(57)【要約】【課題】潜像画像と背景画像とを含む地紋画像を生成する画像形成装置において、ユーザの判断能力に頼らず地紋画像の最適化を図ること。【解決手段】潜像画像を形成する第１マスクパターンと背景画像を形成する第２マスクパターンとの組み合せが異なる複数の地紋画像が形成された第１出力物と第１出力物が複写された第２出力物とに形成された画像を読み取る画像読取部２０、第１出力物から読み取った画像を形成する複数の地紋画像毎の第１潜像単位濃度及び第１背景単位濃度の算出、及び、第２出力物から読み取った画像を形成する複数の地紋画像毎の第２潜像単位濃度及び第２背景単位濃度の算出を行ない、第１潜像単位濃度及び第１背景濃度と第２潜像単位濃度及び第２背景濃度とに基づいて第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合せを選出する制御部１１０、を備える画像形成装置１。【選択図】図４
2009017103.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
潜像画像を形成する第１マスクパターンと背景画像を形成する第２マスクパターンとの組み合せが異なる複数の地紋画像が形成された第１出力物と、前記第１出力物が複写された第２出力物と、に形成された画像を読み取る画像読取手段と、
前記画像読取手段により前記第１出力物から読み取った画像を形成する複数の地紋画像毎の前記潜像画像の単位濃度及び前記背景画像の単位濃度の算出、及び、前記第２出力物から読み取った画像を形成する複数の地紋画像毎の潜像画像の単位濃度及び背景画像の単位濃度の算出を行なう単位濃度算出手段と、
前記単位濃度算出手段により算出された前記第１出力物に形成された地紋画像毎の潜像画像の単位濃度及び背景画像の単位濃度と、前記第２出力物に形成された地紋画像毎の潜像画像の単位濃度及び背景画像の単位濃度とに基づいて、前記第１マスクパターンと第２マスクパターンとの複数の組み合わせのうち、予め定められた条件に応じた組み合せを選出するマスクパターン選出手段と、
を備える画像形成装置。
【請求項２】
前記マスクパターン選出手段は、
前記第１出力物に形成された地紋画像毎に算出された潜像画像の単位濃度と背景画像の単位濃度との差分値を算出する第１差分算出手段と、
前記第２出力物に形成された地紋画像毎に算出された潜像画像の単位濃度と背景画像の単位濃度との差分値を算出する第２差分算出手段と、
前記第１差分算出手段により算出された地紋画像毎の差分値に基づいて、地紋画像を形成する第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを当該差分値が小さい順番に並べた第１リストを生成する第１リスト生成手段と、
前記第２差分算出手段により算出された地紋画像毎の差分値に基づいて、地紋画像を形成する第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを当該差分値が大きい順番に並べた第２リストを生成する第２リスト生成手段と、
前記第１リスト生成手段により生成された第１リスト及び前記第２リスト生成手段により生成された第２リストに基づいた評価結果が最上位の第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを選出する選出手段と、
を有する請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記複数の地紋画像を生成する生成手段と、
前記生成手段により生成された複数の地紋画像を用紙に形成して前記第１出力物として出力し、前記画像読取手段により読み取られた前記第１出力物の画像を用紙に形成して第２出力物として出力する画像形成手段と、
を備える請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
ドット濃度が異なる複数の前記第１マスクパターンとドット濃度が異なる複数の前記第２マスクパターンとを記憶しているマスクパターン記憶手段と、
前記潜像画像の元となる第１の画像及び前記背景画像の元となる第２の画像を取得する画像取得手段と、
前記第１の画像及び前記第２の画像に対して二値化処理を施す二値化手段と、
を備え、
前記生成手段は、
前記二値化手段により二値化された前記第１の画像と前記第２の画像それぞれを所定の領域内に反復して配置して第１の反復画像及び第２の反復画像を生成する反復画像生成手段と、
前記第１マスクパターンと前記第２マスクパターンとの組み合わせ数に応じて前記所定の領域が分割され、当該分割された領域毎にドット濃度が異なる前記第１マスクパターンが反復して配置された第１マスク画像を生成する第１マスク画像生成手段と、
前記分割された領域毎にドット濃度が異なる前記第２マスクパターンが反復して配置された第２マスク画像を生成する第２マスク画像生成手段と、
前記反復画像生成手段により生成された前記第１の反復画像と前記第１マスク画像生成手段により生成された前記第１マスク画像とにＡＮＤ処理を用いたマスク処理を施して、前記分割された領域毎に異なる複数の潜像画像を生成する潜像画像生成手段と、
前記反復画像生成手段により生成された前記第２の反復画像と前記第２マスク画像生成手段により生成された前記第２マスク画像とにＡＮＤ処理を用いたマスク処理を施して、前記分割された領域毎に異なる複数の背景画像を生成する背景画像生成手段と、
前記反復画像生成手段により生成された前記第１の反復画像又は前記第２の反復画像のいずれか一方の画像に対して反転処理を施して反転画像を生成する反転処理手段と、
前記反転処理手段により生成された反転画像と前記反転処理手段により反転処理が施されていない他方の画像により生成された前記複数の潜像画像又は前記複数の背景画像のいずれか一方とにＡＮＤ処理を施して処理画像を生成する処理画像生成手段と、
前記処理画像生成手段により生成された前記処理画像と前記反転処理手段により生成された反転画像の元である前記複数の潜像画像又は前記複数の背景画像のいずれか一方の画像とにＯＲ処理を施して前記複数の地紋画像を生成する地紋画像生成手段と、
を有する請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記複数の地紋画像が形成される用紙に当該複数の地紋画像の位置又は方向を示す位置合せ画像を生成する位置合せ画像生成手段と、
を備え、
前記画像形成手段は、
前記生成手段により生成された複数の地紋画像及び前記位置合せ画像生成手段により生成された位置合せ画像を用紙に形成して前記第１出力物として出力する、
請求項３又は４に記載の画像形成装置。
【請求項６】
各前記地紋画像を形成する第１マスクパターンの情報及び第２マスクパターンの情報を示すマスク情報を生成するマスク情報生成手段を備え、
前記画像形成手段は、
前記マスク情報生成手段により生成された前記マスク情報に対応する地紋画像と共に、前記マスク情報を示す画像を用紙に形成する、
請求項３から５のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
複数の前記第１マスクパターンは、ドットのサイズ及び形状は一定で第１マスクパターンを形成するブロックサイズが異なることにより互いに異なるドット濃度を実現しており、
複数の前記第２マスクパターンは、ドットのサイズ及び形状は一定で第２マスクパターンを形成するブロックサイズが異なることにより互いに異なる濃度を実現している、
請求項１から６のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
複数の前記第１マスクパターンは、第１マスクパターンを形成するブロックサイズは一定で第１マスクパターンのドットのサイズが異なることにより互いに異なるドット濃度を実現しており、
複数の前記第２マスクパターンは、第２マスクパターンを形成するブロックサイズは一定で第２マスクパターンのドットのサイズが異なることにより互いに異なるドット濃度を実現している、
請求項１から６のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、複製を禁じている文書や紙幣等の記録物が偽造・複製されるのを防止するために、偽造防止用紙と呼ばれる特殊な印刷を施した用紙が用いられている。この偽造防止用紙には、「複写禁止」等の文字や記号等からなる潜像画像が見えづらいように背景画像に合成された地紋画像が形成されている。
【０００３】
この地紋画像は、複写後にドットが残る潜像画像と、複写後にドットが消える背景画像とから成り、画像形成装置によって複写された際、「複写禁止」等の所定の文字や記号からなる潜像画像が浮かび上がって見える。従って、地紋画像が形成されている用紙を用いることにより意識的に不正コピーを抑止したり、原本の特定を可能としたりする効果を発揮している。
【０００４】
このような地紋画像を形成する画像形成装置が知られているが、潜像画像と背景画像との濃度は予め設定された濃度であり、地紋画像の濃さを変化させることができなかった。
そこで、地紋画像の濃度を変化させることができる画像形成装置として、用紙の一方の方向では潜像画像を構成する印刷濃度のみを変化させ、他方の方向では背景画像を構成する印刷濃度のみを変化させた地紋画像の試し刷りを行なう手段と、試し刷りされた地紋画像に基づき、潜像画像と背景画像の濃度が等しく、複写後に潜像が現れる地紋画像をユーザに選択させる手段と、選択された地紋画像の印刷濃度に基づき、潜像画像と背景画像とを含む地紋画像を生成する手段と、を有する画像形成装置が開示されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−９４３２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のような従来の技術は、地紋画像を形成する潜像画像及び背景画像の濃度は、試し刷りされた地紋画像に基づいてユーザが判断して選択しなくてはならず、使い勝手が悪く、また、ユーザの判断能力の差によっては、不特定多数のユーザに対する不正コピーの抑止の効果が得られる地紋画像が得られないという問題がある。
【０００６】
本発明の課題は、上記問題に鑑みて、潜像画像と背景画像とを含む地紋画像を生成する画像形成装置において、ユーザの判断能力に頼らず地紋画像の最適化を図ることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明によれば、潜像画像を形成する第１マスクパターンと背景画像を形成する第２マスクパターンとの組み合せが異なる複数の地紋画像が形成された第１出力物と、前記第１出力物が複写された第２出力物と、に形成された画像を読み取る画像読取手段と、前記画像読取手段により前記第１出力物から読み取った画像を形成する複数の地紋画像毎の前記潜像画像の単位濃度及び前記背景画像の単位濃度の算出、及び、前記第２出力物から読み取った画像を形成する複数の地紋画像毎の潜像画像の単位濃度及び背景画像の単位濃度の算出を行なう単位濃度算出手段と、前記単位濃度算出手段により算出された前記第１出力物に形成された地紋画像毎の潜像画像の単位濃度及び背景画像の単位濃度と、前記第２出力物に形成された地紋画像毎の潜像画像の単位濃度及び背景画像の単位濃度とに基づいて、前記第１マスクパターンと第２マスクパターンとの複数の組み合わせのうち、予め定められた条件に応じた組み合せを選出するマスクパターン選出手段と、を備えた画像形成装置が提供される。
