(57)【要約】【課題】製造歩留まりおよび製造効率を向上させる。【解決手段】基板１００を支持面２０１Ｓａにおいて支持する支持板２０１と、その支持板２０１の支持面２０１Ｓａに形成され、その支持面２０１Ｓａにおいて基板１００と支持板２０１とを接着する接着層２０２とを有しており、基板１００において接着層２０２によって支持板２０１に接着された一方の面１００Ｓａよりも、その支持板２０１の支持面２０１Ｓａの面積が大きいものを、基板支持治具２００として用いる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持面において支持する支持板と、
前記支持板の支持面に形成されており、前記支持面において前記基板と前記支持板とを接着する接着層と
を有し、前記接着層によって前記支持板に接着された前記基板が、前記支持板から剥離される基板支持治具であって、
前記支持板は、前記基板において前記接着層によって前記支持板に接着された一方の面よりも、前記支持面の面積が大きい
基板支持治具。
【請求項２】
前記接着層は、光が照射されることによって接着力が低下するように形成されており、
前記支持板は、前記接着層へ照射される光が透過するように形成されている、
請求項１に記載の基板支持治具。
【請求項３】
前記接着層は、
前記支持面に形成され、光が照射されることによって接着力が低下し剥離される剥離用バッファー層と、
前記剥離用バッファー層を介して前記支持面に形成され、前記基板を接着すると共に、前記剥離用バッファー層へ入射する光を遮光する遮光性接着層と
を有する、
請求項２に記載の基板支持治具。
【請求項４】
前記支持板は、ガラスである、
請求項３に記載の基板支持治具。
【請求項５】
前記基板は、厚さが０．３ｍｍ以下のガラス基板である、
請求項４に記載の基板支持治具。
【請求項６】
前記基板は、前記他方の面に他の基板が対面して貼り付けられ、
当該基板支持治具は、前記基板と前記他の基板とが貼り付けられた後に、前記接着層によって前記支持板に接着された前記基板が、前記支持板から剥離される、
請求項５に記載の基板支持治具。
【請求項７】
基板支持治具によって支持されている基板であって、
前記基板支持治具は、
当該基板を支持面において支持する支持板と、
前記支持板の支持面に形成されており、前記支持面において前記基板と前記支持板とを接着する接着層と
を有し、当該基板において前記接着層によって前記支持板に接着された一方の面よりも、前記支持面の面積が大きくなるように前記支持板が形成されており、
前記接着層によって接着された支持板から剥離される
基板。
【請求項８】
基板支持治具によって支持されている基板を用いて形成された表示パネルから、前記基板支持治具を剥離する剥離工程を有する、表示パネルの製造方法であって、
前記基板支持治具は、
基板を支持面において支持する支持板と、
前記支持板の支持面に形成されており、前記支持面において前記基板と前記支持板とを接着する接着層と
を有し、
前記支持板は、前記基板において前記接着層によって前記支持板に接着された一方の面よりも、前記支持面の面積が大きい、
表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記接着層は、光が照射されることによって接着力が低下するように形成されており、
前記支持板は、前記接着層へ照射される光が透過するように形成されており、
前記剥離工程においては、前記支持板を介して前記接着層へ光を照射することによって前記接着層の接着力を低下させた後に、前記基板から前記基板支持治具を剥離する、
請求項８に記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板支持治具、基板、および、表示パネルの製造方法に関する。特に、本発明は、基板を支持面において支持する支持板と、その支持板の支持面に形成されており、その支持面において基板と支持板とを接着する接着層とを有し、その接着層によって支持板に接着された基板が、その支持板から剥離される基板支持治具に関する。また、本発明は、この基板支持治具によって支持されている基板に関する。また、本発明は、基板支持治具によって支持されている基板を用いて形成された表示パネルから、その基板支持治具を剥離する剥離工程を有する、表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置，有機ＥＬ表示装置などの表示装置は、薄型、軽量、低消費電力といった利点を有する。
