(57)【要約】 【課題】  基板面内での位相差（リタデーション）の面内分布が均一で、位相差層と透明導電層との付着力が大きいカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】  本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上にブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程（ステップｓ１）と、基板上に形成されたブラックマトリクスの開口部に着色画素を形成する着色画素形成工程（ステップｓ２）と、ブラックマトリクスおよび着色画素で構成されるカラーフィルタ層上に配向膜を形成する配向膜形成工程（ステップｓ３）と、配向膜上に光重合性液晶を含んで構成される位相差層を形成する位相差層形成工程（ステップｓ４）と、位相差層を２２０℃以上２４０℃以下の温度で熱処理する熱処理工程（ステップｓ５）と、位相差層上に透明導電層を形成する透明導電層形成工程（ステップｓ６）とを含む。【選択図】      図１
2009031369.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、
前記基板上に形成された前記ブラックマトリクスの開口部に着色画素を形成する着色画素形成工程と、
前記ブラックマトリクスおよび前記着色画素で構成されるカラーフィルタ層上に配向膜を形成する配向膜形成工程と、
前記配向膜上に光重合性液晶を含んで構成される位相差層を形成する位相差層形成工程と、
前記位相差層を２２０℃以上２４０℃以下の温度で熱処理する熱処理工程と、
前記位相差層上に透明導電層を形成する透明導電層形成工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記位相差層形成工程では、光重合性液晶を含む塗工液をスリットコート法により前記配向膜上に塗布することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記位相差層によって発生するリタデーション分布が５％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記位相差層と前記透明導電層との間の付着力が１００ｍＮ以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶などの表示素子を多色化するために用いられるカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年液晶表示素子に求められる要求は高く、光学素子としては直線偏光板だけでなく、コントラスト向上や視野角拡大を目的として、種々の位相差板と組み合わせて用いることが多くなっている。このような光学素子は一般的には液晶セルを構成する基板の、液晶とは反対側に接着剤を用いて貼合される。これらにおける位相差制御層としては、ポリカーボネートフィルム等を延伸して得た位相差制御フィルムか、または複屈折異方性を有する液晶材料を、トリアセチルセルロースフィルム等に塗布して得た位相差制御フィルムが用いられる。これらのフィルムを直線偏光板と貼り合わせて積層する際や、積層されたものをさらに積層ディスプレイに貼り付ける際に用いる粘着剤層が、光の反射を起こすことがある。また位相差層の厚みも無視できない。
【０００３】
これらの問題に鑑みて、特許文献１では、液晶パネルの構成部材であるカラーフィルタ層の上に位相差層を積層形成する技術が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２４９１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら特許文献１が開示する技術では、基板面内での位相差（リタデーション）の面内分布（以下「リタデーション分布」という場合がある）の均一性を確保することや、位相差層と透明導電層との付着力を確保することが困難であるなどの問題があった。
【０００６】
本発明の目的は、従来の問題を解決して、基板面内での位相差（リタデーション）の面内分布が均一で、位相差層と透明導電層との付着力が大きいカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基板上にブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、
前記基板上に形成された前記ブラックマトリクスの開口部に着色画素を形成する着色画素形成工程と、
