(57)【要約】【課題】安価な光ディスク記録媒体の製造が可能な光ディスク記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】一方のロール１００及び他方のロール１０５に支持された可撓性の転写用フィルムシート１０を準備し、一方のロール１００から、他方のロール１０５に転写用フィルムシート１０を巻きつける過程で、転写用フィルムシート１０表面に、連続的に紫外線硬化樹脂層を形成する。  次に、転写用フィルムシート表面に形成された紫外線硬化樹脂層に、凹凸形状を有するニッケルスタンパを押圧すると同時に、転写用フィルムシート裏面側から紫外線照射する。これにより、紫外線硬化樹脂層が硬化され、紫外線硬化樹脂層上に凹凸形状を、連続的に形成する。そして、光透過率の高い順に記録層を形成していく。【選択図】図４
2009277266.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方のロール及び他方のロールに支持された可撓性の転写用フィルムシートを準備する工程、
前記一方のロールから前記他方のロールに転写用フィルムシートを移送する過程で、前記転写用フィルムシート表面に、連続的に紫外線硬化樹脂層を形成する工程、
前記転写用フィルムシート表面に形成された紫外線硬化樹脂層に、凹凸形状を有するニッケルスタンパを押圧すると同時に、前記転写用フィルムシート裏面側から紫外線照射することにより、前記紫外線硬化樹脂層を硬化させて、前記紫外線硬化樹脂層上に凹凸形状を、連続的に形成する工程、
前記凹凸形状が形成された前記紫外線硬化樹脂層上に、記録層を成膜する工程、
前記記録層を成膜した後、前記一方のロールから前記他方のロールに転写用フィルムシートを移送する過程で、前記転写用フィルムシート表面に、連続的に紫外線硬化樹脂層を形成し、前記転写用フィルムシート表面に形成された紫外線硬化樹脂層に、凹凸形状を有するニッケルスタンパを押圧すると同時に、前記転写用フィルムシート裏面から紫外線照射することにより、前記紫外線硬化樹脂層を硬化させて、前記紫外線硬化樹脂層上に凹凸形状を、連続的に形成し、前記凹凸形状が形成された前記紫外線硬化樹脂層上に、前段で形成された記録層よりも光透過率の低い、他の記録層を成膜する工程、
前記他の記録層を成膜する工程を必要に応じて複数回繰り返し、複数の記録層を有する積層膜を形成する工程、
とを含む光ディスク記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記複数の積層膜を形成した後、
前記積層膜に、剥離用の切り欠き部を形成する工程、
表面に、紫外線硬化樹脂層が形成された成形樹脂基板を準備する工程、
前記転写用フィルムシート上に形成された前記積層膜上に、前記成形樹脂基板の前記紫外線硬化樹脂層が形成された面を張り合わせると同時に、紫外線照射により、前記紫外線硬化樹脂層を硬化させ、前記転写用フィルムシート上の前記積層膜を、前記成形樹脂基板上に転写させる工程、
前記成形樹脂基板上に転写された積層膜上に、保護層となる紫外線硬化樹脂層を形成する工程
とを含む請求項１記載の光ディスク記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記記録層及び前記他の記録層は、前記切り欠き部断面に露出されないように、所望の位置に形成される
請求項２記載の光ディスク記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記ニッケルスタンパは、表面に紫外線硬化樹脂層が形成された前記転写用フィルムシートを静止させた状態で押圧する
請求項１記載の光ディスク記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク記録媒体として、特にピットにより情報が記録される記録層を複数備える光ディスク記録媒体を安価に製造するための、光ディスク記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学的な情報記録方式の一つである光ディスク記録媒体は、パーソナルコンピュータの普及や、地上波デジタル放送の開始と普及、ハイビジョンテレビの一般家庭への普及の加速に伴い、より多くの情報が記録可能であることが求められている。そのため、光ディスク記録媒体の、記録密度の大容量化が求められている。
光ディスク記録媒体は、基板上に、例えば記録膜や誘電体層等が積層された記録層が形成されてなる。そして、光ディスク記録媒体に対する情報の信号の読み出し、又は書き込みは、記録膜を有する記録層にレーザ光を照射することによって行われる。
【０００３】
光ディスク記録媒体の記録密度の高密度化は、記録膜上に集光される光スポット径を、小さくすることによって行うことができる。光スポット径は、光源の波長（λ）と対物レンズの開口数（ＮＡ:Numerical Aperture）によって制限されており、λ/２ＮＡに比例する。
【０００４】
光ディスク記録媒体の、記録密度の高密度化を達成するためには、照射するレーザ光の短波長化、及び対物レンズの高ＮＡ化が必要とされる。波長に関しては、第１世代の光ディスク記録媒体であるＣＤの８３０ｎｍから、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）では６５０ｎｍまで短波長化されている。また、ＮＡに関しても、第１世代光ディスク記録媒体であるＣＤでは、およそ０．４５、ＤＶＤでは０．６０と高ＮＡ化が進んでいる。
【０００５】
さらに、最近では、波長４０５ｎｍの青色レーザを光源として用い、ＮＡを０．８５まで高めた光ディスクシステム（Blu-ray Disk：登録商標，以下ＢＤ）が実用化されている。
【０００６】
このＢＤは、光スポット径を小さくすることによる記録密度の高密度化と合わせて、さらなる高密度化の手法である、記録層を多層化する手法を用いた光ディスク記録媒体である。
大容量の光ディスク記録媒体としてのＢＤは、厚み１．１ｍｍの基板上の凹凸に金属薄膜や誘電体膜などを積層し、厚み約０．１ｍｍの保護層を設けるなどして構成されている。
【０００７】
多層の記録層を有し、ＢＤとして知られている光ディスク記録媒体の製造方法は、例えば下記特許文献１に記載されているが、一般的には次のようにしてなされる。
【０００８】
一例として記録層が２つ構成された、光ディスク記録媒体の製造方法について、図１７を用いて説明する。
まず、図１７Ａに示すように、片面に凹凸形状からなるピットや案内溝を有する厚み約１．１ｍｍの成形樹脂基板２００上に、金属薄膜や熱記録が可能な薄膜材料などを形成し、第１の記録層Ｌ０を形成する。
次に、図１７Ｂに示すように、隣接する記録層を隔てる数μｍから、数十μｍの厚みを有するスペーサー層２０１を、成形樹脂基板２００上の第１の記録層Ｌ０上に形成する。
そして、スペーサー層２０１の上に片面にピットや案内溝などの凹凸形状を有するスタンパ２０３を押圧することによって、図１７Ｃに示すように、ピットや、案内溝の凹凸パターン２０１ａを、スペーサー層２０１上に転写する。
