(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）排気ガス流路と、
ｂ）前記排気ガス流路上のエンジンルーム内に配置された第１の三元触媒と、
ｃ）前記排気ガス流路上の前記第１の三元触媒の下流に、直列に配置された複数の炭化水素吸着浄化触媒とを有し、
前記第１の三元触媒は、複数のセルを備えたモノリス担体を有し、単位面積あたりのセル数が前記複数の炭化水素吸着浄化触媒の中で最も上流に配置される第１の炭化水素吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数より大きく、
前記各炭化水素吸着浄化触媒は、複数のセルを有するモノリス担体と、該モノリス担体上に形成された炭化水素吸着材層と浄化触媒層を有し、上記第１の炭化水素吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数Ｎ１１が下流側に位置する他の炭化水素吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数より大きく、隣接する第２の炭化水素吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数Ｎ１２の１．５倍〜３倍であると共に、
前記炭化水素吸着材層は、Ｓｉ／２Ａｌ比が１０〜１０００であるＨ型β−ゼオライトを有し、
前記浄化触媒層は、パラジウム、白金及びロジウムから成る群より選ばれた少なくとも１種の貴金属と、セリウム、ジルコニウム及びランタンから成る群より選ばれた少なくとも１種のものを金属換算で１〜１０モル％含むアルミナと、ジルコニウム、ネオジム、プラセオジウム及びランタンから成る群より選ばれた少なくとも１種のものを金属換算で１〜５０モル％含むセリウム酸化物を含有することを特徴とする排気ガス浄化システム。
【請求項２】
前記第１の三元触媒が活性状態に達するまでに上流側の炭化水素吸着浄化触媒で吸着された炭化水素量は、当該三元触媒が活性状態に達するまでに下流側の炭化水素吸着浄化触媒で吸着された炭化水素量より多いことを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項３】
上流側の炭化水素吸着浄化触媒が含む炭化水素吸着材量は、下流側の炭化水素吸着浄化触媒が含む炭化水素吸着材量より多いことを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項４】
前記排気ガス流路上の複数の炭化水素吸着浄化触媒の下流に配置される第２の三元触媒を有し、当該第２の三元触媒は複数のセルを有するモノリス担体を有し、単位面積あたりのセル数が前記第１の三元触媒の単位面積あたりのセル数以下で、かつ前記複数の炭化水素吸着浄化触媒のうち最も上流に配置される第１の炭化水素吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数より大きいことを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項５】
前記排気ガス流路上の複数の炭化水素吸着浄化触媒の間に配置される第３の三元触媒を有することを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項６】
上流側の炭化水素吸着浄化触媒の単位体積あたりの熱容量は、より下流の炭化水素吸着浄化触媒の単位体積あたりの熱容量より大きいことを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項７】
上流側にある炭化水素吸着浄化触媒の炭化水素吸着材のコート量は、より下流にある他の炭化水素吸着浄化触媒の炭化水素吸着材のコート量より大きいことを特徴とする請求項６に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項８】
上流側にある炭化水素吸着浄化触媒のモノリス担体の熱容量は、より下流にある他の炭化水素吸着浄化触媒のモノリス担体の熱容量より大きいことを特徴とする請求項６に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項９】
前記第１の三元触媒は、前記炭化水素吸着浄化触媒の吸着炭化水素量を飽和吸着量未満に調整するものであることを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項１０】
前記第１の三元触媒は、前記炭化水素吸着浄化触媒の吸着炭化水素量を飽和吸着量の７０％以下に調整するものであることを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項１１】
前記炭化水素吸着材層は、Ｈ型β−ゼオライトと共に、ＭＦＩ、Ｙ型、ＵＳＹ、モルデナイト及びフェリエライトから成る群より選ばれた少なくとも１種のゼオライトを有することを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項１２】
前記炭化水素吸着材層は、パラジウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、銀、イットリウム、ランタン、セリウム、ネオジム、リン、ホウ素及びジルコニウムから成る群より選ばれた少なくとも１種のものを有することを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
ム。
【請求項１３】
前記浄化触媒層に含有されるセリウム酸化物は、次の組成式
ＣｅａＰｒｂ［Ｘ］ｃＯｄ
（式中のＸは、ジルコニウム、ランタン及びネオジムから成る群より選ばれた少なくとも１種の元素を示し、ａ、ｂ及びｃは各元素の原子価に応じてｄ＝２．０を満たすように変化し、ｄ＝２．０のとき、ａ＝０．５〜０．９９、ｂ＝０．０５〜０．５、ｃ＝０．０〜０．４、ａ＋ｂ＋ｃ＝１である）で表されることを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項１４】
