(57)【要約】【課題】露光用マスクを使用せずに樹脂パターンを形成し、この樹脂パターンをマスクとして被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する、被研削品の製造方法を提供すること。【解決手段】被処理体表面に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成する工程と、該遮光パターンを介して該感光性樹脂層に所定の波長域の光を照射することにより該感光性樹脂層を露光した後、現像して、樹脂パターンを形成する工程と、該樹脂パターンをマスクとして該被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する工程と、を含むことを特徴とする被研削品の製造方法による。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体表面に感光性樹脂層を形成する工程と、
前記感光性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成する工程と、
前記遮光パターンを介して前記感光性樹脂層に所定の波長域の光を照射することにより該感光性樹脂層を露光した後、現像して、樹脂パターンを形成する工程と、
前記樹脂パターンをマスクとして前記被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する工程と、を含む被研削品の製造方法。
【請求項２】
離型フィルム上に感光性樹脂層が積層されたドライフィルムを該感光性樹脂層の表面が前記被処理体表面に接するように該被処理体表面に貼り付け、該離型フィルムを剥離することにより感光性樹脂層を形成する、請求項１に記載の被研削品の製造方法。
【請求項３】
被処理体表面に感光性樹脂層及び親水性樹脂層をこの順に形成する工程と、
前記親水性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成する工程と、
前記遮光パターンを介して前記感光性樹脂層に所定の波長域の光を照射することにより該感光性樹脂層を露光した後、現像して、樹脂パターンを形成する工程と、
前記樹脂パターンをマスクとして前記被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する工程と、を含む被研削品の製造方法。
【請求項４】
離型フィルム上に親水性樹脂層及び感光性樹脂層がこの順に積層されたドライフィルムを該感光性樹脂層の表面が被処理体表面に接するように該被処理体表面に貼り付け、該離型フィルムを剥離することにより感光性樹脂層及び親水性樹脂層を形成する、請求項３に記載の被研削品の製造方法。
【請求項５】
前記親水性樹脂層が０．５μｍ〜１５μｍの厚みである、請求項３又は４に記載の被研削品の製造方法。
【請求項６】
前記親水性樹脂層が、水溶性若しくは水溶性有機溶媒に可溶な、あるいはこれら溶媒により膨潤する樹脂を含む組成物から形成される、請求項３〜５のいずれか１項に記載の被研削品の製造方法。
【請求項７】
前記所定の波長域が３００ｎｍ〜４５０ｎｍである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の被研削品の製造方法。
【請求項８】
前記遮光インクが、３００〜４５０ｎｍの波長域の光に対して高い吸収能を有する水溶性染料を含有することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の被研削品の製造方法。
【請求項９】
インクジェット方式により前記遮光インクを吐出して前記遮光パターンを形成することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の被研削品の製造方法。
【請求項１０】
前記サンドブラスト処理が、粒径０．１〜１５０μｍの粒子をブラスト圧０．５〜５ｋｇ／ｃｍ２で吹き付ける処理である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の被研削品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被研削品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、サンドブラストを用いた処理は、ガラス、石材、プラスチック、セラミック、皮革、木材等の基材を被処理体として、この被処理体の表面に文字や絵等の模様を形成する際に使用されてきた。また、例えば回路基板、プラズマディスプレイの隔壁並びにセラミック及び蛍光体等の絶縁パターンの形成の際に使用されている。
【０００３】
上記の回路基板等への絶縁パターンの形成においては、被処理体となる基材の表面に感光性樹脂層を設け、フォトリソグラフィーにより樹脂パターンを形成し、この樹脂パターンをマスクとしてサンドブラスト処理に付す方法が一般に行われている。ここで、特許文献１に記載されるように、樹脂パターンは、感光性樹脂層の上に露光用マスクとしてガラス又はフィルムマスクを真空密着させ、紫外線、エキシマレーザ、Ｘ線、電子線等により露光することにより形成される。
【特許文献１】特開２００４−１２６０７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述の樹脂パターンの形成方法では、感光性樹脂層の上にガラス又はフィルムマスクを真空密着させることから、感光性樹脂層と露光用マスクとの間に微細なゴミや埃が混入するとマスクパターンが感光性樹脂層に正確に転写されないという問題が生じる。また、感光性樹脂層と露光用マスクとの密着が不良であった場合には露光不良が発生し、マスクパターンが鮮明に感光性樹脂層に転写されない等、形成した樹脂パターンの品質に問題が生じる。さらに、露光用マスクを使用する場合には、例えば画像データ等からこの露光用マスクを作成する工程が必要となるため、画像データをそのまま利用できないほか、露光用マスクを作成する費用と時間とが必要となる。
【０００５】
