(57)【要約】      （修正有）【課題】測定電極が保護されなおかつ測定電極の機能性が変化しない排ガス中の粒子検出用のセンサを提供する。【解決手段】保護層１ａ；１ｂと、櫛状に相互に係合する第１の測定電極３および第２の測定電極４を有する測定電極システム２と、絶縁層５とを有するセンサ素子において、保護層１ａ；１ｂを測定電極３，４の上面と合同に形成および配置する。【選択図】図１ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
排ガス中の粒子を検出するためのセンサ素子であって、
保護層（１ａ；１ｂ）と、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極（３）および第２の測定電極（４）を有する測定電極システム（２）と、絶縁層（５）とを有し、
該保護層（１ａ；１ｂ）は該測定電極（３，４）上に配置されており、該測定電極（３，４）は該絶縁層（５）上に配置されている形式のセンサ素子において、
少なくとも１つの第１の保護層（１ａ）および第２の保護層（１ｂ）を有し、
該第１の保護層（１ａ）は該第１の測定電極（３）の上面（６ａ）に合同に形成および／または配置され、該第２の保護層（１ｂ）は該第２の測定電極（４）の上面（６ｂ）に合同に形成および／または配置され、
該測定電極（３，４）の上面（６ａ，６ｂ）は、該絶縁層（５）上に配置された該測定電極（３，４）の面（８ａ，８ｂ）と対向する面であることを特徴とするセンサ素子。
【請求項２】
担体層（７）を有し、該担体層（７）は前記絶縁層（５）の下方に配置されている、請求項１記載のセンサ素子。
【請求項３】
請求項１または２に記載のセンサ素子の製造方法において、
レーザ構造化手法によって、
・面状の保護層と
・面状の金属含有層または金属層と
・面状の絶縁層
とを含む次のような基体から、すなわち、該保護層は該金属含有層または金属層上に配置され該金属含有層または金属層は該絶縁層上に配置されている基体から材料を除去し、該材料の除去によって、該面状の保護層と該面状の金属含有層または金属層とから、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極（３）および第２の測定電極（４）と少なくとも１つの第１の保護層（１ａ）と第２の保護層（１ｂ）とを有する測定電極システム（２）を形成し、該測定電極システム（２）の形成時に、該第１の保護層（１ａ）を該第１の測定電極（３）の上面（６ａ）と合同に形成および／または配置し、該第２の保護層（１ｂ）を該第２の測定電極（４）の上面（６ｂ）と合同に形成および／または配置することを特徴とする製造方法。
【請求項４】
・絶縁層の表面上に金属含有層または金属層を全面的にプリントし、
・該金属含有層または金属層上に保護層を全面的にプリントし、
・相互に重なってプリントされた該絶縁層と金属含有層または金属層と保護層とを焼結する
ことによって、前記基体を製造する、請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
スクリーン印刷法によって、
・前記絶縁層（５）上に、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極（３）および第２の測定電極（４）を有する測定電極システム（２）をプリントするスクリーン印刷ステップと、
・前記第１の保護層（１ａ）が該第１の測定電極（３）の上面（６ａ）と合同に形成および／または配置され、前記第２の保護層（１ｂ）が該第２の測定電極（４）の上面（６ｂ）と合同に形成および／または配置されるように、該第１の測定電極（３）上に該第１の保護層（１ａ）を、とりわけ正確に位置決めしてプリントし、該第２の測定電極（４）上に該第２の保護層（１ｂ）をとりわけ正確に位置決めしてプリントするスクリーン印刷ステップ
とを行う、請求項３または４記載の製造方法。
【請求項６】
とりわけ焼結された絶縁層（５）上に、微細構造化されたマスクを設け、該マスクの開放領域は、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極（３）および第２の測定電極（４）を有する製造すべき測定電極システム（２）の構造に相応し、
該開放領域に、第１の物理的気相蒸着（"physical vapor deposition", PVD）または第１の化学的気相蒸着（"chemical vapor deposition", CVD）によって金属含有材料または金属材料をコーティングし、
