(57)【要約】【課題】位置決め精度の低下や基板の欠け等の、搬送される基板との接触部分における摩耗による不具合を解消することができる基板搬送補助装置を提供すること。【解決手段】所定の方向に搬送される基板１の案内、および基板１の所定の位置に対する位置決めの少なくともいずれかを行うための基板搬送補助装置であって、基板１の案内および基板１の位置決めの少なくともいずれかを行うに際して基板１の側面（左側面１２、右側面１３）に接触する接触面を有し、前記接触面は、基板１の厚さ方向に対応する方向の寸法Ｙが基板１の厚さ（寸法Ｘ）よりも小さく形成される。【選択図】図２
2009200440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の方向に搬送される基板の案内、および前記基板の所定の位置に対する位置決めの少なくともいずれかを行うための基板搬送補助装置であって、
前記案内および前記位置決めの少なくともいずれかを行うに際して前記基板の側面に接触する接触面を有し、
前記接触面は、前記基板の厚さ方向に対応する方向の寸法が前記基板の厚さよりも小さく形成されることを特徴とする基板搬送補助装置。
【請求項２】
前記案内を行うためのガイド部と、前記位置決めを行うための位置決め部とを備え、
前記接触面として、
前記ガイド部において固定された状態で設けられ、前記案内に際して前記基板の側面に接触するガイド面と、
前記位置決め部において前記基板を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられ、前記位置決めに際して前記基板の側面に接触する位置決め面と、を有することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送補助装置。
【請求項３】
所定の方向に搬送される基板の案内、および前記基板の所定の位置に対する位置決めを行うための基板搬送補助装置であって、
前記案内を行うためのガイド部と、前記位置決めを行うための位置決め部とを備え、
前記ガイド部は、前記案内に際して前記基板の側面に接触する接触面として、前記基板の厚さ方向に対応する方向の寸法が前記基板の厚さよりも小さく形成され、固定された状態で設けられるガイド面を有し、
前記位置決め部は、前記位置決めに際して前記基板の側部に接触する接触面として、前記所定の方向に沿う方向を回転軸方向として回転自在に支持される回転体の、前記回転軸方向視で円形状となる円筒状部分の外周面として形成され、前記基板を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられる位置決め面を有することを特徴とする基板搬送補助装置。
【請求項４】
所定の方向に搬送される基板の案内、および前記基板の所定の位置に対する位置決めの少なくともいずれかを行うための基板搬送補助方法であって、
前記案内および前記位置決めの少なくともいずれかを行うに際して前記基板の側面に接触する接触面として、
前記基板の厚さ方向に対応する方向の寸法が前記基板の厚さよりも小さく形成される面を用いることを特徴とする基板搬送補助方法。
【請求項５】
前記接触面として、
固定された状態で設けられ、前記案内に際して前記基板の側面に接触するガイド面と、
前記基板を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられ、前記位置決めに際して前記基板の側面に接触する位置決め面と、を用いることを特徴とする請求項４に記載の基板搬送補助方法。
【請求項６】
所定の方向に搬送される基板の案内、および前記基板の所定の位置に対する位置決めを行うための基板搬送補助方法であって、
前記案内に際して前記基板の側面に接触する接触面として、前記基板の厚さ方向に対応する方向の寸法が前記基板の厚さよりも小さく形成され、固定された状態で設けられるガイド面を用い、
前記位置決めに際して前記基板の側部に接触する接触面として、前記所定の方向に沿う方向を回転軸方向として回転自在に支持される回転体の、前記回転軸方向視で円形状となる円筒状部分の外周面として形成され、前記基板を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられる位置決め面を用いることを特徴とする基板搬送補助方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送される基板の案内や位置決めを行うための基板搬送補助装置および基板搬送補助方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プリント基板等の基板は、基板上に電気回路を構成するための電子部品の実装や接着剤の塗布や孔開け加工等の種々の処理を受けるに際し、所定の搬送経路にて搬送される。こうした基板の搬送に際しては、ガイドレール等のガイド機構を備える構成が広く用いられている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。すなわち、かかる構成においては、搬送される基板をその両側部側から挟むようにして搬送経路に沿って設けられるガイド機構が用いられることで、搬送経路において移動する基板の案内や所定の位置に対する基板の位置決めが行われる。
【０００３】
特許文献１には、基板が載置等された状態で搬送されるパレットがその両側部に接触するガイド（ガイド機構）によって案内される構成が開示されている。そして、かかる構成において、ガイドを構成するガイドレールと、これに接触して移動するパレットとの間の摩擦抵抗が大きいことに起因する不具合を解消するため、次のような構成が提案されている。すなわち、特許文献１には、移動するパレットに対して設けられるガイドにおいて、ガイドレールとともにガイドを構成する部材として、パレットの材質よりも摩擦係数の小さい材質により構成されるとともにパレットと直接接触するガイドプレートを備える構成が開示されている。これにより、パレットの移動にともなうガイドに対する接触抵抗が低減され、前記のような不具合の解消が図られている。
【０００４】
また、搬送される基板のガイド機構を備える構成としては、例えば特許文献２に開示されているように、搬送される基板が、ガイド機構を構成する部材に直接接触する構成がある。つまり、搬送される基板の案内や位置決めに際し、基板が、ガイド機構を構成する部材によって、両側端面等を介して直接（パレット等を介することなく）挟まれたような状態となる構成である。特許文献２に開示されている構成においては、基板の両側部に沿うガイドレールによって案内される基板が、一方のガイドレール側から板バネにより付勢されることで、他方のガイドレール側に押し付けられながら搬送されている。そして、搬送経路における所定の位置に対する基板の位置決めに際しては、ガイドレールとともに、基板の搬送方向前後の各位置にて上下方向（基板の厚さ方向）に移動可能に設けられるピンが用いられている。
【０００５】
また、特許文献２に開示のように搬送される基板がガイド機構を構成する部材に直接接触する構成としては、従来、次のような構成（以下「従来構成」という。）がある。すなわち、図８に示すように、従来構成においては、ベルトコンベア等によって搬送される基板１０１に対して、ガイド機構を構成するガイドレールとして機能するプレート状の位置決めブロック１０２が、基板１０１の両側部に沿うように設けられる。つまり、基板１０１の両側面１０１ａが、両側の位置決めブロック１０２の内側面となるガイド面１０２ａに略接触した状態となることで、搬送される基板１０１が位置決めブロック１０２によって案内される。なお、図８は、矩形状の基板１０１が、紙面に対して垂直方向を搬送方向として搬送される場合において、搬送方向に対して垂直な面についての断面図を示している。
【０００６】
そして、搬送される基板１０１が例えば電子部品の実装等の処理を受けるに際しては、搬送経路における所定の位置に対する基板１０１の位置決めが行われる。従来構成において、基板１０１の位置決めは、両側の位置決めブロック１０２によって基板１０１が挟まれることにより行われる。すなわち、搬送される基板１０１の位置決めに際しては、基板１０１が図示せぬストッパ等によって停止させられた後、両側の位置決めブロック１０２が、位置決め動作として、図示せぬ駆動機構により少なくとも一方の位置決めブロック１０２の移動によって基板１を介する方向へ相対的に近接移動する。これにより、基板１０１が両側の位置決めブロック１０２によって挟まれた状態（矢印Ｐ参照）、つまり基板１０１の両側面１０１ａと両位置決めブロック１０２のガイド面１０２ａとが接触した状態となり、基板１０１が位置決めブロック１０２によって所定の位置にて位置決めされる。
【０００７】
