(57)【要約】【課題】活性エネルギー線照射による樹脂層の急激な硬化収縮を抑制し、平面性が十分に改善された活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法を提供すること。【解決手段】基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係が下記条件Ａを満たす照度変化を示すように、活性エネルギー線を照射し硬化することを特徴とする活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法に関する；Ａ．照射開始から積算光量３０ｍＪに達するまでの照度の最大傾きｄＷ／ｄｔが１０〜１００（ｍＷ／ｃｍ２・ｓｅｃ）である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係が下記条件Ａを満たす照度変化を示すように、活性エネルギー線を照射し硬化することを特徴とする活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法；
Ａ．照射開始から積算光量３０ｍＪに達するまでの照度の最大傾きｄＷ／ｄｔが１０〜１００（ｍＷ／ｃｍ２・ｓｅｃ）である。
【請求項２】
前記照度変化において活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係がさらに下記条件Ｂを満たす請求項１に記載の活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法；
Ｂ．最大照度Ｗｍａｘが１００〜５００（ｍＷ／ｃｍ２）である。
【請求項３】
前記照度変化において活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係がさらに下記条件Ｃを満たす請求項１または２に記載の活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法；
Ｃ．照射開始から照射終了までの全積算光量が３０ｍＪ以上である。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法を用いたハードコートフィルムの製造方法であって、
樹脂フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、前記照度変化を示す活性エネルギー線照射ゾーンを通過させて、活性エネルギー線を照射し硬化することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
【請求項５】
活性エネルギー線照射ゾーンにおいて、樹脂フィルムをその背面でバックアップロールにて支持・搬送しながら、光源から反射板を用いて活性エネルギー線を照射する請求項４に記載のハードコートフィルムの製造方法において、
下記ｘ１〜ｘ３のうち少なくとも１つの方法を用いて活性エネルギー線照射ゾーンの照度変化を制御するハードコートフィルムの製造方法；
ｘ１．バックアップロールの軸方向に対する垂直断面において、光源からバックアップロールの軸を結んだ線分方向と、樹脂フィルム搬送方向上流側で樹脂フィルムに到達する活性エネルギー線のうち最外の活性エネルギー線の照射方向とのなす角度θおよび光源とバックアップロールとの距離Ｄを調整する方法；
ｘ２．樹脂フィルム搬送方向上流側の少なくとも最外の活性エネルギー線を遮蔽板を介して照射する方法；および
ｘ３．バックアップロールの軸方向に対する垂直断面において、反射板の樹脂フィルム搬送方向上流側の曲率および下流側の曲率を調整する方法。
【請求項６】
ｘ１の方法において、ｔａｎθを０．２０〜１．１０に調整し、かつ距離Ｄを２０〜４００ｍｍに調整する請求項５に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項７】
前記樹脂フィルムがセルロースエステルフィルムであり、かつ膜厚が１０〜１００μｍの範囲であることを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項４〜７のいずれかに記載のハードコートフィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とするハードコートフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法、表面にハードコート層を有するハードコートフィルムおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ用偏光板保護フィルム、有機ＥＬディスプレイ等に用いられる円偏光板の保護フィルムなどの光学用途に使用される樹脂フィルムでは、様々な機能を持たせるために幾つかの機能性薄膜層が塗設されている。機能性薄膜としては、例えば、帯電防止機能を持たせるための帯電防止層、表面硬度を向上させるためのハードコート層、膜付き性を向上させるための下引き層、カールを防止するためのアンチカール層、或いは防眩層、反射防止層などである。この中で特にハードコート層と反射防止層は重要である。
【０００３】
上記樹脂フィルムにハードコート層を形成する際、通常紫外線等の活性エネルギー線により硬化する硬化物層を塗工し、活性エネルギー線を照射し硬化させる。この時、活性エネルギー線照射によるハードコート層の急激な硬化収縮が起こり、平面性が劣化するという問題があり、この改善が求められていた。特に広幅の樹脂フィルムではその現象が顕著であった。更に、ハードコート層を形成したハードコートフィルム上に反射防止層を設けると、基材の平面性の状態により色ムラが発生し、酷い場合はその部分は廃棄することとなり、生産性が著しく悪いものであった。特に表示装置の前面に用いられる偏光板或いは反射防止フィルムではその要求性能が厳しく、より色ムラのない均一性に優れた光学薄膜が望まれていた。
【０００４】
そこで、樹脂フィルム上に活性エネルギー線硬化樹脂層を設けた後、活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）の関係が下記ａ、ｂの範囲に調整された活性エネルギー線照射ゾーンを通過させて、活性エネルギー線を照射し硬化するハードコートフィルムの製造方法が提案されている（特許文献１）；ａ．最大照度Ｗｍａｘが０．１〜０．３（Ｗ／ｃｍ２）の範囲；ｂ．照射開始から最大照度Ｗｍａｘに達するまでの傾きｄＷ／ｄｔが、０．１〜０．６（Ｗ／ｃｍ２・ｓｅｃ）の範囲。上記方法を用いて得られる照度分布は、例えば、図１０に示すようなものである。しかしながら、上記方法では、硬化樹脂層の平面性を十分に改善するには至らなかった。
【０００５】
一方、バックアップロールの表面近傍に設けられた窒素ガスパージボックスのサイドプレートの形状をバックアップロールの中心に対して円弧状と非円弧状とで形成する試みが開示されている（特許文献２）。しかしながら、上記試みでも、やはり硬化樹脂層の平面性を十分に改善するには至らなかった。
【特許文献１】特開２００６−１５５９２号公報
【特許文献２】特開２００７−１４４３０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、活性エネルギー線照射による樹脂層の急激な硬化収縮を抑制し、平面性が十分に改善された活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
本発明はまた、活性エネルギー線照射によるハードコート層の急激な硬化収縮を抑制し、平面性が十分に改善されたハードコートフィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
