(57)【要約】【課題】薄型基板の基板位置決め時に基板が受けるダメージ低減を実現する。【解決手段】基板位置決め装置４０ａは、基板２を搬送する移載アーム５と、移載アーム５によって搬送された基板２を基板位置決め領域に位置決めする基板位置決め機構と、基板位置決め機構において位置決めされた基板２を次工程へ搬送する搬送ベルト６と、を備え、基板位置決め機構は、基板位置決め領域の外縁に沿って配置されたガイド１９・２０で構成されるガイドプレート部材９を有し、移載アーム５から降りてくる基板２を基板位置決め領域に収納する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送する移載アームと、前記移載アームによって搬送された基板を基板位置決め領域に位置決めする基板位置決め機構と、前記基板位置決め機構において位置決めされた基板を次工程へ搬送する装置と、を備え、前記基板位置決め機構は、前記基板位置決め領域の外縁に沿って配置されたガイドプレート部材を備えることを特徴とする基板位置決め装置。
【請求項２】
前記基板位置決め機構は、前記基板位置決め領域に設けられて前記移載アームから降りてくる基板を受ける基板受けに空孔を有し、該空孔から空気を噴出することを特徴とする請求項１に記載の基板位置決め装置。
【請求項３】
前記ガイドプレート部材は、前記移載アームから降りてくる基板を前記基板位置決め領域に収納できるように、該移載アームから該基板位置決め領域に向かうにつれ該基板に対する該ガイドプレート部材の距離が狭まるように該基板位置決め領域に斜角をもって取り付けてあることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板位置決め装置。
【請求項４】
前記ガイドプレート部材は、ポリアセタール樹脂、テフロン（登録商標）、アクリルからなる群から選択される少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項３に記載の基板位置決め装置。
【請求項５】
前記ガイドプレート部材は、前記基板受けから噴出される空気の排気口を備えることを特徴とする請求項２に記載の基板位置決め装置。
【請求項６】
前記空気排気口は、前記移載アームから降りてくる基板に対して垂直方向に前記ガイドプレート部材にスリット、及びメッシュ加工を施したことを特徴とする請求項５に記載の基板位置決め装置。
【請求項７】
前記基板位置決め装置は、前記ガイドプレート部材の上端位置を、前記基板を次工程へ搬送する装置の上端位置よりも下方側に下げる機構を有することを特徴とする請求項１〜請求項６の何れかに記載の基板位置決め装置。
【請求項８】
前記基板位置決め装置は、前記基板を次工程へ搬送する装置の上端位置を、前記ガイドプレート部材の上端位置よりも上方側に上げる機構を有することを特徴とする請求項１〜請求項６の何れかに記載の基板位置決め装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば太陽電池などの製造工程において使用される半導体ウェハのような薄型基板の製造工程において、基板を所定の位置に収納する基板位置決め装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の基板位置決め装置として図９ないし図１１に基づいて説明すると以下の通りである。すなわち、図９ないし図１１は、それぞれ従来の基板位置決め装置の上面図、側面図（Ｅ方向）、前面図（Ｆ方向）を示す。従来の基板位置決め装置は、移載アーム５を備えている。移載アーム５は、基板２を吸着して基板位置決め領域の上方まで移載する。基板位置決め装置には、基板２をタクト送りするウォーキングビーム１が設けられているが、ベルト等の搬送機構によることもある。ウォーキングビーム１は昇降可能に設けられており、図９において基板位置決め領域の中央を貫通する位置に配置されている。基板位置決め装置は、円柱形状をした４個のウェハ支え４を備えている。４個のウェハ支え４は、移載アーム５から搬送された基板２をその端面によって支持するために、ウォーキングビーム１の両側であって、基板位置決め領域の四隅の位置に配置されている。
