(57)【要約】【課題】  調理物の甘みを容易に増加させる加熱調理器を提供することを目的とする。【解決手段】  外箱の中にあって、調理物が収容される加熱室５と、この加熱室５に側方から蒸気を供給する蒸気発生装置４０とを備え、この蒸気発生装置４０は、蒸気を加熱室内に供給して、加熱室５内を所定の蒸気温度雰囲気にして維持し、調理物の表面積に応じて加熱時間を変化させる。【選択図】  図７
2009085517.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理物が収容される加熱室と、
この加熱室に蒸気を供給する蒸気供給手段と、
前記蒸気供給手段を制御する制御手段と、
この制御手段は、前記蒸気供給手段の運転状態を制御することで、前記加熱室内を水の
沸点以下であって前記調理室内に投入された調理物の甘みが生の状態に比べて増量するよ
うに予め決められた所定温度帯域に維持しながら加熱制御し、
この調理物の表面積に応じて前記所定温度帯域に維持する加熱時間を変化させることを特
徴とする加熱調理器。
【請求項２】
制御手段は、前記調理室内に投入された調理物の表面積の大きさに応じて、前記蒸気供
給手段の運転状態を前記温度帯域に維持する加熱時間を長くするように制御することを特
徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【請求項３】
調理条件設定手段をさらに有し、
この調理条件設定手段は、調理物の切り方に応じて設定可能で、
制御手段は、この設定された切り方の断面積の大きさに応じて、前記蒸気供給手段の運
転状態を前記温度帯域に維持する加熱時間を長くするように制御することを特徴とする請
求項１または請求項２に記載の加熱調理器。
【請求項４】
調理条件設定手段は、調理物の切り方の設定について、少なくとも千切りを設定可能に
設けられていることを特徴とする請求項３記載の加熱調理器。
【請求項５】
制御手段は、前記蒸気供給手段の運転状態を前記温度帯域を前記加熱室内に投入された
調理物の甘みの増加量が生の状態に比べて極大となるように予め決められた値に基づいて
制御することを特徴とする請求項１乃至請求項４いずれかに記載の加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸気供給手段を備えた加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、調理物の栄養分を増加させる研究が行われている。例えば、甘みを増加させ
る方法などは、米の甘みを増加させる方法として、吸水工程、被炊飯物を沸騰するまで昇
温加熱する立上加熱工程、被炊飯物を沸騰状態に維持する沸騰維持工程、沸騰した後の被
炊飯物をむらすむらし工程を実行して炊飯する場合に、立上加熱工程において少なくとも
３０秒かけて被炊飯物を７５℃から８５℃に上昇させることで米の甘みを増加させるとい
う炊飯器が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−３４４５７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１のような甘み増加方法においては、米について一律な加熱制
御方法で甘みを増加させているだけであり、最適な方法で甘みを増加させているとは必ず
しもいえないという課題があった。  
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、調理物において最適な方法で甘み
を増加させる加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記目的を達成するために、本発明に係る加熱調理器は、調理物が収容される加熱室と
、この加熱室に蒸気を供給する蒸気供給手段と、前記蒸気供給手段を制御する制御手段と
、この制御手段は、前記蒸気供給手段の運転状態を制御することで、前記加熱室内を水の
沸点以下であって前記調理室内に投入された調理物の甘みが生の状態に比べて増量するよ
うに予め決められた所定温度帯域に維持しながら加熱制御し、この調理物の表面積に応じ
て前記所定温度帯域に維持する加熱時間を変化させることを主たる特徴とする。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、調理物をその調理物の表面積の大きさ応じて加熱時間を変えることに
