(57)【要約】【課題】角度依存性が少なく特性の揃った偏光子を、低コストで安定して製造でき、環境への影響も少ない偏光子の製造方法を提供すること。【解決手段】透明媒質基板に金型を用いて凹凸パターンを転写し、凹凸パターンの凹部を充填するように金属層を形成する。形成された金属層を研磨して金属層と透明媒質基板との周期パターンを形成してワイヤグリッドを製造することで、角度依存性が少なく特性の揃った偏光子を、低コストで安定して製造でき、環境への影響も少ない偏光子の製造方法を提供することができる。【選択図】図２
2009237473.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金型を用いて、透明媒質基板の表面に入射光の波長以下の周期を持つ凹凸周期パターンを転写する転写工程と、
転写された前記透明媒質の凹凸周期パターンの少なくとも凹部を充填するように金属の層を形成する金属層形成工程と、
前記金属の層と前記透明媒質の凹凸周期パターンの凸部とを、前記金属の層を形成した側から研磨して、前記金属と前記透明媒質との周期パターンを形成する研磨工程とを備えたことを特徴とする偏光子の製造方法。
【請求項２】
前記金属層形成工程は、前記透明媒質の凹凸周期パターンの凹部を完全に充填し、前記透明媒質の凹凸周期パターンの表面を覆うまで前記金属の層を形成する工程であることを特徴とする請求項１に記載の偏光子の製造方法。
【請求項３】
前記透明媒質基板は平行平板であり、
前記周期パターンが形成された前記透明媒質基板を所定の寸法に切断して偏光子を形成する偏光子形成工程を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の偏光子の製造方法。
【請求項４】
前記透明媒質基板は平行平板であり、
前記周期パターンは、前記透明媒質基板の一方の面上に形成されており、
前記周期パターンが形成された複数の前記透明媒質基板の前記周期パターンが形成された面と、他の前記透明媒質基板の前記周期パターンが形成された面の裏面とが、接着剤を介して順次積層されて接合される接合工程と、
接合された複数の前記透明媒質基板を、前記透明媒質基板の前記周期パターンが形成された面に対して４５°の角度を持つ複数の第１の面にて所定ピッチで切断して複数の積層分割体を得る第１切断工程と、
前記第１切断工程で得られた前記積層分割体の切断面である複数の前記第１の面を研磨する第１研磨工程と、
前記積層分割体を、前記周期パターンを含む位置毎に、前記第１の面に直交する複数の第２の面で切断して複数の偏光子の集積体を形成する第２切断工程と、
前記偏光子の集積体の切断面である複数の前記第２の面を研磨する第２研磨工程とを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の偏光子の製造方法。
【請求項５】
前記第１研磨工程で研磨された複数の前記第１の面と、前記第２研磨工程で研磨された複数の前記第２の面とに、反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程を備えたことを特徴とする請求項４に記載の偏光子の製造方法。
【請求項６】
前記反射防止膜が形成された前記偏光子の集積体を、前記第１の面および前記第２の面に直交する面で所定の長さに切断して偏光子を形成する偏光子形成工程を備えたことを特徴とする請求項５に記載の偏光子の製造方法。
【請求項７】
前記透明媒質基板は直角三角柱であり、
前記周期パターンは、前記透明媒質基板の直角三角柱の斜面の上に形成されており、
前記周期パターンが形成された前記透明媒質基板の直角三角柱の斜面と、前記周期パターンが形成されていない他の前記透明媒質基板の直角三角柱の斜面とが、接着剤を介して当接されて接合され、直方体形状の偏光子の集積体が形成される接合工程を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の偏光子の製造方法。
【請求項８】
前記直方体形状の偏光子の集積体の４つの側面に、反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程を備えたことを特徴とする請求項７に記載の偏光子の製造方法。
【請求項９】
前記反射防止膜が形成された前記偏光子の集積体を、前記周期パターンに直交する面で所定の長さに切断して偏光子を形成する偏光子形成工程を備えたことを特徴とする請求項８に記載の偏光子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光子の製造方法に関し、特にワイヤグリッド偏光子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の偏光子、特にビームスプリッタは、直角三角柱のガラスブロックの鏡面加工された斜面に光学多層膜からなる偏光分離膜を成膜し、偏光分離膜が成膜されたガラスブロックの斜面に、偏光分離膜のないガラスブロックの鏡面加工された斜面を対向させて接着して立方体形状とし、立方体の光の入射面と射出面とを研磨して光学面とすることで製造されていた。
