(57)【要約】【課題】  Ｏ脚を矯正・進行予防するための「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を簡単に行えるトレーニング機器を提供する。【解決手段】  足底板の前足部が外側方向へ可動し、後足部が内側方向へ可動する回転体に対して、バネ等の抵抗により筋活動を誘発する構造を特徴とする。また、足底板は母趾球部に凹形状をつけ、後足部には内側が低くなる傾斜構造を特徴とする。上記の二つの構造を組み合わせることにより、より安易に上記課題を解決することができる特徴を持つ。【選択図】図１１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前足部と後足部の間に回転中心を置き、「前足部が内側方向かつ後足部が内側方向」に抵抗力を設けるようにして、「前足部が外側方向かつ後足部が内側方向」に力が入りやすくなるようにした、Ｏ脚膝を矯正する運動を誘発するためのＯ脚用トレーニング機器。
【請求項２】
「足底の母趾球部は凹形状」「足底の踵部は内側を低くした傾斜をつけた形状」をつけるようにして、「前足部が外側方向かつ後足部が内側方向」に力が入りやすくなるようにした、Ｏ脚膝を矯正する運動を誘発するためのＯ脚トレーニング用足底板。
【請求項３】
請求項１と請求項２の合体させたＯ脚用トレーニング機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明はＯ脚等用トレーニング機器に関するものであり、足型の形状と運動方向の工夫によりＯ脚を矯正・進行予防する筋活動を促すものである。
【背景技術】
【０００２】  これまではＯ脚矯正トレーニング機器としては例えば図１・図２に示すような（特許文献１）（特許文献２）、磁力やベルトの締め付けによる外的圧力を加えることで、外側に変形した膝関節を内側に矯正しようとするものがほとんどである。【０００３】  そのため、外的矯正力を画一的に膝内側方向に加えることから、生理学的に本人の下肢に合わない負担がかかる恐れがある。また、変形してしまったＯ脚者の骨・関節を改善する自身の筋活動は生じない。【０００４】  他にもＯ脚の矯正のため足底外側を高くする傾斜をつけた中敷（特許文献３）や、母趾球部の凹形状よりＯ脚の矯正する中敷が考えられてきた（特許文献４）。しかし、物理的な矯正力はあるものの、Ｏ脚を矯正する筋活動を積極的にトレーニングすることはできない。また、それらの筋活動を正しく行える機器は先行技術には見当たらない。【０００５】
【特許文献１】  特開２００５−２６１９０７号公報
【特許文献２】  特開２０００−２４５７５９号公報
【特許文献３】  特開２００６−２６３３９７号公報
【特許文献４】  特開２００４−２７５６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】  Ｏ脚から派生しやすい問題としては、膝関節の変形以外に以下の点が考えられる。▲１▼Ｏ脚者は立位や歩行時に足底面の外側（小趾側）に荷重している傾向がある。そのため、小趾側に胼胝ができてしまい疼痛が発生することも少なくない。▲２▼Ｏ脚者は歩行時に地面を蹴りだす力が発揮しにくくなり、股関節伸展・外旋活動が減少してしまう。よって股関節伸展・外旋を司る殿筋群や股関節外旋筋群が弱化することにより、スタイル上も殿部が垂れ下がってきやすい傾向がある。▲３▼下肢の筋活動が不適切になることから高齢化してからの膝の疼痛につながりやすい。【０００７】  ところでＯ脚の発生機序は大腿と下腿の位置関係が三次元的に崩れることから起こる。すなわち、Ｏ脚者の膝は前方から見ると膝が外側に変形する「横方向の変形」を呈しているだけでなく、上方からみた場合には下腿に対して大腿が内旋するという「水平方向の変形」も同時に生じている（図３参照）。つまりＯ脚は、横方向の変形と水平方向の変形が同時に起こっている。【０００８】  よって、Ｏ脚を矯正・進行予防するトレーニングは「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を行えるようになる必要がある。
