(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送部に設置された基板を浮上させる基板浮上機構と、
前記基板浮上機構上に対向する位置の一部に、基板をはさむように設置された基板を非接触に空間保持させる基板保持機構と、
前記基板の少なくとも片端部を保持して、一方向に前記基板を搬送する搬送機構を備え、
前記基板浮上機構は、前記基板保持機構と対向している領域では複数の穴で構成された空気噴出し部を有する処理領域を有し、前記基板保持機構と対向していない領域では複数の穴で構成された空気噴出し部及び複数の穴で構成された空気吸い込み部を有する搬送領域とを有しており、
前記基板保持機構は、複数の穴で構成された空気吹き出し部と、複数の穴で構成された空気吸い込み部とを有しており、かつ、前記基板保持機構の一部にスリットである処理部が形成されていることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記基板浮上機構は、搬送する基板全面を浮上させるように配置され、前記基板保持機構は、搬送する基板の幅方向は全部、搬送方向は一部を保持するように配置されることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記搬送機構は、前記基板面と垂直な方向に自由度を有する基板把持機構を備えることを特徴とする請求項１から２のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板保持機構の搬送方向最上流側の空気吹き出し部の搬送方向側の端部が、テーパーカットされた形状になっていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
請求項１に記載の基板搬送装置の処理部あるいは処理部の近傍に、撮像素子を配置した検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイパネルなどのフラットパネルディスプレイ用の基板の欠陥検査を行う基板検査装置に関するものであり、特に大型基板を振動などによる上下変動無く安定して搬送するための装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板を搬送する方法としては、従来はローラを用いたコンベアによる方法が主に用いられてきた。しかし、基板が大型化したことで、従来の方法にて搬送すると、例えば、搬送中の基板の重さのよる撓みや、搬送時の上下振動などにより、基板がローラに衝突してしまうことが原因として発生する搬送中の傷など、様々な問題が発生した。
【０００３】
よって重さによる撓みや搬送中の上下振動が大きい大型基板に関しては、ローラを用いたコンベア搬送に替わり、全面をエアによって浮上させて搬送させる非接触による搬送技術が用いられてきている。
【０００４】
また、フラットパネルディスプレイでは、例えばカラーフィルタなどでは、製造工程において欠陥などの検査が行われているが、近年画面の高精細化が進み、それに伴って検査機自体も高性能なものが求められている。具体的には５μｍ以下の欠陥を検査するような、分解能が３μｍ以下の超高分解能カメラと用いた検査機が品質保証の点から必須となってきている。
【０００５】
基板のエア浮上による搬送により基板検査する技術は、国際公開番号ＷＯ２００３／０８６９１７や特開２００４−２７９３３５、特開２００６−２５８６３２にすでに記載されている。
【０００６】
【特許文献１】国際公開番号Ｗ２００３／０８６９１７号
【特許文献２】特開２００４−２７９３３５号
【特許文献３】特開２００６−２５８６３２号
【特許文献４】特開２０００−２６６６９１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、分解能が５μｍ以下の検査機用カメラは焦点深度が浅くまた、被写界深度も狭く、検査として撮像するためには、その被写界深度から外れないように安定した基板搬送が求められる。
【０００８】
ローラによる基板搬送では接触搬送によりローラ自体の凹凸や設置状況などで、基板の搬送中の上下方向の変動が激しく、高分解能の検査用のカメラの被写界深度からはずれてしまう問題がある。また、上下変動による振動で、基板とローラとが衝突してしまい、基板に傷をつけてしまう可能性がある。
【０００９】
