(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に、複数の走査信号線と、複数の共通電極配線と、複数の映像信号線と、複数の画素電極と、複数の薄膜トランジスタと、前記共通電極配線と電気的に接続された第１の表層共通電極と、を形成することにより表示画素をマトリクス状に配置し、その上に配向膜を形成してなるＴＦＴ基板と、
遮光機能を有する遮光層を備え、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、
前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に封入された液晶と、を備え、
前記画素電極及び前記第１の表層共通電極を、前記液晶に対して前記ＴＦＴ基板の面に沿った電界を印加できるように配置した液晶表示装置において、
前記対向基板には、前記第１の表層共通電極と対向する第２の表層共通電極が、前記遮光層を覆うように形成され、
前記第１の表層共通電極と前記第２の表層共通電極には同一の共通電位が入力され、
前記第２の表層共通電極は、前記液晶に対して前記対向基板の面に沿った電界を印加できるように配置され、
導電性スペーサ又は導電性柱からなり、前記第１の表層共通電極と前記第２の表層共通電極とを相互に電気的に接続する導通部を備え、前記第１の表層共通電極と前記第２の表層共通電極とのうちの何れか一方の電極に入力された共通電位が、前記導通部を介して、何れか他方の電極に入力され、
前記配向膜は、前記導通部が配置される箇所に開口部を有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の技術の発展に伴い、液晶表示装置は広視野角化が進んでいる。
【０００３】
液晶表示装置の広視野角化の方法として、ＩＰＳ（ｉｎ−ｐｌａｎｅ−ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式と呼ばれる方式がある。
【０００４】
従来、ＩＰＳ方式とは、液晶表示装置が備える一対の基板のうち、一方の基板の板面にのみ櫛形状の電極を形成し、両基板に平行な横方向の電場により液晶を駆動する方式である。
【０００５】
このＩＰＳ方式では、液晶に電界を印加した際に、液晶分子が基板に平行に回転するため、どの視野角から見た場合でも屈折率変化がほぼ無くなり、広い視野角で所望の映像が得られる。
【０００６】
このため、最近ではこの方式が超広視野角化の観点から注目されている。
【０００７】
図１６は従来のＩＰＳ方式の液晶表示装置１０００（図１７）が備えるＴＦＴ基板１００１の平面図、図１７は液晶表示装置１０００の断面図である。なお、図１７は図１６におけるＡ−Ｂ線に対応する部位の断面図である。
【０００８】
図１７に示すように、液晶表示装置１０００は、ＴＦＴ基板１００１と、このＴＦＴ基板１００１と対向して配置され、該ＴＦＴ基板１００１と貼り合わされたカラーフィルター基板１００２と、ＴＦＴ基板１００１とカラーフィルター基板１００２との間に充填された液晶層１００３と、を備えている。
【０００９】
このうちＴＦＴ基板１００１は、平板なガラス基板１００４と、このガラス基板１００４上に形成された共通電極配線１００６及び走査信号線１００７と、これら共通電極配線１００６及び走査信号線１００７を覆うようにガラス基板１００４上に成膜された第１絶縁膜１００５と、この第１絶縁膜１００５上に形成されたデータ線（映像信号線）１００８、画素電極１００９の蓄積容量形成部１００９ｂ（後述）及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１０１４と、これらデータ線１００８、蓄積容量形成部１００９ｂ及び薄膜トランジスタ１０１４を覆うように第１絶縁膜１００５上に成膜された第２絶縁膜１０１０と、この第２絶縁膜１０１０上に形成された表層共通電極１０１１及び画素電極１００９の画素電極櫛歯１００９ａ（後述）と、これら表層共通電極１０１１及び画素電極櫛歯１００９ａを覆うように第２絶縁膜１０１０上に成膜された配向膜１０１２と、を備えている。
【００１０】
より具体的には、ガラス基板１００４上には、それぞれ行方向（図１６のＸ方向）に延在する複数本の共通電極配線１００６が所定間隔で形成されている。
