(57)【要約】 【課題】  本発明の目的は、光入射面側基板外径よりも外側に存在する転写層部分をレーザー光を照射することで取り除く方法において、レーザー光照射位置の調整をより正確にし、且つ、短時間のレーザー光照射で転写層部分の処理が可能な、より生産性の向上した製造方法を提供することにある。【解決手段】  光透過性スタンパにより成型された転写層を形成し、転写層からの光透過性スタンパの剥離の後に、基板の外径より外側にはみ出した転写層を画像センサーにより大きさと位置を認識し、且つ、その大きさと位置に追随してレーザー光を照射し取り除く。【選択図】 図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２層以上の記録層を有する光情報記録媒体の製造方法において、第１記録層を有する第1基板上に光透過性スタンパによって2Ｐ法により作製された転写層を形成し、前記転写層からの光透過性スタンパの剥離の後に、第1基板の内径を中心にして回転させながら、前記転写層のうち第1基板の外径より外側にはみ出した領域を照明手段により照明し、且つ、前記領域を画像センサーで撮像して画像処理装置により第1基板の外径より外側にはみ出した転写層の大きさと位置を認識し、その大きさと位置に追随してレーザー光を照射して前記第1基板の外径より外側にはみ出した領域を取り除くことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法において、第１基板の外径より外側にはみ出した転写層を、レーザー光を照射して取り除いた後に、再び第１基板の内径を中心にして回転させながらレーザー光処理後の外周部転写層を照明手段により照明し且つ画像センサーで撮像し、画像処理装置により外周部転写層の大きさと位置を認識することを特徴とする光情報記録の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法において、再び画像処理装置により認識した情報を元に、次のレーザー処理方法へフィードバックするシステムを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体に関し、より詳しくは、２層以上の記録再生を可能とした光情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、文字、図形等のデータを記録し再生可能な光情報記録媒体として、ＣＤ−Ｒ／ＣＤ−ＲＷ等が知られている。また、ＣＤ（コンパクトディスク）に比べて数倍の記録容量を有するＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）が、映画等の画像や音声等の情報を記録した情報記録媒体として、広く使用されているようになっている。このＤＶＤには、ユーザ側で情報の記録を１回に限り行えるＤＶＤ−Ｒ（追記型のデジタル多用途ディスク）や、情報の書換えが可能なＤＶＤ−ＲＷ（書換え可能型のデジタル多用途ディスク）が既に製品化され、大容量の光情報記録媒体として、広く一般化されている。
【０００３】
近年、情報通信機器の発達に伴い、光情報記録媒体に対して大容量化の要求が著しい。光情報記録媒体の大容量化としては、記録再生レーザの短波長化、光学系におけるレンズの高ＮＡ化、トラックピッチの狭小化、記録トラックのランド及びグルーブへの記録、そして記録層の多層化等が積極的に行われている。
【０００４】
記録層の多層化はディスク寸法を変えることなく記録層の面積を容易に増やせ、さらに光学系におけるレンズの高ＮＡ化による対物レンズの開発、面ブレ抑制のための生産技術、防汚性確保のためのカートリッジ等が不要というメリットがある。
【０００５】
記録層の多層化として、特に２個の記録層を設ける２層化の方法としては、いわゆる２Ｐ法が知られている。２Ｐ法は、光入射側の基板に形成した第１記録層と半透明反射層の上に、光硬化性の樹脂を塗布して光透過性スタンパを押し当て光照射により硬化した後、光透過性スタンパを剥がして溝パターンを転写し、その上に第２記録層を形成する方法である。（特許文献1参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−１６６２４１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで特許文献1では、「光入射面側基板の外径よりも外側に存在する転写層部分を、レーザー光を照射することにより取り除く方法」が記載されている。さらにその一実施例としては、「光入射面側基板に転写層が形成され、且つ、光透過性スタンパが貼り合せされた状態において、光入射面側基板外径端部より外側の転写層にレーザー光を照射し取り除く方法」が挙げられている。
【０００８】
しかしながら、本発明者が検討したところ、上記の方法では、光入射面側基板の外径の近傍にレーザー光を照射する必要があり、「レーザー光を当てる位置の調整が困難である」、また「レーザー光を照射した転写層の反対面側に光透過性スタンパがあるため、レーザー光照射による熱エネルギーの損失が大きく、転写層の処理に時間かかる」といった生産性に問題があることが判明した。
【０００９】
本発明は、上記事情を考慮してなされたものである。
【００１０】