【０００３】
このような表示装置において、液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層が封入された液晶パネルを、表示パネルとして有している。液晶パネルは、たとえば、透過型であって、液晶パネルの背面に設けられたバックライトなどの照明装置が出射した照明光を、その液晶パネルが変調して透過させる。そして、その変調した照明光によって画像の表示が、液晶パネルの正面にて実施される。
【０００４】
この液晶パネルは、たとえば、アクティブマトリクス方式であり、画素スイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が複数形成されているＴＦＴアレイ基板と、そのＴＦＴアレイ基板に対面するように対向する対向基板と、ＴＦＴアレイ基板および対向基板の間に設けられた液晶層とを有する。このアクティブマトリクス方式の液晶パネルにおいては、画素スイッチング素子が画素電極に電位を入力することによって、液晶層に印加する電圧を可変し、その画素を透過する光の透過率を制御して、その光を変調させる。
【０００５】
上記のような表示パネルを製造する際においては、搬送時などにおいて基板にたわみが生じて、効率的に製造を実施することが困難になる場合があるため、厚みが厚い基板を用いて表示パネルを形成後、その基板についてエッチングや研磨等の処理を実施することで、その厚さを薄くしている。
【０００６】
たとえば、大きな面積な大判の基板を用いて表示パネルを完成させる場合においては、たとえば、０．５〜０．７ｍｍ厚の基板を用いて、基板にたわみの発生することを防止しており、その厚みが厚い基板を、たとえば、０．２ｍｍ程度の厚さになるように薄くしている。
【０００７】
このように、さらに薄型にするために、基板についてエッチングや研磨等の処理を実施するため、製造効率が低下する場合があり、そして、これに伴ってコストダウンの実現が困難な場合が生じる。
【０００８】
このような不具合の発生を抑制するために、基板を支持する基板支持治具を用いる方法が提案されている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００９】
【特許文献１】特開平０８−８６９９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
図９は、基板支持治具２００によって支持された基板１００を用いて液晶パネル３００が形成された様子を示す側面図である。
【００１１】
図９に示すように、基板１００は、一方の面が基板支持治具２００に対面するように配置されており、基板支持治具２００によって支持されている。
【００１２】
基板支持治具２００は、図９に示すように、支持板２０１と、接着層２０２とを有しており、基板１００が接着層２０２によって支持板２０１に接着され、基板１００を支持する。そして、図９に示すように、基板１００を用いて液晶パネル３００が形成された後においては、基板支持治具２００は、接着層２０２によって支持板２０１に接着された基板１００が、支持板２０１から剥離される。
【００１３】
基板支持治具２００において支持板２０１は、図９に示すように、基板１００に対面し、その基板１００を支持する支持面２０１Ｓａを有している。ここでは、支持板２０１は、その支持面２０１Ｓａに接着層２０２が設けられ、その接着層２０２によって基板１００が接着される。
【００１４】
この支持板２０１は、基板１００において接着層２０２によって接着された一方の面１００Ｓａに対して、支持面２０１Ｓａの面積が略同じ大きさになるように形成されている。
【００１５】
そして、この支持板２０１において支持されている基板１００においては、レッドフィルタ層１０１Ｒとグリーンフィルタ層１０１Ｇとブルーフィルタ層１０１Ｂとを有するカラーフィルタ層１０１ＣＦが設けられ、カラーフィルタ基板１００ＣＦとして構成されている。そして、図９に示すように、画素スイッチング素子４０１と画素電極４０２と周辺回路４０３とが、基板４００ｓの一方の面に設けられたＴＦＴアレイ基板４００が、そのカラーフィルタ基板１００ＣＦに対面するように貼り付けられ、そのＴＦＴアレイ基板４００とカラーフィルタ基板１００ＣＦとの間に液晶層５００が注入され、液晶パネル３００が形成されている。