前記ブラックマトリクスおよび前記着色画素で構成されるカラーフィルタ層上に配向膜を形成する配向膜形成工程と、
前記配向膜上に光重合性液晶を含んで構成される位相差層を形成する位相差層形成工程と、
前記位相差層を２２０℃以上２４０℃以下の温度で熱処理する熱処理工程と、
前記位相差層上に透明導電層を形成する透明導電層形成工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【０００８】
また本発明は、前記位相差層形成工程では、光重合性液晶を含む塗工液をスリットコート法により前記配向膜上に塗布することを特徴とする。
また本発明は、前記位相差層によって発生するリタデーション分布が５％以下であることを特徴とする。
【０００９】
また本発明は、前記位相差層と前記透明導電層との間の付着力が１００ｍＮ以上であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、カラーフィルタの製造方法は、基板上にブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、基板上に形成されたブラックマトリクスの開口部に着色画素を形成する着色画素形成工程と、ブラックマトリクスおよび着色画素で構成されるカラーフィルタ層上に配向膜を形成する配向膜形成工程と、配向膜上に光重合性液晶を含んで構成される位相差層を形成する位相差層形成工程と、位相差層を２２０℃以上２４０℃以下の温度で熱処理する熱処理工程と、位相差層上に透明導電層を形成する透明導電層形成工程とを含む。
【００１１】
位相差層を形成後に、２２０℃以上２４０℃以下の温度で熱処理することによって、リタデーション分布の均一性を確保することができる。また位相差層と、次いで形成される透明導電層との間の付着力が向上する。
【００１２】
また本発明によれば、位相差層形成工程では、光重合性液晶を含む塗工液をスリットコート法により配向膜上に塗布することが好ましい。
このようにスリットコート法を採用することにより、リタデーション分布の均一性を一層高めることができる。
【００１３】
また本発明によれば、位相差層によって発生するリタデーション分布が５％以下であることが好ましい。
【００１４】
このような数値範囲に設定することによって、面内で光学特性のばらつきが小さく、安定した特性を有するカラーフィルタを製造することができる。またこのようなカラーフィルタを用いることによって、パネル面内での光学特性が極めて均一なディスプレイを得ることができる。
【００１５】
また本発明によれば、位相差層と透明導電層との間の付着力が１００ｍＮ以上であることが好ましい。
【００１６】
このような数値範囲に設定することによって、位相差層と透明導電層との剥離を防止して、耐久性の高いカラーフィルタを製造することができる。またこのようなカラーフィルタを用いることによって、パネル面内での光学特性が極めて均一なディスプレイを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は、本発明のカラーフィルタの製造方法を説明するフローチャートである。本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上にブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程（ステップｓ１）と、基板上に形成されたブラックマトリクスの開口部に着色画素を形成する着色画素形成工程（ステップｓ２）と、ブラックマトリクスおよび着色画素で構成されるカラーフィルタ層上に配向膜を形成する配向膜形成工程（ステップｓ３）と、配向膜上に光重合性液晶を含んで構成される位相差層を形成する位相差層形成工程（ステップｓ４）と、位相差層を２２０℃以上２４０℃以下の温度で熱処理する熱処理工程（ステップｓ５）と、位相差層上に透明導電層を形成する透明導電層形成工程（ステップｓ６）とを含む。
【００１８】
図２は、本発明のカラーフィルタ１を示す断面図である。カラーフィルタ１は、基板２、ブラックマトリクス３Ｂおよび着色画素３Ｃで構成されるカラーフィルタ層４、オーバーコート層５、配向膜６、位相差層７、透明導電層８の順に積層された積層体である。以下各工程および材料について説明する。
【００１９】
〔ブラックマトリクス形成工程（ステップｓ１）〕
