(57)【要約】【課題】液滴の濡れ広がりを抑えることによって液滴からなるパターンの加工精度を向上させた液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置を提供することである。【解決手段】液滴吐出ヘッド２０は、＋Ｙ方向から見てノズルＮを挟んで両側に、それぞれ＋Ｙ方向に沿って配列されるガイド群を有する。吐出位置Ｐを通り＋Ｙ方向に延びる経路として吐出経路Ｒが規定されるとき、各ガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉは、それぞれ対応する吐出経路Ｒを挟んで両側に、該吐出経路Ｒに沿ってガイド光を照射する。【選択図】図３
2009022833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物と対向する面を有するヘッド本体と、前記面に配列されて前記対象物上の各位置に向けて液滴を吐出する複数のノズルと、前記面に設けられて前記対象物に向けて光を照射する照射部とを備える液滴吐出ヘッドであって、
前記照射部は、
前記各位置から所定方向に延びる経路を挟んで両側に、それぞれ前記経路に沿って前記光を照射することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記光はレーザ光であり、
前記照射部は、
前記面に実装され、前記レーザ光を照射する複数の面発光レーザを有し、
前記複数の面発光レーザの各々は、
前記各ノズルから所定方向に延びる直線を挟んで両側に配設されることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
請求項２に記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記複数の面発光レーザの各々は、
前記所定方向に配列されて前記経路に沿う前記光を列ごとに形成することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
請求項３に記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記照射部は、
前記列ごとに光を集光させて前記経路に沿う前記光を形成する第一光学系を有することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
請求項４に記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記第一光学系は、
前記列ごとに設けられて前記所定方向に沿って延びるシリンドリカルレンズであることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
請求項５に記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記シリンドリカルレンズは、
インクジェット法を用いて形成されることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
請求項４に記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記第一光学系は、
前記所定方向に沿って延びるプリズムであることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項８】
請求項３〜７のいずれか一つに記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記照射部は、
前記面発光レーザからの光の一部を偏向して、前記光の一部を前記経路に照射する第二光学系を有することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項９】
請求項３〜７のいずれか一つに記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記照射部は、
前記面発光レーザからの光の一部を偏向して、前記ノズルを含む前記面の法線を挟んで両側に、それぞれ前記光の一部を照射する第三光学系を有することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項１０】
請求項９に記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記直線を挟んで両側に配設される複数の面発光レーザの各々は、
予め計測される前記液滴の飛行経路に基づいて、前記法線を挟んで両側に照射する各光の光量を、前記飛行経路を前記法線に補正するための光量バランスにすることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１つに記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記ヘッド本体の発熱部と、前記照射部の少なくともいずれか一方を冷却する冷却部を有することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一つに記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記所定方向は、少なくとも前記複数のノズルの配列方向と前記配列方向と交差する方向のいずれか一方であることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項１３】
液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記液滴吐出ヘッドと対象物とを所定方向に相対移動して前記液滴吐出ヘッドを駆動制御する制御手段とを備える液滴吐出装置であって、
前記液滴吐出ヘッドは、
前記対象物に対向する面と、前記面に配列されて前記対象物上の対向する各位置に向けて前記液滴を吐出する複数のノズルとを有するヘッド本体と、前記面に設けられて前記各位置から前記所定方向に延びる経路を挟んで両側に、それぞれ前記経路に沿って光を照射する照射部とを有し、
前記制御手段は、
前記各位置の中から選択される選択位置に向けて前記液滴を吐出させるときに、前記選択位置から延びる前記経路を挟んで両側に、それぞれ前記照射部からの光を照射させることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の液滴吐出装置であって、
前記照射部は、
前記面に実装される複数の面発光レーザを有し、
前記複数の面発光レーザの各々は、
前記各ノズルから所定方向に延びる直線を挟んで両側に配設されることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の液滴吐出装置であって、
前記複数の面発光レーザの各々は、
前記所定方向に配列されて前記経路に沿う前記光を列ごとに形成することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の液滴吐出装置であって、
前記所定方向は、
前記複数のノズルの配列方向と交差する方向であり、
前記複数の面発光レーザの各々は、
前記各ノズルから所定方向に延びる各直線を挟んで両側に配設されることにより前記各位置に対応付けられて、
前記制御手段は、
前記複数のノズルの中から前記選択位置に対向するノズルを選択するための選択信号を生成する選択信号生成部を有し、前記選択信号に基づいて前記選択位置に対向する前記ノズルを選択駆動するとともに、前記選択信号を用いて前記選択位置に対応する前記面発光レーザを選択駆動することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の液滴吐出装置であって、
前記制御手段は、
前記液滴の吐出タイミングを示すタイミング信号を生成するタイミング信号生成部と、
前記タイミング信号から所定時間だけ遅延する遅延信号を生成する遅延信号生成部とを有し、
前記タイミング信号に基づいて前記ノズルを駆動するとともに、前記遅延信号を用いて前記面発光レーザを駆動することを特徴とする液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
低温焼成セラミックス（ＬＴＣＣ：Low Temperature Co-fired Ceramics ）からなる多層基板は、優れた高周波特性と高い耐熱性を有するため、高周波モジュールの基板やＩＣパッケージの基板等に広く利用される。ＬＴＣＣ多層基板の製造方法では、一般に、金属インクを用いてグリーンシートの上に回路パターンを描画する工程と、複数のグリーンシートを積層して一括焼成する工程とが実施される。
【０００３】
回路パターンを描画する工程においては、回路パターンの高密度化を図るため、金属インクを微小な液滴にして吐出する、いわゆるインクジェット法が提案されている（例えば、特許文献１）。インクジェット法は、１滴の容量が数〜数十ピコリットルの多数の液滴を用いて回路パターンを描画する。インクジェット法は、この液滴の吐出位置を変更することによって、回路パターンの微細化や狭ピッチ化を可能にする。しかし、液滴からなる回路パターンが乾燥炉で乾燥されると、グリーンシートの全体に加熱処理が施されるため、回路パターンやグリーンシートに与える熱的負荷が増大してしまう。
【０００４】
