(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
特定の金属が不働態を示す電解液中で、
前記金属の電位を、浸漬電位以上で、
且つ、孔食電位以下に制御して、
該金属の表面を局部的に溶解させて微小凹凸を形成させる
ことを特徴とする摺動面の形成方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記金属に与える電位を制御することにより、前記微小凹凸の深さ又は大きさの少なくとも一方を制御する
ことを特徴とする摺動面の形成方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記金属に与える電位の制御が、パルス電位の付与によってなされる
ことを特徴とする摺動面の形成方法。
【請求項４】
請求項２において、
前記金属に与える電位の制御が、定電位の付与によってなされる
ことを特徴とする摺動面の形成方法。
【請求項５】
請求項２において、
前記金属に与える電位の制御が、定電位とパルス電位とを組合せて付与することによってなされる
ことを特徴とする摺動面の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属部品などの摺動部の表面に好適な摺動面の形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属部品等からなる摺動部には、その摺動面の摩擦を低減するために潤滑油を使用する。これにより摺動面には潤滑油膜が形成されるので、金属部品同士の直接接触を防止でき摩擦を低減している。一般に金属部品同士の直接接触を防ぐための潤滑膜形成に影響する因子としては、摺動部の負荷、相対速度、潤滑油の粘度、並びに、摺動部材の面粗さが挙げられる。
【０００３】
摺動面の面粗さについては、それを平滑にすればするほど潤滑油膜は形成されやすくなるといわれているが、近年、表面を適度に荒らした方が油膜形成に有利であるということが明らかになってきた。理由としては、摺動面における捕油性に関しては表面に適度なくぼみがあった方が潤滑油だまりとして機能するので摺動面からの潤滑油の漏れが少なくなること、それら潤滑油だまりの潤滑油に接触負荷がかかると潤滑油が押しつぶされて油膜が形成されること、などによるものと考えられている。
【０００４】
この効果を期待して、従来、摺動面を適度に荒らす手法としてショットピーニングなどの手法やそれに類した細かいメディアを金属表面に衝突させる方法、レーザ加工によるパターニングなどが行われてきた（例えば、特許文献１等）。  
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１８６６７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１等に示される上述してきた手法は金属材料の表面特性を不可避的に変えてしまう欠点がある。例えば、ショットピーニングなどの方法では表面に高エネルギの硬質粒子が衝突することにより表面に残留応力が発生して、面粗さ処理のなされていない母材とはミクロな組織が異なるものとなる。またレーザ加工などにおいても摺動面の熱履歴により同様の問題が起こる。このような表面特性の変化により摺動面に微細割れなどの欠陥が生じやすくなることが懸念され、また、ショットピーニングなどでは摺動面の形態を制御することが困難である。
【０００７】
本発明は、前記従来の問題点を解決するべくなされたもので、摺動面を極力変性させることなく、潤滑油を捕油可能とする適切な微小凹凸を有する摺動面を安定して効率よく形成する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、特定の金属が不働態を示す電解液中で、前記金属の電位を、浸漬電位以上で、且つ、孔食電位以下に制御して、該金属の表面を局部的に溶解させて微小凹凸を形成させることにより前記課題を解決したものである。
【０００９】
本発明によれば、電気化学的な手法を用いるので、摺動面となる金属表面が物理的に変性しない。又、金属の電位を浸漬電位以上で、且つ、孔食電位以下に制御するので、制御する電位は高くならず、必要とする食孔の数を得るための電圧制御は容易に行うことができる。又、制御する電流も大きくないので食孔が必要以上に大きくならず（１０μｍ〜３０μｍ）、装置も大掛かりとはならない。
【００１０】
