(57)【要約】  【課題】磁気転写マスタ体の微細加工時における磁気パターンのＬ／Ｓ比を変えずに磁気転写波形の上下対称性を維持できる磁気転写マスタ体、磁気転写装置、この磁気転写装置を用いてつくられる磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を提供することを目的とする。  【解決手段】磁気転写マスタ体の基板の表面部に磁気パターンに対応した磁性体を保持するパターン凹部を設け、パターン凹部に第1の磁性体からなる磁性材料を配し、前記表面部において基板とパターン凹部に配された第1の磁性体の境界部分との少なくとも一部に第２の磁性体からなる磁性材料を配し、第1の磁性体の飽和磁化ＭＳ１と第２の磁性体の飽和磁化ＭＳ２との間にＭＳ１＞ＭＳ２の関係を有し、かつ、第２の磁性体は基板の材質とは異なることを特徴とする磁気転写マスタ体を用いる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気転写法を用いて磁気記録媒体に磁気パターンを形成する磁気転写マスタ体であって、前記磁気記録媒体に対向する前記磁気転写マスタ体の基板の表面部に前記磁気パターンに対応したパターン凹部と、
前記パターン凹部に保持された第1の磁性体と、
前記表面部において前記基板と前記パターン凹部に配された前記第1の磁性体の境界部分との少なくとも一部に配され、飽和磁化が前記第１の磁性体の飽和磁化よりも小さく、前記基板と異なる材質の第２の磁性体とを有することを特徴とする磁気転写マスタ体。
【請求項２】
磁気転写法を用いて磁気記録媒体に磁気パターンを形成する磁気転写マスタ体の製造方法であって、
前記磁気転写マスタ体の基板の表面部に前記磁気パターンに対応したパターン凹部を設けるステップと、
前記パターン凹部に第１の磁性体を設けるステップと、
飽和磁化が前記第１の磁性体の飽和磁化よりも小さく、かつ、前記基板と異なる材質の第２の磁性体を、前記表面部において前記基板と前記パターン凹部に配された前記第1の磁性体の境界部分との少なくとも一部に配するステップとを有することを特徴とする磁気転写マスタ体の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の磁気転写マスタ体の磁気パターンに対応する磁気パターンを形成されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項３記載の磁気記録媒体を用いることを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録装置に用いられる磁気ディスク媒体にサーボ信号等の磁気パターンを磁気転写する磁気転写マスタ体、磁気転写マスタ体の製造方法、磁気転写マスタ体によって磁気パターンが形成される磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を用いる磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク媒体にヘッドを位置決めするために、各トラックにはデータ領域とサーボ領域が交互に形成されている。従来、サーボデータは専用ヘッドを用いたＳｅｒｖｏ  ｔｒａｃｋ  ｗｒｉｔｉｎｇ（ＳＴＷ）法によって記録されてきた。磁気ディスク上のサーボ領域は、ヘッドが進入する側（上流側）から順番にプリアンブル域、サーボマーク域およびサーボデータ域が区画される。プリアンブル域では、周方向に沿って均一な間隔で交互に正負の磁極が形成される。サーボデータ域では、半径方向に変化する所定のパターンで磁極が形成される。
【０００３】
ＨＤＤではプリアンブル域で読み出される磁気情報から同期信号が得られる。サーボデータ域から読み出される磁気情報に基づきヘッドは正確に記録トラック上に位置決めされるようになっている。
【０００４】
しかしながら、近年のハードディスク装置の高密度化に伴ってデータ領域の記録密度が増加するに従い、ヘッドの位置決めに必要なサーボ情報にも、さらなる高密度化が求められている。従来のＳＴＷ法では、データの高密度化に伴いサーボ情報の増加による1台あたりのサーボ情報記録に要する時間の増大が、ハードディスク装置の量産時における問題点の１つとなっている。
【０００５】
これに対して、最近磁気転写法を用いたサーボライト法が提案されている。                
