(57)【要約】【課題】高い歩留まりで安価に画像パターンの形成が可能な印刷法により、微細な凹凸パターンを有する凹凸版を用いることなく、微細なパターンを形成する方法を提供する。【解決手段】インキ剥離性を有する基材（１）上に、半乾燥状態のインキからなる第一の画像パターン（４）を形成した後に、該第一の画像パターン（４）の一部を少なくとも一回、第二の画像パターン形成用凸版（３）によって除去することにより、該第一の画像パターン（４）よりも微細な第二の画像パターン（５）を、該インキ剥離性を有する基材上（１）に形成し、次いで該インキ剥離性を有する基材から印刷用基材に該第二の画像パターンを転写することを特徴とする微細パターンの印刷方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
インキ剥離性を有する基材上に、半乾燥状態のインキからなる第一の画像パターンを形成した後に、該第一の画像パターンの一部を少なくとも一回、第二の画像パターン形成用凸版によって除去することにより、該第一の画像パターンよりも微細な第二の画像パターンを、該インキ剥離性を有する基材上に形成し、次いで該インキ剥離性を有する基材から印刷用基材に該第二の画像パターンを転写することを特徴とする微細パターンの印刷方法。
【請求項２】
前記インキ剥離性を有する基材上に前記第一の画像パターンを形成する方法が、平版印刷、凸版印刷、凹版印刷、孔版印刷のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の微細パターンの印刷方法。
【請求項３】
前記インキ剥離性を有する基材上に前記第一の画像パターンを形成する方法が、該インキ剥離性を有する基材上に、インキ液膜を塗工して半乾燥させた後に、該第一の画像パターンが凹部として構成された凸版により不必要な部分のインキを除去する方法であることを特徴とする請求項１に記載の微細パターンの印刷方法。
【請求項４】
前記インキ剥離性を有する基材が、基材にシリコーン樹脂層を積層してなるものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の微細パターンの印刷方法。
【請求項５】
前記インキ剥離性を有する基材が、基材にＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2の無機酸化物膜、あるいはこれらの複合酸化物膜のいずれかが設けられ、さらにシランカップリング剤の層を介してアルキル基、シロキサン基、フッ素原子の少なくとも一種が位置していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の微細パターンの印刷方法。
【請求項６】
前記インキ剥離性を有する基材が、基材にゾル−ゲル法により酸化物膜が設けられ、さらにシランカップリング剤の層を介してアルキル基、シロキサン基、フッ素原子の少なくとも一種が位置していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の微細パターンの印刷方法。
【請求項７】
前記第一の画像パターンと、前記第二の画像パターン形成用凸版は位置合わせを行うためのアライメント用パターンを有しており、該第一の画像パターンの一部を該第二の画像パターン形成用凸版により除去する際には、アライメントカメラで両者の該アライメント用パターンを観察して位置合わせを行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項にに記載の微細パターンの印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基材やプラスチックフィルム上へ画像パターンを形成する印刷方法に関するものであり、特に微細な画像パターンを形成する際に適した印刷方法である。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイ業界の多大な発展の中で、液晶ディスプレイも大型化、薄型化が進められ、それに伴い高コントラスト、広視野角など画質の面でも改善が進められてきた。そして今尚、カラーフィルタや薄膜トランジスタなどの液晶ディスプレイを構成する部材は低価格で高精細なものを作製することを常に求められている。
【０００３】
例えば従来のカラーフィルタの作製方法について調べてみると、着色インキで透明基板面にカラー画素を印刷する印刷法、フォトレジストを染料で染色する染色法、フォトレジスト中に着色顔料を微分散する顔料分散法など、今までに大変多くの作製方法が開発されていることが分かる。
【０００４】
