(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に透明樹脂中に近赤外線吸収色素が含まれている近赤外線吸収層が設けられ、他方の面に減反射層が設けられているディスプレイ用減反射性近赤外線低減材であって、
前記近赤外線吸収色素は下記の一般式（１）で表わされるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩化合物と、該ジイモニウム塩化合物と同じアニオン成分を有するシアニン系化合物とを含有すると共に、前記近赤外線吸収色素の含有量が近赤外線吸収層を構成する透明樹脂に対して３〜７質量％であることを特徴とする特徴とするディスプレイ用減反射性近赤外線低減材。
【化１】
0005050681.tif 000009
（式中におけるＲは、同一又は異なる基であって、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、フェニル基、及びフェニルアルキレン基からなる群より選ばれる基を示し、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ同一又は異なる基で、それぞれフルオロアルキル基を示すか、又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基を示す。）
【請求項２】
前記ジイモニウム塩化合物を示す一般式（１）中のＲは炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ１及びＲ２は同一の基で、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材。
【請求項３】
前記シアニン系化合物の含有量は、ジイモニウム塩化合物に対して５〜２０質量％であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材。
【請求項４】
光の波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域に吸収を示す色調補正色材を含有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材が、表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼付されて構成されていることを特徴とする電子画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ等の電子画像表示装置の表示画面上に設けられ、周辺電子機器の誤作動を招く近赤外線を吸収する近赤外線吸収機能と、外光の映り込みを抑制して優れた視認性を付与する減反射機能とを兼ね備えた、ディスプレイ用減反射性近赤外線低減材及びこれを用いた電子画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の高度情報化社会において、電子画像表示装置（電子ディスプレイ）等の光エレクトロニクス機器はテレビジョンやパーソナルコンピュータのモニター用等として著しい進歩を遂げ、広く普及している。さらには、電子ディスプレイの大型化や薄型化に伴ってプラズマディスプレイが注目を浴びているが、外光の映り込みによる視認性の低下、プラズマディスプレイの構造や動作原理上発せられる近赤外線によるリモートコントロール機等の周辺機器の誤動作等といった問題がある。
【０００３】
これらの問題を解決するために、プラズマディスプレイ用フィルタには、外光の映り込みを抑制して視認性を向上させる減反射材や、プラズマディスプレイの発光体から発せられる近赤外線を吸収する近赤外線低減材が用いられている。リモートコントロール機等に使用されている８２０ｎｍ、８８０ｎｍ及び９８０ｎｍの光の波長を含む８００〜１０００ｎｍの波長領域の光を吸収するため、近赤外線吸収色素としてシアニン化合物とジイモニウム化合物とを含有する近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルムが知られている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００４】
ところが、特許文献１に記載されている発明では、シアニン化合物とジイモニウム化合物とを組合せて用いることにより、ジイモニウム化合物のアニオン成分とシアニン化合物のアニオン成分とが交換される塩交換反応が起き、色素の安定性が低下するという問題があった。そこで、陰イオンを含む塩化合物又は金属錯体塩を選択する場合には、ジイモニウム系色素中の陰イオンと同じ陰イオンを有することが好ましく、その場合にはジイモニウム系色素の陰イオンとの塩交換反応が起こった場合でも該ジイモニウム塩色素は変化しないことが知られている（例えば、特許文献２を参照）。このため、近赤外線の吸収性能や熱安定性が良好に保持される。
【特許文献１】特開２００３−２１７１５号公報（第２頁及び第６頁）
【特許文献２】特開２００３−７５６２８号公報（第２頁及び第５頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献２に記載のジイモニウム系色素はアニオン成分として例えばヘキサフルオロアンチモン酸が使用され、金属が含まれているため、ジイモニウム系色素自体の安定性が十分ではなく、近赤外線を吸収する近赤外線低減材として十分な耐久性能を発揮することが困難であった。さらに、特許文献２における近赤外線吸収色素の含有量は、樹脂分及び色素の合計量に対して例えば１６．６質量％という多量であるため（特許文献２の段落００４６の例５）、近赤外線吸収色素が劣化しやすくなり、近赤外線低減材の耐久性能が一層低下するという問題があった。加えて、近赤外線低減材には、取扱性を良くするために屈曲性能に優れていることが要求されている。
【０００６】
そこで、本発明の目的とするところは、近赤外線吸収色素の安定性を保持し、耐久性能を向上させることができると共に、屈曲性能が高く取扱性の良いディスプレイ用減反射性近赤外線低減材及びこれを用いた電子画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、第１の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材は、透明基材の一方の面に透明樹脂中に近赤外線吸収色素が含まれている近赤外線吸収層が設けられ、他方の面に減反射層が設けられているものである。そして、前記近赤外線吸収色素は下記の一般式（１）で表わされるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩化合物と、該ジイモニウム塩化合物と同じアニオン成分を有するシアニン系化合物とを含有すると共に、前記近赤外線吸収色素の含有量が近赤外線吸収層を構成する透明樹脂に対して３〜７質量％であることを特徴とする。
【０００８】
【化１】
0005050681.tif 000002
（式中におけるＲは、同一又は異なる基であって、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、フェニル基、及びフェニルアルキレン基からなる群より選ばれる基を示し、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ同一又は異なる基で、それぞれフルオロアルキル基を示すか、又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基を示す。）
第２の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材は、第１の発明において、前記ジイモニウム塩化合物を示す一般式（１）中のＲは炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ１及びＲ２は同一の基で、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基であることを特徴とする。
【０００９】
第３の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材は、第１又は第２の発明において、前記シアニン系化合物の含有量は、ジイモニウム塩化合物に対して５〜２０質量％であることを特徴とする。
【００１０】
第４の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材は、第１から第３のいずれかの発明において、光の波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域に吸収を示す色調補正色材を含有することを特徴とする。
【００１１】
