(57)【要約】【課題】溶解性が良く、重合開始剤及び顔料として有用な新規な高分子過酸化物、該高分子過酸化物を含有してなる重合開始剤、該高分子過酸化物から得られる高分子ラジカルを顔料の表面にグラフト化させた顔料及び該顔料を含有する顔料組成物を提供すること。【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物。2009161682.tif 000032【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物。
【化１】
2009161682.tif 000025
（式中、Ａ1は、高分子鎖であり、Ｘ1は、直接結合、−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−であり、Ｘ2は、直接結合、−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であり、Ｘ3は、直接結合、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ6−、−Ｓ−ＣＯ−Ｒ6−又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ6−を表し、Ｘ4は、直接結合、−ＮＨ−、−Ｒ7−ＣＯ−Ｏ−、−Ｒ7−ＣＯ−Ｓ−又は−Ｒ7−ＣＯ−ＮＨ−を表し、Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１８のアルキレン基、炭素原子数６〜３０のアリーレン基、炭素原子数７〜３０のアリーレンアルキレン基又は炭素原子数８〜３０のアルキレンアリーレンアルキレン基を表し、Ｒ6及びＲ7のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−で中断されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、水酸基又はシアノ基で置換されていてもよく、Ｙ1は、高分子鎖、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は下記一般式（II）で表わされる基である。）
【化２】
2009161682.tif 000026
（式中、Ａ3は、高分子鎖又は炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜３０の複素環基であり、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜３０の複素環基であり、Ｒ1とＲ2は、結合して炭素原子数３〜６員の環を形成してもよい。）
【請求項２】
上記一般式（Ｉ）中、Ａ1がポリオキシレン鎖、ポリエステル鎖、ポリオレフィン鎖又はポリシロキサン鎖である請求項１記載の高分子過酸化物。
【請求項３】
上記一般式（Ｉ）で示される化合物が下記一般式（III）で示される化合物である請求項１又は２記載の高分子過酸化物。
【化３】
2009161682.tif 000027
（式中、Ｒ3は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｙ2は、Ｒ10−（Ｏ−Ｒ9）t−（Ｏ−Ｒ8）s−、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は上記一般式（II）で表わされる基であり、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ10は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ8及びＲ9のアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、ｓ及びｔは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｓ＋ｔの和は、２以上であり、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｍ＋ｎの和は、２以上であり、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4は、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
【請求項４】
上記一般式（III）中、Ｘ1及びＸ2が−ＣＯ−であり、Ｙ2がＲ10−（Ｏ−Ｒ9）t−（Ｏ−Ｒ8）s−である請求項３記載の高分子過酸化物。
【請求項５】
上記一般式（III）で示される化合物が下記一般式（IV）で示される化合物である請求項３又は４記載の高分子過酸化物。
【化４】
2009161682.tif 000028
（式中、Ｒ11及びＲ12は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、ｍ、ｎ、ｓ及びｔは、上記一般式（III）と同じである。）
【請求項６】
上記一般式（IV）中、Ｒ11及びＲ12がエチレン基である請求項５記載の高分子過酸化物。
【請求項７】
上記一般式（Ｉ）で示される化合物が下記一般式（Ｖ）で示される化合物である請求項１又は２記載の高分子過酸化物。
【化５】
2009161682.tif 000029
（式中、Ｒ13は、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基又はＲ27−（Ｏ―Ｒ26）b−（Ｏ−Ｒ25）a−であり、Ｒ25及びＲ26は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ25及びＲ26におけるアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｒ27は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ａ＋ｂの和は、２以上であり、Ｒ14及びＲ15は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１７のアルキレン基を表し、Ｒ14及びＲ15におけるアルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、シアノ基、−ＮＲ01Ｒ02、−ＯＲ01、−ＣＯ−Ｒ01、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ01、−ＣＯ−ＯＲ01で置換されていてもよく、Ｒ01及びＲ02は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数２〜１０のアルケニル基を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4は、上記一般式（Ｉ）と同じである。Ｙ3は、下記一般式（VI）で表される置換基、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は上記一般式（II）で表わされる基であり、ｊ及びｋは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｊ＋ｋの和は、２以上である。）
【化６】
2009161682.tif 000030
（式中、Ｒ16は、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基又はＲ30−（Ｏ−Ｒ29）d−（Ｏ−Ｒ28）c−であり、Ｒ28及びＲ29は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ28及びＲ29におけるアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｒ30は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、ｃ及びｄは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｃ＋ｄの和は、２以上であり、Ｒ17及びＲ18は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１７のアルキレン基を表し、Ｒ17及びＲ18におけるアルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、シアノ基、−ＮＲ01Ｒ02、−ＯＲ01、−ＣＯ−Ｒ01、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ01、−ＣＯ−ＯＲ01で置換されていてもよく、Ｒ01及びＲ02は、上記一般式（Ｖ）と同じであり、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｐ＋ｑの和は、２以上である。）
【請求項８】
上記一般式（Ｖ）中、Ｘ1及びＸ2が−ＣＯ−であり、Ｙ3が上記一般式（VI）で表される置換基である請求項７記載の高分子過酸化物。
【請求項９】
上記一般式（Ｖ）で示される化合物が下記一般式（VII）で示される化合物である請求項７又は８記載の高分子過酸化物。
【化７】
2009161682.tif 000031
（式中、Ｒ19及びＲ20は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、ｊ及びｋは、上記一般式（Ｖ）と同じであり、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、ｐ及びｑは、上記一般式（VI）と同じである。）
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の高分子過酸化物を含有してなる重合開始剤。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれかに記載の高分子過酸化物からなるラジカル発生剤の熱分解によって生成した高分子ラジカルを顔料の表面にグラフト化させたことを特徴とするグラフト化顔料。
【請求項１２】
請求項１１記載のグラフト化顔料、溶媒及びバインダー樹脂を含有する顔料組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の構造を有する高分子過酸化物、該高分子過酸化物を含有してなる重合開始剤、該高分子過酸化物から得られる高分子ラジカルが表面にグラフト化された顔料及び該顔料を含有する顔料組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
主鎖中にパーオキシド結合を持つ（高分子）過酸化物をカーボンブラックとともに加熱すると、（高分子）過酸化物の熱分解によって生成するラジカルがカーボンブラックの表面にグラフト化することが知られている。例えば、特許文献１には、パーオキシジカーボネート化合物からなるラジカル発生剤の分解によって発生した官能基が表面に結合したカーボンブラックが開示されており、特許文献２には、ケトンパーオキシド化合物からなるラジカル発生剤の分解によって発生した官能基が表面に結合したカーボンブラックが開示されており、特許文献３には、α―アルコキシヒドロ過酸化物が開示されており、特許文献４には、パーオキシエステル化合物からなるラジカル発生剤の分解によって発生した官能基が表面に結合したカーボンブラックが開示されており、特許文献５には、ジアルキルパーオキシド化合物からなるラジカル発生剤の分解によって発生した官能基が表面に結合したカーボンブラックが開示されており、非特許文献１及び特許文献６には、ジアシルパーオキシド化合物からなるラジカル発生剤の分解によって発生した官能基が表面に結合したカーボンブラックが開示されており、非特許文献２には、ポリアルキレンオキシド鎖を有するグラフト鎖が結合したグラフト化カーボンブラックが開示されている。
【０００３】
