(57)【要約】【課題】基板を撮影する際の基板の平坦度（特に撮像される部分の平坦度）を向上させて、正確に基板の上面を撮影する。【解決手段】検査装置１において、基板９０を水平姿勢で搬送するコロ搬送機構である第１搬送部５と第２搬送部６とを設ける。また、第１搬送部５と第２搬送部６との間に支持部２を設けて搬送中の基板９０を浮上支持するとともに、支持部２によって浮上支持された状態の基板９０をＸ軸方向の１ラインを撮像するラインカメラ３１で撮像する。支持部２は基板９０から離間した状態で、浮上ステージから吐出するエアによって基板９０を浮上支持する。このようにして、Ｙ軸方向の位置Ｅ（撮像位置）においては、Ｘ軸方向の全幅に亘って検査装置１の部材が基板９０に当接しない構造とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上面に設定される検査領域を検査する検査装置であって、
水平姿勢の基板を第１方向に水平搬送する搬送手段と、
前記搬送手段により搬送されている基板の下方からエアを吹き付けて、前記基板の前記第１方向と直交する第２方向の全幅に亘る被支持部分を、前記被支持部分から離間した状態で浮上支持する支持手段と、
前記支持手段により被支持部分が浮上支持された状態の基板の下方の雰囲気を排気する排気手段と、
前記支持手段により浮上支持された被支持部分のうち前記第２方向を長手方向とする撮像部分を同時に撮像する撮像手段と、
を備え、
前記搬送手段は、
前記支持手段の前記第１方向上流側に設けられる第１駆動ローラと、
前記支持手段の前記第１方向下流側に設けられる第２駆動ローラと、
を備え、
前記第１駆動ローラと前記第２駆動ローラとが回転することにより、水平姿勢の基板が前記第１方向に水平搬送されることを特徴とする検査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の検査装置であって、
前記支持手段は、前記被支持部分の前記第２方向の全幅に亘ってエアを吹き付けることを特徴とする検査装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の検査装置であって、
前記撮像部分は、前記基板の検査領域の前記第２方向の全幅を含むことを特徴とする検査装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の検査装置であって、
基板の前記第２方向の位置を決定する位置決め手段をさらに備えることを特徴とする検査装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の検査装置であって、
基板の向きを変更する変更手段をさらに備えることを特徴とする検査装置。
【請求項６】
基板処理システムであって、
基板の上面に設定される検査領域を検査する検査装置と、
基板を処理する処理部と、
前記処理部から前記検査装置に基板を搬入する搬入手段と、
前記検査装置から基板を搬出する搬出手段と、
を備え、
前記検査装置は、
水平姿勢の基板を第１方向に水平搬送する搬送手段と、
前記搬送手段により搬送されている基板の下方からエアを吹き付けて、前記基板の前記第１方向と直交する第２方向の全幅に亘る被支持部分を、前記被支持部分から離間した状態で浮上支持する支持手段と、
前記支持手段により被支持部分が浮上支持された状態の基板の下方の雰囲気を排気する排気手段と、
前記支持手段により浮上支持された被支持部分のうち前記第２方向を長手方向とする撮像部分を同時に撮像する撮像手段と、
を備え、
前記搬送手段は、
前記支持手段の前記第１方向上流側に設けられる第１駆動ローラと、
前記支持手段の前記第１方向下流側に設けられる第２駆動ローラと、
を備え、
前記第１駆動ローラと前記第２駆動ローラとが回転することにより、水平姿勢の基板が前記搬送手段によって前記第１方向に水平搬送され、
前記搬入手段は、前記第１駆動ローラに基板を搬入し、
前記搬出手段は、前記第２駆動ローラから基板を搬出することを特徴とする基板処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を検査する技術に関する。より詳しくは、検査対象となる基板の上面の平坦度を向上させて、基板を正確に撮像する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
レジスト液等の処理液が塗布された基板について、当該基板の表面で反射される光をカメラで撮影し、撮影された画像データに基づいて処理液の塗布ムラ等を検査する検査装置が知られている。一方、基板の製造工程では「タクトタイムの短縮」が至上命題であり、検査装置といえども処理時間の短縮は重要な課題である。
【０００３】
そこで、従来より、基板を水平方向に搬送する搬送機構の上方にラインカメラを設けて、検査対象の基板を停止させることなく撮影して検査する検査装置が提案されている。このような検査装置が、例えば特許文献１，２に記載されている。このように構成することにより、基板の搬送中に当該基板に対する検査を完了することができるので、別途、検査装置に当該基板を搬入・搬出して検査する場合に比べて検査に要する時間を大幅に短縮することができる。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３３３１９８号公報
【特許文献２】特開２００４−２６６０１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板をカメラで撮影して撮影された画像データに基づいて検査を行う場合、撮影領域における基板が撓んでいると正確に基板を撮影することができず、検査精度が低下する。したがって、搬送中の基板をラインカメラで撮影する場合においては、基板の部分のうち、少なくとも同時に撮影される部分（搬送方向に直交する方向に延びる部分）の平坦度を向上させることが重要となる。
【０００６】
ところが、特許文献１および特許文献２に記載されている技術では、撮影時において、基板の撮影される部分の端部を保持しているため、保持されている端部と中央部との間で基板に撓みが生じるという問題があった。また、端部を保持せずに、下方から搬送ローラ等で支持する手法も提案されているが、この場合でも搬送ローラが当接している箇所と、それ以外の箇所との間で基板が撓んでしまう。すなわち、従来の技術では、撮影する部分に作用する外力が不均一であるために、当該部分が撓み平坦度が低下するという問題があった。
【０００７】
