(57)【要約】【課題】従来の液晶装置では、信頼性の向上を図ることが困難である。【解決手段】互いに対向する第１基板５１及び第２基板８１と、第１基板５１及び第２基板８１間に介在する液晶１９と、第２基板８１と液晶１９との間に介在する位相差膜９５と、第１基板５１と位相差膜９５との間に設けられ、平面視で液晶１９を囲むシール材２１と、位相差膜９５及びシール材２１の間に設けられた保護膜１０５と、を有することを特徴とする液晶装置。【選択図】図８
2009217098.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に介在する液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、
前記一対の基板のうちの他方の前記基板と前記位相差膜との間に設けられ、平面視で前記液晶を囲むシール材と、
前記位相差膜及び前記シール材の間に設けられ、前記位相差膜及び前記シール材の間を隔てる隔膜と、を有することを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
画像が表示され得る表示領域と、
前記表示領域内に設定された複数の画素と、を有し、
各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位を有しており、
前記位相差部位は、前記反射領域に対応して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記位相差膜は、光学的に等方性を示す等方部位を有しており、
前記等方部位は、前記透過領域に対応して設けられていることを特徴とする請求項２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記位相差膜の前記液晶側には、平面視で前記反射領域に重なる領域に、前記液晶の厚みを前記透過領域における前記液晶の厚みよりも薄くするギャップ調整膜が設けられており、
前記隔膜は、前記ギャップ調整膜と同一の階層に設けられていることを特徴とする請求項２又は３に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記隔膜は、平面視で、前記表示領域の外側で前記表示領域を囲む領域に設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記隔膜は、無機材料で構成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記位相差膜は、液晶化合物を含む材料で構成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記位相差膜を前記液晶側から覆って前記位相差膜を保護する保護膜を有しており、
前記隔膜は、前記保護膜で構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項９】
前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜を有しており、
前記隔膜は、前記配向膜で構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１０】
前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記位相差膜を前記液晶側から覆って前記位相差膜を保護する保護膜と、
前記保護膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜と、を有しており、
前記隔膜は、前記保護膜と前記配向膜とを含んだ構成を有していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１１】
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に介在する液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の前記基板及び前記液晶の間に介在する位相差膜と、
前記一対の基板間に設けられ、平面視で前記液晶及び前記位相差膜を囲むシール材と、を有し、
平面視で、前記位相差膜と前記シール材とが離間していることを特徴とする液晶装置。
【請求項１２】
画像が表示され得る表示領域と、
前記表示領域内に設定された複数の画素と、を有し、
各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有しており、
前記位相差部位が前記反射領域に対応して設けられており、前記等方部位が前記透過領域に対応して設けられていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶装置。
【請求項１３】
前記位相差膜は、液晶化合物を含む材料で構成されていることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の液晶装置。
【請求項１４】
前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記位相差膜を前記液晶側から覆って前記位相差膜を保護する保護膜を有しており、
前記位相差膜と前記シール材とが、前記保護膜を介して離間していることを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１５】
前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜を有しており、
前記位相差膜と前記シール材とが、前記配向膜を介して離間していることを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１６】
前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記位相差膜を前記液晶側から覆って前記位相差膜を保護する保護膜と、
前記保護膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜と、を有しており、
前記位相差膜と前記シール材とが、前記保護膜及び前記配向膜を介して離間していることを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、反射表示を行う反射領域と、透過表示を行う透過領域とを有する半透過反射型の液晶装置がある。
このような液晶装置では、従来、入射された光に位相差を与える液晶相と、入射された光に対して等方性を示す等方相とがつながった状態で形成された光学素子を有しているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１２１７４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載された液晶装置は、一対の基板間に液晶と光学素子とが介在した構成を有している。この液晶装置では、一対の基板間に介在する液晶の配向状態を変化させることにより、表示が制御される。一対の基板間に介在する光学素子は、液晶材料を硬化させた構成を有している。この光学素子は、液晶相が反射領域に対応して設けられ、等方相が透過領域に対応して設けられる。この光学素子の液晶相と等方相とは、同一の液晶材料から形成されている。
【０００５】
この光学素子の製造方法では、まず、基板に設けられた配向膜上に液晶材料を、反射領域及び透過領域間で一連した状態で塗布する。
配向膜上に塗布された液晶材料にフォトマスクを介して光を照射することにより、反射領域に対応する液晶材料を硬化させて液晶相を形成する。
反射領域に対応する液晶相を硬化させた後、液晶材料を等方相転移温度に加熱することにより、透過領域に対応する液晶材料を等方相に転移させる。
そして、等方相に転移した液晶材料を硬化させることにより、透過領域に対応する等方相を形成する。
【０００６】
ところで、一般的に、一対の基板間に液晶が介在した液晶装置では、液晶は、平面視で液晶を囲むシール材によって封止されていることが多い。
ここで、上記の光学素子では、液晶材料は、スピンコート法などによって反射領域及び透過領域間で一連した状態で塗布されるので、基板の全域に塗布されている。このため、シール材は、一対の基板の一方と光学素子を構成する液晶材料とに挟持されることになる。つまり、シール材と液晶材料とが接することになる。硬化した液晶材料にシール材が接すると、シール材の溶剤成分などによって液晶材料の化学的な安定性が低くなることが考えられる。この結果、液晶の封止性能についての信頼性が低くなる。
つまり、従来の液晶装置では、信頼性の向上を図ることが困難であるという未解決の課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
【０００８】
［適用例１］互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、前記一対の基板のうちの他方の前記基板と前記位相差膜との間に設けられ、平面視で前記液晶を囲むシール材と、前記位相差膜及び前記シール材の間に設けられ、前記位相差膜及び前記シール材の間を隔てる隔膜と、を有することを特徴とする液晶装置。
【０００９】
適用例１の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜と、シール材と、隔膜とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板と液晶との間に介在している。シール材は、他方の基板と位相差膜との間に設けられており、平面視で液晶を囲んでいる。隔膜は、位相差膜及びシール材の間に設けられており、位相差膜及びシール材の間を隔てている。この液晶装置では、位相差膜及びシール材の間が隔膜によって隔てられるので、位相差膜及びシール材が相互に影響し合うことを避けやすくすることができる。このため、位相差膜及びシール材のそれぞれにおける化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶装置の信頼性を向上させやすくすることができる。
【００１０】
［適用例２］上記の液晶装置であって、画像が表示され得る表示領域と、前記表示領域内に設定された複数の画素と、を有し、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位を有しており、前記位相差部位は、前記反射領域に対応して設けられていることを特徴とする液晶装置。
【００１１】
適用例２の液晶装置は、画像が表示され得る表示領域と、表示領域内に設定された複数の画素とを有している。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位を有している。そして、この液晶装置では、位相差部位は、反射領域に対応して設けられている。このため、入射される光の変調状態を、反射領域と透過領域とで異ならせることができる。これにより、反射表示と透過表示とを実現することができる。
【００１２】
［適用例３］上記の液晶装置であって、前記位相差膜は、光学的に等方性を示す等方部位を有しており、前記等方部位は、前記透過領域に対応して設けられていることを特徴とする液晶装置。
【００１３】
適用例３では、位相差膜が等方部位を有している。等方部位は、透過領域に対応して設けられている。このため、このため、入射される光の変調状態を、反射領域と透過領域とで異ならせることができる。これにより、反射表示と透過表示とを実現することができる。
【００１４】
［適用例４］上記の液晶装置であって、前記位相差膜の前記液晶側には、平面視で前記反射領域に重なる領域に、前記液晶の厚みを前記透過領域における前記液晶の厚みよりも薄くするギャップ調整膜が設けられており、前記隔膜は、前記ギャップ調整膜と同一の階層に設けられていることを特徴とする液晶装置。
【００１５】
適用例４では、位相差膜の液晶側にギャップ調整膜が設けられている。ギャップ調整膜は、平面視で反射領域に重なる領域に設けられており、液晶の厚みを透過領域における液晶の厚みよりも薄くする。そして、隔膜は、ギャップ調整膜と同一の階層に設けられている。このため、ギャップ調整膜を形成するときに、隔膜も形成することができる。
【００１６】
［適用例５］上記の液晶装置であって、前記隔膜は、平面視で、前記表示領域の外側で前記表示領域を囲む領域に設けられていることを特徴とする液晶装置。
