(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の測定装置によりフォトマスクを試料としてその短寸法を測定した後、該測定により得られた第１の測定データ群を、前記所定の測定装置とは異なる特定の測定装置により測定した場合の測定データ群に相当する第２の測定データ群に補正する測定データの補正方法であって、前記所定の測定装置とは別の補正処理部にて、前記第１の測定データ群を処理用データとして、該処理用データに対し、複数の補正ファイルを用いた補間方法あるいは補外方法による補正を、段階的に行なう、多段階データ補正処理を施し、前記第１の測定データ群から、前記第２の測定データ群を得るものであり、前記所定の測定装置が複数ある場合において、予め、各測定装置毎に、該各測定装置により測定した測定データ値と、前記所定の測定装置及び前記特定の測定装置とは異なる測定装置であって基準となる測定装置により測定した基準測定データ値とを、対応させたデータテーブルからなる補正ファイルを作成しておき、該補正ファイルを用いた補間方法あるいは補外方法により、前記第１の測定データ群の各測定データを、前記基準となる測定装置で測定した場合の測定データ値に相当するデータ値に換算した後、これらを前記基準となる測定装置での基準測定データ群として扱い、更に、前記基準測定データ群の各データ値から、前記第２の測定データ群の各測定データ値を得るための、補正ファイルを用いた補間方法あるいは補外方法により、補正を行ない、前記基準測定データ群から、第２の測定データ群を得ることを特徴とする測定データの補正方法。
【請求項２】
所定の測定装置によりフォトマスクを試料としてその短寸法を測定した後、前記所定の測定装置による測定により得られた第１の測定データ群を、前記所定の測定装置とは異なる特定の測定装置により測定した場合の測定データ群に相当する第２の測定データ群に補正する機能を備えた測定処理装置であって、前記第１の測定データ群を補正する際に用いられるデータテーブルからなる補正ファイルを複数設けた補正ファイル群と、該補正ファイルを用いて補正のための演算を多段階で行なう演算部とを有する補正処理部とを備え、前記所定の測定装置が複数ある場合において、前記補正ファイルは、各測定装置毎に、該各測定装置で測定した場合の測定データ値と、前記所定の測定装置及び前記特定の測定装置とは異なる測定装置であって基準となる測定装置で測定した場合の測定データ値とを、対応させたデータテーブルからなる第１の補正ファイルと、前記基準となる測定装置で測定した場合の測定データ値と、前記特定の測定装置で測定した場合の測定データ値とを、対応させたデータテーブルからなる第２の補正ファイルとからなり、前記補正処理部は、前記第１の補正ファイルを使用して前記第１の測定データ群から前記基準となる測定装置での基準測定データ群を得た後、前記第２の補正ファイルを使用して前記基準測定データ群から前記第２の測定データ群を得ることを特徴とする測定処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、所定の測定装置により試料を測定した後、該測定により得られ測定データ群を、特定の座標系のデータに補正する方法と、これを実施するための測定処理装置に関する。
特に、フォトマスク等の短寸法測定装置などに代表される測定装置により得られるデータを補正する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体素子（チップ）の高密度化は激しく、０．３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭの量産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５６ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。
更に、最近では、コスト低減を目指したチップ縮小が著しく、６４ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルールまで微細化して、あるいは、２５６ＭＤＲＡＭを０．１８設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行っている。
０．１８μｍ設計ルールは開発完了し、２０００年には０．１５μｍ設計ルールが開発完了予定とされている。
このような中、ＩＣやＬＳＩなどの半導体素子の回路パターンを形成する際の原版としてのフォトマスクについても、高精度、高品質のものが求められるようになってきた。
