(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式(Ｉ)で表される波長分散制御剤を含有し、レターデーション値が下記式（１）及び（２）を満たすポリマーフィルム。
【化１】
0005061066.tif 000053
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子、アルキル基、又はアリール基を表すが、同時に水素原子を表すことはない。Ｒ3及びＲ4は各々独立に電子求引性の置換基を表す。Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4は各々結合して環を形成してもよい。）
式（１）  ７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦３００ｎｍ
式（２）  Ｒｔｈ（６２８）＜Ｒｔｈ（５４８）＜Ｒｔｈ（４４６）
（式（１）及び（２）中、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍの光を入射させて測定した膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である）。
【請求項２】
更に、下記一般式（ＩＩ）で表される耐光性改良剤を含有する請求項１に記載のポリマーフィルム。
【化２】
0005061066.tif 000054
（一般式（ＩＩ）中、Ｘ1は、−ＮＲ4−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ2は、−ＮＲ5−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ3は、−ＮＲ6−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。）
【請求項３】
セルロースアシレートを含む請求項１又は２に記載のポリマーフィルム。
【請求項４】
前記セルロースアシレートがアセチル基とプロピオニル基を含み、アセチル基の置換度をＡ、プロピオニル基の置換度をＰとした場合に、ＡとＰが下記式（３）および式（４）を満たす請求項３に記載のポリマーフィルム。
式（３）２．００≦Ａ＋Ｐ≦２．７０
式（４）  （３−Ａ−Ｐ）×０．５≦Ｐ≦（３−Ａ−Ｐ）×２
【請求項５】
セルロースアシレートに対して、一般式(Ｉ)で表される波長分散制御剤を１．０〜２０質量％含有する請求項３または４に記載のポリマーフィルム。
【請求項６】
一般式(Ｉ)で表される波長分散制御剤に対して、一般式（ＩＩ）で表される耐光性改良剤を１０質量％（０.１倍）以上１０００質量％（１０倍）以下含有する請求項２〜５のいずれかに記載のポリマーフィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のポリマーフィルムを含む偏光板保護フィルム。
【請求項８】
偏光子と、該偏光子の少なくとも片側に配置された保護フィルムとを有し、該保護フィルムが、請求項７に記載の偏光板保護フィルムである偏光板。
【請求項９】
液晶セルと、請求項８に記載の偏光板を有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に視野角特性に優れたＶＡモード液晶表示装置及びこれに用いるポリマーフィルム等に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。従来、画像の視野角依存性が大きいことが液晶表示装置の大きな欠点であった。しかし、近年では高視野角液晶モードが実用化されており、これによってテレビ等の高品位の画像が要求される市場でも液晶表示装置の需要が急速に拡大しつつある。
ＶＡモード液晶表示装置は、他の液晶表示モードに比べて一般にコントラストが高いというメリットがある一方、視角によってコントラスト及び色味の変化が大きいという問題を有していた。
この問題を解決するために様々な光学特性を有する光学補償フィルム及びその組み合わせ方法が提案されている。なかでも、面内レターデーション（以下Ｒｅと称する）が短波長ほど小さい（以下逆分散性と称する）光学補償フィルムと、厚み方向レターデーション（以下Ｒｔｈと称する）が短波長ほど大きくなる（以下順分散性と称する）光学補償フィルムを組み合わせる方法は特に有望で、例えば特許文献１には逆分散性光学補償フィルムとしてセルロースアシレートの延伸フィルム、順分散性光学補償フィルムとしてタック上にポリイミド層を塗布したフィルム、を用いる方法が開示されている。タック上にポリイミド層を塗布したフィルムは、順分散性光学補償フィルムを得る効果的な方法ではあるが２層構成のため高コストである問題がある。
一方、セルロースアシレートフィルム等のポリマーフィルムでは、フィルムの耐候性改良のために紫外線波長領域に吸収を有する添加剤（以下紫外線吸収剤と称する）を添加する方法が知られている。紫外線吸収剤としては、吸収帯ができるだけ長波長側の紫外線領域にあり、かつ無色の化合物が好ましい。特許文献２には、ブタジエン構造の片方の末端にアミノ基、もう片方の末端に電子吸引性基を有する構造を含む化合物（以下アミノブタジエン系化合物と称する）を添加したセルロースアシレートフィルムが開示されている。しかし、アミノブタジエン系化合物は長時間光があたると分解しやすいという問題があり、改良が求められていた。さらに、特許文献２には、アミノブタジエン系化合物をレターデーションの調整、特に厚み方向のレターデーションの波長依存性の調節に用いることは記載されていない。特にセルロースアセテート系フィルムにアミノブタジエン系化合物を添加する場合、ブリードアウトが生じやすいため、添加量が制限され、十分なレターデーション調節が行えないという問題があり、改良が求められていた。
【特許文献１】特開２００７−１５６４３３号公報
【特許文献２】特開２００２−４７３５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、斜めコントラストが高く色味視野角依存性が低く、耐光性に優れ、ブリードアウトの発生を抑制した液晶表示装置を提供するためのポリマーフィルム等を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは鋭意検討した結果、プロトン受容能を有するトリアジン系化合物を添加するとアミノブタジエン系化合物の光に対する安定性を大幅に改良できることを見出した。さらに、前記プロトン受容能を有するトリアジン系化合物はアミノブタジエン系化合物のブリードアウト抑制にも効果のあることを見出した。さらに、本発明者らは、アセチル基とプロピオニル基を有し、アセチル基の置換度とプロピオニル基の置換度が一定の範囲を満たすセルロースアセテートプロピオネートを用いれば、ブリードアウトを起こすことなく所望のレターデーションの波長分散が得られることを見出し、本発明を完結するに至った。
すなわち上記課題は、以下の手段によって解決された。
【０００５】
〔１〕
一般式(Ｉ)で表される波長分散制御剤を含有し、レターデーション値が下記式（１）及び（２）を満たすポリマーフィルム。
【０００６】
【化１】
0005061066.tif 000002
【０００７】
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子、アルキル基、又はアリール基を表すが、同時に水素原子を表すことはない。Ｒ3及びＲ4は各々独立に電子求引性の置換基を表す。Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4は各々結合して環を形成してもよい。）
式（１）  ７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦３００ｎｍ
式（２）  Ｒｔｈ（６２８）＜Ｒｔｈ（５４８）＜Ｒｔｈ（４４６）
（式（１）及び（２）中、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍの光を入射させて測定した膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である）。
〔２〕  更に、下記一般式（ＩＩ）で表される耐光性改良剤を含有する〔１〕に記載のポリマーフィルム。
【０００８】
【化２】
0005061066.tif 000003
【０００９】
（一般式（ＩＩ）中、Ｘ1は、−ＮＲ4−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ2は、−ＮＲ5−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ3は、−ＮＲ6−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。）
〔３〕
セルロースアシレートを含む〔１〕又は〔２〕に記載のポリマーフィルム。
〔４〕
前記セルロースアシレートがアセチル基とプロピオニル基を含み、アセチル基の置換度をＡ、プロピオニル基の置換度をＰとした場合に、ＡとＰが下記式（３）および式（４）を満たす〔３〕に記載のポリマーフィルム。
式（３）２．００≦Ａ＋Ｐ≦２．７０
式（４）  （３−Ａ−Ｐ）×０．５≦Ｐ≦（３−Ａ−Ｐ）×２
〔５〕
セルロースアシレートに対して、一般式(Ｉ)で表される波長分散制御剤を１．０〜２０質量％含有する〔３〕または〔４〕に記載のポリマーフィルム。
〔６〕
一般式(Ｉ)で表される波長分散制御剤に対して、一般式（ＩＩ）で表される耐光性改良剤を１０質量％（０.１倍）以上１０００質量％（１０倍）以下含有する〔２〕〜〔５〕のいずれかに記載のポリマーフィルム。
〔７〕
〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載のポリマーフィルムを含む偏光板保護フィルム。
〔８〕
偏光子と、該偏光子の少なくとも片側に配置された保護フィルムとを有し、該保護フィルムが、〔７〕に記載の偏光板保護フィルムである偏光板。
〔９〕
液晶セルと、〔８〕に記載の偏光板を有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、斜めコントラストが高く色味視野角依存性が低く、耐光性に優れ、ブリードアウトの発生を抑制した液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００１２】
本発明のポリマーフィルムは下記一般式(Ｉ)で表される波長分散制御剤を含有し、レターデーション値が下記式（１）及び（２）を満たす。
【００１３】
【化３】
0005061066.tif 000004
【００１４】
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子、アルキル基、又はアリール基を表すが、同時に水素原子を表すことはない。Ｒ3及びＲ4は各々独立に電子求引性の置換基を表す。Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4は各々結合して環を形成してもよい。）
式（１）  ７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦３００ｎｍ
式（２）  Ｒｔｈ（６２８）＜Ｒｔｈ（５４８）＜Ｒｔｈ（４４６）
（式（１）及び（２）中、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍの光を入射させて測定した膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である）。
【００１５】
まず一般式（Ｉ）で表される波長分散制御剤について詳しく説明する。
【００１６】
【化４】
0005061066.tif 000005
【００１７】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子、アルキル基、又はアリール基を表すが、同時に水素原子を表すことはない。Ｒ3及びＲ4は各々独立に電子求引性の置換基を表す。Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4は各々結合して環を形成してもよい。
【００１８】
Ｒ1及びＲ2におけるアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素鎖中に不飽和結合を有していてもよい。例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基、エイコシル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、２−エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、クロロプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルプロピル基、シアノエチル基、フェネチル基、ペンチル基、ｐ−ｔ−ブチルフエネチル基、ｐ−ｔ−オクチルフェノキシエチル基、３−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）プロピル基、エトキシカルボニルメチル基、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル基、２−フリルエチル基等））等を挙げることができる。また、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基で更に置換されていてもよい。
【００１９】
Ｒ1及びＲ2におけるアリール基は炭素数６〜２０であることが好ましく、例えばトリル基、フェニル基、アニシル基、メシチル基、クロロフェニル基、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。また、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基で更に置換されていてもよい。
【００２０】
但しＲ1とＲ2は同時に水素原子とはなり得ない。
さらにＲ1とＲ2は結合して環を形成してもよく、その場合は環状アミノ基（例えば、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロアゼピノ基、ピペラジノ基等）を形成するのに必要な原子団を表す。
【００２１】
Ｒ3及びＲ4は各々独立に電子求引性の置換基を表す。ここで電子求引性の置換基とはハメットの置換基定数σp値が０より大きい置換基を示し、σp値が０.１より大きい置換基がより好ましく、σp値が０．３より大きい置換基がさらに好ましい。中でも−ＣＯＲ5、−ＣＯ2Ｒ6、−ＣＯＮＲ5Ｒ6、カルボキシル基、シアノ基、−ＳＯ2Ｒ5、−ＳＯ2ＮＲ5Ｒ6のいずれかであることが特に好ましい。
【００２２】
Ｒ5及びＲ6はそれぞれ、水素原子又は置換基を表し、Ｒ5とＲ6とが結合して環を形成してもよい。
