(57)【要約】【課題】均一な膜厚の機能層を有し、したがってムラがなく高品質な表示が可能な有機ＥＬ装置を提供することにある。【解決手段】開口部を形成した隔壁の開口部１４ａと平面視で重なる領域内に、第１電極１１と有機発光層１７を含む機能層１５と第２電極１８とからなる発光素子を有し、機能層１５のうちの少なくとも一層が液滴吐出法で形成された有機エレクトロルミネッセンス装置である。開口部１４ａの開口形状が長円状又は楕円状に形成され、隔壁には、開口部１４ａの隅部における開口縁部に、開口部１４ａに向かって下る傾斜部２７ａが形成されている。【選択図】図３
2009259570.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を形成した隔壁の前記開口部と平面視で重なる領域内に、第１電極と少なくとも有機発光層を含む機能層と第２電極とからなる発光素子を有し、前記機能層のうちの少なくとも一層が液滴吐出法で形成された有機エレクトロルミネッセンス装置であって、
前記開口部の開口形状が長円状又は楕円状に形成され、
前記隔壁には、前記開口部の隅部における開口縁部に、前記開口部に向かって下る傾斜部が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項２】
前記傾斜部は、前記開口部の隅部以外の開口縁部より大きな傾斜を有していることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項３】
前記傾斜部の最大高さが前記開口部の隅部以外の開口縁部の高さよりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項４】
前記傾斜部の幅が、前記機能層のうちの少なくとも一層を形成するために吐出される機能液の液滴径よりも広いことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項５】
前記隔壁の内部、あるいは前記隔壁の下方には、前記開口部の隅部に対応する位置にスペーサ材が設けられ、該スペーサ材による高低差を反映して前記傾斜部が形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項６】
前記スペーサ材が配線からなることを特徴とする請求項５記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項７】
前記配線が、前記隔壁の内部に設けられた補助第２電極であることを特徴とする請求項６記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項８】
前記配線が、前記隔壁の下方に設けられた電源配線であることを特徴とする請求項６記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項９】
前記隔壁は樹脂材料からなることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機エレクトロルミネッセンス装置（有機ＥＬ装置）の製造においては、機能性材料を含む液状体（機能液）を所定の位置に配置し、所望の機能膜を形成する技術が活発に開発されている。特に、インクジェット法に代表される液滴吐出法によれば、用いるインクジェットヘッドの解像度に応じて微少な機能液を所望の位置に塗布することができるため、微細なパターンの機能膜を形成することができ、したがって高解像度で高品質な有機ＥＬ装置を形成するが可能になる。
【０００３】
ところで、液滴吐出法を用いた製造方法では、機能液を塗布する領域の周囲に隔壁（バンク）を設け、それぞれの機能液の配置箇所を区画することが提案されている。隔壁を設けることで吐出の際の位置精度を向上し、さらに塗布された機能液が他の領域の機能液と混ざり合うことを抑制することにより、良好なパターニングを可能にするためである。
このような隔壁を用いた製造方法では、実際には隔壁に開口部を形成してこの開口部内を機能液の塗布領域、すなわち発光素子の形成領域とし、開口部内に第１電極（画素電極）を臨ませるようにしている。
【０００４】
また、隔壁に形成される開口部の開口形状としては、当初においては矩形状（長方形状）が一般的であった。しかし、吐出配置された液滴（機能液）は、開口部内に落下すると表面張力で丸くなろうとすることから、特に開口部の角部（隅部）においては、液滴が十分に濡れ拡がらなくなってしまう。その結果、得られる機能膜に膜厚ムラ等が生じ、これによって膜内で発光量の差が生じたり、輝度や色合いに違いが生じるなど、表示不良（表示ムラ）を生じる一因になっていた。
そこで、近年では、開口形状を長円状、すなわち陸上競技におけるトラックの形状とし、これによって角部を無くすことにより、液滴の濡れ拡がり性を向上することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−１２７５５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記のように長円状の開口形状を有した開口部内にインクジェット法（液滴吐出法）で液滴を吐出配置しようとした場合に、以下に述べる不都合があった。
インクジェットヘッドから吐出される機能液の液滴径は、例えば２０〜３０μｍ程度であるが、これに対して長円状の開口形状を有する開口部は、その開口形状の横幅、すなわち短軸側の最大長さが、例えば１００〜２００μｍ程度となる。したがって、このような開口部内に効率的に液滴を吐出配置しようとした場合、この開口部用としてインクジェットヘッドのノズル列における複数のノズル（例えば３〜５のノズル）を割り当て、これらノズルから液滴吐出を行わせつつ、インクジェットヘッドを前記開口形状の長軸方向に相対的に走査させ、これによって所定の量の機能液を開口部内に吐出配置している。