また、特許文献７には、シランカップリング剤で表面処理されたコロイダルシリカを含有するハードコート用樹脂組成物が開示されているが、該樹脂組成物は、十分な分散性が得られていなかった。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−３２３１７９号公報
【特許文献２】特開平１１−３２３１８０号公報
【特許文献３】特開平１１−３４９５５９号公報
【特許文献４】特開平１１−３３５５８６号公報
【特許文献５】特開平１１−３３５５８７号公報
【特許文献６】特開平１１−３３５６０１号公報
【特許文献７】特開２００６−６３２４４号公報
【非特許文献１】Journal of the Japan Society of Color-Material(SHIKIZAI),66(8),468-475(1993)
【非特許文献２】Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry、Vol.34、pp.1589-1595
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、溶解性が良く、重合開始剤及び顔料として有用な新規な高分子過酸化物、該高分子過酸化物を含有してなる重合開始剤、該高分子過酸化物から得られる高分子ラジカルを顔料の表面にグラフト化させた顔料及び該顔料を含有する顔料組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、下記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【０００７】
【化１】
2009161682.tif 000002
（式中、Ａ1は、高分子鎖であり、Ｘ1は、直接結合、−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−であり、Ｘ2は、直接結合、−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であり、Ｘ3は、直接結合、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ6−、−Ｓ−ＣＯ−Ｒ6−又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ6−を表し、Ｘ4は、直接結合、−ＮＨ−、−Ｒ7−ＣＯ−Ｏ−、−Ｒ7−ＣＯ−Ｓ−又は−Ｒ7−ＣＯ−ＮＨ−を表し、Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１８のアルキレン基、炭素原子数６〜３０のアリーレン基、炭素原子数７〜３０のアリーレンアルキレン基又は炭素原子数８〜３０のアルキレンアリーレンアルキレン基を表し、Ｒ6及びＲ7のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−で中断されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、水酸基又はシアノ基で置換されていてもよく、Ｙ1は、高分子鎖、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は下記一般式（II）で表わされる基である。）
【０００８】
【化２】
2009161682.tif 000003
（式中、Ａ3は、高分子鎖又は炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜３０の複素環基であり、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜３０の複素環基であり、Ｒ1とＲ2は、結合して炭素原子数３〜６員の環を形成してもよい。）
【０００９】
また、本発明は、上記高分子過酸化物を含有してなる重合開始剤を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【００１０】
また、本発明は、上記高分子過酸化物からなるラジカル発生剤の熱分解によって生成した高分子ラジカルを顔料の表面にグラフト化させたことを特徴とするグラフト化顔料を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【００１１】
また、本発明は、上記グラフト化顔料、溶媒及びバインダー樹脂を含有する顔料組成物を提供することにより、上記目的を達成したものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の高分子過酸化物は、高分子ポリマーからなるため、ラジカル重合により合成されうるポリマーと、これとは重合方法または重合条件の異なるポリマーとのブロック共重合体を得ることが可能となり、該高分子過酸化物から得られる高分子ラジカルが表面にグラフト化された顔料は分散性が高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の新規な高分子過酸化物、該高分子過酸化物を含有してなる重合開始剤、該高分子過酸化物から得られる高分子ラジカルを顔料の表面にグラフト化させた顔料及び該顔料を含有する顔料組成物について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
【００１４】
上記一般式（Ｉ）におけるＡ1及びＹ1、並びに上記一般式（II）におけるＡ3で表わされる高分子鎖としては、特に制限はないが、例えば、ポリオキシレン鎖、ポリメチレン鎖、ポリエステル鎖、ポリシロキサン鎖、ポリエーテル鎖や、ポリ（メタ）アクリレート鎖、ポリスチレン−酢酸ビニル鎖等のポリオレフィン鎖、ポリアミド鎖、ポリイミド鎖、ポリウレタン鎖及びこれらの組み合わせ等が挙げられ、Ｘ3は、直接結合、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ6−、−Ｓ−ＣＯ−Ｒ6−又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ6−を表し、Ｘ4は、直接結合、−ＮＨ−、−Ｒ7−ＣＯ−Ｏ−、−Ｒ7−ＣＯ−Ｓ−又は−Ｒ7−ＣＯ−ＮＨ−を表し、Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１８のアルキレン基、炭素原子数６〜３０のアリーレン基、炭素原子数７〜３０のアリーレンアルキレン基又は炭素原子数８〜３０のアルキレンアリーレンアルキレン基を表し、Ｒ6及びＲ7のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−で中断されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、水酸基又はシアノ基で置換されていてもよい。
【００１５】
上記一般式（Ｉ）におけるＹ1及び上記一般式（II）におけるＡ3で表わされる炭素原子数１〜２４のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、ｔ−ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ｔ−オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、イコシル、テトライコシル等が挙げられ、上記一般式（II）におけるＲ1及びＲ2で表わされる炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、上記アルキル基のうち、規定の炭素原子数を満たす置換基が挙げられ、上記一般式（Ｉ）におけるＹ1及び上記一般式（II）におけるＡ3、Ｒ1及びＲ2で表わされる炭素原子数６〜３０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラセン−１−イル、フェナントレン−１−イル等が挙げられ、上記一般式（Ｉ）におけるＹ1及び上記一般式（II）におけるＡ3、Ｒ1及びＲ2で表わされる炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられ、上記一般式（Ｉ）におけるＹ1及び上記一般式（II）におけるＡ3、Ｒ1及びＲ2で表わされる炭素原子数２〜３０の複素環基としては、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ユロリジル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル等が挙げられる。Ｒ1とＲ2が結合して形成する炭素原子数３〜６員の環としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環等が挙げられる。
【００１６】
上記一般式（Ｉ）におけるＹ1及び上記一般式（II）におけるＡ3で表される炭素原子数１〜２４のアルキル基、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1及びＲ2で表わされる炭素原子数１〜２０のアルキル基、上記一般式（Ｉ）におけるＹ1及び上記一般式（II）におけるＡ3、Ｒ1及びＲ2で表わされる炭素原子数６〜３０のアリール基、上記一般式（Ｉ）におけるＹ1及び上記一般式（II）におけるＡ3、Ｒ1及びＲ2で表わされる炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基及び上記一般式（Ｉ）におけるＹ1及び上記一般式（II）におけるＡ3、Ｒ1及びＲ2で表わされる炭素原子数２〜３０の複素環基は、置換基を有してもよい。該置換基としては、以下のものが挙げられる。尚、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ1及びＡ3が、上記の炭素原子数１〜２４のアルキル基等の炭素原子を含有する基であり、且つ、それらの基が、以下の置換基の中でも、炭素原子を含有する置換基を有する場合は、該置換基を含めた全体の炭素原子数が、規定された範囲を満たすものとする。
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、シクロペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、イソヘプチル、ｔ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｔ−オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基；メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、ｓ−ブチルオキシ、ｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、ｔ−アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、ｔ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、ｔ−アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、ｔ−ヘプチルチオ、ｎ−オクチルチオ、イソオクチルチオ、ｔ−オクチルチオ、２−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基；ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、２−プロペニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、イソブテニル、３−ペンテニル、４−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基；ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基；フェニル、ナフチル等のアリール基；フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基；フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基；ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル等の複素環基；フェロセニル、ニッケロセニル、コバルトニル、フェロセンアルキル、フェロセンアルコキシ等のメタロセン基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；アセチル、２−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル（ベンゾイル）、フタロイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基；スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、トリアルキルシリル基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、リン酸基等が挙げられ、これらの基は更に置換されていてもよい。また、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸性基は、無機塩基又は有機塩基と塩、錯体又は複合体を形成していてもよい。