即ち、本発明の目的は、光入射面側基板外径よりも外側に存在する転写層部分をレーザー光を照射することで取り除く方法において、レーザー光照射位置の調整をより正確にし、且つ、短時間のレーザー光照射で転写層部分の処理が可能な、より生産性の向上した製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述した課題を解決するために、本発明者の鋭意検討の結果、2Ｐ法により作製された2層以上の記録層を有する光情報記録媒体の製造方法において、第1記録層を有する第1基板上に光透過性スタンパにより成型された転写層を形成し、第1基板からの光透過性スタンパの剥離の後に、第1基板の外径より外側にはみ出した転写層を画像センサーにより大きさと位置を認識し、且つ、その大きさと位置に追随してレーザー光を照射し取り除く光情報記録媒体の製造方法となる。
【００１２】
さらに第1基板の外径より外側にはみ出した転写層をレーザー光を照射して処理した後に、再び画像センサーにより外周部転写層の大きさと位置を認識し、この情報を順次生産品のレーザー光照射条件にフィードバックするシステムを有する光情報記録の製造方法となる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、第1基板外径よりも外側に存在する転写層部分をレーザー光を照射することで取り除く方法において、あらかじめ画像センサーにより転写層の大きさと位置情報を取得しているためレーザー光照射位置とレーザー光照射時間の調整が容易になり、生産性を向上できる。
【００１４】
また、レーザー光照射後の外周部転写層の状態を再び画像センサーにより大きさと位置を認識し、この情報を順次生産品のレーザー光照射条件にフィードバックできるため安定して良品を生産することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
【００１６】
図１は、本実施の形態が適用される光情報記録媒体を説明する図である。図１には、有機色素を含む記録層を２個有し、２Ｐ法により形成した２層型の光情報記録媒体が示されている。
【００１７】
図１は、２層型の光情報記録媒体断面概略図である。図１に示すように円盤状の光情報記録媒体は、記録再生光の光入射側から見て手前側の第１の透明基板１を有する第１層（Ｌ０層）と、記録再生光の光入射側から見て奥側の第２の転写層３を有する第２層（Ｌ１層）とから構成されている。
【００１８】
本実施の形態が適用される光情報記録媒体は、後述するように、有機色素を含む２層の記録層を有し、片面から、例えば、波長４０５±５ｎｍの記録再生光が入射し、光入射面側から見て手前側の第１層（Ｌ０層）である第１記録層５と、奥側の第２層（Ｌ１層）である第２記録層７とに記録再生を行なう２層型光情報記録媒体である。
【００１９】
図１に示すように、２Ｐ法により形成する２層型の光情報記録媒体は、光入射面側の第１の透明基板１に形成した第１記録層５と半透明反射層６の上に、光硬化性の樹脂を塗布して光透過性スタンパを押し当て光照射により硬化した後、光透過性スタンパを剥がして溝パターンを転写し形成した転写層３、その上に第２記録層７と反射層８を形成し、さらに接着剤４により、ダミー基板２と向かい合わせに貼り合せて製造する。
【００２０】
次に、本実施の形態が適用される光情報記録媒体図１を構成する各層について説明する。
（第１の透明基板１、ダミー基板２）
第１の透明基板１に用いられる材料は、透明かつ複屈折率が小さい等の光学特性に優れ、さらに射出成形等の成形性に優れた材料が好ましい。また、吸湿性が小さいことが好ましい。具体的にはポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が例示できるがこれらに限定されるものではない。
【００２１】
ダミー基板２は機械的安定性が高く、剛性が大きく、さらに射出成形等の成形性に優れた材料が好ましい。また、吸湿性が小さいことが好ましい。但し、ダミー基板２は、第１の透明基板１のように透明性や光学特性を備える必要はない。このような材料としては、第１の透明基板１に用いうる材料と同じものが用い得るほか、ＡＢＳ樹脂、フィラー含有エポキシ樹脂、Ａｌを主成分とした、例えば、Ａｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板等を用いることができる。
【００２２】
第１の透明基板１は、一方の面に螺旋状又は同心円状にトラッキング用の溝が形成されている。溝はサーボ用に溝が一定周期でウォブルしたり、アドレス用にウォブル周期が変調していたりしてもよい。また、管理情報等を形成するために、ピットが設けられていても良い。
【００２３】
本実施の形態において、第１の透明基板１は、原盤及びスタンパを作製し、射出成形により作製することが好ましい。
【００２４】
本実施の形態が適用される光情報記録媒体においては、第１の透明基板１及びダミー基板２の材料として、透明かつ複屈折率が小さい等の光学特性に優れたポリカーボネート樹脂を使用した。
また、第１の透明基板１のエンボス溝（グルーブ）の形状は、トラックピッチ０．４μｍ、溝幅２００ｎｍ〜２４０ｎｍ、溝深さ４０ｎｍ〜８０ｎｍである。
（第１記録層５と第２記録層７）
即ち、第１記録層５と第２記録層７に含まれる有機色素は、波長４０５ｎｍ程度の青色レーザ照射で生じる分解反応により光吸収率が低下し、その結果、形成される記録マーク部分の光反射率が、青色レーザ照射前の光反射率よりも高くなるという「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を実現している。
