(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フィルムから成る基板を備え、可視波長域の透過光を減衰させる吸収型ＮＤフィルターにおいて、
複数の錐状突起をサブミクロンピッチでマトリックス状に配置した錐状突起群により構成される反射防止構造体部が上記基板の片面に設けられ、かつ、Ｔｉを含むＮｉ系合金により構成された単層の光吸収膜が上記基板の反対側面に設けられていると共に、法線と入射光線とのなす角度と定義される入射角が０°〜４０°の範囲においてその分光反射率が０．５％以下であることを特徴とする吸収型ＮＤフィルター。
【請求項２】
単層の上記光吸収膜が、スパッタリング法により成膜された７．５重量％のＴｉを含むＮｉ系合金により構成されていることを特徴とする請求項１に記載の吸収型ＮＤフィルター。
【請求項３】
上記錐状突起群の反転形状を有する電鋳型を製造し、この電鋳型を用い基板用樹脂フィルム素材をナノインプリント法若しくはキャスティング法により成型加工して、上記錐状突起群により構成される反射防止構造体部が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の吸収型ＮＤフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は可視波長域の透過光を減衰させる吸収型ＮＤフィルターに係り、特に、分光反射特性の入射角依存性が小さい吸収型ＮＤフィルターの改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
可視波長域の透過光を減衰させるＮＤフィルター（Neutral Density Filter）が、最近、多用されるようになってきており、この種のＮＤフィルターには、入射光を反射して減衰させる反射型ＮＤフィルターと、入射光を吸収して減衰させる吸収型ＮＤフィルターが知られている。そして、反射光が問題となるレンズ光学系にＮＤフィルターを組み込む場合には一般に吸収型ＮＤフィルターが用いられ、この吸収型ＮＤフィルターには、基板自体に吸収物質を混ぜ（色ガラスＮＤフィルター）あるいは吸収物質を塗布するタイプと、基板自体に吸収はなくその表面に形成された薄膜に吸収があるタイプとが存在する。また、後者の場合、薄膜表面の反射を防ぐため上記薄膜を多層膜で構成し、透過光を減衰させる機能と共に反射防止の効果を持たせた吸収型多層膜ＮＤフィルターも知られている。入射光を減衰させる目的のＮＤフィルターにおいても、その表面に反射があると、反射光がフレアーや画像のボケを引き起こす原因となり好ましくないからである。
【０００３】
ところで、小型でかつ薄型のデジタルカメラに用いられる吸収型多層膜ＮＤフィルターは、組込みスペースが狭いため基板自体を薄くする必要があり、樹脂フィルムが最適な基板とされている。そして、上記薄膜が多層膜で構成される吸収型多層膜ＮＤフィルターとして、特許文献１には、樹脂フィルム等の基板に、ＳｉＯ２等の酸化物誘電体膜層とＮｉ等の金属吸収膜層から成る吸収型多層膜が設けられた構造体が示されている。
【０００４】
また、最近、透明光学部品からの光反射を防止する方法として、マトリックス状に配置して成る錐状突起群（図１Ａ参照）により構成された反射防止構造体を光学部品表面に設ける方法も提案されている（特許文献２参照）。そして、可視波長域用の反射防止構造体であれば、上記錐状突起群がサブミクロンのピッチでマトリックス状に配置されており、入射光の波長よりピッチの小さいこのような反射防止構造体においては、図１（Ｂ）に示すように屈折率が媒質（空気）から基板まで連続的に変化している物質として考えることができ、反射防止の機能を有している。
【０００５】
更に、特許文献２には、原盤材料表面に触媒機能を持った核形成を行う工程と、形成された核の上に結晶を成長させて針状結晶を形成する工程と、針状結晶が形成された原盤材料を用いて電鋳型を形成する工程と、得られた電鋳型を用いて成形用素材に錐状突起群を形成する工程の各工程を有する反射防止構造体の形成方法も開示されている。