【００１７】
上記一般式（Ｉ）におけるＲ6及びＲ7で表わされる炭素原子数１〜１８のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、プロピリデン、イソプロピリデン、トリメチレン、ブチレン、ブチリデン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、デカメチレン、ドデカメチレン、テトラデカメチレン、ヘキサデカメチレン、オクタデカメチレン等が挙げられ、上記一般式（Ｉ）におけるＲ6及びＲ7で表わされる炭素原子数６〜３０のアリーレン基としては、フェニレン、ナフチレン、アントラセニレン、フェナントレニレン等が挙げられ、上記一般式（Ｉ）におけるＲ6及びＲ7で表わされる炭素原子数７〜３０のアリーレンアルキレン基としては、メチレンフェニル、エチレンフェニル等が挙げられ、上記一般式（Ｉ）におけるＲ6及びＲ7で表わされる炭素原子数８〜３０のアルキレンアリーレンアルキレン基としては、１，４−ジメチレンフェニル、１，４−ジエチレンフェニル等が挙げられ、上記アルキレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレンアルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、水酸基又はシアノ基で置換されていてもよい。この場合、該当する炭素原子を有する置換基で置換された上記アルキレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレンアルキレン基中のメチレン基は、炭素原子数が上記で規定された範囲を満たすものとする。
【００１８】
上記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物の中でも、Ａ1がポリオキシレン鎖、ポリエステル鎖、ポリオレフィン鎖又はポリシロキサン鎖である化合物が、合成が容易で溶解性が高いため好ましく、下記一般式（III）で示される化合物が、これをグラフト化した顔料粒子の分散安定性がより向上するため、さらに好ましい。
【００１９】
【化３】
2009161682.tif 000004
（式中、Ｒ3は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｙ2は、Ｒ10−（Ｏ−Ｒ9）t−（Ｏ−Ｒ8）s−、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は上記一般式（II）で表わされる基であり、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ10は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ8及びＲ9のアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、ｓ及びｔは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｓ＋ｔの和は、２以上であり、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｍ＋ｎの和は、２以上であり、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4は、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
【００２０】
また、上記一般式（III）で示される化合物において、−（Ｏ−Ｒ4）n−、−（Ｏ−Ｒ5）m−、−（Ｏ−Ｒ8）s−及び−（Ｏ−Ｒ9）t−で表されるユニットは、ランダム共重合又はブロック共重合のいずれでもよい。
【００２１】
上記一般式（III）で示される化合物の中では、Ｘ1及びＸ2が−ＣＯ−であり、Ｙ2がＲ10−（Ｏ−Ｒ9）t−（Ｏ−Ｒ8）s−である化合物が、分解温度が適当であるため好ましく、下記一般式（IV）で示される化合物が、原料の入手が容易で合成し易いためさらに好ましい。
【００２２】
【化４】
2009161682.tif 000005
（式中、Ｒ11及びＲ12は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、ｍ、ｎ、ｓ及びｔは、上記一般式（III）と同じである。）
【００２３】
上記一般式（III）中のＲ3及びＹ2、上記一般式（IV）中のＲ10で表される炭素原子数１〜２４のアルキル基、上記一般式（III）中のＹ2で表される炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基としては、上記一般式（Ｉ）の説明で例示した基の中で、炭素原子数が所定の範囲を満たす基が挙げられる。
【００２４】
上記一般式（III）及び上記一般式（IV）におけるＲ4、Ｒ5、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11及びＲ12で表わされる炭素原子数１〜４のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、プロピリデン、イソプロピリデン、トリメチレン、ブチレン、ブチリデン、テトラメチレン等が挙げられ、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ8及びＲ9のアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、その置換基としては上記一般式（Ｉ）で例示された置換基が挙げられ、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよい。
【００２５】
上記一般式（IV）で示される化合物の中では、Ｒ11及びＲ12がエチレン基である化合物が、原料の入手が容易であるため好ましい。
【００２６】
上記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物の中では、これをグラフト化した顔料粒子の分散性がより向上するという点から、下記一般式（Ｖ）で示される化合物を好ましく挙げることもできる。
【化５】
2009161682.tif 000006
（式中、Ｒ13は、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基又はＲ27−（Ｏ―Ｒ26）b−（Ｏ−Ｒ25）a−であり、Ｒ25及びＲ26は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ25及びＲ26におけるアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｒ27は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ａ＋ｂの和は、２以上であり、Ｒ14及びＲ15は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１７のアルキレン基を表し、Ｒ14及びＲ15におけるアルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、シアノ基、−ＮＲ01Ｒ02、−ＯＲ01、−ＣＯ−Ｒ01、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ01、−ＣＯ−ＯＲ01で置換されていてもよく、Ｒ01及びＲ02は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数２〜１０のアルケニル基を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4は、上記一般式（Ｉ）と同じである。Ｙ3は、下記一般式（VI）で表される置換基、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は上記一般式（II）で表わされる基であり、ｊ及びｋは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｊ＋ｋの和は、２以上である。）
【００２７】
【化６】
2009161682.tif 000007
（式中、Ｒ16は、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基又はＲ30−（Ｏ−Ｒ29）d−（Ｏ−Ｒ28）c−であり、Ｒ28及びＲ29は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ28及びＲ29におけるアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｒ30は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、ｃ及びｄは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｃ＋ｄの和は、２以上であり、Ｒ17及びＲ18は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１７のアルキレン基を表し、Ｒ17及びＲ18におけるアルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、シアノ基、−ＮＲ01Ｒ02、−ＯＲ01、−ＣＯ−Ｒ01、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ01、−ＣＯ−ＯＲ01で置換されていてもよく、Ｒ01及びＲ02は、上記一般式（Ｖ）と同じであり、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｐ＋ｑの和は、２以上である。）
【００２８】
上記一般式（Ｖ）で示される化合物の中では、Ｘ1及びＸ2が−ＣＯ−であり、Ｙ3が上記一般式（VI）で表される置換基である化合物が、分解温度が適当であるため好ましく、下記一般式（VII）で示される化合物が、原料の入手が容易で合成し易いためさらに好ましい。
【化７】
2009161682.tif 000008
