(57)【要約】【課題】簡略な工程で製造可能であり、二色性色素の配列堆積に必要な表面の研磨加工が容易にでき、かつクラック発生による曇りがない偏光素子、及び該偏光素子の製造方法を提供すること。【解決手段】基材上に、配列層と、二色性色素を配列堆積させて形成してなる偏光層とを順次設けてなる偏光素子であって、配列層が、（Ａ）無機酸化物ゾルと、（Ｂ）アルコキシシラン及び／又はヘキサアルコキシジシロキサンとを少なくとも含有する材料を用いて製膜してなるゾル−ゲル膜であり、（Ｂ）成分と（Ａ）成分中の固形分とのモル比〔（Ｂ）／（Ａ）（固形分）〕が、９９．９／０．１〜４０／６０である偏光素子、及び該偏光素子の製造方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、配列層と、二色性色素を配列堆積させて形成してなる偏光層とを順次設けてなる偏光素子であって、配列層が、（Ａ）無機酸化物ゾルと、（Ｂ）下記一般式（１）で表わされるアルコキシシラン及び／又は下記一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンとを少なくとも含有する材料を用いて製膜してなるゾル−ゲル膜であり、（Ｂ）成分と（Ａ）成分中の固形分とのモル比〔（Ｂ）／（Ａ）（固形分）〕が、９９．９／０．１〜４０／６０であることを特徴とする偏光素子。
Ｓｉ(ＯＲ1)a(Ｒ2)4-a              （１）
(Ｒ3Ｏ)3Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＯＲ4)3    （２）
（Ｒ1、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基であり、Ｒ2は、炭素数１〜１０のアルキル基であり、ａは３又は４である。）
【請求項２】
配列層が、さらに（Ｃ）下記一般式（３）で表わされる官能基含有アルコキシシランを含有する材料を用いて製膜してなるゾル−ゲル膜である、請求項１に記載の偏光素子。
Ｒ5−Ｓｉ(ＯＲ6)b(Ｒ7)3-b      （３）
（Ｒ5は、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる１以上の官能基を有する有機基であり、Ｒ6は、炭素数１〜５のアルキル基であり、Ｒ7は、炭素数１〜５のアルキル基であり、ｂは３又は２である。）
【請求項３】
（Ａ）成分の固形分及び（Ｂ）成分の総量と（Ｃ）成分とのモル比〔［（Ａ）（固形分）＋（Ｂ）］／（Ｃ）〕が、９９．９／０．１〜８５／１５である、請求項２に記載の偏光素子。
【請求項４】
（Ａ）無機酸化物ゾルにおける無機酸化物が、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、及びＩＴＯからなる群から選ばれる１種以上である、請求項１〜３のいずれかに記載の偏光素子。
【請求項５】
（Ｂ）成分が、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、ヘキサエトキシジシロキサン、及びヘキサメトキシジシロキサンからなる群から選ばれる１種以上である、請求項１〜４のいずれかに記載の偏光素子。
【請求項６】
ゾル−ゲル膜が、スピンコートによって製膜してなる、請求項１〜５のいずれかに記載の偏光素子。
【請求項７】
配列層が、ゾル−ゲル膜に平均粒径２μｍ未満の研磨剤を用いて一軸方向に研磨処理して形成される研磨痕を有する、請求項１〜６のいずれかに記載の偏光素子。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の偏光素子の製造方法であって、工程I〜工程IVを有する、偏光素子の製造方法。
工程I：基材上に、（Ａ）無機酸化物ゾルと、（Ｂ）下記一般式（１）で表わされるアルコキシシラン及び／又は下記一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンとを少なくとも含有する材料を用いて、スピンコートによってゾル−ゲル膜を製膜する工程
Ｓｉ（ＯＲ1）a（Ｒ2）4-a            （１）
（ＯＲ3）3Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ4）3    （２）
（Ｒ1、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基であり、Ｒ2は、炭素数１〜１０のアルキル基であり。ａは３又は４である。）
工程II：工程Iで製膜したゾル−ゲル膜に一軸方向に研磨処理を行い、一軸方向の研磨痕を有する配列層を形成する工程
工程III：工程IIで形成した配列層上に、二色性色素を配列堆積させて偏光層を形成する工程
工程IV：工程IIIで形成した偏光層上に色素を固定するための保護層を形成する工程
【請求項９】
前記工程IIにおいて、平均粒径２μｍ未満の研磨剤を用いて研磨処理する、請求項８に記載の偏光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光素子、及びその製造方法に関するものである。さらに詳しくは、簡略な工程で製造可能であり、二色性色素の配列堆積に必要な表面の研磨加工が容易にでき、かつクラック発生による曇りがない偏光素子、及び該偏光素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、偏光レンズ等の偏光素子において、基材表面の配列膜に二色性色素を配列堆積させて偏光層が形成される場合、配列膜としてシリカ（ＳｉＯ2）蒸着膜が好適とされてきた。例えば、透明基材の表面上に偏光層及び保護層を有し、透明基材と偏光層との間に、配列膜として無機中間層を有する偏光素子が提案されている（特許文献１参照）。無機中間層は酸化シリコン、金属酸化物、あるいはその混合物の組み合わせからなっている。
【０００３】