前記浄化触媒層は、更に、セリウム又はランタンを金属換算で１〜４０モル％含むジルコニウム酸化物を有することを特徴とする請求項１３に記載の排気ガス浄化システム。
【請求項１５】
前記浄化触媒層は、パラジウム、白金及びロジウムから成る群より選ばれた少なくとも１種の貴金属と、アルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属を含有することを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄化システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、排気ガス浄化システムに係り、特に、エンジン始動時の低温時に車両から大量に排出される炭化水素（ＨＣ）を有効に浄化し得る排気ガス浄化システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、自動車などの内燃機関の排気ガスを浄化するため、一酸化炭素（ＣＯ）及び炭化水素（ＨＣ）の酸化と、窒素酸化物（ＮＯｘ）の還元とを同時に行う三元触媒が広く用いられている。しかし、エンジン始動時の低温時には、三元触媒は低温でまだ活性化していないため、このとき大量に排出されるコールドＨＣを浄化することができない。
【０００３】
近年、このコールドＨＣを浄化することを目的として、炭化水素吸着材（ＨＣ吸着材）であるゼオライトと三元触媒等の浄化触媒とを備えたＨＣ吸着浄化触媒（ＨＣ吸着機能付き三元触媒）が開発されている。
このＨＣ吸着浄化触媒は、三元触媒が活性化しないエンジン始動時の低温域において、排出されるコールドＨＣを一時的に吸着、保持し、排気ガス温度上昇により三元触媒が活性化した時に、ＨＣを徐々に脱離し、しかも浄化する。
ＨＣ吸着材から脱離したＨＣを浄化する触媒としては、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）及びパラジウム（Ｐｄ）等の貴金属種を同一層に混合させたものや、Ｒｈ層とＰｄ層からなる多層構造のものが提案されている。特開平２−５６２４７号公報では、ゼオライトを主成分とする第１層の上に、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈ等の貴金属を主成分とする第２層を設けた排気ガス浄化用触媒が開示されている。
【０００４】
この他に、ＨＣ吸着材を用いた三元触媒は、特開平６−７４０１９号公報、特開平７−１４４１１９号公報、特開平６−１４２４５７号公報、特開平５−５９９４２号公報、及び特開平７−１０２９５７号公報に開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のＨＣ吸着浄化触媒を使用する場合、エンジンの始動時にＨＣ吸着材に吸着されたコールドＨＣが、排気ガス温度が上昇する前に脱離してしまうことがある。早期に脱離したこれらのＨＣは、三元触媒が十分に活性化していないので、未浄化のまま排気されてしまう。
【０００６】
このため、排気流路の切換えによって、三元触媒が十分に活性化した後、吸着ＨＣを脱離させ三元触媒で浄化する方法や、電熱ヒーターによって三元触媒を早期に活性化させる方法、外部から空気を導入して三元触媒の活性化開始を速める方法などが検討されている。しかし、これらの方法は、システム構成が煩雑なためコストがかかり、しかもコールドＨＣの浄化効率を十分に上げることができない。
【０００７】
また、排気ガス流路上に同じＨＣ吸着浄化触媒を複数個備えることで、ＨＣの浄化効率を改善する方法も検討されている。しかし、車内でＨＣ吸着浄化触媒を搭載できるスペースは限られており、増やせるＨＣ吸着浄化触媒の数には制限がある。特にエンジンルーム内は、設置スペースの余裕がほとんどない。一般に、上流側に配置したＨＣ吸着触媒では十分なＨＣ浄化率を得ることができないので、下流側に配置したＨＣ吸着浄化触媒に負荷がかかりやすい。従って、同じＨＣ吸着浄化触媒の数を単純に増やしても、効率的にＨＣ浄化率を改善することはできない。
【０００８】
本発明の目的は、コールドＨＣの浄化効率を改善することができる簡易な排気ガス浄化システムを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の態様による排気ガス浄化システムは、排気ガス流路上に、第１の三元触媒と、その下流に配置された複数のＨＣ吸着浄化触媒とを有する。第１の三元触媒は、エンジンルーム内に位置し、複数のセルを備えたモノリス担体を有し、単位面積あたりのセル数が前記複数の炭化水素吸着浄化触媒の中で最も上流に配置される第１の炭化水素吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数より大きく、各ＨＣ吸着浄化触媒は、複数のセルを有するモノリス担体と、モノリス担体上に形成されたＨＣ吸着材層と浄化触媒層とを有し、最も上流側にある第１のＨＣ吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数Ｎ１１は、より下流側にある他のＨＣ吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数より大きく、隣接する第２の炭化水素吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数Ｎ１２の１．５倍〜３倍である。さらに、前記炭化水素吸着材層は、Ｓｉ／２Ａｌ比が１０〜１０００であるＨ型β−ゼオライトを有し、前記浄化触媒層は、パラジウム、白金及びロジウムから成る群より選ばれた少なくとも１種の貴金属と、セリウム、ジルコニウム及びランタンから成る群より選ばれた少なくとも１種のものを金属換算で１〜１０モル％含むアルミナと、ジルコニウム、ネオジム、プラセオジウム及びランタンから成る群より選ばれた少なくとも１種のものを金属換算で１〜５０モル％含むセリウム酸化物を含有する。なお、ここで、単位面積とは排気ガス流れ方向に垂直な断面における単位面積を意味する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係わる排気ガス浄化システムについて説明する。なお、本明細書において、「％」は特記しない限り質量百分率を示すものとする。
