(57)【要約】【課題】  シート抵抗値が低く光透過率が高いとともに信頼性に優れ製造コストの低減も可能な透明電極基材を提供する。【解決手段】  透明電極基材１を、基材２と、この基材２の少なくとも一方の面に設けられた透明電極層７を備えたものとし、透明電極層７を、酸化インジウムスズ層８と酸化亜鉛層９とが積層された２層以上の多層構造とし、酸化インジウムスズ層８の厚みを７５０Å以上とし、透明電極層７の厚みを１２００〜１７００Åの範囲とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられた透明電極層を備え、該透明電極層は酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層とが積層された２層以上の多層構造であり、前記透明電極層を構成する酸化インジウムスズ層の厚みは７５０Å以上であり、前記透明電極層の厚みは１２００〜１７００Åの範囲であることを特徴とする透明電極基材。
【請求項２】
前記透明電極層は、前記基材側から酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層とが積層された２層構造であることを特徴とする請求項１に記載の透明電極基材。
【請求項３】
前記透明電極層は、前記基材側から酸化亜鉛層と酸化インジウムスズ層とが積層された２層構造であることを特徴とする請求項１に記載の透明電極基材。
【請求項４】
前記透明電極層は、前記基材側から酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層と酸化インジウムスズ層とが積層された３層構造であり、透明電極層を構成する２層の酸化インジウムスズ層の合計厚みは７５０Å以上あることを特徴とする請求項１に記載の透明電極基材。
【請求項５】
前記透明電極層は、前記基材側から酸化亜鉛層と酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層とが積層された３層構造であることを特徴とする請求項１に記載の透明電極基材。
【請求項６】
前記基材は、基板と該基板の少なくとも一方の面に設けられた樹脂層と備えるものであり、前記透明電極層は前記樹脂層上に設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の透明電極基材。
【請求項７】
前記樹脂層は、樹脂着色層および／または樹脂ブラックマトリックスであることを特徴とする請求項６に記載の透明電極基材。
【請求項８】
前記基材は、樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の透明電極基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は透明電極基材に係り、特にプラズマディスプレイ、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置等の各種表示装置やタッチパネル、太陽電池等に用いられる透明電極基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、各種表示装置に使用される透明電極基材としては、従来、基板上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜からなる透明電極を設けたものが使用されている。しかし、酸化インジウムスズ膜は、その成膜条件によって特性が異なり、例えば、青色光の透過率が低く、自然なカラー画像を得るためには問題があった。また、酸化インジウムスズ膜は熱安定性に劣るので、表示装置の作製工程において２００℃以上の高温に曝されると比抵抗が増加したり光透過率の変化が生じることがあった。このような酸化インジウムスズ膜の問題を解消するために、酸化亜鉛からなる透明電極を備えた透明電極基材が提案されている（特許文献１）。
また、酸化インジウムスズ膜は、主材料であるインジウム（Ｉｎ）がレアメタルで高価であり、かつ価格の変動も大きいため、この点でも、酸化インジウムスズ膜に代わる透明電極膜として酸化亜鉛が注目されている。
【特許文献１】特開平０４−３２３６２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、酸化亜鉛のみからなる透明電極は、酸化インジウムスズ膜に比べて光透過率は良好であるが、シート抵抗値が大きく、特に温水に対する耐性や超音波による洗浄耐性が弱く信頼性に問題があった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、シート抵抗値が低く光透過率が高いとともに信頼性に優れ製造コストの低減も可能な透明電極基材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
このような目的を達成するために、本発明の透明電極基材は、基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられた透明電極層を備え、該透明電極層は酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層とが積層された２層以上の多層構造であり、前記透明電極層を構成する酸化インジウムスズ層の厚みは７５０Å以上であり、前記透明電極層の厚みは１２００〜１７００Åの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明電極層は前記基材側から酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層とが積層された２層構造であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明電極層は前記基材側から酸化亜鉛層と酸化インジウムスズ層とが積層された２層構造であるような構成とした。
