(57)【要約】【課題】スライダの表面に塗布された潤滑膜が減少する速度を緩やかにし、磁気ディスク装置に生じるヘッドクラッシュが発生し難くする。【解決手段】浮上面を有するスライダ本体と、前記スライダ本体に設けられた磁気ヘッドと、前記浮上面に形成され、フッ素系の樹脂からなる潤滑層とを有し、前記潤滑層が形成された前記浮上面の表面のうち、一部の領域におけるぬれ性を示す値が、前記一部の領域を除く他の領域におけるぬれ性を示す値よりも高い。【選択図】図４
2009048682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
浮上面を有するスライダ本体と、
前記スライダ本体に設けられた磁気ヘッドと、
前記浮上面に形成され、フッ素系の樹脂からなる潤滑層とを有し、
前記潤滑層が形成された前記浮上面の表面のうち、一部の領域におけるぬれ性を示す値が、前記一部の領域を除く他の領域におけるぬれ性を示す値よりも高い
ことを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項２】
前記一部の領域には、前記他の領域よりも少ない量のエネルギー線が照射されている
ことを特徴とする請求項１に記載のヘッドスライダ。
【請求項３】
前記浮上面が凸部を有し、
前記潤滑層が前記凸部の領域に形成されている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のヘッドスライダ。
【請求項４】
前記磁気ヘッドが前記スライダ本体の空気流出端側に配置され、
前記表面の前記ぬれ性を示す値が、空気流入端側から前記空気流出端側に向かって段階的に増大する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のヘッドスライダ。
【請求項５】
樹脂からなる第１の潤滑層が形成された磁気記録媒体と、ヘッドスライダとを備える磁気ディスク装置であって、
前記ヘッドスライダは、
浮上面を有するスライダ本体と、
前記スライダ本体に設けられた磁気ヘッドと、
前記浮上面に形成され、フッ素系の樹脂からなる第２の潤滑層とを有し、
前記第２の潤滑層が形成された前記浮上面の表面のうち、一部の領域におけるぬれ性を示す値が、前記一部の領域を除く他の領域におけるぬれ性を示す値よりも高い
ことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項６】
前記一部の領域には、前記他の領域よりも少ない量のエネルギー線が照射されている
ことを特徴とする請求項５に記載の磁気ディスク装置。
【請求項７】
浮上面を有するスライダ本体と、前記スライダ本体に設けられた磁気ヘッドとを有するヘッドスライダの製造方法であって、
前記浮上面に、フッ素系の樹脂を塗布する工程と、
前記フッ素系の樹脂が塗布された前記浮上面に対して、エネルギー線を照射する工程とを有し、
前記エネルギー線を照射する工程において、前記フッ素系の樹脂の表面のうち、一部の領域に対して選択的に少ない量のエネルギー線を照射する
ことを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
【請求項８】
前記浮上面が凸部を有し、
前記塗布する工程において、前記凸部の領域に前記潤滑層を形成する
ことを特徴とする請求項７に記載のヘッドスライダの製造方法。
【請求項９】
前記磁気ヘッドが前記スライダ本体の空気流出端側に配置され、
前記エネルギー線の照射量を、空気流入端側から前記空気流出端側に向かって段階的に低減させる
ことを特徴とする請求項７又は８に記載のヘッドスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク装置に搭載されるヘッドスライダ、及び、その製造方法に関し、特に、磁気ディスクに対向する面に潤滑層が形成されたヘッドスライダ、及び、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置では、ヘッドスライダが磁気ディスク（磁気記録媒体）の表面に接触する場合があり、その衝撃によって磁気ディスクの表面がダメージを被る。このようなダメージから磁気ディスクの表面を保護するため、磁気ディスクの表面には、通常、潤滑剤からなる膜が設けられている。しかしながら、この膜はヘッドスライダとの摩擦によって徐々に削られていき、最終的には磁気ディスク表面が露出する箇所が生じる。当該箇所では、磁気ディスク内の磁性体が傷つき易くなり、最悪の場合、ヘッドクラッシュと呼ばれる現象に到る。