尚、ウエハへ直接縮小投影するためのフォトマスクをレチクルとも言う。
フォトマスクは、一般には、石英のガラス基板上にクロム、モリブデンなどを主体とした遮光層からなるパターンを配設したものであるが、その製造工程は長い。
そして、更に検査工程、修正工程等を経て所望のフォトマスクが得られる。
【０００３】
このように、フォトマスクについての、高精度、高品質が益々求められる中、フォトマスクの短寸法に代表されるような測定については、フォトマスク作製側は、測定装置により単にデータを取得するだけではなく、得られたデータをフォトマスク使用側の測定装置の読み値に合わせる作業を行う。
これは、フォトマスク作製側である製造元が、フォトマスク使用側である発注元に測定データを提出する場合、製造元での測定結果と発注元の測定結果が測定装置の読み値の違いにより異なっていたのでは、合否判定に極めて不都合が生じ、所望品質のフォトマスクを発注元が得ることができないためである。
このため、ある測定基準サンプルを設定し、一方の測定装置の読み値に他方の読み値を合わせる手法が取られており、この手法をデータ補正と呼んでいる。
尚、合わせる基準を世界標準値に設定し、お互いの装置をその基準に合わせる場合もあり、これを、特に、校正という言葉で表現することもある。
例えば、フォトマスク作製側の測定装置の座標系の測定データを、フォトマスク使用側の特定の座標系のデータに補正する作業が行われる。
この場合、フォトマスク作製側に複数の測定装置がある場合には、どの測定装置で測定しても、フォトマスク使用側の特定の座標系のデータに補正する必要がある。
尚、このように、同一サンプルを複数の測定装置で測定した場合に、測定装置による差がでないように、補正して合せることを、一般には、コリレーション取り（目合わせ作業）と呼んでいる。
【０００４】
何れにしても、フォトマスク作製側にて得られた測定データを、ある基準に基づいて補正する作業が必要になる訳である。
補正の方法としては、単純に一律のオフセットを加減算するものや、多項式に代表される任意の関係式に代入して補正結果を得るもの、あるいは双方の読み値をデータテーブルにし、そのテーブルを用いて入力データの存在区間を判別し、出力データを補間あるいは補外にて求め、直接的に補正結果を得るなど様々な方法がある。
通常、測定装置は、内部に補正テーブルを持っており、フォトマスク作製側の測定されたデータ（生値）から、次式の比例配分式で算出し、フォトマスク使用側の測定装置の読み値として出力するのが一般的な方法である。
フォトマスク作製側の測定値（生値）Ｖｘが区間［Ｖｘｉ、Ｖｘｊ］に存在しているならば、
Ｖｙ＝Ｖｙｉ＋（Ｖｙｊ−Ｖｙｉ）＊（Ｖｘ−Ｖｘｉ）／（Ｖｘｊ−Ｖｘｉ）
の比例配分式で求めることができる。
尚、フォトマスク作製側の測定値Ｖｘｉ、Ｖｘｊに対応するフォトマスク使用側の測定装置の測定値が、それぞれ、Ｖｙｉ、Ｖｙｊである。
【０００５】
係るコリレーションを取る際に、取るべき装置が複数台あった場合は、各々の装置が持っているリニアリティーが異なるために、全装置について基準機（原器という）とのコリレーションを取る必要がある。
特に、フォトマスク作製側は、それに加えて得意先ごとに固有の基準値とコリレーションを取る必要が有り、作成する補正ファイル数が膨大になり、その管理負荷が増大する。
具体的には、フォトマスク作製側とフォトマスク使用側間で同一マスクを用いてコリレーションを取る場合、且つ、フォトマスク作製側で複数の測定機を有する場合、得意先数×装置台数分の補正ファイルが存在し、各々個別に管理しなくてはならない。
また、得意先が増えた場合、あるいは測定装置が増えた場合には、管理すべき補正ファイルが積算的に増大することは言うまでもない。
【０００６】
さらに、近年の長・短寸法測定機にはＸ軸、Ｙ軸の測定機能を有するもの、あるいは上部に付設されたＣＣＤカメラを回転させて測定方向を回転するイメージローテータが使用されているのが一般的であるが、レンズのひずみ、およぴカメラのひずみから派生する傾向誤差等により、各軸の読み値が完全に一致しないという問題点を抱えている。
従って、０°と９０°を別々の補正ファイルで補正する必要が生じ、管理すべき補正ファイルが積算的に更に増大し、実際上管理不可能となる。
