(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなり、
前記軟磁性粉体において、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の総含有量が１〜１５ａｔ％であり、前記Ｂの含有量が０．１〜４ａｔ％であることを特徴とする軟磁性粉体。
【請求項２】
鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部と、
前記粉体本体部の表面を被覆する前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物からなる酸化物被膜とを備え、
前記軟磁性粉体において、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の総含有量が１〜１５ａｔ％であり、前記Ｂの含有量が０．１〜４ａｔ％であることを特徴とする軟磁性粉体。
【請求項３】
鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部と、
前記粉体本体部の表面を被覆する前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物からなる酸化物被膜およびＢの酸化物からなる酸化物被膜とを備え、
前記軟磁性粉体において、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の総含有量が１〜１５ａｔ％であり、前記Ｂの含有量が０．１〜４ａｔ％であることを特徴とする軟磁性粉体。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の軟磁性粉体から製造された軟磁性成形体であって、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる成形本体部と、
前記成形本体部の表面を被覆し、前記成形本体部同士を接合する成形酸化物被膜とを備え、
前記成形酸化物被膜が、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物とＢの酸化物との混合物とからなることを特徴とする軟磁性成形体。
【請求項５】
Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素を総含有量で１〜１５ａｔ％、Ｂを含有量で０．１〜４ａｔ％含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる金属原料を使用し、アトマイズ法を用いて前記金属原料を粉体化したことを特徴とする軟磁性粉体の製造方法。
【請求項６】
請求項５で製造された軟磁性粉体に、前記Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素に対しては酸化性雰囲気である雰囲気下で、６００〜８００℃の熱処理を施すことを特徴とする軟磁性粉体の製造方法。
【請求項７】
請求項５で製造された軟磁性粉体に、前記Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素およびＢに対しては酸化性雰囲気である雰囲気下で、１１５０〜１２００℃の熱処理を施すことを特徴とする軟磁性粉体の製造方法。
【請求項８】
請求項５ないし請求項７のいずれか一項で製造された軟磁性粉体を加熱加圧成形し、その後、前記Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素およびＢに対しては酸化性雰囲気であり、かつ、１１５０〜１３００℃である雰囲気下で、液相焼結すること特徴とする軟磁性成形体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧粉磁心等に用いられる軟磁性粉体、軟磁性成形体およびそれらの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、圧粉磁心には軟磁性成形体が用いられ、軟磁性成形体は軟磁性粉体を成形することによって製造されている。そして、軟磁性粉体としては、一般的には鉄粉体が用いられ、特許文献１では、鉄粉体の例として、純鉄以外のＦｅ合金粒体（文献では合金粉末）が記載されている。なお、Ｆｅ合金粒体としては、ＦｅにＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ等の元素を添加したものが記載されている。
【０００３】
また、特許文献２では、軟磁性粉体の例として、金属粒子（Ｆｅ、Ｆｅ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｓｉ等）と、金属粒子の表面を被覆する高抵抗物質（Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等）と、高抵抗物質の破壊を防止するリン酸系化成処理被膜とよりなる軟磁性粒子が記載されている。なお、このリン酸系化成処理被膜は、高抵抗物質の表面にリン酸系処理液を塗布、乾燥することによって形成することが記載されている。さらに、非特許文献１、２では、このような軟磁性粉体を焼鈍することによって、軟磁性粉体の結晶粒を粗大化して磁気特性を向上させることが記載されている。
【特許文献１】特公平６−８２５７７号公報
【特許文献２】特開２００１−８５２１１号公報
【非特許文献１】The International Journal of Powder Metallurgy，vol.22，No.2，1986，p.81
【非特許文献２】門間改三、須藤一著，「構成金属材料とその熱処理」，日本金属学会，昭和５２年７月２０日初版発行，ｐ．９７〜９８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載されているＦｅ合金粉体は、Ａｌ、Ｓｉ等が添加されているため、純鉄に比較して高硬度で、成形性が悪いものであった。また、磁気特性も圧粉磁心用として十分なものとはいえなかった。また、特許文献２に記載されている軟磁性粒子も、金属粒子としてＡｌ、Ｓｉ等が添加されたＦｅ合金を使用したものは、高硬度で、成形性が悪いものであった。さらに、金属粒子が高硬度であるため、成形の際に被膜（高抵抗物質、リン酸系化成被膜）が破れ、軟磁性粒子の比抵抗が低下し、渦電流損（鉄損）の増加、すなわち、磁気特性の低下が見られた。
