(57)【要約】【課題】  十分なコリメーション精度が得られるとともに、試料と検出器との間の距離を十分短くして検出器への入射Ｘ線強度を上げることのできるＸ線分析装置を提供する。【解決手段】  試料５と検出器１４との間に、互いの中心軸が一致する第１の絞り孔３１ａ及び第２の絞り孔３１ｂが形成されてなるコリメータ３１が設置され、該コリメータ３１にはフィルタ部材３２ａ又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部３１ｃが形成されており、これら２つの絞り孔３１ａ，３１ｂ及び溝部３１ｃを通過した二次Ｘ線６が検出器１４により検出される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線源からの一次Ｘ線を試料に照射し、一次Ｘ線の照射によって試料から発生する二次Ｘ線を検出器により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料と検出器との間に、互いの中心軸が一致する第１の絞り孔及び第２の絞り孔が形成されてなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出されることを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項２】
Ｘ線源からの一次Ｘ線を試料に照射し、一次Ｘ線の照射によって試料から発生する二次Ｘ線を検出器により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料と検出器との間に、第１の絞り孔が形成された絞り部材を支持するとともに第１の絞り孔と互いに中心軸が一致する第２の絞り孔が形成されてなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出されることを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項３】
Ｘ線源からの一次Ｘ線を試料に照射し、一次Ｘ線の照射によって試料から発生する二次Ｘ線を検出器により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料と検出器との間に、第１の絞り孔が形成された第１の絞り部材を支持するとともに第１の絞り孔と互いに中心軸が一致する第２の絞り孔が形成された第２の絞り部材を支持してなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出されることを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項４】
前記コリメータにおいて、前記溝部は、前記２つの絞り孔の間に位置することを特徴とする請求項１乃至３何れか記載のＸ線分析装置。
【請求項５】
複数種類のフィルタ部材を選択可能に具備し、選択されたフィルタ部材が前記溝部内に配置されることを特徴とする請求項４記載のＸ線分析装置。
【請求項６】
複数種類のアパーチャ部材を選択可能に具備し、選択されたアパーチャ部材が前記溝部内に配置されることを特徴とする請求項４記載のＸ線分析装置。
【請求項７】
前記コリメータにおいて、前記溝部は、前記検出器と対向する部分に位置することを特徴とする請求項１乃至３何れか記載のＸ線分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蛍光Ｘ線分析装置などのＸ線分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
蛍光Ｘ線分析装置は、Ｘ線源となるＸ線管球から発生したＸ線（一次Ｘ線）を分析対象である試料に照射し、この照射に応じて試料内で二次的に励起された特性Ｘ線を検出器で検出することにより、試料構成元素の定性分析及び定量分析を行う。
【０００３】
このようにして特性Ｘ線を検出して試料分析を行う際には、分析装置において、一次Ｘ線が照射された装置構成部材（試料以外の装置構成部品等）から発生した散乱Ｘ線等が検出器に入射しないように、コリメーションを行う必要がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、分析精度を向上させたり、分析時間を短縮させるためには、検出器に到達する（入射する）特性Ｘ線の強度が高い方が好ましく、検出器を試料に近づける必要がある。