【０００３】
あるいは、特許文献１に開示されているように、透明媒質の平行平板上に偏光分離面となる多層膜を堆積させ、この平行平板を水平方向から角度４５°にずらした状態で仮接合して積層体を形成する。これを積層面に垂直な方向に沿って切断し、仮接合を除去して所定の寸法に切断することでビームスプリッタが製造されている。
【０００４】
一方、光学多層膜以外の偏光ビームスプリッタとして、ワイヤグリッド偏光子が知られている。特許文献２には、フォトリソグラフィ技術により、ガラス界面に微細凹凸構造のパターン形成を行い、イオンエッチングによりガラス界面の凹パターン部を所定深さまでエッチングしてから金属膜を成膜してワイヤグリッドを形成することで、ワイヤグリッド偏光子を製造する方法が提示されている。
【特許文献１】特開２０００−１４３２６４号公報
【特許文献２】特開２００４−２５２０５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、光学多層膜を偏光分離面とする偏光子は、多層膜の堆積に多大な時間を費やすことになり、コスト高となる。また、多層膜の成膜条件のばらつきにより特性が大きく変化し、特性を安定させるためには成膜条件の厳しい管理が必要でコスト高となる。
【０００６】
さらに、最近のレーザー光学系では、小型化のために発散光のレーザー光が用いられるようになり、それに伴って角度依存性の少ない偏光子が求められているが、多層膜の偏光分離面では角度依存性を少なくすることは難しい。
【０００７】
また、特許文献２の方法では、角度依存性は少なくできるが、イオンエッチングのために有毒ガスを使用するので、環境に悪影響を及ぼす。さらに、イオンエッチングを用いることで、生産効率が低下する。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、角度依存性が少なく特性の揃った偏光子を、低コストで安定して製造でき、環境への影響も少ない偏光子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の目的は、下記構成により達成することができる。
【００１０】
１．金型を用いて、透明媒質基板の表面に入射光の波長以下の周期を持つ凹凸周期パターンを転写する転写工程と、
転写された前記透明媒質の凹凸周期パターンの少なくとも凹部を充填するように金属の層を形成する金属層形成工程と、
前記金属の層と前記透明媒質の凹凸周期パターンの凸部とを、前記金属の層を形成した側から研磨して、前記金属と前記透明媒質との周期パターンを形成する研磨工程とを備えたことを特徴とする偏光子の製造方法。
【００１１】
２．前記金属層形成工程は、前記透明媒質の凹凸周期パターンの凹部を完全に充填し、前記透明媒質の凹凸周期パターンの表面を覆うまで前記金属の層を形成する工程であることを特徴とする１に記載の偏光子の製造方法。
【００１２】
３．前記透明媒質基板は平行平板であり、
前記周期パターンが形成された前記透明媒質基板を所定の寸法に切断して偏光子を形成する偏光子形成工程を備えたことを特徴とする１または２に記載の偏光子の製造方法。
【００１３】
４．前記透明媒質基板は平行平板であり、
前記周期パターンは、前記透明媒質基板の一方の面上に形成されており、
前記周期パターンが形成された複数の前記透明媒質基板の前記周期パターンが形成された面と、他の前記透明媒質基板の前記周期パターンが形成された面の裏面とが、接着剤を介して順次積層されて接合される接合工程と、
接合された複数の前記透明媒質基板を、前記透明媒質基板の前記周期パターンが形成された面に対して４５°の角度を持つ複数の第１の面にて所定ピッチで切断して複数の積層分割体を得る第１切断工程と、
前記第１切断工程で得られた前記積層分割体の切断面である複数の前記第１の面を研磨する第１研磨工程と、
前記積層分割体を、前記周期パターンを含む位置毎に、前記第１の面に直交する複数の第２の面で切断して複数の偏光子の集積体を形成する第２切断工程と、
前記偏光子の集積体の切断面である複数の前記第２の面を研磨する第２研磨工程とを備えたことを特徴とする１または２に記載の偏光子の製造方法。
【００１４】
５．前記第１研磨工程で研磨された複数の前記第１の面と、前記第２研磨工程で研磨された複数の前記第２の面とに、反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程を備えたことを特徴とする４に記載の偏光子の製造方法。
【００１５】
６．前記反射防止膜が形成された前記偏光子の集積体を、前記第１の面および前記第２の面に直交する面で所定の長さに切断して偏光子を形成する偏光子形成工程を備えたことを特徴とする５に記載の偏光子の製造方法。