【００１１】
本実施の形態の排気ガス浄化システムは、図１に示すように、内燃機関３０から排出される排気ガス流路４０上に、少なくとも直列に配置された少なくとも２以上のＨＣ吸着浄化触媒群１０（１１，１２・・・１ｎ）と、その上流に配置される第１の三元触媒２１とを有する。各ＨＣ吸着浄化触媒は、図２（ａ）、図２（ｂ）に示すように、複数のセル５を持つモノリス担体１と、このモノリス担体１上に形成されたＨＣ吸着材層２と浄化触媒層３とを備えている。
【００１２】
なお、図３（ａ）〜図３（ｃ）は、本実施の形態に係わる車載用排気ガス浄化システムの別の態様である。図４は、車に搭載された図３（ａ）に示す排気ガス浄化システムの様子を示す図である。同図に示すように、第１の三元触媒２１および第１ＨＣ吸着浄化触媒１１は、一般にエンジンルーム内に配置される。
【００１３】
図３（ａ）に示すように、ＨＣ吸着浄化触媒群１０（１１，１２）の下流に第２の三元触媒２２を付加してもよい。また、図３（ｂ）に示すように、本実施の形態に係わる車載用排気ガス浄化システムは、ＨＣ吸着浄化触媒群１０として、直列に配置された３以上のＨＣ吸着浄化触媒（１１，１２、１３）を有してもよい。さらに、図３（ｃ）に示すように、本実施の形態に係わる車載用排気ガス浄化システムは、ＨＣ吸着浄化触媒１２とＨＣ吸着浄化触媒１３との間に第３の三元触媒２３を有してもよい。
【００１４】
本実施の形態に係わる排気ガス浄化システムのＨＣ吸着浄化触媒群１０の特徴は、上流側に配置されたＨＣ吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数が、下流側に配置されたＨＣ吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数より大きいことである。例えば、図１（ａ）に示すように、２個のＨＣ吸着浄化触媒１１，１２を有する場合は、上流側に配置されたＨＣ吸着浄化触媒１１のセル数Ｎ１１は、ＨＣ吸着浄化触媒１２のセル数Ｎ１２より大きい。即ち、以下の式を満足する。
Ｎ１１＞Ｎ１２
また、ＨＣ吸着浄化触媒群１０がＮ個のＨＣ吸着浄化触媒を有する場合、上流側より、第１、第２、第３、・・・第ＮＨＣ吸着浄化触媒と呼び、各ＨＣ吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数をＮ１１、Ｎ１２、Ｎ１３、・・・Ｎ１ｎとすると、これらは以下の式を満足する。
Ｎ１１＞Ｎ１２≧Ｎ１３≧・・・≧Ｎ１ｎ
【００１５】
ＨＣ吸着浄化触媒のＨＣ脱離浄化率を上げるには、ＨＣ吸着浄化触媒への吸着量を高めるとともに脱離速度を遅延化させることが望ましい。即ち、ＨＣ吸着材層２からＨＣが脱離するタイミングと浄化触媒層３が活性化するタイミングとを合わせることができれば、高いＨＣ脱離浄化率を得ることができる。また、浄化触媒層３が活性化しないうちに未浄化のまま脱離したＨＣは再度吸着させることが望ましい。
【００１６】
排気ガス温度は、内燃機関に近い排気ガス流路の上流側で高く、下流側で低くなる。温度が高く流速が速い排気ガスが接触すると、ＨＣの脱離を促すため、ＨＣの脱離速度は速くなり、実効的なＨＣの脱離浄化効率が下がる。従って、同じタイプのＨＣ吸着浄化触媒を複数直列に配列させると、上流側のＨＣ吸着浄化触媒は下流側のＨＣ吸着浄化触媒に比較し、ＨＣ吸着効率が低くなる。この結果、下流側のＨＣ吸着浄化触媒に、飽和吸着量に近い実効ＨＣ吸着量が吸着する。ＨＣの吸着量が飽和吸着量より十分低い場合は、早期に脱離した未浄化のＨＣは再吸着されにくいため、ＨＣの脱離浄化効率を上げることが困難である。
【００１７】
本実施の形態に係わる排気ガス浄化システムでは、上流側のＨＣ吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数が下流側のＨＣ吸着浄化触媒の単位面積あたりのセル数より大きい。単位面積あたりのセル数が大きいほど、排気ガスとＨＣ吸着浄化触媒との接触面積は増えるので、上流側のＨＣ吸着浄化触媒による吸着効率を向上させることができる。従って、上流側のＨＣ吸着浄化触媒で吸着されるＨＣ吸着量が増え、下流側のＨＣ吸着浄化触媒での負担が小さくなる。この結果、下流側のＨＣ吸着浄化触媒については、ＨＣ飽和吸着量より実際のＨＣ吸着量を下げられるので、未浄化のまま脱離したＨＣを再吸着できるので、ＨＣの脱離浄化効率を改善することができる。
【００１８】
上流側のＨＣ吸着浄化触媒の容量を大きくすることによって、上流側のＨＣ吸着量を上げることもできるが、車内のスペースは限られているので、容量を大きくすることは難しい。図４に示すように、特に第１のＨＣ吸着浄化触媒１１が配置されるエンジンルームはスペースの余裕がない。従って、第１のＨＣ吸着浄化触媒として、単位面積あたりのセル数の大きいモノリス担体を使用する場合は、触媒の容量を変えずにＨＣ吸着量を増やすことができるので、車載用排気ガス浄化システムとして好適である。
【００１９】
例えば、最も上流に配置される第１ＨＣ吸着浄化触媒１１の単位面積あたりのセル数Ｎ１１を第２ＨＣ吸着浄化触媒１２の単位面積あたりのセル数Ｎ１２の１．５倍〜３倍、より好ましくは１．５倍〜２倍とする。例えば第２ＨＣ吸着浄化触媒１２のセル数が２００ｃｐｓｉの場合、第１ＨＣ吸着浄化触媒１１のセル数を３００〜６００ｃｐｓｉとする。