【０００３】
磁気ディスクの寿命を延ばすためには、このヘッドクラッシュに到るまでの時間を長くすることが有効である。しかしながら、磁気ディスク装置の記録密度の増大によって、ヘッドとディスクとの隙間を狭小化する必要が生じ、それに伴い、上記潤滑剤からなる膜も薄く形成しなければならない。このような状況下において、このヘッドクラッシュに到るまでの時間を延ばす方法として、ヘッドスライダ側にも潤滑剤からなる膜を設ける技術が知られている（例えば、特許文献１）。なお、このような潤滑剤からなる膜は、「潤滑層」とも呼ばれる。
【０００４】
特許文献１には、ヘッドスライダにおける磁気ディスクに対向する面（以下、「浮上面」という。）の全体に、潤滑層を形成した構成が開示されている。潤滑層は、磁気ディスク表面とヘッドスライダとの間に位置し、ディスク面が受けるダメージを抑制する緩衝材としての機能を果たす。
【特許文献１】特開２００６−１２３７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、磁気ディスクに対する磁気ヘッドの浮上量は徐々に低くなってきており、浮上量が１０ｎｍ以下の装置も開発されつつある。このように、浮上量が低くなるにつれて、ヘッドスライダが磁気ディスク表面に接触する頻度も高くなる。その結果、上述した潤滑膜や潤滑層が削れて薄くなるスピードが速くなり、ヘッドクラッシュに到るまでの期間が短くなる。
【０００６】
また、磁気ヘッドの浮上量に応じて、磁気ヘッドと磁気ディスク内の磁性体との距離も小さくなってきているため、ヘッドスライダの浮上面に設けられる潤滑層を所望の厚さに形成できないという問題もある。潤滑層が薄いと、短い期間で潤滑層が完全に無くなってしまい、その後は、緩衝作用が働かず、潤滑層が薄くなるスピードを抑制することができない。このように、磁気ヘッドの浮上量の低下によって、ディスククラッシュに到るまでの十分な時間を確保することが困難な状況が生じてきている。
【０００７】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり、ヘッドスライダの浮上面に形成された潤滑層の膜厚が減少する速度を緩やかにし、磁気ディスク装置に生じるヘッドクラッシュを発生し難くすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明者等は、浮上面を有するスライダ本体と、前記スライダ本体に設けられた磁気ヘッドと、前記浮上面に形成され、フッ素系の樹脂からなる潤滑層とを有するヘッドスライダを提案する。より詳しくは、前記潤滑層が形成された前記浮上面の表面のうち、一部の領域におけるぬれ性を示す値が、前記一部の領域を除く他の領域におけるぬれ性を示す値よりも高い。
【発明の効果】
【０００９】
このような構成にすることにより、磁気ディスク装置の筐体内に存在する潤滑剤の分子が、ヘッドスライダの浮上面に形成された潤滑層の表面に吸着された後、当該吸着された潤滑剤がぬれ性の差によって一部の領域に移動する。その結果、移動した潤滑剤によって潤滑層の削れた部分が補充され、ヘッドスライダの浮上面に形成された潤滑層の膜厚の減少速度が緩やかになり、磁気ディスク装置に生じるヘッドクラッシュの現象が発生し難くなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施形態は例示であり、実施形態に示された構成に限定されない。
【実施例１】
【００１１】
−磁気ディスク装置−
本発明による磁気ディスク装置の例を、図１を用いて説明する。図１は、本発明の実施例１に係る磁気ディスク装置の内部を示した平面図である。
【００１２】