本明細書中、硬化性樹脂層は活性エネルギーにより硬化可能であって、未硬化の樹脂層を意味するものとする。
硬化樹脂層は活性エネルギーにより硬化された樹脂層を意味するものとする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係が下記条件Ａを満たす照度変化を示すように、活性エネルギー線を照射し硬化することを特徴とする活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法に関する；
Ａ．照射開始から積算光量３０ｍＪに達するまでの照度の最大傾きｄＷ／ｄｔが１０〜１００（ｍＷ／ｃｍ２・ｓｅｃ）である。
【００１０】
本発明はまた、上記活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法を用いたハードコートフィルムの製造方法であって、
樹脂フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、前記照度変化を示す活性エネルギー線照射ゾーンを通過させて、活性エネルギー線を照射し硬化することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法に関する。
【００１１】
本発明はまた、活性エネルギー線照射ゾーンにおいて、樹脂フィルムをその背面でバックアップロールにて支持・搬送しながら、光源から反射板を用いて活性エネルギー線を照射する上記ハードコートフィルムの製造方法において、
下記ｘ１〜ｘ３のうち少なくとも１つの方法を用いて活性エネルギー線照射ゾーンの照度変化を制御するハードコートフィルムの製造方法に関する；
ｘ１．バックアップロールの軸方向に対する垂直断面において、光源からバックアップロールの軸を結んだ線分方向と、樹脂フィルム搬送方向上流側で樹脂フィルムに到達する活性エネルギー線のうち最外の活性エネルギー線の照射方向とのなす角度θおよび光源とバックアップロールとの距離Ｄを調整する方法；
ｘ２．少なくとも樹脂フィルム搬送方向上流側最外の活性エネルギー線を遮蔽板を介して照射する方法；および
ｘ３．バックアップロールの軸方向に対する垂直断面において、反射板の樹脂フィルム搬送方向上流側の曲率および下流側の曲率を調整する方法。
【００１２】
本発明はまた、上記ハードコートフィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とするハードコートフィルムに関する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法よれば、活性エネルギー線照射による樹脂層の急激な硬化収縮を十分に抑制するので、硬化された樹脂層の平面性が著しく改善される。そのため、当該方法をハードコートフィルムの製造方法に適用することにより、平面性が著しく改善されたハードコートフィルム及びその製造方法を提供できる。しかも、そのようなハードコートフィルムに反射防止層を設けると、反射色ムラ、破断の低減した反射防止フィルムを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法）
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法は、基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、活性エネルギー線照射により硬化させるに際し、所定の照度変化を示すように、活性エネルギー線を照射し硬化することを特徴とする。
【００１５】
所定の照度変化とは、活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）の関係が下記条件Ａを満たすものである；
Ａ．照射開始から積算光量３０ｍＪに達するまでの照度の最大傾きｄＷ／ｄｔが１０〜１００（ｍＷ／ｃｍ２・ｓｅｃ）、好ましくは１０〜６５（ｍＷ／ｃｍ２・ｓｅｃ）、より好ましくは１０〜２５（ｍＷ／ｃｍ２・ｓｅｃ）である。
【００１６】
そのような条件Ａを満たす照度変化の一例を図１に示す。図１は、照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係をＷ＝ｆ（ｔ）としたときのグラフであり、照射開始から照射時間ｔ０までの積算光量Ｅは下記式で表される。
【００１７】
【数１】
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【００１８】
図１は、照射開始から積算光量３０ｍＪに達するときの照射時間をｔ１、ｆ（ｔ１）＝Ｗ１としたときの照度変化であり、傾きｄＷ／ｄｔはＷ＝ｆ（ｔ）を示す曲線における接線の傾きである。よって、上記条件Ａは、ｔが０からｔ１までの間でＷ＝ｆ（ｔ）曲線の接線の傾きが上記範囲内であればよいことを意味する。このように積算光量が３０ｍＪに達するまでの照度傾きを比較的低くして、照射初期に緩やかな硬化を行うことによって、硬化性樹脂層の最表面部を優先的に硬化させることができる。そのため、深部の硬化収縮に起因して起こる最表面部の収縮を十分に抑制でき、結果として平面性が著しく改善されるものと考えられる。照射初期における照度の最大傾きが大きすぎると、最表面部の優先的硬化が起こり難いので、深部の硬化収縮に起因して最表面部が収縮し、十分な平面性が得られない。照射初期における照度の最大傾きが小さすぎると、最表面部の硬化が進行しないので、その後において深部の硬化収縮に起因して最表面部が収縮し、十分な平面性が得られない。照射開始から例えば、積算光量２０ｍＪに達するまでの照度の最大傾きが上記範囲内であったとしても、その直後の最大傾きが大きすぎると、最表面部の優先的硬化が不十分であるので、深部の硬化収縮に起因して最表面部が収縮し、十分な平面性が得られない。
【００１９】
そのような照度変化において活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）の関係は、好ましくは下記条件Ｂおよび／または下記条件Ｃを満たす；
Ｂ．最大照度Ｗｍａｘが１００〜５００（ｍＷ／ｃｍ２）、好ましくは２００〜４００（ｍＷ／ｃｍ２）、より好ましくは２５０〜３５０である；
Ｃ．照射開始から照射終了までの全積算光量が３０ｍＪ以上、好ましくは５０〜１０，０００ｍＪ、より好ましくは５０〜２０００ｍＪである。
【００２０】
図１において、ピークは座標（ｔ２，Ｗ２）で示され、Ｗ２が最大照度Ｗｍａｘに相当する。よって、上記条件Ｂは、ピークの高さＷ２が上記範囲内であればよいことを意味する。これによって、硬化性樹脂層の深部における十分な硬化を有効に達成できる。
【００２１】
図１において、照射終了時間はｔ３で示される。よって、上記条件Ｃは、下記式で表される全積算光量Ｅ３が上記範囲内であればよいことを意味する。これによって、硬化性樹脂層の全体の十分な硬化を有効に達成できる。
【００２２】
【数２】
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【００２３】
本発明は、活性エネルギー線硬化性樹脂層に対して、上記した照度変化を経時的に示すように活性エネルギー線を照射し、硬化を行うものであり、そのような照度変化の達成方法は特に制限されるものではない。例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた基材を載置した状態で、当該硬化性樹脂層に対して上記照度変化を経時的に示すように活性エネルギー線を照射する方法１を採用してもよいし、または上記照度変化を示す活性エネルギー線照射ゾーンを、活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた基材に通過させる方法２を採用してもよい。