第５の発明の電子画像表示装置は、第１から第４のいずれかの発明に係るディスプレイ用減反射性近赤外線低減材が、表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼付されて構成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
第１の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材では、近赤外線吸収色素は前記一般式（１）で表わされるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩化合物と、該ジイモニウム塩化合物と同じアニオン成分を有するシアニン系化合物とを含有している。
【００１３】
一般式（１）で表わされるジイモニウム塩化合物はスルホンイミドをアニオン成分に有していることにより、従来の安定性阻害要因となるアンチモン等の金属を含むジイモニウム塩化合物よりも安定性に優れ、近赤外線低減材の耐久性能を高めることができる。さらに、特定のジイモニウム塩化合物とシアニン系化合物とを併用して相乗的作用を図ることにより、近赤外線吸収機能を一層高めることができる。加えて、ジイモニウム塩化合物とシアニン系化合物のアニオン成分を同じにすることにより、塩交換反応が起こった場合であってもアニオン成分は変化せず、近赤外線吸収色素の安定性を保持することができ、近赤外線低減材の耐久性能を向上させることができる。
【００１４】
その上、近赤外線吸収色素の含有量が近赤外線吸収層を構成する透明樹脂に対して３〜７質量％であることにより、近赤外線領域における光の透過率を有効に低減させることができると共に、近赤外線透過率を所望の範囲に設定したときに近赤外線吸収層の膜厚を適正範囲に収めることができる。従って、近赤外線低減材の屈曲性能が高く、取扱性を向上させることができる。
【００１５】
第２の発明では、ジイモニウム塩化合物を示す一般式（１）中のＲは炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ１及びＲ２は同一の基で、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基である。このため、特定構造のアニオン成分を含むジイモニウム塩化合物がその機能を有効に発現することができ、第１の発明の効果を高めることができる。
【００１６】
第３の発明では、シアニン系化合物の含有量はジイモニウム塩化合物に対して５〜２０質量％である。このため、第１又は第２の発明の効果に加えて、可視光線領域における透過率を低下させることなく、近赤外線領域の短波長側の透過率を効率良く低下させることができる。
【００１７】
第４の発明では、光の波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域に吸収を示す色調補正色材を含有する。このため、第１から第３のいずれかの発明の効果に加え、色調補正色材によって所望の色彩を付与することができるため、プラズマディスプレイ等の電子画像表示装置より発せられる各色の鮮明性及び色再現性の向上に寄与することができる。
【００１８】
第５の発明の電子画像表示装置では、上記のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材が、表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼付されて構成されている。このため、電子画像表示装置の表示画面、特にプラズマディスプレイに用いられたときに、リモートコントロール機等の周辺機器の誤動作を防止できると同時に、外光等の映り込みを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の最良の形態と思われる実施形態について詳細に説明する。
図１（ａ）に示すように、本実施形態におけるディスプレイ用減反射性近赤外線低減材（以下、単に近赤外線低減材ともいう）１０は、透明基材１１の一方の面に近赤外線吸収色素を含有してなる近赤外線吸収層１２が設けられ、他方の面に減反射層１３が設けられて構成されている。
【００２０】
透明基材１１は透明性を有しておれば特に制限されないが、反射を抑えるため屈折率（ｎ）が１．５５〜１．７０の範囲内のものが好ましい。係る透明基材１１としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ｎ＝１．６５）、ポリカーボネート（ＰＣ、ｎ＝１．５９）、ポリアリレート（ＰＡＲ、ｎ＝１．６０）及びポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ、ｎ＝１．６５）等が好ましい。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性、入手の容易性及びコストの点で好ましい。また、透明基材１１の厚さは、２５〜４００μｍが好ましく、５０〜２００μｍがさらに好ましい。この厚さが２５μｍ未満又は４００μｍを超える場合には、近赤外線低減材１０の製造時及び使用時における取扱い性が低下してしまうので好ましくない。
【００２１】
さらに、透明基材１１には、近赤外線吸収層１２に含まれる近赤外線吸収色素が紫外線によって劣化しないように保護するために、紫外線吸収剤を含むことが望ましい。紫外線吸収剤としては公知の紫外線吸収剤が用いられ、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物等が好ましく、これらのうちベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が特に好ましい。
【００２２】
紫外線吸収剤の含有量としては、波長３８０ｎｍ以下の紫外線の光線透過率が５％以下になるように設定するのが好ましく、３％以下になるように設定するのがより好ましく、１％以下になるように設定するのが特に好ましい。波長３８０ｎｍ以下の光線透過率が５％を超える場合、近赤外線吸収色素に対して十分な紫外線吸収効果が望めず、近赤外線吸収層１２の耐光性を低下させてしまうため好ましくない。
【００２３】
次に、近赤外線吸収層１２に含まれる近赤外線吸収色素としては、その１つに下記の一般式（１）で表されるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩化合物が用いられる。係る特定構造のジイモニウム塩化合物を用いることにより、光の波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域における光の透過を効果的に抑えることができ、透過率の低減を図ることができる。
【００２４】
【化２】
0005050681.tif 000003
（式中におけるＲは、同一又は異なる基であって、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、フェニル基、及びフェニルアルキレン基からなる群より選ばれる基を示し、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ同一又は異なる基で、それぞれフルオロアルキル基を示すか、又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基を示す。）
一般式（１）において、アニオン成分のＲ１及びＲ２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよいフルオロアルキル基、又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基であれば、置換されているフッ素原子の数や炭素数には特に制限されない。これらのうちＲ１及びＲ２は、下記の一般式（２）で表される炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基がさらに好ましい。
【００２５】
【化３】
0005050681.tif 000004
（式中におけるｎ及びｎ´は、１〜８の整数を表す）
係るアニオン成分の好ましい具体例としては、例えばパーフルオロアルカンスルホニル基が同一であるビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミド、パーフルオロアルカンスルホニル基が異なるペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド、ノナフルオロメタンスルホンヘプタフルオロプロパンスルホンイミド等が挙げられるが、これらの中でもパーフルオロアルカンスルホニル基が同一で、かつｎとｎ´が１又は２であるビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド又はビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミドが、近赤外線吸収能力が優れている点でさらに好ましい。
