(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
短辺３００ｍｍ以上、長辺４００ｍｍ以上の大きさの四角板状のフォトマスク用合成石英ガラス基板を収容、保管するプラスチック製保管ケースであって、この保管ケースに収容されるフォトマスク用合成石英ガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面に、保管ケースから発生するアウトガス成分の吸収剤を保持する吸収剤保持部材の１個又は複数個を取り付けてなり、この保持部材に保持される吸収剤の総量（ｇ）とこの吸収剤のＢＥＴ比表面積（ｍ2／ｇ）との積Ａ（ｍ2）と、上記保持部材が取り付けられた保管ケースの内面に対向する上記ガラス基板の表面又は表面及び裏面の合計面積Ｂ（ｃｍ2）との比（Ａ／Ｂ）が１．０〜１２０ｍ2／ｃｍ2であるフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【請求項２】
上記保持部材の配置位置が、保持部材とこれに対向する合成石英ガラス基板との最長直線距離Ｌ（ｍｍ）が８００ｍｍ以内である請求項１記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【請求項３】
直方体状保管ケースにおける上記保持部材の配置位置が、保持部材とこれに対向する合成石英ガラス基板との最長直線距離が８００ｍｍ以内であって、かつ合成石英ガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面の短辺の長さ（ｍｍ）及び長辺の長さ（ｍｍ）をそれぞれ４５０ｍｍで除して得られる値から小数点を切り捨てて得られる整数値を分割数として等分分割した交差点及び当該保管ケース内面の中央点から選ばれる１又は２以上の位置である請求項１記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【請求項４】
保管ケースが、四角板状フォトマスク用合成石英ガラス基板を収容する四角箱形のケース本体と、その上端開放部を覆ってケース本体に着脱可能に装着される蓋体とを具備し、上記ケース本体の互いに対向する一方の両内側面に上記フォトマスク用合成石英ガラス基板の一方の互いに対向する両端部を支持する支持体をそれぞれ互いに対向して取り付け、上記ガラス基板をその一方の互いに対向する両端部に上記支持体で支持して垂直又は水平に保持するようにした請求項１〜３のいずれか１項記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【請求項５】
保管ケースがケース本体内にフォトマスク用合成石英ガラス基板を垂直又は水平に保持した際、このフォトマスク用合成石英ガラス基板によって保管ケース内が複数室に分割されるものである請求項４記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【請求項６】
上記比（Ａ／Ｂ）が１．０〜２０ｍ2／ｃｍ2である請求項１〜５のいずれか１項記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【請求項７】
吸収剤が活性炭である請求項１〜６のいずれか１項記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【請求項８】
吸収剤保持部材が合成樹脂製不織布により通気性を持って形成された扁平袋状のものである請求項１〜７のいずれか１項記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に半導体関連電子材料のうち、最先端用途のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの高集積化が進むにつれ、フォトリソグラフィ工程での微細化に対する要求が高まってきている。フォトリソグラフィの前工程の一つとして、合成石英ガラス基板に成膜を行っているが、配線パターンの微細化に伴い成膜ムラを起こさない技術が求められている。このような理由から、成膜前の合成石英ガラス基板への化学成分吸着の影響が除かれるように保管することが必要となってきた。
【０００３】
化学成分吸着の影響は、特に液晶用フォトマスク用合成石英ガラス基板に関して顕著である。液晶用フォトマスク用合成石英ガラス基板の収納ケースは、収納する基板サイズが大きいため、取り扱いの面から一つのケースに対する収納枚数が少ない傾向がある。例えば長辺が５００ｍｍを越える四角板状基板は、一般的に一枚入りケースが使用される。収納枚数が少ない場合、基板の表面積に対するケース内側の表面積の比が大きく、よりケースの材質に起因したアウトガス汚染を受け易い。