【００２５】
このような有機色素としては、例えば、シアニン色素、メロシアニン色素、スクアリウム色素、アントラキノン系色素、トリアリールメタン色素、ピリリウム色素、アゾ色素、含金属アゾ色素、フタロシアニン色素、ポリフィリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリリウム色素、ピロメテン系色素、ホルマザン金属錯体系色素アヌレン系色素等が例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００２６】
また、クエンチャーや他の色素、添加剤、高分子（例えば、ニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー）、金属微粒子等を含んでいても良い。第１記録層５と第２記録層７は、上記の有機色素及び任意の添加剤を、公知の有機溶媒（例えば、テトラフルオロプロパノール、ケトンアルコール、アセチルアセトン、メチルセルロブ、トルエン等）で溶解・溶媒和したものを第１の透明基板１あるいは光透過性スタンパにより溝パターンを転写し形成した転写層３上に形成される。
【００２７】
第１記録層５と第２記録層７の形成手段としては、スピンコート法を用いるが、スピンコート条件は内周から外周にかけて、回転数を３００ｒｐｍ〜５０００ｒｐｍの間で数条件組み合わせて行えばよく、これらのスピンコート条件、色素溶液の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することにより、第１記録層５と第２記録層７の膜厚を制御できる。
【００２８】
本実施の形態では、有機色素溶液の濃度を調整して第１記録層５の膜厚を３０ｎｍ〜６０ｎｍ、第２記録層７の膜厚を３０ｎｍ〜６０ｎｍになるように作製している。
（半透明反射層６）
第１の透明基板１の第１記録層５上に形成する半透明反射層６は、光の吸収が小さく光の透過率が３０％以上あり、かつ適度な光の光反射率があることが望ましい。たとえば光反射率の高い金属膜を薄くすることで適当な透過率と光反射率をバランスすることができる。また、半透明反射層６は薄いので、耐食性のある材料が望ましい。さらに、中間層３への有機色素の侵み出しを防ぐために遮蔽性を持つことが好ましい。
【００２９】
半透明反射層６は、例えば、金、銀、アルミニウムあるいはこれらを含む合金を、スパッタ法等の手段により形成することができる。Ａｇを主成分としているものはコストが安い点、光反射率が高い点から特に好ましい。
【００３０】
半透明反射層６は、膜の結晶粒が大きいと再生ノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。純銀は結晶粒が大きい傾向があるためＡｇは合金として用いるのが好ましい。中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｂｉ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜５原子％含有することが好ましい。
【００３１】
Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｂｉ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１原子％〜５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１原子％〜５原子％であることが好ましい。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＢｉ、ＡｇＢｉＮｄ、ＡｇＩｎ等である。Ａｕは結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適であるが、Ａｇ合金に比べて高価である。また、半透明反射層１２としてＳｉＯ２等の金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成して用いることも可能である。
【００３２】
尚、第１記録層５と半透明反射層６との間に、ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等のエンハンス層や耐酸化層等の他の層を設けてもよい。また、半透明反射層６上に保護層を形成してもよいし、保護層を形成しなくてもよい。保護層としては光吸収層、反射層を保護できる層であればよく、例えば、紫外線硬化樹脂、シリコーン系樹脂等によって形成される。
【００３３】
本実施の形態では、半透明反射層６としてＡｇを主成分とするＡｇ合金反射膜を用い、さらに膜厚８ｎｍ〜２０ｎｍで形成している。
（反射層８）
第２記録層７上に形成する反射膜８、光反射率が高く、耐食性に優れることが望ましい。光反射率を高くするために、反射層８の厚さは通常、５０ｎｍ以上が好ましい。より好適には７０ｎｍ以上である。但し、記録感度を上げるためにはある程度薄いことが好ましく、また、厚い反射膜を形成すると第１の透明基板１が反るため、通常は３００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは２００ｎｍ以下が望ましい。
