定の組成になるよう調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し、感光性隔壁ペーストを作製することができる。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーン版のメッシュ、ペーストの粘度によって調整できる。乾燥は熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて行い、乾燥温度や時間は用いたペーストの溶剤や塗布膜厚によって調整できる。
次に（ｆ）工程において、前述の下地隔壁ペースト層２０を最適露光量で露光用フォトマスク２１を用いて露光し、下地隔壁ペースト層露光部２２を形成する。露光は、一般的なフォトリソグラフィー法で行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を用いればよい。用いるフォトマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。また、フォトマスクを用いずに、紫外線領域のレーザー光等で直接描画する方法を用いても良い。露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。ここでいう最適露光量とは、現像後、パターンの剥がれや蛇行がなく、パターン形状が矩形または台形になる時の露光量をいう。矩形とは頂部幅と底部幅が同じもの、台形とは頂部幅より底部幅が大きいものを言い、矩形に近い方がより好ましい。
次に（ｇ）工程において、下地隔壁ペースト層２０および下地隔壁ペースト層露光部２２上に感光性隔壁ペーストを塗布、乾燥し、第１隔壁ペースト層２３を形成する。
第１隔壁ペースト層２３の感光性隔壁ペーストとしては、下地隔壁ペースト層２０と同様のものを用いることができるが、（ｉ）工程で下地隔壁ペースト層との溶解コントラストを大きくするために、後述のように水に可溶なバインダーポリマーを用いることによって、感光性隔壁ペーストを水現像性、すなわち露光前は中性の水系現像液に可溶、露光後は中性の水系現像液に不溶とする事が好ましい。なお、中性の水系現像液とは、ｐＨが６〜８の範囲の水または水溶液を指す。
水に可溶なポリマーとしては、側鎖または末端にエチレン性不飽和基とカルボキシル基を有するアクリル系共重合体が好ましく用いられる。このようなポリマーは光硬化性とバインダー性を兼ね備えており、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合物とを共重合させて形成したアクリル系共重合体にエチレン性不飽和基を側鎖または末端に付加させることによって製造することができる。好ましいのは、側鎖にエチレン性不飽和基とカルボキシル基を有するものである。
水現像可能なアクリル系共重合体のモノマー成分として重合させるエチレン性不飽和化合物としては特に限定されないが、不飽和カルボン酸および、以下の一般式（１）で表される多価アルコールとエチレン性不飽和カルボン酸とのモノエステルを含有する化合物を含むことが好ましい。感光性ガラスペーストの塗布膜に水現像性を付与するためには、バインダーポリマーがある一定以上の水溶解性を有しなければならない。バインダーポリマーに水溶性を与えるためにポリアミドやポリエーテルなどの親水性部位を骨格に導入する方法があるが、これらをバインダーポリマーとした無機成分を含有するペーストの塗布膜は膨潤するものの、十分な水溶解性が発揮されず、現像残渣が残るので良好なパターンが得られない。そこで、バインダーポリマーの骨格ではなく、側鎖部分にヒドロキシル基やカルボキシル基といった、水溶性置換基を導入することで、バインダーポリマーに十分な水溶性を与えることが可能となる。
【００１６】
【化１】
2009181764.tif 000003
【００１７】
また、ポリエーテルやポリエステルから選ばれた親水性樹脂を含むペーストを用いれば、基板との密着性が高くなり、スプレー現像などによる激しい現像環境においても、露光部が剥がれることなくパターン加工を行うことできることが知られている。通常、水現像用の感光性塗布膜を露光後、アルカリ性の現像液を用いてスプレー現像を行うといった極端な現像環境では、露光部の剥がれが発生するが、本発明のように、バインダーポリマー成分としてヒドロキシル基を有する感光性アクリル樹脂を使用すれば、別成分として剥がれ防止の化合物を添加することなく高い現像耐性が得られ、アルカリ性の現像液を使用する現像環境においても露光部剥がれの防止が可能である。
多価アルコールとしては例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、グリセリン、ポリグリセリン、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、１，２−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール、シクロヘキサンジメタノールなどを挙げることができる。エチレン性不飽和カルボン酸の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、およびこれらの酸無水物を挙げることができる。従って、多価アルコールとエチレン性不飽和カルボン酸とのエステルとは上記の多価アルコール化合物と、エチレン性不飽和カルボン酸の組み合わせによって成されるエステル化物を表す。