【０００４】
また、フォトマスク用合成石英ガラス基板は大型であるが故に、製造フローが長くなり、余裕を持った生産体制が組まれることが多い。即ち、製品としてケースへ収納された状態で在庫として保管される期間が長くなる傾向があり、このこともケースの材質に起因したアウトガス汚染の問題を深刻化させている。
【０００５】
これら化学成分吸着の影響を防ぐ提案として、特開２００４−１５３２２１号公報（特許文献１）、特開２００４−１７９４４９号公報（特許文献２）、特開２００４−１９３２７２号公報（特許文献３）では、活性炭を含むフィルターを装着したケースやそのフィルターの機構について記載されている。これらによれば、ケース内外の気圧差を解消し、輸送時に生じる気圧差による外部環境からの汚染を防ぐことができるとしているが、ケースの材質に起因するケース内部のアウトガス対策としては不十分である。
【０００６】
一方、特開平８−１４８５５１号公報（特許文献４）では、有機物を除去するために基板収納装置内に送風機と活性炭を配置している。また、特開２０００−１７４１０９号公報（特許文献５）は、活性炭等の乾燥剤とケミカルフィルターをケース内に備え、換気ファンでケース内の空気を循環させて清浄度を維持する収納装置である。
これら２つの提案に記載された収納ケースは、基板を一個所で保管する際には有効に性能を発揮すると思われるが、ファン等の電気駆動型の循環機構を備えているため、基板を運搬するための用途には向かない。即ち、様々なユーザーに出荷する際のケースとしては使用するのが難しい。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−１５３２２１号公報
【特許文献２】特開２００４−１７９４４９号公報
【特許文献３】特開２００４−１９３２７２号公報
【特許文献４】特開平８−１４８５５１号公報
【特許文献５】特開２０００−１７４１０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、保管ケース内に取り付ける活性炭等の吸収剤の量と配置を工夫することにより、保管ケースからのアウトガス成分のフォトマスク用合成石英ガラス基板への吸着を抑えることができるフォトマスク用合成石英ガラス基板の保管ケースを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、保管ケース内に活性炭等の吸収剤を取り付け、またその量と配置を工夫することにより、ケースからのアウトガス成分のフォトマスク用合成石英ガラス基板への吸着を抑えることができることを知見し、本発明をなすに至った。
【００１０】
従って、本発明は以下のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケースを提供する。
（１）短辺３００ｍｍ以上、長辺４００ｍｍ以上の大きさの四角板状のフォトマスク用合成石英ガラス基板を収容、保管するプラスチック製保管ケースであって、この保管ケースに収容されるフォトマスク用合成石英ガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面に、保管ケースから発生するアウトガス成分の吸収剤を保持する吸収剤保持部材の１個又は複数個を取り付けてなり、この保持部材に保持される吸収剤の総量（ｇ）とこの吸収剤のＢＥＴ比表面積（ｍ2／ｇ）との積Ａ（ｍ2）と、上記保持部材が取り付けられた保管ケースの内面に対向する上記ガラス基板の表面又は表面及び裏面の合計面積Ｂ（ｃｍ2）との比（Ａ／Ｂ）が１．０〜１２０ｍ2／ｃｍ2であるフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
（２）上記保持部材の配置位置が、保持部材とこれに対向する合成石英ガラス基板との最長直線距離Ｌ（ｍｍ）が８００ｍｍ以内である（１）記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