そこで、搬送面とは接触しない、エア浮上に搬送が行われるようになった。当初の非接触にエア搬送技術は基板をエアの吹き出しにより基板を浮かせるだけであったので、基板の浮上精度むらが大きく、搬送中の浮上むらから発生する上下変動が起きてしまい、それによる搬送部との接触などの傷の問題や、振動による上下変動により検査面が検査用カメラの被写界深度からはずれてしまう問題があった。そこで、基板の浮上に関して、エアの吹き出しと同時に吸い込みも行うことで、浮上の上下変動をエアの吸い込み力によって抑える技術が開発された。この技術により高精度浮上のものに関しては、搬送時の浮上むらが、１０μｍ以下まで抑えられるようになり、安定した基板搬送が出来るようになった。これにより検査面の被写界深度内から外れずに搬送することも可能となり、また搬送面との衝突も解消された。
【００１０】
上記の技術にて、エア搬送による浮上ムラは解消され、安定した浮上精度にて基板を搬送できるようになったが、さらに分解能が３μｍ以下の超高分解能な検査を行う際の検査用カメラを用いる場合は、ガラスの厚みむら自体が超高分解能の検査用カメラの被写界深度以上にある場合には、基板を上下変動無く安定して搬送できたとしても、基板の厚みむら自体がすでに高分解能の検査用のカメラの被写界深度からはずれてしまうので、うまく撮像できない問題がある。そのような場合の解決技術としては、例えば特開２０００−２６６６９１号広報に記載されている。
【００１１】
上記特許文献では、高さ検出器を備えた焦点深度の深い撮像光学系の後に、焦点深度の浅い撮像系を設置し、前記焦点深度の深い撮像光学系に備えら高さ検出器にて検出された被検体の高さ変位情報に基づいて、前記焦点深度の浅い撮像光学系と被検体とを焦点方向に相対的に移動させて焦点合わせを行うことを特徴としている。
【００１２】
しかしながら、高さ検査を行う検査機と、その情報を基に移動する検査部の撮像光学系の動作制御機構や、その動作制御など、全体のシステムとして複雑かつ高価なものになってしまう。また、高さ測定場所と検査部とが、少なからずとも距離が離れているので、必ずしも高さ測定を行った場所のデータが検査部での高さデータに一致するとはいえない。特に超高分解能検査機用のカメラになると、数μｍのズレにより焦点深度から外れてしまう可能性がある。
【００１３】
そこで本発明は、基板を振動などの上下変動が少なく、また特開２０００−２６６６９１号広報に記載されているような複雑なシステムを構築無く、容易に安価で安定した基板搬送することが可能な基板搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
請求項１によれば、基板搬送部に設置された基板を浮上させる基板浮上機構と、
前記基板浮上機構上に対向する位置の一部に、基板をはさむように設置された基板を非接触に空間保持させる基板保持機構と、
前記基板の少なくとも片端部を保持して、一方向に前記基板を搬送する搬送機構を備え、
前記基板浮上機構は、前記基板保持機構と対向している領域では複数の穴で構成された空気噴出し部を有する処理領域を有し、前記基板保持機構と対向していない領域では複数の穴で構成された空気噴出し部及び複数の穴で構成された空気吸い込み部を有する搬送領域とを有しており、
前記基板保持機構は、複数の穴で構成された空気吹き出し部と、複数の穴で構成された空気吸い込み部とを有しており、かつ、前記基板保持機構の一部にスリットである処理部が形成されていることを特徴とする基板搬送装置である。
【００１５】
請求項２によれば、前記基板浮上機構は、搬送する基板全面を浮上させるように配置され、前記基板保持機構は、搬送する基板の幅方向は全部、搬送方向は一部を保持するように配置されることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置である。
【００１６】
請求項３によれば、前記搬送機構は、前記基板面と垂直な方向に自由度を有する基板把持機構を備えることを特徴とする請求項１から２のいずれかに記載の基板搬送装置である。
【００１７】
請求項４によれば、前記基板保持機構の搬送方向最上流側の空気吹き出し部の搬送方向側の端部が、テーパーカットされた形状になっていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の基板搬送装置である。
【００１８】