【０００５】
さらに、特定元素の分析においては、特定元素についての特性Ｘ線強度のＳ／Ｎ向上のため、Ｘ線管球と試料との間、及び試料と検出器との間にフィルタが配置される
ここで、図１を参照して、従来技術における蛍光Ｘ線分析装置の構成を説明する。同図において、Ｘ線管球１から放出された一次Ｘ線３は、一次側フィルタ２を通過し、試料５の分析対象位置に照射される。
【０００６】
試料５は、当該分析装置を構成する試料支持板４上に支持されている。試料支持板４には開口４ａが形成されており、Ｘ線管球１からの一次Ｘ線３は、該開口４ａを介して試料５の分析対象位置に到達する。
【０００７】
一次Ｘ線３が照射された試料５の分析対象位置からは、二次Ｘ線である特性Ｘ線６が発生する。この特性Ｘ線６は、試料側絞り部材９、二次側フィルタ１０及び検出器側絞り部材１２を介して、検出器１４に到達する。検出器１４は、このようにして入射した特性Ｘ線６を検出する。
【０００８】
試料側絞り部材９には絞り孔９ａが形成されており、この絞り孔９ａを通過した特性Ｘ線６のみが、後段側に位置する二次側フィルタ１０に到達する。試料側絞り部材９は、筒状の支持部材７に支持されており、試料５からの特性Ｘ線６は支持部材７の内部を通過して試料側絞り部材９に到達する。この支持部材７は、試料支持板４の底面に固定された保持部材８によって保持されている。
【０００９】
二次側フィルタ１０は、特定元素に対応する特性Ｘ線のみを通過させるものであり、当該二次側フィルタ１０を通過した特性Ｘ線６は、検出器側絞り部材１２に到達する。この二次側フィルタ１０は、支持部材１１に支持されている。支持部材１１には、開口が形成されており、フィルタ１０を通過した特性Ｘ線６は、該開口を介して検出器側絞り部材１２に到達する。
【００１０】
検出器側絞り部材１２には絞り孔１２ａが形成されており、この絞り孔１２ａを通過した特性Ｘ線６のみが、後段側に位置する検出器１４に到達する。検出器側絞り部材１２は、検出器１４を内部に収容するケーシング１３の先端部に配置されている。このケーシング１３の先端部には、ウインドウ（開口）１３ａが形成されており、検出器側絞り部材１２の絞り孔１２ａ及び当該ウインドウ１３ａを通過した特性Ｘ線６が検出器１４に入射する。なお、上記２つの絞り部材９，１２により、コリメーションを行うためのコリメータが構成される。
【００１１】
上記の装置構成において、試料側絞り部材９の絞り孔９ａの中心軸と、検出器側絞り部材１２の絞り孔１２ａの中心軸とが一致するように、各絞り部材９，１２を配置する必要がある。
【００１２】
【特許文献１】特開２０００−１９９７５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上記従来の装置構成では、二次側フィルタ１０を試料側絞り部材９と検出器側絞り部材１２との間に配置するために、試料側絞り部材９と検出器側絞り部材１２は、それぞれ支持部材７及びケーシング１３により、分離・離間された状態で個別に支持されている。
【００１４】
従って、特性Ｘ線６の適正なコリメーションを行うために必要となる各絞り孔９ａ,１２ａの中心軸の軸合わせが行いにくい。
【００１５】
また、試料側絞り部材９は、支持部材７と保持部材８とによって、試料支持板４の下方に取付けられている。
【００１６】
よって、試料側絞り部材９を取付けるために設置されるこれら支持部材７及び保持部材８の設置スペースが、試料支持板４の下方に必要であり、当該設置スペースがあるために、試料５と検出器１４との間の距離が長くなっていた。
【００１７】
これらにより、試料５以外の装置構成部材からの散乱Ｘ線の検出器１４への入射を回避するための十分な組立精度（試料側絞り部材９と検出器側絞り部材１２との位置精度）を得ることができずにコリメーション精度が低下し、分析対象となる試料には含まれていない元素が検出器１４により検出されてしまうとともに、試料５と検出器１４との距離が長いために、検出器１４に到達する特性Ｘ線６の強度も低くなり、分析精度の向上や分析時間の短縮をさらに実現することが困難となっていた。
【００１８】
なお、試料側絞り部材９と検出器側絞り部材１２との間に、絞り孔９ａ，１２ａの径とは異なる異径の絞り孔を備えるアパーチャ部材を配置することもある。
【００１９】
