(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板上に設けられた被封止物と、該被封止物を覆うように設けられたガスバリア性シートと、を有する封止体であって、
前記ガスバリア性シートが、前記被封止物の上面及び側面だけを被覆するガスバリア膜と、該ガスバリア膜を支持する基材と、をこの順に有し、
前記ガスバリア膜の端部が前記基板と接触し、
前記基材における前記ガスバリア膜が形成されていない領域と、前記基板とが接着剤膜により接着されていることを特徴とする封止体。
【請求項２】
少なくとも前記基材における前記ガスバリア膜が形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜が設けられており、
前記アンカー膜と前記基板とが、前記接着剤膜により接着されている、請求項１に記載の封止体。
【請求項３】
前記ガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する、請求項１又は２に記載の封止体。
【請求項４】
前記ガスバリア膜が、第１のガスバリア膜と第２のガスバリア膜とを有し、
前記第１のガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有し、
前記第２のガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する、請求項１又は２に記載の封止体。
【請求項５】
前記ガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有する、請求項１又は２に記載の封止体。
【請求項６】
前記基材の両面のうち、前記ガスバリア膜が設けられていない方の面側に第３のガスバリア膜が設けられている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の封止体。
【請求項７】
前記ガスバリア膜上に透明導電膜を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の封止体。
【請求項８】
前記被封止物が、有機ＥＬディスプレイ素子又は液晶ディスプレイ素子である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の封止体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の封止体を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリア性シート、このガスバリア性シートを用いた封止体、及びこの封止体を用いた有機ＥＬディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ等の封止構造についての検討は従来から行われている。
【０００３】
特許文献１は、封止手段が封止膜と封止フィルムの組み合わせからなるフィルム有機ＥＬ素子に関する文献である。同文献においては、フィルム基板上に発光機能層が設けられ、この発光機能層全体を覆うように無機薄膜からなる封止膜が形成されている。さらに、封止膜上に接着剤を介してバリア層を有するプラスチックが封止フィルムとして張り合わされている。そして、封止膜としては、酸化珪素、酸窒化珪素、窒化珪素等の無機薄膜を用い、封止膜の形成はＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により行っている。
【特許文献１】特開２００５−３３９８６３号公報（第０００１段落、第００１３段落、第００２２段落、及び図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、本発明者の検討によれば、特許文献１のように、発光機能層全体を覆うように形成された封止膜自体は、必ずしも十分なガスバリア性を有しないことがわかった。これは、有機ＥＬディスプレイ素子に代表される発光機能層は、有機物で形成される層を有し、ＣＶＤ法等の成膜により破壊されやすい傾向にあるからである。すなわち、有機ＥＬディスプレイ素子等を破壊しないように、成膜時間、成膜温度、及び圧力等の製造条件を制御する必要があり、こうした条件を採用すると封止膜のガスバリア性が不十分となりやすい。このため、特許文献１においては、封止膜に加え封止フィルムを採用している。
【０００５】
ところが、同文献の図１からわかるように、発光機能層の周囲に形成された封止膜の外側には接着剤が設けられている。後述するように接着剤も有機物で構成されるためにガスバリア性が不十分なので、同図の構造では、ガスバリア性に劣る接着剤及び封止膜を通じて水蒸気や酸素が発光機能層に侵入しやすくなり、ダークスポット等の発生により、ガスバリア性の確保が困難となる課題がある。
【０００６】
ここで、発光機能層等を上下からフィルム基板と封止フィルムとで封止した従来の封止体における、フィルム基板と封止フィルムとが接触する界面、及びこの界面に存在する接着剤を介しての水蒸気や酸素の侵入について説明する。
【０００７】
図１３は、従来の封止体を示す模式的断面図である。従来の封止体３０は、発光機能層３２がフィルム基板３１と封止フィルム３３とで封止され、フィルム基板３１と封止フィルム３３とは接着剤３４を介して接着されている。ところが、こうした構造では、図１３の矢印に示すように、フィルム基板３１と封止フィルム３３とが接触する界面に存在する接着剤３４を通じて、水蒸気や酸素が侵入し、発光機能層３２が劣化する傾向となる。接着剤３４は、通常エポキシ樹脂等の有機物が用いられるが、こうした有機物の膜は水蒸気や酸素の遮断性が十分でない。このため、フィルム基板３１及び封止フィルム３３自体のガスバリア性が確保されている場合においても、実際には、フィルム基板３１及び封止フィルム３３の界面から水蒸気や酸素が発光機能層３２に侵入し、発光機能層３２におけるダークスポット等の不具合の発生が起こる。そこで、従来の封止体３０の利点であるフレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の封止フィルム（以下、「ガスバリア性シート」という。）、封止体、及びこうした封止体を用いた有機ＥＬディスプレイの開発が課題となっている。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その第１の目的は、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シートを提供することにある。
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その第２の目的は、上記のガスバリア性シートを用いた封止体を提供することにある。
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その第３の目的は、上記の封止体を用いた有機ＥＬディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、基材上にガスバリア膜が設けられたガスバリア性シートにおいて、基材上に形成されるガスバリア膜の大きさを、発光機能層等の被封止物の上面及び側面を覆う程度にすることにより、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シートを得ることができることを見出した。そして、こうしたガスバリア性シートを被封止物の封止に適用することにより、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の封止体、有機ＥＬディスプレイが得られることを見出した。
【００１２】
上記課題を解決するための本発明のガスバリア性シートは、基板上に配置された被封止物の少なくとも上面及び側面を封止するガスバリア性シートであって、該ガスバリア性シートが、基材と、該基材上に設けられたガスバリア膜と、を有し、該ガスバリア膜が前記被封止物の上面及び側面を被覆する大きさに形成されている、ことを特徴とする。
【００１３】
この発明によれば、ガスバリア性シートが、基材と、この基材上に設けられたガスバリア膜と、を有し、このガスバリア膜が被封止物の上面及び側面を被覆する大きさに形成されているので、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部で遮断されやすくなるとともに、ガスバリア膜が設けられていない基材表面と基板とが接着されることになるために接着性も良好となり、その結果、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シートを提供することができる。
【００１４】
本発明のガスバリア性シートの好ましい態様においては、少なくとも前記基材上における前記ガスバリア膜が形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜が設けられる。
【００１５】
この発明によれば、少なくとも基材上におけるガスバリア膜が形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜が設けられるので、ガスバリア膜が設けられていない基材表面と基板との接着力がより高くなり、その結果、フレキシブル性や高いガスバリア性を維持しつつ、より接着力に優れる構造のガスバリア性シートを提供することができる。
【００１６】
本発明のガスバリア性シートの好ましい態様においては、前記ガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する。
【００１７】
この発明によれば、ガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有するので、ガスバリア膜のガスバリア性がより高くなって、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部でより遮断されやすくなり、その結果、フレキシブル性を損なうことなく、さらに高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シートを提供することができる。
【００１８】
本発明のガスバリア性シートの好ましい態様においては、前記ガスバリア膜が、第１のガスバリア膜と第２のガスバリア膜とを有し、前記第１のガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有し、前記第２のガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する。
【００１９】
この発明によれば、ガスバリア膜が、上記所定の第１のガスバリア膜と上記所定の第２のガスバリア膜とを有するので、ガスバリア膜のガスバリア性がより高くなって、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部でより遮断されやすくなり、その結果、フレキシブル性を損なうことなく、さらに高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シートを提供することができる。
【００２０】
本発明のガスバリア性シートの好ましい態様においては、前記ガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有する。
【００２１】
この発明によれば、ガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、上記の有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有するので、基材との密着性が良好となり、その結果、ガスバリア性だけでなく、基材との接着性が向上する利点も発揮されやすくなる。
【００２２】
本発明のガスバリア性シートの好ましい態様においては、前記基材の両面のうち、前記ガスバリア膜が設けられていない方の面側に第３のガスバリア膜が設けられている。
【００２３】
この発明によれば、基材の両面のうち、ガスバリア膜が設けられていない方の面側に第３のガスバリア膜が設けられているので、基材の一方の側にはガスバリア膜が設けられ、他方の側には第３のガスバリア膜が設けられることになり、その結果、ガスバリア性をより向上させやすくなる。
【００２４】
本発明のガスバリア性シートの好ましい態様においては、前記ガスバリア膜上に透明導電膜を有する。
【００２５】
この発明によれば、ガスバリア膜上に透明導電膜を有するようにするので、この透明導電膜を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する、又は放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シートに付与することができるようになり、その結果、被封止物が有機ＥＬディスプレイである場合に、その生産性や寿命を向上させることができる。
【００２６】
本発明のガスバリア性シートの好ましい態様においては、前記被封止物が、有機ＥＬディスプレイ素子又は液晶ディスプレイ素子である。
【００２７】
この発明によれば、被封止物が、有機ＥＬディスプレイ素子又は液晶ディスプレイ素子であるので、高いガスバリア性を必要とする被封止物を採用することになり、その結果、本発明を適用する意義が大きくなる。
【００２８】
上記課題を解決するための本発明の封止体は、基板と、該基板上に設けられた被封止物と、該被封止物を覆うように設けられたガスバリア性シートと、を有する封止体であって、前記ガスバリア性シートが、前記被封止物の上面及び側面を被覆するガスバリア膜と、該ガスバリア膜を支持する基材と、をこの順に有し、該基材における前記ガスバリア膜が形成されていない領域と、前記基板と、が接着されている、ことを特徴とする。