図１に示した磁気ディスク装置１はハードディスクドライブ（ＨＤＤ：Hard Disk Drive）であり、外装としてハウジング２を有する。ハウジング２の内部には、回転軸３に装着されて回転する磁気ディスク４と、磁気ディスク４に対して情報記録と情報再生を行う磁気ヘッドが搭載されたスライダ５と、スライダ５を保持するサスペンション６と、サスペンション６が固定されてアーム軸７を中心に磁気ディスク４の表面に沿って移動するキャリッジアーム８と、キャリッジアーム８を駆動する電磁アクチュエータ９とが設けられている。なお、ハウジング２にはカバー（図示せず）が取り付けられて、ハウジング２とカバーで形成された内部空間に上述の構成部品が収容される。スライダ５は、ヘッドスライダとも呼ばれる。なお、スライダ５は、アルチック（ＡｌＴｉＣ）材から構成される。アルチック材は、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）と炭化チタン（ＴｉＣ）の焼成物であり、セラミックの一種である。
【００１３】
−磁気ヘッド支持体−
本発明による磁気ヘッド支持体の例を、図２を用いて説明する。なお、磁気ヘッド支持体はＨＧＡ（Head Gimbal Assembly）と呼ばれることもある。図２は、本発明の実施例１に係る磁気ヘッド支持体を示した図である。図２（ａ）が磁気ヘッド支持体の斜視図であり、図２（ｂ）が磁気ヘッド支持体を横から（図２（ａ）に示すＸ方向から）見た図である。
【００１４】
図２に示すように、磁気ヘッド支持体２０とは、一般に、サスペンション６にベースプレート２２及びスライダ５等を取り付けた構造体のことをいうが、ベースプレート２２及びスライダ５を取り付ける前の状態、すなわち、サスペンション６のみを磁気ヘッド支持体２０という場合もある。また、サスペンション６にベースプレート２２又はスライダ５のいずれか一方を取り付けた構造体のことを、磁気ヘッド支持体２０いう場合もある。
【００１５】
ここで、サスペンション６は、例えば厚さ２０μｍのステンレス鋼からなる板状部材である。図に示すように、ベースプレート２２は、サスペンション６のキャリッジアーム８側の一端に接合され、他方の端に設けられた先端部６ｐには、スライダ５が取り付けられる。具体的には、磁気ヘッド５ｈが形成されたスライダ５は、サスペンション６の先端部６ｐに設けられたジンバル（gimbal）６ｇの部分に固定され、磁気ディスク表面４ｃと対向する位置に配置される。
【００１６】
また、図２（ｂ）に示すように、スライダ５の端部には、磁気ヘッド５ｈが形成される。磁気ディスクが矢印Ｃの方向に回転することによって、図２（ｂ）の矢印Ａｉｒの方向から、スライダ５の浮上面５ｆの下側に空気が流入する。そして、この空気の流れによって、スライダ５が浮力を生じ、スライダ５が磁気ディスク４の表面４ｃから浮上する。また、磁気ディスクの表面には、僅かな凹凸があるため、磁気ディスク４が回転している間に、スライダ５が磁気ディスク４の表面４ｃに接触する場合もある。
【００１７】
−スライダ−
本実施例におけるスライダ５を、図を使用して説明する。図３（ａ）及び図３（ｂ）が、本実施例におけるスライダ５の概略形状を示した図である。図３（ａ）は、スライダ５を浮上面５ｆから見た図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）におけるスライダ５を、切断線Ｘ−Ｘ’に沿って切断した場合の断面図である。また、図４に、本実施例に係るスライダ５と磁気ディスク４との位置関係を示す。
【００１８】
図３（ａ）に示すように、スライダ５の浮上面５ｆには、スライダ５が受ける浮力やスライダ５の浮上方向を調節するための凸部５ｃ１〜５ｃ４が存在する。この凸部５ｃ１〜５ｃ４は、図３（ｂ）に示すように、周囲の平坦な面から隆起している部分のことであり、空気軸受け面（ＡＢＳ：Air Bearing Surface）とも呼ばれることもある。本実施例のスライダには、凸部は５ｃ１〜５ｃ４の４箇所存在する。なお、凸部４ｃ１がスライダ５の空気流入側に存在し、凸部５ｃ２〜５ｃ４が空気流出側に存在する。また、スライダ本体５ｂの浮上面５ｆには、凸部５ｃ１〜５ｃ４を覆うように、樹脂からなる潤滑層３０が形成される。潤滑層３０を構成する樹脂は、例えばフッ素系の樹脂である。より具体的には、フッ素系の樹脂としては、例えば図１４に示すパーフルオロポリエーテル等が挙げられる。
【００１９】