【００１７】
適用例５では、隔膜は、平面視で、表示領域の外側で表示領域を囲む領域に設けられている。このため、表示領域内を行き交う光が隔膜に吸収されることを低く抑えることができ、液晶装置の輝度が低下することを避けやすくすることができる。
【００１８】
［適用例６］上記の液晶装置であって、前記隔膜は、無機材料で構成されていることを特徴とする液晶装置。
【００１９】
適用例６では、隔膜が無機材料で構成されているので、隔膜における化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶装置の信頼性を一層向上させやすくすることができる。
【００２０】
［適用例７］上記の液晶装置であって、前記位相差膜は、液晶化合物を含む材料で構成されていることを特徴とする液晶装置。
【００２１】
適用例７では、位相差膜が液晶化合物を含む材料で構成されているので、液晶化合物が光を屈折させる性質を利用することにより、位相差部位で光に位相差を付与することができる。
【００２２】
［適用例８］上記の液晶装置であって、前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記位相差膜を前記液晶側から覆って前記位相差膜を保護する保護膜を有しており、前記隔膜は、前記保護膜で構成されていることを特徴とする液晶装置。
【００２３】
適用例８の液晶装置は、位相差膜及び液晶の間に介在する保護膜を有している。保護膜は、位相差膜を液晶側から覆って位相差膜を保護する。そして、隔膜は、保護膜で構成されている。このため、保護膜で位相差膜を保護することができるとともに、この保護膜で位相差膜及びシール材の間を隔てることができる。
【００２４】
［適用例９］上記の液晶装置であって、前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜を有しており、前記隔膜は、前記配向膜で構成されていることを特徴とする液晶装置。
【００２５】
適用例９の液晶装置は、位相差膜及び液晶の間に介在する配向膜を有している。配向膜は、液晶の配向状態を規制する。そして、隔膜は、配向膜で構成されている。このため、配向膜で液晶の配向状態を規制することができるとともに、この配向膜で位相差膜及びシール材の間を隔てることができる。
【００２６】
［適用例１０］上記の液晶装置であって、前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記位相差膜を前記液晶側から覆って前記位相差膜を保護する保護膜と、前記保護膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜と、を有しており、前記隔膜は、前記保護膜と前記配向膜とを含んだ構成を有していることを特徴とする液晶装置。
【００２７】
適用例１０の液晶装置は、位相差膜及び液晶の間に介在する保護膜と、保護膜及び液晶の間に介在する配向膜とを有している。保護膜は、位相差膜を液晶側から覆って位相差膜を保護する。配向膜は、液晶の配向状態を規制する。そして、隔膜は、保護膜と配向膜とを含んだ構成を有している。このため、保護膜で位相差膜を保護し、配向膜で液晶の配向状態を規制することができるとともに、これらの保護膜及び配向膜で位相差膜及びシール材の間を隔てることができる。
【００２８】
［適用例１１］互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板及び前記液晶の間に介在する位相差膜と、前記一対の基板間に設けられ、平面視で前記液晶及び前記位相差膜を囲むシール材と、を有し、平面視で、前記位相差膜と前記シール材とが離間していることを特徴とする液晶装置。
【００２９】
適用例１１の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜と、シール材とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在している。シール材は、一対の基板間に設けられており、平面視で液晶を囲んでいる。この液晶装置では、平面視で、位相差膜とシール材とが離間している。このため、位相差膜及びシール材が相互に影響し合うことを避けやすくすることができる。これにより、位相差膜及びシール材のそれぞれにおける化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶装置の信頼性を向上させやすくすることができる。
【００３０】
［適用例１２］上記の液晶装置であって、画像が表示され得る表示領域と、前記表示領域内に設定された複数の画素と、を有し、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有しており、前記位相差部位が前記反射領域に対応して設けられており、前記等方部位が前記透過領域に対応して設けられていることを特徴とする液晶装置。
【００３１】
適用例１２の液晶装置は、画像が表示され得る表示領域と、表示領域内に設定された複数の画素とを有している。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。そして、この液晶装置では、位相差部位が反射領域に対応して設けられており、等方部位が透過領域に対応して設けられている。このため、入射される光の変調状態を、反射領域と透過領域とで異ならせることができる。これにより、反射表示と透過表示とを実現することができる。
【００３２】
［適用例１３］上記の液晶装置であって、前記位相差膜は、液晶化合物を含む材料で構成されていることを特徴とする液晶装置。
【００３３】
適用例１３では、位相差膜が液晶化合物を含む材料で構成されているので、液晶化合物が光を屈折させる性質を利用することにより、位相差部位で光に位相差を付与することができる。
【００３４】
［適用例１４］上記の液晶装置であって、前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記位相差膜を前記液晶側から覆って前記位相差膜を保護する保護膜を有しており、前記位相差膜と前記シール材とが、前記保護膜を介して離間していることを特徴とする液晶装置。
【００３５】
適用例１４の液晶装置は、位相差膜及び液晶の間に介在する保護膜を有している。保護膜は、位相差膜を液晶側から覆って位相差膜を保護する。そして、位相差膜とシール材とが、保護膜を介して離間している。このため、保護膜で位相差膜を保護することができるとともに、この保護膜で位相差膜及びシール材の間を隔てることができる。これにより、位相差膜及びシール材が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。この結果、液晶装置の信頼性を一層向上させやすくすることができる。
【００３６】
［適用例１５］上記の液晶装置であって、前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜を有しており、前記位相差膜と前記シール材とが、前記配向膜を介して離間していることを特徴とする液晶装置。
【００３７】
適用例１５の液晶装置は、位相差膜及び液晶の間に介在する配向膜を有している。配向膜は、液晶の配向状態を規制する。そして、位相差膜とシール材とが、配向膜を介して離間している。このため、配向膜で液晶の配向状態を規制することができるとともに、この配向膜で位相差膜及びシール材の間を隔てることができる。これにより、位相差膜及びシール材が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。この結果、液晶装置の信頼性を一層向上させやすくすることができる。
【００３８】
［適用例１６］上記の液晶装置であって、前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記位相差膜を前記液晶側から覆って前記位相差膜を保護する保護膜と、前記保護膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜と、を有しており、前記位相差膜と前記シール材とが、前記保護膜及び前記配向膜を介して離間していることを特徴とする液晶装置。
【００３９】
適用例１６の液晶装置は、位相差膜及び液晶の間に介在する保護膜と、保護膜及び液晶の間に介在する配向膜とを有している。保護膜は、位相差膜を液晶側から覆って位相差膜を保護する。配向膜は、液晶の配向状態を規制する。そして、位相差膜とシール材とが、保護膜及び配向膜を介して離間している。このため、保護膜で位相差膜を保護し、配向膜で液晶の配向状態を規制することができるとともに、これらの保護膜及び配向膜で位相差膜及びシール材の間を隔てることができる。これにより、位相差膜及びシール材が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。この結果、液晶装置の信頼性を一層向上させやすくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
実施形態について、液晶装置の１つである表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
第１実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示パネル３と、照明装置５とを有している。
【００４１】
ここで、表示パネル３には、複数の画素７が設定されている。複数の画素７は、表示領域８内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。表示装置１は、照明装置５から表示パネル３に入射された光を、表示パネル３に設定されている複数の画素７から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に画像を表示することができる。なお、表示領域８とは、画像が表示され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すため、画素７が誇張され、且つ画素７の個数が減じられている。
【００４２】
表示パネル３は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、液晶パネル１０と、偏光板１３ａ及び１３ｂとを有している。
液晶パネル１０は、駆動素子基板１５と、対向基板１７と、液晶１９と、シール材２１とを有している。
駆動素子基板１５には、表示面９側すなわち液晶１９側に、複数の画素７のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。
【００４３】
対向基板１７は、駆動素子基板１５よりも表示面９側で駆動素子基板１５に対向し、且つ駆動素子基板１５との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板１７には、表示パネル３における表示面９の裏面に相当する面である底面２３側すなわち液晶１９側に、後述する位相差膜などが設けられている。
【００４４】
液晶１９は、駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に介在しており、表示パネル３の周縁よりも内側で表示領域８を囲むシール材２１によって、駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に封止されている。なお、本実施形態では、液晶１９の駆動方式として、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型の駆動方式が採用されている。
【００４５】
偏光板１３ａは、駆動素子基板１５よりも底面２３側に設けられている。偏光板１３ｂは、対向基板１７よりも表示面９側に設けられている。表示装置１では、偏光板１３ａ及び１３ｂは、偏光板１３ａにおける光の透過軸の方向と、偏光板１３ｂにおける光の透過軸の方向とが、互いに直交する方向に設定されている。偏光板１３ａ及び１３ｂは、それぞれ、透過軸の方向に偏光軸を有する光を透過させることができる。
【００４６】
なお、偏光板１３ａと駆動素子基板１５との間や、偏光板１３ｂと対向基板１７との間に、光学補償フィルムを設けた構成も採用され得る。光学補償フィルムを設けることで、液晶１９を表示面９の法線方向から見たときや、法線方向から傾斜した方向から見たときなどの液晶１９の位相差を補償することができる。これにより、光漏れを低減することができ、コントラストの向上が図られる。
