(57)【要約】【課題】モアレの発生がなく、光透過性及び電磁波シールド性に優れる光透過性電磁波シールド材を提供する。【解決手段】透明基板１１０と、前記透明基板１１０上に設けられた電磁波シールド層１２０とを有する光透過性電磁波シールド材であって、  前記電磁波シールド層１２０が海島構造の海領域の構造を有し、電磁波シールド層１２０で囲まれた開口部からなる島領域１２１の形状が相互に異なっていることを特徴とする光透過性電磁波シールド材。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、前記透明基板上に設けられた電磁波シールド層とを有する光透過性電磁波シールド材であって、
前記電磁波シールド層の平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なることを特徴とする光透過性電磁波シールド材。
【請求項２】
前記島領域が不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有する請求項１に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項３】
前記島領域の平均幅が、５〜２００μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項４】
前記海領域の平均幅が、５〜２００μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項５】
前記海領域の厚さが、０．１〜２０μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項６】
前記電磁波シールド層の開口率が４０〜９５％であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項７】
前記電磁波シールド層は、ＦＭスクリーニングにより得られる画像データに基づき作製されたものであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項８】
前記電磁波シールド層が、銀、銅及びアルミニウムよりなる群から選択される少なくとも一種を含む金属からなることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材を用いたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１０】
請求項９に記載のディスプレイ用光学フィルタを画像表示ガラス板の表面に貼り合わせたことを特徴とするディスプレイ。
【請求項１１】
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板上に金属膜を形成した後、前記金属膜上の前記海領域に対応する部分にエッチング保護層を形成する工程（Ａ）、
前記エッチング保護層が形成されずに露出している金属膜をエッチングする工程（Ｂ）、及び
前記エッチング保護層を除去する工程（Ｃ）、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項１２】
前記エッチング保護層が、前記金属膜上にフォトレジスト膜を作製した後、前記フォトレジスト膜をＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に露光及び現像することにより作製されたものであることを特徴とする請求項１１に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項１３】
前記画像データを構成するドットが、一辺の長さが２〜３０μｍの四角形であることを特徴とする請求項１２に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項１４】
前記画像データの全面積に対するドットの総面積が２０〜６０％であることを特徴とする請求項１２又は１３のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項１５】
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを印刷することにより、透明基板の前記島領域に対応する部分上にマスク層を形成する工程（Ａ）と、
前記マスク層を有する透明基板上に、前記溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層を形成する工程（Ｂ）と、
前記溶剤により、前記マスク層及び前記マスク層上の導電材料層を除去することにより、前記電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）と、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項１６】
前記工程（Ａ）における印刷が、凹部のパターンが前記島領域に対応している凹板、又は開口部のパターンが前記島領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて行われる請求項１５に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項１７】
前記パターンが、ＦＭスクリーニングにより得られた画像データに基づいて形成されたものである請求項１６に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項１８】
前記画像データを構成するドットが、一辺の長さが２〜３０μｍの四角形であることを特徴とする請求項１７に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項１９】
前記画像データの全面積に対するドットの総面積が２０〜６０％であることを特徴とする請求項１７又は１８のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項２０】
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に無電解めっき触媒層を介して形成すされた光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板上に無電解めっき触媒層を作製する工程（Ａ）と、
合成樹脂を含む印刷インクを印刷することにより、前記無電解めっき触媒層の前記島領域に対応する部分上に、めっき保護層を形成する工程（Ｂ）と、
前記めっき保護層が形成されずに露出している無電解めっき触媒層上に、無電解めっきすることにより電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）と、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２１】
前記工程（Ｂ）における印刷が、凹部のパターンが前記島領域に対応している凹板、又は開口部のパターンが前記島領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて行われる請求項２０に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２２】
前記パターンが、ＦＭスクリーニングにより得られた画像データに基づいて形成されたものである請求項２１に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２３】
前記画像データを構成するドットが、一辺の長さが２〜３０μｍの四角形であることを特徴とする請求項２２に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項２４】
前記画像データの全面積に対するドットの総面積が２０〜６０％であることを特徴とする請求項２２又は２３のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項２５】
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
無電解めっき触媒インクを印刷することにより、透明基板の前記海領域に対応する部分上に、無電解めっき触媒層を形成する工程（Ａ）と、
前記無電解めっき触媒層上に、無電解めっきすることにより、電磁波シールド層を形成する工程（Ｂ）と、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２６】
前記工程（Ａ）における印刷が、凹部のパターンが前記海領域に対応している凹板、又は開口部のパターンが前記海領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて行われる請求項２５に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２７】
前記パターンが、ＦＭスクリーニングにより得られた画像データに基づいて形成されたものである請求項２６に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項２８】
前記画像データを構成するドットが、一辺の長さが３０〜２μｍの四角形であることを特徴とする請求項２７に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項２９】
前記画像データの全面積に対するドットの総面積が６０〜２０％であることを特徴とする請求項２７又は２９のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項３０】
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成する光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板の前記海領域に対応する部分上に、導電性粒子及びバインダ樹脂を含む導電性インクを印刷することにより、電磁波シールド層を形成する工程、
を含むことを特徴とする光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項３１】
前記工程における印刷が、凹部のパターンが前記海領域に対応している凹板、又は開口部のパターンが前記海領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて行われる請求項３２に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項３２】
前記パターンが、ＦＭスクリーニングにより得られた画像データに基づいて形成されたものである請求項３１に記載の光透過性電磁波シールド材の製造方法。
【請求項３３】
前記画像データを構成するドットが、一辺の長さが３０〜２μｍの四角形であることを特徴とする請求項３２に記載の光透過性電磁波シールド材。
【請求項３４】
前記画像データの全面積に対するドットの総面積が６０〜２０％であることを特徴とする請求項３２又は３３のいずれか１項に記載の光透過性電磁波シールド材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓に用いられ得る貼着用シート等として有用な光透過性電磁波シールド材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にともない、これらの機器から発生する電磁波によりもたらされる人体への影響が懸念されている。また、携帯電話等の電磁波により精密機器の誤作動などを起こす場合もあり、電磁波は問題視されている。
【０００３】
