(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が入射される側に位置される第１の基板と、
この第１の基板の一方の面に形成された第１の記録層と、
この第１の記録層に積層された第１の反射層と、
この第１の反射層に積層された第１の接着層と、
この第１の接着層の硬化時に、この第１の接着層と一体に形成される第２の基板と、
この第２の基板に積層された第２の記録層と、
この第２の記録層に積層された第２の反射層と、
この第２の反射層に積層された第２の接着層と、
この第２の接着層に接着され、前記第１の基板と対向された第３の基板と、
を有し、
前記第２の基板は、前記第１の基板の前記第１の反射層に積層された前記第１の接着層を硬化する際に用いる型部材を取り外す際に、外周部の最大値が前記第１の基板の外周部の最大値よりも小さくなるよう、外周部の最大値が制限されるとともに、前記第１の接着層を硬化する際に用いられるスタンパに用意されたパターンが前記第１の接着層の硬化に伴って転写されるとともに、スタンパが取り外される際に、少なくとも外周部の一部がスタンパ側に分離され、前記スタンパの前記第２の基板の外周部の最大値よりも大きな径の領域には、予め易接着処理が施されている情報記録媒体。
【請求項２】
光が入射される側に位置される第１の基板の一方の面に第１の記録層を形成し、
この第１の記録層に第１の反射層を形成し、
この第１の反射層に第１の接着層を形成し、
この第１の接着層に、所定の圧力で加圧するとともに、加圧に用いる部材が取り外される際に、少なくとも外周部の一部を第１の接着層とともに加圧に用いる部材側に分離して外周部の最大値が第１の基板の外周部の最大値よりも小さい第２の基板を形成し、
この第２の基板に第２の記録層を形成し、
この第２の記録層に第２の反射層を形成し、
この第２の反射層に第２の接着層を形成し、
この第２の接着層に、前記第１の基板と対向する第３の基板を形成する情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記第２の基板の加圧に用いる部材の前記第２の基板の外周部の最大値よりも大きな径の領域には、易接着処理が施されている請求項２記載の情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
光が入射される側に位置される第１の基板の一方の面に第１の記録層を形成し、
この第１の記録層に第１の反射層を形成し、
この第１の反射層に第１の接着層を形成する際に、外周部の最大値が前記第１の基板の外周部の最大値よりも小さくなるよう、外周部の最大値を制限しながら前記第１の基板の前記第１の反射層に積層された前記第１の接着層を硬化する際に用いる型部材を取り外して第１の接着層と第２の基板とを一体に形成し、
この第２の基板に第２の記録層を形成し、
この第２の記録層に第２の反射層を形成し、
この第２の反射層に第２の接着層を形成し、
この第２の接着層に、前記第１の基板と対向する第３の基板を形成する情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記第１の接着層を硬化する際に用いられるスタンパの前記第２の基板の外周部の最大値よりも大きな径の領域には、予め易接着処理が施されている請求項４記載の情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中間層を有する情報記録媒体を容易に製造可能な情報記録媒体の製造方法、及び情報記録媒体ならびに情報記録再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
広く普及している光ディスク（情報記録媒体）は、通常、ガラスあるいは金属製の原盤を作成し、その原盤を用いて作成されたスタンパを用いた射出成型等により成型される。
【０００３】