【０００６】
ところが、開口形状が矩形状であればこのような吐出法に問題はないが、長円状であることから、特に長円状における湾曲部、つまり半円形状になっている部位にそのまま割り当てられた複数のノズルで液液吐出を行うと、特に長円状における隅部、すなわちこの長円に外接する矩形の角部に相当する部位では、ノズルから吐出された液滴が開口部内に配置されることなく、隔壁上に配置されてしまうことがある。すると、この液滴は開口部内に流れ落ちることなくそのままの位置に留まり、したがって機能膜の膜厚等に変動を与える要因になってしまう。また、極端な場合、他の領域の開口部内に流れ落ちることにより、流れ落ちた先の開口部の機能膜の特性を損なうおそれもある。
【０００７】
このような問題に対処するため、長円状における湾曲部（半円形状の部位）への吐出の際には、割り当てられた複数のノズルのうちの端側のノズルからの吐出をやめる、といったことも考えられる。しかしながら、このように一部のノズルからの吐出をやめると、開口部内に吐出配置する機能液の全量にバラツキを生じ、得られる機能膜に膜厚ムラが生じるおそれがある。また、一部のノズルのみにその吐出の有無を制御すると、この制御が他のノズルの吐出動作、すなわちその吐出量や吐出位置精度に影響を及ぼし、結果として得られる機能膜の特性を損なうおそれがある。
【０００８】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、開口形状が長円状又は楕円状の開口部に精度良く機能液が配され、これにより均一な膜厚の機能層を有し、したがってムラがなく高品質な表示が可能な有機エレクトロルミネッセンス装置と、これを備えた電子機器とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するため、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、開口部を形成した隔壁の前記開口部と平面視で重なる領域内に、第１電極と少なくとも有機発光層を含む機能層と第２電極とからなる発光素子を有し、前記機能層のうちの少なくとも一層が液滴吐出法で形成された有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記開口部の開口形状が長円状又は楕円状に形成され、前記隔壁には、前記開口部の隅部における開口縁部に、前記開口部に向かって下る傾斜部が形成されていることを特徴としている。
【００１０】
この有機エレクトロルミネッセンス装置によれば、隔壁に形成した開口部の隅部における開口縁部に、前記開口部に向かって下る傾斜部を形成しているので、機能層をインクジェト法（液滴吐出法）で形成した際、液滴が直接開口部内に配されることなく、前記隅部の開口縁部上に配されてしまっても、ここに傾斜部が形成されていることにより、液滴が該傾斜部を伝って開口部内に流れ落ちるようになる。したがって、吐出位置によって割り当てられたノズルの一部の吐出をやめさせる、といった制御を行うことなく、予め設定したノズルで規則的に吐出を行うことにより、安定した吐出動作のもとで機能層の形成を行うことができる。よって、液滴が隔壁上に留まることで開口部内の機能膜に膜厚ムラが生じ、これに起因して表示品質が低下するといった不都合を、複雑な吐出制御を行うことなく防止することができる。
【００１１】
また、前記有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記傾斜部が、前記開口部の隅部以外の開口縁部より大きな傾斜を有しているのが好ましい。また、前記傾斜部の最大高さが、前記開口部の隅部以外の開口縁部の高さよりも高くなっているのが好ましい。さらに、前記傾斜部の幅が、前記機能層のうちの少なくとも一層を形成するために吐出される機能液の液滴径よりも広くなっているのが好ましい。
【００１２】
また、前記有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記隔壁の内部、あるいは前記隔壁の下方には、前記開口部の隅部に対応する位置にスペーサ材が設けられ、該スペーサ材による高低差を反映して前記傾斜部が形成されているのが好ましい。
このようにすれば、傾斜部の形成位置やその斜度などをスペーサ材によって所望の状態に形成することが可能になる。
【００１３】
また、この有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記スペーサ材が配線からなるのが好ましい。その場合に、前記配線は、前記隔壁の内部に設けられた補助第２電極であってもよく、また、前記隔壁の下方に設けられた電源配線であってもよい。
このようにすれば、補助第２電極や電源配線を、これら配線で形成される高低差を反映して前記傾斜部が形成されるようにパターニングすることにより、工程を増やすことなく容易に傾斜部を形成することができる。
【００１４】
また、前記有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記隔壁が樹脂材料からなっているのが好ましい。
このようにすれば、隔壁を比較的厚く形成するのが容易になり、したがって傾斜部の斜度を十分に大きく形成するのも容易になる。
【００１５】
本発明の電子機器は、前記の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴としている。
この電子機器によれば、前記したように表示品質が低下するといった不都合が防止され、したがってムラがなく高品質な表示が可能な有機エレクトロルミネッセンス装置を備えているので、この電子機器自体も高品質な表示が可能なものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ装置）について、図面を参照して詳しく説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。
【００１７】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の有機ＥＬ装置の第１実施形態の、概略構成を示す側断面図であり、図１中符号１は有機ＥＬ装置である。この有機ＥＬ装置１は、基板２上に形成された多数の有機ＥＬ素子３０の機能層１５から射出された光を、有機ＥＬ素子３０が形成された基板２とは反対側の封止基板２０から取り出す、トップエミッション方式のものである。
【００１８】
基板２は、ガラスや石英、樹脂、あるいは金属等の反射性を有する材料からなるもので、その表面（内面）には、例えばＳｉＯ２（シリコン酸化物）からなる絶縁膜３が形成されている。絶縁膜３上には、個々の有機ＥＬ素子３０に対応して駆動用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）４が設けられている。駆動用ＴＦＴ４は、絶縁膜３上に形成されたポリシリコン等からなる半導体層５と、半導体層５のチャネル領域にゲート絶縁膜（図示略）を介して対向配置されたゲート電極６と、を備えている。そして、ゲート絶縁膜及びゲート電極６を覆って、ＳｉＯ２やＳｉＮからなる層間絶縁膜７が形成されている。
【００１９】
層間絶縁膜７上にはソース電極８及びドレイン電極９が形成され、それぞれ、コンタクトホール７ａ，７ｂを介して半導体層５のソース領域（図示せず）及びドレイン領域（図示せず）に接続されている。また、ソース電極８は、層間絶縁膜７上に形成された電源配線１０３に接続されている。電源配線１０３は、画素開口部の開口率を高めるべく、この画素開口部の側方、すなわち前記駆動用ＴＦＴ４の側方に配置されたもので、Ａｌ等によって厚さ０．５μｍ〜１．０μｍ程度に形成されたものである。なお、本実施形態においては、この電源配線１０３が、後述する傾斜部を形成するためのスペーサ材として機能するものになっている。
【００２０】
これら駆動用ＴＦＴ４及び電源配線１０３を覆って、基板２上を平坦化する平坦化層（有機平坦化層）１０が形成されている。平坦化層１０は、例えば、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の耐熱性及び絶縁性を有する有機材料によって形成されている。この平坦化層１０は、前記層間絶縁膜７上において、前記駆動用ＴＦＴ４や電源配線１０３によって形成された凸部を平坦化し、これによって全体の凹凸を小さくするべく、厚さ１μｍ以上に形成されたものである。ただし、前記したように電源配線１０３はその厚さが０．５μｍ〜１．０μｍ程度と比較的厚いことから、その厚さによる高低差が平坦化層１０によって完全にはなくならず、ある程度残ってしまう。したがって、平坦化層１０表面には、電源配線１０３の厚さに起因する高低差が依然として形成されている。
【００２１】
また、この平坦化層１０上には、前記駆動用ＴＦＴ４の直上及びその近傍部に、有機ＥＬ素子３０の陽極である画素電極（第１電極）１１が形成されている。この画素電極１１は、例えば、Ａｌ（アルミニウム）等の反射性を有する導電性材料で形成されている。あるいは、仕事関数を調整するため、上層を透明なＩＴＯとし、下層をＡｌ等の反射性導電材料とする、積層構造の電極としてもよい。画素電極１１は、平坦化層１０を貫通してドレイン電極９に到達するコンタクトホール１０ａを介して、ドレイン電極９に接続されている。また、駆動用ＴＦＴ４のゲート電極６は、後述するスイッチング用ＴＦＴ１１２に接続されて、画素信号を保持する保持容量ｃａｐと電気的に接続されている。
【００２２】
画素電極１１の周縁部上、及びその周囲には、無機隔壁１２と、無機隔壁１２上に形成された有機隔壁１３とからなる隔壁１４が形成されている。隔壁１４には、画素電極１１を有機ＥＬ素子３０ごとに区画し、かつ画素電極１１の上面（基板２と反対側の面）を露出させる開口部（画素開口部）１４ａが形成されている。また、有機隔壁１３の端部（開口部１４ａを規定する部分）は、無機隔壁１２の端部（開口部１４ａを規定する部分）より、開口部１４ａから見て外側となるように形成されている。これによって開口部１４ａ内に露出した隔壁１４には、開口部１４ａ内の有機隔壁１３と無機隔壁１２との境界部分に、無機隔壁１２の上面を露出させた階段状の段差部が形成されている。
【００２３】
無機隔壁１２は、ＳｉＯ２等の絶縁性の無機材料によって形成されたもので、その表面に親液化処理が施され、濡れ性が向上させられたことにより、親液性を有したものとなっている。有機隔壁１３は、例えば平坦化層１０と同じ有機材料によって形成されたもので、その表面に撥液化処理が施されたことにより、撥液性を有したものとなっている。
【００２４】
