(57)【要約】【課題】有機機能層の膜厚ムラを抑え、輝度ムラ等の表示ムラのない有機ＥＬ装置を提供すること。【解決手段】有機ＥＬ装置１００は、基板１０と、基板１０上に配置された複数の発光領域２のそれぞれに対応して形成された複数の画素電極２４と、発光領域２を囲むように形成された隔壁２８と、隔壁２８に囲まれた開口部２８ａ同士を相互に接続するように、隔壁２８に設けられた溝部２９と、開口部２８ａと少なくとも溝部２９の一部とに形成された有機機能層３０と、有機機能層３０を覆う共通電極３６と、を備えていることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置された複数の発光領域のそれぞれに対応して形成された複数の第１の電極と、
前記発光領域を囲むように形成された隔壁と、
前記隔壁に囲まれた開口部同士を相互に接続するように、前記隔壁に設けられた溝部と、
前記開口部と少なくとも前記溝部の一部とに形成された有機機能層と、
前記有機機能層を覆う第２の電極と、を備えていることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記有機機能層は、有機発光層の形成材料を含む機能液を吐出することにより形成されていることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記溝部は、前記開口部の４方向に設けられていることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記開口部は、長辺と短辺とを有し、
前記溝部は、少なくとも前記短辺側に設けられていることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記溝部において、少なくとも底面は前記第１の電極よりも親液性が高いことを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項６】
請求項５に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記底面は、無機酸化物または無機窒化物からなることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項７】
請求項６に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記底面は、金属酸化物からなることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記隔壁は、前記発光領域のそれぞれを個別に囲んでいることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項９】
請求項１から７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置であって、
前記隔壁は、複数の前記発光領域を共通して囲んでいることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネセンス装置（以下有機ＥＬ装置と呼ぶ）の製造方法として、有機機能層を液滴吐出法により形成する方法が知られている。液滴吐出法では、有機機能層の構成材料を溶媒に溶解または分散させた機能液を所定の領域、例えば隔壁の開口部内に配置された発光領域に選択的に吐出し、この機能液から溶媒を蒸発させて有機機能層を形成する。このため、製造プロセスを簡易にするとともに原材料の使用量を少なくすることができる。
【０００３】
一方で、有機機能層を液滴吐出法により形成する方法では、隔壁の開口部内において、吐出された機能液から蒸発する溶媒分子分圧が中央部よりも周辺部で低くなるため、機能液の乾燥は中央部よりも周辺部で速くなる。このため、形成された有機機能層が周辺部で盛り上がり、開口部内において膜厚にムラが生じる場合がある。有機機能層の膜厚にムラがあると、有機機能層に流れる電流に差異が生じて、発光したときの輝度ムラ等の表示ムラの原因となる。また、このような膜厚ムラによって有機機能層が局部的に劣化し、有機ＥＬ装置としての寿命低下を招いてしまうという課題があった。
【０００４】
これに対して、隔壁の開口部内に複数の発光領域を配置し、開口部内の複数の発光領域に亘って機能液を吐出する構造が提案されている（例えば特許文献１）。このような構造によれば、それぞれの発光領域内における機能液の乾燥速度の差異を小さくできるので、有機機能層の膜厚ムラを抑えることができる。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−３１０２５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述のような構造であっても、開口部内での有機機能層の膜厚ムラをなくすことは困難である。例えば、隔壁の開口部が長方形状等であると、その長辺に沿った方向において、吐出された機能液の部分的な偏りが生じ、発光領域よりも大きな範囲で有機機能層の膜厚ムラが発生する場合がある。このような場合、各発光領域内で膜厚ムラは抑えられるものの、発光領域間で膜厚ムラが生じてしまうという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００８】
