(57)【要約】【課題】レチクル上に付着したパーティクルを効果的に除去可能な露光装置を提供する。【解決手段】本発明の露光装置は、レチクル１０１のパターンを投影光学系を介して基板に露光する露光装置であって、レチクルステージ１０２と、レチクルステージ１０２に搭載され、レチクル１０１を位置決め保持するためのレチクル保持部１１６ａ、１１６ｂ、１１６ｃ、１１６ｄと、レチクル１０１に振動を与える振動子１１９ａ、１１９ｂ、１１９ｃ、１１９ｄと、振動子１１９ａ、１１９ｂ、１１９ｃ、１１９ｄの動作を制御する制御装置１２２とを有する。制御装置１２２は、振動子１１９ａ、１１９ｂ、１１９ｃ、１１９ｄにより与えられる振動の周波数又は位相を変化させる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンを投影光学系を介して基板に露光する露光装置であって、
ステージと、
前記ステージに搭載され、前記原版を位置決め保持するための原版保持機構と、
前記原版に振動を与える振動機構と、
前記振動機構の動作を制御する制御装置とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記振動機構は、複数の振動子を含み、前記原版の複数の位置において前記振動を与えることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御装置は、前記振動機構により与えられる前記振動の周波数又は位相を変化させることを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記原版保持機構は、前記原版を保持するための保持力が可変であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一に記載の露光装置。
【請求項５】
前記振動機構は静電チャックであり、
前記制御装置は、前記静電チャックに可変電圧を印加することにより、前記振動を変化させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御装置は、前記原版の振動後における前記保持力が該原版の振動前における該保持力より大きくなるように制御することを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項７】
前記露光装置は、さらに、前記振動機構で前記振動を与えることにより前記原版から除去されたパーティクルの大きさ及び量を検査する検査装置を有し、
前記制御装置は、前記検査装置による検査結果に基づいて、前記原版に与える前記振動の周波数又は位相を変更することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一に記載の露光装置。
【請求項８】
前記露光装置は、さらに、前記原版に付着したパーティクルを回収する回収装置を有し、
前記回収装置は、前記ステージの移動方向に位置するストロークエンドに設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一に記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は露光装置に係り、特に、原版に付着したパーティクルを効果的に除去可能な露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、原版上のパターンをウエハ上に露光転写する露光装置が知られている。このような露光装置は、特に、投影系、照明系、及び、スキャン機構部を有する。
【０００３】
投影系は、原版であるレチクル上のパターンの一部をウエハ等の被露光基板上に転写する。照明系は、レチクル上のパターンの一部を矩型又は円弧状のスリット状光束により照射するための光源を有する。スキャン機構部は、レチクルと被露光基板とをスリット状光束と投影系に対して一定速度比で走査（スキャン）する。
【０００４】
また、特に近年、次世代の露光技術として光源にＥＵＶ(極紫外)光を用いた露光装置が注目されている。                                              
【０００５】
従来の露光装置の概略構成を図６を参照しながら説明する。図６は、ＥＵＶ(極紫外)光を用いた露光装置の概略構成図であり、特に、レチクルステージ周辺の構成を示している。
