(57)【要約】【課題】偏光方向の異なるレーザ光を容易且つ低コストな構成で得ることができる面発光レーザアレイモジュールを提供する。【解決手段】面発光レーザアレイモジュール１におけるカバーガラス３の一部分には、ハッチングで示すように、１／２波長板領域５が形成されている。パッケージ４に実装された面発光レーザアレイ素子２から出射したレーザ光のうち、カバーガラス３に形成された１／２波長板領域５を透過するものと、１／２波長板領域５の無い部分を透過するものがある。面発光レーザアレイ素子２から出射したレーザ光を偏光ビームスプリッタに入射させることにより、１／２波長板領域５を透過してきたレーザ光と、１／２波長板領域５の無い部分を透過してきたレーザ光とで、光路が分離される。ハーフミラープリズムで光を分離する方式に比べ、光量が半減しない。【選択図】図１
2009003115.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の発光部を有する面発光レーザアレイ素子と、
前記面発光レーザアレイ素子が実装されるパッケージと、
前記面発光レーザアレイ素子から出射される複数の光の光路上に配置され、光を透過させる透明部材と、
を備え、前記透明部材は、前記複数の発光部からの光の少なくとも1つの光に対して、光の偏光面を光軸に対して回転させる手段を有することを特徴とする面発光レーザアレイモジュール。
【請求項２】
請求項1記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、
前記光の偏光面を光軸に対して回転させる手段は、光の偏光面を光軸に対して９０°回転させることを特徴とする面発光レーザアレイモジュール。
【請求項３】
請求項１記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、
前記光の偏光面を光軸に対して回転させる手段が、前記透明部材の少なくとも一部領域に１／２波長板を設けることにより構成されることを特徴とする面発光レーザアレイモジュール。
【請求項４】
請求項３記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、
前記１／２波長板が、前記透明部材の少なくとも一部領域に、前記面発光レーザアレイ素子から出射される光の波長の１／２以下の周期で微細周期構造を形成したものであること特徴とする面発光レーザアレイモジュール。
【請求項５】
請求項４記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、
前記微細周期構造が、前記透明部材の少なくとも一部領域に、前記面発光レーザアレイ素子から出射される光の波長の１／２以下の周期で溝を形成したものであること特徴とする面発光レーザアレイモジュール。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、
前記透明部材が、前記パッケージを封止することを特徴とする面発光レーザアレイモジュール。
【請求項７】
請求項６記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、
前記透明部材がカバーガラスであることを特徴とする面発光レーザアレイモジュール。
【請求項８】
光によって被走査面上を走査する光走査装置において、
請求項１〜７のいずれか１つに記載の面発光レーザアレイモジュールを有する光源ユニットと、
光の偏光面の角度によって、光路を分離する偏光分離素子と、
光を偏向する偏向器と、
光を被走査面上に集光する走査光学系と、
を備えることを特徴とする光走査装置。
【請求項９】
少なくとも２つの像担持体と、
前記像担持体に対して画像情報が含まれる光を走査する請求項８記載の光走査装置と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機、プリンタ、ファクシミリ、プロッタ、これらのうち少なくとも１つを備えた複合機等の画像形成装置、該画像形成装置に用いられる光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真の画像記録では、レーザを用いた画像形成装置が広く用いられている。この場合、画像形成装置は光走査装置を備え、感光性を有するドラムの軸方向にポリゴンスキャナ（例えば、ポリゴンミラー）を用いてレーザ光を走査しつつ、ドラムを回転させ潜像を形成する方法が一般的である。
