(57)【要約】【課題】地震等の振動による構造体の被害をより確実に低減することができる露光装置及び露光装置の防振方法を提供すること。【解決手段】床部（Ｆ）に支持された構造体（１１０）と、前記床部の揺れによる前記構造体の速度に関する情報に基づいて前記構造体を所定状態で支持させる制御装置（ＣＯＮＴ）とを備える。【選択図】図１
2009283790.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
床部に支持された構造体と、
前記床部の揺れによる前記構造体の速度に関する情報に基づいて前記構造体を所定状態で支持させる制御装置と
を備える露光装置。
【請求項２】
前記構造体は、速度センサ、加速度センサ及び位置センサのうち少なくとも１つを有している請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記速度に関する情報は、前記速度センサによる測定、前記加速度センサによる測定値の積分及び前記位置センサによる測定値の微分のうち少なくとも１つによって得られる情報である請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記構造体は、所定像を投影する投影光学系を支持する支持部材である請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記所定状態は、前記構造体が空気バネを介して支持された状態である請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記所定状態は、前記空気バネの圧力が露光時の第２状態よりも低い圧力になっている状態である請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記所定状態は、前記空気バネの圧力がゼロを超える値である請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記制御装置は、前記速度に関する情報に基づいて前記構造体を所定の支持位置に移動させる請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
床部に支持された構造体を有する露光装置の防振方法であって、
前記床部の揺れによる前記構造体の速度に関する情報を取得する第１ステップと、
取得した前記速度に関する情報に基づいて前記構造体を所定状態で支持させる第２ステップと
を有する露光装置の防振方法。
【請求項１０】
前記構造体は、速度センサ、加速度センサ及び位置センサのうち少なくとも１つを有している請求項９に記載の露光装置の防振方法。
【請求項１１】
前記速度に関する情報は、前記速度センサによる測定、前記加速度センサによる測定値の積分及び前記位置センサによる測定値の微分のうち少なくとも１つによって得られる情報である請求項１０に記載の露光装置の防振方法。
【請求項１２】
前記構造体は、所定像を投影する投影光学系を支持する支持部材である請求項９から請求項１１のうちいずれか一項に記載の露光装置の防振方法。
【請求項１３】
前記所定状態は、前記構造体が空気バネを介して支持された状態である請求項９から請求項１２のうちいずれか一項に記載の露光装置の防振方法。
【請求項１４】
前記所定状態は、前記空気バネの圧力が露光時の第２状態よりも低い圧力になっている状態である請求項１３に記載の露光装置の防振方法。
【請求項１５】
前記所定状態は、前記空気バネの圧力がゼロを超える値である請求項１４に記載の露光装置の防振方法。
【請求項１６】
前記第２ステップでは、前記速度に関する情報に基づいて前記構造体を所定の支持位置に移動させる請求項９から請求項１５のうちいずれか一項に記載の露光装置の防振方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び露光装置の防振方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、所謂フォトリソグラフィの手法により製造される。このフォトリソグラフィの露光工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである。
【０００３】
このような露光装置は、外部からの振動の影響を遮断するため、土台となる部分が床部に固定して据え付けられるようになっており、当該土台となる部分の上に例えばエアマウントなどを介して投影光学系やレチクルステージ等を含む構造体が非接触に支持される構成になっている。
【０００４】
