(57)【要約】【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能で、かつ、従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置を提供する。【解決手段】長尺の基板と、基板上に形成され、少なくとも陽極、有機発光層及び陰極を有する積層構造体とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子を製造するための有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。当該製造装置の有機発光層形成機構１５０ａは、有機発光層２６の幅に応じた幅を有する開口部１５２ａを有し、基板１０から開口部１５２ａまでの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、開口部１５２ａが第１真空チャンバ中に位置するように構成されており、開口部１５０ａは、開口部１５０ａの幅よりも狭い幅を有する流路補正部材１５５ａ，１５６ａによって２つの領域に分割されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺の基板と、
前記基板上に形成され、少なくとも陽極、有機発光層及び陰極を有する積層構造体とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子を製造するための有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、
真空チャンバと、
前記基板を搬送する基板搬送機構と、
前記有機発光層の幅（以下、有機発光層幅という。）に応じた幅を有する開口部を有し、有機発光材料からなる気化材料を前記開口部から前記基板に向けて吐出することにより、前記基板上に前記有機発光層を形成する有機発光層形成機構とを備え、
前記有機発光層形成機構は、前記基板から前記開口部までの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、前記開口部が前記真空チャンバ中に位置するように構成されており、
前記開口部は、前記開口部の幅よりも狭い幅を有する流路補正部材によって２以上の領域に分割されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記流路補正部材として、２以上の流路補正部材を備え、
前記開口部は、前記２以上の流路補正部材によって３以上の領域に分割されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項３】
請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記開口部は、前記有機発光層幅よりも広い幅を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記基板と前記有機発光層形成機構との間に配置され、前記開口部の幅よりも狭い幅を有するマスク開口部を有するマスク部材をさらに備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記有機発光層形成機構における少なくとも前記開口部及び前記流路補正部材を所定温度に加熱する加熱機構をさらに備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子における前記積層構造体は、前記有機発光層とは異なる他の有機層をさらに有する積層構造体であり、
前記他の有機層の幅に応じた幅を有する他の開口部を有し、有機材料からなる気化材料を前記他の開口部から前記基板に向けて吐出することにより、前記基板上に前記他の有機層を形成する他の有機層形成機構をさらに備え、
前記他の有機層形成機構は、前記基板から前記他の開口部までの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、前記他の開口部が前記真空チャンバ中に位置するように構成されており、
前記他の開口部は、前記他の開口部の幅よりも狭い幅を有する他の流路補正部材によって２以上の領域に分割されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子における前記積層構造体は、無機層をさらに有する積層構造体であり、
前記真空チャンバ中に配置され、真空蒸着法により無機材料からなる気化材料を前記基板に付着させることにより、前記基板上に前記無機層を形成する無機層形成機構をさらに備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記真空チャンバ中に配置され、真空蒸着法により前記陰極を構成する材料からなる気化材料を前記基板に付着させることにより、前記基板上に前記陰極を形成する陰極形成機構をさらに備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記基板上に前記積層構造体を覆うように形成される封止層をさらに備える有機エレクトロルミネッセンス素子であり、
前記真空チャンバ中に配置され、蒸着重合法により原料モノマーを前記基板上で重合させることにより、前記基板上に前記封止層を形成する封止層形成機構をさらに備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記基板搬送機構は、
ロール状の前記基板をシート状に繰り出す繰り出し機構と、
シート状の前記基板をロール状に巻き取る巻き取り機構と、
前記繰り出し機構と前記巻き取り機構との間における基板搬送経路中に配置され、前記基板の搬送速度に応じた回転速度で回転する回転ドラムとを有し、
前記基板は、フレキシブル基板であって、かつ、前記回転ドラムの外周面上を搬送されるように構成されており、
前記有機発光層形成機構は、前記回転ドラムの外周面上を搬送される前記基板に向けて前記気化材料を吐出するように構成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
前記回転ドラムの内部には、前記回転ドラムの外周面を冷却する冷却機構が設置されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、
少なくとも前記有機発光層形成機構における前記開口部の近傍を、所定の真空雰囲気とする差動排気機構をさらに備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項１３】
長尺の基板と、
前記基板上に形成され、少なくとも陽極、有機発光層及び陰極を有する積層構造体とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記有機発光層は、請求項１〜１２のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置によって形成されたものであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子は、少なくとも有機発光層を陽極と陰極とで挟んだ構成を有し、有機発光層に電子及び正孔（ホール）を注入して再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用して発光させる素子である。
【０００３】
有機エレクトロルミネッセンス素子の特徴は、１０Ｖ以下の低電圧で１００〜１０００００ｃｄ／ｍ２程度の高輝度の面発光が可能で、また、蛍光物質の種類を選択することにより青色から赤色までの発光が可能なことである。このため、有機エレクトロルミネッセンス素子は、ディスプレイや照明装置に幅広く使われていくことが期待されている。
【０００４】
有機エレクトロルミネッセンス素子には、低分子系の有機エレクトロルミネッセンス素子と高分子系の有機エレクトロルミネッセンス素子があるが、低分子系の有機エレクトロルミネッセンス素子は、真空蒸着法によって製造することが可能であるため、高分子系の有機エレクトロルミネッセンス素子の場合のように製造過程で溶媒を用いる必要がなく、高分子系の有機エレクトロルミネッセンス素子の場合と比較して高輝度、高効率、長寿命であるという特徴を有する。
【０００５】
しかしながら、低分子系の有機エレクトロルミネッセンス素子を真空蒸着法を用いて製造する場合には、真空蒸着中に微量の水分が存在するだけでも有機エレクトロルミネッセンス素子の寿命が大幅に短くなるため、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図るには、真空蒸着中に存在する水分をできるだけ減らす必要がある。
【０００６】
そこで、真空蒸着装置内の真空度を極めて高くすることで（例えば１０−８〜１０−１０Ｔｏｒｒ（約１０−６〜１０−８Ｐａ））、真空蒸着中に存在する水分の量を徹底的に減らすことのできる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法が提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。また、真空蒸着装置の内壁を極めて平坦にしたり、真空蒸着装置内を外部からヒーターで加熱して真空蒸着装置の内壁に付いた水分を取り除いたりすることで、真空蒸着中に存在する水分の量を徹底的に減らすことのできる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法が提案されている（例えば、非特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】村田英幸（Hideyuki Murata）、他５名、「超高真空条件で製造された有機発光素子における安定性向上（Enhanced stabilityof organic light-emitting devices fabricated under ultra-high vacuum condition）」、ケミカルフィジックスレターズ（ChemicalPhysics Letters）、２００６年６月７日、第４２６巻、米国、１１１−１１４頁
【非特許文献２】「北陸先端大と北野精機、有機ＥＬ、寿命５倍に、内壁の水分除去徹底」、日経産業新聞、２００７年４月１９日、朝刊１面
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、非特許文献１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法においては、超高真空の真空蒸着装置を用いることが必要であるため、製造コストが高くなるという問題がある。また、非特許文献２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法においては、高真空の真空蒸着装置を用いたうえで、真空蒸着装置の内壁を極めて平坦にしたり、真空蒸着装置内を外部からヒーターで加熱して真空蒸着装置の内壁に付いた水分を取り除いたりすることが必要であるため、やはり製造コストが高くなるという問題がある。
【０００９】
そこで、本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能で、かつ、従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置を提供することを目的とする。また、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
（１）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、長尺の基板と、前記基板上に形成され、少なくとも陽極、有機発光層及び陰極を有する積層構造体とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子を製造するための有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、真空チャンバと、前記基板を搬送する基板搬送機構と、前記有機発光層の幅（以下、有機発光層幅という。）に応じた幅を有する開口部を有し、有機発光材料からなる気化材料を前記開口部から前記基板に向けて吐出することにより、前記基板上に前記有機発光層を形成する有機発光層形成機構とを備え、前記有機発光層形成機構は、前記基板から前記開口部までの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、前記開口部が前記真空チャンバ中に位置するように構成されており、前記開口部は、前記開口部の幅よりも狭い幅を有する流路補正部材によって２以上の領域に分割されていることを特徴とする。
【００１１】
このため、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置によれば、基板から開口部までの距離が１５ｍｍ以下の位置となるように構成された有機発光層形成機構から、有機発光材料からなる気化材料を基板に向けて吐出することが可能となるため、有機発光層形成機構の開口部から吐出された当該気化材料は高密度状態で基板に到着することとなる。また、有機発光層形成機構は、開口部が真空チャンバ中に位置するように構成されているため、開口部から基板に向けて吐出される気化材料は、真空雰囲気下で吐出されることとなる。その結果、製造過程で有機発光層に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能となる。
【００１２】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置によれば、それほど高真空を必要としない（例えば１×１０−３Ｐａ〜１×１０−５Ｐａ程度の比較的低真空で十分である。）のに加えて、真空蒸着装置（有機発光層形成機構）の内壁を極めて平坦にしたり、真空蒸着装置（有機発光層形成機構）内を外部からヒーターで加熱して真空蒸着装置（有機発光層形成機構）の内壁に付いた水分を取り除く機構を設けたりすることが不要になるため、従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能となる。