【００２４】
方法１において、活性エネルギー線照射装置は照射ゾーン内で一様に、上記した照度変化を経時的に示すことができる装置を用いる。
【００２５】
方法２において、活性エネルギー線照射装置は照射ゾーン内で上記照度変化を示すように照度分布を形成した装置を用い、そのような照射ゾーンを、活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた基材に通過させて、結果として上記照度変化を経時的に示すように活性エネルギー線を硬化性樹脂層に照射する。
【００２６】
（ハードコートフィルムの製造方法）
以下、本発明の一実施形態として、前記した活性エネルギー線硬化樹脂層の製造方法を用い、かつ前記照度変化の達成方法として上記方法２を用いてハードコートフィルムを製造する方法について詳しく説明する。しかし、本発明はこれに限定して解釈されるべきではなく、活性エネルギー線硬化性樹脂層を硬化させて得られる製品であれば、いかなる製品であっても、上記した説明および以下の説明に準じて製造できることは明らかである。
【００２７】
本発明に係るハードコートフィルムの製造方法は、樹脂フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、活性エネルギー線の照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係が上記条件Ａを満たす照度変化（照度分布）を示す活性エネルギー線照射ゾーンを通過させて、活性エネルギー線を照射し硬化することを特徴とする。活性エネルギー線照射ゾーンが示す照度変化（照度分布）は、好ましくは上記条件Ｂおよび／または上記条件Ｃを満たす。
【００２８】
本発明に係るハードコートフィルムの製造方法および当該方法に用いる装置について図をもって説明する。
【００２９】
図２は本発明のハードコートフィルムの製造方法において使用される活性エネルギー線照射装置１０の一例の概略構成図である。図２中、搬送される樹脂フィルム１は矢印方向に連続搬送されており、該樹脂フィルム１の外側表面には塗布装置（不図示）により活性エネルギー線硬化性樹脂層が既に塗布されている。塗布物中に溶剤が含有される場合は乾燥工程（不図示）を経た後、樹脂フィルム１はバックアップロール２にて背面を支持されて搬送されながら、照射装置１０から活性エネルギー線を照射され、活性エネルギー線硬化性樹脂層が硬化される。照射装置１０は、パージボックス３を有し、その中には反射板４及び活性エネルギー線を発生する光源５を内蔵している。
【００３０】
図２における照射装置１０の拡大斜視図を図３に示す。パージボックス３は、酸素による硬化阻害を防止するために、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスを照射ゾーン６にパージするためのものであり、図３中、バックアップロールと対向する右側面のみが開口している。パージボックス３は不活性ガスをパージできる限り特に制限されないが、塗布工程で用いられた溶媒等の引火を防止するため防爆構造とすることが好ましく、また冷却機構を有することが好ましい。そのようなパージボックス３の材質としては、例えば、アルミ系金属板、ＳＵＳ、銅等が使用可能である。不活性ガスは図示しない不活性ガス導入装置よりパージボックス内に導入される。
【００３１】
反射板４は特に制限されず、例えば、一般の集光型および拡散型が使用可能である。照度分布制御の観点から好ましくは集光型を用いる。
【００３２】
光源５は本発明の目的が達成される限り特に制限されず、例えば、８０〜２４０Ｗのものが好ましく使用される。光源５は通常、棒形状を有し、バックアップロールの軸方向に対して平行に配置される。
【００３３】
本発明において、図１に示す照度変化は、図２において樹脂フィルム１がバックアップロール２の回転により搬送されて、照射ゾーン６に対向する領域に進入してから退出するまでの間に達成されればよい。従って、図２におけるバックアップロール２の表面において照射ゾーン入口２１から照射ゾーン出口２２に向けて、図１に示す照度変化（照度分布）を示すように、活性エネルギー線を予め照射しておき、そこを、樹脂フィルム１に通過させればよい。
【００３４】
このように樹脂フィルムを搬送しながら所定の照射ゾーンを通過させて、活性エネルギー線硬化性樹脂層を硬化させる場合であって、活性エネルギー線として紫外線を使用する場合、照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係を示すグラフは以下の方法に従って作成できる。
まず、バックアップロール円周上にフィルム（ＰＥＴ等）を貼着し、その上にフィルムの搬送方向（ＭＤ方向）に紫外線光量測定ラベル（日油技研工業株式会社、品種：Ｓ）を等間隔で貼る。次いで、バックアップロールを回転させずに所定の光源から紫外線を一定時間（１〜４秒間）照射し、各ラベルが受けた光量を測定する。測定結果より、ＭＤ方向の積算光量のプロファイルがわかるので、それを元にＭＤ方向の紫外線照度のプロファイルを算出する。横軸を照射時間（経過時間）（紫外線照射長さ／搬送速度）、縦軸を紫外線照度としてグラフを作成する。得られたグラフから、照度傾きｄＷ／ｄｔ、最大照度Ｗｍａｘ、積算光量を算出できる。
【００３５】
本発明のハードコートフィルムの製造方法において規定する照射初期の照度の最大傾きｄＷ／ｄｔ、照射分布全体における最大照度Ｗｍａｘ、および全積算光量は、下記ｘ１〜ｘ３の方法うち少なくとも１つの方法を用いて制御できる。簡便な制御を可能にする観点からは、少なくとも下記ｘ１の方法を採用し、所望により下記ｘ２の方法および／または下記ｘ３の方法を採用することが好ましい。
【００３６】
ｘ１．バックアップロール２の軸方向に対する垂直断面（例えば、図２）において、光源５からバックアップロールの軸を結んだ線分方向ｘと、樹脂フィルム搬送方向上流側で樹脂フィルム１に到達する活性エネルギー線のうち最外の活性エネルギー線５０の照射方向ｙとのなす角度θおよび光源５とバックアップロール２との距離Ｄを調整する方法。
【００３７】
具体的には、ｔａｎθを０．２０〜１．１０、好ましくは０．５８〜０．８８に調整し、かつ距離Ｄを２０〜４００ｍｍ、好ましくは１００〜３００ｍｍに調整する。ｔａｎθまたは距離Ｄを大きくすると、最外活性エネルギー線５０が光源５を出てから樹脂フィルムに到達するまでの距離が長くなり、最外活性エネルギー線の照度が低下する。そのため、照射初期の照度を抑えることができ、結果として照度の最大傾きが小さくなる。ｔａｎθまたは距離Ｄを小さくすると、最外活性エネルギー線５０が光源５を出てから樹脂フィルムに到達するまでの距離が短くなり、最外活性エネルギー線の照度が増大する。そのため、照射初期の照度が大きくなり、結果として照度の最大傾きが大きくなる。最大照度Ｗｍａｘに関しては、距離Ｄを大きくすると、活性エネルギー線が樹脂フィルムに到達するまでの距離が長くなり、最大照度Ｗｍａｘは低下する。距離Ｄを小さくすると、活性エネルギー線が樹脂フィルムに到達するまでの距離が短くなり、最大照度Ｗｍａｘは増加する。全積算光量に関しては、ｔａｎθを大きくすると、照射面積が大きくなり、全積算光量も増加する。ｔａｎθを小さくすると、照射面積が小さくなり、全積算光量も低下する。
距離Ｄを大きくすると、最大照度Ｗｍａｘが低下して、全積算光量も低下する。距離Ｄを小さくすると、最大照度Ｗｍａｘが増加して、全積算光量も増加する。
【００３８】
