(57)【要約】【課題】設計工数をほとんど増加させることなく、マクロセルの配置ミスを容易に発見することができる集積回路装置のレイアウト設計方法及び製造方法、マクロセル、集積回路装置並びに電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の集積回路装置のレイアウト設計方法は、マクロセルに形成された所定のデザインルールを満たさない第１のダミーパターンに対応させて、マクロセルの配置予定領域の一部に所定のデザインルールを満たさない第２のダミーパターンを作成（Ｓ２０）し、マクロセルを配置し（Ｓ３０）、マクロセル配置後のレイアウトパターンが所定のデザインルールを満たすかチェックする（Ｓ４０）。マクロセルが配置予定領域に配置された場合は第１、第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは所定のデザインルールを満たし、マクロセルが配置予定領域に配置されなかった場合は当該ダミーパターンは所定のデザインルールを満たさない。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レイアウトパターン情報を有するマクロセルを含む集積回路装置のレイアウト設計方法であって、
前記マクロセルの前記レイアウトパターン情報に含まれる少なくとも１つのレイヤーのレイアウトパターンにおいて形成された所定のデザインルールを満たさない第１のダミーパターンに対応させて、前記集積回路装置のレイアウト領域に含まれる前記マクロセルの配置予定領域の一部に、前記所定のデザインルールを満たさない第２のダミーパターンを作成するダミーパターン作成ステップと、
前記集積回路装置のレイアウト領域に前記マクロセルを配置するマクロセル配置ステップと、
前記マクロセルを配置した後の前記集積回路装置のレイアウトパターンが前記所定のデザインルールを満たすか否かをチェックするデザインルールチェックステップと、を含み、
前記マクロセル配置ステップにおいて、
前記マクロセルが前記配置予定領域に配置された場合には、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは前記所定のデザインルールを満たし、前記マクロセルが前記配置予定領域に配置されなかった場合には、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは前記所定のデザインルールを満たさないことを特徴とする集積回路装置のレイアウト設計方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記ダミーパターン作成ステップにおいて、
前記マクロセルの前記レイアウトパターン情報に含まれる前記少なくとも１つのレイヤーのレイアウトパターンにおいて前記第１のダミーパターンを作成することを特徴とする集積回路装置のレイアウト設計方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記ダミーパターン作成ステップにおいて、
前記所定のデザインルールを満たすダミーパターンを作成し、当該ダミーパターンを分割して前記第１のダミーパターン及び前記第２のダミーパターンを作成し、
前記マクロセル配置ステップにおいて、
前記マクロセルが前記配置予定領域に配置された場合には、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンによって前記所定のデザインルールを満たす前記ダミーパターンが形成されることを特徴とする集積回路装置のレイアウト設計方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、
前記第１のダミーパターン及び前記第２のダミーパターンの形状は、非線対称かつ非点対称であることを特徴とする集積回路装置のレイアウト設計方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記第１のダミーパターンは、前記マクロセルの種類を識別可能なレイアウトパターンであり、
前記マクロセル配置ステップにおいて、
前記マクロセルが前記配置予定領域に配置された場合には、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンによって前記マクロセルの種類を識別可能な前記所定のデザインルールを満たすダミーパターンが形成されることを特徴とする集積回路装置のレイアウト設計方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
前記所定のデザインルールは、レイアウトパターンの線幅を規定するデザインルール及びレイアウトパターンの面積を規定するデザインルールの少なくとも一方のデザインルールであることを特徴とする集積回路装置のレイアウト設計方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載のレイアウト設計方法によって前記集積回路装置のレイアウトパターンを設計するステップと、
前記レイアウトパターンが描画されたフォトマスクを作成するステップと、
前記フォトマスクを用いて集積回路を半導体基板に形成するステップと、を含むことを特徴とする集積回路装置の製造方法。
【請求項８】
集積回路装置の設計に使用されるマクロセルであって、
少なくとも１つのレイヤーのレイアウトパターンにおいて所定のデザインルールを満たさないダミーパターンが形成されたレイアウトパターン情報を含むことを特徴とするマクロセル。
【請求項９】
請求項８において、
前記ダミーパターンの形状は、非線対称かつ非点対称であることを特徴とするマクロセル。
【請求項１０】
請求項８又は９において、
前記ダミーパターンは、前記マクロセルの種類を識別可能なレイアウトパターンであることを特徴とするマクロセル。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれかにおいて、
前記所定のデザインルールは、レイアウトパターンの線幅を規定するデザインルール及びレイアウトパターンの面積を規定するデザインルールの少なくとも一方のデザインルールであることを特徴とするマクロセル。
【請求項１２】
請求項８乃至１１のいずれかに記載のマクロセルを含む集積回路装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載された集積回路装置と、
前記集積回路装置の処理対象となるデータの入力手段と、
前記集積回路装置により処理されたデータを出力するための出力手段とを含むことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、集積回路装置のレイアウト設計方法及び製造方法、マクロセル、集積回路装置並びに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路装置（ＬＳＩ）の大規模化・多機能化に伴う製品開発工数の増大を抑制するために、複数の基本機能セルを組み合わせてより複雑な機能を実現するマクロセルを利用した回路設計手法が広く知られている。例えば、通信用インターフェース回路、メモリ、ＰＬＬ、ＣＰＵ等のマクロセルがＬＳＩの設計資産として広く利用されており、マクロセルはＩＰ（Intellectual Property）モジュールとも呼ばれる。
【特許文献１】特開２００６−１３３８３５号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２９２３号公報
【特許文献３】特開２０００−２８６３４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
マクロセルを利用したＬＳＩの設計手法では、例えば、ＬＳＩのレイアウト領域にマクロセルのレイアウトパターンを所定の位置に配置し、当該レイアウトパターン上に形成された信号入出力用のポートに必要な信号線を接続する配線パターンを作成することによりＬＳＩのレイアウト設計が行われる。あるいは、ＬＳＩのレイアウト領域に、当該配線パターンを作成した後、マクロセルを所定の位置に配置することによりＬＳＩのレイアウト設計が行われる。レイアウト設計の各段階において、作成したレイアウトパターンがデザインルールを満たすか否かを判断するために適当なタイミングでＤＲＣ（Design Rule Check）検証が行われる。そして、最終的に完成したＬＳＩのレイアウトパターンをＬＳＩの回路接続情報と比較するＬＶＳ（Layout versus Schematic）検証が行われ、最終的なレイアウトパターンの正当性が確認される。
【０００４】
しかし、従来のレイアウト設計方法では、マクロセルの配置位置を間違ったとしても、ＤＲＣ検証では必ずしもデザインルールエラーが存在するとは限らない。特に、ポートの位置が全く同じであるが種類の異なるマクロセルが複数存在する場合には、配置すべきマクロセルの種類を間違ったとしてもデザインルールエラーが発生しないケースが容易に想像できる。従って、レイアウト設計の各段階においてＤＲＣ検証を行っていたとしても、最終的なＬＶＳ検証の結果にエラーを確認するまでマクロセルの配置ミスに気付かない場合があった。そのため、最悪の場合にはレイアウトの大幅なやり直しのために設計工数を費やす場合もあった。また、最終的なＬＶＳ検証の結果にエラーが存在する場合でも、最終的なＬＳＩのレイアウトパターンは複雑であるため実際に配線ミスが存在すると思い込んで無駄な解析工数を費やす場合もあった。このような事態を避けるために、レイアウトの各段階においてＤＲＣ検証だけでなくＬＶＳ検証を行うことが考えられる。しかし、レイアウトの各段階においてＬＶＳ検証を行うには、各段階のレイアウトパターンに対応する回路接続情報を作成しなければならず設計工数が増大する。また、ＬＶＳ検証の結果にエラーが存在する場合でも、やはり実際に配線ミスが存在すると思い込んで無駄な解析工数を費やすことを避けるのは難しい。さらに、ＬＶＳ検証の実行時間はＤＲＣ検証の実行時間と比較してかなり長いので設計工数の増大の原因にもなる。
