(57)【要約】【課題】本発明は、遮光部の剥離といった不具合の発生の少ないカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部と、を有するカラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化するプラズマ工程と、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管する保管工程と、上記保管工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗工程と、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と、を少なくとも有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供することにより上記課題を解決するものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成され、開口部を備える遮光部と、を有するカラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、前記遮光部を撥液化するプラズマ工程と、
前記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を、前記遮光部の前記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管する保管工程と、
前記保管工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗工程と、
前記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と、
を少なくとも有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
基板と、前記基板上に形成され、開口部を備える遮光部と、を有するカラーフィルタ形成用基板の遮光部を撥液化するためのプラズマ照射を行うプラズマ手段と、
前記プラズマ手段によりプラズマ照射された後の前記カラーフィルタ形成用基板を、前記遮光部の前記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管する保管手段と、
前記保管手段により、前記遮光部の密着性が向上されたカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗手段と、
前記水洗手段により、水洗がされたカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット手段と、
を少なくとも有することを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遮光部の剥離といった不具合の発生を抑えたカラーフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピューターの発達、特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴い、液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しかしながら、このカラー液晶ディスプレイが高価であることから、コストダウンの要求が高まっており、特にコスト的に比重の高いカラーフィルタに対するコストダウンの要求が高い。
【０００３】
このようなカラーフィルタにおいては、通常赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３原色の着色パターンを備え、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素に対応する電極をＯＮ、ＯＦＦさせることで液晶がシャッタとして作動し、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素を光が通過してカラー表示が行われるものである。
【０００４】
従来より行われているカラーフィルタの一般的な製造方法としては、例えば染色法が挙げられる。この染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。これを３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタ層を形成する。
【０００５】
また、他の方法としては顔料分散法が挙げられる。この方法においては、まず基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、およびＢのカラーフィルタ層を形成する。
【０００６】
しかしながら、上記いずれの方法も、Ｒ、Ｇ、およびＢの３色を着色するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になるという問題や、露光や現像等、多数の工程を繰り返すため歩留まりが低下するという問題がある。またさらに、現像の際に用いられる薬品等によって、他の部材が劣化してしまう場合がある等の問題もあった。
【０００７】
そこで、例えば、基板上に着色層を形成する着色層形成用塗工液を留めるためのバンクを形成し、このバンクにフッ素化合物を導入ガスとしてプラズマを照射することによりバンクを撥インク性として、インクジェット法等により着色層等の機能性部を形成する方法も提案されている（特許文献１）。
【０００８】
このような方法によれば、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成することが可能であることから、複雑な工程を繰り返す必要がなく、製造効率がよいという利点を有している。また現像液等を用いる必要がないことから、部材の劣化等が生じるおそれもないものとすることができる。
【０００９】
さらに、プラズマ処理した後の基板を水洗することにより、上記プラズマ処理の際に生じる残渣を除去して上記基板表面を親液性とし、インクジェット法により塗布された着色層形成用塗工液が濡れ広がりやすいものすることで、白抜けの発生が少ない着色層を形成する方法が提案されている（特許文献２）。
【００１０】
しかしながら、上記のプラズマ処理および水洗の両者を行なった場合には、上記水洗時に遮光部が剥離することがあるといった問題があった。
【００１１】
【特許文献１】特開２０００−１８７１１１号公報
【特許文献２】特開２００２−２０７１１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、遮光部の剥離といった不具合の発生を抑えたカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者等は、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、プラズマ処理を行なうプラズマ処理工程後の遮光部は、基板との密着性が低下していることがあること、および、上記プラズマ処理工程と水洗を行なう水洗工程との間で所定の条件下で保管することにより遮光部の基板に対する密着性が回復することを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