【００１１】
更に、ガラス基板１００４上には、それぞれ行方向に延在する複数本の走査信号線１００７が、各共通電極配線１００６に沿うように所定間隔で形成されている。
【００１２】
第１絶縁膜１００５上には、それぞれ行方向に対して直交する列方向（図１６のＹ方向）に延在する複数本のデータ線１００８が所定間隔で形成されている。
【００１３】
なお、共通電極配線１００６、走査信号線１００７及びデータ線１００８は、金属膜からなる。
【００１４】
画素電極１００９は、櫛歯状の画素電極櫛歯１００９ａと、蓄積容量形成部１００９ｂと、からなる。
【００１５】
画素電極櫛歯１００９ａは、図１６に示すように、共通電極配線１００６と走査信号線１００７との間隔で、且つ、隣り合うデータ線１００８の間隔、すなわち、表示エリア１０１３に位置する。
【００１６】
画素電極櫛歯１００９ａは、薄膜トランジスタ１０１４がオンとなると該薄膜トランジスタ１０１４を介してデータ線１００８と電気的に接続され、データ線１００８から画素電位が印加される。
【００１７】
蓄積容量形成部１００９ｂは、共通電極配線１００６上で、且つ、表層共通電極１０１１の格子状部１０１１ａ（後述）の下に位置し、行方向に延在している。
【００１８】
この蓄積容量形成部１００９ｂは、表層共通電極１０１１との間で容量を形成する。
【００１９】
また、表層共通電極１０１１は、格子状部１０１１ａと共通電極櫛歯１０１１ｂとからなる。
【００２０】
このうち格子状部１０１１ａは、データ線１００８及び共通電極配線１００６を覆い各表示エリア１０１３を囲むような略格子状のパターン形状の部分であり、図示しないコンタクトホールを介して共通電極配線１００６へ電気的に接続されている。
【００２１】
また、共通電極櫛歯１０１１ｂは、格子状部１０１１ａから表示エリア１０１３側に櫛歯状に張り出した部分であり、各表示エリア１０１３毎に形成されている。
【００２２】
このように、表示エリア１０１３に張り出すように画素電極櫛歯１００９ａ及び共通電極櫛歯１０１１ｂを配置することにより、液晶層１００３の液晶に対してＴＦＴ基板１００１の面に沿った電界を印加できるようになっている。
【００２３】
一方、カラーフィルター基板１００２は、平板なガラス基板１０２０と、このガラス基板１０２０上に形成されたブラックマトリクス層１０２１と、このブラックマトリクス層１０２１を覆うようにしてガラス基板１０２０上に形成された色層１０２２と、この色層１０２２上に成膜された配向膜１０２４と、を備えている。
【００２４】
このうちブラックマトリクス層（遮光層）１０２１は、ＴＦＴ基板１００１のデータ線１００８、走査信号線１００７及び共通電極配線１００６と対向してこれらを覆うような略格子状の形状の平面形状に形成され、遮光機能を有する。
【００２５】
図１６及び図１７に示すように、横方向の電界を用いて液晶を駆動する従来の液晶表示装置１０００では、ＴＦＴ基板１００１にのみ共通電極櫛歯１０１１ｂが存在するため、対向するカラーフィルター基板１００２の近傍では横電界の強度が弱まり、ＴＦＴ基板１００１の近傍と比べて液晶を回転させにくい。
【００２６】
このため、カラーフィルター基板１００２の近傍でも液晶を十分に回転させるためには高い電圧が必要である。
【００２７】
また、カラーフィルター基板１００２の表層部は、色層１０２２やブラックマトリクス層１０２１などの導電性の材料により構成されているため、ＴＦＴ基板１００１側からの電界や、イオンの移動により電荷が蓄積する。
【００２８】
この電荷の蓄積により、基板１００１，１００２に対して平行に印加される電界を妨害する縦の電界が発生するため、映像にシミムラや残像などが発生したり、画面の焼き付きが発生したりする。
【００２９】
このようなＩＰＳ方式の従来の一般的な液晶表示装置１０００におけるカラーフィルター基板１００２の表層部への電荷の蓄積を解決するための従来技術としては、特許文献１の技術がある。
【００３０】
図１８は特許文献１に記載された液晶表示装置２０００の断面図、図１９は液晶表示装置２０００のカラーフィルター基板が備える第２の表層共通電極１０２３を示す平面図である。なお、液晶表示装置２０００が備えるＴＦＴ基板は、図１６及び図１７に示す液晶表示装置１０００のＴＦＴ基板１００１と同様であるため、図示を省略する。
