(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、
前記基体上に形成された、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金からなる光反射層とを備え、
前記光反射層の表面において、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍであることを特徴とする光反射板。
【請求項２】
前記基体は、鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有する鋼板に亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施してなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
【請求項３】
前記基体は、ステンレス基板であり、又は該ステンレス基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
【請求項４】
前記基体は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金からなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
【請求項５】
前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、又はこれらの基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
【請求項６】
前記バインダ層は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光反射板。
【請求項７】
前記光反射層の表面が保護膜で被覆されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光反射板。
【請求項８】
前記保護膜は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とする請求項７記載の光反射板。
【請求項９】
前記保護膜は、有機樹脂材料の膜と、無機材料の膜との２層で構成されていることを特徴とする請求項７記載の光反射板。
【請求項１０】
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍの表面性状を有する基体を用意する工程と、
前記基体上に、電解めっき法、無電解めっき法、或いは蒸着法のいずれか一つによって、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜からなる光反射層を形成する工程とを有することを特徴とする光反射板の製造方法。
【請求項１１】
前記光反射層を形成する工程の後、該光反射層上に保護膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項１０記載の光反射板の製造方法。
【請求項１２】
前記基体は、鋼板基板、又はアルミニウム基板で構成され、該基板の圧延時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光反射板の製造方法。
【請求項１３】
前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、該基板の形成時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光反射板の製造方法。
【請求項１４】
前記基体は、基板上にバインダ層が塗布法により形成されてなり、
該バインダ層の形成時に塗布液の粘度及び塗布液の量を調整することにより、前記バインダ層の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光反射板の製造方法。
【請求項１５】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光反射板を備えたことを特徴とする光反射装置。
【請求項１６】
請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法で製造した光反射板を備えたことを特徴とする光反射装置。
【請求項１７】
前記光反射装置は、採光部と導光部と放光部とを有する光ダクトであり、前記光反射板が前記導光部の内壁に設けられたことを特徴とする請求項１５又は１６記載の光反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光反射板、及びその製造方法、及び光反射板を用いた光反射装置に関し、より詳しくは、光反射特性に優れた光反射板、及びその製造方法、及び太陽光を光反射板により屋内に導いて照明する光ダクトなどの光反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光反射板を備えた光反射装置として、太陽光を屋内に導き、照明として利用する光ダクトが知られている（特許文献１、２）。
【０００３】
特許文献１に示す光ダクトは、内側面が鏡面となっている光線案内筒を備え、採光部から太陽光を採光し、採光した光を光線案内筒で反射によって伝送し、放光部から屋内に放光している。
【０００４】
また、特許文献２に示す光ダクトでは、導光部内の光路に特別な形状の光拡散装置を設置している。光拡散装置は、光ダクト内に入射した光を拡散反射させ、光ダクト内の光線が均一に広がるようにする。また、光路の途中に拡散フィルムを挿入した例も開示している。
【特許文献１】特開昭５８−９３１０１号公報
【特許文献２】特開２０００−１４９６２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示された光ダクトでは、図９に示すように、採り込まれる太陽光の光線束の広がりがほぼ採光部１の大きさに限定され、かつ光線案内筒２の鏡面内壁により光線束は採光時の広がりを保ったまま反射伝送されるため、光線案内筒２内を反射伝送してきた光は放光部から一つ又は複数の部分に集中して出射され、よって照明ムラが生じるという問題がある。
【０００６】
また、正反射による光反射率を高くするため光線案内筒２の内壁を鏡面にすればするほど、眩しさが増すという問題がある。
【０００７】
特許文献２に開示された光ダクトに拡散フィルムを設ける方法では、照明ムラや、眩しくなる現象は緩和されるが、光が拡散フィルムを透過する際に一般に光強度が数十％減衰してしまうという問題がある。
【０００８】