【０００５】
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、設計工数をほとんど増加させることなく、マクロセルの配置ミスを容易に発見することができる集積回路装置のレイアウト設計方法及び製造方法、マクロセル、集積回路装置並びに電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明は、
レイアウトパターン情報を有するマクロセルを含む集積回路装置のレイアウト設計方法であって、
前記マクロセルの前記レイアウトパターン情報に含まれる少なくとも１つのレイヤーのレイアウトパターンにおいて形成された所定のデザインルールを満たさない第１のダミーパターンに対応させて、前記集積回路装置のレイアウト領域に含まれる前記マクロセルの配置予定領域の一部に、前記所定のデザインルールを満たさない第２のダミーパターンを作成するダミーパターン作成ステップと、
前記集積回路装置のレイアウト領域に前記マクロセルを配置するマクロセル配置ステップと、
前記マクロセルを配置した後の前記集積回路装置のレイアウトパターンが前記所定のデザインルールを満たすか否かをチェックするデザインルールチェックステップと、を含み、
前記マクロセル配置ステップにおいて、
前記マクロセルが前記配置予定領域に配置された場合には、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは前記所定のデザインルールを満たし、前記マクロセルが前記配置予定領域に配置されなかった場合には、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは前記所定のデザインルールを満たさないことを特徴とする。
【０００７】
第１のダミーパターンは、例えば、ポリシリコン配線層、メタル１配線層〜メタル６配線層等のいずれか１つのレイヤーにおいて形成されていてもよいし、２つ以上のレイヤーに形成されていてもよい。
【０００８】
第１のダミーパターンは１種類のデザインルールを満たさないように形成されていてもよいし、２種類以上のデザインルールを満たさないように形成されていてもよい。
【０００９】
第２のダミーパターンは１種類のデザインルールを満たさないように作成してもよいし、２種類以上のデザインルールを満たさないように作成してもよい。
【００１０】
マクロセルが配置予定領域に配置された場合に第１のダミーパターンと第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは、所定のデザインルールを満たす最小値を有するように形成されるようにしてもよい。例えば、当該ダミーパターンは、その線幅又は面積がデザインルールを満たす最小の線幅又は最小の面積となるように形成されるようにしてもよい。
【００１１】
本発明によれば、マクロセルが配置予定領域に正しく配置された場合には、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは所定のデザインルールを満たす。一方、第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンはともに所定のデザインルールを満たさないように形成されているので、マクロセルが配置予定領域に正しく配置されなかった場合には、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは所定のデザインルールを満たさない。従って、本発明によれば、マクロセルを配置した後の集積回路装置のレイアウトパターンに対してデザインルールチェックを実行することによりマクロセルが配置予定領域に正しく配置されたか否かを簡単かつ確実にチェックすることができる。
【００１２】
また、本発明によれば、集積回路装置の最終的なチップレイアウトが完成する前に、マクロセルを配置した後の集積回路装置のレイアウトパターンに対してデザインルールチェックを実行することにより、マクロセルの配置ずれを早期に発見することができる。
【００１３】
（２）本発明の集積回路装置のレイアウト設計方法は、
前記ダミーパターン作成ステップにおいて、
前記マクロセルの前記レイアウトパターン情報に含まれる前記少なくとも１つのレイヤーのレイアウトパターンにおいて前記第１のダミーパターンを作成するようにしてもよい。
【００１４】
（３）本発明の集積回路装置のレイアウト設計方法は、
前記ダミーパターン作成ステップにおいて、
前記所定のデザインルールを満たすダミーパターンを作成し、当該ダミーパターンを分割して前記第１のダミーパターン及び前記第２のダミーパターンを作成し、
前記マクロセル配置ステップにおいて、
前記マクロセルが前記配置予定領域に配置された場合には、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンによって前記所定のデザインルールを満たす前記ダミーパターンが形成されるするようにしてもよい。
【００１５】
ダミーパターンは、所定のデザインルールを満たす最小値を有するように作成してもよい。例えば、当該ダミーパターンは、その線幅又は面積がデザインルールを満たす最小の線幅又は最小の面積となるように作成してもよい。
【００１６】
本発明によれば、まず所定のデザインルールを満たすダミーパターンを形成した後、当該ダミーパターンを分割して第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンを作成する。従って、当該ダミーパターンを所定のデザインルールを満たす最小値を有するように作成すれば、当該所定のデザインルールを満たさない第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンを容易に作成することができる。
【００１７】
（４）本発明の集積回路装置のレイアウト設計方法は、
前記第１のダミーパターン及び前記第２のダミーパターンの形状は、非線対称かつ非点対称であってもよい。
【００１８】
本発明によれば、第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンの形状は、線対称及び点対称のいずれでもない形状のレイアウトパターンであるので、配置予定領域に左右や上下を逆にしてマクロセルを配置した場合にもデザインルールエラーが発生する。従って、集積回路装置の最終的なチップレイアウトが完成する前に、マクロセルを配置した後の集積回路装置のレイアウトに対してデザインルールチェックを実行することにより、マクロセルの配置方向の間違いを早期に発見することができる。
【００１９】
（５）本発明の集積回路装置のレイアウト設計方法は、
前記第１のダミーパターンは、前記マクロセルの種類を識別可能なレイアウトパターンであり、
前記マクロセル配置ステップにおいて、
前記マクロセルが前記配置予定領域に配置された場合には、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンによって前記マクロセルの種類を識別可能な前記所定のデザインルールを満たすダミーパターンが形成されるようにしてもよい。
【００２０】
マクロセルの種類を識別可能なレイアウトパターンは、文字や数字を形取った形状のレイアウトパターンであってもよい。
【００２１】
本発明によれば、第１のダミーパターンはマクロセルの種類を識別可能なレイアウトパターンであるので、配置予定領域に間違った種類のマクロセルを配置した場合にもデザインルールエラーが発生する。従って、集積回路装置の最終的なチップレイアウトが完成する前に、マクロセルを配置した後の集積回路装置のレイアウトに対してデザインルールチェックを実行することにより、配置したマクロセルの種類の間違いを早期に発見することができる。
【００２２】
（６）本発明の集積回路装置のレイアウト設計方法は、
前記所定のデザインルールは、レイアウトパターンの線幅を規定するデザインルール及びレイアウトパターンの面積を規定するデザインルールの少なくとも一方のデザインルールであってもよい。
【００２３】
第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンはともに、横方向の線幅がデザインルールを満たさない矩形パターンと、縦方向の線幅がデザインルールを満たさない矩形パターンを含んで構成されていてもよい。これらの矩形パターンは、さらにその面積がデザインルールを満たさないように形成されていてもよい。さらに、マクロセルが配置予定領域に配置された場合に当該第１のダミーパターン及び当該第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは、横方向の線幅がデザインルールを満たす最小線幅の矩形パターンと、縦方向の線幅がデザインルールを満たす最小線幅の矩形パターンを含むように形成されるようにしてもよい。これらの矩形パターンは、さらにその面積がデザインルールを満たす最小面積になるように形成されるようにしてもよい。
【００２４】
また、第１のダミーパターンは、横方向の線幅及び縦方向の線幅がデザインルールを満たさない矩形パターンにより構成され、第２のダミーパターンは、矩形パターンから第１のダミーパターンの形状をくり抜いた形状のパターンにより構成されていてもよい。第１のダミーパターンと第２のダミーパターンはともに、さらにその面積がデザインルールを満たさないように形成されていてもよい。さらに、マクロセルが配置予定領域に配置された場合に当該第１のダミーパターン及び当該第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは、横方向の線幅及び縦方向の線幅がともにデザインルールを満たす最小線幅の矩形パターンとして形成されるようにしてもよい。この矩形パターンは、さらにその面積がデザインルールを満たす最小面積になるように形成されるようにしてもよい。
