(57)【要約】【課題】先に硬化した部位と後に硬化した部位との間に形状差が発生しやすい。【解決手段】互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位１０１と、光学的に等方性を示す等方部位とを有する液晶装置の製造方法であって、前記一方の基板の前記液晶側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜９５ｂを形成する工程と、前記液状体膜の一部を硬化させて、位相差部位１０１を形成する工程と、液状体膜９５ｂのうちで位相差部位１０１の外側の少なくとも一部を硬化させて、前記等方部位を形成する工程と、を有し、前記等方部位を形成する工程の前に、前記等方部位の形成領域を囲む土手部１５７を形成する。【選択図】図１３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有する液晶装置の製造方法であって、
前記一方の基板の前記液晶側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜を形成する工程と、
前記液状体膜の一部を硬化させて、前記位相差部位及び前記等方部位のいずれか一方の部位を形成する工程と、
前記一方の部位を形成する工程の後に、前記液状体膜のうちで前記一方の部位の外側の少なくとも一部を硬化させて、前記位相差部位及び前記等方部位の他方の部位を形成する工程と、を有し、
前記他方の部位を形成する工程の前に、前記一方の部位で前記他方の部位の形成領域を囲む土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記一方の部位を形成する工程において、前記土手部を形成することを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
前記位相差部位の形成では、平面視で各前記反射領域を含む領域内の前記液状体膜を、前記入射光に前記位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、前記位相差部位を形成し、
前記等方部位の形成では、平面視で各前記透過領域を含む領域内の前記液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、前記等方部位を形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
前記土手部の形成では、前記他方の部位の形成領域を前記表示領域の外側から前記表示領域ごと囲む前記土手部を形成することを特徴とする請求項３に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
前記位相差膜を構成する材料が液晶化合物を含んでおり、
前記位相差部位の形成では、前記液晶化合物の配向状態を前記液晶化合物が前記入射光に前記位相差を付与する位相差配向状態に保ったまま、前記液晶化合物を硬化させて前記位相差部位を形成し、
前記等方部位の形成では、前記液晶化合物の配向状態を前記液晶化合物が光学的に等方性を示す等方配向状態に保ったまま、前記液晶化合物を硬化させて前記等方部位を形成することを特徴とする請求項３又は４に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
前記液晶化合物が光重合性を有しており、
前記液状体膜を形成する工程の前に、前記液晶化合物の配向状態を前記位相差配向状態に規制する配向膜を、前記一方の基板の前記液晶側に形成する工程を有し、
前記液状体膜を形成する工程では、前記液状体で前記配向膜を覆う前記液状体膜を形成し、
前記位相差部位の形成では、前記位相差部位を形成すべき領域内の前記液状体膜に光を照射して前記位相差部位を形成し、
前記等方部位の形成では、前記液晶化合物を加熱することで前記液晶化合物の配向状態を前記等方配向状態に転移させてから、前記等方部位を形成すべき領域内の前記液状体膜に前記光を照射して前記等方部位を形成し、
前記土手部の形成では、前記土手部を形成すべき領域内の前記液状体膜に前記光を照射して前記土手部を形成することを特徴とする請求項５に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項７】
前記配向膜を形成する工程では、前記一方の基板において平面視で前記表示領域を外側から囲む領域にわたって前記配向膜を形成し、
前記一方の部位を形成する工程では、前記位相差部位を形成することを特徴とする請求項６に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項８】
互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素に対応して、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定された液晶装置の製造方法であって、
前記一方の基板の前記液晶側に、前記表示領域を平面視で前記表示領域の外側から囲む土手部を形成する工程と、
少なくとも前記土手部の内側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で、前記表示領域を覆う液状体膜を形成する工程と、
平面視で各前記反射領域を含む領域内の前記液状体膜を、入射光に位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、位相差部位を形成する工程と、
平面視で前記位相差部位が形成されるべき領域の外側で各前記透過領域を含む領域内の前記液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、等方部位を形成する工程と、を有し、
前記位相差部位を形成する工程及び前記等方部位を形成する工程のうちのいずれか一方の工程の後に、前記位相差部位を形成する工程及び前記等方部位を形成する工程のうちの他方の工程を実施することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項９】
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に介在する液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、を有し、
前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有しており、
前記位相差部位及び前記等方部位のうち、一方の部位を形成した領域が、他方の部位を形成した領域によって囲まれていることを特徴とする液晶装置。
【請求項１０】
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に介在する液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、を有し、
画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、
各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、入射光に対して光学的に等方性を示す等方部位と、を有しており、
前記位相差部位は、各前記反射領域に平面視で重なる領域に設けられており、
前記等方部位は、各前記透過領域に平面視で重なる領域に設けられており、
前記位相差部位又は前記等方部位の一方が、平面視で前記表示領域の外側で前記表示領域を囲む領域にも設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項１１】
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に介在する液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、
平面視で前記位相差膜を囲む土手部と、を有し、
画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、
各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、入射光に対して光学的に等方性を示す等方部位と、を有しており、
前記位相差部位は、各前記反射領域に平面視で重なる領域に設けられており、
前記等方部位は、各前記透過領域に平面視で重なる領域に設けられており、
前記土手部は、前記位相差膜を平面視で前記表示領域の外側で囲んでいることを特徴とする液晶装置。
【請求項１２】
前記一方の基板から前記位相差部位の前記液晶側の面までの距離と、前記一方の基板から前記等方部位の前記液晶側の面までの距離とが略同等であることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか一項に記載の液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造方法及び液晶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、反射表示を行う反射領域と、透過表示を行う透過領域とを有する半透過反射型の液晶装置がある。
このような液晶装置では、従来、入射された光に位相差を与える液晶相と、入射された光に対して等方性を示す等方相とがつながった状態で形成された光学素子を有しているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１２１７４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載された液晶装置は、一対の基板間に液晶と光学素子とが介在した構成を有している。この液晶装置では、一対の基板間に介在する液晶の配向状態を変化させることにより、表示が制御される。一対の基板間に介在する光学素子は、液晶材料を硬化させた構成を有している。この光学素子は、液晶相が反射領域に対応して設けられ、等方相が透過領域に対応して設けられる。この光学素子の液晶相と等方相とは、同一の液晶材料から形成されている。
【０００５】
この光学素子の製造方法では、まず、基板に設けられた配向膜上に液晶材料を、反射領域及び透過領域間で一連した状態で塗布する。
配向膜上に塗布された液晶材料にフォトマスクを介して光を照射することにより、反射領域に対応する液晶材料を硬化させて液晶相を形成する。
反射領域に対応する液晶相を硬化させた後、液晶材料を等方相転移温度に加熱することにより、透過領域に対応する液晶材料を等方相に転移させる。
そして、等方相に転移した液晶材料を硬化させることにより、透過領域に対応する等方相を形成する。
【０００６】