また、特別に光の拡散装置などを設ける方法では、多くの付設費用がかかるという問題がある。
【０００９】
本発明は、上記の従来例の問題点に鑑みて創作されたものであり、正反射による光反射率を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる光反射板、及びその製造方法、及び特別な光拡散装置などを設けずに照明ムラを防止することができる光反射装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、第１の発明は光反射板に係り、基体と、前記基体上に形成された、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金からなる光反射層とを備え、前記光反射層の表面において、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍであることを特徴とする。
【００１１】
なお、光反射板とは、加工前の材料、及び特定の寸法に加工したものの両方を含む。
【００１２】
第２の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有する鋼板に亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施してなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第３の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、ステンレス基板であり、又はステンレス基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第４の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金からなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第５の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、又はこれらの基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第６の発明は、第１乃至第５のいずれか１項の発明の光反射板に係り、前記バインダ層は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とし、
第７の発明は、第１乃至第６のいずれか１項の発明の光反射板に係り、前記光反射層の表面が保護膜で被覆されていることを特徴とし、
第８の発明は、第７の発明の光反射板に係り、前記保護膜は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とし、
第９の発明は、第７の発明の光反射板に係り、前記保護膜は、有機樹脂材料の膜と、無機材料の膜との２層で構成されていることを特徴とする。
【００１３】
第１０の発明は、光反射板の製造方法に係り、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍの表面性状を有する基体を用意する工程と、前記基体上に、電解めっき法、無電解めっき法、或いは蒸着法のいずれか一つによって、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜からなる光反射層を形成する工程とを有することを特徴とし、
第１１の発明は、第１０の発明の光反射板の製造方法に係り、前記光反射層を形成する工程の後、該光反射層上に保護膜を形成する工程を有することを特徴とし、
第１２の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、鋼板基板、又はアルミニウム基板で構成され、該基板の圧延時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１３の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、該基板の形成時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１４の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、基板上にバインダ層が塗布法により形成されてなり、該バインダ層の形成時に塗布液の粘度及び塗布膜の厚さを調整することにより、前記バインダ層の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１５の発明は、光反射装置に係り、第１乃至第９の発明のいずれか一つの反射板を備えたことを特徴とし、
第１６の発明は、光反射装置に係り、第１０乃至第１４の発明のいずれか一つの反射板の製造方法で製造した光反射板を備えたことを特徴とし、
第１７の発明は、第１５又は第１６の発明の光反射装置に係り、前記光反射装置は、採光部と導光部と放光部とを有する光ダクトであり、前記光反射板が前記導光部の内壁に設けられたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
以上のように、本発明の光反射板によれば、銀或いは銀合金の膜、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜からなる光反射層を備えているので、特に可視光全域にわたって反射効率が優れている。
【００１５】
また、光反射層表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍと小さいため、正反射による光反射率を高く維持することができる。しかも、同じ光反射層の表面に算術平均うねり（Ｗａ）を設け、かつ算術平均うねり（Ｗａ）の範囲を０．３〜２．５μｍとしているため、正反射による光反射率を低下させずに光の拡散反射を起こさせることができる。
【００１６】
これにより、正反射による光反射率を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる。
【００１７】
本発明の光反射板の製造方法によれば、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍの表面性状を有する基体上に、無電解めっき法等によって、銀膜等からなる光反射層を形成している。したがって、基体表面の表面性状が光反射層に引き継がれるため光反射層に容易に所望の表面性状を付与することができる。
【００１８】