【００２９】
この発明によれば、ガスバリア性シートが、被封止物の上面及び側面を被覆するガスバリア膜と、このガスバリア膜を支持する基材と、をこの順に有し、基材におけるガスバリア膜が形成されていない領域と、基板と、が接着されているので、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部で遮断されやすくなるとともに、ガスバリア膜が設けられていない基材表面と基板とが接着されることになるために接着性も良好となり、その結果、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の封止体を提供することができる。
【００３０】
本発明の封止体の好ましい態様においては、少なくとも前記基材における前記ガスバリア膜が形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜が設けられる。
【００３１】
この発明によれば、少なくとも基材におけるガスバリア膜が形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜が設けられるので、ガスバリア膜が設けられていない基材表面と基板との接着力がより高くなり、その結果、フレキシブル性や高いガスバリア性を維持しつつ、より接着力に優れる構造の封止体を提供することができる。
【００３２】
本発明の封止体の好ましい態様においては、前記ガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する。
【００３３】
この発明によれば、ガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有するので、ガスバリア膜のガスバリア性がより高くなって、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部でより遮断されやすくなり、その結果、フレキシブル性を損なうことなく、さらに高いガスバリア性及び接着性を有する構造の封止体を提供することができる。
【００３４】
本発明の封止体の好ましい態様においては、前記ガスバリア膜が、第１のガスバリア膜と第２のガスバリア膜とを有し、前記第１のガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有し、前記第２のガスバリア膜が、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する。
【００３５】
この発明によれば、ガスバリア膜が、上記所定の第１のガスバリア膜と上記所定の第２のガスバリア膜とを有するので、ガスバリア膜のガスバリア性がより高くなって、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部でより遮断されやすくなり、その結果、フレキシブル性を損なうことなく、さらに高いガスバリア性及び接着性を有する構造の封止体を提供することができる。
【００３６】
本発明の封止体の好ましい態様においては、前記ガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有する。
【００３７】
この発明によれば、ガスバリア膜が、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、前記有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有するので、基材との密着性が良好となり、その結果、ガスバリア性だけでなく、基材との接着性が向上する利点も発揮されやすくなる。
【００３８】
本発明の封止体の好ましい態様においては、前記基材の両面のうち、前記ガスバリア膜が設けられていない方の面側に第３のガスバリア膜が設けられている。
【００３９】
この発明によれば、基材の両面のうち、ガスバリア膜が設けられていない方の面側に第３のガスバリア膜が設けられているので、基材の一方の側にはガスバリア膜が設けられ、他方の側には第３のガスバリア膜が設けられることになり、その結果、ガスバリア性をより向上させやすくなる。
【００４０】
本発明の封止体の好ましい態様においては、前記ガスバリア膜上に透明導電膜を有する。
【００４１】
この発明によれば、ガスバリア膜上に透明導電膜を有するようにするので、この透明導電膜を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する、又は放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シートに付与することができるようになり、その結果、被封止物が有機ＥＬディスプレイである場合に、その生産性や寿命を向上させることができる。
【００４２】
本発明の封止体の好ましい態様においては、前記被封止物が、有機ＥＬディスプレイ素子又は液晶ディスプレイ素子である。
【００４３】
この発明によれば、被封止物が、有機ＥＬディスプレイ素子又は液晶ディスプレイ素子であるので、高いガスバリア性を必要とする被封止物を採用することになり、その結果、本発明を適用する意義が大きくなる。
【００４４】
上記課題を解決するための本発明の有機ＥＬディスプレイは、本発明の封止体を有することを特徴とする。
【００４５】
この発明によれば、本発明の有機ＥＬディスプレイが本発明の封止体を有するので、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部で遮断されやすくなるとともに、ガスバリア膜が設けられていない基材表面と基板とが接着されることになるために接着性も良好となり、その結果、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【発明の効果】
【００４６】
本発明のガスバリア性シートによれば、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シートを提供することができる。
【００４７】
本発明の封止体によれば、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の封止体を提供することができる。
【００４８】
本発明の有機ＥＬディスプレイによれば、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
次に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００５０】
（ガスバリア性シートの第１の態様）
図１は本発明のガスバリア性シートの一例を示す模式的な断面図である。
【００５１】
ガスバリア性シート１Ａは、基材２と、基材２上に設けられたガスバリア膜３Ａと、を有し、ガスバリア膜３Ａが被封止物の上面及び側面を被覆する大きさに形成されている。そして、ガスバリア性シート１Ａは、図１には図示しない、基板上に配置された被封止物に対し、ガスバリア膜３Ａを被封止物にかぶせるようにして封止を行う。これにより、ガスバリア性シート１Ａと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜３Ａの端部で遮断されやすくなるとともに、ガスバリア膜３Ａが設けられていない基材２表面と基板とが接着されることになるために接着性も良好となり、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シート１Ａを提供することができる。なお、ガスバリア膜３Ａの端部での水蒸気や酸素が遮断されるメカニズムの詳細は後述する。また、被封止体の詳細も後述するが、好ましくは有機ＥＬディスプレイ素子又は液晶ディスプレイ素子を用いる。これにより、高いガスバリア性を必要とする被封止物を採用することになり、本発明を適用する意義が大きくなる。
【００５２】
ガスバリア性シート１Ａは、より具体的には、図１に示すように、基材２上の一部にガスバリア膜３Ａが設けられ、ガスバリア膜３Ａは、図１には図示しない被封止物の上面と側面とを被覆できる程度の大きさとされている。
【００５３】
基材２としては、各種の基材を用いることができ、主にはシート状やフィルム状、巻き取りロール状のものが用いられるが、具体的な用途や目的等に応じて、非フレキシブル基板やフレキシブル基板を用いることができる。例えば、ガラス基板、硬質樹脂基板、ウエハ、プリント基板、様々なカード、樹脂シート等の非フレキシブル基板を用いてもよいし、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、ポリシルセスキオキサン、ポリノルボルネン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、非晶質シクロポリオレフィン、セルローストリアセテート等のフレキシブル基板を用いてもよい。基材２が樹脂製である場合、用いる樹脂としては上記例示した樹脂を適宜混合して用いてもよい。また、基材２が樹脂製である場合、好ましくは１００℃以上、特に好ましくは１５０℃以上の耐熱性を有するものが適当である。
【００５４】
こうした樹脂製の基材２としては、具体的には、非晶質シクロポリオレフィン樹脂フィルム（例えば、日本ゼオン株式会社のゼオネックス（登録商標）やゼオノア（登録商標）、ＪＳＲ株式会社のＡＲＴＯＮ等）、ポリカーボネートフィルム（例えば、帝人化成株式会社のピュアエース等）、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、帝人化成株式会社製のもの等）、セルローストリアセテートフィルム（例えば、コニカミノルタオプト株式会社のコニカタックＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＸ等）、ポリエチレンナフタレートフィルム（例えば、帝人デュポンフィルム株式会社のテオネックス（登録商標）等）の市販品を挙げることができる。
【００５５】
基材２の厚さは、可撓性及び形態保持性の観点から、通常１０μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、また、通常２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下とする。
【００５６】
基材２を含むガスバリア性シート１Ａを、有機ＥＬディスプレイ素子等のディスプレイ装置の発光面や映像面側に設ける場合には、基材２は透明であることが好ましい。基材２とともにガスバリア膜３Ａ等の他の膜を透明とすることにより、ガスバリア性シート１Ａを透明とすることが可能となる。より具体的には、例えば４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内での基材２の平均光透過度が８０％以上の透明性を有するように構成することが好ましい。こうした光透過度は基材２の材質と厚さに影響されるので両者を考慮して構成される。
【００５７】
基材２の表面は、所定の平滑性を有することが好ましい。具体的には、基材２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、通常０．３ｎｍ以上とする。この範囲とすれば、基材２に適度な表面粗さを付与することができ、基材２を巻き取りロールとした際に互いに接触する基材２同士の接触面に滑りが生じにくくなる。また、基材２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、通常１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下とする。この範囲とすれば、基材２の平滑性が向上し、有機ＥＬディスプレイ等の表示素子を作製する際に発生することのある短絡を抑制できる利点が発揮されやすくなる。なお、算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−２００１（ＩＳＯ４２８７−１９９７準拠）に従って測定すればよい。
【００５８】
基材２は、熱に対して変形しにくいことが好ましい。ガスバリア性シート１Ａが有機ＥＬディスプレイ素子に適用される場合には、ヒートサイクル試験のような加熱・冷却のストレスに対してもガスバリア性シート１Ａが変形しないことが求められるからである。具体的には、基材２の線膨張係数は、通常５ｐｐｍ／℃以上、また、通常８０ｐｐｍ／℃以下、好ましくは５０ｐｐｍ／℃以下とする。線膨張係数の測定は、従来公知の方法を用いて行えばよく、例えばＴＭＡ法（熱機械分析法）を挙げることができる。ＴＭＡ法に用いる測定装置としては、例えば、示差膨張方式熱機械分析装置であるリガク  製  ＣＮ８０９８Ｆ１を用いることができる。
【００５９】
基材２として樹脂製のものを用いる場合には、その製造方法も従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。また、樹脂製の基材２を用いる場合には、延伸フィルムを用いてもよい。延伸の方法も従来公知の一般的な方法を用いればよい。延伸倍率は、基材２の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ２〜１０倍とすることが好ましい。
【００６０】
基材２の表面は、コロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、加熱処理、薬品処理、易接着処理等の表面処理を行ってもよい。こうした表面処理の具体的な方法は従来公知のものを適宜用いることができる。また、基材２の表面には、ガスバリア膜３Ａ等との密着性の向上を目的としてアンカーコート剤膜を形成してもよい。こうしたアンカーコート剤膜としては、従来公知のものを適宜用いればよい。
【００６１】