【０００５】
本発明の他の態様として、前記透明電極層は前記基材側から酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層と酸化インジウムスズ層とが積層された３層構造であり、透明電極層を構成する２層の酸化インジウムスズ層の合計厚みは７５０Å以上あるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明電極層は前記基材側から酸化亜鉛層と酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層とが積層された３層構造であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材は基板と該基板の少なくとも一方の面に設けられた樹脂層と備えるものであり、前記透明電極層は前記樹脂層上に設けられているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記樹脂層は樹脂着色層および／または樹脂ブラックマトリックスであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材は樹脂フィルムであるような構成とした。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の透明電極基材は、酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層を用いた積層構造の透明電極層を有し、かつ、酸化インジウムスズ層の総厚みが７５０Å以上であり、透明電極層の厚みを１２００〜１７００Åの範囲であるので、基材上に酸化インジウムスズ層が位置する場合、基材と酸化インジウムスズ層との密着性が極めて高く、また、酸化インジウムスズ層の表面が粗面でありアンカー効果を発現するので、酸化インジウムスズ層上に位置する酸化亜鉛層との層間密着性が極めて高く、これにより基材と透明電極層との良好な密着性が維持され、温水や超音波洗浄に対する耐性が高く、信頼性に優れたものとなり、また、基材上に酸化亜鉛が位置する場合、この酸化亜鉛上に位置する酸化インジウムスズ層がバリア効果を発現し、これにより基材と透明電極層との良好な密着性が維持され、温水や超音波洗浄に対する耐性が高く、信頼性に優れたものとなり、さらに、いずれも場合でも、３０Ω／□以下の低いシート抵抗値と、波長５４５ｎｍでの光線透過率が９５．０％以上の高い光透過率が達成できるという効果が奏される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
次に、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の透明電極基材の一実施形態を示す部分断面図である。図１において、透明電極基材１は、基材２と、基材２の一方の面に設けられた透明電極層７を備えたものである。基材２は、基板３と、この基板３の一方の面に設けられた樹脂層４とを有し、この樹脂層４は、所定のパターンで形成された樹脂ブラックマトリックス５と、この樹脂ブラックマトリックス５の非形成部位を被覆するように配設された樹脂着色層６からなり、この樹脂着色層６は、赤色パターン６Ｒ、緑色パターン６Ｇ、青色パターン６Ｂで構成されている。また、透明電極層７は、樹脂層４側から酸化インジウムスズ層８と酸化亜鉛層９とが積層された２層構造をなしている。そして、透明電極層７を構成する酸化インジウムスズ層８の厚みは７５０Å以上、好ましくは７５０〜１０００Åの範囲であり、また、透明電極層７の厚みは１２００〜１７００Å、好ましくは１２５０〜１６５０Åの範囲である。
【０００８】
図２は、本発明の透明電極基材の他の実施形態を示す部分断面図である。図２において、透明電極基材１１は、基材１２と、基材１２の一方の面に設けられた透明電極層１７を備えたものである。基材１２は、基板１３と、この基板１３の一方の面に設けられた樹脂層１４とを有している。この樹脂層１４は、上述の樹脂層４と同様に、所定のパターンで形成された樹脂ブラックマトリックス１５と、この樹脂ブラックマトリックス１５の非形成部位を被覆するように配設された樹脂着色層１６からなり、この樹脂着色層１６は、赤色パターン１６Ｒ、緑色パターン１６Ｇ、青色パターン１６Ｂで構成されている。一方、透明電極層１７は、樹脂層１４側から酸化亜鉛層１９と酸化インジウムスズ層１８とが積層された２層構造をなしている。そして、透明電極層１７を構成する酸化インジウムスズ層１８の厚みは７５０Å以上、好ましくは７５０〜１０００Åの範囲であり、また、透明電極層１７の厚みは１２００〜１７００Å、好ましくは１２５０〜１６５０Åの範囲である。
【０００９】
図３は、本発明の透明電極基材の他の実施形態を示す部分断面図である。図３において、透明電極基材２１は、基材２２と、基材２２の一方の面に設けられた透明電極層２７を備えたものである。基材２２は、基板２３と、この基板２３の一方の面に設けられた樹脂層２４とを有している。この樹脂層２４は、上述の樹脂層４と同様に、所定のパターンで形成された樹脂ブラックマトリックス２５と、この樹脂ブラックマトリックス２５の非形成部位を被覆するように配設された樹脂着色層２６からなり、樹脂着色層２６は、赤色パターン２６Ｒ、緑色パターン２６Ｇ、青色パターン２６Ｂで構成されている。一方、透明電極層２７は、樹脂層２４側から酸化インジウムスズ層２８と酸化亜鉛層２９と酸化インジウムスズ層２８′とが積層された３層構造をなしている。そして、透明電極層２７を構成する酸化インジウムスズ層２８と酸化インジウムスズ層２８′との総厚みは７５０Å以上、好ましくは７５０〜１０００Åの範囲であり、また、透明電極層２７の厚みは１２００〜１７００Å、好ましくは１２５０〜１６５０Åの範囲である。
