(57)【要約】      （修正有）【課題】均一な粘度の液体を吐出することができる液体吐出装置及び液体吐出方法を提供する。【解決手段】所定の液体（塗布溶液）を吐出する吐出口（ノズル開口３１）を有する液体吐出部（塗布ヘッド３０）と、液体吐出部（塗布ヘッド３０）に液体供給管（供給チューブ５０）を介して接続され、液体吐出部（塗布ヘッド３０）に供給される液体（塗布溶液）を貯留する液体貯留部４０と、液体貯留部４０を吐出口（ノズル開口３１）の下方に移動させて液体吐出部（塗布ヘッド３０）及び液体供給管（供給チューブ５０）に供給された液体（塗布溶液２）を液体貯留部４０内に戻した後、液体貯留部４０を上方に移動させて液体（塗布溶液２）を再度前記液体吐出部（塗布ヘッド３０）に供給することにより液体（塗布溶液）を攪拌する第１の攪拌手段（昇降手段６０，制御部７０）とを具備する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の液体を吐出する吐出口を有する液体吐出部と、該液体吐出部に液体供給管を介して接続され、前記液体吐出部に供給される前記液体を貯留する液体貯留部と、前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させて前記液体吐出部及び前記液体供給管に供給された前記液体を前記液体貯留部内に戻した後、前記液体貯留部を上方に移動させて前記液体を再度前記液体吐出部に供給することにより前記液体を攪拌する第１の攪拌手段とを具備することを特徴とする液体吐出装置。
【請求項２】
前記液体を前記吐出口から吐出させる前に、前記第１の攪拌手段により前記液体を攪拌することを特徴とする請求項１に記載の液体吐出装置。
【請求項３】
前記第１の攪拌手段は、前記液体貯留部を支持して前記液体貯留部を鉛直方向に移動させる昇降手段と、前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させて前記液体吐出部及び前記液体供給管に供給された前記液体を前記液体貯留部内に戻した後、前記液体貯留部を上方に移動させて前記液体を再度前記液体吐出部に供給するように前記昇降手段を制御する制御部とからなることを特徴とする請求項１又は２に記載の液体吐出装置。
【請求項４】
前記液体貯留部内に、前記液体を攪拌する第２の攪拌手段と、前記液体の粘度を測定する粘度測定手段とを設け、前記制御部は、前記粘度測定手段により測定される前記液体の粘度が一定になった後、前記液体貯留部を上方に移動させるように前記昇降手段を制御することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の液体吐出装置。
【請求項５】
前記液体貯留部に、前記液体を構成する液体成分を供給する液体成分供給手段を設け、前記制御部は、前記粘度測定手段により測定された前記液体貯留部内の液体の粘度が所定の粘度より高い場合に、その粘度が前記所定の粘度となるように前記液体成分供給手段から前記液体成分を供給するように制御することを特徴とする請求項４に記載の液体吐出装置。
【請求項６】
前記吐出口を有する液体吐出部は、スリット状のノズル開口を有する塗布ヘッドであることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の液体吐出装置。
【請求項７】
所定の液体を吐出する吐出口を有する液体吐出部と、該液体吐出部に液体供給管を介して接続され、該液体吐出部に供給される前記液体を貯留する液体貯留部とを具備する液体吐出装置を用いた液体吐出方法であって、前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させて前記液体吐出部及び前記液体供給管に供給された前記液体を前記液体貯留部内に戻す工程と、その後、前記液体貯留部を上方に移動させて前記液体を再度前記液体吐出部に供給する工程とを有することを特徴とする液体吐出方法。
【請求項８】
前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させた際に、前記液体貯留部内の前記液体を攪拌する工程をさらに有することを特徴とする請求項７に記載の液体吐出方法。
【請求項９】