【０００６】
図６に示されるように、レチクルステージ２は、ステージ定盤５の下面に吊り下げられて構成されており、レチクルステージ２の上面両側にはフット１０が配置され静圧軸受け３により案内される。吊り下げ構成のためレチクルステージ自重により落下しないように与圧磁石１４を配置し、レチクルステージはステージ定盤に吸引保持される。進行方向と直角(ヨーイング)方向のガイドは電磁ガイドで構成しフットで挟み込んでいる。電磁ガイドは、コイルが巻かれた電磁ガイドＥコア１１と対向する電磁ガイドＩコア１２で構成される。電磁ガイドＩコアをコの字型の形状に加工しステージ中心に配置した。コの字型の電磁ガイドＩコアのスペースにケーブル実装用のコネクタ１３を配置している。
【０００７】
レチクルステージ２の両側には可動磁石７が配置されており、モータコイル８に電流が通電されるとレチクルステージが進行方向に駆動される。カウンタマスにも同様に静圧軸受け３と共に与圧磁石１４が配置される。カウンタマスはステージ定盤に吸引保持されており、ステージ定盤面をレチクルステージとは反対方向に駆動されることで反力を打ち消している。
【０００８】
こうした吊り下げ構成をとることにより、ＥＵＶ露光装置にて光源９から照射されたＥＵＶ光の光路とステージ定盤が干渉することがなく、レチクルステージに搭載された反射型のレチクル１の回路パターンを投影系１９を介してウエハ上に転写することができる。
【０００９】
上記従来例では、図６に示すようにステージ定盤上に構成されたステージ装置のレチクルステージ下面にレチクルを保持する構成となっている。保持する構成としては真空吸着、または、クランプなどによる押し付けなどが考えられている。
【００１０】
次に、従来のレチクルステージの構成について説明する。図７は、従来のレチクルステージの斜視図である。また、図８は、従来のレチクルステージを中心で切断した断面図である。いずれの図においても、Ｚ方向の正方向に光源が配置されているものとする。
【００１１】
１はレチクルである。４６ａ、４６ｂは、レチクルを吸着保持して位置決めをするチャックである。２は、レチクル１を搭載するレチクル下面に設置されたチャック４６ａ、４６ｂを有するレチクルステージである。
【００１２】
５０は、レチクル１をチャック４６ａ、４６ｂに押し付けるレチクル保持部材である。レチクル保持部材５０はレチクルステージ２に設置された押さえ部材４９とネジ５２とでネジ締結されている。レチクルステージ２には不図示のミラーが備えられており、レーザー干渉計により位置と水平方向の回転を計測して制御できるようになっている。
【００１３】
図８に示されるように、チャック４６ａ、４６ｂ上にはレチクル１が載置される。レチクル保持部材５０には、不図示のコイルばね機構が設けられており、レチクル１に垂直方向に押さえ位置決めされている。レチクル１の水平方向の位置決めは位置決めプレート４７によって行われ、３方向に設置された板バネ部材４８ａ、４８ｂ、４８ｃによって位置ずれを防いでいる。
【００１４】
チャック４６ａ、４６ｂは、レチクル１０１をＺ方向における位置決めを行う。チャック４６ａ、４６ｂは弾性部材からなり、弾性変形することによりレチクル１０１面の歪発生を防いでいる。
【００１５】
リソグラフィによりシリコンウエハ上に回路パターン等の微細な加工を施す場合、レチクルの表面に付着した微粒子などのパーティクルは加工の大きな妨げとなり、製品の歩留まり低下させる。この際に許容されるゴミの粒径は、回路パターンの数分の一または十分の一程度である。このため、ゴミの付着を防止するための技術は重要である。
【００１６】
露光装置では、露光中にレチクルの表面に付着する微粒子の影響を排除するため、透明な膜であるペリクルが、レチクルからある程度の距離をおいてレチクルの両面側に配置される。ペリクル上に付着したパーティクルは、結像面上ではボケた像しか形成しない。このため、結果として露光されるパターンへの影響を小さくすることができる。
【００１７】
しかし、パターンの最小線幅をより微細化するため、真空紫外光より短波長領域の光や電子線を用いてリソグラフィを行う場合、透明な物質で薄膜を形成するのが困難である。このため、レチクルにペリクルを使用することはできない。
【００１８】
レチクルに付着したパーティクルの影響は、そのレチクルを使用したパターン全てに影響する。このため、真空紫外光よりも短波長領域の光や電子線を用いてリソグラフィを行う場合、レチクルの洗浄も重要な課題である。
