(57)【要約】      （修正有）【課題】コントラストを向上させて、優れた画像品位を実現できる位相差体を提供する。【解決手段】光透過性基材１と、位相差層２とを備えてなる、位相差体であって、前記光透過性基材１が、セルロース誘導体からなり、かつ、前記光透過性基材１の表面上に屈折率異方性を有する棒状化合物３をランダムに配列させる表面配向性を備えてなるものであり、位相差層２における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、前記位相差層２における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚ、位相差層２の厚みをｄｎｍ、位相差体の面内位相差をＲ０と定義した場合に、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ（Ｉ）及びＲ０＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄ≦１ｎｍ（II）を充足する、位相差体１０である。【選択図】図２
2009237100.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材と、位相差層とを備えてなる、位相差体であって、
前記光透過性基材が、セルロース誘導体からなり、かつ、前記光透過性基材の表面上に、屈折率異方性を有する棒状化合物をランダムに配列させる表面配向性を備えてなるものであり、
前記位相差層が、前記屈折率異方性を有する棒状化合物を含んでなるものであり、かつ、角度４０°における位相差（Ｒ４０）の波長依存性が正分散型を示すものであり、
前記位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、前記位相差層における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚ、位相差層の厚みをｄｎｍ、位相差体の面内位相差をＲ０と定義した場合に、
下記式（Ｉ）及び下記式（II）：
ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ  （Ｉ）
Ｒ０＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄ≦１ｎｍ  （II）
を充足するものである、位相差体。
【請求項２】
前記位相差層の表面が、反射法におけるＸ線回折チャートにおいて、入射Ｘ線の延長線と反射Ｘ線との成す角度を（２θ）とした場合に、角度（２θ）が８．５°における強度Ｉ８．５と、角度（２θ）が１７．０°の強度Ｉ１７の比Ｉ８．５／Ｉ１７．０が１．６０以下である、請求項１に記載の位相差体。
【請求項３】
前記位相差層の表面が、反射法におけるＸ線回折チャートにおいて、入射Ｘ線の延長線と反射Ｘ線との成す角度を（２θ）とした場合に、角度（２θ）が１４．０°における強度Ｉ１４と、角度（２θ）が１７．０°の強度Ｉ１７の比Ｉ１４．０／Ｉ１７．０が１．１４以下である、請求項１又は２に記載の位相差体。
【請求項４】
前記棒状化合物がランダムホモジニアス配向を形成してなる、請求項１〜３の何れか一項に記載の位相差体。
【請求項５】
光透過性基材と、位相差層とを備えてなる位相差体の製造方法であって、
セルロース誘導体からなり、かつ、前記光透過性基材の表面上に、屈折率異方性を有する棒状化合物をランダムに配列させる表面配向性を備えてなる前記光透過性基材を用意し、
前記透過性基材の表面に、前記棒状化合物を含有する位相差層用組成物を付与し、必要に応じて、前記位相差層用組成物を硬化し、位相差層を形成することを含んでなり、
前記位相差層が、角度４０°における位相差（Ｒ４０）の波長依存性が正分散型を示すものであり、
前記位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、前記位相差層における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚ、ｚ方向の屈折率をｎｚ、位相差層の厚みをｄｎｍ、位相差体の面内位相差をＲ０と定義した場合に、
下記式（Ｉ）及び下記式（II）：
ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ  （Ｉ）
Ｒ０＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄ≦１ｎｍ  （II）
を充足するものである、位相差体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等に用いられる位相差体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置における液晶部分は、一般的には図１に示すような構成を有している。図１によると、入射側の偏光板１０２Ａと、出射側の偏光板１０２Ｂと、液晶セル１０４とを有するものを挙げることができる。そして、液晶表示装置は様々な駆動方式が採用されている。例えば、図１における液晶表示装置１００において、液晶セル１０４が、負の誘電異方性を有するネマチック液晶が封止されたＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式（図中、液晶のダイレクターを点線で模式的に図示）が挙げられる。ＶＡ方式は、入射側の偏光板１０２Ａを透過した直線偏光が、液晶セル１０４のうち非駆動状態のセルの部分を透過する際に、位相シフトされずに透過し、出射側の偏光板１０２Ｂで遮断される。これに対し、液晶セル１０４のうち駆動状態のセルの部分を透過する際には、直線偏光が位相シフトされ、この位相シフト量に応じた量の光が出射側の偏光板１０２Ｂを透過して出射される。これにより、液晶セル１０４の駆動電圧をセル毎に適宜制御することにより、出射側の偏光板１０２Ｂ側に所望の画像を表示することができる。ＶＡ方式は、ＴＮ方式より視野角を拡大することができるものとして注目されている。
【０００３】
ここで、ＶＡ方式の液晶セル１０４のうち非駆動状態のセルの部分を直線偏光が透過する場合を考えると、液晶セル１０４は複屈折性を有しており、厚さ方向の屈折率と面方向の屈折率とが異なるので、入射側の偏光板１０２Ａを透過した直線偏光のうち液晶セル１０４の法線に沿って入射した光は位相シフトされずに透過するものの、入射側の偏光板１０２Ａを透過した直線偏光のうち液晶セル１０４の法線から傾斜した方向に入射した光は液晶セル１０４を透過する際に位相差が生じて楕円偏光となる。この現象は、液晶セル１０４内で垂直方向に配向した液晶分子が、正のＣプレートとして作用することに起因したものである。なお、液晶セル１０４を透過する光（透過光）に対して生じる位相差の大きさは、液晶セル１０４内に封入された液晶分子の複屈折値や、液晶セル１０４の厚さ、透過光の波長等にも影響される。
【０００４】
このような現象により、液晶セル１０４内のあるセルが非駆動状態であり、本来的には直線偏光がそのまま透過され、出射側の偏光板１０２Ｂで遮断されるべき場合であっても、液晶セル１０４の法線から傾斜した方向に出射された光の一部が出射側の偏光板１０２Ｂから洩れてしまうことになる。このため、上述したような従来の液晶表示装置１００においては、正面から観察される画像に比べて、液晶セル１０４の法線から傾斜した方向から観察される画像表示品位が主にコントラストが低下することが原因で悪化するという問題があった。この様な問題に対して、偏光板１０２Ａと液晶セル１０４との間に、位相差板（いわゆるＣプレート）を介在させる方法、また、このＣプレートと倶に、偏光板１０２Ｂと液晶セル１０４との間に、位相差板（いわゆるＡ−プレート）を介在させる方法（正負の位相差板）が採用されている。