前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させた際に、前記液体貯留部内の前記液体の粘度が所定の粘度となるように前記液体の液体成分を供給する工程をさらに有することを特徴とする請求項７又は８に記載の液体吐出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出口から所定の溶液を吐出して基板などの表面に溶液を均一に塗布する液体吐出装置及び液体吐出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハやガラス基板等の基板にレジスト材料や絶縁材料などの所定の溶液（溶剤）を塗布する塗布装置としては、例えば、毛細管現象によりノズルの先端から溶液を吐出させて、基板の表面に溶液を塗布するスリットコート式塗布装置がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような従来のスリットコート式塗布装置では、ノズルに連通した溶液供給管から供給される溶液の毛細管現象を利用してその溶液をノズルの先端から吐出させるようにしているので、その溶液を基板などの表面に均一に塗布するためには、その溶液の流動性を均一化する必要がある。
【０００４】
そこで、溶液の流動性を高めて均一化することができるスリットコート式塗布装置として、スリット開口部に連通した空間部に対して超音波振動を印加する超音波発生手段を備えたものが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開平６−３４３９０８号公報（第１〜２図、第２〜４頁）
【特許文献２】特開平１１−９０２９５号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述したような従来のスリットコート式塗布装置では、溶液を基板などに塗布した後しばらく放置し、再度溶液を基板などに塗布するような場合のように、溶液がノズルの先端付近に存在している状態でしばらく放置すると、その溶液を構成する液体成分（溶媒など）が揮発して溶液の粘度が変化してしまい、ノズルの先端付近の溶液の粘度と溶液供給管内の溶液の粘度とが異なってしまうという問題があった。その結果、溶液を基板などに塗布した際に、形成された塗布膜に膜厚ムラが発生してしまうという問題があった。
【０００７】
なお、上述したような超音波発生手段を備えたスリットコート式塗布装置を用いてもこの問題を防止することはできない。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑み、均一な粘度の液体を吐出することができる液体吐出装置及び液体吐出方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決する本発明は、所定の液体を吐出する吐出口を有する液体吐出部と、該液体吐出部に液体供給管を介して接続され、前記液体吐出部に供給される前記液体を貯留する液体貯留部と、前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させて前記液体吐出部及び前記液体供給管に供給された前記液体を前記液体貯留部内に戻した後、前記液体貯留部を上方に移動させて前記液体を再度前記液体吐出部に供給することにより前記液体を攪拌する第１の攪拌手段とを具備することを特徴とする液体吐出装置にある。
【００１０】
かかる態様では、液体貯留部を下方及び上方に移動させる際に、液体供給管などの壁面効果によってその液体を攪拌することができるので、均一な粘度の液体を吐出させることができる。
【００１１】
ここで、前記液体を前記吐出口から吐出させる前に、前記第１の攪拌手段により前記液体を攪拌することが好ましい。これによれば、常に均一な粘度の液体を吐出させることができる。
【００１２】
また、前記第１の攪拌手段は、前記液体貯留部を支持して前記液体貯留部を鉛直方向に移動させる昇降手段と、前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させて前記液体吐出部及び前記液体供給管に供給された前記液体を前記液体貯留部内に戻した後、前記液体貯留部を上方に移動させて前記液体を再度前記液体吐出部に供給するように前記昇降手段を制御する制御部とからなることが好ましい。これによれば、容易に液体貯留部を下方及び上方に移動させることができるので、均一な粘度の液体を容易に吐出させることができる。
【００１３】