搬送方向に直交する方向に亘る部分に作用する外力を均一化させるために、平坦なステージに基板を載置して、当該ステージを移動させつつ撮影することも考えられる。しかし、この場合は、ステージ自体の平坦度が問題となる（特に、基板が大型になるとステージを平坦に加工することが困難となる）。また、ステージがシャトル移動するため、昇降ピン等を介してステージに基板を受け渡さなければならず、ステージへの基板の受け渡しに時間がかかるという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、搬送時間の増大を抑制しつつ、簡易な構成で、基板を撮影する際の基板の平坦度（特に撮像される部分の平坦度）を向上させて、正確に基板の上面を撮影することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、基板の上面に設定される検査領域を検査する検査装置であって、水平姿勢の基板を第１方向に水平搬送する搬送手段と、前記搬送手段により搬送されている基板の下方からエアを吹き付けて、前記基板の前記第１方向と直交する第２方向の全幅に亘る被支持部分を、前記被支持部分から離間した状態で浮上支持する支持手段と、前記支持手段により被支持部分が浮上支持された状態の基板の下方の雰囲気を排気する排気手段と、前記支持手段により浮上支持された被支持部分のうち前記第２方向を長手方向とする撮像部分を同時に撮像する撮像手段とを備え、前記搬送手段は、前記支持手段の前記第１方向上流側に設けられる第１駆動ローラと、前記支持手段の前記第１方向下流側に設けられる第２駆動ローラとを備え、前記第１駆動ローラと前記第２駆動ローラとが回転することにより、水平姿勢の基板が前記第１方向に水平搬送されることを特徴とする。
【００１０】
また、請求項２の発明は、請求項１の発明に係る検査装置であって、前記支持手段は、前記被支持部分の前記第２方向の全幅に亘ってエアを吹き付けることを特徴とする。
【００１１】
また、請求項３の発明は、請求項１または２の発明に係る検査装置であって、前記撮像部分は、前記基板の検査領域の前記第２方向の全幅を含むことを特徴とする。
【００１２】
また、請求項４の発明は、請求項１ないし３のいずれかの発明に係る検査装置であって、基板の前記第２方向の位置を決定する位置決め手段をさらに備えることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項５の発明は、請求項１ないし４のいずれかの発明に係る検査装置であって、基板の向きを変更する変更手段をさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項６の発明は、基板処理システムであって、基板の上面に設定される検査領域を検査する検査装置と、基板を処理する処理部と、前記処理部から前記検査装置に基板を搬入する搬入手段と、前記検査装置から基板を搬出する搬出手段とを備え、前記検査装置は、水平姿勢の基板を第１方向に水平搬送する搬送手段と、前記搬送手段により搬送されている基板の下方からエアを吹き付けて、前記基板の前記第１方向と直交する第２方向の全幅に亘る被支持部分を、前記被支持部分から離間した状態で浮上支持する支持手段と、前記支持手段により被支持部分が浮上支持された状態の基板の下方の雰囲気を排気する排気手段と、前記支持手段により浮上支持された被支持部分のうち前記第２方向を長手方向とする撮像部分を同時に撮像する撮像手段とを備え、前記搬送手段は、前記支持手段の前記第１方向上流側に設けられる第１駆動ローラと、前記支持手段の前記第１方向下流側に設けられる第２駆動ローラとを備え、前記第１駆動ローラと前記第２駆動ローラとが回転することにより、水平姿勢の基板が前記搬送手段によって前記第１方向に水平搬送され、前記搬入手段は、前記第１駆動ローラに基板を搬入し、前記搬出手段は、前記第２駆動ローラから基板を搬出することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１ないし６に記載の発明は、水平姿勢の基板の下方からエアを吹き付けて、基板の第２方向の全幅に亘る被支持部分を、被支持部分から離間した状態で浮上支持し、浮上支持された被支持部分のうち第２方向を長手方向とする撮像部分を同時に撮像することにより、基板の撮像部分の撓みを抑制し、当該撮像部分の上面の平坦度を向上させることができる。したがって、基板を精度よく撮像することができ、検査精度が向上する。
【００１６】
搬送手段によって搬送されている基板の被支持部分を浮上支持することにより、基板を静止させることなく撮像することができるため、タクトタイムを短縮できる。
【００１７】
支持手段によって被支持部分が浮上支持された状態の基板の下方の雰囲気を排気することにより、排気による吸着作用を付加することができ、いわゆる振動に対する縁切り効果が得られる。したがって、さらに平坦度を向上させることができる。
【００１８】
請求項２に記載の発明は、被支持部分の第２方向の全幅に亘ってエアを吹き付けることにより、被支持部分の一部にエアを吹き付ける場合に比べて、さらに平坦度を向上できる。
【００１９】
請求項３に記載の発明は、撮像部分が、基板の検査領域の第２方向の全幅を含むことにより、撮像手段と基板とを第２方向に相対移動させる必要がない。したがって、装置構成が簡易でよいので、コストを抑制できる。
【００２０】
請求項４に記載の発明は、基板の第２方向の位置を決定することにより、基板の位置精度が向上するので、検査領域を正確に撮像できる。
【００２１】
請求項５に記載の発明は、基板の向きを変更することにより、搬入・搬出時の基板の向きにかかわらず、検査に応じた向きに基板を設定することができる。したがって、検査精度を向上させることができる。また、検査装置の上流側あるいは下流側の装置が要求する基板の向きに応じて基板の向きを変更することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。
【００２３】
＜１．  実施の形態＞
図１は、本発明に係る検査装置１を備えた基板処理システム１００の平面図である。
【００２４】
なお、図１において、図示および説明の都合上、Ｚ軸方向が鉛直方向を表し、ＸＹ平面が水平面を表すものとして定義するが、それらは位置関係を把握するために便宜上定義するものであって、以下に説明する各方向を限定するものではない。以下の各図についても同様である。
【００２５】
基板処理システム１００は検査装置１の他に、処理する基板９０が搬入される搬入部１０１、基板９０を洗浄して清浄化させる洗浄部１０２、および基板９０を所定の温度に調節する温調部１０３，１０４，１０６を備える。
【００２６】
なお、詳細は図示しないが、温調部１０３，１０４，１０６は、基板９０を加熱する加熱ユニット（ホットプレート）、基板９０を冷却する冷却ユニット（クールプレート）、およびこれらのユニット間で基板９０を搬送する搬送ユニットを備えている。
【００２７】
また、基板処理システム１００は、基板９０の表面にレジスト液等の薬液を塗布して薄膜を形成する塗布部１０５、基板９０の表面に回路パターン等を露光する露光部１０７、露光された基板９０を現像処理する現像部１０８および基板処理システム１００における処理が完了した基板９０を搬出する搬出部１０９を備える。
【００２８】
このような構成の基板処理システム１００は、液晶表示装置の画面パネルを製造するための角形ガラス基板を被処理基板９０としている。なお、基板処理システム１００は、図示しないメインコントローラを備えており、当該メインコントローラと各構成（例えば、検査装置１）との間でデータ通信が可能とされている。
【００２９】