続いて、図１７Ｄに示すように、スペーサー層２０１の上に転写されたピットや案内溝の凹凸パターン２０１ａ上に、記録再生するレーザ光の波長に対して所定の透過率を有する金属薄膜、あるいは熱記録が可能な薄膜材料を形成し、第２の記録層Ｌ１を形成する。
そして、最後に、図１７Ｅに示すように、第２の記録層Ｌ１を保護する保護層２０２を、第２の記録層Ｌ１上に形成する。
【０００９】
以上の工程によって、２層の記録層が構成された光ディスク記録媒体は形成される。
２層以上の記録層によって、多層化を図る場合は、例えば下記特許文献２に記載されているように、信号の記録再生時の層間クロストークを考慮しつつ、上述した第２の記録層Ｌ１の形成工程を数回繰り返し、複数の記録層を順に積層することで可能となる。
【００１０】
上記のようにして構成される多層の光ディスク記録媒体は、ディスクの傾きによる信号劣化の影響を低減するために、積層された記録層を０．１ｍｍの範囲内に形成することが求められる。そして、上記２層の記録層を有する光ディスク記録媒体では、第１の記録層Ｌ０と、数ミクロンから数十ミクロンのスペーサー層２０１を介して第２の記録層Ｌ１が形成され、その上に光透過性の保護層２０２が構成される。
【００１１】
また、上記多層の記録層を有する光ディスク記録媒体は、成形樹脂基板２００の最内周から最外周にかけて均質な記録や、読み出しを行う。このために、第１の記録層Ｌ０と第２の記録層Ｌ１の間に設定されるスペーサー層２０１の光学的特性、および物理的形状の、均質性と均一性が求められる。同時に安価な光ディスク記録媒体の製造方法が期待されている。
【００１２】
さらに、これら光ディスク記録媒体は、長期保存の用途がその使用目的の重要なひとつであるから、長期にわたって、記録情報が保持されることが期待される。このため高温多湿環境や、低温環境下でも良好な記録特性を保持可能な多層構造が求められる。
【００１３】
【特許文献１】特開２００３−２２５８６公報
【特許文献２】特開２００７−２５７７５９公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
ところで、上述した、従来の２層の記録層を有する光ディスク記録媒体の製造方法で用いられる、片面にピットや案内溝などの凹凸形状を有するスタンパ２０３（図１７Ｂ）は、多くの場合、透明樹脂で構成されている。２層の記録層を有する光ディスク記録媒体では、この透明樹脂スタンパを一枚使用するが、ｎ層の記録層が形成される光ディスク記録媒体では、ｎ−１枚の透明樹脂スタンパを使用することになる。かつ、この透明樹脂スタンパは、再利用できない。このため、従来のスタンパプロセスにおいては、コストが高くなってしまう。そこで、安価な光ディスク記録媒体の製造においては、そのスタンパプロセスの改善が求められていた。
【００１５】
上述の点に鑑み、本発明は、安価な光ディスク記録媒体の製造が可能な光ディスク記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明の光ディスク記録媒体の製造方法は、まず、一方のロール及び他方のロールに支持された可撓性の転写用フィルムシートを準備する。
そして、一方のロールから、他方のロールに転写用フィルムシートを巻きつける過程で、転写用フィルムシート表面に、紫外線硬化樹脂を塗布することで、連続的に紫外線硬化樹脂層を形成する。
次に、転写用フィルムシート表面に形成された紫外線硬化樹脂層に、凹凸形状を有するニッケルスタンパを押圧すると同時に、転写用フィルムシート裏面側から紫外線照射する。これにより、紫外線硬化樹脂層が硬化され、紫外線硬化樹脂層上に凹凸形状を、連続的に形成される。
そして、凹凸形状が形成された紫外線硬化樹脂層上に、記録層を成膜する。
さらに、前段で記録層を成膜した後、一方のロールから他方のロールに転写用フィルムシートを巻きつける過程で、転写用フィルムシート表面に、連続的に紫外線硬化樹脂を塗布することにより、転写用フィルムシート表面に形成された紫外線硬化樹脂層に、凹凸形状を有するニッケルスタンパを押圧すると同時に、転写用フィルムシート裏面側から紫外線照射する。これにより、紫外線硬化樹脂層を硬化させて、紫外線硬化樹脂層上に凹凸形状を、連続的に形成することができる。そして、凹凸形状が形成された紫外線硬化樹脂層上には、前段で形成された記録層よりも光透過率の低い、他の記録層を成膜する。
そして、他の記録層を成膜する工程を、必要に応じて複数回繰り返し、複数の記録層を有する積層膜を形成する。
【００１７】
本発明の光ディスク記録媒体の製造方法では、転写用フィルムシート上に、光透過率の高い順に、記録層が複数層形成される。したがって、転写用フィルムシート裏面側から紫外線照射しても、効率よく、紫外線硬化樹脂層を硬化させることができる。また、ニッケルスタンパが用いられるため、スタンパ工程において、スタンパを繰り返し使用することが可能となる。また、本発明では、転写用フィルムシートを、一方のロールから他方のロールに巻き出しながら、製造していく。このため、一度に複数の光ディスク記録媒体が形成される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、多層の記録層を有する光ディスク記録媒体を、その構成の高透過率側から紫外線硬化させることが可能となるため、記録層の設計の自由が大きく、かつプロセス整合性良く、安価に製造することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下に、本発明の各実施の形態を、図１〜図１５を参照して説明する。
【００２０】
［第１の実施形態］
図１に、本発明の第１の実施形態で形成される光ディスク記録媒体の、要部概略断面構成を示す。本実施形態で形成される、光ディスク記録媒体は、４層の記録層を有する光ディスク記録媒体である。図１は、厚みが１．１ｍｍ、外径が約１２０ｍｍの円盤状の成形樹脂基板１上に、４層の記録層が形成された光ディスク記録媒体の断面の一部を示したものである。
【００２１】
図１に沿って、その構成を説明する。
本実施形態例の光ディスク記録媒体は、１．１ｍｍ厚の成形樹脂基板１上に、第１の記録層Ｌ０、スペーサー層５１、第２の記録層Ｌ１、スペーサー層５２、第３の記録層Ｌ２、スペーサー層５３、第４の記録層Ｌ３、カバー層６１、ハードコート層７１が順に積層されて形成される。
【００２２】
また、図２は、図１に示す光ディスク記録媒体の断面構成をより詳細に図示したものである。
第１の記録層Ｌ０は、成形樹脂基板１側から、反射膜１２、第１の誘電膜１３、記録膜１４、第２の誘電膜１５が積層されて構成される。
第２の記録層Ｌ１は、成形樹脂基板１側から、反射膜２２、第１の誘電膜２３、記録膜２４、第２の誘電膜２５が積層されて構成される。
第３の記録層Ｌ２は、成形樹脂基板１側から、反射膜３２、第１の誘電膜３３、記録膜３４、第２の誘電膜３５が積層されて構成される。
第４の記録層Ｌ３は、成形樹脂基板１側から、反射膜４２、第１の誘電体膜４３、記録膜４４、第２の誘電体膜４５が積層されて構成される。