【００１３】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置によれば、基板から開口部までの距離が１５ｍｍ以下の位置となるように構成された有機発光層形成機構から、有機発光材料からなる気化材料を基板に向けて吐出することが可能となるため、従来よりも少量の有機発光材料から高収率で有機発光層を形成することが可能となり、この点からも従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能となるといえる。
【００１４】
したがって、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能で、かつ、従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【００１５】
ところで、本発明の発明者は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置を開発する過程において、次のような知見を得た。すなわち、基板から開口部までの距離が１５ｍｍ以下となるように有機発光層形成機構を構成する場合には、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の断面を基板の短幅方向に沿って見たとき、後述する図６（ｃ）に示すように、有機発光層の中央部分における有機発光層の層厚が、有機発光層の端部に近い部分における有機発光層の層厚に比べて厚くなってしまうのである。
【００１６】
本発明の発明者は、有機発光層の中央部分における有機発光層の層厚が、有機発光層の端部に近い部分における有機発光層の層厚に比べて厚くなってしまう原因を徹底的に調査した。その結果、基板の短幅方向に沿った開口部の幅（以下、開口幅ということがある。）が、基板の短幅方向に沿った有機発光層の幅（以下、有機発光層幅という。）に比べてかなり短いことが一因であるという知見を得た。
【００１７】
すなわち、開口幅が有機発光層幅に比べてかなり短いと、開口部の直下部分（有機発光層の中央部分）と開口部の直下ではない部分（有機発光層の端部に近い部分）とで基板に付着する気化材料の量の差が比較的大きくなってしまい、結果として、有機発光層の中央部分における有機発光層の層厚が、有機発光層の端部に近い部分における有機発光層の層厚に比べて厚くなってしまうのである。
なお、このような問題は、基板から開口部までの距離を短くすればするほど、より顕著に現れるものと考えられる。
【００１８】
本発明の発明者は、上記した有機発光層の層厚の不均一性の問題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、有機発光層形成機構が、有機発光層幅に応じた幅を有する開口部を有するように構成すれば、有機発光層の中央部分に付着する気化材料と有機発光層の端部に近い部分に付着する気化材料との差をある程度小さくすることができるという知見を得た。そして、さらなる研究の結果、開口部が、開口幅よりも狭い幅を有する流路補正部材によって２以上の領域に分割されているように構成すれば、基板の中央部分に付着する気化材料の量と基板の端部に近い部分に付着する気化材料の量との差をより一層小さくすることができるという知見を得た。
【００１９】
すなわち、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置によれば、有機発光層形成機構が、有機発光層幅に応じた幅を有する開口部を有するとともに、開口部が、開口幅よりも狭い幅を有する流路補正部材によって２以上の領域に分割されているため、有機発光層の中央部分に付着する気化材料の量と有機発光層の端部に近い部分に付着する気化材料の量との差を比較的小さくすることができる。その結果、有機発光層の中央部分における有機発光層の層厚が、有機発光層の両端部に近い部分における有機発光層の層厚に比べて厚くなってしまうのを抑制することが可能となる。
【００２０】
つまり、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することが可能で、さらに、基板上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【００２１】
なお、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、気化材料がより高密度状態で基板に到着するように構成する観点から言えば、有機発光層形成機構は、基板から開口部までの距離が１０ｍｍ以下の位置となるように構成されていることがより好ましく、基板から開口部までの距離が５ｍｍ以下の位置となるように構成されていることがさらに好ましい。
【００２２】
（２）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記流路補正部材として、２以上の流路補正部材を備え、前記開口部は、前記２以上の流路補正部材によって３以上の領域に分割されていることが好ましい。
【００２３】
このような構成とすることにより、３以上の領域の位置や大きさを調整して、基板上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）をさらに均一にすることが可能となる。
【００２４】
（３）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記開口部は、前記有機発光層幅よりも広い幅を有することが好ましい。
【００２５】
このような構成とすることにより、有機発光層の両端部に近い部分における有機発光層の層厚を厚くして、基板上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）をさらに均一にすることが可能となる。
【００２６】
（４）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記基板と前記有機発光層形成機構との間に配置され、前記基板の短幅方向に沿った前記開口部の幅よりも狭い幅を有するマスク開口部を有するマスク部材をさらに備えることが好ましい。
【００２７】
このような構成とすることにより、有機発光層幅を容易に所望の幅にすることができる。また、気化材料の付着量が少ない領域をマスク部材で遮蔽することにより、基板上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）をさらに均一にすることが可能となる。
【００２８】
（５）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記有機発光層形成機構における少なくとも前記開口部及び前記流路補正部材を所定温度に加熱する加熱機構をさらに備えることが好ましい。
【００２９】
このように構成することにより、有機発光層形成機構における開口部及び流路補正部材の部分に気化材料が再付着することを抑制することが可能となるため、開口部から吐出された気化材料は高密度状態のまま基板に到着することとなる。その結果、製造過程で有機発光層に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能となる。また、開口部及び流路補正部材の部分での目詰まりを抑制することが可能となるため、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置のメンテナンスが容易になる。
【００３０】
なお、同様の観点から、上記した加熱機構は、有機発光材料を気化させる気化部から開口部までの間の連通部についても所定温度に加熱する機能を有することが好ましい。
【００３１】
（６）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記有機エレクトロルミネッセンス素子における前記積層構造体は、前記有機発光層とは異なる他の有機層をさらに有する積層構造体であり、前記他の有機層の幅に応じた幅を有する他の開口部を有し、有機材料からなる気化材料を前記他の開口部から前記基板に向けて吐出することにより、前記基板上に前記他の有機層を形成する他の有機層形成機構をさらに備え、前記他の有機層形成機構は、前記基板から前記他の開口部までの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、前記他の開口部が前記真空チャンバ中に位置するように構成されており、前記他の開口部は、前記他の開口部の幅よりも狭い幅を有する他の流路補正部材によって２以上の領域に分割されていることが好ましい。
【００３２】
このように構成することにより、他の有機層をさらに有する積層構造体を備える有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する場合であっても、製造過程で積層構造体に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能となる。また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、基板上に形成される他の有機層の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【００３３】
他の有機層としては、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層などを好ましく例示することができる。なお、他の有機層は、１つであってもよいし複数であってもよい。
【００３４】
（７）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記有機エレクトロルミネッセンス素子における前記積層構造体は、無機層をさらに有する積層構造体であり、前記真空チャンバ中に配置され、真空蒸着法により無機材料からなる気化材料を前記基板に付着させることにより、前記基板上に前記無機層を形成する無機層形成機構をさらに備えることが好ましい。
【００３５】
このように構成することにより、無機層をさらに有する積層構造体を備える有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する場合であっても、製造過程で積層構造体に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能となる。
【００３６】
無機層としては、正孔注入層、電子注入層などを好ましく例示することができる。
【００３７】
（８）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記真空チャンバ中に配置され、真空蒸着法により前記陰極を構成する材料からなる気化材料を前記基板に付着させることにより、前記基板上に前記陰極を形成する陰極形成機構をさらに備えることが好ましい。
【００３８】
このように構成することにより、製造過程で陰極に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能となる。
【００３９】
（９）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記基板上に前記積層構造体を覆うように形成される封止層をさらに備える有機エレクトロルミネッセンス素子であり、前記真空チャンバ中に配置され、蒸着重合法により原料モノマーを前記基板上で重合させることにより、前記基板上に前記封止層を形成する封止層形成機構をさらに備えることが好ましい。
【００４０】
このように構成することにより、製造過程で封止層に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能となる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子における積層構造体は、蒸着重合法によって形成された封止性能の良い封止層で覆われることとなるため、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造後に積層構造体に浸入する水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子のさらなる長寿命化を図ることが可能となる。
【００４１】
（１０）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記基板搬送機構は、ロール状の前記基板をシート状に繰り出す繰り出し機構と、シート状の前記基板をロール状に巻き取る巻き取り機構と、前記繰り出し機構と前記巻き取り機構との間における基板搬送経路中に配置され、前記基板の搬送速度に応じた回転速度で回転する回転ドラムとを有し、前記基板は、フレキシブル基板であって、かつ、前記回転ドラムの外周面上を搬送されるように構成されており、前記有機発光層形成機構は、前記回転ドラムの外周面上を搬送される前記基板に向けて前記気化材料を吐出するように構成されていることが好ましい。
【００４２】
このように構成することにより、有機エレクトロルミネッセンス素子を高い生産性で製造することが可能となる。
また、上記のように構成することにより、基板を移動させながら基板上に有機発光層を形成することが可能となるため、有機発光層形成機構からの輻射熱を基板が受ける時間を短くすることが可能となる。その結果、基板の温度上昇に起因する基板の劣化を抑制することが可能となる。
【００４３】
（１１）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、前記回転ドラムの内部には、前記回転ドラムの外周面を冷却する冷却機構が設置されていることが好ましい。
【００４４】
このように構成することにより、回転ドラムの外周面上を搬送されていく基板の温度上昇を抑制することができ、基板の温度上昇に起因する基板の劣化を抑制することが可能となる。
【００４５】
（１２）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置においては、少なくとも前記有機発光層形成機構における前記開口部の近傍を、所定の真空雰囲気とする差動排気機構をさらに備えることが好ましい。
【００４６】
このように構成することにより、最適な真空雰囲気下で有機発光層を形成することが可能となる。
【００４７】
（１３）本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、長尺の基板と、前記基板上に形成され、少なくとも陽極、有機発光層及び陰極を有する積層構造体とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機発光層は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置によって形成されたものであることを特徴とする。