本発明は、以上の課題にかんがみてなされたものであり、露光用マスクを使用せずに樹脂パターンを形成し、この樹脂パターンをマスクとして被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する、被研削品の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、感光性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成し、この遮光パターンをマスクとして露光を行うことで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。
【０００７】
本発明の第一の態様は、被処理体表面に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成する工程と、該遮光パターンを介して該感光性樹脂層に所定の波長域の光を照射することにより該感光性樹脂層を露光した後、現像して、樹脂パターンを形成する工程と、該樹脂パターンをマスクとして該被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する工程と、を含むことを特徴とする被研削品の製造方法である。
【０００８】
本発明の第二の態様は、被処理体表面に感光性樹脂層及び親水性樹脂層をこの順に形成する工程と、該親水性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成する工程と、該遮光パターンを介して該感光性樹脂層に所定の波長域の光を照射することにより該感光性樹脂層を露光した後、現像して、樹脂パターンを形成する工程と、該樹脂パターンをマスクとして該被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する工程と、を含むことを特徴とする被研削品の製造方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、露光用マスクを使用せずに樹脂パターンを形成することができるため、露光不良の発生等の品質管理上の問題を解決することができるばかりではなく、露光用マスクを省略することが可能になり、製造コストの削減だけでなく密着工程の省略による製造工程の簡素化にも貢献することができる。さらに、異なるパターンごとに露光用マスクを調製する必要がないことから、デジタル製版の技術を応用してデザインしたマスクパターンを速やかに樹脂パターンに適用することが可能となる。これにより、工程の短期化だけでなく、どのようなマスクパターンの変更にも速やかに対応することができ、工程全体の柔軟性の向上に資することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態についてそれぞれ説明する。
【００１１】
本発明の第一の実施態様により、被処理体表面に感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成する工程と、前記遮光パターンを介して前記感光性樹脂層に所定の波長域の光を照射することにより該感光性樹脂層を露光した後、現像して、樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとして前記被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する工程と、を含む被研削品の製造方法を提供する。
【００１２】
以下では、本発明に係る被処理体、感光性樹脂層及び遮光インクについて説明し、最後にサンドブラスト処理による被研削品の製造方法について説明する。
【００１３】
（被処理体）
被処理体は、研削処理を付すための基材である。このような基材は、金属、ガラス、大理石等の石材、陶磁器、各種プラスチック、セラミック、木材等いかなる素材でもよく、用途と目的に応じて任意に選択することができる。これら基材は、均一の素材から構成されるものでも積層体でもよく、また、金属板、ガラス板等の未加工の材料でも、積層基板のような半完成品でもよい。さらに、大きさや厚みも被研削品の目的や用途に応じて任意に選択することができる。
【００１４】
（感光性樹脂層）
感光性樹脂層は、被処理体表面にサンドブラスト処理用のマスクになるための樹脂パターンを形成するものである。この感光性樹脂層は、いかなる公知のサンドブラスト用の感光性樹脂組成物から構成されてもよいが、少なくとも２つのアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する光重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、バインダー樹脂及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物が好ましい。
【００１５】
このようなウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、ジオール化合物とジイソシアネート化合物とが反応した末端イソシアネート基（−ＮＣＯ基）を有する化合物と、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化合物との反応生成物であることが好ましい。上記ジオール化合物としては、特に限定はされないが、具体的には、例えば、末端に水酸基を有するポリエステル類やポリエーテル類等が挙げられる。上記ポリエステル類としては、特に限定はされないが、具体的には、例えば、ラクトン類が開環重合したポリエステル類、ポリカーボネート類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のアルキレングリコールと、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸等のジカルボン酸との縮合反応で得られたポリエステル類等が挙げられる。ラクトン類としては、特に限定はされないが、具体的には、例えば、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、α−メチル−βプロピオラクトン、β−メチル−βプロピオラクトン、α−メチル−βプロピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラクトン、α，α−ジメチル−β−プロピオラクトン、β，β−ジメチル−β−プロピオラクトン等が挙げられる。ポリカーボネート類としては、特に限定はされないが、具体的には、例えば、ビスフェノールＡ、ヒドロキノン、ジヒドロキシシクロヘキサン等のジオールと、ジフェニルカーボネート、ホスゲン、無水コハク酸等のカルボニル化合物との反応生成物が挙げられる。上記ポリエーテル類としては、特に限定はされないが、具体的には、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリペンタメチレングリコール等を挙げることができる。これらポリエステルやポリエーテル中に、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）プロピオン酸の残基、特に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸の残基を有するとアルカリ溶液に対する溶解性に優れたウレタン化合物が合成できるので好ましい。上記ポリエステル類及びポリエーテル類は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００１６】