【００４７】
光学補償フィルムとしては、屈折率異方性が負のディスコティック液晶分子等をハイブリッド配向させた負の一軸性媒体（例えば、富士フィルム製のＷＶフィルム）などが採用され得る。また、屈折率異方性が正のネマチック液晶分子等をハイブリッド配向させた正の一軸性媒体（例えば、日本石油製のＮＨフィルム）なども採用され得る。さらに、負の一軸性媒体と正の一軸性媒体とを組み合わせた構成も採用され得る。その他、各方向の屈折率がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとなる二軸性媒体や、負のＣ−Ｐｌａｔｅ等も採用され得る。
【００４８】
照明装置５は、表示パネル３の底面２３側に設けられており、導光板３１と、光源３３とを有している。導光板３１は、図２で見て表示パネル３の下側に設けられており、表示パネル３の底面２３に対向する光射出面３５ｂを有している。
光源３３は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などが採用され、図２で見て導光板３１の側面３５ａの左方に設けられている。
【００４９】
光源３３からの光は、導光板３１の側面３５ａに入射される。導光板３１に入射された光は、導光板３１の中で反射を繰り返しながら光射出面３５ｂから射出される。光射出面３５ｂから射出された光は、表示パネル３の底面２３から、偏光板１３ａを介して表示パネル３に入射される。なお、導光板３１には、必要に応じて、光射出面３５ｂに拡散板が設けられ、底面３５ｃに反射板が設けられる。
【００５０】
表示パネル３に設定されている複数の画素７は、それぞれ、表示面９から射出する光の色が、図３に示すように、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、Ｒの光を射出する画素７ｒと、Ｇの光を射出する画素７ｇと、Ｂの光を射出する画素７ｂとを含んでいる。
なお、以下においては、画素７という表記と、画素７ｒ、７ｇ及び７ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００５１】
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
【００５２】
マトリクスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７が、１つの画素列４１を構成している。１つの画素列４１内の各画素７は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素７ｒがＹ方向に配列した画素列４１ｒと、複数の画素７ｇがＹ方向に配列した画素列４１ｇと、複数の画素７ｂがＹ方向に配列した画素列４１ｂとを有している。そして、マトリクスＭでは、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂが、この順でＸ方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列４１という表記と、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００５３】
各画素７は、図３中のＣ部の拡大図である図４に示すように、透過領域Ｔと、反射領域Ｈとを有している。なお、図４では、構成をわかりやすく示すため、反射領域Ｈにハッチングが施されている。
透過領域Ｔでは、図２に示す照明装置５から底面２３を介して液晶１９に入射された光を表示面９側に透過させることによって、透過表示が行われる。
【００５４】
反射領域Ｈでは、表示面９を介して液晶１９に入射された外光を、後述する反射膜で表示面９側に反射させて、その反射光を表示面９側に射出することによって、反射表示が行われる。なお、外光とは、表示パネル３の表示面９から入射されるあらゆる光である。外光には、例えば、屋内外の照明光や、太陽光などが含まれる。
【００５５】
ここで、液晶パネル１０の駆動素子基板１５及び対向基板１７のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
駆動素子基板１５は、図４中のＤ−Ｄ線における断面図である図５に示すように、第１基板５１を有している。第１基板５１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた第１面５３ａと、底面２３側に向けられた第２面５３ｂとを有している。
【００５６】
第１基板５１の第１面５３ａには、ゲート絶縁膜５７が設けられている。ゲート絶縁膜５７の表示面９側には、絶縁膜５９が設けられている。絶縁膜５９の表示面９側には、配向膜６１が設けられている。
また、駆動素子基板１５には、各画素７に対応して、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６３と、反射膜６５と、共通電極６７と、画素電極６９とが、第１基板５１の第１面５３ａ側に設けられている。
【００５７】
ＴＦＴ素子６３は、ゲート電極７１と、半導体層７３と、ソース電極７５と、ドレイン電極７７とを有している。
ゲート電極７１は、第１基板５１の第１面５３ａに設けられており、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。なお、ゲート電極７１の材料としては、例えば、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。また、ゲート絶縁膜５７の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
半導体層７３は、例えばアモルファスシリコンで構成されており、ゲート絶縁膜５７を挟んでゲート電極７１に対向する位置に設けられている。
【００５８】
ソース電極７５は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層７３に重なっている。ドレイン電極７７は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層７３に重なっている。上記の構成を有するＴＦＴ素子６３は、半導体層７３がゲート電極７１と、ソース電極７５及びドレイン電極７７との間に位置する所謂ボトムゲート型である。
そして、ＴＦＴ素子６３は、絶縁膜５９によって表示面９側から覆われている。なお、絶縁膜５９の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。
【００５９】
反射膜６５は、第１基板５１の第１面５３ａに設けられており、平面視で反射領域Ｈに重なっている。反射膜６５の材料としては、例えばアルミニウムなどの光反射性を有する材料が採用され得る。
共通電極６７は、第１基板５１の第１面５３ａ側に設けられており、平面視で透過領域Ｔ及び反射領域Ｈに重なっている。共通電極６７は、反射領域Ｈにおいて、反射膜６５の表示面９側に重なっている。共通電極６７の材料としては、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの光透過性を有する材料が採用され得る。
これらの反射膜６５及び共通電極６７は、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。
【００６０】
画素電極６９は、絶縁膜５９の表示面９側に設けられている。画素電極６９は、絶縁膜５９に設けられたコンタクトホール７９を介して、透過領域Ｔ内でドレイン電極７７につながっている。画素電極６９の材料としては、例えばＩＴＯなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
配向膜６１は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、絶縁膜５９及び画素電極６９を表示面９側から覆っている。なお、配向膜６１には、配向処理が施されている。
【００６１】
対向基板１７は、第２基板８１を有している。第２基板８１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた外向面８３ａと、底面２３側に向けられた対向面８３ｂとを有している。
第２基板８１の対向面８３ｂには、各画素７を区画する光吸収層８５が領域８６にわたって設けられている。光吸収層８５は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有する樹脂などで構成されており、平面視で格子状に設けられている。表示装置１では、各画素７は、光吸収層８５によって囲まれた領域であると定義され得る。
【００６２】
また、第２基板８１の対向面８３ｂには、光吸収層８５によって囲まれた各領域、すなわち各画素７の領域を底面２３側から覆うカラーフィルタ８７が設けられている。
ここで、カラーフィルタ８７は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルタ８７は、画素７ｒ、画素７ｇ及び画素７ｂごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。画素７ｒに対応するカラーフィルタ８７は、Ｒの光を透過させることができる。画素７ｇに対応するカラーフィルタ８７はＧの光を透過させ、画素７ｂに対応するカラーフィルタ８７はＢの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルタ８７に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラーフィルタ８７ｒ、８７ｇ及び８７ｂという表記が用いられる。
【００６３】
光吸収層８５及びカラーフィルタ８７の底面２３側には、オーバーコート層９１が設けられている。オーバーコート層９１は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７を底面２３側から覆っている。
オーバーコート層９１の底面２３側には、第１配向膜９３が設けられている。第１配向膜９３の底面２３側には、位相差膜９５が設けられている。位相差膜９５の底面２３側には、第２配向膜９７が設けられている。また、位相差膜９５と第２配向膜９７との間には、平面視で複数の画素７の各反射領域Ｈに重なる領域にギャップ調整膜９９が設けられている。
【００６４】
第１配向膜９３は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、オーバーコート層９１を底面２３側から覆っている。第１配向膜９３には、底面２３側から配向処理が施されている。
位相差膜９５は、例えば液晶化合物を含む材料で構成されており、第１配向膜９３を底面２３側から覆っている。
ギャップ調整膜９９は、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されており、位相差膜９５の底面２３側に設けられている。
各画素７において、位相差膜９５及びギャップ調整膜９９は、第２配向膜９７によって底面２３側から覆われている。
【００６５】
駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に介在する液晶１９は、配向膜６１と第２配向膜９７との間に介在している。液晶パネル１０では、各画素７において、透過領域Ｔと反射領域Ｈとで液晶１９の厚みが異なる所謂マルチギャップ構造が採用されている。
透過領域Ｔにおいて、液晶１９は、Ｌ１なる厚みを有している。これに対し、反射領域Ｈでは、液晶１９の厚みＬ２が、Ｌ１＞Ｌ２となるように、ギャップ調整膜９９の厚みが設定されている。なお、液晶パネル１０では、Ｌ１は、Ｌ２の約２倍に設定されている。
【００６６】
ここで、位相差膜９５は、図５中のＥ部を示す図である図６に示すように、画素７ごとに位相差部位１０１と等方部位１０３とを有している。
位相差部位１０１は、平面視で反射領域Ｈに重なっている。位相差部位１０１は、この位相差部位１０１に入射された光に、１／２波長の位相差を与える。
等方部位１０３は、平面視で透過領域Ｔに重なっている。等方部位１０３は、光学的に等方性を示す部位である。
【００６７】