【０００６】
そして、特許文献２においては、大面積かつ曲面形状を有する成形用素材であってもその表面に高精度の反射防止構造体を形成することができるとしている。
【特許文献１】特開２００６−１７８３９５号公報
【特許文献２】特開２００６−１３０８４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、透過光を減衰させる機能と反射防止機能を具備する上述の吸収型多層膜ＮＤフィルターにおいては、その反射率について角度依存性を有するため、入射光の入射角度が設計入射角からずれた場合、反射率が変化する。
【０００８】
このため、垂直入射用に膜設計した吸収型多層膜ＮＤフィルターを４０度入射の条件で使用すると、その分光反射特性が異なってしまう。すなわち、垂直入射用に膜設計した吸収型多層膜ＮＤフィルターを集光光学系に組み込んだ場合、光軸上の光線と周辺部の光線は入射角度が相違するため、その分光反射特性が異なってしまい、一般的に反射率が高くなる。
【０００９】
一例として、垂直入射用に膜設計した吸収型多層膜ＮＤフィルターの分光反射率における入射角依存性を図２に示す。この図２のグラフ図から、入射光の入射角度によって分光反射特性が異なることを確認できる。
【００１０】
そして、入射角度によって分光反射特性が異なってしまうと、画像の色合いに支障を来たしてしまうことがある。特に、デジタルカメラやカメラ付携帯電話等は、近年、薄型になっており、薄型に対応して鏡筒長も短くなり、その分、ＮＤフィルターへの光束入射角が大きくなる傾向にあるため、上記問題はより顕著になってきている。
【００１１】
他方、錐状突起群により構成された上記反射防止構造体においては、入射光の入射角度が大きくなっても、反射防止効果はそれ程小さくならないという特徴を有している。
【００１２】
このような技術的背景の下、本発明者は、レンズ素子、プリズム素子、ミラー素子、レンズ鏡筒等に用いられている特許文献２の反射防止構造体に関し、特許文献２に記載されていない吸収型ＮＤフィルターへの適用を試みたところ、入射角度に起因した分光反射特性の上記問題が回避できることを見出すに至った。更に、樹脂フィルムから成る基板の両面に特許文献２の反射防止構造体を形成し、少なくとも一方の反射防止構造体上に光吸収膜を形成して吸収型ＮＤフィルターを構成したところ、反射光に起因したフレアーや画像のボケが解消されることも見出すに至った。
【００１３】
そこで、本発明の課題とするところは、本発明者によって見出された分光反射特性の入射角依存性が小さい吸収型ＮＤフィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
すなわち、請求項１に係る発明は、
樹脂フィルムから成る基板を備え、可視波長域の透過光を減衰させる吸収型ＮＤフィルターにおいて、
複数の錐状突起をサブミクロンピッチでマトリックス状に配置した錐状突起群により構成される反射防止構造体部が上記基板の片面に設けられ、かつ、Ｔｉを含むＮｉ系合金により構成された単層の光吸収膜が上記基板の反対側面に設けられていると共に、法線と入射光線とのなす角度と定義される入射角が０°〜４０°の範囲においてその分光反射率が０．５％以下であることを特徴とする。
【００１７】
また、請求項２に係る発明は、
請求項１に記載の発明に係る吸収型ＮＤフィルターにおいて、
単層の上記光吸収膜が、スパッタリング法により成膜された７．５重量％のＴｉを含むＮｉ系合金により構成されていることを特徴とし、
請求項３に係る発明は、
請求項１または２に記載の発明に係る吸収型ＮＤフィルターにおいて、
