(57)【要約】【課題】線幅が小さなプラスチック構造体、たとえば電気泳動型のディスプレイなどに使用可能なプラスチック構造体を簡便に作ること。【解決手段】本発明は、基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、第２のパターンを有する形状転写型で前記第１のパターンを前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、前記変形された第１のパターンをその状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程とを含むプラスチック構造体の製造方法を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、
第２のパターンを有する形状転写型で前記第１のパターンを前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、
前記変形された第１のパターンをその状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程と、
を含むことを特徴とするプラスチック構造体の製造方法。
【請求項２】
前記第１のパターンを変形させる工程は、前記第１のパターンに前記第２のパターンを有する形状転写型を接触させる工程と、前記第１のパターンと前記形状転写型とを接触させながら前記基板と前記第２のパターンとを前記基板に略平行に離間させて前記第１のパターンを前記第２のパターンの離間動作に追随させながら変形する工程とを含むことを特徴とする請求項１に記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項３】
前記変形工程は、前記第１のパターンが前記第２のパターンと接触していない空気接触部分は連続した面が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項４】
前記第１のパターンと前記第２のパターンは、前記第１のパターンを変形させる工程中は、接触面積が略一定であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項５】
前記第２のパターンを有する形状転写型の前記第１のパターンと接触するパターン部位は突起状部を複数有していることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項６】
前記突起状部は、前記第１のパターンと同周期に形成され、かつ前記突起状部の前記第１のパターンと接触する部の幅が前記第１のパターンの幅より小さいことを特徴とする請求項５に記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項７】
前記硬化性樹脂は紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項８】
前記第１のパターンの形成は、インクジェット装置を用いて形成することを特徴とする請求項７に記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項９】
前記第１のパターンの形成は、スクリーン印刷により形成することを特徴とする請求項７に記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項１０】
前記第２のパターンを有する形状転写型は、第２のパターンのパターン部位より高さの高いストッパ部を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項１１】
前記第２のパターンを有する形状転写型のストッパ部の高さは、前記第２のパターンの突起高さと、前記第１のパターンの高さとの和よりも小さいことを特徴とする請求項１０に記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項１２】
前記第１のパターンを形成する基板はＴＦＴを有する基板であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項１３】
前記第１のパターンは、前記ＴＦＴ基板の画素電極部を囲むことを特徴とする請求項１２に記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項１４】
基板上に設けられた硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら所定位置まで前記基板と前記形状転写型とを離間させて前記硬化性樹脂を硬化させることを特徴とするプラスチック構造体の製造方法。
【請求項１５】
基板上の硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら所定位置まで前記基板と前記形状転写型とを離間させて前記硬化性樹脂を硬化させて画素の隔壁を形成することを特徴とするプラスチック構造体の製造方法。
【請求項１６】
前記硬化は紫外線照射により行うことを特徴とする請求項１４または１５に記載のプラスチック構造体の製造方法。
【請求項１７】
請求項1〜１６のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法を用いて形成されたプラスチック構造体。
【請求項１８】