【００３１】
図１８及び図１９に示すように、特許文献１の液晶表示装置２０００のカラーフィルター基板１００２には、ブラックマトリクス層１０２１を覆うように第２の表層共通電極１０２３が形成されている。
【００３２】
特許文献１の液晶表示装置２０００は、カラーフィルター基板１００２に表層共通電極１０２３が形成されている点の他は、図１６及び図１７に示す液晶表示装置１０００と同様である。
【００３３】
特許文献１の液晶表示装置２０００においては、表層共通電極１０２３によりブラックマトリクス層１０２１への電荷の蓄積が抑制されるので、映像にシミムラや残像などが発生したり、画面の焼き付きが発生したりすることを抑制できる。
【００３４】
また、特許文献２には、ＴＦＴ基板には対向電極を、カラーフィルター基板には透明補助電極を、それぞれ形成し、対向電極と透明補助電極に同一の電圧を印加する構成が開示されている。
【特許文献１】特開２０００−１４７４８２号公報
【特許文献２】特開２００６−０３１０２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３５】
しかしながら、上記の特許文献１の技術では、ＴＦＴ基板にのみ共通電極櫛歯が形成されているため、ＴＦＴ基板側からのみ、液晶に対して基板の面に沿った電界を印加することとなる。よって、駆動電圧を低減することはできない。
【００３６】
同様に、特許文献２の技術でも、ＴＦＴ基板側からのみ、液晶に対して基板の面に沿った電界を印加するため、駆動電圧を低減することはできない。
【００３７】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたもので、対向基板における電荷の蓄積による焼きつき、シミムラを抑制し、かつ駆動電圧を低減することが可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００３８】
上記課題を解決するため、本発明の液晶表示装置は、ガラス基板上に、複数の走査信号線と、複数の共通電極配線と、複数の映像信号線と、複数の画素電極と、複数の薄膜トランジスタと、前記共通電極配線と電気的に接続された第１の表層共通電極と、を形成することにより表示画素をマトリクス状に配置し、その上に配向膜を形成してなるＴＦＴ基板と、遮光機能を有する遮光層を備え、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に封入された液晶と、を備え、前記画素電極及び前記第１の表層共通電極を、前記液晶に対して前記ＴＦＴ基板の面に沿った電界を印加できるように配置した液晶表示装置において、前記対向基板には、前記第１の表層共通電極と対向する第２の表層共通電極が、前記遮光層を覆うように形成され、前記第１の表層共通電極と前記第２の表層共通電極には同一の共通電位が入力され、前記第２の表層共通電極は、前記液晶に対して前記対向基板の面に沿った電界を印加できるように配置され、導電性スペーサ又は導電性柱からなり、前記第１の表層共通電極と前記第２の表層共通電極とを相互に電気的に接続する導通部を備え、前記第１の表層共通電極と前記第２の表層共通電極とのうちの何れか一方の電極に入力された共通電位が、前記導通部を介して、何れか他方の電極に入力され、前記配向膜は、前記導通部が配置される箇所に開口部を有することを特徴としている。
【発明の効果】
【００４５】
本発明によれば、対向基板には、第１の表層共通電極と対向する第２の表層共通電極が、遮光層を覆うように形成され、第１の表層共通電極と第２の表層共通電極には同一の共通電位が入力され、第２の表層共通電極は、液晶に対して対向基板の面に沿った電界を印加できるように配置されているので、残像改善（焼きつき、シミムラの抑制）及び駆動電圧の低電圧化ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
以下、図面を参照して、本発明に係る実施形態について説明する。
【００４７】
〔第１の実施形態〕
図１は第１の実施形態に係る液晶表示装置１００（図２）が備えるＴＦＴ基板１の平面図、図２及び図３は第１の実施形態に係る液晶表示装置１００の断面図である。なお、図２は図１におけるＡ−Ｂ線に対応する部位の断面図であり、図３は図１におけるＣ−Ｄ線に対応する部位の断面図である。
