(57)【要約】【課題】色素記録層を有するディスク状の光記録媒体において、色素記録層の膜厚の均一性を改善することを課題とする。すなわち、塗布液の基板内周側への広がりを抑制し、かつ記録層の内周側の端部近傍の膜厚分布を改善することを目的とする。【解決手段】塗布液を滴下する位置よりも内周側に所定の溝あるいはピット等からなる内周溝領域を設ける。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に有機色素材料を含有する色素記録層を有するディスク状の光記録媒体において、内周側の非記録再生領域に内周溝領域を有し、該色素記録層の内周側の端部が該内周溝領域に存在する
ことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記内周溝領域が、同心円の溝の集合からなる
ことを特徴とする、請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記内周溝領域が、スパイラル状の溝からなる
ことを特徴とする、請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記内周溝領域が、ピットの集合からなる
ことを特徴とする、請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項５】
記録領域に深さが１０〜２００ｎｍの記録溝を有する光記録媒体であって、前記内周溝領域の溝深さが該記録溝の深さと略同一以上である
ことを特徴とする、請求項２または３に記載の光記録媒体。
【請求項６】
記録領域に深さが１０〜２００ｎｍの記録溝を有する光記録媒体であって、前記内周溝領域のピット深さが該記録溝の深さと略同一以上である
ことを特徴とする、請求項４に記載の光記録媒体。
【請求項７】
前記内周溝領域の半径方向の幅が１０μｍ以上である
ことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光記録媒体。
【請求項８】
前記内周溝領域の半径方向に隣接するピットまたは溝の間隔が該内周溝領域の半径方向の幅の１／５以下である
ことを特徴とする請求項２〜７のいずれか一項に記載の光記録媒体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の光記録媒体を製造するためのスタンパであって、前記内周溝領域に相当する溝もしくはピットのパターンを有する
ことを特徴とするスタンパ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体等に関し、より詳しくは、有機色素材料を含有する色素記録層を有するディスク状の光記録媒体の表面形状に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量、高速のメモリ媒体として光記録媒体が注目されている。レーザ光を用いて情報の記録及び再生が可能な追記型光記録媒体（例えばＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ＨＤＤＶＤ−Ｒ、ＢＤ−Ｒ等）の多くは、有機色素材料を含有する色素記録層が用いられている。これらの光記録媒体の基板としては、一般にポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂等の樹脂基板が用いられている。
【０００３】
これらの光記録媒体の基板は生産性の面から通常、射出成形法や射出圧縮成形法を用いて行われている。これらの方法は、固定金型と可動金型との間に型締め状態で形成されるキャビティー内にプリフォーマット情報を有する環状の平坦なスタンパを取付け、キャビティー内に溶融樹脂材を導入することによってスタンパの信号（ピット）やレーザ案内溝等のプリフォーマット情報が転写された光記録媒体用の基板を成形する方法である。
【０００４】
上記追記型光記録媒体の色素記録層は、上記基板上に有機色素材料をスピンコート法などの塗布法を利用して塗布形成することにより形成される。この他、必要に応じて反射層、保護層、中間樹脂層、カバー層等の、光記録媒体に必要とされる機能を発現するための種々の層を形成することにより光記録媒体が製造される。
【０００５】
上記基板上に色素記録層を形成するに際しては、有機色素材料の溶液を基板の中央付近に供給し、基板を回転させることにより、有機色素材料の溶液（以下、単に塗布液と記載）を外側に広げながら基板全体に塗布させるスピンコート法が通常用いられる。この際、塗布液が基板上に均一に広がることが重要であり、何らかの原因により塗布液の膜厚にムラが生じると、色素記録層の膜厚が不均一となり、光記録媒体の記録再生特性に重大な影響を及ぼすことが知られている。
【０００６】
このような塗布液のムラは、基板表面の形状や塗布液の供給時の滴下状態により、スピンコート時の塗布液の移動に乱れが生じることで発生する傾向にある。典型的には、塗布液が供給される基板中央付近にスタンパ押さえにより発生する環状の溝が存在する場合、塗布液の移動に乱れが生じ、色素記録層の膜厚ムラが発生することが知られており、これを避けるため、塗布液を環状の溝の外周側に供給することにより、塗布液が環状の溝に達しないようにすることで、色素記録層の膜厚を均一にする方法が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２６０２７８号公報
【特許文献２】特開平１１−１１０８１９号公報
【特許文献３】特開２００１−１９５７７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、塗布液を基板上に滴下した場合、すべての塗布液が基板の外周側に移動する訳ではなく、滴下方法によっては、滴下位置よりも更に内周側に広がる場合がある。従って、たとえ、環状の溝の外周側に塗布液を滴下したとしても、場合によっては部分的に塗布液が溝まで達してしまい、塗布ムラが生じる場合がある。
【０００９】
また、前記環状の溝のような、基板表面上の凹凸が存在しない場合でも、塗布液の滴下状況によっては、内周側への塗布液の広がり方に不均一が生じる場合がある。つまり、塗布液の内周側の端部が真円状に均一になっている場合は、塗布液の流れに不均一が生じにくいが、塗布液の内周側の端部が真円状ではなく波打ったようになっている場合は、塗布液の流れに不均一が生じる傾向にあり、結果として、特に色素記録層の最内周近傍の膜厚分布に影響を及ぼす場合がある。
【００１０】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、色素記録層を有するディスク状の光記録媒体において、色素記録層の膜厚の均一性を改善することを課題とする。すなわち、塗布液の基板内周側への広がりを抑制し、かつ色素記録層の内周側の端部近傍の膜厚分布を改善することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者等は上記問題点に鑑み、その問題点を解決すべく鋭意検討した結果、塗布液を滴下する位置よりも内周側に所定の溝あるいはピット等からなる内周溝領域を設けることにより、塗布液の基板内周側への広がりを制御し、色素記録層の内周側の端部をより真円状に近い状態にすることが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
本発明の要旨は、基板上に有機色素材料を含有する色素記録層を有するディスク状の光記録媒体において、内周側の非記録領域に内周溝領域を有し、該色素記録層の内周側の端部が該内周溝領域に存在することを特徴とする光記録媒体に存する（請求項１）。
【００１３】
ここで、前記内周溝領域が、同心円の溝の集合からなることが好ましい（請求項２）。
また、前記内周溝領域が、スパイラル状の溝からなることも好ましい（請求項３）。あるいは、前記内周溝領域が、ピットの集合からなることも好ましい（請求項４）。
【００１４】
また、記録領域に深さが１０〜２００ｎｍの記録溝を有する光記録媒体であって、前記内周溝領域の溝深さが該記録溝の深さと略同一以上であることが好ましい（請求項５）。
また、記録領域に深さが１０〜２００ｎｍの記録溝を有する光記録媒体であって、前記内周溝領域のピット深さが該記録溝の深さと略同一以上であることが好ましい（請求項６）。
【００１５】
また、前記内周溝領域の半径方向の幅が１０μｍ以上であることが好ましい（請求項７）。
また、前記内周溝領域の半径方向に隣接するピットまたは溝の間隔が該内周溝領域の半径方向の幅の１／５以下であることが好ましい（請求項８）。
【００１６】
また、本発明の別の要旨は、上述の光記録媒体を製造するためのスタンパであって、前記内周溝領域に相当する溝もしくはピットのパターンを有するスタンパに存する（請求項９）。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、色素記録層の特性の均一性が高い、ディスク状の光記録媒体及びその製造に用いるスタンパを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下「実施形態」ともいう。）について、図面を参照して説明する。ここでは、ディスク状の光記録媒体として、主にＨＤＤＶＤ−Ｒを例にとって説明するが、本発明は以下の発明の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内において種々変形して実施することができる。また、使用する図面は、本実施形態を説明するために便宜的に使用するものであり、実際の大きさを表すものではない。
【００１９】
［１．内周溝領域について］
