(57)【要約】【課題】接着剤層の界面から水や酸素等の有害物質の侵入を抑制する構造を提供する。【解決手段】本発明の有機ＥＬ装置は、一対の電極４，７の間に有機発光層６が挟持されてなる複数の発光素子３を有する素子基板１と、素子基板１に対向配置された封止基板２０と、素子基板１と封止基板２０とを接続するための素子基板１と封止基板２０との対向領域の周縁部に沿って枠状に設けられた接着剤層８と、素子基板１の接着剤層８と接する面又は封止基板２０の接着剤層８と接する面に形成され、素子基板１又は封止基板２０上において露出する部位が接着剤層８によって覆われてなる、水分又は酸素を吸着する吸着剤層３７Ｂと、を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極の間に有機発光層が挟持されてなる複数の発光素子を有する素子基板と、
前記素子基板に対向配置された封止基板と、
前記素子基板と前記封止基板とを接続するための前記素子基板と前記封止基板との対向領域の周縁部に沿って枠状に設けられた接着剤層と、
前記素子基板の前記接着剤層と接する面又は前記封止基板の前記接着剤層と接する面に形成され、前記素子基板又は前記封止基板上において露出する部位が前記接着剤層によって覆われてなる、水分又は酸素を吸着する吸着剤層と、を備えていることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
前記吸着剤層はアルカリ金属又はアルカリ土類金属からなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項３】
前記素子基板の前記接着剤層と接する面又は前記封止基板の前記接着剤層と接する面には、凹凸部が形成され、前記凹凸部上に前記吸着剤層が形成され、前記吸着剤層の前記接着剤層と接する面には、前記凹凸部の凹凸形状を反映した凹凸部が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項４】
前記接着剤層が、前記封止基板の前記接着剤層と接する面、及び前記素子基板の前記接着剤層と接する面の双方に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項５】
前記吸着剤層は、蒸着により形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項６】
前記吸着剤層は、前記素子基板と前記封止基板との対向領域の周縁部に沿って閉じた枠状に形成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吸着剤層を備えた有機ＥＬ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報機器の多様化等に伴い、消費電力が少なく軽量化された電子光学装置のニーズが高まっている。このような電気光学装置の一つとして、有機発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、「有機ＥＬ装置」という）が知られている。有機ＥＬ装置は、陽極と陰極との間に発光層を備えた発光素子（有機ＥＬ素子）を有するものが一般的である。また、正孔注入性や電子注入性を向上させるために、陽極と発光層の間に正孔輸送層を配置した構成や、発光層と陰極の間に電子輸送層を配置した構成が提案されている。
【０００３】
このような有機ＥＬ装置にあっては、発光層、正孔輸送層、電子輸送層に用いられる材料は、大気中の酸素や水分等と反応し、劣化し易いものが多い。これらの層が劣化すると発光素子の劣化やダークスポット欠陥の発生、又は陰極が酸化されることにより生じる導電性低下等により、安定した発光特性が得られないだけでなく、発光寿命が短くなってしまう。したがって、このような有機ＥＬ装置においては、水分や酸素等の侵入を防ぐことが課題となっている。
【０００４】
このような問題点を解決するための技術が各種検討されており、例えば特許文献1は、陰極の上にアルカリ土類金属又はアルカリ土類金属の酸化物からなる補水材層を形成する技術を開示している。
【０００５】
特許文献２は、有機発光層以外の部分（接着剤層と周辺隔壁との間）に多孔質無機材料又はアルカリ土類酸化物からなる補水材層を配置する技術を開示している。
【０００６】
特許文献３は、封止基板の素子基板と対向する面に二酸化珪素粒子の凝集体から成る多孔質の水分吸着膜を形成する技術を開示している。
【特許文献１】特開２００７−５０４７号公報
【特許文献２】特開２００７−３５３３１号公報
