(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージシステムのキャリブレーション方法であって、
ａ）セットポイント信号に応答して、ステージをエンコーダグリッドに対して移動させることであって、前記ステージの位置がステージコントローラによって制御される、該移動させること、
ｂ）前記移動中に、前記エンコーダグリッドと協働するセンサヘッドによって前記ステージの前記位置を測定すること、
ｃ）前記センサヘッドによって測定された前記ステージの前記位置と前記セットポイント信号の差を表す信号を登録すること、および
ｄ）前記差を表す前記登録された信号に基づいて前記ステージシステムを較正すること、を含み、
前記方法は、
前記ステージの移動方向に対する直交方向の異なる位置について、前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの移動を繰り返すこと、
平均信号曲線を得るために、前記異なる位置についてｃ）で登録された複数の前記信号を平均すること、および
制御誤差を除去するために、前記差を表す前記登録された複数の信号のそれぞれの信号から前記平均信号曲線を引くこと、を含み、
前記較正が前記引き算の結果に基づいて行われる、ステージシステムのキャリブレーション方法。
【請求項２】
前記ステージコントローラの帯域幅が、前記グリッド中の較正されるべき不規則が感知される速度に比べて小さい、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの少なくとも２つの異なる移動のためにａ）〜ｃ）を繰り返すこと、およびｄ）の前に、２次元フィルタを利用して前記差を表す前記登録された信号をフィルタ処理することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記フィルタが、較正されるべき空間周波数範囲内の空間帯域幅を備える、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ｄ）の前に、較正されるべき空間周波数範囲内の空間帯域幅を利用して、前記差を表す前記登録された信号をフィルタ処理することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ｃ）で登録された前記信号のピークを比較することを含み、可能な変動パラメータが前記比較から得られ、前記変動パラメータが、前記差を表す前記登録された信号から引く前の前記平均信号曲線に利用される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ステージを一定速度に向けて加速するとき前記ステージコントローラの帯域幅を大きくし、さらに、ａ）の前記移動の一定速度への前記ステージの整定に近づくとき前記ステージコントローラの帯域幅を小さくすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの複数の移動を行うことを含み、前記複数の移動は、速度、方向、前記ステージ移動の開始位置、前記ステージのロングストロークモータの開始位置、および前記移動の向きのうちの少なくとも１つが互いに異なり、前記複数の移動の各々の前記登録された信号が平均される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
較正されるべき空間周波数範囲外の空間周波数範囲の誤差を学習するために繰返し学習制御を利用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
デュアルステージリソグラフィ装置のステージを取り換えた後で、前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの前記移動を繰り返すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記移動が、一定速度移動部分および加速移動部分を含み、前記加速移動部分中の前記ステージの加速度が前記ステージコントローラの帯域幅に比べて遅い、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記ステージの同じ移動のためにａ）〜ｄ）を繰り返すことによって、繰返し較正が行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ステージの移動中に加速度計によって前記ステージの加速度を測定すること、前記測定された加速度から補正信号を得ること、および、前記較正の前に、前記補正信号を用いて前記セットポイント信号と前記ステージの前記位置の差を表す前記信号を補正することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ステージの移動中に、加速度計によって前記ステージの加速度を測定することを含み、加速度フィードバックが前記ステージコントローラに設けられる、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記ステージコントローラの帯域通過フィルタ処理された逆制御感度を前記セットポイント信号と前記ステージの前記位置の差を表す前記信号に掛けることを含み、前記掛け算の結果が前記較正のために利用される、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
可動ステージと、
エンコーダグリッドおよび前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの位置を測定するセンサヘッドと、
コントローラであって、
ａ）セットポイント信号に応答して、前記エンコーダグリッドに対して前記可動ステージを位置付けし、
ｂ）前記センサヘッドによって測定された前記可動ステージの位置と前記セットポイント信号の差を表す信号を登録し、さらに、
ｃ）前記差を表す前記登録された信号に基づいてステージシステムを較正する、コントローラと、を備え、
前記ステージシステムの較正が、
前記可動ステージの移動方向に対する直交方向の異なる位置について、前記エンコーダグリッドに対する前記可動ステージの移動を繰り返し、
平均信号曲線を得るために、前記異なる位置について前記登録された複数の前記信号を平均し、
制御誤差を除去するために、前記差を表す前記登録された複数の信号のそれぞれの信号から前記平均信号曲線を引くこと、を含み、
前記較正が前記引き算の結果に基づいて行われる、ステージシステム。
【請求項１７】
放射ビームを調節する照明システムと、
前記放射ビームをパターニングしてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを保持するパターニングデバイスサポートと、
基板を支持する基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板上に投影する投影システムと、
前記サポートの１つを動かすステージシステムと
を備えるリソグラフィ装置であって、前記ステージシステムが、
ａ）前記サポートの１つを保持するための可動ステージと、
ｂ）エンコーダグリッドおよび前記エンコーダグリッドに対する前記可動ステージの位置を測定するセンサヘッドと、
ｃ）コントローラであって、
ｉ）セットポイント信号に応答して、前記エンコーダグリッドに対して前記可動ステージを位置付けし、