【００４８】
このため、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子によれば、少なくとも有機発光層が、上述した優れた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置によって形成されているため、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子であって、さらには、基板上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）が比較的均一な有機エレクトロルミネッセンス素子となる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子１を説明するために示す図である。
【図２】実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の概略構成図である。
【図３】有機発光層形成機構１５０ａを説明するために示す図である。
【図４】有機発光層形成機構１５０ａを説明するために示す図である。
【図５】実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を示すフローチャートである。
【図６】比較例１及び２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００，９００を説明するために示す図である。
【図７】実施形態１並びに比較例１及び２の場合の、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚を示す図である。
【図８】実施形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置２００を説明するために示す図である。
【図９】実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００の概略構成図である。
【図１０】実施形態４に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置４００の概略構成図である。
【図１１】変形例１及び２における有機発光層形成機構５５０ａ，６５０ａを説明するために示す図である。
【図１２】変形例１及び２の場合の、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚を示す図である。
【図１３】変形例３におけるマスク部材１５８ａを説明するために示す図である。
【図１４】変形例４における開口部１５２ａの幅Ａ１と基板１２の幅Ｗとの関係を説明するために示す図である。
【図１５】変形例５〜７における開口部１５２ａの幅Ａ１と、基板１４，１０，１６の幅Ｗと、有機発光層２６の幅との関係を説明するために示す図である。
【図１６】変形例８における有機発光層形成機構７５０ａを説明するために示す図である。
【図１７】真空蒸着法における、気化源から基板までの距離ｒと、気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerとの関係を説明するために示す図である。
【図１８】気化源から基板までの距離ｒと、気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerに対する水分子の基板への衝突頻度ＺＨ２Ｏの割合との関係を説明するために示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００５０】
以下、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子について、図に示す実施の形態に基づいて説明する。
【００５１】
［実施形態１］
まず、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子１の構成について、図１を用いて詳細に説明する。
【００５２】
図１は、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子１を説明するために示す図である。図１（ａ）は有機エレクトロルミネッセンス素子１を模式的に示す平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ拡大断面図である。
【００５３】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子１は、図１に示すように、基板１０と、基板１０上に形成された積層構造体２０と、基板１０上に積層構造体２０を覆うように形成された封止層４０とを備える照明装置用の有機エレクトロルミネッセンス素子である。
【００５４】
基板１０は、例えば、厚さが１２５μｍ、基板幅が９ｍｍ、基板長さが数十ｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂フィルムからなる長尺のフレキシブル基板である。有機エレクトロルミネッセンス素子１は、基板１０の長手方向に沿って所定ピッチで形成されている。
【００５５】
積層構造体２０は、陽極２２と、他の有機層としての正孔輸送層２４と、有機発光層２６と、他の有機層としての電子輸送層２８と、無機層としての電子注入層３０と、陰極３２とを有し、陽極２２から順に基板１０上に形成されている。積層構造体２０は、例えば、幅が５ｍｍ、長さが３００ｍｍであり、基板１０の長手方向に沿って所定ピッチで形成されている。積層構造体２０の長手方向両端部には図示しない電極が形成されている。
【００５６】
陽極２２は、層厚が例えば２００ｎｍのＩＴＯ（酸化インジウムスズ）からなる透明電極である。正孔輸送層２４は、層厚が例えば１０ｎｍのＣｕＰＣ（銅フタロシアニン）からなる。有機発光層２６は、層厚が例えば５０ｎｍのα−ＮＰＤ（ビス［Ｎ-（１-ナフチル）-Ｎ-フェニル］ベンジジン）からなる。電子輸送層２８は、層厚が例えば６５ｎｍのＡｌｑ３（８−ヒドロキシキノリンアルミニウム錯体）からなる。電子注入層３０は、層厚が例えば０．５ｎｍのＬｉＦ（フッ化リチウム）からなる。陰極３２は、層厚が例えば８０ｎｍのＡｌ（アルミニウム）からなる。
【００５７】
封止層４０は、層厚が例えば１０００ｎｍのＰＵ（ポリ尿素）からなる。
【００５８】
次に、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の構成について、図２、図３及び図４を用いて詳細に説明する。
【００５９】
図２は、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の概略構成図である。
【００６０】
図３及び図４は、有機発光層形成機構１５０ａを説明するために示す図である。図３（ａ）は有機発光層形成機構１５０ａの側面図であり、図３（ｂ）は有機発光層形成機構１５０ａの底面図であり、図３（ｃ）は有機発光層形成機構１５０ａの開口部１５２ａ周辺部分を説明するために示す部分拡大斜視図であり、図３（ｄ−１）は図３（ｂ）の符号Ｐで示す部分の拡大図であり、図３（ｄ−２）は図３（ｂ）の符号Ｑで示す部分の拡大図であり、図３（ｅ）は有機発光層形成機構１５０ａの開口部１５２ａ周辺部分の拡大断面図である。図４（ａ）は基板搬送方向に沿って見たときの、有機発光層形成機構１５０ａと回転ドラム１２４と基板１０とを模式的に示す図であり、図４（ｂ）は基板搬送方向に直交する方向（基板１０の短幅方向）に沿って見たときの、有機発光層形成機構１５０ａと回転ドラム１２４と基板１０とを模式的に示す図である。
【００６１】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００は、上記した有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造するための装置であって、図２に示すように、真空チャンバとしての第１真空チャンバ１１０及び第２真空チャンバ１１２と、基板１０を搬送する基板搬送機構１２０と、基板１０上に正孔輸送層２４を形成する他の有機層形成機構としての４つの正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄと、基板１０上に有機発光層２６を形成する４つの有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄと、基板１０上に電子輸送層２８を形成する他の有機層形成機構としての４つの電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄと、基板１０上に電子注入層３０を形成する無機層形成機構としての電子注入層形成機構１７０と、基板１０上に陰極３２を形成する陰極形成機構１７２と、基板１０上に封止層４０を形成する封止層形成機構１７４と、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄをそれぞれ所定温度に加熱する第１〜第３加熱機構（ともに図示せず。）と、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄの各開口部の近傍を、所定の真空雰囲気とする差動排気機構（図示せず。）とを備える。
【００６２】
また、基板搬送機構１２０における繰り出し機構１２２（後述する。）と第１真空チャンバ１１０との間には、ドライ洗浄機構１８０が配設されている。ドライ洗浄機構１８０と正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄとの間には、ＵＶオゾン照射機構１８２が配設されている。第１真空チャンバ１１０と第２真空チャンバ１１２との間には、部分ドライエッチング機構１８４が配設されている。
【００６３】
第１真空チャンバ１１０の内部には、複数の隔壁ａ１〜ａ１３が設けられている。これら複数の隔壁ａ１〜ａ１３によって区分けされた各空間の所定位置に、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄがそれぞれ配設されている。
【００６４】
第２真空チャンバ１１２の内部には、２つの隔壁ａ１４，ａ１５が設けられている。これら２つの隔壁ａ１４，ａ１５によって区分けされた各空間の所定位置に、電子注入層形成機構１７０、陰極形成機構１７２及び封止層形成機構１７４がそれぞれ配設されている。
【００６５】
基板搬送機構１２０は、ロール状の基板１０をシート状に繰り出す繰り出し機構１２２と、第１真空チャンバ１１０内に配置される回転ドラム１２４と、各層が形成されたシート状の基板１０をロール状に巻き取る巻き取り機構１２６とを有する。
【００６６】
繰り出し機構１２２は、ロール状の基板１０をシート状に繰り出す繰り出しローラ１３０と、繰り出しローラ１３０から繰り出された基板１０をガイドするガイドローラ１３１と、基板１０を上下方向から挟持するローラ１３２，１３３と、繰り出された基板１０から保護フィルムを剥離する図示しない剥離ローラとを有する。図示による説明は省略するが、繰り出しローラ１３０から繰り出される基板１０には、一方面に保護フィルムが配置されており、繰り出しローラ１３０の繰り出し動作に合わせて剥離ローラが回転することにより、基板１０から保護フィルムを剥離するように構成されている。繰り出しローラ１３０、ガイドローラ１３１、ローラ１３２，１３３及び剥離ローラは、基板繰り出し室１３４内に配設されている。
【００６７】
なお、繰り出しローラ１３０に配置されたロール状の基板１０には、積層構造体２０が形成される側の面に予め陽極２２が形成されている。
【００６８】
回転ドラム１２４は、繰り出し機構１２２と巻き取り機構１２６との間における基板搬送経路中に配置され、基板１０の搬送速度に応じた回転速度で回転する機能を有する。基板１０は、回転ドラム１２４の外周面上を搬送されるように構成されている。また、回転ドラム１２４の内部には、回転ドラム１２４の外周面を冷却する冷却機構（図示せず。）が設置されている。
【００６９】
巻き取り機構１２６は、シート状の基板１０をロール状に巻き取る巻き取りローラ１３６と、第２真空チャンバ１１２から搬送されてくる基板１０を巻き取りローラ１３６に向けてガイドするガイドローラ１３７とを有する。巻き取りローラ１３６及びガイドローラ１３７は、基板巻き取り室１３８内に配設されている。
【００７０】
なお、基板１０の搬送速度（移動速度）は、各形成機構の温度、各形成機構から基板までの距離、基板１０の材料、基板１０上に形成される各層の層厚及び形成速度などによって異なるが、０．１ｍ／ｓ〜１０ｍ／ｓの範囲にあることが好ましく、０．３ｍ／ｓ〜３ｍ／ｓの範囲にあることがより好ましい。
【００７１】
ここで、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄの各構成を説明するにあたり、その中の１つとして有機発光層形成機構１５０ａの構成を詳細に説明する。
【００７２】
有機発光層形成機構１５０ａは、有機発光材料を気化させる気化部１５１ａと、回転ドラム１２４側に向けて開口する開口部１５２ａと、気化部１５１ａと開口部１５２ａとを繋ぐ連通部１５３ａと、開口部１５２ａの幅よりも狭い幅を有する２つの流路補正部材１５５ａ，１５６ａと、流路補正部材１５５ａ，１５６ａの両端部に配設された複数のスペーサ部材Ｓ１〜Ｓ６とを有する。
【００７３】
有機発光層形成機構１５０ａは、回転ドラム１２４の外周面上を搬送される基板１０に向けて有機発光材料からなる気化材料を吐出するように構成されており、開口部１５２ａを介して気化材料を基板１０に向けて吐出することにより、基板１０上にα−ＮＰＤ（ビス［Ｎ-（１-ナフチル）-Ｎ-フェニル］ベンジジン）からなる有機発光層２６を形成する機能を有する。また、有機発光層形成機構１５０ａは、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚が所定の範囲内に入るように、気化部１５１ａにおける気化材料の加熱温度、ひいては気化材料の気化量の調整を行う機能を有する。
【００７４】
開口部１５２ａは、開口幅Ａ１（図３（ｃ）及び図３（ｅ）参照。）が例えば５ｍｍであり、開口長Ａ２（図３（ｃ）参照。）が例えば２０ｍｍであり、基板１０の短幅方向に沿った有機発光層２６の幅（有機発光層幅）に応じた幅を有する。このとき、有機発光層形成機構１５０ａと基板１０とは、図３（ｅ）に示すように、開口部１５２ａにおける開口幅方向の中間位置と基板１０における基板幅方向の中間位置とが合うように、配置構成されている。
