(57)【要約】【課題】配線基板の最外配線層の配線が高密度となる配線基板等を提供することを目的とする。【解決手段】複数の配線層１１，１３，１５及び絶縁層１２，ｌ４が交互に積層され、配線層が絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板であって、最外配線層１５より内側の配線層上に設けた接続用パッド３と、接続用パッド３上に設けられ配線基板表面から突出した外部接続端子５とを有し、外部接続端子５が最外配線層１５を貫通して設けられていることを特徴とする。【選択図】図１Ｄ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板であって、最外配線層より内側の配線層上に設けた接続用パッドと、
該接続用パッド上に設けられ当該配線基板表面から突出した外部接続端子とを有し、該外部接続端子が前記最外配線層を貫通して設けられていることを特徴とする配線基板。
【請求項２】
複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板であって、
当該配線基板に搭載される半導体チップもしくは半導体装置を接続するための外部接続端子が挿入されるべき空間が、最外配線層より内側にある配線層上に設けた接続用パッドから、当該配線基板の表面に向かって最外配線層を貫いて形成されていることを特徴とする配線基板。
【請求項３】
半導体チップ又は半導体装置が、前記外部接続端子により請求項１記載の配線基板に搭載された半導体パッケージ。
【請求項４】
半導体チップ又は半導体装置が前記外部接続端子を有し、当該外部接続端子が前記接続用パッドに接続された、請求項２記載の配線基板に搭載された半導体パッケージ。
【請求項５】
複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板の製造方法であって、
前記配線基板に搭載される半導体チップもしくは半導体装置を接続するための外部接続端子が、最外配線層より内側にある配線層上の接続用パッドに接続され、最外配線層を貫くように形成される、はんだ外部接続端子形成工程を有することを特徴とする製造方法。
【請求項６】
複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板の製造方法であって、
前記配線基板に搭載される半導体チップ又は半導体装置を接続するための外部接続端子が挿入されるべき空間を、最外配線層より内側にある配線層上に設けた接続用パッドから、当該配線基板の表面に向かって、表面のソルダーレジスト層と該ソルダーレジスト層の下層の絶縁層とで構成される最外配線層を貫いて形成する工程を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項７】
前記ソルダーレジスト層と、前記ソルダーレジスト層の下層の絶縁層とを同時に穿孔して、前記空間を形成することを特徴とする、請求項６記載の配線基板の製造方法。
【請求項８】
前記ソルダーレジスト層と、前記ソルダーレジスト層の下層の絶縁層とをレーザを用いて同時に穿孔して、前記空間を形成することを特徴とする、請求項６記載の配線基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、配線層が絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板及びその製造方法並びに半導体パッケージに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報通信機器の高性能化、高機能化の要求に伴う、その機能を実現する機器の中枢の電子部品としての半導体パッケージの高密度実装化に応じて、半導体チップや半導体装置を搭載するための配線基板における高密度化が進んでいる。これらの用途に使用される基板には、通常複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、配線層同士が、絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている多層の配線基板が用いられている。当該基板へ搭載すべき半導体チップの高集積化や、半導体装置の基板への接続端子の狹ピッチ化に対応して、配線基板の接続端子も、微細化された構成が必要となり、特に、基板の最外層の配線において、その配線密度を最大限にすることが求められている。具体的には、最外層の配線のデザインルールについて、外部接続端子の接続用パッドと表面ソルダーレジスト開口部との位置精度を上げる等の手段がとられ、例えば、特許文献１には、フォトリソグラフィ及びレーザを使用して開口を精度よく形成する方法が記載されている。また、特許文献２には、ソルダーレジスト層の材料に感光性の樹脂を使わずレーザを用いて開口を形成する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００３−１５２３１１号公報