【特許文献３】特開２００７−４２６１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の有機ＥＬ装置では、陰極上に捕水材層を形成するため、捕水材層に吸着された水分や酸素が陰極側に拡散し、表示品質に影響を及ぼす惧れがある。また、封止基板と接着剤層との界面、又は素子基板と接着剤層との界面からの水分や酸素の浸入を遮断することができないので、捕水材層が早期に劣化してしまう場合がある。
【０００８】
特許文献２の有機ＥＬ装置では、接着剤層と周辺隔壁との間（接着剤層の内側）に補水材層を配置するため、捕水材層の面積分だけ表示領域周辺の額縁面積が大きくなる。特に、捕水材層は捕水材分散液を噴霧して形成するため、位置精度に問題があり、製品の設計上コンパクトにする際に問題が生じる場合がある。
【０００９】
特許文献３の有機ＥＬ装置では、水分吸着膜の形成方法において二酸化珪素粒子をコロイド状態でアルコール系溶媒又はケトン系溶媒に分散させた溶液を封止基板に塗布し加熱する工程を経るため、膜の形成に工数がかかる場合がある。また、封止基板と接着剤層との界面、又は素子基板と接着剤層との界面からの水分や酸素の浸入を遮断することができないので、水分吸着膜が早期に劣化してしまう場合がある。
【００１０】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、接着剤層の界面から水分や酸素の侵入を抑制する構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するため、本発明の有機ＥＬ装置は、一対の電極の間に有機発光層が挟持されてなる複数の発光素子を有する素子基板と、前記素子基板に対向配置された封止基板と、前記素子基板と前記封止基板とを接続するための前記素子基板と前記封止基板との対向領域の周縁部に沿って枠状に設けられた接着剤層と、前記素子基板の前記接着剤層と接する面又は前記封止基板の前記接着剤層と接する面に形成され、前記素子基板又は前記封止基板上において露出する部位が前記接着剤層によって覆われてなる、水分又は酸素を吸着する吸着剤層と、を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、素子基板と接着剤層との界面又は封止基板と接着剤層との界面からの水分や酸素の浸入を遮断することができるので、発光素子の劣化やダークスポットの発生が防止され、製品の信頼度を向上させた有機ＥＬ装置とすることができる。また、吸着剤層が接着剤層の形成領域内に形成されるので、吸着剤層を形成するための領域を新たに設ける必要がなく、製品の設計上コンパクト化を図ることができる。また、接着剤層が吸着剤層の全面を覆っている（すなわち、吸着剤層が外部に露出することがない）ので、吸着剤層が大気中の水分や酸素によって早期に劣化することがなく、信頼性に優れた有機ＥＬ装置が提供される。
【００１２】
本発明においては、前記吸着剤層はアルカリ金属又はアルカリ土類金属からなることが望ましい。
この構成によれば、発光素子の劣化の原因となる水分や酸素を確実に吸着することができる。また、接着剤層と吸着剤層との接着強度を金属やガラス等と同じ程度に確保することができるので、より水分や酸素の浸入の少ない有機ＥＬ装置が提供できる。
【００１３】
本発明においては、前記素子基板の前記接着剤層と接する面又は前記封止基板の前記接着剤層と接する面には、凹凸部が形成され、前記凹凸部上に前記吸着剤層が形成され、前記吸着剤層の前記接着剤層と接する面には、前記凹凸部の凹凸形状を反映した凹凸部が形成されていることが望ましい。
この構成によれば、吸着剤層の表面に凹凸部を形成した分、水分や酸素の浸入経路が長くなるので、より発光素子の劣化を抑え、製品の信頼度を向上させることができる。また、吸着剤層と接着剤層との接触面積が大きくなるので、吸着剤層と接着剤層との密着力が向上する。
【００１４】
本発明においては、前記接着剤層が、前記封止基板の前記接着剤層と接する面、及び前記素子基板の前記接着剤層と接する面の双方に形成されていることが望ましい。
この構成によれば、封止基板と接着剤層との界面と、素子基板と接着剤層との界面との、両方の界面からの水分や酸素等の有害物質の浸入を防止することができる。そのため、製品の信頼度を更に向上させることができる。
【００１５】
本発明においては、前記吸着剤層は、蒸着により形成されていることが望ましい。
この構成によれば、吸着剤層の位置、幅、及び厚さを精度良く形成することができる。
【００１６】
本発明においては、前記接着剤層は、前記素子基板と前記封止基板との対向領域の周縁部に沿って閉じた枠状に形成されていることが望ましい。