地震等に伴う大きな振動が露光装置に加わった場合、空気バネ上の主要部が脱落したり外部あるいは装置内の他部材と衝突したりして、装置内外に重大な損傷を与えることが予測される。このため、露光装置を構成する構造体の位置の変化や加速度の変化を検出し、検出結果に基づいて地震等の振動を検知することで、構造体の被害の低減を図るための構成が開示されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。  
【特許文献１】特開２００１−２３８８５号公報
【特許文献２】特開２００６−１３８７６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
これに対して、本発明者は、振動による構造体の被害の程度が振動の速度に関係している点を見出した。しかしながら、従来の技術では、上記のように専ら振動の位置成分及び加速度成分に着目するものであり、速度成分に着目するものではないため、振動による構造体の被害を十分に軽減することができない虞がある。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、地震等の振動による構造体の被害をより確実に低減することができる露光装置及び露光装置の防振方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る露光装置（ＥＸ）は、床部（Ｆ）に支持された構造体（１１０）と、前記床部の揺れによる前記構造体の速度に関する情報に基づいて前記構造体を所定状態で支持させる制御装置（ＣＯＮＴ）とを備える。  
本発明によれば、制御装置によって、床部の揺れによる構造体の速度に関する情報に基づいて、当該床部に支持された構造体を所定状態で支持させることとしたので、揺れの速度に応じてより被害の少ない支持状態で構造体を支持することができる。これにより、速度の大きい揺れが発生した場合であっても構造体の被害をより確実に低減させることができる。
【０００８】
本発明に係る露光装置（ＥＸ）に防振方法は、床部（Ｆ）に支持された構造体（１１０）を有する露光装置の防振方法であって、前記床部の揺れによる前記構造体の速度に関する情報を取得する第１ステップと、取得した前記速度に関する情報に基づいて前記構造体を所定状態で支持させる第２ステップとを有する。  
本発明によれば、床部の揺れによる構造体の速度に関する情報を取得し、取得した速度に関する情報に基づいて構造体を所定状態で支持させることとしたので、揺れの速度に応じて、より被害の少ない支持状態で構造体を支持することができる。これにより、速度の大きい揺れが発生した場合であっても構造体の被害をより確実に低減させることができる。
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、振動による構造体の被害をより確実に低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の露光装置及び露光装置の防振方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。図１は、露光装置ＥＸの構成を示す模式図である。露光装置ＥＸは、レチクル（マスク）Ｒとウエハ（基板）Ｗとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルＲに形成された回路パターンを投影光学系３０を介してウエハＷ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。
【００１１】
なお、以下の説明において、投影光学系３０の光軸と一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でレチクルＲとウエハＷとの同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。更に、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわり方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１２】
露光装置（基板処理装置）ＥＸは、光源５からの照明光によりレチクルを照明する照明光学系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージ２０、レチクルから射出される照明光をウエハＷ上に投射する投影光学系３０、ウエハＷを保持するウエハステージ４０、レチクルステージ２０と投影光学系３０等を保持する本体フレーム１００、本体フレーム１００及びウエハステージ４０を支持する基礎フレーム２００等を備えている。
【００１３】
照明光学系１０は、ハウジング１１と、その内部に所定の位置関係で配置されたリレーレンズ系、光路折り曲げ用ミラー、コンデンサレンズ系等から成る光学部品を備えている。光源５から射出されるレーザビームは、照明光学系１０に入射され、レーザビームの断面形状が整形されるとともに照度分布がほぼ均一な照明光（露光光）となってレチクル上に照射されるようになっている。