（３）直方体状保管ケースにおける上記保持部材の配置位置が、保持部材とこれに対向する合成石英ガラス基板との最長直線距離が８００ｍｍ以内であって、かつ合成石英ガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面の短辺の長さ（ｍｍ）及び長辺の長さ（ｍｍ）をそれぞれ４５０ｍｍで除して得られる値から小数点を切り捨てて得られる整数値を分割数として等分分割した交差点及び当該保管ケース内面の中央点から選ばれる１又は２以上の位置である（１）記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
（４）保管ケースが、四角板状フォトマスク用合成石英ガラス基板を収容する四角箱形のケース本体と、その上端開放部を覆ってケース本体に着脱可能に装着される蓋体とを具備し、上記ケース本体の互いに対向する一方の両内側面に上記フォトマスク用合成石英ガラス基板の一方の互いに対向する両端部を支持する支持体をそれぞれ互いに対向して取り付け、上記ガラス基板をその一方の互いに対向する両端部に上記支持体で支持して垂直又は水平に保持するようにした（１）〜（３）のいずれか１項記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
（５）保管ケースがケース本体内にフォトマスク用合成石英ガラス基板を垂直又は水平に保持した際、このフォトマスク用合成石英ガラス基板によって保管ケース内が複数室に分割されるものである（４）記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
（６）上記比（Ａ／Ｂ）が１．０〜２０ｍ2／ｃｍ2である（１）〜（５）のいずれか１項記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
（７）吸収剤が活性炭である（１）〜（６）のいずれか１項記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
（８）吸収剤保持部材が合成樹脂製不織布により通気性を持って形成された扁平袋状のものである（１）〜（７）のいずれか１項記載のフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、光リソグラフィ法を使用してパターンを形成する際に重要なフォトマスク用合成石英ガラス基板を長期保存しても、基板表面への化学吸着が進みにくく、これにより合成石英ガラス基板にＣｒ膜等を成膜する際の成膜ムラを抑制でき、生産性の向上及び歩留まり向上につながる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明について更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
フォトマスク用合成石英ガラス基板を保管する場合、ガス成分のフォトマスク用合成石英ガラス基板への吸着を抑えることが望まれる。一般的にプラスチック製保管ケースからのアウトガス成分やこれらに含まれる可塑剤が気化した成分がフォトマスク用合成石英ガラス基板に吸着し、問題となる場合がある。
【００１３】
そこで、本発明では上記アウトガス成分を吸収する活性炭、シリカゲル等の吸収剤、特に活性炭をフォトマスク用合成石英ガラス基板のケース内側に配置し、その量と位置を工夫することで、保管ケースや包装袋等から発生したアウトガスを活性炭等の吸収剤に吸着させ、ケース内に充満するアウトガス成分を低減させたものである。
【００１４】
ここで、本発明においては、保管ケースに収容するフォトマスク用合成石英ガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面に、保管ケースから発生するアウトガス成分の吸収剤を保持する吸収剤保持部材の１個又は複数個を取り付けてなり、この保持部材に保持される吸収剤の総量（ｇ）とこの吸収剤のＢＥＴ比表面積（ｍ2／ｇ）との積Ａ（ｍ2）と、上記保持部材が取り付けられた保管ケースの内面に対向する上記ガラス基板の表面又は表面及び裏面の合計面積Ｂ（ｃｍ2）との比（Ａ／Ｂ）が１．０〜１２０ｍ2／ｃｍ2であり、好ましくは２．０〜２０ｍ2／ｃｍ2、より好ましくは２．０〜１０ｍ2／ｃｍ2である。上記比が１．０ｍ2／ｃｍ2より小さいとアウトガス成分を充分吸着することができず、１２０ｍ2／ｃｍ2より大きいと保管ケースの内壁中が吸収剤で覆われる程度になり、吸収剤や吸収剤を包む素材からの発塵が増えたり、大量の吸収剤を配置する作業に大幅な時間を要すこととなり好ましくない。
【００１５】
