(57)【要約】【課題】複数の露光装置の間で光源を共通化したときの露光効率の向上を図る。【解決手段】上流機に設けている制御ユニットでは、基板材料に対する露光が可能となると、光ビームが上流機の露光ヘッドに導出されるように光スイッチを操作し、露光処理を実行する（ステップ１２０〜１３０）。また、露光タイミングに達する前に下流機から露光許可要求が入力されると、下流機の最大利用時間を読み込むと共に、上流機が露光タイミングに達するまでの残時間を算出し、残時間が最大利用時間より長いときには、光ビームが下流機へ導出されるように光スイッチを切替えると共に、露光許可を送出し、下流機で露光処理が実行されるようにする（ステップ１２０、１３２〜１４０）。これに対して、残時間が最大利用時間以下であると、残時間を送出して待機指示を行い（ステップ１４２）、先に露光処理を実行する。【選択図】図１０
2009237490.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表裏面に感光層が形成された露光対象に、露光ヘッドに導入された光ビームを照射して露光処理を施す第１の露光装置及び、第１の露光装置に対して露光対象の搬送方向下流側に設けられた第２の露光装置、前記第１の露光装置と第２の露光装置の間に設けられて第１の露光装置で露光処理された前記露光対象の表裏面を反転させて第２の露光装置へ送り出す反転装置を、含む露光システムであって、
前記第１及び第２の露光装置の前記露光ヘッドへ導入される光ビームを発生する光源と、
前記光源で発生された前記光ビームの導出先を、前記第１の露光装置の露光ヘッドと前記第２の露光装置の露光ヘッドとに切替える切替え手段と、
前記第１の露光装置に搬入された前記露光対象に第１の露光装置で前記光ビームを照射して露光処理を施すまでの残時間を算出する第１の算出手段と、
前記第２の露光装置に搬入された前記露光対象に第２の露光装置で前記光ビームを照射して露光処理を行うのに必要な露光時間を最大利用時間として算出する第２の算出手段と、
前記第１の算出手段によって算出された前記残時間が、前記第２の算出手段によって算出された前記最大利用時間より大きいときに前記第２の露光装置での前記露光処理を許可し、残時間が最大利用時間以下であるときに第２の露光装置での露光処理を禁止する許可手段と、
前記切替え手段を作動して前記光ビームの導出先を前記第１の露光装置と前記第２の露光装置との間で切替えるときに、第１の露光装置の露光ヘッドへ光ビームが導出可能となるように切替え手段を作動すると共に、前記許可手段によって第２の露光装置での前記露光処理が許可されたときに、光ビームが第２の露光装置へ導出される切替える切替え制御手段と、
を含むことを特徴とする露光システム。
【請求項２】
前記第２の露光装置で前記露光対象への露光処理が可能となるタイミングで第２の露光装置での露光許可を要求する許可要求手段と含み、
前記許可手段が、前記許可要求手段からの許可要求がなされたときに前記露光許可を行うか否かを判定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光システム。
【請求項３】
前記第１の算出手段が、前記許可要求手段によって前記許可要求がなされたときに、前記第１の露光装置での前記露光対象への処理状態に基いて前記残時間を算出することを特徴とする請求項２に記載の露光システム。
【請求項４】
前記第１及び第２の露光装置が、前記露光対象との相対移動方向に沿って所定の間隔で少なくとも２列の前記露光ヘッドを備え、露光対象を露光ヘッドに対して走査移動を行って露光処理を施すときに、
前記第１の算出手段が前記露光ヘッドの列ごとに前記残時間を算出し、前記許可手段が前記露光ヘッドの列ごとに前記露光許可を付与すると共に、
前記切替え制御手段が、前記露光ヘッドの列ごと設けられている前記切替え手段を作動する、
ことを特徴とする請求項１から請求項３の何れか１項に記載の露光システム。
【請求項５】
前記第１及び第２の露光装置に、前記露光ヘッドの列ごとに露光ヘッドから照射される前記光ビームの光量を計測する光量計測手段が備えられ、前記露光対象への露光処理に先立って、前記光量計測手段によって前記露光ヘッドから照射される光ビームの光量計測が行われるときに、
前記切替え制御手段が、前記第１の露光装置の一方の列の前記露光ヘッドへ前記光ビームを導出するときに、前記第２の露光装置の他方の列の前記露光ヘッドへ光ビームが導出されるように切替え手段を作動する、
ことを特徴とする請求項４に記載の露光システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント基板などの露光対象に対して所定の画像を露光する露光装置に係り、詳細には、露光対象の表裏両面表裏それぞれに画像露光を施す露光システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置には、プリント配線基板などの支持体の表面に感光層が形成された基板材料を露光対象として、この露光対象に画像露光を施すものがある。このような露光装置では、露光対象とする基板材料を移動ステージ上に載置して、この移動ステージの移動によって基板材料と露光ヘッドを相対移動しながら、例えば、配線パターンを画像とする画像データに基づいて、空間変調素子等によって光ビームを変調しながら走査して、露光ヘッドから基板材料へ光ビームを照射するものがある。
【０００３】
一般に、基板材料などの感光材料に高精細の画像露光を施すときには、レーザー光が用いられる（例えば、特許文献１参照。）。また、レーザー光などの光ビームを用いて走査露光を行う露光装置では、マスクが不要となる（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
ところで、プリント配線基板では、表裏両面に感光層が設けられて、表裏両面に画像露光を施す必要がある。ここから、基板材料の搬送路に沿って千鳥状に露光装置を配置して、基板材料の両面に画像露光を行う露光システムが提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【０００５】
しかし、プリント基板の両面を露光するために、各露光装置が実質的に個別に動作するものであり、実質的に２台の露光装置を配置したものとなってしまい、極めて高価な露光システムとなってしまう。
【０００６】
ここから、露光システムの低コスト化等を図るために、複数の露光装置の間で、光源を共通化し、予め設定された優先順位に基いて選択した露光装置へ光ビームが導かれるようにした露光システムが提案されている（例えば、特許文献４参照。）。
【特許文献１】特開２０００−３０５０２８号公報
【特許文献２】特開２００６−２５０９８２号公報
【特許文献３】特開２００４−１５１２４１号公報
【特許文献４】特開２００７−２１４４０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、複数の露光装置の間で、単に光源を共通化した場合、露光装置の間で露光動作に制約を受けてしまい、必ずしも露光作業の効率化を図りうるものではない。