近年では、カラー化、高速化が進み、複数の感光体ドラムを備えるタンデム型の画像形成装置が広く普及している。
しかしながら、タンデム型画像形成装置は、部品点数が多く、コストが高くなる問題がある。
【０００３】
特許文献１では、半導体レーザからのレーザ光をハーフミラープリズムで分割し、位相をずらして２段に重ねたポリゴンミラーを用いて走査して、２つの異なる感光体ドラムに書き込むように構成することで、光源の部品点数を減らしている。
【０００４】
特許文献２では、複数の面発光レーザからなるマルチビームレーザ光源を用い、光学系で拡大し、折り返しミラーを用いて分離し、異なる感光体ドラムに書き込むように構成することで、光源の部品点数を減らしている。
特許文献３では、リニアレーザアレイ光源として、波長または偏光状態の異なる面発光レーザが複数並べられており、偏光ビームスプリッタまたは波長ビームセパレータを用いて、レーザ光を分離し２つの異なる感光体ドラムに書き込むように構成することで、光源の部品点数を減らしている。波長または偏光状態の異なる面発光レーザを複数並べたレーザアレイ構造は、２つのレーザサブアレイを配列したもの、または、１つのチップに波長または偏光状態の異なる面発光レーザを複数作り込んだものを用いている。
なお、特許文献３記載の画像形成装置は光源を感光体ドラムの幅だけ並べた、ポリゴンミラーなどの走査機構がないリニアアレイ光源型の画像形成装置である。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２８４８２２号公報
【特許文献２】特開２００５−２４１６８６号公報
【特許文献３】特開平９−１８７９９４号公報
【特許文献４】特開２００１−６０７３９号公報
【特許文献５】特開２００６−１３３６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１記載の方式では、半導体レーザから画像情報に応じて変調されたレーザ光をハーフミラープリズムで分割しているので、２つの感光体ドラムに同時に書き込むことはできないため、書き込み速度を維持するためには、ハーフミラープリズムで光量が約１／２になる分、半導体レーザからは２倍の光出力を出す必要がある。そのため、半導体レーザをより高出力長寿命にする必要がありコストアップとなってしまう。
特許文献２記載の方式では、光学系で拡大し折り返しミラーを用いて分離しているので、異なる感光体ドラムを走査する面発光レーザの間隔は広げる必要がある。一方、走査レンズにおいて収差の関係から、実際に光を通して使える領域限界がある。よって、それほど面発光レーザの数を増やすことができない。
【０００７】
特許文献３記載の方式では、波長または偏光状態の異なる面発光レーザが複数並べられており、偏光ビームスプリッタまたは波長ビームセパレータを用いて、レーザ光を分離しているが、レーザアレイ構造を、２つのレーザサブアレイを配置したものを用いる場合、２つのレーザサブアレイを位置精度良く実装する必要があり、コストアップとなってしまう。
一方、１つのチップに波長または偏光状態の異なるレーザを複数作り込んだレーザアレイ構造の場合、波長の異なるレーザを作り込む方法としては、レーザ構造の異なるものを同一基板に作り込む必要があり工程が複雑になりコストアップになってしまう。
【０００８】
面発光レーザの偏光方向を制御する方法としては、傾斜基板を用いる方法（特許文献４）や、メサ構造内部に異方性の歪を形成する方法（特許文献５）がある。
傾斜基板を用いる方法は、比較的作製が容易で、直交偏波抑制比が高いが、同一基板上ではすべての面発光レーザの偏光方向は同じになり、異なる偏光方向の面発光レーザを作り込むのは困難である。一方、メサ構造内部に異方性の歪を形成する方法、同一基板上に偏光方向の異なる面発光レーザを作り込むのは比較的容易であるが、直交偏波抑制比が低いという問題がある。
