(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
全固形分に対する含有量が３５質量％〜４５質量％である着色剤と、重合性化合物と、オキシム系重合開始剤及びアミノアルキルフェノン系重合開始剤を含む重合開始剤（ただし、（ビス）アシルフォスフィンオキシド系重合開始剤を除く。）とを含有し、厚み０．８μｍの膜としたときの波長３６５ｎｍの光透過率が８％以下である固体撮像素子用着色硬化性組成物。
【請求項２】
前記着色剤が、ピグメント・ブルー１５：６とピグメント・バイオレット２３とを含む請求項１に記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物。
【請求項３】
前記オキシム系重合開始剤の少なくとも１種が、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノンであり、前記アミノアルキルフェノン系重合開始剤の少なくとも１種が、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オンである請求項１又は請求項２に記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物。
【請求項４】
前記オキシム系重合開始剤が、下記一般式（３）で表される化合物である請求項１又は請求項２に記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物。
【化１】
0005073542.tif 000035
〔式中、Ｒは、アセチル基、エチロイル基、プロピオイル基、ベンゾイル基、又はトルイル基を表し、Ｘは、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオキシ基、アリールチオキシ基、又はアミノ基を表し、Ａは、無置換のアルキレン基、アルキル基で置換されたアルキレン基、アルケニル基で置換されたアルキレン基、又はアリール基で置換されたアルキレン基を表し、Ａｒはアリール基を表す。ｎは０〜５の整数である。〕
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物を用いてなるカラーフィルタ。
【請求項６】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物を支持体上に塗布後、塗布形成された塗布膜をマスクを通して露光し、現像してパターンを形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
請求項５に記載のカラーフィルタを備えた固体撮像素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子（ＬＣＤ等）や固体撮像素子（ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等）は、例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）等の着色領域を有するカラーフィルタを備えた構成になっている。このカラーフィルタは、一般に、支持体上に着色された硬化性組成物を用いて着色パターンを形成することにより作製される。
【０００３】
着色パターンは、例えば顔料分散法により、顔料が種々の感光性組成物に分散された着色感光性組成物を用いてフォトリソ法を利用してパターニングする方法が広く採用されている。具体的な例として、カラーフィルタを作製する場合は、基板上に着色感光性組成物をスピンコーターやロールコーター等により塗布して塗膜を形成し、この塗膜をパターン状に露光し現像することによって着色パターンを形成し、この操作を所望の色相数に応じて繰り返す。この方法では、フォトリソ法によるため、位置精度が高く、大画面、高精細のカラーフィルタを作製するのに好適であるとされている。
【０００４】
近年、カラーフィルタは、着色パターンの薄層化、高精細化の傾向にあり、色濃度や色調の向上が期待されている。また、着色パターンのサイズも微細化の傾向にある。これらの点は、特に固体撮像素子用のカラーフィルタにおいて顕著である。固体撮像素子用のカラーフィルタでは、特に、高集光性及び光色分離性による画質向上の観点から、着色パターンの薄膜化（例えば厚み１μｍ以下）が要求されており、薄膜化するためには色濃度の点から着色剤濃度を高める必要がある。その一方で、着色剤濃度を高めていくと、感度が大きく低下し、低露光量領域になるとパターン剥離が生じやすくなる。
【０００５】
カラーフィルタにおけるこれらのフィルタ特性は、露光処理時の線幅感度、パターンの形状、現像残渣、基板との密着性などに影響されることが多く、現像処理前の露光段階における組成物の露光特性が重要になる。
【０００６】
このような露光特性を改善するための方法の１つとして、従来より開始剤成分の面からの検討が種々行なわれており、開始剤の選択や添加量を増量する方法が知られている。
【０００７】
上記に関連する技術として、カラーフィルタの着色層の形成時における現像性、パターン形状等の点から、多官能性単量体と共にα−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤を用いた着色層形成用感放射線性樹脂組成物が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−３１６０１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、開始剤の選択や添加量を増量する方法だけでは、上記露光特性の一部の性能は満足し得ても、全ての性能を改善することまでは困難である。また、α−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤は、活性が比較的弱い重合開始剤であり、多量に含有しても所望の線幅のパターンを得るための感度（線幅感度）は得られない。
【０００９】
さらに、近年の着色パターンの微細化に伴なって、着色パターン端部の荒れや未露光部の現像残渣が以前より注視されるようになっている。また、薄層化されたカラーフィルタが従来のカラーフィルタと同等の分光感度を得るためには、組成物中の着色剤の組成比を増加せざるを得ないが、着色剤が増加すると相対的に着色剤以外の硬化成分（フォトリソ性能に寄与する成分）は減少することとなる。したがって、フォトリソ性能に寄与する成分が相対的に減少しても、従来通りのフォトリソ性能を維持できる技術の確立が求められている。
【００１０】
特にイメージセンサ用途のカラーフィルタの場合、パターン露光時の露光波長は一般に３６５ｎｍとされており、３６５ｎｍでの光透過率が大きく低下（例えば８％以下に低下）する膜厚設定とする場合や、組成物の固形分中に占める顔料濃度の高い（例えば３５質量％以上）設定とする場合には、成膜された膜の下部（すなわち支持体近傍）まで光が透過し難くなるため、支持体近傍の膜の硬化度が著しく低下する課題がある。かかる点を解消するために、開始剤量を多くしようとすると、従来より用いられているα−アミノアルキルフェノン系の開始剤等では、露光量に対する線幅の依存性が大きくなり、線幅太りが生じてしまう。
【００１１】
一方、３６５ｎｍでの光透過率の低い例えば青色系の着色剤を含む硬化性組成物を用い、いわゆる画素以外の、画素群の周囲を取り囲むように設けられる遮光部を、微細パターンである画素等と同時に形成する等の場合、遮光部では膜の表面近傍のみが硬化して膜中の硬化が遅れる傾向にあり、この場合には表面の膜収縮により遮光部をなす大パターンが反って剥がれが発生する課題がある。そのため、３６５ｎｍの波長光の吸収が大きい色相や着色剤濃度の高い、すなわち露光波長での光透過率が低く、しかもフォトリソ性能に寄与する成分の比率が低い系においては、少量で膜全域にわたって高い重合開始効率が得られる開始剤が不可欠となる。
【００１２】
また、着色剤組成比を増加させて分光感度を得ようとした場合、着色剤分散液中の比率も増加することとなる。着色剤分散液中の着色剤比率が大きくなると、着色剤分散液を用いて調製された着色硬化性組成物自体のチキソ性が増し、該着色硬化性組成物を支持体上に塗布して着色層を形成した際に、面内の膜厚均一性が低下する傾向がある。そして、着色層の膜厚均一性が低下すると、露光の際に焦点距離のバラツキが生じ、微細なパターン周辺部の荒れが生じたり、非硬化部において現像残渣が生じたりする場合がある。したがって、広いＤＯＦ（Depth of Focus）マージン（即ち、深い焦点深度）を有する着色硬化性組成物が求められている。
【００１３】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、成膜したときの膜全体の重合開始効率が良好で、高い線幅感度と広いＤＯＦマージン（深い焦点深度）を有し、露光・現像後に支持体との密着性を保持することができる着色硬化性組成物、精細でパターン形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）の良好なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに色再現性に優れた固体撮像素子を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、特定の２種の重合開始剤を用いた構成により、膜表面のみならず、膜表面から膜深部（すなわち基板近傍）に至る露光時の重合開始効率（少量で高い重合反応率）が高まって膜全体（特に厚み方向）の重合反応が均等化し、更には、例えば色相や着色剤量により光吸収が大きい場合やパターンサイズが比較的大きく異なる複数種のパターンが混在する場合など支持体との密着性が損なわれやすい系での密着性を高め得るとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。かかる観点から、本発明は、画素パターンサイズ（基板法線方向からみた画素パターンの辺長）が２μｍ以下の微少サイズ（例えば０．５〜２．０μｍ）で薄膜（例えば厚み１μｍ以下）に形成され、しかも良好な矩形の断面プロファイルが要求される固体撮像素子用のカラーフィルタの形成に特に有効である。
【００１５】
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りであるである。
＜１＞  全固形分に対する含有量が３５質量％〜４５質量％である着色剤と、重合性化合物と、オキシム系重合開始剤及びアミノアルキルフェノン系重合開始剤を含む重合開始剤（ただし、（ビス）アシルフォスフィンオキシド系重合開始剤を除く。）とを含有し、厚み０．８μｍの膜としたときの波長３６５ｎｍの光透過率が８％以下の固体撮像素子用着色硬化性組成物である。
＜２＞  前記着色剤が、ピグメント・ブルー１５：６とピグメント・バイオレット２３とを含む前記＜１＞に記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物である。
【００１６】
＜３＞  前記オキシム系重合開始剤の少なくとも１種が、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノンであり、前記アミノアルキルフェノン系重合開始剤の少なくとも１種が、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オンである前記＜１＞又は前記＜２＞に記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物である。
＜４＞ 前記オキシム系重合開始剤が、下記一般式（３）で表される化合物である前記＜１＞又は前記＜２＞に記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物である。
【００１７】
＜５＞  前記＜１＞〜前記＜４＞のいずれか１つに記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物を用いてなるカラーフィルタである。
＜６＞  前記＜１＞〜前記＜４＞のいずれか１つに記載の固体撮像素子用着色硬化性組成物を支持体上に塗布後、塗布形成された塗布膜をマスクを通して露光し、現像してパターンを形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法である。
＜７＞  前記＜５＞に記載のカラーフィルタを備えた固体撮像素子である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、成膜したときの膜全体の重合開始効率が良好で、高い線幅感度と広いＤＯＦマージン（深い焦点深度）を有し、露光・現像後に支持体との密着性を保持することができる着色硬化性組成物を提供することができる。また、
本発明によれば、精細でパターン形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）の良好なカラーフィルタ及びその製造方法を提供することができる。更に、
本発明によれば、色再現性に優れた固体撮像素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の着色硬化性組成物について詳細に説明し、更に該着色硬化性組成物を用いたカラーフィルタ及びその製造方法並びに固体撮像素子についても詳述する。
【００２０】
＜着色硬化性組成物＞
本発明の固体撮像素子用着色硬化性組成物（以下、着色硬化性組成物という。）は、着色剤と、重合性化合物と、オキシム系重合開始剤と、アミノアルキルフェノン系重合開始剤とを含んでなり、必要に応じて、オキシム系及びアミノアルキルフェノン系以外の重合開始剤（ただし、（ビス）アシルフォスフィンオキシド系の重合開始剤を除く。）や樹脂成分など他の成分を用いて構成することができる。
