(57)【要約】【課題】水の噴霧量を格別に多くすることなく、ガスハイドレートペレットの表面全体に水膜を均一に形成する。【解決手段】ガスハイドレートを圧縮成型して成るガスハイドレートペレットａをベルトコンベア６で搬送中に、ガスハイドレートペレットａに向けて水噴霧装置２から水ｗを噴霧してガスハイドレートペレット表面に水膜を形成するペレット表面の水膜形成装置である。ベルトコンベア６上に搬送中のガスハイドレートペレットａを反転させるペレット反転手段９を設ける。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスハイドレートを圧縮して成るペレットに水を噴射してペレット表面に水膜を形成する方法において、ガスハイドレートの生成条件下で水をスプレーすることを特徴とするガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法。
【請求項２】
ガスハイドレートを圧縮成型して成るペレットをベルトコンベアで搬送中に、ガスハイドレートペレットに向けて水を噴霧してガスハイドレートペレット表面に水膜を形成するガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法において、ベルトコンベアで搬送中のガスハイドレートペレットをペレット回転手段によって反転させることを特徴とするガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法。
【請求項３】
ガスハイドレートペレットに向けて電界質を溶解させた水を噴霧することを特徴とする請求項１又は２記載のガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法。
【請求項４】
電界質がＮａＣｌ、ＣａＣｌ2 、ＭｇＣｌ2 、ＡｇＩであることを特徴とする請求項１又は２記載のガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法。
【請求項５】
ガスハイドレートを圧縮成型して成るペレットをベルトコンベアで搬送中に、ガスハイドレートペレットに向けて水噴霧装置から水を噴霧してガスハイドレートペレット表面に水膜を形成するガスハイドレートペレット表面の水膜形成装置において、ベルトコンベア上に搬送中のガスハイドレートペレットを反転させるペレット反転手段を設けたことを特徴とするガスハイドレートペレット表面の水膜形成装置。
【請求項６】
ペレット反転手段としてロール状物を使用すると共に、該ロール状物をベルトコンベアの長手方向に配置し、かつ、前記ロール状物をその軸芯を回転中心にして回転させることを特徴とする請求項５記載のガスハイドレートペレット表面の水膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法及びその装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、粉体状のガスハイドレートをブリケッテングロール式の造粒装置で圧縮成型してペレットとし、このペレットを冷却ジャケットを有するトンネル形の搬送装置本体内に設けたベルトコンベアによって搬送する過程において、水噴霧ノズルから搬送中のペレットに向けて水を噴霧してペレットの表面を氷の膜で覆うようにすることが記載されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
ところが、従来の方法では、大気圧下に取り出された、氷点下のガスハイドレートペレットに水を噴霧する方法であった。大気圧下では、天然ガスハイドレートが分解しない氷点下に保持されているので、水を噴霧すると、ペレット表面が分解してしまう問題があった。ペレット表面が分解すると、せっかく生成したガスハイドレートが分解してしまうことになり、排気ガスの包蔵量が低下する、製造に要したエネルギーが無駄になる、また、分解したガスの処理設備が必要になる等の問題がある。
【０００４】
また、水噴霧ノズルの噴霧水が搬送中のペレットに到達する前に氷結することから、搬送中のペレットの表面を氷の膜で覆うことが難しかった。更に、搬送中のペレットの表面を氷の膜で覆うことができたとしてもペレットの上部、つまり、ペレットの略北半球の部分に限られ、搬送中のペレットの全表面を均一な厚さの氷の膜で覆うことが困難であった。
【０００５】
そこで、搬送中のペレットの表面に水膜を形成する工程と、ペレットの表面に形成された水膜を氷結させる工程とを分離する一方、前工程における水噴霧量を多くすることも考えられるが、その場合、未付着水の循環量が多くなる、氷膜の厚みが大きくなるなどの新たな問題が生ずる恐れがある。
【特許文献１】特開２００２−２２０３５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、このような問題を解消するためになされたものであり、その目的とするところは、水の噴霧量を格別に多くすることなく、ペレットの表面全体に水膜を均一に形成することができるガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法及び装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願の請求項１に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法は、ガスハイドレートを圧縮して成るペレットに水を噴射してペレット表面に水膜を形成する方法において、ガスハイドレートの生成条件下で水をスプレーすることを特徴とするものである。