（式中、Ｒ19及びＲ20は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、ｊ及びｋは、上記一般式（Ｖ）と同じであり、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、ｐ及びｑは、上記一般式（VI）と同じである。）
【００２９】
上記一般式（Ｖ）中のＲ13及びＹ3、上記一般式（VI）中のＲ16、Ｒ27及びＲ30で表される炭素原子数１〜２４のアルキル基、上記一般式（Ｖ）中のＲ14及びＲ15、上記一般式（VI）中のＲ17及びＲ18で表わされる炭素原子数１〜１７のアルキレン基、上記一般式（Ｖ）中のＲ25及びＲ26、上記一般式（VI）中のＲ28及びＲ29、上記一般式（VII）中のＲ19及びＲ20で表される炭素原子数１〜４のアルキレン基、上記一般式（Ｖ）中のＹ3で表される炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基、上記一般式（Ｖ）中のＲ01及びＲ02で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基、上記一般式（Ｖ）中のＲ01及びＲ02で表される炭素原子数２〜１０のアルケニル基としては、上記一般式（Ｉ）等の説明で例示した基の中で、炭素原子数が所定の範囲を満たす基が挙げられる。
【００３０】
上記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物の中では、これをグラフト化した顔料粒子の分散性がより向上するという点から、下記一般式（VIII）で示される高分子過酸化物を好ましく挙げることもできる。
【化８】
2009161682.tif 000009
（式中、Ｒ31は、炭素原子数１〜２４のアルキル基又はＲ36−（Ｏ−Ｒ35）g−（Ｏ−Ｒ34）h−であり、Ｒ34及びＲ35は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ34及びＲ35におけるアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｒ36は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、ｇ及びｈは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｇ＋ｆの和は、２以上であり、Ｙ4は、下記一般式（IX）で表される置換基、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は上記一般式（II）で表わされる基であり、ｆは、２〜１００の数であり、Ｒ32は、環状カルボン酸無水物又はジカルボン酸の残基を表わし、Ｒ33は、環状エーテル又はジオール化合物の残基を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4は、上記一般式（III）と同じである。上記アルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、シアノ基、−ＮＲ01Ｒ02、−ＯＲ01、−ＣＯ−Ｒ01、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ01、−ＣＯ−ＯＲ01で置換されていてもよく、Ｒ01及びＲ02は、上記一般式（Ｖ）と同じである。）
【００３１】
【化９】
2009161682.tif 000010
（式中、Ｒ37は、炭素原子数１〜２４のアルキル基又はＲ42−（Ｏ−Ｒ41）v−（Ｏ−Ｒ40）r−であり、Ｒ40及びＲ41は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ40及びＲ41におけるアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｒ42は、水素原子又は炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、ｒ及びｖは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｒ＋ｖの和は、２以上であり、ｅは、２〜１００の数であり、Ｒ38は、環状カルボン酸無水物又はジカルボン酸の残基を表わし、Ｒ39は、環状エーテル又はジオール化合物の残基を表し、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、シアノ基、−ＮＲ01Ｒ02、−ＯＲ01、−ＣＯ−Ｒ01、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ01、−ＣＯ−ＯＲ01で置換されていてもよく、Ｒ01及びＲ02は、上記一般式（Ｖ）と同じである。）
【００３２】
上記一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物において、上記の好ましい形態以外の化合物としては、例えば、下記一般式（Ｘ）、又は(XII)で示される化合物を挙げることができる。
【化１０】
2009161682.tif 000011
（式中、Ｒ43は、炭素原子数１〜２４のアルキル基を表し、該アルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｙ5は、下記一般式（XI）で表される置換基、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は上記一般式（II）で表わされる基であり、ｉは、２〜１００の数であり、Ｒ44は、環状エーテル又はジオール化合物の残基を表し、Ｒ45は、環状カルボン酸無水物又はジカルボン酸の残基を表わし、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4は、上記一般式（III）と同じである。）
【００３３】
【化１１】
2009161682.tif 000012
（式中、Ｒ46は、炭素原子数１〜２４のアルキル基を表し、該アルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、ｕは、２〜１００の数であり、Ｒ47は、環状エーテル又はジオール化合物の残基を表し、Ｒ48は、環状カルボン酸無水物又はジカルボン酸の残基を表わす。）
【００３４】
【化１２】
2009161682.tif 000013
（式中、Ｒ49は、炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、該アルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｒ50及びＲ51は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１７のアルキレン基を表し、Ｒ50及びＲ51におけるアルキレン基中のメチレン基の水素原子は炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、ｗ及びｘは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｗ＋ｘの和は、２以上であり、Ｙ6は、下記一般式（XIII）で表される置換基、水素原子、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基又は上記一般式（II）で表わされる基であり、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4は、上記一般式（III）と同じである。上記アルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、シアノ基、−ＮＲ01Ｒ02、−ＯＲ01、−ＣＯ−Ｒ01、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ01、−ＣＯ−ＯＲ01で置換されていてもよく、Ｒ01及びＲ02は、上記一般式（Ｖ）と同じである。）
【００３５】
【化１３】
2009161682.tif 000014
（式中、Ｒ52は、炭素原子数１〜２４のアルキル基であり、該アルキル基中のメチレン基は二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−及び−Ｏ−ＣＯ−で中断されていてもよく、Ｒ53及びＲ54は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１７のアルキレン基を表し、ｙ及びｚは、それぞれ独立に、０〜１００の数であり、ｙ＋ｚの和は、２以上であり、上記アルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよく、又、該メチレン基中の水素原子は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、シアノ基、−ＮＲ01Ｒ02、−ＯＲ01、−ＣＯ−Ｒ01、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ01、−ＣＯ−ＯＲ01で置換されていてもよく、Ｒ01及びＲ02は、上記一般式（Ｖ）と同じである。）
【００３６】
上記一般式（VIII）中のＲ31、上記一般式（VIII）中のＲ36、上記一般式（IX）中のＲ37及びＲ42、上記一般式（Ｘ）中のＲ43、上記一般式（XI）中のＲ46、上記一般式（XII）中のＲ49、上記一般式（XIII）中のＲ52で表される炭素原子数１〜２４のアルキル基、上記一般式（VIII）中のＲ34及びＲ35、上記一般式（IX）中のＲ40及びＲ41で表される炭素原子数１〜４のアルキレン基、上記一般式（XII）中のＲ50及びＲ51、上記一般式（XIII）中のＲ53及びＲ54で表される炭素原子数１〜１７のアルキレン基、上記一般式（VIII）中のＹ4、上記一般式（Ｘ）中のＹ5、上記一般式（XII）中のＹ6で表される炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜３０の複素環基、上記式中のメチレン基中の水素原子を置換してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、上記一般式（Ｉ）等の説明で例示した基の中で、炭素原子数が所定の範囲を満たす基が挙げられる。
【００３７】