そこで、インクジェット法においては、従来から、上記の問題を解決するための提案がなされている。特許文献２〜４は、それぞれ液滴を吐出する液滴吐出ヘッドにレーザ照射部を設け、レーザ照射部が液滴にレーザ光を照射することによって液滴を瞬時に乾燥させる。レーザ照射部からのレーザ光は、液滴の領域にのみ熱量を供給する。このため、特許文献２〜４は、回路パターンやグリーンシートの熱的損傷を大幅に軽減できる。こうしたレーザ照射部の製造方法としては、格子整合の基板の上に面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：Vertical Cavity Surface Emitting Laser ）を形成し、その後、該面発光レーザを基板の
上から切り離して他の基板に貼り付ける提案がある（例えば、特許文献５）。これによれば、レーザ照射部と格子不整合の基材が、レーザ照射部を搭載することができる。また、レーザ照射部に要する光学部材の製造方法としては、レーザ照射部の出射面の上にインクジェット法を用いてマイクロレンズを形成する提案がある（例えば、特許文献６）。これによれば、面発光レーザからのレーザ光の放射角や波長が、より高い精度の下で制御される。
【特許文献１】特開２００５−５７１３９号公報
【特許文献２】特開２００６−２４７５２９号公報
【特許文献３】特開２００６−２４８１８９号公報
【特許文献４】特開２００６−２４７６２２号公報
【特許文献５】特開２００３−１９７８８１号公報
【特許文献６】特開２００４−１１９５８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
インクジェット法は、所望する形状の回路パターンを描画するために、対象物と液滴吐出ヘッドとを相対移動させる。対象物上の液滴は、対象物と液滴吐出ヘッドとが相対移動する、すなわち液滴とレーザ照射部とが相対移動する分だけ、レーザ光のスポットを瞬時に通過し、レーザ光の照射時間を短くしてしまう。
【０００６】
液滴吐出ヘッドに搭載されるノズルは、その形成ピッチが数十〜数百μｍである。レーザ光のスポットサイズは、レーザ光を液滴ごとに照射するため、ノズルの形成ピッチと略
同じサイズに形成されなければならない。このため、レーザ光の照射時間は、レーザ光のスポットサイズが小さくなる分だけ、さらに短くしてしまう。
【０００７】
この結果、特許文献２〜４においては、基板上の液滴が、レーザ光の照射不足によって基板の面方向に濡れ広がり、回路パターンの線幅を所望のサイズから拡大させてしまう。終には、隣接するパターンが短絡してしまう。なお、こうした照射時間の短縮化に伴う問題は、レーザ光のエネルギーを増大させることによって解決可能と考えられる。しかし、高いエネルギーのレーザ光が数〜数十ピコリットルの液滴に照射されると、液滴は瞬時に突沸して近傍の回路パターンを消失させてしまう。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液滴の濡れ広がりを抑えることによって液滴からなるパターンの加工精度を向上する液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の液滴吐出ヘッドは、対象物と対向する面を有するヘッド本体と、前記面に配列されて前記対象物上の各位置に向けて液滴を吐出する複数のノズルと、前記面に設けられて前記対象物に向けて光を照射する照射部とを備える液滴吐出ヘッドであって、前記照射部は、前記各位置から所定方向に延びる経路を挟んで両側に、それぞれ前記経路に沿って前記光を照射する。
【００１０】
本発明の液滴吐出ヘッドによれば、対象物の各位置に着弾する液滴は、経路上を移動するときに、該経路の両側で該経路に沿う光を受ける。したがって、液滴吐出ヘッドは、経路上に着弾する液滴の濡れ広がりを、光の光圧、光による液滴の蒸発等によって、該経路上に抑制することができる。この結果、液滴吐出ヘッドは、液滴の濡れ広がりを抑えることによって液滴の乾燥状態を安定化することができる。そのため、液滴吐出ヘッドは、所定方向に延びるパターンの加工精度を向上することができる。
【００１１】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記光はレーザ光であり、前記照射部は、前記面に実装され、前記レーザ光を照射する複数の面発光レーザを有し、前記複数の面発光レーザの各々は、前記各ノズルから所定方向に延びる直線を挟んで両側に配設される。
【００１２】
この液滴吐出ヘッドによれば、面発光レーザの出射面とノズルの形成面とが略面一である。また、各面発光レーザが直線を挟んで両側に配設されるため、経路を挟んで両側の領域と、各面発光レーザとの間の距離が、最短距離によって構成できる。したがって、液滴吐出ヘッドは、対象物と液滴吐出ヘッドとの間の距離を広げることなく、対象物と液滴吐出ヘッドとの間に照射部を設けることができる。この結果、液滴吐出ヘッドは、液滴の着弾精度を維持することができ、かつ、経路と光との間に、高い位置整合性を与えることができる。よって、液滴吐出ヘッドは、液滴の濡れ広がりを、より確実に抑えることができ、これによって、パターンの加工精度をさらに向上することができる。
【００１３】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記複数の面発光レーザの各々は、前記所定方向に配列されて前記経路に沿う前記光を列ごとに形成する。
この液滴吐出ヘッドによれば、面発光レーザを所定方向に配列する分だけ、液滴Ｄの濡れ広がりが、長時間にわたって抑制される。この結果、液滴吐出ヘッドは、液滴の濡れ広がりを、より確実に抑えることができ、これによって、パターンの加工精度をさらに向上することができる。
【００１４】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記照射部は、前記列ごとに光を集光させて前記経路に沿う前記光を形成する第一光学系を有する。
この液滴吐出ヘッドによれば、経路に沿う光は、面発光レーザの列ごとに集光されて形成される。そのため、液滴吐出ヘッドは、経路と光との間に、より高い位置整合性を与えることができる。よって、液滴吐出ヘッドは、液滴からなるパターンの加工精度を、さらに向上することができる。
【００１５】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記第一光学系は、前記列ごとに設けられて前記所定方向に沿って延びるシリンドリカルレンズであっても良い。
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記シリンドリカルレンズは、インクジェット法を用いて形成されても良い。
【００１６】
この液滴吐出ヘッドによれば、インクジェット法に用いるノズルピッチによって、シリンドリカルレンズの形成ピッチが規定される。したがって、シリンドリカルレンズと面発光レーザとが、より高い位置整合性を有する。そのため、液滴吐出ヘッドは、液滴からなるパターンの加工精度を、さらに向上することができる。
【００１７】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記第一光学系は、前記所定方向に沿って延びるプリズムである。
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記照射部は、前記面発光レーザからの光の一部を偏向して、前記光の一部を前記経路に照射する第二光学系を有する。
【００１８】
この液滴吐出ヘッドによれば、第二光学系は、光の一部を利用して経路を照射するため、経路上にある液滴を経路上に定着させることができ、また、経路外にある液滴を経路に向けて流動させることができる。したがって、液滴吐出ヘッドは、液滴の濡れ広がりを、液滴の中心部と縁部の双方で抑えるため、パターンの加工精度を、さらに向上することができる。
【００１９】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記照射部は、前記面発光レーザからの光の一部を偏向して、前記ノズルを含む前記面の法線を挟んで両側に、それぞれ前記光の一部を照射する第三光学系を有する。
【００２０】
この液滴吐出ヘッドによれば、第三光学系が、ノズルを含む法線を挟んで両側に、それぞれ光を照射する。このため、液滴吐出ヘッドは、液滴の飛行経路を、一対の光の間に制限することができる。したがって、液滴吐出ヘッドは、吐出直後の液滴を所望の位置に定着できるため、液滴からなるパターンの加工精度を、さらに向上することができる。
【００２１】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記直線を挟んで両側に配設される複数の面発光レーザの各々は、予め計測される前記液滴の飛行経路に基づいて、前記法線を挟んで両側に照射する各光の光量を、前記飛行経路を前記法線に補正するための光量バランスにする。
【００２２】
この液滴吐出ヘッドによれば、法線を挟んで両側の各光が、液滴の飛行経路を法線に補正する。したがって、液滴吐出ヘッドは、液滴の飛行曲がりを、より確実に解消させることができて、液滴からなるパターンの加工精度を、さらに向上することができる。
【００２３】
この液滴吐出ヘッドにおいては、前記ヘッド本体の発熱部と、前記照射部の少なくともいずれか一方を冷却する冷却部を有する。
この液滴吐出ヘッドによれば、ヘッド本体と照射部とが熱的に安定するため、液滴の吐出動作と光の照射動作とが安定する。したがって、液滴吐出ヘッドは、高い再現性の下で、液滴からなるパターンの加工精度を向上することができる。