該金属含有材料または金属材料がコーティングされた領域に、該マスクの位置を維持しながら、第２の物理的気相蒸着（"physical vapor deposition", PVD）または第２の化学的気相蒸着（"chemical vapor deposition", CVD）によってセラミック材料をコーティングする、請求項３から５までのいずれか１項記載の製造方法。
【請求項７】
前記絶縁層（５）を予め担体層（７）に全面的にプリントする、請求項５から７までのいずれか１項記載の製造方法。
【請求項８】
前記保護層（１ａ，１ｂ）は、多孔質または高密度のセラミック材料から形成される、請求項１または２に記載のセンサ素子または請求項３から７までのいずれか１項記載の製造方法。
【請求項９】
前記保護層（１ａ，１ｂ）は、０．５μｍ以上〜５０μｍ以下の領域にある層厚さ（ｄＳ）を有することができ、たとえば５μｍ以上〜２５μｍ以下の領域にある層厚さ（ｄＳ）を有し、とりわけ１０μｍ以上〜２０μｍ以下の領域にある層厚さ（ｄＳ）を有する、請求項１または２または８記載のセンサ素子または請求項３から８までのいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１０】
前記保護層（１ａ，１ｂ）または前記セラミック材料は、酸化アルミニウムおよび／または酸化ジルコニウムおよび／または酸化シリコンを含み、有利には酸化アルミニウムおよび／または酸化ジルコニウムを含み、とりわけイットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムを含む、請求項１または２または８または９記載のセンサ素子または請求項３から９までのいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の測定電極（３）と第２の測定電極（４）との間の間隔（ｄＭＭ）は１００μｍ以下であり、たとえば８０μｍ以下であり、とりわけ４０μｍ以下である、請求項１または２または８〜１０のいずれか１項記載のセンサ素子または請求項３から１０までのいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１２】
前記測定電極（３，４）または前記金属層または前記金属含有層または前記金属材料または前記金属含有材料は、たとえば白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、イリジウムおよび／またはロジウム等の金属または金属合金を含むことができ、とりわけ白金を含むことができ、または、貴金属／セラミックサーメットを含むことができ、たとえば白金／セラミックサーメットを含むことができ、とりわけ白金／酸化アルミニウムサーメットを含む、請求項１または２または８〜１１のいずれか１項記載のセンサ素子または請求項３から１１までのいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１３】
前記絶縁層（５）は酸化アルミニウムを含む、請求項１または２または８〜１２のいずれか１項記載のセンサ素子または請求項３から１２までのいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１４】
前記担体層（７）は酸化ジルコニウムおよび／または酸化アルミニウムを含み、とりわけイットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムを含む、請求項１または２または８〜１３のいずれか１項記載のセンサ素子または請求項３から１３までのいずれか１項記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス中の粒子を検出するためのセンサ素子と、このようなセンサ素子の製造方法と、このようなセンサ素子の使用とに関する。
【背景技術】
【０００２】
近い将来、エンジンないしはディーゼルパティキュレートフィルタ（ＤＰＦ）の連続運転後のとりわけ走行運転中の自動車の粒子排出を、法的規制によって監視しなければならなくなる。さらに、高効率で低燃料消費量である僅かな数の再生サイクルで高いシステム確実性を保証し、たとえば菫青石等の廉価なフィルタ材料を使用できるようにするためには、再生制御のためにディーゼルパティキュレートフィルタの堆積量予測を行うことが必要である。
【０００３】