ところで、反射領域に対応する液晶材料を硬化させてから透過領域に対応する液晶材料を硬化させるまでの間において、透過領域に対応する液晶材料は、未硬化の状態である。液晶材料は、未硬化の状態が長く続くと、流れ出しやすくなる。この結果、反射領域と透過領域とで液晶材料の形状差が発生しやすい。
つまり、先に硬化した部位と後に硬化した部位との間に形状差が発生しやすくなるという未解決の課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
【０００８】
［適用例１］互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有する液晶装置の製造方法であって、前記一方の基板の前記液晶側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜を形成する工程と、前記液状体膜の一部を硬化させて、前記位相差部位及び前記等方部位のいずれか一方の部位を形成する工程と、前記一方の部位を形成する工程の後に、前記液状体膜のうちで前記一方の部位の外側の少なくとも一部を硬化させて、前記位相差部位及び前記等方部位の他方の部位を形成する工程と、を有し、前記他方の部位を形成する工程の前に、前記一方の部位で前記他方の部位の形成領域を囲む土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【０００９】
適用例１の製造方法にかかる液晶装置は、液晶と、位相差膜とを有している。液晶は、互いに対向する一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板と液晶との間に介在している。位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。
この液晶装置の製造方法は、一方の基板の液晶側に液状体膜を形成する工程と、位相差部位及び等方部位のいずれか一方の部位を形成する工程と、一方の部位を形成する工程の後に位相差部位及び等方部位の他方の部位を形成する工程とを有している。液状体膜を形成する工程では、位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜を形成する。一方の部位を形成する工程では、液状体膜の一部を硬化させて、位相差部位及び等方部位のいずれか一方の部位を形成する。他方の部位を形成する工程では、液状体膜のうちで一方の部位の外側の少なくとも一部を硬化させて、位相差部位及び等方部位の他方の部位を形成する。
【００１０】
そして、この液晶装置の製造方法では、他方の部位を形成する工程の前に、一方の部位で他方の部位の形成領域を囲む土手部を形成する。この製造方法では、他方の部位を形成する前に、他方の部位の形成領域を一方の部位で囲むことができる。このため、土手部を形成してから他方の部位を形成するまでの間において、他方の形成領域における液状体を堰き止めることができる。このため、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。
【００１１】
［適用例２］上記の液晶装置の製造方法であって、前記一方の部位を形成する工程において、前記土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００１２】
適用例２では、一方の部位を形成する工程において、土手部を形成するので、一方の部位の形成と土手部の形成との間の時差を少なくすることができる。このため、一方の部位の形成と土手部の形成との間において、他方の形成領域における液状体を堰き止めることができる。この結果、位相差部位と等方部位との形状差を一層抑えやすくすることができる。
【００１３】
［適用例３］上記の液晶装置の製造方法であって、前記液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差部位の形成では、平面視で各前記反射領域を含む領域内の前記液状体膜を、前記入射光に前記位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、前記位相差部位を形成し、前記等方部位の形成では、平面視で各前記透過領域を含む領域内の前記液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、前記等方部位を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００１４】
適用例３の製造方法にかかる液晶装置は、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されている。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。
この液晶装置の製造方法において、位相差部位の形成では、平面視で各反射領域を含む領域内の液状体膜を、入射光に位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、位相差部位を形成する。また、等方部位の形成では、平面視で各透過領域を含む領域内の液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、等方部位を形成する。これにより、位相差部位を反射領域に対応させ、等方部位を透過領域に対応させることができる。このため、入射される光の変調状態を、反射領域と透過領域とで異ならせることができる。これにより、反射表示と透過表示とを実現することができる。
【００１５】
［適用例４］上記の液晶装置の製造方法であって、前記土手部の形成では、前記他方の部位の形成領域を前記表示領域の外側から前記表示領域ごと囲む前記土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００１６】
適用例４では、土手部の形成において、他方の部位の形成領域を表示領域の外側から表示領域ごと囲む土手部を形成するので、複数の他方の部位のそれぞれを個別に囲む土手部を形成するよりも、効率化を図りやすくすることができる。
【００１７】
［適用例５］上記の液晶装置の製造方法であって、前記位相差膜を構成する材料が液晶化合物を含んでおり、前記位相差部位の形成では、前記液晶化合物の配向状態を前記液晶化合物が前記入射光に前記位相差を付与する位相差配向状態に保ったまま、前記液晶化合物を硬化させて前記位相差部位を形成し、前記等方部位の形成では、前記液晶化合物の配向状態を前記液晶化合物が光学的に等方性を示す等方配向状態に保ったまま、前記液晶化合物を硬化させて前記等方部位を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００１８】
適用例５では、位相差膜を構成する材料が液晶化合物を含んでいる。この製造方法では、位相差部位の形成において、液晶化合物の配向状態を液晶化合物が入射光に位相差を付与する位相差配向状態に保ったまま、液晶化合物を硬化させて位相差部位を形成する。また、等方部位の形成において、液晶化合物の配向状態を液晶化合物が光学的に等方性を示す等方配向状態に保ったまま、液晶化合物を硬化させて等方部位を形成する。これにより、位相差部位を入射光に位相差を付与する性質にすることができるとともに、等方部位を光学的に等方性にすることができる。
【００１９】
［適用例６］上記の液晶装置の製造方法であって、前記液晶化合物が光重合性を有しており、前記液状体膜を形成する工程の前に、前記液晶化合物の配向状態を前記位相差配向状態に規制する配向膜を、前記一方の基板の前記液晶側に形成する工程を有し、前記液状体膜を形成する工程では、前記液状体で前記配向膜を覆う前記液状体膜を形成し、前記位相差部位の形成では、前記位相差部位を形成すべき領域内の前記液状体膜に光を照射して前記位相差部位を形成し、前記等方部位の形成では、前記液晶化合物を加熱することで前記液晶化合物の配向状態を前記等方配向状態に転移させてから、前記等方部位を形成すべき領域内の前記液状体膜に前記光を照射して前記等方部位を形成し、前記土手部の形成では、前記土手部を形成すべき領域内の前記液状体膜に前記光を照射して前記土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００２０】
適用例６では、液晶化合物が光重合性を有している。また、この製造方法は、液状体膜を形成する工程の前に、一方の基板の液晶側に配向膜を形成する工程を有している。配向膜は、液晶化合物の配向状態を位相差配向状態に規制する。
そして、この製造方法では、液状体膜を形成する工程において、液状体で配向膜を覆う液状体膜を形成する。位相差部位の形成では、位相差部位を形成すべき領域内の液状体膜に光を照射して位相差部位を形成する。等方部位の形成では、液晶化合物を加熱することで液晶化合物の配向状態を等方配向状態に転移させてから、等方部位を形成すべき領域内の液状体膜に光を照射して等方部位を形成する。土手部の形成では、土手部を形成すべき領域内の液状体膜に光を照射して土手部を形成する。
これにより、液状体から位相差部位、等方部位及び土手部のそれぞれを形成することができる。
【００２１】
［適用例７］上記の液晶装置の製造方法であって、前記配向膜を形成する工程では、前記一方の基板において平面視で前記表示領域を外側から囲む領域にわたって前記配向膜を形成し、前記一方の部位を形成する工程では、前記位相差部位を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００２２】
適用例７では、配向膜を形成する工程で、一方の基板において平面視で表示領域を外側から囲む領域にわたって配向膜を形成する。また、一方の部位を形成する工程では、位相差部位を形成する。これにより、等方部位を形成する前に、位相差部位で等方部位の形成領域を囲むことができる。
【００２３】
［適用例８］互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素に対応して、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定された液晶装置の製造方法であって、前記一方の基板の前記液晶側に、前記表示領域を平面視で前記表示領域の外側から囲む土手部を形成する工程と、少なくとも前記土手部の内側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で、前記表示領域を覆う液状体膜を形成する工程と、平面視で各前記反射領域を含む領域内の前記液状体膜を、入射光に位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、位相差部位を形成する工程と、平面視で前記位相差部位が形成されるべき領域の外側で各前記透過領域を含む領域内の前記液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、等方部位を形成する工程と、を有し、前記位相差部位を形成する工程及び前記等方部位を形成する工程のうちのいずれか一方の工程の後に、前記位相差部位を形成する工程及び前記等方部位を形成する工程のうちの他方の工程を実施することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【００２４】