【０００５】
加えて、特許文献２に記載されている軟磁性粒子は、金属粒子（高抵抗物質）を被覆するリン酸系化成処理被膜が６００℃程度で熱分解し耐熱性が低いものであった。したがって、特許文献２に記載されている軟磁性粒子は、非特許文献１および非特許文献２に記載された磁気特性向上のための焼鈍において、その上限温度を約８００℃以上、具体的には金属粒子を構成するＦｅのα−γ変態温度（９１０℃）を超える温度に上げることができなかった。その結果、金属粒子（軟磁性粒子）の結晶粒が粗大化せず、磁気特性を向上させることができなかった。
【０００６】
そこで、本発明は、このような問題を解決すべく創案されたもので、その目的は、磁気特性に優れた、具体的には鉄損が小さい軟磁性粉体、軟磁性成形体およびそれらの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するために、請求項１に係る軟磁性粉体は、鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなり、前記軟磁性粉体において、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の総含有量が１〜１５ａｔ％であり、前記Ｂの含有量が０．１〜４ａｔ％であることを特徴とする。
【０００８】
前記構成によれば、軟磁性粉体がＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択された少なくとも一種の元素（以下、Ａｌ、Ｓｉ等と称することがある）を含むことによって、軟磁性粉体の結晶磁気異方性定数が低下し、保磁力が低減する。その結果、この軟磁性粉体から製造された軟磁性成形体（圧粉磁心等）のヒステリシス損が抑制される。
【０００９】
また、軟磁性粉体がＢを含むことによって、軟磁性粉体を用いて軟磁性成形体を製造（成形、液相焼結）する際、液相焼結によって軟磁性粉体の内部からＢが液相状態で染み出す。染み出したＢは、軟磁性粉体の表面を被覆すると共に、軟磁性粉体同士を接合させる成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）の構成成分の１つ（Ｂの酸化物）となる。そして、酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）が絶縁被膜として機能するため、軟磁性成形体の比抵抗が高くなり、渦電流損が抑制される。
【００１０】
また、軟磁性粉体がＢを含むことによって、軟磁性粉体を用いて軟磁性成形体を製造する際の焼結温度をα−γ変態温度を超える温度に設定することが可能となる。変態温度を超える温度で液相焼結することによって、軟磁性成形体の結晶粒が粗大化し、ヒステリシス損（鉄損）が抑制される。
なお、軟磁性材料において、（鉄損）＝（ヒステリシス損）＋（渦電流損）である。
さらに、Ａｌ、Ｓｉ等の総含有量、および、Ｂの含有量を所定範囲とすることによって、軟磁性粉体の結晶磁気異方性定数を低下させることにより透磁率を向上させ、磁束密度が向上する。また、軟磁性粉体を用いて製造される軟磁性成形体において、成形本体部同士を接合する成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）が均一なものとなる。
【００１１】
請求項２に係る軟磁性粉体は、鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部と、前記粉体本体部の表面を被覆する前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物からなる酸化物被膜とを備え、前記軟磁性粉体において、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の総含有量が１〜１５ａｔ％であり、前記Ｂの含有量が０．１〜４ａｔ％であることを特徴とする。
【００１２】
前記構成によれば、粉体本体部のＡｌ、Ｓｉ等およびＢによる、軟磁性粉体から製造される軟磁性成形体のヒステリシス損（鉄損）の抑制に加えて、粉体本体部を被覆するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物からなる酸化物被膜を備えることによって、この酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）が、軟磁性粉体を用いて製造（成形、液相焼結）された軟磁性成形体において、成形本体部同士を接合させる成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）の構成成分の１つとなる。そして、酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）が絶縁被膜として機能するため、軟磁性成形体の成形本体部間の電気的絶縁性が向上し、軟磁性成形体の比抵抗が高くなり、渦電流損がさらに抑制される。
【００１３】
また、この酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）は高硬度であるため、成形によって酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）が破れやすい。しかしながら、成形後の液相焼結において、この酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）の破れたところから、粉体本体部に含まれているＢが染み出して酸化物被膜を形成する。そして、この酸化物被膜（Ｂの酸化物）は、あたかも破れた酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）を補修するかのごとく振舞うため、破れのない成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）が形成され、軟磁性成形体の比抵抗がさらに高くなり、渦電流損（鉄損）がさらに抑制される。さらに、Ａｌ、Ｓｉ等の総含有量、および、Ｂの含有量を所定範囲とすることによって、軟磁性粉体の結晶磁気異方性定数を低下させることにより透磁率を向上させ、磁束密度が向上する。また、軟磁性粉体を用いて製造される軟磁性成形体において、成形本体部同士を接合する成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）が均一なものとなる。