上記ジオール化合物と反応するジイソシアネート化合物としては、特に限定はされないが、具体的には、例えば、ジメチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、２，２−ジメチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、２，５−ジメチルヘキサン−１，６−ジイソシアネート、２，２，４−トリメチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式のジイソシアネート化合物を挙げることができる。これらは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００１７】
さらに、末端イソシアネート基と反応するヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化合物としては、具体的にヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールモノアクリレート、エチレングリコールモノメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレート等を挙げることができる。これらは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００１８】
上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの数平均分子量は、耐サンドブラスト性、塗膜性及び電気絶縁抵抗値の点で、５００〜３００００の範囲が好ましく、１０００〜２５０００がより好ましく、２０００〜２００００がさらに好ましいが、この値に特に限定するものではない。
【００１９】
バインダー樹脂としては、アクリル酸又はメタクリル酸とアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体や、カルボキシル基含有セルロース樹脂などが好適である。このアクリル酸又はメタクリル酸とアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体に用いられるモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、ケイ皮酸、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル、ソルビン酸、２‐ヒドロキシメチルアクリレート、２‐ヒドロキシメチルメタクリレート、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、２‐ヒドロキシエチルメタクリレート、２‐ヒドロキシプロピルアクリレート、２‐ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテルメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、メタクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、２‐エチルヘキシルアクリレート、２‐エチルヘキシルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、アクリル酸カルビトール、メタクリル酸カルビトール、ε‐カプロラクトン変性テトラフルフリルアクリレート、ε‐カプロラクトン変性テトラフルフリルメタクリレート、ジエチレングリコールエトキシルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソデシルメタクリレート、オクチルアクリレート、オクチルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、トリデシルアクリレート、トリデシルメタクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレートなどがある。
【００２０】
カルボキシル基含有セルロース樹脂としては、ヒドロキシエチル・カルボキシメチルセルロース、セルロースアセテートフタレートなどが好ましい。
【００２１】
このウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと、カルボキシル基含有セルロース樹脂との配合質量比は、５０：５０〜９５：５の範囲、好ましくは６０：４０〜９０：１０の範囲、さらに好ましくは６５：３５〜８５：１５の範囲である。
【００２２】
また、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとカルボキシル基含有セルロース樹脂以外のバインダー樹脂との配合質量比は、３０：７０〜９５：５の範囲、好ましくは３５：６５〜８５：１５の範囲、さらに好ましくは４０：６０〜７０：３０の範囲であり配合量が７０質量％以下では絶縁抵抗値が著しく上昇しない。
【００２３】
上記バインダー樹脂の酸価は、５０〜２５０ｍｇ／ＫＯＨが好ましく、８０〜２００ｍｇ／ＫＯＨがより好ましい。この酸価が５０ｍｇ／ＫＯＨ以上では現像不良をおこすこともなく、また、２５０ｍｇ／ＫＯＨ以下では、柔軟性及び耐水性が良いため好ましい。
【００２４】
