(57)【要約】【課題】液滴吐出装置に対する基板の方向ずれが着弾位置の位置ずれに及ぼす影響を小さくすることができるマザー基材、膜形成領域の配設方法、及びカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】マザー基材は、１以上の膜形成区画を有する膜形成領域を複数備えるマザー基材であって、第一の膜形成区画を備える第一の膜形成領域と、第一の膜形成区画より膜の形成面積が小さい第二の膜形成区画を備える第二の膜形成領域と、を有し、膜材料を配置する際に用いる配置装置にセットされた状態で、配置装置に備えられた回動装置の回動中心に対して第一の膜形成領域より近い位置に第二の膜形成領域が配設されている。【選択図】図１４
2009198535.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上の膜形成区画を有する膜形成領域を複数備えるマザー基材であって、
第一の膜形成区画を備える第一の膜形成領域と、
第一の膜形成区画より膜の形成面積が小さい第二の膜形成区画を備える第二の膜形成領域と、を有し、
膜材料を配置する際用いる配置装置にセットされた状態で、前記配置装置に備えられた回動装置の回動中心に対して前記第一の膜形成領域より近い位置に前記第二の膜形成領域が配設されていることを特徴とするマザー基材。
【請求項２】
前記配置装置は、前記膜材料を配置する配置ヘッドと、前記配置ヘッドと前記マザー基材とを主走査方向に相対移動させる相対移動装置とを備え、
前記第一の膜形成区画は、前記主走査方向の幅が第一の幅であり、前記第二の膜形成区画は、前記主走査方向の幅が前記第一の幅より小さい第二の幅であり、
前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向に略直交する副走査方向において、前記第二の膜形成領域が前記第一の膜形成領域より前記回動中心に近い位置に配設されていることを特徴とする請求項１に記載のマザー基材。
【請求項３】
前記配置装置は、前記膜材料を配置する配置ヘッドと、前記配置ヘッドと前記マザー基材とを主走査方向に相対移動させる相対移動装置とを備え、
前記第一の膜形成区画は、前記主走査方向に略直交する副走査方向の幅が第三の幅であり、前記第二の膜形成区画は、前記副走査方向の幅が前記第三の幅より小さい第四の幅であり、
前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向において、前記第二の膜形成領域が前記第一の膜形成領域より前記回動中心に近い位置に配設されていることを特徴とする請求項１に記載のマザー基材。
【請求項４】
前記第二の膜形成領域は、前記第一の膜形成領域より前記マザー基材の中央に近い位置に配設されていることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のマザー基材。
【請求項５】
前記マザー基材は、複数の前記第一の膜形成領域が前記主走査方向に配列された第一の領域列と、複数の前記第二の膜形成領域が前記主走査方向に配列された第二の領域列と、を備え、
前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記第二の領域列が、前記副走査方向において、前記第一の領域列より、前記回動中心に近い位置に配設されていることを特徴とする、請求項２に記載のマザー基材。
【請求項６】
前記第二の領域列は、前記第一の領域列より、前記マザー基材の中央に近い位置に配設されていることを特徴とする、請求項５に記載のマザー基材。
【請求項７】
前記マザー基材は、複数の前記第一の膜形成領域が前記副走査方向に配列された第三の領域列と、複数の前記第二の膜形成領域が前記副走査方向に配列された第四の領域列と、を備え、
前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記第四の領域列が、前記主走査方向において、前記第三の領域列より、前記回動中心に近い位置に配設されていることを特徴とする、請求項３に記載のマザー基材。
【請求項８】
前記第四の領域列は、前記第三の領域列より、前記マザー基材の中央に近い位置に配設されていることを特徴とする、請求項７に記載のマザー基材。
【請求項９】
１以上の膜形成区画を有する膜形成領域を複数備えるマザー基材における膜形成領域の配設方法あって、
前記マザー基材は、第一の膜形成区画を有する第一の膜形成領域と、前記第一の膜形成区画より膜の形成面積が小さい第二の膜形成区画を有する第二の膜形成領域と、を備え、
膜材料を配置する際に用いる配置装置に前記マザー基材がセットされた状態において、前記配置装置に備えられた回動装置の回動中心に対して前記第一の膜形成領域より近い位置に前記第二の膜形成領域を配設することを特徴とする膜形成領域の配設方法。
【請求項１０】
前記配置装置は、前記膜材料を配置する配置ヘッドと前記マザー基材とを主走査方向に相対移動させながら前記膜材料を配置し、
前記第一の膜形成区画は、前記主走査方向の幅が第一の幅であり、前記第二の膜形成区画は、前記主走査方向の幅が前記第一の幅より小さい第二の幅であり、
前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向に略直交する副走査方向において、前記第二の膜形成領域を前記第一の膜形成領域より前記回動中心に近い位置に配設することを特徴とする、請求項９に記載の膜形成領域の配設方法。
【請求項１１】
前記配置装置は、前記膜材料を配置する配置ヘッドと前記マザー基材とを主走査方向に相対移動させながら前記膜材料を配置し、
前記第一の膜形成区画は、前記主走査方向に略直交する副走査方向の幅が第三の幅であり、前記第二の膜形成区画は、前記副走査方向の幅が前記第三の幅より小さい第四の幅であり、
前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向において、前記第二の膜形成領域を前記第一の膜形成領域より前記回動中心に近い位置に配設することを特徴とする、請求項９に記載の膜形成領域の配設方法。
【請求項１２】
前記第二の膜形成領域を、前記第一の膜形成領域より前記マザー基材の中央に近い位置に配設することを特徴とする、請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の膜形成領域の配設方法。
【請求項１３】
前記マザー基材は、複数の前記第一の膜形成領域が前記主走査方向に配列された第一の領域列と、複数の前記第二の膜形成領域が前記主走査方向に配列された第二の領域列と、を備え、
前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記第二の領域列を、前記副走査方向において、前記第一の領域列より、前記回動中心に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１０に記載の膜形成領域の配設方法。
【請求項１４】
前記第二の領域列を、前記第一の領域列より、前記マザー基材の中央に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１３に記載の膜形成領域の配設方法。
【請求項１５】
前記マザー基材は、複数の前記第一の膜形成領域が前記副走査方向に配列された第三の領域列と、複数の前記第二の膜形成領域が前記副走査方向に配列された第四の領域列と、を備え、
前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記第四の領域列を、前記主走査方向において、前記第三の領域列より、前記回動中心に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１１に記載の膜形成領域の配設方法。
【請求項１６】
前記第四の領域列を、前記第三の領域列より、前記マザー基材の中央に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１５に記載の膜形成領域の配設方法。
【請求項１７】
１以上の色要素領域を有するフィルタ領域を備える複数のカラーフィルタを形成するためのマザー基板に対して、前記色要素領域に色要素膜を形成するカラーフィルタの製造方法であって、
前記マザー基板は、第一の色要素領域を有する第一のフィルタ領域と、前記第一の色要素領域より前記色要素膜の形成面積が小さい第二の色要素領域を有する第二のフィルタ領域と、を備え、
色要素膜材料を配置する際に用いる配置装置に前記マザー基板がセットされた状態において、前記配置装置に備えられた回動装置の回動中心に対して前記第一のフィルタ領域より近い位置に前記第二のフィルタ領域を配設し、当該第一のフィルタ領域及び第二のフィルタ領域におけるそれぞれの前記色要素領域に前記配置装置を用いて色要素膜材料を配置することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１８】
前記配置装置は、前記色要素膜材料を配置するための配置ヘッドと前記マザー基板とを主走査方向に相対移動させながら前記色要素膜材料を配置し、
前記第一の色要素領域は、前記主走査方向の幅が第一の幅であり、前記第二の色要素領域は、前記主走査方向の幅が前記第一の幅より小さい第二の幅であり、
前記マザー基板が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向に略直交する副走査方向において、前記第二のフィルタ領域を前記第一のフィルタ領域より前記回動中心に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１７に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１９】
前記配置装置は、前記色要素膜材料を配置するための配置ヘッドと前記マザー基板とを主走査方向に相対移動させながら前記色要素膜材料を配置し、
前記第一の色要素領域は、前記色要素領域の前記主走査方向に略直交する副走査方向の幅が第三の幅であり、前記第二の色要素領域は、前記副走査方向の幅が前記第一の幅より小さい第四の幅であり、
前記マザー基板が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向において、前記第二のフィルタ領域を前記第一のフィルタ領域より前記回動中心に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１７に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２０】
前記第二のフィルタ領域を、前記第一のフィルタ領域より、前記マザー基板の中央に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２１】
前記マザー基板は、複数の前記第一のフィルタ領域が前記主走査方向に配列された第一のフィルタ領域列と、複数の前記第二のフィルタ領域が前記主走査方向に配列された第二のフィルタ領域列と、を備え、
前記マザー基板が前記配置装置にセットされた状態で、前記副走査方向において、前記第二のフィルタ領域列を前記第一のフィルタ領域列より前記回動中心に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１８に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２２】
前記第二のフィルタ領域列を、前記第一のフィルタ領域列より、前記マザー基板の中央に近い位置に配設することを特徴とする、請求項２１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２３】
前記マザー基板は、複数の前記第一のフィルタ領域が前記副走査方向に配列された第三のフィルタ領域列と、複数の前記第二のフィルタ領域が前記副走査方向に配列された第四のフィルタ領域列と、を備え、
前記マザー基板が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向において、前記第四のフィルタ領域列を前記第三のフィルタ領域列より前記回動中心に近い位置に配設することを特徴とする、請求項１９に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２４】
前記第四のフィルタ領域列を、前記第三のフィルタ領域列より、前記マザー基板の中央に近い位置に配設することを特徴とする、請求項２３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の膜形成領域を備えるマザー基材、マザー基材における膜形成領域の配設方法、及びフィルタ膜を有するフィルタ領域を備えるカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、カラー液晶装置のカラーフィルタ膜などの機能膜を形成する技術として、液状体を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置を用いて、機能膜の材料を含む液状体の液滴を吐出して基板上の任意の位置に着弾させることで、当該位置に液状体を配置し、配置した液状体を乾燥させて機能膜を形成する技術が知られている。このような膜形成に用いられる液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドは、その吐出ノズルから微小な液滴を選択的に吐出して位置精度良く着弾させることができるため、精密な平面形状及び膜厚を有する膜を形成することができる。
【０００３】
特許文献１に記載されているインクジェットラインヘッドは、吐出ヘッドを主走査方向に並べて配置することで、副走査方向の吐出ノズルの密度を高くしている。即ち、副走査方向の吐出ノズルの間隔を小さくして、吐出される液状体の間隔を小さくすることによって、副走査方向の描画分解能が高いラインヘッドを実現している。
主走査方向の描画分解能は、主走査方向の吐出ノズルと描画対象物との相対移動速度と、液状体を吐出する吐出周波数と、で定まる吐出間隔（以降、「吐出分解能」と表記する。）によって定まる。特許文献２には、吐出分解能を調節することによって、描画対象物の被描画領域に対して適切な描画分解能を実現できる液滴吐出方法が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−１６６５７４号公報
【特許文献２】特開２００６−１３０４６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献に記載された装置や方法を用いて基板上に高精度で液状体を配置するためには、吐出を実施する前に、液滴吐出装置に対して、基板を精度よく位置決めしてセットする必要がある。
位置決めとしては、液滴吐出装置に設定された吐出ノズルや基板の位置を特定するための座標系における、基板の基準点の位置の検出、及び基板における被吐出領域の位置を規定するための座標系の座標軸の方向を、液滴吐出装置の座標系の座標軸の方向に一致させる方向調整が行われる。方向調整には、液滴吐出装置及び基板の座標系に垂直な軸の軸まわり方向に基板を回動させることができる回動装置が用いられる。セットされた基板は液滴吐出ヘッドに対向する位置に移動させられ、液状体を配置する際は、液滴吐出ヘッドと基板とが相対移動させられる。
【０００６】
一般的に、可動装置は、可動ならしめるために、微視的に観ると完全な固定状態とはならない。回動装置も完全な固定状態とはならないため、回動装置によって座標軸方向が調整された基板は、調整終了後に、座標軸方向の微小なずれが生ずる可能性がある。基板の座標系に垂直な軸の軸まわり方向がずれることによって、吐出された液状体の基板上の着弾位置が所定の位置から微小ではあるがずれる可能性があるという課題がある。近年製造されるようになってきた高精細な表示装置の製造においては、微小な位置ずれが形成される膜の形状精度に影響を与えることに起因して、製品の性能に影響を及ぼす可能性がある。また、製造の効率化のために大型化された基板を使用するために、液滴吐出装置に対する基板の方向ずれが着弾位置の位置ずれに及ぼす影響が大きくなっている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００８】
［適用例１］本適用例にかかるマザー基材は、１以上の膜形成区画を有する膜形成領域を複数備えるマザー基材であって、第一の膜形成区画を備える第一の膜形成領域と、第一の膜形成区画より膜の形成面積が小さい第二の膜形成区画を備える第二の膜形成領域と、を有し、膜材料を配置する際に用いる配置装置にセットされた状態で、前記配置装置に備えられた回動装置の回動中心に対して前記第一の膜形成領域より近い位置に前記第二の膜形成領域が配設されていることを特徴とする。
【０００９】
このマザー基材によれば、膜の形成面積が第一の膜形成区画より小さい第二の膜形成区画を有する第二の膜形成領域は、マザー基材が配置装置にセットされた状態で、第一の膜形成区画を有する第一の膜形成領域よりも回動装置の回動中心に近い位置に配設されている。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、回動中心から遠い位置ほど位置ずれ量が大きくなる。同じ位置ずれ量であっても、膜形成区画の大きさが小さいほど、配置された膜材料の一部が膜形成区画から外れるなど、膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。膜の形成面積が第一の膜形成区画より小さい第二の膜形成区画を有する第二の膜形成領域を回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００１０】
［適用例２］上記適用例にかかるマザー基材において、前記配置装置は、前記膜材料を配置する配置ヘッドと、前記配置ヘッドと前記マザー基材とを主走査方向に相対移動させる相対移動装置とを備え、前記第一の膜形成区画は、前記主走査方向の幅が第一の幅であり、前記第二の膜形成区画は、前記主走査方向の幅が前記第一の幅より小さい第二の幅であり、前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向に略直交する副走査方向において、前記第二の膜形成領域が前記第一の膜形成領域より前記回動中心に近い位置に配設されていることが好ましい。