【０００９】
本発明は、偏光方向の異なるレーザ光を容易且つ低コストな構成で得ることができる面発光レーザアレイモジュール、該面発光レーザアレイモジュールを備えた光走査装置、該光走査装置を備えた画像形成装置の提供を、その主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、請求項１記載の発明では、複数の発光部を有する面発光レーザアレイ素子と、前記面発光レーザアレイ素子が実装されるパッケージと、前記面発光レーザアレイ素子から出射される複数の光の光路上に配置され、光を透過させる透明部材と、を備え、前記透明部材は、前記複数の発光部からの光の少なくとも1つの光に対して、光の偏光面を光軸に対して回転させる手段を有することを特徴とする。
透明部材の一部に光の偏光面を回転させる手段を設けているので、この部分を通る光の偏光面を他の光の偏光面と異なるようにすることができる。
【００１１】
請求項２記載の発明では、請求項1記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、前記光の偏光面を光軸に対して回転させる手段は、光の偏光面を光軸に対して９０°回転させることを特徴とする。
偏光面を９０°回転させる手段を通る光の偏光面を他の光の偏光面と直交するようにすることができる。
請求項３記載の発明では、請求項１記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、前記光の偏光面を光軸に対して回転させる手段が、前記透明部材の少なくとも一部領域に１／２波長板を設けることにより構成されることを特徴とする。
１／２波長板を通る光の偏光面を１／２波長板を通らない光の偏光面と直交するようにすることができる。
請求項４記載の発明では、請求項３記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、前記１／２波長板が、前記透明部材の少なくとも一部領域に、前記面発光レーザアレイ素子から出射される光の波長の１／２以下の周期で微細周期構造を形成したものであること特徴とする。
微細周期構造を通る光の偏光面を、微細周期構造を通らない光の偏光面と直交するようにすることができる。
【００１２】
請求項５記載の発明では、請求項４記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、前記微細周期構造が、前記透明部材の少なくとも一部領域に、前記面発光レーザアレイ素子から出射される光の波長の１／２以下の周期で溝を形成したものであること特徴とする。
光の波長の１／２以下の周期の溝を通る光の偏光面を、光の波長の１／２以下の周期の溝を通らない光の偏光面と直交するようにすることができる。
請求項６記載の発明では、請求項１〜５のいずれか１つに記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、前記透明部材が、前記パッケージを封止することを特徴とする。
偏光面を回転させる手段を通る光の偏光面を他の光の偏光面と異なるようにすることができ、さらに、透明部材は封止部材として機能する。
請求項７記載の発明では、請求項６記載の面発光レーザアレイモジュールにおいて、前記透明部材がカバーガラスであることを特徴とする。
偏光面を回転させる手段を通る光の偏光面を他の光の偏光面と異なるようにすることができ、さらに、透明部材はカバーガラスとして機能する。
【００１３】
請求項８記載の発明では、光によって被走査面上を走査する光走査装置において、請求項１〜７のいずれか１つに記載の面発光レーザアレイモジュールを有する光源ユニットと、光の偏光面の角度によって、光路を分離する偏光分離素子と、光を偏向する偏向器と、光を被走査面上に集光する走査光学系と、を備えることを特徴とする。
１つの光源ユニットで異なる２つの被走査面上に走査することができる。
請求項９記載の発明では、画像形成装置において、少なくとも２つの像担持体と、前記像担持体に対して画像情報が含まれる光を走査する請求項８記載の光走査装置と、を備えることを特徴とする。
