(57)【要約】【課題】底部開口容器を用いる場合に、検出装置を移動させることなく、基板の位置ずれを検出することができる基板位置ずれ検出システムを提供する。【解決手段】底部に開口部を有する本体２と、開口部を開閉自在な蓋体３と、蓋体３に載置されてウエハＷを保持するカセット４とを有する容器１及びカセット４とともに蓋体３を昇降させる担持体８を有するカセットモジュール５に適用される基板位置ずれ検出システムは、担持体８に配されて昇降方向に光を投光・受光する回帰反射型センサ１０と、本体２の天井部において回帰反射型センサ１０と対向するように配されて光を反射する回帰反射板１２と、蓋体３に配されて光を透過させる透過窓１１とを有する検出装置を備え、該検出装置の構成要素は昇降方向の一直線上に配され、回帰反射型センサ１０が投光する光は、カセット４が所定の収容位置に保持するウエハＷによって遮光されない。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１枚の基板を収容する底部開口容器から前記基板を取出し又は前記底部開口容器へ前記基板を収容する基板取出装置における、前記基板の取出し又は収容の際に前記基板の位置ずれを検出する基板位置ずれ検出システムにおいて、
前記底部開口容器は、底部に開口部を有する略箱状の本体と、前記開口部を開閉自在な板状の蓋体と、前記本体に収容可能且つ前記基板を保持する保持体とを有し、前記蓋体は前記保持体を前記蓋体の上面に載置し、前記保持体は前記蓋体の上面と平行になるように前記基板を保持し、
前記基板取出装置は、前記底部開口容器を載置する載置部と、前記蓋体を担持する担持部とを有し、該担持部は、前記載置された底部開口容器の前記蓋体を前記保持体とともに下降・上昇させ、
前記担持部に配されて前記昇降方向に光を投光するとともに受光する光学部と、前記載置された底部開口容器における本体の天井部において前記光学部と対向するように配されて前記投光された光を反射する反射部と、前記蓋体に配されて前記投光された光及び前記反射された光を前記昇降方向に透過させる透過部とを有する検出装置を備え、
前記光学部、前記透過部及び前記反射部は前記昇降方向の一直線上に配され、
前記光学部が投光する光は、前記保持体が所定の収容位置に保持する基板によって遮光されないことを特徴とする基板位置ずれ検出システム。
【請求項２】
前記昇降方向に関する平面視において、前記透過部は前記保持体が所定の収容位置に保持する基板によって覆われないことを特徴とする請求項１記載の基板位置ずれ検出システム。
【請求項３】
搬送される前記基板が前記光学部によって投光される光を遮光するタイミングを検出することを特徴とする請求項１又は２記載の基板位置ずれ検出システム。
【請求項４】
前記基板を搬送する搬送部が前記光学部によって投光される光を遮光するタイミングを検出することを特徴とする請求項１又は２記載の基板位置ずれ検出システム。
【請求項５】
複数の前記検出装置を備え、
複数の前記検出装置の各々の前記光学部が投光する光は、所定の搬送経路に沿って搬送される前記基板によって同時に遮光されることを特徴とする請求項１又は２記載の基板位置ずれ検出システム。
【請求項６】
複数の前記検出装置を備え、
複数の前記検出装置の各々の前記光学部が投光する光は、前記基板を所定の搬送経路に沿って搬送する搬送部によって同時に遮光されることを特徴とする請求項１又は２記載の基板位置ずれ検出システム。
【請求項７】
前記光学部は光電センサであり、前記反射部は回帰反射板であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基板位置ずれ検出システム。
【請求項８】
前記基板取出装置は半導体製造システムの構成要素であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の基板位置ずれ検出システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板位置ずれ検出システムに関し、特に、基板の位置ずれを光学的に検出する基板位置ずれ検出システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、基板としての半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という。）に処理を施す基板処理システムは、複数のウエハに効率よく処理を施すために、ウエハに処理を施す処理装置と、複数のウエハを整列状態で収容する容器から処理装置にウエハを搬送する搬送装置とを備える。