また、前記液体貯留部内に、前記液体を攪拌する攪拌手段と、前記液体の粘度を測定する粘度測定手段とを設け、前記制御部は、前記粘度測定手段により測定される前記液体の粘度が一定になった後、前記液体貯留部を上方に移動させるように前記昇降手段を制御することが好ましい。これによれば、液体貯留部内に流れ込んだ液体を強制的に攪拌することができるので、より均一な粘度の液体を吐出することができる。
【００１４】
また、前記液体貯留部に、前記液体を構成する液体成分を供給する液体成分供給手段を設け、前記制御部は、前記粘度測定手段により測定された前記液体貯留部内の液体の粘度が所定の粘度より高い場合に、その粘度が前記所定の粘度となるように前記液体成分供給手段から前記液体成分を供給するように制御することが好ましい。これによれば、液体の粘度を所定の粘度に調整することができるので、所定の粘度の液体を吐出することができる。
【００１５】
また、前記吐出口を有する液体吐出部は、スリット状のノズル開口を有する塗布ヘッドであることが好ましい。これによれば、均一な粘度の液体を吐出することができるので、塗布膜の膜厚ムラの発生を防止して、基板上に均一な膜厚の塗布膜を形成することができる。
【００１６】
本発明の他の態様は、所定の液体を吐出する吐出口を有する液体吐出部と、該液体吐出部に液体供給管を介して接続され、該液体吐出部に供給される前記液体を貯留する液体貯留部とを具備する液体吐出装置を用いた液体吐出方法であって、前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させて前記液体吐出部及び前記液体供給管に供給された前記液体を前記液体貯留部内に戻す工程と、その後、前記液体貯留部を上方に移動させて前記液体を再度前記液体吐出部に供給する工程とを有することを特徴とする液体吐出方法にある。
【００１７】
かかる態様では、液体貯留部を下方及び上方に移動させる際に、液体供給管などの壁面効果によってその液体を攪拌することができるので、均一な粘度の液体を吐出することができる。
【００１８】
ここで、前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させた際に、前記液体貯留部内の前記液体を攪拌する工程をさらに有することが好ましい。これによれば、液体貯留部内に流れ込んだ液体を強制的に攪拌することができるので、より均一な粘度の液体を吐出することができる。
【００１９】
また、前記液体貯留部を前記吐出口の下方に移動させた際に、前記液体貯留部内の前記液体の粘度が所定の粘度となるように前記液体の液体成分を供給する工程をさらに有することが好ましい。これによれば、液体の粘度を所定の粘度に調整することができるので、所定の粘度の液体を吐出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係る液体吐出装置の一例であるスリットコート式塗布装置の概略構成を示す斜視図であり、図２は、スリットコート式塗布装置の要部断面図である。図１に示すように、スリットコート式塗布装置１０は、シリコンウェハ、半導体基板等の基板１が保持される保持テーブル２０と、保持テーブル２０の基板１側に設けられる液体吐出部である塗布ヘッド３０と、基板１に塗布する塗布溶液２を貯留する液体貯留部４０と、液体貯留部４０と塗布ヘッド３０とを接続する液体供給管である供給チューブ５０と、液体貯留部４０を支持して液体貯留部４０を鉛直方向に移動させる昇降手段６０と、昇降手段６０の動作を制御する制御部７０とを具備する。なお、図示しないが、これら保持テーブル２０、塗布ヘッド３０、液体貯留部４０、供給チューブ５０、昇降手段６０及び制御部７０等は、所定の封止空間内に配置されている。また、本実施形態では、昇降手段６０と制御部７０とにより第１の攪拌手段が構成されている。
【００２１】
保持テーブル２０は、本実施形態では、鉛直方向下側の面に基板１を保持する。すなわち、基板１は、その表面が鉛直方向下向きとなるように保持テーブル２０に保持される。この保持テーブル２０による基板１の保持方法は、特に限定されず、例えば、真空ポンプ等の吸引による方法が挙げられる。なお、保持テーブル２０は、例えば、図示しない駆動モータ等のテーブル駆動手段によって基板１の面方向に沿って直線移動自在に設けられている。
【００２２】