位相差部位１０１は、図６中のＦ−Ｆ線における断面図である図７に示すように、Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連している。つまり、位相差部位１０１は、Ｘ方向に並ぶ複数の反射領域Ｈに、図３に示すマトリクスＭの画素行４２単位で重なっている。
同様に、等方部位１０３も、Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連しており、Ｘ方向に並ぶ複数の透過領域Ｔに画素行４２単位で重なっている。
【００６８】
液晶１９を囲むシール材２１は、図２中のＫ部の拡大図である図８に示すように、表示領域８の外側に設けられており、表示領域８の外側で液晶１９を表示領域８ごと囲んでいる。なお、液晶パネル１０では、シール材２１が設けられている領域は、平面図である図９に示すように、シール領域２１ａと呼ばれる。この図９では、構成をわかりやすく示すため、表示領域８及びシール領域２１ａのそれぞれにハッチングが施されている。
【００６９】
対向基板１７において、位相差膜９５は、図８に示すように、表示領域８の内側からシール領域２１ａの内側に及んでいる。
また、第２配向膜９７は、表示領域８の内側から表示領域８の外側に及んでいるが、平面視でシール材２１に囲まれた領域内にとどめられている。
【００７０】
ここで、対向基板１７には、平面視でシール領域２１ａに重なる保護膜１０５が設けられている。保護膜１０５は、位相差膜９５の底面２３側に設けられており、シール領域２１ａの内側から、表示領域８とシール領域２１ａとの間の領域１０６内に及んでいる。保護膜１０５は、平面図である図１０に示すように、表示領域８の外側に環状に設けられており、表示領域８の外側で表示領域８を囲んでいる。この図１０では、構成をわかりやすく示すため、表示領域８及び保護膜１０５が設けられる領域のそれぞれにハッチングが施されている。
シール材２１は、図８に示すように、配向膜６１と保護膜１０５との間に設けられており、これらの配向膜６１及び保護膜１０５によって挟持されている。シール材２１と位相差膜９５とは、保護膜１０５によって隔てられている。
【００７１】
ここで、各画素７におけるＴＦＴ素子６３、共通電極６７及び画素電極６９の配置について説明する。
画素電極６９は、平面図である図１１に示すように、画素７の領域にわたって設けられており、複数のスリット部１１１を有している。図１１では、構成をわかりやすく示すため、画素電極６９にハッチングが施されている。
複数のスリット部１１１は、各スリット部１１１がＹ方向に交差する方向に沿って延びており、Ｙ方向に沿って所定間隔で並んでいる。なお、各スリット部１１１が延びる方向は、Ｘ方向から傾斜している。
【００７２】
共通電極６７は、画素電極６９を覆う領域に設けられている。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、共通電極６７同士は、共通線１１３によって接続されている。
各画素７において、共通電極６７及び画素電極６９は、それぞれの周縁部が領域８６に重なっている。
なお、図５に示す反射膜６５は、図１１に示す境界部１１５よりも反射領域Ｈ側で、共通電極６７に重なっている。従って、反射領域Ｈは、各画素７と反射膜６５とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。また、透過領域Ｔは、各画素７から反射領域Ｈを除いた領域と、共通電極６７とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。
【００７３】
ＴＦＴ素子６３は、図１１で見て透過領域Ｔの左側の領域８６内に設けられており、ドレイン電極７７が領域８６内から透過領域Ｔ内に及んでいる。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、ゲート電極７１同士は、ゲート線１１７によって接続されている。また、Ｙ方向に隣り合う画素７間において、ソース電極７５同士は、データ線１１９によって接続されている。
なお、図５におけるＴＦＴ素子６３、反射膜６５、共通電極６７及び画素電極６９の断面は、図１１中のＪ−Ｊ線における断面に相当している。
【００７４】
共通電極６７と画素電極６９との間に電圧を印加すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。液晶パネル１０では、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態からＯＮ状態に変化すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。この電界によって液晶１９の配向状態を変化させることができる。
表示装置１では、照明装置５から表示パネル３に光を照射した状態で、液晶１９の配向状態を画素７ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶１９の配向状態は、ＴＦＴ素子６３のＯＦＦ状態及びＯＮ状態を切り替えることによって変化し得る。
【００７５】
配向膜６１及び第２配向膜９７のそれぞれには、配向処理が施されている。配向処理が施された配向膜６１及び第２配向膜９７によって、液晶１９の初期的な配向状態が規制される。
図１２（ａ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときの透過領域Ｔにおける偏光状態を示す図であり、図１２（ｂ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときの透過領域Ｔにおける偏光状態を示す図である。
表示装置１では、液晶１９の初期的な配向方向１２１は、図１２（ａ）に示すように、偏光板１３ａの透過軸１２３ａに沿った方向に設定されている。
ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態に切り替わると、液晶１９の配向方向１２１は、図１２（ｂ）に示すように、平面視で偏光板１３ａの透過軸１２３ａに対してこの図で見て反時計方向に４５度の傾きを有する方向に変化する。
【００７６】
図１３（ａ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときの反射領域Ｈにおける偏光状態を示す図であり、図１３（ｂ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときの反射領域Ｈにおける偏光状態を示す図である。
反射領域Ｈにおける液晶１９の配向方向１２１は、図１３（ａ）及び図１３（ｂ）のそれぞれに示すように、透過領域Ｔと同様である。
【００７７】
なお、図１２（ａ）及び図１２（ｂ）、並びに図１３（ａ）及び図１３（ｂ）において、Ｘ'方向及びＹ'方向は、Ｘ'方向が偏光板１３ａの透過軸１２３ａに沿った方向を示し、Ｙ'方向が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに沿った方向を示している。Ｘ'方向及びＹ'方向は、ＸＹ平面内で互いに直交する任意の２方向である。
【００７８】
透過領域Ｔでは、底面２３側から偏光板１３ａを経て入射された入射光は、図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように、偏光板１３ａの透過軸１２３ａに沿った偏光軸を有する直線偏光１２５として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された直線偏光１２５は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときに、図１２（ａ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１に沿っている。このため、液晶１９に入射された直線偏光１２５は、偏光状態が維持されたまま直線偏光１２５として位相差膜９５の等方部位１０３に入射される。
【００７９】
等方部位１０３に入射された直線偏光１２５は、偏光状態が維持されたまま等方部位１０３を透過して、直線偏光１２５として偏光板１３ｂに入射される。
偏光板１３ｂに入射された直線偏光１２５は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに対して直交しているため、偏光板１３ｂによって吸収される。
【００８０】
他方で、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときに、直線偏光１２５は、図１２（ｂ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１とは交差している。このため、液晶１９に入射された直線偏光１２５は、液晶１９によって１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１２５の偏光軸に直交する偏光軸を有する直線偏光１２７として位相差膜９５の等方部位１０３に入射される。
【００８１】
等方部位１０３に入射された直線偏光１２７は、偏光状態が維持されたまま等方部位１０３を透過して、直線偏光１２７として偏光板１３ｂに入射される。偏光板１３ｂに入射された直線偏光１２７は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂの方向に沿っているため、偏光板１３ｂを透過する。
このように、透過領域Ｔでは、ＴＦＴ素子６３のＯＮ状態及びＯＦＦ状態の切り替えにより、透過表示が制御される。
【００８２】
反射領域Ｈでは、表示面９側から偏光板１３ｂを経て入射された入射光は、図１３（ａ）及び図１３（ｂ）に示すように、偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに沿った偏光軸を有する直線偏光１２９として位相差膜９５の位相差部位１０１に入射される。
ここで、位相差部位１０１の遅相軸１３１は、平面視でＸ'方向に対してこれらの図で見て反時計方向に６７．５度の傾きを有する方向に設定されている。
従って、位相差部位１０１に入射された直線偏光１２９は、１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１３３として液晶１９に入射される。直線偏光１３３の偏光軸は、平面視でＸ'方向に対して図１３（ａ）及び図１３（ｂ）で見て反時計方向に４５度の傾きを有する方向に沿っている。
【００８３】
液晶１９に入射された直線偏光１３３は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときに、図１３（ａ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１とは交差している。このため、液晶１９に入射された直線偏光１３３は、１／４波長の位相差が与えられ、この図で見て左回りの円偏光１３５として反射膜６５に向けて射出される。
円偏光１３５は、反射膜６５で反射され、この図で見て右回りすなわち円偏光１３５とは逆回転の円偏光１３７として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された円偏光１３７は、１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'方向に対してこの図で見て反時計方向に１３５度の傾きを有する方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１３９として位相差部位１０１に入射される。
【００８４】
位相差部位１０１に入射された直線偏光１３９は、１／２波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４１として偏光板１３ｂに入射される。
偏光板１３ｂに入射された直線偏光１４１は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに対して直交しているため、偏光板１３ｂによって吸収される。
【００８５】
他方で、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときに、液晶１９に入射された直線偏光１３３は、図１３（ｂ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１に沿っているため、偏光状態が維持されたまま直線偏光１３３として反射膜６５に向けて射出される。