【００１４】
照明光学系１０は、照明系支持部材１２によって支持されている。この照明系支持部材１２は、本体フレーム１００を構成する第２架台１２０の上面に固定されており、Ｚ軸方向に伸びるように設けられている。
【００１５】
レチクルステージ２０は、レチクルＲを保持するレチクル微動ステージと、レチクル微動ステージと一体に走査方向であるＹ軸方向に所定ストロークで移動するレチクル粗動ステージと、これらを移動させるリニアモータ等（いずれも不図示）を備えている。レチクル微動ステージには、矩形開口が形成されており、開口周辺部に設けられたレチクル吸着機構によりレチクルＲが真空吸着等により保持されるようになっている。レチクル微動ステージの２次元的な位置及び回転角、並びにレチクル粗動ステージのＹ軸方向の位置は、不図示のレーザ干渉計により高精度に計測され、この計測結果に基づいてレチクルＲの位置及び速度が制御されるようになっている。レチクルステージ２０は、上記第２架台１２０の上面に不図示の非接触ベアリング（例えば気体静圧軸受け）を介して浮上支持されている。
【００１６】
投影光学系３０は、物体面側（レチクル側）と像面側（ウエハ側）の両方がテレセントリックであり、所定の投影倍率β（βは、例えば１／５）で縮小する縮小系が用いられている。このため、レチクルに照明光学系１０から照明光（紫外パルス光）が照射されると、レチクルＲ上に形成された回路パターン領域のうちの紫外パルス光によって照明された部分からの結像光束が投影光学系３０に入射し、その回路パターンの部分倒立像が紫外パルス光の各パルス照射の度に投影光学系３０の像面側の視野中央にＸ軸方向に細長いスリット状又は矩形状（多角形）に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの部分倒立像は、投影光学系３０の結像面に配置されたウエハＷ上の複数のショット領域のうちの１つのレジスト層に縮小転写される。
【００１７】
この投影光学系３０は、下部が本体フレーム１００を構成する第１架台１１０に設けられた穴部１１１に挿入されている。投影光学系３０の外壁にはフランジ３１が設けられている。投影光学系３０は穴部１１１に挿入された状態において、当該フランジ３１を介して支持されている。
【００１８】
ウエハステージ４０は、ウエハＷを保持するウエハホルダと、ウエハホルダと一体にリニアモータ等によりＹ軸方向に連続移動するとともにＸ軸方向にステップ移動し、更にθＺ方向に微少移動可能なＸＹテーブル４１、及び当該ＸＹテーブル４１を支持する定盤４２を備える。ＸＹテーブル４１は、ウエハＷのレベリング及びフォーカシングを行うためにＺ軸方向、θＸ方向（Ｘ軸回りの回転方向）、及びθＹ方向（Ｙ軸回りの回転方向）の３方向の微少運動が可能であり、全体として、６自由度を有する。ウエハステージ４０には、ＸＹテーブル４１の駆動時に発生する反力をキャンセルするため、ＸＹテーブル４１の駆動方向とは反対方向に移動するカウンタマスを備えている。ＸＹテーブル４１のＸＹ方向位置及びθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向の回転角は、不図示のレーザ干渉計により高精度に計測され、この計測結果に基づいてＸＹテーブル４１、ひいてはウエハＷの位置及び速度が制御される。
【００１９】
ウエハステージ４０に設けられる定盤４２は、エアマウント４００を介して基礎フレーム２００のベース部２０１上に支持されている。エアマウント４００により、ウエハステージ４０は基礎フレーム２００から振動的に分離され、能動的に防振支持される。
【００２０】
本体フレーム１００は、投影光学系３０等を支持する第１架台１１０と、投影光学系３０の上方に配置されるレチクルステージ２０等を支持する第２架台１２０とから構成される。第１架台１１０は、板形の部材からなり、円筒状の投影光学系３０の外径よりもやや大きく形成された穴部１１１を備え、この穴部１１１に投影光学系３０が挿入され、投影光学系３０を支持する。
【００２１】
第１架台１１０には、加速度センサ５０及び位置センサ６０が取り付けられている。加速度センサ５０は、例えば第１架台１１０の上面１１０ａに取り付けられており、第１架台１１０の加速度を測定する。位置センサ６０は、例えば第１架台１１０の側面１１０ｂに取り付けられており、第１架台１１０と床部Ｆとの間の距離を測定することで第１架台１１０の位置を測定する。加速度センサ５０及び位置センサ６０の取り付け位置は、上記位置に限定されることは無く、第１架台１１０の他の位置に取り付ける構成であっても構わない。加速度センサ５０及び位置センサ６０は制御装置ＣＯＮＴに接続されており、加速度センサ５０及び位置センサ６０の測定値は制御装置ＣＯＮＴに送信されるようになっている。