また、真空蒸着を行わない方法として、平板とレンズとをそれぞれの軸をずらして配置し、平板を中心として偏光液をスピンコーティングして、レンズ曲面上の偏光液が剪断状に流れ、さらに偏光液を硬化させることにより、レンズ曲面上に偏光コーティングを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】国際公開第０６／０８１００６号パンフレット
【特許文献２】特表２００７−５２０７３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１のように配列膜が無機物質のみで形成されている場合、配列膜の硬さを出すことができるが、その硬さが逆に加工を困難とし、さらに無機物質による層を形成するには真空蒸着する必要があり、偏光素子を製造するにあたり工程が煩雑になり、コストが高くなるという問題があった。
また、無機物質のみの層では基材との熱膨張係数の差が大きいため、製造過程での加熱処理により熱膨張差によるクラックを発生してしまい、これが原因でレンズ等の偏光素子に曇りが生じるという問題があった。
さらにＳｉＯ2など無機物質で形成される蒸着膜は硬度が高いため、二色性色素の配列堆積に必要な表面の研磨加工に際し、比較的大きな粒径を有する研磨粒子を用いる必要があり、研磨が必要以上に過多になった場合、研磨痕が大きくなり蒸着膜に曇りが生じるという問題があった。
【０００６】
また、特許文献２で開示される方法では、偏光液のスピンコーティングの前にレンズの曲面上にポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等をベースとする組成物からなる接着プライマー層を設けているが、このプライマー層は、実質的に有機物の成分からなる組成物であり、特許文献１でも指摘されているように偏光層の下地となる膜あるいは基材が有機物を主体とするものである場合、その後の製造工程において、偏光層に剥離が生じやすいという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような状況下でなされたものであり、簡略な工程で製造可能であり、二色性色素の配列堆積に必要な表面の研磨加工が容易にでき、かつクラック発生による曇りがない偏光素子、及び該偏光素子の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、無機酸化物ゾルと、アルコキシシラン及び／又はヘキサアルコキシジシロキサンとを含有する材料を用いて製膜してなるゾル−ゲル膜からなる配列層と、二色性色素を配列堆積させて形成してなる偏光層とを順次設けてなる偏光素子により、上記課題を解決しうることを見出した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものである。
【０００９】
すなわち、本発明は、下記１〜３を提供するものである。
１．基材上に、配列層と、二色性色素を配列堆積させて形成してなる偏光層とを順次設けてなる偏光素子であって、配列層が、（Ａ）無機酸化物ゾルと、（Ｂ）下記一般式（１）で表わされるアルコキシシラン及び／又は下記一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンとを少なくとも含有する材料を用いて製膜してなるゾル−ゲル膜であり、（Ｂ）成分と（Ａ）成分中の固形分とのモル比〔（Ｂ）／（Ａ）（固形分）〕が、９９．９／０．１〜４０／６０であることを特徴とする偏光素子。
Ｓｉ(ＯＲ1)a(Ｒ2)4-a              （１）
(Ｒ3Ｏ)3Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＯＲ4)3    （２）
（Ｒ1、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基であり、Ｒ2は、炭素数１〜１０のアルキル基であり、ａは３又は４である。）
２．上記１に記載の偏光素子の製造方法であって、工程I〜工程IVを有する、偏光素子の製造方法。
工程I：基材上に、（Ａ）無機酸化物ゾルと、（Ｂ）上記一般式（１）で表わされるアルコキシシラン及び／又は上記一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンとを少なくとも含有する材料を用いて、スピンコートによってゾル−ゲル膜を製膜する工程
工程II：工程Iで製膜したゾル−ゲル膜に一軸方向に研磨処理を行い、一軸方向の研磨痕を有する配列層を形成する工程
工程III：工程IIで形成した配列層上に、二色性色素を配列堆積させて偏光層を形成する工程
工程IV：工程IIIで形成した偏光層上に色素を固定するための保護層を形成する工程
３．上記１に記載の偏光素子、又は上記２に記載の製造方法により得られる偏光素子からなる偏光レンズ。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、簡略な工程で製造可能であり、二色性色素の配列堆積に必要な表面の研磨加工が容易にでき、かつクラック発生による曇りがない偏光素子、及び該偏光素子の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の偏光素子は、基材上に、配列層と、二色性色素を配列堆積させて形成してなる偏光層とを順次設けてなる偏光素子であって、配列層が、（Ａ）無機酸化物ゾルと、（Ｂ）下記一般式（１）で表わされるアルコキシシラン及び／又は下記一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンとを少なくとも含有する材料を用いて製膜してなるゾル−ゲル膜であり、（Ｂ）成分と（Ａ）成分中の固形分とのモル比〔（Ｂ）／（Ａ）（固形分）〕が、９９．９／０．１〜４０／６０であることを特徴とする。
Ｓｉ(ＯＲ1)a(Ｒ2)4-a              （１）