【００１１】
このマザー基材によれば、膜形成区画の主走査方向の幅が第二の幅である第二の膜形成領域は、マザー基材が配置装置にセットされた状態で、膜形成区画の主走査方向の幅が第二の幅より大きい第一の幅である第一の膜形成領域よりも、副走査方向において、回動装置の回動中心に近い位置に配設されている。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、副走査方向において回動中心から遠い位置ほど、主走査方向の位置ずれ量が大きくなる。
同じ位置ずれ量であっても、膜形成区画の幅が小さいほど、配置された膜材料の一部が膜形成区画から外れるなど、膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。膜形成区画の主走査方向の幅が第一の膜形成領域よりも小さい第二の膜形成領域を、副走査方向において回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００１２】
［適用例３］上記適用例にかかるマザー基材において、前記配置装置は、前記膜材料を配置する配置ヘッドと、前記配置ヘッドと前記マザー基材とを主走査方向に相対移動させる相対移動装置とを備え、前記第一の膜形成区画は、前記主走査方向に略直交する副走査方向の幅が第三の幅であり、前記第二の膜形成区画は、前記副走査方向の幅が前記第三の幅より小さい第四の幅であり、前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向において、前記第二の膜形成領域が前記第一の膜形成領域より前記回動中心に近い位置に配設されていることが好ましい。
【００１３】
このマザー基材によれば、膜形成区画の副走査方向の幅が第四の幅である第二の膜形成領域は、マザー基材が配置装置にセットされた状態で、膜形成区画の副走査方向の幅が第四の幅より大きい第三の幅である第一の膜形成領域よりも、主走査方向において、回動装置の回動中心に近い位置に配設されている。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、主走査方向において回動中心から遠い位置ほど、副走査方向の位置ずれ量が大きくなる。
同じ位置ずれ量であっても、膜形成区画の幅が小さいほど、配置された膜材料の一部が膜形成区画から外れるなど、膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。膜形成区画の副走査方向の幅が第一の膜形成領域よりも小さい第二の膜形成領域を、主走査方向において回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００１４】
［適用例４］上記適用例にかかるマザー基材において、前記第二の膜形成領域は、前記第一の膜形成領域より前記マザー基材の中央に近い位置に配設されていることが好ましい。
【００１５】
このマザー基材によれば、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域よりマザー基材の中央に近い位置に配設することによって、マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態でマザー基材を配置装置に装着することで、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることで、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の最大値の大きさを小さくすることができる。
【００１６】
［適用例５］上記適用例にかかるマザー基材であって、前記マザー基材は、複数の前記第一の膜形成領域が前記主走査方向に配列された第一の領域列と、複数の前記第二の膜形成領域が前記主走査方向に配列された第二の領域列と、を備え、前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記第二の領域列が、前記副走査方向において、前記第一の領域列より、前記回動中心に近い位置に配設されていることが好ましい。
【００１７】
このマザー基材によれば、第一の領域列及び第二の領域列は、同じ第一の膜形成領域又は第二の膜形成領域が主走査方向に連なっている。このため、それぞれの配置ヘッドを、一回の主走査方向の相対移動の間は、同じ第一の膜形成領域又は第二の膜形成領域に膜材料を配置するのに対応した一定の駆動条件で駆動させることで膜材料の配置を実施することができる。
【００１８】
［適用例６］上記適用例にかかるマザー基材において、前記第二の領域列は、前記第一の領域列より、前記マザー基材の中央に近い位置に配設されていることが好ましい。
【００１９】
このマザー基材によれば、第二の領域列を、第一の領域列より、マザー基材の中央に近い位置に配設することによって、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域よりマザー基材の中央に近い位置に配設することができる。これによって、マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態で、マザー基材を配置装置に装着することで、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることで、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の最大値の大きさを小さくすることができる。
【００２０】
［適用例７］上記適用例にかかるマザー基材であって、前記マザー基材は、複数の前記第一の膜形成領域が前記副走査方向に配列された第三の領域列と、複数の前記第二の膜形成領域が前記副走査方向に配列された第四の領域列と、を備え、前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記第四の領域列が、前記主走査方向において、前記第三の領域列より、前記回動中心に近い位置に配設されていることが好ましい。
【００２１】
このマザー基材によれば、第三の領域列及び第四の領域列は、同じ第一の膜形成領域又は第二の膜形成領域が副走査方向に連なっている。このため、副走査方向に並ぶ複数の配置ヘッドを、同じ第一の膜形成領域又は第二の膜形成領域に膜材料を配置するのに対応した同一の駆動条件で駆動させることで膜材料の配置を実施することができる。駆動条件が均一であって主走査方向の相対移動の速度も副走査方向に並ぶ複数の配置ヘッドにおいて共通であるため、相対移動の速度が遅い配置ヘッドに合わせることに起因して作業時間が増加することを抑制することができる。
【００２２】
［適用例８］上記適用例にかかるマザー基材において、前記第四の領域列は、前記第三の領域列より、前記マザー基材の中央に近い位置に配設されていることが好ましい。
【００２３】
このマザー基材によれば、第四の領域列を、第三の領域列より、マザー基材の中央に近い位置に配設することによって、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域よりマザー基材の中央に近い位置に配設することができる。これによって、マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態で、マザー基材を配置装置に装着することで、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることで、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の最大値の大きさを小さくすることができる。
【００２４】
［適用例９］本適用例にかかる膜形成領域の配設方法は、１以上の膜形成区画を有する膜形成領域を複数備えるマザー基材における膜形成領域の配設方法あって、前記マザー基材は、第一の膜形成区画を有する第一の膜形成領域と、前記第一の膜形成区画より膜の形成面積が小さい第二の膜形成区画を有する第二の膜形成領域と、を備え、膜材料を配置する際に用いる配置装置に前記マザー基材がセットされた状態において、前記配置装置に備えられた回動装置の回動中心に対して前記第一の膜形成領域より近い位置に前記第二の膜形成領域を配設することを特徴とする。
【００２５】
この膜形成領域の配設方法によれば、膜の形成面積が第一の膜形成区画より小さい第二の膜形成区画を備える第二の膜形成領域は、マザー基材が配置装置にセットされた状態において、第一の膜形成区画を有する第一の膜形成領域よりも回動装置の回動中心に近い位置に配設される。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、回動中心から遠い位置ほど位置ずれ量が大きくなる。同じ位置ずれ量であっても、膜形成区画の大きさが小さいほど、配置された膜材料の一部が膜形成区画から外れるなど、膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。膜の形成面積が第一の膜形成区画より小さい第二の膜形成区画を有する第二の膜形成領域を回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００２６】
［適用例１０］上記適用例にかかる膜形成領域の配設方法において、前記配置装置は、前記膜材料を配置する配置ヘッドと前記マザー基材とを主走査方向に相対移動させながら前記膜材料を配置し、前記第一の膜形成区画は、前記主走査方向の幅が第一の幅であり、前記第二の膜形成区画は、前記主走査方向の幅が前記第一の幅より小さい第二の幅であり、前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向に略直交する副走査方向において、前記第二の膜形成領域を前記第一の膜形成領域より前記回動中心に近い位置に配設することが好ましい。
【００２７】
この膜形成領域の配設方法によれば、膜形成区画の主走査方向の幅が第二の幅である第二の膜形成領域は、マザー基材が配置装置にセットされた状態で、膜形成区画の主走査方向の幅が第二の幅より大きい第一の幅である第一の膜形成領域よりも、副走査方向において、回動装置の回動中心に近い位置に配設される。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、副走査方向において回動中心から遠い位置ほど、主走査方向の位置ずれ量が大きくなる。
同じ位置ずれ量であっても、膜形成区画の幅が小さいほど、配置された膜材料の一部が膜形成区画から外れるなど、膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。膜形成区画の主走査方向の幅が第一の膜形成領域よりも小さい第二の膜形成領域を、副走査方向において回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００２８】
［適用例１１］上記適用例にかかる膜形成領域の配設方法において、前記配置装置は、前記膜材料を配置する配置ヘッドと前記マザー基材とを主走査方向に相対移動させながら前記膜材料を配置し、前記第一の膜形成区画は、前記主走査方向に略直交する副走査方向の幅が第三の幅であり、前記第二の膜形成区画は、前記副走査方向の幅が前記第三の幅より小さい第四の幅であり、前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向において、前記第二の膜形成領域を前記第一の膜形成領域より前記回動中心に近い位置に配設することが好ましい。
【００２９】
この膜形成領域の配設方法によれば、膜形成区画の副走査方向の幅が第四の幅である第二の膜形成領域は、マザー基材が配置装置にセットされた状態で、膜形成区画の副走査方向の幅が第四の幅より大きい第三の幅である第一の膜形成領域よりも、主走査方向において、回動装置の回動中心に近い位置に配設されている。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、主走査方向において回動中心から遠い位置ほど、副走査方向の位置ずれ量が大きくなる。
同じ位置ずれ量であっても、膜形成区画の幅が小さいほど、配置された膜材料の一部が膜形成区画から外れるなど、膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。膜形成区画の副走査方向の幅が第一の膜形成領域よりも小さい第二の膜形成領域を、主走査方向において回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００３０】
［適用例１２］上記適用例にかかる膜形成領域の配設方法において、前記第二の膜形成領域を、前記第一の膜形成領域より前記マザー基材の中央に近い位置に配設することが好ましい。
【００３１】
この膜形成領域の配設方法によれば、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域よりマザー基材の中央に近い位置に配設することによって、マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態でマザー基材を配置装置に装着することで、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることで、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の最大値の大きさを小さくすることができる。
【００３２】
［適用例１３］上記適用例にかかる膜形成領域の配設方法において、前記マザー基材は、複数の前記第一の膜形成領域が前記主走査方向に配列された第一の領域列と、複数の前記第二の膜形成領域が前記主走査方向に配列された第二の領域列と、を備え、前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記第二の領域列を、前記副走査方向において、前記第一の領域列より、前記回動中心に近い位置に配設することが好ましい。
【００３３】
この膜形成領域の配設方法によれば、第一の領域列及び第二の領域列は、同じ第一の膜形成領域又は第二の膜形成領域が主走査方向に連なっている。このため、それぞれの配置ヘッドを、一回の主走査方向の相対移動の間は、同じ第一の膜形成領域又は第二の膜形成領域に膜材料を配置するのに対応した一定の駆動条件で駆動させることで膜材料の配置を実施することができる。
【００３４】
［適用例１４］上記適用例にかかる膜形成領域の配設方法において、前記第二の領域列を、前記第一の領域列より、前記マザー基材の中央に近い位置に配設することが好ましい。
【００３５】
この膜形成領域の配設方法によれば、第二の領域列を、第一の領域列より、マザー基材の中央に近い位置に配設することによって、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域よりマザー基材の中央に近い位置に配設することができる。これによって、マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態で、マザー基材を配置装置に装着することで、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることで、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の最大値の大きさを小さくすることができる。
【００３６】
［適用例１５］上記適用例にかかる膜形成領域の配設方法において、前記マザー基材は、複数の前記第一の膜形成領域が前記副走査方向に配列された第三の領域列と、複数の前記第二の膜形成領域が前記副走査方向に配列された第四の領域列と、を備え、前記マザー基材が前記配置装置にセットされた状態で、前記第四の領域列を、前記主走査方向において、前記第三の領域列より、前記回動中心に近い位置に配設することが好ましい。
【００３７】
この膜形成領域の配設方法によれば、第三の領域列及び第四の領域列は、同じ第一の膜形成領域又は第二の膜形成領域が副走査方向に連なっている。このため、副走査方向に並ぶ複数の配置ヘッドを、同じ第一の膜形成領域又は第二の膜形成領域に膜材料を配置するのに対応した同一の駆動条件で駆動させることで膜材料の配置を実施することができる。駆動条件が均一であって主走査方向の相対移動の速度も副走査方向に並ぶ複数の配置ヘッドにおいて共通であるため、相対移動の速度が遅い配置ヘッドに合わせることに起因して作業時間が増加することを抑制することができる。
【００３８】
［適用例１６］上記適用例にかかる膜形成領域の配設方法において、前記第四の領域列を、前記第三の領域列より、前記マザー基材の中央に近い位置に配設することが好ましい。
【００３９】
この膜形成領域の配設方法によれば、第四の領域列を、第三の領域列より、マザー基材の中央に近い位置に配設することによって、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域よりマザー基材の中央に近い位置に配設することができる。これによって、マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態で、マザー基材を配置装置に装着することで、第二の膜形成領域を、第一の膜形成領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基材の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基材においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動中心からマザー基材の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることで、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の最大値の大きさを小さくすることができる。
【００４０】
