(57)【要約】【課題】装置を限られたスペース内で効率的に配置して被処理板を効率的に搬送し、高速かつスムーズな処理を実現する。【解決手段】被処理板を受け取り、種々の処理を行う処理部に搬送し、処理終了後の前記被処理板を次の工程に搬送する処理システムである。前記被処理板が収納された収納容器が載置されて前記被処理板を受け渡す受け渡し部と、当該受け渡し部で前記収納容器から前記被処理板を取り出して搬送すると共に処理後の前記被処理板を前記収納容器内に戻す搬送機構と、前記被処理板を処理する処理部とを備え、前記受け渡し部が互いに対向してかつ間隔を空けて配設されると共に、前記処理部が、前記受け渡し部と並列に、互いに対向してかつ間隔を空けて配設され、前記搬送機構が、並列に、互いに対向してかつ間隔を空けて配設された前記受け渡し部及び前記処理部に間に、その全長に亘って配設された。【選択図】図１
2009170582.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理板を受け取り、種々の処理を行う処理部に搬送し、処理終了後の前記被処理板を次の工程に搬送する処理システムにおいて、
前記被処理板が収納された収納容器が載置されて前記被処理板を受け渡す受け渡し部と、当該受け渡し部で前記収納容器から前記被処理板を取り出して搬送すると共に処理後の前記被処理板を前記収納容器内に戻す搬送機構と、前記被処理板を処理する処理部とを備え、
前記受け渡し部が互いに対向してかつ間隔を空けて配設されると共に、
前記処理部が、前記受け渡し部と並列に、互いに対向してかつ間隔を空けて配設され、
前記搬送機構が、並列に、互いに対向してかつ間隔を空けて配設された前記受け渡し部及び前記処理部に間に、その全長に亘って配設されたことを特徴とする処理システム。
【請求項２】
請求項１に記載の処理システムにおいて、
前記受け渡し部が設置される受け渡し室と、前記処理部が設置される処理室と、前記受け渡し室と処理室との間に設置されてこれらの間を開閉するシャッタ装置とを設け、
前記搬送機構が、前記シャッタ装置を介して前記受け渡し室と処理室との間で前記被処理板を搬送することを特徴とする処理システム。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の処理システムにおいて、
前記受け渡し部が前記収納容器の載置数に応じて増減して配置され、
前記処理部が前記被処理板の処理内容に応じて処理装置を増減して配置され、
前記搬送機構が、前記受け渡し部及び前記処理部の増減に応じて、その全長を調整して配置されることを特徴とする処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハやＬＣＤパネル等の被処理板に一連の処理を施す処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハやＬＣＤパネル等の被処理板に一連の処理を施す処理システムは一般に知られている。このような例としては特許文献１の処理システムがある。この処理システムを図２に基づいて概説する。
【０００３】
図２の処理システムは、半導体ウエハＷを複数枚収納したウエハカセットＣＲを外部からシステムに搬入しまたはシステムから搬出したり、ウエハカセットＣＲに対して半導体ウエハＷを搬入・搬出したりするためのカセットステーション１と、塗布現像工程の中で１枚ずつ半導体ウエハＷに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユニットを所定位置に多段配置してなる処理ステーション２と、この処理ステーション２と隣接して設けられる露光装置（図示せず）との間で半導体ウエハＷを受け渡しするためのインタフェース部３とを一体に接続した構成を有している。
【０００４】
カセットステーション１では、カセット載置台５上に複数個たとえば４個のウエハカセットＣＲがそれぞれのウエハ出入口を処理ステーション２側に向けて横方向（図２中の前後方向）に一列に載置され、カセット配列方向およびウエハカセットＣＲ内に収納されたウエハのウエハ配列方向（垂直方向）に移動可能なウエハ搬送体６が各ウエハカセットＣＲに選択的にアクセスするようになっている。さらに、このウエハ搬送体６は、回転可能に構成されており、アライメントユニット(図示せず)等にもアクセスできるようになっている。
【０００５】
処理ステーション２では、中心部に垂直搬送型の主ウエハ搬送機構７が設けられ、その周りに全ての処理ユニットが１組または複数の組に亘って多段に配置されている。
【０００６】