(Ｒ3Ｏ)3Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＯＲ4)3    （２）
（Ｒ1、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基であり、Ｒ2は、炭素数１〜１０のアルキル基であり、ａは３又は４である。）
【００１２】
本発明の偏光素子の構成について、図１（Ｅ）を参照しつつ説明する。本発明の偏光素子は、基材１上に配列層５及び偏光層６を有する。偏光層６は、二色性色素を堆積配列して形成され、通常、その上に色素を固定するための保護層７を有する。さらに、本発明の偏光素子は、必要に応じて、図１（Ｅ）の例のように基材１上にハードコート層２や密着層３、あるいは保護層７上に撥水膜等の機能性膜８を有していてもよい。偏光素子の好適例としては、例えば、基材１としてレンズ基材を用いる偏光レンズが挙げられる。
【００１３】
（配列層）
本発明において、基材上に形成される配列層は、二色性色素を配列堆積させるために設けられる。配列層は、（Ａ）無機酸化物ゾルと、（Ｂ）上記一般式（１）で表わされるアルコキシシラン及び／又は上記一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンとを少なくとも含有し、さらに必要に応じて（Ｃ）下記一般式（３）で表わされる官能基含有アルコキシシランを含有する材料を用いて製膜されるゾル−ゲル膜からなる。
Ｒ5−Ｓｉ(ＯＲ6)b(Ｒ7)3-b      （３）
（Ｒ5は、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる１以上の官能基を有する有機基であり、Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基であり、ｂは３又は２である。）
【００１４】
〔（Ａ）無機酸化物ゾル〕
（Ａ）成分の無機酸化物ゾルは、配列層の硬度を高め、更に偏光層の剥離を抑制するために使用される。無機酸化物としては、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｓｉ及びＴｉ等から選ばれる１種以上の元素からなる酸化物が挙げられる。これらの中で、安定性と微粒子ゾルの製造の容易さという観点から、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＯ2及び酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が好ましい。この中でも特に化学的安定性及び膜硬度増加効果の両立という観点から、シリカ（ＳｉＯ2）ゾルを用いることが好ましい。無機酸化物は、１種単独でも２種以上を組み合わせても使用することができる。
無機酸化物ゾルは、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、イソブタノール、ｎ-ブタノール、ｓｅｃ-ブタノール、ｔｅｒｔ-ブタノールなどのアルコール等の溶媒に無機酸化物粒子を分散させたものであり、無機酸化物ゾルの固形分量としては、好ましくは０．５〜７０質量％である。
無機酸化物粒子の粒径としては、膜硬度増加効果及び膜自身のヘイズ（曇り）を発生させないという観点から、好ましくは１〜１００ｎｍ、より好ましくは５〜５０ｎｍである。
無機酸化物粒子径が小さすぎると膜硬度増加効果が充分でなく、大きすぎると膜がもろくなり、製膜した時点で曇りを生じてしまうなどの問題がある。
【００１５】
（Ａ）無機酸化物ゾルの固形分としての配合量は、（Ａ）成分中の固形分と（Ｂ）成分との総モル量に対して、０．１〜６０ｍｏｌ％であり、好ましくは２〜５５ｍｏｌ％、より好ましくは１５〜５０ｍｏｌ％、特に好ましくは２５〜４０ｍｏｌ％である。（Ａ）成分の固形分配合量が上記の範囲内であると、配列層が適度な硬さを有する。また、膜がもろくなる、あるいは製膜時に曇りを生じるといった問題もない。
【００１６】
〔（Ｂ）アルコキシシラン及び／又はヘキサアルコキシジシロキサン〕
（Ｂ）下記一般式（１）で表わされるアルコキシシラン及び／又は下記一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンは、膜中の連続する骨格構造を形成するとともに、膜硬化性を付与し、さらに偏光層の剥離を抑制するために使用される。
Ｓｉ(ＯＲ1)a(Ｒ2)4-a              （１）
(Ｒ3Ｏ)3Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＯＲ4)3    （２）
ここで、上記一般式（１）におけるＲ1、及び上記一般式（２）におけるＲ3〜Ｒ4は、それぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基であり、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基等が挙げられる。この中で、メチル基、及びエチル基が好ましい。
上記一般式（１）におけるＲ2は、炭素数１〜１０のアルキル基であり。上記で例示した炭素数１〜５のアルキル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、及び２−エチルヘキシル基等が挙げられる。この中では、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。上記一般式（１）におけるａは、３又は４である。
【００１７】
一般式（１）で表わされるテトラアルコキシシラン（式中、ａ＝４）としては、例えば、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラメトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランテトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン等が挙げられる。
