(57)【要約】【課題】本発明は、遮光部表面の撥液化のためのプラズマ照射から水洗までの間にカラーフィルタ形成用基板を所定の時間保管する場合であっても、白抜けの発生を少ないものとすることができるカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化するプラズマ工程と、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗工程と、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と、を有するカラーフィルタの製造方法であって、上記プラズマ工程と水洗工程との間に保管期間が生じた場合に、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化工程が少なくとも１回行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供することにより上記課題を解決するものである。【選択図】図１
2009237082.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、前記遮光部を撥液化するプラズマ工程と、
前記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗工程と、
前記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と、
を有するカラーフィルタの製造方法であって、
前記プラズマ工程と水洗工程との間に保管期間が生じた場合に、前記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化工程が少なくとも１回行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記保管期間が予め決定された白抜け発生期間より長くなることが想定される場合に、前記親液化工程を行なうことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記白抜け発生期間が、６時間であることを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
基板と、前記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板の遮光部表面を撥液化するためのプラズマ照射を行うプラズマ手段と、
前記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を保管し、かつ保管中に前記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化処理機構を備える保管手段と、
前記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗手段と、
前記水洗手段により水洗がされたカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット手段と、
を有することを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遮光部表面の撥液化のためのプラズマ照射から水洗までの間にカラーフィルタ形成用基板を所定の時間保管する場合であっても、白抜けの発生を少ないものとすることができるカラーフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピューターの発達、特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴い、液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しかしながら、このカラー液晶ディスプレイが高価であることから、コストダウンの要求が高まっており、特にコスト的に比重の高いカラーフィルタに対するコストダウンの要求が高い。
【０００３】
このようなカラーフィルタにおいては、通常赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３原色の着色パターンを備え、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素に対応する電極をＯＮ、ＯＦＦさせることで液晶がシャッタとして作動し、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素を光が通過してカラー表示が行われるものである。
【０００４】
従来より行われているカラーフィルタの一般的な製造方法としては、例えば染色法が挙げられる。この染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。これを３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタ層を形成する。
【０００５】
また、他の方法としては顔料分散法が挙げられる。この方法においては、まず基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタを形成する。
【０００６】
しかしながら、上記いずれの方法も、Ｒ、Ｇ、およびＢの３色を着色するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になるという問題や、露光や現像等、多数の工程を繰り返すため歩留まりが低下するという問題がある。またさらに、現像の際に用いられる薬品等によって、他の部材が劣化してしまう場合がある等の問題もあった。
【０００７】
このような問題に対して、特許文献１では、基板と、上記基板上に形成された遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板にフッ素化合物を導入ガスとしてプラズマを照射することにより、上記遮光部を撥液化した後、インクジェット法等により着色層形成用塗工液を塗布し着色層を形成する方法が提案されている。
【０００８】
このような方法によれば、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成することが可能であることから、複雑な工程を繰り返す必要がなく、製造効率が良いという利点を有している。また現像液等を用いる必要がないことから、部材の劣化等が生じるおそれもないものとすることができる。
【０００９】
さらに、特許文献２では、上述したプラズマ照射を行なった後のカラーフィルタ形成用基板を水洗することにより、上記基板に付着していた残渣（フッ素）等を除去し、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化する方法が提案されている。このような方法によれば、上述したプラズマ照射を行なった場合であっても、上記基板表面をインクジェット法により塗布された着色層形成用塗工液が濡れ広がりやすいものすることができるため、上記開口部内に着色層が形成されない箇所または着色層の厚みが非常に薄くなる箇所である白抜けの少ない着色層を形成することができる。
しかしながら、上記プラズマ照射後に工程のトラブル等により上記カラーフィルタ形成用基板を所定期間保管する必要が生じる場合があり、このような場合、上述した水洗を行ったとしても白抜けの発生を抑制することができないといった問題があった。
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−０７４９２８号公報