適用例８の製造方法にかかる液晶装置は、液晶と、位相差膜とを有している。液晶は、互いに対向する一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在している。また、この液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各画素に対応して、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。
この液晶装置の製造方法は、一方の基板の液晶側に土手部を形成する工程と、少なくとも土手部の内側に液状体膜を形成する工程と、位相差部位を形成する工程と、等方部位を形成する工程とを有している。土手部を形成する工程では、表示領域を平面視で表示領域の外側から囲む土手部を形成する。液状体膜を形成する工程では、位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜を形成する。位相差部位を形成する工程では、平面視で各反射領域を含む領域内の液状体膜を、入射光に位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、位相差部位を形成する。等方部位を形成する工程では、平面視で位相差部位が形成されるべき領域の外側で各透過領域を含む領域内の液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、等方部位を形成する。
【００２５】
そして、この製造方法では、位相差部位を形成する工程及び等方部位を形成する工程のうちのいずれか一方の工程の後に、位相差部位を形成する工程及び等方部位を形成する工程のうちの他方の工程を実施する。
この製造方法では、土手部の内側に液状体膜を形成するので、液状体を土手部の内側に堰き止めることができる。液状体を土手部で堰き止めた状態で、液状体膜の一部を硬化させて位相差部位や等方部位を形成するので、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。
【００２６】
［適用例９］互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、を有し、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有しており、前記位相差部位及び前記等方部位のうち、一方の部位を形成した領域が、他方の部位を形成した領域によって囲まれていることを特徴とする液晶装置。
【００２７】
適用例９の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在しており、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。そして、位相差部位及び等方部位のうち、一方の部位を形成した領域が、他方の部位を形成した領域によって囲まれている。
【００２８】
ここで、例えば、位相差膜を構成する材料を含む液状体から位相差膜を形成する場合、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの１つを形成してから、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの他の１つを形成することが考えられる。この場合、位相差部位及び等方部位のうちの他の１つを形成する前に、この他の１つの形成領域を位相差部位及び等方部位のうちの１つで囲んでおけば、他の１つの形成領域からの液状体の流れ出しを低く抑えることができる。この結果、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。
【００２９】
この液晶装置では、位相差部位及び等方部位のうち、一方の部位を形成した領域が、他方の部位を形成した領域によって囲まれている。つまり、この液晶装置では、位相差部位と等方部位との形状差が低く抑えられているので、一方の基板から位相差部位の液晶側の面までの距離と、一方の基板から等方部位の液晶側の面までの距離との差が低く抑えられている。このため、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光の変調状態と、位相差部位から射出されてこの一方の基板に向かう光の変調状態とをそろえやすくすることができる。この結果、例えば、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光や、位相差部位から射出されて一方の基板に向かう光の漏れを低減しやすくすることができ、コントラストの向上を図りやすくすることができる。
【００３０】
［適用例１０］互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、を有し、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、入射光に対して光学的に等方性を示す等方部位と、を有しており、前記位相差部位は、各前記反射領域に平面視で重なる領域に設けられており、前記等方部位は、各前記透過領域に平面視で重なる領域に設けられており、前記位相差部位又は前記等方部位の一方が、平面視で前記表示領域の外側で前記表示領域を囲む領域にも設けられていることを特徴とする液晶装置。
【００３１】
適用例１０の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在しており、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。この液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されている。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。位相差部位は、各反射領域に平面視で重なる領域に設けられている。また、等方部位は、各透過領域に平面視で重なる領域に設けられている。
そして、この液晶装置では、位相差部位又は等方部位の一方が、平面視で表示領域の外側で表示領域を囲む領域にも設けられている。
【００３２】
ここで、例えば、位相差膜を構成する材料を含む液状体から位相差膜を形成する場合、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの一方の部位を形成してから、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの他方の部位を形成することが考えられる。この場合、位相差部位及び等方部位のうちの他方の部位を形成する前に、液状体を表示領域の外側から一方の部位で囲んでおけば、表示領域からの液状体の流れ出しを低く抑えることができる。この結果、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。
【００３３】
そして、この液晶装置では、位相差部位又は等方部位の一方が、平面視で表示領域の外側で表示領域を囲む領域にも設けられているので、位相差部位と等方部位との形状差が低く抑えられている。これにより、一方の基板から位相差部位の液晶側の面までの距離と、一方の基板から等方部位の液晶側の面までの距離との差が低く抑えられている。このため、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光の変調状態と、位相差部位から射出されてこの一方の基板に向かう光の変調状態とをそろえやすくすることができる。この結果、例えば、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光や、位相差部位から射出されて一方の基板に向かう光の漏れを低減しやすくすることができ、コントラストの向上を図りやすくすることができる。
【００３４】
［適用例１１］互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、平面視で前記位相差膜を囲む土手部と、を有し、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、入射光に対して光学的に等方性を示す等方部位と、を有しており、前記位相差部位は、各前記反射領域に平面視で重なる領域に設けられており、前記等方部位は、各前記透過領域に平面視で重なる領域に設けられており、前記土手部は、前記位相差膜を平面視で前記表示領域の外側で囲んでいることを特徴とする液晶装置。
【００３５】
適用例１１の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜と、土手部とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在しており、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。土手部は、平面視で位相差膜を囲んでいる。この液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されている。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。位相差部位は、各反射領域に平面視で重なる領域に設けられている。また、等方部位は、各透過領域に平面視で重なる領域に設けられている。
そして、この液晶装置では、土手部は、位相差膜を平面視で表示領域の外側で囲んでいる。
【００３６】
ここで、例えば、位相差膜を構成する材料を含む液状体から位相差膜を形成する場合、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの一方の部位を形成してから、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの他方の部位を形成することが考えられる。この場合、位相差部位及び等方部位のうちの他方の部位を形成する前に、液状体を表示領域の外側から土手部で囲んでおけば、表示領域からの液状体の流れ出しを低く抑えることができる。この結果、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。
【００３７】