像担持体と、像担持体の半分の数の光走査装置とで構成することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、偏光方向の異なるレーザ光が得られる面発光レーザアレイモジュールを容易にかつ低コストで提供することができ、さらに、光走査装置及びカラー画像形成装置を容易に低コストで提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の第１の実施形態を、図１乃至図８を参照して説明する。
図１は本発明の面発光レーザアレイモジュール１の構成を示した図で、図２は面発光レーザアレイ素子２とカバーガラス３の部分を拡大した図であり、図３は真上から見た図である。図１において、符号４はパッケージを示している。
カバーガラス３の一部分には、ハッチングで示すように、１／２波長板領域５が形成されている。パッケージ４に実装された面発光レーザアレイ素子２から出射したレーザ光のうち、カバーガラス３に形成された１／２波長板領域５を透過するものと、１／２波長板領域５の無い部分を透過するものがある。
面発光レーザアレイ素子２を、例えば傾斜基板を用いて作製することにより、発光部としてのすべての面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）６から偏光方向がすべて同一方向のレーザ光が出射されるが、カバーガラス３に形成された１／２波長板領域５を透過するレーザ光は偏光面が回転し、一方、１／２波長板領域５の無い部分を透過するレーザ光は偏光面がそのまま維持されたままとなる。
【００１６】
したがって、面発光レーザアレイモジュール１から出射するレーザ光は偏光面の異なるレーザ光となる。よって、特許文献４記載の構成のように、２つのレーザアレイチップを偏光方向を変えて、精度よく実装したり、あるいは、同一基板上に偏光方向の異なる面発光レーザを作り込む必要がなく、作製が容易な同一基板ですべての面発光レーザの偏光方向が同じである面発光レーザアレイを用いて構成することができる。
なお、カバーガラス３に形成された１／２波長板領域５を透過するレーザ光の偏光面が回転する角度は、カバーガラス３に形成された１／２波長板領域５の光学軸と面発光レーザ６から出射したレーザ光の偏光面とでなす角度θによって決まり、レーザ光の偏光面が回転する角度は２θとなる。よって、１／２波長板領域５の光学軸と面発光レーザ６から出射したレーザ光の偏光面とでなす角度θを４５°にすると、１／２波長板領域５を透過するレーザ光の偏光面は９０°回転し、１／２波長板領域５を透過するレーザ光と、１／２波長板領域５の無い部分を透過するレーザ光とで偏光面が直交したレーザ光を取り出すことができる。
【００１７】
図４は１／２波長板領域５の断面を拡大した図であり、１／２波長板領域５はカバーガラス３に非常に微細な周期で溝７を形成することにより作製することができる。
本来複屈折特性を持たない屈折率の異なる平板を光の波長より十分小さい（＜λ／２）周期で並べた微細周期構造（図５）は、複屈折特性を発生することが知られている（Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅ  ｏｆ  Ｏｐｔｉｃｓ、  Ｍａｘ  Ｂｏｒｎ  ａｎｄ  Ｅｍｉｌ  Ｗｏｌｆ、  ＰＥＲＧＡＭＯＮ  ＰＲＥＳＳ  ＬＴＤ．）。
基板に微細周期で溝７を形成した場合にも、屈折率の異なる平板を微細周期で並べた構造と同じ構成となり、複屈折特性が発生し、偏光方向が平板に平行な光の屈折率ｎ‖と、垂直な光の屈折率ｎ⊥はそれぞれ、下記式の通りとなる。
【００１８】
【数１】
2009003115.tif 000003
【００１９】
ｎ１、ｎ２はそれぞれ微細周期構造が形成された物質の屈折率と、溝を埋める物質の屈折率であり、また、ｔは微細周期構造のｄｕｔｙ比であり、
ｔ＝ｗ１／（ｗ１＋ｗ２）
である。
このように、構造複屈折は平板の並べる方向（溝を形成する方向）によって光学軸（遅相軸および進相軸）の方向を任意に決めることができ、平板に平行な方向（溝と平行な方向）が遅相軸となり、平板に垂直な方向（溝と垂直な方向）が進相軸となる。