【００２６】
また、一般式（１）のアニオン成分におけるＲ１及びＲ２の好ましい別の例としては、下記の一般式（３）で表され、Ｒ１及びＲ２が一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基が挙げられる。このアニオン成分は、近赤外線吸収色素の耐熱性をより向上させることができる点で好ましい。
【００２７】
【化４】
0005050681.tif 000005
（式中におけるｍは、２〜１２の整数を表す）
ここで、ｍは２〜８が好ましく、ｍが３である１，３‐ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミドが特に好ましい。
【００２８】
一般式（１）のＲは、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、フェニル基、及びフェニルアルキレン基からなる群より選ばれる置換基であって、これらは同一であっても異なっていてもよい。これらのうち、炭素数１〜８の直鎖又は側鎖を有するアルキル基が好ましく、炭素数２〜６の直鎖アルキル基が特に好ましい。このような好ましい官能基の具体例としては、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘプチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、イソアミル基等が挙げられる。
【００２９】
一般式（１）におけるＲの好ましい他の例としては、下記の一般式（４）で表されるフェニルアルキレン基が挙げられ、このアルキレン基の炭素数は１〜８であることが特に好ましい。このようなＲの場合、近赤外線吸収色素の耐熱性を向上させることができる。
【００３０】
【化５】
0005050681.tif 000006
（式中におけるＡは、炭素数１〜１８の直鎖又は側鎖を有するアルキレン基を表し、環Ｂは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す）
さらに、一般式（４）のフェニルアルキレン基におけるフェニル基は、置換基を有していなくてもよく、或いはアルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基及びハロゲンからなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基又は原子を有していてもよい。これらのうち、置換基を有していないフェニル基が好ましく、具体的にはベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピレン基、フェニル−α−メチルプロピレン基、フェニル−β−メチルプロピレン基、フェニルブチレン基、フェニルペンチレン基、フェニルオクチレン基等が挙げられ、ベンジル基及びフェネチル基が最も好ましい。
【００３１】
このようなジイモニウム塩化合物の具体例としては、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（ジ−イソプロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（ジ−イソブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（ジ−ｔ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（ジ−イソプロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（ジ−イソブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（ジ−ｔ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム等が挙げられる。これらのうち、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム及びビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムが好ましい。これらのジイモニウム塩化合物は、単独で又は２種類以上を混合して用いることができる。
【００３２】
次に、近赤外線吸収色素としては、前記ジイモニウム塩化合物に加えてシアニン系化合物が用いられる。係るシアニン系化合物は、光の波長８００〜９００ｎｍに極大吸収波長を有することが好ましく、前記ジイモニウム塩化合物と組合せて使用されることにより、近赤外線領域の光を効率良く抑制し、透過率を低減させることができる。
【００３３】
また、シアニン系化合物を構成するアニオン成分は、ジイモニウム塩化合物を構成するアニオン成分と同じにすることが必要である。ここで「同じ」とは、完全に同一の構造を有するものだけではなく、アニオン成分を構成する炭素鎖の炭素数が±２以内のものを含む意味である。アニオン成分が異なる場合には、塩交換反応により色素の安定性が著しく阻害されるが、アニオン成分が同じ場合には、塩交換反応が起きた場合であってもアニオン成分の同一性が保持されるため色素の安定性が維持される。
【００３４】
このようなシアニン系化合物の具体例としては、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ペンタジエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３−ペンタジエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）−１，３−ペンタジエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−１，３−ペンタジエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−３−クロロ−｛１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）｝−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−３−クロロ−｛１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）｝−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−３−クロロ−｛１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）｝−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−３−クロロ−｛１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）｝−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ペンタジエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３−ペンタジエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）−１，３−ペンタジエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−１，３−ペンタジエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−３−クロロ−｛１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）｝−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−３−クロロ−｛１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）｝−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−３−クロロ−｛１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジプロピルアミノフェニル）｝−１，３，５−ヘプタトリエン、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−３−クロロ−｛１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）｝−１，３，５−ヘプタトリエン等が挙げられる。