【００２４】
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記所定方向は、少なくとも前記複数のノズルの配列方
向と前記配列方向と交差する方向のいずれか一方である。
この液滴吐出ヘッドによれば、液滴の濡れ広がりが、ノズルの配列方向と、ノズルの配列方向と交差する方向とにおいて抑制される。したがって、液滴吐出ヘッドは、ノズルの配列方向に延びる線パターンと、ノズルの配列方向と直交する方向に延びる線パターンとを、より高い加工精度の下で形成することができる。
【００２５】
本発明の液滴吐出装置は、液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記液滴吐出ヘッドと対象物とを所定方向に相対移動して前記液滴吐出ヘッドを駆動制御する制御手段とを備える液滴吐出装置であって、前記液滴吐出ヘッドは、前記対象物に対向する面と、前記面に配列されて前記対象物上の対向する各位置に向けて前記液滴を吐出する複数のノズルとを有するヘッド本体と、前記面に設けられて前記各位置から前記所定方向に延びる経路を挟んで両側に、それぞれ前記経路に沿って光を照射する照射部とを有し、前記制御手段は、前記各位置の中から選択される選択位置に向けて前記液滴を吐出させるときに、前記選択位置から延びる前記経路を挟んで両側に、それぞれ前記照射部からの光を照射させる。
【００２６】
本発明の液滴吐出装置によれば、対象物の各位置に着弾する液滴は、経路上を移動するときに、該経路の両側で該経路に沿う光を受ける。したがって、液滴吐出装置は、着弾する液滴の濡れ広がりを、光の光圧、光による液滴の蒸発等によって、該経路上に抑制することができる。この結果、液滴吐出装置は、液滴の濡れ広がりを抑えることによって液滴の乾燥状態を安定化することができる。そのため、液滴吐出装置は、所定方向に延びるパターンの加工精度を向上することができる。
【００２７】
この液滴吐出装置において、前記照射部は、前記面に実装される複数の面発光レーザを有し、前記複数の面発光レーザの各々は、前記各ノズルから所定方向に延びる直線を挟んで両側に配設される。
【００２８】
この液滴吐出装置によれば、面発光レーザの出射面とノズルの形成面とが略面一である。また、各面発光レーザが直線を挟んで両側に配設されるため、経路を挟んで両側の領域と、各面発光レーザとの間の距離が、最短距離によって構成できる。したがって、液滴吐出装置は、対象物と液滴吐出ヘッドとの間の距離を広げることなく、対象物と液滴吐出ヘッドとの間に照射部を設けることができる。この結果、液滴吐出装置は、液滴の着弾精度を維持することができ、かつ、経路と光との間に、高い位置整合性を与えることができる。よって、液滴吐出装置は、液滴の濡れ広がりを、より確実に抑えることができ、これによって、パターンの加工精度をさらに向上することができる。
【００２９】
この液滴吐出装置において、前記複数の面発光レーザの各々は、前記所定方向に配列されて前記経路に沿う前記光を列ごとに形成する。
この液滴吐出装置によれば、面発光レーザを所定方向に配列する分だけ、液滴Ｄの濡れ広がりが、長時間にわたって抑制される。この結果、液滴吐出装置は、液滴の濡れ広がりを、より確実に抑えることができ、これによって、パターンの加工精度をさらに向上することができる。
【００３０】
この液滴吐出装置において、前記所定方向は、前記複数のノズルの配列方向と交差する方向であり、前記複数の面発光レーザの各々は、前記各ノズルから所定方向に延びる各直線を挟んで両側に配設されることにより前記各位置に対応付けられて、前記制御手段は、前記複数のノズルの中から前記選択位置に対向するノズルを選択するための選択信号を生成する選択信号生成部を有し、前記選択信号に基づいて前記選択位置に対向する前記ノズルを選択駆動するとともに、前記選択信号を用いて前記選択位置に対応する前記面発光レーザを選択駆動する。
【００３１】
この液滴吐出装置によれば、各ノズルと各面発光レーザとが、それぞれ共通する選択信号に基づいて選択駆動される。したがって、液滴吐出装置は、液滴の両側を挟むために面発光レーザを、より確実に選択駆動できる。この結果、液滴吐出装置は、液滴の周囲に向けて光を確実に照射できるため、液滴の濡れ広がりを確実に抑えることができる。
【００３２】
この液滴吐出装置において、前記制御手段は、前記液滴の吐出タイミングを示すタイミング信号を生成するタイミング信号生成部と、前記タイミング信号から所定時間だけ遅延する遅延信号を生成する遅延信号生成部とを有し、前記タイミング信号に基づいて前記ノズルを駆動するとともに、前記遅延信号を用いて前記面発光レーザを駆動すること。
【００３３】
この液滴吐出装置によれば、各ノズルと各面発光レーザとが、それぞれタイミング信号と、該タイミング信号から遅延する遅延信号とに基づいて駆動される。したがって、液滴吐出装置は、液滴の吐出動作の所定時間後に、該液滴に対する濡れ広がりを抑えることができる。この結果、液滴吐出装置は、液滴の濡れ広がりを、より高い再現性の下で抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
（第一実施形態）
以下、本発明を具体化した第一実施形態を図１〜図５に従って説明する。図１は、液滴吐出装置１０の全体を示す斜視図である。
【００３５】
図１において、液滴吐出装置１０は、一つの方向に延びる基台１１と、基台１１の上に搭載されて基板Ｓを載置するステージ１２とを有する。ステージ１２は、基板Ｓの一つの面を上に向けた状態で基板Ｓを位置決め固定して、基台１１の長手方向に沿って基板Ｓを搬送する。基板Ｓとしては、グリーンシート、ガラス基板、シリコン基板、セラミック基板、樹脂フィルム、紙等の各種の基板が用いられる。
【００３６】
本実施形態においては、基板Ｓの上面を吐出面ＳＡという。また、基板Ｓが搬送される方向であって、図１において左上方向に向かう方向を＋Ｙ方向という。また、＋Ｙ方向と直交する方向であって、図１において右上方向に向かう方向を＋Ｘ方向とし、基板Ｓの法線方向をＺ方向という。
【００３７】
液滴吐出装置１０は、基台１１を跨ぐ門型のガイド部材１３と、ガイド部材１３の上側に配設されるインクタンク１４とを有する。インクタンク１４は、所定のインクＩｋを貯留するとともに、貯留するインクＩｋを所定の圧力で導出する。インクＩｋとしては、銀微粒子を含む銀インク、ＩＴＯ（Indiumu Tin Oxide ）微粒子を含むＩＴＯインク、顔料を含む顔料インク等の各種のインクが用いられる。
【００３８】
ガイド部材１３は、キャリッジ１５を＋Ｘ方向及び＋Ｘ方向の反対方向（−Ｘ方向）に沿って移動可能に支持する。キャリッジ１５は、液滴吐出ヘッド２０を搭載して＋Ｘ方向及び−Ｘ方向に沿って移動した後に、液滴吐出ヘッド２０を所定の位置に位置決めする。なお、基板Ｓを＋Ｙ方向に搬送する動作を主走査とし、液滴吐出ヘッド２０を＋Ｘ方向及び−Ｘ方向に搬送する動作を副走査という。
【００３９】
次に、液滴吐出ヘッド２０について以下に説明する。図２は、液滴吐出ヘッド２０をステージ１２から見た斜視図である。図３（ａ）は、液滴吐出ヘッド２０を＋Ｘ方向から見た側断面図であって、液滴吐出ヘッド２０の液滴吐出動作を示す図である。図３（ｂ）は、液滴吐出ヘッド２０のノズルＮ及びレーザＬＤを吐出面ＳＡから見た平面図である。
【００４０】
図２において、液滴吐出ヘッド２０は、＋Ｘ方向に延びるヘッド基板２１と、ヘッド基
板２１に支持されるヘッド本体２２とを有する。ヘッド基板２１は、キャリッジ１５に位置決め固定されることにより＋Ｘ方向及び−Ｘ方向に沿って移動する。ヘッド基板２１は、その一側端に入力端子２１ａを有するとともに、入力端子２１ａに入力される駆動波形信号をヘッド本体２２に出力する。
【００４１】
ヘッド本体２２は、基板Ｓと対向する側にノズルプレート２２Ａとレーザプレート２２Ｂとを有する。ノズルプレート２２Ａは，液滴吐出ヘッド２０が基板Ｓと対向するとき、吐出面ＳＡと略平行に配置されることによって、ノズルプレート２２Ａと吐出面ＳＡとの間の距離を所定の距離に保持する。なお、本実施形態においては、ノズルプレート２２Ａと吐出面ＳＡとの間の距離を、プラテンギャップという。プラテンギャップは、例えば数百μｍであり、十分に短い距離に設定されることによって、液滴の着弾位置の精度を向上させる。
【００４２】
ノズルプレート２２Ａは、その＋Ｘ方向の略全幅にわたってｉ個（ｉは２以上の整数）のノズルＮを有する。各ノズルＮは、それぞれＺ方向に沿ってノズルプレート２２Ａに貫通形成されるとともに、＋Ｘ方向に沿って所定のピッチで配列される。ノズルプレート２２Ａは、このｉ個のノズルＮによって一列のノズル列ＣＮを形成する。例えば、ノズルプレート２２Ａは、＋Ｘ方向に沿って１４１μｍのピッチで配列される１８０個のノズルＮによって１列のノズル列ＣＮを形成する。
【００４３】
本実施形態においては、各ノズルＮに関して、最も＋Ｘ方向のノズルＮから順に、それぞれ第一ノズルＮ１、第二ノズルＮ２、…、第ｉノズルＮｉという。
図３において、ヘッド本体２２は、各ノズルＮの上側にそれぞれキャビティ２３と、振動板２４と、圧力発生素子としての圧電素子ＰＺを有する。各キャビティ２３は、それぞれ共通するインクタンク１４に接続されることによってインクタンク１４からのインクＩｋを収容し、そのインクＩｋをノズルＮに供給する。振動板２４は、各キャビティ２３に対向する領域をＺ方向に振動することにより、該キャビティ２３の容積を拡大及び縮小させて、これに伴ってノズルＮのメニスカスを振動させる。