Ｒ5における置換基としては、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜２０の置換又は無置換のアルケニル基、炭素数６〜２０の置換又は無置換のアリール基あるいは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、より好ましくは、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数３〜１５の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜１５の置換又は無置換のアルケニル基であり、さらに好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルケニル基である。
Ｒ6における置換基としては、好ましくは、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルケニル基、炭素数６〜１０の置換又は無置換のアリール基あるいは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜８の置換又は無置換のアルケニル基であり、さらに好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数２〜４の置換又は無置換のアルケニル基である。
【００２３】
なお、ハメットの置換基定数のσpに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４  有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、及び仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）などの成書、さらにケミカル  レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）に詳しく解説されている。
【００２４】
また、Ｒ3及びＲ4は結合して環を形成してもよい。その場合に形成される環は、５員または６員の炭素環及び複素環が好ましい。好ましい炭素環の具体例としては、１，３−シクロヘキサンジオン、１，３−シクロペンタンジオン、インダンジオンを挙げることができ、好ましい複素環の例としては、２−ピラゾリン−５−オン、ロダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、２，４−オキサゾリジンジオン、イソオキサゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、６−アルコキシ−５Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン、ジオキソピラゾロピリジン、ヒドロキシピリジン、ピラゾリジンジオン、２，５−ジヒドロフラン−２−オン、ピロリン−２−オンを挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。また、これらは置換基を有していても良い。
【００２５】
さらに、Ｒ1〜Ｒ6で表される置換基のいずれかを介して、アミノブタジエン骨格を複数有する化合物であってもよい。
【００２６】
一般式（Ｉ）において最も好ましいのは、一般式（Ｉ−２）で表される化合物である。
【００２７】
【化５】
0005061066.tif 000006
【００２８】
一般式（Ｉ−２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4は一般式（Ｉ）における定義と同じである。Ｒ7は−ＣＯＯＲ5、または−ＳＯ2Ｒ5を表し、Ｒ5は一般式（Ｉ）における定義と同じである。
【００２９】
上記一般式（Ｉ−２）におけるＲ1〜Ｒ7はさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例としては、水酸基、ハロゲン原子（例えばＣｌ，Ｂｒ，Ｆ、Ｉ）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜８の鎖状または環状のアルキル基（例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチル、２−ジエチルアミノエチル）、炭素数１〜８のアルケニル基（例えばビニル、アリル、２−ヘキセニル）、炭素数２〜８のアルキニル基（例えばエチニル、１−ブチニル、３−ヘキシニル）、炭素数７〜１２のアラルキル基（例えばベンジル、フェネチル）、炭素数６〜１０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、４−カルボキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、３−メタンスルホンアミドフェニル、４−メトキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミドフェニル、４−ブタンスルホンアミドフェニル）、炭素数１〜１０のアシル基（例えばアセチル、ベンゾイル、プロパノイル、ブタノイル）、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、炭素数７〜１２のアリーロキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル）、炭素数１〜１０のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、メトキシエトキシ）、炭素数６〜１２のアリーロキシ基（例えばフェノキシ、４−カルボキシフェノキシ、３−メチルフェノキシ、ナフトキシ）、炭素数２〜１２のアシルオキシ基（例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素数１〜１２のスルホニルオキシ基（例えばメチルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ）、炭素数０〜１０のアミノ基（例えば無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、２−カルボキシエチルアミノ）、炭素数１〜１０のアシルアミノ基（例えばアセトアミド、ベンズアミド）、炭素数１〜８のスルホニルアミノ基（例えばメチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、ｎ−オクチルスルホニルアミノ）、炭素数１〜１０のウレイド基（例えばウレイド、メチルウレイド）、炭素数２〜１０のウレタン基（例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ）、炭素数１〜１２のアルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ）、炭素数６〜１２のアリールチオ基（例えばフェニルチオ、ナフチルチオ）、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基（例えばメチルスルフォニル、ブチルスルホニル）、炭素数７〜１２のアリールスルホニル基（例えばフェニルスルホニル、２−ナフチルスルホニル）、炭素数０〜８のスルファモイル基（例えば無置換スルファモイル、メチルスルファモイルなど）、複素環基（例えば、４−ピリジル、ピペリジノ、２−フリル、フルフリル、２−チエニル、２−ピロリル、２−キノリルモルホリノ）等を挙げることができる。
【００３０】
以下に本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示す。以下に本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物の代表例を示すが、これらに限定されるものではない。
【００３１】
【化６】
0005061066.tif 000007
【００３２】
【化７】
0005061066.tif 000008
【００３３】
【化８】
0005061066.tif 000009
【００３４】
【化９】
0005061066.tif 000010
【００３５】
本発明のポリマーフィルムは、更に一般式（ＩＩ）で表される耐光性改良剤を含有することが好ましい。
次に、一般式（ＩＩ）で表される耐光性改良剤について詳しく説明する。
【００３６】
【化１０】
0005061066.tif 000011
【００３７】
（一般式（ＩＩ）中、Ｘ1は、−ＮＲ4−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ2は、−ＮＲ5−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ3は、−ＮＲ6−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。）
【００３８】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基または複素環基を表すが、芳香族環または複素環がより好ましい。Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3がそれぞれ表す芳香族環は、フェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。
【００３９】
Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は芳香族環または複素環に置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル基、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が挙げられる。
【００４０】
Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3が複素環基を表す場合、複素環は芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環とは、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジルまたは４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記に挙げた置換基の例と同様である。これらの置換基は、上記置換基でさらに置換されていても良い。
【００４１】
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がそれぞれ表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基がより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８がさらに好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ）及びアシルオキシ基（例、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）が含まれる。
【００４２】
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がそれぞれ表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基がより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様の置換基を挙げることができる。
【００４３】
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がそれぞれ表す芳香族環基（アリール基）及び複素環基は、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がそれぞれ表す芳香族環及び複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基及び複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例には、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の芳香族環及び複素環の置換基と同様の置換基を挙げることができる。
【００４４】
以下に本発明の式（ＩＩ）で表される化合物の好ましい例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００４５】
【化１１】
0005061066.tif 000012
【００４６】
【化１２】
0005061066.tif 000013
【００４７】
【化１３】
0005061066.tif 000014
【００４８】
【化１４】
0005061066.tif 000015
【００４９】
【化１５】
0005061066.tif 000016
【００５０】
【化１６】
0005061066.tif 000017
【００５１】
【化１７】
0005061066.tif 000018
【００５２】
【化１８】
0005061066.tif 000019
【００５３】
【化１９】
0005061066.tif 000020
【００５４】
【化２０】
0005061066.tif 000021
【００５５】
【化２１】
0005061066.tif 000022
【００５６】
【化２２】
0005061066.tif 000023
【００５７】
【化２３】
0005061066.tif 000024
【００５８】
本発明における波長分散制御剤及び耐光性改良剤の添加は予めセルロースアシレートの混合溶液を調製するときに添加してもよいが、ポリマー溶液（ドープ液）を予め調製し、流延までのいずれかの時点で添加されてもよい。後者の場合、ポリマーを溶剤に溶解させたドープ液と、波長分散制御剤と少量のセルロースアシレートとを溶解させた溶液をインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器  Hi-Mixer）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。後添加する波長分散制御剤には、同時にマット剤を混合しても良いし、そのレターデーション制御剤、可塑剤（例えば、トリフェニルフォスフェート、ビフェニルフォスフェート等）、劣化防止剤、剥離促進剤等の添加物を混合しても良い。インラインミキサーを用いる場合、高圧下で濃縮溶解することが好ましく、加圧容器の種類は特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることができ、加圧下で加熱、撹拌ができればよい。加圧容器はそのほか圧力計、温度計などの計器類を適宜配設する。加圧は窒素ガスなどの不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の沸点以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ましく例えば３０〜１５０℃の範囲に設定するのが好適である。又、圧力は設定温度で、溶剤が沸騰しないように調整される。溶解後は冷却しながら容器から取り出すか、または容器からポンプ等で抜き出して熱交換器などで冷却し、これを製膜に供する。このときの冷却温度は常温まで冷却してもよいが、沸点より５〜１０℃低い温度まで冷却し、その温度のままキャスティングを行うほうが、ドープ粘度を低減できるためより好ましい。