上記錐状突起群の反転形状を有する電鋳型を製造し、この電鋳型を用い基板用樹脂フィルム素材をナノインプリント法若しくはキャスティング法により成型加工して、上記錐状突起群により構成される反射防止構造体部が形成されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る吸収型ＮＤフィルターによれば、複数の錐状突起をサブミクロンピッチでマトリックス状に配置した錐状突起群により構成される反射防止構造体部が、樹脂フィルムから成る基板の片面に設けられており、上記反射防止構造体部は、入射光の入射角度が大きくなってもその反射防止効果が小さくならないため、分光反射特性の入射角依存性が小さい吸収型ＮＤフィルターを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。
【００２０】
まず、本発明に係る吸収型ＮＤフィルターは、複数の錐状突起をサブミクロンピッチでマトリックス状に配置した錐状突起群により構成される反射防止構造体部が、樹脂フィルムから成る基板の片面に設けられていることを特徴としている。
【００２１】
（１）錐状突起群により構成される反射防止構造体部
錐状突起群により構成される本発明に係る反射防止構造体部は、上述したように特許文献２に記載された方法により形成することができる。
【００２２】
すなわち、原盤材料表面に触媒機能を持った核形成を行う工程と、形成された核の上に結晶を成長させて針状結晶を形成する工程と、針状結晶が形成された原盤材料を用いて電鋳型を形成する工程と、得られた電鋳型を用いて成形用素材に錐状突起群を形成する工程の各工程を有する方法により本発明に係る反射防止構造体部を形成することができる。
【００２３】
触媒機能を持った核形成を行う上記工程としては、原盤材料である単結晶シリコンウェハ基板の表面に触媒機能を持った核としてＣｒの島状結晶を形成する工程、あるいは、原盤材料である石英ガラス基板の表面に触媒機能を持った核としてＰｄの島状結晶を形成する工程等が例示される。
【００２４】
また、形成された核の上に結晶を成長させて針状結晶を形成する上記工程としては、化学蒸着法、気相エピタキシー法、分子線エピタキシー法、無電解メッキ法の内から選択されるいずれかの方法により、上記核の上に、炭素、珪素、窒化珪素、二酸化珪素、窒化硼素、金属の中から選択される少なくとも一種類を含む結晶を成長させて針状結晶を形成する工程が例示される。
【００２５】
次に、針状結晶が形成された原盤材料を用いて電鋳型を形成する上記工程としては、珪素の針状結晶が形成された単結晶シリコンウェハ基板の表面をＰｄにより活性化処理し、無電解Ｎｉ−Ｐメッキ溶液に浸漬して針状結晶表面にＮｉ−Ｐメッキ層を形成した後、スルファミン酸Ｎｉメッキ液中で電気メッキを行うことにより電鋳型を得、得られた電鋳型と単結晶シリコンウェハ基板とを離型することにより上記針状結晶の反転形状を有する電鋳型を得る工程が例示される。
【００２６】
そして、得られた電鋳型を用いて成形用素材に錐状突起群を形成する上記工程としては、射出成形法、プレス成形法、および、熱ナノインプリント法により基板用樹脂フィルム素材の少なくとも一方の面に錐状突起群を形成する工程が例示される。尚、熱ナノインプリント法以外にも、ＵＶナノインプリント法あるいはキャスティング法により形成することも可能であり、また、熱ナノインプリント法の一部として考えられるロールトゥロールプロセスで処理するロールエンボス加工も可能である。
【００２７】
（２）樹脂フィルム
本発明に係る吸収型ＮＤフィルターに用いられる樹脂フィルム基板の材質としては、特に限定されることはなく、その具体例として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）およびノルボルネンの樹脂材料から選択された樹脂フィルムの単体、あるいは、上記樹脂材料から選択された樹脂フィルム単体とこの単体の片面または両面を覆うアクリル系有機膜との複合体が挙げられる。特に、ノルボルネン樹脂材料については、代表的なものとして、日本ゼオン社のゼオノア（商品名）やＪＳＲ社のアートン（商品名）等が挙げられる。
