(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アモルファス状態および結晶状態のうち少なくとも一方を有し、該状態間の転移は放射の入射によって発生する相変化材料を含む記録媒体を初期化するシステムであって、
放射ソースと、
該放射ソースからの放射を、第１の寸法および第２の寸法を有する所定の領域上の実質的に均一な放射フィールドに変換するように構成された光トンネルであって、該第１の寸法は、少なくとも該記録媒体の相変化材料の幅と同じくらい大きい、光トンネルと、
該均一な放射フィールドのパワーを制御して、材料の亀裂を招くことなく該相変化材料を該結晶状態に変換させるのに十分な表面パワー密度と露光継続時間とを得る手段と、
を備える、システム。
【請求項２】
前記放射ソースのパワー密度は６００ｍJ／ｃｍ2であり、前記放射ソースのフラッシュの持続時間は１ミリ秒以下である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
アモルファス状態および結晶状態のうち少なくとも一方を有し、該状態間の転移は放射の入射によって発生する相変化材料を含む記録媒体を初期化するシステムであって、
放射ソースと、
該放射ソースからの放射を、第１の寸法および第２の寸法を有する所定の領域上の実質的に均一な放射フィールドに変換するように構成された、少なくとも１つの固体光ガイドであって、該第１の寸法は、少なくとも該記録媒体の相変化材料の幅と同じくらい大きく、前記固体光ガイドは、ガラススラブまたはガラスファイバーである、固体光ガイドと、
該均一な放射フィールドのパワーを制御して、材料の亀裂を招くことなく該相変化材料を該結晶状態に変換させるのに十分な表面パワー密度と露光継続時間とを得る手段と、
を備える、システム。
【請求項４】
アモルファス状態および結晶状態のうち少なくとも一方を有し、該状態間の転移は放射の入射によって発生する相変化材料を含む記録媒体を初期化するシステムであって、
放射ソースと、
該放射ソースからの放射を、第１の寸法および第２の寸法を有する所定の領域上の実質的に均一な放射フィールドに変換するように構成された少なくとも１つの積分球であって、該第１の寸法は、少なくとも該記録媒体の相変化材料の幅と同じくらい大きい、積分球と、
該均一な放射フィールドのパワーを制御して、材料の亀裂を招くことなく該相変化材料を該結晶状態に変換させるのに十分な表面パワー密度と露光継続時間とを得る手段と、
を備える、システム。
【請求項５】
前記パワーを制御する手段は、前記放射ソースによって提供される放射の継続時間を調節する手段を備える、請求項１ないし４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
前記パワーを制御する手段は、前記放射ソースによって提供される放射の強度を調節する手段を備える、請求項１ないし５のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
前記均一な放射フィールドを選択的に通過させて前記記録媒体の相変化材料上のパターンを記録させるためのマスクであって、前記放射ソースと該記録媒体との間に配置されるマスクをさらに備える、請求項１ないし６のいずれかに記載のシステム。
【請求項８】
前記パターンはタイミング情報を含む、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記パターンはセキュリティ情報を含む、請求項７に記載のシステム。
【請求項１０】
前記パターンはデータ情報を含む、請求項７に記載のシステム。
【請求項１１】
前記マスクは空間光変調器をさらに備える、請求項７に記載のシステム。
【請求項１２】
前記空間光変調器は液晶デバイスおよびコントローラを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
アモルファス状態および結晶状態のうち少なくとも１つを有し、該状態間の転移は放射の入射によって発生する相変化材料を含む記録媒体の連続ウェブをフォーマットするためのシステムであって、
放射ソースと、
該放射ソースからの放射を、第１の寸法および第２の寸法を有する所定の領域上の実質的に均一な放射フィールドに変換するように構成された光トンネルと、
該記録媒体の連続ウェブを移動させる手段と、
該均一な放射フィールドのパワーを制御して、材料の亀裂を招くことなく該相変化材料を該結晶状態に変換させるのに十分な表面パワー密度と露光継続時間とを得る手段と、