有機隔壁１３は、無機隔壁１２を覆って形成されたもので、その開口形状が隔壁１４全体の開口部１４ａの開口形状となっている。なお、本実施形態では、有機隔壁１３はその開口部１３ａの内面がテーパ面となっており、したがってその上面側における開口形状が最も大きな開口となっている。よって、本発明における開口部の開口形状とは、前記したテーパ面の最上部における形状をいう。また、この開口部の開口形状（開口部１３ａ（１４ａ）の開口形状）は、本実施形態では図２（ａ）に示すように長円状（トラック形状）となっている。また、このような隔壁１４の開口部１４ａはマトリクス状に配置されている。そして、前記の電源配線１０３は、図２（ａ）中において分かり易く実線で示すように、本実施形態ではマトリクス状に配置された開口部１４ａのそれぞれの間に、格子状に（縦横に）形成配置されている。
【００２５】
ここで、本実施形態では、電源配線１０３は縦と横とが交差した部位において、図２（ｂ）に示すように平面視した状態で略菱形形状に形成されている。すなわち、縦横に配置された四つの開口部１４ａの中心部において、これら開口部１４ａ、１４ａ間に配置された電源配線１０３は、その交差部分１０３ａが、電源配線１０３が一定の幅（隣り合う開口部１４ａ間に位置する電源配線１０３の幅）を有したまま縦方向及び横方向に延在していると仮定したときにおける縦と横の交差部分に比べて、それぞれの開口部１４ａの隅部方向に張り出して形成されている。ここで、長円状の開口部１４ａの隅部とは、本発明では図２（ｃ）に示すように、長円Ｄに外接する長方形Ｅの角部Ｆに対応する、湾曲部（長方形Ｅの外郭線と長円Ｄの外郭線とに囲まれる領域）Ｒ１〜Ｒ４を指すものとする。
【００２６】
また、電源配線１０３は、その端縁とこれに隣り合う開口部１４ａとの（最短）距離が、図２（ｂ）に示すように直線状の部分（直線部分１０３ｂ）での距離ｄ１に比べ、交差部分１０３ａでの距離ｄ２の方が短く形成されている。このような構成によって有機隔壁１３（隔壁１４）には、前記電源配線１０３の厚さによる高低差を反映して、その上面部に、前記開口部１４ａに向かって下る傾斜部が形成されている。
【００２７】
そして、図２（ｂ）のＡ−Ａ線矢視断面図である図３（ａ）に示すように、特に前記開口部１４ａの隅部（湾曲部Ｒ１〜Ｒ４）における開口縁部に形成された傾斜部２７ａは、その傾斜の度合い（傾斜角度）が、前記開口部１４ａの直線部における開口縁部に形成された傾斜部２７ｂに比べ、大きくなっている。すなわち、傾斜部２７ａにおいては、前述したように電源配線１０３の端縁と開口部１４ａとの距離ｄ２が他の部分（直線部分１０３ｂ）での距離ｄ１に比べ短く形成されていることから、電源配線１０３による高低差の影響がより大きくなり、その分、傾斜部２７ａにおける傾斜角度が大きくなっている。一方、前記開口部１４ａの直線部における開口縁部に形成された傾斜部２７ｂは、図２（ｂ）のＢ−Ｂ線矢視断面図である図３（ｂ）に示すように、電源配線１０３の端縁と開口部１４ａとの距離ｄ１が比較的長くなっていることから、その傾斜の度合い（傾斜角度）が、前記傾斜部２７ａに比べて小さくなっているのである。
【００２８】
なお、隔壁１４の開口形状を決定する開口は、前述したようにテーパ面になっている有機隔壁１３の開口部１３ａの内面における最上部であり、具体的には、図３（ａ）、（ｂ）中に示すように有機隔壁１３の内面が略平面（テーパ面）から曲面に変化する位置、すなわち、図３（ａ）、（ｂ）中において二点鎖線で示す垂線と交差する位置Ｐでの開口をいう。したがって、この位置より上側の曲面部分を開口縁部といい、特にその傾斜している部分を傾斜部２７ａ（２７ｂ）としている。また、傾斜部２７ａ、２７ｂの傾斜角度とは、これら傾斜部２７ａ、２７ｂと、隔壁１４（有機隔壁１３）の上面、つまり基板２の表面とほぼ平行な面との交線（交点）の位置を位置Ｑとすると、この位置Ｑと前記位置Ｐとを結ぶ直線と、基板２の表面との間の角度をいう。
【００２９】
このような傾斜部２７ａ、２７ｂを形成した隔壁１４（有機隔壁１３）の開口部１４ａ内には、図１に示すように機能層１５が設けられている。機能層１５は、画素電極１１側に形成された正孔注入・輸送層１６と、その上に積層されて形成された発光層（有機発光層）１７と、を備えて形成されたものである。正孔注入・輸送層１６は、例えば、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）の分散液、すなわち、ポリスチレンスルフォン酸を分散媒として、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液等の液状材料を乾燥することによって形成されている。また、発光層１７は、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料により形成されている。特にフルカラー表示を行う場合には、赤色、緑色、青色の各波長域に対応する光を発光する材料が用いられる。
【００３０】
ここで、発光層１７の形成材料としては、例えば、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。さらに、Ｉｒ（ｐｐｙ）３などの燐光材料を用いることもできる。
【００３１】
機能層１５上には、機能層１５及び隔壁１４を覆って、有機ＥＬ素子３０の陰極である透明な共通電極（第２電極）１８が設けられている。この共通電極１８は、低仕事関数の金属であるアルカリ金属やアルカリ土類金属によって形成され、あるいは、ＭｇＡｇやＬｉＦ、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などによって形成されたものである。
また、共通電極１８上には、光透過性を有する接着層１９を介して、例えば、ガラスや石英等の透明な材料で形成された封止基板２０が貼着されている。
【００３２】