このように接着剤層を切れ目なく形成することで、水分や酸素の浸入を確実に防止することができる。
【００１７】
本発明の電子機器は、前述した本発明の有機ＥＬ装置を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、発光素子の劣化を抑え、製品の信頼性を向上させた電子機器が提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００１９】
図１は第１実施形態に係る有機ＥＬ装置の断面図であり、図２（ａ）は図１に示す有機ＥＬ装置の素子基板の平面図であり、図２（ｂ）は封止基板の平面図である。
【００２０】
図１、２に示すように、有機ＥＬ装置Ｓ１は、平面視長細い矩形状の素子基板１と、素子基板１上に設けられた複数の発光素子３と、素子基板１に対向配置され、発光素子３との間に封止空間２を形成しつつ、発光素子３を覆う封止基板２０とを備えている。素子基板１と封止基板２０とは、両基板１，２０の対向領域の周縁部に沿って設けられた矩形枠状の接着剤層８によって接着されている。接着剤層８は、開口部（切れ目）のない閉じた枠状に形成されており、接着剤層８を介して大気中の水分や酸素が封止空間２へ浸入することを防止している。また、素子基板１の表面１Ａであって、封止基板２０の外側には、発光素子３を駆動するための駆動回路３１が集積されている。
【００２１】
発光素子３は、素子基板１の表面１Ａに形成された陽極４と、正孔輸送層５と、有機発光層６と、陰極７とを備えている。発光素子３の陽極４は、前述した駆動回路３１と電気的に接続されている。また、図示しないが、発光素子３は、基板１の長手方向に沿って複数配列されており、この領域を画素領域１０として構成している（図２（ａ）参照）。
【００２２】
有機ＥＬ装置Ｓ１は、発光層６で発光した光を陽極４側から射出する、いわゆるボトムエミッション型であり、素子基板１は、透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、透明なガラス、石英、サファイア、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどの透明な合成樹脂などによって形成されている。特にガラス基板が好適に用いられる。
【００２３】
この有機ＥＬ装置Ｓ１の製造工程は、発光素子３の劣化を防ぐために水分や酸素等の有害物質の無い雰囲気下で行われることを前提とする。例えば真空中、或いは、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気下で行われる。
【００２４】
陽極４は、印加された電圧によって正孔を正孔輸送層５に注入するものであり、ボトムエミッション型である本実施形態では、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：インジウム錫酸化物）などの透明導電膜により形成されている。なお、図示しないが、陽極４上には、二酸化珪素（ＳｉＯ２）等の絶縁性を有する無機物からなる無機隔壁が形成されており、複数の発光素子３を独立させて区分している。
【００２５】
正孔輸送層５は、陽極４の正孔を発光層６へ注入／輸送するためのものである。正孔輸送層５の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の水分散液が好適に用いられる。  
【００２６】
発光層６は、陽極４から正孔輸送層５を経て注入された正孔と、陰極７から注入された電子とを結合して蛍光を発生させるものである。発光層６の形成材料としては、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。
【００２７】
また、発光層６と陰極７との間に電子輸送層を設けてもよい。電子輸送層は、発光層６に電子を注入する役割を果たすものである。電子輸送層を形成する材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体などを用いることができる。
【００２８】
陰極７は、発光層６を覆うように形成されたもので、発光層６へ効率的に電子注入を行うことができる仕事関数の低い金属、例えばアルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）又はカルシウム（Ｃａ）等の金属材料から形成されている。
【００２９】