そこで、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フィルタとして、電磁波シールド性および光透過性を有する光透過性電磁波シールド材が開発され、実用に供されている。このような光透過性電磁波シールド材はまた電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。
【０００４】
この光透過性電磁波シールド材では、光透過性と電磁波シールド性を両立させることが必要である。そのために、光透過性電磁波シールド材には、例えば、透明基板の一方の面に、金属線又は導電性繊維を網状にした導電性メッシュからなる電磁波シールド層が設けられたものが使用される。この導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、開口部によって光の透過が確保される。この他にも、透明基板上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けることにより、透明基板上に導電性メッシュからなる電磁波シールド層を設けられた光透過性電磁波シールド材なども使用されている。
【０００５】
このように電磁波シールド層において、優れた光透過性と電磁波シールド性を両立させるには、導電性メッシュにおいて線幅を極めて細くし、非常に微細なパターンとする必要がある。しかしながら、上記した従来の光透過性電磁波シールド材を発光パネル上に配置すると、発光パネルにおける画素ピッチと導電性メッシュとの周期的なパターンが重ね合わさることにより、モアレ（干渉縞）が発生し、この現象によって画像が非常に見難いものとなる。
【０００６】
したがって、モアレの発生を減少するために、特許文献１では、導電性メッシュとして、線径１〜２００μｍ、開口率３０〜９９．９％の金属繊維よりなるものを用いた光透過性電磁波シールド材が開示されている。また、特許文献２では、メッシュを構成する線の幅が３〜１８μｍであり、かつ、メッシュを構成する線の交点における交点太り率が２．０以下である導電性メッシュを用いた光透過性電磁波シールド材が開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−０７４６８４号公報
【特許文献２】特開２００４−２２１５６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述の通り、光透過性電磁波シールド材におけるモアレの発生を減少させるために、従来では導電性メッシュにおける線径や間隔、網目形状などを調整する手段などが用いられている。しかしながら、格子状など一定の周期を有する導電性メッシュでは、モアレ発生の減少には限界があり、十分にモアレ発生を抑制することができなかった。そのため、発光パネルにおける画素ピッチに対して導電性メッシュのパターンを決定する、発光パネルと導電性メッシュとの重ねる角度を調整するなどの手段を用いてモアレが可能な限り見えないように調整する必要が生じ、生産性の低下を招くなどの問題もあった。
【０００９】
そこで、本発明は、モアレの発生がなく、光透過性及び電磁波シールド性に優れる光透過性電磁波シールド材を提供することを目的とする。
【００１０】
また、本発明は、前記光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明では、電磁波シールド層の形状を海島構造とし、光の透過を確保するための開口部を不規則に配置することによって、上記課題を解決できることを見出した。
【００１２】
すなわち、本発明は、透明基板と、前記透明基板上に設けられた電磁波シールド層とを有する光透過性電磁波シールド材であって、
前記電磁波シールド層の平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なることを特徴とする光透過性電磁波シールド材により上記課題を解決する。
【００１３】
本発明の光透過性電磁波シールド材の好ましい態様を以下に列記する。
【００１４】
（１）前記島領域が不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有する。
（２）前記島領域の平均幅が、５〜２００μｍである。
（３）前記海領域の平均幅が、５〜２００μｍである。
（４）前記海領域の厚さが、０．１〜４０μｍである。
（５）前記電磁波シールド層の開口率が４０〜９５％である。
（６）前記電磁波シールド層は、ＦＭスクリーニングにより得られる画像データに基づき作製されたものである。
（７）前記電磁波シールド層が、銀、銅及びアルミニウムよりなる群から選択される少なくとも一種を含む金属からなる。
（８）上記光透過性電磁波シールド材を用いたディスプレイ用光学フィルタ。
（９）上記ディスプレイ用光学フィルタを画像表示ガラス板の表面に貼り合わせたディスプレイ。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光透過性電磁波シールド材は、電磁波シールド層が海島構造を有する。このように電磁波シールド層が不規則なパターンを有することにより、電磁波シールド性及び光透過性に優れ、さらにはモアレの発生頻度が大幅に減少している。したがって前記光透過性電磁波シールド材は、発光パネルにおける画素ピッチなどを考慮せずに作製することができ、さらには設置対象の筐体に対して容易に組み込むことができるため、生産性にも優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
まず、本発明の光透過性電磁波シールド材を図１を用いて説明する。図１（Ａ）は本発明の光透過性電磁波シールド材の断面図であり、図１（Ｂ）は前記光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド層が有する海島構造の凹凸形状の平面図である。
【００１７】
本発明の光透過性電磁波シールド材は、図１（Ａ）に示すように、透明基板１１０と、前記透明基板１１０上に設けられた電磁波シールド層１２０とを有する。さらに、前記電磁波シールド層１２０は、図１（Ｂ）に示すように、平面視形状が海島構造を示し、前記海島構造における海領域に電磁波シールド層１２０が形成されており、多数の島領域には開口部１２１が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる構造を有する。
【００１８】
このように本発明の光透過性電磁波シールド材は、電磁波シールド層が海島構造の海領域に形成され、島領域に形成された開口部の形状が相互に異なっている周期性を持たないパターンを有する。これにより、発光パネルにおける画素ピッチとの光の干渉で生じるモアレの発生を高く抑制することができる。さらに、海領域によって高い電磁波シールド性が得られるとともに、開口部からなる島領域によって高い光透過性を確保することができる。したがって、本発明の光透過性電磁波シールド材は、モアレの発生がなく、優れた光透過性及び電磁波シールド性を有する。
【００１９】
（電磁波シールド層）
前記島領域は、すなわち電磁波シールド層における開口部は、不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有するのが好ましい。これにより前記海領域に形成される電磁波シールド層も不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有することになり、海領域と島領域とがランダムに折れ曲がって入り組んだ海島構造とすることができる。したがって、一定の周期を有しない電磁波シールド層とすることができ、モアレの発生をより高く抑制することができる。
【００２０】
また、前記開口部を形成する島領域は、海領域において独立して存在していてもよいが、図１（Ｂ）に示すように複数の島領域が相互に結合して連続的に繋がっていてもよい。
【００２１】
前記海島構造における島領域の平均幅、すなわち開口部の平均幅は、５〜２００μｍ、特に５０〜２００μｍとするのが好ましい。これにより十分な光透過性を有し、視認性に優れる電磁波シールド層とすることができる。
【００２２】
前記海島構造における海領域の平均幅、すなわち電磁波シールド層の平均幅は５〜２００μｍ、特に５〜５０μｍとするのが好ましい。これにより、十分な電磁波シールド性を有する電磁波シールド層とすることができる。
【００２３】
なお、本発明において、前記海領域の平均幅及び前記島領域の平均幅は、光透過性電磁波シールド材における電磁波シールド層を電子顕微鏡（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観察し、前記海領域又は前記島領域の幅を任意に少なくとも１００箇所測定し、その平均値とする。
【００２４】
前記海領域の厚さ、すなわち電磁波シールド層の厚さは、０．１〜２０μｍ、特に１〜８μｍとするのが好ましい。これにより優れた電磁波シールド性を確保することができる。
【００２５】
前記電磁波シールド層の開口率は、十分な電磁波シールド性及び光透過性を確保するためには、４０〜９５％、特に５０〜６０％とするのがよい。なお、電磁波シールド層の開口率とは、当該電磁波シールド層の投影面積における開口部が占める面積割合を言う。
【００２６】
上述した構造を有する電磁波シールド層は、好ましくはＦＭ（Ｆｒｅｇｕｅｎｃｙ  Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ；周波数変調）スクリーンニングにより得られたＦＭスクリーンからなる画像データに基づき作製されたものである。ＦＭスクリーンは、濃淡階調表現として、ランダムに配置されたドットの個数を用いたものである。前記ＦＭスクリーンでは、複数個のドットが集合体となるようにＦＭスクリーンプログラムを用いたＦＭスクリーンニングにより濃淡階調度を調整することができ、図１（Ｂ）に示すような海島構造を容易に形成することができる。
【００２７】
なお、電磁波シールド層における島領域及び海領域の平均幅は、ＦＭスクリーンにおけるドットの大きさ及び個数により調整することができる。
【００２８】
電磁波シールド層は、優れた電磁波シールド性を得るために導電性を有する必要があるため、導電性材料からなるのが好ましい。前記導電性材料としては、従来の光透過性電磁波シールド層における電磁波シールド層に用いられているものを用いることができる。例えば、金属の他、バインダ樹脂中に導電性粒子が分散されたものなどが挙げられる。
【００２９】
前記導電性材料としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルなどの金属からなるものが挙げられる。これらの金属なかでも、ＦＭスクリーンによって電磁波シールド層を容易に形成でき、高い電磁波シールド性を確保できることから、銀、銅及びアルミニウムよりなる群から選択される少なくとも一種を含む金属を用いるのが特に好ましい。
【００３０】
また、導電性材料としてバインダ樹脂中に導電性粒子が分散されたものを用いることもできる。前記導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００３１】
前記バインダ樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００３２】
（金属めっき層）
本発明の光透過性電磁波シールド材では、電磁波シールド層をさらに低い抵抗値にして電磁波シールド性を向上させたい場合は、電磁波シールド層上にさらに金属めっき層を有するのが好ましい。
【００３３】
金属めっき層は、公知の電解めっき法、無電解めっき法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００３４】
（黒化処理層）
また、電磁波シールド層には防眩性能を付与させても良い。そのため、本発明では、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層に黒化処理を行うことにより、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層上に黒化処理層を設けても良い。前記黒化処理は、酸化処理、硫化処理、クロム合金等の黒色メッキ、又は黒もしくは暗色系のインクの塗布等により行うことができる。