【００１４】
すなわち、本発明は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部と、を有するカラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化するプラズマ工程と、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管する保管工程と、上記保管工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗工程と、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と、を少なくとも有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１５】
本発明によれば、上記保管工程を、上記プラズマ工程の後に有することにより、上記プラズマ工程後に低下した遮光部の密着性を向上させ、上記遮光部と上記基板との密着性を回復させることができる。このため、上記水洗工程において、水洗を行なった場合であっても、上記遮光部が剥離するといった不具合の発生を抑えることができる。
【００１６】
本発明は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部と、を有するカラーフィルタ形成用基板の遮光部を撥液化するためのプラズマ照射を行うプラズマ手段と、上記プラズマ手段によりプラズマ照射された後の上記カラーフィルタ形成用基板を、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管する保管手段と、上記保管手段により、上記遮光部の密着性が向上されたカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗手段と、上記水洗手段により、水洗がされたカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット手段と、を少なくとも有することを特徴とするカラーフィルタの製造装置を提供する。
【００１７】
本発明によれば、上記保管手段を、上記プラズマ手段の後に有することにより、上記プラズマ手段によりプラズマ照射された後に低下した遮光部の密着性を向上させ、上記遮光部と上記基板との密着性を回復させることができる。このため、上記水洗手段において、水洗を行なった場合であっても、上記遮光部が剥離するといった不具合の発生を少ないものとすることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は、遮光部の剥離といった不具合の発生を抑えたカラーフィルタの製造方法を提供することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明は、カラーフィルタの製造方法と、それに用いる製造装置に関するものである。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの製造装置について詳細に説明する。
【００２０】
Ａ．カラーフィルタの製造方法
まず、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部と、を有するカラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化するプラズマ工程と、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管する保管工程と、上記保管工程後のカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗工程と、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と、を少なくとも有することを特徴とするものである。
【００２１】
このような本発明のカラーフィルタの製造方法について図を参照して説明する。図１に例示するように、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板１と、上記基板１上に形成され、開口部を備える遮光部２とを有するカラーフィルタ形成用基板２０を準備し（図１（ａ））、次いで、上記カラーフィルタ形成用基板２０にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化するプラズマ工程と（図１（ｂ））、次いで、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板２０を、密着性向上温度で加熱しつつ、密着性向上湿度環境下で密着性向上時間保管する保管工程と（図１（ｃ））、上記保管工程後のカラーフィルタ形成用基板２０にシャワーリングにより水を吹き付けて水洗する水洗工程と（図１（ｄ））、上記水洗工程後のカラーフィルタ形成用基板２０の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット工程と（図１（ｅ））、を少なくとも有し、着色層３を有するカラーフィルタ１０を形成するものである（図１（ｆ））。
【００２２】
本発明によれば、上記保管工程を、上記プラズマ工程の後に有することにより、上記プラズマ工程後に低下した遮光部の密着性を向上させ、上記遮光部と上記基板との密着性を回復させることができる。このため、上記水洗工程において、水洗を行なった場合であっても、上記遮光部が剥離するといった不具合の発生を抑えることができる。
このように、上記プラズマ工程および水洗工程の間に、上記保管工程を有することにより、上記遮光部が剥離するといった不具合を少ないものとすることができる理由は以下のように推測される。
【００２３】
すなわち、遮光部の撥液化に用いられるプラズマ処理の方法としては、導入ガスとしてフッ素ガスを導入したプラズマ照射により行われるのが一般的である。この際、大気中の水と、導入ガスに用いられるフッ素化合物とが反応し、フッ化水素が生成すると考えられる。さらに、このようにして生成したフッ化水素は、基板として用いられるガラス基板と反応するものである。したがって、上記遮光部と、上記基板との接着部分に存在するガラスも、フッ化水素により腐食を受ける可能性が高い。これにより上記遮光部の密着性が低下するものと考えられる。
このように、フッ化水素により腐食され、密着性が低下した遮光部および基板の間に、水洗時の水が入り込むことにより、遮光部の剥離が生じるものと推定される。
【００２４】
ここで、従来のカラーフィルタの製造方法においては、水洗工程の実施が、プラズマ工程後できるだけ早く行なわれるのが一般的である。これは、以下の理由による。すなわち、プラズマ処理後放置すると、遮光部に導入されたフッ素が、開口部が形成された基板上に拡散し、基板表面が撥液性を有するものとなる。このように、基板表面が撥液性を有するものとなった場合には、インクジェット法により塗布された着色層形成用塗工液の開口部内への広がりが低いものとなる。その結果、着色層形成用塗工液が開口部の全域に濡れ広がらず、開口部内に着色層が形成されない箇所または着色層の厚みが非常に薄くなる箇所である白抜けが生じるからである。