【００２３】
ここで記録膜１４，２４，３４，４４は、追記型層変化材料からなる記録膜で、読み取り時の各層からの信号量が同等となるように膜設計される。
すなわち、本実施形態例の光ディスク記録媒体における第１〜第４の記録層Ｌ０〜Ｌ３の光透過率の大小関係は、Ｌ０＜Ｌ１＜Ｌ２＜Ｌ３となる。
【００２４】
第１〜第４の記録層Ｌ０〜Ｌ３に用いられる、第１及び第２の誘電膜１３，１５，２３，２５，３３，３５，４３，４５の厚さは、好ましくは３ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり、光学特性および熱特性を考慮して決定される。
【００２５】
第１及び第２の誘電膜１３，１５，２３，２５，３３，３５，４３，４５の材料としては、記録再生用レーザの波長に対して吸収能の低い材料が好ましく、具体的には、消衰係数Ｋの値が０．２以下である材料が好ましい。かかる材料としては、例えばＺｎＳ−ＳｉＯ２混合体（好ましくは、モル比４：１）を挙げることができる。ＺｎＳ−ＳｉＯ２混合体以外にも、従来から光ディスク記録媒体の誘電膜の材料として用いられている公知のものを用いることも可能である。
【００２６】
第１及び第２の誘電膜１３，１５，２３，２５，３３，３５，４３，４５の材料としては、例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｇ、Ｂ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃａ、Ｌａ、Ｇｅ等の金属および半金属等の元素の窒化物、酸化物、炭化物、フッ化物、硫化物、窒酸化物、窒炭化物、酸炭化物等およびこれらを主成分と材料を用いることができる。好ましくは、ＡｌＮＸ（０．５≦Ｘ≦１）、ＡｌＮ、Ａｌ２Ｏ２−Ｘ(０≦Ｘ≦１)、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４−Ｘ(０≦Ｘ≦１)、Ｓｉ３Ｎ４−Ｘ、ＳｉＯＸ（１≦Ｘ≦２）、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＴｉＯＸ（１≦Ｘ≦２）、ＴｉＯ２、ＢａＴｉＯ３、ＳｔＴｉＯ４、Ｔａ２Ｏ５−Ｘ（０≦Ｘ≦１）、Ｔａ２Ｏ５、ＧｅＯＸ(１≦Ｘ≦２)、ＳｉＣ、ＺｎＳ、ＰｂＳ、Ｇｅ−Ｎ、Ｇｅ−Ｎ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ、ＣａＦ２、ＬａＦ、ＭｇＦ２、ＮａＦ、ＴｈＦ４等を用いることができる。
【００２７】
第１〜第４の記録層Ｌ０〜Ｌ３に用いられる記録膜１４，２４，３４，４４の膜厚は、好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲であり、例えば１５ｎｍ程度である。この記録膜１４，２４，３４，４４の材料としては、レーザ光の照射を受けて不可逆的な状態変化を生じる相変化材料を使用できる。このような材料としては、例えば、カルコゲン化合物または単体のカルコゲン等を使用できる。カルコゲン化合物としては、例えば、Ｓｂ、Ｔｅの共晶系材料を使用でき、好ましくは、Ｇｅなどの添加元素が添加されたＳｂ、Ｔｅの共晶系材料を使用できる。
【００２８】
例示するならば、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｓｂ−Ｔｅ、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ａｕ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ｐｄ、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ｓｅ、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ｂｉ、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ｃｏ、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−Ａｕを含む系、またはこれらの系に窒素、酸素などのガス添加物を導入した系等を挙げることができる。
【００２９】
添加元素を記録膜１４，２４，３４，４４に添加すると、信頼性などの特性を向上できる一方、信号特性の低下を招いてしまう。この点を考慮すると、記録膜１４，２４，３４，４４における添加元素の量は１０ａｔｍ％以下にすることが好ましい。
【００３０】
第１〜第４の記録層Ｌ０〜Ｌ３に用いられる反射膜１２，２２，３２，４２の厚さは、好ましくは３ｎｍ以上であり、より好ましくは５ｎｍ〜６０ｎｍの範囲である。
【００３１】
反射膜１２，２２，３２，４２の材料としては、例えば金属または半金属を使用できる。反射膜１２，２２，３２，４２の材料は、反射能および熱伝導率を考慮して選ぶことが好ましく、例えば、記録再生用レーザ光の波長に対して反射能を有し、熱伝導率が０．０００４［Ｊ／（ｃｍ・Ｋ・ｓ）］〜４．５［Ｊ／（ｃｍ・Ｋ・ｓ）］の範囲にある金属元素、半金属元素およびそれらの化合物あるいは混合物である。
【００３２】
反射膜１２，２２，３２，４２の材料を、具体的に例示するならば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅ等の単体、またはこれらを主成分とする合金を挙げることができる。これらのうち、特にＡｌ系、Ａｇ系、Ａｕ系、Ｓｉ系、Ｇｅ系の材料が実用性の面から好ましい。合金としては、例えばＡｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒ、Ａｌ−Ｃｕ、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、Ａｇ−ＰｄＴｉ、Ｓｉ−Ｂ等が好適に用いられる。
【００３３】
これらの材料のうちから、光学特性および熱特性を考慮して設定することが好ましい。例えば、単波長領域においても高反射率を有する点を考慮すると、Ａｌ系またはＡｇ系材料を用いることが好ましい。一般には反射膜１２，２２，３２，４２の膜厚を光が透過しない程度の厚さ、例えば５０ｎｍ以上に設定すると、反射率を高くすることができ、且つ、熱を逃げやすくできる。反射膜１２，２２，３２，４２の膜厚を適度な厚さ、例えば１０ｎｍ程度に設定すると、透過率を上げつつ、熱の逃げを確保することができる。
【００３４】
また、反射膜１２，２２，３２，４２は単層の構造に限られず、例えば金属または半金属よりなる層（反射層）を２層積層した積層構造とすることも可能であり、さらに、２層以上の多層構造とすることも可能である。これにより光学設計がし易くなり、且つ、熱特性とのバランスも取り易くなる。なお、誘電層と反射層の間に、ＳｉＮ膜などからなるバリア層を設けてもよい。
【００３５】
スペーサー層５１，５２，５３は、光ディスク記録媒体の多層構造を形成する紫外線感光性を有する光透過性の材料をスピンコート法で回転塗布され紫外線の照射で硬化して配置される。多層の光ディスク記録媒体から情報信号の記録再生をする場合、このスペーサーの配置と膜厚は、層間クロストークを抑制する目的で設定される。