潤滑層３０は、図３（ｂ）に示すように、スライダ５の浮上面５ｆの全体に亘って形成されている。潤滑層３０の一部の領域３０ｔは、当該一部の領域３０ｔを除いた他の領域（すなわち、一部の領域３０ｔの周囲の領域）３０ｔ’よりも、ぬれ性を示す値が大きい。このように、潤滑層３０には、表面のぬれ性の異なる領域が存在する。なお、ぬれ性を示す値としては、例えば、表面張力や、表面自由エネルギー（ＳＦＥ：Surface Free Energy）等の値が使用可能である。ここで、一部の領域３０ｔのＳＦＥ値であるγが、他の領域３０ｔ’のＳＦＥ値であるγ’よりも大きい、すなわち、γ＞γ’の関係にある。
【００２０】
次に、図４を使用して、スライダ５と磁気ディスク４との位置関係を説明する。まず、磁気ディスク４について説明する。図４に示すように、磁気ディスク４の表面には、潤滑層４０が形成されている。この潤滑層４０によって、外部から受ける衝撃等から磁気ディスクの表面が保護される。潤滑層４０は、例えば０．９ｎｍの厚さを有している。また、潤滑層４０を構成する潤滑剤の材料としては、例えば、図１４に示すパーフルオロポリエーテルが挙げられる。なお、ここでのパーフルオロポリエーテルは、その末端基Ｒが、例えば、水酸基を含む極性基（−ＣＨ２ＯＨ、或いは、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＨ）であるものが使用可能である。
【００２１】
磁気ディスク４が矢印Ｃ方向に回転を始めると、図４に示すように、スライダ５は、流入する空気の作用で、磁気ヘッド５ｈが磁気ディスクの表面に近づくようにやや傾斜して浮上する。なお、図４に示すように、本実施例のヘッドスライダ５では、空気流出側に磁気ヘッド５ｈが搭載されている。磁気ディスク装置１におけるハウジング２の内部には、磁気ディスク４の表面に形成された潤滑層４０から蒸発した潤滑剤の分子が存在する。そして、図４の矢印ｒｐに示すように、当該潤滑剤の分子が、ヘッドスライダ５の浮上面５ｆに形成された潤滑層３０の表面に付着する。その後、付着した潤滑剤３２が、矢印ｍの方向に移動する。
【００２２】
ここで、例えば、潤滑層４０の表面のＳＦＥ値は１７〔ｍＮ／ｍ〕であり、潤滑層３０が形成されたヘッドスライダ５の浮上面５ｆのＳＦＥ値は２２〔ｍＮ／ｍ〕である。ハウジング２の内部に存在する潤滑剤の分子の一部は、潤滑層４０や潤滑層３０の表面に対して、付着や蒸発を繰り返している。したがって、ハウジング２の内部に存在する潤滑剤の分子が、潤滑層３０に付着する率が高まるようにするために、潤滑層３０が形成されたヘッドスライダ５の浮上面５ｆのＳＦＥ値を、潤滑層４０の表面のＳＦＥ値より大きな値にするか、あるいは可能な限り近づけることが望ましい。このような構成にすることにより、潤滑剤の分子が、高いぬれ性を示す潤滑層３０側に多く付着する。その結果、潤滑層４０の表面から潤滑剤が蒸発した際に、潤滑剤分子の潤滑層３０側への付着が促進されて、潤滑層３０表面に、潤滑剤３２が継続して供給されることになる。
【００２３】
−ヘッドスライダに潤滑層を形成する方法−
次に、本実施例におけるヘッドスライダ５に潤滑層３０を形成する方法を、図を用いて説明する。図５は、ヘッドスライダ５にフッ素系の樹脂を塗布する工程を示す図であり、図６は、塗布したフッ素系の樹脂に紫外線を照射する工程を示す図である。潤滑層３０を形成する方法としては、以下に示すように、樹脂の塗布工程、エネルギー線照射工程および非結合樹脂の除去工程という３工程を含む。
【００２４】
工程１：樹脂の塗布工程
本工程では、図５に示すように、浸漬法を用いて、スライダ５の表面に樹脂の膜を形成する。先ず、左側の図のように、樹脂の溶液５３を入れた容器５１を用意する。次に、中央の図のように、スライダ５を樹脂の溶液の中に浸漬させる。この浸漬の工程は、例えば、スライダ５をサスペンション６に取り付けた状態で行なう。次に、紙面に向かって左側の図のように、スライダ５を樹脂の溶液５３から引き上げる。このようにして、スライダ５の表面全体に樹脂からなる膜（不図示）が塗布される。本実施例では、樹脂の溶液として、例えば、図１４に示すパーフルオロポリエーテルの溶液を用いる。なお、ここでのパーフルオロポリエーテルは、その末端基Ｒが、例えばトリフロロメチル基（−ＣＦ３）や、水酸基を含む極性基（−ＣＨ２ＯＨ、或いは、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＨ）であるものが使用可能である。
