(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１ｃ）で表される遷移金属化合物。
【化１】
0004989823.tif 000013
（式中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基または炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基であり、Ｃ１は、炭素数１〜２０の二価の炭化水素基；炭素数１〜２０の炭化水素基を有していてもよいシリレン基、オリゴシリレン基、ゲルミレン基、または単に単結合を形成している架橋基であり、Ｍは、周期律表第４族の遷移金属を示し、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、アミノ基または炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を示す。）
【請求項２】
請求項１に記載の遷移金属化合物からなることを特徴とするオレフィン重合用触媒成分。
【請求項３】
次の成分（Ａ）及び（Ｂ）と任意成分（Ｃ）を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触媒。
成分（Ａ）：請求項１に記載の遷移金属化合物
成分（Ｂ）：アルミニウムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物、または、ルイス酸からなる群より選ばれるもの
成分（Ｃ）：微粒子担体
【請求項４】
次の成分（Ａ）及び（Ｄ）と任意成分（Ｅ）を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触媒。
成分（Ａ）：請求項１に記載の遷移金属化合物
成分（Ｄ）：珪酸塩を除くイオン交換性層化合物または無機珪酸塩からなる群より選ばれるもの
成分（Ｅ）：有機アルミニウム化合物
【請求項５】
請求項３又は４に記載の触媒とα−オレフィンとを接触させて重合を行うことを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なα−オレフィン重合用の触媒成分となる新規な遷移金属錯体に関するものであり、特に高分子量重合体を製造するのに適した三重架橋型錯体に関するものである。さらに詳しくは、本発明は、新規な遷移金属錯体、高分子量のα−オレフィン重合体の製造を可能にするα−オレフィン重合用触媒成分、および、該触媒成分を含むα−オレフィン重合用触媒、並びに、該重合用触媒を用いたα−オレフィン重合体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
α−オレフィン重合用触媒として用いられる物質として、メタロセン錯体と、助触媒としてアルミノキサンやホウ素化合物などを組み合わせて用いる、いわゆるメタロセン系触媒が知られている。この触媒は、一般に、非常に重合活性が高く、分子量分布の狭い重合体が得られるという特徴がある。
【０００３】
かかるメタロセン錯体としては、これまでは非架橋型または一重架橋型がほとんどであった。これに対して、多重架橋型メタロセン錯体については、その合成例が少なく、いくつかが知られているに過ぎない。例えば、特開平１１−３２２７７４号公報、特開２０００−２５６４１１号には二重架橋インデン錯体が開示され、プロピレン重合体が得られている。また、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ第１２巻、１９３１ページ（１９９３年）及び、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ第１３巻、３８６８ページ（１９９４年）にも二重架橋型錯体が開示されており、特開平８−２０６０５号公報、国際特許公開９５−０９１７２号公報には、多重架橋型錯体が開示されているが、２つの置換シクロペンタジエニル基が直接三重以上で架橋された錯体については知られていない。また、これらの開示された錯体では、いずれも得られる重合体の分子量は低いものであり、実用的には不満足なものであった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、工業的に実用的な重合温度において、高分子量α−オレフィン重合体を製造するのに適した新規な遷移金属錯体を提供することである。
【０００５】
またこの新規錯体を用いて、高分子量α−オレフィン重合体を得ることを可能にするα−オレフィン重合触媒成分、及びα−オレフィン重合触媒、並びにα−オレフィン重合体の製造方法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、特定の構造の新規な三重架橋型遷移金属化合物がα−オレフィン重合用触媒成分として有用であり、これを用いて高分子量α−オレフィン重合体を与えることを見いだした。
【００１２】
すなわち、本発明の第１は、下記一般式（Ｉｃ）で表される遷移金属化合物を提供するものである。
【００１３】
【化６】
0004989823.tif 000002
【００１４】
（一般式（Ｉｃ）中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基または炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基であり、Ｃ１は、炭素数１〜２０の二価の炭化水素基；炭素数１〜２０の炭化水素基を有していてもよいシリレン基、オリゴシリレン基、ゲルミレン基、または単に単結合を形成している架橋基であり、Ｍは、周期律表第４族の遷移金属を示し、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、アミノ基または炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を示す。）
【００１５】
本発明の第２は、上記の一般式（Ｉｃ）で表される遷移金属化合物からなることを特徴とするオレフィン重合用触媒成分に存する。
【００１６】
本発明の第３は、次の成分（Ａ）及び（Ｂ）と任意成分（Ｃ）を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触媒を提供するものである。
【００１７】
成分（Ａ）：上述の一般式（Ｉｃ）で表される遷移金属化合物
成分（Ｂ）：アルミニウムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物またはルイス酸からなる群より選ばれるもの
成分（Ｃ）：微粒子担体
本発明の第４は、次の成分（Ａ）及び（Ｄ）と任意成分（Ｅ）を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触媒を提供するものである。
【００１８】
成分（Ａ）：上述の一般式（Ｉｃ）で表される遷移金属化合物
成分（Ｄ）：珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物または無機珪酸塩からなる群より選ばれるもの
成分（Ｅ）：有機アルミニウム化合物
そして、本発明の第５は、上記の何れかの触媒とα−オレフィンとを接触させて重合を行うことを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法を提供するものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。先ず、本発明の遷移金属化合物について説明すれば、本発明の遷移金属化合物は、下記一般式（Ｉａ）で表される。
【００２０】
【化７】
0004989823.tif 000003
【００２１】