【００３６】
カバー層６１は、光ディスク記録媒体の保護を目的として形成される。情報信号の記録再生は、例えば、レーザ光がカバー層６１を通じて、情報信号を記録するための記録層に集光されることによって行われる。カバー層６１としては、例えば、紫外腺硬化樹脂、紫外線硬化樹脂とポリカーボネートシート、または接着層とポリカーボネートシート用いることができる。カバー層６１は、多層の光ディスク記録媒体では、１．１ｍｍの成形樹脂基板１上に、多層の記録層を含めて１００μｍとなるように設定される。
【００３７】
ハードコート層７１は、カバー層６１と同様に光ディスク記録媒体の機械的な衝撃、傷に対する保護、さらには利用者の取り扱い時の指紋の付着などから、情報信号の記録再生品質を保護するために用いられる。ハードコート層７１としては、機械的強度を向上させるためにシリカの微粉末を混入したものや、溶剤タイプ、無溶剤タイプなどの紫外線硬化樹脂を用いることが出来る。機械的強度を有し、指紋などの油脂分をはじくためには、１μｍから数μｍの厚さを有する。
【００３８】
図３〜図１３を用いて、本実施形態例の光ディスク記録媒体の製造方法を説明する。
【００３９】
図３Ａ，Ｂに、本実施形態例における紫外線硬化樹脂の塗布に用いられる装置の一例を示す概略平面構成及び、その断面構成を示す。本実施形態例においては、一方のロールを例えば巻き出しロール１００とし、他方のロールを巻き取りロール１０５とし、その２つのロールに、引張支持された透明な転写用フィルムシート１０を準備する。巻き出しロール１００と巻き取りロール１０５をそれぞれ回転させることにより、転写用フィルムシート１０は、巻き取りロール１０５に巻き取られながら、移動する。
【００４０】
この転写用フィルムシート１０としては、可撓性であり、巻き取りが可能なあらゆるフィルムを用いることができる。なかでも、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエステルフィルム等の光透過性の優れているフィルムが好ましい。さらには、剥離性に優れた、ゼオノア、ゼオノールも好適に用いることができる。ポリイミドフィルムなどの伸縮性の小さい材料もあるが、この材料では、光透過性という点で使用しにくい。転写用フィルムシート１０のフィルム厚は、例えば巻き取りが可能な０．３ｍｍから０．１ｍｍ以下であることが好ましく、フィルム幅は、光ディスク記録媒体の直径約φ１２０ｍｍエリアがカバーできる１３０ｍｍ以上が好ましい。
【００４１】
巻き出しロール１００、及び巻き取りロール１０５に巻かれた状態で、引張支持された転写用フィルムシート１０は、図示しない搬送テーブル上に設置されている。また、転写フィルムシート１０の長手方向とは直交する方向の両端部には、送り制御用のガイド部１０２が付与されている。
【００４２】
そして、このような構成において、ロールコーター法を用いて、転写用フィルムシート１０上に、塗布材料を塗布、成膜する。
このため、巻き出しロール１００から、巻き取りロール１０５に渡って引張支持された転写用フィルムシート１０の中間部の、転写用フィルムシート１０表面側には、カップ付きロール１０１が設置されている。このカップ付きローラ１０１には、転写用フィルムシート１０１表面に面する表面に、くぼみが形成されている。ここにおいて、転写用フィルムシート１０表面に図示しない塗料供給器から紫外線硬化樹脂を供給して、カップ付きロール１０１を転写用フィルムシート１０表面で回転させる。これにより、カップ付きロール１０１のくぼみ深さで、紫外線硬化樹脂が転写用フィルムシート１０表面に塗布される。また、本実施形態例においては、カップ付きロール１０１に接するように設けられた第１の調整ロール１０１ｂと、第１の調整ロール１０１ｂに接するように、第２の調整ロール１０１ａが設けられている。これらの第１の調整ロール１０１ｂ、及び第２の調整ロール１０１ａが、カップ付きロール１０１と連動して回転することにより、カップ付きロール１０１に付着した紫外線硬化樹脂をカップ付きロール１０１一面に均等にのばすことができる。本実施形態例では、調整ロールを２個の構成としたが、これに限られるものではなく、必要に応じて、複数個設けることができるものである。
【００４３】
そして、巻き出しロール１００から、巻き取りロール１０５に、転写用フィルムシート１０を移送しながら、移送途上で塗布材料を供給し、カップ付きロール１０１を回転させる。こうすることにより、転写用フィルムシート１０表面に、所望の厚さの紫外線硬化樹脂層を、連続的に形成することができる。
【００４４】
その後、カップ付きロール１０１よりも、巻き取りロール１０５側に設置された、例えばフラッシュランプからなる光源１０３を用い、転写用フィルムシート１０裏面側から紫外線を照射する。そうすることにより、転写用フィルムシート１０表面の紫外線硬化樹脂層１０６が硬化する。
以上の工程で、紫外線硬化樹脂を塗布することにより、紫外線硬化樹脂層１０６を形成し、紫外線照射して硬化することにより、所望の厚さのカバー層６１、または、スペーサー層５１，５２，５３が形成される。そして、それらの膜が形成された転写用フィルムシート１０は、巻き取りロール１０５に連続して巻き取られる。
【００４５】
次に、図４Ａ，Ｂに、本実施形態例における、スタンパ工程に用いられる装置の一例を示す概略平面構成及び、その断面構成を示す。図４Ａ，Ｂにおいて、図３Ａ，Ｂと対応する部分には同一符号を付し、重複説明を省略する。
【００４６】
本実施形態例においては、転写用フィルムシート１０上に設置されたカップ付きロール１０１よりも、巻き取りロール１０５側の、転写用フィルムシート１０上に、ロール状にニッケルスタンパが構成された、ニッケルスタンパロール１０７を設置する。このニッケルスタンパロール１０７には、光ディスク記録媒体のピットや案内溝となる凹凸形状が形成されており、その凹凸形状が転写用フィルムシート１０上に押圧される位置に設置されている。
【００４７】
そして、ニッケルスタンパロール１０７から、巻き出しロール１０５側であって、転写用フィルムシート１０裏面側には、紫外線を照射するための、例えばフラッシュランプからなる光源１０３が設置されている。この光源１０３は、転写用フィルムシート１０に対して、ニッケルスタンパロール１０７と対向した位置により近接した位置に設けられる。
【００４８】
このような構成においては、まず、巻き出し用ロール１０５から移送される転写用フィルムシート１０表面には、カップ付きロール１０１により、紫外線硬化樹脂層１０６が所望の厚さに塗布される。その後、その紫外線硬化樹脂層１０６上に、ニッケルスタンパロール１０７が押圧されることにより、紫外線硬化樹脂層１０６上に凹凸形状１０６ａが形成されると同時に、転写用フィルムシート１０裏面から紫外線が照射されることにより、紫外線硬化樹脂層１０６が硬化される。そして、この一連の流れにより、転写用フィルムシート１０上には、凹凸形状１０６ａを有する紫外線硬化樹脂層１０６が形成される。この凹凸形状１０６ａは、例えば、製造される光ディスク記録媒体のリードインゾーンからリードアウトゾーンの範囲内に形成される。