【００２５】
工程２：エネルギー線照射工程
本工程では、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、工程１で塗布した樹脂からなる膜３０aにエネルギー線を照射する。詳細には、先ず、図６（ａ）に示すように、磁気ヘッド５ｈ近傍の一部の領域３０ｔが遮光されたフォトマスク５５ａを用意する。そして、フォトマスク５５ａを用いて、樹脂からなる膜３０ａにエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、紫外線等の高エネルギーを有する光線が有効である。なお、本実施例では、エネルギー線として、例えば中心波長が１７２ｎｍのキセノンエキシマ光線を使用する。そして、キセノンエキシマ光線の照射を、例えば１０秒間行なう。この照射によって、上記一部の領域３０ｔを除いた領域（他の領域３０ｔ’）について、樹脂からなる膜３０ａが硬化するとともに、スライダ５の表面と結合する。
【００２６】
次に、図６（ｂ）に示すように、他の領域３０ｔ’が遮光されたフォトマスク５５ｂを用意する。そして、フォトマスク５５ｂを用いて、再び、キセノンエキシマ光線の照射を、例えば３秒間行なう。この照射によって、一部の領域３０ｔについて、樹脂からなる膜３０ａが硬化するとともに、スライダ５の表面と結合する。なお、このエネルギー照射工程は、窒素雰囲気中で行なわれる。
【００２７】
工程３：非結合樹脂の除去工程
最後に、スライダ５の表面と結合していない樹脂を除去する。具体的には、エッチング溶液を溶媒として用いた浸漬法により、スライダ５の表面と結合していない樹脂を除去する。なお、本実施例では、エッチング溶液として、例えば、２，３−ジハイドロデカフルオロペンタンを用いる。このように、スライダ５の表面と結合していない樹脂膜を除去することによって、スライダ５の浮上面５ｆに潤滑層３０が形成される。
【００２８】
−検証結果１−
次に、実際にスライダ５を用意し、工程１〜工程３までの処理を行なった結果について説明する。図７は、工程１〜工程３までの処理を行なった場合におけるスライダ５の表面のぬれ性の変化を示した表である。ここで、スライダ５としては、図３に示したスライダと同様の形状を有するスライダを使用し、ぬれ性を示す値としてはＳＦＥの値を使用した。また、表中、ＡＢＳ１とは、浮上面５ｆにおける空気流出側の凸部（凸部５ｃ２〜５ｃ４）を含む領域のことである。また、表中のＡＢＳ２とは、浮上面５ｆにおける空気流入側の凸部（凸部５ｃ１）を含む領域のことである。処理前とは、工程１〜工程３までの処理を行なう前の状態のことであり、処理後とは、工程１〜工程３までの処理を行なった後の状態のことである。
【００２９】
図７の表から、工程１〜工程３に処理を行なうことによって、ＡＢＳ１の領域とＡＢＳ２の領域におけるＳＦＥ値が、処理前と比べて小さくなっている。すなわち、ヘッドスライダ５にフッ素系の樹脂を塗布することによって、塗布された表面がぬれ難い状態に変化する。それとともに、ＡＢＳ１の領域とＡＢＳ２の領域とのＳＦＥ値の間に、約６〔ｍＮ／ｍ〕程度の差を生じた。具体的には、ＡＢＳ１の領域のＳＦＥ値が、ＡＢＳ２の領域よりも約６〔ｍＮ／ｍ〕程度大きくなっている。この差は、ＡＢＳ２の領域に対して照射したエネルギー線の量が、ＡＢＳ１の領域に照射したエネルギー線の量よりも少ないために生じた現象であると推測される。
【００３０】
また、工程１〜工程３の処理後に、ＡＢＳ１とＡＢＳ２の領域について、潤滑層３０の膜厚測定を行なった。その結果、ＡＢＳ１の領域の膜厚Ｔ１が０．１２ｎｍであり、ＡＢＳ２の領域の膜厚Ｔ２が０．２７ｎｍであった。当該膜厚は、偏光解析（エリプソメータ：ellipsometer）法を用いて計測した。なお、このようにエネルギー線の照射量の違いによってＳＦＥ値や膜厚に差が生じる理由は不明であるが、膜厚は膜の分子密度に依存するため、以下のような潤滑層３０における膜の分子密度の差が要因であると推測される。この理由を、説明の便宜上、モデル化した図を使用して説明する。図８は、工程１〜工程３の処理を行なった後の潤滑膜３０の状態をモデル化して示した図である。図８に示すように、エネルギー線を多量に照射したＡＢＳ２の領域（拡大図Ｂ）では、潤滑層３０の分子密度が大きい状態になっており、一方、少量のエネルギー線を照射したＡＢＳ２の領域（拡大図Ａ）では、潤滑層３０の分子密度が小さい状態になっていることが予想される。このような樹脂膜の分子密度の差によって膜厚やぬれ性を示すＳＦＥ値に差が生じているものと推測される。