【００５９】
また、本発明における波長分散制御剤及び耐光性改良剤は、単独あるいは２種類以上混合して用いることができる。
本発明における波長分散制御剤の添加量はセルロースアシレートに対して、１．０〜２０質量％が好ましく、１．０〜１０質量％がより好ましく、１．５〜８．０質量％がさらに好ましく、２．０〜６．０質量％が最も好ましい。
また、本発明のポリマーフィルムにおける耐光性改良剤は、波長分散制御剤に対して、１０質量％（０.１倍）以上１０００質量％（１０倍）以下含有することが好ましく、２０質量％（０.２倍）以上７５０質量％（７.５倍）以下がさらに好ましい。
本発明における波長分散制御剤及び耐光性改良剤の添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に波長分散制御剤及び耐光性改良剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加してもよいし、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
【００６０】
本発明のポリマーフィルムについてさらに詳しく説明する。
［フィルムのレターデーション］
本発明のポリマーフィルムは下記式（１）及び（２）を満たすことが好ましい。
式（１）  ７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦３００ｎｍ
式（２）  Ｒｔｈ（６２８）＜Ｒｔｈ（５４８）＜Ｒｔｈ（４４６）
（式（１）及び（２）中、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍの光を入射させて測定した膜厚方向のレターデーション（単位：ｎｍ）である）。
式（１）においてＲｔｈ（５４８）は７５ｎｍ〜２５０ｎｍが好ましく、８０ｎｍ〜２３０ｎｍがより好ましい。
【００６１】
また、本発明のポリマーフィルムは下記式（３−１）または（３−２）の関係を満たすことがより好ましい。
１．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜４．０    ・・・式（３−１）
０．５＜Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．０    ・・・式（３−２）
式（３−１）において、Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）は１．１〜３．０が好ましく、１．２〜２．０がより好ましい。
また、式（３−２）において、Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）は０．７〜０．９８が好ましく０．８〜０．９５がより好ましい。
【００６２】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）フィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向を持つフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（２１）及び数式（２２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００６３】
【数１】
0005061066.tif 000025
【００６４】
ここで、上記のＲｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。
【００６５】
式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２  −  ｎｚ）  ×  ｄ        ---  数式（２２）
【００６６】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ(λ)は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
【００６７】
本発明の順波長分散ポリマーフィルムとしては様々なポリマーフィルムが使用できるが、原材料が安価であること及び偏光板加工適性の点からセルロースアシレートを主として含むセルロースアシレートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートを「主として含む」とはフィルム総重量に対してセルロースアシレートが、例えば、７０質量％以上、好ましくは、８０質量％以上含まれていることを示す。本明細書において以下「主として含む」とは同様の意味を表すものとする。
【００６８】
〔セルロースアシレート〕
次に、本発明に用いることのできるセルロースアシレートについて説明する。
セルロースアシレートの置換度は、セルロースの構成単位（（β）１，４−グリコシド結合しているグルコース）に存在している、３つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。置換度（アシル化度）は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、「ＡＳＴＭ  Ｄ８１７−９１」に準じて実施する。
【００６９】
本発明におけるセルロースアシレートは、アセチル置換度が２．８０〜３．００であるセルロースアセテートが好ましい。前記アセチル置換度は２．９０〜２．９７がさらに好ましい。
【００７０】
本発明において、もう一つの好ましいセルロースアシレートは、セルロースアセテートプロピオネートである。
本発明のポリマーフィルムは前記セルロースアシレートがアセチル基とプロピオニル基を含み、アセチル基の置換度をＡ、プロピオニル基の置換度をＰとした場合に、ＡとＰが下記式（３）および式（４）を満たすことが好ましい。
式（３）  ２．００≦Ａ＋Ｐ≦２．７０
式（４）  （３−Ａ−Ｐ）×０．５≦Ｐ≦（３−Ａ−Ｐ）×２
【００７１】
ここでＡはアセチル基の置換度を表し、Ｐはプロピオニル基の置換度を表す。セルロースアシレートのアシル置換度が減少すれにつれてセルロースアシレートのレターデーション発現性は低下する。特に同じ置換度で比較した場合、プロピオニル基の方がアセチル基よりも厚み方向のレターデーションの低下が大きい傾向にある。一方、一般式（Ｉ）で表されるアミノブタジエン系化合物のブリードアウトに対しては、アシル基の置換度が高い方が、ブリードアウトがおきにくい傾向にある。特にアセチル基よりもプロピオニル基の方がブリードアウト抑止効果が大きい。したがって、セルロースアシレートの総アシル置換度が低いほどプロピニル基の比率が大きくなるようにアセチル基およびプロピオニル基の置換度を選択することにより、一般式（Ｉ）で示されるアミノブタジエン系化合物のブリードアウトを起こすことなく、所望の波長分散のフィルムが得られる。
【００７２】
式（３）はさらに式（３’）であることが好ましく、
式（３’）２．１０≦Ａ＋Ｐ≦２．６０
式（３’’）であることがより好ましい。
式（３’’）２．２０≦Ａ＋Ｐ≦２．５０
【００７３】
本発明で用いられるセルロースアシレートは、３００〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３００〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７０,０００〜２３０,０００の数平均分子量を有することが好ましく、７５,０００〜２３０,０００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８,０００〜１２０,０００の数平均分子量を有することが最も好ましい。
【００７４】
本発明で用いられるセルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。前記アシル化剤が酸無水物である場合は、反応溶媒として有機酸（例えば、酢酸）や塩化メチレンが使用される。また、触媒として、硫酸のようなプロトン性触媒を用いることができる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒として塩基性化合物を用いることができる。工業的に最も一般的な合成方法では、セルロースをアセチル基及び他のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）またはそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。
【００７５】
この方法においては、綿花リンターや木材パルプのようなセルロースは、酢酸のような有機酸で活性化処理した後、硫酸触媒の存在下で、上記のような有機酸成分の混合液を用いてエステル化する場合が多い。有機酸無水物成分は、一般にセルロース中に存在する水酸基の量に対して過剰量で使用する。このエステル化処理では、エステル化反応に加えてセルロース主鎖（（β）１，４−グリコシド結合）の加水分解反応（解重合反応）が進行する。主鎖の加水分解反応が進むとセルロースエステルの重合度が低下し、製造するセルロースエステルフィルムの物性が低下する。そのため、反応温度のような反応条件は、得られるセルロースエステルの重合度や分子量を考慮して決定することが好ましい。
【００７６】
重合度の高い（分子量の大きい）セルロースエステルを得るためには、エステル化反応工程における最高温度を５０℃以下に調節することが重要である。最高温度は、好ましくは３５〜５０℃、さらに好ましくは３７〜４７℃に調節する。反応温度が３５℃以上であれば、エステル化反応が円滑に進行するので好ましい。また、反応温度が５０℃以下であれば、セルロースエステルの重合度が低下するなどの不都合が生じないので好ましい。
【００７７】
エステル化反応の後、温度上昇を抑制しながら反応を停止すると、さらに重合度の低下を抑制でき、高い重合度のセルロースエステルを合成できる。すなわち、反応終了後に反応停止剤（例えば、水、酢酸）を添加すると、エステル化反応に関与しなかった過剰の酸無水物は、加水分解して対応する有機酸を副成する。この加水分解反応は激しい発熱を伴い、反応装置内の温度が上昇する。反応停止剤の添加速度が大きすぎることがなければ、反応装置の冷却能力を超えて急激に発熱して、セルロース主鎖の加水分解反応が著しく進行し、得られるセルロースエステルの重合度が低下するなどの問題が生じることはない。また、エステル化の反応中に触媒の一部はセルロースと結合しており、その大部分は反応停止剤の添加中にセルロースから解離する。このとき反応停止剤の添加速度が大きすぎなければ、触媒が解離するために充分な反応時間が確保され、触媒の一部がセルロースに結合した状態で残るなどの問題は生じにくい。強酸の触媒が一部結合しているセルロースエステルは安定性が非常に悪く、製品の乾燥時の熱などで容易に分解して重合度が低下する。これらの理由により、エステル化反応の後、好ましくは４分以上、さらに好ましくは４〜３０分の時間をかけて反応停止剤を添加して、反応を停止することが望ましい。なお、反応停止剤の添加時間が３０分以下であれば、工業的な生産性の低下などの問題が生じないので好ましい。
【００７８】
反応停止剤としては、一般に酸無水物を分解する水やアルコールが用いられている。ただし、本発明では、各種有機溶媒への溶解性が低いトリエステルを析出させないために、水と有機酸との混合物が、反応停止剤として好ましく用いられる。以上のような条件でエステル化反応を実施すると、質量平均重合度が５００以上である高分子量セルロースエステルを容易に合成することができる。
【００７９】
〔順波長分散セルロースアシレートフィルムの製造〕
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
【００８０】
前記有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
前記エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。また、前記エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及びＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、前記有機溶媒として用いることができる。前記有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上述の好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。
【００８１】
前記炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。
前記炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。
前記炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。
また、２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。
【００８２】
炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることがより好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
また、２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００８３】
セルロースアシレート溶液（ドープ）は、例えば、０℃以上の温度（常温または高温）で処理することからなる一般的な方法で調製することができる。セルロースアシレート溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
【００８４】
セルロースアシレート溶液中におけるセルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００８５】
セルロースアシレート溶液は、例えば、常温（０〜４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを撹拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で撹拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、且つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら撹拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【００８６】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は撹拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
【００８７】
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
【００８８】