請求項５によれば、請求項１に記載の基板搬送装置の処理部あるいは処理部の近傍に、撮像素子を配置した検査装置である。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１に係わる発明によれば、基板浮上機構と基板保持機構とを基板製品面を挟むように上下に設置することで、上下変動が少なく安定して搬送が可能である。また全面浮上させるので基板の撓みによる影響も無く、製品に傷などをつける心配もない。
【００２４】
請求項１に係わる発明によれば、空気噴出し部及び空気吸い込み部を有することで、基板を吸い込みの力にて引きつけて基板をある一定の高さに保持することが可能となる。このため、基板上面を一定の高さに安定させることができる。
【００２５】
請求項１に係わる発明によれば、エアの吹き出しにのみにより基板を浮上させるだけでは、エアの吹き出し量が搬送面全面で均一ではないので、浮上状態が安定しない。そこで吹き出しと同時に空気の吸い込みを行うことで、基板を吸い込みの力にて引きつけて基板をある一定の高さに浮上させることが実現できる。基板が前記基板浮上機構とそれに対向するように設置された前記基板保持機構の隙間を搬送する場合には、基板浮上機構は基板の重さを支えるようにエアを吹きだすようにする。一方基板保持機構は、基板が基板浮上機構により持ち上げられているので、基板自体の重さによる撓みを考慮しなくても、エアの吹き出しと吸い込みのバランスにより、基板保持機構の表面と基板との隙間をある一定のクリアランスになるように保つことが出来る。
【００２６】
請求項２に係わる発明によれば、基板は製品面が搬送方向上側になるようにして搬送されるので、基板保持機構が搬送路全面に対向するようには位置をしてしまうと、搬送途中に何らかの影響で基板の浮上状態が変化した場合に、製品面を傷つけてしまう恐れがあるが、必要な部分のみ基板保持機構を配置することで、基板上に基材保持機構がある面積が減るので、製品面に傷がつく可能性を減らすことができる。
【００２７】
請求項３に係わる発明によれば、基板を搬送するための基板狭持機構の搬送が、基板搬送面に対して垂直方向に上下変動しても、基板挟持機構が基板搬送面に対して垂直方向に自由自在に移動可能な機構となっているので、搬送機構における基板搬送面に対して垂直方向に変動が起きてしまっても、基板挟持機構がその変動分を吸収してしまうので、結果として基板の浮上量には影響を与ることがない。
【００２８】
請求項４に係わる発明によれば、基板が前記基板浮上機構と前記基板保持機構との隙間に入る際に、例えば基板浮上機構の基板の浮上ムラなどにより、基板の浮上量が大きくなってしまい、基板と基板保持機構とが衝突するような場合でも、基板保持機構の最上流側の空気吹き出し部の端部が斜めにテーパーカットされた形状になっているので、浮上量変化した状態で基板浮上機構と基板保持機構の隙間に基板が搬送されてきても、テーパーカットされた面が、誘い込みのガイドとなり、基板保持機構には接触しないで基板と基板浮上機構と基板保持機構との隙間に搬送することが可能となる。
【００２９】
請求項１に係わる発明によれば、搬送方向と直行する方向に、搬送する基板分のスリットが開いているので、例えば検査用カメラや検査用光源などを設置して、そのスリット分の隙間より透過検査などを行うことが可能となる。スリットの幅は、基板と基板保持機構とのクリアランスと保つために、出来る限り狭いほうがよい。
【００３０】
請求項５に係わる発明によれば、本発明の搬送装置を検査装置に用いることにより、搬送面上面と基板保持機構面とが一定のクリアランスで平行に保たれるために、ガラスの厚みむらは、検査面とは逆側の搬送面下面に表れるので、搬送上面からの検査に関しては、ガラスの厚みむらの影響がなくなる。よってカメラに対する検査面位置が常に一定となるために、超高分解能検査用のカメラの被写界深度からはずれることなく、安定して撮像が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明装置は、基板搬送部に設置された基板を浮上させる基板浮上機構と、前記基板浮上機構上の対向する位置の少なくとも一部に、基板をはさむように設置された基板を非接触に空間保持させる基板保持機構とを備えている。このような構成とすることにより、次のような効果がある。
第一に、基板浮上機構及びこれを対向する基板保持機構によって、基板を両面から保持することとなり、上下変動の少ない安定した搬送が可能となる。
第二に、基板の上面から基板を保持するので、基板上面の位置が一定に保たれる。
【００３３】