また、図示しないが、発光素子３の陰極７も駆動回路３１と電気的に接続されている。発光素子３の陽極４及び陰極７には、不図示の制御部より駆動回路３１を介して駆動信号を含む電力が供給される。そして、陽極４と陰極７との間に電流が流れると、発光素子３が発光して透明な素子基板１の外面側に光が射出されることとなる。
【００３０】
ここで、素子基板１の表面１Ａであって、複数の発光素子３が形成された画素領域１０の外側は、接着剤層８を形成するための第１領域４１として構成されている。第１領域４１は、画素領域１０の周囲を取り囲むように枠状に形成されている（図２（ａ）参照）。
【００３１】
一方、封止基板２０は、断面視下向きコの字に形成されており、素子基板１との間で封止空間２を形成している。封止基板２０は、前述した素子基板１の第１領域４１と同様に、接着剤層８が形成される第２領域（形成領域）４２を有している。第２領域４２は、封止基板２０の下端面の周縁に設定されており、第１領域４１と対向している。つまり、第１領域４１と第２領域４２とが接着剤層８を介して貼り合わせられることによって、素子基板１と封止基板２０との間で、発光素子３を封止する封止空間２が形成される。
【００３２】
ここで、第２領域４２上（封止基板２０の下端面）には、吸着剤層３７Ｂが形成されている。この吸着剤層３７Ｂは、封止基板２０と接着剤層８との界面からの水分や酸素等の有害物質の浸入を遮断する層である。なお、吸着剤層３７Ｂは外部からの水分や酸素等を直接吸着するのを防ぐために、第２領域４２より小さい範囲内にて、すなわち吸着剤層３７Ｂの封止基板２０上で露出する部位の全面が接着剤層８に覆われるように形成される。
【００３３】
吸着剤層３７Ｂの形成材料としては、例えばアルカリ金属として知られるリチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）、又はアルカリ土類金属として知られるベリリウム（Ｂｅ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）等が好適に用いられる。
【００３４】
なお、吸着剤層３７Ｂの形成材料としては、接着剤層８の界面において所望の吸着機能を有していれば特に限定されず、例えば、後述する乾燥剤９の形成材料を用いることもできる。しかしながら、乾燥剤９の形成材料では封止基板２０と接着剤層８との接着強度を充分確保し難い場合がある。そこで、前述のアルカリ金属又はアルカリ土類金属を用いることで、金属やガラス等と同じ程度に接着強度を確保できる。
【００３５】
吸着剤層３７Ｂは、蒸着により形成される。蒸着による方法により、吸着剤層３７Ｂを形成する際の位置及び幅、厚さを精度良く形成することができる。また、接着剤層８を形成する際に吸着剤層３７Ｂの位置を基準にすることができるので、形成し易い。
【００３６】
封止基板２０は、外部空間から封止空間２に対して、水分及び酸素等を含む大気が侵入することを遮断するものである。封止基板２０の形成材料としては、所望の封止性能を有していれば特に限定されず、例えばガラスや石英、合成樹脂、あるいは金属など水分透過率の小さい材料を用いることができる。
【００３７】
封止空間２にはゲッター剤と呼ばれる乾燥剤９が設けられている。乾燥剤９は、封止基板２０のうち、素子基板１の表面１Ａと対向する天井面２０Ｂに設けられている。この乾燥剤９により、発光素子３の水分等による劣化が抑制され、良好な封止性能を長期間維持することができる。
【００３８】
乾燥剤９の形成材料としては、封止空間２において所望の乾燥機能（吸湿機能）を有していれば特に限定されないが、例えば、シリカゲル、ゼオライト、活性炭、酸化カルシウム、酸化ゲルマニウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、五酸化リン、塩化カルシウムなどを用いることができる。
【００３９】
接着剤層８は、第１領域及び吸着剤層３７Ｂが形成された第２領域４２の全域に設けられる。接着剤層８の形成材料としては、安定した接着強度を維持することができ、気密性が良好なものであれば特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂材料やエポキシ系樹脂材料等を用いることができる。
【００４０】
以上のように、所定方向を長手方向とする平面視略長方形状に形成された有機ＥＬ装置Ｓ１は、例えば感光体（感光ドラム）に対して光を照射する光書き込みヘッド等に好適に用いることができる。
【００４１】
