(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部が負圧に保持される容器と、前記容器内に設置され、ターゲット部を有する陽極と、前記陽極に対向して前記容器内に設置される陰極とを備え、
前記容器が、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材によって構成されていることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
前記絶縁材が、Ｖ２Ｏ５−ＢａＯ−Ｐ２Ｏ５及びＶ２Ｏ５−Ｎａ２Ｏ−Ｐ２Ｏ５のいずれかを含むガラスである請求項１に記載のＸ線発生装置。
【請求項３】
前記絶縁材が、１％〜２０％のＴｉＣを含み、残りが実質的にＡｌ2Ｏ3であるセラミックスである請求項１に記載のＸ線発生装置。
【請求項４】
前記絶縁材が、１％〜２０％のＴｉＯ２を含み、残りが実質的にＡｌ2Ｏ3であるセラミックスである請求項１に記載のＸ線発生装置。
【請求項５】
前記絶縁材が、１％〜３０％のＦｅ2Ｏ3及び１％〜４％のＹ2Ｏ3を含み、残りが実質的にＺｒＯ2であるセラミックスである請求項１に記載のＸ線発生装置。
【請求項６】
前記絶縁材が、０．１％〜１％のＢ、０．１％〜１％のＡｌ２Ｏ３及び０．１％〜１％のＹ2Ｏ3のいずれかを含み、残りが実質的にＳｉＣであるセラミックスである請求項１に記載のＸ線発生装置。
【請求項７】
内部が負圧に保持される容器と、前記容器内に設置され、ターゲット部を有する陽極と、前記陽極に対向して前記容器内に設置される陰極とを備え、
前記容器が、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材によって構成されている第１絶縁部、及び抵抗率が１０14Ω・ｃｍ以上の範囲にある絶縁材によって構成されている第２絶縁部を有することを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項８】
前記第１絶縁部が、前記容器の、前記陽極及び前記陰極の近傍に配置されている請求項７に記載のＸ線発生装置。
【請求項９】
前記第２絶縁部を構成する前記絶縁材が、抵抗率が１０14Ω・ｃｍ以上の範囲にあるガラス及びセラミックスのいずれかである請求項７に記載のＸ線発生装置。
【請求項１０】
前記第１絶縁部を構成する前記絶縁材が、Ｖ２Ｏ５−ＢａＯ−Ｐ２Ｏ５及びＶ２Ｏ５−Ｎａ２Ｏ−Ｐ２Ｏ５のいずれかを含むガラスである請求項７に記載のＸ線発生装置。
【請求項１１】
前記第１絶縁部を構成する前記絶縁材が、１％〜２０％のＴｉＣを含み、残りが実質的にＡｌ2Ｏ3であるセラミックスである請求項７に記載のＸ線発生装置。
【請求項１２】
前記第１絶縁部を構成する前記絶縁材が、１％〜２０％のＴｉＯ２を含み、残りが実質的にＡｌ2Ｏ3であるセラミックスである請求項７に記載のＸ線発生装置。
【請求項１３】
前記第１絶縁部を構成する前記絶縁材が、１％〜３０％のＦｅ2Ｏ3及び１％〜４％のＹ2Ｏ3を含み、残りが実質的にＺｒＯ2であるセラミックスである請求項７に記載のＸ線発生装置。
【請求項１４】
前記第１絶縁部を構成する前記絶縁材が、０．１％〜１％のＢ、０．１％〜１％のＡｌ2Ｏ3及び０．１％〜１％のＹ2Ｏ3のいずれかを含み、残りが実質的にＳｉＣであるセラミックスである請求項７に記載のＸ線発生装置。
【請求項１５】
前記陽極を回転させる回転装置を備えた請求項１に記載のＸ線発生装置。
【請求項１６】
被検体を乗せるベッド装置と、Ｘ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置から放出されるＸ線を検出する放射線検出器と、前記Ｘ線発生装置及び前記放射線検出器を旋回させる回転体とを備え、
前記Ｘ線発生装置が、内部が負圧に保持される容器と、前記容器内に設置され、ターゲット部を有する陽極と、前記陽極に対向して前記容器内に設置される陰極とを有し、
前記容器が、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材によって構成されていることを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項１７】