塗布ヘッド３０は、鉛直方向上側に向かって開口し、液体貯留部４０から供給された塗布溶液２を流出する吐出口であるスリット状のノズル開口３１と、このノズル開口３１に連通する液体溜まり部３２とを有する。また、塗布ヘッド３０は、図示しない装置本体に鉛直方向に移動自在に保持されており、塗布ヘッド３０の先端と基板１の表面との間隔が、例えば、塗布溶液２の動粘度、塗布溶液２の基板１に対する濡れ性、基板１に塗布する塗布溶液２の厚さ等を考慮して適宜調整されるようになっている。
【００２３】
供給チューブ５０は可撓性を有する筒状材料で形成されており、一端が塗布ヘッド３０に接続されると共に他端が液体貯留部４０に接続されている。
【００２４】
液体貯留部４０は、底面の中央部に開口部４１が設けられた貯留タンクからなっており、その内部に塗布溶液２が貯留されている。そして、この液体貯留部４０は側方に設けられた昇降手段６０により支持されている。
【００２５】
昇降手段６０は、図示しない装置本体の底面から鉛直方向上側に向かって設けられた棒状部材６１と、棒状部材６１に、鉛直方向に移動自在に取付けられた可動部６２とからなっており、棒状部材６１に対する可動部６２の位置を変更することによって液体貯留部４０の位置（高さ）を変更することができるようになっている。すなわち、昇降手段６０は、図示しない駆動モータ等の駆動手段により、塗布ヘッド３０とは独立して、塗布ヘッド３０のノズル開口３１に対して液体貯留部４０の鉛直方向の位置を変更することができる。
【００２６】
なお、この昇降手段６０は制御部７０に接続されており、制御部７０により棒状部材６１に対する可動部６２の位置が制御される。
【００２７】
そして、液体貯留部４０と塗布ヘッド３０との鉛直方向の位置がほぼ等しい場合には、液体貯留部４０から供給チューブ５０を介して塗布ヘッド３０に塗布溶液２が供給され、塗布ヘッド３０の液体溜まり部３２内に塗布溶液２が充填されると、液体溜まり部３２内の塗布溶液２が毛細管現象によってノズル開口３１の先端まで上昇する。これにより、スリット状のノズル開口３１には、塗布溶液２が全体に均一に充填されるようになっている。そして、この状態から塗布ヘッド３０を上昇させてノズル開口３１から突出した塗布溶液２を基板１の表面に接触させ、この状態で、保持テーブル２０と塗布ヘッド３０とを基板１の面方向において相対的に移動させる。例えば、本実施形態では、塗布ヘッド３０を固定して保持テーブル２０を基板１の面方向Ａに直線移動させることで、これら塗布ヘッド３０と保持テーブル２０とを相対的に移動させている。これにより、ノズル開口３１から塗布溶液２が連続的に流出し、基板１の表面には塗布溶液２が均一な厚さで塗布される。
【００２８】
以下、このようなスリットコート式塗布装置１０を用いたスリットコート式塗布方法について図２及び図３を参照して詳しく説明する。図３は、本実施形態に係るスリットコート式塗布装置の動作を示す概略図である。
【００２９】
まず、図２に示すようにして塗布溶液２を基板１の表面に塗布した後、塗布ヘッド３０を下降させて塗布ヘッド３０と基板１との距離を空けると、図３（ａ）に示すように、塗布溶液２が毛細管現象及び表面張力によってノズル開口３１から突出した状態となる。なお、ここで、塗布ヘッド３０のノズル開口３１と液体貯留部４０との鉛直方向の相対位置を調整して、具体的には液体貯留部４０をノズル開口３１よりも下方に僅かに移動させて液体貯留部４０内の塗布溶液２の上端面とノズル開口３１の上端面とが面一となるようにしてもよいし、液体貯留部４０内の塗布溶液２の上端面が液体溜まり部３２内に位置するようにしてもよい。
【００３０】
次に、塗布溶液２をノズル開口３１から吐出させる前に、制御部７０が昇降手段６０を制御して、図３（ｂ）に示すように、液体貯留部４０をノズル開口３１よりも下方に移動させる。その結果、塗布ヘッド３０の内部や供給チューブ５０の内部などに充填されていた塗布溶液２が供給チューブ５０を通って、液体貯留部４０内に流れ込むことになる。この際に、塗布ヘッド３０のノズル開口３１及び液体溜まり部３２、供給チューブ５０、液体貯留部４０の内壁面の壁面効果などにより、それらの内部に充填されていた塗布溶液２が攪拌される。すなわち、液体貯留部４０をノズル開口３１よりも下方に移動させることにより、塗布ヘッド３０のノズル開口３１及び液体溜まり部３２、供給チューブ５０、液体貯留部４０のそれぞれの内部に充填されていた塗布溶液２が攪拌されることになる。なお、図３（ｂ）に示すように、液体貯留部４０内に戻らず供給チューブ５０内に留まる塗布溶液２Ａであっても、供給チューブ５０の内壁面の壁面効果などにより十分に攪拌されることになる。
【００３１】