【００３５】
これらのシアニン系化合物のうち、近赤外線領域の光を一層抑制でき、透過率をより低下させるために、下記の一般式（５）で示されるシアニン系化合物が好ましい。
【００３６】
【化６】
0005050681.tif 000007
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ同一又は異なる基で、それぞれフルオロアルキル基を示すか、又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基を示す。）
一般式（５）中のＲ１及びＲ２は、前記一般式（２）で表される炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基がさらに好ましく、或いは前記一般式（３）で表されるＲ１及びＲ２が一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数２〜４のパーフルオロアルキレン基がより好ましい。
【００３７】
具体的には、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエン、及びビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３，５−ヘプタトリエンが好ましい。これらのシアニン系化合物は、単独で又は２種類以上を混合して用いることができる。
【００３８】
シアニン系化合物の含有量は、前記ジイモニウム塩化合物に対して５〜２０質量％であることが好ましい。シアニン系化合物の含有量が５質量％を下回る場合には、近赤外線領域の短波長側における透過率を効率良く低下させることができないため好ましくない。一方、２０質量％を上回る場合には、光の波長が３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域に不要な吸収が生じ、可視光線の透過率が低下してしまうため好ましくない。
【００３９】
近赤外線低減材１０の近赤外線吸収層１２には、前記ジイモニウム塩化合物及びシアニン系化合物以外にその他の近赤外線吸収色素を含有することができる。その他の近赤外線吸収色素としては特に制限されないが、例えば前記ジイモニウム塩化合物以外のジイモニウム塩化合物系の色素、前記シアニン系化合物以外のシアニン系色素のほか、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチオール系、ナフトキノン系、アントロキノン系、トリフェニルメタン系、アミニウム系等の色素が挙げられる。このような色素のうち、市販されているものとしては例えばＮＫ−５０３７、ＮＫ−５０６０、ＮＫ−５７０６、ＮＫ−８９５３、ＮＫ−８６８９、ＮＫ−８７５８、ＮＫ−９０１４、ＮＫ−９０２６〔以上、（株）林原生物化学研究所製の商品名〕等のシアニン系化合物、イーエクスカラーＩＲ１、イーエクスカラーＩＲ３、イーエクスカラーＨＡ−１、イーエクスカラー８１０Ｋ（＝ＩＲ−１０Ａ）、イーエクスカラー８１２Ｋ（＝ＩＲ−１２）、イーエクスカラー８１４Ｋ（＝ＩＲ−１４）、イーエクスカラー９０５Ｂ、イーエクスカラー９０７Ｂ、イーエクスカラー９１０Ｂ〔以上、（株）日本触媒製の商品名〕、ＰＲＯＪＥＴ８００ＮＰ、ＰＲＯＪＥＴ８３０ＮＰ、ＰＲＯＪＥＴ９００ＮＰ、ＰＲＯＪＥＴ９２５ＮＰ〔以上、アビシア（株）製の商品名〕等のフタロシアニン系化合物、ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９〔以上、三井化学（株）製の商品名〕等のジチオール系化合物、ＣＩＲ−１０８０、ＣＩＲ−１０８１〔以上、日本カーリット（株）製の商品名〕、ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲＧ−０２２、ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲＧ−０２３、ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲＧ−０４０〔以上、日本化薬（株）製の商品名〕等のジイモニウム塩化合物等が挙げられる。これらは必要に応じて１種又は２種以上が用いられる。
【００４０】
前記透明基材１１上に近赤外線吸収層１２を形成する方法は特に制限されるものではなく、均一に形成できる方法が好ましい。例えば、近赤外線吸収色素を含む溶液（バインダー）を用いてウェットコーティング法により形成する方法が挙げられる。近赤外線吸収層１２を形成する際には、前述の近赤外線吸収色素を透明樹脂溶液に溶解させた溶液を用いて行うことができる。透明樹脂溶液を形成する透明樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のポリスチレン系化合物；スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体；ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等のポリ（メタ）アクリル酸アルキル；ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル；ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの透明樹脂は、単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
【００４１】
近赤外線吸収層１２中における近赤外線吸収色素の含有量は、透明樹脂に対して３〜７質量％であることが必要である。近赤外線吸収色素の含有量が７質量％より多い場合には、可視光線透過率が低下し、さらには近赤外線吸収色素が外的要因を受けやすくなって劣化しやすくなるため不適当である。その一方、３質量％より少ない場合には、近赤外線透過率を所望とする透過率まで低下させようとしたときに近赤外線吸収層１２の膜厚を厚くしなければならず、近赤外線低減材１０の屈曲性能が悪化し、取扱性（ハンドリング性）が悪くなる。
【００４２】
近赤外線吸収層１２には、本発明の効果を損なわない範囲において、前記成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、例えば重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、表面改質剤、光安定剤等が挙げられ、さらにウェットコーティング法において成膜後乾燥させることができる限りは、任意の溶媒を添加することもできる。
【００４３】
また、近赤外線吸収層１２の厚さは、５〜１５μｍであることが好ましい。近赤外線吸収層１２の厚さが５μｍ未満の場合には、近赤外線吸収機能を十分に発現させることが難しくなるため好ましくない。その一方、厚さが１５μｍを超える場合には、近赤外線低減材１０について屈曲性能が低下して取扱性が悪くなる等の問題が生じるため好ましくない。近赤外線吸収層１２について近赤外線領域における透過率は、４０％以下が好ましく、３０％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、０．１〜５％が特に好ましい。近赤外線透過率が４０％を超えると、近赤外線吸収機能を十分に発現することができず、リモートコントール機等の周辺機器に誤作動を及ぼすおそれがある等の点から好ましくない。
【００４４】
近赤外線吸収層１２には、例えばプラズマディスプレイから動作原理上発せられるネオン（Ｎｅ）光の輝線をカットするために、光の波長５７０〜６１０ｎｍに極大吸収波長を有する特定波長吸収色素を含有させることが好ましい。このような特定波長吸収色素は特に限定されないが、例えばスクアリリウム系、アゾメチン系、シアニン系、キサンテン系、アゾ系、テトラアザポルフィリン系、ピロメテン系等の色素が挙げられ、スクアリリウム系、シアニン系又はテトラアザポルフィリン系の色素が好ましい。
【００４５】
近赤外線吸収層１２には、ディスプレイの発光色の色純度及びコントラスト向上のために、色調を補正する色材を含有させることが好ましい。このような色調補正色材としては、可視光線領域に所望の吸収を有する染料又は顔料が用いられる。染料としては、例えばスクアリリウム系、アゾメチン系、シアニン系、キサンテン系、アゾ系、テトラアザポルフィリン系、ピロメテン系等の化合物が挙げられる。これらのうち、耐久性能が良好である点からテトラアザポルフィリン系の化合物が好ましい。顔料としては、例えばアゾ系、イソインドリノン系、キナクリドン系、ジケトピロロピロール系、アンスラキノン系、ジオキサジン系等の化合物が挙げられる。
【００４６】