ｔａｎθは、例えば図２において、パージボックス３における樹脂フィルム搬送方向で上流側側面３０の位置を制御することによって調整できる。例えば、側面３０を上方に上げて、樹脂フィルム搬送方向上流側に照射される活性エネルギー線を遮ると、θが小さくなるため、ｔａｎθが小さくなる。一方、側面３０を下方に下げると、樹脂フィルム搬送方向上流側に照射される活性エネルギー線のうち遮られる活性エネルギー線の量が減少し、θが大きくなるため、ｔａｎθが大きくなる。側面３０を図２よりも下げ、当該側面３０が最外活性エネルギー線５０を規定できる限界の活性エネルギー線照射装置の概略構成図の一例を図４に示す。図４は、側面３０を下方に下げて活性エネルギー線照射ゾーン６を広げたこと以外、図２と同様であるため、説明を省略する。図４における図２と同じ符号は図２と同じ意味内容を示すものである。側面３０を図４よりもさらに下げた活性エネルギー線照射装置の概略構成図を図５に示す。図５は、側面３０を図４よりもさらに下方に下げて活性エネルギー線照射ゾーン６を広げたこと、およびそれに伴って生じた開口部を封止するための側面３１を新たに設けたこと以外、図２と同様であるため、説明を省略する。図５における図２と同じ符号は図２と同じ意味内容を示すものである。
【００３９】
ｘ１の方法を採用しない場合であっても、通常は、ｔａｎθは０．２０〜１．１０に、距離Ｄは１０〜５００ｍｍに調整される。
【００４０】
ｘ２．樹脂フィルム搬送方向上流側の少なくとも最外の活性エネルギー線を遮蔽板を介して照射する方法。
具体的には、例えば図６に示すように、樹脂フィルム搬送方向上流側の少なくとも最外の活性エネルギー線５０近傍の活性エネルギー線の照度を低下させるように、遮蔽板７を設置する。これによって、上流側に照射される活性エネルギー線の照度を低下させることができ、結果として照射初期の照度の最大傾きを低減できる。最大照度Ｗｍａｘに関しては、遮蔽版７を設置することによって、影響されない。全積算光量に関しては、遮蔽版７によって、照度が低下するため、低下する。
【００４１】
遮蔽板７は、活性エネルギー線の照度を低下させ得る形状を有していれば特に制限されず、例えば、パンチ孔が均一に形成された部材、メッシュ状の部材等が使用可能である。遮蔽板の大きさは、少なくとも最外の活性エネルギー線５０近傍の活性エネルギー線の照度を低下させることができれば特に制限されず、通常は図６に示すように、側面３０の内面において、光源５からバックアップロールの軸を結んだ線分近傍に達する高さで形成される。遮蔽板７の設置位置は特に制限されないが、ムラのない照射を達成する観点からは、遮蔽板７を光源５に近づけて設定することが好ましい。
【００４２】
図６は遮蔽板を設置したこと以外、図２と同様であり、すなわち上記ｘ１の方法とともに、当該ｘ２の方法を採用するものであるが、ｔａｎθが比較的小さい従来の活性エネルギー線照射装置において上記遮蔽板を設置しても、本発明で規定する上記照度変化（照度分布）は達成できる。図６における図２と同じ符号は図２と同じ意味内容を示すものである。図６における照射装置１０の拡大斜視図を図７に示す。
【００４３】
ｘ３．バックアップロールの軸方向に対する垂直断面（例えば、図２）において、反射板の樹脂フィルム搬送方向上流側の曲率および下流側の曲率を調整する方法。
従来では、例えば図８（Ａ）に示すように、反射板４において樹脂フィルム搬送方向Ｓで上流側Ｐの曲率と、下流側Ｑの曲率とは通常、略同様であるが、当該ｘ３の方法では、反射板において樹脂フィルム搬送方向Ｓで上流側Ｐの曲率を、下流側Ｑの曲率よりも大きくするか、または上流側Ｐをフラットにする。例えば図８（Ｂ）には、上流側Ｐをフラットにして、下流側Ｑに曲率を持たせた反射板４０を示している。反射板４０によって上流側に反射される活性エネルギー線を低減できるので、上流側に照射される活性エネルギー線の照度を低下させることができ、結果として照射初期の照度の最大傾きを低減できる。最大照度Ｗｍａｘに関しては、上流側Ｐの曲率がフラットになることによって、焦点部への集光が弱まるため、低下する。全積算光量に関しては、照度プロファイルが異なるだけで、ｘ１と同等である。
【００４４】
反射板の曲率は、本発明の上記照度分布が達成される限り特に制限されず、例えば上流側Ｐの曲率は０．００１〜０．０１ｍｍ、下流側Ｑの曲率は０．０１〜０．０３ｍｍが好ましい。
【００４５】
当該ｘ３の方法は、上記ｘ１または／およびｘ２の方法とともに採用してもよいし、または単独で採用してもよい。ｘ３の方法を単独で採用する場合、ｔａｎθが比較的小さい従来の活性エネルギー線照射装置において上記反射板を用いても、本発明で規定する上記照度変化（照度分布）は達成できる。
【００４６】
反射板４，４０の材料としては、活性エネルギー線の透過率が低い若しくは活性エネルギー線を透過しない材料であればどのようなものでも良く、例えば、金属板、不透明樹脂板や紙等種々の材料を用いることが出来る。反射板は、耐久性、遮蔽性の観点から、好ましく金属板であり、鉄、銅、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、鉛、或いはこれらの何れかを主成分とする合金等が挙げられるが、ステンレス板或いはアルミニウム板が好ましく、特に活性エネルギー線光源側は鏡面加工がほどこしてあることが好ましい。また、活性線光源側に熱線を吸収して紫外線を反射する皮膜、例えばＴｉＯ２等の酸化金属蒸着膜を被着したコールドミラーで構成しても良い。
【００４７】
上記ｘ１〜ｘ３のいずれの方法も採用せずに、図９に示すような従来の活性エネルギー線照射装置を用いて硬化させる場合の照度分布の一例を図１０に示す。図９では、パージボックス１０３は通常、パージガスの少量化の観点から、側面１３０を比較的上方に上げて構成され、通常はθとβとは等しく設定されるので、所定のｔａｎθは達成されない。そのため、図１０においては、前記した条件Ｂおよび条件Ｃを満足したとしても、照射開始から積算光量３０ｍＪに達するまでの照度の最大傾きｄＷ／ｄｔが１００（ｍＷ／ｃｍ２・ｓｅｃ）を超えるために、条件Ａを満足しない照度分布が示されている。
【００４８】
本発明の方法において、光源５からバックアップロールの軸を結んだ線分方向ｘと、樹脂フィルム搬送方向下流側で樹脂フィルム１に到達する活性エネルギー線のうち最外の活性エネルギー線５１の照射方向ｚとのなす角度βは特に制限されないが、照射開始から照射終了までの全積算光量を確保する観点から、ｔａｎβは０．１０〜０．５、特に０．２１〜０．４７が好ましい。
【００４９】
活性エネルギー線としては、電子線、Ｘ線、放射線、可視光線、紫外線等が挙げられるが、特に紫外線が好ましく用いられる。紫外線を使用する場合、紫外線を発生する光源であればいずれでも使用出来る。例えば、前記した低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。
【００５０】
活性エネルギー線の照射時間に特に制限はないが、０．１秒〜６０秒が好ましく、硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から４．０秒〜１２秒がより好ましい。
【００５１】
活性エネルギー線を照射する際には、樹脂フィルム１の搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックアップロール２上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性が優れたフィルムを得ることが出来る。
【００５２】
活性エネルギー線を照射する際には、平面性の更なる向上の観点から、パージボックス３内の雰囲気温度を１５〜４５℃の範囲にすることが好ましい。上記温度範囲にする為に、パージボックス３内に温度制御可能な送風装置を組み込むことが出来る。
【００５３】