【００１９】
そこで、レチクルの洗浄方法としては、種々の方法が知られている。例えば、特許文献１には、レチクルを液体に浸した状態で超音波振動を与えることにより、レチクルを洗浄する方法が開示されている。
【００２０】
特許文献２には、パルスレーザー光の照射により、洗浄対象物の表面に付着したパーティクルに振動を誘起し、付着力を低下させて除去する方法が開示されている。
【００２１】
また、特許文献３には、水又は水蒸気を洗浄対象物の表面に吹き付けて水の薄い膜を形成したところにレーザー光を照射して、水を瞬間的に蒸発させると同時に微粒子もはぎ取る方法が開示されている。
【特許文献１】特開平３−５４８２７号公報
【特許文献２】特開２０００−２０８４６３号公報
【特許文献３】特公平６−９５５１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
しかし、洗浄液にレチクル等の洗浄対象物を浸す場合には、洗浄液が含む汚れの付着、一度除去された汚れの再付着、及び、洗浄対象物である物体表面に凹凸がある場合には洗浄されにくい部分が発生しやすい等の問題点がある。
【００２３】
また、パルスレーザー光を照射して付着したパーティクルを除去する場合、物体表面に液膜が存在している方が効果的であるため、水や水蒸気等をパルスレーザー光の照射直前に吹き付ける。しかし、物体表面上に形成された薄膜や微細構造等の洗浄を行う場合には、この吹き付けにより薄膜や微細構造が破壊されるおそれがある。また、このような薄膜や微細構造等を洗浄するための制御も複雑であるという問題点がある。
【００２４】
本発明は、以上のような問題点や課題に鑑みてなされたものであり、レチクル上に付着したパーティクルを効果的に除去可能な露光装置を提供する。
【００２５】
特に、本発明の露光装置によれば、レチクル上に付着したパーティクルを、レチクル上に形成された薄膜や微細構造を破壊することなく除去することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
本発明の一側面としての露光装置は、原版のパターンを投影光学系を介して基板に露光する露光装置であって、ステージと、前記ステージに搭載され、前記原版を位置決め保持するための原版保持機構と、前記原版に振動を与える振動機構と、前記振動機構の動作を制御する制御装置とを有する。
【００２７】
本発明の他の目的及び特徴は、以下の実施例において説明される。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、レチクル上に付着したパーティクルを効果的に除去する露光装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【実施例１】
【００３０】
まず、本発明の実施例１について説明する。本実施例の露光装置は、原版（レチクル）のパターンを投影光学系を介して基板（ウエハ）に露光する露光装置である。
【００３１】
図１は、実施例１の露光装置におけるレチクルステージ周辺部の構成を示す平面図である。本図は、反射型のレチクルを搭載するレチクルステージであって、光源側から見たときのレチクルステージの構成を示している。また、図２は、図１中のＩＩ−ＩＩ線で切断した断面図である。本図において、露光装置の光源は、Ｚ軸の正方向側に配置されている。
【００３２】
１０１は、光源からの光により照射されるレチクル（原版）である。光源からの光は、照明系を介してレチクル１０１を照射する。１０２はレチクルステージである。レチクルステージ１０２の光源側の表面には、レチクル保持部１１６ａ、１１６ｂが搭載されている。
【００３３】
レチクル保持部１１６ａ、１１６ｂは、レチクル１０１を搭載するように構成されている。レチクル１０１の搭載時、レチクル保持部１１６ａ、１１６ｂは、レチクル１０１の位置決めを行ってレチクル１０１を保持する。
【００３４】
１０４ａ、１０４ｂはレチクル保持部材である。レチクル保持部材１０４ａ、１０４ｂは、レチクル保持部１１６ａ、１１６ｂとの接触面とは反対側のレチクル面において、レチクル１０１を吸着又は押し付ける。このような構成により、レチクル保持部材１０４ａ、１０４ｂは、レチクル１０１の位置決めを行い、レチクル１０１を保持する。
【００３５】