より、その表面積の調理物に適した加熱方法で甘みを増加させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。  
本発明の加熱調理器を電子レンジに適用した一実施例を示す図１乃至図９を参照して説
明する。  
図１は、電子レンジの扉を閉塞した状態の正面図である。図２は扉を開放した状態で示
す正面図である。図３は縦断正面図である。図４は横断平面図である。図５は縦断側面図
である。図６は、電気的構成図。図７は、調理メニュー及び調理方法を示す図である。図
８は調理物の切り口の断面積別の甘み増加率のデータ、図９は切り口の断面積が異なる人
参の被試験物の図である。
【０００７】
図１、２に示すように電子レンジの本体１は、外郭が矩形状の外箱２で形成されていて
、底部下面に脚部３が設けられている。  
外箱２の内部には前面が開口した内箱４が設けられており、この内箱４の内部を加熱室
５としている。またこの加熱室５の前面開口部５ｄは本体１の前面のほぼ全幅にわたる大
きさの矩形状をなしている。  
そして、本体１の前面には加熱室５の前面開口部５ｄを開閉可能な扉６が設けられてい
る。この扉６は図示しないヒンジ部を介して本体１の前下部に上下方向に可動可能に枢支
されている。
【０００８】
また扉６の前面部には図１に示すように、上部に手掛け部７が設けられていると共に、
下部に複数の操作部９及び表示部１０を有する操作パネル８が設けられている。この操作
パネル８は、操作部９は加熱調理の調理方法等を選択設定するもので、表示部１０は選択
された調理方法や調理温度などを表示するためのものである。  
またこの扉６には、扉６をロックする扉ロックスイッチ１１（図６参照）が設けられて
おり、この扉ロックスイッチ１１は加熱室５内が高温時は扉６を開放できないように扉６
をロックするロック機能を有している。
【０００９】
そして外箱２と内箱４の間には図４、図５に示すように空間が設けられており、内箱４
の右方には右側空間１２、左方には左側空間１３、下方には下側空間１４が設けられてい
る。  
また図５に示すように加熱室５の後方には機械室１５が形成されていて、この機械室１
５には下部にマグネトロン１６と、このマグネトロン１６の駆動装置１７が設けられてい
る。  
このマグネトロン１６はマイクロ波を発生するもので、その発生したマイクロ波は、下
側空間１４に設けられ加熱室５の下面の中央に延びる導波管１８を通して開口部（図示せ
ず）から加熱室５内に供給可能としている。
【００１０】
また機械室１５の中央部から上部にかけては、左右方向の中央部に後述する熱風循環機
構６０が設けられている。  
さらに機械室１５の上部には加熱室５内の温度と、被加熱物の温度を測定する温度セン
サ１９（温度検知手段に相当）が設けられている。
【００１１】
一方、加熱室５内には図３に示すように両側壁に突起状の段部３０が形成されており、
上方に上段部３０ａ、下方に下段部３０ｂが形成されている。  
またその段部３０上に加熱調理用の角皿３１が載置できるように構成されていて、上段
角皿３１ａと下段角皿３１ｂが其々配置されている。  
これら角皿３１はいずれも段部３０上をスライド移動することが可能で、角皿３１を前
面開口部５ｄ方向にスライド移動させることによりに加熱室５から取出し可能である。
【００１２】
そして図２、図３に示すように左側空間１３における加熱室５の左側壁５ａの外側であ
って、上段部３０ａと下段部３０ｂの間に位置して蒸気発生容器４１が配設されている。
図３に示すように、蒸気発生容器４１は、図示右側が開口している容器で構成され、容
量が１２ｍｌ程度の蒸気発生室４１ａが形成される。  
これら蒸気発生容器４１は、例えば金属ダイカスト（例えばアルミダイカスト）から構
成されている。  
蒸気発生容器４１の蒸気発生室４１ａの上下には棒状のシーズヒータからなる蒸気用ヒ
ータ４４が２本鋳込まれている。この２本の蒸気用ヒータ４４は両端の端子が蒸気発生容
器４１から突出されており、電気的に独立して電源１０１（図６参照）と接続されている
。  
また容器本体４２の図示左側には給水口が形成されていて、これにパイプ５５が取り付
けられている。  
また蒸気発生室４１ａの上部には蒸気発生容器４１の温度を検出するサーミスタ４８が
取り付けられている（図６参照）。
【００１３】
一方、蒸気発生容器４１の側壁には３個の筒状の蒸気吹出口４９が横方向に並んで略等
間隔に形成され、右端面から突出している。  
そして図３に示すように加熱室５の左側壁５ａには、蒸気吹出口４９に対応する３個の
蒸気開口部５１が形成されている。また、加熱室５の左側壁５ａの内側には蒸気開口部５