そして、この液晶装置では、平面視で表示領域の外側で表示領域を囲む領域に土手部が設けられているので、位相差部位と等方部位との形状差が低く抑えられている。これにより、一方の基板から位相差部位の液晶側の面までの距離と、一方の基板から等方部位の液晶側の面までの距離との差が低く抑えられている。このため、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光の変調状態と、位相差部位から射出されてこの一方の基板に向かう光の変調状態とをそろえやすくすることができる。この結果、例えば、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光や、位相差部位から射出されて一方の基板に向かう光の漏れを低減しやすくすることができ、コントラストの向上を図りやすくすることができる。
【００３８】
［適用例１２］上記の液晶装置であって、前記一方の基板から前記位相差部位の前記液晶側の面までの距離と、前記一方の基板から前記等方部位の前記液晶側の面までの距離とが略同等であることを特徴とする液晶装置。
【００３９】
適用例１２では、一方の基板から位相差部位の液晶側の面までの距離と、一方の基板から等方部位の液晶側の面までの距離とが略同等であるので、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光の変調状態と、位相差部位から射出されてこの一方の基板に向かう光の変調状態とをそろえやすくすることができる。このため、例えば、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光や、位相差部位から射出されて一方の基板に向かう光の漏れを低減しやすくすることができ、コントラストの向上を図りやすくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
実施形態について、液晶装置の１つである表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
第１実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示パネル３と、照明装置５とを有している。
【００４１】
ここで、表示パネル３には、複数の画素７が設定されている。複数の画素７は、表示領域８内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。表示装置１は、照明装置５から表示パネル３に入射された光を、表示パネル３に設定されている複数の画素７から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に画像を表示することができる。なお、表示領域８とは、画像が表示され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すため、画素７が誇張され、且つ画素７の個数が減じられている。
【００４２】
表示パネル３は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、液晶パネル１０と、偏光板１３ａ及び１３ｂとを有している。
液晶パネル１０は、駆動素子基板１５と、対向基板１７と、液晶１９と、シール材２１とを有している。
駆動素子基板１５には、表示面９側すなわち液晶１９側に、複数の画素７のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。
【００４３】
対向基板１７は、駆動素子基板１５よりも表示面９側で駆動素子基板１５に対向し、且つ駆動素子基板１５との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板１７には、表示パネル３における表示面９の裏面に相当する面である底面２３側すなわち液晶１９側に、後述する位相差膜などが設けられている。
【００４４】
液晶１９は、駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に介在しており、表示パネル３の周縁よりも内側で表示領域８を囲むシール材２１によって、駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に封止されている。なお、本実施形態では、液晶１９の駆動方式として、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型の駆動方式が採用されている。
【００４５】
偏光板１３ａは、駆動素子基板１５よりも底面２３側に設けられている。偏光板１３ｂは、対向基板１７よりも表示面９側に設けられている。表示装置１では、偏光板１３ａ及び１３ｂは、偏光板１３ａにおける光の透過軸の方向と、偏光板１３ｂにおける光の透過軸の方向とが、互いに直交する方向に設定されている。偏光板１３ａ及び１３ｂは、それぞれ、透過軸の方向に偏光軸を有する光を透過させることができる。
【００４６】
なお、偏光板１３ａと駆動素子基板１５との間や、偏光板１３ｂと対向基板１７との間に、光学補償フィルムを設けた構成も採用され得る。光学補償フィルムを設けることで、液晶１９を表示面９の法線方向から見たときや、法線方向から傾斜した方向から見たときなどの液晶１９の位相差を補償することができる。これにより、光漏れを低減することができ、コントラストの向上が図られる。
【００４７】
光学補償フィルムとしては、屈折率異方性が負のディスコティック液晶分子等をハイブリッド配向させた負の一軸性媒体（例えば、富士フィルム製のＷＶフィルム）などが採用され得る。また、屈折率異方性が正のネマチック液晶分子等をハイブリッド配向させた正の一軸性媒体（例えば、日本石油製のＮＨフィルム）なども採用され得る。さらに、負の一軸性媒体と正の一軸性媒体とを組み合わせた構成も採用され得る。その他、各方向の屈折率がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとなる二軸性媒体や、負のＣ−Ｐｌａｔｅ等も採用され得る。
【００４８】
照明装置５は、表示パネル３の底面２３側に設けられており、導光板３１と、光源３３とを有している。導光板３１は、図２で見て表示パネル３の下側に設けられており、表示パネル３の底面２３に対向する光射出面３５ｂを有している。
光源３３は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などが採用され、図２で見て導光板３１の側面３５ａの左方に設けられている。
【００４９】
光源３３からの光は、導光板３１の側面３５ａに入射される。導光板３１に入射された光は、導光板３１の中で反射を繰り返しながら光射出面３５ｂから射出される。光射出面３５ｂから射出された光は、表示パネル３の底面２３から、偏光板１３ａを介して表示パネル３に入射される。なお、導光板３１には、必要に応じて、光射出面３５ｂに拡散板が設けられ、底面３５ｃに反射板が設けられる。
【００５０】
表示パネル３に設定されている複数の画素７は、それぞれ、表示面９から射出する光の色が、図３に示すように、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、Ｒの光を射出する画素７ｒと、Ｇの光を射出する画素７ｇと、Ｂの光を射出する画素７ｂとを含んでいる。
なお、以下においては、画素７という表記と、画素７ｒ、７ｇ及び７ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００５１】
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
【００５２】
マトリクスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７が、１つの画素列４１を構成している。１つの画素列４１内の各画素７は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素７ｒがＹ方向に配列した画素列４１ｒと、複数の画素７ｇがＹ方向に配列した画素列４１ｇと、複数の画素７ｂがＹ方向に配列した画素列４１ｂとを有している。そして、マトリクスＭでは、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂが、この順でＸ方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列４１という表記と、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００５３】
各画素７は、図３中のＣ部の拡大図である図４に示すように、透過領域Ｔと、反射領域Ｈとを有している。なお、図４では、構成をわかりやすく示すため、反射領域Ｈにハッチングが施されている。
透過領域Ｔでは、図２に示す照明装置５から底面２３を介して液晶１９に入射された光を表示面９側に透過させることによって、透過表示が行われる。
【００５４】
反射領域Ｈでは、表示面９を介して液晶１９に入射された外光を、後述する反射膜で表示面９側に反射させて、その反射光を表示面９側に射出することによって、反射表示が行われる。なお、外光とは、表示パネル３の表示面９から入射されるあらゆる光である。外光には、例えば、屋内外の照明光や、太陽光などが含まれる。
【００５５】
ここで、液晶パネル１０の駆動素子基板１５及び対向基板１７のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
駆動素子基板１５は、図４中のＤ−Ｄ線における断面図である図５に示すように、第１基板５１を有している。第１基板５１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた第１面５３ａと、底面２３側に向けられた第２面５３ｂとを有している。
【００５６】
第１基板５１の第１面５３ａには、ゲート絶縁膜５７が設けられている。ゲート絶縁膜５７の表示面９側には、絶縁膜５９が設けられている。絶縁膜５９の表示面９側には、配向膜６１が設けられている。
また、駆動素子基板１５には、各画素７に対応して、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６３と、反射膜６５と、共通電極６７と、画素電極６９とが、第１基板５１の第１面５３ａ側に設けられている。
【００５７】
ＴＦＴ素子６３は、ゲート電極７１と、半導体層７３と、ソース電極７５と、ドレイン電極７７とを有している。ゲート電極７１は、第１基板５１の第１面５３ａに設けられており、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。なお、ゲート電極７１の材料としては、例えば、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。また、ゲート絶縁膜５７の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
半導体層７３は、例えばアモルファスシリコンで構成されており、ゲート絶縁膜５７を挟んでゲート電極７１に対向する位置に設けられている。
【００５８】