【００２２】
第２架台１２０は、レチクルステージ２０を戴置する支持盤１２１と、支持盤１２１の外周部の下面から下方に伸びて、第１架台１１０と連結する複数の支柱１２２とから構成される。支柱１２２は、第２架台１２０の安定性を考慮すると３本であることが望ましいが、これに限るものではない。また、支持盤１２１と複数の支柱１２２とは、ボルト等の締結手段等で連結される構造であっても、一体に形成される構造であってもよい。支柱１２２がボルト等の締結手段により第１架台１１０と締結されることにより、第１架台１１０と第２架台１２０とが一体に構成される。支柱１２２と第１架台１１０とは、第１架台１１０に支持される投影光学系３０と第２架台１２０に支持されるレチクルステージ２０とが所定の位置関係となるように調整されて締結される。
【００２３】
基礎フレーム２００は、クリーンルームの床部Ｆ上に例えば３つの足部２１１を介して略水平に載置される。基礎フレーム２００は、ウエハステージ４０を戴置するベース部２０１と、ベース部２０１の上面から上方向に所定の長さで伸びる複数の支柱２０２とを備えている。この基礎フレーム２００は、支柱２０２上に、エアマウント３００を介して、本体フレーム１００を浮上支持する。支柱２０２は、本体フレーム１００の安定性を考慮すると３本であることが望ましいが、これに限るものではない。ベース部２０１と複数の支柱２０２とは、締結手段等で連結される構造であっても、一体に形成される構造であってもよい。
【００２４】
エアマウント３００は、いわゆる空気バネであり、本体フレーム１００を基礎フレーム２００上に床部Ｆから振動的に分離して支持している。図２は、エアマウント３００及びその近傍の構成を示す図である。同図に示すように、エアマウント３００は、例えば内部空間８１を有する筐体８０と、ダイアフラム８３を介して筐体８０の内壁に接続されたピストン８２と、内部空間８１の圧力を検出する圧力センサ８４と、配管８６を介して内部空間８１に気体を供給し、又は、内部空間８１の気体を吸引する圧力調節装置８５とを備えている。
【００２５】
内部空間８１は筐体８０の内壁、ピストン８２及びダイアフラム８３によって密閉された状態になっており、所定の圧力の気体が封入されるようになっている。第１架台１１０は、ピストン８２を介して内部空間８１内の気体に支持されるようになっている。圧力調節装置８５によって内部空間８１の気体の圧力を調節することにより、ピストン８２をＺ軸方向に移動させることが可能になっている。なお、上記のエアマウント４００についても、当該エアマウント３００と同一の構成になっている。
【００２６】
露光時には、ピストン８２の上端が例えば高さＨ１に位置するように圧力調節装置８５によって内部空間８１の気体の圧力を調節する。位置Ｈ２は、内部空間８１の気体の圧力を露光時の７０％程度とした場合のピストン８２の上端の位置である。内部空間８１の気体の圧力を減少させると、ピストン８２の上端が下方に移動し、第１架台１１０の支持位置が下方に移動する。位置Ｈ３は、内部空間８１の支持圧力をゼロにした場合のピストン８２の上端の位置である。内部空間８１の気体の圧力をゼロにした場合、ピストン８２の上端の高さは筐体８０上端面の高さに一致し、第１架台１１０は筐体８０によって支持されることになる。
【００２７】
制御装置ＣＯＮＴは、露光装置ＥＸを統括的に制御する。この他、制御装置ＣＯＮＴは、レチクルステージ２０及びウエハステージ４０に設けられたレーザ干渉計の検出結果に基づいてレチクルＲ及びウエハＷの位置を制御し、レチクルＲに形成された回路パターンの像をウエハＷ上のショット領域に転写する露光動作を繰り返し行わせる。また、制御装置ＣＯＮＴは、加速度センサ５０及び位置センサ６０の測定値に基づいて速度値（速度に関する情報）を算出し、算出した速度値に基づいてエアマウント３００の内部空間８１の気体の圧力を調節するようになっている。
【００２８】
図３は、制御装置ＣＯＮＴの構成を示すブロック図である。  
図３に示すように、制御装置ＣＯＮＴは、入力部７１、演算部７２、判断部７３、圧力調整部７４、ＣＰＵ７５及び記憶部７６を有し、これら各部がバスライン７７を介して接続されている。
【００２９】
入力部７１は、各種情報を入力する部位であり、例えば加速度センサ５０の測定値及び位置センサ６０の測定値が入力されるようになっている。演算部７２は、各種演算及び制御を行う部位であり、例えば入力された測定値に基づいて速度値を算出する。この演算部７２では、加速度センサ５０の測定値を積分することで速度値が算出される。また、この演算部７２では、位置センサ６０の測定値を微分することで速度値が算出される。判断部７３は、算出した速度値が閾値を超えているか否かの判断を行う部位である。圧力調整部７４は、エアマウント３００の圧力調節機構８５の動作を制御する。記憶部７６は、各種情報を記録する部位であり、例えば判断部の判断に用いられる閾値が記憶されている。この閾値については、例えば気象庁震度階級における震度６に対応する速度（７０ｃｍ／ｓｅｃ）などに設定することができる。この速度の値は一例であり、閾値を他の速度に設定しても勿論構わない。