基板２上にブラックマトリクス３Ｂを形成する。基板２としては、ガラス、シリコンまたは石英等の無機基板、あるいは次に列挙するような有機基板を用いる。すなわち、有機基板としては、ポリメチルメタクリレートの如きアクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレンテレフタレートや、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの如きポリエステル樹脂、トリアセチルセルロースの如きセルロース系樹脂、シンジオタクティック・ポリスチレンの如きスチレン系樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリカーボネート系樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリシクロヘキセン樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂など、一般的なプラスチックからなるものが使用可能である。基板の厚みには、特に限定はないが、用途に応じ、たとえば、５μｍ〜１ｍｍ程度のものが好ましい。
【００２０】
ブラックマトリクス３Ｂは、後述する着色画素におけるＲＧＢ（赤・緑・青の色材）の各ドット（画素）周辺を窓枠のように黒く縁取り、光漏れ防止（遮光）の役割を果たし、同時にコントラスト向上や製造時の混色防止の役目も担っている。特性的には、反射率が低く色が純黒で加工（たとえばエッチング加工）が容易であることが好ましい。ブラックマトリクス３は、非画素部に相当するパターンを形成し、画素部に相当する開口部を形成する。
【００２１】
ブラックマトリクス３Ｂは、黒色着色剤を含有する樹脂組成物を含むことが好ましい。塗料タイプの樹脂組成物を基板２の一面に塗布して、一旦固化させた後、レジストを塗布、レジスト露光、レジスト現像、樹脂組成物エッチングおよびレジスト除去を行うことによって、所望のパターンを形成することができる。または黒色着色剤を含有する塗料タイプの感光性樹脂組成物を塗布して、感光性樹脂組成物露光および感光性樹脂組成物現像を行なうことによってパターンを形成することもできる。そのほか黒色のインキ組成物を用いた印刷法等によっても、ブラックマトリクス３Ｂを形成することができる。
【００２２】
あるいは、ブラックマトリクス３Ｂは、酸化クロム（ＣｒＯｘ）／クロム（Ｃｒ）（ｘは任意の数、「／」は積層を表す）の積層構造からなる２層クロムブラックマトリクスや、多層構造を有する超低反射ブラックマトリクスなどであってもよい。蒸着、イオンプレーティング、またはスパッタリング等の各種の方法で必要に応じ金属、金属酸化物、または金属窒化物等の薄膜を基板２上に形成し、フォトリソグラフィー法または無電界メッキ法によってパターンを形成することができる。
【００２３】
ブラックマトリクス３Ｂの厚みは、樹脂ブラックマトリクスでは０．５〜２μｍ程度、クロムブラックマトリクスでは０．２〜０．４μｍ程度であることが好ましい。
【００２４】
〔着色画素形成工程（ステップｓ２）〕
カラーフィルタ層４の各着色画素３Ｃは、ブラックマトリクス３Ｂの開口部毎に設けたものであってもよいが、便宜的には、図２における手前側から奥側の方向に帯状に設けたものであってもよい。また開口部の形状は、ストライプ形状、ドット形状、またはこれらの変形形状のいずれであってもよい。着色画素３Ｃは、所定の色に着色したインキ組成物を調製して、各色のパターンごとに印刷する印刷法や、所定の色の着色剤を含有した塗料タイプの感光性樹脂組成物を用いるフォトリソグラフィー法によって形成することができる。特に、フォトリソグラフィー法によって形成することが好ましい。ブラックマトリクス３Ｂと着色画素３Ｃとでカラーフィルタ層４が構成され、このカラーフィルタ層４の厚みは、１μｍ〜５μｍ程度であることが好ましい。
【００２５】
また必要に応じて、カラーフィルタ層４上にオーバーコート層５を形成してもよい。オーバーコート層５は、アクリル樹脂を含んで構成される透明保護膜であることが好ましく、厚みは１〜３μｍであることが好ましい。オーバーコート層５は、カラーフィルタ層４の全面を覆うように形成してもよいし、パターン化して部分的に形成してもよい。
【００２６】
〔配向膜形成工程（ステップｓ３）〕
カラーフィルタ層４上に配向膜６を形成する。オーバーコート層５を形成した場合は、その上に配向膜６が形成される。配向膜６は、後述する位相差層７を構成する液晶高分子を所定の方向に配列させるためのものである。配向膜６は、ポリアミド樹脂またはポリイミド樹脂（たとえば、商品名：サンエバー、日産化学工業株式会社製）等の樹脂を溶解した樹脂組成物を塗布し、乾燥させて得られる膜に、布を巻き付けたローラ等により所定の方向に摩擦して、配向膜６表面の性質を擦った方向に変化させることによって、形成することができる（ラビング法）。
【００２７】