【０００３】
基板位置決め装置には、円柱形状をした６個の基板位置決めローラー３が設けられている。基板位置決め領域のウォーキングビーム１に垂直な２辺に沿って、それぞれ２個の基板位置決めローラー３が、ウォーキングビーム１を挟むように配置されている。基板位置決め領域のウォーキングビーム１に平行な２辺に沿って、それぞれ１個の基板位置決めローラー３が配置されている。各基板位置決めローラー３は、対応する基板位置決め領域の辺に垂直な方向に沿って移動可能に設けられている。基板位置決めローラー３の素材はウレタン等の材質の物を使用する。
【０００４】
このように構成された基板位置決め装置の動作を説明する。移載アーム５により搬送された半導体基板２は、４点のウェハ支え４の上に置かれる。この時、初期位置がずれている事及び、移載中に基板２の位置がずれることがある為、位置決めが必要となる。６点の基板位置決めローラー３は、基板２のそれぞれ対応する端面に向かって移動して、その外周面によって基板２の端面を押し、基板２を基板位置決め領域に位置決めする。
【０００５】
基板２について、一般的な製造工程について図１２に基づいて説明する。図１２は、従来の基板位置決め装置および半導体製造方法により製造される太陽電池の構成を示す断面図である。太陽電池は、半導体基板８５０と、半導体基板８５０の表裏面にそれぞれ形成された表面電極８２と裏面電極８８とを備える。半導体基板８５０の表面は、太陽光の吸収を高めるためにテクスチャ構造８４を有する。テクスチャ構造８４は、三フッ化塩素ガス（ＣＣｌＦ３）等の塩素性ガスを用いてのドライエッチング、または水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ）等のアルカリ水溶液、またはフッ酸と硝酸とを所定の混合比で混ぜ合わせて作製した混酸を用いてのウェットエッチングにより形成される。半導体基板８５０はｐ型単結晶シリコン及びｐ型多結晶シリコンを含む。半導体基板８５０の表面電極８２側にｎ+層８５が形成され、ｐ型半導体基板との間にｐｎ接合８６が形成される。表面電極８２側の表面には、太陽光の反射を防止するための反射防止膜８３が形成される。反射防止膜８３は、シランとアンモニアとの混合ガスを原料としてプラズマＣＶＤ法により形成される窒化シリコン膜、あるいはチタン酸アルコキシドを原料として常圧ＣＶＤ法により形成される酸化チタン膜を含む。表面電極８２は、半導体基板８５０の受光面側に銀ペーストを塗布し６５０℃〜８００℃で焼成することによって形成する。裏面電極８８はアルミニウムを含むペーストを印刷し、一部に銀ペーストを塗布し６５０℃〜８００℃で焼成することによって形成する。その時、半導体基板８５０の裏面にはアルミニウムペーストによりｐ＋層８７が形成される。
【０００６】
特許文献１では、基板位置決め装置に搬送された基板は、円柱形状をしたウェハ支えではなく、基板吸着手段を備える平面状の吸着台に載置される。また、該基板位置決め装置は、基板の位置決めを行う少なくとも２組以上の位置決めコマを備え、前記吸着台に吸着された基板に対して位置決めコマを作用させ、それにより当該基板の位置決めを行うことを特徴としている。
【０００７】
特許文献２では、基板位置決め装置に搬送された基板は、円柱形状をしたウェハ支えではなく、少なくとも２個の回転部材を有する平板に載置される。そして、ウェハの裏面に接する該回転部材によって基板が駆動される。これにより回転部材から発生するダストが基板表面に付着しにくくなり、また、基板は、位置決めされた状態では位置決めローラーに押し付けられた状態となっており、基板の位置決めを高精度で行えることを特徴としている。
【０００８】