を備える、システム。
【請求項１４】
前記放射ソースのパワー密度は６００ｍJ／ｃｍ2であり、前記放射ソースのフラッシュの持続時間は１ミリ秒以下である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
アモルファス状態および結晶状態のうち少なくとも１つを有し、該状態間の転移は放射の入射によって発生する相変化材料を含む記録媒体の連続ウェブをフォーマットするためのシステムであって、
放射ソースと、
該放射ソースからの放射を、第１の寸法および第２の寸法を有する所定の領域上の実質的に均一な放射フィールドに変換するように構成された少なくとも１つの固体光ガイドであって、前記固体光ガイドはガラススラブまたはガラスファイバーである、固体光ガイドと、
該記録媒体の連続ウェブを移動させる手段と、
該均一な放射フィールドのパワーを制御して、材料の亀裂を招くことなく該相変化材料を該結晶状態に変換させるのに十分な表面パワー密度と露光継続時間とを得る手段と、
を備える、システム。
【請求項１６】
アモルファス状態および結晶状態のうち少なくとも１つを有し、該状態間の転移は放射の入射によって発生する相変化材料を含む記録媒体の連続ウェブをフォーマットするためのシステムであって、
放射ソースと、
該放射ソースからの放射を、第１の寸法および第２の寸法を有する所定の領域上の実質的に均一な放射フィールドに変換するように構成された少なくとも１つの積分球と、
該記録媒体の連続ウェブを移動させる手段と、
該均一な放射フィールドのパワーを制御して、材料の亀裂を招くことなく該相変化材料を該結晶状態に変換させるのに十分な表面パワー密度と露光継続時間とを得る手段と、
を備える、システム。
【請求項１７】
前記パワーを制御する手段は、前記放射ソースによって提供される放射の継続時間を調節する手段を備える、請求項１３、１５、１６のいずれかに記載のシステム。
【請求項１８】
前記パワーを制御する手段は、前記放射ソースによって提供される放射の強度を調節する手段を備える、請求項１３、１５〜１７のいずれかに記載のシステム。
【請求項１９】
前記連続ウェブ上の記録媒体の位置を検出する手段と、
該記録媒体の露光を同期化するための制御手段と、
をさらに備える、請求項１３、１５〜１８のいずれかに記載のシステム。
【請求項２０】
前記連続ウェブ上の記録媒体の位置を検出する手段と、
該記録媒体の露光を同期化するための制御手段と、
をさらに備える、
前記放射ソースは、複数の放射ソースを備え、
前記光トンネルは複数の光トンネルを備え、
前記露光を制御するシーケンシング手段は、前記複数の放射ソースと前記複数の光トンネルを制御する、
請求項１３に記載のシステム。
【請求項２１】
前記放射ソースは連続放射ソースである、請求項１３、１５〜２０のいずれかに記載のシステム。
【請求項２２】
前記連続ウェブの動きを検出する手段と、
該連続ウェブの速度を制御する制御手段と、
をさらに備える、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
相変化材料を含む記録媒体を初期化する方法であって、
該記録媒体を入手する工程であって、該相変化材料はアモルファス状態である、工程と、
放射ソースを提供する工程と、
該放射ソースからの放射を、光トンネルを介して、実質的に均一なフィールド照射に変換する工程と、
放射が入射する表面のエネルギーの移動が、相変化材料の亀裂を招くことなくアモルファス状態から結晶状態になる該記録媒体の記録表面における相変化を引き起こすのに十分であるように、該相変化材料を該均一なフィールド照射で放射する工程と、
を包含する、方法。
【請求項２４】
相変化材料を含む記録媒体を初期化する方法であって、
該記録媒体を入手する工程であって、該相変化材料はアモルファス状態である、工程と、
放射ソースを提供する工程と、
該放射ソースからの放射を、少なくとも１つの固体光ガイドを介して、実質的に均一なフィールド照射に変換する工程と、
放射が入射する表面のエネルギーの移動が、相変化材料の亀裂を招くことなくアモルファス状態から結晶状態になる該記録媒体の記録表面における相変化を引き起こすのに十分であるように、該相変化材料を該均一なフィールド照射で放射する工程と、
を包含する、方法。
【請求項２５】
相変化材料を含む記録媒体を初期化する方法であって、
該記録媒体を入手する工程であって、該相変化材料はアモルファス状態である、工程と、
放射ソースを提供する工程と、