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、試料と検出器との間にフィルタ部材（二次側フィルタ）やアパーチャ部材を配置しても、十分なコリメーション精度が得られるとともに、試料と検出器との間の距離を十分短くして検出器への入射Ｘ線強度を上げることのできるＸ線分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明に基づく第１のＸ線分析装置は、Ｘ線源からの一次Ｘ線を試料に照射し、一次Ｘ線の照射によって試料から発生する二次Ｘ線を検出器により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料と検出器との間に、互いの中心軸が一致する第１の絞り孔及び第２の絞り孔が形成されてなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出されることを特徴とする。
【００２１】
本発明に基づく第２のＸ線分析装置は、Ｘ線源からの一次Ｘ線を試料に照射し、一次Ｘ線の照射によって試料から発生する二次Ｘ線を検出器により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料と検出器との間に、第１の絞り孔が形成された絞り部材を支持するとともに第１の絞り孔と互いに中心軸が一致する第２の絞り孔が形成されてなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出されることを特徴とする。
【００２２】
本発明に基づく第３のＸ線分析装置は、Ｘ線源からの一次Ｘ線を試料に照射し、一次Ｘ線の照射によって試料から発生する二次Ｘ線を検出器により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料と検出器との間に、第１の絞り孔が形成された第１の絞り部材を支持するとともに第１の絞り孔と互いに中心軸が一致する第２の絞り孔が形成された第２の絞り部材を支持してなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に基づく第１のＸ線分析装置においては、試料と検出器との間に、互いの中心軸が一致する第１の絞り孔及び第２の絞り孔が形成されてなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出される。
【００２４】
よって、試料と検出器との間（特に、第１の絞り孔と第２の絞り孔との間）にフィルタ部材又はアパーチャ部材を配置しても、当該部材はコリメータに形成された溝部内に配置されることとなり、かつ第１の絞り孔と第２の絞り孔は、中心軸の位置合った状態で同一の当該コリメータに形成されているので、これら第１及び第２の絞り孔の中心軸の軸合わせを改めて行う必要がない。これにより、適正なコリメーションを行うことができ、コリメーション精度の低下を防止することができる。この結果、分析精度の向上を図ることができる。
【００２５】
また、試料側絞り部材を試料支持板の下方に別途配置する必要がないので、上記従来技術における支持部材及び保持部材の設置スペースを設ける必要がない。これにより、試料と検出器との距離を従来と比較して短くすることができるので、検出器への入射Ｘ線強度を上げることができ、分析時間の短縮を実現することができる。
【００２６】
本発明に基づく第２のＸ線分析装置においては、試料と検出器との間に、第１の絞り孔が形成された絞り部材を支持するとともに第１の絞り孔と互いに中心軸が一致する第２の絞り孔が形成されてなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出される。
【００２７】
また、本発明に基づく第３のＸ線分析装置においては、試料と検出器との間に、第１の絞り孔が形成された第１の絞り部材を支持するとともに第１の絞り孔と互いに中心軸が一致する第２の絞り孔が形成された第２の絞り部材を支持してなるコリメータが設置され、該コリメータにはフィルタ部材又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部が形成されており、これら２つの絞り孔及び溝部を通過した二次Ｘ線が検出器により検出される。
【００２８】