こうするためには、導電性の粒子に対する抵抗性のパティキュレートセンサを使用することができる。現在、次のような抵抗性のパティキュレートセンサが公知である。すなわち、櫛状に相互に係合する２つ以上の測定電極（インターデジタル電極）を含む測定電極システムが絶縁層上に形成されているパティキュレートセンサが公知である。これらの測定電極に電圧が印加されると粒子が付着し、この粒子が測定電極を短絡する。センサ面上の粒子濃度が上昇するほど、閾値に達した後に測定電極間で検出される抵抗は低下する（ないしは、印加される電圧が一定である場合には測定電極間で検出される電流が上昇する）。このような変化する抵抗ないしは電流は、センサ面上の粒子の増加に関連する。センサを再生するためには、組み込まれた加熱装置によってセンサを燃焼洗浄する。すなわち、粒子を除去する。
【０００４】
測定電極をガスによる腐食と機械的損傷とから保護するためには、測定電極システムないしはセンサ面上に保護層を全面的に設ける。しかし、このように全面的に設けられた保護層は測定電極の機能性を変化するのが欠点である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、測定電極が保護されなおかつ測定電極の機能性が変化しない粒子検出用のセンサを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題は、保護層が測定電極の上面と合同に形成および配置されるセンサ素子によって解決される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
請求項１に記載の本発明のセンサ素子は、本発明にしたがって構成および／または配置された保護層によって測定電極がガスによる腐食と機械的損傷とから保護され、測定電極の機能性が妨害されることはないかまたはごく僅かであり、動作原理は変化しないという利点を有する。その根拠は、本発明による保護層は測定電極の上面と合同に形成および配置されることにより、該測定電極の上面は腐食と機械的損傷とから保護され、かつ、測定電極の機能は粒子が堆積しても保証されることである。その理由は、測定電極の側面（エッジ）および該測定電極間のスペースが保護層によってカバーされるからである。
【０００８】
さらに、保護層をこのように設けることによって測定電極システムの領域でプロフィール構造が向上され、このようなプロフィール構造によって、粒子が測定電極システムに堆積するのをより容易にする流動案内が実現され、このことによって本発明のさらなる有用性が実現される。
【０００９】
本発明によるセンサの本発明による製造方法は、とりわけレーザ構造化ないしは物理的気相蒸着（"physical vapor deposition", PVD）または化学的気相蒸着（"chemical vapor deposition", CVD）によって行われ、有利であることが実証されている。というのも、本発明によるセンサ素子の製造が保証されるだけでなく、さらに、測定電極間の間隔が７０μｍを上回る従来のインターデジタル測定電極システムと比較して、測定電極間の間隔が格段に小さい測定電極システムを製造でき、測定電極間の間隔がたとえば２０μｍ以上〜４０μｍ以下である測定電極システムを製造することができるからである。測定電極間の間隔が可能な限り小さいことにより、有利には、センサ素子の感度および測定精度が上昇する。
【００１０】
明細書、図面および特許請求の範囲に、本発明の対象の別の利点および有利な実施形態が記載されている。
【実施例】
【００１１】
以下で図示および説明される図面を使用して、本発明を詳細に説明する。なお、図面は説明のためだけに用いたものであり、本発明を何らかの形で限定ためのものではないことに留意されたい。
【００１２】
図１ａは、ガス中の粒子を検出するための本発明のセンサ素子の概略的な斜視図である。図１ａには、センサ素子が保護層１ａ，１ｂと測定電極システム２と絶縁層５とを有するのが示されており、該測定電極システムは、櫛状に相互に係合する第１の測定電極３と第２の測定電極４とを有し、該保護層１ａ，１ｂは該測定電極３，４の表面上に配置されており、該測定電極３，４は該絶縁層５上に配置されている。図１ａに示されている本発明のセンサ素子は、次の点で公知のセンサ素子と異なる。すなわち、少なくとも第１の保護層１ａおよび第２の保護層１ｂを有し、該第１の保護層１ａは第１の測定電極３の上面６ａと合同に形成および／または配置され、該第２の保護層１ｂは該第２の測定電極４の上面６ｂと合同に形成および／または配置されている点で異なる。
【００１３】
本発明では測定電極３，４の「上面」６ａ，６ｂとは、絶縁層５上に配置された測定電極３，４の面８ａ，８ｂに対向する面を指す。本発明の枠内では「上」、「表面上」および「下」等の概念は、構成部分の相互間の配置を記述するために使用され、センサ素子ないしは構成部分の空間的方向に関して本発明のセンサ素子ないしは方法を制限しない。
【００１４】