次いで、同様に制御部７０が昇降手段６０を制御して、液体貯留部４０を上方に移動させて、図３（ａ）に示す元の位置に戻す。その結果、液体貯留部４０内に貯留されていた塗布溶液２が供給チューブ５０を通って塗布ヘッド３０に供給されることになる。この際にも、上述したように、塗布ヘッド３０のノズル開口３１及び液体溜まり部３２、供給チューブ５０、液体貯留部４０の内壁面の壁面効果などによって塗布溶液２がさらに攪拌されることになる。その結果、後述する場合とは異なり、均一な粘度の塗布溶液２がノズル開口３１から吐出されることになる。なお、本実施形態では、液体貯留部４０を下方に移動させる前の元の位置に戻すようにしたが、塗布溶液２を塗布ヘッド３０に供給することができるのであれば、液体貯留部４０を元の位置に戻さなくてもよい。
【００３２】
そして、図３（ａ）に示すように、再び塗布溶液２が毛細管現象及び表面張力によってノズル開口３１から突出した状態となる。この状態から塗布ヘッド３０を上昇させ、ノズル開口３１から突出した塗布溶液２を基板１の表面に接触させた後、保持テーブル２０と塗布ヘッド３０とを基板１の面方向において相対的に移動させることにより、基板１の表面に塗布溶液２を均一な厚さで塗布することができる。すなわち、上述したようにスリットコート式塗布装置を動作させることにより、攪拌されて粘度が均一化された塗布溶液２がノズル開口３１から吐出されることになるので、塗布膜の膜厚ムラの発生を防止して、基板１の表面に塗布溶液２を均一な厚さで塗布することができる。
【００３３】
ここで、図２に示すようにして塗布溶液２を基板１の表面に塗布した後、上述したような動作を行わずに再度基板１の表面に塗布溶液２を塗布しようとすると、ノズル開口３１から突出した状態のまましばらく放置された部分を含む塗布溶液２が基板１の表面に塗布されることになる。この塗布溶液２のうち、ノズル開口３１付近の（特にノズル開口３１から突出している）塗布溶液２は、上記状態のまましばらく放置されている際に塗布溶液２を構成する液体成分（溶媒など）が揮発してしまい、粘度が高くなってしまう。したがって、ノズル開口３１付近の塗布溶液２と、それ以外の例えば供給チューブ５０内の塗布溶液２との粘度が異なることになる。その結果、このように部分的に粘度が異なる塗布溶液２が基板１の表面に塗布されることになるので、形成された塗布膜に膜厚ムラが発生してしまうという問題が生ずる。しかしながら、本実施形態では、攪拌されて粘度が均一化された塗布溶液２を基板１の表面に塗布することになるので、このような問題が生ずるおそれはない。
【００３４】
（実施形態２）
実施形態１では、塗布ヘッド３０のノズル開口３１に対して液体貯留部４０を一旦下方に移動させた後、上方に移動させて元の位置に戻すことにより、塗布溶液２を攪拌するようにしたが、本実施形態では、液体貯留部４０を下方に移動させて塗布溶液２を液体貯留部４０内に集めた際に、液体貯留部４０内の塗布溶液２をマグネチックスターラや攪拌翼などの第２の攪拌手段を設けて強制的に攪拌させ、その後液体貯留部４０を上方に移動させる。
【００３５】
例えば、図４に示すように、液体貯留部４０内に第２の攪拌手段である攪拌翼４５と粘度センサ４６とを取付ける。この攪拌翼４５及び粘度センサ４６はそれぞれ制御部７０Ａに接続されており、制御部７０Ａによって、液体貯留部４０が下方に移動した際に液体貯留部４０内の塗布溶液２の粘度が均一になるまで塗布溶液２を攪拌するように制御される。具体的には、液体貯留部４０が下方に移動した際に、粘度センサ４６によって液体貯留部４０内の塗布溶液２の粘度が測定されると共に攪拌翼４５が回転し、粘度センサ４６によって測定される塗布溶液２の粘度が均一になるまで攪拌翼４５が回転し続けるように制御される。なお、その他の構成要素及びその動作は実施形態１と同様であるので、同符号を付して説明を省略する。
【００３６】
このようにスリットコート式塗布装置を構成して駆動させることにより、液体貯留部４０内に流れ込んだ液体貯留部４０内の塗布溶液２を強制的に攪拌することができるので、より均一化された塗布溶液２を塗布ヘッド３０に供給することができる。その結果、基板１の表面に塗布溶液２をより均一な厚さで塗布することができる。
【００３７】
（実施形態３）