光重合開始剤としては公知のものであれば特に限定されないが、このような開始剤の一例として、ベンゾフェノンのような芳香族ケトン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、２，２−ジエトキシフェニルアセトフェノン等のベンゾインエーテル類；置換及び非置換の多核キノン類；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−イソアミル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパンなどが挙げられる。
【００２５】
上記光重合開始剤は、感光性樹脂層の全質量に対して０．１〜１０質量％の範囲で含有するのがよい。
【００２６】
さらに、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物には、要求される特性に応じて増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、発色剤等の添加剤を用いることができる。この感光性樹脂組成物の調製法としては様々な方法が使用できるが、例えば、配合される成分を適当な溶剤、例えば、クロロホルム、テトラクロロエチレン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等の溶剤（これら有機溶剤は、単独でもまた混合しても用いることができる）に溶解させて混合しても、溶剤を用いず、ニーダーあるいはロールミルで混練してもよい。感光性樹脂層は、被処理体表面に適当な溶剤と混合した感光性樹脂組成物を塗布することによって形成してもよく、この感光性組成物を離型フィルム上に塗布した後乾燥し、ドライフィルムを形成した後、被処理体表面に貼り付けることにより形成してもよい。
【００２７】
（遮光インク）
遮光インクは、感光性樹脂層上に遮光パターンを形成する際に用いられるものである。
この遮光インクとしては、露光する際に使用する所定の波長域の光に対して高い吸収能を有するものであれば、特に限定されるものではない。好適な具体例としては、３００〜４５０ｎｍの波長域の光に対して高い吸収能を有する水溶性染料を含有するインクが挙げられる。
【００２８】
３００〜４５０ｎｍの波長域の光に対して高い吸収能を有する水溶性染料としては、水中での吸収スペクトルにおいて３００〜４５０ｎｍの波長域に高い吸収があり、かつ水に対する溶解度が５質量％以上、好ましくは７質量％以上であるものを適宜選択すればよい。このような染料の具体例としては、水溶性の銅フタロシアニン染料、黄色染料、褐色染料等が挙げられる。これらの水溶性染料は２種以上併用してもよい。
【００２９】
水溶性の銅フタロシアニン染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８６，８７，１９９、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー２４９等が挙げられ、好ましくはＣ．Ｉ．ダイレクトブルー８６，１９９である。
また、水溶性の黄色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１７，１９，２３，２５，３９，４０，４２，４４，４９，５０，６１，６４，７６，７９，１１０，１２７，１３５，１４３，１５１，１５９，１６９，１７４，１９０，１９５，１９６，１９７，１９９，２１８，２１９，２２０，２２７、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１，８，１１，１２，２４，２６，２７，３３，３９，４４，５０，５８，８５，８６，８７，８８，８９，９８，１１０，１３２，１４２，１４４等が挙げられ、好ましくはＣ．Ｉ．ダイレクトイエロー１３２，１４２である。
また、水溶性の褐色染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン１，２，６，２５，２７，３３，３７，３９，５９，６０，６２，９５，９９，１００，１０４，１０６，１１２，１１３，１１５，１６７，１６９，１７５，１９５，２１０等が挙げられ、好ましくはＣ．Ｉ．ダイレクトブラウン１９５である。
【００３０】
水溶性の銅フタロシアニン染料は、通常５５０〜６５０ｎｍ及び３００〜４００ｎｍの波長域に吸収極大を有し、水溶性の黄色染料及び褐色染料は、通常３５０〜４５０ｎｍの波長域に吸収極大を有する。平版印刷原版に照射される光の波長は、通常３８７ｎｍ以下であるため、照射された光を効率よく吸収し、遮光するためには、水溶性の銅フタロシアニン染料を使用するか、或いは水溶性の銅フタロシアニン染料と水溶性の黄色染料及び／又は褐色染料とを併用することが好ましい。
【００３１】
なお、水溶性染料は、Ｃｌ−、ＳＯ４２−等の陰イオンの含有量が少ないものを用いるのが好ましい。その含有量の目安は、Ｃｌ−及びＳＯ４２−の総含量として、フタロシアニン色素中で５質量％以下、好ましくは３質量％以下、さらに好ましくは１質量％以下であり、遮光インク中で１質量％以下である。Ｃｌ−及びＳＯ４２−の少ない水溶性染料を製造するには、例えば、逆浸透膜による通常の方法、或いは水溶性染料の乾燥品又はウェットケーキをアルコール及び水の混合溶媒中で撹拌し、濾過、乾燥する等の方法で脱塩処理すればよい。用いるアルコールは、炭素数１〜４の低級アルコール、好ましくは炭素数１〜３のアルコール、さらに好ましくはメタノール、エタノール、又は２−プロパノールである。また、アルコールでの脱塩処理の際に、使用するアルコールの沸点近くまで加熱後、冷却して脱塩する方法も採用し得る。Ｃｌ−及びＳＯ４２−の含有量は、例えばイオンクロマトグラフ法にて測定される。
【００３２】
また、水溶性染料は、亜鉛、鉄等の重金属（イオン）、カルシウム、シリカ等の金属（陽イオン）等の含有量が少ないものを用いるのが好ましい（色素構造の骨格に含有される金属、例えばフタロシアニン骨格における銅を除く）。その含有量の目安は、例えば、染料の精製乾燥品中で、亜鉛、鉄等の重金属（イオン）、カルシウム、シリカ等の金属（陽イオン）について各々５００ｐｐｍ以下である。重金属（イオン）及び金属（陽イオン）の含有量は、例えばイオンクロマトグラフ法、原子吸光法、又はＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）発光分析法にて測定される。
【００３３】
遮光インクは、水を媒体として調製される。水溶性染料は、この遮光インク中に５〜２０質量％、好ましくは５〜１５質量％含有される。