上記本発明の搬送装置の基板保持機構の一部に、開口部つまりスリット状の処理部を設け、この処理部あるいは処理部の近傍位置に検査装置、塗布装置等の処理装置を配置することにより、それぞれの装置性能を向上させることができる。つまり、基板の上面位置が搬送時においても一定に安定しているために、カメラを用いた検査装置であれば焦点位置がずれない、ダイコータ、スリットコータ等を用いた塗布装置であれば、塗布ムラを抑制し、均一な塗工が可能となる等の効果を生じる。後述する実施例においては、本発明装置を表面検査装置に適用した具体例を示した。
【００３４】
本発明装置について図１を用いて説明する。なお図１は理解を容易とするため、基板２の厚さおよび基板浮上機構３、基板保持機構４とのギャップを誇張している。
【００３５】
まず図１（ａ）に示すように、基板浮上機構３の領域３−１上を基板２が浮上搬送されてくる。図１では、領域３−２〜３−４に、浮上機構と対向するように基板保持機構が部分的に設けられている。ここで浮上機構の最上流側の少なくとも空気吹き出し部の端部が斜めにテーパーカットされた形状であれば、テーパーカットされた面が、誘い込みのガイドとなり、基板保持機構には接触しないで基板と基板浮上機構と基板保持機構との隙間に搬送することが可能となる。浮上機構及び基板保持機構の具体例については実施例において詳細に説明するが、図に示されるように複数の空気噴き出し穴と、空気吸い込み穴を有する部材、及びこれらの動力源となるポンプによって実現することができる。なお、図１では基盤搬送機構は図示していないが、リニアガイド、リニアモータ等を用いて、少なくとも基板の片端部を保持して搬送するものなど公知の搬送機構を用いることができる。
【００３６】
次に図１（ｂ）に示すように、基板浮上機構３の領域３−２に達した基板２の先端部は、基板保持機構４による吸着効果により基板浮上機構側に引き寄せられる。また、基板浮上機構が、基板浮上機構と対向する領域（処理領域）である領域３−２及び３−４において空気噴出しのみを有することにより、空気の吹き上げと浮上量が大きくなり、より基板保持の効果が大きくなる。このとき図１（ｃ）に描かれている様に、実際には基板２の先端部が上方に極わずかに撓んだ状態となる。
【００３７】
更に図１（ｃ）に示すように、基板２の先端部が基板浮上機構３および基板保持機構４の分断された空間の領域３−３まで達すると、基板保持機構４の吸着保持効果により、基板２の先端からある範囲までの領域は、基板保持機構４の表面に沿った状態となる。この領域では、基板浮上機構３からの空気の吹き出しにより基板２の自重がキャンセルされた状態となっており、かつ基板保持機構４からの空気の吹き出しと吸引とのバランスにより基板保持機構４の表面と基板２の上面は高精度に間隔が保たれている。つまり、処理部であるスリット部分では、例えば基板の先頭部分と、中央部分あるいは末尾部分とで基板の厚さが異なる場合であっても、基板保持機構と基板上面の間隔が一定に保たれるために、安定した検査測定等の処理を行うことが可能となる。なお、基板浮上機構は、処理部に該当する位置において、構成する処理装置に応じて図１に示されているように分割されていてもよい。
【００３８】
続いて図１（ｄ）に示すように、基板浮上機構３の領域３−５まで達した基板先端部は、基板保持機構４による基板の吸着効果がなくなるために、前記領域３−１の状態と同様に基板浮上機構３に沿って位置決め搬送される。以上のような各領域での基板２の状態が連続的に続くことによって、領域３−３における基板２の上面の高精度位置決め搬送が可能となり、高分解能の基板検査等の処理が実現できる。
【実施例】
【００３９】
以下、具体的な実施例を挙げて本発明に係る実施の形態の基板搬送装置について図面に基づいて説明する。
【００４０】
図２は基板の検査装置に適用した基板搬送装置の構成図である。
【００４１】
本発明に係る基板搬送装置１は、空気の吹き出しおよび吸引によって基板２を浮上させながら一定の高さに維持する基板浮上機構３と、前記基板浮上機構３と同様に空気の吹き出しおよび吸引によって基板２を一定の高さで空間保持する基板保持機構４と、前記基板浮上機構３の一側面からはみ出した前記基板２の片端部を固定する基板把持機構５と、前記基板浮上機構３の一側面と隣接して設けられ、前記基固定機構５を介して前記基板２を搬送方向Ｘに沿った方向に搬送する基板搬送機構６と、前記基板浮上機構３および前記基板保持機構４への空気の供給および前記基板浮上機構３および前記基板保持機構４からの空気の吸引を行う浮上制御部Ａと、前記基板２の表面検査を行う検査部Ｂを備える。