【０００６】
磁気転写法とは、予めサーボ情報が記録された磁気転写マスタ体を磁気記録媒体に密着させ、外部から磁界を印加することでサーボ情報を記録させるものである。この磁気転写法は、従来の長手磁気記録媒体を用いた面内磁気記録方式の適用例が報告されている（特許文献１）。
【０００７】
図７は、従来の磁気転写マスタ体の断面図例を示す。図７を参照して、従来の磁気転写マスタ体の例を説明する。図において、Ｉ）、ＩＩ）、ＩＩＩ）の３つの例において、マスタ体基板７１、７３、７５はいずれもサーボパターンに対応した凹凸領域の断面を有している。
【０００８】
Ｉ）は、サーボパターンに対応した磁化パターンを磁気記録媒体に転写するために、例えば、シリコン、Ｎｉ等でできたマスタ体基板７１の表面に薄膜形成技術により凹凸をつくり、表面に高透磁率材料の軟磁性体７２の層を形成したものである。
【０００９】
ＩＩ）は、凸部の両端がテーパを有する山形のタイプのものを示す。例えば、シリコン、Ｎｉ等でできたマスタ体基板７３の表面に薄膜形成技術により山型の凸部をつくり、図の上方から表面に高透磁率材料の軟磁性体７４の層をスパタリングにより形成したものである。この方法によりマスタ体を作成するほうが、Ｉ）の方法に比べてより作成しやすい。
【００１０】
ＩＩＩ）は、シリコンでできたマスタ体基板７５に凹状の溝を形成し、溝を高透磁率材料の軟磁性体７６で充填したものである。
【００１１】
一方、磁気記録媒体に関しては、従来からの面内磁気記録方式に対して垂直磁気記録方式が進み、磁気転写方式も磁気記録媒体に水平に磁界を印加する方式に対し、磁気記録媒体面に垂直方向に磁界を印加する方式が必要とされるようになってきた。
【００１２】
磁気記録媒体に垂直に磁界を印加する転写方式は、初期化磁界を磁気記録媒体面に垂直な方向に印加後、磁気転写マスタ体を磁気記録媒体に密着させ初期化磁界と逆方向に磁界を印加してサーボパターン等を磁気記録媒体に転写する方式である。
【００１３】
磁気記録方式が面内磁気記録方式から垂直磁気記録方式に移行するに伴い、磁気転写に際して磁気転写マスタ体に要求される条件がより厳しくなってきている。
【００１４】
その一例として、面内磁気記録方式の磁気記録媒体において、磁気転写により記録されたサーボ信号によりヘッドがオントラックできた実績のある磁気転写マスタ体を、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体に適用した場合、磁気転写された波形が上下非対称となり、オントラックできない、といった垂直印加磁気転写特有の問題が生じていた。
【００１５】
図３は、従来の磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気記録媒体における転写磁界波形シミュレーション結果の例を示す。図３は、図７におけるＩＩ）のタイプの磁気転写マスタ体を用いて磁気記録媒体に磁気転写した例である。有限要素法を用いたシミュレーション結果を示している。
【００１６】
図３において、図の下側の方向の磁界強度を磁気記録媒体の初期化方向の磁界強度とすると、垂直印加磁気転写により反対方向に磁化しようとする部分の磁界強度分布は２つの山を形成している例を示している。２つの山は、サーボパターンに対応する磁気転写マスタ体の磁気記録媒体に当接する凸部のエッジの部分に対応し、磁束が集中しやすくなるためである。
【００１７】
磁気転写された磁気記録媒体において、磁気転写後の磁気記録媒体における磁界強度分布は、図の下側の方向の磁界強度分布と上側の方向の磁界強度分布がほぼ等しい形状になることが望ましい。そこで、これに対処するための方法として、凸部の幅を狭くしてエッジ間の距離を狭くすることで、図３の２つの山が近づいて１つの山になるような傾向をもつことから、磁気転写マスタ体の表面に現れている軟磁性体の隣同士の距離をＳ、表面に現れている軟磁性体の幅をＬとしたとき、（Ｌ÷Ｓ）≦０．３５とし、垂直印加磁気転写時に、磁気記録媒体に加わる転写磁界波形が上下対称に近くする方法を発明者は特願２００７−３０７２８号（特許文献２）において開示した。
【００１８】