【００４４】
本実施形態においては、各圧電素子ＰＺに関して、第一ノズルＮ１、第二ノズルＮ２、…、第ｉノズルＮｉに対応付けられる圧電素子ＰＺを、それぞれ第一圧電素子ＰＺ１、第二圧電素子ＰＺ２、…、第ｉ圧電素子ＰＺｉという。
【００４５】
各圧電素子ＰＺは、それぞれ駆動波形信号を受けるとき、Ｚ方向に収縮して伸張することにより、振動板２４の各領域をＺ方向に振動させる。各キャビティ２３は、それぞれ振動板２４がＺ方向に振動するとき、収容するインクＩｋの一部を所定重量の液滴ＤにしてノズルＮから吐出させる。例えば、各キャビティ２３は、それぞれ収容する水系の金属インクの一部を１滴あたり１０ｎｇの液滴Ｄにして吐出させる。
【００４６】
本実施形態においては、吐出面ＳＡ上の位置であって各ノズルＮの直下にある位置を、それぞれ吐出位置Ｐという。また、吐出位置Ｐを通り＋Ｙ方向に延びる仮想経路を、それぞれ吐出経路Ｒという。
【００４７】
図３（ｂ）において、吐出面ＳＡは、一点鎖線で示すドットパターン格子によって仮想分割される。ドットパターン格子は、その＋Ｙ方向の格子間隔と＋Ｘ方向の格子間隔とがそれぞれ液滴Ｄの吐出間隔によって規定される。例えば、＋Ｙ方向における吐出間隔は、液滴Ｄの吐出周波数と基板Ｓの主走査速度とによって規定される。また、＋Ｘ方向の吐出間隔は、例えばノズルＮの形成ピッチによって規定される。液滴Ｄを吐出するか否かの選択は、このドットパターン格子の格子点Ｔ０ごとに規定される。本実施形態においては、液滴Ｄの吐出動作が選択される格子点Ｔ０を目標点Ｔ１という。
【００４８】
液滴Ｄの吐出処理を実行するとき、＋Ｙ方向に配列される一群の格子点Ｔ０の上には、副走査による液滴吐出ヘッド２０の位置決め動作によって、共通する一つの吐出経路Ｒがセットされる。一つの吐出経路Ｒの上にある一群の格子点Ｔ０は、基板Ｓの主走査によって、それぞれ吐出経路Ｒにある一つの吐出位置Ｐを通過する。すなわち、＋Ｙ方向に配列される一群の目標点Ｔ１は、それぞれ液滴吐出ヘッド２０の副走査と基板Ｓの主走査とによって、共通する一つの吐出位置Ｐと共通する一つの吐出経路Ｒに対応付けられる。
【００４９】
目標点Ｔ１が吐出位置Ｐに位置するとき、この吐出位置Ｐは、液滴Ｄを吐出する位置として選択される。この吐出位置Ｐに対向するノズルＮは、該ノズルＮに対応する圧電素子ＰＺに駆動波形信号を受けることによって液滴Ｄを吐出する。吐出される液滴Ｄは、該ノズルＮに対向する吐出位置Ｐ、すなわち目標点Ｔ１に着弾する。各目標点Ｔ１に着弾する液滴Ｄは、それぞれ吐出面ＳＡの面方向に沿って濡れ広がり、隣接する液滴Ｄと合一することによって連続する線パターンＦを形成する。例えば、＋Ｙ方向に配列される一群の格子点Ｔ０が目標点Ｔ１として選択される場合、図３（ｂ）に示すように、各目標点Ｔ１に着弾する液滴Ｄは、吐出経路Ｒに沿って延びる帯状の線パターンＦを形成する。なお、図３においては、線パターンＦの領域にグラデーションを付して示す。
【００５０】
図２において、レーザプレート２２Ｂは，液滴吐出ヘッド２０が基板Ｓと対向するとき、ノズルプレート２２Ａと同じく、吐出面ＳＡと略平行に配置されることによって、レーザプレート２２Ｂと吐出面ＳＡとの間の距離をプラテンギャップに保持する。すなわち、ノズルプレート２２Ａとレーザプレート２２Ｂとは、各々の底面が略面一になるように配設される。これによって、ノズルプレート２２Ａとレーザプレート２２Ｂとは、吐出面ＳＡと対向する共通の仮想面をヘッド本体２２の底部に形成する。
【００５１】
レーザプレート２２Ｂは、その内部の全体にわたって、冷却水等の冷却媒体を循環させるための冷却部としての流路２５を有する。レーザプレート２２Ｂは、循環する冷却媒体の熱交換によって、ヘッド本体２２の発熱部（例えば、各圧電素子ＰＺやヘッド駆動回路）とレーザＬＤを冷却し、ヘッド本体２２の温度を所定の温度に維持する。レーザプレート２２Ｂとしては、ステンレスやアルミニウム等の熱伝導性の高い材料が用いられる。
【００５２】
レーザプレート２２Ｂは、その底面の全体にわたって二次元に配列される複数のレーザＬＤを有する。本実施形態においては、＋Ｘ方向に沿って配列されるｉ個のレーザＬＤをレーザ列とし、＋Ｙ方向に沿って配列されるｊ個（ｊは２以上の整数：図２においてはｊ＝３）のレーザＬＤをガイド群という。また、ノズル列ＣＮに最も近いレーザ列から順に、第一列ＣＬ１、第二列ＣＬ２、第三列ＣＬ３、…という。また、第一ノズルＮ１に対応付けられるガイド群を第一ガイド群ＲＬ１、第二ノズルに対応付けられるガイド群を第二ガイド群ＲＬ２、…、第ｉノズルＮｉに対応付けられるガイド群を第ｉガイド群ＲＬｉという。
【００５３】
図３（ｂ）において、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，ＲＬ３，…、ＲＬｉは、それぞれ＋Ｙ方向から見て、複数のノズルＮの各々を挟んで両側に配設される。一対のガイド群は、それぞれ対応するノズルＮに基づいて共通する一つのノズルＮと共通する一つの吐出経路Ｒに対応付けられる。
【００５４】
例えば、一対の第一ガイド群ＲＬ１は、それぞれ第一ノズルＮ１に対向する一つの吐出位置Ｐと、第一ノズルＮ１に対応する一つの吐出経路Ｒに対応付けられる。一対の第ｉガイド群ＲＬｉは、それぞれ第ｉノズルＮｉに対向する一つの吐出位置Ｐと、第ｉノズルＮｉに対応する一つの吐出経路Ｒに対応付けられる。なお、図２においては、レーザＬＤの配置位置を説明するため、その数量を省略して示す。
【００５５】
各レーザＬＤは、それぞれインクＩｋの吸収波長（例えば、８５０ｎｍ）のレーザ光Ｂを所定のエネルギーで吐出面ＳＡ上に照射する。レーザ光Ｂのエネルギーは、予め試験等に基づいて設定されるものであり、レーザ光Ｂの領域に向けて流動するインクＩｋをレーザ光Ｂの領域から遠ざけるエネルギーである。例えば、レーザ光Ｂは、インクＩｋに与える光圧によって、レーザ光Ｂの領域に進入するインクＩｋをレーザ光Ｂの領域から遠ざける。あるいは、レーザ光Ｂは、インクＩｋの一部を蒸発させることによって、レーザ光Ｂの領域に進入するインクＩｋをレーザ光Ｂの領域から遠ざける。
【００５６】
各レーザＬＤとしては、例えば上記仮想面と略平行の出射面を有する面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：Vertical Cavity Surface Emitting Laser ）が用いられる。これによれば、
各レーザＬＤのＺ方向の厚みがプラテンギャップに比べて十分に薄いため、液滴吐出ヘッド２０は、プラテンギャップを拡張することなく、各レーザＬＤを搭載することができる。
【００５７】
面発光レーザの製造方法としては、例えば特許文献５に開示される技術が用いられる。すなわち、各面発光レーザが、まず、格子整合の基板上に形成されて、その後に該基板から剥離される。そして、剥離された各面発光レーザがレーザプレート２２Ｂに貼り付けられることによって、各レーザＬＤが形成される。これによれば、各レーザＬＤは、それぞれレーザプレート２２Ｂの材料に関して広い選択範囲を得ることができる。
【００５８】
図３において、各レーザＬＤは、それぞれ所定の駆動信号を受けるとき、対向する吐出面ＳＡ上の領域にレーザ光Ｂを照射する。一対のガイド群は、それぞれ対応するノズルＮ、すなわち対応する吐出経路Ｒを挟む両側に、それぞれ吐出経路Ｒに沿ってレーザ光Ｂを照射する。
【００５９】
例えば、一対の第一ガイド群ＲＬ１は、第一ノズルＮ１に対応する吐出経路Ｒを挟む両側に、それぞれ吐出経路Ｒに沿ってレーザ光Ｂを照射する。一対の第ｉガイド群ＲＬｉは、第ｉノズルＮｉに対応する吐出経路Ｒを挟む両側に、それぞれ吐出経路Ｒに沿ってレーザ光Ｂを照射する。本実施形態においては、一対の第一ガイド群ＲＬ１、一対の第二ガイド群ＲＬ２、…、一対の第ｉガイド群ＲＬｉからのレーザ光Ｂを、それぞれ第一ガイド光、第二ガイド光、…、第ｉガイド光という。
【００６０】
液滴Ｄの吐出処理を実行するとき、目標点Ｔ１に着弾する液滴Ｄは、吐出面ＳＡの面方向に沿って濡れ広がりながら、基板Ｓの主走査によって、対応する吐出経路Ｒの上を移動する。吐出経路Ｒの上を移動する液滴Ｄは、その＋Ｘ方向と−Ｘ方向の両方向をガイド光によって挟まれる。ガイド光に挟まれる液滴Ｄは、その＋Ｘ方向と−Ｘ方向への濡れ広がりをレーザ光Ｂによって抑えられる。
【００６１】
例えば、＋Ｙ方向に沿う複数の目標点Ｔ１が、第三ノズルＮ３に対応する吐出経路Ｒの上にあるとき、各目標点Ｔ１に着弾する液滴Ｄは、それぞれ＋Ｘ方向と−Ｘ方向の両方向を第三レーザ光によって挟まれる。第三レーザ光に挟まれる各液滴Ｄは、それぞれ＋Ｘ方向と−Ｘ方向への濡れ広がりを第三レーザ光によって抑えられる。この結果、各目標点Ｔ１の液滴Ｄは、それぞれ＋Ｘ方向と−Ｘ方向への濡れ広がりを抑制されながら乾燥を開始し、各々の＋Ｙ方向と−Ｙ方向で合一して定着する。これによって、液滴吐出装置１０は、＋Ｙ方向に延びる細い線パターンＦを形成する。
【００６２】
したがって、液滴吐出装置１０は、液滴Ｄの濡れ広がりをレーザ光によって抑える分だけ、線パターンＦの線幅を細くすることができ、ひいてはパターンの加工精度を向上することができる。
【００６３】
次に、液滴吐出装置１０の電気的構成について図４及び図５に従って説明する。図４は、液滴吐出装置１０の電気的構成を示すブロック回路図であり、図５は、制御手段を構成するヘッド駆動回路の電気的構成を示すブロック回路図である。なお、図４及び図５においては、液滴吐出装置１０が３列のレーザ列を有する構成を示す。