最も古くからカラーフィルタの作製方法として用いられているのは印刷法であるが、印刷法には凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、孔版印刷などが基礎的技術として存在し、それらを応用した様々な方法によりカラーフィルタの作製が試みられている。
【０００５】
これらの印刷法はパターンを形成するために、凸版、凹版、平版及び孔版のいずれかの版を使用する必要があり、パターンの線幅はこれらの版の線幅にほぼ支配される。
【０００６】
凹凸版を作製する方法としては、例えば感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィーにより凹凸パターンを形成する方法があり、フレキソ印刷などで用いる凸版はこの方法で作製される。
【０００７】
また、ガラスなどを凹凸版の材料として用いる場合は、エッチングにより凹凸パターンを形成することができる。エッチングには弗酸などの液体により目的の材料を腐食溶解してパターンを形成するウェットエッチングか、もしくはプラズマによりラジカル化した四弗化炭素や、レーザーなどにより材料を削るドライエッチングが存在する。
【０００８】
微細な凹凸パターンを有した凹凸版は、フォトリソグラフィーを用いる方法か、ドライエッチングを用いる方法により作製可能である。
【０００９】
現在は、微細な画像パターンを安定して形成する方法としては、染色法や顔料分散法などのフォトリソグラフィーを用いる方法が一般的に用いられる。特に最近のカラーフィルタの作製方法としては顔料分散法が最も用いられており、顔料を含むインキを基板に塗布し、乾燥させた後、露光装置により露光して現像という工程を経て画像パターンを得ることができる。
【００１０】
前記の通り、現在では顔料分散法などのようにフォトリソグラフィーを用いる方法がカラーフィルタの作製方法として一般的に用いられているが、フォトレジストを露光する露光装置は、精密機械としての要素と高度に調整された光学機器としての要素を有しているため極めて高価な装置である。そのうえ、各色で塗布、乾燥、露光、現像の工程が必要となるため、カラーフィルタの大型化が進むほど露光装置やその他の設備のために膨大な投資を要することになる。また工程数が多いために、条件出しなどで手間がかかるうえに、不良品が生じやすく、現像液などの材料も多く必要とする。
【００１１】
高い歩留まりで安価にパターンを形成するという点においては、工程数が少なく、材料使用量が少ない印刷法が最も優れているといえるが、前記の方法で微細な凹凸パターンを有した凹凸版を作製し、その凹凸版を用いて一回の印刷工程によって微細なパターンを形成しようとしても、印刷不良が生じやすいという欠点がある。例えば、凹凸版の凹部に充填させたインキを基材に印刷する凹版印刷において、微細な凹凸パターンを有した凹凸版を用いると、凹部のインキが完全に基材に印刷できずに部分的に残存しやすくなる。凹版印刷に限らず、版からインキを基材に印刷するときは、版のパターンが微細になるほど印刷不良は生じやすくなる。
【００１２】
そこで、印刷により微細なパターンを作るために、以下の２つの技術が提案されている。
【００１３】
まず特許文献１は、凹版・平版上のインキを熱・放射線で少なくとも一部表層部が不完全硬化状態となるように硬化させた後、被印刷体に転写する印刷方法を提案している。
【００１４】
また特許文献２は、版胴に巻き付けたブランケット上にインキを塗工・予備乾燥してインキ膜を形成し、その後、非画像部パターンが形成された凸版をインキ膜に押圧することによりブランケット上にパターンを形成し、最後に、ブランケット上の画像パターンを被印刷基板上に転写し、被印刷基板上に画像パターンを形成する印刷方法を提案している。
【００１５】
しかしながら特許文献１の印刷方法には、不完全硬化状態にするのが困難であり、インキに制限があり、かつ微細になると転写不良が生じるという問題がある。
【００１６】
また特許文献２の印刷方法には、ブランケット上でインキの予備乾燥を行う時に、ブランケット表面のインキ濡れ性や転写性が不安定になり、微細になると転写不良が生じ、結局線幅は版によって決まるという問題がある。
【特許文献１】特開平成３−１９８８９号公報
【特許文献２】特開２００１−５６４０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、高い歩留まりで安価に画像パターンの形成が可能な印刷法により、微細な凹凸パターンを有する凹凸版を用いることなく、微細なパターンを形成する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明において上記課題を解決するために、まず請求項１の発明では、