【０００８】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、複数の露光装置の間で光源を共通化することにより低コスト化を図ったときに、高品質の画像露光を行いながら作業効率の向上を図ることができる露光システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明は、表裏面に感光層が形成された露光対象に、露光ヘッドに導入された光ビームを照射して露光処理を施す第１の露光装置及び、第１の露光装置に対して露光対象の搬送方向下流側に設けられた第２の露光装置、前記第１の露光装置と第２の露光装置の間に設けられて第１の露光装置で露光処理された前記露光対象の表裏面を反転させて第２の露光装置へ送り出す反転装置を、含む露光システムであって、前記第１及び第２の露光装置の前記露光ヘッドへ導入される光ビームを発生する光源と、前記光源で発生された前記光ビームの導出先を、前記第１の露光装置の露光ヘッドと前記第２の露光装置の露光ヘッドとに切替える切替え手段と、前記第１の露光装置に搬入された前記露光対象に第１の露光装置で前記光ビームを照射して露光処理を施すまでの残時間を算出する第１の算出手段と、前記第２の露光装置に搬入された前記露光対象に第２の露光装置で前記光ビームを照射して露光処理を行うのに必要な露光時間を最大利用時間として算出する第２の算出手段と、前記第１の算出手段によって算出された前記残時間が、前記第２の算出手段によって算出された前記最大利用時間より大きいときに前記第２の露光装置での前記露光処理を許可し、残時間が最大利用時間以下であるときに第２の露光装置での露光処理を禁止する許可手段と、前記切替え手段を作動して前記光ビームの導出先を前記第１の露光装置と前記第２の露光装置との間で切替えるときに、第１の露光装置の露光ヘッドへ光ビームが導出可能となるように切替え手段を作動すると共に、前記許可手段によって第２の露光装置での前記露光処理が許可されたときに、光ビームが第２の露光装置へ導出される切替える切替え制御手段と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
この発明によれば、単一の光源で発生された光ビームを切替え手段によって第１の露光装置と第２の露光装置へ切替えて導出することにより、この光源から発せられる光ビームによって露光対象の表裏両面へ露光処理を施す。
【００１１】
このときに、第１の露光装置で露光処理を行うまでの残時間と、第２の露光装置で露光処理に要する最大利用時間を比較し、残時間が最大利用時間を超えている間は、第２の露光装置での露光処理を許可し、残時間が最大利用時間以下となっているときには、第２の露光装置での露光処理を禁止する。
【００１２】
これにより、第１及び第２の露光装置と単一の光源を用いて露光対象への効率的な露光処理を行うことができる。
【００１３】
請求項２に係る発明は、前記第２の露光装置で前記露光対象への露光処理が可能となるタイミングで第２の露光装置での露光許可を要求する許可要求手段と含み、前記許可手段が、前記許可要求手段からの許可要求がなされたときに前記露光許可を行うか否かを判定する、ことを特徴とする。
【００１４】
この発明によれば、第２の露光装置で露光対象へ露光可能な状態となったときに、露光許可を要求し、この露光許可要求に基づいて、許可手段が露光処理を許可するか否か、すなわち、第２の露光装置で光源を利用することを許可するか否かを判定する。これにより、適切なタイミングで第２の露光装置での露光処理を許可できるので、単一の光源を効率的に利用した露光処理が可能となる。
【００１５】
このような本発明では、前記第１の算出手段が、前記許可要求手段によって前記許可要求がなされたときに、前記第１の露光装置での前記露光対象への処理状態に基いて前記残時間を算出するものであれば良い。
【００１６】
また、本発明は、前記第１及び第２の露光装置が、前記露光対象との相対移動方向に沿って所定の間隔で少なくとも２列の前記露光ヘッドを備え、露光対象を露光ヘッドに対して走査移動を行って露光処理を施すときに、前記第１の算出手段が前記露光ヘッドの列ごとに前記残時間を算出し、前記許可手段が前記露光ヘッドの列ごとに前記露光許可を付与すると共に、前記切替え制御手段が、前記露光ヘッドの列ごと設けられている前記切替え手段を作動する、構成が好ましい。
【００１７】
さらに、本発明では、前記第１及び第２の露光装置に、前記露光ヘッドの列ごとに露光ヘッドから照射される前記光ビームの光量を計測する光量計測手段が備えられ、前記露光対象への露光処理に先立って、前記光量計測手段によって前記露光ヘッドから照射される光ビームの光量計測が行われるときに、前記切替え制御手段が、前記第１の露光装置の一方の列の前記露光ヘッドへ前記光ビームを導出するときに、前記第２の露光装置の他方の列の前記露光ヘッドへ光ビームが導出されるように切替え手段を作動する、ことが好ましい。これにより、第１及び第２の露光装置で、並行して光ビームの光量計測が可能となるので、光量計測を行うための時間短縮が可能となる。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように本発明によれば、第１の露光装置で露光処理を行うまでの残時間と、第２の露光装置で露光処理を行うのに必要な最大利用時間とに基いて、第２の露光装置での露光許可又は露光禁止を行うので、第１の露光装置で効率よくかつ円滑に露光処理を行うことができるという優れた効果が得られる。
【００１９】
また、本発明では、第２の露光装置で光源を利用する適切なタイミングで、光源の利用の可否を判定するので、光源の効率的な利用が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。図１には、本実施の形態に係る露光システム１０の概略構成を示している。この露光システム１０には、第１及び第２の露光装置として２台の露光装置１２Ａ、１２Ｂを備えている。なお、露光装置１２Ａ、１２Ｂは、基本的構成が略同じであり、２台の露光装置１２Ａ、１２Ｂを区別しないときには、露光装置１２とする。また、以下では、主として露光装置１２Ａを例に説明する。
【００２１】
図３及び図４には、露光装置１２（１２Ａ、１２Ｂ）の概略構成が示されている。図３に示されるように、この露光装置１２は、所謂フラットベット型が適用されており、長尺矩形形状の基台１４を備えており、この基台１４が、複数本の脚部材１４Ａによってその上面が略水平となるように床面に支持されている。
【００２２】
この基台１４上には、移動テーブル１６が配置されている。基台１４の上面には、一対のガイドレール１８が長手方向に沿って配置されており、前記移動テーブル１６は、このガイドレール１８上を、基台１４の長手方向に沿って移動可能となっている。なお、以下では、移動ステージ１６の移動方向を矢印Ｙ方向で示し、移動ステージ１６の移動方向と直交する方向である基台１４の幅方向を矢印Ｘ方向で示している。
【００２３】
露光装置１２では、この移動ステージ１６上に、露光対象が載置される。本実施の形態に係る露光装置１２は、例えば、プリント基板（ＰＣＢ）、カラー液晶ディスプレイなどの液晶ディスプレイパネル（ＬＣＤパネル）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）など、各種の基板やガラスプレートを基材として、この基材の表面に感光性エポキシ樹脂などのフォトレジストを塗布したもの、フォトレジスト樹脂やドライフィルムをラミネートしたものなどの各種の素材を露光対象として、この露光対象に画像露光を施すことができる。
【００２４】
本実施の形態に適用している露光システム１０では、露光対象として、プリント基板などに用いられる基板材料（以下、基板材料２０とする）を適用している。この基板材料２０は、基材の表裏両面（以下、区別するときは、表面２０Ａ、裏面２０Ｂとする）に感光層（例えば、フォトレジスト皮膜）が設けられた両面感材となっている。
【００２５】
図１に示されるように、露光システム１０には、露光装置１２Ａ、１２Ｂの間に、反転装置２２が設けられている。この反転装置２２は、上流側の露光装置１２Ａから送り出される基板材料２０（図１では図示省略）の表裏を反転させて、下流側の露光装置１２Ｂへ向けて送り出す。これにより、露光システム１０では、一方の露光装置１２（露光装置１２Ａ）で、基板材料２０の一方の面（例えば、表面２０Ａ）に画像露光を施し、他方の露光装置１２（露光装置１２Ｂ）で、基板材料２０の他方の面（例えば、裏面２０Ｂ）に画像露光を施す。