ｉｉ）前記センサヘッドによって測定されるような前記可動ステージの位置と前記セットポイント信号の差を表す信号を登録し、さらに、
ｉｉｉ）前記差を表す前記登録された信号に基づいて前記ステージシステムを較正する、コントローラと
を含み、
前記ステージシステムの較正が、
前記可動ステージの移動方向に対する直交方向の異なる位置について、前記エンコーダグリッドに対する前記可動ステージの移動を繰り返し、
平均信号曲線を得るために、前記異なる位置について前記登録された複数の前記信号を平均し、
制御誤差を除去するために、前記差を表す前記登録された複数の信号のそれぞれの信号から前記平均信号曲線を引くこと、を含み、
前記較正が前記引き算の結果に基づいて行われる、リソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、ステージシステムを較正する方法、ステージシステムおよびそのようなステージシステムを備えるリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、基板に、通常基板のターゲット部分に、所望のパターンを付ける機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。そのような例では、代わりにマスクまたはレチクルと呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層に形成されるべき回路パターンを生成することができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）のターゲット部分（例えば、１つまたは複数のチップの部分を含む）に転写することができる。パターンの転写は、一般に、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層へ像を形成することによっている。一般に、単一基板は、連続してパターニングされた互いに隣り合うターゲット部分のネットワークを含む。従来のリソグラフィ装置には、いわゆるステッパといわゆるスキャナがあり、ステッパでは、各ターゲット部分に光が照射されて、ターゲット部分に全パターンが一度に露光され、スキャナでは、各ターゲット部分に光が照射されて、放射ビームによってパターンが所定の方向（「スキャン」方向）にスキャンされ、同時に同期してこの方向に対して平行または反平行に基板がスキャンされる。パターンを基板にインプリントすることによって、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することもできる。
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置のステージシステムなどのステージシステムでは、位置センサがステージの位置を測定するために利用されることがある。エンコーダ型測定システムがそのような位置測定に利用されることがある。１次元または２次元グリッド、グリッド板、その他などのグリッド（格子とも呼ばれる）およびグリッドと協働するセンサヘッドが使用されることがある。製造プロセスのせいで、格子は理想的でないことがあり、さらにずれを含むことがある。位置センサシステムにおけるグリッド誤差の較正は、いわゆる「フィッシュボーン」(fishbone)技術によって行われることがあり、この「フィッシュボーン」技術では、異なる相互位置から基板上にパターンが繰り返し投影され、後でパターン間の距離が測定されて、その距離がパターン間の意図した距離と比較される。測定された差は、露光位置での測定システムの誤差に関係している。位置センサの全動作範囲にわたってこれらの差を決定することによって、利用されるとき測定システム誤差を補正する誤差補償値は、測定システムの多数の位置について決定されることがある。これだけに限定されないが、一般に、線パターンなどの重ね合わせパターンまたは隣接パターンが使用され、このパターンは、いくつかの設定ではフィッシュボーン状のパターンを形成することがある。理解されることであろうが、この較正技術は、しかし、どんな型のパターンにも適用できる。
【０００４】
[0004]  フィッシュボーン較正技術は、低空間周波数を有するグリッド板の誤差、すなわち、ステージとグリッド板を相対的に移動させるとき比較的ゆっくり変化し、かつフィッシュボーン技術に従った繰返しパターンに関連した周波数範囲以下の空間周波数を有する誤差、を較正することができるだけである可能性がある。もっと高い空間周波数の誤差につながる不規則または他の影響は、上述のフィッシュボーン技術で検出することが困難であるか、または不可能である可能性がある。
【発明の概要】
【０００５】
[0005]  ステージ位置測定の較正精度を高めることが望ましい。
【０００６】
[0006]  本発明の実施形態によれば、ステージシステムのキャリブレーション方法が提供され、このキャリブレーション方法は、ａ）セットポイント信号に応答して、エンコーダグリッドに対してステージを移動させることであって、ステージの位置がステージコントローラによって制御される、該移動させること、ｂ）移動中に、エンコーダグリッドと協働するセンサヘッドによってステージの位置を測定すること、ｃ）センサヘッドによって測定されたとおりのステージの位置とセットポイント信号の差を表す信号を登録すること、およびｄ）この差を表す登録された信号に基づいてステージシステムを較正すること、を含む。
【０００７】
[0007]  本発明の他の実施形態では、ステージシステムが提供され、このステージシステムは、可動ステージと、エンコーダグリッドおよびエンコーダグリッドに対するステージの位置を測定するように構成されたセンサヘッドと、ａ）セットポイント信号に応答してエンコーダグリッドに対して可動ステージを位置付けし、ｂ）センサヘッドによって測定されるような可動ステージの位置とセットポイント信号の差を表す信号を登録し、さらに、ｃ）この差を表す登録された信号に基づいてステージシステムを較正するコントローラと、を備える。
【０００８】
[0008]  本発明のさらに他の実施形態によれば、リソグラフィ装置が提供され、このリソグラフィ装置は、放射ビームを調節する照明システムと、放射ビームをパターニングしてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを保持するパターニングデバイスサポートと、基板を支持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板上に投影する投影システムと、１つのサポートを動かすステージシステムと、を含み、このステージシステムは、ａ）前記１つのサポートを保持するための可動ステージと、ｂ）エンコーダグリッドおよびエンコーダグリッドに対する可動ステージの位置を測定するセンサヘッドと、ｂ）ｉ）セットポイント信号に応答してエンコーダグリッドに対して可動ステージを位置付けし、ｉｉ）センサヘッドによって測定されるような可動ステージの位置とセットポイント信号の差を表す信号を登録し、さらに、ｉｉｉ）この差を表す登録された信号に基づいてステージシステムを較正するコントローラと、を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
[0009]  これから本発明の実施形態が、添付の模式的な図面を参照して、ただ例としてだけ説明され、図面では、対応する参照符号は対応する部分を示している。