【０００８】
請求項２に記載の発明によれば、請求項１に記載の画像形成装置において、前記マスクパターン選出手段は、前記第１出力物に形成された地紋画像毎に算出された潜像画像の単位濃度と背景画像の単位濃度との差分値を算出する第１差分算出手段と、前記第２出力物に形成された地紋画像毎に算出された潜像画像の単位濃度と背景画像の単位濃度との差分値を算出する第２差分算出手段と、前記第１差分算出手段により算出された地紋画像毎の差分値に基づいて、地紋画像を形成する第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを当該差分値が小さい順番に並べた第１リストを生成する第１リスト生成手段と、前記第２差分算出手段により算出された地紋画像毎の差分値に基づいて、地紋画像を形成する第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを当該差分値が大きい順番に並べた第２リストを生成する第２リスト生成手段と、前記第１リスト生成手段により生成された第１リスト及び前記第２リスト生成手段により生成された第２リストに基づいた評価結果が最上位の第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを選出する選出手段と、を有する。
【０００９】
請求項３に記載の発明によれば、請求項１又は２に記載の画像形成装置において、前記複数の地紋画像を生成する生成手段と、前記生成手段により生成された複数の地紋画像を用紙に形成して前記第１出力物として出力し、前記画像読取手段により読み取られた前記第１出力物の画像を用紙に形成して第２出力物として出力する画像形成手段と、を備える。
【００１０】
請求項４に記載の発明によれば、請求項３に記載の画像形成装置において、ドット濃度が異なる複数の前記第１マスクパターンとドット濃度が異なる複数の前記第２マスクパターンとを記憶しているマスクパターン記憶手段と、前記潜像画像の元となる第１の画像及び前記背景画像の元となる第２の画像を取得する画像取得手段と、前記第１の画像及び前記第２の画像に対して二値化処理を施す二値化手段と、を備え、前記生成手段は、前記二値化手段により二値化された前記第１の画像と前記第２の画像それぞれを所定の領域内に反復して配置して第１の反復画像及び第２の反復画像を生成する反復画像生成手段と、前記第１マスクパターンと前記第２マスクパターンとの組み合わせ数に応じて前記所定の領域が分割され、当該分割された領域毎にドット濃度が異なる前記第１マスクパターンが反復して配置された第１マスク画像を生成する第１マスク画像生成手段と、前記分割された領域毎にドット濃度が異なる前記第２マスクパターンが反復して配置された第２マスク画像を生成する第２マスク画像生成手段と、前記反復画像生成手段により生成された前記第１の反復画像と前記第１マスク画像生成手段により生成された前記第１マスク画像とにＡＮＤ処理を用いたマスク処理を施して、前記分割された領域毎に異なる複数の潜像画像を生成する潜像画像生成手段と、前記反復画像生成手段により生成された前記第２の反復画像と前記第２マスク画像生成手段により生成された前記第２マスク画像とにＡＮＤ処理を用いたマスク処理を施して、前記分割された領域毎に異なる複数の背景画像を生成する背景画像生成手段と、前記反復画像生成手段により生成された前記第１の反復画像又は前記第２の反復画像のいずれか一方の画像に対して反転処理を施して反転画像を生成する反転処理手段と、前記反転処理手段により生成された反転画像と前記反転処理手段により反転処理が施されていない他方の画像により生成された前記複数の潜像画像又は前記複数の背景画像のいずれか一方とにＡＮＤ処理を施して処理画像を生成する処理画像生成手段と、前記処理画像生成手段により生成された前記処理画像と前記反転処理手段により生成された反転画像の元である前記複数の潜像画像又は前記複数の背景画像のいずれか一方の画像とにＯＲ処理を施して前記複数の地紋画像を生成する地紋画像生成手段と、を有する。
【００１１】
請求項５に記載の発明によれば、請求項３又は４に記載の画像形成装置において、前記複数の地紋画像が形成される用紙に当該複数の地紋画像の位置又は方向を示す位置合せ画像を生成する位置合せ画像生成手段と、を備え、前記画像形成手段は、前記生成手段により生成された複数の地紋画像及び前記位置合せ画像生成手段により生成された位置合せ画像を用紙に形成して前記第１出力物として出力する。
【００１２】
請求項６に記載の発明によれば、請求項３から５のいずれか一項に記載の画像形成装置において、各前記地紋画像を形成する第１マスクパターンの情報及び第２マスクパターンの情報を示すマスク情報を生成するマスク情報生成手段を備え、前記画像形成手段は、前記マスク情報生成手段により生成された前記マスク情報に対応する地紋画像と共に、前記マスク情報を示す画像を用紙に形成する。
【００１３】
請求項７に記載の発明によれば、請求項１から６のいずれか一項に記載の画像形成装置において、複数の前記第１マスクパターンは、ドットのサイズ及び形状は一定で第１マスクパターンを形成するブロックサイズが異なることにより互いに異なるドット濃度を実現しており、複数の前記第２マスクパターンは、ドットのサイズ及び形状は一定で第２マスクパターンを形成するブロックサイズが異なることにより互いに異なる濃度を実現している。
【００１４】
請求項８に記載の発明によれば、請求項１から６のいずれか一項に記載の画像形成装置において、複数の前記第１マスクパターンは、第１マスクパターンを形成するブロックサイズは一定で第１マスクパターンのドットのサイズが異なることにより互いに異なるドット濃度を実現しており、複数の前記第２マスクパターンは、第２マスクパターンを形成するブロックサイズは一定で第２マスクパターンのドットのサイズが異なることにより互いに異なるドット濃度を実現している。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に記載の発明によれば、第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせを選出することができるため、ユーザの判断能力に頼らず地紋画像の最適化を図ることができる。
【００１６】
請求項２に記載の発明によれば、請求項１と同様の効果を得られるのは勿論のこと、複数の第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせのうち、抑止効果が最も高い組み合せ、即ち、複写前には潜像画像と背景画像とが識別しにくい地紋画像を形成し、複写後には潜像画像と背景画像とが識別しやすい地紋画像を形成する第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせを選出することができる。
【００１７】
請求項３に記載の発明によれば、請求項１又は２と同様の効果を得られるのは勿論のこと、複数の地紋画像が形成された第１出力物及び第２出力物を出力することができるため、当該画像形成装置の画像形成特性に応じた第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせを選出することができる。
【００１８】
請求項４に記載の発明によれば、請求項３と同様の効果を得られるのは勿論のこと、取得した第１の画像及び第２の画像と、複数の第１マスクパターン及び複数の第２マスクパターンと、に基づいて、複数の地紋画像を生成することができる。
【００１９】
請求項５に記載の発明によれば、請求項３又は４と同様の効果を得られるのは勿論のこと、第１出力物に位置合せ画像が形成されるため、第１出力物を複写して得られる第２出力物にも位置合せ画像が形成されることとなり、第１出力物に形成された複数の地紋画像の位置と、第２出力物に形成された複数の地紋画像の位置との対応付けを行なうことができ、第１出力物に形成された各地紋画像に対応する第２出力物に形成された各地紋画像を特定することができる。
【００２０】
請求項６に記載の発明によれば、請求項３から５のいずれか一項と同様の効果を得られるのは勿論のこと、各地紋画像と共にマスク情報を示す画像を形成することができるため、各地紋画像を形成する第１マスクパターン及び第２マスクパターンの情報を容易に取得することができる。
【００２１】
請求項７に記載の発明によれば、請求項１から６のいずれか一項と同様の効果を得られるのは勿論のこと、ドットのサイズ及び形状を一定として、ブロックサイズを異ならせることにより、ブロックサイズに占めるドットサイズを変更することができるため、濃度の異なる複数の第１マスクパターン及び第２マスクパターンを実現することができる。
【００２２】
請求項８に記載の発明によれば、請求項１から６のいずれか一項と同様の効果を得られるのは勿論のこと、ブロックサイズを一定として、ドットのサイズを異ならせることにより、ブロックサイズに占めるドットサイズを変更することができるため、濃度の異なる複数の第１マスクパターン及び第２マスクパターンを実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
まず、構成を説明する。
本実施の形態における画像形成装置１は、原稿から画像を読み取り、読み取った画像を処理対象紙としての紙等の用紙に画像形成したり、外部機器等から受信した画像データに基づいて画像を用紙上に形成したりする機能を備えたデジタル複合機である。
【００２４】
図１に、本実施の形態における画像形成装置１の制御ブロック図を示す。
図１に示すように、画像形成装置１は、本体部１ａとプリンタコントローラ１ｂとから構成されている。画像形成装置１は、プリンタコントローラ１ｂのＬＡＮＩＦ（Local Area Network InterFace）１４ｂを介してネットワークＮ上の外部機器ＰＣと通信可能に接続されている。
【００２５】
本体部１ａは、画像読取部２０、操作表示部３０、プリント部４０、画像制御部１００を備えて構成される。
【００２６】
画像制御部１００は、制御部１１０、不揮発メモリ１２０、読取処理部１３０、圧縮ＩＣ１４０、ＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）制御ＩＣ１５０、画像メモリ１６０、伸長ＩＣ１７０、書込処理部１８０から構成されている。
【００２７】
制御部１１０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等から構成され、不揮発メモリ１２０やＲＯＭ内に格納されている各種処理プログラムに従って画像形成装置１の各部の動作を集中制御する。例えば、操作表示部３０や外部機器ＰＣから入力される指示信号に従って、コピーモード、プリンタモード、スキャナモードを切り替え、各モードに対する処理プログラムを読み出して、複写、印刷、画像データの読取等の制御を行う。
