(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子内に下記一般式（１）で表される基を有するセルロースエステル誘導体の加水分解重縮合物、または該セルロースエステル誘導体と加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物との共重合物、を主成分とする有機−無機ポリマーハイブリッドフィルムであることを特徴とする電子ディスプレイ素子用基板フィルム。
一般式（１）  −Ｓｉ（Ｒ）３−ｎ（ＯＲ’）ｎ
（式中、Ｒ，Ｒ’は水素原子または一価の置換基を表わし、ｎは１〜３の整数を表す。）
【請求項２】
電子ディスプレイが液晶パネルであることを特徴とする請求項１に記載の電子ディスプレイ素子用基板フィルム。
【請求項３】
前記セルロースエステル誘導体が、下記一般式（２）で表されるシランカップリング剤を、原料となるセルロースエステル誘導体に付加または縮合させて得られたことを特徴とする請求項１または２記載の電子ディスプレイ素子用基板フィルム。
一般式（２）  Ｘ−Ｌ−Ｓｉ（Ｒ）３−ｎ（ＯＲ’）ｎ
（式中、Ｘは水酸基と付加または縮合可能な基、ＬはＸとＳｉをつなぐ２価の連結基、Ｒ，Ｒ’は水素原子または一価の置換基を表わし、ｎは１〜３の整数を表す。）
【請求項４】
前記セルロースエステル誘導体の水酸基の水素を置換している官能基が炭素数２〜４のアシル基であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項記載の電子ディスプレイ素子用基板フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明基板フィルムに関し、より詳しくは電子ディスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子等の電子ディスプレイ素子用基板、あるいはＣＣＤ、ＣＭＯＳセンサー等の電子光学素子用基板、あるいは太陽電池用基板としては、熱安定性、透明性の高さ、水蒸気透過性の低さからガラスが用いられてきた。しかし、最近携帯電話あるいは携帯用の情報端末の普及に伴い、それらの基板用として、割れやすく比較的重いガラスに対し、屈曲性に富み割れにくく軽量な基板が求められるようになった。そこでポリエーテルスルホン、ポリカーボネートあるいは特開平５−１４２５２５号公報に記載のポリエーテルスルホンとアクリル系基板を張り合わせたプラスチック基板が提案され一部で採用されるようになってきた。しかしながら、高価であったり、透過率や複屈折等の光学的性質が充分でない等の理由で普及の妨げになっていた。また、これらの基板フィルムは波長分散特性が負であるため、複屈折を利用した表示方法を採用している、例えば、ＳＴＮ、ＶＡあるいはＩＰＳモードの液晶パネルにおいては可視光の全波長域で偏光の補償ができず、表示色の色ずれの原因となっていた。また、有機ＥＬ表示素子においてはコントラストの低下を起こしていた。
【０００３】
一方、波長分散特性が正の樹脂としては、例えばセルロースアセテートなどのセルロース誘導体が挙げられ、液晶表示素子の偏光板の保護フィルムとして好適に用いられているが、これらは機械的強度に乏しく、生産時に引っかき傷がついたり、裂けてしまうという問題があった。また有機ＥＬ表示素子等の電子ディスプレイ素子用基板上に透明導電膜を形成するためには、１８０℃でも変形しない程度の耐熱性が必要であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の第一の目的は、電子ディスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用または太陽電池用に、透明性・耐熱性・表面硬度が高く、複屈折が少なく、軽くしなやかな基板フィルムを提供することであり、本発明の第二の目的は、複屈折を利用した表示方法を採用している液晶パネルにおいて色ずれの小さい電子ディスプレイ素子用基板フィルムを提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記の構成によって達成される。
【０００６】
１．分子内に前記一般式（１）で表される基を有するセルロースエステル誘導体の加水分解重縮合物、または該セルロースエステル誘導体と加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物との共重合物、を主成分とする有機−無機ポリマーハイブリッドフィルムであることを特徴とする電子ディスプレイ素子用基板フィルム。
【０００７】
２．電子ディスプレイが液晶パネルであることを特徴とする１項記載の電子ディスプレイ素子用基板フィルム。
【０００８】
３．前記セルロースエステル誘導体が、前記一般式（２）で表されるシランカップリング剤を、原料となるセルロースエステル誘導体に付加または縮合させて得られたことを特徴とする１項または２項記載の電子ディスプレイ素子用基板フィルム。
【０００９】