【００２０】
また、上記セル数の調製は、第１ＨＣ吸着浄化触媒１１により、第１の三元触媒が活性化するまでに排出されるコールドＨＣの５０％以上が吸着されるように調整することができる。
【００２１】
また、上記セル数による調製に加えて、上流側のＨＣ吸着浄化触媒が含む炭化水素吸着材量が、下流側のＨＣ吸着浄化触媒が含む炭化水素吸着材量より多くなるように調製すれば、より効果的に上流側のＨＣ吸着浄化触媒のＨＣ吸着量を増加させることができる。
【００２２】
なお、第１の三元触媒２１も、ＨＣ吸着浄化触媒と同様に、複数のセルを有するモノリス担体に形成されるものでもよい。第１の三元触媒２１としては、ＨＣ吸着浄化触媒群１０が吸着するトータルなコールドＨＣ量（各触媒でのＨＣ吸着量の総和）を、これらＨＣ吸着浄化触媒群１０のトータルなＨＣの飽和吸着量（各触媒での飽和吸着量の総和）未満、代表的にはその飽和吸着量の７０％以下にする機能を有するものが好ましい。
第１の三元触媒２１が、ＨＣ吸着浄化触媒群１０の飽和吸着量をこのように抑制する場合は、未浄化脱離ＨＣが別位置のＨＣ吸着材層へ有効に再吸着可能となるので、ＨＣの脱離浄化効率を向上させることができる。
【００２３】
また、ＨＣ吸着浄化触媒に流入するコールドＨＣ量を飽和吸着量の７０％以下に調節するには、上流にある第１の三元触媒２１の活性化開始を促進することが望ましい。三元触媒の活性化開始を促進するためには、三元触媒層と排気ガスとの接触頻度を大きくして、排気ガスから効率良く熱を受け、温度上昇を早くすることが好ましい。このためには、セル数の多い担体を使用することが望ましい。
【００２４】
一方、ＨＣ吸着浄化触媒群１０では、単位当たりのセル数が多すぎると、各セルの大きさが小さくなるのでＨＣ吸着材層２を厚く塗ることが困難になる。ＨＣ吸着材層２が薄いと、ＨＣの離脱が早くなるので、ＨＣの脱離浄化率を上げることが困難になる。従って、ＨＣ吸着浄化触媒のセル数は、第１三元触媒２１に比較して、少ないセル数とすることが望ましい。従って、第１三元触媒２１の単位面積あたりのセル数をＮｔ１とするとき、以下の式を充たすことが好ましい。
Ｎｔ１＞Ｎ１１＞Ｎ１２≧Ｎ１３≧・・・≧Ｎ１ｎ例えば、第１の三元触媒２１としてセル数９００ｃｐｓｉ以上のモノリス担体を使用し、ＨＣ吸着浄化触媒群１０の各ＨＣ吸着浄化触媒としてセル数が１００ｃｐｓｉ〜６００ｃｐｓｉのモノリス担体を使用することが好ましい。
【００２５】
なお、本実施の形態に係わる排気ガス浄化システムは、図３（ａ）に示すように、ＨＣ吸着浄化触媒群１０の下流に、第２の三元触媒２２を付加することが可能である。この場合も、第２の三元触媒２２の単位当たりのセル数Ｎｔ２は、第１の三元触媒２１と同様に、ＨＣ吸着浄化触媒群１０の各ＨＣ吸着浄化触媒のセル数より多くする。即ち、本実施の形態に係わる排気ガス浄化システムは、以下の式を充たすことが好ましい。
Ｎｔ１≧Ｎｔ２＞Ｎ１１＞Ｎ１２≧Ｎ１３≧・・・≧Ｎ１ｎ
【００２６】
また、本実施の形態に係わる排気ガス浄化システムは、図３（ｃ）に示すように、ＨＣ吸着浄化触媒群１０のいずれかの間に、さらに第３の三元触媒２３を付加することが可能である。このように第３の三元触媒２３を加えることで、これより下流側にあるＨＣ吸着浄化触媒１３の温度上昇が抑えられるので、吸着したＨＣの脱離開始を遅延できる。この結果、下流側のＨＣ吸着浄化触媒でのＨＣ離脱開始を浄化触媒層３の活性開始の時期に合わせることができるので、ＨＣの脱離浄化効率を上げることができる。
【００２７】
また、本実施の形態に係わる排気ガス浄化システムのＨＣ吸着浄化触媒群１０において、上流側のＨＣ吸着浄化触媒の単位体積当たりの熱容量を下流側のＨＣ吸着浄化触媒の単位体積当たりの熱容量よりも大きくすることにより、下流側のＨＣ吸着浄化触媒の温度上昇を抑制することができる。従って、下流側のＨＣ吸着浄化触媒のＨＣ脱離速度が抑制されるので、ＨＣ吸着材層２に吸着されたＨＣの脱離開始と浄化触媒層３の活性開始との時期を容易に一致させることが可能になり、ＨＣの浄化効率を更に向上させることができる。
かかる熱容量の調製は、各ＨＣ吸着浄化触媒におけるＨＣ吸着材層２のコート量を制御することによって行うことができる。具体的には、上流にあるＨＣ吸着浄化触媒のコート量を下流にあるＨＣ吸着浄化触媒のコート量よりも多くすることにより実行することができる。上流にあるＨＣ吸着浄化触媒では、ＨＣ吸着材層２を厚くすることで、吸着したＨＣの脱離開始を遅延化でき、下流にあるＨＣ吸着浄化触媒では、浄化触媒層３の温度上昇が早くなり、活性化開始を速めるので、システム全体のＨＣの脱離浄化効率を更に向上できる。
【００２８】
なお、モノリス担体の材質を変更して熱容量を調節することも可能である。具体的には、上流にあるＨＣ吸着浄化触媒のモノリス担体の材質を下流にあるＨＣ吸着浄化触媒のモノリス担体の材質よりも熱容量の大きいものにすることにより、上記同様の効果が得られる。
【００３０】
次に、上述したＨＣ吸着浄化触媒の成分などにつき説明する。
ＨＣ吸着材層２のＨＣ吸着材として、ゼオライトを用いる場合、コールドＨＣの吸着性能は、排ガス中のＨＣ種組成とゼオライトの有する細孔径との間の相関に影響を受ける。従って、最適な細孔径と分布、骨格構造を持つゼオライトを選定して使用する必要がある。
【００３１】
ゼオライトとしては、一般にＭＦＩ型が使用されているが、他の細孔径を有するゼオライト（例えばＵＳＹ）も単独で使用されたり、あるいはこれらの複数種のゼオライトを混合したりすることで、ゼオライトの細孔径分布が調製されている。しかし、長時間使用後にはゼオライトの種類によって細孔径の歪みや吸着・脱離特性が異なるため、排ガスＨＣ種の吸着が不十分になる。
【００３２】
ＨＣ吸着材層２に用いるＨＣ吸着材としては、Ｓｉ／２Ａｌ比が１０〜１０００のＨ型β−ゼオライトを挙げることができる。このＨ型β−ゼオライトは細孔分布が広く耐熱性にも優れるので、ＨＣの吸着効率向上及び耐熱性向上の観点から好適である。