本発明に係る活性エネルギー線硬化性樹脂層について説明する。活性エネルギー線硬化性樹脂層とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性エネルギー線硬化性樹脂（以下、単に硬化性樹脂ということがある）としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。
【００５４】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、若しくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る（例えば特開昭５９−１５１１１０号）。
【００５５】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。
【００５６】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることが出来る（例えば、特開平１−１０５７３８号）。この光反応開始剤としては、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種若しくは２種以上を選択して使用することが出来る。
【００５７】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。紫外線硬化性樹脂とともに用いられる光反応開始剤また光増感剤は硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【００５８】
活性エネルギー線硬化性樹脂層には、表示装置パネルの表面に防眩性を与えるために、また他の物質との密着性を防ぐために、或いは耐擦り傷性付与のために、無機或いは有機の微粒子を加えることも出来る。例えば、無機粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることが出来、また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を加えることが出来る。これらの粒子粉末の平均粒径としては、０．０１μｍ〜１０μｍであり、硬化性樹脂と微粒子粉末との割合は、硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜２０質量部となるように配合することが望ましい。防眩効果を付与するには、平均粒径０．１〜３μｍ、硬化性樹脂１００質量部に対して１〜１５質量部が好適である。
【００５９】
ブロッキング防止機能を果たすものとして、或いは微細な凹凸を形成するため上述したものと同じ成分で、体積平均粒径０．００５〜０．１μｍの粒子を硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜５質量部、併せて用いることも出来る。
【００６０】
活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗布液には有機溶媒が好ましく用いられる。このとき、樹脂フィルムを溶解若しくは膨潤させる性質を有する溶媒を用いることが塗設された層と樹脂フィルムとの密着性に優れるため好ましい。なお、有機溶媒は紫外線照射前に蒸発させるため、乾燥工程を設けることが好ましい。
【００６１】
塗布液に使用出来る有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル（具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等）、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステル（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート））、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類その他の溶媒などが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒が好ましく用いられる。
【００６２】
塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５μｍである。
【００６３】
塗布液を塗布・乾燥した後、紫外線等の活性線を照射するが、照射の条件は前述した通りである。
【００６４】
本発明のハードコートフィルムの製造方法により製造された活性エネルギー線硬化樹脂層（ハードコート層）上には高屈折率層或いは低屈折率層などの反射防止層を塗設し、光学フィルムを形成することが出来、反射光の色ムラが著しく改善された光学フィルムが得られる。
【００６５】
本発明の製造方法により得られるハードコートフィルムの層構成としては、下記の例が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
樹脂フィルム／（クリア）ハードコート層；
バックコート層／樹脂フィルム／（クリア）ハードコート層；
バックコート層／樹脂フィルム／クリアハードコート層／高屈折率層／低屈折率層；
バックコート層／樹脂フィルム／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層；
帯電防止層／樹脂フィルム／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層；
バックコート層／樹脂フィルム／防眩性ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層；
バックコート層／樹脂フィルム／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層；
帯電防止層／樹脂フィルム／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層。
【００６６】
これらの層のうち、（クリア）ハードコート層および防眩性ハードコート層は、塗布・乾燥の後、前記した照射条件で活性エネルギー線を照射し、硬化して得ることができる。バックコート層、高屈折率層、低屈折率層、中屈折率層）のうち少なくとも１層もまた、塗布・乾燥の後、前記した活性エネルギー線を照射し、硬化して得ることができる。高屈折率層、低屈折率層、中屈折率層はＴｉやＳｉなどの金属アルコキシドを用いたゾルゲル法で形成してもよく、さらにその上にＺｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｉｎ等の金属酸化物微粒子とバインダーを含む層を塗設してもよい。
【００６７】
本発明によって得られたハードコートフィルムは平面性に優れるため、特に液晶表示装置、或いは有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイの前面に用いられる反射防止フィルム或いは防眩フィルム、クリアハードコートフィルム等の光学フィルムとして有用であり、優れた視認性を提供することが出来り。また、これらの光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いた偏光板或いは表示装置を提供することが出来る。
【００６８】
以下、本発明で用いられる樹脂フィルムについて詳しく説明する。
樹脂フィルムには特に限定はなく、例えば、透明樹脂フィルムとしてポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテート或いはセルロース誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム或いはポリアリレート系フィルム等を挙げることが出来る。
