(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物からの排水を一時貯留すると共に真空式下水道システムの真空下水用配管への排水量を制限するための真空弁ユニットに、管内が真空圧状態にある真空排出管と、下水貯留槽と、真空弁装置とが設けられ、前記下水貯留槽に貯留された下水を吸い込む吸込管と前記真空排出管とを連結する前記真空弁装置の真空弁本体の開閉を制御する真空弁制御装置であって、
前記真空弁ユニットに設けられかつ前記下水貯留槽内の水位に対応して内部の空気圧を変化させる水位検知管に連通される水位検知用空気接続口と、
大気が導入される大気圧空気源に連通される空気源接続口と、
真空排出管に設けられた真空源に連通される真空圧接続口と、
前記真空弁本体のシリンダ内の上側空間に連通される弁本体部駆動用連通口と、
が設けられ、
水位検知用空気接続口内の空気圧が大気圧より大きい場合には、弁体を開成することにより、弁本体部駆動用連通口を真空圧接続口に連通させ、シリンダ内の上側空間の空気を吸引して真空弁本体を開成状態とし、
水位検知用空気接続口内の空気圧が大気圧以下の場合には、前記弁体を閉成することにより、弁本体部駆動用連通口を空気源接続口に連通させ、シリンダ内の上側空間に空気を導入して真空弁本体を閉成状態とする、空気圧回路が形成されて、
該空気圧回路が有する前記弁体が開成状態から閉成状態へと復帰する途中で開成状態と閉成状態との中間状態にある際に空気圧回路駆動用の空気源連通路から前記真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気吸入を防止するための吸引防止機構が設けられていることを特徴とする真空弁制御装置。
【請求項２】
前記真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と前記空気圧回路駆動用の空気源連通路との間に隔壁が設けられ、
前記真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と前記空気圧回路駆動用の空気源連通路とを別々の連通路によって、それぞれ前記大気圧空気源に連通させることにより前記吸引防止機構が構成されていることを特徴とする請求項１に記載の真空弁制御装置。
【請求項３】
前記吸引防止機構が、前記空気圧回路駆動用の空気源連通路から前記真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気の通過を阻止する逆止弁によって構成されていることを特徴とする請求項１に記載の真空弁制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、建物からの排水を一時貯留すると共に真空式下水道システムの真空下水用配管への排水量を制限するための真空弁ユニットに使用される真空弁装置の開閉を制御する真空弁制御装置の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、真空式下水道システムの真空弁ユニットに使用される真空弁装置の開閉を制御する真空弁制御装置が知られている（特許文献１等参照）。
【０００３】
真空式下水道システムは、真空ステーションと、真空下水用配管と、真空弁ユニットと、によって構成されている。
【０００４】
真空ステーションは真空ポンプ装置と集水タンクとを備えており、真空下水用配管の管内の圧力は、この真空ポンプ装置によって常に真空圧状態（負圧の状態、負のゲージ圧の状態）に減圧された状態になっている。
【０００５】
このため、真空弁ユニット内の真空弁が開成状態になると、下水の流下方向前方の真空圧と、下水の流下方向後方の吸引空気圧（大気圧）との圧力差によって、真空弁ユニットに貯留されていた汚水は空気と混合されて、気液混送流体として真空ステーションに搬送される。
【０００６】
そして、真空ステーションに搬送された下水は、最終的に下水道本管や下水道処理施設などに搬送される。
【０００７】
真空弁ユニットは、建物などから排水された下水を一時貯留すると共に、貯留された下水の量が一定量に達したときに、この貯留された下水を真空弁ユニットと真空ステーションとの間に配設された真空下水用配管へ排出することにより、真空下水用配管への排水量を制限する機能を有している。
【０００８】
出願人自ら提案した特許文献１の真空弁制御装置では、真空弁ユニットに、管内が真空圧状態にある真空排出管と、下水貯留槽と、真空弁装置とが設けられており、真空弁本体が、この下水貯留槽に貯留された下水を吸い込む吸込管と真空排出管とを連結している。
【０００９】
真空弁ユニットには、下水貯留槽内の水位に対応して内部の空気圧を変化させる水位検知管が設けられており、真空弁制御装置には、この水位検知管と連通される水位検知用空気接続口と、地上に設けられた大気圧空気源に連通される空気源接続口と、真空源としての真空排出管に連通される真空圧接続口と、真空弁本体のシリンダ内に連通される弁本体部駆動用連通口とが設けられている。
【００１０】
真空弁制御装置には、水位検知用空気源接続口内の空気圧が大気圧より大きい場合には、弁体を開成することにより、弁本体部駆動用連通口を真空圧接続口に連通させて、シリンダ内の空気を吸引して真空弁本体を開成状態とし、水位検知用空気源接続口内の空気圧が大気圧以下の場合には、弁体を閉成することにより、弁本体部駆動用連通口を空気源接続口に連通させて、シリンダ内に空気を導入して真空弁本体を閉成状態に復帰させる空気圧回路が形成されている。
【００１１】
真空弁制御装置では、真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と、空気圧回路駆動用の空気源連通路とが共通の通路によって大気圧空気源に連通されている。
