(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光材としてのワークを保持するワークステージと、露光パターンを有する略矩形状のマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記ワークと前記マスクとを所定の間隔で近接配置した状態で、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージは、前記マスクの四辺を保持するマスク保持部を有すると共に、前記マスク保持部に取り付けられるマスクアダプタを介して前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持可能であり、
前記マスク保持部は、前記マスクと対向する吸着溝を介して、前記マスクを吸着保持すると共に、
前記マスクアダプタは、前記マスク保持部に取り付けられた時、前記他のマスクと対向する他の吸着溝と前記マスク保持部の吸着溝とが連通するように形成されることを特徴とする近接露光装置。
【請求項２】
前記マスクステージは、前記マスクの落下を防止する落下防止機構と、前記他のマスクの落下を防止する他の落下防止機構と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の近接露光装置。
【請求項３】
略矩形状のマスクと対向する吸着溝を有するマスク保持部に取り付けられ、且つ、前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持するための近接露光装置用マスクアダプタであって、
前記他のマスクと対向する面に形成された他の吸着溝と、
前記吸着溝と前記他の吸着溝とを連通する連通孔が形成されることを特徴とする近接露光装置用マスクアダプタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタに関し、特に、フラットパネルディスプレイ、例えば、液晶ディスプレイのカラーフィルタ基板やＴＦＴ基板を製造するために使用される近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置においては、マスクアダプタを使用することで、サイズの異なる２種類のマスクを用いて露光することが考案されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に記載のマスクアダプタは、小マスクの対向する二辺の縁部をそれぞれ下部から支持すると共に、マスクアダプタの二辺の縁部がそれぞれ下部から露光装置に支持されている。  また、マスクアダプタの形状、材質は、大マスク（標準マスク）の自重撓みと小マスクに対応する部分の自重撓みが略一致するように設定されており、略透明な保護膜や保護板を小マスクのパターン面に貼り付けることでマスクを保護している。
【特許文献１】特開２００６−２４３３８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、ディスプレイ基板を製造するような近接露光装置においても、一台の露光装置でサイズの異なる複数のマスクを用いて露光することが望まれる。しかしながら、近接露光装置は、マスクと基板との間隔が１００〜２００μｍという近接配置した状態で露光を行うため、マスクの四辺を吸着保持しており、また、マスクの下面に保護膜や保護板を貼り付けるスペースはなく、特許文献１に記載のマスクアダプタを近接露光装置に適用することはできない。
【０００４】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、一台の露光装置でサイズの異なる複数のマスクを用いて露光することができる近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の上記目的は、以下の構成によって達成される。
（１）  被露光材としてのワークを保持するワークステージと、露光パターンを有する略矩形状のマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記ワークと前記マスクとを所定の間隔で近接配置した状態で、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージは、前記マスクの四辺を保持するマスク保持部を有すると共に、前記マスク保持部に取り付けられるマスクアダプタを介して前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持可能であり、