請求項１７に記載のプラスチック構造体を有することを特徴とするディスプレイデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックによる微小(μmオーダー)な凹凸構造を簡便に製造する方法に関し、特に電気泳動型ディスプレイ等の表示素子のセル構造の製造方法、この製造方法により得られるプラスチック構造体およびこの構造体を有するディスプレイデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子ペーパー等の表示デバイスにおいて、高解像度及び視認性を上げるために、画素間の隔壁を極力薄くする必要がある。今後商品化等されると期待されているフレキシブル薄型ディスプレイの場合、プラスチック材料で基板等を作製する必要があり、隔壁は相対的に高アスペクト比の構造であることが求められている（例えば特許文献１，２参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１９１４６３号公報
【特許文献２】特開２００７−１０３９１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記したようなフレキシブルな素材を従来技術のプレス工法等を用いて作成する場合、画素間の隔壁以外の部分まで樹脂が残存するという問題点がある。また、高アスペクト比の構造を得るためには、加熱、加圧を行う時間が長くなるなど、生産性に劣るという問題がある。またフレキシブルな素材として光硬化性樹脂を採用した場合、高アスペクト構造を転写して形成するのが困難であるという問題点がある。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、線幅が小さなプラスチック構造体、たとえば電気泳動型のディスプレイなどに使用可能なプラスチック構造体を簡便に作ることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載のプラスチック構造体の製造方法の発明は、
基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、
第２のパターンを有する形状転写型で前記第１のパターンを前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、
前記変形された第１のパターンをその状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程と、
を含むことを特徴とする。
【０００６】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンを変形させる工程は、前記第１のパターンに前記第２のパターンを有する形状転写型を接触させる工程と、前記第１のパターンと前記形状転写型とを接触させながら前記基板と前記第２のパターンとを前記基板に略平行に離間させて前記第１のパターンを前記第２のパターンの離間動作に追随させながら変形する工程とを含むことを特徴とする。
【０００７】
また請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記変形工程は、前記第１のパターンが前記第２のパターンと接触していない空気接触部分は連続した面が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
また請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンと前記第２のパターンは、前記第１のパターンを変形させる工程中は、接触面積が略一定であることを特徴とする。
【０００９】
また請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第２のパターンを有する形状転写型の前記第１のパターンと接触するパターン部位は突起状部を複数有していることを特徴とする。
【００１０】
また請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記突起状部は、前記第１のパターンと同周期に形成され、かつ前記突起状部の前記第１のパターンと接触する部の幅が前記第１のパターンの幅より小さいことを特徴とする。
【００１１】
また請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記硬化性樹脂は紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする。
【００１２】
また請求項８に記載の発明は、請求項７に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンの形成は、インクジェット装置を用いて形成することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項９に記載の発明は、請求項７に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンの形成は、スクリーン印刷により形成することを特徴とする。
【００１４】
また、請求項１０に記載の発明は、請求項１〜９のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第２のパターンを有する形状転写型は、前記第２のパターンのパターン部位より高いストッパ部を有することを特徴とする。