これらの構成によっても、試料と検出器との間（特に、第１の絞り孔と第２の絞り孔との間）にフィルタ部材又はアパーチャ部材を配置しても、当該部材はコリメータに形成された溝部内に配置されることとなり、第１及び第２の絞り孔の中心軸の軸合わせを改めて行う必要がない。これにより、適正なコリメーションを行うことができ、コリメーション精度の低下を防止することができる。この結果、分析精度の向上を図ることができる。
【００２９】
また、上記と同様に、試料側絞り部材を試料支持板の下方に別途配置する必要がないので、上記従来技術における支持部材及び保持部材の設置スペースを設ける必要がなく、試料と検出器との距離を従来と比較して短くすることができる。これにより、検出器への入射Ｘ線強度を上げることができ、分析時間の短縮を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、図面を参照して、本発明における実施の形態について説明する。図２は、本発明におけるＸ線分析装置を示す概略構成図であり、図１中の構成要素と同じ構成要素には、同一の番号が付されている。
【００３１】
図２において、Ｘ線管球（Ｘ線源）１から放出された一次Ｘ線３は、図示しないフィルタを通過して、試料５の分析対象位置に照射される。
【００３２】
試料５は、本分析装置を構成する試料支持板４上に支持されている、試料支持板４には開口４ａが形成されており、Ｘ線管球１からの一次Ｘ線は、該開口４ａを介して試料５の分析対象位置に到達する。
【００３３】
一次Ｘ線３が照射された試料５の分析対象位置からは、二次Ｘ線である特性Ｘ線６が発生する。この特性Ｘ線６は、図示しないコリメータを介して、検出器１４に到達する。これにより、検出器１４は、当該特性Ｘ線６を検出する。ここで、検出器１４は、半導体検出器からなり、ケーシング１３の内部に設けられている。
【００３４】
当該特性Ｘ線６の検出に基づく検出器１４からの出力信号は、マルチチャンネルアナライザ（ＭＣＡ）２１に入力される。そして、ＭＣＡ２１の出力信号は、中央制御装置（ＣＰＵ）２２に入力される。
【００３５】
ＭＣＡ２１は、検出器１４からの出力信号を、そのエネルギーに応じて分離してＣＰＵ２２に出力する。ＣＰＵ２２の記憶部２３には、各エネルギーに対応してＸ線強度信号が積算して記憶される。すなわち、試料５の分析が進むにつれて、そのＸ線強度信号の強度は大きくなる。
【００３６】
この記憶部２３に記憶されたデータは、ＣＰＵ２２のスペクトル形成部２４に送られる。スペクトル形成部２４は、記憶部２３から送られたデータに基づいてＸ線スペクトルデータを形成し、当該Ｘ線スペクトルは表示部２５により視覚的に表示される。
【００３７】
ここで、図３を参照して、本発明における第１実施例を説明する。図３は、本発明の第１実施例における要部を示す図である。
【００３８】
Ｘ線管球１から放出された一次Ｘ線３は、一次側フィルタ２を通過して試料５の分析対象位置に到達する。一次Ｘ線３が照射された分析対象位置から発生した特性Ｘ線６は、コリメータ３１を通過して、ケーシング１３内に収容された検出器１４により検出される。
【００３９】
コリメータ３１は、ケーシング１３の先端部に取付けられている。すなわち、コリメータ３１の基端部に位置する係合部３１ｄがケーシング１３の先端の側面に係合することにより、コリメータ３１はケーシング１３の先端部に固定される。
【００４０】
また、コリメータ３１には、第１の絞り孔３１ａと第２の絞り孔３１ｂとが形成されている。第１の絞り孔３１ａは試料５側に位置し、第２の絞り孔３１ｂは検出器１４側に位置しており、これら第１及び第２の絞り孔３１ａ，３１ｂにおける双方の中心軸は、同一直線上にて一致している。
【００４１】
さらに、コリメータ３１において、第１の絞り孔３１ａと第２の絞り孔３１ｂとの間には、スリット状の溝部３１ｃが形成されている。第１の絞り孔３１ａと第２の絞り孔３１ｂは、溝部３１ｃを介して連通している。
【００４２】
溝部３１ｃ内には、フィルタ（フィルタ部材）３２ａが配置されている。フィルタ３２ａは、フィルタ支持部材３２によって支持されており、溝３１ｃ内において上記中心軸上に位置している。このフィルタ支持部材３２の一部分も、溝部３１ｃ内に位置する。
【００４３】
フィルタ支持部材３２は、複数種類のフィルタ３２ａを保持している。そして、フィルタ支持部材３２が、図３中の紙面に対して垂直方向に移動することにより、特定のフィルタ３２ａが選択的に溝部３１ｃ内に配置される。
【００４４】