【００３１】
次に、ＳＦＥ値の差によって、潤滑層３０の表面に付着した潤滑剤３２が、当該表面上で移動する仕組みを説明する。図９は、当該仕組みを示した図である。図９に示すように、ぬれ性を示す値であるＳＦＥ値が小さい（すなわち、ぬれ難い）表面Ａを有する部材４１と、ぬれ性を示す値であるＳＦＥ値が大きい（すなわち、ぬれ易い）表面Ｂを有する部材４２とが接している場合を想定する。ここで、表面Ａの表面自由エネルギー値をγＳＡとし、表面Ｂの表面自由エネルギー値をγＳＢとする。このとき、表面Ａと表面Ｂの境界に付着した潤滑剤３２には、式（Ａ）で示したＦが働く。式（Ａ）より、γＳＡとγＳＢとの差が大きい程、式（Ａ）中のＡ’の部分の値が大きくなるため、潤滑剤３２を移動させる力Ｆが強くなることが分かる。ここで、γＬは、潤滑剤３２のＳＦＥ値である。
【００３２】
図１０は、図９に示した式（Ａ）を求める計算式である。先ず、図９に示した状態で、潤滑剤３２がＸ方向にｄｘ移動した場合のエネルギー変化ｄＵを考えると、ｄＵは式（Ｂ）のように表される。ここで、γＳＬは、部材４１、４２の表面、すなわち、潤滑剤３２と部材４１、４２の界面におけるＳＦＥ値である。また、γＳＬは式（Ｃ）のように表される。この式（Ｃ）の両辺からγＳを引くと、式（Ｄ）のように変形することができる。次に、この式（Ｄ）を式（Ｂ）に代入し、式（Ｅ）のような結果を得る。最後に式（Ｅ）から式（Ａ）が導き出される。
【００３３】
−検証結果２−
次に、光線照射時間の長さ等の条件を変えて潤滑層３０を形成し、当該潤滑層３０の膜厚を求めた結果を示す。図１１は、表中の１〜６の形成条件で工程１〜工程３までの処理を行ない、形成した潤滑層３０の膜厚を求めた結果を示したものである。なお、ここでの膜厚は、公知の偏光解析法を用いて計測した。図１１に示すように、溶液の濃度や引き上げ速度の条件にかかわらず、光線照射時間が長いほど、潤滑層３０の膜が厚く形成されることが分かる。
【００３４】
−検証結果３−
図１２は、潤滑層３０の膜厚と、潤滑層３０が形成されたスライダ５の表面のＳＦＥ値との関係を示した図である。なお、ここでは、浮上面５ｆにおけるＳＦＥ値が４２〔ｍＮ／ｍ〕のスライダ５を使用した。図１２のグラフにより、潤滑層３０の膜厚が小さくなるにつれて、潤滑層３０のＳＦＥ値が増大する傾向にあることが分かる。ここで、図１２における潤滑層３０の膜厚は、検証結果２と同様、公知の偏光解析法を用いて測定した。また、ＳＦＥの値は、公知であるＦｏｗｋｅｓの式を用いて算出する方法により求めた。なお、このＦｏｗｋｅｓの式を用いて算出する方法は、特開２００６−１２３７７号公報の段落〔００４１〕〜〔００４８〕に開示されている。
【００３５】
−比較実験−
次に、工程１〜工程３の処理を施した場合と、処理を施さない場合について、耐久性を比較した結果を示す。比較の方法としては、先ず、工程１〜工程３の処理を施したスライダ５５（不図示）と、当該処理を施していないスライダ５６（不図示）とを用意する。なお、工程１〜工程３の処理を施していないスライダには、樹脂の塗布工程（工程１）を行なった後、エネルギー線照射工程（工程２）において、波長が１７２ｎｍのキセノンエキシマ光線を、工程１で塗布した樹脂の全体に亘って１０秒間照射させる。すなわち、潤滑層３０が形成された表面におけるぬれ性を示す値を一様にする。
【００３６】
次に、磁気ディスク４にスライダ（スライダ５５或いはスライダ５６）を接触させた状態で、磁気ディスク４を回転させ、磁気ディスク４が破損に到る迄の期間を測定した。なお、本測定は、大気圧よりも低い環境下で行なった。
【００３７】