【特許文献２】特開２０００−２４４１２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の配線基板の最外層の配線設計において、円形等の形状をなす接続用パッドは、その縁辺をソルダーレジスト層にて覆うため、接続用パッドに対応するソルダーレジスト層の開口部の形成について、精度合わせが必要であり、基板表面の配線密度のデザインルールに影響を与えていた。該開口部の形成精度を向上させるため、特許文献１及び特許文献２に示されているように、レーザの技術を用いる手段の提案はあるが、更に配線の高密度化ができないという問題があった。
【０００４】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであって、配線基板の最外配線層の配線が高密度となる配線基板及び製造方法並びに半導体パッケージを提供することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するため、本件発明の配線基板は、複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板であって、最外配線層より内側の配線層上に設けた接続用パッドと、該接続用パッド上に設けられ当該配線基板表面から突出した外部接続端子とを有し、該外部接続端子が前記最外配線層を貫通して設けられているように構成することができる。
【０００６】
また、上記目的を達成するため、本発明の配線基板は、複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板であって、当該配線基板に搭載される半導体チップもしくは半導体装置を接続するための外部接続端子が挿入されるべき空間が、最外配線層より内側にある配線層上に設けた接続用パッドから、当該配線基板の表面に向かって最外配線層を貫いて形成されているように構成することができる。
【０００７】
また、上記目的を達成するため、本発明の製造方法は、複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板の製造方法であって、前記配線基板に搭載される半導体チップもしくは半導体装置を接続するための外部接続端子が、最外配線層より内側にある配線層上の接続用パッドに接続され、最外配線層を貫くように形成されるはんだ外部接続端子形成工程を有するように構成することができる。
【０００８】
また、上記目的を達成するため、本発明の製造方法は、複数の配線層及び絶縁層が交互に積層され、前記配線層が前記絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続されている配線基板の製造方法であって、前記配線基板に搭載される半導体チップもしくは半導体装置を接続するための外部接続端子が装入されるべき空間を、最外配線層より内側にある配線層上に設けた接続用パッドから、当該配線基板の表面に向かって、表面のソルダーレジスト層と該ソルダーレジスト層の下層の絶縁層とで構成される最外配線層を貫いて形成する工程を有するように構成することができる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、配線基板の最外配線層の配線が高密度となる配線基板及び製造方法並びに半導体パッケージを提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための最良の実施の形態を説明する。
【００１１】
（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態は、最外配線層を貫通する外部接続端子の１形態である。
【００１２】
図１Ａは、本発明の配線基板の量産工程における形態を示している。当配線基板１０は、積層工程の終了後に破線に沿って切断分離されて、最終製品として使用される各々の配線基板１となり、電子機器に組み込まれる。