【００２６】
図４に示されるように、露光装置１２には、基台１４にステージ駆動部２４が設けられており、このステージ駆動部２４によって移動ステージ１６が、基台１４の長手方向に沿って往復移動される。
【００２７】
図３に示されるように、移動ステージ１６は、基台１４の長手方向の一端側（本実施の形態では、一例として図３の紙面奥側）が原位置となっている。露光装置１２には、この移動ステージ１６の原位置を挟んで、基台１４の幅方向の一方側に搬入搬送部２６が設けられ、他方側に搬出搬送部２８が設けられている。
【００２８】
露光装置１２では、搬入搬送部２６から送り込まれる基板材料２０を、移動ステージ１６の原位置で受け取って移動ステージ１６上に載置する。また、露光装置１２では、露光処理の終了した基板材料２０を、移動ステージ１６の原位置で搬出搬送部２８へ受け渡す。
【００２９】
これにより、露光装置１２では、搬入搬送部２６から順に送り込まれる基板材料２０に対して連続的に露光処理を施して搬出可能となっている。なお、露光装置１２Ａに設けている搬出搬送部２８は、基板材料２０を反転装置２２（図１参照）へ搬送し、露光装置１２Ｂに設けている搬入搬送部２６は、反転搬送部２２で反転された基板材料２０を露光装置１２Ａに搬入する。また、搬入搬送部２６及び搬出搬送部２８は、例えば、ベルトコンベア、ローラコンベアなどの公知の任意の構成を適用することができる。さらに、反転装置２２としては、基板材料２０の表裏面を反転する任意の構成を適用することができる。
【００３０】
一方、図３に示されるように、露光装置１２Ａ、１２Ｂのそれぞれには、露光ヘッドユニット３０及び検出ユニット３２が設けられている。また、図２及び図４に示されるように、露光システム１０では、露光装置１２Ａに制御ユニット３４が設けられ、露光装置１２Ｂに制御ユニット３６が設けられている。
【００３１】
図３に示されるように、露光装置１２Ａ、１２Ｂ（露光装置１２）には、基台１４の長手方向の中間部に、門型のゲート３８が取付けられている。このゲート３８は、基台１４の上面を跨ぐように配設され、基台１４の長手方向の一方側（例えば、移動ステージ１６の原位置側）に露光ヘッドユニット３０が取付けられ、他方側に検出ユニット３２が取付けられている。これにより、露光装置１２では、移動ステージ１６上に載置された基板材料２０が、移動ステージ１６の移動によって露光ヘッドユニット３０及び検出ユニット３２の下方を通過するようになっている。
【００３２】
露光ヘッドユニット３０には、それぞれから基板材料２０へ向けて光ビームを射出する多数の露光ヘッド４０が設けられている。また、露光ヘッド４０のそれぞれには、バンドル状の光ファイバアレイ４２の一端が連結されている。この光ファイバアレイ４２は、多数本の光ファイバがバンドルされて形成されており、各露光ヘッド４０では、光ファイバアレイ４２の各光ファイバから光ビームが導入される。これにより、露光ヘッド４０のそれぞれが、多数上の光ビームを基板材料２０へ向けて照射可能となっている。
【００３３】
図５に示されるように、露光ヘッドユニット３０には、基板材料２０の矢印Ｘ方向に沿った全域に対向されるように複数の露光ヘッド４０が配置されている。また、露光ヘッドユニット３０には、露光ヘッド４０の間を補完するように露光ヘッド４０が配設されている。すなわち、露光ヘッドユニット３０には、矢印Ｙ方向荷沿って複数列の露光ヘッド４０が配設されている。なお、本実施の形態では、一例として、露光ヘッド４０を二列に配置しており、第１列目と第２列目の露光ヘッド４０を区別するときには、第１列目を露光ヘッド４０Ａとし、第２列目を露光ヘッド４０Ｂとする。
【００３４】
各露光ヘッド４０は、光ビームの照射可能領域４４Ａが矩形状となっており、この照射可能領域４４Ａの短辺が、矢印Ｙ方向に対して所定の角度で傾斜されている。また、露光ヘッドユニット３０では、第１列（奇数列）の露光ヘッド４０Ａの間に、第２列（偶数列）の露光ヘッド４０Ｂが配置されることにより、矢印Ｘ方向に沿って隣接する露光ヘッド４０による光ビームの照射可能ライン４４Ｂの端部（矢印Ｘ方向の端部）が互いに重なりあうようになっている。露光装置１２では、１回の走査移動（走査露光）によって基板材料２０への画像露光が可能となっている。
【００３５】
図６（Ａ）及び図６（Ｂ）には、露光ヘッドユニット３０に設けられる露光ヘッド４０の一例を示している。なお、図６（Ａ）は照射可能領域４４Ａの短辺方向に沿った一端側（長辺の一方側）から見た概略図とし、図６（Ｂ）は照射可能領域４４Ｂの長辺方向に沿った一端側（短辺の一方側）から見た概略図としている。
【００３６】
露光ヘッド４０は、光ビームを画素ごとに変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤ４６とする）を備えている。このＤＭＤ４６は、それぞれが一つの画素に対応する図示しない多数のマイクロミラーを備え、光ファイバアレイ４２の各光ファイバによって案内された多数条の光ビームのそれぞれが、ＤＭＤ４６の各マイクロミラーに照射される。
【００３７】
ＤＭＤ４６は、画素ごと（光ビームごと）の変調信号に基づいて、各画素（各光ビーム）に対応するマイクロミラーの傾斜角が切替えられるように駆動される。これにより、露光ヘッド４０では、マイクロミラーに照射された光ビームが偏向される。このときに、例えば、露光すべき画素に対応するマイクロミラーが光りビームを基板材料２０へ向けて反射し、露光すべきでない画素に対応するマイクロミラーが、図示しない光吸収部材へ向けて光ビームを反射する。なお、このようなＤＭＤ４６は、公知の構成を適用することができる。また、光ビームの偏向素子としては、ＤＭＤ４６に限らず、任意の素子を適用することができる。
【００３８】
露光ヘッド４０には、光ファイバアレイ４２の各光ファイバが短辺と直交する方向に配列されて連結されている。また、露光ヘッド４０は、光ファイバアレイ３６の光ビーム射出端とＤＭＤ４６の間に、光ファイバから射出される光ビームを補正して、ＤＭＤ４６上に集光するレンズ系４８、レンズ系４８を透過した光ビームをＤＭＤ４６へ向けて反射する反射鏡５０が配置されている。
【００３９】
レンズ系４８は、例えば、光ファイバアレイ４２から射出される多数条の光ビームを平行光とする一対の組み合せレンズ４８Ａ、平行光とされた各光ビームの光量分布が均一となるように補正する一対の組み合せレンズ４８Ｂ、補正された各光ビームをＤＭＤ４６上に集光する集光レンズ４８Ｃを含んで形成されている。なお、レンズ系４８は、組み合せレンズ４８Ａが、光ビームの配列方向に対して、レンズの光軸に近い光ビームの光束を広げると共に、レンズの光軸から離れた光ビームの光束を縮め、配列方向と直交する方向に対しては、光ビームをそのまま透過させることにより、光量分布が均一化されるように補正することにより、矩形形状の照射可能領域４４Ａが形成されるようにしている。
【００４０】
露光ヘッド４０には、ＤＭＤ４６の光ビーム反射側に、ＤＭＤ４６で反射された光ビームを基板材料２０上の露光面に結像するレンズ系５２、５４及び、レンズ系５２、５４を透過した光ビームの焦点（焦点距離）を調整するオートフォーカスユニット５６が順に配置されている。なお、露光ヘッド４０では、ＤＭＤ４６と基板材料２０の露光面とが共役な関係となるようにレンズ系５２、５４が配置されている。
【００４１】