【００３０】
次に、上記のように構成された露光装置ＥＸの動作を説明する。  
露光装置ＥＸでは、照明光のもとで、レチクルＲの照明領域内の回路パターンの像が、投影光学系３０を介して投影倍率βで表面にレジストが塗布されたウエハＷ上のスリット状の露光領域（照明領域に共役な領域）に投影される。この状態でレチクルＲとウエハＷとを同期して所定の走査方向（Ｘ軸方向）に移動することで、ウエハＷ上の一つのショット領域にレチクルＲの回路パターンが転写される。
【００３１】
露光時においては、図２に示すように、ピストン８２の上端が位置Ｈ１に位置するようにエアマウント３００の内部空間８１の気体の圧力を調節する。図４は、露光時における第１架台１１０の支持状態（第２状態）を示す図である。図４に示すように、露光時においては、第１架台１１０のＺ軸方向の位置が変化しないように内部空間８１の圧力を調整しながら露光を行う。
【００３２】
この状態において、例えば地震の発生等により床部Ｆが振動し、床部Ｆの振動が露光装置１の第１架台１１０に伝達されると、第１架台１１０には当該振動による力が加えられる。また、振動によって第１架台１１０と床部Ｆとの距離が変化する。第１架台１１０が他の部材に衝突したり接触したりすると、第１架台１１０に支持された投影光学系３０に衝撃が加えられ、投影光学系３０が損傷を受けることになる。また、第１架台１１０に衝突された他の部材についても損傷を受ける虞がある。そこで、本実施形態では、当該振動の速度を検出し（第１ステップ）、第１架台１１０を適切な支持状態（所定状態）で支持させる（第２ステップ）ようにする。以下、本発明に係る露光装置の防振方法を具体的に説明する。
【００３３】
図６は、第１架台１１０の支持状態を変更する動作を示すフローチャートである。  
第１架台１１０に振動が伝達されると、加速度センサ５０によって、第１架台に加えられる力に基づく振動の加速度の時間変化が測定される。また、位置センサ６０によって、第１架台１１０と床部Ｆとの距離の変化に基づく第１架台１１０の位置の時間変化が測定される。
【００３４】
測定された加速度の時間変化と位置の時間変化は、制御装置ＣＯＮＴの入力部７１に入力される（ステップ２０１、ステップ２０２）。演算部７２は、加速度センサ５０による測定値（加速度の時間変化）を時間で積分し振動の速度値（速度に関する情報）を算出する（ステップ２０３）。また、演算部７２は、位置センサ６０による測定値（位置の時間変化）を時間で微分し振動の速度値（速度に関する情報）を算出する（ステップ２０４）。このように、加速度センサ５０及び位置センサ６０の測定値に基づいて速度に関する情報を取得する第１ステップが行われる。
【００３５】
速度値が算出された後、第２ステップに移る。判断部７３は、加速度センサ５０の測定値に基づく速度値及び位置センサ６０の測定値に基づく速度値が記憶部７６に記憶されている閾値を超えているか否かの判断を行う（ステップ２０５）。２つの速度値のうち少なくとも一方が閾値を超えている場合には（ステップ２０５のＹＥＳ）、エアマウント３００の内部空間８１の気体の圧力を例えば露光時の７０％程度に減少させ、ピストン８２の上端の位置を図２に示す位置Ｈ２へ移動させる。また、演算部７３によって算出された速度値が閾値を超えていない場合には（ステップ２０５のＮＯ）、内部空間８１の気体の圧力の変更は行わず、図４に示す第２状態を維持する。
【００３６】
図５は、ピストン８２の上端の位置を図２における位置Ｈ２に移動させたときの様子を示す図である。  
制御装置７によってピストン８２の上端位置を図２における位置Ｈ１から位置Ｈ２へ移動させると、図５に示すように、第１架台１１０は露光時の支持位置１１０Ｐから当該支持位置１１０Ｐよりも床部Ｆに近い位置（所定の支持位置）１１０Ｑへ移動し、当該支持位置１１０Ｑにおいて支持されることになる。このように第１架台１１０がエアマウント３００によって露光時の支持位置１１０Ｐよりも床部Ｆに近い所定の支持位置１１０Ｑにおいて支持された状態が所定状態である。
【００３７】
所定状態においては、支持位置が床部Ｆに近くなった分床部Ｆに対する重心位置が低くなり、支持状態が安定するため、第１架台１１０への振動の影響は緩和されることになる。なお、内部空間８１の気体の圧力を減少させる際には、例えばウエハステージ４０を投影光学系３０の直下から外れた位置に移動させておき、投影光学系３０とウエハステージ４０とが接触するのを回避させることが好ましい。
【００３８】