本発明の光記録媒体は、基板上に有機色素材料を含有する色素記録層を少なくとも有し、内周側の非記録再生領域に内周溝領域を有する。ここで、内周溝領域について説明する。
【００２０】
図１は本発明の実施形態が適用される光記録媒体の一例を説明する模式図である。本発明の光記録媒体は、記録再生用レーザ光を照射して情報を再生する領域である記録再生領域と、情報が再生されない領域である非記録再生領域を有する。非記録再生領域は、光記録媒体の外周側にも存在するが（図示せず）、クランプ部を設ける必要性等から、内周側にも存在する。この内周側の非記録再生領域は、例えば外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのＨＤＤＶＤ−Ｒにおいては、半径２２ｍｍよりも内周側の領域に当たる。非記録再生領域の範囲は、光記録媒体の種類によって異なるが、通常は規格によって明確に規定されている。本発明の内周溝領域は、非記録再生領域に、半径方向に有限の幅を持って存在する。内周溝領域は、色素記録層を塗布する面の内周側の非記録再生領域に、部分的に凹部を設けることにより具現化される。
ここで、このような内周溝領域を設ける目的は以下の通りである。
【００２１】
色素記録層を有する光記録媒体においては、記録再生領域を色素記録層で完全に覆う必要がある。ここで、一般には有機色素材料の塗布液をスピンコート法で塗布するが、スピンコート法は基板を高速回転させることによる遠心力により、基板内周に供給した塗布液を基板全体に広げる塗布方法である。このため、塗布液は内周側の非記録再生領域に滴下されるが、本発明においては非記録再生領域の中の内周溝領域よりも外周側を塗布液滴下領域とし、この領域に塗布液を滴下する（図１参照）。この際、塗布液は滴下後に内周側にも若干広がるが、内周溝領域が存在するため、表面張力により内周溝領域内で塗布液の広がりが抑制される。内周溝領域は、巨視的には円周方向、半径方向ともに均一な構造を有するように形成されているため、塗布液の広がった後の色素記録層の内周側の端部はほぼ真円状に形成される傾向にある。従って、スピンコート時の塗布液の移動がより均一となり、内周溝領域を形成しない場合に比べ、色素記録層の膜厚分布が良好となる。
【００２２】
内周溝領域が存在しない場合は、色素記録層の内周側の端部が波打つように形成されることにより、塗布液の外周への広がりが不均一となる場合がある。この場合、特に色素記録層の内周側の端部近傍において、色素記録層膜厚の不均一が生じやすくなる。
【００２３】
また、基板の内周側に、例えばロットカットのような、不規則な基板表面の凹凸パターンを設ける必要がある場合には、塗布液がこの凹凸パターンにまで到達してしまうと、塗布液の内周側の端部が不均一となり、塗布液の外周方向への移動が不均一となって、色素記録層の膜厚分布に影響を与える可能性がある。このような場合に、内周溝領域を、上記の凹凸パターンの外周側に設けることにより塗布液の上記凹凸パターンへの広がりを防止することができるため、色素記録層の膜厚分布を改善することができる。
従って、内周溝領域の形状は、上記目的を達成できるものであれば、任意の形状を採用可能である。
【００２４】
図２は、典型的な内周溝領域を含む非記録再生領域の半径方向の断面図の例を示す。ここでは、内周溝領域がスパイラル状の溝からなる場合を例にとって説明する。ＨＤＤＶＤ−Ｒの記録再生領域には、スパイラル状の案内溝（記録溝）が設けられている。この案内溝は、例えば、トラックピッチ０．４０μｍ、幅０．２６μｍ、深さ６０ｎｍのほぼ矩形の溝からなる。内周溝領域は、記録再生領域における案内溝と同様の溝形状が半径方向に所定の幅を有する領域である。すなわち、記録再生領域の案内溝と同様の断面形状（溝幅、溝深さ）、トラックピッチを有する連続した溝である。
内周溝領域の構成は、もちろん上記の構成には限定されない。塗布液の広がりを抑制することが出来れば任意の構成を採用可能である。
【００２５】
同心円の溝の集合、スパイラル状の溝あるいはピットの集合等からなる内周溝領域全体の、半径方向の幅（以下、内周溝領域の幅と記載）は、前述の目的を達成するためには広いほどよいが、非記録再生領域の幅よりは狭い必要がある。また、内周部のクランプ部には存在しないことが好ましく、ロットカット等の特殊な領域が内周部に存在する場合は当然ながらそれらよりも外周側に位置する必要がある。これらの要素により、内周溝領域の幅の上限は決定される。下限については、前述の目的を達成するために、１０μｍ以上あることが好ましく、更に好ましくは１００μｍ以上、特に好ましくは３００μｍ以上である。
【００２６】
溝形状はスパイラル状の連続した溝である必要は無く、同心円の溝の集合でも構わないし、不連続な基板上の局所的な凹部であるピットの集合であっても良い。また、単一の真円状の溝であっても構わない。内周溝領域がピットの集合（以下、ピットパターンと記載することがある）からなる場合は、円周１周分の内、２０％以上の長さ分はピットが形成されていることが好ましく、更に好ましくは５０％、特に好ましくは８０％以上である。ピットの場合、半径方向にピットパターンが一様である必要は無い。
【００２７】
また、溝の半径方向の断面形状は矩形が好ましいが、半円状や三角状等の形状でも構わない。ピットの半径方向の断面形状も同様で、ピットの基板面から見た断面形状も矩形、楕円形等特に制限は無い。
【００２８】
溝あるいはピットの一つ一つの深さは、深ければ深いほど塗布液の広がりを抑えることができるが、基板の機械的強度の観点から、１００μｍ以下が好ましい。また、基板成形用スタンパの製造上の都合から、記録再生領域の案内溝（記録溝）と同等の深さであることが好ましいため、２００ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは１００ｎｍ以下である。また、前述の目的を達成するためにはより溝が深いことが好ましいため、２０ｎｍ以上の深さがあることが好ましく、更に好ましくは４０ｎｍ以上、特に好ましくは６０ｎｍ以上である。特に、内周溝領域の幅が狭い場合には、記録再生領域の案内溝の深さよりも深くすることが好ましい。
【００２９】
溝あるいはピットの一つ一つの幅は、基板成形用スタンパの製造上の都合から、記録再生領域の案内溝と同等の幅であることが好ましいため、１μｍ以下が好ましく、更に好ましくは０．５μｍ以下、特に好ましくは０．３μｍ以下である。また、０．０５μｍ以上の幅があることが好ましく、更に好ましくは０．１μｍ以上である。
【００３０】
内周溝領域の半径方向に隣接する溝あるいはピットの距離（以下、内周溝領域トラックピッチと記載することがある）は、基板成形用スタンパの製造上の都合から、記録再生領域の案内溝（記録溝）のトラックピッチと同等かもしくはやや広めの幅であることが好ましいが、狭くても構わない。内周溝領域の溝深さがある程度深い場合は、成形の都合上広い方が好ましい。具体的には、２μｍ以下が好ましく、更に好ましくは１μｍ以下である。また、０．１μｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは０．３μｍ以上である。また、内周溝領域の幅が狭い場合には、半径方向の凹凸を増やした方が塗布液の広がりを抑制できるため、内周溝領域トラックピッチが小さい方が好ましい。具体的には、内周溝領域の幅の１／５以下であることが好ましい。
【００３１】
本発明の光記録媒体は、前述の通り、内周溝領域により塗布液の広がりを抑えるため、結果として塗布液により形成される色素記録層の内周側の端部が、内周溝領域に存在することを特徴とする。すなわち、色素記録層の内周側の端部が内周溝領域内に存在するか、もしくは内周溝領域の外周側と接している状態であることを意味する。このような状態が実現出来ていれば、光記録媒体の記録領域の構成は特に限定されず、従来公知の構成を用いることができる。
【００３２】
以下、光記録媒体の内周溝領域以外の構成について、主に２層型のＨＤＤＶＤ−Ｒを例に説明するが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、例えばＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ＢＤ−Ｒ等、基板上に有機色素材料を含有する色素記録層を有するディスク状の光記録媒体全てに適用可能である。
【００３３】
［２．光記録媒体の構成について］
本実施形態では、多層型の光記録媒体を例に挙げ、図面を用いて説明を行なうが、この構成に限定されるものではない。
図３は、本発明の一実施形態としての片面２層の光記録媒体の要部を拡大して模式的に表わす断面図である。なお、このような片面２層の光記録媒体としては、例えば、有機色素を含む２つの色素記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面入射型の光記録媒体（片面２層ＨＤＤＶＤ−Ｒ又は片面２層ＨＤＤＶＤレコーダブル・ディスク）などが挙げられる。
【００３４】
図３に示すように、本実施形態の光記録媒体１００は、ディスク状の光透過性の第１基板１０１を備えていて、この第１基板１０１上に、色素を含む第１色素記録層１０２と、半透明の第１反射層１０３と、紫外線硬化性樹脂からなる光透過性の中間層１０４と、色素を含む第２色素記録層１０５と、第２反射層１０６と、接着層１０７と、最外層を形成する第２基板１０８とが、順番に積層された構造を有している。また、光記録媒体１００の第１基板１０１側の面（これが、データ領域への主情報の記録時に記録再生光１０９を照射される面となる）が情報面１００Ａとなり、情報面１００Ａの反対側に形成された、第２基板側の面が裏面１００Ｂとなっている。
【００３５】
さらに、図３に示すように、第１基板１０１及び中間層１０４上にはそれぞれ凹凸が形成され、これらの凹凸がそれぞれ記録トラックを構成している。即ち、第１基板１０１及び中間層１０４がそれぞれ表面に有する凹凸形状（即ち、上記の凹凸の形状）が、記録トラックの形状となっている。