【００２８】
また、制御部１１０は、本発明を実現させるために、潜像画像を形成する第１マスクパターンと背景画像を形成する第２マスクパターンとの組み合せが異なる複数の地紋画像が形成された第１出力物と、第１出力物が複写された第２出力物と、に形成された画像を画像読取部２０により読み取らせ、第１出力物から読み取った画像を形成する複数の地紋画像毎の潜像画像の単位濃度（以下、第１潜像単位濃度）及び背景画像の単位濃度（以下、第１背景単位濃度）の算出、及び、第２出力物から読み取った画像を形成する複数の地紋画像の潜像画像の単位濃度（以下、第２潜像単位濃度）及び背景画像の単位濃度（以下、第２背景単位濃度）の算出を行なう単位濃度算出手段と、第１出力物に形成された地紋画像毎の第１潜像単位濃度及び第１背景単位濃度と、第２出力物に形成された地紋画像毎の第２潜像単位濃度及び第２背景単位濃度とに基づいて、第１マスクパターンのドット濃度と第２マスクパターンのドット濃度との複数の組み合わせのうち、予め定められた条件に応じた組み合せを選出するマスクパターン選出手段と、しての機能を実現する。
【００２９】
更に、潜像画像の元となる第１の画像（潜像元画像）及び背景画像の元となる第２の画像（背景元画像）を取得する画像取得手段と、潜像元画像及び背景元画像に対して二値化処理を施す二値化手段と、二値化された潜像元画像及び背景元画像と、不揮発メモリ１２０に記憶されている複数の第１マスクパターン及び複数の第２マスクパターンとに基づいて、複数の地紋画像を生成する生成手段と、複数の地紋画像が形成される用紙に当該複数の地紋画像の位置又は方向を示す位置合せ画像を生成する位置合せ画像生成手段と、各地紋画像を形成する第１マスクパターンのドット濃度及び第２マスクパターンのドット濃度を示すマスク情報を生成するマスク情報生成手段と、しての機能を実現し、複数の地紋画像、位置合せ画像、マスク情報を示す画像（マスク情報画像）をプリント部４０により用紙に形成させる。
【００３０】
潜像画像は、潜像元画像及び第１マスクパターンに基づいて形成され、例えば、「複写禁止」、「コピー物」等の文字や記号からなる標識を形成する画像が複写後にドットが残る画像であって「複写禁止」等の標識が表示される画像であり、例えば、地紋と称される画像である。
背景画像は、背景元画像及び第２マスクパターンも基づいて形成され、複写後にドットが消える又は潜像画像よりも目立たなくなる画像である。地紋画像は、潜像画像が見えづらいように背景画像に合成された画像である。
【００３１】
第１マスクパターンは、潜像元画像に対してマスク処理を施す画像の最小単位の画像であり、複写された際に潜像元画像が表示されるドット濃度を有している。
第２マスクパターンは、背景元画像に対してマスク処理を施す画像の最小単位の画像であり、複写された際に背景元画像が消える又は潜像元画像よりも目立たなくなるドット濃度を有している。
【００３２】
図２（ａ）、（ｂ）に、第１マスクパターン及び第２マスクパターンの例を示す。
図２（ａ）に示す第１マスクパターンＭ１１、Ｍ１２は、ドットを形成するサイズ及び形状（ドット形成領域Ｍ１１ａ、Ｍ１２ｂ）は一定で第１マスクパターンＭ１１、Ｍ１２を形成するブロック（マスクパターン領域Ｍ１１ｂ、Ｍ１２ｂ）のサイズが異なることにより互いに異なるドット濃度を実現している。
【００３３】
第１マスクパターンＭ１１は、ドット形成領域Ｍ１１ａが４行４列の画素群から構成され、マスクパターン領域Ｍ１１ｂは１６行１６列の画素群から構成されており、マスクパターン領域Ｍ１１ｂに対するドット形成領域Ｍ１１ａの割合、即ちドット濃度は、６．２５％である。
【００３４】
第１マスクパターンＭ１２は、ドット形成領域Ｍ１２ａが４行４列の画素群から構成され、マスクパターン領域Ｍ１２ｂは８行８列の画素群から構成されており、マスクパターン領域Ｍ１２ｂに対するドット形成領域Ｍ１２ａの割合、即ちドット濃度は、２５％である。従って、第１マスクパターンＭ１２は、第１マスクパターンＭ１１よりも濃いドット濃度を有する第１マスクパターンとなっている。
【００３５】
また、図２（ａ）に示す第２マスクパターンＭ２１、Ｍ２２も、ドットを形成するサイズ及び形状（ドット形成領域Ｍ２１ａ、Ｍ２２ｂ）は一定で第２マスクパターンＭ２１、Ｍ２２を形成するブロック（マスクパターン領域Ｍ２１ｂ、Ｍ２２ｂ）のサイズが異なることにより互いに異なるドット濃度を実現している。
【００３６】
第２マスクパターンＭ２１は、ドット形成領域Ｍ２１ａが２行２列の画素群から構成され、マスクパターン領域Ｍ２１ｂは１６行１６列の画素群から構成されており、マスクパターン領域Ｍ２１ｂに対するドット形成領域Ｍ２１ａの割合、即ちドット濃度は、１．５６％である。
【００３７】
第２マスクパターンＭ２２は、ドット形成領域Ｍ２２ａが２行２列の画素群から構成され、マスクパターン領域Ｍ２２ｂは８行８列の画素群から構成されており、マスクパターン領域Ｍ２２ｂに対するドット形成領域Ｍ２２ａの割合、即ちドット濃度は、６．２５％である。従って、第２マスクパターンＭ２２は、第２マスクパターンＭ２１よりも濃いドット濃度を有する第２マスクパターンとなっている。
【００３８】
このように、ドットのサイズ及び形状を一定として、ブロックサイズを異ならせることにより、ブロックサイズに占めるドットサイズを変更することができるため、濃度の異なる複数の第１マスクパターン及び第２マスクパターンを実現することができる。
【００３９】
図２（ｂ）に示す第１マスクパターンＭ１３、Ｍ１４は、第１マスクパターンＭ１３、Ｍ１４を形成するブロック（マスクパターン領域Ｍ１３ｂ、Ｍ１４ｂ）のサイズは一定で、ドットを形成するサイズ及び形状（ドット形成領域Ｍ１３ａ、Ｍ１４ａ）が異なることにより互いに異なるドット濃度を実現している。
【００４０】
第１マスクパターンＭ１３は、ドット形成領域Ｍ１３ａが４行４列の画素群から構成され、マスクパターン領域Ｍ１３ｂは１６行１６列の画素群から構成されており、マスクパターン領域Ｍ１３ｂに対するドット形成領域Ｍ１３ａの割合、即ちドット濃度は、６．２５％である。
【００４１】
第１マスクパターンＭ１４は、ドット形成領域Ｍ１４ａが８行８列の画素群から構成され、マスクパターン領域Ｍ１４ｂは１６行１６列の画素群から構成されており、マスクパターン領域Ｍ１４ｂに対するドット形成領域Ｍ１４ａの割合、即ちドット濃度は、２５％である。従って、第１マスクパターンＭ１４は、第１マスクパターンＭ１３よりも濃いドット濃度を有する第１マスクパターンとなっている。
【００４２】
また、図２（ｂ）に示す第２マスクパターンＭ２３、Ｍ２４も、第２マスクパターンＭ２３、Ｍ２４を形成するブロック（マスクパターン領域Ｍ２３ｂ、Ｍ２４ｂ）のサイズは一定で、ドットを形成するサイズ及び形状（ドット形成領域Ｍ２３ａ、Ｍ２４ａ）が異なることにより互いに異なるドット濃度を実現している。
【００４３】
第２マスクパターンＭ２３は、ドット形成領域Ｍ２３ａが２行２列の画素群から構成され、マスクパターン領域Ｍ２３ｂは１６行１６列の画素群から構成されており、マスクパターン領域Ｍ２３ｂに対するドット形成領域Ｍ２３ａの割合、即ちドット濃度は、１．５６％である。
【００４４】
第２マスクパターンＭ２４は、ドット形成領域Ｍ２４ａが４行４列の画素群から構成され、マスクパターン領域Ｍ２４ｂは１６行１６列の画素群から構成されており、マスクパターン領域Ｍ２４ｂに対するドット形成領域Ｍ２４ａの割合、即ちドット濃度は、６．２５％である。従って、第２マスクパターンＭ２４は、第２マスクパターンＭ２３よりも濃いドット濃度を有する第２マスクパターンとなっている。
【００４５】
このように、ブロックサイズを一定として、ドットのサイズを異ならせることにより、ブロックサイズに占めるドットサイズを変更することができるため、濃度の異なる複数の第１マスクパターン及び第２マスクパターンを実現することができる。
【００４６】
なお、第１マスクパターン及び第２マスクパターンのドット形成領域は、上記に説明したようにｎ行ｎ列の形状に限らず、星型や十字型等の多角形又はその他の形状であってもよい。また、第１マスクパターン及び第２マスクパターンのドット濃度を所定値に固定し、ドット形成領域をマスクパターン領域内において集中配置したり分散配置したりしてもよい。本実施の形態においては、図２（ａ）に示した２種類の第１マスクパターンと２種類の第２のマスクパターンとの４つの組み合わせにより形成される４種類の地紋画像を形成する場合を例として説明する。
【００４７】
位置合せ画像は、複数の地紋画像が形成される用紙に当該複数の地紋画像の位置又は方向を示す画像であり、予め用紙サイズ毎に設定されている位置合せマーク書込領域内に形成される画像である。
【００４８】
マスク情報画像は、各地紋画像を形成する第１マスクパターンの情報及び第２マスクパターンの情報を示すマスク情報を示す予め設定されたサイズの画像であり、対応する地紋画像と共に形成される画像である。第１マスクパターン及び第２マスクパターンの情報としては、ドット濃度、ドット形成領域やマスクパターン領域の形状やサイズ等である。また、マスク情報画像としては、例えば、バーコードや二次元コード等であってもよい。
【００４９】
このように、各地紋画像と共にマスク情報画像を形成することができるため、各地紋画像を形成する第１マスクパターン及び第２マスクパターンの情報を容易に取得することができる。
【００５０】
図３（ａ）に、用紙に形成される位置合せ画像及びマスク情報画像の例を示す。
図３（ａ）に示すように、用紙Ｐ上には、当該用紙Ｐのサイズに応じて予め設定された位置合せ画像書込領域Ｅ１が設定される。この位置合せ画像書込領域Ｅ１は、用紙Ｐが画像形成される際に搬送される搬送方向Ｙにおける用紙の両端部から所定の幅Ａ１、Ａ２、及び、用紙の搬送方向Ｙと直交する方向（主走査方向）Ｘにおける用紙の両端部から所定の幅Ｂ１、Ｂ２から成る領域である。
【００５１】
この位置合せ画像書込領域Ｅ１内の予め設定された位置に、位置合せ画像Ｍ３ａ、Ｍ３ｂが形成される。この位置合せ画像Ｍ３ａ、Ｍ３ｂの形状は、用紙Ｐに形成された複数の地紋画像の配列方向が視覚的に明確な図形又は記号等が好ましく、例えば、搬送方向Ｙを頂点とする三角形や、矢印等が挙げられる。
【００５２】
更に、位置合せ画像書込領域Ｅ１に囲まれた領域は、複数の地紋画像が形成される地紋描画領域Ｅ２となる。この地紋描画領域Ｅ２は、第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせ数に応じて複数の領域に分割されている。以下、分割された領域を分割地紋描画領域という。
【００５３】