【００２８】
但し、上述した熱ナノインプリントを行う場合、樹脂フィルムの粘度、ガラス転移温度等の諸特性から、最適なモールド圧力、モールド温度等を決定する必要がある。
【００２９】
（３）可視波長域の光を吸収する光吸収膜
上記樹脂フィルム基板の反射防止構造体部が形成された面とは反対側面に形成される光吸収膜としては、可視波長域の光を吸収する作用を有する膜材料を適用することができ、通常、金属膜が用いられる。具体的には、Ｔｉが添加されたＮｉ系合金を用いる。尚、上記金属膜にその飽和酸化物を混在させることにより、光学特性および物理特性を改善することも可能である。また、上記金属膜の酸化を低減させるため、例えばＮｉ系合金膜の表面に、ＳｉＯｘ、ＳｉＮ等のオーバーコートを施すことも好ましい。
【００３０】
そして、上記光吸収膜は、真空蒸着法、イオンビームスパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法等の成膜法により形成することができる。
【００３２】
また、金属膜により構成される光吸収膜は、膜材料の添加物や不純物、成膜時の残留ガス、樹脂フィルム基板からの放出ガスや成膜速度によって、屈折率や吸収係数等の特性が大きく異なることがある。従って、これ等の条件を適宜選択して、吸収型ＮＤフィルターが所望の特性となるように設定することを要する。
【００３３】
また、樹脂フィルム基板の片面に上記光吸収層を設ける場合、光吸収層を形成する前にプラズマ処理あるいはイオンビーム処理を施し、樹脂フィルムの波長４００ｎｍにおける透過率が処理前と較べ１．０％以上減衰するように事前調整することにより分光透過特性の平坦性を改善することができる。更に、上記プラズマ処理あるいはイオンビーム処理によって光吸収膜と樹脂フィルム基板との密着性を向上できるため、高温高湿環境下における光吸収膜のヒビ割れ等も防止することが可能となる。
【００３４】
（４）吸収型ＮＤフィルター
（４−１）可視波長域の光を吸収する物質が樹脂フィルム基板中に含まれている吸収型ＮＤフィルター
参考例に係る吸収型ＮＤフィルターの一形態として、可視波長域の光を吸収する物質が樹脂フィルムから成る基板中に含まれる吸収型ＮＤフィルターが挙げられる。
【００３５】
そして、樹脂フィルム基板の少なくとも片面に設けられた上記反射防止構造体部が、複数の錐状突起をサブミクロンピッチでマトリックス状に配置した図１（Ａ）の錐状突起群により構成されている場合、図１（Ｂ）に示したように屈折率が媒質（空気）から基板まで連続的に変化している物質として考えることができるため反射防止の機能を有している。
【００３６】
このため、可視波長域の光を吸収する物質が樹脂フィルム基板中に含まれている場合、反射防止の機能を有すると共に、分光反射率における入射角依存性の小さい吸収型ＮＤフィルターが得られることとなる。
【００３７】
ここで、可視波長域の光を吸収する物質としては、特に限定されるものではないが、特定波長の光を吸収する金属微粒子や顔料が好ましく、例えば、銅マンガン酸化物が挙げられる。また、金属微粒子や顔料以外に、特定波長域の光だけを吸収する特性を持たない物質、例えばカーボンブラック等を用いることも可能である。
【００３８】
そして、可視波長域の光を吸収する物質が含まれる樹脂フィルム基板を調製する方法としては、任意の方法が採用される。例えば、樹脂組成物の製造法としては、樹脂成分と可視波長域の吸収物質成分並びに任意に配合する他の成分を予備混合し、その後、溶融混練してペレット化する方法を挙げることができる。予備混合の手段としては、ナウターミキサー、Ｖ型ブレンダー、ヘンシェルミキサー、メカノケミカル装置、および、押出混合機等を挙げることができる。予備混合では、必要に応じて押出造粒器やブリケッティングマシーン等により造粒を行うことも可能である。予備混合後、ベント式二軸押出機に代表される溶融混練機で溶融混練し、ペレタイザーの如き機器によりペレット化することも好ましい。上記溶融混練機としては、他にバンバリーミキサー、混練ロール、および、恒熱撹拌容器等を用いることができるが、ベント式二軸押出機に代表される多軸押出機が好ましい。このような多軸押出機を用いることにより、強力なせん断力で吸収物質成分が樹脂中に微分散される。
