(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、前記放電空間で隔壁により区画された複数の放電セルと、前記隔壁間に前記放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光体と、前記放電セルに電圧を印加するための表示電極と、を少なくとも有するプラズマディスプレイパネルであって、
本パネルの全面もしくは一部の領域で、前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルを平面視したときの中心に対して対称に配置される、少なくとも一組の２辺の隔壁部の高さが互いに異なり、
前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける上側に配置される隔壁部の高さｈａが下側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高いこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セルにおける上側に配置される隔壁部の頂上部分の幅ｗａが下側に配置される隔壁部の頂上部分の幅ｗｂよりも広いこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セルにおける左右に位置する隔壁部の高さｈｃは、前記下側に配置される隔壁部の高さｈｂと同じであること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セルにおける左右に位置する隔壁部の高さｈｃは、前記上側に配置される隔壁部の高さｈａと同じであること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セルにおける左右に位置する隔壁部の高さｈｃは、前記上側に配置される隔壁部の高さｈａよりも低く前記下側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高いこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記高さｈａと高さｈｂの差Δｈａｂが、
（１）Δｈａｂが１５μｍ以上
（２）Δｈａｂが０．１×ｈａ以上
上記２つの条件のうち少なくとも一方を満足すること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記表示電極を構成する電極の少なくとも一部が、不透明材料で形成された不透明電極であり、前記高さｈｂは、前記不透明電極の幅Ｌの０．５８倍以上、１．７３倍以下の範囲にあること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記表示電極を構成する電極の少なくとも一部が、不透明材料で形成された不透明電極であり、前記高さｈｂは、前記不透明電極の幅Ｌの１．００倍以上、１．４３倍以下の範囲にあること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記高さｈｂは、２３μｍから１３８μｍの範囲にあること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記高さｈｂは、４０μｍから１１４μｍの範囲にあること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
請求項２記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記幅ｗａと幅ｗｂの差Δｗが、
（１）Δｗが１５μｍ以上
（２）Δｗが０．１×ｗａ以上
上記２つの条件のうち少なくとも一方を満足すること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セルにおける隔壁部を構成する材料が、反射率の低い黒色の材料で構成されていること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、前記放電空間で隔壁により区画された複数の放電セルと、前記隔壁間に前記放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光体と、前記放電セルに電圧を印加するための表示電極と、を少なくとも有するプラズマディスプレイパネルであって、
前記放電セルにおける上側の隔壁部に形成される前記蛍光体により構成される蛍光膜の反射率が、下側の隔壁部に形成される前記蛍光体により構成される蛍光膜の反射率よりも高く、
前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける上側に配置される隔壁部の高さｈａが下側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高いこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、前記放電空間で隔壁により区画された複数の放電セルと、前記隔壁間に前記放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光体と、前記放電セルに電圧を印加するための表示電極と、を少なくとも有するプラズマディスプレイパネルであって、
前記放電セルにおける上側の隔壁部に形成される前記蛍光体の膜厚が下側の隔壁部に形成される前記蛍光体の膜厚よりも厚く、
前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける上側に配置される隔壁部の高さｈａが下側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高いこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、前記放電空間で隔壁により区画された複数の放電セルと、前記隔壁間に前記放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光体と、前記放電セルに電圧を印加するための表示電極と、を少なくとも有するプラズマディスプレイパネルであって、
前記放電セルにおける上側の隔壁部には、前記蛍光体の発光を反射する反射層とその上の前記蛍光体の膜とが形成され、下側の隔壁部には前記蛍光体の膜のみが形成され、
前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける上側に配置される隔壁部の高さｈａが下側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高いこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