【００３５】
黒化処理層の厚さは、特に制限されないが、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍとするのがよい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、光の防眩効果が充分でない恐れがあり、１μｍを超えると、斜視した際の見かけ上の開口率が低下する恐れがある。
【００３６】
（透明基板）
上述した海島構造を有する電磁波シールド層が形成される透明基板としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。
【００３７】
透明基板の厚さは、光透過性電磁波シールド材の用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００３８】
（光学フィルタ）
本発明の光透過性電磁波シールド材は用途に合わせてさらなる機能層を積層することによりディスプレイ用光学フィルタとすることができる。前記機能層としては、例えば、近赤外線吸収層、ハードコート層、反射防止層及び色調調整層などが挙げられる。ディスプレイ用光学フィルタにおけるこれらの機能層の積層順序は、用途に合わせて決定すればよい。
【００３９】
また、前記ディスプレイ用光学フィルタは、電子ディスプレイに接着するための透明粘着剤層を有していてもよい。
【００４０】
なお、上述した近赤外線吸収層、ハードコート層、反射防止層、色調調整層及び透明粘着剤層については、従来公知のディスプレイ用光学フィルタに用いられているものと同様であるためここでは詳細な説明を省略する。
【００４１】
前記ディスプレイ用光学フィルタは、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。ディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【００４２】
本発明の光透過性電磁波シールド材は、以下の方法を用いて上述した海島構造を有する電磁波シールド層を透明基板上に形成することにより製造することができる。
【００４３】
（第一の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として、フォトレジスト法を用いた方法を図２を参照しながら説明する。具体的には；
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板２１０上に金属膜２２２を形成した後、前記金属膜２２２上の前記海領域に対応する部分にエッチング保護層２３０を形成する工程（Ａ）、
前記エッチング保護層２３０が形成されずに露出している金属膜２２２をエッチングする工程（Ｂ）、及び
前記エッチング保護層２３０を除去する工程（Ｃ）、
を含む方法を用いて光透過性電磁波シールド材を製造することができる。
【００４４】
工程（Ａ）において、透明基板上に金属膜を形成するには、特に制限されないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法、電解めっき又は無電解めっきなどの液相製膜法などを用いて行うことができる。
【００４５】
なお、透明基板については、光透過性電磁波シールド材において上述したものが用いられる。また、金属膜を構成する金属についても、光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド層において上述したものが用いられる。金属膜の厚さは、得られる電磁波シールド層の厚さを考慮して決定すればよい。
【００４６】
工程（Ａ）において、電磁波シールド層からなる海領域に対応する部分にエッチング保護層を形成する。これにより、図２に示すように、金属膜上の電磁波シールド層における開口部からなる島領域に対応する部分には、エッチング保護層が形成されずに、開口部２３１が形成される。このようなエッチング保護層としては、（ｉ）エッチング液に対して耐性を有するインクを金属膜上に特定のパターンに印刷することにより形成された層、（ｉｉ）光硬化性樹脂を金属膜上に塗布して形成されたフォトレジスト膜を特定のパターンに露光及び現像することにより形成された層などを用いることができる。なかでも、微細なパターンを精度良く形成できることから、後者の（ｉｉ）の層を用いるのが好ましい。
【００４７】
前記光硬化性樹脂としては、従来の感光性レジストがある。感光性レジストとしては、ネガ型が使用され、露光部が硬化し、非露光部は硬化しないので、非露光部は溶剤等の現像液で除去することにより現像される。このような感光性レジストは、一般に、ポリ桂皮酸ビニル（溶剤現像）、環化イソプレンとビスアジド（溶剤現像）、ポリシンナミリデンアセテート（溶剤現像）、ジアリルフタレートのポリマー（溶剤現像）、環化ポリブタジエン系（溶剤現像）、アクリル系（例、アクリロイル基を有するモノマー、オリゴマー）等がある。アクリル系は、バインダ（例、ポリ（ＭＭＡ−ＨＥＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリアセタール）と、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性二重結合を有する単官能或いは多官能性モノマー、オリゴマー、ポリマー（例、アクリル化共重合体）に、光重合開始剤が添加された組成物が使用される。或いは、エチレン性二重結合等の光反応性基を有する水溶性又はアルカリ可溶性ポリマーに、上記モノマー等を加えて、光照射により不溶性にすることができる組成物も挙げることができる。
【００４８】
前記光硬化性樹脂は、塗布で形成する場合は一般に有機溶剤に溶解して使用し、透明基板上に貼り付ける場合はシート状のものを使用する。
【００４９】
前記フォトレジスト膜の厚さは０．１〜２０μｍ、特に０．５〜５μｍとすることが好ましい。０．１μｍより薄いと硬化性が劣り、２０μｍより厚いと細線が得られ難い。
【００５０】
上記の通りにして作製したフォトレジスト膜には、露光及び現像することにより、電磁波シールド層の開口部からなる島領域に対応する部分に、すなわち、電磁波シールド層の開口部からなる島領域と平面視形状及び位置が同一の開口部が形成される。これにより、金属膜上の電磁波シールド層からなる海領域に対応する部分に、すなわち電磁波シールド層からなる海領域と平面視形状及び位置が同一のめっき保護層を形成される。
【００５１】
例えば、ネガ型の感光性レジストを用いてフォトレジスト膜を金属膜上に作製した場合、前記フォトレジスト膜を、上述した電磁波シールド層の海島構造における海領域に対応する部分を露光部とし、前記島領域に対応する部分を非露光部として露光した後、非露光部のフォトレジスト膜を除去する方法などが用いられる。
【００５２】
電磁波シールド層における海島構造については上述した通りであるが、電磁波シールド層の開口部からなる島領域の形状は、不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有するのが好ましいことから、エッチング保護層における開口部の形状も不規則に折れ曲がった及び／又は分岐した形状を有するのが好ましい。
【００５３】
したがって、このような特定のパターンを有する開口部が形成されたエッチング保護層を作製するには、金属膜上に形成したフォトレジスト膜をＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に露光及び現像することにより作製するのが好ましい。このようにＦＭスクリーンからなる画像データを用いることにより図１（Ｂ）に示す海島構造を有する電磁波シールド層を容易且つ高精度で形成することができる。
【００５４】
フォトレジスト膜への露光は、例えば、コンピューターによりＦＭスクリーニングプログラム用いて周波数変調されたＦＭスクリーンからなる画像データに基づき、レーザー光源などでフォトレジスト膜に画像様に直接露光する手段などを用いて行われるのが好ましい。また、ＦＭスクリーンからなる画像データに基づき形成された光透過部を有するフォトマスクを介して、レーザー光源などでフォトレジスト膜に画像様に露光する手段を用いるのも好ましい。
【００５５】
ＦＭスクリーンとしては、Ｓｔａｃｃａｔｏ（ＣＲＥＯ社製）、Ｒａｎｄｏｔ（大日本スクリーン社製）、ＲａｎｄｏｔＸ（大日本スクリーン社製）、Ｓｔａｉｎ  Ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ（Ｈｅｉｄｅｌｂｅｌｇ社製）、Ｃｒｉｓｔａｌ  Ｒａｓｔｅｒ（Ａｇｆａ社製）など、市販されているものを用いることもできる。
【００５６】
図１（Ｂ）に示すような海島構造を有する電磁波シールド層を形成するためには、周波数変調させる際にＦＭスクリーニングプログラムに必要な数値入力を行うことにより、ドットをランダムに発生させ、さらにこのドットを濃淡階調度に対応して密集させて、複数個のドットが繋がるように調整してＦＭスクリーンを得るのがよい。
【００５７】
ＦＭスクリーンを構成するドットの形状は、三角形及び四角形などの多角形、円形、楕円形などいずれの形状であってもよい。なかでも、四角形、特に正方形であるのが好ましい。
【００５８】
前記ＦＭスクリーンを構成するドットは、一辺の長さが、２〜３０μｍ、特に１５〜３０μｍである四角形であるのが好ましい。ＦＭスクリーンにおいて、ドット部分が光を透過せず、ドット以外の部分が光を透過させる。したがって、ＦＭスクリーンにおいてドット部分、好ましくは複数個のドットの集合体部分が、フォトレジスト膜における開口部を形成することになる。ゆえに、ＦＭスクリーンを構成するドットの形状を上記のものにすることにより、電磁波シールド層が有する開口部から形成される島領域に対応する部位に開口部を有するエッチング保護層を形成することができる。
【００５９】
また、ＦＭスクリーンの全面積に対するドットの総面積は、２０〜６０％、特に４０〜５０％とするのが好ましい。前記総面積を、２０％以上とすることにより複数個の島領域が繋がった海島構造を有する電磁波シールド層を容易に形成することができ、６０％以下とすることにより電磁波シールド層の高い開口率を確保することができる。
【００６０】
露光に用いられる光源としては、紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば、超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。
【００６１】
前記フォトレジスト層をＦＭスクリーンを用いて画像様に露光した後、現像することにより非露光部分のフォトレジスト膜を除去することができる。前記現像は、従来公知の方法を用いて行うことができ、例えば、透明基板、金属膜及びフォトレジスト層からなる積層体全体を炭酸ソーダ水溶液などのフォトレジスト除去用処理液中に浸漬する手段などを用いることができる。
【００６２】
上述の通りにして得られたフォトレジスト層は、図１（Ｂ）に示すのと同様の海島構造とするのが好ましい。また、フォトレジスト層及び前記フォトレジスト層が有する開口部の幅、並びにフォトレジスト層における開口率は、それぞれ所望の電磁波シールド層が得られるように決定すればよい。
【００６３】
また、エッチング保護層として（ｉ）エッチング液に対して耐性を有するインクを金属膜上に特定のパターンに印刷することにより形成された層を用いる場合には、前記インクを、上述した（ｉｉ）の層と同様にＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に印刷することにより行うのが好ましい。前記印刷方法としては、例えば、インクジェット法などを用いて行うことができる。また、前記ＦＭスクリーンニングにより得られる画像データとしては、上述した（ｉｉ）の層と同様のものが用いられる。