しかしＯ脚者にとって、「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を正しく実践することは難しい。Ｏ脚者は横方向の変形を修正しようと意識しすぎることがほとんどで、膝を内側にしめるだけとなる。よって、見た目の膝は閉じられてくるが、肝心の筋活動は内転筋による筋活動だけとなりやすい。内転筋による膝関節の横方向の締め付け力だけで、下腿に対して大腿は内旋してしまい水平方向の運動は適切に行われていない（図４参照）。【０００９】  このように、適切に行われない方法ではＯ脚を矯正・進行予防することはできない。また、適切に行うことができないのであればトレーニングとしては成立しない。よって、Ｏ脚を矯正・進行予防するためには、「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」をトレーニングとして簡単に再現できる必要がある。【００１０】  本発明が解決しようとする課題は，Ｏ脚を矯正・進行予防するための「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を簡単に行えるトレーニング機器を提供する点にある。そして、Ｏ脚者が抱えやすい▲１▼小趾側に起こりやすい胼胝による疼痛・▲２▼殿筋群や股関節外旋筋群が弱化することにより殿部が垂れ下がってきてしまうこと（スタイルの高齢化）・▲３▼高齢化してから起こりやすい膝関節の疼痛という問題点を改善・予防する点にある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】  Ｏ脚者の足底面に注目してみると、Ｏ脚者の母趾球部分は図５に示すように母趾球の骨は内側方向へ動き、母趾球の皮膚は地面との摩擦により外側方向へ引っぱられている。また踵部分は図６に示すように「踵の骨は外側方向へ動き、踵の皮膚は地面との摩擦により内側方向へ引っぱられて」いる。そこで、足底面の骨と皮膚が偏移していることから、「下腿は外旋、大腿は内旋、さらに膝が外側方向へゆるむ」という負の運動連鎖（図７参照）がＯ脚の要因の一つと考えた。本発明は以上の要因に起因するＯ脚発生機序に着目した。【００１２】  よって、本発明では「母趾球の骨が外側方向へ動き、母趾球の皮膚は地面との摩擦により内側方向へ引っぱられる」という運動（図８参照）と「踵の骨が内側方向へ動き、踵の皮膚は地面との摩擦により外側方向へ引っぱられる」という運動（図９参照）を同時に行いやすいように誘導できれば、「下腿に対して大腿が外旋して、膝が内側方向へしまる」という正の運動連鎖（図１０参照）を誘発でき、Ｏ脚を矯正・進行予防するための「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を簡単に行えると考え、本発明を考案した。【００１３】  本発明に係わるトレーニング機器は、Ｏ脚を矯正・進行予防するためのトレーニング機器である。【００１４】  請求項１に係るＯ脚用トレーニング機器は、図１１に示すように、前足部と後足部の間に回転中心を置くようにして、前足部が外側方向へ可動し、かつ後足部が内側方向へ可動するという足底板である。足底板の可動については、バネ等の抵抗を設けることにより、可動に対して抵抗力が生じるようになっている。足底板の表面素材は滑りにくく摩擦力がしっかり働き、かつ足底圧が分散する粘弾性のあるものとなっている。
この足底板の上に立ち、前足部と後足部の間にある回転中心を軸に、前足部を外側方向へかつ後足部を内側方向へ可動させる。
この足底板の可動方向が、母趾球と踵の運動方向を誘導し、母趾球が外側へ動き、かつ踵が内側へ動く。足底板は抵抗に抗しながら可動するため、足底と足底板の間には、抵抗力の反作用としての摩擦力が働く。そのため、前足部の足底では「母趾球の骨は外側方向へ動き、母趾球の皮膚は足底板との摩擦により内側方向に引っぱられる」という骨と皮膚の関係が作り出しやすくなる（図８参照）。また、後足部の足底では「踵の骨は内側方向に動き、踵の皮膚は足底板との摩擦により外側方向へ引っぱられる」という骨と皮膚の関係を作り出しやすくなる（図９参照）。
以上のように、請求項１に係るＯ脚用トレーニング機器によって「母趾球の骨が外側方向へ動き、母趾球の皮膚は足底板との摩擦により内側方向へ引っぱられる」という運動と「踵の骨が内側方向へ動き、踵の皮膚は足底板との摩擦により外側方向へ引っぱられる」という運動を同時に行いやすくする。よって、「下腿に対して大腿が外旋して、膝が内側方向へしまる」という運動連鎖が誘発でき、Ｏ脚の矯正・進行予防するための「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を誰でも簡単に行いやすくすることを実現する。【００１５】  請求項２に係るＯ脚用トレーニング機器は、図１８・１９に示すように母趾球部に凹形状をつけ、同時に後足部には内側が低くなる傾斜をつけた足底板である。後足部の内側には小さなカウンターがついている。足底板の表面素材は滑りにくく摩擦力がしっかり働き、かつ足底圧が分散する粘弾性のあるものとなっている。
この足底板の上に立ち、前足部が外側方向かつ後足部が内側方向へ動くように力を入れる。