本発明の光反射装置によれば、上記の光反射板を備えているため、反射光の強度を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる。
【００１９】
特に、上記の光反射板を光ダクトの導光部内壁に適用することにより、太陽光などを拡散反射により伝送することができるため、屋内での照明ムラを防止することができる。また、特別に光の拡散装置や拡散フィルムなどを設けなくてもよいため、コスト低減を図るとともに、光強度の減衰を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら、次の項目に従って説明する。
【００２１】
（説明項目）
（１）本発明に至った経過の説明
（２）本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の説明
（ｉ）光反射板の構成
（ａ）基板の構成
（ｂ）光反射層の構成
（ｃ）保護膜の構成
（ii）光反射板の別の構成
（iii）光反射板の光反射層の表面性状及びその付与方法
（iv）光反射板の製造方法
（v）表面性状の評価
（３）本発明の第２の実施の形態に係る光反射装置の説明
（ｉ）光ダクト
（実施形態の説明）
（１）本発明に至った経過の説明
図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、反射面の表面性状と光の反射特性の関係を説明する模式図である。
【００２２】
図６（ａ）は、反射面２０ａでうねりがなく、算術平均粗さ（Ｒａ）が小さい場合の光の反射特性を示している。符号２１は入射光を示し、２２ａは反射光を示している。この場合、反射面２０ａで正反射が強くなる（正反射率が高くなる）ため、反射光２２ａは眩しく感じられる。一方、図６（ｂ）に示すように、反射面２０ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）が大きくなると、反射面２０ｂで拡散反射が強くなる（拡散反射率が高くなる）ため、反射光２２ｂの眩しさは改善されるが受光面に到達する光量は少なくなる。
【００２３】
本願発明者は、反射光の強度を維持しつつ、眩しさを改善できないか、種々の調査や検討を行った。
【００２４】
その結果、図６（ｃ）に示すように、反射面２０ｃで算術平均粗さ（Ｒａ）が図６（ａ）と同等でもＪＩＳＢ０６０１に規定された算術平均うねり（Ｗａ）を加えた場合、反射面２０ｃで正反射とともに拡散反射が生じていることを見出した。そして、算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）の程度を適正に調整することにより、正反射率を高く維持しつつ拡散反射率を高めて、反射光の強度を高く維持し、かつ眩しさを軽減することができることを見出した。
【００２５】
そして、図６（ｃ）に示す表面性状を光ダクト内壁に適用した場合に、光の反射伝送効率を高く維持しながら、照明光の眩しさを軽減することができた。さらに、光を反射伝送する際に拡散反射により光線束がより広範囲に広がるため、放光部での照明ムラを防止できることとなった。
【００２６】
（２）本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の説明
（ｉ）光反射板の構成
図１（ａ）は、本発明の第１の実施の形態に係る光反射板１０１の構成を示す断面図である。
【００２７】
光反射板１０１は、図１（ａ）に示すように、基板（基体）１１と、基板１１上の光反射層１３とにより構成される。なお、必要に応じて光反射層１３上に保護膜１４を付与することもできる。
【００２８】
基板１１の表面１１ａは、図６（ｃ）に示すような粗さやうねりを有する。粗さは、ＪＩＳＢ０６０１に算術平均粗さ（Ｒａ）として規定され、この実施形態では０．１０〜０．３０μｍの範囲に設定されている。うねりは、同じく算術平均うねり（Ｗａ）として規定され、この実施形態では０．３０〜２．５０μｍの範囲に設定されている。この表面性状は光反射層１３に引き継がれて、光反射層１３の表面１３ａも基板１１とほぼ同じ表面性状を有する。
【００２９】
（ａ）基板の構成
光反射板１０１を構成する基板１１は、金属からなる板或いは箔（以下、特別に表示する場合を除いて金属板と総称する。）、表面処理金属からなる板或いは箔（以下、特別に表示する場合を除いて表面処理金属板と総称する。）、ガラス板、またはプラスチックからなる板或いはフィルム（以下、特別に表示する場合を除いてプラスチック板と総称する。）を用いる。
【００３０】
金属板は、鋼板、又はアルミニウム板を用いる。鋼板は、クロム含有量が１１質量％未満の鉄合金の板、又はクロム含有量が１１質量％以上の鉄合金、所謂ステンレスの板を含む。特に、クロム含有量が１１質量％未満の鉄合金鋼板は、アルミニウムやステンレスと比べて安価な材料であるため、製品を広く普及させるのに好適である。アルミニウム板は、この実施形態では、純アルミニウムの板、アルミニウム合金の板を総称したものをいう。アルミニウム合金は、アルミニウムを主成分とし、強度、加工性、耐食性などを付与するためにマグネシウム（Ｍｇ）、マンガン（Ｍｎ）、シリコン（Ｓｉ）などを添加し、合金化したものである。
【００３１】
表面処理金属板は、上記した金属板の表面に各種めっきを施したもの、またはアルミニウム板の表面にアルマイト処理を施したものである。なお、金属板表面への表面処理により形成された層（表面処理層）は光を反射させるためではなく、さび止めなどのために設けられたものである。
【００３２】
めっきに用いる金属としては、亜鉛、亜鉛合金、錫、ニッケル、クロムなどを用いることができる。
【００３３】
次に、表面処理金属板のうち、特に、亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板（以下、亜鉛めっき鋼板と称する。）について詳しく説明する。
【００３４】
亜鉛めっき鋼板にはめっき方法により幾つかの種類がある。例えば、溶融亜鉛めっき鋼板、溶融亜鉛合金めっき鋼板、電気亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛合金めっき鋼板などである。
【００３５】
めっきに用いる金属としては、亜鉛や亜鉛合金が用いられる。亜鉛合金として、亜鉛(Ｚｎ)に５或いは５５質量％のアルミニウム(Ａｌ)を含有するもの、亜鉛(Ｚｎ)にコバルト(Ｃｏ), モリブデン(Ｍｏ)を含有するものなどが用いられる。
【００３６】
亜鉛めっき鋼板は基板としてそのまま用いてもよいが、さらに、亜鉛等のめっきの剥がれや変質を防止するため化成処理を施してもよい。化成処理として、例えば、クロメート処理、リン酸塩処理、リチウム−シリケート処理、シランカップリング処理あるいは、ジルコニウム処理などを適用できる。