ソース電極７５は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層７３に重なっている。ドレイン電極７７は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層７３に重なっている。上記の構成を有するＴＦＴ素子６３は、半導体層７３がゲート電極７１と、ソース電極７５及びドレイン電極７７との間に位置する所謂ボトムゲート型である。
そして、ＴＦＴ素子６３は、絶縁膜５９によって表示面９側から覆われている。なお、絶縁膜５９の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。
【００５９】
反射膜６５は、第１基板５１の第１面５３ａに設けられており、平面視で反射領域Ｈに重なっている。反射膜６５の材料としては、例えばアルミニウムなどの光反射性を有する材料が採用され得る。
共通電極６７は、第１基板５１の第１面５３ａ側に設けられており、平面視で透過領域Ｔ及び反射領域Ｈに重なっている。共通電極６７は、反射領域Ｈにおいて、反射膜６５の表示面９側に重なっている。共通電極６７の材料としては、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの光透過性を有する材料が採用され得る。
これらの反射膜６５及び共通電極６７は、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。
【００６０】
画素電極６９は、絶縁膜５９の表示面９側に設けられている。画素電極６９は、絶縁膜５９に設けられたコンタクトホール７９を介して、透過領域Ｔ内でドレイン電極７７につながっている。画素電極６９の材料としては、例えばＩＴＯなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
配向膜６１は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、絶縁膜５９及び画素電極６９を表示面９側から覆っている。なお、配向膜６１には、配向処理が施されている。
【００６１】
対向基板１７は、第２基板８１を有している。第２基板８１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた外向面８３ａと、底面２３側に向けられた対向面８３ｂとを有している。
第２基板８１の対向面８３ｂには、各画素７を区画する光吸収層８５が領域８６にわたって設けられている。光吸収層８５は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有する樹脂などで構成されており、平面視で格子状に設けられている。表示装置１では、各画素７は、光吸収層８５によって囲まれた領域であると定義され得る。
【００６２】
また、第２基板８１の対向面８３ｂには、光吸収層８５によって囲まれた各領域、すなわち各画素７の領域を底面２３側から覆うカラーフィルタ８７が設けられている。
ここで、カラーフィルタ８７は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルタ８７は、画素７ｒ、画素７ｇ及び画素７ｂごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。画素７ｒに対応するカラーフィルタ８７は、Ｒの光を透過させることができる。画素７ｇに対応するカラーフィルタ８７はＧの光を透過させ、画素７ｂに対応するカラーフィルタ８７はＢの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルタ８７に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラーフィルタ８７ｒ、８７ｇ及び８７ｂという表記が用いられる。
【００６３】
光吸収層８５及びカラーフィルタ８７の底面２３側には、オーバーコート層９１が設けられている。オーバーコート層９１は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７を底面２３側から覆っている。
オーバーコート層９１の底面２３側には、第１配向膜９３が設けられている。第１配向膜９３の底面２３側には、位相差膜９５が設けられている。位相差膜９５の底面２３側には、第２配向膜９７が設けられている。また、位相差膜９５と第２配向膜９７との間には、平面視で複数の画素７の各反射領域Ｈに重なる領域にギャップ調整膜９９が設けられている。
【００６４】
第１配向膜９３は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、オーバーコート層９１を底面２３側から覆っている。第１配向膜９３には、底面２３側から配向処理が施されている。
位相差膜９５は、例えば液晶化合物を含む材料で構成されており、第１配向膜９３を底面２３側から覆っている。
ギャップ調整膜９９は、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されており、位相差膜９５の底面２３側に設けられている。
各画素７において、位相差膜９５及びギャップ調整膜９９は、第２配向膜９７によって底面２３側から覆われている。
【００６５】
駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に介在する液晶１９は、配向膜６１と第２配向膜９７との間に介在している。液晶パネル１０では、各画素７において、透過領域Ｔと反射領域Ｈとで液晶１９の厚みが異なる所謂マルチギャップ構造が採用されている。
透過領域Ｔにおいて、液晶１９は、Ｌ１なる厚みを有している。これに対し、反射領域Ｈでは、液晶１９の厚みＬ２が、Ｌ１＞Ｌ２となるように、ギャップ調整膜９９の厚みが設定されている。なお、液晶パネル１０では、Ｌ１は、Ｌ２の約２倍に設定されている。
【００６６】
ここで、位相差膜９５は、図５中のＥ部を示す図である図６に示すように、画素７ごとに位相差部位１０１と等方部位１０３とを有している。
位相差部位１０１は、平面視で反射領域Ｈに重なっている。位相差部位１０１は、この位相差部位１０１に入射された光に、１／２波長の位相差を与える。
等方部位１０３は、平面視で透過領域Ｔに重なっている。等方部位１０３は、光学的に等方性を示す部位である。
【００６７】
位相差部位１０１は、図６中のＦ−Ｆ線における断面図である図７に示すように、Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連している。つまり、位相差部位１０１は、Ｘ方向に並ぶ複数の反射領域Ｈに、図３に示すマトリクスＭの画素行４２単位で重なっている。
同様に、等方部位１０３も、Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連しており、Ｘ方向に並ぶ複数の透過領域Ｔに画素行４２単位で重なっている。
【００６８】
ここで、各画素７におけるＴＦＴ素子６３、共通電極６７及び画素電極６９の配置について説明する。
画素電極６９は、平面図である図８に示すように、画素７の領域にわたって設けられており、複数のスリット部１１１を有している。図８では、構成をわかりやすく示すため、画素電極６９にハッチングが施されている。
複数のスリット部１１１は、各スリット部１１１がＹ方向に交差する方向に沿って延びており、Ｙ方向に沿って所定間隔で並んでいる。なお、各スリット部１１１が延びる方向は、Ｘ方向から傾斜している。
【００６９】
共通電極６７は、画素電極６９を覆う領域に設けられている。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、共通電極６７同士は、共通線１１３によって接続されている。
各画素７において、共通電極６７及び画素電極６９は、それぞれの周縁部が領域８６に重なっている。
なお、図５に示す反射膜６５は、図８に示す境界部１１５よりも反射領域Ｈ側で、共通電極６７に重なっている。従って、反射領域Ｈは、各画素７と反射膜６５とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。また、透過領域Ｔは、各画素７から反射領域Ｈを除いた領域と、共通電極６７とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。
【００７０】
ＴＦＴ素子６３は、図８で見て透過領域Ｔの左側の領域８６内に設けられており、ドレイン電極７７が領域８６内から透過領域Ｔ内に及んでいる。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、ゲート電極７１同士は、ゲート線１１７によって接続されている。また、Ｙ方向に隣り合う画素７間において、ソース電極７５同士は、データ線１１９によって接続されている。
なお、図５におけるＴＦＴ素子６３、反射膜６５、共通電極６７及び画素電極６９の断面は、図８中のＪ−Ｊ線における断面に相当している。
【００７１】
共通電極６７と画素電極６９との間に電圧を印加すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。液晶パネル１０では、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態からＯＮ状態に変化すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。この電界によって液晶１９の配向状態を変化させることができる。
表示装置１では、照明装置５から表示パネル３に光を照射した状態で、液晶１９の配向状態を画素７ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶１９の配向状態は、ＴＦＴ素子６３のＯＦＦ状態及びＯＮ状態を切り替えることによって変化し得る。
【００７２】
配向膜６１及び第２配向膜９７のそれぞれには、配向処理が施されている。配向処理が施された配向膜６１及び第２配向膜９７によって、液晶１９の初期的な配向状態が規制される。
図９（ａ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときの透過領域Ｔにおける偏光状態を示す図であり、図９（ｂ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときの透過領域Ｔにおける偏光状態を示す図である。
表示装置１では、液晶１９の初期的な配向方向１２１は、図９（ａ）に示すように、偏光板１３ａの透過軸１２３ａに沿った方向に設定されている。
ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態に切り替わると、液晶１９の配向方向１２１は、図９（ｂ）に示すように、平面視で偏光板１３ａの透過軸１２３ａに対してこの図で見て反時計方向に４５度の傾きを有する方向に変化する。