図２は、検査装置１の平面図である。また、図３は、検査装置１の側面図である。さらに、図４は、基板９０における被支持部分９１と撮像部分９２とを示す図である。なお、図２ないし図４において、検査装置１におけるＹ軸方向の特定の位置を「Ｅ」として示す。
【００３０】
検査装置１は、基板９０の被支持部分９１を浮上支持する支持部２、基板９０の撮像部分９２を撮像する撮像部３および基板９０を水平姿勢で搬送する搬送部４を備えている。なお、詳細は後述するが、検査装置１は、搬送部４によって基板９０を（＋Ｙ）方向に水平搬送しつつ、水平姿勢の当該基板９０の上面に設定される検査領域９３を撮像部３によって撮像し検査する装置として構成されている。検査装置１は、特に基板９０の表面に発生するムラを検査する装置であり、本実施の形態では、現像ムラまたは塗布ムラを検出する装置である。
【００３１】
図４に示すように、検査装置１において固定された位置Ｅに対する相対的な位置関係によって、搬送中の基板９０には、被支持部分９１と撮像部分９２とが定義される。
【００３２】
基板９０の一部分である被支持部分９１は、Ｘ軸方向のサイズが基板９０のＸ軸方向の全幅のサイズＷ１と同じである。すなわち、被支持部分９１は、基板９０のＸ軸方向の全幅に亘る部分である。また、被支持部分９１のＹ軸方向のサイズは「Ｄ」であり、Ｙ軸方向のほぼ中心が位置Ｅと一致する。すなわち、基板９０が（＋Ｙ）方向（搬送方向）に移動するにつれて、被支持部分９１も基板９０における位置が（−Ｙ）方向に順次移動する。
【００３３】
図４において太線で示す撮像部分９２は、被支持部分９１のうちＸ軸方向を長手方向とする部分である。撮像部分９２のＹ軸方向のサイズは微少であり、詳細は後述するが撮像部３の撮像領域のＹ軸方向のサイズと同一である。また、撮像部分９２のＹ軸方向の位置は「Ｅ」であり、基板９０が搬送されることによって撮像部分９２も順次（−Ｙ）方向に移動する。言い換えれば、撮像部分９２は、基板９０の一部分であって、ある瞬間において撮像部３の被写体となる部分である。より詳しくは撮像部分９２の上面が撮像部３によって同時に撮像される。
【００３４】
また、本実施の形態では、図４に示すように、基板９０の上面全面が検査領域９３として設定されている。したがって、基板９０のＸ軸方向の全幅のサイズＷ1と、検査領域９３のＸ軸方向の全幅のサイズＷ2とは同一である。ただし、検査領域９３は、例えばわずかな端部領域を含まないように設定されてもよい。
【００３５】
図３に示すように、支持部２は、排気機構２０、供給機構２１およびステージ２２を備える。
【００３６】
排気機構２０は真空ポンプ等の負圧源を備え、当該真空ポンプを駆動することにより、後述するように、被支持部分９１が浮上支持された状態の基板９０の下方の雰囲気を外部に排気する機能を有する。また、供給機構２１は気体（エア）をステージ２２に供給する正圧源としての機能を有する。
【００３７】
図５は、ステージ２２を示す図である。ステージ２２は、図５に示すように、浮上ステージ２３および一対の吸着ステージ２４を備える。また、図２および図３に示すように、ステージ２２は第１搬送部５と第２搬送部６との間に配置される。
【００３８】
ステージ２２のＸ軸方向のサイズＷは、長軸５２，６２のＸ軸方向のサイズとほぼ同じとなるように設計されており、少なくとも搬送部４によって搬送される基板９０のＸ軸方向のサイズＷ1より大きい。
【００３９】
浮上ステージ２３はチャンバ２６および多孔質部材２７を備えており、図５に示すように、浮上ステージ２３のＹ軸方向のサイズは「Ｄ1」となっている。また、浮上ステージ２３のＹ軸方向における中心位置が「Ｅ」となるように、浮上ステージ２３（ステージ２２）が配置されている。
【００４０】
また、浮上ステージ２３のＸ軸方向のサイズは、ステージ２２のＸ軸方向のサイズと同じ「Ｗ」であり、基板９０のＸ軸方向のサイズＷ1より大きい。すなわち、浮上ステージ２３（多孔質部材２７）は、基板９０のＸ軸方向の全幅に亘って、当該基板９０の下方に配置される。
【００４１】
図５では詳細に図示していないが、チャンバ２６は、上面のない略箱状の構造体であって、内部が空洞となっている。チャンバ２６の下方には、供給機構２１の供給配管がチャンバ２６の内部と連通するように接続されている。このような構造により、供給機構２１から供給されるエアは、当該供給配管を介してチャンバ２６内に供給される。すなわち、供給機構２１が駆動されると、チャンバ２６内にエアが供給され、チャンバ２６の内部圧が増加する。
【００４２】
多孔質部材２７は、表面と内部とが互いに連通する構造の板状部材である。多孔質部材２７は、チャンバ２６の上部に固定されており、チャンバ２６の蓋部を構成している。また、多孔質部材２７の側面は、内部に供給されたエアが側面方向に漏れ出さないように密閉処理がされている。なお、密閉処理とは、例えば、多孔質部材２７の側面に形成された孔をパテ等によって埋める処理であるが、もちろんこれに限定されるものではない。
【００４３】
先述のように、供給機構２１によってチャンバ２６内にエアが供給され、チャンバ２６の内部が加圧されると、多孔質部材２７の裏面全面に形成された多数の孔から多孔質部材２７の内部にエアが進入し、多孔質部材２７の上面全面に形成された多数の孔から当該エアが吐出される。すなわち、多孔質部材２７は、供給機構２１から供給されるエアを上面全面からほぼ均一に（＋Ｚ）方向に吐出させて、多孔質部材２７が配置された位置にアップフローを発生させる機能を有する。
【００４４】
先述のように、多孔質部材２７は、第１搬送部５と第２搬送部６との間を搬送される基板９０の下方に配置されている。したがって、多孔質部材２７が発生させたアップフロー（多孔質部材２７から吐出されるエア）は基板９０の裏面に吹き付けられ、当該アップフローが吹き付けられる部分が浮上ステージ２３によって浮上支持される。
【００４５】
基板９０の一部分のうち、このようにして多孔質部材２７から吐出されたエアが吹き付けられる部分が、当該基板９０の被支持部分９１となる。すなわち、被支持部分９１のＹ軸方向の位置は位置Ｅに応じて決定されると説明したが、より直接的には多孔質部材２７のＹ軸方向の配置位置によって決定される。また、被支持部分９１のＹ軸方向のサイズＤは、多孔質部材２７のＹ軸方向のサイズＤ1によって定まる。
【００４６】
なお、浮上ステージ２３のＹ軸方向のサイズＤ1は、第１搬送部５と第２搬送部６との間隔に応じて決定される。一方、第１搬送部および第２搬送部６において生じた基板９０の撓みや搬送振動を、基板９０の位置Ｅにおける部分（撮像部分９２）に伝播させないためには、第１搬送部５と第２搬送部６との間隔は広い方が好ましい。しかし、第１搬送部５と第２搬送部６との間隔があまりに広すぎると、被支持部分９１を浮上支持させるために要する力が増大する（供給機構２１の必要容量が増大する）。したがって、浮上ステージ２３のＹ軸方向のサイズＤ1は様々な条件に応じて適宜決定される。
【００４７】
多孔質部材２７は、基板９０のＸ軸方向の全幅のサイズＷ1より広いサイズＷに亘って配置されている。したがって、多孔質部材２７から吐出されたエアが吹き付けられる部分である被支持部分９１のＸ軸方向の全幅のサイズＷ2は、基板９０のＸ軸方向の全幅のサイズＷ1となる。
【００４８】
