(57)【要約】【課題】耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】Ｓｂ２Ｏｙ（ただし、ｙは原子比で１．７〜２．８５）からなる成分組成並びにＳｂ素地中にＳｂ2Ｏ3粒子相が分散している組織を有する耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲットであって、前記Ｓｂ2Ｏ3粒子相は、最大粒径が２５０μｍ以下である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｂ２Ｏｙ（ただし、ｙは原子比で１．７〜２．８５）からなる成分組成および金属Ｓｂ素地中にＳｂ2Ｏ3粒子相が分散している組織を有することを特徴とする耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲット。
【請求項２】
前記Ｓｂ2Ｏ3粒子相は、最大粒径が２５０μｍ以下の粒径を有することを特徴とする請求項１記載の耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、酸化アンチモン薄膜をスパッタリングにより成膜するために使用する耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲット（以下、酸化アンチモンターゲットと云う）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、酸化アンチモン薄膜は各種の光学薄膜として使用されることは知られており、この酸化アンチモン薄膜はスパッタリングにより成膜することが知られている。例えば、入射した光が吸収されてほとんど反射することのない反射防止光学薄膜は、鏡やフラットパネルディスプレイの表示面上に形成されることにより、光の反射を防止している。この反射防止光学薄膜の一例が特許文献１に記載されており、この特許文献１には、反射防止光学薄膜は第１層、第２層および第３層の順に積層された積層膜から構成されており、前記第１層は厚さが約７０〜１００ｎｍを有する窒化ケイ素、酸化亜鉛、インジウム酸化第一錫、酸化ビスマス、酸化第二錫、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、酸化ガドリニウムなどの層で構成されており、第２層は厚さが約２０〜３５ｎｍを有する酸化チタン、酸化ニオブ、酸化タンタルなどの層で構成されており、第３層は厚さが約７０〜９５ｎｍを有する二酸化ケイ素、フッ化マグネシウムなどの層で構成されており、前記第１層として酸化アンチモン薄膜を使用することが記載されている。
【特許文献１】特表２００５−５０２０７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
前述のように、酸化アンチモン薄膜は、酸化アンチモンターゲットを使用し、スパッタリングにより成膜することは知られているが、通常の酸化アンチモンターゲットを用いて高出力スパッタすると、スパッタリング中に割れが発生し、スパッタリング操作を途中で中断しなければならなくなって、効率よく高出力スパッタを行うことができなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは高出力スパッタしてもスパッタ中に割れが発生することのない耐割れ性に優れた酸化アンチモンターゲットを作製すべく研究を行った。その結果、
（イ）Ｓｂ2Ｏ3粉末と金属Ｓｂ粉末を、Ｓｂ２Ｏｙ（ただし、ｙは原子比で１．７〜２．８５）となる成分組成を有するように配合し混合して得られた混合粉末をホットプレスして得られた酸化アンチモンターゲットは、金属Ｓｂ素地中にＳｂ2Ｏ3粒子相が分散している組織を有し、この成分組成および組織を有する酸化アンチモンターゲットは、高速スパッタを行っても割れが発生することはない、
（ロ）前記Ｓｂ2Ｏ3粒子相は、最大粒径が２５０μｍ以下の粒径を有することが好ましい、という研究結果が得られたのである。
【０００５】
この発明は、かかる研究結果に基づいて成されたものであって、
（１）Ｓｂ２Ｏｙ（ただし、ｙは原子比で１．７〜２．８５）からなる成分組成および金属Ｓｂ素地中にＳｂ2Ｏ3粒子相が分散している組織を有する耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲット、
（２）前記Ｓｂ2Ｏ3粒子相は、最大粒径が２５０μｍ以下の粒径を有する前記（１）記載の耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