【００６４】
図４において、制御手段を構成する制御装置３０は、液滴吐出装置１０に各種の処理動作を実行させる。制御装置３０は、ＣＰＵ等からなる制御部３１と、ＤＲＡＭ及びＳＲＡＭを含み各種のデータを格納するＲＡＭ３２と、各種制御プログラムを格納するＲＯＭ３３とを有する。また、制御装置３０は、クロック信号を生成する発振回路３４と、駆動波形信号を生成する駆動波形生成回路３５と、各種の信号を受信する外部Ｉ／Ｆ３６と、各種の信号を送信する内部Ｉ／Ｆ３７とを有する。
【００６５】
制御装置３０は、外部Ｉ／Ｆ３６を介して入出力装置３８に接続される。また、制御装置３０は、内部Ｉ／Ｆ３７を介してモータ駆動回路３９及びヘッド駆動回路４０に接続される。
【００６６】
入出力装置３８は、例えばＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスク、液晶ディスプレイ等を有する外部コンピュータである。入出力装置３８は、液滴吐出装置１０を駆動させるための各種の制御信号を外部Ｉ／Ｆ３６に出力する。外部Ｉ／Ｆ３６は、線パターンＦを形成するための膜パターンデータＩｐを入出力装置３８から受信する。膜パターンデータＩｐとは、基板Ｓの走査速度に関するデータ、液滴Ｄの吐出周期に関するデータ、格子点Ｔ０と目標点Ｔ１の座標に関するデータ等、液滴Ｄを吐出させるための各種のデータである。
【００６７】
ＲＡＭ３２は、受信バッファ、中間バッファ、出力バッファとして利用される。ＲＯＭ３３は、制御部３１が実行する各種の制御ルーチンと、その制御ルーチンを実行するための各種のデータとを格納する。
【００６８】
発振回路３４は、各種のデータや各種の駆動信号を同期させるためのクロック信号を生成する。発振回路３４は、例えば各種のデータをシリアル転送するための転送クロックＣＬＫを生成する。発振回路３４は、シリアル転送する各種のデータをパラレル変換するためのタイミング信号ＬＡＴを液滴Ｄの吐出周期で生成する。
【００６９】
駆動波形生成回路３５は、駆動波形信号ＣＯＭを生成するための波形データを所定のアドレスに対応させて格納する。駆動波形生成回路３５は、制御部３１が読み出す波形データを吐出周期のクロック信号ごとにラッチしてアナログ信号に変換し、さらにそのアナログ信号を増幅して駆動波形信号ＣＯＭを生成する。
【００７０】
外部Ｉ／Ｆ３６は、入出力装置３８からの膜パターンデータＩｐを受信してＲＡＭ３２に一時的に格納させて中間コードに変換する。制御部３１は、ＲＡＭ３２が格納する中間コードデータを読み出してドットパターンデータを生成する。ドットパターンデータとは、ドットパターン格子の格子点Ｔ０ごとに規定されるデータであって、該格子点Ｔ０が目標点Ｔ１であるか否かを関連づけるデータである。
【００７１】
制御部３１は、１回の主走査分に相当するドットパターンデータを生成すると、そのドットパターンデータを用いて転送クロックＣＬＫに同期するシリアルデータを生成し、そのシリアルデータを内部Ｉ／Ｆ３７を介してヘッド駆動回路４０にシリアル転送する。本実施形態においては、ドットパターンデータを用いて生成するシリアルデータを、シリアルパターンデータＳＩという。シリアルパターンデータＳＩは、液滴Ｄの吐出及び非吐出
を規定するためのビットの値を各圧電素子ＰＺに対応させるためのデータであって、液滴Ｄの吐出周期で生成されるデータである。
【００７２】
制御部３１は、内部Ｉ／Ｆ３７を介してモータ駆動回路３９に接続されて、モータ駆動回路３９に対応する駆動制御信号をモータ駆動回路３９に出力する。モータ駆動回路３９は、ステージ１２やキャリッジ１５を移動させるための各種のモータＭと、該モータＭの回転数と回転方向とを検出するためのエンコーダＥに接続される。モータ駆動回路３９は、制御部３１からの駆動制御信号に応答してモータＭを駆動制御し、これによってキャリッジ１５を用いる副走査とステージ１２を用いる主走査とを実行する。モータ駆動回路３９は、エンコーダＥからの検出信号を受けてステージ１２の移動方向や移動量、キャリッジ１５の移動方向や移動量を演算して制御装置３０に出力する。
【００７３】
制御装置３０は、ステージ１２の移動方向や移動量に基づいて一つの格子点Ｔ０が吐出位置Ｐに位置するか否かを判断する。制御装置３０は、該格子点Ｔ０が吐出位置Ｐに位置するときにタイミング信号ＬＡＴを出力する。また、制御装置３０は、タイミング信号ＬＡＴから所定時間だけ遅延する第一遅延信号ＤＳ１、第二遅延信号ＤＳ２、及び第三遅延信号ＤＳ３を出力する。
【００７４】
すなわち、制御装置３０は、ステージ１２の移動方向や移動量に基づいて、＋Ｙ方向に沿った一次元の座標系において、該格子点Ｔ０が第一列ＣＬ１の照射領域に進入するか否かを判断する。制御装置３０は、該格子点Ｔ０が第一列ＣＬ１の照射領域に進入するときに第一遅延信号ＤＳ１を出力する。
【００７５】
また、制御装置３０は、ステージ１２の移動方向や移動量に基づいて、＋Ｙ方向に沿った一次元の座標系において、該格子点Ｔ０が第二列ＣＬ２の照射領域に進入するか否かを判断する。制御装置３０は、該格子点Ｔ０が第二列ＣＬ２の照射領域に進入するときに第二遅延信号ＤＳ２を出力する。
【００７６】
また、制御装置３０は、ステージ１２の移動方向や移動量に基づいて、＋Ｙ方向に沿った一次元の座標系において、該格子点Ｔ０が第三列ＣＬ３の照射領域に進入するか否かを判断する。制御装置３０は、該格子点Ｔ０が第三列ＣＬ３の照射領域に進入するときに第三遅延信号ＤＳ３を出力する。
【００７７】
次に、ヘッド駆動回路４０について以下に説明する。図５において、ヘッド駆動回路４０は、選択信号生成部を構成するシフトレジスタ４１、制御信号生成部４２、レベルシフタ４３、圧電素子スイッチ４４を有する。また、ヘッド駆動回路４０は、第一遅延回路４５Ａ、第一レーザスイッチ４５、第二遅延回路４６Ａ、第二レーザスイッチ４６、第三遅延回路４７Ａ、及び第三レーザスイッチ４７を有する。
【００７８】
シフトレジスタ４１は、制御装置３０からの転送クロックＣＬＫを受けてシリアルパターンデータＳＩを順次シフトさせる。シフトレジスタ４１は、ノズルＮの数量に応じたビット数（本実施形態では１８０ビット）のシリアルパターンデータＳＩを格納する。
【００７９】
制御信号生成部４２は、制御装置３０からのタイミング信号ＬＡＴを受けてシフトレジスタ４１に格納されるシリアルパターンデータＳＩをラッチする。制御信号生成部４２は、ラッチするシリアルパターンデータＳＩをシリアル／パラレル変換して各ノズルＮに対応する１８０ビットのパラレルデータを生成し、該パラレルデータをレベルシフタ４３、第一遅延回路４５Ａ、第二遅延回路４６Ａ、及び第三遅延回路４７Ａに出力する。本実施形態においては、制御信号生成部４２が出力するパラレルデータを、選択信号としてのパラレルパターンデータＰＩという。
【００８０】
レベルシフタ４３は、制御信号生成部４２からのパラレルパターンデータＰＩを圧電素子スイッチ４４の駆動電圧レベルに昇圧して、各圧電素子ＰＺに関連付けられる１８０個の開閉信号を生成する。
【００８１】
圧電素子スイッチ４４は、複数の圧電素子ＰＺの各々に対応する１８０個のスイッチ素子を有する。各スイッチ素子の入力端には、それぞれ制御装置３０からの駆動波形信号ＣＯＭが入力されて、各スイッチ素子の出力端には、それぞれ対応する圧電素子ＰＺが接続される。各スイッチ素子は、それぞれ圧電素子ＰＺに関連付けられる開閉信号に応じて、該圧電素子ＰＺに駆動波形信号ＣＯＭを出力する。これによって、ヘッド駆動回路４０は、目標点Ｔ１が吐出位置Ｐに位置するとき、該吐出位置Ｐに対応する圧電素子ＰＺに駆動波形信号ＣＯＭを出力して該圧電素子ＰＺに液滴Ｄを吐出させる、すなわちドットパターンデータに応じた液滴吐出処理を実行させる。
【００８２】
第一遅延回路４５Ａは、制御装置３０からの第一遅延信号ＤＳ１を受けるとき、制御信号生成部４２からのパラレルパターンデータＰＩを用いて、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉに関連付けられる１８０個の開閉信号を生成する。
【００８３】
第一レーザスイッチ４５は、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉに対応する１８０個のスイッチ素子を有する。第一レーザスイッチ４５の各スイッチ素子は、それぞれ対応するガイド群に関連付けられる開閉信号に応じて、該ガイド群の中で第一列ＣＬ１にあるレーザＬＤに所定時間だけ駆動電流を供給する。なお、所定時間とは、＋Ｙ方向に沿った一次元の座標系において、一つの格子点Ｔ０が第一列ＣＬ１の照射領域に滞在する時間である。これによって、液滴Ｄが第一列ＣＬ１の領域に滞在する間、液滴吐出装置１０は、該液滴Ｄの＋Ｘ方向と−Ｘ方向にレーザ光Ｂを照射し、該液滴Ｄの濡れ広がりを抑える。
【００８４】
第二遅延回路４６Ａは、制御装置３０からの第二遅延信号ＤＳ２を受けるとき、制御信号生成部４２からのパラレルパターンデータＰＩを用いて、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉに関連付けられる１８０個の開閉信号を生成する。
【００８５】