【００４９】
ところで、本実施形態例で用いられるニッケルスタンパロール１０７は、ニッケルで構成されている。ニッケルから構成されるスタンパは、繰り返し使用可能であるので、一方のロールである巻き出しロール１００から、他方のロールである巻き取りロール１０５に、転写用フィルムシート１０を巻き取りながら連続的に、複数の光ディスク記録媒体に対応する凹凸形状１０６ａを形成することができる。そして、紫外線硬化樹脂層１０６上面に凹凸形状１０６ａが形成された転写用フィルムシート１０は、随時、巻き取りロール１０５に巻き取られる。
【００５０】
次に、図５Ａ，Ｂに、本実施形態例における、記録層の成膜工程に用いられ装置の一例を示す概略平面構成、及びその断面構成を示す。図５Ａ，Ｂにおいて、図３Ａ，Ｂと対応する部分には同一符号を付し、重複説明を省略する。
【００５１】
ここでは、巻き出しロール１００に、例えば、凹凸形状１０６ａを有する紫外線硬化樹脂層１０６が形成された転写用フィルムシート１０を準備し、巻き取りロール１０５に巻き取られる間に、凹凸形状１０６ａ上に、スパッタ法により、記録層１０８を成膜する。例えば、巻き出しロール１００、及び巻き取りのロール１０５に引張支持される転写用フィルムシート１０を、スタッパ装置に搬送し、真空内において、記録層１０８を構成する、所望の誘電膜、反射膜、記録膜を成膜する。ここにおいても、巻き出しロール１００から、巻き取りロール１０５に、転写用フィルムシート１０を巻き取りながら、連続的に記録層１０８を成膜することができる。また、ここでは、マスクを用いて、前段で形成された複数の光ディスク記録媒体に対応する、それぞれの凹凸形状１０６ａ上面の所望の位置に、記録層１０８が形成される。
【００５２】
次に、図３〜図５の方法を用いて形成する光ディスク記録媒体の成膜工程を、図６〜図１１を用いて説明する。図６〜図１１の工程図は、製造物の要部の断面構成を示したものである。
【００５３】
まず、図６Ａに示すように、図３Ａ，Ｂに示す巻き出しロール１００と巻き取りロール１０５間に引張支持された転写用フィルムシート１０を準備する。
【００５４】
続いて、図３Ａ，Ｂに示した方法により、巻き出しロール１００から、巻き取りロール１０５に、転写用フィルムシート１０を巻き取りながら、転写用フィルムシート１０表面に、所望の厚さに紫外線硬化樹脂を塗布する。そして、紫外線照射により、紫外線硬化樹脂を硬化させることより、図６Ｂに示すように、転写用フィルムシート１０表面にカバー層６１を成膜する。
【００５５】
次に、カバー層６１が形成された転写用フィルムシート１０を、図４Ａ，Ｂに示した巻き出しロール１００として設置する。そして、図４Ａ，Ｂにおいて示したように、巻き出しロール１００から、巻き取りロール１０５に、カバー層６１が成膜された転写用フィルムシート１０を巻き取りながら、カップ付きロール１０１により、紫外線硬化樹脂を塗布する。そうすることにより、図６Ｃに示すように、紫外線硬化樹脂層からなるスペーサー層６１ａが形成される。
そして、その後、紫外線硬化樹脂層からなるスペーサー層６１ａが形成された転写用フィルムシート１０は、ピットや案内溝を有するニッケルスタンパロール１０７の位置に送られる。ここでは、図７Ｄに示すように、光ディスク記録媒体の、第４の記録層Ｌ３成膜のための凹凸形状３ａが形成されると共に、図４Ａ，Ｂにおける光源１０３から紫外線が照射され、紫外線硬化樹脂層が硬化する。
このように、図４Ａ，Ｂに示した方法において、スペーサー層６１ａ及び、スペーサー層６１ａ上に第４の記録層Ｌ３成膜のための凹凸形状３ａが形成される。
【００５６】
ところで、本実施形態例においては、カバー層６１を形成した後に、スペーサー層６１ａを形成し、そのスペーサー層６１ａ上に凹凸形状３ａを形成する構成とした。これに限定されず、カバー層６１を形成する工程において、カバー層６１上に凹凸形状３ａを形成する構成としてもよい。図１，及び図２に示す例においては、カバー層６１上に凹凸形状を設ける構成が図示されている。その場合においては、カバー層６１を、はじめから、図４Ａ，Ｂに示す方法で成膜すればよい。なお、図４に示す概略断面構成では、スペーサー層６１ａを、カバー層６１よりも厚く図示しているが、実際には、カバー層６１の厚みが、およそ５５μｍなのに対して、スペーサー層６１ａは、１〜３μｍに成膜されるものである。
【００５７】
次に、スペーサー層６１ａ上に凹凸形状３ａが付与された転写用フィルムシート１０を、図示しないスパッタ装置に搬入し、図７Ｅに示すように、第４の記録層Ｌ３を成膜する。本実施形態例において、第４の記録層Ｌ３は、本実施形態例で成膜される記録層のうち、もっとも、光透過率の高い記録層である。第４の記録層Ｌ３の成膜は、図２で示したように、第２の誘電膜４５、記録膜４４、第１の誘電膜４３、反射膜４２の順に連続的に真空中でなされる。そして、それらの積層膜により、第４の記録層Ｌ３が形成される。また、このスパッタ法においては、第２の誘電膜４５、記録膜４４、第１の誘電膜４３、反射膜４２の成膜は、マスクを用いることにより、例えば、一つの光ディスク記録媒体に対しては、中心部から直径４０ｍｍ〜１１８ｍｍの範囲に形成される。
【００５８】
次に、再び、第４の記録層Ｌ４が形成された転写用フィルムシート１０を、図４Ａ、Ｂに示す巻き出しロール１００として、巻き取りロール１０５に巻き取りながら、カップ付きロール１０１により、スペーサー層５３となる紫外線硬化樹脂を塗布する。これにより、図７Ｆに示すように、第４の記録層Ｌ３上に、スペーサー層５３が成膜される。
【００５９】
そして、その後、紫外線硬化樹脂からなるスペーサー層５３が形成された転写用フィルムシート１０は、図４Ａ，Ｂに示す、ピットや案内溝を有するニッケルスタンパロール１０７の位置に送られる。ここにおいて、図８Ｇに示すように、光ディスク記録媒体の、第３の記録層Ｌ２の成膜のための凹凸形状５３ａが、スペーサー層５３上に形成されると共に、図４Ａ，Ｂにおける光源１０３から、紫外線が照射され、紫外線硬化樹脂層からなるスペーサー層５３が硬化する。ここで、本実施形態例では、前段において、スペーサー層５３よりも紫外線照射側に、第４の記録層Ｌ３が形成されているが、第４の記録層Ｌ３は、光源１０３の光をスペーサー層５３に透過させるものである。このため、転写用フィルムシート１０裏面側からの紫外線照射によっても、スペーサー層５３に、所望の凹凸形状５３ａが形成される。
これにより、図８Ｇに示すように、スペーサー層６１ａ及び、スペーサー層５３上に第３の記録層Ｌ２の成膜のための凹凸形状５３ａが形成される。
【００６０】
