(57)【要約】【課題】連続した基板に連続して露光する場合、継ぎ目の部分でパターンにズレが発生し、連続したパターンを露光することが困難であった。【解決手段】連続した基板にアライメントマークを形成して、該アライメントマークに合わせて露光パターンのサイズのデータを補正し、そのアライメントマーク位置を基準としてパターンを露光していくことにより、継ぎ目の部分にズレを発生させずに連続的にパターンを露光することを可能とする露光方法および露光装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続した基板にレーザー光源を用いてパターンを露光する方法において、
(ａ)露光エリアにある基板をステージに固定した後、基板に形成された複数のアライメントマーク位置を認識する工程。
(ｂ)前記アライメントマークが所定の基準位置に来るように前記基板の位置をステージにより微調整した後、静止させる工程。
(ｃ)前記の複数のアライメントマークの位置からパターンの焼き付けサイズを算出する工程。
(ｄ)認識したアライメントマークを基準にして、露光エリアよりも前の領域にある基板上にアライメントマークを形成する工程。
(ｅ)基板を固定したステージを移動しながら、工程（ｃ）で算出した焼き付けサイズで焼き付けパターンデータを補正して、レーザー光源により基板にパターンを焼き付ける工程。
を備えていることを特徴とする連続した基板への露光方法。
【請求項２】
連続した基板にレーザー光源を用いてパターンを露光する露光装置であって、
連続した基板を搬送する搬送手段と、
露光エリアにおいて前記基板を固定し、かつ前期基板の面内方向の位置を調整可能なステージと、
前記基板上に形成された複数のアライメントマークを認識するアライメントマーク認識手段と、
前記アライメントマーク認識手段により認識したアライメントマーク位置から、パターンの焼き付けサイズを算出し、焼き付けパターンデータを補正する、焼き付けサイズ算出手段と、
前記アライメントマーク認識手段により認識したアライメントマーク位置を基準として、露光エリアよりも搬送方向上流の領域にある基板上にアライメントマークを形成する、アライメントマーク形成手段と、
前記ステージおよび前記搬送手段により基板を搬送方向に移動させるのと同期しながら、前記焼き付けサイズ算出手段により補正した焼き付けパターンデータをもとに、基板にパターンを焼き付ける露光手段と、
を備えていることを特徴とする連続した基板への露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＤＰメッシュや太陽電池の電極形成など、焼き付け面積が大きい場合や連続した基板に露光する場合に使用する露光方法ならびに装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フラットディスプレイの大型化や太陽電池パネルの大型化などの要求により、大きなサイズの基板へのパターニングの必要性が増加してきた。従来のフォトリソグラフィ技術では、大きなガラスマスクを使用してマスクと同じサイズで基板に露光し、それ以上のサイズでは露光することが難しかった。また、ステップ露光で露光することも可能だが、基板の伸び縮みでつなぎ目がずれるような場合が発生し、大型基板への対応が難しいという問題があった。
【０００３】
また、例えば特許文献１記載のようなレーザー光源を使用した露光装置では、ステージ上に載る基板に対しては露光することができるが、連続した基板での露光は検討されておらず、連続して露光することは難しい。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３３８４３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、基板のサイズが大きく、連続した基板のような場合にも露光することが可能な露光装置を提供する。また、繰り返し同じパターンを連続して露光すると基板の変形や伸縮、または露光のズレによって、基準のサイズを失ってしまう可能性がある。本発明はこれらの問題にも対応している。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために本発明の請求項１は、連続した基板にレーザー光源を用いてパターンを露光する方法において、
(ａ)露光エリアにある基板をステージに固定した後、基板に形成された複数のアライメントマーク位置を認識する工程。
(ｂ)前記アライメントマークが所定の基準位置に来るように前記基板の位置をステージにより微調整した後、静止させる工程。
(ｃ)前記の複数のアライメントマークの位置からパターンの焼き付けサイズを算出する工程。
(ｄ)認識したアライメントマークを基準にして、露光エリアよりも前の領域にある基板上にアライメントマークを形成する工程。
(ｅ)基板を固定したステージを移動しながら、工程（ｃ）で算出した焼き付けサイズで焼き付けパターンデータを補正して、レーザー光源により基板にパターンを焼き付ける工程。
を備えていることを特徴とする連続した基板への露光方法としたものである。
【０００７】
また本発明の請求項２は、連続した基板にレーザー光源を用いてパターンを露光する露光装置であって、