一般式（１）で表わされるトリアルコキシシラン（式中、ａ＝３）としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン等が挙げられる。
一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンとしては、特に限定されないが、例えば、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン等が挙げられる。
【００１８】
これらの中で、好ましくはテトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、ヘキサエトキシジシロキサン、及びヘキサメトキシジシロキサン、より好ましくは、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、さらに好ましくはテトラエトキシシランである。これらは、１種単独でも２種以上を組み合わせても使用することができる。本発明において、（Ｂ）及び（Ｃ）成分として用いられる一般式（１）〜（３）で表わされるシラン化合物の中で、一般式（１）で表わされるテトラアルコキシシラン（式中、ａ＝４）を単独あるいは他のシラン化合物より多く用いることが好ましい。
【００１９】
（Ｂ）成分の配合量としては、（Ａ）成分中の固形分と（Ｂ）成分との総モル量に対して、４０〜９９．９ｍｏｌ％であり、好ましくは４５〜９０ｍｏｌ％、より好ましくは５０〜８０ｍｏｌ％、特に好ましくは６０〜７５ｍｏｌ％である。（Ｂ）成分の配合量が上記の範囲内であると、配列層が過度に硬くなることがなく、配列層上に積層される偏光層との密着性が向上させることができる。
【００２０】
（Ｂ）成分と（Ａ）成分中の固形分とのモル比〔（Ｂ）／（Ａ）（固形分）〕としては、９９．９／０．１〜４０／６０であり、好ましくは９０／１０〜４５／５５、より好ましくは８０／２０〜５０／５０、特に好ましくは７５／２５〜６０／４０である。このモル比が上記の範囲内であると、配列層が過度に硬くなることがなく、粒径の小さい、例えば平均粒径２μｍ未満の研磨剤を用いても研磨処理を容易に行うことができる。
【００２１】
〔（Ｃ）官能基含有アルコキシシラン〕
（Ｃ）下記一般式（３）で表わされる官能基含有アルコキシシランは、膜中の連続骨格構造を形成するとともに、基材への良好な密着性能を付与し、更に膜に適度な柔軟性を付与し、クラック発生を抑制するために必要に応じて使用される。
Ｒ5−Ｓｉ(ＯＲ6)b(Ｒ7)3-b      （３）
ここで、下記一般式（３）におけるＲ5は、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を有する有機基である。例えば、エポキシエチル基、グリシジル基、エポキシシクロヘキシル基などのエポキシ基を有する有機基；グリシドキシメチル基、α−グリシドキシエチル基、β−グリシドキシエチル基、α−グリシドキシプロピル基、β−グリシドキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、α−グリシドキシブチル基、β−グリシドキシブチル基、γ−グリシドキシブチル基、δ−グリシドキシブチル基などのグリシドキシ基を有する有機基；アミノ基、γ−アミノプロピル基、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピル基、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピル基などのアミノ基を有する有機基；イソシアネート基、イソシアネートメチル基、α−イソシアネートエチル基、β−イソシアネートエチル基、α−イソシアネートプロピル基、β−イソシアネートプロピル基、γ−イソシアネートプロピル基などのイソシアネート基を有する有機基が挙げられる。
Ｒ6及びＲ7は、炭素数１〜５のアルキル基であり、上記と同様のアルキル基が挙げられる。ｂは３又は２であるが、ｂは３であることが好ましい。
【００２２】
一般式（３）で表わされる官能基含有アルコキシシランとしては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（γ−ＧＰＳ）、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、β−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、β−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、β−エポキシシクロヘキシルエチルメチルジメトキシシラン、β−エポキシシクロヘキシルエチルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは、１種単独でも２種以上を組み合わせても使用することができる。
【００２３】
（Ａ）成分中の固形分及び（Ｂ）成分の総量と（Ｃ）成分とのモル比〔［（Ａ）（固形分）＋（Ｂ）］／（Ｃ）〕としては、好ましくは９９．９／０．１〜８５／１５、より好ましくは９８／２〜８５／１５である。このモル比が上記範囲内であると、配列層と偏光層との密着性を向上させることができる。（Ｃ）成分の割合が上記範囲より多いと配列層、偏光層が剥がれやすくなることから、上記範囲が好ましい。
【００２４】
〔偏光層〕