測定電極３，４の上面６ａ，６ｂにそれぞれ配置された保護層１ａ，１ｂによって、測定電極システム２は有利には、センサ素子のガスに対向する側の作用によって。本発明による保護層１ａ，１ｂにより、測定電極３，４の側面（エッジ）９ａ，９ｂと該測定電極３，４間のスペース１０は保護層１ａ，１ｂによって被覆されないので、有利には測定電極３，４の機能性を保証することができる。
【００１５】
図１ａに示された実施形態では、センサ素子は絶縁層５および担体層７を有する。ここでは担体層７は絶縁層５の下方に配置されている。前記担体層７は本発明の枠内では、絶縁性の材料からも導電性の材料からも形成することができる。また本発明の枠内では、絶縁層５が絶縁層５としても担体層７としても機能するように該絶縁層５を形成および／または構成することも可能である。
【００１６】
図１ｂは、図１ａに示されたセンサ素子を線Ａ‐Ａ′に沿って切断した概略的な断面図である。
【００１７】
本発明の対象は、ガス中の粒子を検出するためのセンサ素子であって、保護層と、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極および第２の測定電極を有する測定電極システムと、絶縁層とを有し、該保護層は該測定電極上に配置されており、該測定電極は該絶縁層上に配置されているセンサ素子において、少なくとも１つの第１の保護層と第２の保護層とを有し、該第１の保護層は該第１の測定電極の上面と合同に形成および／または配置され、該第２の保護層は該第１の測定電極の上面と合同に形成および／または配置されるセンサ素子に関する。
【００１８】
１つの実施形態では本発明のセンサ素子は、絶縁層の下方に配置された担体層を有する。
【００１９】
本発明のセンサ素子は、本発明の種々の方法によって製造することができる。
【００２０】
本発明の１つの対象は、本発明のセンサ素子の製造方法である。この製造方法ではレーザ構造化手法によって、面状の保護層と面状の金属含有層または金属層と面状の絶縁層とを含む次のような基体から、すなわち、該保護層は該金属含有層または金属層上に配置され該金属含有層または金属層は該絶縁層上に配置されている基体から材料を除去し、該材料の除去によって、該面状の保護層と該面状の金属含有層または金属層とから、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極および第２の測定電極と少なくとも１つの第１の保護層と第２の保護層とを有する測定電極システムを形成し、該測定電極システムの形成時に、該第１の保護層を該第１の測定電極の上面と合同に形成および／または配置し、該第２の保護層を該第２の測定電極の上面と合同に形成および／または配置する。
【００２１】
そのための基体を製造するためにはたとえば、絶縁層の表面上に金属含有層または金属層を全面的にプリントし、該金属含有層または金属層上に保護層を全面的にプリントし、相互に積層してプリントされたこれらの層を焼結する。前記絶縁層は予め、すなわち金属含有層または金属層と保護層とをプリントする前に、担体層に全面にわたってプリントすることができる。換言すると、基体ないしはセンサ素子が担体層を有する場合には、担体層上に絶縁層を全面的にプリントし、該絶縁層上に金属含有層または金属層を全面的にプリントし、該金属含有層または金属層上に保護層を全面的にプリントし、相互に積層してプリントされたこれらの層を焼結することによって基体を製造することができる。
【００２２】
有利には、レーザ構造化手法によって保護層および該保護層の下方にある金属層または金属含有層を１つの作業工程で一緒に処理することができる。
【００２３】
本発明はさらに、スクリーン印刷法によって次の複数のスクリーン印刷ステップによって本発明のセンサ素子を製造する製造方法にも関する：
・絶縁層上に、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極および第２の測定電極を有する測定電極システムをプリントするステップ。
・第１の保護層が前記第１の測定電極の上面と合同に形成および／または配置され、第２の保護層が前記第２の測定電極の上面と合同に形成および／または配置されるように、該第１の測定電極上に該第１の保護層を、とりわけ正確に位置決めしてプリントし、該第２の測定電極上に該第２の保護層をとりわけ正確に位置決めしてプリントするステップ。
【００２４】
前記絶縁層は予め、すなわち前記測定電極システムと保護層とをプリントする前に、担体層に全面にわたってプリントすることができる。換言すると、センサ素子が担体層を有する場合には本発明では、スクリーン印刷法によって次の複数のスクリーン印刷ステップによって、センサ素子を製造することができる：
・担体層上に絶縁層を、とりわけ全面的にプリントするステップ。