このように、レチクル保持部１１６ａ、１１６ｂ、及び、レチクル保持部材１０４ａ、１０４ｂは、レチクルステージ１０２に搭載され、レチクル１０１を位置決め保持するための原版保持機構を構成する。
【００３６】
１１７は、レチクルステージ１０２の水平方向の位置決めを行うための位置決めプレートである。１１８ａ、１１８ｂ、１１８ｃは、レチクル１０１の水平方向の位置ずれを防ぐため押さえである。押さえ１１８ａ、１１８ｂ、１１８ｃは、例えば板バネを有する。
【００３７】
１１２は、駆動アクチュエータであるリニアモータの固定子である。１１３は、リニアモータの可動子である。リニアモータの可動子１１３は、リニアモータの固定子１１２に係合されている。レチクルステージ１０２には不図示のミラーが備えられており、不図示のレーザー干渉計によりレチクルステージ１０２の位置と水平方向の回転を計測し、これらを制御可能に構成されている。
【００３８】
１１９ａ、１１９ｂは、レチクル保持部１１６ａ、１１６ｂのそれぞれに取り付けられた振動子（アクチュエータ）である。振動子１１９ａ、１１９ｂは、レチクル１０１に振動を与える振動機構であり、レチクル保持部１１６ａ、１１６ｂのそれぞれに取り付けられている。振動機構を構成する複数の振動子１１９ａ、１１０ｂは、レチクル１０１の複数の位置において振動を与える。振動子１１９ａ、１１９ｂは、ピエゾ素子、超音波振動子、ＶＣＭ（ボイスコイルモータ）等の電気的又は電磁的な振動子であり、周波数の制御が可能であることが望ましい。
【００３９】
レチクル保持部１１６ａ、１１６ｂとしては、弾性体（弾性チャック）やヒンジ部材等が用いられることが好ましい。レチクル保持部材１０４ａ、１０４ｂと異なる弾性を有するレチクル保持部１１６ａ、１１６ｂを採用することにより、振動子１１９ａ、１１９ｂによる振動でレチクル１０１に異なる振動パターンを生成することができる。また、このようなレチクル保持部１１６ａ、１１６ｂによれば、振動子１１９ａ、１１９ｂによりレチクル１０１に振動が与えられた場合、レチクル１０１が弾性変形することにより、レチクル面の歪みの発生を抑制することができる。
【００４０】
図３は、本実施例の露光装置において、レチクルのパターン形成面とは反対側の面から振動を与える場合のレチクルステージ周辺の構成を示す平面図である。本図は、レチクル１０１を搭載する前の状態を示しており、本図中の点線は、レチクル１０１を搭載した場合におけるレチクル１０１の位置を示している。なお、本図において、露光装置の光源は手前側に配置されている。
【００４１】
図３に示されるように、本実施例のレチクルステージ１０２には、四個のレチクル保持部１１６ａ、１１６ｂ、１１６ｃ、１１６ｄが搭載されている。また、これらのレチクル保持部１１６ａ、１１６ｂ、１１６ｃ、１１６ｄには、振動子１１９ａ、１１９ｂ、１１９ｃ、１１９ｄがそれぞれ取り付けられている。
【００４２】
１２２は、振動子１１９ａ〜１１９ｄに所定の周波数を与えることのできる制御装置である。制御装置１２２は、振動子１１９ａ〜１１９ｄに所定の信号を出力することにより、振動子１１９ａ〜１１９ｄの動作を制御する。また、制御装置１２２は、振動子１１９ａ〜１１９ｄにより与えられる振動の周波数又は位相を変化させることもできる。
【００４３】
１２３は検査装置である。検査装置１２３は、制御装置１２２に接続され、振動子１１９ａ〜１１９ｄで振動を与えることによりレチクル１０１から除去されたパーティクルの大きさ及び量を検知する。このとき、検査装置１２３は、各振動子に与えた周波数についても検知する。そして、検査装置１２３は、レチクル１０１に生じた振動モードや周波数毎に発生したパーティクルの量及び大きさ等の情報（検査結果）を蓄積する。
【００４４】
制御装置１２２は、検査装置１２３により得られた情報（検査結果）に基づいて、複数の位置に備えられた振動子１１９ａ〜１１９ｄを所定の周波数で振動させる。また、制御装置１２２は、レチクル表面から除去すべきパーティクルの量又は大きさに応じて、レチクル１０１に所望の振動モード及び周波数を与えるように制御する。このように、制御装置１２２は、検査装置１２３による検査結果に基づいて、レチクル１０１に与える振動の周波数又は位相を変更する。
【００４５】
