(57)【要約】【課題】対向基板の双方に水平配向膜及び垂直配向膜を形成する液晶表示装置であって、液晶の配向を良好に制御して良好な表示状態を得られる液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置は、それぞれ所定パターンの透明電極が形成され、対向する第１、第２の透明基板と、第１の透明基板に、所定パターンで形成された第１の水平配向膜と、第１の透明基板の、第１の水平配向膜の外側に形成された第１の垂直配向膜と、第２の透明基板に、第１の水平配向膜と輪郭が一致するパターンで形成された第２の水平配向膜と、第２の透明基板の、第２の水平配向膜の外側に形成された第２の垂直配向膜と、第１の水平及び垂直配向膜と第２の水平及び垂直配向膜との間に挟まれた液晶層と、第１及び第２の透明基板を挟む１対の偏光板とを有する。【選択図】図１
2009198621.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定パターンで第１の透明電極が形成された第１の透明基板と、
所定パターンで第２の透明電極が形成され、前記第１の透明基板に対向する第２の透明基板と、
前記第１の透明基板の前記第１の透明電極側表面上方に、所定パターンで形成された第１の水平配向膜と、
前記第１の透明基板の前記第１の透明電極側表面上方の、前記第１の水平配向膜の外側に形成された第１の垂直配向膜と、
前記第２の透明基板の前記第２の透明電極側表面上方に、前記第１の水平配向膜と輪郭が一致するパターンで形成された第２の水平配向膜と、
前記第２の透明基板の前記第２の透明電極側表面上方の、前記第２の水平配向膜の外側に形成された第２の垂直配向膜と、
前記第１の水平配向膜及び垂直配向膜と、前記第２の水平配向膜及び垂直配向膜との間に挟まれた液晶層と、
前記第１及び第２の透明基板を挟む１対の偏光板と
を有する液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶層は、誘電率異方性が正の液晶を含み、前記１対の偏光板は、クロスニコル配置されている請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１の水平配向膜は、前記第１の透明電極の配置部分の上に形成され、前記第２の水平配向膜は、前記第２の透明電極の配置部分の上に形成された請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１及び第２の水平配向膜に配向処理が施されており、該第１及び第２の水平配向膜で挟まれた部分の液晶はＴＮモードを示す請求項２または３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
（ａ）所定パターンで第１の透明電極が形成された第１の透明基板を準備する工程と、
（ｂ）前記第１の透明基板の前記第１の透明電極側表面上方に、所定パターンで第１の水平配向膜を形成する工程と、
（ｃ）前記第１の透明基板の前記第１の透明電極側表面上方の、前記第１の水平配向膜の外側に、第１の垂直配向膜を形成する工程と、
（ｄ）所定パターンで第２の透明電極が形成された第２の透明基板を準備する工程と、
（ｅ）前記第２の透明基板の前記第２の透明電極側表面上方に、前記第１の水平配向膜と輪郭を一致して重ね合わせることができるパターンで第２の水平配向膜を形成する工程と、
（ｆ）前記第２の透明基板の前記第２の透明電極側表面上方の、前記第２の水平配向膜の外側に、第２の垂直配向膜を形成する工程と、
（ｇ）前記第１及び第２の透明基板を、前記第１及び第２の水平配向膜の輪郭が一致するように重ね合わせて、セルを形成する工程と、
（ｈ）前記第１の水平配向膜及び垂直配向膜と、前記第２の水平配向膜及び垂直配向膜との間に挟まれた液晶層を形成する工程と、