インキ剥離性を有する基材上に、半乾燥状態のインキからなる第一の画像パターンを形成した後に、該第一の画像パターンの一部を少なくとも一回、第二の画像パターン形成用凸版によって除去することにより、該第一の画像パターンよりも微細な第二の画像パターンを、該インキ剥離性を有する基材上に形成し、次いで該インキ剥離性を有する基材から印刷用基材に該第二の画像パターンを転写することを特徴とする微細パターンの印刷方法としたものである。
【００１９】
また請求項２の発明では、
前記インキ剥離性を有する基材上に前記第一の画像パターンを形成する方法が、平版印刷、凸版印刷、凹版印刷、孔版印刷のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の
微細パターンの印刷方法としたものである。
【００２０】
また請求項３の発明では、
前記インキ剥離性を有する基材上に前記第一の画像パターンを形成する方法が、該インキ剥離性を有する基材上に、インキ液膜を塗工して半乾燥させた後に、該第一の画像パターンが凹部として構成された凸版により不必要な部分のインキを除去する方法であることを特徴とする請求項１に記載の微細パターンの印刷方法としたものである。
【００２１】
また請求項４の発明では、
前記インキ剥離性を有する基材が、基材にシリコーン樹脂層を積層してなるものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の微細パターンの印刷方法としたものである。
【００２２】
また請求項５の発明では、
前記インキ剥離性を有する基材が、基材にＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2の無機酸化物膜、あるいはこれらの複合酸化物膜のいずれかが設けられ、さらにシランカップリング剤の層を介してアルキル基、シロキサン基、フッ素原子の少なくとも一種が位置していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の微細パターンの印刷方法としたものである。
【００２３】
また請求項６の発明では、
前記インキ剥離性を有する基材が、基材にゾル−ゲル法により酸化物膜が設けられ、さらにシランカップリング剤の層を介してアルキル基、シロキサン基、フッ素原子の少なくとも一種が位置していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の微細パターンの印刷方法としたものである。
【００２４】
また請求項７の発明では、
前記第一の画像パターンと、前記第二の画像パターン形成用凸版は位置合わせを行うためのアライメント用パターンを有しており、該第一の画像パターンの一部を該第二の画像パターン形成用凸版により除去する際には、アライメントカメラで両者の該アライメント用パターンを観察して位置合わせを行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項にに記載の微細パターンの印刷方法としたものである。
【発明の効果】
【００２５】
本発明では、インキ剥離性を有する基材上に、半乾燥状態のインキによって第一の画像パターンを形成した後に、第一の画像パターンの一部を凸版によって除去することにより、第一の画像パターンよりも微細な第二の画像パターンを形成した上で印刷用基材に転写するため、一回の印刷だけでは形成することが不可能な微細な画像パターンを形成することが可能となる。
【００２６】
また、第一の画像パターンから一部を凸版により除去する際に、アライメントカメラを用いて第一の画像パターン、及び第二の画像パターン形成用凸版が有するアライメント用パターンを観察しながら位置合わせを行うことが可能であるため、微細なパターンを再現性良く形成することが可能となる。
【００２７】
さらに、本発明においては、前記の印刷工程において、微細な凹凸パターンを有する凹凸版を使用する必要はなく、安価に作製可能な凹凸パターンが太い凹凸版を用いても微細なパターンを基材上に形成することができる。そのため、印刷不良が生じる可能性も抑えることができ、高い歩留まりで微細なパターンを形成することが可能となる。
【００２８】
本発明により、例えばカラーフィルタのブラックマトリクスやＲＧＢのストライプパターン、薄膜トランジスタのゲート電極、ソース／ドレイン電極、ゲート絶縁膜などの微細な画像パターンを低コストで精度良く形成することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下に、本発明に係る微細パターンの印刷方法に関して最良の形態を示す。
【００３０】