その結果、工程１〜工程３の処理を施していないスライダ５６は、磁気ディスク４が５９１００回転で破損に到った。それに対して、当該処理を施したスライダ５５では、磁気ディスク４が８１４００回転で破損に到った。このように、本実施例の処理を施すことによって、耐久性が増加することが確認された。
【実施例２】
【００３８】
実施例２は、図１３に示すように、潤滑層３０が形成された領域内の一部の領域３０ｔについて、ぬれ性を示す値を段階的に変えた例である。なお、その他の構成については実施例１と同様である。図１３は、実施例２に係るスライダ５を、浮上面５ｆ側から見た図である。
【００３９】
図１３に示した領域３０ｔ１〜領域３０ｔ４は、ぬれ性を段階的に変えた各領域である。これら領域３０ｔ１〜領域３０ｔ４に対しては、硬化のために照射されるキセノンエキシマ光線の照射量γを下記のように変えている。このように、本実施例では、領域３０ｔ１〜領域３０ｔ４の順に、エネルギー線の照射時間を徐々に短くする。その結果、潤滑層３０が形成された表面のＳＦＥ値は、領域３０ｔ１〜領域３０ｔ４の順に段階的に大きくなっている。
【００４０】
領域３０ｔ１’：エネルギー線の照射時間＝６０〔ｓ〕、ＳＦＥ値γ１＝１４．３〔ｍＮ／ｍ〕
領域３０ｔ１：エネルギー線の照射時間＝４０〔ｓ〕、ＳＦＥ値γ１＝１６．４〔ｍＮ／ｍ〕
領域３０ｔ２：エネルギー線の照射時間＝２０〔ｓ〕、ＳＦＥ値γ２＝１７．９〔ｍＮ／ｍ〕
領域３０ｔ３：エネルギー線の照射時間＝１０〔ｓ〕、ＳＦＥ値γ３＝２２．２〔ｍＮ／ｍ〕
領域３０ｔ４：エネルギー線の照射時間＝３〔ｓ〕、ＳＦＥ値γ４＝２７．６〔ｍＮ／ｍ〕
【００４１】
このように、実施例２においては、図１３に示すように、潤滑層３０が形成された領域内の一部の領域３０ｔについて、ぬれ性を示す値を段階的に変えるような構成とする。具体的には、外側の領域から内側の領域になるに従って、段階的により高いぬれ性を示すようにする。なお、必ずしも上記のような構成である必要はなく、潤滑層３０が形成された領域、或いは、その一部の領域３０ｔ内において、空気流入端（スライダ５における空気流入側の端部）から空気流出端（スライダ５における空気流出側の端部）に向かって、段階的により高いぬれ性を示すような領域が存在すれば良い。その結果、潤滑層３０の表面において、広い範囲から樹脂の分子が磁気ヘッド５ｈの近傍に集まり、潤滑層３０の削れた部分をより効率的に補充することが可能になる。
【００４２】
以上、本発明の特徴を詳述した。本発明の好ましい諸形態を付記すると、以下の通りである。
（付記１）
浮上面を有するスライダ本体と、
前記スライダ本体に設けられた磁気ヘッドと、
前記浮上面に形成され、フッ素系の樹脂からなる潤滑層とを有し、
前記潤滑層が形成された前記浮上面の表面のうち、一部の領域におけるぬれ性を示す値が、前記一部の領域を除く他の領域におけるぬれ性を示す値よりも高い
ことを特徴とするヘッドスライダ。
（付記２）
前記一部の領域には、前記他の領域よりも少ない量のエネルギー線が照射されている
ことを特徴とする付記１に記載のヘッドスライダ。
（付記３）
前記浮上面が凸部を有し、
前記潤滑層が前記凸部の領域に形成されている
ことを特徴とする付記１又は２に記載のヘッドスライダ。
（付記４）
前記浮上面におけるぬれ性を示す値が、前記フッ素系の樹脂のぬれ性を示す値よりも大きい
ことを特徴とする付記１乃至３のいずれかに記載のヘッドスライダ。
（付記５）
前記エネルギー線は紫外線である
ことを特徴とする付記１乃至４のいずれかに記載のヘッドスライダ。
（付記６）
前記フッ素系の樹脂はパーフルオロポリエーテルである
ことを特徴とする付記１乃至５のいずれかに記載のヘッドスライダ。
（付記７）
前記磁気ヘッドが前記スライダ本体の空気流出端側に配置され、
前記表面の前記ぬれ性を示す値が、空気流入端側から前記空気流出端側に向かって段階的に増大する
ことを特徴とする付記１乃至６のいずれかに記載のヘッドスライダ。
（付記８）
前記ぬれ性は、表面自由エネルギー値である
ことを特徴とする付記１乃至７のいずれかに記載のヘッドスライダ。
（付記９）
樹脂からなる第１の潤滑層が形成された磁気記録媒体と、ヘッドスライダとを備える磁気ディスク装置であって、
前記ヘッドスライダは、
浮上面を有するスライダ本体と、
前記スライダ本体に設けられた磁気ヘッドと、
前記浮上面に形成され、フッ素系の樹脂からなる第２の潤滑層とを有し、