【特許文献２】特開２００２−２０７１１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、遮光部表面の撥液化のためのプラズマ照射から水洗までの間にカラーフィルタ形成用基板を所定の時間保管する場合であっても、白抜けの発生を少ないものとすることができるカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者等は、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、プラズマ照射からインクジェット法による着色層形成までに長期間放置される場合であっても、その間に、プラズマ照射後のカラーフィルタ形成用基板を所定の間隔で親液化処理を行うことにより、上記着色層形成用塗工液が濡れ広がりやすい状態を維持することができることを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
【００１３】
すなわち、本発明は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化するプラズマ工程と、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗工程と、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と、を有するカラーフィルタの製造方法であって、上記プラズマ工程と水洗工程との間に保管期間が生じた場合に、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化工程が少なくとも１回行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１４】
本発明によれば、上記プラズマ工程と水洗工程との間に保管期間が生じた場合であっても、上記親液化工程が少なくとも１回行われることにより、上記基板表面の親液性を維持することができる。このため、白抜けの発生が少ないものとすることができる。
【００１５】
本発明においては、上記保管期間が予め決定された白抜け発生期間より長くなることが想定される場合に、上記親液化工程を行なうものであることが好ましい。上記保管期間が予め決定された白抜け発生期間より長くなることが想定される場合に、上記親液化工程を行なうものであることにより、白抜けの発生をより効果的に抑制することができるからである。
【００１６】
本発明においては、上記白抜け発生期間が、６時間であることが好ましい。上記白抜け発生期間が６時間であることにより、白抜けの発生を安定的に抑制することができるからである。
【００１７】
本発明は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板の遮光部表面を撥液化するためのプラズマ照射を行うプラズマ手段と、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を保管し、かつ保管中に上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化処理機構を備える保管手段と、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗手段と、上記水洗手段により水洗がされたカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット手段と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造装置を提供する。
【００１８】
本発明によれば、上記親液化処理機構を備えた保管手段を有することにより、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板が保管される必要が生じた場合であっても、白抜けの少ないカラーフィルタを製造することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、遮光部表面の撥液化のためのプラズマ照射から水洗までの間にカラーフィルタ形成用基板を所定の時間保管する場合であっても、白抜けを少ないものとすることができるカラーフィルタの製造方法を提供することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明は、カラーフィルタの製造方法、および、その方法によりカラーフィルタを製造する製造装置に関するものである。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法、および、カラーフィルタの製造装置について詳細に説明する。
【００２１】
Ａ．カラーフィルタの製造方法
まず、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化するプラズマ工程と、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗工程と、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と、を有し、上記プラズマ工程と水洗工程との間に保管期間が生じた場合に、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化工程が少なくとも１回行われることを特徴とするものである。
【００２２】
このような本発明のカラーフィルタの製造方法を図を参照して説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、図１に例示するように、基板１と、上記基板１上に形成され、開口部を備える遮光部２とを有するカラーフィルタ形成用基板２０を準備し（図１（ａ））、上記カラーフィルタ形成用基板２０にプラズマ照射を行い上記遮光部２の表面を撥液化し（図１（ｂ））、次いで、上記プラズマ照射後から保管期間が予め定められた白抜け発生期間を経過した場合は、上記カラーフィルタ形成用基板２０の基板表面を親液化処理として水洗をする親液化工程を行う（図１（ｃ））。
次いで、所定の保管期間が経過した後に、図１（ｄ）に示すように、上記カラーフィルタ形成用基板２０に水洗工程を行い、その後、上記カラーフィルタ形成用基板２０の開口部にインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布することにより（図１（ｅ））、着色層３を有するカラーフィルタ１０を形成するものである（図１（ｆ））。
ここで、図１（ｂ）がプラズマ工程であり、（ｅ）がインクジェット工程である。
【００２３】
本発明によれば、上記プラズマ工程と水洗工程との間に保管期間が生じた場合であっても、上記親液化工程が少なくとも１回行われることにより、上記基板表面の親液性を維持することができる。このため、白抜けの発生が少ないものとすることができる。
ここで、保管期間が生じた場合であっても、上記親液化工程を行なうことにより白抜けの発生が少ないものとすることができる理由について、以下のように推察される。
【００２４】
すなわち、従来のカラーフィルタの製造方法では、上記カラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部表面を撥液化するプラズマ工程と、上記プラズマ工程後の上記カラーフィルタ形成用基板に水洗を行うことにより基板上に僅かに残る残渣（フッ素）を除去し、白抜けの発生を少ないものとする水洗工程と、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部にインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布するインクジェット工程とがこの順で行なわれ、カラーフィルタが製造されていた。