該放射ソースからの放射を、少なくとも１つの積分球を介して、実質的に均一なフィールド照射に変換する工程と、
放射が入射する表面のエネルギーの移動が、相変化材料の亀裂を招くことなくアモルファス状態から結晶状態になる該記録媒体の記録表面における相変化を引き起こすのに十分であるように、該相変化材料を該均一なフィールド照射で放射する工程と、
を包含する、方法。
【請求項２６】
前記記録媒体をマスキングする工程をさらに包含する、請求項２３ないし２５のいずれかに記載の方法。
【請求項２７】
前記相変化材料は連続ウェブ形式で提供される、請求項２３または２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
前記放射ソースは、前記ウェブの活性領域全体を被覆するように配置された複数の放射ソースをさらに備える、請求項２３または２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
複数の均一なフィールド照射を同期化させる工程をさらに包含する、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記放射ソースは連続放射ソースをさらに備える、請求項２３ないし２９のいずれかに記載の方法。
【請求項３１】
前記放射ソースは前記連続ウェブの上方に配置される、請求項２７に記載の方法。
【請求項３２】
前記放射ソースは、前記連続ウェブと光学的に連絡する透明なドラム内に配置される、請求項２７に記載の方法。
【請求項３３】
相変化材料を含む記録媒体をフォーマットする方法であって、
該記録媒体を入手する工程であって、該相変化材料はアモルファス状態である、工程と、
放射ソースを提供する工程と、
該放射ソースからの放射を実質的に均一なフィールド照射に変換する工程と、
該相変化材料を該均一なフィールド照射で少なくとも１回放射して、放射が入射する表面のエネルギーの移動が、該記録媒体の記録表面を部分的にアモルファス状態から結晶状態に相変化させるのに十分になるようにする工程と、
最後に、放射が入射する表面のエネルギーの移動が、アモルファス状態から結晶状態になる該記録媒体の記録表面における相変化を引き起こすくらいに十分であるように、該相変化材料を広範囲の該フィールド照射で放射する工程と、
を包含する、方法。
【請求項３４】
前記連続ウェブの動きを検出する工程と、
該連続ウェブの速度を制御する工程と、
をさらに包含する、請求項２７に記載の方法。
【請求項３５】
前記パワーを制御する手段は、前記放射ソースによって提供される放射の継続時間を調節する手段を備える、請求項１４に記載のシステム。
【請求項３６】
前記パワーを制御する手段は、前記放射ソースによって提供される放射の強度を調節する手段を備える、請求項１４に記載のシステム。
【請求項３７】
前記連続ウェブ上の記録媒体の位置を検出する手段と、
該記録媒体の露光を同期化するための制御手段と、
をさらに備える、請求項１４に記載のシステム。
【請求項３８】
前記連続ウェブ上の記録媒体の位置を検出する手段と、
該記録媒体の露光を同期化するための制御手段と、
をさらに備える、
前記放射ソースは、複数の放射ソースを備え、
前記光トンネルは複数の光トンネルを備え、
前記露光を制御するシーケンシング手段は、前記複数の放射ソースと前記複数の光トンネルを制御する、
請求項１４に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の技術分野）
本発明は、一般に、光学式記録の分野に関し、特に、相変化記録媒体を初期化およびフォーマットするシステムおよび方法に関する。
【０００２】
（発明の背景）
光学式で記録可能な相変化材料の使用は当該分野において公知である。例えば、Ｏｖｓｈｉｎｓｋｙに対して付与された米国特許第３，５３０，４４１号は、基板上に配置された半導体材料を記載する。半導体材料の別々の部分に放射エネルギーを提供し、物理的特性を変化させることによってデータが記録され、表面反射率等、材料の物理的特性における差異を検知することによってデータが読出される。ＴｅxＳｂyＧｅz（テルルアンチモンゲルマニウム）（「ＴＡＧ」）等の相変化材料は、記憶媒体の活性層として用いられ得る。情報は、結晶ＴＡＧ記録層においてアモルファスビットを可逆的に形成することによって記録される。Ｔｅ−Ｓｎ−Ｇｅ等の他のカルコゲン合金も相変化材料として用いられ得る。この材料上にデータが記録され得る前に、データは反射率がより高い結晶相ｃに初期設定される必要がある。