また光反応性官能基をもつ化合物からなる光配向膜に、偏光紫外線を照射して、膜内の分子に異方的な化学反応を生じさせることによっても、配向能を有する配向膜６を得ることができる（光配向法）。
【００２８】
配向膜６の厚みは５００〜２０００Åであることが好ましい。
なお位相差層７を二層重ねる場合は、一層目と二層目との間に配向膜６を積層することが好ましい。
【００２９】
〔位相差層形成工程（ステップｓ４）〕
配向能を有する配向膜６上に、光重合性液晶を含んで構成される塗工液を塗布して、位相差層７を形成する。
【００３０】
＜光重合性液晶＞
光重合性液晶としては、ネマチック相またはスメクチック相を示す光重合性液晶であれば特に限定されるものではないが、ネマチック液晶材料を好適に使用できる。ネマチック液晶のなかでも、液晶分子中に二種以上の重合性基を有するネマチック液晶を好適に使用できる。
【００３１】
光重合性液晶は、重合性モノマー分子、重合性オリゴマー分子、重合性ポリマー分子等を単体で使用してもよく、またこれらのうち二種以上を混合して使用してもよい。
また市販の材料の一例としてはＬＣ２４２（商品名、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
【００３２】
＜その他の成分＞
光重合性液晶を含む塗工液が、光重合開始剤を含んで構成されることが好ましい。光重合開始剤としては、ラジカル重合性開始剤を好適に使用できる。ラジカル重合性開始剤は、紫外線等のエネルギーによりフリーラジカルを発生するものである。市販の光重合開始剤を使用することもでき、たとえばイルガキュア１８４、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア９０７（いずれも商品名、チバ・スペシャリルティー・ケミカルズ株式会社製）等を好適に使用できる。
【００３３】
光重合開始剤は、光重合性液晶の液晶規則性を大きく損なわない範囲で添加することが好ましい。光重合開始剤の添加量は、光重合性液晶の量を基準に、一般的には０．０１〜１５質量％、好ましくは０．１〜１２質量％、より好ましくは、０．５〜１０質量％の範囲である。
【００３４】
光重合開始剤の他に増感剤を、本発明の目的が損なわれない範囲で添加することもできる。
【００３５】
さらに界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤を含有することにより、塗膜の均一性を向上し、かつ空気界面での液晶配向を制御できる。
【００３６】
界面活性剤としては、光重合性液晶の液晶発現性を損なうものでなければ、特に限定されることはない。たとえばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル等の非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等の陰イオン性界面活性剤等が挙げられる。またアクリルオリゴマーやアクリルポリマー等を添加してもよい。
【００３７】
界面活性剤の添加量は、光重合性液晶の量を基準に、一般的には０．０１〜１質量％、好ましくは０．０５〜０．５質量％の範囲である。
【００３８】
光重合性液晶および上記の各成分を溶媒に溶解させて塗工液とすることができる。使用できる溶媒として、光重合性液晶および各成分を溶解できるものであれば特に限定されるものではなく、有機溶媒を好適に使用できる。塗膜を均一に形成するためには、溶剤として、酢酸３−メトキシブチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン等を好適に使用できる。
【００３９】
＜塗布方法＞
塗布方法としては、公知の技術を用いることができる。具体的には、スピンコート法、スリットコート法、ロールコート法、グラビアコート法等により、塗工液を塗布することができる。ただし位相差特性の面内分布を良好にするためにはスリットコート法を用いることが好ましい。なお配向膜６と位相差層７との密着性を上げるため、配向膜６上に接着剤層（不図示）を設けてから、接着剤層上に塗工液を塗布して位相差層７を形成してもよい。
【００４０】
次に、塗膜を光重合性液晶が液晶構造を発現する所定の温度に保持し、その状態で、塗膜に電離放射線を照射して光重合性液晶を重合させて硬化させ、光学素子の任意の位置に位相差層７を形成する。
【００４１】
電離放射線として紫外線を使用する場合は、使用する光重合性液晶にもよるが、一般に照射線量は５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは１００〜１５００ｍＪ／ｃｍ２である。露光波長は、２００〜４５０ｎｍ程度が好ましい。