請求項１５記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電セル内には、前記隔壁間で前記上側の隔壁部を含む領域に前記反射層が形成され、その上に前記隔壁間の全体の領域で前記蛍光体の膜が一定の厚さで形成されること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１７】
放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、前記放電空間で隔壁により区画された複数の放電セルと、前記隔壁間に前記放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光体と、前記放電セルに電圧を印加するための表示電極と、を少なくとも有するプラズマディスプレイパネルであって、
本パネル上部では、前記放電セルにおける上側の隔壁部が下側の隔壁部よりも高い第１の構造を有し、
本パネル下部では、前記放電セルにおける下側の隔壁部が上側の隔壁部よりも高い第２の構造を有し、
前記第１の構造では、前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける上側に配置される隔壁部の高さｈａが下側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高く、
前記第２の構造では、前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける下側に配置される隔壁部の高さｈｂが上側に配置される隔壁部の高さｈａよりも高いこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１８】
放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、前記放電空間で隔壁により区画された複数の放電セルと、前記隔壁間に前記放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光体と、前記放電セルに電圧を印加するための表示電極と、を少なくとも有するプラズマディスプレイパネルであって、
本パネル上部では、前記放電セルにおける上側の隔壁部に形成される前記蛍光体の反射率が下側の隔壁部に形成される蛍光体の反射率よりも高い第１の構造を有し、
本パネル下部では、前記放電セルにおける下側の隔壁部に形成される前記蛍光体の反射率が上側の隔壁部に形成される蛍光体の反射率よりも高い第２の構造を有し、
前記第１の構造では、前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける上側に配置される隔壁部の高さｈａが下側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高く、
前記第２の構造では、前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける下側に配置される隔壁部の高さｈｂが上側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高いこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１９】
放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、前記放電空間で隔壁により区画された複数の放電セルと、前記隔壁間に前記放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光体と、前記放電セルに電圧を印加するための表示電極と、を少なくとも有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記放電セルにおける前記隔壁の形成工程において、前記放電セルを構成する複数辺の隔壁部の内、当該放電セルにおける上側に配置される隔壁部の高さｈａが下側に配置される隔壁部の高さｈｂよりも高くなるように形成し、
前記放電セルにおける前記蛍光体の形成工程において、蛍光体ペーストの乾燥工程で基板構造体が傾く状態とすることにより、前記蛍光体の膜厚の分布として前記放電セルにおける上側の隔壁部に形成される前記蛍光体の膜厚が下側の隔壁部に形成される前記蛍光体の膜厚よりも厚くなるように形成すること、を特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルと、当該パネルを駆動するための駆動回路と、当該パネルに映像を表示するための映像信号器とを有するプラズマディスプレイ装置。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を備える表示装置（プラズマディスプレイ装置：ＰＤＰ装置）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に関し、特に、セル構造等に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰ装置、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ等のＦＰＤでは、性能やコストの競争が激しく、特に、ＰＤＰでは、明室コントラストの向上（外光反射の抑制）、更なる薄型化・低コスト化などが要求されている。
【０００３】
上記コントラスト向上等に関する従来技術例として、特開２００７−２７２１６１号公報（特許文献１）や特開２００６−２０１５７７号公報（特許文献２）記載の技術がある。これらの技術では、パネルの前面に配置したフィルム内に、光を吸収する光吸収部が少なくとも一次元方向に多数平行に並べて配置された遮光機能層を有し、外光入射をこの遮光機能層で抑制することで、明室コントラストを向上する。
【特許文献１】特開２００７−２７２１６１号公報
【特許文献２】特開２００６−２０１５７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が解決しようとする課題は二つある。第一の課題は、明室コントラストの向上である。第二の課題は、正面輝度の向上である。特に第二の課題である正面輝度の向上は、ＰＤＰの低コスト化、さらには低消費電力化、ディスプレイ装置の薄型化にも繋がる重要な課題である。
【０００５】
まず、第一の課題である明室コントラストの向上について述べる。一般的なＰＤＰは、セル内の蛍光膜（蛍光体層）が前面側から透過により直接見える構造であるため、その外光反射により、明室コントラストが低下する問題点がある。また、明室下でセル内より出射される光は、内光と、反射する外光（外光反射光）とがあるので、色の混色が生じる。このことは、色再現範囲の低下を招く。特に、輝度が低い低階調表示では、この色再現範囲の低下は大きな問題となる。