【特許文献１】特許第２７４０１１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献１の真空弁制御装置では、真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と、空気圧回路駆動用の空気源連通路とが共通の通路によって大気圧空気源に連通されているので、真空弁本体が開成状態から閉成状態へと復帰する途中で開成状態と閉成状態との中間状態になった際に、空気圧回路駆動用の空気源連通路から弁本体部の閉成状態復帰用の空気源連通路へ空気が吸入されるので、この空気吸入により、弁本体部は、閉成状態と開成状態を小刻みに繰り返す、いわゆる、チャタリング現象が発生するおそれがあった。
【００１３】
本発明では上記課題を鑑みて構成されたものであり、弁本体部が開成状態から閉成状態へと復帰する際にチャタリングが発生せず、安定した開閉状態を実現する真空弁制御装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために請求項１に記載された発明は、建物からの排水を一時貯留すると共に真空式下水道システムの真空下水用配管への排水量を制限するための真空弁ユニットに、管内が真空圧状態にある真空排出管と、下水貯留槽と、真空弁装置とが設けられ、前記下水貯留槽に貯留された下水を吸い込む吸込管と前記真空排出管とを連結する前記真空弁装置の真空弁本体の開閉を制御する真空弁制御装置であって、
前記真空弁ユニットに設けられかつ前記下水貯留槽内の水位に対応して内部の空気圧を変化させる水位検知管に連通される水位検知用空気接続口と、
大気が導入される大気圧空気源に連通される空気源接続口と、
真空排出管に設けられた真空源に連通される真空圧接続口と、
前記真空弁本体のシリンダ内の上側空間に連通される弁本体部駆動用連通口と、
が設けられ、
水位検知用空気接続口内の空気圧が大気圧より大きい場合には、弁体を開成することにより、弁本体部駆動用連通口を真空圧接続口に連通させ、シリンダ内の上側空間の空気を吸引して真空弁本体を開成状態とし、
水位検知用空気接続口内の空気圧が大気圧以下の場合には、前記弁体を閉成することにより、弁本体部駆動用連通口を空気源接続口に連通させ、シリンダ内の上側空間に空気を導入して真空弁本体を閉成状態とする、空気圧回路が形成されて、
該空気圧回路が有する前記弁体が開成状態から閉成状態へと復帰する途中で開成状態と閉成状態との中間状態にある際に空気圧回路駆動用の空気源連通路から前記真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気吸入を防止するための吸引防止機構が設けられている真空弁制御装置を特徴としている。
【００１５】
そして、請求項２に記載された発明は、前記真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と前記空気圧回路駆動用の空気源連通路との間に隔壁が設けられ、
前記真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と前記空気圧回路駆動用の空気源連通路とを別々の連通路によって、それぞれ前記大気圧空気源に連通させることにより前記吸引防止機構が構成されている請求項１に記載の真空弁制御装置を特徴としている。
【００１６】
また、請求項３に記載された発明は、前記吸引防止機構が、前記空気圧回路駆動用の空気源連通路から前記真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気の通過を阻止する逆止弁によって構成されている請求項１に記載の真空弁制御装置を特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
このように構成された本発明の請求項１に記載されたものは、空気圧回路が有する弁体が開成状態から閉成状態へと復帰する途中で開成状態と閉成状態との中間状態になった際に空気圧回路駆動用の空気源連通路から真空弁本体部の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気吸入を防止するための吸引防止機構が設けられているので、真空弁本体の閉成時に生じるチャタリング現象の原因となる空気圧回路駆動用の空気源連通路から真空弁本体部の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気吸入が防止され、真空弁本体の閉成時にチャタリング現象が生じることなく、安定した閉成が可能となり、真空式下水道システムの下水搬送能力を低下させることなく真空式下水道システムを利用することができる。
【００１８】
そして、請求項２に記載されたものは、真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と空気圧回路駆動用の空気源連通路との間に隔壁が設けられ、真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と空気圧回路駆動用の空気源連通路とを別々の連通路によって、それぞれ大気圧空気源に連通させることにより請求項１の吸引防止機構が構成されているので、真空弁本体の閉成時に生じるチャタリング現象の原因となる空気圧回路駆動用の空気源連通路から真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気吸入が防止され、真空弁本体の閉成時にチャタリング現象が生じることなく、安定した閉成が可能となり、真空式下水道システムの下水搬送能力を低下させることなく真空式下水道システムを利用することができる。
【００１９】
また、請求項３に記載されたものは、請求項１の吸引防止機構が、空気圧回路駆動用の空気源連通路から真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気の通過を阻止する逆止弁によって構成されているので、真空弁本体の閉成時に生じるチャタリング現象の原因となる空気圧回路駆動用の空気源連通路から真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路への空気吸入が防止され、真空弁本体の閉成時にチャタリング現象が生じることなく、安定した閉成が可能となり、真空式下水道システムの下水搬送能力を低下させることなく真空式下水道システムを利用することができる。