【００２５】
しかしながら、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板が、トラブル等により次工程である水洗工程を行なうことができず、一定期間保管される必要が生じた場合、保管中に、上記プラズマ工程により遮光部に導入されたフッ素が上記カラーフィルタ形成用基板の基板上に拡散するため、開口部の残渣（フッ素）量の増加や、周辺雰囲気の有機物等が強固に付着する等の現象が生じる。そして、このような基板表面の撥液化が大きく進行した場合、水洗工程を行なったとしても、フッ素や有機物等を十分に取り除くことが困難となると考えられる。
このようなことから、上記プラズマ工程後に保管期間が生じた場合、水洗工程を行ったとしても、開口部のフッ素成分や有機物といった汚染物質を十分に除去できないため、上記基板表面を十分に親液化することができないものとなり、インクジェット工程により塗布された着色層形成用塗工液が開口部内の基板表面の隅々まで濡れ拡がることが困難となる。そして、上記開口部内に着色層が形成されない箇所または着色層の厚みが非常に薄くなる箇所、いわゆる白抜けが発生するのである。
【００２６】
一方、本発明においては、上記親液化工程を行うことにより、上記プラズマ工程により遮光部に導入されたフッ素の基板上への拡散や有機物による汚染が進行する前に、上記基板表面上のフッ素や有機物等からなるフッ素等を除去し、上記基板表面の親液性を維持することができる。このため、上記プラズマ工程後に保管期間が生じた場合であっても、白抜けの少ないものとすることができるのである。
【００２７】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、プラズマ工程、親液化工程、水洗工程および、インクジェット工程を有するものである。以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の各工程について説明する。
【００２８】
１．プラズマ工程
本発明のカラーフィルタの製造方法におけるプラズマ工程は、カラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化する工程である。
【００２９】
本発明は、本工程を有することにより、上記開口部を囲む遮光部の表面を顕著に撥液化できるため、後述するインクジェット工程において着色層を形成した際に、着色層の混色が少ないものとすることができるのである。
【００３０】
（１）カラーフィルタ形成用基板
本工程に用いられるカラーフィルタ形成用基板は、基板と、遮光部とを有するものである。
【００３１】
（ａ）遮光部
上記遮光部としては、所望の遮光性を有し、後述するプラズマ照射により撥液性を有するものとすることができる材料からなるものであれば特に限定されるものではないが、通常、遮光性材料および樹脂から構成されるものが用いられる。
【００３２】
上記遮光部が遮光性材料および樹脂から構成されるものである場合、上記遮光性材料としては、一般的なカラーフィルタの樹脂製遮光部に用いられる材料を用いることができる。このような遮光性材料としては、例えば、カーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子等を挙げることができる。
【００３３】
また、上記樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−ビニル共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、エチレン−メタクリル酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等を用いることができる。
【００３４】
上記遮光部を形成する方法としては、上記開口部が所望の態様で配置された遮光部を形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、遮光性粒子を含有させた樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィー法、および、上記樹脂組成物を用いた熱転写法等を挙げることができる。このような遮光部を形成する具体的な方法としては、一般的にカラーフィルタに用いられる遮光部を形成する方法と同様の方法を用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。
【００３５】
（ｂ）基板
本工程に用いられる基板としては、上記遮光部および着色層を形成できるものであれば特に限定されるものではなく、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができる。このような基板としては、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板の表面にＳｉＯ２等の無機膜が形成されたもの等を挙げることができる。なかでも本工程においては無機基板を用いることが好ましい。上記基板として無機材料を用いることにより、本工程により、上記遮光部のみを撥液化することが容易となるからである。
さらに、本工程においては上記無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましく、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。上記無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
【００３６】
上記基板は、透明な基板であってもよく、または、反射性の基板や白色に着色したものであってもよいが、本工程においては通常透明なものが用いられる。
【００３７】
また、上記基板は、必要に応じてアルカリ溶出防止やガスバリア性付与その他の目的の表面処理を施されたものであってもよい。このような表面処理としては、例えば、表面を親液性とするために、酸素ガスを導入ガスとしたプラズマ等を照射する処理を挙げることができる。
ここで、親液性とは、後述する着色層形成用塗工液との接触角が小さいことを意味するものである。
【００３８】
具体的には、上記基板表面の上記着色層形成用塗工液との接触角が、後述する遮光部表面の接触角よりも小さいものとすることができるものであれば良い。なかでも本工程においては、上記基板表面の４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が９°未満となる程度であることが好ましく、特に表面張力５０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以下となる程度であることが好ましく、さらには表面張力６０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以下となる程度であることが好ましい。
【００３９】
（２）撥液化方法
本工程における撥液化方法としては、上記カラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を所望の撥液性を有するものとすることができる方法であれば良い。
【００４０】
このような撥液化方法としては、通常、フッ素化合物を導入ガスとしたプラズマ照射をする方法が用いられる。このような方法によれば、樹脂を含有する上記遮光部に選択的にフッ素を導入することができるため、上記遮光部の撥液性のみを向上させることが可能であるからである。
【００４１】