【０００５】
そして、近年において、特許文献１（特許第３９７２３７１）では、いわゆるＢ補償プレートを組み合わせた位相差補償板が提案され、また、特許文献２（特許第２８６６３７２）では、光学異方性材料としてディスコティック液晶を採用した位相差板が提案されている。
【０００６】
しかしながら、今尚、コントラスト向上と、優れた画像品位を向上させるための位相差体の開発が要求されている。
【０００７】
【特許文献１】特許第３９７２３７１
【特許文献２】特許第２８６６３７２
【発明の開示】
【０００８】
本発明者等は、発明時において、セルロース誘導体から形成される光透過性基材と、その上に、特定の位相差層を形成させた位相差体によれば、コントラストを向上させて、優れた画像品位を実現できる液晶表示装置が得られるとの知見を得た。本発明は係る知見に基づいてなされたものである。
【０００９】
よって、本発明による位相差体は、
光透過性基材と、位相差層とを備えてなるものであり、
前記光透過性基材が、セルロース誘導体からなり、かつ、前記光透過性基材の表面上に屈折率異方性を有する棒状化合物をランダムに配列させる表面配向性を備えてなるものであり、
前記位相差層が、前記棒状化合物を含んでなるものであり、かつ、角度４０°における位相差（Ｒ４０）の波長依存性が正分散型を示すものであり、
前記位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、前記位相差層における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚ、位相差層の厚みをｄｎｍ、位相差体の面ない位相差をＲ０と定義した場合に、
下記式（Ｉ）及び下記式（II）：
ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ  （Ｉ）
Ｒ０＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄ≦１ｎｍ  （II）
を充足するものである。
【００１０】
また、本発明の別の態様によれば、光透過性基材と、位相差層とを備えてなる位相差体の製造方法を提供することができ、その製造方法は、
セルロース誘導体からなり、かつ、前記光透過性基材の表面上に屈折率異方性を有する棒状化合物をランダムに配列させる表面配向性を備えてなる前記光透過性基材を用意し、
前記透過性基材の表面に、前記棒状化合物を含有する位相差層用組成物を付与し、必要に応じて、前記位相差層用組成物を硬化し、位相差層を形成することを含んでなり、
前記位相差層が、角度４０°における位相差（Ｒ４０）の波長依存性が正分散型を示すものであり、
前記位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、前記位相差層における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚ、位相差層の厚みをｄｎｍ、位相差体の面内位相差をＲ０と定義した場合に、
下記式（Ｉ）及び下記式（II）：
ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ  （Ｉ）
Ｒ０＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄ≦１ｎｍ  （II）
を充足するものである。
【００１１】
本発明は、上記した技術的特徴を備えてなることから、コントラスト、画像品位及び画像再現性を高い次元で達成することができる位相差体及びその製造方法を提供することを可能とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
定  義
負のＣプレート
位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、位相差層における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚと定義した場合に、下記一般式：ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ（Ｉ）を充足する位相差層を有する位相差体は、いわゆる光学的に負のＣプレートとしての性質を有するものである。
Ｒｅ、Ｒｔｈ
「面内方向の位相差（Ｒｅ）」は、位相差層（位相差体）又は液晶セル等の面内における進相軸方向（屈折率が最も小さい方向）の屈折率をｎｘと、遅相軸方向（屈折率が最も大きい方向）の屈折率をｎｙと、位相差層（位相差体）又は液晶セル等の厚みをｄ（ｎｍ）と定義したときに、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄの式で表される値である。また、「厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）」は、上記の条件において、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄの式で表される値である。Ｒｅ及びＲｔｈは、例えば、大塚電子株式会社製  ＲＥＴＳ−１００、又は王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。測定する波長および測定角度によって値が変化する場合があるが、本発明にあっては、特筆しない限り、Ｒｅは２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長５８９ｎｍの光を、厚み方向に対して平行に入射して測定した際に値を意味するものとする。
ヘイズ値／透過率
「ヘイズ値」は、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した値である。ヘイズ値の測定には日本電色工業株式会社製、商品名：ＮＤＨ２０００を用いることができる。また、「光透過性基材」の「透過率」は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定され求められた値を示す。
【００１３】
Ｉ．位相差体
１．概  要
本発明による位相差体は、光透過性基材と、位相差層とを備えてなるものであり、その概要は、図２により説明することが可能である。図２は本発明による位相差体の一例を示す概略断面図である。本発明による位相差体１０は、光透過性基材1と、光透過性基材１上に形成された位相差層２を有するものである。本発明による位相差体１０において、光透過性基材１は好ましくは光学的に負のＣプレートとしての性質を有するものであり、位相差層２はランダム配向を形成する棒状化合物３を含むものである。
【００１４】
２．特  性
１）光透過性基材（セルロース誘導体）
光透過性基材は、セルロース誘導体からなり、かつ、前記光透過性基材の表面上に屈折率異方性を有する棒状化合物をランダムに配列させる表面配向性を備えてなるものを利用する。セルロース誘導体は、それ自体、上記した表面配向性を有することから、配向層を必要とせず、また、基材自体を延伸処理することが不要となるので、経済的である。さらに、セルロース誘導体は、特に光学的等方性に優れ、位相差体に光学的等方性を付与することが可能となる。
【００１５】
表面配向性
セルロース誘導体は一般に光学的に負のＣプレートとしての機能を有する。そして、この光透過性基材は、棒状化合物がランダム配向を形成し易いように、いわゆる配向膜としての機能も有するものである。このことから、本発明による位相差体は、位相差層がこの光透過性基材上に形成されると、位相差層に含まれる棒状化合物がランダムホモジニアス配向を形成することが容易となる。