【００１０】
【図１】[0010]本発明の実施形態が実現されることがあるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0011]本発明の実施形態に従った、図１に示されたリソグラフィ装置のステージシステムを示す模式図である。
【図３】[0012]本発明の実施形態に従った、図１に示されたリソグラフィ装置のステージシステムを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
[0013]  図１は、本発明の一実施形態に従ったリソグラフィ装置を模式的に示す。本装置は、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射または任意の他の適切な放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように組み立てられ、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置付けするように構成された第１の位置決めデバイスＰＭに接続されたパターニングデバイスサポートまたは構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴを含む。本装置は、また、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように組み立てられ、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置付けするように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴすなわち「基板サポート」を含む。本装置は、さらに、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つまたは複数のチップを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１２】
[0014]  照明システムは、放射の誘導、整形、または制御を行うために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型または他の型の光学コンポーネント、またはそれらの任意の組合せなどの様々な型の光学コンポーネントを含むことがある。
【００１３】
[0015]  パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および、例えばパターニングデバイスが真空環境中に保持されるか否かなどの他の条件に依存したやり方で、パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポートは、機械技術、真空技術、静電技術または他のクランプ技術を使用して、パターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイスサポートは、例えばフレームまたはテーブルであってもよく、これは、必要に応じて固定されても、または可動であってもよい。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスが、例えば投影システムに対して所望の位置にあることを保証することができる。本明細書での「レチクル」または「マスク」という用語の使用はどれも、より一般的な用語「パターニングデバイス」と同義であると考えることができる。
【００１４】
[0016]  本明細書で使用される「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを作るためにパターンを放射ビームの断面に与えるように使用することができる任意のデバイスを意味するものとして、広く解釈されるべきである。留意すべきことであるが、放射ビームに与えられたパターンは、基板のターゲット部分の要求されたパターンに必ずしも対応していないことがある。例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、そうである。一般に、放射ビームに与えられたパターンは、集積回路などのターゲット部分に作られるデバイスの特定の機能層に対応する。
【００１５】
[0017]  パターニングデバイスは透過型または反射型であってもよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィではよく知られており、マスクには、バイナリ、レベンソン型（alternating）位相シフト、およびハーフトーン型（attenuated）位相シフトのようなマスクの型、並びに様々なハイブリッドマスクの型がある。プログラマブルミラーアレイの例は、小さなミラーのマトリックス配列を使用し、この小さなミラーの各々は、入射放射ビームを様々な方向に反射するように個々に傾けることができる。傾いたミラーが、ミラーマトリックスで反射された放射ビームにパターンを与える。
【００１６】
[0018]  本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射または、液浸用液体の使用または真空の使用のような他の要素に適切であるような、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型および静電型の光学システム、またはこれらの任意の組合せを含んだ投影システムの任意の型を含むものとして広く解釈されるべきである。本明細書での「投影レンズ」という用語の使用はどれも、より一般的な用語「投影システム」と同義であると考えることができる。
【００１７】
[0019]  ここで示すように、本装置は透過型である（例えば、透過マスクを使用する）。代わりに、本装置は反射型であってもよい（例えば、上で言及したような型のプログラマブルミラーアレイを使用するか、または反射マスクを使用する）。
【００１８】
[0020]  リソグラフィ装置は、２個（デュアルステージ）またはもっと多くの基板テーブルすなわち「基板サポート」（および／または２個またはもっと多くのマスクテーブルすなわち「マスクサポート」）を有する型であってもよい。そのような「マルチステージ」機械では、追加のテーブルすなわちサポートは並列に使用することができ、または、１つまたは複数のテーブルすなわちサポートが露光に使用されている間に、１つまた複数の他のテーブすなわちサポートで準備ステップを行うことができる。
【００１９】
[0021]  リソグラフィ装置は、また、投影システムと基板の間のスペースを満たすように比較的高屈折率の液体、例えば水で基板の少なくとも一部が覆われることがある型のものであってもよい。液浸用の液体は、リソグラフィ装置の他のスペース、例えばマスクと投影システムの間にも利用されてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を高めるために使用することができる。本明細書で使用されるような「液浸」という用語は、基板などの構造物が液体中に沈められなければならいことを意味するのではなく、それどころか、露光中に投影システムと基板の間に液体があることを意味するだけである。
【００２０】