【００７５】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、基板１０から開口部１５２ａまでの距離Ｆ（図３（ｅ）参照。）が２．５ｍｍとなるように、有機発光層形成機構１５０ａが配置構成されている。また、有機発光層形成機構１５０ａは、開口部１５２ａを含む部分が第１真空チャンバ１１０中に位置するように配置構成されている。
【００７６】
流路補正部材１５５ａ，１５６ａは、例えば、幅が約１．６ｍｍ、長さが３３ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍの板状部材である。流路補正部材１５５ａ，１５６ａは、図３（ｄ−１）、図３（ｄ−２）及び図３（ｅ）に示すように、開口部１５２ａの開口端縁から各流路補正部材１５５ａ，１５６ａの端縁までの距離ｔ１，ｔ２が０．７５ｍｍとなり、流路補正部材１５５ａ，１５６ａ間の距離ｔ３が０．２５ｍｍとなるように、所定のサイズのスペーサ部材Ｓ１〜Ｓ６を介在させた状態で、開口部１５２ａの所定位置に配設されている。また、流路補正部材１５５ａ，１５６ａは、流路補正部材１５５ａ，１５６ａの長辺方向が、基板１０の長手方向に沿うように配置されており、開口部１５２ａは、流路補正部材１５５ａ，１５６ａによって３つの領域に分割されている。
【００７７】
他の有機発光層形成機構１５０ｂ〜１５０ｄも、有機発光層形成機構１５０ａと同様の構成を有する。
【００７８】
また、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄは、有機発光層形成機構１５０ａと同様に、基板１０から開口部（他の開口部）までの距離が２．５ｍｍとなり、かつ、開口部が第１真空チャンバ１１０中に位置するように構成されている。また、図示による説明は省略したが、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄにおける他の開口部には、他の流路補正部材が基板１０の長手方向に沿って配置されている。他の開口部は、他の開口部の幅よりも狭い幅を有する他の流路補正部材によって３つの領域に分割されている。
【００７９】
なお、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄは、正孔輸送層２４を構成する有機材料からなる気化材料を吐出するように構成されており、電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄは、電子輸送層２８を構成する有機材料からなる気化材料を吐出するように構成されている。
【００８０】
電子注入層形成機構１７０は、真空蒸着法により無機材料からなる気化材料を基板１０に付着させることにより、基板１０上にＬｉＦ（フッ化リチウム）からなる電子注入層３０を形成する機能を有する。
【００８１】
陰極形成機構１７２は、真空蒸着法により陰極３２を構成する材料からなる気化材料を基板１０に付着させることにより、基板１０上にＡｌ（アルミニウム）からなる陰極３２を形成する機能を有する。
【００８２】
封止層形成機構１７４は、図示による詳細な説明は省略するが、脂肪族ジアミンモノマー気化部及び脂肪族イソシアネートモノマー気化部を有し、蒸着重合法により原料モノマー（脂肪族ジアミンモノマー及び脂肪族イソシアネートモノマー）を基板１０上で重合させることにより、基板１０上にＰＵ（ポリ尿素）からなる封止層４０を形成する機能を有する。
【００８３】
第１〜第３加熱機構は、図示による説明は省略するが、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄのそれぞれにおける、連通部、開口部及び流路補正部材を、気化材料が再付着しない温度に加熱する機能を有する。
【００８４】
次に、上記した有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００を用いて、上記した有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造するための製造方法（実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンスの製造方法）について、図５を用いて詳細に説明する。
【００８５】
図５は、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を示すフローチャートである。
【００８６】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、図５に示すように、基板準備工程Ｓ１０と、正孔輸送層形成工程Ｓ２０と、有機発光層形成工程Ｓ３０と、電子輸送層形成工程Ｓ４０と、電子注入層形成工程Ｓ５０と、陰極形成工程Ｓ６０と、封止層形成工程Ｓ７０とが順次実施される。以下、これら各工程を詳細に説明する。
【００８７】
基板準備工程Ｓ１０においては、基板１０として、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂フィルムからなる長尺のフレキシブル基板を準備し、基板１０の一方面にＩＴＯ（酸化インジウムスズ）からなる陽極２２を形成する。そして、陽極２２が形成された基板１０をロール状にし、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００における繰り出しローラ１３０にセットする。
【００８８】
正孔輸送層形成工程Ｓ２０においては、回転ドラム１２４の外周面上を搬送されてくる基板１０に対し、基板１０から開口部までの距離が２．５ｍｍとなるように配置された正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄから、開口部を介して有機材料（正孔輸送層２４を構成する材料）からなる気化材料を吐出して、基板１０の陽極２２上にＣｕＰＣ（銅フタロシアニン）からなる正孔輸送層２４を形成する。
【００８９】
有機発光層形成工程Ｓ３０においては、回転ドラム１２４の外周面上を搬送されてくる基板１０に対し、基板１０から開口部までの距離が２．５ｍｍとなるように配置された有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄから、開口部を介して有機発光材料からなる気化材料を吐出して、基板１０の正孔輸送層２４上にα−ＮＰＤ（ビス［Ｎ-（１-ナフチル）-Ｎ-フェニル］ベンジジン）からなる有機発光層２６を形成する。
【００９０】
電子輸送層形成工程Ｓ４０においては、回転ドラム１２４の外周面上を搬送されてくる基板１０に対し、基板１０から開口部までの距離が２．５ｍｍとなるように配置された電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄから、開口部を介して有機材料（電子輸送層２８を構成する材料）からなる気化材料を吐出して、基板１０の有機発光層２６上にＡｌｑ３（８−ヒドロキシキノリンアルミニウム錯体）からなる電子輸送層２８を形成する。
【００９１】
正孔輸送層形成工程Ｓ２０、有機発光層形成工程Ｓ３０及び電子輸送層形成工程Ｓ４０は、１×１０−３Ｐａ〜１×１０−５Ｐａの真空雰囲気となるように設定された第１真空チャンバ１１０中で行われる。
【００９２】
電子注入層形成工程Ｓ５０においては、搬送されてくる基板１０に対し、電子注入層形成機構１７０によって無機材料（電子注入層３０を構成する材料）からなる気化材料を付着させて、基板１０の電子輸送層２８上にＬｉＦ（フッ化リチウム）からなる電子注入層３０を形成する。
【００９３】
陰極形成工程Ｓ６０においては、搬送されてくる基板１０に対し、陰極形成機構１７２によって陰極３２を構成する材料からなる気化材料を付着させて、基板１０の電子注入層３０上にＡｌ（アルミニウム）からなる陰極３２を形成する。これにより、基板１０上に積層構造体２０が形成される。
【００９４】
封止層形成工程Ｓ７０においては、搬送されてくる基板１０に対し、封止層形成機構１７４によって原料モノマー（脂肪族ジアミンモノマー及び脂肪族イソシアネートモノマー）を基板１０上で重合させて、基板１０上に形成された積層構造体２０を覆うようにＰＵ（ポリ尿素）からなる封止層４０を形成する。
【００９５】
電子注入層形成工程Ｓ５０、陰極形成工程Ｓ６０及び封止層形成工程Ｓ７０は、所定の真空雰囲気となるように設定された第２真空チャンバ１１２中で行われる。
【００９６】
以上の工程を行うことにより、上述の実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子１（図１参照。）を製造することができる。
【００９７】
以上、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００によれば、例えば有機発光層形成機構１５０ａについて見たとき、基板１０から開口部１５２ａまでの距離が１５ｍｍ以下（実施形態１では２．５ｍｍ）の位置となるように構成された有機発光層形成機構１５０ａから、有機発光材料からなる気化材料を基板１０に向けて吐出することが可能となるため、有機発光層形成機構１５０ａの開口部１５２ａから吐出された当該気化材料は高密度状態で基板１０に到着することとなる。また、有機発光層形成機構１５０ａは、開口部１５２ａが第１真空チャンバ１１０中に位置するように構成されているため、開口部１５２ａから基板１０に向けて吐出される気化材料は、真空雰囲気下で吐出されることとなる。その結果、製造過程で有機発光層２６に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子１の長寿命化を図ることが可能となる。
【００９８】
また、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００によれば、それほど高真空を必要としない（例えば１×１０−３Ｐａ〜１×１０−５Ｐａ程度の比較的低真空で十分である。）のに加えて、真空蒸着装置（有機発光層形成機構１５０ａ）の内壁を極めて平坦にしたり、真空蒸着装置（有機発光層形成機構１５０ａ）内を外部からヒーターで加熱して真空蒸着装置（有機発光層形成機構１５０ａ）の内壁に付いた水分を取り除く機構を設けたりすることが不要になるため、従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能となる。
【００９９】
また、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００によれば、基板１０から開口部１５２ａまでの距離が１５ｍｍ以下（実施形態１では２．５ｍｍ）の位置となるように構成された有機発光層形成機構１５０ａから、有機発光材料からなる気化材料を基板に向けて吐出することが可能となるため、従来よりも少量の有機発光材料から高収率で有機発光層２６を形成することが可能となり、この点からも従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能となるといえる。
【０１００】
したがって、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００は、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能で、かつ、従来よりも製造コストを安価なものにすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【０１０１】
ここで、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００をさらに詳細に説明するため、実施形態１の比較例１及び比較例２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００，９００を説明する。
【０１０２】
図６は、比較例１及び２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００，９００を説明するために示す図である。図６（ａ）は比較例１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００における、有機発光層形成機構８５０ａの開口部８５２ａの拡大断面図であり、図６（ｂ）は比較例２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置９００における、有機発光層形成機構９５０ａの開口部９５２ａの拡大断面図であり、図６（ｃ）は比較例１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００の問題点を説明するために示す概念図である。なお、図６（ｃ）においては、基板１０上に有機発光層２６のみを図示し、陽極２２及び正孔輸送層２４の図示を省略している。
【０１０３】
図７は、実施形態１並びに比較例１及び２の場合の、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚を示す図である。図７において、基板幅方向における基板１０の中心からの距離を横軸で示し、基板幅方向において有機発光層２６の層厚が最も厚い部分を１としたときの、有機発光層２６の層厚を規格化したものを縦軸で示している。また、図７に示す実線は、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の場合における、有機発光層２６の層厚を規格化して示すグラフであり、図７に示す破線は、比較例１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００の場合における、有機発光層２６の層厚を規格化して示すグラフであり、図７に示す一点鎖線は、比較例２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置９００の場合における、有機発光層２６の層厚を規格化して示すグラフである。
【０１０４】
比較例１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００（図示せず。）は、基本的には実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とよく似た構成を有するが、開口部の開口幅が異なる点及び流路補正部材を備えていない点で、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは異なる。