前記マスク保持部は、前記マスクと対向する吸着溝を介して、前記マスクを吸着保持すると共に、
前記マスクアダプタは、前記マスク保持部に取り付けられた時、前記他のマスクと対向する他の吸着溝と前記マスク保持部の吸着溝とが連通するように形成されることを特徴とする近接露光装置。
（２）  前記マスクステージは、前記マスクの落下を防止する落下防止機構と、前記他のマスクの落下を防止する他の落下防止機構と、を備えることを特徴とする（１）に記載の近接露光装置。
（３）  略矩形状のマスクと対向する吸着溝を有するマスク保持部に取り付けられ、且つ、前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持するための近接露光装置用マスクアダプタであって、
前記他のマスクと対向する面に形成された他の吸着溝と、
前記吸着溝と前記他の吸着溝とを連通する連通孔が形成されることを特徴とする近接露光装置用マスクアダプタ。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の近接露光装置によれば、マスクステージは、マスクの四辺を保持するマスク保持部を有すると共に、マスク保持部に取り付けられるマスクアダプタを介してマスクより面積が小さい略矩形状の他のマスク（小マスク）を保持可能である。これにより、マスクアダプタを使用することで、一台の露光装置でサイズの異なる複数のマスクを用いた露光を実現することができる。また、異なる仕様の複数のマスクアダプタを取り替えることで、一台の露光装置でサイズの異なる多数のマスクを用いて露光を行うことができる。
【０００７】
また、本発明の近接露光装置用マスクアダプタによれば、小マスクと対向する面に形成された他の吸着溝と、マスク保持部の吸着溝とマスクアダプタの他の吸着溝とを連通する連通孔が形成されるので、小マスクの保持とマスクアダプタの保持を保持するための吸着系統が一つでよく、簡易な構成となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明に係る近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタについて、図面を参照して詳細に説明する。
【０００９】
（第１実施形態）
図１に示すように、第１実施形態のステップ式近接露光装置ＰＥは、大型の基板上にマスクの露光パターンを分割して近接露光するものであり、特に、本実施形態では、サイズの異なる略矩形状の大小二つのマスクＭａ，Ｍｂを用いて露光できるように構成されている。近接露光装置ＰＥは、露光パターンをそれぞれ有する各マスクＭａ，Ｍｂをｘ、ｙ、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ１０と、被露光材としてのワークＷをｘ、ｙ、ｚ方向に移動可能に保持するワークステージ２０と、パターン露光用の光をマスクＭａ，Ｍｂを介してワークＷに照射する照射手段である照明光学系４０と、から主に構成されている。
【００１０】
なお、ガラス基板からなるワークＷは、各マスクＭａ，Ｍｂに対向配置されており、これらマスクＭａ，Ｍｂに描かれた露光パターンを露光転写すべく表面（マスクＭａ，Ｍｂの対向面側）に感光剤が塗布されている。
【００１１】
マスクステージ１０は、中央部に矩形形状の開口１１ａが形成されるマスクステージベース１１と、マスクステージベース１１の開口１１ａにｘ軸，ｙ軸，θ方向に移動可能に装着され、マスクＭａ，Ｍｂを保持するマスク保持枠１２と、マスクステージベース１１の上面に設けられ、マスク保持枠１２をｘ軸，ｙ軸，θ方向に移動させて、マスクＭａ，Ｍｂの位置を調整するマスク駆動機構１６とを備える。
【００１２】
マスクステージベース１１は、ワークステージ側の装置ベース５０上に立設される複数の支柱５１に支持されており、マスクステージベース１１と支柱５１との間に設けられたｚ軸粗動機構５２（図２参照）によりマスクステージベース１１は装置ベース５０に対して昇降可能である。