４．前記セルロースエステル誘導体の水酸基の水素を置換している官能基が炭素数２〜４のアシル基であることを特徴とする１〜３項の何れか１項記載の電子ディスプレイ素子用基板フィルム。
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、原料となるセルロース誘導体の例としては酢酸セルロース、硝酸セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、シアノエチルセルロースなどが挙げられるが、好ましくはセルロースエステル誘導体であり、例えば酢酸セルロースであるトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース（ＤＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等である。
【００１１】
次に一般式（１）について説明する。式中、Ｒ，Ｒ’は水素原子または一価の置換基を表わし、好ましくはアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基である。ｎは１〜３の整数であり、好ましくはｎ＝３である。
【００１２】
本発明は、分子内に前記一般式（１）で表される基を有するセルロース誘導体（以下セルロース誘導体（Ａ）という）、該セルロース誘導体（Ａ）の加水分解重縮合物（以下セルロース誘導体（Ｂ）という）、または該セルロース誘導体（Ａ）と加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物との共重合物（以下セルロース誘導体（Ｃ）という）（これら、セルロース誘導体（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を合わせて、単に本発明のセルロース誘導体という）を、主成分とする有機−無機ポリマーハイブリッドフィルムを用いた電子ディスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィルムに関するものである。
【００１３】
次に、一般式（２）について説明する。式中、Ｒ，Ｒ’は水素原子または一価の置換基を表わし、好ましくはアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基である。ｎは１〜３の整数であり、好ましくはｎ＝３である。Ｘは水酸基と付加または縮合可能な基を表し、例えばイソシアナート基、チオシアナート基、エポキシ基、ビニル基、無水コハク酸残基などが挙げられるが、好ましくはイソシアナート基である。ＬはＸとＳｉをつなぐ２価の連結基を表し、例えば置換または無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基などが挙げられるが、好ましくは無置換のアルキレン基である。
【００１４】
本発明のセルロース誘導体（Ａ）は、前記原料のセルロース誘導体と、前記一般式（２）で表されるシランカップリング剤を、付加または縮合させることにより得られるセルロース誘導体である。
【００１５】
本発明においては、波長分散特性が正である、前記一般式（１）で表される基を有するセルロース誘導体（Ａ）またはそれらから誘導されるセルロース誘導体（ＢまたはＣ）が用いられる。
【００１６】
波長分散特性が正とは、有機ポリマーを可溶な溶媒（例えばアセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、塩化メチレンなどが挙げられ、またこれらの混合溶媒でもよい）に溶解しガラス板上にフィルム厚みが１００μｍになるように流延し乾燥させたフィルムを作製し、波長６００ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（６００）を波長４５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（４５０）で除した値が１より大きいものをいう。
【００１７】
波長分散特性が正の基板フィルムにおいては、可視光の全波長領域で偏光の補償が可能であり、複屈折を利用した表示方法を採用している液晶パネルにおいては色ずれがなく、有機ＥＬ表示素子においてはコントラストが良好である。
【００１８】
波長分散特性が正である有機ポリマーとしてはセルロースエステルが挙げられ、好ましくは、セルロース誘導体の水酸基の水素が炭素数２〜４のアシル基から選ばれる基で置換基されているものである。セルロースエステルの置換度としてはアセチル置換度をＸ、プロパノイルおよびブタノイル置換度をＹとしたとき１．００＜Ｘ＋Ｙ＜２．８５かつ０＜Ｘ＜２．８５であるものが好ましく、本発明のセルロースエステルは、このようなセルロースエステルに一般式（１）の基を導入したものである。
【００１９】
本発明において金属とは、「周期表の化学」岩波書店  斎藤一夫著  ｐ．７１記載の金属すなわち半金属性原子を含む金属である。
【００２０】