本発明の着色硬化性組成物では、前記着色剤の含有量は、該組成物の全固形分に対して、３５質量％〜４５質量％である。また、本発明の着色硬化性組成物は、厚み０．８μｍの膜としたときの波長３６５ｎｍの光透過率が８％以下である。
【００２１】
本発明においては、オキシム系重合開始剤とアミノアルキルフェノン系重合開始剤とを混合して用いることで、成膜された膜表面のみならず、膜表面から膜深部（すなわち基板近傍）に至る膜全体の重合開始効率が高められるので、良好な線幅感度と広いＤＯＦマージン（深い焦点深度）が得られ、精細でパターン形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）が良好になると共に、現像後のパターン膜（例えばカラーフィルタ）の支持体との密着性が向上する。
【００２２】
なお、線幅感度とは、パターン形成に際して所望の線幅を得るのに必要な露光量をさし、必要露光量が小さすぎる（即ち、感度が高すぎる）と線幅太りが生じやすく、必要露光量が大きすぎる（即ち、感度が低すぎる）と所望形状が得られ難くなる。そのため、線幅感度は、５００〜４０００Ｊ／ｍ２の範囲内であるのが好ましく、特には１０００〜３０００Ｊ／ｍ２の範囲内であることが望ましい。
【００２３】
−着色剤−
本発明の着色硬化性組成物は、着色剤の少なくとも一種を含有する。着色剤を含有することにより着色されたパターンを形成することができる。
【００２４】
着色剤としては、従来公知の種々の染料、無機顔料または有機顔料を、１種又は２種以上混合して用いることができる。
【００２５】
染料としては、特に制限はなく、従来カラーフィルタ用として公知の染料を使用できる。例えば、特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許４８０８５０１号明細書、米国特許５６６７９２０号明細書、米国特許５０５９５０号明細書、米国特許５６６７９２０号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報等に記載の色素を使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系等の染料が挙げられる。
【００２６】
顔料としては、従来公知の種々の無機顔料又は有機顔料を適宜選択することができる。
顔料の粒子サイズとしては、着色硬化性組成物が好適に適用されるカラーフィルタを高透過率に構成する等を考慮すると、有機顔料が好ましく、また、なるべく粒子サイズの小さいものが好ましい。着色硬化性組成物のハンドリング性の観点からは、顔料の平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の顔料が好ましく、３０ｎｍ以下の顔料がより好ましく、５〜２５ｎｍの顔料が最も好ましい。顔料の平均１次粒子径が前記範囲内であると、透過率が高く、色特性が良好であると共に、高いコントラストのカラーフィルタを形成できる。この平均一次粒子径は、ＳＥＭあるいはＴＥＭで観察し、粒子が凝集していない部分で粒子サイズを１００個計測し、平均値を算出することによって求められる。
【００２７】
前記無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で表される金属化合物を挙げることができる。具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、及び前記金属の複合酸化物を挙げることができる。
【００２８】
前記有機顔料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９；
【００２９】
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ １，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４；
【００３０】
Ｃ．Ｉ． Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３；
Ｃ．Ｉ．  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７，１０，３６，３７；
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，７９のＣｌ置換基をＯＨに変更したもの，８０；
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ １，１９，２３，２７，３２，３７，４２，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２５，２８；
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ １，７；
等を挙げることができる。
【００３１】
これらのうち、好ましい顔料としては、以下のものが挙げられる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １１，２４，１０８，１０９，１１０，１３８，１３９，１５０，１５１，１５４，１６７，１８０，１８５，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３６，７１，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２，１５０，１７１，１７５，１７７，２０９，２２４，２４２，２５４，２５５，２６４，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９，２３，３２，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：１，１５：３，１５：６，１６，２２，６０，６６，
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７，３６，３７；
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  １，７
【００３２】
これら有機顔料は、単独もしくは色純度を上げるため種々の組合せて用いることができる。上記の組合せの具体例を以下に示す。
例えば、赤色用の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料の単独、又はこれらの少なくとも１種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、ペリレン系赤色顔料、アントラキノン系赤色顔料、もしくはジケトピロロピロール系赤色顔料との混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７が挙げられ、ペリレン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が挙げられ、色再現性の点で、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、又はＣ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７との混合が好ましい。また、赤色用の顔料と他顔料との質量比は、１００：５〜１００：８０が好ましい。１００：５以上であると４００ｎｍ〜５００ｎｍの光透過率が抑えられ、色純度を上げることができ、１００：８０以下であると発色力に優れる。中でも、該質量比は、１００：１０〜１００：６５の範囲が適当である。なお、赤色顔料同士を組み合わせる場合は、色度に併せて調整することができる。
【００３３】
また、緑色用の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を１種単独で、又はこれとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料もしくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７，３６，３７と、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０、又はＣ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５との混合が好ましい。緑色顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５〜１００：２００が好ましい。この質量比は、１００：５以上であると４００〜４５０ｎｍの光透過率が抑えられ、色純度を上げることができ、１００：２００以下であると主波長が長波長寄りにならず、ＮＴＳＣ目標色相からのずれを抑えることができる。中でも、該質量比は、１００：２０〜１００：１５０の範囲が特に好ましい。
【００３４】
青色用の顔料としては、フタロシアニン系顔料を１種単独で、又はこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。特に好適な例として、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との混合を挙げることができる。青色顔料と紫色顔料との質量比は、１００：０〜１００：１００が好ましく、より好ましくは１００：７０以下である。
【００３５】
また、ブラックマトリックス等の黒色画像の用途に好適な顔料としては、カーボンブラック、グラファイト、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン単独又はこれらの混合物を用いることができる。中でも、カーボンブラックとチタンブラックとの組合せが好ましい。
カーボンブラックとチタンブラックとの質量比としては、１００：０〜１００：６０の範囲が好ましい。１００：６０以下であると、分散安定性が良好である。
【００３６】
本発明の着色硬化性組成物は、成膜したときの膜厚０．８μｍに対する光透過率（特にパターン露光に用いられる波長３６５ｎｍの光透過率）が８％以下である。本発明の効果がより奏される点で、特に、成膜したときの膜厚０．８μｍに対する波長３６５ｎｍの光透過率は、５％以下である場合がより好ましい。光透過率は、着色剤の色相及び含有量で調節可能である。
したがって、露光時の光透過率、特に波長３６５ｎｍの膜中の光透過率が小さくなる（成膜したときの膜厚０．８μｍに対する光透過率が８％以下になる）場合に、本発明の効果が高く、膜表面の重合のみならず、膜表面から膜深部（すなわち基板近傍）に至る膜全体の重合開始効率がより一層高くなる観点から、本発明における着色剤としては、青色用の顔料が好ましく、ピグメント・ブルー１５：６とピグメント・バイオレット２３とを少なくとも含む顔料組成である場合がより好ましい。更に好ましくは、主成分としてピグメント・ブルー１５：６及びピグメント・バイオレット２３を含む顔料組成の着色剤である。主成分とは、着色剤全量の５０質量％以上である場合をいう。
このような顔料組成の着色剤で構成された場合に本発明の効果がより奏され、より良好な線幅感度と広いＤＯＦマージン（深い焦点深度）が得られ、より精細でパターン形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）が良好になると共に、現像後のパターン膜（例えばカラーフィルタ）の支持体との密着性も特に向上する。
【００３７】
着色剤の着色硬化性組成物中における含有量は、形成しようとするパターンの着色の程度に併せて選択することができる。固体撮像素子に設けられるカラーフィルタ用途の場合は、着色剤量が薄層化及び色再現性の観点から多い方が望ましく、具体的には、着色剤（好ましくは顔料）の着色硬化性組成物中における含有量は、組成物の全固形分に対して、３５質量％以上であり、より好ましくは３８質量％以上である。着色剤の含有量の上限としては、パターン形成時のフォトリソ性に寄与する成分の量が少なくなり過ぎない範囲とする点で、４５質量％である。
【００３８】
−重合性化合物−
本発明の着色硬化性組成物は、重合性化合物の少なくとも一種を含有する。重合性化合物を含有することにより、所望のパターンに重合硬化させて硬化パターンを得ることができる。
【００３９】
重合性化合物は、重合性基を有する化合物であり、重合性基は重合に寄与する基であれば特に制限はないが、本発明の効果を奏する観点から、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和二重結合を有して重合可能な化合物の中から好適に選択可能であるが、現像性が良好で精細なパターン形成性の点から、分子量が２０００以下の重合性モノマーが好ましい。重合性モノマーには、特に制限はないが、常圧下で１００℃以上の沸点を有し、少なくとも１つのエチレン性不飽和基を持つ化合物が好ましい。
【００４０】
「常圧下で１００℃以上の沸点を有し、少なくとも１つのエチレン性不飽和基を持つ化合物」としては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートを挙げることができる。更に、日本接着協会誌Vol.20, No.7, 300〜308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも挙げることができる。
【００４１】
中でも、重合反応性が良好な点で、極性基と少なくとも１つのエチレン性不飽和二重結合とを有する重合性モノマーが好ましく、更には、極性基と２以上のエチレン性不飽和二重結合を有する多官能モノマーがより好ましい。極性基には、カルボキシル基、水酸基などが含まれ、好ましい重合性基として（メタ）アクリロイル基を挙げることができる。