【００１６】
７．前記透明媒質基板は直角三角柱であり、
前記周期パターンは、前記透明媒質基板の直角三角柱の斜面の上に形成されており、
前記周期パターンが形成された前記透明媒質基板の直角三角柱の斜面と、前記周期パターンが形成されていない他の前記透明媒質基板の直角三角柱の斜面とが、接着剤を介して当接されて接合され、直方体形状の偏光子の集積体が形成される接合工程を備えたことを特徴とする１または２に記載の偏光子の製造方法。
【００１７】
８．前記直方体形状の偏光子の集積体の４つの側面に、反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程を備えたことを特徴とする７に記載の偏光子の製造方法。
【００１８】
９．前記反射防止膜が形成された前記偏光子の集積体を、前記周期パターンに直交する面で所定の長さに切断して偏光子を形成する偏光子形成工程を備えたことを特徴とする８に記載の偏光子の製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、透明媒質基板に金型を用いて凹凸パターンを転写し、凹凸パターンの凹部を充填するように金属層を形成する。形成された金属層を研磨して金属層と透明媒質基板との周期パターンを形成してワイヤグリッドを製造することで、角度依存性が少なく特性の揃った偏光子を、低コストで安定して製造でき、環境への影響も少ない偏光子の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限られない。なお、図中、同一あるいは同等の部分には同一の番号を付与し、重複する説明は省略する。
【００２１】
最初に、本発明における偏光子の第１の実施の形態である平板型のワイヤグリッド偏光子の構成と作用について、図１を用いて説明する。図１は、偏光子の第１の実施の形態である平板型のワイヤグリッド偏光子の構成と作用を説明するための模式図で、図１（ａ）は平板型のワイヤグリッド偏光子の全体構成を示す斜視図、図１（ｂ）は図１（ａ）の偏光面近傍の破線で囲った領域Ａの部分拡大斜視図、図１（ｃ）は平板型のワイヤグリッド偏光子の偏光分離作用を示す斜視図である。
【００２２】
図１（ａ）において、平板型のワイヤグリッド偏光子１は、矩形の平行平板であり、本発明における透明媒質基板であるガラス基板１１と、ガラス基板１１の転写面１１ａ上に形成された偏光面１３等で構成される。平板型のワイヤグリッド偏光子１の大きさは、横ａ×縦ｂ×厚さｃであり、使用目的に合わせて適宜決定されるが、それぞれ、１ｍｍ乃至数十ｍｍである。偏光面１３と、対向するガラス基板１１の裏面１１ｒとは、光学面である。
【００２３】
なお、透明媒質基板としては、ガラス基板以外に、ＰＣ（ポリカーボネート）やＰＭＭＡ（ポリメチルメタアクリレート）等の光学用樹脂を用いることができる。
【００２４】
図１（ｂ）において、偏光面１３は、ガラス基板１１の転写面１１ａに沿って、転写面１１ａの辺１１ｅに平行つまり図のｙ方向に、金属のワイヤ１５がガラス基板１１中に等間隔の平行な縞状に埋め込まれている。ワイヤ１５の周期ｐは、使用される光の波長以下である必要があり、好ましくは光の波長の１／２以下（例えば４００ｎｍの光に使用する場合はｐ＝２００ｎｍ以下）、より好ましくは光の波長の１／１０以下である。また、ワイヤ１５の幅ｄは周期ｐの１／２以下（例えばｐ＝２００ｎｍの場合はｄ＝１００ｎｍ以下）が好ましく、高さｈは幅ｄと同等以上が好ましい。
【００２５】
図１（ｃ）において、光Ｌは、進行方向（図のｚ方向）と直交する面内で、直交する２方向の偏光成分を持っている。この内、ワイヤグリッド偏光子１のワイヤ１５の長手方向（図のｙ方向）に平行な偏光成分をＨ偏光、ワイヤ１５の長手方向に直交する方向（図のｘ方向）の偏光成分をＶ偏光とする。この時、ワイヤグリッド偏光子１は、偏光面１３に入射した光ＬのＶ偏光のみを透過し、Ｈ偏光を反射する偏光分離作用を示す。
【００２６】
次に、上述した平板型のワイヤグリッド偏光子１の製造方法について、図２を用いて説明する。図２は、平板型のワイヤグリッド偏光子１の製造方法を説明するための断面模式図である。ここでは、ナノインプリント法によるワイヤグリッド偏光子１の製造方法について説明する。
【００２７】
図２（ａ）において、電子線描画等の方法により、周期ｐ、幅ｄ、高さｈ２の櫛歯状の凹凸パターン１０３を有する金型１０１が作製される（金型作製工程）。高さｈ２は、ワイヤグリッド偏光子１のワイヤ１５の高さｈよりも高く設定される。作製された金型１０１の凹凸パターン１０３には、離型材料１０５が塗布される。
【００２８】
図２（ｂ）において、厚さｃの矩形の平板形状をしたガラス基板１１の転写面１１ａに、離型材料１０５が塗布された金型１０１が押し当てられ、転写面１１ａ上に櫛歯状の凹凸パターン１０３の形状が転写されて、凹凸パターン１１ｂが形成される（転写工程）。この時、金型１０１およびガラス基板１１は必要に応じて加熱される。転写完了後、金型１０１が離型される。