このように、従来のカラーフィルタの製造方法では、プラズマ処理工程と、水洗工程との間隔を短いものとすることが好ましいとされていた。このため、本発明のように保管工程は行なわれず、その結果、上記遮光部の剥離を生じる可能性が高かったものとなってしまった。
【００２５】
一方、本発明においては、上記プラズマ工程および水洗工程の間に、上記保管工程を有することにより、上記プラズマ工程を行なうことにより低くなった遮光部の密着性を向上させ、上記遮光部と上記基板との密着性を回復させることができる。このため、上記水洗工程において、水洗を行なった場合であっても、上記遮光部が剥離するといった不具合の発生を少ないものとすることができるのである。
【００２６】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、プラズマ工程、保管工程、水洗工程およびインクジェット工程を少なくとも有するものである。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の各工程について詳細に説明する。
【００２７】
１．プラズマ工程
本発明におけるプラズマ工程は、上記カラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を撥液化する工程である。
【００２８】
本発明は、本工程を有することにより、上記開口部を囲む遮光部の表面を顕著に撥液化できるため、後述するインクジェット工程において着色層を形成した際に、着色層の混色が少ないものとすることができるのである。
【００２９】
（１）カラーフィルタ形成用基板
本工程に用いられるカラーフィルタ形成用基板は、基板と、遮光部とを有するものである。
【００３０】
（ａ）遮光部
本工程に用いられる遮光部は、後述する基板上に形成されるものであり、開口部を備えるものである。
【００３１】
本工程に用いられる上記遮光部としては、通常、開口部が等間隔で規則的に形成されたものが用いられる。ここで、上記開口部の具体的な大きさや配置態様は特に限定されるものではなく、本発明により製造されるカラーフィルタの用途等に応じて任意に決定することができる。
【００３２】
このような上記遮光部としては、所望の遮光性を有し、後述するプラズマ処理により撥液性を有するものとすることができる材料からなるものであれば特に限定されるものではないが、通常、遮光性材料および樹脂から構成されるものが用いられる。
【００３３】
上記遮光部が遮光性材料および樹脂から構成されるものである場合、上記遮光性材料としては、一般的なカラーフィルタの樹脂製遮光部に用いられる材料を用いることができる。このような遮光性材料としては、例えば、カーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子等を挙げることができる。
【００３４】
また、上記樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−ビニル共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、エチレン−メタクリル酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等を用いることができる。
【００３５】
上記遮光部を形成する方法としては、上記開口部が所望の態様で配置された遮光部を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。遮光性粒子を含有させた樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィー法、および、上記樹脂組成物を用いた熱転写法等を挙げることができる。このような遮光部を形成する具体的な方法としては、一般的にカラーフィルタに用いられる遮光部を形成する方法と同様の方法を用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。
【００３６】
（ｂ）基板
本工程に用いられる基板としては、上記遮光部および着色層を形成できるものであれば特に限定されるものではなく、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができる。このような基板としては、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板の表面にＳｉＯ２等の無機膜が形成されたもの等を挙げることができる。なかでも本工程においては無機基板を用いることが好ましい。上記基板として無機材料を用いることにより、本工程により、上記遮光部のみを撥液化することが容易となるからである。
さらに、本工程においては上記無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましく、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。上記無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
【００３７】
上記基板は、透明な基板であってもよく、または、反射性の基板や白色に着色したものであってもよいが、本工程においては通常透明なものが用いられる。
【００３８】
また、上記基板は、必要に応じてアルカリ溶出防止やガスバリア性付与その他の目的の表面処理を施されたものであってもよい。このような表面処理としては例えば表面を親液性とするために、酸素ガスを導入ガスとしたプラズマ等を照射する処理や、中性や弱アルカリ性洗剤を使用し、ロールブラシ等を使用した洗浄処理を挙げることができる。
ここで、親液性とは、後述する着色層形成用塗工液との接触角が小さいことを意味するものである。
【００３９】
具体的には、上記基板表面の上記着色層形成用塗工液との接触角が、後述する遮光部表面の接触角よりも小さいものとすることができるものであれば良い。なかでも本工程においては、上記基板表面の４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が９°未満となる程度であることが好ましく、特に表面張力５０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以下となる程度であることが好ましく、さらには表面張力６０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以下となる程度であることが好ましい。
【００４０】
（２）撥液化方法
本工程における撥液化方法としては、上記カラーフィルタ形成用基板にプラズマ照射を行い、上記遮光部を所望の撥液性を有するものとすることができる方法であれば良い。
【００４１】
このような撥液化方法としては、通常、フッ素化合物を導入ガスとしたプラズマ照射をする方法が用いられる。このような方法によれば、樹脂を含有する上記遮光部に選択的にフッ素を導入することができるため、上記遮光部の撥液性のみを向上させることが可能であるからである。
【００４２】
上記導入ガスに用いられるフッ素化合物としては、例えば、ＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｈ８、Ｃ５Ｆ８等を挙げることができる。
【００４３】