［適用例１７］本適用例にかかるカラーフィルタの製造方法は、１以上の色要素領域を有するフィルタ領域を備える複数のカラーフィルタを形成するためのマザー基板に対して、前記色要素領域に色要素膜を形成するカラーフィルタの製造方法であって、前記マザー基板は、第一の色要素領域を有する第一のフィルタ領域と、前記第一の色要素領域より前記色要素膜の形成面積が小さい第二の色要素領域を有する第二のフィルタ領域と、を備え、色要素膜材料を配置する際に用いる配置装置に前記マザー基板がセットされた状態において、前記配置装置に備えられた回動装置の回動中心に対して前記第一のフィルタ領域より近い位置に前記第二のフィルタ領域を配設し、当該第一のフィルタ領域及び第二のフィルタ領域におけるそれぞれの前記色要素領域に前記配置装置を用いて色要素膜材料を配置することを特徴とする。
【００４１】
このカラーフィルタの製造方法によれば、色要素膜の形成面積が第一の色要素領域より小さい第二の色要素領域を有する第二のフィルタ領域は、マザー基板が配置装置にセットされた状態において、第一の色要素領域を有する第一のフィルタ領域よりも回動装置の回動中心に近い位置に配置される。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基板においては、回動中心から遠い位置ほど位置ずれ量が大きくなる。同じ位置ずれ量であっても、色要素領域の大きさが小さいほど、配置された色要素膜材料の一部が色要素領域から外れるなど、色要素膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。色要素膜の形成面積が第一の色要素領域より小さい第二の色要素領域を有する第二のフィルタ領域を第一の色要素領域を有する第一のフィルタ領域より回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して色要素膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００４２】
［適用例１８］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造方法において、前記配置装置は、前記色要素膜材料を配置するための配置ヘッドと前記マザー基板とを主走査方向に相対移動させながら前記色要素膜材料を配置し、前記第一の色要素領域は、前記主走査方向の幅が第一の幅であり、前記第二の色要素領域は、前記主走査方向の幅が前記第一の幅より小さい第二の幅であり、前記マザー基板が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向に略直交する副走査方向において、前記第二のフィルタ領域を前記第一のフィルタ領域より前記回動中心に近い位置に配設することが好ましい。
【００４３】
このカラーフィルタの製造方法によれば、色要素領域の主走査方向の幅が第二の幅である第二のフィルタ領域は、マザー基板が配置装置にセットされた状態で、色要素領域の主走査方向の幅が第二の幅より大きい第一の幅である第一のフィルタ領域よりも、副走査方向において、回動装置の回動中心に近い位置に配設される。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基板においては、副走査方向において回動中心から遠い位置ほど、主走査方向の位置ずれ量が大きくなる。
同じ位置ずれ量であっても、色要素領域の幅が小さいほど、配置された色要素膜材料の一部が色要素領域から外れるなど、色要素膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。色要素領域の主走査方向の幅が第一のフィルタ領域よりも小さい第二のフィルタ領域を、副走査方向において回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して色要素膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００４４】
［適用例１９］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造方法において、前記配置装置は、前記色要素膜材料を配置するための配置ヘッドと前記マザー基板とを主走査方向に相対移動させながら前記色要素膜材料を配置し、前記第一の色要素領域は、前記色要素領域の前記主走査方向に略直交する副走査方向の幅が第三の幅であり、前記第二の色要素領域は、前記副走査方向の幅が前記第一の幅より小さい第四の幅であり、前記マザー基板が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向において、前記第二のフィルタ領域を前記第一のフィルタ領域より前記回動中心に近い位置に配設することが好ましい。
【００４５】
このカラーフィルタの製造方法によれば、色要素領域の副走査方向の幅が第四の幅である第二のフィルタ領域は、マザー基板が配置装置にセットされた状態で、色要素領域の副走査方向の幅が第四の幅より大きい第三の幅である第一のフィルタ領域よりも、主走査方向において、回動装置の回動中心に近い位置に配設される。
回動装置において回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基板においては、主走査方向において回動中心から遠い位置ほど、副走査方向の位置ずれ量が大きくなる。
同じ位置ずれ量であっても、色要素領域の幅が小さいほど、配置された色要素膜材料の一部が色要素領域から外れるなど、色要素膜材料の配置状態が影響を受ける可能性が大きくなる。色要素領域の副走査方向の幅が第一のフィルタ領域よりも小さい第二のフィルタ領域を、主走査方向において回動中心に近い位置に配設することで、回動装置における回動方向のずれによる位置ずれに起因して色要素膜材料の配置状態が影響を受けることを抑制することができる。
【００４６】
［適用例２０］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造方法において、前記第二のフィルタ領域を、前記第一のフィルタ領域より、前記マザー基板の中央に近い位置に配設することが好ましい。
【００４７】
このカラーフィルタの製造方法によれば、第二のフィルタ領域を、第一のフィルタ領域よりマザー基板の中央に近い位置に配設することによって、マザー基板の中央が回動中心に略重なる状態でマザー基板を配置装置に装着することで、第二のフィルタ領域を、第一のフィルタ領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基板の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基板の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基板においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動中心からマザー基板の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることで、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の最大値の大きさを小さくすることができる。
【００４８】
［適用例２１］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造方法において、前記マザー基板は、複数の前記第一のフィルタ領域が前記主走査方向に配列された第一のフィルタ領域列と、複数の前記第二のフィルタ領域が前記主走査方向に配列された第二のフィルタ領域列と、を備え、前記マザー基板が前記配置装置にセットされた状態で、前記副走査方向において、前記第二のフィルタ領域列を前記第一のフィルタ領域列より前記回動中心に近い位置に配設することが好ましい。
【００４９】
このカラーフィルタの製造方法によれば、第一のフィルタ領域列及び第二のフィルタ領域列は、同じ第一のフィルタ領域又は第二のフィルタ領域が主走査方向に連なっている。このため、それぞれの配置ヘッドを、一回の主走査方向の相対移動の間は、同じ第一のフィルタ領域又は第二のフィルタ領域に色要素膜材料を配置するのに対応した一定の駆動条件で駆動させることで色要素膜材料の配置を実施することができる。
【００５０】
［適用例２２］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造方法において、前記第二のフィルタ領域列を、前記第一のフィルタ領域列より、前記マザー基板の中央に近い位置に配設することが好ましい。
【００５１】
このカラーフィルタの製造方法によれば、第二のフィルタ領域列を、第一のフィルタ領域列より、マザー基板の中央に近い位置に配設することによって、第二のフィルタ領域を第一のフィルタ領域よりマザー基板の中央に近い位置に配設することができる。これによって、マザー基板の中央が回動中心に略重なる状態で、マザー基板を配置装置に装着することで、第二のフィルタ領域を、第一のフィルタ領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基板の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基板の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基板においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の大きさを小さくすることができる。
【００５２】
［適用例２３］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造方法において、前記マザー基板は、複数の前記第一のフィルタ領域が前記副走査方向に配列された第三のフィルタ領域列と、複数の前記第二のフィルタ領域が前記副走査方向に配列された第四のフィルタ領域列と、を備え、前記マザー基板が前記配置装置にセットされた状態で、前記主走査方向において、前記第四のフィルタ領域列を前記第三のフィルタ領域列より前記回動中心に近い位置に配設することが好ましい。
【００５３】
このカラーフィルタの製造方法によれば、第三のフィルタ領域列及び第四のフィルタ領域列は、同じ第一のフィルタ領域又は第二のフィルタ領域が副走査方向に連なっている。このため、副走査方向に並ぶ複数の配置ヘッドを、同じ第一のフィルタ領域又は第二のフィルタ領域に色要素膜材料を配置するのに対応した同一の駆動条件で駆動させることで色要素膜材料の配置を実施することができる。駆動条件が均一であって主走査方向の相対移動の速度も副走査方向に並ぶ複数の配置ヘッドにおいて共通であるため、相対移動の速度を遅い配置ヘッドに合わせることに起因して作業時間が増加することを抑制することができる。
【００５４】
［適用例２４］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造方法において、前記第四のフィルタ領域列を、前記第三のフィルタ領域列より、前記マザー基板の中央に近い位置に配設することが好ましい。
【００５５】
このカラーフィルタの製造方法によれば、第四のフィルタ領域列を、第三のフィルタ領域列より、マザー基板の中央に近い位置に配設することによって、第二のフィルタ領域を、第一のフィルタ領域よりマザー基板の中央に近い位置に配設することができる。これによって、マザー基板の中央が回動中心に略重なる状態で、マザー基板を配置装置に装着することで、第二のフィルタ領域を、第一のフィルタ領域より回動中心に近い位置に位置させることができる。マザー基板の中央が回動中心に略重なる状態とすることによって、回動中心からマザー基板の各部分までの距離の最大値を最も小さくすることができる。回動方向のずれが発生した場合、回動装置によって回動されるマザー基板においては、回動中心から遠い位置ほど、位置ずれ量が大きくなるため、回動方向のずれに起因する位置ずれ量の大きさを小さくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５６】
以下、マザー基材、膜形成領域の配設方法、及びカラーフィルタの製造方法の好適な実施の形態について、図面を参照して説明する。実施形態は、マザー基材の一例であって、液晶表示装置を構成するカラーフィルタを有する基板を区画形成するマザー基板、及び配置装置としての液滴吐出装置を用いて、カラーフィルタを構成する色要素膜（フィルタ膜）などを形成する工程を例に説明する。なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。
【００５７】
＜液滴吐出法＞
最初に、フィルタ膜などの機能膜の形成に用いられる液滴吐出法について説明する。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。
このうち、電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。ピエゾ方式は、液状材料に熱を加えないため、材料の組成などに影響を与えない、駆動電圧を調整することによって、液滴の大きさを容易に調整することができるなどの利点を有する。本実施形態では、材料の組成などに影響を与えないため液状材料選択の自由度が高いこと、及び液滴の大きさを容易に調整することができるため液滴の制御性がよいことから、上記ピエゾ方式を用いる。
【００５８】
＜液滴吐出装置＞
次に、液滴吐出装置１の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置の概略構成を示す平面図である。図２は、液滴吐出装置の概略構成を示す側面図である。
【００５９】
図１、又は図２に示すように、液滴吐出装置１は、液滴吐出ヘッド１７（図３（ａ）参照）を有する吐出ユニット２と、ワークユニット３と、給液ユニット６０（図４参照）と、検査ユニット４と、メンテナンスユニット５と、吐出装置制御部６（図４参照）とを備えている。
【００６０】
吐出ユニット２は、膜材料、又は色要素材料に相当する液状体である機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッド１７を１２個備えており、当該液滴吐出ヘッド１７をＹ軸方向に移動させると共に移動した位置に保持するためのＹ軸テーブル１２を備えている。ワークユニット３は、液滴吐出ヘッド１７から吐出された液滴の吐出対象であるワークＷを載置するワーク載置台２１を有している。給液ユニット６０は、機能液を貯留する貯留タンク（図示省略）を有し、液滴吐出ヘッド１７への機能液の供給を行う。検査ユニット４は、液滴吐出ヘッド１７からの吐出状態を検査するための、吐出検査ユニット１８及び重量測定ユニット１９を有しており、重量測定ユニット１９にはフラッシングユニット１４が併設されている。メンテナンスユニット５は、液滴吐出ヘッド１７の保守を行う吸引ユニット１５及びワイピングユニット１６を有している。
【００６１】
吐出装置制御部６は、これら各ユニットなどを総括的に制御する。重量測定ユニット１９、吐出ユニット２、吐出検査ユニット１８、又はメンテナンスユニット５などを用いて実施される重量測定処理、描画処理、吐出検査処理、及びメンテナンス処理などは、吐出装置制御部６が各ユニットなどを制御して実施される。
【００６２】
液滴吐出装置１は、石定盤に支持されたＸ軸支持ベース１Ａを備え、各ユニットなどが、Ｘ軸支持ベース１Ａの上に配設されている。Ｘ軸テーブル１１は、主走査方向となるＸ軸方向に延在して、Ｘ軸支持ベース１Ａの上に配設されており、ワーク載置台２１をＸ軸方向（主走査方向）に移動させる。
【００６３】
吐出ユニット２のＹ軸テーブル１２は、複数本の支柱７Ａを介してＸ軸テーブル１１を跨ぐように架け渡された一対のＹ軸支持ベース７，７の上に配設され、副走査方向となるＹ軸方向に延在している。吐出ユニット２は、１２個の液滴吐出ヘッド１７を有するキャリッジユニット５１を備えている。キャリッジユニット５１は、ブリッジプレート５２に吊設されている。ブリッジプレート５２は、Ｙ軸スライダ（図示省略）を介して、Ｙ軸テーブル１２に、Ｙ軸方向に摺動自在に支持されている。Ｙ軸テーブル１２は、ブリッジプレート５２（キャリッジユニット５１）を、Ｙ軸方向（副走査方向）に移動させる。
Ｘ軸テーブル１１及びＹ軸テーブル１２の駆動と同期して、吐出ユニット２の液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動させることにより、機能液滴を吐出させることで、ワーク載置台２１の上に載置されたワークＷに対して、任意の描画パターンを描画する。
【００６４】
吐出検査ユニット１８は、検査描画ユニット１６１と、撮像ユニット１６２とを有している。検査描画ユニット１６１は、Ｘ軸第２スライダ２３に固定されており、同じくＸ軸第２スライダ２３に固定された重量測定ユニット１９及びフラッシングユニット１４と一体に移動するように構成されている。撮像ユニット１６２は、２個の検査カメラ１６３と、検査カメラ１６３をＹ軸方向にスライド自在に支持するカメラ移動機構１６４と、を有している。
【００６５】
メンテナンスユニット５が備える吸引ユニット１５及びワイピングユニット１６は、Ｘ軸テーブル１１から外れ、かつＹ軸テーブル１２によりキャリッジユニット５１が移動可能である位置に配設された架台８の上に配設されている。吸引ユニット１５は、複数の分割吸引ユニット１４１を有し、液滴吐出ヘッド１７を吸引して、液滴吐出ヘッド１７の吐出ノズル７８（図３（ａ）参照）から機能液を強制的に排出させる。ワイピングユニット１６は、洗浄液を噴霧したワイピングシート１５１を有し、吸引後の液滴吐出ヘッド１７のノズル形成面７６ａ（図３（ａ）参照）を拭き取る（ワイピングを行う）ものである。このようにして、吸引ユニット１５及びワイピングユニット１６は、吐出ユニット２の液滴吐出ヘッド１７の機能維持又は機能回復を図るための保守作業を実施する。
【００６６】
Ｘ軸テーブル１１は、Ｘ軸第１スライダ２２と、Ｘ軸第２スライダ２３と、左右一対のＸ軸リニアモータ２６，２６と、一対のＸ軸共通支持ベース２４，２４と、を備えている。
【００６７】
Ｘ軸第１スライダ２２には、ワーク載置台２１が取り付けられている。Ｘ軸第１スライダ２２は、Ｘ軸方向に延在するＸ軸共通支持ベース２４に、Ｘ軸方向にスライド自在に支持されている。Ｘ軸第２スライダ２３には、検査描画ユニット１６１と、重量測定ユニット１９と、フラッシングユニット１４とが取り付けられている。Ｘ軸第２スライダ２３は、Ｘ軸方向に延在するＸ軸共通支持ベース２４に、Ｘ軸方向にスライド自在に支持されている。Ｘ軸リニアモータ２６は、Ｘ軸共通支持ベース２４に並設されており、Ｘ軸第１スライダ２２又はＸ軸第２スライダ２３をＸ軸共通支持ベース２４に沿って移動させることによって、ワーク載置台２１（ワーク載置台２１に載置されたワークＷ）又は重量測定ユニット１９などをＸ軸方向に移動させる。Ｘ軸第１スライダ２２とＸ軸第２スライダ２３とは、Ｘ軸リニアモータ２６により個別に駆動可能である。Ｘ軸方向が主走査方向に相当し、Ｙ軸方向が副走査方向に相当する。