第二レーザスイッチ４６は、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉに対応する１８０個のスイッチ素子を有する。第二レーザスイッチ４６の各スイッチ素子は、それぞれ対応するガイド群に関連付けられる開閉信号に応じて、該ガイド群の中で第二列ＣＬ２にあるレーザＬＤに所定時間だけ駆動電流を供給する。なお、所定時間とは、＋Ｙ方向に沿った一次元の座標系において、一つの格子点Ｔ０が第二列ＣＬ２の照射領域に滞在する時間である。これによって、液滴Ｄが第二列ＣＬ２の領域に滞在する間、液滴吐出装置１０は、該液滴Ｄの＋Ｘ方向と−Ｘ方向にレーザ光Ｂを照射し、該液滴Ｄの濡れ広がりを抑える。
【００８６】
第三遅延回路４７Ａは、制御装置３０からの第三遅延信号ＤＳ３を受けるとき、制御信号生成部４２からのパラレルパターンデータＰＩを用いて、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉに関連付けられる１８０個の開閉信号を生成する。
【００８７】
第三レーザスイッチ４７は、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉに対応する１８０個のスイッチ素子を有する。第三レーザスイッチ４７の各スイッチ素子は、それぞれ対応するガイド群に関連付けられる開閉信号に応じて、該ガイド群の中で第三列ＣＬ３にあるレーザＬＤに所定時間だけ駆動電流を供給する。なお、所定時間とは、＋Ｙ方向に沿った一次元の座標系において、一つの格子点Ｔ０が第三列ＣＬ３の照射領域に滞在する時間である。これによって、液滴Ｄが第三列ＣＬ３の領域に滞在する間、液滴吐出装置１０は、該液滴Ｄの＋Ｘ方向と−Ｘ方向にレーザ光Ｂを照射し、該液滴Ｄの濡れ広がりを抑える。この結果、各目標点Ｔ１の液滴Ｄは、第一列ＣＬ１から第三列ＣＬ３の領域で濡れ広がり
を抑制されながら乾燥し、各々の＋Ｙ方向と−Ｙ方向で合一して＋Ｙ方向に延びる細い線パターンＦを形成する。
【００８８】
次に、上記のように構成した第一実施形態の効果を以下に記載する。
（１）第一実施形態において、液滴吐出ヘッド２０は、＋Ｙ方向から見てノズルＮを挟んで両側に、それぞれ＋Ｙ方向に沿って配列されるガイド群を有する。吐出位置Ｐを通り＋Ｙ方向に延びる経路として吐出経路Ｒが規定されるとき、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉは、それぞれ各吐出経路Ｒを挟んで両側に、該吐出経路Ｒに沿ってガイド光を照射する。
【００８９】
したがって、液滴吐出ヘッド２０が液滴吐出処理を実行するとき、吐出位置Ｐに着弾する液滴Ｄは、その吐出経路Ｒの両側に、該吐出経路Ｒに沿うガイド光を受ける。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、着弾する液滴Ｄの濡れ広がりを、該吐出経路Ｒ上に抑制することができる。そのため、液滴吐出ヘッド２０は、液滴Ｄに濡れ広がりを抑えすることによって液滴Ｄの乾燥状態を安定化することができ、これによって、＋Ｙ方向に延びる線パターンＦの加工精度を向上することができる。
【００９０】
（２）第一実施形態において、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉは、それぞれレーザプレート２２Ｂの面に実装される面発光レーザであって、各レーザＬＤの出射面とノズルＮの形成面とが略面一である。したがって、液滴吐出ヘッド２０は、プラテンギャップを広げることなく、各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉを搭載できる。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、液滴Ｄの着弾精度を維持することができ、かつ、目標点Ｔ１とレーザ光との間に、高い位置整合性を与えることができる。よって、液滴吐出ヘッド２０は、液滴Ｄの濡れ広がりを、より確実に抑えることができ、線パターンＦの加工精度をさらに向上することができる。
【００９１】
（３）第一実施形態において、液滴吐出装置１０は、目標点Ｔ１に向けて液滴Ｄを吐出させるとき、該目標点Ｔ１に対応するガイド群を駆動することによって、該目標点Ｔ１を含む吐出経路Ｒを挟んで両側に、それぞれガイド光を照射させる。
【００９２】
したがって、液滴吐出処理を実行するとき、各目標点Ｔ１に着弾する液滴Ｄの濡れ広がりは、その＋Ｘ方向と−Ｘ方向において抑えられる。この結果、液滴吐出装置１０は、各液滴Ｄの濡れ広がりを抑えることによって、液滴Ｄの乾燥状態を安定化することができる。そのため、液滴吐出装置１０は、＋Ｙ方向に延びる線パターンＦの微小化や狭ピッチ化を可能にすることができる。
【００９３】
（４）第一実施形態において、ヘッド駆動回路４０は、目標点Ｔ１に対向するノズルＮを選択するためのパラレルパターンデータＰＩを生成し、パラレルパターンデータＰＩに基づいて各圧電素子ＰＺを選択駆動する。また、ヘッド駆動回路４０は、パラレルパターンデータＰＩを用いて、複数のガイド群の中から目標点Ｔ１に対応するガイド群を選択駆動する。
【００９４】
したがって、各圧電素子ＰＺと各ガイド群ＲＬ１，ＲＬ２，…，ＲＬｉとが、それぞれ共通するパラレルパターンデータＰＩに基づいて選択駆動される。そのため、液滴吐出装置１０は、液滴Ｄを吐出するノズルＮに対して、該ノズルＮに応じたレーザＬＤを、より確実に選択することができる。よって、液滴吐出装置１０は、各目標点Ｔ１の液滴Ｄに対して、より確実にガイド光を照射することができる。
【００９５】
（５）第一実施形態において、制御装置３０は、格子点Ｔ０が吐出位置Ｐに位置するときにタイミング信号ＬＡＴを生成する。また、制御装置３０は、該格子点Ｔ０が第一列Ｃ
Ｌ１の照射領域、第二列ＣＬ２の照射領域、及び第三列ＣＬ３の照射領域に進入するときに、それぞれ第一遅延信号ＤＳ１、第二遅延信号ＤＳ２、及び第三遅延信号ＤＳ３を出力する。ヘッド駆動回路４０は、制御装置３０からのタイミング信号ＬＡＴを受けてパラレルパターンデータＰＩを生成する。そして、ヘッド駆動回路４０は、パラレルパターンデータＰＩに基づいて各圧電素子ＰＺを選択駆動し、また各遅延信号ＤＳ１，ＤＳ２，ＤＳ３を受けるとき、該パラレルパターンデータＰＩに基づいて各レーザＬＤを選択駆動する。
【００９６】
したがって、タイミング信号ＬＡＴと各遅延信号ＤＳ１，ＤＳ２，ＤＳ３とが、共通する格子点Ｔ０の位置に関連付けられる。この結果、圧電素子ＰＺとガイド群の駆動タイミングが、共通する格子点Ｔ０の位置に関連付けられるため、液滴吐出装置１０は、液滴Ｄの濡れ広がりを、より高い再現性の下で抑えることができる。
（第二実施形態）
以下、本発明を具体化した第二実施形態を図６に従って説明する。第二実施形態は、第一実施形態の照射部を変更したものである。そのため、以下においては、その変更点について詳しく説明する。
【００９７】
図６において、一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉの出射面は、それぞれ＋Ｙ方向に延びる第一光学系としてのシリンドリカルレンズ５１を有する。各シリンドリカルレンズ５１は、それぞれ＋Ｙ方向から見て半球面状を呈する光学面を有する。一対のシリンドリカルレンズ５１は、それぞれ一対のガイド群がレーザ光Ｂを出射するとき、各レーザ光Ｂの放射角を狭くさせて、各レーザ光Ｂを吐出経路Ｒの両側に集光する。
【００９８】
これによって、液滴吐出ヘッド２０は、ガイド光の照射位置を、より高い精度の下で再現できる。なお、集光したガイド光のエネルギーは、ガイド光の領域に向けて流動するインクＩｋをガイド光の領域から遠ざけるエネルギーである。
【００９９】
吐出経路Ｒの上にある液滴Ｄは、＋Ｘ方向と−Ｘ方向に濡れ広がるときにガイド光を受けるため、その濡れ広がりを＋Ｙ方向と−Ｙ方向に制限される。液滴吐出ヘッド２０は、シリンドリカルレンズ５１を介するガイド光によって、液滴Ｄの濡れ広がりを、より高い位置精度の下で再現できる。したがって、液滴吐出ヘッド２０は、液滴Ｄの乾燥状態を、より高い位置精度の下で安定化することができる。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、＋Ｙ方向に延びる線パターンＦの加工精度を、さらに向上することができる。
【０１００】
シリンドリカルレンズ５１の製造方法としては、例えば特許文献６に開示される技術が用いられる。すなわち、ガイド群の形成ピッチと同じピッチのノズルを有する液滴吐出ヘッドによって、まず、ガイド群の各出射面と、該各出射面を繋ぐ位置に、それぞれレンズ材料の液滴が吐出される。これによって、ガイド群の各出射面の上に、共通する液状膜が形成される。そして、該液状膜が硬化されることによって、シリンドリカルレンズ５１が形成される。これによって、各シリンドリカルレンズ５１は、それぞれ各ノズルＮ及び各レーザＬＤに対して高い位置整合性を得られる。
【０１０１】
（６）上記第二実施形態によれば、各シリンドリカルレンズ５１が、それぞれレーザ光Ｂの放射角を狭くさせるため、液滴吐出ヘッド２０は、レーザ光Ｂの照射精度を向上させることができる。
【０１０２】
（７）上記第二実施形態によれば、各シリンドリカルレンズ５１が、それぞれレーザ光を集光させるため、液滴吐出ヘッド２０は、レーザ光Ｂのエネルギー密度を増大させることができる。したがって、液滴吐出ヘッド２０は、レーザ光Ｂの照射量の範囲を拡大させることができる。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、適用可能なインクＩｋの範囲を拡大