【００１０】
図４は、本発明の透明電極基材の他の実施形態を示す部分断面図である。図４において、透明電極基材３１は、基材３２と、基材３２の一方の面に設けられた透明電極層３７を備えたものである。基材３２は、基板３３と、この基板３３の一方の面に設けられた樹脂層３４とを有している。この樹脂層３４は、上述の樹脂層４と同様に、所定のパターンで形成された樹脂ブラックマトリックス３５と、この樹脂ブラックマトリックス３５の非形成部位を被覆するように配設された樹脂着色層３６からなり、樹脂着色層３６は、赤色パターン３６Ｒ、緑色パターン３６Ｇ、青色パターン３６Ｂで構成されている。一方、透明電極層３７は、樹脂層３４側から酸化亜鉛層３９と酸化インジウムスズ層３８と酸化亜鉛層３９′とが積層された３層構造をなしている。そして、透明電極層３７を構成する酸化インジウムスズ層３８の厚みは７５０Å以上、好ましくは７５０〜１０００Åの範囲であり、また、透明電極層３７の厚みは１２００〜１７００Å、好ましくは１２５０〜１６５０Åの範囲である。
【００１１】
さらに、図５は、本発明の透明電極基材の他の実施形態を示す部分断面図である。図５において、透明電極基材４１は、基材としての樹脂フィルム４３と、この樹脂フィルム４３の一方の面に設けられた透明電極層４７を備えたものである。透明電極層４７は、上述の透明電極層７と同様に、樹脂フィルム４３側から酸化インジウムスズ層４８と酸化亜鉛層４９とが積層された２層構造をなしている。そして、透明電極層４７を構成する酸化インジウムスズ層４８の厚みは７５０Å以上、好ましくは７５０〜１０００Åの範囲であり、また、透明電極層４７の厚みは１２００〜１７００Å、好ましくは１２５０〜１６５０Åの範囲である。
また、本発明では、上記の透明電極基材４１の透明電極層４７の代わりに、上述の透明電極層１７、２７、３７の何れかを樹脂フィルム４３上に備えたものであってもよい。
【００１２】
上述の透明電極基材において、透明電極層を構成する酸化インジウムスズ層の厚みが７５０Å未満であると、酸化インジウムスズ層が発現するバリア効果が不十分となって樹脂層や樹脂フィルムと透明電極層との密着性が低下し、また、シート抵抗値が高くなり（３０Ω／□を超える）好ましくない。一方、透明電極層の厚みが１２００Å未満であると、シート抵抗値が高くなり（３０Ω／□を超える）、１７００Åを超えると、波長５４５ｎｍでの光線透過率が９５．０％未満となり好ましくない。
【００１３】
次に、本発明の透明電極基材を構成する各部材等について説明する。
基板３、１３、２３，３３は、透明導電基材の用途に応じて適宜選択することができ、具体的には、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の可撓性のない透明基板、あるいは光学用樹脂基板等の可撓性を有する透明基板を用いることができる。また、基板３、１３、２３，３３の厚みは特に制限されず、透明導電基材の用途に応じて適宜設定することができ、例えば、０．３〜１．０μｍ程度の範囲で設定可能である。
また、樹脂フィルム４３も、透明導電基材の用途に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、ノルボルネン、ポリアリレート、フッ素系樹脂（ＰＴＦＥ、ＣＴＦＥ、ＥＴＦＥ）、透明ポリイミド、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニルスルフォン、トリアセチルセルロース等の樹脂フィルムが挙げられる。また、基板４２の厚みは特に制限されず、透明導電基材の用途に応じて適宜設定することができ、例えば、５０〜１０００μｍ程度の範囲で設定可能である。
【００１４】
樹脂層４、１４、２４、３４を構成する樹脂ブラックマトリックス５、１５、２５、３５、および、樹脂着色層６、１６、２６、３６は、透明導電基材の用途に応じて適宜設定することができる。樹脂ブラックマトリックスの形成は、例えば、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成することができる。また、カーボン微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして樹脂ブラックマトリックスを形成することもできる。
赤色パターン、緑色パターンおよび青色パターンで構成される樹脂着色層は、例えば、所望の着色材を含有した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成することができ、さらに、印刷法、電着法、転写法等の公知の方法により形成することができる。
【００１５】
透明電極層を構成する酸化インジウムスズ層８、１８、２８、２８′、３８、４８は、例えば、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法等の真空成膜法により形成することができる。酸化インジウムスズ層の厚みは、上述のように７５０Å以上、好ましくは７５０〜１０００Åの範囲である。
透明電極層を構成する酸化亜鉛層９、１９、２９、３９、３９′、４９は、例えば、酸化亜鉛のターゲット材にアルミニウム（Ａｌ）あるいはガリウム（Ｇａ）等をドープし、スパッタリング法により形成することができる。酸化亜鉛層の厚み（２層以上の場合は総厚）は、設定された酸化インジウムスズ層の厚みと透明電極層の厚みから必然的に設定されるが、例えば、１２５０〜１６５０Åの範囲とすることができる。
【００１６】