上記一般式（VIII）中のＲ32、上記一般式（IX）中のＲ38、上記一般式（Ｘ）中のＲ45及び上記一般式（XI）中のＲ48で表される残基を導入するための環状カルボン酸無水物としては、コハク酸無水物、フタル酸無水物、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、リンゴ酸無水物、Ｏ−アセチル−リンゴ酸無水物、１，２−ナフタル酸無水物、１−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、２，３−アントラセンジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、３−メチルフタル酸無水物、１，８−ナフタル酸無水物、４−ブロモ−１，８−ナフタル酸無水物、４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、デシルコハク酸無水物、ジグリコール酸無水物、ドデシルコハク酸無水物、ｅｘｏ−３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、グルタル酸無水物、ヘット酸無水物、イタコン酸無水物、Ｎ−メチルイサト酸無水物、オクタデセニルコハク酸無水物、テトラデセニルコハク酸無水物、テトラクロロフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、４−メチル−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物、５，６−ジヒドロ−１，４−ジチイン−２，３−ジカルボン酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、ビシクロ[２．２．２]オクタ−５−エン−２，３−ジカルボン酸無水物、ｃｉｓ−ノルボルネン−ｅｘｏ−２，３−ジカルボン酸無水物、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物等が挙げられ、上記一般式（VIII）中のＲ32、上記一般式（IX）中のＲ38、上記一般式（Ｘ）中のＲ45及び上記一般式（XI）中のＲ48で表される残基を導入するためのジカルボン酸としては、フタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，１−シクロブタンジカルボン酸、１，１−シクロプロパンジカルボン酸、１，３−アダマンタンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，９−ノナンジカルボン酸、１Ｈ−イミダゾール−４，５−ジカルボン酸、２，２‘−ビフェニルジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸、２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ノルボルナンジカルボン酸、２，３−ピリジンジカルボン酸、２，６−ピリジンジカルボン酸、３，４−ピリジンジカルボン酸、３，５−ピリジンジカルボン酸、２，５−チオフェンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−スチルベンジカルボン酸、アセトンジカルボン酸、アセチレンジカルボン酸、アントラキノン−２，３−ジカルボン酸、アゾベンゼンジカルボン酸、ベンゾフェノン−２，４’−ジカルボン酸、ベンゾフェノン−４，４’−ジカルボン酸、１，８−アントラセンジカルボン酸、２−ブテン−１，４−ジカルボン酸等が挙げられる。
【００３８】
上記一般式（VIII）中のＲ33、上記一般式（IX）中のＲ39、上記一般式（Ｘ）中のＲ44及び上記一般式（XI）中のＲ47で表される残基を導入するための環状エーテル類としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシドール、テトラヒドロフラン、２，３−エポキシブタン、イソブチレンオキシド、スチレンオキシド、オキセタン、２−ヒドロキシメチルオキセタン、３−（クロロメチル）−３−メチルオキセタン、３−エチル−３−オキセタンメタノール、３−メチル−３−オキセタンメタノール、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、１，４−ジオキサン−２，３−ジオール、２，４−ジメチル−１，３−ジオキサン、４−メチル−１，３−ジオキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサン、３，３−ビス（クロロメチル）オキセタン、１，４−エポキシシクロヘキサン、２−メチル−１，４−エポキシシクロヘキサン、２−オキサビシクロ［２．２．２］オクタン、テトラヒドロピラン、２−フェノキシテトラヒドロピラン、２−ビニルオキシテトラヒドロピラン、オキセパン等が挙げられ、上記一般式（VIII）中のＲ33、上記一般式（IX）中のＲ39、上記一般式（Ｘ）中のＲ44及び上記一般式（XI）中のＲ47で表される残基を導入するためのジオール類としては、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３，６−オクタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，４−ブタンジオール、３−ベンジルオキシ−１，２−プロパンジオール、１−フェニルエタン−１，２−ジオール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、４−ベンジルオキシ−１，２−ブタンジオール、１，１，２−トリフェニル−１，２−エタンジオール、３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−プロパンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，２−ブタンジオール、１，２−シクロドデカンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，２−デカンジオール、１，２−ドデカンジオール、１，２−ヘプタンジオール、１，２−ヘキサデカンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−ノナンジオール、１，２−オクタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，２−テトラデカンジオール、１，３−アダマンタンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ジオキサン−２，３−ジオール、１，５−ヘキサジエン−３，４−ジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２，２−ジオクチルー１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジイソアミルー１，３−プロパンジオール、２，３−ブタンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、２，４−ジメチル−２，４−ペンタンジオール、２，４−ヘキサジイン−１，６−ジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２，５−ジメチル−３−ヘキシン−２，５−ジオ���ル、２−（２，２−ジエトキシエチル）−１，３−プロパンジオール、２−ベンジルオキシ−１，３−プロパンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２−ブチン−１，４−ジオール、２−フェニル−１，３−プロパンジオール、３，６−ジメチル−４−オクチン−３，６−ジオール、３，６−ジチア−１，８−オクタンジオール、３，７−ジチア−１，９−ノナンジオール、３−ヘキセン−２，５−ジオール、３−ヘキシン−２，５−ジオール、３−メトキシ−１，２−プロパンジオール、３−モルホリノ−１，２−プロパンジオール、３−フェノキシ−１，２−プロパンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等が挙げられる。
【００３９】
以上説明した本発明の一般式（Ｉ）で示される高分子過酸化物としては、鎖状重合体の一方の末端に、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基等の官能基を有する化合物と過酸化物とを反応させて得られる構造を有する高分子過酸化物、あるいは鎖状重合体の一方の末端に上記官能基を有する化合物を原料として得られる高分子過酸化物等の従来公知の方法により合成される高分子過酸化物が挙げられる。
【００４０】
上記一方の末端に官能基を有する鎖状重合体（Ａ）と、この官能基と反応し結合しうる官能基を有する過酸化物（Ｂ）とを結合させて得られる高分子過酸化物は、一方の末端に官能基を有する鎖状重合体（Ａ）０．５〜２．５等量と過酸化物（Ｂ）１等量とを反応させることにより得られる。上記一方の末端に官能基を有する鎖状重合体（Ａ）は、１種又は２種以上を組み合わせて用いることができ、合計して上記の割合を満たすように選択される。
【００４１】
上記一方の末端に官能基を有する鎖状重合体（Ａ）としては、例えば、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールの共重合体とモノアルコールとの縮合物、一方の末端が水酸基であるポリエステル、一方の末端に水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーの単量体又は共重合体、末端に水酸基を有する熱可塑性樹脂、末端に水酸基を有する熱硬化性樹脂等が挙げられ、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはポリプロピレングリコールの共重合体とモノアルコールとの縮合物；上記一方の末端が水酸基であるポリエステル、一方の末端に水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーの単量体又は共重合体、末端に水酸基を有する熱可塑性樹脂、末端に水酸基を有する熱硬化性樹脂等の水酸基を酸化して得られる末端にカルボキシル基を有する化合物等が、顔料にグラフト化したときに良好な分散性を与えるので好ましい。
上記熱可塑性樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ビニルトルエンアクリレートポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−各種ビニルエーテル共重合体、スチレンアクリレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチル（メタ）アクリレート共重合体、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカプロラクトン、ブチロラクトン、ポリ乳酸、ポリアクリロニトリル、スチレン−無水マレイン酸共重合体等の合成高分子材料が挙げられ、熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリイミド、フェノール樹脂等が挙げられる。
【００４２】
上記過酸化物（Ｂ）としては特に限定されず、公知の過酸化物を用いることができるが、例えば、ジアシルパーオキシド、ヒドロパーオキシド、ジアルキルパーオキシド、パーオキシケタール、アルキルパーエステル、パーオキシジカーボネート、ケトンパーオキシド、パーオキシエステル等を挙げることができる。
【００４３】
本発明の高分子過酸化物を得る反応は常法に従って行なうことができるが、好ましくは、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下、−３０〜５０℃で３０分間〜１０時間反応させる。
【００４４】
本発明の高分子過酸化物を得る反応には、必要に応じて適宜溶媒を用いることができる。該溶媒としては、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、イソ−又はｎ−プロパノール、イソ−又はｎ−ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコールメチルアセテート等のエーテルエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テレピン油、Ｄ−リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油（株））、ソルベッソ＃１００（エクソン化学（株））等のパラフィン系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。
【００４５】