【００１６】
基板支持治具２００において接着層２０２は、図９に示すように、支持板２０１の支持面２０１Ｓａに形成されており、その支持面２０１Ｓａにおいて基板１００と支持板２０１とを接着する。
【００１７】
しかしながら、上記において、基板１００を用いて液晶パネル３００が形成された後に、基板支持治具２００から基板１００を剥離する際には、基板１００にストレスがかかり、基板１００が破壊される場合がある。特に、上記の場合においては、基板１００の端部にストレスをかけて剥離する必要があるので、そのストレスがかけられた基板１００の端部において、破損が生ずる場合がある。
【００１８】
そして、さらに、液晶パネル３００の製造においては、ＴＦＴアレイ基板と基板１００とが、その剥離の際に印加されるストレスによって、ＴＦＴアレイ基板４００と基板１００との間から液晶層５００が漏出するなどの不具合が発生する場合がある。
【００１９】
このため、上記においては、製造歩留まりの低下が生ずる場合があり、製造効率が低下する場合がある。
【００２０】
したがって、本発明は、製造歩留まりおよび製造効率の向上が可能な基板支持治具、基板、および、表示パネルの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明は、基板を支持面において支持する支持板と、前記支持板の支持面に形成されており、前記支持面において前記基板と前記支持板とを接着する接着層とを有し、前記接着層によって前記支持板に接着された前記基板が、前記支持板から剥離される基板支持治具であって、前記支持板は、前記基板において前記接着層によって前記支持板に接着された一方の面よりも、前記支持面の面積が大きい。
【００２２】
好適には、前記接着層は、光が照射されることによって接着力が低下するように形成されており、前記支持板は、前記接着層へ照射される光が透過するように形成されている。
【００２３】
好適には、前記接着層は、前記支持面に形成され、光が照射されることによって接着力が低下し剥離される剥離用バッファー層と、前記剥離用バッファー層を介して前記支持面に形成され、前記基板を接着すると共に、前記剥離用バッファー層へ入射する光を遮光する遮光性接着層とを有する。
【００２４】
好適には、前記支持板は、ガラスである。
【００２５】
好適には、前記基板は、厚さが０．３ｍｍ以下のガラス基板である。
【００２６】
好適には、前記基板は、前記他方の面に他の基板が対面して貼り付けられ、当該基板支持治具は、前記基板と前記他の基板とが貼り付けられた後に、前記接着層によって前記支持板に接着された前記基板が、前記支持板から剥離される。
【００２７】
また、本発明は、基板支持治具によって支持されている基板であって、前記基板支持治具は、当該基板を支持面において支持する支持板と、前記支持板の支持面に形成されており、前記支持面において前記基板と前記支持板とを接着する接着層とを有し、当該基板において前記接着層によって前記支持板に接着された一方の面よりも、前記支持面の面積が大きくなるように前記支持板が形成されており、前記接着層によって接着された支持板から剥離される。
【００２８】
また、本発明は、基板支持治具によって支持されている基板を用いて形成された表示パネルから、前記基板支持治具を剥離する剥離工程を有する、表示パネルの製造方法であって、前記基板支持治具は、基板を支持面において支持する支持板と、前記支持板の支持面に形成されており、前記支持面において前記基板と前記支持板とを接着する接着層とを有し、前記支持板は、前記基板において前記接着層によって前記支持板に接着された一方の面よりも、前記支持面の面積が大きい。
【００２９】
好適には、前記接着層は、光が照射されることによって接着力が低下するように形成されており、前記支持板は、前記接着層へ照射される光が透過するように形成されており、前記剥離工程においては、前記支持板を介して前記接着層へ光を照射することによって前記接着層の接着力を低下させた後に、前記基板から前記基板支持治具を剥離する。
【００３０】
