(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱手段を有するベースと、当該ベースに備えたかけ面と、当該かけ面に備えた複数のスチーム噴出孔とを備えたスチームアイロンにおいて、前記複数のスチーム噴出孔のうち、少なくとも前記加熱手段に沿って一列に連続して配設された前記複数のスチーム噴出孔を、前記かけ面に備えた１つの溝部の中に配設し、前記複数のスチーム噴出孔のうち、前記加熱手段に沿って一列に連続して配設された前記複数のスチーム噴出孔以外を、前記一列に沿うように連続して設けた列を略平行に形成して、前記一列の内側に間断なく連続して配設したことを特徴とするスチームアイロン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、布地などに使用するスチームアイロンに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加熱手段を有するベースと、ベースに備えたかけ面と、かけ面に備えたスチームを噴出する複数の孔とを備えたスチームアイロン（特許文献１）が開示されている。
【０００３】
従来のスチームアイロンでは、図７に示すようにかけ面１０１上にある符号１０２に示す複数の窪み１個に対し孔１０３を１個備えるものであった。
【特許文献１】特開２００８−７９６３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来のスチームアイロンでは、アイロンかけ動作において、窪み１０２を介して孔１０３から噴出されるスチームは、アイロンの所定方向に沿って複数の窪み１０２に沿って筋状に布地に噴出されており、そのためアイロン掛けでスチームが布地に万遍無くかかっていないという問題点があった。
【０００５】
本発明は、上記問題点を解決して、アイロンかけ動作において、スチームを布地に万遍無くかけることができるスチームアイロンを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１の発明のスチームアイロンでは、加熱手段を有するベースと、当該ベースに備えたかけ面と、当該かけ面に備えた複数のスチーム噴出孔とを備えたスチームアイロンにおいて、前記複数のスチーム噴出孔のうち、少なくとも前記加熱手段に沿って一列に連続して配設された前記複数のスチーム噴出孔を、前記かけ面に備えた１つの溝部の中に配設し、前記複数のスチーム噴出孔のうち、前記加熱手段に沿って一列に連続して配設された前記複数のスチーム噴出孔以外を、前記一列に沿うように連続して設けた列を略平行に形成して、前記一列の内側に間断なく連続して配設したことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
請求項１の発明によれば、加熱手段に沿って一列に連続して配設された複数の孔を溝部の中に配設したことで、溝部の中を複数の孔の少なくとも一部から噴出されるスチームで満し、アイロンかけ動作において、溝部から布地に万遍無くスチームを噴出することが可能となる。また、加熱手段沿いの孔の列の内側に複数の孔を設けたことにより、かけ面全体における孔の面積を増大させ、布地にさらに万遍無くスチームを噴出させることが可能となる。また、アイロンをかけ方向に前進させた場合の溝部が通過した後の布地や、溝部の通過しなかった部分の布地にも万遍無くスチームを噴出させることが可能なので、かけ面の通過したほぼ全ての布地の部分に対して万遍無くスチームを噴出させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明に係るスチームアイロンの好ましい実施例を、添付図面に基づいて説明する。図１乃至図６は、本発明の一実施例を示すもので、１はアイロン本体で、このアイロン本体１は、例えばアルミダイカストで形成されたベース２の上面にベース２からの熱を遮断する遮熱板３を設け、この遮熱板３の上面をカバー４で覆い、このカバー４の上にハンドル５を取り付けてなる。
【０００９】
ベース２には加熱手段たるヒータ６が鋳込まれているとともに、上面に気化室７が形成され、この気化室７内がベース２の下面に複数設けられたスチーム噴出孔８を介してその下側に連通している。
【００１０】
前記ヒータ６は、図４に破線で示すように平面視においてベース２の後部を開放方向側とした略Ｕ字形状を有している。
【００１１】
前記スチーム噴出孔８は、ベース２の下部に形成されたかけ面２Ａに複数形成されている。
【００１２】
図４に示すように複数のスチーム噴出孔８のうち、少なくとも複数のスチーム噴出孔８Ａは、かけ面２Ａの平面から見てヒータ６の位置に略相当する位置に一列に略Ｕ字状に連続して設けられており、つまり複数のスチーム噴出孔８Ａは、かけ面２Ａの平面からみてヒータ６に沿うようにヒータ６の略直下部分のかけ面２Ａに配設されている。