【００６４】
次に、工程（Ｂ）において、前記エッチング保護層の開口部において露出している金属膜をエッチングする。
【００６５】
前記エッチングは、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、例えば塩化鉄、塩化銅、加硫酸アンモニア、アンモニアアルカリ、クロム硫酸、硝酸等のエッチング液を用いて行うことができる。
【００６６】
次に、工程（Ｃ）においてエッチング保護層を除去する。これにより、図２に示すように、透明基板２１０上に海島構造の海領域に金属からなる電磁波シールド層２２０が形成され、海領域には開口部２２１が相互に異なっている形状で形成されてなる本発明の光透過性電磁波シールド材が得られる。
【００６７】
フォトレジスト層の除去は、例えば、水酸化ナトリウム水溶液などを用いて行うことができる。
【００６８】
（第二の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の製造方法としては、上述した方法の他にも、以下の第二の製造方法を用いることもできる。以下に、前記方法を図３を用いながら説明する。具体的には；
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを印刷することにより、透明基板３１０の前記島領域に対応する部分上にマスク層３４０を形成する工程（Ａ）と、
前記マスク層３４０を有する透明基板３１０上に、前記溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層３２２を形成する工程（Ｂ）と、
前記溶剤により、前記マスク層３４０及び前記マスク層３４０上の導電材料層３４４を除去することにより、前記電磁波シールド層３２０を形成する工程（Ｃ）と、
を含む方法である。
【００６９】
前記工程（Ａ）において用いられる印刷インクにおいて、溶剤に対して可溶な材料は、後の除去に用いる溶剤に応じて選択される。例えば、溶剤として水系溶剤を用いる場合には水溶性物質が用いられ、溶剤として油系溶剤を用いる場合には油溶性物質が用いられる。前記溶剤としては、公知の有機溶媒等も挙げられるが、安価で、環境への影響を考慮すると、水が特に好ましい。水は、通常の水のほか、水に可溶な有機溶剤（例、メタノール、エタノール等のアルコール）、酸、アルカリ又は界面活性剤を含んだ水溶液であってもよい。水とメタノールとの組見合わせが好ましく、その割合は質量比で５：９５〜５０：５０が好ましい。
【００７０】
前記溶剤が水である場合、前記溶剤に対して可溶な材料としては、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂などの水溶性高分子材料が好ましく、特に、良好な水溶性を有する点で、ポリビニルアルコールが好ましい。水溶性樹脂の分子量としては、一般に１００００〜１０００００（ＧＰＣによる数平均分子量）、特に２９０００〜４００００が好ましい。特に、ポリビニルアルコールを用いる場合、その重合度は一般に３００〜１５００、特に５００〜１０００であることが好ましく、また鹸化度は８５〜９０であることが好ましい。このパターンの形成に用いる材質には、所望により、仕上がり状況を確認し易くするために顔料や染料等を混合してもよい。顔料として、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ、マイカ、クレー等を挙げることができるが、硫酸バリウムが好ましい。顔料は樹脂に対して２０〜２００質量％の範囲、２０〜１５０質量％の範囲が好ましい。
【００７１】
印刷インクにおける溶剤に対して可溶な材料の濃度は、５〜５０質量％程度とすればよい。また、印刷インクには、溶剤としては水が用いられるのが好ましいが、乾燥調製の目的でアルコール類、好ましくはエチルアルコール、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール等の低級アルコールを併用しても良い。
【００７２】
工程（Ａ）において、上述した印刷インクを印刷することにより、透明基板上の電磁波シールド層における開口部から形成される島領域に対応する部分上にマスク層を形成する。このようなマスク層を作製するには、従来公知の方法を適宜、用いて行うことができる。例えば、（ｉ）凹部のパターンが島領域に対応している凹板、又は（ｉｉ）開口部のパターンが島領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて、印刷インクを印刷する方法などが好ましく用いられる。
【００７３】
（ｉ）凹部のパターンが島領域に対応している凹板を作製するには、例えば、図４に示すように、
印刷版用基材４７０上に、島領域に対応する部分に開口部４８１が形成されているパターンを有するフォトレジスト層４８０を形成する工程（１）、及び
前記開口部４８１において露出している印刷版用基材４７０の一部をエッチングした後、前記フォトレジスト層４８０を除去することにより、インク収容セル４６１を有する印刷版を形成する工程（２）、
を含む方法などを用いることができる。
【００７４】
前記工程（１）において、使用される印刷版用基材としては、従来のグラビア印刷などの印刷方法において公知のものであれば制限なく用いることができる。例えば、図４に示すように、鋼製、アルミニウム製又は鉄製の金属製基材上に銅メッキ膜が形成されたものなど、金属製基材４５０上に金属膜４６０が形成されたものなどが挙げられる。また、印刷版用基材の形状は、平板状又はシリンダー状など公知の形状であればよいが、グラビア印刷を用いる場合には一般的にはシリンダー状を有する。
【００７５】
印刷版用基材上に、上述した特定のパターンを有するフォトレジスト層を形成するには、例えば、フォトレジスト膜を露光及び現像する方法を用いて行うこともできる。前記方法を用いて行う場合、前記工程（１）は、
（１−１）前記印刷用基材上に、フォトレジスト膜を形成する工程、及び
（１−２）前記フォトレジスト膜を、電磁波シールド層により形成される海領域に対応する部分を露光部とし、前記電磁波シールド層における開口部から形成される島領域に対応する部分を非露光部として露光した後、非露光部のフォトレジスト膜を除去する工程、により行うことができる。
【００７６】
なお、前記フォトレジスト膜については、光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として上述した方法におけるフォトレジスト膜と同様のものが用いられるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００７７】
フォトレジスト層における上述した特定のパターンは、ＦＭスクリーニングにより得られた画像データに基づいて形成するのが好ましい。このようにＦＭスクリーンを用いることにより図１（Ｂ）に示す海島構造を有する電磁波シールド層を容易且つ高精度で形成することができる。したがって、前記工程（１−２）におけるフォトレジスト膜の露光は、例えば、ＦＭスクリーニングにより得られたＦＭスクリーンからなる画像データに基づいて行うのが好ましい。前記フォトレジスト膜の露光及び現像についても、光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として上述した工程（Ｂ）と同様の方法が用いられるためここでは詳細な説明を省略する。
【００７８】
ＦＭスクリーンを構成するドットの形状は、三角形及び四角形などの多角形、円形、楕円形などいずれの形状であってもよい。なかでも、四角形、特に正方形であるのが好ましい。
【００７９】
前記ＦＭスクリーンを構成するドットは、一辺の長さが、２〜３０μｍ、特に１５〜３０μｍである四角形であるのが好ましい。ＦＭスクリーンにおいて、ドット部分が光を透過せず、ドット以外の部分が光を透過させる。したがって、ＦＭスクリーンにおいてドット部分、好ましくは複数個のドットの集合体部分が、フォトレジスト層における開口部を形成することになる。ゆえに、ＦＭスクリーンを構成するドットの形状を上記のものにすることにより、電磁波シールド層が有する開口部から形成される島領域に対応する部位に開口部を有するフォトレジスト層を形成することができる。
【００８０】
また、ＦＭスクリーンの全面積に対するドットの総面積は、２０〜６０％、特に４０〜５０％とするのが好ましい。前記総面積を、２０％以上とすることにより複数個の島領域が繋がった海島構造を有する電磁波シールド層を容易に形成することができ、６０％以下とすることにより電磁波シールド層の高い開口率を確保することができる。
【００８１】
次に、前記工程（２）において、まず、フォトレジスト層における開口部において露出している印刷版用基材の一部をエッチングするには、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、例えば塩化鉄、塩化銅、加硫酸アンモニア、アンモニアアルカリ、クロム硫酸、硝酸等のエッチング液を用いて行うことができる。
【００８２】
前記工程（２）において、前記エッチングを行った後、パターニングされたフォトレジスト層を除去するには、例えば、水酸化ナトリウム水溶液などを用いて行うことができる。
【００８３】
前記工程（２）により、凹部のパターンが電磁波シールド層における開口部である島領域に対応している凹板を形成することができる。また、前記凹板における開口部が、インク収容セルとして機能する。なお、当該方法において、このようにパターニングされた凹板の平面視形状は、図１（Ｂ）に示すような海島構造と同様の構造を有するのが好ましい。当該第二の方法では、凹板における開口部が、後工程で作製するマスク層及び電磁波シールド層における開口部からなる島領域に対応する。また、フォトレジスト層及び前記フォトレジスト層が有する開口部からなる島領域の幅、並びにフォトレジスト層における開口率は、それぞれ所望の電磁波シールド層が得られるように決定すればよい。
【００８４】
上記の通りに作製した凹版を用いて、溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板の前記島領域に対応する部分上にマスク層を形成するには、従来公知のグラビア印刷法などの印刷方法と同様に行えばよい。例えば、溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを前記凹版に塗布した後、これと透明基板を接触させることにより、凹版の凹部に収容された印刷インクを透明基板上に転写させることにより行われる。
【００８５】
このように、凹版を用いて印刷インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板上に印刷インクが若干ではあるものの濡れ広がり得られるマスク層の幅が広くなり、これによって後工程で形成される電磁波シールド層の幅を微細にすることができる。
【００８６】
また、工程（Ａ）において用いられる（ｉｉ）開口部のパターンが島領域に対応しているスクリーン印刷版を作製するには、島領域に対応する部分にメッシュ基材が露出している開口部を有するパターンを有するフォトレジスト層をメッシュ基材上に形成する方法などが用いられる。
【００８７】
このような特定のパターンを有するフォトレジスト層を形成するには、上述した凹板と同様の方法が用いられる。
【００８８】
前記メッシュ基材としては、スクリーン印刷において用いられている従来公知のものであれば、特に制限なく用いられる。シルクやナイロン、ポリエステル等の樹脂繊維、ステンレスメッシュがあるが、印刷精度が要求される場合には、伸び縮みが少なく、寸法精度が良いステンレスメッシュが用いられる。例えば、ＳＳ３８０−１４と表記される線径１４μｍのステンレス鋼素線を２５．４ｍｍ（１インチ）当り３８０本の密度で平織り状の網目を形成しているものを使用する。