オートフォーカスユニット５６は、例えば、所定の屈折率（例えば、屈折率ｎがｎ＝１．５３）の透明ガラス材料によって楔状（台形柱状）に形成された一対のペア楔ガラス５６Ａ、５６Ｂを備え、ペア楔ガラス５６Ａ、５６Ｂが互いに反転した向きで光ビームの光軸に沿って隣接配置されている。また、ペア楔ガラス５６Ａとペア楔ガラス５６Ｂとは、所定の隙間（例えば、０．１ｍｍ）で、かつ、互いに平行となるように配置されている。
【００４２】
オートフォーカスユニット５６では、図示しないアクチュエータ（例えば、フォーカスモータ）の作動によって、ペア楔ガラス５６Ａ、５６Ｂが、互いの平行が保たれた状態で、光軸に対して直交する方向へ相対移動されることにより、光ビームがペア楔ガラス５６Ａ、５６Ｂを透過するときの透過距離が変化し、光ビームの焦点距離ＦＤが変化する。露光ヘッドユニット３０では、各露光ヘッド４０のオートフォーカスユニット５６が制御されることにより、光ビームの焦点調整がなされる。
【００４３】
図４に示されるように、制御ユニット３４、３６は、例えば、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等がバスによって接続された一般的構成のマイクロコンピュータ、ディスプレイなどの表示デバイス、キーボードなどの入力デバイスなどを含む各種の入出力デバイス、各種のデータの入出力を行う入出力インターフェイス、各種のデバイスを駆動する駆動回路等（何れも図示省略）を含んで形成されている。このような制御ユニット３４、３６としては、例えば、パーソナルコンピュータなどのデータ処理装置を用いることができる。
【００４４】
露光装置１２Ａ、１２Ｂでは、制御ユニット３４、３６に、基板材料２０へ露光すべき画像（例えば、プリントパターンなど）の画像データが入力される。制御ユニット３４、３６では、入力された画像データから、光ビームを偏向するための変調信号を生成する。
【００４５】
また、制御ユニット３４、３６には、搬入搬送部２６、搬出搬送部２８と共に露光ヘッドユニット３０に接続されている。制御ユニット３４、３６おり、基板材料２０の搬入及び搬出を制御すると共に、所定のタイミングで、変調信号を露光ヘッドユニット３０の各露光ヘッド４０へ出力することにより、各露光ヘッド４０から基板材料２０へ照射される各光ビームを偏向し、基板材料２０に画像データに応じた画像露光を施す。
【００４６】
図３に示されるように、検出ユニット３２は、例えば、基台１４の幅方向に沿って複数（本実施の形態では、一例として２台）設けられている。検出ユニット３２には、例えば、ゲート３８と反対側にＣＣＤカメラ５８が設けられ、ゲート３８側に距離センサ６０が設けられており、ＣＣＤカメラ５８及び距離センサ６０が制御ユニット３４、３６に接続されている。
【００４７】
露光装置１２では、基板材料２０を載置した移動ステージ１６が、先ず、原位置から基台１４の他端側へ移動される（矢印Ｙｍ方向、以下、計測移動とする）。このときに、制御ユニット３４、３６は、距離センサ６０によって基板材料２０の露光面までの距離を計測すると共に、ＣＣＤカメラ５８によって基板材料２０の所定位置が撮像される。
【００４８】
露光システム１０で画像露光が施される基板材料２０には、アライメント用の基準位置として、アライメントマークや基準孔が予め形成されるか、又は、角部などの複数位置が予め設定されている（図示省略）。制御ユニット３４、３６は、基板材料２０の計測移動が行われるときに、ＣＣＤカメラ５８によって基板材料２０を撮像し、この撮影画像から、基板材料２０の複数の基準位置の各座標を算出し、基準位置の各座標に基づいて露光領域の変位データを作成する。
【００４９】
また、制御ユニット３４、３６では、距離センサ６０によって移動ステージ１６上の基板材料２０の露光面（表面１２Ａ又は裏面１２Ｂ）までの距離を計測し、この計測結果に基づいて、露光ヘッド４０から射出される光ビームの焦点距離ＦＤを設定する。
【００５０】
露光装置１２では、移動ステージ１６の計測移動が終了すると、移動ステージ１６を原位置に戻す。このときに、基板材料２０への画像露光が行われる（矢印Ｙｅ方向、以下、露光移動とする）。
【００５１】
ここで、制御ユニット３４、３６では、移動ステージ１６上の基板材料２０が、露光ヘッドユニット３０の下方を通過するタイミングで、焦点距離ＦＤが得られるように、各露光ヘッド４０のオートフォーカスユニット５６を作動して、焦点調整を行う。また、制御ユニット３４、３６は、変位データに基づいて補正した画像データから生成した変調信号を、各露光ヘッド４０へ出力する。
【００５２】
これにより、露光装置１２Ａ、１２Ｂでは、各光ビームの焦点が基板材料２０の露光面（表面２０Ａ及び裏面２０Ｂ）に一致され、基板材料２０には、適正な位置に、ピンボケが生じない高精細な画像が露光される。なお、光ビームの焦点調整は、オートフォーカスユニット５６に限らず、公知の任意の構成を適用することができる。
【００５３】
ところで、図１及び図２に示されるように、露光システム１０では、露光装置１２Ａ、１２Ｂに用いる単一の光源として光源ユニット６２が設けられている。また、露光システム１０では、露光装置１２Ａの制御ユニット３４に、露光装置１２Ｂの制御ユニット３６及び光源ユニット６２が接続されている。
【００５４】
図７に示されるように、光源ユニット６２は、複数台のレーザーモジュール６４を備えている。本実施の形態に適用した露光装置１２Ａ、１２Ｂの露光ヘッド４０の数は同じとなっている。なお、図７では、一例として４台×２列で８台の露光ヘッド４０を図示している。光源ユニット６２には、１台の露光装置１２に設けられている露光ヘッド４０の台数分のレーザーモジュール６４が設けられている。
【００５５】
レーザーモジュール６４には、露光ヘッド４０から射出される光ビームの数（条数）に応じたレーザー発光素子６６及び、各レーザー発光素子６６を駆動するドライバ６８が一体に設けられて形成されている。各レーザー発光素子６６は、ドライバ６８によって駆動されて、所定の波長域（例えば、紫外波長域）を含むレーザー光（光ビーム）を発する。すなわち、光源ユニット６２では、１台の露光ヘッド４０から射出される光ビームが、１台のレーザーモジュール６４によって発光される。
【００５６】
光源ユニット６２には、変換モジュール７０が設けられている。この変換モジュール７０は、レーザーモジュール６４の各レーザー発光素子６６と光ファイバ７２によって接続されている。これにより、変換モジュール７０には、レーザーモジュール６４の各レーザー発光素子６６で発せられた光ビームが入力される。
【００５７】
また、変換モジュール７０には、バンドル状の光ファイバアレイ７４の一端が連結されており、変換モジュール７０は、レーザーモジュール６４から入力される光ビームを、１本の光ファイバアレイ７４にまとめて出力する。
【００５８】
一方、光源ユニット６２には、光スイッチモジュール７６が設けられている。この光スイッチモジュール７６には、光ファイバアレイ７４が連結されており、これにより、光スイッチモジュール７６には、露光ヘッド４０ごとの光ビームが入力される。
【００５９】
また、この光スイッチモジュール７６には、露光装置１２Ａ、１２Ｂの露光ヘッドユニット３０に設けている各露光ヘッド４０との間が、光ファイバアレイ４２によって接続されている。これにより、光源ユニット６２では、レーザーモジュール６４で発せられた光ビームが、露光ヘッド４０のそれぞれへ出力可能となっている。
【００６０】
この光スイッチモジュール７６には、光ビームごとに光スイッチが設けられている。図８（Ａ）及び図８（Ｂ）には、本実施の形態に一例として適用している光スイッチ（以下、光スイッチ７８とする）の概略を示している。
【００６１】
図８（Ａ）に示されるように、この光スイッチ７８は、内部が中空の圧力容器８０が設けられている。この圧力容器８０には、貫通孔８２、８４が形成されている。貫通孔８２には、反射鏡８６が設けられている。この反射鏡８６は、支持膜８８の一方の面に鏡面膜９０が接着され、他方の面に変形膜９２が接着された三層構造となっている。