このため、正確な測定が望まれる場合は、測定対象物を９０度回転させてセットして測定するなどの対処が必要である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来、フォトマスク作製側の測定装置にて得られた測定データを、フォトマスク使用側の測定装置に合せ込む場合の、補正においては、補正用のファイルが増大化し、実用的でなくなり、この対応が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、フォトマスク作製側の測定装置にて得られた測定データを、フォトマスク使用側の測定装置に合せ込む場合、補正用のファイルが実用レベルとなる測定データの補正方法、およびこれを実施するための測定処理装置を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の測定データの補正方法は、所定の測定装置によりフォトマスクを試料としてその短寸法を測定した後、該測定により得られた第１の測定データ群を、前記所定の測定装置とは異なる特定の測定装置により測定した場合の測定データ群に相当する第２の測定データ群に補正する測定データの補正方法であって、前記所定の測定装置とは別の補正処理部にて、前記第１の測定データ群を処理用データとして、該処理用データに対し、複数の補正ファイルを用いた補間方法あるいは補外方法による補正を、段階的に行なう、多段階データ補正処理を施し、前記第１の測定データ群から、前記第２の測定データ群を得るものであり、前記所定の測定装置が複数ある場合において、予め、各測定装置毎に、該各測定装置により測定した測定データ値と、前記所定の測定装置及び前記特定の測定装置とは異なる測定装置であって基準となる測定装置により測定した基準測定データ値とを、対応させたデータテーブルからなる補正ファイルを作成しておき、該補正ファイルを用いた補間方法あるいは補外方法により、前記第１の測定データ群の各測定データを、前記基準となる測定装置で測定した場合の測定データ値に相当するデータ値に換算した後、これらを前記基準となる測定装置での基準測定データ群として扱い、更に、前記基準測定データ群の各データ値から、前記第２の測定データ群の各測定データ値を得るための、補正ファイルを用いた補間方法あるいは補外方法により、補正を行ない、前記基準測定データ群から、第２の測定データ群を得ることを特徴とするものである。
尚、ここで、「補正を、段階的に行なう」とは、はじめ、測定により得られ測定データ群を処理対象データとして、1 番目の補正を行ない、ｎが１以上の整数として、以下順に、ｎ番目の補正が施されたデータを、ｎ＋１番目の補正の処理対象データとして、順次、各補正を行なうことを意味する。
また、一般に、測定装置毎に、測定データが異なるが、以下、各測定装置のデータを、ここでは、その測定装置で測定した場合の測定データ、あるいは、その測定装置の座標系のデータ、あるいは、その測定装置の座標系によるデータ等とも言う。
データとしては、寸法や座標値等のデータである。
【０００９】
本発明の測定処理装置は、所定の測定装置によりフォトマスクを試料としてその短寸法を測定した後、前記所定の測定装置による測定により得られた第１の測定データ群を、前記所定の測定装置とは異なる特定の測定装置により測定した場合の測定データ群に相当する第２の測定データ群に補正する機能を備えた測定処理装置であって、前記第１の測定データ群を補正する際に用いられるデータテーブルからなる補正ファイルを複数設けた補正ファイル群と、該補正ファイルを用いて補正のための演算を多段階で行なう演算部とを有する補正処理部とを備え、前記所定の測定装置が複数ある場合において、前記補正ファイルは、各測定装置毎に、該各測定装置で測定した場合の測定データ値と、前記所定の測定装置及び前記特定の測定装置とは異なる測定装置であって基準となる測定装置で測定した場合の測定データ値とを、対応させたデータテーブルからなる第１の補正ファイルと、前記基準となる測定装置で測定した場合の測定データ値と、前記特定の測定装置で測定した場合の測定データ値とを、対応させたデータテーブルからなる第２の補正ファイルとからなり、前記補正処理部は、前記第１の補正ファイルを使用して前記第１の測定データ群から前記基準となる測定装置での基準測定データ群を得た後、前記第２の補正ファイルを使用して前記基準測定データ群から前記第２の測定データ群を得ることを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】
本発明の測定データの補正方法は、上記のような構成にすることによって、フォトマスク作製側の測定装置にて得られた測定データを、フォトマスク使用側の測定装置に合せ込む場合、補正用のファイルが実用レベルとなる測定データの補正方法の提供を可能としている。