また、光記録媒体１００の光情報の記録・再生は、情報面１００Ａから第１色素記録層１０２及び第２色素記録層１０５に照射された記録再生光１０９により行なわれるようになっている。
【００３６】
なお、本実施形態において、「光透過性（又は透明）」とは、光情報を記録・再生するために照射される光の波長に対する光透過性を意味するものである。具体的には、光透過性とは、記録再生光１０９や認識信号記録光などの記録・再生のための光の波長について、通常３０％以上、好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上の透過性があることを言う。また、記録・再生のための光の波長に対する透過性は、理想的には１００％であるが、通常は、９９．９％以下の値となる。
【００３７】
〔２−１．第１基板〕
第１基板１０１は通常、第１色素記録層１０２に隣接し、最表層を構成する。第１基板１０１は、光透過性を有し、複屈折率が小さい等、光学特性に優れることが望ましい。また、第１基板１０１は、射出成形が容易である等成形性に優れることが望ましい。さらに、第１基板１０１は、吸湿性が小さいことが望ましい。更に、第１基板１０１は、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えることが望ましい。
【００３８】
第１基板１０１を構成する材料は本発明の効果を著しく損なわない限り特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、ガラス等が挙げられる。なお、第１基板１０１を構成する材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。
第１基板１０１の形状は、中央にセンターホールを有するディスク状に形成される。なお、通常はこの第１基板１０１の形状により光記録媒体１００の形状も決定されることになる。
【００３９】
また、図３に示すように、本実施形態では、第１基板１０１の記録領域には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられている。そして、この凹凸が、溝及びランドを形成する。これらの凹凸は、隣接する第１色素記録層１０２に形成される凹凸に一致し、通常、このような凹凸により構成される溝及び／又はランドを記録トラックとして、第１色素記録層１０２に情報が記録・再生される。
なお、上記の溝幅は、通常１００ｎｍ以上、また通常５００ｎｍ以下であり、溝深さは通常２０ｎｍ以上であり、通常２５０ｎｍ以下である。また、記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは通常０．１μｍ以上、通常０．６μｍ以下であることが好ましい。
【００４０】
第１基板１０１の厚さは、通常、２ｍｍ以下、好ましくは１ｍｍ以下である。対物レンズと色素記録層との距離が小さく、また、基板が薄いほどコマ収差が小さい傾向があり、記録密度を上げやすいためである。但し、光学特性、吸湿性、成形性、形状安定性を十分得るために、通常１０μｍ以上、好ましくは３０μｍ以上である。
【００４１】
〔２−２．第１色素記録層〕
第１色素記録層１０２は、第１基板１０１に隣接して設けられた、第１基板１０１に近い側の色素記録層である。本実施形態の光記録媒体１００は、通常波長３００〜４５０ｎｍのレーザ光を記録再生光１０９として用いて主情報を記録する媒体であるため、第１色素記録層１０２は、このレーザ光で記録できるように構成されている。
【００４２】
第１色素記録層１０２に使用される有機色素材料は特に限定されないが、その例を挙げると、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。なお、これらの色素は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００４３】
また、第１色素記録層１０２に使用される色素は、通常２５０ｎｍ以上、通常５５０ｎｍ以下の波長域に最大吸収波長λｍａｘを有し、記録再生光１０９での記録に適する色素化合物が好ましい。また、記録再生光１０９の記録レーザ波長で吸収を持つことが好ましい。
【００４４】
また、上記光記録媒体１００のような多層光記録媒体では、ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等のような光記録媒体に用いる色素記録層に比較して、より高感度であることが望ましい。
また、光記録媒体１００においては、通常、第１反射層１０３を半透明反射層とする。具体的には、入射した記録再生光１０９のうち一定の割合（２５〜７５％）が第１反射層１０３を透過するように構成する。
【００４５】
第１色素記録層１０２の膜厚は、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されない。ただし、十分な変調度を得るために、通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上であり、特に好ましくは２０ｎｍ以上である。また、光を透過させるためには、通常３μｍ以下、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
【００４６】
〔２−３．第１反射層〕
第１反射層１０３は、第１色素記録層１０２に対応する反射層である。なお、ここで第１反射層１０３と第１色素記録層１０２とは隣接しているものとする。第１反射層１０３は、記録再生光１０９の吸収が小さく、光透過率が通常４０％以上あり、かつ、適度な光反射率を有することが望ましい。第１反射層１０３の具体的な構成の例としては、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせた層が挙げられる。さらに、第１反射層１０３は、ある程度の耐食性があることが望ましい。また、第１反射層１０３の上層（本実施形態では中間層１０４）からの他の成分の浸み出しにより第１色素記録層１０２が影響されないような遮断性を有することが望ましい。
【００４７】
第１反射層１０３を構成する材料は、本発明の効果を著しく損なわない限り特に限定されないが、再生光の波長における反射率が適度に高いものが好ましい。第１反射層１０３を構成する材料の例を挙げると、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、希土類金属等の金属及び半金属を、単独あるいは任意の組み合わせの合金にして用いることが可能である。
【００４８】
さらに、第１反射層１０３の厚さは、通常５０ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下、更に好ましくは２５ｎｍ以下である。上記範囲とすることにより、光透過率を４０％以上としやすくなる。但し、第１反射層１０３の厚さは、第１色素記録層１０２が第１反射層１０３上に存在する中間層１０４により影響されないために、通常３ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上である。
【００４９】
〔２−４．中間層〕
中間層１０４は、第１反射層１０３と第２色素記録層１０５との間に形成される層である。中間層１０４は、通常、透明、且つ、溝やピットの凹凸形状が形成可能であり、また、接着力が高い樹脂から構成される。さらに、硬化接着時の収縮率が小さい樹脂を用いると、媒体の形状安定性が高く好ましい。また、中間層１０４は、単層膜としても多層膜にしてもよい。
【００５０】
さらに、中間層１０４は、第２色素記録層１０５と相溶しやすい場合が多い。このため、中間層１０４と第２色素記録層１０５との相溶を防いで第２色素記録層１０５に与えるダメージを抑えるために、両層の間に適当なバッファー層（図示せず）を設けることが望ましい。また、中間層１０４は、第１反射層１０３との間にバッファー層を設けることもできる。
【００５１】
また、中間層１０４は、第２色素記録層１０５にダメージを与えない材料からなることが望ましい。中間層１０４を構成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂を挙げることができる。なお、中間層１０４の材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００５２】
中間層１０４の材料の中でも、放射線硬化性樹脂が好ましく、その中でも、紫外線硬化性樹脂が好ましい。これらの樹脂の採用により、製造時にスタンパ（後述する）の凹凸形状の転写が行ないやすくなる。
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ラジカル系（ラジカル重合型の）紫外線硬化性樹脂とカチオン系（カチオン重合型の）紫外線硬化性樹脂が挙げられ、いずれも使用することができる。
【００５３】
ラジカル系紫外線硬化性樹脂は、例えば、紫外線硬化性化合物（ラジカル系紫外線硬化性化合物）と光重合開始剤とを必須成分として含む組成物が用いられる。ラジカル系紫外線硬化性化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリレート及び多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。なお、ここで、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
【００５４】