【００２０】
しかも、請求項２のように、真空弁本体の閉成状態復帰用の空気源連通路と空気圧回路駆動用の空気源連通路とを別々の連通路とすることなく、大気圧空気源に連通させる入力路の形成も必要としないので、チャタリング現象の防止を低コストで実施できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
まず、本発明の真空弁制御装置としてのコントローラを説明する前に、出願人自ら提案した本発明の先行技術（特許文献１、特許第２７４０１１０号公報）に係るコントローラ、コントローラを使用した真空弁装置、および真空弁ユニットを図１〜図４に基づいて説明する。
【００２２】
〈真空式下水道システムの構成〉
真空式下水道システムは、真空ステーションと、真空下水用配管と、真空弁ユニットと、によって構成されている。
【００２３】
真空ステーションは真空ポンプ装置と集水タンクとを備えており、真空下水用配管の管内の圧力は、この真空ポンプ装置によって常に真空圧状態（負圧の状態、負のゲージ圧の状態）に減圧された状態になっている。
【００２４】
このため、真空弁ユニット内の真空弁が開成状態になると、下水の流下方向前方の真空圧と、下水の流下方向後方の吸引空気圧（大気圧）との圧力差によって、真空弁ユニットに貯留されていた汚水は空気と混合されて、気液混送流体として真空ステーションに搬送される。
【００２５】
そして、真空ステーションに搬送された下水は、最終的に下水道本管や下水道処理施設などに搬送される。
【００２６】
真空弁ユニットは、建物などから排水された下水を一時貯留すると共に、貯留された下水の量が一定量に達したときに、この貯留された下水を真空弁ユニットと真空ステーションとの間に配設された真空下水用配管へ排出することにより、真空下水用配管への排水量を制限する機能を有している。
【００２７】
〈真空弁ユニットの構成〉
図１は、特許文献１の発明と本発明とに共通の真空弁装置を使用した真空弁ユニットの概略断面図である。
【００２８】
図１において、符号１は、地下に埋設された真空弁ユニットのユニット本体、符号２は、ユニット本体１の内部に引き込まれた下水流入管、符号３はユニット本体１内の底部に設けられ、かつ下水流入管２から流入する下水を一時貯留するための汚水ますである。
【００２９】
特許文献１の発明と本発明とに係るユニット本体１は、主に樹脂によって形成されており、円盤状の底板部１ａと、略円筒状の側壁部１ｂと、鋳物製の蓋部１ｃとを有している。
【００３０】
ユニット本体１には、外気導入管４の一方の端部が側壁部１ｂを貫通させて引き込まれており、外気導入管４の他方の端部は地面から立設された空気取入管４ａの下端部に接続されて、ユニット本体１内部には外気が導入可能とされているので、ユニット本体１内部は常に外気圧とほぼ等圧に保たれている。
【００３１】
また、ユニット本体１には、外気導入細管５の一方の端部が側壁部１ｂを貫通させて引き込まれており、外気導入細管５の他方の端部は地面から立設された空気取入細管５ａの下端部に接続されて、外気導入細管５のユニット本体１側の端部には、分岐コネクタＣが取り付けられている。
【００３２】
このため、分岐コネクタＣにチューブなどを接続することにより、外気の導入が可能となっている。
【００３３】
そして、ユニット本体１の内部には、汚水ます３内に貯留された汚水を吸い込むための吸込管６が、汚水内にその下端部が浸漬するように立設されている。
【００３４】
さらに、ユニット本体１の内部には、汚水ます３内の水位を検知するための水位検知管１１が、汚水内に、その下端部が浸漬するように立設されている。
【００３５】
吸込管６の上端部には、真空弁本体７の連結部７Ａの端部７Ａａが、Ｌ型管を介して水平に連結され、連結部７Ａの端部７Ａｂには、仕切り弁８を介して、汚水排水管９が水平に連結されている。
【００３６】
仕切り弁８は、メンテナンス作業時などに真空弁本体７と汚水排水管９との連絡を仕切るために使用される。
【００３７】
汚水排水管９は真空下水用配管に連結されているので、汚水排水管９の内部は、常時、真空圧状態（負圧の状態）になっている。
【００３８】
〈真空弁本体の構成〉
図２は、特許文献１の発明と本発明とに共通の真空弁本体７の縦断面図である。
【００３９】
図２において、符号７Ａは上述の連結部であり、符号７Ｂはピストン部である。
【００４０】
真空弁本体７の連結部７Ａでは、端部７Ａａと端部７Ａｂとの間の弁穴ＶＨ１が連結部７Ａの内部に嵌入された弁体１０によって開閉可能となっており、弁穴ＶＨ１が開成状態となると、図１に示す吸込管６の管路と汚水排水管９の管路とが連通状態になり、汚水ます３内の汚水は、汚水排水管９内の真空圧に吸引され、吸込管６、連結部７Ａ、汚水排水管９を通過して排出される。
【００４１】
図１に示すように、水位検知管１１と真空弁装置Ｖの真空弁コントローラ１２とは、チューブＴ１によって接続されており、水位検知管１１の内部と真空弁コントローラ１２の内部とは連通しているので、水位検知管１１内部の空気圧変化が、チューブＴ１を通じて真空弁コントローラ１２内に伝達される。
【００４２】
真空弁コントローラ１２は、水位検知管１１内部の空気圧変化に基づいて、真空弁本体７のシリンダ空間ＣＲ内の空気圧を制御するようになっている。
【００４３】
図２に示すように、真空弁コントローラ１２と、連結部７Ａの真空下水用配管側の端部７Ａｂに設けられた真空源としての真空源コネクタＶＣとは、チューブＴ３によって接続されている。
【００４４】
また、図１に示すように、真空弁コントローラ１２と、分岐コネクタＣとは、チューブＴ２によって接続されているので、真空弁コントローラ１２には、汚水排水管９内の真空圧と、外気圧とが常時供給されている。
【００４５】
さらに、真空弁本体７の大気圧側コネクタＣ２と、分岐コネクタＣとは、チューブＴ２によって接続されており、真空弁本体７のシリンダ空間ＣＲも大気に連通している。
【００４６】