１の周縁を覆うカバー部材５２が取り付けられている。このカバー部材５２は、蒸気開口
部５１と連通する３個の筒状の蒸気口５３を有している。
【００１４】
一方、図３に示すように、加熱室５の下側空間１４には水タンク５４が配設されている
。水タンク５４は約４００ｍｌの水を収容可能な大きさを有しており、外箱２に対して着
脱可能に構成されている。外箱２に装着された水タンク５４はパイプ５５を介して蒸気発
生容器４１の給水口４７と接続される。パイプ５５の途中には給水ポンプ５６が接続され
ており、給水ポンプ５６が駆動されると水タンク５４内の水は蒸気発生室４１ａ内に供給
されるようになっている。  
これら蒸気発生容器４１、水タンク５４、パイプ５５、給水ポンプ５６などから蒸気発
生装置４０が構成される。
【００１５】
一方、加熱室５の後壁側には熱風循環機構６０が配設されている。  
図５に示すようにこの熱風循環機構６０は、熱風ファン６１と、熱風ヒータ６２、ケー
シング６５、及びファンモータ６６で構成されており、そのうち、熱風ファン６１は遠心
ファンが用いられている。  
この熱風ファン６１はケーシング６５に覆われており、このケーシング６５の後側の機
械室１５にはファンモータ６６が取付けている。このファンモータ６６の回転軸がケーシ
ング６５内に挿入されており、これに熱風ファン６１の中心ボス部が取付けられ、この熱
風ファン６１を回転駆動するように構成されている。
【００１６】
そして、熱風ヒータ６２は、２本のシーズヒータで構成され熱風ファン６１の周囲部を
囲うように配設されている。  
この２本のヒータからなる熱風ヒータ６２は、定格出力が異なる第１の熱風ヒータ６３
と第２の熱風ヒータ６４で構成されており、これら第１の熱風ヒータ６３と第２の熱風ヒ
ータ６４は其々独立して電源１０１に接続され、第１の熱風ヒータ６３は１３００Ｗの定
格出力で、第２の熱風ヒータ６４は１０００Ｗの定格出力で構成されている。
【００１７】
これらに対して、図２に示すように加熱室５の後壁５ｃには、熱風ファン６１の中央部
と対応する位置に循環空気の吸入口６７が多数の小孔により形成され、熱風ファン６１の
外周部より外側の位置に循環空気の吹出口６８を同じく多数の小孔により形成している。
また吹出口６８は熱風ヒータ６２と対応するように環状に配置して形成されている。  
なお、前述の上段角皿３１ａと下段角皿３１ｂについては、循環空気の吸入口６７と吹
出口６８とを遮断するように、吸入口６７を上下より挟むように配置されている。
【００１８】
またさらに図４に示すように、加熱室５内の右側壁５ｂには排出開口部７０が設けられ
ており、その右側壁５ｂの外側には蒸気排気機構７１が設けられている。  
この蒸気排気機構７１は、通常時には排気ダンパ７２がばね（図示せず）の付勢力によ
り排出開口部７０が閉塞されており、排気ダンパ７２を回動させるダンパモータ７８の駆
動により、回転移動するようになる。
【００１９】
つづいて、電子レンジの電気的構成について説明する。  
図６は、電子レンジの概略的な電気的構成を示すブロック図である。  
電子レンジが備える制御装置１００には、前述の操作パネル８の操作部９、加熱室５内
の温度を検出する温度センサ１９、また蒸気発生容器４１内の温度を検出するサーミスタ
４８、及び電子レンジに電源を供給する電源１０１が接続されている。  
操作部９では、調理方法等を設定した信号を制御装置１００に入力し、温度センサ１９
及びサーミスタ４８は、それぞれ温度検出信号を入力する。
【００２０】
そして制御装置１００には、操作パネル８の表示部１０、マグネトロン１６の駆動装置
１７が接続されていると共に、蒸気発生装置４０の蒸気用ヒータ４４、及び給水ポンプ５
６が接続されている。  
さらに、熱風循環機構６０のファンモータ６６、及び熱風ヒータ６２である第１の熱風
ヒータ６３、第２の熱風ヒータ６４に接続されている。  
また扉６の開閉をロックする扉ロックスイッチ１１と、蒸気排気機構７１のダンパモー
タ７８も接続されている。
【００２１】
また制御部１００は、メモリー１００ａを有していて、加熱手段の制御方法のリストが
予め記憶されており、これらのリストは、階層化されて分かれ記憶されており、第１の階
層には、複数の加熱手段の「レンジ」「オーブン」「スチーム」「低温スチーム」と、「
お好み温度」がリスト項目として記憶されており、これら項目が設定されることにより予
めプログラムされた加熱手段が選択されて調理されるように構成されている。