また、ＨＣ吸着材として、上記Ｈ型β−ゼオライトとともに、ＭＦＩ、Ｙ型、ＵＳＹ、モルデナイト又はフェリエライト及びこれらの任意の混合物を併用すれば、材料の有する細孔径の分布を拡大できるので、ＨＣの吸着効率を更に向上できる。
【００３３】
ＨＣ吸着材層３には、上述のようなゼオライト系の材料などだけではなく、パラジウム（Ｐｄ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、銀（Ａｇ）、イットリウム（Ｙ）、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、ネオジム（Ｎｄ）、リン（Ｐ）、ホウ素（Ｂ）又はジルコニウム（Ｚｒ）及びこれらの混合物を加えることができ、これにより、ゼオライトの吸着性能と耐熱性を更に向上できるので、吸着ＨＣの脱離を遅延化することができる。
【００３５】
一方、ＨＣ吸着材層２に含まれる浄化触媒成分としては、Ｐｔ、Ｒｈ又はＰｄ及びこれらの混合物に係る貴金属を用いることができる。更に、Ｃｅ、Ｚｒ又はＬａ及びこれらの混合物を金属換算で１〜１０モル％含むアルミナと、Ｚｒ、Ｎｄ、Ｐｒ又はＬａ及びこれらの混合物を金属換算で１〜５０モル％含むセリウム酸化物を添加することができる。
【００３６】
上記浄化触媒層３の三元触媒は、理論空燃比（Ａｉｒ／Ｆｕｅｌ＝１４．６）で有効に機能し、ＨＣ及びＣＯを酸化し、ＮＯｘを還元する。しかし、ＨＣ吸着材層２から脱離したＨＣを浄化するとき、浄化触媒層３の雰囲気は酸素不足状態になるので、ＨＣ、一酸化炭素（ＣＯ）及び窒素酸化物（ＮＯｘ）のバランスの良い浄化ができなくなり、結果的に吸着ＨＣの浄化が十分にできない。しかし、浄化触媒層３にセリウム酸化物を添加した場合は、吸着ＨＣが脱離する際にセリウム酸化物が酸素を放出するため、浄化触媒層３における脱離浄化効率を向上できる。
この場合、上記セリウム酸化物としては、次の組成式
ＣｅａＰｒｂ［Ｘ］ｃＯｄ
（式中のＸは、ジルコニウム、ランタン及びネオジムから成る群より選ばれた少なくとも１種の元素を示し、ａ、ｂ及びｃは各元素の原子価に応じてｄ＝２．０を満たすように変化し、ｄ＝２．０のとき、ａ＝０．５〜０．９９、ｂ＝０．０５〜０．５、ｃ＝０．０〜０．４、ａ＋ｂ＋ｃ＝１である）で表されるものを用いることができ、これにより、セリウム酸化物が酸素放出する温度を更に降下させることができるため、浄化触媒層３の脱離浄化効率が更に向上する。
また、かかる浄化触媒層３に、Ｃｅ又はＬａ及びこれらの混合物を金属換算で１〜４０モル％含むジルコニウム酸化物を付加することも可能であり、これにより、該浄化触媒成分層における脱離浄化効率を更に向上できる。
【００３７】
一方、Ｐｔ、Ｒｈ及びＰｄ等の貴金属と、アルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属とを併用して浄化触媒成分層を形成すれば、耐熱性が向上するので脱離浄化効率を改善できる。
【００３８】
また、上述したモノリス担体の材質としては、特に限定されず従来公知のものを用いることができ、具体的には、コージェライト製、金属製及び炭化ケイ素製のものを用いることができる。
なお、熱容量が比較的小さな材質としては、多孔質コージェライト、金属などを挙げることができ、熱容量が比較的大きな材質としては、緻密質コージェライト、炭化ケイ素などを挙げることができ、本実施の形態に係わる排気ガス浄化システムでは、例えば上流にあるＨＣ吸着浄化触媒を緻密質コージェライトや炭化ケイ素で形成したモノリス担体を使用し、下流にあるＨＣ吸着浄化触媒を多孔質コージェライトや金属で形成したモノリス担体を使用することもできる。
【００３９】
一方、第１〜第３の酸化三元触媒２１〜２３に用いられる成分としては、三元浄化機能を発揮する白金、パラジウム及びロジウム、アルミナなどの耐火性無機酸化物などを用いることができる。
なお、ＨＣ吸着浄化触媒と同様に各種モノリス担体を用いることができる。
【００４０】
【実施例】
以下、本発明を実施例及び比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４１】
触媒１：ＨＣ吸着浄化触媒
（“触媒−ａ”の作成）
β−ゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝２５）２１２５ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１８７５ｇ、純水３０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（２００セル／１０ミル、触媒容量１．０Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に２５０ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返し、“触媒−ａ”を得た。
【００４２】
（“触媒−ｂ”の作成）
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末（“粉末ａ”）を得た。この“粉末ａ”のＰｄ濃度は４．０％であった。
Ｌａ１ｍｏｌ％とＺｒ３２ｍｏｌ％含有セリウム酸化物粉末（Ｃｅ６７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（“粉末ｂ”）を得た。この“粉末ｂ”のＰｄ濃度は２．０％であった。