【００８９】
上記の通りに作製したスクリーン印刷版を用いて、溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板の前記島領域に対応する部分上にマスク層を形成するには、従来公知のスクリーン印刷法と同様に行えばよい。
【００９０】
また、工程（Ａ）における印刷インクの印刷方法としては、上述した凹板又はスクリーン印刷版を用いた方法の他にも、前記印刷インクを、上述した凹板又はスクリーン印刷版と同様にＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に印刷することにより行うこともできる。前記印刷方法としては、例えば、インクジェット法などを用いて行うことができる。
【００９１】
前記工程（Ａ）において、前記透明基板上に印刷した印刷インクは、乾燥させるのが好ましい。前記乾燥は、室温に放置することにより行われてもよい他、９０〜１３０℃、２〜１０秒で加熱することにより行われてもよい。これにより、透明基板上に印刷インクを用いて形成されたマスク層が得られる。マスク層の厚さは、０．１〜５μｍ程度とすればよい。
【００９２】
本発明の方法では、上述した通り、工程（Ａ）において透明基板上にマスク層を形成するが、マスク層と透明基板との接着性を向上させるために、透明基板上に接着剤層を形成し、当該接着剤層上にマスク層を形成するのが好ましい。
【００９３】
前記接着剤層は、透明基板と、後工程で形成するマスク層及び電磁波シールド層との接着性を向上させるための層である。前記接着剤層は、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂又はエポキシウレタン共重合樹脂等一般的な接着剤を使用することができるが、熱硬化型の接着剤を用いることが好ましい。
【００９４】
前記接着剤層を透明基板上に形成するには、溶剤中に接着剤を分散又は溶解させた溶液をコーターなどの適当な塗布機で透明基板上に塗布した後に乾燥させるなどすればよい。
【００９５】
接着剤層の厚さは、３〜１０μｍ、特に４〜８μｍとするのが好ましい。これにより、十分な接着性を確保することができる。
【００９６】
次に、本発明の方法では、マスク層を有する透明基板上に、溶剤に対して不溶な導電材料を含む導電材料層を形成する工程（Ｂ）を実施する。前記導電材料としては、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはＩＴＯ等の導電性金属酸化物が好適である。この導電材料層の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性能が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られる光透過性電磁波シールド材の厚さに影響を及ぼすと共に、視野角を狭くしてしまうことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００９７】
導電材料層の形成手法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着などの蒸着法（気相メッキ法）や、液相メッキ（電解めっき、無電解めっき等）、印刷、塗布などが例示されるが、広義の気相メッキ（スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着）又は液相メッキが好適である。
【００９８】
導電材料層を塗布で形成する場合、不溶な導電材料として、粒径が１μｍ以下の金属及び／又は金属化合物粒子（好ましくは、金属及び／又は金属化合物粒子が、特に酸化銀粒子又は有機銀粒子）を用い、これらを含む塗布液を塗布、乾燥することにより得られる。
【００９９】
次に、本発明の方法では、溶剤により、マスク層及びマスク層上の導電材料層を除去することにより、電磁波シールド層を形成する工程（Ｃ）を実施する。
【０１００】
マスク層と接触させる溶剤としては、マスク層の形成に用いた溶剤に対して可溶な材料が可溶な溶剤を用いればよく、有機溶剤又は水、好ましくは水である。
【０１０１】
マスク層が形成された透明基板を溶剤に浸漬させるか、マスク層が形成された透明基板に溶剤を塗布した後、好ましくはスポンジ又はブラシなどを用いてマスク層表面を擦ることにより、マスク層を除去することができる。
【０１０２】
（第三の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の製造方法としては、上述した方法の他にも、以下の第三の製造方法を用いることもできる。以下に、前記方法を図５を用いながら説明する。具体的には；
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に無電解めっき触媒層を介して形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板５１０上に無電解めっき触媒層５９０を作製する工程（Ａ）と、
合成樹脂を含む印刷インクを塗布することにより、前記無電解めっき触媒層５９０の前記島領域に対応する部分上に、めっき保護層５４０を形成する工程（Ｂ）と、
前記めっき保護層５４０が形成されずに露出している無電解めっき触媒層５９０上に、無電解めっきすることにより電磁波シールド層５２０を形成する工程（Ｃ）と、
を含む方法を用いることができる。
【０１０３】
前記工程（Ａ）において、無電解めっき触媒層を作製するには、無電解めっき触媒インクを、透明基板の少なくとも一面の全面上に塗布及び乾燥する手段が用いられる。
【０１０４】
前記無電解めっき触媒インクとしては、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物または反応生成物、及び貴金属化合物を含むものが用いられる。
【０１０５】
前記無電解めっき触媒インクに用いられる前記シランカップリング剤は、一分子中に金属補足能を持つ官能基を有するものを用いるのが好ましい。これにより、無電解めっき触媒である貴金属化合物の活性を効果的に発現する電子状態、配向とすることが可能となり、被メッキ材との高い密着性が得られる。
【０１０６】
前記シランカップリング剤として、エポキシ基含有シラン化合物を挙げることができる。前記エポキシ基含有シラン化合物としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。特に、得られる無電解めっき触媒層が高い光透過性を有することから、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが好ましく挙げられる。
【０１０７】
次に、前記無電解めっき触媒インクに用いられる前記アゾール系化合物としては、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、セレナゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、トリアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾール、ベンダゾール、インダゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、インダゾールなどが挙げられる。これらに制限されるものではないが、シランカップリング剤が有するエポキシ基などの官能基および貴金属化合物との反応性に優れることから、イミダゾールが特に好ましい。
【０１０８】
前記無電解めっき触媒インクにおいて、前記シランカップリング剤および前記アゾール系化合物は単に混合されているだけでもよいが、これらを予め反応させて反応生成物を形成してもよい。これにより、貴金属化合物を無電解めっき触媒層中に原子レベルでより高分散できるとともに、得られる無電解めっき触媒層の光透過性を向上させることができる。
【０１０９】
前記シランカップリング剤と前記アゾール系化合物とを反応させるには、例えば、８０〜２００℃でアゾール系化合物１モルに対して０．１〜１０モルのシランカップリング剤を混合して５分〜２時間反応させるのが好ましい。その際、溶媒は特に不要であるが、水の他、クロロホルム、ジオキサンメタノール、エタノール等の有機溶媒を用いてもよい。このようにして得られた前記シランカップリング剤と前記アゾール系化合物との反応生成物に、貴金属化合物を混合することで、前記無電解めっき触媒インクが得られる。
【０１１０】
次に、前記無電解めっき触媒インクに用いられる前記貴金属化合物は、無電解めっき液から銅やアルミニウムなどの金属を選択的に析出・成長させることができる触媒効果を示すものである。具体的には、高い触媒活性が得られることから、パラジウム、銀、白金及び金などの金属原子を含む化合物を用いるのが好ましい。前記化合物としては、前記金属原子の塩化物、水酸化物、酸化物、硫酸塩、アンモニウム塩などのアンミン錯体などが用いられるが、特にパラジウム化合物、中でも塩化パラジウムが好ましい。
【０１１１】
前記無電解めっき触媒インクは、前記アゾール系化合物および前記シランカップリング剤に対し、前記貴金属化合物を、好ましくは０．００１〜５０ｍｏｌ％、より好ましくは０．１〜２０ｍｏｌ％含むのがよい。前記貴金属化合物の濃度が、０．００１ｍｏｌ％未満では十分な触媒活性が得られずに所望する厚さを有する電磁波シールド層を形成できない恐れがあり、５０ｍｏｌ％を超えると添加量の増加に見合った貴金属化合物による触媒効果が得られない恐れがある。
【０１１２】
また、前記無電解めっき触媒インクは、適当な溶媒を含んでいてもよい。前記溶媒としては、水、メチルアルコール、エチルアルコール、２−プロパノール、アセトン、トルエン、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサンなどが挙げられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１１３】
前記無電解めっき触媒インクには、必要に応じて界面活性剤などの添加剤をさらに含有させてもよい。
【０１１４】
無電解めっき触媒インクを、透明基板の少なくとも一面の全面上に塗布する方法としては、グラビアリバース、グラビアコート、マイクログラビアコート、リップコート、ロールリバースコート、ワイヤーバーコート、キスコート、ダイコート、ロールコート、スピンコート、エアスプレー、エアレススプレー、浸漬、刷毛塗りなどの方法が一般的であるが、これに限定されるものではない。
【０１１５】
透明基板上に転写した無電解めっき触媒インクの乾燥は、好ましくは８０〜１６０℃、より好ましくは１２０〜１４０℃に加熱して行うのが好ましい。加熱温度が８０℃未満では、水分の蒸発速度が遅く十分な成膜性が得られない恐れがある。一方、１６０℃を超えると無電解めっき触媒層形成材料の熱分解が生じて密着性が低下し、また変色して光透過性が低下する恐れがある。また、乾燥時間は１秒〜５分が好ましい。
【０１１６】
次に、本発明の方法では、合成樹脂を含む印刷インクを印刷することにより、前記無電解めっき触媒層の島領域に対応する部分上に、すなわち、記無電解めっき触媒層の島領域と平面視形状及び位置が同一のめっき保護層を形成する工程（Ｂ）を実施する。
【０１１７】
前記印刷インクの印刷は、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、（ｉ）凹部のパターンが前記島領域に対応している凹板、又は（ｉｉ）開口部のパターンが前記島領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて、印刷インクを印刷する方法などが好ましく用いられる。
【０１１８】