次に、スペーサー層５３上に凹凸形状５３ａが付与された転写用フィルムシート１０を、スパッタ装置に搬入し、図８Ｈに示すように、第３の記録層Ｌ２を成膜する。本実施形態例において、第３の記録層Ｌ２は、本実施形態例で成膜される記録層のうち、２番目に光透過率の高い記録層である。第３の記録層Ｌ２の成膜は、図２で示したように、第２の誘電膜３５、記録膜３４、第１の誘電膜３３、反射膜３２の順に連続的に真空中でなされる。そして、それらの積層膜により、第３の記録層Ｌ２が形成される。また、このスパッタ法においては、第２の誘電膜３５、記録膜３４、第１の誘電膜３３、反射膜３２の成膜は、マスクを用いることにより、例えば、一つの光ディスク記録媒体に対しては、中心部から直径４０ｍｍ〜１１８ｍｍの範囲に形成される。
【００６１】
次に、再び、第３の記録層Ｌ２が形成された転写用フィルムシート１０を、図４Ａ，Ｂに示す巻き出しロール１００として、巻き取りロール１０５に巻き取りながら、カップ付きロール１０１により、スペーサー層５２となる紫外線硬化樹脂を塗布する。こうすることにより、図８Ｉに示すように、第３の記録層Ｌ２上に、スペーサー層５２が形成される。
そして、その後、紫外線硬化樹脂からなるスペーサー層５２が形成された転写用フィルムシート１０は、図４に示す、ピットや案内溝を有するニッケルスタンパロール１０７の位置に送られる。ここにおいて、光ディスク記録媒体の、スペーサー層５２上に、第２の記録層Ｌ１成膜のための凹凸形状５２ａが形成されると共に、図４Ａ，Ｂにおける光源１０３から紫外線が照射され、紫外線硬化樹脂からなるスペーサー層５２が硬化する。ここで、本実施形態例では、前段において、スペーサー層５２よりも光照射側に、第４の記録層Ｌ３及び第３の記録層Ｌ２が形成されているが、第４の記録層Ｌ３及び第３の記録層Ｌ２は、光源１０３から照射される紫外線光をスペーサー層５２に透過するものである。このため、転写用フィルムシート１０裏面側からの紫外線照射によっても、スペーサー層５２に、所望の凹凸形状５２ａが形成される。
これにより、図９Ｊに示すように、スペーサー層５２に、第２の記録層Ｌ１の成膜のための凹凸形状５２ａが形成される。
【００６２】
次に、スペーサー層５２上に凹凸形状５２ａが付与された転写用フィルムシート１０を、スパッタ装置に搬入し、図９Ｋに示すように、第２の記録層Ｌ１を成膜する。本実施形態例において、第２の記録層Ｌ１は、本実施形態例で成膜される記録層のうち、３番目に光透過率の高い記録層である。第２の記録層Ｌ１の成膜は、図２で示したように、第２の誘電膜２５、記録膜２４、第１の誘電膜２３、反射膜２２の順に連続的に真空中でなされる。そして、それらの積層膜により、第２の記録層Ｌ１が形成される。また、このスパッタ法においては、第２の誘電膜２５、記録膜２４、第１の誘電膜２３、反射膜２２の成膜は、マスクを用いることにより、例えば、一つの光ディスク記録媒体に対しては、中心部から直径４０ｍｍ〜１１８ｍｍの範囲に形成される。
【００６３】
続いて、第２の記録層Ｌ１が形成された転写用フィルムシート１０を、図４Ａ，Ｂに示す巻き出しロール１００として、巻き取りロール１０５に巻き取りながら、カップ付きロール１０１により、スペーサー層５１の半分の厚さとなる紫外線硬化樹脂層５１ａを形成する。このとき、光源からの紫外線照射はしない。そうすることにより、第２の記録層Ｌ１上に、未硬化の紫外線硬化樹脂層が形成される。
【００６４】
以上の工程により、転写用フィルムシート１０上には、第２〜第４の記録層Ｌ１〜Ｌ３を有する積層膜が形成される。本実施形態例においては、記録層のうち、光透過率の高い順に、転写用フィルムシート１０上に形成することにより、転写用フィルムシート１０裏面側から照射される紫外線を、所望のスペーサー層となる紫外線硬化樹脂層に、効率良く到達させることができる。これにより、効率良く紫外線硬化樹脂層を硬化させることができる。
【００６５】
ところで、以上の工程により形成された記録層Ｌ１〜Ｌ３は、転写用フィルムシート１０が巻き出しロール１００から巻き取りロール１０５に巻き取られる過程において、連続して形成されたものである。したがって、１つ１つの光ディスク記録媒体とするためには、転写用フィルムシート１０から個々に分離して剥離する必要がある。
【００６６】
図１２Ａ，Ｂに、本実施形態例において、転写用フィルムシート１０から、記録層やスペーサー層を有する積層膜を剥離するときに用いられる切り欠き部を形成する工程における概略平面構成、及びその断面構成を示す。
【００６７】
積層膜が形成された転写用フィルムシート１０が、図示しない、巻き出しロールと巻き取りロールに引張支持され、転写用フィルムシート１０上面には、切り欠き部を形成するためのロールカッター１０９が設置されている。このロールカッター１０９は、ロール状の台座１０９ｂに、図示されない内周刃と、外周刃１０９ａが埋め込まれて形成されている。このロールカッター１０９が回転することにより、内周刃と外周刃１０９ａが、積層膜に押圧される。これにより、図１０Ｐに示すように、切り欠き部９１，９２が形成される。内周刃により、直径φ１５ｍｍ以上の位置に切り欠き部９１が形成され、外周刃１０９ａにより、直径φ１２０ｍｍ未満の位置に切り欠き部９２が形成される構成とされている。
図１２Ａ，Ｂにおいては、巻き出しロール及び巻き取りロールの図示は省略されているが、ここにおいても、巻き出しロールと巻き取りロール間で、積層膜が形成された転写用フィルムシート１０を移動させながら、連続的に、切り欠き部９１，９２を形成することができる。
【００６８】
ところで、この直径約１５ｍｍの範囲は、光ディスク記録媒体における最内周部に対応し、また、直径約１２０ｍｍ未満は、光ディスク記録媒体における最外周部に対応するものである。
【００６９】
図１５に、例えば、ＢＤの追記型・書換え型・再生専用型の記録層のレイアウトを示す。光ディスク記録媒体の構造は、大きく分けて、ＢＣＡ(Burst Cutting Area)１１１、リードインゾーン(Lead-in Zone)１１２、データ領域１１３、リードアウトゾーン(Lead-out Zone)１１４、アウターゾーン(Outer-Zone)１１５に分かれている。ＢＤのように、多層の記録層を有する光ディスク記録媒体の場合、第１の記録層Ｌ０以降の構造は、ＢＣＡ１１１を除いて同様のレイアウトとなる。このため、本実施形態例では、第２〜第４の記録層Ｌ１〜Ｌ３の構造は同様のレイアウトである。
【００７０】
本実施形態例では、内周刃は、光ディスク記録媒体において、ＢＣＡ１１１よりも内側に来るように構成され、外周刃１０９ａは、光ディスク記録媒体において、リードアウトゾーン１１４よりも外側に来るように構成されるものである。すなわち、最内周部の切り欠き部９１は、直径約２０ｍｍ〜４０ｍｍ、好ましくは、２４ｍｍ〜３５ｍｍの範囲で形成されることがより好ましく、また、最外周部の切り欠き部９２は直径１１９ｍｍ〜１１９．５ｍｍの範囲で形成されることがより好ましい。
【００７１】
また、この切り欠き部９１，９２は、転写用フィルムシート１０を貫通しない深さであり、剥離転写可能な深さに形成される。本実施形態例では、例えば、図１０Ｐに示すように、転写用フィルムシート１０直上まで、切り欠き部９１，９２を形成する構成とした。
【００７２】
切り欠き部９１，９２は、その断面に、光ディスク記録媒体の第２〜第４の記録層Ｌ１〜Ｌ３等の各膜を有していないことが重要である。