【００４８】
図４はＴＦＴ基板１が備える第１の表層共通電極１１の平面図、図５は液晶表示装置１００のカラーフィルター基板２が備える第２の表層共通電極２３の平面図である。
【００４９】
液晶表示装置１００は、横電界モードあるいはＩＰＳ（ｉｎ−ｐｌａｎｅ−ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードと呼ばれる液晶表示装置である。
【００５０】
図２及び図３に示すように、液晶表示装置１００は、ＴＦＴ基板１と、このＴＦＴ基板１と対向して配置され、該ＴＦＴ基板１と貼り合わされたカラーフィルター基板２と、ＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２との間に充填された液晶層３と、を備えている。
【００５１】
このうちＴＦＴ基板１は、平板なガラス基板４と、このガラス基板４上に形成された共通電極配線６及び走査信号線７と、これら共通電極配線６及び走査信号線７を覆うようにガラス基板４上に成膜された第１絶縁膜５と、この第１絶縁膜５上に形成されたデータ線（映像信号線）８、画素電極９及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１４と、これら画素電極９、データ線８及び薄膜トランジスタ１４を覆うように第１絶縁膜５上に成膜された第２絶縁膜１０と、この第２絶縁膜１０上に形成された第１の表層共通電極１１と、これら第１の表層共通電極１１及び画素電極櫛歯９ａを覆うように第２絶縁膜１０上に成膜された配向膜１２と、を備えている。
【００５２】
より具体的には、ガラス基板４上には、図１に示すように、それぞれ行方向（図１のＸ方向）に延在する複数本の共通電極配線６が所定間隔で形成されている。
【００５３】
更に、ガラス基板４上には、それぞれ行方向に延在する複数本の走査信号線７が、各共通電極配線６に沿うように所定間隔で形成されている。
【００５４】
第１絶縁膜５上には、それぞれ行方向に対して直交する列方向（図１のＹ方向）に延在する複数本のデータ線８が所定間隔で形成されている。
【００５５】
なお、共通電極配線６、走査信号線７及びデータ線８は、例えば、金属膜からなる。
【００５６】
液晶表示装置１００においては、共通電極配線６、走査信号線７、データ線８、画素電極９、薄膜トランジスタ１４及び第１の表層共通電極１１などにより画定されて、それぞれ表示エリア１３を有する表示画素が構成され、この表示画素が行方向及び列方向にマトリクス状に配列されている。
【００５７】
画素電極９は、櫛歯状の画素電極櫛歯（櫛歯状部分）９ａと、蓄積容量形成部９ｂと、からなる。
【００５８】
画素電極櫛歯９ａは、図１に示すように、共通電極配線６と走査信号線７との間隔で、且つ、隣り合うデータ線８の間隔、すなわち、表示エリア１３に位置する。画素電極櫛歯９ａは、図１の例では、例えば、３本の櫛歯状部分を備えているが、櫛歯状部分の本数は適宜に増減して良い。
【００５９】
画素電極櫛歯９ａは、薄膜トランジスタ１４を介してデータ線８と電気的に接続可能となっている。
【００６０】
すなわち、画素電極櫛歯９ａは、薄膜トランジスタ１４がオンとなると、該薄膜トランジスタ１４を介してデータ線８と電気的に接続され、データ線８から薄膜トランジスタ１４を介して画素電極櫛歯９ａに画素電位が印加される。
【００６１】
蓄積容量形成部９ｂは、共通電極配線６上で、且つ、第１の表層共通電極１１の格子状部１１ａ（後述）の下に位置し、行方向に延在している。
【００６２】
この蓄積容量形成部９ｂは、第１の表層共通電極１１との間で容量を形成する。
【００６３】
また、第１の表層共通電極１１には、図１及び図２に示すように、各表示エリア１３と対応する位置に、開口１１ｃが形成されている。すなわち、第１の表層共通電極１１には、開口１１ｃが行方向及び列方向にマトリクス状に形成されている。
【００６４】
このような第１の表層共通電極１１は、図１、図２及び図４に示すように、格子状部１１ａと共通電極櫛歯１１ｂとからなる。
【００６５】