【００２２】
例えば調理方法の項目のうち「レンジ」が選択されると、マグネトロンにより食品を加
熱する調理方法「レンジ調理メニュー」が選択される。また「オーブン」の場合には、熱
風循環機構が生成する熱風により食品を加熱する調理方法「オーブン調理メニュー」、「
スチーム」の場合は、蒸気発生装置による高温スチームにより食品を加熱する調理方法「
スチーム調理メニュー」が選択される。「低温スチーム」の場合は、蒸気発生装置から蒸
気が供給されて、加熱室が水の沸点である１００度Ｃ以下になるようにして食品を加熱す
る調理方法「低温スチーム調理メニュー」が選択される。なお「お好み温度」が選択され
ると、調理温度が設定できる状態になる。  
また、第１の階層の下位に位置する第２の階層は、加熱条件である調理温度を設定する
ためのリストで構成されていて、３０度Ｃから２５０度Ｃまで１度間隔で設定可能として
いる。
【００２３】
なお第２の階層の他の領域には調理方法のリストである複数の料理メニューも記憶され
ており、そのうち、「低温スチーム」の下位層には、「甘み増加」なる料理メニューが記
憶されている。  
またこの「甘み増加」メニューの下位層には、人参や梨など調理物が記憶され、それに
ついての調理方法が記憶されている。さらにその下位層（第４の階層）には、調理物の切
り方に基づく調理物を切断した後の調理物の切り口の断面積に応じた加熱調理条件が記憶
されている。詳細は後述するが、図７に示すように調理物の表面積（切り口の断面積）に
応じて、所定温度を維持する加熱時間が決まっており、調理物の表面積が大きいほど加熱
時間も長くするように記憶している。
【００２４】
次に、上記構成の電子レンジの作用について述べる。  
まず、扉６を開け図示しない調理物を加熱室５内に収容載置し、後述するが使用者は調
理方法と加熱条件を決めて操作部９から「レンジ」、「スチーム」、「オーブン」「低温
スチーム」の調理方法や加熱時間、加熱設定温度などの加熱条件を入力操作する。  
そして、操作部９のうちのスタートスイッチを操作して加熱開始を指示すると、制御装
置１００は設定された調理方法や加熱条件に基づき予め設定された制御プログラムに従っ
てマグネトロン１６や蒸気発生装置４０、熱風循環機構６０を駆動させて加熱調理を実行
する。
【００２５】
ここでまず、加熱室５内に蒸気を供給しながら加熱調理を実行する調理メニュー（以下
、「スチーム調理メニュー」と称する）が設定された場合の動作について説明する。  
これは、例えばケーキやシュークリームのシューを焼くためや、シューマイや肉まん等
の加熱調理に利用される。
【００２６】
「スチーム調理メニュー」の開始が指示されると蒸気用ヒータ４４がオンされる。この
結果、蒸気発生容器４１及が加熱される。そして、蒸気発生容器４１に設置されているサ
ーミスタ４８が蒸気発生室４１ａの温度を１２０度Ｃ以上に達したと判断したら、給水ポ
ンプ５６を駆動して、水タンク５４から蒸気発生容器４１への給水を開始する。  
蒸気発生容器４１に給水ポンプ５６により少量の水が供給されると、その水は蒸気発生
室４１ａ内に落下し、瞬時に蒸発する。  
この蒸気発生室４１ａで発生した蒸気は、蒸気吹出口４９を通り、上段角皿３１ａと下
段角皿３１ｂの間の蒸気開口部５１から加熱室５内に放出される。このとき、蒸気吹出口
４９及び蒸気口５３が筒状であるため、蒸気は図３の矢印Ｓのように加熱室５の左壁部に
対して略垂直な方向に放出される。  
そして加熱室５内に載置されている調理物に蒸気が当たり凝縮熱効果により調理物は加
熱される。
【００２７】
次に、加熱室５内に熱風を循環供給しながら加熱調理を実行する調理メニュー（以下、
「オーブン調理メニュー」と称する）が設定された場合の動作について説明する。  
これは、例えばトーストや肉類のロースト等の加熱調理に使用される。
【００２８】
「オーブン調理メニュー」の開始が指示されると、ファンモータ６６と熱風ヒータ６２
が通電される。  
これによって、ファンモータ６６は熱風ファン６１を回転駆動し、熱風ファン６１は図
５の矢印Ｍに示すように加熱室５内の空気を加熱室後壁５ｃの吸入口６７から吸入する。
そして、熱風ファン６１により円周方向に送風され熱風ヒータ６２によって加熱される
。  
その加熱された空気が加熱室後壁５ｃの吹出口６８から吹出されることにより加熱室５内
の空気が循環され、加熱室５内の温度が高まる。  
この熱風循環機構６０の動作により調理物は強制対流加熱される。またこの際、加熱室
５内は熱風ヒータ６２の熱輻射による加熱も行われる。