なお、本発明に似た技術が特開平７―３３１４９９号公報に示され、そこでは表面多孔質金属を形成する方法が提案されている。この方法は、塩化物電解質を包含する酸性又は中性溶液中において、不働態化する金属をアノードとして孔食電位以上で定電位を保持することにより、該金属表面を局部溶解させて細孔を形成するものである。しかし、本発明とは目的が異なり、そのため不働態化する金属をアノードとして孔食電位以上で定電位を保持するようにしていることから、本発明が摺動面に要求する微小凹凸の形成には適さない（後述）。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、摺動面である金属表面を物理的に変性させないので、粗さ加工による摺動面の微細割れなどの欠陥が生じにくい。又、制御する電流と電圧が大きくないので、容易に精度よく制御でき、摺動面の潤滑油だまりに必要な面粗さを安定して効率よく形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面に基づき、本実施形態を詳細に説明する。図１は本実施形態に係る摺動面を形成する装置の模式図、図２は浸漬電位での食孔観察用の装置の模式図、図３は図２の装置における実験条件の表と測定結果を示すグラフ、図４は図３（ｂ）の結果をまとめた表と得られた食孔のＳＥＭ写真、図５は図１の装置における実験条件の表と測定結果を表すグラフである。
【００１３】
なお、孔食とは、金属内部に向かって孔状に進行する局部腐食のことをいい、孔食により得られた微小凹部を食孔ということとする。そして孔食電位Ｖｃｐｉｔとは、ある不働態化した金属材料に孔食が発生成長する臨界の電位をいい、浸漬電位Ｖｃｏｒｒとは、金属材料に電流を流さずに電解液に浸漬させているときの電位をいうこととする。
【００１４】
最初に、本発明の実施形態に係る摺動面を形成する装置について、図１を参照しながら説明する。
【００１５】
装置１００は、セル１０２中に、Ｐｔ（白金）の対極１０４と、局部的に溶解させて微小凹凸が形成される作用極１０６と、照合電極１０８と、電解液１１０と、を有する。対極１０４、作用極１０６、照合電極１０８は、測定器１１２に接続され、測定器１１２には制御用のＰＣ１１４が接続されている。
【００１６】
前記対極１０４は、電解液１１０を介して作用極１０６との間に、適量の電流を流すためのものであり、材料としては電解液１１０との反応性が低いものであればよい。このため、Ｔｉ（チタン）を基材としたＰｔ（白金）被覆したものでもよいが、ここではＰｔで対極１０４を構成する。対極１０４は、作用極１０６の表面に均一な微小凹凸を形成するために、作用極１０６の対象となる領域と同程度の表面積を有する。なお、セル１０２内での電解液１１０の循環を不用意に妨げないように、対極１０４は金網構造とすることができる。
【００１７】
前記作用極１０６は、例えば、オーステナイト系ステンレス鋼であり、例えば、一般的の摺動部に多用されるＳＵＳ３０４板を使用している。ステンレスは、鉄にＣｒ（クロム）を混ぜ、その割合が１１％を超えてくると鉄錆びはほとんど発生しなくなることを利用した鉄系の鋼材である。理由は、Ｃｒが鉄より非常に酸化されやすく、材料表面がＣｒの酸化皮膜で覆われるために、それ以上の酸化反応が金属内部へ浸透するのが遮断されるためである。この現象が「不働態化 」であり、その酸化皮膜が不働態皮膜である。そのため、作用極１０６は、電解質１１０中においても、不働態を示している。作用極１０６は、電解液１１０中で対極１０４と対峙して配置される。なお、作用極１０６の微小凹凸を形成しない表面については電気化学的に反応しにくいマスキング用の樹脂材１０６ａ、例えば、タール、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、フッ化樹脂製テープ等でマスキングを行う。
【００１８】
前記照合電極１０８は、電位が一定の電極であり、照合電極１０８に対する作用極１０６の電位を示すことができる。Ａｇ／ＡｇＣｌ照合電極を用いることもできるが、本実施形態では、カロメル電極（Ｈｇ／ＨｇＣｌ）を照合電極１０８として用いる。照合電極１０８は、対極１０４と作用極１０６との間の電荷（電流）のやり取りに影響を与えないように、飽和塩化カリウム（ＫＣｌ）水溶液を満たした塩橋（図示せず）を介して、セル１０２中の電解液１１０とイオン交換がなされる構成を有している。
【００１９】