本発明に用いられる加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物としては、例えば金属アルコキシド、反応性の金属ハロゲン化物が挙げられ、好ましくは金属種が４価の金属のものであり、より好ましくは金属種がケイ素、ジルコニウム、チタンおよびゲルマニウムから選ばれるものである。特に好ましい金属種はケイ素である。
【００２１】
本発明に用いられる加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物で、加水分解可能な置換基が該金属１原子当たり２個である化合物の例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジブトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシシラン、ジフェニルジブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラン等が挙げられる。
【００２２】
加水分解可能な置換基が金属１原子当たり３個である化合物の例としてはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、アセトキシトリエトキシシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリメトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等が挙げられる。
【００２３】
本発明において反応性金属化合物として加水分解可能な置換基が該金属１原子当たり４個である化合物（例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラエトキシチタン、テトラｎ−ブトキシジルコン、テトラエトキシゲルマン等）を加水分解重縮合時に共存させるのが好ましい。
【００２４】
また、水蒸気透過率を低減する観点から加水分解可能な置換基が該金属１原子当たり３個である化合物及び加水分解可能な置換基が該金属１原子当たり２個である化合物のその他の置換基としては、置換または無置換のアルキル基、または置換または無置換のアリール基が好ましく該アルキル基またはアリール基の置換基としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）、複素環基（例えばフラン、チオフェン、ピリジン等）アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、アシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルキルチオ基、グリシジル基、ビニル基等が挙げられる。
【００２５】
また、下記一般式（３）で表わされる化合物を加水分解重縮合時に共存させてもよい。
【００２６】
一般式（３）  （Ｒｆ）nＳｉ（Ｘ1）4-n
（式中、Ｒｆはフッ素原子含有アルキル基またはフッ素原子含有アリール基を表わす。Ｘ1は、加水分解可能な基を表わし、ｎは１〜３の整数を表す。）
前記一般式（３）で表される化合物としては、（例えば、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリクロロシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリクロロシラン等）が挙げられる。
【００２７】
本発明において基板フィルムを作製するための有機ポリマーに対し無機高分子をハイブリッドすることが必須であり、いわゆる有機−無機ポリマーハイブリッドまたは有機−無機ポリマーコンポジットまたはゾル・ゲル法などと呼ばれる手法が用いられる。
【００２８】
即ち、本発明のセルロース誘導体（Ａ）と加水分解重縮合可能な反応性金属化合物の溶液に、ゾル・ゲル法を適用し加水分解重縮合をおこなわせるため、好ましくは酸触媒を加え、加水分解を起こさせることにより縮合反応を促進する。この組成物を基材上に押し出しあるいは流延し乾燥し、その後、必要なら、熱処理、紫外線処理或いはプラズマ処理等を行うことにより、三次元架橋の進んだ基板フィルムを得ることが出来る。ここで、通常触媒としては塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸、酢酸、トリフロロ酢酸、レブリン酸、クエン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸等が用いられる。酸を添加しゾル・ゲル反応が進行した後に塩基を加え中和しても良い。塩基を加え中和する場合、乾燥工程前でのアルカリ金属の含有量が５０００ｐｐｍ未満である事が好ましい（ここでアルカリ金属とは、イオン状態のものを含む）。又、ルイス酸、例えばゲルマニウム、チタン、アルミニウム、アンチモン、錫などの金属の酢酸塩、その他の有機酸塩、ハロゲン化物、燐酸塩などを併用してもよい。
【００２９】
尚、金属化合物の加水分解重縮合は、塗布前の溶液状態で反応を完結させても良いし、フィルム状に流延してから反応を完結させても良いが塗布前に反応を完結させるのが良い。用途によっては反応は完全に終了しなくても良いが、できれば完結していたほうが良い。