【００２９】
さらに、加熱室５内の調理物をマイクロ波により加熱調理を実行する調理メニュー（以
下、「レンジ調理メニュー」と称する）が設定された場合の動作について説明する。  
これは、例えば牛乳のあたためや、冷凍食品の解凍等の加熱調理に利用される。
【００３０】
加熱室５の底に直接調理物を載置収容し、「レンジ調理メニュー」の開始が指示される
と、マグネトロン１６が駆動し、マイクロ波が導波管１８を通り、加熱室５下方から回転
アンテナ（図示せず）によりマイクロ波が加熱室５内にむらなく照射されて加熱調理が行
なわれる。
【００３１】
さらにここで、蒸気発生装置４０と熱風循環機構６０を併用して過熱スチームを生成し
、この過熱スチームで調理物の加熱調理を実行する調理メニュー（以下、「過熱スチーム
メニュー」と称する）が設定された場合の動作について説明する。  
この過熱スチームメニューは例えば鳥の丸焼きや、ハンバーグの加熱等の加熱調理に利
用される。
【００３２】
まず、加熱室５内の上段部３０ａと下段部３０ｂにそれぞれ上段角皿３１ａ及び下段角
皿３１ｂをセットする。  
そして、上段角皿３１ａ及び下段角皿３１ｂに調理物を載置収容する。  
次いで、操作パネル８の操作部９により「過熱スチーム調理メニュー」が選択されて、
スタート指示を受けると、制御装置１００は所定のプログラムに基づいて指令を出す。
【００３３】
まず、熱風循環機構６０の第１の熱風ヒータ６３と第２の熱風ヒータ６４に電力が供給
されると共にファンモータ６６が駆動して、加熱室５内の予熱を行い、加熱室５内を１０
０度Ｃに達するまで加熱する。  
つづいて、蒸気発生装置４０の蒸気用ヒータ４４を発熱させ１２０度Ｃまで蒸気発生室
４１ａを高温にする。そして給水ポンプ５６を駆動させて、蒸気発生室４１ａへの給水を
開始する。このとき、制御装置１００は所定容量の水が間欠的に、例えば２秒おきに蒸気
発生室４１ａに供給されるように給水ポンプ５６を駆動させ、１回当たりの給水量は「過
熱スチーム調理メニュー」の種類に応じて制御する。例えばケーキやシュークリームのシ
ューを焼くための「過熱スチーム調理メニュー」が設定されたときの１回当たりの給水量
は０．５ｍｌに、シューマイや肉まん等の「過熱スチーム調理メニュー」が設定されたと
きの１回当たりの給水量は１．０ｍｌにそれぞれ設定されている。
【００３４】
そして、１２０度Ｃまで温度上昇している蒸気発生容器４１に少流量の水が供給される
ことにより、その水は蒸気発生室４１ａ内に落下し、瞬時に蒸発し、蒸気吹出口４９に至
った蒸気は、蒸気吹出口４９を通り、蒸気口５３から加熱室５内に放出される。
【００３５】
加熱室内に充満した蒸気は、加熱室５の後壁５ｃに位置する吸入口６７から熱風循環機
構６０に吸入され、熱風循環機構６０内で、蒸気は熱風ヒータ６２により過熱される。  
そして、蒸気は過熱され温度が上昇していき、飽和温度以上の過熱スチームとなる。  
この飽和温度以上の過熱スチームは、加熱室５の後壁５ｃの吹出口６８から加熱室５内
へ吹出され調理物に満遍なく過熱スチームが行き渡るようになり、過熱スチーム調理をす
ることができる。
【００３６】
またこれら調理方法の調理時間が終了すると、夫々の加熱手段がオフされ、制御装置１
００によりダンパモータ７８が回転駆動し、排出開口部７０が開放される。これにより、
加熱室５内の熱風、蒸気、過熱スチームは排出開口部７０から排気され、内箱４外に排気
される。そして外箱２に設けられる排気口（図示せず）から外箱２外に排気されることで
調理が完了する。
【００３７】
ここで第１の階層に記憶されている「低温スチーム」が選択されて、第２の階層に記憶
されている「甘み増加」なる料理メニューが選択された場合（以下、「甘み増加メニュー
」と称する）について説明する。  
この「甘み増加」なる料理メニューは、メモリー１００ａに記憶されている調理物の甘
み増加方法を実行することで、調理物の甘みを増加させつつ調理するという使用者の嗜好
にあった料理メニューであり、この「甘み増加」メニューを選択した後に、第３の階層に
記憶されている食材を選択して、さらにその下位層にあるその食材の「切り方」を選択し
てスタートをさせることによって実行される。
【００３８】
この「切り方」には、野菜の切り方である「せん切り」「拍子切り」「野菜スティック
切り」が選択できるようになっている。  
そしてこの「切り方」による調理方法は、記憶手段である制御装置１００に「甘み増加
」なる料理メニューとして夫々加熱条件が異なるように記憶されている。  