（ｉ）前記セルを挟む１対の偏光板を配置する工程と
を有する液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記工程（ｂ）、（ｃ）、（ｅ）及び（ｆ）で、前記第１の水平配向膜、第１の垂直配向膜、第２の水平配向膜、及び第２の垂直配向膜の少なくとも１つが、インクジェットにより形成される請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記工程（ｂ）及び（ｃ）は、前記第１の水平配向膜及び第１の垂直配向膜をインクジェットにより形成し、前記工程（ｂ）の後に前記工程（ｃ）が行われるか、または、前記工程（ｅ）及び（ｆ）は、前記第２の水平配向膜及び第２の垂直配向膜をインクジェットにより形成し、前記工程（ｅ）の後に前記工程（ｆ）が行われる請求項５または６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記工程（ｈ）は、誘電率異方性が正の液晶を含む前記液晶層を形成し、前記工程（ｉ）は、前記１対の偏光板をクロスニコル配置する請求項５〜７のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記工程（ｂ）は、前記第１の水平配向膜を前記第１の透明電極の配置部分上に形成し、前記工程（ｅ）は、前記第２の水平配向膜を前記第２の透明電極の配置部分上に形成する請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
さらに、
（ｊ）前記第１の水平配向膜を配向処理する工程と、
（ｋ）前記第２の水平配向膜を配向処理する工程と
を有し、該第１及び第２の水平配向膜で挟まれた部分の液晶はＴＮモードを示す請求項８または９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に、配向膜を用いる液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の表示パターンの背景を遮光するために、ブラックマトリクスが用いられている。ブラックマトリクスは、例えばＣｒ等の金属や、黒色顔料膜をパターニングして形成される。ブラックマトリクスのパターニングには、フォトリソグラフィや印刷法、電着法等が用いられる。ただし、このようなブラックマトリクスを用いると、ブラックマスクの形成部分と非形成部分とで液晶セルのセル厚が変わり、セル厚制御が難しい。特許文献１は、垂直配向膜形成領域にブラックマトリクスの機能を持たせた液晶表示装置を開示する。
【０００３】
図４は、特許文献１の開示する液晶表示装置の概略断面図である。一方のガラス基板１０１上に、Ｘ方向（紙面垂直方向）に長い多数のＸ電極１０３が形成されている。Ｘ電極１０３を覆って、ガラス基板１０１上に、垂直配向膜１０５が形成されている。Ｘ電極１０３の上に、垂直配向膜１０５を介して、電着法により水平配向膜１０７が形成されている。水平配向膜１０７が形成されていない領域には、垂直配向膜１０５が露出する。
【０００４】
他方のガラス基板１１１上に、Ｙ方向（紙面左右方向）に長い多数のＹ電極１１３が形成されている。Ｙ電極１１３を覆って、ガラス基板１１１上に、垂直配向膜１１５が形成されている。Ｙ電極１１３の上に、垂直配向膜１１５を介して、電着法により水平配向膜１１７が形成されている。水平配向膜１１７が形成されていない領域には、垂直配向膜１１５が露出する。ガラス基板１０１、１１１の外側に、直線偏光板１２７、１２９がクロスニコル配置されている。
【０００５】
水平配向膜１０７、１１７の対向する（Ｘ電極１０３、Ｙ電極１１３の対向する）画素部分は、液晶がＴＮモードを示し、電圧のオンオフで明暗が切り替わる。画素部分の対角線方向に配置され垂直配向膜１０５、１１５が露出対向した非画素部分は、電圧オンオフ時の双方で暗状態を保ち、ブラックマトリクスとして機能する。