【００３７】
基板１１の表面１１ａには、後に（iii）項で説明する方法により、０．１０〜０．３０μｍの範囲の算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの範囲の算術平均うねり（Ｗａ）を施すことができる。
【００３８】
（ｂ）光反射層の構成
光反射層１３は、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜を用いることができる。
【００３９】
そのうち、銀或いは銀合金の膜は、銀鏡反応により銀を還元析出させる無電解めっき法、例えばスプレーめっき法により形成することができる。そのほかに、銀イオンを含む水溶液中での電気分解による電気めっき法や、減圧雰囲気下で銀を蒸発させて皮膜を形成する蒸着法などを適用することができる。銀膜等の厚さは、実用的な反射効果が得られる０．０１〜０．３μｍ程度が好適である。
【００４０】
また、アルミニウム膜等の形成には、蒸着法、又はイオンプレーティング法などの乾式めっき法を用いることができる。特に、蒸着法により形成されたものが、高い正反射率を確保できるため好適である。アルミニウム膜等の膜厚は、所謂光沢面を得ることができる０．０１〜０．２μｍ程度が最適である。
【００４１】
銀膜等及びアルミニウム膜等ともに、膜厚が薄すぎると不可避的にピンホールが生じて反射率が低下する。一方で、膜厚が厚すぎても所謂反射率が急激に低下する傾向が見られる。
【００４２】
光反射層１３は、上記膜厚の範囲では基板１１の表面性状がほぼそのまま引き継がれて、基板１１とほぼ同じ表面性状を有する。
【００４３】
（ｃ）保護膜の構成
光反射層１３である銀膜などは、大気に露出されると変色したり、汚れなどを生じ易い。特に、雰囲気がイオウ系ガスを微量でも含む場合に変色し易い。さらに、銀膜に付着した砂塵、埃を洗浄する場合、銀膜は洗剤による変色跡を残し易い。保護膜１４はこれらを防止するために光反射層１３上に設けられている。これにより、長期間において、光反射板としての性能維持及び保守管理が可能となる。
【００４４】
保護膜１４は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物からなる膜を用いる。又は、有機樹脂材料の膜と、無機材料の膜との２層で構成されていてもよい。
【００４５】
有機樹脂材料は、透明、かつ薄いポリエステル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などを用いることができ、無機材料は、耐汚染性に優れる酸化チタンなどを用いることができる。有機樹脂材料等の膜は、材料を溶解した塗布液を用いた塗布法により又は材料をフィルム状にして貼り付けることにより作製される。
【００４６】
なお、保護膜１４として、増反射膜を用いてもよい。増反射膜は、大きな屈折率の材料、例えばチタン酸化物などからなる層と、小さな屈折率の材料、例えばシリコン酸化物などからなる層を２層に積層したものであり、それらの各層の光学的厚さ（物理的な膜厚×屈折率）をλ／４（λ：光の波長）として全体の光学的厚さをλ／２としたものである。増反射膜を用いることで、光の正反射率をより一層向上させることができる。
【００４７】
（ii）光反射板の別の構造
次に、本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の別の構成について説明する。図１（ｂ）は、その構成を示す断面図である。
【００４８】
図１（ｂ）の光反射板１０２の構成において、図１（ａ）と異なるところは、基板１１と光反射層１３との間に、バインダ層１２を介在させている点である。この場合、基板１１とバインダ層１２とが基体を構成する。
【００４９】
バインダ層１２は、基板１１自体の耐食性を向上させ、さらに、基板１１と光反射層１３の間に介在させて基板１１と光反射層１３との密着性を向上させるために設けられる。特に、基板１１として亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板などを用いる場合、光反射層１３との密着性を強固にするためその鋼板上にバインダ層１２を形成することが望ましい。なお、バインダ層１２の表面に、コロナ放電処理あるいはグロー放電処理を施すことにより、その上に積層される銀膜との密着性がさらに向上する。
【００５０】
この構成では、光反射層１３の表面１３ａに、０．１０〜０．３０μｍの算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの算術平均うねり（Ｗａ）の表面性状を付与するため、下地のバインダ層１２の表面１２ａにこれと同じ表面性状が予め付与される。
【００５１】
バインダ層１２として、種々の材料で構成される塗装膜又はフィルムを用いることができる。塗装膜の材料は、基板１１に対して密着性の良い有機樹脂材料であれば、その種類は特に限定されるものではないが、特に、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、２液硬化型ポリウレタン樹脂などの塗料が好適である。フィルムの材料は、ポリエチレン、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂などを用いることができる。バインダ層１２が塗装膜の場合、材料を溶解した塗料を用いた塗布法により基板１１上に作製することができる。また、バインダ層１２がフィルムの場合、フィルムを接着剤等により基板１１に貼り付けることで基板１１上に作製することができる。バインダ層１２は所望の表面性状を付与し得るような膜厚で形成することを要する。
【００５２】
なお、バインダ層１２の表面性状は、光反射層１３の表面性状に、ひいては光反射板の反射特性に影響を及ぼすため、その作製方法が重要である。バインダ層１２に所定の表面性状を付与するためのより詳細なバインダ層１２の作製方法については後述する。
【００５３】
（iii）光反射板の光反射層の表面性状及びその付与方法
次に、光反射板の反射特性に大きな影響を与える光反射層の表面性状及びその付与方法について説明する。
【００５４】
光反射板の反射特性は、直接的には光反射層１３の表面性状により決まる。そして、光反射板１０１では、光反射層１３の表面性状は基板１１の表面性状を引き継ぐため、基板１１（表面処理金属板の場合は表面処理層の表面）の表面性状を予め調整する必要がある。また、光反射板１０２では、光反射層１３の表面性状はバインダ層１２の表面１２ａの性状を引き継ぐため、バインダ層１２の表面性状を予め調整する必要がある。
【００５５】