インタフェース部３では、その正面部に可搬性のピックアップカセットＣＲと定置型のバッファカセットＢＲが２段に配置され、背面部には周辺露光装置８が配設され、中央部にはウエハ搬送体９が設けられている。このウエハ搬送体９は、横方向及び垂直方向に移動して両カセットＣＲ，ＢＲおよび周辺露光装置８にアクセスするようになっている。さらに、ウエハ搬送体９は、回転可能に構成され、イクステンションユニット(図示せず)等にもアクセスできるようになっている。
【０００７】
このように構成された処理システムは、クリーンルームに設置されるが、システム全体の占有床スペース（フットプリント）が従来よりも小さく、クリーンルームコストを低く抑えられる。
【０００８】
また、特許文献１には、図３に示す処理システムも記載されている。この処理システムは、半導体ウエハＷをカセットに対して搬入・搬出するカセットステーション１１、洗浄ユニット等を備えた処理ステーション１２、隣接する露光装置（図示せず）とウエハＷの受け渡しを行うためのウエハ受渡し台１３等を一体に集約化して構成されている。このシステムの中央部には長手方向に廊下状のウエハ搬送路１４が設けられ、各処理ユニットはウエハ搬送路１４に各々の正面を向けて配設され、ウエハ搬送体１５が各処理ユニットにウエハＷを搬送するためにウエハ搬送路１４上を移動するようになっている。
【特許文献１】特開２００１−６８５２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上述した図２の処理システムでは、カセットステーション１での半導体ウエハＷの流れ方向と、処理ステーション２での半導体ウエハＷの流れ方向とが直交しており、半導体ウエハＷがカセットステーション１から処理ステーション２に流れるときに滞って、半導体ウエハＷのスムーズな流れが実現できない。これは、処理する半導体ウエハＷの枚数が少ないときは問題ないが、処理枚数が多くなると、全体の処理効率を低下させてしなうという問題がある。
【００１０】
また、図３の処理システムでは、受け渡し部分が１つしかなく、処理する半導体ウエハＷの枚数が多くなると、対応できなくなる。また、受け渡し部分をカセットステーション１１に複数設けると、カセットステーション１１での半導体ウエハＷの流れ方向と、処理ステーション１２での半導体ウエハＷの流れ方向とが直交してしまい、全体の処理効率を低下してしまうという問題がある。
【００１１】
本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、装置を限られたスペース内で効率的に配置して被処理板を効率的に搬送し、高速かつスムーズな処理を実現できる処理システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
かかる課題を解決するために、本願発明に係る処理システムは、被処理板を受け取り、種々の処理を行う処理部に搬送し、処理終了後の前記被処理板を次の工程に搬送する処理システムにおいて、前記被処理板が収納された収納容器が載置されて前記被処理板を受け渡す受け渡し部と、当該受け渡し部で前記収納容器から前記被処理板を取り出して搬送すると共に処理後の前記被処理板を前記収納容器内に戻す搬送機構と、前記被処理板を処理する処理部とを備え、前記受け渡し部が互いに対向してかつ間隔を空けて配設されると共に、前記処理部が、前記受け渡し部と並列に、互いに対向してかつ間隔を空けて配設され、前記搬送機構が、並列に、互いに対向してかつ間隔を空けて配設された前記受け渡し部及び前記処理部に間に、その全長に亘って配設されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
装置を限られたスペース内で効率的に配置して被処理板を効率的に搬送し、高速かつスムーズな処理を実現でき、処理の効率化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に、本発明の実施形態について説明する。本実施形態の処理システムは、半導体ウエハ等の被処理板を受け取り、種々の処理を行う処理部に搬送し、処理終了後の前記被処理板を元に戻したり先へ送ったりして次の工程に搬送する処理システムである。この処理システムを図１に基づいて説明する。
【００１５】
本実施形態の処理システム２１は、受け渡し部２２と、処理部２３と、搬送機構２４と、シャッタ装置２５とを備えて構成されている。
【００１６】