ところで、情報が記録される記録層が２以上の多層ディスクにおいては、第１の記録層（Ｌ０層）が形成される光入射側基板（第１基板）と非光入射側基板（ダミー基板、第２基板と称されることもある）との間に、第２の記録層（Ｌ１層）が形成される中間層が、設けられる。
【０００４】
なお、中間層は、接着領域や記録層の吸湿や外観形状の点で、その端面が光入射側基板（第１基板）及び非光入射側基板（ダミー基板）からはみ出さないことが望ましい。
【０００５】
特許文献１には、中間層の最外周部とＬ０基板の最外周部の一部とを、所定の勾配を有する傾斜面を形成するように切削除去し、はみ出した接着剤等による外観不良を低減する光情報記録媒体及びその製造方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００８−１００２５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１に示された製造方法を用いた場合、Ｌ０基板の端面まで形成された中間層を物理的な手法で削り取ることで外観形状等の特性を向上させているが、Ｌ０基板に局所的に力を加えられることにより、応力による基板の歪が生じ、あるいは削り取った際に生じる樹脂材料片等が発生することが予測される。
【０００７】
また、光情報記録媒体の情報記録面に削りとった樹脂材料が付着し、光情報記録媒体の記録再生特性、特に外周付近の記録再生特性が劣化することが予測される。このことは、生産性すなわち歩留まりの低下を引き起こすことになる。
【０００８】
なお、中間層を有する多層光ディスクの最外周部分は、Ｌ０層とＬ１層（もしくはＬ１層に引き続く記録層）との間の記録データの連続性を確保するために、安定な記録と再生が可能であることが求められる。このため、中間層の最外周部分での記録特性や再生特性の劣化は、記録媒体としての信頼性を大きく損なう可能性を含み、製造上、特に注意を要する。
【０００９】
このような背景から、Ｌ０基板の端面まで形成された中間層を物理的な手法で削り取ることは、極力避けられるべきである。
【００１０】
この発明の目的は、中間層を有する情報記録媒体及びその製造方法において、信頼性や量産効率を向上させるために、煩雑な製造工程や製造コストの増大を招く生産工程を要求することなく、容易に情報記録媒体を製造可能な情報記録媒体の製造方法、及び情報記録媒体ならびに情報記録再生装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この発明は、上記問題点に基づきなされたもので、光が入射される側に位置される第１の基板と、この第１の基板の一方の面に形成された第１の記録層と、この第１の記録層に積層された第１の反射層と、この第１の反射層に積層された第１の接着層と、この第１の接着層の硬化時に、この第１の接着層と一体に形成される第２の基板と、この第２の基板に積層された第２の記録層と、この第２の記録層に積層された第２の反射層と、この第２の反射層に積層された第２の接着層と、この第２の接着層に接着され、前記第１の基板と対向された第３の基板と、を有し、前記第２の基板は、前記第１の基板の前記第１の反射層に積層された前記第１の接着層を硬化する際に用いる型部材を取り外す際に、外周部の最大値が前記第１の基板の外周部の最大値よりも小さくなるよう、外周部の最大値が制限されるとともに、前記第１の接着層を硬化する際に用いられるスタンパに用意されたパターンが前記第１の接着層の硬化に伴って転写されるとともに、スタンパが取り外される際に、少なくとも外周部の一部がスタンパ側に分離され、前記スタンパの前記第２の基板の外周部の最大値よりも大きな径の領域には、予め易接着処理が施されている情報記録媒体である。
【発明の効果】
【００１２】