また、振動子１１９ａ〜１１９ｄの振動によりレチクル１０１上から除去されたパーティクルは、回収装置１２５により回収される。回収装置１２５は、制御装置１２２によりその動作が制御される。ただし、回収装置１２５は、露光装置の使用時において、常に一定の動作を行うものであってもよい。回収装置１２５は、パーティクルを効率的に回収するため、レチクルステージ１０２の移動方向のストロークエンドに設けられることが好ましい。このような回収装置１２５が設けられていることにより、パーティクルが投影光学系やレチクル上に再付着するのを効果的に防止することができる。
【００４６】
図４（ａ）は、本実施例の露光装置において、光源側からレチクルに振動を与える場合のレチクルステージ周辺の構成を示す平面図である。本図は、光源側から見た図であり、レチクル１０１を搭載したときの構成を示している。
【００４７】
１２４は振動棒である。振動棒１２４にはレチクル１０１に振動を与える振動子１１９ｅが取り付けられている。制御装置１２２は、振動子１１９ｅが所望の周波数で振動するように、振動子１１９ｅを制御する。振動棒１２４は、光源側のレチクル表面の任意の位置においてレチクル１０１と接触し、レチクル１０１を振動させることができる。
【００４８】
このとき、検査装置１２３は、振動棒１２４の位置を把握するため、例えば、レチクル１０１の表面上の任意の点を原点として定める。そして、基準位置としての原点からのＸ方向及びＹ方向の移動距離を計測して座標値を求め、その座標値のデータを記録する。
【００４９】
検査装置１２３は、このようにして得られた振動棒１２４の座標値データと振動子１１９ｅの振動周波数に応じて、レチクル１０１から除去されるパーティクルの大きさ及び量を検知する。これらの情報に関して、予めデータベースを作成しておき、検査装置１２３に記録させておく。
【００５０】
制御装置１２２は、検査装置１２３に記録されたデータベースに基づいて、除去すべきパーティクルの大きさ及び量に応じて、振動棒１２４の振動位置（加振点）を決定する。制御装置１２２は、同時に、振動子１１９eに与えるべき最適な振動周波数を設定する。このように、実際にレチクル１０１を振動させたときに発生する振動モード及び周波数毎に、除去可能なパーティクルの大きさ及び量を計測し、データベースを蓄積しておくことにより、最適な振動モード及び周波数を選択することが可能となる。
【００５１】
振動子１１９ｅの振動によりレチクル１０１上から除去されたパーティクルは、レチクルステージ１０２の移動方向のストロークエンドに設けられた回収装置１２５により回収される。
【００５２】
図４（ｂ）は、図４（ａ）のＢ−Ｂ線で切断した断面図であり、加振点ａを振動させた場合のパターンａを示している。また、図４（ｃ）は、図４（ａ）のＢ−Ｂ線で切断した断面図であり、加振点ｂを振動させた場合のパターンｂを示している。
【００５３】
図４（ａ）に示されるレチクル１０１上の加振点ａを振動させると、図４（ｂ）のように、レチクル保持部１１６ａとレチクル保持部材１０４ａにより挟まれて固定されている部分が振動モードの節となる。このとき、図４（ｂ）に示されるパターンａのような高次の振動モードが生成される。
【００５４】
一方、図４（ａ）に示されるレチクル１０１上の加振点ｂを振動させると、図４（ｃ）のように、レチクル上の加振点ｂが振動モードの腹になる。このため、振幅の大きいパターンｂのような低次の振動モードが生じる。レチクル上のパーティクルを効果的に除去するには、レチクル１０１を低次の振動モードで振動させることが望ましい。このため、レチクル１０１上において、振動モードの腹にあたる位置に加振点を定めることが望ましい。
【００５５】
このような構成によれば、レチクル１０１に任意の振動モード及び振動周波数を生成することで、レチクル１０１に付着したパーティクルを効果的に除去することができる。
【００５６】
なお、本実施例では、レチクル１０１の四隅において、レチクル保持部１１６ａ〜１１６ｄそれぞれの上面でレチクル１０１を保持する構成になっている。ただし、レチクル保持部の配置個数、配置箇所、配置形態及び配置範囲はいずれも限定されるものではない。また、各レチクル保持部に備え付けられている振動子１１９ａ〜１１９ｅの個数や位置等についても限定されるものではなく、これらを任意に定めることができる。
【００５７】