光反射板１０１では、基板１１が表面処理金属板の場合、所望の表面性状を付与するため、図２（ａ）に示すように所定の表面性状であるうねりやさらに微小な凹凸を有する圧延ロール１５を、基板（被圧延体）１１の表面１１ａに当接して仕上げ圧延（調質圧延ともいう）を行う。これにより、圧延ロール１５表面の表面性状が基板１１の表面に転写されて基板１１の表面に表面性状が付与される。
【００５６】
調質圧延で用いる圧延ロール１５の表面１５ａに所定の表面性状を予め付与するために、研磨砥石による研磨加工、ショットダル加工、及び放電ダル加工などを用いる。または、レーザーダル加工、電子ビーム加工などを用いてもよい。
【００５７】
調質圧延において、圧延ロールの被圧延体への圧下荷重、及び被圧延体に加える張力など圧延条件を調整することにより、容易に所望の表面性状を得ることができる。
【００５８】
調質圧延では、表面性状の異なる２対の仕上げ圧延ロールを用いて、前段で鏡面仕上げロール圧延を行って表面を平坦にしておき、後段でショットダル仕上げロール圧延を行って表面性状を付与するとよい。表面性状の異なる鏡面仕上げロールと、ショットダルロールとの組み合わせによって、被圧延体の表面性状を精度よく制御できる。
【００５９】
ただし、溶融亜鉛めっきなど、比較的厚い亜鉛めっきを施した冷間圧延鋼板では、めっき前に表面性状を付与するとめっきにより表面性状が変化するので、めっき後に調質圧延を行うことが望ましい。
【００６０】
また、基板（被圧延体）１１がガラス板の場合、物理的な研削、研磨若しくは酸液による化学的なエッチング（侵食）を行うことにより、基板１１に表面性状を付与する。例えば、平坦な板ガラスを平坦で水平なテーブル上に載せて、板ガラスを研削ヘッドの下を通過させるとともに、研削ヘッドに適切な研磨剤を供給する。好適な研磨剤として砂の水性懸濁液を使用する。通常、研削が進行するにつれて段階的に小さな研磨剤粒子を使用し、表面性状を調整する。基板（被圧延体）１１がプラスチック板（フィルムを含む）の場合、ガラス転移点以上の温度に昇温した状態で、所定の表面性状に仕上げた加熱金属ロールを押し当てて表面性状を転写し、基板１１に表面性状を付与する。
【００６１】
一方、光反射板１０２では、バインダ層１２の表面１２ａの性状については、塗料の粘度の調整と、形成膜の厚さの調整とを組み合わせることにより、容易に所望の範囲に調整することができる。例えば、塗料の希釈度を上げて粘度を低くすると、算術平均粗さ（Ｒａ）を小さくできる。一方、塗料の希釈度を下げて粘度を高くするとともに形成膜の厚さに関係する塗料の量を適宜調整すると、算術平均うねり（Ｗａ）を大きくできる。よって、塗料の粘度の調整と、塗料の量の調整を適正に行うことで所望の表面性状が得られることになる。
【００６２】
具体例をあげると、バインダ層１２の材料に２液硬化型ポリウレタン樹脂を使用した場合、主剤と、硬化剤と、溶剤と、レべリング剤との比率を５：１：２０：２に配合し、塗料粘度を粘度カップＮＫ−２／アネスト岩田製）を９〜１０秒とし、スプレーガンにて乾燥後の厚さが３〜８μｍとなるようにバインダ層１２を成膜することにより算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を所望の範囲に調整できる。
【００６３】
（iv）光反射板の製造方法
次に、図１及び図２を参照して、上記した光反射板１０１の製造方法について説明する。特に、図２（ａ）、（ｂ）は、基板１１に表面性状を付与する方法について示す斜視図である。
【００６４】
まず、通常の冷間圧延鋼板の製造工程に従って、酸洗、冷間圧延、焼鈍を行って作製した冷間圧延鋼板（基板）１１を用意する。
【００６５】
次に、冷間圧延鋼板１１に対して所望の表面性状を付与するため、図２（ａ）、（ｂ）に示すようにして、圧延機で調質圧延を行う。なお、（iii）項の説明では、２対の圧延ロールによる調質圧延を説明したが、この製造方法の説明では、１対の圧延ロールによる調質圧延を実施することとする。図２（ａ）、（ｂ）では、圧延ロールを一つしか表示していないが、実際には一対の圧延ロールが対向して設置されている。
【００６６】
調質圧延では、所定の表面仕上げに研磨された圧延ロールの間に用意した冷間圧延鋼板１１を挟んで移動させることにより圧延を行い、冷間圧延鋼板１１に表面性状を付与する。この場合、圧延条件（圧下荷重、張力）を適宜調整する。この調質圧延により、図２（ｂ）に示すように、冷間圧延鋼板１１の表面１１ａに、０．１０〜０．３０μｍの算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの算術平均うねり（Ｗａ）が付与される。
【００６７】
以上、めっきを施さない冷間圧延鋼板１１における表面形状付与方法について説明したが、上記の調質圧延を施した後に、耐食性付与のため、亜鉛などのめっきを施すこともできる。一例として、亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施す方法は、溶融亜鉛めっき法、溶融亜鉛合金めっき法、電気亜鉛めっき法、又は電気亜鉛合金めっき法のうちいずれか一つを利用することができる。
【００６８】
溶融亜鉛めっき法、又は溶融亜鉛合金めっき法は、溶融した亜鉛中、又は溶融した亜鉛合金中に鋼板を浸漬して亜鉛又は亜鉛合金を被着する方法である。また、電気亜鉛めっき法、又は電気亜鉛合金めっき法は、亜鉛などを溶解しためっき液中、又は亜鉛合金などを溶解しためっき液中に鋼板を浸漬し、鋼板と亜鉛アノードとの間に電圧を印加して亜鉛又は亜鉛合金を被覆する方法である。
【００６９】
なお、溶融亜鉛めっきなどで比較的厚いめっきを施した鋼板の場合、めっき前に表面性状を付与するとめっきにより表面粗さなどが変化するため、めっき後に調質圧延を行うようにするとよい。
【００７０】
次に、基板１１表面の脱脂のため、基板１１の表面をアルカリ溶液で洗浄する。続いて、イオン交換水または蒸留水を用いて、上記基板１１を水洗し、乾燥する。なお、バインダ層１２の表面状態によっては、アルカリ溶液による洗浄はしなくてもよい。
【００７１】
次に、銀膜を形成するための前処理を行う。
【００７２】
前処理は、基板１１上に錫を形成する処理であり、その後、銀鏡反応を実施する。
【００７３】
前処理では、まず、基板１１の表面に、塩酸を含有する塩化第二錫、塩化第一錫及び塩化第二鉄を含んだ水溶液（前処理活性剤）を塗布して、触媒としての錫を基板１１の表面に形成する。当前処理溶液はｐＨ２以下に調整するのが好ましい。
【００７４】
次いで、イオン交換水、或いは蒸留水を用いて錫を形成させた基板１１の表面を洗浄し、基板１１表面に残る前処理溶液を除去する。
【００７５】