［適用例１］本適用例に係る有機ＥＬ装置は、基板と、前記基板上に配置された複数の発光領域のそれぞれに対応して形成された複数の第１の電極と、前記発光領域を囲むように形成された隔壁と、前記隔壁に囲まれた開口部同士を相互に接続するように、前記隔壁に設けられた溝部と、前記開口部と少なくとも前記溝部の一部とに形成された有機機能層と、前記有機機能層を覆う第２の電極と、を備えていることを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、隔壁の開口部同士が溝部により相互に接続されており、開口部と溝部とに有機機能層が形成されている。このため、有機機能層を形成する際に、開口部内に配置された有機機能層の材料が溝部内に配置された有機機能層の材料に引っ張られることにより、開口部内における有機機能層の材料の偏りが緩和される。これにより、開口部内に形成される有機機能層の膜厚ムラを抑えることができる。この結果、輝度ムラ等の表示ムラのない有機ＥＬ装置を提供できる。
【００１０】
［適用例２］上記適用例に係る有機ＥＬ装置であって、前記有機機能層は、有機発光層の形成材料を含む機能液を吐出することにより形成されていてもよい。
【００１１】
この構成によれば、開口部と溝部とに機能液が吐出されるので、開口部内に吐出された機能液が溝部により接続された開口部同士で繋がる。このため、開口部間で相互に機能液の偏りが緩和される。また、溝部に吐出された機能液から蒸発する溶媒分子が開口部の周囲に存在することにより、開口部内における機能液の乾燥速度の差異が小さくなる。これにより、有機ＥＬ装置全体で有機機能層の膜厚ムラを抑えることができる。
【００１２】
［適用例３］上記適用例に係る有機ＥＬ装置であって、前記溝部は、前記開口部の４方向に設けられていてもよい。
【００１３】
この構成によれば、開口部の４方向において他の開口部と接続されるので、開口部内における機能液の偏りがより緩和されるとともに、機能液の乾燥速度の差異がより小さくなる。これにより、有機機能層の膜厚ムラがより抑えられる。
【００１４】
［適用例４］上記適用例に係る有機ＥＬ装置であって、前記開口部は、長辺と短辺とを有し、前記溝部は、少なくとも前記短辺側に設けられていてもよい。
【００１５】
この構成によれば、長辺と短辺とを有する開口部において、機能液の偏りが生じ易い長辺に沿った方向の端部に溝部が設けられている。この長辺に沿った方向の端部で他の開口部と接続されるので、開口部内の長辺に沿った方向における機能液の偏りが緩和される。これにより、有機機能層の膜厚ムラがより抑えられる。
【００１６】
［適用例５］上記適用例に係る有機ＥＬ装置であって、前記溝部において、少なくとも底面は前記第１の電極よりも親液性が高くてもよい。
【００１７】
この構成によれば、溝部における底面は第１の電極よりも親液性が高いので、開口部内に吐出された機能液が溝部に良好に濡れ広がる。これにより、有機機能層の膜厚ムラがより抑えられる。
【００１８】
［適用例６］上記適用例に係る有機ＥＬ装置であって、前記底面は、無機酸化物または無機窒化物からなっていてもよい。
【００１９】
この構成によれば、溝部における底面を、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）や窒化ケイ素（ＳｉＮ）で構成することにより、溝部における底面の親液性を第１の電極よりも高めることができる。
【００２０】
［適用例７］上記適用例に係る有機ＥＬ装置であって、前記底面は、金属酸化物からなっていてもよい。
【００２１】
この構成によれば、溝部における底面を、例えば、紫外線照射で親液性が変化する酸化チタン（ＴｉＯ2）で構成することにより、溝部における底面の親液性を適宜高めることができる。
【００２２】
［適用例８］上記適用例に係る有機ＥＬ装置であって、前記隔壁は、前記発光領域のそれぞれを個別に囲んでいてもよい。
【００２３】
この構成によれば、隔壁が発光領域のそれぞれを個別に囲む構成を有し、有機機能層の膜厚ムラが抑えられた有機ＥＬ装置を提供できる。
【００２４】
［適用例９］上記適用例に係る有機ＥＬ装置であって、前記隔壁は、複数の前記発光領域を共通して囲んでいてもよい。
【００２５】