また、本実施例では、レチクル保持部材１０４ａ、１０４ｂはレチクル１０１上の二箇所を面で保持する構成になっている。ただし、レチクル保持部材１０４ａ、１０４ｂにて保持する箇所及び範囲は限定されるものではない。また、制御装置１２２、検査装置１２３、振動子１１９ｅ、振動棒１２４、及び、回収装置１２５は、レチクルステージ１０２の内外のいずれに設けられていてもよく、これらは少なくとも露光装置中に備え付けられているものであればよい。
【００５８】
なお、本実施例では、光源にＥＵＶ光を用いた反射型のレチクルを搭載した露光装置についての実施例について説明した。ただし、本実施例はこれに限定されるものではなく、光源に紫外光（ｉ線、ＫｒＦ等）を用いた透過型のレチクルを搭載した露光装置等についても適用することが可能である。
【実施例２】
【００５９】
次に、本発明の実施例２について説明する。
【００６０】
実施例１は、振動子の位置又は振動周波数を制御することでレチクル上の最適な位置を所定の周波数で振動させ、レチクル上のパーティクルを除去する露光装置であった。これに対し、実施例２における露光装置は、レチクル保持部材の弾性又はレチクル保持部の保持力を変えることで振動パターンを生成する。
【００６１】
図５（ａ）は、実施例２の露光装置におけるレチクルステージ周辺の構成を示す断面図である。本図は、レチクルステージ２０２の進行方向に平行な面でレチクルステージ２０２の平面に垂直に切断したときの断面図を示している。なお、露光装置の光源は、Ｚ軸の正方向側に配置されている。
【００６２】
本実施例におけるレチクル２０１に振動を与えるための構成は、実施例１における構成と同様である。すなわち、実施例２の露光装置も、制御装置１２２、検査装置１２３、及び、振動子１１９ａ〜１１９ｅのうち少なくとも一つの振動子を有する。制御装置１２２は、レチクル２０１上の複数の位置に備えられた実施例１と同様の振動子を所定の周波数で振動させる。検査装置１２３は、このときに除去されるパーティクルの量及び大きさを検知する。制御装置１２２は、その検知情報に基づいて、振動子に与える振動を制御する。
【００６３】
本実施例のレチクル保持部２０６ａ、２０６ｂとしては、保持力を調整可能な静電チャック又はエアーチャック等が用いられる。すなわち、レチクル保持部２０６ａ、２０６ｂは、レチクル２０１を保持するための保持力が可変である。
【００６４】
なお、本実施例の露光装置には、保持力を調整するための不図示の調整機構が設けられている。本実施例のレチクル保持部材２０４ａ、２０４ｂとしては、レチクル保持部２０６ａ、２０６ｂのそれぞれとの組み合わせで、弾性が高くて硬い材質から、弾性が低く柔らかい材質まで任意に選択することができる。
【００６５】
以上のような構成によって、レチクル２０１の振動モードがどのように変化するかについて、以下に説明する。
【００６６】
図５（ｂ）は、実施例２の露光装置において、パターンＡの振動モードが生成されている状態を示す断面図である。
【００６７】
図５（ｂ）において、レチクル保持部材２０４ａ、２０４ｂに弾性が高くて硬い材質を用いる。また、レチクル保持部２０６ａ、２０６ｂには静電チャックを用いる。静電チャックは、レチクル２０１が動かない程度の力でレチクル２０１を吸着して保持しながら、レチクル２０１の中心位置を実施例１と同様の振動子を用いて加振する。このとき、レチクル保持部材２０４ａ、２０４ｂとレチクル保持部２０６ａ、２０６ｂのそれぞれで挟まれた部分が振動モードの節となり、図５（ｂ）のパターンＡで表されるような振動モードが生成される。
【００６８】
図５（ｃ）は、実施例２の露光装置において、パターンＢの振動モードが生成されている状態を示す断面図である。
【００６９】
図５（ｃ）において、レチクル保持部材２０４ａに弾性が低くて柔らかい材質を用い、レチクル保持部材２０４ｂに弾性が高くて硬い材質を用いる。また、レチクル保持部２０６ａとして用いられる静電チャックの保持力は小さく設定されている。この保持力は、例えば、極端にはほぼゼロに近い状態になっている。一方、レチクル保持部２０６ｂとして用いられる静電チャックには所定の大きさの保持力が設定されており、レチクル２０１が動かない程度の力でレチクル２０１を吸着して保持している。
【００７０】
このとき、レチクル２０１の中心位置を実施例１と同様の振動子で加振すると、レチクル保持部２０６ａ側の保持力は極めて小さく、レチクル保持部２０６ａ側はフリーに近い状態である。このため、所定の保持力を備えたレチクル保持部２０６ｂを中心として、片持ち梁に近いパターンＢで表される振動モードが生成される。