【００６９】
本発明では特に幅広の樹脂フィルムに対して優れた効果を発揮し、特に幅１．４〜４ｍの樹脂フィルムに対して好ましく適用される。また、特に樹脂フィルムがセルロースエステルを含有するフィルムに対して優れた効果を発揮する。セルロースエステルフィルムは光学フィルムの分野で有用であり、光学フィルムの分野で要求される平面性は厳しいが、そのような分野であっても本発明の効果を有効に発揮できるためである。セルロースエステルフィルムとしては、セルロースアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）などが挙げられる。特に膜厚が１０〜６０μｍである薄膜フィルムでは高度な平面性が要求されるが、そのような膜厚の樹脂フィルムを用いた場合であっても本発明の方法は優れた効果を発揮することが出来る。
【００７０】
セルロースエステルフィルムの製膜法について述べる。セルロースエステルフィルムは一般的に、セルロースエステルフレーク原料及び可塑剤をメチレンクロライドに溶解して粘稠液とし、これに可塑剤を溶解してドープとなし、エクストルーダーダイスから、エンドレスに回転するステンレス等の金属ベルト（バンドともいう）上に流延して、乾燥させ、生乾きの状態でベルトから剥離し、ロール等の搬送装置により、両面から乾燥させて巻き取り、作られる。本発明のハードコートフィルムの製造に用いられるセルロースエステルフィルムは、乾燥過程でテンター等の装置によってフィルムの端部を把持され、幅方向に張力を付与して幅保持若しくは延伸されたものであることがより高い平面性が得られるために好ましい。
【００７１】
本発明のハードコートフィルムの製造に用いられるセルロースエステルフィルムのセルロースエステル樹脂としては、セルロースの低級脂肪酸エステル樹脂であることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸が好ましく、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの特に好ましい例として挙げられる。
【００７２】
また、上記以外にも、特開平１０−４５８０４号、同８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載のセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、最も好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルとしてはセルローストリアセテート（以下、ＴＡＣという）、セルロースアセテートプロピオネートである。
【００７３】
本発明に係るセルロースエステルの数平均分子量は、７０，０００〜２５０，０００が、成型した場合の機械的強度が強く、適度なドープ粘度となり好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。
【００７４】
本発明で用いられるセルロースエステルとしては、アセチル基及び／またはプロピオニル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸ、またプロピオニル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を同時に満たすセルロースエステルが特に好ましい。
（Ｉ）２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
（ＩＩ）０≦Ｙ≦１．２
【００７５】
アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することが出来る。
【００７６】
セルロースエステルは綿花リンターから合成されたセルロースエステルと木材パルプから合成されたセルロースエステルのどちらかを単独或いは任意の比率で混合して用いることが出来る。ベルトやドラムからの剥離性が若しくは問題になれば、ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルロースエステルを多く使用すれば生産性が高く好ましい。木材パルプから合成されたセルロースエステルを混合して用いた場合、綿花リンターから合成されたセルロースエステルの比率が４０質量％以上で、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、６０質量％以上が更に好ましく、単独で使用することが最も好ましい。
【００７７】
ドープを作製する際に使用される溶媒としては、セルロースエステルを溶解出来る溶媒であれば何でも良く、また単独で溶解出来ない溶媒であっても他の溶媒と混合することにより、溶解出来るものであれば使用することが出来る。一般的には良溶媒であるメチレンクロライドとセルロースエステルの貧溶媒からなる混合溶媒を用い、かつ混合溶媒中には貧溶媒を４〜３０質量％含有するものが好ましく用いられる。
【００７８】
このほか使用出来る良溶媒としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来るが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）として挙げられる。
【００７９】
セルロースエステルの貧溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の炭素原子数１〜８のアルコール等を挙げることが出来、これらの貧溶媒は単独若しくは２種以上を適宜組み合わせて用いることが出来る。
【００８０】
本発明で用いることの出来る可塑剤としては特に限定しないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを用いることが出来る。
【００８１】
リン酸エステル系では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤として、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤として、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコール酸エステル系では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤として、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等或いはトリメチロールプロパントリベンゾエート等を好ましく用いることが出来る。ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることが出来る。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸などを用いることが出来る。
【００８２】
グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコールなどを用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いても良いし、二種以上混合して用いても良い。ポリエステルの分子量は重量平均分子量で５００〜２０００の範囲にあることが、セルロースエステルとの相溶性の点から好ましい。
【００８３】
また、２００℃における蒸気圧が１３３３Ｐａ未満の可塑剤を用いることが好ましく、より好ましくは蒸気圧６６６Ｐａ以下、更に好ましくは１〜１３３Ｐａの化合物である。不揮発性を有する可塑剤は特に限定されないが、例えばアリーレンビス（ジアリールホスフェート）エステル、リン酸トリクレシル、トリメリット酸トリ（２−エチルヘキシル）、上記ポリエステル可塑剤等が挙げられる。