本発明においては、アクリル系共重合体の側鎖または末端にカルボキシル基を導入するために、共重合体の成分として不飽和カルボン酸などの不飽和酸を加える。カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸やこれらの酸無水物を挙げることができる。
上記共重合成分と重合可能なその他の共重合成分としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、シクロへキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、アリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、および上記化合物のアクリレートをメタクリレートに変えたものが挙げられる。本発明ではこれらを１種または２種以上組み合わせて使用することができる。
【００１８】
側鎖にエチレン性不飽和結合を導入する方法として、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド、マレイン酸などのカルボン酸を反応させて作る方法がある。
【００１９】
グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテルなどが挙げられる。とりわけ、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアナート、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネートなどがある。また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基およびカルボキシル基の合計量に対して０．０５〜１モル当量反応させることが好ましく、さらに好ましくは０．１〜０．８モル当量である。付加量が０．０５モル当量未満では感光特性が不良となり、パターンの形成が困難となり、１モル当量より大きい場合は、未露光部の溶解性が低下するので好ましくない。
【００２０】
上記の成分を重合して得られる、側鎖または末端にエチレン性不飽和基とカルボキシル基を有するアクリル系共重合体の酸価は２〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。さらに好ましくは５〜４０ｍｇ／ＫＯＨである。酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると亜鉛や鉛を含有するガラス粉末との共存下において、カルボキシル基によるイオン架橋密度が増し、ペーストのゲル化が促進され、未露光部の現像液に対する溶解性の低下やペーストポットライフの低下を引き起こす。また、酸価が２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下では、未露光部の溶解性を左右するカルボキシル基の含有量が低すぎるため、未露光部の現像液に対する溶解性が著しく低下し、高精細なパターンが得られにくくなる。
【００２１】
また、側鎖または末端にエチレン性不飽和基とカルボキシル基を有するアクリル系共重合体の重量平均分子量は、５０００〜２００００であることが好ましく、さらに好ましくは８０００〜１５０００である。分子量が５０００未満では感光性共重合体のバインダーとしての作用が弱くなり、現像耐性が低下するので、露光部まで剥がれが発生する。また分子量が２００００より大きいと現像耐性が高すぎるため、未露光部の溶解性が低下し、パターン形成が難しくなる。
次に（ｈ）工程において、前述の第１隔壁ペースト層２３を最適露光量で露光用フォトマスク１７を用いて露光し、第１隔壁ペースト層露光部２４を形成する。
次に（ｉ）工程において、第１隔壁ペースト層２３のみを現像し、下地隔壁ペースト層露光部２２を含む下地隔壁ペースト層２０および第１隔壁パターン２５からなる積層体を形成する。現像は通常、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行う。現像液としては感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒やアルカリ水溶液または中性の水系現像液を用いることができる。アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウムや、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム水溶液、アミノエタノール水溶液等を使用することができるが、第１隔壁ペースト層２３のみを現像するためには、下地隔壁ペースト層２０が不溶になるように、例えば、下地隔壁ペースト層２０にはアルカリ現像性の隔壁ペースト、第１隔壁ペースト層２３には水現像性の感光性隔壁ペーストを用い、中性の水系現像液を用いて一括現像すると良い。