【０００６】
特許文献１の開示する技術では、水平配向膜と垂直配向膜とが対向する部分が生じる。これらの部分では液晶の配向制御が困難であり、所望の表示状態を得難い（例えばブラックマトリクスとして良好に機能しない）。また、水平配向膜を電着法で形成すると、水平配向膜パターンが電極パターンで制限される。
【０００７】
【特許文献１】特開平６−３６７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の一目的は、対向基板の双方に水平配向膜及び垂直配向膜を形成する液晶表示装置であって、液晶の配向を良好に制御して良好な表示状態を得られる液晶表示装置及びそのような液晶表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一観点によれば、所定パターンで第１の透明電極が形成された第１の透明基板と、所定パターンで第２の透明電極が形成され、前記第１の透明基板に対向する第２の透明基板と、前記第１の透明基板の前記第１の透明電極側表面上方に、所定パターンで形成された第１の水平配向膜と、前記第１の透明基板の前記第１の透明電極側表面上方の、前記第１の水平配向膜の外側に形成された第１の垂直配向膜と、前記第２の透明基板の前記第２の透明電極側表面上方に、前記第１の水平配向膜と輪郭が一致するパターンで形成された第２の水平配向膜と、前記第２の透明基板の前記第２の透明電極側表面上方の、前記第２の水平配向膜の外側に形成された第２の垂直配向膜と、前記第１の水平配向膜及び垂直配向膜と、前記第２の水平配向膜及び垂直配向膜との間に挟まれた液晶層と、前記第１及び第２の透明基板を挟む１対の偏光板とを有する液晶表示装置が提供される。
【００１０】
本発明の他の観点によれば、（ａ）所定パターンで第１の透明電極が形成された第１の透明基板を準備する工程と、（ｂ）前記第１の透明基板の前記第１の透明電極側表面上方に、所定パターンで第１の水平配向膜を形成する工程と、（ｃ）前記第１の透明基板の前記第１の透明電極側表面上方の、前記第１の水平配向膜の外側に、第１の垂直配向膜を形成する工程と、（ｄ）所定パターンで第２の透明電極が形成された第２の透明基板を準備する工程と、（ｅ）前記第２の透明基板の前記第２の透明電極側表面上方に、前記第１の水平配向膜と輪郭を一致して重ね合わせることができるパターンで第２の水平配向膜を形成する工程と、（ｆ）前記第２の透明基板の前記第２の透明電極側表面上方の、前記第２の水平配向膜の外側に、第２の垂直配向膜を形成する工程と、（ｇ）前記第１及び第２の透明基板を、前記第１及び第２の水平配向膜の輪郭が一致するように重ね合わせて、セルを形成する工程と、（ｈ）前記第１の水平配向膜及び垂直配向膜と、前記第２の水平配向膜及び垂直配向膜との間に挟まれた液晶層を形成する工程と、（ｉ）前記セルを挟む１対の偏光板を配置する工程とを有する液晶表示装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
第１の水平配向膜と第２の水平配向膜とが輪郭を一致させて対向し、第１の垂直配向膜と第２の垂直配向膜とが輪郭を一致させて対向する。水平配向膜対向形成領域と、垂直配向膜対向形成領域とで、液晶配向状態が異なることにより、表示を行える。水平配向膜対向形成領域、及び、垂直配向膜対向形成領域は、水平配向膜と垂直配向膜とが対向する領域に比べて、液晶の配向が制御しやすい。
【００１２】
なお、水平配向膜パターンや垂直配向膜パターンを自由度高く形成するために、インクジェットを用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