多官能モノマーの中でも、特に、重合反応性が良好な点で、極性基を有する３官能以上の多官能モノマーが好ましく、更には、下記一般式（ｉ）又は（ｉｉ）で表される重合性モノマーが好ましい。
なお、本明細書中において、（メタ）アクリロイルは、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を含み、（メタ）アクリルはアクリル及びメタクリルの両方を含むものである。
【００４２】
【化１】
0005073542.tif 000002
【００４３】
前記一般式（ｉ）及び（ｉｉ）において、Ｅは、各々独立に、−（（ＣＨ２）ｙＣＨ２Ｏ）−、又は−（（ＣＨ２）ｙＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−を表し、ｙは、各々独立に１〜１０の整数を表す。また、Ｘは、各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。
【００４４】
前記一般式（ｉ）において、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は３個又は４個であり、ｍは、各々独立に０〜１０の整数を表し、各ｍの合計は１〜４０の整数である。また、前記一般式（ｉｉ）において、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は５個又は６個であり、ｎは、各々独立に０〜１０の整数を表し、各ｎの合計は１〜６０の整数である。
【００４５】
前記一般式（ｉ）中、ｍは、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。また、各ｍの合計は、２〜４０の整数が好ましく、２〜１６の整数がより好ましく、４〜８の整数が特に好ましい。また、前記一般式（ｉｉ）中、ｎは、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。また、各ｎの合計は、３〜６０の整数が好ましく、３〜２４の整数がより好ましく、６〜１２の整数が特に好ましい。
前記一般式（ｉ）又は一般式（ｉｉ）中の−（（ＣＨ２）ｙＣＨ２Ｏ）−又は−（（ＣＨ２）ｙＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。
【００４６】
前記一般式（ｉ）又は（ｉｉ）で表される化合物は、従来公知の工程、すなわちペンタエリスリト−ル又はジペンタエリスリトールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを開環付加反応により開環骨格を結合する工程と、開環骨格の末端水酸基に例えば（メタ）アクリロイルクロライドを反応させて（メタ）アクリロイル基を導入する工程とを設けて合成することができる。各工程は広く知られた工程であり、容易に一般式（ｉ）又は（ｉｉ）で表される化合物を合成できるものである。
【００４７】
前記一般式（ｉ）又は（ｉｉ）で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び／又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。具体的には、下記式（ａ）〜（ｆ）で表される化合物（例示化合物（ａ）〜（ｆ））が挙げられ、中でも、例示化合物（ａ）、（ｂ）、（ｅ）、（ｆ）が好ましい。
【００４８】
【化２】
0005073542.tif 000003
【００４９】
【化３】
0005073542.tif 000004
【００５０】
前記一般式（ｉ）又は一般式（ｉｉ）で表される化合物は、上市されている市販品を用いてもよく、市販品としては、例えば、サートマー社製のＳＲ−４９４、日本化薬株式会社製のＤＰＣＡ−６０、ＴＰＡ−３３０などが挙げられる。
【００５１】
重合性化合物は、本発明の着色硬化性組成物が露光により接着性を有する膜を形成できれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の割合で含有することができる。具体的には、重合性化合物の着色硬化性組成物中における含有量としては、薄膜で及び／又は着色剤含有量の多い組成系でも精細で形状良好なパターンを形成し得る点から、着色硬化性組成物の全固形分に対して、５〜５０質量％の範囲が好ましく、１０〜４０質量％の範囲がより好ましく、２０〜３０質量％の範囲が特に好ましい。
【００５２】
−オキシム系重合開始剤−
本発明の着色硬化性組成物は、オキシム系重合開始剤の少なくとも一種を含有する。オキシム系重合開始剤としては、例えば、特開２０００−８００６８号公報、特開２００１−２３３８４２号公報等に記載のオキシム系開始剤などの公知の開始剤の中から適宜選択して用いることができる。
【００５３】
具体的な例としては、市販されている化合物として、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン（いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）が挙げられる。この中では、より少ない露光量で形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）の良好なパターンが得られる点で、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノンが好ましい。
【００５４】
上記のほか、より少ない露光量で形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）の良好なパターンが得られる点からは、下記一般式（１）で表される化合物も好適な重合開始剤として挙げることができる。
【００５５】
【化４】
0005073542.tif 000005
【００５６】
前記一般式（１）において、Ｒ及びＢは、各々独立に、一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
【００５７】
前記Ｒで表される一価の置換基としては、以下に示す一価の非金属原子団であることが好ましい。Ｒで表される一価の非金属原子団としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよいホスフィノイル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルキルチオカルボニル基、置換基を有してもよいアリールチオカルボニル基、置換基を有してもよいジアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいジアルキルアミノチオカルボニル基等が挙げられる。
【００５８】
置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、２−エチルヘキシル基、フェナシル基、１−ナフトイルメチル基、２−ナフトイルメチル基、４−メチルスルファニルフェナシル基、４−フェニルスルファニルフェナシル基、４−ジメチルアミノフェナシル基、４−シアノフェナシル基、４−メチルフェナシル基、２−メチルフェナシル基、３−フルオロフェナシル基、３−トリフルオロメチルフェナシル基、３−ニトロフェナシル基等が挙げられる。
【００５９】
置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、９−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−トリル基、キシリル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等が挙げられる。
【００６０】
置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数２〜１０のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。
【００６１】
置換基を有してもよいアルキニル基としては、炭素数２〜１０のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、プロピニル基、プロパルギル基等が挙げられる。
【００６２】
置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。
【００６３】
置換基を有してもよいアリールスルフィニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、１−ナフチルスルフィニル基、２−ナフチルスルフィニル基、２−クロロフェニルスルフィニル基、２−メチルフェニルスルフィニル基、２−メトキシフェニルスルフィニル基、２−ブトキシフェニルスルフィニル基、３−クロロフェニルスルフィニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、３−シアノフェニルスルフィニル基、３−ニトロフェニルスルフィニル基、４−フルオロフェニルスルフィニル基、４−シアノフェニルスルフィニル基、４−メトキシフェニルスルフィニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。
【００６４】
置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基、パーフルオロアルキルスルホニル基等が挙げられる。
【００６５】
置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、１−ナフチルスルホニル基、２−ナフチルスルホニル基、２−クロロフェニルスルホニル基、２−メチルフェニルスルホニル基、２−メトキシフェニルスルホニル基、２−ブトキシフェニルスルホニル基、３−クロロフェニルスルホニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、３−シアノフェニルスルホニル基、３−ニトロフェニルスルホニル基、４−フルオロフェニルスルホニル基、４−シアノフェニルスルホニル基、４−メトキシフェニルスルホニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。
【００６６】
置換基を有してもよいアシル基としては、炭素数２〜２０のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、４−メチルスルファニルベンゾイル基、４−フェニルスルファニルベンゾイル基、４−ジメチルアミノベンゾイル基、４−ジエチルアミノベンゾイル基、２−クロロベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、２−ブトキシベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、３−トリフルオロメチルベンゾイル基、３−シアノベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基、４−フルオロベンゾイル基、４−シアノベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基等が挙げられる。
【００６７】
置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６８】
置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基、４−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、４−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、２−クロロフェニルオキシカルボニル基、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、２−メトキシフェニルオキシカルボニル基、２−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、３−クロロフェニルオキシカルボニル基、３−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、３−シアノフェニルオキシカルボニル基、３−ニトロフェニルオキシカルボニル基、４−フルオロフェニルオキシカルボニル基、４−シアノフェニルオキシカルボニル基、４−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６９】
置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数２〜５０のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィノイル基等が挙げられる。
【００７０】
置換基を有してもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族或いは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、２Ｈ−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、３Ｈ−インドリル基、インドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、４Ｈ−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、４ａＨ−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基等が挙げられる。