このように、搬送経路においてガイド機構を構成する位置決めブロック１０２によって案内・位置決めされる基板１０１が、その位置決めブロック１０２に直接接触する構成においては、次のような問題がある。すなわち、搬送される基板１０１の位置決めブロック１０２による案内にともない、位置決めブロック１０２の基板１０１に対する接触部分において摩擦抵抗が生じる。また、基板１０１の位置決めブロック１０２による位置決めに際しては、位置決めブロック１０２が基板１０１を挟み込むことによる衝撃が生じる。こうした摩擦抵抗や衝撃は、例えば基板１０１がセラミック基板であるのに対して位置決めブロック１０２が鉄製である場合等のように基板１０１が位置決めブロック１０２に比して硬いことや、位置決めブロック１０２が長期間使用されること等により、位置決めブロック１０２における基板１０１との接触部分に摩耗を生じさせる。この点、特許文献１には、ガイド機構を構成するガイドレールとこれに接触して移動するパレットとの関係において、摩擦抵抗が大きくなることが記載されている。
【０００８】
位置決めブロック１０２の基板１０１との接触部分において摩耗が生じることは、位置決めブロック１０２による基板１０１の位置決め精度を低下させる原因となる。そしてその摩耗の位置決め精度への影響は、位置決めブロック１０２の摩耗が進行するにつれて大きくなる。すなわち、図８（ａ）に示すように、位置決めブロック１０２の摩耗が進行していない初期の段階においては、位置決めブロック１０２にて生じる摩耗の位置決め精度に対する影響は小さいと考えられる。しかし、位置決めブロック１０２の摩耗が進行するにつれて、その摩耗の位置決め精度に対する影響が大きくなる。そして、図８（ｂ）に示すように、位置決めブロック１０２の摩耗が進行することにより、ガイド面１０２ａにおいて基板１０１の側端部の形状に沿うような摩耗変形である削れ部１０２ｂが生じることとなる。
【０００９】
一方で、基板１０１については、その種類等によって、寸法（縦（長さ）、横（幅）および厚さ（板厚）の各寸法）のばらつきや反りが比較的大きくなる場合がある。つまり、図９（ａ）に示すように、理想的には平板状（二点鎖線参照）となる基板１０１において、寸法のばらつきや反りが存在することにより、基板１０１の理想的な平板状からの形状のずれが比較的大きくなる場合がある。このように基板１０１が有する形状のずれが大きいと、前述したように位置決めブロック１０２が摩耗変形としての削れ部１０２ｂを有する状態においては、基板１０１の側端部の形状が削れ部１０２ｂの形状に倣わない場合が生じる。かかる場合、図９（ｂ）に示すように、基板１０１が位置決めされる際、つまり位置決めブロック１０２の位置決め動作（矢印Ｐ参照）によって基板１０１が挟まれる際に、基板１０１の端部と位置決めブロック１０２の削れ部１０２ｂによる段差部との間でこじり（干渉）が生じる場合がある。このように基板１０１と位置決めブロック１０２との間で生じるこじりは、位置決めブロック１０２による基板１０１の位置決めに際して、基板１０１の欠け（表層部の剥離）を発生させる原因となる。
【００１０】
なお、前述のような位置決めブロック１０２において生じる摩耗を防ぐに際しては、位置決めブロック１０２が基板１０１に対して十分に高い硬度を有するように、位置決めブロック１０２に硬度を上げるための表面処理を施す方法が考えられる。しかし、位置決めブロック１０２の表面処理による摩耗の予防は、コスト面との兼ね合いから限界がある。
【特許文献１】実開昭６０−８４２３１号公報
【特許文献２】実開昭６３−１８４６６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、位置決め精度の低下や基板の欠け等の、搬送される基板との接触部分における摩耗による不具合を解消することができる基板搬送補助装置および基板搬送補助方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。
【００１３】
すなわち、請求項１においては、所定の方向に搬送される基板の案内、および前記基板の所定の位置に対する位置決めの少なくともいずれかを行うための基板搬送補助装置であって、前記案内および前記位置決めの少なくともいずれかを行うに際して前記基板の側面に接触する接触面を有し、前記接触面は、前記基板の厚さ方向に対応する方向の寸法が前記基板の厚さよりも小さく形成されるものである。
【００１４】
請求項２においては、請求項１に記載の基板搬送補助装置において、前記案内を行うためのガイド部と、前記位置決めを行うための位置決め部とを備え、前記接触面として、前記ガイド部において固定された状態で設けられ、前記案内に際して前記基板の側面に接触するガイド面と、前記位置決め部において前記基板を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられ、前記位置決めに際して前記基板の側面に接触する位置決め面と、を有するものである。
【００１５】
請求項３においては、所定の方向に搬送される基板の案内、および前記基板の所定の位置に対する位置決めを行うための基板搬送補助装置であって、前記案内を行うためのガイド部と、前記位置決めを行うための位置決め部とを備え、前記ガイド部は、前記案内に際して前記基板の側面に接触する接触面として、前記基板の厚さ方向に対応する方向の寸法が前記基板の厚さよりも小さく形成され、固定された状態で設けられるガイド面を有し、前記位置決め部は、前記位置決めに際して前記基板の側部に接触する接触面として、前記所定の方向に沿う方向を回転軸方向として回転自在に支持される回転体の、前記回転軸方向視で円形状となる円筒状部分の外周面として形成され、前記基板を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられる位置決め面を有するものである。
【００１６】
請求項４においては、所定の方向に搬送される基板の案内、および前記基板の所定の位置に対する位置決めの少なくともいずれかを行うための基板搬送補助方法であって、前記案内および前記位置決めの少なくともいずれかを行うに際して前記基板の側面に接触する接触面として、前記基板の厚さ方向に対応する方向の寸法が前記基板の厚さよりも小さく形成される面を用いるものである。
【００１７】
請求項５においては、請求項４に記載の基板搬送補助方法において、前記接触面として、固定された状態で設けられ、前記案内に際して前記基板の側面に接触するガイド面と、前記基板を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられ、前記位置決めに際して前記基板の側面に接触する位置決め面と、を用いるものである。
【００１８】
請求項６においては、所定の方向に搬送される基板の案内、および前記基板の所定の位置に対する位置決めを行うための基板搬送補助方法であって、前記案内に際して前記基板の側面に接触する接触面として、前記基板の厚さ方向に対応する方向の寸法が前記基板の厚さよりも小さく形成され、固定された状態で設けられるガイド面を用い、前記位置決めに際して前記基板の側部に接触する接触面として、前記所定の方向に沿う方向を回転軸方向として回転自在に支持される回転体の、前記回転軸方向視で円形状となる円筒状部分の外周面として形成され、前記基板を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられる位置決め面を用いるものである。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。
すなわち、本発明によれば、位置決め精度の低下や基板の欠け等の、搬送される基板との接触部分における摩耗による不具合を解消することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明は、所定の搬送経路にて搬送される基板の案内や、搬送経路における所定の位置に対する基板の位置決めという基板搬送補助に際して、基板の両側部に接触する部分についての形状を工夫することで、搬送経路における基板の案内や位置決めに際して基板に接触する部分の摩耗による不具合を解消しようとするものである。以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に説明する実施の形態においては、搬送される基板をセラミック基板とし、このセラミック基板に、電気回路を構成する電子部品が搭載される場合とする。
【００２１】
本発明の第一実施形態について、図１〜図３を用いて説明する。図１は本発明の第一実施形態に係る基板搬送補助装置の構成を示す平面図、図２は図１におけるＡ−Ａ断面図、図３は基板の位置決めに際してのタイムチャートを示す図である。
【００２２】
本実施形態の基板搬送補助装置および方法は、所定の方向に搬送されるセラミック基板（以下単に「基板」という。）の案内、および基板の所定の位置に対する位置決めを行うためのものである。すなわち、図１に示すように、本実施形態では、基板１は、所定の搬送経路において所定の方向（図１における上方向、以下この方向を基板１について「搬送方向」という。）に搬送される（矢印Ｄ参照）。本実施形態に係る基板１は、矩形状を有し、その矩形状において対向する一対の辺が搬送方向と略平行（または略垂直）となる姿勢で板面に沿う方向（水平方向）に搬送される。そして、この搬送される基板１について、搬送経路に沿う案内および搬送経路における所定の位置に対する位置決めが行われる。以下の説明においては、基板１の厚さ方向（図２における上下方向）を上下方向とし、基板１の幅方向（基板１の搬送方向と直交する方向であり、図１、図２における左右方向）を左右方向とする。