【００１５】
また、請求項１１に記載の発明は、請求項１０に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第２のパターンを有する形状転写型のストッパ部の高さは、前記第２のパターンの突起高さと、前記第１のパターンの高さとの和よりも小さいことを特徴とする。
【００１６】
また請求項１２に記載の発明は、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンを形成する基板はＴＦＴを有する基板であることを特徴とする。
【００１７】
また請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンは、前記ＴＦＴを有する基板の画素電極部を囲むことを特徴とする。
【００１８】
また請求項１４に記載のプラスチック構造体の製造方法の発明は、基板上に設けられた硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら所定位置まで前記基板と前記形状転写型とを離間させて前記硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする。
【００１９】
また請求項１５に記載のプラスチック構造体の製造方法の発明は、基板上の硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら所定位置まで前記基板と前記形状転写型とを離間させて前記硬化性樹脂を硬化させて画素の隔壁を形成することを特徴とする。
【００２０】
また請求項１６に記載の発明は、請求項１４または１５に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記硬化は紫外線照射により行うことを特徴とする。
【００２１】
また請求項１７に記載のプラスチック構造体の発明は、請求項1〜１６のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法を用いて形成されたことを特徴とする。
【００２２】
また請求項１８に記載のディスプレイデバイスの発明は、請求項１７に記載のプラスチック構造体を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、
基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、
前記第１のパターンに第２のパターンを有する形状転写型で前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、
前記形状転写型と前記第１のパターンとを前記変形させた状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程と、
を含んでいるので、第１のパターンを液状樹脂を用いて大まかにパターンを形成して細部形状を別の工程により基板の厚みを増す方向に変形させて形成するので、微細な形状を簡便に作成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して、本発明のプラスチック構造体などの発明に関し、以下の実施形態により、詳細に説明する。
本発明のプラスチック構造体の製造方法は、基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、前記第１のパターンに第２のパターンを有する形状転写型で前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、前記形状転写型と前記第１のパターンとを前記変形させた状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程とを含むことを特徴としている。
【００２５】
本発明のプラスチック構造体に使用される基板としては、透明性のある樹脂基板であればよく、このような基板としては、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂基板、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）樹脂基板、アクリル樹脂基板、ポリカーボネート樹脂基板などのポリエステル樹脂基板、ポリエチレン樹脂基板、ポリプロピレン樹脂基板、ポリメチルペンテン樹脂基板などのオレフィン樹脂基板（α−オレフィン樹脂基板、環状オレフィン樹脂基板）、ポリアミド樹脂基板等を挙げることができ、さらにその他の透明樹脂基板も挙げることができる。
【００２６】
このような樹脂基板に液状の硬化性樹脂により、第１のパターンを形成する。硬化性樹脂としては、紫外線を照射することにより硬化する樹脂、加熱することにより硬化する樹脂、あるいは紫外線−熱硬化複合型樹脂などの反応性樹脂を用いることができる。このような上記した基板と、液状の硬化性樹脂とを用いて、第１のパターンを形成する工程について、説明する。
【００２７】
〔第１のパターン形成工程〕
(第１パターンの形成例：インクジェット編)