この発明の１つの実施の形態を用いることにより、光入射側基板に設けられる第１の記録層と光入射側基板と対向して設けられる非光入射側基板に用意された中間層（第２の記録層）を有する光ディスクにおいて、中間層の最大外径部が大気中に露出することなく、しかも最外周部分での記録特性や再生特性の劣化や、吸湿等の経時変化の原因となりうる応力による基板の歪等が発生することを実質的に抑止可能である。また、通常の生産工程で使用する製造装置により容易に製造できるため、製造単価も安価に抑えることができるといった特徴を持つ。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態の一例について説明する。
【００１４】
図１に、本発明が適用される情報記憶媒体の作製方法の概略を示す。
【００１５】
先ず、原盤として、表面を所定の表面粗さまで研磨し、洗浄したガラスあるいは金属板を用意する（１００１）。
【００１６】
次に、原盤表面にレジスト材料を塗布し、レジスト膜を形成する（１００２）。
【００１７】
続いて、レジスト膜表面に、詳述しないが、任意波形発生装置やフォーマッタを介して生成したパルスに基づいてオン／オフされるレーザ光を照射する。これにより、レジスト膜に、予め記録すべき情報すなわちピットとして凹部を形成すべき情報に対応する潜像が記録される。なお、レーザ光が照射されているあいだ（期間内）に、詳述しない光学系及び対物レンズを基盤の半径方向に移動させることで、上述潜像は、同心円状もしくは回転角と半径位置が連続して変化するスパイラル状に、形成される。（１００３）。
【００１８】
次に、潜像が形成された原盤を現像し、ピット（凹部）を形成する（１００４）。
【００１９】
続いて、その原盤に所定の金属材料をメッキして、スタンパを作成する。なお、多くの場合、スタンパ（メッキする金属）には、Ｎｉ（ニッケル）が利用される（１００５）。
【００２０】
以下、スタンパを型に用いて、射出成形により樹脂成形基板（Ｌ０基板すなわち光入射側基板）１を作成する。なお、Ｌ０基板材料としては、例えばＰＣ（ポリカーボネイト）やアクリル系樹脂、もしくはメタクリル系樹脂等が用いられる（１００６）。
【００２１】
このようにして得られた成形基板（Ｌ０基板）１に、記録層（Ｌ０層すなわち第１の記録層）として利用される有機色素系記録材料（以下、単に有機色素と称する）からなる色素層を、例えばスピンコートにより、形成する。なお、有機色素（色素層）としては、例えばアゾ系、ジアゾ系、シアニン系、フタロシアニン系、スチリル系、アニオン−カチオン系、もしくはこれらの混合物を少なくとも含む金属錯体、またはそれに類する材料が用いられる（１００７）。
【００２２】
続いて、色素層（有機色素）２上に、反射層（１）３と接着層（１）４が設けられる。なお、反射層（１）３としては、厚さが２０ｎｍ程度で、例えばＡｇ（銀）、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｕ（金）、またはこれらをベースとする金属化合物が用いられる。また、詳述しないが、Ｌ０色素層２と反射層（１）３との間には、好ましくは、ＲＦスパッタ法等により、所定厚さの誘電体層が設けられてもよいことはいうまでもない（１００８）。
【００２３】
次に、接着層（１）４を介して、接着層（１）４上に、中間層（Ｌ１層すなわち第２の記録層）５が設けられる。なお、中間層５は、接着層（１）４と兼用されてもよい（１００９）。
【００２４】
次に、中間層（Ｌ１基板）５に、第２の記録層６として利用される記録材料（色素層）が、例えばスピンコートにより、形成される。なお、第２の記録層６も有機色素系の記録材料が利用可能であり、例えばアゾ系、ジアゾ系、シアニン系、フタロシアニン系、スチリル系、アニオン−カチオン系、もしくはこれらの混合物を少なくとも含む金属錯体、またはそれに類する材料が用いられる（１０１０）。
【００２５】
次に、色素層（有機色素）６上に、反射層（２）７と接着層（２）８が形成される。なお、反射層（２）７としては、例えばＡｇ（銀）、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｕ（金）、またはこれらをベースとする金属化合物が用いられる（１０１１）。