させることができる。
【０１０３】
（８）上記第二実施形態によれば、各シリンドリカルレンズ５１が、それぞれ各ガイド群の出射面を覆う。そのため、液滴吐出装置１０は、各レーザＬＤをインクＩｋや各種の溶剤等から保護することができる。この結果、液滴吐出装置１０は、レーザ光Ｂの光学特性を安定させることができる。
【０１０４】
（第三実施形態）
以下、本発明を具体化した第三実施形態を図７に従って説明する。第三実施形態は、第二実施形態の照射部を変更したものである。そのため、以下においては、その変更点について詳しく説明する。
【０１０５】
図７において、各シリンドリカルレンズ５１の光学面は、それぞれＺ方向から見て対応する吐出経路Ｒから遠くなる側に、第二光学系としての反射膜５２を有する。反射膜５２は、銀やアルミニウム等からなる薄膜であって、ガイド群からのレーザ光Ｂを受けて反射する。
【０１０６】
レーザＬＤから出射されるレーザ光Ｂは、Ｚ方向から見て該レーザＬＤを中心とする放射線状に進行する。すなわち、レーザＬＤから出射されるレーザ光Ｂは、Ｚ方向から見て該レーザＬＤに対応する吐出経路Ｒに近づく成分と、Ｚ方向から見て該レーザＬＤに対応する吐出経路Ｒから遠ざかる成分とを有する。本実施形態においては、吐出経路Ｒに近づく成分をガイド用成分とし、吐出経路Ｒから遠ざかる成分を、ブロー用成分という。
【０１０７】
一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉから出射されるレーザ光Ｂにおいて、各ガイド用成分は、第二実施形態と同じく、シリンドリカルレンズ５１を介することによって、吐出経路Ｒを挟んで両側に、それぞれ照射される。
【０１０８】
一方、一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉから出射されるレーザ光Ｂにおいて、各ブロー用成分は、それぞれ反射膜５２の反射によって、該ガイド群に対応する吐出経路Ｒに照射される。反射膜５２からのレーザ光Ｂは、その光圧等によって、該レーザ光の照射経路上にあるインクＩｋを、吐出経路Ｒに向けて流動させる。なお、図７においては、ブロー用成分の光路を説明するためにガイド用成分の光路を省略する。
【０１０９】
液滴Ｄが吐出経路Ｒの上にあるとき、該吐出経路Ｒに対応する一対のシリンドリカルレンズ５１は、一対のガイド用成分を、第一実施形態と同じく、該吐出経路Ｒを挟んで両側に、それぞれ照射する。これによって、液滴吐出ヘッド２０は、液滴Ｄの濡れ広がりを、一対のガイド光の間に抑える。
【０１１０】
液滴Ｄが吐出経路Ｒの上にあるとき、該吐出経路Ｒに対応する一対の反射膜５２は、それぞれブロー用成分を、該吐出経路Ｒに照射する。これによって、液滴吐出ヘッド２０は、吐出経路Ｒ上から濡れ広がる液滴Ｄを、再び吐出経路Ｒ上に向けて流動させる。
【０１１１】
（９）上記第三実施形態によれば、レーザＬＤから出射されるレーザ光Ｂは、そのガイド用成分によってガイド光を形成し、該ガイド光によって液滴Ｄの濡れ広がりを抑える。さらに、レーザＬＤから出射されるレーザ光Ｂは、そのブロー用成分を該吐出経路Ｒに照射することによって、液滴Ｄを該吐出経路Ｒの上に向けて流動させる。
【０１１２】
したがって、液滴吐出ヘッド２０は、吐出経路Ｒの上に着弾する液滴Ｄを、より確実に吐出経路Ｒの上に定着させることができる。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、線パターンＦの加工精度を、さらに向上することができる。
【０１１３】
（第四実施形態）
以下、本発明を具体化した第四実施形態を図８に従って説明する。第四実施形態は、第二実施形態の照射部を変更したものである。そのため、以下においては、その変更点について詳しく説明する。
【０１１４】
図８において、一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉの出射面は、それぞれ共通する第二光学系としての群用プリズム５３を有する。各群用プリズム５３は、例えば＋Ｙ方向に延びる三角プリズムであって、それぞれ一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉに対応する２つの斜面を有する。各群用プリズム５３は、それぞれ一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉがレーザ光Ｂを出射するとき、該レーザ光Ｂの光路を折り曲げて対向する吐出面ＳＡの領域に照射する。
【０１１５】
詳述すると、レーザＬＤから出射されるレーザ光Ｂは、Ｚ方向から見て該レーザＬＤを中心とする放射線状に進行する。すなわち、レーザＬＤから出射されるレーザ光Ｂは、Ｚ方向から見て該レーザＬＤに対応する吐出経路Ｒに近づく成分と、Ｚ方向から見て該レーザＬＤに対応する吐出経路Ｒから遠ざかる成分とを有する。本実施形態においては、吐出経路Ｒに近づく成分をガイド用成分とし、吐出経路Ｒから遠ざかる成分を、ブロー用成分という。
【０１１６】
一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉから出射される一対のガイド用成分は、それぞれ群用プリズム５３に屈折された後、吐出経路Ｒを挟んで両側に照射される。
一方、一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉから出射される一対のブロー用成分は、それぞれ群用プリズム５３に屈折された後、該ガイド群に対応する吐出経路Ｒに照射される。ブロー用成分は、その光圧等によって、該レーザ光の照射経路上にあるインクＩｋを吐出経路Ｒに向けて流動させる。なお、図８においては、ブロー用成分の光路を説明するため、ガイド用成分の光路を省略する。
【０１１７】
したがって、上記第三実施形態においても、液滴吐出ヘッド２０は、第三実施形態と同様の効果を得ることができる。
（第五実施形態）
以下、本発明を具体化した第四実施形態を図９に従って説明する。第五実施形態は、第二実施形態の照射部を変更したものである。そのため、以下においては、その変更点について詳しく説明する。
【０１１８】
図９において、第一列ＣＬ１、第二列ＣＬ２、及び第三列ＣＬ３の出射面は、それぞれ共通する列用プリズム５４を有する。各列用プリズム５４は、例えば＋Ｘ方向に延びる三角プリズムであって、それぞれ＋Ｙ方向に向く斜面と−Ｙ方向に向く斜面とを有する。各列用プリズム５４は、それぞれ一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉがレーザ光Ｂを出射するとき、該レーザ光Ｂの光路を折り曲げて対向する吐出面ＳＡの領域に照射する。
【０１１９】
詳述すると、レーザＬＤから出射されるレーザ光Ｂは、Ｚ方向から見て−Ｙ方向に進行する成分と、Ｚ方向から見て＋Ｙ方向に進行する成分とを有する。本実施形態においては、レーザＬＤから−Ｙ方向に進行する成分を流動ガイド用成分とし、レーザＬＤから＋Ｙ方向に進行する成分を飛行ガイド用成分という。
【０１２０】
一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉから出射される一対の流動ガイド用成分は、それぞれ列用プリズム５４に屈折された後、吐出経路Ｒを挟んで両側に照射される。
一方、一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉから出射される一対の飛行ガイド用成分は、それぞれ各列用プリズム５４に屈折された後、＋Ｚ方向から見て−Ｙ方向に偏向されて、
液滴Ｄの飛行領域に照射される。一対の飛行ガイド用成分は、その光圧等によって、飛行過程の液滴Ｄの位置を該一対の飛行ガイド成分の間に制限し、これによって飛行する液滴Ｄの飛行曲がりを抑制する。なお、図９においては、飛行ガイド用成分の光路を説明するため、流動ガイド用成分の光路を省略する。
【０１２１】
図９において、ノズルプレート２２Ａは、ノズル列ＣＮの−Ｙ方向に反射部材ＭＲを有する。反射部材ＭＲは、＋Ｘ方向に沿って延びる板状に形成されるとともに、その＋Ｙ方向の面に、ノズルプレート２２Ａの略全幅にわたる反射面ＭＲａを有する。反射部材ＭＲは、各列用プリズム５４からの飛行ガイド用成分を反射面ＭＲａに受けて、該飛行ガイド用成分を＋Ｙ方向の吐出面ＳＡに向けて反射する。反射面ＭＲａによって反射される一対の飛行ガイド用成分は、飛行する液滴Ｄの領域に再び照射された後、吐出経路Ｒを挟んで両側に照射される。これによって、一対の飛行ガイド用成分は、飛行する液滴Ｄの飛行曲がりをさらに抑制し、かつ、液滴Ｄの濡れ広がりを、一対の流動ガイド成分の間、及び一対の飛行ガイド用成分の間に抑える。
【０１２２】
各ノズルＮから吐出される液滴Ｄの飛行経路は、ストロボと長焦点顕微鏡による観測、又は着弾位置の観測などによって予め計測できるものである。本実施形態における一対のガイド群ＲＬ１，…，ＲＬｉは、予め計測する飛行経路に基づいて、各光量のバランスが設定されている。
【０１２３】
例えば、図９（ｂ）において、第三ノズルＮ３からの液滴Ｄの飛行経路が基板Ｓの法線に対して＋Ｘ方向に傾斜する場合、一対の第三ガイド群ＲＬ３においては、＋Ｘ方向の第三ガイド群ＲＬ３の光量が−Ｘ方向の第三ガイド群ＲＬ３の光量よりも高く設定される。これによれば、第三ノズルＮ３からの液滴Ｄは、その＋Ｘ方向の光量が高くなるため、飛行経路を−Ｘ方向に変位させる。この結果、第三ノズルＮ３からの液滴Ｄは、その飛行経路を、基板Ｓの法線に容易に補正できる。