上記の特許文献２に開示した方法にあっては、垂直印加磁気転写の場合において、マスタ体基板の表面に現れている軟磁性体の端面における磁束の絞り効果により、転写磁界波形の上下対称性を維持しつつ、加えて、軟磁性体他端の末広がり形状により十分な磁束を供給し安定した磁気転写ができるようにした。すなわち、表面微細加工時のＬ／Ｓ比を変化させて、サーボパターン両端のエッジ間の距離を短縮し、エッジに集中する磁束を緩和していた。
【００１９】
しかしながら、磁気記録媒体において、特に磁気記録媒体の内周と外周ではサーボパターン寸法が異なること、さらに、サーボパターン内における異なる寸法幅のパターンに対する波形のズレを有していること、等により生じる部分的な転写波形のズレの問題が残っていた。
【００２０】
図８は、マスタパターンの凹凸比＝３．１としてピッチを変えた場合をシミュレーションして計算した転写磁界波形の例を示す。図７のＩＩ）の例において、マスタパターンの凹凸比＝３．１（Ｌ／Ｓ＝３．１）として凹凸ピッチを変えた場合、例として、磁気転写マスタ体の表面に位置する軟磁性体のピッチが１００ｎｍと２００ｎｍの磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気記録媒体における転写磁界野強度分布波形を有限要素法を用いたシミュレーションにより求め、比較した転写磁界波形の例である。
【００２１】
図８において、Ｌ／Ｓ＝３．１において、軟磁性体のピッチが１００ｎｍのときに磁気転写された磁気記録媒体の転写磁界強度の波形は、１つの山をもってはいるが上下の波形の対称性はくずれており、Ｌ／Ｓ＝３．１において、軟磁性体のピッチが２００ｎｍのときには、２つの山をもつようになっている。
【００２２】
以上のようにＬ／Ｓの値を一定に保っても、条件によって、部分的な転写波形のズレが発生することが判った。
【特許文献１】特開２００３−１４１７１５号公報
【特許文献２】特願２００７−３０７２８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
上記の問題を解決するために、本発明は、磁気転写マスタ体の微細加工時における磁気パターンのＬ／Ｓ比を変えずに転写波形の上下対称性を維持できる磁気転写マスタ体、磁気転写マスタ体の製造方法、磁気転写マスタ体によって磁気パターンが形成される磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を用いる磁気記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明の請求項１に記載の発明は、磁気転写法を用いて磁気記録媒体に磁気パターンを形成する磁気転写マスタ体であって、前記磁気記録媒体に対向する前記磁気転写マスタ体の基板の表面部に前記磁気パターンに対応したパターン凹部と、前記パターン凹部に保持された第1の磁性体と、前記表面部において前記基板と前記パターン凹部に配された前記第1の磁性体の境界部分との少なくとも一部に配され、飽和磁化が前記第１の磁性体の飽和磁化よりも小さく、前記基板と異なる材質の第２の磁性体とを有することを特徴とする磁気転写マスタ体である。
【００２５】
図１は、本発明による磁気転写マスタ体の一実施例を示す。ａ）平面図は、磁気転写マスタ体を磁気記録媒体（図示省略）と近接あるいは密着させる面を上から見た図であり、また、断面図として、ｂ）Ａ−Ａ’断面図を示す。図における磁気転写マスタ体表面１１−１はサーボパターンを含む磁気パターンが転写される磁気記録媒体の表面に接する面であり、シリコン、ガラス、Ｎｉ等でできた磁気転写マスタ体基板１１に、磁気転写パターンに対応した所望の断面形状を有するパターン凹部１１−２を設け、高透磁率磁性体のＦｅＣｏ材による第１の磁性体１２を埋め込み、さらに、磁気転写マスタ体表面１１−１近傍のｂ）Ａ−Ａ’断面図における磁気転写マスタ体基板１１と第１の磁性体１２との境界部分に、例えばＮｉあるいはＮｉＦｅ材を第２の磁性体１３として配置する。磁気転写マスタ体基板１１としてＮｉを用いる場合は、第２の磁性体１３としてＮｉ以外のＮｉＣｏ系合金を用いる。
【００２６】
ここで、第１の磁性体１２の表面は磁気転写マスタ体表面１１−１に現れており、その外側を第２の磁性体１３が囲んでいる。磁気転写マスタ体表面１１−１に現れている第１の磁性体１２の形状はａ）平面図に示すように、好ましくは長方形、正方形、あるいは台形に近い形状であり、第２の磁性体１３の磁気転写マスタ体表面１１−１に現れている部分の形状は、それぞれ第１の磁性体１２の形状に似た形状であることが好ましい。