なお、第２の絞り孔３１ｂの後段側（検出器１４側）には、ケーシング１３に設けられたウインドウ（開口）１３ａが位置している。このような構成により、試料５からの特性Ｘ線６は、コリメータ３１の第１の絞り孔３１ａ、溝部３１ｃｂ内のフィルタ３２ａ、第２の絞り孔３１ｂ、及びケーシング１３のウインドウ１３ａを順次通過して、検出器１４に到達する。ここで、参考として、特性Ｘ線６が入射する検出器１４を内部に備えるケーシング１３を含む検出系の鳥瞰図を図４に示す。
【００４５】
上述した構成においては、試料５から検出器１４までの間において、特性Ｘ線６の経路の大部分を、コリメータ３１の絞り孔３１ａ，３１ｂ及び溝部３１ｃが占める（占有する）とともに、当該２つの絞り孔３１ａ，３１ｂの間にフィルタ３２ａが配置される。
【００４６】
そして、コリメータ３１の先端（前面）に位置する第１の絞り孔３１ａは、試料５における一次Ｘ線３の照射面に接近しており、コリメータ３１の基端（後面）に位置する第２の絞り孔３１ｂは、検出器１４の検出面の近くに配置される。
【００４７】
これにより、一次Ｘ線３の照射に応じて試料５以外の部材から発生する散乱Ｘ線が検出器１４の検出面に到達することによる影響を、極力排除することができる。
【００４８】
また、フィルタ３２ａは、第１の絞り孔３１ａと第２の絞り孔３１ｂとの間に配置され、コリメータ３１の設置スペース内に収まるため、特性Ｘ線６の経路内にフィルタ３２ａを支持・移動するためのフィルタ機構を設ける必要がない。
【００４９】
そして、フィルタ３２ａに到達する特性Ｘ線６は、コリメータ３１の第１の絞り孔３１ａを通過して絞られているので、フィルタ３２ａにおいて特性Ｘ線６が通過する部分の面積が小さくなり、フィルタ３２ａ自体をコンパクトにすることができる。
【００５０】
これらのことから、試料５と検出器１４との間の距離を極力短くすることができ、検出器１４に到達する特性Ｘ線６の強度の低下を防止することができる。
【００５１】
また、上記構成では、フィルタ支持部材３２が移動することにより、コリメータ３１の溝部３１ｃ内でフィルタ３２ａがスライドして移動するので、数種類のフィルタ３２ａを自動で選択して試料分析を行うことができる。
【００５２】
次に、図５を参照して、本発明における第２実施例を説明する。図５は、本発明の第２実施例における要部を示す図である。
【００５３】
図５において、前述した図３に示す構成（第１実施例）と異なる点は、コリメータ３１の先端に絞り部材（第１の絞り部材）３３が保持されている点である。
【００５４】
絞り部材３３には、第１の絞り孔に相当する貫通孔３３ａが形成されている。絞り部材３３は、コリメータ３１の先端に形成された開口に取付けられている。
【００５５】
絞り部材３３の貫通孔３３ａの中心軸は、コリメータ３１に形成された絞り孔（第２の絞り孔）３１ｂの中心軸と同一直線上にて一致している。
【００５６】
さらに、図６を参照して、本発明における第３実施例を説明する。図６は、本発明の第３実施例における要部を示す図である。
【００５７】
図６において、前述した図５に示す構成（第３実施例）と異なる点は、コリメータ３１の基端に絞り部材（第２の絞り部材）３４が保持されている点である。
【００５８】
絞り部材３４には、第２の絞り孔に相当する貫通孔３４ａが形成されている。絞り部材３４は、コリメータ３１の基端に形成された開口に取付けられている。
【００５９】
絞り部材３３の貫通孔３３ａと絞り部材３４の貫通孔３４ａの両中心軸は、同一直線上にて一致している。
【００６０】
上述した第２実施例及び第３実施例の構成においても、試料５から検出器１４までの間において、特性Ｘ線６の経路の大部分を、絞り孔３３ａ，３１ｂ（３４ａ）及び溝部３１ｃが占める（占有する）とともに、当該２つの絞り孔３３ａ，３１ｂ（３４ａ）の間にフィルタ３２ａが配置される。
【００６１】
そして、コリメータ３１の先端（前面）に位置する第１の絞り孔３３ａは、試料５における一次Ｘ線３の照射面に接近しており、コリメータ３１の基端（後面）に位置する第２の絞り孔３１ｂ（３４ａ）は、検出器１４の検出面の近くに配置される。
【００６２】
これにより、一次Ｘ線３の照射に応じて試料５以外の部材から発生する散乱Ｘ線が、検出器１４の検出面に到達することによる影響を極力排除することができる。
【００６３】
また、フィルタ３２ａは、第１の絞り孔３３ａと第２の絞り孔３１ｂ（３４ａ）との間に配置され、コリメータ３１の設置スペース内に収まるため、特性Ｘ線６の経路内にフィルタ３２ａを支持・移動するためのフィルタ機構を設ける必要がない。