このような構造により、検査装置１の浮上ステージ２３は、基板９０の被支持部分９１から離間した状態で、被支持部分９１のＸ軸方向の全幅に亘ってエアを吐出させることによって基板９０の被支持部分９１を浮上させて支持する。言い換えれば、検査装置１では、検査装置１のいかなる部材も被支持部分９１に当接することがない構造となっている。
【００４９】
また、多孔質部材２７は、外表面における光の反射性が低い素材で構成されている。これにより、ロッド照明３０から投射され基板９０を透過した光が、多孔質部材２７の上面で反射して、ラインカメラ３１に入射するのを抑制できる。
【００５０】
なお、多孔質部材２７は反射性が低い素材でなくても、上面で反射した光がラインカメラ３１に入射しないように、当該上面が表面処理されていてもよい。また、多孔質部材２７の上面の一部に反射性の低い板状部材を貼り付けてもよい。いずれの場合も、エアの吐出が妨げられないように構成されていればよい。
【００５１】
一対の吸着ステージ２４は、浮上ステージ２３を基板９０の搬送方向（Ｙ軸方向）の前後から挟み込むように、浮上ステージ２３の近傍に隣接して配置されている。各吸着ステージ２４の上面には、Ｘ軸方向に延びる吸着溝２５が設けられている。吸着溝２５の底面には複数の吸引口が設けられており、これらの吸引口は吸着ステージ２４の裏面に接続される排気機構２０の排気配管に連通接続されている。
【００５２】
このような構造により、排気機構２０が駆動されると、各吸着ステージ２４の上方（基板９０の下方）の雰囲気が吸着溝２５から吸引され、吸引口や排気配管を介して検査装置１の外部に排気される。すなわち、検査装置１の吸着ステージ２４は、上方を搬送される基板９０に対して、Ｘ軸方向に均一な吸引力（下方向きの外力）を作用させる機能を有する。
【００５３】
このように、基板９０（被支持部分９１）を浮上支持する位置の近傍において、被支持部分９１が浮上支持された状態の基板９０の下方の雰囲気を排気して、当該基板９０の当該位置付近に吸引力（下方向きの外力）を作用させることにより、第１搬送部５や第２搬送部６において発生する基板９０の撓みや搬送振動が、被支持部分９１（撮像部分９２）に伝播することを抑制することができ、いわゆる縁切り効果を発揮する。
【００５４】
したがって、さらに被支持部分９１（撮像部分９２）の平坦度を向上させることができる。なお、図３に示すように、例え排気機構２０を駆動させたとしても、基板９０が吸着ステージ２４に直接吸着される（張り付く）ことはないように、本実施の形態では吸着ステージ２４の吸引力が調整されている。
【００５５】
図３に戻って、撮像部３は、ロッド照明３０とラインカメラ３１とを備える。
【００５６】
ロッド照明３０は、Ｘ軸方向に延びる棒状の照明であって、基板９０の上面と位置Ｅとが一致する位置を照明するようにセットされている。ロッド照明３０のＸ軸方向のサイズは、ラインカメラ３１の撮像領域のＸ軸方向のサイズよりも大きくなるように設計されている。これにより、ロッド照明３０は、主に基板９０の撮像部分９２の上面を照明する機能を有する。
【００５７】
ラインカメラ３１は、Ｍ個のＣＣＤ素子（図示せず）を備えており、Ｍ個のＣＣＤ素子が一列に配列した構造を有する。ラインカメラ３１におけるＣＣＤ素子の配列方向はＸ軸方向に対応付けられている。このような構造により、ラインカメラ３１の撮像領域（同時に撮像可能な領域）は、Ｙ軸方向のサイズが１画素サイズ、Ｘ軸方向のサイズがＭ画素サイズとなっている。すなわち、ラインカメラ３１の撮像領域は、Ｘ軸方向に延びる領域となっている。
【００５８】
ラインカメラ３１におけるＭの値（ＣＣＤ素子の数）は、Ｍ画素サイズが基板９０の検査領域９３のＸ軸方向のサイズＷ2より大きくなるように決定されている。このようにＭの値を決定することにより、ラインカメラ３１は、検査領域９３のＸ軸方向の全幅を同時に撮像することが可能である。
【００５９】
なお、本実施の形態では、Ｍの値は、ラインカメラ３１の撮像領域のＸ軸方向のサイズが「Ｗ」となるように決定されている。これにより、ラインカメラ３１は、搬送部４が搬送する基板のうち、Ｘ軸方向のサイズが最大の基板であっても、Ｘ軸方向の全幅について同時に撮像が可能となる。ただし、Ｍの値はこれに限定されるものではない。
【００６０】
図３に示すように、ラインカメラ３１は、基板９０の上面のうち、Ｙ軸方向の位置が「Ｅ」となっている領域を撮像する。上記説明では、撮像部分９２は、基板９０の一部分のうち、Ｙ軸方向の位置が「Ｅ」となる部分であると説明したが、より直接的には、撮像部分９２はその上面がラインカメラ３１の撮像領域と一致する部分である。したがって、撮像部分９２のＸ軸方向のサイズは基板９０（検査領域９３）と同じ「Ｗ1（Ｗ2）」であり、Ｙ軸方向のサイズは１画素サイズである。
【００６１】
このように、ラインカメラ３１の撮像領域のＹ軸方向のサイズが１画素サイズ（微少）であることにより、検査装置１において、基板９０のＹ軸方向における平坦度はあまり問題にならず、当該方向における基板９０の多少の撓みは許容される。
【００６２】
図３に示すように、検査装置１における基板９０は、第１搬送部５の最も（＋Ｙ）側に配置された長軸５２に取り付けられている搬送ローラ５４と、第２搬送部６の最も（−Ｙ）側に配置された長軸６２に取り付けられている搬送ローラ６４との間に掛け渡された状態で支持される。すなわち、基板９０の平坦度は、Ｘ軸方向に比べて、Ｙ軸方向において低下するが、撮像領域がＹ軸方向に狭く設定されているため、検査精度に対する影響は抑制されている。
【００６３】
さらに、ラインカメラ３１は、図示しない制御部からの制御信号に応じたタイミングで撮像を行い、ＣＣＤ素子の出力値に応じて１回の撮像ごとに１ライン分の画像データを生成し、当該制御部に出力する。
【００６４】
このようにして得られる画像データに基づいて、基板９０の上面に設定された検査領域９３の検査を行う手法としては、従来より様々な手法が提案されており、ここでは詳細に述べない。ただし、例えば、Ｘ軸方向に塗布ムラが生じているか否かは、１ライン分の画像データにおける各画素の値（各ＣＣＤ素子の出力値）のバラツキを判定することによって判断できる。
【００６５】
なお、ラインカメラ３１による撮像タイミングは、基板９０が１画素サイズ分の距離だけ（＋Ｙ）方向に搬送されるタイミングであることが好ましい。このように制御することにより、ラインカメラ３１は、基板９０が搬送される間に、検査領域９３の全域を撮像することが可能である。ただし、撮像タイミングはこれに限定されるものではなく、これよりも遅らせることにより、適宜、検査領域９３を間引いて撮像してもよい。
【００６６】
図２に示す搬送部４は、支持部２のＹ軸方向上流側に配置される第１搬送部５と、支持部２のＹ軸方向下流側に配置される第２搬送部６とを備えており、基板９０を（＋Ｙ）方向に水平搬送する機能を有する。詳細は後述するが、搬送部４は、いわゆるコロ搬送機構と呼ばれる構造で基板９０を搬送する。
【００６７】
第１搬送部５は、Ｘ軸方向に対向して配置される一対の支持部材５０と、一対の支持部材５０に両端部が取り付けられる複数の長軸５２と、一対の支持部材５０のいずれか一方にのみ取り付けられる複数の短軸５３とを備える。
