(57)【要約】【課題】電気特性が時間経過に関わらず感光体面内で均一で、初期から画質の均一性が得られる画像形成装置を提供すること。【解決手段】導電性基体上に、有機感光層と、第１３族元素と酸素とを含有する表面層と、を有する感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、弾性部材、及び、画像形成を行わない時に前記感光体を回転させ、回転している当該感光体表面に前記弾性部材を押し当てる制御手段を備えたことを特徴とする画像形成装置。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体上に、有機感光層と、第１３族元素と酸素とを含有する表面層と、を有する感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、弾性部材、及び、前記感光体を回転させ、回転している当該感光体表面に前記弾性部材を押し当てる制御手段を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記弾性部材が、前記帯電手段、前記現像手段、前記転写手段、及び前記クリーニング手段のいずれか１つの手段に含まれ、前記制御手段により、画像形成を行わない時に前記感光体を回転させ、回転している当該感光体表面に前記弾性部材を押し当てることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記帯電手段が非接触方式であり、且つ、前記弾性部材がゴム状弾性体からなるロールであり、該ロールが、前記制御手段により前記感光体に押し当てられ、当該感光体と接触して回転することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記表面層中の第１３族元素がガリウムであることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記表面層の厚みが０．０５μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記弾性部材を、前記感光体の回転軸方向の単位長さ当り１ｇ/ｃｍ以上１０ｇ/ｃｍ以下の力により押し当てることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
導電性基体上に、有機感光層と、第１３族元素と酸素とを含有する表面層と、する感光体に対し、弾性部材を該感光体の回転軸方向の単位長さ当り１ｇ/ｃｍ以上１０ｇ/ｃｍ以下の力により押し当てることを特徴とする感光体の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置、及び感光体の処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真方式を用いた複写機・プリンタ等が幅広く利用されている。
このような電子写真方式を利用した画像形成装置においては、高湿度環境での画像流れ防止と、摩耗量の低減による感光体の長寿命化と、の両立のため種々の提案がなされている。しかしながら、感光体の摩耗量が極端に少ない場合は、放電生成物による画像流れを防ぐためには、除湿のためのヒーターを追加する以外に決定的な改善策がなく、新たな負荷が生じていた。
【０００３】
このような中で、ヒーターを用いずに画像流れの防止と、感光体の摩耗量の低減と、を両立するものとして、プラズマＣＶＤ法により酸素ガリウムからなる無機表面層を形成してなる有機感光体、これを用いた複写機・プリンタなどの電子写真方式の画像形成装置が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、別の手段として、弾性ローラにより感光体表面を研磨し像流れを防ぐ提案(例えば、特許文献２参照。）や、接触帯電器をなす導電性弾性ローラの表面層の改善による帯電ムラをなくす提案（例えば、特許文献３〜５参照。）がなされている。
【特許文献１】特開２００６−２６７５０７号公報
【特許文献２】特開平１０−３１２１３９号公報
【特許文献３】特開平５−２５７３６３号公報
【特許文献４】特開平８−１３７１９４号公報
【特許文献５】特開２００６−１４５６３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のように、種々の提案がなされているが、感光体電気特性の時間経過に伴う面内の均一性の変化については考慮されておらず、面内の画質の均一性が得られるまで長時間を要する問題があるのが現状である。
そこで、本発明は、電気特性が時間経過に関わらず感光体面内で均一で、初期から画質の均一性が得られる画像形成装置を提供することを課題とする。
また、電気特性が時間経過に関わらず感光体面内で均一となる感光体の処理方法を提供することも本発明の課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題は以下の本発明の形態により達成される。すなわち、
請求項１に係る発明は、導電性基体上に、有機感光層と、第１３族元素と酸素とを含有する表面層と、を有する感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、弾性部材、及び、前記感光体を回転させ、回転している当該感光体表面に前記弾性部材を押し当てる制御手段を備えたことを特徴とする画像形成装置である。
【０００６】
請求項２に係る発明は、前記弾性部材が、前記帯電手段、前記現像手段、前記転写手段、及び前記クリーニング手段のいずれか１つの手段に含まれ、前記制御手段により、画像形成を行わない時に前記感光体を回転させ、回転している当該感光体表面に前記弾性部材を押し当てることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置である。
請求項３に係る発明は、前記帯電手段が非接触方式であり、且つ、前記弾性部材がゴム状弾性体からなるロールであり、該ロールが、前記制御手段により前記感光体に押し当てられ、当該感光体と接触して回転することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置である。
【０００７】
請求項４に係る発明は、前記表面層中の第１３族元素がガリウムであることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置である。
請求項５に係る発明は、前記表面層の厚みが０．０５μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の画像形成装置である。
請求項６に係る発明は、前記弾性部材を、前記感光体の回転軸方向の単位長さ当り１ｇ/ｃｍ以上１０ｇ/ｃｍ以下の力により押し当てることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の画像形成装置である。
【０００８】
請求項７に係る発明は、導電性基体上に、有機感光層と、第１３族元素と酸素とを含有する表面層と、を有する感光体に対し、弾性部材を該感光体の回転軸方向の単位長さ当り１ｇ/ｃｍ以上１０ｇ/ｃｍ以下の力により押し当てることを特徴とする感光体の処理方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、電気特性が時間経過に関わらず感光体面内で均一で、初期から画質の均一性が得られる画像形成装置を提供することができる。
また、本発明によれば、電気特性が時間経過に関わらず感光体面内で均一となる感光体の処理方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の画像形成装置、及び感光体の処理方法について、詳細に説明する。
【００１１】
＜画像形成装置＞
本発明の画像形成装置は、導電性基体上に、有機感光層と、第１３族元素と酸素とを含有する表面層と、を有する感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、弾性部材、及び、前記感光体を回転させ、回転している当該感光体表面に前記弾性部材を押し当てる制御手段を備えたことを特徴とする画像形成装置である。
特に、本発明においては、弾性部材が、帯電手段、現像手段、転写手段、及びクリーニング手段のいずれか１つの手段に含まれていてもよい。つまり、帯電手段、露光手段、現像手段、及びクリーニング手段のように、感光体に接触しうる手段中のいずれかを、弾性部材とすることで、弾性部材を別に設けることなく、本発明の画像形成装置の構成を得ることができる。但し、この場合には、制御手段により、画像形成を行わない時に感光体を回転させ、回転している感光体表面に弾性部材を押し当てる必要がある。
【００１２】
本実施形態の画像形成装置について、図１〜図５を参照して説明する。
ここで、図１〜図５は、本実施形態の第１乃至第５の画像形成装置の構成の一例を示す概略断面図である。
図１には、帯電手段が弾性部材（弾性ロール）２０ａにて構成されており、弾性ロール２０ａが制御手段８０に制御される場合の画像形成装置１ａが示されている。
図２には、現像手段中に弾性部材（弾性ロール）４２を含む構成を有しており、弾性ロール４２が制御手段８０に制御される場合の画像形成装置１ｂが示されている。
図３には、転写手段が弾性部材（弾性ロール）５０ａにて構成されており、弾性ロール５０ａが制御手段８０に制御される場合の画像形成装置１ｃが示されている。
図４には、クリーニング手段中に弾性部材（弾性ロール）６２を含む構成を有しており、弾性ロール６２が制御手段８０に制御される場合の画像形成装置１ｄが示されている。
図５には、感光体の回転方向に対し、クリーニング手段の下流で、且つ、帯電手段の上流に、弾性部材（弾性ロール）７０を有する構成を有しており、弾性ロール７０が制御手段８０に制御される場合の画像形成装置１ｅが示されている。
【００１３】
上述のように、本実施形態における画像形成装置においては、制御手段８０により、弾性部材（弾性ロール）を感光体に押し当てられる構成を有する。
ここで、制御手段８０は、回転している感光体表面に弾性部材を押し当てることを制御する。なお、弾性部材が、帯電手段、現像手段、転写手段、及びクリーニング手段のいずれか１つの手段に含まれている場合には、画像形成を行わない時に感光体を回転させ、回転している感光体表面に弾性部材を押し当てる必要がある。ここで、「画像形成を行わない時」とは、具体的には、画像形成装置の電源投入後の暖機待ち時間や待機状態からの復帰時間、画質安定のための感光体電気特性の測定時間など、画像形成装置が本来の目的である画像情報の出力のため前記各手段が順次実行されている以外の状態にあることを意味する。
【００１４】
なお、弾性部材が感光体表面に押し当てられる際、その押し当て圧としては、ニップ内で大きな圧力分布があるため面圧より線圧とする方が実用的であり、本発明でも弾性部材と感光体の形状を規定して、回転軸方向の単位長さ当りの荷重となる線圧で示して１ｇ/ｃｍ以上１０ｇ/ｃｍ以下が好ましい。
また、押し当て時間としては、感光体と弾性部材が形成するニップを感光体表面が通過に要した時間の累積で示し、１００秒以上が好ましい。
更に、弾性部材が感光体表面に押し当てられる際、加圧（押し当て）と開放を繰り返すことが好ましく、１００回以上繰り返すことが好ましい。
【００１５】