【０００６】
上記に対する一つの対策としては、前記特許文献１や特許文献２等の技術のように、部分的に遮光機能層を有する光学フィルタをパネルの前面に配置する構造により、外光入射を抑制し、これにより明室コントラストを向上することが考えられる。
【０００７】
しかしながら、上記のような対策では、特殊な光学フィルタを設ける分、輝度低下、高コスト、パネル厚み増などの不利点がある。
【０００８】
次に第二の課題である正面輝度の向上について述べる。先に述べたように、今後のＰＤＰにおいては、更なる低消費電力化、低コスト化、薄型化など様々な要求がある。正面輝度の向上を達成することにより、これらの要求をほぼ同時に満足できる。一般的なＰＤＰでは、セルからの光は全視野方向に対してほぼ一様に出射され、パネル全面でほぼ均一な輝度である。これに対して、ＬＣＤなどでは、視野方向に対して輝度の分布を有し、正面輝度が高くなっている。人がテレビなどのディスプレイを観る場合には、ほぼ正面から観る場合が多く、このことを考えると、正面輝度を向上させることは非常に重要である。また、正面輝度を向上するということは、逆に、正面以外の輝度を落とすことも可能なので、低消費電力化にも繋がる。さらには、この低消費電力化に伴う駆動回路の簡略化（部材数低減）により低コスト化や回路厚みの低減（ＰＤＰ薄型化）にも繋がる。
【０００９】
本発明は以上のような問題に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、ＰＤＰに係わり、明室コントラスト向上と正面輝度向上などを実現できる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。前記目的を達成するために、本発明の代表的な実施の形態は、ＰＤＰの技術であって、ＰＤＰは、放電を形成するための放電ガスが封入された放電空間と、放電空間で隔壁（リブ）により区画された複数のセル（放電セル）と、隔壁間に放電で発生する紫外線による励起で可視光を発光する蛍光膜（蛍光体）と、セルに電圧を印加するための電極（表示電極）と、を少なくとも構成要素の一部として有するものであり、以下に示す構成を有することを特徴とする。
【００１１】
（０）本形態は、セル（放電領域ないし発光領域）を囲む複数辺の隔壁（リブ）において、セルの重心（２次元平面視した場合の中心）に対して対称に配置される少なくとも一組の２辺の隔壁部の高さが互いに異なる構造である。
【００１２】
（１）本形態は、セルを囲む隔壁（リブ）において、上側にあるリブ（上辺部）が下側にあるリブ（下辺部）よりも相対的に高くなる構造である。これにより、セルの上辺部によって外光の入射が遮られるので、セル内の蛍光体への外光入射が抑制される。
【００１３】
（１Ａ）例えば、横方向隔壁部（横リブ）を含むボックス型のリブ構造及びセル構造を持つＰＤＰにおいて、セルを囲む四辺のリブのうち、上辺部の高さを、他のリブ（少なくとも下辺部）よりも高くする。
【００１４】
（１Ｂ）例えば、セルを囲む四辺のリブのうち、下辺部の高さを、他のリブ（少なくとも上辺部）よりも低くする。
【００１５】
（２）本形態は、例えば横方向隔壁部（横リブ）を含むボックス型のリブ構造及びセル構造を持つＰＤＰにおいて、セル内（リブ間）に形成される蛍光体の膜面（例えば底面部と上下左右４つの側面部）のうち、セルの上側面部の膜の反射率を下側面部の膜よりも相対的に高くする構造である。これにより、セル内の上面側（上辺部側）から出射される光量が多くなるので、セル内から出射する光に指向性が付与される。
【００１６】
（２Ａ）上記構造は、例えば、蛍光体の膜の厚みを変えることによる。例えば、上側面部の膜を他の膜（少なくとも下側面部の膜）よりも厚くする。
【００１７】
（２Ｂ）上記構造は、例えば、蛍光体の一部に二層膜を導入することによる。この二層は、例えば、反射材（光反射層）とその上の蛍光膜とからなる。例えば、上側面部の膜を二層膜とし、他の膜（少なくとも下側面部の膜）を単一膜とする。
【発明の効果】
【００１８】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。本発明によれば、ＰＤＰに係わり、明室コントラスト向上と正面輝度向上などを実現できる。特に、セル内の蛍光体への外光入射抑制（外光反射抑制）による明室コントラスト向上や、セル内からの指向的な光出射による正面輝度向上、それらによるＰＤＰ性能向上が実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部には原則として同一符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。なお、説明のため、ｘ方向（画面内の横方向）、ｙ方向（画面内の縦方向）、ｚ方向（パネル厚さ方向）を有する。
【００２０】
＜従来技術＞
図１０，図１１を用いて、前提となる従来技術例のＰＤＰについて簡単に説明する。図１０は、従来ＰＤＰの縦方向（ｙ）の断面の一部概略を示している。パネル厚さ方向（ｚ）における右側から左側へ向かう矢印がパネル正面の視線方向Ｓである。ｙ方向における上側がパネル上部、下側がパネル下部である。
【００２１】
従来パネル（画面）の全面で同一のセル構造である。背面側の第２構造体１２には、隔壁（リブ）８及び蛍光体（蛍光膜）９が形成され、前面側の第１構造体１１と重ね合わせることでパネルが構成される。セルでは、リブ８間に蛍光体９が形成される。リブ８の側面に蛍光体９の側面部が形成され、基板面上に蛍光体９の底面部が形成される。リブ８の高さｈｒは、基本的にパネル面内の全面で一定である。
【００２２】
ａで示すように、基本的に、外光（室内照明など）は、パネルの斜め上方向から入射される。セル内への外光入射のうち蛍光体９により反射されｚ方向（視線方向Ｓ）に出射される成分により、コントラスト（明室コントラスト）が低下する。
【００２３】
また、図１１は、左側に、図１０のような従来ＰＤＰのセルの断面（ｙ−ｚ面）と、右側に、ａのような外光照射によるセルから出射される光（外光反射光）の反射輝度分布（セル垂直方向（ｙ）位置に対する反射輝度）とを示す。本セルは非点灯状態であり、本セルから反射される外光ａ（外光反射光）の光強度のみを測定したものである。この反射輝度分布において、概略的に、領域Ａでは、セルの上側に配置された隔壁８の影により、反射輝度が低い。領域Ｂでは、セルの底面に位置する蛍光膜９の反射により、反射輝度が下に行くほど徐々に高くなる。一方、領域Ｃにおいては、セルの下側に配置された隔壁８に形成された蛍光膜９からの反射光により、反射輝度が急激に高くなる。
【００２４】
これらの反射輝度が、明室コントラストを低下させる直接の原因となり、特に領域Ｃでの急激な反射輝度の増大が問題である。セルの垂直方向（ｙ）の位置で下へ行くほど反射輝度が大きくなっており、特に領域Ｃでは、領域Ｂに対し反射輝度の傾きが変化しているが、これは、下側の隔壁８及びその蛍光体９側面部の影響が大きいと推測される。