【００７１】
置換基を有してもよいアルキルチオカルボニル基としては、例えば、メチルチオカルボニル基、プロピルチオカルボニル基、ブチルチオカルボニル基、ヘキシルチオカルボニル基、オクチルチオカルボニル基、デシルチオカルボニル基、オクタデシルチオカルボニル基、トリフルオロメチルチオカルボニル基等が挙げられる。
【００７２】
置換基を有してもよいアリールチオカルボニル基としては、１−ナフチルチオカルボニル基、２−ナフチルチオカルボニル基、４−メチルスルファニルフェニルチオカルボニル基、４−フェニルスルファニルフェニルチオカルボニル基、４−ジメチルアミノフェニルチオカルボニル基、４−ジエチルアミノフェニルチオカルボニル基、２−クロロフェニルチオカルボニル基、２−メチルフェニルチオカルボニル基、２−メトキシフェニルチオカルボニル基、２−ブトキシフェニルチオカルボニル基、３−クロロフェニルチオカルボニル基、３−トリフルオロメチルフェニルチオカルボニル基、３−シアノフェニルチオカルボニル基、３−ニトロフェニルチオカルボニル基、４−フルオロフェニルチオカルボニル基、４−シアノフェニルチオカルボニル基、４−メトキシフェニルチオカルボニル基等が挙げられる。
【００７３】
置換基を有してもよいジアルキルアミノカルボニル基としては、ジメチルアミノカルボニル基、ジメエルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボニル基等が挙げられる。
【００７４】
置換基を有してもよいジアルキルアミノチオカルボニル基としては、ジメチルアミノチオカルボニル基、ジプロピルアミノチオカルボニル基、ジブチルアミノチオカルボニル基等が挙げられる。
【００７５】
中でも、高感度化の点から、Ｒとしてはアシル基がより好ましく、具体的には、アセチル基、エチロイル基、プロピオイル基、ベンゾイル基、トルイル基が好ましい。
【００７６】
前記Ｂで表される一価の置換基としては、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、又は、置換基を有してもよい複素環カルボニル基を表す。中でも、特に好ましくは以下に示す構造である。
下記の構造中、Ｙ、Ｘ、及びｎは、それぞれ、後述する一般式（２）におけるＹ、Ｘ、及びｎと同義であり、好ましい例も同様である。
【００７７】
【化５】
0005073542.tif 000006
【００７８】
前記Ａで表される二価の有機基としては、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキレン、置換基を有してもよいシクロヘキシレン、置換基を有してもよいアルキニレンが挙げられる。
これらの基に導入しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、ｐ−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
中でも、Ａとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基）で置換されたアルキレン基、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基）で置換されたアルキレン基、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基）で置換されたアルキレン基が好ましい。
【００７９】
前記Ａｒで表されるアリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、また、置換基を有していてもよい。
具体的には、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、９−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−トリル基、キシリル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等が挙げられる。中でも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。
【００８０】
上記フェニル基が置換基を有している場合、その置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メチルチオキシ基、エチルチオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオキシ基等のアルキルチオキシ基、フェニルチオキシ基、ｐ−トリルチオキシ基等のアリールチオオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、ｐ−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
【００８１】
一般式（１）においては、前記Ａｒと隣接するＳとで形成される「ＳＡｒ」の構造が、以下に示す構造であることが感度の点で好ましい。
【００８２】
【化６】
0005073542.tif 000007
【００８３】
前記一般式（１）で表されるオキシム化合物は、下記一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。
【００８４】
【化７】
0005073542.tif 000008
【００８５】
上記一般式（２）中、Ｒ及びＸは各々独立に一価の置換基を表し、Ａ及びＹは各々独立に二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。ｎは０〜５の整数である。
【００８６】
一般式（２）におけるＲ、Ａ、及びＡｒは、前記一般式（１）におけるＲ、Ａ、及びＡｒと同義であり、好ましい例も同様である。
【００８７】
前記Ｘで表される一価の置換基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいホスフィノイル基、置換基を有してもよい複素環基、ハロゲン基等が挙げられる。
【００８８】
置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、２−エチルヘキシル基、フェナシル基、１−ナフトイルメチル基、２−ナフトイルメチル基、４−メチルスルファニルフェナシル基、４−フェニルスルファニルフェナシル基、４−ジメチルアミノフェナシル基、４−シアノフェナシル基４−メチルフェナシル基、２−メチルフェナシル基、３−フルオロフェナシル基、３−トリフルオロメチルフェナシル基、３−ニトロフェナシル基等が挙げられる。
【００８９】
置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、９−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−トリル基、キシリル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等がある。
【００９０】
置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数２〜１０のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。
【００９１】
置換基を有してもよいアルキニル基としては、炭素数２〜１０のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、プロピニル基、プロパルギル基等が挙げられる。
【００９２】
置換基を有してもよいアルコキシ基としては、炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシキ、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、エトキシカルボニルメチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシカルボニルメチルオキシ基、アミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−メチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−エチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−オクチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノカルボニルメチルオキシ基、ベンジルオキシ基、シアノメチルオキシ基等が挙げられる。
【００９３】
置換基を有してもよいアリールオキシ基としては、炭素数６〜３０のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェニルオキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、２−クロロフェニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、２−メトキシフェニルオキシ基、２−ブトキシフェニルオキシ基、３−クロロフェニルオキシ基、３−トリフルオロメチルフェニルオキシ基、３−シアノフェニルオキシ基、３−ニトロフェニルオキシ基、４−フルオロフェニルオキシ基、４−シアノフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、４−ジメチルアミノフェニルオキシ基、４−メチルスルファニルフェニルオキシ基、４−フェニルスルファニルフェニルオキシ基等がある。
【００９４】
置換基を有してもよいアルキルチオキシ基としては、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基が好ましく、例えば、メチルチオキシ基、エチルチオキシ基、プロピルチオキシ基、イソプロピルチオキシ基、ブチルチオキシ基、イソブチルチオキシ基、ｓｅｃ−ブチルチオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオキシ基、ペンチルチオキシ基、イソペンチルチオキシ基、ヘキシルチオキシキ、ヘプチルチオキシ基、オクチルチオキシ基、２−エチルヘキシルチオキシ基、デシルチオキシ基、ドデシルチオキシ基、オクタデシルチオキシ基、ベンジルチオキシ基等が挙げられる。
【００９５】
置換基を有してもよいアリールチオキシ基としては、炭素数６〜３０のアリールチオキシ基が好ましく、例えば、フェニルチオキシ基、１−ナフチルチオキシ基、２−ナフチルチオキシ基、２−クロロフェニルチオキシ基、２−メチルフェニルチオキシ基、２−メトキシフェニルチオキシ基、２−ブトキシフェニルチオキシ基、３−クロロフェニルチオキシ基、３−トリフルオロメチルフェニルチオキシ基、３−シアノフェニルチオキシ基、３−ニトロフェニルチオキシ基、４−フルオロフェニルチオキシ基、４−シアノフェニルチオキシ基、４−メトキシフェニルチオキシ基、４−ジメチルアミノフェニルチオキシ基、４−メチルスルファニルフェニルチオキシ基、４−フェニルスルファニルフェニルチオキシ基等がある。
【００９６】
置換基を有してもよいアシルオキシ基としては、炭素数２〜２０のアシルオキシ基が好ましく、例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１−ナフチルカルボニルオキシ基、２−ナフチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００９７】
置換基を有してもよいアルキルスルファニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルファニル基が好ましく、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基、シクロヘキシルスルファニル基、オクチルスルファニル基、２−エチルヘキシルスルファニル基、デカノイルスルファニル基、ドデカノイルスルファニル基、オクタデカノイルスルファニル基、シアノメチルスルファニル基、メトキシメチルスルファニル基等が挙げられる。
【００９８】
置換基を有してもよいアリールスルファニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルファニル基が好ましく、例えば、フェニルスルファニル基、１−ナフチルスルファニル基、２−ナフチルスルファニル基、２−クロロフェニルスルファニル基、２−メチルフェニルスルファニル基、２−メトキシフェニルスルファニル基、２−ブトキシフェニルスルファニル基、３−クロロフェニルスルファニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルファニル基、３−シアノフェニルスルファニル基、３−ニトロフェニルスルファニル基、４−フルオロフェニルスルファニル基、４−シアノフェニルスルファニル基、４−メトキシフェニルスルファニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルファニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルファニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルファニル基等が挙げられる。
【００９９】
置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。