【０１２４】
なお、第五実施形態においては、各列用プリズム５４と反射部材ＭＲが、第三光学系を構成する。
（１０）上記第五実施形態によれば、一対の飛行ガイド用成分は、それぞれ列用プリズム５４の偏向によって、液滴Ｄの飛行領域に照射される。これによって、液滴吐出ヘッド２０は、液滴Ｄの飛行曲がりを抑制することができる。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、吐出する液滴Ｄを、より確実に吐出経路Ｒの上に定着させることができる。そのため、液滴吐出ヘッド２０は、線パターンＦの加工精度を、さらに向上することができる。
【０１２５】
（１１）上記第五実施形態によれば、一対の飛行ガイド用成分は、それぞれ反射部材ＭＲの反射によって、液滴Ｄの飛行領域に再び照射される。したがって、一つの飛行ガイド用成分が、２回にわたり液滴Ｄの飛行領域に照射される。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、液滴Ｄの飛行曲がりを、より効果的に抑制することができる。
【０１２６】
（１２）上記第五実施形態によれば、一対の飛行ガイド用成分は、それぞれ反射部材ＭＲの反射によって、吐出経路Ｒを挟んで両側に照射される。したがって、液滴吐出ヘッド２０は、一対の流動ガイド成分、及び一対の飛行ガイド用成分によって、液滴Ｄの濡れ広がりを抑えることができる。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、線パターンＦの加工精度を、さらに向上することができる。
【０１２７】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記各実施形態において、液滴吐出ヘッド２０は、ｉ個のノズルＮとｉ×２個のガイド群とを有し、第ｉノズルＮｉに対して一対の第ｉガイド群ＲＬｉを対応付ける。これに限らず、図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド２０は、ｉ個のノズルＮと
、ｉ＋１個のガイド群とを有し、第ｉノズルＮｉに対して第ｉガイド群ＲＬｉと第ｉ＋１ガイド群ＲＬｉ＋１とを対応付ける構成であってもよい。
【０１２８】
これによれば、液滴吐出ヘッド２０は、レーザＬＤの数量を削減できるとともに、ノズルＮの形成ピッチを狭ビッチ化することができる。この結果、液滴吐出ヘッド２０は、線パターンＦの微細化と狭ピッチ化を図ることができる。
【０１２９】
・上記各実施形態において、液滴吐出ヘッド２０は、各ノズルＮの＋Ｙ方向に各レーザ列ＣＬ１，ＣＬ２，ＣＬ３を有する。これに限らず、図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド２０は、各ノズルＮの＋Ｙ方向と−Ｙ方向の双方に、それぞれ各レーザ列ＣＬ１，ＣＬ２，ＣＬ３を有する構成であってもよい。
【０１３０】
これによれば、液滴吐出装置１０は、基板Ｓを＋Ｙ方向に搬送して液滴吐出動作を実行するとき、各ノズルＮの＋Ｙ方向に配列される各レーザ列ＣＬ１，ＣＬ２，ＣＬ３を駆動することにより液滴Ｄの濡れ広がりを抑制することができる。反対に、液滴吐出装置１０は、基板Ｓを−Ｙ方向に搬送して液滴吐出動作を実行するとき、各ノズルＮの−Ｙ方向に配列される各レーザ列ＣＬ１，ＣＬ２，ＣＬ３を駆動することにより液滴Ｄの濡れ広がりを抑制することができる。
【０１３１】
・上記実施形態において、液滴吐出ヘッド２０は、基板Ｓを＋Ｙ方向に搬送するとともに、一つのノズルＮと、該ノズルＮに対応する一対のガイド群とを駆動することによって、＋Ｙ方向に延びる線パターンＦを形成する。これに限らず、液滴吐出ヘッド２０は、図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、基板Ｓを＋Ｘ方向に搬送するとともに、一つのノズルＮと、一対の第一列ＣＬ１とを駆動することによって、＋Ｘ方向に延びる線パターンＦを形成する構成であっても良い。
【０１３２】
これによれば、液滴吐出装置１０は、＋Ｙ方向に延びる線パターンＦの加工精度と、＋Ｘ方向に延びる線パターンＦの加工精度とを向上することができる。
・上記第一実施形態においては、各レーザＬＤは、それぞれ＋Ｙ方向から見てノズルＮを挟んで両側に配設される。これに加えて、レーザＬＤは、＋Ｙ方向から見てノズルＮと重なる位置に配設されることによって、対向する吐出経路Ｒにレーザ光を照射する構成であっても良い。これによれば、一対のガイド群が液滴Ｄの濡れ広がりを抑制させるとともに、該一対のガイド群の間のレーザＬＤが液滴Ｄの乾燥を促進させる。
【０１３３】
これによれば、液滴吐出ヘッド２０は、液滴Ｄの乾燥状態を、さらに安定化することができるため、所定方向に延びるパターンの加工精度を、さらに向上することができる。
・上記第一実施形態において、液滴吐出装置１０は、ステージ１２を＋Ｙ方向に移動することによって、液滴吐出ヘッド２０を基板Ｓに対して−Ｙ方向に相対移動する。これに限らず、液滴吐出装置１０は、キャリッジ１５を−Ｙ方向に移動可能に構成することによって、液滴吐出ヘッド２０を基板Ｓに対して−Ｙ方向に相対移動してもよい。
【０１３４】
・上記第一実施形態においては、ヘッド本体２２の底部が、ノズルプレート２２Ａとレーザプレート２２Ｂとを有し、ノズルＮがノズルプレート２２Ａに設けられて、レーザＬＤがレーザプレート２２Ｂに設けられる。これに限らず、例えばヘッド本体２２の底部が、ノズルプレート２２Ａのみを有し、ノズルＮとレーザＬＤの双方が、共通するノズルプレート２２Ａに設けられる構成であっても良い。
【０１３５】
・上記第一実施形態においては、液滴吐出ヘッド２０が圧電素子駆動方式のヘッドであるが、これに限らず、抵抗加熱方式や静電駆動方式のヘッドであっても良い。
・上記第二実施形態においては、一つのガイド群に含まれる全てのレーザＬＤが、共通
する一つのシリンドリカルレンズ５１を有する。これに限らず、一つのガイド群に含まれる複数のレーザＬＤの一部が、シリンドリカルレンズ５１を有する構成であっても良い。
【０１３６】
・上記第三実施形態においては、一つのシリンドリカルレンズ５１が、その＋Ｙ方向の全幅にわたり、共通する一つの反射膜５２を有する。これに限らず、一つのシリンドリカルレンズ５１が、その＋Ｙ方向の一部にのみ反射膜５２を有する構成であっても良い。
【０１３７】
・上記実施形態において、液滴吐出ヘッド２０は、シリンドリカルレンズ５１、反射膜５２、群用プリズム５３、及び列用プリズム５４からなる群から選択される少なくともいずれか一つを有する構成であってもよい。
【０１３８】
・上記実施形態において、光は、面発光レーザからのレーザ光である。これに限らず、光は、半導体レーザからのレーザ光やＬＥＤからの光であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１３９】
【図１】第一実施形態の液滴吐出装置を示す斜視図。
【図２】第一実施形態の液滴吐出ヘッドを示す斜視図。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第一実施形態の液滴吐出ヘッドを示す正面及び液滴吐出動作を模式的に示す平面図。
【図４】第一実施形態の液滴吐出装置の電気的構成を示す電気ブロック回路図。
【図５】第一実施形態のヘッド駆動回路の電気的構成を示す電気ブロック回路図。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第二実施形態の液滴吐出ヘッドを示す正面及び液滴吐出動作を模式的に示す平面図。
【図７】第三実施形態の液滴吐出ヘッドを示す正面図。
【図８】第四実施形態の液滴吐出ヘッドを示す正面図。
【図９】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第五実施形態の液滴吐出ヘッドを示す側面図及び正面図。
【図１０】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ変更例の液滴吐出ヘッドを示す正面及び液滴吐出動作を模式的に示す平面図。
【図１１】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ変更例の液滴吐出ヘッドを示す正面及び液滴吐出動作を模式的に示す平面図。
【符号の説明】
【０１４０】
Ｂ…レーザ光、Ｄ…液滴、ＤＳ１…第一遅延信号、ＤＳ２…第二遅延信号、ＤＳ３…第三遅延信号、Ｎ…ノズル、ＬＡＴ…タイミング信号、ＬＤ…レーザ、ＰＩ…選択信号としてのパラレルパターンデータ、１０…液滴吐出装置、２０…液滴吐出ヘッド、２２…ヘッド本体、３０…制御手段及び遅延信号生成部を構成する制御装置、３４…タイミング信号生成部としての発信回路、４０…制御手段を構成するヘッド駆動回路、５１…第一光学系としてのシリンドリカルレンズ、５２…第二光学系としての反射膜、５３…第二光学系としてのプリズム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2009022833.tif 000009
【図８】
2009022833.tif 000010
【図９】
2009022833.tif 000011
【図１０】
2009022833.tif 000012
【図１１】
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