【００１３】
図２に示すように、マスク保持枠１２の下方には、マスク保持部であるマスク吸着部７０が間座７９を介して一体に取り付けられている。このマスク吸着部７０には、マスクＭａの露光パターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸着溝７１が下面に開設されており、図示しない真空吸着機構によって大マスク（標準マスク）Ｍａを着脱自在に保持する。また、図３及び図４に示すように、マスク吸着部７０には、大マスクＭａの落下を防止する大マスクＭａ用の落下防止機構７２が設けられている。
【００１４】
落下防止機構７２は、マスク支承部７３、シリンダ７４ａ及びピストンロッド７４ｂを含む駆動機構７４と、スライダ７５ａ及びレール部材７５ｂを含むガイド機構７５と、を有する。マスク支承部７３の先端には、マスクＭａの外周部に形成されたテーパ状の係止部Ｍａ１と当接可能なテーパ状の受け部７３ａが形成されており、マスク支承部７３の下面は、マスクＭａの下面より上方に配置されるように設計されている。駆動機構７４は、エアーシリンダ機構により構成され、マスク吸着部７０の上面に設置されたシリンダ７４ａによってピストンロッド７４ｂが進退する。さらに、マスク支承部７３の上面には、スライダ７５ａが取り付けられており、スライダ７５ａはマスク吸着部７０の下面に設けられた案内レール７５ｂに沿って案内されている。また、マスク支承部７３には、マスク吸着部７０に形成された貫通孔７０ａを介してピストンロッド７４ｂと連結される連結部材７６が取り付けられている。
【００１５】
これにより、落下防止機構７２は、駆動機構７４を作動させることで、吸着保持されたマスクＭａの係止部Ｍａ１にマスク支承部７３の受け部７３ａを当接させてクランプし、万一、マスクＭａの吸着力が解除された場合におけるマスクＭａの落下を防止する。
【００１６】
同時に、マスクＭａより面積が小さい他のマスクである小マスクＭｂは、マスク吸着部７０に取り付けられる後述するマスクアダプタ（近接露光装置用マスクアダプタ）８０を介して、マスクステージ１０に保持される。
【００１７】
マスク駆動機構１６は、マスク保持枠１２を駆動する各種シリンダ１６ｘ、１６ｘ、１６ｙ等のアクチュエータと、マスクステージベース１１とマスク保持枠１２との間に設けられた図示しないガイド機構等により、マスク保持枠１２をｘ軸，ｙ軸，θ方向に移動させる。
【００１８】
また、マスクステージ１０は、マスクＭとワークＷとの対向面間のギャップを測定する複数のギャップセンサ１７と、マスクＭとワークＷとの平面ずれ量を検出する複数のアライメントカメラ１８と、が設けられる。これらギャップセンサ１７とアライメントカメラ１８は、移動機構１９を介してｘ軸、ｙ軸方向に移動可能に保持され、マスク保持枠１２内に配置される。
【００１９】
また、マスク保持枠１２上には、図１に示すように、マスクステージベース１１の開口１１ａのｘ軸方向の両端部に、マスクＭの両端部を必要に応じて遮蔽するアパーチャブレード３８が設けられる。このアパーチャブレード３８は、モータ、ボールねじ、及びリニアガイド等からなるアパーチャブレード駆動機構３９によりｘ軸方向に移動可能とされて、マスクＭの両端部の遮蔽面積を調整する。なお、アパーチャブレード３８は、開口１１ａのＸ軸方向の両端部だけでなく、開口１１ａのＹ軸方向の両端部に同様に設けられている。
【００２０】
ワークステージ２０は、ワークＷを保持するワーク保持部２１と、ワーク保持部２１を装置ベース５０に対してｘ、ｙ、ｚ方向に移動するワーク移動機構２２と、を備える。
【００２１】
ワーク保持部２１は、上面にワークＷを吸引するための図示しない複数の吸引ノズルが開設されており、図示しない真空吸着機構によってワークＷを着脱自在に保持する。また、ワーク保持部２１には、ワークＷや各マスクＭａ，Ｍｂが載置されるチャックピン６６（図６参照）がワーク保持部２１の上面から進退可能に設けられている。
【００２２】
ワーク移動機構２２は、ワーク保持部２１の下方に、ｙ軸テーブル２３、ｙ軸送り機構２４、ｘ軸テーブル２５、ｘ軸送り機構２６、及びｚ−チルト調整機構２７を備える。
【００２３】