【００２３】
図１に示すように、本実施形態の基板搬送補助装置は、搬送方向に搬送される基板１の案内、および基板１の所定の位置に対する位置決めを行うための装置であり、搬送される基板１の両側面（基板１の幅方向の両側の面）が沿うように設けられる一対のガイドレール２、３を備える。すなわち、搬送方向に搬送される基板１に対して左側に設けられるガイドレール２は、搬送される基板１の左側面１２に接触することとなり、搬送される基板１に対して右側に設けられるガイドレール３は、搬送される基板１の右側面１３に接触することとなる。ガイドレール２、３は、基板１の搬送経路に沿って延設される。本実施形態では、ガイドレール２、３は、鉄系の材料により構成される。
【００２４】
基板１の搬送は、基板１の搬送手段としてのベルトコンベアを構成する搬送ベルト４により行われる。本実施形態では、搬送ベルト４は、その搬送する基板１を左右両端部にて下側から支持するように二列配される。すなわち、図１および図２に示すように、搬送ベルト４は、左右のガイドレール２、３にそれぞれ沿うように設けられ、左側の搬送ベルト４によって基板１の左側端部が支持され、右側の搬送ベルト４によって基板１の右側端部が支持される。各搬送ベルト４は、左右のガイドレール２、３の下側において、平面視（図１参照）で幅方向（左右方向）外側の一部がガイドレール２、３と重なるように配される。
【００２５】
また、図２に示すように、搬送ベルト４は、その搬送面４１の高さ位置（上下方向の位置）が、各ガイドレール２、３の下端面２１、３１の高さ位置と略同じとなるように配される。言い換えると、左右の搬送ベルト４により搬送される基板１の裏面（下側面）１４と、各ガイドレール２、３の下端面２１、３１とは、略同じ高さ位置となる。
【００２６】
このように、搬送ベルト４によって搬送方向に搬送される基板１は、左右のガイドレール２、３によって案内されながら移動する。そして、基板１に対する電子部品の搭載が行われるに際しては、基板１が、搬送経路における所定の位置に対して位置決めされる。つまり、搬送ベルト４によって搬送方向に移動する基板１が停止させられ、その停止位置にて位置決めされる。
【００２７】
基板１の位置決めに際しては、まず、搬送ベルト４により搬送される基板１の移動が、基板１が位置決めされる所定の位置に対応する位置で停止させられる。基板１の移動の停止には、ストッパ５が用いられる（図１参照）。つまり、搬送ベルト４によって搬送方向に移動する基板１は、その前端面１５がストッパ５に接触することにより、停止させられる。
【００２８】
ストッパ５は、左右の搬送ベルト４の間の空間を介して搬送される基板１に接触することができる位置に設けられる。ストッパ５は、板状や棒状等の形状を有し、図示せぬ駆動手段により、搬送ベルト４によって搬送される基板１を停止させることができるように、基板１の搬送経路に対して出没可能に設けられる。すなわち、ストッパ５は、搬送ベルト４によって搬送される基板１に干渉しない状態（上端が搬送ベルト４の搬送面４１よりも下側となる高さ位置にある状態）となる位置から、搬送ベルト４によって搬送される基板１に干渉して基板１を停止させることができる状態となる位置までの範囲で、上下方向に移動可能に設けられる。
【００２９】
そして、搬送ベルト４により搬送される基板１の移動の停止は、次のようにして行われる。すなわち、搬送ベルト４によって搬送される基板１が、搬送経路において電子部品の搭載が行われる所定の位置に対応する位置に達することにより、前端面１５を介してストッパ５に接触する。基板１のストッパ５に対する接触、つまり基板１の停止が検出されることで、搬送ベルト４の駆動が停止する。ここで、基板１の停止の検出には、基板１の位置や動作、あるいは基板１が接触したストッパ５の動作を検出するリミットスイッチ（図示略、以下「基板端リミットスイッチ」という。）が用いられる。つまり、基板１がストッパ５に接触して停止することによる基板端リミットスイッチからの検出信号が、搬送ベルト４の駆動を制御する制御部（以下「ベルト制御部」という。）に送られ、この検出信号を受けたベルト制御部により、搬送ベルト４の駆動が停止させられる。
【００３０】
このように、ストッパ５が用いられることにより、搬送経路において電子部品の搭載が行われる所定の位置に対応する位置に停止した状態（以下基板１について「停止状態」という。）となった基板１は、その停止位置において位置決めされる。基板１の位置決めは、左右両側のガイドレール２、３によって基板１が挟まれることにより行われる。すなわち、基板１の位置決めに際しては、ガイドレール２、３の位置決め動作として、右側のガイドレール３が、図示せぬ駆動機構により左側のガイドレール２とともに基板１を挟む方向（左方向）に移動する（図２矢印Ｅ参照）。これにより、基板１が両側のガイドレール２、３によって挟まれた状態、つまり基板１の左側面１２が左側のガイドレール２に接触するとともに、右側面１３が右側のガイドレール３に接触した状態となり、基板１が左右のガイドレール２、３によって所定の位置にて位置決めされる。
【００３１】
基板１の位置決めに際して移動する右側のガイドレール３を移動させるための駆動機構としては、モータの回転駆動力がボールねじ等を介して直線運動として伝達される構成や油圧シリンダの伸縮動作を用いる構成等の周知の構成が適宜用いられる。
【００３２】
また、基板１の位置決めに際して行われるガイドレール２、３の位置決め動作（ガイドレール３の左方向への移動）は、前述したように搬送ベルト４の駆動が停止した後に行われる。つまり、搬送ベルト４の駆動が停止したことが検出されることで、ガイドレール２、３の位置決め動作が行われる。ここで、ガイドレール２、３の位置決め動作に際してのガイドレール３の駆動には、搬送ベルト４の駆動の停止を検出するリミットスイッチ（図示略、以下「位置決めリミットスイッチ」という。）が用いられる。すなわち、前述したようにベルト制御部による基板端リミットスイッチからの検出信号に基づく搬送ベルト４の駆動の停止が、位置決めリミットスイッチによって検出される。そして、搬送ベルト４の駆動の停止が位置決めリミットスイッチにより検出されることで、ガイドレール２、３の位置決め動作、つまりガイドレール３を移動させるための駆動機構による位置決め動作のための駆動が開始される。
【００３３】
このように、基板１が、左右のガイドレール２、３によって挟まれることで、搬送経路における所定の位置に対する左右方向（基板１の幅方向）の位置の位置決めがなされた後、基板１に対する電子部品の搭載が行われる。基板１に対する電子部品の搭載は、基板１の表面（上面）１６に対して行われる。なお、基板１に対する電子部品の搭載に際しては、互いに同じ高さ位置にある左右のガイドレール２、３の上面２２、３２が、位置基準を規定する基準面として用いられる。すなわち、基板１に対する電子部品の搭載に際しては、基板１の表面１６の高さ位置が、左右のガイドレール２、３の上面２２、３２の高さ位置に揃うように、基板１が押上げ治具６によって押し上げられる（図２矢印Ｆ参照）。押上げ治具６は、図示せぬ駆動手段によって昇降可能に設けられる。
【００３４】
以上のような構成により、搬送される基板１が位置決めされた後、基板１に対する電子部品の搭載が行われる。本実施形態に係る構成における基板１の位置決めから基板１に対する電子部品の搭載までの一連の動作について、図３のタイムチャートを用いて説明する。
【００３５】
基板１を搬送する搬送ベルト４が駆動している状態、つまり基板１の搬送がＯＮである状態において、搬送される基板１が、搬送経路において電子部品の搭載が行われる所定の位置に対応する位置に達することで、ストッパ５に接触して停止する。これにより、基板１の停止が、基板端リミットスイッチ（基板端ＬＳ）により検出される。つまり、基板端リミットスイッチがＯＦＦの状態からＯＮの状態となる（時間Ｔ１）。
【００３６】
基板端リミットスイッチがＯＮの状態となることで、基板端リミットスイッチからの検出信号に基づくベルト制御部の制御により、搬送ベルト４の駆動が停止する。つまり、基板１の搬送がＯＦＦの状態となる（時間Ｔ２）。
【００３７】
搬送ベルト４の駆動の停止が、位置決めリミットスイッチ（位置決めＬＳ）によって検出されることにより、位置決めリミットスイッチがＯＦＦの状態からＯＮの状態となる（時間Ｔ３）。位置決めリミットスイッチがＯＮの状態となることにより、ガイドレール２、３の位置決め動作、つまりガイドレール３を移動させるための駆動機構による位置決め動作のための駆動が開始される。これにより、基板１が、左右のガイドレール２、３によって挟まれることで搬送経路における所定の位置に対して位置決めされる。基板１が位置決めされた後、基板１に対する電子部品の搭載が行われる。
【００３８】
そして、基板１に対する電子部品の搭載が行われた後は、押上げ治具６が下降することにより基板１の高さ位置が搬送位置まで戻るとともに、左右のガイドレール２、３による基板１の位置決めが解除される。さらに、ストッパ５による基板１の停止状態が解除され、搬送ベルト４の駆動が再び開始される。これにより、基板１が、電子部品の搭載が行われた所定の位置から、搬送される基板１に干渉しない状態となっているストッパ５上を通過して搬送方向に送り出される。