【００６８】
ワーク載置台２１は、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１を支持し、吸着テーブル３１にセットしたワークＷの位置をθ軸方向にθ補正するためのθテーブル３２などを有している。θテーブル３２は、θ駆動モータ５３２を有し、当該θ駆動モータ５３２によって駆動される。吸着テーブル３１は、θテーブル３２によって、図１に二点鎖線の交点として示したθテーブル３２の回動中心３２ａを通るＺ軸方向の軸まわり（θ方向）に回動させられる。θテーブル３２が、回動装置に相当し、回動中心３２ａが回動中心に相当する。
【００６９】
図１及び図２におけるワーク載置台２１の位置が、ワークＷの給除材を行うための給除材位置となっており、未処理のワークＷを吸着テーブル３１に導入（給材）するときや、処理済のワークＷを回収（除材）するときには、吸着テーブル３１をこの位置まで移動させる。当該給除材位置において、ロボットアーム（図示省略）により、吸着テーブル３１に対するワークＷの搬入・搬出（載換え）が行われる。吸着テーブル３１に給材された未処理のワークＷのアライメントは、θテーブル３２を用いて、給除材位置において実施される。
【００７０】
画像認識ユニット８０は、２台のアライメントカメラ８１と、カメラ移動機構８２と、を有している。カメラ移動機構８２は、Ｘ軸支持ベース１Ａの上に、Ｙ軸方向に延在して、Ｘ軸テーブル１１を跨ぐように配設されている。アライメントカメラ８１は、カメラホルダ（図示省略）を介して、カメラ移動機構８２に、Ｙ軸方向にスライド自在に支持されている。カメラ移動機構８２に支持されたアライメントカメラ８１は、Ｘ軸テーブル１１に上側から臨み、Ｘ軸テーブル１１の上のワーク載置台２１に載置されたワークＷの各基準マーク（アライメントマーク）（図７参照）を画像認識することができる。２台のアライメントカメラ８１は、カメラ移動モータ（図示省略）によって、それぞれ独立してＹ軸方向に移動させられる。
【００７１】
各アライメントカメラ８１は、ワーク載置台２１のＸ軸方向への移動と協働して、カメラ移動機構８２によりＹ軸方向に移動しながら、上記したロボットアームが給材した各種ワークＷのアライメントマークを撮像して、各種ワークＷの位置認識を実施する。そして、このアライメントカメラ８１の撮像結果に基づいて、θテーブル３２によるワークＷのθ補正（アライメント）が実施される。
【００７２】
Ｙ軸テーブル１２は、一対のＹ軸スライダ（図示省略）と、一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、を備えている。一対のＹ軸リニアモータは、上記した一対のＹ軸支持ベース７，７の上にそれぞれ設置されて、Ｙ軸方向に延在している。一対のＹ軸スライダは、一対のＹ軸支持ベース７，７のそれぞれに各１個ずつ摺動自在に支持されている。一対のＹ軸支持ベース７，７のそれぞれに支持された各１個のＹ軸スライダからなる１組のＹ軸スライダは、吐出ユニット２を構成するキャリッジユニット５１が固定されたブリッジプレート５２を両持ちで支持している。吐出ユニット２を構成するキャリッジユニット５１を固定したブリッジプレート５２は、ブリッジプレート５２を両持ちで支持する一対のＹ軸スライダを介して、一対のＹ軸支持ベース７，７の上に設置されている。
【００７３】
一対のＹ軸リニアモータを（同期して）駆動すると、各Ｙ軸スライダが一対のＹ軸支持ベース７，７を案内にして同時にＹ軸方向を平行移動する。これにより、ブリッジプレート５２がＹ軸方向に移動し、ブリッジプレート５２に吊設されたキャリッジユニット５１がＹ軸方向に移動する。
【００７４】
キャリッジユニット５１は、１２個の液滴吐出ヘッド１７と、１２個の液滴吐出ヘッド１７を６個ずつ２群に分けて支持するキャリッジプレート５３（図３（ｂ）参照）と、を有するヘッドユニット５４（図３（ｂ）参照）を備えている。ヘッドユニット５４は、ヘッド昇降機構（図示省略）を介して、Ｚ軸方向に昇降自在に支持されている。
【００７５】
＜液滴吐出ヘッド及びヘッドユニット＞
次に、液滴吐出ヘッド１７及びヘッドユニット５４について、図３を参照して説明する。図３は、液滴吐出ヘッド及びヘッドユニットの概要を示す図である。図３（ａ）は、液滴吐出ヘッドの概要を示す外観斜視図であり、図３（ｂ）は、ヘッドユニットの概略構成を示す平面図である。
【００７６】
＜液滴吐出ヘッドの構成＞
図３（ａ）に示すように、この液滴吐出ヘッド１７は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針７２，７２を有する液体導入部７１と、液体導入部７１に連なる方形のヘッド本体７４と、液体導入部７１とヘッド本体７４との間から側方に突出するヘッド基板７３と、を備えている。
【００７７】
ヘッド本体７４は、液体導入部７１に連なるポンプ部７５と、ポンプ部７５に連なるノズル形成プレート７６と、を有している。ノズル形成プレート７６には、ノズル形成面７６ａに開口する吐出ノズル７８が形成されている。液滴吐出ヘッド１７においては、一列あたり１８１個の吐出ノズル７８からなるノズル列７８ｂが２列形成されている。ポンプ部７５には、圧電素子（図示省略）が設けられており、当該圧電素子を駆動することによって、液体導入部７１から供給されてきた機能液を吐出ノズル７８から吐出する。１個の吐出ノズル７８に対応して１個の圧電素子が設けられており、それぞれの吐出ノズル７８ごとに独立して機能液を吐出することができる。
ヘッド基板７３には、一対のコネクタ７７，７７が設けられている。このコネクタ７７が、フレキシブルフラットケーブル（ＦＦＣケーブル）などによって、吐出装置制御部６と接続されている中継基板と接続されることで、液滴吐出ヘッド１７が吐出装置制御部６と接続される。
【００７８】
液滴吐出ヘッド１７が液滴吐出装置１に取り付けられた状態では、ノズル列７８ｂはＹ軸方向に延在する。２列のノズル列７８ｂをそれぞれ構成する吐出ノズル７８同士は、Ｙ軸方向において、相互に半ノズルピッチずつ位置ずれしている。１ノズルピッチは、例えば１４０μｍである。Ｘ軸方向の同じ位置において、それぞれのノズル列７８ｂを構成する吐出ノズル７８から吐出された液滴は、設計上では、Ｙ軸方向に等間隔に並んで一直線上に着弾する。吐出ノズル７８のノズルピッチが１４０μｍの場合、２列のノズル列７８ｂの液滴吐出ヘッド１７から吐出された液滴のＹ軸方向における着弾位置の中心間距離は、設計上では、７０μｍである。
【００７９】
＜ヘッドユニット＞
次に、吐出ユニット２のヘッドユニット５４の概略構成について、図３（ｂ）を参照して説明する。図３（ｂ）に示したＸ軸及びＹ軸は、ヘッドユニット５４が液滴吐出装置１に取り付けられた状態において、図１に示したＸ軸及びＹ軸と一致している。
【００８０】
図３（ｂ）に示すように、ヘッドユニット５４は、キャリッジプレート５３と、キャリッジプレート５３に搭載された１２個の液滴吐出ヘッド１７と、を有している。液滴吐出ヘッド１７は、キャリッジプレート５３に固定されており、ヘッド本体７４がキャリッジプレート５３に形成された孔（図示省略）に遊嵌して、ノズル形成プレート７６（ヘッド本体７４）が、キャリッジプレート５３の面より突出している。図３（ｂ）は、ノズル形成プレート７６（ノズル形成面７６ａ）側から見た図である。１２個の液滴吐出ヘッド１７は、Ｙ軸方向に分かれて、それぞれ６個ずつの液滴吐出ヘッド１７を有するヘッド組５５を２群形成している。それぞれの液滴吐出ヘッド１７のノズル列７８ｂはＹ軸方向に延在している。
【００８１】
一つのヘッド組５５が有する６個の液滴吐出ヘッド１７は、Ｙ軸方向において、互いに隣り合う液滴吐出ヘッド１７の、一方の液滴吐出ヘッド１７の端の吐出ノズル７８に対して、もう一方の液滴吐出ヘッド１７の端の吐出ノズル７８が半ノズルピッチずれて位置するように、位置決めされている。仮に、ヘッド組５５が有する６個の液滴吐出ヘッド１７において、全ての吐出ノズル７８のＸ軸方向の位置を同じにすると、吐出ノズル７８は、Ｙ軸方向に半ノズルピッチの等間隔で並ぶ。即ち、Ｘ軸方向の同じ位置において、それぞれの液滴吐出ヘッド１７が有するそれぞれのノズル列７８ｂを構成する吐出ノズル７８から吐出された液滴は、設計上では、Ｙ軸方向に等間隔に並んで一直線上に着弾する。液滴吐出ヘッド１７は、Ｙ軸方向において互いに重なるため、Ｘ軸方向に階段状に並んでヘッド組５５を構成している。
【００８２】
＜液滴吐出装置の電気的構成＞
次に、上述したような構成を有する液滴吐出装置１を駆動するための電気的構成について、図４を参照して説明する。図４は、液滴吐出装置の電気的構成を示す電気構成ブロック図である。液滴吐出装置１は、図４に示した制御装置６５を介してデータの入力や、稼働開始や停止などの制御指令の入力を行うことで、制御される。制御装置６５は、演算処理を行うホストコンピュータ６６と、液滴吐出装置１に入出力する情報を入出力するための入出力装置６８とを有し、インタフェイス（Ｉ／Ｆ）６７を介して吐出装置制御部６と接続されている。入出力装置６８は、情報を入力可能なキーボード、記録媒体を介して情報を入出力する外部入出力装置、外部入出力装置を介して入力された情報を保存しておく記録部、モニタ装置などである。
【００８３】
液滴吐出装置１の吐出装置制御部６は、インタフェイス（Ｉ／Ｆ）４７と、ＣＰＵ（Central Processing Unit）４４と、ＲＯＭ（Read Only Memory）４５と、ＲＡＭ（Random Access Memory）４６と、ハードディスク４８と、を有している。また、ヘッドドライバ１７ｄと、駆動機構ドライバ４０ｄと、給液ドライバ６０ｄと、メンテナンスドライバ５ｄと、検査ドライバ４ｄと、検出部インタフェイス（Ｉ／Ｆ）４３と、を有している。これらは、データバス４９を介して互いに電気的に接続されている。
【００８４】
インタフェイス４７は、制御装置６５とデータの授受を行い、ＣＰＵ４４は、制御装置６５からの指令に基づいて各種演算処理を行い、液滴吐出装置１の各部の動作を制御する制御信号を出力する。ＲＡＭ４６は、ＣＰＵ４４からの指令に従って、制御装置６５から受け取った制御コマンドや印刷データを一時的に保存する。ＲＯＭ４５は、ＣＰＵ４４が各種演算処理を行うためのルーチンなどを記憶している。ハードディスク４８は、制御装置６５から受け取った制御コマンドや印刷データを保存したり、ＣＰＵ４４が各種演算処理を行うためのルーチンなどを記憶したりしている。
【００８５】
ヘッドドライバ１７ｄには、吐出ユニット２を構成するヘッドユニット５４の液滴吐出ヘッド１７が接続されている。ヘッドドライバ１７ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って液滴吐出ヘッド１７を駆動して、機能液の液滴を吐出させる。
【００８６】
駆動機構ドライバ４０ｄには、Ｙ軸テーブル１２のヘッド移動モータと、Ｘ軸テーブル１１のＸ軸リニアモータ２６と、θテーブル３２のθ駆動モータ５３２と、各種駆動源を有する各種駆動機構を含む駆動機構４１とが接続されている。各種駆動機構は、上記した、カメラ移動機構１６４のカメラ移動モータや、アライメントカメラ８１を移動するためのカメラ移動モータや、吊下機構の回動モータや、昇降機構の昇降モータなどである。駆動機構ドライバ４０ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って上記モータなどを駆動して、液滴吐出ヘッド１７とワークＷとを相対移動させてワークＷの任意の位置と液滴吐出ヘッド１７とを対向させ、ヘッドドライバ１７ｄと協働して、ワークＷ上の任意の位置に機能液の液滴を着弾させる。
【００８７】
メンテナンスドライバ５ｄには、メンテナンスユニット５の吸引ユニット１５と、ワイピングユニット１６と、フラッシングユニット１４とが接続されている。メンテナンスドライバ５ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って、吸引ユニット１５、ワイピングユニット１６、又はフラッシングユニット１４を駆動して、液滴吐出ヘッド１７の保守作業を実施させる。
【００８８】
検査ドライバ４ｄには、検査ユニット４の吐出検査ユニット１８と、重量測定ユニット１９とが接続されている。検査ドライバ４ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って、吐出検査ユニット１８、又は重量測定ユニット１９を駆動して、吐出重量や吐出の可否や着弾位置精度などの、液滴吐出ヘッド１７の吐出状態の検査を実施させる。
【００８９】
給液ドライバ６０ｄには、給液ユニット６０が接続されている。給液ドライバ６０ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って給液ユニット６０を駆動して、液滴吐出ヘッド１７に機能液を供給する。
【００９０】
検出部インタフェイス４３には、各種センサを含む検出部４２が接続されている。検出部４２の各センサによって検出された検出情報が、検出部インタフェイス４３を介してＣＰＵ４４に伝達される。
【００９１】
＜機能液の吐出＞
次に、液滴吐出装置１における吐出制御方法について、図５を参照して説明する。図５は、液滴吐出ヘッドの電気的構成と信号の流れを示す説明図である。
【００９２】
上述したように、液滴吐出装置１は、液滴吐出装置１の各部の動作を制御する制御信号を出力するＣＰＵ４４と、液滴吐出ヘッド１７の電気的な駆動制御を行うヘッドドライバ１７ｄとを備えている。
図５に示すように、ヘッドドライバ１７ｄは、ＦＦＣケーブルを介して各液滴吐出ヘッド１７と電気的に接続されている。また、液滴吐出ヘッド１７は、吐出ノズル７８（図３参照）ごとに設けられた圧電素子７９に対応して、シフトレジスタ（ＳＬ）８５と、ラッチ回路（ＬＡＴ）８６と、レベルシフタ（ＬＳ）８７と、スイッチ（ＳＷ）８８とを備えている。
【００９３】
液滴吐出装置１における吐出制御は次のように行われる。最初に、ＣＰＵ４４がワークＷなどの描画対象物における機能液の配置パターンをデータ化したドットパターンデータをヘッドドライバ１７ｄに伝送する。そして、ヘッドドライバ１７ｄは、ドットパターンデータをデコードして吐出ノズル７８ごとのＯＮ／ＯＦＦ（吐出／非吐出）情報であるノズルデータを生成する。ノズルデータは、シリアル信号（ＳＩ）化されて、クロック信号（ＣＫ）に同期して各シフトレジスタ８５に伝送される。
【００９４】
シフトレジスタ８５に伝送されたノズルデータは、ラッチ信号（ＬＡＴ）がラッチ回路８６に入力されるタイミングでラッチされ、さらにレベルシフタ８７でスイッチ８８用のゲート信号に変換される。即ち、ノズルデータが「ＯＮ」の場合にはスイッチ８８が開いて圧電素子７９に駆動信号（ＣＯＭ）が供給され、ノズルデータが「ＯＦＦ」の場合にはスイッチ８８が閉じられて圧電素子７９に駆動信号（ＣＯＭ）は供給されないことになる。そして、「ＯＮ」に対応する吐出ノズル７８からは機能液が液滴化されて吐出され、吐出された機能液がワークＷなどの描画対象物の上に配置される。
【００９５】
＜液晶表示パネルの構成＞
次に、液晶表示パネルについて説明する。液晶表示パネル２００は、液晶装置の一例であり、カラーフィルタの一例である液晶表示パネル用のカラーフィルタを備える液晶表示パネルである。
最初に、液晶表示パネル２００の構成について、図６を参照して説明する。図６は、液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図である。図６に示した液晶表示パネル２００は、駆動素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子）を用いるアクティブマトリックス方式の液晶装置であり、図示省略したバックライトを用いる透過型の液晶装置である。
【００９６】
図６に示すように、液晶表示パネル２００は、ＴＦＴ素子２１５を有する素子基板２１０と、対向電極２０７を有する対向基板２２０と、シール材（図示省略）によって接着された素子基板２１０と対向基板２２０との隙間に充填された液晶２３０（図１１（ｋ）参照）とを備えている。貼り合わされた素子基板２１０と、対向基板２２０とには、互いに貼り合わされた面の反対側の面に、それぞれ偏光板２３１と偏光板２３２とが、配設されている。
【００９７】
素子基板２１０は、ガラス基板２１１の対向基板２２０と対向する面に、ＴＦＴ素子２１５や、画素電極２１７や、走査線２１２及び信号線２１４が、形成されている。これらの素子や導電性膜の間を埋めるように、絶縁層２１６が形成されており、走査線２１２及び信号線２１４は、絶縁層２１６の部分を挟んで互いに交差する状態で形成されている。走査線２１２と信号線２１４とは、絶縁層２１６の部分を間に挟むことで互いに絶縁されている。これらの走査線２１２と信号線２１４とに囲まれた領域内には画素電極２１７が形成されている。画素電極２１７は方形状の一部の角部分が方形状に欠けた形状をしている。画素電極２１７の切欠部と走査線２１２と信号線２１４とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体部、及びゲート電極を具備するＴＦＴ素子２１５が組み込まれて構成されている。走査線２１２と信号線２１４に信号を印加することによってＴＦＴ素子２１５をオン・オフして画素電極２１７への通電制御を実施する。
【００９８】
素子基板２１０の液晶２３０と接する面には、上記した走査線２１２や信号線２１４や画素電極２１７が形成された領域全体を覆う配向膜２１８が設けられている。
【００９９】
対向基板２２０は、ガラス基板２０１の素子基板２１０と対向する面に、カラーフィルタ（以降、「ＣＦ」と表記する。）層２０８が形成されている。ＣＦ層２０８は、隔壁２０４と、赤色フィルタ膜２０５Ｒと、緑色フィルタ膜２０５Ｇと、青色フィルタ膜２０５Ｂとを有している。ガラス基板２０１上に、格子状に隔壁２０４を構成するブラックマトリックス２０２が形成され、ブラックマトリックス２０２の上にバンク２０３が形成されている。ブラックマトリックス２０２とバンク２０３とで構成された隔壁２０４によって、方形のフィルタ膜領域２２５が形成されている。フィルタ膜領域２２５には、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂが形成されている。赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂは、それぞれ上述した画素電極２１７のそれぞれと対向する位置及び形状に形成されている。