当該工程（Ｂ）は、溶剤に対して可溶な材料を含む印刷インクに代えて合成樹脂を含む印刷インクを用いて、これを透明基板上に印刷する以外は、上述した本発明の第二の方法における工程（Ａ）と同様に実施することができるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【０１１９】
前記印刷インクに用いられる合成樹脂としては、無電解めっき液に耐性があり且つ透明性を有するものであればよい。例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、およびポリスチレン樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましく挙げられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１２０】
前記印刷インクは、前記合成樹脂を、５〜５０質量％、より好ましくは１０〜４０質量％含んでいるのがよい。前記合成樹脂の濃度が、５質量％未満では所望する厚さを有するめっき保護層を形成できない恐れがあり、５０質量％を超えると得られるめっき保護層の光透過性が低下する恐れがある。
【０１２１】
前記印刷インクに用いられる溶剤としては、前記樹脂を溶解でき、成膜性に優れるものであればよい。具体的には、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸２−エトキシエチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、１，４−ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。
【０１２２】
前記レジストインキには、印刷仕上がりなどを向上させるため、透明なフィラーや高分子系増粘剤をさらに含ませてもよい。
【０１２３】
無電解めっき触媒層上に転写された印刷インクの乾燥は、好ましくは７０〜１２０℃、より好ましくは９０〜１１０℃で、５秒〜５分程度行われればよい。
【０１２４】
次に、本発明の方法では、前記めっき保護層５４０が形成されずに露出している無電解めっき触媒層５９０上に、無電解めっきすることにより電磁波シールド層５２０を形成する工程（Ｃ）する。しかしながら、前記工程（Ｃ）の前に、前記めっき保護層により被覆されずに露出している前記無電解めっき触媒層に還元処理を行う工程を実施するのが好ましい。前記還元処理により、無電解めっき触媒層に含まれる貴金属化合物を還元して金属化でき、触媒活性を向上させることができる。
【０１２５】
前記還元処理は、無電解めっき触媒層に含まれる貴金属化合物を還元して金属化できる方法であれば特に制限されない。具体的には、（ｉ）前記無電解めっき触媒層が形成された透明基板を、還元剤を含む溶液を用いて処理する液相還元法、（ｉｉ）前記無電解めっき触媒層が形成された透明基板を、還元性ガスと接触させる気相還元法などが好ましく用いられる。
【０１２６】
前記液相還元法において還元剤を含む溶液を用いて処理する方法として、具体的には、前記無電解めっき触媒層が形成された透明基板を、還元剤を含む溶液中に浸漬させる方法、前記透明基板の前記無電解めっき触媒層が形成された面に還元剤を含む溶液をスプレーする方法などが用いられる。
【０１２７】
前記還元剤を含む溶液は、所定の還元剤を水などの溶媒に分散又は溶解させて調製されるものである。前記還元剤としては、特に制限されないが、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルアクリルアミド、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ブドウ糖、アミノボラン、ジメチルアミンボラン（ＤＭＡＢ）、トリメチルアミンボラン（ＴＭＡＢ）、ヒドラジン、ジエチルアミンボラン、ホルムアルデヒド、グリオキシル酸、イミダゾール、アスコルビン酸、ヒドロキシルアミン、硫酸ヒドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、次亜リン酸、次亜リン酸ナトリウムなどの次亜リン酸塩、硫酸ヒドロキシルアミン、亜硫酸ナトリウムなどの亜硫酸塩、ハイドロサルファイト（Ｎａ2Ｓ2Ｏ4：亜二チオン酸ナトリウムともいう）等が挙げられる。前記還元剤は、後工程で用いる無電解めっき浴中に含まれる還元剤と同一のものを用いると、還元処理後の前記透明基板を水洗処理することなく無電解めっきを行うことができ、また無電解めっき浴の組成を変化させる恐れも少ない。
【０１２８】
前記還元剤としては、貴金属化合物の高い還元性が得られることから、アミノボラン、ジメチルアミンボラン、次亜リン酸ナトリウム、硫酸ヒドロキシルアミン、ハイドロサルファイト、及びホルマリンを用いるのが好ましい。
【０１２９】
前記還元剤を含む溶液における還元剤の含有量は、０．０１〜２００ｇ／Ｌ、特に０．１〜１００ｇ／Ｌとするのが好ましい。還元剤の濃度が低すぎる場合には十分に還元処理を行うのに所要時間が長くなる恐れがあり、還元剤の濃度が高すぎる場合には析出させた貴金属が脱落する恐れがある。
【０１３０】
前記液相還元法において還元剤を含む溶液を用いて処理する方法としては、無電解めっき触媒層に含まれる貴金属化合物の高い還元性が得られることから、前記無電解めっき触媒層が形成された透明基板を還元剤を含む溶液中に浸漬させる方法を用いるのが好ましい。
【０１３１】
前記透明基板を浸漬させる場合、前記還元剤を含む溶液の温度は、２０〜９０℃、特に５０〜８０℃とするのが好ましい。また、浸漬時間は、少なくとも１分以上、好ましくは１〜１０分程度とすればよい。
【０１３２】
一方、前記気相還元法を用いて還元処理を行う場合、前記還元性ガスとしては、水素ガス、ジボランガスなど、還元性を有する気体であれば特に制限されない。還元ガスを用いた還元処理時の反応温度および反応時間は、使用する還元ガスの種類などに応じて適宜決定すればよい。
【０１３３】
次に、前記工程（Ｃ）において還元された無電解めっき触媒層上に無電解めっきするには、無電解めっき浴を用いて常法に従って行うことができる。即ち、メッキ金属塩、キレート剤、ｐＨ調整剤、還元剤などを基本組成として含むメッキ液を建浴したものにメッキ基材を浸漬して行うか、上記構成メッキ液を２液以上と分けて添加方式でメッキ処理を施すなど適宜選択すれば良い。
【０１３４】
メッキ金属としては、本発明の光透過性電磁波シールド材における電磁波シールド層を構成する金属として上述したものを用いることができる。
【０１３５】
無電解めっきは公知であり、適宜薬品を選定調液して常法に従い、常温または加温下で行えばよい。無電解めっきとして一例を挙げると、Ｃｕからなる電磁波シールド層を形成する場合、硫酸銅等の水溶性銅塩１〜１００ｇ／Ｌ、特に５〜５０ｇ／Ｌ、ホルムアルデヒド等の還元剤０．５〜１０ｇ／Ｌ、特に１〜５ｇ／Ｌ、ＥＤＴＡ等の錯化剤２０〜１００ｇ／Ｌ、特に３０〜７０ｇ／Ｌを含み、ｐＨ１２〜１３．５、特に１２．５〜１３に調整した溶液に、無電解めっき触媒層が形成された透明基板を５０〜９０℃、３０秒〜６０分浸漬する方法を採用することができる。
【０１３６】
また、無電解めっきをする際に、メッキされる基板を揺動、回転させたり、その近傍を空気撹拌させたりしてもよい。
【０１３７】
なお、上述した本発明の第三の方法により得られる光透過性電磁波シールド材では、電磁波シールド層中の開口部にめっき保護層が形成されている。このめっき保護層は、アクリル樹脂などの合成樹脂などが用いられ、透明性に優れることから、光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド層における開口部とみなすことができる。
【０１３８】
（第四の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の製造方法としては、上述した方法の他にも、以下の第四の製造方法を用いることもできる。以下に、前記方法を図６を用いながら説明する。具体的には；
平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
無電解めっき触媒インクを印刷することにより、透明基板６１０の前記海領域に対応する部分上に、無電解めっき触媒層６９０を形成する工程（Ａ）と、
前記無電解めっき触媒層６９０上に、無電解めっきすることにより、電磁波シールド層６２０を形成する工程（Ｂ）と、
を含む方法が用いられる。
【０１３９】
前記工程（Ａ）において用いられる無電解めっき触媒インクとしては、本発明の第３の方法において用いられるものと同様のものが用いられる。
【０１４０】
前記工程（Ａ）においては、無電解めっき触媒インクを印刷することにより、透明基板の電磁波シールド層からなる海領域に対応する部分上に、すなわち、電磁波シールド層からなる海領域と平面視形状及び位置が同一の無電解めっき触媒層を形成する。このような無電解めっき触媒層を形成するには、例えば、前記無電解めっき触媒インクを、（ｉ）凹部のパターンが電磁波シールド層からなる海領域に対応している凹板、又は（ｉｉ）開口部のパターンが電磁波シールド層からなる海領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて印刷するのが好ましい。
【０１４１】
（ｉ）凹部のパターンが電磁波シールド層からなる海領域に対応している凹板を作製するには、例えば、図７に示すように、
印刷版用基材７７０上に、電磁波シールド層から形成される海領域に対応する部分に開口部７８１が形成されているパターンを有するフォトレジスト層７８０を形成する工程（１）、及び
前記開口部７８１において露出している印刷版用基材７７０の一部をエッチングした後、前記フォトレジスト層７８０を除去することにより、開口部７６１を有する印刷版を形成する工程（２）、
を含む方法などを用いることができる。
【０１４２】
前記工程（１）において、使用される印刷版用基材としては、従来のグラビア印刷などの印刷方法において公知のものであれば制限なく用いることができる。例えば、図７に示すように、鋼製、アルミニウム製又は鉄製の金属製基材上に銅メッキ膜が形成されたものなど、金属製基材７５０上に金属膜７６０が形成されたものなどが挙げられる。また、印刷版用基材の形状は、平板状又はシリンダー状など公知の形状であればよいが、グラビア印刷を用いる場合には一般的にはシリンダー状を有する。
【０１４３】
印刷版用基材上に、上述した特定のパターンを有するフォトレジスト層を形成するには、例えば、フォトレジスト膜を露光及び現像する方法を用いて行うこともできる。前記方法を用いて行う場合、前記工程（１）は、
（１−１）前記印刷用基材上に、フォトレジスト膜を形成する工程、及び
（１−２）前記フォトレジスト膜を、電磁波シールド層により形成される海領域に対応する部分を非露光部とし、前記電磁波シールド層における開口部から形成される島領域に対応する部分を露光部として露光した後、非露光部のフォトレジスト膜を除去する工程、により行うことができる。
【０１４４】
なお、前記フォトレジスト膜については、光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として上述した方法におけるフォトレジスト膜と同様のものが用いられるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【０１４５】
フォトレジスト層における上述した特定のパターンは、ＦＭスクリーニングにより得られた画像データに基づいて形成するのが好ましい。このようにＦＭスクリーンを用いることにより図１（Ｂ）に示す海島構造を有する電磁波シールド層を容易且つ高精度で形成することができる。したがって、前記工程（１−２）におけるフォトレジスト膜の露光は、例えば、ＦＭスクリーニングにより得られたＦＭスクリーンからなる画像データに基づいて行うのが好ましい。前記フォトレジスト膜の露光及び現像についても、光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法として上述した工程（Ｂ）と同様の方法が用いられるためここでは詳細な説明を省略する。