【０１０５】
すなわち、比較例１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００においては、図６（ａ）に示すように、有機発光層形成機構８５０ａの開口部８５２ａの開口幅Ａ１は２ｍｍであり、実施形態１で説明した有機発光層形成機構１５０ａにおける開口部１５２ａの開口幅（５ｍｍ）よりも狭い。また、開口部８５２ａには、開口部からの気化材料の吐出を部分的に遮断する機能を有する流路補正部材が配設されていない。なお、開口部８５２ａにおける開口幅方向の中間位置と基板１０における基板幅方向（短幅方向）の中間位置とが合うように、有機発光層形成機構８５０ａの開口部８５２ａと基板１０とが位置合わせされている。
【０１０６】
比較例１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置８００においては、有機発光層形成機構８５０ａが上記のように構成されているため、基板１０に付着する気化材料の量は、開口部８５２ａの直下部分（基板１０の中央部分）と開口部８５２ａの直下ではない部分（基板１０の端部に近い部分）とで差が比較的大きくなってしまい、結果として、基板１０の中央部分における有機発光層２６の層厚が、基板１０の端部に近い部分における有機発光層２６の層厚に比べて厚くなってしまう（図６（ｃ）及び図７参照。）。具体的には、図７に示すように、基板１０の中央部分における有機発光層２６の層厚を１としたとき、基板中心からの距離が±２．５ｍｍの位置における有機発光層２６の層厚は、０．４未満となっている。
【０１０７】
一方、比較例２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置９００（図示せず。）は、基本的には実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とよく似た構成を有するが、流路補正部材を備えていない点で、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは異なる。
【０１０８】
すなわち、比較例２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置９００においては、図６（ｂ）に示すように、有機発光層形成機構９５０ａの開口部９５２ａの開口幅Ａ１は５ｍｍであり、実施形態１で説明した有機発光層形成機構１５０ａにおける開口部１５２ａの開口幅（５ｍｍ）と同じである。但し、実施例１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の場合とは異なり、開口部９５２ａには流路補正部材が配設されていない。なお、開口部９５２ａにおける開口幅方向の中間位置と基板１０における基板幅方向（短幅方向）の中間位置とが合うように、有機発光層形成機構９５０ａの開口部９５２ａと基板１０とが位置合わせされている。
【０１０９】
比較例２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置９００においては、有機発光層形成機構９５０ａが上記のように構成されているため、図７を見ても分かるように、比較例１の場合に比べて、基板１０の中央部分に付着する気化材料と基板１０の端部に近い部分に付着する気化材料との差をある程度小さくすることができる。
【０１１０】
しかしながら、比較例２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置９００においては、図７に示すように、基板１０の中央部分における有機発光層２６の層厚を１としたとき、基板中心からの距離が±２．５ｍｍの位置における有機発光層２６の層厚は、０．７を超えない値であることから、比較例２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置９００の場合、基板に形成される有機発光層の層厚を十分に均一化することができたとは言い難い。
【０１１１】
これに対し、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００によれば、上述したように、有機発光層形成機構１５０ａが、有機発光層幅に応じた幅を有する開口部１５２ａを有するとともに、開口部１５２ａが、当該開口幅Ａ１よりも狭い幅を有する流路補正部材１５５ａ，１５６ａによって２以上の領域に分割されているため、有機発光層２６（又は基板１０）の中央部分に付着する気化材料の量と有機発光層２６（又は基板１０）の端部に近い部分に付着する気化材料の量との差を比較的小さくすることができる。具体的には、図７に示すように、基板１０の中央部分における有機発光層２６の層厚を１としたとき、基板中心からの距離が±２．５ｍｍの位置における有機発光層２６の層厚は、０．８を超える値となっている。その結果、基板１０の中央部分における有機発光層２６の層厚が、基板１０の端部に近い部分における有機発光層２６の層厚に比べて厚くなってしまうのを抑制することが可能となる。
【０１１２】
つまり、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００は、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造することが可能で、さらに、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【０１１３】
また、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００によれば、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄについても、有機発光層形成機構１５０ａと同様の構成を有するため、基板１０上に形成される正孔輸送層２４及び電子輸送層２８の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能となる。
【０１１４】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、流路補正部材１５５ａ，１５６ａの両端部には、スペーサ部材Ｓ１〜Ｓ６が配設されており、流路補正部材１５５ａ，１５６ａは、開口部１５２ａに所定の開口領域が形成されるように、スペーサ部材Ｓ１〜Ｓ６を介在させた状態で開口部１５２ａの開口端縁に配設されている。これにより、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００を、比較的容易に実現することが可能となる。また、スペーサ部材Ｓ１〜Ｓ６のサイズを適宜調整（異なるサイズのスペーサ部材と交換）することにより、開口部１５２ａに形成される開口領域の幅を比較的容易に変更することが可能となるという効果もある。
【０１１５】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、流路補正部材として、２つの流路補正部材１５５ａ，１５６ａを備え、開口部１５２ａは、２つの流路補正部材１５５ａ，１５６ａによって３つの領域に分割されている。このため、３つの領域の位置や大きさを調整して、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚（基板幅方向の層厚）をさらに均一にすることが可能となる。
【０１１６】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄにおける連通部、開口部及び流路補正部材を所定温度に加熱する第２加熱機構（図示せず。）をさらに備えるため、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄにおける連通部、開口部及び流路補正部材の部分に気化材料が再付着することを抑制することが可能となり、開口部から吐出された気化材料は高密度状態のまま基板１０に到着することとなる。その結果、製造過程で有機発光層２６に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子１の長寿命化を図ることが可能となる。また、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄにおける連通部、開口部及び流路補正部材の部分での目詰まりを抑制することが可能となるため、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００のメンテナンスが容易になる。
【０１１７】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄにおける連通部、開口部及び流路補正部材を所定温度に加熱する第１及び第３加熱機構（図示せず。）をさらに備えるため、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄにおける連通部、開口部及び流路補正部材の部分に気化材料が再付着することを抑制することが可能となり、開口部から吐出された気化材料は高密度状態のまま基板１０に到着することとなる。その結果、製造過程で正孔輸送層２４及び電子輸送層２８に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子１の長寿命化を図ることが可能となる。また、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄにおける連通部、開口部及び流路補正部材の部分での目詰まりを抑制することが可能となるため、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００のメンテナンスが容易になる。
【０１１８】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、上記の構成からなる正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄをさらに備えるため、正孔輸送層２４及び電子輸送層２８をさらに有する積層構造体２０を備える有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造する場合であっても、製造過程で積層構造体２０に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子１の長寿命化を図ることが可能となる。
【０１１９】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、上記の構成からなる電子注入層形成機構１７０をさらに備えるため、電子注入層３０をさらに有する積層構造体２０を備える有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造する場合であっても、製造過程で積層構造体２０に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子１の長寿命化を図ることが可能となる。
【０１２０】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、上記の構成からなる陰極形成機構１７２をさらに備えるため、製造過程で陰極３２に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子１の長寿命化を図ることが可能となる。
【０１２１】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、上記の構成からなる封止層形成機構１７４をさらに備えるため、製造過程で封止層４０に取り込まれる水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子１の長寿命化を図ることが可能となる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子１における積層構造体２０は、蒸着重合法によって形成された封止性能の良い封止層４０で覆われることとなるため、有機エレクトロルミネッセンス素子１の製造後に積層構造体２０に浸入する水分量を極めて少ないレベルにすることが可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子１のさらなる長寿命化を図ることが可能となる。
【０１２２】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、基板搬送機構１２０は、ロール状の基板１０をシート状に繰り出す繰り出し機構１２２と、シート状の基板１０をロール状に巻き取る巻き取り機構１２６と、繰り出し機構１２２と巻き取り機構１２６との間における基板搬送経路中に配置され、基板の搬送速度に応じた回転速度で回転する回転ドラム１２４とを有している。また、基板１０は、回転ドラム１２４の外周面上を搬送されるように構成されており、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄは、回転ドラム１２４の外周面上を搬送される基板１０に向けて気化材料を吐出するように構成されている。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子１を高い生産性で製造することが可能となる。また、基板１０を移動させながら基板１０上に正孔輸送層２４、有機発光層２６及び電子輸送層２８を形成することが可能となるため、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄからの輻射熱を基板１０が受ける時間を短くすることが可能となる。その結果、基板１０の温度上昇に起因する基板１０の劣化を抑制することが可能となる。
【０１２３】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、回転ドラム１２４の内部には、回転ドラム１２４の外周面を冷却する冷却機構（図示せず。）が設置されているため、回転ドラム１２４の外周面上を搬送されていく基板１０の温度上昇を抑制することができ、基板１０の温度上昇に起因する基板１０の劣化を抑制することが可能となる。
【０１２４】