本実施の形態において、第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせ数が４であるため、地紋描画領域Ｅ２が４つの分割地紋描画領域に分割されており、地紋描画領域Ｅ２を分割する境界をマスク切替境界Ｌ１、Ｌ２とする。搬送方向Ｙと平行なマスク切替境界Ｌ１の主走査方向Ｘの座標ｘ１は、地紋描画領域Ｅ２の主走査方向Ｘの画素数と主走査方向Ｘにおいて地紋描画領域Ｅ２が分割された数との除法の値に基づいて設定される。また、主走査方向Ｘと平行なマスク切替境界Ｌ２の搬送方向Ｙの座標ｙ２は、地紋描画領域Ｅ２の搬送方向Ｙの画素数と搬送方向Ｙにおいて地紋描画領域Ｅ２が分割された数との除法の値に基づいて設定される。
【００５４】
地紋描画領域Ｅ２内において分割された各領域（分割地紋描画領域）には、第１マスクパターンと第２マスクパターンの組合せが異なる地紋画像と、マスク情報画像Ｅ３ａ、Ｅ３ｂ、Ｅ３ｃ、Ｅ３ｄがそれぞれ形成される。マスク情報画像Ｅ３ａ、Ｅ３ｂ、Ｅ３ｃ、Ｅ３ｄがそれぞれ形成される位置は、各マスク情報画像が示すマスク情報に対応する地紋画像と共に、当該地紋画像と対応する位置に形成されればよい。
【００５５】
本実施の形態においては、図３（ａ）に示すように、マスク情報画像Ｅ３ａ、Ｅ３ｂ、Ｅ３ｃ、Ｅ３ｄは、各分割地紋描画領域内に形成される。マスク情報画像Ｅ３ａの書き出し座標は（ｘａ、ｙａ）、マスク情報画像Ｅ３ｂの書き出し座標は（ｘｂ、ｙａ）、マスク情報画像Ｅ３ｃの書き出し座標は（ｘａ、ｙｂ）、マスク情報画像Ｅ３ｄの書き出し座標は（ｘｂ、ｙｂ）、に予め設定されている。
【００５６】
なお、本実施の形態においては、図３（ａ）に示すように、１枚の用紙上に、複数の地紋画像が分割地紋描画領域毎に形成される場合において説明するが、これに限らず、用紙毎に第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せが異なる地紋画像が形成されてもよい。
【００５７】
図３（ｂ）に、用紙に形成される位置合せ画像及びマスク情報画像の他の例を示す。
図３（ｂ）に示すように、用紙Ｐ上には、図３（ａ）の用紙Ｐと同様に、位置合せ画像書込領域Ｅ１が設定され、この位置合せ画像書込領域Ｅ１内の予め設定された位置に、位置合せ画像Ｍ３ａ、Ｍ３ｂが形成される。更に、位置合せ画像書込領域Ｅ１に囲まれた領域（地紋描画領域Ｅ２）には、一組の第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せにより形成される地紋画像と、当該地紋画像を形成する第１マスクパターンと第２マスクパターンの情報を示すマスク情報画像Ｍ３ｅとが形成される。
【００５８】
第１マスクパターンと第２マスクパターンの組合せの数に応じた枚数だけ、図３（ｂ）に示すように地紋画像が形成された用紙が出力されることとなる。
【００５９】
図４に、制御部１１０内において第１出力物の画像の生成処理を実行する際の機能構成図を示す。図４に示すように、制御部１１０は、二値化部１１０ａ、反復部１１０ｂ、マスクパターン選択部１１０ｃ、潜像画像生成部１１０ｄ、背景画像生成部１１０ｅ、反転部１１０ｆ、処理画像生成部１１０ｇ、マスク情報生成部１１０ｈ、地紋画像生成部１１０ｉ、位置合せ画像生成部１１０ｊ、を備えて構成されている。
【００６０】
二値化部１１０ａは、潜像元画像及び背景元画像に対して二値化処理を施す二値化手段としての機能を実現すると共に、二値化処理された潜像元画像及び背景元画像を画像メモリ１６０に記憶させる。
【００６１】
反復部１１０ｂは、画像メモリ１６０に記憶された二値化処理済みの潜像元画像及び背景元画像を、操作表示部３０から入力された指示に従ってそれぞれ地紋描画領域Ｅ２内に反復して配置し、第１の反復画像（潜像反復画像）及び第２の反復画像(背景反復画像)を生成する反復画像生成手段としての機能を実現する。
【００６２】
また、反復部１１０ｂは、マスクパターン選択部１１０ｃとの協働により、マスクパターン選択部１１０ｃにより入力された第１マスクパターン及び第２マスクパターンをそれぞれ地紋描画領域Ｅ２に反復して配置し、分割地紋描画領域毎にドット濃度が異なる第１マスクパターンが反復して配置された第１マスク画像及び分割地紋描画領域毎にドット濃度が異なる第２マスクパターンが反復して配置された第２マスク画像を生成する第１マスク画像生成手段及び第２マスク画像生成手段としての機能を実現する。
【００６３】
マスクパターン選択部１１０ｃは、第１マスク選択部１１１ｃと第２マスク選択部１１２ｃを有する。第１マスク選択部１１１ｃは、操作表示部３０から入力される用紙のサイズに応じて設定された地紋描画領域Ｅ２内において、不揮発メモリ１２０内の第１マスクパターン群１２１を構成する複数の第１マスクパターンと第２マスクパターン群１２２を構成する複数の第２マスクパターンとの組み合わせ数に応じて設定されたマスク切替境界の座標（マスク切替座標）に基づいて、地紋描画領域Ｅ２内における分割地紋描画領域毎に第１マスクパターン群１２１から第１マスクパターンを選択し、選択した第１マスクパターンを反復部１１０ｂに出力する。第２マスク選択部１１２ｃは、第１マスク選択部１１１ｃと同様に、地紋描画領域Ｅ２内における分割地紋描画領域毎に第２マスクパターン群１２２から第２マスクパターンを選択し、選択した第２マスクパターンを反復部に出力する。
【００６４】
潜像画像生成部１１０ｄは、反復部１１０ｂにより生成された潜像反復画像と第１マスク画像とにＡＮＤ処理を用いたマスク処理を施して合成し、潜像画像を生成する潜像画像生成手段としての機能を実現する。
【００６５】
背景画像生成部１１０ｅは、反復部１１０ｂにより生成された背景反復画像と第２マスク画像とにＡＮＤ処理を用いたマスク処理を施して合成し、背景画像を生成する背景画像生成手段としての機能を実現する。
【００６６】
反転部１１０ｆは、反復部１１０ｂにより生成された潜像反復画像又は背景反復画像のいずれか一方の画像に対して反転処理を施して反転画像を生成する反転処理手段としての機能を実現する。本実施の形態における反転部１１０ｆは、潜像反復画像に対して反転処理を施すものとする。
【００６７】
処理画像生成部１１０ｇは、反転部１１０ｆにより生成された反転画像（本実施の形態においては潜像反復画像の反転画像）と反転部１１０ｆにより反転処理が施されていない他方の画像（本実施の形態においては背景反復画像）により生成された潜像画像又は背景画像のいずれか一方（本実施の形態においては背景画像）にＡＮＤ処理を施して処理画像を生成する処理画像生成手段としての機能を実現する。
【００６８】
マスク情報生成部１１０ｈは、用紙サイズ、第１マスク選択部１１１ｃ及び第２マスク選択部１１２ｃからの情報に基づいて、地紋描画領域Ｅ２内の各分割地紋描画領域に生成された地紋画像を形成する第１マスクパターンの情報及び第２マスクパターンの情報を示すマスク情報を生成するマスク情報生成手段としての機能を実現し、当該マスク情報に基づいたマスク情報画像を生成して、地紋画像生成部１１０ｉに出力する。
【００６９】
地紋画像生成部１１０ｉは、処理画像生成部１１０ｇにより生成された処理画像と反転画像の元である潜像画像又は背景画像のいずれか一方の画像（本実施の形態においては、潜像画像）とにＯＲ処理を施して地紋描画領域Ｅ２内の分割地紋描画領域毎に生成された複数の地紋画像を生成する地紋画像生成手段としての機能を実現すると共に、マスク情報生成手段により入力された複数のマスク情報画像を分割地紋描画領域毎に生成された地紋画像に上書き合成する。
【００７０】
位置合せマーク生成部１１０ｊは、複数の地紋画像が形成される用紙、即ち、操作表示部３０から入力された用紙のサイズに基づいて、当該用紙の位置合せ画像書込領域Ｅ１に、複数の地紋画像の位置又は方向を示す位置合せ画像を生成する位置合せ画像生成手段としての機能を実現し、当該位置合せ画像を地紋画像生成部１１０ｉから出力される画像に合成させる。
【００７１】
不揮発メモリ１２０は、画像形成に係る各種処理プログラム及びデータの他、その他各種プログラムで処理されたデータ等を記憶し、また、不揮発メモリ１２０は、ドット濃度が異なる複数の第１マスクパターン（第１マスクパターン群１２１）とドット濃度が異なる複数の第２マスクパターン（第２マスクパターン群１２２）とを記憶しているマスクパターン記憶手段としての機能を実現する。
なお、第１マスクパターン群１２１、第２マスクパターン群１２２は、制御部１１０内のＲＯＭに予め記憶されていてもよい。
【００７２】
読取処理部１３０は、画像読取部２０から入力されるアナログ画像信号に、アナログ処理、Ａ／Ｄ変換処理、シェーディング処理等の各種処理を施した後、デジタル画像データを生成する。生成された画像データは、圧縮ＩＣ１４０に出力される。
【００７３】
圧縮ＩＣ１４０は、入力されたデジタル画像データに圧縮処理を施してＤＲＡＭ制御ＩＣ１５０に出力する。
【００７４】
ＤＲＡＭ制御ＩＣ１５０は、制御部１１０からの指示に従って、圧縮ＩＣ１４０によるデジタル画像データの圧縮処理及び伸長ＩＣ１７０による圧縮画像データの伸長処理を制御するとともに、画像メモリ１６０への画像データの入出力制御を行う。例えば、画像読取部２０により読み取られたアナログ画像信号の保存が指示されると、読取処理部１３０から入力されたデジタル画像データの圧縮処理を圧縮ＩＣ１４０により実行させて、圧縮画像データを画像メモリ１６０の圧縮メモリ１６１に格納させる。また、圧縮メモリ１６１に格納された圧縮画像データのプリント出力が指示されると、圧縮メモリ１６１から圧縮画像データを読み出し、伸長ＩＣ１７０により伸長処理を施してページメモリ１６２に格納させる。さらに、ページメモリ１６２に格納された非圧縮画像データのプリント出力が指示されると、ページメモリ１６２から非圧縮画像データを読み出して書込処理部１８０に出力する。
【００７５】
画像メモリ１６０は、ＤＲＡＭ（Dynamic RAM）から構成される圧縮メモリ１６１とページメモリ１６２とを備える。圧縮メモリ１６１は、圧縮画像データを格納するためのメモリであり、ページメモリ１６２は、プリント出力前にプリント出力対象の非圧縮画像データを一時的に格納するためのメモリである。
【００７６】
また、画像メモリ１６０は、ネットワークＮを介してプリンタコントローラ１ｂと接続された外部機器ＰＣ又は画像読取部２０等を用いて画像形成装置１の外部から取得された潜像元画像又は背景元画像や予め設定された潜像元画像又は背景元画像、二値化処理された潜像元画像又は背景元画像を記憶したり、生成された地紋画像、画像読取部２０により読み取った第１出力物の画像や第２出力物の画像等を記憶する機能を実現する。
【００７７】
伸長ＩＣ１７０は、入力される圧縮画像データに伸長処理を施す。
【００７８】
書込処理部１８０は、ＤＲＡＭ制御ＩＣ１５０から入力された非圧縮画像データに基づいて、画像形成のためのプリントデータを生成し、プリント部４０に出力する。
【００７９】
画像読取部２０は、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）２１、画像読取制御部２００、その他ここでは図示しないが自動原稿送り部、読取部等から構成される。画像読取制御部２００は、自動原稿送り部、読取部等を制御して、プラテンガラスや読取箇所に載置された原稿面の露光走査を実行させ、光の反射光をＣＣＤ２１により光電変換を行わせて原稿画像を読み取る。読み取られたアナログ画像信号は画像制御部１００の読取処理部１３０に出力される。