本発明に用いるインキ剥離性を有する基材を構成する基材としては、ガラスやプラスチックフィルムなど様々なものを使用することができ、プラスチックフィルムの場合はその形態として枚葉状、ロール状などが考えられるが、それらは特に限定されるものではない。
【００３１】
ガラスを基材として用いる場合は、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等を用いることができる。
【００３２】
また、プラスチックフィルムを基材として用いる場合は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロース等を用いることができる。
【００３３】
本発明に用いるインキ剥離性を有する基材は、前記基材へシリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を塗ってあっても良いし、あるいはシリコーンゴムの薄膜層が形成されていてもよい。また同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴム等も利用され得るし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、アクリルゴムやウレタンゴムのような一般的な合成ゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。これらシリコーン系の塗膜は一般的にはフィルム基材との密着が弱いが、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、最表面に設けるシリコーン層に対して接着性の高い樹脂等からなる層を、アンカー層としてあらかじめフィルム基材上に設けるようにすればよい。
【００３４】
いずれの構成であっても、このインキ剥離性を有する基材は、適度のインキ受容性を有すると同時に、一度受容した半乾燥インキ膜の完全なインキ剥離性を有する必要がある。
【００３５】
基材に塗布するシリコーンオイルとしては、具体的には、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体等を用いることができる。
【００３６】
また、シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせになるもの等が用いられる。その他にはゴム硬度を調節するためのポリシロキサン等も適宜用いられる。
【００３７】
また、本発明に用いるインキ剥離性を有する基材として、前記基材に無機物膜を設けた後、シランカップリング剤による表面処理を施したものを用いることもできる。
【００３８】
シランカップリング剤としては、トリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類等を用いることができる。このシランカップリング剤の一部位は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基等の有機化合物との反応性基を持つものから選ぶことができ、あるいはアルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものやシロキサンが結
合して、表面自由エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを用いることができる。前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤で基材表面を処理した後、所定の表面自由エネルギーになるような他のモノマー成分を塗工して、結合させることができる。反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を用いることができ、モノマーとしては、スチレン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を用いることができる。また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン等を用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。
【００３９】
前記シランカップリング剤を前記基材に固定化する方法としては、シランカップリング剤を使用した公知の表面処理方法を用いることができる。例えば、シランカップリング剤を水、酢酸水溶液、水−アルコール混合液、あるいはアルコール溶液に希釈させた溶液を調製し、続いて、調整した溶液を公知の塗工方法であるグラビアコーター、ロールコーター、ダイコーター等を用いて基材表面に塗工し、次いで乾燥させることでシランカップリング剤を固定化できる。また、反応性基を有するシランカップリング剤を用いた場合には、次いで他のモノマー成分を同様に塗工して結合させることができる。