【００３９】
なお、本実施形態では、基板１の位置決めに際して行われるガイドレール２、３の位置決め動作は、右側のガイドレール３のみが移動するものとなっているが、これに限定されるものではない。すなわち、ガイドレール２、３の位置決め動作としては、左右のガイドレール２、３が少なくとも一方のガイドレールの移動によって基板１を介する方向（左右方向）に相対的に近接移動するものであればよい。したがって、ガイドレール２、３の位置決め動作としては、本実施形態の場合のほか、左側のガイドレール２のみが移動するものであったり、両方のガイドレール２、３が移動するものであったりしてもよい。
【００４０】
以上のような態様によって基板１に対する電子部品の搭載に際して基板１の搬送や位置決めが行われる構成においては、左右のガイドレール２、３による基板１の案内や位置決めが行われることで、ガイドレール２、３の基板１に対する接触部分（接触面）において摩耗が生じることとなる。すなわち、本実施形態においては、前記のとおりガイドレール２、３は鉄系の材料により構成されているのに対し、基板１がそれよりも硬い材質となるセラミック基板である。このため、基板１とガイドレール２、３との接触部分において、基板１の案内にともなう摩擦抵抗や基板１の位置決めにともなう衝撃が原因となり、ガイドレール２、３の基板１に対する接触面において経時的に摩耗が生じる。
【００４１】
そこで、本実施形態では、搬送ベルト４によって搬送される基板１に対するガイドレール２、３による搬送補助に際し、搬送方向に搬送される基板１の案内、および基板１の所定の位置に対する位置決めが行われるに際して基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面として、基板１の厚さ方向に対応する方向の寸法が基板１の厚さよりも小さく形成される面が用いられる。そして、本実施形態では、前記接触面として形成される面として、基板１に接触する側に向かう方向へ所定の出代をもって突出形成される突出面５５が用いられる。つまり、各ガイドレール２、３が、基板１の案内および位置決めに際して基板１に接触する接触面として、突出面５５を有する。なお、突出面５５を有する左右のガイドレール２、３は、搬送される基板１を介して互いに左右対称な形状を有する。このため、以下では、左右のガイドレール２、３で共通する部分（左右で対応する部分）については同一の符号を用いて説明する。
【００４２】
図２に示すように、ガイドレール２、３は、搬送される基板１に対して側壁状の部分となる壁部５１と、この壁部５１の下端部において内側（基板１側）に突出する突出部５２とを有し、これら各部によって基板１の搬送方向の断面視で略Ｌ字状に構成されている。
【００４３】
ガイドレール２、３において、本体となる壁部５１は、搬送される基板１の厚さよりも大きい高さ寸法（上下方向の寸法）を有する。突出部５２は、壁部５１において略鉛直方向の平面となる内壁面５３から、内側、つまり左側のガイドレール２については右側、右側のガイドレール３については左側に向けて、内壁面５３に対して略垂直方向に突出する部分となる。そして、この突出部５２の先端面が、基板１の案内および位置決めに際して基板１に対する接触面としての突出面５５となる。このように、各ガイドレール２、３が有する突出面５５は、基板１の厚さ方向に対応する方向の寸法が基板１の厚さよりも小さく形成され、基板１に接触する側に向かう方向へ所定の出代をもって突出形成される面となる。
【００４４】
すなわち、図２に示すように、突出面５５についての、基板１の厚さ方向に対応する方向の寸法（以下「高さ寸法」とする。）は、突出部５２の上下方向の長さ（厚さ）となる寸法Ｙに対応する。したがって、突出面５５の高さ寸法Ｙと、基板１の厚さに対応する寸法Ｘとの間に、Ｘ＞Ｙの関係が成り立つ。かかる寸法の大小関係が満たされるように、突出面５５は、基板１との関係において、突出面５５の高さ寸法Ｙが基板１の厚さに対応する寸法Ｘよりも小さくなるように形成される。
【００４５】
このようにして、ガイドレール２、３の基板１に対する接触面（突出面５５）の高さ寸法Ｙが、基板１の厚さに対応する寸法Ｘとの関係において設定される。これにより、前記のとおり左右の搬送ベルト４により搬送される基板１の裏面１４と各ガイドレール２、３の下端面２１、３１（突出部５２の下面）とが略同じ高さ位置となっていることから、搬送される基板１の表面１６の高さ位置が、突出面５５の上端の高さ位置（突出部５２の上面の高さ位置）よりも高くなる。
【００４６】
また、突出面５５について、基板１に接触する側に向かう方向（以下「基板接触側方向」という。）は、ガイドレール２、３において内側に向かう方向であり、ガイドレール２、３において突出部５２が突出する方向となる。つまり、突出面５５についての基板接触側方向とは、左側のガイドレール２については右方向、右側のガイドレール３については左方向となる。したがって、突出面５５について基板接触側方向に設けられる出代は、突出部５２の壁部５１（の内壁面５３）からの突出部分となる。つまりは、突出部５２の内壁面５３からの突出長さとなる寸法Ｚが、突出面５５の出代寸法に対応する。このように、突出面５５は、基板接触側方向に寸法Ｚの所定の出代をもって突出形成される。
【００４７】
このように左右のガイドレール２、３が有する突出面５５は、搬送される基板１の左右側面１２、１３に接触可能な（側面に沿う）平面となり、基板１の搬送経路を介して互いに対向した状態となる。そして、搬送ベルト４により搬送される基板１は、左右のガイドレール２、３の突出面５５に対して略接触した状態（わずかな隙間を隔てた状態）で案内される。したがって、搬送される基板１を案内する突出面５５同士の間隔は、搬送される基板１の左側面１２および右側面１３がそれぞれガイドレール２、３の突出面５５に対して略接触するような大きさとなる。言い換えると、基板１を案内する突出面５５同士の間隔は、搬送される基板１の幅方向（左右方向）の寸法よりもわずかに大きくなるように設定される。
【００４８】
また、基板１の位置決めに際しては、ガイドレール２、３の位置決め動作により、搬送される基板１を案内する突出面５５同士の間隔が狭まり、両突出面５５によって基板１が挟まれることとなる。つまり、基板１の左側面１２および右側面１３が各突出面５５に接触した状態となることで、基板１が位置決めされる。
【００４９】
以上のように、本実施形態の基板搬送補助装置は、搬送方向に搬送される基板１の案内、および基板１の所定の位置に対する位置決めを行うためのものであり、基板１の案内および位置決めを行うに際して基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面を有する。そして、本実施形態の基板搬送補助装置は、かかる接触面として、高さ寸法が基板１の厚さよりも小さく形成され、基板接触側方向へ所定の出代をもって突出形成される突出面５５が用いられる。
【００５０】
本実施形態の基板１の搬送補助（案内および位置決め）によれば、位置決め精度の低下や基板１の欠け等の、搬送される基板１との接触部分における摩耗による不具合を解消することができる。
【００５１】
すなわち、ガイドレール２、３において基板１の案内および位置決めに際して基板１に接触することとなる突出面５５の高さ寸法が、基板１の厚さよりも小さいことから、ガイドレール２、３の基板１に対する接触面を上下方向（高さ方向）について全面的に接触させることが可能となる。言い換えると、ガイドレール２、３の基板１に対する接触面としての突出面５５の上下方向の全範囲を、基板１の左右側面１２、１３に接触させることが可能となる。本実施形態では、前述したように、搬送される基板１の裏面１４の高さ位置と、各ガイドレール２、３の下端面２１、３１の高さ位置、つまり突出面５５の下端の高さ位置とが略同じであることにより、高さ寸法が基板１の厚さよりも小さい突出面５５が、その上下方向について基板１の左右側面１２、１３に全面的に接触することとなる。
【００５２】
これにより、ガイドレール２、３による基板１の案内や位置決めにともないガイドレール２、３の基板１に対する接触面（突出面５５）において生じる摩耗に関し、上下方向についての摩耗量の均一化が図られる。言い換えると、ガイドレール２、３の基板１に対する接触部分が摩耗することによっても、基板１に対する接触面において摩耗部分が上下方向について偏在することがなくなる。結果として、基板１に対する接触面の上下方向の一部が接触する場合に生じるような、摩耗による上下方向の段差（削れ部）の発生を防止することができる。
【００５３】
そして、このように上下方向について均一的に摩耗することとなる突出面５５は、基板接触側方向に所定の出代をもって突出形成されることから、ガイドレール２、３の摩耗が進行することによっても、基板１に対する接触面の上下方向についての均一的な摩耗が維持できる。つまり、突出面５５の出代となる突出部５２が、ガイドレール２、３の摩耗についての摩耗代となり、ガイドレール２、３の摩耗が進行することによっても、基板１に対して上下方向について全面的に接触する接触面がガイドレール２、３において維持される。結果として、搬送される基板１の寸法のばらつき等にかかわらず、位置決め精度を維持することができるとともに、基板１の欠けの原因となるこじりの発生を防止することができ、搬送される基板１との接触部分における摩耗による不具合を解消することができる。