図４は、本実施形態の有機ＥＬ装置１の配線構造を示す模式図である。図４に示すように有機ＥＬ装置１は、複数の走査線１０１と、走査線１０１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、信号線１０２に並列に延びる複数の電源配線１０３とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線１０１及び信号線１０２の各交点付近に、画素領域Ａを形成したものである。
【００３３】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路１０４が接続されている。走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路１０５が接続されている。また、画素領域Ａの各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極６（図１参照）に供給されるスイッチング用ＴＦＴ１１２と、このスイッチング用ＴＦＴ１１２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量ｃａｐと、この保持容量ｃａｐによって保持された画素信号がゲート電極６に供給される駆動用ＴＦＴ４と、この駆動用ＴＦＴ４を介して電源配線１０３に電気的に接続したときに、電源配線１０３から駆動電流が流れ込む画素電極１１と、この画素電極１１と共通電極１８との間に挟み込まれた機能層１５とが、設けられている。
そして、画素電極１１と共通電極１８と機能層１５とにより、有機ＥＬ素子３０が構成されている。
【００３４】
このような構成によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１１２がオンになると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ４のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ４のチャネルを介して、電源配線１０３から画素電極１１に電流が流れ、さらに機能層１５を介して共通電極１８に電流が流れる。すると、機能層１５はこれを流れる電流量に応じて発光する。
【００３５】
このような構成の有機ＥＬ装置１を製造するには、まず、図５（ａ）に示すように、基板２上に絶縁膜３を形成し、絶縁膜３上に駆動用ＴＦＴ４、スイッチング用ＴＦＴ１１２及び前述の配線や回路等を形成する。すなわち、絶縁膜３上にポリシリコン等の半導体層５と、半導体層５を覆うゲート絶縁膜（図示略）とを形成し、その上にゲート電極６を形成する。次いで、半導体層５に不純物をドープしてソース領域、ドレイン領域、及びチャネル領域を形成する。そして、これらを覆って層間絶縁膜７を形成し、さらにフォトリソグラフィ法によって層間絶縁膜７を貫通し、半導体層５のソース領域及びドレイン領域に到達するコンタクトホール７ａ，７ｂを形成する。
【００３６】
次に、図５（ｂ）に示すように、層間絶縁膜７上に電源配線１０３を形成する。具体的には、マスクを用いて蒸着法でＡｌを選択的に成膜することにより、図２（ａ）に示したように格子状のパターンに形成する。その際、その公差部分１０３ａについては、図２（ｂ）に示したように、開口部１４ａの隅部近傍にまで張り出して略菱形形状に形成する。なお、この電源配線１０３の形成については、マスク蒸着法に代えて、レジスト技術、エッチング技術を用いた公知のパターニング法を用いてもよい。
【００３７】
次いで、層間絶縁膜７上にソース電極８およびドレイン電極９を形成する。
次いで、図５（ｃ）に示すように、スピンコート法等によってこれらを覆うようにアクリル樹脂等を成膜し、平坦化層１０を形成する。このようにして平坦化層１０を形成すると、電源配線１０３の高さによる高低差はある程度少なくなって平坦化するものの、依然として平坦化層１０表面には電源配線１０３の高さが反映され、高低差（傾斜）が形成されるようになる。
次いで、レジスト技術、エッチング技術を用いた公知のパターニング法によって平坦化層１０を貫通し、ドレイン電極９に到達するコンタクトホール１０ａを形成する。
【００３８】
次に、図６（ａ）に示すように、平坦化層１０上に画素電極１１を形成し、コンタクトホール１０ａを介してドレイン電極９に接続する。
次いで、図６（ｂ）に示すように、画素電極１１及び平坦化層１０を覆ってＳｉＯ２等からなる絶縁性の無機材料層１２０を形成する。そして、レジスト技術、エッチング技術等を用いて無機材料層１２０をパターニングし、画素電極１１を区画するとともに画素電極１１の上部を露出させる開口部１２ａを形成し、無機隔壁１２を形成する。
【００３９】
次いで、図６（ｃ）に示すように、画素電極１１、無機隔壁１２を覆ってスピンコート法等によりアクリル樹脂等を成膜し、有機材料層１３０を形成する。すると、この有機材料層１３０は、その下地である平坦化層１０の高低差、すなわち電源配線１０３による高低差を反映し、特に電源配線１０３の端縁部上において高低差（傾斜）を形成している。
続いて、レジスト技術、エッチング技術等によって有機材料層１３０をパターニングし、画素電極１１を露出させるテーパ形状の開口部１３ａを形成する。これにより、有機隔壁１３を形成する。
【００４０】
このとき、開口部１３ａについては、無機隔壁１２の開口部１２ａよりも一回り大きく形成する。これにより、無機隔壁１２と有機隔壁１３とを備え、無機隔壁１２の開口部１２ａと有機隔壁１３の開口部１３ａからなる開口部１４ａを有した、隔壁１４が形成される。そして、このようにして有機隔壁１３の開口部１３ａ、すなわち隔壁１４の開口部１４ａを形成すると、その開口縁部には、図３（ａ）、（ｂ）に示したように傾斜部２７ａ、２７ｂが形成されるようになる。ただし、前記した理由により、開口部１４ａの隅部における傾斜部２７ａの方が、隅部以外の直線部における傾斜部２７ｂに比べ、その傾斜角度が大きくなる。