実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００においては、正孔輸送層形成機構１４０ａ〜１４０ｄ、有機発光層形成機構１５０ａ〜１５０ｄ及び電子輸送層形成機構１６０ａ〜１６０ｄの各開口部の近傍を、所定の真空雰囲気とする差動排気機構（図示せず。）をさらに備えるため、最適な真空雰囲気下で正孔輸送層２４、有機発光層２６及び電子輸送層２８を形成することが可能となる。
【０１２５】
また、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子１によれば、有機発光層２６が、上述した優れた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００によって形成されているため、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子であって、さらには、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚（基板幅方向の層厚）が比較的均一な有機エレクトロルミネッセンス素子１となる。
【０１２６】
また、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子１においては、正孔輸送層２４及び電子輸送層２８が、上述した優れた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００によって形成されているため、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子であって、さらには、基板１０上に形成される正孔輸送層２４及び電子輸送層２８の層厚（基板幅方向の層厚）が比較的均一な有機エレクトロルミネッセンス素子１となる。
【０１２７】
［実施形態２］
図８は、実施形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置２００を説明するために示す図である。図８（ａ）は有機発光層形成機構２５０ａの底面図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）の符号Ｐで示す部分の拡大図である。
【０１２８】
実施形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置２００（図示せず。）は、基本的には実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００と同様の構成を有するが、流路補正部材が開口部に一体形成されている点で、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは異なる。
【０１２９】
すなわち、実施形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置２００においては、図８に示すように、有機発光層形成機構２５０ａにおける流路補正部材２５５ａ，２５６ａは、開口部２５２ａに一体形成されている。なお、図示による説明は省略するが、他の３つの有機発光層形成機構並びに４つの正孔輸送層形成機構及び４つの電子輸送層形成機構についても、流路補正部材が開口部に一体形成されている。
【０１３０】
このように、実施形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置２００は、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは、流路補正部材が開口部に一体形成されている点で異なるが、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の場合と同様に、有機発光層形成機構２５０ａは、基板１０から開口部２５２ａまでの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、開口部２５２ａが第１真空チャンバ１１０（図示せず。）中に位置するように構成されており、さらに、開口部２５２ａは、開口部２５２ａの幅よりも狭い幅を有する流路補正部材２５５ａ，２５６ａによって２以上の領域に分割されているため、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造することが可能で、さらに、基板上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【０１３１】
実施形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置２００においては、例えば有機発光層形成機構２５０ａについて見たとき、流路補正部材２５５ａ，２５６ａは、開口部２５２ａに一体形成されているため、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置２００を、比較的容易に実現することが可能となる。
【０１３２】
実施形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置２００は、流路補正部材が開口部に一体形成されている点以外では、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００と同様の構成を有するため、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。
【０１３３】
［実施形態３］
図９は、実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００の概略構成図である。
【０１３４】
実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００は、基本的には実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００と同様の構成を有するが、基板搬送機構の構成と、正孔輸送層形成機構、有機発光層形成機構及び電子輸送層形成機構の数と、封止層形成機構の構成とが、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは異なる。
【０１３５】
すなわち、実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００においては、図９に示すように、基板搬送機構３２０は、ロール状の基板１０をシート状に繰り出す繰り出し機構３２２と、シート状の基板１０をロール状に巻き取る巻き取り機構３２６とを有しており、実施形態１で説明した回転ドラムを有していない。このため、基板搬送経路は直線状となる。繰り出し機構３２２及び巻き取り機構３２６は、実施形態１で説明した繰り出し機構１２２及び巻き取り機構１２６とほぼ同様の構成を有するため、詳細な説明は省略する。
【０１３６】
また、実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００においては、単一の正孔輸送層形成機構３４０、有機発光層形成機構３５０及び電子輸送層形成機構３６０を備える。これら正孔輸送層形成機構３４０、有機発光層形成機構３５０及び電子輸送層形成機構３６０は、実施形態１で説明した有機発光層形成機構１５０ａと同様に、基板１０から開口部までの距離が２．５ｍｍとなり、かつ、開口部が第１真空チャンバ３１０中に位置するように構成されている。また、図示による説明は省略するが、各形成機構の開口部は、開口部の幅よりも狭い幅を有する流路補正部材によって２以上の領域に分割されている。
【０１３７】
また、実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００においては、封止層形成機構として、第１〜第４封止層形成機構３７４〜３７７を備える。第１及び第３封止層形成機構３７４，３７６は、蒸着重合法により、基板１０上にＰＵ（ポリ尿素）からなる有機封止層を形成する機能を有する。第２及び第４封止層形成機構３７５，３７７は、スパッタリング法により、基板１０上にＳｉＮ（窒化珪素）からなる無機封止層を形成する機能を有する。
【０１３８】
なお、第１真空チャンバ３１０、第２真空チャンバ３１２、電子注入層形成機構３７０、陰極形成機構３７２などについては、実施形態１で説明したものとほぼ同様の構成を有するため、詳細な説明は省略する。
【０１３９】
このように、実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００は、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは、基板搬送機構の構成と、正孔輸送層形成機構、有機発光層形成機構及び電子輸送層形成機構の数と、封止層形成機構の構成とが異なるが、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の場合と同様に、有機発光層形成機構３５０は、基板１０から開口部までの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、開口部が第１真空チャンバ３１０中に位置するように構成されており、さらに、図示による説明は省略したが、開口部における開口領域の一部に、開口部からの気化材料の吐出を部分的に遮断する流路補正部材が、基板１０の長手方向と同一方向に沿って配置されているため、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造することが可能で、さらに、基板１０上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【０１４０】
実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００においては、上記した第１〜第４封止層形成機構３７４〜３７７を備えるため、積層構造体２０を覆う封止層として、ＰＵ（ポリ尿素）からなる有機封止層とＳｉＮからなる無機封止層とが交互に積層された封止層を形成することが可能となる。その結果、実施形態１の場合よりも長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することが可能となる。
【０１４１】
実施形態３に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置３００は、基板搬送機構の構成と、正孔輸送層形成機構、有機発光層形成機構及び電子輸送層形成機構の数と、封止層形成機構の構成とが異なる点以外では、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００と同様の構成を有するため、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。
【０１４２】
［実施形態４］
図１０は、実施形態４に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置４００の概略構成図である。
【０１４３】
実施形態４に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置４００は、図１に示す有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造するための装置であって、図１０に示すように、真空チャンバ４１０と、基板１０を搬送する基板搬送機構４２０と、基板１０上に正孔輸送層２４を形成する他の有機層形成機構としての正孔輸送層形成機構４４０と、基板１０上に有機発光層２６を形成する有機発光層形成機構４５０と、基板１０上に電子輸送層２８を形成する他の有機層形成機構としての電子輸送層形成機構４６０と、基板１０上に電子注入層３０を形成する無機層形成機構としての電子注入層形成機構４７０と、基板１０上に陰極３２を形成する陰極形成機構４７２と、基板１０上に封止層４０を形成する封止層形成機構４７４と、正孔輸送層形成機構４４０、有機発光層形成機構４５０及び電子輸送層形成機構４６０をそれぞれ所定温度に加熱する第１〜第３加熱機構（ともに図示せず。）と、差動排気機構４９０，４９２とを備える。
【０１４４】
真空チャンバ４１０の内部には、複数の隔壁ａ４１〜ａ４３が設けられている。これら複数の隔壁ａ４１〜ａ４３によって区分けされた各空間の所定位置に、基板搬送機構４２０及び各形成機構がそれぞれ配設されている。
【０１４５】
基板搬送機構４２０は、ロール状の基板１０をシート状に繰り出す繰り出し機構４２２と、回転ドラム４２４と、各層が形成されたシート状の基板１０をロール状に巻き取る巻き取り機構４２６とを有する。基板搬送機構４２０は、実施形態１で説明した基板搬送機構１２０とは異なり、全体が真空チャンバ４１０内に配設されている。
【０１４６】
繰り出し機構４２２は、ロール状の基板１０をシート状に繰り出す繰り出しローラ４３０と、繰り出しローラ４３０から繰り出された基板１０をガイドするガイドローラ４３１と、繰り出された基板１０から保護フィルムを剥離する図示しない剥離ローラとを有する。
【０１４７】
回転ドラム４２４は、繰り出し機構４２２と巻き取り機構４２６との間における基板搬送経路中に配置され、基板１０の搬送速度に応じた回転速度で回転する機能を有する。基板１０は、回転ドラム４２４の外周面上を搬送されるように構成されている。また、回転ドラム４２４の内部には、回転ドラム４２４の外周面を冷却する冷却機構（図示せず。）が設置されている。
【０１４８】
巻き取り機構４２６は、シート状の基板１０をロール状に巻き取る巻き取りローラ４３６と、ガイドローラ４３７とを有する。
【０１４９】
正孔輸送層形成機構４４０、有機発光層形成機構４５０及び電子輸送層形成機構４６０は、実施形態１で説明した有機発光層形成機構１５０ａと同様に、基板１０から開口部までの距離が２．５ｍｍとなり、かつ、開口部が真空チャンバ４１０中に位置するように構成されている。また、図示による説明は省略するが、各形成機構の開口部は、開口部の幅よりも狭い幅を有する流路補正部材によって２以上の領域に分割されている。
【０１５０】
電子注入層形成機構４７０は、真空蒸着法により無機材料からなる気化材料を基板１０に付着させることにより、基板１０上にＬｉＦ（フッ化リチウム）からなる電子注入層３０を形成する機能を有する。
【０１５１】
陰極形成機構４７２は、真空蒸着法により陰極３２を構成する材料からなる気化材料を基板１０に付着させることにより、基板１０上にＡｌ（アルミニウム）からなる陰極３２を形成する機能を有する。
【０１５２】