【００２６】
以下、接着層（２）８を介してダミー基板（非光入射側基板）９が設けられる（１０１２）。
【００２７】
このようにして、図２に示すように、光入射面側から順に、Ｌ０基板１、色素層（第１の記録層（Ｌ０）層）２、反射層（１）３、接着層（１）４、中間層（Ｌ１基板）５、色素層（第２の記録層（Ｌ１）層）６、反射層（２）７、接着層（２）８およびダミー基板（非光入射側基板）が積層された光ディスク１０が形成される。
【００２８】
ところで、中間層５あるいは中間層５を兼ねる接着層（１）４は、Ｌ０基板１すなわち光入射面側基板の端面まで形成された場合、物理的な手法により、削り取る等の２次的加工が必要となる場合が多い。しかしながら、２次的加工により、Ｌ０基板１に局所的に、力が加えられることにより、基板１及び中間層５（または接着層（１）４）に応力による歪が生じることは、吸湿等に代表される経時変化の原因となりうる。また、削り取った際に生じる樹脂材料片（粉体）等は、静電気等により、中間層５に形成される第２の記録層すなわち有機色素層６に付着することが多いため、その除去も必要となる場合が多い。
【００２９】
このような背景から、本発明願においては、図３および図４を用いて以下に説明する通り、Ｌ１基板（中間層）５または接着層（１）４の外周領域であって、所定の半径（または直径）よりも大きな半径（または直径）となる範囲、すなわちＬ１基板（中間層）５向けのスタンパの外周部の所定の範囲１１を易接着処理１１１を施し、予め用意されている色素層（有機色素（Ｌ０層））２と反射層（１）３が形成されているＬ０基板１に、接着層（１）４を形成し、中間層５を貼り合せる、あるいは所定の厚さの接着層（１）４を用意して硬化させる際にＬ１基板５向けのスタンパを用いて硬化させ、Ｌ１基板（中間層）５と接着層（１）４を一体に形成することを特徴としている。
【００３０】
なお、易接着処理１１１は、Ｌ０基板１が樹脂で、スタンパ側すなわち接着層（１）４またはＬ１基板（中間層）５側からみて、Ｌ０基板１に形成されている色素（第１の記録層（Ｌ０）層）２に積層されている反射層（１）３が金属またはこれらをベースとする金属化合物を含む材料であることを利用し、樹脂との接着性を低く（接着力を小さく）、金属またはこれらをベースとする金属化合物を含む材料との接着性を高く（接着力を大きく）する処理である。また、易接着処理１１１における接着性の違い（接着力の大小）は、光ディスク１０を製造する際に、接着層（１）４または中間層（Ｌ１基板）５とＬ０基板１を形成する工程や、製造装置の構成等のさまざま要素に基づいて、任意に設定されることはいうまでもない。
【００３１】
例えば、接着層（１）４と加圧部材１０１との間の易接着処理１１１（図３参照）もしくはスタンパ２０１と接着層（１）４との間の易接着処理２１１（図４参照）については、Ｚｎ−ＳｉＯ２等の誘電体であって、接着層（１）４すなわち接着剤との接着性が強固な材料が用いられる。なお、層の厚さ（易接着処理領域のＺｎ−ＳｉＯ２等の厚さ）は、中間層５（接着層（１）４）の厚さに比較して薄く、好ましくは、３〜１０μｍ程度である。
【００３２】
この易接着処理１１１を、Ｌ１基板（中間層）５向けのスタンパあるいは加圧部材の外周部の所定の半径（あるいは直径）よりも外周寄りとなる範囲１１に施すことで、接着層（１）４にＬ１基板（中間層）５を貼り付け、あるいは接着層（１）４を中間層５向けのスタンパを用いて硬化させた後、スタンパを取り外す（解放する）際に、Ｌ０基板（光入射側基板）１側の反射層（１）３の外周部分であって、所定の半径（あるいは直径）よりも大きな半径（あるいは直径）となる範囲１２よりも僅かに大きな範囲（範囲１１＞範囲１２）の反射層（１）３を、接着層（１）４またはＬ１基板（中間層）５向けのスタンパと共にＬ０基板１（Ｌ０層２）から分離できる。
【００３３】