反射膜６５に向けて射出された直線偏光１３３は、偏光状態が維持されたまま反射膜６５で反射され、液晶１９に入射される。
【００８６】
反射膜６５から液晶１９に入射された直線偏光１３３は、偏光状態が維持されたまま位相差部位１０１に入射される。位相差部位１０１に入射された直線偏光１３３は、１／２波長の位相差が与えられ、平面視でＹ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４３として偏光板１３ｂに入射される。偏光板１３ｂに入射された直線偏光１４３は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂの方向に沿っているため、偏光板１３ｂを透過する。
このように、反射領域Ｈにおいても、透過領域Ｔと同様にＴＦＴ素子６３のＯＮ状態及びＯＦＦ状態の切り替えにより、反射表示が制御される。
【００８７】
ここで、表示装置１の製造方法について説明する。
表示装置１の製造方法は、基板の製造工程と、液晶パネル１０の製造工程と、表示パネル３の製造工程と、表示装置１の製造工程とに大別される。
まず、基板の製造工程について説明する。
基板の製造工程は、駆動素子基板１５の製造工程と、対向基板１７の製造工程とに大別される。
【００８８】
駆動素子基板１５の製造工程では、図１４（ａ）に示すように、まず、第１基板５１の第１面５３ａに、ゲート電極７１と、反射膜６５とを形成する。ゲート電極７１や反射膜６５は、例えばスパッタリング技術を活用して第１面５３ａに金属膜を形成してから、金属膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
次いで、第１基板５１の第１面５３ａ側に、スパッタリング技術、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、共通電極６７を形成する。
【００８９】
次いで、ゲート電極７１及び共通電極６７を第１面５３ａ側から覆うゲート絶縁膜５７を形成する。ゲート絶縁膜５７は、例えば、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）技術、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）技術、蒸着技術などを活用することによって、窒化シリコンや酸化シリコンなどで形成され得る。
【００９０】
次いで、図１４（ｂ）に示すように、ゲート絶縁膜５７上に、半導体層７３を形成してから、半導体層７３の一部に重なるソース電極７５とドレイン電極７７とを形成する。これにより、ＴＦＴ素子６３が形成される。
なお、ソース電極７５及びドレイン電極７７は、例えばスパッタリング技術を活用してゲート絶縁膜５７上に金属膜を形成してから、この金属膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
【００９１】
次いで、図１４（ｃ）に示すように、ＴＦＴ素子６３及びゲート絶縁膜５７を第１面５３ａ側から覆う絶縁膜５９を形成する。絶縁膜５９は、例えば、ＣＶＤ技術、ＰＶＤ技術、蒸着技術などを活用することによって、窒化シリコンや酸化シリコンなどで形成され得る。また、絶縁膜５９は、例えば、スピンコート技術を活用することによって、アクリル系の樹脂などによっても形成され得る。
次いで、絶縁膜５９に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、ＴＦＴ素子６３のドレイン電極７７に至るコンタクトホール７９を形成する。
【００９２】
次いで、絶縁膜５９上に、スパッタリング技術などを活用して、ＩＴＯの膜を形成する。
次いで、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、ＩＴＯの膜をパターニングして、図１４（ｄ）に示すように、画素電極６９を形成する。
【００９３】
次いで、画素電極６９及び絶縁膜５９上に、ポリイミドなどの樹脂で画素電極６９を覆う樹脂膜を形成する。樹脂膜は、例えば、スピンコート技術を活用することにより形成され得る。
次いで、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施すことにより、図５に示す配向膜６１が形成される。これにより、駆動素子基板１５が製造され得る。
【００９４】
対向基板１７の製造工程では、図１５（ａ）に示すように、まず、第２基板８１の対向面８３ｂに、光吸収層８５を、平面視で格子状に形成する。光吸収層８５は、カーボンブラックやクロムなどを含有する樹脂膜を形成してから、この樹脂膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
【００９５】
次いで、光吸収層８５によって囲まれる各画素７の領域内に、カラーフィルタ８７を形成する。カラーフィルタ８７は、Ｒ、Ｇ及びＢの各光に対応する着色剤が含有された樹脂を、各画素７の領域内に配置することによって形成され得る。なお、各画素７の領域内への樹脂の配置は、例えば、インクジェット技術や蒸着技術を活用することにより行われ得る。
次いで、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７上にオーバーコート層９１を形成する。オーバーコート層９１は、例えばスピンコート技術を活用して、光透過性を有する樹脂で形成され得る。
【００９６】
次いで、図１５（ｂ）に示すように、オーバーコート層９１上に第１配向膜９３を形成する。第１配向膜９３の形成では、例えばスピンコート技術を活用して、ポリイミドなどの樹脂でオーバーコート層９１上に樹脂膜を形成してから、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施す。これにより、第１配向膜９３が形成され得る。
【００９７】
次いで、図１５（ｃ）に示すように、ネガ型の感光性を有する液晶化合物が含有された液状体９５ａで、第１配向膜９３上に液状体膜９５ｂを形成する。液状体膜９５ｂは、例えばスピンコート技術を活用することにより形成され得る。
なお、液状体９５ａとしては、液晶化合物と溶媒とを混合したものに光重合開始剤を添加した構成が採用され得る。
液晶化合物としては、例えばＢＡＳＦ社製のＬＣ２４２などが採用され得る。溶媒としては、例えばシクロペンタノンなどが採用され得る。光重合開始剤としては、例えばチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア９０７などが採用され得る。
【００９８】
ここで、液状体膜９５ｂに含まれる液晶化合物は、配向処理が施された第１配向膜９３によって分子の配向状態が規制される。これにより、液状体膜９５ｂには、屈折率に異方性が発現する。
なお、屈折率に異方性が発現する配向状態は、位相差配向状態と呼ばれる。
【００９９】
次いで、図１５（ｄ）に示すように、フォトマスク１５１を介して、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。ここで、フォトマスク１５１には、反射領域Ｈに重なる領域に開口部１５５が設けられている。液状体膜９５ｂには、開口部１５５を介して紫外光１５３が照射される。そして、液状体膜９５ｂのうちで露光された部位が硬化する。
これにより、液状体膜９５ｂに、図１６（ａ）に示す位相差部位１０１が形成される。
【０１００】
次いで、図１６（ａ）に示す液状体膜９５ｂを約１００℃に保つ。液状体膜９５ｂを約１００℃に保つと、液晶化合物の分子は、配向状態の規制が解かれやすい。これにより、液状体膜９５ｂは、光学的に等方性を示すようになる。なお、光学的に等方性を示す配向状態は、等方配向状態と呼ばれる。
位相差配向状態にある液状体膜９５ｂを約１００℃に保つことには、位相差配向状態を等方配向状態に転移させるという意味がある。
【０１０１】
次いで、液状体膜９５ｂが等方配向状態のときに、図１６（ｂ）に示すように、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。このとき、液状体膜９５ｂが等方配向状態のままで硬化する。これにより、図６に示す等方部位１０３が形成され、等方部位１０３と位相差部位１０１とを有する位相差膜９５が形成され得る。
【０１０２】
次いで、図１６（ｃ）に示すように、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂などで位相差膜９５上に樹脂膜９９ａを形成する。樹脂膜９９ａは、例えばスピンコート技術を活用することによって形成され得る。
次いで、例えばフォトリソグラフィ技術を活用して、樹脂膜９９ａをパターニングすることにより、図１６（ｄ）に示すギャップ調整膜９９を形成する。
【０１０３】
ここで、液晶パネル１０では、対向基板１７の製造工程においてギャップ調整膜９９を形成するときに、図８に示す保護膜１０５も形成する。これは、樹脂膜９９ａをパターニングするときに、ギャップ調整膜９９及び保護膜１０５の双方を一緒にパターニングすることによって達成され得る。
ギャップ調整膜９９及び保護膜１０５の双方を一緒にパターニングすることにより、ギャップ調整膜９９及び保護膜１０５を同一階層に形成することができる。これにより、ギャップ調整膜９９及び保護膜１０５は、図８に示すように、位相差膜９５の底面２３側に同一階層で形成される。
【０１０４】
ギャップ調整膜９９及び保護膜１０５の形成に次いで、図８に示すように、表示領域８内においてギャップ調整膜９９及び位相差膜９５を底面側から覆う第２配向膜９７を形成する。
第２配向膜９７の形成では、ポリイミドなどの樹脂で位相差膜９５及びギャップ調整膜９９上に樹脂膜を形成してから、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施す。なお、このときの樹脂膜の形成では、例えば、ディスペンサを用いた塗布技術や、インクジェット技術、印刷技術などを活用して、樹脂膜の縁部を領域１０６内にとどめる。
これにより、対向基板１７が製造され得る。
【０１０５】
液晶パネル１０の製造工程では、まず、駆動素子基板１５と対向基板１７とを、駆動素子基板１５及び対向基板１７のいずれか一方に平面視で環状に設けられたシール材２１（図２）を介して接合する。このとき、シール材２１は、平面視で環状の輪郭の一部を欠いた状態で設けられる。シール材２１の環状の輪郭の一部を欠いた部分は、液晶１９の注入口となる。
次いで、液晶１９をこの注入口から注入してから、注入口を塞いで液晶１９を封入する。これにより、図２に示す液晶パネル１０が製造され得る。
【０１０６】
表示パネル３の製造工程では、図２に示す偏光板１３ａ及び１３ｂを液晶パネル１０に設ける。偏光板１３ａは第１基板５１の第２面５３ｂ（図５）に設けられ、偏光板１３ｂは、第２基板８１の外向面８３ａ（図５）に設けられる。これにより、図２に示す表示パネル３が製造され得る。
なお、偏光板１３ａ及び１３ｂは、液晶パネル１０を製造する前に、第１基板５１及び第２基板８１に設けられていてもよい。
表示装置１の製造工程では、表示パネル３と照明装置５とを組み合わせることにより、表示装置１が製造され得る。
【０１０７】
第１実施形態において、第１基板５１及び第２基板８１が一対の基板に対応し、第２基板８１が一方の基板に対応し、第１基板５１が他方の基板に対応し、第２配向膜９７が配向膜に対応し、保護膜１０５が隔膜に対応している。
【０１０８】
表示装置１では、液晶パネル１０において、位相差膜９５及びシール材２１の間が保護膜１０５によって隔てられるので、位相差膜９５及びシール材２１が相互に化学的に影響し合うことを避けやすくすることができる。このため、位相差膜９５及びシール材２１のそれぞれにおける化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶パネル１０の信頼性を向上させやすくすることができる。従って、表示装置１の信頼性を向上させやすくすることができる。
【０１０９】
また、表示装置１では、保護膜１０５がギャップ調整膜９９と同一階層に設けられている。このため、ギャップ調整膜９９を形成するときに、保護膜１０５も合わせて形成することができる。これにより、保護膜１０５の形成にかかる時間を省略することができるので、製造工程の効率化が図られる。
【０１１０】