この遮光インクは、必要に応じて、水溶性有機溶剤を、本発明の効果を害しない範囲内で含有してもよい。この水溶性有機溶剤は、染料溶解剤、乾燥防止剤（湿潤剤）、粘度調整剤、浸透促進剤、表面張力調整剤、消泡剤等として使用される。
また、遮光インクは、防腐防黴剤、ｐＨ調整剤、キレート試薬、防錆剤、紫外線吸収剤、粘度調整剤、染料溶解剤、表面張力調整剤、消泡剤、分散剤等の公知の添加剤を含有してもよい。
水溶性有機溶剤の含有量は、遮光インク全体に対して０〜６０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。その他の添加剤の含有量は、遮光インク全体に対して０〜２５質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。上記以外の残部は水である。
【００３４】
上記水溶性有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノール等の炭素数１〜４のアルカノール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のカルボン酸アミド；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−オン、１，３−ジメチルヘキサヒドロピリミド−２−オン等の複素環式ケトン；アセトン、メチルエチルケトン、２−メチル−２−ヒドロキシペンタン−４−オン等のケトン又はケトアルコール；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル；エチレングリコール、１，２−又は１，３−プロピレングリコール、１，２−又は１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、チオジグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の炭素数２〜６のアルキレン単位を有するモノマー、オリゴマー、若しくはポリアルキレングリコール又はチオグリコール；グリセリン、ヘキサン−１，２，６−トリオール等のポリオール（トリオール）；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールの炭素数１〜４のアルキルエーテル；γーブチロラクトン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
【００３５】
これらの中でも、炭素数３〜８のモノ又は多価アルコール、及び炭素数１〜３のアルキル置換を有してもよい２−ピロリドン等が好ましい。多価アルコールとしては、ヒドロキシ基を２〜３個有するものが好ましい。具体的には、イソプロパノール、グリセリン、モノ、ジ、又はトリエチレングリコール、モノ、ジ、又はトリプロピレングリコール、質量平均分子量２００〜１０００のポリエチレングリコール、質量平均分子量２００〜７００のポリプロピレングリコール、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ブタノール等であり、より好ましくはイソプロパノール、グリセリン、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、質量平均分子量２００〜６００のポリエチレングリコール、質量平均分子量２００〜４００のポリプロピレングリコール、２−ピロリドンである。これらの水溶性有機溶剤は２種以上併用してもよい。
【００３６】
上記防腐防黴剤としては、例えば、有機硫黄系、有機窒素硫黄系、有機ハロゲン系、ハロアリルスルホン系、ヨードプロパギル系、Ｎ−ハロアルキルチオ系、ニトチリル系、ピリジン系、８−オキシキノリン系、ベンズチアゾール系、イソチアゾリン系、ジチオール系、ピリジンオシキド系、ニトロプロパン系、有機スズ系、フェノール系、第４アンモニウム塩系、トリアジン系、チアジアジン系、アニリド系、アダマンタン系、ジチオカーバメイト系、ブロム化インダノン系、ベンジルブロムアセテート系、無機塩系等の化合物が挙げられる。有機ハロゲン系化合物としては、例えばペンタクロロフェノールナトリウムが挙げられ、ピリジンオシキド系化合物としては、例えば２−ピリジンチオール−１−オキサイドナトリウムが挙げられ、無機塩系化合物としては、例えば無水酢酸ソーダが挙げられ、イソチアゾリン系化合物としては、例えば１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンマグネシウムクロライド、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンカルシウムクロライド、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンカルシウムクロライド等が挙げられる。その他の防腐防黴剤として、ソルビン酸ソーダ安息香酸ナトリウム等（例えば、アベシア社製プロクセルＧＸＬ（Ｓ）、プロクセルＸＬ−２（Ｓ）等）が挙げられる。
【００３７】
上記ｐＨ調整剤は、遮光インクの保存安定性を向上させる目的で、遮光インクのｐＨを６．０〜１１．０の範囲に制御できるものであれば任意の物質を使用することができる。例えば、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン等のアルカノールアミン；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化アンモニウム；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩等が挙げられる。
【００３８】
上記キレート試薬としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸ナトリウム、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸ナトリウム、ジエチレントリアミン五酢酸ナトリウム、ウラミル二酢酸ナトリウム等が挙げられる。
【００３９】
上記防錆剤としては、例えば、酸性亜硫酸塩、チオ硫酸ナトリウム、チオグリコール酸アンモニウム、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、四硝酸ペンタエリスリトール、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、トリルトリアゾール等が挙げられる。