本発明においては、基板支持治具によって支持されている基板において、基板支持治具を剥離する。ここでは、基板支持治具は、その基板を支持面において支持する支持板と、その支持板の支持面に形成されており、その支持面において基板と支持板とを接着する接着層とを有し、支持板は、その基板において接着層によって支持板に接着された一方の面よりも、支持面の面積が大きい。このため、基板から基板支持治具を剥離する際には、支持板の支持面において基板の端部から突出した部分の面があるので、その面を支持面に対して反対側の他方の面の側へ押すことで、基板支持治具が剥離される。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、製造歩留まりおよび製造効率の向上が可能な基板支持治具、基板、および、表示パネルの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明にかかる実施形態の一例について説明する。
【００３３】
図１は、本発明の実施形態に係る基板１００の構成を示す断面図である。
【００３４】
本実施形態の基板１００は、図１に示すように、基板支持治具２００によって支持されている。ここでは、基板１００は、一方の面が基板支持治具２００に対面するように配置されており、基板支持治具２００によって支持されている。
【００３５】
詳細については後述するが、この基板１００は、液晶パネル（図示なし）のカラーフィルタ基板（図示なし）に加工される。ここでは、基板支持治具２００に対面する一方の面１００Ｓａとは反対側の他方の面１００ｂに、カラーフィルタ層（図示なし）が形成される。そして、基板１００は、その他方の面１００ＳｂがＴＦＴアレイ基板（図示なし）に対面して貼り合わされ、液晶パネルが形成された後に、基板支持治具２００から剥離される。
【００３６】
この基板１００は、たとえば、ガラス基板であり、可視光線を透過する材料によって形成されている。基板１００は、液晶パネルなどの表示パネルの薄型化のために、たとえば、厚さが０．３ｍｍ以下であり、好適には、厚さが０．０５〜０．２ｍｍである。基板１００は、ガラス基板の他に、ポリイミド、ポリアミド、カプトン、アラミドなどのように高い耐熱性を備えるプラスチック基板であっても、好適である。
【００３７】
基板支持治具２００は、図１に示すように、支持板２０１と、接着層２０２とを有しており、基板１００が接着層２０２によって支持板２０１に接着され、基板１００を支持する。そして、基板支持治具２００は、接着層２０２によって支持板２０１に接着された基板１００が、支持板２０１から剥離される。
【００３８】
基板支持治具２００において支持板２０１は、図１に示すように、基板１００に対面し、その基板１００を支持する支持面２０１Ｓａを有している。ここでは、支持板２０１は、その支持面２０１Ｓａに接着層２０２が設けられ、その接着層２０２によって基板１００が接着される。
【００３９】
この支持板２０１は、たとえば、石英、ソーダガラス、強化ガラスなどのガラス基板であり、接着層２０２が設けられた支持面２０１Ｓａに対して反対側の面２０１Ｓｂの側から、接着層２０２へ光が透過するように形成されている。また、この支持板２０１は、機械的強度を確保するため、たとえば、厚さが０．４ｍｍ以上になるように形成されている。
【００４０】
また、本実施形態においては、支持板２０１は、基板１００において接着層２０２によって接着された一方の面１００Ｓａよりも、支持面２０１Ｓａの面積が大きくなるように形成されている。
【００４１】
基板支持治具２００において接着層２０２は、図１に示すように、支持板２０１の支持面２０１Ｓａに形成されており、その支持面２０１Ｓａにおいて基板１００と支持板２０１とを接着する。
【００４２】
この接着層２０２は、図１に示すように、剥離用バッファー層２０２ａと、遮光性接着層２０２ｂとを有しており、支持板２０１の支持面２０１Ｓａの側から、剥離用バッファー層２０２ａと、遮光性接着層２０２ｂとが、順次、設けられている。
【００４３】
接着層２０２の剥離用バッファー層２０２ａは、図１に示すように、支持板２０１の支持面２０１Ｓａ上に設けられており、遮光性接着層２０２ｂが積層されている。
【００４４】
この剥離用バッファー層２０２ａは、光を照射することによって硬化する光硬化性の接着材料によって形成されている。ここでは、剥離用バッファー層２０２ａは、接着剤と光重合性化合物と光重合開始剤とを含む層が成膜されることによって形成される。そして、剥離用バッファー層２０２ａは、光が照射されることによって重合が開始されて硬化し、接着力が低減する。