本発明にある母趾球部凹形状は、母趾球を包み込むことにより、母趾球部が外側へ滑っていくのを防ぎしっかりグリップする。そして「母趾球の骨は外側方向へ動き、母趾球の皮膚は足底板との摩擦により内側方向へ引っぱられる」という骨と皮膚の関係を作り出しやすくする（図８参照）。また、本発明にある後足部傾斜が踵の内側方向への動きを誘導する。後足部につけたカウンターは踵が滑り落ちるのを防いで、踵部をしっかりグリップする。そして「踵の骨は内側方向に動き、踵の皮膚は足底板との摩擦により外側方向へ引っぱられる」という皮膚と骨の関係を作り出しやすくする（図９参照）。
以上のように、本件発明の前足部と後足部の二つの特徴をもつ足底板によって「母趾球の骨が外側方向へ動き、母趾球の皮膚は足底板との摩擦により内側方向へ引っぱられる」という運動と「踵の骨が内側方向へ動き、踵の皮膚は足底板との摩擦により外側方向へ引っぱられる」という運動を同時に行いやすくする。よって、「下腿に対して大腿が外旋して、膝が内側方向へしまる」という運動連鎖が誘発でき、Ｏ脚の矯正・進行予防するための「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を誰でも簡単に行いやすくすることを実現する。【００１６】  請求項３に係るＯ脚用トレーニング機器は、請求項１に係る機能と請求項２に係る機能を一体化させた足底板である。
請求項１・請求項２をそれぞれ単体で用いた場合と同様に、「母趾球の骨が外側方向へ動き、母趾球の皮膚は足底板との摩擦により内側方向へ引っぱられる」という運動と「踵の骨が内側方向へ動き、踵の皮膚は足底板との摩擦により外側方向へ引っぱられる」という運動を同時に行いやすくする。よって、「下腿に対して大腿が外旋して、膝が内側方向へしまる」という運動連鎖が誘発でき、Ｏ脚の矯正・進行予防するための「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を誰でも簡単に行いやすくすることを実現する。
【発明の効果】
【００１７】  本発明の請求項１・２・３のトレーニング機器を、Ｏ脚者が使用すれば、Ｏ脚の矯正・進行予防するための「横方向の変形と水平方向の変形を同時に修正する筋活動」を簡単に行えることができる。そして、このトレーニング機器を使用した筋活動を反復してトレーニングとして行えば、Ｏ脚を矯正・進行予防することができる。その結果、▲１▼小趾側に起こりやすい胼胝による疼痛、▲２▼殿筋群や股関節外旋筋群が弱化することにより殿部が垂れ下がってきてしまうこと（スタイルの高齢化）、▲３▼高齢化してから起こりやすい膝関節の疼痛を改善・予防することができる。
【実施例１】
【００１８】  実施例１は図１１・１２に基づいて説明する。図１１・１２に示すように足底板１（右用・左用）、足底板台座２（右用・左用）、基盤３、キックバネ４（右用・左用）、可動域制限部材５（右外側用・右内側用・左外側用・左内側用）、で構成されている。
足底板１は、足型の形状をしている。足底板１の素材は、足底板１の上にのった時に足の裏との接触面を増やして足底圧が分散するような粘弾性のあるもの、かつ足底板の上にのって前足部を外側方向・後足部を内側方向へ動かして力を入れている時に皮膚が足底板上を滑らずにしっかりグリップする（摩擦力の働く）ものとなっている。
足底板台座２は、足底板１同様の足型形状をしている。足底板台座２の下面は、前足部が外側方向・後足部が内側方向へ可動するための回転中心位置に、キックバネ４の上半分を収納して固定するための溝を設けている。
基盤３は、足底板１と足底板台座２をのせる土台である。基盤３の上面は、キックバネ４の下半分を収納して固定するための溝を設けている。
キックバネ４は、足底板１と足底板台座２の前足部が外側方向・後足部が内側方向に可動する際に抵抗を与えるためのバネである。一端を足底板台座２、もう一端を基盤３に取り付けている。
図１１・１２に示すように足底板台座２と基盤３をキックバネ４で接続する。足底板台座２はキックバネ４を中心に前足部が外側方向・後足部が内側方向へキックバネ４の抵抗を受けながら可動する。図１に示すように可動域制限部材５を基盤３上の足底板台座２の内側と外側に取り付ける。足底板台座２の可動域は、可動域制限部材５に接触することによりそれ以上は可動しないようにする。足底板台座２の上に足底板１を固定し、足底板台座２と足底板１を一体化させる。
足底板１の上に足をのせて立ち、キックバネ４の軸を中心に、キックバネの抵抗に抗するように母趾球部を外側方向・腫部を内側方向へ可動させる。最大可動域で可動域制限部材５に接触しても、可動域制限部材５からの反作用に抗するように筋収縮をつづけ、最大の筋力を得るように使用する。
【実施例２】