【００１４】
請求項３に係る軟磁性粉体は、鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部と、前記粉体本体部の表面を被覆する前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物からなる酸化物被膜およびＢの酸化物からなる酸化物被膜とを備え、前記軟磁性粉体において、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の総含有量が１〜１５ａｔ％であり、前記Ｂの含有量が０．１〜４ａｔ％であることを特徴とする。
【００１５】
前記構成によれば、粉体本体部のＡｌ、Ｓｉ等による、軟磁性粉体から製造される軟磁性成形体のヒステリシス損（鉄損）の抑制に加えて、粉体本体部を被覆するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物からなる酸化物被膜と、Ｂの酸化物からなる酸化物被膜とを備えることによって、高硬度の酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）があらかじめ酸化物被膜（Ｂの酸化物）によって補修されている。そのため、軟磁性成形体の製造（成形、液相焼結）において、成形の際に酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）に破れが発生しにくくなる。また、液相焼結によって形成される成形本体部を被覆する成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）にも破れが発生しにくくなる。その結果、軟磁性成形体の比抵抗がさらに高くなり、渦電流損（鉄損）がさらに抑制される。また、Ａｌ、Ｓｉ等の総含有量、および、Ｂの含有量を所定範囲とすることによって、軟磁性粉体の結晶磁気異方性定数を低下させることにより透磁率を向上させ、磁束密度が向上する。また、軟磁性粉体を用いて製造される軟磁性成形体において、成形本体部同士を接合する成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）が均一なものとなる。
【００１８】
請求項４に係る軟磁性成形体は、請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の軟磁性粉体から製造された軟磁性成形体であって、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる成形本体部と、前記成形本体部の表面を被覆し、前記成形本体部同士を接合する成形酸化物被膜とを備え、前記成形酸化物被膜が、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物とＢの酸化物との混合物とからなることを特徴とする。
【００１９】
前記構成によれば、成形本体部がＡｌ、Ｓｉ等を含むため、これから製造される軟磁性成形体の結晶磁気異方性定数を低下させることにより透磁率を向上させ、磁束密度が向上する。また、成形酸化物被膜がＡｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物からなることによって、絶縁性の高いものとなり、軟磁性成形体の比抵抗が高くなり、渦電流損（鉄損）が抑制される。
【００２０】
請求項５に係る軟磁性粉体の製造方法は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素を総含有量で１〜１５ａｔ％、Ｂを含有量で０．１〜４ａｔ％含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる金属原料を使用し、アトマイズ法を用いて前記金属原料を粉体化したことを特徴とする。
【００２１】
前記手順によれば、アトマイズ法を用いることによって、圧縮性に優れ、かつ反磁場係数の小さい軟磁性粉体を製造することが可能となる。また、金属原料がＡｌ、Ｓｉ等およびＢを含むことによって、ヒステリシス損および渦電流損が抑制された軟磁性粉体を製造することが可能となる。また、金属原料が所定量のＡｌ、Ｓｉ等およびＢを含有することによって、ヒステリシス損および渦電流損がさらに抑制された軟磁性粉体を製造することが可能となる。
【００２４】
請求項６に係る軟磁性粉体の製造方法は、請求項５で製造された軟磁性粉体に、前記Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素に対しては酸化性雰囲気である雰囲気下で、６００〜８００℃の熱処理を施すことを特徴とする。
【００２５】
前記手順によれば、軟磁性粉体に所定の熱処理を施すことによって、Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物からなり、粉体本体部の表面を被覆する酸化物被膜を形成させることができる。
【００２６】
請求項７に係る軟磁性粉体の製造方法は、請求項５で製造された軟磁性粉体に、前記Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素およびＢに対しては酸化性雰囲気である雰囲気下で、１１５０〜１２００℃の熱処理を施すことを特徴とする。
【００２７】