上記導入ガスに用いられるフッ素化合物としては、例えば、ＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｈ８、Ｃ５Ｆ８等を挙げることができる。
【００４２】
また、上記導入ガスとしては、上記フッ素ガスと他のガスとが混合されたものであってもよい。上記他のガスとしては、例えば、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム等を挙げることができるが、なかでも窒素を用いることが好ましい。さらに上記他のガスとして窒素を用いる場合、窒素の混合比率は５０％以上であることが好ましい。
【００４３】
また、上記プラズマ照射を実施する方法としては、上記遮光部の撥液性を向上できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、減圧下でプラズマ照射してもよく、または、大気圧下でプラズマ照射してもよい。なかでも、本工程においては特に大気圧下でプラズマ照射が行うことが好ましい。これにより、減圧用の装置等が必要なく、コストや製造効率等の面おいて有利になるからである。
【００４４】
なお、上記プラズマ照射を行った後の、上記遮光部等におけるフッ素の存在は、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ：ＥＳＣＡＬＡＢ  ２２０ｉ−ＸＬ）による分析において、遮光部の表面より検出される全元素中のフッ素元素の割合を測定することにより確認することができる。
【００４５】
なお、上記「撥液性」とは、後述する着色層形成用塗工液との接触角が大きいことを意味するものである。
【００４６】
具体的には、上記遮光部の表面の上記着色層形成用塗工液との接触角が、上記基板表面の接触角よりも大きいものとすることができるものであれば良い。なかでも本工程においては、上記遮光部表面の、４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上となる程度であることが好ましく、特に表面張力３０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上となる程度であることが好ましく、さらには表面張力２０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上となる程度であることが好ましい。また、純水との接触角が１１°以上となる程度であることが好ましい。
【００４７】
２．親液化工程
本発明のカラーフィルタの製造方法における親液化工程は、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理することにより、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化する工程であり、上記プラズマ工程と水洗工程との間に保管期間が生じた場合に、少なくとも１回行われる工程である。
【００４８】
本発明は、本工程を有することにより、上記プラズマ工程と水洗工程との間に保管期間が生じた場合であっても、上記基板表面の親液性を維持することができる。このため、白抜けの発生が少ないものとすることができる。
【００４９】
（１）親液化処理
本工程において、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面の親液化処理としては、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面に付着したフッ素等を除去することができ、上記基板表面を親液化し、親液性を有するものとすることができる方法であれば良く、例えば、上記基板表面に水を付着させる水洗や、上記基板に紫外線（以下、ＵＶと称する場合もある。）を照射するＵＶ照射処理、上記基板表面を物理的に洗浄する物理的洗浄処理、導入ガスとして基板表面を親液化させることができる親液化導入ガスを用い、プラズマ照射する親液化プラズマ照射処理等を挙げることができる。
本工程においては、なかでも、上記基板表面に水を付着させる水洗を好ましく用いることができる。フッ素等の除去を効率良く行なうことができ、白抜けの発生がより少ないものとすることができるからである。また、後述する水洗工程において用いる装置との共通化を図ることができ、コスト低減を図ることができるからである。
【００５０】
また、本工程における親液化処理は、本工程が複数回行なわれる場合、単一の方法で処理するものであっても良く、２種以上の方法を組み合わせて処理するものとしても良い。
【００５１】
（ａ）水洗
本工程において、上記水洗としては、具体的には、上記カラーフィルタ形成用基板表面に噴霧、シャワーリング等により水を吐出する水吐出方法、上記カラーフィルタ形成用基板を、高湿度雰囲気下で保管する高湿度保管方法、上記カラーフィルタ形成用基板を水へ浸漬させる浸漬方法等を挙げることができる。
なお、高湿度保管方法における高湿度雰囲気としては、通常、湿度が８０％以上の環境であることが好ましく、なかでも８５％以上の環境であることが好ましい。上記範囲であることによりフッ素等の除去を容易なものとすることができ、白抜けの発生が少ないものとすることができるからである。
【００５２】
本工程においては、なかでも、浸漬方法の場合においては、水へ浸漬させた状態で超音波処理を行なう方法、水吐出方法の場合においては、塗布する際の水圧を高圧とする方法であることが好ましく、特に、高圧で水を吐出する水吐出方法を好ましく用いることができ、なかでも特に、上記基板表面における水圧が、０．０１ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲内となるように高圧で水を吐出する水吐出方法であることが好ましい。上記基板表面に付着したフッ素等をより効果的に除去することができ、白抜けの発生がより少ないものとすることができるからである。
【００５３】
本工程において、上記水洗に用いる水としては、上記残渣等を除去することができる液体であれば良いが、通常、純水またはアルコールが用いられる。また、必要に応じて、純水に均一に溶解可能なアルコール等の有機溶剤を混合させた水溶液であっても良い。
【００５４】
（ｂ）その他の処理
本工程において、その他の処理としては、上述したようなＵＶ照射処理、上記物理的洗浄処理、および上記親液化プラズマ照射処理等を挙げることができる。
【００５５】
上記ＵＶ照射処理の方法としては、上記遮光部表面の撥液性を大きく低下させない方法であることが好ましく、例えば、マスクを介して上記基板にＵＶを照射する方法や、ＵＶ照射強度を低めに設定して照射する方法を好ましく用いることができる。本工程においては、なかでも、上記遮光部からのフッ素成分の拡散速度の上昇を抑制するため、上記基板の温度上昇が少ないＵＶ照射ランプを用いてＵＶ照射を行なう方法や、上記基板を冷却しながら、ＵＶ照射を行なう方法であることが好ましい。
また、上記物理的洗浄処理の方法としては、ロールブラシ、スポンジブラシ等を上記基板表面に押し当てながら洗浄する方法を挙げることができる。また、洗剤等を塗布した後に洗浄することが好ましい。フッ素等を効果的に除去することができるからである。
また、上記親液化プラズマ照射処理の方法としては、酸素ガスまたは窒素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射する方法を挙げることができる。
【００５６】
（２）親液化工程