あるいは、特許文献３では、外周の一部にノッチ（Ｖ字形あるいはＵ字形の切り欠き）を有する複数の円板形ウェハを、前記ノッチの向きを揃えた状態に位置決めする方法を開示している。構成要素は、前記円板形ウェハを並立状態で回転自在なるように支持する支持手段と、前記支持手段により支持されたウェハの軸線と平行に配設されて各ウェハの外周に当接する、直径が前記ノッチの幅より小さい位置決めローラーと、該ローラを駆動回転させるための駆動手段であり、各支持ローラーが、それぞれ外周にウェハの外周部が嵌合するＶ字形をした複数の支持溝を一定間隔で備えていることを特徴としている。
【特許文献１】特開２００４−７９７００号公報（平成１６年３月１１日（２００４年３月１１日）公開）
【特許文献２】特開昭６３−１３３５４６号公報（昭和６３年（１９８８）６月６日公開）
【特許文献３】特開２００２−１６４４１８号公報（平成１４年６月７日（２００２年６月７日）公開）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記従来の構成では、基板位置決めに際して、基板２が基板位置決めローラー３、ウェハ支え４、ウォーキングビーム１との接触によりダメージを受けるという問題が生じていた。
【００１０】
具体的には、移載アーム５により搬送された基板２が所定の位置に収納されなかった場合、基板２の周囲に取り付けられた基板位置決めローラー３が基板２の端面を押し、基板２を所定の位置に収納するため、基板位置決めローラー３が基板２に与えるダメージが問題であった。また、基板２が移載アーム５から落下する際に、基板２が落下の衝撃でウェハ支え４やウォーキングビーム１からダメージを受けることが問題であった。
【００１１】
また、特許文献１ないし３は、移載アーム等によって基板位置決め領域に搬送された後の基板の位置決め方法を記載するにとどまっている。従って、基板が、移載アーム等から基板位置決め領域へ落下する際に、あるいは基板が基板位置決めローラーによって所定の領域に位置決めされる際に、基板受けおよび基板位置決めローラーからダメージを受けるという課題があった。
【００１２】
さらに、特許文献３は、外周の一部にノッチを有する複数の円板形ウェハを所定の基板位置決め領域に位置決めする方法を開示しているが、これは、ノッチを含まない基板の位置決めには不適な方法である。
【００１３】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板が受けるダメージの軽減を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係わる基板位置決め装置は、前記課題を解決するために、基板を搬送する移載アームと、前記移載アームによって搬送された基板を基板位置決め領域に位置決めする基板位置決め機構と、前記基板位置決め機構において位置決めされた基板を次工程へ搬送する装置と、を備え、前記基板位置決め機構は、前記基板位置決め領域の外縁に沿って配置されたガイドプレート部材を備えることを特徴としている。
【００１５】
前記の構成によれば、前記ガイドプレート部材が、前記移載アームが搬送した基板を基板位置決め領域に誘導し、従来技術である基板位置決めローラーに比べ該基板に対して広い接触面積を伴って接触するので、基板位置決め時に該基板に与える衝撃を軽減するという効果を奏する。
【００１６】
本発明に係わる基板位置決め装置では、前記基板位置決め機構は、前記基板位置決め領域に設けられた前記移載アームから降りてくる基板を受ける基板受けに空孔を有し、該空孔から空気を噴出することが好ましい。
【００１７】
前記基板位置決め機構が前記基板位置決め領域に設けた前期基板受けに空孔を有し該空孔から空気を基板に向かって噴出することにより、前記移載アームから搬送された該基板の落下時において、該基板受けが該基板に与える衝撃を軽減するというさらなる効果を奏する。
【００１８】