【００１３】
図１Ｂ（ａ）は、配線基板１の表面を示している。配線基板１の表面は、接続用パッド２と、内側の配線層上に設けられた接続用パッド３と、配線６と、ソルダーレジスト層７から形成されている。
【００１４】
図１Ｂ（ｂ）は、接続用パッド２及び３の上に設けられ表面から突出した外部接続端子４及び５を示している。他の接続用パッド上にも同様に外部接続端子が接続される。外部接続端子には、はんだバンプが使用される。
【００１５】
図１Ｃは、図１Ｂ（ａ）における隣接する接続用パッド２及び３計４個についての、各中心を含む切断線Ａ−Ａによる配線基板１の断面図である。本第１の実施の形態は、コア層の片側に各々３層ずつ積層された６層で構成される配線基板である。基板１は、コア層１００、コア層上の配線層１１、第１の絶縁層１２、コア層上の第２の配線層１３、第２の絶縁層１４、コア層上の第３の配線層（最外配線層）１５、ソルダーレジスト層７、及び外部接続端子４と５からなる。搭載されるべき半導体チップ又は半導体装置１５０の外形を２点鎖線により示す。積層の構造の、第１の絶縁層１２及び第２の配線層１３を一組の層として、「コア層上の第２の層１０１」とし、また、第２の絶縁層１４、第３の配線層１５及びソルダーレジスト層７を一組の層として、「コア層上の第３の層１０２」とする。本第１の実施の形態においては、コア層上の第３の層１０２は、配線基板１の最も外側の層となるので、以下これを「最外層１０２」とする。同じく、コア層上の第３の配線層１５も最も外側の配線層となるので、以下これを「最外配線層１５」とする。
【００１６】
図１Ｄは、図１ＣにおけるＢ部の詳細図である。半導体チップ又は半導体装置１５０を搭載すべき配線基板１の表面側の最外層付近の接続用パッド、配線、絶縁層及び外部接続端子の構造を示す。最外層１０２に、配線６を挟み隣接する外部接続端子４、５が設けられる。一方の外部接続端子４は、接続用パッド２上に設けられ、表層にソルダーレジスト層７を有する最外層１０２の表面８から突出している。他方の外部接続端子５は、最外配線層１５より内側にある配線層（本第１の実施の形態ではコア層上第２の配線層）１３上の接続用パッド３上に設けられ、最外層１０２を貫通して基板表面８に突出している。搭載されるべき半導体チップ又は半導体装置１５０の配線基板１との接続状態が基板表面８と略平行になるよう、外部接続端子４の頭頂部９の基板表面８からの高さ１０ａは、外部接続端子５の頭頂部９の基板表面８からの高さ１０ａと同一のレベルである。
【００１７】
なお、当構造の説明においては、接続用パッド３は、最外配線層１５より内側のコア層上第２の配線層１３に設けられているが、更に内側のコア層上の配線層１１に設けられてもよい。あるいは、更にその内側に配線層を有する構造の配線基板の場合には、その配線層上に設けられてもよい。また、設計の条件に合わせて、積層数を増加あるいは減少させた構造が可能である。コア層１００についての、裏面の側の積層構造は、上述の３層の積層と同じ構造にすることができるので、詳細な説明は省略する。また、コア層を有しない複数の配線が積層された構成も可能である。
【００１８】
（第１の実施の形態の効果）
本発明の第１の実施の形態による、最外配線層における配線の高密度化と信頼性の向上の効果について説明する。比較のため、従来の配線基板における配線の構造を図２Ａ〜図２Ｃに示す。
【００１９】
図２Ａ（ａ）は、図１Ｂ（ａ）と同様に、配線基板１ｂの表面を示している。接続用パッド２と、配線６と、ソルダーレジスト層７から形成されている。図２Ａ（ｂ）は、接続用パッド２の上に設けられ表面から突出した外部接続端子４を示している。他の接続用パッド２上にも同様に外部接続端子４が接続される。
【００２０】
図２Ｂは、図２Ａ（ａ）における切断線Ｄ−Ｄによる配線基板１ｂの断面の詳細図であり、前記の図１Ｄに対応する。特に、最外配線層１５における配線６について、接続パッド２、バンプピッチｘ[μｍ]及びソルダーレジストとパッド合わせ部の長さｚ[μｍ]との相互関係を示している。従来の最外配線層の配線設計の際に、配線幅が設計の許容最小値の近傍となるような狭隘部において隣接する配線用パッドの中間の位置に配線を設ける場合には、バンプピッチをｘ[μｍ]、ソルダーレジスト開口径をｙ[μｍ]、ソルダーレジストとパッド合わせ部の長さをｚ[μｍ]とおけば、配線の幅Ｐ０[μｍ]と配線間の絶縁部の幅Ｑ０[μｍ]は、通常同じ値とするので、２本の配線を中間の位置に配置する場合を例にとると、図２Ｂにより、配線幅Ｐ０は、２本の配線と３本の絶縁部の間隔の構成より、Ｐ０＝｛ｘ−（ｙ＋２×ｚ）｝/５で与えられる。ここで、ｘ＝１８５μｍ、ｙ＝９０μｍ、ｚ＝１０μｍの場合には、Ｐ０＝１５μｍとなる。