【００１６】
２）位相差層
本発明による位相差層は、屈折率異方性を有する棒状化合物を含んでなるものであり、かつ、角度４０°における位相差（Ｒ４０）の波長依存性が正分散型を示すものであり、位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、前記位相差層における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚと定義した場合に、一般式（Ｉ）：ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ  （Ｉ）を充足するものである。
【００１７】
正分散型
本発明にあっては、角度４０°における位相差（Ｒ４０）の波長依存性が正分散型を示す。ここで、「角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）」とは、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の指標として評価することができるものである。角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）は、厚み方向に平行な方向に対して、４０°傾斜した方向から測定を入射させて測定した位相差値であり、位相差フィルムの厚み方向に平行な方向に対して、４０°傾斜した方向において互いに直交する任意のｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ４０、ｎｙ４０ 、厚み方向の屈折率をｎｚ４０ 、さらに厚みをｄ・ｃｏｓ４０°とした場合にＲｅ４０＝（ｎｘ４０−ｎｙ４０ ）×ｄ／ｃｏｓ４０°で表されるものである。ここで、（ｎｘ４０−ｎｙ４０ ）は、［ｎｘ−｛ｎｙ２ｎｘ２／（ｎｙ２ｓｉｎ２ψ＋ｎｚ２／ｃｏｓ２ ψ）｝］ １／２ で表される。
【００１８】
本発明においては、「角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）」は、特筆されていない限り２３℃、５５％ＲＨの環境下で、測定光を入射することによって測定された値を意味するものである。このようなＲｅ４０ は、例えば、大塚電子株式会社製  ＲＥＴＳ−１００を用い、測定することができる。また、Ｒ４０ （４５０）は角度４０°より波長４５０．６ｎｍを入射することによって測定された値を意味し、Ｒｅ４０ （５５０）は角度４０°より波長５５４．１ｎｍを入射することによって測定された値を意味し、Ｒ４０ （６５０）は角度４０°より波長６４７．６ｎｍを入射することによって測定された値を意味する。本発明によれば、上記透明基板が面内方向および厚み方向において光学的等方性を示すものであることにより、上記透明基板の屈折率異方性の作用により、上記位相差層の角度４０°における位相差の正分散性が減殺されることがないため、高い正分散性を実現することができる。
【００１９】
本発明に用いられる透明基板が面内方向および厚み方向において光学的等方性を示すことにより、角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）の高い正分散性を実現することができる理由について、図３を参照しながら具体例を用いて説明する。図３は、当該理由について説明する概略図である。なお、ここでは、本発明の位相差フィルムと同様に、透明基板と、透明基板上に形成された位相差層とを有する位相差フィルムを例に挙げて説明する。
図２（ａ）は、従来の位相差フィルムの透明基板および位相差層について角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）の波長分散を示す概略図である。図２（ａ）に例示するように従来の位相差フィルムは、透明基板として角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）が逆分散性を示すものが用いられ、かつ、位相差層として角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）が正分散性を示すものが用いられるのが一般的であった。
しかしながら、このような波長分散を示す透明基板および位相差層が用いられた位相差フィルムにおいては、上記位相差層が示す正分散性が、上記透明基板が示す逆分散性によって減殺されてしまうため、位相差フィルム全体として高い正分散性を実現することは困難であった。
【００２０】
また、図２（ｂ）に示す従来の位相差フィルムでは、透明基板として角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）の波長依存性がフラット型のものが用いられ、かつ、位相差層として角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）が正分散性を示すものが用いられたものも知られていた。しかしながら、このような波長分散を示す透明基板および位相差層が用いられた位相差フィルムにおいては、上記位相差層が有する正分散性が、上記透明基板の位相差性によって減殺されてしまい、やはり位相差フィルム全体として高い正分散性を実現することは困難であった。
【００２１】
他方、図４は本発明の位相差フィルムに用いられる透明基板および位相差層について角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）の波長分散を示す概略図である。図４に例示するように、本発明においては光学的等方性を示す、すなわち位相差性を有さない透明基板と、角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）が正分散性を示す位相差層が用いられていることから、これらによって位相差フィルムを構成した場合であっても、上記位相差層の正分散性が上記透明基板の存在によって減殺されることがない。このため、本発明の位相差フィルムにおいては上記位相差フィルムが備える正分散性を損なうことがないため、高い正分散性を実現することができるのである。このようなことから、本発明によれば光学的に負のＣプレートとしての性質を有し、角度４０°における位相差（Ｒ４０ ）の正分散性が大きい位相差フィルムを得ることができる。
【００２２】
また、本発明によれば上記透明基板がセルロース誘導体からなるものであるため、例えば、本発明の位相差フィルムを偏光板保護フィルムとして兼用した場合に、偏光子に含まれる水分をフィルムを通して揮散させることができるため、偏光板の耐久性を向上させることができる。
【００２３】
式（Ｉ）
位相差層は、位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、前記位相差層における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚと定義した場合に、下記式（Ｉ）：ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ  （Ｉ）を充足する。この一般式（Ｉ）を充足する位相差層を有する位相差体は、いわゆる光学的に負のＣプレートとしての性質を有するものである。
【００２４】
式（ＩＩ）