【００４５】
具体的には、剥離用バッファー層２０２ａは、接着剤として、たとえば、エポキシ樹脂またはアクリル樹脂を用いることが好適である。また、光重合性化合物としては、たとえば、アクリレートモノマーが好適である。また、光重合開始剤としては、たとえば、ベンゾインなどが好適である。他に、尿素樹脂、イミド樹脂、アミド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂や、高温プロセスでの変性の少ないフッ素系樹脂や、含シリコン系樹脂、ポリスルフォン、ポリアクリレートなどが使用できる。また、ポリエーテルを含ませて、剥離をアシストするなど、添加剤を加えることも可能である。
【００４６】
そして、剥離用バッファー層２０２ａは、たとえば、５〜１００μｍの厚さになるように設けられる。
【００４７】
本実施形態においては、たとえば、紫外線が照射されることによって硬化する紫外線硬化性接着剤層として、この剥離用バッファー層２０２ａを形成する。
【００４８】
ここでは、紫外線硬化性接着剤層を有するダイシングテープを、支持板２０１の支持面２０１Ｓａに貼り付け、そのダイシングテープの紫外線硬化性接着剤層を、剥離用バッファー層２０２ａとして設けても好適である。たとえば、リンテック社、古河電工社製のダイシングテープを用いることができる。また、住友３Ｍ社製のウエハサポートシステム［ＬＴＨＣ（ｌｉｇｈｔ−ｔｏ−ｈｅａｔ  ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ）材］なども、使用可能である。
【００４９】
接着層２０２の遮光性接着層２０２ｂは、図１に示すように、支持板２０１の支持面２０１Ｓａにおいて、剥離用バッファー層２０２ａを介して設けられており、剥離用バッファー層２０２ａに積層されている。
【００５０】
この遮光性接着層２０２ｂは、基板１００を接着すると共に、その接着した基板１００の側から剥離用バッファー層２０２ａへ入射する光を遮光するように形成されている。ここでは、遮光性接着層２０２ｂは、接着剤と遮光性材料とを含む層が成膜されることによって形成される。
【００５１】
具体的には、遮光性接着層２０２ｂは、接着剤としては、剥離用バッファー層２０２ａと同様に、たとえば、エポキシ樹脂またはアクリル樹脂を用いることが好適である。また、遮光性材料としては、たとえば、カーボンブラックを用いることが好適であって、たとえば、接着剤の重量に対して、５〜１０重量％の割合を含有することが好適である。また、カーボンブラックの他に、特性吸収を持った染料もしくは顔料などでも良い。
【００５２】
そして、遮光性接着層２０２ｂは、たとえば、５〜１００μｍの厚さになるように設けられる。
【００５３】
以下より、上記の基板１００を用いて、液晶パネルを製造する製造方法について説明する。
【００５４】
図２から図８は、本発明にかかる実施形態において、基板１００を用いて液晶パネルを製造する製造方法を示す側面図である。
【００５５】
まず、図２に示すように、基板１００に樹脂ブラック層１０１Ｋを形成する。
【００５６】
ここでは、たとえば、カーボンブラックとフォトレジスト樹脂とを含む塗布液を、基板１００において、基板支持治具２００に対面する一方の面１００Ｓａに対して反対側の他方の面１００Ｓｂに塗布した後に乾燥することによって、図２（ａ）に示すように、ブラックレジスト膜１０１ＫＲを成膜する。たとえば、スピンコート法によって塗布し、ブラックレジスト膜１０１ＫＲを、基板１００の他方の面１００Ｓｂの全面に成膜する。
【００５７】
その後、所定のマスクパターンが形成された露光マスク（図示なし）を介して、そのブラックレジスト膜１０１ＫＲについて露光処理を実施した後、現像処理を実施することで、ブラックレジスト膜１０１ＫＲをパターン加工し、図２（ｂ）に示すように、樹脂ブラック層１０１Ｋを形成する。本実施形態においては、図２（ｂ）に示すように、基板１００の面において画像表示が実施される表示領域ＰＡの周辺に位置する周辺領域ＣＡに対応するように、ブラックレジスト膜１０１ＫＲをパターン加工することで、樹脂ブラック層１０１Ｋを形成する。
【００５８】
つぎに、図３に示すように、基板１００にレッドフィルタ層１０１Ｒを形成する。
【００５９】