このような本発明の透明電極基材は、酸化インジウムスズ層と酸化亜鉛層を用いて積層構造の透明電極層とし、かつ、酸化インジウムスズ層の総厚みを７５０Å以上とし、透明電極層の厚みを１２５０〜１６５０Åの範囲としているので、樹脂層や樹脂フィルム上に酸化インジウムスズ層が位置する場合（図１、図３、図５参照）、樹脂層や樹脂フィルムと酸化インジウムスズ層との密着性が極めて高く、また、酸化インジウムスズ層の表面が粗面であってアンカー効果を発現するので、酸化インジウムスズ層上に位置する酸化亜鉛層との層間密着性が極めて高く、これにより、樹脂層や樹脂フィルムと透明電極層との良好な密着性が維持され、温水や超音波洗浄に対する耐性が高く、信頼性に優れたものとなる。また、樹脂層や樹脂フィルム上に酸化亜鉛が位置する場合（図２、図４参照）、この酸化亜鉛上に位置する酸化インジウムスズ層がバリア効果を発現するので、樹脂層や樹脂フィルムと透明電極層との良好な密着性が維持され、温水や超音波洗浄に対する耐性が高く、信頼性に優れたものとなる。さらに、本発明の透明電極基材は、３０Ω／□以下の低いシート抵抗値と、波長５４５ｎｍでの光線透過率が９５．０％以上の高い光透過率を具備する。
【００１７】
尚、上記の実施形態は例示であり、本発明の透明電極基材はこれらの実施形態に限定されるものではない。例えば、樹脂層４、１４、２４、３４は、上述のような樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなるものに限定されず、透明導電基材の用途に応じて適宜設定することができる。
上述の本発明の透明電極基材は、例えば、プラズマディスプレイ、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置等の各種表示装置やタッチパネル、太陽電池等に用いることができる。
【実施例】
【００１８】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
基板として、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍのガラス基板（ＮＨテクノガラス社製  ＮＡ３５ガラス）を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板の片側全面に下記組成のブラックマトリックス用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布した。プリベーク後、所定のフォトマスクを介して露光し、過剰に現像した後、ポストベークを行って、線幅１０μｍの樹脂ブラックマトリックスをピッチ６０μｍで形成した。
（ブラックマトリックス用のネガ型感光性樹脂組成物）
・カーボンブラック                                  …    ６１重量部
・感光性樹脂組成物                                  …    ３９重量部
・メトキシブチルアセテート                          …  ３００重量部
【００１９】
尚、上記の感光性樹脂組成物は、下記組成を有するものである。
（感光性樹脂組成物）
・アクリル樹脂                                      …    ３２重量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート          …    ４２重量部
・エピコート１８０Ｓ７０（三菱油化シェル（株）製）  …    １８重量部
・開始剤                                            …      ８重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製  イルガキュア９０７）
【００２０】
次に、下記組成の赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
（赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物）
・赤顔料                                            …    ４．８重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製  クロモフタルレッドＡ２Ｂ）
・黄顔料                                            …    １．２重量部
（ＢＡＳＦ社製  パリオトールイエローＤ１８１９）
・分散剤（アビシア社製ソルパース２４０００          …    ３．０重量部
・モノマー（サートマー社製  ＳＲ３９９）            …    ４．０重量部
・ポリマーＩ                                        …    ５．０重量部
・開始剤                                            …    １．４重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製  イルガキュア９０７）
・開始剤                                            …    ０．６重量部
（２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−
テトラフェニル−１，２′−ビスイミダゾール）
・界面活性剤                                        …    １．０重量部
（日本油脂（株）製  ノニオンＨＳ−２１０）
・溶剤                                              …  ７９．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【００２１】
（緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物）
・緑顔料                                            …    ４．２重量部