【００５４】
基板１の厚さに対して設定される突出面５５の高さ寸法Ｙは、基板１の厚さに対応する寸法Ｘについて、基板１の種類等による寸法のばらつきや反りにともなう変動の範囲（公差の範囲）における最小寸法よりも小さくなるように設定される。具体的には、基板１の厚さに対応する寸法Ｘの変動範囲が、例えば１．４〜２．２ｍｍである場合、突出面の高さ寸法Ｙは、寸法Ｘの最小値よりも小さい値、例えば１．２ｍｍとして設定される。また、突出面５５の出代寸法に対応する寸法Ｚは、基板１およびガイドレール２、３の材質や、基板１の案内や位置決めにともなって生じるガイドレール２、３の摩耗量等によって適宜設定される。
【００５５】
このように、本実施形態の基板１の搬送補助によれば、ガイドレール２、３に対して、特にセラミック基板である基板１よりも十分に高い硬度となるような表面処理を施すことなく、搬送される基板１との接触部分における摩耗による不具合を解消することができる。このため、本実施形態の基板１の搬送補助は、コスト面で有利となる。
【００５６】
なお、本実施形態では、ガイドレール２、３が基板１の搬送方向の断面視で略Ｌ字状に構成されることにより、各ガイドレール２、３において突出面５５が設けられているが（図２参照）、これに限定されるものではない。すなわち、ガイドレール２、３の断面視形状等の構成は、ガイドレール２、３が搬送される基板１に対して接触面となる突出面５５を全面的に接触させることができるものであれば、特に限定されるものではない。したがって、例えば、ガイドレール２、３において突出部５２が壁部５１の上下方向中途部に設けられることにより、ガイドレール２、３が基板１の搬送方向の断面視で略横Ｔ字状に構成されてもよい。
【００５７】
さらに、基板１の案内および位置決めが行われるに際して基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面は、高さ寸法が基板１の厚さよりも小さく形成されるものであればよい。すなわち、本実施形態では、基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面となる突出面５５は、高さ寸法が基板１の厚さよりも小さく形成されるとともに、ガイドレール２、３の本体としての側壁部５１から基板接触側方向へ所定の出代をもって突出する突出部５２の先端面として形成されているが、これに限定されるものではない。したがって、ガイドレール２、３は、突出部５２に相当する部分のみを有するような態様で、その基板１に対する接触面が、高さ寸法が基板１の厚さよりも小さく形成される面となるように構成されてもよい。かかる構成の場合、ガイドレール２、３は、例えば基板１の搬送経路に沿って延設される平板状の部材により構成されることとなる。
【００５８】
また、本実施形態では、搬送される基板１に対して、ガイドレール２、３によって基板１の案内および位置決めの両方が行われているが、いずれか一方のみが行われる構成においても、前述したような効果を得ることができる。すなわち、本発明は、搬送方向に搬送される基板の案内、および基板の所定の位置に対する位置決めの少なくともいずれかを行うための基板搬送補助について適用されるものであり、基板の案内および位置決めの少なくともいずれかに際して基板の側面に接触する接触面として、高さ寸法が基板の厚さよりも小さく形成される面が用いられることで、その効果を得ることができる。
【００５９】
具体的には、本実施形態に係る構成において、搬送される基板１の案内のみが行われる場合は、ガイドレール２、３が有する突出面５５同士が、搬送される基板１の幅方向（左右方向）の寸法に対して所定の間隔を隔てた状態（基板１の案内が可能な状態）で、左右のガイドレール２、３がいずれも固定状態で設けられることとなる。また、本実施形態に係る構成において、搬送される基板１の位置決めのみが行われる場合は、ガイドレール２、３として、少なくとも停止状態の基板１に対して位置決め動作を行うことができる部分が設けられることとなる。
【００６０】
これらのように、搬送される基板１に対して、ガイドレール２、３によって基板１の案内および位置決めのいずれか一方のみが行われる構成であっても、基板１の案内または位置決めに際して基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面として、突出面５５が用いられることにより、位置決め精度の低下や基板１の欠け等の、搬送される基板１との接触部分における摩耗による不具合が解消されうる。
【００６１】
本発明の第二実施形態について、図４を用いて説明する。図４は本発明の第二実施形態に係る基板搬送補助装置の構成を示す平面図である。なお、以下の説明では、前述した第一実施形態と共通する部分については、同一の符号を用いる等して適宜その説明を省略する。
【００６２】
本実施形態では、第一実施形態との対比において、ガイドレール２、３に対応する部分が、搬送ベルト４によって搬送方向に搬送される基板１の案内を行う部分と、基板１の所定の位置に対する位置決めを行う部分とに分離されている。
【００６３】
すなわち、図４に示すように、本実施形態の基板搬送補助装置は、搬送方向に搬送される基板１の案内、および基板１の所定の位置に対する位置決めを行うための装置であり、搬送される基板１の左右両側面１２、１３が沿うように設けられる一対のガイドレール機構６２、６３を備える。そして、各ガイドレール機構６２、６３は、基板１の案内を行うためのガイド部６４と、基板１の所定の位置に対する位置決めを行うための位置決め部６５とを有する。つまり、本実施形態では、第一実施形態におけるガイドレール２、３に対応する部分が、ガイド部６４と位置決め部６５とに分離されている。搬送方向に搬送される基板１に対して左側に設けられるガイドレール機構６２は、搬送される基板１の左側面１２に接触することとなり、搬送される基板１に対して右側に設けられるガイドレール機構６３は、搬送される基板１の右側面１３に接触することとなる。ガイドレール機構６２、６３は、基板１の搬送経路に沿って延設される。
【００６４】
ガイド部６４は、基板１の搬送経路に沿って延設されるガイドレール機構６２、６３の大部分を構成する部分であり、左右のガイド部６４間で基板１の搬送経路を介して左右方向に所定の間隔を隔てて、固定された状態で設けられる。つまり、左右のガイドレール機構６２、６３を構成するガイド部６４は、基板１の搬送経路を介して左右方向に一定の間隔が保持された状態で設けられる。
【００６５】
位置決め部６５は、ガイドレール機構６２、６３において、基板１の搬送方向およびその反対方向（図４における上下方向、以下「前後方向」とする。）にガイド部６４から切り離されたような態様で設けられる。位置決め部６５は、前記のとおり基板１の位置決めを行う部分であるため、移動可能な状態で設けられ、停止状態の基板１を左右両側から挟む部分となる。
【００６６】
したがって、位置決め部６５は、ガイドレール機構６２、６３において、停止状態の基板１を挟むことで位置決め可能な位置に設けられ、停止状態の基板１に対して位置決め動作を行う部分となる。本実施形態では、位置決め部６５の位置決め動作として、左右両側のガイドレール機構６２、６３の位置決め部６５が、図示せぬ駆動機構により相手側（左右他側）のガイドレール機構の位置決め部６５とともに基板１を挟む方向（左側のガイドレール機構６２の位置決め部６５は右方向、右側のガイドレール機構６３の位置決め部６５は左方向）に移動する（図４矢印Ｇ参照）。これにより、基板１が両側のガイドレール機構６２、６３の位置決め部６５によって挟まれた状態、つまり基板１の左側面１２が左側のガイドレール機構６２の位置決め部６５に接触するとともに、右側面１３が右側のガイドレール機構６３の位置決め部６５に接触した状態となり、停止状態の基板１が左右のガイドレール機構６２、６３の位置決め部６５によって所定の位置にて位置決めされる。
【００６７】
なお、本実施形態では、基板１の位置決めに際して行われる位置決め部６５の位置決め動作は、左右両側のガイドレール機構６２、６３の位置決め部６５が移動するものとなっているが、これに限定されるものではない。すなわち、位置決め部６５の位置決め動作としては、左右のガイドレール機構６２、６３を構成する位置決め部６５が少なくとも左右一方の位置決め部６５の移動によって基板１を介する方向（左右方向）に相対的に近接移動するものであればよい。したがって、位置決め部６５の位置決め動作としては、本実施形態の場合のほか、左側のガイドレール機構６２の位置決め部６５のみが移動するものであったり、右側のガイドレール機構６３の位置決め部６５のみが移動するものであったりしてもよい。
【００６８】