フォトマスク作製側の測定装置が複数ある場合で、予め、各測定装置の座標系のデータ値と、基準となる測定装置の座標系のデータ値とを対応させたデータテーブルを作成しておき、該データテーブルを用いた補間方法あるいは補外方法により、測定により得られた測定データ群を、基準となる測定装置の座標系のデータに換算した後、これらを、基準となる測定装置での測定データ群として扱い、基準となる測定装置のデータ値から特定の座標系のデータ値を得るための、予め決められている算出方法にしたがい、補正を行ない、測定により得られ測定データ群から、特定の座標系の補正データ群を得ることにより、補正を行なうことができ、基準となる測定装置に対応した、予め決められている算出方法と、各測定装置毎の、その座標系のデータ値と、基準となる測定装置の座標系のデータ値とを対応させたデータテーブルとから補正を可能としている。
このように、フォトマスク作製側の測定装置が複数ある場合でも、全体としての補正用のデータベース（補正ファイル等）のデータ量を多くすることなく、補正を行なうことができる。
【００１１】
本発明の測定処理装置は、上記のような構成にすることによって、補正用のファイルが実用レベルとなる測定処理装置の提供を可能としている。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態例を、図に基づいて説明する。
図１は、本発明の測定データの補正方法の実施の形態の１例の概略フロー図で、図２（ａ）は、図１に示す補正ファイル３の１例を説明するための図で、図２（ｂ）は図１に示す補正ファイル１の１例を説明するための図で、図２（ｃ）は、図１に示す補正ファイル２の１例を説明するための図で、図３は、本発明の測定処理装置の実施の形態の１例の概略構成図である。
図１、図２、図３中、１１０は試料（フォトマスク）、１２０は測定部、１２１は測定装置１、１２２は測定装置２、１２３は測定装置３、１３１は測定データ１、１３２は測定データ２、１３３は測定データ３、１４０は補正ファイル群、１４１は補正ファイル１、１４２は補正ファイル２、１４３は補正ファイル３、１５０は補正データ、１６０は演算部、１７０は補正処理部である。
【００１３】
はじめに、本発明の測定データの補正方法の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
尚、図１中、Ｓ１１０〜Ｓ１５０は、処理ステップを示す。
図１は、フォトマスク作製側が、フォトマスクを試料として、その短寸法を測定する場合で、基準測定装置である測定装置１（１２１）と、それ以外の測定装置が２台（１２２、１２３）あり、それぞれの測定装置にて測定された測定データを、フォトマスク使用側である得意先の座標系に合せ、測定データを補正する際の、測定データの補正方法のフローを示したものであり、本例は、フォトマスク作製側の測定装置２（１２２）、測定装置３（１２３）の各測定データを得意先の特定の座標系のデータ値に補正する、測定データの補正方法の１例である。
即ち、図１の太線矢印のフローが本例の処理を表している。
簡単には、予め、測定装置２、測定装置３について、それぞれ、その座標系のデータ値と、基準となる測定装置１の座標系のデータ値とを対応させたデータテーブルからなる補正ファイル１、補正ファイル２を作成しておき、該補正ファイル１、補正ファイル２を用いた補間方法あるいは補外方法により、測定により得られた測定データ群を、基準となる測定装置の座標系のデータ値に換算した後、これらを、基準となる測定装置での測定データ群として扱い、基準となる測定装置に対応して予め決められている補正ファイル３を用いて演算処理を行なう算出方法にしたがい、補正を行ない、測定により得られ測定データ群から、得意先の特定の座標系の補正データ群を得るものである。
【００１４】
予め、基準装置である測定装置１（１２１）において、その座標系とフォトマスク使用側である得意先の座標系とを合せるための補正ファイル３（１４３）を準備しておく。
また、測定装置２（１２２）、測定装置３（１２３）について、それぞれ、その座標系と基準装置である測定装置１（１２１）の座標系とを合せるため、補正ファイル１（１４１）、補正ファイル２（１４２）を準備しておく。
これら補正ファイルについて、一般には、基準となる試料（フォトマスク）を用意して、その同じ箇所を測定することにより、同一箇所の読み値を互いに対応させたテーブルを得て、これを補正ファイルとして作成されている。
補正ファイル３（１４３）としては、例えば、図２（ａ）のように、得意先の座標系による短寸法値と、測定装置１（１２１）の座標系による短寸法値の相対関係をテーブルとして得ておく。