【００７３】
図１０（ａ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときの反射領域Ｈにおける偏光状態を示す図であり、図１０（ｂ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときの反射領域Ｈにおける偏光状態を示す図である。
反射領域Ｈにおける液晶１９の配向方向１２１は、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）のそれぞれに示すように、透過領域Ｔと同様である。
【００７４】
なお、図９（ａ）及び図９（ｂ）、並びに図１０（ａ）及び図１０（ｂ）において、Ｘ'方向及びＹ'方向は、Ｘ'方向が偏光板１３ａの透過軸１２３ａに沿った方向を示し、Ｙ'方向が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに沿った方向を示している。Ｘ'方向及びＹ'方向は、ＸＹ平面内で互いに直交する任意の２方向である。
【００７５】
透過領域Ｔでは、底面２３側から偏光板１３ａを経て入射された入射光は、図９（ａ）及び図９（ｂ）に示すように、偏光板１３ａの透過軸１２３ａに沿った偏光軸を有する直線偏光１２５として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された直線偏光１２５は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときに、図９（ａ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１に沿っている。このため、液晶１９に入射された直線偏光１２５は、偏光状態が維持されたまま直線偏光１２５として位相差膜９５の等方部位１０３に入射される。
【００７６】
等方部位１０３に入射された直線偏光１２５は、偏光状態が維持されたまま等方部位１０３を透過して、直線偏光１２５として偏光板１３ｂに入射される。
偏光板１３ｂに入射された直線偏光１２５は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに対して直交しているため、偏光板１３ｂによって吸収される。
【００７７】
他方で、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときに、直線偏光１２５は、図９（ｂ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１とは交差している。このため、液晶１９に入射された直線偏光１２５は、液晶１９によって１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１２５の偏光軸に直交する偏光軸を有する直線偏光１２７として位相差膜９５の等方部位１０３に入射される。
【００７８】
等方部位１０３に入射された直線偏光１２７は、偏光状態が維持されたまま等方部位１０３を透過して、直線偏光１２７として偏光板１３ｂに入射される。偏光板１３ｂに入射された直線偏光１２７は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂの方向に沿っているため、偏光板１３ｂを透過する。
このように、透過領域Ｔでは、ＴＦＴ素子６３のＯＮ状態及びＯＦＦ状態の切り替えにより、透過表示が制御される。
【００７９】
反射領域Ｈでは、表示面９側から偏光板１３ｂを経て入射された入射光は、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に示すように、偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに沿った偏光軸を有する直線偏光１２９として位相差膜９５の位相差部位１０１に入射される。
ここで、位相差部位１０１の遅相軸１３１は、平面視でＸ'方向に対してこれらの図で見て反時計方向に６７．５度の傾きを有する方向に設定されている。
従って、位相差部位１０１に入射された直線偏光１２９は、１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１３３として液晶１９に入射される。直線偏光１３３の偏光軸は、平面視でＸ'方向に対して図１０（ａ）及び図１０（ｂ）で見て反時計方向に４５度の傾きを有する方向に沿っている。
【００８０】
液晶１９に入射された直線偏光１３３は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときに、図１０（ａ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１とは交差している。このため、液晶１９に入射された直線偏光１３３は、１／４波長の位相差が与えられ、この図で見て左回りの円偏光１３５として反射膜６５に向けて射出される。
円偏光１３５は、反射膜６５で反射され、この図で見て右回りすなわち円偏光１３５とは逆回転の円偏光１３７として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された円偏光１３７は、１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'方向に対してこの図で見て反時計方向に１３５度の傾きを有する方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１３９として位相差部位１０１に入射される。
【００８１】
位相差部位１０１に入射された直線偏光１３９は、１／２波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４１として偏光板１３ｂに入射される。
偏光板１３ｂに入射された直線偏光１４１は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに対して直交しているため、偏光板１３ｂによって吸収される。
【００８２】
他方で、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときに、液晶１９に入射された直線偏光１３３は、図１０（ｂ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１に沿っているため、偏光状態が維持されたまま直線偏光１３３として反射膜６５に向けて射出される。
反射膜６５に向けて射出された直線偏光１３３は、偏光状態が維持されたまま反射膜６５で反射され、液晶１９に入射される。
【００８３】
反射膜６５から液晶１９に入射された直線偏光１３３は、偏光状態が維持されたまま位相差部位１０１に入射される。位相差部位１０１に入射された直線偏光１３３は、１／２波長の位相差が与えられ、平面視でＹ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４３として偏光板１３ｂに入射される。偏光板１３ｂに入射された直線偏光１４３は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂの方向に沿っているため、偏光板１３ｂを透過する。
このように、反射領域Ｈにおいても、透過領域Ｔと同様にＴＦＴ素子６３のＯＮ状態及びＯＦＦ状態の切り替えにより、反射表示が制御される。
【００８４】
ここで、表示装置１の製造方法について説明する。
表示装置１の製造方法は、基板の製造工程と、液晶パネル１０の製造工程と、表示パネル３の製造工程と、表示装置１の製造工程とに大別される。
まず、基板の製造工程について説明する。
基板の製造工程は、駆動素子基板１５の製造工程と、対向基板１７の製造工程とに大別される。
【００８５】
駆動素子基板１５の製造工程では、図１１（ａ）に示すように、まず、第１基板５１の第１面５３ａに、ゲート電極７１と、反射膜６５とを形成する。ゲート電極７１や反射膜６５は、例えばスパッタリング技術を活用して第１面５３ａに金属膜を形成してから、金属膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
次いで、第１基板５１の第１面５３ａ側に、スパッタリング技術、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、共通電極６７を形成する。
【００８６】
次いで、ゲート電極７１及び共通電極６７を第１面５３ａ側から覆うゲート絶縁膜５７を形成する。ゲート絶縁膜５７は、例えば、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）技術、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）技術、蒸着技術などを活用することによって、窒化シリコンや酸化シリコンなどで形成され得る。
【００８７】
次いで、図１１（ｂ）に示すように、ゲート絶縁膜５７上に、半導体層７３を形成してから、半導体層７３の一部に重なるソース電極７５とドレイン電極７７とを形成する。これにより、ＴＦＴ素子６３が形成される。
なお、ソース電極７５及びドレイン電極７７は、例えばスパッタリング技術を活用してゲート絶縁膜５７上に金属膜を形成してから、この金属膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
【００８８】
次いで、図１１（ｃ）に示すように、ＴＦＴ素子６３及びゲート絶縁膜５７を第１面５３ａ側から覆う絶縁膜５９を形成する。絶縁膜５９は、例えば、ＣＶＤ技術、ＰＶＤ技術、蒸着技術などを活用することによって、窒化シリコンや酸化シリコンなどで形成され得る。また、絶縁膜５９は、例えば、スピンコート技術を活用することによって、アクリル系の樹脂などによっても形成され得る。
次いで、絶縁膜５９に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、ＴＦＴ素子６３のドレイン電極７７に至るコンタクトホール７９を形成する。
【００８９】
次いで、絶縁膜５９上に、スパッタリング技術などを活用して、ＩＴＯの膜を形成する。
次いで、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、ＩＴＯの膜をパターニングして、図１１（ｄ）に示すように、画素電極６９を形成する。
【００９０】
次いで、画素電極６９及び絶縁膜５９上に、ポリイミドなどの樹脂で画素電極６９を覆う樹脂膜を形成する。樹脂膜は、例えば、スピンコート技術を活用することにより形成され得る。
次いで、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施すことにより、図５に示す配向膜６１が形成される。これにより、駆動素子基板１５が製造され得る。
【００９１】