【００２５】
このように、第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンがともに、横方向の線幅及び縦方向の線幅がデザインルールを満たさないように構成されており、マクロセルが配置予定領域に配置された場合に第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンの面積がデザインルールを満たす最小面積になる場合には、マクロセルが配置予定領域に対して少しでもずれて配置されると線幅及び面積の少なくとも一方のデザインルールを満たさないダミーパターンが形成される。従って、マクロセルの配置ずれを容易に発見することができる。
【００２６】
（７）本発明は、
上記のいずれかに記載のレイアウト設計方法によって前記集積回路装置のレイアウトパターンを設計するステップと、
前記レイアウトパターンが描画されたフォトマスクを作成するステップと、
前記フォトマスクを用いて集積回路を半導体基板に形成するステップと、を含むことを特徴とする集積回路装置の製造方法である。
【００２７】
（８）本発明は、
集積回路装置の設計に使用されるマクロセルであって、
少なくとも１つのレイヤーのレイアウトパターンにおいて所定のデザインルールを満たさないダミーパターンが形成されたレイアウトパターン情報を含むことを特徴とする。
【００２８】
（９）本発明のマクロセルにおいて、
前記ダミーパターンの形状は、非線対称かつ非点対称であってもよい。
【００２９】
（１０）本発明のマクロセルにおいて、
前記ダミーパターンは、前記マクロセルの種類を識別可能なレイアウトパターンであってもよい。
【００３０】
（１１）本発明のマクロセルにおいて、
前記所定のデザインルールは、レイアウトパターンの線幅を規定するデザインルール及びレイアウトパターンの面積を規定するデザインルールの少なくとも一方のデザインルールであってもよい。
【００３１】
（１２）本発明は、
上記のいずれかに記載のマクロセルを含む集積回路装置である。
【００３２】
（１３）本発明は、
上記に記載の集積回路装置と、
前記集積回路装置の処理対象となるデータの入力手段と、
前記集積回路装置により処理されたデータを出力するための出力手段とを含むことを特徴とする電子機器である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
【００３４】
１．マクロセル（ＩＰモジュール）
図１は、本実施形態のマクロセル（ＩＰモジュール）について説明するための図である。
【００３５】
マクロセル１は、回路接続情報１０、レイアウトパターン情報２０、シミュレーション用遅延情報３０などにより構成される。
【００３６】
回路接続情報１０は、マクロセル１の機能を実現するための回路に含まれる複数の素子及び素子間を接続するネットを規定する情報である。回路接続情報１０は、例えば、トランジスタ、抵抗、キャパシタ等の素子とこれらの素子間の接続するネットを規定するアナログ回路接続情報であってもよい。また、回路接続情報１０は、例えば、論理素子とこれらの素子間の接続するネットを規定するデジタル回路接続情報であってもよい。回路接続情報１０は、例えば、Ｖｅｒｉｌｏｇネットリストファイルであってもよい。
【００３７】
レイアウトパターン情報２０は、ポリシリコン層やメタル配線層等の各レイヤー毎のレイアウトパターンを含む情報である。マクロセル１は、少なくとも１つのレイヤー（例えば、メタル５配線層）のレイアウトパターンにおいてダミーパターン（第１のダミーパターン）が形成されている。ここで、ダミーパターンは、マクロセル１の本来の機能（回路接続情報に基づいて発揮される機能）を実現するためには必要とされないパターンである。レイアウトパターン情報２０は、例えば、ＧＤＳIIファイルであってもよい。
【００３８】
シミュレーション用遅延情報３０は、回路接続情報１０において規定された各ネット間を信号が伝搬する時間を規定する情報であり、論理シミュレーションや回路シミュレーションの実行時に使用される。回路接続情報１０において規定された各ネット間を信号が伝搬する時間は、例えば、レイアウトパターン情報２０から抽出された寄生容量や寄生抵抗に基づいて計算される。シミュレーション用遅延情報３０は、例えば、ＳＤＦファイルであってもよい。
【００３９】
図２（Ａ）〜図２（Ｄ）に、マクロセルのレイアウトパターン情報に含まれる第１のダミーパターンの例を示す。第１のダミーパターンは、少なくとも１つのレイヤー（例えば、メタル５配線層）のレイアウトパターンにおいて、所定のデザインルールを満たさないように形成される。図２（Ａ）〜図２（Ｄ）に示すように、第１のダミーパターンは、例えば、１つのレイヤーのレイアウトパターンに対して許容される最小線幅（例えば、メタル５層配線の最小線幅）を規定するデザインルール（Minimum-Widthルール）を満たさないように形成されていてもよい。また、第１のダミーパターンは、例えば、１つのレイヤーのレイアウトパターンに対して許容される最小面積を規定するデザインルール（Minimum-Areaルール）を満たさないように形成されていてもよい。また、第１のダミーパターンは、例えば、１つのレイヤーのレイアウトパターンに対してMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールをともに満たさないように形成されていてもよい。
【００４０】
図２（Ａ）に示す第１のダミーパターン１００は、１３個の矩形パターン１０１〜１１３により構成されている。１３個の矩形パターン１０１〜１１３は１つのレイヤーにおいて形成されていてもよいし、２つ以上のレイヤーにおいて形成されていてもよい。例えば、パターン１０１、１０３、１０５、１０７、１０９、１１１、１１３はメタル６配線層において形成され、パターン１０２、１０４、１０６、１０８、１１０、１１２はメタル５配線層において形成されていてもよい。
【００４１】
ここで、矩形パターン１０１、１０４、１０６、１１１の各々の縦の辺の長さ（線幅）ｗ１、ｗ４、ｗ６、ｗ１１はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。一方、矩形パターン１０２、１０３、１０５、１０７、１０８、１０９、１１０、１１２、１１３の各々の横の辺の長さ（線幅）ｗ２、ｗ３、ｗ５、ｗ７、ｗ８、ｗ９、ｗ１０、ｗ１２、ｗ１３はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。すなわち、矩形パターン１０１〜１１３はすべてMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。
【００４２】
さらに、矩形パターン１０１〜１１３の各々の面積はデザインルールにおいて許容される最小面積よりも小さい。すなわち、矩形パターン１０１〜１１３はすべてMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【００４３】
従って、第１のダミーパターン１００はMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールをともに満たさない。
【００４４】
また、第１のダミーパターン１００は、矩形パターン１０１〜１１３により「Ｐ０１」の文字を形取った形状をしている。ここで、「Ｐ０１」の文字はマクロセルの種類を識別可能な文字である。すなわち、マクロセル１の第１のダミーパターン１００は「Ｐ０１」を形取った形状をしているが、他の種類のマクロセルの第１のダミーパターンは、例えば「Ｐ０２」、「Ｐ０３」、・・・のように「Ｐ０１」と異なる文字を形取った形状をしている。このように、マクロセルのレイアウトパターン情報においてマクロセルの種類を表すユニークな文字を形取った形状の第１のダミーパターンを形成しておくことにより、レイアウトパターン情報からマクロセルの種類を視覚的に簡単に識別することができる。
【００４５】
図２（Ｂ）に示す第１のダミーパターン１２０は、１０個の矩形パターン１２１〜１３０により構成されている。１０個の矩形パターン１２１〜１３０は１つのレイヤーにおいて形成されていてもよいし、２つ以上のレイヤーにおいて形成されていてもよい。例えば、パターン１２１、１２３、１２５、１２７、１２９はメタル６配線層において形成され、パターン１２２、１２４、１２６、１２８、１３０はメタル５配線層において形成されていてもよい。
【００４６】
ここで、矩形パターン１２４、１２６の各々の縦の辺の長さ（線幅）ｗ４、ｗ６はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。一方、矩形パターン１２１、１２２、１２３、１２５、１２７、１２８、１２９、１３０の各々の横の辺の長さ（線幅）ｗ１、ｗ２、ｗ３、ｗ５、ｗ７、ｗ８、ｗ９、ｗ１０はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。すなわち、矩形パターン１２１〜１３０はすべてMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。
【００４７】
さらに、矩形パターン１２１〜１３０の各々の面積はデザインルールにおいて許容される最小面積よりも小さい。すなわち、矩形パターン１２１〜１３０はすべてMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【００４８】