位相差層は、位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙ、位相差層の厚みをｄｎｍ、位相差体の面内位相差をＲ０と定義した場合に、下記式（ＩＩ）：Ｒ０＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄ≦１ｎｍ  （II）を充足する。Ｒ０が上記範囲内にあり、また、好ましくは、また、長波長側の方が短波長側よりもＲ０値が大きい態様でもよく、また、短波長側の方が、長波長側よりもＲ０ 値が大きい態様でも良い。このようなＲ ｅ 値及び波長依存性を有することにより、位相差体として、可視光域の全域における液晶表示素子の視野角特性を特に改善することが可能となる。Ｒ０値は、例えば自動複屈折測定装置（ 例えば、王子計測機器株式会社製、商品名： Ｋ Ｏ Ｂ Ｒ Ａ − ２ １ Ａ Ｄ Ｈ ） を用いて、２ ３℃ 、５ ５ ％ Ｒ Ｈ の環境下で、波長が５ ８ ９ ｎ ｍ において３ 次元屈折率測定を行い、屈折率ｎ ｘ 、ｎ ｙ 、ｎ ｚ を求めることにより得ることができる。
【００２５】
強度比（Ｉ／Ｉ）
本発明の好ましい態様によれば、位相差層の表面が、反射法におけるＸ線回折チャートにおいて、入射Ｘ線の延長線と反射Ｘ線との成す角度を（２θ）とした場合に、角度（２θ）が８．５°における強度Ｉ８．５と、角度（２θ）が１７．０°の強度Ｉ１７の比Ｉ８．５／Ｉ１７．０が１．６０以下、好ましくは１．５０以下であることが好ましい。
また、本発明の別の好ましい態様によれば、角度（２θ）が１４．０°における強度Ｉ１４．０と、角度（２θ）が１７．０°の強度Ｉ１７．０の比Ｉ１４．０／Ｉ１７．０が１．１４以下、好ましくは１．１０以下であることが好ましい。
本発明のより好ましい態様によれば、上記した各強度の組み合わせであることがより好ましい。強度比が上記の数値である光透過性基材を利用することにより、この光透過性基材に配向処理を施したり、配向層を形成させることが不要となり、製造工程を容易にすることが可能となる。
【００２６】
Ｘ線回折チャートは、以下の条件で測定されたものを用いるものとする。
装置名：ＲＩＧＡＫＵ  ＲＩＮＰ−１５００
Ｘ線源：Ｃｕ
管電流：１５０ｍＡ
管電圧：５０ｋＶ
走査速度：５°／ｍｉｎ
発散スリット（ＤＳ：自動）１°
散乱スリット（ＳＳ：自動）１°
受光スリット（ＲＳ：自動）０．３ｍｍ
モノクロ受光スリット（ＲＳｍ：手動）０．６ｍｍ
【００２７】
３）位相差体
Ｒｅ
本発明の位相差体は、位相差体の厚み方向の位相差（Ｒｅが、０ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であり、０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内であることが好ましく、０〜１ｎｍの範囲内であることがより好ましい。Ｒｅ上記範囲内であることにより、本発明の位相差体を、ＶＡ方式の液晶表示素子の視野角特性を改善するのに好適な位相差体として用いることができるからである。Ｒｅ値は、波長依存性を有していても良い。例えば、長波長側の方が短波長側よりもＲｅ値が大きい態様でもよく、また、短波長側の方が、長波長側よりもＲｅ値が大きい態様でも良い。このようなＲｅ値の波長依存性を有することにより、例えば、本発明の位相差体を液晶表示素子の視野角特性改善のための位相差体として用いた場合に、可視光域の全域において液晶表示素子の視野角特性を改善できるからである。
【００２８】
Ｒｔｈ
位相差体の厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）が、５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下程度の範囲であり、好ましくは下限値が１００ｎｍ以上であり上限値が３００ｎｍ以下程度の範囲内であることが好ましい。Ｒｔｈが上記範囲内であることにより、Ａプレートと相俟って、本発明の位相差体を、ＶＡ方式の液晶表示装置の視野角特性を改善するのに好適な位相差体を得ることができる。
【００２９】
厚み
位相差体の厚みは、所望の光学的特性を発現できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、通常、１０μｍ〜２００μｍの範囲内が好ましく、特に２０μｍ〜１００μｍの範囲内が好ましい。
【００３０】
混合領域
本発明による位相差体は、基材上に位相差層を直接形成することを一つの特徴とするため、位相差層に含まれる棒状化合物が、光透過性基材に浸透し、該基材と位相差層との接着部には両者が「混合」された混合領域が形成される。このような混合領域の厚みは、ランダムホモジニアス配向を形成することができ、かつ、基材と位相差層との密着力を所望の範囲にできる状態であれば特に限定されない。なかでも本発明においては、混合領域の厚みが０．１μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．５μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも１μｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましい。
【００３１】
混合領域における棒状化合物の分布状態についても、ランダムホモジニアス配向を形成することができ、かつ、基材と位相差層との密着力を所望の範囲にできる状態であれば特に限定されない。棒状化合物の分布状態としては、基材の厚み方向に対して均一に存在する態様と、基材の厚み方向に対して濃度勾配を有する態様とを例示できるが、本発明においてはいずれの態様も好適に用いることができる。混合領域の存在確認と、混合領域における棒状化合物の分布状態の確認は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ法により確認することができる。
【００３２】
ヘイズ値
位相差体のヘイズ値は０％〜５％の範囲内であることが好ましく、特に０％〜１％の範囲内であることが好ましく、なかでも０％〜０．５％の範囲内であることが好ましい。
【００３３】
３．構成
１）光透過性基材（セルロース誘導体）
セルロース誘導体は、可撓性を有するフレキシブル材であり、位相差体の製造工程をロール・トゥ・ロール方法とすることができ、生産性に優れる。セルロース誘導体の具体例として、セルロースエステル類が挙げられ、その中でも、セルロースアシレート類が好ましい。セルロースアシレート類の具体例としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましくは挙げられ、その中でも、セルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレート及びセルロースアセテートプロピオネートのような複数の低級脂肪酸エステルを含むものであっても良い。本発明にあっては、低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートが特に好ましくは用いられる。そして、セルロースアセテートの中でも、平均酢化度が５７．５〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。「酢化度」とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。具体的には、セルロース誘導体の一例であるトリアセチルセルロースの酢化度は、構造体中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の測定等により求めることができる。
【００３４】
トリアセチルセルロースは、比較的嵩高い側鎖を有する分子構造を有する。このことから、棒状化合物を含む位相差層用組成物が、トリアセチルセルロースからなる光透過性基材に付与されると、光透過性基材に浸透し、その結果、光透過性基材と位相差層との密着性を向上させることできる。また、トリアセチルセルロースは、光学的に負のＣプレートとしての性質を発現しやすいことから、棒状化合物のランダムホモジニアス配向を形成することが容易になる。