この方法により、Ｌ０基板１上に、色素膜（Ｌ０層）２および反射層（１）３に続いて形成される中間層（Ｌ１基板）５または接着層（１）４の最大外径は、Ｌ０基板１（Ｌ０層２）の外径よりも大きくなることはない。
【００３４】
従って、以降の工程により、色素膜（Ｌ１層）６、反射層（２）７および接着層（２）８が順に形成され、光ディスク１０が形成される際に、中間層（Ｌ１基板）５または接着層（１）４の最大外径が、中間層（Ｌ１基板）５または接着層（１）４の最大外径よりも大きくなることはない。
【００３５】
このことにより、中間層５の最外周部分での記録特性や再生特性の劣化、あるいは吸湿等の経時変化の原因となりうる応力による基板の歪等がなく、しかも中間層（Ｌ１基板）５の外径がＬ０基板１の外径よりも大きくなることのない光ディスク１０が、容易に製造可能となる。なお、上述した製造工程は、現行のＤＶＤ規格の光ディスク向けの製造装置をそのまま流用できるため、光ディスク１０の製造コストが増大することもない。
【００３６】
また、図示しないが、反射層（１）３と接着層（１）４との間に、例えばＡｇまたはＡｇを含む合金、あるいはＡｌまたはＡｌを含む合金の薄層を設けることで、加圧部材１０１あるいはスタンパ２０１を分離する際に、反射層（１）と接着層（１）４との間の接着力を高めることができる（加圧部材１０１またはスタンパ２０１をＬ０基板１から分離する際に、反射層（１）３と接着層（１）４との間の接着力を保持できる）。なお、この場合においても、反射層（１）３と接着層（１）４の材質の組み合せによっては、Ｚｎ−ＳｉＯ２等の誘電体を用いることもできる。
【００３７】
なお、上述した方法により形成した光ディスク１０の最外周部を観察すると、ピットの転写不良や気泡混入等の欠陥箇所はなく、良好な機械特性を持つことが確認されている。また、図８により後段に説明する光ディスク装置により得た再生信号は、安定しており、信頼性の高い光ディスクであることを確認できた。
【００３８】
さらに、本実施形態では、波長４０５ｎｍに対応した上述の有機色素系記録材料に、波長６００〜７００ｎｍで吸収を持つような有機色素系記録材料を混合し、現在広く用いられている記録再生装置で標準的に用いられているレーザ光の波長にも記録感度を持つよう調整した色素を用いる。
【００３９】
また、本実施形態では、情報記憶媒体は、直径１２０ｍｍで厚さが１．２ｍｍ（０．６ｍｍのポリカーボネート成形基板２枚の貼り合せ）であり、かつ有機色素系記録材料を記録層に用いた追記形の情報記憶媒体であるとする。
【００４０】
記録再生光については、波長４０５ｎｍで開口数ＮＡ（Numerical Apperture）が、０．６５の対物レンズを用いた光学系を用いることとする。データ記録領域のグルーブ間トラックピッチは、４００ｎｍ（０．４μｍ）である。
【００４１】
より詳細には、図３に示す例では、接着層（１）４の外周領域であって、中間層（Ｌ１基板）５の外径よりも大きな外径となる範囲、すなわち接着層（１）４を介して、Ｌ０基板１のＬ０（有機色素）層２に積層されている反射層（１）３と接着される中間層（Ｌ１基板）５を反射層（１）３側に押し付け、接着層（１）４を硬化させる際に、中間層（Ｌ１基板）５を押し付ける加圧機構１０１の外周の所定の領域に、上述の易接着処理１１１を施しておくことにより、加圧機構１０１をＬ１基板５の押し付けから解放する（加圧機構１０１を取り外す）際に、接着層（１）４の外周であって、中間層５の外周よりも直径の大きな範囲１２の外側になる余剰の接着剤を除去することができる。
【００４２】
従って、中間層（Ｌ１基板）５の外周は、接着層（１）４の外径よりも内側の範囲内に収まるため、中間層５の最外周部分での記録特性や再生特性の劣化、あるいは吸湿等の経時変化の原因となりうる応力による基板の歪等がなく、しかも中間層（Ｌ１基板）５の外径がＬ０基板１の外径よりも大きくなることのない光ディスク１０が、容易に製造可能となる。
【００４３】