【００４２】
部分的に露光して、光硬化後に位相差層７の未露光部分を溶剤等でエッチングして、除去することで所定の部分にのみ位相差層７を付与してもよい。溶剤はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、イソプロパノール等が挙げられる。エッチングは室温〜５０℃で、２０〜３００秒間行うことが好ましい。
【００４３】
〔熱処理工程（ステップｓ５）〕
光硬化後は、位相差層７に熱処理を行う。位相差層７上へ後述する透明導電層８を形成する際に熱処理を実施していないと、位相差層７とその上に形成する透明導電層８との間の付着力が小さくなり、カラーフィルタ１の品位を低下させる。そのため光硬化後に、温度２２０℃以上２４０℃以下で熱処理を行う。このときの処理時間は、５〜１２０分間程度の範囲から、後で形成する透明導電層８との間の付着力が十分な値を示すように、例えばその付着力が１００ｍＮ以上となるように、適宜選べばよい。
【００４４】
位相差層を形成後に、２２０℃以上２４０℃以下の温度で熱処理することによって、リタデーション分布の均一性を確保することができる。また位相差層と、次いで形成される透明導電層との間の付着力が向上する。温度が２２０℃未満では、位相差層７と透明導電層８との間の付着力が不十分である。また温度が２４０℃を超えると、位相差層７およびカラーフィルタ層４の成分の熱分解が起こるため、好ましくない。
また位相差層によって発生するリタデーション分布が５％以下であることが好ましい。
【００４５】
このような数値範囲に設定することによって、面内で光学特性のばらつきが小さく、安定した特性を有するカラーフィルタを製造することができる。またこのようなカラーフィルタを用いることによって、パネル面内での光学特性が極めて均一なディスプレイを得ることができる。
位相差層７の厚みは０．５〜３μｍであることが好ましい。
【００４６】
〔透明導電層形成工程（ステップｓ６）〕
熱処理後、透明電極である透明導電層８を形成する。透明導電層８としては酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等の既知の透明導電性化合物を用いることができる。形成方法はスパッタリング法、蒸着法等が挙げられる。また透明導電層８形成後に電極の性能を更に向上させるための熱処理を実施してもよい。熱処理は、温度２２０〜２４０℃、処理時間５〜１２０分間の条件で行うことが好ましい。
【００４７】
また、位相差層７と透明導電層８との間の付着力が１００ｍＮ以上であることが好ましい。このような数値範囲に設定することによって、位相差層７と透明導電層８との間の剥離を防止して、耐久性の高いカラーフィルタを製造することができる。またこのようなカラーフィルタを用いることによって、パネル面内での光学特性が極めて均一なディスプレイを得ることができる。
【実施例】
【００４８】
以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、特に限定されるものではない。以下において、「部」および「％」は特に断らない限りそれぞれ「重量部」および「重量％」を意味する。実施例および比較例におけるカラーフィルタの位相差（リタデーション）分布および位相差層と透明導電層との間の付着力は、以下のようにして測定した。
【００４９】
〔カラーフィルタのリタデーション分布〕
楕円偏光測定装置（商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ、王子計測機器株式会社製）を用いて、測定波長５８６．５ｎｍで、７．５ｃｍ間隔で２５箇所における位相差を測定した。また基板の面内でのリタデーション分布Ｒｄは、位相差の最大値Ｒｍａｘ、位相差の最小値Ｒｍｉｎ、位相差の平均値Ｒａｖｅによって、下記式（１）で定義した。
Ｒｄ＝｛（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（２×Ｒａｖｅ）｝×１００      …（１）
【００５０】
〔位相差層と透明導電層との間の付着力〕
ＪＩＳ  Ｒ  ３２５５に規定される、ガラスを基板とした薄膜の付着性試験方法に基づいて、マイクロスクラッチ法で完全損傷荷重を測定した。測定機は、島津走査型スクラッチテスターＳＳＴ−１０１（商品名、株式会社島津製作所製）を用いた。
【００５１】
（実施例１）
〔ブラックマトリクス形成工程（ステップｓ１）〕