勿論、テーブルを、それぞれ、図２の▲１▼と、▲２▼〜▲５▼の１つで作成し、５個のテーブルにしても良い。
補正ファイル１（１４１）としては、例えば、図２（ｂ）のように、測定装置１（１２１）の座標系による短寸法値と、測定装置２（１２２）の座標系による短寸法値の相対関係をテーブルとして得ておく。
補正ファイル２（１４２）としては、例えば、図２（ｃ）のように、測定装置１（１２１）の座標系による短寸法値と、測定装置３（１２３）の座標系による短寸法値の相対関係をテーブルとして得ておく。
【００１５】
補正ファイル３（１４３）が作成されると、測定装置１（１２１）にて、試料１１０（Ｓ１１０）を測定し（Ｓ１２１）、得られた測定データ１（１３１、Ｓ１３１）は、補正ファイル３（１４３）を用いて、演算処理を施され（Ｓ１４１）、フォトマスク使用側である得意先の座標系のデータである補正データ１５０を得ることができる。（Ｓ１５０）
演算処理は、比例配分式にて、目的のデータを得るものである。
【００１６】
以下、測定装置２（１２２）による測定の場合のフローを説明する。
先ず、試料１１０（Ｓ１１０）を測定し（Ｓ１２２）、得られた測定データ１３２（Ｓ１３２）を、補正ファイル１４１を用いて、演算処理を施し（Ｓ１４２）、測定装置１（１２１）の座標系のデータである基準装置換算データ１３５を得る。（Ｓ１４４）
この場合も、演算処理は、比例配分式にて、目的のデータを得るものである。
次いで、得られた基準装置換算データ１３５に対し、補正ファイル３（１４３）を用い、ステップＳ１４１の演算処理と同様の演算処理を施し（Ｓ１４５）、フォトマスク使用側である得意先の座標系のデータである補正データ１５０を得る。（Ｓ１５０）
上記のように、測定装置２（１２２）による測定においては、補正を２段階で行なうことにより、その測定データを、フォトマスク使用側である得意先の座標系のデータである補正データ１５０を得ることができる。
【００１７】
測定装置３（１２３）による測定の場合のフローは、基本的に上記の測定装置２（１２２）による測定の場合と同じで、補正ファイル１４１が補正ファイル１４２に代わるだけで、ここでは説明を省く。
測定装置３（１２３）による測定においても、補正を２段階で行なうことにより、その測定データを、フォトマスク使用側である得意先の座標系のデータである補正データ１５０を得ることができる。
【００１８】
測定装置２（１２２）、測定装置３（１２３）以外に測定装置がある場合についても、それらの装置について、それぞれ、その座標系と測定装置１（１２１）の座標系とを合せるため、補正ファイルを準備しておくだけで、上記測定装置２（１２２）、測定装置３（１２３）におけるフローと同じフローで、補正データ１５０を得ることができる。
また、本例では、補正を２段階としたが、必要に応じ、３段階以上としても良い。
例えば、１段階目の補正を、同一測定装置におけるＸ軸、Ｙ軸の読み値の違いを補正するためのＸ−Ｙ補正、２段階目の補正を、測定装置の座標系のデータ値を、基準となる測定装置の座標系のデータ値に変換する補正、３段階目の補正を、基準となる測定装置の座標系のデータ値（あるいはこれに相当する変換されて得たデータ値）を得意先の特定の座標系のデータ値に置き換える補正を挙げることができる。
又、本例では、補正の方式（算出方式）として、データテーブルによる比例配分方式を採用しているが、必ずしもこれに限定されることない。
場合によっては、一部に単一オフセットを加算、減算する手段、あるいは任意の相関式を用いて換算値を算出する手段を含めてもかまわない。
【００１９】
次いで、本発明の測定処理装置の実施の形態の１例を、図３に基づいて説明する。
本例は、上記、図１に示すフローを実施するための装置で、基準装置である測定装置１（１２１）の他に、測定装置２（１２２）、測定装置３（１２３）により試料であるフォトマスクの短寸法を測定した後、該測定により得られ測定データ群を、得意先の特定の座標系のデータに補正する機能を備えた測定処理装置である。
試料を測定するための基準となる測定装置１（１２１）と、測定装置２（１２２）、測定装置３（１２３）とを有する測定部１２０と、測定データを補正する際に用いられるデータテーブルからなる補正ファイルを複数設けた補正ファイル群１４０と、補正ファイルを用いて補正のための演算を行なう演算部１６０とを備えた補正処理部１７０とを設けたもので、各測定装置により得られた測定データ群を、補正処理部１７０にて、得意先の特定の座標系のデータに補正するものである。
【００２０】