【０００３】
容器は、ウエハの搬出入が可能な開口部を有する箱体であり、開口部が配される面に対して垂直にウエハを収容可能なウエハの周縁部を保持する溝形状の複数のスロットを内部に有する。また、容器は各スロットにウエハが挿入されることによって複数のウエハを互いに平行に整列させた状態で、内部の所定の収容位置に収容する。搬送装置は、容器の所定の収容位置に収容されたウエハを枚葉毎に又は一括で処理装置へ搬送し、該処理装置はウエハに種々の処理を施す。
【０００４】
しかしながら、上述の基板処理システムにおいて、容器に振動が加わること等によってウエハが所定の収容位置からずれることがある。ウエハが所定の収容位置からずれると、搬送装置は容器からウエハを所定の収容位置からずれたまま取り出すことになり、搬送されるウエハは想定外の経路をたどることになる。その結果、ウエハが基板処理システムの他の構成要素と衝突することによって破損するおそれがある。このようなウエハの破損を防止すべく、搬送前に、容器におけるウエハの位置ずれの有無を確認する必要がある。
【０００５】
ウエハの位置ずれの検出装置として、図７に示すような、ウエハが容器の所定の収容位置から開口部の前方にずれる状態である飛び出しを検出する検出装置３０が知られている（例えば、特許文献１参照。）。この検出装置３０は、容器３１の開口部の前方において、容器３１の上方及び下方にそれぞれ透過型センサを構成する投光部３２及び受光部３３を備え、投光部３２から受光部３３に向けて光を投光し、該投光された光が飛び出したウエハＷによって遮られているか否かを検出することによって、ウエハＷの飛び出しを検出する。
【０００６】
一方、他のウエハの位置ずれの検出装置として、各スロットに各ウエハが正しく挿入されず、容器に所定枚数以上又は所定枚数以下のウエハが収容される状態であるジャンプスロットを検出する検出装置が知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００７】
ところで、新世代の容器として、底面に開口部を有する略箱状の本体と、該開口部を開閉自在な板状の蓋体とを有するＢＯＰ（Bottom Opening Pod）（以下、「ＢＯＰ」という。）が検討されている。該ＢＯＰは複数のウエハを保持するカセットを収容する。該カセットは枠体であり、ウエハの周縁部を保持する溝形状の複数のスロットが互いに平行に配されている。カセットでは、各スロットにウエハが挿入されることによって複数のウエハが互いに平行に整列された状態で所定の収容位置に収容される。ＢＯＰでは、蓋体において該蓋体の上面（載置面）と収容された各ウエハが平行になるようにカセットが蓋体に載置される。
【０００８】
ＢＯＰではカセットと蓋体は連動し、カセットが蓋体とともに下降することによって該カセットがＢＯＰから取り出され、カセットが蓋体とともに上昇することによって該カセットがＢＯＰに収容される。ここで、蓋体の上昇・下降においてカセットがずれないように、蓋体の上昇・下降方向は蓋体の載置面に対して垂直であり、また、カセットを安定的に載置するために、蓋体の載置面の面積はウエハの面積よりも大きく設定される。
【特許文献１】特開２００３−１００８５２号公報
【特許文献２】特開平０７−１４７３１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ＢＯＰにおいて或るウエハが他のウエハと平行に移動してカセットから飛び出した場合、カセットの取り出しや収容において飛び出したウエハがＢＯＰの開口部の縁や本体の内壁面に衝突し、該ウエハが破損するおそれがある。そこで、ＢＯＰにおいても、カセットの取り出しや収容に先だってウエハのカセットからの飛び出しを検出する必要がある。
【００１０】
ウエハの飛び出しを検出するために、上述した透過型センサを用いる場合、ウエハの飛び出し方向とは垂直な方向、すなわち、蓋体の載置面とは垂直な方向に沿って投光部及び受光部を配置する必要があり、さらに、投光部及び受光部はできるだけカセットに収容されたウエハに近づける必要がある。
【００１１】