形状３７０×４７０×０．５ｍｍｔの無アルカリガラス基板（品番：Ｅ２Ｋ、コーニング社製）を準備し、洗浄を行った後、基板上にブラックマトリクス形成用フォトレジスト（品番：ＴＫ−１９、住友化学株式会社製）を、スピンコート法により塗布し、塗布後、温度７０℃、加熱時間２分間の条件でプリベークを行った。プリベーク後、所定のパターンを介して、基板とフォトマスクのギャップ（以下「露光ギャップ」という）を２００μｍとし、照射線量が８０ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線露光を行った。露光後、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を用いたスプレー現像を２３℃で７０秒間行った後、水洗し、温度２３０℃、加熱時間１９分間の条件でポストベークを行い、着色画素に対応する開口部を有する厚みが１．２μｍのブラックマトリクスを形成した。
【００５２】
〔着色画素形成工程（ステップｓ２）〕
ブラックマトリクスが形成された基板上に、赤色パターン形成用フォトレジスト（品番：ＮＦ−Ｒ０１７ＭＡ、住友化学株式会社製）をスピンコート法により塗布し、温度６０℃、加熱時間２分間の条件でプリベークを行った後、所定のパターンを介し、露光ギャップ１５０μｍにて、紫外線光源による照射線量が１４０ｍＪ／ｃｍ２になるようアライメント露光を行った。露光後、０．０４４％ＫＯＨ水溶液を用いたスプレー現像を２４℃で６０秒間行った後、水洗し、温度２１０℃、加熱時間１９分間の条件でポストベークを行い、ブラックマトリクスの所定の開口部に相当する位置に、厚みが１．１μｍの赤色パターンを形成した。
【００５３】
続いて、上記の赤色パターンの形成工程と同様にして、緑色パターン形成用フォトレジスト（品番：Ｍ−Ｇ３７２Ｓ、住友化学株式会社製）を用いて厚みが１．０μｍの緑色パターンを、またその後、青色パターン形成用フォトレジスト（品番：ＮＦ−Ｂ０１６Ｍ、住友化学株式会社製）を用いて厚みが１．１μｍの青色パターンを形成した。赤色、緑色、および青色の各色パターンをブラックマトリクスの異なる開口部に相当する位置に配列するよう形成し、赤色、緑色、および青色の三色の着色画素が配列したカラーフィルタ層を形成した。
【００５４】
更に赤色、緑色、青色のパターンの上にオーバーコート層を形成した。すなわち、保護膜材料（商品名：オプトマーＳＳ６９０８、ＪＳＲ株式会社製）をスピンコート法により塗布し、温度１００℃、加熱時間２分間の条件でプリベークを行った後、温度２４０℃、加熱時間３８分間の条件でポストベークを行い、パターン全面に厚みが１．５μｍのオーバーコート層を形成した。
【００５５】
〔配向膜形成工程（ステップｓ３）〕
オーバーコート層上に、ポリイミド樹脂系の配向膜形成用インキ組成物（日産化学株式会社から入手）をスピンコート法にて形成し、温度１８０℃、加熱時間１時間の条件で焼成を行った後、レーヨン製ラビングクロスを用いて、ロール回転数５００ｒｐｍ、基板送り速度１６．７ｍｍ／秒、押し込み量０．１５ｍｍの条件で表面にラビング処理を行い、厚みが１０００Åの配向膜を形成した。
【００５６】
〔位相差層形成工程（ステップｓ４）〕
位相差層形成用の感光性樹脂組成物Ａを調製した。感光性樹脂組成物Ａは、光重合性液晶としてビス［４−［４−（アクリロイルオキシ）ブトキシカルボニルオキシ］安息香酸］２−メチル−１，４−フェニレン（商品名：ＬＣ−２４２、ＢＡＳＦ社製）３０部、光重合開始剤として２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（商品名：イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）０．９部、添加剤としてアクリルポリマー（商品名：ＢＹＫ−３６１Ｎ、ビックケミー社製）０．０３部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６９部を混合し調製した。
【００５７】
位相差層形成用の感光性樹脂組成物Ａを配向膜上にスリットコート法により塗布後、基板ごとホットプレート上に載せ、温度１２０℃、加熱時間３分間の条件で加熱して、溶剤を除去し、位相差層の液晶構造を安定化させた。その後、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、照射線量が１２００ｍＪ／ｃｍ２になるよう全面に照射を行った。
【００５８】
〔熱処理工程（ステップｓ５）〕
温度２３０℃、加熱時間２０分間の条件で熱処理を実施し、厚みが１．５μｍの位相差層を得た。
【００５９】
〔透明導電層形成工程（ステップｓ６）〕