被検体を乗せるベッド装置と、Ｘ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置から放出されるＸ線を検出する放射線検出器と、前記Ｘ線発生装置及び前記放射線検出器を旋回させる回転体とを備え、
前記Ｘ線発生装置が、内部が負圧に保持される容器と、前記容器内に設置され、ターゲット部を有する陽極と、前記陽極に対向して前記容器内に設置される陰極とを有し、
前記容器が、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材によって構成されている第１絶縁部、及び抵抗率が１０14Ω・ｃｍ以上の範囲にある絶縁材によって構成されている第２絶縁部を有することを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線発生装置及びＸ線ＣＴ装置に係り、特に、回転陽極型Ｘ線発生装置に適用するのに好適なＸ線発生装置、及びこのＸ線発生装置を用いたＸ線ＣＴ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の回転陽極型Ｘ線発生装置の構成の一例が米国特許６，８１９，７４１号明細書に記載されている。この回転陽極型Ｘ線発生装置は、ケーシング内に設けられた回転体に取り付けられた回転陽極、及び回転陽極に対向して配置された陰極を有している。回転陽極及び陰極は、ケーシング内に配置された真空容器内に設けられる。陰極は、フィラメント及びフィラメントに接続されたケーブルを有している。ケーブルは陰極コーン内に配置され、フィラメントは陰極コーンの先端部に取り付けられている。
【０００３】
回転陽極と陰極の間には百ｋＶ以上の高電圧が印加される。フィラメントから放出される電子線は、その高電圧によって加速され、回転している回転陽極の表面（ターゲット表面）に衝突する。この電子線の衝突によってＸ線が発生し、このＸ線は真空容器及びケーシングにそれぞれ形成された窓から外部に放出される。上記のように印加される高電圧によって回転陽極と陰極が電気的に短絡されるのを防止するために、電気絶縁材（セラミックス）で構成された陰極コーンにフィラメントを設置している。この電気絶縁材としては、セラミックス以外にガラスを用いることも知られている。
【０００４】
【特許文献１】米国特許６，８１９，７４１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
回転陽極型Ｘ線発生装置に用いられて回転陽極と陰極の間の絶縁性能を保っている電気絶縁材であるガラス及びセラミックスは、１０14Ω・ｃｍ以上の抵抗率を有し、高電圧について耐電圧特性に優れた材料である。このような高抵抗率の絶縁材を用いた場合であっても、絶縁材の部分に塵埃が付着したとき、沿面放電が発生する。このような沿面放電の発生を防ぐため、従来は、塵埃が絶縁材の部分に付着しないような対策を行っている。しかしながら、クリーンルームで回転陽極型Ｘ線発生装置を製造しても、絶縁材の部分に付着する塵埃を皆無にすることは困難である。このため、回転陽極型Ｘ線発生装置の絶縁材の部分に塵埃が付着することは避けられないことである。
【０００６】
本発明の目的は、絶縁材に塵埃が付着した場合においても沿面放電を抑制することができるＸ線発生装置及びＸ線ＣＴ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記した目的を達成する本発明の特徴は、内部が負圧に保持される容器と、容器内に設置され、ターゲット部を有する陽極と、陽極に対向して容器内に設置される陰極とを備え、容器が、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材によって構成されていることにある。
【０００８】