本工程は、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する工程であり、上記保管期間中に少なくとも１回行なわれる工程である。ここで、上記保管期間中に少なくとも１回行う理由は、上述したように、保管期間が生じると、時間経過に伴い上記開口部内の基板表面の撥液化が進行し、白抜けが発生する可能性が高いものとなるからである。このようなことから、本発明においては、本工程を、上記保管期間中に１回に限らず２回以上行なうものであっても良い。
本発明においては、本工程の実施が、保管期間が予め決定された白抜け発生期間より長くなることが想定される場合に行なわれるものであることが好ましい。上記保管期間が予め決定された白抜け発生期間より長くなることが想定される場合に、すなわち、上記基板表面の撥液化が大きく進行し白抜けが多く発生すると予想される場合にのみ行なうものとすることにより、本工程を行なうことによる白抜け発生の抑制を効率的に行なうことができるからである。
【００５７】
ここで、本工程における白抜け発生期間は、予め決定されるものであり、上記親液化処理をすることにより上記基板表面の親液性を回復できる期間をいうものある。
したがって、上記カラーフィルタ形成用基板が上記白抜け発生期間より長く保管された場合、その後に親液化処理を施したとしても、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を十分に親液化することができず、白抜けの発生を抑制することが困難となる。
また、上記白抜け発生期間は、カラーフィルタ形成用基板のサイズ、上記親液化処理の方法等によって異なるものであるが、例えば、上記カラーフィルタ形成用基板と同形状のカラーフィルタ形成用基板をテスト用基板として用いてプラズマ工程を行い、その後親液化工程が行なわれるまでの放置期間と、白抜けの有無との関係を調査することにより予め決定することができる。
このような白抜け発生期間としては、インクジェット法により形成される着色層を有する一般的なカラーフィルタを製造する場合においては、通常、６時間である。
【００５８】
また、本工程の実施タイミングとしては、上記保管期間中に少なくとも１回行われるものであれば良いが、通常、予め設定した所定の実施間隔で行なわれるものである。ここで、上記プラズマ工程後に所定の実施間隔で行なわれることが好ましいとする理由は、以下のとおりである。
すなわち、上述したような基板表面の撥液化は、本工程として親液化処理が行なわれた後にも進行するため、上記親液化処理を行った後にも保管が続く場合には、その間に上記基板表面の撥液化が進行し、白抜けが発生する可能性が高いものとなる。このため、上記プラズマ工程後に本工程が繰り返し行なわれることにより、白抜けの発生がより少ないものとすることができるからである。また、所定の実施間隔とすることで、管理が容易であり、さらに、本工程が実施されることによる白抜けの発生の抑制効果にバラツキが生じることを抑制することができるからである。
このような実施間隔としては、上記白抜け発生期間または上記白抜け発生期間未満とされることが好ましく、なかでも、上記白抜け発生期間の長さより１０％短い期間とされることが好ましい。
上記実施間隔が白抜け発生期間未満とされることにより、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を安定的に親液化することができるからである。上記白抜け発生期間とされることにより、効率良く白抜けの発生を抑制することができるからである。
また、上記実施間隔が上記白抜け発生期間の長さより１０％短い期間とされることにより、突発的に白抜け発生期間が長い基板が存在しても白抜けが発生して欠陥品となることを防ぐことができるからである。また、上記実施間隔が上記白抜け発生期間と近しい期間でされることにより、白抜けの発生の抑制を効率的に行なうことができ、低コスト化を図ることができるからである。
【００５９】
３．水洗工程
本発明のカラーフィルタの製造方法における水洗工程は、プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する工程である。
【００６０】
本工程における、上記カラーフィルタ形成用基板の水洗方法としては、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面に水を接触させ、上記基板表面に付着したフッ素等を除去することにより親液化し、上記基板表面が親液性を有するものとすることができるものであれば良く、上記「２．親液化工程」の項に記載した水洗と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００６１】
４．インクジェット工程
本発明のカラーフィルタの製造方法におけるインクジェット工程は、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成する工程である。
【００６２】
本工程に用いられる着色層の形成方法としては、インクジェット法により上記着色層形成用塗工液を上記開口部に塗布する方法であれば良く、通常、上記着色層形成用塗工液を塗布することができるノズルを複数備えるインクジェットヘッドが用いられる。
【００６３】
本工程に用いられるインクジェットヘッドが着色層形成用塗工液を吐出する吐出方式としては、所定量の着色層形成用塗工液を吐出できる方式であれば特に限定されるものではない。このような吐出方式としては、例えば、帯電した着色層形成用塗工液を連続的に吐出し磁場によって吐出量を制御する方式、圧電素子を用いて間欠的に着色層形成用塗工液を吐出する方式、着色層形成用塗工液を加熱しその発泡現象を利用して間欠的に吐出する方式等を挙げることができる。なかでも本工程においては、上記吐出方式として圧電素子を用いて間欠的に着色層形成用塗工液を吐出する方式を用いることが好ましい。このような吐出方式は微量な吐出量を比較的精度よく制御することができるからである。
【００６４】
本工程に用いられる着色層形成用塗工液としては、インクジェット法により、着色層を形成する際に、一般的に用いられるものと同様とすることができる。このような着色層形成用塗工液としては、通常、少なくとも赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色を含む、３色以上の着色層形成用塗工液が用いられる。
【００６５】
５．カラーフィルタの製造方法
本発明のカラーフィルタの製造方法は、プラズマ工程、親液化工程、水洗工程および、インクジェット工程を少なくとも有するものであれば良いが、上記水洗工程と上記インクジェット工程との間に、上記カラーフィルタ形成用基板を保管する水洗工程後保管期間が生じる場合には、上記水洗工程後保管期間内に、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する水洗工程後親液化工程を少なくとも１回行うものとすることができる。なお、このような水洗工程後親液化工程としては、上記親液化工程と同様とすることができる。
【００６６】
また、上記プラズマ工程、親液化工程、水洗工程、インクジェット工程および水洗工程後親液化工程以外にも、必要に応じて、その他の工程を有するものとすることができる。
このようなその他の工程としては、上記インクジェット工程により形成される着色層上にオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成工程、上記着色層上にＩＴＯ，ＩＺＯ等の透明電極を形成する透明電極形成工程、対向基板とのセルギャップを均一にするためのスペーサー材を所定の位置に形成するスペーサー形成工程、および、液晶の配向を制御するための構造物を形成する配向制御構造物形成工程等を挙げることができる。
【００６７】
Ｂ．カラーフィルタの製造装置