本発明に係わる基板位置決め装置では、前記ガイドプレート部材は、前記移載アームから降りてくる基板を前記基板位置決め領域に誘導できるように、該移載アームから該基板位置決め領域に向かうにつれ該基板に対する該ガイドプレート部材の距離が狭まるように該基板位置決め領域に斜角をもって取り付けてあることが好ましい。
【００１９】
前記ガイドプレート部材が、前記移載アームから降りてくる基板を前記基板位置決め領域に誘導できるように、該移載アームから該基板位置決め領域に向かうにつれ該基板に対する該ガイドプレート部材の距離が狭まるように該基板位置決め領域に斜角をもって取り付けてあることにより、該基板は自ずと基板位置決め領域に誘導され、該基板の所定の位置決め精度が保持されるというさらなる効果を奏する。
【００２０】
本発明に係わる基板位置決め装置では、前記ガイドプレート部材は、ポリアセタール樹脂、テフロン（登録商標）、アクリルからなる群から選択される少なくとも１つが含まれていることが好ましい。
【００２１】
前記ガイドプレート部材が、ポリアセタール樹脂、テフロン（登録商標）、アクリルであることにより、前記ガイドプレート部材が鋼板などの金属性材質である場合に比べて弾性変形量が大きくなり、前記ガイドプレート部材が前記移載アームから搬送された基板に与える衝撃を緩和するというさらなる効果を奏する。
【００２２】
本発明に係わる基板位置決め装置では、前記ガイドプレート部材は、前記基板受けから噴出される空気の排気口を備えることが好ましい。
【００２３】
前記ガイドプレート部材が空気の排気口を有することにより、前記移載アームから搬送された基板の落下時に、前記基板受けから噴出される空気が該基板に対して吹き付けられ、その空気の一部が空気排出口から排出され、それにより落下時における該基板の水平高さが安定し、該基板が落下時に受ける衝撃を軽減できるというさらなる効果を奏する。
【００２４】
本発明に係わる基板位置決め装置では、前記空気排気口は、前記移載アームから降りてくる基板に対して垂直方向に前記ガイドプレート部材にスリット、及びメッシュ加工を施していることが好ましい。
【００２５】
前記移載アームから降りてくる基板に対して垂直方向に前記ガイドプレート部材にスリット及びメッシュ加工がされていることにより、前記移載アームから搬送された基板が該空気排気口に入り込むのを回避でき、該基板が前記基板位置決め領域の所定の位置に所定の精度を保って収納されるというさらなる効果を奏する。
【００２６】
本発明に係わる基板位置決め装置では、前記ガイドプレート部材の上端位置を、前記基板を次工程へ搬送する装置の上端位置よりも下方側に下げる機構を有することが好ましい。
【００２７】
前記ガイドプレート部材の上端位置が前記基板を次工程へ搬送する装置の上端位置よりも下方側に下がる機構を有することにより、位置決めされた該基板の位置が乱されることなく次工程に搬送されるというさらなる効果を奏する。
【００２８】
本発明に係わる基板位置決め装置では、基板を次工程へ搬送する装置の上端位置を、前記ガイドプレート部材の上端位置よりも上方側に上げる機構を有することが好ましい。
【００２９】
前記基板を次工程へ搬送する装置の上端位置が前記ガイドプレート部材の上端位置よりも上方側に上がる機構を有することにより、位置決めされた該基板の位置が乱されることなく次工程に搬送されるというさらなる効果を奏する。
【発明の効果】
【００３０】
本発明に係る基板位置決め装置は、以上のように、前記基板位置決め領域の外縁に沿って配置されたガイドプレート部材を備えているので、基板に及ぼされるダメージを軽減するという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
（実施の形態１）