更に、本実施形態に用いる弾性部材は、上記の押し当てが可能であれば、その形状は問われず、図１〜図５に示すように、ゴム状弾性体からなる弾性ロールであってもよいし、弾性パッド、板状の弾性部材の端部を押し当てたもの等であればよい。
また、本実施形態に用いる弾性部材を構成する弾性材料（ゴム状弾性体）としては、ウレタンゴム、発泡ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、ポリイミド変性シリコーンゴム、フッ素ゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、ニトリルゴム、天然ゴム、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム）などが用いられる。中でも、ゴム硬度がＪＩＳ Ｋ ６２５３に規定されているタイプＡデュロメータ硬さでＡ５０以上Ａ８０以下であるものが好ましい。
【００１６】
本実施形態の画像形成装置中の感光層は、有機感光層上に、第１３族元素と酸素とを含有する表面層を有することを特徴としている。
このような表面層は、一般に、プラズマＣＶＤ法により形成されることが多く、表面層形成時の温度上昇で、表面層と有機感光層との熱膨張率の差から応力が生じる。その結果、有機感光層の感度低下がみられ、また、この応力の緩和が経時により面内で不均一に起こっていた。
本実施形態においては、上記のような表面層を有する有機感光体を回転させ、回転している有機感光体に対し弾性部材を押し当てることで、感光体表面に押付け摩擦力がかかり、有機感光層と表面層との間に生じたと考えられる応力を均一に緩和することができ、その結果、短時間で感光体の電気特性を均一とすることが可能となる。そのため、本発明の画像形成装置において、印刷初期から画質の均一性を得ることができる。
以下、図１〜図５に示される画像形成装置を構成する各部材について、説明する。
【００１７】
〔感光体〕
本実施形態の画像形成装置における感光体（図１〜図５中では感光体１０）は、導電性基体上に、有機感光層と、第１３族元素と酸素とを含有する表面層と、を有する。
このような構成の感光体は、表面層として、硬度及び透明性に優れた第１３族元素の酸化物を含むため、表面の耐磨耗性に優れ、傷の発生を抑制し、良好な感度を得ることが容易である。また、この表面層を有する感光体は、画像形成装置内で、帯電器によって発生するオゾンや窒素酸化物等による酸化雰囲気に対して、感光体表面自体が酸化され難いため、酸化による感光体の劣化を防止することができる。また、機械的耐久性や耐酸化性に優れることから、これらの特性を長期に渡って高いレベルで維持することが容易である。
【００１８】
本実施形態における感光体は、導電性基体上に、有機感光層と表面層とがこの順に積層されたものであれば特に限定されず、これら３つの層の間に必要に応じて後述する下引層等の中間層を設けてもよい。また、有機感光層は、２層以上であってもよく、更に、機能分離型であってもよい。
【００１９】
以下、本実施形態における感光体の層構成の具体例について、図６を用いてより詳細に説明する。ここで、図６は、本実施形態に好適な感光体の層構成の一例を示す概略断面図である。
図６に示される感光体２１０は、導電性基体２１１上に、下引層２１３、電荷発生層２１５ａと電荷輸送層２１５ｂとからなる有機感光層２１５、及び表面層２１７をこの順に有する構成である。
【００２０】
（表面層）
まず、表面層２１７について、説明する。
この表面層は、少なくとも第１３族元素及び酸素を含んで構成されることを特徴としており、この２つの元素のみから構成されているものであってもよいが、本発明の効果を損なわない範囲において、窒素、水素、炭素、などの元素を含んでいてもよい。このような他の元素を含むことで、表面層の諸物性を容易に且つ柔軟に制御することができ、本発明の効果を更に高めることができる。
【００２１】
本実施形態における表面層中の組成は、均一であってもよいが、第１３族元素と酸素とを含有し、且つ、第１３族元素に対する酸素の含有質量比が０．９〜１．４が好ましい。第１３族元素に対する酸素の含有質量比が０．９〜１．４であれば、厚み方向において傾斜していてもよい。また、本実施形態における表面層は、第１３族元素と酸素とを含有し、且つ、第１３族元素に対する酸素の含有質量比が０．９〜１．４であれば、組成の異なる層を積層してなる多層構造を有していてもよい。
【００２２】
また、本実施形態における表面層では、厚み方向における酸素の濃度分布は、均一でも不均一でもよいが、有機感光層側に向かって減少（すなわち、表面層の表面側に向かって増加）していることが好ましい。特に、表面層の表面側近傍では、酸素とガリウムとからなり、且つ、有機感光層側近傍では、酸素以外の他の元素とガリウムとからなる（すなわち、酸素を含まない）ことが好ましい。
このような酸素濃度分布を有することにより、機械的耐久性、耐酸化性、放電生成物の付着に起因する画像欠陥及び感度をより高いレベルで両立させることができる上に、これらの特性をより長期に渡って維持することが容易であり、特に、酸素以外の他の元素が窒素である場合に、このような効果がより一層発揮される。なお、表面層厚み方向の酸素濃度の分布プロファイルは特に限定されず、例えば、直線状、曲線状、階段状のいずれでもよい。
【００２３】
表面層に含まれる１３族元素としては、具体的には、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、及びＩｎから選ばれる少なくとも一つ以上の元素を用いることができる。これらの原子の表面層中の含有量は、感光体表面の露光に用いる光をできるだけ吸収しないように選択する必要があるが、一般的には以下の範囲内であることが好ましい。
すなわち、Ｂ，Ａｌ及びＧａ原子を用いる場合のこれら原子の表面層中の含有量は、０．１原子％〜５０原子％の範囲内であることが好ましく、５原子％〜４０原子％の範囲内であることがより好ましい。Ｂ、ＡｌやＧａ原子の含有量が、０．１原子％未満の場合は、表面層の形成自体が困難となる場合がある。また、含有量が、５０原子％を超える場合は、表面層の透明性が低下し、感光層に入射する光量が少なくなり、感光体の感度の低下を招く場合がある。
１３族元素としてＩｎ原子を用いる場合の含有量は、０．１原子％〜５０原子％が好ましく、５原子％〜４０原子％がより好ましい。これらの範囲を外れた場合は、上述と同様の問題が発生する場合がある。
【００２４】
また、表面層中の酸素の含有量は、第１３族元素に対する含有質量比が０．９〜１．４が好ましい。
より具体的には、表面層中の酸素の含有量は、１５原子％を超えることが好ましく、２０原子％〜６０原子％が好ましく、２５原子％〜５０原子％がより好ましい。酸素の含有量が１５原子％未満の場合には、感光体表面の耐酸化性が不充分となり、画像形成装置内で使用した場合に、感光体の特性が劣化したり、十分な機械的特性が確保できない場合がある。
【００２５】
本実施形態における表面層に窒素が含まれる場合、その含有量は、３０原子％以下が好ましく、１５原子％以下がより好ましい。窒素の含有量が３０原子％を超える場合には、表面層の耐水性が不充分となるため実用性に欠ける場合がある。また、表面層の厚み方向における窒素の濃度分布は、均一でも不均一でもよいが、最表面には実質的に含まれないことが好ましい。
【００２６】
本実施形態における表面層に炭素が含まれる場合、その含有量は、２原子％以上１５原子％以下であることが望ましく、２原子％以上１０原子％以下であることが更に望ましい。表面層中の炭素の含有量を２原子％以上１５原子％以下とすることで、高撥水性な低エネルギー表面になるという効果が得られる。
【００２７】
本実施形態における表面層に水素が含まれる場合、その含有量は、０．１原子％以上３０原子％以下の範囲が望ましく、０．５原子％以上２０原子％以下の範囲内がより望ましい。水素の含有量が０．１原子％未満の場合には、層内部に構造的な乱れを内蔵したままとなり、電気的に不安定となったり、機械的な特性も不十分となる場合がある。また、３０原子％を超える場合には、水素がガリウムに２原子以上結合する確率が増加して、三次元構造を保つことができず硬度や化学的安定性（特に耐水性）などが不十分となる場合がある。
また、表面層中の水素の含有量は、表面層を構成する主たる２つの元素（第１３族元素及び酸素）全体に対して、０．１原子％以上５０原子％以下の範囲が好ましく、１原子％以上４０原子％以下の範囲であることがより好ましい。
【００２８】
本実施形態における表面層全体中における各元素の含有量については、ラザフォードバックスキャタリング法（ＲＢＳ）や、ハイドロジェンフォワードスキャタリング法（ＨＦＳ）などを用いることができる。
以下、これらの測定方法について説明する。
【００２９】
なお、本実施形態において、表面層中の第１３族元素、酸素、炭素、窒素等の元素の含有量は、膜厚方向の分布も含めてラザフォードバックスキャタリング法（ＲＢＳ）により求めた値を意味している。
【００３０】
ＲＢＳとして、加速器：ＮＥＣ社  ３ＳＤＨ  Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ、エンドステーション：ＣＥ＆Ａ社  ＲＢＳ−４００を用い、システムとしては３Ｓ−Ｒ１０を用いた。解析にはＣＥ＆Ａ社のＨＹＰＲＡプログラム等を用いた。
【００３１】
ＲＢＳの測定条件は、以下の通りである。
Ｈｅ＋＋イオンビームエネルギーは２．２７５ｅＶ
検出角度  １６０°
入射ビームに対してＧｒａｚｉｎｇ  Ａｎｇｌｅ  １０９°
【００３２】
ＲＢＳ測定は、Ｈｅ＋＋イオンビームを試料に対してほぼ垂直に入射し、検出器をイオンビームに対して、１６０°にセットし、後方散乱されたＨｅのシグナルを測定する。検出したＨｅのエネルギーと強度から組成比と膜厚を決定する。更に、組成比と膜厚を求める精度を向上させるために二つの検出角度でスペクトルを測定してもよい。また、深さ方向分解能や後方散乱力学の異なる二つの検出角度で測定しクロスチェックすることにより精度を向上することができる。
【００３３】
なお、ターゲット原子によって後方散乱されるＨｅ原子の数は、１）ターゲット原子の原子番号、２）散乱前のＨｅ原子のエネルギー、３）散乱角度、の３つの要素だけにより決まる。測定された組成から密度を計算によって仮定して、これを用いて膜厚を算出する。密度の誤差は２０％以内である。
【００３４】
また、本実施形態において、表面層中の水素の含有量は、ハイドロジェンフォワードスキャタリング法（ＨＦＳ）により求められた値を意味する。
【００３５】
上記ＨＦＳとしては、
加速器：ＮＥＣ社  ３ＳＤＨ  Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ、エンドステーション：ＣＥ＆Ａ社  ＲＢＳ−４００を用い、システムとして、３Ｓ−Ｒ１０を用いた。解析にはＣＥ＆Ａ社のＨＹＰＲＡプログラムを用いた。
【００３６】
ＨＦＳの測定条件は、以下の通りである。
Ｈｅ＋＋イオンビームエネルギー：２．２７５ｅＶ
検出角度１６０°入射ビームに対してＧｒａｚｉｎｇ  Ａｎｇｌｅ３０°
【００３７】
ＨＦＳによる測定は、Ｈｅ＋＋イオンビームに対して検出器が３０°に、試料が法線から７５°になるようにセットすることにより、試料の前方に散乱する水素のシグナルを拾うことが可能である。この時検出器を薄い（１０μｍ）アルミ箔で覆い、水素とともに散乱するＨｅ原子を取り除くことがよい。定量は参照用試料と被測定試料との水素のカウントを阻止能で規格化した後に比較することによっておこなう。参照用試料としてＳｉ中にＨをイオン注入した試料と白雲母を使用した。