これは、図７に示すように、「せん切り」と選択されると蒸気が充満したら加熱室内の
温度を７０度Ｃに維持して２．５分間加熱するように記憶されている。そして「拍子切り
」が選択されると加熱室温度を７０度Cに設定し７０度Ｃに到達した後６分間維持し加熱
終了をする。「野菜スティック切り」が選択されると同じく７０度Cに設定しその７０度
Ｃを１０分間加熱維持しその後加熱停止するように調理方法が記憶されている。
【００３９】
次に、この甘みを増加させる「甘み増加」なる料理メニューについて、せん切りされた
人参の甘みを増加させる場合の調理動作について説明する。  
まず、せん切りをした人参を加熱室に載置する。そして、操作部９により「低温スチー
ム」―「甘み増加」―「人参」―「せん切り」を選択し、スタートを押す。  
すると、制御装置１００は、メモリー１００ａに記憶された「せん切りした人参の甘み
を増加させる調理方法プログラム」に基づいて実行する。
【００４０】
まず、蒸気用ヒータ４４がオンされて、蒸気発生容器４１が加熱される。そして、蒸気
発生容器４１に設置されているサーミスタ４８が蒸気発生室４１ａの温度が１２０度Ｃに
達したと判断したら、給水ポンプ５６を駆動して、水タンク５４から蒸気発生容器４１へ
の給水を開始する。  
蒸気発生容器４１に給水ポンプ５６により少量の水が供給されると、その水は蒸気発生
室４１ａ内に落下し瞬時に蒸発する。
【００４１】
すなわち制御装置１００は所定容量の水が間欠的に、例えば２秒おきに蒸気発生室４１
ａに供給されるように給水ポンプ５６を駆動させ、１回当たりの給水量を所定量にして制
御している。  
これはこの給水ポンプ５６を細かい間欠制御することにより、給水ポンプ５６から蒸気
発生室４１ａ内に供給された水が瞬時に蒸気となるようにするためで、蒸気発生室４１ａ
内に水が貯留されないようにしている。
【００４２】
そしてこの蒸気発生室４１ａで発生した蒸気は、蒸気吹出口４９を通り、加熱室５内に
放出される。そして、制御装置１００は、加熱室５内の温度が７０度Ｃになるまで、連続
して蒸気を加熱室５内に供給し、加熱室内を飽和蒸気の状態とする。
【００４３】
そして、加熱室内の温度が７０度Ｃに到達したと、温度センサ１９が検知したとき、蒸
気発生室４１ａの温度と、給水ポンプ５６の給水量を可変的に切り替えて、加熱室内に供
給させる蒸気量を調整することにより加熱室内を７０度Ｃに維持し、且つ略飽和蒸気の状
態を維持するように制御する。このように制御することでせん切りした人参は７０度Ｃの
飽和蒸気の環境下で、凝縮熱効果により調理される。  
なおこの間、加熱室５内の温度を予熱したり、維持したりするために熱風ヒータ６２な
どの加熱手段を利用して温度制御してもよい。
【００４４】
そして、温度センサ１９が７０度Ｃを検知してから（加熱室５が７０度Ｃに到達してか
ら）、２．５分経過したときに、給水ポンプ５６と蒸気用ヒータ４４を停止して蒸気供給
を停止する。そして蒸気排気機構７１の排気ダンパ７２を開き、蒸気を加熱室外に放出す
る。  
なお蒸気排気機構７１は、排気ダンパ７２でなくても排気ファン等で強制排気できるよ
うにしても良い。すなわち排気口があり加熱室５内の空気を外に排気するための排気手段
として機能する構成であれば良い。
【００４５】
以上のように制御装置１００が、「甘み増加」メニューを実行し甘みが増加する所定温
度帯に到達した後にその温度帯を維持するように加熱を行い、「切り方」に応じて所定温
度帯に維持する時間を変えて加熱制御することにより、その「切り方」に応じた最適な甘
みを増加させる調理をすることができる。
【００４６】
この甘みを増加させる調理方法は、予め実験によって判明したデータに基づいて行われ
ている方法であり、その実験データとともにその根拠を図８をもとに説明する。  
図８は、図９に示すような断面積が異なるようにカットした人参を低温スチーム下にお
いて甘みの増減を測定実験したものであり、この被試験人参は、長さが１００ｍｍに固定
された人参の断面を正方形にカットし矩形状にしたもので断面積を変えた人参Ａ（縦５ｍ
ｍ×横５ｍｍ）、Ｂ（縦７ｍｍ×横７ｍｍ）、Ｃ（縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ）すなわち表
面積が異なる人参を夫々試験したものである。
【００４７】
横軸が加熱時間を示し、０分が室温から加熱を開始した時間帯を示す。  
縦軸は調理前の甘み含有量を１とし、加熱調理を行うことにより、調理前の甘みがどの