次に（ｊ）工程において該第１隔壁パターン２５間に感光性電極ペーストを塗布、乾燥し感光性電極ペースト層２６を形成する。塗布方法としては、ディスペンサー塗布、スクリーン印刷等を用いることができる。
本発明に用いる感光性電極ペーストは公知のものを用いることができ、例えば感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選ばれる感光性有機成分、重合開始剤、有機溶媒および導電性粒子を必須成分とし、さらに必要に応じて、バインダー、紫外線吸光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリング剤等の添加成分、低軟化点ガラス、フィラーを含むものを用いることができる。
次に（ｋ）工程において露光用フォトマスク１７を用いて該第１隔壁パターン２５の上面のみを露光することで、該第１隔壁パターン２５内での散乱光を利用して第１隔壁パターン２５の側面の感光性電極ペーストを露光し感光性電極ペースト層露光部２７を形成する。塗布時に感光性電極ペーストが該第１隔壁パターン２５をはみ出して隔壁パターン頂部にかかってしまった場合は、露光用フォトマスク１７の露光線幅を狭くすることで、頂部にかかっている光透過性の低い感光性電極ペースト層の影響を受けずに露光することができる。
次に（ｌ）工程において、感光性電極ペースト層２６を現像し、第１隔壁パターン２５の側面に電極パターン２８を要する隔壁パターンを形成する。本発明では感光性電極ペースト層の光透過性が低いため、（ｋ）工程においての露光量や第１隔壁パターン２５の線幅の増減によって、電極幅が一定の幅よりも大きくなることはなく、細幅の隔壁にも対応できる。また、電極パターンの高さは第１隔壁パターン２５の高さを変化させることで自由に変えることができる。
次に（ｍ）工程において、下地隔壁ペースト層露光部２２を含む下地隔壁ペースト層２０およびその上層に形成された側面に電極パターン２８を要する第１隔壁パターン２５からなる積層体を覆うように感光性隔壁ペーストを塗布、乾燥して第２隔壁ペースト層２９を形成する。このとき、第２隔壁ペースト層２９表面をフラットにするために、第２隔壁ペースト層２９に覆われる積層体はできるだけ凸凹していない方が好ましい。感光性隔壁ペーストとしては下地隔壁ペースト層２０で使用したものと同様、公知の感光性ガラスペーストを用いると良い。焼成時の収縮を考えて、収縮応力を低減できるウレタン化合物を含んでいるものを用いるとより好ましい。ウレタン化合物として、例えば、下記一般式（１）で示される化合物が挙げられる。
Ｒ１−（Ｒ４−Ｒ３）ｎ−Ｒ４−Ｒ２  （１）
（Ｒ１およびＲ２はエチレン性不飽和基を含む置換基、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アラルキル基およびヒドロキシアラルキル基からなる群から選ばれたものであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ３はアルキレンオキサイド基またはアルキレンオキサイドオリゴマー、Ｒ４はウレタン結合を含む有機基である。ｎは１〜１０の整数）このようなウレタン化合物は、エチレンオキサイド単位を含むことが好ましい。より好ましくは、一般式（１）中、Ｒ４がエチレンオキサイド単位（以下、ＥＯと示す）とプロピレンオキサイド単位（以下、ＰＯと示す）を含むオリゴマーであり、かつ、該オリゴマー中のＥＯ含有量が８〜７０質量％の範囲内であることである。ＥＯ含有量が７０質量％以下であることにより、柔軟性がさらに向上し、焼成応力を小さくできるため、欠陥を効果的に抑制できる。さらに、熱分解性が向上し、隔壁形成後の焼成工程において、焼成残渣が発生しにくくなる。また、ＥＯ含有量が８％以上であることにより、他の有機成分との相溶性が向上する。また、ウレタン化合物が炭素−炭素二重結合を有することも好ましい。ウレタン化合物の炭素−炭素二重結合が他の架橋剤の炭素−炭素二重結合と反応して架橋体の中に含有されることにより、さらに重合収縮を抑制することができる。
塗布方法としては、下地隔壁ペースト層２０、第１隔壁ペースト層２３の塗布と同様、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度によって調整できる。乾燥は熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて行い、乾燥温度や時間は用いたペーストの溶剤や塗布膜厚によって調整できる。
次に（ｎ）工程において、得られた積層体を露光用フォトマスク２１を用いて最適露光量で一括露光し、第２隔壁ペースト層露光部３０を形成する。上述の下地隔壁ペースト層２０の露光と同様、通常のフォトリソグラフィー法で行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。