前記電解液１１０は、例えば、塩素イオン（Ｃｌ−）を含む水溶液であり、塩素イオン濃度は、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）が希釈されて塩素濃度換算で０．５重量％である（図５（ａ））。この電解液１１０は、孔食反応を行うセル１０２中に適量入れられる。そして、対極１０４と作用極１０６は、その電気化学反応を行う部位が電解液１１０に十分浸漬するように、セル１０２に固定される。
【００２０】
前記測定器１１２は、対極１０４、作用極１０６、照合電極１０８と電気的に接続され、手動、外部信号、或いは、自動で各種電気化学反応の制御と計測を行うことができる。例えば、照合電極１０８を基準とした電圧掃引を行い電気化学反応を制御し、その際に流れる電流値の計測をすることが可能である。又は、電流掃引を行い電気化学反応を制御し、その際に照合電極１０８を基準とする電位の計測を行うことが可能な装置である。もちろん、対極１０４を使用せずに作用極１０６の電位を計測することも可能である。本実施形態では、測定器１１２は、ＰＣ１１４からの外部信号により測定モードが制御され、得られたデータをＰＣ１１４へ送出している。
【００２１】
次に、本実施形態に係る微小凹凸の形成原理について説明する。
【００２２】
本原理は、孔食電位Ｖｃｐｉｔと、浸漬電位Ｖｃｏｒｒとの間に作用極１０６の電位を制御して、その際に生じる腐食電位の振動を積極的に利用するものである。
【００２３】
腐食電位の振動の発生機構の説明には、ファラディックモデルとノンファラディックモデルとが提案されている。ファラディックモデルによれば、金属の板材を電解液に浸漬したとき、不働態皮膜の破壊がなされると、局部的に電流が電極から電解質に向かって流れ、酸化反応が行われる（局部アノード反応と称する）。このとき、金属の不働態保持電流密度が増加する。そして皮膜が再生されると不働態保持電流密度は元に戻る。このとき、局部アノード反応によって生じた電流が電解質から電極に向かって流れる（カソード反応と称する）ことにより、局部アノード反応で発生した電子が直接消費される。それに対してノンファラディックモデルでは、局部アノード反応で発生した電子が不働態の皮膜容量に蓄積された後にカソード反応により消費される。
【００２４】
すなわち、いずれの機構であっても、腐食電位の振動で食孔が生成されることとなる。
【００２５】
上記原理による腐食電位の振動の発生は、浸漬電位Ｖｃｏｒｒの環境において観測することができる。図２にそのための装置１０１を示す。ここでは、図１の対極１０４を使用していない。作用極１０７に電流を流す必要がないからである。それ以外は、図１の装置１００と同様の構成である。そのため、構成についての説明は省略する。
【００２６】
このときの観測条件を図３（ａ）の表に示す。電解液１１０ａとしては、塩素濃度換算で１４．２重量％の塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）の水溶液を用いている。セル１０２温度は２５℃で、照合電極１０８は図１と同じカロメル照合電極である。得られた観測結果が図３（ｂ）で、ここでは、浸漬時間に対する電位振動の様子をグラフ化している。図４（ａ）には、図３（ｂ）の観測結果から電位振動数と食孔数の関係をまとめた表を示す。図４（ａ）によれば、１回の電位振動は１個の食孔の生成にほぼ対応しており、このような電位振動が観測されると金属表面には径と深さがほぼ同じ半球状の数１０μｍ程度の食孔が形成される。ここで食孔のうち、電位振動がなされる際に電位が下がってすぐに元の電位に戻るタイプ（回復型と称する）は、電位振幅が狭く、食孔サイズが１０μｍ〜２０μｍ程度に形成されている。それに比べて、電位が下がってすぐには元の電位に戻らないタイプ（停滞型と称する）もあり、この場合の食孔は、電位振幅が広く、食孔サイズが２０μｍよりも大きく形成されている。なお、図３（ｂ）より、観測時間は５０００分で約２５０個の食孔が計測されていることから、約２０分に１個の割合で食孔が発生したことを示している。図４（ｂ）には、回復型の食孔の一例のＳＥＭ写真を示す。凹み底部で、金属粒界の境界をはっきり観察でき、腐食電位の振動を用いて微小凹凸を形成することは母材の金属を物理的になんら変性させていないことが分かる。なお、得られた食孔の直径が１２ｕｍであり、摺動面に適合可能な凹形状が得られていることが確認できる。
【００２７】
次に、腐食電位の振動を用いる本実施形態に係る摺動面の形成方法について説明する。
【００２８】