また、ダミーパターン１２０の形状はマクロセル１に固有のものであり、他の種類のマクロセルのダミーパターンの形状はダミーパターン１２０の形状と異なるように形成されていてもよい。このように、マクロセルのレイアウトパターン情報においてマクロセルの種類を表すユニークな形状の第１のダミーパターンを形成しておくことにより、レイアウトパターン情報からマクロセルの種類を視覚的に識別することができる。
【００４９】
図２（Ｃ）に示す第１のダミーパターン１４０は、１個のＬ字型パターン１４１により構成されている。
【００５０】
ここで、Ｌ字型パターン１４１の線幅ｗ１、ｗ２はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。すなわち、Ｌ字型パターン１４１はMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。
【００５１】
さらに、Ｌ字型パターン１４１の面積はデザインルールにおいて許容される最小面積よりも小さい。すなわち、Ｌ字型パターン１４１はMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【００５２】
従って、第１のダミーパターン１４０はMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールをともに満たさない。
【００５３】
なお、Ｌ字型パターン１４１の面積はデザインルールにおいて許容される最小面積以上であってもよい。すなわち、Ｌ字型パターン１４１はMinimum-Areaルールを満たすように形成されていてもよい。その場合は、第１のダミーパターン１４０はMinimum-Widthルールを満たさないがMinimum-Areaルールを満たす。
【００５４】
図２（Ｄ）に示す第１のダミーパターン１６０は、２個の矩形パターン１６１、１６２により構成されている。２個の矩形パターン１６１、１６２は１つのレイヤーにおいて形成されていてもよいし、２つ以上のレイヤーにおいて形成されていてもよい。例えば、パターン１６１はメタル６配線層において形成され、パターン１６２はメタル５配線層において形成されていてもよい。
【００５５】
ここで、矩形パターン１６１の横の辺の長さ（線幅）ｗ１はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。一方、矩形パターン１６２の縦の辺の長さ（線幅）ｗ２はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。すなわち、矩形パターン１６１、１６２はともにMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。
【００５６】
さらに、矩形パターン１６１、１６２の各々の面積はデザインルールにおいて許容される最小面積よりも小さい。すなわち、矩形パターン１６１、１６２はともにMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【００５７】
従って、第１のダミーパターン１６０はMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールをともに満たさない。
【００５８】
２．集積回路装置のレイアウト設計方法
図３は、本実施形態の集積回路装置のレイアウト設計方法について説明するためのフローチャート図である。
【００５９】
まず、マクロセル（ＩＰモジュール）のレイアウトパターン情報に含まれる少なくとも１つのレイヤーのレイアウトパターンにおいて、所定のデザインルールを満たさない第１のダミーパターンを作成する（ステップＳ１０）。例えば、マクロセル（ＩＰモジュール）のレイアウトパターン情報に含まれる少なくとも１つのレイヤーのレイアウトパターンにおいて、図２（Ａ）〜図２（Ｄ）のいずれかのダミーパターン（Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールの少なくとも一方を満たさないダミーパターン）を第１のダミーパターンとして作成してもよい。
【００６０】
次に、第１のダミーパターンに対応させて、集積回路装置のレイアウト領域に含まれるマクロセル（ＩＰモジュール）の配置予定領域の一部に、所定のデザインルールを満たさない第２のダミーパターンを作成する（ステップＳ２０）。ステップＳ１０及びＳ２０はダミーパターン作成ステップに対応する。
【００６１】
次に、集積回路装置のレイアウト領域にマクロセル（ＩＰモジュール）を配置する（ステップＳ３０）。ステップＳ３０はマクロセル配置ステップに対応する。
【００６２】
次に、ステップＳ３０でマクロセル（ＩＰモジュール）を配置した後の集積回路装置のレイアウトパターンが所定のデザインルールを満たすか否かをチェックする（ステップＳ４０）。ステップＳ４０はデザインルールチェックステップに対応する。
【００６３】
ステップＳ３０においてマクロセルが配置予定領域に正しく配置された場合には、ステップＳ１０で作成した第１のダミーパターンとステップＳ２０で作成した第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは所定のデザインルールを満たす。一方、第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンはともに所定のデザインルールを満たさないように形成されているので、ステップＳ３０においてマクロセルが配置予定領域に正しく配置されなかった場合には、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは所定のデザインルールを満たさない。従って、マクロセルを配置した後の集積回路装置のレイアウトパターンに対してデザインルールチェックを実行することによりマクロセルが配置予定領域に正しく配置されたか否かを簡単かつ確実にチェックすることができる。
【００６４】
所定のデザインルールに関するエラーが存在する場合（ステップＳ５０でＹｅｓの場合）、マクロセル（ＩＰモジュール）の配置位置を修正し（ステップＳ６０）、ステップＳ４０のデザインルールチェックステップを再度実行する。
【００６５】
一方、所定のデザインルールに関するエラーが存在しない場合（ステップＳ５０でＮｏの場合）は処理を終了する。
【００６６】
図４（Ａ）〜図４（Ｄ）は、図３のフローチャートのステップＳ２０において作成される第２のダミーパターンの例を示す図である。
【００６７】
図４（Ａ）〜図４（Ｄ）に示すダミーパターンは、図２（Ａ）〜図２（Ｄ）の第１のダミーパターンの各々が形成されたマクロセルが配置される配置予定領域の一部の領域において、図２（Ａ）〜図２（Ｄ）の第１のダミーパターンに対応して作成される第２のダミーパターンの例である。
【００６８】
第２のダミーパターンは所定のデザインルールを満たさないように作成される。例えば、図４（Ａ）〜図４（Ｄ）に示すように、第２のダミーパターンは、レイアウトパターンの最小線幅を規定するデザインルール（Minimum-Widthルール）及びレイアウトパターンの最小面積（Minimum-Areaルール）を規定するデザインルールの少なくとも一方のデザインルールを満たさないように作成されてもよい。
【００６９】
図４（Ａ）に示す第２のダミーパターン２００は、１３個の矩形パターン２０１〜２１３により構成されている。１３個の矩形パターン２０１〜２１３は１つのレイヤーにおいて形成されてもよいし、２つ以上のレイヤーにおいて形成されてもよい。ただし、矩形パターン２０１〜２１３は図２（Ａ）の矩形パターン１０１〜１１３とそれぞれ同じレイヤーに形成される。例えば、図２（Ａ）の矩形パターン１０１、１０３、１０５、１０７、１０９、１１１、１１３がメタル６配線層において形成され、パターン１０２、１０４、１０６、１０８、１１０、１１２がメタル５配線層において形成されている場合には、パターン２０１、２０３、２０５、２０７、２０９、２１１、２１３はメタル６配線層において形成され、パターン２０２、２０４、２０６、２０８、２１０、２１２はメタル５配線層において形成される。
【００７０】
ここで、矩形パターン２０１〜２１３の形状は、それぞれ図２（Ａ）の第１のダミーパターン１００を構成する矩形パターン１０１〜１１３の形状と同じである。すなわち、矩形パターン２０１〜２１３はそれぞれ幅ｗ１〜ｗ１３がMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。また、矩形パターン２０１〜２１３はすべてMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【００７１】
また、第２のダミーパターン２００は、矩形パターン２０１〜２１３により「Ｐ０１」の文字を形取った形状をしている。ここで、「Ｐ０１」の文字は、配置予定領域に配置すべきマクロセルの種類を示す。そして、配置予定領域に他の種類のマクロセルを配置する場合は、第２のダミーパターンは、例えば「Ｐ０２」、「Ｐ０３」、・・・のように「Ｐ０１」と異なる文字を形取った形状をしている。このように、マクロセルの種類を示す文字を形取った形状の第２のダミーパターンを作成することにより、配置可能領域に配置すべきマクロセルの種類を視覚的に簡単に識別することができる。
【００７２】