ガスバリア膜３Ａは、所定のガスバリア性を発揮できる材料から構成されればよい。こうした材料としては特に制限はないが、ガスバリア膜３Ａは、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有している。これにより、ガスバリア膜３Ａのガスバリア性がより高くなって、ガスバリア性シート１Ａと基板（図１には図示しない。）との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜３Ａの端部でより遮断されやすくなり、フレキシブル性を損なうことなく、さらに高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シート１Ａを提供することができる。
【００６２】
例えば、有機ＥＬディスプレイ素子においては、水蒸気透過率で１０−６ｇ／ｍ２／ｄａｙ程度のガスバリア性が求められる場合があるが、ガスバリア膜３Ａの材料に、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素のいずれを用いることにより、上記高度なガスバリア性を得やすくなる。
【００６３】
ガスバリア膜３Ａに用いる、窒化珪素はＳｉＮａで表される組成であり、ａは通常０．７以上、１．４以下とする。また、酸化珪素はＳｉＯｂで表される組成であり、ｂは通常１．５以上、１．８以下とする。さらに、酸窒化珪素はＳｉＮｃＯｄで表される組成であり、ｃは通常０．７以上、１．２以下、ｄは通常０．１以上、０．５以下とする。
【００６４】
ガスバリア膜３Ａ中の、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素の含有量は、通常９５原子%以上、好ましくは９９．９原子％以上とする。ガスバリア膜３Ａには、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素の他、不純物や添加剤としてＳｉ、Ｎ、Ｏ以外の元素や物質を含有してもよい。
【００６５】
ガスバリア膜３Ａの組成は、通常、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）により測定することができる。本発明においては、ＸＰＳ（ＶＧ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製ＥＳＣＡ  ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ）により測定した。Ｘ線源としては、Ａｇ−３ｄ−５／２ピーク強度が３００Ｋｃｐｓ〜１ＭｃｐｓとなるＸ線源であるＭｇＫα線を用い、直径約１ｍｍのスリットを使用した。測定は、測定に供した試料面の法線上に検出器をセットした状態で行い、適正な帯電補正を行った。測定後の解析は、上述のＸＰＳ装置に付属されたソフトウエアＥｃｌｉｐｓｅバージョン２．１を使用し、Ｓｉ：２ｐ、Ｎ：１ｓ、Ｏ：１ｓ、Ｃ：１ｓのバインディングエネルギーに相当するピークを用いて行った。このとき、Ｃ：１ｓのピークのうち、炭化水素に該当するピークを基準として、各ピークシフトを修正し、ピークの結合状態を帰属させた。各ピークに対して、シャーリーのバックグラウンド除去を行い、ピーク面積に各元素の感度係数補正（Ｃ＝１．０に対して、Ｓｉ＝０．８７、Ｎ＝１．７７、Ｏ＝２．８５）を行い、原子数比を求めた。
【００６６】
ガスバリア膜３Ａの厚さは、通常１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上、また、通常２００ｎｍ以下、好ましくは１５０ｎｍ以下とする。上記範囲とすれば、ガスバリア性を確保しつつ、透明性が高く、クラックが入りにくく生産性を高くしやすくなる。
【００６７】
ガスバリア膜３Ａの製造方法は特に制限はないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、Ｃａｔ−ＣＶＤ法やプラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマＣＶＤ法等を用いればよい。こうした製造方法は、成膜材料の種類、成膜のしやすさ、工程効率等を考慮して選択すればよい。こうした製造方法のいくつかにつき以下説明する。
【００６８】
真空蒸着法とは、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子線やイオンビーム等のビーム加熱等により、るつぼに入った材料を加熱、蒸発させて基材２に付着させ、ガスバリア膜３Ａを得る方法である。その際、ガスバリア膜３Ａの組成等により加熱温度、加熱方法を変化させることができ、成膜時に酸化反応等を起こさせる反応性蒸着法も使用できる。
【００６９】
スパッタリング法とは、真空チャンバー内にターゲットを設置し、高電圧をかけてイオン化した希ガス元素（通常はアルゴン）をターゲットに衝突させて、ターゲット表面の原子をはじき出し、基材２に付着させ、ガスバリア膜３Ａを得る方法である。このとき、チャンバー内に窒素ガスや酸素ガスを流すことにより、アルゴンガスによってターゲットからはじき出された元素と、窒素や酸素とを反応させてガスバリア膜３Ａを形成する、反応性スパッタリング法を用いてもよい。スパッタリング法としては、例えば、ＤＣ２極スパッタリング、ＲＦ２極スパッタリング、３極・４極スパッタリング、ＥＣＲスパッタリング、イオンビームスパッタリング、及びマグネトロンスパッタリング等を挙げることができるが、工業的にはマグネトロンスパッタリングを用いることが好ましい。
【００７０】
イオンプレーティング法とは、真空蒸着とプラズマの複合技術であり、原則としてガスプラズマを利用して、蒸発粒子の一部をイオンもしくは励起粒子とし、活性化して薄膜を形成する方法である。イオンプレーティング法においては、反応ガスのプラズマを利用して蒸発粒子と結合させ、化合物膜を合成させる反応性イオンプレーティングが有効である。プラズマ中の操作であるため、安定なプラズマを得るのが第１条件であり、低ガス圧の領域での弱電離プラズマによる低温プラズマを用いる場合が多い。このため、混合物や複合酸化物を形成する場合に好ましく用いられる。放電を起こす手段から、直流励起型と高周波励起型に大別されるが、ほかに蒸発機構にホローカソード、イオンビームを用いる場合もある。
【００７１】
プラズマＣＶＤ法とは、化学気相成長法の一種である。プラズマＣＶＤ法においては、プラズマ放電中に原料を気化して供給し、系内のガスを衝突により相互に活性化してラジカル化するため、熱的励起のみによっては不可能な低温下での反応が可能となる。基材２は背後からヒータによって加熱され、電極間の放電中での反応により膜が形成される。プラズマの発生に用いる周波数により、ＨＦ（数十〜数百ｋＨｚ）、ＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）、及びマイクロ波（２．４５ＧＨｚ）に分類される。マイクロ波を用いる場合は、反応ガスを励起し、アフターグロー中で成膜する方法と、ＥＣＲ条件を満たす磁場（８７５Ｇａｕｓｓ）中にマイクロ波導入するＥＣＲプラズマＣＶＤに大別される。また、プラズマ発生方法で分類すると、容量結合方式（平行平板型）と誘導結合方式（コイル方式）に分類される。
【００７２】
上記説明した各種の製造方法を用いることにより、基材２上にガスバリア膜３Ａを形成することができるが、本発明においては、ガスバリア膜３Ａの大きさを被封止物の上面及び側面を被覆する程度とする。このため、ガスバリア膜３Ａの大きさの制御を行う。ガスバリア膜３Ａの大きさを制御する方法は特に制限されない。こうした方法としては、例えば、金属マスクを用いる方法、エッチングを用いる方法、及びパターン蒸着する方法等を挙げることができる。金属マスクを用いる方法としては、より具体的には、ガスバリア膜３Ａの成膜の際に、基材２上に金属マスクを設置することで、形成されるガスバリア膜３Ａの大きさを制御することができる。また、エッチングを用いる方法としては、より具体的には、基材２の全面にガスバリア膜を成膜した後に、エッチング等により不要なガスバリア膜を除去することにより、所定の大きさのガスバリア膜３Ａを形成することができる。さらに、パターン蒸着する方法としては、より具体的には、真空中で、パーフルオロポリエーテル等の高沸点のフッ素オイルを、グラビア印刷法、グラビアリバース法等の従来公知の技術で基材２上にパターン状に塗工する。次いで、基材２の全面にガスバリア膜を成膜すると、フッ素オイルがパターン状に形成された部分にはガスバリア膜が形成されないので、基材２上に所定の大きさのガスバリア膜３Ａを形成することができる。
【００７３】
（ガスバリア性シートの第２の態様）
図２は、本発明のガスバリア性シートの他の一例を示す模式的な断面図である。
【００７４】
ガスバリア性シート１Ｂは、少なくとも基材２上におけるガスバリア膜３Ａが形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜４が設けられている。より具体的には、図２からわかるように、ガスバリア性シート１Ｂにおいては、基材２の表面全体に接着剤用アンカー膜４が設けられており、接着剤用アンカー膜４の表面の一部に所定の大きさのガスバリア膜３Ａが設けられている。これにより、少なくとも基材２上におけるガスバリア膜３Ａが形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜４が設けられることになる。
【００７５】
接着剤用アンカー膜４が設けることにより、ガスバリア膜３Ａが設けられていない基材２表面と図２には図示しない基板との接着力がより高くなり、その結果、フレキシブル性や高いガスバリア性を維持しつつ、より接着力に優れる構造のガスバリア性シート１Ｂを提供することができる。
【００７６】
ガスバリア性シート１Ｂは、接着剤用アンカー膜４を用いること以外は、前述のガスバリア性シート１Ａと同様の構成を採用している。このため、基材２やガスバリア膜３Ａについては、説明の重複を避けるため、ここでは省略する。以下では、接着剤用アンカー膜４について説明する。
【００７７】
接着剤用アンカー膜４に用いる材料としては、基材２と基板との接着性を確保できるものであれば特に制限はない。こうした材料としては、例えば、アクリル酸系アミド誘導体、ポリα−オレフイン系重合体、ランダムコポリエステル、及びポリマーブレンド体を挙げることができる。
【００７８】
ポリα−オレフイン系重合体としては、例えば、アルキレンイミン類、ビニルラクタム類、Ｎ−ビニルカルバゾール類、ビニルピリジン類、ビニルアミン類及びポリブタジエン等を挙げることができる。
【００７９】
ランダムコポリエステルとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレ−トと、ジカルボン酸、ジオール、及びポリアルキレングリコールからなるポリエステルエーテルと、ポリブチレンテレフタレート、１−４−ブタンジオール、テレフタル酸、及びエチレングリコール等の脂肪族ジカルボン酸と、からなるものを挙げることができる。
【００８０】
ランダムコポリエステルに用いるポリエステルエーテルとしては、例えば、ジカルボン酸ジオールと、ポリアルキレングリコールと、から構成されたものを挙げることができる。そして、ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、及び２−６ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸を挙げることができる。また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレングリコール、ドデカメチレングリコール、及びシクロヘキサンジメタツール等を挙げることができる。さらに、ポリアルキレングリコールとしては、例えば、ポリエチレンオキサイドグリコール、ポリプロピレンオキサイドグリコール、ポリブチレンオキサイドグリコール、及びエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合グリコール等を挙げることができる。こうした共重合グリコールの分子量は、通常、４００〜８０００とする。
【００８１】
ポリマーブレンド体においては、通常、分子内に極性の高いグループと、疎水性のグループとが組み合わされた樹脂が用いられる。極性の高いグループとしては、例えば、水酸基、酸基、エーテル、エステル基、エポキシ、スルホン酸基、及びウレタン結合等を挙げることができ、疎水性のグループとしては、例えば、脂肪族鎖、芳香族鎖等を含むものを挙げることができる。こうした樹脂としては、ポリエステルエーテル共重合体、水溶性ポリエステル共重合体、ポリエチレングリコール・スルホン酸アルカリ金属塩を含むポリエステル共重合体等を挙げることができる。ここで、ジカルボン酸及びグリコールからなるポリエステル共重合体において、５−ナトリウムスルホイソフタル酸塩及びジエチレングリコールを成分にもつものが好ましい。また、酸成分のうち、５−ナトリウムスルホイソフタル酸塩が２〜５０モル％含まれ、他の成分としてはテレフタル酸、イソフタル酸またはこれらの混合物が用いられることが好ましい。さらに、グリコール成分のうちジエチレングリコールは３０〜１００モル％を占めるものが最も好ましく、他のグリコール成分としては、炭素数が２〜８のアルキレングリコールが好ましい。
【００８２】