条件を図５（ａ）の表に示す。ここで、セル１０２温度は８０℃で、２０ｍＶ／分で電圧掃引を行い、電気化学反応を行う。結果が図５（ｂ）である。これによれば、浸漬電位Ｖｃｏｒｒは約０ｍＶであり、孔食電位Ｖｃｐｉｔは約２００ｍＶである。この間の電位において、ひげ状に電流密度が上昇して元に戻る部分が認められるが、これが作用極１０６上に食孔が形成された際の振動を表している。図３（ｂ）においては、腐食電位の振動により食孔が形成されていたが、それは孔食発生のときに一定電圧に保つための電流が供給されなかったためである。原理的には腐食などの電気化学反応が生じる際にはそれに相当する電気量が移動することとなり、電圧が一定値に保たれた場合には、腐食電位の振動は電流密度の変化として観測されることとなる。すなわち、孔食の発生に伴い電流値が上がり、そのあと孔食の成長が止まり、電流値が下がることが、腐食電位の振動と同じであることを示している。なお、電流密度が図５（ｂ）の孔食電位Ｖｃｐｉｔ以上の単調増加域に入ると、孔食が成長し深い穴が開いて全面的に金属が腐食されてしまい、本実施形態において意図する微小凹凸を摺動面に形成することができない。このため、浸漬電位Ｖｃｏｒｒと孔食電位Ｖｃｐｉｔとの間に電位を制御することで、食孔の形成と成長停止を繰り返し起こすことができ、そのため、微細な孔食（１０μｍ〜３０μｍ）が多数形成されるので、摺動面に好適な微小凹凸を作用極１０６上に形成することができる。なお、図５（ｂ）より、浸漬電位Ｖｃｏｒｒと孔食電位Ｖｃｐｉｔとの間は約２００ｍＶであり、その間には、ひげ状スパイクが少なくとも５つあり、電圧掃引が２０ｍＶ／ｍｉｎであるから、約２分で１個の食孔が形成されている。すなわち、浸漬電位Ｖｃｏｒｒにおける腐食電位の振動に比べ、１０倍程度速く、食孔数が形成されることがわかる。また、電圧掃引により、食孔サイズが大きく、形成に時間を要する停滞型の食孔を低減できるため、適切で且つ均一な大きさの食孔を得ることができる。  
【００２９】
従って、電解液１１０の環境中に作用極１０６を浸漬して、浸漬電位Ｖｃｏｒｒから孔食電位Ｖｃｐｉｔまでの間に電位を制御し、必要な食孔の数の電気振動を起こすことによりほぼ所望な微小凹凸を作用極１０６の表面に形成することができる。
【００３０】
なお、上述してきた電気化学的な手法を用いるので、摺動面となる金属表面は物理的に変性しない。このため、粗さ加工による表面の微細割れなどの欠陥が生じにくい。又、金属の電位を浸漬電位Ｖｃｏｒｒ以上で、且つ、孔食電位Ｖｃｐｉｔ以下に制御するので、制御する電位は高くならず、必要とする食孔の数を得るために電圧制御をするにしても、その制御自体は、一般的な電圧制御でしかないため、低コストで容易に且つ高精度に行うことができる。又、制御する電流も大きくないので食孔が必要以上に大きくならず、装置も大掛かりとはならない。このため、摺動面に潤滑油だまりとなる必要な面粗さを安定して効率よく形成することができる。
【００３１】
本実施形態では、電圧掃引により浸漬電位Ｖｃｏｒｒから孔食電位Ｖｃｐｉｔまで作用極１０６の電位を制御していたが、前記範囲内のパルス電位を付与することによって作用極１０６の電位を制御してもよい。又、その電位の制御が、定電位の付与でなされてもよいし、定電位とパルス電位とを組合せて付与することでなされてもよい。時間に対する食孔の形成される数、大きさ、並びに、それらの深さを更に効率的に制御可能となるからである。
【００３２】
又、金属板１６２は、ＳＵＳ３０４だけに限定されるものではなく、他の系のステンレスでもよいし、アルミニウム板や、チタン板、ニッケル板など、電解液中で不働態を示すものであればよい。
【００３３】
又、電解液は硫酸（Ｈ２ＳＯ４）や硫酸ナトリウム（Ｎａ２ＳＯ４）などを用いても良い。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本実施形態に係る摺動面を形成する装置の模式図
【図２】浸漬電位Ｖｃｏｒｒでの孔食観察用の装置の模式図
【図３】図２の装置における実験条件の表と測定結果を示すグラフ
【図４】図３（ｂ）の結果をまとめた表と得られた孔食のＳＥＭ写真
【図５】図１の装置における実験条件の表と測定結果を表すグラフ
【符号の説明】
【００３５】
１００、１０１…装置
１０２…セル
１０４…対極
１０６、１０７…作用極
１０６ａ、１０７ａ…マスキング用の樹脂材
１０８…照合電極
１１０、１１０ａ…電解液
１１２…測定器
１１４…ＰＣ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図４】
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