まず、図１（Ａ）〜図１（Ｇ）を参照して、本発明の実施例による液晶表示装置の製造方法について説明する。１対の、透明電極付き透明基板を用意する。実施例では、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）パターン付きガラス基板を用意した。ガラス基板１は厚さ０．７ｍｍｔの青板ガラスであり、ＩＴＯ層２は厚さ１００ｎｍである。ＩＴＯパターンとして、キャラクター表示用のパターンを用いた。
【００１４】
なお、図示の簡単化のため、透明基板１全面を覆うようにＩＴＯ層２を示しているが、ＩＴＯ層２はパターンを持っているので、透明基板１上に透明電極部材が配置されている部分と配置されていない部分とが混在する。
【００１５】
ＩＴＯパターン付きガラス基板を、洗浄機で洗浄した。実施例では、アルカリ性洗剤を用いたブラシ洗浄、純水によるブラシ洗浄、エアーナイフによる水切り、赤外線（ＩＲ）及び紫外線（ＵＶ）洗浄を行った。なお、洗浄方法はこれらに限らず、高圧のジェット洗浄等を行ってもよい。
【００１６】
次に、図１（Ａ）に示すように、洗浄した基板のＩＴＯ層２上に、インクジェットにより、ＴＮ用（低プレティルト角）の水平配向膜材料（日産化学製、主鎖タイプ）を塗布して、水平配向膜Ａを形成した。
【００１７】
水平配向膜Ａの形成部分が、表示部分を画定する。表示部分は電圧で明暗を切り替えられることが必要であり、水平配向膜Ａは、透明電極配置部分の上に形成される。水平配向膜Ａは、所望の表示パターンと一致するパターンに仕上がることが好ましい。水平配向膜Ａは塗布後にやや広がるので、広がり分を考慮して所望の表示パターンよりやや小さく塗布する。
【００１８】
水平配向膜材料は、フレキソ印刷等で配向膜を形成する場合に比べて、低粘度の９ｃｐに調整した。なお、水平配向膜材料の粘度は９ｃｐに限らず、５ｃｐ〜１３ｃｐの範囲であればインクジェットでの塗布に好適であろう。
【００１９】
水平配向膜Ａ形成用インクジェットのヘッド２０として、極性溶媒に対する耐性を向上させたＮＭＰ対応品であり、最小吐出量４０ｐｌのコニカミノルタ製ヘッドを用いた。水平配向膜Ａ形成時の吐出条件は、分解能３６０ｄｐｉ、送り速度３００ｍｍ／ｓｅｃとした。
【００２０】
次に、図１（Ｂ）に示すように、４５℃で５分間程度、水平配向膜Ａの仮焼成を行った。仮焼成により溶媒が揮発して配向膜が薄くなり、厚さが均一化され、干渉縞が減る。干渉縞が無くなるまで仮焼成を行った。仮焼成後の水平配向膜Ａの膜厚は、約８０ｎｍであった。
【００２１】
次に、図１（Ｃ）に示すように、水平配向膜Ａの外側の領域に、すなわち表示パターンの外側の背景に、インクジェットにより、垂直配向膜材料（日産化学製）を塗布して、垂直配向膜Ｂを形成した。背景部分を画定する垂直配向膜Ｂは、透明電極配置部分（引き回し線部分）と、透明電極非配置部分とにまたがって形成される。
【００２２】
垂直配向膜材料は、フレキソ印刷等で配向膜を形成する場合に比べて、低粘度の８ｃｐに調整した。なお、垂直配向膜材料の粘度は８ｃｐに限らず、５ｃｐ〜１３ｃｐの範囲であればインクジェットでの塗布に好適であろう。
【００２３】
垂直配向膜Ｂ形成用インクジェットのヘッド２１としても、極性溶媒に対する耐性を向上させたＮＭＰ対応品であり、最小吐出量４０ｐｌのコニカミノルタ製ヘッドを用いた。垂直配向膜Ｂ形成時の吐出条件も、分解能３６０ｄｐｉ、送り速度３００ｍｍ／ｓｅｃとした。
【００２４】
次に、図１（Ｄ）に示すように、４５℃で５分間程度、垂直配向膜Ｂの仮焼成を行った。水平配向膜Ａの仮焼成と同様に、干渉縞が無くなるまで仮焼成を行った。仮焼成後の垂直配向膜Ｂの膜厚は、約７５ｎｍであった。
【００２５】
仮焼成時に、垂直配向膜Ｂの塗布状態を干渉色の観察から判断すると、塗布後に配向膜材料が少しずつ広がっていき、水平配向膜Ａのエッジでせき止められるように広がりが止められ、全面が均一になるように見えた。従って、乾燥後の配向膜Ａ及びＢの状態は、全面に同一材料を塗布した場合とほとんど差がなかった。