ポリマーブレンド体に用いられるその他の樹脂としては、接着剤用アンカー膜４を構成する樹脂と相分離を起こさす、均一にブレンドされ、不連続皮膜形成能のある樹脂を用いることが好ましい。これは、接着剤用アンカー膜４が、いわゆる粘着型の樹脂ではなく、乾燥状態において、基材２に対して接着性が高く、またガスバリア膜３Ａを保持する能力の高いものを用いることが好ましいからである。こうした樹脂としては、例えば、分子量が１万〜２００万、好ましくは１０万〜１００万の水溶性高分子を挙げることができる。上記範囲の分子量とすれば、構造保持と柔軟性とのバランスが取りやすく、耐久性も確保しやすい。水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール等が適用できる。ポリマーブレンド体から形成される接着剤用アンカー膜４と、基材２と、の接着性をさらに増すために、シランカップリング剤を加えることも好ましい。
【００８３】
これら材料のうち、生産性と機能性の観点から、ポリマーブレンド体を用いることが好ましい。
【００８４】
接着剤用アンカー膜４の厚さは、通常１ｎｍ以上、好ましくは３ｎｍ以上、また、通常１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下とする。上記範囲とすれば、基材２と基板との間からの水蒸気の侵入自体を少なくすることができ、密着性も良好にしやすくなる。
【００８５】
接着剤用アンカー膜４は、通常、グラビア印刷法、ダイコート法、及び溶融押し出し法を用いて基材２上に形成することができる。また、これら製造方法のうち、好ましくは、溶融押し出し法を用いる。溶融押し出し法を用いる場合、共押し出し法により、基材２と接着剤用アンカー膜４とを一度に形成し、二軸延伸等の工程を経て、基材２及び接着剤用アンカー膜４を同時に作製することが好ましい。
【００８６】
なお、ガスバリア性シート１Ｂにおいては、基材２の全面に接着剤用アンカー膜４を設けたが、本発明はこうした態様に限られるものではない。例えば、ガスバリア膜の周囲の基材表面にのみ接着剤用アンカー膜を設けてもよい。
【００８７】
（ガスバリア性シートの第３の態様）
図３は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【００８８】
ガスバリア性シート１Ｃは、ガスバリア膜３Ｂが、第１のガスバリア膜１５と第２のガスバリア膜１６とを有する。そして、第１のガスバリア膜１５は、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、このシランカップリング剤が有する有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有する。また、第２のガスバリア膜１６は、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する。
【００８９】
第１のガスバリア膜１５と第２のガスバリア膜１６とを有するガスバリア膜３Ｂの採用により、ガスバリア膜３Ｂのガスバリア性がより高くなって、ガスバリア性シート１Ｃと、図３には図示しない基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜３Ｂの端部でより遮断されやすくなり、フレキシブル性を損なうことなく、さらに高いガスバリア性及び接着性を有する構造のガスバリア性シート１Ｃを提供することができる。
【００９０】
ガスバリア性シート１Ｃは、第１のガスバリア膜１５と第２のガスバリア膜１６とを有するガスバリア膜３Ｂを用いること以外は、前述のガスバリア性シート１Ａと同様の構成を採用している。このため、基材２については、説明の重複を避けるため、ここでは省略する。以下では、ガスバリア膜３Ｂについて説明する。
【００９１】
ガスバリア膜３Ｂは、基材２上に、第１のガスバリア膜１５と、第２のガスバリア膜１６とをこの順で設けることにより形成される。
【００９２】
第１のガスバリア膜１５は、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、この有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有する。第１のガスバリア膜１５を用いることにより、ガスバリア性だけでなく、第２のガスバリア膜１６と基材２との接着性が向上する利点も発揮されやすくなる。
【００９３】
第１のガスバリア膜１５に用いるカルドポリマーとしては、例えば、側鎖が、エポキシ基を有するもの、アクリル基を有するもの等を挙げることができる。これらカルドポリマーのうち、高温時に発生する黄色の着色を抑制する観点から、エポキシ基を有するものを用いることが好ましい。
【００９４】
第１のガスバリア膜１５に用いる多官能アクリル樹脂としては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これら多官能アクリル樹脂のうち、膜応力が小さく、表面平坦性の観点から、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
【００９５】
第１のガスバリア膜１５に用いる層状化合物としては、例えば、モンモリロナイト、層状ケイ酸塩等を挙げることができる。これら層状化合物のうち、生産性の観点から、モンモリロナイトを用いることが好ましい。
【００９６】
次に、第１のガスバリア膜１５に用いる有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、このシランカップリング剤が有する有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物について説明する。
【００９７】
シランカップリング剤が有する有機官能基としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシ基、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ基、及びγ−アミノプロピルトリエトキシ基等を挙げることができ、反応性を制御する観点から、γ−アミノプロピルトリメトキシ基を用いることが好ましい。また、シランカップリング剤が有する加水分解基としては、例えば、γ−グリシドキシプロピル基、ヘキサメチレンジイソシアネート、及びオキサゾリン含有重合体等を挙げることができ、密着性と柔軟性とを確保する観点から、γ−グリシドキシプロピル基、オキサゾリン含有重合体を用いることが好ましい。こうしたシランカップリング剤としては、好ましくは、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。
【００９８】
架橋性化合物における、シランカップリング剤が有する有機官能基と反応する第２の有機官能基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、及びイソプロポキシ基等を挙げることができ、反応性を制御する観点から、メトキシ基やイソプロポキシ基を用いることが好ましい。こうした第２の有機官能基を有する架橋性化合物としては、ポリシロキサン化合物、例えば、テトラメトキシシラン加水分解物、テトラエトキシシラン加水分解物、ヘキサメチレンジシラザン加水分解物、及びヘキサメチレンジシロキサン加水分解物等を挙げることができ、反応性制御の観点から、テトラエトキシシラン加水分解物を用いることが好ましい。
【００９９】
組成物中における、シランカップリング剤に対する架橋性化合物の含有量は、通常９０重量％以上、９９．９９重量%以下とする。また、組成物中には、シランカップリング剤及び架橋性化合物以外の材料（原料）を所定量含有させてもよい。
【０１００】
第１のガスバリア膜１５の厚さは、通常５０ｎｍ以上、好ましくは１００ｎｍ以上、また、５μｍ以下、好ましくは１μｍ以下とする。こうした第１のガスバリア膜１５の成膜は、用いる材料に応じて適宜選択すればよく、例えば、グラビア印刷法、グラビアリバース法、ダイコート法、３本ロール法、コンマコート法、及びスライドコート法等を適宜用いればよい。
【０１０１】
第２のガスバリア膜１６は、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する。第２のガスバリア膜１６は、前述したガスバリア性シート１Ａにおけるガスバリア膜３Ａと同様の構成とすればよいので、説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。
【０１０２】
（ガスバリア性シートの第４の態様）
図７は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【０１０３】
ガスバリア性シート１Ｄは、基材２の上に第１のガスバリア膜３Ｃが設けられ、ガスバリア膜３Ｃ上に透明導電膜８を有する。図７（ａ）においては、透明導電膜８は、ガスバリア膜３Ｃ上のみに設けられているが、図７（ｂ）においては、透明導電膜８がガスバリア膜３Ｃを覆い、さらには基材２全体を覆うように形成されている。ガスバリア膜３Ｃ上に透明導電膜８を設けることにより、透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する、又は放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シート１Ｄに付与することができるようになり、その結果、被封止物が有機ＥＬディスプレイである場合に、その生産性や寿命を向上させることができる。
【０１０４】
ガスバリア性シート１Ｄは、透明導電膜８を用いること、ガスバリア膜３Ｃを用いること、以外は、前述のガスバリア性シート１Ａと同様の構成を採用している。そこで、説明の重複を避けるため、以下では、ガスバリア膜３Ｃ及び透明導電膜８について説明する。
【０１０５】
ガスバリア膜３Ｃは、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、この有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有している。ガスバリア膜３Ｃの採用により、基材２との密着性が良好となり、その結果、ガスバリア性だけでなく、基材２との接着性が向上する利点も発揮されやすくなる。上記記載からわかるように、ガスバリア膜３Ｃは、図３のガスバリア性シート１Ｃにおける第１のガスバリア膜１５と同様のものを用いることができる。したがって、ガスバリア膜３Ｃは、第１のガスバリア膜１５と同様の構成とすればよく、材料や製法等については説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。
【０１０６】
透明導電膜８は、ガスバリア膜３Ｃ上に設けられる。透明導電膜８は、有機ＥＬディスプレイの陽極として利用することができるので、透明導電膜４を設けることにより、有機ＥＬディスプレイの生産性を向上させることができる。
【０１０７】
透明導電膜８は、有機ＥＬディスプレイに陽極がすでに設けられている場合には、帯電防止性能と放熱機能をガスバリア性シート１Ｄに付与する目的で設けられることもある。具体的には、ガスバリア性シート１Ｄが有機ＥＬディスプレイを内包する場合には、透明導電膜８により有機ＥＬディスプレイで発生するジュール熱を放熱させる、フィルム上で帯電する外部電荷を逃がすというような機能を付与することができる。例えば、有機ＥＬディスプレイの課題である発熱による素子劣化を抑制するために透明導電膜８を設けることができるのである。但し、透明導電膜８を用いて帯電防止機能や放熱機能を付与する場合、透明導電膜８は、通常有機ＥＬディスプレイの電極に接することになる。そのため、電極から電流がリークしないように、導電率を適切に制御することが好ましい。この場合、透明導電膜８の表面抵抗値を１０４Ω／□以上、１０７Ω／□以下に制御することが好ましく、より好ましくは１０６Ω／□以下に制御する。また、透明導電膜８の熱伝導率は、熱伝導率確保の観点から、通常０．５Ｗ／ｍＫ以上、好ましくは１Ｗ／ｍＫ以上、また、通常１５Ｗ／ｍＫ以下、好ましくは１２Ｗ／ｍＫ以下に制御される。
【０１０８】
透明導電膜８の表面抵抗値は、従来公知の方法で測定することができ、本発明においては、表面抵抗値を、株式会社ダイアインスツルメンツ製の高抵抗率計であるハイレスタＵＰ（ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用いて測定している。また、透明導電膜８の熱伝導率も、従来公知の方法で測定することができ、本発明においては、アルバック理工社製の定常法熱伝導率測定装置ＧＨシリーズを用いて測定を行っている。
【０１０９】
透明導電膜８は、導電性を付与される。こうした観点から、透明導電膜８は、金属アルコキシド等の加水分解物、透明導電粒子と金属アルコキシド等の加水分解物を塗布して形成される無機酸化物を主成分とするコーティング膜としてもよい。
【０１１０】
透明導電膜８は、導電性を付与する観点から、抵抗加熱蒸着法、誘導加熱蒸着法、ＥＢ蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱ＣＶＤ法、及びプラズマＣＶＤ法等の真空成膜法によって形成される膜であってもよい。透明導電膜８は、抵抗値が低くでき、表面処理が可能な装置構成が可能となることから、ＥＢ蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を用いて形成することが好ましい。こうした形成方法を用いる場合の透明導電膜８の材料は、例えば、インジウム−錫系酸化物（ＩＴＯ）、インジウム−錫−亜鉛系酸化物（ＩＴＺＯ）、ＺｎＯ２等の酸化亜鉛系、ＣｄＯ系、及びＳｎＯ２（酸化錫）系、酸化インジウム、インジウム−亜鉛系酸化物（ＩＺＯ）、アルミ添加酸化亜鉛、ガリウム添加酸化亜鉛、アンチモン添加酸化錫等の酸化物；金、銀、銅、アルミニウム、パラジウム等の金属；酸化物と金属の積層体を挙げることができる。こうした材料を適宜選択して使用すればよいが、上記材料のうち、透明性及び導電性が優れている点でインジウム−錫系酸化物（ＩＴＯ）が好ましい。また、透明導電膜８に放熱機能を付与する場合には、放熱効果を高める観点から透明導電膜８として赤外光を吸収する材料を用いることが好ましいが、こうした観点からもインジウム−錫系酸化物（ＩＴＯ）を用いることが好ましい。インジウム−錫系酸化物（ＩＴＯ）を用いる場合には、錫の含有量が５〜１５モル％であるものを用いることが特に好ましい。