本発明の遷移金属化合物は、一般式（Ｉａ）中、Ａ、Ｂはそれぞれ独立して、置換シクロペンタジエニル基を示す。つまり、シクロペンタジエニル環に置換基を有し、それが新たに環構造を形成していてもよい。具体的には、新たに環を形成しない例としては、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、ブチルシクロペンタジエニル基等が挙げられる。また、新たな環構造を有する例としては、一般式（Ｉｄ）で表されるペンタレニル基、インデニル基、アズレニル基、シクロペンタシクロオクテニル基等が挙げられる。またこれらに置換基を有するもの、さらにそれの一部またはすべてを水添した構造のもの等が挙げられる。
【００２２】
【化８】
0004989823.tif 000004
【００２３】
一般式（Ｉａ）中、Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3は、Ａ、Ｂを結合する、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有していてもよいシリレン基、オリゴシリレン基、ゲルミレン基または単に単結合を形成している架橋基の何れかを示す。上述のシリレン基、オリゴシリレン基またはゲルミレン基上に２個の炭化水素基が存在する場合は、それらが互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【００２４】
上記のＣ1、Ｃ2、Ｃ3の具体例としては、メチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、１，２−エチレン、１，３−トリメチレン、１，４−テトラメチレン、１，２−シクロへキシレン、１，４−シクロへキシレン等のアルキレン基；（メチル）（フェニル）メチレン、ジフェニルメチレン等のアリールアルキレン基；シリレン基；メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、ジ（ｎ−プロピル）シリレン、ジ（ｉ−プロピル）シリレン、ジ（シクロヘキシル）シリレン等のアルキルシリレン基、メチル（フェニル）シリレン、メチル（トリル）シリレン等の（アルキル）（アリール）シリレン基；ジフェニルシリレン等のアリールシリレン基；テトラメチルジシリレン等のアルキルオリゴシリレン基；ゲルミレン基；上記の２価の炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリレン基のケイ素をゲルマニウムに置換したアルキルゲルミレン基；（アルキル）（アリール）ゲルミレン基；アリールゲルミレン基、または単に単結合を形成しているものなどを挙げることが出来る。
【００２５】
一般式（Ｉａ）中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、アミノ基または炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を示す。上記のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２６】
上記の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等のアルケニル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−スチリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェナントリル、アントリル等のアリール基が挙げられる。
【００２７】
上記の炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、シクロプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシ等のアリロキシ基、フェニルメトキシ、ナフチルメトキシ等のアリールアルコキシ基、フリル基などの酸素含有複素環基などが挙げられる。
【００２８】
上記の炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基の具体例としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ等のアルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ等のアリールアミノ基、（メチル）（フェニル）アミノ等の（アルキル）（アリール）アミノ基、ピラゾリル、インドリル等の窒素含有複素環基などが挙げられる。
【００２９】
上記の炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。そして、上記のハロゲン化炭化水素基は、ハロゲン原子が例えばフッ素原子の場合、フッ素原子が上記の炭化水素基の任意の位置に置換した化合物である。具体的には、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，１，１−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１，１−ジフルオロベンジル、１，１，２，２−テトラフルオロフェニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ジフルオロフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ジクロロフェニル、２，４，６−トリフルオロフェニル、２，４，６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４−クロロナフチル、２，４−ジフルオロナフチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、２，４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが挙げられる。
【００３０】
上記の炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基の具体例としては、トリメチルシリルメチル、トリエチルシリルメチル等のトリアルキルシリルメチル基、ジメチルフェニルシリルメチル、ジエチルフェニルシリルメチル、ジメチルトリルシリルメチル等のジ（アルキル）（アリール）シリルメチル基などが挙げられる。Ｘ及びＹとしては、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基または炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基が更に好ましく、塩素原子、メチル基、ｉ−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、ジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基が特に好ましい。一般式（Ｉａ）中、Ｍは、周期表第４の遷移金属を示し、好ましくはジルコニウム、ハフニウムである。
【００３１】
次に、本発明の第２の遷移金属化合物について説明する。この化合物は、以下の一般式（Ｉｂ）で表される。
【００３２】
【化９】
0004989823.tif 000005
【００３３】
一般式（Ｉｂ）中、Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、Ｍ、Ｘ、Ｙは、一般式（Ｉａ）と同じ意味を表す。
【００３４】
一般式（Ｉｂ）中、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立して、それが結合する五員環に対して縮合環を形成する炭素数３〜１０の飽和または不飽和の２価の炭化水素基を示す。従って、当該縮合環は５〜１２員環である。この際、当該縮合環の両方が６〜１０員環であることが好ましい。