これらの可塑剤は単独或いは２種以上併用して用いることが出来る。
【００８４】
可塑剤の使用量は寸法安定性、加工性の点を考慮すると、セルロースエステルに対して、１〜４０質量％添加させることが出来、３〜２０質量％の範囲で添加することが好ましく、更に好ましくは４〜１５質量％である。３質量％未満の場合は、スリット加工や打ち抜き加工した際、滑らかな切断面を得ることが出来ず、切り屑の発生が多くなる。
【００８５】
本発明のセルロースエステルフィルムには酸化防止剤や紫外線吸収剤などを添加することが好ましい。
【００８６】
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
【００８７】
また、この他、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩などの熱安定剤を加えてもよい。
【００８８】
本発明のセルロースエステルフィルムは、その高い寸法安定性から、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【００８９】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。具体的には３８０ｎｍの透過率が１０％未満であることが好ましく、特に５％未満であることがより好ましい。
【００９０】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。また、特開平６−１４８４３０号、特開２００２−４７３５７号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。或いは特開平１０−１５２５６８号に記載されている紫外線吸収剤を用いることも出来る。
【００９１】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式〔１〕で示される化合物が好ましく用いられる。
【００９２】
【化１】
2009233624.tif 000005
【００９３】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４とＲ５は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していて良い。
【００９４】
以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
【００９５】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、チバスペシャルティケミカルズ（株）製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、チバスペシャルティケミカルズ（株）製）
【００９６】
以下にベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン
【００９７】
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムでは、フィルムに滑り性を付与し、ロール状フィルムのブロッキングを防止するために微粒子を添加することが好ましい。
【００９８】
本発明に係る微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
【００９９】
無機化合物としては、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースエステル積層フィルムの濁度を低減出来るので、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。
【０１００】
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用出来る。
【０１０１】
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用出来る。
【０１０２】
有機化合物としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。
【０１０３】
上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用出来る。
【０１０４】
微粒子の１次平均粒子径としては、ヘイズを低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。例えばアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、それらを好ましく使用することが出来る。
【０１０５】
《調製方法Ａ》
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
【０１０６】
《調製方法Ｂ》
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。ここで添加するセルロースエステルとして、本発明の固形物を添加することが特に好ましい。
【０１０７】
これに前記微粒子分散液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【０１０８】
《調製方法Ｃ》
溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【０１０９】
調製方法Ａは二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。
【０１１０】
《分散方法》
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散する時の二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１１１】
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１１２】
セルロースエステルに対する二酸化珪素微粒子の添加量はセルロースエステル１００質量部に対して、二酸化珪素微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ましく、０．０５〜０．２質量部が更に好ましく、０．０８〜０．１２質量部が最も好ましい。添加量は多い方が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が優れている。
【０１１３】
分散機は通常の分散機が使用出来る。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。
メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどが挙げられる。
【０１１４】
メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。
【０１１５】
上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）或いはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げられる。
【０１１６】