【００４１】
次に、画素電極１１の表面を洗浄処理し、続いて、画素電極１１と無機隔壁１２と有機隔壁１３とを形成した側の面に酸素プラズマ処理を行う。これにより、表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させる。具体的には、基板２を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。
【００４２】
次いで、撥液化処理を行うことにより、特に有機隔壁１３の上面及び内面の濡れ性を低下させる。具体的には、大気圧下で４フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された基板２を室温まで冷却することで、有機隔壁１３の上面及び側面を撥液化し、その濡れ性を低下させる。
なお、このＣＦ４プラズマ処理においては、画素電極１１の露出面および無機隔壁１２についても多少の影響を受けるが、画素電極１１の材料である金属等や無機隔壁１２の構成材料であるＳｉＯ２などはフッ素に対する親和性に乏しいため、酸素プラズマ処理で濡れ性が向上した面は濡れ性がそのままに保持される。
次に、基板２を、例えば、２００℃程度の温度に加熱してアニール処理を行う。
【００４３】
次いで、図１に示したように、隔壁１４に囲まれた開口部１４ａ内に正孔注入・輸送層１６を形成する。この正孔注入・輸送層１６の形成工程では、開口部１４ａ内に正孔注入・輸送層１６の形成材料を選択的に配する必要上、特に液滴吐出法であるインクジェット法が採用される。
【００４４】
図７（ａ）は、インクジェット法で液滴を吐出する装置（液滴吐出装置）に備えられたインクジェットヘッド３０１の断面図である。このインクジェットヘッド３０１には、液状体を収容する液体室３２１に隣接して、ピエゾ素子３２２が設けられている。液体室３２１には、液状体を収容する材料タンクを含む液状体供給系３２３を介して、液状体が供給されるようになっている。ピエゾ素子３２２は、駆動回路３２４に接続されており、この駆動回路３２４を介してピエゾ素子３２２に電圧を印加し、ピエゾ素子３２２を変形させる。これにより、液体室３２１を変形して内圧を高め、ノズル３２５から液状体の液滴Ｌを吐出する。すなわち、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子３２２の歪み量を制御し、液状体の吐出量を制御するようになっている。
【００４５】
また、このインクジェットヘッド３０１は、図７（ｂ）に示すようにその下面に多数の吐出ノズル３２５を、一定間隔で一列（あるいは複数列）に配置した、マルチノズルタイプのものである。これら吐出ノズル３２５からは、それぞれ独立して、前記したように機能層１５の形成材料となる機能液（液状体）の液滴Ｌが吐出されるようになっている。
【００４６】
このようなインクジェットヘッド３０１を用いたインクジェット法により、正孔注入・輸送層１６の形成材料であるＰＥＤＯＴ−ＰＳＳの分散液を、前記開口部１４ａ内に吐出し、これによって画素電極１１の露出面上に配する。
その際、例えば図７（ｂ）に示した多数の吐出ノズル３２５のうちの隣り合う三つの吐出ノズル３２５を用い、図８（ａ）に示すように開口部１４ａに対してそれぞれから液滴Ｌを吐出する。そして、インクジェットヘッド３０１を基板２に対して相対的に走査させ、長円状の開口部１４ａの長軸方向に吐出ノズル３２５を移動させ、液滴Ｌの吐出を行う。そして、このような動作を複数回（図８（ａ）では６回）繰り返すことにより、一つの開口部１４ａに対する正孔注入・輸送層１６の形成材料の吐出を終了する。
【００４７】
このようにして吐出ノズル３２５からの液滴Ｌの吐出を行うと、図８（ａ）に示すように長円状の開口部１４ａにおける湾曲部、つまり半円形状になっている半円部１４ｂでは、三つの吐出ノズル３２５からそのまま液滴Ｌの吐出がなされることにより、一番端の吐出ノズルから吐出された液滴Ｌ１は、開口部１４ａ内に直接配置されることなく、隔壁１４（有機隔壁１３）上、すなわち隅部の開口縁部上に配置されてしまうことがある。しかし、本発明では、この開口縁部上に傾斜部２７ａが形成されているので、ここに吐出配置された液滴Ｌ１は開口部１４ａ内に確実に流れ落ちる。したがって、予め設定した吐出ノズル３２５で規則的に吐出を行うことにより、安定した吐出動作のもとで設定した量の液滴Ｌ（正孔注入・輸送層１６の形成材料）を開口部１４ａ内に配することができる。
その後、熱処理（乾燥・焼成処理）を、例えば、２００℃で１０分間程度行うことにより、厚さ２０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の正孔注入・輸送層１６を形成する。
【００４８】
次いで、この正孔注入・輸送層１６上に、発光層１７を形成する。この発光層１７の形成工程においても、上記の正孔注入・輸送層１６の形成工程と同様に、液滴吐出法であるインクジェット法で行う。すなわち、インクジェット法により、発光層１７の形成材料を正孔注入・輸送層１６上に液滴Ｌを吐出する。その際、正孔注入・輸送層１６の形成工程と同様に、図８（ａ）に示したように隣り合う三つの吐出ノズル３２５を用い、インクジェットヘッド３０１を基板２に対して相対的に走査させ、長円状の開口部１４ａの長軸方向に吐出ノズル３２５を移動させ、液滴Ｌの吐出を行う。
【００４９】