また、図４に示す例は、接着層（１）４を硬化させて中間層（Ｌ１基板）５を形成するもので、接着層（１）４を硬化する際に、中間層（Ｌ１基板）５に対応するスタンパ２０１の外径よりも大きな外径となる範囲、すなわち接着層（１）４が硬化されて中間層（Ｌ１基板）５となる領域のうちの最大外径の領域の外側となる範囲２１１に、上述の易接着処理を施しておくことにより、スタンパ２０１を接着層（１）４が硬化した後、解放する（取り外す）際に、中間層５の外周よりも直径の大きな範囲２１２の外側になる余剰の接着剤を除去することができる。
【００４４】
従って、接着層（１）４が硬化して中間層（Ｌ１基板）５となる領域の外周は、実質的に接着層（１）４の最外周となるため、中間層５の最外周部分での記録特性や再生特性の劣化、あるいは吸湿等の経時変化の原因となりうる応力による基板の歪等がなく、しかも中間層（Ｌ１基板）５の外径がＬ０基板１の外径よりも大きくなることのない光ディスク１０が、容易に製造可能となる。
【００４５】
なお、中間層（Ｌ１基板）５の最小径は、図５に示すように、少なくとも、１１８．０ｍｍ０．０／−０．０４ｍｍより大きいことはいうまでもない。
【００４６】
また、図６に示すように、図３あるいは図４を用いて説明した光ディスクにおいて、中間層（Ｌ１基板）５よりもダミー基板９側に形成される反射層（２）７の直径を中間層５の直径よりも大きくすることで、反射層（２）７の周縁部により、中間層５の最外周部が大気中に露出することを抑止してもよい。
【００４７】
またさらに、図７に示すように、図３あるいは図４を用いて説明した光ディスクにおいて、中間層（Ｌ１基板）５よりもダミー基板９側に形成される接着層（２）８の直径を中間層５の直径よりも大きくすることで、接着層（２）８の周縁部を用いて中間層５の最外周が大気中に露出することを抑止してもよい。
【００４８】
図８は、図２ないし図７を用いて説明した光ディスクに情報を記録し、あるいは光ディスクに記録されている情報を再生する光ディスク装置の一例を示す。
【００４９】
図８に示す光ディスク装置５０１は、ＰＵＨ（Pick Up Headすなわち光ヘッド）５１１から出射される所定波長のレーザ光を光ディスク１０の情報記録層に集光することで、情報の記録／再生を行っている。
【００５０】
光ディスク１０から反射した光は、再び、ＰＵＨ５１１の光学系を通過し、内部に設けられているフォトディテクタで電気信号として検出される。
【００５１】
検出された電気信号は、プリアンプ５１４で増幅され、図示しないが、サーボ回路や、ＲＦ信号処理回路、アドレス信号処理回路等を含む信号処理回路５１５に出力される。
【００５２】
サーボ回路では、フォーカス、トラッキング、チルト等のサーボ信号が生成され、各信号が、それぞれＰＵＨ５１１の図示しないフォーカス、トラッキング、チルトアクチュエータに出力される。
【００５３】
ＲＦ信号処理回路（信号処理回路５１５）では、検出された信号のうち、主に和信号を処理することにより、記録されているユーザー情報等の情報を再生する。この際の復調方法としては、（レベル）スライス方式やＰＲＭＬ（Pertial Response Maximum Likelyhood）方式がある。なお、ＰＲＭＬ法を用いる場合には、通常、ＭＬ復調時のエラー訂正技術も併用される。なお、信号処理回路５１５により再生されたＲＦ信号は、制御部５１６を介して一時的に、メモリ５１７に記憶されることはいうまでもない。
【００５４】
アドレス信号処理回路では、検出された信号を処理することにより、光ディスク１０上の記録位置を示す、物理アドレス情報を読み出し、制御部５１６に出力する。
【００５５】
制御部５１６は、このアドレス情報を元に、所望の位置のユーザー情報等の情報を読み出し、あるいは所望の位置にユーザー情報等の情報を記録する。なお、この際、ユーザー情報は、記録信号処理回路で光ディスク記録に適したデータに変調される。
【００５６】