このうち格子状部１１ａは、データ線８及び共通電極配線６を覆い、各表示エリア１３を囲むような、略格子状のパターン形状の部分である。
【００６６】
この格子状部１１ａは、共通電位を各表示画素毎の共通電極櫛歯１１ｂに供給する機能と、データ線８から液晶層３への電界漏れを防止する機能と、を有する。
【００６７】
第１の表層共通電極１１の格子状部１１ａは、図示しないコンタクトホールを介して、共通電極配線６と相互に電気的に接続されている。
【００６８】
また、共通電極櫛歯１１ｂは、例えば、格子状部１１ａにおいて共通電極配線６を覆う部位から、表示エリア１３側に櫛歯状に張り出した部分であり、各表示エリア１３毎に形成されている。
【００６９】
なお、図１及び図４の例では、第１の表層共通電極１１は、各表示エリア１３毎に２本の共通電極櫛歯１１ｂを備える例を示しているが、共通電極櫛歯１１ｂの本数は適宜に増減して良い。
【００７０】
このように、表示エリア１３に張り出すように画素電極櫛歯９ａ及び共通電極櫛歯１１ｂを配置することにより、液晶層３の液晶に対してＴＦＴ基板１の面に沿った電界を印加し、駆動電圧を低減できるようになっている。
【００７１】
一方、カラーフィルター基板２は、平板なガラス基板２０と、このガラス基板２０上に形成されたブラックマトリクス層２１と、このブラックマトリクス層２１を覆うようにしてガラス基板２０上に形成された色層２２と、この色層２２上に形成された第２の表層共通電極２３と、この第２の表層共通電極２３を覆うようにして色層２２上に成膜された配向膜２４と、を備えている。
【００７２】
このうちブラックマトリクス層（遮光層）２１は、ＴＦＴ基板１のデータ線８、走査信号線７及び共通電極配線６と対向してこれらを覆うような略格子状の形状の平面形状に形成され、遮光機能を有する。
【００７３】
なお、ブラックマトリクス層２１に代えて、遮光機能を有するその他の遮光層を形成しても良い。
【００７４】
色層２２は、カラー表示を行うために各表示エリア１３毎に設定された表示色（例えば、赤、青、緑のうちの何れか１色）と対応する色の塗料を含む。
【００７５】
なお、色層２２上には、該色層２２を覆うオーバーコート（図示略）が更に形成されていても良い。
【００７６】
第２の表層共通電極２３は、第１の表層共通電極１１とほぼ同様の形状を有している。
【００７７】
第２の表層共通電極２３には、図２、図３及び図５に示すように、各表示エリア１３と対応する位置に、開口２３ｃが形成されている。すなわち、第２の表層共通電極２３には、開口２３ｃが行方向及び列方向にマトリクス状に形成されている。
【００７８】
第２の表層共通電極２３は、図２、図３及び図５に示すように、格子状部２３ａと共通電極櫛歯２３ｂとからなる。
【００７９】
このうち格子状部２３ａは、ブラックマトリクス層２１を覆い且つ第１の表層共通電極１１の格子状部１１ａと対向する略格子状のパターン形状の部分である。
【００８０】
また、表層共通電極櫛歯２３ｂは、第１の表層共通電極１１の表層共通電極櫛歯１１ｂと対向する櫛歯状のものである。
【００８１】
なお、第２の表層共通電極２３の格子状部２３ａは、ＴＦＴ基板１側の走査信号線７を覆う分だけ、行方向に延在する部位の幅が第１の表層共通電極１１の格子状部１１ａよりも大きい。
【００８２】
第２の表層共通電極２３、第１の表層共通電極１１及び画素電極９は、金属などの不透明膜であっても、ＩＴＯなどの透明膜であっても良い。
【００８３】
図３に示すように、第２の表層共通電極２３の格子状部２３ａと第１の表層共通電極１１の格子状部１１ａとは、表示エリア１３の外側に位置する導通部３０おいて、例えば、導電性スペーサ３１を介して相互に電気的に接続されている。
【００８４】
この導電性スペーサ３１は、例えば、球状或いは柱状であることが好ましいが、その他の形状であっても良い。
【００８５】
導電性スペーサ３１は、例えば、樹脂に金属（金など）をコーティングしたものであり、例えばインクジェット法又は印刷法により、配向膜２４上又は配向膜１２上に定点配置される。
【００８６】
なお、導電性スペーサ３１は、ＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２との間の液晶層３の厚さを均等に保つ機能を兼ねる。
【００８７】