ｙ軸送り機構２４は、図２に示すように、リニアガイド２８と送り駆動機構２９とを備えて構成され、ｙ軸テーブル２３の裏面に取り付けられたスライダ３０が、転動体（図示せず）を介して装置ベース５０上に延びる２本の案内レール３１に跨架されると共に、モータ３２とボールねじ装置３３とによってｙ軸テーブル２３を案内レール３１に沿って駆動する。
【００２４】
なお、ｘ軸送り機構２６もｙ軸送り機構２４と同様の構成を有し、ｘ軸テーブル２５をｙ軸テーブル２３に対してｘ方向に駆動する。また、ｚ−チルト調整機構２７は、くさび状の移動体３４，３５と送り駆動機構３６とを組み合わせてなる可動くさび機構をｘ方向の一端側に１台、他端側に２台配置することで構成される。なお、送り駆動機構２９，３６は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、ｚ-チルト調整機構２７の設置数は任意である。
【００２５】
これにより、ワーク移動機構２２は、ワーク保持部２１をｘ方向及びｙ方向に送り駆動するとともに、マスクＭとワークＷとの間のギャップを微調整するように、ワーク保持部２１をｚ軸方向に微動且つチルト調整する。
【００２６】
ワーク保持部２１のｘ方向側部とｙ方向側部にはそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられ、また、装置ベース５０のｙ方向端部とｘ方向端部には、計３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定し、ワークステージの位置を検出する。
【００２７】
図２に示すように、照明光学系４０は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ４１と、この高圧水銀ランプ４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５及び球面ミラー４６と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と、を備える。
【００２８】
このように構成された近接露光装置ＰＥでは、アライメントカメラ１８及びレーザー干渉計６３，６４，６５の検出信号に基づき、マスク位置調整機構１３を駆動制御してワーク保持部２１に対するマスクＭのアライメント調整を行うとともに、ギャップセンサ１７の検出信号に基づきながら、ｚ−チルト調整機構２７を駆動制御してマスクＭとワークＷ間のギャップを調整する。そして、これら調整後に、照射光学系４０の光源から光が照射されている状態で、露光制御用シャッター３４を所定の露光時間の開くことで、マスクＭの露光パターンが照射光学系４０によってワークＷに露光転写される。その後、ワーク保持部２１をワーク移動機構２２によってｘ方向及びｙ方向にステップ移動し、上記と同様の動作を繰り返すことで、ステップ露光が行われる。
【００２９】
ここで、図３及び図５に示すように、小マスクＭｂ（本実施形態では、１３００ｍｍ×１５００ｍｍ）を保持する略矩形状のマスクアダプタ８０は、各対向する二辺のマスク吸着部７０の吸着溝７１間の距離よりも大きな外形寸法（本実施形態では、１６００ｍｍ×１８００ｍｍ）を有すると共に、内側に略矩形状の開口８１（本実施形態では、１１３０ｍｍ×１４００ｍｍ）を有する。また、マスクアダプタ８０には、開口８１周縁近傍の各辺に、小マスクＭｂの露光パターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の他の吸着溝８２が下面に開設されていると共に、マスク吸着部７０に取り付けられた時、他の吸着溝８２との吸着溝７１とを連通する連通孔８３が形成されている。
【００３０】
さらに、マスクアダプタ８０の下面に形成された先細状の開口部８４には、小マスクＭｂ用の他の落下防止機構９０を構成する小マスク支承部９１が取り付けられており、ガイド機構を構成している。小マスク支承部９１は、開口部８４と略同一断面形状の台形に形成され、開口部８４内をスライド可能且つ落下しないように構成されている。なお、ガイド機構の構成としては、マスクアダプタ８０と小マスク支承部９１との間にリニアガイドを配置するようにしてもよい。また、小マスク支承部９１の先端には、小マスクＭｂの外周部に形成されたテーパ状の係止部Ｍｂ１と当接可能なテーパ状の受け部９１ａが形成されており、小マスク支承部９１の下面は、小マスクＭｂの下面より上方に配置されるように設計されている。