通常、透過型センサをカセットや蓋体に設けるとＢＯＰのコストが上昇するため、透過型センサはカセットや蓋体と別に設けられる。したがって、カセットや蓋体が上昇・下降しても透過型センサは一緒に上昇・下降しない。そして、投光部及び受光部はウエハに近づけられて配置されるが、上述したように、蓋体の載置面の面積はウエハの面積よりも大きいため、カセットや蓋体の上昇・下降の際、蓋体の移動経路に投光部及び受光部が存在することとなり、透過型センサと蓋体とが衝突するおそれがある。このため、透過型センサと蓋体とが衝突しないよう、カセットや蓋体の上昇・下降の際は、透過型センサを蓋体の載置面と水平な方向に移動させ、蓋体の移動経路から退避させる必要がある。
【００１２】
本発明の目的は、底部開口容器を用いる場合に、検出装置を移動させることなく、基板の位置ずれを検出することができる基板位置ずれ検出システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、請求項１記載の基板位置ずれ検出システムは、少なくとも１枚の基板を収容する底部開口容器から前記基板を取出し又は前記底部開口容器へ前記基板を収容する基板取出装置における、前記基板の取出し又は収容の際に前記基板の位置ずれを検出する基板位置ずれ検出システムにおいて、前記底部開口容器は、底部に開口部を有する略箱状の本体と、前記開口部を開閉自在な板状の蓋体と、前記本体に収容可能且つ前記基板を保持する保持体とを有し、前記蓋体は前記保持体を前記蓋体の上面に載置し、前記保持体は前記蓋体の上面と平行になるように前記基板を保持し、前記基板取出装置は、前記底部開口容器を載置する載置部と、前記蓋体を担持する担持部とを有し、該担持部は、前記載置された底部開口容器の前記蓋体を前記保持体とともに下降・上昇させ、前記担持部に配されて前記昇降方向に光を投光するとともに受光する光学部と、前記載置された底部開口容器における本体の天井部において前記光学部と対向するように配されて前記投光された光を反射する反射部と、前記蓋体に配されて前記投光された光及び前記反射された光を前記昇降方向に透過させる透過部とを有する検出装置を備え、前記光学部、前記透過部及び前記反射部は前記昇降方向の一直線上に配され、前記光学部が投光する光は、前記保持体が所定の収容位置に保持する基板によって遮光されないことを特徴とする。
【００１４】
請求項２記載の基板位置ずれ検出システムは、請求項１記載の基板位置ずれ検出システムにおいて、前記昇降方向に関する平面視において、前記透過部は前記保持体が所定の収容位置に保持する基板によって覆われないことを特徴とする。
【００１５】
請求項３記載の基板位置ずれ検出システムは、請求項１又は２記載の基板位置ずれ検出システムにおいて、搬送される前記基板が前記光学部によって投光される光を遮光するタイミングを検出することを特徴とする。
【００１６】
請求項４記載の基板位置ずれ検出システムは、請求項１又は２記載の基板位置ずれ検出システムにおいて、前記基板を搬送する搬送部が前記光学部によって投光される光を遮光するタイミングを検出することを特徴とする。
【００１７】
請求項５記載の基板位置ずれ検出システムは、請求項１又は２記載の基板位置ずれ検出システムにおいて、複数の前記検出装置を備え、複数の前記検出装置の各々の前記光学部が投光する光は、所定の搬送経路に沿って搬送される前記基板によって同時に遮光されることを特徴とする。
【００１８】
請求項６記載の基板位置ずれ検出システムは、請求項１又は２記載の基板位置ずれ検出システムにおいて、複数の前記検出装置を備え、複数の前記検出装置の各々の前記光学部が投光する光は、前記基板を所定の搬送経路に沿って搬送する搬送部によって同時に遮光されることを特徴とする。
【００１９】
請求項７記載の基板位置ずれ検出システムは、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基板位置ずれ検出システムにおいて、前記光学部は光電センサであり、前記反射部は回帰反射板であることを特徴とする。
【００２０】