また、光重合開始剤に制限はないが、例えば、分子開裂型または水素引き抜き型のものが好ましい。本発明においては、ラジカル重合型のアクリル酸エステルを主体とする未硬化の紫外線硬化樹脂前駆体を用いて、これを硬化させて中間層を得ることが好ましい。
【００５５】
一方、カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、例えば、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ樹脂としては
、遊離した塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量は、１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
また、カチオン重合型の光開始剤としては、例えば、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩等が挙げられる。
【００５６】
また、中間層１０４の材料として放射線硬化性樹脂を使用する場合、通常２０℃以上、４０℃以下において液状であるものを用いることが好ましい。樹脂原料層１０４ａの形成時に、上記放射線硬化性樹脂を用いることにより溶媒を用いることなく塗布できるので、生産性が向上するためである。また、粘度は常温で２０ｍＰａ・ｓ以上、４０００ｍＰａ・ｓ以下となるように調整するのが好ましい。
【００５７】
さらに、中間層１０４には、通常、凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられる。そしてこの凹凸が、溝及びランドを形成する。これらの凹凸は、隣接する第２色素記録層１０５に形成される凹凸に一致し、通常、このような凹凸により構成される溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２色素記録層１０５に情報が記録・再生される。
なお、上記の溝幅は、通常１００ｎｍ以上、また通常５００ｎｍ以下であり、溝深さは通常２０ｎｍ以上であり、通常２５０ｎｍ以下である。また、記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは通常０．１μｍ以上、通常０．６μｍ以下であることが好ましい。
【００５８】
さらに、中間層１０４の膜厚は、正確に制御されることが好ましく、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上である。但し、通常１００μｍ以下、好ましくは７０μｍ以下である。厚さが前記範囲未満であると、情報再生時に第１色素記録層１０２と第２色素記録層１０５との信号の混合が起こり、層間クロストークと呼ばれる信号ノイズとなる傾向にある。一方、厚さが前記範囲超過では、中間層１０４を形成する樹脂による反りが激しくなったり、レーザ光の収差が大きくなり再生信号品質を損なう傾向にある。
第２色素記録層１０５に設けられる凹凸の形状は、中間層１０４に形成される凹凸の形状に一致する。
【００５９】
〔２−５．第２色素記録層〕
第２色素記録層１０５は、第１基板１０１に対し、第１色素記録層１０２よりも遠い色素記録層である。光記録媒体１００は通常波長３００〜４５０ｎｍの記録再生光１０９で主情報を記録する媒体であるため、第２色素記録層１０５はこの記録再生光１０９で主情報を記録ができることが好ましい。
【００６０】
第２色素記録層１０５は、前述した第１色素記録層１０２の場合と同様に、通常ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒや片面型ＨＤＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体に用いる色素記録層より高感度であることが望ましい。また、第２色素記録層１０５は、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素であることが望ましい。更に、第２色素記録層１０５と第２反射層１０６との組合せにおいて、光の反射及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。
【００６１】
第２色素記録層１０５を構成する材料については、第１色素記録層１０２と同様の物質から選択することが出来る。また、第１色素記録層１０２と第２色素記録層１０５とに用いる材料は、同じでも良いし、異なっていてもよい。
【００６２】
ところで、第１反射層１０３に関する説明で述べたように、通常、第１反射層１０３は半透明な反射層として形成され、入射した記録再生光１０９のうち一定の割合しか第１反射層１０３を透過しないようになっている。この結果、第２色素記録層１０５に入射する透過光のパワーは、光記録媒体１００に入射する前の記録再生光１０９と比較して相応の減衰を生じることになる。したがって、上記の減衰した透過光で第２色素記録層１０５に対する記録が行なわれることになるために、第２色素記録層１０５は、特に感度が高いことが望ましい。
【００６３】
よって、色素記録層１０２、１０５、特に、裏面１００Ｂに最も近い色素記録層である第２色素記録層１０５に用いる材料としては、比較的低温度で熱により分解若しくは相転移して反射率が変化する材料が望ましい。分解温度或いは相転移温度は、好ましくは３５０℃以下、より好ましくは３００℃以下、さらに好ましくは２７５℃以下である。ただし、分解温度が低過ぎると保存安定性が低下する傾向にあるため、１００℃以上であることが好ましい。
【００６４】
なお、分解温度および相転移温度は、示差走査熱量計（ＤＳＣと呼ぶ場合がある。）により測定することが出来る。測定時の昇温条件は測定装置の仕様に従うか、あるいは測定試料全体への熱拡散に必要な時間よりも十分にゆっくり昇温させれば良いが、一般的には、昇温速度は０．５℃／分〜１０℃／分を目安とすれば良い。
また、中間層１０４の説明でも述べたように、第２色素記録層１０５には図３に示すような凹凸を形成することが好ましい。
【００６５】
また、凹凸により形成される溝のトラックピッチＰは限定されないが、０．１μｍ以上が好ましく、０．６μｍ以下が好ましい。トラックピッチＰが前記範囲未満である場合は、波長と比較してトラックピッチが狭く、検出可能な分解能を超えるため、記録再生時に隣接するトラックの情報が漏れこむ（クロストークが生じると言う）ことにより、目的の情報のみを記録再生できなくなる可能性がある。また、トラックピッチＰが前記範囲超過である場合は、記録密度が低くなる傾向にある。
【００６６】
さらに、ランド幅ＷＬの溝幅ＷＧに対する比（ＷＬ／ＷＧ）は限定されないが、０．３以上が好ましく、１．２以下が好ましい。ＷＬ／ＷＧが前記範囲未満である場合は、ランド幅が狭いために第２色素記録層１０５に媒体認識信号が十分に記録されない場合があり、ＷＬ／ＷＧが前記範囲超過である場合は、溝幅ＷＧが広過ぎるために反射率の差が大きくなり、第２色素記録層１０５へ記録された媒体認識信号のノイズとなる場合がある。
なお、ランド幅ＷＬ、溝幅ＷＧ及びトラックピッチＰについては、図３に示すように、溝の半値幅を基準として測定するものとする。
【００６７】
また、第２色素記録層１０５の膜厚は、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されないが、通常１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上である。但し、適度な反射率を得るために、第２色素記録層１０５の膜厚は、通常３μｍ以下、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
【００６８】
本実施形態の光記録媒体１００のように、色素記録層を２層有する光記録媒体においては、主情報を記録するためのレーザ光は、通常、共通であるため、記録再生光１０９のエネルギー（レーザエネルギー）は、必然的に各層１０２〜１０６に分配されることになる。よって、各層での記録再生光１０９の吸収量、反射量、透過量を調整することが好ましい。
【００６９】
〔２−６．第２反射層〕
第２反射層１０６は、第２色素記録層１０５に対応する反射層である。なお、ここでは第２反射層１０６と第２色素記録層１０５とは隣接しているものとする。
【００７０】
第２反射層１０６を構成する材料としては、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ及びＰｄ等の金属を単独または合金にして用いることができる。これらの中でも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く、第２反射層１０６の材料として適している。
【００７１】
また、第２反射層１０６は、これらの金属を主成分とする以外に他の成分を含んでいても良い。他の成分の例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属、あるいは上記に記載されていない半金属を挙げることができる。なお、第２反射層１０６を形成する材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
中でも、Ａｇを主成分とすることが好ましい。特に、Ａｇを通常８０原子％以上、好ましくは９０原子％以上含有することが望ましい。
【００７２】
また、Ａｇに対し、合金として含有できる元素としては、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、及び希土類金属等が好ましい。Ａｇに対し、このような元素を合金として含有することにより、高い反射率、良好な記録感度、良好な保存安定性の全てを確保することができる。
【００７３】