【００６４】
そして、フィルタ３２ａに到達する特性Ｘ線６は、第１の孔３３ａを通過して絞られているので、フィルタ３２ａにおいて特性Ｘ線６が通過する部分の面積が小さくなり、フィルタ３２ａ自体をコンパクトにすることができる。
【００６５】
これらのことから、試料５と検出器１４との間の距離を極力短くすることができ、検出器１４に到達する特性Ｘ線６の強度の低下を防止することができる。
【００６６】
また、上記構成では、フィルタ支持部材３２が移動することにより、コリメータ３１の溝部３１ｃ内でフィルタ３２ａがスライドして移動するので、数種類のフィルタ３２ａを自動で選択して試料分析を行うことができる。
【００６７】
なお、上記各実施例においては、コリメータ３１の溝部３１ｃ内にフィルタ３２ａが配置される構成であったが、フィルタ３２ａに代わって若しくはフィルタ３２ａに加えて、調整用絞り孔（異径の絞り孔）を備えるアパーチャ部材を溝部３１ｃ内に配置するようにしてもよい。
【００６８】
この場合、複数種類の調整用絞り孔がアパーチャ部材に設けられており、コリメータ３１の溝部３１ｃ内において当該調整用絞り孔が選択可能に配置されるようにすることもできる。
【００６９】
このような構成によれば、アパーチャ部材は、第１の絞り孔３１ａ（３３ａ）と第２の絞り孔３１ｂ（３４ａ）との間に配置され、コリメータ３１の設置スペース内に収まる。
【００７０】
これにより、アパーチャ部材を設ける場合であっても、試料５と検出器１４との間の距離を極力短くすることができ、検出器１４に到達する特性Ｘ線６の強度の低下を防止することができる。
【００７１】
さらに、図７を参照して、本発明における第４実施例を説明する。図７は、本発明の第４実施例における要部を示す図である。
【００７２】
図７において、前述した図３に示す構成（第１実施例）と異なる点は、コリメータ３１に溝部３１ｃ（図３参照）が形成されていない点である。そして、図７の構成では、コリメータ３１の基端に凹部（溝部）３１ｆが形成されており、また、コリメータ３１の内部に、第１の絞り孔３１ａと第２の絞り孔３１ｂとを連通するための空洞部３１ｅが設けられている。
【００７３】
すなわち、コリメータ３１において、第１の絞り孔３１ａは、空洞部３１ｅを介して第２の絞り孔３１ｂと繋がっており、また、第２の絞り孔３１ｂは、凹部３１ｆに繋がっている。ここで、第１の絞り孔３１ａと第２の絞り孔３１ｂの各中心軸は、同一直線上にて一致している。コリメータ３１の凹部３１ｆ内には、フィルタ３５が配置されている。このフィルタ（フィルタ部材）３５は、当該中心軸上に位置する。
【００７４】
この構成においては、試料５からの特性Ｘ線６は、コリメータ３１の第１の絞り孔３１ａ、空洞部３１ｅ、第２の絞り孔３１ｂ、フィルタ３５、及びケーシング１３のウインドウ１３ａを順次通過して、検出器１４に到達する。
【００７５】
このような構成においても、試料５から検出器１４までの間において、特性Ｘ線６の経路の大部分を、コリメータ３１の絞り孔３１ａ，３１ｂ及び空洞部３１ｅが占める（占有する）とともに、絞り孔３１ｂの後段にフィルタ３５が配置される。
【００７６】
コリメータ３１の先端（前面）に位置する第１の絞り孔３１ａは、試料５における一次Ｘ線３の照射面に接近しており、コリメータ３１の基端（後面）に位置する第２の絞り孔３１ｂは、フィルタ３５を間に介して検出器１４の検出面の近くに配置される。
【００７７】
これにより、一次Ｘ線３の照射に応じて試料５以外の部材から発生する散乱Ｘ線が、検出器１４の検出面に到達することによる影響を極力排除することができる。
【００７８】
なお、図７に示す構成では、コリメータ３１の基端に位置する凹部３１ｆ内にフィルタ３５が配置されるものであるが、コリメータ３１の先端に絞り孔３１ａと連通する凹部（溝部）を設けて、当該凹部内にフィルタ３５を配置するようにすることもできる。
【００７９】
さらに、上記第１〜第３実施例において、コリメータ３１の基端に凹部（図７における凹部３１ｆに相当するもの）を形成し、該凹部内にフィルタを配置したり、コリメータ３１の先端に絞り孔３１ａと連通する凹部を設けて、当該凹部内にフィルタを配置するようにすることもできる。
【００８０】
上記各実施例においては、コリメータ３１内にフィルタ３２ａ，３５を挿入する構成とすることで、試料５と検出器１４間において無駄なスペースがなくなり、検出器１４を分析対象である試料５により近づけることが可能となる。