本発明の実施形態１について図１ないし図３に基づいて説明すると以下の通りである。すなわち、図１ないし図３は、本実施の形態に係る基板位置決め装置４０ａの上面図、側面図（Ａ方向）、前面図（Ｂ方向）を示す。本実施の形態に係る基板位置決め装置４０ａは、キャリアからの基板２の取り出し、または、ベルト炉等の装置から次工程への基板２の搬送の際に、基板収納兼位置決め箇所として用いられており、移載アーム５を備えている。移載アーム５は、ベルヌーイ吸着機、または真空吸着機を有しており、基板２を吸着して位置決め領域の上方まで移載する。基板位置決め装置４０ａには、搬送ベルト６が、図１において基板位置決め装置４０ａの中央を横切るように設けられている。基板位置決め装置４０ａには、一対の板状の基板受け７ａが、搬送ベルト６の両側に設けられている。各基板受け７ａの表面には、空気を噴出するために形成された複数個の空孔８がマトリックス状に配置されている。各基板受け７ａには、空孔８から噴出する空気を供給するための配管３０ａが接続されている。
【００３２】
基板位置決め装置４０ａは、基板位置決め領域の外縁に沿って配置された４枚のガイド板１９および２枚のガイド板２０によって構成されるガイドプレート部材９を備えている。基板位置決め領域の搬送ベルト６に垂直な２辺に沿って、それぞれ２枚の板状のガイド板１９が、搬送ベルト６を挟むように配置されている。基板位置決め領域の搬送ベルト６に平行な２辺に沿って、それぞれ１枚の板状のガイド板２０が配置されている。
【００３３】
ガイド板１９およびガイド板２０は、移載アーム５から降りてくる基板２を、位置がずれても所定の基板位置決め領域に収納できるように、移載アーム５から基板位置決め領域に向かうにつれ基板に対するガイドプレート部材９の距離が狭まるように斜角をもって基板位置決め領域に取り付けてある。このように、ガイド板１９およびガイド板２０は、基板位置決め領域から外側に向かって傾斜して設けられており、基板２を基板位置決め領域に落とし込む。
【００３４】
基板受け７ａ及びガイドプレート部材９は、図示しないシリンダ機構により、搬送ベルト６に対して昇降可能に設けられている。
【００３５】
基板２について、一般的な製造工程を図４に基づいて説明する。図４は、本発明の実施の形態に係わる基板位置決め装置および半導体製造方法により製造される太陽電池の構成を示す断面図である。太陽電池は半導体基板５０と表裏面に形成された表面電極１２と裏面電極１８とを備え、半導体基板５０の表面は太陽光の吸収を高めるためにテクスチャ構造１４を有する。テクスチャ構造１４は、三フッ化塩素ガス（ＣＣｌＦ３）等の塩素性ガスを用いてのドライエッチング、または、水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ）等のアルカリ水溶液、またはフッ酸と硝酸とを所定の混合比で混ぜ合わせて作製した混酸を用いてのウェットエッチングにより形成される。半導体基板５０はｐ型単結晶シリコン及びｐ型多結晶シリコンからなり、表面電極１２側にｎ+層１５が形成され、ｐ型半導体基板との間にｐｎ接合１６が形成される。表面電極１２側の表面には、太陽光の反射を防止するために反射防止膜１３が形成される。反射防止膜１３は、シランとアンモニアとの混合ガスを原料としてプラズマＣＶＤ法により形成される窒化シリコン膜、あるいはチタン酸アルコキシドを原料として常圧ＣＶＤ法により形成される酸化チタン膜を含む。表面電極１２は、半導体基板５０の受光面側に銀ペーストを塗布し６５０℃〜８００℃で焼成することによって形成する。裏面電極１８はアルミニウムを含むペーストを印刷し、一部に銀ペーストを塗布し６５０℃〜８００℃で焼成することによって形成する。その時、裏面にはアルミニウムペーストによりｐ＋層１７が形成される。
【００３６】
上記構成において、基板２が所定の基板位置決め領域に収納される際の動作を、図１ないし図３に基づき説明すると、以下の通りである。
【００３７】
移載アーム５を離れた基板２は、ガイド板１９およびガイド板２０に誘導される形で基板受け７ａの基板位置決め領域に向かって落下していく。その際に、配管３０ａから供給された空気が、基板受け７ａに設けられた空孔８から基板２に向かって噴出する。基板２を所定の基板位置決め領域に収納した後に、搬送ベルト６により基板２を次工程へ搬送するが、その際に基板位置決め装置４０ａの基板受け７ａ及びガイドプレート部材９がシリンダ機構により下方側に下がる。これによりガイドプレート部材９の上端位置が搬送ベルト６の上端位置よりも低くなる。