【００３５】
光透過性基材は、セルロース誘導体からなる単一又は複数の層で構成されてよく、複数層の場合、同一又は異なる材料の層で形成されてよい。また、光透過性基材の透明度は、本発明の位相差体に求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。光透過性基材の厚みは、位相差体の用途等に応じて適宜定めることができるが、１０μｍ〜１８８μｍの範囲内が好ましく、特に２０μｍ〜１２５μｍの範囲内が好ましく、特に３０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。基材の厚みが上記範囲内にあることにより、位相差体における支持体としての機能を発揮することができ、また、製造が容易となる。
【００３６】
光透過性基材は、好ましくは、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）が、２０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に２５ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましく、なかでも３０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内であることが好ましい。Ｒｔｈが、上記範囲内にあることにより、上記棒状化合物の種類を問わず、均質なランダムホモジニアス配向を形成することが可能となる。また、好ましくは、光透過性基材は、Ｒｔｈが上記範囲内であることに加え、面内の位相差（Ｒｅ）が、０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０ｎｍ〜１２５ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００３７】
２）位相差層
層厚
位相差層の厚みは、棒状化合物の種類及び所望の光学的特性を付与できる範囲内であれば特に限定されない。位相差層の厚みは０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０．５μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましく、特に１μｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましい。位相差層の厚みが上記範囲内にあることにより、棒状化合物の種類に合致させた光学異方性を発揮することがかのうとなり、かつ、ランダムホモジニアス配向の特徴の一つである「面内配向性」が十分達成される結果、所望の光学的特性が得ることが可能性となる。ここで、位相差層に厚みには、位相差層と光透過性基材との接着部に両者が「混合」した混合領域を有する場合、混合領域の厚みを含まないものとする。
【００３８】
Ｒｅ、Ｒｔｈ
本発明における位相差層の面内方向の位相差（Ｒｅ）は、ランダムホモジニアス配向が具備する「不規則性」および「面内配向性」の観点から、上述した通り０ｎｍ〜５ｎｍの範囲内が好ましく、なかでも０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内が好ましく、特に０ｎｍ〜１ｎｍの範囲内が好ましい。本発明における位相差層は、位相差層の位相差値（Ｒｅ（ｎｍ））を位相差層の厚み（ｄ（μｍ））で除した値（Ｒｅ／ｄ）が、０〜０．２の範囲内であることが好ましく、なかでも０〜０．１の範囲内であることが好ましく、特に０〜０．０５の範囲内であることが好ましい。
【００３９】
本発明における位相差層の厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は、ランダムホモジニアス配向が具備する「面内配向性」の観点から、上述した通り５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、なかでも５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内が好ましく、特に５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内が好ましい。本発明における位相差層は、位相差層の厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ（ｎｍ））を位相差層の厚み（ｄ（μｍ））で除した値（Ｒｔｈ／ｄ）が、０．５〜１３の範囲内であることが好ましく、なかでも０．５〜１０の範囲内であることが好ましく、特に０．５〜７の範囲内であることが好ましい。
【００４０】
ヘイズ値
位相差層のヘイズ値は、ランダムホモジニアス配向が具備する「分散性」の観点から、上述した通り、０％〜５％の範囲内が好ましく、なかでも０％〜１％の範囲内が好ましく、特に０％〜０．５％の範囲内が好ましい。
【００４１】
組成及び形成
本発明における位相差層の構成は、単一又は複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一又は異なる組成であってもよい。なお、位相差層が複数層から構成される場合は、少なくとも基材上に直接積層された位相差層が、ランダムホモジニアス配向を形成した棒状化合物を有すれば良い。位相差層は、屈折率異方性光学を有する棒状化合物、樹脂等のその他の材を含んでなる位相差層用組成物を用いて形成することができる。
棒状化合物
位相差層は屈折率異方性を有する棒状化合物を含んでなる。好ましくは、この棒状化合物は、位相差層内においてランダムホモジニアス配向を形成してなる。このような配向状態を有することにより本発明の位相差体を光学的特性に優れたものにできるものである。
このランダムホモジニアス配向は、少なくとも、次の３つの特徴を有するものである。即ち、１］第１に位相差層の表面に対して垂直方向から位相差層を正視した場合において、棒状化合物の配列方向がランダムであること（以下、単に「不規則性」と称する場合がある。）、２］第２に位相差層において棒状化合物が形成するドメインの大きさが可視光領域の波長よりも小さいこと（以下、単に「分散性」と称する場合がある）、３］第３に位相差層において棒状化合物が面内配向していること（以下、単に「面内配向性」と称する場合がある。）、というものである。
【００４２】
ランダムホモジニアス配向は図３を用いて説明することが可能である。図５（ａ）は図２中のＡで表す位相差層の表面に対して垂直方向から本発明の位相差体を正視した場合の概略図である。また、図５（ｂ）、（ｃ）は、図５（ａ）におけるＢ−Ｂ’線矢視断面図である。
【００４３】
１］第１の特徴である、「不規則性」について図５（ａ）を参照しながら説明する。上記「不規則性」は、図５（ａ）に示すように、位相差層２の表面に対して垂直方向から本発明の位相差体１０を正視した場合に、位相差層２において棒状化合物３がランダムに配列していることを示すものである。ここで、本発明においては上記棒状化合物３の配列方向を説明するのに、図５（ａ）中のａで表す分子長軸方向（以下、分子軸と称する。）を基準として考えるものとする。したがって、上記棒状化合物の配列方向がランダムであることは、上記位相差層に含まれる棒状化合物３の分子軸ａがランダムに向いていることを意味する。
【００４４】
図５(ａ)に例示するような配列状態の他に、棒状化合物がコレステリック構造を有する場合であっても、上記分子軸ａの方向が全体としてランダムになるため、形式的には上記「不規則性」に該当するが、本発明における上記「不規則性」には、コレステリック構造に起因する形態は含まないものとする。