次に（ｏ）工程において、下地隔壁ペースト層２０および第２隔壁ペースト層２９を現像して、該下地隔壁パターン３１および側面に電極パターン２８を要する該第１隔壁パターン２５およびこれらを覆う第２隔壁パターン３２からなる積層隔壁パターン３３を形成する。現像は上述の下地隔壁ペースト層２０および感光性電極ペースト層２６からなる積層体の現像と同様の方法で行うことができるが、下地隔壁ペースト層２０の未露光部が溶解する現像液を用いる必要がある。上述のように、下地隔壁ペースト層２０アルカリ現像性の感光性隔壁ペーストを用いた場合はアルカリ水溶液等を用いる。
次に（ｐ）工程において、焼成炉にて積層隔壁パターン３３を一括焼成し、内部に電極を有する隔壁３４を形成する。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
以上のように、本発明のＰＤＰ用部材の製造方法によれば、隔壁断面の高さ方向に高く幅方向に細い電極パターンを形成できるため、対向放電の放電領域を広くとることができ、高精細パターンにおいても対応可能である。
本発明を用いて作製したＰＤＰ用部材は、ＰＤＰの背面板および前面板のどちらにも用いることができる。例として、本発明を用いて作製したＰＤＰ用部材を背面板に用いて、隔壁内の電極を表示（維持）電極とした場合の好ましい構成について以下に説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。
図４に本発明の製造方法により製造したＰＤＰ用部材の第１の構造例を示す。図４では、隔壁の内部構造を示すため、隔壁に一部切り欠き（斜線部）を設けている。
図４に示した第１の構造例では、背面板８は、ガラス基板９上にストライプ状のアドレス電極１０を設け、該アドレス電極を覆うようにして誘電体層１１が設けられている。
さらに、誘電体層１１上に、アドレス電極１０と略平行な主隔壁３２と、アドレス電極１０と略直交する補助隔壁３３からなる隔壁１２が設けられており、補助隔壁３３内にアドレス電極１０と略直交するストライプ状の主電極３４が設けられた構造を有する。
本発明のＰＤＰは一般的な面放電型ではなく対向放電型となる。そのため、面放電型と比較して電極の電極間ギャップを大きくすることが可能で、放電路を長くとることができる。すなわち、陽光柱の生成確率が高くなり、紫外線発生効率、発光効率を高くすることができる。また、これまでの対向放電型ＰＤＰの多くは前面板と背面板間の対向放電であり、放電路長（＝電極間ギャップ）を大きくするためには、より高い隔壁を形成する必要があり、アスペクト比が大きくなり加工精度、歩留まりといった点から現実的ではなかった。また、前面板と背面板の対向放電でアドレスを行う場合、電極間ギャップが長くなり過ぎ、アドレス電圧が高くなり高耐圧ＩＣが必要になりコストが増加してしまう問題もある。このため、対向放電型での電極間ギャップは１００〜１５０μｍ程度であった。
本発明の構造における電極間ギャップは、放電セルの間隔と同程度にすることができる。例えば、４２インチのＶＧＡ（６４０×４８０画素）クラスで０．５ｍｍ程度、ＸＧＡ（１０２４×７６８画素）クラスで０．３ｍｍ程度である。したがって隔壁を高くすることなく、従来の対向放電型に比べて電極間ギャップを２〜３倍以上に長くすることが可能である。また、従来の面放電型と比べても、電極間ギャップは３〜５倍程度にもなる。すなわち、陽光柱の生成を伴なう放電モードにより近くなり、紫外線発生効率を高く、すなわち発光効率を高くすることができる。さらに対向放電となるので、前面板への紫外線損失や隔壁への荷電粒子の損失が低下するので、こういった観点からも発光効率が高くなる。
また、従来の前面板と背面板間の対向放電型では、電極間ギャップ、隔壁高さ、放電空間体積を独立に変えることはできなかったが、本発明の構造では、電極間ギャップを一定にしたまま、隔壁高さを高くすることで放電空間を広くできるので、放電開始電圧を変化させることなく、紫外線発生効率を大きくしたり荷電粒子の拡散損失を少なくするセル設計の自由度が増す。
さらに、電極を前面板に形成する必要がなくなるので、透明誘電体層、透明電極層が不要となり、２０〜３０％ロスしていた蛍光体発光が有効に表示光として利用できるようになる。さらに、これらを形成しなくて済むので、前面板の作成工程が大幅に低減できる。また、前面板にはバス電極も不要となるので、１画素の開口率も大きくすることができる。さらに、これまでバス電極に照射された蛍光体からの発光はほとんどが吸収されて表示は利用されていなかったが、これを有効に利用できるようになるので高輝度化できる。
表示電極層が例えば１０μｍ〜５０μｍ程度の厚膜の場合、表示（維持）電極層の断面形状は矩形に近い方が好ましい。表示（維持）電極層の断面形状が台形または逆台形では、誘電体層である隔壁の側面の膜厚がばらつくため、放電が不安定化することがあり、好ましくない。ここで、逆台形とは底部幅より頂部幅が大きいものをいう。本発明では表示（維持）電極を矩形に形成できるため、厚膜化しても安定した放電が起こる。
図５に本発明の製造方法により製造したＰＤＰ用部材の第２の構造例を示す。図５では、隔壁の内部構造を示すため、隔壁に一部切り欠き（斜線部）を設けている。