上記の特徴を有する本発明によれば、１０14Ω・ｃｍ以上の抵抗率を有する絶縁材よりも導電性が高い、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材によって容器を構成しているので、塵埃が後者の絶縁材に付着した場合でも、その塵埃の周辺に発生する電界集中の度合いが小さくなる。このため、沿面放電の発端である電界による電子の放出を抑制することができるため、沿面放電の発生を抑制することができる。
【０００９】
上記の目的は、内部が負圧に保持される容器と、容器内に設置され、ターゲット部を有する陽極と、陽極に対向して容器内に設置される陰極とを備え、容器が、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材によって構成されている第１絶縁部、及び抵抗率が１０14Ω・ｃｍ以上の範囲にある絶縁材によって構成されている第２絶縁部を有するＸ線発生装置によっても、達成することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、絶縁材に塵埃が付着した場合においても沿面放電を抑制することができ、Ｘ線発生装置の停止を避けることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
電気絶縁体に生じる沿面放電について、まず説明する。図２は、絶縁体（ガラスまたはセラミックスで構成）１５の表面に塵埃１６が付着したときの、電位分布を示している。塵埃１６が付着していないときには等電位線１７は、絶縁体１５の表面に対して直角になって平行な状態になっている。その表面に塵埃１６が付着したときには、塵埃１６の周辺で等電位線１７が歪む現象が見られる。これは、塵埃１６の周辺部で電界集中が発生していることを示している。このような電界集中部では、塵埃１６及び絶縁体１５から電子が放出される。この電子が絶縁体１５の表面で二次電子を発生するので、電子なだれが発生し、沿面放電に至るのである。
【００１２】
発明者らは、この沿面放電の発生を抑制することができる対策を種々検討した。この結果、絶縁体の抵抗率を下げることによって、すなわち、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの絶縁体を用いることによって、Ｘ線発生装置の陽極と陰極の間でショートが生じることを避けることができて、塵埃が絶縁体に付着した場合でも沿面放電を抑制することができることを発見した。すなわち、抵抗率が１０８Ω・ｃｍ以上の絶縁体を用いることによって、Ｘ線発生装置の陽極と陰極の間でショートが生じることを避けることができる。また、抵抗率が１０12Ω・ｃｍ以下の絶縁体を用いることによって、塵埃周辺部での電界集中を抑制することができ、電子放出による電子なだれを防止でき、絶縁体での放電を避けることができる。
【００１３】
上記の検討結果に基づいて成された本発明の実施例を、以下に説明する。
【実施例１】
【００１４】
本発明の好適な一実施例であるＸ線発生装置を、回転陽極型Ｘ線発生装置を例に挙げ、図１を用いて説明する。回転陽極型Ｘ線発生装置１は、外部容器（第１容器）２、内部容器である真空容器（第２容器）３、回転陽極５及び陰極１１を備えている。外部容器２は、金属製の容器であり、その内面に、Ｘ線発生時に不要なＸ線を遮蔽するための放射線遮へい体である鉛板を張っている。内部が負圧（例えば、真空）にされる真空容器３が、外部容器２内に配置され、絶縁材にて構成される支持部材（図示せず）によって外部容器２の内面に設置されている。真空容器３は、絶縁材であるガラスによって構成されている。このガラスは抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にあるガラスを用いている。このガラスとしてはＶ２Ｏ５−ＢａＯ−Ｐ２Ｏ５、Ｖ２Ｏ５−Ｎａ２Ｏ−Ｐ２Ｏ５等を含んだガラスが望ましい。真空容器３は絶縁材であるセラミックスで構成してもよい。ベリリウム等で構成された窓４Ｂが外部容器２に設けられる。ベリリウム等で構成された窓４Ａが真空容器３に設けられる。回転陽極５及び陰極１１が、互いに向かい合った状態で真空容器３内に配置されている。陰極１１は支持部材１２によって真空容器３に取り付けられる。支持部材１２は、板状部材１４に棒状部材１３を取り付けて構成される。陰極１１は板状部材１４の一面に設置され、棒状部材１３が真空容器３に取り付けられる。陰極２は熱電子を放出するフィラメント（図示せず）を有する。