【０１００】
ＣＦ層２０８の上（素子基板２１０側）には、平坦化膜２０６が設けられている。平坦化膜２０６の上には、ＩＴＯなどの透明な導電性材料で形成された対向電極２０７が設けられている。平坦化膜２０６を設けることによって、対向電極２０７を形成する面を略平坦な面にしている。対向電極２０７は、上述した画素電極２１７が形成された領域全体を覆う大きさの連続した膜である。対向電極２０７は、図示省略した導通部を介して、素子基板２１０に形成された配線に接続されている。
【０１０１】
対向基板２２０の液晶２３０と接する面には、画素電極２１７の全面を覆う配向膜２２８が設けられている。液晶２３０は、素子基板２１０と対向基板２２０とが貼り合わされた状態において、対向基板２２０の配向膜２２８と、素子基板２１０の配向膜２１８と、対向基板２２０と素子基板２１０とを貼り合わせるシール材とに囲まれた空間に充填されている。
【０１０２】
なお、液晶表示パネル２００は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１０３】
＜マザー対向基板＞
次に、マザー対向基板２０１Ａについて、図７を参照して説明する。対向基板２２０は、分割されてガラス基板２０１となるマザー対向基板２０１Ａ上に上述したＣＦ層２０８などを形成した後、マザー対向基板２０１Ａを個別の対向基板２２０（ガラス基板２０１）に分割して形成される。図７（ａ）は、対向基板の平面構造を模式的に示す平面図であり、図７（ｂ）は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す平面図である。なお、本実施形態においては、マザー対向基板２０１Ａ上にＣＦ層２０８などを形成したものや、ＣＦ層２０８などを形成する途中の状態のものも、マザー対向基板２０１Ａと表記する。
【０１０４】
対向基板２２０は、厚みおよそ１．０ｍｍの透明な石英ガラスからなるガラス基板２０１を用いて形成されている。図７（ａ）に示すように、対向基板２２０は、ガラス基板２０１の周囲の僅かな額縁領域を除く部分に、ＣＦ層２０８が形成されている。ＣＦ層２０８は、方形状のガラス基板２０１の表面に複数のフィルタ膜領域２２５をドットパターン状、本実施形態ではドット・マトリクス状に形成し、当該フィルタ膜領域２２５にフィルタ膜２０５を形成することによって形成されている。
【０１０５】
図７（ｂ）に示すように、マザー対向基板２０１Ａには対向基板２２０のＣＦ層２０８と共に、対向基板４２０を構成するＣＦ層４０８がガラス基板４０１となる部分に形成されている。対向基板４２０は、対向基板２２０と実質的に同じ構造をしており、液晶表示パネル２００より表示部の面積が小さい液晶表示パネルを構成する対向基板である。マザー対向基板２０１Ａ上にガラス基板２０１を適宜配置すると、ガラス基板２０１を形成できるだけの面積がないために活用できない部分が生ずる。そこで、ガラス基板２０１より小さいガラス基板４０１のＣＦ層４０８を形成して、当該部分をガラス基板４０１として有効に利用することによって、マザー対向基板２０１Ａを無駄なく利用している。
ＣＦ層２０８が一列に配列された列をＣＦ層列２０８Ａと表記し、ＣＦ層４０８が一列に配列された列をＣＦ層列４０８Ａと表記する。マザー対向基板２０１Ａにおいて、ＣＦ層列４０８Ａは、ＣＦ層列２０８Ａより、マザー対向基板２０１Ａの中央側に配置されている。
マザー対向基板２０１ＡにおけるＣＦ層２０８又はＣＦ層４０８が形成される領域にかからない位置には、一対のアライメントマーク２８１，２８１が形成されている。アライメントマーク２８１は、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにガラス基板２０１を製造装置に取り付ける際などに位置決め用の基準マークとして用いられる。ＣＦ層２０８及びＣＦ層４０８のフィルタ膜２０５を形成する前の状態のマザー対向基板２０１Ａが、マザー基材又はマザー基板に相当する。
なお、図７においては、図をわかりやすくするためにＣＦ層２０８やＣＦ層４０８を形成する領域の相互間の間隔を大きくしてあるが、マザー対向基板２０１Ａを効率良く使用するためには、当該間隔は可能な限り小さくすることが好ましい。また、サイズの異なるガラス基板を効率的に配置する配置方法を見出すことにより、マザー対向基板２０１Ａそのものの適切なサイズ設定が明確になり、マザー対向基板２０１Ａを原材料から取り出す効率をも改善することが可能となる。
【０１０６】
＜カラーフィルタ＞
次に、対向基板２２０に形成されているＣＦ層２０８及びＣＦ層２０８におけるフィルタ膜２０５（赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂ）の配列について、図８を参照して説明する。図８は、３色カラーフィルタのフィルタ膜の配列例を示す模式平面図である。
【０１０７】
図８に示すように、フィルタ膜２０５は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁２０４によって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の例えば方形状のフィルタ膜領域２２５を色材で埋めることによって形成される。例えば、フィルタ膜２０５を構成する色材を含む機能液をフィルタ膜領域２２５に充填し、当該機能液の溶媒を蒸発させて機能液を乾燥させることで、フィルタ膜領域２２５を埋める膜状のフィルタ膜２０５を形成する。
【０１０８】
３色カラーフィルタにおける赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂの配列としては、例えば、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列などが知られている。ストライプ配列は、図８（ａ）に示したように、マトリクスの縦列が全て同色の赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂになる配列である。モザイク配列は、図８（ｂ）に示したように、横方向の各行ごとにフィルタ膜２０５一つ分だけ色をずらした配列で、３色フィルタの場合、縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルタ膜２０５が３色となる配列である。デルタ配列は、図８（ｃ）に示したように、フィルタ膜２０５の配置を段違いにし、３色フィルタの場合、任意の隣接する３つのフィルタ膜２０５が異なる色となる配色である。
【０１０９】
図８（ａ）、（ｂ）、又は（ｃ）に示した３色フィルタにおいて、フィルタ膜２０５は、それぞれが、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のうちのいずれか１色の色材によって形成されている。隣り合って形成された赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂを各１個ずつ含むフィルタ膜２０５の組で、画像を構成する最小単位である絵素のフィルタ（以降、「絵素フィルタ２５４」と表記する。）を形成している。一つの絵素フィルタ２５４内の赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂのいずれか一つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させることにより、さらに、通過させる光の光量を調整することによりフルカラー表示を行う。
【０１１０】
＜液晶表示パネルの形成＞
次に、液晶表示パネル２００を形成する工程について、図９、図１０、及び図１１を参照して説明する。図９は、液晶表示パネルを形成する過程を示すフローチャートである。図１０は、液晶表示パネルを形成する過程におけるフィルタ膜を形成する工程などを示す断面図であり、図１１は、液晶表示パネルを形成する過程における配向膜を形成する工程などを示す断面図である。液晶表示パネル２００は、それぞれ別々に形成した素子基板２１０と対向基板２２０とを、貼り合わせて形成する。
【０１１１】
図９に示したステップＳ１からステップＳ５を実行することで、対向基板２２０を形成する。
図９のステップＳ１では、ガラス基板２０１の上に、フィルタ膜領域２２５を区画形成するための隔壁部を形成する。隔壁部は、ブラックマトリックス２０２を格子状に形成し、その上にバンク２０３を形成して、ブラックマトリックス２０２とバンク２０３とで構成された隔壁２０４を格子状に配置することによって形成する。これにより、図１０（ａ）に示すように、ガラス基板２０１の表面に、隔壁２０４によって区画された方形のフィルタ膜領域２２５が形成される。
【０１１２】
次に、図９のステップＳ２では、フィルタ膜領域２２５に、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂを構成する材料をそれぞれ充填して、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂを形成して、ＣＦ層２０８を形成する。
【０１１３】
より詳細には、図１０（ｂ）に示すように、隔壁２０４によって区画されたフィルタ膜領域２２５が形成されたガラス基板２０１の表面に赤色吐出ヘッド１７Ｒを対向させる。当該赤色吐出ヘッド１７Ｒが有する吐出ノズル７８から、赤色フィルタ膜２０５Ｒを形成するべきフィルタ膜領域２２５Ｒに向けて、赤色機能液２５２Ｒを吐出することによって、フィルタ膜領域２２５Ｒに赤色機能液２５２Ｒを配置する。同時に、ガラス基板２０１に対して赤色吐出ヘッド１７Ｒを矢印ａで示したように相対移動させることによって、ガラス基板２０１に形成された全てのフィルタ膜領域２２５Ｒに赤色機能液２５２Ｒを配置する。配置した赤色機能液２５２Ｒを乾燥させることによって、図１０（ｃ）に示すように、フィルタ膜領域２２５Ｒに赤色フィルタ膜２０５Ｒを形成する。
【０１１４】
同様にして、図１０（ｂ）に示した、緑色フィルタ膜２０５Ｇ又は青色フィルタ膜２０５Ｂを形成するべきフィルタ膜領域２２５Ｇ又はフィルタ膜領域２２５Ｂに、図１０（ｃ）に示すように、緑色機能液２５２Ｇ又は青色機能液２５２Ｂを配置する。緑色機能液２５２Ｇ及び青色機能液２５２Ｂを乾燥させることによって、図１０（ｄ）に示すように、フィルタ膜領域２２５Ｇ及びフィルタ膜領域２２５Ｂに緑色フィルタ膜２０５Ｇ又は青色フィルタ膜２０５Ｂを形成する。赤色フィルタ膜２０５Ｒと合わせて、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂからなる３色カラーフィルタが形成される。
【０１１５】
次に、図９のステップＳ３では、平坦化層を形成する。図１０（ｅ）に示すように、ＣＦ層２０８を構成する赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、青色フィルタ膜２０５Ｂ、及び隔壁２０４の上に、平坦化層としての平坦化膜２０６を形成する。平坦化膜２０６は、少なくともＣＦ層２０８の全面を覆う領域に形成する。平坦化膜２０６を設けることによって、対向電極２０７を形成する面を略平坦な面にしている。
次に、図９のステップＳ４では、対向電極２０７を形成する。図１０（ｆ）に示すように、平坦化膜２０６の上の、少なくともＣＦ層２０８のフィルタ膜２０５が形成された領域の全面を覆う領域に、透明な導電材料を用いて、薄膜を形成する。この薄膜が、上述した対向電極２０７である。
【０１１６】
次に、図９のステップＳ５では、対向電極２０７の上に、対向基板２２０の配向膜２２８を形成する。配向膜２２８は、少なくともＣＦ層２０８の全面を覆う領域に形成する。
図１１（ｇ）に示すように、対向電極２０７が形成されたガラス基板２０１の表面に液滴吐出ヘッド１７を対向させて、液滴吐出ヘッド１７からガラス基板２０１の表面に向けて配向膜液２４２を吐出する。同時に、ガラス基板２０１に対して液滴吐出ヘッド１７を矢印ａで示したように相対移動させることによって、ガラス基板２０１の配向膜２２８を形成する領域の全面に配向膜液２４２を配置する。配置された配向膜液２４２を乾燥させることで、図１１（ｈ）に示すように、配向膜２２８を形成する。ステップＳ５を実施して、対向基板２２０が形成される。
【０１１７】
図９に示したステップＳ６からステップＳ８を実行することで、素子基板２１０を形成する。
図９のステップＳ６では、ガラス基板２１１の上に導電層や絶縁層や半導体層を形成することで、ＴＦＴ素子２１５などの素子や、走査線２１２や、信号線２１４や、絶縁層２１６などを形成する。走査線２１２及び信号線２１４は、素子基板２１０と対向基板２２０とが、貼り合わされた状態で、隔壁２０４に対向する位置に、即ち画素の周辺の位置に形成する。ＴＦＴ素子２１５は、画素の端に位置するように形成し、１画素に少なくとも１個のＴＦＴ素子２１５を形成する。
【０１１８】
次に、ステップＳ７では、画素電極２１７を形成する。画素電極２１７は、素子基板２１０と対向基板２２０とが、貼り合わされた状態で、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂに対向する位置に、形成する。画素電極２１７は、ＴＦＴ素子２１５のドレイン電極と電気的に接続させる。
【０１１９】
次に、ステップＳ８では、画素電極２１７などの上に、素子基板２１０の配向膜２１８を形成する。配向膜２１８は、少なくとも全ての画素電極２１７の全面を覆う領域に形成する。
図１１（ｉ）に示すように、画素電極２１７が形成されたガラス基板２１１の表面に液滴吐出ヘッド１７を対向させて、液滴吐出ヘッド１７からガラス基板２１１の表面に向けて配向膜液２４２を吐出する。同時に、ガラス基板２１１に対して液滴吐出ヘッド１７を矢印ａで示したように相対移動させることによって、ガラス基板２１１の配向膜２１８を形成する領域の全面に配向膜液２４２を配置する。配置された配向膜液２４２を乾燥させることで、図１１（ｊ）に示すように、配向膜２１８を形成する。ステップＳ８を実施して、素子基板２１０が形成される。
【０１２０】
次に、図９のステップＳ９では、形成された対向基板２２０と素子基板２１０とを貼り合わせて、図１１（ｋ）に示すように、間に液晶２３０を充填する。さらに、偏光板２３１と偏光板２３２とを貼りつけるなどして、液晶表示パネル２００を組立てる。複数のガラス基板２０１やガラス基板２１１からなるマザー基板に、複数の対向基板２２０や素子基板２１０を形成する場合には、複数の液晶表示パネル２００が形成されたマザー基板を個別の液晶表示パネル２００に分割する。あるいは、マザー対向基板２０１Ａやマザー素子基板を、対向基板２２０や素子基板２１０に分割する工程を実施した後にステップＳ９を実施する。ステップＳ９を実施して、液晶表示パネル２００を形成する工程を終了する。
【０１２１】
＜着弾対象領域＞
次に、描画対象における機能液を配置するべき領域である配置領域の形状と、配置領域に機能液を配置するために液滴を着弾させるべき領域である着弾対象領域と、の関係について、図１２を参照して説明する。
【０１２２】
機能液の液滴は、描画対象における所定の位置に着弾させるように吐出されるが、所定の着弾位置に対して、様々な誤差要因によって生ずる誤差の分だけずれた位置に着弾する可能性がある。確実に機能液を配置するべき領域である配置領域内に液滴を着弾させるために、誤差要因によって生ずる誤差が生じても配置領域内に液滴を着弾させられるように、誤差を考慮した範囲に向けて機能液を吐出する。当該誤差を考慮した範囲を、着弾対象領域と表記する。図１２は、フィルタ膜領域の形状と、着弾対象領域と、の関係を示す説明図である。
【０１２３】
上述したように、マザー対向基板２０１Ａには、対向基板２２０のＣＦ層２０８と共に、対向基板４２０を構成するＣＦ層４０８がガラス基板４０１となる部分に形成されている。図１２（ａ）では、上述したＣＦ層２０８のフィルタ膜２０５を形成するためのフィルタ膜領域２２５における、着弾対象領域２２５Ｅの大きさを示している。図１２（ｂ）では、上述したＣＦ層４０８のフィルタ膜４０５（４０５Ｒ，４０５Ｇ，４０５Ｂ）を形成するためのフィルタ膜領域４２５における、着弾対象領域４２５Ｅの大きさを示している。ＣＦ層２０８におけるフィルタ膜２０５の数と、ＣＦ層４０８におけるフィルタ膜４０５の数とは基本的に同じであるため、ＣＦ層２０８より面積が小さいＣＦ層４０８のフィルタ膜領域４２５の大きさは、ＣＦ層２０８のフィルタ膜領域２２５より小さくなる。フィルタ膜領域４２５の横寸法４２５ｗ及び縦寸法４２５ｈは、フィルタ膜領域２２５の横寸法２２５ｗ及び縦寸法２２５ｈの半分程度である。
【０１２４】
マザー対向基板２０１Ａに対して、吐出ノズル７８を、図１２に示した矢印ａの方向に移動させながら機能液を吐出させることによって、フィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５に、機能液を配置する。矢印ａの方向が主走査方向（Ｘ軸方向）であり、矢印ａの方向と直交する方向が副走査方向（Ｙ軸方向）である。
主走査方向における着弾位置の誤差の要因としては、ヘッドギャップの誤差や変動に起因する、吐出された液滴の飛行時間の誤差や、ラッチ信号の立ち上がり間隔の誤差や、ラッチ信号のスタート時点（位置）のずれや、フィルタ膜領域２２５（フィルタ膜領域４２５）の位置ずれ（隔壁２０４の位置ずれ）などが挙げられる。
副走査方向の誤差の要因としては、吐出された機能液の飛行方向が、副走査方向にずれる「曲がり」や、マザー対向基板２０１Ａに対する吐出ノズル７８の副走査方向の位置合わせの誤差や、フィルタ膜領域２２５（フィルタ膜領域４２５）の位置ずれ（隔壁２０４の位置ずれ）などが挙げられる。
【０１２５】
これらの誤差の要因は液滴吐出装置１の精度に拠るものであるため、フィルタ膜領域２２５と、フィルタ膜領域４２５とで、同じ大きさになる。主走査方向の誤差を吸収するための余裕幅ｄｘ、及び副走査方向の余裕幅ｄｙは、フィルタ膜領域２２５でも、フィルタ膜領域４２５でも、考慮する誤差の要因が同じであれば、同じ大きさに設定する必要がある。