図４（Ｂ）に示す第２のダミーパターン２２０は、１０個の矩形パターン２２１〜２３０により構成されている。１０個の矩形パターン２２１〜２３０は１つのレイヤーにおいて形成されてもよいし、２つ以上のレイヤーにおいて形成されてもよい。ただし、矩形パターン２２１〜２３０は図２（Ｂ）の矩形パターン１２１〜１３０とそれぞれ同じレイヤーに形成される。例えば、図２（Ｂ）の矩形パターン１２１、１２３、１２５、１２７、１２９がメタル６配線層において形成され、パターン１２２、１２４、１２６、１２８、１３０がメタル５配線層において形成されている場合には、パターン２２１、２２３、２２５、２２７、２２９はメタル６配線層において形成され、パターン２２２、２２４、２２６、２２８、２３０はメタル５配線層において形成される。
【００７３】
ここで、矩形パターン２２１〜２３０の形状は、それぞれ図２（Ｂ）の第１のダミーパターン１２０を構成する矩形パターン１２１〜１３０の形状と同じである。すなわち、矩形パターン２２１〜２３０はそれぞれ幅ｗ１〜ｗ１０がMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。また、矩形パターン２２１〜２３０はすべてMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【００７４】
また、第２のダミーパターン２２０の形状は、配置予定領域に配置するマクロセルの種類毎に固有のものであり、配置予定領域に他の種類のマクロセルを配置する場合には第２のダミーパターンの形状はダミーパターン２２０の形状と異なるように作成する。このように、配置するマクロセルの種類毎に異なる形状の第２のダミーパターンを作成すれば、配置しようとするマクロセルが配置すべきマクロセルか否かを視覚的に識別することができる。
【００７５】
図４（Ｃ）に示す第２のダミーパターン２４０は、矩形パターンからＬ字型パターンをくり抜いたパターン２４１を含んで構成されている。パターン２４１は図２（Ｃ）のＬ字型パターン１４１と同じレイヤーに形成される。ここで、パターン２４１においてくり抜かれたＬ字型の形状は、図２（Ｃ）のＬ字型パターン２４１の形状と同じである。
【００７６】
また、パターン２４１の幅ｗ１〜ｗ４はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。すなわち、パターン２４１はMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。さらに、パターン２４１の面積はデザインルールにおいて許容される最小面積よりも小さい。すなわち、パターン２４１はMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【００７７】
なお、パターン２４１の面積はデザインルールにおいて許容される最小面積以上であってもよい。すなわち、パターン２４１はMinimum-Areaルールを満たすように形成されていてもよい。その場合は、第２のダミーパターン２４０はMinimum-Widthルールを満たさないがMinimum-Areaルールを満たす。
【００７８】
図４（Ｄ）に示す第２のダミーパターン２６０は、２個の矩形パターン２６１、２６２により構成されている。２個の矩形パターン２６１、２６２は１つのレイヤーにおいて形成されていてもよいし、２つ以上のレイヤーにおいて形成されていてもよい。ただし、矩形パターン２６１、２６２は図２（Ｄ）の矩形パターン１６１、１６２とそれぞれ同じレイヤーに形成される。例えば、図２（Ｄ）の矩形パターン１６１がメタル６配線層において形成され、パターン１６２がメタル５配線層において形成されている場合には、パターン２６１はメタル６配線層において形成され、パターン２６２はメタル５配線層において形成される。
【００７９】
ここで、矩形パターン２６１、２６２の形状は、それぞれ図２（Ｄ）の矩形パターン１６１、１６２の形状と同じである。すなわち、矩形パターン２６１、２６２はそれぞれ幅ｗ１、ｗ４がMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。また、矩形パターン２６１、２６２はともにMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【００８０】
図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、図３のフローチャートのステップＳ３０において、集積回路装置のレイアウト領域にマクロセルを配置する例を示す図である。
【００８１】
図５（Ａ）に示すように、図３のフローチャートのステップＳ１０において、マクロセル１のレイアウトパターン情報２０には、例えば図２（Ａ）の第１のダミーパターン１００が作成されている。一方、図３のフローチャートのステップＳ２０において、集積回路装置のレイアウト領域３００におけるマクロセル１の配置予定領域３１０の一部には、例えば図４（Ａ）の第２のダミーパターン２００が作成されている。
【００８２】
また、集積回路装置のレイアウト領域３００には、マクロセル１の電源を供給するための高電圧電源ライン（ＶＤＤ電源）のレイアウトパターン３２０及び低電圧電源ライン（ＶＤＤ電源）のレイアウトパターン３３０や、マクロセル１の入力ポートや出力ポートに接続される信号線のレイアウトパターン３４０、３４２、３４４、３４６等が形成されていてもよい。例えば、既存製品に含まれるＩＰを他の種類のＩＰに置き換えて新製品を開発するような場合には、ＩＰを配置する前に電源ラインのレイアウトパターン３２０、３３０及び信号線のレイアウトパターン３４０、３４２、３４４、３４６が形成されている場合もある。なお、マクロセル１を配置した後に電源ラインのレイアウトパターン３２０、３３０や信号線のレイアウトパターン３４０、３４２、３４４、３４６を作成してもよい。
【００８３】
図３のフローチャートのステップＳ３０において、集積回路装置のレイアウト領域３００にマクロセル１が配置される。ここで、通常は、マクロセル１の基準点５０が、ユーザが指定したレイアウト領域３００上の座標（Ｘ，Ｙ）で示される位置３５０に一致するようにマクロセル１が配置（自動配置又は手配置）される。従って、位置３５０の設定が正しく、かつ、マクロセル１の基準点５０が位置３５０に一致すれば、マクロセル１は配置予定領域２００に正しく配置されたことになる。マクロセル１が配置予定領域２００に正しく配置された後の集積回路装置のレイアウトパターンの例を図５（Ｂ）に示す。マクロセル１が配置予定領域２００に正しく配置された場合は、第１のダミーパターン１００と第２のダミーパターン２００により形成されるダミーパターン４００は所定のデザインルールを満たす。一方、マクロセル１が配置予定領域２００に正しく配置されなかった場合は、第１のダミーパターン１００と第２のダミーパターン２００により形成されるダミーパターンは所定のデザインルールを満たさない。
【００８４】
また、マクロセルの種類毎に異なる第１のダミーパターンが形成されている場合には、間違った種類のマクロセルが配置予定領域に正しく配置されても第１のダミーパターンと第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンはデザインルールを満たさない。
【００８５】
図６（Ａ）〜図６（Ｃ）は、図２（Ａ）の第１のダミーパターンと図４（Ａ）の第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図である。
【００８６】
図６（Ａ）は、マクロセルが配置予定領域に正しく配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【００８７】
ダミーパターン４００は、第１のダミーパターン１００を構成する１３個の矩形パターン１０１〜１１３と第２のダミーパターン２００を構成する１３個の矩形パターン２０１〜２１３がそれぞれ縦方向又は横方向に接することにより形成される１３個の矩形パターンを含む。ダミーパターン４００に含まれる１３個の矩形パターンはすべてMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たす。ここで、ダミーパターン４００に含まれる１３個の矩形パターンは、幅及び面積の少なくとも一方がデザインルールで許容される最小値になるようにしてもよい。例えば、矩形パターン１０１と２０１により形成される矩形パターンは、その幅がデザインルールで許容される最小値になるように形成されるようにしてもよい。また、矩形パターン１０２と２０２により形成される矩形パターンは、その面積がデザインルールで許容される最小値になるように形成されるようにしてもよい（さらに、幅もデザインルールで許容される最小値になるように形成されてもよい）。
【００８８】
図６（Ｂ）は、マクロセルが配置予定領域に対して横方向にずれて配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【００８９】
ダミーパターン４００’は、Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。例えば、矩形パターン１０１と２０１で形成されるパターンはMinimum-Widthルールを満たさない。また、矩形パターン１０３と２０３は接触していないため２つの独立したパターンとなり、ともにMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。
【００９０】
図６（Ｃ）は、マクロセルが配置予定領域に対して縦方向にずれて配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【００９１】
ダミーパターン４００’’は、Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。例えば、矩形パターン１０２と２０２で形成されるパターンはMinimum-Widthルールを満たさない。また、矩形パターン１０４と２０４は接触していないため２つの独立したパターンとなり、ともにMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。