【００２６】
なお、配向膜はほぼ均一に形成されるが、各配向膜パターンのエッジには盛り上がりが見られる。例えば、均一な部分（例えば中央部分）の膜厚が７０ｎｍである場合、エッジ部分の盛り上がり（最大の膜厚）は概ね２００ｎｍ〜５００ｎｍ程度である。これは、水平配向膜と垂直配向膜とでほぼ同様である。このように、インクジェットで配向膜を塗布形成したとき、エッジ部分の膜厚が、均一な部分の膜厚の３〜７倍程度になる傾向が見られる。なお、フレキソ印刷の場合は、これが１〜３倍程度となる傾向が見られる。
【００２７】
垂直配向膜Ｂの仮焼成に引き続き、配向膜Ａ及びＢの本焼成を行った。実施例では２００℃で１．５時間、空気中での熱処理を行った。なお、本焼成の熱処理条件は、１８０℃〜２５０℃で１時間〜２時間の範囲とすればよい。
【００２８】
一方の基板の処理について説明したが、他方の基板も同様に、洗浄後、表示部分に水平配向膜Ａをインクジェットで形成して仮焼成し、背景部分に垂直配向膜Ｂをインクジェットで形成して仮焼成し、配向膜Ａ及びＢを本焼成した。他方の基板の水平配向膜Ａ（及び垂直配向膜Ｂ）は、一方の基板の水平配向膜Ａ（及び垂直配向膜Ｂ）と輪郭を一致して重ね合わせることができるパターンで形成される。
【００２９】
次に、図１（Ｅ）に示すように、配向処理としてラビングローラー３０を用いてラビングを行った。両基板を対向させてセルを形成したとき、一方の配向方向が他方の配向方向と９０度捩れるように、配向方向を選択した。
【００３０】
次に、図１（Ｆ）に示すように、両基板を、上方から見て表示パターン同士がぴったりと重なるように重ね合わせて、空セルを形成した。つまり、水平配向膜Ａ及び垂直配向膜Ｂの輪郭（配向膜ＡとＢとの境界）が、両基板で一致するように、両基板を重ね合わせた。
【００３１】
次に、図１（Ｇ）に示すように、空セルに誘電率異方性が正の液晶を真空注入して、液晶層３を形成した。なお、液晶層の形成は、空セルへの注入ではなく、表面張力を利用して行うこともできる。一方の基板上に液晶を滴下し、他方の基板を重ね合わせる滴下注入（ＯＤＦ）を用いることもできる。
【００３２】
さらに、両ガラス基板１の上下外側に直線偏光板４をクロスニコル配置となるように貼った。上下の透明電極２を、電圧印加装置１０に接続する。このようにして、実施例の液晶表示装置が作製される。
【００３３】
なお、インクジェットのヘッドとして、コニカミノルタ製のヘッドを用いたが、他社のもの、例えばスペクトラ社、ザール社、東芝テック社、マイクロテック社、エプソン、キヤノン、トライデント社等のものでも構わない。ヘッドの吐出量は微小滴（高精細）なものが望ましい。
【００３４】
次に、実施例の液晶表示装置の動作について説明する。電圧無印加時、水平配向膜Ａに挟まれた部分の液晶３Ａは、ＴＮモードの水平配向状態であり、表示パターンは明状態である。一方、垂直配向膜Ｂに挟まれた部分の液晶３Ｂは、垂直配向状態であり、背景は暗状態である。
【００３５】
電圧印加時、水平配向膜Ａに挟まれた部分の液晶３Ａは、液晶分子が電界方向に並び垂直に配向するので、表示パターンは暗状態に変化する。一方、垂直配向膜Ｂに挟まれた部分の液晶３Ｂにおいて、電極非配置部分は垂直配向のままであり、また電極配置部分も垂直配向が強まるだけなので、背景は暗状態を維持する。このように、実施例の液晶表示装置は、表示部分がノーマリーホワイトで、背景部分がブラックマトリクスとして機能するものとなる。
【００３６】
図２（Ａ）及び図２（Ｂ）は、実施例の液晶表示装置の表示パターン周辺の顕微鏡写真である。図２（Ａ）はライン状の表示パターン例のものであり、図２（Ｂ）は菱形の表示パターン例のものである。ライン状の表示パターンの幅は数百μｍ程度であり、菱形の表示パターンの１辺の長さは５ｍｍ程度である。