【００１５】
回転陽極５は回転装置７に取り付けられている。回転陽極５の半径方向で外側に向って傾斜したターゲット６が、陰極１１に対向して回転陽極５に設けられている。ターゲット６はタングステンなどの高融点、高原子番号の金属によって構成される。回転装置７はロータ９及びステータ１０を有する。ロータ９は、回転軸８にコイルを取り付けることにより構成され、真空容器３内に配置される。回転軸８は、真空容器３の一端部に回転可能に取り付けられる。回転軸８と真空容器３の間には、真空容器３内を負圧に保つためにシール部材（図示せず）が設けられる。回転陽極５は回転軸８に取り付けられている。コイルが取り付けられたステータ１０は、ロータ９に対向する位置で真空容器３と外部容器２の間に配置されている。ステータ１０は、絶縁材にて構成される支持部材（図示せず）によって外部容器２の内面に設置されている。
【００１６】
陰極１１が電圧昇圧器（図示せず）の負極端子に、回転陽極５は電圧昇圧器の正極端子にそれぞれ接続される。電圧昇圧器は、百ｋＶ以上の高電圧を発生し、回転陽極５と陰極１１の間にその高電圧を印加する。陰極１１のフィラメントが加熱変圧器（図示せず）に接続される。
【００１７】
以上に説明した回転陽極型Ｘ線発生装置１でＸ線を発生させるメカニズムを、以下に記述する。ロータ９及びステータ１０の各コイルに電源から電流を供給すると、ロータ９が回転し、回転陽極５も回転する。回転陽極５と陰極１１の間に電圧昇圧器から百ｋＶ以上の高電圧が印加される。同時に、陰極１１のフィラメントに加熱変圧器から電流が供給されるので、そのフィラメントが加熱され、フィラメントから熱電子がターゲット６に向って放出される。この熱電子は、回転陽極５と陰極１１の間に印加された高電圧の作用により加速される。加速された熱電子は、回転陽極５のターゲット６に衝突し、焦点が形成される。この熱電子の衝突によって、ターゲット６に形成された焦点からＸ線が発生し、このＸ線は窓４Ａ，４Ｂを通過して回転陽極型Ｘ線発生装置１の外部に放出される。
【００１８】
本実施例は、１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある抵抗率を有する絶縁材によって真空容器３を構成しているので、１０14Ω・ｃｍ以上の抵抗率を有する絶縁材により構成される真空容器よりも導電性が高まる。このため、真空容器３に塵埃が付着しても、その塵埃周辺の電位は絶縁材の導電性により中和され、その塵埃の周辺に発生する電界集中の度合いが小さくなる。このような本実施例は、絶縁材で構成される真空容器３に塵埃が付着した場合でも電界集中部において塵埃及び上記の絶縁材から電子が放出されにくくなる。この電子に起因した、絶縁材、すなわち、真空容器３の表面での二次電子の発生が抑制されるので、真空容器３に塵埃が付着した場合でも、電子なだれが発生せず、真空容器３における沿面放電を抑制することができる。沿面放電の抑制によって、Ｘ線発生装置の停止を避けることができる。
【００１９】
また、本実施例の回転陽極型Ｘ線発生装置１は、１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある抵抗率を有する絶縁材によって構成された真空容器３を有しているので、この絶縁材を通しての回転陽極５と陰極１１の間でショートが生じることを防止でき、その絶縁材の部分で放電が生じることも防止できる。
【００２０】
真空容器３は、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にあるガラスの替りに、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材であるセラミックスによって構成してもよい。このセラミックスとして、例えば、１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲に含まれる抵抗率を有する、主原料であるＡｌ2Ｏ2に１％以上２０％以下のＴｉＣを混入して生成されるセラミックスを用いることができる。