【００３９】
このようにして製造された樹脂組成物のペレットと樹脂とを混練し、かつフィルム状に加熱成形して可視波長域の光を吸収する物質が含まれる樹脂フィルム基板が得られる。
【００４０】
尚、適用される吸収物質の種類や樹脂材料の種類によって、加工温度、フィルム化条件等は多少異なるが、通常、以下の（Ａ）〜（Ｃ）工程により樹脂フィルム基板を製造することができる。すなわち、（Ａ）可視波長域の光を吸収する物質（吸収物質）を粉体状若しくはペレット状の樹脂材料に添加し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する工程、（Ｂ）得られた樹脂板を押し出し機によりフィルム化する工程、（Ｃ）得られた延伸前のフィルムを、３０〜１２０℃で２〜５倍に１軸方向乃至は２軸方向に延伸して厚さ１０〜２００μｍの樹脂フィルム基板を製造する工程、の上記（Ａ）〜（Ｃ）工程により樹脂フィルム基板を製造することができる。
（４−２）可視波長域の光を吸収する光吸収膜が樹脂フィルム基板の反射防止構造体部上または基板の反対側面の少なくとも一方に形成され、可視波長域の光を吸収する物質が基板中に含まれていない吸収型ＮＤフィルター
参考例に係る吸収型ＮＤフィルターの他の形態として、樹脂フィルム基板の反射防止構造体部上に可視波長域の光を吸収する単層若しくは多層膜の光吸収膜が形成された吸収型ＮＤフィルターが挙げられる。
【００４１】
そして、複数の錐状突起をサブミクロンピッチでマトリックス状に配置した図１（Ａ）の錐状突起群により上記反射防止構造体部が構成されている場合、図１（Ｂ）に示したように屈折率が媒質（空気）から基板まで連続的に変化している物質として考えることができるため反射防止の機能を有している。
【００４２】
このため、錐状突起群により構成された上記反射防止構造体部上に可視波長域の光を吸収する単層若しくは多層膜の光吸収膜が図３に示すように形成された場合、反射防止の機能を有すると共に、分光反射率における入射角依存性の小さい吸収型ＮＤフィルターが得られることとなる。尚、上記単層若しくは多層膜の光吸収膜は、その性能を２分割して樹脂フィルム基板の両面に分けて形成されていてもよい。
【００４３】
また、本発明に係る吸収型ＮＤフィルターの形態として、上記反射防止構造体部が形成された側とは反対側の樹脂フィルム基板面に、可視波長域の光を吸収する単層の光吸収膜が形成された吸収型ＮＤフィルターが挙げられる。
【００４４】
そして、この場合においても、反射防止の機能を有すると共に、分光反射率における入射角依存性の小さい吸収型ＮＤフィルターが得られる。
【００４５】
また、参考例に係る吸収型ＮＤフィルターの更に別の形態として、樹脂フィルム基板の両面に上記錐状突起群により構成された反射防止構造体部がそれぞれ形成され、かつ、少なくとも一方の反射防止構造体部上に可視波長域の光を吸収する単層若しくは多層膜の光吸収膜が形成された吸収型ＮＤフィルターが挙げられる。
【００４６】
そして、この場合においても、反射防止の機能を有すると共に分光反射率における入射角依存性の小さい吸収型ＮＤフィルターが得られ、更に、樹脂フィルム基板の表面だけでなく裏面反射も防止できる吸収型ＮＤフィルターが得られる。
【００４７】