この構成によれば、隔壁が複数の発光領域を共通して囲む構成を有し、有機機能層の膜厚ムラが抑えられた有機ＥＬ装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に、本実施の形態について図面を参照して説明する。なお、参照する図面において、構成をわかりやすく示すため、構成要素の膜厚や寸法の比率等は適宜異ならせてある。
【００２７】
（第１の実施形態）
まず、第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成について図を参照して説明する。図１は、第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置を模式的に示す平面図である。図２は、第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の概略構成を示す断面図である。詳しくは、図１のＡ−Ａ’線に沿った部分断面図である。図３は、第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の溝部における断面図である。詳しくは、図３（ａ）は図１のＢ−Ｂ’線に沿った部分断面図であり、図３（ｂ）は図１のＣ−Ｃ’線に沿った部分断面図である。なお、各図面において、以下の説明に必要な構成要素以外は図示を省略する。
【００２８】
有機ＥＬ装置１００は、図１に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された複数の発光領域２を有している。発光領域２の形状は、例えば、四隅が丸い長方形であり、長辺と短辺とを有している。発光領域２は、短辺に沿った方向に略等ピッチで列をなして配置されており、隣り合う列同士は互いに略半ピッチずれるように配置されている。発光領域２の形状は、円形、楕円形、またはその他の形状であってもよい。
【００２９】
発光領域２には、有機エレクトロルミネセンス素子（以下有機ＥＬ素子と呼ぶ）８が発光素子として備えられている。有機ＥＬ装置１００は、発光領域２において、有機ＥＬ素子８により発光が行われる。
【００３０】
基板１０上には、隔壁２８が設けられている。隔壁２８は、発光領域２のそれぞれを個別に囲むように形成されている。つまり、隔壁２８に囲まれた開口部２８ａのそれぞれに、発光領域２が位置している。隔壁２８には、開口部２８ａ同士を相互に接続するように、溝部２９が設けられている。溝部２９は、例えば、開口部２８ａの４方向に設けられている。より詳しくは、それぞれの開口部２８ａの両方の短辺側に２つずつ設けられている。それぞれの開口部２８ａは、両方の短辺側に隣り合う列において略半ピッチずれて位置する開口部２８ａと、溝部２９により相互に接続されている。
【００３１】
次に、図２を参照して、有機ＥＬ装置１００の構造を説明する。有機ＥＬ装置１００は、基板１０上に、駆動用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）２０と、回路層２２と、第１の電極としての画素電極２４と、隔壁２８と、有機機能層３０と、第２の電極としての共通電極３６と、を備えている。なお、図２では、画素電極２４を駆動するための駆動用ＴＦＴ２０と回路層２２とを示すが、それ以外の素子、配線、接続部等の詳細は省略する。
【００３２】
有機ＥＬ装置１００は、有機機能層３０から発した光が基板１０側に射出されるボトムエミッション方式である。
【００３３】
基板１０は、透光性を有する材料からなる。透光性を有する材料としては、例えばガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等があげられる。なお、有機ＥＬ装置１００が、有機機能層３０から発した光が共通電極３６側に射出されるトップエミッション型である場合は、基板１０は透光性材料および不透光性材料のいずれを用いてもよい。不透光性材料としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等があげられる。
【００３４】
駆動用ＴＦＴ２０は、基板１０上に、発光領域２のそれぞれに対応して設けられている。駆動用ＴＦＴ２０は、図示しないが、半導体膜と、ゲート絶縁層と、ゲート電極と、ドレイン電極と、ソース電極とを備えている。半導体膜には、ソース領域と、ドレイン領域と、チャネル領域とが形成されている。半導体膜は、ゲート絶縁層に覆われている。ゲート電極は、ゲート絶縁層を間に挟んで半導体膜のチャネル領域に重なるように位置している。
【００３５】
回路層２２は、ゲート電極を覆う層間絶縁層と、ドレイン電極とソース電極とを覆う層間絶縁層とを含んでいる。ドレイン電極は、層間絶縁層に設けられたコンタクトホールを介して、半導体膜のドレイン領域に導電接続されている。ソース電極は、同様にコンタクトホールを介して、半導体膜のソース領域に導電接続されている。