本発明の高分子過酸化物を得る反応には、必要に応じて縮合剤を加えてもよい。該縮合剤としては、特に限定されず従来エステル化反応に用いられているものを用いることができ、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド等のカルボジイミド類；２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド等のアリールスルホニルクロリド類；２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルイミダゾリド、２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルトリアゾリド等のアリールスルホンアミド類；アゾジカルボン酸エステル；ハロゲン化有機スルホニル；ジフェニルホスホリルアジド、ジエトキシホスホニルクロリド、ジエトキシホスホニルアジド、無水プロピルホスホン酸、ジフェニルホスホニルクロリド；マグネシウムジメトキシド、マグネシウムジエトキシド、アルミニウムジイソプロポキシド、アルミニウムトリ−ｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；酸化カルシウム、酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属酸化物；リチウムアミド等のアルカリ金属アミド；炭酸カリウム；塩化亜鉛、三塩化アルミニウム、オキシ塩化リン、テトラメチルアンモニウムクロリド、濃硫酸、五酸価ニリン、ポリリン酸、無水酢酸、カルボニルジイミダゾール、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、塩基性のイオン交換樹脂等が挙げられる。また、縮合助剤として、トリエチルアミン、ピリジン、ベンジルアミン、ベンジルメチルアミン、γ−ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、トリブチルアミン、４−ピペリジノピリジン等の有機塩基を用いることもできる。
【００４６】
本発明の高分子過酸化物は、以下に説明する重合開始剤や架橋剤、表面修飾剤、顔料分散剤の原材料として好ましく用いられる他、過酸化物による公知の反応、例えば、ハロゲンイオンや硫黄化合物、酸素化合物、リン化合物、窒素化合物、不飽和化合物、芳香族化合物、グリニヤ試剤、塩基、カルボニル化合物、金属イオン等を用いた反応に用いることができる。
【００４７】
本発明の重合開始剤は、本発明の高分子過酸化物を、通常１〜１００質量％、好ましくは９０〜１００質量％含有してなり、例えば、エチレン性不飽和モノマーを重合或いは共重合させることができる。上記エチレン性不飽和モノマーとしては、特に限定されず、公知のものを用いることができるが、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン等の不飽和脂肪族炭化水素；（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレートあるいは１個のカルボキシル基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレート等の不飽和多塩基酸；（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、下記化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸Ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル；（メタ）アクリル酸亜鉛、（メタ）アクリル酸マグネシウム等の不飽和多塩基酸の金属塩；マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等の不飽和多塩基酸の酸無水物；（メタ）アクリルアミド、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド等の不飽和一塩基酸及び多価アミンのアミド；アクロレイン等の不飽和アルデヒド；（メタ）アクリロニトリル、シアン化アリル等の不飽和ニトリル；スチレン、４−メチルスチレン、４−エチルスチレン、４−ヒドロキシスチレン、４−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニル安息香酸、ビニルフェノール、ビニルスルホン酸、４−ビニルベンゼンスルホン酸等の不飽和芳香族化合物；メチルビニルケトン等の不飽和ケトン；ビニルアミン、アリルアミン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピペリジン等の不飽和アミン化合物；アリルアルコール、クロチルアルコール等のビニルアルコール；エチルビニルエーテル、Ｎ−ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル；ビニルチオエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾリン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、水酸基含有ビニルモノマー及びポリイソシアネート化合物のビニルウレタン化合物、水酸基含有ビニルモノマー及びポリエポキシ化合物のビニルエポキシ化合物等が挙げられる。
【００４８】
【化１４】
2009161682.tif 000015
【００４９】
【化１５】
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【００５０】
【化１６】
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【００５１】
【化１７】
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【００５２】
上記の高分子過酸化物を重合開始剤として用いてエチレン性不飽和モノマーを重合或いは共重合する方法としては、例えば溶液重合、塊状重合、懸濁重合、乳化重合等が挙げられる。
【００５３】
上記重合又は共重合は、不活性ガス雰囲気下、２０〜１５０℃で３０分間〜２０時間で行なうのが好ましく、さらに必要に応じて触媒、重合禁止剤、連鎖移動剤、溶媒等を用いることができる。
【００５４】
本発明の高分子過酸化物の使用量は、使用するエチレン性不飽和モノマーの種類によっても異なるが、エチレン性不飽和モノマー１モルに対して通常０．１〜１００モル％、好ましくは１．０〜１０モル％である。本発明の高分子過酸化物は、単独又は分解温度の近似する複数種を用いることができる。
【００５５】
本発明の重合開始剤には、本発明の高分子過酸化物の効果を損なわない範囲で、水、可塑剤、有機溶剤、炭化水素、芳香族炭化水素、不活性固体、充填剤、シリコーンオイル等を添加してもよい。
【００５６】
本発明のグラフト化顔料は、本発明の高分子過酸化物を顔料の表面にグラフト化させたものであり、その製造方法としては、顔料表面に存在する非局在化したπ電子を利用してラジカル発生剤を化学的に結合すればよく、具体的には、高分子過酸化物からなるラジカル発生剤の熱分解によって生成した高分子ラジカルを従来公知の顔料の表面に化学結合（グラフト化）させる方法が挙げられる。ここで、「グラフト化」とは、顔料のような基質に対する重合体の不可逆的な付加のことを言う。
【００５７】
上記の高分子過酸化物からなるラジカル発生剤の熱分解によって生成した高分子ラジカルを従来公知の顔料の表面にグラフト化させる方法において、グラフト化反応は、不活性ガス雰囲気下、適当な溶媒中、４０〜１５０℃で３０分間〜４８時間で行なうのが好ましい。
【００５８】
上記グラフト化反応において、高分子過酸化物の使用量は、顔料１００質量部に対し、１〜１０００質量部であるのが好ましく、１０〜１００質量部であるのがより好ましい。
上記高分子過酸化物の使用量が１質量部未満であれば、重合反応の進行が遅く、１０００質量部超であれば、重合度が充分に増加しない。
【００５９】
上記公知の顔料としては、例えば、ニトロソ化合物、ニトロ化合物、過酸化物、ジ過酸化物、キサンテン化合物、キノリン化合物、アントラキノン化合物、クマリン化合物、フタロシアニン化合物、イソインドリノン化合物、イソインドリン化合物、キナクリドン化合物、アンタンスロン化合物、ペリノン化合物、ペリレン化合物、ジケトピロロピロール化合物、チオインジゴ化合物、ジオキサジン化合物、トリフェニルメタン化合物、キノフタロン化合物、ナフタレンテトラカルボン酸；アゾ染料、シアニン染料の金属錯体化合物；レーキ顔料；ファーネス法、チャンネル法、サーマル法によって得られるカーボンブラック、あるいはアセチレンブラック、ケッチェンブラック又はランプブラック等のカーボンブラック；前記カーボンブラックを酸性又はアルカリ性表面処理したもの；黒鉛、黒鉛化カーボンブラック、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン；アニリンブラック、ピグメントブラック７、チタンブラック；疎水性樹脂；酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化カリウム、シリカ、アルミナ等の金属酸化物；層状粘土鉱物、ミロリブルー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、コバルト系、マンガン系、タルク、カオリン、フェロシアン化物、各種金属硫酸塩、硫化物、セレン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン等の有機又は無機顔料を用いることができる。これらの顔料は単独で、あるいは複数を混合して用いることができる。
【００６０】
上記公知の顔料としては、市販の顔料を用いることもでき、例えば、ピグメントレッド１、２、３、９、１０、１４、１７、２２、２３、３１、３８、４１、４８、４９、８８、９０、９７、１１２、１１９、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１６９、１７０、１７１、１７７、１７９、１８０、１８４、１８５、１９２、２００、２０２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２５４；ピグメントオレンジ１３、３１、３４、３６、３８、４３、４６、４８、４９、５１、５２、５５、５９、６０、６１、６２、６４、６５、７１；ピグメントイエロ−１、３、１２、１３、１４、１６、１７、２０、２４、５５、６０、７３、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、１００、１０９、１１０、１１３、１１４、１１７、１２０、１２５、１２６、１２７、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１６６、１６８、１７５、１８０、１８５；ピグメントグリ−ン７、１０、３６；ピグメントブル−１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：５、１５：６、２２、２４、５６、６０、６１、６２、６４；ピグメントバイオレット１、１９、２３、２７、２９、３０、３２、３７、４０、５０等が挙げられる。
【００６１】
本発明のグラフト化顔料は、平均粒子径が３０〜３００ｎｍであるのが、添加量が少量で済み、分散性が高いので好ましい。グラフト化顔料を分散または粉砕する方法としては、乳鉢、ビーズミル、プラストミル、ボールミル、振動ボールミル、ローラーミル、ロッドミル、チューブミル、コニカルミル、ハイスイングボールミル、ピン型ミル、ハンマーミル、ナイフハンマーミル、アトリションミル、ジェットミル、カウンタージェットミル、スパイラルジェットミル、ジェットマイザー、マイクロナイザー、ナノマイザー、マジャックミル、マイクロアトマイザー、ミクロンミル、ロータリーカッター、衝撃粉砕型ミル、圧縮せん断型ミル、ヘンシェルミキサー等を用いる方法が挙げられる。
【００６２】
本発明のグラフト化顔料は、カラーフィルター用レジストインキ、印刷インキ等のインキ、塗料、化粧品、接着剤、導電性付与剤、導電紙、樹脂の顔料、電子写真材料、充填剤、補強剤、コーティング材料、電池材料、電極材料、電子材料、静電気防止材料、電磁波シールド材料、ケーブル半導電体、面状発熱体、吸着剤、触媒、プラスチック又はゴムの改質剤、潤滑剤、非線形光学材料、繊維、カーボンナノチューブ、メッキ、各種記録媒体、封止剤等の広範な用途に使用することができる。