【００３５】
上記のＲ1及びＲ2の具体例としては、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等の２価の飽和炭化水素基、プロペニレン、２−ブテニレン、１，３−ブタジエニレン、１−ペンテニレン、２−ペンテニレン、１，３−ペンタジエニレン、１，４−ペンタジエニレン、１−ヘキセニレン、２−ヘキセニレン、３−ヘキセニレン、１，３−ヘキサジエニレン、１，４−ヘキサジエニレン、１，５−ヘキサジエニレン、２，４−ヘキサジエニレン、２，５−ヘキサジエニレン、１，３，５−ヘキサトリエニレン等の２価の不飽和炭化水素基などが挙げられる。これらのうち、テトラメチレン基、１，３−ブタジエニレン基、ペンタメチレン基、１，３−ペンタジエニレン基、１，４−ペンタジエニレン基または１，３，５−ヘキサトリエニレン基が好ましく、テトラメチレン基、１，３−ブタジエニレン基、ペンタメチレン基、１，３−ペンタジエニレン基または１，４−ペンタジエニレン基が更に好ましく、ペンタメチレン基、３−ペンタジエニレン基が特に好ましい。
【００３６】
一般式（Ｉａ）中、Ｒ3、Ｒ4は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を示す。上記の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等のアルケニル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−スチリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェナントリル、アントリル等のアリール基などが挙げられる。
【００３７】
上記の炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。そして、上記のハロゲン化炭化水素基は、ハロゲン原子が例えばフッ素原子の場合、フッ素原子が上記の炭化水素基の任意の位置に置換した化合物である。その具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，１，１−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１，１−ジフルオロベンジル、１，１，２，２−テトラフルオロフェニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ジフルオロフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ジクロロフェニル、２，４，６−トリフルオロフェニル、２，４，６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４−クロロナフチル、２，４−ジフルオロナフチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、２，４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが挙げられる。
【００３８】
Ｒ3、Ｒ4は連結して新たな環構造を形成していてもよい。Ｒ3、Ｒ4の結合位置は特に制限されないが、それぞれの５員環に隣接する炭素（α位の炭素）であることが好ましい。ｍ及びｎは、０≦ｍ≦５および０≦ｎ≦５の関係を満たす負でない整数であり、好ましくはｍ＝１、ｎ＝１である。
【００３９】
次に、本発明の第３の遷移金属化合物について説明する。この化合物は、以下の一般式（Ｉｃ）で表される。
【００４０】
一般式（Ｉｃ）中、Ｃ1、Ｍ、Ｘ、Ｙは、一般式（Ｉａ）と同じ意味を表す。
【００４１】
【化１０】
0004989823.tif 000006
【００４２】
Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を示す。
【００４３】
上記の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等のアルケニル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−スチリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェナントリル、アントリル等のアリール基などが挙げられる。
【００４４】
上記の炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。そして、上記のハロゲン化炭化水素基は、ハロゲン原子が例えばフッ素原子の場合、フッ素原子が上記の炭化水素基の任意の位置に置換した化合物である。その具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，１，１−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１，１−ジフルオロベンジル、１，１，２，２−テトラフルオロフェニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ジフルオロフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ジクロロフェニル、２，４，６−トリフルオロフェニル、２，４，６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４−クロロナフチル、２，４−ジフルオロナフチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、２，４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが挙げられる。
【００４５】
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ19、Ｒ20は水素原子が好ましい。
Ｒ10、Ｒ21は炭素数１〜６の炭化水素基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。Ｒ13、Ｒ18は炭素数６〜２０のアリール基またはハロゲン含有アリール基が好ましい。
【００４６】
以上述べたような本発明の遷移金属化合物、あるいは、α−オレフィン重合用触媒成分の具体例のいくつかについて、その構造式を以下に例示する。
【００４７】
【化１１】
0004989823.tif 000007
【００４８】
【化１２】
0004989823.tif 000008
【００４９】
【化１３】
0004989823.tif 000009
【００５０】
【化１４】
0004989823.tif 000010
【００５１】
また、上述の様な化合物において、一般式（Ｉａ）〜（Ｉｃ）のＸ及びＹ部分に相当する２つの塩素原子の一方または両方が、水素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、フェニル基、フルオロフェニル基、ベンジル基、メトキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などに代わった化合物も例示することが出来る。また、先に例示した化合物の中心金属（Ｍ）がジルコニウムの代わりに、チタン、ハフニウムに代えた化合物も例示することが出来る。これらの中では、ジルコニウム又はハフニウムが特に好ましい。
【００５２】