（アビシア社製  モナストラルグリーン９Ｙ−Ｃ）
・黄顔料                                            …    １．８重量部
（ＢＡＳＦ社製  パリオトールイエローＤ１８１９）
・分散剤（アビシア社製ソルパース２４０００          …    ３．０重量部
・モノマー（サートマー社製  ＳＲ３９９）            …    ４．０重量部
・ポリマーＩ                                        …    ５．０重量部
・開始剤                                            …    １．４重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製  イルガキュア９０７）
・開始剤                                            …    ０．６重量部
（２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−
テトラフェニル−１，２′−ビスイミダゾール）
・溶剤                                              …  ８０．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【００２２】
（青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物）
・青顔料                                            …    ６．０重量部
（ＢＡＳＦ社製  ヘリオゲンブルーＬ６７００Ｆ）
・顔料誘導体（アビシア社製  ソルスパース１２０００）…    ０．６重量部
・分散剤（アビシア社製ソルパース２４０００          …    ２．４重量部
・モノマー（サートマー社製  ＳＲ３９９）            …    ４．０重量部
・ポリマーＩ                                        …    ５．０重量部
・開始剤                                            …    １．４重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製  イルガキュア９０７）
・開始剤                                            …    ０．６重量部
（２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−
テトラフェニル−１，２′−ビスイミダゾール）
・溶剤                                              …  ８０．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【００２３】
尚、上記のポリマーＩは、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルメタクリレート＝１５．６：３７．０：３０．５：１６．９（モル比）の共重合体１００モル％に対して、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを１６．９モル％付加したものであり、重量平均分子量は４２５００である。
次いで、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックスを覆うように赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、赤色パターン用のフォトマスクを介して、露光、現像して、赤色パターンを形成した。この赤色パターンは、隣り合うブラックマトリックス間に位置するストライプ形状（幅６０μｍ）であった。
その後、緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物を用いて、同様の操作により、緑色パターン、青色パターンを形成した。これにより、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンからなる樹脂着色層を形成した。
【００２４】
次に、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層を覆うように、下記の条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成した。
（酸化インジウムスズ層の形成条件）
・ターゲット材  ：  酸化インジウムスズ
・圧力          ：  ０．４Ｐａ      
・パワー        ：  １．５Ｗ／ｃｍ2 
・雰囲気        ：  Ａｒ＋Ｏ2（Ｏ2分圧  ０．１％）        
・基板温度      ：  １３０℃      
【００２５】
次いで、酸化インジウムスズ層上に下記の条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み７５０Å）を形成し、厚み１５００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
（酸化亜鉛層の形成条件）
・ターゲット材  ：  ＡＧＣＣ社製  ＺＡＯ−Ｓ１ターゲット        
・圧力          ：  ０．４Ｐａ      
・パワー        ：  １．５Ｗ／ｃｍ2 
・雰囲気        ：  Ａｒ＋Ｏ2（Ｏ2分圧  ０．１％）        
・基板温度      ：  １３０℃      