撹拌は、容器内部に撹拌翼を設けて、これを用いて行うことが好ましい。撹拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。撹拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
【００８９】
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００９０】
冷却溶解法により、セルロースアシレート溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法ではセルロースアシレートを溶解させることが困難な有機溶媒中にも、セルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
【００９１】
冷却溶解法では、最初に室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００９２】
次に、混合物を、例えば、−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。冷却によりセルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。
【００９３】
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがより好ましく、１２℃／分以上であることがさらに好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【００９４】
さらに、冷却した混合物を、例えば、０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
【００９５】
以上のようにして、均一なセルロースアシレート溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００９６】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
【００９７】
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）による測定によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保存することが好ましい。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【００９８】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
【００９９】
ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許第２,３３６,３１０号、同２,３６７,６０３号、同２,４９２,０７８号、同２,４９２,９７７号、同２,４９２,９７８号、同２,６０７,７０４号、同２,７３９,０６９号及び同２,７３９,０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンドまたはドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。
【０１００】
また、得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００℃〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して、残留溶媒を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１０１】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【０１０２】
２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能であり、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。これらは、例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによっても、フィルム化することもできる。これは、例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、及び、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。
【０１０３】
また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。
【０１０４】
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を２種以上用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明におけるセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。
【０１０５】
従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【０１０６】
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。また、前記劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％以上であれば、劣化防止剤の効果が十分に発揮されるので好ましく、添加量が１質量％以下であれば、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）などが生じにくいので好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【０１０７】
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明におけるセルロースアシレートフィルムの製造に用いる巻き取り機は、一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
【０１０８】
［ポリマーフィルムの厚み］
本発明のポリマーフィルムの厚みは１０μｍ〜２００μｍが好ましく、２０μｍ〜１５０μｍがより好ましく、３０μｍ〜１００μｍがさらに好ましい。
【０１０９】
[ポリマーフィルムの耐光性]
ポリマーフィルムの耐光性はキセノン等の高照度光源を用いてフィルムを一定時間照射した後のレターデーション変化及びフィルムの着色により評価することができる。本発明のポリマーフィルムは（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５を用いて６０℃５０％ＲＨの環境下に２００ｈｒ照射した際の下記式（Ａ）で表されるレターデーション変化率が１０％以下であることが好ましい。さらに好ましくは５％以下である。
レターデーション変化率＝
（照射前のＲｔｈ−照射後のＲｔｈ）／照射前のＲｔｈ×１００（％）  式（Ａ）
【０１１０】
〔鹸化処理〕
本発明のポリマーフィルムはアルカリ鹸化処理することによりポリビニルアルコールのような偏光子の材料との密着性を付与し、偏光板の保護フィルムとして用いることができる。
【０１１１】
本発明におけるポリマーフィルムのアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１１２】
＜偏光板の作製＞
（偏光板）
偏光板は、偏光子及びその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。
本発明の偏光板は、偏光子と該偏光子の少なくとも片側に配置された保護フィルムとを有し、該保護フィルムが、本発明の偏光板保護フィルムである。
偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
【０１１３】
本発明のセルロースアシレートフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板の評価を行なったところ、本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸（透過軸と直交する軸）との直交精度が１°より大きいと、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下して光抜けが生じることがわかった。この場合、液晶セルと組み合わせた場合に、十分な黒レベルやコントラストが得られないことになる。したがって、本発明のセルロースアシレートフィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが１°以内、好ましくは０．５°以内であることが好ましい。
【０１１４】
本発明の偏光板は、２５℃６０％ＲＨにおける単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴ、偏光度Ｐが下記式（ａ）〜（ｄ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ａ）４０．０≦ＴＴ≦４５．０
（ｂ）３０．０≦ＰＴ≦４０．０
（ｃ）ＣＴ≦２．０
（ｄ）９５．０≦Ｐ
単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴはこの順でそれぞれ、より好ましくは、４０．５≦ＴＴ≦４５、３２≦ＰＴ≦３９．５、ＣＴ≦１．５であり、さらに好ましくは４１．０≦ＴＴ≦４４．５、３４≦ＰＴ≦３９．０、ＣＴ≦１．３である。偏光度Ｐは９５．０％以上であることが好ましく、より好ましくは９６．０％以上、さらに好ましくは９７．０％以上である。
本発明の偏光板は、波長λにおける直交透過率をＣＴ(λ)としたときに、ＣＴ(380)、ＣＴ(410)、ＣＴ(700)が下記式（ｅ）〜（ｇ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｅ）ＣＴ(380)≦２．０
（ｆ）ＣＴ(410)≦１．０
（ｇ）ＣＴ(700)≦０．５
より好ましくはＣＴ(380)≦１．９５、ＣＴ(410)≦０．９、ＣＴ(700)≦０．４９であり、さらに好ましくはＣＴ(380)≦１．９０、ＣＴ(410)≦０．８、ＣＴ(700)≦０．４８である。
本発明の偏光板は、６０℃９５％ＲＨの条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｊ）、（ｋ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｊ）−６．０≦ΔＣＴ≦６．０
（ｋ）−１０．０≦ΔＰ≦０．０
（ただし、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値を示す）
より好ましくは−５．８≦ΔＣＴ≦５．８、−９．５≦ΔＰ≦０．０、更に好ましくは、−５．６≦ΔＣＴ≦５．６、−９．０≦ΔＰ≦０．０である。
本発明の偏光板は、６０℃９０％ＲＨの条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｈ）、（ｉ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｈ）−３．０≦ΔＣＴ≦３．０
（ｉ）−５．０≦ΔＰ≦０．０
本発明の偏光板は、８０℃の条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｌ）、（ｍ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｌ）−３．０≦ΔＣＴ≦３．０
（ｍ）−２．０≦ΔＰ≦０．０
偏光板の単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴは、ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所社製）を用い、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定し、ＴＴ、ＰＴ、ＣＴともに、１０回測定の平均値（４００ｎｍ〜７００ｎｍでの平均値）を用いる。偏光度Ｐは、偏光度（％）＝１００×[（平行透過率−直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）]1/2で求めることができる。偏光板耐久性試験は（１）偏光板のみと（２）偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた、２種類の形態で次のように行う。偏光板のみの測定は、２つの偏光子の間に本発明のセルロースアシレートフィルムが挟まれるように組み合わせて直交、同じものを２つ用意し測定する。ガラス貼り付け状態のものはガラスの上に偏光板を本発明のセルロースアシレートフィルムがガラス側にくるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作製する。単板透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を単板の透過率とする。
【０１１５】
＜偏光板の機能化＞
本発明における偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板として好ましく使用される。
【０１１６】
（反射防止フィルム）
本発明における偏光板は反射防止フィルムと組み合わせて使用することができる。反射防止フィルムは、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率１．５％程度のフィルム、もしくは薄膜の多層干渉を利用した反射率１％以下のフィルムのいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，Ｍａｙ，２０００，２６頁〜２８頁や特開２００２−３０１７８３号公報などに記載された反射防止フィルムも好ましく使用できる。
各層の屈折率は以下の関係を満足する。
【０１１７】
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。
【０１１８】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０であることがより好ましい。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基を含有する含シリコーン化合物や、フッ素を含有する含フッ素化合物等の素材を用い表面への滑り性を付与することも好ましく行われる。
【０１１９】
前記含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。
前記含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン（例えば、サイラプレーン（チッソ（株）製）や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等に記載のもの）等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報、特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）。