【００４５】
２］第２の特徴である、「分散性」について図５（ａ）を参照しながら説明する。「分散性」は、図５（ａ）に示すように、位相差層２において棒状化合物３がドメインｂを形成している場合に、ドメインｂの大きさが可視光領域の波長よりも小さいことを示すものである。本発明においては、上記ドメインｂの大きさが小さい程好ましいものであり、棒状化合物が単分子で分散している状態が最も好ましいものである。
【００４６】
３］第３の特徴である、「面内配向性」について図５（ｂ）を参照しながら説明する。「面内配向性」は、図２（ｂ）に示すように、位相差層２において棒状化合物３が、分子軸ａを位相差層３の法線方向Ａに対して略垂直になるように配向していることを意味する。本発明における「面内配向性」としては、図２（ｂ）に示すように、位相差層２におけるすべての棒状化合物３の分子軸ａが上記法線方向Ａに対して略垂直になっている場合のみを意味するものではなく、例えば図５（ｃ）に示すように、位相差層２に分子軸ａ’が上記法線方向Ａと垂直でない棒状化合物３が存在していたとしても、位相差層２中に存在する棒状化合物３の分子軸ａの平均的な方向が上記法線方向Ａに対して略垂直である場合を含むものである。
【００４７】
棒状化合物の例
本発明における棒状化合物は、位相差層においてランダムホモジニアス配向を形成できるものであれば特に限定されない。本発明における「棒状化合物」とは、分子構造の主骨格が棒状となってものを指し、このような棒状の主骨格を有する化合物としては、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類をあげることができる。また、以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【００４８】
棒状化合物は、分子量が比較的小さい化合物が好適に用いられる。具体的には、分子量が２００〜１２００の範囲内、特に４００〜８００の範囲内の化合物が好適に用いられる。分子量が上記範囲内であることにより、棒状化合物が後述する基材へ浸透しやすくなるため、基材と位相差層との接着部位における「混合」状態を形成し易くなり、基材と位相差層との密着性を向上することができる。
【００４９】
棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。棒状化合物が液晶性材料であることにより、位相差層を、単位厚み当たりの光学的特性の発現性に優れたものにできる。また、棒状化合物は、液晶性材料の中でもネマチック相を示すものが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、ランダムホモジニアス配向を形成することが比較的容易だからである。さらに、ネマチック相を示す液晶性材料は、メソゲン両端にスペーサを有する分子であることが好ましい。このような液晶性材料は、柔軟性に優れるため、本発明における位相差層が白濁することを効果的に防止することができる。
【００５０】
棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも３次元架橋可能な重合性官能基を有するものが好ましい。棒状化合物が重合性官能基を有することにより、棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、棒状化合物がランダムホモジニアス配向を形成している状態で固定化することにより、配列安定性に優れ、光学的特性の変化が生じにくい位相差体を得ることができるからである。また、本発明においては重合性官能基を有する棒状化合物と、重合性官能基を有さない棒状化合物とを混合して用いても良い。ここで、「３次元架橋」とは、液晶性分子を互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。
【００５１】
このような重合性官能基としては、特に限定されるものではなく、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する各種重合性官能基が用いられる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。又、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和三重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００５２】
本発明にあって、棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であって、末端に重合性官能基を有するものが特に好ましい。例えば両末端に重合性官能基を有するネマチック液晶性材料を用いれば、互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができ、配列安定性を備え、かつ、光学的特性の発現性に優れた位相差層を得ることができる。また、片末端に重合性官能基を有するものであっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。このような棒状化合物として、下記式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。
【００５３】
【化１】
2009237100.tif 000003
【００５４】
化学式（１）、（２）、（５）および（６）で示される液晶性材料は、Ｄ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９０,３２０１−３２１５（１９８９）、またはＤ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.Ｃｈｅｍ.１９０,２２５０（１９８９）に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式（３）および（４）で示される液晶性材料の調製は、ＤＥ１９５,０４,２２４に開示されている。
また、末端にアクリレート基を有するネマチック液晶性材料の具体例としては、下記化学式（７）〜（１７）に示すものも挙げられる。
【００５５】
【化２】
2009237100.tif 000004
【００５６】
棒状化合物は、１種又は２種以上を混合して用いても良い。例えば、棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学的特性を任意に調整できる点から好ましい。
【００５７】
棒状化合物の含有量は、位相差層用組成物全量中、０．１質量％〜６０質量％の範囲内が好ましく、特に１質量％〜５０質量％の範囲内が好ましく、なかでも１０質量％〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。
【００５８】
任意成分
本発明における位相差層には、棒状化合物以外に他の化合物を含んでも良い。このような他の化合物としては、棒状化合物のランダムホモジニアス配向を乱すものでなければ特に限定されない。任意成分として以下のものが挙げられる。
【００５９】
重合可能材料
重合可能な材料としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等を挙げることができる。
【００６０】
光重合開始剤