【００２０】
また、位相差（遅延量）Ｒｅは、構造複屈折の高さ（溝の深さ）をｄとすると、
Ｒｅ＝（ｎ‖−ｎ⊥）ｄ
となり、基板の材質（屈折率）や溝を埋める材質（屈折率）、微細周期構造のｄｕｔｙ比および構造複屈折の高さ（溝の深さ）で位相差（遅延量）を制御することもできる。
したがって、カバーガラスに溝を微細周期で形成することで、任意の場所に容易に１／２波長板領域５を形成することができる。
本実施形態では、カバーガラス３に屈折率１．５１（例えばＢＫ７）の硝材を用いており、幅１５４ｎｍで深さ３８３０ｎｍの溝を、周期３５０ｎｍで形成することにより、波長７８５ｎｍの光に対して１／２波長板として機能している。
位相差（遅延量）は深さに比例するので、カバーガラス３の両面に形成すると、片側の深さは、１９１５ｎｍでよい。
また、ベースとなるガラス板に高屈折材料層（例えば、ＴｉＯ２）を形成して高屈折材料層に溝を微細周期で形成してもよい。例えば、屈折率２．１３のＴｉＯ２を用いた場合、幅１４０ｎｍで深さ９９０ｎｍの溝を、周期３５０ｎｍで形成することにより、同様に波長７８５ｎｍの光に対して１／２波長板として機能する。
図５において、符号ｗ１は平板の厚みを、ｗ２は溝の幅をそれぞれ示している。
【００２１】
次に、カバーガラス３に微細周期で溝７を形成する方法について説明する。図６はカバーガラス３に微細周期構造を形成するプロセスを示す図である。
まず、カバーガラス３に樹脂材料（ＰＭＭＡ）８でライン・アンド・スペース・パターンを形成する（図６ａ）。次に、金属膜９を真空蒸着で成膜し（図６ｂ）、樹脂を溶解する薬液に浸してリフトオフ法で金属膜パターンを形成する（図６ｃ）。金属膜パターンを形成したカバーガラスをＣＦ４やＣ４Ｆ８、ＣＨＦ３などのフロロカーボンガスを用いてドライエッチングを行い、微細周期構造を形成する（図６ｄ）。最後に金属膜を除去し完成する（図６ｅ）。
ドライエッチング装置は本実施例ではＥＣＲエッチング装置を用いているが、ＩＣＰエッチング装置など他のエッチング装置でも構わない。
【００２２】
図６ａに示したカバーガラス３上に樹脂材料８で微細周期のライン・アンド・スペース・パターンを形成する方法としては、カバーガラス３上にＥＢレジストを塗布してＥＢ描画装置によりパターンを描画し現像して形成するＥＢ描画リソグラフィなどがあるが、本実施形態ではインプリントリソグラフィで行っている。
図７はインプリントリソグラフィによるライン・アンド・スペース・パターン形成プロセスを示す図である。まず、カバーガラス３上にＰＭＭＡ樹脂８を配置し（図７ａ）、ＰＭＭＡ樹脂のガラス転移温度以上に加熱したモールド１０をＰＭＭＡ樹脂に高圧で押し付け、モールドの形状をＰＭＭＡ樹脂８に転写する（図７ｂ）。
次にＰＭＭＡ樹脂のガラス転移温度より低い温度に冷却して、モールド１０を離す（図７ｃ）。最後に、パターンのスペース部分に残ったＰＭＭＡ樹脂の膜がなくなるまでドライエッチングを行い、ライン・アンド・スペース・パターンが完成する（図７ｄ）。
ＥＢ描画リソグラフィは大面積を描画するのに非常に多くの時間を費やしてしまうのに対し、インプリントリソグラフィは非常に短時間でパターンを形成することができるので低コストで波長板を作製することができる。
【００２３】
短時間で微細周期のライン・アンド・スペース・パターンを形成する方法としては、ＥＢステッパー、極紫外および真空紫外ステッパー、Ｘ線ステッパー等があるが、これらは設備コストおよび運用コストが非常に高い。インプリントリソグラフィは装置構成も非常に簡単で、設備コストおよび運用コストを非常に低く抑えることができる。
また、インプリントリソグラフィで形状形成が可能で透明な樹脂またはガラスを用いることで、直接インプリントリソグラフィで微細周期の溝を形成することができるので大幅に製造工程を簡素化でき低コストで波長板を作製することができる。
なお、本実施形態では、インプリントリソグラフィとして、樹脂をガラス転移温度以上に加熱しモールドを高圧で押し付け、モールドの形状を樹脂に転写するナノインプリントリソグラフィを採用しているが、基板とモールドの間にＵＶ硬化樹脂を流し込みＵＶ照射して樹脂を硬化させ形状を転写するステップ・アンド・フラッシュ・インプリントリソグラフィで行っても良い。