導通部３０の配置は、第２の表層共通電極２３と第１の表層共通電極１１との相互間の導通が得られる箇所であれば、図１のＣ−Ｄ線上の位置に限らない。
【００８８】
なお、本実施形態の場合、導電性スペーサ３１は、ＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２とを相互に対向させて貼り合わせる際の加圧により、図３に示すように配向膜１２，２４を突き破って第２の表層共通電極２３及び第１の表層共通電極１１に対してそれぞれ接触するので、第２の表層共通電極２３と第１の表層共通電極１１との導通が十分に得られる。
【００８９】
上記の導通部３０は、全ての表示画素の近傍に配置することとしても良いし、例えば、所定数の表示画素につき１つの導通部３０を配置するなどのように、所定の表示画素の近傍にのみ配置しても良い。
【００９０】
なお、第２の表層共通電極２３と第１の表層共通電極１１とを導通させる導通部３０は、導電性スペーサ３１の他に、例えば、導電性柱（後述）、或いは、Ａｇペーストにより構成しても良い。
【００９１】
また、表示エリア１３の内側において第２の表層共通電極２３と第１の表層共通電極１１とを相互に電気的に接続することも可能である。
【００９２】
一般的には、カラーフィルター基板２側への共通電位の供給は、カラーフィルター基板２及びＴＦＴ基板１をそれらの周縁部において接合する封止材に導電性スペーサを混入させるか、Ａｇペーストを打点する方法があるが、上記のように導電性スペーサ３１を設けることにより、これらを省略することができる。
【００９３】
次に、動作を説明する。
【００９４】
第２の表層共通電極２３は、上記のように第１の表層共通電極１１と電気的に接続され、従って、該第１の表層共通電極１１を介して共通電極配線６と電気的に接続されている。
【００９５】
このため、共通電極配線６に入力される共通電位が、第１の表層共通電極１１及び第２の表層共通電極２３に入力され、これら第１の表層共通電極１１及び第２の表層共通電極２３から、液晶層３に対して、それぞれ電圧が印加される。
【００９６】
また、第１の表層共通電極１１と第２の表層共通電極２３は、それぞれ表示エリア１３内に張り出した共通電極櫛歯１１ｂ、２３ｂを備えるため、ＴＦＴ基板１及びカラーフィルター基板２の面に沿った電界を液晶層３に対して好適に印加できる。
【００９７】
以上のような第１の実施形態によれば、カラーフィルター基板２のブラックマトリクス層２１がＩＴＯ又は金属からなる第２の表層共通電極２３により覆われるため、液晶表示装置１００の駆動によって生じた電界による、ブラックマトリクス層２１への電荷移動が、第２の表層共通電極２３により遮断される。
【００９８】
そのため、周辺電場や、イオンの移動による、ブラックマトリクス層２１への電荷注入が発生しなくなり、カラーフィルター基板２との縦電界が発生しなくなる。それにより、縦電界の影響による焼き付き、シミムラの発生を抑制できる。
【００９９】
また、カラーフィルター基板２に櫛歯状の共通電極櫛歯２３ｂを設けているため、カラーフィルター基板２の近傍での横電界を強めることができる。そのため、従来の液晶表示装置と比較すると同一電圧でより大きい横電界を生じさせることができるため、駆動電圧を低減し、高い透過率を得ることができる。
【０１００】
＜第１の実施形態の変形例１＞
図６は第１の実施形態の変形例１の場合における導通部３０の構造を示す断面図（図１のＣ−Ｄ線に対応する部位の断面図）である。
【０１０１】
上記の第１の実施形態では、配向膜２４を形成した後で導電性スペーサ３１を形成する例を説明したが、この変形例１の場合、図６に示すように、導電性スペーサ３１を第２の表層共通電極２３上に、例えばインクジェット法又は印刷法により定点配置した後で、配向膜２４を形成し、その後、ＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２とを貼り合わせる。
【０１０２】
この変形例１の場合、ＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２との貼り合わせ時の加圧により、導電性スペーサ３１が配向膜１２，２４を突き破って第１の表層共通電極１１に対して接触するので、第２の表層共通電極２３と第１の表層共通電極１１との導通が十分に得られる。