位相差層用組成物中には、必要に応じて光重合開始剤を含んでも良い。特に紫外線照射により位相差層を硬化させる処理を実施する場合には、光重合開始剤を含むことが好ましい。本発明に用いられる光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本発明では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６１】
光重合開始助剤
光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。
【００６２】
任意の化合物
位相差層用組成物には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。位相差層用組成物に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲で決定することができる。任意の化合物を添加することにより位相差層の機械強度が向上し、安定性が改善される。
【００６３】
３）その他の層
本発明による位相差体は、その他の層として、例えば、反射防止層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、および、帯電防止層等を備えてなることができる。反射防止層としては、特に限定されないが、例えば、光透過性基材上に、該基材よりも低屈折率の物質からなる低屈折率層を形成したもの、或いは光透過性基材上に、該基材よりも高屈折率の物質からなる高屈折率層、及び該基材よりも低屈折率の物質からなる低屈折率層とを、この順に、交互に、各１層ずつ以上積層したものなどが挙げられる。これら高屈折率層、及び低屈折率層は、層の幾何学的厚と屈折率との積で表される光学厚みが反射防止すべき光の波長の１／４となるように、真空蒸着、塗工等により形成される。
【００６４】
高屈折率層の構成材料としては、酸化チタン、硫化亜鉛等が、低屈折率層の構成材料としては、弗化マグネシウム、氷晶石等が用いられる。紫外線吸収層としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等の体中に、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物等から成る紫外線吸収剤を添加して成膜したものが挙げられる。
赤外線吸収層としては、ポリエステル樹脂等の体基材上に赤外線吸収層を塗工等により形成したものが挙げられる。また、外線吸収層としては、例えば、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等から成る赤外線吸収剤を、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等から成るバインダー樹脂中に添加して成膜したものが用いられる。
【００６５】
また、帯電防止層としては、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜３級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性帯電防止剤；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン系帯電防止剤；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性帯電防止剤；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性の帯電防止剤；、帯電防止剤を高分子量化した高分子型帯電防止剤；第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を有し、電離放射線により重合可能なモノマーやオリゴノマー、例えば、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレートモノマー、それらの第４級化合物等の重合性帯電防止剤等の帯電防止剤を添加して成膜したものが挙げられる。
【００６６】
ＩＩ．位相差体の製造方法 
本発明による位相差体の製造方法は、本発明による位相差体の技術的特徴を発現することができるように行われる。本発明による位相差体の製造方法は、セルロース誘導体からなり、かつ、前記光透過性基材の表面上に屈折率異方性を有する棒状化合物をランダムに配列させる表面配向性を備えてなる前記光透過性基材を用意する。そして、この透過性基材の表面に、前記棒状化合物を含有する位相差層用組成物を付与し、必要に応じて、前記位相差層用組成物を硬化し、位相差層を形成することを含んでなるものである。
【００６７】
位相差層用組成物
位相差層用組成物は、棒状化合物と、任意成分と、溶媒とを含んでなるものである。溶媒を用いることにより、棒状化合物を溶媒と共に光透過性基材中へ浸透させることが可能となるため、棒状化合物と、基材を構成する材料との相互作用を強めることができる結果、棒状化合物のランダムホモジニアス配向を形成し易くなる。
【００６８】
溶媒
溶媒としては、棒状化合物を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されない。本発明に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒を例示することができ、これらの１種又は２種以上の混合溶媒であってもよい。これら溶媒の中でも、ケトン系溶媒を用いることが好ましく、なかでもシクロヘキサンが好適に用いられる。
【００６９】
位相差層の形成方法
位相差層用組成物により位相差層を形成する方法は、光透過性基材の表面に位相差層用組成物を付与する方法であればいずれの方法を用いてもよく、具体的には、塗布方式する方法が挙げられる。塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などを例示することができる。
【００７０】
位相差層用組成物の塗膜の厚みは、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、通常、０．１μｍ〜５０μｍの範囲内が好ましく、特に０．５μｍ〜３０μｍの範囲内が好ましく、中でも０．５μｍ〜１０μｍの範囲内が好ましい。また、位相差層用組成物の塗膜の乾燥方法は、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本発明における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
【００７１】
棒状化合物として重合性材料を用いる場合、重合性材料を重合する方法は、特に限定されるものではなく、重合性材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。なかでも本発明においては、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性材料を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光を使用することが好ましく、中でも、波長が１５０〜５００ｎｍ、好ましくは２５０〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは３００〜４００ｎｍの照射光を用いることが好ましい。照射光の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などが例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。また、照射強度は、光重合開始剤の含有量等によって適宜調整して照射することができる。
【００７２】
III．位相差体の用途