【０１００】
置換基を有してもよいアリールスルフィニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、１−ナフチルスルフィニル基、２−ナフチルスルフィニル基、２−クロロフェニルスルフィニル基、２−メチルフェニルスルフィニル基、２−メトキシフェニルスルフィニル基、２−ブトキシフェニルスルフィニル基、３−クロロフェニルスルフィニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、３−シアノフェニルスルフィニル基、３−ニトロフェニルスルフィニル基、４−フルオロフェニルスルフィニル基、４−シアノフェニルスルフィニル基、４−メトキシフェニルスルフィニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。
【０１０１】
置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基等が挙げられる。
【０１０２】
置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、１−ナフチルスルホニル基、２−ナフチルスルホニル基、２−クロロフェニルスルホニル基、２−メチルフェニルスルホニル基、２−メトキシフェニルスルホニル基、２−ブトキシフェニルスルホニル基、３−クロロフェニルスルホニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、３−シアノフェニルスルホニル基、３−ニトロフェニルスルホニル基、４−フルオロフェニルスルホニル基、４−シアノフェニルスルホニル基、４−メトキシフェニルスルホニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。
【０１０３】
置換基を有してもよいアシル基としては、炭素数２〜２０のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、４−メチルスルファニルベンゾイル基、４−フェニルスルファニルベンゾイル基、４−ジメチルアミノベンゾイル基、４−ジエチルアミノベンゾイル基、２−クロロベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、２−ブトキシベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、３−トリフルオロメチルベンゾイル基、３−シアノベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基、４−フルオロベンゾイル基、４−シアノベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基等が挙げられる。
【０１０４】
置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基、４−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、４−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、２−クロロフェニルオキシカルボニル基、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、２−メトキシフェニルオキシカルボニル基、２−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、３−クロロフェニルオキシカルボニル基、３−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、３−シアノフェニルオキシカルボニル基、３−ニトロフェニルオキシカルボニル基、４−フルオロフェニルオキシカルボニル基、４−シアノフェニルオキシカルボニル基、４−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１０５】
置換基を有してもよいカルバモイル基としては、総炭素数１〜３０のカルバモイル基が好ましく、例えば、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−ヘキシルカルバモイル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル基、Ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−デシルカルバモイル基、Ｎ−オクタデシルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ−２−メチルフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−（２−エチルヘキシル）フェニルカルバモイル基、Ｎ−３−クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ−３−ニトロフェニルカルバモイル基、Ｎ−３−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−メトキシフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジブチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジフェニルカルバモイル基等が挙げられる。
【０１０６】
置換基を有してもよいスルファモイル基としては、総炭素数０〜３０のスルファモイル基が好ましく、例えば、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモオイル基等が挙げられる。より具体的には、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル基、Ｎ−オクチルスルファモイル基、Ｎ−２−エチルヘキシルスルファモイル基、Ｎ−デシルスルファモイル基、Ｎ−オクタデシルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基、Ｎ−２−メチルフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−クロロフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−メトキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−クロロフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−ニトロフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−シアノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−メトキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−シアノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−ジメチルアミノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルスルファモイル基等が挙げられる。
【０１０７】
置換基を有してもよいアミノ基としては、総炭素数０〜５０のアミノ基が好ましく、例えば、−ＮＨ２、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ−アシルアミノ基、Ｎ−スルホニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジスルホニルアミノ基等が挙げられる。より具体的には、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ―ブチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−オクチルアミノ基、Ｎ−２−エチルヘキシルアミノ基、Ｎ−デシルアミノ基、Ｎ−オクタデシルアミノ基、Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−２−メチルフェニルアミノ基、Ｎ−２−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−２−メトキシフェニルアミノ基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルアミノ基、Ｎ−２−（２−エチルヘキシル）フェニルアミノ基、Ｎ−３−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−３−ニトロフェニルアミノ基、Ｎ−３−シアノフェニルアミノ基、Ｎ−３−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、Ｎ−４−メトキシフェニルアミノ基、Ｎ−４−シアノフェニルアミノ基、Ｎ−４−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルアミノ基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルアミノ基、Ｎ−４−ジメチルアミノフェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジアセチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジベンゾイルアミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジブチルカルボニル）アミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジメチルスルホニル）アミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジエチルスルホニル）アミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジブチルスルホニル）アミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジフェニルスルホニル）アミノ基、モルホリノ基、３，５−ジメチルモルホリノ基、カルバゾール基等が挙げられる。
【０１０８】
置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数２〜５０のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィノイル基等が挙げられる。
【０１０９】
置換基を有してもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族或いは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、２Ｈ−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、３Ｈ−インドリル基、インドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、４Ｈ−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、４ａＨ−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基等がある。
【０１１０】
ハロゲン基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等がある。
【０１１１】
更に、前述した置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよい複素環基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
【０１１２】
そのような置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、ｐ−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
【０１１３】
これらの中でも、Ｘとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基が好ましい。
また、一般式（２）におけるｎは０〜５の整数を表すが、０〜２の整数が好ましい。
【０１１４】
前記Ｙで表される二価の有機基としては、以下に示す構造が挙げられる。なお、以下に示される基において、「＊」は、一般式（２）において、Ｙと隣接する炭素原子との結合位置を示す。
【０１１５】
【化８】
0005073542.tif 000009
【０１１６】
中でも、高感度化の観点から、下記に示す構造が好ましい。
【化９】
0005073542.tif 000010
【０１１７】
前記一般式（１）で表されるオキシム化合物は、下記一般式（３）で表される化合物であることが好ましい。
【０１１８】
【化１０】
0005073542.tif 000011
【０１１９】
上記一般式（３）中、Ｒ及びＸは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。ｎは０〜５の整数である。
【０１２０】
一般式（３）におけるＲ、Ｘ、Ａ、Ａｒ、及びｎは、一般式（２）におけるＲ、Ｘ、Ａ、Ａｒ、及びｎとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。