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（“粉末ａ”）３１４ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（“粉末ｂ”）３１４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３２０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で３２ｇ）及び炭酸バリウム５１．５ｇ（ＢａＯとして４０ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記“触媒−ａ”に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量７０ｇ／Ｌを塗布し、“触媒−ｂ”を得た。
【００４３】
（ＨＣ吸着浄化触媒の作製）
Ｚｒ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸ロジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末（“粉末ｃ”）を得た。この“粉末ｃ”のＲｈ濃度は２．０％であった。
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、ジニトロジアンミン白金水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持アルミナ粉末（“粉末ｄ”）を得た。この“粉末ｄ”のＰｔ濃度は４．０％であった。
上記Ｒｈ担持アルミナ粉末（“粉末ｃ”）１１８ｇ、Ｐｔ担持アルミナ粉末（“粉末ｄ”）１７７ｇ、Ｌａ１モル％とＣｅ２０モル％を含有するジルコニウム酸化物粉末１７５ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記“触媒−ｂ”に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量５０ｇ／Ｌを塗布し、本例の“触媒１”を得た。
こうして得たＨＣ吸着浄化触媒（触媒１）の貴金属担持量は、Ｐｔ０．７１ｇ／Ｌ、Ｐｄ１．８８ｇ／Ｌ、Ｒｈ０．２４ｇ／Ｌであった。“触媒１”の仕様等を表１及び表２に示す。
【００４４】
触媒１３：ＨＣ吸着浄化触媒
（“触媒−ｃ”の作製）
β−ゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝４０）２１２５ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１８７５ｇ、純水３０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（３００セル／６ミル、０．５Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に２５０ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返し、“触媒−ｃ”を得た。
【００４５】
（“触媒−ｄ”の作製）
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末（“粉末ｅ”）を得た。この“粉末ｅ”のＰｄ濃度は２．０％であった。
Ｌａ１ｍｏｌ％とＺｒ３２ｍｏｌ％含有セリウム酸化物粉末（Ｃｅ６７ｍｏｌ％）に、硝酸パラジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（“粉末ｆ”）を得た。この“粉末ｆ”のＰｄ濃度は１．０％であった。
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（“粉末ｅ”）３１４ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（“粉末ｆ”）３１４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３２０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で３２ｇ）及び炭酸バリウム５１．５ｇ（ＢａＯとして４０ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記“触媒−ｃ”に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量７０ｇ／Ｌを塗布し、“触媒−ｄ”を得た。
【００４６】
（ＨＣ吸着浄化触媒の作製）
Ｚｒ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、硝酸ロジウム水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末（“粉末ｇ”）を得た。この“粉末ｇ”のＲｈ濃度は１．０％であった。
Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末（Ａｌ９７ｍｏｌ％）に、ジニトロジアンミン白金水溶液を含浸或いは高速撹拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持アルミナ粉末（“粉末ｈ”）を得た。この“粉末ｈ”のＰｔ濃度は２．０％であった。
上記Ｒｈ担持アルミナ粉末（“粉末ｇ”）１１８ｇ、Ｐｔ担持アルミナ粉末（“粉末ｈ”）１７７ｇ、Ｌａ１モル％とＣｅ２０モル％を含有するジルコニウム酸化物粉末１７５ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記“触媒−ｄ”に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量５０ｇ／Ｌを塗布し、本例の“触媒１３”を得た。
こうして得た触媒の貴金属担持量は、Ｐｔ０．３６ｇ／Ｌ、Ｐｄ０．９４ｇ／Ｌ、Ｒｈ０．１２ｇ／Ｌであった。“触媒１３”の仕様等を表１及び表２に示す。
【００４７】
触媒４１：三元触媒
（“触媒−ｅ”の作製）