位相差層上にＩＴＯ膜を基板温度１２０℃の条件下でスパッタリング法により形成後、熱処理を温度２３０℃、加熱時間２０分間の条件で実施した。膜厚１４５０Å、透過率９６％（５５０ｎｍでの値）、シート抵抗値１９Ω／ｓｑ．の透明導電層を形成した。
【００６０】
このようにして得られた、カラーフィルタの位相差は、約１３５ｎｍ（λ／４機能）であった。また基板の面内でのリタデーション分布は、約１．９％（Ｒｍａｘ＝１３８ｎｍ、Ｒｍｉｎ＝１３３ｎｍ）であった。
【００６１】
また位相差層と透明導電層との間の付着力は、１１８ｍＮの強度であった。外観上でも剥離等の不具合はなかった。
【００６２】
（実施例２）
〔ブラックマトリクス形成工程（ステップｓ１）〕
実施例１と同様にして行った。
【００６３】
〔着色画素形成工程（ステップｓ２）〕
実施例１と同様にして行った。
【００６４】
〔配向膜形成工程（ステップｓ３）〕
実施例１と同様にして行った。
【００６５】
〔位相差層形成工程（ステップｓ４）〕
位相差層形成用の感光性樹脂組成物Ｂを調製した。感光性樹脂組成物Ｂは、光重合性液晶としてビス［４−［４−（アクリロイルオキシ）ブトキシカルボニルオキシ］安息香酸］２−メチル−１，４−フェニレン（商品名：ＬＣ−２４２、ＢＡＳＦ社製）３０部、光重合開始剤としてビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）１.７部、添加剤としてアクリルポリマー（商品名：ＢＹＫ−３６１Ｎ、ビックケミー社製）０．０３部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６９部を混合し調製した。
【００６６】
位相差層形成用の感光性樹脂組成物Ｂを配向膜上にスリットコート法により塗布後、基板ごとホットプレート上に載せ、温度１２０℃、加熱時間３分間の条件で加熱して、溶剤を除去し、位相差層の液晶構造を安定化させた。その後、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、所定のパターンのフォトマスクを介して、照射線量が１２００ｍＪ／ｃｍ２になるよう照射を行った。更に温度２３℃、時間３０秒間の条件で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶媒によって、未照射部分に相当する液晶膜を除去した。
【００６７】
〔熱処理工程（ステップｓ５）〕
温度２３０℃、加熱時間２０分間の条件で熱処理を実施し、厚みが１．５μｍの所定のパターンを有する位相差層を得た。
【００６８】
〔透明導電層形成工程（ステップｓ６）〕
実施例１と同様にして行った。
【００６９】
このようにして得られた、カラーフィルタを偏光顕微鏡のクロスニコル下で観察したところ、パターン形状に光が透過する様子が確認できた。位相差は、約１３５ｎｍ（λ／４機能）であった。また基板の面内でのリタデーション分布は、約２．２％（Ｒｍａｘ＝１３８ｎｍ、Ｒｍｉｎ＝１３２ｎｍ）であった。
【００７０】
また位相差層と透明導電層との間の付着力は、１４０ｍＮの強度であった。外観上でも剥離等の不具合はなかった。
【００７１】
（実施例３）
位相差層形成工程（ステップｓ４）において、スピンコート法を適用したこと以外は全て実施例１と同様とした。
【００７２】
このようにして得られた、カラーフィルタの位相差は、約１２５ｎｍ（λ／４機能）であった。また基板の面内でのリタデーション分布は、約９．６％（Ｒｍａｘ＝１３７ｎｍ、Ｒｍｉｎ＝１１３ｎｍ）であった。
【００７３】
また位相差層と透明導電層との間の付着力は、１４０ｍＮの強度であった。外観上でも剥離等の不具合はなかった。
【００７４】
（比較例１）
熱処理工程（ステップｓ５）を実施しなかったこと以外は全て実施例１と同様とした。
【００７５】
このようにして得られた、カラーフィルタの位相差は、１２８ｎｍ（λ／４機能）であった。なお、このカラーフィルタでは、位相差層と透明導電層の間に一部剥離を生じていることが目視観察された。そのため、位相差値の測定は１点のみとし、剥離性試験は行わなかった。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法を説明するフローチャートである。
【図２】本発明のカラーフィルタ１を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７７】
１  カラーフィルタ
２  基板
３Ｂ  ブラックマトリクス
３Ｃ  着色画素
４  カラーフィルタ層
５  オーバーコート層
６  配向膜
７  位相差層
８  透明導電層
【図１】
2009031369.tif 000003
【図２】
2009031369.tif 000004