本発明のプラスチック構造体の製造方法において、以下にまず、インクジェットプリンタ装置を用い、紫外線硬化樹脂をインクとしてガラス基板に第１のパターンである格子パターンを形成した例を挙げて説明する。基板上に第１のパターンをまず形成する。この第１のパターン形成は、公知の方法（たとえばスクリーン印刷法など）を用いて行うことができる。たとえば１つのライン幅は５０μｍであり、ラインとラインとの間隔（スペース）は２００μｍで作成することができる。
本発明ではたとえば、ライン幅とライン間隔の比を、１:２〜１:２０、好ましくは１:１０〜1：２０の範囲とした。またライン幅と高さの比を、１:１〜１:５、好ましくは１:３〜１:５と設定して形成することができる.ライン幅は特に限定されないが、たとえば、５〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ程度である。
【００２８】
また、第１のパターンを形成する工程として、以下に示す方法を採用することもできる。
(第１パターンの形成例：コンタクトプリント編)
公知のコンタクトプリント法によって、上記と同様の第１のパターンである格子パターンを形成することもできる。
【００２９】
上述したように、本発明のプラスチック構造体で使用される第１パターンを形成する際に用いることのできる方法としては、インクジェット装置を用いて、インクの代わりに第１のパターンを形成するための液状の樹脂をそのまま用いるか、場合によっては溶剤を用いて適当な粘度に調整して基板上に第１のパターンを形成することができる。
また本発明では、コンタクトプリント法を採用して、基板上に第１のパターンを形成したり、あるいはネガ画像のマスクを介してスクリーン印刷法を用いて第１のパターンを形成することもできる。
【００３０】
次に上記のようにして形成した第１のパターンに第２のパターンを有する形状転写型で前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程を説明するが、まず、形状転写型の作製方法に関して説明する。
（形状転写型の作製）
図２を参照しながら、本発明の製造方法で使用される第２パターンを有する形状転写型を作成する。
まず、基板４０上にフォトレジスト５０を成膜する（図２（Ａ））。
次にパターンを形成するためパターン状のマスク（図示せず）を介して光を照射し、現像することにより、基板４０上にネガのパターン（形状転写型の元型）５１を形成する（図２（Ｂ））。
このネガのパターン（形状転写型の元型）５１を用い、このパターン面に剥離処理（たとえばフッ素系撥水処理剤で処理）を行い、前記ネガのパターンにたとえば未硬化の硬化型樹脂を塗布した後、この樹脂を硬化させてネガのパターンを逆転させたポジ型５２とし（図２（Ｃ））、硬化されたポジ型をネガのパターンから離型して作成する（図２（Ｄ））。その後、この作成されたポジ型に必要に応じて基板の端部にスペーサ２３を形成する（図２（Ｅ））。ここでポジ型５２は形状転写型の第２のパターン２２となるものである。
硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂または光硬化／熱硬化型併用樹脂が挙げられる。樹脂の種類としては、シリコーン樹脂、不飽和エチレン系重合基を有する樹脂（（メタ）アクリル基、（メタ）アリル基などの紫外線硬化基を有するシリコーン樹脂を含む）などを挙げることができる。
【００３１】
形状転写型を作成する具体例について、以下に作成例により説明する。
（第２のパターンを有する形状転写型の作成例）
Siウェハ基板にフォトレジスト(東京応化工業  OFPR-800)を厚さ10μmの厚さに製膜し、スペース１０μｍ、２４０μｍ□（２４０×２４０μｍ２正方形）のパターン(ピッチは第１のパターンと同じで凹凸が逆のパターン)を形成した(形状転写型の元型)。逆パターンが形成された元型にダイキン化学工業 オプツールDSX被膜により離型処理を行った後、シリコーンゴム(東レ・ダウ・コーニング  JCR-6140)を塗布し、スキーズ処理を行った後に石英ガラス(2ｍｍ厚)を圧着させ、この状態に保持して１５０℃に１.５時間加熱して、前記したシリコーンゴムを硬化させた。硬化されたシリコーンゴムがついた石英ガラス基板を、アルコール洗浄によって形状転写型を作製した。
この外周にフォトリソグラフィによって高さ２０μｍの外枠をストッパとして作製してもよい。
インクジェットプリンタ装置を用いて上記したガラス基板上にラインを形成後、公知の照射装置を用いてＵＶ光を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させた後、断面を観測したところ、パターンの高さ（隔壁の高さ）は約３０μｍであった。すなわち、インクジェットで形成した未硬化の紫外線硬化樹脂の第１のパターンはそのパターンの高さが３０μｍであり、形状転写型に関してはスペーサが２０μｍであり、したがって第２のパターンの高さが１０μｍであるので、スペーサによって、第１のパターンの頂上部が必ず接触することが可能である（上記において３０μｍの高さに形成された状態で次工程の変形工程を行わずに第１のパターンを硬化させ、断面観察もしくは触針式膜厚計で測定した。）。
【００３２】
また本発明で使用される第２のパターンが形成された基板である形状転写型の他の製造例を、以下に記載する。この方法では、形状転写型として、加熱硬化型のシリコーン樹脂を用いた例を示す。
（形状転写型の作製）