【００３７】
図２（Ａ）のサンプルでは、きれいなライン状表示が得られている。表示パターン以外の背景は完全に遮光されており、ブラックマトリクスとして機能している。表示パターンの電圧−透過率特性を測定したところ、通常の作製方法で作製した液晶表示装置と同等であることがわかった。
【００３８】
図２（Ｂ）のサンプルでは、ほぼ狙い通りの菱形の表示パターンが得られている。表示パターンの角の部分はやや丸みを持っているが、これは、インクジェットによるパターン塗布時に、水平配向膜が広がりながら形成されるためである。なお、広がり分を考慮してやや小さくパターン塗布を行っているので、水平配向膜のサイズは狙い通りである。塗布方法を工夫することにより、角の丸みを抑えることは可能と思えるが、ここでは特に工夫は行わなかった。角のアールは０．５ｍｍφ程度であった。
【００３９】
垂直配向膜は、水平配向膜の角のアールに沿って形成されている。表示パターン以外の背景は遮光され、ブラックマトリクスとして機能している。表示パターンの回りにある引き回し線も全く確認できない。
【００４０】
次に、表示パターンの他の例について説明する。
【００４１】
図３（Ａ）は、この例の表示パターンを示す概略平面図である。１桁の７セグメント表示部及び１つのドットが表示パターンを構成している。
【００４２】
図３（Ｂ）及び図３（Ｃ）は、それぞれ、この表示パターンに対応するコモン電極パターン及びセグメント電極パターンの例を示す。
【００４３】
図３（Ｄ）に示すように、コモン電極パターンとセグメント電極パターンとの重なり部分が、所望の表示パターンとなるように、コモン電極パターン及びセグメント電極パターンが設計されている。表示パターンをハッチングで示す。
【００４４】
図３（Ｅ）は、水平配向膜の形成領域を示す。水平配向膜形成領域をハッチングで示す。所望の表示パターンと（理想的には）一致するように、コモン電極側基板及びセグメント電極側基板それぞれに、水平配向膜が形成される。
【００４５】
コモン電極パターンとセグメント電極パターンとに挟まれた部分が、明暗が切り替え可能な表示可能部分となる。さらに、水平配向膜対向形成領域が、実際の表示部分を画定する。水平配向膜は、コモン電極側基板及びセグメント電極側基板の双方で、透明電極配置部分上に形成される。
【００４６】
図３（Ｆ）は、垂直配向膜の形成領域を示す。垂直配向膜形成領域をハッチングで示す。水平配向膜形成領域の外側、すなわち表示パターンの背景を埋めるように、コモン電極側基板及びセグメント電極側基板のそれぞれに、垂直配向膜が形成される。垂直配向膜は、コモン電極側基板及びセグメント電極側基板の双方で、透明電極配置部分（引き回し線部分）と透明電極非配置部分とにまたがって形成されている。垂直配向膜対向形成領域が、コモン電極パターン及びセグメント電極パターンの引き回し線部分を覆い、ブラックマトリクスとして機能する。
【００４７】
なお、以上の例では、水平配向膜を仮焼成してすぐに垂直配向膜を形成する場合を説明したが、水平配向膜を本焼成してから垂直配向膜を形成するようにしてもよい。その場合、水平配向膜の本焼成後、垂直配向膜の形成前に、純水や有機溶剤（ＩＰＡ等）を用いたジェット洗浄や超音波洗浄等、配向膜に悪影響を与えない程度の弱い洗浄を行ってもよい。
【００４８】
なお、以上の例では、まず水平配向膜を形成し、その後垂直配向膜を形成する場合を説明したが、垂直配向膜を先に形成することも可能である。ただし、初めに垂直配向膜を形成する場合は、垂直配向膜の表面エネルギーが低い（撥水性）ためか、水平配向膜をはじく傾向が出やすく、両配向膜の間に僅かながら隙間が出来ることがあり、材料及び塗布条件の選定に注意を要する。このような観点からは、水平配向膜を形成した後に垂直配向膜を形成する方が好ましい。