【００３８】
上記作用において、基板２が所定の基板位置決め領域に収納される際の効果を、図１ないし図３に基づき説明すると、以下の通りである。
【００３９】
基板２が基板受け７ａに向かって落下する際に、基板２は、ガイド板１９およびガイド板２０に接触しつつ所定の基板位置決め領域に誘導される。図９〜図１１に示す従来技術である基板位置決めローラー３に比べ、ガイド板１９およびガイド板２０は基板２に対して広い接触面積を伴って接触するため、基板位置決め時に基板２に与える衝撃が軽減される。また、基板２が基板受け７ａに収納される際に、基板受け７ａに設けられた空孔８から基板２に向かって空気が噴出するため、基板２が基板受け７ａに搬送される際に受ける衝撃は従来に比べ軽減される。特に、移載アーム５が真空吸着機である場合は、移載アーム５と基板２が離れる際にその吸着面を真空状態から大気開放状態へ昇圧する必要があり、それにより基板２が落下時に受ける衝撃はベルヌーイ吸着よりも大きくなる。このため、移載アーム５が真空吸着機である場合は、ベルヌーイ吸着機である場合に比べ、基板２が基板受け７ａから受ける衝撃の軽減効果が大きい。そして、基板２に対して噴きつけられる空気は、基板２が基板受け７ａに載置されることなく、基板受け７ａの上方で空中保持されるように流量調節されている。その空気量は、基板２が次工程に移送される際には減少し、それによって基板２は所定の基板位置決め領域に載置される。
【００４０】
基板２が所定の基板位置決め領域に収納された後に、搬送ベルト６により基板２を次工程へ搬送するが、その際に基板位置決め装置４０ａの基板受け７ａ及びガイドプレート部材９がシリンダ機構により下方側に下がる。これによりガイドプレート部材９の上端位置が搬送ベルト６の上端位置よりも低くなり、基板２を次工程に搬送する際の搬送ルートに障害物がなくなり、位置決めされた基板２の位置が乱されることなく次工程に搬送される。
（実施の形態２）
本発明の実施の形態２について図５ないし図７に基づいて説明すると以下の通りである。すなわち、図５ないし図７は、本実施の形態である基板位置決め装置４０ｂの上面図、側面図(Ｃ方向)、前面図(Ｄ方向)を示す。図５ないし図７に示す基板位置決め装置４０ｂの使用箇所は基板位置決め装置４０ａと同一であるが、求められる基板位置決め精度に余裕がある場合に、基板位置決め装置４０ａより構成要素を簡素にすることができ、また設備費を抑えることができる。なお、図１〜図３を参照して前述した構成要素と同一の構成要素には同一の参照符号を付している。従って、これらの構成要素の詳細な説明は省略する。
【００４１】
本実施の形態に係る基板位置決め装置４０ｂには、ウォーキングビーム１が、図５において基板位置決め装置４０ｂの中央を貫通する位置に設けられている。基板位置決め装置４０ｂには、４枚の板状の基板受け７ｂが、基板位置決め領域に位置決めされた基板２の四隅にあたる位置に備えられている。各基板受け７ｂの表面には、空気を噴出するために形成された複数個の空孔８が所定の間隔を空けて配置されている。各基板受け７ｂには、空孔８から噴出する空気を供給するための配管３０ｂが接続されている。
【００４２】
基板位置決め装置４０ｂにはコーナーガイド１１が備えられている。このコーナーガイド１１は、基板受け７ｂの表面に対して垂直に、移載アーム５に向かって、基板位置決め領域に位置決めされた基板２の角部外縁に沿って、基板受け７ｂに取り付けられた２枚のプレートを有している。
【００４３】
コーナーガイド１１は空気の排出口を備えており、その排気口には基板２に対して垂直方向にスリット１０、あるいはメッシュ状の加工を施している。ウォーキングビーム１は、図示しないシリンダ機構により、基板受け７ｂ及びコーナーガイド１１に対して昇降可能に設けられている。基板２についての説明は上記記載済みのため省略する。
