(57)【要約】【課題】パターン検査機で検査された欠陥画像から水残り欠陥を特定できるようにしたパターン検査機による水残り判定方法を提供することを目的とする。【解決手段】カラーフィル基板上の欠陥をパターン検査機で検査する欠陥検査方法において、パターン検査機で欠陥画像を取得し、欠陥画像のＰｉｘｅｌ画像表示から形状判定と、欠陥画像のコントラスト波形かコントラスト判定と、を行って水残りを特定するパターン検査機による水残り特定方法である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィル基板上の欠陥をパターン検査機で検査する欠陥検査方法において、
前記パターン検査機で欠陥画像を取得し、前記欠陥画像のＰｉｘｅｌ画像表示から形状判定と、前記欠陥画像のコントラスト波形かコントラスト判定と、を行って水残りを特定することを特徴とするパターン検査機による水残り判定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン検査機で検査された欠陥画像から水残り欠陥を特定するパターン検査機による水残り判定方法に関し、特に欠陥画像のＰｉｘｅｌ画像表示とコントラスト波形表示を行って、水残りを特定するためのパターン検査機による水残り判定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型カラーテレビ、ノートパソコン、携帯用電子機器の増加に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要の増加はめざましいものがある。
これらカラーカラー液晶ディスプレイに使用されるカラーフィルタ基板は、パターン精度、分光特性、欠陥レベルに対しても高度のものが要求されており、カラーフィルタ基板に対する表示品位の要求が厳しくなっている。
【０００３】
カラー液晶ディスプレイパネルに用いられるカラーフィルタ基板は、ガラス基板等の透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ等からなる着色フィルタ、スペーサー等がフォトマスクを用いたパターン露光、現像等のパターニング処理を行うフォトリソグラフィープロセスを経て形成されるのが一般的である。
カラーフィルタ基板に発生した欠陥（異物、白ピン等）は欠陥検査装置にて検査し、カラーフィルタ修正装置にて修正して品質仕様を満たしたものが出荷される。
【０００４】
カラーフィルタ基板に発生した欠陥（異物、白ピン等）を検査するにあたって、カラーフィルタ基板に発生した異物、白ピン等の欠陥を検査するカラーフィルタの欠陥検査方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
これは、カラーフィルタの欠陥を比較検査法及び輝度検査法を用いて検査するにあたって、比較ピッチ、比較検査のしきい値、輝度検査のしきい値及び光量などの入力データを自動的に設定できるようにしたカラーフィルタの欠陥検査方法である。
【０００５】
最近の欠陥検査装置は自動化されおり、カラーフィルタ基板はインラインで欠陥検査装置のステージに搬送されて、欠陥検査は自動で行われるのが一般的である。
【０００６】
カラーフィルタ基板のカラーフィルタパターンの欠陥検査は、カラーフィルタパターンの隣り合う繰り返しパターンを比較し、特異点を抽出するパターン検査が用いられている。対象物の撮像にはラインセンサを使用し、カラーフィルタ基板を検査ステージに位置決めした後、検査ステージもしくはラインセンサを走査し、対象物を全面撮像する。
【０００７】
隣り合う繰り返しパターンの比較による検査であるから、カラーフィルタパターンのみを検査エリアとなるように、カラーフィルタ基板内に検査エリアを設定し、そのエリアに対してのみパターンの比較検査を行う。
パターンの検査では、カラーフィルタ基板の同一・周期的パターンを利用して欠陥検出を行うため、本来は欠陥でないものでも欠陥として認識してしまう。
その欠陥の一例として水残りがある。本来水残りは、オーブンにて乾燥させれば、消えてしまうもので欠陥とはならない。
しかし、現像後にパターン検査を行うと、欠陥でない水残りを欠陥として認識し、製造ラインでの基板滞留を引き起こし、処理タクトが長くなり、製造工程の効率が下がるという問題を有している。
【特許文献１】特開平１０−１０００８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、パターン検査機で検査された欠陥画像から水残りを特定できるようにしたパターン検査機による水残り判定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に於いて上記課題を達成するために、本発明においては、カラーフィルタ基板上の欠陥をパターン検査機で検査する欠陥検査方法において、