これにより、図１に示されるような透明電極基材を作製した。
【００２６】
［実施例２］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み７５０Å）を形成した。
次いで、酸化亜鉛層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成し、厚み１５００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、図２に示されるような透明電極基材を作製した。
【００２７】
［実施例３］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み３５０Å）を形成した。
次いで、酸化インジウムスズ層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み７５０Å）を形成した。
さらに、酸化亜鉛層上に、上記と同様の条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み３５０Å）を形成し、厚み１４５０Åの３層構造の透明電極層を形成した。
これにより、図３に示されるような透明電極基材を作製した。
【００２８】
［実施例４］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み３５０Å）を形成した。
次いで、酸化亜鉛層上に、実施例１と同じ条件で酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成した。
さらに、酸化インジウムスズ層上に、上記と同様の条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み３５０Å）を形成し、厚み１４５０Åの３層構造の透明電極層を形成した。
これにより、図４に示されるような透明電極基材を作製した。
【００２９】
［実施例５］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成した。
次いで、酸化インジウムスズ層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み４５０Å）を形成し、厚み１２００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３０】
［実施例６］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛（厚み４５０Å）を形成した。
次いで、酸化亜鉛層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成し、厚み１２００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３１】
［実施例７］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成した。
次いで、酸化インジウムスズ層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み９５０Å）を形成し、厚み１７００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３２】
［実施例８］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛（厚み９５０Å）を形成した。
次いで、酸化亜鉛層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成し、厚み１７００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３３】
［比較例１］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み１０００Å）を形成した。
次いで、酸化亜鉛層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み５００Å）を形成し、厚み１５００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３４】
［比較例２］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み１２００Å）を形成した。
次いで、酸化亜鉛層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み３００Å）を形成し、厚み１５００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３５】
［比較例３］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み５００Å）を形成した。
次いで、酸化インジウムスズ層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み１０００Å）を形成し、厚み１５００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３６】
［比較例４］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み３００Å）を形成した。
次いで、酸化インジウムスズ層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み１２００Å）を形成し、厚み１５００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３７】
［比較例５］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み３５０Å）を形成した。