【０１１１】
透明導電膜８の厚さは、通常１０ｎｍ以上、好ましくは６０ｎｍ以上、より好ましくは１００ｎｍ以上とする。上記範囲とすれば、透明導電膜８の導電性・放熱性を確保しやすくなる。また、透明導電膜８の厚さは、通常１０００ｎｍ以下、好ましくは４５０ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下とする。上記範囲とすれば、透明導電膜８の透明性を確保しやすく、耐屈曲性も良好となりやすい。
【０１１２】
透明導電膜８の大きさは、ガスバリア性シート１Ｄにおける透明導電膜８の機能によって変えることができる。例えば、透明導電膜８により高性能な帯電防止機能を付与するような場合には透明導電膜８をアースすることが好ましく、こうした場合には、図７（ｂ）に示すように、透明導電膜８を、ガスバリア膜３Ｃ上だけでなくその周囲の基材２の表面を覆うように形成することが好ましい。また、例えば、透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する場合、又は、透明導電膜８により一定の帯電防止機能や放熱機能を備えるようにする場合には、図７（ａ）に示すように、透明導電膜８をガスバリア膜３Ｃとほぼ同じ大きさに形成すればよい。
【０１１３】
（ガスバリア性シートの第５の態様）
図８は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【０１１４】
ガスバリア性シート１Ｅは、基材２の一方の面に第３のガスバリア膜１７が設けられ、基材２の他方の面にガスバリア膜３Ａ及び透明導電膜８がこの順に設けられている。すなわち、まず、ガスバリア性シート１Ｅは、ガスバリア膜３Ａ上に透明導電膜８を有する。これにより、透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する、又は放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シート１Ｅに付与することができるようになり、その結果、被封止物が有機ＥＬディスプレイである場合に、その生産性や寿命を向上させることができる。次いで、ガスバリア性シート１Ｅでは、基材２の両面のうち、ガスバリア膜３Ａが設けられていない方の面側に第３のガスバリア膜１７が設けられている。これにより、基材２の一方の側にはガスバリア膜３Ａが設けられ、他方の側には第３のガスバリア膜１７が設けられることになり、その結果、ガスバリア性をより向上させやすくなる。
【０１１５】
ガスバリア性シート１Ｅにおいては、第３のガスバリア膜１７は、第１のガスバリア膜１５及び第２のガスバリア膜１６から形成されている。そして、第１のガスバリア膜１５、第２のガスバリア膜１６については、図３に示すガスバリア性シート１Ｃにおいて用いたものと同様の構成を用いればよい。ただし、ガスバリア性シート１Ｅにおいては、第１のガスバリア膜１５及び第２のガスバリア膜１６は、基材２の全面に形成されている。また、基材２、ガスバリア膜３Ａについては、図１に示すガスバリア性シート１Ａと同様のものを用いればよい。さらに、透明導電膜８については、図７に示すガスバリア性シート１Ｄと同様のものを用いればよい。このように、ガスバリア性シート１Ｅを構成する各層の詳細についてはすでに説明したので、重複をさけるためにここでの説明は省略する。
【０１１６】
（ガスバリア性シートの第６の態様）
図９は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。具体的には、ガスバリア性シート１Ｆは、図８に示すガスバリア性シート１Ｅのように、基材２の両面にガスバリア膜（ガスバリア膜３Ａ及び第３のガスバリア膜１７）が存在する態様の他の一例を示している。
【０１１７】
ガスバリア性シート１Ｆは、基材２の一方の面に第３のガスバリア膜１７が設けられ、基材２の他方の面にガスバリア膜３Ｃ及び透明導電膜８がこの順に設けられている。すなわち、まず、ガスバリア性シート１Ｆは、ガスバリア膜３Ｃ上に透明導電膜８を有する。これにより、透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する、又は放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シート１Ｆに付与することができるようになり、その結果、被封止物が有機ＥＬディスプレイである場合に、その生産性や寿命を向上させることができる。次いで、ガスバリア性シート１Ｆでは、基材２の両面のうち、ガスバリア膜３Ｃが設けられていない方の面側に第３のガスバリア膜１７が設けられている。これにより、基材２の一方の側にはガスバリア膜３Ｃが設けられ、他方の側には第３のガスバリア膜１７が設けられることになり、その結果、ガスバリア性をより向上させやすくなる。
【０１１８】
ガスバリア性シート１Ｆにおいては、第３のガスバリア膜１７は、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する。すなわち、第３のガスバリア膜１７は、図１に示すガスバリア性シート１Ａにおけるガスバリア膜３Ａと同様の構成を用いればよい。また、基材２、ガスバリア膜３Ｃ、及び透明導電膜８については、図７（ａ）に示すガスバリア性シート１Ｄと同様のものを用いればよい。このように、ガスバリア性シート１Ｆを構成する各層の詳細についてはすでに説明したので、重複をさけるためにここでの説明は省略する。
【０１１９】
（層構成のバリエーション）
ガスバリア性シート１Ａは、図１に示すとおり、基材２上にガスバリア膜３Ａを所定の大きさに形成するものであり、ガスバリア性シート１Ｂは、図２に示すとおり、基材２上の全面に接着剤用アンカー膜４を形成し、接着剤用アンカー膜４上にガスバリア膜３Ａを所定の大きさに形成したものであり、ガスバリア性シート１Ｃは、図３に示すとおり、基材２上に、第１のガスバリア膜１５及び第２のガスバリア膜１６を有するガスバリア膜３Ｂを所定の大きさに形成したものである。また、ガスバリア性シート１Ｄは、図７に示すとおり、基材２上にガスバリア膜３Ｃを設け、ガスバリア膜３Ｃとほぼ同一又は基材２の全面を覆うような透明導電膜８をさらに設けたものである。また、ガスバリア性シート１Ｅは、図８に示すとおり、基材２の一方の面に所定の大きさのガスバリア膜３Ａ及び透明導電膜８をこの順に設け、基材２の他方の面の全面に第３のガスバリア膜１７（第１のガスバリア膜１５及び第２のガスバリア膜１６から構成される）を設けている。さらに、ガスバリア性シート１Ｆは、図９に示すとおり、基材２の一方の面に所定の大きさのガスバリア膜３Ｃ及び透明導電膜８をこの順に設け、基材２の他方の面の全面に第３のガスバリア膜１７（ガスバリア膜３Ａと同様の構成）を設けている。
【０１２０】
しかしながら、ガスバリア性シートの層構成は、図１，２，３，７，８，９に示すものに限られない。例えば、ガスバリア性シートの少なくとも片面にハードコート膜や平滑化膜を設けることもできる。ハードコート膜や平滑化膜は、通常、基材において、ガスバリア膜が設けられた面とは反対側の面に設けられる。また、基材とガスバリア膜との間にアンカーコート剤膜を設けてもよい。この他、必要に応じて、反射防止膜、帯電防止膜、防汚層、防眩層、及びカラーフィルタを適宜用いることもできる。こうした、ハードコート膜、平滑化膜、アンカーコート剤膜、反射防止膜、帯電防止膜、防汚層、防眩層、及びカラーフィルタ等の各層は、特に説明したもの以外は従来公知のものを適宜用いればよい。こうした層は、いずれもハードコート膜の表面に形成されることが多いが、反射防止機能や視野角制御機能をハードコート膜に付随することもできる。これらのうち、反射防止膜、帯電防止膜、防汚層、防眩層、カラーフィルタは、光学粘着剤を介して本発明のガスバリア性シートと貼り合わせることで、所望の機能を得てもよい。
【０１２１】
（封止体の第１の態様）
図４は本発明の封止体の一例を示す模式的な断面図である。
【０１２２】
封止体１０Ａは、基板７と、基板７上に設けられた被封止物５と、被封止物５を覆うように設けられたガスバリア性シート１Ａと、を有する封止体１０Ａであって、ガスバリア性シート１Ａが、被封止物５の上面及び側面を被覆するガスバリア膜３Ａと、ガスバリア膜３Ａを支持する基材２と、をこの順に有し、基材２におけるガスバリア膜３Ａが形成されていない領域と、基板７と、が接着されている。これにより、ガスバリア性シート１Ａと基板７との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜３Ａの端部で遮断されやすくなるとともに、ガスバリア膜３Ａが設けられていない基材２表面と基板７とが接着されることになるために接着性も良好となり、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の封止体１０Ａを提供することができる。
【０１２３】
封止体１０Ａにおける、ガスバリア膜３Ａの端部での水蒸気や酸素の遮断のメカニズムについてより詳しく説明する。水蒸気や酸素は、基板７と基材２とが接触する界面に存在する接着剤膜６を通じ、図４の矢印に示すように、封止体１０Ａの内部へと侵入しようとする。しかしながら、ガスバリア膜３Ａが被封止物５の上面と側面とを覆うように形成されているために、ガスバリア膜３Ａの端部が基材７と接触するようになる。その結果、封止体１０Ａの内部へと侵入しようとする水蒸気や酸素が、ガスバリア膜３Ａの端部でブロックされるようになり、高い封止性能が発揮されるようになる。加えて、基材２上のガスバリア膜３Ａは、被封止物５の上面及び側面を被覆する大きさに形成されているために、被封止物５の周囲におけるガスバリア性シート１Ａと基板７との接着は、基材２と基板７とが接着剤膜６を介して直接接着されることによって行われる。その結果、通常無機材料から形成されるガスバリア膜３Ａを介して接着する必要がなくなり、より接着力を高くしやすくなる。
【０１２４】
基板７は、被封止物５を支持しつつ、所定のガスバリア性を有すればよく、特に制限はない。こうした基板７としては、例えば、ガラス基板、ガスバリア性シート等を挙げることができる。ガスバリア性シートを用いる場合には、本発明において用いるような、ガスバリア膜が所定の大きさに形成されたガスバリア性シートを用いてもよいし、従来公知のガスバリア性シートを用いてもよい。なお、ガスバリア膜が所定の大きさに形成されたガスバリア性シートを用いる場合には、ガスバリア膜の大きさを被封止物５の下面の大きさと同程度とすればよい。こうすることで、ガスバリア性と接着性とをより確保しやすくなる。
【０１２５】
基板７は、陽極１１を透明電極としてその上に形成する場合には、透明であることが好ましい。具体的には、例えば４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内での基板７の平均光透過度が８０％以上の透明性を有するように構成することが好ましい。
【０１２６】
基板７の厚さは、通常２５μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、また、通常１ｍｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下とする。この範囲とすれば、被封止物５を支持できる程度の機械的強度を保持することができる。
【０１２７】
被封止物５は、有機ＥＬディスプレイ素子である。被封止物５を有機ＥＬディスプレイ素子とすると、高いガスバリア性を必要とする被封止物５を採用することになり、その結果本発明を適用する意義が大きくなる。但し、被封止物５は、有機ＥＬディスプレイ素子に限られない。すなわち、高いガスバリア性を必要とするものであれば特に制限はなく、被封止物として液晶ディスプレイ素子を用いることも好ましい。液晶ディスプレイ素子も高いガスバリア性を必要とする被封止物となるので、本発明のガスバリア性シートを適用する意義が大きくなる。
【０１２８】
被封止物５は、有機ＥＬディスプレイ素子の通常の構成を有し、陽極１１、正孔輸送層１２、発光層１３、及び陰極１４からなる。こうした各層の構成は従来公知のものを適宜用いればよい。
【０１２９】
陽極１１は、正孔輸送層１２に正孔を供給する電極としての機能を有していればよい。このため、陽極１１の形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、有機ＥＬディスプレイ素子の用途、目的に応じて、従来公知の材料を適宜用いればよい。ディスプレイの視認性のために、陽極１１を透明電極とすることが多いので、陽極１１の材料としては、通常ＩＴＯ又はＩＺＯが使用される。陽極１１は、上記の材料を、スパッタリング法等により基板７上の所定位置に成膜することによって形成することができる。また、必要に応じて、エッチングによるパターニングを行ってもよい。陽極１１の厚さは、透明性と導電性とを兼ね備えるために、薄膜の光学干渉を考慮して、通常１４０ｎｍ以上、１６０ｎｍ以下とする。
【０１３０】
正孔輸送層１２は、陽極１１から正孔を受け取り発光層１３へと輸送する機能を有する。こうした正孔輸送層１２は、従来公知の正孔輸送機能を有する材料を含有させればよい。こうした材料としては、例えば、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェニレンジアミン誘導体等の各種の誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン等を挙げることができる。これら材料のうち、工業的な点から好ましいのは、フェニレンジアミン誘導体であり、より具体的には、α−ナフチルフェニルジアミン（α−ＮＰＤ）である。こうした正孔輸送層１２は、例えば、真空蒸着法等の従来公知の製法により陽極１１上に成膜することによって形成することができる。正孔輸送層１２の厚さは、通常１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下とする。