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）４３２ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）３１４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１４０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で３２ｇ）及び炭酸バリウム５１．５ｇ（ＢａＯとして４０ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液をモノリス担体（１２００セル／２ミル、０．５Ｌ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量８０ｇ／Ｌを塗布し、“触媒−ｅ”を得た。
【００４８】
（三元触媒の作製）
上記Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｃ）１１８ｇ、Ｐｔ担持アルミナ粉末（粉末ｈ）１７７ｇ、Ｌａ１モル％とＣｅ２０モル％を含有するジルコニウム酸化物粉末１７５ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記“触媒−ｅ”に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量５０ｇ／Ｌを塗布し、本例の“触媒４１”を得た。
こうして得た触媒の貴金属担持量は、Ｐｔ０．７１ｇ／Ｌ、Ｐｄ２．３６ｇ／Ｌ、Ｒｈ０．２４ｇ／Ｌであった。“触媒４１”の仕様等を表１及び表２に示す。
【００４９】
触媒４２：ＨＣ吸着浄化触媒
（“触媒−ａ２”の作製）
触媒１と同様な方法で、まず触媒−ａを作製した。
上記Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｃ）１１８ｇ、Ｐｔ担持アルミナ粉末（粉末ｄ）１７７ｇ、Ｌａ１モル％とＣｅ２０モル％を含有するジルコニウム酸化物粉末１７５ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記触媒−ａに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量５０ｇ／Ｌを塗布し、“触媒−ａ２”を得た。こうして得た触媒の貴金属担持量は、Ｐｔ０．７１ｇ／Ｌ、Ｒｈ０．２４ｇ／Ｌであった。
【００５０】
（ＨＣ吸着浄化触媒の作製）
上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）３１４ｇ、上記Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）３１４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル３２０ｇ（ベーマイトアルミナ１０％に１０％の硝酸を添加することによって得られたゾルでＡｌ２Ｏ３換算で３２ｇ）及び炭酸バリウム５１．５ｇ（ＢａＯとして４０ｇ）を純水２０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記“触媒−ａ２”に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量７０ｇ／Ｌを塗布し、“触媒４２”を得た。
こうして得た“触媒４２”の貴金属担持量は、Ｐｔ０．７１ｇ／Ｌ、Ｐｄ１．８８ｇ／Ｌ、Ｒｈ０．２４ｇ／Ｌであった。
【００５１】
触媒２〜３３、３７〜３９：ＨＣ吸着浄化触媒
触媒１、および触媒２と同様な手順で触媒２〜３３及び触媒３７〜３９を作製した。詳細な条件は表１及び表２に示す。
【００５２】
触媒４０：三元触媒
触媒４１と同様な手順で触媒４０を作製した。詳細な条件は表１及び表２に示す。
【００５３】
なお、触媒１２では、モノリス担体として、比熱が１．０（Ｊ／ｇ・Ｋ）の通常のコーディエライト質のかわりに、比熱が１．１〜１．２（Ｊ／ｇ・Ｋ）の緻密なコーディエライト質を使用した。こうして、触媒１２の熱容量を大きくした。
【００５４】
触媒１には、結晶子径約８．０ｎｍのＣｅＯ２  を添加したアルミナ材を使用した。図５には、触媒１に用いたアルミナ材のＸ線回折パターンを示す。触媒２、５〜１８、２０〜２７、３１、３２、３７〜３９でも、同様なアルミナ材を使用した。触媒３には、結晶子径約５．０ｎｍのＣｅＯ２ を添加したアルミナ材を使用した。図６には、触媒３に用いたアルミナ材のＸ線回折パターンを示す。触媒４、２８〜３０でも、同様なアルミナ材を使用した。触媒１９では、結晶子径約４．７ｎｍのＣｅＯ２ を添加したアルミナ材を使用した。図７には、触媒１９に用いたアルミナ材のＸ線回折パターンを示す。触媒３３でも、同様なアルミナ材を使用した。
【００５５】
【表１】
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【００５６】
【表２】
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【００５７】
［セリウム結晶子径の測定］
各触媒に用いたアルミナに含まれるセリウムの結晶子径を、下記の方法及び条件下で測定し、得られた結果を表２に併記した。なお、触媒１、触媒３及び触媒１９については、Ｘ線回折チャート及びＸ線回折データをそれぞれ図５、図６及び図７に示す。
【００５８】
（ＸＲＤ測定用試料調製方法）
▲１▼粉末試料を、メノウ乳鉢を用いて粒子が数１００μｍ以下になるように粉砕する。
▲２▼粉砕した試料を、ＸＲＤ測定用ガラス板試料板（深さ０．５ｍｍ）に詰め込み、測定面を平面にする。
【００５９】
（Ｘ線回折測定条件）
装置：ＭＡＣＳｃｉｅｎｃｅ社製広角Ｘ線回折装置（ＭＸＰＶＡＨＦ）
Ｘ線源：ＣｕＫα、波長：１．５４０５６Å、管電流：３００ｍＡ、管電圧：４０ｋＶ、
データ測定範囲：２θ＝５〜９０ｄｅｇ．、スキャン幅：２θ／θ