次に、図１（ｂ）に示すように、前記透明基材１１の他方の面には、ハードコート層１４を形成することが好ましい。なお、図１（ｂ）では第２の干渉層１８を介してハードコート層１４が設けられている。このハードコート層１４を形成することにより、近赤外線低減材１０をディスプレイ表面に適用した場合、十分な表面強度を付与することができ、耐久性能を向上させることができる。ハードコート層１４の厚さは、１〜２０μｍであることが好ましい。この厚さが１μｍより薄い場合には、近赤外線低減材１０に十分な硬度を持たせることが難しくなるため好ましくない。一方、厚さが２０μｍより厚い場合には、近赤外線低減材１０について屈曲性能の低下等の問題が生じるため好ましくない。
【００４７】
ハードコート層１４を形成する材料は常法に従って選択され、例えば単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレート及びテトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物等の硬化物が挙げられる。ここで、本明細書における（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタクリレートの双方を含む概念を表す。これらのうち、生産性及び硬度を両立させる観点より、紫外線硬化性の多官能アクリレートを含む組成物の重合硬化物であることが特に好ましい。
【００４８】
紫外線硬化性の多官能アクリレートには、本発明の効果を損なわない限りその他の成分を含んでいても良い。その他の成分としては、例えば無機又は有機の微粒子状充填剤、無機又は有機の微粒子状顔料及びそれ以外の無機又は有機微粒子、導電性を有する無機金属微粒子又は有機化合物、その他の重合体、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等が挙げられる。さらに、ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる場合には、任意の量の溶媒を添加することができる。
【００４９】
係るハードコート層１４の形成方法は、有機材料を用いる場合には、ロールコート法、ダイコート法等、一般的なウェットコート法を採用することができる。ウェットコート後には必要に応じて加熱や紫外線、電子線等の活性エネルギー線照射により硬化反応を行ない、硬化させることができる。
【００５０】
次に、前記減反射層１３は、単層構成又は多層構成とすることができる。減反射効果の観点からは２層以上の構成が望ましく、生産性、生産コスト及び色再現性の観点からは単層構成が望ましい。減反射層１３の形成方法としては、生産性及び生産コストの面より、ウェットコーティング法が好ましい。
【００５１】
減反射層１３の機能を発現させるために、減反射層１３を構成する低屈折率層１６の屈折率としては、形成される層がその直下の層よりも低屈折率であることを要件とし、その屈折率は１．２０〜１．４５の範囲にあることが好ましい。屈折率が１．４５を超える場合にはウェットコーティング法では十分な減反射効果を得ることが難しく、１．２０未満の場合は十分に硬い層を形成することが困難となる傾向にある。また、２層構成とする場合には、減反射層１３を構成する高屈折率層１５は直上に形成される低屈折率層１６より屈折率を高くすることが必要であるため、その屈折率は１．６０〜１．９０の範囲内であることが好ましい。屈折率が１．６０未満では十分な減反射効果を得ることが難しく、またウェットコーティング法で１．９０を超える層を形成するのは困難となる傾向にある。
【００５２】
減反射層１３の厚さは、透明基材１１の種類、形状、減反射層１３の構成によって異なるが、一層当たり可視光線の波長と同じ厚さ又はそれ以下の厚さが好ましい。例えば、可視光線に対して減反射効果を発現させる場合には、高屈折率層１５の光学膜厚ｎＨ・ｄは５００≦４ｎＨ・ｄ（ｎｍ）≦７５０、及び低屈折率層１６の光学膜厚ｎＬ・ｄは、４００≦４ｎＬ・ｄ（ｎｍ）≦６５０を満たすように設計される。但し、ｎＨ及びｎＬはそれぞれ高屈折率層１５及び低屈折率層１６の屈折率、ｄは各層の厚さを表す。
【００５３】
高屈折率層１５を構成する材料としては、無機材料又は有機材料を用いることができる。無機材料としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫等の微粒子が挙げられる。特に、導電性の面より酸化錫、酸化インジウム錫が好ましく、屈折率の点より酸化チタン、酸化セリウム又は酸化亜鉛が好ましい。前記有機材料としては、例えば屈折率が１．６０〜１．８０である重合性単量体を含む組成物を重合硬化した重合体等を用いることができる。これらの材料は単独又は２種以上混合して用いることができる。無機材料の微粒子の平均粒子径は層の厚さを大きく超えないことが好ましく、特に０．１μｍ以下であることが好ましい。微粒子の平均粒子径が大きくなると、散乱が生じる等、高屈折率層１５の光学機能が低下するため好ましくない。
【００５４】
低屈折率層１６を構成する材料としては、中空酸化珪素、コロイダル酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム等の無機物や、含フッ素有機化合物の単体又は混合物を用いることができる。また、フッ素を含まない有機化合物（以下、非フッ素系有機化合物と略記する）の単体若しくは混合物又は重合体を透明樹脂として用いることができる。
【００５５】
含フッ素有機化合物としては、例えば含フッ素単官能（メタ）アクリレート、含フッ素多官能（メタ）アクリレート、含フッ素イタコン酸エステル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素化合物等の単量体及びそれらの重合体等が挙げられる。これらの中では、反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリレートが好ましく、特に含フッ素多官能（メタ）アクリレートが硬度及び屈折率の点から最も好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬化させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を形成することができる。
【００５６】
低屈折率層１６を構成するその他の材料としては、有機又は無機微粒子として従来公知のものを用いることができる。例えば、中空酸化珪素微粒子、コロイダル酸化珪素微粒子、有機重合体微粒子等が挙げられる。これら微粒子の平均粒子径は、低屈折率層１６の厚さを大きく超えないことが好ましく、０．１μｍ以下であることが特に好ましい。平均粒子径が大きくなると、光の散乱が生じる等、低屈折率層１６の光学性能が低下するため好ましくない。さらに、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。
【００５７】
また、減反射層１３には上記化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分として例えば無機又は有機顔料、その他の重合体、重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤等が挙げられる。さらに、ウェットコーティング法によって成膜後乾燥させる場合には、任意の量の溶媒を添加することができる。減反射層１３はウェットコーティング法により成膜した後、必要に応じて紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や加熱によって硬化反応を行うことにより形成することができる。このような活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。
【００５８】
図１（ｂ）に示すように、透明基材１１の近赤外線吸収層１２が形成される面及び減反射層１３が形成される面には、光の干渉むらを低減させ得る第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８がそれぞれ設けることが好ましい。この第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８により、近赤外線吸収層１２とハードコート層１４の干渉むらを低減できるため、優れた視認性を得ることができる。第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８を形成する材料として具体的にはアクリレート等の反応性単量体、重合体等の有機物、又は珪素化合物や、金属、金属酸化物等の無機物の単独又は混合物を用いることができる。第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８には本発明の効果を損なわない限り、他の機能を付与することができる。また、第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８の形成方法としては、ドライコート法やウェットコート法等の従来公知の方法が採用される。