また、表示装置１では、保護膜１０５は、平面視で、表示領域８の外側に設けられており、表示領域８の外側で表示領域８を囲んでいる。つまり、保護膜１０５は、平面視で表示領域８を避けて設けられている。このため、保護膜１０５が表示領域８に重なっていないので、表示領域８内を行き交う表示に寄与する光が保護膜１０５に吸収されてしまうことを低く抑えることができる。この結果、表示装置１の輝度が低下することを避けやすくすることができる。
【０１１１】
なお、対向基板１７では、保護膜１０５の材料がアクリル系やエポキシ系の樹脂で構成されているが、保護膜１０５の材料はこれらに限定されず、無機材料も採用され得る。無機材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどが採用され得る。保護膜１０５が無機材料で構成される場合、保護膜１０５の形成と、ギャップ調整膜９９の形成とは、それぞれ別個に行われる。
【０１１２】
この場合、保護膜１０５の形成と、ギャップ調整膜９９の形成とは、いずれが先でも後でもかまわない。また、ギャップ調整膜９９の形成、第２配向膜９７の形成及び保護膜１０５の形成の流れとしては、種々の流れが考えられる。例えば、保護膜１０５を形成してからギャップ調整膜９９及び第２配向膜９７を形成する流れや、ギャップ調整膜９９を形成してから保護膜１０５を形成した後に第２配向膜９７を形成する流れや、ギャップ調整膜９９及び第２配向膜９７を形成してから保護膜１０５を形成する流れなどが考えられる。
なお、無機材料で保護膜１０５を形成する方法としては、マスクをした状態で蒸着やＣＶＤやＰＶＤなどを施す方法が採用され得る。
【０１１３】
無機材料では樹脂などに比較して化学的な安定性が高いので、表示装置１の信頼性を一層向上させやすくすることができる。また、無機材料では樹脂などに比較して化学的な安定性が高いので、信頼性を維持しつつ保護膜１０５の厚みを樹脂よりも薄くしやすい。このため、表示装置１の薄型化を図りやすい。
【０１１４】
また、対向基板１７の構成としては、図１７に示すように、位相差膜９５の底面２３側に位相差膜９５を保護する保護膜１６１を設けた対向基板１７ａの構成も採用され得る。保護膜１６１の材料としては、アクリル系やエポキシ系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。
保護膜１６１を有する対向基板１７ａにおいて、保護膜１６１は、表示領域８の内側からシール領域２１ａの内側に及んでいる。そして、ギャップ調整膜９９及び保護膜１０５は、保護膜１６１の底面２３側に設けられている。
【０１１５】
対向基板１７ａでは、ギャップ調整膜９９及び保護膜１０５を保護膜１６１の底面２３側に設けた構成としたが、対向基板１７ａの構成はこれに限定されない。
対向基板１７ａの構成としては、図１８に示すように、保護膜１６１をギャップ調整膜９９及び保護膜１０５の底面２３側に設けた対向基板１７ｂの構成も採用され得る。
【０１１６】
保護膜１６１が設けられた対向基板１７ａ（図１７）や、対向基板１７ｂ（図１８）を有する液晶パネル１０では、保護膜１０５及び保護膜１６１が隔膜に対応し、保護膜１６１が保護膜に対応している。
対向基板１７ａや、対向基板１７ｂを有する液晶パネル１０においても、対向基板１７を有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
さらに、対向基板１７ａや、対向基板１７ｂでは、シール材２１と位相差膜９５との間を保護膜１０５と保護膜１６１とで隔てることができる。これにより、シール材２１と位相差膜９５との間の間隔を一層広げやすくすることができ、表示装置１の信頼性を一層向上させやすくすることができる。
【０１１７】
対向基板１７ａや、対向基板１７ｂでは、保護膜１６１が設けられているので、保護膜１０５を省略することができる。
対向基板１７ａから保護膜１０５が省略された液晶パネル１０は、図１９に示すように、対向基板１７ｃを有している。対向基板１７ｃでは、保護膜１６１は、位相差膜９５とギャップ調整膜９９との間に設けられている。
また、対向基板１７ｂから保護膜１０５が省略された液晶パネル１０は、図２０に示すように、対向基板１７ｄを有している。対向基板１７ｄでは、保護膜１６１は、ギャップ調整膜９９と第２配向膜９７の間に設けられている。
【０１１８】
対向基板１７ｃ（図１９）や、対向基板１７ｄ（図２０）を有する液晶パネル１０では、保護膜１６１が隔膜に対応している。
対向基板１７ｃや、対向基板１７ｄを有する液晶パネル１０においても、対向基板１７を有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
さらに、対向基板１７ｃや、対向基板１７ｄでは、保護膜１０５が省略されているので、表示装置１の薄型化を図りやすい。
【０１１９】
また、対向基板１７を有する液晶パネル１０では、第２配向膜９７の形成においてディスペンサを用いた塗布技術や、インクジェット技術、印刷技術などを活用して樹脂膜を形成してから、この樹脂膜に配向処理を施すようにしたが、樹脂膜の形成方法はこれに限定されない。樹脂膜の形成方法としては、例えばスピンコート技術なども活用され得る。
スピンコート技術を活用して第２配向膜９７を形成する場合、第２配向膜９７は、図２１に示すように、表示領域８の内側からシール領域２１ａの内側に及んでいる。
【０１２０】
表示領域８の内側からシール領域２１ａの内側に及ぶ第２配向膜９７を有する対向基板１７ｅでは、シール材２１と位相差膜９５との間が、第２配向膜９７及び保護膜１０５によって隔てられ得る。
対向基板１７ｅを有する液晶パネル１０では、第２配向膜９７及び保護膜１０５が隔膜に対応している。
【０１２１】
対向基板１７ｅを有する液晶パネル１０においても、対向基板１７を有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
さらに、対向基板１７ｅでは、シール材２１と位相差膜９５との間を第２配向膜９７と保護膜１０５とで隔てることができる。これにより、シール材２１と位相差膜９５との間の間隔を一層広げやすくすることができ、表示装置１の信頼性を一層向上させやすくすることができる。
【０１２２】
対向基板１７ｅの構成としては、保護膜１６１を付加した構成も採用され得る。
対向基板１７ｅに保護膜１６１が付加された液晶パネル１０は、図２２に示すように、対向基板１７ｆを有している。
また、対向基板１７ｅに保護膜１６１が付加された他の液晶パネル１０は、図２３に示すように、対向基板１７ｇを有している。
【０１２３】
対向基板１７ｆや、対向基板１７ｇを有する液晶パネル１０では、第２配向膜９７並びに保護膜１０５及び保護膜１６１が隔膜に対応している。
対向基板１７ｆや、対向基板１７ｇを有する液晶パネル１０においても、対向基板１７を有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
さらに、対向基板１７ｆや、対向基板１７ｇでは、シール材２１と位相差膜９５との間を第２配向膜９７と保護膜１０５と保護膜１６１とで隔てることができる。これにより、シール材２１と位相差膜９５との間の間隔を一層広げやすくすることができ、表示装置１の信頼性を一層向上させやすくすることができる。
【０１２４】
対向基板１７ｅや対向基板１７ｆや対向基板１７ｇの構成としては、第２配向膜９７が表示領域８の内側からシール領域２１ａの内側に及んでいるので、保護膜１０５を省略した構成も採用され得る。
対向基板１７ｅから保護膜１０５が省略された液晶パネル１０は、図２４に示すように、対向基板１７ｈを有している。対向基板１７ｈを有する液晶パネル１０では、第２配向膜９７が隔膜に対応している。対向基板１７ｈを有する液晶パネル１０においても、対向基板１７を有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
【０１２５】
対向基板１７ｆから保護膜１０５が省略された液晶パネル１０は、図２５に示すように、対向基板１７ｉを有している。対向基板１７ｉでは、保護膜１６１は、位相差膜９５とギャップ調整膜９９との間に設けられている。
対向基板１７ｇから保護膜１０５が省略された液晶パネル１０は、図２６に示すように、対向基板１７ｊを有している。対向基板１７ｊでは、保護膜１６１は、ギャップ調整膜９９と第２配向膜９７の間に設けられている。
【０１２６】
対向基板１７ｉや、対向基板１７ｊを有する液晶パネル１０では、第２配向膜９７及び保護膜１６１が隔膜に対応している。
対向基板１７ｉや、対向基板１７ｊを有する液晶パネル１０においても、対向基板１７を有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
さらに、対向基板１７ｉや、対向基板１７ｊでは、保護膜１０５が省略されているので、表示装置１の薄型化を図りやすい。
【０１２７】
対向基板１７ｈや対向基板１７ｉや対向基板１７ｊの構成としては、第２配向膜９７の底面２３側に保護膜１０５を付加した構成も採用され得る。
対向基板１７ｈにおいて第２配向膜９７の底面２３側に保護膜１０５が付加された液晶パネル１０は、図２７に示すように、対向基板１７ｋを有している。対向基板１７ｋを有する液晶パネル１０では、保護膜１０５及び第２配向膜９７が隔膜に対応している。
対向基板１７ｋを有する液晶パネル１０においても、対向基板１７ｅを有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
【０１２８】
対向基板１７ｉにおいて第２配向膜９７の底面２３側に保護膜１０５が付加された液晶パネル１０は、図２８に示すように、対向基板１７ｍを有している。
対向基板１７ｊにおいて第２配向膜９７の底面２３側に保護膜１０５が付加された液晶パネル１０は、図２９に示すように、対向基板１７ｎを有している。
対向基板１７ｍや、対向基板１７ｎを有する液晶パネル１０では、保護膜１０５、第２配向膜９７及び保護膜１６１が隔膜に対応している。
対向基板１７ｍや、対向基板１７ｎを有する液晶パネル１０においても、対向基板１７ｆや、対向基板１７ｇを有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
【０１２９】
また、対向基板１７ａ、１７ｂ、１７ｅ、１７ｆ、１７ｇ、１７ｋ、１７ｍ、１７ｎのいずれにおいても、保護膜１０５の材料としては無機材料も採用され得る。
【０１３０】
ここで、第２実施形態について説明する。
第２実施形態における表示装置１は、図２中のＫ部の拡大図である図３０に示すように、液晶パネル１０が対向基板２０を有している。第２実施形態における表示装置１は、第１実施形態における対向基板１７が対向基板２０に替えられていることを除いては、第１実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。
従って、以下の第２実施形態では、重複した説明を避けるため、第１実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略し、第１実施形態と異なる点のみについて説明する。
【０１３１】
対向基板２０では、第１配向膜９３及び位相差膜９５は、それぞれ、表示領域８の内側から表示領域８の外側に及んでいるが、平面視でシール材２１に囲まれた領域内にとどめられている。つまり、第１配向膜９３及び位相差膜９５のそれぞれの縁部は、領域１０６内にとどめられている。
また、対向基板２０では、図８に示す対向基板１７の保護膜１０５が省略されている。
【０１３２】
第１配向膜９３の形成では、ポリイミドなどの樹脂でオーバーコート層９１上に樹脂膜を形成してから、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施す。なお、この樹脂膜の形成では、例えば、ディスペンサを用いた塗布技術や、インクジェット技術、印刷技術などを活用して、樹脂膜の縁部を領域１０６内にとどめる。これにより、図３０に示す第１配向膜９３が形成され得る。
【０１３３】
位相差膜９５の形成では、等方部位１０３を形成するときに、シール領域２１ａから領域１０６内に及ぶ範囲をフォトマスク１５１で遮光した状態で露光する。そして、位相差部位１０１及び等方部位１０３が形成された液状体膜９５ｂに、例えばシクロペンタノンなどの現像液で現像処理を施す。これにより、フォトマスク１５１で遮光されたシール領域２１ａから領域１０６内に及ぶ範囲の液状体膜９５ｂが剥離され、図３０に示す位相差膜９５が形成され得る。
【０１３４】