【０１４６】
ＦＭスクリーンを構成するドットの形状は、三角形及び四角形などの多角形、円形、楕円形などいずれの形状であってもよい。なかでも、四角形、特に正方形であるのが好ましい。
【０１４７】
前記ＦＭスクリーンを構成するドットは、一辺の長さが、３０〜２μｍ、特に３０〜１５μｍである四角形であるのが好ましい。ＦＭスクリーンにおいて、ドット部分が光を透過せず、ドット以外の部分が光を透過させる。したがって、ＦＭスクリーンにおいてドット部分、好ましくは複数個のドットの集合体部分が、フォトレジスト膜における開口部を形成することになる。ゆえに、ＦＭスクリーンを構成するドットの形状を上記のものにすることにより、電磁波シールド層から形成される海領域に対応する部位に開口部を有するフォトレジスト層を形成することができる。
【０１４８】
また、ＦＭスクリーンの全面積に対するドットの総面積は、６０〜２０％、特に５０〜４０％とするのが好ましい。前記総面積を、２０％以上とすることにより複数個の島領域が繋がった海島構造を有する電磁波シールド層を容易に形成することができ、６０％以下とすることにより電磁波シールド層の高い開口率を確保することができる。
【０１４９】
次に、前記工程（２）において、まず、フォトレジスト層における開口部において露出している印刷版用基材の一部をエッチングするには、従来公知の方法を用いて行うことができる。例えば、例えば塩化鉄、塩化銅、加硫酸アンモニア、アンモニアアルカリ、クロム硫酸、硝酸等のエッチング液を用いて行うことができる。
【０１５０】
前記工程（２）において、前記エッチングを行った後、パターニングされたフォトレジスト層を除去するには、例えば、水酸化ナトリウム水溶液などを用いて行うことができる。
【０１５１】
前記工程（２）により、凹部のパターンが電磁波シールド層からなる海領域に対応している凹板を形成することができる。また、前記凹板における開口部が、インク収容セルとして機能する。なお、当該方法において、このようにパターニングされた凹板の平面視形状は、図１（Ｂ）に示すような海島構造と同様の構造を有するのが好ましい。また、フォトレジスト層及び前記フォトレジスト層が有する開口部からなる島領域の幅、並びにフォトレジスト層における開口率は、それぞれ所望の電磁波シールド層が得られるように決定すればよい。
【０１５２】
上記の通りに作製した凹版を用いて、無電解めっき触媒インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板の前記海領域に対応する部分上に無電解めっき触媒層を形成するには、従来公知のグラビア印刷法などの印刷方法と同様に行えばよい。例えば、無電解めっき触媒インクを前記凹版に塗布した後、これと透明基板を接触させることにより、凹版の凹部に収容された印刷インクを透明基板上に転写させることにより行われる。
【０１５３】
また、工程（Ａ）において用いられる（ｉｉ）開口部のパターンが電磁波シールド層における開口部から形成される島領域に対応しているスクリーン印刷版を作製するには、メッシュ基材上に、電磁波シールド層から形成される海領域に対応する部分にメッシュ基材が露出している開口部を有するパターンを有するフォトレジスト層を形成する方法などが用いられる。
【０１５４】
このような特定のパターンを有するフォトレジスト層を形成するには、上述した凹板における（ｉｉ）のエッチング保護層と同様のものが用いられる。
【０１５５】
前記メッシュ基材としては、スクリーン印刷において用いられている従来公知のものであれば、特に制限なく用いられる。シルクやナイロン、ポリエステル等の樹脂繊維、ステンレスメッシュがあるが、印刷精度が要求される場合には、伸び縮みが少なく、寸法精度が良いステンレスメッシュが用いられる。例えば、ＳＳ３８０−１４と表記される線径１４μｍのステンレス鋼素線を２５．４ｍｍ（１インチ）当り３８０本の密度で平織り状の網目を形成しているものを使用する。
【０１５６】
上記の通りに作製したスクリーン印刷版を用いて、無電解めっき触媒インクを透明基板上に印刷することにより、透明基板の前記島領域に対応する部分上にめっき保護層を形成するには、従来公知のスクリーン印刷法と同様に行えばよい。
【０１５７】
また、工程（Ａ）における無電解めっき触媒インクの印刷方法としては、上述した凹板又はスクリーン印刷版を用いた方法の他にも、前記無電解めっき触媒インクを、上述した凹板又はスクリーン印刷版と同様にＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に印刷することにより行うこともできる。前記印刷方法としては、例えば、インクジェット法などを用いて行うことができる。
【０１５８】
前記工程（Ａ）において、前記透明基板上に印刷した印刷インクは、乾燥させるのが好ましい。前記乾燥は、室温に放置することにより行われてもよい他、９０〜１３０℃、２〜１０秒で加熱することにより行われてもよい。これにより、透明基板上に印刷インクを用いて形成されためっき保護層が得られる。めっき保護層の厚さは、０．１〜５μｍ程度とすればよい。
【０１５９】
本発明の方法では、次に、上述の通りにして作製した無電解めっき触媒層上に、無電解めっきすることにより、電磁波シールド層を形成する工程を実施する。また、前記工程の前に、無電解めっき触媒層に還元処理を行う工程を実施してもよい。なお、前記無電解めっき工程及び還元処理工程は、本発明の第三の方法において記載したのと同様の方法が用いられるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【０１６０】
上述した本発明の第一〜第四の製造方法において、電磁波シールド層をさらに低い抵抗値にして電磁波シールド効果を向上させたい場合は、透明基板上に形成された電磁波シールド層に金属めっき層を形成する工程を実施するのが好ましい。
【０１６１】
金属めっき層は、公知の電解めっき法、無電解めっき法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【０１６２】
また、電磁波シールド層には防眩性能を付与させても良い。そのため、本発明の方法では、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層に黒化処理を行う工程により、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層の表面に黒化処理層を設けることにより行っても良い。例えば、電磁波シールド層及び／又は金属めっき層の酸化処理、硫化処理、クロム合金等の黒色メッキ、又は黒もしくは暗色系のインクの塗布等により行うことができる。なかでも、黒化処理としては、酸化処理及び硫化処理が好ましい。
【０１６３】
前記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。
【０１６４】
前記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫化カリウム、硫化バリウム及び硫化アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫化カリウム及び硫化アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫化アンモニウムを使用することが好ましい。
【０１６５】
黒化処理層の厚さは、特に制限されないが、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍとするのがよい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、光の防眩効果が充分でない恐れがあり、１μｍを超えると、斜視した際の見かけ上の開口率が低下する恐れがある。
【０１６６】
（第五の製造方法）
本発明の光透過性電磁波シールド材の製造方法としては、上述した方法の他にも、以下の第五の製造方法を用いることもできる。具体的には；平面視形状が海島構造を示し、そして前記海島構造における海領域に前記電磁波シールド層が形成されており、多数の島領域には開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる電磁波シールド層を、透明基板上に形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法であって、
透明基板の前記海領域に対応する部分上に、導電性粒子及びバインダ樹脂を含む導電性インクを印刷することにより、電磁波シールド層を形成する工程、
を含む方法である。
【０１６７】
前記導電性インクは、導電性粒子及びバインダ樹脂を含む。前記導電性粒子としては、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物などを挙げることができる。これらは一種段独で用いられてもよい他、二種以上を混合して用いてもよい。
【０１６８】
なかでも、前記導電性粒子としては、銀、銅、金、ニッケル、インジウム及びスズが好ましく挙げられる。これらの導電性粒子であれば、後述するように強酸との接触により、得られるメッシュ状導電層の導電性を向上させることが可能となる。
【０１６９】
前記導電性粒子の平均粒子径は、１０ｎｍ〜１０μｍ、特に１０ｎｍ〜５μｍであるのが好ましい。これにより、後述するように強酸との接触により、導電性を向上させることが可能となり、導電性に優れる導電層を形成することが可能となる。
【０１７０】
前記導電性インクにおける導電性粒子の含有量は、前記バインダ樹脂の１００質量部に対して、４００〜１０００質量部、特に４００〜８００質量部とするのが好ましい。これにより、導電性粒子同士の接触性に優れる導電層を形成することができる。
【０１７１】
前記導電性インクに用いられるバインダ樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【０１７２】
前記導電性インクには、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。前記溶剤としては、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール等のアルコール；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテルが挙げられる。
【０１７３】
前記導電性インクは、さらに、黒色着色剤をさらに含有していてもよい。これにより、印刷精度の向上とともに、得られる光透過性電磁波シールド材において透明基板側から見た際の防眩効果を付与することができる。
【０１７４】
前記黒色着色剤としては、カーボンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、黒鉛、および活性炭などが好ましく挙げられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。なかでも、カーボンブラックが好ましい。カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラック等が挙げられる。カーボンブラックの平均粒径は、好ましくは０．１〜１，０００ｎｍ、特に好ましくは５〜５００ｎｍである。
【０１７５】
前記導電性インクにおける黒色着色剤の含有量は、前記バインダ樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部、特に１〜５質量部とするのが好ましい。
【０１７６】
導電性インクは、さらに、界面活性剤などの分散剤、可塑剤、消泡剤、硬化剤など、従来公知の助剤を含んでいてもよい。