【００２７】
このように、磁気転写マスタ体は、例えば、薄膜形成技術により、シリコン、ガラス、セラミックス、あるいはニッケルといった材料でできた磁気転写マスタ体基板１１の、サーボパターンを転写する磁気記録媒体に接する側の磁気転写マスタ体表面１１−１の表面に、磁気記録媒体に転写するサーボパターン等に対応して、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉといった高透磁率材料の第１の磁性体１２を、第１の磁性体１２の一端が磁気転写マスタ体基板１１の表面と同じ高さをもって現れ、その外側にあって、ｂ）Ａ−Ａ’断面図における第１の磁性体１２の肩にあたる部分には第２の磁性体１３が埋めるように形成されている。
【００２８】
このような構成とすることにより、例えばサーボパターンの磁化方向が図の磁気転写マスタ体表面１１−１に垂直な垂直磁気記録方式の磁気記録媒体に磁気転写する場合、本発明の磁気転写マスタ体を使用して垂直印加磁気転写を行うと、磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の媒体における転写磁界波形は、磁界強度が正逆ほぼ等しい、上下対称の形状に近いパターンを得ることができる。
【００２９】
図４は、本発明による磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気記録媒体における転写磁界波形シミュレーション結果の例を示す。図４は有限要素法を用いて求められたものである。
【００３０】
このように、図１における第1の磁性体１２の飽和磁化ＭＳ１が第２の磁性体の飽和磁化ＭＳ２よりも大きな関係のある磁性材料を用いることにより、図４の本発明による磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の媒体における転写磁界波形シミュレーション結果の例に示すような、上下ほぼ対称な転写磁界波形が得られる。
【００３１】
すなわち、従来のＬ／Ｓ比調整のみでは、第1の磁性体１２のピッチの違いにより、転写磁界波形において上下非対称性が出るケースが発生していたが、本発明により、磁気転写マスタ体表面１１−１近傍において、磁気転写マスタ体基板１１と接する第1の磁性体１２の部分、いわゆる第1の磁性体１２の肩の部分に、飽和磁化ＭＳが第1の磁性体１２のそれより小さい第２の磁性体を埋め込むことによって、図３に示す上下非対称性波形の特徴である図の上側の波形凹みの両端の磁界が緩和され、かつ、第1の磁性体１２のピッチの違いによらず、ほぼ上下対称な波形が得られるようになる。
【００３２】
これは、先の特願２００７−３０７２８号（特許文献２）において開示した軟磁性体の周囲に、さらに他の軟磁性体であって飽和磁化ＭＳのより低い軟磁性体を配置することにより、磁気転写マスタ体の磁気記録媒体に当接する第１の磁性体のエッジ部分は、第２の磁性体が存在することにより磁束の集中が緩和されるのと同時に、第１の磁性体の先端をなだらかに絞ることができるため、第1の磁性体１２のピッチの違いによっても転写磁界波形における上側の波形の幅を拡げないようにできるためと考えられる。
【００３３】
ここで、ｂ）Ａ−Ａ’断面図において、第２の磁性体１３が配置される第1の磁性体１２の肩の部分の形状は、三角形、矩形に近い形状等であってよいが、好ましくは磁気転写マスタ体表面１１−１と第1の磁性体１２との境界部分の先端を頂点として、磁気転写マスタ体基板１１との境界部分を底面とする三角形が好ましい。第２の磁性体１３と第1の磁性体１２との境界線は直線であっても、曲線であっても構わない。
【００３４】
このようにして、従来の磁気転写マスタ体を適用して垂直印加磁気転写を行った場合には、垂直印加磁気転写後の垂直磁化方式の磁気ディスク媒体における転写磁界波形が、例えば、図８示すような上下非対称、かつ、第1の磁性体１２のピッチの違いによっても転写波形のズレが発生していたが、本発明による磁気転写マスタ体を適用して垂直印加磁気転写を行った場合に得られる垂直印加磁気転写後の垂直磁化方式の磁気ディスク媒体における転写磁界波形は、第1の磁性体１２のピッチの違いによらず、図４に示すような転写磁界波形となる。そして、本発明による磁気転写マスタ体を適用してサーボ信号が転写された垂直磁化方式の磁気記録媒体を用いてヘッドのオントラック制御が可能となることが判った。