このように本発明に係る吸収型ＮＤフィルターは、反射防止の機能を有すると共に分光反射率における入射角依存性が小さい特性を具備し、例えば、法線と入射光線とのなす角度と定義される入射角が０°〜４０°の範囲において、その分光反射率が０．５％以下である吸収型ＮＤフィルターが得られる。尚、吸収型ＮＤフィルターの光入射側とは反対側に位置する受光素子の配置から、入射角０°の反射は、本来測定することはできないが、限りなく０°付近までと言う意味である。
【００４８】
次に、本発明の一具体例として、可視波長域で透明な厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面に、熱ナノインプリント法（ダイレクトナノインプロント法とも称する）により、高さ６００ｎｍ、ピッチ２００ｎｍの錐状突起群により構成された反射防止構造体部を形成し、かつ、反射防止構造体部の形成面とは反対側のＰＥＴフィルム面上にスパッタリング法により７．５重量％のＴｉを含むＮｉ系合金を約５０ｎｍ成膜して本発明に係る吸収型ＮＤフィルターを製造した。また、得られた吸収型ＮＤフィルターの入射角１０°、入射角２０°、入射角３０°および入射角４０°における分光透過率と分光反射率をそれぞれ測定し、かつ、分光透過率を図４に、分光反射率を図５に示す。
【００４９】
分光反射率を示す図５のグラフ図から、本発明に係る吸収型ＮＤフィルターにおいては、入射角１０°、入射角２０°、入射角３０°および入射角４０°のいずれの角度においても反射率は０．５％以下と低く、また、入射角度依存性も極めて小さいことが確認され、しかも、この吸収型ＮＤフィルターには複雑な多層膜を成膜する必要がないため、生産性にも優れていることが確認された。
【００５０】
次に、本発明に係る吸収型ＮＤフィルターの性能を比較するため、実施例１（錐状突起群により構成される反射防止構造体部を樹脂フィルム基板の片面に形成しかつ基板の反対側面に光吸収膜を設けた吸収型ＮＤフィルター）、比較例１（錐状突起群により構成される反射防止構造体部を形成することなく樹脂フィルム基板の片面に光吸収膜を設けた吸収型ＮＤフィルター）および比較例２（従来の吸収型多層膜ＮＤフィルター）に係る３種類の平均透過率６．３％のＮＤフィルターを製作し、かつ、これ等平均透過率６．３％のＮＤフィルターの反射率の角度依存性を比較した。
【００５１】
以下、具体的に説明する。
【実施例１】
【００５２】
錐状突起群により構成される反射防止構造体部が樹脂フィルム基板の片面に形成されかつ基板の反対側面に光吸収膜が設けられた吸収型ＮＤフィルターを製造した。
【００５３】
すなわち、可視波長域で透明な厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムの片面に、熱ナノインプリント法（ダイレクトナノインプロント法とも称する）により、高さ６００ｎｍ、ピッチ２００ｎｍの錐状突起群により構成された反射防止構造体部を形成した。モールドの圧力は１０ＭＰａ、モールドの温度は１３０℃で行った。
【００５４】
次に、上記反射防止構造体部が形成されたＰＥＴフィルム（樹脂フィルム基板）の反射防止構造体部形成面とは反対側の面に、スパッタリング法により７．５重量％のＴｉを含むＮｉ系合金を約５０ｎｍ成膜して実施例１に係る吸収型ＮＤフィルターを製造した。
【００５５】
得られた実施例１に係る吸収型ＮＤフィルターの、入射角１０°、２０°、３０°と４０°における分光透過率を図４に、分光反射率を図５にそれぞれ示す。
【００５６】
ここで、分光反射率の測定は、日本分光社製の自記分光光度計を用いて行った。但し、照射光と反射光が重なってしまう機器配置になるため、入射角０°（垂直入射）は測定することができなかった。また、反射率測定時には、裏面反射の影響を受けないようにするため、裏面を紙ヤスリあるいは研磨剤で擦り、裏面からの反射を拡散させる処理を施した。
【００５７】
図４における分光透過率のグラフ図、図５における分光反射率のグラフ図から、入射角１０°、入射角２０°、入射角３０°および入射角４０°のいずれの角度においても反射率は０．５％以下と低く、入射角度依存性も極めて小さいことが確認された。