【００２５】
さらに、この外光反射光、即ちセルより出射される外光の反射の成分は、内光との混色により、明室下での色再現範囲を狭くする主要因となる。
【００２６】
なお、図１０，図１１における前面基板（第１構造体１１）において、バス電極をほぼリブ８の頂上部に重なるように配置して示しているが、実際のパネルにおいては、構造や駆動などに応じて当該バス電極の配置箇所は種々存在する。特に本発明の構成と効果においては、当該バス電極の位置は限定されない。
【００２７】
また例えば、パネル前面に、光吸収層を部分的に有する、ルーバーフィルム等の光学フィルタ６０を設けることにより、外光反射を抑制し、コントラスト低下の対策を施している。
【００２８】
（実施の形態１）
図１等を用いて、本発明の実施の形態１（構成１Ａ）のＰＤＰ１０について説明する。実施の形態１は、排気パス５０が存在しボックス型の隔壁８構造及びセル構造を持つＰＤＰ１０において、各セルを囲む４辺のリブ（図１では８Ａ，８Ｂ，８Ｃ）のうち、１つのセルの重心（図１では点Ｇ）に対して、対称に配置される少なくとも一組の２辺のリブ（８Ａと８Ｂ）の高さが互いに異なるものである。上記重心（Ｇ）とは、例えば、ｘ−ｙ面での平面視でのセル（発光領域）の中心のことである。具体的に、セルの上側に位置するリブ８（上辺部８Ａ）を、セルの下側に位置するリブ８（下辺部８Ｂ）を含む他のリブ８よりも高くするものである。本セル構造は、パネル１０の全面で適用される。
【００２９】
従来ＰＤＰ（図１０）のリブの高さｈｒに対し、本リブ８構造では、図１のように、セル（発光領域）４０を囲む上下左右四辺のリブ８、即ち上辺部（横リブ）８Ａ、下辺部（横リブ）８Ｂ、及び左右辺部（縦リブ）８Ｃを有し、上辺部（横リブ）８Ａの高さ：ｈｒａ、下辺部（横リブ）８Ｂの高さ：ｈｒｂ、左右辺部（縦リブ）８Ｃの高さ：ｈｒｃとする。
【００３０】
本構造では、セルを囲む四辺のリブ８のうち、上側のリブ（上辺部８Ａ）の高さｈｒａを、他のリブ８部位、即ち下辺部８Ｂ及び左右辺部８Ｃの高さｈｒｂ，ｈｒｃよりも高くする（ｈｒａ＞（ｈｒｂ，ｈｒｃ））。また、左右辺部８Ｃの高さｈｒｃを下辺部８Ｂの高さｈｒｂと同じにした場合である（ｈｒｃ＝ｈｒｂ）。また、上辺部８Ａの高さｈｒａを従来リブ高さｈｒよりも高くし、下辺部８Ｂの高さｈｒｂを従来リブ高さｈｒと同じにした場合（ｈｒａ＞ｈｒ＝ｈｒｂ）である。上記条件をまとめると、ｈｒａ＞ｈｒｂ＝ｈｒｃ＝ｈｒである。
【００３１】
本構造により、外光がセルの上側のリブ８（上辺部８Ａ）によって遮光されることで、外光入射及び外光反射が抑制される。このことは、図１１で述べた領域Ａのような反射輝度の低い領域が増大することに相当し、セルからの外光反射が抑制、即ちパネル反射率が抑制されるので、明室コントラスト向上（改善）効果が得られる。
【００３２】
図４はセル内の外光反射輝度分布を示し、（ａ）は、実施の形態１のようにリブ８の高さを変えたことによる効果を示している。例えば図４（ａ）に示すように、図１１のような分布に比べて、領域Ｃでの反射輝度を低減できる。この場合、反射輝度を、およそ７０％まで低減することができる。これにより、明室コントラストを約１．４倍向上できることになる。さらには、反射輝度の低減と同時に、内光と外光の混色が抑制され、色再現範囲も向上（改善）する。また、内光（即ちセル内部の放電による蛍光体９からの発光）がセルの上側のリブ８（上辺部８Ａ）の蛍光体９によって反射されることで、セル内の上面側から出射される光量が多くなるので、斜め下方向に光が出射されやすくなるという光出射の指向性を付与することができる。その他、詳しくは以下で述べるが、このようなリブ高さの異なるセルをパネル内の一部分、または全面に形成することで、パネル正面の視線方向Ｓ（図１０）に対する輝度、即ち正面輝度を向上することが可能となる。
【００３３】
図１において、（ａ）は、ＰＤＰ１０の主にリブ８及びセル構造の前面側平面を示し、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’断面（セルの縦方向断面）を示し、（ｃ）は、（ａ）のＢ−Ｂ’断面（セルの横方向断面）を対応して示している。ａは、パネル１０内に入射する光（外光）の例を、ｂは、パネル１０内から出射する光（内光）の例を示す。
【００３４】
本ＰＤＰ１０は、排気パス５０を持つボックス型のリブ８及びセルの構造を有する。即ち、ｘ方向に梯子状の隔壁８を有し、隔壁８で四方を囲まれる空間が、セル（発光領域または放電領域）に対応付けられる。ボックス型のリブ８において、ｘ方向に並行する横リブ（８Ａ，８Ｂ）と、ｙ方向に並行する縦リブ８Ｃと、を有する。横リブ８Ａは、セルの上辺部、横リブ８Ｂは、セルの下辺部、縦リブ８Ｃは、セルの左右辺部に対応する。第１構造体（前面基板構造体）１１では、前面基板（ガラス基板）１上、例えば、横リブ（８Ａ，８Ｂ）の上方の位置に、ｘ方向に並行する表示電極２（維持電極（Ｘ）、走査電極（Ｙ））が設けられており、誘電体層３、及び保護膜４により覆われている。第２構造体（背面基板構造体）１２では、背面基板（ガラス基板）５上、ｙ方向に並行するアドレス電極６が設けられており、誘電体層７により覆われている。誘電体層７上には、セル群の区画に対応して各リブ８が形成されている。また、リブ８間には、蛍光体９が所定厚さ（平均）の膜（層）状に形成されている。
【００３５】
第１の特徴として、各セルの構造において、上辺部８Ａの高さｈｒａが、下辺部８Ｂの高さｈｒｂよりも高い（ｈｒａ＞ｈｒｂ）。上記高さの差をΔｈ＝ｈｒａ−ｈｒｂとする。Δｈを所定の大きさ以上確保することにより、前述の効果が得られる。Δｈは、少なくとも製造ばらつきにより生じる高低差以上の１５μｍ以上あることが望ましい。もしくは、Δｈは少なくとも０．１×ｈｒａ以上が望ましい。
【００３６】
＜電極構成例＞
上記に加えてさらに効果を得るためには、以下のような構成例がある。下辺部８Ｂの高さｈｒｂに係わり、前面基板１側に配置された表示電極２（Ｘ，Ｙ）を構成する電極の少なくとも一部（本例ではバス電極）が、不透明材料（低い可視光透過性の材料）で形成された不透明電極とする。そして、下辺部８Ｂの高さｈｒｂが、例えば、当該不透明電極の電極幅Ｌ（ｙ方向の長さ）の０．５８倍以上、１．７３倍以下の範囲（０．５８Ｌ≦ｈｒｂ≦１．７３Ｌ：後述の式（３））にあることが望ましい。
【００３７】
一般に、表示電極は、ＩＴＯなどの透明電極と、銀や銅などのバス電極とから構成されることが多い。上記不透明電極とは、例えば、銀や銅から成る金属電極のことを意味する。
【００３８】