請求項８記載の基板位置ずれ検出システムは、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の基板位置ずれ検出システムにおいて、前記基板取出装置は半導体製造システムの構成要素であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１記載の基板位置ずれ検出システムによれば、昇降方向に光を投光するとともに受光する光学部は蓋体を担持して保持体とともに昇降させる担持部に配され、投光された光を反射する反射部は底部開口容器における本体の天井部に配され、透過部は蓋体に配されるので、蓋体の昇降の際、蓋体の移動経路に光学部、反射部及び透過部が存在することがなく、光学部、反射部及び透過部を備える検出装置を移動させる必要を無くすことができる。また、光学部、透過部及び反射部は昇降方向の一直線上に配され、光学部が投光した光は、保持体が所定の収容位置に保持する基板によって遮光されないので、基板が保持体から突出せずに所定の収容位置からの位置ずれを起こしていない場合には、光学部は透過部を介して反射部に反射された光を受光することができる。一方、基板が保持体から突出して所定の収容位置からの位置ずれを起こした場合には、光学部が投光した光は、保持体から突出した基板によって遮光されるため、光学部が投光した光は反射部に到達せず、結果として、光学部は反射部が反射した光を受光することがない。これにより、基板の位置ずれを検出することができる。
【００２２】
請求項２記載の基板位置ずれ検出システムによれば、昇降方向に関する平面視において、透過部は保持体が所定の収容位置に保持する基板によって覆われないので、基板が保持体から突出せずに所定の収容位置からの位置ずれを起こしていない場合には、光学部は透過部を介して反射部に反射された光を受光することができる。一方、基板が保持体から突出して所定の収容位置からの位置ずれを起こした場合には、透過部は保持体から突出した基板によって覆われるため、光学部が投光した光は反射部に到達せず、結果として、光学部は反射部が反射した光を受光しない。これにより、基板の位置ずれを検出することができる。
【００２３】
請求項３記載の基板位置ずれ検出システムによれば、搬送される基板が光学部によって投光される光を遮光するタイミングが検出される。搬送中に位置ずれを起こしていない基板が上記光を遮光するタイミングと、搬送中に位置ずれを起こしている基板が上記光を遮光するタイミングとは異なる。したがって、搬送される基板の位置ずれを検出することができる。
【００２４】
請求項４記載の基板位置ずれ検出システムによれば、基板を搬送する搬送部が光学部によって投光される光を遮光するタイミングが検出される。搬送経路から位置ずれを起こしていない搬送部が上記光を遮光するタイミングと、搬送経路から位置ずれを起こしている搬送部が上記光を遮光するタイミングとは異なる。したがって、搬送部の位置ずれを検出することができる。
【００２５】
請求項５記載の基板位置ずれ検出システムによれば、搬送される基板が所定の搬送経路からの位置ずれを起こしていない場合には、複数の光学部が投光する光は搬送される基板によって同時に遮光される。一方、搬送される基板が所定の搬送経路からの位置ずれを起こした場合には、複数の光学部が投光する光は搬送される基板によって同時に遮光されず、結果として、各々の光が遮光されるタイミングがずれる。これにより、搬送される基板の位置ずれを検出することができる。
【００２６】
請求項６記載の基板位置ずれ検出システムによれば、搬送部が所定の搬送経路からの位置ずれを起こしていない場合には、複数の光学部が投光する光は搬送部によって同時に遮光される。一方、搬送部が所定の搬送経路からの位置ずれを起こした場合には、複数の光学部が投光する光は搬送部によって同時に遮光されず、結果として、各々の光が遮光されるタイミングがずれる。これにより、搬送部の位置ずれを検出することができる。
【００２７】
請求項７記載の基板位置ずれ検出システムによれば、光学部は光電センサであり、反射部は回帰反射板であるので、コストを抑えることができる。また、底部開口容器に電気部品を実装する必要がないので、底部開口容器の取り扱いが容易となる。
【００２８】
請求項８記載の基板位置ずれ検出システムによれば、前記基板取出装置は半導体製造システムの構成要素であるので、底部開口容器が接続される半導体製造システムにおいて、検出装置を移動させることなく、基板の位置ずれを検出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００３０】
図１は、本実施の形態に係る基板位置ずれ検出システムが適用される基板受入装置及び容器の構成を概略的に示す断面図である。
【００３１】