図５に示すように、本発明のＰＤＰ部材においては、電極が、ストライプ状の主電極と主電極から互いに向き合う方向に張り出した補助電極を有することが好ましい。これにより、放電開始電圧を下げ、安定な放電を行うことができる。放電開始電圧は、パッシェンの法則（Ｖｆ＝ｆ（ｐ・ｄ）、Ｖｆ：放電開始電圧、ｐ：放電ガス圧、ｄ：電極間距離）により決定される。Ｖｆはｐ・ｄの積に対して極小を示す。電極を隔壁の表面および／または内部に配する場合、前述の通り面放電に比べて電極間距離が長くなり、放電開始電圧が高くなってしまうが、図５に示すように、主電極から互いに向き合う方向に張り出した補助電極を設けることで、放電開始電圧を低くすることができる。なぜならば、補助電極を設けることで、表示電極間隔で部分的に距離を小さくできるので、この補助電極間ギャップ（放電ギャップ）で放電が生じやすくなり、これをトリガーとして主電極間隔の広い放電に繋がる。
放電開始電圧の低減効果、放電の安定性から、補助電極間ギャップは、５０〜８００μｍであることが好ましい。より好ましく、６０〜３００μｍである。さらにより好ましくは、７０〜１５０μｍである。補助電極間ギャップが５０μｍよりも小さい場合、電極間ギャップでの絶縁破壊が生じやすくなる。また、８００μｍよりも大きい場合、放電開始電圧の低減効果が得にくくなる。
主電極間ギャップは、作成する放電セルの大きさによるが１００〜１０００μｍであることが好ましい。より好ましくは、１５０〜６５０μｍである。１００μｍよりも小さい場合、放電空間が狭くなり過ぎて安定した放電が出来なくなる。１０００μｍよりも大きい場合、放電開始電圧が実用上大きく成りすぎるからである。
また、図５には単純なスリットを入れた構造の補助電極を示したが、片側にテーパーをつけもよい。すなわち、隣接する放電セル側にテーパーをつけることによって、隣接の非放電セル（非表示セル）の誤放電を抑えることができる。また、電極間間隔の加工精度の均一性といった点からは、平行なスリット形状が好ましい。
【００２２】
ＡＣ型ＰＤＰの場合、電極は絶縁性の材料で被覆することが必要であるが、補助電極を設けた場合、この補助電極を主電極と同様に隔壁の内部に埋め込むか、隔壁の表面に形成し、後で絶縁性の材料で被覆することがよい。補助電極、主電極を隔壁の表面および／または内部に配する場合、隔壁形状は、ストライプ状ではなく、格子状、ワッフル状が好ましい。より好ましくは格子状の隔壁である。水平方向の画素を仕切る隔壁（主隔壁）の内部に補助電極を形成し、垂直方向の画素を仕切るための隔壁（補助隔壁）の内部に主電極を形成すればよいからである。
本発明のＰＤＰ部材を例えば背面板に用いてＰＤＰを製造する場合について以下に説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。
本発明の背面板及び前面板の基板としては、ソーダガラスの他にＰＤＰ用の耐熱ガラスである旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日本電気硝子社製の“ＰＰ８”を用いることができる。
背面板は、まず、ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極を放電セルのピッチにてストライプ状に形成する。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷する方法や、有機バインダーとして感光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光し、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに、通常４００〜６００℃に加熱・焼成して電極パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロムやアルミニウム等の金属を蒸着した後に、レジストを塗布し、レジストをフォトマスクを用いてパターン露光・現像した後にエッチングにより、不要な部分の金属を取り除くエッチング法を用いることができる。さらに、放電の安定化のためにアドレス電極層の上に誘電体層を設けても良い。
アドレス電極を形成したガラス基板上に本発明の表示電極を内部に設けた隔壁を形成する。隔壁の形状としては、特に限定されないが、図５に示したように補助電極を用いる場合は格子状であることが好ましい。隔壁を形成した後に、パネル化後の真空排気の効率をよくするために、前面側基板とのクリアランスを確保するための隔壁をさらに設けてもよい。
アドレス電極、表示電極を内部に設けた隔壁を形成したガラス基板上に、蛍光体ペーストを用いて蛍光体を形成する。感光性蛍光体ペーストを用いたフォトリソグラフィー法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法等によって形成できる。蛍光体の厚みも特に限定されるものではないが、１０〜３０μｍ、より好ましくは１５〜２５μｍである。蛍光体粉末は特に限定されないが、発光強度、色度、色バランス、寿命などの観点から、以下の蛍光体が好適である。青色は２価のユーロピウムを賦活したアルミン酸塩蛍光体（例えば、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ）やＣａＭｇＳｉ2Ｏ6である。