【００２１】
本発明の第１の実施の形態においては、上記の従来の配線設計と同様な図１Ｄの狭隘部において、２本の配線を配置する場合を例にとると、配線幅Ｐ１は、２本の配線と３本の絶縁部の間隔の構成より、Ｐ１＝｛ｘ−（ｙ＋ｚ）｝/５で与えられる。製造の実例において、バンプピッチｘ＝１８５μｍ、ソルダーレジスト開口径ｙ＝９０μｍ、ソルダーレジストとパッド合わせ部の長さｚ＝１０μｍの場合、Ｐ１＝１７μｍとなる。従来の配線の配置における結果であるＰ０＝１５μｍと比較すると、２μｍの余裕代を有する配線を行うことができるので、配線幅が不足することによる導通不良や、絶縁部の幅が狭いことによる絶縁不良を抑制することができる。また半導体装置の高密度実装の要請により、配線の導通抵抗、絶縁層の絶縁抵抗の設計の許容値の近傍となるような狭い幅を有する配線の設定の場合であっても、信頼性を低下させることなく、最外層における配線の高密度な配置を実現することができる。
【００２２】
（第１の実施の形態の変形例）
図４は、上記図１Ｄに対応する基板の最外配線層付近の断面図であって、外部接続端子が設けられる前の状態を表している。搭載されるべき半導体チップ又は半導体装置の接続端子側に、はんだバンプ等の外部接続端子が接続された状態により搭載される場合には、配線基板における表面から突出した外部接続端子の形成は不要であるので、図４に示す、外部接続端子が挿入されるべき空間３０が形成された形態の配線基板５０を使用することができる。
【００２３】
（第１の実施の形態の適用例１）
図５は、本発明の配線基板に、半導体チップがはんだバンプにより搭載された、半導体パッケージ構造の実施の形態を示している。半導体チップ２００、半導体チップ上の接続端子２０１、はんだバンプ等の外部接続端子２０２、充填樹脂２０３及び配線基板５１の構成である。なお、基板への搭載前に、半導体チップの配線基板への接続面側にはんだバンプ等の外部接続端子を接続することができる場合には、上記第１の実施の形態の変形例に記した図４の形態の配線基板を使用することができる。
【００２４】
（第１の実施の形態の適用例２）
図６は、本発明の配線基板に、半導体装置３１０がはんだバンプにより搭載された、半導体パッケージ構造の実施の形態を示している。半導体装置３１０は、半導体チップ３００、中間基板３０１、半導体チップ３００と中間基板３０１との接続バンプ３０２及び接続端子３０３により構成される。この半導体装置３１０がはんだバンプ等の外部接続端子３０４により配線基板３２０に搭載される。なお、配線基板３２０への搭載前に、半導体装置３１０の配線基板への接続面側に、はんだバンプ等の外部接続端子を接続することができる場合には、前記第１の実施の形態の変形例に記したように、図４の形態の配線基板５０を使用することができる。
【００２５】
（第２の実施の形態）  
前記第１の実施の形態においては、隣接する外部接続端子の片側のみが、最外配線層より内側にある配線層上の接続用パッド上に設けられていたが、第２の実施の形態においては、隣接する外部接続端子が、ともに最外配線層より内側にある配線層上の接続用パッド上に設けられている構造である。
【００２６】
図３は、第２の実施の形態における断面の詳細を示す図であって、前記第１の実施の形態における図１Ｄの断面の詳細図に対応している。外部接続端子の形態は、第１の実施の形態における図１Ｄの外部接続端子５と同様に、最外配線層１５より内側にある第２の配線層１３上の接続用パッド３上に設けられ、最外層１０２を貫通して基板表面８に突出している。外部接続端子５の頭頂部９の基板表面８からの高さ１０ｂの調整も、第１の実施の形態と同様である。接続用パッド３は、第２の配線層１３に設けられているが、更に内側にあるコア層上の配線層１１に設けられてもよい。あるいは、更にその内側に配線層を有する基板構造の場合には、その配線層上に設けられてもよい。また、設計の条件に合わせて、積層数を増加あるいは減少させた構造が可能である。コア層１００及び他の積層については、第１の実施の形態の場合と同様に多様な構成が可能であり、詳細な説明は省略する。
【００２７】
（第２の実施の形態の効果）