また、これらの微粒子はフィルムの厚味方向で均一に分布していてもよいが、より好ましくは主に表面近傍に存在するように分布していることが好ましく、例えば、共流延法により、２種以上のドープを用いて、微粒子を主に表層側に配置されたドープに添加することが、滑り性が高く、ヘイズが低いフィルムが得られるので好ましい。好ましくは３種のドープを使用して表層側の少なくとも１つのドープ若しくは表層側の２つのドープに主に微粒子を添加することが望ましく、中心層を形成するドープには微粒子がほとんど含まれないか、まったく含まれないことが好ましい。可塑剤或いは紫外線吸収剤などでブリードアウトの恐れがある添加剤は主に中心層を形成するドープに添加し、表層側の２つのドープには中心層を形成するドープへの添加量に対して８０質量％未満の添加量とすることが好ましく、より好ましくは５０質量％未満とすることであり、ほとんど添加しないかまったく添加しないことが、工程汚染を防止する点でより好ましい。
【０１１７】
この様な製膜工程で得られたセルロースエステルフィルムを一度巻き取った後、或いは巻き取ることなく連続的に、前記した本発明のハードコートフィルムの製造方法によって、活性エネルギー線硬化樹脂層（ハードコート層）を設けることが出来る。
【実施例】
【０１１８】
以下、本発明を実施例にて具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１１９】
《透明樹脂フィルムの作製》
（ドープ組成物）
セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８８）    １００質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                          ５質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）    １質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）    １質量部
酸化珪素微粒子（アエロジル２００Ｖ）                  ０．１質量部
メチレンクロライド                                    ４３０質量部
メタノール                                              ９０質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹伴しながら完全に溶解した。
【０１２０】
次に、このドープ組成物を濾過、冷却して３３℃に保ちステンレスバンド上に均一に流延し、剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、ステンレスバンド上から剥離後、テンターによって幅把持しながら乾燥させ、幅手方向で１．１倍となるように延伸し、更に多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ膜厚４０μｍ、幅１．５ｍの透明樹脂フィルムを得た。
【０１２１】
《クリアハードコート層（ＣＨＣ層）の形成》
（クリアハードコート層（ＣＨＣ層）塗布組成物）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                    ５０質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート                    ５０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）    ５質量部
イソプロピルアルコール                                      ５０質量部
酢酸エチル                                                  ５０質量部
メチルエチルケトン                                          ５０質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で常温に保温し撹伴しながら完全に溶解した。
【０１２２】
透明樹脂フィルムの上に、上記クリアーハードコード層（ＣＨＣ層）塗布組成物を押し出しコートし、次いで８０℃に設定された乾燥部で乾燥した。その後、下記条件にて、図２，図４，図５，図６または図９に示す紫外線照射設備を使用して紫外線を照射し、膜厚７μｍのハードコート層（ＣＨＣ層）を形成した。照度分布を測定して表１に示した。上記紫外線照射による硬化はパージボックス内に窒素ガスをパージしながら行った。
【０１２３】
パージボックスの形状、特に側面３０（１３０）の位置は、各図において、表１に示す距離Ｄ、ｔａｎθおよびｔａｎβを達成するように適宜変形した。
各図において遮蔽板および反射板は表１に示すものを使用した。
樹脂フィルムの搬送速度は１５ｍ／ｍｉｎであった。
半径３００ｍｍのバックアップロール２（１０２）を使用し、表面の温度が２５℃となるように設定した。
光源５（１０５）は出力３ｋＷの紫外線ランプ（アイグラフィック（株）社製高圧水銀タイプ）を用いた。
【０１２４】
《評価》
（平面性）
幅９０ｃｍ、長さ１００ｃｍの大きさに各試料を切り出し、５０Ｗ蛍光灯を５本並べて試料台に４５°の角度から照らせるように高さ１．５ｍの高さに固定し、試料台の上に各フィルム試料を置き、フィルム表面に反射して見える凹凸を目で見て、次のように判定した。この方法によって「つれ」及び「しわ」の判定が出来る。
【０１２５】
◎：蛍光灯が５本とも真っすぐに見えた；
○：蛍光灯が少し曲がって見えるところがある；
△：蛍光灯が全体的に少し曲がって見えるが、実用上問題のない範囲内である；
×：蛍光灯が大きくうねって見え、実用上問題がある。
【０１２６】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【０１２７】
【図１】本発明において達成する照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係を示すグラフであり、照度変化（照度分布）の一例を示す。
【図２】本発明のハードコートフィルムの製造方法において使用される活性エネルギー線照射装置の一例の概略構成図を示す。
【図３】図２における照射装置の拡大斜視図を示す。
【図４】本発明のハードコートフィルムの製造方法において使用される活性エネルギー線照射装置の一例の概略構成図を示す。
【図５】本発明のハードコートフィルムの製造方法において使用される活性エネルギー線照射装置の一例の概略構成図を示す。
【図６】本発明のハードコートフィルムの製造方法において使用される活性エネルギー線照射装置の一例の概略構成図を示す。
【図７】図６における照射装置の拡大斜視図を示す。
【図８】（Ａ）および（Ｂ）はそれぞれ本発明で使用可能な反射板の一例の概略断面図を示す。
【図９】従来のハードコートフィルムの製造方法において使用される活性エネルギー線照射装置の一例の概略構成図を示す。
【図１０】従来技術における照射時間（ｔ）と照度（Ｗ）との関係を示すグラフであり、従来の照度変化（照度分布）の一例を示す。
【符号の説明】
【０１２８】
１：１０１：基材（樹脂フィルム）、２：１０２：バックアップロール、３：１０３：パージボックス、４：４０：１０４：反射板、５：１０５：光源、６：１０６：照射ゾーン、７：遮蔽板、１０：１００：活性エネルギー線照射装置、２１：１２１：照射ゾーン入口、２２：１２２：照射ゾーン出口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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