【００３０】
また、触媒として、このような酸類の代りに、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンなど、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン−１）、ＤＢＮ（ジアザビシクロノネン）などのビシクロ環系アミン、アンモニア、ホスフィン等の塩基を用いることができる。さらに、酸及び塩基の処理を複数回併用しても良い。
【００３１】
触媒を中和してもよいし揮発性の触媒は減圧で除去してもよいし、分液水洗等により除去しても良い。
【００３２】
本発明のセルロース誘導体（Ａ）および加水分解重縮合可能な反応性金属化合物は溶剤に溶解されるが、溶剤としては、水混和性の有機溶媒が用いられる。基材上に流延し、フィルムを形成させる場合、押し出しあるいは流延後に溶剤を蒸発させる必要性があるため、揮発性の溶媒が好ましく、かつ、反応性金属化合物や触媒等と反応せず、しかも流延用基材を溶解しないものであり、２種以上の溶媒を混合して用いても良い。また、本発明のセルロース誘導体（Ａ）と、加水分解重縮合可能な反応性金属化合物を各々別の溶媒に溶解し後に混合しても良い。
【００３３】
また、２種以上の溶媒を混合して用いても良い。水混和性の溶媒の例としてはエチルアルコール、メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、メトキシメチルアルコール、メチルセロソルブなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホランなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトンおよびアセトンが好ましい。
【００３４】
得られる基板フィルムの厚さとしては、１０μｍ〜１ｍｍ程度の任意のものを作製できるが３０〜５００μｍが好ましい。
【００３５】
本発明の表示素子用基板、電子光学素子用基板、太陽電池用基板は、必要に応じてその表面に金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、有機物重合体等の皮膜を形成してもよく、これらは積層されていても良い。ＩＴＯなどの透明導電膜の反対の面にこうした皮膜を形成することによりＩＴＯなどの透明導電膜の形成によるフィルムの表裏での吸湿性や内部応力の差による反りを解消することが出来るが、表裏両面に皮膜を形成しても良い。こうした皮膜の形成により、より優れた水蒸気透過性の低減ができる。こうした膜に使用される金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物としてはケイ素、ジルコニウム、チタン、タングステン、タンタル、アルミニウム、亜鉛、インジウム、クロム、バナジウム、スズ、ニオブから選ばれる１種類以上の元素の酸化物あるいは窒化物、酸窒化物が挙げられ、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素が特に好ましい。金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物は例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって製膜することができる。
【００３６】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。
【００３７】
実施例１
〈本発明のセルロース１の作製〉
Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，５８，１２６３−１２７４（１９９５）に記載の合成法を参考に合成を行った。ジアセチルセルロース（ダイセル化学工業製、酢酸セルロースＬ−５０、以下ＤＡＣと略）３６．９３ｇを、脱水テトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと略）２５８．５４ｇに６０℃に加熱還流・攪拌しながら溶解させ、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン（以下ＩＰＴＥＳと略）３．７２ｇを滴下し、さらに触媒として二ラウリン酸ジブチルすずを脱水ＴＨＦで１０質量％に調整した溶液を２．８５ｇ滴下し、そのまま５時間加熱還流しながら攪拌した。５時間後に溶液の赤外吸収スペクトルを測定すると、ＩＰＴＥＳのイソシアナート基に由来する、２２７１ｃｍ-1の吸収が消失していることが確認できたため、加熱を止めて放冷し、３Ｌのヘキサン中に注いで再沈殿させ、４０．５０ｇの白色個体を得た（収率９９．６％）。得られた白色固体の29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルを測定したところ、−４５．２５ｐｐｍに単一の吸収が見られた。また、13Ｃ−ＮＭＲスペクトルを測定したところ、１６３．０７ｐｐｍにアミドカルボニルの吸収が見られ、目的のセルロース１が得られていることを確認した。