本発明の位相差体の具体的な用途としては、例えば、液晶表示装置に用いられる光学補償板（例えば、視角補償板）、楕円偏光板、輝度向上板等を挙げることができる。なかでも本発明においては、負のＣプレートとしての用途に用いることができる。このように負のＣプレートである光学補償板として用いられる場合は、ＶＡモードもしくはＯＣＢモードなどの液晶層を有する液晶表示装置に好適に用いられる。
【００７３】
本発明による位相差体は、偏光層と貼り合わせることにより、偏光体としての用途にも用いることができる。偏光体は、通常偏光層とその両表面に保護層が形成されてなるものであるが、本発明においては、例えばその一方側の保護層を上述した位相差体とすることにより、例えば液晶表示装置の視野角特性を改善する光学補償機能を有する偏光体とすることができる。
【００７４】
偏光層としては、特に限定されないが、例えばヨウ素系偏光層、二色性染料を用いる染料系偏光層やポリエン系偏光層などを用いることができる。ヨウ素系偏光層や染料系偏光層は、一般にポリビニルアルコールを用いて製造される。本発明の位相差体は、延伸処理を施して用いても良い。このような延伸処理を施す態様としては、特に限定されるものではないが、例えば、本発明の位相差体に延伸処理を施して、２軸性体として用いる態様を挙げることができる。
【００７５】
実施例
本発明の内容を下記の実施例を用いて説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定して解釈されるものではない。
例１
光透過性基材として、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース体（コニカミノルタ社製  ＫＣ４ＵＹＷ）を用いた。
位相差層形成用組成物の調製
屈折率異方性材料として下記化学式（Ｉ）で表される光重合性液晶化合物、重合開始剤としてイルガキュア９０７（日本チバガイギー社製）を光重合性液晶化合物に対して５ｗｔ％とし、シクロヘキサノンに２０ｗｔ％溶解させ、位相差層形成用組成物を調製した。
【００７６】
【化３】
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位相差体の調製
この位相差層形成用組成物を光透過性基材上に、バーコート法により塗工し、４０℃オーブンで２分間乾燥させた後、窒素雰囲気下にて、１００ｍＪ／ｍ２の紫外線を照射して硬化させ、光透過性基材上に厚み３μｍの位相差層を形成することにより位相差体を調製した。
例２
基材として、厚み８０μｍのトリアセチルセルロース体（コニカミノルタ社製  ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ）を用いたこと以外は、実施例１と同様に作製した。
例３
基材上に厚み５μｍの位相差層を形成すること以外は、実施例２と同様に作製した。
【００７７】
比較例１
基材として、厚み８０μｍのトリアセチルセルロース体（富士フィルム社製  ＴＤ８０ＵＬＨ）を用いたこと以外は、実施例１と同様に作製した。
比較例２
基材として、厚み８０μｍのトリアセチルセルロース体（富士フィルム社製  ＴＤＹ８０ＵＬ）を用いたこと以外は、実施例１と同様に作製した。
【００７８】
評価試験
例及び比較例で調製した位相差体について以下の評価を行った。その結果は、下記表１に示した通りであった。
【００７９】
評価１：波長分散測定
２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長４５０ｎｍ（Ｒ４５０）及び、波長５５０ｎｍ（Ｒ５５０）の測定波長で測定し、サンプル法線方向より４０°傾斜した角度より位相差体の位相差を計測した。測定に際しては、大塚電子株式会社製 ＲＥＴＳ−１００を用いて測定し、Ｒ４５０／Ｒ５５０の数値を求めた。数値の評価は以下の通りであった。
評価基準
Ｒ４５０／Ｒ５５０＞１．００：Ｒ４０の波長依存性が正分散型を示す。
Ｒ４５０／Ｒ５５０＝１．００：Ｒ４０の波長依存性がフラット型を示す。
Ｒ４５０／Ｒ５５０＜１．００：Ｒ４０の波長依存性が負分散型を示す。
【００８０】
評価２：Ｒｅ、Ｒｔｈ
ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器株式会社製）を用い、平行ニコル回転法により、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長５８９ｎｍの光を、厚み方向に対して平行に入射して測定した。測定後、下記１）及び２）を行った。
１）位相差体の位相差層における面内方向において、互いに直交するｘ、ｙ方向の屈折率をｎｘ、ｎｙと、及び、前記位相差層における厚み方向において、ｚ方向の屈折率をｎｚの関係を調べた。ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ（Ｉ）を充足する位相差層を有する位相差体は、いわゆる光学的に負のＣプレートである。
２）位相差体の面内位相差をＲｅ及び厚み方向の位相差Ｒｔｈを測定し、Ｒ０＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄ  （II）を計算した。Ｒｅ及びＲｔｈの単位は、「ｎｍ」である。得れた値は以下の基準で視野角特性の優劣が評価される。
評価基準
優良：    ０≦Ｒ０≦０．５
良好：０．５＜Ｒ０≦０．８
良：０．８＜Ｒ０≦１．０
若干不良：１．０＜Ｒ０≦３．０
不良：３．０＜Ｒ０
【００８１】
評価３：Ｘ線回折測定
下記測定条件にて、反射法におけるＸ線回折測定し、Ｘ線回折チャートにおいて、入射Ｘ線の延長線と反射Ｘ線とのなす角を２θとした場合において、２θ＝８．５°の強度Ｉ８．５と２θ＝１７°の強度Ｉ１７の比Ｉ８．５／Ｉ１７；２θ＝１４．０°の強度Ｉ１４．０と２θ＝１７．０°の強度Ｉ１７．０の比Ｉ１４．０／Ｉ１７．０；について測定した。
測定条件
装置名：ＲＩＧＡＫＵ  ＲＩＮＰ−１５００
Ｘ線源：Ｃｕ
管電流：１５０ｍＡ
管電圧：５０ｋＶ
走査速度：５°／ｍｉｎ
発散スリット（ＤＳ：自動）１°
散乱スリット（ＳＳ：自動）１°
受光スリット（ＲＳ：自動）０．３ｍｍ
モノクロ受光スリット（ＲＳｍ：手動）０．６ｍｍ
評価基準
１）Ｉ８．５／Ｉ１７．０評価
優良：    １．１０＜Ｉ８．５／Ｉ１７．０≦１．５０
良：    １．００≦Ｉ８．５／Ｉ１７．０≦１．６０
不良：    １．５０＜Ｉ８．５／Ｉ１７．０
２）Ｉ１４．０／Ｉ１７．０評価 
優良：  １．００＜Ｉ１４．０／Ｉ１７．０≦１．０７  
良：  １．００≦Ｉ１４．０／Ｉ１７．０≦１．１０
不良：  １．１０＜Ｉ１４．０／Ｉ１７．０
【００８２】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】一般的な液晶表示装置の一例を表す概略図である。
【図２】本発明の位相差体の一例を示す概略断面図である。
【図３】従来の位相差フィルムの波長分散特性を説明する概略図である。
【図４】本発明の位相差体の波長分散特性を説明する概略図である。
【図５】本発明の位相差体の他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００８４】
１ … 光透過性基材
２ … 位相差層
３ … 棒状化合物
１０ … 位相差体
２１ … 光透過性基材
２２ … 配向層
２３ … 位相差層
４０ … 位相差体
１００ … 液晶表示装置
１０２Ａ、１０２Ｂ … 偏光板
１０４ … 液晶セル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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