ここでは、たとえば、赤色着色剤とフォトレジスト樹脂とを含む塗布液を、基板１００の他方の面１００Ｓｂに塗布した後に乾燥することによって、図３（ａ）に示すように、レッドレジスト膜１０１ＲＲを成膜する。たとえば、スピンコート法によって塗布し、レッドレジスト膜１０１ＲＲを、基板１００の他方の面１００Ｓｂの全面に成膜する。
【００６０】
その後、所定のマスクパターンが形成された露光マスク（図示なし）を介して、そのレッドレジスト膜１０１ＲＲについて露光処理を実施した後、現像処理を実施することで、レッドレジスト膜１０１ＲＲをパターン加工し、図３（ｂ）に示すように、レッドフィルタ層１０１Ｒを形成する。本実施形態においては、図３（ｂ）に示すように、基板１００の面において画像表示が実施される表示領域ＰＡの複数の画素のそれぞれに対応するように、レッドレジスト膜１０１ＲＲをパターン加工することで、レッドフィルタ層１０１Ｒを形成する。
【００６１】
つぎに、図４に示すように、基板１００にグリーンフィルタ層１０１Ｇとブルーフィルタ層１０１Ｂとを形成する。
【００６２】
ここでは、上記のレッドフィルタ層１０１Ｒと同様にして、グリーンフィルタ層１０１Ｇとブルーフィルタ層１０１Ｂとを、順次、複数の画素のそれぞれに対応するように、形成する。本実施形態においては、図４に示すように、レッドフィルタ層１０１Ｒとグリーンフィルタ層１０１Ｇとブルーフィルタ層１０１Ｂとを１組として、複数の画素のそれぞれに対応するように形成する。
【００６３】
つまり、緑色着色剤とフォトレジスト樹脂とを含む塗布液を、基板１００の他方の面１００Ｓｂに塗布した後に乾燥することによって、グリーンレジスト膜（図示なし）を成膜後、そのグリーンレジスト膜をパターン加工することによって、複数の画素のそれぞれに対応するように、グリーンフィルタ層１０１Ｇを形成する。
【００６４】
また、その後、たとえば、青色着色剤とフォトレジスト樹脂とを含む塗布液を、基板１００の他方の面１００Ｓｂに塗布した後に乾燥することによって、ブルーレジスト膜（図示なし）を成膜後、そのブルーレジスト膜をパターン加工することによって、複数の画素のそれぞれに対応するように、ブルーフィルタ層１０１Ｂを形成する。
【００６５】
そして、図４に示すように、レッドフィルタ層１０１Ｒとグリーンフィルタ層１０１Ｇとブルーフィルタ層１０１Ｂとを介在するように、基板１００の他方の面１００Ｓｂに共通電極１０２を形成する。
【００６６】
このようにして、レッドフィルタ層１０１Ｒとグリーンフィルタ層１０１Ｇとブルーフィルタ層１０１Ｂとを有するカラーフィルタ層１０１ＣＦを、基板１００に設けることによって、カラーフィルタ基板１００ＣＦを形成する。
【００６７】
つぎに、図５に示すように、液晶パネル３００を形成する。
【００６８】
ここでは、図５に示すように、画素スイッチング素子４０１と画素電極４０２と周辺回路４０３とが基板４００ｓの一方の面に設けられたＴＦＴアレイ基板４００を準備する。
【００６９】
具体的には、ＴＦＴアレイ基板４００においては、基板４００ｓにて、複数の画素がマトリクス状に配置され、画像表示が実施される表示領域ＰＡに、画素スイッチング素子４０１としてＴＦＴが形成され、画素電極４０２として透明電極が設けられている。そして、その表示領域ＰＡの周辺に位置する周辺領域ＣＡに、画素スイッチング素子４０１を駆動し、画像表示を実施させる周辺回路４０３が形成されている。たとえば、線順次に周辺回路４０３が画素を駆動するように構成されている。ここでは、画素スイッチング素子４０１であるＴＦＴは、ゲート電極が走査線（図示なし）を介して周辺回路４０３に電気的に接続されると共に、ソース電極が信号線（図示なし）を介して周辺回路４０３に電気的に接続され、ドレイン電極が画素電極４０２に電気的に接続されている。この画素スイッチング素子４０１であるＴＦＴにおいては、周辺回路４０３から走査信号がゲート電極に供給され、オン状態になり、そして、周辺回路４０３からデータ信号がソース電極に供給されることによって、ドレイン電極から画素電極４０２にデータ信号を印加するように、駆動される。
【００７０】
そして、ＴＦＴアレイ基板４００を準備した後には、図５に示すように、そのＴＦＴアレイ基板４００と基板１００とを、画素電極４０２と共通電極１０２とが間隔を隔てて対面するように、シール材Ｓを用いて貼り合わせる。
【００７１】