次に、図３を参照して、上記第２の実施の形態による、最外配線層の配線の高密度化と信頼性の向上の実現を説明する。最外層１０２においては、ソルダーレジスト開口部縁辺とパッドとの合わせ部を生じないので、当該合わせ部による配線設計への寸法制約を回避することができる。隣接する外部接続端子の中間に配線を配置する際に、配線幅が設計の許容最小値の近傍となるような狭隘部において、第１の実施の形態におけると同様に、バンプピッチをｘ[μｍ]、ソルダーレジスト開口径をｙ[μｍ]とおき、２本の配線を配置する場合を例にとると、配線幅Ｐ２[μｍ]は、２本の配線と３本の絶縁部の間隔の構成より、Ｐ２＝（ｘ−ｙ）/５で与えられる。製造の実例において、ｘ＝１８５μｍ、開口径ｙ＝９０μｍの場合、Ｐ２＝１９μｍとなる。図２Ｂを用いて示したように、接続用パッドが最外配線層上に設定されている従来の場合には、１５μｍとなるので、４μｍの余裕代のある配線を行うことができ、配線幅が不足することによる導通不良や、絶縁部の絶縁不良を抑制することができる。また半導体装置の高密度実装の要請により、配線の導通抵抗、絶縁層の絶縁抵抗の設計の許容値の近傍となるような幅を有する配線の配置の場合であっても、信頼性を低下させることなく、最外層における配線の高密度な配置を実現することができる。
【００２８】
（第２の実施の形態の変形例）
図７は、上記図３に対応する基板の最外配線層付近の断面図であって、外部接続端子が設けられる前の状態を表している。搭載されるべき半導体チップ又は半導体装置の接続端子側に、はんだバンプ等の外部接続端子が接続された状態により搭載される場合には、配線基板における表面から突出した外部接続端子の形成は不要であるので、図７に示す、外部接続端子が挿入されるべき空間３１が形成された形態の配線基板６０を使用することができる。
【００２９】
（第２の実施の形態の適用例１）
図８は、本発明の配線基板に、半導体チップがはんだバンプにより搭載された、半導体パッケージ構造の実施の形態を示している。半導体チップ２００、半導体チップ上の接続端子２０１、はんだバンプ等の外部接続端子２０２、充填樹脂２０３及び配線基板６１の構成である。なお、基板への搭載前に、半導体チップの配線基板への接続面側にはんだバンプ等の外部接続端子を接続することができる場合には、上記第２の実施の形態の変形例に記した図７の形態の配線基板を使用することができる。
【００３０】
（第２の実施の形態の適用例２）
図９は、本発明の配線基板に、半導体装置４１０がはんだバンプにより搭載された、半導体パッケージ構造の実施の形態を示している。半導体装置４１０は、半導体チップ３００、中間基板３０１、半導体チップ３００と中間基板３０１との接続バンプ３０２及び接続端子３０３により構成される。この半導体装置４１０がはんだバンプ等の外部接続端子３０４により配線基板４２０に搭載される。なお、配線基板４２０への搭載前に、半導体装置４１０の配線基板への接続面側に、はんだバンプ等の外部接続端子を接続することができる場合には、前記第２の実施の形態の変形例に記したように、図７の形態の配線基板６０を使用することができる。
【００３１】
（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態は、第１及び第２の実施の形態である配線基板についての製造方法である。図１Ｃに示すコア層の片側に各々３層ずつ積層された６層の配線基板に、最外配線層１５を貫通する外部接続端子を設ける製造方法である。
【００３２】
図１０Ａ〜図１０Ｇを参照して詳細を説明する。配線基板の積層の工程は、コアとなる銅張積層板の表面銅箔の配線形成（パターニング）により開始され、接続用パッドの表面処理により完成する。
【００３３】
図１０Ａは、コアの配線形成の状態を示す図である。コアとしての銅張積層板の表面銅箔に配線形成（パターニング）を施し、必用に応じてコア両面の配線層の導通のため、スルーホールのめっきを行う。配線層１１の形成の工程は、例えば、スルーホール穴明け、スルーホール内壁洗浄、スルーホール内めっき、無電解銅めっき、パターン用レジスト塗布、パターニング用レジストの露光・現像・キュア、電解銅めっき、パターニング用レジスト除去及びエッチングの一連の工程として良く知られた、配線基板の製造工程（サブトラクティブプロセス）等により実施することができる。
【００３４】
図１０Ｂ〜図１０Ｆは、コア層１００上の第２の配線層の形成工程の図である。
【００３５】