また、上記導入ガスとしては、上記フッ素ガスと他のガスとが混合されたものであってもよい。上記他のガスとしては、例えば、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム等を挙げることができるが、なかでも窒素を用いることが好ましい。さらに上記他のガスとして窒素を用いる場合、窒素の混合比率は５０％以上であることが好ましい。
【００４４】
また、上記プラズマ照射を実施する方法としては、上記遮光部の撥液性を向上できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、減圧下でプラズマ照射してもよく、または、大気圧下でプラズマ照射してもよい。なかでも、本工程においては特に大気圧下でプラズマ照射が行うことが好ましい。これにより、減圧用の装置等が必要なく、コストや製造効率等の面おいて有利になるからである。
【００４５】
なお、上記プラズマ照射を行った後の、上記遮光部等におけるフッ素の存在は、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ：ＥＳＣＡＬＡＢ  ２２０ｉ−ＸＬ）による分析において、遮光部の表面より検出される全元素中のフッ素元素の割合を測定することにより確認することができる。
【００４６】
なお、上記「撥液性」とは、後述する着色層形成用塗工液との接触角が大きいことを意味するものである。
【００４７】
具体的には、上記遮光部の表面の上記着色層形成用塗工液との接触角が、上記基板表面の接触角よりも大きいものとすることができるものであれば良い。なかでも本工程においては、上記遮光部表面の、４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上となる程度であることが好ましく、特に表面張力３０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上となる程度であることが好ましく、さらには表面張力２０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上となる程度であることが好ましい。また、純水との接触角が１１°以上となる程度であることが好ましい。
【００４８】
２．保管工程
本発明における保管工程は、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板を、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管する工程である。
【００４９】
本発明は、本工程を有することにより、上記プラズマ工程を行なうことによって低下した遮光部の基板に対する密着性を向上させることができる。このため、後述する水洗工程において水洗をした場合であっても、遮光部が剥離するといった不具合の発生を少ないものとすることができるのである。
【００５０】
（１）保管条件
本工程において、上記カラーフィルタ形成用基板を保管する際の保管条件としては、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を少なくとも満たすものであれば良い。
【００５１】
このような保管条件としては、上記カラーフィルタ形成用基板の種類、遮光層形成用組成物の種類、プラズマ工程処理条件等により異なるものである。また、上記保管条件の各条件である密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度等が互いに影響を及ぼすものである。このため、通常、上記カラーフィルタ形成用基板と同形状のカラーフィルタ形成用基板をテスト用基板として用い、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度等の保管条件と、上記遮光部の密着性との関係を調査することにより設定されるものである。
【００５２】
上記密着性向上時間としては、上記カラーフィルタ形成用基板の遮光部の基板への密着性を十分に高いものとすることができるものであれば良く、具体的には４０秒以上であることが好ましく、なかでも３００秒〜１０８００秒の範囲内であることが好ましく、特に１２００秒〜３６００秒の範囲内であることが好ましい。上記範囲より短いと、上記遮光部の密着性向上を図ることが難しいからである。また、上記範囲より長いと、上記遮光部表面に導入されたフッ素が上記基板表面に拡散し、上記開口部の基板表面も撥液性を有するものとなるおそれがあるからである。その結果、後述するインクジェット工程により着色層を形成した際に白抜けが発生する可能性があるからである。
【００５３】
上記密着性向上温度としては、上記カラーフィルタ形成用基板の遮光部の基板への密着性を十分に高いものとすることができるものであれば良く、具体的には２０℃〜１００℃の範囲内であることが好ましく、なかでも２５℃〜６０℃の範囲内であることが好ましく、特に３０℃〜４５℃の範囲内であることが好ましい。上記範囲より低いと、上記遮光部の密着性を向上させるために長時間必要となるからである。また、長時間保管した場合には、上記遮光部に導入されたフッ素が上記基板表面に拡散し、上記開口部の基板表面も撥液性を有するものとなるおそれがあるからである。その結果、後述するインクジェット工程により着色層を形成した際に白抜けが発生する可能性があるからである。
また、上記範囲より高い場合には、上記遮光部に導入されたフッ素の拡散速度が上昇し、上記開口部の基板表面も撥液性を有するものとなる可能性があるからである。
【００５４】
上記密着性向上湿度としては、上記カラーフィルタ形成用基板の遮光部の基板への密着性を十分に高いものとすることができるものであれば良く、具体的には７０％以下であることが好ましく、なかでも６０％以下であることが好ましく、特に５０％以下であることが好ましい。上記範囲より高いと、上記プラズマ工程において導入ガスとして用いられるフッ素化合物と反応することにより生じるフッ化水素がより多く発生する可能性がある。その結果、上記基板の腐食が進み、密着性が大きく低下するおそれがあるからである。
また、上密着性向上湿度の下限としては、３０％であることが好ましい。上記範囲より低いと、静電気が発生しやすくなり、火災等の危険があるからである。
なお、湿度とは、上記カラーフィルタ形成用基板が保管される環境の相対湿度をいうものである。
【００５５】
本工程における保管条件は、上述したように上記保管条件における密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度等が互いに影響を及ぼすものである。
このようなことから保管条件としては、具体的には、上記密着性向上湿度が７０％以下である場合、上記密着性向上温度が、２０℃以上２５℃未満の場合において、上記密着性向上時間が１５００秒以上であることが好ましく、なかでも、１５００秒〜３６０００秒の範囲内であることが好ましい。また、上記密着性向上温度が、２５℃以上３５℃未満の場合において、上記密着性向上時間が９００秒以上であることが好ましく、なかでも、９００秒〜１８０００秒の範囲内であることが好ましい。また、上記密着性向上温度が、３５℃以上５０℃未満の場合において、上記密着性向上時間が２４０秒以上であることが好ましく、なかでも、２４０秒〜７２００秒の範囲内であることが好ましい。また、上記密着性向上温度が、５０℃以上７０℃未満である場合において、上記密着性向上時間が１８０秒以上であることが好ましく、なかでも、１８０秒〜９００秒の範囲内であることが好ましい。また、上記密着性向上温度が、７０℃〜１００℃の範囲内である場合において、上記密着性向上時間が４０秒以上であることが好ましく、なかでも、４０秒〜２４０秒の範囲内であることが好ましい。上記保管条件における密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度が上述した範囲内にあることにより、上記遮光部の密着性を安定的に向上させることができるからである。