補正ファイル群１４０には、基準となる測定装置１（１２１）の座標系のデータ値と、特定の座標系のデータ値とを対応させたデータテーブルからなる補正ファイル３（１４３）と、測定装置２（１２２）の座標系のデータ値と、基準となる測定装置１（１２１）の座標系のデータ値とを対応させたデータテーブルからなる補正ファイル１（１４１）と、測定装置３（１２３）の座標系のデータ値と、基準となる測定装置１（１２１）の座標系のデータ値とを対応させたデータテーブルからなる補正ファイル２（１４２）とを設けている。
測定装置１（１２１）、測定装置２（１２２）、測定装置３（１２３）としては、いずれも、公知市販の短寸法測定機を用いることができる。
補正処理部１７０としては、パソコン等が用いられ、測定データ（生値）をＲＳ２３２Ｃ（ＥＩＡにより規格化されているデータ通信インターフェース）を介して補正処理部（パソコン等）１７０に取り込む方法が挙げられるが、補正処理部１７０への測定データの取り込みはこれに限定はされない。
演算部１６０としては、本例の場合、比例配分式を演算するものである。
【００２１】
本例の測定処理装置の動作、各部の説明については、先にも述べたようた、図１に示すフローの説明に代え、省略する。
【００２２】
本例の変形例としては、本例の測定装置１（１２１）を持たない測定処理装置が挙げられる。
例えば、測定装置１（１２１）が、測定装置２（１２２）、測定装置３（１２３）とは離れた遠隔地にあり、変形例の測定処理装置とが別個の箇所にある場合である。
この場合、変形例の測定処理装置は、基準となる測定装置１は備えていないが、本例の測定処理装置における補正処理部１７０と同じ補正ファイル群１４０演算部１６０を備えている。
【００２３】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、フォトマスク作製側の測定装置にて得られた測定データを、フォトマスク使用側の測定装置に合せ込む場合、補正用のファイルが実用レベルとなる測定データの補正方法、およびこれを実施するための測定処理装置の提供を可能とした。
詳しくは、フォトマスク作製側に測定装置が複数ある場合、基準となる測定装置の座標系のデータ値に合わせる補正ファイルを、基準となる測定装置以外の他の各測定装置に持たせ、且つ、該基準となる測定装置以外の他の各測定装置が、基準となる測定装置の座標系のデータ値を、得意先の特定の座標系のデータ値に置き換えるための補正ファイル（図１の補正ファイル３に相当）を共有することにより、フォトマスク使用側である得意先が増えたとしても基準となる測定装置のみ、基準となる測定装置の座標系のデータ値を、得意先の特定の座標系のデータ値に置き換えるための補正ファイルをこの分だけ増やせば良く、また、測定装置が増えた場合も、増えた測定装置について、基準となる測定装置の座標系のデータ値に合わせる補正ファイルを持たせれば良く、補正ファイルが増大化せず、補正ファイルの管理がし易い。
更に、Ｘ軸、Ｙ軸などの読み値の違いを補正するための補正ファイル（Ｘ−Ｙ補正用ファイル）を中間補正として入れておけば、任意の角度軸で測定した値を、正点で測定した値に変換することも可能になり、もはや測定対象物を９０度回転させてセットして測定するなどの対処が必要なくなり、作業性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の測定データの補正方法の実施の形態の１例の概略フロー図
【図２】図２（ａ）は、図１に示す補正ファイル３の１例を説明するための図で、図２（ｂ）は図１に示す補正ファイル１の１例を説明するための図で、図２（ｃ）は、図１に示す補正ファイル２の１例を説明するための図である。
【図３】本発明の測定処理装置の実施の形態の１例の概略構成図
【符号の説明】
１１０
１１０          試料（フォトマスク）
１２０          測定部
１２１          測定装置１
１２２          測定装置２
１２３          測定装置３
１３１          測定データ１
１３２          測定データ２
１３３          測定データ３
１４０          補正ファイル群
１４１          補正ファイル１
１４２          補正ファイル２
１４３          補正ファイル３
１５０          補正データ
１６０          演算部
１７０          補正処理部
【図１】
0005042412.tif 000002
【図２】
0005042412.tif 000003
【図３】
0005042412.tif 000004