図１０Ｂに、第１の絶縁層１２にビアホール２３が形成された状態を示す。図１０Ａにおける配線形成がなされたコア層１００の上に第１の絶縁層１２を設けた後、コア層１００の配線層１１をその1層上側の層における配線層と電気的に接続をさせるため、ビアホール２３を、炭酸ガス等を利用するレーザ加工により形成する。なお、第１の絶縁層１２の材料には、エポキシ系又はポリイミド系等の樹脂を使用することができる。レーザ加工においては、加工されたレジスト樹脂の残渣（図示せず）が、加工された空間の側壁部や底部の表面に付着して、接続不良等の支障が生ずるおそれがあるので、強アルカリ溶液等を使用して除去する（デスミア）。次にコア層１００の１層上側の配線層を形成する。
【００３６】
図１０Ｃに、第１の絶縁層１２にビアホール２３が開口された状態の表面全体に、シード層としての無電解銅めっき２４が施された状態を示す。
【００３７】
図１０Ｄに、第２の配線層形成のためのパターン用レジスト層２２が形成されパターニングされた状態を示す。次に電解銅めっきを施す。
【００３８】
図１０Ｅに、コア層上の第２の配線層１３が形成された状態を示す。電解銅めっきにより、図１０Ｄに示したパターン用レジスト層２２のパターニング対応部分に配線層が形成され、その後、シード層としての無電解銅の部分及びパターンレジスト層を除去して、第２の配線層１３が形成される。
【００３９】
図１０Ｆに、最外配線層１５が形成された状態を示す。コア層上の第２の配線層１３の上側に更に配線層を形成するため、前記コア層上の第２の配線層１３の形成の場合と同様にして、第２の絶縁層１４を積層し、無電解銅めっきを施し、パターン用レジスト層（図示せず）を形成し、電解銅めっきを行うことにより、コア層上の第３の配線層１５を形成する。この配線層の形成工程において、「接続用パッドから配線基板の表面に向かって最外配線層を貫いて形成される、外部接続端子が装入されるべき空間」３０ａが設けられる。なお、本第３の実施の形態においては、コア層上の第３の配線層１５が最外配線層に相当する。
【００４０】
図１０Ｇに、基板表面におけるソルダーレジスト層が形成された状態を示す。最外配線層１５の表面に、ソルダーレジスト層７の塗布・露光・現像・キュアの処理を行い、ソルダーレジスト層の外形が形成される。同時に、最外層１０２を貫通する開口部３０ｂを形成する。このとき、最外配線層より内側の配線層（本実施の形態でコア層上の第２の配線層に相当する。）１３の上に設定されている接続用パッド３の開口部３０ａと、ソルダーレジスト層７における開口部３０ｂの位置合わせが必要である。
【００４１】
図１０Ｈに、接続用パッドに表面処理が施された状態を示す。最外配線層１５の上又は最外配線層１５より内側の配線層の上に設けられた接続用パッド２又は３の表面に、無電解めっきによりニッケルめっき２８及び金めっき２９を施す。
【００４２】
図１０Ｉに、配線基板に外部接続端子が形成された状態を示す。はんだ等の材料を用いて、最外層１０２を貫通する外部接続端子５及び最外配線層１５上の外部接続端子４を接続用パッド３及び２の上に形成して、本発明の実施の形態である配線基板の製造方法が完成する。
【００４３】
なお、当第３の実施の形態では、最外配線層に一番近い内側の、コア層上の第２の配線層上に設けられた接続用パッドに接続する外部接続端子の形成の例を示したが、必要に応じて、更に内側の配線層上に接続用パッドを形成して、その上に外部接続端子を形成してもよい。
【００４４】
また、当第３の実施の形態の後工程として、半導体チップ又は半導体装置を当該配線基板に搭載することができる。
【００４５】
（第３の実施の形態の効果）  
以上、第３の実施の形態において示した配線基板の形成工程は、高密度配線による表面実装設計により得られた最小の外形寸法を有する電子部品を製造する方法として、また製造工程における歩留向上の点において、その機能及び信頼性の向上に効果を生ずる。
【００４６】
（第３の実施の形態の変形例１）
前記の図４に対応する製造方法についての実施の形態である。搭載されるべき半導体チップ又は半導体装置の接続端子側に、はんだバンプ等の外部接続端子が接続された状態である場合には、配線基板について、外部接続端子の接続工程を経ることなく、外部接続端子によって装入されるべき当該空間３０を有したまま製造すればよいので、工程の簡素化、信頼性の向上を実現することができる。また、後工程として、更に半導体チップまたは半導体装置を当該配線基板に搭載することができる。リフロー工程により、はんだバンプ等の外部接続端子を介して、半導体チップまたは半導体装置と配線基板が電気的及び機械的に接続された後、半導体チップまたは半導体装置と配線基板の間の空間が樹脂により充填されて、搭載が終了する。  