【０１３１】
発光層１３は、電界印加時に、陽極１１及び正孔輸送層１２から正孔を受け取り、陰極１４から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する。発光層１３は、従来公知の材料から構成することができる。例えば、発光層１３は、発光材料のみで構成されていてもよく、発光材料とホスト材料との混合層とした構成でもよい。発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料でもよいが、ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、２種類以上用いる場合は、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料を混合した構成が挙げることができる。さらに、発光層１３中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。また、発光層１３は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
【０１３２】
発光材料に用いる蛍光発光材料としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体等の各種の誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体やピロメテン誘導体の金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体などの化合物等が挙げられる。これら材料のうち、工業的な点から好ましいのは、８−キノリノール誘導体の金属錯体であり、より具体的には、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ３）である。
【０１３３】
発光材料に用いる燐光発光材料は、例えば、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体が挙げられる。また、ホスト材料としては、例えば、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するもの及びアリールシラン骨格を有するもの等を挙げることができる。
【０１３４】
発光層１３は、例えば、真空蒸着法等により正孔輸送層１２上に成膜することによって形成することができる。発光層１３の厚さは、通常１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下とする。
【０１３５】
陰極１４は、発光層１３に電子を注入する電極としての機能を有していればよい。このため、陰極１４の形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、有機ＥＬディスプレイ素子の用途、目的に応じて、公知の材料を適宜用いればよい。
【０１３６】
陰極１４は、通常金属電極として用いられる。こうした陰極１４を構成する材料としては、例えば、金属、合金等を挙げることができる。より具体的には、ＭｇやＣａ等の第２族元素の金属、金、銀、鉛、アルミニウム、インジウム、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、イッテルビウム等の希土類金属等を挙げることができる。これら材料のうち、アルミニウムを用いることが好ましい。また、安定性や電子注入性を考慮して、上記の材料を２種類以上併用して用いてもよく、この場合、好ましくはカルシウム及び銀を用いる。
【０１３７】
陰極１４の厚さは、陰極１４を構成する材料により適宜選択することができ、通常１０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以上、また、通常５μｍ以下、好ましくは１μｍ以下とする。陰極１４は、透明でも不透明であってもよいが、陰極１４を透明とする場合、厚さを１ｎｍ以上１０ｎｍ以下と薄くするか、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明な導電性材料を用いればよい。陰極１４は、真空蒸着法等を用いて発光層１３上に成膜することによって形成することができる。
【０１３８】
被封止物５の有機ＥＬディスプレイ素子には、以上説明した各層の他、有機ＥＬディスプレイ素子に求められる機能により、さらに他の層を付加することもできる。こうした層としては、例えば、電子輸送層、電荷ブロック層、及び電子注入層を挙げることができる。さらに、有機ＥＬディスプレイ素子上に封止膜を設けてもよい。封止膜としては、酸化珪素、窒化珪素、及び酸窒化珪素等の無機薄膜を用いることが好ましく、窒化珪素又は酸窒化珪素の無機薄膜を用いることがより好ましい。これは、ガラスや金属を用いるよりも、軽量で安価に封止することが可能となるからである。
【０１３９】
ガスバリア性シート１Ａは、被封止物５の上面及び側面を被覆するガスバリア膜３Ａと、ガスバリア膜３Ａを支持する基材２と、がこの順となるように被封止物５上に被覆される。より具体的には、ガスバリア膜３Ａが被封止物５の上面及び側面を覆うようにして、ガスバリア性シート１Ａが被封止物５を封止している。このように、ガスバリア性シート１Ａは、基材２と、基材２上に設けられたガスバリア膜３Ａと、を有し、ガスバリア膜３Ａが被封止物５の上面及び側面を被覆する大きさに形成されている。こうしたガスバリア性シート１Ａについては既に説明したとおりであり、例えば、ガスバリア膜３Ａは、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有している。そこで、ガスバリア性シート１Ａについては、説明の重複を避けるためにここでの説明は省略する。
【０１４０】
接着剤膜６は、ガスバリア性シート１Ａと、被封止物５周辺の基板７表面とを接着するために用いられるものである。より詳しくは、接着剤膜６は、ガスバリア性シート１Ａの基材２上でガスバリア膜３Ａが形成されていない領域と、基材７とを接着するために用いられるものであり、特に制限はない。こうした接着剤膜６に用いる材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、瞬間接着剤等を挙げることができる。より具体的には、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、及びポリエステル樹脂等を挙げることができる。これら材料のうち、透湿度が低く、耐熱性が良好となる観点から、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、及びアクリロニトリル樹脂を用いることが好ましい。
【０１４１】
接着剤膜６は、通常、所定の粘度を有する接着剤をスピンコート法、ダイコート法等で、基板７の表面のうち、被封止物５の周辺に塗布した後、ガスバリア性シート１Ａを被覆して、硬化させることによって形成できる。接着剤膜６の厚さは、通常１００ｎｍ以上、また、通常１μｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下とする。
【０１４２】
（封止体の第２の態様）
図５は本発明の封止体の他の一例を示す模式的な断面図である。
【０１４３】
封止体１０Ｂは、基材２におけるガスバリア膜３Ａが形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜４が設けられている。より具体的には、図５からわかるように、ガスバリア性シート１Ｂにおいては、基材２の表面全体に接着剤用アンカー膜４が設けられており、接着剤用アンカー膜４の表面の一部に所定の大きさのガスバリア膜３Ａが設けられている。これにより、少なくとも基材２上におけるガスバリア膜３Ａが形成されていない領域に、接着剤用アンカー膜４が設けられることになる。
【０１４４】
接着剤用アンカー膜４が設けることにより、ガスバリア膜３Ａが設けられていない基材２表面と基板７との接着力がより高くなり、その結果、フレキシブル性や高いガスバリア性を維持しつつ、より接着力に優れる構造の封止体１０Ｂを提供することができる。より具体的には、接着剤用アンカー膜４により接着剤膜６と接着剤用アンカー膜４との接着力を高くすることができる結果、ガスバリア膜３Ａが設けられていない基材２表面と基板７との接着力を上げることができる。
【０１４５】
封止体１０Ｂは、ガスバリア性シート１Ａをガスバリア性シート１Ｂとしたこと以外は、前述の封止体１０Ａと同様の構成を採用している。そして、ガスバリア性シート１Ｂについてもすでに説明したとおりである。そこで、説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。
【０１４６】
（封止体の第３の態様）
図６は本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【０１４７】
封止体１０Ｃは、ガスバリア膜３Ｂが、第１のガスバリア膜１５と第２のガスバリア膜１６とを有する。そして、第１のガスバリア膜１５は、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、このシランカップリング剤が有する有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有する。また、第２のガスバリア膜１６は、窒化珪素、酸化珪素、及び酸窒化珪素から選ばれる少なくとも１つを含有する。
【０１４８】
第１のガスバリア膜１５と第２のガスバリア膜１６とを有するガスバリア膜３Ｂの採用により、ガスバリア膜３Ｂのガスバリア性がより高くなって、ガスバリア性シート１Ｃと、基板７との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜３Ｂの端部でより遮断されやすくなり、フレキシブル性を損なうことなく、さらに高いガスバリア性及び接着性を有する構造の封止体１０Ｃを提供することができる。
【０１４９】
封止体１０Ｃは、ガスバリア性シート１Ａをガスバリア性シート１Ｃとしたこと、ガスバリア膜３Ｂが２層構造となる分、接着剤膜６の厚さが厚くなること、以外は、前述の封止体１０Ａと同様の構成を採用している。そして、ガスバリア性シート１Ｃについてもすでに説明したとおりである。そこで、説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。
【０１５０】
（封止体の第４の態様）
図１０は本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【０１５１】
封止体１０Ｄは、基材２の上に第１のガスバリア膜３Ｃ及び透明導電膜８をこの順で有するガスバリア性シート１Ｄを用いている。図１０（ａ）においては、透明導電膜８は、ガスバリア膜３Ｃ上のみに設けられているが、図１０（ｂ）においては、透明導電膜８がガスバリア膜３Ｃを覆い、さらには基材２全体を覆うように形成されている。ガスバリア膜３Ｃ上に透明導電膜８を設けることにより、放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シート１Ｄに付与することができるようになり、被封止物５たる有機ＥＬディスプレイ素子の寿命を向上させることができる。なお、封止体１０Ｄにおいては採用されていないが、透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用してもよい。透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用することにより、有機ＥＬディスプレイの生産性を向上させることができる。
【０１５２】
封止体１０Ｄは、ガスバリア膜３Ｃを用いる。ガスバリア膜３Ｃは、カルドポリマー、多官能アクリル樹脂、層状化合物、及び、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、この有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物、の少なくとも一つを含有する。これにより、基材２との密着性が良好となり、その結果、ガスバリア性だけでなく、基材２との接着性が向上する利点も発揮されやすくなる。
【０１５３】
封止体１０Ｄでは、ガスバリア膜３Ｃの端部は、ガスバリア膜３Ｃと透明導電膜８との２層構造となるが、透明導電膜８に無機材料を用いることにより一定のガスバリア性を確保することができるので、ガスバリア膜３Ｃの端部で水蒸気や酸素を遮断することができるようになる。
【０１５４】
封止体１０Ｄは、ガスバリア性シート１Ｄを用いること以外は、前述の封止体１０Ａと同様の構成を採用している。そして、ガスバリア性シート１Ｄについてもすでに説明したとおりである。そこで、説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。
【０１５５】
（封止体の第５の態様）
図１１は本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【０１５６】