【０１０３】
なお、導電性スペーサ３１を第２の表層共通電極２３上に配置した後で配向膜２４を形成しＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２とを貼り合わせる代わりに、導電性スペーサ３１を第１の表層共通電極１１上に配置した後で配向膜１２を形成し、ＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２とを貼り合わせても良い。
【０１０４】
＜第１の実施形態の変形例２＞
図７は第１の実施形態の変形例２の場合における導通部３０の構造を示す断面図（図１のＣ−Ｄ線に対応する部位の断面図）である。
【０１０５】
この変形例２は、導電性スペーサ３１に代えて、導電性柱３２を形成する点でのみ、上記の変形例１（図６）と相違する。
【０１０６】
導電性柱３２は、例えば、第２の表層共通電極２３上に導電成膜を成膜した後で、該導電成膜を導電性柱３２が残留するようにエッチングすることにより形成する。
【０１０７】
なお、図７に示すように、導電性柱３２を第２の表層共通電極２３上に形成した後で配向膜２４を形成しＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２とを貼り合わせても良いし、図示は省略するが、導電性柱３２を第１の表層共通電極１１上に形成した後で配向膜１２を形成し、ＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２とを貼り合わせても良い。
【０１０８】
この変形例２の場合、ＴＦＴ基板１とカラーフィルター基板２との貼り合わせ時の加圧により、導電性柱３２が配向膜１２を突き破って第１の表層共通電極１１に対して接触するので、第２の表層共通電極２３と第１の表層共通電極１１との導通が十分に得られる。
【０１０９】
また、上記の第１の実施形態の場合（配向膜１２又は２４を形成した後で導電性スペーサ３１を形成する場合）も、導電性スペーサ３１に代えて導電性柱３２を用いても良いのは勿論である。
【０１１０】
＜第１の実施形態の変形例３＞
図８及び図９は第１の実施形態の変形例３の場合における導通部３０の構造を示す断面図（図１のＣ−Ｄ線に対応する部位の断面図）である。
【０１１１】
この変形例３では、配向膜１２，２４が無機配向膜などの硬質なものであり、該配向膜１２，２４を導電性スペーサ３１や導電性柱３２により突き破るのは不都合な場合に、配向膜１２，２４において、導電性スペーサ３１が配置される箇所（図８参照）、又は、導電性柱３２が配置される箇所（図９参照）に、予め開口部１２ａ、２４ａを形成する。
【０１１２】
これにより、導電性スペーサ３１や導電性柱３２を、配向膜１２，２４を介さずに直接的に第１及び第２の表層共通電極１１，２４に対して接触させることができる。
【０１１３】
なお、図９では、導電性柱３２を第２の表層共通電極２４上に形成した例を示しているが、第１の表層共通電極１２上に形成しても良い。
【０１１４】
〔第２の実施形態〕
図１０は第２の実施形態に係る液晶表示装置（全体図示略）が備えるＴＦＴ基板２０１の平面図、図１１はＴＦＴ基板２０１が備える第１の表層共通電極２１１の平面図、図１２は第２の実施形態に係る液晶表示装置のカラーフィルター基板（図示略）が備える第２の表層共通電極２２３の平面図である。
【０１１５】
第２の実施形態に係る液晶表示装置は、データ線８（図１）に代えてデータ線２０８（図１０）を備え、第２の表層共通電極２３（図５）に代えて第２の表層共通電極２２３（図１２）を備え、第１の表層共通電極１１（図４）に代えて第１の表層共通電極２１１（図１０、図１１）を備え、画素電極９（図１）に代えて画素電極２０９（図１０）を備える点でのみ上記の第１の実施形態に係る液晶表示装置１００と相違し、その他の点では上記の第１の実施形態に係る液晶表示装置１００と同様に構成されている。
【０１１６】
上記の第１の実施形態では、第１の表層共通電極１１，第２の表層共通電極２３及び画素電極９において列方向（Ｙ方向）に延在する部分と、データ線８とが、全て直線状である例（図１参照）を説明したが、図１０乃至図１１に示すように、本実施形態では、第１の表層共通電極２１１，第２の表層共通電極２２３及び画素電極２０９において列方向に延在する部分と、データ線２０８とが、それぞれ少なくとも１箇所以上で屈曲した構造（ジグザグ状の構造）となっている。