【００６３】
本発明のグラフト化顔料は、本発明のグラフト化顔料及びバインダー樹脂を、溶媒に分散させて、顔料組成物として用いることができる。
本発明の顔料組成物において、上記グラフト化顔料の含有量は、顔料組成物に占める全固形分中、１０〜１００質量％が好ましく、５０〜９０質量％がより好ましい。
上記グラフト化顔料の含有量が１０質量％未満であると、この顔料を含有する配合物を作製する際、配合物中の顔料濃度を増加することができない。
また、必要に応じて、粘度調整剤、ｐＨ調整剤、表面張力調整剤、増粘剤、チクソ性付与剤、レベリング剤、消泡剤、密着性付与剤、キレート剤、保湿剤、浸透剤、防黴剤、防錆剤、防腐剤、乾燥防止剤、速乾剤、定着剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、難燃剤、滑剤、加工助剤、アンチブロッキング剤、電解質、触媒、分散剤、グラフト化されていない公知の顔料等を併用することができる。
【００６４】
上記溶媒としては、通常、前記の各成分を溶解または分散しえる溶媒であれば特に制限はないが、例えば、上記高分子過酸化物を得る反応における溶媒として例示したものを用いることができ、これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。本発明の顔料組成物において、上記溶媒の含有量は、顔料組成物に占める全固形分が０．１〜３０質量％であるように調製するとよい。
【００６５】
上記バインダー樹脂としては、特に制限されず、インキ、塗料、コーティング材料、ソルダーレジスト等に通常用いられるバインダーを用いることができるが、例えば、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、アルカリ可溶性樹脂、アクリル樹脂、可溶性ナイロン及び高分子ラテックス、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、石油樹脂、マレイン酸樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、環状（脂環式又は芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタン、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、スチレン共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル等を用いることができる。
本発明の顔料組成物において、上記バインダー樹脂の含有量は、顔料組成物に占める全固形分中、１〜７０質量％が好ましく、３〜３０質量％がより好ましい。
【００６６】
本発明の顔料組成物には、光重合開始剤を用いることができる。
【００６７】
上記光重合開始剤としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、１−ヒドロキシ−１−ベンゾイルシクロヘキサン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、１−ベンジル−１−ジメチルアミノ−１−（４’−モルホリノベンゾイル）プロパン、２−モルホリル−２−（４’−メチルメルカプト）ベンゾイルプロパン、チオキサントン、１−クロル−４−プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチルアントラキノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ベンゾインブチルエーテル、２−ヒドロキシ−２−ベンゾイルプロパン、２−ヒドロキシ−２−（４’−イソプロピル）ベンゾイルプロパン、４−ブチルベンゾイルトリクロロメタン、４−フェノキシベンゾイルジクロロメタン、ベンゾイル蟻酸メチル、１，７−ビス（９’−アクリジニル）ヘプタン、９−ｎ−ブチル−３，６−ビス（２’−モルホリノイソブチロイル）カルバゾール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ナフチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、チオキサントン／アミン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、並びに特開２０００−８００６８号公報、特開２００１−２３３８４２号公報、特開２００５−９７１４１号公報、特表２００６−５１６２４６号公報、特許第３８６０１７０号公報、特許第３７９８００８号公報、ＷＯ２００６／０１８９７３号公報に記載の化合物等が挙げられる。これらの中でも、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
【００６８】
【化１８】
2009161682.tif 000019
（式中、Ｘ71は、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、Ｘ72は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又は下記一般式（Ｂ）で表される置換基を表し、Ｒ71、Ｒ72及びＲ73は、それぞれ独立に、Ｒ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ、ＣＯＮＲＲ’又はＣＮを表し、Ｒ及びＲ’は、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は複素環基を表し、これらはハロゲン原子及び／又は複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアリールアルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合又はエステル結合により中断されていてもよく、また、Ｒ及びＲ’は一緒になって環を形成していてもよく、ｇは０〜４の整数であり、ｇが２以上の時、複数のＸ71は異なる基でもよい。）
【００６９】
【化１９】
2009161682.tif 000020
（式中、環Ｍはシクロアルカン環、芳香環又は複素環を表し、Ｘ73はハロゲン原子又はアルキル基を表し、Ｙ71は酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を表し、Ｚ71は炭素原子数１〜５のアルキレン基を表し、ｈは０〜４の整数であり、ｈが２以上の時、複数のＸ73は異なる基でもよい。）
【００７０】
本発明の顔料組成物には、さらにエチレン性不飽和モノマー、連鎖移動剤、界面活性剤等を併用することができる。
【００７１】
上記エチレン性不飽和結合モノマーとしては、上記高分子過酸化物を重合開始剤として用いる重合又は共重合におけるエチレン性不飽和モノマーとして例示したものが挙げられる。
【００７２】
上記連鎖移動剤としては、チオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、２−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプト酪酸、Ｎ−（２−メルカプトプロピオニル）グリシン、２−メルカプトニコチン酸、３−〔Ｎ−（２−メルカプトエチル）カルバモイル〕プロピオン酸、３−〔Ｎ−（２−メルカプトエチル）アミノ〕プロピオン酸、Ｎ−（３−メルカプトプロピオニル）アラニン、２−メルカプトエタンスルホン酸、３−メルカプトプロパンスルホン酸、４−メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル（４−メチルチオ）フェニルエーテル、２−メルカプトエタノール、３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、１−メルカプト−２−プロパノール、３−メルカプト−２−ブタノール、メルカプトフェノール、２−メルカプトエチルアミン、２−メルカプトイミダゾール、２−メルカプト−３−ピリジノール、２−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）等のメルカプト化合物、該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、２−ヨードエタノール、２−ヨードエタンスルホン酸、３−ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物が挙げられる。
【００７３】
上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤、高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤、高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
本発明の顔料組成物には、さらに熱可塑性有機重合体を用いることによって、硬化物の特性を改善することもできる。該熱可塑性有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸、スチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸−メチルメタクリレート共重合体、ポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル等が挙げられる。
【００７５】
また、本発明の顔料組成物には、必要に応じて、アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、ｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤；触媒；滑剤；安定剤；難燃剤；可塑剤；接着促進剤；充填剤；消泡剤；分散剤；レベリング剤；シランカップリング剤等の慣用の添加物を加えることができる。
【００７６】
本発明の顔料樹脂組成物は、スピンコーター、スリットコーター、ロールコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ガラス、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用される。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。
【実施例】
【００７７】
以下、実施例等を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、下記実施例等において、「％」は、質量％を意味する。
製造例１〜３は、表面修飾顔料１〜３の合成を示し、実施例１−１及び１−２は、高分子過酸化物１及び２の合成を示し、実施例２は、高分子過酸化物１を重合開始剤として用いたラジカル重合反応を示し、実施例３−１〜３−１０は、グラフト化顔料１〜１０の合成を示し、比較例３−１〜３−３は、比較グラフト化顔料１１〜１３の合成を示し、実施例４−１〜４−１０は、顔料組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１０の調製を示し、比較例４−１〜４−５は、比較顔料組成物Ｎｏ．１１〜Ｎｏ．１５の調製を示し、実施例５−１〜５−７は、実施例３−１、３−４及び３−６〜３−１０で得られたグラフト化顔料１、４及び６〜１１を含有するハードコート剤及びハードコートフィルムの製造を示し、実施例６−１〜６−７は、実施例３−１、３−４及び３−６〜３−１０で得られたグラフト化顔料１、４及び６〜１１を含有する水性塗料組成物の調製を示し、実施例７−１及び７−２は、実施例３−８及び３−９で得られたグラフト化顔料８及び９を含有するアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の調製を示す。