この所定状態においては、エアマウント３００の内部空間８１の気体の圧力をゼロに設定しても勿論構わない。エアマウント３００による支持は空気バネによる支持であるため、第１架台１１０の振動の状態によっては空気バネが振動する可能性もある。このように空気バネの振動を抑える必要がある場合などには、内部空間８１の気体の圧力をゼロにし、第１架台１１０を筐体８０の上端面に直接支持させることで、第１架台１１０及び投影光学系３０への被害をより確実に回避するようにしても構わない。
【００３９】
床部Ｆの振動が停止し露光装置１による露光動作を再度行うときには第１架台１１０の支持状態を露光時の第２状態に復帰させる必要がある。内部空間８１の気体の圧力をゼロに設定した場合、内部空間８１の気体の圧力を露光時の圧力に戻すまでには、内部空間８１の気体の圧力を露光時の７０％程度にした上記の場合に比べて長時間を要することになる。このため、露光時の第２状態から所定状態に移行する際には、できるだけ内部空間８１の気体の圧力がゼロを超える圧力となるように設定することが好ましい。
【００４０】
以上のように、本実施形態によれば、制御装置ＣＯＮＴによって、床部Ｆの揺れによる第１架台１１０の速度に関する情報に基づいて、当該床部Ｆに支持された第１架台１１０を所定状態で支持させることとしたので、揺れの速度に応じてより被害の少ない所定状態で第１架台１１０を支持することができる。これにより、速度の大きい揺れが発生した場合であっても第１架台１１０の被害を確実に低減させることができる。
【００４１】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
上記実施形態では、第１架台１１０上に加速度センサ５０及び位置センサ６０を設けた構成としたが、例えば速度センサを設けることで第１架台１１０の速度の変化を検出できるようにする構成であっても構わない。これらの加速度センサ、位置センサ、速度センサは、いずれか１種類のセンサを取り付ける構成であっても構わないし、複数種類のセンサを組み合わせて取り付ける構成であっても構わない。複数種類のセンサを組み合わせて取り付ける場合には、どのような組み合わせであっても構わない。
【００４２】
また、上記実施形態では、制御装置ＣＯＮＴが加速度センサ５０及び位置センサ６０での測定値に基づいて速度値を算出した後、当該算出された速度値の少なくとも一方が閾値を超えている場合にエアマウント３００の内部空間８１の気体の圧力を調節する構成としたが、これに限られることは無く、例えば加速度センサ５０及び位置センサ６０による速度値の両方が閾値を超えている場合に内部空間８１の気体の圧力を調節する構成としても構わない。また、複数のセンサを組み合わせる場合、複数のセンサによる速度値のうち一部が閾値を超える場合に支持圧力を調節するようにしても良いし、複数のセンサによる速度値が全て閾値を超える場合に支持圧力を調節するようにしても構わない。
【００４３】
また、上記実施形態では、エアマウント３００によって支持される第１架台１１０を所定状態で支持可能な構成としたが、これに限られることは無く、例えばエアマウント４００によって支持されるウエハステージ４０についても所定状態で支持可能な構成とすることができる。また、露光装置１を構成する他の構造体、例えば第２架台１２０や照明系支持部材１２、レチクルステージ２０などについても、エアマウント３００と同様の構成を設けることで、あるいは、他の構成によって所定状態で支持できる構成としても構わない。
【００４４】
また、上記実施形態では、第１架台１１０の所定の支持位置として、露光時の支持位置１１０Ｐよりも床面Ｆに近い位置１１０Ｑに設定したが、これに限られることは無く、所定の支持位置を別の位置に設定したり、所定状態で支持するための支持部材等を別途設けて当該支持部材上に所定の支持位置を設定したりする構成であっても構わない。
【００４５】
また、上記実施形態では、所定の支持位置を設定する場合、露光時の支持位置１１０ＰのＺ軸方向上の位置として設定したが、これに限られることは無く、露光時の支持位置１１０ＰのＺ軸方向上の位置から外れた位置、すなわち、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向へ移動させた位置に設定する構成であっても構わない。この場合、当該所定の支持位置へ第１架台１１０を移動させるために、Ｚ軸方向への移動のみではなく、必要に応じてＸ軸方向、Ｙ軸方向へ移動可能な構成にすれば良い。
【００４６】
また、上記実施形態では、エアマウント３００によって第１架台１１０を支持し、エアマウント３００の内部空間８１の気体の圧力を調節することによって第１架台１１０の支持状態を所定状態と第２状態との間で変更する構成としたが、これに限られることは無い。例えば第１架台１１０を支持する支持部材を別途設け、当該支持部材にアクチュエータなどを取り付け、当該アクチュエータで支持部材を移動させることによって支持状態を変更する構成であっても構わない。