記録層は、最初はアモルファスであり、熱処理によって選択的に結晶層に変移され得る。記録層を加熱するエネルギーは、業界標準の初期化デバイスにおいてレーザビームによって提供される。ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等の低い複屈折を有する材料は、通常、記録媒体の保護層および基板として用いられ、この際、光はその基板を通って伝送される。他方、近接場光学式記録（ｎｅａｒｆｉｅｌｄ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ）の出現は、記録層をこの基板の上部に配置し、極めて薄い保護層が付与される。
【０００３】
相変化材料を結晶構造に変移する直径０．３５ミクロンのスポットを有する１ｍｗ〜５ｍｗのレーザの初期化時間は約５０〜３００ナノセカンドである。記録媒体全体を初期化する時間は、最初のアモルファス材料を結晶相に変移するために必要とされる時間である。強力レーザを放射ソースとして用いたとしても、初期化時間は比較的長くかかり得る。例えば、ＴＡＧ合金からなるＣＤ−ＲＷディスク記録媒体全体における相変化材料を結晶化する初期化時間は約１５秒のオーダーであり得る。
【０００４】
回転素子の線速度は、例えば、音声情報、画像情報またはデータ情報等の記録された情報のタイプに依存する。例えば、典型的な線速度は１〜２０ｍ／秒である。データ記録プロセス中、通常、レーザソースから発せられる放射に露光することによって結晶記録材料は融解温度よりも上に加熱される。これは、局所化された融解領域を生成し、この領域は非常に急速に冷えるので結晶化は起こらず、局所化されたアモルファス情報領域が形成される。記録レーザビームのパルス時間が約２０〜１００ｎｓのオーダーである場合、局所化されたアモルファス情報領域は、少なくとも１マイクロメータ以上の小さい直径寸法を有するので、高い情報密度が取得される。
【０００５】
消去プロセスにおいて、アモルファス情報領域は消去スポットを含む放射に露光され、アモルファス領域は、この放射によって結晶相における材料の融解点よりもわずかに低いが、ガラス転移温度よりも高い温度に加熱される。アモルファス領域はそれほど粘性にはならず、熱力学的により安定した結晶状態に戻る。その領域における結晶化を完成するために、材料は上昇した温度で、最小の期間（消去時間）の間保持されることが必要である。
【０００６】
公知の初期化方法によって時間が消費されるというさらなる問題は、各個別ディスクが装置に取付けられ、所定の速度にされ、１トラックごとに初期化され、回転速度が落とされ、取外されることを必要とすることである。このプロセスは、さらなる手扱い時間を消費する。初期化プロセスは、ＣＤディスク全体を初期化する連続レーザパワーの必要性をさらに要求する。必要とされる時間に加えて、記録媒体を初期化する際の別の問題は、初期化が一様でなく、相変化材料層に亀裂が入るか、または他の破壊が生じることである。
【０００７】
既存の技術の限界は、層変化記録媒体をより確実に、効率的に、そしてより大きい柔軟性を有して、大量生産および初期化するシステムおよび方法の必要性を際立たせる。当該分野が関連する初期化技術を有する記録媒体の多様性を記載する一方で、現在利用可能な初期化デバイスには存在しない利点および能力を提示する改良が行なわれる必要性が残る。本発明の主要な目的は、そのような改良を提供することである。
【０００８】
（発明の要旨）
本発明の１つの目的は、相変化記録媒体が初期化され得るスピードにおける改良である。さらなる目的は、回転ディスクの各トラックを初期化する必要なしに、一回の露光で媒体を初期化することによって、初期化プロセスにおける個々のディスクの処理時間を最小化することである。別の目的は、媒体に対するエネルギー露光時間および強度を制限し、クラッキングの形態で有害な表面を形成し得る、初期化後の余剰エネルギーをなくすことである。他の目的は、より高い均一性、つまりテープを含むウェブ処理媒体との互換性を得ること、およびデータまたは暗号化に関して、媒体の予備的処理を行う能力を提供することを含むが、これに限定されない。最後に、本発明の目的は、連続的に露光される初期化ではなく、全フィールドの光学的初期化を提供することである。
【０００９】