このように前処理を行った後、基板１１上に銀鏡反応により光反射層１３である銀膜形成工程を施す。
【００７６】
銀膜形成工程では、前処理が施された基板１１表面に、スプレー噴射によりｐＨ１０〜１３のアンモニア性硝酸銀水溶液と、還元剤（例えば、硫酸ヒドラジニウム、グリオキサールなど）を含むｐＨ８〜１２の水溶液とを同時に射出する。還元剤水溶液として、還元剤を水に溶解し、或いは希釈したものに水酸化ナトリウムを加えてアルカリ性にしたものを用いる。これにより、基板１１表面に錫を始動核として銀が析出し、銀膜が形成される。
【００７７】
形成された銀膜は基板１１の表面性状を引き継いで、表面１３ａに、０．１０〜０．３０μｍの算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの算術平均うねり（Ｗａ）の表面性状が付与される。
【００７８】
次いで、イオン交換水又は蒸留水を用いて基板１１を洗浄し、光反射層１３の表面に残存しているアンモニア性硝酸銀水溶液と還元剤水溶液を除去する。
【００７９】
続いて、エアブローにて光反射層１３表面に付着している水滴を吹き飛ばす。その後、基板１１を乾燥させる乾燥工程を行う。乾燥条件は、例えば７０℃の温度で２０分とする。
【００８０】
必要に応じ、光反射層１３の上に保護膜１４を形成する。詳しく述べると、保護膜１４は、無機材料又は有機樹脂材料を溶解した塗布液を用いた塗布法により、又は有機樹脂材料をフィルム状にして貼り付けることにより形成する。
【００８１】
以上により、図１（ａ）に示す光反射板１０１が完成する。
【００８２】
以上のように、この実施形態に係る光反射板の製造方法によれば、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍの表面性状を有する基板１１上に、無電解めっき法等によって、銀膜等からなる光反射層１３を形成している。したがって、基板１１表面の表面性状が光反射層１３に引き継がれるため光反射層１３に容易に所望の表面性状を付与することができる。
【００８３】
なお、上記した光反射板の製造方法では、基板１１上に直接光反射層１３である銀膜を形成しているが、図１（ｂ）に示すように、光反射層１３の形成前に、基板１１上にこの発明の表面性状を有するバインダ層１２を形成してもよい。この場合、基板１１にはこの発明の表面性状を付与しなくてもよい。
【００８４】
基板１１上にこの発明の表面性状を有するバインダ層１２を形成するには、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、又は２液硬化型ポリウレタン樹脂のいずれか一つからなり、粘度を適正に調整した塗料を基板１１上に塗布する。このとき、塗布量を調整し、所定の膜厚が得られるようにする。このようにして塗料を塗布後、乾燥することにより、表面１２ａに、０．１０〜０．３０μｍの算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの算術平均うねり（Ｗａ）の表面性状を有するバインダ層１２が形成される。
【００８５】
また、銀膜の形成方法としてスプレー噴射方式による無電解めっき法を用いているが、浸漬方式を用いることができる。また、その他、電気めっき法や蒸着法を用いてもよい。
【００８６】
また、銀膜の代わりに、アルミニウム膜を用いてもよい。アルミニウム膜を例えば蒸着法により形成する場合、真空度を約１×１０-3Ｐａとし、基板加熱を約３００Ｋとする。
【００８７】
（v）表面性状の特性評価
次に、種々の表面性状を有する光反射板について作製し、その特性を評価した具体的な実施例について、以下に説明する。
【００８８】
（光反射板の作製条件）
上記の光反射板の製造方法に従って、特性評価に用いる試料として光反射板を作製した。この場合、保護膜１４は省略している。それらは図３の表にまとめて記載されている。
【００８９】
（実施例１（Ａ１））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板（基板１１、以下同じ）上に、ｐＨ１０程度のアンモニア性硝酸銀水溶液とｐＨ１０程度の還元剤（硫酸ヒドラジニウム）水溶液とを用いた無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜（光反射層１３、以下同じ）を形成した。
【００９０】
なお、算術平均粗さ（Ｒａ）、算術平均うねり（Ｗａ）は、下記の（特性評価）の項に基づき測定したものである。以下、同じである。また、図３の表では、基板１１の冷間圧延鋼板を単に鋼板と記載した。以下同じである。
【００９１】
（実施例２（Ａ２））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．８９μｍの表面性状を付与したアルミニウム（Ａｌ）板（基板１１、以下同じ）上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【００９２】
（実施例３（Ａ３））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が２．５μｍの表面性状を付与したアルミニウム（Ａｌ）板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【００９３】
（実施例４（Ａ４））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．１μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【００９４】
（実施例５（Ａ５））
冷間圧延鋼板（基板１１）上に、スプレー塗装により算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２２μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．０μｍの表面性状を付与したアクリル樹脂膜（バインダ層１２）を形成し、アクリル樹脂膜上に実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【００９５】
（実施例６（Ａ６））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２９μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【００９６】