【００４０】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、桂皮酸系化合物、トリアジン系化合物、スチルベン系化合物、又はベンズオキサゾール系化合物に代表される紫外線を吸収して蛍光を発する化合物、いわゆる蛍光増白剤も用いることができる。
【００４１】
上記粘度調整剤としては、水溶性有機溶剤のほかに、水溶性高分子化合物が挙げられ、例えば、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体、ポリアミン、ポリイミン等が挙げられる。
【００４２】
上記染料溶解剤としては、例えば、尿素、ε−カプロラクタム、エチレンカーボネート等が挙げられる。
【００４３】
上記表面張力調整剤としては、界面活性剤が挙げられ、例えば、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤等が挙げられる。アニオン界面活性剤としては、アルキルスリホカルボン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル酢酸塩、Ｎ−アシルアミノ酸及びその塩、Ｎ−アシルメチルタウリン塩、アルキル硫酸塩ポリオキシアルキルエーテル硫酸塩、アルキル硫酸塩ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸塩、ロジン酸石鹸、ヒマシ油硫酸エステル塩、ラウリルアルコール硫酸エステル塩、アルキルフェノール型燐酸エステル、アルキル型燐酸エステル、アルキルアリルスルホン塩酸、ジエチルスルホ琥珀酸塩、ジエチルヘキルシルスルホ琥珀酸塩、ジオクチルスルホ琥珀酸塩等が挙げられる。カチオン界面活性剤としては、２−ビニルピリジン誘導体、ポリ４−ビニルピリジン誘導体等が挙げられる。両性界面活性剤としては、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ポリオクチルポリアミノエチルグリシン、イミダゾリン誘導体等が挙げられる。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシアリルキルアルキルエーテル等のエーテル系、ポリオキシエチレンオレイン酸、ポリオキシエチレンオレイン酸エステル、ポリオキシエチレンジステアリン酸エステル、ソルビタンラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレート、ポリオキシエチレンモノオレエート、ポリオキシエチレンステアレート等のエステル系、２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール、３，６−ジメチル−４−オクチン−３，６−ジオール、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール等のアセチレングリコール系（例えば、日信化学社製サーフィノール１０４，８２，４６５、オルフィンＳＴＧ等）、等が挙げられる。これらの添加剤は、単独又は混合して用いられる。なお、遮光インクの表面張力は、通常２５〜７０ｍＮ／ｍ、より好ましくは２５〜５０ｍＮ／ｍである。また、遮光インクの粘度は、３０ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。さらに２０ｍＰａ・ｓ以下に調整することがより好ましい。
【００４４】
上記消泡剤としては、フッ素系、シリコーン系化合物が必要に応じて用いられる。
【００４５】
遮光インクを調製するにあたり、各成分を溶解させる順序に特に制限はない。使用する水は、イオン交換水、蒸留水等の不純物が少ないものが好ましい。さらに、必要に応じてメンブランフィルター等を用いて精密濾過を行い、夾雑物を除いてもよい。インクジェットプリンター用のインクとして使用する場合には、精密濾過を行うことが好ましい。精密濾過を行うフィルターの孔径は、通常０．１〜１μｍ、好ましくは０．２〜０．８μｍである。
【００４６】
（被研削品の製造方法）
本発明の第一の実施態様により被研削品を製造するには、先ず基材である被処理体表面に感光性樹脂層を形成する。具体的には、上記の感光性樹脂層を形成するそれぞれの成分を、要すれば適当な溶剤と共に混合し、公知の方法を用いて、被処理体表面上に適用することにより、感光性樹脂層を形成することができる。ここで、混合した成分の被処理体表面への適用方法には、例えば、溶剤を用いて混合した感光性樹脂組成物を液状のまま被処理体表面に、例えば従来周知であるスクリーン印刷、ディップコーター、ロールコーター、スピンコーター、カーテンコーター、スプレーコーター等を用いて塗布する方法が含まれる。このようにして塗布した感光性樹脂組成物を乾燥して、被処理体表面に感光性樹脂層を形成することができる。また、離型フィルム上に感光性組成物を公知の手段より塗布して感光性樹脂層を形成し乾燥後、離型フィルム上に感光性樹脂層が積層されたドライフィルムとし、該感光性樹脂層の表面が被処理体表面に接するように該被処理体表面に貼り付け、公知の方法で圧着した後、該離型フィルムを剥離することにより感光性樹脂層を形成することもできる。ここで、離型フィルムとしては、特に限定はされないが、具体的には、例えば、シリコーンをコーティング又は焼き付けしたＰＥＴフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等が好適であり、その厚さは１５〜１２５μｍであることが好ましく、より好ましくは１５〜１１０μｍ、さらに好ましくは１５〜１００μｍである。
【００４７】
次に、上記感光性樹脂層上に上記遮光インクにより遮光パターンを形成する。遮光パターンを形成する方法は、特に限定されるものではなく、遮光インクを吐出して感光性樹脂層に付着させることにより、遮光パターンが形成されればよい。遮光インクを吐出する方法としては、例えばインクジェット吐出機を用いたインクジェット方式が挙げられる。インクジェット吐出機としては、電圧を加えると変形するピエゾ素子（圧電素子）を利用したピエゾ方式の吐出機や、加熱により発生する気泡を利用したサーマル方式の吐出機のいずれもが使用可能である。ここで、上記感光性樹脂層に遮光インクとの親和性（例えば親水性）を有するバインダー樹脂又はモノマーを用いた場合には、感光性樹脂層の表面だけでなく、遮光インクが感光性樹脂層中に浸透し、層中にも遮光パターンが形成される。