【００１３】
また、図４に示すようにヒータ６に沿って略Ｕ字状に一列に連続して設けられた複数のスチーム噴出孔８Ａの列（以下、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列と呼称する）は、かけ面２Ａの平面から見てヒータ６の位置に略相当する位置に形成され、つまりヒータ６に沿ってかけ面２Ａに略Ｕ字状に連続して形成された凹溝状の溝部２Ｂの中の窪み内に全て収められて配設されたものであり、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列と同様に溝部２Ｂも、ヒータ６の略直下部分のかけ面２Ａに形成されたものである。
【００１４】
さらに、図４に示すように複数のスチーム噴出孔８のうち、複数のスチーム噴出孔８Ａ以外の複数のスチーム噴出孔８Ｂは、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列の内側において、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列に沿うようにして、それぞれ複数のスチーム噴出孔８Ｂを略Ｕ字状及び略Ｖ字状に連続して設けた各列（図４中では６列）を相互に略平行に形成して設けると共に、ベース２の前後方向をアイロンのかけ方向Ｘとした場合に、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列の内側のかけ面２Ａにおいて、アイロンのかけ方向Ｘと直交する方向にほぼ間断なく連続して配設されている。
【００１５】
遮熱板３の上面には導液路たる通水継手９が設けられ、この通水継手９の一端側の上面に開口１０が形成されている。通水継手９の内部には、前記開口１０に連通する流入部１１と流出部１２が形成されている。
【００１６】
遮熱板３と通水継手９の間には前記流出部１２と前記気化室７を連通し、通水継手９内の水を外部へ漏れないようにシールされる通水パッキン１３が配置されている。
【００１７】
カバー４とハンドル５の間には水タンク１４が配置され、この水タンク１４の底部には流出口１５が形成されている。この流出口１５が通水継手９の開口１０に液密的に接続し、水タンク１４内に収容された水がこの流出口１５から開口１０を通して通水継手９の流入部１１内に流入するようになっている。
【００１８】
前記水タンク１４の前面の上部には注水口１６が形成され、この注水口１６に注水口蓋１７が設けられ、この注水口蓋１７を開放して注水口１６から水タンク１４内に水を適宜注入することができるものである。
【００１９】
通水継手９の他端側の上面には支持リブ１８および支持板１９が一体に形成され、これら支持リブ１８および支持板１９を介して通水継手９の上に送液装置たる電磁ポンプ２０がほぼ垂直に起立する縦長の状態で取り付けられている。
【００２０】
この電磁ポンプ２０はコ字形のホルダー２１によりその上下面を保持され、前記ホルダー２１の側面が前記支持板１９の側面に係合し、この状態でホルダー２１がネジ２２により前記支持板１９に締付け固定されている。さらにホルダー２１の下面は、支持リブ１８により当接支持されている。
【００２１】
電磁ポンプ２０は、一端側の端面に吸水口２３を他端側の端面に排水口２４を有し、前記排水口２４が上方を、前記吸水口２３が下方を向く起立状態で支持され、前記排水口２４に逆Ｕ字形の送水パイプ２５が接続されている。
【００２２】
そして前記吸水口２３が通水継手９の流入部１１内に挿入され、前記送水パイプ２５の先端が流出部１１に挿入され、電磁ポンプ２０の作動により前記流入部１１内の水が吸水口２３から吸入され、この水が排水口２４から送水パイプ２５を通して流出部１２に供給されるようになっている。
【００２３】
ベース２の上面にはサーミスタなどからなる温度センサ２６が設けられ、またハンドル５の内部には基板２７が設けられ、この基板２７の上にアイロン本体１の姿勢、即ちアイロン本体１がほぼ水平またはほぼ垂直を検知する姿勢センサ２８が設けられ、基板２７に繋がっている。
【００２４】
図１乃至図３に示すように前記基板２７の上には、マイクロコンピュータを内蔵した制御装置たる制御部２９、ベース２の温度の設定を行う温度設定部たる温度制御釦３０、スチームアイロンから噴出されるスチーム量の設定を行い、このスチーム量に対応するスチームアイロンの使用設定を「通常スチーム」・「増量スチーム」・「ドライ」と切り替え可能とするスチーム設定部たるスチーム釦３１、ショットの噴出を行うショット釦３２がそれぞれタクトスイッチ等の操作性の軽いスイッチ３３を介して配置され、その各設定状況などを表示する複数のＬＥＤ３４が設けられ、前記温度設定釦３０、スチーム釦３１、ショット釦３２、ＬＥＤ３４がハンドル５の上面に露出するように配置されている。