【００３４】
反射層8の材料としては、再生光の波長で光反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ等の金属を、単独または合金にして用いることが可能である。この中でも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ及びこれらの合金が材料として適している。合金を形成する成分としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｃａ及び希土類金属等の金属及び半金属を挙げることができる。
【００３５】
これらの中でも、Ａｇ合金はコストが安く、光反射率が高く、耐食性に優れるために好ましい。Ａｇ合金としてはＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｂｉ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｂｉ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１原子％〜５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１原子％〜５原子％であることが好ましい。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＢｉ、ＡｇＢｉＮｄ、ＡｇＩｎ等である。
【００３６】
反射層8を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。なかでも、スパッタ法が生産性の上で好ましい。
【００３７】
本実施の形態では、反射層８は、Ａｇ合金反射膜を用いて膜厚７０ｎｍ〜１２０ｎｍで形成している。
（転写層３）
転写層３は、記録再生波長で透明である他に、接着力が高く、硬化接着時の収縮力が小さく、環境保存安定性が高い材料が好ましい。本実施例の形態において、２層の記録層（第１記録層５、第２の記録層７）に、それぞれ別々にフォーカスサーボをかけるため、転写層３の膜厚は正確に制御することが好ましい。フォーカスサーボ機構にもよるが、転写層３の膜厚は、好ましくは１０μｍ以上が必要であり、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。
【００３８】
例えば、光情報記録媒体が、厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を貼り合わせ、記録再生光として青色レーザを用いる場合は、転写層３の膜厚は約２５〜３０μｍが好適である。転写層３は、半透明反射層６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。また、転写層３と半透明反射層６との間に、あるいは転写層3と第2記録層7との間に、公知の無機または有機系の保護層を形成してもよい。
【００３９】
本実施の形態では、転写層３はラジカル系紫外線硬化樹脂を用いて厚さ２５〜３０μｍで形成している。また、光入射面側の透明の第１基板１に形成した第１記録層５と半透明反射層６の上に、スピンコート法によって紫外線硬化樹脂を厚さ２５〜３０μｍ塗布して、光透過性スタンパと真空貼り合せ方式により貼り合せ、紫外線照射により硬化した後、光透過性スタンパを剥がして溝パターンを転写し形成し転写層３としている。
【００４０】
ここで、ラジカル系紫外線硬化樹脂としては、スピンコート法によって所定の膜厚を形成するために、０℃〜４０℃の温度範囲において、粘度２０ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓであるものを用いることが好ましい。また、ラジカル系紫外線硬化樹脂としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物を用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能アクリレート、単官能メタアクリレート、多官能アクリレート、多官能メタアクリレートを重合成モノマー成分として、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。
【００４１】
（光透過性スタンパ9）
光透過性スタンパ9の構成材料としては、射出成形で容易に成形可能な高分子材料が好ましく、さらに中間層との剥離性の良い分子中に極性基を有しない高分子材料が好ましく、具体的にはポリオレフィン等がある。
【００４２】
また、光透過性スタンパ9の基板形状としては、「光透過性スタンパ9の外径ｄ3が第1の透明基板の外径ｄ1より大きく」、且つ、「光透過性スタンパ9の外周端部の断面形状をスタンパ転写面側から反対面側にかけて直径が小さくなるテーパー形状」が最適である。
【実施例】
【００４３】
以下に実施例に基づき本発明の形態をより具体的に説明する。尚、本発明の形態は実施例に限定されない。
【００４４】
トラックピッチ０．４μｍ、溝幅２３０ｎｍ、溝深さ６０〜７０ｎｍのスタンパを使用し、ポリカーボネート樹脂の射出成形により図２に示す厚み０．６ｍｍ、外径φ１１９．９ｍｍ（ｄ１）の第１の透明基板１を作成する。この第１の透明基板１上に第１記録層５となる厚み色素層をスピンコート法により３０〜６０