低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。
【０１２０】
前記低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良いが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１２１】
中屈折率層及び高屈折率層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。
このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり（シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり（特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤を併用する（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６,２１０,８５８Ｂ１明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等の態様で使用することができる。
【０１２２】
前記マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の多官能性材料や、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。
前記高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
前記中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【０１２３】
前記反射防止フィルムのヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。また、膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましい。
【０１２４】
（輝度向上フィルム）
本発明における偏光板は、輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトとの間に配置され、一方の円偏光もしくは直線偏光をバックライト側に後方反射もしくは後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルム及び偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が１．４倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては異方性反射方式及び異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明における偏光板と組み合わせることができる。
【０１２５】
異方性反射方式では、一軸延伸フィルムと未延伸フィルムとを多重に積層して、延伸方向の屈折率差を大きくすることにより反射率ならびに透過率の異方性を有する輝度向上フィルムが知られており、誘電体ミラーの原理を用いた多層膜方式（国際公開第９５／１７６９１号パンフレット、国際公開第９５／１７６９２号パンフレット、国際公開第９５／１７６９９号パンフレットの各明細書記載）やコレステリック液晶方式（欧州特許６０６９４０Ａ２号明細書、特開平８−２７１７３１号公報記載）が知られている。誘電体ミラーの原理を用いた多層方式の輝度向上フィルムとしてはＤＢＥＦ−Ｅ、ＤＢＥＦ−Ｄ、ＤＢＥＦ−Ｍ（いずれも３Ｍ社製）、コレステリック液晶方式の輝度向上フィルムとしてはＮＩＰＯＣＳ（日東電工（株）製）が本発明で好ましく使用される。ＮＩＰＯＣＳについては、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，Ｍａｙ，２０００，１９頁〜２１頁などを参考にすることができる。
【０１２６】
また、本発明では国際公開第９７／３２２２３号パンフレット、国際公開第９７／３２２２４号パンフレット、国際公開第９７／３２２２５号パンフレット、国際公開第９７／３２２２６号パンフレットの各明細書及び特開平９−２７４１０８号、同１１−１７４２３１号の各公報に記載された正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーとをブレンドして一軸延伸した異方性散乱方式の輝度向上フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、ＤＲＰＦ−Ｈ（３Ｍ社製）が好ましい。
【０１２７】
（他の機能性光学フィルム）
本発明における偏光板は、さらに、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けた機能性光学フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。また、これらの機能層は、前述の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいは光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。これらの機能層は、偏光子側及び偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、もしくは両面に設けて使用できる。
【０１２８】
〔ハードコート層〕
本発明における偏光板は耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を透明支持体の表面に設けた機能性光学フィルムと組み合わせることが好ましく行われる。ハードコート層を、前述の反射防止フィルムに適用して用いる場合は、特に、透明支持体と高屈折率層の間に設けることが好ましい。
前記ハードコート層は、光及び／または熱による硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものを好ましく使用することができる。
ハードコート層の膜厚は、０．２μｍ〜１００μｍであることが好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１２９】
ハードコート層を形成する材料は、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコール
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類；ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。また、市販化合物としては、ＥＢ−６００、ＥＢ−４０、ＥＢ−１４０、ＥＢ−１１５０、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＩＲＲ２１４、ＥＢ−２２２０、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＭＡ（以上、ダイセル・ユーシービー（株）製）、ＵＶ−６３００、ＵＶ−１７００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１３０】
また、開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）などが挙げられる。その他にグリシジル（メタ）アクリレートの重合体、或いはグリシジル（メタ）アクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。
【０１３１】
ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、本発明においてハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒子サイズは、１ｎｍ〜２００００ｎｍであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の６０体積％以下であることが好ましく、４０体積％以下がより好ましい。
【０１３２】
上記で記載した無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。
【０１３３】
ハードコート層は、熱または活性エネルギー線を用いて硬化することが好ましく、その中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は１４０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下である。
【０１３４】
〔前方散乱層〕
前方散乱層は、本発明における偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性（色相と輝度分布）を改良するために使用される。本発明では、前方散乱層は屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子との相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等の構成を使用することができる。また、本発明における偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学（株）の技術レポート「光機能性フィルム」３１頁〜３９頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。
【０１３５】
〔アンチグレア層〕
アンチグレア（防眩）層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面（表示側）に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成する方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等を好ましく使用することができる。
【０１３６】
＜液晶表示装置＞
次に本発明の液晶表示装置について説明する。
本発明の液晶表示装置は本発明の偏光板を有する。
【０１３７】
図１は、本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。図１において、液晶表示装置１０は、液晶層７とこの上下に配置された液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板８とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板１及び下側偏光板１２からなる。液晶セルと各偏光板との間にカラーフィルターを配置してもよい。前記液晶表示装置１０を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置する。
【０１３８】
上側偏光板１及び下側偏光板１２は、それぞれ２枚の保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有しており、本発明の液晶表示装置１０は、一方の偏光板の液晶セル側の保護フィルムが上記の式（１）〜（３）の特性を満たす。
液晶表示装置１０には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。ＴＦＴやＭＩＭのような３端子または２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置が本発明では有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるＳＴＮモードに代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置でも有効である。
尚、図１中、２は、上側偏光板吸収軸の方向を、６は上基板の配向制御方向を、９は下基板の配向制御方向を、１３は下側偏光板吸収軸の方向をそれぞれ示している。
【０１３９】
さらに、本発明の液晶表示装置１０は、上記の式（１）〜（３）の特性を有する保護フィルムに対して液晶セルと反対側に下記式（４）及び（５）の関係を満たす光学補償フィルムを有することが好ましい。
２０ｎｍ≦Ｒｅ（５４８）≦１５０ｎｍ                    ・・・式（４）
１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ                ・・・式（５）
式（４）においてＲｅ（５４８）は３０ｎｍ〜１５０ｎｍがさらに好ましく、４０ｎｍ〜１５０ｎｍが最も好ましい。また、式（５）においてＲｔｈ（５４８）は１００ｎｍ〜３００ｎｍがさらに好ましく、１００ｎｍ〜２５０ｎｍが最も好ましい。
【０１４０】
［光学補償フィルム］
以下に上記式（４）及び（５）を満たす光学補償フィルムについて詳しく説明する。本発明の光学補償フィルムとしては、セルロースアシレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリシクロオレフィン系樹脂及びポリビニルアセタール系樹脂のうちの少なくともひとつを含むものであることが好ましく、具体的には、特開２００３−３４４８５６号公報に記載の基板上にポリイミド、ポリアリールエーテルケトン等の非液晶性ポリマーを含有するもの、延伸セルロースアシレートフィルム、シクロオレフィン系ポリマーの延伸フィルム等を好ましく用いることができる。シクロオレフィン系ポリマーフィルムとしは、日本ゼオン社製ゼオノア、ＪＳＲ社製アートン、ＰＲＯＭＥＲＵＳ社製ＡＰＰＥＡＲ３０００等を使用したポリマーフィルムを好ましく用いることができる。このなかでも延伸セルロースアシレートフィルムは偏光板加工適性に優れ、安価であることから特に好ましい。以下に本発明の液晶表示装置で好ましく用いられる延伸セルロースアシレートフィルムについて詳しく説明する。
【０１４１】
［セルロースアシレート］
延伸セルロースアシレートフィルムに主として含まれるセルロースアシレートは、アセチル置換度が、２．５０〜３．００であることが好ましく、２．７０〜２．９５であることがより好ましい。
【０１４２】
本発明において、もう一つの好ましいセルロースアシレートは、総アシル置換度が２．００〜２．９０であり、アセチル基の炭素原子数が３〜４のアシル基を有する混合脂肪酸エステルである。また炭素原子数が３〜４のアシル基の置換度は０．１〜２．０が好ましく、０．３〜１．５がさらに好ましい。
本発明のポリマーフィルムに用いることができるセルロースアシレートは、２５０〜８００の平均重合度を有することが好ましく、２８０〜６００の平均重合度を有することがさらに好ましい。本発明のポリマーフィルムに用いることができるセルロースアシレートは、７０,０００〜２３０,０００の数平均分子量を有することが好ましく、７５,０００〜２３０,０００の数平均分子量を有することがより好ましく、７８,０００〜１２０,０００の数平均分子量を有することがさらに好ましい。
【０１４３】