【００６８】
長軸５２および短軸５３は、いずれもＸ軸方向に沿うように互いに略平行に配置される。詳細は図示しないが、長軸５２および短軸５３は、支持部材５０に対して固定されて支持軸として機能するものと、図示しないモータからの駆動力によってＸ軸方向を中心軸として回転し駆動軸として機能するものとがある。
【００６９】
また、長軸５２および短軸５３には、少なくとも１つの搬送ローラ５４が取り付けられている。詳細は図示しないが、搬送ローラ５４は、長軸５２（または短軸５３）に対して固定されて駆動ローラとして機能するものと、長軸５２（または短軸５３）に対して回転可能に取り付けられて従動ローラとして機能するものとがある。搬送ローラ５４のうち、駆動ローラとして機能するものが、主に本発明における第１駆動ローラに相当する。
【００７０】
搬送ローラ５４は基板９０の下面に上端を当接させることにより、基板９０を（−Ｚ）方向（下方）から支持する。複数の搬送ローラ５４の上端の高さ位置（Ｚ軸方向の位置）は、互いに略同一となるように設計されており、複数の搬送ローラ５４によって支持される基板９０は、水平姿勢に支持される。
【００７１】
上記駆動軸として機能する長軸５２（または短軸５３）に固定されている搬送ローラ５４は、当該駆動軸の回転によって駆動ローラとして回転し、支持した基板９０を（＋Ｙ）方向に搬送する。
【００７２】
第２搬送部６は、Ｘ軸方向に対向して配置される一対の支持部材６０と、一対の支持部材６０に両端部が取り付けられる複数の長軸６２とを備える。
【００７３】
長軸６２は、いずれもＸ軸方向に沿うように配置され、詳細は図示しないが、支持部材６０に対して固定されて支持軸として機能するものと、図示しないモータからの駆動力によってＸ軸方向を中心軸として回転し駆動軸として機能するものとがある。
【００７４】
また、長軸６２には、搬送ローラ６４が取り付けられている。詳細は図示しないが、搬送ローラ６４は、長軸６２に対して固定されて駆動ローラとして機能するものと、回転可能に取り付けられて従動ローラとして機能するものとがある。搬送ローラ６４のうち、駆動ローラとして機能するものが、主に本発明における第２駆動ローラに相当する。
【００７５】
搬送ローラ６４は基板９０の下面に上端を当接させることにより、基板９０を（−Ｚ）方向（下方）から支持する。複数の搬送ローラ６４の上端の高さ位置（Ｚ軸方向の位置）は、互いに略同一となるように設計されており、複数の搬送ローラ６４によって支持される基板９０は、水平姿勢に支持される。
【００７６】
なお、搬送ローラ６４の上端の高さ位置は、搬送ローラ５４の上端の高さ位置と略同一とされている。これにより、第１搬送部５から第２搬送部６に受け渡されるときにおいても、基板９０の高さ位置は変更されることはない。
【００７７】
上記駆動軸として機能する長軸６２に固定されている搬送ローラ６４は、当該駆動軸の回転によって駆動ローラとして回転し、支持した基板９０を（＋Ｙ）方向に搬送する。
【００７８】
また、図２に示すように、検査装置１は、基板９０の位置を決定する位置決め機構７および基板９０の向きを変更する変更機構８を備える。
【００７９】
位置決め機構７は、第１搬送部５上の基板９０のＹ軸方向の位置を決定する一対の第１位置決め部７０と、互いにＸ軸方向に対向するように配置される一対の第２位置決め部７１，７２を備えている。
【００８０】
一対の第１位置決め部７０は、Ｙ軸方向の位置が実質的に同一となるように、同一の長軸５２に固定されている。詳細は後述するが、一対の第１位置決め部７０は、第１搬送部５によって搬送されている基板９０を、変更機構８の上方に停止させるために使用される。
【００８１】
第１位置決め部７０が固定される長軸５２は回転しない構造の長軸５２であり、当該長軸５２に取り付けられている搬送ローラ５４は当該長軸５２に対して回転可能な従動ローラである。ただし、一対の第１位置決め部７０は、例えば、支持部材５０に対して固定されていてもよい。すなわち、Ｙ軸方向に移動しない構造であれば、どのような部材に固定されていてもよい。
【００８２】
詳細は図示しないが、各第１位置決め部７０は、Ｚ軸方向に進退可能なピン部材を備えている。基板９０の位置決めを行う場合（基板９０を変更機構８の上方に停止させる場合）、各第１位置決め部７０は、基板９０が搬送される高さ位置まで当該ピン部材を（＋Ｚ）方向に進出させる。この状態で、基板９０が搬送されてくると、当該基板９０の先端部（＋Ｙ側の端部）が当該ピン部材に当接し、当該基板９０のＹ軸方向の位置が決定される。
【００８３】
一方、第１搬送部５が基板９０を、さらに（＋Ｙ）方向に搬送するときにおいて、各第１位置決め部７０は当該ピン部材を（−Ｚ）方向に退出させ、ピン部材が基板９０に当接することを回避する。これにより、基板９０は、第１位置決め部７０の上方を通過することが可能となる。
【００８４】
互いにＸ軸方向に対向するように配置される一対の第２位置決め部７１，７２は、互いに同様の構造であるため、以下では、第２位置決め部７１の構造についてのみ説明する。
【００８５】
図６は、第２位置決め部７１を（−Ｘ）方向から示す側面図である。また、図７は、第２位置決め部７１を（−Ｙ）方向から示す側面図である。
【００８６】
第２位置決め部７１は、図示しない架台に対して固定される取付部材７３、駆動部７４および付勢部７５を備える。取付部材７３に固設される駆動部７４は、一般的な直動機構であって、図示しない制御部からの制御信号に応じて、Ｘ軸方向に付勢部７５を進退させる機能を有する。なお、付勢部７５のＸ軸方向の位置は、駆動部７４の駆動距離を制御することによって決定される。
【００８７】
付勢部７５は、支持部７６と、一対の軸部７７ａ，７７ｂと、パッド７８ａ，７８ｂとを備え、先述のように、駆動部７４によって一体的にＸ軸方向に進退移動することが可能とされている。
【００８８】
付勢部７５の基台として機能する支持部７６は、長手方向がＹ軸方向に沿う方向となるように配置される。支持部７６には駆動部７４が連結されており、駆動部７４の駆動力が伝達される。
【００８９】
一対の軸部７７ａ，７７ｂは、支持部７６のＹ軸方向の両端部にＺ軸方向に直立した状態で配置される棒状の部材である。すなわち、各軸部７７ａ，７７ｂの（−Ｚ）方向の端部は、いずれも支持部７６に固設されており、軸部７７ａ，７７ｂおよび支持部７６は一体的な構造物を構成している。
【００９０】
パッド７８ａ，７８ｂは、それぞれ軸部７７ａ，７７ｂの先端部に、Ｚ軸方向を中心軸として回転可能に取り付けられており、付勢部７５が基板９０の存在する方向に進出移動することにより基板９０の端部側面に当接する。
【００９１】
第２位置決め部７１の一対のパッド７８ａ，７８ｂはＹ軸方向に対向しており、Ｘ軸方向の位置が互いに等しくなるように配置されている。したがって、一対のパッド７８ａ，７８ｂのいずれもが基板９０の端部に当接する状態では、当該端部の延びる方向はＹ軸方向となる。すなわち、第２位置決め部７１のパッド７８ａ，７８ｂが基板９０に当接することによって、基板９０の（−Ｘ）側の端部について、その延びる方向がＹ軸方向となるように調整がされる。一方、第２位置決め部７２のパッド７８ａ，７８ｂが基板９０に当接することによって、基板９０の（＋Ｘ）側の端部について、その延びる方向がＹ軸方向となるように調整がされる。したがって、第２位置決め部７１，７２は、基板９０の向きを正確に微調整する機能を有する。