【００４４】
上記構成において、基板２が所定の基板位置決め領域に収納される際の動作を、図５ないし図７に基づき説明すると、以下の通りである。
【００４５】
コーナーガイド１１は、移載アーム５から搬送された基板２を所定の基板位置決め領域に誘導するために、基板受け７ｂの表面から垂直に、移載アーム５に向かって、基板位置決め領域に位置決めされた基板２の角部外縁に沿って、２枚のプレートが垂直方向に取り付けられている。基板２が基板受け７ｂに搬送されるに際しては、配管３０ｂから供給された空気が、基板受け７ｂに形成された空孔８から基板２に向かって噴出する。コーナーガイド１１には基板２に対して垂直方向にスリット１０あるいはメッシュ加工がされており、基板受け７ｂに設けられた空孔８から噴出された空気の排出口となっている。基板２を所定の基板位置決め領域に収納した後に、ウォーキングビーム１によって基板２を次工程へ搬送するが、その際にウォーキングビーム１がシリンダ機構により上方側に上がる。これによりウォーキングビーム１の上端位置がガイドプレート部材１１の上端位置よりも高くなる。
【００４６】
上記作用において、基板２が所定の基板位置決め領域に収納される際の効果を、図５ないし図７に基づき説明すると、以下の通りである。
【００４７】
基板２が基板受け７ｂに向かって落下する際に、基板２はコーナーガイド１１に接触しつつ所定の基板位置決め領域に誘導される。従来技術である基板位置決めローラーに比べ、コーナーガイド１１は基板２に対して広い接触面積を伴って接触するため、基板位置決め時にコーナーガイド１１が基板２に与える衝撃が軽減される。また、基板２が基板受け７ｂに収納される際には、基板受け７ｂに設けられた空孔８から基板２に向かって空気が噴出するため、基板２が基板受け７ｂに搬送される際に受ける衝撃は軽減される。特に、移載アーム５が真空吸着機である場合は、移載アーム５と基板２が離れる際にその吸着面を真空状態から大気開放状態へ昇圧する必要があり、それにより基板２が落下時に受ける衝撃はベルヌーイ吸着よりも大きくなる。このため、移載アーム５が真空吸着機である場合は、ベルヌーイ吸着機である場合に比べ、基板２が基板受け７ｂから受ける衝撃の軽減効果が大きい。さらに、空孔８から噴出した空気がコーナーガイド１１に形成された空気排出口から排出されるが、この排出口によって落下時における基板２の水平高さが安定する。これを図８（ａ）および（ｂ）に基づいて説明する。図８（ａ）は、コーナーガイド１１に空気排出口が形成されていない場合、図８（ｂ）は、コーナーガイド１１に空気排出口が形成されている場合を表す。
【００４８】
図８（ａ）は、図面左側のコーナーガイド１１と基板２の間には隙間がなく、図面右側のコーナーガイド１１と基板２の間には隙間が生じている状態を示している。空孔８から噴出した空気は、基板２の裏面に衝突した後、矢印で示すように、基板２の裏面に一様に拡散する。しかし、一部の空気は、図面右側のコーナーガイド１１と基板２の間に生じた隙間から排出される。これにより、基板２の裏面に及ぼされる空気圧は図面右側が低くなる。この空気圧の差が基板２の水平高さに影響し、基板２は、図面左側が高く右側が低くなる。
【００４９】
図８（ｂ）は、コーナーガイド１１と基板２の間に生じる隙間は図８（ａ）で説明したのと同じであるが、それに加え、コーナーガイド１１に空気排出口が設けられている状態を示している。つまり、基板２に対して噴出された空気の一部はこの空気排出口からも排出される。排出口から排出される空気量は、空気圧が高いほど多い。図８（ｂ）では、上記説明したように、基板２の裏面に及ぼされる空気圧は図面左側の方が高い状態にある。従って、空気排出口から排出される空気量は図面左側の排出口からの方が多い。
【００５０】
このように、基板２の裏面に及ぼされる空気圧に差がある場合、空気圧が高い側の空気排出口から排出される空気量が増え、その結果、基板２の裏面に及ぼされる空気圧は全体的に均一化する。つまり、基板２の水平高さは安定する。