【００８０】
また、画像読取部２０は、プラテンガラスに載置された原稿等の読取対象物の画像を、潜像元画像及び背景元画像、又は、本体画像として読み取り、画像制御部１００に送信する。更に、画像読取部２０は、第１出力物、及び当該第１出力物をプリント処理（即ち、複写）して得られた第２出力物に形成された画像を読み取る画像読取手段としての機能を実現する。
【００８１】
操作表示部３０は、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）３１、操作表示制御部３００、その他図示しないタッチパネルや操作キー群から構成される。ＬＣＤ３１上には、ＬＣＤ３１を覆うようにタッチパネルが設けられており、操作表示制御部３００は、制御部１１０から入力される表示信号に従って、各種設定条件を入力するための各種設定画面や各種処理結果等をＬＣＤ３１に表示させる。また、操作表示制御部３００は、操作キー群又はタッチパネルから入力される操作信号を制御部１１０に出力する。
【００８２】
また、操作表示部３０は、地紋画像を生成する場合、背景元画像を取得する指示、潜像元画像を取得する指示、合成画像を形成する用紙の種類に応じた用紙サイズ、の指示を受け付けると共に、潜像元画像の配置パターンを複数表示させ、配置パターンの指示を受け付ける配置パターン指示画面、指示された配置パターンが、潜像元画像が直線状に複数配置された潜像元画像列を複数行配置した配置パターンである場合、潜像元画像の相互間の距離を示す位置情報（ｘ、ｙ）、奇数行又は偶数行の配列開始位置を示す位置情報（ｚ）の指示を受け付ける配置間隔指示画面等の各種画面をＬＣＤ３１上に表示させ、タッチパネルや操作キーによって入力される各種指示信号を制御部１１０に出力する。
【００８３】
このように、配置パターンや位置情報（ｘ、ｙ、ｚ）をユーザが操作表示部３０を介して指示することができることにより、潜像反復画像をユーザの好みに応じて生成することができる。
【００８４】
用紙の種類に応じた用紙サイズとは、Ａ３サイズ、Ａ４サイズ、Ｂ５サイズ、Ｂ６サイズ等の規格化された用紙サイズであり、この用紙サイズに応じて地紋描画領域が予め定められている。従って、用紙サイズの指示を受け付けることにより、地紋描画領域のサイズが決定される。
【００８５】
配置パターン指示画面に表示される配置パターンとしては、例えば、潜像元画像が直線状に複数配置された潜像元画像列を複数行配置した配置パターンや、潜像元画像列が記録倍媒体の搬送方向に対して所定の角度分だけ傾いている配置パターンや、潜像元画像を千鳥配置した配置パターン、またこれらが組み合わされた配置パターン等である。
【００８６】
図５に、潜像元画像が直線上に複数配置された潜像元画像列を複数行配置した配置パターン例を示す。図５に示す配置パターンは、潜像元画像Ｇ１が用紙の搬送方向Ｙと直交する方向（主走査方向）Ｘにおいて２個配置された潜像元画像列Ｒが５行配置されている。
【００８７】
潜像元画像Ｇ１の相互間の距離を示す位置情報（ｘ、ｙ）としては、主走査方向Ｘに隣接する潜像元画像Ｇ１間の距離をｘ、搬送方向Ｙに隣接する潜像元画像Ｇ１間の距離をｙとする。
【００８８】
また、奇数行又は偶数行の配列開始位置を示す位置情報（ｚ）としては、地紋描画領域Ｅ２内において、潜像元画像列Ｒの配列方向端部から潜像元画像列Ｒの先頭に配置される潜像元画像までの距離ｚとする。
【００８９】
プリント部４０は、入力されたプリントデータに基づいて、電子写真方式の画像形成処理を行うものであり、給紙部、給紙搬送部、画像形成部４１、定着部、搬出部等のプリント出力に係る各部や、プリント制御部４００を備えて構成される。プリント制御部４００は、制御部１１０からの指示に従って画像形成部４１等のプリント部４０の各部の動作を制御し、書込処理部１８０から入力されたプリントデータに基づいて用紙に画像形成を行わせる。
【００９０】
また、プリント部４０は、制御部１１０からの指示に従って生成された第１出力物の画像のプリントデータに基づいて、用紙上に当該画像を形成して第１出力物として出力し、また、画像読取部２０により読み取られた第１出力物の画像のプリントデータに基づいて、用紙上に当該画像を形成して第２出力物として出力する画像形成手段としての機能を実現する。
【００９１】
次に、本実施の形態の動作を説明する。
図６〜１１、１４は、本実施の形態における最適地紋画像決定処理に関するフローチャートである。図６〜１１、１４に示す動作は、画像制御部１００の各部と制御部１１０とにおける協働によって実行されるものとする。
【００９２】
まず、図６に示す本実施の形態における最適地紋画像決定処理のメインフローチャートを示す。
操作表示部３０又は外部機器ＰＣから、本処理を実行させる指示が入力されたか否かが判別され（ステップＳ１）、本処理の指示が入力されていない場合（ステップＳ１；Ｎｏ）、本処理は終了される。
【００９３】
操作表示部３０から、本処理を実行させる指示が入力された場合（ステップＳ１；Ｙｅｓ）、第１出力物は未出力か否か、即ち、潜像画像を形成する第１マスクパターンと背景画像を形成する第２マスクパターンとの組み合せが異なる複数の地紋画像が用紙上に形成された第１出力物が本画像形成装置１によりプリント出力されたか否かが判別され（ステップＳ２）、第１出力物が出力済みである場合（ステップＳ２；Ｎｏ）、ステップＳ４に進む。
【００９４】
第１出力物が未出力である場合（ステップＳ２；Ｙｅｓ）、後述する第１出力物の出力処理が実行される（ステップＳ３）。
【００９５】
ステップＳ２；Ｎｏ後、又はステップＳ３後、即ち、第１出力物が出力された後、第２出力物は未出力か否か、即ち、画像読取部２０により読み取られた第１出力物の画像が用紙上に形成された第２出力物が本画像形成装置１によりプリント出力されたか否かが判別され（ステップＳ４）、第２出力物が出力済みである場合（ステップＳ４；Ｎｏ）、ステップＳ８に進む。
【００９６】
第２出力物が未出力である場合（ステップＳ４；Ｙｅｓ）、操作表示部３０のＬＣＤ３１上に第１出力物の画像の読み取り指示を示す画面が表示される（ステップＳ５）。ユーザは、ＬＣＤ３１上に表示された画面の指示に従って、プラテン上に複数の地紋画像が形成されている第１出力物を載置する。
【００９７】
プラテン上に載置された第１出力物が検出されると、第１出力物に形成されている画像が読み取られる（ステップＳ６）。
【００９８】
ステップＳ６において読み取られた画像がプリントデータとしてプリント部４０に出力され、用紙上に当該画像が第２出力物の画像として形成され出力されるプリント処理が実行される（ステップＳ７）。
【００９９】
ステップＳ４；Ｎｏ後、又はステップＳ７後、即ち、第１出力物及び第２出力物が出力された後、後述するマスクパターン決定処理が実行され（ステップＳ８）、本処理は終了される。
【０１００】
図７に、第１出力物の出力処理を示すフローチャートを示す。
まず、地紋元画像（潜像元画像及び背景元画像）を取得する手段の選択指示を受け付ける（ステップＳ１１）。例えば、操作表示部３０のＬＣＤ３１上に、地紋画像を取得可能な手段として、画像読取部２０、外部機器ＰＣ、画像メモリ１６０を選択指示可能な画面を表示させ、選択指示を受け付ける。
【０１０１】
画像読取部２０から地紋元画像を取得する指示を受け付けたか否かが判別され（ステップＳ１２）、画像読取部２０から地紋元画像を取得する指示が受け付けたと判別された場合（ステップＳ１２；Ｙｅｓ）、画像読取部２０から潜像元画像を取得する画像取得処理が実行され（ステップＳ１３）、更に、画像読取部２０から背景元画像を取得する画像取得処理が実行され（ステップＳ１４）、ステップＳ２１に進む。
【０１０２】
画像読取部２０から地紋元画像を取得する指示が受け付けられていないと判別された場合（ステップＳ１２；Ｎｏ）、外部機器ＰＣから地紋元画像を取得する指示を受け付けたか否かが判別され（ステップＳ１５）、外部機器ＰＣから地紋元画像を取得する指示が受け付けたと判別された場合（ステップＳ１５；Ｙｅｓ）、外部機器ＰＣからによる潜像元画像を取得する画像取得処理が実行され（ステップＳ１６）、更に、外部機器ＰＣからによる背景元画像を取得する画像取得処理が実行され（ステップＳ１７）、ステップＳ２１に進む。
【０１０３】
外部機器ＰＣから地紋元画像を取得する指示が受け付けられていないと判別された場合（ステップＳ１５；Ｎｏ）、画像メモリ１６０から地紋元画像を取得する指示を受け付けたか否かが判別され（ステップＳ１８）、画像メモリ１６０から地紋元画像を取得する指示が受け付けたと判別された場合（ステップＳ１８；Ｙｅｓ）、画像メモリ１６０からによる潜像元画像を取得する画像取得処理が実行され（ステップＳ１９）、更に、画像メモリ１６０からによる背景元画像を取得する画像取得処理が実行され（ステップＳ２０）、ステップＳ２１に進む。
【０１０４】
画像メモリ１６０から地紋元画像を取得する指示が受け付けられていないと判別された場合（ステップＳ１８；Ｎｏ）、本処理は終了される。
【０１０５】
潜像元画像及び背景元画像が取得された後、潜像元画像の配置パターン指示画面が操作表示部３０のＬＣＤ３１上に表示され（ステップＳ２１）、配置パターンの指示が受け付けられる（ステップＳ２２）。
【０１０６】
また、配置パターンの指示が受け付けられた後、配置間隔指示画面が操作表示部３０のＬＣＤ上に表示され（ステップＳ２３）、配置間隔指示として、位置情報ｘ，ｙ，ｚが受け付けられる（ステップＳ２４）。
【０１０７】
更に、操作表示部３０から複数の地紋画像を形成させる用紙の種類（用紙のサイズ）の指示が受け付けられる（ステップＳ２５）。
【０１０８】
不揮発メモリ１２０に記憶されている第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせの数に基づいて、地紋描画領域の分割数の算出、即ち、用紙の搬送方向Ｙにおける分割地紋描画領域の数及び主走査方向Ｘにおける分割地紋描画領域の数が算出される（ステップＳ２６）。
【０１０９】
ステップＳ２５において取得した用紙サイズと、当該用紙サイズに対応する位置合せ画像書込領域と、に基づいて、地紋描画領域が設定される（ステップＳ２７）。
【０１１０】
地紋描画領域が設定されると、地紋画像生成処理が実行されて、分割地紋描画領域毎に第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せが異なる複数の地紋画像及び当該地紋画像に合成されたマスク情報画像が生成され（ステップＳ２８）、ステップＳ２８において生成された画像に位置合せ画像を合成する位置合せ画像合成処理が実行され（ステップＳ２９）、第１出力物の画像が生成される。
【０１１１】
そして、生成された第１出力物の画像がプリントデータとしてプリント部４０に出力され、設定された用紙上に当該画像が形成され出力されるプリント処理が実行され（ステップＳ３０）、本処理は終了される。
【０１１２】