連続した基板を搬送する搬送手段と、
露光エリアにおいて前記基板を固定し、かつ前期基板の面内方向の位置を調整可能なステージと、
前記基板上に形成された複数のアライメントマークを認識するアライメントマーク認識手段と、
前記アライメントマーク認識手段により認識したアライメントマーク位置から、パターンの焼き付けサイズを算出し、焼き付けパターンデータを補正する、焼き付けサイズ算出手段と、
前記アライメントマーク認識手段により認識したアライメントマーク位置を基準として、露光エリアよりも搬送方向上流の領域にある基板上にアライメントマークを形成する、アライメントマーク形成手段と、
前記ステージおよび前記搬送手段により基板を搬送方向に移動させるのと同期しながら、前記焼き付けサイズ算出手段により補正した焼き付けパターンデータをもとに、基板にパターンを焼き付ける露光手段と、
を備えていることを特徴とする連続した基板への露光装置としたものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の露光方法および露光装置によれば、連続した基板にアライメントマークを形成し、そのマークに対して補正したパターンデータを露光するため、各マークに対して安定したサイズで露光することができる。また、各露光エリアの継ぎ目においては、同一のアライメントマークを使用しているため、継ぎ目でずれを発生させないようにしてパターンの露光が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の一実施形態を、図１を用いて説明する。
本発明の露光方法および露光装置は、図１（ａ）のように連続した基板１４をステージ１５に固定し、基板１４に形成したアライメントマーク１６の位置をカメラ１１で認識し、測定したマーク１６の位置から露光するためのパターンのサイズのデータを補正する。同時に基板の位置を、アライメントマーク１６を基準にした基準位置に移動する。
【００１０】
次に、図１（ｂ）のように固定した基板に対して次の露光エリアに必要なアライメントマークをレーザーマーカ１７によりアライメントマーク１８を基板１４に形成する。
次に、図１（ｃ）のようにステージならびに基板を移動しながらレーザー光源１９をガルバノミラー２０で基板にスキャンしながらパターン２１を露光していく。
【００１１】
図１（ｄ）のようにアライメントマーク間のエリアまで露光した後、露光を停止しカメラ位置までアライメントマークが戻るようにステージならびに基板を戻し、図１（ａ）の工程に戻る。この工程を繰り返すことで、連続したパターンを継ぎ目なしで露光することができる。
【実施例】
【００１２】
図１を用いて、本発明の実施例を説明する。
基板１４として、１００μｍ厚のＰＥＴフィルムならびに１２μｍの銅箔から形成された基板を使用する。銅箔上には日立化成製のドライフィルムレジスト（品名：ＲＹ−３３１２）をラミネートしてある。
【００１３】
基板１４をステージに真空チャックによって固定し、図１（ａ）に示すように、アライメントマーク１６をカメラ１１により認識する。カメラ１１でアライメントマーク１６の位置を確認した後、アライメントマーク１６の位置を露光基準位置に合わせて固定する。また、同時にアライメントマーク１６の位置座標から露光パターンのサイズを決定する。
【００１４】
基板を基準位置に固定した後、図１（ｂ）のようにレーザーマーカ１７を用いて、アライメントマーク１８を形成する。
【００１５】
マークを形成した後、図１（ｃ）のように基板１４を移動しながらレーザー露光システムを使用して、パターン２１を露光していく。レーザーシステムは、レーザー発信器１０で発信されたｉ線のレーザー光１９を反射ミラー１３で誘導し、ガルバノミラー２０で基板上をスキャン露光するものである。露光パターンは、アライメントマーク１６の位置によってサイズ調整されて露光されるため、パターンに継ぎ目のない露光ができる。
【００１６】
図１（ｄ）のようにアライメントマーク１６間のエリアに露光が完了した後、ステージならびに基板はカメラ１１の位置に戻る。その後、基板をステージから解放し、図１（ａ）の位置にステージが移動した後、基板を真空チャックするという工程を繰り返すことで同じパターンをエンドレスの基板に露光することができる。以上の工程で連続した基板に継ぎ目のないパターンを露光することができた。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の形態ならびに実施例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００１８】
１０・・・レーザー発信器
１１・・・アライメントマーク認識用カメラ
１２・・・レーザーマーカ
１３・・・反射ミラー
１４・・・基板、または感光性レジストを有した基板
１５・・・ステージ、または真空チャックを有したステージ
１６・・・アライメントマーク
１７・・・マーク加工用レーザー
１８・・・加工されたアライメントマーク
１９・・・露光用レーザー、またはｉ線ビーム
２０・・・ガルバノミラー
２１・・・露光パターン、または露光されたパターン
【図１】
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