【００３６】
画素電極２４は、回路層２２上に、発光領域２のそれぞれに対応して形成されている。画素電極２４は、例えば、発光領域２と略同一形状であり、発光領域２よりも一回り大きな領域を有している。画素電極２４は、透光性導電材料からなり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。画素電極２４は、回路層２２に設けられたコンタクトホールを介して駆動用ＴＦＴ２０に電気的に接続されている。画素電極２４の表面には、Ｏ2プラズマ処理等の親液化処理が施されていてもよい。
【００３７】
回路層２２と隔壁２８との間には、絶縁層２６が形成されている。絶縁層２６は、隔壁２８と同様に、発光領域２に対応した複数の開口部２６ａを有している。絶縁層２６は、開口部２６ａの周囲に沿って画素電極２４の周縁部に所定幅で乗り上げるように形成されている。絶縁層２６は、画素電極２４よりも高い親液性を有している。ここで、「親液性が高い」とは、機能液との接触角が相対的に小さいことを指す。したがって、隔壁２８内に配置された機能液を、絶縁層２６の表面に沿って良好に濡れ広がらせることができる。絶縁層２６は、例えばＳｉＯ2等の無機酸化物からなる。絶縁層２６の材料は、ＳｉＮ等の無機窒化物やＴｉＯ2等の金属酸化物であってもよい。絶縁層２６の表面には、Ｏ2プラズマ処理等の親液化処理が施されていてもよい。絶縁層２６の膜厚は、例えば５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度である。
【００３８】
隔壁２８の開口部２８ａは、絶縁層２６の開口部２６ａよりも広くなっている。隔壁２８は、例えばアクリル樹脂等の有機材料からなる。隔壁２８の表面は、高い撥液性を有している。ここで、「撥液性が高い」とは、機能液との接触角が相対的に大きいことを指す。開口部２８ａ内に配置された機能液に対して高い撥液性を有することにより、発光領域２を区画する仕切部材としての機能を良好に果たすことができる。隔壁２８は、フッ素系樹脂等の撥液性を有する材料で構成されていてもよい。隔壁２８の表面には、ＣＦ4プラズマ処理等の撥液化処理が施されていてもよい。隔壁２８の膜厚は、例えば１μｍ〜３μｍ程度である。
【００３９】
隔壁２８に囲まれた発光領域２において、絶縁層２６が有機機能層３０を形成する機能液に対して画素電極２４よりも高い親液性を有するので、有機機能層３０が隔壁２８近傍まで形成される。これにより、画素電極２４と共通電極３６との短絡を防止できる。
【００４０】
有機機能層３０は、隔壁２８の開口部２８ａ内に形成され、画素電極２４上に位置している。有機機能層３０は、図示しないが、例えば、順に積層された正孔注入輸送層と発光層とで構成されている。有機機能層３０は、液滴吐出法により形成されており、例えばインクジェット法を用いて、開口部２８ａ内に有機機能層３０の形成材料を含む機能液を吐出することにより形成される。
【００４１】
正孔注入輸送層の材料は、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体を用いることができる。正孔注入輸送層の材料は、ポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等の混合物であってもよいし、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体であってもよい。
【００４２】
発光層の材料は、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ＰＥＤＯＴ等のポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いてもよい。
【００４３】
なお、有機機能層３０は、正孔注入輸送層と発光層とのほかに電子注入輸送層を備えた構成であってもよい。
【００４４】
共通電極３６は、隔壁２８と有機機能層３０との全体を覆うように形成されている。共通電極３６は、例えば、カルシウム（Ｃａ）とアルミニウム（Ａｌ）とが積層され構成されている。
【００４５】
共通電極３６は、封止層３８に覆われている。封止層３８は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、液状ガラス等からなり、さらにガラス、金属、樹脂フィルム、プラスチック、その他の封止部材が積層接着されていてもよい。
【００４６】
有機ＥＬ装置１００において、陽極として機能する画素電極２４と、陰極として機能する共通電極３６と、有機機能層３０とによって有機ＥＬ素子８が構成される。有機ＥＬ素子８では、正孔注入輸送層から注入される正孔と、共通電極３６から注入される電子とが、有機機能層３０の発光層で再結合することにより発光が得られる。本実施形態では、発光層から得られる発光色は単色であり、例えば赤色である。発光層から得られる発光色は、緑色、青色や白色であってもよい。