すなわち、光ディスク記録媒体の記録膜を構成する相変化記録材料が、切り欠き部９１，９２の断面に露出せずに、構造体としての紫外線硬化樹脂で被覆され続けている。これにより、高温高湿環境にさらされても、低温環境に保持されても、長期にわたって良好な記録特性を補償することになる。本実施形態例においては、第２〜第４の記録層Ｌ１〜Ｌ３が直径４０ｍｍ〜１１８ｍｍの範囲に形成されている。そして、切り欠き部９１を直径１１８ｍｍよりも外側に、切り欠き部９２を直径４０ｍｍよりも内側に形成することにより、切り欠き部９１，９２の断面に、第２〜第４の記録層Ｌ１〜Ｌ３が露出されない。
【００７３】
本実施形態例においては、ロールカッター１０９で連続的に切り欠き部９１，９２を形成する構成としたが、例えば、図１４に示すような、平面状のカッターを用いることもできる。図１４Ａは、平面状のカッター３００の概略平面構成を示し、図１４Ｂに、図１４ＡのＡ−Ａ線上に沿う断面構成を示す。図１４Ａ，Ｂに示すように、このカッター３００は、円盤状の台座３０１に、内周刃３０３と、外周刃３０４が埋設されて形成されている。また、円盤状の台座３０１の中心部には、開口部３０２が形成されており、例えば切り欠き部形成時の位置合わせに用いられる。内周刃３０３、外周刃３０４は、焼き入れされた鋼鉄製であり、端面がナイフエッジ化されている。また、台座３０１は、例えば、金属製、若しくはプラスチック製で形成されている。
そして、このような、平面状のカッター３００を用いる場合には、巻き出しロールから巻き取りロールに巻き取られる積層膜を有する転写用フィルムシート１０移動を非連続的にし、静止した状態において、位置合わせし、カッター３００を押圧することで、切り欠き部９１，９２を形成することができる。これにより、切り欠き部９１，９２が精度良く形成され、断面の形状が改善される。
また、切り欠き部９１，９２を形成することにより、エッジ部が平坦に為される。
【００７４】
次に、転写工程にうつる。
まず、図１０Ｑに示すように、射出形成により、凹凸形状５が付与され、中心部に直径約１５ｍｍの中心孔４が形成された成形樹脂基板１を用意する。この凹凸形状５は、後に貼り合わせる第２〜第４の記録層Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３の凹凸形状５３ａ，５２ａ，３ａと同一方向であることが求められる。この成形樹脂基板１は、厚さ１．１ｍｍ、直径φ１２０ｍｍのポリカーボネート、ゼオノア、ゼオネックスなど、成形可能で光透過性が高く、吸水性の小さい材料が好ましい。
【００７５】
次に、図１０Ｒに示すように、凹凸形状５が付与された成形樹脂基板１を、スパッタ装置に搬入し、第１の記録層Ｌ０を成膜する。第１の記録層Ｌ０の成膜は、第２の誘電膜１５、記録膜１４、第１の誘電膜１３、反射膜１２の順に連続的に真空中でなされる。これにより、積層膜からなる、第１の記録層Ｌ０が形成される。本実施形態例では、成形樹脂基板１側に、第１の記録層Ｌ０を形成することにより、転写用フィルムシート１０側に、第１の記録層Ｌ０用の凹凸形状５を形成する工程を削減することができる。
【００７６】
次に、図１０Ｓに示すように、転写用フィルムシート１０上に形成された積層膜との貼り合わせを目的として、第１の記録層Ｌ０上に、紫外線硬化樹脂からなるスペーサー層５１ｂが、所定の厚さ、すなわち、完成品におけるスペーサー層５１の、およそ半分の厚さで塗布、形成される。スペーサー層５１ｂは、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により、第１の記録層Ｌ０上に塗布して成膜される。本実施形態例では、スピンコート法において、成形樹脂基板１の中央部を原点としたときに、スペーサー層５１ｂとなる紫外線硬化樹脂は、ディスペンサーを介して半径１５ｍｍ位置に適量供給される。このとき、図示しない、スピンコート装置の回転部は、該紫外線硬化樹脂が供給されている間は、例えば６０ｒｐｍの低速で回転される。そして、紫外線硬化樹脂の供給は、５〜１０秒後に完了され、回転部が８０００ｒｐｍと加速されて５秒後に停止される。これにより、第１の記録層Ｌ０上に、所望の厚さ、例えば９μｍの厚さに塗布された未硬化のスペーサー層５１ｂが成膜される。
【００７７】
次に、転写用フィルムシート１０上に形成された積層膜を、成形樹脂基板１上に転写させる。図１３Ａ，Ｂに、転写工程を示す概略平面構成、及びその断面構成を示す。転写用フィルムシート１０上の未硬化のスペーサー層５１ａに、成形樹脂基板１上の未硬化のスペーサー層５１ｂを接合させる。このとき、切り欠き部９１，９２の位置が、それぞれ、成型用樹脂基板１の最内周部と、最外周部と一致するように、位置合わせがなされる。そして、接合された状態において、転写用フィルムシート１０の裏面側から円錐状の加圧パッド１１０で加圧すると同時に、成形樹脂基板１側に設置された光源１０３から紫外線を照射することにより、未硬化のスペーサー層５１ａ，５１ｂが硬化される。そして、成形樹脂基板１を転写用フィルムシート１０側から剥離することにより、図１１Ｔに示すように、第２〜第４記録層Ｌ１〜Ｌ３を有する積層膜が、個々に分離され、成形樹脂基板１上に転写される。
【００７８】
本実施形態例においては、記録層等の積層膜が形成された転写用フィルムシート１０を、図示しない、巻き出しロールから巻き取りロールに巻き取りながら、連続的に、転写、剥離工程を経ることができる。そして、この転写、剥離工程により、連続して、第１〜第４の記録層Ｌ０〜Ｌ３が形成された成形樹脂基板１を形成することができる。
【００７９】
最後に、図１１Ｕに示すように、紫外線硬化樹脂を主成分とするハードコート材を、成形樹脂基板１上の多層の積層膜に、スピンコート法で塗布し、その後、紫外線を照射して硬化させる。これによって、第２の記録層Ｌ１から第４の記録層Ｌ３までの多層膜およびカバー層６１の剥離用の端面が、硬化したハードコート層７１からなる保護層で保護される。そして、ここにおいて、多層の光ディスク記録媒体が完成する。
【００８０】
多層の光ディスク記録媒体を製造する際に、読み取り側の最表面からの再生信号の光強度は入射光の数パーセントが求められるが、多層になればなるほど読み出し側から見て最奥にある記録層からの信号量を増やすために、反射率は大きくすることが求められる。また、各層は読み取り側での最表面に達する光量は、ほぼ同一となるように設計される。このため、従来の方法のように、光透過率の低い、例えば、第１の記録層から積層させる方法では、ニッケルスタンパで凹凸形状を転写し、裏面側からの紫外線で硬化させる場合、光透過率の低い側からの紫外線照射がなされる。したがって、従来の方法にニッケルスタンパを用いる場合には、その光透過率の低さゆえの効率の悪さがあった。
【００８１】