受け渡し部２２は、半導体エウハ等の被処理板２６が収納された収納容器２７が載置されて被処理板２６を受け渡すための部分である。受け渡し部２２は、複数の受け渡し台２８で構成されている。各受け渡し台２８は、シャッタ装置２５で仕切られた受け渡し室２９内に収納されている。ここでは、受け渡し台２８が、互いに対向してかつ間隔を空けて４台配設されている。即ち、４台の受け渡し台２８は、搬送機構２４を挟んで両側に対向して配設されている。この受け渡し台２８の設置個数は、処理部２３での被処理板２６の処理速度に対応して設定される。処理部２３での被処理板２６の単位時間あたりの処理枚数が多い場合は受け渡し部２２の受け渡し台２８を、例えば５台や６台等に増設する。６台の受け渡し台２８の場合は、互いに対向して３台ずつ設置される。５台の受け渡し台２８の場合は、互いに対向して２台と３台設置される。受け渡し台２８の設置数が３台以下、７台以上の場合も同様にして設定される。
【００１７】
処理部２３は、被処理板２６を処理するための装置である。この処理部２３では、レジスト塗布現像処理等の種々の処理が行われる。この処理内容に応じた処理ユニット３１が設置される。即ち、処理部２３は、複数の処理ユニット３１で構成されている。各処理ユニット３１は、シャッタ装置２５で仕切られた処理室３２内に収納されている。この処理ユニット３１としては、種々のものがある。例えば、被処理板２６としての半導体ウエハをブラシ洗浄するユニット、半導体ウエハを高圧ジェット水で洗浄するユニット、半導体ウエハの表面を疏水化処理するユニット、半導体ウエハを所定温度に冷却するユニット、半導体ウエハの表面にレジストを塗布するユニット、半導体ウエハを加熱してプリベークまたはポストベークを行うユニット、半導体ウエハの周縁部のレジストを除去するユニット、半導体ウエハを現像液に晒してレジストの感光部または非感光部を選択的に現像液に溶解させるユニット等がある。また、各ユニットは、上下に複数段に積層して構成されている。
【００１８】
ここでは、処理ユニット３１が、互いに対向してかつ間隔を空けて６台配設されている。即ち、６台の処理ユニット３１は、搬送機構２４を挟んで両側に対向して配設されている。この処理ユニット３１の設置個数は、処理部２３での処理内容に対応して設定される。処理ユニット３１は、処理内容によって、５台以下の場合や、７台以上の場合もあり、この場合は前記受け渡し部２２の場合と同様である。即ち、搬送機構２４を挟んで、互いに対向して同数台ずつ設置したり、互いに対向して偶数台と奇数台設置したりする。
【００１９】
搬送機構２４は、受け渡し部２２で収納容器２７から被処理板２６を取り出して搬送すると共に処理後の被処理板２６を元に戻したり先へ送ったりして次の工程に搬送するための機構である。搬送機構２４は、シャッタ装置２５を挟んで受け渡し室２９と処理室３２とに亘って配設されている。搬送機構２４は、被処理板２６を支持して、受け渡し室２９から処理室３２へ移動しうるように構成されている。具体的には、搬送機構２４は、被処理板２６を支持する支持アーム３４を、前後方向、回転方向及び垂直方向にそれぞれ移動させることができるアーム駆動部３５と、受け渡し部２２から処理部２３までその全長に亘って移動する移動部３６とから構成されている。
【００２０】
移動部３６は、案内軌道３７に案内されて移動する。案内軌道３７としては、レール等の、移動部３６を正確に案内できる部材を用いる。案内軌道３７として、リニアモータ等の直動機構を用いてもよい。また、移動部３６を正確に位置決めできる位置決め手段を設けている場合は、移動部３６を自走式の装置としてもよい。位置決め手段としては、位置決めピンとピン受けを、移動部３６と案内軌道３７にそれぞれ設けて、これらが嵌合することで移動部３６の支持アーム３４が被処理板２６を正確に位置に調整できるようにしてもよい。
【００２１】
案内軌道３７は、受け渡し台２８及び処理ユニット３１の設置個数に応じて長さを調整する。案内軌道３７がレール等の場合は、その長さを設定長さに調整する。直動機構の場合は、その長さを設定長さに調整してもよく、予め長く設定しておいて、移動部３６の移動量を制御してもよい。移動部３６が自走式の場合は、プログラムを変更してその移動距離、移動位置を調整する。
【００２２】
シャッタ装置２５は、受け渡し部２２の複数の受け渡し台２８が設置される受け渡し室２９と、処理部２３の複数の処理ユニット３１が設置される処理室３２との間に設置されて、これらの間を開閉するための装置である。シャッタ装置２５は、受け渡し室２９と処理室３２とを仕切って、受け渡し室２９内に塵埃等が侵入しないようにするための装置である。シャッタ装置２５は、スライド式や開閉式の扉等の可動式扉を用いることができる。可動式扉が開放して移動部３６の移動を許容し、移動部３６が通過した後は、速やかに閉じられる。また、シャッタ装置２５としては、エアーカーテンを用いてもよい。エアーカーテンの場合は、移動部３６が通過するときは、エアーを止め、移動部３６の通過後に再びエアーを流す。