本発明における偏光層は、１種以上の二色性色素を含んでなるものである。ここで、「二色性」とは、媒質が光に対して選択吸収の異方性を有するために、透過光の色が伝播方向によって異なる性質を意味し、二色性色素は、偏光光に対して色素分子のある特定の方向で光吸収が強くなり，これと直行する方向では光吸収が小さくなる性質を有する。また、二色性色素の中には、水を溶媒とした時、ある濃度・温度範囲で液晶状態を発現するものが知られている。このような液晶状態のことをリオトロピック液晶という。この二色性色素の液晶状態を利用して特定の一方向に色素分子を配列させることができれば、より強い二色性を発現することが可能となる。
本発明に使用される二色性色素としては、特に限定されず、偏光素子に通常使用されるものとして知られているものを用いることができる。例えば、アゾ系、アントラキノン系、メロシアニン系、スチリル系、アゾメチン系、キノン系、キノフタロン系、ペリレン系、インジゴ系、テトラジン系、スチルベン系、ベンジジン系等が挙げられる。また、米国特許２４００８７７号明細書、特表２００２−５２７７８６号公報明細書に記載されているもの等も挙げられる。
【００２５】
（基材）
本発明で使用する基材としては、特に限定されず、プラスチック基材、無機ガラス基材、等が挙げられる。プラスチック基材の材質は、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エピチオ基を有する化合物を材料とする重合体などが挙げられる。
基材の表面形状は、特に限定されないが、平面状、凹面状、又は凸面状等の任意の形状とすることができる。
【００２６】
本発明の偏光素子は、基材上に配列層が形成される。配列層は、基材上に直接積層されていてもよく、前記基材と配列層との間に、ハードコート層やプライマー層を有していてもよい。
【００２７】
基材と配列層との間に必要に応じて形成されるハードコート層には、特に限定されず、公知の有機ケイ素化合物及び無機酸化物コロイド粒子よりなるコーティング組成物を使用することができる。有機ケイ素化合物及び無機酸化物コロイド粒子としては、例えば、特開２００７−７７３２７号公報明細書段落〔００７１〕〜〔００７４〕に記載のものが同様に挙げられる。ハードコート層用コ−ティング組成物は、従来知られている方法で調製することができる。
ハードコート層を基材上に形成する方法としては、上記コ−ティング組成物を基材に塗布する方法が挙げられる。塗布手段としてはディッピング法、スピンコーティング法、スプレー法等の通常行われる方法が適用できるが、面精度の面からディッピング法、スピンコーティング法が特に好ましい。
また、プライマー層には、密着性を向上させる観点から、ポリウレタン等の公知の各種樹脂を用いることができる。
【００２８】
（偏光素子の製造方法）
本発明における偏光素子の製造方法は、好ましくは下記工程I〜工程IVを有する。
工程I：基材上に、（Ａ）無機酸化物ゾルと、（Ｂ）上記一般式（１）で表わされるアルコキシシラン及び／又は上記一般式（２）で表わされるヘキサアルコキシジシロキサンとを少なくとも含有する材料を用いて、スピンコートによってゾル−ゲル膜を製膜する工程
工程II：工程Iで製膜したゾル−ゲル膜に一軸方向に研磨処理を行い、一軸方向の研磨痕を有する配列層を形成する工程
工程III：工程IIで形成した配列層上に、二色性色素を配列堆積させて偏光層を形成する工程
工程IV：工程IIIで形成した偏光層上に色素を固定するための保護層を形成する工程
【００２９】
工程Iでは、基材上に、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含有する材料を用いて、スピンコートによってゾル−ゲル膜を製膜する（図１（Ｂ）参照）。本工程では従来のＳｉＯ2のような無機物質による層を形成するのに必要となる大掛かりな真空蒸着設備を利用する必要がないため、煩雑さを解消し、製造工程を簡略化することができる。
まず、ゾル−ゲル膜製膜用の材料として、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、さらには必要に応じて上記（Ｃ）成分を用いてコート液を調製することが好ましい。コート液を調製する際に溶媒を用いてもよく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール、ジアセトンアルコール及び１−メトキシ２−プロパノールなどのアルコール類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類水等が挙げられる。
さらに、シラン化合物の加水分解反応を十分に進行させるために、触媒を用いてもよく、例えば、アルミニウムアセチルアセトナート、アルミニウムテトライソプロポキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムアセトナート等のアルミニウム触媒が挙げられる。触媒は、コート液全量に対して、好ましくは０．０２〜１ｍｏｌ％の範囲で使用される。
コート液の調製方法は、特に限定されず、所定量の各成分を秤取り充分に攪拌混合することにより行うことができる。なお、各成分の添加順序は特に限定されない。
調製されたコート液の固形成分量は、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは２〜２０質量％である。コート液の固形成分量は、所望の範囲となるように上記で例示した溶媒を用いて調整することができる。なお、コート液の固形成分は、後述する実施例に記載の方法によって算出することができる。
【００３０】
上記コート液を基材にスピンコートする前に、基材に、酸、アルカリ、各種有機溶剤による化学的処理、プラズマ、紫外線などによる物理的処理、各種洗剤を用いる洗剤処理、サンドブラスト処理、さらには各種樹脂を用いたプライマー処理を施すことによって、基材と配列層との密着性等を向上させることができる。
【００３１】