次に、本発明のα−オレフィン重合用触媒（１）及び（２）について説明する。これらの触媒は、何れも、前述した本発明の遷移金属化合物を成分（Ａ）として含む。先ず成分（Ａ）の他に成分（Ｂ）として、アルミニウムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物またはルイス酸を含み、任意成分（Ｃ）として微粒子担体を含む、本発明のα−オレフィン重合用触媒（１）について説明する。なお、上記のルイス酸のある種のものは、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物として把握することも出来る。従って、上記のルイス酸およびイオン性化合物の両者に属する化合物は、何れか一方に属するものとする。上記のアルミニウムオキシ化合物としては、具体的には次の一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。
【００５３】
【化１５】
0004989823.tif 000011
【００５４】
上記の各一般式中、Ｒ24は、水素原子または炭化水素残基、好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６の炭化水素残基を示す。また、複数のＲ24はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、ｐは０〜４０、好ましくは２〜３０の整数を示す。
【００５５】
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で表される化合物は、アルモキサンとも呼ばれる化合物であって、一種類のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリアルキルアルミニウムと水との反応により得られる。具体的には、（ａ）一種類のトリアルキルアルミニウムと水から得られる、メチルアルモキサン、エチルアルモキサン、プロピルアルモキサン、ブチルアルモキサン、イソブチルアルモキサン、（ｂ）二種類のトリアルキルアルミニウムと水から得られる、メチルエチルアルモキサン、メチルブチルアルモキサン、メチルイソブチルアルモキサン等が例示される。これらの中では、メチルアルモキサン又はメチルイソブチルアルモキサンが好ましい。
【００５６】
上記のアルモキサンは、各群内および各群間で複数種併用することも可能である。そして、上記のアルモキサンは、公知の様々な条件下に調製することが出来る。具体的には以下の様な方法が例示できる。
（ａ）トルエン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶剤の存在下、トリアルキルアルミニウムを直接水と反応させる方法。
（ｂ）トリアルキルアルミニウムと結晶水を有する塩水和物、例えば、硫酸銅、硫酸アルミニウムの水和物とを反応させる方法。
（ｃ）トリアルキルアルミニウムとシリカゲル等に含浸させた水分とを反応させる方法。
（ｄ）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムとを混合した後、トルエン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶剤の存在下、直接水と反応させる方法。
（ｅ）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムとの混合物と結晶水を有する塩水和物、例えば、硫酸銅、硫酸アルミニウムとの水和物とを加熱反応させる方法。
（ｆ）シリカゲル等に水分を含浸させ、トリイソブチルアルミニウムで処理した後、トリメチルアルミニウムで追加処理する方法。
（ｇ）メチルアルモキサン及びイソブチルアルモキサンを公知の方法で合成し、これら二成分を所定量混合して加熱反応させる方法。
（ｈ）ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒中に硫酸銅５水塩などの結晶水を有する塩とトリメチルアルミニウムとを添加して約−４０〜４０℃の温度条件下に反応させる方法。
【００５７】
反応に使用する水の量は、トリメチルアルミニウムに対するモル比で通常０．５〜１．５である。上記の方法で得られたメチルアルモキサンは、線状または環状の有機アルミニウムの重合体である。一般式（ＩＶ）で表される化合物は、一種類のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリアルキルアルミニウムと次の一般式（Ｖ）で表されるアルキルボロン酸との１０：１〜１：１（モル比）の反応により得ることが出来る。一般式（Ｖ）中、Ｒ25は、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６の炭化水素残基またはハロゲン化炭化水素基を示す。
【００５８】
Ｒ25Ｂ（ＯＨ）2            （Ｖ）
具体的には以下の様な反応生成物が例示できる。
（ａ）トリメチルアルミニウムとメチルボロン酸の２：１の反応物
（ｂ）トリイソブチルアルミニウムとメチルボロン酸の２：１反応物
（ｃ）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムとメチルボロン酸の１：１：１反応物
（ｄ）トリメチルアルミニウムとエチルボロン酸の２：１反応物
（ｅ）トリエチルアルミニウムとブチルボロン酸の２：１反応物
また、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物としては、一般式（ＶＩ）で表される化合物が挙げられる。
【００５９】
〔Ｋ〕e+〔Ｚ〕e-                  （ＶＩ）
一般式（ＶＩ）中、Ｋはカチオン成分であって、例えば、カルボニウムカチオン、トロピリウムカチオン、アンモニウムカチオン、オキソニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスフォニウムカチオン等が挙げられる。また、それ自身が還元され易い金属の陽イオンや有機金属の陽イオン等も挙げられる。上記のカチオンの具体例としては、トリフェニルカルボニウム、ジフェニルカルボニウム、シクロヘプタトリエニウム、インデニウム、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、Ｎ，  Ｎ−ジメチルアニリニウム、ジプロピルアンモニウム、ジシクロヘキシルアンモニウム、トリフェニルホスホニウム、トリメチルホスホニウム、トリス（ジメチルフェニル）ホスホニウム、トリス（メチルフェニル）ホスホニウム、トリフェニルスルホニウム、トリフェニルオキソニウム、トリエチルオキソニウム、ピリリウム、銀イオン、金イオン、白金イオン、銅イオン、パラジウムイオン、水銀イオン、フェロセニウムイオン等が挙げられる。
【００６０】
上記の一般式（ＶＩ）中、Ｚは、アニオン成分であり、成分（Ａ）が変換されたカチオン種に対して対アニオンとなる成分（一般には非配位の成分）である。Ｚとしては、例えば、有機ホウ素化合物アニオン、有機アルミニウム化合物アニオン、有機ガリウム化合物アニオン、有機リン化合物アニオン、有機ヒ素化合物アニオン、有機アンチモン化合物アニオン等が挙げられ、具体的には次のアニオンが挙げられる。
（ａ）テトラフェニルホウ素、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ホウ素、テトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ホウ素、テトラキス｛３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル｝ホウ素、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素等