対向基板１７の製造工程では、図１２（ａ）に示すように、まず、第２基板８１の対向面８３ｂに、光吸収層８５を、平面視で格子状に形成する。光吸収層８５は、カーボンブラックやクロムなどを含有する樹脂膜を形成してから、この樹脂膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
【００９２】
次いで、光吸収層８５によって囲まれる各画素７の領域内に、カラーフィルタ８７を形成する。カラーフィルタ８７は、Ｒ、Ｇ及びＢの各光に対応する着色剤が含有された樹脂を、各画素７の領域内に配置することによって形成され得る。なお、各画素７の領域内への樹脂の配置は、例えば、インクジェット技術や蒸着技術を活用することにより行われ得る。
次いで、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７上にオーバーコート層９１を形成する。オーバーコート層９１は、例えばスピンコート技術を活用して、光透過性を有する樹脂で形成され得る。
【００９３】
次いで、図１２（ｂ）に示すように、オーバーコート層９１上に第１配向膜９３を形成する。第１配向膜９３の形成では、例えばスピンコート技術を活用して、ポリイミドなどの樹脂でオーバーコート層９１上に樹脂膜を形成してから、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施す。これにより、第１配向膜９３が形成され得る。
【００９４】
次いで、図１２（ｃ）に示すように、ネガ型の感光性を有する液晶化合物が含有された液状体９５ａで、第１配向膜９３上に液状体膜９５ｂを形成する。液状体膜９５ｂは、例えばスピンコート技術を活用することにより形成され得る。
なお、液状体９５ａとしては、液晶化合物と溶媒とを混合したものに光重合開始剤を添加した構成が採用され得る。
液晶化合物としては、例えばＢＡＳＦ社製のＬＣ２４２などが採用され得る。溶媒としては、例えばシクロペンタノンなどが採用され得る。光重合開始剤としては、例えばチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア９０７などが採用され得る。
【００９５】
ここで、液状体膜９５ｂに含まれる液晶化合物は、配向処理が施された第１配向膜９３によって分子の配向状態が規制される。これにより、液状体膜９５ｂには、屈折率に異方性が発現する。
なお、屈折率に異方性が発現する配向状態は、位相差配向状態と呼ばれる。
【００９６】
次いで、図１２（ｄ）に示すように、フォトマスク１５１を介して、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。ここで、フォトマスク１５１には、反射領域Ｈに重なる領域に開口部１５５が設けられている。液状体膜９５ｂには、開口部１５５を介して紫外光１５３が照射される。そして、液状体膜９５ｂのうちで露光された部位が硬化する。
これにより、液状体膜９５ｂに、図６に示す位相差部位１０１が形成される。
【００９７】
ここで、位相差部位１０１の形成では、平面視で表示領域８（図１）の外側の領域にも紫外光１５３で露光する。このとき露光する領域は、表示領域８の外側で表示領域８の外側から表示領域８を囲む領域である。つまり、液状体膜９５ｂのうち、表示領域８の外側で表示領域８の外側から表示領域８を囲む領域を硬化させる。
これにより、表示領域８の外側には、液状体膜９５ｂを示す平面図である図１３に示すように、表示領域８の外側から表示領域８を囲む土手部１５７が形成され得る。このとき、各位相差部位１０１と土手部１５７とは、一連した状態で形成される。
なお、位相差部位１０１に対する露光と、土手部１５７に対する露光とを同一の露光で実施することが、露光工程を効率的に実施できる点で好ましい。しかしながら、位相差部位１０１に対する露光と、土手部１５７に対する露光とは、いずれが先でも後でもかまわない。
【００９８】
これにより、液状体膜９５ｂのうちで等方部位１０３が形成されるべき領域は、位相差部位１０１と土手部１５７とによって囲まれる。
なお、第１配向膜９３は、表示領域８内だけに設けられていても、表示領域８内から表示領域８外に及んでいてもよい。第１配向膜９３が表示領域８内だけに設けられている場合、土手部１５７は、第１配向膜９３によって分子の配向状態が規制されないので、光学的に等方性を示す状態で硬化する。他方で、第１配向膜９３が表示領域８内から表示領域８外に及んでいる場合、土手部１５７は、位相差配向状態で硬化する。
【００９９】
位相差部位１０１及び土手部１５７の形成に次いで、図１３及び図１４（ａ）に示す液状体膜９５ｂを約１００℃に保つ。液状体膜９５ｂを約１００℃に保つと、液晶化合物の分子は、配向状態の規制が解かれやすい。これにより、液状体膜９５ｂは、光学的に等方性を示すようになる。なお、光学的に等方性を示す配向状態は、等方配向状態と呼ばれる。
位相差配向状態にある液状体膜９５ｂを約１００℃に保つことには、位相差配向状態を等方配向状態に転移させるという意味がある。
【０１００】
次いで、液状体膜９５ｂが等方配向状態のときに、図１４（ｂ）に示すように、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。このとき、液状体膜９５ｂが等方配向状態のままで硬化する。これにより、図６に示す等方部位１０３が形成され、等方部位１０３と位相差部位１０１とを有する位相差膜９５が形成され得る。
【０１０１】
次いで、図１４（ｃ）に示すように、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂などで位相差膜９５上に樹脂膜９９ａを形成する。樹脂膜９９ａは、例えばスピンコート技術を活用することによって形成され得る。
次いで、例えばフォトリソグラフィ技術を活用して、樹脂膜９９ａをパターニングすることにより、図１４（ｄ）に示すギャップ調整膜９９を形成する。
【０１０２】
次いで、図５に示すように、表示領域８内においてギャップ調整膜９９及び位相差膜９５を底面２３側から覆う第２配向膜９７を形成する。
第２配向膜９７の形成では、ポリイミドなどの樹脂で位相差膜９５及びギャップ調整膜９９上に樹脂膜を形成してから、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施す。
これにより、第２配向膜９７が形成され、対向基板１７が製造され得る。
【０１０３】
液晶パネル１０の製造工程では、まず、駆動素子基板１５と対向基板１７とを、駆動素子基板１５及び対向基板１７のいずれか一方に平面視で環状に設けられたシール材２１（図２）を介して接合する。このとき、シール材２１は、平面視で環状の輪郭の一部を欠いた状態で設けられる。シール材２１の環状の輪郭の一部を欠いた部分は、液晶１９の注入口となる。
次いで、液晶１９をこの注入口から注入してから、注入口を塞いで液晶１９を封入する。これにより、図２に示す液晶パネル１０が製造され得る。
【０１０４】
表示パネル３の製造工程では、図２に示す偏光板１３ａ及び１３ｂを液晶パネル１０に設ける。偏光板１３ａは第１基板５１の第２面５３ｂ（図５）に設けられ、偏光板１３ｂは、第２基板８１の外向面８３ａ（図５）に設けられる。これにより、図２に示す表示パネル３が製造され得る。
なお、偏光板１３ａ及び１３ｂは、液晶パネル１０を製造する前に、第１基板５１及び第２基板８１に設けられていてもよい。
表示装置１の製造工程では、表示パネル３と照明装置５とを組み合わせることにより、表示装置１が製造され得る。
【０１０５】
第１実施形態において、第１基板５１及び第２基板８１が一対の基板に対応し、第２基板８１が一方の基板に対応し、第１基板５１が他方の基板に対応し、位相差部位１０１が一方の部位に対応し、等方部位１０３が他方の部位に対応し、第１配向膜９３が配向膜に対応している。
【０１０６】
第１実施形態では、対向基板１７の製造工程において、等方部位１０３を形成する前に土手部１５７を形成するので、液状体膜９５ｂのうちで等方部位１０３が形成されるべき領域を位相差部位１０１及び土手部１５７で囲むことができる。このため、等方部位１０３が形成されるべき領域における液状体９５ａを堰き止めることができる。これにより、位相差部位１０１と等方部位１０３との形状差を低く抑えやすくすることができる。
【０１０７】
例えば、等方部位１０３を形成する前に土手部１５７を形成しない場合には、位相差部位１０１と等方部位１０３との形状差は、図１５に示すように、位相差部位１０１と等方部位１０３との間の段差として発生することが考えられる。これは、位相差部位１０１を硬化させてから等方部位１０３を硬化させるまでに、等方部位１０３が形成されるべき領域における液状体９５ａが流れ出ることによって発生し得る。
【０１０８】
位相差部位１０１と等方部位１０３との間に段差が生じると、液晶１９の厚みＬ１とＬ２との間の関係にずれが生じる。このため、等方部位１０３から射出されて第２基板８１に向かう光の変調状態と、位相差部位１０１から射出されて第２基板８１に向かう光の変調状態との間にずれが生じやすくなる。この結果、等方部位１０３から射出されて第２基板８１に向かう光や、位相差部位１０１から射出されて第２基板８１に向かう光が漏れやすくなる。
【０１０９】
他方で、表示装置１の対向基板１７の製造工程では、液状体膜９５ｂのうちで等方部位１０３が形成されるべき領域を位相差部位１０１及び土手部１５７で囲むことができるので、液状体９５ａの流れ出しによる段差が発生しにくい。つまり、表示装置１では、第２基板８１から位相差部位１０１の液晶１９側の面までの距離と、第２基板８１から等方部位１０３の液晶１９側の面までの距離とが略同等である。このため、等方部位１０３から射出されて第２基板８１に向かう光の変調状態と、位相差部位１０１から射出されて第２基板８１に向かう光の変調状態とがそろいやすい。この結果、等方部位１０３から射出されて第２基板８１に向かう光や、位相差部位１０１から射出されて第２基板８１に向かう光の漏れが低く抑えられるので、コントラストの向上が図られる。
【０１１０】
また、第１実施形態では、対向基板１７の製造工程において、位相差部位１０１を形成するときに土手部１５７を形成するので、位相差部位１０１の形成と土手部１５７の形成との間の時差を少なくすることができる。このため、位相差部位１０１の形成と土手部１５７の形成との間において、液状体９５ａを堰き止めることができる。この結果、位相差部位１０１と等方部位１０３との形状差を一層抑えやすくすることができる。
また、位相差部位１０１に対する露光と、土手部１５７に対する露光とを同一の露光で実施することができるので、位相差部位１０１の形成と土手部１５７の形成との間の時差を抑制することもできる。これにより、位相差部位１０１と等方部位１０３との形状差を一層抑えやすくすることができる。
【０１１１】