くらい増加したかを示している。この甘みの含有量とはＢｒｉｘを測定することにより求
めている。このＢｒｉｘは光の屈折率を利用して水に溶解されたショ糖の重量％の単位を
測定するもので、例えば100g中に10gのショ糖が溶けている液はBrix10%のように測定され
る。  
すなわち調理前のBrixを甘み含有量１として、調理後のBrixの増加率を甘みの含有量増
加率として示している。
【００４８】
なお、実線で記載されているものデータが７０度Ｃ、破線で記載されているデータが７
５度Ｃで加熱したものを示し、断面積の大きさに応じて７０度Ｃで加熱したものをＡ、Ｂ
、Ｃと記し、７５度Ｃで加熱したものをＢ’、Ｃ’と記している。
【００４９】
この実験の方法は、加熱室内が室温の状態から加熱割合を一定にして被試験物を加熱し
始め、所定温度に到達してからその所定温度帯を維持するように制御している。  
所定温度が７０度Ｃのデータについては、加熱を開始後３分後に７０度Ｃに加熱室が到
達しその後７０度Ｃを維持するように制御している。
【００５０】
この実験データを見ると、人参を７０度Ｃ、７５度Ｃの条件を所定温度帯として設定し
その温度を維持することで、甘みが１．０を超え増加していることが分かる。そして甘み
が増加して極大値を過ぎた後は、甘みが減少していくことが分かる。  
すなわちこの実験データによれば、加熱室５内を水の沸点以下である所定温度帯の７０
度Ｃや７５度Ｃに設定して、その温度帯域に維持しながら調理物を加熱することにより甘
みが増加することが認識できる。  
この実験のデータは、調理物を所定の温度帯の低温蒸気雰囲気中で調理することで、調
理物の内在酵素を活性化させて自己分解作用が促されることでショ糖が生まれるため甘み
が増加するメカニズムになっていると考えられる。
【００５１】
そこで本実施例の加熱調理器においては、甘みが増加する所定温度帯を発見したことに
基づいて、蒸気発生装置４０を制御して加熱室内に蒸気を充満させ、甘みが増加する所定
の温度帯に維持し甘みが増加する所定の時間帯まで加熱を継続して蒸気の供給を停止する
ような調理方法を記憶して動作するようにした。  
そのため、使用者は、甘みが増加する調理物を、所定の温度の低温蒸気雰囲気中で調理
することだけで簡単に甘みを増加させることができ、使用者にとって甘さが多い調理物の
摂取が手軽に簡単にできる。
【００５２】
なおここでの所定の温度帯とは、実験により発見できる甘みが増加する温度帯すべての
ことを指し、所定の時間帯とは、低温蒸気雰囲気に調理物が晒されるようにして、所定の
温度帯に到達してからその温度帯に維持し実験により甘みが調理していない状態を１とし
たときにそれ以上の甘みに増加する時間帯（甘みの含有量が「１」以上になっている時間
帯）の時に蒸気による加熱を停止するまでの時間幅を指す。
【００５３】
またさらに実験データを見ると、断面積Ａの人参は、加熱開始後すぐに甘みが増加し始
め、加熱時間が５．５分経過時（所定温度７０度Ｃ到達後２．５分経過時）に極大値を迎
え、１．２倍の甘みを得ている。そして断面積Ｂの人参は、加熱開始後加熱時間が７分経
過時に増加し始め９分経過時（所定温度７０度Ｃ到達後６分経過時）に極大値１．１５倍
を迎える。また断面積Ｃの人参は、室温から加熱開始後加熱時間が１０分経過時に増加し
始め１３分経過時（所定温度７０度Ｃ到達後１０分経過時）に極大値１．１８倍を迎える
ようになる。
【００５４】
この実験データによれば、加熱室が所定温度に到達した後、その状態を維持することで
甘みが増加していることが認識でき、その調理物の断面積の違いにより甘みが増加する時
間帯が異なることが分かる。すなわち被試験物の人参の長さは１００ｍｍで固定されてい
るため表面積の違いにより甘みが増加する時間帯が異なることが分かる。  
例えば加熱維持する温度帯７０度Ｃにおいては、断面積Ａから断面積Ｃと大きくなるに
つれて、表面積も大きくなり、甘みが増加する時間帯も長くなるような特性があることが
分かる。
【００５５】
そしてこのような実験データを基に本実施例の加熱調理器は調理方法をあらかじめ記憶
させている。  
すなわちこの図８の実験データを基に、図７の調理方法のプログラムを記憶させており
、例えば、断面積Ａの調理物は、使用者がせん切りするときの調理物の断面積と同等の面
積と見なして記憶させているもので、切り方として「せん切」が選択された場合は、実験
データの断面積Ａの甘み増加の現象を利用して、加熱温度および加熱維持時間を予めプロ
グラムしている。
【００５６】