本発明は、少なくともアモルファス状態および結晶状態を有する相変化材料を含む記録媒体を初期化するシステムである。その２つ状態の間で行われる転移は、放射の入射（ｉｎｃｉｄｅｎｔ  ｒａｄｉａｔｉｏｎ）によってもたらされる。放射は、白光ソース、フラッシュランプ、または波長λのコヒーレント放射から生成され得る。本発明の別の目的は、個々のディスクの拡張処理を回避することによる従来の手段よりも、より迅速に相変化記録媒体を初期化する方法を提供することである。本発明のさらなる目的は、相変化層をクラックするか、または破壊することなしに、均一に相変化材料を初期化することである。
【００１０】
本発明によると、前述の目的は、フラッシュランプ、白光ソース、または１つ以上の波長のコヒーレント放射の組み合わせからの放射を使用し、相変化材料を含む記録媒体の寸法をカバーする所定のエリアにわたって、放射の実質的に均一なフィールドにその放射を変換し、その放射の均一フィールドのパワーを制御して、相変化材料をクラックまたは破壊することなしに結晶状態に変換するのに十分な表面パワー密度および露光持続時間を生じる、システムを用いて達成される。
【００１１】
これらの目的は、１回を上回る露光において大きい範囲の記録表面を初期化する方法を用いる本発明によって、さらに達成される。さらなる目的は、基板に付与される相変化材料の連続ウェブ上で、相変化記録媒体を初期化することができるということである。本発明のさらに別の目的は、初期化時に媒体に関する情報を記録できるということである。さらに別の目的は、完全な初期化が達成されないように媒体を露光し、媒体は別の露光で完全に初期化するように引き続き発展され得るか、もしくは媒体ドライブでのより小さいマークの書き込みを促進し得る、結晶化性質サイトを用いて、シード（ｓｅｅｄ）されることである。本発明のその他の特徴は、図面とともに以下の詳細な記載を読むと、すぐに明確になる。
【００１２】
（好適な実施形態の説明）
本発明の構造および動作は、他の目的および利点と共に、各部分を通して、個別の参考数字が使われている図面に関連して、以下に述べる詳細な記載を読むことで最も理解され得る。
【００１３】
図１は、保護層１１、第１誘導体層１２、アクティブ材料層１３、第２誘導体層１４、反射層１５、および基板層１６を有する、典型的な記録媒体１０の断面図を示す。本発明による初期化システムは、特定の記録技術、または記録媒体の特定の構成に限定されない。記録媒体はより少ない、または多い層を含み得る。活性層１３は「追記型」材料、読み出し専用材料、または書き込まれたデータを「消去」し得る材料（すなわち、書き換え可能材料）を含み得る。例えば、活性層１３は、磁気−光学（ＭＯ）材料または相変化材料のような従来の光記憶媒体で使用される、光学活性な材料の任意のものを含み得る。当業者によって理解され得るように、本発明による、外部放射で加熱されることによって初期化される、さらなる光学活性材料は、フォトレジスト、光屈折ポリマーまたは結晶、フォトポリマー、カルコゲナイドガラスおよび化合物、写真用ハロゲン化銀または他のエマルジョン、蛍光性活性材料を含む。光屈折材料の実例は、ＬｉＮｂＯ3およびＢａＴｉＯ3を含む。相変化材料の実例は、ＴｅxＳｂyＧｅzまたはＴｅxＳｂyＧｅzＳｅwなどの消去可能合金である。相変化材料が本発明によって初期化される場合、結晶構造（立方構造および六方晶系）構造の混合が形成される。スポットサイズ範囲における多層情報を含むことが可能な、さらなるグレースケール材料が、本発明によるシステムを使って初期化され得る。
【００１４】
図２では、相変化材料を含む、光記録媒体１０を初期化する従来のシステムの、一般化された線図が示される。動作では、レーザ２０などの放射ソースが、対物レンズ２２とともに使用され、５０ｎｓｅｃ〜３００ｎｓｅｃまたはそれ以上の持続時間で、媒体１０の表面１３の局所部分を照射し、アモルファスと結晶状態との間で相変化材料の構造を変更する。消去は、概して、１．７ミリワットから３．６ミリワットのパワーレベルを付与することによって達成され、書き込みは、直径０．３５ミクロンの範囲で、少なくとも５ミリワットのパワーレベルを付与することによって達成される。
【００１５】