【００２１】
真空容器３を構成する抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材として、主原料であるＡｌ2Ｏ3に１％以上２０％以下のＴｉＯ２を混入して生成されるセラミックスを用いてもよい。
【００２２】
さらに、真空容器３を構成する抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材として、主原料であるＺｒＯ2に１％以上３０％以下のＦｅ2Ｏ3と１％以上４％以下のＹ2Ｏ3を混入して生成されるセラミックスを用いることも可能である。
【００２３】
真空容器３を構成する抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材として、主原料であるＳｉＣにそれぞれ０．１％以上１％以下のＢ、Ａｌ2Ｏ3またはＹ2Ｏ3を混入して生成されるセラミックスを用いてもよい。
【実施例２】
【００２４】
本発明の他の実施例であるＸ線発生装置を、回転陽極型Ｘ線発生装置を例に挙げ、図３を用いて説明する。本実施例の回転陽極型Ｘ線発生装置１Ａは、実施例１の回転陽極型Ｘ線発生装置１において真空容器３を真空容器３Ａに替えた構成を有し、これ以外の構成は回転陽極型Ｘ線発生装置１と同じである。
【００２５】
回転陽極型Ｘ線発生装置１Ａに用いられる真空容器３Ａは、抵抗率が１０8Ω・ｃｍから１０12Ω・ｃｍの範囲にある絶縁材（例えば、ガラス、及び実施例１で述べたセラミックスのうちの１つ）によって構成された第１絶縁部１５、及び１０14Ω・ｃｍ以上の抵抗率を有する絶縁材（例えば、ガラスまたはセラミックス）によって構成された第２絶縁部１６Ａ，１６Ｂを有する。これらの材料としてはホウケイ酸ガラス及びアルミナ等が挙げられる。第１絶縁部１５は、環状になっており、第２絶縁部１６Ａと第２絶縁部１６Ｂの間に配置され、それぞれの第２絶縁部に接合されている。第１絶縁部と第２絶縁部１６Ａ，１６Ｂの接合は、表面をモリブデンマンガン合金等でメタライズした上で、金属（例えば、コバール）を介してロー付け等で行う。支持部材１２の棒状部材１３が第２絶縁部１６Ａに取り付けられる。回転軸８は第２絶縁部１６Ｂの一端部に回転可能に取り付けられる。ベリリウム等で構成される窓４Ａは、窓４Ｂと対向する位置で第１絶縁部１５に設けられる。
【００２６】
真空容器３Ａにおいて、印加される電界が低い部分に抵抗率が高い第２絶縁部１６Ａ，１６Ｂ、その電界が高い部分に抵抗率が低い第１絶縁部１５を選択的に配置することが好ましい。回転陽極型Ｘ線発生装置１Ａは、負電位である陰極１１及び正電位である回転陽極５、及び接地電位である外部容器２がそれぞれ接近している、真空容器３Ａの電界が高くなる部分に、抵抗率が低い第１絶縁部１５を配置している。第１絶縁部１５は、回転陽極５及び陰極１１の近傍に配置される。
【００２７】
回転陽極型Ｘ線発生装置１Ａは、回転陽極型Ｘ線発生装置１と同様にしてＸ線を発生し、このＸ線を窓４Ａ，４Ｂを通して外部に放出する。
【００２８】
本実施例の回転陽極型Ｘ線発生装置１Ａも、回転陽極型Ｘ線発生装置１と同様に、真空容器３Ａにおける沿面放電を抑制することができる。すなわち、第１絶縁部１５に塵埃が付着しても、その塵埃の周辺に発生する電界集中の度合いが小さくなるので、沿面放電の発生を抑制できる。真空容器３Ａの電界が高くなる部分に第１絶縁部１５を配置しているので、回転陽極５と陰極１１の間でショートが生じることを防止でき、第１絶縁材部１５で放電が生じることも防止できる。また、真空容器の電界の低い部分に低コストの第２絶縁部１６Ａ，１６Ｂを設置するので、真空容器３Ａのコストは、全体が第１絶縁部１５になる真空容器３よりも低下させることができる。したがって、より安価回転陽極型Ｘ線発生装置を得ることができる。真空容器３Ａの電界の低い部分に第２絶縁部１６Ａ，１６Ｂが配置されているので、第２絶縁部１６Ａ，１６Ｂでは沿面放電が発生しない。
【実施例３】
【００２９】