・前記絶縁層上に、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極および第２の測定電極を有する測定電極システムをプリントするステップ。ここでは第１の測定電極および第２の測定電極は、金属含有材料または金属材料から成る。
・第１の保護層が前記第１の測定電極の上面に合同に形成および／または配置され、第２の保護層が前記第２の測定電極の上面に合同に形成および／または配置されるように、該第１の測定電極上に該第１の保護層をとりわけ正確に位置決めしてプリントし、該第２の測定電極上に該第２の保護層をとりわけ正確に位置決めしてプリントするステップ。
【００２５】
本発明の製造方法で使用するためには、たとえば固体レーザまたはエキシマレーザ、たとえばネオジムＹＡＧレーザまたはダイオードレーザまたはファイバレーザが適している。目的に適っているのは、レーザの焦点径は１μｍ以上〜７０μｍ以下の領域内にあることである。
【００２６】
本発明はさらに、本発明のセンサ素子の次のような製造方法にも関する。この製造方法では、とりわけ焼結された絶縁層上に、微細構造化されたマスクを設け、該マスクの開放領域は、櫛状に相互に係合する少なくとも１つの第１の測定電極および第２の測定電極を有する製造すべき測定電極システムの構造に相応し、該開放領域に、第１の物理的気相蒸着（"physical vapor deposition", PVD）または第１の化学的気相蒸着（"chemical vapor deposition", CVD）によって金属含有材料または金属材料をコーティングし、該金属含有材料または金属材料がコーティングされた領域に、該マスクの位置を維持しながら、第２の物理的気相蒸着（"physical vapor deposition", PVD）または第２の化学的気相蒸着（"chemical vapor deposition", CVD）によってセラミック材料をコーティングする。
【００２７】
前記開放領域の基本面上に均質な層が得られるように、該開放領域に金属含有材料または金属材料をコーティングするのが目的に適っている。ここでは、開放領域の容量は金属含有材料または金属材料によって完全に充填されないのが有利である。このようにして、セラミック材料ひいてはこれによって得られる保護層を第２の物理的気相蒸着（"physical vapor deposition", PVD）ないしは第２の化学的気相蒸着（"chemical vapor deposition", CVD）で、マスクの位置を維持しながら簡単に設けることができる。
【００２８】
本発明のこの製造方法の枠内でも、絶縁層を予め、すなわち場合によっては、焼結前かつマスク適用前および第１の物理的気相蒸着または第２の物理的気相蒸着または第１の化学的気相蒸着または第２の化学的気相蒸着の前に、担体層に全面的に設け、とりわけプリントすることができる。
【００２９】
本発明の枠内では、保護層を多孔質のセラミック材料から形成するか、または高密度のセラミック材料から形成することができる。保護層は本発明の枠内では、０．５μｍ以上〜５０μｍ以下の領域にある層厚さ（ｄＳ）を有することができ、たとえば５μｍ以上〜２５μｍ以下の領域にある層厚さ（ｄＳ）を有し、とりわけ１０μｍ以上〜２０μｍ以下の領域にある層厚さ（ｄＳ）を有する。本発明の枠内において有利には、保護層またはセラミック層は酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムおよび／または酸化シリコンを含み、有利には酸化アルミニウムおよび／または酸化ジルコニウムを含み、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムを含む。とりわけ保護層は、酸化アルミニウムおよび／または酸化ジルコニウムおよび／または酸化シリコンから形成することができ、有利には酸化アルミニウムおよび／または酸化ジルコニウムから形成することができ、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムから形成する。セラミック材料はとりわけ、酸化アルミニウムおよび／または酸化ジルコニウムおよび／または酸化シリコンから形成することができ、有利には酸化アルミニウムおよび／または酸化ジルコニウムから形成することができ、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムから形成する。
【００３０】