上記コート液を基材上にスピンコートにより塗工、続いて熱処理して、ゾル−ゲル膜を製膜することができる。ゾル−ゲル膜の厚みは、好ましくは０．０２〜５μｍ、より好ましくは０．０５〜０．５μｍである。この厚みが０．０２μｍ以上であると、研磨加工の際に膜全体の剥離が生じるがことなく、配列層として機能させることができ、５μｍ以下であるとクラックの発生を減らすことができる。
塗工及び熱処理の条件には、特に制限はないが、例えば、塗工条件としては、スピンコーターの回転数２００〜２０００ｒｐｍ、処理時間０．５〜３分が好ましい。また、熱処理は、５０〜１２０℃、０．５〜３時間で行うことが好ましい。
【００３２】
工程IIでは、二色性色素を配列層上に配列堆積させるために、工程Iで製膜したゾル−ゲル膜に一軸方向に研磨処理を行い、一軸方向の研磨痕を有する配列層を形成する（図１（Ｂ）参照）。研磨処理は研磨剤を用いて行うことが好ましい。
ここで、液晶の場合には、基板にある一方向の摩擦加工や研磨加工により、この方向と一定の方向関係で配列することが知られている。例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）製造において、液晶をセル内で配列するために、基板上に取り付けた配列膜（ポリイミドなど）を一方向に擦る、いわゆるラビング工程が行われることはよく知られている。二色性色素からなる溶液を一方向研磨した基材上にコートし、この色素を配列させその二色性を利用する技術は、例えば、米国特許２４００８７７号明細書や米国特許４８６５６６８号明細書等に開示されている。
本発明においても、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）製造における液晶の場合と同様に、基材上に形成したゾル−ゲル膜を研磨処理することにより、二色性色素を一軸方向に配列させることができる。
【００３３】
研磨処理に使用される研磨剤としては、特に制限ないが、例えば、研磨剤粒子を含むスラリーをウレタンフォーム等の発泡材料に浸漬させたものを用いることができる。研磨剤粒子としては、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2等が挙げられる。この中で、形成したゾル−ゲル膜に対する硬度（研磨の容易さ、仕上がり）、および化学的安定性の観点から、Ａｌ2Ｏ3が好ましい。これらは１種単独でも、又は２種以上組み合わせて用いてもよい。また、研磨剤粒子を含むスラリーには、粘度改質剤、ｐＨ調整剤等が含有していてもよい。
【００３４】
研磨剤粒子の平均粒径としては、２μｍ未満であることが好ましく、０．５〜１．５μｍがより好ましく、０．７〜１．４μｍがさらに好ましい。
従来のＳｉＯ2蒸着のような無機物質で出来た薄膜は、硬いため、微細な研磨処理を行い難く、例えば、眼鏡レンズ等の用途によっては、研磨痕が粗くなるという問題があった。本発明においては、無機物質で出来た薄膜のような硬さが無いので、平均粒径が２μｍ未満の研磨剤を使用した研磨加工が可能である。また、従来よりも更に微細な粒子の研磨剤を使用できることで、よりきめ細かな研磨加工ができ、研磨圧が高くなったり、一箇所を集中的に研磨した場合でも、磨き傷によるヘイズの発生を抑えることができ、不良品の発生を減らすことができ、偏光素子を容易に製造することができる。
研磨条件は、特に限定されず、回転速度、研磨圧、及び研磨時間等を適宜調整することができる。
【００３５】
工程IIIでは、工程IIで形成した一軸方向の研磨痕を有する配列層上に、二色性色素を配列堆積させて偏光層を形成する（図１（Ｃ）参照）。
通常、偏光層形成の前に、研磨加工した配列層の表面を完全に洗浄、及び乾燥させる。次に、二色性色素を含有する水溶液あるいは懸濁液（好ましくは水溶液）を、研磨痕を有する配列層上に塗布、さらに二色性色素の非水溶化処理を行うことで偏光層を形成することができる。
二色性色素を含有する水溶液あるいは懸濁液に、さらに上記以外の色素などを、本発明の効果を損なわない限り配合することで、所望の色相を有する偏光素子を製造することができる。さらに塗布性等を向上させる観点から、必要に応じてレオロジー改質剤、接着性促進剤、可塑剤、レベリング剤等の添加剤を配合してもよい。
塗布方法としては、特に限定はないが、スピンコート、ディップコート、フローコート、スプレーコート等の公知の方法が挙げられる。
上記非水溶化処理としては、配列層上に塗布した二色性色素を金属塩水溶液に浸漬する方法が好ましい。使用できる金属塩としては、特に限定されてないが、ＡｌＣｌ3、ＢａＣｌ2、ＣｄＣｌ2、ＺｎＣｌ2、ＦｅＣｌ2及びＳｎＣｌ3等が挙げられる。この中で、安全性の観点から、ＡｌＣｌ3及びＺｎＣｌ2が好ましい。非水溶化処理後、二色性色素の表面をさらに乾燥させてもよい。
偏光層の厚さは、特に限定されないが０．０５〜０．５μｍの範囲であると好ましい。
【００３６】
工程IVは、工程IIIで形成した偏光層上に色素を固定するための保護層を形成する工程（図１（Ｄ）参照）である。
上記保護層に用いられる材料としては、有機ケイ素化合物を用いることができ、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（γ−ＧＰＳ）、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のグリシドキシ基含有トリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシラン等のエポキシアルキルアルコキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン等のアミノ基含有アルコキシシラン等が好ましく挙げられるが、特にこれらに限定されない。これら化合物は１種単独でも、又は２種以上組み合わせて用いてもよい。
色素保護層は、偏光層上に上記有機ケイ素化合物を含む液をディッピング法、スピンコーティング法、スプレー法等の公知の手段によって塗布、次いで熱硬化により製膜し形成することができる。この際に、上記有機ケイ素化合物は、偏光層に浸透し、実質的に色素保護層と偏光層とが一体化した層が形成される。色素保護層と偏光層が一体化した層の膜厚は、特に限定されないが０．０５〜１μｍの範囲であると好ましい。