図８に、ステップＳ１３において実行される画像読取部２０から潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートを示す。
【０１１３】
まず、操作表示部３０のＬＣＤ３１上に潜像元画像の取得手順を示す画面、例えば、「プラテン上に画像（以下、原稿画像）が形成されている原稿を載置して、読み取り開始キーを押下して下さい。」等のメッセージが表示された画面、が表示される（ステップＳ３１）。ユーザは、ＬＣＤ３１上に表示された画面に従って、プラテン上に原稿画像が形成されている原稿を載置する。
【０１１４】
プラテン上に載置された原稿が検出され（ステップＳ３２）、原稿に形成されている原稿画像が潜像元画像として読み込まれる（ステップＳ３３）。
【０１１５】
そして、潜像元画像として読み込まれた原稿画像に対して二値化処理が施され（ステップＳ３４）、二値化処理済みの潜像元画像が保存され（ステップＳ３５）、本処理は終了される。
【０１１６】
ステップＳ１４において実行される画像読取部２０から背景元画像を取得する画像取得処理のフローチャートは、図８に示した画像読取部２０から潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートの潜像元画像が背景元画像となる以外は同様であるため、図示及び説明は省略する。
【０１１７】
図９に、ステップＳ１６において実行される外部機器ＰＣから潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートを示す。
【０１１８】
まず、操作表示部３０のＬＣＤ３１上に潜像元画像の取得手順と、接続可能な外部機器ＰＣの一覧を示す画面、例えば、「表示された外部機器ＰＣの一覧から外部機器を指定して、潜像元画像となる画像を選択して下さい。」等のメッセージが表示された画面、が表示される（ステップＳ４１）。ユーザは、ＬＣＤ３１上に表示された画面に従って、外部機器ＰＣの選択指示を行う。
【０１１９】
操作表示部３０により外部機器ＰＣの選択指示が受け付けられると（ステップＳ４２）、選択された外部機器ＰＣが有する画像のうち、画像形成装置１が取得可能な画像データの一覧が表示され（ステップＳ４３）、ユーザは、表示された画像データの一覧から所望する画像データの選択指示を行う。
【０１２０】
操作表示部３０により画像データの選択指示が受け付けられると（ステップＳ４４）、選択された画像データが潜像元画像としてプリンタコントローラ１ｂを介して読み込まれる（ステップＳ４５）。
【０１２１】
そして、潜像元画像として読み込まれた画像データに対して二値化処理が施され（ステップＳ４６）、二値化処理済みの潜像元画像が保存され（ステップＳ４７）、本処理は終了される。
【０１２２】
ステップＳ１７において実行される外部機器ＰＣから背景元画像を取得する画像取得処理のフローチャートは、図９に示した外部機器ＰＣから潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートの潜像元画像が背景元画像となる以外は同様であるため、図示及び説明は省略する。
【０１２３】
図１０に、ステップＳ１９において実行される画像メモリ１６０から潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートを示す。
【０１２４】
まず、操作表示部３０のＬＣＤ３１上に潜像元画像の取得手順と、選択可能な画像メモリ１６０の一覧を示す画面、例えば、「表示された画像メモリの一覧から画像メモリを指定して、潜像元画像となる画像を選択して下さい。」等のメッセージが表示された画面、が表示される（ステップＳ５１）。ユーザは、ＬＣＤ３１上に表示された画面に従って、画像メモリ１６０の選択指示を行う。
【０１２５】
操作表示部３０により画像メモリ１６０の選択指示が受け付けられると（ステップＳ５２）、選択された画像メモリ１６０が有する画像のうち、取得可能な画像の一覧が表示され（ステップＳ５３）、ユーザは、表示された画像の一覧から所望する画像の選択指示を行う。
【０１２６】
操作表示部３０により画像の選択指示が受け付けられると（ステップＳ５４）、選択された画像が潜像元画像として画像メモリ１６０から読み出される（ステップＳ５５）。
【０１２７】
そして、潜像元画像として読み出された画像に対して二値化処理が施され（ステップＳ５６）、二値化処理済みの潜像元画像が保存され（ステップＳ５７）、本処理は終了される。
【０１２８】
ステップＳ２０において実行される画像メモリ１６０から背景元画像を取得する画像取得処理のフローチャートは、図１０に示した画像メモリ１６０から潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートの潜像元画像が背景元画像となる以外は同様であるため、図示及び説明は省略する。
【０１２９】
図１１に、ステップＳ２８において実行される地紋画像生成処理のフローチャートを示す。
まず、反復部１１０ｂにより、画像メモリ１６０に保存されている二値化処理済みの背景元画像が、操作表示部３０から反復部１１０ｂに入力された用紙サイズに応じた地紋描画領域内に複数反復配置され、背景反復画像が生成される（ステップＳ６１）。
【０１３０】
また、反復部１１０ｂにより、画像メモリ１６０に保存されている二値化処理済みの潜像元画像が、操作表示部３０から反復部１１０ｂに入力される配置パターン及び位置情報（ｘ、ｙ、ｚ）に応じて、用紙サイズに応じた地紋描画領域内に複数反復配置され、潜像反復画像が生成される（ステップＳ６２）。
【０１３１】
更に、反復部１１０ｂ及びマスクパターン選択部１１０ｃとの協働により、第１マスクパターンの反復処理により、第１マスク画像の生成が実行される。マスクパターン選択部１１０ｃの第１マスク選択部１１１ｃにより、マスク切替境界Ｌ１、Ｌ２の座標に基づいて分割地紋描画像領域毎に異なる第１マスクパターンが選択され、反復部１１０ｂにより選択された第１マスクパターンが各分割地紋描画領域内に反復配置され、分割地紋描画領域毎に異なる第１マスクパターンからなる第１マスク画像が生成される（ステップＳ６３）。
【０１３２】
また、反復部１１０ｂ及びマスクパターン選択部１１０ｃとの協働により、第２マスクパターンの反復処理により、第２マスク画像の生成が実行される。マスクパターン選択部１１０ｃの第２マスク選択部１１２ｃにより、マスク切替境界Ｌ１、Ｌ２の座標に基づいて分割地紋描画像領域毎に異なる第２マスクパターンが選択され、反復部１１０ｂにより選択された第２マスクパターンが各分割地紋描画領域内に反復配置され、分割地紋描画領域毎に異なる第２マスクパターンからなる第２マスク画像が生成される（ステップＳ６４）。
【０１３３】
なお、ステップＳ６１〜６４は、並列に実行されてもよく、潜像反復画像の生成の後、背景反復画像が生成されてもよく、また、第２マスク画像の生成後、第１マスクパターンが生成されてもよく、これに限らない。
【０１３４】
反復部１１０ｂにより背景反復画像及び第２マスク画像が生成されると（ステップＳ６１後及びステップＳ６４後）、背景画像生成部１１０ｅにより、第２マスク画像と背景反復画像とがＡＮＤ処理が施されて合成され、分割地紋描画領域毎に第２マスクパターンが異なる背景画像が生成される（ステップＳ６５）。
【０１３５】
反復部１１０ｂにより潜像反復画像及び第１マスク画像が生成されると（ステップＳ６２及びステップＳ６３後）、潜像画像生成部１１０ｄにより、第１マスク画像と潜像反復画像とがＡＮＤ処理が施されて合成され、分割地紋描画領域毎に第１マスクパターンが異なる潜像画像が生成される（ステップＳ６６）。
【０１３６】
また、反復部１１０ｂにより潜像反復画像が生成されると(ステップＳ６２後)、反転部１１０ｆにより、潜像反復画像に対して反転処理が施され、反転画像が生成される（ステップＳ６７）。
【０１３７】
背景画像及び反転画像が生成された後（ステップＳ６５及びステップＳ６７後）、処理画像生成部１１０ｇにより、背景画像と反転画像とがＡＮＤ処理が施されて合成され、処理画像が生成される（ステップＳ６８）。
【０１３８】
処理画像生成部１１０ｇにより処理画像が生成されると（ステップＳ６８後）、潜像画像生成部１１０ｄにより生成された潜像画像と処理画像生成部１１０ｇにより生成された処理画像とがＯＲ処理が施されて合成され、分割地紋描画領域毎に第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せが異なる複数の地紋画像が生成される（ステップＳ６９）。
【０１３９】
また、マスクパターン選択部１１０ｃ及びマスク情報生成部１１０ｈとの協働により、分割地紋描画領域毎に選択された第１マスクパターンの情報と第２マスクパターンの情報を示す画像（マスク情報画像）が各分割地紋描画領域に対応付けて生成される。そして、生成されたマスク情報画像は、ステップＳ６９において生成された分割地紋描画領域毎の地紋画像に上書き合成され（ステップＳ７０）、本処理は終了される。
【０１４０】
図１２に、ステップＳ３において出力される第１出力物の例を示す。
図１２に示すように、用紙上の位置合せ画像書込領域Ｅ１内に、位置合せ画像Ｍ３ａ、Ｍ３ｂが形成され、地紋描画領域Ｅ２内には、第１〜４分割地紋描画領域Ｅ２１、Ｅ２２、Ｅ２３、Ｅ２４それぞれに形成された地紋画像と当該地紋画像毎に対応するマスク情報画像Ｅ３ａ、Ｅ３ｂ、Ｅ３ｃ、Ｅ３ｄが形成されている。
【０１４１】
第１分割地紋描画領域Ｅ２１には、図２（ａ）に示すドット濃度が薄い第１マスクパターンとドット濃度が薄い第２マスクパターンとの組み合わせ（第１組合せ）により形成された地紋画像と、当該第１組合せの情報を示すマスク情報画像Ｅ３ａが形成されている。
【０１４２】
第２分割地紋描画領域Ｅ２２には、図２（ａ）に示すドット濃度が濃い第１マスクパターンとドット濃度が薄い第２マスクパターンとの組み合わせ（第２組合せ）により形成された地紋画像と、当該第２組合せの情報を示すマスク情報画像Ｅ３ｂが形成されている。
【０１４３】
第３分割地紋描画領域Ｅ２３には、図２（ａ）に示すドット濃度が薄い第１マスクパターンとドット濃度が濃い第２マスクパターンとの組み合わせ（第３組合せ）により形成された地紋画像と、当該第３組合せの情報を示すマスク情報画像Ｅ３ｃが形成されている。
【０１４４】
第４分割地紋描画領域Ｅ２４には、図２（ａ）に示すドット濃度が濃い第１マスクパターンとドット濃度が濃い第２マスクパターンとの組み合わせ（第４組合せ）により形成された地紋画像と、当該第４組合せの情報を示すマスク情報画像Ｅ３ｄが形成されている。
【０１４５】
このように、分割地紋描画領域毎に第１マスクパターンと第２マスクパターンの組合せが異なる地紋画像が形成される。
【０１４６】
図１３に、ステップＳ７において出力される図１２に示した第１出力物をプリント処理して得られた第２出力物の例を示す。
図１３に示すように、第１出力物の位置合せ画像書込領域Ｅ１内に形成された位置合せ画像Ｍ３ａ、Ｍ３ｂに対応する位置に位置合せ画像Ｍ３ａ、Ｍ３ｂが形成されている。