なお、合成石英ガラス基板の表面とは、その上にフォトマスクパターンが形成されるべき面をいい、少なくともこのガラス基板の表面におけるアウトガス成分の吸着を防止するため、合成石英ガラス基板表面に対向するケース内面には上記吸収剤が配置されるものである。アウトガス成分の影響は基板表面に対向するケース内面からの影響が大部分であるため、合成石英ガラス基板裏面に対向するケース内面には吸収剤を配置させなくてもよいが、基板表面の端面近傍ではわずかながら基板裏面に対向するケース内面からのアウトガス成分の影響も考えられるので、合成石英ガラス基板裏面に対向する保管ケース内面にも吸収剤を配置させることが好ましい。上記Ａ／Ｂを計算するための面積Ｂは、吸収剤が配置された保管ケース内面に対向する合成石英ガラス基板面の面積であり、基板表面側のみに吸収剤を配置させた場合は基板表面のみの面積であり、基板の表面側と裏面側にそれぞれ配置させた場合は、基板表面の面積と裏面の面積との合計である。また、上記吸収剤のＢＥＴ比表面積は、窒素吸着法による値である。更に、活性炭を用いる場合、その種類としては粉末活性炭、粒状活性炭、球状活性炭、繊維状活性炭等が挙げられる。
【００１６】
保持部材の配置関係は、保持部材とこれに対向するガラス基板対向面との関係を規定したものであり、具体的には下記の通りである。
【００１７】
即ち、上記保管ケース内に配置される吸収剤を保持する保持部材は、保持部材とこれに対向する合成石英ガラス基板との最長直線距離Ｌ（ｍｍ）が８００ｍｍ以内、好ましくは５５０ｍｍ以内になるように配置する。保持部材の配置位置が上記範囲から離れるに従ってその効果は弱まってしまい、保持部材の配置位置が合成石英ガラス基板から遠すぎると、基板表面へのアウトガス成分の化学吸着を防ぎきれないおそれがある。なお、最長直線距離Ｌを求める場合の保持部材の基点は、その中心部とするものである。但し、上記最長直線距離Ｌは、保持部材が複数個配置されている場合は、保持部材とこれに対向する合成石英ガラス基板との間に引かれる直線を該保持部材が配置されている保管ケース内面に投影した際、一の保持部材を基点とする直線が他の保持部材を横切ることのない直線のうち、最長の直線の距離である。
【００１８】
より好ましい保持部材の配置位置としては、特に直方体状保管ケースの場合、合成石英ガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面の短辺の長さ（ｍｍ）及び長辺の長さ（ｍｍ）をそれぞれ４５０ｍｍで除して得られる値から小数点を切り捨てて得られる整数値を分割数として等分分割（以下、これを整数分割という）した交差点及び当該保管ケース内面の中央点から選ばれる１又は２以上に配置する態様である。
【００１９】
例えば、短辺１，２２０ｍｍ×長辺１，４００ｍｍの合成石英ガラス基板の表面に対向して保管ケースの長方形状内面に保持部材を配置する場合、短辺の長さ（ｍｍ）及び長辺の長さ（ｍｍ）をそれぞれ４５０ｍｍで除して得られる値から小数点を切り捨てて得られる整数値（上記の場合、短辺では２、長辺では３）を分割線として等分分割したとすると、短辺に対して１／３ずつに区切った線と長辺方向に対して１／４ずつに区切った線の交差点６個所と、保持部材が配置される保管ケースの長方形内面の中央点が保持部材の取り付け個所となり、その１又は２以上の個所に保持部材を取り付けることができる。そして、上記各交差点における保持部材とこれに対向する合成石英ガラス基板との最長直線距離が８００ｍｍ以内にするためには、中央点及び上記交差点に保持部材を４〜６個所配置すればよい。
【００２０】
なお、上記保持部材の形状、材質は特に制限されるものではないが、通気性を有するようにポリエステル等の合成樹脂製不織布にて扁平袋に形成されたものが好ましく、例えば２０×２０〜２００×２００ｍｍの大きさであって、吸収剤が１〜１００ｇ、特に５〜２０ｇ程度収納できるものが好適に用いられる。
【００２１】
また、保管ケース内面に対する吸収剤保持部材の配設は、保持部材を粘着剤等で保管ケース内面に貼り付ける等の方法が採用し得るが、これに限定されるものではない。
【００２２】
保管ケースに合成石英ガラス基板を収容、保管する場合、保管ケースの保管方法は、保管ケース内でフォトマスク用合成石英ガラス基板表面が地面に対して垂直な状態で立たせて保管される場合と、保管ケース内でフォトマスク用合成石英ガラス基板表面が地面に対して水平な状態で寝かせて保管される場合のいずれの方法でもよい。
【００２３】
この場合、保管ケースに収容する合成石英ガラス基板の枚数は１枚でも２枚又はそれ以上の複数枚でもよいが、複数枚の合成石英ガラス基板を収容する場合、複数枚の合成石英ガラス基板の両端側は、その表面が保管ケース内面に対向するように配設することが好ましい。