【００６２】
光スイッチ７８では、圧力容器８０の貫通孔８２が、この反射鏡８６によって閉塞されている。また、光スイッチ７８には、圧力容器８０の貫通孔８４に、例えば、圧電素子などを用いたアクチュエータ９４が設けられている。光スイッチ７８は、このアクチュエータ９４の作動によって、圧力容器８０内が減圧又は加圧される。
【００６３】
図８（Ｂ）に示されるように、光スイッチ７８では、圧力容器８０内が外部と同圧であると、反射鏡８６がフラットとなっている（図８（Ｂ）に実線で示す）。また、光スイッチ７８は、圧力容器８０内がアクチュエータ９４によって加圧されると、反射鏡８８が凸状に変形する（図８（Ｂ）に破線で示す）。さらに、光スイッチ７８では、アクチュエータ９４によって圧力容器８０内が減圧されると、反射鏡８６が凹状に変形する（図８（Ｂ）に二点鎖線で示す）。
【００６４】
光スイッチ７８では、所定の角度で反射鏡８６の反射膜９０に光ビームが照射されたときに、反射膜９０が凸状に変形しているときと、反射膜９０が凹状に変形しているときとでは、この光ビームの反射方向が大きく変化する。
【００６５】
光スイッチモジュール７６では、光スイッチ７８の圧力容器８０内が減圧状態か加圧状態かによって光ビームの反射方向が変化することから、光ビームの出力先を切替えるようにしている。例えば、アクチュエータ９４がオフ状態では、圧力容器８０内が減圧され、アクチュエータ９４がオンしたときに圧力容器８０内が加圧されるときに、アクチュエータ９４のオン／オフで、光ビームの出力先が切換えられる。
【００６６】
各光スイッチ７８は、露光ヘッド４０ごとに一つのスイッチ群（図示省略）として、アクチュエータ９４は、スイッチ群ごとに一体で作動（オン／オフ）される。また、露光ヘッドユニット３０の露光ヘッド４０を、第１列目の露光ヘッド４０Ａを矢印Ｘ方向の一端側から、露光ヘッド４０Ａ１、４０Ａ２、４０Ａ３、４０Ａ４とし、第２列目の露光ヘッド４０Ｂを矢印Ｘ方向の一端側から露光ヘッド４０Ｂ１、４０Ｂ２、４０Ｂ３、４０Ｂ４としたとき、露光装置１２Ａの露光ヘッド４０Ａ１と露光装置１２Ｂの露光ヘッド４０Ａ１、露光装置１２Ａの露光ヘッド４０Ａ２と露光装置１２Ｂの露光ヘッド４０Ａ２、・・、露光装置１２Ａの露光ヘッド４０Ｂ１と露光装置１２Ｂの露光ヘッド４０Ｂ１、・・・が、同一のスイッチ群に対応されている（図７参照）。
【００６７】
これにより、光スイッチモジュール７６は、各スイッチ群で光スイッチ７８のアクチュエータ９４がオフされたときに、光ビームが露光装置１２Ａ側の露光ヘッド４０へ送られ、光スイッチ７８がオンされたときに、光ビームが露光装置１２Ｂへ送られるようになっている。
【００６８】
図２に示されるように、露光システム１０では、光源ユニット６２のレーザーモジュール６４及び光スイッチモジュール７６が、制御ユニット３４に接続されている。露光システム１０では、上位機となっている露光装置１２Ａの制御ユニット３４で、露光装置１２Ａ、１２Ｂでの基板材料２０の搬入、搬出及び、露光装置１２Ａ、１２Ｂでの露光時間等に基いて、露光装置１２Ａ、１２Ｂでの処理および、光源ユニット６２の動作を制御するようにしている。
【００６９】
すなわち、露光システム１０では、露光装置１２Ａの制御ユニット３４が、光ビームの発光及び、光ビームの供給先となる露光ヘッドユニット３０（露光ヘッド４０）の切換を制御している。これにより、露光システム１０は、単一の光源ユニット６２から、２台の露光装置１２Ａ、１２Ｂに光ビームが出力される。
【００７０】
一方、基板材料２０に高品質の画像露光を施すためには、適正な光量で基板材料を露光する必要がある。ここから、図７に示されるように、露光装置１２Ａ、１２Ｂのそれぞれには、光量センサ９６が設けられている。図４に示されるように、この光量センサ９６のそれぞれは、制御ユニット３４、３６に接続されている。
【００７１】
制御ユニット３４、３６のそれぞれでは、最初の基板材料２０の露光を行う前に、各露光ヘッド４０から射出される光ビームの光量を計測し、規定の光量（基板材料２０を適正に露光可能と設定されている光量）が得られているか否かを確認する。
【００７２】
図７に示す光量センサ９６は、例えば、基台１４（図７では図示省略）の幅方向（矢印Ｘ方向）に沿って移動可能となっており、制御ユニット３４、３６は、移動ステージ１６の計測方向への移動時に、第１列目の露光ヘッド４０Ａ、第２列目の露光ヘッド４０Ｂから別々に光ビームを射出しながら、光量センサ９６によって露光ヘッド４０から射出される光ビームの光量を計測する。
【００７３】
これにより、制御ユニット３４，３６では、基板材料２０の露光処理に先立って、基板材料２０を適正に露光可能な光量が得られているか否かを確認するようになっている。なお、光量が不足していると判断される露光ヘッド４０に対しては、制御ユニット３４から、該当露光ヘッド４０に対応するレーザーモジュール６４から発する光ビームを増加するようにドライバ６８を制御するなどの処理を行う。
【００７４】
一方、図２に示されるように、露光システム１０では、上位機となっている露光装置１２Ａの制御ユニット３４に、第１の算出手段とする残時間算出部３４Ａ及び、判定許可部３４Ｂが形成されており、制御ユニット３４が、基板材料２０への露光処理（露光ヘッド４０からの光ビームの照射）を開始するまでの残時間Ｔｒを算出する。また、下位機となっている露光装置１２Ｂの制御ユニット３６には、第２の算出手段として最大利用時間算出部３６Ａが形成され、また、許可要求部３４Ｂが形成されている。制御ユニット３６では、基板材料２０の露光（露光ヘッド４０からの光ビームの照射）終了までの時間を、最大利用時間Ｔｕとして算出する。
【００７５】
ここで、図７に示されるように、第１列目の露光ヘッド４０Ａと第２列目の露光ヘッド４０Ｂの間で、走査方向（矢印Ｙ方向）に沿って所定の間隔（ヘッド間隔Ｅｄ（mm）があり、これにより、第１列目の露光ヘッド４０Ａで光ビームを照射してから、第２列目の露光ヘッド４０Ｂから光ビームを照射するまでの間にタイムラグ（以下、露光タイムラグLag（sec）とする）がある。
【００７６】
残時間Tｒを算出する上での露光系におけるパラーメータは、露光タイムラグLagに加え、露光速度Eｓ（mm／sec）（露光時の基板材料２０の移動速度、すなわち、移動テーブル１６の移動速度）がある。
【００７７】
また、基板材料２０の搬入、排出を担う搬送系におけるパラーメータは、搬入速度Ｉs（mm）、基板搬入距離Iｄ（mm）、搬入された基板材料２０に要する位置決め時間Ｐｔ（sec）、搬出速度Ｏｓ（mm／sec）、基板搬出距離Ｏｄ（mm）があり、計測時（撮像系）におけるパラーメータは、計測速度Ｍｓ（mm／sec）及び、移動ステージ１６の移動距離であるステージ移動距離Ｍｄ（mm）がある。
【００７８】
さらに、移動ステージ１６の移動／停止時の加減速による時間のロス、露光装置１２（１２Ａ）内で前工程から次工程へ移行するときなどに生じる時間のロス、などの時間のロスがあり、これらを含めて予めロス時間Ｃ（sec）を設定する。
【００７９】
基板材料２０を連続して処理するときの露光までの時間である残時間Ｔｒは、
Ｔｒ＝Lag＋Ｉｔ＋Ｍｔ＋Ｏｔ＋Ｃ
として得られる。ここで、露光タイムラグLagは、Lag＝Ｅｄ／Ｅｓであり、基板搬入時間Ｉｔ（sec）は、Ｉｔ＝Ｉｄ／Ｉｓ、計測時間Ｍｔ（sec）は、Ｍｔ＝Ｍｄ／Ｍｓ、基板排出時間Ｏｔ（sec）は、Ｏｔ＝Ｏｄ／Ｏｓとしている。また、基板搬入時間Ｉｔとは、図１の搬入搬送部２６の左端である基板材料２０が搬入搬送部２６にセットされてから、基板材料２０が、移動ステージ１６にセットされるまでの時間とし、基板搬出時間Ｏｔとは、移動ステージ１６から基板材料２０を取り出して搬出搬送部２８へ置く（移す）までの時間としている。