【００２９】
図２（ｃ）において、凹凸パターン１１ｂが形成されたガラス基板１１上に、凹凸パターン１１ｂの凹部を充填して転写面１１ａを覆う程度に金属層１０７が形成される（金属層形成工程）。金属層１０７の材料としては、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ等を用いることができ、金属層１０７の形成方法としては蒸着、スパッタリング、塗布等の方法を用いることができる。
【００３０】
続いて、形成された金属層１０７の側から、図２（ｃ）の破線Ｂの位置即ちガラス基板１１と金属層１０７との周期パターンが露出するまで、形成された金属層１０７とガラス基板１１の凹凸パターン１１ｂとが研磨され、光学面に仕上げられる（研磨工程）。さらに、ガラス基板１１の裏面１１ｒも研磨されて光学面に仕上げられる（裏面研磨工程）。なお、裏面１１ｒの研磨は、裏面１１ｒが最初から光学面に仕上げられたガラス基板１１を用いれば、必須ではない。
【００３１】
以上のようにして製造された平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａの構成を、図２（ｄ）に示す。ガラス基板１１の転写面１１ａに沿って、ガラス基板１１中に金属のワイヤ１５が、周期ｐ、幅ｄ、高さｈで図の紙面に垂直な方向（ｙ方向）に等間隔の縞状に埋め込まれている。この平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａを、ダイシング等により必要な大きさに適宜切り出すことで、図１に示した平板型のワイヤグリッド偏光子１が完成される（偏光子形成工程）。
【００３２】
上述したように、偏光子の第１の実施の形態である平板型のワイヤグリッド偏光子１の製造方法によれば、平板のガラス基板に金型を用いて凹凸パターンを転写し（転写工程）、凹凸パターンの凹部を充填するように金属層を形成する（金属層形成工程）。形成された金属層を研磨して金属層と透明媒質基板との周期パターンを形成してワイヤグリッドを製造する（研磨工程）ことで、角度依存性が少なく特性の揃った偏光子を、低コストで安定して製造でき、環境への影響も少ない偏光子の製造方法を提供することができる。
【００３３】
次に、本発明における偏光子の第２の実施の形態である立方体型のワイヤグリッド偏光子の構成と作用について、図３を用いて説明する。図３は、立方体型のワイヤグリッド偏光子の構成と作用を説明するための模式図である。
【００３４】
図３において、立方体型のワイヤグリッド偏光子２は、立方体のガラスブロック２１と、ガラスブロック２１の対向する２辺を結ぶ平面上に設けられた偏光面２３等で構成される。偏光面２３の構成は、図１（ｂ）に示したものと同じで、図３の紙面に垂直な方向（ｙ方向）にワイヤ１５が等間隔の縞状に埋め込まれている。立方体型のワイヤグリッド偏光子２の大きさは使用目的に合わせて適宜決定されるが、各辺の長さがそれぞれ、１ｍｍ乃至数十ｍｍである。
【００３５】
光Ｌは、進行方向と直交する面内で、直交する２方向の偏光成分を持っている。この内、立方体型のワイヤグリッド偏光子２のワイヤ１５の長手方向（ｙ方向）に平行な偏光をＨ偏光、Ｈ偏光に直交する方向（ｘ方向）の偏光をＶ偏光とする。この時、立方体型のワイヤグリッド偏光子２は、偏光面２３に斜めに入射した光ＬのＶ偏光のみを透過し、Ｈ偏光を反射する偏光分離作用を示す。
【００３６】
なお、図３に示すワイヤグリッド偏光子２は、紙面に垂直な方向にワイヤ１５が埋め込まれているが、ワイヤ１５の方向は、透過あるいは反射させたい偏光方向に合わせて配置すればよい。例えば、紙面に平行な方向にワイヤ１５が埋め込まれていれば、紙面に垂直な方向の偏光が透過され、紙面に平行な方向の偏光が反射される。
【００３７】
次に、上述した立方体型のワイヤグリッド偏光子２の第１の製造方法について、図４および図５を用いて説明する。図４は、立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａの第１の製造方法を説明するための断面模式図である。立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａは、図２で示した平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａを積層して製造することができる。
【００３８】
図４（ａ）において、図２（ｄ）に示した平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａが、接着剤２０１を介して複数層積層され、接合される（接合工程）。この時、平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａの厚さｃと同じだけワイヤ１５の長手方向（ｙ方向）に垂直な方向（ｘ方向）にずらせて、つまり、各々の平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａの端面を結ぶ線１７と平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａの偏光面１３とのなす角度θ＝４５°となるように積層される。