対向基板２０が適用された液晶パネル１０では、平面視でシール材２１と位相差膜９５とが離間しているので、位相差膜９５及びシール材２１が相互に化学的に影響し合うことを避けやすくすることができる。このため、位相差膜９５及びシール材２１のそれぞれにおける化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶パネル１０の信頼性を向上させやすくすることができる。従って、表示装置１の信頼性を向上させやすくすることができる。
【０１３５】
対向基板２０では、第２配向膜９７の縁部が位相差膜９５の縁部よりも表示領域８側に位置しているが、第２配向膜９７の形態はこれに限定されず、平面視でシール材２１に囲まれた領域内で位相差膜９５を覆う形態も採用され得る。
位相差膜９５を覆う形態の第２配向膜９７を有する液晶パネル１０は、図３１に示すように、対向基板２０ａを有している。
【０１３６】
対向基板２０ａでは、平面視でシール材２１と位相差膜９５との間に第２配向膜９７が介在している。つまり、シール材２１と位相差膜９５とが、平面視で第２配向膜９７を介して離間している。
この対向基板２０ａでは、第２配向膜９７によって位相差膜９５が覆われるので、シール材２１及び位相差膜９５が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。
【０１３７】
対向基板２０ａでは、第２配向膜９７の縁部が領域１０６内に位置しているが、第２配向膜９７の形態はこれに限定されず、第２配向膜９７がシール領域２１ａに及ぶ形態も採用され得る。
シール領域２１ａに及ぶ第２配向膜９７を有する液晶パネル１０は、図３２に示すように、対向基板２０ｂを有している。
対向基板２０ｂでは、シール材２１と位相差膜９５とは、互いに共有する面がない。このため、シール材２１と位相差膜９５との間を隔絶しやすい。これにより、シール材２１及び位相差膜９５が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。この結果、表示装置１の信頼性を一層向上させやすくすることができる。
【０１３８】
また、対向基板２０、対向基板２０ａ及び対向基板２０ｂの構成としては、それぞれ、保護膜１６１を付加した構成も採用され得る。
対向基板２０に保護膜１６１が付加された液晶パネル１０は、図３３に示すように、対向基板２０ｃを有している。
対向基板２０に保護膜１６１が付加された他の液晶パネル１０は、図３４に示すように、対向基板２０ｄを有している。
対向基板２０ｃや、対向基板２０ｄでは、保護膜１６１は、平面視でシール材２１に囲まれた領域内で位相差膜９５を覆っている。
【０１３９】
対向基板２０ｃや、対向基板２０ｄを有する液晶パネル１０においても、対向基板２０を有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
さらに、対向基板２０ｃや、対向基板２０ｄでは、平面視でシール材２１と位相差膜９５との間に保護膜１６１が介在している。つまり、シール材２１と位相差膜９５とが、平面視で保護膜１６１を介して離間している。
これらの対向基板２０ｃや対向基板２０ｄでは、保護膜１６１によって位相差膜９５が覆われるので、シール材２１及び位相差膜９５が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。
【０１４０】
対向基板２０ｃや対向基板２０ｄでは、保護膜１６１の縁部が領域１０６内に位置しているが、保護膜１６１の形態はこれに限定されず、保護膜１６１がシール領域２１ａに及ぶ形態も採用され得る。
シール領域２１ａに及ぶ保護膜１６１を有する液晶パネル１０は、図３５に示すように、対向基板２０ｅを有している。
シール領域２１ａに及ぶ保護膜１６１を有する他の液晶パネル１０は、図３６に示すように、対向基板２０ｆを有している。
対向基板２０ｅや対向基板２０ｆでは、シール材２１と位相差膜９５とは、互いに共有する面がない。このため、シール材２１と位相差膜９５との間を隔絶しやすい。これにより、シール材２１及び位相差膜９５が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。
【０１４１】
対向基板２０ａに保護膜１６１が付加された液晶パネル１０は、図３７に示すように、対向基板２０ｇを有している。
対向基板２０ａに保護膜１６１が付加された他の液晶パネル１０は、図３８に示すように、対向基板２０ｈを有している。
対向基板２０ｇや、対向基板２０ｈでは、保護膜１６１は、平面視でシール材２１に囲まれた領域内で位相差膜９５を覆っている。
【０１４２】
対向基板２０ｇや、対向基板２０ｈを有する液晶パネル１０においても、対向基板２０ａを有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
さらに、対向基板２０ｇや、対向基板２０ｈでは、平面視でシール材２１と位相差膜９５との間に第２配向膜９７及び保護膜１６１が介在している。つまり、シール材２１と位相差膜９５とが、平面視で第２配向膜９７及び保護膜１６１を介して離間している。
これらの対向基板２０ｇや対向基板２０ｈでは、保護膜１６１及び第２配向膜９７によって位相差膜９５が覆われるので、シール材２１及び位相差膜９５が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。
【０１４３】
対向基板２０ｇや対向基板２０ｈでは、保護膜１６１の縁部が領域１０６内に位置しているが、保護膜１６１の形態はこれに限定されず、保護膜１６１がシール領域２１ａに及ぶ形態も採用され得る。
シール領域２１ａに及ぶ保護膜１６１を有する液晶パネル１０は、図３９に示すように、対向基板２０ｉを有している。
シール領域２１ａに及ぶ保護膜１６１を有する他の液晶パネル１０は、図４０に示すように、対向基板２０ｊを有している。
対向基板２０ｉや対向基板２０ｊでは、シール材２１と位相差膜９５とは、互いに共有する面がない。このため、シール材２１と位相差膜９５との間を隔絶しやすい。これにより、シール材２１及び位相差膜９５が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。
【０１４４】
対向基板２０ｂに保護膜１６１が付加された液晶パネル１０は、図４１に示すように、対向基板２０ｋを有している。
対向基板２０ｂに保護膜１６１が付加された他の液晶パネル１０は、図４２に示すように、対向基板２０ｍを有している。
対向基板２０ｋや、対向基板２０ｍでは、保護膜１６１は、平面視でシール材２１に囲まれた領域内で位相差膜９５を覆っている。
【０１４５】
対向基板２０ｋや、対向基板２０ｍを有する液晶パネル１０においても、対向基板２０ｂを有する液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
さらに、対向基板２０ｋや、対向基板２０ｍでは、平面視でシール材２１と位相差膜９５との間に保護膜１６１が介在している。つまり、シール材２１と位相差膜９５とが、平面視で第２配向膜９７及び保護膜１６１を介して離間している。
これらの対向基板２０ｋや対向基板２０ｍでは、保護膜１６１及び第２配向膜９７によって位相差膜９５が覆われるので、シール材２１及び位相差膜９５が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。
【０１４６】
対向基板２０ｋや対向基板２０ｍでは、保護膜１６１の縁部が領域１０６内に位置しているが、保護膜１６１の形態はこれに限定されず、保護膜１６１がシール領域２１ａに及ぶ形態も採用され得る。
シール領域２１ａに及ぶ保護膜１６１を有する液晶パネル１０は、図４３に示すように、対向基板２０ｎを有している。
シール領域２１ａに及ぶ保護膜１６１を有する他の液晶パネル１０は、図４４に示すように、対向基板２０ｐを有している。
【０１４７】
対向基板２０ｎや対向基板２０ｐでは、シール材２１と位相差膜９５との間に第２配向膜９７及び保護膜１６１が介在している。そして、シール材２１と位相差膜９５とは、互いに共有する面がない。このため、シール材２１と位相差膜９５との間を一層隔絶しやすい。これにより、シール材２１及び位相差膜９５が相互に影響し合うことを一層避けやすくすることができる。
【０１４８】
ここで、第３実施形態について説明する。
第３実施形態における表示装置１は、図２中のＫ部の拡大図である図４５に示すように、液晶パネル１０が対向基板３０を有している。第３実施形態における表示装置１は、第２実施形態における対向基板２０が対向基板３０に替えられていることを除いては、第２実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。
従って、以下の第３実施形態では、重複した説明を避けるため、第２実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略し、第２実施形態と異なる点のみについて説明する。
【０１４９】
対向基板３０では、対向基板２０（図３０）から位相差膜９５の等方部位１０３と、ギャップ調整膜９９とが省略されている。
対向基板３０では、平面視で反射領域Ｈに重なる領域に位相差膜９５が設けられている。対向基板３０における位相差膜９５は、対向基板１７や対向基板２０における位相差部位１０１に相当している。
そして、対向基板３０を有する液晶パネル１０では、位相差膜９５によってマルチギャップ構造が実現されている。つまり、この液晶パネル１０では、位相差膜９５の厚みによって、Ｌ１がＬ２の約２倍に設定されている。
【０１５０】
対向基板３０では、位相差膜９５の形成において、位相差部位１０１が形成された液状体膜９５ｂに、例えばシクロペンタノンなどの現像液で現像処理を施す。このとき、シール領域２１ａから領域１０６内に及ぶ範囲の液状体膜９５ｂも剥離される。これにより、位相差部位１０１だけが残り、図４５に示す位相差膜９５が形成され得る。
【０１５１】
そして、この液晶パネル１０では、図４５中のＬ−Ｌ線における断面図である図４６に示すように、シール材２１と位相差膜９５とが離間している。このため、位相差膜９５及びシール材２１のそれぞれにおける化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶パネル１０の信頼性を向上させやすくすることができる。従って、表示装置１の信頼性を向上させやすくすることができる。
【０１５２】
なお、対向基板３０においても、対向基板２０ａ（図３１）や、対向基板２０ｂ（図３２）に相当する形態で第２配向膜９７が位相差膜９５を覆う構成が採用され得る。
さらに、対向基板３０の構成としては、図３３〜図４４のそれぞれに示す形態と同様の形態で保護膜１６１を付加した構成も採用され得る。これにより、対向基板２０ｃ〜２０ｋ、対向基板２０ｍ〜２０ｐのそれぞれと同様の効果が得られる。
【０１５３】
ここで、第４実施形態について説明する。
第４実施形態における表示装置１は、図４５中のＬ−Ｌ線に相当する線で切断したときの断面図である図４７に示すように、液晶パネル１０が対向基板４０を有している。第４実施形態における表示装置１は、第１実施形態における対向基板１７が対向基板４０に替えられていることを除いては、第１実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。
従って、以下の第４実施形態では、重複した説明を避けるため、第１実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略し、第１実施形態と異なる点のみについて説明する。
【０１５４】
対向基板４０では、対向基板１７（図８）から位相差膜９５の等方部位１０３と、ギャップ調整膜９９とが省略されている。
対向基板４０では、平面視で反射領域Ｈに重なる領域に位相差膜９５が設けられている。対向基板４０における位相差膜９５は、対向基板１７や対向基板２０における位相差部位１０１に相当している。
そして、対向基板４０を有する液晶パネル１０では、位相差膜９５によってマルチギャップ構造が実現されている。つまり、この液晶パネル１０では、位相差膜９５の厚みによって、Ｌ１がＬ２の約２倍に設定されている。
【０１５５】
対向基板４０では、位相差膜９５の形成において、反射領域Ｈに重なる領域の液状体膜９５ｂと、シール領域２１ａから領域１０６内に及ぶ範囲の液状体膜９５ｂとに露光を施す。この露光の後に、液状体膜９５ｂに、例えばシクロペンタノンなどの現像液で現像処理を施す。これにより、位相差部位１０１と、位相差部位１０１からシール領域２１ａに及び範囲だけが残り、図４７に示す位相差膜９５が形成され得る。