本実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ１によれば、封止基板２０と接着剤層８との界面からの水や酸素等の有害物質の浸入を遮断することができるので、発光素子の劣化やダークスポットの発生が防止され、製品の信頼度を向上させた有機ＥＬ装置とすることができる。また、吸着剤層が接着剤層の形成領域内に形成されるので、吸着剤層を形成するための領域を新たに設ける必要がなく、製品の設計上コンパクト化を図ることができる。また、接着剤層が吸着剤層の全面を覆っている（すなわち、吸着剤層が外部に露出することがない）ので、吸着剤層が大気中の水分や酸素によって早期に劣化することがなく、信頼性に優れた有機ＥＬ装置が提供される。
【００４２】
（第２実施形態）
図３は、本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ装置Ｓ２の断面図である。なお、第１実施形態と同様の構成については、同一の符合を付し、詳細な説明は省略する。
【００４３】
第１実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ１では、吸着剤層３７Ｂを平坦な面に形成したのに対して、第２実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ２では、封止基板２０の表面に凹凸部２０Ｈに形成し、吸着剤層３８Ｂの表面に、封止基板２０の表面の凹凸形状を反映した凹凸部２０Ｈを形成している点で第１実施形態と相違している。
【００４４】
本実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ２では、第２領域４２上には、吸着剤層３８Ｂが第２領域４２より小さい範囲内にて凹凸形状に形成される。接着剤層８は、第１領域及び吸着剤層３８Ｂが形成された第２領域４２の全域に、すなわち吸着剤層３８Ｂの封止基板２０上で露出する部位の全面を覆うように形成される。
【００４５】
このように、吸着剤層３８Ｂの形状を凹凸形状とした場合、凹部と凸部の段差の分だけ接着剤層８の界面からの水分や酸素の侵入経路が長くなるので、より有機ＥＬ装置の劣化を抑え、製品の信頼度を向上させることができる。また、吸着剤層３８Ｂと接着剤層８との接触面積が大きくなるので、吸着剤層３８Ｂと接着剤層８との密着力が向上する。また、吸着剤層３８Ｂの幅を狭くしても高い吸着効果が得られるので、例えば、第１領域及び第２領域の幅を吸着剤層３８Ｂの幅に合わせて狭くすることで、狭額縁な有機ＥＬ装置Ｓ２を提供することもできる。
【００４６】
（第３実施形態）
図４は、本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬ装置Ｓ３の断面図である。なお、第１実施形態と同様の構成については、同一の符合を付し、詳細な説明は省略する。
【００４７】
第１実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ１では、吸着剤層３７Ｂが第２領域４２上（封止基板２０の下端面）にのみ配置されていたのに対して、第３実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ３は、第１領域４１上（素子基板１の表面１Ａであって画素領域１０の外側）にも吸着剤層３７Ａが配置されている点で第１実施形態と相違している。
【００４８】
本実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ３では、第１領域４１には、吸着剤層３７Ａが第１領域４１より小さい範囲内にて形成され、第２領域４２には、吸着剤層３７Ｂが第２領域４２より小さい範囲内にて形成される。接着剤層８は、吸着剤層３７Ａ、３７Ｂが形成された第１領域４１及び第２領域４２の全域に、すなわち吸着剤層３７Ａの素子基板１上で露出する部位全面、及び吸着剤層３７Ｂの封止基板２０上で露出する部位全面を覆うように形成される。
【００４９】
図５は、第３実施形態の素子基板１の平面図である。ここで、素子基板１の表面１Ａには、発光素子３の陽極４及び陰極７へ駆動回路３１を介して駆動信号を含む電力を供給するための配線３２が設けられている。したがって、素子基板１に吸着剤層３７Ａを形成する際には、ショートを防ぐために配線３２を避けて形成することが望ましい（図５（ａ）参照）。ただし、配線３２上に絶縁膜３３が形成され、ショートの問題が発生しない場合には、該絶縁膜３３上に吸着剤層３７Ａを形成することができる（図５（ｂ）参照）。
【００５０】
このように、吸着剤層３７Ａを第１領域４１上にも形成した場合、第１実施形態の吸着剤層３７Ｂが第２領域４２上にのみ形成されていたのに比べて、封止基板２０と接着剤層８の界面と、素子基板１と接着剤層８の界面との、両方の界面からの水や酸素等の有害物質の浸入を遮断するので、より発光素子の劣化を抑え、製品の信頼度を向上させることができる。