Siウェハー基板にフォトレジスト(東京応化工業  OFPR-800)を厚さ10μmで製膜し、スペースが１０μｍであり、２４０μｍ□（２４０×２４０μｍ２の略正方形）のパターン(ピッチは第１のパターンと同じで凹凸が逆のパターン)を形成した(形状転写型の元型)。逆パターンが形成された元型にダイキン化学工業 オプツールDSX被膜により離型処理を行った後、シリコーンゴム(東レ・ダウ・コーニング  JCR-6140)を塗布し、スキーズ処理を行った後に石英ガラス(2mm厚)を圧着させ、この状態に保持して150℃に（1.5時間）加熱して、前記した順パターンのシリコーンゴムを硬化させた。硬化されたシリコーンゴムがついた石英ガラス基板を、アルコール洗浄によって形状転写型として作製した。なお本発明では、シリコーンゴムを用いて作成した例を示したが、このシリコーンゴムの常温あるいは加熱硬化性のシリコーン樹脂またはＵＶ硬化性のシリコーン樹脂を用いてもよい。
この外周にフォトリソグラフィによってたとえば高さ２０μｍの外枠を作製してもよい。
本発明のプラスチック構造体の製造方法においては、第１の型を上記したような工程を用いて硬化前（反応硬化前）の樹脂からなる大略的なパターンを形成した後に、第２のパターン（形状転写型）により、硬化前（反応硬化前）の樹脂を基板１の厚み方向に引き伸ばして高さ方向に伸長させて所定高さとした後に第１のパターン状のラインを硬化（反応硬化）させることによって得られる。
したがって形状転写型２は、好ましくは第１のラインに対応して形成された型であって、硬化後の第１のパターンが正規に決められた形状であるように第１のパターンの形状を整える機能を有し、さらに、第１のパターンの高さ方向のバラツキが少ないように設定可能な機能を有することが好ましい。
【００３３】
次に上記したようにして形成した第２パターンである形状転写型を用いて、前記した第１パターン（好ましくは、インクジェットプリンタ装置を用いて、ガラス基板上に紫外線硬化樹脂でラインを形成する。）であるラインが形成された基板１のライン１１が形成された面を上にして、基板１２を略水平にする。次いで同一ライン周期の凸部を有するパターンが形成された形状転写型２を、その凸部パターン２２を下にして、上記したライン１１が形成された基板１の対応するラインと一致するように互いの面を対向させる（図１（Ａ））。そして凸部パターン２２を基板上に設けられた(紫外線硬化樹脂の)ライン１１と接触させ（図１（Ｂ））、基板１２と略平行に基板１又は転写型２の少なくとも１方を凸部パターン２２の接触面積をほぼ同一のままで離間させる方向に所定距離移動させる（図１（Ｃ））。その後、この状態を保持して紫外線硬化樹脂のパターン１１を硬化させ、硬化したパターンが形成された基板１と、転写型２とを離型すること（図１（Ｄ））によって、基板１２上にパターンを形成することができる。硬化したパターンが形成された基板１と、転写型２とを離型するには、これらを相対的に基板１の厚さ方向にこれらが離間していくように移動させればよい。
【００３４】
本発明のプラスチック構造体の製造方法では、上記した図１（Ｃ）に示す変形工程（変形プロセス）について、下記の作成例により説明する。
（変形プロセス）
図３に示すように、前記した工程により作成した形状転写型２をホルダ３２に固定し、このホルダ３２に固定された形状転写型２を、パターンを形成していない基板（裸の基板）３１を載せたステージ３３を上昇させて（図３（Ａ））、裸の基板３１と形状転写型２とが接触するときの高さの位置情報を原点として規定する（図３（Ｂ））。
次にステージ３３を元の位置に降下させた後、ステージ３３上の基板３１を紫外線硬化樹脂パターン付き基板１と取り替え顕微鏡３４を用いて微細アラインメント(Ｘ軸，Ｙ軸，θ軸)を調整しながらステージ３３を徐々に上昇させた。紫外線硬化樹脂パターンの厚さ(３０μｍ)程度に、前記した原点の位置から低い高さにまでステージ３３を上昇させたところ、基板３１上に設けられた紫外線硬化樹脂が形状転写型２に接触するのを顕微鏡３４で確認する（図３（Ｃ））。紫外線硬化樹脂のパターン１１全体が形状転写型の凸部２２に接触したところでステージ３３を10μm降下させて停止させ、この位置に固定した状態で紫外光を照射してパターン状に設けられた紫外線硬化樹脂を硬化させた（図３（Ｄ））。基板１上のパターン１１の硬化後、ステージ３３を降下させて形状転写型２から、硬化したパターン１１が形成された基板１を離型させた。
【００３５】
上記した変形工程では、基板１２上に液状樹脂により第１のパターン１１が形成され、この液状樹脂による第１のパターン１１に第２のパターン２２が形成された転写型の凸部を接触させ、第１のパターン１１の接触部以外の空気に接触している部分は、連続面が形成されることが好ましい。このように、第１のパターン１１の空気接触部分は連続した面が形成されるものであり、第１のパターン１１と第２パターン２２との接触面積は、好ましくは第２パターン２２（凸部）の最下部が、液状樹脂による第１のパターン１１との接触に寄与している。この第２パターン２２（凸部）の最下部との接触を保持しながら、第１のパターン１１は、基板１の厚み方向に伸長して変形されることが望ましい。このため、この変形工程中は、接触面積は一定であること（すなわち、第２パターン２２（凸部）の最下部の面積と略同一）が好ましい。また第２のパターンを有する形状転写型の第１のパターンと接触するパターン部位は、突起状部を複数有していることが好ましく、このような突起状部は、第１のパターンと略同周期に形成され、かつ突起状部の前記第１のパターンと接触する部の幅が第１のパターンの幅より小さいことが好ましい。