【００９２】
また、駆動部７４は、先述の制御部からの制御信号に応じて、付勢部７５をＸ軸方向に移動させることにより、パッド７８ａ，７８ｂのＸ軸方向の位置を決定する。これにより、パッド７８ａ，７８ｂに当接する基板９０の端部のＸ軸方向の位置が決定される。すなわち、検査装置１は、対向する一対の第２位置決め部７１，７２のパッド７８ａ，７８ｂを予め定められたＸ軸方向の位置にそれぞれ移動させることによって、第１搬送部５上の基板９０のＸ軸方向の位置を決定する。
【００９３】
さらに、パッド７８ａ，７８ｂがＺ軸方向を軸として回転可能に取り付けられていることにより、基板９０はパッド７８ａ，７８ｂに当接したままの状態で、Ｙ軸方向への移動が可能とされている。
【００９４】
図８は、変更機構８に係る構成を示す側面図である。変更機構８は、テーブル８０、支持ピン８１、支柱部材８２、ベース８３、昇降機構８４、回転軸８５、回転モータ８６およびタイミングベルト８７から構成される。
【００９５】
テーブル８０は略矩形の板状の部材であって、略水平姿勢で配置されている。また、テーブル８０は、第１搬送部５による基板９０の搬送路のＸ軸方向の中央部に配置されている。
【００９６】
図２に示すように、テーブル８０の上面の角部付近には４つの支持ピン８１が立設されている。各支持ピン８１の先端（上端）は同じ高さ位置となっており、各支持ピン８１の上端が基板９０の裏面に当接することにより、変更機構８は基板９０を水平姿勢で所定の位置に保持することが可能となっている。なお、図２では、４つの支持ピン８１のみ図示しているが、支持ピン８１の数は４個に限られるものではなく、３つ以上備えていればよい。
【００９７】
テーブル８０の裏面中心部には円柱状の支柱部材８２がＺ軸に沿う方向に垂設されており、テーブル８０および支柱部材８２は一体構造物を構成している。また、後述するように、支柱部材８２は昇降機構８４に連結されている。
【００９８】
ベース８３は、昇降機構８４および回転軸８５が取り付けられる基台として機能する部材である。
【００９９】
ベース８３に固設される昇降機構８４は、一般的な直動機構であり、先述のように支柱部材８２に連結されている。昇降機構８４は支柱部材８２をＺ軸方向に昇降させる機能を有する。昇降機構８４が支柱部材８２を昇降させることによって、支柱部材８２に対して固定されているテーブル８０が下方位置と上方位置との間で昇降する。
【０１００】
なお、下方位置とは、第１搬送部５によって支持されている基板９０に各支持ピン８１が当接しないように、テーブル８０が（−Ｚ）方向に下降（退避）する位置である。より詳しくは、テーブル８０が下方位置に配置されているときには、各支持ピン８１の上端の高さ位置が、第１搬送部５の各搬送ローラ５４の上端の高さ位置よりも低くなる。このように、昇降機構８４がテーブル８０を下方位置に下降させることによって、基板９０は変更機構８と干渉することなく、第１搬送部５による搬送が可能となる。
【０１０１】
また、上方位置とは、テーブル８０の下面の高さ位置が第１搬送部５の各搬送ローラ５４の上端の高さ位置よりも高くなるように、テーブル８０が（＋Ｚ）方向に上昇した位置である。このように、昇降機構８４がテーブル８０を上方位置に上昇させることにより、変更機構８は、第１搬送部５によって変更機構８の上方まで搬送された基板９０を第１搬送部５から受け取ることが可能となる。また、上方位置にあるテーブル８０は、第１搬送部５と干渉することなく、軸Ｐを中心に回転することが可能となる（後述）。
【０１０２】
回転軸８５は、軸Ｐが中心軸となるように、ベース８３の裏面側に垂設される。回転軸８５と回転モータ８６との間にはタイミングベルト８７が掛け渡されており、回転モータ８６によって生成される回転駆動力がタイミングベルト８７を介して回転軸８５に伝達される。
【０１０３】
このような構成により、回転モータ８６を回転駆動させると、回転軸８５が軸Ｐを中心として回転し、これによりテーブル８０が略水平面内で回転する。この回転モータ８６の回転角度は、ほぼ９０°となるように制御される。本実施の形態における変更機構８は、支持ピン８１によって基板９０を保持した状態でテーブル８０を９０°回転させることにより、保持した基板９０を略水平面内で９０°回転させて、当該基板９０の向きを変更する。
【０１０４】
基板９０の状態によっては、表面に形成されるムラの形状や性質が異なり、撮像する方向によって検出の容易さが異なる場合がある。したがって、経験的にムラの検出しやすい方向がある場合には、当該基板の特性に応じて、向きを調整することが好ましい。
【０１０５】
このように、検査装置１（第１搬送部５）に搬入された基板９０の向きが検査に適した向きになっていない場合でも、検査装置１は、変更機構８によって予め基板９０の向きを検査に適した向きに変更することができる。したがって、検査装置１は、さらに検査精度を向上させることができる。
【０１０６】
なお、図２には、第１搬送部５によって搬送される基板９０の向きを変更する変更機構８を図示したが、変更機構８は第２搬送部６によって搬送される基板９０の向きを変更するように配置してもよい。この場合、変更機構８は、検査装置１から搬出される基板９０の向きを、検査装置１の下流側の装置（本実施の形態では搬出部１０９）の要求する向きに応じて変更することができる。また、検査装置１は２つの変更機構８を備えていてもよい。
【０１０７】
以上が本実施の形態における検査装置１の構成および機能の説明である。次に、検査装置１を用いて基板９０の上面に設定された検査領域９３を検査する方法について説明する。
【０１０８】
図９および図１０は、検査装置１を用いた検査方法を示す流れ図である。
【０１０９】
まず、初期状態として、検査装置１は、第１位置決め部７０のピンを上昇させ、当該ピンによって基板９０を停止させる状態とする。また、搬送されてくる基板９０がパッド７８ａ，７８ｂに干渉しないように、第２位置決め部７１，７２の付勢部７５を退避させる。また、搬送されてくる基板９０が、変更機構８のテーブル８０や支持ピン８１に干渉しないように、テーブル８０を下方位置に退避させる。このような初期状態で、検査装置１は、基板９０が搬入されるまで待機する（ステップＳ１０）。
【０１１０】
基板９０が検査装置１の第１搬送部５に搬入されると、検査装置１はステップＳ１０においてＹｅｓと判定し、第１搬送部５による基板９０の搬送を開始して（ステップＳ１１）、搬送している基板９０が第１位置決め部７０に当接したか否かを監視する（ステップＳ１２）。本実施の形態ではステップＳ１２の判定は、第１搬送部５の搬送速度と搬送距離とに応じて、基板９０の先端部が第１位置決め部７０に到達するのに充分な時間経過を監視することによって行う。だだし、基板９０の先端部の位置を検出するセンサを設けてもよい。
【０１１１】