【００４８】
なお、遮光インクにより遮光パターンを形成した後は、遮光インクを乾燥させることが好ましい。
【００４９】
次に、上記遮光パターンを介して該感光性樹脂層に所定の波長域の光を照射することにより該感光性樹脂層を露光した後、現像して、樹脂パターンを形成する。ここで、照射する光の波長域は、赤外線より短波長、好ましくは可視光線と紫外線領域の波長、さらに好ましくは３００〜７００ｎｍの波長がよく、より好ましくは３００ｎｍ〜４５０ｎｍである。この波長域の光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、重水素ランプ、タングステンランプ（タングステンヨウ素ランプ、ＷＩランプ、ＷＩ２ランプ）、キセノンランプ、エキシマレーザなどが挙げられる。また、その照射量及び照射時間は、感光性樹脂層の厚さにも依存するが、５〜２０ｍＷ／ｃｍ２の照射量、１０〜２００秒間の照射時間であることが好ましい。
【００５０】
また、現像処理で使用する現像液としては、汎用のアルカリ現像液を用いることができる。現像液に用いるアルカリ成分の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウムなどアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、ブチルアミンなどの第一級アミン、ジメチルアミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミンなどの第二級アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミンなどの第三級アミン、モルホリン、ピペラジン、ピリジンなどの環状アミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのポリアミン、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロキシドなどのアンモニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキシドなどのスルホニウムヒドロキシド類、その他コリン、ケイ酸塩含有緩衝液などが挙げられる。
【００５１】
最後に、上記樹脂パターンをマスクとして被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する。サンドブラスト処理に用いるブラスト材としてはガラスビーズ、アルミナ、シリカ、炭化ケイ素、酸化ジルコニウム等公知の素材を用いることができ、粒径及びブラスト圧は所望の精度及び研削量に応じて任意に設定することができるが、粒径０．１〜１５０μｍ程度の微粒子及び０．５〜５ｋｇ／ｃｍ２のブラスト圧が好ましい。ブラスト処理においては、感光性樹脂層の樹脂成分及び厚さを被処理体において所望の研削量（深さ）に応じて選択することにより、目的の深さまで研削する前に感光性樹脂層が摩滅し被処理体を損傷することを防止できる。また、サンドブラスト処理後、感光性樹脂層を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等公知の剥離剤を用いて剥離除去することにより、被処理体上に所望の文字、図柄、模様等のパターンが形成される。
【００５２】
本発明の第二の実施態様により、被処理体表面に感光性樹脂層及び親水性樹脂層をこの順に形成する工程と、前記親水性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成する工程と、前記遮光パターンを介して前記感光性樹脂層に所定の波長域の光を照射することにより該感光性樹脂層を露光した後、現像して、樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとして前記被処理体をサンドブラスト処理に付し研削する工程と、を含む被研削品の製造方法を提供する。
【００５３】
本発明に係る第二の実施態様において、被処理体、感光性樹脂層及び遮光インクについては、第一の実施態様に係る説明において記載したものと同様であるため、以下では親水性樹脂層及びサンドブラスト処理による被研削品の製造方法について説明する。
【００５４】
（親水性樹脂層）
親水性樹脂層は、感光性樹脂層の疎水性が高すぎて遮光インクをはじいてしまう場合に、遮光パターンを形成するために有利に用いられる。親水性樹脂層は、水又は水溶性有機溶媒に溶解するか又はこれらの媒体中で膨潤する組成物から形成される。このため、該親水性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成すると、遮光インクにより該親水性樹脂層中の樹脂が溶解又は膨潤し、遮光インク中の水溶性染料を該親水性樹脂層中に浸透させることができる。このような親水性樹脂層を用いることにより、上述した感光性樹脂層が疎水性の樹脂及び／又はバインダー樹脂を含む場合でも、遮光パターンを形成する遮光インクの滲みやはじきという不具合の発生を防ぐことができる。また、親水性樹脂層を感光性樹脂層の上に積層することにより、該感光性樹脂層が酸素と接触することを防ぐこともできる。なお、親水性樹脂層は、疎水性の感光性樹脂層と組み合わせて使用しても親水性の感光性樹脂層と組み合わせて使用してもよい。
【００５５】
このような、親水性樹脂層を形成する樹脂は、水又は水溶性有機溶媒に溶解するか又はこれらの媒体中で膨潤するものであれば、公知の親水性樹脂の中から感光性樹脂層との相溶性、反応性等を勘案して適宜選択することができる。このような親水性樹脂としては、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、メチルセルロース、ナトリウムカルボキシメチルセルロース、ナトリウムカルボキシメチルヒドロキシエチルセルロース、水溶性のエチルヒドロキシエチルセルロース、硫酸セルロース、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミド／アクリル酸共重合体、スチレン／アクリル酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ビニルメチルエーテル／マレイン酸共重合体、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸）、ポリ（ジエチレントリアミン−アジピン酸共重合体）、ポリビニルピリジン、ポリビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、ポリウレタン、メラミン樹脂、ゼラチン、カラジーナン（カラゲニン）、デキストラン、アラビアゴム、カゼイン、ペクチン、アルブミン、澱粉、コラーゲン誘導体、コロジオン及び寒天を挙げることができる。これらの中でも、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリウレタン、ポリビニルアルコールが好ましい。