本実施形態例では、光透過率の高い記録層、すなわち、本実施形態例では、第４の記録層Ｌ３側、すなわち、構成の高透過率側から、転写用フィルムシート１０表面に形成するので、転写用フィルムシート１０裏面側から効率よく紫外線硬化させることが可能となる。このため、転写用フィルムシート１０裏面側から光照射が可能となるので、ニッケルスタンパを用いることができる。そして、従来用いられていた１度しか用いることができない透明な樹脂スタンパでは無く、繰り返し使用可能なニッケルスタンパを用いることができるので、スタンパ工程において、コストを低減化することができる。また、本実施形態例では、ニッケルスタンパを用いても、効率良く凹凸形状を転写することができる等、記録層の設計の自由度が大きく、かつプロセス整合性良く、経時変化にも強く、高品質に製造することができる。
【００８２】
また、ニッケルスタンパは、繰り返し使用可能であるため、本実施形態例のように、巻き出しロール１００から巻き取りロール１０５に、転写用フィルムシート１０を巻き取りながら移動させる過程において、連続的に凹凸形状を形成することができる。このため、生産性も向上され、さらにコストを低減することができる。
【００８３】
本実施形態例においては、第１の記録層Ｌ０を、成形樹脂基板１に形成し、その後、第２の記録層Ｌ１〜第４の記録層Ｌ３が形成された転写用フィルムシート１０と接合させる構成とした。本実施形態例はこれに限定されるものではなく、第１の記録層Ｌ０を、第２の記録層Ｌ１の形成に引き続き、転写用フィルムシート１０側に形成する例としてもよい。この場合においては、成形樹脂基板１上に、転写時の接合に用いる為の未硬化のスペーサー層のみを形成し、第１〜第４の記録層Ｌ０〜Ｌ４が形成された転写用フィルムシート１０上の積層膜を、成形樹脂基板１に転写すればよい。
【００８４】
さらに、本実施形態例では、巻き出しロール１００と巻き取りロール１０５を各積層膜に分離したが、全工程をインライン型にしてひとつの流れで作成することも可能である。
【００８５】
［第２の実施形態］
図１６Ａ，Ｂに、本発明の第２の実施形態における、スタンパ工程に用いられる装置の一例を示す概略平面構成及び、その断面構成を示す。図１６Ａ，Ｂは、図４Ａ，Ｂと、ニッケルスタンパの構成が異なるものである。図１６Ａ，Ｂにおいて、図４Ａ，Ｂと対応する部分には同一符号を付し、重複説明を省略する。
【００８６】
本実施形態例においては、転写用フィルムシート１０上に設置されたカップ付きロール１０１よりも、巻き取りロール１００側の、転写用フィルムシート１０上に、ニッケルスタンパ１１２が構成されている。そして、本実施形態例では、巻き出しロール１００から、巻き取りロール１０５に、非連続的に転写用フィルムシート１０を巻き出し、転写用フィルムシート１０が静止した状態において、ニッケルスタンパ１１２を、転写用フィルムシート１０上に形成された紫外線硬化樹脂層１０６に押圧する。そうすることにより、紫外線硬化樹脂層１０６上面には、所望の凹凸形状１０６ａが転写される。
【００８７】
本実施形態例においては、静止した状態において、ニッケルスタンパ１１２を紫外線樹脂層１０６に押圧するので、凹凸形状１０６ａの転写精度が向上される。
【００８８】
本実施形態例においても、図１６Ａ，Ｂに示すスタンパ工程を用いて、第１の実施形態例と同様の工程により、光ディスク記録媒体を形成することができる。また、本実施形態例においても、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００８９】
本発明は、４層の光ディスク記録媒体の製造方法として説明したが、記録層は３層でも、５層以上でも本発明が有効であることは自明である。
【００９０】
また、本発明は、追記型記録媒体に限定されるものではなく、書き換え型、読み取り専用型の光ディスク記録媒体の製造方法にも適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明の、多層の光ディスク記録媒体の製造プロセスは、透明スタンパの使用を廃して、数万回以上の繰り返し利用可能なニッケルスタンパを採用するに当たって、基板裏面からの紫外線照射を可能とする製造方法として、各記録層の透過率の高い層からの紫外線照射と硬化の工程を提案し、かつ、長時間使用可能な工程として大幅なコストダウンプロセスとして利用することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の第１及び第２の実施形態で形成される光ディスク記録媒体の要部の概略断面構成図（その１）である。
【図２】本発明の第１及び第２の実施形態で形成される光ディスク記録媒体の要部の概略断面構成図（その２）である。
【図３】Ａ，Ｂ  本発明の第１の実施形態の成膜工程を示す概略平面構成図、及びその断面構成図である。
【図４】Ａ，Ｂ  本発明の第１の実施形態のスタンパ工程を示す概略平面構成図、及びその断面構成図である。
【図５】Ａ，Ｂ  本発明の第１の実施形態の記録層成膜工程を示す概略平面構成図、及びその断面構成図である。
【図６】Ａ，Ｂ，Ｃ  本発明の第１の実施形態における光ディスク記録媒体の製造工程図（その１）である。
【図７】Ｄ，Ｅ，Ｆ  本発明の第１の実施形態における光ディスク記録媒体の製造工程図（その２）である。
【図８】Ｇ，Ｈ，Ｉ  本発明の第１の実施形態における光ディスク記録媒体の製造工程図（その３）である。
【図９】Ｊ，Ｋ，Ｌ  本発明の第１の実施形態における光ディスク記録媒体の製造工程図（その４）である。
【図１０】Ｐ，Ｑ，Ｒ，Ｓ  本発明の第１の実施形態における光ディスク記録媒体の製造工程図（その５）である。
【図１１】Ｔ，Ｕ  本発明の第１の実施形態における光ディスク記録媒体の製造工程図（その６）である。
【図１２】Ａ，Ｂにおいて本発明の第１の実施形態の切り欠き部形工程を示す概略平面構成図、及びその断面構成図である。
【図１３】Ａ，Ｂ  本発明の第１の実施形態の、剥離工程を示す概略平面構成図、及びその断面構成図である。
【図１４】Ａ，Ｂ  本発明の第１の実施形態の切り欠き部形成工程で用いられるカッターの、他の概略構成図、及びその断面構成図である
【図１５】Ａ，Ｂ  ＢＤの一般的な規格を示す概略平面構成図、及びそのＡ−Ａ線上に沿う断面構成図である。
【図１６】Ａ，Ｂ  本発明の第２の実施形態のスタンパ工程を示す概略平面構成図、及びその断面構成図である。
【図１７】Ａ〜Ｅ  従来例における光ディスク記録媒体の概略製造工程図である。
【符号の説明】
【００９３】
１・・成形樹脂基板、４・・中心孔、１０・・転写用フィルムシート、１２，２２，３２，４２・・反射膜、１３，２３，３３，４３・・第１の誘電膜、１４，２４，３４，４４・・記録膜、１５，２５，３５，４５・・第２の誘電膜、６１・・カバー層、７１・・ハードコート層、９１，９２・・切り欠き部、５１，５２，５３，６１ａ・・スペーサー層
【図１】
2009277266.tif 000003
【図２】
2009277266.tif 000004
【図３】
2009277266.tif 000005
【図４】
2009277266.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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