【００３８】
白雲母は水素濃度が６０原子％であることが知られている。
最表面に吸着しているＨは、清浄なＳｉ表面に吸着しているＨ量を差し引くことによって行うことができる。
【００３９】
また、半導体膜中の水素の含有の有無は赤外吸収スペクトル測定を利用して、１３族−水素結合やＮ−Ｈ結合の強度からも推定することもできる。
【００４０】
本実施形態において、上述した各元素のうち窒素を除く元素の含有量、特に酸素及び第１３族元素の両元素の含有量の好ましい範囲については、表面層の最表面で満たされていることが好ましい。
ここで、表面層の最表面とは、表面からの深さが少なくとも数ｎｍの範囲内（具体的には、表面から１〜５０ｎｍ程度の範囲）の極薄い領域を意味し、実質的には、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）により固体表面を測定した際の、深さ方向の測定範囲に相当する部分の領域を意味する。
【００４１】
表面層の最表面における、第１３族元素や酸素等の元素の含有量は、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）により求めることができる。
例えば、ＸＰＳの測定装置として日本電子社製ＪＰＳ９０１０ＭＸを用い、Ｘ線ソースにはＭｇＫα線を用い、１０ｋＶ，２０ｍＡで照射することにより測定できる。この場合、光電子の測定は１ｅＶのステップで行い、元素の含有量は、ガリウム元素に対しては３ｄ５／２、Ｏは１ｓ，Ｎは１ｓスペクトルを測定し、スペトクルの面積強度と感度因子により求めることができる。なお、測定前にＡｒイオンエッチングを５００Ｖで１０ｓ程度行う。
【００４２】
本実施形態における表面層は、微結晶、多結晶、或いは、非晶質のいずれであってもよいが、表面層表面の平滑性を向上させる点からは非晶質であることが特に好ましい。なお、結晶性／非晶質性は、ＲＨＥＥＤ（反射高速電子線回折）測定により得られた回折像の点や線の有無により判別することができる。
また、詳細は後述するが、表面層は、気相成膜法を利用して有機感光体上に形成されるため、成膜条件等によっては、その断面が柱状構造となる場合もある。しかしながら、表面層表面の滑り性の観点からは、このような柱状構造を有さないことが好ましい。
【００４３】
表面層中には、導電型の制御のために種々のドーパントを添加することができる。導電性をｎ型に制御する場合には、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＳｎから選ばれる一つ以上の元素を用いることができ、ｐ型に制御する場合には、例えば、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、及びＳｒから選ばれる一つ以上の元素を用いることができる。
【００４４】
表面層は、微結晶、多結晶或いは非晶質のいずれの場合においても、その内部構造に結合欠陥や、転位欠陥、結晶粒界の欠陥などが多く含まれる傾向にある。このため、これらの欠陥の不活性化のために表面層中には、水素及び／又はハロゲン元素が含まれていてもよい。表面層中の水素やハロゲン元素は結晶内の結合欠陥や結晶粒界の欠陥などに取り込まれて、反応活性点を消失させ、電気的な補償を行う働きを有する。このため、感光体に光が照射された際に、表面層中で光が吸収されてキャリアが発生したり、感光層で発生したキャリアの拡散や移動に関係するトラップが抑制されるため、感光体表面の帯電特性をより安定化することができる。
【００４５】
本実施形態における表面層の厚みは、０．０５μｍ〜１．０μｍの範囲が好ましく、０．１μｍ〜０．８μｍの範囲がより好ましく、０．３μｍ〜０．５μｍの範囲が更に好ましい。
なお、表面層の厚みは、感光体との屈折率の差を利用した光干渉法やマスキングにより感光体表面を露出させた部分との高低差を触針式表面粗さ計により読み取る段差法、光切断法などによって測定することができる。
【００４６】
次に、表面層の形成方法について説明する。
本発明における感光体の表面層は、図７に示される成膜装置を用いて形成することができる。
ここで、図７は、本実施形態における表面層の形成に用いられる成膜装置の一例を示す概略模式図である。
図７に示されるように、成膜装置１００は、仕切り部１０１ａを有する真空容器１０１と、導電性基体上に有機感光層が設けられた積層体２２０を保持して回転させる回転部１０３と、高周波電源部１０５ａ及び放電電極１０５ｂからなる放電部１０５と、プロセスガスを供給する供給口１０７ａと接続するプロセスガス供給部１０７と、材料ガスを供給する供給口１０９ａを接続する材料ガス供給部１０９と、排気口１１１ａと接続する排気装置１１１と、を有する。
【００４７】
図７に示される成膜装置において、真空容器１０１の一端には、排気口１１１ａを介して排気装置１１１が設けられており、また、真空容器１０１の排気装置１１１（排気口１１１ａ）が設けられた側と反対側に、プロセスガスを供給する供給口１０７ａ、材料ガスを供給する供給口１０９ａ、及び放電部１０５が設けられている。
また、真空容器１０１内に設けられた回転部１０３は、導電性基体上に有機感光層が設けられた積層体２２０を保持して、矢印方向に回転することができる。
【００４８】
放電部１０５は、放電面が排気装置１１１（排気口１１１ａ）側に設けられた放電電極１０５ｂと、放電電極１０５ｂの放電面と反対側の面に接続された高周波電源部１０５ａとから構成されている。
また、放電電極１０５ｂに近接して、プロセスガスを供給するための供給口１０７ａが設けられており、この供給口１０７ａはプロセスガス供給部１０７に接続されている。
更に、仕切り部１０１ａに対して、供給口１０７ａとは反対の箇所には、材料ガスを供給するための供給口１０９ａが設けられており、この供給口１０９ａは材料ガス供給部１０９に接続されている。
【００４９】
真空容器１０１は、一端が真空容器１０１の内壁に固定され、他端が微小な間隔をもって回転部１０３に対向する仕切り部１０１ａを有する。
この仕切り部１０１ａは、放電電極１０５ｂを有する放電部１０５を含み、プロセスガスが供給される領域と、材料ガスが供給される領域と、を仕切ることに用いられる。なお、この仕切り部１０１ａの位置は、回転部１０３に保持される積層体２２０の大きさに応じて、設定することができる。
【００５０】
表面層の形成は、例えば、以下のように実施することができる。
まず、プロセスガスを供給口１０７ａからに導入すると共に、高周波電源部１０５ａから放電電極１０５ｂに、例えば、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波の電力を供給する。この際、放電電極１０５ｂの放電面側から排気口１１１ａ側へと放射状に広がるようにプラズマが形成される。ここで、供給口１０７ａから導入されたプロセスガスは真空容器１０１内を放電電極１０５ｂ側から排気口１１１ａ側へと流れる。
なお、放電電極１０５ｂは電極の周りをアースシールドで囲んだものでもよい。
【００５１】
ここで、プロセスガスには、窒素、水素、酸素、ヘリウム、アルゴンなどのガスが用いられる。
【００５２】
次に、例えば、水素をキャリアガスとして用いて希釈したトリメチルガリウムガス（材料ガス）を供給口１０９ａから導入することによって、積層体２２０の表面にガリウムと酸素を含む非単結晶膜を成膜することができる。
【００５３】
成膜時の表面層の形成温度は特に限定されないが、積層体２２０表面の温度が、１０℃〜１００℃の範囲が好ましく、２０℃から６０℃の範囲内で形成することが好ましい。
積層体２２０表面の温度は加熱及び／又は冷却手段（図中、不図示）によって制御してもよいし、放電時の自然な温度の上昇に任せてもよい。積層体２２０を加熱する場合にはヒータを積層体２２０の隣接した箇所に設置してもよい。積層体２２０を冷却する場合には積層体２２０の内側に冷却用の気体又は液体を循環させてもよい。
放電による積層体２２０表面の温度の上昇を避けたい場合には、積層体２２０表面に当たる高エネルギーの気体流を調節することが効果的である。この場合、ガス流量や放電出力、圧力などの条件を所要温度となるように調整する。
【００５４】
ここで、材料ガスとしては、ガリウム、インジウム、アルミニウムを含む有機金属化合物としてトリメチルガリウム、トリエチルガリウム、ｔ−ブチルガリウム、トリメチルインジウム、トリエチルインジウム、ｔ−ブチルインジウム、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ｔ−ブチルアルミニウムなどの有機金属化合物や、ジボランなどの水素化物などを用いることができる。
これらの液体や固体を気化して単独に或いはキャリアガスでバブリングすることによる混合状態で使用することができる。
また、これらを２種類以上混合してもよい。
【００５５】
なお、本実施形態における表面層のように、第１３族元素と酸素とを主に含む表面層を形成する場合、真空容器１０１内には活性水素が存在することが好ましい。活性水素は、キャリアガスとして使用する水素ガスや有機金属化合物に含まれる水素原子から供給されるものでもよい。
【００５６】
また、表面層には、その導電型を制御するためにドーパントを添加することができる。成膜時におけるドーパントのドーピングの方法としてはｎ型用としてはＳｉＨ３，ＳｎＨ４を、ｐ型用としては、ビスシクロペンタジエニルマグネシウム、ジメチルカルシウム、ジメチルストロンチウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、などをガス状態で使用できる。また、ドーパント元素を表面層中にドーピングするには、熱拡散法、イオン注入法等の公知の方法を採用することもできる。
具体的には、少なくとも一つ以上のドーパント元素を含むガスを、真空容器１０１内に導入することによってｎ型、ｐ型等の導電型の表面層を得ることができる。
【００５７】
図７に示される成膜装置１００のプラズマ発生手段は、高周波電源部１０５ａを用いたものであるが、これに限定されるものではなく、例えば、マイクロ波発振装置を用いたり、エレクトロサイクロトロン共鳴方式やヘリコンプラズマ方式の装置をもちいてもよい。また、高周波発振装置の場合は、誘導型でも容量型でもよい。
更に、これらの装置を２種類以上組み合わせて用いてもよく、例えば、プロセスガス供給口１０７ａより活性水素を供給するリモートプラズマ装置を付加してもよい。或いは、同種の装置を２つ以上用いてもよい。プラズマの照射によって積層体２２０表面の温度が上昇しないようにするためには高周波発振装置が好ましいが、熱の照射を防止する装置を設けてもよい。
【００５８】
２種類以上の異なるプラズマ発生装置（プラズマ発生手段）を用いる場合には、同じ圧力で同時に放電が生起できるようにする必要がある。また、放電する領域と、成膜する領域（積層体２２０が設置された部分）とに圧力差を設けてもよい。これらの装置は、成膜装置内をガスが導入される部分から排出される部分へと形成されるガス流に対して直列に配置してもよいし、いずれの装置も基体の成膜面に対向するように配置してもよい。
【００５９】
また、異なる２種類のプラズマ発生装置を同一の圧力下で利用する場合、例えば、マイクロ波発振装置と高周波発振装置とを用いる場合、励起種の励起エネルギーを大きく変えることができ、膜質の制御に有効である。また、放電は大気圧近傍（３００ｈＰａ〜１２００ｈＰａの範囲）で行ってもよい。大気圧近傍で放電を行う場合にはキャリアガスとしてＨｅを使用することが望ましい。