【００８０】
制御ユニット３４では、基板材料２０の処理状況に応じて、基板材料２０の露光を開始するまでの時間、すなわち、光源ユニット６２を利用するまでの残時間Ｔｒを算出する。このような残時間Ｔｒは、例えば、基板材料２０の搬出直後では、
Ｔｒ＝Lag＋Ｉｔ＋Ｍｔ＋Ｃ
として得られる。
【００８１】
一方、最大利用時間Ｔｕは、基板材料２０の感光特性に依存する感度中心値Ｓ（ｍＪ／ｃｍ２）、ばらつきα、分光感度βと、システムに依存する露光速度Ｖ（ｃｍ／sec）、露光幅Ｗ（ｃｍ）、露光距離（露光長さＬ（ｃｍ）、単位時間当たりの露光面積Ａｒ（ｃｍ２）から得られる。
【００８２】
ここで、露光パワーＰｏｗは、
Ｐｏｗ＝Ｓ×α×β×Ａｒ
として得られる。ここから、基板材料２０の露光に要する時間（露光時間Ｔｅ（sec）は、
Ｔｅ＝（Ｐｏｗ／（Ｓ×α×β×Ｗ））×Ｌ
となり、これに、露光装置１２Ｂにおけるシステムマージンｃを乗じることにより最大利用時間Ｔｕが得られる（Ｔｕ＝Ｔｅ×ｃ）。
【００８３】
制御ユニット３６では、基板材料２０ごとに予め最大利用時間Ｔｕを算出して、制御ユニット３４からの要求に応じて、最大利用時間Ｔｕを送出するようにしている。
【００８４】
制御ユニット３４では、残時間Ｔｒと、露光装置１２Ｂの制御ユニット３６で演算された最大利用時間Ｔｕに基いて、露光装置１２Ｂで基板材料２０への露光処理を許可するか否かを判定する。
【００８５】
このときに、制御ユニット３４では、残時間Ｔｒが最大利用時間Ｔｕよりも大きいとき（Ｔｒ＞Ｔｕ）にのみ、露光装置１２Ｂでの露光処理を許可する（Ｔｒ≦Ｔｕでは、不許可）。これにより、露光装置１２Ａで光源ユニット６２から導入される光ビームを用いた基板材料２０の露光処理が優先されるようにしている。
【００８６】
なお、図１に示されるように、本実施の形態に適用された露光システム１０では、光源ユニット６２に冷却機９８が設けられ、露光装置１２Ａ、１２Ｂのそれぞれに温調機９９が設けられており、冷却水、温調水の給水及び排水が行われる。これにより、露光システム１０では、光源ユニット６２の温度上昇が防止されると共に、露光装置１２Ａ、１２Ｂの内部が基板材料２０に対する露光処理を行うのに適正な温度状態に維持される。このような冷却機構及び温調機構は、公知の一般的構成を適応することができる。
【００８７】
以下に、本実施の形態の作用として、図９乃至図１２を参照しながら、露光システム１０に設けている露光装置１２Ａ、１２Ｂを用いた基板材料２０の露光処理を説明する。なお、露光システム１０では、基板材料２０の搬送方向に対して、露光装置１２Ａが上流側に配置され、露光装置１２Ｂが下流側に配置されており、図９から図１２では、露光装置１２Ａ、１２Ｂを区別するために、露光装置１２Ａを上流機、露光装置１２Ｂを下流機として表示している。
【００８８】
露光システム１０では、露光装置１２Ａ（上流機）が上位機となっており、例えば、露光装置１２Ａ、１２Ｂはスタンバイ状態で、露光装置１２Ａの制御ユニット３４に、基板材料２０に表面２０Ａ、裏面２０Ｂに露光すべき画像（例えば、プリントパターン）のデータ（画像データ）が入力される。制御ユニット３４は、入力された画像データから、露光装置１２Ｂで露光すべき画像データを制御ユニット３６へ転送する。
【００８９】
このときに、露光システム１０では、露光装置１２Ａの制御ユニット３４に、基板材料２０の感光特性として、感度中心値Ｓ、ばらつきα及び分光感度β等が入力されるようになっており、制御ユニット３４は、入力された感光特性を露光装置１２Ｂの制御ユニット３６へ転送する。
【００９０】
この後、露光システム１０では、露光装置１２Ａへ基板材料２０が搬送されることにより、露光装置１２Ａで基板材料２０の露光処理を開始する。
【００９１】
露光システム１０では、露光装置１２Ａ、１２Ｂのそれぞれで、最初の基板材料２０の露光に先立って、適正な露光量が得られるか否かの確認を行う。この光量確認では、各露光ヘッド４０から射出される光ビームの光量計測を行い、基板材料２０を適正に露光可能な光量が得られているか否かを確認する。このときに、露光装置１２Ａ、１２Ｂには、露光ヘッドユニット３０に一例として露光ヘッド４０が二列に配列されており、光量計測は、列ごとに行われる。
【００９２】
ここで、露光システム１０では、露光装置１２Ａに基板材料２０が送り込まれ、この基板材料２０を載置した移動テーブル１６が計測移動を行うときに、露光ヘッド４０の光量計測を行う。また、露光システム１０では、露光装置１２Ａで光量計測と並行して、露光装置１２Ｂでの光量計測を行う。
【００９３】
図９には、このときの処理の一例を示しており、上流機である露光装置１２Ａでは、基板材料２０を移動テーブル１６に保持して、計測移動を開始するときに、下流機である露光装置１２Ｂに光量計測を指示する（ステップ１００）。これと共に、露光装置１２Ａ（上流機）では、光スイッチモジュール７６の各光スイッチ７８を操作し、レーザーモジュール６４から発せられる光ビームを、露光装置１２Ａの露光ヘッド４０Ａと、露光装置１２Ｂの露光ヘッド４０Ｂへ導出されるようにする。
【００９４】
この後、露光装置１２Ａと露光装置１２Ｂが同期して、光量計測を行う（ステップ１０４、１０６）。これにより、先ず、露光装置１２Ａでは、第１列目の露光ヘッド４０Ａに対する光量計測が行われ、露光装置１２Ｂでは、第２列目の露光ヘッド４０Ｂに対する光量計測が行われる。なお、露光装置１２Ａでは、この光量計測と並行して、ＣＣＤカメラ５８及び距離センサ６０を用いた計測処理が行われる。
【００９５】
また、制御ユニット３４は、露光装置１２Ａの露光ヘッド４０Ａ及び、露光装置１２Ｂの露光ヘッド４０Ｂの光量計測が終了すると、光スイッチ７８切替えて、レーザーモジュール６４から発せられる光ビームが、露光装置１２Ａの露光ヘッド４０Ｂと、露光装置１２Ｂの露光ヘッド４０Ａへ導出されるようにする（ステップ１０８）。この後、露光装置１２Ａと露光装置１２Ｂが同期し、露光装置１２Ａでは、第２列目の露光ヘッド４０Ｂに対する光量計測を行い、露光装置１２Ｂでは、第１列目の露光ヘッド４０Ａに対する光量計測が行われる（ステップ１１０、１１２）。
【００９６】
このように、露光システム１０では、光スイッチモジュール７６を用い、露光ヘッド４０の列ごとに、異なる露光装置１２に光ビームが導出されるようにしている。これにより、図１２に示されるように、露光システム１０では、２台の露光装置１２Ａ（上流機）と露光装置１２Ｂ（下流機）とで、並行して光量計測を行う。なお、図１２では、図９乃至図１１で該当する主なステップ番号を付与している。
【００９７】
したがって、露光装置１２Ａの各露光ヘッド４０の光量計測を行った後、露光装置１２Ｂの各露光ヘッド４０の光量計測を行うときに比べて、計測時間を大幅に短縮することができる。したがって、露光システム１０では、露光装置１２Ａ、１２Ｂの間で共用している光源ユニット６２を効率的に利用して、各露光ヘッド４０の光量計測を行うことができる。
【００９８】
すなわち、露光装置１２Ａと露光装置１２Ｂとを、異なるタイミングで光量計測を行う場合、露光装置１２Ａで露光処理を行っていると、露光装置１２Ｂでの光量計測ができなくなり、露光装置１２Ｂで、従来と同様に、光量計測と露光処理を続けて行った場合、露光装置１２Ａ側で、次の基板材料２０への露光処理を待たなくてはならない事態が生じる可能性がある。
【００９９】
これに対して、露光装置１２Ａで光量計測を行うときに、露光装置１２Ｂで並行して光量計測を行うことにより、露光装置１２Ｂに最初の基板材料２０が送り込まれたときに、光量計測を行う必要が無く、また、露光装置１２Ｂでは、基板材料２０へ露光処理まで光源ユニット６２を使用する必要がない。