【００４０】
前記シランカップリング剤を基材上に固定化するためには、予め基材上にＳｉＯ2やＴｉＯ2、ＺｒＯ2からなる薄膜、もしくはこれらの複合膜が設けられていることが好ましい。これら無機酸化物膜は既知の蒸着法やスパッタ法を用いて設けたものを用いることができる。
【００４１】
また、前記無機酸化物膜を設けるには、一般式Ｍ（ＯＲ）ｎで表される金属アルコキシド（ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒなどの金属、ＲはＣＨ3、Ｃ2Ｈ5等のアルキル基）を水、アルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応させて得られたゲル溶液を表面にコーティング後、加熱することで無機酸化物膜を設ける、いわゆるゾル−ゲル法を用いることができる。
【００４２】
さらに、前記ゾル−ゲル法で用いる金属アルコキシド溶液中にあらかじめ前記シランカップリング剤を添加しておくこともできる。この場合、表面性改質に特に効果が得られる。
【００４３】
このようにして得られるインキ剥離性を有する基材に対するインキ剥離性は、処理面へインキ液を滴下した際の接触角が、１０°以上９０°以下の程度となることが好ましく、２０°以上７０°以下であることがより好ましい。接触角が小さいと後工程で所定のインキ剥離性が確保できず、転写させようとする半乾燥インキ膜の転写パターンの欠陥（再現性不良等）が発生しやすくなり、接触角が大きいと第一の画像パターンを基材上に均一に形成することが困難になる。
【００４４】
インキ剥離性を有する基材上に第一の画像パターンを形成する方法は様々な方法が存在し、例えば平版、凸版、凹版のいずれかの版上に第一の画像パターンを形成したうえでインキ剥離性を有する基材上に転写する、所謂オフセットすることにより、容易に形成することができる。
【００４５】
また、スクリーン印刷などに代表される孔版印刷により、インキ剥離性を有する基材上に直接第一の画像パターンを形成する方法も選択できる。
【００４６】
或いは図１に一例として示すように、インキ剥離性を有する基材１上に、インキ液膜を塗工して半乾燥させた後に、第一の画像パターンが凹部として構成された凸版２により不必要な部分のインキを除去することによっても形成することができる。
【００４７】
いずれの方法においても、インキ剥離性を有する基材上に形成する第一の画像パターンに関して、その画像パターンの模様や線幅、スペース幅、インキ膜厚などは限定されるものではないが、凸版により第一の画像パターンからパターンの一部を除去する際に、凸版と位置合わせを行うためのアライメント用のパターンを有している必要がある。
【００４８】
前記いずれかの方法により、インキ剥離性を有する基材上に第一の画像パターンを形成した後に、図２のように、第二の画像パターン形成用凸版３により第一の画像パターン４の一部を除去することにより、第一の画像パターン４の線幅よりも微細な画像パターン（第二の画像パターン５）を形成することができる。その際には、第一の画像パターンが有するアライメント用の画像パターンと、第二の画像パターン形成用凸版３が有するアライメント用の凹凸パターンとを、アライメントカメラにより観察しながら位置合わせを行ったうえでインキ除去をする必要がある。また、凸版により第一の画像パターンの一部を除去する工程は一度だけでなく、設計次第で二度以上行うことも有り得る。
【００４９】
位置合わせをおこなうためのアライメントカメラとしては、光学顕微鏡、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）顕微鏡等が適用できるが、オートフォーカス、電気的に制御可能な手動焦点制御機構のいずれか、もしくはその両方の機能を必要とし、観察の為に外部に設置したモニターや位置補正の為の画像処理装置へのインターフェースを持つものが推奨される。
【００５０】
前記アライメントカメラを、第一の画像パターンが形成されたインキ剥離性を有する基材と第二の画像パターン形成用凸版の間に挿入し、それぞれのアライメント用パターンを認識して、その画像をもとに位置補正を行うことができる。また、インキ剥離性を有する基材として光学的に透明な基材を用いる場合は、アライメントカメラにより基材越しにアライメント用パターンを観察でき、基材と凸版のギャップを小さくすることができるため、精度良く位置合わせを行うことが可能となる。
【００５１】
第二の画像パターン形成用凸版としては、樹脂、ガラス、金属などの材料を用いてフォトリソグラフィーやエッチングにより作製されたものを用いることができ、インキ剥離性を有する基材の材質を考慮して適宜選択することができる。