前記手順によれば、軟磁性粉体に所定の熱処理を施すことによって、Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物からなり、粉体本体部の表面を被覆する酸化物被膜と、Ｂの酸化物からなり、粉体本体部および酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）の表面を被覆する酸化物被膜を形成させることができる。
【００２８】
請求項８に係る軟磁性成形体の製造方法は、請求項５ないし請求項７のいずれか一項で製造された軟磁性粉体を加熱加圧成形し、その後、前記Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、前記Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素およびＢに対しては酸化性雰囲気であり、かつ、１１５０〜１３００℃である雰囲気下で、液相焼結すること特徴とする。
【００２９】
前記手順によれば、軟磁性粉体を加熱加圧成形後に、所定の液相焼結を施すことによって、成形本体部同士の間に絶縁性の高い成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）を形成させることができる。また、成形時に導入された歪が解放されると共に、結晶構造がα相からγ相に変態して結晶粒が粗大化するため、ヒステリシス損（鉄損）が抑制される。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の軟磁性粉体によれば、Ａｌ、Ｓｉ等とＢとを含むことによって、この軟磁性粉体から製造される軟磁性成形体の磁気特性が優れたものとなる。特に、軟磁性成形体の鉄損が小さくなる。また、粉体本体部を被覆するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物からなる酸化物被膜、または、粉体本体部を被覆するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物からなる酸化物被膜とＢの酸化物からなる酸化物被膜を備えることによって、軟磁性成形体の磁気特性がさらに優れたものとなる。さらに、軟磁性粉体に含有されるＡｌ、Ｓｉ等の総含有量、および、Ｂの含有量を所定範囲とすることによって、軟磁性成形体の磁気特性がさらに優れたものとなる。
【００３１】
本発明に係る軟磁性成形体によれば、Ａｌ，Ｓｉ等を含む成形本体部と、その成形本体部の表面を被覆し、成形本体部同士を接合するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物からなる成形酸化物被膜とを備えることによって、磁気特性が優れたものとなる。特に、軟磁性成形体の鉄損が小さくなる。
【００３２】
本発明に係る軟磁性粉体の製造方法によれば、Ａｌ，Ｓｉ等およびＢを含む金属原料をアトマイズ法で粉体化することによって、磁気特性に優れた、特に、鉄損が小さい軟磁性成形体を得ることが可能な軟磁性粉体が製造される。また、金属原料が所定量のＡｌ、Ｓｉ等およびＢを含有すること、さらに、製造された軟磁性粉体に所定の熱処理を施すことによって、磁気特性がさらに優れた軟磁性成形体を得ることが可能な軟磁性粉体が製造される。
【００３３】
本発明に係る軟磁性成形体の製造方法によれば、加熱加圧成形後、所定条件で液相焼結することによって、磁気特性に優れた、特に、鉄損が小さい軟磁性成形体が製造される。また、本発明に係る軟磁性成形体の製造方法によれば、液相焼結によって絶縁性の高い酸化物被膜を形成させる。そのため、従来のように、絶縁性の高い被膜（高抵抗物質）の破壊防止のために、リン酸系処理液を塗布する必要がなくなる。また、軟磁性粉体の焼鈍時、または、軟磁性成形体の製造（液相焼結）時に絶縁性の高い被膜が破壊されることがない。その結果、軟磁性成形体の生産性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
本発明に係る軟磁性粉体、軟磁性成形体およびそれらの製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。図１（ａ）〜（ｃ）は、軟磁性粉体の構成を示す模式図、図２（ａ）〜（ｃ）は、軟磁性成形体の製造方法を模式的に説明する説明図である。
【００３５】
＜軟磁性粉体＞
まず、軟磁性粉体の第１の実施形態について説明する。
図１（ａ）に示すように、軟磁性粉体（以下、粉体と称することがある）１は、鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択された少なくとも一種の元素（以下、Ａｌ、Ｓｉ等と称することがある）と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる。
【００３６】
粉体１は球状（丸い球形を指すばかりでなく、小さな粒子が凝集付着した異形状の球状粒子を含む）の粒子であって、その平均粒径は、この粉体１を用いて製造される軟磁性成形体（以下、成形体と称することがある。図２（ｃ）参照）１０の透磁率と保磁力、絶縁性に大きく影響し、４５〜３００μｍであることが好ましい。平均粒径が４５μｍ未満であると、成形体１０の透磁率が低下しやすい。一方、平均粒径が３００μｍを超えると、粉体１が金型の細部に充填されにくくなるほか、粉体１から製造される成形本体部１０ａ内での変形が大きく、成形本体部１０ａ間に形成される成形酸化物被膜１０ｂが破壊されやすくなり、成形体１０の絶縁性が低下しやすい。
【００３７】
粉体１は、前記したＡｌ、Ｓｉ等の総含有量が１〜１５ａｔ％、かつ、Ｂの含有量が０．１〜４ａｔ％であることが好ましい。そして、含有量の数値限定理由については以下のとおりである。
【００３８】
Ａｌ、Ｓｉ等は、Ｆｅの結晶磁気異方性定数を小さくする元素であって、この粉体１を用いて製造される成形体１０の結晶磁気異方性定数を低下させ、透磁率が向上するほか保磁力低減によってヒステリシス損（鉄損）が低減する効果がある。
【００３９】