【０１００】
なお、ここでは、一例として、露光装置１２Ａ、１２Ｂで並行して光量計測を行うようにしたが、例えば、露光装置１２Ａに基板材料２０を搬入するタイミングで、先ず、露光装置１２Ｂの第１列目の露光ヘッド４０Ａの光量計測を開始し、露光装置１２Ｂの第２列目の露光ヘッド４０Ｂの光量計測に合わせて、露光装置１２Ａで、第１列目の露光ヘッド４０Ａから光量計測を開始するなど、任意の構成を適用することができる。
【０１０１】
一方、露光装置１２Ａでは、計測処理に続いて、基板材料２０に対する露光処理を行い、露光処理が終了すると、基板材料２０を搬出すると共に、新たな基板材料２０を導入する。また、露光装置１２Ｂでは、表面１２Ａの露光処理が終了した基板材料２０が、反転装置２２で反転されて送り込まれると、この基板材料２０に対する露光処理を行う。すなわち、露光装置１２Ａ，１２Ｂのそれぞれでは、基板材料２０の搬入、計測、露光及び搬出の処理が順に繰り返される。
【０１０２】
このときに、露光システム１０では、上流機である露光装置１２Ａでの露光処理が優先されるように、光源ユニット６２からの光ビームの導出先を切替えることにより、基板材料２０への効率的な露光処理が行われるようにしている。
【０１０３】
ここで、露光装置１２Ａ（上流機）と露光装置１２Ｂ（下流機）での露光処理と、露光処理に併せた光スイッチモジュール７６（光スイッチ７８）の切替え操作を説明する。なお、図１０には、上流機である露光装置１２Ａでの露光処理を示し、図１１には、下流機である露光装置１２Ｂでの露光処理を示している。また、図１０、図１１の処理は、基板材料２０の搬入、計測、露光及び搬出のための各処理と並行して行われる。
【０１０４】
図１０に示されるように、露光装置１２Ａ（上流機）の制御ユニット３４では、基板材料２０を搬入すると、ステップ１２０で、下流機である露光装置１２Ｂから、露光許可が要求されたか否かを確認し、ステップ１２２で、基板材料２０の露光を行うタイミングとなったか否かを確認する。
【０１０５】
ここで、露光装置１２Ｂからの露光許可要求に先立って、露光装置１２Ａで計測処理が終了して、基板材料２０への露光可能な状態に至る（露光タイミングとなる）と、ステップ１２０で否定判定されると共に、ステップ１２２で肯定判定されてステップ１２４へ移行する。
【０１０６】
このステップ１２４では、露光装置１２Ａの露光ヘッドユニット３０（各露光ヘッド４０）に光ビームが導入されるように、光スイッチモジュール７６の各光スイッチ７８を操作する（例えば、全ての光スイッチ７８をオフ）。この後、ステップ１２６では、各露光ヘッド４０に導入される光ビームを画像データに基づいて偏向して、基板材料２０の走査露光を行う。
【０１０７】
基板材料２０の走査露光が終了すると、ステップ１３０では、全ての基板材料２０への露光処理が終了したか否かを確認し、基板材料２０の露光処理を継続するときには、ステップ１３０で否定判定して、ステップ１２０へ戻る。
【０１０８】
一方、図１２に示されるように、表面２０Ａの画像露光が終了した基板材料２０は、露光装置１２Ａから搬出され、反転装置２２を経て、裏面２０Ｂが上方へ向けられた状態で、下流機である露光装置１２Ｂに搬入され、露光装置１２Ｂでの処理が開始される。
【０１０９】
図１１に示されるように、露光装置１２Ｂでは、露光システム１０で基板材料２０の露光処理を開始すると、先ず、ステップ１５０で、制御ユニット３４から出力される感材特性等に基いて、基板材料２０の露光に要する時間、すなわち、光源ユニット６２を使用するときの最大利用時間Ｔｕを算出する。
【０１１０】
次のステップ１５２では、基板材料２０が搬入されて、この基板材料２０に対する計測処理が終了し、露光処理を開始可能なタイミング（露光タイミング）となったか否かを確認する。
【０１１１】
ここで、露光タイミングに到達すると、ステップ１５２で肯定判定してステップ１５４へ移行し、制御ユニット３４に対して露光許可要求を行う。このときに、制御ユニット３６では、最大利用時間Ｔｕを合わせて、制御ユニット３４へ送出する。
【０１１２】
図１０に示されるように、制御ユニット３４では、ステップ１２０で露光許可要求が入力されたか否かを確認しており、制御ユニット３６から露光許可要求が入力されると、ステップ１２０で肯定判定してステップ１３２へ移行する。
【０１１３】
このステップ１３２では、露光許可要求と共に送出されてくる最大利用時間Ｔｕを読込み、次のステップ１３４では、露光装置１２Ａでの基板材料２０の処理状態から、露光処理を開始するまでの残時間Ｔｒを算出する。
【０１１４】
この後、ステップ１３６では、許可判定を行なう。このとき、残時間Ｔｒが最大利用時間Ｔｕを超えている（Ｔｒ＞Ｔｕ）と、ステップ１３６で肯定判定して、ステップ１３８へ移行する。このステップ１３８では、光スイッチモジュール７６の各光スイッチ７８を、露光装置１２Ｂへ光ビームが導出されるように切替えると共に、ステップ１４０では、制御ユニット３６へ露光許可を送出する。
【０１１５】
図１１に示されるように、制御ユニット３６では、露光要求を出力すると、ステップ１５６では、露光許可が入力されたか否かを確認し、ステップ１５８では、待機指示が入力されたか否かを確認する。ここで、露光許可が入力されると、ステップ１５６で肯定判定してステップ１６０へ移行し、光源ユニット６２から露光ヘッドユニット３０の各露光ヘッド４０へ導出されてくる光ビームを基板材料２０へ向けて照射して、基板材料２０を走査露光する露光処理を実行する。なお、露光処理が終了すると、ステップ１６２で、全ての基板材料２０の露光処理が終了したか否かを確認し、露光処理が継続されるときには、ステップ１６２で否定判定してステップ１５２へもどる。このとき、ステップ１５０へ戻るものであっても良い。
【０１１６】
一方、図１０に示されるように、制御ユニット３４では、残時間Ｔｒが最大利用時間Ｔｕ以下であると、ステップ１３６で否定判定してステップ１４２へ移行する。このステップ１４２では、制御ユニット３６へ残時間Ｔｒを送出して、制御ユニット３６（露光装置１２Ｂ）に対して、基板材料２０の露光処理を待機するように指示する（待機指示）する。この後、基板材料２０の露光タイミングに達すると、ステップ１４４で肯定判定してステップ１２４へ移行し、露光装置１２Ａで基板材料２０に対する露光処理を行う。
【０１１７】
図１１に示されるように、制御ユニット３６では、露光許可ではなく、待機指示が入力されると、ステップ１５６で否定判定されると共にステップ１５８で肯定判定されてステップ１６４へ移行する。このステップ１６４では、制御ユニット３４から送出される残時間Ｔｒを読み込む。
【０１１８】
この後、制御ユニット３６では、読み込んだ残時間Ｔｒが経過し、かつ、露光装置１２Ａでの露光処理が終了するタイミングとなると、ステップ１６６で肯定判定して、ステップ１５４へ移行し、再度、露光許可要求を行う。
【０１１９】
露光システム１０では、このようにして、上流機である露光装置１２Ａでの露光処理（光源ユニット６２の利用）を優先して行うときに、露光装置１２Ａでの残時間Ｔｒと、露光装置１２Ｂでの最大利用時間Ｔｕに基いて、露光装置１２Ｂでの露光処理を許可する。これにより、露光システム１０では、露光装置１２Ｂで露光処理が開始されてしまっているために、露光装置１２Ａでの露光処理が待機状態となってしまうのを確実に防止することができる。
【０１２０】
したがって、露光システム１０では、２台の露光装置１２に対して光源ユニット６２を共用するときに、この光源ユニット６２を効率よく利用することができる。また、露光システム１０では、露光装置１２Ａに待機状態が生じてしまうことが無いので、基板材料２０に対する効率的な露光処理が可能となっており、光源ユニット６２を共通化することによる生産性の低下を防止することができる。