封止層形成機構４７４は、脂肪族ジアミンモノマー気化部４７４ａ及び脂肪族イソシアネートモノマー気化部４７４ｂを有し、蒸着重合法により原料モノマー（脂肪族ジアミンモノマー及び脂肪族イソシアネートモノマー）を基板１０上で重合させることにより、基板１０上にＰＵ（ポリ尿素）からなる封止層４０を形成する機能を有する。
【０１５３】
第１〜第３加熱機構は、図示による説明は省略するが、正孔輸送層形成機構４４０、有機発光層形成機構４５０及び電子輸送層形成機構４６０のそれぞれにおける、連通部、開口部及び流路補正部材を、気化材料が再付着しない温度に加熱する機能を有する。
【０１５４】
差動排気機構４９０，４９２は、複数の隔壁ａ４１〜ａ４３によって区分けされた各空間を所定の真空雰囲気（例えば１×１０−３Ｐａ〜１×１０−５Ｐａ）とする機能を有する。
【０１５５】
以上、実施形態４に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置４００は、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは、装置全体が真空チャンバ内に配設されている点で異なるが、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の場合と同様に、有機発光層形成機構４５０は、基板１０から開口部までの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、開口部が真空チャンバ４１０中に位置するように構成されており、さらに、図示による説明は省略したが、開口部が、開口部の幅よりも狭い幅を有する流路補正部材によって２以上の領域に分割されているため、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造することが可能で、さらに、基板上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【０１５６】
実施形態４に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置４００は、装置全体が真空チャンバ４１０内に配設されている点以外では、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００と同様の構成を有するため、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。
【０１５７】
［実施形態５及び６］
図１１は、実施形態５に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置５００を説明するために示す図である。図１１（ａ）は有機発光層形成機構５５０ａの底面図であり、図１１（ｂ−１）は図１１（ａ）の符号Ｐで示す部分の拡大図であり、図１１（ｂ−２）は図１１（ａ）の符号Ｑで示す部分の拡大図であり、図１１（ｃ）は有機発光層形成機構５５０ａの開口部５５２ａ周辺部分の拡大断面図であり、図１１（ｄ）は実施形態５の場合の、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚を示す図である。
【０１５８】
図１２は、実施形態６に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置６００を説明するために示す図である。図１２（ａ）は有機発光層形成機構６５０ａの底面図であり、図１２（ｂ−１）は図１２（ａ）の符号Ｐで示す部分の拡大図であり、図１２（ｂ−２）は図１２（ａ）の符号Ｑで示す部分の拡大図であり、図１２（ｃ）は有機発光層形成機構６５０ａの開口部６５２ａ周辺部分の拡大断面図であり、図１２（ｄ）は実施形態６の場合の、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚を示す図である。
【０１５９】
なお、図１１（ｄ）及び図１２（ｄ）において、基板幅方向における基板１０の中心からの距離を横軸で示し、基板幅方向において有機発光層２６の層厚が最も厚い部分を１としたときの、有機発光層２６の層厚を規格化したものを縦軸で示している。
【０１６０】
実施形態５及び６に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置５００，６００（図示せず。）は、基本的には実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００と同様の構成を有するが、流路補正部材の数及びサイズが、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは異なる。
【０１６１】
すなわち、実施形態５に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置５００においては、図１１（ａ）に示すように、有機発光層形成機構５５０ａの開口部５５２ａには、１つの流路補正部材５５５ａが配置されている。なお、開口部５５２ａの開口幅及び開口長は、実施形態１で説明した開口部１５２ａと同様である。
【０１６２】
流路補正部材５５５ａは、例えば、幅が４．５ｍｍ、長さが３３ｍｍ、厚さが０．７５ｍｍの板状部材である。流路補正部材５５５ａは、図１１（ｂ−１）、図１１（ｂ−２）及び図１１（ｃ）に示すように、開口部５５２ａの開口端縁から流路補正部材５５５ａの端縁までの距離ｔ１，ｔ２が０．２５ｍｍとなるように、所定のサイズのスペーサ部材Ｓ１１〜Ｓ１４を介在させた状態で、開口部５５２ａの所定位置に配設されている。また、開口部５５２ａは、当該開口部５５２ａの幅よりも狭い幅を有する流路補正部材５５５ａによって２つの領域に分割されている。
【０１６３】
また、実施形態６に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置６００においては、図１２（ａ）に示すように、有機発光層形成機構６５０ａの開口部６５２ａには、１つの流路補正部材６５５ａが配置されている。なお、開口部６５２ａの開口幅及び開口長は、実施形態１で説明した開口部１５２ａと同様である。
【０１６４】
流路補正部材６５５ａは、例えば、幅が３．５ｍｍ、長さが３３ｍｍ、厚さが０．７５ｍｍの板状部材である。流路補正部材６５５ａは、図１２（ｂ−１）、図１２（ｂ−２）及び図１２（ｃ）に示すように、開口部６５２ａの開口端縁から流路補正部材６５５ａの端縁までの距離ｔ１，ｔ２が０．７５ｍｍとなるように、所定のサイズのスペーサ部材Ｓ２１〜Ｓ２４を介在させた状態で、開口部６５２ａの所定位置に配設されている。また、開口部６５２ａは、当該開口部６５２ａの幅よりも狭い幅を有する流路補正部材６５５ａによって２つの領域に分割されている。
【０１６５】
なお、実施形態５及び６における有機発光層形成機構５５０ａ，６５０ａも、実施形態１で説明した有機発光層形成機構１５０ａと同様に、基板１０から開口部５５２ａ，６５２ａまでの距離が２．５ｍｍとなるように配置構成されているとともに、開口部５５２ａ，６５２ａを含む部分が第１真空チャンバ１１０（図示せず。）中に位置するように配置構成されている。
【０１６６】
このように、実施形態５及び６に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置５００，６００は、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００とは、流路補正部材の数及びサイズが異なるが、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００の場合と同様に、有機発光層形成機構５５０ａ，５６０ａは、基板１０から開口部５５２ａ，６５２ａまでの距離が１５ｍｍ以下となり、かつ、開口部５５２ａ，６５２ａが第１真空チャンバ中に位置するように構成されているため、従来よりも長寿命でかつ安価な有機エレクトロルミネッセンス素子１を製造することが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置となる。
【０１６７】
また、実施形態５及び６に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置５００，６００によれば、上述したように、有機発光層形成機構５５０ａ，６５０ａが、有機発光層幅に応じた幅を有する開口部５５２ａ，６５２ａを有するとともに、開口部５５２ａ，６５２ａは、開口部５５２ａ，６５２ａの幅よりも狭い幅を有する流路補正部材５５５ａ，６５６ａによって２以上の領域に分割されているため、基板１０の中央部分に付着する気化材料と基板１０の両端部に近い部分に付着する気化材料との差を比較的小さくすることができる。具体的には、図１１（ｄ）及び図１２（ｄ）に示すように、基板幅方向において有機発光層２６の層厚が最も厚い部分を１としたとき、基板幅方向において有機発光層２６の層厚が最も薄くなる部分、すなわち、基板１０の中央部分における有機発光層２６の層厚は、０．７を超える値となっている。その結果、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚（基板幅方向の層厚）を比較的均一にすることが可能となる。
【０１６８】
実施形態５及び６に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置５００，６００は、流路補正部材の数及びサイズが異なる点以外では、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００と同様の構成を有するため、実施形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１００が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。
【０１６９】
以上、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子を上記の各実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。
【０１７０】
上記実施形態１〜４においては、各形成機構の開口部に配置される流路補正部材の数が２つである場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、流路補正部材の数が３つ以上であってもよい。
【０１７１】
上記各実施形態においては、基板１０と各形成機構との間には何も配置されていない場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。図１３は、変形例３におけるマスク部材１５８ａを説明するために示す図である。図１３に示すように、基板１０と有機発光層形成機構１５０ａとの間に有機発光層幅に対応するマスク開口部を有するマスク部材１５８ａが配置されていてもよい。この場合、有機発光層幅を容易に所望の幅にすることができる。また、気化材料の付着量が少ない領域をマスク部材１５８ａで遮蔽することにより、基板１０上に形成される有機発光層２６の層厚（基板幅方向の層厚）をさらに均一にすることが可能となる。
【０１７２】
上記各実施形態においては、開口部１５２ａの開口幅Ａ１よりも広い幅（９ｍｍ）を有する基板１０上に開口部１５２ａの開口幅Ａ１と同一の幅（５ｍｍ）を有する有機発光層２６を形成する場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。図１４は、変形例４における開口部１５２ａの幅Ａ１と基板１２の幅Ｗとの関係を説明するために示す図である。図１４に示すように、開口部１５２ａの開口幅Ａ１と同一の幅（５ｍｍ）を有する基板１０上に開口部１５２ａの開口幅Ａ１と同一の幅（５ｍｍ）を有する有機発光層２６を形成してもよい。
【０１７３】
上記各実施形態においては、開口部１５２ａの開口幅Ａ１と同一の幅（５ｍｍ）を有する有機発光層２６を形成する場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。図１５は、変形例５〜７における開口部１５２ａの幅Ａ１と、基板１４，１０，１６の幅Ｗと、有機発光層２６の幅Ｗ１との関係を説明するために示す図である。
【０１７４】
図１５に示すように、開口部１５２ａの開口幅Ａ１よりも狭い幅（４ｍｍ）を有する有機発光層２６を形成してもよい。この場合、有機発光層２６の両端部に近い部分における有機発光層２６の層厚を厚くして、基板上に形成される有機発光層の層厚（基板幅方向の層厚）をさらに均一にすることが可能となる。
【０１７５】
上記各実施形態においては、比較的薄い（０．７５ｍｍ）流路補正部材を用いる場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。図１６は、変形例８における有機発光層形成機構７５０ａを説明するために示す図である。図１６に示すように、比較的厚い（６．５ｍｍ）流路補正部材７５５ａ，７５６ａを用いてもよい。
【０１７６】
なお、各実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び各実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成を採用するにあたっては、以下のシミュレーション実験例１の結果を参考にした。
【０１７７】
［シミュレーション実験例１］
シミュレーション実験例１は、比較的低真空の真空蒸着装置（真空度：１×１０−４Ｐａ）を用いた場合であっても、気化源から基板までの距離ｒが小さい条件（例えば５ｍｍ）で真空蒸着を行うことにより、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能であることを示す実験例である。
【０１７８】
図１７は、真空蒸着法における、気化源から基板までの距離ｒと、気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerとの関係を説明するために示す図である。図１７（ａ）は気化源と基板との位置関係を示す図であり、図１７（ｂ）は気化源から基板までの距離ｒと気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerとの関係を示す図である。
【０１７９】
まず、気化源と基板とは、図１７（ａ）に示すような位置関係にあるものとする。このとき、気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerは、以下の式（１）により表される。