【００４７】
次に、図３を参照して、溝部２９の構造を説明する。図３（ａ）は、溝部２９の延在方向と交差する方向における断面を示し、図３（ｂ）は、溝部２９の延在方向に沿った断面を示している。
【００４８】
溝部２９は、隔壁２８の開口部２８ａと絶縁層２６の表面とで構成される。溝部２９における底面２９ａは、絶縁層２６の表面からなる。したがって、溝部２９における底面２９ａは、画素電極２４よりも高い親液性を有している。溝部２９には、発光領域２と同様に、有機機能層３０が形成されている。有機機能層３０は、溝部２９を介して隣り合う有機ＥＬ素子８同士で相互に接続されている。
【００４９】
溝部２９の深さは、隔壁２８の膜厚と略同一である。溝部２９の延在方向と交差する方向における幅Ｗは、インクジェット法により吐出される機能液の液滴を受容可能な範囲であればよく、例えば５０μｍ以上あればよい。溝部２９の幅Ｗは、例えば、溝部２９の延在方向に亘って略同一である。溝部２９の延在方向に沿った長さＬは、インクジェット法により吐出される機能液の液滴を受容可能な範囲であればよく、例えば５０μｍ以上あればよい。
【００５０】
続いて、隔壁２８および溝部２９の形成方法について説明する。まず、基板１０上に駆動用ＴＦＴ２０と回路層２２と画素電極２４とを公知の方法で形成した後、回路層２２と画素電極２４とを覆うように、絶縁層２６の材料（ＳｉＯ2）からなる膜を、例えばスパッタリング法を用いてベタ状に形成する。
【００５１】
次に、ベタ状に形成されたＳｉＯ2膜を覆うように、隔壁２８の材料（感光性アクリル樹脂）からなる膜を、例えばスピンコート法を用いてベタ状に形成する。次に、ベタ状に形成された感光性アクリル樹脂膜を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより、開口部２８ａと溝部２９とに対応する部分を除去する。これにより、開口部２８ａと溝部２９とを有する隔壁２８が形成され、開口部２８ａと溝部２９とにおいてＳｉＯ2膜が露出する。
【００５２】
次に、開口部２８ａ内に露出したＳｉＯ2膜を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより、開口部２６ａに対応する部分を除去する。これにより、開口部２６ａを有する絶縁層２６が形成され、開口部２６ａにおいて画素電極２４が露出する。
【００５３】
隔壁２８および溝部２９を形成した後、開口部２８ａ内および溝部２９に有機機能層３０を形成する。有機機能層３０の形成は、有機機能層３０の形成材料を含む機能液を、例えばインクジェット法を用いて吐出した後、乾燥させる。このとき、開口部２８ａ内だけでなく溝部２９にも機能液を吐出する。このように、溝部２９にも機能液を吐出することで、開口部２８ａ内に吐出された機能液が溝部２９により接続された開口部２８ａ同士で繋がる。このため、溝部２９に吐出された機能液で開口部２８ａ内の機能液が引っ張られることにより、開口部２８ａ内における機能液の偏りが緩和される。
【００５４】
ここで、開口部２８ａが長辺と短辺とを有する場合、一般的に、長辺に沿った方向に機能液の偏りが生じ易い。本実施形態では、溝部２９により、長辺に沿った方向の端部、すなわち短辺側で他の開口部２８ａと接続されるので、開口部２８ａ内の長辺に沿った方向における機能液の偏りが緩和される。また、溝部２９に吐出された機能液から蒸発する溶媒分子により、開口部２８ａ内における機能液の乾燥速度の差異が小さくなる。これにより、開口部２８ａ内に形成される有機機能層３０の膜厚ムラを抑えることができる。
【００５５】
さらに、溝部２９により接続された開口部２８ａ同士で機能液が繋がるので、開口部２８ａ間で相互に機能液の偏りが緩和されるとともに、開口部２８ａ間で機能液の乾燥速度の差異が小さくなる。これにより、有機ＥＬ装置１００全体で有機機能層３０の膜厚ムラを抑えることができる。この結果、輝度ムラ等の表示ムラのない有機ＥＬ装置１００を提供できる。
【００５６】
有機機能層３０を形成した後、隔壁２８と有機機能層３０とを覆うように共通電極３６を形成し、さらに封止層３８を形成することにより、有機ＥＬ装置１００を製造することができる。
【００５７】
本実施形態では、溝部２９における底面２９ａ、すなわち絶縁層２６がＳｉＯ2からなる場合について説明したが、前述の通り、底面２９ａはＳｉＮやＴｉＯ2からなっていてもよい。底面２９ａがＳｉＮであると、画素電極２４に対してより高い親液性を有するので、溝部２９に機能液がより良好に濡れ広がる。また、底面２９ａがＴｉＯ2であると、紫外線照射で親液性を変化させることにより、底面２９ａの親液性を機能液の粘性等に応じて適宜高めることができる。