（第３の実施の形態の変形例２）
前記の図７に対応する製造方法についての実施の形態である。搭載されるべき半導体チップ又は半導体装置の接続端子側に、はんだバンプ等の外部接続端子が接続された状態である場合には、配線基板について、外部接続端子の接続工程を経ることなく、外部接続端子によって装入されるべき当該空間３１を有したまま製造すればよいので、工程の簡素化、信頼性の向上を実現することができる。また、後工程として、更に半導体チップまたは半導体装置を当該配線基板に搭載することができる。リフロー工程により、はんだバンプ等の外部接続端子を介して、半導体チップまたは半導体装置と配線基板が電気的及び機械的に接続された後、半導体チップまたは半導体装置と配線基板の間の空間が樹脂により充填されて、搭載が終了する。  
（第３の実施の形態の変形例３）
本発明の第３の実施の形態の変形例３は、配線基板の表面のソルダーレジスト層とその下層の絶縁層を同時に穿孔する製造方法についての実施形態である。
【００４７】
図４又は図７において、ソルダーレジスト層７と、その下層の絶縁層１４とを穿孔して、外部接続端子が装入されるべき空間３０又は３１を形成する。当空間の形成のための穿孔には、機械的方法または電磁気的方法を使用することが可能である。例えば、炭酸ガス、ＹＡＧまたはエキシマを利用したレーザを用いて、２層を同時に穿孔することが可能である。かかる穿孔方法によれば、ソルダーレジスト層７の形成の際のその下層の絶縁層１４との位置合わせ精度対応に起因するデザインルールの緩和による製品歩留の向上や、ソルダーレジスト層７の形成工程における歩留向上等の効果を上げることができる。
【００４８】
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳説したが、本発明は、上述した実施の形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１Ａ】本発明の配線基板の量産工程における形態を例示する図である。
【図１Ｂ（ａ）】本発明の第１の実施の形態に係る配線基板１の表面を例示する図である。
【図１Ｂ（ｂ）】本発明の第１の実施の形態に係る、接続用パッドの上に設けられた外部接続端子を例示する図である。
【図１Ｃ】本発明の第１の実施の形態に係る、隣接している接続用パッド中心を含む切断線Ａ−Ａ（図１Ｂ（ａ））による配線基板１の断面を例示する図である。
【図１Ｄ】図１ＣにおけるＢ部の詳細を例示する図である。
【図２Ａ（ａ）】従来の配線基板１ｂの表面を例示する図である。
【図２Ａ（ｂ）】従来の配線基板１ｂの外部接続端子を例示する図である。
【図２Ｂ】従来の配線基板１ｂの、隣接している接続用パッド中心を含む切断線Ｄ−Ｄ（図２Ａ（ａ））による断面を例示する図である。
【図３】本発明の第２実施の形態に係る配線基板の断面を例示する詳細図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態の変形例に係る、配線基板５０の断面を例示する図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態の適用例１に係る、配線基板５１に半導体チップ２００が搭載された半導体パッケージを例示する図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態の適用例２に係る、配線基板３２０に半導体装置３１０が搭載された半導体パッケージを例示する図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態の変形例に係る、配線基板６０の断面を例示する図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態の適用例１に係る、配線基板６１に半導体チップ２００が搭載された半導体パッケージを例示する図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態の適用例２に係る、配線基板４２０に半導体装置４１０が搭載された半導体パッケージを例示する図である。
【図１０Ａ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、コアの配線形成の状態を例示する図である。