【００７８】
〔製造例１〕表面修飾顔料１の合成
イソプロパノール分散コロイダルシリカゾル（日産化学工業社製；粒径２０ｎｍ、固形分３０％、水分０．５％）８０ｇ、ビニルトリメトキシシラン４．８ｇイソプロパノール４０ｇ及びイオン交換水５ｇを混合し、１％ＨＣｌ水溶液３．６ｇを加え、５０℃で８時間撹拌し、溶媒を留去して、表面にビニル基を有するシリカ微粒子として表面修飾顔料１を得た。
【００７９】
〔製造例２〕表面修飾顔料２の合成
メタノール分散コロイダルシリカゾル（日産化学工業社製；粒径２０ｎｍ、固形分３０％、水分０．５％）８０ｇ、γ―メタクリロキシプロプルトリメトキシシラン８ｇ、γ―メルカプトプロピルトリメトキシシラン０．８ｇ、イソプロパノール４０ｇ及びイオン交換水５ｇを混合し、１％ＮａＣｌ水溶液２ｇを加え、５０℃で８時間撹拌し、溶媒を留去して、表面にメタクリル基を有するシリカ微粒子として表面修飾顔料２を得た。
【００８０】
〔製造例３〕表面修飾顔料３の合成
Ｐ−２５（日本エアロジル社製；一次平均粒子系１０ｎｍ）２４ｇ及びｔ−ブチルアルコール１４０ｇをビーズミルで３０分間分散した。さらにビニルトリメトキシシラン４．８ｇ、イオン交換水５ｇ及び１％ＨＣｌ水溶液５ｇを加え、５０℃で８時間撹拌し、溶媒を留去して、表面にビニル基を有するチタニア微粒子として表面修飾顔料３を得た。
【００８１】
〔実施例１−１〕高分子過酸化物１（上記一般式(III)で示される化合物）の合成
＜ステップ１＞ＤＭＡＰ塩酸塩の合成
ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）１．８８ｇ（１５．４ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン２０．０ｇに溶解し、窒素雰囲気下、室温で塩化水素の１，４−ジオキサン溶液（０．１４ｇ／ｇ）４．１０ｇを室温に保ちながら滴下した。析出した白色固体をろ別し、１，４−ジオキサン及びテトラヒドロフランで洗浄後、乾燥を経て、目的物であるＤＭＡＰ塩酸塩２．０３ｇを得た（収率８３％）。
【００８２】
＜ステップ２＞高分子過酸化物１の合成
３５℃に保持しながら、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルとポリプロピレングリコールモノメチルエーテルの７／３共重合体（分子量１７６４、水酸基価３１．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）１８．０ｇを１，４−ジオキサン１３．０ｇに溶解し、窒素雰囲気下でパーロイルＳＡ（日本油脂社製ジアシルパーオキシド）１．２５ｇ及びＤＭＡＰ０．０３７３ｇを加えて溶解させた。続いて、実施例１のステップ１で得られたＤＭＡＰ塩酸塩０．０３６０ｇを加えた後、ジシクロヘキシルカルボジイミド２．２５ｇ及び１，４−ジオキサン０．５ｇを３５℃で滴下して、８時間撹拌を行なった。１，４−ジオキサン１０ｍｌを加え、析出した白色固体をろ別し、５℃に冷却したｎ−ヘキサン２００ｇに滴下した。下層を取り出し、脱溶媒し、目的物である高分子過酸化物１の１５．９７ｇ（収率８４％）を得た。
【００８３】
〔実施例１−２〕高分子過酸化物２（上記一般式(Ｖ)で示される化合物）の合成
公知の方法により合成した数平均分子量３０００、重量平均分子量４２００のポリ−ε−カプロラクトン１７．８ｇを１，４−ジオキサン１６．２ｇに溶解し、窒素雰囲気下でパーロイルＳＡ（日本油脂製）１．２５ｇ及びＤＭＡＰ０．０３７３ｇを加え溶解させた。続いて、実施例１のステップ１で得られたＤＭＡＰ塩酸塩０．０３６０ｇを加えた後、ジシクロヘキシルカルボジイミド２．２５ｇ及び１，４−ジオキサン０．５ｇを３５℃以下で滴下し８時間撹拌を行なった。１，４−ジオキサン１３ｍｌを加え、析出した白色固体をろ別し、５℃に冷却したｎ−ヘキサン２００ｇに滴下して再沈殿を行なった。固体をろ別し、乾燥を経て、目的物である高分子過酸化物２の１６．６ｇ（収率８８％）を得た。
【００８４】
得られた高分子過酸化物１〜２の同定結果を〔表１〕に示す。
【００８５】
【表１】
2009161682.tif 000021
【００８６】
〔実施例２〕高分子過酸化物を重合開始剤として用いたラジカル重合反応
実施例１で得られた高分子過酸化物１の１９ｇ及びメタクリル酸メチル４０ｇ（０．４００ｍｏｌ）をトルエン８０ｇに溶解し、窒素雰囲気下８０℃で８時間撹拌した。室温まで冷却し、反応液をｎ−ヘキサン４００ｍｌに滴下して再沈殿を行なった。ろ過、乾燥を経て、ブロックポリマー（Ｍｎ＝１３０００）５５ｇを得た。
【００８７】
〔実施例３−１〜３−１０（グラフト化顔料１〜１０の合成）及び比較例３−１〜３−３（比較グラフト化顔料１１〜１３の合成）〕
〔表２〕記載の配合に従い、表面修飾顔料又は公知の顔料２４．０ｇ、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート９０．０ｇ及び高分子過酸化物を仕込み、窒素雰囲気下、７４〜７７℃で８時間撹拌し、目的物であるグラフト化顔料１〜１０及び比較グラフト化顔料１１〜１３のプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液をそれぞれ得た。
【００８８】
【表２】
2009161682.tif 000022
【００８９】
【化２０】
2009161682.tif 000023
【００９０】
〔実施例４−１〜４−１０〕顔料組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１０の調製
〔表３〕記載の配合に従い、バインダー樹脂としてエスレックＰ  ＳＥ−００２０（積水化学工業社製スチレン・アクリル共重合樹脂）の８３．５ｇ及び実施例３−１〜３−１０で得られたグラフト化顔料１〜１０のプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液４１６．５ｇを混合し、得られたスラリーをビーズミルで分散することにより、顔料組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１０をそれぞれ得た。
【００９１】
〔比較例４−１〜４−５〕比較顔料組成物Ｎｏ．１１〜Ｎｏ．１５の調製
グラフト化顔料に替えて、〔表３〕記載の表面修飾顔料又は比較グラフト化顔料１１〜１３を用いた以外は実施例４−１〜４−１０と同様にして、比較顔料組成物Ｎｏ．１１〜Ｎｏ．１５を調製した。
【００９２】
上記実施例４−１〜４−１０で調製した顔料組成物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１０及び比較例４−１〜４−５で調製した比較顔料組成物Ｎｏ．１１〜Ｎｏ．１５の評価を、目視により分散性を観察することにより行なった。評価は、均一に分散しているものを○、凝集がおこっているものを×とした。結果を〔表３〕に示す。
【００９３】
【表３】
2009161682.tif 000024
【００９４】
〔実施例５−１〜５−７（実施例３−１、３−４及び３−６〜３−１０で得られたグラフト化顔料１、４及び６〜１０を含有するハードコート剤及びハードコートフィルムの製造）〕
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製光重合開始剤）３．０ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル３．０ｇに溶解し、アロニックスＭ−４００（東亞合成社製ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）２１ｇ、ビスコート＃２３０（大阪有機化学工業社製１，６−ヘキサンジオールジアクリレート）９．０ｇ、グラフト化顔料７．０ｇ及びプロピレングリコールメチルアセテート７１ｇを加えて混合し、ハードコート剤をそれぞれ得た。得られたハードコート剤を、膜厚１００μｍのＡ−４３００（東洋紡社製易接着処理ポリエステルフィルム）に、バーコーター＃１４により塗布した後、８０℃で１分間乾燥させた。その後、空気雰囲気下で高圧水銀灯にて紫外線を３００ｍＪ照射し、硬化膜厚８μｍのハードコートフィルムをそれぞれ得た。
【００９５】
〔実施例６−１〜６−７（実施例３−１、３−４及び３−６〜３−１０で得られたグラフト化顔料１、４及び６〜１０を含有する水性塗料組成物の調製）〕
水道水２５ｇ、アデカネートＢ−９４０（ＡＤＥＫＡ社製消泡剤）０．８ｇ、アデカコールＷ−３０４（ＡＤＥＫＡ社製分散剤）０．４ｇ及びグラフト化顔料１００ｇをボールミルで１５時間混合し、顔料ペーストを得た。得られた顔料ペースト５０ｇ、スチレンーアクリルエステル系エマルジョン（昭和高分子社製）１００ｇ、アデカネートＢ−９４０（ＡＤＥＫＡ社製消泡剤）２．０ｇ及び窒素サイザーＣＳ−１２（チッソ社製造膜剤）２．０ｇをディスパーミキサーで混合し、水性塗料組成物をそれぞれ得た。
【００９６】
〔実施例７−１及び７−２（実施例３−８及び３−９で得られたグラフト化顔料８及び９を含有するアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の調製）〕
＜ステップ１＞バインダー樹脂組成物の調製
１，１−ビス（４’−エポキシプロピルオキシフェニル）−１−（１’’−ビフェニル）−１−シクロヘキシルメタン１７．０ｇ、アクリル酸４．４３ｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０６ｇ、テトラブチルアンモニウムアセテート０．１１ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１４．３ｇを仕込み、１２０℃で１６時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート７．１８ｇ及び無水コハク酸４．８２ｇ及びテトラブチルアンモニウムアセテート０．２５ｇを加えて１００℃で５時間撹拌した。更に、１，１−ビス（４’−エポキシプロピルオキシフェニル）−１−（１’’−ビフェニル）−１−シクロヘキシルメタン５．０８ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート２．１８ｇを加えて１２０℃で１２時間、８０℃で２時間、４０℃で２時間撹拌後、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート１３．１ｇを加えて、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液として目的物であるバインダー樹脂組成物を得た（Ｍｗ＝４２００、Ｍｎ＝２１００、酸価（固形分）５５ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
【００９７】
＜ステップ２＞アルカリ現像性樹脂組成物の調製
ステップ１で得られたバインダー樹脂組成物８３．５ｇ及び実施例３−８及び３−９で得られたグラフト化顔料８及び９のプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート溶液４１６．５ｇを混合し、得られたスラリーをビーズミルで分散することにより、アルカリ現像性樹脂組成物をそれぞれ得た。
【００９８】
＜ステップ３＞アルカリ現像性感光性樹脂組成物の調整
ステップ２で得られたアルカリ現像性樹脂剤組成物４４ｇに対し、それぞれ、トリメチロールプロパントリアクリレート６．３ｇ、ベンゾフェノン２．１ｇ、グラフト化顔料０．６ｇ及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート７８ｇを加えてよく撹拌し、アルカリ現像性感光性樹脂組成物をそれぞれ得た。