すると、この場合にも長円状の開口部１４ａにおける半円部１４ｂでは、液滴Ｌ１が開口部１４ａ内に直接配置されることなく、隔壁１４（有機隔壁１３）上に配置されてしまうことがある。しかし、この開口縁部上に傾斜部２７ａが形成されているので、ここに吐出配置された液滴Ｌ１は開口部１４ａ内に確実に流れ落ちるようになる。したがって、この発光層１７の形成工程においても、予め設定した吐出ノズル３２５で規則的に吐出を行うことにより、安定した吐出動作のもとで設定した量の液滴Ｌ（発光層１７の形成材料）を開口部１４ａ内に配することができる。
その後、窒素雰囲気中にて１３０℃で３０分間程度熱処理を行い、隔壁１４に形成された開口部１４ａ内、すなわち画素領域Ａ上に厚さ５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度の発光層１７を形成する。なお、発光層１７の形成材料中に用いる溶媒としては、正孔注入・輸送層１６を再溶解させないもの、例えば、キシレンなどが好適に用いられる。
【００５０】
次いで、発光層１７及び有機隔壁１３を覆ってＭｇＡｇなどの透明導電材料を成膜し、共通電極１８を形成する。この共通電極１８の形成では、正孔注入・輸送層１６や発光層１７の形成とは異なり、真空蒸着法等で行うことにより、画素領域Ａにのみ選択的に形成するのでなく、基板２のほぼ全面に共通電極１８を形成する。
その後、共通電極１８上に接着剤を用いて接着層１９を形成し、さらにこの接着層１９によって封止基板２０を接着し、封止を行う。
【００５１】
本実施形態の有機ＥＬ装置１によれば、前述したように、隔壁１４（有機隔壁１３）に形成した開口部１４ａ（１３ａ）の隅部における開口縁部に傾斜部２７ａを形成し、さらに、この傾斜部２７ａを、前記隅部以外の開口縁部より大きな傾斜を有するように形成しているので、正孔注入・輸送層１６や発光層１７をインクジェト法（液滴吐出法）で形成した際、液滴Ｌ１が直接開口部１４ａ内に配されることなく、前記隅部の開口縁部上に配されてしまっても、液滴Ｌ１が傾斜部２７ａを伝って開口部１４ａ内に流れ落ちるようになる。
【００５２】
したがって、例えば図８（ｂ）に示すように、長円状の開口部１４ａにおける半円部１４ｂに対して、割り当てられた三つの吐出ノズル３２５のうちの一つから吐出をやめさせ、二つの吐出ノズル３２５のみから吐出をなさせるといった制御を行うことなく、図８（ａ）に示したように設定した三つの吐出ノズル３２５で規則的に吐出を行うことにより、安定した吐出動作のもとで機能層１５の形成を行うことができる。よって、液滴Ｌが隔壁１４上に留まることで開口部１４ａ内の機能膜に膜厚ムラが生じ、これに起因して表示品質が低下するといった不都合を、複雑な吐出制御を行うことなく確実に防止することができる。
【００５３】
また、隔壁１４の下方に設けられる電源配線１０３をスペーサ材として機能させ、この電源配線１０３で形成される高低差を反映して前記傾斜部２７ａを形成するようにしたので、工程を増やすことなく、したがって生産性を低下させることなく容易に傾斜部２７ａを形成することができる。
また、傾斜部２７ａを樹脂材料からなる有機隔壁１３に形成しているので、有機隔壁１３を厚く形成するのが容易になり、したがって、傾斜部２７ａに十分に大きなの斜度を形成するのが容易になる。
【００５４】
＜第２実施形態＞
図９は、本発明の有機ＥＬ装置の第２実施形態の、概略構成を示す側断面図であり、図９中符号１００は有機ＥＬ装置である。この有機ＥＬ装置１００が図１に示した有機ＥＬ装置１と異なるところは、隔壁１４（有機隔壁１３）の開口部１４ａ（１３ａ）の隅部における開口縁部に傾斜部２７ａを形成するためのスペーサ材として、電源配線１３に代えて補助陰極（補助第２電極）２８を用いた点である。
【００５５】
すなわち、この有機ＥＬ装置１００では、画素電極１１の側方において無機隔壁１２上に補助陰極２８が形成され、補助陰極２８を覆って有機隔壁１３が形成されている。補助陰極２８は、Ａｌ等の比抵抗の小さい導電材料によって形成されたもので、有機隔壁１３に形成されたコンタクトホール１３ｂを介して共通電極１８に導通している。また、本実施形態において補助陰極２８は、図２（ａ）、（ｂ）に示した電源配線１０３と同様に格子状に形成されており、その縦と横とが交差した部分が、開口部１４ａの隅部近傍にまで張り出して形成されている。これにより、隔壁１４（有機隔壁１３）の開口部１４ａ（１３ａ）の隅部における開口縁部には、第１実施形態と同様に傾斜部２７ａが形成されている。
【００５６】
したがって、このような有機ＥＬ装置１００にあっても、正孔注入・輸送層１６や発光層１７をインクジェト法（液滴吐出法）で形成した際、液滴が直接開口部１４ａ内に配されることなく、前記隅部の開口縁部上に配されてしまっても、液滴が傾斜部２７ａを伝って開口部１４ａ内に流れ落ちるようになる。よって、吐出位置によって割り当てられた吐出ノズル３２５の一部の吐出をやめさせる、といった制御を行うことなく、予め設定した吐出ノズル３２５で規則的に吐出を行うことにより、安定した吐出動作のもとで機能層１５の形成を行うことができる。したがって、液滴が隔壁１４上に留まることで開口部１４ａ内の機能膜に膜厚ムラが生じ、これに起因して表示品質が低下するといった不都合を、複雑な吐出制御を行うことなく確実に防止することができる。
【００５７】
また、有機隔壁１３の内部に設けられる補助陰極２８をスペーサ材として機能させ、この補助陰極２８で形成される高低差を反映して前記傾斜部２７ａを形成するようにしたので、本実施形態でも工程を増やすことなく、したがって生産性を低下させることなく容易に傾斜部２７ａを形成することができる。また、スペーサ材としての補助陰極２８を有機隔壁１３の内部に設けているので、補助陰極２８の高低差をより直接的に有機隔壁１３の表面に反映させることができ、したがって傾斜部２７ａをより容易に形成することができる。