【００８１】
また、試料５と検出器１４間に２つの絞り孔３１ａ，３１ｂ（３４ａ）を配置するためのコリメータ３１が分離されてなく、コリメータ３１を試料５の近傍から検出器１４の前面まで一体で伸長した形状とすることができるので、試料分析に不要な散乱Ｘ線の取り込みを防止することができる。
【００８２】
上述のごとく、本発明における第１のＸ線分析装置は、Ｘ線源１からの一次Ｘ線３を試料５に照射し、一次Ｘ線３の照射によって試料５から発生する二次Ｘ線６を検出器１４により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料５と検出器１４との間に、互いの中心軸が一致する第１の絞り孔３１ａ及び第２の絞り孔３１ｂが形成されてなるコリメータ３１が設置され、該コリメータ３１にはフィルタ部材３２ａ（３５）又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部３１ｃ（３１ｆ）が形成されており、これら２つの絞り孔３１ａ，３１ｂ及び溝部３１ｃ（３１ｆ）を通過した二次Ｘ線６が検出器１４により検出される。
【００８３】
また、本発明における第２のＸ線分析装置は、Ｘ線源１からの一次Ｘ線３を試料５に照射し、一次Ｘ線３の照射によって試料５から発生する二次Ｘ線６を検出器１４により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料５と検出器１４との間に、第１の絞り孔３３ａが形成された絞り部材３３を支持するとともに第１の絞り孔３３ａと互いに中心軸が一致する第２の絞り孔３１ｂが形成されてなるコリメータ３１が設置され、該コリメータ３１にはフィルタ部材３２ａ又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部３１ｃ（３１ｆ）が形成されており、これら２つの絞り孔３３ａ，３１ｂ及び溝部３１ｃ（３１ｆ）を通過した二次Ｘ線６が検出器１４により検出される。
【００８４】
さらに、本発明における第３のＸ線分析装置は、Ｘ線源１からの一次Ｘ線３を試料５に照射し、一次Ｘ線３の照射によって試料５から発生する二次Ｘ線６を検出器１４により検出して試料分析を行うＸ線分析装置において、試料５と検出器１４との間に、第１の絞り孔３３ａが形成された第１の絞り部材３３を支持するとともに第１の絞り孔３３ａと互いに中心軸が一致する第２の絞り孔３４ａが形成された第２の絞り部材３４を支持してなるコリメータ３１が設置され、該コリメータ３１にはフィルタ部材３２ａ又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部３１ｃ（３１ｆ）が形成されており、これら２つの絞り孔３３ａ，３４ａ及び溝部３１ｃ（３１ｆ）を通過した二次Ｘ線６が検出器１４により検出される。
【００８５】
上記各Ｘ線分析装置において、コリメータ３１における上記２つの絞り孔の間に位置する部分に溝部３１ｃを形成し、この溝部３１ｃ内にフィルタ部材３２ａを配置することができる。
【００８６】
このとき、複数種類のフィルタ部材３２ａを選択可能に設置し、選択されたフィルタ部材３２ａが溝部３１ｃ内に配置されるようにすることができる。
【００８７】
さらに、上記各Ｘ線分析装置において、コリメータ３１における上記２つの孔の間に位置する部分に溝部３１ｃを形成し、この溝部３１ｃ内にアパーチャ部材を配置することもできる。
【００８８】
このとき、複数種類のアパーチャ部材を選択可能に設置し、選択されたアパーチャ部材が溝部３１ｃ内に配置されるようにすることができる。
【００８９】
また、コリメータ３１における検出器１４と対向する部分に凹部（溝部）３１ｆを形成し、この凹部３１ｆ内にフィルタ３５又はアパーチャ部材を配置するようにすることもできる。
【００９０】
このように、本発明における第１のＸ線分析装置においては、試料５と検出器１４との間に、互いの中心軸が一致する第１の絞り孔３１ａ及び第２の絞り孔３１ｂが形成されてなるコリメータ３１が設置され、該コリメータ３１にはフィルタ部材３２ａ又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部３１ｃ（３１ｆ）が形成されており、これら２つの絞り孔３１ａ，３１ｂ及び溝部３１ｃ（３１ｆ）を通過した二次Ｘ線６が検出器１４により検出される。