【００４２】
次に前記基板浮上機構３および前記基板保持機構４の構造について図３を使用して説明する。なお、図３は前記基板浮上機構３および前記基板保持機構４の断面模式図であり、理解を容易にするために基板２の厚みおよび浮上量を誇張している。
【００４３】
本発明の基板搬送装置１における前記基板浮上機構３は、矩形状の中空構造体であり、基板２と対向する表面３ａおよび３ｂは無数の微細な孔の空いた板状の物質（例えば、多孔質カーボンや金属焼結体など）で形成されている。この表面３ａおよび３ｂは内部の中空空間１０および１２と隣接されており、この中空空間１０および１２に接続されている配管１０ｐ、１２ｐを通じて前記浮上制御部Ａから圧力を与えることによって、表面３ａおよび３ｂの全域に均一な上向きの空気流１３および１４を形成する事ができる。この上向きの空気流によって基板２をわずかに浮上させる事が可能となる。
【００４４】
また前記基板浮上機構３において、前記基板保持機構４と対向する領域以外の表面３ａには、１０〜５０ｍｍ程度の範囲で等間隔もしくは不規則な間隔で直径０．５〜２ｍｍ程度の吸引穴８が全域に設けられている。この吸引穴８は基板浮上機構３の内部に設けられた前記中空空間１０とは導通しておらず、別に設けられた中空空間１１と接続されており、前記浮上制御部Ａによって配管１１ｖを通じて中空空間１１の内圧を下げることにより、前記吸引穴８から空気を吸い込む事ができる。
【００４５】
そして前記表面３ａ全域から空気を吹き出すと同時に、前記吸引穴８からも空気の吸い込みを行うことにより、前記基板２の浮上量を高い精度で維持する事が可能となる。
【００４６】
本発明の基板搬送装置１における前記基板保持機構４は、前記基板浮上機構３と基本構造は等しく矩形状の中空構造体であり、該構造体下方の基板２と対向する表面４ａは無数の微細な孔の空いた板状の物質（例えば、多孔質カーボンや金属焼結体など）で形成されている。この表面４ａは内部の中空空間１５隣接されており、この中空空間１５に接続されている配管１５ｐを通じて前記浮上制御部Ａから圧力を与えることによって、表面４ａの全域に均一な下向きの空気流１７を形成する事ができる。
【００４７】
また前記基板保持機構４の表面４ａには、数ミリ〜５０ｍｍ程度の範囲で等間隔もしくは不規則な間隔で直径０．５〜２ｍｍ程度の吸引穴９が全域に設けられている。この吸引穴９は基板保持機構４の内部に設けられた前記中空空間１５とは導通しておらず、別に設けられた中空空間１６と接続されており、前記浮上制御部Ａによって配管１６ｖを通じて中空空間１６の内圧を下げることにより、前記吸引穴９から空気を吸い込む事ができる。
【００４８】
そして前記吸引穴９から比較的大量の空気を吸い込むと同時に、前記表面４ａ全域からわずかに空気を吹き出すことにより、前記基板２を表面４ａに近接した位置に高い精度で非接触に空間保持する事が可能となる。
【００４９】
本発明の基板搬送装置１における前記基板把持機構５は、図２に示すように、少なくとも２つのブロック状の部材をエアーアクチュエーター等により基板２に垂直な方向に稼動させて基板２の端部を挟み込んで固定する挟持部、またはブロック状の部材に埋め込まれた吸着パッドによって基板２を吸着し、吸着パッドが収縮することで前記ブロック状部材に基板を当てて位置決めを行うことが可能な吸着部を２つ以上備えている。更に前記挟持部または前記吸着部は全体が基板２に垂直な方向に移動自在なフローティング構造を介して前記基板搬送機構６の稼動部分であるベースプレート７に固定されている。これにより搬送中の基板２の垂直方向位置と前記基板搬送機構６の垂直方向位置とのずれを吸収することが可能となり、基板２のより高精度な搬送が実現できる。
【００５０】
本発明の基板搬送装置１における基板搬送機構６は、図２に示すように、基板浮上機構３の一側面と隣接して設けられ、基板搬送方向Ｘに沿って基板２をムラ無く一定速度で搬送する一軸の搬送機構である。例えば、サーボモーターとボールネジの組み合わせに比べ速度変動の小さなリニアモータとリニアガイドの組み合わせが適している。しかしながら今後検査の要求精度が上がり超高分解能の検査機等に本搬送装置を適用させる場合などは、コアレスタイプのリニアモータにエア浮上ガイド等を組み合わせることも考えられる。
【００５１】