次に、本発明のカラーフィルタの製造装置について説明する。本発明のカラーフィルタの製造装置は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板の遮光部表面を撥液化するためのプラズマ照射を行うプラズマ手段と、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を保管し、かつ保管中に上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化処理機構を備える保管手段と、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗手段と、上記水洗手段により水洗がされたカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット手段と、を有することを特徴とするものである。
【００６８】
このような本発明のカラーフィルタの製造装置を図を参照して説明する。図２に例示するように、本発明のカラーフィルタの製造装置３０は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板２０の遮光部表面を撥液化するためのプラズマ照射を行うプラズマ手段４０と、上記プラズマ手段４０によりプラズマ照射され、撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板２０を保管し、上記カラーフィルタ形成用基板２０の基板表面を親液化処理する親液化処理機構を備える保管手段５０と、上記保管手段５０により保管されたカラーフィルタ形成用基板２０を水洗する水洗手段６０と、上記水洗手段により水洗されたカラーフィルタ形成用基板２０の開口部にインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布するインクジェット手段７０とを有し、着色層を有するカラーフィルタ１０を形成するものである。
また、上記プラズマ手段により撥液化がされた後に保管する必要が生じた場合には、上記カラーフィルタ形成用基板２０を上記プラズマ手段４０、保管手段５０、水洗手段６０およびインクジェット手段７０の順で搬送し、上記プラズマ手段により撥液化がされた後に保管する必要が生じない場合には、上記プラズマ手段４０、水洗手段６０、およびインクジェット手段７０の順で搬送することができるベルトコンベア３１を有するものである。
【００６９】
本発明によれば、上記親液化処理機構を備えた保管手段を有することにより、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を保管する必要が生じた場合であっても、白抜けの少ないカラーフィルタを製造することができる。
【００７０】
本発明のカラーフィルタの製造装置は、プラズマ手段、保管手段、水洗手段および、インクジェット手段を少なくとも有するものである。以下、本発明のカラーフィルタの製造装置の各構成について説明する。
【００７１】
１．プラズマ手段
本発明におけるプラズマ手段は、カラーフィルタ形成用基板上の遮光部表面を撥液化するためのプラズマ照射を行うものである。
より具体的には、上記カラーフィルタ形成用基板の遮光部にフッ素化合物を導入ガスとしたプラズマ照射を行ない、上記遮光部表面を撥液化することができるものである。このようなプラズマ手段としては、カラーフィルタの製造に一般的なものを用いることができ、例えば、上記カラーフィルタ形成用基板を間に配置することができる１対の電極と、上記フッ素化合物を導入ガスとして導入することができるフッ素ガス導入手段とを有するものを挙げることができる。
【００７２】
上記プラズマ手段において導入ガスとして用いられるフッ素化合物、プラズマ照射されるカラーフィルタ形成用基板、および上記プラズマ手段により撥液化された遮光部の撥液性としては、上記「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の「１．プラズマ工程」の項に記載した内容と同様とすることができる。
【００７３】
２．保管手段
本発明のカラーフィルタの製造装置における保管手段は、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を保管し、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化処理機構を備えるものである。
【００７４】
（１）親液化処理機構
本発明において、上記親液化処理機構は、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理することにより上記基板表面に付着したフッ素等を除去し、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面の親液性向上を行なうことができるものであれば良い。
このような親液化処理機構としては、上記カラーフィルタ形成用基板の表面を水と接触させることができる水洗装置や、上記基板にＵＶを照射するＵＶ照射装置、上記基板表面を物理的に洗浄する物理的洗浄装置、導入ガスとして基板表面を親液化させることができる親液化導入ガスを用い、プラズマ照射する親液化プラズマ照射装置等を挙げることができる。
本工程においては、なかでも、上記基板表面に水を付着させる水洗装置を好ましく用いることができる。フッ素等の除去を効率よく行なうことができ、後述する水洗工程において用いる装置との共通化を図ることができ、コスト低下を図ることができるからである。
【００７５】
（ａ）水洗装置
本発明において、上記水洗装置としては、具体的には、上記カラーフィルタ形成用基板の全てを浸漬させることができる水槽や、上記カラーフィルタ形成用基板の全面に水を塗布することができるシャワーリング装置、噴霧装置等の水吐出装置、上記カラーフィルタ形成用基板を高湿度環境下で保管することができる恒温恒湿装置を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、上記水槽の場合においては、上記カラーフィルタ形成用基板を水へ浸漬させた状態で超音波処理を行なうことができる超音波発振装置を有するもの、上記水吐出装置の場合においては、吐出する際の水圧を高圧とすることができる高水圧ポンプを有するものを有するものであることが好ましく、特に高水圧ポンプを有する水吐出装置を好ましく用いることができ、なかでも特に、上記基板表面における水圧が、０．０１ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲内とすることができる高水圧ポンプを有する水吐出装置であることが好ましい。上記プラズマ手段によりプラズマ照射されることで生じる残渣および上記遮光部から基板表面に拡散したフッ素等を効果的に除去することができ、本発明の製造方法により製造されるカラーフィルタを白抜けの少ないものとすることができるからである。
【００７６】
なお、水洗に用いられる水としては、上記「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の「２．親液化工程」の項に記載されたものと同様とすることができる。
【００７７】
（ｂ）その他の装置
本発明において、その他の装置としては、上記ＵＶ照射装置、上記物理的洗浄装置、上記親液化プラズマ照射装置等を挙げることができる。
【００７８】