【００６０】
なお、表面層の形成に際しては、上述した方法以外にも、通常の有機金属気相成長法や分子線エピタキシー法を使用することができる。
【００６１】
（導電性基体）
次に、導電性基体２１１について説明する。
導電性基体としては、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケル等の金属ドラム；シート、紙、プラスチック、ガラス等の基材上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅−インジウム等の金属を蒸着したもの；酸化インジウム、酸化スズ等の導電性金属化合物を上記基材に蒸着したもの；金属箔を上記基材にラミネートしたもの；カーボンブラック、酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモン粉、金属粉、ヨウ化銅等を結着樹脂に分散し、上記基材に塗布することによって導電処理したもの等が挙げられる。また、導電性基体の形状は、ドラム状、シート状、プレート状のいずれであってもよい。
【００６２】
また、導電性基体として金属製管状基体を用いる場合、当該金属製管状基体の表面は素管のままのものであってもよいが、予め表面処理により基体表面を粗面化しておくことも可能である。かかる粗面化により、露光光源としてレーザービーム等の可干渉光源を用いた場合に、感光体内部で発生し得る干渉光による木目状の濃度ムラを防止することができる。表面処理の方法としては、鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、湿式ホーニング等が挙げられる。
【００６３】
特に、有機感光層との密着性向上や成膜性向上の点で、以下のようにアルミニウム基体の表面に陽極酸化処理を施したものを導電性基体として用いることが好ましい。
【００６４】
以下、表面に陽極酸化処理を施した導電性基体の製造方法について説明する。まず、導電性基体として、純アルミ系或いはアルミニウム管（例えば、ＪＩＳＨ４０８０に規定されている合金番号１０００番台、３０００番台、６０００番台のアルミニウム或いはアルミニウム合金）を用意する。次に陽極酸化処理を行う。陽極酸化処理は、クロム酸、硫酸、蓚酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸などの酸性浴中において行うが、硫酸浴による処理がよく用いられる。陽極酸化処理は、例えば、硫酸濃度：１０質量％以上２０質量％以下、浴温：５℃以上２５℃以下、電流密度：１Ａ／ｄｍ２以上４Ａ／ｄｍ２以下、電解電圧：５Ｖ以上３０Ｖ以下、処理時間：５分以上６０分以下程度の条件で行われるが、これに限定するものではない。
【００６５】
このようにしてアルミニウム基体上に成膜された陽極酸化皮膜は、多孔質であり、又絶縁性が高く、表面が不安定であるため、皮膜形成後にその物性値が経時的に変化しやすくなっている。この物性値の変化を防止するため、陽極酸化皮膜を更に封孔処理することが行われる。封孔処理の方法には、フッ化ニッケルや酢酸ニッケルを含有する水溶液に陽極酸化皮膜を浸漬する方法、陽極酸化皮膜を沸騰水に浸漬する方法、加圧水蒸気により処理する方法などがある。これらの方法のうち、酢酸ニッケルを含有する水溶液に浸漬する方法がよく用いられる。
【００６６】
このようにして封孔処理が行われた陽極酸化皮膜の表面には、封孔処理により付着した金属塩等が過剰に残留している。この金属塩等が基体の陽極酸化皮膜上に過剰に残存すると、陽極酸化皮膜上に形成する塗膜の品質に悪影響を与えるだけでなく、一般的に低抵抗成分が残ってしまう傾向にあるため、この基体を感光体に用いて画像を形成した場合に地汚れの発生原因になる。ここで、「低抵抗」とは、体積抵抗率が１０２Ωｃｍ以下の値であることを示している。
【００６７】
そこで、封孔処理に引き続き、封孔処理により付着した金属塩等を除去するために陽極酸化皮膜の洗浄処理が行われる。洗浄処理は純水により基体の洗浄を１回行うことでも構わないが、多段階の洗浄工程により基体の洗浄を行うのが好ましい。この際、最終の洗浄工程における洗浄液としては、可能な限りきれいな（脱イオンされた）洗浄液が用いられる。また、多段階の洗浄工程のうち、いずれか１工程において、ブラシ等の接触部材を用いた物理的なこすり洗浄を施すことがより更に好ましい。
【００６８】
以上のようにして形成される基体表面の陽極酸化皮膜の膜厚は、３μｍ以上１５μｍ以下程度の範囲内であることが好ましい。陽極酸化皮膜上には多孔質陽極酸化膜のポーラスな形状の極表面に沿ってバリア層といわれる層が存在する。バリア層の膜厚は本実施の形態に用いられる感光体においては１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。以上のようにして、陽極酸化処理された導電性基体を得ることができる。
【００６９】
このように得られた導電性基体は、陽極酸化処理により基体上に成膜された陽極酸化皮膜が高いキャリアブロッキング性を有している。そのため、この基体を用いた感光体を画像形成装置に装着して反転現像（ネガ・ポジ現像）を行う場合に発生する点欠陥（黒ポチ、地汚れ）を防止することができるとともに、接触帯電時に生じやすい接触帯電器からの電流リーク現象を防止することができる。また、陽極酸化皮膜に封孔処理を施すことにより、陽極酸化皮膜の作製後における物性値の経時変化を防止することができる。また、封孔処理後に基体の洗浄を行うことにより、封孔処理により基体表面に付着した金属塩等を除去することができ、この導電性基体を用いて作製した感光体を備えた画像形成装置により画像を形成した場合に地汚れの発生を防止することができる。
【００７０】
（下引層）
次に、下引層２１３について説明する。
下引層を構成する材料としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂；ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。
これらの化合物は単独に或いは複数の化合物の混合物或いは重縮合物として用いることができる。これらの中でも、ジルコニウム若しくはシリコンを含有する有機金属化合物は、残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないため好ましく使用される。また、有機金属化合物は、これを単独又は２種以上を混合したり、更に上述の結着樹脂と混合して用いることが可能である。
【００７１】
有機シリコン化合物（シリコン原子を含有する有機金属化合物）としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が好ましく使用される。
【００７２】
有機ジルコニウム化合物（ジルコニウムを含有する有機金属化合物）としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。
【００７３】
有機チタン化合物（チタンを含有する有機金属化合物）としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
【００７４】
有機アルミニウム化合物（アルミニウムを含有する有機金属化合物）としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。
【００７５】
また、下引層を形成するための下引層形成用塗布液に用いる溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ―ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶剤等が挙げられる。また、これらの溶剤は単独或いは２種以上を混合して用いることができる。なお２種以上の溶媒を混合する場合に使用できる溶媒としては、混合溶媒として結着樹脂を溶かすことができる溶媒であれば、いかなるものでも使用することができる。
【００７６】
下引層の形成は、まず、下引層用塗布剤及び溶媒を分散及び混合して調合された下引層形成用塗布液を用意し、基体表面に塗布することにより行う。下引層形成用塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布法、リング塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いることができる。下引層を形成する場合には、その膜厚は０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲内となるように形成することが好ましい。下引層の膜厚をこの膜厚範囲内とすることにより、電気的な障壁を過剰に強くすることなく減感及び繰り返しによる電位の上昇を防止することができる。
【００７７】
このようにして基体上に下引層を形成することにより、下引層上に形成される層を塗布形成する際の濡れ性の改善を図ることができるとともに、電気的なブロッキング層としての機能を果たすことができる。
【００７８】
上記により形成された下引層の表面粗さは、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）倍（但し、ｎは下引層よりも外周側に設けられる層の屈折率）〜１倍程度の範囲内の粗度を有するように調整することが可能である。表面粗さの調整は、下引層形成用塗布液中に樹脂粒子を添加することにより行われる。これにより下引層の表面粗さを調整して作製した感光体を画像形成装置に用いた場合に、レーザ光源による干渉縞像をより防止することができる。
なお、樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメチルメタクリレート樹脂粒子等を用いることができる。また、表面粗さの調整のために下引層表面を研磨することもできる。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることができる。なお、正帯電構成の画像形成装置に用いられる感光体では、レーザ入射光は感光体の極表面の周辺で吸収され、更に感光層中で散乱されるため、下引層の表面粗さの調整は強くは必要とされない。
【００７９】
また、下引層形成用塗布液に、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を加えることも好ましい。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。
【００８０】
ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８１】
ジルコニウムキレート化合物の具体例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシドなどが挙げられる。
【００８２】
チタニウムキレート化合物の具体例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
【００８３】
アルミニウムキレート化合物の具体例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。
【００８４】
これらの添加物は、単独で用いることもできるが、複数の化合物の混合物或いは重縮合物として用いることもできる。
【００８５】