本発明の基板搬送装置１における前記浮上制御部Ａは、図２に示すように、基板浮上機構３の中へ圧縮空気を供給する圧空経路２５と、基板浮上機構３から空気を吸引排気する排気経路２６と、基板保持機構４の中へ圧縮空気を供給する圧空経路３２と、基板保持機構４から空気を吸引排気する排気経路３３を備える。なお、図２において前記浮上制御部Ａは説明のために基板搬送装置１の機側空間に配置されているが、実際には基板搬送装置１の下、もしくは別体の筐体に収まる。
【００５２】
前記圧空経路２５の上流側には供給圧力を調整する圧力調整弁２３と、配管を分岐して基板浮上機構３に圧空を分配供給するマニホールド２４を備える。また前記排気経路２６の上流側には空気吸引の動力源となるブロアーポンプ２１と、吸い込み流量および圧力を調整するボールバルブ２２が具備されている。供給圧力および吸い込み流量を調整することにより、前記基板浮上機構３上の基板の浮上精度を高める事が可能となる。
【００５３】
前記圧空経路３２の上流側には供給圧力を調整する圧力調整弁３０と、配管を分岐して基板保持機構４に圧空を分配供給するマニホールド３１を備える。また前記排気経路３３の上流側には空気吸引の動力源となるブロアーポンプ２７と、吸い込み流量および圧力を調整するボールバルブ２８が具備されている。供給圧力および吸い込み流量を調整することにより、前記基板保持機構４下の基板２の空中保持精度を高める事が可能となる。また前記排気経路３３の途中にある容積を持ったチャンバー２９を設けることにより前記基板保持機構内の圧力変動を小さくして、更に高精度に基板２の空中保持搬送が可能となる。
【００５４】
本発明の基板搬送装置１における前記検査部Ｂは、図２に示すように、基板搬送機構６、基板浮上機構３および基板保持機構４を搬送方向Ｘに垂直な幅方向に跨ぐように設置された梁状部材４０によって基板浮上機構３の上面より所定の高さ位置に設けられ、基板２の上面を撮像するカメラ装置４１と、図示しない取り付け部材によって基板浮上機構３の上面よりも下方に設けられ、前記カメラ装置７の導光方向に光を照射する光源４２を備える。また、カメラ装置４２は搬送面に垂直な方向の位置調整および搬送方向ｘと平行な回転軸周りの角度調整自在なアライメントステージ４３を介して梁状部材４０に固定されている。
【００５５】
次に前記基板浮上機構３と前記基板保持機構４の形状および配置について、図３および図４を用いて詳細に説明する。
【００５６】
前記基板浮上機構３は、図３に示すように、搬送路上の全域もしくは高精度の搬送が必要なプロセスを行う領域に、空気吹き出しおよび吸い込み孔のある表面３ａ、３ｂを上向きにして水平に配置される（図３では一部分のみ抽出して記載）。なお本発明の基板搬送装置１を基板の検査装置に適用した場合、基板浮上機構３は前記検査部Ｂの光源４２の取り付けスペース３７を確保するため、搬送方向上流側と下流側に分断された状態で配置される。
【００５７】
前記基保持機構４は、図３に示すように、基板浮上機構３の上方に一定の距離３６を離して、空気吹き出しおよび吸い込み孔のある表面４ａを下向きにした状態で基板浮上機構に平行に配置される。なお本発明の基板搬送装置１を基板の検査装置に適用した場合、基板保持機構４は前記検査部Ｂのカメラ装置４１の取り付けスペース３８を確保するため、搬送方向上流側と下流側に分断された状態で配置される。
【００５８】
また、上流側と下流側に分断された基板保持機構４のスペース３８に接する側面３９は、撮像用のカメラ装置（撮像素子）４１の光路確保のため、カメラ装置４１に近づくにつれて開く形で傾斜した状態となっている。なお搬送精度を保つため、分断された基板保持機構４の間隔はできるだけ小さい事が理想であるが、最低でもカメラ装置４１の撮像視野幅以上は必要となる。
【００５９】
更に基板保持機構４の空気吹き出しおよび吸い込み孔のある表面４ａにおいて、２つに分断された各々の領域で前記スペース３８と逆側の端部にテーパーが設けられているため、万が一基板２の浮上量が規定よりも大きくなってしまった場合でも、前記テーパーに沿って誘い込まれるため、基板２が基板保持機構４に衝突する事が無くなる。
【００６０】