延伸セルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートは、前記順波長分散セルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートと同様の方法により合成できる。
【０１４４】
本発明において、セルロースアシレートフィルムにはレターデーション発現剤を１種以上添加してもよい。レターデーション発現剤を１種以上添加することによりセルロースアシレートフィルムが前記式（４）及び（５）の関係を満たす助けとなる。レターデーション発現剤としては下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物及び／または下記一般式（ＩＶ）で表される化合物を添加することが好ましく、下記一般式（ＩＶ）を添加することがさらに好ましい。
【０１４５】
【化２４】
0005061066.tif 000026
【０１４６】
式（ＩＩＩ）中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合または二価の連結基を表す。Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ11、Ｒ12、及びＲ13は各々独立に置換基を表す。Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す（ただし、Ｘは水素原子又は置換基が結合した第１４〜１６族の非金属原子であってもよい。）。ｎは０から２までの整数を表す。
【０１４７】
【化２５】
0005061066.tif 000027
【０１４８】
一般式（ＩＶ）中、Ｌ1、Ｌ2、Ａ1、Ａ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13は、一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義である。Ｒ14及びＲ15は各々独立に置換基を表す。ｎは０から２までの整数を表す。
【０１４９】
一般式（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）において、Ｌ1及びＬ2が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。
【０１５０】
【化２６】
0005061066.tif 000028
【０１５１】
さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。
【０１５２】
一般式（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）において、Ｒ11は置換基であり、Ｒ11が複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが挙げられる；ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素原子数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、
【０１５３】
アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素原子数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、
【０１５４】
アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは、５員環または６員環の、置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物またはこれらの組み合わせ（縮環したものを含む）から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素原子数３〜３０の、５員環または６員環の芳香族のヘテロ環化合物またはこれらの組み合わせ（縮環したものを含む）から一個の水素原子を取り除いた一価の基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基が挙げられる。）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、
【０１５５】
シリルオキシ基（好ましくは、炭素原子数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【０１５６】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素原子数１〜３０の、置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、
【０１５７】
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素原子数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルスルホニルアミノ基／アリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
【０１５８】
スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルスルフィニル基／アリールスルフィニル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルスルホニル基／アリールスルホニル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、
【０１５９】
アシル基（好ましくは、ホルミル基、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、
【０１６０】
アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）。
【０１６１】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１６２】
Ｒ11は、好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
【０１６３】
Ｒ12、Ｒ13は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ11の例があげられる。好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アリールオキシ基であり、より好ましくは置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。さらに好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、よりさらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。特に好ましくは４位に置換基を有するベンゾイルオキシ基を４位に有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキシル基を４位に有するベンゼン環、４位に置換基を有するベンゼン環を４位に有するシクロヘキサン環、４位に置換基を有するシクロヘキシル基を４位に有するシクロへキサン環である。ここで、置換基として好ましくは、アルキル基である。
【０１６４】
また、４位に置換基を有するシクロヘキサン環にはシス体及びトランス体の立体異性体が存在するが、本発明においては限定されず、両者の混合物でも良い。好ましくはトランス−シクロヘキサン環である。
【０１６５】
Ｒ14、Ｒ15は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ11の例があげられる。Ｒ11の置換基として例示した置換基のうち、ハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子吸引性の置換基が好ましく、σp値が０〜１．５の電子吸引性の置換基がより好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ14とＲ15とが結合して環を形成してもよい。なお、ハメットの置換基定数のσp、σmに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル レビュー、９１巻、１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。
【０１６６】
Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ11の例が挙げられる。）または−Ｓ−であり、Ａ1及びＡ2の少なくとも一方が、−Ｓ−であることが好ましく、両方が−Ｓ−であることがより好ましい。
【０１６７】
Ｘは、Ｏ、Ｓ、ＮＲ、Ｃ(Ｒ)Ｒが好ましい（ここでＲは置換基を表し、例としては上記Ｒ11の例が挙げられる。）。
ｎは、好ましくは０又は１である。
【０１６８】
以下に、一般式（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（  ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
【０１６９】
【化２７】
0005061066.tif 000029
【０１７０】
【化２８】
0005061066.tif 000030
【０１７１】
【化２９】
0005061066.tif 000031
【０１７２】
【化３０】
0005061066.tif 000032
【０１７３】
【化３１】
0005061066.tif 000033
【０１７４】
【化３２】
0005061066.tif 000034
【０１７５】
【化３３】
0005061066.tif 000035
【０１７６】
【化３４】
0005061066.tif 000036
【０１７７】
また、本発明において、一般式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される化合物の添加量は、セルロースアシレートに対し、（０．１〜２０）質量％であることが好ましく、（１〜１５）質量％であることがより好ましく、（２〜１２）質量％がさらに好ましく、（３〜１０）質量％が最も好ましい。
【０１７８】
一般式（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。
【０１７９】
【化３５】
0005061066.tif 000037
【０１８０】
前記スキーム中、化合物（１−Ａ）から化合物（１−Ｄ）までの合成は、“Journal  of  Chemical  Crystallography"(1997)；27(9)；p.515-526．に記載の方法を参照して行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（１−Ｅ）のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物（１−Ｄ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物（１）を得ることができる。
【０１８１】
一般式（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表される化合物は、光学フィルム用のレターデーション制御剤（特に、レターデーション上昇及び波長分散制御剤）としての役割を果たす。特に延伸によるＲｅ発現性及び波長分散に優れたフィルムを得るためのレターデーション制御剤（レターデーション発現剤）として好適な役割を果たす。
【０１８２】
さらに本発明で好ましく使用される前記式（４）、（５）の関係を満たすセルロースアシレートフィルムは前記一般式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）で表される化合物に加えて、下記に説明する棒状Ｒｅ発現剤を用いることが好ましい。
【０１８３】
（棒状Ｒｅ発現剤）
本発明において棒状化合物とは直線的な分子構造を有する化合物を指す。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト（例、WinMOPAC2000、富士通（株）製）を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が１４０度以上であることを意味する。
【０１８４】
棒状化合物としては、下記式一般式（Ｖ）で表される化合物が特に好ましい。
一般式（Ｖ）：Ａｒ1−Ｌ2−Ｘ−Ｌ3−Ａｒ2
上記一般式（Ｖ）において、Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立に、芳香族基である。
本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
アリール基及び置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【０１８５】
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルウレイド基）、アルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、アシルオキシ基（例、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基（例、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）、アミド基（例、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）及び非芳香族性複素環基（例、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる。
【０１８６】
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル基が好ましい。
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、ウレイド基、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。
【０１８７】
一般式（Ｖ）において、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−及びそれらの組合せからなる基より選ばれる二価の連結基である。
【０１８８】
一般式（Ｖ）において、Ｘは、１，４−シクロへキシレン、ビニレンまたはエチニレンである。
以下に、一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例を示す。
【０１８９】
【化３６】
0005061066.tif 000038
【０１９０】
【化３７】
0005061066.tif 000039
【０１９１】
【化３８】
0005061066.tif 000040
【０１９２】
【化３９】
0005061066.tif 000041
【０１９３】
【化４０】
0005061066.tif 000042
【０１９４】
【化４１】
0005061066.tif 000043