着弾対象領域４２５Ｅの横寸法４２５ｘ及び縦寸法４２５ｙは、フィルタ膜領域４２５の横寸法４２５ｗ及び縦寸法４２５ｈに対して、余裕幅ｄｘ、又は余裕幅ｄｙを減じた大きさである。着弾対象領域２２５Ｅの横寸法２２５ｘ及び縦寸法２２５ｙは、フィルタ膜領域２２５の横寸法２２５ｗ及び縦寸法２２５ｈに対して、余裕幅ｄｘ、又は余裕幅ｄｙを減じた大きさである。横寸法４２５ｗ又は縦寸法４２５ｈが、横寸法２２５ｗ又は縦寸法２２５ｈの半分程度であるのに対して、着弾対象領域４２５Ｅの横寸法４２５ｘ又は縦寸法４２５ｙは、着弾対象領域２２５Ｅの横寸法２２５ｘ又は縦寸法２２５ｙの三分の一から四分の一程度になっている。着弾対象領域がフィルタ膜領域に比べて小さくなる割合が大きくなると、フィルタ膜領域の全面に充填できるだけの機能液を着弾対象領域に着弾させることが困難になる。
【０１２６】
着弾対象領域４２５Ｅなどの横寸法４２５ｘ又は縦寸法４２５ｙなどが小さくなることを抑制するためには、余裕幅ｄｘ、及び余裕幅ｄｙを小さくできるようにすることが必要である。フィルタ膜領域２２５より大きさが小さいフィルタ膜領域４２５において、余裕幅ｄｘ、及び余裕幅ｄｙを小さくすることで、着弾対象領域がフィルタ膜領域に比べて小さくなる割合が大きくなることを抑制するためには、着弾位置のずれの許容誤差を小さくすることが必要である。即ち、フィルタ膜領域の大きさが小さいフィルタ膜領域ほど、高い着弾位置精度が必要となる可能性が高い。
【０１２７】
上述したマザー対向基板２０１Ａのアライメントが終了した後に、θテーブル３２において回動位置のずれが発生した場合には、液滴吐出装置１に対してマザー対向基板２０１Ａの姿勢（Ｚ軸まわりの角度）が変わる。このため、θテーブル３２における回動位置のずれは、ラッチ信号のスタート時点（位置）のずれや、フィルタ膜領域２２５（フィルタ膜領域４２５）の位置ずれ（隔壁２０４の位置ずれ）などの原因となる。θテーブル３２における回動位置のずれによって振られたマザー対向基板２０１Ａの各部分の位置ずれは、回動中心３２ａからの距離が離れるほど、距離に比例して大きくなる。
【０１２８】
＜機能液の配置＞
次に、機能液を吐出して、マザー対向基板２０１ＡにおけるＣＦ層２０８及びＣＦ層４０８のフィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５に機能液を配置する工程について、図１３及び図１４を参照して説明する。機能液を配置する前の状態のＣＦ層２０８又はＣＦ層４０８を、ＣＦ層領域２０８ａ又はＣＦ層領域４０８ａと表記する。図１３は、機能液を配置する工程を示すフローチャートである。図１４は、ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図である。図１４に示したＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びθ方向は、図１に示したＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びθ方向と一致している。
【０１２９】
図１３のステップＳ２１では、ワーク載置台２１にマザー対向基板２０１Ａを給材する。より詳細には、ワークＷの給除材を行うための給除材位置にワーク載置台２１を位置させる。ワーク載置台２１の位置は、Ｘ軸テーブル１１の位置決め精度の範囲で厳密に位置決めされる。当該給除材位置において、例えばロボットアーム（図示省略）により、ワーク載置台２１の吸着テーブル３１上の所定の位置に、所定の方向でマザー対向基板２０１Ａを載置して、吸着テーブル３１にマザー対向基板２０１Ａを吸着させる。マザー対向基板２０１Ａの位置は、ロボットアームの位置決め精度の範囲で液滴吐出装置１に対して位置決めされる。なお、この場合の所定の方向のマザー対向基板２０１Ａとは、図１４に示したように、マザー対向基板２０１Ａの４辺がＸ軸方向又はＹ軸方向に延在する状態である。
【０１３０】
次に、ステップＳ２２では、アライメントカメラ８１によって、マザー対向基板２０１Ａに形成されているアライメントマーク２８１を認識する。マザー対向基板２０１Ａが概所定の位置に所定の方向で載置されていることによって、アライメントマーク２８１も略所定の位置に位置する。このため、図１４に示したように、所定の位置に位置するアライメントカメラ８１の撮像域８１ａ内に入っており、アライメントカメラ８１によってアライメントマーク２８１が認識される。アライメントマーク２８１をアライメントカメラ８１によって認識することによって、吐出装置制御部６は、アライメントマーク２８１の厳密な位置を取得する。
なお、アライメントカメラ８１によってアライメントマーク２８１が認識できない場合は、マザー対向基板２０１Ａの載置状態が著しく不適切な場合や、マザー対向基板２０１Ａが給材されていない場合などの非定常状態であり、オフラインで復旧作業を実施することが好ましい。
【０１３１】
次に、ステップＳ２３では、マザー対向基板２０１Ａのθ方向の位置（姿勢）を調整する。一対のアライメントマーク２８１，２８１は、マザー対向基板２０１Ａの４辺がＸ軸方向又はＹ軸方向に延在する所定の方向の状態では、Ｘ軸方向の位置が互いに一致する位置に形成されている。一対のアライメントカメラ８１，８１のそれぞれによって認識されたそれぞれのアライメントマーク２８１のＸ軸方向の位置を一致させることによって、マザー対向基板２０１Ａのθ方向の位置（姿勢）を、４辺の延在方向がＸ軸方向又はＹ軸方向に一致する所定の姿勢に調整する。ステップＳ２２とステップＳ２３とが、マザー対向基板２０１Ａのアライメント作業である。
【０１３２】
上述したように、マザー対向基板２０１Ａのθ方向の移動は、θテーブル３２によって、マザー対向基板２０１Ａが吸着された吸着テーブル３１を、回動中心３２ａを通るＺ軸に並行な軸まわりに回動させることによって実施する。
θ調整が終了した状態のマザー対向基板２０１Ａにおけるアライメントマーク２８１の位置が、マザー対向基板２０１Ａの位置として、吐出装置制御部６に認識される。ＣＦ層領域２０８ａ又はＣＦ層領域４０８ａにおけるフィルタ膜領域２２５又はフィルタ膜領域４２５のそれぞれの位置は、アライメントマーク２８１に対する相対位置の規格値とアライメントマーク２８１の位置とから算出される。
【０１３３】
次に、ステップＳ２４では、吐出ユニット２の液滴吐出ヘッド１７の副走査方向の位置を調整する。液滴吐出ヘッド１７を、アライメントが終了したマザー対向基板２０１Ａのフィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５のそれぞれに機能液を着弾させるための適切な位置に位置するように、副走査方向に移動させて位置決めする。液滴吐出ヘッド１７は、ヘッドユニット５４ごとに、Ｙ軸テーブル１２によって移動させられ、適切な位置で保持される。
【０１３４】
次に、ステップＳ２５では、液滴吐出ヘッド１７からフィルタ膜領域２２５又はフィルタ膜領域４２５の着弾対象領域２２５Ｅ又は着弾対象領域４２５Ｅに向けて機能液を吐出する描画吐出を実施する。
詳細には、Ｘ軸テーブル１１によって、ワーク載置台２１を主走査方向に移動させることによって、マザー対向基板２０１Ａを主走査方向に一定の速度で移動させる。ステップＳ２３でθ調整が終了した状態のマザー対向基板２０１Ａにおけるアライメントマーク２８１の位置が、マザー対向基板２０１Ａの位置として、吐出装置制御部６に認識されている。ある時点におけるアライメントマーク２８１の位置は、吐出装置制御部６に認識された当該位置と、その時点までのＸ軸テーブル１１による移動量とから特定できる。アライメントマーク２８１の位置から、フィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５の着弾対象領域２２５Ｅ及び着弾対象領域４２５Ｅの位置が特定される。
着弾対象領域２２５Ｅ及び着弾対象領域４２５Ｅへの機能液の配置は、液滴吐出装置１における吐出制御方法について図５を参照して説明したように、液滴吐出ヘッド１７の吐出ノズル７８からドットパターンデータで指定された位置に向けて液滴を吐出することによって、実施される。ドットパターンデータで指定された位置に対応する、実際に機能液を着弾させる着弾対象領域２２５Ｅ及び着弾対象領域４２５Ｅの位置としては、アライメントマーク２８１の位置から特定された位置が用いられる。
【０１３５】
次に、ステップＳ２６では、マザー対向基板２０１Ａの全面について、ドットパターンデータで指定された位置に対応する描画吐出を実施したか否かを判定する。
描画吐出を実施していない部分がある（ステップＳ２６でＮＯ）場合には、ステップＳ２４に戻って描画吐出を実施していない部分に向けて機能液を吐出できる位置に液滴吐出ヘッド１７の位置を調整し、さらにステップＳ２５及びステップＳ２６を繰り返す。
マザー対向基板２０１Ａの全面について、描画吐出が実施されていた（ステップＳ２６でＹＥＳ）場合には、ステップＳ２７に進む。
【０１３６】
ステップＳ２６の次に、ステップＳ２７では、描画吐出が実施されたマザー対向基板２０１Ａをワーク載置台２１から除材する。
ステップＳ２７を実施して、当該マザー対向基板２０１ＡにおけるＣＦ層２０８及びＣＦ層４０８のフィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５に機能液を配置する工程を終了する。
【０１３７】
＜マザー対向基板におけるＣＦ層の配置＞
次に、マザー対向基板２０１ＡにおけるＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）及びＣＦ層４０８（ＣＦ層領域４０８ａ）の配置と回動中心３２ａとの位置関係について、図１４を参照して説明する。上述したように、本実施形態においては、マザー対向基板２０１Ａの上にＣＦ層２０８などを形成したものや、ＣＦ層２０８などを形成する途中の状態のものも、マザー対向基板２０１Ａと表記する。図１４に示したＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びθ方向は、図１に示したＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びθ方向と一致している。
【０１３８】
図１４に示すように、機能液を配置する前のマザー対向基板２０１Ａがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、回動中心３２ａはマザー対向基板２０１Ａの中央あたりにある。ＣＦ層領域２０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｂ、及びＣＦ層領域４０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列４０８Ｂは、主走査方向に延在している。ＣＦ領域列４０８Ｂは、ＣＦ領域列２０８Ｂより、マザー対向基板２０１Ａの中央側に配置されている。図１４に示した、マザー対向基板２０１Ａがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ領域列４０８Ｂは、ＣＦ領域列２０８Ｂより、回動中心３２ａに近い位置に配置されている。
【０１３９】
上述したフィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５に機能液を配置する工程においては、ステップＳ２３で取得されたアライメントマーク２８１の位置に基づいて、着弾対象領域２２５Ｅ及び着弾対象領域４２５Ｅの位置が特定される。このため、マザー対向基板２０１Ａのθ方向の位置がずれると、吐出装置制御部６に認識されている着弾対象領域２２５Ｅ及び着弾対象領域４２５Ｅの位置と実際の位置とで、ずれが生ずる。
【０１４０】
マザー対向基板２０１Ａのθ方向のずれは、マザー対向基板２０１Ａは吸着テーブル３１に吸着されて固定されているため、θテーブル３２の回動中心３２ａを中心に、マザー対向基板２０１Ａが回動することで生ずる。従って、マザー対向基板２０１Ａのθ方向のずれによる着弾対象領域の位置ずれは、回動中心３２ａから遠いほど大きくなる。位置ずれ及び回動中心３２ａからの距離の方向を考慮すると、θ方向のずれによる主走査方向の位置ずれは、回動中心３２ａから副走査方向において遠いほど大きくなり、θ方向のずれによる副走査方向の位置ずれは、回動中心３２ａから主走査方向において遠いほど大きくなる。
【０１４１】
図１２を参照して説明したように、ＣＦ層４０８（ＣＦ層領域４０８ａ）のフィルタ膜領域４２５の大きさは、ＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）のフィルタ膜領域２２５より小さい。このため、同じ大きさの位置ずれが生じた場合、機能液が配置されるべきフィルタ領域から外れて配置されるような不具合が生ずる可能性は、フィルタ膜領域４２５の方が、フィルタ膜領域２２５より大きい。
マザー対向基板２０１Ａにおいては、ＣＦ領域列４０８ＢをＣＦ領域列２０８Ｂより、回動中心３２ａに近い位置に配置することで、アライメントを実施した後のθ方向の位置ずれ（角度ずれ）が生じた場合の、着弾対象領域４２５Ｅの位置ずれの方が着弾対象領域２２５Ｅの位置ずれより小さくなっている。従って、マザー対向基板２０１Ａにおいては、位置ずれが生じた場合に不具合が生ずる可能性が高いフィルタ膜領域４２５の方が位置ずれの量が小さくなるように配置されている。
【０１４２】
フィルタ膜領域２２５が、第一の膜形成区画、第一の機能膜区画、又は第一の色要素領域に相当し、フィルタ膜領域４２５が、第二の膜形成区画、第二の機能膜区画、又は第二の色要素領域に相当する。ＣＦ層領域２０８ａが、第一の膜形成領域、第一の機能膜領域、又は第一のフィルタ領域に相当し、ＣＦ層領域４０８ａが、第二の膜形成領域、第二の機能膜領域、又は第二のフィルタ領域に相当する。ＣＦ領域列２０８Ｂが、第一の領域列又は第一のフィルタ領域列に相当し、ＣＦ領域列４０８Ｂが、第二の領域列又は第二のフィルタ領域列に相当する。
【０１４３】
＜マザー対向基板におけるＣＦ層の他の配置例１＞
次に、マザー対向基板におけるＣＦ層の他の配置例について説明する。最初に、マザー対向基板２０１ＢにおけるＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）及びＣＦ層４０８（ＣＦ層領域４０８ａ）の配置と回動中心３２ａとの位置関係について、図１５を参照して説明する。図１５は、ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図である。図１５に示したＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びθ方向は、図１に示したＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びθ方向と一致している。なお、上述したマザー対向基板２０１Ａと同様に、マザー対向基板２０１Ｂの上にＣＦ層２０８などを形成したものや、ＣＦ層２０８などを形成する途中の状態のものも、マザー対向基板２０１Ｂと表記する。
【０１４４】
図１５に示すように、マザー対向基板２０１Ｂには対向基板２２０のＣＦ層２０８と共に、対向基板４２０を構成するＣＦ層４０８がガラス基板４０１となる部分に形成される。上述したように、ＣＦ層４０８を備える対向基板４２０は、対向基板２２０と実質的に同じ構造をしており、液晶表示パネル２００より表示部の面積が小さい液晶表示パネルを構成する対向基板である。
マザー対向基板２０１ＢにおけるＣＦ層２０８又はＣＦ層４０８が形成される領域にかからない位置には、マザー対向基板２０１Ａと同様の一対のアライメントマーク２８１，２８１が形成されている。アライメントマーク２８１は、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにマザー対向基板２０１Ｂを液滴吐出装置１などの製造装置に取り付ける際などに、位置決め用の基準マークとして用いられる。
なお、図１５においては、図をわかりやすくするためにＣＦ層領域２０８ａやＣＦ層領域４０８ａの相互間の間隔を大きくしてあるが、マザー対向基板２０１Ｂを効率良く使用するためには、当該間隔は可能な限り小さくすることが好ましい。
【０１４５】
機能液を配置する前のマザー対向基板２０１Ｂがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、回動中心３２ａはマザー対向基板２０１Ｂの中央あたりにある。ＣＦ層領域２０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｃ、及びＣＦ層領域４０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列４０８Ｃは、副走査方向に延在している。ＣＦ領域列４０８Ｃは、ＣＦ領域列２０８Ｃより、マザー対向基板２０１Ｂの中央側に配置されている。図１５に示した、マザー対向基板２０１Ｂがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ領域列４０８Ｃは、ＣＦ領域列２０８Ｃより、回動中心３２ａに近い位置に配置されている。
【０１４６】
上述したマザー対向基板２０１Ａの場合と同様に、マザー対向基板２０１Ｂのθ方向のずれによる着弾対象領域の位置ずれは、回動中心３２ａから遠いほど大きくなる。
また、ＣＦ層４０８（ＣＦ層領域４０８ａ）のフィルタ膜領域４２５の大きさは、ＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）のフィルタ膜領域２２５より小さい。このため、同じ大きさの位置ずれが生じた場合、機能液が配置されるべきフィルタ領域から外れて配置されるような不具合が生ずる可能性は、フィルタ膜領域４２５の方が、フィルタ膜領域２２５より大きい。
【０１４７】
マザー対向基板２０１Ｂにおいては、ＣＦ領域列４０８ＣをＣＦ領域列２０８Ｃより、回動中心３２ａに近い位置に配置することで、アライメントを実施した後のθ方向の位置ずれ（角度ずれ）が生じた場合の、着弾対象領域４２５Ｅの位置ずれの方が着弾対象領域２２５Ｅの位置ずれより小さくなっている。従って、マザー対向基板２０１Ｂにおいては、位置ずれが生じた場合に不具合が生ずる可能性が高いフィルタ膜領域４２５の方が位置ずれの量が小さくなるように配置されている。