【００３７】
得られた偏光素子に対しては、耐擦傷性を向上させるハードコート膜、反射防止膜、撥水膜、ＵＶ吸収膜、赤外線吸収膜、フォトクロミック膜、静電防止膜等の機能性膜を公知の方法で形成することもできる（図１（Ｅ）参照）。
【００３８】
上記の方法によれば、簡略な工程によって高品質な偏光素子を製造することができる。本発明の偏光素子は、眼鏡レンズ、サングラス、ディスプレイ機器、光伝送機器、自動車や建物の窓ガラス等の光学用途に広く用いられ、特に眼鏡用プラスチックレンズとして好ましく用いられる。眼鏡用プラスチックレンズの場合には、屈折率は、通常１．５０〜１．８０であり、また、アッベ数は、通常３０以上である。
【実施例】
【００３９】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、得られた偏光素子の物性評価は以下のようにして行った。
（１）偏光効率
偏光効率（Ｐeff）は、ＩＳＯ８９８０−３にしたがって、平行透過率（Ｔ//）及び垂直透過率（Ｔ⊥）を求め、次式により算出することで評価した。平行透過率及び垂直透過率は、可視分光光度計と偏光子を用いて測定した。
Ｐeff（％）＝〔（Ｔ//−Ｔ⊥）／（Ｔ//＋Ｔ⊥）〕×１００
また、作製した偏光素子の化学的耐久性は、沸騰水に３時間浸漬した後の偏光素子を用いて、偏光効率を上記と同様に求めることで評価した。
【００４０】
（２）透明性（ヘイズ値）
株式会社村上色彩技術研究所製ヘイズメーターＭＨ−１５０にて、作製した偏光素子のヘイズ値を測定し、曇りの有無を判断した。
（評価基準）
○：曇りなし（ヘイズ値≦０．４％）
×：曇りあり（ヘイズ値＞０．４％）
【００４１】
（３）密着性
作製した偏光素子の密着性能は、沸騰水に３時間浸漬処理する前後における偏光素子を用いて、下記の測定条件によって標準的密着テープ試験を行い評価した。
（測定条件）
硬化膜に１.５ｍｍ間隔で１００目クロスカットし、このクロスカットしたところに粘着テープ（セロファンテープ  ニチバン株式会社製）を強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がした後の硬化膜の１００目中の剥離マス目数を調べた。判断基準は以下の通りである。
（評価基準）
◎    剥離マス目数０／１００（膜剥離なし）
○    剥離マス目数１〜２／１００
△    剥離マス目数３〜５／１００
×    剥離マス目数６以下／１００
【００４２】
実施例１
（配列膜用コート液の製造）
シリカゾル（メタノール溶媒、固形分３０質量％、平均一次粒径１２ｎｍ、商品名「メタノールシリカゾル」、日産化学工業株式会社製）４．９ｇに、エタノール２９．２ｇ、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）（分子量２０８.３、商品名「ＫＢＥ−０４」、信越化学工業株式会社製)１０．４ｇ、γ‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（γ-ＧＰＳ）（分子量２３６.３、商品名「ＫＢＭ−４０３」、信越化学工業株式会社製）２．１ｇを順に添加して撹拌した。次いで、０．０１ｍｏｌ／Ｌ塩酸２．９ｇ（コート液全量の１８．４ｍｏｌ％）を添加して撹拌し、さらにアルミニウム触媒（アルミニウムアセチルアセトナート）を０．５ｇ（コート液全量の０．１８ｍｏｌ％）を添加して充分に撹拌した。得られる混合物は、コート液の最終組成が以下となるように調整した。この混合液を０．５μｍフィルタでろ過し，配列膜用コート液を得た。
【００４３】
（コート液の最終組成）
コート液の全液量：５０．０ｇ
ＴＥＯＳとシリカゾル中の固形分とのモル比〔ＴＥＯＳ／シリカゾル固形分〕：６７／３３
ＴＥＯＳ及びシリカゾルの総量とγ‐ＧＰＳとのモル比〔(ＴＥＯＳ＋シリカゾル固形分)／（γ‐ＧＰＳ）〕：９０／１０
固形成分：コート液全量の１０質量％
ここで、固形成分とは、アルコキシシラン材料中のアルコキシ基（ＯＲ基、Ｒ：アルキル基）がすべて加水分解されシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合）が形成されたときの化学量論量に、無機酸化物ゾルの量を加えた総量を「固形成分」量とする。
【００４４】
（配列膜の製膜）
レンズ基材として、フェニックスレンズ（ＨＯＹＡ株式会社製、屈折率１.５３、ハードコート付き、直径７０ｍｍ、ベースカーブ４）を用いて、レンズ凹面に製造例１で作製した配列膜用コート液をスピンコート（８００ｒｐｍで供給、６０秒保持）、続いて８５℃、１時間の熱処理を施し硬化させ、厚さ約１５０ｎｍの配列膜（ゾル−ゲル膜）を製膜した。
（研磨処理）
得られた配列膜に、研磨剤含有ウレタンフォーム（研磨剤：「ＰＯＬＩＰＬＡ２０３Ａ」、フジミインコーポレーテッド社製、平均粒径０.８μｍＡｌ2Ｏ3粒子、ウレタンフォーム：球面レンズの凹面の曲率とほぼ同形状）を用いて、一軸研磨加工処理を回転数３５０ｒｐｍ、研磨圧５０ｇ/ｃｍ2の条件で３０秒間施した。研磨処理を施したレンズは純水により洗浄、乾燥させた。
【００４５】
（偏光層の形成）
レンズを乾燥後、研磨処理面上に、二色性色素〔商品名「Varilight solution 2S」、スターリング オプティクス インク（Sterling Optics Inc）社製〕の約５質量％水溶液２〜３ｇを用いてスピンコートを施し、偏光層を形成した。スピンコートは、色素水溶液を回転数３００ｒｐｍで供給し、８秒間保持、次に回転数４００ｒｐｍで供給し４５秒間保持、さらに１０００ｒｐｍで供給し１２秒間保持することで行った。なお、この段階での偏光レンズは、偏光効率９９％，透過率３０.５％を示した。