基板９０の（＋Ｙ）側の先端部が第１位置決め部７０に当接すると（ステップＳ１２においてＹｅｓ）、第１搬送部５は基板９０の搬送を停止する（ステップＳ１３）。これにより、基板９０は、第１位置決め部７０によってＹ軸方向の位置が決定され、変更機構８の上方の所定の位置に停止する。
【０１１２】
次に、検査装置１は、第１位置決め部７０のピンを下降させるとともに（ステップＳ１４）、基板９０の向き変更が必要か否かを判定する（ステップＳ１５）。検査装置１には、予め上流側の装置からどのような向きで基板９０が搬入されるかを示す情報や、検査に適した基板９０の向きに関する情報、および下流側の装置が要求する基板の向きを示す情報等が与えられており、これらに応じてステップＳ１５における判定を行う。
【０１１３】
向き変更が不要である場合（ステップＳ１５においてＮｏ）、検査装置１は後述するステップＳ１６ないしＳ１８をスキップすることにより基板９０の向きを変更することなく、次の処理に移る。
【０１１４】
一方、向き変更が必要である場合（ステップＳ１５においてＹｅｓ）、検査装置１の変更機構８は、昇降機構８４を駆動して、テーブル８０を（＋Ｚ）方向に向けて上方位置まで上昇させる（ステップＳ１６）。ステップＳ１６が実行される過程で、支持ピン８１が基板９０の裏面に当接し、さらにテーブル８０（支持ピン８１）が上昇することにより当該基板９０が搬送ローラ５４から離間し、当該基板９０は第１搬送部５から変更機構８に受け渡される。
【０１１５】
テーブル８０が上方位置まで上昇すると、変更機構８は昇降機構８４を停止させるとともに、回転モータ８６を駆動する。そして、回転モータ８６の回転駆動力がタイミングベルト８７を介して回転軸８５に伝達され、回転軸８５が軸Ｐを中心に回転し、これに連動してテーブル８０が同じく軸Ｐを中心に回転する。このようにして、変更機構８はテーブル８０を９０°回転させて、テーブル８０上の基板９０の向きを９０°変更する（ステップＳ１７）。
【０１１６】
向き変更が完了すると、変更機構８は昇降機構８４を駆動して、テーブル８０を（−Ｚ）方向に向けて下方位置まで下降させる（ステップＳ１８）。ステップＳ１８が実行される過程で、搬送ローラ５４の上端が基板９０の裏面に当接し、さらにテーブル８０（支持ピン８１）が下降することにより当該基板９０が支持ピン８１から離間し、当該基板９０は変更機構８から第１搬送部に受け渡される。
【０１１７】
ステップＳ１５においてＮｏと判定されるか、あるいはステップＳ１８の処理が完了すると、検査装置１は、第２位置決め部７１，７２によって、基板９０のＸ軸方向の位置を決定する（ステップＳ２０）。すなわち、各第２位置決め部７１，７２の駆動部７４を駆動して、各付勢部７５を基板９０の存在する方向に移動させる。これにより、各パッド７８ａ，７８ｂが基板９０の端部に当接し、基板９０のＸ軸方向の位置が決定されるとともに、基板９０の向きの微調整が完了する。なお、基板９０のＸ軸方向の位置は、搬送路のＸ軸方向における中央位置とすることが好ましい。
【０１１８】
次に、検査装置１は、供給機構２１を駆動して浮上ステージ２３のチャンバ２６内にエアの供給を開始する（ステップＳ２１）。これにより、多孔質部材２７からのエアの吐出が開始され、以後、多孔質部材２７の上方に到達した基板９０の裏面にエアが吹き付けられ、当該部分（被支持部分９１）が浮上支持される。
【０１１９】
また、検査装置１は、排気機構２０を駆動して一対の吸着ステージ２４による排気を開始する（ステップＳ２２）。これにより、吸着溝２５からの排気が開始され、以後、吸着ステージ２４の上方に到達した基板９０の裏面に吸引力が作用し、撓みや振動が縁切りされる。
【０１２０】
さらに、検査装置１は、撮像部３による撮像を開始するとともに（ステップＳ２３）、第１搬送部５および第２搬送部６による基板９０の搬送を開始する（ステップＳ２４）。これによって、基板９０がＹ軸方向に搬送されつつ、当該基板９０の検査領域９３のＸ軸方向の全幅（撮像部分９２の上面）が順次撮像されて画像データが生成される。
【０１２１】
なお、ステップＳ２１ないしＳ２４の処理は同時に並行して実行されてもよい。あるいは、基板９０の位置に応じて適切なステップを適切な順序で実行するように構成してもよい。少なくともステップＳ２４が開始され基板９０の（＋Ｙ）方向の先端部が位置Ｅに到達するまでにステップＳ２１ないしＳ２３が開始されていればよい。
【０１２２】
ステップＳ２１ないしＳ２４の処理が開始されると、検査装置１は基板９０が搬出位置に到達したか否かを監視しつつ（ステップＳ２５）、基板９０の搬送と撮像部３による撮像とを継続する。
【０１２３】
これらの処理と並行して、検査装置１は、撮像部３によって得られた画像データに基づいて、検査領域９３の検査を行い、検査結果を適宜出力する。検査結果の出力方法としては、例えば、当該基板９０の履歴情報に検査結果を格納したり、図示しない表示部（ディスプレイやランプ）によってオペレータに警告を出したりすることが考えられる。あるいは、検査結果に応じて、基板９０の搬送先（搬出位置）を変更してもよい。
【０１２４】
基板９０が搬出位置に到達したと判定すると、検査装置１はステップＳ２５においてＹｅｓと判定し、第２搬送部６による基板の搬送を停止する（ステップＳ２６）。
【０１２５】
なお、詳細は説明しないが、ステップＳ２６が実行されるまでに、第１搬送部５による基板９０の搬送の停止、排気機構２０による吸引の停止、供給機構２１によるエアの供給の停止、および撮像部３による基板９０の撮像の停止等の処理が実行される。これらの処理を実行するタイミングは、基板９０のＹ軸方向の位置（基板９０がどこまで搬送されたか）に応じて決定することが好ましい。
【０１２６】
ステップＳ２６が実行されて基板９０が搬出位置で停止すると、検査装置１は基板９０が検査装置１から搬出されるまで待機した後、さらに検査すべき基板９０が存在するか否か（検査を終了するか否か）を判定する（ステップＳ２７）。
【０１２７】
検査すべき新たな基板９０が存在する場合、検査装置１は初期状態に戻って、ステップＳ１０からの処理を繰り返す。一方、全ての基板９０について検査を終了した場合、検査装置１は処理を終了する。
【０１２８】
なお、上記説明では、新たな基板９０の検査装置１への搬入は、検査が終了した基板９０の搬出が終了した後に行うと説明した。しかし、検査装置１内において前後の基板９０が干渉しないように充分な時間間隔が設けられるのであれば、必ずしも検査が終了した基板９０の搬出を待たずに新たな基板９０が搬入されてもよい。
【０１２９】
以上のように、本実施の形態における検査装置１は、水平姿勢の基板９０の下方からエアを吹き付けて、基板９０のＸ軸方向の全幅に亘る被支持部分９１を、被支持部分９１から離間した状態で浮上支持し、浮上支持された被支持部分９１のうちＸ軸方向を長手方向とする撮像部分９２を撮像部３によって同時に撮像する。これにより、Ｙ軸方向の位置Ｅ（撮像位置）においては、Ｘ軸方向の全幅に亘って検査装置１の部材が基板９０に当接しない構造となるため、当該部分において基板９０に作用する外力が均一化される。したがって、基板９０の撮像部分９２の撓みが抑制されるため、当該撮像部分９２の上面の平坦度が向上する。したがって、撮像部分９２を精度よく撮像することができ、検査精度が向上する。