【００３５】
請求項１記載の磁気転写マスタ体によれば、磁気パターンのＬ／Ｓ比を変えずに転写波形の上下対称性を維持できるため、磁気転写される磁気記録媒体に対し安定した磁気転写を行える磁気転写マスタ体を提供することができる。
【００３６】
なお、本発明による磁気転写マスタ体は、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体に磁気転写する場合はもちろんのこと、面内磁気記録方式の磁気記録媒体に磁気転写する場合にも使用できることは言うまでもない。
本発明の請求項２に記載の発明は、磁気転写法を用いて磁気記録媒体に磁気パターンを形成する磁気転写マスタ体の製造方法であって、前記磁気転写マスタ体の基板の表面部に前記磁気パターンに対応したパターン凹部を設けるステップと、前記パターン凹部に第１の磁性体を設けるステップと、飽和磁化が前記第１の磁性体の飽和磁化よりも小さく、かつ、前記基板と異なる材質の第２の磁性体を、前記表面部において前記基板と前記パターン凹部に配された前記第1の磁性体の境界部分との少なくとも一部に配するステップとを有することを特徴とする磁気転写マスタ体の製造方法である。
【００３７】
本発明の請求項２よれば、磁気転写磁界の上下波形のより均一な磁気記録媒体を得るための磁気転写マスタ体を製造することができる。
【００３８】
本発明の請求項３に記載の発明は、請求項１記載の磁気転写マスタ体の磁気パターンに対応する磁気パターンを形成されたことを特徴とする磁気記録媒体である。
【００３９】
本発明の請求項３よれば、面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式どちらによる磁気記録媒体においても、本発明による磁気転写装置によって形成されたサーボパターンにより、品質のよい、ヘッドのトラッキング制御ができる。また、請求項３に係る磁気記録媒体は、請求項１記載の磁気転写マスタ体によって磁気パターンを形成され、これをサーボパターンとして用いる磁気記録媒体であっても、また、さらに、その後、磁気ヘッドによってサーボパターンが追記あるいは、磁気パターンを基にサーボバターンが書き換えられた磁気記録媒体を含む。
【００４０】
本発明の請求項４に記載の発明は、請求項３記載の磁気記録媒体を用いることを特徴とする磁気記録装置である。本発明の請求項４に係る磁気記録媒体は磁気記録装置に固定された磁気記録媒体であっても、磁気記録装置に対してリムーバブルな磁気記録媒体であっても構わない。
【発明の効果】
【００４１】
磁気転写マスタ体に埋め込まれた磁性材について、第1の磁性体の表面の肩にあたる部分に、飽和磁化Ｍｓが第1の磁性体のそれより小さい第２の磁性材料を配置することで、磁気転写される媒体にかかる磁界強度分布の正逆の非対称性を改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
図２は本発明による磁気転写マスタ体の製造手順の一実施例を示す。図２の図２−１乃至図２−４の各図は、磁気転写される磁気記録媒体（図示省略）に対向する磁気転写マスタ体表面に垂直な面における、磁気転写マスタ体の断面図を示している。
【００４３】
以下に、製造手順を順を追って説明する。
【００４４】
１）レジストパターンをアンダーカット気味に磁気転写マスタ体基板をエッチングする。
【００４５】
図２−１において、磁気転写マスタ体基板２１は、例えば表面が平面を有するＳｉ基板で作られ、Ｓｉ基板の表面上にＥＢ露光法或いはナノインプリント法によりサーボバターンの形状に対応したレジストパターン２２を形成する。その後、アンダーカット気味に磁気転写マスタ体基板２１をドライエッチングにより、レジストパターン２２に刻印されたサーボパターンを磁気転写マスタ体基板２１に転写し、パターン凹部２１−１を形成する。
【００４６】
ドライエッチングの条件は、例えば誘導プラズマ型ＲＩＥ装置を例にとると、ガス種としてＳＦ６或いは、ＣＦ４を用いた場合のガス圧は５.０Ｐａとし、通常の異方性エッチングよりも高ガス圧とする。また、ＲＦパワーは３００Ｗとして、磁気転写マスタ体基板２１にパターン凹部２１−１を形成する。磁気転写マスタ体基板２１には、残ったレジストパターン２２を残留させる。