【００２４】
この場合、最も保管ケース内面に近い合成石英ガラス基板の保管ケース内面に向いている表面と、これに対向する保管ケース内面との間隔が好ましくは１〜１５ｃｍ、より好ましくは２〜１０ｃｍである。１枚入り保管ケースの場合も同様に合成石英ガラス基板表面とこの表面に対向する保管ケース内面との間隔が１〜１５ｃｍ、より好ましくは２〜１０ｃｍである。合成石英ガラス基板表面と保管ケース内面の間隔が近すぎると配置した活性炭等の吸収剤が基板と接触したり、吸収剤や吸収剤を収容する保持部材からの発塵の危険性が高くなる場合がある。一方、遠すぎると保管ケース自体が大きくなることを意味し、かさばってしまうので運搬や収納の際に不便となる場合がある。
【００２５】
また、フォトマスク用合成石英ガラス基板の保管ケースは、例えば基板サイズが短辺（ｍｍ）×長辺（ｍｍ）で、３３０×４５０、３７０×４５０、４２０×５２０、４２０×５３０、４３０×５３０、４４０×５２０、５００×７５０、５２０×６１０、５２０×８００、６２０×７２０、６５０×７５０、６５０×８００、７００×８００、８００×９２０、７００×１，１００、８００×９６０、８３０×９６０、８５０×１，０００、８３０×１，１９６、８５０×１，２００、８３０×１，３９６、８１０×１，３８０、８５０×１，４００、１，２２０×１，４００、１，３００×１，５００等の四角板状フォトマスク用合成石英ガラス基板を収納する保管ケースに対して適用することができる。取り扱いのし易さの面から、短辺が５００ｍｍ未満のフォトマスク用合成石英ガラス基板は、複数枚入りの保管ケースを使用し、５００ｍｍ以上は１枚入りのケースを使用することが好ましい。なお、これら基板の厚さは基板の大きさによって相違するが、通常１〜５０ｍｍ、特に５〜２０ｍｍが好ましい。また、本発明の保管ケースは、短辺３００ｍｍ以上、長辺４００ｍｍ以上、好ましくは短辺４００〜３，０００ｍｍ、長辺５００〜５，０００ｍｍ、更に好ましくは短辺５００〜３，０００ｍｍ、長辺６１０〜５，０００ｍｍのフォトマスク用合成石英ガラス基板用として有効である。
【００２６】
以下、図面を参照して、本発明について説明する。
図１は、本発明に係るフォトマスク用合成石英ガラス基板の保管ケースの一例を示すものであり、この保管ケースは、四角板状の合成石英ガラス基板（図示せず）を収容する四角箱形のケース本体１と、その上端開放部を覆ってケース本体１に着脱可能に装着される蓋体２とを具備し、上記ケース本体１の互いに対向する一方の両内側面にそれぞれ深さ方向に沿って互いに対向して溝３ａ，３ｂを形成すると共に、内底面にもこれら溝３ａ，３ｂを連結する溝３ｃが形成され、上記溝３ａ，３ｂ及び３ｃに上記合成石英ガラス基板の一方の互いに対向する両端部を挟持する断面コ字状の支持体（図示せず）をそれぞれ互いに対向して嵌着し得るようになっており、上記合成石英ガラス基板をその一方の互いに対向する両端部を上記支持体に挟持して支持体を垂直に保持するように構成されている。蓋体２には保管ケース本体と同様に断面コ字状の支持体が備えてある場合と、それ以外の支持体が備えてある場合とがある。蓋体２に、ケース本体１と同様に断面コ字状の支持体が備えてある場合には、蓋体２にも、上記溝３ａ，３ｂに対応し、互いに対向する一方の両内側面に溝４ａ，４ｂが形成され、図示していないが、断面コ字状の支持体がこれら溝４ａ，４ｂに嵌着される。一方、ケース本体と異なる支持体が備えてある場合としては、蓋の内側天井部に例えば直径１０〜２０ｍｍ程度の伸縮性のよいシリコーンチューブを配し、蓋を閉めることによって、シリコーンチューブは合成石英ガラス基板の蓋天井部側端面に接触し、合成石英ガラス基板は蓋側シリコーンチューブとケース本体底面の溝３ｃによって両端面部が挟持される。このときシリコーンチューブに接触している部位以外のガラス基板端面と蓋体２との間にわずかに隙間ができるが、その隙間は大きくても１０ｍｍ程度である。こうして、どちらの蓋体を用いても、合成石英ガラス基板をケース本体１と蓋体２によって合成石英ガラス基板を支持した場合、保管ケース内が複数の室（図１の場合は１枚のガラス基板を支持するだけなので、５及び６の２室）に分離される。
【００２７】