第２反射層１０６の反射率は本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、波長が４０５ｎｍの光源の光に対して、通常７０％以上、好ましくは８０％以上あることが好ましい。反射率が前記範囲未満である場合は、特に現在の片面ＤＶＤ２層媒体では反射率が不十分になり、記録再生装置が光記録媒体１００を認識できなくなる可能性がある。
【００７４】
なお、反射率は、以下のようにして測定できる。即ち、鏡面ガラス（表面粗度Ｒａ＜５ｎｍ）の上に、第２反射層１０６に用いた材料と同じ材料を、第２反射層の作製条件と同一条件にて、同一厚さとなるようにスパッタし、これを、分光光度計にて波長４０５ｎｍでの反射率として測定することができる。
【００７５】
また、高反射率を確保するために、第２反射層１０６の膜厚は、通常６０ｎｍ以上、好ましくは８０ｎｍ以上、更に好ましくは１００ｎｍ以上である。
また、第２反射層１０６の上下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために、公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
さらに、第２反射層１０６は、高耐久性であることが望ましい。
【００７６】
〔２−７．接着層〕
接着層１０７は、第２反射層１０６と第２基板１０８とを接着する層である。接着層１０７は、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと、光記録媒体１００の形状安定性が高くなり、好ましい。また、接着層１０７は、第２反射層１０６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために第２反射層１０６と接着層１０７との間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
接着層１０７の材料は、中間層１０４の材料と同様のものを用いることができる。
【００７７】
また、接着層１０７の膜厚は、通常２μｍ以上、好ましくは５μｍ以上である。但し、光記録媒体１００をできるだけ薄くするために、また、硬化に時間を要して生産性が低下する等のことを抑制するために、接着層１０７の膜厚は、通常１００μｍ以下が好ましい。
なお、接着層１０７としては、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを第２反射層１０６と第２基板１０８との間に挟んで押圧することにより、接着層１０７を形成できる。
【００７８】
〔２−８．第２基板〕
第２基板１０８は、裏面１００Ｂに面して設けられる層である。第２基板１０８は、機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層１０７との接着性が高いことが望ましい。
【００７９】
このような第２基板１０８の材料としては、第１基板１０１に用いうる材料と同様のものを用いることができる。また、上記材料としては、例えば、Ａｌを主成分としたＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分としたＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板等を用いることもできる。また、第２基板１０８の材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００８０】
なお、第２基板１０８の材料は、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点から、ポリカーボネートが好ましい。また、第２基板１０８の材料は、耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、第２基板１０８の材料は、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。
【００８１】
さらに、光記録媒体１００に十分な剛性を持たせるために、第２基板１０８はある程度厚いことが好ましく、第２基板１０８の厚さは、０．３ｍｍ以上が好ましい。但し、通常は３ｍｍ以下、好ましくは１．５ｍｍ以下である。
【００８２】
［３．光記録媒体の製造方法について］
本発明の光記録媒体は、例えば以下に説明する方法により製造される。
光記録媒体の一般的な製造手順においては、基板や中間層に形成される記録トラックや内周溝領域の凹凸パターンの形状と相補的な形状の凹凸パターンを有するスタンパを用意し、このスタンパを用いて基板や中間層に凹凸パターンのトラックや内周溝領域を形成する。
【００８３】
従って、上述の内周溝領域を有する本発明の光記録媒体を製造するためには、このスタンパが有する凹凸パターンの形状を所望の形状となるようにすればよい。
よって、以下の記載では、まずスタンパの製造手順について説明した上で、次いでそのスタンパを用いた情報記録媒体の製造手順について説明することにする。
【００８４】
［３−１．スタンパの製造］
まず、本発明の光記録媒体を製造するためのスタンパの製造手順の一例について、図４を用いて詳細に説明する。なお、図４（ａ）〜（ｉ）は、本発明の情報記録媒体を製造するためのスタンパの製造手順の一例を説明するための図である。但し、以下の製造手順はあくまでも一例であり、本発明の光記録媒体を製造するためのスタンパの製造手順は、以下の例に限定されるものではない。
【００８５】
まず、原盤用基板５０１上にフォトレジスト５０２を塗布してなる原盤５０３を用意する（図４（ａ）参照）。
原盤用基板５０１の材質は制限されないが、通常はガラス板が用いられる。
フォトレジスト５０２としては、いわゆるノボラック・ジアゾナフトキノン系レジストや化学増幅型レジストなど、一般的なフォトレジストを使用することができる。また、ポジ型レジストを用いてもよく、ネガ型レジストを用いてもよい。更にこれらは何れか一種を単独で用いてもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。なお、ポジ型レジスト及びネガ型レジストの定義については後述する。
【００８６】
フォトレジスト５０２は通常、いわゆるスピンコート法で原盤用基板５０１上に塗布され、その膜厚は原盤用基板５０１の面内で略均一とされる。具体的なフォトレジスト５０２の膜厚は、目的とするスタンパの凹凸パターンの形状に応じて設定すればよいが、通常１０ｎｍ以上、また、通常１００ｎｍ以下の範囲とする。
次に、原盤露光装置を用いて原盤５０３を露光処理し、原盤用基板５０１上のフォトレジスト５０２に、目的とする記録トラック及び内周溝領域に相当する凹凸パターンに対応する所定のパターン５０４を潜像として形成する（図４（ｂ）参照）。本工程で使用する原盤露光装置の構成及び動作については、従来用いられる原盤露光装置を用いればよい。
続いて、原盤５０３に現像処理を施し、潜像として形成されたパターン５０４を、物理的な凹凸パターンとして顕在化させる（図４（ｃ）参照）。
【００８７】
一般的には、原盤５０３を現像機のターンテーブルに載置し、ターンテーブルを回転させながら現像液を滴下させる方法が取られるが、例えばガラス板を静止した状態で現像液を液盛りする方法（いわゆるパドル現像法）等を用いることもできる。
このとき、フォトレジスト５０２の種類を選択することによって、潜像として形成されたパターン５０４側を凹にすることもできるし、逆に潜像として形成されたパターン５０４を凸にすることもできるが、一般的にはパターン５０４側が凹になるようなフォトレジスト（これを「ポジ型レジスト」と呼ぶ。）を用いる場合が多い。
【００８８】
本明細書では、図４を含め、主にポジ型レジストを用いた場合について説明するが、パターン５０４側が凸となるようなフォトレジスト（これを「ネガ型レジスト」と呼ぶ。）を用いてもよく、その選択は任意である。
以上の手順により、物理的な凹凸パターンを有する原盤（これを「凹凸原盤」という。）５０３'が得られる。
【００８９】
次いで、この凹凸原盤５０３'を用いて、以下の手順によりスタンパを作製する。
まず、上述の凹凸原盤５０３'上に、スパッタ法や無電解メッキ法等を用いて、スタンパの材料を成膜し、導電層５０５を形成する（図４（ｄ）参照）。  スタンパの材料としては、通常は金属材料が用いられる。金属材料としては、例えばニッケルが挙げられる。スタンパの材料は何れか一種を単独で用いてもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００９０】
導電層５０５の厚さは特に制限されないが、後述する電気めっきにおいて支障をきたさない厚さであれば、任意に選択できる。
次に、導電層５０５が形成された凹凸原盤５０３'を電鋳装置に取り付け、電気めっき法等により、導電層５０５上に更にスタンパの材料を積層することにより、ファザー層５０６を形成する（図４（ｅ）参照）。ファザー層５０６は導電層５０５と一体に形成され、その厚さは特に制限されないが、通常１００μｍ以上、通常５００μｍ以下である。
【００９１】
次いで、ファザー層５０６を凹凸原盤５０３'より剥離し、必要に応じて、ファザー層５０６上に付着したフォトレジストを、フォトレジスト除去液等を用いて除去する（図４（ｆ）参照）。フォトレジスト除去液は、フォトレジスト５０２の種類に応じて適宜選択すればよいが、例えば、アセトンや、ナガセケムテックス株式会社製Ｎ−３０３Ｃを用いることができる。これらは何れか一種を単独で用いてもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００９２】
こうして得られたファザー層５０６を、ファザースタンパと呼ぶ（以下「ファザー」と称する。）。このファザー５０６上には凹凸パターンが写し取られているが、その凹凸パターンは凹凸原盤５０３'上の凹凸パターンとは逆転したものとなっている。