【００５６】
（２）保管方法
本工程において、上記カラーフィルタ形成用基板を保管する方法としては、上記保管条件を達成することができる方法であれば良く、上記カラーフィルタ形成用基板を移動させながら保管を行なうものであっても良く、上記カラーフィルタ形成用基板を静止させた状態で保管するものであっても良い。
【００５７】
本工程において、上記カラーフィルタ形成用基板を、上記密着性向上温度で保管する方法としては、周囲の環境等によっても異なるものであるが、例えば、遠赤外線ヒーター、ホットプレート等の加熱装置により加熱する方法や、低温の液体を循環しながら温度調整する循環恒温装置や、クールプレート等の除熱装置により除熱する方法を挙げることができる。
【００５８】
本工程において、上記カラーフィルタ形成用基板を、上記密着性向上湿度で保管する方法としては、デシケーター、恒温恒湿槽等の公知の調湿装置により湿度を調整する方法を用いることができる。
【００５９】
３．水洗工程
本発明における水洗工程は、上記カラーフィルタ形成用基板を水洗することにより、上記カラーフィルタ形成用基板上の残渣等を除去して基板表面の親液性向上を図る工程である。
【００６０】
本発明は、本工程を有することにより、上記開口部内の基板表面を顕著に親液化できるため、後述するインクジェット工程において着色層を形成した際に、白抜けの少ないものとすることができるのである。
【００６１】
このような水洗方法としては、所望の残渣を除去して親液性向上を図ることができる方法であれば良く、例えば、上記カラーフィルタ形成用基板の全表面を水と接触させる方法を用いることができる。ここで、上記カラーフィルタ形成用基板の全表面を水と接触させる方法としては、具体的には、上記カラーフィルタ形成用基板を水へ浸漬させる方法や、上記カラーフィルタ形成用基板に、噴霧、シャワーリング等により水を塗布する塗布方法や、上記カラーフィルタ形成用基板を高湿度雰囲気下で保管する高湿度保管方法等を挙げることができる。
なお、高湿度保管方法における高湿度雰囲気としては、通常、湿度が８０％以上の環境であり、なかでも８５％以上の環境であることが好ましい。残渣の除去を容易なものとすることができるからである。
【００６２】
本工程においては、なかでも、水へ浸漬させる方法の場合においては、水へ浸漬させた状態で超音波処理を行なう方法、塗布方法の場合においては、塗布する際の水圧を高圧とする方法であることが好ましく、特に、高圧で水を塗布する塗布方法を好ましく用いることができ、なかでも特に、上記基板表面における水圧が、０．０１ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲内となるように高圧で水を塗布する塗布方法であることが好ましい。上記プラズマ工程により生じた残渣をより効果的に除去することができるからである。また、上記保管工程における保管時間が長すぎると、上記遮光部に導入されたフッ素が基板表面に拡散し、基板表面の撥液性が高いものとなることがある。その結果、後述するインクジェット工程を行なった際に開口部内に着色層形成用塗工液が濡れ広がりにくいものとなり、白抜けが生じることがある。しかしながら、上記残渣、すなわちフッ素成分を効果的に除去することができる方法であれば、上記保管工程における保管時間が長く、基板表面の撥液性が高いものとなった場合であっても、親液化することが可能であり、本発明のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタを白抜けの少ないものとすることができるからである。
【００６３】
本工程において、上記水洗に用いる水としては、上記残渣等を除去することができる液体であれば良いが、通常、純水またはアルコールが用いられる。また、必要に応じて、純水に均一に溶解可能なアルコール等の有機溶剤を混合させた水溶液であっても良い。
【００６４】
４．インクジェット工程
本発明におけるインクジェット工程は、上記遮光部が備える開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成する工程である。
【００６５】
本工程に用いられる着色層の形成方法としては、インクジェット法により上記着色層形成用塗工液を上記開口部に塗布する方法であれば良く、通常、上記着色層形成用塗工液を塗布することができるノズルを複数備えるインクジェットヘッドが用いられる。
【００６６】
本工程に用いられるインクジェットヘッドが着色層形成用塗工液を吐出する吐出方式としては、所定量の着色層形成用塗工液を吐出できる方式であれば特に限定されるものではない。このような吐出方式としては、例えば、帯電した着色層形成用塗工液を連続的に吐出し磁場によって吐出量を制御する方式、圧電素子を用いて間欠的に着色層形成用塗工液を吐出する方式、着色層形成用塗工液を加熱しその発泡現象を利用して間欠的に吐出する方式等を挙げることができる。なかでも本工程においては、上記吐出方式として圧電素子を用いて間欠的に着色層形成用塗工液を吐出する方式を用いることが好ましい。このような吐出方式は微量な吐出量を比較的精度よく制御することができるからである。
【００６７】
本工程に用いられる着色層形成用塗工液としては、インクジェット法により、着色層を形成する際に、一般的に用いられるものと同様とすることができる。このような着色層形成用塗工液としては、通常、少なくとも赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色を含む、３色以上の着色層形成用塗工液が用いられる。
【００６８】
５．カラーフィルタの製造方法
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記プラズマ工程、保管工程、水洗工程およびインクジェット工程を少なくとも有するものであれば良く、必要に応じて、上記インクジェット工程で着色層を形成した際の白抜けの発生を抑制する白抜け防止工程を有するものであっても良い。
【００６９】
（１）白抜け防止工程
本発明における白抜け防止工程は、上記プラズマ工程後のカラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化する工程である。本工程を有することにより、上記保管工程における保管期間が長期間となり、上記基板表面が撥液化した場合であっても、上記基板表面を親液化することができる。したがって、上記水洗工程のみでは上記基板表面の親液化を図ることが困難な場合であっても、上記インクジェット工程で着色層を形成した際の白抜けの発生を抑制することができる。
このような白抜け防止工程としては、上記基板表面を親液化することができるものであれば良く、上記基板に紫外線（以下、ＵＶと称する場合もある。）を照射し、基板表面を親液化させるＵＶ照射工程、上記基板表面を物理的に洗浄する洗浄工程、親液化プラズマ照射工程等を挙げることができる。
なお、このような白抜け防止工程は、通常、上記水洗工程前に行われるものである。