【００５８】
なお、図９では図１に示した電源配線１０３を有機隔壁１３の下方に形成しておらず、したがって図示を省略しているが、図９に示した実施形態においても、図１の場合と同様に、電源配線１０３を有機隔壁１３の下方に形成してもよい。その場合には、電源配線１０３と補助陰極２８との両方を、傾斜部２７ａを形成するためのスペーサ材として機能させることができる。
【００５９】
また、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。例えば、前記実施形態では、傾斜部２７ａを形成するためのスペーサ材として電源配線１０３や補助陰極２８を用いたが、これら配線とは別にスペーサ材を形成してもよい。その場合に、例えば前記傾斜部２７ａの最大高さを、前記開口部の隅部以外の開口縁部の高さよりも高く形成するのが好ましい。
さらに、前記実施形態では隔壁１４（有機隔壁１３）の開口部１４ａ（１３ａ）の開口形状を長円状に形成したが、この開口部１４ａ（１３ａ）の開口形状を楕円状にしてもよい。このように楕円状にしても、長円状の場合と同様の作用効果が得られる。
また、前記実施形態ではトップエミッション方式の有機ＥＬ装置について説明したが、本発明を、前記実施形態とは反対側から光を取り出すボトムエミッション方式の有機ＥＬ装置にも、適用することができる。
【００６０】
また、本発明の隔壁の開口縁部における傾斜部の構成を、カラーフィルタ形成用の隔壁にも適用することができる。このようにすれば、カラーフィルタをインクジェット法（液滴吐出法）で形成する際、隔壁の開口部内に所定量のカラーフィルタ材料（液状体）を配することができる。したがって、吐出位置によって割り当てられた吐出ノズルの一部の吐出をやめさせる、といった制御を行うことなく、予め設定した吐出ノズルで規則的に吐出を行うことにより、安定した吐出動作のもとでカラーフィルタの形成を行うことができる。
【００６１】
［電子機器］
次に、本発明の有機ＥＬ装置を備えた電子機器の例について説明する。図１０は、本発明に係る電子機器の一例としての、携帯電話を示す斜視図である。図１０に示す携帯電話１３００は、本発明の有機ＥＬ装置を表示部１３０１として備え、さらに、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。したがって、この携帯電話１３００にあっては、前記したように表示品質が低下するといった不都合が防止され、これによりムラがなく高品質な表示が可能な有機ＥＬ装置を備えているので、この電子機器自体も高品質な表示が可能なものとなる。
【００６２】
なお、電子機器としては、前記した携帯電話に限られることなく、種々のものに適用することができる。例えば、ディスクトップ型コンピュータ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）及びエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等の画像表示手段として好適に用いることができ、かかる構成とすることで、表示品質が高い表示部を備えた電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の有機ＥＬ装置の第１実施形態の概略構成を示す側断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は開口部の開口形状と電源配線、隅部の位置を示す模式平面図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は傾斜部の側断面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ装置の配線構造を示す模式図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は本発明の有機ＥＬ装置の製造工程説明図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は本発明の有機ＥＬ装置の製造工程説明図である。
【図７】（ａ）、（ｂ）はインクジェットヘッドの概略構成を示す模式図である。
【図８】（ａ）、（ｂ）は本発明の作用を説明するための開口部の平面図である。
【図９】本発明の有機ＥＬ装置の第２実施形態の概略構成を示す側断面図である。
【図１０】本発明に係る電子機器を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００６４】
１、１００…有機エレクトロルミネッセンス装置（有機ＥＬ装置）、２…基板、１１…画素電極（第１電極）、１２…無機隔壁、１２ａ…開口部、１３…有機隔壁、１３ａ…開口部、１４…隔壁、１４ａ…開口部、１５…機能層、１６…正孔注入・輸送層、１７…発光層（有機発光層）、１８…共通電極（第２電極）、２７、２７ａ、２７ｂ…傾斜部、２８…補助陰極（補助第２電極）、３０…有機ＥＬ素子（発光素子）、１０３…電源配線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2009259570.tif 000009
【図８】
2009259570.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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