【０１２１】
以下、前記一般式（１）で表されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２２】
【化１１】
0005073542.tif 000012
【０１２３】
【化１２】
0005073542.tif 000013
【０１２４】
【化１３】
0005073542.tif 000014
【０１２５】
【化１４】
0005073542.tif 000015
【０１２６】
【化１５】
0005073542.tif 000016
【０１２７】
【化１６】
0005073542.tif 000017
【０１２８】
【化１７】
0005073542.tif 000018
【０１２９】
【化１８】
0005073542.tif 000019
【０１３０】
【化１９】
0005073542.tif 000020
【０１３１】
【化２０】
0005073542.tif 000021
【０１３２】
【化２１】
0005073542.tif 000022
【０１３３】
【化２２】
0005073542.tif 000023
【０１３４】
【化２３】
0005073542.tif 000024
【０１３５】
【化２４】
0005073542.tif 000025
【０１３６】
【化２５】
0005073542.tif 000026
【０１３７】
【化２６】
0005073542.tif 000027
【０１３８】
【化２７】
0005073542.tif 000028
【０１３９】
前記一般式（１）で表されるオキシム化合物は、３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものである。より好ましくは、３６０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものを挙げることができる。特に、３６５ｎｍ及び４５５ｎｍの吸光度が高いものが好ましい。
このように、前記一般式（１）で表されるオキシム化合物は、従来の他のオキシム系の化合物に比して、長波長領域に吸収を有する。したがって、３６５ｎｍや４０５ｎｍの光源で露光した際に、優れた感度を示すことになる。
【０１４０】
前記一般式（１）で表されるオキシム化合物は、３６５ｎｍ、又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１００００〜３０００００であることが好ましく、１５０００〜３０００００であることがより好まく、２００００〜２０００００であることが特に好ましい。
ここで、前記一般式（１）で表されるオキシム化合物のモル吸光係数は、紫外可視分光光度計（Varian社製、Carry-5 spectrophotometer）にて、酢酸エチル溶媒を用いて０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定される。
【０１４１】
本発明における前記一般式（１）で表されるオキシム化合物は、例えば、以下に示す方法により合成することができるが、この方法に限定されるものではない。
【０１４２】
【化２８】
0005073542.tif 000029
【０１４３】
前記一般式（１）で表されるオキシム化合物は、光により分解し、重合性化合物の重合を開始、促進する光重合開始剤としての機能を有する。特に、一般式（１）で表されるオキシム化合物は、３６５ｎｍや４０５ｎｍの光源に優れた感度を有する。
【０１４４】
オキシム系重合開始剤の着色硬化性組成物中における含有量としては、重合性化合物に対して、２〜３０質量％が好ましく、２〜１５質量％が好ましい。オキシム系重合開始剤の含有量は、２質量％以上であると高い露光感度が得られ、１５質量％以下であると露光量に対する線幅太りの抑制の点で有利である。
オキシム化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１４５】
−アミノアルキルフェノン系重合開始剤−
本発明の着色硬化性組成物は、アミノアルキルフェノン系重合開始剤の少なくとも一種を含有する。α−アミノアルキルフェノン系重合開始剤としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物を挙げることができる。
【０１４６】
【化２９】
0005073542.tif 000030
【０１４７】
前記一般式（Ａ）において、Ｒ１は、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を表す。Ｒ１としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等などが挙げられ、良好な線幅感度と広いＤＯＦマージンが得ると共に支持体との密着性能を高める点で、Ｒ１はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が好ましく、エチル基がより好ましい。
【０１４８】
Ｒ２及びＲ３は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、又はベンジル基を表す。Ｒ２、Ｒ３で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、良好な線幅感度と広いＤＯＦマージンが得ると共に支持体との密着性能を高める点で、Ｒ２、Ｒ３は各々独立にメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が好ましく、メチル基がより好ましい。
【０１４９】
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、又は炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基を表す。ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、等が挙げられる。良好な線幅感度と広いＤＯＦマージンが得ると共に支持体との密着性能を高める点で、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８は、各々独立に水素原子、メチル基、エチル基  が好ましく、水素原子がより好ましい。
【０１５０】
Ｒ６は、ハロゲン原子；炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基；水酸基及び炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基の群から選ばれる置換基で置換された炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基；炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基；又は水酸基及び炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基の群から選ばれる置換基で置換された炭素数２〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基を表す。
【０１５１】
Ｒ６において、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の直鎖状、及び分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基は、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８におけるハロゲン原子、炭素数１〜１２の直鎖状、及び分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基とそれぞれ同義である。
また、Ｒ６の「水酸基及び炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基の群から選ばれる置換基で置換された炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基」において、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基としては、例えば、前記Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基について例示した基と同様のものが挙げられる。Ｒ６の「置換された炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基」に対する置換基としては、例えば、水酸基、メトキシ基等が好ましい。Ｒ６の「置換される炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基」としては、例えば、前記Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８の炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基」について例示した基と同様のものを挙げることができる。Ｒ６の「置換された炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基」において、置換基は１種以上あるいは１個以上存在することができる。
【０１５２】
また、Ｒ６の「水酸基及び炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基の群から選ばれる置換基で置換された炭素数２〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基」において、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基としては、例えば、前記Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８の「炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基」について例示した基と同様のものを挙げることができる。Ｒ６の「置換された炭素数２〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基」に対する置換基としては、例えば、水酸基、メトキシ基等が好ましい。Ｒ６の「置換される炭素数２〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基」としては、例えば、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができる。Ｒ６の「置換された炭素数２〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基」において、置換基は１種以上あるいは１個以上存在することができる。
【０１５３】
Ｒ６は、良好な線幅感度と広いＤＯＦマージンが得ると共に支持体との密着性能を高める点で、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、２−メトキシエチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ヒドロキシメトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、メトキシメトキシ基、２−メトキシエトキシ基等が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましい。
【０１５４】
本発明においては、膜表面から膜深部に至る膜全体の重合開始効率を均等にし、良好な線幅感度と広いＤＯＦマージンが得ると共に支持体との密着性能を高める観点から、Ｒ１は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等であって、Ｒ２はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等であって、Ｒ３はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等であって、Ｒ４は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ５は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ７は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ８は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ６はメチル基、エチル基である場合が好ましい。
【０１５５】