緑色では、パネル輝度の点からＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＹＢＯ3：Ｔｂ、ＢａＭｇ2Ａｌ14Ｏ24：Ｅｕ，Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｍｎが好適である。さらに好ましくはＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎである。赤色では、同様に（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＹＰＶＯ：Ｅｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕが好ましい。さらに好ましくは（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕである。
蛍光体を形成した後に、絶縁性の材料で蛍光体の一部あるいは全てを被覆してもよい。被覆の方法などは、前述の隔壁の被覆のところで記したものと同様であるが、蛍光体を被覆する層の焼成温度は、蛍光体の劣化を最小限にするために５５０℃以下であることが好ましい。より好ましくは５１０℃以下である。
次に、本発明の前面板として究極的には、ガラス基板のみでも可能であるが、ガラス基板表面の耐スパッタ性を向上する目的でガラス基板上に保護膜（例えば、ＭｇＯ膜）を形成したり、明室コントラストを向上させる目的でブラックストライプやブラックマトリックスを形成してもよい。また、表示セルのアドレス電圧やマージンを改善する目的で、前面側にアドレス電極を形成することもできる。
該背面板と該前面板を封着後、２枚の基板間隔に形成された空間を加熱しながら真空排気を行った後に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入して封止する。放電電圧と輝度の両面からはＸｅ５〜１０％−Ｎｅ bal.混合ガスが好ましい。紫外線の発生効率を大きくするために、さらにＸｅを３０％程度まで高くしてもよい。
【実施例】
【００２３】
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。
（感光性隔壁ペーストの作製方法）
有機成分の各成分を混合、溶解し、その後、無機成分を添加し、３本ローラーで混練することによってガラス微粒子および有機成分からなるペーストを作製した。ペーストは遠心脱泡機により脱泡した。作製した感光性隔壁ペーストの有機成分の組成を表１に示す。ガラス粉末は、ガラス転移点４９５℃、軟化点５３０℃、熱膨張係数７５×１０-7／℃、密度２．５４ｇ／ｃｍ3なるものを用いた。表１中の有機成分の詳細は以下の通りであり、感光性隔壁ペースト１はアルカリ現像性、感光性隔壁ペースト２は水現像性である。
【００２４】
【表１】
2009181764.tif 000004
【００２５】
（感光性電極ペーストの作製方法）
有機成分の各成分を５０℃に加熱しながら溶解し、続いて、導電性粒子およびガラス微粒子を添加し、混練機を用いて混練して作製した。導電性粒子としては、感光性電極ペーストに銀粒子（ファインスフェアＳＶＮＤ１０２；日本ペイント株式会社製）を用いた。作製した感光性電極ペーストの有機成分の組成を表１に示す。
ポリマー１：スチレン／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応したもの。アルカリ現像性、重量平均分子量４３０００、酸価９５。
ポリマー２：アクリル酸３０％、メチルメタクリレート４０％、グリセリンモノアクリレート３０％からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．９モル当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させた感光性アクリル系重合体。水現像性、酸価１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量９０００。
ＰＤＰ４００：プロピレングリコールジメタクリレート
ＩＣ３６９：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１
ＴＰＡ３３０：トリメチロールプロパントリアクリレート
Ｓ２００００：ソルスパース２００００
γ−ＢＬ：ガンマブチロラクトン
（下地基板の作製）
５インチ角のガラス基板（ＰＤ−２００；旭硝子株式会社製）上に感光性電極ペーストをスクリーン印刷により塗布・乾燥し、乾燥後厚み１０μｍの塗布膜を得た。その塗布膜をピッチ１６０μｍ、幅５０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて３００ｍＪ／cm2の露光量で露光し、０．１ｗｔ％２−アミノエタノール溶液でシャワー現像を２０秒行い、電極パターンを形成した。次にその電極パターン上に誘電体ペーストをスクリーン印刷により塗布・乾燥し、乾燥後厚み１０μｍの誘電体層を形成し、これを下地基板とした。
（電極パターン幅、高さ測長）
焼成後の補助隔壁を長手方向と垂直に切断し、その断面を走査型電子顕微鏡（日立株式会社製）を用いて観察し、電極の幅、高さを測長した。ここで電極の幅とは補助隔壁断面の横幅方向の幅をいい、電極高さとは補助隔壁断面の高さ方向の幅をいう。