また、上記ケース本体１のガラス基板表面及び裏面にそれぞれ対向する他方の両内側面側に吸収剤７が収納保持されたポリエステル系不織布製等の吸収剤保持部材８が粘着剤９により貼着されている。この場合、保持部材８の配設数は上述したＡ／Ｂの割合になるように適宜選定され、図１では互いに対向する他方の両内側面にそれぞれ２個（合計４個）とされているが、これに限らず、図３，４に示すようにそれぞれ１個（合計２個）にしてもよく、また互いに異なる配設数にしてあってもよい。更に、合成石英ガラス基板の表面に対向する内側面のみに保持部材を配設し、ガラス基板の裏面に対向する内側面には保持部材を配設しないようにしてもよい。
【００２８】
なお、図１は合成石英ガラス基板を垂直に支持する態様であるが、ガラス基板を水平に支持するようにしてもよい。この場合、保管ケース本体の互いに対向する一方の両内側面に互いに対向して断面Ｌ字状の支持体をそれぞれ設け、合成石英ガラス基板の互いに対向する一方の両端部をそれぞれ上記支持体で支持することによって合成石英ガラス基板を水平配置することができる。このような合成石英ガラス基板の水平配置では、合成石英ガラス基板の表面又は表面と裏面に対向する保管ケース面は保管ケース本体の内底面と蓋体の内側天井面であるから、これらの面に吸収剤保持部材を取り付けることができる。
【００２９】
図１において、保持部材７とこれに対向するガラス基板対向面との最長直線距離は直線Ｌ（ｍｍ）であり、Ｌが８００ｍｍ以内になるように保持部材が配置されるものである。
また、最長直線距離が８００ｍｍ以内であって、かつ短辺の長さ（ｍｍ）及び長辺の長さ（ｍｍ）をそれぞれ４５０ｍｍで除して整数分割した交差点２個所に保持部材が配置されるものである。
【００３０】
このようにしてなる保管ケースにフォトマスク用合成石英ガラス基板を挿入し、蓋をして、合わせ目にテープを巻くことで密閉できる。
【００３１】
ケース本体１、蓋体２及び支持体の材質としては、例えばポリエチレン（ＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、アクリロニトリルブタジエンスチレン（Ａ／ＢＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、ポリオキシエチレン（ＰＯＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエンカビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリイソブチレン（ＰＩＢ）、ポリメタアクリロニトリル（ＰＭＡＮ）、ポリアクリル酸メチル（ＰＭＡ）、ポリエチルメタクリレート（ＰＥＭＡ）等の樹脂、あるいはこれらの共重合体からなる樹脂から適宜選ばれる。このうち、ケース本体１及び蓋体２の材質としてポリカーボネート（ＰＣ）又はポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）が、支持体の材質としてポリカーボネート（ＰＣ）又はポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）が特に好ましい。
【００３２】
なお、本発明は四角形のフォトマスク用合成石英ガラス基板に限らず、その他の形状、例えば円形状の基板を収納する場合にも適用できる。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００３４】
［実施例１］
短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍの長方形の表面を有した厚さ１０ｍｍの合成石英ガラス基板４枚を用意し、洗浄操作後、この合成石英ガラス基板の表面の撥水度を接触角測定機を用いて測定した。接触角測定は、図２に示したように、合成石英ガラス基板表面の４つのコーナーから縦横１０ｍｍずつ内側に入った位置（位置１０〜１３）と基板表面のほぼ中心位置１４の５点で行った。４枚とも５点の接触角にばらつきはなく、平均で３．９°であった。
次に、吸収剤保持部材が片面側２個所に配設された前述の図１に示す保管ケース（四角箱形ケース本体のガラス基板と対向する長方形状内側面の短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍ）を４個用意し、これら各保管ケースにそれぞれ合成石英ガラス基板を１枚ずつ収納した。保管ケースの本体と蓋体の材質はポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）であり、溝に嵌着される支持体の材質はポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のものを用いた。