前記一般式（Ａ）で表されるアミノアルキルフェノン系化合物の例としては、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９）、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９）、２−（４−エチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−ｉ−プロピルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−ｎ−ブチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−ｉ−ブチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−ｎ−ドデシルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（３，４−ジメチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−メトキシベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−エトキシベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−ヒドロキシメチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）ベンジル〕−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−〔４−（２−メトキシエトキシ）ベンジル〕−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−ｉ−プロピルベンジル）−２−〔（ｎ−ブチル）（メチル）アミノ〕−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−ｎ−ブチルベンジル）−２−〔（ｎ−ブチル）（メチル）アミノ〕−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（４−ｉ−プロピルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ペンタン−１−オン、２−（４−ｉ−ブチルベンジル）−２−〔（ｎ−ブチル）（メチル）アミノ〕〕−１−（４−モルフォリノフェニル）ペンタン−１−オン、２−（４−ｎ−ブトキシベンジル）−２−〔（ｎ−ブチル）（メチル）アミノ〕−１−（４−モルフォリノフェニル）ペンタン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−〔ジ（ｎ−オクチル）アミノ〕−１−（４−モルフォリノフェニル）ヘキサン−１−オン、２−（４−ｎ−ドデシルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）オクタン−１−オン等が挙げられる。
中でも、前記同様の理由から、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オンが好ましい。
【０１５６】
アミノアルキルフェノン系重合開始剤の着色硬化性組成物中における含有量としては、重合性化合物に対して、５〜４０質量％が好ましく、１５〜３０質量％が好ましい。アミノアルキルフェノン系重合開始剤の含有量は、５質量％以上であると膜深部にわたる光感度を高めて、前記オキシム系重合開始剤と併用したことによる膜全体の重合開始効率が向上し、高い線幅感度と広いＤＯＦマージン及び剥がれの発生が抑えられる密着性が得られ、４０質量％以下であると溶剤溶解性の点で有利である。
【０１５７】
上記したオキシム系重合開始剤及びアミノアルキルフェノン系重合開始剤の組み合わせ形態としては、膜全体（特に厚み方向）の重合反応を均等にし、良好な線幅感度と広いＤＯＦマージンが得ると共に、例えば色相や着色剤量により光吸収が大きい場合や、パターンサイズが比較的大きく異なるパターンが混在する場合など、膜面全体にわたり現像後の密着性が損なわれやすい場合の密着性能を高める観点から、
（ａ）前記オキシム系重合開始剤が、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン、又は前記一般式（１）で表される化合物であって、前記アミノアルキルフェノン系重合開始剤が、前記一般式（Ａ）で表される化合物〔但し、Ｒ１はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基であって、Ｒ２はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基であって、Ｒ３はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基であって、Ｒ４は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ５は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ７は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ８は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ６はメチル基、エチル基である。〕である形態、
（ｂ）前記オキシム系重合開始剤が、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン、又は前記一般式（１）で表される化合物であって、前記アミノアルキルフェノン系重合開始剤が、前記一般式（Ａ）で表される化合物〔但し、Ｒ１はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基であって、Ｒ２はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基であって、Ｒ３はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基であって、Ｒ４は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ５は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ７は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ８は水素原子、メチル基、エチル基であって、Ｒ６はメチル基、エチル基である。〕である形態、
（ｃ）前記オキシム系重合開始剤が、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン、又は前記一般式（１）で表される化合物であって、前記アミノアルキルフェノン系重合開始剤が、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オンである形態、
が好ましく、中でも、特に好ましくは、
（ｄ）前記オキシム系重合開始剤の１種が１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノンであって、前記アミノアルキルフェノン系開始剤の１種が２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オンである形態である。
【０１５８】
本発明において、オキシム系重合開始剤（oxm）とアミノアルキルフェノン系重合開始剤（aap）との含有比率（oxm：aap）としては、１６：６〜１：２１の範囲が好ましく、１３：９〜１：２１の範囲がより好ましく、更には１０：１２〜２：２０の範囲が好ましく、８：１４〜３：１９の範囲が特に好ましい。含有比率oxm：aapが前記範囲内であると、成膜された膜表面のみならず、膜表面から膜深部（すなわち基板近傍）に至る膜全体の重合開始効率をより高めることができる。これより、より良好な線幅感度と広いＤＯＦマージンが得られ、線幅変動が少なく形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）の良好なパターン形成が可能になる。また、支持体との間の密着性が向上し、剥がれの画像欠陥をより効果的に抑制することができる。
【０１５９】
また、本発明の着色硬化性組成物には、上記のオキシム系及びアミノアルキルフェノン系の重合開始剤のほか、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて更に他の重合開始剤（ただし、（ビス）アシルフォスフィンオキシド系の重合開始剤を除く）を含んでもよい。該他の重合開始剤としては、ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物から選択される少なくとも１つの活性ハロゲン化合物、３−アリール置換クマリン化合物、ロフィン２量体、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩などが挙げられる。
【０１６０】
上記の重合開始剤には、必要に応じて増感剤や光安定剤を併用することができる。
具体的な例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、９−フルオレノン、２−クロロ−９−フルオレノン、２−メチル−９−フルオレノン、９−アントロン、２−ブロモ−９−アントロン、２−エチル−９−アントロン、９，１０−アントラキノン、２−エチル−９，１０−アントラキノン、２−ｔ−ブチル−９，１０−アントラキノン、２，６−ジクロロ−９，１０−アントラキノン、キサントン、２−メチルキサントン、２−メトキシキサントン、２−エトキシキサントン、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、ベンジル、ジベンザルアセトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニルスチリルケトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニル−ｐ−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（またはミヒラーケトン）、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾアントロン等や特公昭５１−４８５１６号公報記載のベンゾチアゾール系化合物等や、チヌビン１１３０、同４００等が挙げられる。
【０１６１】
−他の成分−
本発明の着色硬化性組成物には、必要に応じて上記成分以外の他の成分を含有してもよい。例えば、本発明の着色硬化性組成物は、樹脂を含有してもよい。樹脂としては、ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体、ベンジルメタアクリレート／アクリル酸共重合体、ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体／及び他のモノマーとの多元共重合体等の公知の樹脂を用いることができる。本発明の着色硬化性組成物が樹脂を含有する場合、樹脂の含有量は重合性化合物の全量に対して０．１〜２．０質量％が好ましく、０．３〜１．０質量％がより好ましい。
また、本発明の着色硬化性組成物は、有機溶剤を含有してもよい。有機溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン等の公知の溶剤を用いることができる。
更には、他の添加剤として、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の重合禁止剤、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤、アニオン、カチオン、ノニオン系の界面活性剤等の公知の添加剤を含有することができる。
【０１６２】
本発明の着色硬化性組成物は、上記の各成分を各種の混合機、分散機を使用して混合分散することによって調製することができる。
【０１６３】
本発明の着色硬化性組成物は、液晶表示装置（ＬＣＤ）や固体撮像素子（例えばＣＣＤ、ＣＭＯＳなど）等に用いられるカラーフィルタなどの着色画素形成用として、好適に用いることができる。
本発明の着色硬化性組成物は、着色パターンが微少サイズで薄膜に形成され、しかも良好な矩形の断面プロファイルが要求される固体撮像素子用のカラーフィルタの形成に特に好適である。具体的には、カラーフィルタを構成する画素パターンサイズ（基板法線方向からみた画素パターンの辺長）が２μｍ以下である場合（例えば０．５〜２．０μｍ）は、着色剤量が増大したり色相が青色系である等により、線幅感度が悪くなり、ＤＯＦマージンが狭くなる結果、パターン形成性が損なわれやすい。これは、特に画素パターンサイズが１．０〜１．７μｍ（更に１．２〜１．５μｍ）の場合に顕著になる。また、厚み１μｍ以下の薄膜である場合、着色剤を除くフォトリソ性に寄与する成分の膜中の量が相対的に減少し、着色剤量の増大で他成分の量は更に減少して、低感度化し、低露光量領域ではパターンが剥離しやすくなり、前記同様にポストベーク等の熱処理で熱ダレを起こし易い。これは、特に膜厚が０．００５μｍ〜０．９μｍ（更に０．１μｍ〜０．７μｍ）の場合に顕著になる。
このような固体撮像素子用のカラーフィルタを形成する場合において、特に本発明の着色硬化性組成物を用いることにより、パターン形成性が効果的に改善され、熱ダレによる順テーパー化が抑えられ、矩形に近いパターンが得られる。更には、高感度が得られると共に、形成されたパターンの基板等との密着性も向上し、剥がれの発生、ひいては画像欠陥の発生が防止される。
【０１６４】
＜カラーフィルタ及びその製造方法＞
次に、本発明のカラーフィルタについて、その製造方法を通じて詳述する。
本発明のカラーフィルタは、既述の本発明の着色硬化性組成物を用いて作製されたものであり、本発明の着色硬化性組成物を用いた方法であれば特に制限はない。好ましくは、既述の本発明の着色硬化性組成物を支持体上に塗布後、塗布形成された塗布膜をマスクを通して露光し、現像してパターンを形成する工程（以下、「パターン形成工程」ともいう。）を有する方法（本発明のカラーフィルタの製造方法）により作製される。
【０１６５】