【００５１】
（第４実施形態）
図６は、本発明の第４実施形態に係る有機ＥＬ装置Ｓ４の断面図である。なお、第３実施形態と同様の構成については、同一の符合を付し、詳細な説明は省略する。
【００５２】
第３実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ３では、吸着剤層３７Ｂを平坦な面に形成したのに対して、第４実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ２では、素子基板及び封止基板の表面に凹凸部１Ｈ、２０Ｈを形成し、吸着剤層３８Ａ、３８Ｂの表面に、素子基板１及び封止基板２０の表面の凹凸形状を反映した凹凸部１Ｈ、２０Ｈを形成している点で第３実施形態と相違している。
【００５３】
本実施形態の有機ＥＬ装置Ｓ４では、第１領域４１には、凹凸形状の吸着剤層３８Ａが第１領域４１より小さい範囲内にて形成され、第２領域４２には、凹凸形状の吸着剤層３８Ｂが第２領域４２より小さい範囲内にて形成される。接着剤層８は、吸着剤層３８Ａ、３８Ｂが形成された第１領域４１及び第２領域４２の全域に、すなわち吸着剤層３８Ａの素子基板１上で露出する部位全面、及び吸着剤層３８Ｂの封止基板２０上で露出する部位全面を覆うように形成される。
【００５４】
このように、凹凸形状の吸着剤層３８Ａを第１領域４１上にも形成した場合、凹部と凸部の段差の分だけ、接着剤層８の界面からの水分や酸素の侵入経路を長くなるので、より有機ＥＬ装置の劣化を抑え、製品の信頼度を向上させることができる。また、吸着剤層３８Ａ、３８Ｂと接着剤層８との接触面積が大きくなるので、吸着剤層３８Ａ、３８Ｂと接着剤層８との密着力が向上する。また、吸着剤層３８Ａ、３８Ｂの幅を狭くしても高い吸着効果が得られるので、例えば、第１領域及び第２領域の幅を吸着剤層３８Ａ、３８Ｂの幅に合わせて狭くすることで、狭額縁な有機ＥＬ装置Ｓ４を提供することもできる。
【００５５】
なお、図示はしないが吸着剤層の形状（断面図で接着面に沿った直線形状、又は凹凸形状）と配置位置（封止基板２０側、又は素子基板１側）を便宜組み合わせることによって、製品設計の幅を広げることができる。
【００５６】
（電子機器）
図７は、上述の有機ＥＬ装置を、電子写真方式プリンタのプリンタヘッドとして画像形成装置１０００に適用した場合の一例を示す図である。図７において、有機ＥＬ装置１００の上方にはセルフォック（登録商標）レンズ等の結像光学素子からなる光学系６０が設けられており、光学系６０の上方には感光ドラム（感光体）６１が設けられている。有機ＥＬ装置１００は、光学系６０を介して、感光ドラム６１に対して光を照射する。有機ＥＬ装置１００から射出された光は、光学系６０を通って感光ドラム６１上に集光されるようになっている。有機ＥＬ装置１００は均一な発光が得られるとともに、長寿命化されているため、感光ドラム６１を良好に感光させることができ、その感光ドラム６１を用いて良好に画像形成することができる。
【００５７】
また、上述した例に加えて、上述の有機ＥＬ装置を、携帯電話、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができる。本発明に係る有機ＥＬ装置は、こうした電子機器の表示部としても適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】第１実施形態の有機ＥＬ装置の断面図である。
【図２】図１の素子基板と封止基板の平面図である。
【図３】第２実施形態の有機ＥＬ装置の断面図である。
【図４】第３実施形態の有機ＥＬ装置の断面図である。
【図５】第３実施形態の素子基板の平面図である。
【図６】第４実施形態の有機ＥＬ装置の断面図である。
【図７】電子機器の一例である画像形成装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００５９】
Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，１００…有機ＥＬ装置、１…素子基板、３…発光素子、４…陽極、６…発光層、７…陰極、８…接着剤層、２０…封止基板、１Ｈ，２０Ｈ…凹凸部、３７Ａ，３７Ｂ，３８Ａ，３８Ｂ…吸着剤層、１０００…画像形成装置（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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