封止体１０Ｅは、基材２の一方の面に第３のガスバリア膜１７が設けられ、基材２の他方の面にガスバリア膜３Ａ及び透明導電膜８がこの順に設けられたガスバリア性シート１Ｅを用いている。ガスバリア性シート１Ｅは、ガスバリア膜３Ａ上に透明導電膜８を有する。これにより、放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シート１Ｅに付与することができるようになり、その結果、被封止物５たる有機ＥＬディスプレイ素子の寿命を向上させることができる。なお、封止体１０Ｅにおいては採用されていないが、透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用してもよい。透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用することにより、有機ＥＬディスプレイの生産性を向上させることができる。また、ガスバリア性シート１Ｅは、基材２の両面のうち、ガスバリア膜３Ａが設けられていない方の面側に第３のガスバリア膜１７が設けられている。これにより、基材２の一方の側にはガスバリア膜３Ａが設けられ、他方の側には第３のガスバリア膜１７が設けられることになり、その結果、封止体１０Ｅのガスバリア性をより向上させやすくなる。
【０１５７】
封止体１０Ｅは、ガスバリア性シート１Ｅを用いること以外は、前述の封止体１０Ａと同様の構成を採用している。そして、ガスバリア性シート１Ｅについてもすでに説明したとおりである。そこで、説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。
【０１５８】
（封止体の第６の態様）
図１２は本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【０１５９】
封止体１０Ｆは、基材２の一方の面に第３のガスバリア膜１７が設けられ、基材２の他方の面にガスバリア膜３Ｃ及び透明導電膜８がこの順に設けられているガスバリア性シート１Ｆを用いている。ガスバリア性シート１Ｆは、ガスバリア膜３Ｃ上に透明導電膜８を有する。これにより、放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シート１Ｆに付与することができるようになり、その結果、被封止物５たる有機ＥＬディスプレイ素子の寿命を向上させることができる。なお、封止体１０Ｆにおいては採用されていないが、透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用してもよい。透明導電膜８を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用することにより、有機ＥＬディスプレイの生産性を向上させることができる。また、ガスバリア性シート１Ｆは、基材２の両面のうち、ガスバリア膜３Ｃが設けられていない方の面に第３のガスバリア膜１７が設けられている。これにより、基材２の一方の側にはガスバリア膜３Ｃが設けられ、他方の側には第３のガスバリア膜１７が設けられることになり、その結果、封止体１０Ｆのガスバリア性をより向上させやすくなる。
【０１６０】
封止体１０Ｆは、ガスバリア性シート１Ｆを用いること以外は、前述の封止体１０Ａと同様の構成を採用している。そして、ガスバリア性シート１Ｆについてもすでに説明したとおりである。そこで、説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。
【０１６１】
（有機ＥＬディスプレイ）
本発明の有機ＥＬディスプレイは、本発明の封止体を有する。これにより、ガスバリア性シートと基板との界面から侵入する水蒸気や酸素がガスバリア膜の端部で遮断されやすくなるとともに、ガスバリア膜が設けられていない基材表面と基板とが接着されることになるために接着性も良好となり、フレキシブル性を損なうことなく、より高いガスバリア性及び接着性を有する構造の有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【０１６２】
有機ＥＬディスプレイは、上記説明した本発明の封止体を用いる以外は、従来公知の部材、部品、及び装置等を用いればよい。また製造方法についても従来公知の方法を適宜用いることができる。
【実施例】
【０１６３】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【０１６４】
（実施例１）
基板として厚さ０．７ｍｍのガラス基板を用い、被封止物として有機ＥＬディスプレイ素子を用いた。具体的には、上記のガラス基板上に、ＩＴＯをスパッタリング法で成膜した後、エッチングによりパターンニングして透明電極（陽極）を形成した。そして、陽極上に蒸着法により正孔輸送層、発光層、及び金属電極（陰極）を順次形成した。ここで、正孔輸送層の材料としてはα−ナフチルフェニルジアミン（α−ＮＰＤ）を、発光層の材料としてはトリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ３）を、金属電極（陰極）の材料としてカルシウム及び銀を用いた。
【０１６５】
ガスバリア性シートは、基材、ガスバリア膜の２層構造のものを用いた。基材としては、厚さ１００μｍのポリエチレンナフタレートフィルム（テオネックス（登録商標）Ｑ６５Ｆ、帝人デュポンフィルム株式会社製）を用いた。そして、この基材上に、金属マスクを用いて、酸窒化珪素をイオンプレーティング法により成膜して、厚さ１００ｎｍのガスバリア膜（ＳｉＮｃＯｄの組成でｃ＝１．１、ｄ＝０．３５）を形成した。金属マスクを用いることにより、被封止物として用いる有機ＥＬディスプレイ素子の上面と側面とを被覆する大きさ（５ｃｍ×５ｃｍ）に、ガスバリア膜（酸窒化珪素膜）を形成した。
【０１６６】
なお、ガスバリア膜の組成は、ＸＰＳ（ＶＧ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製ＥＳＣＡ  ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ）により測定した。Ｘ線源としては、Ａｇ−３ｄ−５／２ピーク強度が３００Ｋｃｐｓ〜１ＭｃｐｓとなるＸ線源であるＭｇＫα線を用い、直径約１ｍｍのスリットを使用した。測定は、測定に供した試料面の法線上に検出器をセットした状態で行い、適正な帯電補正を行った。測定後の解析は、上述のＸＰＳ装置に付属されたソフトウエアＥｃｌｉｐｓｅバージョン２．１を使用し、Ｓｉ：２ｐ、Ｎ：１ｓ、Ｏ：１ｓ、Ｃ：１ｓのバインディングエネルギーに相当するピークを用いて行った。このとき、Ｃ：１ｓのピークのうち、炭化水素に該当するピークを基準として、各ピークシフトを修正し、ピークの結合状態を帰属させた。各ピークに対して、シャーリーのバックグラウンド除去を行い、ピーク面積に各元素の感度係数補正（Ｃ＝１．０に対して、Ｓｉ＝０．８７、Ｎ＝１．７７、Ｏ＝２．８５）を行い、原子数比を求めた。
【０１６７】
次いで、基板上に形成された有機ＥＬディスプレイ素子の周辺の基板表面に、接着剤をスピンコート法で塗布した。そして、有機ＥＬディスプレイ素子の上面、すなわち金属電極（陰極）の表面と、側面とがガスバリア膜で覆われるようにして、有機ＥＬディスプレイ素子全体にガスバリア性シートをかぶせた。そして、接着剤を硬化させることにより、ガスバリア性シートの基材上でガスバリア膜が形成されていない領域と、有機ＥＬディスプレイ素子の周辺の基板表面と、を接着した。ここで、接着剤としては、ＵＶ硬化型エポキシ樹脂を用いた。以上を経て封止体を製造した。
【０１６８】
（発光特性の評価）
こうして得た封止体に対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
【０１６９】
また、ガスバリア性シート単独の水蒸気透過率及び酸素透過率を測定し、ガスバリア性を評価した。
【０１７０】
（水蒸気透過率の測定）
水蒸気透過率は、測定温度３７．８℃、湿度１００％Ｒｈの条件下で、水蒸気透過率測定装置（米国ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ  ３／３１：商品名）を用いて測定した。測定に用いた水蒸気透過率測定装置の検出限界は、０．０５ｇ／ｍ２・ｄａｙである。測定の結果、水蒸気透過率は、０．０３ｇ／ｍ２・ｄａｙであり、測定限界値以下であった。
【０１７１】
（酸素透過率の測定）
酸素透過率は、測定温度２３℃、湿度９０％Ｒｈの条件下で、酸素ガス透過率測定装置（米国ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２０：商品名）を用いて測定した。測定に用いた酸素ガス透過率測定装置の検出限界は、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍである。測定の結果、酸素透過率は、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであり、測定限界値以下であった。
【０１７２】
（実施例２）
ガスバリア性シートの製造において、金属マスクは用いず、真空中で、グラビア印刷法を用いて、高沸点のフッ素オイルであるパーフルオロポリエーテルを基材上にパターン印刷した後に、基材全面にガスバリア膜を成膜し、パーフルオロポリエーテルがパターン印刷されていない部分にガスバリア膜を形成することにより所定の大きさのガスバリア膜（酸窒化珪素膜）を得たこと以外は、実施例１と同様にして封止体を製造した。
【０１７３】
こうして得た封止体に対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
【０１７４】
また、ガスバリア性シート単独の水蒸気透過率、酸素透過率を実施例１と同様にして測定した。その結果、水蒸気透過率は０．０５ｇ／ｍ２・ｄａｙであり、酸素透過率は、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであり、いずれも測定限界値以下であった。
【０１７５】
（実施例３）
ガスバリア性シートの製造において、金属マスクは用いず、基材全面にガスバリア膜（酸窒化珪素膜）を形成した後、有機ＥＬディスプレイの上面と側面とを覆う部分以外を弱アルカリエッチングで除去して、所定の大きさのガスバリア膜を得たこと以外は、実施例１と同様にして封止体を製造した。
【０１７６】
こうして得た封止体に対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
【０１７７】
また、ガスバリア性シート単独の水蒸気透過率、酸素透過率を実施例１と同様にして測定した。その結果、水蒸気透過率は０．０４ｇ／ｍ２・ｄａｙであり、酸素透過率は、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであり、いずれも測定限界値以下であった。
【０１７８】
（実施例４）
ガスバリア性シートの製造において、基材とガスバリア膜との間に接着剤用アンカー膜を設け、図２に示すガスバリア性シート１Ｂを得たこと、以外は実施例２と同様にして封止体を製造した。
【０１７９】
なお、接着剤用アンカー膜の材料としては、ポリエステル共重合体とポリビニルアルコールとのポリマーブレンド体を用い、溶融押し出し法を用いて接着剤用アンカー膜を基材の全面に形成した。具体的には、共押し出し法により、基材と接着剤用アンカー膜とを一度に形成し、二軸延伸を経て、基材及び接着剤用アンカー膜を同時に製造した。接着剤用アンカー膜の厚さは１０ｎｍ程度であった。
【０１８０】
こうして得た封止体に対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
【０１８１】
また、ガスバリア性シート単独の水蒸気透過率、酸素透過率を実施例２と同様にして測定した。その結果、水蒸気透過率は、０．０４ｇ／ｍ２・ｄａｙ、酸素透過率は、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであり、いずれも測定限界値以下であった。
【０１８２】
（実施例５）
ガスバリア性シートの製造において、第１のガスバリア膜を設ける工程をさらに行って図３に示すガスバリア性シート１Ｃを得たこと、以外は実施例２と同様にして封止体を製造した。
【０１８３】
第１のガスバリア膜は以下のようにして形成した。まず、第１のガスバリア膜の材料としては、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、このシランカップリング剤が有する有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物を用いた。具体的には、シランカップリング剤としてはγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用い、架橋性化合物としてはテトラエトキシシラン加水分解物を用いた。そしてこの組成物を、グラビア印刷で基材上に所定の大きさとなるように形成して、厚さ１μｍの第１のガスバリア膜を得た。その他の工程は実施例２と同様に行って封止体を製造した。
【０１８４】
こうして得た封止体に対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
【０１８５】
また、ガスバリア性シート単独の水蒸気透過率、酸素透過率を実施例２と同様にして測定した。その結果、水蒸気透過率は、０．０４ｇ／ｍ２・ｄａｙ、酸素透過率は、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであり、いずれも測定限界値以下であった。
【０１８６】
（比較例１）
ガスバリア性シートの製造において、ガスバリア膜を基材の全面に設けたこと、以外は、実施例１と同様にして封止体を製造した。
【０１８７】
こうして得た封止体に対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後において、封止体側面からの水蒸気の侵入によるダークスポットが発生し、発光特性は不良であった。