前記第２の潤滑層が形成された前記浮上面の表面のうち、一部の領域におけるぬれ性を示す値が、前記一部の領域を除く他の領域におけるぬれ性を示す値よりも高い
ことを特徴とする磁気ディスク装置。
（付記１０）
前記一部の領域には、前記他の領域よりも少ない量のエネルギー線が照射されている
ことを特徴とする付記９に記載の磁気ディスク装置。
（付記１１）
浮上面を有するスライダ本体と、前記スライダ本体に設けられた磁気ヘッドとを有するヘッドスライダの製造方法であって、
前記浮上面に、フッ素系の樹脂を塗布する工程と、
前記フッ素系の樹脂が塗布された前記浮上面に対して、エネルギー線を照射する工程とを有し、
前記エネルギー線を照射する工程において、前記フッ素系の樹脂の表面のうち、一部の領域に対して選択的に少ない量のエネルギー線を照射する
ことを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
（付記１２）
前記浮上面が凸部を有し、
前記塗布する工程において、前記凸部の領域に前記潤滑層を形成する
ことを特徴とする付記１１に記載のヘッドスライダの製造方法。
（付記１３）
前記浮上面におけるぬれ性を示す値が、前記フッ素系の樹脂のぬれ性を示す値よりも大きい
ことを特徴とする付記１１又は１２に記載のヘッドスライダの製造方法。
（付記１４）
前記エネルギー線は紫外線である
ことを特徴とする付記１１乃至１３のいずれかに記載のヘッドスライダの製造方法。
（付記１５）
前記フッ素系の樹脂はパーフルオロポリエーテルである
ことを特徴とする付記１１乃至１４のいずれかに記載のヘッドスライダの製造方法。
（付記１６）
前記磁気ヘッドが前記スライダ本体の空気流出端側に配置され、
前記エネルギー線の照射量を、空気流入端側から前記空気流出端側に向かって段階的に低減させる
ことを特徴とする付記１１乃至１５のいずれかに記載のヘッドスライダの製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１は、実施例１に係る磁気ディスク装置１の内部を示す平面図である。
【図２】図２（ａ）及び図２（ｂ）は、実施例１に係る磁気ヘッド支持体２０を示す図である。
【図３】図３（ａ）及び図３（ｂ）は、実施例１に係るスライダ５の概略形状を示す図である。
【図４】図４は、実施例１に係るスライダ５と磁気ディスクとの位置関係を示す図である。
【図５】図５は、スライダ５にフッ素系の樹脂を塗布する工程を示す図である。
【図６】図６（ａ）及び図６（ｂ）は、塗布したフッ素系の樹脂に紫外線を照射する工程を示す図である。
【図７】図７は、工程１〜工程３までの処理を行なった場合におけるスライダ５の表面のぬれ性の変化を示す表である。
【図８】図８は、工程１〜工程３の処理を行なった後の潤滑層３０の状態を示すモデルである。
【図９】図９は、潤滑層３０の表面に付着した樹脂が移動する仕組みを説明する図である。
【図１０】図１０は、式（Ａ）を求める計算式である。
【図１１】図１１は、工程１〜工程３までの処理を行なった結果を示す図である。
【図１２】図１２は、潤滑層３０の膜厚と、潤滑層３０が形成されたスライダ５の表面の表面自由エネルギー値との関係を示す図である。
【図１３】図１３は、実施例２に係るスライダ５を示す図である。
【図１４】図１４は、パーフルオロポリエーテルの化学式を示すである。
【符号の説明】
【００４４】
１…磁気ディスク装置
２…ハウジング
３…回転軸
４…磁気ディスク
４Ｃ…磁気ディスクの表面
５…スライダ
５ｂ…スライダ本体
５ｃ１〜５ｃ４…凸部
５ｆ…浮上面
５ｈ…磁気ヘッド
６…サスペンション
６ｇ…ジンバル
６ｐ…先端部
７…アーム軸
８…キャリッジアーム
９…電磁アクチュエータ
２０…磁気ヘッド支持体
２２…ベースプレート
３０、４０…潤滑層
３２…潤滑剤
３０ａ…樹脂からなる層
３０ｔ…一部の領域
３０ｔ１〜３０ｔ４…領域
４１、４２…部材
５１…容器
５３…樹脂の溶液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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