図１において、容器１（底部開口容器）は、底部に開口部を有する略箱状の本体２と、該開口部を開閉自在な板状の蓋体３と、本体２に収容可能且つウエハＷを保持するカセット４とを有するＢＯＰである。カセット４（保持体）は、ウエハＷの周縁部を保持する溝形状の複数のスロット（図示しない。）を有する枠体であり、各スロットにウエハＷが挿入されることによって複数のウエハＷが互いに平行に整列された状態で保持される。また、カセット４は、蓋体３の上面（載置面）と各ウエハが平行になるようにウエハＷを保持するとともに蓋体３の載置面に載置される。ＢＯＰでは、蓋体３が開口部を閉塞することによって、容器１の内部は周辺雰囲気から隔絶される。本実施の形態では、ウエハＷがカセット４のスロットに正しく挿入されている状態（スロットから飛び出してない状態）のウエハＷの位置を所定の収容位置とする。
【００３２】
略箱状のカセットモジュール５（基板取出装置）は、該カセットモジュール５の天井部に配されて容器１を載置するポート６（載置部）と、ゲートバルブ（図示しない。）を介して、例えばトランスファモジュール（図示しない。）と接続される連結部７とを備える。さらに、カセットモジュール５の内部には、蓋体３を担持する板状の担持体８（担持部）と、該担持体８を支持する支持体９とが配置され、支持体９の一端は担持体８を支持し、他端はカセットモジュール５の内部の底面に接続されている。担持体８はウエハＷの面積よりも大きい上面を有し、支持体９は担持体８がカセットモジュール５の天井部−底部方向に昇降自在となるように、リフト機構（図示しない。）を有している。
【００３３】
検出装置は、担持体８に配されて昇降方向に光を投光するとともに受光する光電センサとしての回帰反射型センサ１０（光学部）と、本体２の天井部において回帰反射型センサ１０と対向するように配されて投光された光を反射する回帰反射板１２（反射部）と、蓋体３に配されて投光された光及び反射された光を昇降方向に透過させる透過窓１１（透過部）とを備える。また、回帰反射型センサ１０、透過窓１１及び反射板１２は昇降方向の一直線上に配され、さらに、回帰反射型センサ１０は担持体８の上面から突出せず、透過窓１１は蓋体３の載置面及び下面から突出せず、反射板１２は容器１に収容されるカセット４及び該カセット４が保持する所定の収容位置のウエハＷと接触しないように配される。    
【００３４】
また、蓋体３上における透過窓１１は、担持体８の昇降方向に関する平面視において所定の収容位置に保持されるウエハＷによって覆われない位置であって、ウエハＷが突出しうる方向におけるカセット４の所定の収容位置に保持されるウエハＷによって覆われる部分の近傍に配置される（後述の図３参照。）。
【００３５】
担持体８は、支持体９のリフト機構によって上昇して該担持体８の上面を蓋体３の下面に当接させる。そして、担持体８は、蓋体３及び蓋体３に載置されたカセット４を担持した状態で下降して容器１からカセット４を取り出すとともに、蓋体３及びカセット４をカセットモジュール５の内部に搬送する。また、カセットモジュール５の内部において蓋体３及びカセット４を担持する担持体８は、上昇してカセット４をカセットモジュール５の内部から容器１の内部へ搬送する。この搬送工程において、蓋体３及びカセット４の移動方向は常にカセットモジュール５の天井部−底部方向であり、蓋体３の上面と平行になるようにカセット４に保持されるウエハＷは、蓋体３及びカセット４の移動方向に対して常に垂直となる。
【００３６】
図２は、図１の基板受入装置及び容器においてウエハが所定の収容位置からの位置ずれを起こしていない場合におけるカセット、蓋体及びウエハの位置関係を示す断面図であり、図３は、図２におけるカセット、蓋体及びウエハの位置関係を示す平面図である。また、図４は、図１の基板受入装置及び容器においてウエハが所定の収容位置からの位置ずれを起こしている場合におけるカセット、蓋体及びウエハの位置関係を示す断面図であり、図５は、図４におけるカセット、蓋体及びウエハの位置関係を示す平面図である。
【００３７】
ウエハＷが所定の収容位置からの位置ずれを起こしていない場合、図３に示すように、昇降方向に関する平面視において透過窓１１はウエハＷによって覆われないので、回帰反射型センサ１０によって天井部に向かって投光された光は、透過窓１１を透過してウエハＷに遮られることなく回帰反射板１２に到達する。該到達した光は回帰反射板１２によって底部方向に反射され、透過窓１１を透過して回帰反射型センサ１０に受光される（図２参照。）。
【００３８】