本発明のカラーフィルタ及びその製造方法においては、既述の本発明の着色硬化性組成物が用いられる。本発明の着色硬化性組成物を用いることで、成膜された膜表面のみならず、膜表面から膜深部（すなわち基板近傍）に至る膜全体の重合開始効率が高められるので、パターン露光時に良好な線幅感度と広いＤＯＦマージン（深い焦点深度）が得られ、精細でパターン形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）が良好であると共に、支持体との密着性も良好で剥がれ等の画像欠陥の発生を抑えたカラーフィルタの作製が可能である。
【０１６６】
本発明におけるパターン形成工程では、例えば、着色硬化性組成物を支持体上に回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法により塗布して感放射線性組成物層を形成し、形成された層を所定のマスクパターンを介して露光し、現像液で現像することでネガ型の着色パターンを形成することによって、カラーフィルタを作製することができる。また、必要により、形成された着色パターンを加熱及び／又は露光により硬化する硬化工程を含んでいてもよい。
【０１６７】
カラーフィルタの作製においては、パターン形成工程（及び必要により硬化工程）を所望の色相数だけ繰り返すことにより、所望の色相よりなるカラーフィルタを作製することができる。露光の際に用いられる光もしくは放射線としては、特にｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線が好ましい。
【０１６８】
露光は、プロキシミティ方式、ミラープロジェクション方式、及びステッパー方式のいずれの方式で露光を行なってもよいが、特にステッパー方式（縮小投影露光機を用いた縮小投影露光方式）で露光を行なうのが好ましい。ステッパー方式は、露光量を段階的に変動しながら露光を行なうことによってパターンを形成するものであり、ステッパー露光を行なった際に特にパターンの矩形性を良好にすることができる。
また、ステッパー露光に用いる露光装置としては、例えば、ｉ線ステッパー（商品名：ＦＰＡ−３０００ｉ５＋、キャノン（株）製）等を用いることができる。
【０１６９】
前記支持体としては、例えば、液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等や、相補性金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）等が挙げられる。これらの基板は、各画素を隔離するブラックストライプが形成されている場合もある。
また、これらの支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止あるいは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
【０１７０】
前記現像液としては、本発明の着色硬化性組成物（未硬化部）を溶解する一方、照射された硬化部を溶解しない組成よりなるものであればいかなるものも用いることができる。具体的には、種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。前記有機溶剤としては、本発明の着色硬化性組成物を調製する際に使用される前述の有機溶剤が挙げられる。
【０１７１】
前記アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−〔５．４．０〕−７−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解してなるアルカリ性水溶液が好適である。
なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合は、一般に、現像後水で洗浄する。
【０１７２】
本発明のカラーフィルタは、液晶表示素子やＣＣＤ等の固体撮像素子に用いることができ、特に１００万画素を超えるような高解像度のＣＣＤ素子やＣＭＯＳ等に好適である。本発明のカラーフィルタは、例えば、ＣＣＤを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。
【０１７３】
＜固体撮像素子＞
本発明の固体撮像素子は、本発明の着色硬化性組成物が用いられて密着性及び矩形性や線幅等の形状に優れたパターンを有するカラーフィルタを設けて構成されたものである。本発明の固体撮像素子は、既述の本発明のカラーフィルタを備えるので、優れた色再現性を有する。
【０１７４】
固体撮像素子の構成としては、本発明のカラーフィルタを備え、固体撮像素子として機能する構成であれば、特に限定はなく、例えば以下のような構成が挙げられる。
支持体上に、ＣＣＤイメージセンサー（固体撮像素子）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、前記フォトダイオード及び前記転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、前記デバイス保護膜上に、本発明のカラーフィルタを有する構成である。
さらに、前記デバイス保護層上であってカラーフィルタの下（支持体に近い側）に集光手段（例えばマイクロレンズ等。以下同様。）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
【実施例】
【０１７５】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０１７６】
（実施例１）
＜平坦化膜付きウエハの作製＞
（１）平坦化膜用レジスト液の調製
下記組成の成分を混合して撹拌機で撹拌し、平坦化膜用レジスト液を調製した。
<平坦化膜用レジスト液の組成>
・ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体  ・・・１６．４部
（＝７０／３０［モル比］、重量平均分子量：３００００）
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート  ・・・６．５部
・プロピレングリコールモノメチルエチルアセテート  ・・・１３．８部
・エチル−３−エトキシプロピオネート  ・・・１２．３部
・下記トリアジン系開始剤  ・・・０．３部
【０１７７】
【化３０】
0005073542.tif 000031
【０１７８】
（２）平坦化膜の形成
６インチシリコンウエハを用意し、このウエハ上に上記で得られた平坦化膜用レジスト液をスピンコートで均一に塗布して塗布膜を形成し、形成された塗布膜を表面温度１２０℃のホットプレート上で１２０秒間加熱処理した。ここで、スピンコートは、塗布回転数を加熱処理後の塗布膜の膜厚が約１μｍとなるように調整して行なった。次いで、加熱処理後の塗布膜を、更に２２０℃のオーブンにて１時間加熱処理し、塗布膜を硬化させて平坦化膜とした。
以上のようにして、６インチシリコンウエハ上に平坦化膜が形成された平坦化膜付きウエハを得た。
【０１７９】
＜カラーレジスト液（着色硬化性組成物）の調製＞
以下に示す組成の成分を混合し、攪拌機で混合撹拌することにより、青色系のカラーレジスト液を調製した。顔料の液固形分に対する含有割合は３８質量％であった。
<カラーレジスト液の組成>
・ベンジルメタアクリレート／メタクリル酸共重合体  ・・・３．００部
（＝７０／３０［モル比］、重量平均分子量：３００００）
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６  ・・・５．７８部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３  ・・・１．４４部
・高分子分散剤（ディスパーエイド１６３（ビックケミー社製顔料分散剤）  ・・・２．７８部
・プロピレングリコールモノメチルエチルアセテート  ・・・８１部
・ｐ−メトキシフェノール（重合禁止剤）  ・・・０．００２部
・アロニックスＭ−３０５（東亞合成（株）製；重合性モノマー）  ・・・４．５０部
・１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン〔ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０２、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；オキシム系重合開始剤〕  ・・・０．９５部
・２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；アミノアルキルフェノン系重合開始剤）  ・・・０．５５部
【０１８０】
＜カラーフィルタの作製＞
得られたカラーレジスト液を、上記の平坦化膜付きウエハの平坦化膜上にスピンコートにより均一に塗布して塗布膜を形成し、形成された塗布膜を表面温度１００℃のホットプレート上で１２０秒間加熱処理（プリベーク）してカラーレジスト層を形成した。ここで、スピンコートは、塗布回転数１２５０ｒｐｍにて２０秒間回転し、加熱処理後の塗布膜の膜厚が０．８μｍとなるように調整した。このとき、波長３６５ｎｍでの光透過率は４．３％であった。
なお、膜厚の測定は、蝕針式膜厚計Ｄｅｋｔａｋ ６Ｍ（Ｖｅｅｃｏ社製）を用いて行なった。
【０１８１】
次に、ｉ線ステッパー（ＦＰＡ−３０００ｉ５＋、キャノン（株）製）を用い、フォトマスクを通してカラーレジスト層をパターン露光した。パターン露光は、２１行×１９列のマトリックス状に配列されたパターンの計３９９箇所に行なった。このとき、マトリックスのうちの上記２１行は、最小露光量を５００Ｊ／ｍ２とし、５００Ｊ／ｍ２から２５０Ｊ／ｍ２間隔で１行ごとに露光量を増加させた条件となっており、一方の上記１９列は、焦点距離最適値（Ｆｏｕｃｕｓ ０．０μｍ）を中心として０．１μｍ間隔で焦点距離を変化させた条件となっている。すなわち、中央１列を焦点距離最適値とし、１列ごとに焦点距離を変化させた条件としてある。また、フォトマスクとしては、１．１μｍ角の正方形ピクセルパターンが４ｍｍ×３ｍｍの範囲内に配列されたマスクパターンを有するフォトマスクを用いた。
【０１８２】
パターン露光後のカラーレジスト層を、有機アルカリ性現像液ＣＤ−２０６０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を用いて、室温にて６０秒間パドル現像した。現像後、スピンシャワーにて２０秒間純水でリンスを行ない、更に純水にて水洗を行なった。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、自然乾燥させて、ウエハ上に着色パターンを形成した。このようにして、青色系のカラーフィルタを作製した。
【０１８３】
＜評価＞
得られたカラーフィルタ及びその製造過程に対して下記の評価を行なった。評価結果は、下記表１に示す。
【０１８４】
−１．線幅感度−
ウエハ上に形成されている着色パターンを、測長ＳＥＭ（Ｓ−９２６０（走査電子顕微鏡）、（株）日立製作所製）を用いて測定し、着色パターンの寸法が１．４μｍで解像している露光量を求め、この露光量を線幅感度を評価する指標とした。線幅感度は、５００〜４０００Ｊ／ｍ２の範囲内となる場合が好ましく、１０００〜３０００Ｊ／ｍ２となる場合が特に望ましい。
【０１８５】
−２．密着感度−
マトリックス状の正方形パターンがウエハから剥がれることなく全て密着している露光量を求め、この露光量を密着感度を評価する指標とした。密着感度は、値が小さいほど良好であることを示す。
【０１８６】
−３．密着マージン−
上記の密着感度を示す値から線幅感度を示す値を差し引いて差分を求め、これを密着マージンを評価する指標とした。密着マージンは、差分の値が大きいほど良好であることを示す。なお、密着マージンは、７５０Ｊ／ｍ２Ｊ以上となる場合が好ましく、１５００Ｊ／ｍ２Ｊ以上となる場合が特に望ましい。
【０１８７】
−４．総合判定−
上記の線幅感度、密着感度、及び密着マージンの結果を踏まえ、下記の判定基準にしたがって判定した。
<判定基準>
◎：パターン形成性に特に優れており、ウエハとの密着性にも優れている。
○：パターン形成性に優れており、ウエハとの密着性も良好であった。
△：パターン形成を支障なく行なえ、パターン剥がれもほとんどみられなかった。
×：パターン形成性に劣っており、密着性も悪くパターン剥がれが多くみられた。
【０１８８】
（実施例２〜６、比較例１〜２）
実施例１において、カラーレジスト液の調製に用いた重合開始剤の種類及び量、並びに、重合性モノマーの種類を、下記表１に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタを作製し、評価を行なった。
【０１８９】
【表１】
0005073542.tif 000032
【０１９０】
前記表１中の成分の詳細については以下の通りである。
＊ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
＊オキシム系重合開始剤Ａ：下記構造のオキシム系化合物
＊ＩＲＧＡＣＵＲＥ（ＩＲＧ）３７９：下記構造のアミノアルキルフェノン系化合物
【０１９１】
【化３１】
0005073542.tif 000033
【０１９２】
【化３２】
0005073542.tif 000034
【０１９３】
前記表１に示すように、実施例では、青色系の色パターンにおいて、線幅感度が良好でＤＯＦマージンも広く、線幅及び良好な矩形性を有する所望のパターンが得られた。また、得られたパターンは、ウエハからの剥がれもみられず、ウエハに対する密着性も良好であった。
これに対し、比較例では、線幅感度が悪くＤＯＦマージンも狭く、パターン形成性に劣っていた。また、ウエハとの密着性も悪かった。