【０１４８】
マザー対向基板２０１ＢにおけるＣＦ層領域２０８ａが、第一の膜形成領域、第一の機能膜領域、又は第一のフィルタ領域に相当し、ＣＦ層領域４０８ａが、第二の膜形成領域、第二の機能膜領域、又は第二のフィルタ領域に相当する。ＣＦ領域列２０８Ｃが、第三の領域列又は第三のフィルタ領域列に相当し、ＣＦ領域列４０８Ｃが、第四の領域列又は第四のフィルタ領域列に相当する。ＣＦ層２０８及びＣＦ層４０８のフィルタ膜２０５を形成する前の状態のマザー対向基板２０１Ｂが、マザー基材又はマザー基板に相当する。
【０１４９】
＜マザー対向基板におけるＣＦ層の他の配置例２＞
次に、マザー対向基板３０１ＡにおけるＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）及びＣＦ層３０８（ＣＦ層領域３０８ａ）の配置と回動中心３２ａとの位置関係について、図１６を参照して説明する。図１６は、ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図である。機能液を配置する前の状態のＣＦ層３０８を、ＣＦ層２０８に対するＣＦ層領域２０８ａと同様に、ＣＦ層領域３０８ａと表記する。なお、上述したマザー対向基板２０１Ａなどと同様に、マザー対向基板３０１Ａの上にＣＦ層２０８やＣＦ層３０８などを形成したものや、ＣＦ層２０８やＣＦ層３０８などを形成する途中状態のものも、マザー対向基板３０１Ａと表記する。
【０１５０】
図１６に示すように、マザー対向基板３０１Ａには対向基板２２０のＣＦ層２０８と共に、対向基板２２０とは異なる対向基板を構成するＣＦ層３０８がガラス基板３０１となる部分に形成される。ＣＦ層３０８を備える対向基板は、対向基板２２０と実質的に同じ構造をしており、液晶表示パネル２００より表示部の面積が小さい液晶表示パネルを構成する対向基板である。
マザー対向基板３０１ＡにおけるＣＦ層２０８又はＣＦ層３０８が形成される領域にかからない位置には、マザー対向基板２０１Ａと同様の一対のアライメントマーク２８１，２８１が形成されている。アライメントマーク２８１は、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにマザー対向基板３０１Ａを製造装置に取り付ける際などに、位置決め用の基準マークとして用いられる。
なお、図１６においては、図をわかりやすくするためにＣＦ層領域２０８ａやＣＦ層領域３０８ａの相互間の間隔を大きくしてあるが、マザー対向基板３０１Ａを効率良く使用するためには、当該間隔は可能な限り小さくすることが好ましい。
【０１５１】
機能液を配置する前のマザー対向基板３０１Ａがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、回動中心３２ａはマザー対向基板３０１Ａの中央あたりにある。８個所のＣＦ層領域３０８ａが、マザー対向基板３０１Ａの中央に配置されている。ＣＦ層領域２０８ａは、８個所のＣＦ層領域３０８ａの周囲を囲むように、マザー対向基板３０１Ａの周辺側に配置されている。マザー対向基板３０１Ａが図１６に示したワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ層領域３０８ａは、ＣＦ層領域２０８ａより、回動中心３２ａに近い位置に配置されている。
【０１５２】
上述したフィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５に機能液を配置する工程においては、ステップＳ２２で取得されたアライメントマーク２８１の位置に基づいて、着弾対象領域２２５Ｅ及び着弾対象領域４２５Ｅの位置が特定される。同様に、フィルタ膜領域２２５及びＣＦ層領域３０８ａのフィルタ膜領域３２５に機能液を配置する工程においては、取得されたアライメントマーク２８１の位置に基づいて、フィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域３２５の着弾対象領域の位置が特定される。このため、マザー対向基板３０１Ａのθ方向の位置がずれると、吐出装置制御部６に認識されているフィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域３２５の着弾対象領域の位置と実際の位置とで、ずれが生ずる。マザー対向基板３０１Ａのθ方向のずれは、マザー対向基板３０１Ａは吸着テーブル３１に吸着されて固定されているため、θテーブル３２の回動中心３２ａを中心に、マザー対向基板３０１Ａが回動することで生ずる。従って、マザー対向基板３０１Ａのθ方向のずれによる着弾対象領域の位置ずれは、回動中心３２ａから遠いほど大きくなる。
【０１５３】
上述したように、ＣＦ層３０８（ＣＦ層領域３０８ａ）のフィルタ膜領域３２５の大きさは、ＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）のフィルタ膜領域２２５より小さい。このため、同じ大きさの位置ずれが生じた場合、機能液が配置されるべきフィルタ領域から外れて配置されるような不具合が生ずる可能性は、フィルタ膜領域３２５の方が、フィルタ膜領域２２５より大きい。
マザー対向基板３０１Ａにおいては、ＣＦ層領域３０８ａをＣＦ層領域２０８ａより、回動中心３２ａに近い位置に配置することで、アライメントを実施した後のθ方向の位置ずれ（角度ずれ）が生じた場合の、フィルタ膜領域３２５の着弾対象領域の位置ずれの方がフィルタ膜領域２２５の着弾対象領域の位置ずれより小さくなっている。従って、マザー対向基板３０１Ａにおいては、位置ずれが生じた場合に不具合が生ずる可能性が高いフィルタ膜領域３２５の方が位置ずれの量が小さくなるように配置されている。
【０１５４】
フィルタ膜領域２２５が、第一の膜形成区画、第一の機能膜区画、又は第一の色要素領域に相当し、フィルタ膜領域３２５が、第二の膜形成区画、第二の機能膜区画、又は第二の色要素領域に相当する。ＣＦ層領域２０８ａが、第一の膜形成領域、第一の機能膜領域、又は第一のフィルタ領域に相当し、ＣＦ層領域３０８ａが、第二の膜形成領域、第二の機能膜領域、又は第二のフィルタ領域に相当する。ＣＦ層２０８及びＣＦ層３０８のフィルタ膜２０５を形成する前の状態のマザー対向基板３０１Ａが、マザー基材又はマザー基板に相当する。
【０１５５】
＜マザー対向基板におけるＣＦ層の他の配置例３＞
次に、マザー対向基板２０１ＣにおけるＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）及びＣＦ層４０８（ＣＦ層領域４０８ａ）の配置と回動中心３３２ａとの位置関係について、図１７を参照して説明する。図１７は、ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図である。図１７に示したＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びθ方向は、図１に示したＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、及びθ方向と一致している。なお、上述したマザー対向基板２０１Ａなどと同様に、マザー対向基板２０１Ｃの上にＣＦ層２０８などを形成したものや、ＣＦ層２０８などを形成する途中の状態のものも、マザー対向基板２０１Ｃと表記する。
【０１５６】
図１７に示すように、回動中心３３２ａは、ワーク載置台２１とは回動装置の構成が異なるワーク載置台３２１が備えるθテーブル３３２の回動中心である。θテーブル３３２は、回動中心３３２ａが吸着テーブル３１の主走査方向の端の方に位置するように構成されている。θテーブル３３２が、回動装置に相当し、回動中心３３２ａが回動中心に相当する。
マザー対向基板２０１Ｃには対向基板２２０のＣＦ層２０８と共に、対向基板４２０を構成するＣＦ層４０８がガラス基板４０１となる部分に形成される。上述したように、ＣＦ層４０８を備える対向基板４２０は、対向基板２２０と実質的に同じ構造をしており、液晶表示パネル２００より表示部の面積が小さい液晶表示パネルを構成する対向基板である。
マザー対向基板２０１ＣにおけるＣＦ層２０８又はＣＦ層４０８が形成される領域にかからない位置には、マザー対向基板２０１Ａと同様の一対のアライメントマーク２８１，２８１が形成されている。アライメントマーク２８１は、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにマザー対向基板２０１Ｃを液滴吐出装置１などの製造装置に取り付ける際などに、位置決め用の基準マークとして用いられる。
なお、図１７においては、図をわかりやすくするためにＣＦ層領域２０８ａやＣＦ層領域４０８ａの相互間の間隔を大きくしてあるが、マザー対向基板２０１Ｃを効率良く使用するためには、当該間隔は可能な限り小さくすることが好ましい。
【０１５７】
機能液を配置する前のマザー対向基板２０１Ｃがワーク載置台３２１の略所定の位置に載置された状態では、回動中心３３２ａは、マザー対向基板２０１Ｃの主走査方向における一対のアライメントマーク２８１，２８１が形成されている側の端あたりにある。ＣＦ層領域２０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｃ、及びＣＦ層領域４０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列４０８Ｃは、副走査方向に延在している。ＣＦ領域列４０８Ｃは、ＣＦ領域列２０８Ｃより、マザー対向基板２０１Ｃの主走査方向におけるアライメントマーク２８１が形成されている方の端側に配置されている。図１７に示した、マザー対向基板２０１Ｃがワーク載置台３２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ領域列４０８Ｃは、ＣＦ領域列２０８Ｃより、回動中心３３２ａに近い位置に配置されている。
【０１５８】
上述したマザー対向基板２０１Ａの場合と同様に、マザー対向基板２０１Ｃのθ方向のずれによる着弾対象領域の位置ずれは、回動中心３３２ａから遠いほど大きくなる。
また、ＣＦ層４０８（ＣＦ層領域４０８ａ）のフィルタ膜領域４２５の大きさは、ＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）のフィルタ膜領域２２５より小さい。このため、同じ大きさの位置ずれが生じた場合、機能液が配置されるべきフィルタ領域から外れて配置されるような不具合が生ずる可能性は、フィルタ膜領域４２５の方が、フィルタ膜領域２２５より大きい。
【０１５９】
マザー対向基板２０１Ｃにおいては、ＣＦ領域列４０８ＣをＣＦ領域列２０８Ｃより、回動中心３３２ａに近い位置に配置することで、アライメントを実施した後のθ方向の位置ずれ（角度ずれ）が生じた場合の、着弾対象領域４２５Ｅの位置ずれの方が着弾対象領域２２５Ｅの位置ずれより小さくなっている。従って、マザー対向基板２０１Ｃにおいては、位置ずれが生じた場合に不具合が生ずる可能性が高いフィルタ膜領域４２５の方が位置ずれの量が小さくなるように配置されている。
【０１６０】
マザー対向基板２０１ＣにおけるＣＦ層領域２０８ａが、第一の膜形成領域、第一の機能膜領域、又は第一のフィルタ領域に相当し、ＣＦ層領域４０８ａが、第二の膜形成領域、第二の機能膜領域、又は第二のフィルタ領域に相当する。ＣＦ領域列２０８Ｃが、第三の領域列又は第三のフィルタ領域列に相当し、ＣＦ領域列４０８Ｃが、第四の領域列又は第四のフィルタ領域列に相当する。ＣＦ層２０８及びＣＦ層４０８のフィルタ膜２０５を形成する前の状態のマザー対向基板２０１Ｃが、マザー基材又はマザー基板に相当する。
【０１６１】
＜マザー対向基板におけるＣＦ層の他の配置例４＞
次に、マザー対向基板４０１ＡにおけるＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）及び縦置き配置のＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ｖ）の配置と回動中心３２ａとの位置関係について、図１８を参照して説明する。図１８は、ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図である。ワーク載置台２１に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板４０１Ａに対してＣＦ層２０８の長辺方向が副走査方向に延在する配置のしかたを、縦置き配置と表記する。機能液を配置する前の状態のマザー対向基板４０１Ａにおける縦置き配列のＣＦ層２０８を形成するための領域を、ＣＦ層２０８に対するＣＦ層領域２０８ａと同様に、ＣＦ層領域２０８ｖと表記する。なお、上述したマザー対向基板２０１Ａなどと同様に、マザー対向基板４０１Ａの上にＣＦ層２０８を形成したものや、ＣＦ層２０８を形成する途中の状態のものも、マザー対向基板４０１Ａと表記する。
【０１６２】
図１８に示すように、マザー対向基板４０１Ａには、配置方向が異なるＣＦ層２０８が形成される。マザー対向基板４０１ＡにおけるＣＦ層２０８が形成される領域にかからない位置には、マザー対向基板２０１Ａと同様の一対のアライメントマーク２８１，２８１が形成されている。アライメントマーク２８１は、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにマザー対向基板４０１Ａを液滴吐出装置１などの製造装置に取り付ける際などに、位置決め用の基準マークとして用いられる。
なお、図１８においては、図をわかりやすくするためにＣＦ層領域２０８ａやＣＦ層領域２０８ｖの相互間の間隔を大きくしてあるが、マザー対向基板４０１Ａを効率良く使用するためには、当該間隔は可能な限り小さくすることが好ましい。
【０１６３】
機能液を配置する前のマザー対向基板４０１Ａがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、回動中心３２ａはマザー対向基板４０１Ａの中央あたりにある。ＣＦ層領域２０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｂ、及びＣＦ層領域２０８ｖが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｄは、主走査方向に延在している。ＣＦ領域列２０８Ｂは、ＣＦ領域列２０８Ｄより、マザー対向基板４０１Ａの中央側に配置されている。図１８に示した、マザー対向基板４０１Ａがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ領域列２０８Ｂは、ＣＦ領域列２０８Ｄより、回動中心３２ａに近い位置に配置されている。ＣＦ層領域２０８ａは、副走査方向において、ＣＦ層領域２０８ｖより、回動中心３２ａに近い位置に配置されている。
【０１６４】
図１２を参照して説明したように、ＣＦ層領域２０８ａのフィルタ膜領域２２５の形状は、長方形である。図１８に示したように、マザー対向基板４０１Ａがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ層領域２０８ａのフィルタ膜領域２２５は、長辺が副走査方向に延在するように配置されている。ＣＦ層領域２０８ｖのフィルタ膜領域２２５ｖは、フィルタ膜領域２２５と実質的に同じものであるが、長辺が主走査方向に延在するように配置されている。このため、主走査方向において、同じ大きさの位置ずれが生じた場合、機能液が配置されるべきフィルタ領域から外れて配置されるような不具合が生ずる可能性は、フィルタ膜領域２２５の方が、フィルタ膜領域２２５ｖより大きい。
【０１６５】
上述したマザー対向基板２０１Ａなどの場合と同様に、マザー対向基板４０１Ａのθ方向のずれによる着弾対象領域の位置ずれは、回動中心３２ａから遠いほど大きくなる。位置ずれ及び回動中心３２ａからの距離の方向を考慮すると、θ方向のずれによる主走査方向の位置ずれは、回動中心３２ａから副走査方向において遠いほど大きくなり、θ方向のずれによる副走査方向の位置ずれは、回動中心３２ａから主走査方向において遠いほど大きくなる。
【０１６６】
マザー対向基板４０１Ａにおいては、主走査方向に延在するＣＦ領域列２０８ＢをＣＦ領域列２０８Ｄより、回動中心３２ａに近い位置に配置することで、アライメントを実施した後のθ方向の位置ずれ（角度ずれ）が生じた場合の、フィルタ膜領域２２５の主走査方向におけ位置ずれの方が、フィルタ膜領域２２５ｖの主走査方向におけ位置ずれより小さくなっている。ＣＦ層領域２０８ａをＣＦ層領域２０８ｖより、副走査方向において回動中心３２ａに近い位置に配置することで、アライメントを実施した後のθ方向の位置ずれ（角度ずれ）が生じた場合の、フィルタ膜領域２２５の主走査方向におけ位置ずれの方が、フィルタ膜領域２２５ｖの主走査方向におけ位置ずれより小さくなっている。従って、マザー対向基板４０１Ａにおいては、主走査方向の位置ずれが生じた場合に不具合が生ずる可能性が高いフィルタ膜領域２２５の方が、フィルタ膜領域２２５ｖより主走査方向の位置ずれの量が小さくなるように配置されている。
【０１６７】
マザー対向基板４０１Ａにおけるフィルタ膜領域２２５ｖが、第一の膜形成区画、第一の機能膜区画、又は第一の色要素領域に相当し、フィルタ膜領域２２５が、第二の膜形成区画、第二の機能膜区画、又は第二の色要素領域に相当する。ＣＦ層領域２０８ｖが、第一の膜形成領域、第一の機能膜領域、又は第一のフィルタ領域に相当し、ＣＦ層領域２０８ａが、第二の膜形成領域、第二の機能膜領域、又は第二のフィルタ領域に相当する。ＣＦ領域列２０８Ｄが、第一の領域列又は第一のフィルタ領域列に相当し、ＣＦ領域列２０８Ｂが、第二の領域列又は第二のフィルタ領域列に相当する。ＣＦ層２０８のフィルタ膜２０５を形成する前の状態のマザー対向基板４０１Ａが、マザー基材又はマザー基板に相当する。
【０１６８】
＜マザー対向基板におけるＣＦ層の他の配置例５＞