また、上述した下引層形成用塗布液には、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させておくことが好ましい。電子受容性物質の具体例としては、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸などが挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体がより好ましく用いられる。これにより、感光層における光感度の向上や残留電位の低減を図るとともに、繰り返し使用した場合の光感度の劣化を低減することができ、下引層に電子受容性物質を含む感光体を備えた画像形成装置により形成したトナー像の濃度ムラを防止することができる。
【００８６】
また、上述した下引層用塗布剤の代わりに下記の分散型下引層用塗布剤を用いることも好ましい。これにより、適度に下引層の抵抗値を調整することにより残留電荷の蓄積を防ぐことができるとともに、下引層の膜厚をより厚くすることが可能となるため感光体の耐リーク性、とくに接触帯電時のリークの防止を図ることができる。
【００８７】
この分散型下引層用塗布剤としては、アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの金属粉体や、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの導電性金属酸化物や、カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末などの導電性物質等を結着樹脂に分散したものが挙げられる。導電性金属酸化物としては、平均１次粒径０．５μｍ以下の金属酸化物粒子が好ましく用いられる。平均１次粒径が大きすぎる場合には局部的な導電路形成を起こしやすく、電流のリークが発生しやすく、その結果かぶりの発生や帯電器からの大電流のリークが生じる場合がある。下引層はリーク耐性の向上のために適切な抵抗値に調整されることが必要である。そのため、上述の金属酸化物粒子は、１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下程度の粉体抵抗を有することが好ましい。
【００８８】
なお、上記範囲の下限よりも金属酸化物粒子の抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られず、この範囲の上限よりも高いと残留電位上昇を引き起こす場合ある。従って、中でも上記の範囲内の抵抗値を有する酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物粒子がより好ましく用いられる。また、金属酸化物粒子は２種以上混合して用いることもできる。更に、金属酸化物粒子にカップリング剤による表面処理を行うことで、粉体の抵抗を制御することができる。この際使用可能なカップリング剤としては上述の下引層形成用塗布液と同じ材料を用いることができる。また、これらのカップリング剤は２種以上を混合して用いることもできる。
【００８９】
この金属酸化物粒子の表面処理においては、公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法或いは湿式法を用いることができる。
乾式法を用いる場合においては、まず、金属酸化物粒子を加熱乾燥して表面吸着水を除去する。表面吸着水を除去することによって、金属酸化物粒子表面に均一にカップリング剤を吸着させることができる。次に、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接或いは有機溶媒又は水に溶解させたカップリング剤を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理される。カップリング剤を添下或いは噴霧する際には、５０℃以上の温度で行われることが好ましい。カップリング剤を添加或いは噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行うことが好ましい。焼き付けの効果によりカップリング剤を硬化させ金属酸化物粒子と堅固な化学反応を起こさせることができる。焼き付けは、所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。
【００９０】
湿式法を用いる場合においては、乾式法と同じように、まず、金属酸化物粒子の表面吸着水を除去する。この表面吸着水を除去する方法として、乾式法と同様の加熱乾燥の他に、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等が実施できる。次に、金属酸化物粒子を溶剤中に攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、カップリング剤溶液を添加し攪拌或いは分散したのち、溶剤除去することで均一に処理される。溶剤除去した後、更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。
【００９１】
金属酸化物粒子に対する表面処理剤の量は所望の電子写真特性が得られる量であることが必須である。電子写真特性は表面処理後に金属酸化物粒子に表面処理剤が付着している量によって影響される。シランカップリング剤の場合、その付着量は蛍光Ｘ線分析により測定される（シランカップリング剤に起因する）Ｓｉ強度と、使用されている金属酸化物の主たる金属元素強度とから求められる。この蛍光Ｘ線分析により測定されるＳｉ強度は用いられる金属酸化物の主たる金属元素強度の１．０×１０−５倍以上１．０×１０−３倍以下の範囲であることが好ましい。この範囲を下回った場合、かぶりなどの画質欠陥が発生しやすく、この範囲を上回った場合、残留電位の上昇による濃度低下が発生しやすくなる場合がある。
【００９２】
分散型下引層用塗布剤に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。
中でも下引層上に形成される層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが好ましく用いられる。分散型下引層形成用塗布液中の金属酸化物粒子と結着樹脂との比率は所望する感光体特性を得られる範囲で任意に設定できる。
【００９３】
上述した方法により表面処理された金属酸化物粒子を結着樹脂に分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が用いた方法が挙げられる。更に、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
この分散型下引層用塗布剤により下引層を形成する方法は、上述した下引層用塗布剤を用いて下引層を形成する方法と同じように行うことができる。
【００９４】
（有機感光層：電荷輸送層）
次に、有機感光層２１５について、電荷輸送層２１５ｂと電荷発生層２１５ａとに分けてこの順に以下に説明する。
【００９５】
電荷輸送層２１５ｂに用いられる電荷輸送材料としては、下記に示すものが例示できる。
即ち、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリンなどのピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（Ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミンなどの芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミンなどの芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジンなどの１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾン、１−ピレンジフェニルヒドラゾン、９−エチル−３−［（２メチル−１−インドリニルイミノ）メチル］カルバゾール、４−（２−メチル−１−インドリニルイミノメチル）トリフェニルアミン、９−メチル−３−カルバゾールジフェニルヒドラゾン、１，１−ジ−（４，４’−メトキシフェニル）アクリルアルデヒドジフェニルヒドラゾン、β，β−ビス（メトキシフェニル）ビニルジフェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフランなどのベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリンなどのα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾールなどのカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質が用いられる。或いは、上記化合物から構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、単独又は２種以上を組み合せて使用できる。
【００９６】
電荷輸送層に用いられる結着樹脂には任意のものを用いることができるが、結着樹脂は、特に電荷輸送材料と相溶性を有し適当な強度を有するものであることが望ましい。
【００９７】
この結着樹脂の例として、ビスフェノールＡやビスフェノールＺ，ビスフェノールＣ，ビスフェノールＴＰなどから構成される各種のポリカーボネート樹脂やその共重合体、ポリアリレート樹脂やその共重合体、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アクリル共重合体樹脂、アチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は単独或いは２種以上の混合物として使用することができる。
【００９８】
電荷輸送層に用いられる結着樹脂の分子量は、感光層の膜厚や溶剤などの成膜条件によって選択されるが、通常は粘度平均分子量で３０００以上３０万以下の範囲内が好ましく、２万以上２０万以下の範囲内がより好ましい。
【００９９】
電荷輸送層は、上記電荷輸送材料及び結着樹脂を適当な溶媒に溶解させた溶液を塗布し乾燥することによって形成することができる。電荷輸送層形成用塗布液の形成に使用される溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル、或いはこれらの混合溶剤などを用いることができる。電荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は１０：１乃至１：５の範囲内が好ましい。また電荷輸送層の膜厚は一般に５μｍ以上５０μｍ以下の範囲内であることが好ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲であることがより好ましい。
【０１００】
電荷輸送層及び／又は後述する電荷発生層は、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、或いは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を含んでもよい。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン又はそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
【０１０１】
酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤では、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチル  エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、３−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルなどが挙げられる。
【０１０２】
ヒンダードアミン系化合物では、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などが挙げられる。
【０１０３】
有機イオウ系酸化防止剤では、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。
有機燐系酸化防止剤では、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィートなどが挙げられる。
【０１０４】
なお、有機硫黄系及び有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われるもので、フェノール系或いはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより酸化防止効果を相乗的により高めることができる。
【０１０５】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
ベンゾフェノン系光安定剤として、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
ベンゾトリアゾール系光安定剤として、２−（−２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（−２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル−）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル−）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル−）−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
その他の光安定剤としては、２，４，ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメートなどがある。
【０１０６】
電荷輸送層は、上記に示した電荷輸送材料及び結着樹脂を適当な溶媒に溶解させた溶液を塗布し、乾燥させることによって形成することができる。電荷輸送層形成用塗布液の調整に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系、アセトン、２ーブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル等、或いはこれ等の混合溶媒を用いることができる。
また電荷輸送層形成用塗布液には、塗布形成される塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを添加することもできる。添加量としては、電荷輸送層の固形分に対して１ｐｐｍ以上１０，０００ｐｐｍ以下が好ましく、５ｐｐｍ以上２，０００ｐｐｍ以下が更に好ましい。
【０１０７】
電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１乃至１：５であることが好ましい。また電荷輸送層の膜厚は一般には５μｍ以上５０μｍ以下の範囲内とすることが好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内がより好ましい。
【０１０８】
電荷輸送層形成用塗布液の塗布は、感光体の形状や用途に応じて、浸漬塗布法、リング塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、ブレード塗布法、ローラー塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法などの塗布法を用いて行うことができる。乾燥は、室温（１０℃以上３０℃以下）での乾燥の後に加熱乾燥することが好ましい。加熱乾燥は、３０℃より高く２００℃以下の温度域で５分以上２時間の範囲の時間で行うことが望ましい。
【０１０９】
（有機感光層：電荷発生層）
電荷発生層２１５ａは、電荷発生材料を真空蒸着法により蒸着させて形成するか、有機溶剤及び結着樹脂を含む溶液を塗布することにより形成される。
【０１１０】
電荷発生材料としては、非晶質セレン、結晶性セレン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物；セレン合金、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導電体；又はこれらを色素増感したもの、無金属フタロシアニン，チタニルフタロシアニン，銅フタロシアニン，錫フタロシアニン，ガリウムフタロシアニンなどの各種フタロシアニン化合物；スクエアリウム系、アントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の各種有機顔料；又は染料が用いられる。
また、これらの有機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、特にフタロシアニン化合物ではα型、β型などをはじめとしてさまざまな結晶型が知られているが、目的にあった感度その他の特性が得られる顔料であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることが可能である。
【０１１１】
なお、上述した電荷発生材料の中でも、フタロシアニン化合物が好ましい。この場合、感光層に光が照射されると、感光層に含まれるフタロシアニン化合物がフォトンを吸収してキャリアを発生させる。このとき、フタロシアニン化合物は、高い量子効率を有するため、吸収したフォトンを効率よく吸収してキャリアを発生させることができる。
【０１１２】
更にフタロシアニン化合物の中でも、下記（１）〜（３）に示すフタロシアニンがより好ましい。すなわち、
（１）電荷発生材料としてＣｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）において、少なくとも７．６°，１０．０°，２５．２°，２８．０°の位置に回折ピークを有する結晶型のヒドロキシガリウムフタロシアニン
（２）電荷発生材料としてＣｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）において、少なくとも７．３°，１60°，２５．４°，２８．１°の位置に回折ピークを有する結晶型のクロルガリウムフタロシアニン
（３）電荷発生材料としてＣｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）において、少なくとも９．５°，２４．２°，２７．３°の位置に回折ピークを有する結晶型のチタニルフタロシアニン
【０１１３】
これらのフタロシアニン化合物は、特に、光感度が高いだけでなく、その光感度の安定性も高いため、これらフタロシアニン化合物を含む感光層を有する感光体は、高速な画像形成及び繰り返し再現性が要求されるカラーの（多色の）画像形成装置の感光体として好適である。
【０１１４】
なお、結晶の形状や測定方法によりこれらのピーク強度や位置が微妙にこれらの値から外れることも有るが、Ｘ線回折パターンが基本的に一致しているものであれば同じ結晶型であると判断できる。
【０１１５】
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、以下のものを例示することができる。即ちビスフェノールＡタイプ或いはビスフェノールＺタイプなどのポリカーボネート樹脂及びその共重合体、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコン−アルキド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールなどである。
【０１１６】
これらの結着樹脂は、単独で或いは２種以上混合して用いることが可能である。電荷発生材料と結着樹脂との配合比（電荷発生材料：結着樹脂）は、質量比で、１０：１乃至１：１０の範囲が望ましい。また電荷発生層の厚みは、一般には０．０１μｍ以上５μｍ以下の範囲内であることが好ましく０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内であることがより好ましい。
【０１１７】
また、電荷発生層は、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を含有してもよい。電荷発生層に用いられる電子受容性物質としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピークリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸などを挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
【０１１８】
電荷発生材料を樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、ダイノーミル、サンドミル、コロイドミルなどの方法を用いることができる。
電荷発生層を形成する為の塗布液の溶媒として公知の有機溶剤、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ―ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶剤等が挙げられる。
【０１１９】
また、これらの溶媒は単独或いは２種以上混合して用いることができる。２種類以上の溶媒を混合して用いる場合には、混合溶媒として結着樹脂を溶かす事ができる溶媒であれば使用することができる。但し、感光層が、基体側から、電荷輸送層と電荷発生層とをこの順に形成した層構成を有する場合に、浸漬塗布のように下層を溶解しやすい塗布方法を利用して電荷発生層を形成する際には、電荷輸送層等の下層を溶解しない溶媒を用いることが望ましい。また、比較的下層の侵食性が浸漬塗布に比べて少ないスプレー塗布法やリング塗布法を利用して電荷発生層を形成する場合には溶媒の選択範囲を広げることができる。
【０１２０】
（中間層）
本発明における感光層には、上述の各層以外にも中間層を設けてもよい。
中間層としては、例えば、帯電器により感光体表面を帯電させる際に、帯電電荷が感光体表面から対抗電極である感光体の基体にまで注入して帯電電位が得られなくなることを防止するために必要に応じて表面保護層と電荷発生層との間に電荷注入阻止層を形成することができる。
電荷注入阻止層の材料としては上記に列挙したシランカップリング剤、チタンカップリング剤、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、その他の有機金属化合物、ポリエステル、ポリビニルブチラールなどの汎用樹脂を用いることができる。電荷注入阻止層の膜厚は０．００１μｍ以上５μｍ以下程度の範囲内で成膜性及びキャリアブロッキング性を考慮して設定される。