或るウエハＷｏが所定の収容位置からの位置ずれを起こしている場合、図５に示すように、昇降方向に関する平面視において透過窓１１は突出したウエハＷｏによって覆われるので、回帰反射型センサ１０によって天井部に向かって投光された光は、透過窓１１を透過した後に突出したウエハＷｏに遮られ、回帰反射板１２に到達しない。その結果、投光された光は回帰反射板１２によって反射されず、回帰反射型センサ１０は光を受光しない（図４参照。）。
【００３９】
このように、光を投光した回帰反射型センサ１０は、ウエハＷが所定の収容位置からの位置ずれを起こしていない場合には光を受光するが、ウエハＷｏが所定の収容位置からの位置ずれを起こしている場合には光を受光しないため、受光する光の有無によってウエハＷの位置ずれの有無を検出することができる。
【００４０】
本実施の形態にかかる基板位置ずれ検出システムによれば、昇降方向に光を投光するとともに受光する回帰反射型センサ１０は蓋体３を担持してカセット４とともに昇降させる担持体８に配され、投光された光を反射する回帰反射板１２は容器１における本体２の天井部に配され、透過窓１１は蓋体３に配されるので、蓋体３の昇降の際、蓋体３の移動経路に回帰反射型センサ１０、透過窓１１及び回帰反射板１２が存在することがなく、回帰反射型センサ１０、透過窓１１及び回帰反射板１２を備える検出装置が蓋体３と衝突するのを無くすことができ、もって、検出装置を移動させる必要を無くすことができる。
【００４１】
また、回帰反射型センサ１０、透過窓１１及び回帰反射板１２は昇降方向の一直線上に配され、回帰反射型センサ１０が投光した光は、カセット４が所定の収容位置に保持するウエハＷによって遮光されないので、ウエハＷがカセット４から突出せずに所定の収容位置からの位置ずれを起こしていない場合には、回帰反射型センサ１０は透過窓１１を介して回帰反射板１２が反射した光を受光することができる。一方、ウエハＷがカセット４から突出して所定の収容位置からの位置ずれを起こした場合には、回帰反射型センサ１０が投光した光は突出したウエハＷｏに遮光されるため、該光は回帰反射板１２に到達せず、結果として、回帰反射型センサ１０は回帰反射板１２が反射した光を受光することがない。これにより、ウエハＷの位置ずれを検出することができる。
【００４２】
なお、本実施の形態に係る基板位置ずれ検出システムにおいて、透過窓１１は、比較的小さく構成されているため、上述の平面視において、回帰反射型センサ１０が投光する光が所定の収容位置のウエハＷによって遮光されない場合には、透過窓１１は該ウエハＷに覆われず、回帰反射型センサ１０が投光する光が突出したウエハＷｏによって遮光される場合には、透過窓１１は該ウエハＷｏに覆われることとなる。
【００４３】
検出装置は、回帰反射型センサ１０が投光する光が所定の収容位置のウエハＷによって遮光されず、回帰反射型センサ１０が投光する光が突出したウエハＷｏによって遮断される位置に配されればよい。例えば、透過窓１１が比較的大きく構成される場合、透過窓１１が突出したウエハＷｏによって全て覆われる必要はなく、透過窓１１の一部を覆うウエハＷｏが、回帰反射型センサ１０が投光する光を遮光すればよい。
【００４４】
また、担持体８の昇降の際におけるカセット４に収容されるウエハＷと本体２の内壁面との衝突を防止するためには、例えば、透過窓１１が、上述の平面視において所定の収容位置に保持されるウエハＷによって覆われない位置であって、ウエハＷが突出しうる方向における蓋体３の外縁近傍に配されていればよい。これにより、上述の平面視において光が蓋体３の外縁近傍から昇降方向に向けて投光されることになるため、ウエハＷの蓋体３からの突出を検出することができ、結果として、担持体８の昇降の際におけるカセット４に収容されるウエハＷと本体２の内壁面との衝突の可能性を事前に検知することができる。
【００４５】
また、基板位置ずれ検出システムにおいて、搬送されるウエハＷが回帰反射型センサ１０によって投光される光を遮光するタイミングを検出してもよい。例えば、カセット４から搬出されたウエハＷが、回帰反射型センサ１０によって投光される光を遮光するタイミングを検出する場合、搬送中に位置ずれを起こしていないウエハＷが光を遮光するタイミングと、搬送中に位置ずれを起こしているウエハＷが光を遮光するタイミングとは異なる。したがって、搬送されるウエハＷの位置ずれを検出することができる。
【００４６】