【００５２】
その際、凸版の凹凸パターンは特に限定されるものではなく、第二の画像パターンを形成するために第一の画像パターンの不要な部分のみを除去できるものであれば、どのような凹凸パターンでも用いることができる。
【００５３】
例えば図１及び２に示した一例のように、第一の画像パターン４を形成するために用いた凸版２を、第二の画像パターン５を形成するための凸版３として再び用いることもできる。凸版２を数ミクロン程度わずかにずらし、インキ剥離性を有する基材上のインキに触れることにより、第一の画像パターン４の一部を除去して、微細な第二の画像パターン５を得ることができる。
【００５４】
また図２の例に示したように、第一の画像パターンを形成するために用いた凸版２と凹凸パターンの異なる第二の画像パターン形成用凸版３’を用いても、微細な第二の画像パ
ターン５を得ることができる。この場合は、第二の画像パターン形成用凸版３’を新たに作製する必要が生じるが、より複雑な画像パターンを形成することが可能となる。
【００５５】
このようにしてインキ剥離性を有する基材１上に形成された第二の画像パターン５を印刷用基材に印刷することにより微細な画像パターンを得ることができるが、印刷用基材としては、ガラス、プラスチックフィルム、金属など様々なものを用いることができる。
【実施例】
【００５６】
＜実施例１＞
インキ剥離性を有する基材として、０．１％の塩酸４．０ｇとテトラエチルシリケート１７０ｇ（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、日本コルコート化学社製、製品名エチルシリケート２８）とをイソプロパノール１２００ｍｌに溶かし、この溶液を室温で約２時間攪拌しながら加水分解したものをスピンコーターによりガラス基板上に０．５μｍ厚で塗工したものを用い、その基材上に、第一の画像パターンが凸部となった凸版に半乾燥状態のインキを転写した。凸版は２００ｍｍ□（パターン有効領域は１５０ｍｍ□）のアクリル系樹脂版で、パターン有効領域が凹部８０μｍ×３００μｍ、凸部２０μｍ幅、版深５μｍで構成された格子パターンのものを用いた。さらにパターン有効領域の外側で４つの角に位置するところにアライメント用の画像パターンを設けた。
【００５７】
インキ剥離性を有するガラス基板上に第一の画像パターンを形成した後、ガラス基板と第二の画像パターン形成用凸版を向かい合わせで設置し、ガラス基板の裏面よりＣＣＤカメラを用いてアライメント用パターンの位置合わせを行い、凸版を接触させて第一の画像パターンの一部を除去し、最小１０μｍ幅で構成された格子パターンを、インキ剥離性を有するガラス基板上に形成した。凸版は２００ｍｍ□（パターン有効領域は１５０ｍｍ□）のアクリル系樹脂版で、パターン有効領域が凸部８０μｍ×３００μｍ、凹部２０μｍ幅、版深５μｍで構成された格子パターンのものを用いた。
【００５８】
印刷用基材として２００ｍｍ□のＰＥＴフィルムを用意し、インキ剥離性を有するガラス基板から第二の画像パターンを印刷し、微細な画像パターンを得た。印刷した画像パターンは、印刷の欠陥もなく、線幅も均一な画像パターンであった。
【００５９】
＜比較例１＞
実施例１と同様に、インキ剥離性を有する基材として、実施例１と同様の方法でテトラエチルシリケートを塗布したガラス基板を作製し、画像パターンが凸部となった凸版へ半乾燥状態のインキを転写した。本試験で用いた凸版は、２００ｍｍ□（パターン有効領域は１５０ｍｍ□）のアクリル系樹脂版で、パターン有効領域が凹部９０μｍ×３１０μｍ、凸部１０μｍ幅、版深５μｍで構成された格子パターンのものを用いた。インキ剥離性を有するガラス基板から印刷用基材の２００ｍｍ□のＰＥＴフィルムに印刷して画像パターンを得たが、印刷した画像パターンには所々で印刷の欠陥が見受けられ、精度良く微細な画像パターンを形成することはできなかった。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】第一の画像パターンを形成する一例を示す図。
【図２】第二の画像パターンを形成する一例を示す図。
【図３】第二の画像パターンを形成するもう一例を示す図。
【符号の説明】
【００６１】
１…インキ剥離性を有する基材
２…第一の画像パターンを形成するための凸版
３…第二の画像パターン形成用凸版
３’…第二の画像パターン形成用凸版
４…第一の画像パターン
５…第二の画像パターン
【図１】
2009233895.tif 000003
【図２】
2009233895.tif 000004
【図３】
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