（実施例７（Ａ７））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が２．５μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、蒸着法により、真空度を約１×１０-3Ｐａとし、基板加熱を約３００Ｋとして、厚さ０．０５μｍのアルミニウム（Ａｌ）膜（光反射層１３）を形成した。
【００９７】
（比較例１（Ｂ１））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．１５μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【００９８】
（比較例２（Ｂ２））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が３．２μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【００９９】
（比較例３（Ｂ３））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４９μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【０１００】
（比較例４（Ｂ４））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．１μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
【０１０１】
（特性評価）
各試料について、算術平均粗さ（Ｒａ）、算術平均うねり（Ｗａ）を測定し、さらに、正反射率及び光反射投影幅（Ｓ）を測定した。測定結果は図３の表にまとめて記載されている。
【０１０２】
（算術平均粗さ（Ｒａ）、算術平均うねり（Ｗａ）の評価方法及び条件）
算術平均粗さ（Ｒａ）、及び算術平均うねり（Ｗａ）をＪＩＳＢ０６０１に規定された方法により、表１に記載の条件で測定した。
【０１０３】
【表１】
0004971061.tif 000002
（正反射率の評価方法及び条件）
正反射率は、例えば光ダクト内における光伝送性能を表す指標であり、正反射率が大きいほど光伝送効率は高い。
【０１０４】
正反射率は、実測された全反射率から、同じく実測された拡散反射率を差し引いて求められる。その全反射率及び拡散反射率は、分光測色計（ミノルタ社製、型式ＣＭ−３５００ｄ、波長：５５０ｎｍ）を使用し、ＪＩＳＺ８７２２の条件（ｃ）の規定に基づき測定した。実用的な光伝送効率に対応する正反射率が８８％以上を合格とした。
【０１０５】
（光反射投影幅（Ｓ）の評価方法及び条件）
光反射投影幅（Ｓ）は眩しさを軽減する指標であり、光反射投影幅（Ｓ）が大きいほど、正反射の一部が拡散反射に移行し反射光の眩しさが軽減されることになる。
【０１０６】
光反射投影幅（Ｓ）は、図７に示す測定法により測定することができる。その測定法においては、同図に示すように、測定試料２３の表面に対してレーザ光線２７（測定試料面における投影円２５の長径が５ｍｍ）を角度４５°で照射し、その反射光線を投影円２５から３０ｃｍ離れた位置に垂直に立設した投影スクリーン２６に向けて投影する。
【０１０７】
その結果、投影スクリーン２６に、レーザ光線の反射投影楕円２４が測定試料２３の表面性状に対応する反射投影幅（Ｓ：楕円の長径）で投影される。測定試料表面において算術平均うねり（Ｗａ）で表されるうねりが大きくなるに従い、反射投影幅が大きくなるとともにその輪郭が明瞭でなくなる。
【０１０８】
本実施形態においては、反射光が眩しく感じられなくなる光反射板について、この光反射投影幅（Ｓ）が１２ｍｍ以上を合格とした。図３の表の評価欄において、正反射率が８８％以上、及び光反射投影幅（Ｓ）が１２ｍｍ以上を満足する試料を合格の記号○で示し、いずれか一つでも満足しない試料を不合格の記号×で示した。
【０１０９】
（評価結果）
正反射率により算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を評価（評価１）し、光反射投影幅（Ｓ）により算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を評価（評価２）した。
【０１１０】
（評価１）
図４は、図３の表の測定結果を用いて作成した、算術平均粗さ（Ｒａ）と正反射率との関係を示すグラフである。グラフ中に記入した数字は試料番号を示す。グラフでは各試料ごとに算術平均うねり（Ｗａ）の範囲が分かるように表示してある。白丸（○）は算術平均うねり（Ｗａ）が０．０５〜２．５μｍの範囲にある試料を示し、黒丸（●）は算術平均うねり（Ｗａ）が３．２μｍの試料を示す。
【０１１１】
図４によれば、算術平均うねり（Ｗａ）が０．０５〜２．５μｍの試料では、正反射率は算術平均粗さ（Ｒａ）と概ね一定の関係がある。すなわち、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍ以下では、正反射率は８８％と十分に大きな値が確保されるが、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍを超えると正反射率の低下が大きくなる。したがって、十分に大きな、反射による光伝送効率を確保するためには、光反射層１３の膜面の算術平均粗さ（Ｒａ）の上限を０．３μｍとすることが好ましい。
【０１１２】
一方、算術平均うねり（Ｗａ）が３．２０μｍの試料（比較例２（●印））では、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍ以下であっても、正反射率は８５．６％と低く、反射による光伝送効率が良くない。
【０１１３】
（評価２）
次に、図５は、図３の表の測定結果を用いて作成した、算術平均うねり（Ｗａ）と光反射投影幅（Ｓ）の関係を示すグラフである。グラフ中に記入した数字は試料番号を示す。
【０１１４】
図５によれば、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１〜０．３μｍの各試料では、光反射投影幅（Ｓ）は算術平均うねり（Ｗａ）が０．２μｍ付近で大きく上昇し、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３μｍ以上で合格値である１２ｍｍ以上となる。
【０１１５】
一方、比較例３、４では、光反射投影幅（Ｓ）は２８ｍｍ、３５ｍｍと大きく、眩しさ軽減の点では良好であるが、正反射率は８８％未満であり、光伝送効率が劣る。
【０１１６】
また、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ未満である比較例１は、正反射率は高いが、光反射投影幅（Ｓ）が１２ｍｍ未満となっており、眩しさは軽減されない。