【０００８】
本願の請求項２に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法は、ガスハイドレートを圧縮成型して成るペレットをベルトコンベアで搬送中に、ガスハイドレートペレットに向けて水を噴霧してガスハイドレートペレット表面に水膜を形成するガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法において、ベルトコンベアで搬送中のガスハイドレートペレットをペレット回転手段によって反転させることを特徴とするものである。
【０００９】
本願の請求項３に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法は、請求項１又は２において、ガスハイドレートペレットに向けて電界質を溶解させた水を噴霧することを特徴とするものである。
【００１０】
本願の請求項４に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法は、請求項１又は２において、電界質がＮａＣｌ、ＣａＣｌ2 、ＭｇＣｌ2 、ＡｇＩであることを特徴とするものである。
【００１１】
本願の請求項５に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成装置は、ガスハイドレートを圧縮成型して成るペレットをベルトコンベアで搬送中に、ガスハイドレートペレットに向けて水噴霧装置から水を噴霧してガスハイドレートペレット表面に水膜を形成するガスハイドレートペレット表面の水膜形成装置において、ベルトコンベア上に搬送中のガスハイドレートペレットを反転させるペレット反転手段を設けたことを特徴とするものである。
【００１２】
本願の請求項６に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成装置は、請求項５において、ペレット反転手段としてロール状物を使用すると共に、該ロール状物をベルトコンベアの長手方向に配置し、かつ、前記ロール状物をその軸芯を回転中心にして回転させることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１３】
本願の請求項１に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法は、ガスハイドレートの生成条件下で水をスプレーすることを特徴とするものであり、ガスハイドレートの生成領域で、水を噴霧するので、ペレット表面が分解してしまう問題がない。
【００１４】
したがって、せっかく生成したガスハイドレートが分解してガスの包蔵量が低下することがなく、製造に要したエネルギーが無駄にならない。また、噴霧により分解したガスの処理設備が不要である。
【００１５】
水スプレーする工程は、ガスハイドレートの生成条件内であれば、造粒直後、あるいは造粒、冷却後のどちらでもよい。
【００１６】
本願の請求項２に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法は、ベルトコンベアで搬送中のガスハイドレートペレットをペレット回転手段によって反転させるので、水の噴霧量を格別に多くすることなく、ガスハイドレートペレットの表面全体に水を均一に付着させることができる。
【００１７】
本願の請求項３に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成方法は、ペレットに向けて噴霧する水に電界質が溶解しているので、電界質の作用でペレットの表面に均一な氷膜を形成することができる。電界質には、ＮａＣｌ、ＣａＣｌ2 、ＭｇＣｌ2 、ＡｇＩが好ましく使用される。
【００１８】
本願の請求項５に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成装置は、ベルトコンベア上に搬送中のガスハイドレートペレットを反転させるペレット反転手段を設けたので、方法の発明と同様に、水の噴霧量を格別に多くすることなく、ガスハイドレートペレットの表面全体に水を均一に付着させることができる。
【００１９】
本願の請求項６に係るガスハイドレートペレット表面の水膜形成装置は、ペレット反転手段としてロール状物を使用すると共に、該ロール状物をベルトコンベアの長手方向に配置し、かつ、前記ロール状物をその軸芯を回転中心にして回転させるので、ベルトコンベア上のガスハイドレートペレットを簡単に反転させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００２１】
図１〜図３は、ガスハイドレートペレットの製造方法を示すフローチャートであり、図１のガスハイドレートペレット製造工程は、ガスハイドレート生成工程Ａ、ペレット成型工程Ｂ、水噴霧工程Ｃ、ペレット冷却工程Ｄ、脱圧工程Ｅ、ガスハイドレートペレット貯蔵工程Ｆより構成されている。
【００２２】