【００２４】
本実施形態では、図３に示すように、カバーガラス３に１／２波長板領域５を１つしか形成していないが、図８に示すように、１／２波長板領域５を複数形成する構成でも良い。
この構成の場合、面発光レーザ６を狭い領域に配置できるのでチップサイズを小さくしてコストダウンを図ることができ、さらに、カップリングレンズなどの光学部品の有効面積（実際に光が通る領域）を狭くすることができるので、レンズの設計が容易になり、コストダウンとなる。
【００２５】
図９に第２の実施形態に係る光走査装置の構成図を示す。
光源ユニット３０における、第１の実施形態で示した面発光レーザアレイモジュール１から出射されたレーザ光はカップリングレンズ（図中省略）を通り、偏光ビームスプリッタ２１に入射する。偏光ビームスプリッタ２１は、光の偏光方向に応じて光を分離するので、第１の実施形態に示した面発光レーザアレイモジュール１のカバーガラス３に形成された１／２波長板領域５を透過してきたレーザ光と、１／２波長板領域５の無い部分を透過してきたレーザ光とで、光路が分離される。
偏光ビームスプリッタ８を通ったレーザ光は、偏向器としてのポリゴンミラー２２、第１走査レンズ２３、ミラー２４、第２走査レンズ２５、ミラー１１を経て、像担持体としての感光体ドラムＫ１、Ｃ１へ入射する。
【００２６】
したがって、１つの面発光レーザアレイモジュール１から２つの異なる感光体へ書き込みを行うことができ、かつ、特許文献１記載のハーフミラープリズムで光を分離する方式とは異なり、光量が半減しないので、特許文献１記載の構成の２倍の光量で使用することが可能である。
また、特許文献２記載の構成のように、異なる感光体ドラムを走査する面発光レーザの間隔を広げる必要がないために、面発光レーザの数を多くすることができる。
本実施形態では、２つのポリゴンミラーの位相をずらして重ねた２段ポリゴンミラー２２を用い、面発光レーザアレイモジュール１のカバーガラス３に形成された１／２波長板領域５をレーザ光が透過していく面発光レーザ６と、１／２波長板領域５の無い部分を透過していく面発光レーザ６'を交互に発光させて、それぞれ異なる感光体ドラムに書き込む構成としているが、通常の１段のポリゴンミラーを用いて、同時に面発光レーザを発光させてそれぞれ異なる感光体ドラムに同時に書き込む構成にすることも可能である。
但し、本実施形態に示したような面発光レーザアレイモジュール１のカバーガラス３に形成された１／２波長板領域５をレーザ光が透過していく面発光レーザ６と、１／２波長板領域５の無い部分を透過していく面発光レーザ６'を交互に発光させる構成にすることで、ドライバ２６も交互に切り替えて使うことができ、コストダウンを図ることができる。
【００２７】
なお、本実施形態では、レーザ光の偏光状態に応じてレーザ光を分離する偏光ビームスプリッタ２１を、ポリゴンミラー２２の前段に配置してレーザ光を分離しているが、ポリゴンミラー２２の後段、または、走査レンズの後段などに配置することも可能である。
但し、偏光ビームスプリッタ２１の配置位置に応じて、光学系、駆動方法（点灯方法）を変える必要がある。
【００２８】
図１０に第３の実施形態に係る画像形成装置としてのカラーレーザプリンタの概略構成を示す。
図１０に示したカラーレーザプリンタは、複数の感光体ドラムを備えるタンデムカラー機である。このタンデムカラー機は、ブラック（Ｋ）用の感光体ドラムＫ１、帯電器Ｋ２、現像器Ｋ４、クリーニング手段Ｋ５、及び転写用帯電手段Ｋ６と、シアン（Ｃ）用の感光体ドラムＣ１、帯電器Ｃ２、現像器Ｃ４、クリーニング手段Ｃ５、及び転写用帯電手段Ｃ６と、マゼンダ（Ｍ）用の感光体ドラムＭ１、帯電器Ｍ２、現像器Ｍ４、クリーニング手段Ｍ５、及び転写用帯電手段Ｍ６と、イエロー（Ｙ）用の感光体ドラムＹ１、帯電器Ｙ２、現像器Ｙ４、クリーニング手段Ｙ５、及び転写用帯電手段Ｙ６と、光走査システム２０と、転写ベルト２７と、定着手段２８などを備えている。
【００２９】