【００４７】
２）レジスト残留の状態でＦｅＣｏをスパッタ成膜する。
【００４８】
更に、ＦｅＣｏ材からなる第１の磁性体をスパッタ法により、パターン凹部２１−１に堆積させる。堆積量は、図２−２に示すように、パターン凹部２１−１に堆積したＦｅＣｏ２３の頂点が磁気転写マスタ体基板２１の平面から突出し、かつ、パターン凹部２１−１の上端面より突出しない程度とする。
【００４９】
３）リフトオフで残留レジストを除去する。
【００５０】
図２−３に示すように、リフトオフを行うことで、レジストパターン２２上のＦｅＣｏ２３および磁気転写マスタ体基板２１の表面に残ったＦｅＣｏを除去する。
【００５１】
４）メッキ法によりパターン凹部の隙間にＮｉＦｅを埋め込み、パターン凹部を平坦化する。
【００５２】
図２−４に示すように、例えばメッキ法によりパターン凹部２１−１の隙間にＮｉＦｅからなる第２の磁性体を埋め込み、ＣＭＰ法による化学研磨で磁気転写マスタ体基板２１の表面を平坦化する。メッキ法により凹部の隙間にＮｉを埋め込む方法の他に、蒸着法、スパッタ法によりＮｉを堆積させた後、ＣＭＰ法による化学研磨で磁気転写マスタ体基板２１の表面を平坦化してもよい。
【００５３】
磁気転写マスタ体基板２１は、表面が平面を有するＳｉ基板を用いる例を示したが、Ｓｉ基板の他に、ガラス、セラミックスといった材料でできた基板を用いることもできる。
【００５４】
また、ＦｅＣｏ２３はＦｅＣｏ材を用いたがＣｏＮｉ等の高透磁率材料であってもよい。
さらに、磁気転写マスタ体基板２１の表面を平坦化した後、磁気転写される磁気記録媒体に対向する面に潤滑層を設けたり、潤滑材を塗布しても構わない。
【００５５】
以上の方法で作成された磁気転写マスタ体を用いて磁気記録媒体にサーボパターンを垂直印加磁気転写後の、磁気記録媒体における転写磁界波形のシュミレーション結果は、図４に示すようになる。図３に示す従来の磁気転写マスタ体で磁気転写した磁気記録媒体の転写磁界波形に現れていた磁界強度の上下非対称性が、図４においては解消されている。
【００５６】
ここで、第１の磁性体の飽和磁化ＭＳ１と第２の磁性体の飽和磁化ＭＳ２の間にＭＳ１＞ＭＳ２の関係を満たす第１の磁性体及び第２の磁性体の材料を用いることで転写磁界波形の対称性が良くなることが判った。さらに、第１の磁性体の保磁力をＨＣ１、第２の磁性体の保磁力をＨＣ２、磁気転写磁界をＨdupとすると、ＨＣ1＜Ｈdup＜ＨＣ２の関係を満たす第1の磁性体、及び、第２の磁性体の材料を用い、かつ、磁気転写前に予め第２の磁性体を転写方向と逆向きに磁化することで、転写磁界波形の対称性はさらに改善されることも判った。
【００５７】
図５は本発明による磁気転写装置の一例を示す。図においては、磁気転写装置の要部だけが示されており、他の部分は公知の技術を用いている。ａ）磁気転写前の図において、磁気転写マスタ体用回転軸付きホルダ５１は、例えばステンレス鋼でできた中心部分に凸部を有し、本発明による磁気転写マスタ体５２の中心部分の穴をガイドとして本発明による磁気転写マスタ体５２が取り付けられる。
【００５８】
磁気転写マスタ体５２は、磁気転写マスタ体用回転軸付きホルダ５１に設けられた真空吸引機構（図示省略）により、磁気転写マスタ体用回転軸付きホルダ５１の表面に固定される。磁気転写マスタ体５２の表面部分にはサーボパターンに対応した磁性体を、磁気転写マスタ体５２の凹部に備えた磁気転写パターン５２−１を有する。
【００５９】
ＸＹＺ軸の３軸方向および図の上下方向であるＺ軸方向の傾きを調整するための位置調整機構（図示省略）によって支持される磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３は、磁気転写マスタ体用回転軸付きホルダ５１と同様に磁気記録媒体５４を、磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３に設けられた真空吸引機構（図示省略）により、磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３の表面に固定し、上記の位置調整機構によって、磁気転写マスタ体５２に対するＸＹ軸方向（図の紙面に垂直）とＺ軸方向の傾きを調整し、磁気転写マスタ体５２と磁気記録媒体５４との表面を密着あるいは近接距離にて、ｂ）磁気転写の図に示されるように、先ず保持される。