真空弁本体７は、略Ｙ字管状の第１ハウジング７Ａ１と、略円筒管状の第２ハウジング７Ｂ１とを有しており、第１ハウジング７Ａ１は連結部７Ａと一体形成されかつ連結部７Ａの内部に連通しており、第２ハウジング７Ｂ１は第１ハウジング７Ａ１の上部にバンドクランプ１３によって連結されている。
【００４７】
第１ハウジング７Ａ１は、水平状態になった連結部７Ａの伸びる方向に対してほぼ４５度の傾斜状態になっている。
【００４８】
第１ハウジング７Ａ１の内部は、隔壁体Ｗによって上下に分割されており、この隔壁体Ｗよりも上側をシリンダ空間ＣＲとしている。
【００４９】
隔壁体Ｗの中央部には、弁棒１５が貫通しており、この弁棒１５の下端部には、連結部７Ａを開閉する弁体１０が取り付けられている。
【００５０】
シリンダ空間ＣＲ内に貫通した弁棒１５の上端部は、上面部が開放したカップ形状のピストン体１６の底面に取り付けられている。
【００５１】
ピストン体１６は、シリンダ空間ＣＲ内にスライド可能に嵌合されており、シリンダ空間ＣＲ内に配置された押しバネ１７によって、弁体１０が連結部７Ａの弁穴ＶＨ１を閉塞する方向に付勢されている。
【００５２】
第１ハウジング７Ａ１と第２ハウジング７Ｂ１との間には、弾性を有する転動ダイヤフラム１８が設けられている。
【００５３】
転動ダイヤフラム１８の外周縁部は、第１ハウジング７Ａ１と第２ハウジング７Ｂ１との間に挟まれた状態で固定されており、転動ダイヤフラム１８はピストン体１６の底面を覆って密着した状態でピストン体１６の底面に固定されている。
【００５４】
転動ダイヤフラム１８は、ピストン体１６と第２ハウジング７Ｂ１との隙間で一周にわたり屈曲しており、シリンダ空間ＣＲの上側の空間ＣＲ１と、シリンダ空間ＣＲの下側の空間ＣＲ２との気密性を保っている。
【００５５】
ピストン体１６の底面には、転動ダイヤフラム１８を貫通して、弁棒１５が固定されている。
【００５６】
第２ハウジング７Ｂ１の上端部内側には、真空弁コントローラ１２が嵌入されており、バンドクランプ１９によって連結されている。
【００５７】
真空弁コントローラ１２は、汚水ます３内の水量が増加して水位検知管１１内の圧力が大気圧より上昇したときに、吸引口Ｍからシリンダ空間ＣＲの上側の空間ＣＲ１内の空気を吸引して、空間ＣＲ１内を真空圧状態（負圧の状態）とすることによって、ピストン体１６を押しバネ１７の付勢力に抗してピストン体１６と連結した弁体１０を上方に引き上げる。
【００５８】
弁体１０が引き上げられると、吸込管６と汚水排水管９とが連通状態になり、汚水ます３内の汚水は、ユニット本体１内の大気圧と汚水排水管９内に作用する真空圧との差圧によって汚水排水管９を通して排出される。
【００５９】
〈コントローラの構成〉
図３は真空弁コントローラ１２の縦断面図である。
【００６０】
真空弁コントローラ１２は、５つの第１ケース部２１〜第５ケース部２５によって形成されたケーシングを有している。
【００６１】
第１ケース部２１〜第５ケース部２５は、それぞれ、この順で上から順番に配置されており、ボルトによって一体化されている。
【００６２】
図２に示すように、真空弁本体７と真空弁コントローラ１２とは、真空弁コントローラ１２の第４ケース部２４の外壁部を真空弁本体７の第２ハウジング７Ｂ１の上端部内側に嵌合し、バンドクランプ１９によって結合される。
【００６３】
図３に示すように、真空弁コントローラ１２の最上部に位置する第１ケース部２１の上部側部には、水位検知用コネクタＣ１が設けられており、この水位検知用コネクタＣ１には、図１に示す水位検知管１１に接続されたチューブＴ１が接続されている。
【００６４】
また、第３ケース部２３には、大気圧側コネクタＣ２が一体に形成されており、この大気圧側コネクタＣ２には、チューブＴ２と、図１に示すように、分岐コネクタＣと外気導入管５とを介して空気取入細管５ａに接続されている。このため、大気圧側コネクタＣ２の通路Ｐ２内部は、常に大気圧にほぼ等しい圧力になっている。
【００６５】
さらに、第３ケース部２３には、真空側コネクタＣ３が一体に形成されており、この真空側コネクタＣ３には、チューブＴ３を介して図２に示す真空源コネクタＶＣが接続されている。このため、真空側コネクタＣ３の通路Ｐ３内部は、常に真空圧状態（負圧の状態）になっている。
【００６６】
そして、真空弁コントローラ１２の最下部に位置する第５ケース部２５には、吸引口Ｍが下方に突出するように一体形成されており、真空弁コントローラ１２を真空弁本体７に嵌入することにより、吸引口Ｍの通路Ｐは、真空弁本体７のシリンダ空間ＣＲの上側の空間ＣＲ１と連通する。
【００６７】
第１ケース部２１の上部側部には、上方に開口を有する検出圧力調整室Ｒ１形成用の凹部が設けられており、この凹部の上方に円板状の制振ダイヤフラムＤ１を挟んで水位検知用コネクタＣ１を取り付けることにより検出圧力調整室Ｒ１が形成されている。
【００６８】
水位検知用コネクタＣ１には、貫通孔Ｐ１が形成されており、貫通孔Ｐ１の下端部には制振ダイヤフラムＤ１が当接している。
【００６９】
制振ダイヤフラムＤ１には微小口径の小穴Ｄ１ａが設けられており、この小穴Ｄ１ａを空気が通過可能になっている。
【００７０】
第１ケース部２１と第２ケース部２２との間には、水位検知ダイヤフラムＤ２用の空気室Ｒ２が形成されている。
【００７１】
空気室Ｒ２は、第１ケース部２１の下面側に下方に開口を有する上側空気室Ｄ２ｕと、第２ケース部２２の上面側に上方に開口を有する下側空気室Ｄ２ｄとによって構成されている。
【００７２】
第１ケース部２１と第２ケース部２２とは、これらの間に水位検知ダイヤフラムＤ２を配置した状態で接合されているので、上側空気室Ｄ２ｕと下側空気室Ｄ２ｄとは、水位検知ダイヤフラムＤ２によって気密に隔絶されている。
【００７３】
第３ケース部２３の上部中央部には上方に開口を有する第１弁室ＲＶ１形成用の凹部が設けられ、この凹部の上方に位置する第２ケース部２２と、この第３ケース部２３とを接合することにより、スイッチ弁ＳＶを収容する第１弁室ＲＶ１が形成されている。
【００７４】
第３ケース部２３と第４ケース部２４との間には、弁駆動用ダイヤフラムＤ３用の空気室Ｒ３が形成されている。
【００７５】