【０１８０】
Ｚmonomer＝Ｓ・Ｍｖ／４πｒ２ ・・・ （１）
【０１８１】
ここで、Ｓは気化源における気化面積［ｍ２］を示し、Ｍｖは気化速度［ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ／ｍ２ｓ］を示し、ｒは気化源から基板までの距離［ｍ］を示す。
【０１８２】
図１７（ｂ）は、式（１）において、気化源における気化面積Ｓを１［ｃｍ２］とし、気化速度Ｍｖを１０２１［ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ／ｍ２ｓ］としたときの、気化源から基板までの距離ｒと気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerとの関係を示す図である。図１７（ｂ）からも明らかなように、気化分子の基板へ衝突頻度Ｚmonomerは、気化源から基板までの距離ｒが小さくなればなるほど大きくなることがわかる。
【０１８３】
一方、水分子の基板への衝突頻度ＺＨ２Ｏは、以下の式（２）により表される。
【０１８４】
ＺＨ２Ｏ＝２．６×１０２４ＰＨ２Ｏ／（ＭＴ）１／２
・・・ （２）
【０１８５】
ここで、ＰＨ２Ｏは水の分圧［Ｐａ］を示し、Ｍは気化分子の分子量、Ｔは絶対温度［Ｋ］を示す。
【０１８６】
式（２）からも明らかなように、水分子の基板への衝突頻度ＺＨ２Ｏは、水の分圧ＰＨ２Ｏ（又は真空度）が低ければ低いほど小さくなる一方において、気化源から基板までの距離ｒを小さくしても変化しないことがわかる。
【０１８７】
従って、式（１）及び式（２）を合わせて考えると、気化源から基板までの距離ｒを小さくした条件で真空蒸着を行うこととすれば、水分子の基板への衝突頻度ＺＨ２Ｏを変えずに、気化分子の基板への衝突頻度（Ｚmonomer）のみを大きくすることが可能となるため、超高真空の真空蒸着装置を用いて真空蒸着を行わなくても、取り込まれる水分子の割合を低減することができることがわかる。
【０１８８】
図１８は、気化源から基板までの距離ｒと、気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerに対する水分子の基板への衝突頻度ＺＨ２Ｏの割合との関係を説明するために示す図である。図１８（ａ）は気化源から基板までの距離ｒを横軸に０ｍｍから６００ｍｍまでとった場合における当該関係を示す図であり、図１８（ｂ）は気化源から基板までの距離ｒを０ｍｍから６０ｍｍまでとった場合における当該関係を示す図である。
【０１８９】
図１８（ａ）及び図１８（ｂ）からも明らかなように、超高真空の真空蒸着装置（真空度：１×１０−８Ｐａ）を用いるとともに、気化源から基板までの距離ｒが５００ｍｍの条件で真空蒸着を行う場合（図１８（ａ）中、矢印Ａ参照。）と、比較的低真空の真空蒸着装置（真空度：１×１０−４Ｐａ）を用いるとともに、気化源から基板までの距離ｒが５ｍｍの条件で真空蒸着を行う場合（図１８（ａ）及び図１８（ｂ）中、矢印Ａ１参照。）とで、気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerに対する水分子の基板への衝突頻度ＺＨ２Ｏの割合は同じ（１０−２）になる。
【０１９０】
従って、比較的低真空の真空蒸着装置（真空度：１×１０−４Ｐａ）を用いた場合であっても、気化源から基板までの距離ｒが小さい（例えば５ｍｍ）の条件で真空蒸着を行うこととすれば、気化分子の基板への衝突頻度Ｚmonomerに対する水分子の基板への衝突頻度ＺＨ２Ｏの割合を小さくすることが可能となり、ひいては有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化を図ることが可能となる。
【０１９１】
なお、図１８（ｂ）からも明らかなように、少し真空度の高い真空蒸着装置（真空度：１×１０−５Ｐａ）を用いて真空蒸着を行えば、気化源から基板までの距離ｒが１５ｍｍの条件で真空蒸着を行っても同様の効果を得ることが期待できる（図１８（ｂ）中、矢印Ａ２参照。）。一方、少し真空度の低い真空蒸着装置（真空度：１×１０−３Ｐａ）を用いて真空蒸着を行っても、気化源から基板までの距離ｒが２ｍｍの条件で真空蒸着を行えば同様の効果を得ることが期待できる（図１８（ｂ）中、矢印Ａ３参照。）。
【０１９２】
上記各実施形態においては、基板として、ＰＥＴ樹脂フィルムを用いたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ＰＥＴ樹脂フィルム以外の樹脂フィルム（例えば、ＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）樹脂フィルム、ＰＥＥＫ樹脂フィルム（「ＰＥＥＫ」はVictrex社の登録商標。）、ＰＣ（ポリカーボネート）樹脂フィルムなど）、石英ガラスフィルムなどのガラスフィルム、ガラスと樹脂の積層フィルム（例えば石英ガラスとＰＥＴ樹脂の積層フィルム）を用いることもできるし、フィルム以外の各種基板（例えばリジッドな基板）を用いることもできる。また、基板として、厚さが１２５μｍ、基板幅が９ｍｍ、基板長さが数十ｍの長尺のフレキシブル基板を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、基板の厚さや基板幅等は適宜変更可能である。
【０１９３】
上記各実施形態においては、正孔輸送層形成機構、有機発光層形成機構及び電子輸送層形成機構における開口部側の面が、平面である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、実施形態１、２及び４に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置のように、回転ドラムを備えている場合、正孔輸送層形成機構、有機発光層形成機構及び電子輸送層形成機構における開口部側の面は、回転ドラムと開口部との間隔が基板の移動方向に沿って略一定となるように、基板の移動方向に沿って滑らかにカーブした形状であってもよい。
【０１９４】
上記各実施形態においては、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極が、ＩＴＯからなる透明電極である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極が、ＩＴＯ以外の透明電極材料（例えばＺｎＯ（酸化亜鉛））からなる陽極であってもよい。
【０１９５】
上記各実施形態においては、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の正孔輸送層が、ＣｕＰＣからなる正孔輸送層である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の正孔輸送層が、ＣｕＰＣ以外の有機材料（例えばＴＰＡＣ（１，１−ビス［４−［Ｎ，Ｎ−ジ（ｐ−トリル）アミノ）フェニル］シクロヘキサン）、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）ベンジジン））からなる正孔輸送層であってもよい。
【０１９６】
上記各実施形態においては、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の有機発光層が、α−ＮＰＤからなる有機発光層である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の有機発光層が、α−ＮＰＤ以外の有機発光材料（例えばジメチルキナクリドンが添加されたＡｌｑ３、ＺｎＰＢＯ（ビス［２−（２−ベンゾオキサゾリル）フェノラト］亜鉛（II））、ＤＯＦＬ−５（９，９−ジオクチルフルオレン５量体））からなる有機発光層であってもよい。
【０１９７】
上記各実施形態においては、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の電子輸送層が、Ａｌｑ３からなる電子輸送層である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の電子輸送層が、Ａｌｑ３以外の有機材料（例えばＢＮＤ（２，５−ジ（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール）、ＰＢＤ（２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、または、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４−ビフェニリル）−１，３，４−オキサジアゾール））からなる電子輸送層であってもよい。
【０１９８】
上記各実施形態においては、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の電子注入層が、ＬｉＦからなる電子注入層である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の電子注入層が、ＬｉＦ以外の材料（例えばＢａＦ２（フッ化バリウム）、ＳｒＦ２（フッ化ストロンチウム）、ＣａＦ２（フッ化カルシウム）、ＭｇＦ２（フッ化マグネシウム））からなる電子注入層であってもよい。
【０１９９】
上記各実施形態においては、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極が、Ａｌからなる陰極である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極が、Ａｌ以外の材料（例えばＭｇ（マグネシウム）とＡｇ（銀）との混合金属）からなる陰極であってもよい。
【０２００】
上記実施形態３においては、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の封止層が、ＰＵからなる有機封止層とＳｉＮからなる無機封止層とが交互に積層された封止層である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の封止層が、ＰＵからなる有機封止層とＡｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム）からなる無機封止層とが交互に積層された封止層であってもよいし、ＰＵからなる有機封止層とＺｒＯ２（酸化ジルコニウム）からなる無機封止層とが交互に積層された封止層であってもよいし、ＰＵからなる有機封止層とＭｇＦ２からなる無機封止層とが交互に積層された封止層であってもよいし、ＰＵからなる有機封止層とＩＴＯからなる無機封止層とが交互に積層された封止層であってもよい。
【０２０１】
上記各実施形態においては、製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の積層構造体が、陽極、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層及び陰極を有する積層構造体である場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。製造される有機エレクトロルミネッセンス素子の積層構造体が、例えば、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層のうち少なくとも１つを有しない積層構造体であってもよいし、正孔注入層（例えばＴＰＤＡ（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，１’−ジフェニル−４，４’−ジアミン）、ＴＰＡ−６（トリフェニルアミン６量体））その他の層をさらに有する積層構造体であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【０２０２】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、照明装置用の有機エレクトロルミネッセンス素子のほかにも、例えば、ディスプレイ用の有機エレクトロルミネッセンス素子なども製造することができる。
【符号の説明】
【０２０３】
１…有機エレクトロルミネッセンス素子、１０，１２，１４，１６…基板、１８…遮光用ブラックストライプ、２０…積層構造体、２２…陽極、２４…正孔輸送層、２６…有機発光層、２８…電子輸送層、３０…電子注入層、３２…陰極、４０…封止層、１００，３００，４００…有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置、１１０，３１０…第１真空チャンバ、１１２，３１２…第２真空チャンバ、１２０，３２０，４２０…基板搬送機構、１２２，３２２，４２２…繰り出し機構、１２４，４２４…回転ドラム、１２６，３２６，４２６…巻き取り機構、１３０，３３０，４３０…繰り出しローラ、１３１，１３７，３３１，３３７，４３１，４３７…ガイドローラ、１３２，１３３…ローラ、１３４，３３４…基板繰り出し室、１３８，３３８…基板巻き取り室、１４０ａ〜１４０ｄ，３４０，４４０…正孔輸送層形成機構、１５０ａ〜１５０ｄ，２５０ａ，３５０，４５０，５５０ａ，６５０ａ，７５０ａ，８５０ａ，９５０ａ…有機発光層形成機構、１５１ａ…気化部、１５２ａ，２５２ａ，５５２ａ，６５２ａ，７５２ａ，８５２ａ，９５２ａ…開口部、１５３ａ，７５３ａ…連通部、１５５ａ，１５６ａ，２５５ａ，２５６ａ，５５５ａ，６５５ａ…流路補正部材、１５８ａ…マスク部材、１６０ａ〜１６０ｄ，３６０，４６０…電子輸送層形成機構、１７０，３７０，４７０…電子注入層形成機構、１７２，３７２，４７２…陰極形成機構、１７４，４７４…封止層形成機構、１８０，３８０…ドライ洗浄機構、１８２，３８２…ＵＶオゾン照射機構、１８４，３８４…部分ドライエッチング機構、３７４…第１封止層形成機構、３７５…第２封止層形成機構、３７６…第３封止層形成機構、３７７…第４封止層形成機構、４１０…真空チャンバ、４７４ａ…脂肪族ジアミンモノマー気化部、４７４ｂ…脂肪族イソシアネートモノマー気化部、４９０，４９２…差動排気機構、ａ１〜ａ１５，ａ３１〜ａ３９，ａ４１〜ａ４３…隔壁、Ｓ１〜Ｓ６，Ｓ１１〜Ｓ１４，Ｓ２１〜Ｓ２４…スペーサ部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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