【０１７７】
本発明の方法において、透明基板の電磁波シールド層からなる海領域に対応する部分上に導電性インクを印刷するには、例えば、前記導電性インクを、（ｉ）凹部のパターンが前記海領域に対応している凹板、又は（ｉｉ）開口部のパターンが前記海領域に対応しているスクリーン印刷版を用いて印刷するのが好ましい。これらの方法は、無電解めっき触媒インクに代えて導電性インクを用いる以外は、本発明の第四の方法と同様に実施することができるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【０１７８】
また、導電性インクの印刷方法としては、上述した凹板又はスクリーン印刷版を用いた方法の他にも、前記導電性インクを、上述した凹板又はスクリーン印刷版と同様にＦＭスクリーンニングにより得られる画像データに基づいて画像様に印刷することにより行うこともできる。前記印刷方法としては、例えば、インクジェット法などを用いて行うことができる。
【０１７９】
透明基板上に印刷した導電性インクは、通常は、室温〜２５０℃で乾燥させることにより硬化させるのが好ましい。
【実施例】
【０１８０】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
【０１８１】
（実施例１）
透明基板として、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（厚さ１００μｍ、東レ株式会社製  ルミラー）を用意した。このフィルムの片面に、常温にて１．３×１０-3Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅膜（厚さ３．０μｍ）を形成した後、前記銅膜上に、感光性レジスト（東京応化社製  ＰＭＥＲ−Ｎ  ＨＣ６００Ｙ）をバーコーターで塗工し、８０℃で１０分間乾燥することにより、ＰＥＴフィルム／銅膜／感光性レジスト膜の積層体を得た。
【０１８２】
次に、ＦＭスクリーニングプログラムによりＦＭスクリーニングを行ってＦＭスクリーン（ドット形状：一辺の長さが２０μｍの正方形、ＦＭスクリーン全面積に対するドットの総面積４５％）からなる画像データを得、このＦＭスクリーンに基づいて紫外線照射量６０ｍJ/ｃｍ2で感光性レジスト膜を露光してアルカリ現像した後、水洗及び乾燥することにより前記感光性レジスト膜をパターニングした。これにより、海領域にフォトレジスト層が形成されており、多数の島領域に開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる海島構造を有するフォトレジスト層を得た。
【０１８３】
次に、前記開口部において露出した銅膜を塩化第二銅溶液によりエッチングし、強アルカリ液によりフォトレジスト層を剥離した。これにより、ＰＥＴフィルム上に、図１（Ｂ）に示すような銅からなる海島構造を示す電磁波シールド層（開口率５５％）が形成され光透過性電磁波シールド材を得た。前記海島構造の海領域には前記電磁波シールド層（平均幅４０μｍ、厚さ３．０μｍ）が形成され、多数の島領域には開口部（平均幅６０μｍ）が形成されていた。
【０１８４】
（実施例２）
印刷版用基材として銅基板（厚さ１００μｍ）の表面に、感光性レジスト（東京応化社製  ＰＭＥＲ−Ｎ  ＨＣ６００Ｙ）をバーコーターで塗工し、８０℃で１０分間乾燥することにより、銅基板と感光性レジスト膜との積層体を得た。
【０１８５】
次に、ＦＭスクリーニングプログラムによりＦＭスクリーニングを行ってＦＭスクリーン（ドット形状：一辺の長さが２０μｍの正方形、ＦＭスクリーン全面積に対するドットの総面積４５％）からなる画像データを得、このＦＭスクリーンに基づいて紫外線照射量６０ｍJ/ｃｍ2で感光性レジスト膜を露光してアルカリ現像した後、水洗及び乾燥することにより前記感光性レジスト膜をパターニングした。これにより、海領域にフォトレジスト層が形成されており、多数の島領域に開口部が形成されており、且つ前記島領域の形状が相互に異なる海島構造を有するフォトレジスト層を得た。
【０１８６】
次に、前記開口部において露出した銅基板を塩化第二銅溶液により深さ５μｍまでエッチングし、強アルカリ液によりレジスト膜を剥離した。これにより、前記エッチングされた部位にインク収容セルが形成された印刷版を作製した。
【０１８７】
次に、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（厚さ１００μｍ、東レ株式会社製  ルミラー）の片面に、２液硬化型水性接着剤（東洋モ−トン株式会社製、商品名、ＡＤＷ−６１５／ＣＡＴ−ＥＰ５）を使用し、これをグラビアコートで塗布して、接着剤層（厚さ０．５μｍ）を形成した。
【０１８８】
先に作製した印刷版に固形分量２０質量％のポリビニルアルコール水溶液を塗布し、ドクターブレードにより印刷版表面に付着した余分なポリビニルアルコール水溶液を掻き落とした後、前記印刷版のポリビニルアルコール水溶液が塗布された面と、前記ＰＥＴフィルム上に形成された接着剤層とを重ね合わせ、ローラーで密着させた後に前記印刷版を剥離することにより、前記インク収容セルに収容されたポリビニルアルコール水溶液を接着剤層上に転写した。その後、接着剤層上のポリビニルアルコール水溶液を、１００℃、３分で乾燥させることによりめっき保護層を形成した。
【０１８９】
次に、前記めっき保護層が形成された接着剤層上に、常温にて１．３×１０-3Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅膜（厚さ０．３μｍ）を形成した後、２５℃の水に浸漬させながらスポンジで表面を擦り、めっき保護層を溶解除去し、水でリンスした後、１００℃、３分で乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に、図１（Ｂ）に示すような銅からなる海島構造を示す電磁波シールド層（開口率６５％）が形成され光透過性電磁波シールド材を得た。前記海島構造の海領域に、前記電磁波シールド層（平均幅３７μｍ、厚さ３．０μｍ）が形成され、多数の島領域には開口部（平均幅６３μｍ）が形成されていた。
【０１９０】
次に、上記で作製した電磁波シールド層上に、下記のめっき液及びめっき条件として、
電気銅めっき処理をすることにより、銅からなる金属めっき層を形成した。前記金属めっき層は、厚さは３．０μｍ、線幅は３９μｍ、開口率は６０％であった。
【０１９１】
めっき液
硫酸銅：２００〜２５０ｇ／Ｌ
金属銅：５０〜６２ｇ／Ｌ
硫酸：３５〜７５ｇ／Ｌ
硫酸／金属銅：約１／１
塩素：２０〜４０ｍｇ／Ｌ
電気めっき条件
電解液温度：３０℃
めっき液温度：３０℃
電流密度：５Ａ／ｄｍ2
処理時間：３０分間
【０１９２】
（比較例１）
ポリビニルアルコール樹脂（分子量３０００）と硫酸バリウムの混合物（質量比 ポリビニルアルコール樹脂：硫酸バリウム＝２：１）を、水とメタノールの混合溶液（質量比 水：メタノール＝１：４）に溶解して、固形分量２０ｗｔ％のポリビニルアルコール溶液を調整した。この溶液をインクとして用いて、ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ、東レ株式会社製  ルミラー）に、グラビア印刷により正方形のドットを印刷した。これを乾燥後に銅を真空蒸着して、厚さ０．３μｍの銅層を得た。次いで、２５℃の水でドット部分を溶解除去し、水洗の後に乾燥して、前記ＰＥＴフィルム上にメッシュ状の銅層からなる電磁波シールド層が形成された光透過性電磁波シールド材を得た。
【０１９３】
前記ドットは、１個の大きさが１辺２００μｍの正方形状で、ドット同士の間隔が２０μｍであり、ドットの配列は正方格子状であり、ドットの印刷厚みは乾燥後に約２μｍであった。これを正確に反映して、メッシュ状の電磁波シールド層はドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、格子間ピッチ２００μｍ、開口率は８０％（面積比）であった。
【０１９４】
次に、上記で作製した電磁波シールド層上に、実施例２と同様にして電気銅めっき処理をすることにより、銅からなる金属めっき層を形成した。前記金属めっき層は、厚さは３．０μｍ、線幅は２２μｍ、開口率は７８％であった。
【０１９５】
（評価）
１．モアレ発生
上記で作製した各光透過性電磁波シールド材を、画素ピッチ１．２６ｍｍ（ＲＧＢ各セル０．４２ｍｍ）のＰＤＰ装置の前面に設置し、画素と電磁波シールド層との間のモアレ発生状況を目視により観察した。比較例１で作製した光透過性電磁波シールド材では、バイアス角度０°〜１０°及び３０°〜９０°の領域内で周期２〜２０ｍｍのモアレ縞が発生し、表示品質の悪いものであった。一方、実施例１及び２の光透過性電磁波シールド材では、いずれのバイアス角度においてもモアレの発生は確認できなかった。
【０１９６】
２．電磁波シールド性
上記で作製した各光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド性を、ＫＥＣ法（（財）関西電子工業振興センター）に準拠したアンリツ社製ＥＭＩシールド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を用いて、周波数５０〜５００ＭＨｚの範囲で電磁波の減衰率（ｄＢ）を測定することにより評価した。なお、サンプルの大きさは９０ｍｍ×１１０ｍｍとした。結果を表１に示す。表１において、電磁波の減衰率が５０ｄＢ以上のものを「○」とし、１０ｄＢ未満のものを「×」として記載した。
【０１９７】
３．光透過性
全自動直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰ（スガ試験機株式会社製）を用いて、上記で作製した各光透過性電磁波シールド材の厚み方向の全光線透過率を測定した。前記測定を光透過性電磁波シールド材において３箇所実施し、その平均値を光透過性電磁波シールド材の全光線透過率として光透過性を評価した。結果を表１に示す。
【０１９８】
【表１】
2009302439.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【０１９９】
【図１】図１（Ａ）は本発明の光透過性電磁波シールド材の断面図であり、図１（Ｂ）は前記光透過性電磁波シールド材の電磁波シールド層が有する海島構造の凹凸形状の模式上面図である。
【図２】本発明の光透過性電磁波シールド材の第一の製造方法における各工程の説明図である。
【図３】本発明の光透過性電磁波シールド材の第二の製造方法における各工程の説明図である。
【図４】本発明の光透過性電磁波シールド材の第二の製造方法に好適に用いられる凹板の作製方法における各工程の説明図である。
【図５】本発明の光透過性電磁波シールド材の第三の製造方法における各工程の説明図である。
【図６】本発明の光透過性電磁波シールド材の第四の製造方法における各工程の説明図である。
【図７】本発明の光透過性電磁波シールド材の第四の製造方法に好適に用いられる凹板の作製方法における各工程の説明図である。
【符号の説明】
【０２００】
１１０、２１０、３１０、５１０、６１０  透明基板、
１２０、２２０、３２０、５２０、６２０  電磁波シールド層、
１２１、２２１、３２１  開口部、
２２２  金属膜、
３２２  導電材料層、
３４０  マスク層、
５４０  めっき保護層、
４５０、７５０  金属製基材、
４６０、７６０  金属膜、
４６１、７６１  インク収容セル、
４７０、７７０  印刷用基材、
４８０、７８０  フォトレジスト層、
４８１、７８１  凹部、
５９０、６９０  無電解めっき触媒層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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