【００５９】
近赤外線低減材１０における透明基材１１の近赤外線吸収層１２が形成されている面には、接着層を設けることができる。係る接着層を形成する材料は特に制限されるものではないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤等を用いることができる。また、この接着層には特定波長域の光の遮断、コントラストの向上、色調の補正等の機能を１種又は２種以上付与することができる。例えば、近赤外線低減材１０の透過光が黄色味を帯びている等、好ましくない場合には色素等を添加して色調補正を行うことができる。
【００６０】
近赤外線低減材１０は、近赤外線吸収効果及び減反射効果を必要とするディスプレイに用いることができ、特に電子画像表示装置の表面に好適に使用することができるが、展示用のカバ−、ケ−ス等のディスプレイに適用することもできる。電子画像表示装置としては、例えばプラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ブラウン管等が挙げられるが、これらの中でも電子画像表示装置から不要な近赤外線が放出されるプラズマディスプレイに好適に使用することができる。近赤外線低減材１０を表示画面上に配置する場合には、近赤外線低減材１０を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼付することにより行われる。この場合、接着層等の層を介して行うこともできる。
【００６１】
以上の実施形態により発揮される作用及び効果につき、以下にまとめて記載する。
・  本実施形態の近赤外線低減材１０では、一般式（１）で示されるジイモニウム塩化合物はスルホンイミドをアニオン成分としていることにより、従来の安定性阻害要因となるアンチモン等の金属を含むジイモニウム塩化合物よりも安定性が良く、長期に渡ってその機能を発現でき、近赤外線低減材１０の耐久性能を高めることができる。さらに、特定のジイモニウム塩化合物とシアニン系化合物とを併用し、近赤外線領域の全体において相乗的作用を発現させることにより、近赤外線吸収機能を一層向上させることができる。加えて、ジイモニウム塩化合物とシアニン系化合物のアニオン成分を同じにすることにより、塩交換反応が起こった場合であってもアニオン成分は変わらないため、近赤外線吸収色素の安定性を保持することができ、その結果近赤外線低減材１０の耐久性能を向上させることができる。
【００６２】
その上、近赤外線吸収色素の含有量が近赤外線吸収層１２を構成する透明樹脂に対して３〜７質量％であることにより、近赤外線領域における光を効率良く抑制することができると共に、近赤外線透過率を所望範囲に低減させたときに近赤外線吸収層１２の膜厚を適正範囲に収めることができる。従って、近赤外線低減材１０の屈曲性能が高く、その取扱いを容易にすることができる。しかも、従来の近赤外線吸収色素はアンチモン等の重金属を含み、環境負荷が大きいのに対し、本実施形態の近赤外線吸収色素はそのような重金属を含まないため、環境に負荷を与えるような欠点がない。
【００６３】
・  ジイモニウム塩化合物を示す一般式（１）中のＲは炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ１及びＲ２は同一の基で、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。この場合、特定構造のアニオン成分を含むジイモニウム塩化合物がその機能を有効に発現することができ、上記の効果を一層向上させることができる。
【００６４】
・  シアニン系化合物の含有量がジイモニウム塩化合物に対して５〜２０質量％であることにより、シアニン系化合物の性質に基づき可視光線領域における透過率を低下させることなく、近赤外線領域の特に短波長側の透過率を効率良く低下させることができる。
【００６５】
・  光の波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域に吸収を示す色調補正色材を含有することにより、該色調補正色材によって所望の色彩を付与することができるため、プラズマディスプレイ等の電子画像表示装置より発せられる各色の鮮明性及び色再現性の向上に寄与することができる。
【００６６】
・  電子画像表示装置では、上記の近赤外線低減材１０が、表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼付されて構成される。このため、電子画像表示装置の表示画面、特にプラズマディスプレイに用いられたときに、リモートコントロール機等の周辺機器の誤動作を防止できると同時に、外光等の映り込みを抑制することができる。
【実施例】
【００６７】
以下、製造例、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明するが、本発明はそれら実施例の範囲に限定されるものではない。
各例においては、光の波長８２０ｎｍ、８５０ｎｍ及び９５０ｎｍにおける近赤外線の透過率がいずれも５％以下となるように設計を行った。透過率は分光光度計〔（株）島津製作所製、製品名「ＵＶ−１６００ＰＣ」〕を用いて測定し、視感度平均透過率Ｙ、透過色度ｘ、透過色度ｙは、色差計〔日本電色工業（株）製、製品名「ＳＱ２０００」〕を用い、「ＪＩＳ  Ｚ８７２２」及び「ＪＩＳ  Ｚ８７２９」に準拠して測定した。なお、光源はＣ光源、２°視野を用いた。
【００６８】
耐久性能の評価は、近赤外線低減材１０を温度８０℃、相対湿度（ＲＨ）９５％の条件下に４８時間放置した後の視感度平均透過率Ｙ、透過色度ｘ、透過色度ｙ、光の波長８２０ｎｍ、８５０ｎｍ及び９５０ｎｍにおける透過率の変化量が、いずれも３％未満の場合には○、いずれか一つでも３％以上５％未満の場合には△、いずれか一つでも５％以上の場合には×と評価した。また、屈曲性能の評価は、近赤外線低減材１０を直径５〜１０ｍｍの真鍮に巻き付け、試験後の外観に異常が見られない場合には○、外観に異常が見られる場合には×とした。なお、ジイモニウム塩化合物の吸収能残存率は、温度８０℃で相対湿度９５％の条件下４８時間後の吸収能残存率（％）を表す。
〔製造例１−１、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−１」の調製〕
近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物〔ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ‘−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、吸収能残存率９２％〕４．０質量部、このジイモニウム塩化合物とアニオン成分が同じであるシアニン系化合物〔ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニルー１，３，５−ヘプタトリエン〕０．７質量部、透明樹脂としてアクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート、質量平均分子量８０，０００）１００質量部、溶剤としてメチルエチルケトン４５０質量部及びトルエン４５０質量部を混合攪拌して溶解し、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−１」を調製した。
【００６９】
なお、上記ジイモニウム塩化合物は、前記一般式（１）におけるＲがブチル基、Ｒ１及びＲ２がトリフルオロメチル基の化合物である。さらに、ジイモニウム塩化合物の吸収能残存率は、光の波長９００〜１２００ｎｍにおける近赤外線の吸収能の残存率を表し、極大吸収波長における透過率の変化で判定したものである。また、上記シアニン系化合物は、前記一般式（５）におけるＲ１及びＲ２がトリフルオロメチル基の化合物である。
〔製造例１−２、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−２」の調製〕
製造例１−１で調製した「ＮＩＲＡ−１」に、色調補正色材としてアザポルフィリン化合物（テトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン銅錯体）０．５質量部を加え、混合攪拌して溶解し、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−２」を調製した。