しかし、この工程に限らず、例えば、水噴霧工程Ｃとペレット冷却工程Ｄの順を入れ換えて、図２のように、ガスハイドレート生成工程Ａ、ペレット成型工程Ｂ、ペレット冷却工程Ｄ、水噴霧工程Ｃ、脱圧工程Ｅ、ガスハイドレートペレット貯蔵工程Ｆとした例、あるいは、水噴霧工程Ｃと脱圧工程Ｅをドッキングさせて、図３のように、ガスハイドレート生成工程Ａ、ペレット成型工程Ｂ、ペレット冷却工程Ｄ、脱圧工程Ｅ／水噴霧工程Ｃ、ガスハイドレートペレット貯蔵工程Ｆとする例がある。
【００２３】
図４は、ペレット成型工程Ｂ及び水噴霧工程Ｃを具体化したものであり、ブリケッテングロール式の造粒装置１の下方に、本発明に係る水膜形成装置２を設置し、更に、水膜形成装置２のペレット排出口５の下方にガスハイドレートペレット（以下、単にペレットと称する。）ａを収容するペレットドラム３を設置している。
【００２４】
これらの機器、つまり、造粒装置１、水膜形成装置２及びペレットドラム３を収容する耐圧容器（図示せず）内は、所定の圧力（例えば、５．４ＭＰａ）及び所定の温度（例えば、５℃）に維持されている。
【００２５】
上記水膜形成装置２は、樋形状の水膜形成装置本体４内にベルトコンベア６を有すると共に、ベルトコンベア６の真上に水噴霧装置７を設けている。この水噴霧装置７は、ペレット落下点を除く長尺のパイプ８からなり、その下面に水噴霧孔（図示せず）を一定間隔で設けている。このパイプ８は、ベルトコンベア６の長手方向に配置されている。
【００２６】
また、ベルトコンベア６の上方に搬送中のペレットを反転させる金属製のロール９を配置している。このロール９は、ベルトコンベア６とほぼ同等の長さを有すると共に、ベルトコンベア６の長手方向に配置されている。
【００２７】
また、ロール９は、ベルトコンベア６に近接してベルトコンベア６上に配置されている。更に、このロール９は、電動モータ１０により、その軸芯を回転中心にして回転するようになっている。
【００２８】
ロール９が１本の場合は、図６に示すように、中折れ型のベルトコンベア６を使用することが望ましい。ベルト面が平坦なベルトコンベアを使用する場合は、ペレットの落下防止のため、複数本のロールを使用すると良い。また、ペレット反転手段としては、金属製のロールに限らず、例えば、剛毛を棒状体の半径方向に植毛した棒状のブラシ状のものでも差し支えがない。
【００２９】
また、水噴霧装置２から噴霧する水としては、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）、塩化カルシウム（ＣａＣｌ2 ）、塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ2 ）、沃化銀（Ａｇｌ）等の電解質を分散させた水を使用しても良い。沃化銀は、水分を引き寄せる機能を有するため、均一な氷膜を形成することができる。沃化銀の添加量としては、１〜１０００ｐｐｍ程度が望ましい。
【００３０】
図４のように、ブリケッテングロール式の造粒装置１からベルトコンベア６上に落下したペレットａは、ベルトコンベア６によって樋形状の水膜形成装置本体４のペレット排出口５側に搬送され、その間に水噴霧装置２のパイプ８からペレットａに向けて水ｗが噴霧されるため、ペレットａの表面に水ｗが付着する。なお、水膜の厚さと、スプレー原料水量のペレット重量に対する割合は、図７に示すようになる。
【００３１】
一方、ベルトコンベア６の長手方向に設けた金属製のロール９が矢印方向に回転するため、ベルトコンベア６上のペレットａが金属製のロール９によって反転され、ペレットａの表面に水ｗが均一に付着する。そして、ペレット表面全体が水ｗでコーティングされたペレットａは、樋形状の水膜形成装置本体４のペレット排出口５からペレットドラム３に排出される。樋形状の水膜形成装置本体４の底に達した水は、排水管（図示せず）より所定の機器（例えば、ガスハイドレート生成器、或いは脱水塔等）に戻される。
【００３２】
表面全体が水ｗでコーティングされたペレットａを収容したペレットドラム３は、図示しない冷凍庫に運ばれて氷点下（例えば、−２０℃程度）に冷却されるため、図５のように、ペレットａの表面にコーティングされた水ｗが氷結してペレットａの表面に薄い氷の膜ｉ（例えば、１０〜１００μｍ）ができる。これにより、大気圧に脱圧された後、この氷膜がガスハイドレートの分解を抑制し、安定して輸送、貯蔵を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】第１のガスハイドレートペレットの製造方法を示すフローチャートである。
【図２】第２のガスハイドレートペレットの製造方法を示すフローチャートである。
【図３】第３のガスハイドレートペレットの製造方法を示すフローチャートである。
【図４】本発明に係る水膜形成装置を含むガスハイドレートペレット製造装置の概略構成図である。
【図５】氷膜で被覆されたペレットを収容したペレットドラムの断面図である。
【図６】水膜形成装置の横断面図である。
【図７】水膜の厚さとスプレー原料水量のペレット重量に対する割合を示す図である。
【符号の説明】
【００３４】
ａ  ガスハイドレートペレット
ｗ  水
２  水噴霧装置
６  ベルトコンベア
９  ペレット反転手段
【図１】
2009249603.tif 000003
【図２】
2009249603.tif 000004
【図３】
2009249603.tif 000005
【図４】
2009249603.tif 000006
【図５】
2009249603.tif 000007
【図６】
2009249603.tif 000008
【図７】
2009249603.tif 000009