【００９２】
図７（Ａ）〜図７（Ｃ）は、図２（Ｂ）の第１のダミーパターンと図４（Ｂ）の第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図である。
【００９３】
図７（Ａ）は、マクロセルが配置予定領域に正しく配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【００９４】
ダミーパターン４２０は、第１のダミーパターン１２０を構成する１０個の矩形パターン１２１〜１３０と第２のダミーパターン２２０を構成する１０個の矩形パターン２２１〜２３０がそれぞれ縦方向又は横方向に接することにより形成される１０個の矩形パターンを含む。ダミーパターン４２０に含まれる１０個の矩形パターンはすべてMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たす。ここで、ダミーパターン４２０に含まれる１０個の矩形パターンは、幅及び面積の少なくとも一方がデザインルールで許容される最小値になるようにしてもよい。例えば、矩形パターン１２１と２２１により形成される矩形パターンは、その幅がデザインルールで許容される最小値になるように形成されるようにしてもよい。また、矩形パターン１２２と２２２により形成される矩形パターンは、その面積がデザインルールで許容される最小値になるように形成されるようにしてもよい（さらに、幅もデザインルールで許容される最小値になるように形成されてもよい）。
【００９５】
図７（Ｂ）は、マクロセルが配置予定領域に対して横方向にずれて配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【００９６】
ダミーパターン４２０’は、Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。例えば、矩形パターン１２４と２２４で形成されるパターンはMinimum-Widthルールを満たさない。また、矩形パターン１２２と２２２は一部が重なっている。従って、図７（Ａ）において矩形パターン１２２と２２２により形成される矩形パターンの幅及び面積がともにデザインルールで許容される最小値になる場合は、図７（Ｂ）において矩形パターン１２２と２２２により形成される矩形パターンはMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。
【００９７】
図７（Ｃ）は、マクロセルが配置予定領域に対して縦方向にずれて配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【００９８】
ダミーパターン４２０’’は、Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。例えば、矩形パターン１２１と２２１で形成されるパターンはMinimum-Widthルールを満たさない。また、矩形パターン１２６と２２６は接触していないため２つの独立したパターンとなり、ともにMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。
【００９９】
図８（Ａ）〜図８（Ｃ）は、図２（Ｃ）の第１のダミーパターンと図４（Ｃ）の第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図である。
【０１００】
図８（Ａ）は、マクロセルが配置予定領域に正しく配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【０１０１】
ダミーパターン４４０は、第１のダミーパターン１４０（Ｌ字型パターン１４１）が、第２のダミーパターン２４０（矩形パターンからＬ字型パターンをくり抜いたパターン２４１）にぴったりとはまることにより矩形パターンとして形成される。ダミーパターン４４０は、Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たす。なお、ダミーパターン４４０は、幅及び面積がデザインルールで許容される最小値になるように形成されてもよい。
【０１０２】
図８（Ｂ）は、マクロセルが配置予定領域に対して横方向にずれて配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【０１０３】
ダミーパターン４４０’は、幅ｗ１、ｗ２、ｗ３、ｗ４においてMinimum-Widthルールを満たさない。また、ダミーパターン４４０’は、第１のダミーパターン１４０（Ｌ字型パターン１４１）と第２のダミーパターン２４０（矩形パターンからＬ字型パターンをくり抜いたパターン２４１）が一部重複するようにして形成されている。従って、図８（Ａ）のダミーパターン４４０の面積がデザインルールで許容される最小値になる場合は、図８（Ｂ）のダミーパターン４４０’はMinimum-Areaルールを満たさない。
【０１０４】
図８（Ｃ）は、マクロセルが配置予定領域に対して縦方向及び横方向にずれて配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【０１０５】
ダミーパターン４４０’’は、第１のダミーパターン１４０（Ｌ字型パターン１４１）と第２のダミーパターン２４０（矩形パターンからＬ字型パターンをくり抜いたパターン２４１）が接するようにして形成されている。従って、ダミーパターン４４０’’の面積は、図８（Ａ）のダミーパターン４４０の面積と同じであるため、ダミーパターン４４０’’はMinimum-Areaルールを満たす。しかし、ダミーパターン４４０’’は、幅ｗ１、ｗ２、ｗ３、ｗ４においてMinimum-Widthルールを満たさない。
【０１０６】
図９（Ａ）〜図９（Ｃ）は、図２（Ｄ）の第１のダミーパターンと図４（Ｄ）の第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図である。
【０１０７】
図９（Ａ）は、マクロセルが配置予定領域に正しく配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【０１０８】
ダミーパターン４６０は、第１のダミーパターン１６０を構成する２個の矩形パターン１６１、１６２と第２のダミーパターン２６０を構成する２個の矩形パターン２６１、２６２がそれぞれ横方向及び縦方向に接することにより形成される２個の矩形パターンを含む。ダミーパターン４６０に含まれる２個の矩形パターンはともにMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たす。ここで、ダミーパターン４６０に含まれる２個の矩形パターンは、幅及び面積の少なくとも一方がデザインルールで許容される最小値になるようにしてもよい。また、ダミーパターン４６０に含まれる２個の矩形パターンは、幅及び面積のいずれもデザインルールで許容される最小値になるようにしてもよい。
【０１０９】
図９（Ｂ）は、マクロセルが配置予定領域に対して横方向にずれて配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【０１１０】
ダミーパターン４６０’に含まれる２個のパターンは、矩形パターン１６１と２６１、矩形パターン１６２と２６２がそれぞれ接するようにして形成されている。そのため、図９（Ａ）のダミーパターン４６０及び図９（Ｂ）のダミーパターン４６０’において、矩形パターン１６１と２６１によって形成されるパターンの面積は同じである。同様に、図９（Ａ）のダミーパターン４６０及び図９（Ｂ）のダミーパターン４６０’において、矩形パターン１６２と２６２によって形成されるパターンの面積は同じである。従って、ダミーパターン４６０’はMinimum-Areaルールを満たす。しかし、ダミーパターン４６０’は、矩形パターン１６２と２６２によって形成されるパターンの幅ｗ１、ｗ２においてMinimum-Widthルールを満たさない。
【０１１１】
図９（Ｃ）は、マクロセルが配置予定領域に対して縦方向にずれて配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【０１１２】
ダミーパターン４６０’’に含まれる２個のパターンは、矩形パターン１６１と２６１、矩形パターン１６２と２６２がそれぞれ接するようにして形成されている。そのため、図９（Ａ）のダミーパターン４６０及び図９（Ｃ）のダミーパターン４６０’’において、矩形パターン１６１と２６１によって形成されるパターンの面積は同じである。同様に、図９（Ａ）のダミーパターン４６０及び図９（Ｃ）のダミーパターン４６０’’において、矩形パターン１６２と２６２によって形成されるパターンの面積は同じである。従って、ダミーパターン４６０’’はMinimum-Areaルールを満たす。しかし、ダミーパターン４６０’’は、矩形パターン１６１と２６１によって形成されるパターンの幅ｗ１、ｗ２においてMinimum-Widthルールを満たさない。
【０１１３】