〔製造例１−３、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−３」の調製〕
近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物〔ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ‘−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、吸収能残存率９１％〕４．２質量部、このジイモニウム塩化合物とアニオン成分が同じであるシアニン系化合物〔ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロピロピレンイミド酸）−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニルー１，３，５−ヘプタトリエン）〕０．８質量部を用いた以外は製造例１−１と同様にして、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−３」を調製した。
【００７０】
なお、上記ジイモニウム塩化合物は、前記一般式（１）におけるＲがブチル基、Ｒ１及びＲ２はそれらが一緒になって形成されるヘキサフルオロプロピレン基の化合物である。また、上記シアニン系化合物は、前記一般式（５）におけるＲ１及びＲ２はそれらが一緒になって形成されるヘキサフルオロプロピレン基の化合物である。
〔製造例１−４、近赤外線吸収層用塗液（ＮＩＲＡ−４）の調製〕
製造例１−３で調製した「ＮＩＲＡ−３」に、色調補正色材としてアザポルフィリン化合物（テトラ−ｔ−ブチルーテトラアザポルフィリン銅錯体）０．５質量部を加え、混合攪拌して溶解し、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−４」を調製した。
〔製造例１−５、近赤外線吸収層用塗液（ＮＩＲＡ−５）の調製〕
近赤外線吸収色素として、ジイモニウム塩化合物〔ビスヘキサフルオロアンチモン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ‘−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、吸収能残存率８１％〕３．９質量部、このジイモニウム塩化合物とアニオン成分が同じであるシアニン系化合物〔ビスヘキサフルオロアンチモン酸―１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニルー１，３，５−ヘプタトリエン）〕０．６質量部を用いた以外は製造例１−１と同様にして、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−５」を調製した。
〔製造例１−６、近赤外線吸収層用塗液（ＮＩＲＡ−６）の調製〕
近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物〔ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ‘−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、吸収能残存率９２％〕４．０質量部、シアニン系化合物〔ビスヘキサフルオロアンチモン酸―１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニルー１，３，５−ヘプタトリエン）〕０．６質量部を用いた以外は製造例１−１と同様にして、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−６」を調製した。
〔製造例１−７、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−７」の調製〕
近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物〔ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ‘−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、吸収能残存率９２％〕２．３質量部、このジイモニウム塩化合物とアニオン成分が同じであるシアニン系化合物〔ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸―１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニルー１，３，５−ヘプタトリエン）〕０．４質量部、透明樹脂としてアクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート、質量平均分子量８０，０００）１００質量部、溶剤としてメチルエチルケトン４５０質量部及びトルエン４５０質量部を混合攪拌して溶解し、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−７」を調製した。
〔製造例１−８、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−８」の調製〕
近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物〔ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ‘−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、吸収能残存率９２％〕６．３質量部、このジイモニウム塩化合物とアニオン成分が同じであるシアニン系化合物〔ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸−１，１，７，７−テトラキス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）１，３，５−ヘプタトリエン〕１．１質量部、透明樹脂としてアクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート、質量平均分子量８０，０００）１００質量部、溶剤としてメチルエチルケトン４５０質量部及びトルエン４５０質量部を混合攪拌して溶解し、近赤外線吸収層用塗液「ＮＩＲＡ−８」を調製した。
〔製造例２、ハードコート層用塗液「ＨＣ−１」の調製〕
アンチモンドープ酸化錫の３０質量％メチルエチルケトン分散液〔石原産業（株）製、商品名「ＳＮＳ−１０Ｍ」〕１７質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９５質量部、光重合開始剤〔チバ・スペシャリティケミカルズ（株）の商品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」〕５質量部を混合してハードコート層用塗液「ＨＣ−１」を調製した。
〔製造例３、低屈折率層用塗液「Ｌ−１」の調製〕
含フッ素反応性重合体５０質量部（固形分）、変性中空シリカ微粒子〔イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）分散中空シリカゾル〔触媒化成（株）の商品名：「ＥＬＣＯＭ  ＮＹ−１００１ＳＩＶ」、平均粒子径６０ｎｍ〕２０００質量部、γ‐アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学（株）の商品名：「ＫＢＭ５１０３」〕７０質量部、蒸留水８０質量部より得られる平均粒子径０．０６μｍの変性中空シリカ微粒子〕５０質量部（固形分）、光重合開始剤〔チバ・スペシャルティケミカルズ（株）の商品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７」〕２質量部、及びＩＰＡ２０００質量部を混合して、低屈折率層用塗液「Ｌ−１」を調製した。
【００７１】
上記含フッ素反応性重合体は、パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビスフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）〕１０４質量部と、ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノイル）パーオキサイドの８質量％パーフルオロヘキサン溶液１１質量部との重合反応により得られ、数平均分子量７２，０００、質量平均分子量１１８，０００であるヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテル重合体５質量部と、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）４３質量部、ピリジン１質量部、α−フルオロアクリル酸フルオライド１質量部との反応により得られる固形分１３質量％、α−フルオロアクリロイル基の導入率４０モル％の含フッ素反応性重合体である。