（相対発光効率の測定）
発光効率は次のように求めた。まず、作製したＰＤＰの輝度Ｂ（ｃｄ／ｍ2）を色彩計（ＣＳ−１０００；ミノルタ製）を用いて測定した。この時のＰＤＰに印加されている電力Ｗ（Ｗ）をデジタルパワーメータ（横河電機株式会社製、２５３２）を用いて求めた。そして次式より発光効率ηを求めた。
η＝πＢ・Ｓ／Ｗ
ただし、Ｓは作製したＰＤＰの表示部の面積（ｍ2）である。
比較例２の発光効率を１００とした時の発光効率を相対発光効率とした。
（実施例１）
下地基板上にスリットダイコーターを用いて感光性隔壁ペースト１を乾燥後の下地隔壁ペースト層の厚さが７５μｍになるように塗布し熱風乾燥機を用いて１００℃で６０分乾燥を行った。次にその下地隔壁ペースト層をピッチ４８０μｍ、幅９０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて１２０ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行い、その上にスリットダイコーターを用いて感光性隔壁ペースト２を乾燥後の第１隔壁ペースト層の厚さが７５μｍになるように塗布し熱風乾燥機を用いて１００℃で６０分乾燥を行った。次にその積層体をピッチ４８０μｍ、幅３０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて１５０ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行い、第１隔壁ペースト層（感光性隔壁ペースト２）のみを超純水で２分間シャワー現像し、第１隔壁パターンを形成した。次にノズル塗布にて第１隔壁パターン間に感光性電極ペーストを塗布し熱風乾燥機を用いて乾燥した。
次にピッチ４８０μｍ、幅３０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて３００ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行い第１隔壁パターンの上面のみを露光して、０．１ｗｔ％２−アミノエタノール溶液で１分間シャワー現像し、第１隔壁パターン側面に感光性電極ペーストパターンを形成した。次にスリットダイコーターを用いて感光性隔壁ペースト１を乾燥後の第２隔壁ペースト層の厚さが１０５μｍになるように、積層パターンを覆うように塗布し、熱風乾燥機を用いて１００℃で６０分乾燥を行った。その積層体をピッチ４８０μｍ、幅９０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて２５０ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行い、上記マスクと垂直方向にピッチ１６０μｍ、幅２０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて２００ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行った。その後、０．２ｗｔ％２−アミノエタノール溶液で４分間シャワー現像し、積層格子パターンを形成した。積層格子パターンを５９０℃で焼成し、補助隔壁内に幅２μｍ、高さ４０μｍの電極層が２層形成された格子隔壁を形成できた。
（実施例２）
第１隔壁ペースト層に用いた感光性隔壁ペースト２の代わりに感光性隔壁ペースト１を用いたこと、第１隔壁ペースト層を超純水の代わりに０．２ｗｔ％２−アミノエタノール溶液を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で、補助隔壁内に幅２μｍ、高さ４０μｍの電極層が２層形成された格子隔壁を形成できた。第１隔壁ペースト層の現像時に下地隔壁ペースト層の未露光部が溶解されたため、現像後の下地隔壁ペースト層と第１隔壁パターンの積層パターンが凸型になり、第２隔壁ペースト層が凸型に沿うように形成された。そのため、実施例１と比較して第２隔壁ペースト層表面がフラットではなく、最終的に形成された隔壁も実施例１と比較して頂部が丸みを帯びていた。
（比較例１）
下地基板上にスリットダイコーターを用いて感光性隔壁ペースト１を乾燥後の下地隔壁ペースト層の厚さが１２０μｍになるように塗布し熱風乾燥機を用いて１００℃で６０分乾燥を行った。次にその隔壁層をピッチ４８０μｍ、幅１３０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて６０ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行い、上記マスクと垂直方向にピッチ１６０μｍ、幅２０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて５０ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行った。