空気室Ｒ３は、第３ケース部２３の下面側に下方に開口を有する上側空気室Ｄ３ｕと、第４ケース部２４の上面側に上方に開口を有する下側空気室Ｄ３ｄとによって構成されている。
【００７６】
第３ケース部２３と第４ケース部２４とは、これらの間に弁駆動用ダイヤフラムＤ３を配置した状態で接合されているので、上側空気室Ｄ３ｕと下側空気室Ｄ３ｄとは、弁駆動用ダイヤフラムＤ３によって気密に隔絶されている。
【００７７】
第４ケース部２４の下部中央部には下方に開口を有する３方弁ＴＶ収容用の凹部が設けられ、この凹部の下側に位置する第５ケース部２５と、この第４ケース部２４とを接合することにより、３方弁ＴＶを収容する第２弁上側空気室ＲＶ２ｕが形成されている。
【００７８】
さらに、第５ケース部２５の中央部上部には、３方弁ＴＶの下側に位置する第２弁下側空気室ＲＶ２ｄが形成されており、第２弁上側空気室ＲＶ２ｕと第２弁下側空気室ＲＶ２ｄとによって３方弁ＴＶ収容用の第２弁空気室ＲＶ２が形成されている。
【００７９】
検出圧力調整室Ｒ１と上側空気室Ｄ２ｕとは、検出圧力調整室Ｒ１の下側構成壁としての隔壁部Ｗ１によって仕切られている。この隔壁部Ｗ１には、検出圧力調整室Ｒ１と上側空気室Ｄ２ｕとを連通するための貫通孔Ｈ１が形成されている。
【００８０】
下側空気室Ｄ２ｄとスイッチ弁ＳＶ設置用の第１弁室ＲＶ１とは、下側空気室Ｄ２ｄの下側構成壁としての隔壁部Ｗ２によって仕切られている。この隔壁部Ｗ２には、下側空気室Ｄ２ｄと大気圧側コネクタＣ２の通路Ｐ２とを連通するための通路Ｐ２ａが形成されている。
【００８１】
第１弁室ＲＶ１と上側空気室Ｄ３ｕとは、第１弁室ＲＶ１の下側構成壁としての隔壁部Ｗ３によって仕切られている。この隔壁部Ｗ３には、第１弁室ＲＶ１と上側空気室Ｄ３ｕとを連通する貫通孔Ｈ２が形成されている。
【００８２】
下側空気室Ｄ３ｄと第２弁上側空気室ＲＶ２ｕとは、下側空気室Ｄ３ｄの下側構成壁としての隔壁部Ｗ４によって仕切られている。この隔壁部Ｗ４には、下側空気室Ｄ３ｄと第２弁上側空気室ＲＶ２ｕとを連通する第２弁上側穴ＶＨ２ｕが形成されている。
【００８３】
また、第２弁上側穴ＶＨ２ｕには、３方弁ＴＶが嵌入した際に第２弁上側穴ＶＨ２ｕを閉塞するために、上側パッキングＰＫｕが設けられている。
【００８４】
第２弁上側空気室ＲＶ２ｕと第２弁下側空気室ＲＶ２ｄとは、第５ケース部２５の上側構成壁としての隔壁部Ｗ４によって仕切られている。この隔壁部Ｗ４には、第２弁上側空気室ＲＶ２ｕと第２弁下側空気室ＲＶ２ｄとを連通する第２弁下側穴ＶＨ２ｄが形成されている。
【００８５】
また、第２弁下側穴ＶＨ２ｄには、３方弁ＴＶが嵌入した際に第２弁下側穴ＶＨ２ｄを閉塞するために、下側パッキングＰＫｄが設けられている。
【００８６】
第３ケース部２３内には、第２ケース部２２内の通路Ｐ２ａを介して下側空気室Ｄ２ｄに連通する通路Ｐ２ｂと、第４ケース部２４内の通路Ｐ２ｄを介して下側空気室Ｄ３ｄに連通する通路Ｐ２ｃとが形成されており、上述の通路Ｐ２と通路Ｐ２ｂと通路Ｐ２ｃとは接続点ＢＰ１において接続されている。
【００８７】
したがって、水位検知ダイヤフラムＤ２用の下側空気室Ｄ２ｄと、弁駆動用ダイヤフラムＤ３用の下側空気室Ｄ３ｄとは、通路Ｐ２に連通しており、チューブＴ２、分岐コネクタＣ、外気導入管５、空気取入細管５ａを介して大気に連通している。
【００８８】
また、第３ケース部２３内には、スイッチ弁ＳＶの弁穴ＶＨ３を介して第１弁室ＲＶ１に連通する通路Ｐ３ａと、通路Ｐ３ｃと通路Ｐ３ｄとを介して第２弁下側空気室ＲＶ２ｄに連通する通路Ｐ３ｂとが形成されており、通路Ｐ３ａと通路Ｐ３ｂと上述の通路Ｐ３とは接続点ＢＰ２において接続されている。
【００８９】
したがって、スイッチ弁ＳＶの開成状態における第１弁室ＲＶ１と、第２弁下側空気室ＲＶ２ｄとは、通路Ｐ３に連通しており、チューブＴ３、真空源コネクタＶＣ、連結部７Ａの端部７Ａｂ、仕切り弁８、汚水排水管９を介して真空源に連通している。
【００９０】
また、第３ケース部２３内には、第１弁室ＲＶ１と、この第１弁室ＲＶ１の上方の下側空気室Ｄ２ｄとを、貫通孔Ｈ３とニードル弁部ＮＶとを介して連通する通路ＰＮが形成されており、さらに、ニードル弁部ＮＶと通路Ｐ３とを連通する貫通孔Ｈ４が形成されている。
【００９１】
さらに、第５ケース部２５内には、吸引口Ｍを介してシリンダ空間ＣＲと第２弁上側空気室ＲＶ２ｕとを連通する通路Ｐが形成されているので、３方弁ＴＶが開成状態（上側の第２弁上側穴ＶＨ２ｕに嵌入している状態）では、通路Ｐと通路Ｐ３とが連通する。
【００９２】
したがって、真空弁本体７のシリンダ空間ＣＲは、通路Ｐ、通路Ｐ３、チューブＴ３、真空源コネクタＶＣ、連結部７Ａの端部７Ａｂ、仕切り弁８、汚水排水管９を介して真空源に連通するようになっている。
【００９３】
以上のように構成された真空弁本体７と真空弁コントローラ１２とによって、真空弁装置Ｖは構成されている。
【００９４】
水位検知ダイヤフラムＤ２の中央部には、水位検知ダイヤフラムＤ２用の空気室Ｒ２を上下方向に貫通するプランジャー２６が取り付けられている。
【００９５】
プランジャー２６の上端部は、第１ケース部２１の隔壁部Ｗ１に設けられた軸穴２６ａに上下方向にスライド可能に嵌合しており、プランジャー２６の下端部は、第２ケース部２２の隔壁部Ｗ２に設けられた軸穴２６ｂに上下方向にスライド可能に嵌合している。
【００９６】
このため、水位検知ダイヤフラムＤ２の外周部は可撓性を有しているので、この部分が弾性変形することにより、プランジャー２６は、上下方向にスライド可能になっている。
【００９７】
プランジャー２６の下端部は、隔壁部Ｗ２の中央部を貫通して、第１弁室ＲＶ１内に進入している。
【００９８】
プランジャー２６の下部には、押しバネ２７が設けられており、この押しバネ２７によって、プランジャー２６および水位検知ダイヤフラムＤ２は上方に付勢されている。
【００９９】
真空側コネクタＣ３に連通する通路Ｐ３ａ端部の弁穴ＶＨ３は、第１弁室ＲＶ１内に配置されたスイッチ弁ＳＶによって開閉可能になっている。
【０１００】