回転陽極型Ｘ線発生装置１，１Ａは、Ｘ線ＣＴ装置のＸ線源として用いることができる。回転陽極型Ｘ線発生装置１を適用したＸ線ＣＴ装置を、図４及び図５を用いて説明する。本実施例のＸ線ＣＴ装置２１は、撮像装置２２及びベッド装置２７を備えている。
【００３０】
ベッド装置２７は、被検体（被検者）３０を乗せるカウチ２８及びカウチ２８を支持する支持台２９を有する。カウチ２８は、カウチ２８の長手方向に移動できるように支持台２９の上端部に取り付けられている。撮像装置２２は、回転陽極型Ｘ線発生装置１、ケース２３、放射線検出器２４及び回転体２５を有する。撮像装置２２は、被検体（被検者）３０が挿入される孔部である観測領域２６を形成している。回転陽極型Ｘ線発生装置１、放射線検出器２４及び回転体２５がケース２２内に配置され、回転体２５は観測領域２６の周囲を取り囲んでいる。回転体２５は、回転可能に設置され、モータ（図示せず）により回転される。回転陽極型Ｘ線発生装置１及び放射線検出器２４が回転体２５に設置される。カウチ２８が観測領域２６内に挿入された状態で、回転陽極型Ｘ線発生装置１及び放射線検出器２４は、これらの間にカウチ２８が挟まれるように配置されている。回転陽極型Ｘ線発生装置１は、窓４Ａ，４Ｂがカウチ２８を向くように設置されている。
【００３１】
Ｘ線ＣＴ装置２１による撮像について説明する。被検体３０を乗せたカウチ２８は、観測領域２６内に挿入される。被検体３０の撮像領域が観測領域２６内に挿入された状態になったとき、カウチ２８の移動は停止される。回転体２５の旋回によって、回転陽極型Ｘ線発生装置１及び放射線検出器２４が、カウチ２８の周囲を、すなわち、被検体３０の周囲を旋回する。ロータ９及びステータ１０の各コイルに電流を供給することによって、回転陽極５が回転する。回転陽極５と陰極１１の間に電圧昇圧器から百ｋＶ以上の高電圧が印加され、陰極１１のフィラメントに加熱変圧器から電流が供給される。フィラメントから放出された熱電子が、回転陽極５と陰極１１の間に印加された高電圧の作用により加速され、回転陽極５のターゲット６に衝突する。これによって、ターゲット６でＸ線が発生し、このＸ線は窓４Ａ，４Ｂを通過してカウチ２８上の被検体２８に照射される。回転陽極型Ｘ線発生装置１は前述したように旋回しているので、Ｘ線は３６０°のあらゆる方向から被検体３０に照射される。被検体３０を透過したＸ線は、回転陽極型Ｘ線発生装置１と共に旋回する放射線検出器２４によって検出される。
【００３２】
放射線検出器２４は、Ｘ線の検出によってＸ線検出信号を出力する。このＸ線検出信号を基に、断層像作成装置（図示せず）は被検体３０における断層像の画像情報を作成する。
【００３３】
Ｘ線ＣＴ装置２１は、沿面放電の発生が抑制された回転陽極型Ｘ線発生装置１を用いているので、沿面放電の発生によるＸ線ＣＴ検査の中断が防止される。このため、Ｘ線ＣＴ検査に要する時間が短縮され、Ｘ線ＣＴ検査を実施できる人数を増大できる。
【００３４】
回転陽極型Ｘ線発生装置１の替りに回転陽極型Ｘ線発生装置１Ａを用いたＸ線ＣＴ装置も、前述のＸ線ＣＴ装置２１で生じる効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の好適な一実施例である実施例１のＸ線発生装置の縦断面図である。
【図２】絶縁材で構成された真空容器内の陽極及び陰極に電圧が印加されている状態で、真空容器の表面に塵埃が付着した場合の等電位線を示す説明図である。
【図３】本発明の他の実施例である実施例２のＸ線発生装置の縦断面図である。
【図４】図１に示すＸ線発生装置を適用したＸ線ＣＴ装置の構成図である。
【図５】図４に示すＸ線ＣＴ装置の正面図である。
【符号の説明】
【００３６】
１，１Ａ…回転陽極型Ｘ線発生装置、２…外部容器、３，３Ａ…真空容器、５…回転陽極、６…ターゲット、７…回転装置、９…ロータ、１０…ステータ、１１…陰極、１５…第１絶縁部、１６Ａ，１６Ｂ…第２絶縁部、２１…Ｘ線ＣＴ装置、２２…撮像装置、２４…放射線検出器、２５…回転体、２７…ベッド装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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