[0022]  図１を参照して、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。放射源およびリソグラフィ装置は別個の実体であってもよい。例えば、放射源がエキシマレーザであるとき、そうである。そのような場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成していると考えられず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含んだビームデリバリシステムＢＤを使用して、放射源ＳＯからイルミネータＩＬに送られる。他の場合には、放射源は、リソグラフィ装置の一体化部分であることがある。例えば、放射源が水銀ランプであるとき、そうである。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要な場合にはビームデリバリシステムＢＤと一緒にして、放射システムと呼ばれることがある。
【００２１】
[0023]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するように構成されたアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（通常、σ−outer、σ−innerとそれぞれ呼ばれる）を調整することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの様々な他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使用して、断面内に所望の一様性および強度分布を持つように放射ビームを条件付けすることができる。
【００２２】
[0024]  放射ビームＢは、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴに保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射し、そしてパターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイスＭＡを通り抜けた放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、この投影システムＰＳは、ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃに集束させる。第２の位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば、干渉デバイス、リニアエンコーダ、または容量センサ）を使って、例えば放射ビームＢの経路の中に異なったターゲット部分Ｃを位置付けするように、基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭおよび他の位置センサ（図１にはっきり示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に取り出した後で、またはスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に位置付けすることができる。一般に、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を使って実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」の移動は、第２の位置決めデバイスＰＷの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパ（スキャナに対して）の場合には、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴは、ショートストローク用アクチュエータだけに接続されてもよく、または、固定されてもよい。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡと基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは専用のターゲット部分を占めるが、これらの専用ターゲット部分は、ターゲット部分とターゲット部分の間のスペースに位置付けすることができる（これらの専用ターゲット部分は、スクライブラインアライメントマークとして知られている）。同様に、２以上のチップがマスクＭＡに設けられた状況では、マスクアライメントマークはチップ間に位置付けされることがある。
【００２３】
[0025]  図示の装置は、下記のモードのうちの少なくとも１つで使用することができる。
[0026]  １．ステップモードでは、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴすなわち「マスクサポート」および基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」は基本的に静止状態に保たれるが、一方で、放射ビームに与えられた全パターンは一度にターゲット部分Ｃに投影される（すなわち、単一静的露光）。次に、異なるターゲット部分Ｃが露光されるように、基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」はＸ方向および／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
[0027]  ２．スキャンモードでは、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間に、パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴすなわち「マスクサポート」および基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」は同期してスキャンされる（すなわち、単一動的露光）。パターニングデバイスサポート（例えば、マスクテーブル）ＭＴすなわち「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」の速度および方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）および像反転特性によって決定されることがある。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光でのターゲット部分の（非スキャン方向の）幅が制限されるが、スキャン移動の長さによってターゲット部分の（スキャン方向の）縦幅が決定される。
[0028]  ３．他のモードでは、パターニングデバイス（例えば、マスクテーブル）ＭＴすなわち「マスクサポート」は、プログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に保たれ、そして基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」は、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間、動かされるか、スキャンされる。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、そしてプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」の各移動の後で、またはスキャン中に連続した放射パルスの間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したような型のプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することができる。