（ｂ）テトラフェニルアルミニウム、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）アルミニウム、テトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝アルミニウム、テトラキス（３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル）アルミニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミニウム等。
（ｃ）テトラフェニルガリウム、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ガリウム、テトラキス｛３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ガリウム、テトラキス｛３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル｝ガリウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ガリウム等
（ｄ）テトラフェニルリン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）リン等
（ｅ）テトラフェニルヒ素、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ヒ素等
（ｆ）テトラフェニルアンチモン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アンチモン等
（ｇ）デカボレート、ウンデカボレート、カルバドデカボレート、デカクロロデカボレート等
また、ルイス酸、特に成分（Ａ）をカチオンに変換可能なルイス酸としては、種々の有機ホウ素化合物、金属ハロゲン化合物、固体酸などが例示され、その具体的例としては次の化合物が挙げられる。
（ａ）トリフェニルホウ素、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）ホウ素、トリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素等の有機ホウ素化合物
（ｂ）塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化臭化マグネシウム、塩化ヨウ化マグネシウム、臭化ヨウ化マグネシウム、塩化マグネシウムハイドライド、塩化マグネシウムハイドロオキシド、臭化マグネシウムハイドロオキシド、塩化マグネシウムアルコキシド、臭化マグネシウムアルコキシド等の金属ハロゲン化合物
（ｃ）アルミナ、シリカ−アルミナ等の固体酸。
【００６１】
本発明のα−オレフィン重合用触媒（１）において、任意成分（Ｃ）としての微粒子担体は、無機または有機の化合物から成り、通常５μ〜５ｍｍ、好ましくは１０μ〜２ｍｍの粒径を有する微粒子状の担体である。上記の無機担体としては、例えば、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＺｎＯ等の酸化物、ＳｉＯ2−ＭｇＯ、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2−ＴｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−ＭｇＯ等の複合酸化物などが挙げられる。
【００６２】
上記の有機担体としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン等の炭素数２〜１４のα−オレフィンの（共）重合体、スチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族不飽和炭化水素の（共）重合体などから成る多孔質ポリマーの微粒子担体が挙げられる。これらの比表面積は、通常２０〜１０００ｍ2／ｇ、好ましくは５０〜７００ｍ2／ｇであり、細孔容積は、通常０．１ｃｍ3／ｇ以上、好ましくは０．３ｃｍ3／ｇ、更に好ましくは０．８ｃｍ3／ｇ以上である。
【００６３】
本発明のα−オレフィン重合用触媒（１）は、微粒子担体以外の任意成分として、例えば、Ｈ2Ｏ、メタノール、エタノール、ブタノール等の活性水素含有化合物、エーテル、エステル、アミン等の電子供与性化合物、ホウ酸フェニル、ジメチルメトキシアルミニウム、亜リン酸フェニル、テトラエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のアルコキシ含有化合物を含むことが出来る。
【００６４】
また、上記以外の任意成分としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリ低級アルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムセスキクロリド等のハロゲン含有アルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムヒドリド等のアルキルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジメチルアルミニウムブトキシド等のアルコキシ含有アルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムフェノキシド等のアリールオキシ含有アルキルアルミニウム等が挙げられる。
【００６５】
本発明のα−オレフィン重合用触媒（１）において、アルミニウムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物またはルイス酸は、成分（Ｂ）として、それぞれ単独使用される他、これらの３成分を適宜組み合わせて使用することが出来る。また、上記の低級アルキルアルミニウム、ハロゲン含有アルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムヒドリド、アルコキシ含有アルキルアルミニウム、アリールオキシ含有アルキルアルミニウムの１種または２種以上は、任意成分ではあるが、アルミニウムオキシ化合物、イオン性化合物またはルイス酸と併用してα−オレフィン重合用触媒（１）中に含有させるのが好ましい。
【００６６】
本発明のα−オレフィン重合用触媒（１）は、重合槽の内外において、重合させるべきモノマーの存在下または不存在下、上記の成分（Ａ）及び（Ｂ）を接触させることにより調製することが出来る。すなわち、成分（Ａ）及び（Ｂ）と必要に応じて成分（Ｃ）等を重合槽に別々に導入してもよいし、成分（Ａ）及び（Ｂ）を予め接触させた後に重合槽に導入してもよい。また、成分（Ａ）及び（Ｂ）の混合物を成分（Ｃ）に含浸させた後に重合槽へ導入してもよい。
【００６７】
上記の各成分の接触は、窒素などの不活性ガス中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素溶媒中で行ってもよい。接触温度は、−２０℃から溶媒の沸点の範囲の温度、特に、室温から溶媒の沸点の範囲の温度が好ましい。この様にして調製された触媒は、調製後に洗浄せずに使用してもよく、また、洗浄した後に使用してもよい。更には、調製後に必要に応じて新たに成分を組み合わせて使用してもよい。
【００６８】
また、成分（Ａ）、（Ｂ）及び成分（Ｃ）を予め接触させる際、重合させるモノマーを存在させてα−オレフィンの一部を重合する、いわゆる予備重合を行うことも出来る。すなわち、重合の前に、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、ビニルシクロアルカン、スチレン等のオレフィンの予備重合を行い、必要に応じて洗浄した予備重合生成物を触媒として使用することも出来る。この予備重合は、不活性溶媒中で穏和な条件で行うことが好ましく、固体触媒１ｇ当たり、通常０．０１〜１０００ｇ、好ましくは０．１〜１００ｇの重合体が生成するように行うのが好ましい。