以上説明したように、本実施形態の集積回路装置の設計方法によれば、マクロセル１が配置予定領域３１０に正しく配置された場合には、第１のダミーパターン１００、１２０、１４０、１６０と第２のダミーパターン２００、２２０、２４０、２６０によってそれぞれ形成されるダミーパターン４００、４２０、４４０、４６０はMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たす。一方、第１のダミーパターン１００、１２０、１４０、１６０及び第２のダミーパターン２００、２２０、２４０、２６０はともにMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールの少なくとも一方を満たさないように形成されているので、マクロセル１が配置予定領域３１０に正しく配置されなかった場合には、第１のダミーパターン１００、１２０、１４０、１６０と第２のダミーパターン２００、２２０、２４０、２６０によってそれぞれ形成されるダミーパターン４００’、４２０’、４４０’、４６０’又は４００’’、４２０’’、４４０’’、４６０’’等はMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールの少なくとも一方を満たさない。従って、本実施形態の集積回路装置の設計方法によれば、マクロセル１を配置した後の集積回路装置のレイアウトパターンに対してデザインルールチェックを実行することによりマクロセル１が配置予定領域３１０に正しく配置されたか否かを簡単かつ確実にチェックすることができる。
【０１１４】
また、本実施形態の集積回路装置の設計方法によれば、集積回路装置の最終的なチップレイアウトが完成する前に、マクロセル１を配置した後の集積回路装置のレイアウトパターンに対してデザインルールチェックを実行することにより、マクロセル１の配置ずれを早期に発見することができる。
【０１１５】
また、第１のダミーパターン１００、１２０、１４０、１６０は、いずれも線対称及び点対称のいずれでもない形状のレイアウトパターンである。従って、本実施形態の集積回路装置の設計方法によれば、マクロセル１が配置された後の集積回路装置のレイアウトパターンに対してデザインルールチェックを実行することにより、マクロセル１の配置方向の間違いを容易にチェックすることができる。
【０１１６】
図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、配置するマクロセルの種類を間違った場合に第１のダミーパターンと第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図である。
【０１１７】
図１０（Ａ）は、図２（Ａ）の第１のダミーパターンが形成されたマクロセル１と種類が異なるマクロセルにおいて形成されている第１のダミーパターンの例を示す図である。
【０１１８】
第１のダミーパターン１８０は、１６個の矩形パターン１８１〜１９６により構成されている。
【０１１９】
ここで、矩形パターン１８１、１８４、１８６、１９１、１９２、１９４、１９６の各々の縦の辺の長さ（線幅）ｗ１、ｗ４、ｗ６、ｗ１１、ｗ１２、ｗ１４、ｗ１６はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。一方、矩形パターン１８２、１８３、１８５、１８７、１８８、１８９、１９０、１９３、１９５の各々の横の辺の長さ（線幅）ｗ２、ｗ３、ｗ５、ｗ７、ｗ８、ｗ９、ｗ１０、ｗ１３、ｗ１５はデザインルールにおいて許容される最小線幅よりも小さい。すなわち、矩形パターン１８１〜１９６はすべてMinimum-Widthルールを満たさないように形成されている。
【０１２０】
さらに、矩形パターン１８１〜１９６の各々の面積はデザインルールにおいて許容される最小面積よりも小さい。すなわち、矩形パターン１８１〜１９６はすべてMinimum-Areaルールを満たさないように形成されている。
【０１２１】
従って、第１のダミーパターン１８０はMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールをともに満たさない。なお、矩形パターン１８１〜１９１は、図２（Ａ）の矩形パターン１０１〜１１１と同じ大きさ、同じ形状であり、かつ、同じ位置関係にあってもよい。
【０１２２】
また、第１のダミーパターン１８０は、矩形パターン１８１〜１９６により「Ｐ０２」の文字を形取った形状をしている。ここで、「Ｐ０２」の文字はマクロセルの種類を識別可能な文字である。
【０１２３】
図１０（Ｂ）は、間違った種類のマクロセルが配置予定領域に配置された場合に形成されるダミーパターンを示す図である。
【０１２４】
ダミーパターン４８０は、第１のダミーパターン１８０に含まれる１１個の矩形パターン１８１〜１９１と第２のダミーパターン２００に含まれる１１個の矩形パターン２０１〜２１１がそれぞれ縦方向又は横方向に接することにより形成される１１個の矩形パターンを含む。この１１個の矩形パターンはMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たす。しかし、第１のダミーパターン１８０に含まれる５個の矩形パターン１９２〜１９６と第２のダミーパターン２００に含まれる２個の矩形パターン２１２、２１３により形成されるパターンは、Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。
【０１２５】
本実施形態の集積回路装置の設計方法によれば、第１のダミーパターン１００はマクロセル１の種類を識別可能なレイアウトパターンであるので、配置予定領域３１０に間違った種類のマクロセルを配置した場合にもデザインルールエラーが発生する。従って、集積回路装置の最終的なチップレイアウトが完成する前に、マクロセルを配置した後の集積回路装置のレイアウトに対してデザインルールチェックを実行することにより、配置したマクロセルの種類の間違いを早期に発見することができる。
【０１２６】
図１１は、本実施形態の集積回路装置のレイアウト設計方法の変形例について説明するためのフローチャート図である。
【０１２７】
まず、所定のデザインルールを満たすダミーパターンを作成する（ステップＳ１００）。例えば、図６（Ａ）のダミーパターン４００（Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たすダミーパターン）を作成してもよい。
【０１２８】
次に、ステップＳ１００で作成したダミーパターンを分割して、所定のデザインルールを満たさない第１のダミーパターン（Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさないダミーパターン）及び第２のダミーパターン（Minimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさないダミーパターン）を作成する（ステップＳ１０２）。例えば、図６（Ａ）のダミーパターン４００を分割して、図２（Ａ）の第１のダミーパターン１００と図４（Ａ）の第２のダミーパターン２００を作成してもよい。
【０１２９】
次に、マクロセル（ＩＰモジュール）のレイアウトパターン情報に含まれる少なくとも１つのレイヤーにステップＳ１０２で作成した第１のダミーパターンを配置する（ステップＳ１１０）。
【０１３０】
次に、第１のダミーパターンに対応させて、集積回路装置のレイアウト領域に含まれるマクロセル（ＩＰモジュール）の配置予定領域の一部にステップＳ１０２で作成した第２のダミーパターンを配置する（ステップＳ１２０）。ステップＳ１００、Ｓ１０２、Ｓ１１０及びＳ１２０はダミーパターン作成ステップに対応する。
【０１３１】
次に、集積回路装置のレイアウト領域にマクロセル（ＩＰモジュール）を配置する（ステップＳ１３０）。ステップＳ１３０はマクロセル配置ステップに対応する。
【０１３２】
次に、ステップＳ１３０でマクロセル（ＩＰモジュール）を配置した後の集積回路装置のレイアウトパターンが所定のデザインルールを満たすか否かをチェックする（ステップＳ１４０）。ステップＳ１４０はデザインルールチェックステップに対応する。
【０１３３】
ステップＳ１３０においてマクロセルが配置予定領域に正しく配置された場合には、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンによって所定のデザインルールを満たすダミーパターン（ステップＳ１００で作成したダミーパターン）が形成される。例えば、図６（Ａ）のダミーパターン４００はMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たす。一方、第１のダミーパターン及び第２のダミーパターンはともに所定のデザインルールを満たさないように形成されているので、ステップＳ１３０においてマクロセルが配置予定領域に正しく配置されなかった場合には、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンによって形成されるダミーパターンは所定のデザインルールを満たさない。例えば、図６（Ｂ）のダミーパターン４００’及び図６（Ｃ）のダミーパターン４００’’はMinimum-Widthルール及びMinimum-Areaルールを満たさない。
【０１３４】
従って、マクロセルを配置した後の集積回路装置のレイアウトパターンに対してデザインルールチェックを実行することによりマクロセルが配置予定領域に正しく配置されたか否かを簡単かつ確実にチェックすることができる。
【０１３５】
所定のデザインルールに関するエラーが存在する場合（ステップＳ１５０でＹｅｓの場合）、マクロセル（ＩＰモジュール）の配置位置を修正し（ステップＳ１６０）、ステップＳ１４０のデザインルールチェックステップを再度実行する。
【０１３６】
一方、所定のデザインルールに関するエラーが存在しない場合（ステップＳ１５０でＮｏの場合）は処理を終了する。
【０１３７】
本実施形態の集積回路装置の設計方法によれば、まず所定のデザインルールを満たすダミーパターン４００を形成した後、ダミーパターン４００を分割して第１のダミーパターン１００及び第２のダミーパターン２００を作成する。従って、ダミーパターン４００を所定のデザインルールを満たす最小値を有するように作成すれば、当該所定のデザインルールを満たさない第１のダミーパターン１００及び第２のダミーパターン２００を容易に作成することができる。