【００２４】
[0029]  上述の使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードを使用することもできる。
【００２５】
[0030]  図２は、１次元（１Ｄ）の状況でエンコーダ型センサヘッド２およびグリッド板３を含むエンコーダ型位置測定システム１を模式的に示す。グリッド板３は、１つまたは複数の１次元格子が形成されている可能性のある板である。また、２次元格子がグリッド板に形成されることがあり、このグリッド板は、１Ｄセンサ、２Ｄセンサ（水平＋水平、水平＋垂直）、または３Ｄセンサとも協働することができる。センサヘッド２は、センサ物体４、例えば、基板ステージまたはパターニングデバイスステージのようなステージに取り付けられている。基板ステージは、基板テーブルまたは基板サポートを移動させるように構成され、またパターニングデバイスステージは、パターニングデバイスサポートを移動させるように構成されている。位置測定システム１は、グリッド板に対するセンサ物体の位置を少なくとも１自由度で測定するように構成されている。
【００２６】
[0031]  グリッド板３の格子は、特定の精度で製造することができるだけである。従来のグリッド板の製造精度は、所望の測定精度を得るのに十分でないことがある。位置測定中に得られる精度を高めるために、グリッド板３は較正される。そのような較正は、いわゆるフィッシュボーン技術によって行われることがあり、フィッシュボーン技術では、グリッド板中の製作誤差のようなどんな擾乱でも測定するために、各較正位置５の周囲のある面積内でいくつかの較正測定が行われる。そのようなフィッシュボーン技術では２つの間隔の空いたマークの像が形成され、したがって２つのマークの像は再び食い違った状態で形成され、第１のマークの第１の像および第２のマークの第２の像が基本的に小さな固定距離だけ間隔を空けて配置されているはずである。これらの結像マークの位置を比較し、さらに結像マーク間の意図した小さな間隔と比較することによって、第１の露光位置と第２の露光位置の間のステージ位置測定のずれを決定することができる。
【００２７】
[0032]  較正データは、補正マップ、すなわちいわゆるメトロロジマップ（metrology map）の中に組み込まれることがあり、この補正マップは、擾乱を考慮に入れるように実際の測定中に使用される。
【００２８】
[0033]  しかし、較正位置の周囲にある面積が要求されるので、較正位置の密度は制限される可能性がある。例えば、０．１ｎｍの精度が要求されるとき、約１〜５ｍｍのグリッド間隔、すなわち隣接した較正位置間の距離が要求される。さらに、測定精度に対する要求が高まるにつれて、この較正グリッド間隔は、要求された精度を実際の位置測定中に得るためには十分でないことがある。例えば、実際の位置測定中に０．１ｎｍの精度を得るためには、同じグリッド板３を約０．４ｍｍのグリッド間隔で較正することが望ましい。したがって、高空間周波数のグリッド板の誤差、すなわち、フィッシュボーン較正位置間の距離に比べて短い空間周期性を持つグリッド板の誤差は、上述のフィッシュボーン較正技術によって完全には検出され考慮に入れない可能性がある。
【００２９】
[0034]  上記ではフィッシュボーン較正技術に言及したが、理解されることであろうが、どんな適切な較正技術でも利用されることがある。
【００３０】
[0035]  本発明の実施形態では、較正位置の密度をさらに高めることができるキャリブレーション方法が使用される。この実施形態によれば、いくつかの位置で、例えば２つの較正された位置５の間で、エンコーダ型センサヘッド２を用いて測定が行われ、それによって、センサ物体４は、グリッド板の上をある速度で指示方向（矢印Ａ）に移動する。この速度は、２つの較正された位置５の間の距離よりも小さな距離にわたって実質的に延びるグリッド板３の擾乱にセンサ物体４が追随できないか、ただ部分的にだけ追随できるように選ばれることがある。その結果として、較正データは、以下で説明されるように得られることがある。
【００３１】
[0036]  （位置）セットポイント信号ＳＥＴＰとセンサヘッド２のセンサ出力信号との差を供給されるコントローラＣＯＮを含む制御システムＣＳによって、センサ物体４は、制御される。コントローラＣＯＮの出力信号は、駆動信号としてアクチュエータＡＣＴに供給されて、グリッド板３に対してセンサ物体４を駆動し、それによって、閉ループ制御システムを実現する。
【００３２】
[0037]  図３に、２つの較正された位置５を含んだ図２のグリッド板３の一部が示されている。低空間周波数すなわち比較的大きな較正グリッド間隔だけを測定することができるキャリブレーション方法によって、較正された位置５は得られる。上で説明されたように、較正位置の数を増すことが望ましい可能性がある。センサ物体４がグリッド板３に対して移動するように制御されるとき、センサは、２つの較正された位置の間のいくつかの位置６で、グリッド板３に対するセンサヘッド２の位置を測定することができる。２つの較正された位置５の間の距離よりも小さな距離にわたって実質的に延びるグリッド板の擾乱に、センサ物体が実質的に追随することができないように、センサ物体の速度およびセンサ物体４の位置を制御するコントローラ８の帯域幅が選ばれる。比較的小さな空間距離（すなわち、高空間周波数）を有する擾乱にこのように追随できないことは、さらに、センサ物体の慣性によることがある。したがって、比較的重いパターニングデバイスステージまたは基板ステージは、センサ物体として適している可能性がある。その場合、コントローラは、（パターニングデバイスまたは基板）ステージコントローラで形成されてもよい。
【００３３】
[0038]  擾乱７（例えば、グリッドのパターンの不規則のようなもの）が１つまたは複数の較正位置６に存在するとき、センサヘッド２は、センサ物体がグリッド板３に沿って進む実際の位置に一致しない位置を測定する。というのは、センサ物体４のコントローラ８は、擾乱に追随するようにセンサ物体の位置を適合させることができない可能性があるからである。センサヘッド２によって与えられるような測定位置とセットポイント信号ＳＥＴＰによって与えられるような意図した位置との差を、コントローラＣＯＮの入力信号および／または出力信号などの制御システム中の適切な信号から得て、それによって、エンコーダ測定システムのセンサヘッドで測定されるようなステージの位置とセットポイント信号の差を表す信号を生成することができる。この差は、適切なメモリに登録することができるデータを与える。このようにして、センサ物体の移動に沿って複数の較正位置６について較正データが得られ、それを用いて、フィッシュボーン技術に比べて較正位置の密度を高める。
【００３４】
[0039]  対照的に、擾乱がもっと多くの較正位置５にわたって延びている場合には、制御システムのコントローラは、測定位置とコントローラセットポイントが同じであるようにセンサ物体の位置を適合させ、それによって差がなくなる。
【００３５】