【００４９】
また、表示部分の配向膜は、下地が透明電極部材であるため、最初に塗布しても所望の形状を得やすい。一方、背景部分の配向膜は、下地が透明電極部材と透明基板部材との混合状態となるため、最初に塗布すると下地の表面エネルギーのばらつきに起因した塗布膜の広がり方のばらつきが生じやすく、所望の形状を得にくい。
【００５０】
表示部分の配向膜を形成した後に、背景部分の配向膜を形成することにより、背景部分の配向膜の広がり方が下地の状態によりばらついても、表示部分の配向膜のエッジで背景部分の配向膜の広がりをせき止めて、表示部分と背景部分の配向膜同士を隙間無く形成することが容易となる。このような観点から、表示部分の配向膜を形成した後に背景部分の配向膜を形成する方が好ましい。
【００５１】
なお、垂直配向膜として、ラビングにより傷つきにくいものが望ましい。また、強いラビング処理に対しても８９．５°以上のプレティルト角を有するものが望ましい。
【００５２】
なお、以上の例では、水平配向膜に挟まれた部分の液晶をＴＮモードとする場合について説明したが、必要に応じて他の液晶表示モード、例えばスーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、光学補償ベンド（ＯＣＢ）モードとすることもできる。
【００５３】
例えば、ＳＴＮの１８０°捩れでは偏光板はクロスニコルとし、偏光板の偏光軸はラビング方向から４５°ずつずらした方向とする。２４０°捩れではクロスニコルに限らない（モードにより違う）。補償板や２層セルを使って白黒表示をする場合はクロスニコルに近い条件とするので垂直配向部をブラックマトリクスに使うことは可能と思われる。ＩＰＳでは、偏光板はクロスニコルで、片方の偏光板の偏光軸とラビング方向を合わせる。ＯＣＢでは、偏光板はクロスニコルで、偏光板の偏光軸はラビング方向から４５°ずつずらした方向になる。なお、ＯＣＢモードに適用した場合、垂直配向部分がきっかけとなってスプレイ配向からベント配向への配向転移を容易に起こしやすい。
【００５４】
なお、図３（Ａ）〜図３（Ｆ）を参照して説明した例では、コモン電極パターンとセグメント電極パターンの重なり部分が所望の表示パターンとなるように、両電極が設計され、この表示パターンに一致させるように水平配向膜を形成したが、コモン電極パターンとセグメント電極パターンの重なり部分と、水平配向膜パターンとを必ずしも一致させる必要はない。
【００５５】
上記実施例では、水平配向膜対向形成領域が実際の表示部分を画定する。両側の基板とも透明電極が配置されている表示可能な領域内であれば、水平配向膜パターンにより所望の表示パターンを画定できる。従って、コモン及びセグメント電極は、重なり部分が表示パターンより広くなるように設計されていればよい。このように、表示パターンにこだわらずに透明電極パターンを設計できるようになり、引き回し線部分も含めて、電極パターンの設計自由度が上がる。
【００５６】
なお、水平配向膜対向形成領域が表示部分となり、垂直配向膜対向形成領域が背景部分となる例について説明したが、垂直配向膜対向形成領域が表示部分となり、水平配向膜対向形成領域が背景部分となるようにすることも可能である。
【００５７】
例えば、液晶の誘電率異方性を負にし、偏光板をパラレルニコルにし、水平配向膜対向形成部分をＴＮモードとして、垂直配向膜対向形成部分をノーマリーホワイトの表示部として働かせ、水平配向膜対向形成部分をブラックマトリクスとして働かせることも可能である。
【００５８】
以上説明したように、水平配向膜と垂直配向膜とを塗りわけることにより、表示部分と背景部分とを作り分けることが可能となる。両側の基板で、水平配向膜及び垂直配向膜のパターンを一致させ、水平配向膜同士及び垂直配向膜同士の輪郭が一致するように、両基板が重ね合わされる。水平配向膜パターン及び垂直配向膜パターンは、インクジェットを用いて高い自由度で良好に形成することができる。