また、図４に示すように、各ガイドレール機構６２、６３が有する位置決め部６５は、前後方向の寸法として、前後方向に対応する基板１の長さ方向（図４における上下方向）の寸法よりも十分に小さい寸法を有する。そして、本実施形態では、位置決め部６５は、各ガイドレール機構６２、６３において、停止状態の基板１に対して、基板１の前部および後部に対応する各位置に一箇所ずつ計二箇所設けられる。また、各ガイドレール機構６２、６３において設けられる位置決め部６５は、ガイドレール機構６２、６３の延設方向に沿う方向（前後方向）の位置が、左右のガイドレール機構６２、６３間で揃っている。つまり、左右のガイドレール機構６２、６３において設けられる位置決め部６５は、左右方向に対向するように設けられる。したがって、本実施形態では、位置決め部６５は、停止状態の基板１に対して、略左右対称に片側二箇所、計四箇所に設けられることとなる。そして、各ガイドレール機構６２、６３においては、位置決め部６５の前後両側の部分が、前述したガイド部６４となる。
【００６９】
このように、本実施形態では、ガイド部６４と位置決め部６５とを有する左右のガイドレール機構６２、６３が、略左右対称に構成される。ただし、各ガイドレール機構６２、６３における位置決め部６５の設けられる位置や箇所数等の配置構成は、本実施形態に限定されるものではない。位置決め部６５の他の配置構成例としては、左右一側のガイドレール機構において本実施形態のように停止状態の基板１の前後位置に対応して二箇所に設けられる位置決め部６５に対して、左右他側のガイドレール機構が有する位置決め部６５が、前後方向における略中央位置、つまり停止状態の基板１に対して前後方向略中央位置に対応する位置に一箇所設けられる構成が挙げられる。つまりこの構成の場合、位置決め部６５が、停止状態の基板１に対して、左右一側に二箇所、左右他側に一箇所、計三箇所設けられることとなる。
【００７０】
また、位置決め部６５は、その前後方向の寸法が基板１の長さ方向の寸法よりも小さくなるように構成されるとともに、停止状態の基板１の前後方向の範囲内に入るように設けられる。言い換えると、位置決め部６５は、その前後方向の全部が、停止状態の基板１の位置決めに際して、基板１の左右側面１２、１３に接触するように設けられる。
【００７１】
このようにガイドレール機構６２、６３を構成するガイド部６４および位置決め部６５は、基板１の搬送方向の断面視形状が、いずれも、第一実施形態におけるガイドレール２、３が有するそれと略同じ形状となっている。すなわち、ガイド部６４および位置決め部６５は、いずれも、第一実施形態におけるガイドレール２、３と同様に、壁部５１と、この壁部５１の内壁面５３から突出する突出部５２とを有し、これら各部によって基板１の搬送方向の断面視で略Ｌ字状に構成される。そして、ガイド部６４および位置決め部６５のいずれもが、突出部５２の先端面として形成される、基板１の案内または位置決めに際して基板１に対する接触面としての突出面５５を有する。
【００７２】
したがって、本実施形態の基板搬送補助方法においては、基板１の案内および位置決めに際して基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面として、固定された状態で設けられ、基板１の案内に際して基板１の左右側面１２、１３に接触するガイド面６６と、基板１を介する方向（左右方向）へ相対的に近接移動可能な状態で設けられ、基板１の位置決めに際して基板１の左右側面１２、１３に接触する位置決め面６７とが用いられる。つまり、前記のとおり固定された状態で設けられるガイド部６４が有する突出面５５が、基板１の案内に際して基板１に接触するガイド面６６となり、前記のとおり移動可能な状態で設けられる位置決め部６５が有する突出面５５が、基板１の位置決めに際して基板１に接触する位置決め面６７となる。
【００７３】
このように、本実施形態では、ガイド部６４と位置決め部６５とにより、基板１の搬送方向の断面視形状が各部で共通となる態様で前後方向に略連続して延設されるように、ガイドレール機構６２、６３が構成されている。そして、前後方向に略連続するように延設されるガイドレール機構６２、６３において、ガイド部６４は、固定された部分となり、位置決め部６５は、基板１の位置決めに際して基板接触側方向に移動する部分となる。したがって、図示は省略するが、ガイドレール機構６２、６３において、ガイド部６４および位置決め部６５それぞれの部分についての、基板１の搬送方向の断面視形状は、いずれも第一実施形態の場合と略同一の形状となる（図２参照）。
【００７４】
以上のように、本実施形態の基板搬送補助装置は、基板１の案内を行うためのガイド部６４と、基板１の位置決めを行うための位置決め部６５とを備える。そして、本実施形態の基板搬送補助装置は、基板１の案内または位置決めに際して基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面（突出面５５）として、ガイド部６４において固定された状態で設けられ、基板１の案内に際して基板１の左右側面１２、１３に接触するガイド面６６と、位置決め部６５において基板１を介する方向へ相対的に近接移動可能な状態で設けられ、基板１の位置決めに際して基板１の左右側面１２、１３に接触する位置決め面６７とを有する。
【００７５】
本実施形態の基板１の搬送補助（案内および位置決め）によれば、第一実施形態において得られる効果に加え、基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面において摩耗の原因となる、基板１の位置決めにともなう衝撃を低減することが可能となる。これにより、位置決め精度の低下や基板１の欠け等の、搬送される基板１との接触部分における摩耗による不具合をより効果的に解消することができる。
【００７６】
すなわち、例えば第一実施形態におけるガイドレール２、３のように、基板１の位置決めに際して基板１の左右側面１２、１３がガイドレール２、３の接触部分（突出面５５）に対して前後方向について全面的に接触する構成においては、位置決めされる停止状態の基板１の姿勢によって、基板１の位置決めにともなう衝撃が局部的に大きくなる場合がある。具体的には、基板１が、その停止状態で搬送方向に沿う姿勢からずれている場合（搬送方向に対して傾いている場合）、基板１の位置決めにともなう衝撃が、基板１に対する接触部分において位置決めに際して基板１に最初に接触することとなる基板１の角部分（平面視で対角上に位置決する部分）に対応する部分において局部的に大きくなる。基板１の位置決めにともなう衝撃が局部的に大きくなる部分については、基板１が接触することによる摩耗量が、他の部分に比して大きくなる部分となる。
【００７７】
このように、基板１が接触することによる摩耗量が局部的に大きくなる部分が生じることは、位置決め精度の低下や基板１の欠け等の、搬送される基板１との接触部分における摩耗による不具合の原因となる場合がある。
【００７８】
この点、本実施形態では、基板１の位置決めを行う部分が、基板１の案内を行う部分であるガイド部６４から、位置決め部６５として分離して設けられ、その位置決め部６５が、前述したように前後方向の寸法について基板１の長さ方向の寸法よりも小さく構成される。このため、本実施形態のように、位置決め部６５が、その前後方向の全部が基板１の左右側面１２、１３に接触するように設けられることにより、基板１の位置決めにともなう衝撃を低減することができる。
【００７９】
つまり、位置決め部６５が、基板１の位置決めに際して前後方向の全部が基板１に接触するように設けられることで、停止状態の基板１が搬送方向に対して傾いている場合に基板１の角部分が接触することによる衝撃を回避することができる。言い換えると、位置決め部６５は、基板１の位置決めに際して角部分で接触するのではなく、辺部分で接触する態様となるため、基板１の角部分が接触することによる衝撃を回避することができる。これにより、基板１の位置決めによって基板１の接触部分について摩耗量が局部的に大きくなることを防止することができ、搬送される基板１との接触部分における摩耗による不具合をより効果的に解消することができる。
【００８０】
本発明の第三実施形態について、図５〜図７を用いて説明する。図５は本発明の第三実施形態に係る基板搬送補助装置の構成を示す平面図、図６は図５におけるＢ−Ｂ断面図、図７は基板の位置決めに際しての動作説明図である。なお、以下の説明では、前述した第二実施形態と共通する部分については適宜その説明を省略する。
【００８１】
本実施形態では、第二実施形態との対比において、位置決め部６５が有する位置決め面６７に対応する接触面として、基板１に接触する部位を変化させられる円筒面が用いられている。
【００８２】
図５および図６に示すように、本実施形態の基板搬送補助装置は、第二実施形態と同様に、搬送方向に搬送される基板１の案内、および基板１の所定の位置に対する位置決めを行うための装置であり、搬送される基板１の左右両側面１２、１３が沿うように設けられる一対のガイドレール機構７２、７３を備える。そして、各ガイドレール機構７２、７３は、基板１の案内を行うためのガイド部７４と、基板１の所定の位置に対する位置決めを行うための位置決め部７５とを有する。
【００８３】