上記ＵＶ照射装置としては、一般的なＵＶ照射装置を用いることができるが、なかでも、上記遮光部表面の撥液性の大きな低下を防ぐもの、具体的には、マスクを介してＵＶ照射できるものや、照射強度を調整する制御手段を有するものであることが好ましく、特に、上記カラーフィルタ形成用基板の温度上昇を抑制することができるもの、具体的には、上記カラーフィルタ形成用基板を冷却することができる冷却装置を有するもの、または、上記カラーフィルタ形成用基板の温度上昇が少ないＵＶ照射装置を好ましく用いることができる。上記遮光部からのフッ素成分の拡散速度の上昇を抑制することができ、上記基板表面のフッ素等を効果的に除去することができるからである。
また、上記物理的洗浄装置としては、上記基板表面を物理的に洗浄し、上記基板表面を親液化することができる方法であれば良く、例えば、ロールブラシ、スポンジブラシ等を挙げることができ、なかでも、洗剤を塗布する洗剤塗布手段を有するものであることが好ましい。上記基板表面のフッ素等を効果的に除去することができるからである。
また、上記親液化プラズマ照射装置としては、酸素ガスまたは窒素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射する装置であれば良く、一般的なプラズマ照射装置を用いることができる。具体的には、上記「１．プラズマ手段」の項に記載したものと同様とすることができる。
【００７９】
（２）保管手段
本発明に用いられる保管手段は、上記カラーフィルタ形成用基板を保管することができるものである。
このような保管手段としては、上記カラーフィルタ形成用基板を連続的に移動させるものであっても良く、上記カラーフィルタ形成用基板を静止させた状態とするものであっても良い。
具体的には、ベルトコンベア等の移動装置や、上記カラーフィルタ形成用基板を複数配置することができる棚等を挙げることができる。
【００８０】
このような保管手段としては、具体的には、図３に例示するように、高さ方向に多段に積み上げられ、平面視上重なるように配置された恒温恒湿装置５１からなる保管手段５０を挙げることができる。この場合、上記プラズマ手段によって遮光部表面が撥液化されたカラーフィルタ形成用基板２０を把持し、上下に移動させることができ、さらに高湿度環境とすることができる恒温恒湿装置５１内に、上記カラーフィルタ形成用基板２０を配置させることができるハンドリングロボット５２によって、上記恒温恒湿装置５１内に上記カラーフィルタ形成用基板２０を静置し、所定期間保管する。
また、上記保管手段の他の例としては、図４に例示するように、上記カラーフィルタ形成用基板２０を搬送することができるベルトコンベア３１と、上記白抜け発生期間の間隔で上記カラーフィルタ形成用基板２０に水を吐出するように上記ベルトコンベア３１上に配置されたシャワーリング装置５３とからなる保管手段５０を挙げることができる。
この場合、上記ベルトコンベア３１により搬送される上記カラーフィルタ形成用基板２０は、上記白抜け発生期間毎に上記シャワーリング装置から水が吐出される。
【００８１】
３．水洗手段
本発明のカラーフィルタの製造装置における水洗手段は、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を水洗するものであり、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板が上記保管手段により所定期間保管された場合には、保管後のカラーフィルタ形成用基板を水洗するものである。
このような水洗手段としては、上記「２．保管手段」の項の水洗装置と同様の内容とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００８２】
また、上記保管手段における親液化処理機構が水洗装置である場合には、本発明における水洗手段と、上記保管手段における親液化処理機構とが独立したものであっても良いが、同一であることが好ましい。コストの低減を図ることができるからである。
【００８３】
４．インクジェット手段
本発明のカラーフィルタの製造装置におけるインクジェット手段は、上記水洗手段により、水洗がされたカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するものである。
このようなインクジェット手段としては、通常、上記着色層形成用塗工液を塗布することができるノズルを複数備えるインクジェットヘッドが用いられる。
【００８４】
本発明に用いられるインクジェットヘッドとしては、本発明の製造方法により製造されるカラーフィルタの面積や開口部等に応じて、所望のノズル数を有するものであれば特に限定されず、一般的にインクジェット法に用いられるインクジェットヘッドを用いることができる。
【００８５】
なお、本発明に用いられるインクジェットヘッドのノズル数は、本発明の製造方法により製造されるカラーフィルタの面積や、上記開口部のピッチ等に応じて適宜決定すればよい。
【００８６】
また、上記インクジェットヘッドが備えるノズルのピッチについても、上記カラーフィルタの面積や、上記開口部のピッチ等に応じて適宜決定すればよい。また、上記ノズルのピッチは、上記開口部のピッチと同一であってもよく、または、異なっていてもよいが、上記ノズルのピッチが上記開口部のピッチと異なる場合においては、上記ノズルのピッチが、上記開口部のピッチの整数倍または整数分の１倍に相当するピッチであることが好ましい。このようなピッチであれば、例えば、着色層形成用塗工液を吐出させるノズルを適宜選択したり、上記インクジェットヘッドの移動距離を制御することにより、着色層形成用塗工液が吐出されるピッチを、上記開口部のピッチと同一にすることが容易だからである。
なお、上記ノズルのピッチが上記開口部のピッチと異なる場合において、上記ノズルのピッチが、上記開口部のピッチの整数倍または整数分の１倍に相当するピッチでない場合は、例えば、上記ノズルのピッチが上記開口部のピッチと同一、整数倍、または、整数分の１倍となるように上記インクジェットヘッドを回転させて傾かせて用いればよい。
【００８７】
また、上記ノズルの配置態様としては、隣り合うノズルの間隔が常に一定となるような配置態様であれば特に限定されるものではなく、例えば、すべてのノズルが一直線上に配置された態様であってもよく、または、千鳥状に配置された態様であってもよい。
【００８８】
また、上記ノズルの径としては、上記開口部の間隔やノズルから吐出される着色層形成用塗工液の吐出量等に応じて、上記ノズルから吐出される着色層形成用塗工液の液滴の径を、上記開口部の間隔よりも小さくできる範囲内であれば特に限定されるものではなく、上記カラーフィルタの種類等に応じて適宜調整すればよい。
【００８９】
なお、上記着色層形成用塗工液としては、上記「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の「３．インクジェット工程」の項に記載した内容と同様とすることができる。
【００９０】
５．カラーフィルタの製造装置
本発明のカラーフィルタの製造装置は、上記プラズマ手段、保管手段、水洗手段およびインクジェット手段を有するものであれば良く、必要に応じて、上記水洗手段後のカラーフィルタ形成用基板を保管し、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化処理する親液化処理機構を備える水洗手段後保管手段を有するものであっても良い。上記水洗手段後保管手段を有することにより、上記水洗手段により水洗された後に所定期間保管する必要が生じた場合であっても、白抜けの少ないカラーフィルタを製造することができるからである。
【００９１】
本発明のカラーフィルタの製造装置は、上記プラズマ手段、保管手段、水洗手段、インクジェット手段および水洗手段後保管手段以外に、必要に応じて、上記カラーフィルタ形成用基板を、公知の搬送手段、具体的には、搬送ローラ、ベルトコンベア、ハンドリングロボット等によって、上記プラズマ手段、保管手段、水洗手段およびインクジェット手段の各手段間を移動させるものであってもよい。