【００３９】
図４（ｂ）において、積層された平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａが、上述した各々の平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａの偏光面１３に対して角度θ＝４５°をなす所定のピッチの第１の面Ｓ１で、ダイシングやワイヤソー等により切断されて、図４（ｃ）に示す積層分割体２ｂが得られる（第１切断工程）。
【００４０】
図４（ｃ）において、切断されて得られた積層分割体２ｂの切断面Ｓ１が研磨される（第１研磨工程）。さらに、積層分割体２ｂが、第１の面Ｓ１に垂直な第２の面Ｓ２で、偏光面１３を間に挟むように切断され（第２切断工程）、切断面Ｓ２が研磨される（第２研磨工程）。これによって、図４（ｃ）の太線で囲った立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａを切り出すことができる。図４（ｄ）に、切り出された立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａを示す。
【００４１】
図４（ｄ）において、切り出された立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａの、角柱の４側面に反射防止膜のコーティングが施される（反射防止膜形成工程）。４側面に反射防止膜のコーティングが施された立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａは、正方形の端面Ｓ３を有し、端面Ｓ３の１対の対角を結ぶ対角線が偏光面１３となっており、偏光面１３には図の紙面に垂直な方向にワイヤ１５が等間隔に配置されている。端面Ｓ３の一辺の長さｌ１＝ｃ・ｃｏｓθである。
【００４２】
図５は、図４で得られた立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａから、図３で示した立方体型のワイヤグリッド偏光子２を得る方法を示す斜視図である。
【００４３】
図５（ａ）は、図４（ｄ）に示した立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａの斜視図である。立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａは、１辺の長さｌ１の正方形の端面Ｓ３を有し、長さｌ２の角柱であり、端面Ｓ３の１対の対角を結ぶ対角線の上にワイヤ１５が等間隔に配置されて偏光面１３となっている。ワイヤ１５は、角柱の長さｌ２方向（ｙ方向）に配列されている。
【００４４】
図５（ｂ）において、立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａが、端面Ｓ３から角柱の長さｌ２方向（ｙ方向）に長さｌ１の位置で端面Ｓ３に平行な面Ｓ４で、ダイシング等により切断される（偏光子形成工程）。こうして得られる立方体型のワイヤグリッド偏光子２を図５（ｃ）に示す。
【００４５】
なお、ワイヤ１５の方向が端面Ｓ３に平行な場合は、上記接合工程で、集積体１ａをワイヤ１５の長手方向（ｙ方向）にずらせて接合すればよい。
【００４６】
上述したように、偏光子の第２の実施の形態である立方体型のワイヤグリッド偏光子２の第１の製造方法によれば、平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体１ａを、その厚さｃだけワイヤ１５に垂直な方向にずらせて積層して接合し、集積体１ａの端面を結ぶ面に平行な面Ｓ１とそれに垂直な面Ｓ２とで切断する。このようにしてワイヤグリッド偏光子を製造することで、角度依存性が少なく特性の揃った偏光子を、低コストで安定して製造でき、環境への影響も少ない偏光子の製造方法を提供することができる。
【００４７】
次に、上述した立方体型のワイヤグリッド偏光子２の第２の製造方法について、図６を用いて説明する。図６は、立方体型のワイヤグリッド偏光子２の第２の製造方法を説明するための模式図である。本第２の製造方法では、第１の製造方法とは異なり、三角柱のガラス基板を用いて、図２で示した方法で立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａを製造する。
【００４８】
図６（ａ）において、ガラス基板２５は直角三角柱であり、直角を挟む２辺の長さはｌ１で、紙面に垂直な方向（ｙ方向）の長さはｌ２である。直角を挟む２面は、予め光学面に研磨されている。