【００６９】
成分（Ａ）及び（Ｂ）の使用量は任意である。例えば、溶媒重合の場合、成分（Ａ）の使用量は、遷移金属原子として、通常１０-7〜１０2ｍｍｏｌ／Ｌ、好ましくは１０-4〜１ｍｍｏｌ／Ｌの範囲とされる。アルミニウムオキシ化合物の場合、Ａｌ／遷移金属のモル比は、通常１０〜１０5、好ましくは１００〜２×１０4、更に好ましくは１００〜１０4の範囲とされる。一方、成分（Ｂ）としてイオン性化合物またはルイス酸を使用した場合、遷移金属に対するこれらのモル比は、通常０．１〜１０００、好ましくは０．５〜１００、更に好ましくは１〜５０の範囲とされる。
【００７０】
次に成分（Ｄ）として、珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物または無機珪酸塩を含み、任意成分（Ｅ）として有機アルミニウム化合物を含む、本発明のα−オレフィン重合用触媒（２）について説明する。上記のイオン交換性層状化合物としては、六方最密パッキング型、アンチモン型、ＣｄＣｌ2型、ＣｄＩ2型などの層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物が挙げられ、その具体例としては、α−Ｚｒ（ＨＡｓＯ4）2・Ｈ2Ｏ、α−Ｚｒ（ＨＰＯ4）2、α−Ｚｒ（ＫＰＯ4）3・３Ｈ2Ｏ、α−Ｔｉ（ＨＰＯ4）2、α−Ｔｉ（ＨＡｓＯ4）2・Ｈ2Ｏ、α−Ｓｎ（ＨＰＯ4）2・Ｈ2Ｏ、γ−Ｚｒ（ＨＰＯ4）2、γ−Ｔｉ（ＨＰＯ4）2、γ−Ｔｉ（ＮＨ4ＰＯ4）2・Ｈ2Ｏ等の多価金属の結晶性酸性塩が挙げられる。
【００７１】
上記のイオン交換性層状化合物は、必要に応じて塩類処理および／または酸処理を行って使用してもよい。塩類処理も酸処理も施されていない状態の、珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物は、イオン結合等によって構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造をとる化合物であり、含有するイオンの交換が可能である。
【００７２】
上記の無機珪酸塩としては、粘土、粘土鉱物、ゼオライト、珪藻土などが挙げられる。これらは、合成品を使用してもよいし、天然に産出する鉱物を使用してもよい。粘土および粘土鉱物の具体例としては、アロフェン等のアロフェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイト等のカオリン族、メタハロイサイト、ハロイサイト等のハロイサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ソーコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石などの雲母鉱物、アタパルジャイト、セピオライト、パリゴルスカイト、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライト、リョクデイ石群などが挙げられる。これらは混合層を形成していてもよい。また、人工合成物としては、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライト等が挙げられる。
【００７３】
上記の無機珪酸塩の中では、カオリン族、ハロサイト族、蛇紋石族、スメクタイト、バーミキュライト鉱物、雲母鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト又は合成テニオライトが好ましく、スメクタイト、バーミキュライト鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト又は合成テニオライトが更に好ましい。これらは、特に処理を行うことなくそのまま使用してもよいし、ボールミル、篩い分け等の処理を行った後に使用してもよい。また、単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。
【００７４】
上記の無機珪酸塩は、必要に応じ、塩類処理および／または酸処理により、固体の酸強度を変えることが出来る。また、塩類処理においては、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体などを形成することにより、表面積や層間距離を変えることが出来る。すなわち、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと置換することにより、層間が拡大した状態の層状物質を得ることが出来る。
【００７５】
イオン交換性層状化合物および無機珪酸塩は、未処理のまま使用してもよいが、含有される交換可能な金属陽イオンを次に示す塩類および／または酸より解離した陽イオンとイオン交換することが好ましい。上記のイオン交換に使用する塩類は、１〜１４族原子から成る群より選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンを含有する化合物であり、好ましくは、１〜１４族原子から成る群より選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、ハロゲン原子、無機酸および有機酸から成る群より選ばれた少なくとも一種の原子または原子団よりより誘導される陰イオンとから成る化合物であり、更に好ましくは、２〜１４族原子から成る群より選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｆ、ＰＯ4、ＳＯ4、ＮＯ3、ＣＯ3、Ｃ2Ｏ4、ＣｌＯ4、ＯＯＣＣＨ3、ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3、ＯＣｌ2、Ｏ（ＮＯ3）2、Ｏ（ＣｌＯ4）2、Ｏ（ＳＯ4）、ＯＨ、Ｏ2Ｃｌ2、ＯＣｌ3、ＯＯＣＨ及びＯＯＣＣＨ2ＣＨ3から成る群より選ばれた少なくとも一種の陰イオンとから成る化合物である。また、これら塩類は２種以上を同時に使用してもよい。
【００７６】
上記のイオン交換に使用する酸は、好ましくは、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、シュウ酸から選択され、これらは、２種以上を同時に使用してもよい。塩類処理と酸処理を組み合わせる方法としては、塩類処理を行った後に酸処理を行う方法、酸処理を行った後に塩類処理を行う方法、塩類処理と酸処理を同時に行う方法、塩類処理を行った後に塩類処理と酸処理を同時に行う方法などがある。なお、酸処理は、イオン交換や表面の不純物を取り除く効果の他、結晶構造のＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｌｉ等の陽イオンの一部を溶出させる効果がある。
【００７７】
塩類および酸による処理条件は特に制限されない。しかしながら、通常、塩類および酸濃度は０．１〜３０重量％、処理温度は室温から使用溶媒の沸点の範囲の温度、処理時間は５分〜２４時間の条件を選択し、被処理化合物の少なくとも一部を溶出する条件で行うことが好ましい。また、塩類および酸は一般的には水溶液で使用される。
【００７８】
上記の塩類処理および／または酸処理を行う場合、処理前、処理間、処理後に粉砕や造粒などで形状制御を行ってもよい。また、アルカリ処理や有機化合物処理、有機金属処理などの他の化学処理を併用してもよい。このようにして得られる成分（Ｄ）としては、水銀圧入法で測定した半径２０Å以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上、特には０．３〜５ｃｃ／ｇであることが好ましい。斯かる成分（Ｄ）は、水溶液中で処理した場合、吸着水および層間水を含む。ここで、吸着水とは、イオン交換性層状化合物または無機珪酸塩の表面あるいは結晶破面に吸着された水であり、層間水とは、結晶の層間に存在する水である。