【００３１】
また、マスクアダプタ８０と小マスク支承部９１とが対向する位置には、押えコマ機構８５が設けられている。押えコマ機構８５は、小マスク支承部９１の上面に形成された球面座９１ｂと、マスクアダプタ８０内に収容された玉８６及びばね８７とを備え、小マスク支承部９１の上面に向けて玉８６がばね８７を介して押圧される。そして、この押えコマ機構８５は、小マスク支承部９１の球面座９１ｂに玉８６を収容することで、図６に示すように、マスクアダプタ８０と小マスク支承部９１とによって小マスクＭｂを支持した状態で、小マスク支承部９１をマスクアダプタ８０に対して位置決めすることができる。
【００３２】
さらに、他の落下防止機構９０は、上述した小マスク支承部９１及びガイド機構と、駆動機構９２とを備える。駆動機構９２も、エアーシリンダ機構により構成され、マスク吸着部７０の上面に設置されたシリンダ９２ａによってピストンロッド９２ｂが進退する。また、小マスク支承部９１の受け部９１ａと反対側の端部には、嵌合部９１ｃが形成されており、嵌合部９１ｃは、マスク吸着部７０に形成された貫通孔７０ｂを介してピストンロッド９２ｂと連結される連結部材９３に形成された被嵌合部９３ａと嵌合する。
【００３３】
また、マスクアダプタ８０の下面外周には、断面テーパ状の切欠き８８が全周に亙って形成されており、上述した落下防止機構７２の大マスク支承部７３の受け部７３ａと当接可能に構成されている。なお、切欠き８８は、マスクアダプタ８０の下面外周全周に設けられてもよいが、大マスク支承部７３の受け部７３ａが当接する位置のみに形成されてもよい。
【００３４】
このため、小マスクＭｂをマスクステージ１０に装着する場合には、まず、マスクアダプタ８０に小マスクＭｂを組み付ける。この際、図６に示すように、押えコマ機構８５の玉８６が小マスク支承部９１の球面座９１ｂに収容されることで、小マスク支承部９１の受け部９１ａが小マスクＭｂの係止部Ｍｂ１を受ける。これにより、小マスクＭｂは、落下やずれを防止しつつ、マスクアダプタ８０に保持される。このように、小マスクＭｂは、マスクアダプタ８０に組み付けられた状態で、マスクローダＬによってマスク保持枠１２の下方へ搬入され、ワーク保持部２１の上面から突出するチャックピン６６上に載置される。なお、マスクローダＬで小マスクＭｂを搬入する際には、押えコマ機構８５によって小マスクＭｂの落下やずれを防止するのに加えて、図示しない真空吸着機構を設け、小マスクＭｂをマスクアダプタ８０に吸着した状態で搬送するようにしてもよい。
【００３５】
その後、ワークステージ１１をｚ軸方向に駆動することで、小マスクＭｂの貼り付け位置、即ち、マスクアダプタ８０の上面とマスク吸着部７０の下面とが接触或いは近接する位置まで小マスクＭｂが移動される。この状態で、小マスク支承部９１の嵌合部９１ｃと連結部材９３の被嵌合部９３ａとがインロー嵌合される。
【００３６】
そして、小マスクＭｂが貼り付け位置に移動した後、真空吸着機構を駆動してマスク吸着部７０の吸着溝７１、マスクアダプタ８０の連通孔８３及び吸着溝８２を通じて、小マスクＭｂをマスク吸着部７０に吸着保持する。さらに、駆動機構９２を駆動して、連結部材９３と共に小マスク支承部９１を小マスクＭｂに向けて移動させ、小マスク支承部９１の受け部９１ａを小マスクＭｂの係止部Ｍｂ１に当接させる（図５（ａ）参照）。これにより、真空吸着機構の不具合により小マスクＭｂの吸着が外れた場合であっても、小マスク支承部９１の受け部９１ａによって小マスクＭｂが支えられ、装置下構造物への落下を防ぎ、破損事故を防止することができる。その後、小マスクＭｂのアライメントを行って、小マスクＭｂの組み付け動作を完了する。
【００３７】
また、同時に、大マスクＭａ用の落下防止機構７２の駆動機構７４を駆動して大マスク支承部７３の受け部７３ａをマスクアダプタ８０の切欠き８８に当接させることで、大マスク支承部７３の受け部７３ａによってマスクアダプタ８０が支えられ、万一、マスクアダプタ８０の吸着力が解除された場合におけるマスクアダプタ８０の落下を防止することができる。
【００３８】