スイッチ弁ＳＶは、スナップアクション機構を備えたスナップアクション弁が使用されており、プランジャー２６が下降したときに、このプランジャー２６に押圧される板バネと、この板バネの付勢力によって通路Ｐ３ａの弁穴ＶＨ３を開閉するように板バネの先端部に設けられた舌片とを有している。
【０１０１】
プランジャー２６が下降して板バネが押圧されると、舌片が上方へと跳ね上がり、通路Ｐ３ａの弁穴ＶＨ３を開成するようになっており、第１弁室ＲＶ１と真空側コネクタＣ３とが通路Ｐ３ａと通路Ｐ３とを介して連通状態になり、プランジャー２６による板バネへの押圧が解除されると、弁穴ＶＨ３が閉成される。
【０１０２】
弁駆動用ダイヤフラムＤ３の中央部下側には、ロッド状の弁軸２８が取り付けられている。この弁軸２８は、第２弁上側穴ＶＨ２ｕに挿通されており、弁軸２８の下端部には３方弁ＴＶが取り付けられている。
【０１０３】
弁駆動用ダイヤフラムＤ３の上部には、押しバネ２９が設けられており、この押しバネ２９によって、弁駆動用ダイヤフラムＤ３および３方弁ＴＶは下方に付勢されている。
【０１０４】
スイッチ弁ＳＶが開成状態になると、上側空気室Ｄ３ｕ内の空気が、貫通孔Ｈ２、弁穴ＶＨ３、通路Ｐ３ａ、通路Ｐ３、真空側コネクタＣ３を介して排出されて、弁駆動用ダイヤフラムＤ３が上昇し、これに伴って３方弁ＴＶが上昇して、３方弁ＴＶが開成状態（上側の第２弁上側穴ＶＨ２ｕに嵌入している状態）になる。
【０１０５】
スイッチ弁ＳＶが閉成状態になると、空気がＣ２、下側空気室Ｄ２ｄ、通路ＰＮ、第１弁室ＲＶ１、貫通孔Ｈ２を介して導入されて、弁駆動用ダイヤフラムＤ３が下昇し、これに伴って３方弁ＴＶが下昇して、３方弁ＴＶが閉成状態（下側の第２弁下側穴ＶＨ２ｄに嵌入している状態）になる。
【０１０６】
ニードル弁部ＮＶは、下側空気室Ｄ２ｄに導入された空気が、第１弁室ＲＶ１内に導入される際に、その流量を調整するようになっており、ニードル弁部ＮＶの調整によって、第１弁室ＲＶ１を介してＤ３ｕに導入される空気の導入時間が調整されるので、３方弁ＴＶの閉成状態から開弁状態への復帰時間を調整可能とする。
【０１０７】
〈真空弁装置の動作〉
真空弁装置Ｖの動作を説明する。
【０１０８】
真空弁コントローラ１２の真空側コネクタＣ３は、汚水排水管９と連通状態になっているので、その内部は真空圧状態になっている。
【０１０９】
このような状態で、汚水ます３内の汚水量が徐々に増加して、汚水内に下端部が浸漬された水位検知管１１内の空気の圧力が徐々に上昇すると、この水位検知管１１にチューブＴ１を介して連通する真空弁コントローラ１２の水位検知用コネクタＣ１内の圧力が徐々に上昇する。
【０１１０】
水位検知用コネクタＣ１内の圧力が上昇すると、制振ダイヤフラムＤ１の小穴Ｄ１ａを通して、検出圧力調整室Ｒ１内の圧力が徐々に上昇する。
【０１１１】
検出圧力調整室Ｒ１内の圧力が徐々に上昇すると、連通孔Ｈ１を通して連通する上側空気室Ｄ２ｕ内の圧力が徐々に上昇する。
【０１１２】
上側空気室Ｄ２ｕ内の圧力が徐々に上昇すると、水位検知ダイヤフラムＤ２は徐々に下方へと弾性変形しつつ変位する（図４参照）。
【０１１３】
下側空気室Ｄ２ｄは、通路Ｐ２ａ、通路Ｐ２ｂ、大気圧側コネクタＣ２、チューブＴ２、外気導入管５、空気取入細管５ａを介して外気と連通しているので、水位検知ダイヤフラムＤ２が下方へと徐々に弾性変形すると、下側空気室Ｄ２ｄ内の空気は外部に排出される。
【０１１４】
そして、水位検知ダイヤフラムＤ２が降下すると、これに伴って、プランジャー２６が下降する。
【０１１５】
プランジャー２６が下降すると、スイッチ弁ＳＶがプランジャー２６の下端部によって押下され、スイッチ弁ＳＶが開成状態となる。
【０１１６】
スイッチ弁ＳＶが開成状態となると、真空側コネクタＣ３と第１弁室ＲＶ１とが連通状態となるので、第１弁室ＲＶ１は、真空圧状態（負圧の状態）となる。
【０１１７】
第１弁室ＲＶ１内が真空圧状態になると、連通孔Ｈ２を通して、弁駆動用ダイヤフラムＤ３用の上側空気室Ｄ３ｕが真空圧状態となる。
【０１１８】
弁駆動用ダイヤフラムＤ３用の下側空気室Ｄ３ｄは、大気圧側コネクタＣ２を介して外気に連通した状態になっているので、上側空気室Ｄ３ｕが減圧されることにより、弁駆動用ダイヤフラムＤ３は、押しバネ２９に抗して上方へと弾性変形する（図４参照）。
【０１１９】
弁駆動用ダイヤフラムＤ３が上方へと弾性変形すると、これに伴って、弁軸２８および３方弁ＴＶが上昇して、第２弁下側穴ＶＨ２ｄを開放するとともに、第２弁上側穴ＶＨ２ｕを閉塞する（３方弁ＴＶの開成状態）。
【０１２０】
３方弁ＴＶが開成状態になると、第２弁上側空気室ＲＶ２ｕは、第２弁下側穴ＶＨ２ｄを通して通路Ｐ３ｄに連通して真空圧状態となるので、第２弁上側空気室ＲＶ２ｕと連通する吸引口Ｍの通路Ｐが真空圧状態になる。
【０１２１】
これにより、吸引口Ｍと連通する真空弁本体７のシリンダ空間ＣＲ内が真空圧状態になる。
【０１２２】
真空弁本体７のシリンダ空間ＣＲ内が真空圧状態になると、ピストン体１６が押しバネ１７の付勢力に抗して引き上げられて、ピストン体１６に弁棒１５を介して接合された弁体１０が上方へと移動する（図２参照）。
【０１２３】
その結果、連結部７Ａの弁穴ＶＨ１が開放された状態になり、汚水排水管９と吸込管６とが連結部７Ａを介して連通状態となり、汚水排水管９内の真空圧によって吸込管６内に汚水ます３内の汚水が吸引される。
【０１２４】
汚水ます３内の汚水は、吸込管６内に吸い込まれて連結部７Ａから汚水排水管９内に吸引されて、真空弁ユニット１から迅速に排出される。
【０１２５】
このようにして、汚水ます３内の汚水が迅速に排出されると、水位検知管１１内の圧力が急速に低下し、水位検知用コネクタＣ１の内部の圧力が急速に低下する。
【０１２６】
検出圧力調整室Ｒ１は、連通孔Ｈ２によって水位検知ダイヤフラムＤ２用の上側空気室Ｄ２ｕ内に連通しているために、水位検知ダイヤフラムＤ２用の上側空気室Ｄ２ｕ内の空気も、検出圧力調整室Ｒ１を通って迅速に水位検知用コネクタＣ１から排出され、水位検知ダイヤフラムＤ２の下方への弾性変形は解消される。
【０１２７】
このようにして、水位検知ダイヤフラムＤ２の弾性変形が解消されると、水位検知ダイヤフラムＤ２の下面側に取り付けられたプランジャー２６が上方へと移動する。