【００９１】
よって、試料５と検出器１４との間（特に、第１の絞り孔３１ａと第２の絞り孔３１ｂとの間）にフィルタ部材３２ａ又はアパーチャ部材を配置しても、当該部材はコリメータ３１に形成された溝部３１ｃ（３１ｆ）内に配置されることとなり、かつ第１の絞り孔３１ａと第２の絞り孔３１ｂは、中心軸の位置合った状態で同一の当該コリメータ３１に形成されているので、これら第１及び第２の絞り孔３１ａ，３１ｂの中心軸の軸合わせを改めて行う必要がない。これにより、適正なコリメーションを行うことができ、コリメーション精度の低下を防止することができる。この結果、分析精度の向上を図ることができる。
【００９２】
また、試料側絞り部材を試料支持板の下方に別途配置する必要がないので、従来技術における支持部材及び保持部材の設置スペースを設ける必要がない。これにより、試料５と検出器１４との距離を従来と比較して短くすることができるので、検出器１４への入射Ｘ線強度を上げることができ、分析時間の短縮を実現することができる。
【００９３】
本発明における第２のＸ線分析装置においては、試料５と検出器１４との間に、第１の絞り孔３３ａが形成された絞り部材３３を支持するとともに第１の絞り孔３３ａと互いに中心軸が一致する第２の絞り孔３１ｂが形成されてなるコリメータ３１が設置され、該コリメータ３１にはフィルタ部材３２ａ又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部３１ｃ（３１ｆ）が形成されており、これら２つの絞り孔３３ａ，３１ｂ及び溝部３１ｃ（３１ｆ）を通過した二次Ｘ線６が検出器１４により検出される。
【００９４】
また、本発明における第３のＸ線分析装置においては、試料５と検出器１４との間に、第１の絞り孔３３ａが形成された第１の絞り部材３３を支持するとともに第１の絞り孔３３ａと互いに中心軸が一致する第２の絞り孔３４ａが形成された第２の絞り部材３４を支持してなるコリメータ３１が設置され、該コリメータ３１にはフィルタ部材３２ａ又はアパーチャ部材を該軸上に配置するための溝部３１ｃ（３１ｆ）が形成されており、これら２つの絞り孔３３ａ，３４ａ及び溝部３１ｃ（３１ｆ）を通過した二次Ｘ線６が検出器１４により検出される。
【００９５】
これらの構成によっても、試料５と検出器１４との間（特に、第１の絞り孔と第２の絞り孔との間）にフィルタ部材３２ａ又はアパーチャ部材を配置しても、当該部材はコリメータ３１に形成された溝部３１ｃ（３１ｆ）内に配置されることとなり、第１及び第２の絞り孔の中心軸の軸合わせを改めて行う必要がない。これにより、適正なコリメーションを行うことができ、コリメーション精度の低下を防止することができる。この結果、分析精度の向上を図ることができる。
【００９６】
また、上記と同様に、試料側絞り部材を試料支持板の下方に別途配置する必要がないので、従来技術における支持部材及び保持部材の設置スペースを設ける必要がなく、試料５と検出器１４との距離を従来と比較して短くすることができる。これにより、検出器への入射Ｘ線強度を上げることができ、分析時間の短縮を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】従来技術におけるＸ線分析装置の要部を示す概略構成図である。
【図２】本発明におけるＸ線分析装置を示す概略構成図である。
【図３】本発明の第１実施例における要部を示す図である。
【図４】本発明における検出系を示す鳥瞰図である。
【図５】本発明の第２実施例における要部を示す図である。
【図６】本発明の第３実施例における要部を示す図である。
【図７】本発明の第４実施例における要部を示す図である。
【符号の説明】
【００９８】
１…Ｘ線管球（Ｘ線源）、２…一次側フィルタ、３…一次Ｘ線、４…試料支持板、５…試料、６…特性Ｘ線（二次Ｘ線）、１４…検出器、３１…コリメータ、３１ａ…第１の絞り孔、３１ｂ…第２の絞り孔、３１ｃ…溝部、３１ｆ…凹部（溝部）、３２…フィルタ支持部材、３２ａ…フィルタ、３３…絞り部材、３３ａ…貫通孔（第１の絞り孔）、３４…絞り部材、３４ａ…貫通孔（第２の絞り孔）、３５…フィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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