【０１５６】
液晶パネル１０では、シール材２１と位相差膜９５とが保護膜１０５によって隔てられている。このため、位相差膜９５及びシール材２１のそれぞれにおける化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶パネル１０の信頼性を向上させやすくすることができる。従って、表示装置１の信頼性を向上させやすくすることができる。
【０１５７】
なお、対向基板４０においても、対向基板１７ｅ（図２１）や、対向基板１７ｆ（図２２）に相当する形態で第２配向膜９７が保護膜１０５を覆う構成が採用され得る。
また、対向基板４０においても、対向基板１７ｋ（図２７）や、対向基板１７ｍ（図２８）に相当する形態で、位相差膜９５と保護膜１０５との間に第２配向膜９７が介在する構成が採用され得る。
さらに、対向基板４０の構成としては、図１７〜図２０、図２３、図２５、図２６、図２８、図２９のそれぞれに示す形態と同様の形態で保護膜１６１を付加した構成も採用され得る。これにより、対向基板１７ａ〜１７ｄ、対向基板１７ｇ、対向基板１７ｉ、対向基板１７ｊ、対向基板１７ｍ、対向基板１７ｎのそれぞれと同様の効果が得られる。
【０１５８】
なお、第１〜第４実施形態では、それぞれ、液晶１９の駆動方式としてＦＦＳ型の駆動方式が採用されているが、駆動方式はこれに限定されず、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＶＡ（Vertical Alignment）型等の種々の方式が採用され得る。
【０１５９】
また、第１〜第４実施形態では、それぞれ、位相差膜９５が対向基板１７や対向基板２０や対向基板３０や対向基板４０側に設けられている場合を例に説明したが、位相差膜９５はこれに限定されず、駆動素子基板１５側に設けられていてもよい。
【０１６０】
また、第１〜第４実施形態では、それぞれ、入射された光に対して１／２波長の位相差を与える位相差部位１０１を例に説明したが、位相差部位１０１が与える位相差はこれに限定されず、１／４波長、１／８波長などの種々の位相差が採用され得る。
【０１６１】
上述した表示装置１は、例えば、図４８に示す電子機器５００の表示部５１０に適用され得る。この電子機器５００は、携帯電話機である。この電子機器５００は、操作ボタン５１１を有している。表示部５１０は、操作ボタン５１１で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器５００では、表示部５１０に表示装置１が適用されているので、表示部５１０における信頼性の向上が図られる。
【０１６２】
なお、電子機器５００としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器などの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。また、表示パネル３や液晶パネル１０は、プロジェクタ等の投写型表示装置にライトバルブとして適用され得る。
【図面の簡単な説明】
【０１６３】
【図１】第１実施形態における表示装置の主要構成を示す分解斜視図。
【図２】図１中のＡ−Ａ線における断面図。
【図３】第１実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。
【図４】図３中のＣ部の拡大図。
【図５】図４中のＤ−Ｄ線における断面図。
【図６】図５中のＥ部を示す図。
【図７】図６中のＦ−Ｆ線における断面図。
【図８】図２中のＫ部の拡大図。
【図９】第１実施形態におけるシール領域と表示領域とを示す平面図。
【図１０】第１実施形態における表示領域と保護膜とを示す平面図。
【図１１】第１実施形態におけるＴＦＴ素子、共通電極及び画素電極の配置を説明する平面図。
【図１２】第１実施形態における表示パネルの透過領域における偏光状態を説明する図。
【図１３】第１実施形態における表示パネルの反射領域における偏光状態を説明する図。
【図１４】第１実施形態における駆動素子基板の製造工程を説明する図。
【図１５】第１実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。
【図１６】第１実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。
【図１７】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図１８】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図１９】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２０】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２１】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２２】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２３】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２４】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２５】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２６】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２７】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２８】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図２９】第１実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３０】第２実施形態における表示装置の図２中のＫ部の拡大図。
【図３１】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３２】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３３】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３４】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３５】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３６】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３７】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３８】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図３９】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図４０】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図４１】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図４２】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図４３】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図４４】第２実施形態における対向基板の他の構成例を説明する断面図。
【図４５】第３実施形態における表示装置の図２中のＫ部の拡大図。
【図４６】図４５中のＬ−Ｌ線における断面図。
【図４７】第４実施形態における表示装置を図４５中のＬ−Ｌ線に相当する線で切断したときの断面図。
【図４８】本実施形態における表示装置が適用された電子機器の斜視図。
【符号の説明】
【０１６４】
１…表示装置、３…表示パネル、７…画素、８…表示領域、１０…液晶パネル、１５…駆動素子基板、１７…対向基板、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ，１７ｄ，１７ｅ，１７ｆ，１７ｇ，１７ｈ，１７ｉ，１７ｊ，１７ｋ，１７ｍ，１７ｎ…対向基板、１９…液晶、２０…対向基板、２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄ，２０ｅ，２０ｆ，２０ｇ，２０ｈ，２０ｉ，２０ｊ，２０ｋ，２０ｍ，２０ｎ，２０ｐ…対向基板、２１…シール材、２１ａ…シール領域、３０…対向基板、４０…対向基板、５１…第１基板、５３ａ…第１面、５３ｂ…第２面、８１…第２基板、８３ａ…外向面、８３ｂ…対向面、９５…位相差膜、９５ａ…液状体、９５ｂ…液状体膜、９７…第２配向膜、９９…ギャップ調整膜、９９ａ…樹脂膜、１０１…位相差部位、１０３…等方部位、１０５…保護膜、１０６…領域、１６１…保護膜、５００…電子機器、５１０…表示部、Ｈ…反射領域、Ｔ…透過領域、Ｍ…マトリクス。
【図１】
2009217098.tif 000003
【図２】
2009217098.tif 000004
【図３】
2009217098.tif 000005
【図４】
2009217098.tif 000006
【図５】
2009217098.tif 000007
【図６】
2009217098.tif 000008
【図７】
2009217098.tif 000009
【図８】
2009217098.tif 000010
【図９】
2009217098.tif 000011
【図１０】
2009217098.tif 000012
【図１１】
2009217098.tif 000013
【図１２】
2009217098.tif 000014
【図１３】
2009217098.tif 000015
【図１４】
2009217098.tif 000016
【図１５】
2009217098.tif 000017
【図１６】
2009217098.tif 000018
【図１７】
2009217098.tif 000019
【図１８】
2009217098.tif 000020
【図１９】
2009217098.tif 000021
【図２０】
2009217098.tif 000022
【図２１】
2009217098.tif 000023
【図２２】
2009217098.tif 000024
【図２３】
2009217098.tif 000025
【図２４】
2009217098.tif 000026
【図２５】
2009217098.tif 000027
【図２６】
2009217098.tif 000028
【図２７】
2009217098.tif 000029
【図２８】
2009217098.tif 000030
【図２９】
2009217098.tif 000031
【図３０】
2009217098.tif 000032
【図３１】
2009217098.tif 000033
【図３２】
2009217098.tif 000034
【図３３】
2009217098.tif 000035
【図３４】
2009217098.tif 000036
【図３５】
2009217098.tif 000037
【図３６】
2009217098.tif 000038
【図３７】
2009217098.tif 000039
【図３８】
2009217098.tif 000040
【図３９】
2009217098.tif 000041
【図４０】
2009217098.tif 000042
【図４１】
2009217098.tif 000043
【図４２】
2009217098.tif 000044
【図４３】
2009217098.tif 000045
【図４４】
2009217098.tif 000046
【図４５】
2009217098.tif 000047
【図４６】
2009217098.tif 000048
【図４７】
2009217098.tif 000049
【図４８】
2009217098.tif 000050