次いで、このファザー５０６の凹凸パターン表面を、酸化処理等の手法で処理することにより、剥離層５０７を形成する（図４（ｇ）参照）。剥離層５０７の厚さは特に制限されないが、通常０．１ｎｍ以上、通常１００ｎｍ以下である。
【００９３】
更に、この剥離層５０７上に、電気めっき法等によりスタンパの材料を積層し、マザー層５０８を形成する（図４（ｈ）参照）。マザー層５０８の厚さは特に制限されないが、通常１００μｍ以上、通常５００μｍ以下である。  次いで、このマザー層５０８を剥離させる（図４（ｉ）参照）。
こうして得られたマザー層５０８を、マザースタンパと呼ぶ（以下「マザー」と称する。）。このマザー５０８上にも凹凸パターンが写し取られており、その凹凸パターンは凹凸原盤５０３'上での凹凸パターンと同じものとなっている。
以上の手順により得られたファザー５０６又はマザー５０８を、何れもスタンパとして使用することが可能である。
【００９４】
また、これらのスタンパ５０６，５０８を型として、更に別の材料に凹凸パターンを写し取ることにより、新たなスタンパを作製することも可能である。例えばファザースタンパ５０６から、複数枚のマザースタンパ５０８を写し取っていくこともできるし、マザースタンパ５０８から更にサンスタンパ（図示せず）を写し取っていくこともできる。こうして得られるサンスタンパ上の凹凸パターンは、ファザースタンパ５０６上での凹凸パターンと同じものとなっている（以下、サンスタンパのことを単に「サン」と称する場合がある）。
また、樹脂材料からなるスタンパ（樹脂製スタンパ）を製造する場合には、上述の手順により金属材料からなるスタンパ（金属製スタンパ）を作製し、この金属製スタンパを型として樹脂材料を射出成形することにより、金属製スタンパの凹凸パターンが写し取られた樹脂製スタンパを得るという手法が有効である。
【００９５】
［３−２．光記録媒体の製造］
続いて、図５を用いて、本実施形態の光記録媒体１００の製造方法の一例を簡単に説明する。図５（ａ）〜（ｇ）は、本実施形態の光記録媒体の製造方法を説明するため、その要部の断面を模式的に示す断面図である。
本実施形態の光記録媒体１００の製造方法は、第１色素記録層形成工程と、第１反射層形成工程と、中間層形成工程（樹脂原料層形成工程、樹脂原料層硬化工程、スタンパ剥離工程）と、第２色素記録層形成工程と、第２反射層形成工程と、第２基板形成工程とを有する。
【００９６】
［３−２−１．基板の用意］
まず、第１基板１０１を用意する。第１基板１０１としては、上述のスタンパを用いて、記録トラック及び内周溝領域に相当する凹凸パターンが形成された基板を作製する。具体的には、例えば、上述のスタンパを型として、第１基板１０１の材料を射出成形することにより、スタンパの凹凸パターンが写し取られた基板を形成し、得られた基板をスタンパから剥離して使用すればよい。第１基板１０１の材料や厚さ等は、上述の通りである。
【００９７】
［３−２−２．第１色素記録層形成工程］
次に、第１色素記録層形成工程において、第１基板１０１上に第１色素記録層１０２を形成する。第１色素記録層１０２の形成方法にはスピンコート法を用いる。即ち、有機色素を含有する塗布液を第１基板１０１の凹凸を有する側の表面にスピンコートにより塗布する。その後、塗布液に使用した溶媒を除去するために加熱等を行ない、第１色素記録層１０２を成膜する。なお、本実施形態では、上記のように第１基板１０１上に直接第１色素記録層１０２を形成した例を示して説明するが、第１色素記録層１０２は、光記録媒体１００の種類や構成などに応じて、第１基板１０１上に他の層を介して形成するようにしてもよい。
【００９８】
本発明においては、塗布液が内周側の内周溝領域内にまで広がるように調整することが必要である。塗布液が内周側にどの程度広がるかについては、塗布液の粘度等の物性、滴下量、滴下時に基板を回転させるか否かによって影響を受けるが、同一条件で行う限り大きく変動することはないため、数回の試行で本発明を実現可能な滴下位置を見出すことが可能である。通常の場合、内周溝領域の外周側の端部から半径方向に２ｍｍ以内の範囲に滴下することが好ましい。
【００９９】
［３−２−３．第１反射層形成工程］
第１色素記録層１０２を成膜した後、第１反射層形成工程において、第１色素記録層１０２上に第１反射層１０３を形成する。第１反射層１０３の形成方法に制限はないが、例えば、第１色素記録層１０２上にＡｇ合金等をスパッタまたは蒸着することにより、第１色素記録層１０２上に第１反射層１０３を成膜することができる。この際、第１反射層は内周溝領域を覆う範囲まで成膜することが好ましい。
【０１００】
このように、第１基板１０１上に、第１色素記録層１０２及び第１反射層１０３を順に積層することによって、データ基板１１１を得る。また、第１反射層１０３を形成する方法は、例えば、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等で行うこともできる。
【０１０１】
［３−２−４．中間層形成工程］
次に、第１反射層１０３上に中間層１０４を形成する。中間層１０４の形成方法に制限はなく任意であるが、通常は、以下のようにして形成される。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いた中間層１０４は、適当な溶剤に熱可塑性樹脂等を溶解して塗布液を調製し、この塗布液を塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。
【０１０２】
一方、放射線硬化性樹脂を用いた中間層１０４は、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、この塗布液を塗布し、適当な放射線を照射して硬化させることによって形成することができる。
なお、塗布方法に制限はなく、例えばスピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられる。この中でも、スピンコート法が好ましい。特に、高粘度の樹脂を用いた中間層１０４は、スクリーン印刷等によっても塗布形成できる。
ただし、本実施形態の光記録媒体１００においては、第２色素記録層１０５に凹凸を形成するため、樹脂原料層形成工程、樹脂原料層硬化工程及びスタンパ剥離工程をおこなうことにより中間層を形成することが、より好ましい。以下、この方法を説明する。
【０１０３】
［３−２−４−１．樹脂原料層形成工程］
第１反射層形成工程の後、樹脂原料層形成工程において、図５（ｂ）に示すように、第１反射層１０３の表面（即ち、データ基板１１１の表面）全体に、樹脂原料層１０４ａを形成する。即ち、第１色素記録層１０２上に、第１反射層１０３を介して樹脂原料層１０４ａを形成する。
ここで形成する樹脂原料層１０４ａは、光記録媒体１００の完成時に中間層１０４を構成することになる層で、何らかの処理を施すことにより硬化しうる硬化性樹脂又はその前駆体により形成された層である。
【０１０４】
上記硬化性樹脂としては光記録媒体に使用しうる硬化性樹脂を任意に用いることができる。硬化性樹脂の例としては、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などが挙げられ、中でも、放射線硬化性樹脂の一種である紫外線硬化性樹脂が好ましい。なお、本明細書においては、「放射線」を、電子線、紫外線、可視光、及び赤外線を含む意味で用いる。また、硬化性樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。ただし、樹脂原料層１０４ａはこの後でスタンパ１１０（後述）により表面に凹凸が成形されることになるため、樹脂原料層硬化工程において成形される前には、不定形な状態（通常は、所定の粘度を有する液体状態）となっている。
また、樹脂原料層１０４ａの形成方法に制限はない。例えば、樹脂原料層１０４ａは、硬化性樹脂の前駆体をスピンコート等により塗布することで形成することができる。
【０１０５】
本実施形態においては、放射線硬化性樹脂の一つである紫外線硬化性樹脂の前駆体をスピンコートにより塗布し、樹脂原料層（以下、説明の便宜から「紫外線硬化性樹脂原料層」と呼ぶ場合がある。）１０４ａを形成したものとする。
ところで、本実施形態においては、上記のように第１色素記録層１０２上に第１反射層１０３を介して紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを形成した例を示して説明するが、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａは、光記録媒体１００の種類や構成などに応じて、第１色素記録層１０２上に直接形成するようにしてもよく、また、第１反射層１０３以外のその他の層を介して形成するようにしてもよい。
【０１０６】
［３−２−４−２．樹脂原料層硬化工程］
次に、樹脂原料層硬化工程において、図５（ｃ）に示すように、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ上にスタンパ１１０を載置し、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させる。つまり、第１色素記録層１０２とは反対側の紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの表面にスタンパ１１０が載置された状態となる。
スタンパ１１０は、上述のスタンパ作製方法により作成可能であるが、紫外線透過性を有する樹脂製のスタンパとすることが好ましい。
【０１０７】