[0040]  一実施形態では、センサ物体の速度は、最小でも、２つの隣接した較正された位置５の間の距離をコントローラの帯域幅に掛けたものであるように選ばれる。このようにして速度が決定されたとき、センサ物体は、グリッド板の擾乱に追随することが実質的にできない可能性がある。
【００３６】
[0041]  一般に、センサ物体の速度は、所望の較正位置６でセンサヘッド２が依然として位置を測定することができるようにしながら、できるだけ大きく選ばれる可能性がある。
【００３７】
[0042]  実際、ステージの制御ループの帯域幅は、例えば、２００Ｈｚであることがある。較正された位置５の間の距離を５ｍｍと想定すると、センサ物体の速度が１ｍ／秒であるとき、センサ物体４は５ｍｍよりも小さなどんな擾乱にも追随することができない可能性がある。センサのサンプル周波数が２０ｋＨｚであるとき、センサは、０．０５ｍｍごとに測定値を得ることができる。グリッドの不規則に追随するために、不規則の継続時間がコントローラによって制御されるセンサ物体の動的挙動に比べて短いようにステージのどんな可能な移動も少なくともある程度抑制されるように準備するために、ステージコントローラの帯域幅、したがってステージ制御システムの帯域幅は、較正されるべき不規則が感知される率（速度）に比べて小さいことがある。
【００３８】
[0043]  センサ物体の制御ループの帯域幅は調整可能であることがある。一実施形態では、この帯域幅を小さくして、２つの較正された位置間の距離よりも小さな距離にわたって実質的に延びるグリッド板の擾乱に追随するセンサ物体の能力を下げることができる。センサ物体の制御ループの帯域幅を小さくすることによって、センサ物体は、グリッド板の擾乱に追随する能力が低下することがある。このようにして、センサ物体の要求される速度を下げて、センサヘッド２の同じサンプル周波数を用いてより小さな較正グリッド間隔を可能にすることができる。実際、制御されるセンサ物体の応答が十分に小さくて、制御セットポイントと測定位置の間のずれが確実に測定グリッド誤差を適切に表すものになることを保証するために、帯域幅は、グリッド誤差に生じる最低周波数の少なくとも１０分の１に選ばれることがある。
【００３９】
[0044]  一実施形態では、本発明に従った方法の前に低空間周波数較正手順が行われ、その後で本方法が行われることがある。この低空間周波数キャリブレーション方法は、上で説明されたようなフィッシュボーンに似た方法、または任意の他の適切なキャリブレーション方法であってもよい。低空間周波数較正手順が行われた後で、隣接した較正位置間の間隔を本発明の実施形態に従った方法で較正することができる。実施形態で行われた低空間周波数較正手順および高空間周波数較正手順の較正データは、別々のメトロロジマップまたは共通のメトロロジマップに組み込まれることがある。次に、これらのマップは、通常動作での位置測定誤差を補償するために使用される。代わりに、低空間周波数較正手順は、本発明の実施形態に従った方法の後で行われる。その場合、一実施形態に従った方法は、また、高域通過または帯域通過フィルタ処理によって除去されるべきグリッド板の低周波誤差を記録する。
【００４０】
[0045]  測定におけるどんな雑音も考慮に入れるために、複数測定が行われることがあり、その測定結果が平均されることがある。センサ物体が同じ方向または他の方向にグリッド板に沿って進む間に、複数測定が行われることがある。一般に、気付かれることであるが、図２および３では較正移動は１つの方向で示されているだけであるが、本方法は、グリッド板全体に使用することができて、ｘおよびｙ方向の各位置について、グリッド板のｘ、ｙおよびｚ誤差の値を決定しメトロロジマップに格納することができる。
【００４１】
[0046]  本方法は、また、グリッド板の欠陥による擾乱を見出し補正するために使用されることがある。この利用では、例えば０．１ｍｍ以下のグリッド間隔を有する高密度較正グリッドを使用することが望ましい可能性がある。
【００４２】
[0047]  本発明の一実施形態に従ったキャリブレーション方法の利点は、リソグラフィ装置の位置測定システムによって本方法を行うことができることである（ステージシステム、ステージシステムを含むリソグラフィ装置がそれぞれ、例えば、本方法を行うために適切なプログラム命令でプログラムされる）。その結果として、グリッド板をリソグラフィ装置に取り付けた後で、グリッド板の較正を行うことができる。したがって、リソグラフィ装置にグリッド板を配置するときの損傷などのこの取付け時のグリッド板のどんな誤差も、較正時に考慮に入れることができる。
【００４３】
[0048]  さらに、リソグラフィ装置からグリッド板を取り出して別個の較正デバイスで較正する必要なしに、グリッド板を周期的に（再）較正することができる。塵粒子のような粒子がグリッド板に存在するようになることがあるだけでなく、熱的または機械的理由のためにグリッド板に誤差が存在するようになることがあるので、グリッド板を周期的に較正することは有益である可能性がある。グリッド板を周期的に再較正することによって、そのような変化を考慮に入れ、グリッド板メトロロジマップに格納することができる。塵粒子または任意の他の汚染による擾乱の場合には、測定情報は、洗浄処置のための入力としても使用されてもよい。
【００４４】
[0049]  上述の較正は、線に沿って行われることがある。また、例えば、面をスキャンし較正するために、複数の線を辿ることができる。さらに、２次元フィールドのデータが作られることがある。好ましくないグリッチの影響、すなわち較正されるべき空間周波数範囲外の誤差を除去するために、データに対して２次元フィルタが利用されることがある。このフィルタは（２次元の場合だけでなく１次元の場合も）、較正されるべき空間周波数範囲内の空間帯域幅を含むことがある。それによって、較正されるべきずれが存在する可能性のある帯域幅外の影響を除去するか、または少なくとも減少させて、較正プロセスに及ぼすそれの影響を少なくすることができる。
【００４５】
[0050]  したがって、例として、エンコーダグリッド板誤差を含む高周波マップを測定するとき、基板ステージは、グリッドマップに従って高速に動かされる。低コントローラ帯域幅を使用することによって、グリッドマップ中の高周波成分をステージが追跡することができなくなる。次に、セットポイントからのエンコーダ位置の測定されたずれは、グリッド板誤差によって生じたものと見なされる。Ｘ位置を変えながらＹ方向に何度もスキャンし、さらにＹ位置を変えながらＸ方向でスキャンすることによって、完全な誤差マップが作られる。図１に関連して上で説明されたように、Ｘ方向およびＹ方向は、ウェーハの表面に実質的に平行な面を定める。２Ｄフィルタ処理技術を使用することによって、約１から１０ｍｍの空間周波数だけが通過する。約１０ｍｍよりも長い波長および約１ｍｍよりも小さい波長は阻止される。最終結果は、これらの周波数だけを含むグリッド板の誤差マップである。
【００４６】