【００７０】
（ａ）ＵＶ照射工程
上記ＵＶ照射工程としては、ＵＶ照射ランプを用いて基板表面にＵＶを照射することにより上記基板表面を親液化する工程である。
【００７１】
本工程において、上記基板表面へＵＶを照射するＵＶ照射方法としては、上記基板を親液化することができる方法であれば良い。
本工程においては、なかでも、上記基板の温度が上昇しないようにＵＶ照射する方法であることが好ましい。上記基板の温度が上昇すると、上記遮光部からのフッ素成分の拡散速度が上昇し、撥液化されるからである。このような方法としては、具体的には、上記基板の温度上昇が少ないＵＶ照射ランプを用いてＵＶ照射を行なう方法や、上記基板を冷却しながら、ＵＶ照射を行なう方法を挙げることができる。
【００７２】
また、本工程において照射されるＵＶとしては、上記基板表面を親液化することができるものであれば良く、波長が１８０ｎｍ〜３８０ｎｍの紫外線を好ましく用いることができる。
【００７３】
（ｂ）洗浄工程
上記洗浄工程は、上記基板表面を物理的に洗浄することにより上記基板表面を親液化する工程である。
【００７４】
本工程において、上記基板表面を洗浄する方法としては、上記基板表面を物理的に洗浄し、上記基板表面を親液化することができる方法であれば良く、例えば、洗剤を塗布した後、ブラシ等を物理的に接触させ洗浄する方法を挙げることができる。
本工程においては、なかでも、基板表面での水圧が約０．０１ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲内となるように洗剤を塗布した後、ブラシ等を物理的に接触させて洗浄する方法が好ましい。
【００７５】
本工程に用いられる先剤としては、中性またはアルカリ性の洗剤を好ましく用いることができる。また、上記ブラシ等の接触方法としては、一般的に洗浄に用いられる方法とすることができるが、具体的には、ロールブラシ、スポンジブラシ等を基板に対して押し当てながら回転させる方法を用いることができる。
【００７６】
（ｃ）親液化プラズマ照射工程
上記親液化プラズマ照射工程は、プラズマ照射することにより上記基板表面を親液化する工程である。
本工程おいて、上記プラズマ照射する方法としては、酸素ガスまたは窒素ガスや清浄エアーを導入ガスとしてプラズマ照射する方法を挙げることができる。
【００７７】
（２）その他の工程
本発明においては、上記プラズマ工程、保管工程、水洗工程、インクジェット工程および白抜け防止工程以外にも、その他の工程を有するものであっても良い。
このようなその他の工程としては、上記インクジェット工程により形成される着色層上にオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成工程、上記着色層上にＩＴＯ，ＩＺＯ等の透明電極を形成する透明電極形成工程、対向基板とのセルギャップを均一にするためのスペーサー材を所定の位置に形成するスペーサー形成工程、液晶の配向を制御するための構造物を形成する配向制御構造物形成工程を挙げることができる。また、上記オーバーコート層形成工程、上記スペーサー形成工程および上記配向制御構造物形成工程等のうち少なくとも２工程以上を同時に実施する組み合わせ同時処理工程等を挙げることができる。
【００７８】
Ｂ．カラーフィルタの製造装置
次に、本発明のカラーフィルタの製造装置について説明する。本発明のカラーフィルタの製造装置は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部と、を有するカラーフィルタ形成用基板の遮光部を撥液化するためのプラズマ照射を行うプラズマ手段と、上記プラズマ手段によりプラズマ照射された後の上記カラーフィルタ形成用基板を、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管する保管手段と、上記保管手段により、上記遮光部の密着性が向上されたカラーフィルタ形成用基板を水洗する水洗手段と、上記水洗手段により、水洗がされたカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット手段と、を少なくとも有することを特徴とするものである。
【００７９】
このようなカラーフィルタの製造装置を図を参照して説明する。図２に例示するように、本発明のカラーフィルタの製造装置３０は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備える遮光部とを有するカラーフィルタ形成用基板２０に、プラズマ照射を行うプラズマ手段４０と、上記プラズマ手段４０によりプラズマ照射された後に低下した上記カラーフィルタ形成用基板２０の遮光部の密着性を向上させる保管手段５０と、上記保管手段５０により、密着性が向上された上記カラーフィルタ形成用基板２０を水洗する水洗手段６０と、上記水洗手段６０により、水洗がされたカラーフィルタ形成用基板２０の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するインクジェット手段７０と、を少なくとも有し、カラーフィルタ１０を製造するものである。
また、上記カラーフィルタの製造装置３０は、上記カラーフィルタ形成用基板２０を、上記プラズマ手段４０、保管手段５０、水洗手段６０およびインクジェット手段７０の順で搬送するベルトコンベア３１を有するものである。
【００８０】
本発明によれば、上記保管手段を、上記プラズマ手段の後に有することにより、上記プラズマ手段によりプラズマ照射された後に低下した遮光部の密着性を向上させ、上記遮光部と上記基板との密着性を回復させることができる。このため、上記水洗手段において、水洗を行なった場合であっても、上記遮光部が剥離するといった不具合の発生を少ないものとすることができる。
【００８１】
本発明のカラーフィルタの製造装置は、上記プラズマ手段、保管手段、水洗手段、およびインクジェット手段を有するものである。以下、本発明のカラーフィルタの製造装置を構成する各手段について説明する。
【００８２】
１．プラズマ手段
本発明におけるプラズマ手段は、カラーフィルタ形成用基板上の遮光部表面を撥液化するためのプラズマ照射を行うものである。
より具体的には、上記カラーフィルタ形成用基板にフッ素化合物を導入ガスとしたプラズマ照射を行ない、上記遮光部表面を撥液化することができるものである。このようなプラズマ手段としては、カラーフィルタの製造に一般的なものを用いることができ、例えば、上記カラーフィルタ形成用基板を間に配置することができる１対の電極と、上記フッ素化合物を導入ガスとして導入することができるフッ素ガス導入手段とを有するものを挙げることができる。
【００８３】
上記プラズマ手段において導入ガスとして用いられるフッ素化合物、プラズマ照射されるカラーフィルタ形成用基板、および上記プラズマ手段により撥液化された遮光部の撥液性としては、上記「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の「１．プラズマ工程」の項に記載した内容と同様とすることができる。
【００８４】
２．保管手段
本発明における保管手段は、上記プラズマ手段によりプラズマ照射された後に低下した遮光部の密着性を向上させるものである。
より具体的には、上記遮光部の上記基板との密着性を向上させる密着性向上温度、密着性向上時間および密着性向上湿度を満たす保管条件で保管することにより、上記プラズマ手段によりプラズマ照射された後に低下した上記カラーフィルタ形成用基板の遮光部と上記基板との密着性を向上させるものである。