そして、Ａｌ、Ｓｉ等の総含有量が１ａｔ％未満であると、成形体１０（粉体１）の結晶磁気異方性定数の低下が小さく、保磁力低減によるヒステリシス損（鉄損）低減の効果が小さくなりやすい。一方、Ａｌ、Ｓｉ等の総含有量が１５ａｔ％を超えると、粉体１において、磁性を担うＦｅ原子の量が少なくなり、粉体１の磁束密度が低下しやすい。また、固溶強化により粉体１が硬くなるため、この粉体１を用いて製造される成形体１０の密度の低下を引き起こし、成形体１０の磁束密度が低下しやすい。したがって、Ａｌ、Ｓｉ等の総含有量は、１〜１５ａｔ％が好ましい。
【００４０】
Ｂは、この粉体１を用いて成形体１０を製造（成形、液相焼結）する際、焼結時に液相となって粉体１の内部から染み出し、図２(ｃ)に示すように、成形本体部１０ａの表面を被覆し、成形本体部１０ａ同士を接合する絶縁性の高い成形酸化物被膜１０ｂ（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）の構成成分の１つとなる。成形酸化物被膜１０ｂの形成によって、成形体１０の比抵抗が高くなり、渦電流損（鉄損）が低減する効果がある。なお、成形体１０が高磁気特性を発現するためには、絶縁性の高い成形酸化物被膜１０ｂの量が少なく、かつ、成形本体部１０ａの表面に均一に被覆されていることが重要である。
【００４１】
そして、Ｂの含有量が０．１ａｔ％未満であると、δ相の固溶限外となり、焼結時に液相となって染み出すＢ量が少なすぎるため、成形体１０において成形本体部１０ａの表面を均一に被覆することが困難になりやすい。その結果、成形体１０の比抵抗の増加が見られず、渦電流損（鉄損）が低減しにくい。一方、Ｂの含有量が４ａｔ％を超えると、液相となって染み出すＢ量が多すぎるため、均一被覆は十分に達成されるが、成形酸化物被膜１０ｂの厚さが厚くなる。その結果、成形本体部１０ａ間のギャップが大きくなるため、成形体１０の透磁率が低下し、その結果として磁束密度が低下しやすい。また、成形本体部１０ａの内部に金属間化合物（Ｆｅ２Ｂ）が析出するため、成形体１０の磁気特性が低下しやすい。したがって、Ｂの含有量は、０．１〜４ａｔ％が好ましい。
【００４２】
粉体１は、不可避的不純物として、例えば、Ｍｎ，Ｐ，Ｓ，Ｃ，Ｃｕ等を含有してもよい。そして、その含有量としては０．１ａｔ％以下であれば、本発明に係る粉体１の磁気特性に影響を与えない。
【００４３】
軟磁性粉体の第２の実施形態について説明する。
図１（ｂ）に示すように、軟磁性粉体（粉体）１ａは、鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部２ａと、粉体本体部２ａの表面を被覆し、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物からなる酸化物被膜３ａとを備える。なお、軟磁性粉体１ａにおいて、粉体本体部２ａについては、前記第１の実施形態（粉体１）と同様であるので、説明を省略する。
【００４４】
酸化物被膜３ａは、後記するように、第１の実施形態である粉体１に所定の熱処理、具体的には酸化性雰囲気で６００〜８００℃（１０分〜２時間）の熱処理を施すことによって、形成される。そして、酸化物被膜３ａは、粉体１を構成するＡｌ、Ｓｉ等の一部が酸化したもので、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＭｏＯ２等である。
【００４５】
酸化物被膜３ａは、その厚さが０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。厚さが０．０１μｍ未満であると、成形体１０において成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）１０ｂが成形本体部１０ａを均一に被覆することが困難になりやすい（図２（ｃ）参照）。その結果、成形体１０の比抵抗の増加が見られず、渦電流損（鉄損）が低減しにくい。一方、厚さが０．５μｍを超えると、成形体１０において成形本体部１０ａ間のギャップが大きくなり、透磁率が低下しやすく、その結果として磁束密度が低下しやすい。
【００４６】
粉体１ａ、すなわち、粉体本体部２ａおよび酸化物被膜３ａに含まれるＡｌ、Ｓｉ等の含有量は、総含有量で１〜１５ａｔ％であることが好ましい。また、粉体１ａ、すなわち、粉体本体部２ａに含まれるＢの含有量は、０．１〜４ａｔ％であることが好ましい。そして、含有量の数値限定理由については前記とおりである。
【００４７】
軟磁性粉体の第３の実施形態について説明する。
図１（ｃ）に示すように、軟磁性粉体（粉体）１ｂは、鉄を主成分とする鉄合金からなる軟磁性粉体であって、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部２ｂと、粉体本体部２ｂの表面を被覆し、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物とからなる酸化物被膜３ａと、Ｂの酸化物からなる酸化物被膜３ｂとを備える。なお、軟磁性粉体１ｂにおいて、粉体本体部２ｂは、基本的にＢが含まれていないこと以外は、前記第１、２の実施形態（粉体１、粉体１ａの粉体本体部２ａ）と同様であるので、説明を省略する。ただし、粉体本体部２ｂには少量のＢが含まれている場合がある。すなわち、後記する酸化物被膜３ａおよび酸化物被膜３ｂを形成するための熱処理において、熱処理条件（熱処理温度、処理時間）が下限に近い場合には、粉体１からほとんどのＢが染み出て酸化物被膜３ｂを形成するが、粉体本体部２ｂに少量のＢが固溶した状態で残存することがある。
【００４８】
酸化物被膜３ａおよび酸化物被膜３ｂは、後記するように、第１の実施形態である軟磁性粉体１に所定の熱処理、具体的には酸化性雰囲気で１１５０〜１２００℃（１０分〜２時間）の熱処理を施すことによって、形成される。そして、酸化物被膜３ａは、粉体１を構成するＡｌ、Ｓｉ等の一部が酸化したもので、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＭｏＯ２等である。また、酸化物被膜３ｂは、粉体１から染み出したＢが酸化したＢ２Ｏ３等である。
【００４９】