【０１９５】
【化４２】
0005061066.tif 000044
【０１９６】
【化４３】
0005061066.tif 000045
【０１９７】
【化４４】
0005061066.tif 000046
【０１９８】
具体例（１）〜（３４）、（４１）、（４２）は、シクロヘキサン環の１位と４位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、具体例（１）、（４）〜（３４）、（４１）、（４２）は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体（光学活性）はなく、幾何異性体（トランス型とシス型）のみ存在する。具体例（１）のトランス型（１−ｔｒａｎｓ）とシス型（１−ｃｉｓ）とを、以下に示す。
【０１９９】
【化４５】
0005061066.tif 000047
【０２００】
前述したように、棒状化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
具体例（２）及び（３）は、幾何異性体に加えて光学異性体（合計４種の異性体）を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、Ｄ、Ｌあるいはラセミ体のいずれでもよい。
具体例（４３）〜（４５）では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
【０２０１】
溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長（λｍａｘ）が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。
棒状化合物は、文献記載の方法により合成できる。文献としては、Ｍｏｌ．  Ｃｒｙｓｔ．  Ｌｉｑ．  Ｃｒｙｓｔ．，  ５３巻、２２９ページ（１９７９年）、同８９巻、９３ページ（１９８２年）、同１４５巻、１１１ページ（１９８７年）、同１７０巻、４３ページ（１９８９年）、Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  １１３巻、１３４９ページ（１９９１年）、同１１８巻、５３４６ページ（１９９６年）、同９２巻、１５８２ページ（１９７０年）、Ｊ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，  ４０巻、４２０ページ（１９７５年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、４８巻１６号、３４３７ページ（１９９２年）を挙げることができる。
【０２０２】
本発明の棒状Ｒｅ発現剤の分子量は、２００〜１，０００であることが好ましく、３００〜８５０が好ましい。この範囲であれば、溶剤への溶解性と製膜時の保留性を両立することができる。本発明の化合物の沸点は、２６０℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置（例えば、ＴＧ／ＤＴＡ１００、セイコー電子工業（株）製）を用いて測定できる。
一般式（Ｖ）で表される化合物は、単独あるいは２種類以上混合して用いることができる。本発明においては、一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表される化合物の併用も好ましい。本発明において、レターデーション発現剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、２〜３０質量％であり、３〜２５質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。
本発明におけてレターデーション発現剤の添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０２０３】
〔延伸セルロースアシレートフィルムの製造〕
本発明の延伸セルロースアシレートフィルムは前記順波長分散セルロースアシレートフィルムと同様の方法により、製膜することができる。
【０２０４】
［延伸処理］
セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれでも好ましい。
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。
【０２０５】
フィルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
【０２０６】
フィルムの延伸倍率（延伸前のフィルムに対する伸び率）は、１％〜２００％が好ましく、５％〜１５０％がさらに好ましい。特に、幅方向に１％〜２００％で延伸するのが好ましく、さらに好ましくは５％〜１５０％である。延伸速度は１％/分〜１００％/分が好ましく、５％/分〜８０％/分がさらに好ましく、１０％／分〜６０％/分が最も好ましい。
また、本発明の延伸セルロースアシレートフィルムは、最大延伸倍率まで延伸したのちに、最大延伸倍率より低い延伸倍率で一定時間保持する工程（以下緩和工程）を経て製造されることが好ましい。緩和工程における延伸倍率は最大延伸倍率の５０％〜９９％が好ましく、７０％〜９７％がさらに好ましく、９０％〜９５％が最も好ましい。また、緩和工程の時間は１秒〜１２０秒が好ましく、５秒〜１００秒がさらに好ましい。
【０２０７】
緩和工程の延伸倍率、時間を上記範囲にすることにより、レターデーション発現剤の配向度が高まり、高レターデーションで且つ正面及び膜厚方向のレターデーションの変動が小さいセルロースアシレートフィルムが得られる。
【０２０８】
［鹸化処理］
本発明の偏光板保護フィルムは本発明のポリマーフィルムを含む。
本発明のセルロースアシレートフィルムは前記順波長分散セルロースアシレートフィルムと同様の方法により鹸化処理を行い偏光板保護フィルムとして使用することが好ましい。
【０２０９】
本発明の液晶表示装置に好ましく使用される前記式（４）及び（５）の関係を満たす光学補償フィルムは下記式（６）及び（７）の関係を満たすことが好ましい。
０．５＜Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜１．０    ・・・式（６）
１．０＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）＜２．０    ・・・式（７）
式（６）においてＲｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）は０．５５以上０．９５以下がさらに好ましく、０．６〜０．９０が最も好ましい。
また、式（７）においてＲｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）は１．０１〜１．５がさらに好ましく、１．０２〜１．３が最も好ましい。
【０２１０】
前記式（４）〜（７）の関係を満たす光学補償フィルムとしては、国際公開第０３/２３２０６０号パンフレットに記載のポリカーボネート樹脂の延伸フィルム、特開２００６−１８８６７１号公報に記載のシクロオレフィン系樹脂の延伸フィルム、特開２００６−２３４８７８号公報に記載のポリビニルアセタール系樹脂の延伸フィルム、特開２００６−３７１５号公報に記載のポリイミドフィルム、セルロースアシレートの延伸フィルム等を好ましく用いることができる。
前記一般式（ＩＩ）で表されるレターデーション発現剤を含有するセルロースアシレートフィルムは、偏光板加工適性に優れ、前記式（４）〜（７）の関係を満たす光学補償フィルムとして特に好ましく用いることができる。
【０２１１】
〔ＶＡモード〕
本発明の液晶表示装置の液晶セルはＶＡモードであることが好ましい。以下図１を用いてＶＡモード液晶表示装置について説明する。
ＶＡモードでは上下基板間に誘電異方性が負で、Δｎ＝０．０８１３、Δε＝−４．６程度の液晶をラビング配向により、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角を、約８９°で注入する。図１における液晶層７の厚さｄは３．５μｍに設定してある。ここで厚さｄと屈折率異方性Δｎとの積Δｎｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るためには液晶層の厚みを０．２μｍ〜０．５μｍの範囲になるように設定する。
【０２１２】
液晶セルの上側偏光板１の吸収軸２と下側偏光板１２の吸収軸１３は略直交に積層する。液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板８のそれぞれの配向膜の内側には透明電極（図示せず）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層７中の液晶分子は、基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。すなわち、液晶表示装置では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、駆動状態では、液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光はかかる傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させる。換言すると、液晶表示装置では、駆動状態において白表示が得られる。なお図１において、符号６及び９は、配向制御方向である。
【０２１３】
ここでは上下基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用した。また電極を一方の基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用する。
またＶＡモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル剤の添加は、動的応答特性を劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。
【０２１４】
ＶＡモードの特徴は、高速応答であることと、コントラストが高いことである。しかし、コントラストは正面では高いが、斜め方向では劣化するという問題がある。黒表示時に液晶分子は基板面に垂直に配向している。正面から観察すると、液晶分子の複屈折はほとんどないため透過率は低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角が、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°より大きくなる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じ、コントラストが低下する。これを解決するために光学補償シートを配置する。
【０２１５】
また白表示時には液晶分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にする。
【０２１６】
［マルチドメイン］
例えば、ＶＡ方式では液晶分子が電界印加により、一つの画素内で異なる複数の領域に傾斜することで視角特性が平均化される。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設け、電界方向を変えたり電界密度に偏りを持たせる。全方向で均等な視野角を得るにはこの分割数を多くすればよいが、４分割、あるいは８分割以上することでほぼ均等な視野角が得られる。特に８分割時は偏光板吸収軸を任意の角度に設定できるので好ましい。
【０２１７】
また配向分割の領域境界では、液晶分子が応答しづらい。そのためノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。これに対しては、液晶材料にカイラル剤を添加することで、境界領域を小さくすることが可能である。
【実施例】
【０２１８】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。また、本発明のポリマーフィルムを単に「フィルム」、「順波長分散フィルム」、「セルロースアシレートフィルム」等と称する場合がある。
【０２１９】
〔実施例１〕
（順波長分散フィルム１０１の作製）
＜セルロースアシレート溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
［セルロースアシレート溶液Ａ組成］
アセチル置換度２．９３、平均重合度３１０のセルロースアセテート
１００．０質量部
トリフェニルフォスフェート                        ４．３質量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート                ３．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                          ６０．０質量部
【０２２０】
＜マット剤溶液の調製＞
下記の組成物を分散機に投入し、撹拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
［マット剤溶液組成］
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                  ７５．０質量部
メタノール（第２溶媒）                          １２．７質量部
セルロースアシレート溶液Ａ                      １０．３質量部
【０２２１】
＜波長分散制御剤溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌して、各成分を溶解し、波長分散制御剤溶液を調製した。
［波長分散制御剤溶液組成］
波長分散制御剤（１６）                            ５．７質量部
耐光性改良剤（Ｉ−（２））                      １４．３質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                  ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                            ８．７質量部
セルロースアシレート溶液Ａ                      １２．８質量部
【０２２２】
上記セルロースアシレート溶液Ａを９３．９質量部、マット剤溶液を１．３質量部、波長分散制御剤溶液４．８質量部を濾過後に混合し、バンド流延機を用いて１６００ｍｍの幅で流延した。残留溶剤含量５０質量％でフィルムをバンドから剥離し、１００℃の条件でフィルムをテンタークリップで保持して４％の延伸倍率で横延伸し、残留溶剤含量が５質量％になるまで乾燥した。さらにフィルム延伸後の幅のまま１００℃で３０秒間保持した。テンタークリップからフィルムを解放し、フィルムの幅方向を両端から各５％ずつを切り落とした後、さらに幅方向が自由（保持されていない）状態で１３５℃の乾燥ゾーンを２０分間かけて通過させた後、フィルムをロールに巻き取った。得られたセルロースアシレートフィルム（順波長分散フィルム１０１）の残留溶剤量は０．１質量％であり、膜厚は５５μｍであった。