【０１１７】
また、アルミニウム基板を使用した実施例２及び３、基板１１と光反射層１３の間にバインダ層（アクリル樹脂）１２を介在させた実施例５、及び光反射層１２としてアルミニウム膜を使用した実施例７も、表面性状（算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ））を所定の範囲に設定することにより、十分に大きな光反射投影幅（Ｓ）を得ることができ、よって、眩しさの軽減効果がある。
【０１１８】
以上のように、本発明の実施の形態の光反射板によれば、銀或いは銀合金の膜、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜からなる光反射層１３を備えているので、特に可視光全域にわたって反射効率が優れている。
【０１１９】
また、光反射層１３表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍと小さいため、正反射による光反射率を高く維持することができる。しかも、同じ光反射層１３の表面に算術平均うねり（Ｗａ）を設け、かつ算術平均うねり（Ｗａ）の範囲を０．３〜２．５μｍとしているため、正反射による光反射率を低下させずに光の拡散反射を起こさせることができる。
【０１２０】
これにより、正反射による光反射率を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる。
【０１２１】
（３）本発明の第２の実施の形態に係る光反射装置の説明
（ｉ）光ダクト
図８は、本発明の第２の実施の形態に係る光ダクトの構成を示す断面図である。図８では、実際に屋内と屋外とを仕切る家の屋根３１に設置された光ダクト１０３を示す。
【０１２２】
光ダクト１０３は、屋外に設けられた採光部３２と、屋内に設けられた放光部３４と、採光部３２と放光部３４とを結ぶ導光部３３とを有する。導光部３３の仕切り壁３３ａの内面は、図６（ｃ）に示すような光反射面を有する。
【０１２３】
仕切り壁３３ａは、図１（ａ）に示す光反射板１０１又は図１（ｂ）に示す光反射板１０２を用いて作製されている。例えば、基板１１として、比較的厚い金属板、又はプラスチック板を採用した場合は、光反射層側を内壁面としてこれらの板自体をダクトの形に成形して設置することができる。一方、基板１１として、箔と呼ばれる薄い金属板、又はプラスチックフィルムなどを採用した場合は、剛性の高い別部材で製作した光ダクト成形体の内壁面に貼着施工する。
【０１２４】
この実施例の光ダクトによれば、光ダクト内壁の光反射面において算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）の範囲が適正に規定されているため、採光部３２から採りこまれた太陽光線を、光ダクト１０３の内壁で拡散反射させながら高い反射伝送効率を維持して伝播させることができる。図８に示すように、光は、光ダクト内で拡散反射により光線束を広げながら伝播するため、放光部３４では均一に光線が放射されるようになる。これにより、照明ムラを防止できるとともに、照明光の眩しさも軽減することができる。
【０１２５】
以上、実施の形態によりこの発明を詳細に説明したが、この発明の範囲は上記実施の形態に具体的に示した例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の上記実施の形態の変更はこの発明の範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の光反射板は、光反射板を構成する光反射層表面の表面性状を所定の範囲に設定することにより、正反射による光伝送効率を高く維持しながら、従来問題となっていた反射光の眩しさを軽減することができる。その光反射板を、日当たりの悪い建造物、地下室などに太陽光などを照明光源として導く光ダクトに使用することで、照明ムラを防止して光ダクトの性能を大幅に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２７】
【図１】（ａ）、（ｂ）は、本発明の第１の実施の形態である光反射板の２種類の構成を示す側面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、本発明の第１の実施の形態である光反射板の製造方法に関し、基板に表面性状を付与する方法について示す斜視図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態である光反射板に関し、光反射特性について比較評価した結果を示す表である。
【図４】本発明の第１の実施の形態である光反射板に関し、図３の表の各試料における反射面の算術平均粗さ（Ｒａ）と正反射率との関係を示すグラフである。
【図５】本発明の第１の実施の形態である光反射板に関し、図３の表の各試料における反射面の算術平均うねり（Ｗａ）と光反射投影幅（Ｓ）の関係を示すグラフである。
【図６】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、光反射板に関し、反射面の表面性状と光反射の関係を説明する模式図であり、（ｃ）は、本発明の第１の実施の形態である光反射板の表面性状である。
【図７】本発明の第１の実施の形態である光反射板に関し、光反射投影幅（Ｓ）の測定法を示す斜視図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係る光反射板の適用例である光ダクトの構成を示す断面図である。
【図９】従来例である光ダクトの構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１２８】
１１  基板
１１ａ  表面性状が付与された基板の表面
１２  バインダ層
１２ａ  表面性状が付与されたバインダ層の表面
１３  光反射層
１３ａ  表面性状が付与された光反射層の表面
１４  保護膜
２０ｃ  反射面
２２ｃ  反射光
３１  屋根
３２  採光部
３３  導光部
３３ａ  仕切り壁
３４  放光部
１０１、１０２  光反射板
１０３  光ダクト
【図１】
0004971061.tif 000003
【図２】
0004971061.tif 000004
【図３】
0004971061.tif 000005
【図４】
0004971061.tif 000006
【図５】
0004971061.tif 000007
【図６】
0004971061.tif 000008
【図７】
0004971061.tif 000009
【図８】
0004971061.tif 000010
【図９】
0004971061.tif 000011