データの変調には、例えば（２，１０）ＲＬＬ変調、（１，１０）ＲＬＬ変調といった変調方式が用いられる。（２，１０）ＲＬＬ変調では、データの変調に用いられた最も短い符号は３Ｔ、最も長い符号は１１Ｔとなる。加えて、シンク（Sync）検出用に、変調規則にはない１４Ｔの符号が加えられる。ここで、Ｔとは、基準のチャネルクロック間隔を示す。
【００５７】
記録再生波形発生回路５１３では、入力された符号を元にレーザ発光波形を制御するための信号を生成する。この出力信号により、ＬＤ駆動回路５１２において、所定の強度の第一波長または第二波長のレーザ光が出射されるようＰＵＨ５１１の詳述しないレーザ素子が駆動され、光ディスク１０への情報の記録ならびに光ディスク１０からの情報の再生が実行される。
【００５８】
制御部５１６ではまた、後述のＯＰＣ目標値の決定、信号品位情報の算出、最適記録波形形状の決定を実行することができる。なお、信号の品位情報とは、読み出したデータの読み取り率であるエラーレートや、エラーレートを推定することが可能なパリティエラー数、あるいはジッタといった情報である。
【００５９】
以上説明したように、本発明の実施の形態の１つを用いることで、光入射側基板に設けられる第１の記録層と光入射側基板と対向して設けられる非光入射側基板に用意された中間層（第２の記録層）を有する光ディスクにおいて、中間層の最大外径部が大気中に露出することなく、しかも最外周部分での記録特性や再生特性の劣化や、吸湿等の経時変化の原因となりうる応力による基板の歪等が発生することを、実質的に抑止可能である。
【００６０】
また、通常の生産工程で使用する製造装置により容易に製造できるため、製造単価も安価に抑えることができるといった特徴を持つ。
【００６１】
なお、本発明の内容はここに記述した形態だけに限定されるものではなく、その主旨を逸脱しない範囲で、他にも様々な形態を取り得ることはいうまでもない。また、各実施の形態は、可能な限り適宜組み合わせて、もしくは一部を削除して実施されてもよく、その場合は、組み合わせもしくは削除に起因したさまざまな効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】この発明の実施の形態が適用される光ディスク（情報記録媒体）の製造工程を説明する概略図。
【図２】図１に示した光ディスクの層構成の一例を示す概略図。
【図３】図２に示した光ディスクの製造工程のうちの中間層（第２の記録層が形成される基板）の製造方法の一例を説明する概略図。
【図４】図２に示した光ディスクの製造工程のうちの中間層（第２の記録層が形成される基板）の製造方法の一例を説明する概略図。
【図５】図２に示した光ディスクの中間層（第２の記録層が形成される基板）の最小外径を説明する概略図。
【図６】図２に示した光ディスクの製造工程のうちの中間層（第２の記録層が形成される基板）の製造方法の一例を説明する概略図。
【図７】図２に示した光ディスクの製造工程のうちの中間層（第２の記録層が形成される基板）の製造方法の一例を説明する概略図。
【図８】図１に示した光ディスクへの情報の記録および同ディスクからの情報の再生に適した光ディスク装置（情報記録再生装置）の一例を示す概略図。
【符号の説明】
【００６３】
１…第１基板（Ｌ０基板、光入射側基板）、２…有機色素系記録材料（色素層）、３…反射層（１）、４…接着層（１）、５…中間層（Ｌ１基板）、６…有機色素系記録材料（色素層）、７…反射層（２）、８…接着層（２）、９…ダミー基板（非光入射側基板）、１０…光ディスク、１１１，２１１，２１３…易接着処理、５０１…情報記録再生装置、５１１…光ヘッド（ＰＵＨ）、５１２…ＬＤ駆動回路、５１３…記録再生波形発生回路、５１４…プリアンプ、５１５…信号処理回路、５１６…制御部、５１７…メモリ。
【図１】
0005106229.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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