また、第２色素記録層の塗布状態を制御するために、第１基板形成時に用いるスタンパと同様、内周溝領域に相当する凹凸パターンを有するスタンパを用いることが好ましいが、中間層上にロットカット等の内周部の不規則な凹凸パターンを設ける必要がない場合は内周溝領域を設けなくとも良い。
【０１０８】
スタンパ１１０を載置する際、スタンパ１１０の凹凸が形成された面を紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに押し付けるようにして載置する。このとき、スタンパ１１０を紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに押し付ける程度は、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの膜厚が所定範囲になるように調節して行なう。
【０１０９】
そして、スタンパ１１０を紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに載置した状態で、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させる。紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させるには、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに紫外線を照射すればよい。この際、紫外線は、スタンパ１１０を介して照射するようにしてもよい。ただし、紫外線をスタンパ１１０側からの照射する場合には、スタンパ１１０として紫外線を透過しうるもの（光透過性のもの）を用いることが、工業的に好ましい。また、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの側面から照射するようにしてもよい。さらに、第１基板１０１側から照射するようにしてもよい。ただし、第１基板１０１側から照射する場合、紫外線の照射により第１色素記録層１０２がダメージを受けないようにすることが好ましい。
【０１１０】
本実施形態では、スタンパ１１０を介して、スタンパ１１０側から紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂の前駆体を重合させることにより、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させたものとして説明を行なう。
このようにして、前記樹脂原料層を硬化させて、データ基板１１１（即ち、第１基板１０１、第１色素記録層１０２及び第１反射層１０３）、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ、並びに、スタンパ１１０を備えた接着体１１２が得られる。
【０１１１】
［３−２−４−３．スタンパ剥離工程］
そして、スタンパ剥離工程では、図５（ｄ）に示すように、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ（図５（ｃ）参照）からスタンパ１１０を剥離させる。これにより、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａにスタンパ１１０の転写用凹凸形状が転写されて、中間層１０４が形成される。なお、本明細書では、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａとは、塗布後、硬化され、スタンパが剥離するよりも以前のものを指す。また、中間層１０４とは、スタンパ１１０が剥離した後のものを指す。したがって、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ及び中間層１０４は同様の位置に形成された層を指すものであるが、その状態が異なるものである。
【０１１２】
スタンパ１１０を剥離させる具体的方法に制限はないが、通常は、内周を真空吸着して、光記録媒体の内周にナイフエッジを入れ、そこにエアーを吹き込みながらディスクとスタンパを引き離すという方法で剥離を行なう。
以上の操作を経て、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの表面に、スタンパ１１０の転写用凹凸の形状（即ち、転写用凹凸形状）が転写された中間層１０４を形成し、第１基板１０１、第１色素記録層１０２、第１反射層１０３及び中間層１０４を備えた光記録媒体用積層体１１３を得ることができる（図５（ｄ）参照）。
【０１１３】
［３−２−５．第２色素記録層形成工程］
続いて、第２色素記録層形成工程では、図５（ｅ）に示すように、中間層１０４上に第２色素記録層１０５を形成する。第２色素記録層１０５の形成方法は、第１色素記録層と同様である。即ち、有機色素材料を含む塗布液を、スピンコートにより中間層１０４表面に塗布する。そして、塗布液に使用した溶媒を除去するために加熱等を行ない、第２色素記録層１０５を成膜する。
【０１１４】
［３−２−６．第２反射層形成工程］
次に、第２反射層形成工程では、図５（ｆ）示すように、第２色素記録層１０５上に第２反射層１０６を形成する。第２反射層１０６の形成方法は第１反射層の場合と同様であり、例えば、本請求項記載の材料をスパッタもしくは蒸着することにより第２色素記録層１０５上に第２反射層１０６を成膜することができる。
また、第２反射層１０６を形成する方法としては、例えば、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等を採用することもできる。
なお、中間層、色素記録層及び必要に応じて反射層を更に積層する場合には、［３−２−２．第１色素記録層形成工程］、［３−２−３．第１反射層形成工程］及び［３−２−４．中間層形成工程］と同様の操作を繰り返すことによって、色素記録層及び反射層を３層以上有する積層型多層光記録媒体を効率よく製造することができる。
【０１１５】
［３−２−７．第２基板形成工程］
その後、第２基板形成工程において、図５（ｇ）に示すように、第２反射層１０６上に第２基板１０８を形成する。第２基板１０８の形成方法に制限はないが、例えば、第２基板１０８を、接着層１０７を介して第２反射層１０６に貼り合わせて形成することができる。なお、第２基板１０８に制限はないが、ここでは、ポリカーボネートを射出成形して得られた鏡面基板を第２基板１０８として用いているものとする。
ここで、接着層１０７の構成は任意である。例えば、接着層１０７は、透明であっても不透明であってもよい。また、表面が多少粗くてもよい。さらに、遅延硬化型の接着剤であっても問題なく使用できる。また、例えば、第２反射層１０６上にスクリーン印刷等の方法で接着剤を塗布し、紫外線を照射してから第２基板１０８を載置し、押圧することにより接着層１０７を形成するようにしてもよい。また、第２反射層１０６と第２基板１０８との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより接着層１０７を形成することも可能である。
以上のようにして、光記録媒体１００の製造が完了する。
【０１１６】
［３−２−８．その他の製造方法］
光記録媒体１００の製造方法は、上述したものに限定されず、他の方法を採用してもよい。
また、上述した製造方法に変更を加えて実施してもよい。例えば、上述した各工程の前、途中、後に、上述した工程以外の他の工程を行うようにしてもよい。
また、多層型の光記録媒体１００においては、光記録媒体１００の反りや、中間層１０４上に形成される第２色素記録層１０５の記録特性等を考慮し、樹脂原料層１０４ａを複数の樹脂層から形成してもよい。この場合、樹脂原料層１０４ａを構成する複数の樹脂層のうち、スタンパ１１０により凹凸形状を形成される樹脂層が最外樹脂層となる。
【０１１７】
このように樹脂原料層１０４ａを複数の樹脂層から構成する場合、樹脂原料層１０４ａを構成する樹脂層の数は、特に制限されない。具体的には、上記樹脂層の数は、通常１０層以下、好ましくは５層以下、より好ましくは４層以下とする。一方、上記樹脂層の数は、通常２層以上とする。但し、生産効率の観点からは、樹脂原料層１０４ａを構成する樹脂層の数は、２層以上とすることが好ましく、また５層以下とすることが好ましい。生産効率の観点から特に好ましいのは、樹脂原料層１０４ａを構成する樹脂層の数を、２層又は３層構造とすることである。
【０１１８】
［４．その他］
以上、本発明の光記録媒体について実施形態を示して詳細に説明したが、本発明は上記の光記録媒体に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変形して実施することができる。
図３に示した層構成はあくまで一例であり、光記録媒体１００は、上記の積層構造において、必要に応じて任意の他の層を挟んでもよい。或いは、光記録媒体１００の最外面に任意の他の層を設けてもよい。更に、光記録媒体１００には、必要に応じて、記録再生光の入射面ではない裏面１００Ｂに、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。また、例えば、図３に図示しない他の層（例えば、第１基板１０１と第１色素記録層１０２との間に下地層を挿入する。）を有する光記録媒体を製造するようにしてもよい。
さらに、上記実施形態では、光記録媒体１００の例として、有機色素材料を含む２つの色素記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面２層ＨＤＤＶＤ−Ｒを例に挙げて説明したが、本発明を適用しうる光記録媒体はこれに限られるものではない。
【０１１９】
例えば、主情報記録用レーザ光が膜面側から入射されるＢｌｕ−ｒａｙディスクにおいても、本発明は同様に適用することができる。