酸化物被膜３ｂは、その厚さが０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。厚さが０．０１μｍ未満であると、成形体１０において成形酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物とＢの酸化物との混合物）１０ｂが成形本体部１０ａを均一に被覆することが困難になりやすい（図２（ｃ）参照）。その結果、成形体１０の比抵抗の増加が見られず、渦電流損（鉄損）が低減しにくい。一方、厚さが０．５μｍを超えると、成形体１０において成形本体部１０ａ間のギャップが大きくなり、透磁率が低下しやすく、その結果として磁束密度が低下しやすい。なお、酸化物被膜３ａの厚さは前記軟磁性粉体１ａと同様である。
【００５０】
粉体１ｂ、すなわち、粉体本体部２ｂおよび酸化物被膜３ａに含まれるＡｌ、Ｓｉ等の含有量は、総含有量で１〜１５ａｔ％であることが好ましい。また、粉体１ｂ、すなわち、酸化物被膜３ｂに含まれるＢの含有量は、０．１〜４ａｔ％であることが好ましい。そして、含有量の数値限定理由については前記とおりである。
【００５１】
＜軟磁性成形体＞
次に、軟磁性成形体について説明する。
図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、軟磁性成形体１０は、前記軟磁性粉体１、１ａ、１ｂから製造されたものであって、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる成形本体部１０ａと、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素の酸化物とＢの酸化物との混合物とからなる成形酸化物被膜１０ｂとを備える。なお、成形本体部１０ａは、前記軟磁性粉体１、粉体本体部２ａ（軟磁性粉体１ａ）または粉体本体部２ｂ（軟磁性粉体１ｂ）から後記する加圧成形、液相焼結によって製造され、実質的にＢを含まないこと以外は、軟磁性粉体１、粉体本体部２ａと構成において同一であるため説明を省略するが、その結晶粒径は、後記する液相焼結によって、粗大化している。
【００５２】
成形酸化物被膜１０ｂは、成形本体部１０ａの表面を均一に被覆し、成形本体部１０ａ同士を接合するもので、前記２種の酸化物の混合物からなることによって、高い絶縁性を有するものである。この絶縁被膜として機能する成形酸化物被膜１０ｂが形成されることによって、軟磁性成形体１０の比抵抗が高くなり、渦電流損（鉄損）が小さくなる。そして、成形酸化物被膜１０ｂは、後記する液相焼結によって形成される。
【００５３】
成形酸化物被膜１０ｂは、その厚さが０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。厚さが０．０１μｍ未満であると、成形体１０において成形酸化物被膜１０ｂが成形本体部１０ａを均一に被覆することが困難になりやすい。その結果、成形体１０の比抵抗の増加が見られず、渦電流損（鉄損）が低減しにくい。一方、厚さが０．５μｍを超えると、成形体１０において成形本体部１０ａ間のギャップが大きくなり、透磁率が低下しやすく、その結果として磁束密度が低下しやすい。
【００５４】
＜軟磁性粉体の製造方法＞
次に、本発明に係る軟磁性粉体の製造方法について説明する。
軟磁性粉体の製造方法において、第１の方法は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Ｂとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる金属原料を使用し、アトマイズ法、好ましくは水アトマイズ法またはガスアトマイズ法を用いて粉体化するものである。なお、金属原料は、Ａｌ、Ｓｉ等を１〜１５ａｔ％、Ｂを０．１〜４ａｔ％含むものが好ましい。なお、この製造方法によって、図１（ａ）に示す軟磁性粉体１が製造される。
【００５５】
アトマイズ法は、金属原料を溶解し、その溶融金属を直径２〜２０ｍｍのノズルより溶融金属流として流下させ、それに５０〜８００ｋｇ／ｃｍ２の高圧媒体を噴霧ノズルより噴射させて溶融金属流を粒滴化し、粉体として固化させるものである。水アトマイズ法は高圧媒体として水を用いるもの、ガスアトマイズ法は高圧媒体として、例えば、アルゴン等の不活性ガスを用いるものである。このアトマイズ法により得られる粉体は、成分組成の制御が容易で希望する成分のものがつくれること、さらに高圧媒体によって急冷されるために、粉体の形状が不規則状となり圧縮性に優れ、かつ反磁場係数が小さいものができる。そのため、圧粉磁心用に適した粉体を製造することができる。
【００５６】
第２の方法は、前記第１の方法で製造された軟磁性粉体１に、Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、Ａｌ、Ｓｉ等に対しては酸化性雰囲気である雰囲気下で６００〜８００℃の熱処理を施すものである。なお、この製造方法によって、図１（ｂ）に示す軟磁性粉体１ａが製造される。
【００５７】
熱処理温度の数値限定理由は以下のとおりである。熱処理温度が６００℃未満では、Ａｌ、Ｓｉ等の酸化速度が遅く、十分な酸化物被膜３ａ（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）が形成されない。一方、８００℃を超えると、軟磁性粉体１ａが焼結し始めるため、酸化物被膜３ａの形成後の解砕時の剥離により酸化被膜３ａのダメージが大きくなる。したがって、熱処理温度は６００〜８００℃で行う必要がある。
【００５８】
軟磁性粉体１を、Ｆｅに対しては還元性雰囲気下で熱処理することによって、Ｆｅの酸化を抑制することができ、製造される軟磁性粉体１ａの磁気特性が維持される。また、Ａｌ、Ｓｉ等に対しては酸化性雰囲気下で熱処理することによって、軟磁性粉体１を構成するＡｌ、Ｓｉ等を酸化することができ、粉体本体部２ａの表面を被覆する絶縁性の高い酸化物被膜３ａが形成される。このような雰囲気の好ましい条件としては、酸素分圧が１０−３２〜１０−２６ａｔｍ、（水素分圧／水蒸気分圧）＝１〜１０８、または、（一酸化炭素分圧／二酸化炭素分圧）＝１〜１０８である。
【００５９】