【図１０Ｂ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、第１の絶縁層１２にビアホールが形成された状態を例示する図である。
【図１０Ｃ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、無電解銅めっき２４が施された状態を例示する図である。
【図１０Ｄ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、パターン用レジスト層２２がパターニングされた状態を例示する図である。
【図１０Ｅ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、第２の配線層１３が形成された状態を例示する図である。
【図１０Ｆ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、最外配線層１５が形成された状態を例示する図である。
【図１０Ｇ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、基板表面におけるソルダーレジスト層７が形成された状態を例示する図である。
【図１０Ｈ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、接続用パッドの表面処理が施された状態を例示する図である。
【図１０Ｉ】本発明の第３の実施の形態に係る配線基板の製造方法における、配線基板に外部接続端子が形成された状態を例示する図である。
【符号の説明】
【００５０】
１，５０，５１，６０，６１，３２０，４２０           配線基板
１ｂ       従来の配線基板
２，３    接続用パッド
４，５    外部接続端子
６           配線
７           ソルダーレジスト層
８           基板表面
１１       コア層上の配線層
１２       第１の絶縁層
１３       コア層上の第２の配線層
１４       第２の絶縁層
１５       コア層上の第３の配線層
２２       パターン用レジスト
２３       ビアホール
２４       無電解銅めっき
２８       ニッケルめっき
２９       金めっき
１００    コア層
１０１    コア層上の第２の層
１０２    コア層上の第３の層
１５０    半導体チップ又は半導体装置
２００，３００  半導体チップ
２０１    半導体チップ上の接続端子
２０２，３０４    はんだバンプ等の外部接続端子
２０３    充填樹脂
３０３    半導体装置上の接続端子
３１０，４１０    半導体装置
３０１    中間基板
３０２    接続バンプ
【図１Ａ】
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【図１Ｂ（ａ）】
2009277916.tif 000004
【図１Ｂ（ｂ）】
2009277916.tif 000005
【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図２Ａ（ａ）】
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【図２Ａ（ｂ）】
2009277916.tif 000009
【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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【図１０Ｄ】
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【図１０Ｅ】
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【図１０Ｆ】
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【図１０Ｇ】
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【図１０Ｈ】
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【図１０Ｉ】
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