本発明の基板搬送装置１において前記基板浮上機構３と前記基板保持機構４との間隔は非常に重要であり、図４に示すように、基板２が基板浮上機構３と基板保持機構との間を通過するためには、それらの間隔３６は少なくとも基板２の厚さ３６ａと基板２の浮上量３６ｂの合計よりも大きくなければならない。ただし本発明の基板搬送装置１においては基板浮上機構３上を基板２が通過する際は基板２の下面位置基準で搬送され、基板保持機構４の設置範囲を通過する際は基板上面位置基準で搬送されることを目標にしているため、願わくは前記間隔３６は基板２の厚さ３６ａと基板２の浮上量３６ｂと基板２の基板保持機構４による空間保持間隔３６ｃの合計よりも数μｍ程度大きい値が望ましい。
【００６１】
次に図５を用いて、本発明の基板搬送装置１を基板の検査装置に適用した場合の検査部Ｂの構成（カメラ装置、光源の配置）について説明する。図５ａは基板２の上面を透過光で高精度に検査するための構成であり、カメラ装置４１が基板保持機構４の上方に垂直下向きに設置され、光源４２が基板浮上機構３の分断されたスペース３７の位置にカメラ装置４１の方向へ光を照射できるように設置される。また図５ｂは基板２の上面を正反射光で高精度に検査するための構成であり、カメラ装置４１および光源４２が基板保持機構４の上方に、基板搬送面に垂直でかつスペース３８の中央を通る面に対して対称となるように一定の角度をつけた状態で設置される。また図５ｃは基板２の上面を透過光で高精度に検査するための構成であり、同軸落照射用プリズムを内蔵したカメラ装置４１が基板保持機構４の上方に垂直下向きに設置され、光源４２は光ファイバー等を介して前記カメラ装置４１に接続されている。いずれの構成の場合も、検査部Ｂにおいて基板２の上面を基板保持機構４の表面４ａに高精度に間隔を保ちながら沿わせて搬送させることにより、カメラ装置４１の焦点位置において基板２の上面位置変動を限りなく小さくする事で、カメラ装置４２の焦点位置追従機構なしに、固定のままで超高分解能の検査が実現できる。
【００６２】
また、基板保持機構の搬送方向断面は、基板側の開口幅が、反対側の開口幅よりも小さい逆テーパー形状となっていることが好ましい。これは、基板保持する面をできるだけ大きく取ることにより、処理部での上面位置の安定性を向上し、なおかつ逆テーパー形状であれば、検出光の光路の障害とならないという効果があるためである。特に、図５の（ｂ）のように斜め入射の装置構成によって検査する場合に効果的である。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】同上基板搬送装置において基板の浮上位置決め状態を順に示した断面模式図。
【図２】本発明による基板搬送装置の実施例を示す概略斜視図。
【図３】同上基板搬送装置の基板浮上機構および基板保持機構の断面模式図。
【図４】同上基板搬送装置の基板浮上機構、基板保持機構、基板との間隔を示す断面模式図。
【図５】同上基板搬送装置におけるカメラおよび光源の配置例を示した断面模式図
【符号の説明】
【００６４】
１…  基板搬送装置
２…  基板
３…  基板浮上機構
３ａ…  表面（基板浮上機構）
３ｂ…  表面（基板浮上機構）
４…  基板保持機構
４ａ…  表面（基板保持機構）
５…  基板把持機構
６…  基板搬送機構
７…  ベースプレート
８…  吸引穴（基板浮上機構）
９…  吸引穴（基板保持機構）
１０…  中空空間（基板浮上機構：吹き上げ）
１０ｐ…  配管（基板浮上機構：吹き上げ）
１１…  中空空間（基板浮上機構：吸引）
１１ｖ…  配管（基板浮上機構：吸引）
１２…  中空空間（基材浮上機構：吹き上げ）
１２ｐ…  配管（基材浮上機構：吹き上げ）
１３…  空気流（基板浮上機構：吹き上げ）
１４…  空気流（基板浮上機構：吹き上げ）
１５…  中空空間（基板保持機構：吹き上げ）
１５ｐ…  配管（基材保持機構：吹き上げ）
１６…  中空空間（基板保持機構：吸引）
１６ｖ…  配管（基板保持機構：吸引）
１７…  空気流（基板保持機構：吹き上げ）
２１…  ブロアーポンプ
２２…  ボールバルブ
２３…  圧力調整弁
２４…  マニホールド
２５…  圧空経路
２６…  排気経路
２７…  ブロアーポンプ
２８…  ボールバルブ
２９…  チャンバー
３０…  圧力調整弁
３１…  マニホールド
３２…  圧空経路
３３…  排気経路
３７…  スペース
３８…  スペース
３９…  側面
４１…  カメラ装置（撮像素子）
４２…  光源
４３…  アライメントステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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