【００７１】
レチクル２０１を加振するための構成としては、上記構成以外にも、静電チャックの電圧を変化させる構成によっても可能である。また、レチクル保持部材２０４ａ、２０４ｂを備えることなく、静電チャック（レチクル保持部２０６ａ、２０６ｂ）のみでレチクル２０１を保持することもできる。
【００７２】
図５（ｄ）は、実施例２の露光装置において、静電チャックからなる三個のレチクル保持部を用いてレチクルを保持した状態を示す断面図である。
【００７３】
三個のレチクル保持部２０６ａ、２０６ｂ、２０６ｃは静電チャックから構成される。これらの静電チャックは、少なくともレチクル２０１が離れない程度の保持力を有する。制御装置２０７は、静電チャックに可変電圧を印加することにより、静電チャックの保持力を制御することができる。
【００７４】
制御装置２０７は、三つの静電チャックの間で、印加電圧の周波数及び位相を制御できるように構成されている。制御装置２０７が印加電圧を変化させることにより、静電チャックの保持力が変化し、レチクル２０１を加振させることができる。このように、ここでは静電チャックがレチクルに振動を与える振動機構となる。
【００７５】
なお、静電チャックの位置は図５（ｄ）に示される三箇所に限定されるものではなく、任意の位置に設けることが可能である。また、静電チャックの個数も三つに限定されるものではない。本実施例の構成によれば、複数の加振点において、任意の周波数及び位相の電圧を印加することにより、レチクル２０１を加振することができる。
【００７６】
このように、本実施例では、レチクル保持部材の弾性及びレチクル保持部の保持力を変化させることで、レチクル上に異なるパターンの振動モードを生成し、それに応じてレチクル上に付着したパーティクルを除去することができる。
【００７７】
また、振動によりレチクル上から除去されたパーティクルは、レチクルステージ２０２の移動方向のストロークエンドに設けられた回収装置１２５により回収される。このため、レチクル表面から除去されて飛散したパーティクルが、投影光学系やレチクル上に再付着するのを防ぐことができる。
【００７８】
なお、本実施例におけるレチクル保持部材の材質、及び、レチクル保持部の保持力の組み合わせは一つの例であり、これに限定されるものではない。
【００７９】
また、本実施例において、レチクルに振動パターンを生成してゴミを除去した後に、レチクルの振動を静止する必要がある。このため、レチクル保持部は、静電チャック等、電気的又は電磁的に保持力を制御することができる構成であることが望ましい。このような構成によれば、振動発生時には保持力を弱めることで振動モードを生じやすくすることができる。一方、振動によりレチクルに付着していたパーティクルが除去された後は、保持力を上げて、レチクルを固定するように切り替えることができる。
【００８０】
例えば、本実施例のレチクル保持部２０６ａ、２０６ｂに静電チャックを適用した場合、レチクル２０１に振動を生成する前は静電チャックの保持力を小さくして、レチクルに振動モードが励起しやすい状態に制御する。一方、振動が生成した直後は、静電チャックの保持力を高くなるようにして、レチクル２０１の振動を静止させる。すなわち、制御装置２０７は、レチクル２０１の振動後における保持力がレチクル２０１の振動前における保持力より大きくなるように制御する。このような制御は、制御装置２０７による印加電圧を調整することで可能である。
【００８１】
また、本実施例では、光源にＥＵＶ光を用いた反射型のレチクルを搭載した露光装置について説明したが、これに限定されるものではない。光源に紫外光（ｉ線、ＫｒＦ等）を用いた透過型のレチクルを搭載した露光装置について本実施例を適用することも可能である。
【００８２】
本実施例の振動機構を用いたパーティクル除去は、ウエハの露光前後に実行されるが、実行時期は特に限定されるものではない。例えば、一枚のウエハ露光が完了したときに常に実行してもよく、又は、複数枚のウエハ露光が完了したときに実行してもよい。パーティクル除去を所定間隔で自動的に実行するように構成することや、又は、実行間隔を手動で選択するように構成することもできる。
【００８３】
デバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）は、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