【００２５】
次に、図５に基づき電気的な構成を説明する。制御部２９は、内蔵する前記マイクロコンピュータの記憶装置（図示せず）に記憶されたプログラムの制御シーケンスに従って、一連の動作を行うように構成されている。
【００２６】
この制御部２９の入力側には、温度センサ２６、姿勢センサ２８、温度設定釦３０、スチーム釦３１、ショット釦３２が各々接続される。また、制御部２９の出力側には、ヒータ６、電磁ポンプ２０、ＬＥＤ３４が各々接続される。
【００２７】
また、電磁ポンプ２０は、円筒形状のポンプ本体３５と、このポンプ本体３５内部の通路内に密接してポンプ本体３５の軸方向に往復動可能に配置されたプランジャ３６とを備える。
【００２８】
次に、上記構成のスチームアイロンにおける動作の説明をする。このように構成されたスチームアイロンを使用する際は、まず温度設定釦３０を操作し温度設定を行う。この操作に応じてヒータ６が通電され、ベース２の温度が上昇する。
【００２９】
ベース２の温度は温度センサ２６により逐次検知されこの検知信号に基づきヒータ６の通電を制御部２９を介してオンオフ制御され、ベース２の温度が設定温度に保たれる。
【００３０】
この状態においてスチーム釦３１を押すことによって電磁ポンプ２０が作動し水タンク１４内の水が気化室７内に滴下し、スチーム噴出孔８からベース２の下面側に順次噴出する。
【００３１】
電磁ポンプ２０は制御部２９により一定時間Ｔだけ所定の動作たる通常動作より緩やかに動作しながら、電磁ポンプ２０内に水を取り込み、その後通常動作となる。
【００３２】
図６のタイムチャートに、初期動作から一定時間Ｔを経て、通常動作に移るまでの電磁ポンプ２０の動作制御を示す。
【００３３】
図６に示すように、５０,６０Hz（例えば、交流電源）の周波数を有する交流信号を基準として、所定の周波数間隔でプランジャ３６を作動させる電磁ポンプ２０では、制御部２９により、電磁ポンプ２０の初期動作から一定時間Ｔが経過するまでは、電磁ポンプ２０をオンにしてプランジャ３６を動作させる動作間隔を、その後の通常動作における動作間隔よりも長くなるように可変制御させて、電磁ポンプ２０を通常動作よりも緩やかに動作させるものである。
【００３４】
ここで、図６に示すように、初期動作時から一定時間Ｔでのプランジャ３６の動作間隔をＳ１とし、一定時間Ｔ経過後の通常動作時におけるプランジャ３６の動作間隔をＳ２とする。初期動作時から一定時間Ｔの動作間隔Ｓ１は、図６中に示す交流信号波形において、その周期の数倍（例えば３倍）となり、また通常動作でのプランジャ３６の動作間隔Ｓ２は前記交流信号波形の周期と同じである。そのため、緩やかに動作時の動作間隔Ｓ１は、通常動作時の動作間隔Ｓ２と比較して、数倍となっており、初期動作時から一定時間Ｔでは、通常動作時と比較して、プランジャ３６をオンさせる動作間隔を数倍に広げることで、初期動作時から一定時間Ｔだけ電磁ポンプ２０を緩やかに動作させている。
【００３５】
この場合、電磁ポンプ２０を初期動作時から一定時間Ｔだけ、通常動作より緩やかに動作させながら、電磁ポンプ２０の本体３５内部に水を取り込むことにより、初期動作時では電磁ポンプ２０の本体３５内部に十分な水が取り込まれていない場合が多く、そのような場合に電磁ポンプ２０では空打ち状態となるが、その時の空打ち音を低減させることができる。
【００３６】
また、スチーム釦３１を押すことによって、スチームアイロンの設定をドライ→通常スチーム→増量スチーム→ドライとサイクリック（周期的）に切り替えることができる。
【００３７】
ショット釦３２を押すことによって一定時間増量スチームより多いスチーム量を噴出させることができる（以下、この動作をショットと呼称）。このショットについても同様に電磁ポンプ２０は制御部２９により一定時間所定の動作より緩やかに動作し、電磁ポンプ２０の本体３５内部に水を送り込み、その後所定の動作たる通常動作となる。
【００３８】
以上のように本実施例では、加熱手段としてヒータ６を有するベース２と、当該ベース２の下部に備えたかけ面２Ａと、当該かけ面２Ａに備えたスチームを噴出する複数の孔としてのスチーム噴出孔８とを備えたスチームアイロンにおいて、複数のスチーム噴出孔８のうち、少なくともヒータ６に沿って一列に連続して配設された複数のスチーム噴出孔８Ａを、かけ面２Ａに備えた１つの溝部２Ｂの中の窪み内に全て収めて配設している。
【００３９】