その上に感光性電極ペーストをスクリーン印刷機を用いて乾燥後の感光性電極ペースト層の厚さが１０μｍの厚さになるよう塗布を行い熱風乾燥機を用いて１２０℃で１０分乾燥を行い、次にその電極層をピッチ４８０μｍ、幅２０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて３００ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行った。上記と同じ条件で感光性電極ペーストの塗布、露光を１０回繰り返した後、０．１ｗ％２−アミノエタノール溶液で２０秒間シャワー現像を行い隔壁層上に電極パターンを形成した。次に隔壁層と電極パターンの積層体上にスリットダイコーターを用いて感光性隔壁ペースト１を乾燥後の第１隔壁ペースト層の厚さが５０μｍになるように塗布し、熱風乾燥機を用いて１００℃で３０分乾燥を行った。その隔壁層をピッチ４８０μｍ、幅１３０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて８０ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行い、上記マスクと垂直方向にピッチ１６０μｍ、幅２０μｍのストライプパターンを有する５インチクロムマスクを用いて６０ｍＪ／cm2の露光量でアライメント露光を行い、０．１ｗｔ％２−アミノエタノール溶液で４分間シャワー現像し、積層パターンを形成できた。積層パターンを５９０℃で焼成し補助隔壁内に幅２０μｍ、高さ２０μｍの電極層が形成された格子隔壁を形成できた。実施例１、２よりも作製プロセスが多くなったが、内蔵電極高さは低くなった。また、実施例１、２よりも電極幅が大きいため補助隔壁の幅が大きくなった。
（実施例３）
プラズマディスプレイを以下の手順で作製した。まず、次にプラズマディスプレイ背面板は以下の手順にて作製した。硝子株式会社製“ＰＤ−２００”ガラス基板（１３インチ）上に、感光性電極ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によりアドレス電極パターンを形成した。次いで、アドレス電極が形成されたガラス基板上に誘電体層をスクリーン印刷法により２０μｍの厚みで形成した。しかる後、実施例１の方法で隔壁内に幅２μｍ高さ４０μｍの電極層が形成された隔壁を形成した。次に蛍光体層をディスペンサー法にて厚さ２０μｍに形成し、焼成して背面板を得た。
次に、 “ＰＤ２００”ガラス基板上に、電子ビーム蒸着法により５００ｎｍ厚のＭｇＯ膜を形成し、プラズマディスプレイ前面板を作製した。作製した前面板と背面板をＰｂＯを主成分とする封着フリットペーストを用いて４５０℃で封着した後、前背面の基板間隔に形成された空間に、キセノンが５体積％のキセノン−ネオン混合ガスの希ガスを４５０ｍｍＨｇの圧力で封入することによって、プラズマディスプレイのパネル部分を作製した。さらに、駆動用のドライバーＩＣを実装することによって、プラズマディスプレイを作製した。作製したＰＤＰを駆動したところ、問題なく画像表示できた。比較例１と比べて隔壁幅が細く主電極の高さが高いため放電空間が拡大し、相対発光効率は２１０であった。
（比較例２）
背面板の隔壁を比較例１の方法で作製したこと以外は実施例３と同様の方法でプラズマディスプレイを作製した。作製したＰＤＰを駆動したところ、問題なく画像表示できた。相対発光効率は１００であった。
実施例１〜３、比較例１〜２の評価結果を表２に示した。
【００２６】
【表２】
2009181764.tif 000005
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】従来の交流（ＡＣ）型プラズマディスプレイの構造を模式的に示す斜視図。
【図２】本発明のディスプレイ用部材の製造方法を模式的に示したフロー図。
【図３】本発明のディスプレイ用部材の製造方法を模式的に示したフロー図。
【図４】本発明の製造方法により製造したＰＤＰ用部材の第１の構造例を模式的に示す斜視図（一部切り欠き図）。
【図５】本発明の製造方法により製造したＰＤＰ用部材の第２の構造例を模式的に示す斜視図（一部切り欠き図）。
【符号の説明】
【００２８】
１：前面板
２：ガラス基板
３：スキャン電極
４：サステイン電極
５：バス電極
６：透明誘電体層
７：ＭｇＯ保護膜
８：背面板
９：ガラス基板
１０：アドレス電極
１１：誘電体層
１２：隔壁
１３：赤色蛍光体
１４：緑色蛍光体
１５：青色蛍光体
１６：感光性ペースト層
１７：露光用ネガ型フォトマスク
１８：感光性ペースト層露光部
１９：感光性ペーストパターン
２０：下地隔壁ペースト層
２１：露光用フォトマスク
２２：下地隔壁ペースト層露光部
２３：第１隔壁ペースト層
２４：第１隔壁ペースト層露光部
２５：第１隔壁パターン
２６：感光性電極ペースト層
２７：感光性電極ペースト層露光部
２８：電極パターン
２９：第２隔壁ペースト層
３０：第２隔壁ペースト層露光部
３１：第１隔壁パターン
３２：第２隔壁パターン
３３：電極内蔵積層隔壁
３４：電極内蔵隔壁
３５：主隔壁
３６：補助隔壁
３７：主電極
３８：補助電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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