【００７９】
本発明において、成分（Ｄ）は、上記の様な吸着水および層間水を除去してから使用することが好ましい。脱水方法は、特に制限されないが、加熱脱水、気体流通下の加熱脱水、減圧下の加熱脱水および有機溶媒との共沸脱水などの方法が使用される。加熱温度は、吸着水および層間水が残存しない様な温度範囲とされ、通常１００℃以上、好ましくは１５０℃以上とされるが、構造破壊を生じる様な高温条件は好ましくない。加熱時間は、０．５時間以上、好ましくは１時間以上である。その際、脱水乾燥した後の成分（Ｄ）の重量減量は、温度２００℃、圧力１ｍｍＨｇの条件下で２時間吸引した場合の値を０重量％として３重量％以下であることが好ましい。本発明においては、重量減量が３重量％以下に調製された成分（Ｄ）を使用する場合、必須成分（Ａ）及び後述の任意成分（Ｅ）と接触する際にも、同様の重量減量の状態が保持される様に取り扱うことが好ましい。
【００８０】
本発明のα−オレフィン重合用触媒（２）において、任意成分（Ｅ）としての有機アルミニウム化合物の一例は、次の一般式（ＶＩＩ）で表される。
【００８１】
ＡｌＲ26aＰ3-a          （ＶＩＩ）
一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ26は炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｐは、水素、ハロゲン、アルコキシ基またはシロキシ基を示し、ａは０より大きく３以下の数を示す。一般式（ＶＩＩ）で表される有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムモノクロライド、ジエチルアルミニウムモノメトキシド等のハロゲン又はアルコキシ含有アルキルアルミニウムが挙げられる。これらの中では、トリアルキルアルミニウムが好ましい。本発明のα−オレフィン重合用触媒（２）においては、成分（Ｅ）として、一般式（ＶＩＩ）で表される有機アルミニウム化合物以外にメチルアルミノキサン等のアルミノキサン類なども使用できる。また、上記の有機アルミニウム化合物とアルミノキサン類とを併用することも出来る。
【００８２】
本発明のα−オレフィン重合用触媒（２）は、α−オレフィン重合用触媒（１）の場合と同様の方法により調製することが出来る。この際、成分（Ａ）及び成分（Ｄ）と任意成分（Ｅ）の接触方法は、特に限定されないが、次の様な方法を例示することが出来る。
（１）成分（Ａ）と成分（Ｄ）とを接触させる方法。
（２）成分（Ａ）と成分（Ｄ）とを接触させた後に任意成分（Ｅ）を添加する方法。
（３）成分（Ａ）と任意成分（Ｅ）とを接触させた後に成分（Ｄ）を添加する方法。
（４）成分（Ｄ）と任意成分（Ｅ）とを接触させた後に成分（Ａ）を添加する方法。
（５）各成分（Ａ）、（Ｄ）、（Ｅ）を同時に接触させる方法。
【００８３】
なお、この接触は、触媒調製時だけでなく、オレフィンによる予備重合時またはオレフィンの重合時に行ってもよい。上記の各成分の接触の際もしくは接触の後に、ポリエチレン、ポリプロピレン等の重合体、シリカ、アルミナ等の無機酸化物の固体を共存させるか、または、接触させてもよい。
【００８４】
また、上記の各成分の接触は、窒素などの不活性ガス中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素溶媒中で行ってもよい。接触は、−２０℃から溶媒の沸点の間の温度で行い、特に室温から溶媒の沸点の間での温度で行うのが好ましい。上記の各成分の使用量は次の通りである。すなわち、成分（Ｄ）１ｇ当たり、成分（Ａ）は、通常１０-4〜１０ｍｍｏｌ、好ましくは１０-3〜５ｍｍｏｌであり、成分（Ｅ）は、通常０．０１〜１０4ｍｍｏｌ、好ましくは０．１〜１００ｍｍｏｌである。また、成分（Ａ）中の遷移金属と成分（Ｅ）中のアルミニウムの原子比は、通常１：０．０１〜１０6、好ましくは１：０．１〜１０5である。このようにして調製された触媒は、調製後に洗浄せずに使用してもよく、また、洗浄した後に使用してもよい。また、必要に応じて新たに任意成分（Ｅ）を組み合わせて使用してもよい。この際、使用される任意成分（Ｅ）の量は、成分（Ａ）中の遷移金属に対する任意成分（Ｅ）中のアルミニウムの原子比で１：０〜１０4、好ましくは１：１〜１０4になる様に選ばれる。
【００８５】
次に、本発明に係るα−オレフィン重合体の製造方法について説明する。本発明においては、前述の本発明の触媒とα−オレフィンとを接触させて重合または共重合を行う。本発明のα−オレフィン重合用触媒（１）又は（２）は、溶媒を使用する溶媒重合に適用される他、実質的に溶媒を使用しない液相無溶媒重合、気相重合、溶融重合にも適用される。また、重合方式は、連続重合および回分式重合の何れであってもよい。
【００８６】
溶媒重合における溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の不活性な飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あるいは混合物が使用される。重合温度は、通常−７８〜２５０℃、好ましくは−２０〜１００℃とされる。反応系のオレフィン圧は、特に制限されないが、好ましくは常圧から２０００ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇ、更に好ましくは常圧から５０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇの範囲とされる。また、例えば、温度や圧力の選定または水素の導入などの公知の手段により分子量調節を行なうことも出来る。
【００８７】
原料のα−オレフィンとしては、炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０のα−オレフィンが使用され、その具体例としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン等が挙げられる。本発明の触媒は、炭素数２〜１０のα−オレフィン、特にエチレンの重合に好適に使用される。
【００８８】
また、本発明の触媒は、上記の各α−オレフィン同志またはα−オレフィンとの他の単量体との共重合にも適用可能である。α−オレフィンと共重合可能な他の単量体としては、例えば、ブタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，５−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエンの様な共役および非共役ジエン類、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエンの様な環状オレフィンが挙げられる。また、重合に際しては、多段階に条件を変更するいわゆる多段重合、例えば、一段目にプロピレンの重合を行い、二段目にエチレンとプロピレンの共重合を行う所謂ブロック共重合も可能である。
【００８９】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例によって制約を受けるものではない。なお、本実施例で用いた溶媒は全て窒素下で脱水処理されており、助触媒として用いたメチルアルモキサン（ＭＡＯ）は東ソー・アクゾ社製ＭＭＡＯ−３Ａ（トルエン溶液、Ａｌ含量５．９重量％）である。また、本実施例における各種物性等の測定方法は以下の通りである。
（１）ＭＦＲの測定：