【０１３８】
３．集積回路装置の製造方法
本実施形態の集積回路装置の製造方法は、まず、図３のフローチャート又は図１１のフローチャートに基づくレイアウト設計方法によって集積回路装置のレイアウトパターンを設計する。次に、設計されたレイアウトパターンが描画されたフォトマスクを作成する。最後に、作成したフォトマスクを用いて既存の製造プロセスにより集積回路を半導体基板に形成することにより、集積回路装置を製造する。
【０１３９】
４．集積回路装置
図１２は、本実施の形態の集積回路装置のブロック図の一例である。
【０１４０】
マイクロコンピュータ７００は、ＣＰＵ５１０、キャッシュメモリ５２０、ＲＯＭ７１０、ＲＡＭ７２０、ＭＭＵ７３０、ＬＣＤコントローラ５３０、リセット回路５４０、プログラマブルタイマ５５０、リアルタイムクロック（ＲＴＣ）５６０、ＤＭＡコントローラ５７０、割り込みコントローラ５８０、通信制御回路５９０、バスコントローラ６００、Ａ／Ｄ変換器６１０、Ｄ／Ａ変換器６２０、入力ポート６３０、出力ポート６４０、Ｉ／Ｏポート６５０、クロック発生装置６６０、プリスケーラ６７０、クロック停止制御回路７４０及びそれらを接続する汎用バス６８０、専用バス７５０等、各種ピン６９０等を含む。
【０１４１】
ＣＰＵ５１０、ＲＯＭ７１０、ＲＡＭ７２０、ＬＤコントローラ５３０等は本実施の形態のマクロセルであり、マイクロコンピュータ７００は、本実施の形態の集積回路装置又は本実施の形態の集積回路装置の製造方法を用いて製造された集積回路装置である。
【０１４２】
５．電子機器
図１３に、本実施の形態の電子機器のブロック図の一例を示す。本電子機器８００は、マイクロコンピュータ（集積回路装置）８１０、入力部８２０、メモリ８３０、電源生成部８４０、ＬＣＤ８５０、音出力部８６０を含む。
【０１４３】
ここで、入力部８２０は、種々のデータを入力するためのものである。マイクロコンピュータ８１０は、この入力部８２０により入力されたデータに基づいて種々の処理を行うことになる。メモリ８３０は、マイクロコンピュータ８１０などの作業領域となるものである。電源生成部８４０は、電子機器８００で使用される各種電源を生成するためのものである。ＬＣＤ８５０は、電子機器が表示する各種の画像（文字、アイコン、グラフィック等）を出力するためのものである。
【０１４４】
音出力部８６０は、電子機器８００が出力する各種の音（音声、ゲーム音等）を出力するためのものであり、その機能は、スピーカなどのハードウェアにより実現できる。
【０１４５】
図１４（Ａ）に、電子機器の１つである携帯電話９５０の外観図の例を示す。この携帯電話９５０は、入力部として機能するダイヤルボタン９５２や、電話番号や名前やアイコンなどを表示するＬＣＤ９５４や、音出力部として機能し音声を出力するスピーカ９５６を備える。
【０１４６】
図１４（Ｂ）に、電子機器の１つである携帯型ゲーム装置９６０の外観図の例を示す。この携帯型ゲーム装置９６０は、入力部として機能する操作ボタン９６２、十字キー９６４や、ゲーム画像を表示するＬＣＤ９６６や、音出力部として機能しゲーム音を出力するスピーカ９６８を備える。
【０１４７】
図１４（Ｃ）に、電子機器の１つであるパーソナルコンピュータ９７０の外観図の例を示す。このパーソナルコンピュータ９７０は、入力部として機能するキーボード９７２や、文字、数字、グラフィックなどを表示するＬＣＤ９７４、音出力部９７６を備える。
【０１４８】
本実施の形態の集積回路装置を図１４（Ａ）〜図１４（Ｃ）の電子機器に組み込むことにより、コストパフォーマンスの高い電子機器を短期間で提供することができる。
【０１４９】
なお、本実施形態を利用できる電子機器としては、図１４（Ａ）〜図１４（Ｃ）に示すもの以外にも、携帯型情報端末、ページャー、電子卓上計算機、タッチパネルを備えた装置、プロジェクタ、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置等の種々の電子機器を考えることができる
なお、本発明は本実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
【０１５０】
例えば、図１のフローチャートにおいて、第１のダミーパターンを含むマクロセルがあらかじめ用意されている場合はステップＳ１０の処理は不要である。すなわち、例えば、第１のダミーパターンを含むＩＰを購入してステップＳ２０以降の処理を行う場合であっても、本発明の範囲に含まれる。
【０１５１】
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【図面の簡単な説明】
【０１５２】
【図１】本実施形態のマクロセル（ＩＰモジュール）について説明するための図。
【図２】図２（Ａ）〜図２（Ｄ）は、マクロセルのレイアウトパターン情報に含まれる第１のダミーパターンの例を示す図。
【図３】本実施形態の集積回路装置のレイアウト設計方法について説明するためのフローチャート図。
【図４】図４（Ａ）〜図４（Ｄ）は、第１のダミーパターンに対応して作成される第２のダミーパターンの例を示す図。
【図５】図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、集積回路装置のレイアウト領域にマクロセルを配置する例を示す図。
【図６】図６（Ａ）〜図６（Ｃ）は、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図。
【図７】図７（Ａ）〜図７（Ｃ）は、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図。
【図８】図８（Ａ）〜図８（Ｃ）は、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図。
【図９】図９（Ａ）〜図９（Ｃ）は、第１のダミーパターンと第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図。
【図１０】図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、配置するマクロセルの種類を間違った場合に第１のダミーパターンと第２のダミーパターンにより形成されるダミーパターンについて説明するための図。
【図１１】本実施形態の集積回路装置のレイアウト設計方法の変形例について説明するためのフローチャート図。
【図１２】本実施の形態の集積回路装置のブロック図の一例。
【図１３】集積回路装置を含む電子機器のブロック図の一例。
【図１４】図１４（Ａ）〜図１４（Ｃ）は、種々の電子機器の外観図の例。
【符号の説明】
【０１５３】
１  マクロセル（ＩＰモジュール）、１０  回路接続情報、２０  レイアウトパターン情報、３０  シミュレーション用遅延時間情報、５０  基準点、１００  第１のダミーパターン、１０１〜１１３  矩形パターン、１２０  第１のダミーパターン、１２１〜１３０  矩形パターン、１４０  第１のダミーパターン、１４１  Ｌ字型パターン、１６０  第１のダミーパターン、１６１〜１６２  矩形パターン、１８０  第１のダミーパターン、１８１〜１９６  矩形パターン、２００  第２のダミーパターン、２０１〜２１３  矩形パターン、２２０  第２のダミーパターン、２２１〜２３０  矩形パターン、２４０  第２のダミーパターン、２４１  Ｌ字型パターンをくり抜いたパターン、２６０  第２のダミーパターン、２６１〜２６２  矩形パターン、３００  レイアウト領域、３１０  マクロセルの配置予定領域、３２０  電源ラインのレイアウトパターン、３３０  電源ラインのレイアウトパターン、３４０  信号線のレイアウトパターン、３４２  信号線のレイアウトパターン、３４４  信号線のレイアウトパターン、３４６  信号線のレイアウトパターン、３５０  座標（Ｘ，Ｙ）で示される位置、４００  ダミーパターン、４００’  ダミーパターン、４００’’  ダミーパターン、４２０  ダミーパターン、４２０’  ダミーパターン、４２０’’  ダミーパターン、４４０  ダミーパターン、４４０’  ダミーパターン、４４０’’  ダミーパターン、４６０  ダミーパターン、４６０’  ダミーパターン、４６０’’  ダミーパターン、４８０  ダミーパターン、５１０  ＣＰＵ、５２０  キャッシュメモリ、５３０  ＬＣＤコントローラ、５４０  リセット回路、５５０  プログラマブルタイマ、５６０  リアルタイムクロック（ＲＴＣ）、５７０  ＤＭＡコントローラ、５８０  割り込みコントローラ、５９０  通信制御回路、６００  バスコントローラ、６１０  Ａ／Ｄ変換器、６２０  Ｄ／Ａ変換器、６３０  入力ポート、６４０  出力ポート、６５０  Ｉ／Ｏポート、６６０  クロック発生装置、６７０  プリスケーラ、６８０  汎用バス、６９０  各種ピン、７００  マイクロコンピュータ（半導体集積回路装置）、７１０  ＲＯＭ、７２０  ＲＡＭ、７３０  ＭＭＵ、７４０  クロック停止制御回路、７５０  専用バス、８００  電子機器、８１０  マイクロコンピュータ（半導体集積回路装置）、８２０  入力部、８３０  メモリ、８４０  電源生成部、８５０  ＬＣＤ、８６０  音出力部、９５０  携帯電話、９５２  ダイヤルボタン、９５４  ＬＣＤ、９５６  スピーカ、９６０  携帯型ゲーム装置、９６２  操作ボタン、９６４  十字キー、９６６  ＬＣＤ、９６８  スピーカ、９７０  パーソナルコンピュータ、９７２  キーボード、９７４  ＬＣＤ、９７６  音出力部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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