【０００６】
この発明の耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲットを製造するには、原料粉末として、最大粒径が２５０μｍ以下の酸化アンチモン粉末と金属Ｓｂ粉末を用意し、これら原料粉末をＳｂ２Ｏｙ（ただし、ｙは原子比で１．７〜２．８５）からなる成分組成を有するように配合し混合し成形した後ホットプレスすることにより作製することができる。
このようにして作製したこの発明の耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲットは、金属Ｓｂの素地中に最大粒径で２５０μｍ以下のＳｂ2Ｏ3粒子相が分散している組織を有しており、酸素を含む雰囲気中で高周波スパッタすることによりＳｂ2Ｏ3膜を成膜する。
【０００７】
この発明の耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲットの成分組成をＳｂ２Ｏｙ（ただし、ｙは原子比で１．７〜２．８５）となるように規定したのは、ｙが１．７より小さいとリアクティブスパッタによる膜の酸素コントロールが難しくなると共に膜の透明性が悪くなるので好ましくなく、一方、ｙが２．８５を越えて大きくなるとスパッタ中に割れが発生するようになるので好ましくないからである。さらに、この発明の耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲットの金属Ｓｂ素地中に分散するＳｂ2Ｏ3粒子相の粒径を最大粒径で２５０μｍ以下と規定したのは、Ｓｂ2Ｏ3粒子相の最大粒径が２５０μｍを越えるようになると、スパッタ中に割れが発生するようになるので好ましくないからである。
【発明の効果】
【０００８】
この発明の耐割れ性に優れた酸化アンチモンのターゲットは、高出力スパッタを行ってもターゲットに割れが生じないので一層効率良くスパッタリングを行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
つぎに、この発明の耐割れ性に優れた酸化アンチモンスパッタリングターゲットを実施例により具体的に説明する。
原料粉末として、表１に示される最大粒径を有するＳｂ2Ｏ3粉末および平均粒径：１００μｍを有する金属Ｓｂ粉末を用意し、これら原料粉末を表１に示される割合となるように配合し、乾式混合装置を用いて混合し、得られた混合粉末をモールドに充填し、真空雰囲気中、温度：３００℃、圧力：７０ＭＰａにてホットプレスしたのち機械加工することにより、直径：１００ｍｍ、厚さ：５ｍｍの寸法を有し、表１に示されるＳｂ２Ｏｙにおけるｙの値を有する本発明ターゲット１〜１２、比較ターゲット１〜３および従来ターゲット１を作製した。
これら本発明ターゲット１〜１２、比較ターゲット１〜３および従来ターゲット１の切断面を研磨し、金属顕微鏡を用いて切断研磨面の金属Ｓｂ素地中に分散するＳｂ2Ｏ3粒子相の最大粒径を測定し、その結果を表１に示した。
【００１０】
さらに、得られた本発明ターゲット１〜１２、比較ターゲット１〜３および従来ターゲット１を無酸素銅製の水冷バッキングプレートにハンダ付けした状態で、スパッタリング装置に装着し、まず装置内を真空排気装置にて１×１０-6Ｔｏｒｒ以下に排気したのち、Ａｒガスおよび酸素ガスを導入して装置内雰囲気をＡｒガス分圧：５ｍＴｏｒｒ、酸素ガス分圧：０．５ｍＴｏｒｒの雰囲気とし、かかる状態で本発明ターゲット１〜１２、比較ターゲット１〜３および従来ターゲット１を用い、電源：ＲＦ、スパッタ電力：１００Ｗを印加することにより１時間スパッタリングを行なった。その後パッタリング装置からホットプレスした本発明ターゲット１〜１２、比較ターゲット１〜３および従来ターゲット１を取り出し、ターゲットに割れが発生しているか否かを目視にて観察し、その結果を表１に示した。
【００１１】
【表１】
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【００１２】
表１に示される結果から、従来ターゲット１は高出力スパッタを行うと割れが発生したが、本発明ターゲット１〜１２は同じ条件で高出力スパッタを行っても割れは発生しないことが分かる。しかし、Ｓｂ２Ｏｙにおけるｙが１．７未満である比較ターゲット１はスパッタリングして得られた膜の透明性が悪くなるので好ましくなく、一方、ｙが２．８５を越える成分組成を有する比較ターゲット２および金属Ｓｂ素地中に分散するＳｂ2Ｏ3粒子相の最大粒径が２５０μｍよりも大きな比較ターゲット３は高出力スパッタを行うと割れが発生するので好ましくないことが分かる。