ブラック用の面発光レーザ素子からの光はブラック用の走査光学系を介して感光体ドラムＫ１に照射され、シアン用の面発光レーザ素子からの光はシアン用の走査光学系を介して感光体ドラムＣ１に照射され、マゼンダ用の面発光レーザ素子からの光はマゼンダ用の走査光学系を介して感光体ドラムＭ１に照射され、イエロー用の面発光レーザ素子からの光はイエロー用の走査光学系を介して感光体ドラムＹ１に照射されるようになっている。
【００３０】
光走査システム２０は第２の実施形態で説明した光走査装置を２色毎に備えており、また、第１の実施形態で説明した面発光レーザモジュールも２色毎に備えている。なお、ポリンゴンミラーやレンズなどを２つの光走査装置で共通にしても良い。
各感光体ドラムは、図１０中の矢印の方向に回転し、回転順にそれぞれ帯電器、現像器、転写用帯電手段、クリーニング手段が配置されている。各帯電器は、対応する感光体ドラムの表面を均一に帯電する。この帯電器によって帯電された感光体ドラム表面に本発明の光走査装置によりビームが照射され、感光体ドラムに静電潜像が形成されるようになっている。
【００３１】
そして、対応する現像器により感光体ドラム表面にトナー像が形成される。さらに、対応する転写用帯電手段により、記録紙に各色のトナー像が転写され、最終的に定着手段２８により記録紙に画像が定着される。
タンデムカラー機では、機械精度等で各色の色ずれが発生する場合があるが、光走査装置は高密度な発光部の２次元アレイを有しているため、点灯させる発光部を選択することで各色の色ずれの補正精度を高めることができる。
また、像担持体として銀塩フィルムを用いた画像形成装置であっても良い。この場合には、光走査により銀塩フィルム上に潜像が形成され、この潜像は通常の銀塩写真プロセスにおける現像処理と同等の処理で可視化することができる。
そして、通常の銀塩写真プロセスにおける焼付け処理と同等の処理で印画紙に転写することができる。このような画像形成装置は光製版装置や、ＣＴスキャン画像等を描画する光描画装置として実施できる。
また、像担持体としてビームスポットの熱エネルギにより発色する発色媒体（ポジの印画紙）を用いた画像形成装置であっても良い。この場合には、光走査により可視画像を直接、像担持体に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る面発光レーザアレイモジュールの斜視図である。
【図２】図１で示した面発光レーザアレイモジュールのカバーガラスと面発光レーザアレイ素子の拡大斜視図である。
【図３】図２の構成を上側から見た平面図である。
【図４】１／２波長板領域を示す要部斜視図である。
【図５】複屈折特性を示す微細周期構造の模式図である。
【図６】カバーガラスに微細周期構造を形成するプロセスを示す図である。
【図７】インプリントリソグラフィによるライン・アンド・スペース・パターン形成プロセスを示す図である。
【図８】１／２波長板領域の形成における変形例を示す平面図である。
【図９】第２の実施形態に係る光走査装置の要部斜視図である。
【図１０】第３の実施形態に係る画像形成装置の概要構成図である。
【符号の説明】
【００３３】
１  面発光レーザアレイモジュール
２  面発光レーザアレイ素子
３  透明部材としてのカバーガラス
４  パッケージ
５  光の偏光面を光軸に対して回転させる手段
６、６'  発光部としての面発光レーザ
２１  偏光分離素子としての偏光ビームスプリッタ
２２  偏向器としてのポリゴンミラー
３０  光源ユニット
Ｙ１、Ｍ１、Ｃ１、Ｋ１  像担持体としての感光体ドラム
【図１】
2009003115.tif 000004
【図２】
2009003115.tif 000005
【図３】
2009003115.tif 000006
【図４】
2009003115.tif 000007
【図５】
2009003115.tif 000008
【図６】
2009003115.tif 000009
【図７】
2009003115.tif 000010
【図８】
2009003115.tif 000011
【図９】
2009003115.tif 000012
【図１０】
2009003115.tif 000013