すなわち「せん切り」については加熱を維持する温度を７０度Ｃに設定し、この温度７
０度Ｃを維持する時間をこの断面積Ａの人参の甘みが極大となる２．５分とした。  
そして断面積Ｂは「拍子切り」で一般的に切られる切り口の断面積と同等と見なし、断
面積Ｃも「野菜スティック切り」の切り口の断面積と同等と見なして、試験物の断面積と
調理物の切り方による断面積とを模擬的に対応させて加熱温度および甘みが極大となる加
熱維持時間を予めプログラムしている。
【００５７】
そのため、「甘み増加」メニューのプログラムをこの実験データの断面積（表面積）に
基づいて記憶し、加熱室内に蒸気を供給して所定の雰囲気温度を維持して凝縮伝熱加熱さ
せ、甘みが極大となる時に調理を停止するようにしたから、人参の甘みが最大となった時
に人参を取り出すことができる。  
したがって、使用者はこの状態の人参を食することにより、調理前の人参に比べて甘み
を多く感じることができおいしく食することができる。
【００５８】
またさらに蒸気供給手段を、蒸気発生容器４１、前記蒸気発生容器４１を加熱する蒸気
用ヒータ４４、前記蒸気発生室４１内に給水する給水ポンプ５６とから構成して、加熱室
５外に設け、前記蒸気発生容器から蒸気を加熱室５に供給するようにしたため、連続して
蒸気を加熱室５に供給することができ、加熱室５内の蒸気温度帯を低温の状態に維持しや
すくできる。これは、例えば蒸気供給手段を加熱室５内に設けた場合などは、蒸気を生成
する蒸気発生容器４１の温度が沸点以上となるため、加熱室５内の温度を沸点以下温度に
維持することが困難となり、この蒸気発生源を加熱室５外に設けたため、加熱室５内を甘
みが増加する水の沸点以下の所定温度帯に維持できるのである。
【００５９】
その他、調理物を所定温度帯に維持させるためには蒸気発生装置４０により蒸気の供給
を制御すればよいが、同時に熱風ファン６１を駆動して、加熱室内の温度を均一にするよ
うに制御していても良い。
【００６０】
なお、調理物の甘みを増加させるには、調理物を飽和蒸気雰囲気に維持することが好ま
しい。これは、蒸気発生装置４０において、加熱室５内に蒸気を供給し続けることにより
、加熱室５内にあった空気が、前面開口部５ｄと扉６との間の隙間などから押し出される
ことにより、加熱室内を略飽和蒸気雰囲気とすることができ、その後も略飽和蒸気雰囲気
を維持することができる。  
その他、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、実施に際して本発明の要旨を
逸脱しない範囲で種々変更して実施できるものである。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明を適用した電子レンジの扉を閉塞した状態の正面図。
【図２】電子レンジの扉を開放した状態を示す正面図。
【図３】電子レンジの縦断正面図。
【図４】電子レンジの横断平面図。
【図５】電子レンジの縦断側面図。
【図６】概略的な電気的構成を示すブロック図。
【図７】調理メニュー及び調理方法を示す図
【図８】調理物の切り口の断面積別の甘み増加率のデータ
【図９】切り口の断面積が異なる人参の被試験物の図
【符号の説明】
【００６２】
１は本体、２は外箱、３は脚部、４は内箱、５は加熱室、５ａは左側壁、５ｂは右側壁、
５ｃは後壁、５ｄは前面開口部、６は扉、７は手掛け部、８は操作パネル、９は操作部、
１０は表示部、１１は扉ロックスイッチ、１２は右側隙間空間、１３は左側隙間空間、１
４は下側隙間空間、１５は機械室、１６はマグネトロン、１７は駆動装置、１８は導波管
、１９は温度センサ、３０は段部、３０ａは上段部、３０ｂは下段部、３１は角皿、３１
ａは上段角皿、３１ｂは下段角皿、４０は蒸気発生装置、４１は蒸気発生容器、４１ａは
蒸気発生室、４４は蒸気用ヒータ、４７は給水口、４８はサーミスタ、４９は蒸気吹出口
、５２はカバー部材、５３は蒸気口、５４は水タンク、５５はパイプ、５６は給水ポンプ
、６０は熱風循環機構、６１は熱風ファン、６２は熱風ヒータ、６３は第１の熱風ヒータ
、６４は第２の熱風ヒータ、６５はケーシング、６６はファンモータ、６７は吸入口、６
８は吹出口、７０は排出開口部、７１は蒸気排気機構、７２は排気ダンパ、１００は制御
装置、１００ａはメモリー、１０１は電源、を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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