【０１３０】
また、被支持部分９１のＸ軸方向の全幅に亘ってエアを吹き付けることにより、被支持部分９１の一部にエアを吹き付ける場合に比べて、さらに平坦度を向上できる。
【０１３１】
また、撮像部分９２が、基板９０の検査領域９３のＸ軸方向の全幅を含むことにより、検査領域９３のＸ軸方向の全幅を撮像するために、撮像部３と基板９０とをＸ軸方向に相対移動させる必要がない。
【０１３２】
また、水平姿勢の基板９０をＹ軸方向に水平搬送する搬送部４をさらに備え、搬送部４により搬送されている基板９０の被支持部分９１を浮上支持することにより、基板９０を静止させることなく撮像することができるため、タクトタイムを短縮できる。
【０１３３】
また、支持部２により被支持部分９１が浮上支持された状態の基板９０の下方の雰囲気を排気することにより、排気による吸着作用を付加することができ、いわゆる振動の縁切り効果が得られる。したがって、さらに平坦度を向上させることができる。
【０１３４】
また、第２位置決め部７１，７２によって基板９０のＸ軸方向の位置を決定することにより、基板９０の位置精度が向上するので、検査領域を正確に撮像できる。
【０１３５】
さらに、基板９０の向きを変更することにより、搬入・搬出時の基板９０の向きにかかわらず、検査に応じた向きに基板９０を設定することができる。
【０１３６】
＜２．  変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【０１３７】
例えば、撮像部３は基板９０のＸ軸方向の全幅を撮像するように構成されていなくてもよい（撮像部分９２は必ずしも基板９０のＸ軸方向の全幅に亘っていなくてもよい）。すなわち、ラインカメラ３１の撮像領域のＸ軸方向のサイズは、基板９０のＸ軸方向のサイズＷ1より小さくてもよい。例えば、検査領域９３がＸ軸方向の端部を除く領域として設定されていれば、少なくとも当該検査領域９３を含む領域を撮像できれば充分である。このように、被支持部分９１の平坦度が確保されていれば、必ずしも撮像部分９２が基板９０のＸ軸方向の全幅に亘る部分である必要はない。
【０１３８】
また、浮上ステージ２３は、被支持部分９１のＸ軸方向の全幅に対して吹き付けなくてもよい。すなわち、浮上ステージ２３（多孔質部材２７）のＸ軸方向のサイズＷは、基板９０のＸ軸方向のサイズＷ1より小さくてもよい。基板９０の中央部のみを浮上支持しただけでも充分基板９０の撓みが小さい場合には、例えば基板９０のＸ軸方向の両端部にはエアを吹き付けなくてもよい。
【０１３９】
また、図９および図１０に示した各工程は、あくまでも例示であって、このような処理内容または順序に限定されるものではない。すなわち、同様の効果を得られるのであれば、適宜、処理内容や順序が変更されてもよい。
【０１４０】
また、図３に示すように、上記実施の形態では、第１搬送部５（支持部材５０）と第２搬送部６（支持部材６０）との間（Ｙ軸方向のスペース）が、ステージ２２のＹ軸方向の幅より大きく設計されているが、このような寸法関係に限定されるものではない。
【０１４１】
また、上記実施の形態では、ステージ２２の下面のＺ軸方向の位置が、支持部材５０および支持部材６０の下端のＺ軸方向の位置と同一となっている（図３参照）。しかし、例えば、ステージ２２の下面のＺ軸方向の位置は、支持部材５０および支持部材６０の下端のＺ軸方向の位置よりも高くなるように設計されていてもよい。
【０１４２】
また、上記実施の形態では、ステージ２２の上面のＺ軸方向の位置が、支持部材５０および支持部材６０の上端のＺ軸方向の位置よりも低くなっている（図３参照）。しかし、例えば、ステージ２２の上面のＺ軸方向の位置は、支持部材５０および支持部材６０の上端のＺ軸方向の位置と略同一となるように設計されていてもよい。
【０１４３】
また、検査装置１を設ける位置は、温調部１０３と搬出部１０９との間に限定されるものではない。例えば、塗布ムラを検出するのであれば、塗布処理後のベーク処理の後に検査が実行されるように、検査装置１を温調部１０６の下流側、あるいは温調部１０６内に設けてもよい。
【０１４４】
また、上記実施の形態では、１つのステージ２２が基板９０を浮上させる例について説明したが、ステージ２２の数はこれに限定されるものではない。図１１は、変形例において基板９０を浮上支持する様子を示す図である。図１１に示す例では、２つのステージ２２がＹ軸方向に間隔を開けて設置されており、Ｙ軸方向の位置Ｅには板部材２８が設置されている。すなわち、図１１に示す構成では、２つのステージ２２によって基板９０の被支持部分９１を浮上支持するが、撮像部分９２の裏面にはエアは吹き付けられない。板部材２８は、反射性の低い素材で構成される板状の部材である。このように、基板９０の被支持部分９１を浮上支持するのであれば、位置Ｅの直下ではない位置において基板９０を浮上支持してもよい。このように構成することにより、位置Ｅには、基板９０を透過した光がラインカメラ３１に向かわないように、板部材２８を配置できる。
【０１４５】
さらに、上記実施の形態では、基板処理システム１００が塗布部１０５および現像部１０８を備えており、検査装置１は塗布ムラおよび現像ムラを検出する装置として構成されていた。しかし、基板処理システム１００は処理部として、エッチング部や剥離部を備えていてもよい。このような場合には、検査装置１はエッチングムラを検査するためにエッチング部内に配置されてもよいし、剥離ムラを検査するために剥離部内に配置されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１４６】
【図１】本発明に係る基板処理システムの平面図である。
【図２】検査装置の平面図である。
【図３】検査装置の側面図である。
【図４】基板における被支持部分と撮像部分とを示す図である。
【図５】ステージを示す図である。
【図６】第２位置決め部を（−Ｘ）方向から示す側面図である。
【図７】第２位置決め部を（−Ｙ）方向から示す側面図である。
【図８】変更機構に係る構成を示す側面図である。
【図９】検査装置を用いた検査方法を示す流れ図である。
【図１０】検査装置を用いた検査方法を示す流れ図である。
【図１１】変形例において基板を浮上支持する様子を示す図である。
【符号の説明】
【０１４７】
１００  基板処理システム
１  検査装置
２  支持部
２０  排気機構
２１  供給機構
２３  浮上ステージ
２４  吸着ステージ
２７  多孔質部材
３  撮像部
３１  ラインカメラ
４  搬送部
５  第１搬送部
５４  搬送ローラ（第１駆動ローラ）
６  第２搬送部
６４  搬送ローラ（第２駆動ローラ）
７  位置決め機構
７０  第１位置決め部
７１，７２  第２位置決め部
８  変更機構
９０  基板
９１  被支持部分
９２  撮像部分
９３  検査領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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