ガイド部７４は、第二実施形態におけるガイド部６４と同様の構成を備える。すなわち、ガイド部７４は、基板１の搬送経路に沿って延設されるガイドレール機構７２、７３の大部分を構成する部分であり、左右のガイド部７４間で基板１の搬送経路を介して左右方向に所定の間隔を隔てて、固定された状態で設けられる。また、ガイド部７４は、壁部５１と、この壁部５１の内壁面５３から突出する突出部５２とを有し、これら各部によって基板１の搬送方向の断面視で略Ｌ字状に構成される。そして、ガイド部７４は、突出部５２の先端面として形成される、基板１の案内に際して基板１に対する接触面としての突出面５５を有する。つまり、このガイド部７４が有する突出面５５が、基板１の案内に際して基板１に接触する接触面としてのガイド面７６となる。
【００８４】
位置決め部７５は、基板１の搬送方向に沿う方向（前後方向）を回転軸方向として回転自在に支持される回転体としてのローラ８１を備える。本実施形態では、ローラ８１は、全体として、前記回転軸方向視で円形状となる（図６参照）円筒状の部材である。そして、ローラ８１においてその外周面として形成される円筒面８２が、基板１の位置決めに際して基板１の側部に接触する接触面としての位置決め面７７となる。
【００８５】
基板１の位置決めを行う部分である位置決め部７５は、基板１の位置決めに際して、ローラ８１を基板１に接触させる。したがって、位置決め部７５においては、ローラ８１は、移動可能な状態で設けられ、停止状態の基板１を左右両側から挟む部分となる。
【００８６】
本実施形態では、位置決め部７５の位置決め動作として、左右両側のガイドレール機構７２、７３の位置決め部７５が有するローラ８１が、相手側（左右他側）のガイドレール機構の位置決め部７５のローラ８１とともに基板１を挟む方向（左側のガイドレール機構７２の位置決め部７５のローラ８１は右方向、右側のガイドレール機構７３の位置決め部７５のローラ８１は左方向）に移動する（図５矢印Ｈ参照）。これにより、基板１が両側のガイドレール機構７２、７３の位置決め部７５のローラ８１によって挟まれた状態、つまり基板１の左側面１２が左側のガイドレール機構７２が有するローラ８１に接触するとともに、右側面１３が右側のガイドレール機構７３が有するローラ８１に接触した状態となり、停止状態の基板１が左右のガイドレール機構７２、７３の位置決め部７５によって所定の位置にて位置決めされる。
【００８７】
ローラ８１は、シリンダ機構８３により、基板１を挟む方向（基板接触側方向）が含まれる左右方向に移動可能に設けられる。シリンダ機構８３は、例えば油圧シリンダやエアシリンダとして構成されるものであり、シリンダ部８４と、このシリンダ部８４に対して少なくとも一部が出没可能に設けられるロッド部８５とを有する。シリンダ機構８３が有するロッド部８５のシリンダ部８４からの突出方向先端側に、ローラ８１が支持される。したがって、シリンダ機構８３は、その伸縮方向、つまりロッド部８５のシリンダ部８４からの出没方向が左右方向となる姿勢で設けられる。
【００８８】
ローラ８１は、ロッド部８５に対してアーム部８６を介して支持される。アーム部８６は、図５に示すように、ロッド部８５の突出方向先端側に設けられ、ローラ８１を前後方向（回転軸方向）両側から挟み込むようにロッド部８５から前後方向両側に分岐して延設される部分である。アーム部８６は、その前後の分岐部分に対して前後方向に架設される支持軸８７を介してローラ８１を支持する。つまり、ローラ８１は、アーム部８６に対して前後両側が支持される支持軸８７を介することにより、アーム部８６に対して前後両側が支持されるとともに、支持軸８７の軸方向を回転軸方向として回転自在に支持される。
【００８９】
また、ローラ８１は、その回転軸心の高さ位置（上下方向の位置）が、搬送ベルト４により搬送される基板１における厚さ方向（上下方向）の中央位置よりも高くなるように設けられる。言い換えると、ローラ８１は、その回転軸心の高さ位置が、搬送される基板１における厚さ方向の中央位置に対して上方にずれるように設けられる。本実施形態では、図６に示すように、搬送ベルト４により搬送される基板１に対して、ローラ８１の下端（円筒面８２の下端）の高さ位置が、搬送面４１上の基板１の表面１６の高さ位置よりも若干下の位置となるように、ローラ８１の回転軸心の高さ位置やローラ８１の径が設定される。
【００９０】
このような構成により、位置決め部７５は、基板１の位置決めに際し、シリンダ機構８３により、左右両側のローラ８１を基板接触側方向に移動させることにより、位置決め面７７としてのローラ８１の円筒面８２を、基板１の左右両側部に接触させる。これにより、基板１が、左右のガイドレール機構７２、７３が有するローラ８１によって挟まれたような状態となり、所定の位置にて位置決めされる。
【００９１】
ここで、位置決め部７５による基板１の位置決めに際してのローラ８１の基板１に対する接触の態様について、図７を用いて説明する。図７に示すように、基板１の位置決めに際しては、ローラ８１が、シリンダ機構８３の伸長によって基板接触側方向に移動し（矢印Ｊ参照）、基板１に対して左右両側から接触する。
【００９２】
基板１に対して接触するローラ８１は、前述したように下端（円筒面８２の下端）の高さ位置が搬送面４１上の基板１の表面１６の高さ位置よりも若干下の位置となるように設けられる。このことから、ローラ８１は、基板１に対する接触に際し、円筒面８２が、基板１における左右両側面１２、１３と表面１６とによって形成される左右上側の角部分に対して接触（線接触）することとなる。
【００９３】
このようにして基板１の左右上側の角部分に接触するローラ８１は、その基板接触側方向の移動により、基板１の表面１６に対して若干乗り上げる状態となる。このようにローラ８１が基板１に対して乗り上げた状態となることにより、基板１が位置決めされる。つまり、ローラ８１は、そのアーム部８６に対する支持構成や、ロッド部８５のシリンダ部８４に対する支持構成や、ロッド部８５が有する弾性等により、基板１の位置決めに際して基板１に対する乗り上げにともなう上下方向の変位が許容されるように設けられる。
【００９４】
したがって、回転自在に支持されるローラ８１は、基板１の位置決めに際して基板１に接触することの作用として、基板１に対する接触による抵抗を受ける方向に回転するような作用を受ける（矢印Ｋ参照）。つまり、基板１の搬送方向の断面視において（図７参照）、左側のガイドレール機構７２に設けられるローラ８１は時計方向、右側のガイドレール機構７３に設けられるローラ８１は反時計方向に回転するような作用を受ける。かかる回転作用により、ローラ８１は、基板１の位置決めに際して基板１に接触するたびに、基板１に対する接触部位が変化することとなる。
【００９５】
なお、本実施形態では、基板１の位置決めに際して行われる位置決め部７５の位置決め動作は、左右両側のガイドレール機構７２、７３の位置決め部７５が有するローラ８１が移動するものとなっているが、これに限定されるものではない。すなわち、位置決め部７５の位置決め動作としては、左右のガイドレール機構７２、７３が有するローラ８１が少なくとも左右一方のローラ８１の移動によって基板１を介する方向（左右方向）に相対的に近接移動するものであればよい。したがって、位置決め部７５の位置決め動作としては、本実施形態の場合のほか、左側のガイドレール機構７２が有するローラ８１のみが移動するものであったり、右側のガイドレール機構７３が有するローラ８１のみが移動するものであったりしてもよい。
【００９６】
また、図５に示すように、各ガイドレール機構７２、７３が有するローラ８１は、前後方向の寸法として、前後方向に対応する基板１の長さ方向（図５における上下方向）の寸法よりも十分に小さい寸法を有する。そして、本実施形態では、位置決め部７５（つまりローラ８１）は、各ガイドレール機構７２、７３において、停止状態の基板１に対して、基板１の前部および後部に対応する各位置に一箇所ずつ計二箇所設けられる。また、各ガイドレール機構７２、７３において設けられるローラ８１は、ガイドレール機構７２、７３の延設方向に沿う方向（前後方向）の位置が、左右のガイドレール機構７２、７３間で揃っている。つまり、左右のガイドレール機構７２、７３において設けられるローラ８１は、左右方向に対向するように設けられる。したがって、本実施形態では、ローラ８１は、停止状態の基板１に対して、略左右対称に片側二箇所、計四箇所に設けられることとなる。そして、各ガイドレール機構７２、７３においては、ローラ８１（位置決め部７５）の前後両側の部分が、前述したガイド部７４となる。
【００９７】
このように、本実施形態では、ガイド部７４と位置決め部７５とを有する左右のガイドレール機構７２、７３が、略左右対称に構成される。ただし、各ガイドレール機構７２、７３におけるローラ８１（位置決め部７５）の設けられる位置や箇所数等の配置構成は、本実施形態に限定されるものではない。ローラ８１の他の配置構成例としては、左右一側のガイドレール機構において本実施形態のように停止状態の基板１の前後位置に対応して二箇所に設けられるローラ８１に対して、左右他側のガイドレール機構が有するローラ８１が、前後方向における略中央位置、つまり停止状態の基板１に対して前後方向略中央位置に対応する位置に一箇所設けられる構成が挙げられる。つまりこの構成の場合、位置決め部７５を構成するローラ８１が、停止状態の基板１に対して、左右一側に二箇所、左右他側に一箇所、計三箇所設けられることとなる。