【００５１】
なお、前記実施の形態１ではガイドプレート部材には空気の排出口が設けられていないが、その理由は、図８（ｃ）の破線で囲う部分（基板受け７ａに対して斜角をもって取り付けられた４枚のガイド板１９および２枚のガイド板２０と、基板２との間にできる隙間）が空気の排出口の役割を果たしているためである。従って、実施の形態１においても基板２の水平高さは安定している。
【００５２】
コーナーガイド１１に形成された空気排出口にはスリット１０あるいはメッシュ加工が施されているが、基板２に垂直な方向に施工されており、これにより基板２が空気排出口に入り込むのを回避できる。基板２が所定の基板位置決め領域に収納された後に、基板２がウォーキングビーム１により次工程へ搬送されるに際し、ウォーキングビーム１がシリンダ機構により上方側に上がる。これによりウォーキングビーム１の上端位置がコーナーガイド１１の上端位置よりも高くなり、基板２を次工程に搬送する際の搬送ルートに障害物がなくなり、位置決めされた基板２の位置が乱されることなく次工程に搬送される。
【００５３】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明によって、例えば太陽電池などの製造工程において使用される半導体ウェハのような薄型基板の製造工程において、基板を所定の位置に収納する基板位置決め装置に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施の形態を示すものであり、基板位置決め装置の要部構成を示す平面図である。
【図２】上記基板位置決め装置の構成を示す側面図である。
【図３】上記基板位置決め装置の構成を示す前面図である。
【図４】上記基板位置決め装置によって位置決めされる太陽電池を構成する薄型基板の断面図の一例である。
【図５】本発明の実施の形態を示すものであり、他の基板位置決め装置の要部構成を示す平面図である。
【図６】上記基板位置決め装置の構成を示す側面図である。
【図７】上記基板位置決め装置の構成を示す前面図である。
【図８】図８（ａ）は、コーナーガイドに空気排出口がない場合の基板の状態を示す模式図であり、図８（ｂ）は、コーナーガイドに空気排出口がある場合の基板の状態を示す模式図であり、図８（ｃ）は、実施の形態１において、基板受けに対して斜角をもって取り付けられたガイドプレートと基板との隙間が空気排出口の役割を果たすことを説明するための図である。
【図９】６点の基板基板位置決めローラーにより基板を位置決めする従来の基板位置決め装置の構成を示す平面図である。
【図１０】上記基板位置決め装置の構成を示す側面図である。
【図１１】上記基板位置決め装置の構成を示す前面図である。
【図１２】従来の一般的な太陽電池を構成する薄型基板の断面図の一例である。
【符号の説明】
【００５６】
１    ウォーキングビーム（搬送する装置）
２    基板
３    基板位置決めローラー
４    ウェハ支え
５    移載アーム
６    搬送ベルト（搬送する装置）
７ａ  基板受け
７ｂ  基板受け
８    空孔
９    ガイドプレート部材
１０  スリット
１１  コーナーガイド（ガイドプレート部材）
１２  表面電極
１３  反射防止膜
１４  テクスチャ構造
１５  ｎ＋層
１６  ｐｎ接合
１７  ｐ＋層
１８  裏面電極
１９  ガイド板
２０  ガイド板
３０ａ  配管
３０ｂ  配管
４０ａ  基板位置決め装置
４０ｂ  基板位置決め装置
５０  半導体基板
８２  表面電極
８３  反射防止膜
８４  テクスチャ
８５  ｎ＋層
８６  ｐｎ接合
８７  ｐ＋層
８８  裏面電極
８５０  半導体基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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