【００２３】
受け渡し部２２の受け渡し台２８及び処理部２３の処理ユニット３１は、シャッタ装置２５を挟んで、並列に配設されている。これにより、搬送機構２４が、受け渡し部２２と処理部２３とに亘って直線状に形成され、搬送機構２４の移動部３６が、受け渡し部２２と処理部２３との間で直線的に移動して、被処理板２６をスムーズにかつ速やかに搬送できるようになっている。
【００２４】
搬送機構２４の一端部（図１中の右側端部）には、次の処理工程に対応する装置が適宜配設される。例えばステッパー等の処理装置３９が処理部２３に隣接して配設される。この場合は、搬送機構２４を処理装置３９まで延長して、処理部２３と処理装置３９との搬送経路をつなぐ。
【００２５】
以上のように構成された処理システム２１では、次のようにして処理が行われる。
【００２６】
被処理板２６を収納した収納容器２７が受け渡し部２２の受け渡し台２８に載置される。ここでは、４台の受け渡し台２８にそれぞれ収納容器２７が載置される。
【００２７】
次いで、搬送機構２４の支持アーム３４がアーム駆動部３５で位置調整した後収納容器２７側へ延出されて被処理板２６を支持し、収納容器２７から引き出す。次いで、移動部３６が案内軌道３７を移動して、受け渡し部２２から処理部２３へ移動する。このとき、シャッタ装置２５が開いて、移動部３６の移動を許容する。
【００２８】
移動部３６は、処理部２３において、各処理ユニット３１へ移動し、被処理板２６を受け渡す。また、各処理ユニット３１で処理が終了している場合は、被処理板２６を受け取る。被処理板２６の処理工程に従って移動部３６が移動して、最終的に被処理板２６の処理が終了した後、被処理板２６を次の処理工程に送る。具体的には、元の収納容器２７に戻して収納容器２７ごと別の場所に搬送したり、処理装置３９に搬送したりする。
【００２９】
一方、処理システム２１において、処理する内容を変える場合や、処理能力を増減する場合は、受け渡し台２８及び処理ユニット３１をそれに応じて増減変更させる。即ち、受け渡し台２８の台数を変更して並列に設置して、搬入、搬出能力を変更する。また、処理ユニット３１を別の機能を持った処理ユニット３１に変更したり、処理ユニット３１の設置数を変更したりして、処理能力の増減、処理内容の変更を行う。このとき、搬送機構２４は、受け渡し台２８及び処理ユニット３１の増減に合わせてその全長を調整する。
【００３０】
以上の構成の処理システム２１では、クリーンルーム等のように、限られたスペース内で、最大限の効率化を図ることができる。即ち、狭いスペースでは、受け渡し台２８及び処理ユニット３１の台数を少なく、広いスペースでは受け渡し台２８及び処理ユニット３１の台数を多くして、限られたスペースで最大限の処理能力にするように調整することができる。これにより、フットプリントを大幅に向上させることができる。
【００３１】
また、搬送機構２４を、受け渡し部２２と処理部２３とに亘って直線状に形成して、被処理板２６の搬送流れを直線的にしたので、被処理板２６をスムーズにかつ速やかに搬送することができるようになる。これにより、大量の被処理板２６を処理する場合でも、被処理板２６を速やかに移動させることができる。これにより被処理板２６の高速かつスムーズな処理を実現することができる。
【００３２】
受け渡し台２８及び処理ユニット３１の設置の自由度が高くなるため、広いスペースに処理システム２１を設置する場合も、設計の自由度が向上する。
【００３３】
［変形例］
前記実施形態では、搬送機構２４を１つだけ設けたが、並列に２つ設けて、両側の受け渡し台２８及び処理ユニット３１にそれぞれ被処理板２６を搬送するようにしてもよい。この場合も、前記実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施形態にかかる処理システムを示す平面図である。
【図２】従来の処理システムを示す平面図である。
【図３】従来の処理システムを示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３５】
２１：処理システム、２２：受け渡し部、２３：処理部、２４：搬送機構、２５：シャッタ装置、２６：被処理板、２７：収納容器、２８：受け渡し台、２９：受け渡し室、３１：処理ユニット、３２：処理室、３４：支持アーム、３５：アーム駆動部、３６：移動部、３７：案内軌道、３９：処理装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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