熱処理は、生産性の観点から圧力は大気圧で施すことが好ましい。また、処理時間は１０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がさらに好ましい。さらに、処理プロセスは、軟磁性粉体１を攪拌しながら熱処理することが好ましい。軟磁性粉体１を攪拌することで、粉体１の表面が均一に雰囲気と接触するため、酸化物被膜３ａが均一形成しやすくなる。
【００６０】
第３の方法は、前記第１の方法で製造された軟磁性粉体１に、Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、Ａｌ、Ｓｉ等およびＢには酸化性雰囲気である雰囲気下で１１５０〜１２００℃の熱処理を施すものである。なお、この製造方法によって、図１（ｃ）に示す軟磁性粉体１ｂが製造される。
【００６１】
熱処理温度の数値限定理由は以下のとおりである。熱処理温度が１１５０℃未満では、共晶温度（１１５０℃）未満であるため、Ｂが粉体本体部２ｂの表面に液相として染み出さず、十分な酸化物被膜３ｂ（Ｂの酸化物）が形成されない。一方、１２００℃を超えると、軟磁性粉体１ｂ同士の焼結が進み、液相として染み出したＢの酸化物被膜３ｂによる粉体本体部２ｂの被覆が不十分になる。したがって、熱処理温度は１１５０〜１２００℃で行う必要がある。
【００６２】
軟磁性粉体１を、Ｆｅに対しては還元性雰囲気下で熱処理することによって、Ｆｅの酸化を抑制することができ、製造される軟磁性粉体１ｂの磁気特性が維持される。また、Ａｌ、Ｓｉ等およびＢに対しては酸化性雰囲気下で熱処理することによって、軟磁性粉体１を構成するＡｌ、Ｓｉ等およびＢを酸化することができ、粉体本体部２ｂの表面を被覆する絶縁性の高い酸化物被膜（Ａｌ、Ｓｉ等の酸化物）３ａおよび酸化物被膜（Ｂの酸化物）３ｂが形成される。このような雰囲気の好ましい条件としては、酸素分圧が１０−３２〜１０−２６ａｔｍ、（水素分圧／水蒸気分圧）＝１〜１０８、または、（一酸化炭素分圧／二酸化炭素分圧）＝１〜１０８である。
【００６３】
熱処理は、生産性の観点から圧力は大気圧で施すことが好ましい。また、処理時間は１０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がさらに好ましい。さらに、処理プロセスは、軟磁性粉体１を攪拌しながら熱処理することが好ましい。軟磁性粉体１を攪拌することで、粉体本体部２ｂの表面が均一に雰囲気と接触するため、酸化物被膜３ａおよび酸化物被膜３ｂが均一形成しやすくなる。
【００６４】
＜軟磁性成形体の製造方法＞
次に、本発明に係る軟磁性成形体の製造方法について説明する。
軟磁性成形体の製造方法は、図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、前記製造方法で製造された軟磁性粉体１、１ａ、１ｂを加圧成形して成形中間体９を製造し、その後、成形中間体９を液相焼結するものである。
【００６５】
加熱加圧成形の成形条件は、製造される成形体１０の形状、特性に応じて適宜選択されるが、例えば、圧粉磁心（軟磁性成形体）を製造する際には、成形温度１５０〜６００℃、成形圧力１〜１５ｔｏｎ／ｃｍ２で行うことが好ましい。
【００６６】
液相焼結は、Ｆｅに対しては還元性雰囲気であると共に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、ＭｏおよびＧｅからなる群から選択される少なくとも一種の元素およびＢに対しては酸化性雰囲気であり、かつ、１１５０〜１３００℃である雰囲気下で行う。
【００６７】
このような雰囲気下で液相焼結を行うことによって、軟磁性粉体１、１ａ、１ｂを構成するＦｅの酸化が抑制されるため、製造される成形体１０の磁気特性が維持される。また、軟磁性粉体１、１ａ、１ｂを構成するＡｌ、Ｓｉ等およびＢが酸化される。そして、それぞれの酸化物の混合物からなり、成形本体部１０ａの表面を均一に被覆して成形本体部１０ａ同士を接合する絶縁性の高い成形酸化物被膜１０ｂを形成する。また、このような雰囲気の好ましい条件としては、酸素分圧１０−２５〜１０−１６ａｔｍ、（水素分圧／水蒸気分圧）＝１〜１０５、または、（一酸化炭素分圧／二酸化炭素分圧）＝１〜１０６である。
【００６８】
焼結温度の数値限定理由は以下のとおりである。焼結温度が１１５０℃未満であると、焼結温度が共晶温度（１１５０℃）未満となるため、軟磁性粉体１、１ａ、１ｂを構成するＢが液相となって出現せず、成形酸化物被膜１０ｂが形成されない。また、焼結温度がＦｅ合金のα−γ変態温度を超えないため、成形体１０の結晶粒が粗大化しない。なお、Ｆｅ合金は、α−γ変態温度を超えるとγ相でその結晶構造は面心立方（ＦＣＣ）構造となり、α−γ変態温度未満ではα相でその結晶構造は体心立方（ＢＣＣ）構造となる。α−γ変態では、結晶構造が大きく変わるので、原子の移動が大きく、結晶粒を粗大化させることが可能となる。
一方、焼結温度が１３００℃を超えると、成形本体部１０ａ同士の焼結が進み、金属結合が形成され、電気的に導通するため、渦電流損（鉄損）が大きくなる。
したがって、液相焼結は１１５０〜１３００℃で行う必要がある。
【００６９】
また、焼結条件としては、粉末冶金における一般的な焼結条件と同一で、焼結時間は３０分〜２時間程度、焼結圧力は大気圧で実施することが好ましい。
【実施例】
【００７０】
（実施例Ｎｏ．１〜９）
表１に示す組成の金属原料（Ｎｏ．１〜９）を用いてガスアトマイズ法で表２に示す組成の軟磁性粉体（平均粒径約１００μｍ、Ｎｏ．１〜９）を製造した。そして、これらの軟磁性粉体を表２に示す成形温度、成形圧力で成形し、成形中間体を製造した。その後、これらの成形中間体を、表２に示す熱処理雰囲気下で、表２に示す温度、時間で液相焼結を行い、直径３０ｍｍ×厚さ１５ｍｍの軟磁性成形体（Ｎｏ．１〜９）を製造した。ここで、表１、表２の組成において、Ｆｅ−１ａｔ％Ａｌ−０．２ａｔ％Ｂは、Ａｌを１ａｔ％、Ｂを０．２ａｔ％含有し、残部がＦｅである鉄合金を意味する。
【００７１】
（比較例Ｎｏ．１０〜１７）