【００４９】
ここで、図２で示した方法により、直角三角柱の直角に対向する斜面である転写面２５ａに櫛歯型の金属層１０７が形成される（金属層形成工程）。続いて、形成された金属層１０７の側から、図６（ａ）の破線Ｂの位置即ち転写面２５ａの凸部が露出するまで、形成された櫛歯型の金属層１０７とガラス基板２５の凹凸パターン２５ｂとが研磨され、光学面に仕上げられる（研磨工程）。
【００５０】
図６（ｂ）において、研磨工程が完了したガラス基板２５は、直角に対向する斜面に、ワイヤ１５が等間隔に配置されて偏光面１３が形成されている。研磨工程が完了したガラス基板２５と、直角を挟む２辺の長さがｌ１で、直角に対向する斜面２７ａが予め光学面に研磨された直角三角柱のガラス基板２７とが、斜面同士を対向させて、接着剤２０１を用いて接合される（接合工程）。こうして得られた立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａの角柱の４側面に、反射防止膜のコーティングが施される（反射防止膜形成工程）。
【００５１】
反射防止膜のコーティングが施された立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａを図６（ｃ）に示すが、これは、図５（ａ）に示したものと同じである。以後、図５（ｂ）と同じく、立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体２ａを、端面Ｓ３から角柱の長さｌ２方向（ｙ方向）に長さｌ１の位置で端面Ｓ３に平行な面Ｓ４で、ダイシング等により切断することにより、図５（ｃ）の立方体型のワイヤグリッド偏光子２が得られる（偏光子形成工程）。
【００５２】
上述したように、偏光子の第２の実施の形態である立方体型のワイヤグリッド偏光子２の第２の製造方法によれば、直角三角柱のガラス基板の斜面に金型を用いて凹凸パターンを転写し、凹凸パターンの凹部を充填するように金属層を形成する。形成された金属層を研磨して金属層と透明媒質基板との周期パターンを形成してワイヤグリッドを形成する。
【００５３】
ワイヤグリッドが形成された直角三角柱のガラス基板と、ワイヤグリッドのない直角三角柱のガラス基板とを、斜面同士を対向させて接合してワイヤグリッド偏光子を製造することで、角度依存性が少なく特性の揃った偏光子を、低コストで安定して製造でき、環境への影響も少ない偏光子の製造方法を提供することができる。
【００５４】
以上に述べたように、本発明によれば、透明媒質基板に金型を用いて凹凸パターンを転写し、凹凸パターンの凹部を充填するように金属層を形成する。形成された金属層を研磨して金属層と透明媒質基板との周期パターンを形成してワイヤグリッドを製造することで、角度依存性が少なく特性の揃った偏光子を、低コストで安定して製造でき、環境への影響も少ない偏光子の製造方法を提供することができる。
【００５５】
なお、本発明に係る偏光子の製造方法を構成する各構成の細部構成および細部動作に関しては、本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】平板型のワイヤグリッド偏光子の構成と作用を説明するための模式図である。
【図２】平板型のワイヤグリッド偏光子の製法を説明するための断面模式図である。
【図３】立方体型のワイヤグリッド偏光子の構成と作用を説明するための模式図である。
【図４】立方体型のワイヤグリッド偏光子の第１の製造方法を説明するための断面模式図である。
【図５】立方体型のワイヤグリッド偏光子の集積体から立方体型のワイヤグリッド偏光子を得る方法を示す斜視図である。
【図６】立方体型のワイヤグリッド偏光子の第２の製造方法を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  平板型のワイヤグリッド偏光子
１ａ  平板型のワイヤグリッド偏光子の集積体
１１  ガラス基板
１１ａ  （ガラス基板１１の）転写面
１１ｂ  （ガラス基板１１の）凹凸パターン
１１ｒ  （ガラス基板１１の）裏面
１３  偏光面
１５  ワイヤ
１０１  金型
１０３  （櫛歯状の）凹凸パターン
１０５  離型材料
１０７  金属層
２  立方体型のワイヤグリッド偏光子
２ａ  （立方体型のワイヤグリッド）偏光子の集積体
２ｂ  （立方体型のワイヤグリッド偏光子の）積層分割体
２１  ガラスブロック
２３  偏光面
２５  ガラス基板
２５ａ  （ガラス基板２５の）転写面
２５ｂ  （ガラス基板２５の）凹凸パターン
２７  ガラス基板
２７ａ  （ガラス基板２７の）面
２０１  接着剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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