【０１２８】
そして、プランジャー２６によるスイッチ弁ＳＶの押圧が解除されて、スイッチ弁ＳＶによって、真空側コネクタＣ３に連通する弁穴ＶＨ３が閉成され、第１弁室ＲＶ１と真空側コネクタＣ３との連絡は遮断される。
【０１２９】
このとき、第１弁室ＲＶ１内は真空圧状態になっているが、その真空圧状態は、空気が大気圧側コネクタＣ２から通路Ｐ２ｂ、通路Ｐ２ａ、下側空気室Ｄ２ｄ、ニードル弁部ＮＶの通路ＰＮを通って、第１弁室ＲＶ１内に徐々に流入することにより、若干時間が遅れて解消される。
【０１３０】
第１弁室ＲＶ１の真空圧状態が解消されると、この第１弁室ＲＶ１と連通している上側空気室Ｄ３ｕの真空圧状態も解消されて、弁駆動用ダイヤフラムＤ３は、押しバネ２９により下方に付勢されているので、弁駆動用ダイヤフラムＤ３の上方への弾性変形が解消される。
【０１３１】
これにより、弁駆動用ダイヤフラムＤ３に取り付けられた弁軸２８が下方へと移動して、その下端部に取り付けられた３方弁ＴＶは、上側の第２弁上側穴ＶＨ２ｕを開放すると共に下側の第２弁下側穴ＶＨ２ｄを閉塞する（３方弁ＴＶの閉成状態）。
【０１３２】
その結果、真空弁本体７のシリンダ空間ＣＲに連通する吸引口Ｍが、第２弁上側空気室ＲＶ２ｕ、下側空気室Ｄ３ｄ、通路Ｐ２ｄ、通路Ｐ２ｃ、通路Ｐ２を介して、大気圧側コネクタＣ２に連通し、大気圧側コネクタＣ２内の空気が、この吸引口Ｍ内に導入される。
【０１３３】
これにより、真空弁本体７におけるシリンダ空間ＣＲ内の真空圧状態が解消され、真空弁本体７のピストン体１６が押しバネ１７の付勢力によって下方へと移動して、弁体１０は連結部７Ａの弁穴ＶＨ１を閉塞した状態にする。
【０１３４】
このように、先行技術（特許文献１、特許第２７４０１１０号）に係るコントローラでは、水位検知用コネクタＣ１内の空気圧が大気圧以下の場合には、吸引口Ｍを大気圧側コネクタＣ２に連通させることにより、シリンダ空間ＣＲの上側空間ＣＲ１の空気を吸引して真空弁本体７を開成状態とし、水位検知用コネクタＣ１内の空気圧が大気圧より大きい場合には、吸引口Ｍを大気圧側コネクタＣ２に連通させることにより、シリンダ空間ＣＲの上側空間ＣＲ１に空気を導入して真空弁本体７を閉成状態に復帰させる空気圧回路が形成されている。
【０１３５】
〈真空弁本体閉成時のチャタリング現象〉
ところで、図３または図４に示すように、先行技術（特許文献１、特許第２７４０１１０号）に係るコントローラでは、大気圧側コネクタＣ２の通路Ｐ２が、接続点ＢＰ１で通路Ｐ２ｂと通路Ｐ２ｃとに分岐されている。
【０１３６】
真空弁本体部７が開成状態から閉成状態へと復帰する途中で、図５に示すように、開成状態と閉成状態との中間状態になった際に、通路Ｐ２ｃが、通路Ｐ２ｄ、下側空気室Ｄ３ｄ、第２弁上側穴ＶＨ２ｕ、第２弁上側空気室ＲＶ２ｕ、第２弁下側穴ＶＨ２ｄ、第２弁下側空気室ＲＶ２ｄ、通路Ｐ３ｄ、通路Ｐ３ｃ、通路Ｐ３ｂ、通路Ｐ３を介して真空源コネクタＶＣと連通するので、空気が通路Ｐ２から通路Ｐ２ｃに向かって吸引される。
【０１３７】
このとき、通路Ｐ２ａ、通路Ｐ２ｂを介して上側空気室Ｄ２ｕ内の空気が吸引されるので、真空弁本体部７を閉成状態にすべく、上方に移動していた水位検知ダイヤフラムＤ２のプランジャー２６が下方に移動して、再び開成状態となり、真空弁本体部７を閉成しようとしても、閉成状態と開成状態を小刻みに繰り返す、いわゆる、チャタリング現象が生じることがあった。
【０１３８】
このようなチャタリング現象により、真空弁本体部７の閉成状態が不安定になると、真空下水用配管内に不要な空気が進入して真空下水配管内の真空度が低下するために、真空式下水道システム全体の下水搬送能力が低下してしまうおそれがあった。
【実施例１】
【０１３９】
以下、本発明に係る実施の形態を実施例に基づいて説明する。
【０１４０】
〈構成〉
そこで、図６に示すように、実施例１のコントローラでは、通路Ｐ２ａと通路Ｐ２ｃとの間に隔壁ＰＷが設けられており、３方弁ＴＶが開成状態から閉成状態へと復帰する途中で開成状態と閉成状態との中間状態になった際に、空気圧回路駆動用の通路Ｐ２Ａ，Ｐ２ａから真空弁本体７の閉成状態復帰用の通路Ｐ２Ｂ，Ｐ２ｃ，Ｐ２ｄへの空気吸入が防止される。
第３ケース部２３に、大気圧側コネクタＣ２Ａと、大気圧側コネクタＣ２Ｂとを形成し、大気圧側コネクタＣ２Ａの通路Ｐ２Ａを通路Ｐ２ｂ、通路Ｐ２ａを介して下側空気室Ｄ２ｄに連通させ、大気圧側コネクタＣ２Ｂの通路Ｐ２Ｂを通路Ｐ２ｃ、通路Ｐ２ｄを介して下側空気室Ｄ３ｄに連通させている。
【０１４１】
そして、図７に示すように、大気圧側コネクタＣ２ＡをチューブＴ２Ａを介して３分岐の分岐コネクタＣ’に接続し、大気圧側コネクタＣ２ＢをチューブＴ２Ｂを介して３分岐の分岐コネクタＣ’に接続する。
【０１４２】
すなわち、空気圧回路駆動用の通路Ｐ２Ａ，Ｐ２ａと、真空弁本体７の閉成状態復帰用の通路Ｐ２Ｂ，Ｐ２ｃ，Ｐ２ｄとを別々の連通路によって、それぞれ空気取入管４ａに連通させることにより吸引防止機構が構成されている。
【０１４３】
なお、その他の構成については、上述の先行技術（特許文献１、特許第２７４０１１０号）と同様であるので、説明を省略する。
【０１４４】
さらに、図８に示すように、施工時の利便性を図って、ターミナルボックスＴＢを介してチューブＴ１，Ｔ２Ａ，Ｔ２Ｂ，Ｔ３，Ｔ４を、それぞれチューブＴ１’，Ｔ２Ａ’，Ｔ２Ｂ’，Ｔ３’，Ｔ４’に接続してもよい。
【０１４５】
ターミナルボックスＴＢの内部では、図８に示す上側のチューブＴ１，Ｔ２Ａ，Ｔ２Ｂ，Ｔ３，Ｔ４に接続される端子と、図８に示す下側のチューブＴ１’，Ｔ２Ａ’，Ｔ２Ｂ’，Ｔ３’，Ｔ４’に接続される端子とが、それぞれ内部で連通している。
【０１４６】
なお、図９に示すように、チューブＴ２Ａを、外気と連通している空気取入細管５Ａａを介して外気導入細管５Ａの分岐コネクタＣＡに接続し、チューブＴ２Ｂを、外気と連通している空気取入細管５Ｂａを介して外気導入細管５Ｂの分岐コネクタＣＢに接続し、空気導入源の独立性を一層強化した構成にしてもよい。
【０１４７】