吸収剤保持部材の配置位置は、上記ケース本体の内側面の短辺の長さ（８００ｍｍ）及び長辺の長さ（９２０ｍｍ）をそれぞれ４５０ｍｍで除して整数分割して、短辺に対して１／２ずつに区切った線と長辺に対して１／３ずつに区切った線の交差点２個所とし、保管ケース内面と合成石英ガラス基板表面の間の距離は４５ｍｍとした。
吸収剤保持部材は、繊維状の活性炭をポリエステル系不織布で包んだ構成となっている東洋紡製Ｋフィルター（活性炭７．５ｇ／個、ＢＥＴ比表面積１，５００ｍ2／ｇ）を用いた。収納後、保管ケース合わせ目にテープを巻いて密閉し、保管ケース全体を包装袋で梱包し、３６日間保管した。収納作業及び保管は、ＵＬＰＡフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行った。
その後、このクリーンルーム内で開封し、この合成石英ガラス基板の表面の撥水度を接触角測定機を用いて測定したところ、基板内５点の接触角ばらつきはほとんど無く、平均６．４°であった。このときコーナー付近の４点と吸収剤保持部材との距離は４９２ｍｍであり、中央点と吸収剤保持部材との距離は１６０ｍｍであった。４枚の合成石英ガラス基板とも同様な傾向で、接触角もほとんど変わらなかった（表１参照）。
【００３５】
［実施例２］
短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍの長方形の表面を有した厚さ１０ｍｍの合成石英ガラス基板４枚を実施例１と同様にして接触角を測定したところ、４枚とも５点の接触角にばらつきはなく、平均で４．１°であった。
この合成石英ガラス基板４枚を、吸収剤保持部材を片面側１個所に取り付けた図３に示す保管ケース（四角箱形ケース本体のガラス基板と対向する長方形状内側面の短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍ）４個にそれぞれ１枚ずつ実施例１と同様の態様でそれぞれ収納した。なお、保管ケースの材質及び保管ケース内面と基板表面の間の距離は実施例１と同様にし、吸収剤保持部材の配置位置は上記ケース本体の内側面の短辺に対して１／２ずつに区切った線と長辺に対して１／２ずつに区切った線の交差点（中心点）１個所とした。
３６日間保管後の合成石英ガラス基板表面の撥水度を接触角測定機を用いて測定したところ、基板内５点の接触角のうち、吸収剤保持部材配設位置から遠いコーナー付近の４点でやや高く（４点平均９．２°）、中心点は６．３°と低かった。このときコーナー付近の４点と吸収剤保持部材との距離は５９７ｍｍであり、中央点と吸収剤保持部材との距離は１６０ｍｍであった。接触角の分布は、４枚の基板とも同様の傾向となった（表１参照）。
【００３６】
［実施例３］
短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍの長方形の表面を有した厚さ１０ｍｍの合成石英ガラス基板４枚を実施例１と同様にして接触角を測定したところ、４枚とも５点の接触角にばらつきはなく、平均で３．９°であった。
この合成石英ガラス基板４枚を、吸収剤保持部材を片面側１個所に取り付けた図４に示す保管ケース（四角箱形ケース本体のガラス基板と対向する長方形状内側面の短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍ）４個にそれぞれ１枚ずつ実施例１と同様の態様でそれぞれ収納した。なお、保管ケースの材質及び保管ケース内面と基板表面の間の距離は実施例１と同様にし、吸収剤保持部材の配置位置は上記ケース本体の内側面の短辺に対して１／２ずつに区切った線と長辺に対して１／３ずつに区切った線の交差点のうち、１個所のみとした。
３６日間保管後の合成石英ガラス基板表面の撥水度を接触角測定機を用いて測定したところ、合成石英ガラス基板内５点の接触角のうち、吸収剤保持部材配設位置から遠いコーナー付近の２点でやや高く（２点平均１１．６°）、吸収剤保持部材配設位置から近いコーナー付近の２点及び中心点は平均５．９°と低かった。このとき吸収剤保持部材配設位置から遠いコーナー付近の２点と吸収剤保持部材との距離は７２０ｍｍであり、吸収剤保持部材配設位置から近いコーナー付近の２点と吸収剤保持部材との距離は４９２ｍｍであり、中央点と吸収剤保持部材との距離は１６０ｍｍであった。接触角の分布は、４枚の合成石英ガラス基板とも同様の傾向となった（表１参照）。
【００３７】
［実施例４］
短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍの長方形の表面を有した厚さ１０ｍｍの合成石英ガラス基板４枚を実施例１と同様にして接触角を測定したところ、４枚とも５点の接触角にばらつきはなく、平均で３．８°であった。