以下、図３を用いて、上記リブ（８Ｂ）の高さｈｒｂと不透明電極の幅Ｌの関係について説明する。図３は、実施の形態１で更なる効果を生み出すための別の構成例として、セルの縦方向（ｙ）の断面を示している。なお、本図面では、不透明電極（図３ではＥＸ，ＥＹ）のみを図示しており、透明電極については図示していない。第１構造体１１内部の表示電極２（Ｘ，Ｙ）において、例えばセルの上側の領域に、維持電極（Ｘ）を構成する不透明電極ＥＸを有し、下側の領域に、走査電極（Ｙ）を構成する不透明電極ＥＹを有する。それぞれの不透明電極ＥＸ，ＥＹは、例えば、金属電極で、直線状のバス電極（駆動回路側と接続される）から成る。あるいは、不透明電極ＥＸ，ＥＹは、バス電極に接続されセル内側へ張り出す張り出し部などから成ってもよい。不透明電極ＥＸは、例えば、横リブ（上辺部）８Ａの頂上部の位置よりもセル内側へ少し張り出す位置に配置される。
【００３９】
先に述べたように、セルからの外光反射を抑制するためには、特にセルの下側に配置されたリブ（下辺部８Ｂ）に形成される蛍光膜９（側面部）への入射を抑制することが重要である。従って、図３に示すように、金属バス電極などによる不透明電極２（ＥＸ，ＥＹ）により、セル下側に配置されたリブ８（下辺部８Ｂ）の側面付近に対して形成される蛍光膜９部分（側面部９ｂ）への外光（ａ）の入射を抑制することで、セルからの反射輝度を大幅に低減することが可能となる。例えば、外光ａ’は、セル上側の不透明電極（ＥＸ）で遮光されるため、セル下側のリブ８（８Ｂ）に形成される蛍光膜９（９ｂ）に対しては照射されない。この照射されない領域を下側リブ（８Ｂ）の蛍光膜（９ｂ）面全域でつくるためには、下側リブ（８Ｂ）の高さｈｒｂ、不透明電極（ＥＸ）の幅Ｌ、外光ａの入射角度θが、以下の式（１）を満足すればよい。
【００４０】
ｈｒｂ≦Ｌ／ｔａｎθ      ・・・（１）
上記式（１）を満足することにより、セル下側リブ（８Ｂ）の蛍光膜（９ｂ）面への外光入射を、不透明電極（金属バス電極）（ＥＸ）で遮蔽でき、反射輝度を大幅に低減することが可能となる。
【００４１】
一方で、内光の取り出しを考慮すれば、蛍光体９の塗布面積から、リブ高さはできるだけ高い方がよい。上記式（１）を満足し、できるだけリブ高さを高くするためには、以下の式（２）を満足することが望ましい。
【００４２】
ｈｒｂ＝Ｌ／ｔａｎθ      ・・・（２）
一般的に室内照明のある室内環境でＰＤＰを鑑賞する場合には、外光はＰＤＰの斜め上方から照射されることが殆どであり、ＪＥＩＴＡでの規格を参照すれば、入射角度θは、ほぼ３０°から６０°の間である（３０°≦θ≦６０°：θ条件（１））。さらに最も一般的には、θは、３５°から４５°の間である（３５°≦θ≦４５°：θ条件（２））。
【００４３】
これらのことから、例えばθ条件（１）を考慮すると、下側のリブ（８Ｂ）の高さｈｒｂは、不透明電極（ＥＸ）の幅Ｌの０．５８（≒１／ｔａｎ６０°）倍以上、１．７３（≒１／ｔａｎ３０°）倍以下の範囲にあることが望ましい。即ち、ｈｒｂの条件（１）として下記式（３）である。
【００４４】
０．５８Ｌ≦ｈｒｂ≦１．７３Ｌ      ・・・（３）
また、不透明電極（ＥＸ）の幅Ｌは、具体的に、配線抵抗などの駆動条件、設計条件を考慮すると、例えば４０μｍから８０μｍの範囲である（４０μｍ≦Ｌ≦８０μｍ：Ｌ条件（１））。
【００４５】
これらのことから、リブ（８Ｂ）の高さｈｒｂは、２３μｍ（≒０．５８×４０μｍ）から１３８μｍ（≒１．７３×８０μｍ）の範囲が望ましい。即ち、ｈｒｂの条件（１’）として下記式（４）である。
【００４６】
２３μｍ≦ｈｒｂ≦１３８μｍ      ・・・（４）
また、さらに最も一般的には前述のθ条件（２）：３５°≦θ≦４５°である。このとき、リブ（８Ｂ）の高さｈｒｂは、不透明電極（ＥＸ）の幅Ｌの１．００（＝１／ｔａｎ４５°）倍以上、１．４３（≒１／ｔａｎ３５°）倍以下の範囲であることが望ましい。即ち、ｈｒｂの条件（２）として下記式（５）である。
【００４７】
１．００Ｌ≦ｈｒｂ≦１．４３Ｌ      ・・・（５）
具体的には、前述同様にＬ条件（１）を考慮すると、ｈｒｂは、４０μｍ（＝１．００×４０μｍ）から１１４μｍ（≒１．４３×８０μｍ）の範囲にあることが望ましい。即ち、ｈｒｂの条件（２’）として下記式（６）である。
【００４８】
４０μｍ≦ｈｒｂ≦１１４μｍ      ・・・（６）
このように、セルの下側のリブ（８Ｂ）の高さと不透明電極（金属バス電極）（ＥＸ）の幅Ｌとを上述した関係とすることで、外光反射輝度を大幅に抑制できる。このことは、図１１で示した領域Ｃの反射輝度を低下させることに相当する。これにより、セルからの外光反射を抑制、即ちパネル反射率が抑制されるので、明室コントラスト向上（改善）効果が得られる。
【００４９】
本構成では、上側の不透明電極（ＥＸ）の幅Ｌ、外光入射角度θなどを考慮して、下側の横リブ８Ｂの高さｈｒｂを決定している。特に下側の横リブ８Ｂの蛍光体側面部９ｂが不透明電極の幅Ｌによって効率よく遮光されるような位置に決定している。
【００５０】
図４（ｂ）は、前述の（ａ）（リブ高さを変えた場合）に対し、さらに図３のように不透明電極（ＥＸ）による遮光技術を加えた場合の効果を示している。例えば図４（ｂ）に示すように、図１１に比べて、領域Ｃでの反射輝度を大幅に低減でき（理想的にはほぼ０となる）、およそ４０％にまで反射輝度を低減することができる。このことは、明室コントラストを約２．５倍向上できることになる。また反射輝度の低減と同時に、内光と外光の混色が抑制され、色再現範囲も向上（改善）する。
【００５１】
図１（ｂ）で、上辺部８Ａ及び下辺部８Ｂのセル内側の側面に、蛍光体９の膜（側面部）が形成されている。また、上辺部８Ａと下辺部８Ｂの間、第２構造体１２の上面（誘電体層７表面）に、蛍光体９の膜（底面部）が形成されている。外光ａにおいて、例えば、上辺部８Ａに対し入射するものは、セル内部への入射が遮られる。内光ｂにおいて、例えば、蛍光体９の底面部や、下辺部８Ｂ側の側面部からの発光で、上辺部８Ａの蛍光体９（側面部）の方向に出たものは、当該蛍光体９（側面部）により反射されて、パネル正面に対する斜め下方向へ出射される。よって、セル単位での光出射は、この斜め下方向への指向性を持つ。
【００５２】
＜隔壁構成例＞
また、別の構成例として図１４（ｂ）に示すように、（ａ）のような従来（基本）のセル構造に対し、隔壁８構造として、前面基板１（第１構造体１１）に近い側のセル開口部分（４０）を小さくする構造（Ａｗｂ＞Ａｗｔ）を加えることで、前述した効果をより一層得ることができる。すなわち、従来の構成では図１４（ａ）に示すように、隔壁８における前面基板１（第１構造体１１）に近い側のセル開口部の幅Ａｗｔに対して、背面基板５（第２構造体１２）側の底部の幅Ａｗｂが同等もしくは小さくなっている。それに対し、図１４（ｂ）の構成では、幅Ａｗｔに対して幅Ａｗｂを大きくする構成（Ａｗｂ＞Ａｗｔ）とする。具体的に、セル上側のリブ（８Ａ）及び下側のリブ（８Ｂ）は、ｚ方向でセル内側寄りに少し傾く形である。これにより、セル内への外光入射をより一層抑制できるため、前述の効果を得ることができる。この構造は、例えば隔壁８を基板（背面基板５）に対して斜めに形成することで可能となる。