【００６０】
ＸＹ軸方向の調整は、例えば、磁気転写マスタ体用回転軸付きホルダ５１と磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３との芯ずれをゼロとするような位置調整機構による制御により行われ、Ｚ軸方向の傾きの調整は、予め、磁気記録媒体５４を固定した磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３を自重で、磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３に固定された磁気転写マスタ体５２の表面に置いたときの磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３の傾きを基準にする。
【００６１】
さらに、ｂ）磁気転写の図において、磁気転写マスタ体５２と磁気記録媒体５４との表面を密着あるいは近接距離にて保持する状態で、磁気転写マスタ体用回転軸付きホルダ５１と磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３は同じ方向に所望の回転速度にて回転する。
【００６２】
そして、磁気記録媒体用回転軸付きホルダ５３の上側の表面を電磁石５５が、予め設定された磁場を垂直方向にかけながら所望の速度で水平方向に移動する。ここで、電磁石５５に電流を供給するための配線は図において省略されている。
【００６３】
ここで、磁気記録媒体５４は初期化されているものとする。すなわち、磁気記録媒体５４が垂直磁気記録方式の磁気記録媒体とすると、磁気記録媒体５４の磁化方向を、例えば図の下方向にすべて揃える初期化を行う。ｂ）磁気転写の図において、磁気転写マスタ体５２の無い状態で、磁気記録媒体５４の保磁力Ｈｃの２倍以上の磁界を電磁石５５にて垂直方向に一定の向きにかけながら、所望の速度で電磁石５５を水平方向に移動する。磁気記録媒体５４の磁気記録層の磁化方向を垂直方向（図において、例えば下向）にするのである。
【００６４】
次に、ｂ）磁気転写の図のように、次いで、磁気記録媒体５４の初期化面に、サーボパターンを磁気転写するための磁気転写マスタ体５２に設けた磁気転写パターン５２−１が存在する面を密着させた後、電磁石５５に流す電流を初期化の方向とは逆にして、反対方向の磁界を印加し、磁気記録媒体５４にサーボパターンを転写する。
図において、磁気転写パターン５２−１の中に小さな黒点に見える部分の、本願発明における磁性材料の先端に対応した磁気記録媒体５４の部分の磁化方向が反転し、磁気記録媒体５４にサーボパターンが転写される。この場合の磁界強度は、例えば、磁気記録媒体５４の保磁力Ｈｃと同じとする。
【００６５】
ここで、図５における本発明による磁気転写装置の例では、サーボパターンのコントラストを明瞭にするために初期化をしているが、この初期化は必ずしも必要ではない。
【００６６】
図６は本発明による磁気ディスク装置の一例を示す。説明のために磁気ディスク装置を覆うカバーが省略された磁気ディスク装置内部の斜視図となっている。図６において磁気ディスク装置のベース６０には、ディスク６１を回転支持するスピンドルモータ（図示省略）が取り付けられ、ディスク６１はスピンドルモータのディスク回転軸６２に固定されている。
【００６７】
ディスク６１は本発明による磁気転写装置によってサーボパターンが磁気転写された磁気記録媒体を用いている。ディスク６１は面内磁気記録方式の磁気記録媒体であっても、また、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体であっても構わない。
【００６８】
ディスク６１へ情報を書き込み、また読み出しを行う記録／再生素子が設けられたヘッド６３は、例えば、ステンレス製のバネ鋼の板を加工したサスペンション６４に取り付けられ、さらに、サスペンション６４は金属製のアーム６５−３の先端部に取り付けられている。ここで、サスペンション６４には、記録／再生素子との信号のやり取りを中継する図示されていないＦＰＣがサスペンション６４の表面に接着層を介して強固に貼り付けられ一体化されている。
【００６９】
ここで、ヘッド６３はディスク６１が面内磁気記録方式の磁気記録媒体か垂直磁気記録方式の磁気記録媒体かにより、これに適用可能なタイプのヘッドであることは言うまでもない。