なお、大マスクＭａをマスクステージ１０に装着する場合にも、従来と同様に、大マスクＭａを貼り付け位置、即ち、大マスクＭａをマスク吸着部７０の下面に接触又は近接する位置へ移動させ、真空吸着機構を駆動してマスク吸着部７０の吸着溝７１を通じて、大マスクＭａをマスク吸着部７０に吸着保持する。さらに、図４に示す駆動機構７４を駆動して、連結部材７６と共に大マスク支承部７３を大マスクＭｂに向けて移動させ、大マスク支承部７３の受け部７３ａによって大マスクＭａの係止部Ｍａ１に当接させ、万一、大マスクＭａの吸着力が解除された場合における大マスクＭａ落下を防止することができる。
【００３９】
以上説明したように、本実施形態の近接露光装置ＰＥによれば、マスクステージ１０は大マスクＭａの四辺を保持するマスク吸着部７０を有すると共に、マスク吸着部７０に取り付けられるマスクアダプタ８０を介して大マスクＭａより面積が小さい略矩形状の小マスクＭｂを保持可能である。これにより、マスクアダプタ８０を使用することで、一台の露光装置でサイズの異なる複数のマスクＭａ，Ｍｂを用いた露光を実現することができる。また、異なる仕様の複数のマスクアダプタ８０を取り替えることで、一台の露光装置でサイズの異なる多数のマスクを用いて露光を行うことができる。
【００４０】
また、マスクステージ１０は、大マスクＭａの落下を防止する大マスク用の落下防止機構７２と、小マスクＭｂの落下を防止する小マスク用の落下防止機構９０と、を備える。これにより、真空吸着機構の不具合により各マスクＭａ，Ｍｂの吸着が外れた際、各マスク支承部７３，９１の受け部７３ａ，９１ａによって各マスクＭａ，Ｍｂが支えられ、装置下構造物への落下を防ぎ、破損事故を防止することができる。また、大マスク用の落下防止機構７２は、マスクアダプタ８０の切欠きに当接させることで、マスクアダプタ８０の落下も防止することができる。
【００４１】
また、マスク吸着部７０は、大マスクＭａと対向する吸着溝７１を介して、大マスクＭａを吸着保持すると共に、マスクアダプタ８０は、マスク吸着部７０に取り付けられた時、小マスクＭｂと対向する吸着溝８２とマスク吸着部７０の吸着溝７１とが連通するように形成されるので、簡単な構成で、マスクアダプタ８０を介して小マスクＭｂをマスクステージ１０に吸着することができる。
【００４２】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る近接露光装置ＰＥ及び近接露光装置用マスクアダプタについて、図７及び図８を参照して説明する。なお、第１実施形態と同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
【００４３】
第１実施形態では、マスクアダプタ８０と小マスクＭｂが同時にマスク吸着部７０に吸着される構成としたが、本実施形態の近接露光装置ＰＥでは、マスクアダプタ８０がマスク吸着部７０に吸着された後に、小マスクＭｂを吸着する構成としている。このため、マスクアダプタ８０を吸着するための吸着系統ａと、小マスクＭｂを吸着するための吸着系統ｂが別々に形成されている。
【００４４】
図７に示すように、マスク吸着部７０は、吸着系統ａと連通する吸着溝７１ａと、吸着系統ｂと連通する吸着溝７１ｂと、を備える。また、マスクアダプタ８０の吸着溝８２は、連通孔８３を介して、マスク吸着部７０の吸着溝７１ｂと連通している。従って、マスクアダプタ８０は、図８（ａ）に示すように、マスク吸着部７０の吸着溝７１ａから吸着系統ｂを通じて真空吸着機構によってマスク吸着部７０に吸着保持され、小マスクＭｂは、図８（ｂ）に示すように、マスクアダプタ８０の吸着溝８２及び連通孔８３と、マスク吸着部７０の吸着溝７１ｂを通じて、吸気系統ａによりマスクステージ１０に吸着保持される。
【００４５】
このため、小マスクＭｂを本実施形態のマスクステージ１０に装着する場合には、まず、マスクアダプタ８０のみが、マスクローダＬによってマスク保持枠１２の下方に搬入され、ワーク保持部２１の上面から突出するチャックピン６６上に載置される。その後、ワークステージ１１をｚ軸方向に駆動することで、マスクアダプタ８０を貼り付け位置に移動させる。そして、マスクアダプタ８０が貼り付け位置に移動した後、真空吸着機構を駆動してマスク吸着部７０の吸着溝７１ａを通じて、マスクアダプタ８０をマスク吸着部７０に吸着保持する。
【００４６】