この場合、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列を溝部２Ｂの窪み内に全て収めて配設したことで、溝部２Ｂの窪み内をヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａから噴出されるスチームで満し、ベース２の前後方向をアイロンのかけ方向Ｘとしたアイロンかけ動作において、アイロンのかけ面２Ａが布地を通過するまでの間、溝部２Ｂから溝部２Ｂにおけるアイロンのかけ方向Ｘとは直交する方向の所定長さＬ１に亘り布地に万遍無くスチームを噴出することが可能となる。ここで、図４に示すように溝部２Ｂにおけるアイロンのかけ方向Ｘとは直交する方向の所定長さＬ１は、アイロンのかけ面２Ａの巾寸法Ｌ２と略同一であることから、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列を溝部２Ｂの窪み内に全て収めて配設したことにより、アイロンをかけ方向Ｘにかけることでアイロンのかけ面２Ａの巾寸法Ｌ２と略同一の寸法に亘り布地に万遍無くスチームを噴出することが可能となる。また、スチーム噴出孔８Ａ及び溝部２Ｂを、図４に示すようにかけ面２Ａの平面から見てヒータ６に沿うようにヒータ６の略直下部分のかけ面２Ａに配設したことにより、溝部２Ｂはヒータ６作動時のかけ面２Ａの温度分布において比較的高温状態となるヒータ６の略直下部分のかけ面２Ａに位置するので、溝部２Ｂの窪み内は略直上に位置するヒータ６からの熱を受けて、かけ面２Ａのほかの部分と比べ比較的高温状態となり、スチーム噴出孔８Ａより噴出されるスチームによる溝部２Ｂの窪み内の温度低下を防止し、溝部２Ｂから湯滴が生じることを防止することを可能とする。
【００４０】
実施例上の効果として、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列の内側に複数のスチーム噴出孔８Ｂを設けたことにより、かけ面２Ａ全体におけるスチーム噴出孔８の面積を増大させ、布地にさらに万遍無くスチームを噴出させることが可能となる。また、アイロンをかけ方向Ｘに前進させた場合の溝部２Ｂが通過した後の布地や、溝部２Ｂの通過しなかった部分の布地にも万遍無くスチームを噴出させることが可能なので、かけ面２Ａの通過したほぼ全ての布地の部分に対して万遍無くスチームを噴出させることが可能となる。
【００４１】
さらに実施例上の効果として、タンクたる水タンク１４内の液体たる水を所定部たる気化室７へ供給する送液装置たる電磁ポンプ２０を備えたスチームアイロンにおいて、電磁ポンプ２０の初期動作から一定時間Ｔが経過するまでの間で、電磁ポンプ２０を緩やかに動作させる構成としたことにより、電磁ポンプ２０の初期使用時における空打ち音を低減できる。なお、ここでいう初期動作とは、アイロン本体１に電源が投入されたのを制御部２９が認識し、最初に電磁ポンプ２０を動作させる信号が、スチーム釦３１やショット釦３２を押すことにより制御部２９に与えられたときの動作であり、電磁ポンプ２０を再度動作させる場合は、水タンク１４内の液体（水）を気化室７に速やかに供給するために、上述した初期動作から一定時間Ｔが経過するまでの動作を省略してもよい。
【００４２】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、種々の変形実施が可能である。例えばヒータの形状も、略Ｕ字状に限定されるものではなく、略Ｖ字状等の形状に適宜変更しても構わない。また、ヒータ６沿いのスチーム噴出孔８Ａの列と溝部２Ｂについても、かけ面２Ａに対し複数個所に配設しても構わないものとする。さらに上記実施例の水タンク１４では、固定式タンクとなっているが、カセットタンクとしても良い。また上記実施例では電磁ポンプ２０を用いて水を送水しているが、自然滴下による送水でも良い。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の一実施例におけるアイロン本体の側面図である。
【図２】同上、アイロン本体の平面図である。
【図３】同上、アイロン本体の断面図である。
【図４】同上、ベースの底面図である。
【図５】同上、電気的構成を示すブロック図である。
【図６】同上、本実施例における電磁ポンプの動作制御を示すタイムチャートである。
【図７】従来のスチームアイロンのかけ面を示す底面図である。
【符号の説明】
【００４４】
２  ベース
２Ａ  かけ面
２Ｂ  溝部
６  ヒータ（加熱手段）
８,８Ａ，８Ｂ  スチーム噴出孔（孔）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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