なお、上記保管条件としては、上記「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の「２．保管工程」の項に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００８５】
このような保管手段としては、上記カラーフィルタ形成用基板を、上述した保管条件で保管することができるものであれば良く、ベルトコンベア等上記カラーフィルタ形成用基板を連続的に移動させるものであっても良く、棚のように上記カラーフィルタ形成用基板を静止させた状態とすることができるものであっても良い。
【００８６】
また、上記密着性向上温度で保管するために、加熱装置または除熱装置を有するものであっても良い。上記加熱装置および除熱装置としては、公知の加熱装置を用いることができ、具体的には、上記「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の「２．保管工程」の項に記載したものと同様のものを用いることができる。なお、加熱装置および除熱装置の能力としては、上記密着性向上温度を満たすことができるものであれば良い。
【００８７】
さらに、上記保管条件で保管するために、調湿装置を有するものであっても良い。上記調湿装置としては、デシケーター、恒温恒湿槽等公知の調湿装置を用いることができる。
なお、上記調湿装置の能力としては、上記保管条件を満たすことができるものであれば良い。
【００８８】
このような保管手段としては、具体的には、図３に例示するように、高さ方向に多段に積み上げられ、平面視上重なるように配置された恒温恒湿装置５１からなる保管手段５０を挙げることができる。この場合、上記プラズマ手段によって撥液化されたカラーフィルタ形成用基板２０を把持し、上下に移動させることができ、さらに恒温恒湿装置５１内に、上記カラーフィルタ形成用基板２０を配置させることができるハンドリングロボット５２によって、上記恒温恒湿装置５１内に上記カラーフィルタ形成用基板２０を静置し、所定時間保管する。
また、上記保管手段の他の例としては、図４に例示するように、恒温恒湿装置５１と、上記恒温恒湿装置５１内に配置されたベルトコンベア５３とからなる保管手段５０を挙げることができる。この場合、上記プラズマ手段により撥液化された遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板２０を把持し、ベルトコンベア５３が配置されている箇所まで移動させ、上記ベルトコンベア５３上に、上記カラーフィルタ形成用基板２０を配置させることができるハンドリングロボット５２によって、上記カラーフィルタ形成用基板２０を、上記ベルトコンベア５３上に静置し、所定時間搬送する。その後、カラーフィルタ形成用基板２０は、ハンドリングロボット５２によって、水洗が行なわれる水洗手段に搬送される。
【００８９】
３．水洗手段
本発明における水洗手段は、上記保管手段により、上記遮光部の密着性が向上されたカラーフィルタ形成用基板を水洗することにより、上記カラーフィルタ形成用基板上の残渣を除去して基板表面の親液性向上を行なうものである。
このような水洗手段としては、上記カラーフィルタ形成用基板の表面を水と接触させることができる装置を用いることができ、具体的には、上記カラーフィルタ形成用基板の全てを浸漬させることができる水槽や、上記カラーフィルタ形成用基板の全面に水を塗布することができるシャワーリング装置、噴霧装置等の塗布装置、上記カラーフィルタ形成用基板を高湿度環境下で保管することができる恒温恒湿装置を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、上記水槽の場合においては、上記カラーフィルタ形成用基板を水へ浸漬させた状態で超音波処理を行なうことができる超音波発振装置を有するもの、上記塗布装置の場合においては、塗布する際の水圧を高圧とすることができる高水圧ポンプを有するものであることが好ましく、特に高水圧ポンプを有する塗布装置を好ましく用いることができ、なかでも特に、上記基板表面における水圧が、０．０１ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲内とすることができる高水圧ポンプを有する塗布装置であることが好ましい。上記プラズマ手段によりプラズマ照射されることで生じる残渣を効果的に除去することができるからである。また、上記保管手段において長時間保管され、上記基板表面が撥液化した場合であっても、親液化することが可能であり、本発明のカラーフィルタの製造装置により製造されたカラーフィルタを白抜けの少ないものとすることができるからである。
【００９０】
なお、水洗に用いられる水としては、上記「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の「３．水洗工程」の項に記載されたものと同様とすることができる。
【００９１】
４．インクジェット手段
本発明におけるインクジェット手段は、上記水洗手段により、水洗がされたカラーフィルタ形成用基板の開口部に、インクジェット法により、着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成するものである。
このようなインクジェット手段としては、通常、上記着色層形成用塗工液を塗布することができるノズルを複数備えるインクジェットヘッドが用いられる。
【００９２】
本発明に用いられるインクジェットヘッドとしては、本発明の製造装置により製造されるカラーフィルタの面積や開口部等に応じて、所望のノズル数を有するものであれば特に限定されず、一般的にインクジェット法に用いられるインクジェットヘッドを用いることができる。
【００９３】
なお、本発明に用いられるインクジェットヘッドのノズル数は、本発明の製造装置により製造されるカラーフィルタの面積や、上記開口部のピッチ等に応じて適宜決定すればよい。
【００９４】
また、上記インクジェットヘッドが備えるノズルのピッチについても、上記カラーフィルタの面積や、上記開口部のピッチ等に応じて適宜決定すればよい。また、上記ノズルのピッチは、上記開口部のピッチと同一であってもよく、または、異なっていてもよいが、上記ノズルのピッチが上記開口部のピッチと異なる場合においては、上記ノズルのピッチが、上記開口部のピッチの整数倍または整数分の１倍に相当するピッチであることが好ましい。このようなピッチであれば、例えば、着色層形成用塗工液を吐出させるノズルを適宜選択したり、上記インクジェットヘッドの移動距離を制御することにより、着色層形成用塗工液が吐出されるピッチを、上記開口部のピッチと同一にすることが容易だからである。
なお、上記ノズルのピッチが上記開口部のピッチと異なる場合において、上記ノズルのピッチが、上記開口部のピッチの整数倍または整数分の１倍に相当するピッチでない場合は、例えば、上記ノズルのピッチが上記開口部のピッチと同一、整数倍、または、整数分の１倍となるように上記インクジェットヘッドを回転させて傾かせて用いればよい。
【００９５】
また、上記ノズルの配置態様としては、隣り合うノズルの間隔が常に一定となるような配置態様であれば特に限定されるものではなく、例えば、すべてのノズルが一直線上に配置された態様であってもよく、または、千鳥状に配置された態様であってもよい。