次に、小マスクＭｂのみが、マスクローダＬによってマスク保持枠１２の下方に搬入され、ワーク保持部２１の上面から突出するチャックピン６６上に載置される。その後、ワークステージ１１をｚ軸方向に駆動することで、小マスクＭｂを貼り付け位置に移動させる。そして、小マスクＭｂが貼り付け位置に移動した後、真空吸着機構を駆動してマスクアダプタ８０の吸着溝８２及び貫通孔８３、マスク吸着部７０の吸着溝７１ａを通じて、小マスクＭｂをマスク吸着部７０に吸着保持する。
【００４７】
なお、本実施形態の場合にも、大マスク用の落下防止機構７５と、小マスク用の落下防止機構９０とを備え、各マスク支承部７３，９１の受け部７３ａ，９１ａがマスクアダプタ７５の切欠き８８、小マスクＭｂのテーパ面Ｍｂ１とそれぞれ当接することによってマスクホルダ８０，小マスクＭｂが支えられ、万一吸着力が解除された場合の各部材８８、Ｍｂの装置下構造物への落下を防ぎ、破損事故を防止することができる。
【００４８】
このように構成された本実施形態の近接露光装置によれば、洗浄等のメンテナンスのために小マスクＭｂを交換する際、マスクホルダ８０をマスクステージ１０から取り外す必要がなく、タクトタイムの短縮を図ることができる。
その他の構成及び作用については、第１実施形態のものと同様である。
【００４９】
なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【００５０】
本発明の近接露光装置は、ステップ式近接露光装置に限定されるものでなく、ワーク保持部、マスク保持部、及び照射手段を備え、マスクの露光パターンを照射手段によって基板に露光転写する、任意の近接露光装置に適用可能である。
【００５１】
落下防止機構７２，９０は、本実施形態では、マスクホルダ８０の各辺に２つずつ設けられているが、例えば、対向する二辺のみに設けられてもよく、また、保持力に応じて必要な数だけ設けられればよい。
また、各マスク支承体７３，９１の受け部７３ａ，９１ａの形状は、マスクアダプタ８０、マスクＭａ，Ｍｂの係合部の形状に応じて、任意に設定可能である。
【００５２】
さらに、本実施形態では、マスク保持部はマスク吸着部７０によって構成されているが、マスク保持枠１２に直接吸着される構成であってもよく、マスクを保持する構成であれば任意に設計可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る分割逐次近接露光装置を説明するための一部分解斜視図である。
【図２】図１に示す分割逐次近接露光装置の正面図である。
【図３】第１実施形態に係る小マスクが装着されたマスク保持部の下面図である。
【図４】第１実施形態の大マスクをマスク保持部に吸着した状態を示す断面図である。
【図５】（ａ）は、第１実施形態の小マスクをマスク保持部に吸着した状態を示す、図３のＶ−Ｖ線に沿った断面図であり、（ｂ）は、そのＶ’−Ｖ’線に沿った断面図である。
【図６】第１実施形態の小マスクをマスク保持部に吸着する過程を説明するための断面図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る小マスクが装着されたマスク保持部の下面図である。
【図８】（ａ）は、本発明の第２実施形態に係るマスク保持部の、図７のVIII−VIII線に沿った断面図であり、（ｂ）は、そのマスク保持部の、図７のVIII'−VIII'線に沿った段面図である。
【符号の説明】
【００５４】
ＰＥ  ステップ式近接露光装置（近接露光装置）
Ｗ  ガラス基板（被露光材）
Ｍ  マスク
１０  マスクステージ
１１  マスクステージベース
１２  マスク保持枠
２０  ワークステージ
２１  ワーク保持部
２２  ワーク移動機構
４０  照明光学系
７０  マスク吸着部（マスク保持部）
７１，７１ａ，７１ｂ  吸着溝
７２  大マスク用落下防止機構
８０  マスクアダプタ
８２  吸着溝
８３  連通孔
９０  小マスク用落下防止機構
【図１】
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【図２】
0005105167.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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