【００９８】
また、位置決め部７５を構成するローラ８１は、その前後方向の寸法が基板１の長さ方向の寸法よりも小さくなるように構成されるとともに、前後方向についてローラ８１の全体が停止状態の基板１が存在する範囲内に位置するように設けられる。言い換えると、ローラ８１は、停止状態の基板１の位置決めに際して、前後方向の全部が基板１の左右両側部に接触するように設けられる。
【００９９】
また、本実施形態においては、ローラ８１が移動可能に設けられるための駆動機構としてシリンダ機構８３が用いられているが、ローラ８１の駆動機構はこれに限定されるものではない。ローラ８１の駆動機構としては、例えば、駆動源としてモータが用いられ、そのモータの回転駆動力がボールねじ等を介して直線運動として伝達される構成が挙げられる。
【０１００】
また、本実施形態では、位置決め面７７（円筒面８２）を形成する回転体としてのローラ８１は、全体として円柱状の部材として構成されているが、これに限定されるものではない。つまり、位置決め面７７を形成する回転体としては、回転体の回転軸方向視で円形状となる円筒状部分を有するものであればよく、その円筒状部分の外周面として形成される面（円筒面８２）が、位置決め面７７として用いられる。
【０１０１】
以上のように、本実施形態の基板搬送補助装置は、基板１の案内を行うためのガイド部７４と、基板１の位置決めを行うための位置決め部７５とを備える。そして、本実施形態の基板搬送補助装置においては、ガイド部７４は、基板１の案内に際して基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面として、高さ寸法が基板１の厚さよりも小さく形成され、固定された状態で設けられるガイド面７６（突出面５５）を有する。また、位置決め部７５は、基板１の位置決めに際して基板１の側部に接触する接触面として、搬送方向に沿う方向（前後方向）を回転軸方向として回転自在に支持されるローラ８１の外周面として形成され、基板１を介する方向（左右方向）へ相対的に近接移動可能な状態で設けられる位置決め面７７（円筒面８２）を有する。
【０１０２】
すなわち、本実施形態の基板搬送補助方法は、搬送方向に搬送される基板１の案内、および基板１の所定の位置に対する位置決めを行うためのものである。そして、本実施形態の基板搬送補助方法においては、基板１の案内に際して基板１の左右側面１２、１３に接触する接触面として、高さ寸法が基板１の厚さよりも小さく形成され、固定された状態で設けられるガイド面７６（突出面５５）が用いられる。また、基板１の位置決めに際して基板１の側部に接触する接触面として、搬送方向に沿う方向（前後方向）を回転軸方向として回転自在に支持されるローラ８１の外周面として形成され、基板１を介する方向（左右方向）へ相対的に近接移動可能な状態で設けられる位置決め面７７（円筒面８２）が用いられる。
【０１０３】
本実施形態の基板１の搬送補助（案内および位置決め）によれば、前述した各実施形態において得られる効果に加え、位置決め部７５が有する位置決め面７７（円筒面８２）において、位置決め対象となる基板１の接触による摩耗が一部のみで生じることなく、基板１の接触による摩耗量を均一とすることができる。
【０１０４】
すなわち、前述したように、ローラ８１は、基板１の位置決めに際して基板１に接触することで受ける回転作用により、基板１の位置決めに際して基板１に接触するたびに、基板１に対する接触部位が変化することとなる。このため、基板１の位置決めに際してローラ８１の基板１に対する接触によって生じる摩耗は、長期的にはローラ８１の周方向に均一に生じることとなる。
【０１０５】
これにより、位置決め面７７を形成するローラ８１の摩耗が進行することによっても、基板１の位置決めに際して、位置決め面７７が接触する基板１の一部分に局所的に力がかかることが防止され、基板１の欠け等を効果的に防止することができる。つまり、ローラ８１において生じる摩耗が均一的となることから、位置決め面７７となる円筒面８２において摩耗による凹凸等が生じることがないので、ローラ８１の摩耗が進行することによっても、基板１の左右上側の角部分と円筒面８２との接触について一定の接触状態を維持することができる。
【０１０６】
また、本実施形態においては、ローラ８１が基板接触側方向についてオーバーランしたことを検出するための手段が備えられることが好ましい。
【０１０７】
ローラ８１のオーバーランを検出するための手段としては、例えば図７に示すように、ローラ８１の基板接触側方向についてのオーバーランを検出するオーバーランセンサ９０が用いられる。オーバーランセンサ９０は、ローラ８１の左右方向の移動範囲について、予め設定される許容範囲を基板接触側方向側に超えたことを検出する。具体的には、オーバーランセンサ９０は、ローラ８１の摩耗が進行することによっても形状が変化しない位置、例えばローラ８１の回転軸の位置等を基準として、ローラ８１の左右方向の位置を検出する。
【０１０８】
オーバーランセンサ９０としては、ローラ８１の左右方向の位置を検出することができるものであれば、その構成や用いられるセンサの種類や設けられる場所等は特に限定されるものではない。ローラ８１のオーバーランを検出するための手段としては、例えば、本実施形態のように、ローラ８１の移動にシリンダ機構８３が用いられる構成においては、シリンダ機構８３に設けられることとなる、ロッド部８５の前進端の位置を検出するためのセンサ（リミットスイッチ等）や、ロッド部８５の移動量を検出するストロークセンサが用いられてもよい。また、基板１の移動にモータの駆動力が用いられる構成においては、モータのパルス数に基づいてロッド部８５の移動量等を検出するセンサが、ローラ８１のオーバーランを検出するための手段として用いられてもよい。
【０１０９】
このように、ローラ８１が基板接触側方向についてオーバーランしたことを検出することにより、ローラ８１の過度の摩耗によってローラ８１による基板１の位置決め機能が損なわれることを防止することができる。
【０１１０】
すなわち、ローラ８１の摩耗が進行するにつれ、ローラ８１の外径が小さくなるため、ローラ８１（の円筒面８２）が基板１に接触するまでにローラ８１が基板接触側方向に移動する距離が長くなる。このため、ローラ８１の基板接触側方向への移動範囲が、前記オーバーランセンサ９０等が用いられて所定の範囲に規定されることにより、ローラ８１による基板１の位置決め機能が損なわれる原因となる、ローラ８１の過度の摩耗を防止することができる。したがって、ローラ８１のオーバーランを検出するための手段による検出信号は、基板１の搬送の停止、基板１に対する電子部品の搭載等の処理の停止、ローラ８１の交換等をうながす警告の発生等を行うために適宜用いられる。
【０１１１】
以上説明した本発明の実施の形態においては、搬送される基板１をセラミック基板とし、この基板１に施される処理を電気回路を構成する電子部品の搭載として説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明は、種々の基板について、その基板が、電子部品の搭載のほか、接着剤の塗布や孔開け加工等の種々の処理を受けるに際して搬送される構成において、適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】本発明の第一実施形態に係る基板搬送補助装置の構成を示す平面図。
【図２】図１におけるＡ−Ａ断面図。
【図３】基板の位置決めに際してのタイムチャートを示す図。
【図４】本発明の第二実施形態に係る基板搬送補助装置の構成を示す平面図。
【図５】本発明の第三実施形態に係る基板搬送補助装置の構成を示す平面図。
【図６】図５におけるＢ−Ｂ断面図。
【図７】基板の位置決めに際しての動作説明図。
【図８】基板のガイド機構の従来構成を示す図。
【図９】従来構成における不具合を説明する図。
【符号の説明】
【０１１３】
１    基板
２    ガイドレール
３    ガイドレール
４    搬送ベルト
１２  左側面
１３  右側面
５５  突出面
６２  ガイドレール機構
６３  ガイドレール機構
６４  ガイド部
６５  位置決め部
６６  ガイド面
６７  位置決め面
７２  ガイドレール機構
７３  ガイドレール機構
７４  ガイド部
７５  位置決め部
７６  ガイド面
７７  位置決め面
８１  ローラ（回転体）
８２  円筒面
８７  支持軸
【図１】
2009200440.tif 000003
【図２】
2009200440.tif 000004
【図３】
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【図４】
2009200440.tif 000006
【図５】
2009200440.tif 000007
【図６】
2009200440.tif 000008
【図７】
2009200440.tif 000009
【図８】
2009200440.tif 000010
【図９】
2009200440.tif 000011