【０２２３】
〔実施例２〕
（順波長分散フィルム１０２〜１０５の作製）
セルロースアシレートの種類、ならびに、添加剤の種類、添加量及びフィルムの厚みを表１の内容に変更した以外は実施例１と同様にして順波長分散フィルム１０２〜１０５を作製した。
〔実施例３〕
（順波長分散フィルム１０６の作製）
＜セルロースアシレート溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ｂを調製した。
［セルロースアシレート溶液Ｂ組成］
アセチル置換度２．００、プロピオニル置換度０．５０、平均重合度３３０のセルロースアセテートプロピオネート                      １００．０質量部
トリフェニルフォスフェート                        ４．３質量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート                ３．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ３７０．０質量部
エタノール（第２溶媒）                          ９２．０質量部
【０２２４】
＜マット剤溶液の調製＞
下記の組成物を分散機に投入し、撹拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
［マット剤溶液組成］
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                  ７０．２質量部
エタノール（第２溶媒）                          １７．５質量部
セルロースアシレート溶液Ｂ                      １０．３質量部
【０２２５】
＜波長分散制御剤溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌して、各成分を溶解し、波長分散制御剤溶液を調製した。
［波長分散制御剤溶液組成］
波長分散制御剤（１５）                          １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                  ６１．８質量部
エタノール（第２溶媒）                          １５．４質量部
セルロースアシレート溶液Ｂ                      １２．８質量部
【０２２６】
上記セルロースアシレート溶液Ｂを９０．５質量部、マット剤溶液を１．３質量部、波長分散制御剤溶液８．２質量部を濾過後に混合し、バンド流延機を用いて２０００ｍｍの幅で流延した。残留溶剤含量５０質量％でフィルムをバンドから剥離し、１００℃の条件でフィルムをテンタークリップで保持して５％の延伸倍率で横延伸し、残留溶剤含量が５質量％になるまで乾燥した。さらにフィルム延伸後の幅のまま１００℃で３０秒間保持した。テンタークリップからフィルムを解放し、フィルムの幅方向を両端から各５％ずつを切り落とした後、さらに幅方向が自由（保持されていない）状態で１２５℃の乾燥ゾーンを２０分間かけて通過させた後、フィルムをロールに巻き取った。得られたセルロースアシレートフィルム（順波長分散フィルム１０６）の残留溶剤量は０．１質量％であり、膜厚は５５μｍであった。
【０２２７】
〔実施例４〕
（順波長分散フィルム１０７〜１１５の作製）
セルロースアシレートの種類、ならびに、添加剤の種類、添加量及びフィルムの厚みを表１の内容に変更した以外は実施例３と同様にして順波長分散フィルム１０７〜１１５を作製した。
【０２２８】
〔比較例１〕
（順波長分散フィルム２０１及び２０２の作製）
セルロースアシレートの種類、ならびに、添加剤の種類、添加量及びフィルムの厚みを表１の内容に変更した以外は実施例１と同様にして順波長分散フィルム２０１及び２０２を作製した。
【０２２９】
〔比較例２〕
（順波長分散フィルム２０３〜２０７の作製）
セルロースアシレートの種類、ならびに、添加剤の種類、添加量及びフィルムの厚みを表１の内容に変更した以外は実施例３と同様にして順波長分散フィルム２０３〜２０７を作製した。
【０２３０】
【表１】
0005061066.tif 000048
【０２３１】
比較例で使用した耐光性改良剤Ａの構造は下記のとおりである。
【０２３２】
【化４６】
0005061066.tif 000049
【０２３３】
〔耐光性評価〕
（光照射前の光学特性の測定）
“ＷＲ ＫＯＢＲＡ”（王子計測機器（株））を用いて２５℃６０％相対湿度の環境下で、本発明の順波長分散フィルム１０１〜１１５、及び比較例の順波長分散フィルム２０１〜２０７の４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈをそれぞれ測定した。
（光照射）
順波長分散フィルム１０１〜１１５及び２０１〜及び２０７を各々４０ｍｍ×６０ｍｍに切り出し、サンリッツ社製５６１８偏光板を通して、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃５０％ＲＨの環境下に２００時間光を照射した。
（光照射後の光学特性の測定）
“ＷＲ  ＫＯＢＲＡ”（王子計測機器（株））を用いて２５℃６０％相対湿度の環境下で、本発明の順波長分散フィルム１０１〜１１５及び比較例の順波長分散フィルム２０１〜２０７の４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈをそれぞれ測定し、以下の式（Ａ）によりレターデーション変化率を求めた。
レターデーション変化率＝（照射前のＲｔｈ（５４８）−照射後のＲｔｈ（５４８））/照射前のＲｔｈ（５４８）×１００
【０２３４】
（光照射によるステイン生成の評価）
目視でフィルムを観察し、光照射によるフィルム着色の有無を評価した。
【０２３５】
〔ブリードアウト評価〕
１ｍ×１ｍにセルロースアシレートフィルムを切り出し、セルロースアシレート表面のブリードアウトを目視で以下の基準により評価した。
○：ブリードアウトなし
△：ブリードアウトの発生した面積が２０％未満
×：ブリードアウトの発生した面積が２０％以上
【０２３６】
評価結果を表２に示す。
【０２３７】
【表２】
0005061066.tif 000050
【０２３８】
表２から明らかなように、本発明のフィルムはＲｔｈが前記式（１）及び（２）を満たし、レターデション変化率が小さく、フィルム着色が認められなかった。これに対し、比較例のフィルム２０１ではＲｔｈ（５４８）が小さく、レターデション変化率が大きかった。また、フィルム２０２では、Ｒｔｈ（５４８）が小さいのみならず、フィルムに黄色の着色が認められた。また、フィルム２０３はレターデーションがＲｔｈ（４４６）＜Ｒｔｈ（５４８）＜Ｒｔｈ（６２８）の逆分散であり前記式（２）を満たさない。さらに、フィルム２０１、２０２、２０４〜２０７はレターデーションＲｔｈ（５４８）が前記式（１）を満たさず、光学補償上好ましくない。
【０２３９】
〔実施例５〕
（光学補償フィルム３０１の作製）
＜セルロースアシレート溶液２１の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液２１を調製した。
［セルロースアシレート溶液２１の組成］
アセチル置換度２．９４、重合度３９０のセルロースアセテート
１００．０質量部
トリフェニルフォスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルフォスフェート（可塑剤）                    ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
【０２４０】
＜マット剤溶液２２の調製＞
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液２２を調製した。
［マット剤溶液２２の組成］
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製）                ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                              １１．４質量部
セルロースアシレート溶液２１                        １０．３質量部
【０２４１】
＜レターデーション発現剤２３溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション発現剤溶液２３を調製した。
［レターデーション発現剤溶液２３の組成］
下記レターデーション発現剤（Ｃ）                      ９．０質量部
下記レターデーション発現剤（Ｄ）                    １１．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ６７．２質量部
メタノール（第２溶媒）                              １０．０質量部
セルロースアシレート溶液２１                        １２．８質量部
【０２４２】
【化４７】
0005061066.tif 000051
【０２４３】
上記マット剤溶液２２の１．３質量部とレターデーション発現剤溶液２３の８．１質量部をそれぞれ濾過後にインラインミキサーを用いて混合し、さらにセルロースアシレート溶液２１を９０．６質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、バンド流延機を用いて流延し、１００℃で残留溶媒含量３５％まで乾燥し、フィルムを剥ぎ取った。１５０℃の雰囲気温度でテンターを用いて延伸倍率２２％で横延伸した。その後、クリップを外して１３０℃で４０分間乾燥させ、光学補償フィルム３０１を製造した。作製された光学補償フィルム３０１の残留溶媒量は０．１％であり、膜厚は８０μｍであった。また、ＷＲ  ＫＯＢＲＡで測定したレターデーションは、Ｒｅ（４４６）は８８ｎｍ、Ｒｅ（５４８）は１０２ｎｍ、Ｒｅ（６２８）は１０７ｎｍ、Ｒｔｈ（４４６）は１０６ｎｍ、Ｒｔｈ（５４８）は１２２ｎｍ、Ｒｔｈ（６２８）は１３１ｎｍであった。
【０２４４】
［実施例６］
（順波長分散フィルム１０１の鹸化処理）
作製した順波長分散フィルム１０１を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、順波長分散フィルム１０１表面の鹸化処理を行った。
【０２４５】
（光学補償フィルム３０１の鹸化処理）
前記光学補償フィルム３０１のセルロースアシレート表面を上記順波長分散フィルム１０１の鹸化処理と同様に鹸化した。
【０２４６】
〔実施例７〕
＜偏光板１０１の作製＞
（偏光板保護フィルムの鹸化処理）
市販のセルロースアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製、富士タックＴＤ８０）を１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で１分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
【０２４７】
（偏光子の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で鹸化処理した順波長分散フィルム１０１を偏光板保護フィルムとして偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の吸収軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。
さらに上記で鹸化処理した市販のセルローストリアセテートフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板１０１を作製した。
【０２４８】
〔実施例８〕
＜偏光板１０２〜１１５の作製＞
順分散フィルム１０２〜１１５についても実施例７と同様にして偏光板１０２〜１１５を作製した。
【０２４９】
〔比較例３〕
＜偏光板２０１〜２０７の作製＞
セルロースアシレートフィルム２０１〜２０７についても実施例７と同様にして偏光板２０１〜２０７を作製した。
【０２５０】
〔実施例９〕
＜偏光板３０１の作製＞
光学補償フィルム３０１についても実施例７と同様にして偏光板３０１を作製した。
【０２５１】
〔実施例１０〕
（液晶表示装置Ａ〜Ｖの作製）
図１において、ＶＡモードの液晶セルに、図１における上側偏光板１として偏光板１０１を、本発明における順波長分散フィルム１０１が液晶セル側となるように、また、下側偏光板１２には偏光板３０１を、光学補償フィルム３０１が液晶セル側となるように、粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。このようにして液晶表示装置（Ａ）を作製した。液晶表示装置Ａの偏光板を表３の偏光板に変更して、液晶表示装置Ｂ〜液晶表示装置Ｖを作製した。
【０２５２】
［液晶表示装置の評価］
（パネルの色味視野角評価）
上記作製方法のようにして作製したＶＡモードの液晶表示装置ＡからＶについて、図１中の偏光板１２側にバックライトを設置し、各々について測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示において、液晶セルの法線方向から一対の偏光板の透過軸の中心線方向（方位角４５度）に極角６０度における白表示の輝度／黒表示の輝度から斜めコントラストを算出し、以下の基準で評価した。
○：斜めコントラストが６０以上
△：斜めコントラストが４５以上６０未満
×：斜めコントラストが４５未満
【０２５３】
さらに、極角６０°において、方位角０°と方位角８０°との色味変化を目視にて観察した。
結果を表３に示す。
【０２５４】
【表３】
0005061066.tif 000052
【０２５５】
表３より本発明の順分散フィルム１０１から１１５を用いた液晶表示装置ＡからＯは比較試料２０１から２０２および２０４から２０７を用いた液晶表示装置Ｐ、ＱおよびＳからＶと比較して斜めコントラストが改良され好ましい。また、比較試料２０３を用いた偏光板Ｒと比較して色味変化が改良され好ましいことが分かる。
【０２５６】
本発明の順波長分散フィルム１０１を用いた液晶表示装置Ａは、視角による色味及びコントラスト変化が小さく、長期間使用しても画質の劣化がなく好ましいものであった。
【図面の簡単な説明】
【０２５７】
【図１】本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０２５８】
１    上側偏光板
２    上側偏光板吸収軸の方向
５    液晶セル上電極基板
６    上基板の配向制御方向
７    液晶層
８    液晶セル下電極基板
９    下基板の配向制御方向
１０  液晶表示装置
１２  下側偏光板
１３  下側偏光板吸収軸の方向
【図１】
0005061066.tif 000055