【００５９】
例えば、誘電率異方性が正の液晶とクロスニコル配置の偏光板を用い、水平配向膜対向形成領域をノーマリーホワイトの表示部分とし、垂直配向膜対向形成領域をブラックマトリクスとして機能する背景部分とすることができる。配向膜と別にブラックマトリクス膜を形成する必要がない。また、表示部分の水平配向膜を先に形成し、背景部分の垂直配向膜を後に形成することにより、水平配向膜及び垂直配向膜のパターンを良好に形成しやすい。
【００６０】
なお、配向膜と別に、厚いブラックマトリクス膜を形成しないことにより、セル厚の均一性を高くできる。これは、ＳＴＮやＩＰＳ等高いセル厚均一性を要求される液晶表示モードには特に有効である。また、ブラックマトリクス膜を別途形成しなくてよいことは、特に、低コスト化が要求されるキャラクター表示に有効である。
【００６１】
なお、インクジェットでの配向膜形成は、電着法に比べ材料の選択自由度が高く、フレキソ法で印刷できていたほとんど全ての材料を使用可能である。高信頼性液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や、高い電圧保持率を要求される薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）ＬＣＤには特に有効である。なお、電着法は、配向膜材料が制限され、所望の性能付与が難しい。また、電着膜は多量のイオンを含み、ＴＦＴへの適用が難しい。
【００６２】
上記実施例の技術は、例えば、キャラクター表示、フルドット表示、及びそれらの混在表示を行う表示装置、特に、車載用ディスプレイ（カーナビ、マルチインフォメーション、クラスタ表示、センターコンソール等）や、航空機用ディスプレイや、遊戯用表示、携帯電話、デジタルスチルカメラ（ＤＳＣ）用表示、オーディオ表示、テレビ表示、パーソナルコンピュータ用表示等ディスプレイ関連全般に適用可能である。
【００６３】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】図１（Ａ）〜図１（Ｇ）は、本発明の実施例による液晶表示装置の製造方法を説明するための概略断面図である。
【図２】図２（Ａ）及び図２（Ｂ）は、実施例の液晶表示装置の表示パターンの例を示す顕微鏡写真である。
【図３−１】図３（Ａ）は、実施例の液晶表示装置の他の表示パターンの例を示す概略平面図であり、図３（Ｂ）及び図３（Ｃ）は、それぞれ、この表示パターンに対応するコモン電極パターン及びセグメント電極パターンの例を示す概略平面図である。
【図３−２】図３（Ｄ）は、図３（Ａ）に示す表示パターンに対応するコモン電極パターンとセグメント電極パターンとの重なり部分を示す概略平面図であり、図３（Ｅ）及び図３（Ｆ）は、それぞれ、水平配向膜形成領域及び垂直配向膜形成領域を示す概略平面図である。
【図４】特許文献１の開示する液晶表示装置の概略断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１  ガラス基板
２  ＩＴＯ層
Ａ  水平配向膜
Ｂ  垂直配向膜
３  液晶層
３Ａ  水平配向膜Ａに挟まれた部分の液晶
３Ｂ  垂直配向膜Ｂに挟まれた部分の液晶
４  偏光板
１０  電圧印加装置
２０、２１  インクジェットのヘッド
３０  ラビングローラー
【図１】
2009198621.tif 000003
【図３−１】
2009198621.tif 000004
【図３−２】
2009198621.tif 000005
【図４】
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【図２】
2009198621.tif 000007