この合成石英ガラス基板４枚を、吸収剤保持部材を片面側１個所に取り付けた図５に示す保管ケース（四角箱形ケース本体のガラス基板と対向する長方形状内側面の短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍ）４個にそれぞれ１枚ずつ実施例１と同様の態様でそれぞれ収納した。なお、保管ケースの材質及び保管ケース内面と基板表面の間の距離は実施例１と同様にし、吸収剤保持部材の配置位置は上記ケース本体の内側面の短辺に対して１／４ずつに区切った線と長辺に対して１／４ずつに区切った線の交差点９個所とした。
３６日間保管後の合成石英ガラス基板表面の撥水度を接触角測定機を用いて測定したところ、合成石英ガラス基板内５点の接触角ばらつきはほとんど無く、平均５．１°であった。このときコーナー付近の４点と吸収剤保持部材との距離は２９４ｍｍであり、中央点と吸収剤保持部材との距離は４５ｍｍであった。４枚の合成石英ガラス基板とも同様な傾向で、接触角もほとんど変わらなかった（表１参照）。
【００３８】
［比較例１］
短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍの長方形の表面を有した厚さ１０ｍｍの合成石英ガラス基板４枚を実施例１と同様にして接触角を測定したところ、４枚とも５点の接触角にばらつきはなく、平均で３．８°であった。
吸収剤保持部材を配設していない保管ケース４個ににこの合成石英ガラス基板４枚をそれぞれ１枚ずつ実施例１と同様の態様で収納した以外は実施例１と同様に、３６日間保管後の合成石英ガラス基板表面の撥水度を接触角測定機を用いて測定した。
その結果、合成石英ガラス基板内５点の接触角はいずれも増加しており、平均１６．７°であり、接触角の分布は、４枚の合成石英ガラス基板とも同様の傾向となった（表２参照）。
これは、合成石英ガラス基板表面がアウトガス成分汚染され、何らかの化学成分等が吸着することによって撥水したものと考えられる。
【００３９】
［比較例２］
短辺８００ｍｍ、長辺９２０ｍｍの長方形の表面を有した厚さ１０ｍｍの合成石英ガラス基板４枚を実施例１と同様にして接触角を測定したところ、４枚とも５点の接触角にばらつきはなく、平均で３．５°であった。
次に、活性炭を１．０ｇ／個（ＢＥＴ比表面積１，５００ｍ2／ｇ）とした以外は実施例１と同様に、３６日間保管後の合成石英ガラス基板表面の撥水度を接触角測定機を用いて測定した。
その結果、合成石英ガラス基板内５点の接触角はややばらつき、平均１０．８°と高かった。接触角の分布は、４枚の合成石英ガラス基板とも同様の傾向となった（表２参照）。
【００４０】
【表１】
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【００４１】
【表２】
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【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明における活性炭を取り付けたケース本体及び蓋体の概略図である。
【図２】本発明における撥水度測定位置の説明図である。
【図３】本発明の実施例２で使用した活性炭を取り付けたケース本体及び蓋体の概略図である。
【図４】本発明の実施例３で使用した活性炭を取り付けたケース本体及び蓋体の概略図である。
【図５】本発明の実施例４で使用した活性炭を取り付けたケース本体及び蓋体の概略図である。
【符号の説明】
【００４３】
１    ケース本体
２    蓋体
３    ケース本体の基板収納溝  
４    蓋体の基板収納溝
５    基板によって分割されたケース内の室
６    基板によって分割されたケース内の室
７    吸収剤
８    吸収剤保持部材
９    粘着剤
１０  基板左上の測定位置（コーナーから１０ｍｍ入った個所）
１１  基板右上の測定位置（コーナーから１０ｍｍ入った個所）
１２  基板左下の測定位置（コーナーから１０ｍｍ入った個所）
１３  基板右下の測定位置（コーナーから１０ｍｍ入った個所）
１４  基板中心の測定位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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