次に、マザー対向基板４０１ＢにおけるＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ａ）及び縦置き配置のＣＦ層２０８（ＣＦ層領域２０８ｖ）の配置と回動中心３２ａとの位置関係について、図１９を参照して説明する。図１９は、ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図である。ワーク載置台２１に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板４０１Ｂに対してＣＦ層２０８の長辺方向が副走査方向に延在する配置のしかたを、マザー対向基板４０１Ａにおける場合と同様に縦置き配置と表記する。機能液を配置する前の状態のマザー対向基板４０１Ｂにおける縦置き配列のＣＦ層２０８を形成するための領域を、ＣＦ層２０８に対するＣＦ層領域２０８ａと同様に、ＣＦ層領域２０８ｖと表記する。なお、上述したマザー対向基板２０１Ａなどと同様に、マザー対向基板４０１Ｂ上にＣＦ層２０８を形成したものや、ＣＦ層２０８を形成する途中のものも、マザー対向基板４０１Ｂと表記する。
【０１６９】
図１９に示すように、マザー対向基板４０１Ｂには、配置方向が異なるＣＦ層２０８が形成される。マザー対向基板４０１ＢにおけるＣＦ層２０８が形成される領域にかからない位置には、マザー対向基板２０１Ａと同様の一対のアライメントマーク２８１，２８１が形成されている。アライメントマーク２８１は、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにマザー対向基板４０１Ｂを液滴吐出装置１などの製造装置に取り付ける際などに、位置決め用の基準マークとして用いられる。
なお、図１９においては、図をわかりやすくするためにＣＦ層領域２０８ａやＣＦ層領域２０８ｖの相互間の間隔を大きくしてあるが、マザー対向基板４０１Ｂを効率良く使用するためには、当該間隔は可能な限り小さくすることが好ましい。
【０１７０】
機能液を配置する前のマザー対向基板４０１Ｂがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、回動中心３２ａはマザー対向基板４０１Ｂの中央あたりにある。ＣＦ層領域２０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｃ、及びＣＦ層領域２０８ｖが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｅは、副査方向に延在している。ＣＦ領域列２０８Ｅは、ＣＦ領域列２０８Ｃより、マザー対向基板４０１Ｂの中央側に配置されている。図１９に示した、マザー対向基板４０１Ｂがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ領域列２０８Ｅは、ＣＦ領域列２０８Ｃより、回動中心３２ａに近い位置に配置されている。ＣＦ層領域２０８ｖは、主走査方向において、ＣＦ層領域２０８ａより、回動中心３２ａに近い位置に配置されている。
【０１７１】
図１２を参照して説明したように、ＣＦ層領域２０８ａのフィルタ膜領域２２５の形状は、長方形である。図１９に示したように、マザー対向基板４０１Ｂがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ層領域２０８ａのフィルタ膜領域２２５は、長辺が副走査方向に延在するように配置されている。ＣＦ層領域２０８ｖのフィルタ膜領域２２５ｖは、フィルタ膜領域２２５と実質的に同じものであるが、長辺が主走査方向に延在するように配置されている。即ち、このため、副走査方向においては、フィルタ膜領域２２５の方が、フィルタ膜領域２２５ｖより長くなっている。副走査方向において、同じ大きさの位置ずれが生じた場合、機能液が配置されるべきフィルタ領域から外れて配置されるような不具合が生ずる可能性は、フィルタ膜領域２２５ｖの方が、フィルタ膜領域２２５より大きい。
【０１７２】
上述したマザー対向基板２０１Ａなどの場合と同様に、マザー対向基板４０１Ｂのθ方向のずれによる着弾対象領域の位置ずれは、回動中心３２ａから遠いほど大きくなる。位置ずれ及び回動中心３２ａからの距離の方向を考慮すると、θ方向のずれによる主走査方向の位置ずれは、回動中心３２ａから副走査方向において遠いほど大きくなり、θ方向のずれによる副走査方向の位置ずれは、回動中心３２ａから主走査方向において遠いほど大きくなる。
【０１７３】
マザー対向基板４０１Ｂにおいては、副走査方向に延在するＣＦ領域列２０８ＥをＣＦ領域列２０８Ｃより、回動中心３２ａに近い位置に配置することで、アライメントを実施した後のθ方向の位置ずれ（角度ずれ）が生じた場合の、フィルタ膜領域２２５ｖの副走査方向におけ位置ずれの方が、フィルタ膜領域２２５の副走査方向におけ位置ずれより小さくなっている。ＣＦ層領域２０８ｖをＣＦ層領域２０８ａより、主走査方向において回動中心３２ａに近い位置に配置することで、アライメントを実施した後のθ方向の位置ずれ（角度ずれ）が生じた場合の、フィルタ膜領域２２５ｖの副走査方向におけ位置ずれの方が、フィルタ膜領域２２５の副走査方向におけ位置ずれより小さくなっている。従って、マザー対向基板４０１Ｂにおいては、副走査方向の位置ずれが生じた場合に不具合が生ずる可能性が高いフィルタ膜領域２２５ｖの方が、フィルタ膜領域２２５より副走査方向の位置ずれの量が小さくなるように配置されている。
【０１７４】
マザー対向基板４０１Ｂにおけるフィルタ膜領域２２５が、第一の膜形成区画、第一の機能膜区画、又は第一の色要素領域に相当し、フィルタ膜領域２２５ｖが、第二の膜形成区画、第二の機能膜区画、又は第二の色要素領域に相当する。ＣＦ層領域２０８ａが、第一の膜形成領域、第一の機能膜領域、又は第一のフィルタ領域に相当し、ＣＦ層領域２０８ｖが、第二の膜形成領域、第二の機能膜領域、又は第二のフィルタ領域に相当する。ＣＦ領域列２０８Ｃが、第三の領域列に相当し、ＣＦ領域列２０８Ｅが、第四の領域列に相当する。ＣＦ層２０８のフィルタ膜２０５を形成する前の状態のマザー対向基板４０１Ｂが、マザー基材又はマザー基板に相当する。
【０１７５】
以下、実施形態の効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）マザー対向基板２０１Ａにおいて、ＣＦ層領域２０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｂ、及びＣＦ層領域４０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列４０８Ｂは、主走査方向に延在している。同じＣＦ層領域２０８ａ又はＣＦ層領域４０８ａが主走査方向に連なっているため、それぞれの液滴吐出ヘッド１７を、一回の主走査方向の相対移動の間は、一定の駆動条件で駆動させることで機能液の配置を実施することができる。
【０１７６】
（２）マザー対向基板２０１Ｂがワーク載置台２１の略所定の位置に載置された状態では、ＣＦ層領域２０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列２０８Ｃ、及びＣＦ層領域４０８ａが一列に配列されたＣＦ領域列４０８Ｃは、副走査方向に延在している。同じＣＦ層領域２０８ａ又はＣＦ層領域４０８ａが副走査方向に連なっているため、副走査方向に並ぶ複数の液滴吐出ヘッド１７を、同一の駆動条件で駆動させることで機能液の配置を実施することができる。駆動条件が均一であって主走査方向の相対移動の速度も副走査方向に並ぶ複数の液滴吐出ヘッド１７において共通であるため、相対移動の速度が遅い液滴吐出ヘッド１７に合わせることに起因して作業時間が増加することを抑制することができる。
【０１７７】
以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。
【０１７８】
（変形例１）前記実施形態においては、θテーブル３２は、回動中心３２ａが吸着テーブル３１の略中心に位置する位置に配設されており、θテーブル３３２は、回動中心３３２ａが吸着テーブル３１の主走査方向の端の方に位置する位置に配設されていいた。回動装置の回動中心がこれらの位置であることは必須ではない。載置した基板などのθ方向の位置を調整可能であれば、回動装置の回動中心の位置はどのような位置であってもよい。なお、アライメント作業を効率良く実施するためには、θ方向の調整をするために載置された基板などを回動させた際に、基板などに形成されたアライメントマーク２８１のような基準点の移動量が少なくなる位置が好ましい。一対のアライメントマーク２８１，２８１のように、一対の基準点がある場合には、一方の基準点の移動量が小さくなるか、一対の基準点におけるそれぞれの基準点の移動量が略均等になるような位置が好ましい。
【０１７９】
（変形例２）前記実施形態においては、ＣＦ層２０８、ＣＦ層４０８、及びＣＦ層３０８は、互いに大きさが異なるが、同じ構成を有していたが、同一のマザー基板に構成するＣＦ層などが互いの同じ構成を有することは必須ではない。配置する機能液が共通であれば、どのような構成であってもよい。
【０１８０】
（変形例３）前記実施形態においては、液晶表示パネル２００が備えるＣＦ層２０８は、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂの３色のフィルタ膜を有する３色フィルタであったが、カラーフィルタは、さらに多くの種類のフィルタ膜を有する多色のカラーフィルタであってもよい。多色のカラーフィルタとしては、例えば、赤色、緑色、青色に加えて赤色、緑色、青色の補色のシアン（青緑）、マゼンタ（紫赤）、イエロー（黄色）の有機ＥＬ素子を有する６色カラーフィルタや、シアン（青緑）、マゼンタ（紫赤）、イエロー（黄色）の３色に緑色を加えた４色カラーフィルタなどがあげられる。
【０１８１】
（変形例４）前記実施形態においては、液晶表示パネル２００のフィルタ膜２０５を形成する際の描画吐出について説明したが、形成する膜は、フィルタ膜に限らない。形成する膜は、液晶表示装置の画素電極膜や配向膜や対向電極膜や、カラーフィルタなどを保護するためなどに設けるオーバーコート膜などであってもよい。
形成する膜を有する装置、又は形成過程において膜を形成する必要がある装置も、液晶表示装置に限らない。上述したような膜を有する装置、又は形成過程において上記したような膜を形成する必要がある装置であれば、どのような装置であってもよい。例えば、有機ＥＬ表示装置にも適用できる。有機ＥＬ表示装置を製造する際に上述した液滴吐出装置を用いて形成する機能膜は、有機ＥＬ表示装置の正極電極膜や陰極電極膜、フォトエッチングなどによってパターンを形成するための膜や、フォトエッチングなどのフォトレジスト膜などであってもよい。
【０１８２】
（変形例５）前記実施形態においては、液滴吐出装置１を使用して機能液を配置することで描画を実施する描画対象物の一例として、カラーフィルタを備える液晶表示パネル２００について説明したが、描画対象物はカラーフィルタに限らない。上述したマザー基材、膜形成領域の配置方法、及びカラーフィルタの製造方法は、製造に際して様々な液状体を配置して加工を実施する様々な加工対象物に関するマザー基材、液状体を配置する膜形成領域の配置方法、製造方法、及び加工方法として利用できる。例えば、回路基板のマザー回路基板、及び液状の導電材料を吐出する配線導電パターンの加工方法、絶縁膜を有する回路基板のマザー回路基板、及び液状の絶縁材料を吐出する絶縁膜パターンの加工方法、半導体ウェハ、及び液状の導電材料を吐出する半導体装置の配線導電膜の加工方法、半導体ウェハ、及び液状の絶縁材料を吐出する半導体装置の絶縁層の加工方法などとして、利用することもできる。
【０１８３】
（変形例６）前記実施形態においては、膜形成区画、機能膜区画、又は色要素領域としてのフィルタ膜領域２２５などは長方形であったが、膜形成区画、機能膜区画、又は色要素領域が長方形であることは必須ではない。近年、表示特性を向上させるために、画素の形状が長方形とは異なる表示装置も考案されている。膜形成区画、機能膜区画、又は色要素領域の形状は、形状が長方形とは異なる画素などを形成することができる形状のものであってもよい。
【０１８４】
（変形例７）前記実施形態においては、一つの膜形成領域、機能膜領域、又はフィルタ領域膜においては、膜形成区画、機能膜区画、又は色要素領域としてのフィルタ膜領域２２５などは同じ大きさ及び形状であった。しかし、一つの膜形成領域、機能膜領域、又はフィルタ領域膜においては、膜形成区画、機能膜区画、又は色要素領域が単一の大きさ及び形状であることは必須ではない。例えば、４色カラーフィルタにおける表示の最小単位を構成する色要素の各色の大きさを光源の特性に合わせて異ならせたような、異なる大きさの膜形成区画、機能膜区画、又は色要素領域を有する膜形成領域、機能膜領域、又はフィルタ領域膜であってもよい。
【０１８５】
（変形例８）前記実施形態においては、マザー基材又はマザー基板としてのマザー対向基板２０１Ａなどのマザー対向基板は、フィルタ膜領域２２５又はフィルタ膜領域４２５のように異なるフィルタ膜領域をそれぞれ有するＣＦ層領域２０８ａ及びＣＦ層領域４０８ａのように、それぞれ２種類の膜形成領域を備えていた。しかし、マザー基材又はマザー基板が備える膜形成領域が２種類であることは必須ではない。マザー基材又はマザー基板は、膜形成区画、機能膜区画、又は色要素領域が異なる膜形成領域を３種類以上備える構成であってもよい。
【０１８６】
（変形例９）前記実施形態においては、液滴吐出装置１は、マザー対向基板２０１Ａなどを載置したワーク載置台２１を主走査方向に移動させると共に、液滴吐出ヘッド１７から機能液を吐出させることによってＣＦ層領域２０８ａやＣＦ層領域４０８ａなどに機能液を配置していた。また、ヘッドユニット５４を副走査方向に移動することによって、マザー対向基板２０１Ａなどに対する液滴吐出ヘッド１７（吐出ノズル７８）の位置を合せこんでいた。しかし、配置ヘッドとしての液滴吐出ヘッドとマザー基材又はマザー基板との、主走査方向の相対移動をマザー基材又はマザー基板を移動させることで実施することも、副走査方向の相対移動を配置ヘッドを移動させることで実施することも、必須ではない。
配置ヘッドとマザー基材又はマザー基板との、主走査方向の相対移動を配置ヘッドを主走査方向に移動させることで実施してもよい。配置ヘッドとマザー基材又はマザー基板との、副走査方向の相対移動をマザー基材又はマザー基板を副走査方向に移動させることで実施してもよい。あるいは、配置ヘッドとマザー基材又はマザー基板との、主走査方向及び副走査方向の相対移動を、配置ヘッド、又はマザー基材又はマザー基板のどちらか一方を、主走査方向及び副走査方向に移動させることで実施してもよいし、配置ヘッド、又はマザー基材又はマザー基板の両方を、主走査方向及び副走査方向に移動させることで実施してもよい。
【０１８７】
（変形例１０）前記実施形態においては、機能液をマザー対向基板２０１Ａなどに配置する配置装置として、インクジェット方式の液滴吐出ヘッド１７を備える液滴吐出装置１を例に説明したが、配置装置が液滴吐出装置であることは必須ではない。配置装置としては、例えば、ディスペンサを備える吐出装置なども用いることができる。大面積の膜形成区画に大量の膜材料を配置する必要がある場合には、液滴吐出ヘッドより単位時間あたりの吐出量が多いディスペンサを用いることが有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１８８】
【図１】液滴吐出装置の概略構成を示す平面図。
【図２】液滴吐出装置の概略構成を示す側面図。
【図３】（ａ）は、液滴吐出ヘッドの概要を示す外観斜視図。（ｂ）は、ヘッドユニットの概略構成を示す平面図。
【図４】液滴吐出装置の電気的構成を示す電気構成ブロック図。
【図５】液滴吐出ヘッドの電気的構成と信号の流れを示す説明図。
【図６】液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図。
【図７】（ａ）は、対向基板の平面構造を模式的に示す平面図。（ｂ）は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す平面図。
【図８】３色カラーフィルタのフィルタ膜の配列例を示す模式平面図。
【図９】液晶表示パネルを形成する過程を示すフローチャート。
【図１０】液晶表示パネルを形成する過程におけるフィルタ膜を形成する工程などを示す断面図。
【図１１】液晶表示パネルを形成する過程における配向膜を形成する工程などを示す断面図。
【図１２】フィルタ膜領域の形状と、着弾対象領域と、の関係を示す説明図。
【図１３】機能液を配置する工程を示すフローチャート。
【図１４】ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図。
【図１５】ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図。
【図１６】ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図。
【図１７】ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図。
【図１８】ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図。
【図１９】ワーク載置台に載置されてθ調整される状態のマザー対向基板を示す説明図。
【符号の説明】
【０１８９】
１…液滴吐出装置、２…吐出ユニット、３…ワークユニット、６…吐出装置制御部、１７…液滴吐出ヘッド、２１，３２１…ワーク載置台、３１…吸着テーブル、３２，３３２…θテーブル、３２ａ，３３２ａ…回動中心、５４…ヘッドユニット、７８…吐出ノズル、８０…画像認識ユニット、８１…アライメントカメラ、８１ａ…撮像域、８２…カメラ移動機構、２００…液晶表示パネル、２０１，４０１…ガラス基板、２０１Ａ，２０１Ｂ，２０１Ｃ，３０１Ａ，４０１Ａ，４０１Ｂ…マザー対向基板、２０５，４０５…フィルタ膜、２０８，３０８，４０８…ＣＦ層、２０８ａ，３０８ａ，２０８ｖ，４０８ａ…ＣＦ層領域、２０８Ａ，４０８Ａ…ＣＦ層列、２０８Ｂ，２０８Ｃ，２０８Ｄ，２０８Ｅ，４０８Ｂ，４０８Ｃ…ＣＦ領域列、２１０…素子基板、２２０，４２０…対向基板、２２５，２２５Ｂ，２２５Ｇ，２２５Ｒ，２２５ｖ，３２５，４２５…フィルタ膜領域、２２５Ｅ，４２５Ｅ…着弾対象領域、２２５ｈ，４２５ｈ…縦寸法、２２５ｗ，４２５ｗ…横寸法、２２５ｘ，４２５ｘ…横寸法、２２５ｙ，４２５ｙ…縦寸法、２８１…アライメントマーク、５３２…θ駆動モータ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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