【０１８８】
なお、ガスバリア性シート単独の水蒸気透過率、酸素透過率を実施例１と同様にして測定したところ、水蒸気透過率は、０．０４ｇ／ｍ２・ｄａｙ、酸素透過率は、０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであり、いずれも測定限界値以下であった。
【０１８９】
（実施例６）
ガスバリア性シートの製造において、基材２上にガスバリア膜３Ｃ及び透明導電膜８をこの順に設け、図７（ａ）に示すガスバリア性シート１Ｄを用いたこと、レジストを用いてエッチングでパターン層を形成したこと、以外は実施例１と同様にして、図１０（ａ）に示す封止体１０Ｄを製造した。
【０１９０】
ガスバリア性シート１Ｄの製造は以下のようにして行った。
【０１９１】
まず、ガスバリア膜３Ｃの材料としては、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、このシランカップリング剤が有する有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物を用いた。具体的には、シランカップリング剤としてはγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用い、架橋性化合物としてはテトラエトキシシラン加水分解物を用いた。そしてこの組成物を、グラビア印刷で基材２上に所定の大きさとなるように形成して、厚さ１μｍのガスバリア膜３Ｃを得た。
【０１９２】
次いで、ガスバリア膜３Ｃ上に、厚さ５０ｎｍの透明導電膜８を設けた。透明導電膜８の成膜条件は以下のとおりとした。
【０１９３】
透明導電膜の製造条件
製造方法：イオンプレーティング法
材料：ＩＴＯ粒（２０％Ｓｎ）
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：２０ｓｃｃｍ、酸素流量：１０ｓｃｃｍ、水素流量：５ｓｃｃｍ
印加電力：３．５ｋＷ
【０１９４】
得られた透明導電膜８の表面抵抗値と熱伝導率を測定したところ、それぞれ５．８×１０５Ω／□、７Ｗ／ｍＫであった。なお、表面抵抗値は、株式会社ダイアインスツルメンツ製の高抵抗率計であるハイレスタＵＰ（ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用いて測定した。また、透明導電膜の熱伝導率は、アルバック理工社製の定常法熱伝導率測定装置ＧＨシリーズを用いて測定を行った。
【０１９５】
ガスバリア性シート１Ｄを用いて得た封止体１０Ｄ（図１０（ａ）参照）に対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
【０１９６】
また、ガスバリア性シート１Ｄ単独の水蒸気透過率、酸素透過率を実施例１と同様にして測定した。その結果、水蒸気透過率は、０．１８ｇ／ｍ２・ｄａｙ、酸素透過率は、０．１２ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであった。
【０１９７】
（実施例７）
ガスバリア性シートの製造において、基材２の一方の面に第３のガスバリア膜１７が設けられ、基材２の他方の面にガスバリア膜３Ａ及び透明導電膜８がこの順に設けられていたガスバリア性シート１Ｅ（図８参照）を得たこと、を用いたこと、以外は実施例１と同様にして、図１１に示す封止体１０Ｅを製造した。
【０１９８】
ガスバリア性シート１Ｅの製造は以下のようにして行った。
【０１９９】
まず、基材２の一方の面に第３のガスバリア膜１７を設けた。第３のガスバリア膜１７は、第１のガスバリア膜１５及び第２のガスバリア膜１６から構成されている。第１のガスバリア膜１５の材料としては、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、このシランカップリング剤が有する有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物を用いた。具体的には、シランカップリング剤としてはγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用い、架橋性化合物としてはテトラエトキシシラン加水分解物を用いた。そしてこの組成物を、グラビア印刷で基材２上の全面に形成して、厚さ１μｍの第１のガスバリア膜１５を得た。
【０２００】
次いで、第１のガスバリア膜１５上に第２のガスバリア膜１６を形成した。具体的には、酸窒化珪素を、以下に示す条件を用いてイオンプレーティング法により成膜して、厚さ６０ｎｍの第２のガスバリア膜１６（ＳｉＮｃＯｄの組成でｃ＝１．０、ｄ＝０．３１）を形成した。なお、第２のガスバリア膜１６の組成は、実施例１で説明したＸＰＳにより測定した。
【０２０１】
第２のガスバリア膜１６の製造条件
製造方法：イオンプレーティング法
材料：ＳｉＯ
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：１０ｓｃｃｍ、窒素流量：５ｓｃｃｍ、アンモニア流量：１５ｓｃｃｍ
印加電力：５．６ｋＷ
【０２０２】
また、基材２の他方の面上に、ガスバリア膜３Ａを形成した。ガスバリア膜３Ａは、基材２上に、金属マスクを用いて、酸窒化珪素を、以下に示す条件を用いてイオンプレーティング法により成膜して、厚さ６０ｎｍのガスバリア膜（ＳｉＮｃＯｄの組成でｃ＝１．０、ｄ＝０．３１）を形成した。金属マスクを用いることにより、被封止物５として用いる有機ＥＬディスプレイ素子の上面と側面とを被覆する大きさ（５ｃｍ×５ｃｍ）に、ガスバリア膜３Ａ（酸窒化珪素膜）を形成した。なお、ガスバリア膜３Ａの組成分析は、第２のガスバリア膜１６と同様にＸＰＳにより行った。
【０２０３】
ガスバリア膜３Ａの製造条件
製造方法：イオンプレーティング法
材料：ＳｉＯ
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：１０ｓｃｃｍ、窒素流量：５ｓｃｃｍ、アンモニア流量：１５ｓｃｃｍ
印加電力：５．６ｋＷ
【０２０４】
次いで、ガスバリア膜３Ａの形成に用いたものと同様の金属マスクを用い、ガスバリア膜３Ａ上に、厚さ１００ｎｍの透明導電膜８を設けた。透明導電膜８の成膜条件は以下のとおりとした。
【０２０５】
透明導電膜の製造条件
製造方法：イオンプレーティング法
材料：ＩＴＯ粒（１５％Ｓｎ）
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：２０ｓｃｃｍ、酸素流量：１０ｓｃｃｍ
印加電力：３．５ｋＷ
【０２０６】
得られた透明導電膜８につき、実施例６と同様にして表面抵抗値と熱伝導率を測定したところ、それぞれ３．２×１０４Ω／□、１２Ｗ／ｍＫであった。
【０２０７】
ガスバリア性シート１Ｅを用いて得た封止体１０Ｅに対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
【０２０８】
また、ガスバリア性シート１Ｅ単独の水蒸気透過率、酸素透過率を実施例１と同様にして測定した。その結果、水蒸気透過率は、０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ、酸素透過率は、０．０３ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであり、いずれも測定限界値以下であった。
【０２０９】
（実施例８）
ガスバリア性シートの製造において、基材２の一方の面に第３のガスバリア膜１７が設けられ、基材２の他方の面にガスバリア膜３Ｃ及び透明導電膜８がこの順に設けられたガスバリア性シート１Ｆ（図９参照）を用いたこと、以外は実施例１と同様にして、図１２に示す封止体１０Ｆを製造した。
【０２１０】
ガスバリア性シート１Ｆの製造は以下のようにして行った。
【０２１１】
まず、基材２の一方の面に第３のガスバリア膜１７を設けた。第３のガスバリア膜１７は、基材２の全面に、酸窒化珪素を、以下に示す条件を用いてイオンプレーティング法により成膜して、厚さ１００ｎｍのガスバリア膜（ＳｉＮｃＯｄの組成でｃ＝１．０、ｄ＝０．２５）を形成した。なお、第３のガスバリア膜１７の組成は、実施例１で説明したＸＰＳにより測定した。
【０２１２】
第３のガスバリア膜１７の製造条件
製造方法：イオンプレーティング法
材料：ＳｉＯｘＮｙ（ｘ＝０．２、ｙ＝１．０）
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：１０ｓｃｃｍ、窒素流量：１０ｓｃｃｍ、酸素流量：５ｓｃｃｍ
印加電力：６．８ｋＷ
【０２１３】
また、基材２の他方の面上に、ガスバリア膜３Ｃを形成した。ガスバリア膜３Ｃの材料としては、有機官能基と加水分解基とを有するシランカップリング剤と、このシランカップリング剤が有する有機官能基と反応する第２の有機官能基を有する架橋性化合物と、を原料として構成された組成物を用いた。具体的には、シランカップリング剤としてはγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用い、架橋性化合物としてはテトラエトキシシラン加水分解物を用いた。そしてこの組成物を、グラビア印刷で基材２上に所定の大きさとなるように形成して、厚さ１μｍのガスバリア膜３Ｃを得た。
【０２１４】
次いで、金属マスクを用いて、ガスバリア膜３Ｃ上に、厚さ３０ｎｍの透明導電膜８を設けた。透明導電膜８の成膜条件は以下のとおりとした。
【０２１５】
透明導電膜８の製造条件
製造方法：イオンプレーティング法
材料：ＩＴＯ粒（２０％Ｓｎ）
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：１０ｓｃｃｍ、酸素流量：３０ｓｃｃｍ
印加電力：４．０ｋＷ
【０２１６】
得られた透明導電膜８につき、実施例６と同様にして表面抵抗値と熱伝導率を測定したところ、それぞれ４．１×１０６Ω／□、３Ｗ／ｍＫであった。
【０２１７】
ガスバリア性シート１Ｆを用いて得た封止体１０Ｆに対し、２０℃／３０％ＲＨの環境下で、有機ＥＬディスプレイ素子の発光特性を確認したところ、２４時間連続発光後においても、水蒸気の侵入によるダークスポットは発生せず、良好な発光特性を得た。
【０２１８】
また、ガスバリア性シート１Ｆ単独の水蒸気透過率、酸素透過率を実施例１と同様にして測定した。その結果、水蒸気透過率は、０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ、酸素透過率は、０．０１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍであり、いずれも測定限界値以下であった。
【図面の簡単な説明】
【０２１９】
【図１】本発明のガスバリア性シートの一例を示す模式的な断面図である。
【図２】本発明のガスバリア性シートの他の一例を示す模式的な断面図である。
【図３】本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【図４】本発明の封止体の一例を示す模式的な断面図である。
【図５】本発明の封止体の他の一例を示す模式的な断面図である。
【図６】本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【図７】本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【図８】本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【図９】本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【図１０】本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【図１１】本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【図１２】本発明の封止体のさらに他の一例を示す模式的な断面図である。
【図１３】従来の封止体を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
【０２２０】
１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ，１Ｆ  ガスバリア性シート
２  基材
３，３Ａ，３Ｂ，３Ｃ  ガスバリア膜
４  接着剤用アンカー膜
５  被封止物（有機ＥＬディスプレイ素子）
６  接着剤膜
７  基板
８  透明導電膜
１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆ  封止体
１１  陽極
１２  正孔輸送層
１３  発光層
１４  陰極
１５  第１のガスバリア膜
１６  第２のガスバリア膜
１７  第３のガスバリア膜
３０  従来の封止体
３１  フィルム基板
３２  発光機能層
３３  封止フィルム
３４  接着剤
【図１】
0005109715.tif 000002
【図２】
0005109715.tif 000003
【図３】
0005109715.tif 000004
【図４】
0005109715.tif 000005
【図５】
0005109715.tif 000006
【図６】
0005109715.tif 000007
【図７】
0005109715.tif 000008
【図８】
0005109715.tif 000009
【図９】
0005109715.tif 000010
【図１０】
0005109715.tif 000011
【図１１】
0005109715.tif 000012
【図１２】
0005109715.tif 000013
【図１３】
0005109715.tif 000014