【０１２１】
なお、制御ユニット３４では、残時間Ｔｒが最大利用時間Ｔｕより短いときに、露光装置１２Ｂを待機させるようにして、露光装置１２Ａで露光処理が終了した後に、露光装置１２Ｂでの露光処理が許可されるようにしたが、露光装置１２Ｂが待機しているときに、例えば、計測ミスや再計測が必要となったために、残時間Ｔｒが延びたときには、露光装置１２Ｂ（制御ユニット３６）に、待機指示を解除して、露光許可を付与するようにしても良く、これにより、不測の事態が生じたときにも、効率的な露光処理を行うことができる。
【０１２２】
また、ここでは、一例として、光スイッチモジュール７６の光スイッチ７８を一括して切替えるように説明していが、図７に示されるように、露光ヘッドユニット３０では、露光ヘッド４０Ａと露光ヘッド４０Ｂとの間にヘッド間隔Ｅｄがある。このために、露光装置１２では、第１列目の露光ヘッド４０Ａと第２列目の露光ヘッド４０Ｂとの間で、光ビームを射出するタイミングのずれである露光タイムラグLagが生じている。
【０１２３】
ここから、露光装置１２Aの露光ヘッド４０Ａで露光が終了すると、露光ヘッド４０Ａに対応する光スイッチ７８を切替えて、露光装置１２Ｂの露光ヘッド４０Ａから光ビームの照射を開始し、露光装置１２Aの露光ヘッド４０Ｂで露光が終了すると、露光ヘッド４０Ｂに対応する光スイッチ７８を切替えて、露光装置１２Ｂの露光ヘッド４０Ｂから光ビームの照射を開始するようにしても良い。これにより、露光装置１２Ｂでの待機時間を短くなり、より効率的な露光処理が可能となる。
【０１２４】
このような処理を行うときには、制御ユニット３４が、露光ヘッド４０Ａおよび露光ヘッド４０Ｂのそれぞれに対して、残時間Ｔｕを算出し、露光許可、算出した残時間Ｔｕなどを、露光ヘッド４０Ａ、４０Ｂごとに行いようにすれば良い。
【０１２５】
なお、以上説明した本実施の形態では、露光装置１２Ｂの制御ユニット３６で、最大利用時間Ｔｕを算出し、露光要求と共に、最大利用時間Ｔｕを送出するようにしているが、これに限らず、予め制御ユニット３６で算出した最大利用時間Ｔｕを、制御ユニット３４が取得して保持するようにしても良い。
【０１２６】
また、制御ユニット３４が上位となっているので、制御ユニット３４が、露光装置１２Ｂの装置特性及び露光装置１２Ｂで処理する基板材料２０の感材特性から、露光装置１２Ｂの最大利用時間Ｔｕを算出して保持するようにしても良い。
【０１２７】
さらに、制御ユニット３４は、残時間Ｔｒを各工程が終了するごとなどの予め設定したタイミング又は任意のタイミングで制御ユニット３６へ送信し、この残時間Ｔｒから、制御ユニット３６が露光装置１２Ａでの空き時間を判定し、露光装置１２Ａと露光タイミングが重ならないように露光許可を要求するようにしても良い。
【０１２８】
また、制御ユニット３４、３６のそれぞれが、露光処理が終了したことを相互に送出するようにしても良く、これにより、制御ユニット３４でより円滑に露光タイミングを制御することができる。
【０１２９】
さらに、本実施の形態では、制御ユニット３４から制御ユニット３６へ、基板材料２０の感材特性、残時間Ｔｒを送出するようにしているが、通知情報は、これに限らず、露光処理する基板材料２０の枚数（処理枚数）など、各種の情報を含むようにしても良く、これにより、露光装置１２Ａ、１２Ｂの間で、より効率的な露光処理を可能とすることができる。
【０１３０】
例えば、露光システム１０では、基板材料２０の表裏面に配線パターンなどが露光された状態が生産物（生産製品）となり、上流機（露光装置１２Ａ）と下流機（露光装置１２Ｂ）のそれぞれで基板材料２０への露光処理を行うことにより、露光装置１２Ａだけ露光が先行して処理枚数が多くなったり、逆に露光装置１２Ｂの露光枚数が相対的に先行（露光装置１２Ｂの処理枚数に追い付く）してしまうことがある。このときには、露光装置１２Ａ、１２Ｂの何れかがバトルネックとなって、露光システム１０の生産性の低下を生じさせてしまう。
【０１３１】
このときに、通知情報として処理枚数を含ませることにより、例えば、露光装置１２Ｂ（下流機）での処理が露光装置１２Ａ（上流機）での処理に先行したときに、露光装置１２Ｂに先行するように露光装置１２Ａで、光源ユニット６２が使用されるように切替えることができ、露光装置１２Ａでの処理が露光装置１２Ｂでの処理に先行したときに、露光装置１２Ａに先行するように露光装置１２Ｂで、光源ユニット６２が使用されるように切替えることが可能となり、これにより、露光システム１０での生産性の低下を抑えることができる。
【０１３２】
また、本実施の形態では、制御ユニット３４によって露光装置１２Ａ、１２Ｂの露光制御及び光源ユニット６２の切り替え制御を行うようにしているが、露光システムは、これに限らず、制御ユニット３４、３６の上位に制御手段を設け、この制御手段によって光源ユニット６２の光ビームの切替え制御と共に、露光装置１２Ａ、１２Ｂの露光制御を行うなどの任意の構成を適用することができる。
【０１３３】
また、以上説明した本実施の形態では、露光ヘッド４０が走査方向（走査移動方向）に沿って二列に配列された露光ヘッドユニット３０を備えた、露光装置１２を例に説明したが、本発明は、これに限らず、露光ヘッド４０を任意に配列した露光装置に適用することができる。
【０１３４】
また、本実施の形態では、露光対象としてプリント基板などに用いる基板材料２０を例に説明したが、本発明は、これに限らず、表裏両面に感光層が形成された任意の感光材料を露光対象として適用することができ、また、露光装置は、露光装置１２に限らず、露光対象に応じた任意の構成の露光装置を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】本実施の形態に適用した露光システムの概略構成図である。
【図２】露光システムの制御系を示す概略構成図である。
【図３】露光装置の一例を示す要部の概略構成図である。
【図４】露光装置の制御系を示す概略構成図である。
【図５】露光ヘッドによる基板材料の露光を示す概略図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）は露光ヘッドの光学系の一例を示す概略図である。
【図７】光源ユニットと露光ヘッドの接続の一例を示す概略図である。
【図８】（Ａ）は切替え手段の一例を示す光スイッチの概略図、（Ｂ）は光スイッチの要部の概略図である。
【図９】露光システムでの光量計測の一例を示す手順図である。
【図１０】上流機での露光処理の概略を示す流れ図である。
【図１１】下流機での露光処理の概略を示す流れ図である。
【図１２】図９から図１１の処理に沿った光ビームの照射の一例を示すタイミングチャートである。
【符号の説明】
【０１３６】
１０    露光システム
１２    露光装置
１２Ａ    露光装置（第１の露光装置）
１２Ｂ    露光装置（第２の露光装置）
２０    基板材料（露光対象）
２２    反転装置
３０    露光ヘッドユニット
３４    制御ユニット
３４Ａ    残時間算出部（第１の算出手段）
３４Ｂ    許可判定部（許可手段）
３６    制御ユニット
３６Ａ    最大利用時間算出部（第２の算出手段）
３６Ｂ    許可要求部（許可要求手段）
４０（４０Ａ、４０Ｂ）    露光ヘッド
６２    光源ユニット
６４    レーザーモジュール
７６    光スイッチモジュール（切替え手段）
７８    光スイッチ
９６    光量センサ（光量計測手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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