次いで、酸化亜鉛層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成し、厚み１１００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３８】
［比較例６］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成した。
次いで、酸化インジウムスズ層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛（厚み３５０Å）を形成し、厚み１１００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００３９】
［比較例７］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛層（厚み１０５０Å）を形成した。
次いで、酸化亜鉛層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成し、厚み１８００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００４０】
［比較例８］
実施例１と同様にして、樹脂ブラックマトリックスと樹脂着色層からなる樹脂層の形成までを行った。
次に、樹脂層を覆うように、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化インジウムスズ層（厚み７５０Å）を形成した。
次いで、酸化インジウムスズ層上に、実施例１と同じ条件でスパッタリング法により酸化亜鉛（厚み１０５０Å）を形成し、厚み１８００Åの２層構造の透明電極層を形成した。
これにより、透明電極基材を作製した。
【００４１】
［評  価］
作製した透明電極基材について、下記の測定、評価を行い、結果を下記の表１に示した。
（シート抵抗の測定）
透明電極基材の透明電極層側のシート抵抗を、三菱化学（株）製  ロレスタを用いて４端子法により測定した。
（耐温水洗浄性の評価）
透明電極基材に対して温水（６０℃）中で超音波洗浄を１０分間行い、透明電極層の剥がれの有無を観察した。
○  ：  透明電極層の剥がれはなし
×  ：  透明電極層の剥がれが発生
【００４２】
（耐アルカリ性の評価）
透明電極基材を２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液（４０℃）に１０分間浸漬し、その後、エタノールを含浸させた綿棒で５０回擦り、透明電極層の剥がれの有無を観察した。
○  ：  透明電極層の剥がれはなし
×  ：  透明電極層の剥がれが発生
（光透過率）
波長５４５ｎｍでの光線透過率をオリンパス光学工業（株）製  ＯＳＰ−ＳＰ２００を用いて測定した。
【００４３】
【表１】
2009283249.tif 000003
【００４４】
表１に示されるように、本発明の透明電極基材（実施例１〜８）は、温水での超音波洗浄やアルカリに対する耐性が高く、信頼性に優れたものであり、また、３０Ω／□以下の低いシート抵抗値と、波長５４５ｎｍでの光線透過率が９５．０％以上の高い光透過率を有するものであった。
しかし、透明電極層の最表面に位置する酸化インジウムスズ層の厚みが７５０Å未満である透明電極基材（比較例１、２）は、温水での超音波洗浄に対する耐性は良好であるものの、アルカリに対する耐性が悪く、透明電極層に剥がれが生じ信頼性の低いものであった。
また、下層（基板側）に位置する酸化インジウムスズ層の厚みが７５０Å未満である透明電極基材（比較例３、４）は、温水での超音波洗浄やアルカリに対する耐性が悪く、透明電極層に剥がれが生じ信頼性の低いものであった。
【００４５】
また、透明電極層の厚みが１２００Å未満である透明電極基材（比較例５、６）は、温水での超音波洗浄やアルカリに対する耐性は高いものであったが、シート抵抗値が高く実用に供し得ないものであった。
さらに、透明電極層の厚みが１７００Åを超える透明電極基材（比較例７、８）は、温水での超音波洗浄やアルカリに対する耐性が高く、シート抵抗値も３０Ω／□以下であるが、波長５４５ｎｍでの光線透過率が９５．０％未満であり、実用に供し得ないものであった。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
各種表示装置やタッチパネル、太陽電池等の透明電極を必須とする種々の装置、機器の製造において有用である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の透明電極基材の一実施形態を示す部分断面図である。
【図２】本発明の透明電極基材の他の実施形態を示す部分断面図である。
【図３】本発明の透明電極基材の他の実施形態を示す部分断面図である。
【図４】本発明の透明電極基材の他の実施形態を示す部分断面図である。
【図５】本発明の透明電極基材の他の実施形態を示す部分断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１，１１，２１，３１，３１，４１′…透明電極基材
２，１２，２２，３２…基材
３，１３，２３，３３…基板
４３…樹脂フィルム
４，１４，２４，３４…樹脂層
５，１５，２５，３５…樹脂ブラックマトリックス
６，１６，２６，３６…樹脂着色層
７，１７，２７，３７，４７…透明電極層
８，１８，２８，２８′，３８，４８…酸化インジウムスズ層
９，１９，２９，３９，３９′，４９…酸化亜鉛層
【図１】
2009283249.tif 000004
【図２】
2009283249.tif 000005
【図３】
2009283249.tif 000006
【図４】
2009283249.tif 000007
【図５】
2009283249.tif 000008