また、基板位置ずれ検出システムにおいて、ウエハＷを搬送する搬送部、例えば後述するピック２０が回帰反射型センサ１０によって投光される光を遮光するタイミングを検出してもよい。例えば、カセット４からウエハＷを搬出すべくカセット４に接近する搬送部が、回帰反射型センサ１０によって投光される光を遮光するタイミングを検出する場合、搬送経路から位置ずれを起こしていない搬送部が光を遮光するタイミングと、搬送経路から位置ずれを起こしている搬送部が光を遮光するタイミングとは異なる。したがって、搬送部の位置ずれを検出することができる。
【００４７】
また、基板位置ずれ検出システムが備える検出装置の数は１つに限られない。例えば、カセット４に保持されるウエハＷが搬送部によって搬出される際、図６に示すように、上述した平面視において、２つの検出装置（透過窓１１）がピック２０（搬送部）によるウエハＷの搬出方向に関して垂直であって、ウエハＷの搬出経路中心線（図中一点鎖線で示す。）から等距離に配されていてもよい。
【００４８】
この場合、ピック２０が、ウエハＷを正規な位置に保持したまま、該ウエハＷをカセット４から搬出するとき、すなわち、ウエハＷが所定の搬送経路に沿って搬送されるときには、２つの回帰反射型センサ１０が投光する各々の光は、搬送されるウエハＷによって同時に遮光されるため、２つの回帰反射型センサ１０による受光が中断されるタイミングが同時となる。一方、ピック２０が、ウエハＷを正規な位置に保持しないまま、該ウエハＷをカセット４から搬出するとき、すなわち、ウエハＷが所定の搬送経路に沿って搬送されないときには、２つの回帰反射型センサ１０が投光する各々の光はウエハＷによって同時に遮断されず、２つの回帰反射型センサ１０による受光が中断されるタイミングが異なることになる。したがって、２つの検出装置による受光のタイミングを比較することにより、ウエハＷが所定の搬送経路に沿って搬送されているか否かを検出することができ、もって、ピック２０がウエハＷを正規な位置に保持したか否かを検出することができる。
【００４９】
また、ピック２０がウエハＷを保持していない場合に、２つの回帰反射型センサ１０が投光する各々の光がピック２０の端部２１，２２によって同時に遮光されるか否かを比較することにより、ピック２０の位置ずれを検出してもよい。
【００５０】
また、本実施の形態では、検出装置の構成要素が、回帰反射型センサ１０、透過窓１１及び回帰反射板１２のみであるので、基板位置ずれ検出システムの製造コストを抑えることができる。さらに、ＢＯＰには回帰反射板１２及び透過窓１１が配されるのみであり、光電センサのような電気部品を実装する必要がないので、ＢＯＰの洗浄の際等の該ＢＯＰの取り扱いが容易となる。
【００５１】
なお、上述した各実施の形態では、基板が半導体ウエハであったが、基板はこれに限らず、例えば、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）やＦＰＤ（Flat Panel Display）等のガラス基板であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本実施の形態に係る基板位置ずれ検出システムが適用される基板受入装置及び容器の構成を概略的に示す断面図である。
【図２】図１の基板受入装置及び容器においてウエハが所定の収容位置からの位置ずれを起こしていない場合におけるカセット、蓋体及びウエハの位置関係を示す断面図である。
【図３】図２におけるカセット、蓋体及びウエハの位置関係を示す平面図である。
【図４】図１の基板受入装置及び容器においてウエハが所定の収容位置からの位置ずれを起こしている場合におけるカセット、蓋体及びウエハの位置関係を示す断面図である。
【図５】図４におけるカセット、蓋体及びウエハの位置関係を示す平面図である。
【図６】本実施の形態に係る基板位置ずれ検出システムの変形例の構成を概略的に示す平面図である。
【図７】従来の基板位置ずれ検出システムが適用される基板受入装置及び容器の構成を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
Ｗ，Ｗｏ    ウエハ
１    容器
２    本体
３    蓋体
４    カセット
５    カセットモジュール
６    ポート
８    担持体
１０    回帰反射型センサ
１１    透過窓
１２    回帰反射板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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