スキャン速度：４ｄｅｇ．／ｍｉｎ．、サンプリング間隔：０．０２ｄｅｇ．
発散スリット：１．０ｄｅｇ．、散乱スリット：１．０ｄｅｇ．
発光スリット：０．３ｍｍ
【００６０】
（結晶子径の計算条件）
結晶子径は、次の式（Ｓｈｅｒｒｅｒの式）を用いて計算した。
結晶子径＝Ｋλ／（Δ（２θ）＊ｃｏｓθ）
ここで、Ｋ＝０．９，λ＝１．５４Å，Δ（２θ）＝０．０１７４５３３＊
半値幅
θは、各ミラー（１１１），（２００），（２２０)，（３１１），（２
２２），（３３１），（４２０）における回折角（２θ）を２で割って求め
た。Δ（２θ）は、各Ｘ線回折ピークの半値幅に０．０１７４５３３を乗じ
て算出した。Ｘ線回折ピークの半値幅を基に算出した値を平均したものを結
晶子径とした。
【００６１】
（実施例１〜８、１２〜１７、１９〜２６、３０〜３４、６１〜６２、６４）
上述の各種触媒を用い、図８に示すような構成を有する各例の排気ガス浄化システムを構築した。実施例１〜８、１２〜１７、１９〜２６、３０〜３４、６１〜６２、および実施例６４の条件を表３に示す。
【００６２】
（実施例３５、３６、３８〜４０）
上述の各種触媒を用い、図９に示すような構成を有する各例の排気ガス浄化システムを構築した。実施例３５、３６、３８〜４０の条件を表４に示す。
【００６３】
（実施例４１、４２）
上述の各種触媒を用い、図１０、図１１に示すような構成を有する各例の排気ガス浄化システムを構築した。実施例４１、４２の条件を表５、６に示す。
【００６４】
（実施例４３〜４５）
上述の各種触媒を用い、図１２〜図１４に示すような構成を有する各例の排気ガス浄化システムを構築した。実施例４３〜４５の条件を表７に示す。
【００６５】
（比較例４９〜５１、５３〜５６）
上述の各種触媒を用い、図８に示すような構成を有する各例の排気ガス浄化システムを構築した。比較例４９〜５１及び比較例５３〜５６の条件を表８に示す。
【００６６】
［性能評価］
各例の排気ガス浄化システムにつき、下記の条件及び方法で性能評価を実施した。得られた結果は表３〜表８に併記した。
（耐久条件）
エンジン排気量        ３０００ｃｃ
燃料                  ガソリン（日石ダッシュ）
触媒入口ガス温度      ６５０℃
耐久時間              １００時間
（車両性能試験）
エンジン排気量      日産自動車株式会社製  直列４気筒  ２．０Ｌエンジン
評価方法            北米排ガス試験法のＬＡ４−ＣＨのＡ−ｂａｇ
【００６７】
【表３】
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【００６８】
【表４】
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【００６９】
【表５】
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【００７０】
【表６】
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【００７１】
【表７】
0004863596.tif 000008
【００７２】
【表８】
0004863596.tif 000009
【００７３】
表３〜表８に示した結果より、コールドＨＣ吸着率、吸着ＨＣの脱離浄化率という観点から、実施例３３及び４０が優れていると言い得る。
【００７４】
【発明の効果】
以上に説明するように、本発明は、エンジンルーム内に配置された三元触媒と、その下流側に複数個のＨＣ吸着浄化触媒を備えた排気ガス浄化システムにおいて、三元触媒と各ＨＣ吸着浄化触媒のモノリス担体の単位断面積あたりのセル数を調整することにより、コールドＨＣの浄化効率を改善する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係わる排気ガス浄化システムの基本的な構成図である。
【図２】図２（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施の形態に係わるＨＣ吸着浄化触媒を示す斜視図及びセルの拡大断面図である。
【図３】図３（ａ）〜（ｃ）は本発明の実施の形態に係わる別の排気ガス浄化システムを示す図である。
【図４】本発明の実施の形態に係わる排気ガス浄化システムの車載例を示す図である。
【図５】本発明の実施例に係わる触媒１に使用したＣｅＯ２添加アルミナ粉末のＸ線回折パターン及びこのパターンより求めた各ミラー指数における回折角と相対強度を示す図である。
【図６】本発明の実施例に係わる触媒３に使用したＣｅＯ２添加アルミナ粉末のＸ線回折パターン及びこのパターンより求めた各ミラー指数における回折角と相対強度を示す図である。
【図７】本発明の実施例に係わる触媒１９に使用したＣｅＯ２添加アルミナ粉末のＸ線回折パターン及びこのパターンより求めた各ミラー指数における回折角と相対強度を示す図である。
【図８】本発明の実施例１〜３４および実施例４６〜６４で使用した排気ガス浄化システムの構成を示す図である。
【図９】本発明の実施例３５〜４０で使用した排気ガス浄化システムの構成を示す図である。
【図１０】本発明の実施例４１で使用した排気ガス浄化システムの構成を示す図である。
【図１１】本発明の実施例４２で使用した排気ガス浄化システムの構成を示す図である。
【図１２】本発明の実施例４３で使用した排気ガス浄化システムの構成を示す図である。
【図１３】本発明の実施例４４で使用した排気ガス浄化システムの構成を示す図である。
【図１４】本発明の実施例４５で使用した排気ガス浄化システムの構成を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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