本発明の枠内では、第１の測定電極と第２の測定電極との間の間隔（ｄＭＭ）は１００μｍ以下とすることができ、たとえば８０μｍ以下または７０μｍ以下であり、とりわけ４０μｍ以下である。たとえば、第１の測定電極と第２の測定電極との間の間隔（ｄＭＭ）は１５μｍ以上〜５０μｍ以下の領域内にし、とりわけ２０μｍ以上〜４０μｍ以下の領域内にすることができる。測定電極および／または金属層または金属含有層は本発明の枠内では、１μｍ以上〜３０μｍ以下の領域内の厚さ（ｄＭ）を有することができ、たとえば５μｍ以上〜２０μｍ以下の領域内の厚さ（ｄＭ）を有し、とりわけ８μｍ以上〜１８μｍ以下の領域内の厚さ（ｄＭ）を有する。
【００３１】
本発明の枠内では測定電極および／または金属層または金属含有層または金属材料または金属含有材料は、たとえば白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、イリジウムおよび／またはロジウム等の金属または金属合金を含むことができ、とりわけ白金を含むことができ、または、貴金属／セラミックサーメットを含むことができ、たとえば白金／セラミックサーメットを含むことができ、とりわけ白金／酸化アルミニウムサーメットを含むことができる。とりわけ測定電極および／または金属層または金属含有層は、たとえば白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、イリジウムおよび／またはロジウム等の金属または金属合金から形成することができ、とりわけ白金から形成することができ、または、貴金属／セラミックサーメットから形成することができ、たとえば白金／セラミックサーメットから形成することができ、とりわけ白金／酸化アルミニウムサーメットから形成することができる。前記金属材料または金属含有材料はとりわけ、たとえば白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、イリジウムおよび／またはロジウム等の金属または金属合金から形成することができ、とりわけ白金から形成することができ、または、貴金属／セラミックサーメットから形成することができ、たとえば白金／セラミックサーメットから形成することができ、とりわけ白金／酸化アルミニウムサーメットから形成することができる。有利には、前記測定電極または金属含有層または金属層は貴金属／セラミックサーメットから形成され、たとえば白金／セラミックサーメットから形成され、とりわけ白金／酸化アルミニウムサーメットから形成されるか、ないしは、前記金属材料または金属含有材料は貴金属／セラミックサーメットから形成され、たとえば白金／セラミックサーメットから形成され、とりわけ白金／酸化アルミニウムサーメットから形成される。
【００３２】
有利には絶縁層は、本発明の枠内では酸化アルミニウムを含む。たとえば、絶縁層を酸化アルミニウムから形成することができる。
【００３３】
有利には、担体層は本発明の枠内では酸化ジルコニウムを含み、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムおよび／または酸化アルミニウムを含む。たとえば、担体層を酸化ジルコニウムから形成することができ、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムおよび／または酸化アルミニウムから形成することができる。
【００３４】
本発明はまた、本発明のセンサ素子を工場機器において排ガス検査のために使用するか、または測定装置において空気品質の監視に使用するか、またはすす粒子センサで使用し、とりわけ内燃機関の「オンボード診断」（ＯＢＤ）および／または運転の監視のためのすす粒子センサで使用するか、または燃焼設備において、たとえばオイル加熱器および／またはオーブンにおいて使用し、かつ／または、パティキュレートフィルタの機能の監視および／またはパティキュレートフィルタの堆積状態の監視および／または化学的な製造工程および／または排気設備および／または排気後処理設備の監視に使用する方法にも関する。前記内燃機関はたとえばディーゼルエンジンであり、前記パティキュレートフィルタはたとえばディーゼルパティキュレートフィルタ（ＤＰＦ）である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１ａ】本発明によるセンサ素子の概略的な斜視図である。
【図１ｂ】図１ａに示されたセンサ素子を線Ａ‐Ａ′に沿って切断した概略的な断面図である。
【符号の説明】
【００３６】
１ａ，１ｂ  保護層
２          測定電極システム
３，４      測定電極
５          絶縁層
７          担体層
【図１ａ】
2009085959.tif 000003
【図１ｂ】
2009085959.tif 000004