表１に示す組成の金属原料（Ｎｏ．１０〜１７）を用いてガスアトマイズ法で粉体（粒径平均粒径約１００μｍ、Ｎｏ．１０〜１７）を製造した。そして、これらの粉体に、６５０℃×３０分間の熱処理を施し、粉体表面にＡｌ、Ｓｉの酸化物からなる酸化物被膜を形成させた表２に示す組成の軟磁性粉体（Ｎｏ．１０〜１７）を製造した。ただし、軟磁性粉体（Ｎｏ．１２、１３、１６、１７）については、酸化物被膜の表面にリン酸処理液を塗布、乾燥して、軟磁性粉体の最表面にリン酸系処理被膜を形成させた。これらの軟磁性粉体（Ｎｏ．１０〜１７）を表２に示す成形温度、成形圧力で成形し、直径３０ｍｍ×厚さ１５ｍｍの軟磁性成形体（Ｎｏ．１０〜１７）を製造した。
【００７２】
次に、製造した軟磁性成形体（Ｎｏ．１〜１７）の密度、磁束密度、比抵抗および鉄損を、以下の方法で測定した。その結果を表２に示す。
【００７３】
（密度）
各軟磁性成形体の質量を電子上皿天秤により測定すると共に、軟磁性成形体の寸法をマイクロメータにて測定し体積を求めた。そして、密度＝質量／体積を算出した。
【００７４】
（磁束密度）
各軟磁性成形体から直径φ１０ｍｍ×長さ１０ｍｍの円柱形の試料をワイヤーカットにより作製した。これを直流磁化特性自動記録装置（理研電子（株）製，BHU-60）の電磁石に挟んで、印加磁場６２５Ｏｅ（エルステッド）を負荷し、そのときの磁束密度を測定した。
【００７５】
（比抵抗）
各軟磁性成形体から厚み（ａ）が２ｍｍ、幅（ｂ）が３ｍｍ、長さ（ｃ）が１２ｍｍの直方体形状の試料２０（図３参照）をマイクロカッターにより作製した。この表面をバフ研磨により鏡面仕上げした後，４端子法により測定した。４端子法は、図４に示すごとく、試料２０に所定の電流を流し，その先端面２０Ａと後端面２０Ｂとの間の電流値と，上面２０Ｃの中央において間隔（ｄ）＝１ｍｍの間の電圧値とを求め，これらの値から算出した。
【００７６】
（鉄損）
各軟磁性成形体から内径φ１１ｍｍ×外径φ１５ｍｍ×長さ２ｍｍのリング状の試料をワイヤーカットにより作製し、これに１次側、２次側共に５０ターンのコイルを巻いた。この試料を用いて、交流磁気特性測定装置（岩崎通信機（株）製，Ｂ−Ｈａｎａｌｙｚｅｒ  ＳＹ−８２３２）で、１０ｋＨｚ，５０ｍＴの場合についての体積鉄損（鉄損）を測定した。
【００７７】
【表１】
0004971886.tif 000002
【００７８】
【表２】
0004971886.tif 000003
【００７９】
表２の結果から、実施例（Ｎｏ１〜９）の軟磁性成形体は、比較例（Ｎｏ．１０〜１７）の軟磁性成形体に比べて、比抵抗が高く、鉄損が小さいことが確認された。
【００８０】
（実施例Ｎｏ．１８〜２６）
表２に示す組成の軟磁性粉体（Ｎｏ．１〜９）に、６５０℃×３０分間の熱処理（水素分圧／水蒸気分圧＝１０３雰囲気下）を施し、粉体表面にＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、ＣｒまたはＭｏの酸化物からなる酸化物被膜を形成させた表３に示す組成の軟磁性粉体（平均粒径約１００μｍ、Ｎｏ．１８〜２６）を製造した。そして、これらの酸化物被膜が形成された軟磁性粉体を表３に示す成形温度、成形圧力で成形し、成形中間体を製造した。その後、これらの成形中間体を、表３に示す熱処理雰囲気下で、表３に示す熱処理温度、時間で液相焼結を行い、直径３０ｍｍ×厚さ１５ｍｍの軟磁性成形体（Ｎｏ．１８〜２６）を製造した。
【００８１】
次に、製造した軟磁性成形体（Ｎｏ．１８〜２６）の密度、磁束密度、比抵抗および鉄損を前記の方法で測定した。その結果を表３に示す。
【００８２】
【表３】
0004971886.tif 000004
【００８３】
表３の結果から、実施例（Ｎｏ１８〜２６）の軟磁性成形体は、表２に記載された比較例（Ｎｏ．１０〜１７）の軟磁性成形体に比べて、比抵抗が高く、鉄損が小さいことが確認された。
【００８４】
（実施例Ｎｏ．２７〜３５）
表２に示す組成の軟磁性粉体（Ｎｏ．１〜９）に、１１５０℃×３０分間の熱処理（水素分圧／水蒸気分圧＝１０３雰囲気下）を施し、粉体表面にＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、ＣｒまたはＭｏの酸化物からなる酸化物被膜と、Ｂの酸化物からなる酸化物被膜とを形成させた表４に示す組成の軟磁性粉体（平均粒径約１００μｍ、Ｎｏ．２７〜３５）を製造した。そして、これらの酸化物被膜が形成された軟磁性粉体を表４に示す成形温度、成形圧力で成形し、成形中間体を製造した。その後、これらの成形中間体を、表４に示す熱処理雰囲気下で、表４に示す熱処理温度、時間で液相焼結を行い、直径３０ｍｍ×厚さ１５ｍｍの軟磁性成形体（Ｎｏ．２７〜３５）を製造した。
【００８５】
次に、製造した軟磁性成形体（Ｎｏ．２７〜３５）の密度、磁束密度、比抵抗および鉄損を前記の方法で測定した。その結果を表４に示す。
【００８６】
【表４】
0004971886.tif 000005
【００８７】
表４の結果から、実施例（Ｎｏ２７〜３５）の軟磁性成形体は、表２に記載された比較例（Ｎｏ．１０〜１７）の軟磁性成形体に比べて、比抵抗が高く、鉄損が小さいことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】（ａ）〜（ｃ）は、本発明に係る軟磁性粉体の構成を示す模式図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、軟磁性成形体の製造方法を模式的に説明する説明図である。
【図３】比抵抗を測定する試料の斜視図である。
【図４】比抵抗の測定方法（４端子法）を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００８９】
１、１ａ、１ｂ  軟磁性粉体（粉体）
２ａ、２ｂ  粉体本体部
３ａ、３ｂ  酸化物被膜
１０    軟磁性成形体（成形体）
１０ａ  成形本体部
１０ｂ  成形酸化物被膜
【図１】
0004971886.tif 000006
【図２】
0004971886.tif 000007
【図３】
0004971886.tif 000008
【図４】
0004971886.tif 000009