ｎｍの厚みで形成し、Ａｇを主成分とするＡｇ合金反射膜から構成される厚み８〜２０ｎｍの半透明反射膜層６を形成する。
【００４５】
図３に示すように、「トラックピッチ０．４μｍ、溝幅２３０ｎｍ、溝深さ６０〜７０ｎｍのスタンパを使用し、ポリオレフィン樹脂の射出成形により作成された厚み０．６ｍｍ、外径φ１２０．３ｍｍ（ｄ３）の光透過性スタンパ９」と「図２構成の単板」を、スピンコート法により形成された厚み２５〜３０μｍのラジカル系紫外線硬化樹脂を介して真空貼り合せ方式で貼り合される。ここで光透過性スタンパ９は、外周端部断面形状をスタンパ転写面側から反対面側にかけて直径が小さくなるテーパー形状としている。
【００４６】
次に、図４に示すように第1記録層５と半透明反射膜層６を有する第１の透明基板１と光透過性スタンパ１０を中間層３を介して引き剥がされる。この時、図４のａ部に示すように光透過性スタンパ１０の外周テーパー部にはみ出した中間層３も光透過性スタンパと同時に引き剥がされる。
【００４７】
これにより、中間層３の外周端部が第１の透明基板１の記録面と平行になり、レーザー光照射による外周端部の中間層３の処理が容易な形状となる。
【００４８】
第1基板からの光透過性スタンパ10の剥離の後に、図5に示すように第1基板の内径を中心にして回転させながら、第1基板の外径より外側にはみ出した転写層を照明手段により照明し且つＣＣＤカメラで撮像し、画像処理装置により第1基板の外径より外側にはみ出した転写層の大きさと位置を認識する。さらに、このはみ出した転写層の大きさと位置のデータを元に、図6及び図7に示すように引き剥がし済み単板を所定の回転数で回転させながら転写層３の外周端部にレーザートリミングを行い、中間層３のはみ出し量Ｒ１：０．２０ｍｍを、Ｒ２：０．０〜０．１０ｍｍ（Ｃ部）まで小さくする。
【００４９】
ここでレーザー光照射装置としては、ＳＵＮＸ製のＣＯ2ガスレーザー発生装置を使用している。レーザートリミングの条件としては、（１）レーザーパワー：１２Ｗ、（２）レーザートリミング時の引き剥がし単板の回転数：２０〜６０ｒｐｍ、（３）レーザートリミング時間：３〜６ｓとしている。
【００５０】
レーザートリミング処理後に、再び図8に示すように第1基板の内径を中心にして回転させながら、第1基板の外径より外側にはみ出した転写層を照明手段により照明し且つＣＣＤカメラで撮像し、画像処理装置により第1基板の外径より外側にはみ出した転写層の大きさと位置を認識し、予め設定した所定の形状が形成されているか確認する。所定の形状になっていない場合は、第1基板からの光透過性スタンパ９の剥離の後の、レーザートリミング条件にフィードバックし、所定の端面形状になるように制御する。
【００５１】
転写層３の外周はみ出し量Ｒ２を０．１ｍｍ以下にした引き剥がし単板に第２記録層７となる色素層をスピンコート法により３０〜６０ｎｍの厚みで形成し、Ａｇを主成分とするＡｇ合金反射膜から構成される厚み７０〜１２０ｎｍの反射膜層８を形成する。
【００５２】
最終工程として上記単板とダミー基板２とをスピンコート法により形成された厚み２５〜３０μｍのラジカル系紫外線硬化樹脂を介して真空貼り合せ方式で貼り合される。
【００５３】
よって本発明では、あらかじめ画像センサーにより転写層の大きさと位置情報を取得しているためレーザー光照射位置とレーザー光照射時間の調整が容易になり、生産性を向上できる。
【００５４】
また、レーザー光照射後の外周部転写層の状態を再び画像センサーにより大きさと位置を認識し、この情報を順次生産品のレーザー光照射条件にフィードバックできるため安定して良品を生産することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】有機色素を含む記録層を２個有し、２Ｐ法により形成した２層型の光情報記録媒体の構造を示す模式図である。
【図２】転写層を形成する前の第１基板の構造を示す模式図である。
【図３】２Ｐ法により光透過性スタンパを用いて転写層を形成するプロセスを示す模式図である。
【図４】転写層から光透過性スタンパを剥離した際の模式図である。
【図５】転写層の基板外形からはみ出した部分を画像認識するプロセスを説明する模式図である。
【図６】レーザー処理前の転写層を形成した第１基板の構造を示す模式図である。
【図７】レーザー処理後の転写層を形成した第１基板の構造を示す模式図である
【図８】レーザー処理後の転写層の基板外形からはみ出した部分を画像認識するプロセスを説明する模式図である。
【符号の説明】
【００５６】
１…第１の透明基板
２…ダミー基板
３…転写層
４…接着剤
５…第１記録層
６…半透明反射層
７…第２記録層
８…反射層
9…光透過性スタンパ
10…照明手段
11…ＣＣＤカメラ
ｄ１…第1の透明基板の外径
ｄ２…ダミー基板の外径、
ｄ３…光透過性スタンパの外径、
ａ…光透過性スタンパと同時に引き剥がされた転写層３の外周端部、
ｂ…レーザートリミング
ｃ…レーザートリミング後に残った転写層３の外周端部
Ｒ１…引き剥がし後の転写層３の外周み出し量
Ｒ２…レーザートリミング後の転写層３の外周はみ出し量
【図１】
2009070446.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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