〈作用効果〉
このように構成された実施例１のコントローラでは、空気導入源を、大気圧側コネクタＣ２Ａと大気圧側コネクタＣ２Ｂとで独立化することにより、チャタリング現象の原因となる上側空気室Ｄ２ｕ内の空気の吸引を阻止することができる。
【０１４８】
したがって、真空弁本体７の閉成時にチャタリング現象が生じることなく、安定した閉成が可能となり、真空式下水道システムの下水搬送能力を低下させることなく、真空式下水道システムを利用することができる。
【０１４９】
また、図８に示す変形例の真空弁ユニットでは、ターミナルボックスＴＢが設けられているので、接続が容易となるだけでなく、、接続されるチューブの数が増大したことによる接続ミスを、接続するチューブを一カ所に集約して取り付け箇所を明確にすることにより未然に防止できる。
【実施例２】
【０１５０】
〈構成〉
図１０に示すように、実施例２のコントローラでは、通路Ｐ２ａと通路Ｐ２ｃとの間にゴム製のダックビル型チャッキ弁ＣＶが設けられており、３方弁ＴＶが開成状態から閉成状態へと復帰する途中で開成状態と閉成状態との中間状態になった際に、空気圧回路駆動用の通路Ｐ２ａから真空弁本体７の閉成状態復帰用の通路Ｐ２ｃ，Ｐ２ｄへの空気吸入が防止される。
【０１５１】
チャッキ弁ＣＶは、第２ケース部２２と第３ケース部２３との間に、大気圧側コネクタＣ２の通路Ｐ２と、下側空気室Ｄ２ｄとの間に、通路Ｐ２ｃから下側空気室Ｄ２ｄへは空気を流通可能とし、下側空気室Ｄ２ｄから通路Ｐ２ｃへは空気の流通を阻止するようになっている。
【０１５２】
すなわち、吸引防止機構が、空気圧回路駆動用の通路Ｐ２ａから３方弁ＴＶの閉成状態復帰用の通路Ｐ２ｃ，Ｐ２ｄへの空気の通過を阻止するチャッキ弁ＣＶによって構成されている。
【０１５３】
なお、チャッキ弁（逆止弁）ＣＶについては、公知技術であるので詳細な説明は省略し、また、その他の構成については、上述の先行技術（特許文献１、特許第２７４０１１０号）と同様であるので説明を省略する。
【０１５４】
〈作用効果〉
このように構成された実施例２のコントローラでは、チャッキ弁（逆止弁）ＣＶが設けられているので、チャタリング現象の原因となる下側空気室Ｄ２ｕ内の空気の吸引を阻止することができ、しかも、水位検知ダイヤフラムＤ２が復帰する際の空気の流通は阻害されない。
【０１５５】
したがって、閉成時にチャタリングが生じることなく、安定した閉成が可能となり、真空式下水道システムを円滑に利用することができる。
【０１５６】
しかも、コネクタを増設することなく、空気取入細管や外気導入細管などの入力路の形成を必要としないので、チャタリングの防止を低コストで実施できる。
【０１５７】
以上、図面を参照して、本発明の最良の実施の形態を詳述してきたが、具体的な構成は、この実施の形態に限らず本発明の要旨を逸脱しない程度の設計的変更は本発明に含まれる。
【０１５８】
なお、実施例２のコントローラでは、逆止弁にダックビルチャッキ弁を使用したが、逆止弁であれば、どのような構成の弁であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１５９】
【図１】特許文献１の発明と本発明とに共通の真空弁装置を使用した真空弁ユニットの概略断面図である。
【図２】特許文献１の発明と本発明とに共通の真空弁本体の縦断面図である。
【図３】特許文献１の発明の真空弁コントローラの縦断面図であり、３方弁の閉成状態の図である。
【図４】特許文献１の発明の真空弁コントローラの縦断面図であり、３方弁の開成状態の図である。
【図５】特許文献１の発明の真空弁コントローラの縦断面図であり、３方弁の閉成状態と開成状態との中間状態の図である。
【図６】実施例１の真空弁コントローラの断面構成図である。
【図７】実施例１に係る真空弁ユニットの概略断面図である。
【図８】実施例１に係る真空弁ユニットの第１の変形例の概略断面図である。
【図９】実施例１に係る真空弁ユニットの第２の変形例の概略断面図である。
【図１０】実施例２の真空弁コントローラの断面構成図である。
【符号の説明】
【０１６０】
３                      汚水ます（下水貯留槽）
４ａ                    空気取入管（大気圧空気源）
６                      吸込管
７                      真空弁本体
９                      真空排出管
１１                    水位検知管
１２                    真空弁コントローラ（真空弁制御装置）
Ｃ１                    水位検知用コネクタ（水位検知用空気接続口）
Ｃ２，Ｃ２Ａ，Ｃ２Ｂ            大気圧側コネクタ（空気源接続口）
Ｃ３                    真空側コネクタ（真空圧接続口）
ＶＣ                    真空源コネクタ（真空源）
ＣＲ１                  シリンダ空間の上側の空間（シリンダ内）
Ｍ                      吸引口（弁本体部駆動用連通口）
ＴＶ                    ３方弁（弁体）
Ｐ２Ａ，Ｐ２ａ          通路（空気圧回路駆動用の空気源連通路）
Ｐ２Ｂ，Ｐ２ｃ，Ｐ２ｄ  通路（弁本体部の閉成状態復帰用の空気源連通路）
Ｐ２Ａ，Ｐ２Ｂ          通路（別々の連通路）
ＣＶ                    チャッキ弁（逆止弁，吸引防止機構）
ＰＷ                    隔壁（吸引防止機構）
Ｖ                      真空弁装置
【図１】
0004904253.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0004904253.tif 000008
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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