【００５３】
＜排気パス＞
さらに、本構成（図１）では、梯子状のリブ８間に、ｘ方向に伸びる排気パス５０（放電空間１３での隙間）を有する。排気パス５０は、公知の排気及びガス封入工程等で使用される。また、図１（ｂ），（ｃ）のように、第１構造体１１と第２構造体１２との間の放電空間（基板間領域）１３においては、高い方の上辺部８Ａの高さｈｒａに応じて、ｚ方向で一定距離が確保されている。また、その一定距離内で、高さｈｒａの横リブ８Ａの頂上面と、前面側の基板（保護膜４）との間の隙間に、排気パスを設ける場合を示している。これは、当該排気パスを設けない場合は、密着状態として構わない。また、高さが低い方の下辺部８Ｂでは、第１構造体１１（保護膜４）との間に隙間が生じており、その隙間がｙ方向での排気パスとなる。当該排気パスは、ｘ方向の排気パス５０とつながっている。よって、これら下辺部８Ｂの上側の排気パスを含む全体の排気パスを使用することで、排気効率を向上でき、パネル品質向上につながる。なお、排気パス５０の有無や詳細は本構成以外にも可能である。例えば図１の排気パス５０を無くしてボックスリブ構造とすることも可能である。
【００５４】
＜ボックスリブ＞
図１６には、別の構成例として上記ボックスリブ構造とした場合を示している。即ち、縦方向（ｙ）で隣接するセルにおける高さの異なる横リブ（８Ａ，８Ｂ）同士を一体化することでボックス状の隔壁８構造とした場合である。前述の高さｈｒｂの横リブ８Ｂと、高さｈｒａの横リブ８Ａとが一体化され、隣接セル間を区画する横リブ８Ｄとなっている。
【００５５】
＜各種セル＞
さらには、変形例として、図１３（ａ）〜（ｄ）に示すような各種セル構造でも可能である。ｘ−ｙ面における形状が異なる例であり、いずれもセルの重心（中心）の点Ｇに対し前述の条件を満たす隔壁８構造である。（ａ）は長方形の場合である。上辺部８Ａ及び左右辺部８Ｃの高さがｈｒａで、下辺部８Ｂのみ高さがｈｒｂである。（ｂ）は第１の六角形の場合である。上半分側の３辺の高さがｈｒａで、下半分側の３辺の高さがｈｒｂである。（ｃ）は第２の六角形の場合である。上側の２辺の高さがｈｒａで、他の辺の高さがｈｒｂである。（ｄ）は円形の場合である。上半分側の周の高さがｈｒａで、下半分側の周の高さがｈｒｂである。
【００５６】
なお、上記のように一つのセルを囲むリブ８において、その高さを変えて形成するためには、例えば以下のような手法がある。
【００５７】
第１に、セルを囲む上下（高低）のリブ（例えば８Ａ，８Ｂ）で、単純に、サンドブラスト法におけるマスクパターン等を変えた設計及び工程とすることである。例えば、低い方のリブ（８Ｂ）を第１のマスクパターンで形成する工程と、高い方のリブ（８Ａ）を第２のマスクパターンで形成する工程とを有する。あるいは上下のリブの形成でサンドブラストの時間や強度などを変えること等でもよい。
【００５８】
第２に、セルを囲む上下のリブ（例えば８Ａ，８Ｂ）の材料を変えることである。例えば、リブ８をサンドブラスト法によって形成する場合には、上下のリブで硬さの異なるリブ材を用いる。これにより、上下のリブで同一のサンドブラスト時間において、それぞれのリブ材での研磨速度が異なることから、結果、高さの異なるリブが得られる。
【００５９】
第３に、セルを囲む上下のリブ（例えば８Ａ，８Ｂ）の太さ（幅）などを変える手法である。リブを形成する最終工程には、高温焼成工程がある。このとき、リブ材は熱収縮を生じる。幅が細いリブでは、その収縮が大きく、リブ高さが低くなる傾向にある。逆に幅が広いリブでは、その収縮が小さく、リブ高さが、幅の狭いリブに比べて高くなる傾向にある。このような傾向を利用することにより、高さの異なるリブを形成することができる。あるいは、上下のリブで熱収縮率が異なるリブ材を用いる手法を用いてもよい。所定のサンドブラスト及び焼成の条件に対して、上下のリブで収縮の大きさが異なることで、高さの差が得られる。
【００６０】
（実施の形態２）
次に、図２を用いて、本発明の実施の形態２（構成１Ｂ）のＰＤＰ１０について説明する。実施の形態２は、実施の形態１と主な特徴（ｈｒａ＞ｈｒｂ）は共通である。実施の形態２では、実施の形態１と同様のボックス型のリブ８構造などを持つＰＤＰ１０において、各セルにおける一部のリブ８の高さを従来よりも低く変えるものであり、具体的に、セルの下側に位置するリブ８（下辺部８Ｂ）を、セルの上側に位置するリブ８（上辺部８Ａ）を含む他のリブ８よりも低くするものである。
【００６１】
従来ＰＤＰ（図１０）のリブの高さｈｒに対し、本リブ８構造では、図２のように、セル４０を囲む四辺のリブ８（上辺部（横リブ）８Ａ、下辺部（横リブ）８Ｂ、及び左右辺部（縦リブ）８Ｃ）のうち、下側のリブ（下辺部８Ｂ）の高さｈｒｂを、他のリブ８部位、即ち上辺部８Ａ及び左右辺部８Ｃの高さｈｒａ，ｈｒｃよりも低くする（（ｈｒａ，ｈｒｃ）＞ｈｒｂ）。また、左右辺部８Ｃの高さｈｒｃを上辺部８Ａの高さｈｒａと同じにした場合である（ｈｒｃ＝ｈｒａ）。また、下辺部８Ｂの高さｈｒｂを従来リブ高さｈｒよりも低くし、上辺部８Ａの高さｈｒａを従来リブ高さｈｒと同じにした場合（ｈｒａ＝ｈｒ＞ｈｒｂ）である。上記条件をまとめると、ｈｒａ＝ｈｒｃ＝ｈｒ＞ｈｒｂである。なお、各図面では、従来リブ高さｈｒに対する各実施の形態でのスケールの違いを省略して示している。
【００６２】
本構造により、実施の形態１と同様に、パネル反射率が抑制されるので、明室コントラスト向上効果が得られ、また、斜め下方向への光出射の指向性を付与することができる。
【００６３】
また、従来リブ高さｈｒと比較した場合の変形例としては、上辺部８Ａの高さｈｒａを従来リブ高さｈｒよりも高くし、かつ、下辺部８Ｂの高さｈｒｂを従来リブ高さｈｒよりも低くした構成（ｈｒａ＞ｈｒ＞ｈｒｂ）なども可能であり、効果をさらに高めることができる。
【００６４】
また、左右辺部８Ｃの高さｈｒｃに関する変形例としては、横リブ（８Ａ，８Ｂ）の高さ（ｈｒｂ，ｈｒａ）に合わせる以外にも、それらの高さの中間にする構成（ｈｒａ＞ｈｒｃ＞ｈｒｂ）も可能である。
【００６５】
以上のように、実施の形態１，２によれば、外光反射抑制等が実現でき、また、パネル正面に対する斜め下方向への指向的な光出射が実現できる。これにより、明室コントラスト改善、及び上記斜め下方向への輝度向上の効果が得られる。また、本パネル１０の内部構造自体で上記光学特性の機能及び効果を持つことにより、従来技術のようにパネル前面に、ルーバーフィルムなどの光学フィルタ６０等を設ける必要性を減らすことができ、それにより薄型化や低コスト化が実現できる。
【００６６】
（実施の形態３）