また、本発明は、１層の色素記録層を有する単層型の光記録媒体に適用することもできる。その場合、前記した光記録媒体１００の例から、第１色素記録層１０２および第１反射層１０３を除いた構成とすればよい。更には、中間層１０４を除いて、第１基板１０１の上に直接、第２色素記録層１０５を積層してもよい。１層の色素記録層を有する光記録媒体の場合の反射層は、第２反射層１０６のみということになる。
さらに、本発明の光記録媒体は、色素記録層を３層以上有し、中間層を２層以上有する光記録媒体に適用することもできる。この場合、２層以上の中間層のそれぞれを形成するために、上記で説明した製造方法を適用することができる。
【０１２０】
また、例えば、光記録媒体の製造方法に関しては、光記録媒体１００を２枚、第１基板１０１を外側にして貼合わせてもよい。光記録媒体１００を２枚貼り合わせることにより、色素記録層を４層有する大容量の媒体を得ることができる。
また、上述した各構成要素は、適宜、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に組み合わせて実施することができる。
【実施例】
【０１２１】
以下に実施例を示すが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
【０１２２】
（実施例１）
（１）光記録媒体の作成
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、記録再生領域にトラックピッチ０．４０μｍ、幅２６０ｎｍ、深さ６０ｎｍの案内溝が形成され、内周側の非記録再生領域に記録再生領域と同じトラックピッチ、溝幅、溝深さからなるスパイラル状の溝形状を有する、幅２ｍｍの内周溝領域を持つ、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの基板を得た。下記の化学式で示される分解温度２５０℃のシアニン色素のテトラフルオロロペンタノール溶液（濃度１重量％）を調製し、これを基板上の内周溝領域の外周側の端部から約０．１ｍｍ外周に滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し第１色素記録層を形成した。
【０１２３】
【化１】
2009170017.tif 000003
【０１２４】
さらに、第１色素記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、厚さ２０ｎｍの半透明の第１反射層をスパッタリング法により成膜した。更に、この反射層の上に、紫外線硬化樹脂を用いて、０．６ｍｍ厚のポリカーボネート製の第２基板を接着して、単層型の光記録媒体を作製した（実施例１の光記録媒体）。
【０１２５】
（２）色素記録層の内周側の端部の半径位置の測定
得られた実施例１の光記録媒体に対し、光学顕微鏡（ニコン社製  工場顕微鏡２０型）を用いて色素記録層の内周側の端部の半径位置の測定を行った。
その結果、端部の半径位置は内周溝領域の最外周位置より０．０９１ｍｍ内周の位置であった。
【０１２６】
（３）反射率分布の測定
得られた実施例１の光記録媒体に対し、レーザ波長４０５ｎｍ、ＮＡ（開口数）０．６５のテスター（パルステック社製ＯＤＵ−１０００）を用い、周方向での反射率分布の評価を行った。
【０１２７】
反射率Ｒの値は、色素記録層の膜厚に影響を受けるため、反射率分布を測定することにより、色素記録層の膜厚分布状態を見積もることが出来る。各半径ごとに、ディスク１周分の反射率Ｒを測定し、１周内での最大反射率Ｒmaxと最小反射率Ｒminを測定し、以下の式により反射率分布を算出した。
反射率分布（％）＝（Ｒmax−Ｒmin）／Ｒmax×１００
【０１２８】
反射率分布の値が小さいほど、色素記録層の膜厚分布が均一であることを意味する。ＨＤＤＶＤの規格上は反射率分布が１５％以下であることが必要とされているが、マージンを考慮し、反射率分布が５％程度であれば、実用上問題ないレベルと判断する。本実施例では、色素記録層の内周側の端部の近傍は非記録再生領域に当たるが、上記の膜厚分布の評価を行うため、便宜上記録再生用レーザ光を照射して反射率測定を行った。
結果を図６及び表１に示す。色素記録層の内周側の端部からの距離がわずか０．６ｍｍ程度で、反射率分布５％が得られており、端部近傍でも良好な膜厚分布が得られていることが判る。
【０１２９】
【表１】
2009170017.tif 000004
【０１３０】
（４）色素記録層膜厚分布の測定
実施例１の光記録媒体に対し、波長４７０ｎｍでのＯＤ値（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）の周分布をＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ社製ＥＴＡ−ＲＴで測定した。色素記録層の内周側の端部から０．１ｍｍ刻みで１周につき８点のＯＤ値を測定した。ここで、ＯＤ値の測定は反射層が存在すると測定できないため、ＯＤ値の測定は実施例１の反射層を成膜する前の状態において行った。以下の実施例及び比較例についても同様である。
ＯＤ値は色素記録層の膜厚と相関があり、膜厚が大きいほどＯＤ値も大きな値となる。そこで、このＯＤ値を用いて、以下の式でＯＤ値分布算出した。
ＯＤ値分布（％）＝（ＯＤmax−ＯＤmin）／ＯＤmax×１００
【０１３１】
ここで、ＯＤmaxは１周内でのＯＤ値の最大値を表し、ＯＤminは１周内でのＯＤ値の最小値を表す。ＯＤ値分布が小さければ色素記録層の膜厚分布が均一である事を意味する。特に規格は設けられていないが、通常のＨＤＤＶＤＲ−ＳＬの記録再生領域では３％以下であれば特性に問題ない事が分かっている。
結果を（表２および図７）に示す。ＯＤ値の最大分布は１２．８％であり、ＯＤ値分布が３％以上となる色素記録層の内周側の端部からの範囲は０．６５ｍｍであった。
【０１３２】
【表２】
2009170017.tif 000005
【０１３３】
（実施例２、３）
ポリカーボネ―ト基板のトラックピッチ、溝幅、溝深さ表２の通りとした以外は実施例１と同様の条件で光記録媒体を作成した。（実施例２、３の光記録媒体）
得られた光記録媒体に対し実施例１と同様に色素記録層の内周側の境界部の半径位置を測定した結果を表３に示す。
表３に示した結果から内周溝領域をもつ光記録媒体では溝深さを深くする事で塗布液滴下位置からの塗布液の内周側への広がりを抑えることが出来ることがわかった。
【０１３４】
【表３】
2009170017.tif 000006
【０１３５】
（比較例１）
内周溝領域を設けなかったこと以外は実施例１と同様の条件で光記録媒体を作成した（比較例１の光記録媒体）。実施例３、比較例１にて得られた光記録媒体に対し実施例１と同様に反射率分布を測定した結果を表１及び図６に示す。ここで、端部からの距離が０．６ｍｍ以内の領域では、反射率分布が大きすぎてフォーカスが調整できなかったため、０．７ｍｍ以上の範囲について測定を行った結果を示す。
【０１３６】
（評価）
実施例３では、実施例１よりやや大きいものの、色素記録層の内周側の端部からの距離がわずか０．９ｍｍ程度で反射率分布５％が得られているが、内周溝領域の無い比較例１においては、反射率分布５％が得られる距離が１．７ｍｍ程度と明らかに大きい。このことから、内周溝領域を設けることにより、特に色素記録層の内周側の端部近傍の膜厚分布を改善できることが判る。
【０１３７】
また、表２及び図７の結果より、内周溝領域の溝深さを深くするほどＯＤ値分布が良好となっており、溝深さの最も浅い実施例３においても、ＯＤ値分布が３％以上となる色素記録層の内周側の端部からの距離が０．９ｍｍ程度であるのに対し、内周溝領域の無い比較例１においては１．３ｍｍ程度と大きな値となっていることから、内周溝領域を設けることにより、特に色素記録層の内周側の端部近傍の膜厚分布を改善できることが判る。
また、表３の結果より、内周溝領域の深さを深くすることにより、塗布液の内周側への広がりを抑えることができることが判る。
【図面の簡単な説明】
【０１３８】
【図１】本発明の光記録媒体の一例を説明する模式図である。
【図２】本発明の内周溝領域を含む非記録再生領域の半径方向の断面図の一例である。
【図３】本発明の一実施形態としての片面２層の光記録媒体の要部を拡大して模式的に表わす断面図である。
【図４】本発明の情報記録媒体を製造するためのスタンパの製造手順の一例を説明するための図である。
【図５】本発明の光記録媒体の製造方法を説明するため、その要部の断面を模式的に示す断面図である。
【図６】実施例及び比較例の光記録媒体の、色素記録層の内周側端部からの外周方向への距離と反射率分布の関係を示すグラフである。
【図７】実施例及び比較例の光記録媒体の、色素記録層の内周側の端部からの距離とＯＤ値分布の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１３９】
１００  光記録媒体
１０１  第１基板
１０２  第１色素記録層
１０３  第１反射層
１０４  中間層
１０５  第２記録層
１０６  第２反射層
１０７  接着層
１０８  第２基板
１０９  記録再生光
１００Ａ  情報面
１００Ｂ  裏面
５０１  原盤用基板
５０２  フォトレジスト
５０３  原盤
５０４  パターン
５０５  導電層
５０６  ファザー層
５０７  剥離層
５０８  マザー層
【図１】
2009170017.tif 000007
【図２】
2009170017.tif 000008
【図３】
2009170017.tif 000009
【図４】
2009170017.tif 000010
【図５】
2009170017.tif 000011
【図６】
2009170017.tif 000012
【図７】
2009170017.tif 000013