【００３８】
〈本発明の基板フィルム１の作製〉
得られたセルロース１の２０．０ｇを脱水ＴＨＦ１８０ｇに溶解させ、セルロース１の１０％溶液を作製した。
【００３９】
３０ｍｌビーカー中に、セルロース１の１０％溶液３．６５ｇ、テトラエトキシシラン（以下ＴＥＯＳと略）０．４１ｇ、０．２５％希塩酸を０．１４ｇを加え、８分間室温で攪拌し、直径７．５ｃｍのフッ素樹脂製のシャーレに撒き、軽くフタをして２日間室温で放置した。２日後に溶媒がほぼ揮発したところで３０分間真空ポンプで乾燥させ、無色透明の基板フィルム１を得た。乾燥後の厚みは１００μｍであった。
【００４０】
〈本発明の基板フィルム２の作製〉
３０ｍｌビーカー中に、セルロース１の１０％溶液４．００ｇ、メチルトリエトキシシラン（以下ＭｅＴＥＯＳと略）０．４０ｇ、０．２５％希塩酸を０．１４ｇを加え、８分間室温で攪拌し、直径７．５ｃｍのフッ素樹脂製のシャーレに撒き、軽くフタをして２日間室温で放置した。２日後に溶媒がほぼ揮発したところで３０分間真空ポンプで乾燥させ、無色透明の基板フィルム２を得た。乾燥後の厚みは１００μｍであった。
【００４１】
〈本発明の基板フィルム３の作製〉
３０ｍｌビーカー中に、セルロース１の１０％溶液４．５０ｇ、０．２５％希塩酸を０．１４ｇを加え、８分間室温で攪拌し、直径７．５ｃｍのフッ素樹脂製のシャーレに撒き、軽くフタをして２日間室温で放置した。２日後に溶媒がほぼ揮発したところで３０分間真空ポンプで乾燥させ、無色透明の基板フィルム３を得た。乾燥後の厚みは１００μｍであった。
【００４２】
〈比較例の基板フィルム４の作製〉
ジアセチルセルロースの１０％アセトン溶液２．０ｇをガラス板上に流延し乾燥させ基板フィルム４を得た。乾燥後の厚みは１００μｍであった。
【００４３】
〈比較例の基板フィルム５の作製〉
フィルム厚５０μｍのポリエーテルスルホンフィルムである住友ベークライト（株）製“スミライト  ＦＳ−１３００”を比較の基板フィルム５とした。
【００４４】
〈比較例の基板フィルム６〉
フィルム厚１００μｍのポリカーボネートフィルムである帝人（株）製“ピュアエース”を比較の基板フィルム６とした。
【００４５】
〈比較例の基板フィルム７〉
フィルム厚１００μｍのポリノルボルネンフィルムである日本ゼオン（株）製“ゼオノアＺ１４２０Ｒ”を比較の基板フィルム７とした。
【００４６】
以上、作製した本発明の基板フィルム１〜３および比較例の基板フィルム４〜７について光透過率（可視光）、ヘイズ、ガラス転移温度、表面硬度を評価した。評価結果を下記表１に示す。尚、光透過率は及びヘイズは東京電色（株）製ＴＵＲＢＩＤＩＴＹ  ＭＥＴＥＲ  Ｔ−２６００ＤＡで測定した。複屈折は王子計測機器（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨで測定し、フィルム面内のＸ方向、Ｙ方向の屈折率の差に厚み（ｎｍ）を乗じた値で表した。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）はレオメトリクス社製固体粘弾性測定装置ＲＳＡ−IIの引っ張りモードで測定した。また表面硬度はＪＩＳ鉛筆硬度法試験（Ｋ５４００）に従って行った。評価は鉛筆の芯の硬度、６Ｈ〜２Ｂで表した。
【００４７】
【表１】
0005040053.tif 000002
【００４８】
表１から、比較例の基板フィルム４は耐熱性・透過率・複屈折は十分であるが、表面硬度が低く好ましくない。また比較例の基板フィルム５は高い耐熱性を有しているが、透過率が低く、複屈折も大きく好ましくない。また比較例の基板フィルム６、７は耐熱性が十分でない。これに対し本発明の基板フィルム１〜３はいずれも透明性が高く、耐熱性も十分であり、複屈折が小さく好ましいことが明らかとなった。なかでも基板フィルム１、２は、元のセルロース樹脂（ＤＡＣ）に比べて大幅に表面硬度が向上しており、傷がつきにくく好ましいフィルムであることが明らかとなった。
【００４９】
実施例２
富士通社製カラー液晶ディスプレイＶＬ−１５３０Ｓから偏光板をはがし、試料の基板フィルム１〜７を載せ、更に取り除いた偏光板を再び載せて、試料の基板フィルムが無い場合との色ずれの度合いを比較したところ、比較例の基板フィルム６を載せたものは色ずれが大きく好ましくなかったのに対し、本発明の基板フィルム１〜３を載せたものは色ずれが小さく好ましいことが明らかとなった。
【００５０】
【発明の効果】
本発明によれば透明性が高く、ガラス転移温度が高く、表面硬度が高く、複屈折が小さい電子ディスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィルムを提供することができた。また、複屈折を利用した表示方法を採用している表示素子にも適した電子ディスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィルムを提供することができた。また複屈折を利用した表示方法を採用している液晶パネルにおいて色ずれの小さい電子ディスプレイ素子用基板フィルムを提供する事ができた。