また、第１出力部の第１〜４分割地紋描画領域Ｅ２１、Ｅ２２、Ｅ２３、Ｅ２４それぞれに対応する領域Ｅ３１、Ｅ３２、Ｅ３３、Ｅ３４には、複写後の地紋画像と当該地紋画像毎に対応するマスク情報画像Ｅ３ａ、Ｅ３ｂ、Ｅ３ｃ、Ｅ３ｄが形成されている。
【０１４７】
第１出力物の第１分割地紋描画領域Ｅ２１に対応する領域Ｅ３１には、地紋画像が形成されず、第１組合せの情報を示すマスク情報画像Ｅ３ａのみが形成されている。
【０１４８】
第１出力物の第２分割地紋描画領域Ｅ２２に対応する領域Ｅ３２には、第１マスクパターンにより形成された潜像画像と、第２組合せの情報を示すマスク情報画像Ｅ３ｂが形成されている。
【０１４９】
第１出力物の第３分割地紋描画領域Ｅ２３に対応する領域Ｅ３３には、第２マスクパターンにより形成された背景画像と、第３組合せの情報を示すマスク情報画像Ｅ３ｃが形成されている。
【０１５０】
第１出力物の第４分割地紋描画領域Ｅ２４に対応する領域Ｅ３４には、第１マスクパターンにより形成された潜像画像と第２マスクパターンにより形成された背景画像とに形成された地紋画像と、第４組合せの情報を示すマスク情報画像Ｅ３ｄが形成されている。
【０１５１】
このように、第１出力物をプリント処理して得られた第２出力物は、分割地紋描画領域毎の第１マスクパターンと第２マスクパターンの組合せにより、異なる画像が形成されることとなる。
【０１５２】
このように、第１出力物に位置合せ画像Ｍ３ａ、Ｍ３ｂが形成されるため、第１出力物を複写して得られる第２出力物にも位置合せ画像Ｍ３ａ、Ｍ３ｂが形成されることとなり、第１出力物に形成された複数の地紋画像の位置と、第２出力物に形成された複数の地紋画像の位置との対応付けを行なうことができ、第１出力物に形成された各地紋画像に対応する第２出力物に形成された各地紋画像を特定することができる。
【０１５３】
図１４に、ステップＳ８において実行されるマスクパターン決定処理のフローチャートを示す。
まず、第１リストが未生成か否かが判別され（ステップＳ７１）、第１リストが未生成でない場合、即ち、第１リストが生成済みである場合（ステップＳ７１；Ｎｏ）、ステップＳ８３に進む。
【０１５４】
第１リストが未生成である場合（ステップＳ７１；Ｙｅｓ）、操作表示部３０のＬＣＤ３１上に第１出力物の画像読取手順を示す画面が表示される（ステップＳ７２）。ユーザは、ＬＣＤ３１上に表示された画面に従って、プラテン上に第１出力物を載置する。
【０１５５】
プラテン上に載置された第１出力物が検出され、当該第１出力物に形成されている画像が読み込まれる（ステップＳ７３）。そして読み込まれた画像から位置合せ画像を取得する画像解析が実行され（ステップＳ７４）、読み込んだ画像から位置合せ画像を取得できたか否かが判別される（ステップＳ７５）。
【０１５６】
位置合せ画像が取得できない場合（ステップＳ７５；Ｎｏ）、本処理は終了される。なお、位置合せ画像が取得できないと判別された場合、ステップＳ７１に戻り、再度、第１出力物の画像読取を行ったり、エラー報知を行なったりしてもよい。
【０１５７】
位置合せ画像が取得できた場合（ステップＳ７５；Ｙｅｓ）、位置合せ画像に基づいて地紋描画領域が特定される（ステップＳ７６）。
【０１５８】
地紋描画領域が特定されると、当該第１出力物を出力する際に当該画像形成装置１によって生成された潜像反復画像と、ステップＳ７６において特定された地紋描画領域内に形成されているステップＳ７３において取得された画像と、にＡＮＤ処理が施され、ステップＳ７３において取得された画像から潜像反復画像に対応する領域の画像、即ち、潜像画像に対応する画像が取得される。
【０１５９】
また、当該第１出力物を出力する際に当該画像形成装置１によって生成された潜像反復画像の反転画像と、ステップＳ７６において特定された地紋描画領域内に形成されているステップＳ７３において取得された画像と、にＡＮＤ処理が施され、ステップＳ７３において取得された画像から反転画像に対応する領域の画像、即ち、背景画像に対応する画像が取得される。
【０１６０】
地紋描画領域が特定されると、第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せ数に応じて、特定された地紋描画領域が分割される（ステップＳ７７）。
【０１６１】
分割された地紋描画領域（即ち、複数の分割地紋描画領域）のうち第１差分値が算出されていない分割地紋描画領域に対応する画像に対して、第１潜像単位濃度が算出される（ステップＳ７８）。
【０１６２】
ステップＳ７８における第１潜像単位濃度の算出は、当該第１潜像単位濃度を算出する分割地紋描画像領域に対応する画像において、潜像反復画像に対応する領域の画素数（潜像画素数）が計数される。また、当該第１潜像単位濃度を算出する分割地紋描画像領域の画素数（領域画素数）が計数される。そして、計数された領域画素数に対する潜像画素数の割合が算出され、当該割合が第１潜像単位濃度として算出される。
【０１６３】
また、ステップＳ７８において第１潜像単位濃度が算出された分割地紋描画領域に対応する画像に対して、第１背景範囲濃度が算出される（ステップＳ７９）。
【０１６４】
ステップＳ７９における第１背景単位濃度の算出は、当該第１背景単位濃度を算出する分割地紋描画像領域に対応する画像において、潜像反復画像の反転画像に対応する領域の画素数（背景画素数）が計数される。また、当該第１背景単位濃度を算出する分割地紋描画像領域の画素数（領域画素数）が計数される。そして、計数された領域画素数に対する背景画素数の割合が算出され、当該割合が第１背景単位濃度として算出される。
【０１６５】
第１潜像単位濃度及び第１背景単位濃度が算出されると、第１潜像単位濃度と第１背景単位濃度との差分値の絶対値が第１差分値として算出される（ステップＳ８０）。
【０１６６】
第１差分値が算出されると、第１差分値が算出された第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを当該第１差分値が小さい順番に並べられた第１リストが生成される（ステップＳ８１）。
【０１６７】
全ての分割地紋描画領域に対する第１差分値、即ち、全ての第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せの第１差分値、が算出されたか否かが判別され（ステップＳ８２）、全ての分割地紋描画領域に対する第１差分値が算出されていない場合（ステップＳ８２；Ｎｏ）、ステップＳ７８に戻る。
【０１６８】
なお、ステップＳ７８〜８０が分割地紋描画領域毎に繰り返されることにより第１差分算出手段としての機能が実現され、また、ステップＳ８１により第１リスト生成手段としての機能が実現される。
【０１６９】
図１５（ａ）に、第１リストの例を示す。
図１５（ａ）に示す第１リストは、図１２に示す第１出力物の第１リストの例である。
【０１７０】
図１５（ａ）に示すように、第１リストは、分割地紋描画領域毎、即ち、第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせ毎に、マスク情報と、第１潜像単位濃度、第１背景単位濃度、第１差分値から形成されており、第１差分値が小さい順番に並べられている。
【０１７１】
図１５（ａ）に示す第１リストにおいて、第１位は、第１差分値が１である図２（ａ）に示すドット濃度が薄い第１マスクパターンとドット濃度が薄い第２マスクパターンとの組み合わせ（第１組合せ）、第２位は、第１差分値が２である図２（ａ）に示すドット濃度が濃い第１マスクパターンとドット濃度が濃い第２マスクパターンとの組み合わせ（第４組合せ）、第３位は、第１差分値が３である図２（ａ）に示すドット濃度が濃い第１マスクパターンとドット濃度が薄い第２マスクパターンとの組み合わせ（第２組合せ）及び図２（ａ）に示すドット濃度が薄い第１マスクパターンとドット濃度が濃い第２マスクパターンとの組み合わせ（第３組合せ）となっている。
【０１７２】
全ての分割地紋描画領域に対する第１差分値が算出された場合（ステップＳ８２；Ｙｅｓ）、又は、ステップＳ７１；Ｎｏ後、第２リストが未生成か否かが判別され（ステップＳ８３）、第２リストが未生成でない場合、即ち、第２リストが生成済みである場合（ステップＳ８３；Ｎｏ）、ステップＳ９５に進む。
【０１７３】
第２リストが未生成である場合（ステップＳ８３；Ｙｅｓ）、操作表示部３０のＬＣＤ３１上に第２出力物の画像読取手順を示す画面が表示される（ステップＳ８４）。ユーザは、ＬＣＤ３１上に表示された画面に従って、プラテン上に第１出力物を載置する。
【０１７４】
プラテン上に載置された第２出力物が検出され、当該第２出力物に形成されている画像が読み込まれる（ステップＳ８３）。そして読み込まれた画像から位置合せ画像を取得する画像解析が実行され（ステップＳ８５）、読み込んだ画像から位置合せ画像を取得できたか否かが判別される（ステップＳ８６）。
【０１７５】
位置合せ画像が取得できない場合（ステップＳ８７；Ｎｏ）、本処理は終了される。なお、位置合せ画像が取得できないと判別された場合、ステップＳ８３に戻り、再度、第２出力物の画像読取を行ったり、エラー報知を行なったりしてもよい。
【０１７６】
位置合せ画像が取得できた場合（ステップＳ８７；Ｙｅｓ）、位置合せ画像に基づいて地紋描画領域が特定される（ステップＳ８８）。
【０１７７】
地紋描画領域が特定されると、当該第２出力物の画像として読み取られた第１出力物の画像を出力する際に、当該画像形成装置１によって生成された潜像反復画像と、ステップＳ８８において特定された地紋描画領域内に形成されているステップＳ８５において取得された画像と、にＡＮＤ処理が施され、ステップＳ８５において取得された画像から潜像反復画像に対応する領域の画像、即ち、潜像画像に対応する画像が取得される。
【０１７８】
また、当該第２出力物の画像として読み取られた第１出力物の画像を出力する際に、当該画像形成装置１によって生成された潜像反復画像の反転画像と、ステップＳ８８において特定された地紋描画領域内に形成されているステップＳ８５において取得された画像と、にＡＮＤ処理が施され、ステップＳ８５において取得された画像から反転画像に対応する領域の画像、即ち、背景画像に対応する画像が取得される。
【０１７９】
地紋描画領域が特定されると、第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せ数に応じて、特定された地紋描画領域が分割される（ステップＳ８９）。
【０１８０】
分割された地紋描画領域（即ち、複数の分割地紋描画領域）のうち第２差分値が算出されていない分割地紋描画領域に対応する画像に対して、第２潜像単位濃度が算出される（ステップＳ９０）。
【０１８１】
ステップＳ９０における第２潜像単位濃度の算出は、当該第２潜像単位濃度を算出する分割地紋描画像領域に対応する画像において、潜像反復画像に対応する領域の画素数（潜像画素数）が計数される。また、当該第２潜像単位濃度を算出する分割地紋描画像領域の画素数（領域画素数）が計数される。そして、計数された領域画素数に対する潜像画素数の割合が算出され、当該割合が第２潜像単位濃度として算出される。