（実施例１）
透明基材１１として厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルム〔帝人デュポンフィルム（株）製、製品名「ＨＢ３」〕の一方の面に、ハードコート層用塗液ＨＣ−１を乾燥膜厚が５μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布後、４００ｍＪ／ｃｍ２の出力で紫外線を照射して硬化させた。次いで、ハードコート層１４上に低屈折率層塗液Ｌ−１を、光学膜厚が１１０〜１２５ｎｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布、乾燥後、窒素雰囲気下４００ｍＪ／ｃｍ２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、減反射層１３を形成した。
【００７２】
続いて、ＰＥＴフィルムの他方の面に、近赤外線吸収層用塗液ＮＩＲＡ−１をバーコーターを用いて塗布後、１３０℃で５分間乾燥することにより近赤外線吸収層１２を形成し、近赤外線低減材１０を作製した。
（実施例２）
近赤外線吸収層用塗液として、「ＮＩＲＡ−１」に代えて「ＮＩＲＡ−２」を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線低減材１０を作製した。
（実施例３）
近赤外線吸収層用塗液として、「ＮＩＲＡ−１」に代えて「ＮＩＲＡ−３」を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線低減材１０を作製した。
（実施例４）
近赤外線吸収層用塗液として、「ＮＩＲＡ−１」に代えて「ＮＩＲＡ−４」を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線低減材１０を作製した。
（比較例１）
近赤外線吸収層用塗液として、「ＮＩＲＡ−１」に代えて「ＮＩＲＡ−５」を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線低減材を作製した。
（比較例２）
近赤外線吸収層用塗液として、「ＮＩＲＡ−１」に代えて「ＮＩＲＡ−６」を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線低減材を作製した。
（比較例３）
近赤外線吸収層用塗液として、「ＮＩＲＡ−１」に代えて「ＮＩＲＡ−７」を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線低減材を作製した。
（比較例４）
近赤外線吸収層用塗液として、「ＮＩＲＡ−１」に代えて「ＮＩＲＡ−８」を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線低減材を作製した。
【００７３】
【表１】
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表１に示した結果より、実施例１〜４の近赤外線低減材１０は、近赤外線吸収色素として特定のジイモニウム塩化合物とシアニン系化合物とを組合せて使用していることから、可視光線透過率の低下を抑えつつ、近赤外線透過率を低減させることができた。さらに、ジイモニウム塩化合物のアニオン成分と同じアニオン成分を有するシアニン系化合物を使用していることにより、耐久性能が良好であった。しかも、透明樹脂に対する近赤外線吸収色素の含有量が３〜７質量％の範囲内に設定されていることから、屈曲性能も良好であった。
【００７４】
一方、比較例１の近赤外線低減材は、ジイモニウム塩化合物とシアニン系化合物のアニオン成分は同じであるが、ジイモニウム塩化合物が一般式（１）で表される化合物ではないことから、近赤外線低減材として十分な耐久性能を得ることはできなかった。また、比較例２の近赤外線低減材は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物を使用しているが、併用するシアニン系化合物のアニオン成分が当該ジイモニウム塩化合物のアニオン成分と異なっていることから、近赤外線低減材として耐久性能が不足する結果となった。さらには、比較例３の近赤外線低減材は、透明樹脂に対する近赤外線吸収色素の含有量が３質量％未満であるため、機能発現のために近赤外線吸収層の膜厚を厚くしなければならず、屈曲性能が低下する結果となった。比較例４の近赤外線低減材は、透明樹脂に対する近赤外線吸収色素の含有量が７質量％を超えているため、近赤外線吸収色素が外的影響をより受けやすくなって、耐久性能が不十分な結果を招いた。
【００７５】
以上のように、本発明を示す実施例１〜４の近赤外線低減材は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物と、これと同じアニオン成分を有するシアニン系化合物を用いることにより、従来タイプの近赤外線低減材よりも耐久性能に優れ、ディスプレイ用減反射性近赤外線低減材１０として好適であることが確認された。
【００７６】
なお、本実施形態は、次のように変更して実施することも可能である。
・  近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物と同じアニオン成分を有するシアニン系化合物を複数使用し、近赤外線領域の全体に渡って透過率を一層低減させるように構成することもできる。
【００７７】
・  近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物を複数使用し、光の吸収波長が所望波長の範囲となるように調整することもできる。
・  近赤外線吸収層１２等に紫外線吸収剤を配合し、近赤外線吸収色素を紫外線から保護するように構成することもできる。
【００７８】
・  透明基材１１と近赤外線吸収層１２との間にハードコート層１４を設けることも可能である。
・  前記透明基材１１の他方の面には、ハードコート層１４を介してぎらつき防止層等を設けることができる。この場合、近赤外線低減材１０の表面硬度を高めることができると共に、近赤外線低減材１０表面のぎらつきを防止することができる。
【００７９】
さらに、前記実施形態より把握される技術的思想について以下に記載する。
・  前記シアニン系化合物は、前記一般式（５）（但し、Ｒ１及びＲ２は、前記一般式（２）で表される炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基、又は前記一般式（３）で表されるＲ１及びＲ２が一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基である。）で表される化合物であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材。このように構成した場合、請求項１から請求項４のいずれかに係る発明の効果に加え、近赤外線領域の光を一層抑制し、透過率をより低下させることができる。
【００８０】
・  前記透明基材と減反射層との間には、ハードコート層を設けることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材。このように構成した場合、請求項１から請求項４のいずれかに係る発明の効果に加えて、近赤外線低減材の表面硬度を高めることができる。
【００８１】
・  前記透明基材が紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線低減材。このように構成した場合、請求項１から請求項４のいずれかに係る発明の効果に加え、透明基材は紫外線を吸収することができ、近赤外線吸収層に含まれる近赤外線吸収色素を紫外線から効果的に保護することができ、近赤外線低減材の耐久性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】（ａ）は本発明の実施形態におけるディスプレイ用減反射性近赤外線低減材の一例を示す断面図及び（ｂ）は透明基材の両面に光の干渉層を設け、一方の干渉層上に近赤外線吸収層を設け、他方の干渉層上にハードコート層を介して高屈折率層及び低屈折率層よりなる減反射層を形成した近赤外線低減材を示す断面図。
【符号の説明】
【００８３】
１０…ディスプレイ用減反射性近赤外線低減材、１１…透明基材、１２…近赤外線吸収層、１３…減反射層。
【図１】
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