【００５８】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置の構成について図を参照して説明する。図４は、第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置を模式的に示す平面図である。図５は、第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置の概略構成を示す断面図である。詳しくは、図４のＤ−Ｄ’線に沿った部分断面図である。なお、第１の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【００５９】
第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置２００は、第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置１００に対して、隔壁２８が複数の発光領域２を共通して囲んでいる点が異なっているが、その他の構成はほぼ同じである。
【００６０】
有機ＥＬ装置２００は、図４に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された複数の発光領域２を有している。発光領域２の形状は、例えば、円形である。隔壁２８は、複数の発光領域２を共通して囲むように形成されている。すなわち、発光領域２は、隔壁２８の開口部２８ａ内に複数配置されている。開口部２８ａは、長辺と短辺とを有している。発光領域２は、開口部２８ａの長辺に沿った方向に２列に、それぞれ略等ピッチで配置されており、それぞれの列は長辺に沿った方向に互いに略半ピッチずれるように配置されている。
【００６１】
開口部２８ａは、その長辺に沿った方向に一列に配置されている。溝部２９は、開口部２８ａの４隅のそれぞれに設けられており、隣り合う開口部２８ａ同士をそれぞれの短辺側で相互に接続している。絶縁層２６は、発光領域２のそれぞれに対応した複数の開口部２６ａを有している。したがって、開口部２６ａは、開口部２８ａ内に複数配置されている。開口部２６ａの形状は、例えば円形である。
【００６２】
図５に示すように、有機機能層３０は、開口部２８ａ内の複数の発光領域２に亘って機能液を吐出することにより形成されている。すなわち、それぞれの発光領域２の周囲にも発光領域２と同様に機能液が吐出される。したがって、それぞれの発光領域２における機能液の偏りが緩和されるとともに、それぞれの発光領域２における機能液の乾燥速度の差異が小さくなる。
【００６３】
また、上述した通り、開口部２８ａが、機能液の偏りが生じ易い長辺に沿った方向の端部、すなわち短辺側で溝部２９により他の開口部２８ａと接続されるので、開口部２８ａ内の長辺に沿った方向における機能液の偏りが緩和される。これにより、開口部２８ａ内のそれぞれの発光領域２において有機機能層３０の膜厚ムラを抑えることができる。
【００６４】
また、機能液が溝部２９により接続された開口部２８ａ同士で接続されるので、開口部２８ａ間で機能液の偏りが緩和されるとともに、開口部２８ａ間で機能液の乾燥速度の差異が小さくなる。これにより、有機ＥＬ装置２００全体で有機機能層３０の膜厚ムラを抑えることができる。この結果、輝度ムラ等の表示ムラのない有機ＥＬ装置２００を提供できる。
【００６５】
上記実施形態の有機ＥＬ装置１００，２００は、例えば、電子写真方式の画像形成装置等に用いる露光手段として用いることができる。また、白色の発光色が得られる有機ＥＬ装置１００，２００と、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色光を選択的に透過する着色層を備えたカラーフィルタとを組み合わせることにより、カラー表示を行うことができる。したがって、有機ＥＬ装置１００，２００は、例えば携帯電話機等の電子機器の表示装置として用いることも可能である。
【００６６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【００６７】
（変形例１）
上記実施形態の有機ＥＬ装置において、隔壁２８の開口部２８ａの形状と配置、および各開口部２８ａにおける溝部２９の数と位置は、上記の形態に限定されない。溝部２９の数と位置は、開口部２８ａの形状、配置等に応じて適宜設定することが可能である。図６は、有機ＥＬ装置の変形例の１例を模式的に示す平面図である。
【００６８】