【０１８２】
また、ステップＳ９０において第２潜像単位濃度が算出された分割地紋描画領域に対応する画像に対して、第２背景範囲濃度が算出される（ステップＳ９１）。
【０１８３】
ステップＳ９１における第２背景単位濃度の算出は、当該第２背景単位濃度を算出する分割地紋描画像領域に対応する画像において、潜像反復画像の反転画像に対応する領域の画素数（背景画素数）が計数される。また、当該第２背景単位濃度を算出する分割地紋描画像領域の画素数（領域画素数）が計数される。そして、計数された領域画素数に対する背景画素数の割合が算出され、当該割合が第２背景単位濃度として算出される。
【０１８４】
第２潜像単位濃度及び第２背景単位濃度が算出されると、第２潜像単位濃度と第２背景単位濃度との差分値の絶対値が第２差分値として算出される（ステップＳ９２）。
【０１８５】
第２差分値が算出されると、第２差分値が算出された第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを当該第２差分値が大きい順番に並べられた第２リストが生成される（ステップＳ９３）。
【０１８６】
全ての分割地紋描画領域に対する第２差分値、即ち、全ての第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せの第２差分値、が算出されたか否かが判別され（ステップＳ９４）、全ての分割地紋描画領域に対する第２差分値が算出されていない場合（ステップＳ９４；Ｎｏ）、ステップＳ９０に戻る。
【０１８７】
なお、ステップＳ９０〜９２が分割地紋描画領域毎に繰り返されることにより第２差分算出手段としての機能が実現され、また、ステップＳ９３により第２リスト生成手段としての機能が実現される。
【０１８８】
図１５（ｂ）に、第２リストの例を示す。
図１５（ｂ）に示す第２リストは、図１３に示す第２出力物の第２リストの例である。
【０１８９】
図１５（ｂ）に示すように、第２リストは、分割地紋描画領域毎、即ち、第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせ毎に、マスク情報と、第２潜像単位濃度、第２背景単位濃度、第２差分値から形成されており、第２差分値が大きい順番に並べられている。
【０１９０】
図１５（ｂ）に示す第２リストにおいて、第１位は、第２差分値が４である図２（ａ）に示すドット濃度が濃い第１マスクパターンとドット濃度が濃い第２マスクパターンとの組み合わせ（第４組合せ）、第２位は、第２差分値が３である図２（ａ）に示すドット濃度が濃い第１マスクパターンとドット濃度が薄い第２マスクパターンとの組み合わせ（第２組合せ）、第３位は、第２差分値が２である図２（ａ）に示すドット濃度が薄い第１マスクパターンとドット濃度が濃い第２マスクパターンとの組み合わせ（第３組合せ）、第４位は、第２差分値が０である図２（ａ）に示すドット濃度が薄い第１マスクパターンとドット濃度が薄い第２マスクパターンとの組み合わせ（第１組合せ）、となっている。
【０１９１】
全ての分割地紋描画領域に対する第２差分値が算出された場合（ステップＳ９４；Ｙｅｓ）、又は、ステップＳ８３；Ｎｏ後、分割地紋描画領域毎、即ち、第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せ毎の評価点数が算出される（ステップＳ９５）。
【０１９２】
生成された第１リスト及び第２リストそれぞれには、予め上位から順番に点数が設定されている（例えば、第１位は１０点、第２位は７点、第３位は３点、第４位は１点）。第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せ毎に、第１リストでの点数と第２リストでの点数の合計点が算出され、この第１マスクパターンと第２マスクパターンの組合せ毎の合計点が各組合せの評価点数として算出される。
【０１９３】
例えば、図１５（ａ）に示す第１リストと、図１５（ｂ）に示す第２リストとに基づいて、第１マスクパターンと第２マスクパターンの組合せ毎の評価点数を算出した例を図１５（ｃ）に示す。なお、第１位は１０点、第２位は７点、第３位は３点、第４位は１点として評価点数を算出したものとする。
【０１９４】
図１５（ｃ）に示すように、第１組合せは、第１リストでは１位、第２リストでは４位であるため、評価点数は１１となる。第２組合せは、第１リストでは３位、第２リストでは２位であるため、評価点数は１０となる。第３組合せは、第１リスト及び第２リストでは共に３位であるため、評価点数は６となる。第４組合せは、第１リストでは２位、第２リストでは１位であるため、評価点数は１７となる。
【０１９５】
ステップＳ９５において算出された第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せの評価点数のうち、最も高い評価点数の第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組合せ（図１５（ｃ）においては、第４組合せ）が選出され、当該組み合わせが、適マスクパターンの組合せとして決定され（ステップＳ９６）、本処理が終了される。
【０１９６】
なお、ステップＳ９５、９６により、予め定められた条件、即ち、第１リスト及び第２リストに基づいた評価結果が最上位である条件に該当する第１マスクパターンと第２マスクパターンとの組み合わせを選出する選出手段としての機能が実現される。
【０１９７】
以上のように、本実施の形態によれば、複数の地紋画像が形成された第１出力物及び第２出力物を出力することができ、複数の第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせのうち、抑止効果が最も高い組み合せ、即ち、複写前には潜像画像と背景画像とが識別しにくい地紋画像を形成し、複写後には潜像画像と背景画像とが識別しやすい地紋画像を形成する第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせを選出することができるため、当該画像形成装置１の画像形成特性に応じた最適な第１マスクパターンと第２マスクパターンの組み合わせを選出することができることから、ユーザの判断能力に頼らず地紋画像の最適化を図ることができる。
【０１９８】
更に、ネットワームＮを介して接続された外部ＰＣ、画像読取部２０、画像メモリ１２から潜像元画像及び背景元画像を取得でき、取得した潜像元画像及び背景元画像と、複数の第１マスクパターン及び複数の第２マスクパターンと、に基づいて、複数の地紋画像を生成することができる。
【０１９９】
また、本発明は、上記実施の形態の内容に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【０２００】
【図１】本実施の形態における画像形成装置の制御ブロック図である。
【図２】第１マスクパターン及び第２マスクパターンの例を示す図である。
【図３】用紙に形成される位置合せ画像及びマスク情報画像の例を示す図である。
【図４】制御部内において第１出力物の画像の生成処理を実行する際の機能構成図である。
【図５】潜像元画像が直線上に複数配置された潜像元画像列を複数行配置した配置パターン例を示す図である。
【図６】本実施の形態における最適地紋画像決定処理のメインフローチャートである。
【図７】第１出力物の出力処理を示すフローチャートである。
【図８】ステップＳ１３において実行される画像読取部２０から潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートである。
【図９】ステップＳ１６において実行される外部機器ＰＣから潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートである。
【図１０】ステップＳ１９において実行される画像メモリ１６０から潜像元画像を取得する画像取得処理のフローチャートである。
【図１１】ステップＳ２８において実行される地紋画像生成処理のフローチャートである。
【図１２】第１出力物の例を示す図である。
【図１３】図１２に示した第１出力物をプリント処理して得られた第２出力物の例を示す図である。
【図１４】ステップＳ８において実行されるマスクパターン決定処理のフローチャートである。
【図１５】図１５（ａ）は第１リストの例、図１５（ｂ）は第２リストの例、図１５（ｃ）は第１マスクパターンと第２マスクパターンの組合せ毎の評価点数を算出した例、を示す図である。
【符号の説明】
【０２０１】
１  画像形成装置
１ａ  本体部
１ｂ  プリンタコントローラ
１１ｂ  コントローラ制御部
１２ｂ  ＤＲＡＭ制御ＩＣ
１３ｂ  画像メモリ
１４ｂ  ＬＡＮＩＦ
２０  画像読取部
２１  ＣＣＤ
３０  操作表示部
３１  ＬＣＤ
４０  プリント部
４１  画像形成部
１００  画像制御部
１１０ａ  二値化部
１１０ｂ  反復部
１１０ｃ  マスクパターン選択部
１１１ｃ  第１マスク選択部
１１２ｃ  第２マスク選択部
１１０ｄ  潜像画像生成部
１１０ｅ  背景画像生成部
１１０ｆ  反転部
１１０ｇ  処理画像生成部
１１０ｈ  マスク情報生成部
１１０ｉ  地紋画像生成部
１１０ｊ  位置合せ画像生成部
１１０  制御部
１２０  不揮発メモリ
１２１  第１マスクパターン群
１２２  第２マスクパターン群
１３０  読取処理部
１４０  圧縮ＩＣ
１５０  ＤＲＡＭ制御ＩＣ
１６０  画像メモリ
１６１  圧縮メモリ
１６２  ページメモリ
１７０  伸長ＩＣ
１８０  書込処理部
２００  画像読取制御部
３００  操作表示制御部
４００  プリント制御部
Ｅ１  位置合せ画像書込領域
Ｅ２  地紋描画領域
Ｅ２１  第１分割地紋描画領域
Ｅ２２  第２分割地紋描画領域
Ｅ２３  第３分割地紋描画領域
Ｅ２４  第４分割地紋描画領域
Ｅ３１  第１分割地紋描画領域Ｅ２１に対応する領域
Ｅ３２  第２分割地紋描画領域Ｅ２２に対応する領域
Ｅ３３  第３分割地紋描画領域Ｅ２３に対応する領域
Ｅ３４  第４分割地紋描画領域Ｅ２４に対応する領域
Ｅ３ａ、Ｅ３ｂ、Ｅ３ｃ、Ｅ３ｄ  マスク情報画像
Ｇ１  潜像元画像
Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１３、Ｍ１４  第１マスクパターン
Ｍ１１ａ、Ｍ１２ａ、Ｍ１３ａ、Ｍ１４ａ、Ｍ２１ａ、Ｍ２２ａ、Ｍ２３ａ、Ｍ２４ａ  ドット形成領域
Ｍ１１ｂ、Ｍ１２ｂ、Ｍ１３ｂ、Ｍ１４ｂ、Ｍ２１ｂ、Ｍ２２ｂ、Ｍ２３ｂ、Ｍ２４ｂ  マスクパターン領域
Ｍ２１、Ｍ２２、Ｍ２３、Ｍ２４  第２マスクパターン
Ｍ３ａ、Ｍ３ｂ  位置合せ画像
Ｎ  ネットワーク
ＰＣ  外部機器
Ｒ  潜像元画像列
Ｘ  主走査方向
Ｙ  搬送方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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