【００５６】
本発明では、親水性樹脂層を形成する際には、親水性樹脂を有機溶剤に溶解し、上記感光性樹脂層上に塗布後、有機溶剤を揮発させ、積層することができる。このような有機溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独でも混合しても用いることができる。また、本発明では、後述するように、親水性樹脂層は、感光性樹脂層と積層し、ドライフィルムとして形成してもよい。
【００５７】
親水性樹脂層は、遮光インクを滲みやはじきを伴うことなく保持するために適度な厚みで感光性樹脂層の上に積層することが重要であり、その厚みとしては、０．５μｍ〜１５μｍが好ましく、さらに好ましくは、１μｍ〜１０μｍである。親水性樹脂層の厚みは、０．５μｍ以上では保持されるインク量が遮光性を十分に発揮できるので好ましく、１５μｍ以下では露光後の現像工程における除去が容易であるので好ましい。
【００５８】
（被研削品の製造方法）
本発明の第二の実施態様により被研削品を製造するには、先ず基材である被処理体表面に感光性樹脂層及び親水性樹脂層をこの順に形成する。感光性樹脂層を被処理体表面に形成する方法は上述のとおりであり、ここで形成した感光性樹脂層上に、上述の溶媒に溶解した親水性樹脂を直接塗布し乾燥することにより親水性樹脂層を積層することができる。また、親水性樹脂層を感光性樹脂層の上に更に積層したドライフィルムを形成する場合、上述の方法により離型フィルム上に感光性樹脂層を積層し、別の離型フィルム上に親水性樹脂を感光性樹脂層の積層方法と同様の方法により塗布、乾燥した後親水性樹脂層を形成し、この親水性樹脂層を感光性樹脂層上に圧着し、熱及び／又は圧力を加えることにより、離型フィルム上に親水性樹脂層と感光性樹脂層がこの順で積層されたドライフィルムを形成することができる。このようにして形成したドライフィルムを、該感光性樹脂層の表面が被処理体表面に接するように該被処理体表面に貼り付け、公知の方法で圧着した後、離型フィルムを剥離することにより感光性樹脂層及び親水性樹脂層を形成することもできる。
【００５９】
次に、第一の実施態様と同様の方法により、上記親水性樹脂層上に上記遮光インクを吐出して遮光パターンを形成する。本発明に係る第二の態様では、親水性樹脂層が水又は水溶性有機溶媒に溶解するか又はこれらの媒体中で膨潤する組成物から形成されるため、該親水性樹脂層上に遮光インクにより遮光パターンを形成すると、遮光インクにより該親水性樹脂層中の樹脂が溶解又は膨潤し、遮光インク中の水溶性染料を該親水性樹脂層中に浸透させることができる。このようにして遮光パターンを形成した後遮光インクを乾燥させることが好ましいことも上述のとおりである。
【００６０】
次に、第一の実施態様と同様の方法により、上記遮光パターンを介して露光及び現像することにより、樹脂パターンを形成する。
【００６１】
最後に、第一の実施態様と同様の方法により、上記樹脂パターンをマスクとして該被処理体をサンドブラスト処理に付し研削し、親水性樹脂層及び感光性樹脂層を剥離除去することにより、被処理体上に所望の文字、図柄、模様等のパターンが形成される。
【実施例】
【００６２】
以下、本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、以下の実施例は、本発明を説明するための例示であって、本発明を限定するものではない。
【００６３】
実施例１
（遮光インクの調製）
Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１９９（商品名：カヤフェクトターコイズＲＮリキッド１５０、日本化薬製）を５部、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１３２（商品名：カルタゾールイエロー３ＧＦリキッド、クラリアント社製）を５部、エチレングリコール１５部、サーフィノール１０４ＰＧ５０（日信化学工業社製）０．０５部、イオン交換水７４．９５部からなる液を攪拌し、また、インクのｐＨが８．０から９．５になるように苛性ソーダを加えた。さらに０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し遮光インクを得た。
【００６４】
（遮光パターンの形成）
サンドブラスト用ドライフィルムレジストであるオーディルＢＦ４１０（商品名、東京応化工業製）をガラス基板にラミネートした後カバーシートを剥離し、ローランド・ディー・ジー製フラットベットインクジェットプリンターを用い、３００ｎｍ〜４００ｎｍ波長域の光に対する吸収特性を有する色素を含む上記工程で調製した水溶性染料を含む遮光インクを所定の画像パターンに従ってこのドライフィルムレジスト上に噴射して、所定の遮光パターンを形成した。
【００６５】
（露光及び現像）
次に、３７０ｎｍに中心波長を有する紫外線を照射することにより画像層側から３００ｍＪ／ｃｍ２の露光を行った。その後、０．２質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として、圧力１．５ｋｇ／ｃｍ２、液温３０℃で２分間現像を行った。現像処理後、８０℃で５分間乾燥した。得られた版面には、現像残渣等の再付着は認められず、当初の画像パターンに忠実な樹脂パターンが形成した。
【００６６】
（サンドブラスト処理）
こうして形成した樹脂パターンをマスクとして、研磨剤として炭化ケイ素（ＳｉＣ）粒度８００番（粒径３２μｍ）を使用し、ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ２で６０秒間サンドブラスト処理に付したところ、マスクに忠実なパターンが５０μｍの深さで研削できた。