図３では、本発明による、光記録媒体１０を初期化するシステム３０を示す。システム３０は、好適な実施形態におけるフラッシュランプのような放射ソース３１、３５０ナノメータ〜９８０ナノメータからの波長範囲の放出放射３３（ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｒａｄｉａｔｉｏｎ）、放射３３を均一なフィールドの照明３５に変換する光学システム４０、および媒体１０の照明３５の持続時間および強度を制御する制御するシステム５０を含む。フラッシュランプの正しいパルス長は媒体の適切な初期化にとって非常に重要である。好適な実施形態においては、フラッシュランプパルス長は、約１ミリ秒以下である。代替の実施形態において、連続放射ソースは、その放射ソースを通過して媒体を伝送し、それによって、再び媒体が放射に露光される時間を制御および制限することによって、使用され得る。本発明は、特定のソースのエネルギーに制限されず、唯一の必要条件は、媒体上に入射する放射が、相変化材料をクラックまたは破壊することなく、相変化をもたらし得ることである。
【００１６】
（初期化の間に記録される情報）
初期化の間に記録媒体上に情報を記録することが可能である。例えば、サーボトラック情報を含むマスクを使用し、マスクされた媒体を照射することにより、サーボトラックが光学媒体内に記録され得る。あるいは、図３に示すように、光学システム４０と媒体１０との間に空間光変調器６０を配置して、媒体１０上に所望のパターンをインプリントし得る。別の実施形態において、光学システム４０と媒体１０と間に固定近位マスク（図示せず）を配置して、媒体１０上に所望のパターンをインプリントし得る。媒体１０上にインプリントされるパターンは、タイミング情報、データ、およびセキュリティ情報を、個別に、または、組み合わせて含み得る。さらに別の実施形態において（図示せず）、このマスクは、光トンネルの端面上に配置され得、リレー光学素子が、増幅されるかされないかに関わりなくマスクのイメージを媒体上へと投影する。
【００１７】
（初期化）
ここで図４を参照すると、光学記録媒体１０の初期化が、放射ソース３１に材料を露光することにより達成される。均一光フィールドの生成は、いくつかの方法によって達成され得る。好適な実施形態において、放射ソースはフラッシュランプであり、放射は光トンネルを使用することにより均一フィールドへと変換される。同一所有者の１９８３年１１月１５日に発行された「Ｄｅｖｉｃｅ  ｆｏｒ  Ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｎｇ  Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｃｉｅｓ」という名称のＧｕｅｒｒａによる米国特許第４，４１５，９５８号は、光学トンネルを使用して均一で大きな領域の光を生成する方法を開示する。本明細書中、特許第４，４１５，９５８号を参考として援用する。均一フィールドを生成する他の方法は、以下を含む。
【００１８】
（１）有限の開口数のソースのためにのみ適切なガラススラブまたはガラスファイバーなどの固体光ガイド（ｓｏｌｉｄ  ｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅ）と、
（２）フィルム面である直径５”の出口ポートを有するのに十分な大きさに設計される必要のある積分球とを含む。なぜならば、ランバートソースである出口ポートは、適度な効率によって別の面に再び投影されることが困難であるからである。
【００１９】
図４は、好適な実施形態における光トンネル４０を示す。好適な実施形態における典型的なパワー密度は６００ｍJ／ｃｍ2であり、フラッシュの持続時間は１ミリ秒以下である。初期化プロセスは、単一の露光によって、最初のアモルファス状態から結晶状態へと相変化材料を変化させる。パワー密度とフラッシュの持続時間とに関するパラメータのウィンドウで、相変化材料をクラッキングさせたり、または破壊することなく、相変化材料を完全に初期化するものは小さい。相変化材料を初期化するために使用するエネルギーは、フラッシュランプに供給される電圧と、フラッシュランプに電力を与えるパルスの持続時間とを調整することにより制御され得る。相変化材料を初期化するために使用するエネルギーはまた、光学手段（例えば、光トンネルから離れたところにソースを配置する）によって、または、光学フィルタを追加することにより制御され得る。
【００２０】
（複数工程の初期化）