【００７０】
アーム６５−３は、アーム６５−３を左右に揺動させるアクチュエータ６５の回転軸６５−２に固定され、サスペンション６４の取り付けられたアーム６５−３の先端部と回転軸６５−２に対して反対側の後端には、図示されていないコイルが取り付けられている。
【００７１】
磁気回路６５−１から生じている磁界の中をアーム６５−３に取り付けられたコイルに電流が流れることにより、アーム６５−３は回転軸６５−２を中心に、流れる電流の方向によって左右に揺動し、ヘッド６３をディスク６１の表面の所望のトラック６１−２にポジショニングしている。
【００７２】
アクチュエータ６５からベース６０の裏面に実装されている回路基板（図示省略）へはＦＰＣ４−３が接続されており、制御信号や駆動電流を送受している。さらに、外部の機器との接続のためのコネクタ部６６がベース６０に設けられている。
【００７３】
図において、トラック６１−２に対して、本発明による磁気転写装置により磁気転写されたサーボパターンを有する領域がサーボ領域６１−１として示されている。
【００７４】
ここで、サーボ領域６１−１内のサーボパターンは、本発明による磁気転写装置にて磁気転写されたものでもよいし、本発明による磁気転写装置にて磁気転写されたものを基にヘッド６３によって追記されたタイプのものでも構わない。
【００７５】
本発明による磁気記録媒体が以上のような構成の磁気ディスク装置に組み込まれており、ヘッド６３をトラック６１−２の上に正確に位置決め制御するために必要な、サーボ領域６１−１内のサーボパターンの中の１つ１つの反転磁化領域の磁化分布の状態が、上述した好ましい状態となっているため、良好な位置決め制御用の信号として用いることができる。
【００７６】
ここで、図５における磁気ディスク装置例では、固定型のディスクを使用しているが、磁気ディスク装置はカートリッジ式ディスクを用いるディスク装置であっても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明による磁気転写マスタ体の一実施例を示す。
【図２】本発明による磁気転写マスタ体の製造手順の一実施例を示す。
【図３】従来の磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気記録媒体における転写磁界波形シミュレーション結果の例を示す。
【図４】本発明による磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気記録媒体における転写磁界波形シミュレーション結果の例を示す。
【図５】本発明による磁気転写装置の一例を示す。
【図６】本発明による磁気ディスク装置の一例を示す。
【図７】従来の磁気転写マスタ体の断面図例を示す。
【図８】マスタパターンの凹凸比＝３．１としてピッチを変えた場合をシミュレーションして計算した転写磁界波形の例を示す。
【符号の説明】
【００７８】
１１                 磁気転写マスタ体基板
１２                 第１の磁性体
１３                 第２の磁性体
２１                 磁気転写マスタ体Ｓｉ基板
２２                 レジストパターン
２３                 ＦｅＣｏ
２４                 Ｎｉ
５１                 磁気転写マスタ体用回転軸付きホルダ
５２                 磁気転写マスタ体
５３                 磁気記録媒体用回転軸付きホルダ
５４                 磁気記録媒体
５５                 電磁石
６０                 ベース
６１                 ディスク
６２                 ディスク回転軸
６３                 ヘッド
６４                 サスペンション
６５                 アクチュエータ
６６                 コネクタ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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