次いで、塩化鉄濃度が０.１５Ｍ、水酸化カルシウム濃度が０.２ＭであるｐＨ３.５の水溶液を調製し、この水溶液に上記で得られたレンズをおよそ３０秒間浸漬し、その後引き上げ、純水にて充分に洗浄を施した。この工程により、水溶性であった色素は難溶性に変換される。
【００４６】
（色素保護膜の形成）
その後、レンズをγ−アミノプロピルトリエトキシシラン１０質量％水溶液に１５分間浸漬し、その後純水で３回洗浄し、８５℃で３０分間熱硬化した。さらに、冷却後、レンズを空気中にてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２質量％水溶液に３０分浸漬した後、１００℃の炉で３０分間熱硬化、硬化後冷却して色素保護膜を形成した。
【００４７】
（機能性膜の形成）
色素保護膜を形成したレンズに、研磨剤（商品名「ＰＯＬＩＰＬＡ１０３Ｈ」、株式会社フジミインコーポレーテッド製，粒径０.８μｍ）で研磨処理を施し充分洗浄した。次に紫外線硬化性樹脂（商品名「３０７５」、株式会社スリーボンド製）をスピンコート（５００ｒｐｍで供給，４５秒保持）により塗布した。塗布後、紫外線照射装置によりＵＶ照射光量６００ｍＪ／ｃｍ2で硬化し、ハードコートをレンズに施した。
得られた偏光レンズの偏光効率、密着性及び透明性を評価した。結果を表１−１に示す。
【００４８】
【表１】
2009237361.tif 000002
【００４９】
【表２】
2009237361.tif 000003
【００５０】
実施例２〜２３
表１−１又は表１−２に示す配合成分及び配合割合にして、配列膜用コート液を調製したこと以外は、実施例１と同様にして、偏光レンズを作製した。実施例２３では、色素保護膜の形成工程でのγ−アミノプロピルトリエトキシシラン１０質量％水溶液に浸漬処理を行った時点において、偏光層の一部に剥離が見られた。得られた偏光レンズの偏光効率、透明性及び密着性を評価した。結果を表１−１又は表１−２に示す。
【００５１】
なお、実施例２〜２３で用いた（Ｂ）及び（Ｃ）成分の商品名等は以下のとおりである。
・テトラエトキシシラン：ＫＢＥ−０４、信越化学工業株式会社製商品名
・テトラメトキシシラン：ＫＢＭ−０４、信越化学工業株式会社製商品名
・メチルトリメトキシシラン：ＫＢＭ−１３、信越化学工業株式会社製商品名
・メチルトリエトキシシラン：ＫＢＥ−１３、信越化学工業株式会社製商品名
・γ‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン：ＫＢＭ−４０３、信越化学工業株式会社製商品名
・γ‐グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン：ＫＢＥ−４０２、信越化学工業株式会社製商品名
・γ‐アミノプロピルトリメトキシシラン：ＫＢＭ−９０３、信越化学工業株式会社製商品名
・γ‐アミノプロピルトリエトキシシラン：ＫＢＥ−９０３、信越化学工業株式会社製商品名
・γ‐イソシアネートプロピルトリエトキシシラン：ＫＢＥ−９００７、信越化学工業株式会社製商品名
【００５２】
実施例２４
機能性膜を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様に偏光レンズを作製した。
実施例２５〜２７
実施例１と同様に配列膜付きレンズ基材を作製した。次に、作製したレンズ基材および表２に示す研磨剤（平均粒径０.８μｍ又は１．３μｍＡｌ2Ｏ3粒子）を用い、表２に示す研磨圧力および研磨時間に変更したこと以外は、実施例１と同様に一軸研磨加工を施した。
さらに実施例１と同様に、偏光層および色素保護膜を形成して偏光レンズを作製した。
【００５３】
比較例１〜７
レンズ基材として実施例１で使用したフェニックスレンズを用い、これにレンズ基材温度 約５０℃、真空度 約１０-5.5ＭＰａの条件で電子銃蒸着を行い、ＳｉＯ2蒸着膜（膜厚２５０ｎｍ）を製膜したレンズ基材を作製した。
次に、上記で作製した基材および表２に示す研磨剤（平均粒径０.８μｍ、１.３μｍ又は３μｍＡｌ2Ｏ3粒子）を用い、表２に示す研磨圧力および研磨時間に変更したこと以外は、実施例１と同様に一軸研磨加工を施した。
さらに、偏光層および色素保護膜の形成を実施例１と同様の方法で行い偏光レンズを作製した。
【００５４】
実施例２４〜２７および比較例１〜７で作製した偏光レンズの偏光効率を上記の方法で求め、さらに一軸研磨加工後の曇りの有無、および色素保護膜の形成工程でのγ‐アミノプロピルトリエトキシシラン１０質量％水溶液への浸漬処理を行った時点での偏光膜の剥離の有無を目視で評価した。結果を表２に示す。
表２から、実施例２４〜２７の方法は、ＳｉＯ2蒸着膜上に偏光層を形成する比較例１〜７と比べて、幅広い研磨条件を適用でき、研磨後の曇りがなく、高い偏光度が得られ、剥離も見られない偏光レンズを作製できることが分かる。
【００５５】
【表３】
2009237361.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明によれば、簡略な工程で製造可能であり、二色性色素の配列堆積に必要な表面の研磨加工が容易にでき、かつクラック発生による曇りがない、偏光レンズなどの偏光素子、及び該偏光素子の製造方法を提供することができる。
得られた偏光素子は、眼鏡レンズ、サングラス、ディスプレイ機器、光伝送機器、自動車や建物の窓ガラス等の光学用途に広く適用することができ、特に眼鏡用プラスチックレンズとして好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の偏光素子の作製工程の一例を示す断面模式図である。
【符号の説明】
【００５８】
１；基材
２；ハードコート層
３；密着層
４；ゾル−ゲル膜
５；配列層
６；偏光層（配列した色素層）
７；色素保護膜（保護層）
８；機能性膜（撥水膜等）
【図１】
2009237361.tif 000005