【００３６】
以上のようにして本発明のプラスチック構造体である、基板１上にパターン（例えば格子状パターン）が形成された基板を製造することができる。本発明のプラスチック構造体は、その用途は特に限定されるものではないが、このようにして硬化されたパターンを、たとえば電気泳動表示装置のセルの隔壁として用いることができる。
またパターンが形成される基板１２は、前述したように透明基板であることが好ましい。基板の材質としては、前記したようにガラスなどの無機材料、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＢＴなどのポリエステル系、ＰＥ、ＰＰなどのオレフィン系、ポリイミド、ポリアミドなどの窒素含有系樹脂などの有機系材料を挙げられる。このうち、有機系材料が可撓性を有するため好ましい。
また形状転写型（第２のパターンを有する型）にスペーサを形成する場合、形状転写型のストッパ部は、第２のパターンのパターン部位より高さの高いストッパ部を有することができる。このようなストッパは、たとえば図２（Ｅ）に示すようにパターン部が形成された領域以外のたとえば端部などに、スペーサ２３として設けることができる。基板が矩形の場合などにおいては、基板の角部近傍に４箇所、点状のスペーサを設けたり、矩形の隣り合わない２辺上に、点状にあるいは線状（壁状に）に設けることもでき、また矩形の基板の端部近傍の４辺に設けることもできる。
【００３７】
このようなストッパ部は、たとえば、第２のパターンを有する形状転写型のストッパ部の高さを、前記第２のパターンの突起の高さと、第１のパターンの高さとの和よりも小さく設けることが好ましい。このように構成することにより、形状転写型を、第１のパターンを硬化により形成するための基板１の基板面まで押し当てた場合であっても、形状転写型の凸部の突起を、第１のパターンの上部のみに接触させて第１のパターンを基板の厚さ方向に伸長させる加工が可能となる。なお、形状転写型のパターン領域外周にストッパを設けた時は形状転写型に印加される圧力を、たとえば圧力センサなどのセンサ等を用いてモニターしながら形成してもよい。
【００３８】
また第１のパターン１１を形成するための基板には、好ましくはＴＦＴを有する基板を用いることが好ましい。
すなわち本発明のプラスチック構造体の製造方法により形成されたプラスチック構造体では、基板の厚み方向に伸長されて形成される第１のパターンによって、好ましくは壁を形成し、好ましくは硬化された第１のパターンによって画素が形成され、この画素は、ＴＦＴによって制御される素子として動作できるセル構造体となることが好ましい。
したがって第１のパターンが硬化して形成された構造体（プラスチック構造体）は、好ましくは画素を有する構造体とすることができる。
このような硬化して形成された第１のパターンは、ＴＦＴ基板の画素電極部を囲むように形成されることが好ましい。これにより、ＴＦＴを用いたディスプレイのセル構造を形成でき、本発明のプラスチック構造体は、ディスプレイ用のセル構造体に利用可能である。またこのようなセル構造体はＴＦＴ素子を含んで構成されるディスプレイデバイスとして用いることができる。
【００３９】
本発明のプラスチック構造体は、基板上に設けられた硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら（好ましくは接触面積を維持させながら）、所定位置まで基板と形状転写型とを離間させて硬化性樹脂を硬化させることによって得られる。このようなプラスチック構造体は、第１のパターンを、液状樹脂を用いて基板１上に大まか（大略的）に形成し、第２のパターンを有する形状転写型を接触させて基板１の厚さ方向にパターンを伸長させて形成することにより、第２のパターンの離間方向に成長した後に液状樹脂を紫外線硬化または熱硬化の少なくともいずれかの硬化方法により硬化させて第２のパターンである形状転写型の精密な形状に沿って硬化する。これによって、転写型に形成された精密なパターンに依存した周期パターンを基板１上に容易に形成することができる。また第１のパターンは様々な方法により形成することができ、産業上の点から例えばコスト的にも有利であり、あるいは地球規模の点からいっても、有利な製造方法を提供するとともに、簡便な方法により形成できるため、特別なスキルを習得することなく、容易に製造可能である。また本発明の製造方法により、底部よりも上部が引き伸ばされることによって細い形状となるようなプラスチック構造体を形成可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明のプラスチック構造体の製造方法例を説明するための図である。
【図２】本発明のプラスチック構造体を製造するのに使用される第２のパターンを有する形状転写型の製造例を説明するための図である。
【図３】本発明のプラスチック構造体の製造方法例を説明するための第２の図である。
【符号の説明】
【００４１】
１  第１のパターンが形成された基板
２  形状転写型（第２のパターンを有する型）
１１  第１パターン
１２、２１  基板
２２  第２パターン（凸部）
３１  基板（裸基板）
３２  マスクホルダ
３３  ステージ（支持台）
３４  顕微鏡
【図１】
2009031600.tif 000003
【図２】
2009031600.tif 000004
【図３】
2009031600.tif 000005