実施形態２では、塗布ヘッド３０、液体貯留部４０及び供給チューブ５０内の塗布溶液２を攪拌して塗布溶液２の粘度を均一化したが、本実施形態では、液体貯留部４０に塗布溶液２の液体成分（溶媒など）を供給する液体成分供給手段を取付け、液体貯留部４０内の塗布溶液２中の液体成分が揮発などして粘度が所定の値よりも高くなった際に、液体成分供給部から液体成分を供給して液体貯留部４０内の塗布溶液２の粘度が所定の粘度になるように塗布溶液２の粘度を調整し、その後液体貯留部４０を上方に移動させる。
【００３８】
例えば、図５に示すように、液体貯留部４０に、供給路８１を介して塗布溶液２の液体成分３が貯留されている液体成分貯留部８０を取付ける。この供給路８１には、制御部７０Ｂに接続された制御弁８５が設けられている。そして、この制御弁８５は、制御部７０Ｂによって、液体貯留部４０内の塗布溶液２の粘度が所定の値になるように液体成分３を供給するように制御される。なお、その他の構成要素及びその動作は実施形態１及び２と同様であるので、同符号を付して説明を省略する。
【００３９】
このようにスリットコート式塗布装置を構成して駆動させることにより、所定の粘度を有し、かつ均一化された塗布溶液２を塗布ヘッド３０に供給することができるので、基板１の表面に塗布溶液２をさらに均一な厚さで塗布することができる。
【００４０】
（他の実施形態）
上述した実施形態では、塗布ヘッド３０は、基板１の下方に位置してノズル開口３１が鉛直方向上側に開口するように設けられていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、塗布ヘッド３０が基板１の上方に位置してノズル開口３１が鉛直方向下側に開口するように設けられていてもよい。
【００４１】
また、上述した実施形態では、昇降手段６０を塗布ヘッド３０のノズル開口３１よりも下方に移動させた際に、液体貯留部４０から塗布ヘッド３０に供給された塗布溶液２の一部が供給チューブ５０内に留まる場合について説明したが、例えば液体貯留部４０と供給チューブ５０との取付け位置の調整などを行い、すべての塗布溶液２が液体貯留部４０内に戻るようにしてもよい。このようにすることにより、さらに均一化された塗布溶液２を塗布ヘッド３０に供給することができる。また、塗布ヘッド３０内の塗布溶液２の液面が少なくともノズル開口３１よりも下がるように、ノズル開口３１よりも液体貯留部４０を下方に移動させるようにしてもよい。このようにしても、塗布ヘッド３０のノズル開口３１及び液体溜まり部３２、供給チューブ５０、液体貯留部４０のそれぞれの内部に充填されていた塗布溶液２を十分に攪拌することができるので、均一化された塗布溶液２を塗布ヘッド３０に供給することができる。
【００４２】
上述した実施形態では、昇降手段６０として、棒状部材６１と可動部６２とからなるものを例示したが、液体貯留部４０を鉛直方向に移動させることができるものであれば特に限定されない。例えば、昇降手段６０として、液体貯留部４０の上方に液体貯留部４０を昇降させることができる吊下げ機構を有するものを配置してもよい。
【００４３】
なお、上述した実施形態では、液体吐出装置として塗布溶液２を吐出するスリットコート式塗布装置を一例にとって説明したが、本発明は液体を吐出する液体吐出装置に対して広く適用することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の実施形態１に係る塗布装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る塗布装置の要部断面図である。
【図３】本発明の実施形態１に係る塗布装置の動作示す概略図である。
【図４】本発明の実施形態２に係る塗布装置の要部断面図である。
【図５】本発明の実施形態３に係る塗布装置の要部断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１  基板、  ２，２Ａ  塗布溶液、  １０  スリットコート式塗布装置、  ２０  保持テーブル、  ３０  塗布ヘッド、  ３１  ノズル開口、  ３２  液体溜まり部、  ４０  液体貯留部、  ４１  開口部、  ４５  攪拌翼、  ４６  粘度センサ、  ５０  供給チューブ、  ６０  昇降手段、  ６１  棒状部材、  ６２  可動部、  ７０，７０Ａ，７０Ｂ  制御部、  ８０  液体成分貯留部、  ８１  供給路、  ８５  制御弁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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