【００９６】
また、上記ノズルの径としては、上記開口部の間隔やノズルから吐出される着色層形成用塗工液の吐出量等に応じて、上記ノズルから吐出される着色層形成用塗工液の液滴の径を、上記開口部の間隔よりも小さくできる範囲内であれば特に限定されるものではなく、上記カラーフィルタの種類等に応じて適宜調整すればよい。
【００９７】
なお、上記着色層形成用塗工液としては、上記「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の「４．インクジェット工程」の項に記載した内容と同様とすることができる。
【００９８】
５．カラーフィルタの製造装置
本発明のカラーフィルタの製造装置は、上記プラズマ手段、保管手段、水洗手段、およびインクジェット手段を有するものであれば良く、必要に応じて、上記カラーフィルタ形成用基板を、公知の搬送手段、具体的には、搬送ローラ、ベルトコンベア、ハンドリングロボット等によって、上記プラズマ手段、保管手段、水洗手段、およびインクジェット手段の各手段間を移動させるものであってもよい。
【００９９】
また、上記インクジェット手段の前に、上記カラーフィルタ形成用基板の基板表面を親液化するために、上記基板にＵＶを照射するＵＶ照射手段を有するものであっても良い。
【０１００】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１０１】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
【０１０２】
［実施例１〜３０］
１．カラーフィルタ形成用基板の作製
ガラス基板（横長さ１５００×縦長さ１８００×厚み０．７ｍｍ旭ガラス社製ＡＮ１００）上に遮光性黒色顔料を含む感光性樹脂組成物をフォトリソグラフィー法により、横方向ピッチ２００μｍ、縦方向ピッチ６００μｍで開口寸法が１７０μｍ×５００μｍ、遮光層線幅が３０μｍ及び１００μｍとなるように形成し、横方向に２００μｍピッチで３０００画素、縦方向に６００μｍピッチで１０００画素並ぶように配置した画素パターン（チップ）を計８チップ形成した。遮光層の厚みは平均１．８μｍとした。
次いで、上記ブラックマトリクス基板に対して、フッ素ガスを導入した大気圧プラズマ処理を行うことにより、遮光層表面を撥液性にガラス表面部分を親液性とした。大気圧プラズマ処理は以下の条件で行った。このようにして、カラーフィルタ形成用基板を作製した。また、得られたカラーフィルタ形成用基板の、４０ｍＮ／ｍの液体との接触角は、遮光層表面で６５°、ガラス表面上で１０°であった。
【０１０３】
＜プラズマ照射条件＞
・導入ガス：ＣＦ４‥‥１５ｌ／ｍｉｎ、Ｎ２‥‥２５ｌ／ｍｉｎ
・電極−基板間距離：１．５ｍｍ
・電源出力：２００Ｖ−５Ａ
【０１０４】
２．保管工程
次いで、上記カラーフィルタ形成用基板を下記表１に示す密着性向上温度（保管温度）、密着性向上時間（保管時間）、および密着性向上湿度（湿度）を満たす条件で保管を行なった。なお、保管には、上記カラーフィルタ形成用基板を、温度が制御できるホットプレート上に上記カラーフィルタ形成用基板を支持ピンを介して保持できる構造で、かつ上記カラーフィルタ形成用基板とホットプレートを収容する容器全体の温度・湿度環境と処理時間を制御できる装置を用いた。また、基板とホットプレート間の距離は５ｍｍとした。
【０１０５】
［比較例１〜１５］
下記表２に示す温度、時間および湿度の条件で保管を行なった以外は、実施例１と同様とした。
【０１０６】
［評価］
実施例および比較例で作製し、保管を行なったカラーフィルタ形成用基板を用いてカラーフィルタを作製し、その外観検査を行った。
【０１０７】
１．水洗工程
上記カラーフィルタ形成用基板を搬送しながら高圧スプレーにより純水を吹き付ける洗浄装置を使用し、水噴き付け後にはエアーナイフを使用し基板上の水を吹き流した。
【０１０８】
２．インクジェット工程
上記水洗を行ったカラーフィルタ形成用基板に対して、インクジェット装置により、画素開口内に着色層形成用塗工液を吐出し、カラーフィルタ用着色層を形成させた。
上記着色層形成用塗工液には、カラーフィルタ用顔料と熱硬化型樹脂等からなるＲＧＢ各色の顔料分散型インクを用い、１つの開口部（着色層形成領域）あたり１５００ｐｌにて所望のカラーフィルタの色が表現できるように濃度を調整したものを用いた。
この時、インクジェットヘッドの印加電圧は、７５Ｖ、パルス幅は６μｓであった。インクジェットヘッドは、1ヘッドにつき１００ノズルを有するものを用い、１色につき１ヘッド、すなわちＲＧＢ３色にて３ヘッドを用いた。
【０１０９】
上記着色層形成用塗工液の塗布は、各着色層形成領域（１画素）あたり１ノズルが配置されるように位置決めして行い、ノズルから吐出された着色層形成用インクの各液滴が、上記着色層形成領域内に着弾するように行った。着色層形成用インクは、横方向にＲＧＢの順に繰り返し配置し、縦方向には同色が並ぶように配置した。
【０１１０】
３．プリベイク工程およびポストベイク工程
上記着色層を形成した基板を８０℃のホットプレート上で２０分間乾燥させ、さらに２３０℃の焼成オーブンにて６０分焼成させてカラーフィルタを作製した。
【０１１１】
４．カラーフィルタの外観検査
カラーフィルタを画像のパターンマッチングによる外観検査を実施し、遮光部の剥離の有無を評価し、遮光部が剥離したパターン欠損がない場合は○、遮光部が剥離したパターン欠損がある場合は×とした。また、着色層の白抜けの有無を評価し、白抜けがない場合には「なし」、白抜けがある場合には「あり」とした。検査結果を下記表１および表２に示す。
また、実施例１〜２６および比較例１〜１３の結果を下記基準で評価し、下記表３に示す。
・遮光部の剥離したパターン欠損がなく、白抜けもなし：◎
・遮光部の剥離したパターン欠損なく、白抜けあり：○
・遮光部の剥離したパターン欠損あり：×
【０１１２】
【表１】
2009237078.tif 000003
【０１１３】
【表２】
2009237078.tif 000004
【０１１４】
【表３】
2009237078.tif 000005
【０１１５】
表１〜３より、実施例では、遮光部が剥離する不具合が少ないことが確認できた。
比較例では、遮光部が剥離する不具合が発生した。また、遮光部の剥離により白抜けの有無を判別できなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの製造装置の一例を示す概略図である。
【図３】本発明に用いられる保管手段の一例を示す概略図である。
【図４】本発明に用いられる保管手段の他の例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１１７】
１  …  基板
２  …  遮光部
３  …  着色層
１０  …  カラーフィルタ
２０  …  カラーフィルタ形成用基板
３０  …  カラーフィルタの製造装置
３１  …  ベルトコンベア
４０  …  プラズマ手段
５０  …  保管手段
６０  …  水洗手段
７０  …  インクジェット手段
【図１】
2009237078.tif 000006
【図２】
2009237078.tif 000007
【図３】
2009237078.tif 000008
【図４】
2009237078.tif 000009