【００８４】
上記の各実施例によれば、レチクルに異なる振動モード及び周波数を与える振動機構を設けることで、レチクル上に付着したパーティクルを効果的に除去することができる。また、レチクルを保持する保持力又は保持部材の剛性を調整することにより、レチクルに異なる振動モード及び周波数を与える。これらによって、レチクル上に付着したパーティクルを最適に除去することができる。したがって、本実施例によれば、レチクル上に付着したパーティクルを効果的に除去可能な露光装置を提供することができる。また、そのような露光装置を用いたデバイス製造方法を提供することができる。
【００８５】
以上、本発明の実施例について具体的に説明した。ただし、本発明は上記実施例として記載された事項に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】実施例１の露光装置におけるレチクルステージ周辺部の構成を示す平面図である。
【図２】図１中のＩＩ−ＩＩ線で切断した断面図である。
【図３】実施例１の露光装置において、レチクルのパターン形成面とは反対側の面から振動を与える場合のレチクルステージ周辺の構成を示す平面図である。
【図４（ａ）】実施例１の露光装置において、光源側からレチクルに振動を与える場合のレチクルステージ周辺の構成を示す平面図である。
【図４（ｂ）】図４（ａ）のＢ−Ｂ線で切断した断面図であり、加振点ａを振動させた場合のパターンａを示している。
【図４（ｃ）】図４（ａ）のＢ−Ｂ線で切断した断面図であり、加振点ｂを振動させた場合のパターンｂを示している。
【図５（ａ）】実施例２の露光装置におけるレチクルステージ周辺の構成を示す断面図である。
【図５（ｂ）】実施例２の露光装置において、パターンＡの振動モードが生成されている状態を示す断面図である。
【図５（ｃ）】実施例２の露光装置において、パターンＢの振動モードが生成されている状態を示す断面図である。
【図５（ｄ）】実施例２の露光装置において、静電チャックからなる三個のレチクル保持部を用いてレチクルを保持した状態を示す断面図である。
【図６】従来の露光装置の概略構成図である。
【図７】従来のレチクルステージの傾視図である。
【図８】従来のレチクルステージを中心で切断した断面図である。
【符号の説明】
【００８７】
１、１０１、２０１：レチクル
２、１０２、２０２：レチクルステージ
３：静圧軸受け
５：ステージ定盤
６：カウンタマス
７：可動磁石
８：モータコイル
９：光源
１０：フット
１１：電磁ガイドＥコア
１２：電磁ガイドＩコア
１３：コネクタ
１４：与圧磁石
１９：投影系
４６ａ、４６ｂ：チャック
４７、１１７：位置決めプレート
４８ａ、４８ｂ、４８ｃ、１１８ａ、１１８ｂ、１１８ｃ：板バネ部材
４９：押さえ部材
５０、１０４ａ、１０４ｂ、２０４ａ、２０４ｂ：レチクル保持部材
１１６ａ、１１６ｂ、１１６ｃ、１１６ｄ、２０６ａ、２０６ｂ、２０６ｃ：レチクル保持部
５２：ネジ
１１９ａ、１１９ｂ、１１９ｃ、１１９ｄ、１１９ｅ：振動子
１２２、２０７：制御装置
１２３：検査装置
１２４：振動棒
１２５：回収装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４（ａ）】
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【図４（ｂ）】
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【図４（ｃ）】
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【図５（ａ）】
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【図５（ｂ）】
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【図５（ｃ）】
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【図５（ｄ）】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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