本発明においては、なかでも、上記保管する必要が生じた場合のみ、上記カラーフィルタ形成用基板を、上記プラズマ手段、保管手段、水洗手段の順で搬送し、上記保管する必要がない場合には、上記プラズマ手段、水洗手段の順で搬送することができる搬送手段を有するものであることが好ましい。上記カラーフィルタ形成用基板を保管する必要がない場合において、上記プラズマ手段から、上記水洗手段までの移動時間を短縮することができるからである。
【００９２】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００９３】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
【００９４】
［参考例１〜４］
１．カラーフィルタ形成用基板の作製
ガラス基板（横長さ１５００×縦長さ１８００×厚み０．７ｍｍ旭ガラス社製ＡＮ１００）上に遮光性黒色顔料を含む感光性樹脂組成物をフォトリソグラフィー法により、横方向ピッチが２００μｍ、縦方向ピッチが６００μｍで開口寸法が１７０μｍ×５００μｍ、遮光層線幅が３０μｍ及び１００μｍとなるように形成し、横方向に２００μｍピッチで３０００画素、縦方向に６００μｍピッチで１０００画素並ぶように配置した画素パターン（チップ）を計８チップ形成した。遮光層の厚みは平均１．８μｍとした。
次いで、上記ブラックマトリクス基板に対して、フッ素ガスを導入した大気圧プラズマ照射を行うことにより、遮光層表面を撥液性にガラス表面部分を親液性とした。大気圧プラズマ照射は以下の条件で行った。このようにして、カラーフィルタ形成用基板を作製した。また、得られたカラーフィルタ形成用基板の、４０ｍＮ／ｍの液体との接触角は、遮光層表面で６５°、ガラス表面上で１０°であった。
【００９５】
＜プラズマ照射条件＞
・導入ガス：ＣＦ４‥‥１５ｌ／ｍｉｎ、Ｎ２‥‥２５ｌ／ｍｉｎ
・電極−基板間距離：１．５ｍｍ
・電源出力：２００Ｖ−５Ａ
【００９６】
２．保管工程
上記プラズマ照射後のカラーフィルタ形成用基板を、下記表１に示す期間保管した。
【００９７】
【表１】
2009237082.tif 000003
【００９８】
３．水洗工程
その後、水洗工程として、上記カラーフィルタ形成用基板を搬送しながら、高圧スプレーにより純水を吹き付ける洗浄装置を使用し水の噴き付けを行った。さらに水洗工程後に、エアーナイフを使用し基板上の水を吹き流した。
【００９９】
４．インクジェット工程
上記親液化工程後のカラーフィルタ形成用基板に対して、インクジェット装置により、画素開口内に着色層形成用塗工液を吐出し、カラーフィルタ用着色層を形成させた。
上記着色層形成用塗工液には、カラーフィルタ用顔料と熱硬化型樹脂等からなるＲＧＢ各色の顔料分散型インクを用い、１つの開口部（着色層形成領域）あたり１５００ｐｌにて所望のカラーフィルタの色が表現できるように濃度を調整したものを用いた。
この時、インクジェットヘッドの印加電圧は、７５Ｖ、パルス幅は６μｓであった。インクジェットヘッドは、１ヘッドにつき１００ノズルを有するものを用い、１色につき１ヘッド、すなわちＲＧＢ３色にて３ヘッドを用いた。
【０１００】
上記着色層形成用塗工液の塗布は、各着色層形成領域（１画素）あたり１ノズルが配置されるように位置決めして行い、ノズルから吐出された着色層形成用インクの各液滴が、上記着色層形成領域内に着弾するように行った。着色層形成用インクは、横方向にＲＧＢの順に繰り返し配置し、縦方向には同色が並ぶように配置した。
【０１０１】
５．プリベイク工程およびポストベイク工程
上記着色層を形成した基板を８０℃のホットプレート上で２０分間乾燥させ、さらに２３０℃の焼成オーブンにて６０分焼成させてカラーフィルタ作製した。
【０１０２】
６．評価
参考例で作製したカラーフィルタを画像のパターンマッチングによる外観検査を実施した。その結果、参考例１〜３では、着色層に白抜けが見られなかった。一方、参考例４では、白抜けが見られた。そこで、白抜け発生期間を３６０分間に設定した。
【０１０３】
［実施例１］
上記保管工程として、５４０分間保管する間、上記カラーフィルタ形成用基板の保管環境を湿度８０％の高湿度雰囲気とする親液化工程を行なった以外は、参考例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１０４】
［実施例２］
上記カラーフィルタ形成用基板の保管環境を湿度９０％の高湿度雰囲気とする親液化工程を行なった以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１０５】
［実施例３］
上記保管工程として、５４０分間保管する間、３５０分間経過した際に、上記カラーフィルタ形成用基板を純水中に５分間浸漬する親液化工程を行なった以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１０６】
［実施例４］
上記保管工程として、７２０分間保管する間、上記カラーフィルタ形成用基板を純水中に５分間浸漬する親液化工程を、３５０分間隔で２回行なった以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１０７】
［比較例１〜２］
上記プラズマ照射後のカラーフィルタ形成用基板を、下記表２に示す期間保管し、その間に親液化工程を行なわなかった以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１０８】
【表２】
2009237082.tif 000004
【０１０９】
［比較例３］
上記プラズマ照射後のカラーフィルタ形成用基板を、湿度７０％の低湿度雰囲気下で５４０分間保管した後に高圧スプレーにより純水を吹き付ける洗浄装置を使用し水の噴き付けを行う水洗を行い、保管中に親液化工程を行なわなかった以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【０１１０】
［評価］
実施例および比較例で作製したカラーフィルタを画像のパターンマッチングによる外観検査を実施し、着色層に白抜けが見られなかった場合は○とし、白抜けが見られた場合は×とした。結果を下記表３に示す。
【０１１１】
【表３】
2009237082.tif 000005
【０１１２】
表３に示すように、保管期間中の親液化工程の実施間隔が白抜け発生期間より短い実施例では、白抜けが無いものとすることができることが確認できた。一方、白抜け発生期間より長い保管期間中に親液化工程が行なわれない比較例では、白抜けが発生した。また、保管期間が白抜け発生期間より短い参考例でも、白抜けの発生は見られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの製造装置の一例を示す概略図である。
【図３】本発明に用いられる保管手段の一例を示す概略図である。
【図４】本発明に用いられる保管手段の他の例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１１４】
１  …  基板
２  …  遮光部
３  …  着色層
１０  …  カラーフィルタ
２０  …  カラーフィルタ形成用基板
３０  …  カラーフィルタの製造装置
３１  …  ベルトコンベア
４０  …  プラズマ手段
５０  …  保管手段
６０  …  水洗手段
７０  …  インクジェット手段
【図１】
2009237082.tif 000006
【図２】
2009237082.tif 000007
【図３】
2009237082.tif 000008
【図４】
2009237082.tif 000009