初期化に関して行われた実験は、記録媒体および相変化材料が、複数のパスおよび単一の露光によって初期化され得ることを示す。他の実施形態において、連続的パスのそれぞれに供給されるパワーは、流束量が少なくとも０．５Ｊ／ｃｍ2の場合に累積的な効果を有するように見える。これは、単一の露光に必要とされるパワーと放射ソースのパワーパワーとを減少させることによるクラッキングの可能性をさらに減少させる方法であり得ると思われる。複数パスの初期化は、低パワーの放射ソースと、対応する低容量の電ソースとを必要とする。この他の方法はさらなる工程を含み、初期化パスはそのうち分類され得る。複数のフラッシュ初期化の別の予想外の利点は、得られる結晶構造が引き続いて起こるより小さなスポットの読取りおよび書込みを支援することである。第１のフラッシュ露光は、媒体を完全に初期化するのに不十分であるが、非常に小さな結晶化の種を形成することにより、結晶化の潜在的な性質（ｐｒｅｄｉｓｐｏｓｉｔｉｏｎ）を生成し得る。これによって、引き続いて起こるフラッシュ（単数または複数）が、これらの種を結晶化／初期化状態へと完全に発展させることが可能になる。従って、性質相において初期化プロセスを停止して、ドライブ内のレーザがこれらの種サイト（ｓｅｅｄ  ｓｉｔｅｓ）を露光することを可能にし、結果として、完全に初期化された媒体においてより、さらに制限された方法で種の周りに結晶化マークが現れる（すなわち、より小さなマークは、より大きなレーザスポットによって書かれる）ことは、いくつかの媒体生成物にとって有利であり得る。
【００２１】
（コンピュータ周辺機器）
別の実施形態（図示せず）において、放射ソースは、光学ＣＤ読取り／書込みデバイス内に取り付けられ得、制限されたデューティサイクルの読取り／書込みレーザおよび電ソースを用いて各トラックを消去するのではなく、単一の露光または複数の露光によってＣＤ全体を消去するために使用され得る。
【００２２】
（ウェブ生成）
記録媒体は、連続ウェブとして生成され得、かつ、ディスクフォーマットへと加工され得る。Ｒ／Ｗ媒体をウェブ上で製造する１つのプロセスは、下記の工程を含む。
【００２３】
マイラーウェブの構成、コーティング、原型のエンボス加工、高インデックス誘電性レンズのためのチャンバコーティング、相変化材料の堆積、相変化材料の初期化、
最終的な初期化媒体のダイカット。
移動性ウェブ上の記録媒体を初期化するために、各記録媒体を取り囲む大きな領域の相変化材料を同時に露光する必要があり、記録媒体の任意の部分が二重露光されることを防ぐ必要がある。ここで図５を参照すると、ウェブフォーマットの相変化材料１００は、連続ウェブ２００上で処理される。このシステムは、ウェブの位置を検出して、露光されるべき領域を制御するためのセンサ２２０を含む。初期化されるべき媒体の位置は、機械的に検出され得るか（２２０）、または、視覚システム（図示せず）を使用することにより検出され得る。位置情報を用いて、記録媒体の露光を同期させる。相変化材料は、単一のソース３１および光トンネル４０によって露光され得るか、または、重複構成においてより小さな電ソースとより小さなフィールドとを利用するために別のソース３１’および光トンネル４０’が使用され得る。図６に示すように、いくつかのソースを使用して、ウェブフォーマットの相変化材料１００が露光され得る。
【００２４】
（連続照射）
他の実施形態において、連続照射（図示せず）が提供され、この連続照射はウェブの領域に向けられ、ウェブフォーマットの媒体は、相変化材料を初期化する媒体の所望のパワー密度および持続時間を生成するのに十分な速度で、照射ソースを越えて移動する。このシステムは、センサ２３０とウェブの可変速度制御２４０とを有し、相変化材料によって吸収されるエネルギーを調整する。連続照射ソースは、連続ウェブの上に配置され得るか、または、その周りを連続ウェブが通過する透明ドラム２５０内に配置され得る。
【００２５】
本発明は、特定の実施形態を参照して説明されたが、本発明が、本明細書中で開示され、および／または、図面に示す特定の構成および方法に決して限定されず、本明細書の特許請求の範囲内の任意の改変または均等物も含むことが理解される。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、本発明によって初期化され得る相変化材料を含む記録媒体の断面図である。
【図２】  図２は、従来のディスク初期化システムの線図である。
【図３】  図３は、本発明による、ディスク初期化システムの線図である。
【図４】  図４は、本発明による、ディスク初期化システムの平面図である。
【図５】  図５は、本発明による、連続生成ウェブ上の相変化材料の初期化の側面図である。
【図６】  図６は、本発明による、連続生成ウェブ上の相変化材料の初期化の平面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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