ここでは、ＴＦＴアレイ基板４００と基板１００とのそれぞれにおいて、互いに対面させる面に配向膜（図示なし）を設け、その配向膜にラビング処理を実施した後に、ＴＦＴアレイ基板４００と基板１００とを貼り合わせる。ここでは、周辺領域ＣＡにシール材Ｓを形成し、ＴＦＴアレイ基板４００と基板１００とを貼り合わせる。
【００７２】
そして、図５に示すように、ＴＦＴアレイ基板４００と基板１００とが対面する間であって、表示領域ＰＡに対応する領域の間隔に液晶を注入することによって、液晶層５００を形成する。
【００７３】
このようにすることによって、基板１００を用いて、アクティブマトリクス方式の液晶パネル３００を形成する。
【００７４】
つぎに、図６に示すように、基板支持治具２００の剥離用バッファー層２０２ａに光を照射する。
【００７５】
ここでは、基板支持治具２００の支持板２０１を介して剥離用バッファー層２０２ａに紫外線レーザーＬＢを、一方の端部から他方の端部へ順次照射することによって、剥離用バッファー層２０２ａにおいて重合が開始され、硬化し、接着力が低減する。つまり、支持板２０１の支持面２０１Ｓａに対して反対側に位置する他方の面２０１Ｓｂの側から、紫外線レーザーＬＢを照射し、剥離用バッファー層２０２ａを硬化させる。
【００７６】
つぎに、図７に示すように、支持板２０１を剥離する。
【００７７】
ここでは、液晶パネル３００を固定した後、図７に示すように、支持板２０１の支持面２０１Ｓａにおいて基板１００の端部から突出した部分の面２０１Ｓｈを、支持面２０１Ｓａに対して反対側の他方の面２０１Ｓｂの側へ押す。剥離用バッファー層２０２ａの接着力が低下しているので、これにより、支持板２０１が剥離用バッファー層２０２ａにおいて剥離される。
【００７８】
つぎに、図８に示すように、接着層２０２を剥離する。
【００７９】
ここでは、図８に示すように、剥離用バッファー層２０２ａと、遮光性接着層２０２ｂとを含む接着層２０２を、たとえば、有機溶剤を用いて剥離する。なお、有機溶剤を用いずに、物理的に力を加えることで、接着層２０２を剥離してもよい。
【００８０】
以上のように、本実施形態において、液晶パネル３００を製造する際には、基板支持治具２００によって支持されている基板１００から、その基板支持治具２００を剥離する。ここでは、基板支持治具２００は、基板１００を支持面２０１Ｓａにおいて支持する支持板２０１と、その支持板２０１の支持面２０１Ｓａに形成されており、その支持面２０１Ｓａにおいて基板１００と支持板２０１とを接着する接着層２０２とを有しており、基板１００において接着層２０２によって支持板２０１に接着された一方の面１００Ｓａよりも、その支持板２０１の支持面２０１Ｓａの面積が大きい。このため、本実施形態においては、支持板２０１の支持面２０１Ｓａにおいて基板１００の端部から突出した部分の面があるので、その面を支持面２０１Ｓａに対して反対側の他方の面２０１Ｓｂの側へ押すことで、支持板２０１を容易に剥離することができる。
【００８１】
したがって、本実施形態は、製造歩留まりおよび製造効率を向上させることができる。
【００８２】
また、本実施形態においては、接着層２０２は、光が照射されることによって接着力が低下するように形成されている。そして、支持板２０１は、その接着層２０２へ照射される光が透過するように形成されている。そして、基板支持治具２００によって支持されている基板１００から、その基板支持治具２００を剥離する際には、その支持板２０１を介して接着層２０２へ光を照射することによって接着層２０２の接着力を低下させた後に、基板１００から基板支持治具２００を剥離する。このように、本実施形態は、接着層２０２の接着力を低下させた後に、基板支持治具２００を基板１００から剥離するので、製造歩留まりおよび製造効率を向上させることができる。
【００８３】
また、本実施形態においては、接着層２０２は、剥離用バッファー層２０２ａと、遮光性接着層２０２ｂとを有しており、その剥離用バッファー層２０２ａが、支持板２０１の支持面２０１Ｓａに設けられ、光が照射されることによって接着力が低下して剥離されるように形成されている。そして、その遮光性接着層２０２ｂが、剥離用バッファー層２０２ａを介して支持面２０１Ｓａに形成されて基板１００を接着すると共に、剥離用バッファー層２０２ａへ入射する光を遮光するように形成されている。このように、本実施形態は、遮光性接着層２０２ｂが剥離用バッファー層２０２ａへ入射する光を遮光するように形成されているため、基板１００に接着された状態で、剥離用バッファー層２０２ａが硬化することを抑制できるので、基板支持治具２００が、基板１００を好適に支持することができる。よって、本実施形態は、製造歩留まりおよび製造効率を向上させることができる。