[0051]  低コントローラ帯域幅は、グリッド板の関連した周波数が確実に追跡されないようにする。しかし、低帯域幅は、ステージの遅い整定挙動などの様々な可能な擾乱要素に対する制御システムの敏感さの原因となることがある（実際の例では、帯域幅が２００Ｈｚから１０Ｈｚに減らされたとき整定誤差は１０ｎｍの代わりに１０μｍになる）。その上、ステージ移動の一定速度部分において整定が全く起こらないほどに、整定挙動が非常に遅くなるかもしれない。さらに、例えば、増幅器またはモータの特性、または反対方向スキャン間の差をもたらす可能性のあるショートストローク位置決めに影響を及ぼすステージのロングストロークモータのコギングの影響のため、正方向と負方向のスキャンが異なる結果を与える。要約すると、グリッド板誤差の正確な測定のために要求される低帯域幅のせいで、高帯域幅を使用すれば抑制される多数の新しい誤差が生じる。これらの影響は、完全な測定誤差マップを得た後で２Ｄ帯域通過フィルタ処理によって部分的にフィルタ処理されるが、おそらく、十分に正確なＨＦマップを作るのに必要なだけ十分にフィルタ処理されないことがある。リソグラフィ装置の動作中に（例えば、ウェーハの露光）、上述の現象は、制御システムの高サーボ制御帯域幅によって補償される。１つまたは複数の上述の影響を少なくとも減少させるのに役立つ可能性のある複数の可能な解決策が、以下で説明される。
【００４７】
[0052]  第１に、全２次元グリッド板を測定するとき、ＸおよびＹ方向にスキャンが行われる。Ｙ方向のスキャンは、多数のＸ位置で行われ、逆にＸ方向のスキャンは多数のＹ位置で行われる。低コントローラ帯域幅のために新しく生じた誤差は、全てのＹスキャンに対して再現する傾向がある。同様に、全てのＸスキャンに対して新しく生じた誤差は同じようである。対照的に、測定されるべきグリッド板誤差は、全てのＸスキャンおよび全てのＹスキャンに対して再現しない（もし再現すれば、それは非常に低い空間周波数を持ち、この低い空間周波数は「フィッシュボーン」技術によって以前に補償されている）。したがって、全てのＹスキャンを平均することによって、グリッド板によらないで低帯域に起因して生じたコントローラ誤差によって引き起こされた「共通」Ｙ誤差信号が結果として生じる。この平均誤差を全ての個々のＹスキャンから引くことによって、残った個々のスキャンはグリッド板誤差を含むだけであり、もはや制御誤差を含まない。同じ技術を全てのＸスキャンに使用することができる。したがって、ステージの移動を、ステージの異なる位置についてエンコーダグリッドに対して繰り返すことができ、ｃ）で登録された信号は平均信号曲線を得るために異なる位置について平均され、さらに、差を表す登録された信号から平均信号曲線が引かれ、この引き算の結果に基づいて較正が行われる。この技術は、実際のグリッドマップ誤差がグリッドに沿った方向で再現しないとき、有益である。さらに、登録された信号のピークを互いに比較することができ、可能な変動パラメータがこの比較から得られ、この変動パラメータが、差を表す登録された信号から引く前の平均信号曲線に利用される。それによって、ピークの緩やかな変動（傾斜のような）を考慮に入れることができる。
【００４８】
[0053]  第２に、ステージの移動のより速い整定を実現するために、ステージを一定速度に向けて加速するときコントローラの帯域幅を大きくし、移動の一定速度へのステージの整定に近づくや否やコントローラの帯域幅を小さくすることができる。コントローラ誤差の大部分は、一定速度に向かってのステージの加速中に生じる。この加速段階中に高帯域幅を設定することによって、誤差は小さいままである。一定速度に達した後で、帯域幅を減少させて、グリッド板誤差の測定を可能にすることができる。それによって、実際の例では、１０マイクロメートルの整定挙動が１０ナノメートルに減少される可能性がある。
【００４９】
[0054]  第３に、エンコーダグリッドに対するステージの複数の移動が行われることがあり、それらの複数の移動は、速度、方向、ステージ移動の開始位置、ステージのロングストロークモータの開始位置、および移動の向きのうちの少なくとも１つが互いに異なり、各移動の登録された信号が平均される。様々な速度でのスキャン（移動）に関しては、全てのスキャンが同じ速度で行われるわけではない。例えば、２つの速度を使用することによって、求められるグリッド板誤差は、時間領域では、２つの異なる周波数を有するセンサ信号の中に認められる。言い換えると、空間領域では、時間に関連したコントローラ誘起誤差（例えば、整定）は異なるが、一方で、グリッド板誤差は同じである。様々な開始位置でのスキャンに関しては、例えば、スキャン開始位置を僅かに変えることによって、時間に関連したコントローラ誘起誤差は空間マップの他の部分に見えるようになり、したがって、これら２つの区別を可能にする。様々なバランスマス位置に関しては、例えば、バランスマス位置をスキャンごとに変えることによって、コギングの影響（バランスマスに対するロングストロークモータの位置に依存する）を変化させることができる。異なるバランスマス位置でそれぞれ行われるスキャンを平均することで、較正に及ぼすコギングの影響を減少させることが可能になる。したがって、ロングストロークモータの可能性のある影響（例えば、コイルに対するモータの磁石の位置による）は、ロングストロークモータのそのような影響で生じるステージの位置誤差を区別することができるように、異なるスキャンに関してロングストロークモータの位置を変えることによって、見出すことができる。
【００５０】
[0055]  第４に、較正されるべき空間周波数範囲外の空間周波数範囲の誤差を学習するために、繰返し学習制御が応用されることがある。それによって、繰返し学習制御（ＩＬＣと略される）をスキャン（すなわち、移動）ごとに行って、誤差補正時間テーブルを繰り返し学習することができる。グリッド板の関心のある周波数がＩＬＣテーブルからフィルタ処理されるように、ＩＬＣテーブルがフィルタ処理されることがある。別な方法で、高空間周波数を有する誤差（較正によって除去されるべきである）は、また、補償される。
【００５１】
[0056]  第５に、デュアルステージリソグラフィ装置のステージを取り換えた後で、エンコーダグリッドに対するステージの移動が繰り返されることがある。それによって、これらの測定のステージに関連した差を他の影響と区別することができ、これによって、上で略述されたのと同様な方法で他の影響を小さくすることができる。
【００５２】
[0057]  第６に、移動は、一定速度移動部分および加速移動部分を含むことがあり、加速移動部分におけるステージの加速度はコントローラの帯域幅に比べて遅い。例えば滑らかな多項式加速プロファイルをステージの移動に利用することによって、加速段階中に測定も行われることがあり、これによって、グリッド板の端にいっそう接近して測定が始まるのでグリッド板のいっそう大きな部分を測定することができる。したがって、グリッド端の周囲のより小さな縁を考慮に入れる必要がある可能性がある。加速移動部分は、一定力の期間を含むことがある。一定でない増速によって複雑化が行われることがあり、この増速には、グリッドマップ誤差の空間誤差が結果的にセンサデータの一定でない周波数になるという影響がある。したがって、ある速度閾値を越えるや否や測定が有効になることがある。
【００５３】
[0058]  第７に、上述の較正手順をステージの同じ移動について繰り返すことによって、繰返し較正が行われることがある。実際の実施形態では、各スキャンは、例えば、２０〜３０回行われることがある。全てのスキャンが行われた後で、較正マップが計算され、更新されることがある。代わりに、較正マップがもっと少ない数のスキャン（例えば、５）に基づいて生成され、次に機械で更新され、再び測定するなどである。このようにして、全体でもっと多くのスキャンを必要としない繰返し手順が使用されるが、このプロセスの後の方の段階では、残りのグリッドマップ誤差は小さく、比較的再現可能なサーボ制御誤差を可能にする。各繰り返しにおいて、ことによると異なる２Ｄフィルタ処理が利用されることがあり、例えば、もっと大きな使用不可能な縁を犠牲にしてもっと正確なフィルタ処理を使用することがある。その上、全ての板は同じ原物を使用して作られるので、繰り返しの開始点は、「平均グリッド板」によって形成される。