パターン検査機で欠陥画像を取得し、前記欠陥画像のＰｉｘｅｌ画像表示から形状判定と、前記欠陥画像のコントラスト波形かコントラスト判定と、を行って水残りを特定することを特徴とするパターン検査機による水残り判定方法としたものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のパターン検査機による水残り判定方法を用いて、カラーフィルタ基板上の水残りを精度良く特定することにより、カラーフィルタ基板の現像工程の工程検査において、検査の効率アップと、製造ラインでの基板滞留を引き起こさないで、製造工程の生産効率向上に寄与できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
本発明のパターン検査機による水残り判定方法は、パターン検査機で欠陥画像を取得し、前記欠陥画像のＰｉｘｅｌ画像表示から形状判定と、前記欠陥画像のコントラスト波形かコントラスト判定と、を行って水残りを特定するものである。
図１は、本発明の欠陥検査機による水残り判定方法のフローを示す説明図である。
まず、パターン検査機でカラーフィルタ基板上の欠陥を検査して欠陥画像を取得する。
次に、得られた欠陥画像のＰｉｘｅｌ画像表示とコントラスト波形の表示を行う。
欠陥画像のＰｉｘｅｌ表示画像から、欠陥の形状判定を行う。
図２は、水残りと異物欠陥とについて、Ｐｉｘｅｌ画像表示の例を示す。
図２（ａ）は、水残りと異物欠陥の拡大写真を、図２（ｂ）は、水残りのＰｉｘｅｌ画像表示例を、図２（ｃ）は、異物欠陥のＰｉｘｅｌ画像表示例を、それぞれ示す。
図３は、水残りと異物欠陥とが重なった場合のＰｉｘｅｌ画像表示の例を示す。
図３（ａ）は、水残りと異物欠陥とが重なった場合の拡大写真を、図３（ｂ）は、水残りと異物欠陥とが重なった場合のＰｉｘｅｌ画像表示例を、それぞれ示す。
【００１２】
水残りのＰｉｘｅｌ画像は、一般的に図２（ｂ）に示すように、円形、楕円形の形状を示す。これに対し、異物欠陥のＰｉｘｅｌ画像は、図２（ｃ）に示すように、形状はまちまちである。
このことから、第１段階の欠陥判定として、欠陥形状判定を行い、得られたＰｉｘｅｌ表示の欠陥画像形状が、円形、楕円形をしていれば、水残りと判定し、それ以外の欠陥は異物欠陥と判定する。
図３（ｂ）に示す水残りと異物欠陥とが重なった場合のＰｉｘｅｌ画像表示では、異物欠陥の場所が突起状になっており、円形、楕円形の形状とは判定しない。
【００１３】
図４は、水残りと異物欠陥をコントラスト表示した説明図である。
図４（ａ）は、水残りと異物欠陥の拡大写真を、図４（ｂ）は、水残りのコントラスト表示例を、図４（ｃ）は、異物欠陥のコントラスト表示例を、それぞれ示す。
水残りのコントラスト表示は、図４（ｂ）に示すように、円形、楕円形形状に係らず２段コントラストを示す。
これに対し、異物欠陥のコントラスト表示は、図４（ｃ）に示すように、１段コントラストを示す。
このことから、第２段階の欠陥判定として、欠陥コントラスト判定を行い、得られた欠陥のコントラスト表示から、２段コントラストを示していれば水残りと、１段コントラストを示していれば、異物欠陥と判定する。
【００１４】
水残り判定は、上記第１段階の欠陥形状判定と第２段階の欠陥コントラスト判定とを総合して判定することにより、判定精度を上げることができる。
【００１５】
上記したように、本発明のパターン検査機による水残り判定方法を用いて、カラーフィルタ基板上の水残りを精度良く特定定することにより、カラーフィルタ基板の現像工程の工程検査において、検査の効率アップと、製造ラインでの基板滞留を引き起こさないで、製造工程の生産効率向上に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明のパターン検査機による水残り判定方法の工程フローの一例を示す説明図である。
【図２】（ａ）は、水残りと異物欠陥の拡大写真の一例を示す説明図である。（ｂ）は、水残りのＰｉｘｅｌ画像表示の一例を示す説明図である。（ｃ）は、異物欠陥のＰｉｘｅｌ画像表示の一例を示す説明図である。
【図３】（ａ）は、水残りと異物欠陥とが重なった場合の拡大写真の一例を示す説明図である。（ｂ）は、水残りと異物欠陥とが重なった場合のＰｉｘｅｌ画像表示の一例を示す説明図である。
【図４】（ａ）は、水残りと異物欠陥の拡大写真の一例を示す説明図である。（ｂ）は、水残りのコントラスト表示の一例を示す説明図である。（ｃ）は、異物欠陥のコントラスト表示の一例を示す説明図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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