ポリマー６ｇに熱安定剤（ＢＨＴ）のアセトン溶液（０．６重量％）６ｇを添加し、次いで、上記のポリマーを乾燥した後、メルトインデクサー（２３０℃）に充填し、２１．６Ｋｇ荷重の条件下に５分間放置した。その後、ポリマーの押し出し量を測定し、１０分間当たりの量に換算し、ＭＦＲの値とした。
（２）分子量の測定：
ＧＰＣ／ＭＡＬＬＳにより重量平均分子量（Ｍｗ）を求めた。ＧＰＣ装置は、Ｗａｔｅｒｓ社製「Ａｌｌｉａｎｃｅ  ＧＰＣ２０００ＣＶ」を使用し、多角度光散乱検出器装置（Ｗｙａｔｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製「ＤＡＷＮ−ＤＳＰ」）を接続して測定した。溶媒はトリクロロベンゼンを使用し、測定温度は１４０℃とした。使用したカラムはＳｈｏｄｅｘ  ＵＴ−８０６Ｍ、流量は０．５ｍＬ／ｍｉｎで行った。
（３）融点の測定：
ＤＳＣ（デュポン社製「ＴＡ２０００型」）を使用し、１０℃／分で２０〜２００℃までの昇降温を１回行った後の２回目の昇温時の測定により求めた。
【００９０】
実施例１
（ジクロロジメチルシリレンビス（２−メチル−４−（２−フルオロ−４−ビフェニリル）−４Ｈ−アズレニル）ジルコニウム（１）の合成)
２−フルオロ−４−ブロモビフェニル（６．０８ｇ，２４．２ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（４０ｍＬ）とヘキサン（４０ｍＬ）の混合溶媒に溶かし、ｔ−ブチルリチウムのペンタン溶液（３３ｍＬ，４８．４ｍｍｏｌ，１．４５Ｎ）を−４０℃で滴下した。−１０℃で４５分間攪拌した後、この溶液に２−メチルアズレン（３．２ｇ，２３ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。ヘキサン（３０，２０ｍＬ）を加え、上澄みをデカントし可溶性の不純物を除いた。得られた黄色沈殿に０℃でヘキサン（３０ｍＬ）とテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）を加えた。Ｎ−メチルイミダゾール（５０μＬ）とジメチルジクロロシラン（１．３８ｍＬ，１１．４ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温し、室温（１５−２０℃）で１時間攪拌した。この後、水を加え、分液した後有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去すると、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−（２−フルオロ−４−ビフェニリル）−１，４−ジヒドロアズレンのアモルファス状粗精製物（７．７２ｇ）が得られた。
【００９１】
次に、上記で得られた粗精製物をジエチルエーテル（３０ｍＬ）に溶かし、−１０℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１４．３ｍＬ，２２．７ｍｍｏｌ，１．５９Ｎ）を滴下し、徐々に昇温して室温で１時間攪拌した。さらに、トルエン（１８０ｍＬ）を加え、−１０℃に冷却し、四塩化ジルコニウム（２．６５ｇ，１１．３７ｍｍｏｌ）を加え、徐々に昇温し室温で３時間攪拌した。得られたスラリー溶液から減圧下大部分の溶媒を留去し、得られたスラリーを濾過した。トルエン（５ｍＬ×３）、ヘキサン（５ｍＬ×３）で洗浄すると黄色固体が得られた。  さらにエタノール（１０ｍＬ×２）、トルエン（３ｍＬ）、ヘキサン（５ｍＬ×２）で洗浄すると、ジクロロジメチルシリレンビス（２−メチル−４−（２−フルオロ−４−ビフェニリル）−４Ｈ−アズレニル）ジルコニウム（１）のラセミ・メソ混合物（４．４８ｇ，４２％、錯体：トルエン１：１）が得られた。
【００９２】
(三重架橋錯体（２）の合成)
上記で得られた（１）のラセミ・メソ混合物（４．４ｇ）をジクロロメタン（１２０ｍＬ）に懸濁し、高圧水銀灯（１００Ｗ）を用いて計２．７５時間光照射した。このスラリー溶液を減圧下溶媒をある程度留去し、析出した沈殿を濾過し、ヘキサン（１０ｍＬ）で洗浄すると（１）のラセミ体が得られた（２．２４ｇ，５５％）。
【００９３】
さらに、ジクロロメタン可溶分を溶媒留去し、トルエン（１５ｍＬ，１０ｍＬ×２）で洗浄した。得られた不溶分をさらにジクロロメタン（５０ｍＬ×３）で洗浄し、１，２−ジクロロエタン（４０ｍＬ）を用いて再結晶を行ったところ、下図（ＶＩＩＩ）に示す三重架橋錯体（２）が得られた。三重架橋錯体（２）はＸ線結晶構造解析を行うことにより、その構造を確認した。
【００９４】
【化１６】
0004989823.tif 000012
【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ０．６７（ｓ，３Ｈ，ＳｉＭｅ2），０．９２（ｓ，３Ｈ，ＳｉＭｅ2），２．１６（ｓ，６Ｈ，２−Ｍｅ），３．８７（ｂｒｄ，２Ｈ），４．６１（ｂｒｄ，２Ｈ），５．１２（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，２Ｈ，４-Ｈ），５．７０（ｍ，２Ｈ，６−Ｈ），５．７５（ｓ，２Ｈ，３−Ｈ），６．０６（ｄｄ，２Ｈ，５−Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，２Ｈ，ａｒｏｍ），７．０７（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，２Ｈ，ａｒｏｍ），７．３５−７．５５（ｍ，１２Ｈ，ａｒｏｍ）．
ｎｅｇａｔｉｖｅ−ＤＣＩ−ＭＳｍ／ｚ８４２（Ｍ-）Ｃ48Ｈ40Ｃｌ2Ｆ2ＳｉＺｒ．
（メチルアルモキサンを用いるエチレンの重合）
内容積１リットルの攪拌式オートクレーブ内にトルエン（５００ｍＬ）、東ソー・アクゾ社製メチルアルモキサンをＡｌ原子換算で４ｍｍｏｌ及び、上述の方法で得られた錯体（２）（１．６８ｍｇ，２．０μｍｍｏｌ）を入れた。エチレンを圧力一定（２．０ＭＰａ）となるようにフィードし、７０℃にて１時間重合操作を行った結果、４４．６ｇのポリマーが得られた。錯体活性は２．７×１０4ｇ−ポリマー／ｇ−錯体、融点は１３７℃、Ｍｗは２．８×１０6、ＭＦＲ（２１．６Ｋｇ）では流れなかった。
【００９６】
実施例２
（モンモリロナイトを用いるエチレンスラリー重合）
硫酸マグネシウム・７水和物（１３３ｇ）、硫酸（１０９ｇ）を溶解させたイオン交換水（６６０ｍＬ）中に、市販の造粒モンモリロナイト（１００ｇ，水澤化学社製、ベンクレイＳＬ）を分散させ、２時間で１００℃まで昇温し、その温度で２時間維持した。その後、１時間かけて室温まで冷却した。このスラリーをろ過し、ケーキを回収した。純水（３Ｌ）を加え再スラリー化し、ろ過を行った。  この操作をさらに２回繰り返した。回収したケーキを窒素雰囲気下１１０℃で終夜乾燥した。その結果、８０ｇの化学処理担体を得た。この化学処理されたモンモリロナイト４００ｍｇに、濃度０．５ｍｏｌ／Ｌのトリエチルアルミニウムのトルエン溶液１．６ｍＬを加え、室温で３０分間攪拌した。その後、トルエンで洗浄し、３３ｍｇ／ｍＬのモンモリロナイト−トルエンスラリーを得た。
【００９７】
内容積１リットルの攪拌式オ−トクレ−ブ内にトルエン（５００ｍＬ）、東ソー・アクゾ社製トリイソブチルアルミをＡｌ原子換算で０．２５ｍｍｏｌを導入した。一方、破裂板のついた触媒フィーダーに上記で得られた錯体２（１．２７ｍｇ，１．５μｍｍｏｌ）をトルエンに希釈して導入し、モリロナイト（５０ｍｇ）及びトリイソブチルアルミをＡｌ原子換算で０．０１５ｍｍｏｌを導入した。その後、エチレンを圧力一定（２．０ＭＰａ）となるようにフィードし、７０℃で９０分間重合操作を行った結果、４．０ｇのポリマーが得られた。錯体活性は３．１×１０3ｇ−ポリマー／ｇ−錯体、融点は１３３．４℃、ＭＦＲ（２１．６Ｋｇ）では流れなかった。
【００９８】
【発明の効果】
本発明によれば、工業的に実用な重合温度において、高分子量α−オレフィン重合体を得ることができる。