【００５８】
［比較例１］
錐状突起群により構成される反射防止構造体部を形成することなく樹脂フィルム基板の片面に光吸収膜が設けられた吸収型ＮＤフィルター吸収型ＮＤフィルターを製造した。
【００５９】
すなわち、実施例１における反射防止構造体部が形成されていないＰＥＴフィルムの片面に、スパッタリング法により７．５重量％のＴｉを含むＮｉ系合金を約５０ｎｍ成膜して比較例１に係る吸収型ＮＤフィルターを製造した。
【００６０】
得られた比較例１に係る吸収型ＮＤフィルターの、入射角１０°、２０°、３０°と４０°における分光透過率を図６に、分光反射率を図７にそれぞれ示す。
【００６１】
そして、図７における分光反射率のグラフ図から、Ｎｉ合金膜の表面反射に起因する４０〜５０％もの高い反射率が確認された。
【００６２】
［比較例２］
従来例に係る吸収型多層膜ＮＤフィルターを製造した。
【００６３】
すなわち、可視波長域で透明な厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムの両面に、表１に示す膜構造の５層吸収型多層膜を形成した。
【００６４】
成膜にはマグネトロンスパッタ法を用い、ＳｉＯ２のターゲットにはＳｉ単結晶、Ｎｉ系合金のターゲットには７．５重量％のＴｉを含むＮｉ系合金を用いると共に、ＳｉＯ２成膜時にのみ酸素導入を行った。
【００６５】
得られた比較例２に係る吸収型ＮＤフィルターの、入射角１０°、２０°、３０°と４０°における分光透過率を図８に、分光反射率を図９にそれぞれ示す。
【００６６】
そして、図９における分光反射率のグラフ図から、入射角が大きくなるにつれて可視波長域の反射率が増加する傾向が確認され、特に、長波長側の反射率増加が顕著であった。
【００６７】
【表１】
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「評    価」
比較例１と比較例２と較べ、実施例１に係る吸収型ＮＤフィルターは反射率が低いだけでなく入射角度依存性が極めて小さいことが確認され、しかも、比較例２のような複雑な多層膜を成膜する必要がなく、その生産性にも優れていることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明に係る吸収型ＮＤフィルターは分光反射特性の入射角依存性が小さいため、デジタルカメラやデジタルビデオカメラ等に搭載されるＮＤフィルターに利用される産業上の可能性を有している。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】図１（Ａ）はマトリックス状に配置された錐状突起群の概略斜視図、図１（Ｂ）は基板片面に設けられた上記錐状突起群から成る反射防止構造体の断面図並びに反射防止構造体の断面構造と屈折率との関係を示すグラフ図。
【図２】従来例に係る吸収型多層膜ＮＤフィルターの分光反射特性を示すグラフ図。
【図３】樹脂フィルム基板に設けられた錐状突起群から成る反射防止構造体層上に光吸収膜が成膜された参考例に係る吸収型ＮＤフィルターの断面図並びにこの吸収型ＮＤフィルターの断面構造と屈折率との関係を示すグラフ図。
【図４】実施例１に係る吸収型ＮＤフィルターの分光透過特性を示すグラフ図。
【図５】実施例１に係る吸収型ＮＤフィルターの分光反射特性を示すグラフ図。
【図６】比較例１に係る吸収型ＮＤフィルターの分光透過特性を示すグラフ図。
【図７】比較例１に係る吸収型ＮＤフィルターの分光反射特性を示すグラフ図。
【図８】比較例２に係る吸収型ＮＤフィルターの分光透過特性を示すグラフ図。
【図９】比較例２に係る吸収型ＮＤフィルターの分光反射特性を示すグラフ図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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