【００８４】
また、本実施形態においては、基板１００は、薄型化の実現のために、厚さが０．３ｍｍ以下であり、機械的強度が小さく、製造歩留まりおよび製造効率の低下が生ずる可能性が高いが、液晶パネル３００へ加工される際においては、上記のような基板支持治具２００によって支持されているので、本実施形態は、製造歩留まりおよび製造効率を向上させることができる。
【００８５】
本発明の実施に際しては、上記した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。
【００８６】
たとえば、上記の実施形態においては、液晶パネルを製造する際に適用する場合について説明したが、これに限定されない。さらに、有機ＥＬ表示素子などの他の表示パネルにおいても、適用可能である。
【００８７】
また、上記の実施形態においては、大判の基板１００を用いて、１枚の液晶パネル３００を製造する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、複数に分割し、複数の液晶パネルを製造する場合においても、同様に、適用可能である。
【００８８】
また、上記の実施形態においては、接着層２０２として、剥離用バッファー層２０２ａと遮光性接着層２０２ｂとの２層を形成する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、接着層２０２として、本実施形態の剥離用バッファー層２０２ａのように、光が照射されることによって接着力が低下する層のみであってもよい。また、２層に限らず、３層以上の層構成にて、この接着層２０２を形成してもよい。
【００８９】
なお、上記の実施形態において、基板１００は、本発明の基板に相当する。また、上記の実施形態において、基板支持治具２００は、本発明の基板支持治具に相当する。また、上記の実施形態において、支持板２０１は、本発明の支持板に相当する。また、上記の実施形態において、支持面２０１Ｓａは、本発明の支持面に相当する。また、上記の実施形態において、接着層２０２は、本発明の接着層に相当する。また、上記の実施形態において、剥離用バッファー層２０２ａは、本発明の剥離用バッファー層に相当する。また、上記の実施形態において、遮光性接着層２０２ｂは、本発明の遮光性接着層に相当する。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係る基板１００の構成を示す断面図である。
【図２】図２は、本発明にかかる実施形態において、基板１００を用いて液晶パネルを製造する製造方法を示す側面図である。
【図３】図３は、本発明にかかる実施形態において、基板１００を用いて液晶パネルを製造する製造方法を示す側面図である。
【図４】図４は、本発明にかかる実施形態において、基板１００を用いて液晶パネルを製造する製造方法を示す側面図である。
【図５】図５は、本発明にかかる実施形態において、基板１００を用いて液晶パネルを製造する製造方法を示す側面図である。
【図６】図６は、本発明にかかる実施形態において、基板１００を用いて液晶パネルを製造する製造方法を示す側面図である。
【図７】図７は、本発明にかかる実施形態において、基板１００を用いて液晶パネルを製造する製造方法を示す側面図である。
【図８】図８は、本発明にかかる実施形態において、基板１００を用いて液晶パネルを製造する製造方法を示す側面図である。
【図９】図９は、基板支持治具２００によって支持された基板１００を用いて液晶パネル３００が形成された様子を示す側面図である。
【符号の説明】
【００９１】
１００：基板（基板）、２００：基板支持治具（基板支持治具）、２０１：支持板（支持板）、２０１Ｓａ：支持面（支持面）、２０２：接着層（接着層）、２０２ａ：剥離用バッファー層（剥離用バッファー層）、２０２ｂ：遮光性接着層（遮光性接着層）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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