次に、図５を用いて、本発明の実施の形態３（構成１Ｃ）のＰＤＰ１０について説明する。実施の形態３では、実施の形態１等（実施の形態２でも同様）と同様の構成に加えて更に、横リブ（８Ａ，８Ｂ）の幅（ｙ方向長さ）を変える構成である。具体的に、セルの上側の横リブ（上辺部）８Ａの幅をＷｒａ、下側の横リブ（下辺部）８Ｂの幅をＷｒｂとしたとき、Ｗｒａ＞Ｗｒｂとする。
【００６７】
本構成により、実施の形態１等と同様の作用（外光ａの遮光、内光ｂのパネル正面斜め下方向への出射）及び効果（コントラスト改善、斜め下方向の輝度向上）が得られる。作用としては、特に、横リブ８Ａの頂上面の大きさにより、外光入射の遮蔽の量が大きくなる。なお、上記幅の差をΔＷ＝Ｗｒａ−Ｗｒｂとし、ΔＷを所定の大きさ以上確保することにより前述の効果が得られる。ΔＷは、少なくとも製造ばらつきにより生じる広狭差以上の１５μｍ以上あることが望ましい。もしくは、Δｗは、少なくとも０．１×Ｗｒａ以上が望ましい。
【００６８】
また、同様に、リブ８の高さを変えずにリブ８の幅（Ｗｒａ，Ｗｒｂ）を変える形態も可能である。この形態でも、上記同様の作用により、コントラスト改善などの相応の効果が得られる。
【００６９】
（実施の形態４）
次に、本発明の実施の形態４のＰＤＰ１０について説明する。実施の形態４は、前記実施の形態１等の構成において更に、リブ８の材料を、黒リブ、即ち低反射性リブ材とする。形状は例えば図１同様であるので省略する。各実施の形態においてリブ８の材料は特に限定されないが、本構成とすることにより、当該黒リブの低反射性（外光ａの反射抑制（吸収等））により、総合的に、前述した外光反射抑制の効果によるコントラスト改善効果が高くなる。
【００７０】
また、リブ８全体を黒リブにする構成のみならず、図１５に示すようにリブ８の頂上部（第１構造体１１に近い側）のみを低反射性リブ材（黒リブ）８０としても、相応の効果が得られる。（ａ）は、リブ８の四辺のうち、下辺部８Ｂのみ高さｈｒｂとし、他の高さｈｒａの辺部（８Ａ，８Ｃ）の頂上部に黒リブ８０による層を設けた場合である。（ｂ）は、リブ８の四辺のうち、上辺部８Ａのみ高さｈｒａとし、その上辺部８Ａの頂上部のみに黒リブ８０による層を設けた場合である。
【００７１】
上記黒リブは、一般的に硼珪酸ガラス材料を主成分とするガラス材料にＣｒ−Ｍｎ系酸化物やＦｅ２Ｏ３などの黒色材料を混ぜ込むことにより構成される。
【００７２】
（実施の形態５）
次に、図６を用いて、本発明の実施の形態５（構成２Ａ）のＰＤＰ１０について説明する。実施の形態５は、セル内に形成される蛍光体９の膜面（底面部と上下左右４つの側面部）のうち、セルの上側面に位置する蛍光体９の膜の反射率を高くする構成である。具体的には、蛍光膜９の厚みをセル内で変えるものであり、特に、上側面（上辺部８Ａ）に位置する蛍光膜９Ａを下側面（下辺部８Ｂ）に位置する蛍光膜９Ｂよりも厚くする構成である。
【００７３】
図６において、セル内の蛍光体９は、上側の蛍光膜９Ａと下側の蛍光膜９Ｂとを有し、それぞれの膜厚（概略平均）をｄａ，ｄｂとする。上側の蛍光膜９Ａは、上辺部８Ａの下側の側面に対し形成される。下側の蛍光膜９Ｂは、下辺部８Ｂの上側の側面に対し形成される。特徴としてｄａ＞ｄｂである。
【００７４】
図１２に、本構成に係わり、蛍光膜の膜厚と反射率の関係を示す。図１２中、ａ：「単層蛍光膜」は、実施の形態５のように、蛍光体のみの単一層で構成される膜であり、当該蛍光膜の反射率は、蛍光膜の膜厚に大きく依存し、ＰＤＰのセル内で形成される蛍光膜の膜厚範囲（４０μｍ以下）では、蛍光膜の膜厚が厚いほど反射率は高くなる傾向にある。ｂ：「２層蛍光膜」については、次の実施の形態６で説明する。
【００７５】
図６で上側の蛍光膜９Ａは、相対的に厚いので、光の反射率が高くなっており、下側の蛍光膜９Ｂは、相対的に薄いので、光の反射率が低くなっている。例えば、ａのような外光が下側の蛍光膜９Ｂに入射すると、上記反射率の低さにより、外光反射抑制される。通常ディスプレイを観る環境は室内環境であり、外光は天井などに配置された室内照明である。室内照明からの光は、ａのようにパネル斜め上方からの光である。また、ｂのような内光は、上側の蛍光膜９Ａの上記反射率の高さにより、効率よく反射され、パネル正面の視線方向Ｓに対する斜め下方向への光の出射の量が多くなる。即ち、実施の形態１等と同様に、コントラスト改善効果が得られ、また、当該斜め下方向への光出射指向性が付与され、当該方向の輝度が向上する。
【００７６】
＜蛍光体形成方法＞
図７において、実施の形態５のＰＤＰ１０の蛍光体９の形成方法（プロセス）について示している。本方法では、第２構造体１２側における蛍光体印刷工程で、スクリーン印刷により、蛍光体ペースト９０を、セル内（リブ８間）に充填する。次に、乾燥工程では、乾燥時にセル内での蛍光体膜形状が決まる。本方法と比較して従来方法の乾燥工程の場合には、基板（第２構造体１２）を水平方向に保持した状態で蛍光体ペースト９０を乾燥させる。これにより、セル内のｙ方向の上下で対称的な厚さで一様に蛍光膜９が形成される。一方、本方法の乾燥工程では、基板（第２構造体１２）を傾斜させた状態で蛍光体ペースト９０を乾燥させる。これにより、実施の形態５の構成のように、セル内で偏在する蛍光膜９、即ちｙ方向の上下の位置に応じて厚さが異なる膜が形成される。
【００７７】
（実施の形態６）
次に、図８を用いて、本発明の実施の形態６（構成２Ｂ）のＰＤＰ１０について説明する。実施の形態６は、セル内に形成される蛍光体９の膜面のうち、セルの上側面（上辺部８Ａ）に位置する蛍光体９（側面部）の膜の反射率を高くする構成である。具体的には、特に、当該一部の蛍光膜を二層蛍光膜９Ｃとし、この２層蛍光膜９Ｃは、下層の光反射層（光反射材）９Ｅと、その上層の蛍光膜とから構成される。セル内で二層蛍光膜９Ｃ以外の部位は、単一層の蛍光膜９Ｄとなる。下層の光反射層９Ｅは、例えば酸化チタン層とし、セル内で当該層の形成を偏在させる。上層の蛍光膜は、従来同様の蛍光体形成方法による概略一定の厚さ（ｄｃとする）とし、例えば実施の形態１の蛍光膜９よりも薄くする。上層の蛍光膜は、二層蛍光膜９Ｃと単一層の蛍光膜９Ｄとで連続する。
【００７８】
前記図１２に、本構成に係わり、蛍光膜の膜厚と反射率の関係を示す。ａ：［単層蛍光膜」については、先に述べたとおりである。ｂ：「２層蛍光膜」は、実施の形態６のように、反射層（膜厚：ｗｒ）（９Ｅ）と蛍光層との積層構造である。図１２中のグラフに示したｂ：「２層蛍光膜」は、ｗｒ＝１１μｍの酸化チタンを用いた場合の反射率［％］（縦軸）である。横軸は反射層（９Ｅ）の膜厚を含む総膜厚ｗｔ［μｍ］である。例えば、ａ，ｂで、同じ２０μｍの厚み（総膜厚）であっても、ａ：単層蛍光膜では反射率が８２％程度であるのに対し、ｂ：２層蛍光膜を用いることで、反射率を９２％まで向上することができる。このような二層蛍光膜と単層蛍光膜をセル内で使い分けることで、上記のような構成を得ることができる。
【００７９】