【０１２１】
〔帯電手段〕
本発明の画像形成装置における帯電手段としては、感光体表面を均一に帯電しうるものであれば、従来公知の帯電手段が用いられる。
具体的には、非接触のコロナ放電方式のコロトロン、スコロトロン等によるものでもよいし、接触方式の帯電手段であってもよい。
なお、接触方式の帯電手段である場合、図１に示されるように弾性ロール２０ａとすることで、弾性部材が帯電手段となる構成とすることができる。この場合、弾性ロール２０ａは導電性が必要となるため、例えば、金属製の芯材にカーボンブラックなどの導電性付与剤を配合したゴムからなる弾性層を被覆し、更に、放電の均一性を得るため抵抗率の異なる弾性層を複数重ねたりしてもよい。また、表面汚れによる帯電不良を防ぐため最表面にコート層を設けてもよい。より具体的には、ニッケルめっきされた鉄やステンレス、アルミなどの金属からなる芯材は、押し当ての荷重で感光体と接触が得られ、かつ、質量が不要に重くならないよう直径５ｍｍ以上１０ｍｍ以下程度であることが好ましい。また、このような芯材に対する、エピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム）などのゴム材に導電性付与材を配合した弾性層は、接触の均一性を得るため２ｍｍ以上５ｍｍ以下程度の厚さとするのが好ましい。弾性層のゴム硬度は、ＪＩＳ Ｋ ６２５３に規定されているタイプＡデュロメータ硬さでＡ３０以上Ａ６０以下程度が好ましく、抵抗率は１０６Ω・ｃｍ以上１０１２Ω・ｃｍ以下程度の範囲で調整されることが好ましい。また、感光体と接触する最表面の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ｒａ）が好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下に調整されることが好ましい。帯電手段における弾性ロールは、前記構成により外径が１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度で感光体の画像形成幅を帯電しうる軸長を持つような形態を有することが好ましい。
【０１２２】
〔露光手段〕
本発明の画像形成装置における露光手段としては、感光体表面に対し、画像データに応じた露光を行えるものであれば、従来公知の露光手段が用いられる。
具体的には、ハロゲンランプや蛍光管などの光源と結像レンズにより感光体に原稿からの反射光を直接投影する光学レンズ式、画像データにより変調されるレーザー光をポリゴンミラーにより走査して感光体に書き込むレーザー式、集積された複数のＬＥＤから発光を画像データにより制御して感光体に書き込むＬＥＤ式などが挙げられる。
【０１２３】
〔現像手段〕
本発明の画像形成装置における現像手段としては、感光体表面に形成された静電潜像に現像剤を供給しうるものであれば、従来公知の現像手段が用いられる。
なお、図２に示されるように弾性ロール４２を有する現像手段の場合、弾性部材が現像手段に含まれる構成とすることができる。この場合、弾性ロール４２は、現像剤を感光体へと供給する必要があるため、例えば、金属性の筒（スリーブ）や芯材（シャフト）に、導電性付与剤を配合して抵抗率を調整したゴム材からなる弾性層を被覆した外径２０ｍｍ以上６０ｍｍ以下程度の形態を有することが好ましい。使用される材料や抵抗率の範囲、表面粗さなどは、前述の弾性部材が帯電手段である場合と類似の構成となるが、トナーを帯電させるためバイアス電圧を利用する場合は、抵抗率を低く調整することが好ましい。代表的な弾性ロールは、非磁性１成分接触現像に用いられるものが挙げられる。
【０１２４】
〔転写手段〕
本発明の画像形成装置における転写手段としては、感光体上のトナー像を記録媒体上へと転写しうるものであれば、従来公知の転写手段が用いられる。
なお、図３に示されるように弾性ロール５０ａを有する転写手段の場合、弾性部材が転写手段となる構成とすることができる。この場合、弾性ロール５０ａは導電性が必要となるため、例えば、金属からなる芯材に、導電性付与剤で抵抗率を調整した発泡ウレタンからなる弾性層を被覆し、抵抗率を１０６Ω・ｃｍ以上１０９Ω・ｃｍ以下程度に調整した外径が１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度の形態を有することが好ましい。
【０１２５】
〔クリーニング手段〕
本発明の画像形成装置におけるクリーニング手段としては、感光体上の未定着トナーや紙粉等の付着物を除去しうるものであれば、従来公知のクリーニング手段が用いられる。本発明における感光体は硬度の高い表面層を有するため、クリーニング性能の観点から、クリーニングブレードが用いられることが好ましい。クリーニングブレードは、他のクリーニング手段と比べると感光体表面を傷つけ、また、磨耗を促進しやすいものである。しかし、本発明の画像形成装置においては、感光体として本発明の感光体を用いているため、長期に渡る使用においても、感光体表面の傷の発生や磨耗を抑制することができる。
なお、図４に示されるように弾性ロール６２を有するクリーニング手段の場合、弾性部材がクリーニング手段に含まれる構成とすることができる。この場合、弾性ロール６２は、例えば、金属からなる芯材に発泡ウレタンからなる弾性層を被覆した外径が１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度の形態を有することが好ましい。
【０１２６】
〔弾性部材〕
図５に示されるような弾性ロール（弾性部材）７０は、感光体の回転方向に対し、クリーニング手段６０の下流で、且つ、帯電手段２０の上流に、設けられる。この弾性部材の形状は、図５では、ロール状であるがこれに限定されるものではなく、その材質も、感光体表面に押し当てられることで、感光体内部の応力の緩和が可能であれば特に限定されない。
【０１２７】
〔制御手段〕
本発明の画像形成装置における制御手段は、画像形成を行わない時に感光体を回転させ、回転している感光体表面に弾性部材を押し当てることができれば、特に制限されるものでない。
具体的には、画像データの入力が行われないとき、感光体の使用履歴に応じて感光体を回転させる。この時、紙など記録媒体へのトナーの転写は行われないので感光体上のトナー像が白紙となるよう感光体の帯電及び露光を調整することがこのましい。
【０１２８】
次に、図１〜図５を参照して、本実施形態の画像形成装置における画像形成機構について説明する。
図１〜図４に示されるように、画像形成装置１ａ〜１ｄは、感光体１０を有し、感光体１０の回転方向に沿って順に、帯電手段２０（弾性ロール２０ａ）、露光手段３０、現像手段４０（弾性ロール４２を含む現像手段４０ａ）、転写手段５０（弾性ロール５０ａ）、クリーニング手段６０（弾性ロール６２を含むクリーニング手段６０ａ）、及び制御手段８０が設けられている。また、図５に示される画像形成装置１ｅは、また、感光体１０、帯電手段２０、露光手段３０、現像手段４０、転写手段５０、クリーニング手段６０、及び制御手段８０に加え、弾性部材７０を有する。
【０１２９】
帯電手段２０は、感光体１０の外周面を帯電する。露光手段３０は、帯電手段２０によって帯電された感光体１０の外周面に、画像データに応じて変調した光を露光することで感光体１０上に画像データの画像に応じた静電潜像を形成する。現像手段４０は、感光体１０上に形成された静電潜像にトナーを含む現像剤を供給することで静電潜像をトナーによって現像してトナー像を形成する。転写手段５０は、感光体１０との間で記録媒体Ｐを挟みながら搬送することで、感光体１０上のトナー像を記録媒体Ｐ上へと転写する。なお、この記録媒体Ｐは、図示を省略する用紙貯留部に予め貯留され、この用紙貯留部からローラ等によって搬送されることによって、感光体１０と転写手段５０との間に到り、感光体１０上のトナー像を転写される。
トナー像を転写された記録媒体Ｐは、図示を省略するローラ等によって定着装置（図示せず）の設置箇所に搬送され、定着装置によって未定着のトナー像を該記録媒体Ｐ上に定着される。定着装置によってトナー像を定着された記録媒体Ｐは、図示を省略するローラ等によって画像形成装置１ａ〜１ｅの外部へと排出される。
また、感光体１０上の未定着トナーや紙粉等の付着物は、クリーニング手段６０によって感光体１０上から除去される。
【０１３０】
なお、画像形成装置１ｅに含まれる、感光体１０と、弾性部材７０と、制御手段８０と、帯電手段２０、露光装置２３０、現像手段４０、及び転写手段５０から選択される少なくとも１つは、画像形成装置１ｅ本体に対して着脱可能に設けられていてもよく、これらの着脱可能に設けられた各装置を総称して、プロセスカートリッジとなる。
なお、図１で示される画像形成装置１ａの場合には、感光体１０と、制御手段８０と、弾性ロール２０ａと、を少なくとも含むプロセスカートリッジとすることができる。
図２で示される画像形成装置１ｂの場合には、感光体１０と、制御手段８０と、弾性ロール４２を含む現像手段４０ａと、を少なくとも含むプロセスカートリッジとすることができる。
図３で示される画像形成装置１ｃの場合には、感光体１０と、制御手段８０と、弾性ロール５０ａと、を少なくとも含むプロセスカートリッジとすることができる。
図４で示される画像形成装置１ｄの場合には、感光体１０と、制御手段８０と、弾性ロール６２を含むクリーニング手段６０ａと、を少なくとも含むプロセスカートリッジとすることができる。
【０１３１】
なお、本発明の画像形成装置は、各色のトナーに対応した感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての感光体が、第１３族元素及び酸素を有する表面層を有する感光体であることが好ましい。
また、トナー像の転写は、感光体から記録媒体に直接転写する方式に限られず、感光体から中間転写体にトナー像を転写した後に、中間転写体から記録媒体に転写する中間転写方式であってもよい。
【実施例】
【０１３２】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
【０１３３】
〔実施例１〜実施例５〕
まず、図６に示される、導電性基体２１１上に、下引層２１３、電荷発生層２１５ａ、及び電荷輸送層２１５ｂをこの順に有する、有機感光体を準備した。
ここで、本実施例においては、以下に説明する手順により、アルミニウム製の基体２１１上に、下引層２１３と電荷発生層２１５ａと電荷輸送層２１５ｂとをこの順に積層形成した有機感光体を作製した。
【０１３４】
−下引層２１３の形成−
ジルコニウム化合物（商品名：マツモト製薬社製オルガノチックスＺＣ５４０）２０質量部、シラン化合物（商品名：日本ユニカー社製Ａ１１００）２．５質量部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：積水化学社製エスレックＢＭ−Ｓ）１０質量部、及びブタノール４５質量部を攪拌混合して得た溶液を、外径８４ｍｍ、長さ３４０ｍｍの円筒状のアルミニウム製の基体２１１の表面に塗布し、１５０℃１０分間加熱乾燥することにより、膜厚１．０μｍの下引層２１３を形成した。
【０１３５】
−電荷発生層２１５ａの形成−