また、第１実施形態では、対向基板１７の製造工程において、等方部位１０３が形成されるべき領域における液状体９５ａを表示領域８の外側から表示領域８ごと囲む土手部１５７を形成する。このため、例えば等方部位１０３が形成されるべき液状体９５ａを画素７ごとに囲む場合に比較して、工程やフォトマスク１５１などの効率化が図られる。
【０１１２】
なお、第１実施形態では、位相差部位１０１を形成してから等方部位１０３を形成する順序が採用されているが、位相差部位１０１と等方部位１０３との形成順序はこれに限定されず、等方部位１０３を形成してから位相差部位１０１を形成する順序も採用され得る。
【０１１３】
この場合、液状体膜９５ｂの形成に次いで、液状体膜９５ｂを約１００℃に保って、液状体膜９５ｂの配向状態を位相差配向状態から等方配向状態に転移させる。
次いで、液状体膜９５ｂが等方配向状態のときに、図１６（ａ）に示すように、フォトマスク１６１を介して、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。ここで、フォトマスク１６１には、透過領域Ｔに重なる領域に開口部１６３が設けられている。液状体膜９５ｂには、開口部１６３を介して紫外光１５３が照射される。そして、液状体膜９５ｂのうちで露光された部位が硬化する。
これにより、液状体膜９５ｂに、図６に示す等方部位１０３が形成される。
【０１１４】
ここで、等方部位１０３の形成では、平面視で表示領域８（図１）の外側の領域にも紫外光１５３で露光する。このとき露光する領域は、表示領域８の外側で表示領域８の外側から表示領域８を囲む領域である。つまり、液状体膜９５ｂのうち、表示領域８の外側で表示領域８の外側から表示領域８を囲む領域を硬化させる。
これにより、表示領域８の外側には、液状体膜９５ｂを示す平面図である図１７に示すように、表示領域８の外側から表示領域８を囲む土手部１５７が形成され得る。このとき、各等方部位１０３と土手部１５７とは、一連した状態で形成される。
なお、等方部位１０３に対する露光と、土手部１５７に対する露光とを同一の露光で実施することが、露光工程を効率的に実施できる点で好ましい。しかしながら、等方部位１０３に対する露光と、土手部１５７に対する露光とは、いずれが先でも後でもかまわない。
【０１１５】
これにより、液状体膜９５ｂのうちで位相差部位１０１が形成されるべき領域は、等方部位１０３と土手部１５７とによって囲まれる。
等方部位１０３及び土手部１５７の形成に次いで、図１７及び図１６（ｂ）に示す液状体膜９５ｂを位相差配向状態に保つ。
次いで、液状体膜９５ｂが位相差配向状態のときに、図１６（ｃ）に示すように、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。このとき、液状体膜９５ｂが位相差配向状態のままで硬化する。これにより、図６に示す位相差部位１０１が形成され、等方部位１０３と位相差部位１０１とを有する位相差膜９５が形成され得る。
【０１１６】
なお、第１配向膜９３は、表示領域８内だけに設けられていても、表示領域８内から表示領域８外に及んでいてもよい。第１配向膜９３が表示領域８内だけに設けられていても、表示領域８内から表示領域８外に及んでいても、土手部１５７は、等方配向状態で硬化するので、光学的に等方性を示す。
なお、等方部位１０３を形成してから位相差部位１０１を形成する場合、等方部位１０３が一方の部位に対応し、位相差部位１０１が他方の部位に対応する。
等方部位１０３を形成してから位相差部位１０１を形成しても、位相差部位１０１を形成してから等方部位１０３を形成する場合と同様の効果が得られる。
【０１１７】
第２実施形態について説明する。
第２実施形態における表示装置１は、対向基板１７の製造工程において、土手部１５７を形成してから、平面視でこの土手部１５７内に液状体膜９５ｂを形成することを除いては、第１実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。
従って、以下の第２実施形態では、重複した説明を避けるため、第１実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略し、第１実施形態と異なる点のみについて説明する。
【０１１８】
第２実施形態では、対向基板１７の製造工程において、液状体膜９５ｂを形成する前に土手部１５７を形成する。土手部１５７は、平面図である図１８に示すように、表示領域８の外側で表示領域８を外側から囲む領域に設けられる。
土手部１５７の材料としては、例えば、液晶化合物を含む材料や、アクリル系やエポキシ系の樹脂や、これらにカーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を混合したものなど、種々の材料が採用され得る。なお、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を混合することは、土手部１５７からの光漏れを低く抑える点で好ましい。
【０１１９】
土手部１５７の形成では、例えばスピンコート技術を活用して樹脂などで第１配向膜９３上に樹脂膜を形成してからこの樹脂膜を、例えばフォトリソグラフィ技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
土手部１５７の形成に次いで、平面視で土手部１５７に囲まれた領域内に液状体膜９５ｂを形成する。
次いで、フォトマスク１５１を介して、液状体膜９５ｂを露光する。これにより、液状体膜９５ｂに、図６に示す位相差部位１０１が形成される。
次いで、液状体膜９５ｂが位相差配向状態から等方配向状態に転移している状態で、液状体膜９５ｂを露光する。これにより、図６に示す等方部位１０３が形成され、等方部位１０３と位相差部位１０１とを有する位相差膜９５が形成され得る。
【０１２０】
なお、第２実施形態においても、位相差部位１０１を形成してから等方部位１０３を形成する順序に限定されず、等方部位１０３を形成してから位相差部位１０１を形成する順序も採用され得る。
第２実施形態においても、第１実施形態と同様の効果が得られる。
さらに、第２実施形態では、土手部１５７を形成してから、この土手部１５７に囲まれる領域内に液状体膜９５ｂを形成するので、液状体９５ａの流れ出しが堰き止められた状態で液状体膜９５ｂに露光を施すことができる。これにより、位相差部位１０１と等方部位１０３との形状差を一層抑えやすくすることができる。
【０１２１】
なお、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、液晶１９の駆動方式としてＦＦＳ型の駆動方式が採用されているが、駆動方式はこれに限定されず、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＶＡ（Vertical Alignment）型等の種々の方式が採用され得る。
【０１２２】
また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、位相差膜９５が対向基板１７側に設けられている場合を例に説明したが、位相差膜９５はこれに限定されず、駆動素子基板１５側に設けられていてもよい。
【０１２３】
また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、入射された光に対して１／２波長の位相差を与える位相差部位１０１を例に説明したが、位相差部位１０１が与える位相差はこれに限定されず、１／４波長、１／８波長などの種々の位相差が採用され得る。
【０１２４】
上述した表示装置１は、例えば、図１９に示す電子機器５００の表示部５１０に適用され得る。この電子機器５００は、携帯電話機である。この電子機器５００は、操作ボタン５１１を有している。表示部５１０は、操作ボタン５１１で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器５００では、表示部５１０に表示装置１が適用されているので、表示部５１０におけるコントラストの向上が図られる。
【０１２５】
なお、電子機器５００としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器などの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。また、表示パネル３や液晶パネル１０は、プロジェクタ等の投写型表示装置にライトバルブとして適用され得る。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】第１実施形態における表示装置の主要構成を示す分解斜視図。
【図２】図１中のＡ−Ａ線における断面図。
【図３】第１実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。
【図４】図３中のＣ部の拡大図。
【図５】図４中のＤ−Ｄ線における断面図。
【図６】図５中のＥ部を示す図。
【図７】図６中のＦ−Ｆ線における断面図。
【図８】第１実施形態におけるＴＦＴ素子、共通電極及び画素電極の配置を説明する平面図。
【図９】第１実施形態における表示パネルの透過領域における偏光状態を説明する図。
【図１０】第１実施形態における表示パネルの反射領域における偏光状態を説明する図。
【図１１】第１実施形態における駆動素子基板の製造工程を説明する図。
【図１２】第１実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。
【図１３】第１実施形態における対向基板の製造工程における液状体膜を示す平面図。
【図１４】第１実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。
【図１５】位相差部位と等方部位との形状差の例を説明する断面図。
【図１６】第１実施形態における対向基板の製造工程の他の例を説明する図。
【図１７】第１実施形態における対向基板の製造工程の他の例における液状体膜を示す平面図。
【図１８】第２実施形態における土手部を示す平面図。
【図１９】本実施形態における表示装置が適用された電子機器の斜視図。
【符号の説明】
【０１２７】
１…表示装置、３…表示パネル、７…画素、８…表示領域、１０…液晶パネル、１５…駆動素子基板、１７…対向基板、１９…液晶、５１…第１基板、５３ａ…第１面、５３ｂ…第２面、８１…第２基板、８３ａ…外向面、８３ｂ…対向面、９３…第１配向膜、９５…位相差膜、９５ａ…液状体、９５ｂ…液状体膜、１０１…位相差部位、１０３…等方部位、１５１…フォトマスク、１５３…紫外光、１５５…開口部、１５７…土手部、１６１…フォトマスク、１６３…開口部、５００…電子機器、５１０…表示部、Ｈ…反射領域、Ｔ…透過領域、Ｍ…マトリクス。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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