【００１９】  実施例２を図１３・１４・１５に基づいて説明する。抵抗の力源として、キックバネ４の変わりに引きばね６を用いる。図１４に示すように、基盤３の上にデボ部材７を固定する。足底板台座２の下面は、前足部が外側方向・後足部が内側方向へ可動するための回転中心位置に、デボ部材７を受けるデボ穴を設けている。基盤３には引きばね６の外形が収まる溝を設ける。溝の内側と足底板台座２に留め金８を取り付け、引きばね６を固定する。以上の構造により、足底板１と足底板台座２は、引きばね６の抵抗を受けながら、デボ部材７を回転中心として前足部が外側方向・後足部が内側方向に可動する。実施例１と同様に使用する。
【実施例３】
【００２０】  実施例３を図１６・１７に基づいて説明する。抵抗の力源として、キックバネ４・引きばね６の変わりに粘弾性素材９を用いる。粘弾性素材９は、ラバーのように伸縮性があるものとする。実施例２同様、図１７に示すように、基盤３の上にデボ部材７を固定する。足底板台座２の下面は、前足部が外側方向・後足部が内側方向へ可動するための回転中心位置に、デボ部材７を受けるデボ穴を設けている。そして、デボ部材７の部分を除いて、基盤３上を被うように粘弾性素材９を取り付ける。そして、デボ部材７とデボ穴を合わせることにより、足底板台座２を粘弾性素材９の上に固定する。以上の構造により、足底板１と足底台座２は、粘弾性素材９の伸縮抵抗を受けながら、デボ部材７を回転中心として前足部が外側方向・後足部が内側方向に可動する。実施例１・２と同様に使用する。
【実施例４】
【００２１】  実施例４を図１８・１９・２０に基づいて説明する。足底板１０は、図１８に示すように足型の形状をしている。足底板１０の母趾球部は、図１９に示すように、母趾球を包み込むように凹形状をしている。踵部は、図２０に示すように、内側方向に低く傾斜していて、内側の端は踵が滑り落ちないように凸形状をしたカウンターを設けている。足底板１０の素材は、足底板１と同様に、足底板の上に乗った時に足の裏との接触面を増やして足底圧が分散するような粘弾性のあるもの、かつ足底板の上にのって前足部を外側方向・後足部を内側方向へ動かして力を入れている時に皮膚が足底板上を滑らずにしっかりグリップしている摩擦力の働くものとなっている。基盤３の上に固定する。
足底板１０の上に足をのせて立ち、前足部が外側方向かつ後足部が内側方向へ動くように力を入れるようにして使用する。
【実施例５】
【００２２】    実施例４の足底板１０を基盤３の上に固定せず、足底板１０を滑りにくい材質の床の上に任意に置いて使用してもよい。実施例４と同様に使用する。
【実施例６】
【００２３】  実施例１の足底板１の変わりに実施例４の足底板１０を用いる。実施例１と同様に使用する。
【実施例７】
【００２４】  実施例２の足底板１の変わりに実施例４の足底板１０を用いる。実施例２と同様に使用する。
【実施例８】
【００２５】  実施例３の足底板１の変わりに実施例４の足底板１０を用いる。実施例３と同様に使用する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】先行発明を示す正面図である。
【図２】先行発明を示す正面図である。
【図３】Ｏ脚変形者の下肢変形を示す正面図である。
【図４】Ｏ脚を修正しようとした際の失敗例を示す正面図である。
【図５】Ｏ脚者の前足部の皮膚・骨間のずれを示す正面図である。
【図６】Ｏ脚者の後足部の皮膚・骨間のずれを示す後面図である。
【図７】Ｏ脚者の下肢関節位置関係を示す正面図である。
【図８】Ｏ脚を修正する前足部の皮膚・骨間の運動を示す正面図である。
【図９】Ｏ脚を修正する後足部の皮膚・骨間の運動を示す後面図である。
【図１０】Ｏ脚を修正する下肢関節位置関係を示す正面図である。
【図１１】実施例１を示す部分断面図である。
【図１２】実施例１を示すＡ−Ａ′断面図である。
【図１３】実施例２を示す部分断面図である。
【図１４】実施例２を示すＢ−Ｂ′断面図である。
【図１５】実施例２を示すＣ−Ｃ′断面図である。
【図１６】実施例３を示す部分断面図である。
【図１７】実施例３を示すＤ−Ｄ′断面図である。
【図１８】実施例４を示す斜視図である。
【図１９】実施例４を示すＥ−Ｅ′断面図である。
【図２０】実施例４を示すＦ−Ｆ′断面図である。
【符号の説明】
【００２７】１    足底板
２    足底板台座
３    基盤
４    キックバネ
５    可動域制限部材
６    引きばね
７    デボ部材
８    留め金
９    粘弾性素材
１０  足底板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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