図８において、セル内の光反射層９Ｅは、上辺部８Ａの下側の側面、及び誘電体層７の上面にわたって形成される。上層の蛍光膜は、上辺部８Ａの下側の側面、誘電体層７の上面、及び下辺部８Ｂの上側の側面にわたって一様に形成される。セルの上側面及び底面では、光反射層（反射膜）９Ｅの存在により相対的に光の反射率が高くなっており、セルの下側面では、相対的に光の反射率が低くなっている。例えば、ａのような外光が下側の単一の蛍光膜９Ｄに入射すると、上記反射率の低さにより、外光反射抑制される。また、ｂのような内光は、上側の蛍光膜９Ｃの上記反射率の高さにより、効率よく反射され、パネル正面の視線方向Ｓに対する斜め下方向への光の出射の量が多くなる。即ち、実施の形態１等と同様に、コントラスト改善効果が得られ、また、当該斜め下方向への光出射指向性が付与され、当該方向の輝度が向上する。
【００８０】
また、実施の形態５，６は、前述の実施の形態１〜４との組み合わせの構成も可能である。
【００８１】
（実施の形態７）
次に、図９を用いて、本発明の実施の形態７のＰＤＰ１０について説明する。実施の形態７は、パネル１０画面内の位置に応じて、実施の形態１等のセル構造（第１の構造）と、この第１のセル構造を上下反転したセル構造（第２の構造）とを合わせて適用し、パネル１０全体で所定の光出射指向性を付与するものである。具体的に、パネル１０の中央部Ｂよりも上部Ａでは第１の構造を適用し、下部Ｃでは第２の構造を適用する構成である。本構成により、明室コントラスト向上に加えて特に正面輝度向上の効果が得られる。
【００８２】
図９において、（ａ）は、ＰＤＰ１０、当該パネルの駆動回路、シャーシ（筐体）、及び当該パネルに映像を表示するための映像信号器などを備えて構成されるＰＤＰ装置の縦方向（ｙ）の断面の例であり、Ａはパネル１０（画面）の上部、Ｂは中央部、Ｃは下部である。（ｂ）は、パネル１０の領域であるＡ〜Ｃのそれぞれに対応させるセル構造を示す。中央部Ｂでは、標準的な真正面方向（ｚ）への光出射指向性を持つセル構造を適用する。上部Ａでは、セル構造として、実施の形態１等のように、リブ８の上辺部８Ａが下辺部８Ｂよりも高い構造などによる、ｚ方向に対し少し斜め下方向への光出射指向性を持つ第１の構造を適用する。下部Ｃでは、セル構造として、上部Ａの第１の構造を上下反転してなる、ｚ方向に対し少し斜め上方向への光出射指向性を持つ第２の構造を適用する。
【００８３】
このようなセル構造（光出射指向性）の組み合わせの構成により、パネル１０正面の視線方向Ｓ（図８）に対する輝度（正面輝度）が向上できる。
【００８４】
また、上記同様に、実施の形態５，６等に対して上記実施の形態７と同様の構成を適用して同様効果を得ることができる。即ち、パネル１０の上部Ａに実施の形態５等のセル構造（第１の構造）を適用し、下部Ｃに第１の構造を上下反転したセル構造（第２の構造）を適用する、といった構成である。
【００８５】
以上説明したように、各実施の形態によれば、明室コントラスト向上や、光出射指向性の付与、正面輝度向上などが実現でき、これによりＰＤＰ性能が向上できる。さらにこのようなパネル性能の向上に伴い、駆動回路の簡略化、部材低減が可能となり、ＰＤＰ薄型化、低コスト化、低消費電力化などにつながる。
【００８６】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００８７】
本発明は、ＰＤＰ装置、特に薄型ＰＤＰに利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の実施の形態１（構成１Ａ）のＰＤＰの構成を示す図であり、（ａ）は前面側のセル構造、（ｂ）は縦方向断面、（ｃ）は横方向断面を示す。
【図２】本発明の実施の形態２（構成１Ｂ）のＰＤＰの構成を示す図であり、（ａ）は前面側のセル構造、（ｂ）は縦方向断面、（ｃ）は横方向断面を示す。
【図３】本発明の実施の形態１で更なる効果を生み出すための別の構成例におけるセル断面を示す図であり、電極幅とリブ高さの関係を示す。
【図４】本発明の実施の形態１での技術効果としてセル内の外光反射輝度分布を示す図であり、（ａ）はリブ高さを変えたことによる効果を示し、（ｂ）はさらにバス電極（不透明電極）の遮光技術を加えた場合の効果を示す。
【図５】本発明の実施の形態３（構成１Ｃ）のＰＤＰの構成を示す図であり、（ａ）は前面側のセル構造、（ｂ）は縦方向断面を示す。
【図６】本発明の実施の形態５（構成２Ａ）のＰＤＰの構成を示す図であり、（ａ）は前面側のセル構造、（ｂ）は縦方向断面、（ｃ）は横方向断面を示す。
【図７】本発明の実施の形態５のＰＤＰの製造方法における、蛍光体の形成方法を示す図である。
【図８】本発明の実施の形態６（構成２Ｂ）のＰＤＰの構成を示す図であり、（ａ）は前面側のセル構造、（ｂ）は縦方向断面を示す。
【図９】本発明の実施の形態７のＰＤＰ（ＰＤＰ装置）の構成を示す図であり、（ａ）はＰＤＰ装置の縦方向断面、（ｂ）はパネル位置（Ａ〜Ｃ）に応じたセル構造を示す。
【図１０】従来技術例のＰＤＰの縦方向断面を示す図である。
【図１１】従来技術例のＰＤＰ（セル）の縦方向断面と、セルからの外光反射の輝度分布とを示す図である。
【図１２】実施の形態５，６の構成に係わり、蛍光膜等の膜厚と反射率の関係を示す図である。
【図１３】（ａ）〜（ｄ）は、実施の形態１等の変形例における各種セル構造を示す図である。
【図１４】本発明の実施の形態１で更なる効果を出すための別の構成例を示す図であり、（ａ）は従来（基本）のセル構造、（ｂ）は（ａ）に対する本構成例のセル構造を示す。
【図１５】本発明の実施の形態４と同様の効果を得るための別の構成例を示す図であり、（ａ）は下側リブ以外に黒リブ層を配置した場合、（ｂ）は上側リブのみに黒リブ層を配置した場合を示す。
【図１６】本発明の実施の形態１等における変形例として、縦方向の隣接セルの横リブ同士を一体化してボックス状の隔壁構造とした場合を示す図である。
【符号の説明】
【００８９】
１…前面基板（ガラス基板）、２…表示電極（Ｘ電極，Ｙ電極）、３，７…誘電体層、４…保護膜、５…背面基板（ガラス基板）、６…アドレス電極、８…隔壁、８Ａ…横リブ（上辺部）、８Ｂ…横リブ（下辺部）、８Ｃ…縦リブ（左右辺部）、８Ｄ…横リブ、９…蛍光体（蛍光膜）、９ｂ…側面部（蛍光膜部分）、９Ａ…蛍光膜、９Ｂ…蛍光膜、９Ｃ…蛍光膜（二層膜）、９Ｄ…蛍光膜（単一膜）、９Ｅ…光反射層（反射膜）、１０…ＰＤＰ（パネル）、１１…第１構造体（前面基板構造体）、１２…第２構造体（背面基板構造体）、１３…放電空間（基板間領域）、４０…セル（発光領域）、５０…排気パス、６０…光学フィルタ、８０…低反射性リブ材（黒リブ）、９０…蛍光体ペースト、ＥＸ，ＥＹ…不透明電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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