次に、電荷発生材料としてクロロガリウムフタロシアニン１質量部、ポリビニルブチラール（商品名：積水化学社製エスレックＢＭ−Ｓ）１質量部、及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部を混合して得られた混合物を、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間分散し、電荷発生層形成用分散液を得た。
この分散液を浸漬法により下引層２１３の上に塗布した後、１００℃で１０分間乾燥させ、膜厚０．１５μｍの電荷発生層２１５ａを形成した。
【０１３６】
−電荷輸送層２１５ｂの形成−
次に、下記構造式（１）で表される化合物を２質量部、及び、下記構造式（２）で表される高分子化合物（粘度平均分子量３９，０００）３質量部を、クロロベンゼン２０質量部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液を得た。
【０１３７】
【化１】
2009237114.tif 000003
【０１３８】
この塗布液を、浸漬法により電荷発生層２１５ａ上に塗布し、１１０℃で４０分間加熱して膜厚２０μｍの電荷輸送層２１５ｂを形成した。
これにより、アルミニウム基体２１１上に、下引層２１３と電荷発生層２１５ａと電荷輸送層２１５ｂとをこの順に積層形成した有機感光体を得た。
【０１３９】
図７に示される回転体１０３に、上記有機感光体を積層体２２０として固定し、以下の条件で表面層（図６における表面層２１７）を形成した。
また、真空容器１０１内の仕切り部１０１ａは、回転する有機感光体（積層体２２０）の表面との間隔が最小で２．５ｍｍであった。
【０１４０】
次に、排気装置１１１を用いて真空容器１０１内を、圧力が５．０Ｐａ程度になるまで真空排気した。
その後、プロセスガスとして、水素ガス（１５０ｓｃｃｍ）を、プロセスガス供給部１０７から供給口１０７ａを介して真空容器１０１内へと供給し、高周波電源部（１３．５６ＭＨｅ）１０５ａから放電面の寸法が３５０ｍｍ×５０ｍｍの放電電極１０５ｂに、１５０Ｗの電力を供給した。
【０１４１】
次に、材料ガスとして、トリメチルガリウムガス（３．００ｓｃｃｍ）と酸素ガス（１０．００ｓｃｃｍ）とを含む混合ガスを、材料ガス供給部１０９から供給口１０９ａを介して真空容器１０１内へと供給した。
【０１４２】
以上のような成膜装置において、回転体１０３を２００ｒｐｍの速度で回転させ、成膜時間３０分として、有機感光体表面に、膜厚０．５０μｍの表面層を形成した。
【０１４３】
−表面層分析・評価−
表面層の厚みは、表面粗さ計（（株）東京精密製、サーフコム５５０Ａ型）にて、マスク部との段差を測定することで求めた。
また、表面層中のガリウム元素と酸素との含有質量比を、Ｓｉ基板上に、同様の条件で形成した膜について、前述のようにＸＰＳを用いて測定することで、求めた。その結果、表面層中のガリウム元素に対する酸素の含有質量比（＝酸素／ガリウム元素）は、１．２であった。
【０１４４】
上記のようにして得られた感光体を、画像形成装置（富士ゼロックス（株）製、ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  ５００）に取り付け、更に、図１〜図５に示される各構成のように弾性部材（弾性ロール２０ａ、弾性ロール４２、弾性ロール５０ａ、弾性ロール６２、又は弾性ロール７０）を取り付けて改造し、実施例１〜実施例５の画像形成装置を得た。
実施例１〜実施例４の画像形成装置において、画像形成を行わない時に、弾性部材を押し付け圧５ｇ／ｃｍ、回転速度５０ｒｐｍで、感光体表面へ押し当て、そのまま、感光体を１００回、回転させた。
また、実施例５の画像形成装置においては、画像形成を行いつつ、弾性部材を押し付け圧２．５ｇ／ｃｍ、回転速度５０ｒｐｍで、感光体表面へ押し当て、感光体を１００回、回転させた。
【０１４５】
ここで、実施例１〜５において用いた、弾性ロール２０ａ、弾性ロール４２、弾性ロール５０ａ、弾性ロール６２、及び弾性ロール７０の詳細を、以下に示す。
【０１４６】
・実施例１：弾性ロール２０ａ
芯材：直径８ｍｍ、長さ３２０ｍｍの円筒状ステンレス材
弾性層：エピクロルヒドリンゴムにイオン導電剤とカーボンブラックを配合し、厚さ３ｍｍで芯材の両端部を各８ｍｍずつ残して被覆し、直径１４ｍｍとした。得られた弾性層のゴム硬度はＡ６０であり、体積抵抗率は１０９〜１０１０Ω・ｃｍであった。
【０１４７】
・実施例２：弾性ロール４２
芯材：直径２５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ、長さ３５０ｍｍの中空円筒状ステンレス材
弾性層：ＥＰＤＭにイオン導電剤とカーボンブラックを配合し、厚さ１．５ｍｍで芯材の両端部を各１５ｍｍずつ残して被覆し、直径２８ｍｍとした。得られた弾性層のゴム硬度はＡ６０であり、体積抵抗率は１０６〜１０８Ω・ｃｍであった。
【０１４８】
・実施例３：弾性ロール５０ａ
芯材：直径８ｍｍ、長さ３２０ｍｍの円筒状ステンレス材
弾性層：発泡ウレタンにイオン導電剤とカーボンブラックを配合し、厚さ６ｍｍで芯材の両端部を各８ｍｍずつ残して被覆し、直径２０ｍｍとした。得られた弾性層の体積抵抗率は１０６〜１０８Ω・ｃｍであった。
【０１４９】
・実施例４：弾性ロール６２
芯材：直径６ｍｍ、長さ３２０ｍｍの円筒状ステンレス材
弾性層：発泡ウレタンにイオン導電剤とカーボンブラックを配合し、厚さ７ｍｍで芯材の両端部を各８ｍｍずつ残して被覆し、直径２０ｍｍとした。得られた弾性層の体積抵抗率は１０６〜１０８Ω・ｃｍであった。
【０１５０】
・実施例５：弾性ロール７０
芯材：直径６ｍｍ、長さ３２０ｍｍの円筒状ステンレス材
弾性層：ＥＰＤＭにイオン導電剤とカーボンブラックを配合し、厚さ５ｍｍで芯材の両端部を各１５ｍｍずつ残して被覆し、直径１６ｍｍとした。得られた弾性層のゴム硬度はＡ５５であり、体積抵抗率は１０６〜１０８Ω・ｃｍであった。
【０１５１】
−評価−
（残留電位の評価）
感光体の残留電位を、（トレック社製、３４４型表面電位計）を用いて、使用開始時、一日後、一週間後、に測定した。
結果を表１に示す。
【０１５２】
（電位ムラの評価）
感光体の帯電時の表面電位のムラ（＝最大値−最小値）を、（トレック社製、３４４型表面電位計）を用いて、使用開始時、一日後、一週間後に測定した。
なお、感光体の測定箇所は、１個の感光体につき感光体の軸方向は５０ｍｍ毎、周方向は６０°毎の計４２個所であった。
結果を表１に示す。
【０１５３】
（濃度ムラの評価）
画像形成装置により、画像濃度２０％のハーフトーンで５万枚の印刷を行ない、画像の濃度ムラを評価した。
結果を表１に示す。
【０１５４】
（像流れの評価）
画像形成装置により、高湿度条件（２８℃、８５％ＲＨ）にて、画像濃度２０％のハーフトーンで５万枚の印刷を行ない、像流れを評価した。
結果を表１に示す。
【０１５５】
（感光体磨耗量の評価）
画像形成装置により、画像濃度２０％のハーフトーンで５万枚の印刷を行ない、その後の感光体の表面層の磨耗量を、光干渉法により測定した。
結果を表１に示す。
【０１５６】
【表１】
2009237114.tif 000004
【０１５７】
〔比較例１〕
実施例５で用いた感光体において、表面層を有していないものに代えた以外は、実施例５と同様にして、図５に示される構成の画像形成装置を得た。
【０１５８】
〔比較例２〕
実施例５で用いた図５に示される構成の画像形成装置において、弾性ロール７０及び制御手段８０を設けなかった以外は、実施例５と同様にして、画像形成装置を得た。
【０１５９】
〔比較例３〜比較例５〕
比較例２で用いた感光体（実施例１〜実施例５で用いたものと同様の感光体）において、下記に示す処理を施したものに代えた以外は、比較例２と同様の構成の画像形成装置を得た。
【０１６０】
・比較例３：表面層が形成された感光体を、アルコールにて摺擦した後、窒素ガスでブローしたもの
・比較例４：表面層が形成された感光体を、日本エマソン（株）製、ブランソンＢ８５１０Ｊ‐ＤＴＨ型超音波洗浄機を用い、純水中で超音波洗浄したもの
・比較例５：表面層が形成された感光体を、６０℃で１週間アニール処理したもの
【０１６１】
比較例１〜比較例５の画像形成装置においても、実施例１〜実施例５と同様の評価を行なった。その結果を下記表２に示す。
【０１６２】
【表２】
2009237114.tif 000005
【０１６３】
上記表１及び表２から、以下のようなことが分かる。
即ち、実施例１〜実施例５によれば、感光体の残留電位は経時により少なくなり、また、磨耗量も小さいことがわかる。また、高湿環境での像流れは発生せず、濃度ムラも少ないことが分かる。
比較例１によれば、感光体の残留電位も小さく、濃度ムラ、像流れも問題がないことが分かるが、感光体が表面層を有していないため、磨耗量が大きく、感光体の寿命が短いことが分かる。
比較例２によれば、画像形成装置内に弾性部材を有していないため、感光体の残留電位は経時により少なくならず、一日後には濃度ムラが発生することが分かる。
比較例３〜比較例５によれば、感光体の残留電位は経時により少なくならず、一日後には濃度ムラが発生することが分かる。これは、感光体の表面層に施される各種の処理では、内部の応力の緩和が均一に行われないことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】本実施態様の画像形成装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】本実施態様の画像形成装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図３】本実施態様の画像形成装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図４】本実施態様の画像形成装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図５】本実施態様の画像形成装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【図６】本実施態様に好適な感光体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図７】本実施態様における表面層の形成に用いられる成膜装置の一例を示す概略模式図である。
【符号の説明】
【０１６５】
１ａ〜１ｅ  画像形成装置
１０、２１０  感光体
２０  帯電手段
３０  露光手段
４０  現像手段
５０  転写手段
６０  クリーニング手段
２０ａ、４２、５０ａ、６２、７０  弾性ロール
８０  制御手段
１００  成膜装置
１０１  真空容器
１０１ａ  仕切り部
１０３  回転部
１０５  放電部
１０５ａ  高周波電源部
１０５ｂ  放電電極
１０７  プロセスガス供給部
１０７ａ  プロセスガスを供給する供給口
１０９  材料ガス供給部
１０９ａ  材料ガスを供給する供給口
１１１  排気装置
１１１ａ  排気口
２１１  導電性基体
２１３  下引層
２１５  有機感光層
２１５ａ  電荷発生層
２１５ｂ  電荷輸送層
２１７  表面層
２２０  導電性基体上に有機感光層が設けられた積層体
【図１】
2009237114.tif 000006
【図２】
2009237114.tif 000007
【図３】
2009237114.tif 000008
【図４】
2009237114.tif 000009
【図５】
2009237114.tif 000010
【図６】
2009237114.tif 000011
【図７】
2009237114.tif 000012