【００５４】
[0059]  第８に、ステージの移動中に、ステージの加速度が加速度計によって測定されることがあり、これによって、測定された加速度から補正信号が得られ、この補正信号は、較正の前に、セットポイント信号とステージの位置の差を表す信号を補正するために利用される。したがって、例えば、ＸおよびＹ（および、ことによるとＲｚ）加速度を測定するために、ステージに加速度計が追加されることがあり、ステージの絶対位置値は、例えば、加速度計データを二重積分（ＨＦマップ周波数範囲で）することによって計算されて、グリッド板システムの測定データを比較する基準として使用されることがある。したがって、加速度計は、グリッド板センサのデータを比較するための独立位置センサとして作用する。
【００５５】
[0060]  第９に、ステージの移動中に、ステージの加速度が加速度計によって測定されることがあり、加速度フィードバックがコントローラに設けられることがあり、それによって、ステージに余分な（見掛けの）質量を与え、低帯域幅位置コントローラを上述のように維持しながらステージを力の擾乱に対して鈍感にする。
【００５６】
[0061]  第１０に、セットポイント信号とステージの位置の差を表す信号にコントローラの（帯域通過フィルタ処理された）逆制御感度が掛けられることがあり、掛け算の結果が較正に利用される。上で説明されたように、低ステージ制御帯域幅を使用して、ステージが関心のある周波数範囲内のグリッド板誤差に応答しないことを実現することができる。グリッド板誤差に対するステージ応答は、１／（１＋ＰＣ）に等しい。ここで、Ｐはステージのステージ伝達関数を表し、Ｃはコントローラのコントローラ伝達関数を表す。低帯域幅に関しては、より高い空間周波数範囲でＣはゼロになる傾向があり、したがって、ステージ誤差とグリッド板誤差の間に１対１の関係がある。制御感度を考慮に入れるとき、より大きなステージコントローラ帯域幅を使用することが可能であることがある。次に、ステージの応答を補償するために、測定されたセンサ出力に（１＋ＰＣ）が掛けられることがある。一般に、（１＋ＰＣ）は低周波数で無限大になる傾向があるので、そのような掛け算は困難である。しかし、関心のある周波数で適切である可能性があるが他の周波数ではゼロに近づく（１＋ＰＣ）の修正されたものが使用されてもよい。すなわち、（１＋ＰＣ）に帯域通過フィルタＢが掛けられる。
【００５７】
[0062]  上述の概念の各々が利用されることがあるが、上述の概念の２以上の組合せも利用されることがあり、それによって、各概念が、上で説明されたような効果をもたらすことができる。
【００５８】
[0063]  理解されることであろうが、本明細書で説明された較正技術並びにそれのさらに改善された全てのものは、センサヘッドで検出されるように任意の要求された自由度の較正に利用される可能性がある。センサヘッドは、エンコーダ型センサ、干渉計型センサ（例えば、センサヘッドからエンコーダグリッドの方へ距離を測定するための）、組み合されたエンコーダ／干渉計、その他などのどんな適切なセンサも含むことができる。
【００５９】
[0064]  この明細書では、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及することがあるが、本明細書で説明されたリソグラフィ装置には、集積光システム、磁気ドメイン・メモリの誘導および検出パターン、フラットパネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、その他の製造などの他の用途がある可能性があることは理解すべきである。当業者は理解することであろうが、そのような他の用途の文脈では、本明細書での用語「ウェーハ」または「チップ」の使用はどれも、より一般的な用語「基板」または「ターゲット部分」とそれぞれ同義であると考えることができる。本明細書で参照される基板は、例えばトラック（一般にレジスト層を基板に塗布し、さらに露光されたレジストを現像するツール）、測定ツール、および／または検査ツールで、露光前または後に処理されることがある。応用可能な場合、本明細書の開示は、そのようなおよび他の基板処理ツールに利用されることがある。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを作るために一度より多く処理されることがあるので、本明細書で使用される基板という用語は、複数の処理された層をすでに含む基板も意味することができる。
【００６０】
[0065]  光リソグラフィの文脈で本発明の実施形態の使用について特に言及された可能性があるが、理解されることであろうが、本発明は他の用途、例えばインプリントリソグラフィで使用されてもよく、文脈が許す場合、光リソグラフィに限定されない。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが、基板に作られるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィが、基板に供給されたレジスト層の中に押し込まれることがあり、それから、電磁放射、熱、圧力またはこれらの組合せを加えることによってレジストが硬化される。パターニングデバイスは、レジストから外に移動され、レジストが硬化された後でレジストにパターンが残る。
【００６１】
[0066]  本明細書で使用される用語「放射」および「ビーム」は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、約３６５、２４８、１９３、１５７若しくは１２６ｎｍ又はそれら辺りの波長を有する）および極端紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを含んだ、全ての種類の電磁放射を包含する。
【００６２】
[0067]  用語「レンズ」は、文脈が許す場合、屈折、反射、磁気、電磁および静電光学コンポーネントを含んだ様々な種類の光学コンポーネントのどれか１つまたは組合せを意味することができる。
【００６３】
[0068]  本発明の特定の実施形態を上で説明したが、理解されることであろうが、本発明は説明されたのと違ったやり方で実施される可能性がある。例えば、本発明は、先に開示されたような方法を記述する機械読取可能命令の１つまたは複数のシーケンスを含んだコンピュータ・プログラム、またはそのようなコンピュータ・プログラムが記憶されたデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気ディスクまたは光ディスク）の形を取ることがある。
【００６４】
[0069]  上述の説明は、例示であり制限しない意図である。したがって、当業者には明らかなことであろうが、以下で明らかにされる特許請求の範囲の範囲から逸脱することなしに、説明されたような本発明に修正が加えられることがある。
【図１】
0005065313.tif 000002
【図２】
0005065313.tif 000003
【図３】
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