【００４７】
また、ウエハＷとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ等についても適用される。
【００４８】
露光装置ＥＸとしては、レチクルＲとウエハＷとを同期移動してレチクルＲのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、レチクルＲとウエハＷとを静止した状態でレチクルＲのパターンを一括露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【００４９】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンとウエハＷとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像をウエハＷ上に転写した後、第２パターンとウエハＷとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねてウエハＷ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、ウエハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、ウエハＷを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００５０】
また、例えば米国特許第第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【００５１】
また、露光装置ＥＸとして、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６４００４４１号明細書、米国特許第６５４９２６９号明細書、米国特許第６５９０６３４号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、及び米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【００５２】
更に、米国特許第６８９７９６３号明細書、欧州特許出願公開第１７１３１１３号明細書等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置を採用することができる。
【００５３】
また、例えば国際公開第９９／４９５０４号パンフレット等に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置に適用することもできる。本発明を液浸露光装置に適用する場合、振動発生時のエアマウント３００の支持圧力を、ゼロを超える値に設定することで、振動停止後の復帰に要する時間を短縮することができる。
【００５４】
露光装置ＥＸの種類としては、ウエハに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００５５】
また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００５６】
また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行う工程、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作する工程、シリコン材料からウエハを製造する工程、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光するウエハ処理工程、デバイス組み立て工程（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査工程等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施の形態に係る露光装置の構成を示す模式図。
【図２】露光装置のエアマウントの構成を示す図。
【図３】露光装置の制御装置の構成を示すブロック図。
【図４】露光時の支持状態を示す図。
【図５】振動発生時の支持状態を示す図。
【図６】振動発生時の動作を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００５８】
ＣＯＮＴ…制御装置  ＥＸ…露光装置  Ｆ…床部  ３０…投影光学系  ５０…加速度センサ  ６０…位置センサ  １１０…第１架台（構造体）  ３００…エアマウント
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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