図６に示すように、有機ＥＬ装置１１０の隔壁２８は、基板１０上に格子状に配置された開口部２８ａを有している。隔壁２８は、発光領域２を個別に囲んでいてもよいし、複数の発光領域２を共通して囲んでいてもよい。溝部２９は、開口部２８ａの両方の長辺側および両方の短辺側の４方向のそれぞれに２つずつ設けられている。それぞれの開口部２８ａは、両長辺側および両短辺側に隣り合う開口部２８ａと、溝部２９により相互に接続されている。このような構成を有する有機ＥＬ装置１１０においても、それぞれの発光領域２において有機機能層の膜厚ムラを抑えることができる。
【００６９】
（変形例２）
図７は、有機ＥＬ装置の他の変形例を模式的に示す平面図である。図７に示すように、有機ＥＬ装置１２０の隔壁２８は、円形の開口部２８ａを有している。開口部２８ａは、略等ピッチで列をなして配置されており、隣り合う列同士は互いに略半ピッチずれるように配置されている。隔壁２８は、発光領域２を個別に囲んでいてもよいし、複数の発光領域２を共通して囲んでいてもよい。溝部２９は、開口部２８ａの６方向に設けられている。それぞれの開口部２８ａは、列方向の両側に隣り合う開口部２８ａ、および隣り合う両側の列において略半ピッチずれて位置する開口部２８ａと、溝部２９により相互に接続されている。このような構成を有する有機ＥＬ装置１２０においても、それぞれの発光領域２において有機機能層の膜厚ムラを抑えることができる。
【００７０】
（変形例３）
上記実施形態の有機ＥＬ装置では、溝部２９の幅Ｗは、溝部２９の延在方向に亘って略同一であったが、この形態に限定されない。図示しないが、溝部２９の延在方向における略中央部の幅Ｗが、延在方向両端の開口部２８ａに接する部分の幅Ｗよりも小さい構成であってもよい。このような構成であると、毛細管現象により開口部２８ａ側から溝部２９の略中央部に機能液を引き込む力が付加される。
【００７１】
（変形例４）
上記実施形態の有機ＥＬ装置では、有機機能層３０を形成する工程において有機機能層３０の形成材料を含む機能液を溝部２９にも吐出したが、この形態に限定されない。有機機能層３０を形成する工程において、有機機能層３０の形成材料を含む機能液を溝部２９に吐出しなくてもよい。このような場合でも、溝部２９における底面２９ａが画素電極２４よりも高い親液性を有していることにより、開口部２８ａ内に吐出された機能液が溝部２９に濡れ広がる。この溝部２９に濡れ広がった機能液の張力により、開口部２８ａ内における機能液の偏りが緩和されるので、開口部２８ａ内に形成される有機機能層３０の膜厚ムラを抑えることができる。
【００７２】
（変形例５）
上記実施形態および変形例の有機ＥＬ装置において、隔壁２８の開口部２８ａ間を繋ぐ溝部２９の途中に、溝部２９を仕切る仕切り部材を形成してもよい。この仕切り部材は隔壁２８と同時に形成してもよい。この態様によれば、溝部２９に仕切り部材を設けない場合に比べて開口部内に形成される有機機能層３０の平坦性は低下するが、各開口部２８ａを隣接する開口部２８ａと分離することができるため、各開口部２８ａに異なる発光色を有する有機機能層３０を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置を模式的に示す平面図。
【図２】第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の概略構成を示す断面図。
【図３】第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の溝部における断面図。
【図４】第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置を模式的に示す平面図。
【図５】第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置の概略構成を示す断面図。
【図６】有機ＥＬ装置の変形例の１例を模式的に示す平面図。
【図７】有機ＥＬ装置の他の変形例を模式的に示す平面図。
【符号の説明】
【００７４】
２…発光領域、８…有機ＥＬ素子、１０…基板、２０…駆動用ＴＦＴ、２２…回路層、２４…画素電極、２６…絶縁層、２６ａ…開口部、２８…隔壁、２８ａ…開口部、２９…溝部、２９ａ…底面、３０…有機機能層、３６…共通電極、３８…封止層、１００，１１０，１２０，２００…有機ＥＬ装置。
【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図１】
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【図４】
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【図６】
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【図７】
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