【０１１７】
なお、第１の表層共通電極２１１には、各表示エリア１３と対応する位置に、少なくとも１箇所以上で屈曲したような形状の開口３１１ｃが形成されている。
【０１１８】
第１の表層共通電極２１１は、上記の第１の実施形態と同様に、格子状部２１１ａと共通電極櫛歯２１１ｂと、からなる。そして、格子状部２１１ａにおいて列方向に延在する部分と、共通電極櫛歯２１１ｂとが、それぞれ、少なくとも１箇所以上で屈曲している（図１０及び図１１の例では１箇所ずつ屈曲）。
【０１１９】
同様に、第２の表層共通電極２２３には、開口２１１ｃと同様の形状の開口３１１ｃが、マトリクス状に形成されている。
【０１２０】
第２の表層共通電極２２３は、上記の第１の実施形態と同様に、格子状部２２３ａと共通電極櫛歯２２３ｂと、からなる。そして、格子状部２２３ａにおいて列方向に延在する部分と、共通電極櫛歯２２３ｂとが、それぞれ、少なくとも１箇所以上で屈曲している（図１２の例では１箇所ずつ屈曲）。
【０１２１】
また、画素電極２０９は、上記の第１の実施形態と同様に、画素電極櫛歯２０９ａと、蓄積容量形成部２０９ｂと、からなる。そして、画素電極櫛歯２０９ａにおいて列方向に延在する部分が、少なくとも１箇所以上で屈曲している（図１０の例では１箇所ずつ屈曲）。
【０１２２】
なお、図示は省略するが、本実施形態の場合、カラーフィルター基板のブラックマトリクス層も、データ線２０８に合わせて屈曲している。
【０１２３】
以上のような第２の実施形態によれば、上記の第１の実施形態と同様の効果が得られる他に、第１及び第２の表層共通電極２１１，２２３が屈曲しているので、液晶の回転方向がマルチドメイン化し、斜め視野での光学特性が向上する。
【０１２４】
なお、図１０乃至図１２では、データ線２０８、第１の表層共通電極２１１、第２の表層共通電極２２３及び画素電極２０９が、１つの表示画素内において、それぞれ列方向における１箇所でのみ屈曲した構造を示しているが、それぞれ２箇所以上で屈曲した構造としても良い。
【０１２５】
〔第３の実施形態〕
図１３は第３の実施形態に係る液晶表示装置３００（図１４）のＴＦＴ基板及びカラーフィルター基板の周縁部の構造を示す断面図、図１４は第３の実施形態に係る液晶表示装置３００の平面図、図１５は第３の実施形態に係る液晶表示装置３００の断面図である。なお、図１５は、図１のＣ−Ｄ線と対応する部位の断面図である。
【０１２６】
本実施形態の場合、カラーフィルター基板２の周縁部には、図１３に示すように、第２の表層共通電極２３に共通電位を入力するための端子部３０１が形成されている。
【０１２７】
この端子部３０１には、図１４に示すように、共通電位を端子部３０１に入力する共通電位入力端子３０３が接続されている。
【０１２８】
この共通電位入力端子３０３からは、ＴＦＴ基板１の第１の表層共通電極１１に入力される共通電位と同一電位の共通電位が、端子部３０１を介して第２の表層共通電極２３に入力される。
【０１２９】
また、本実施形態の場合、第１の表層共通電極１１と第２の表層共通電極２３とが相互に電気的に接続されてはいない。従って、図１５に示すように、上記の各実施形態の場合では導電性スペーサ３１又は導電性柱３２が配置されている位置に、（導電性スペーサ３１、導電性柱３２或いはその他の）第１の表層共通電極１１と第２の表層共通電極２３とを相互に電気的に接続する構成要素が配置されていない。
【０１３０】
なお、図１３に示すように、カラーフィルター基板２とＴＦＴ基板１とは、それらの周縁部において、封止材３０２を介して相互に接合されている。
【０１３１】
以上のような第３の実施形態によれば、ＴＦＴ基板１に入力された共通電位を、導電性スペーサやＡｇペーストを介してカラーフィルター基板２に入力する必要が無い。このため、第１及び第２の表層共通電極１１、２３と、導電性スペーサやＡｇペーストと、の接触抵抗により、共通電位に損失が生じることがない。
【図面の簡単な説明】
【０１３２】
【図１】第１の実施形態に係る液晶表示装置のＴＦＴ基板の平面図である。
【図２】第１の実施形態に係る液晶表示装置の断面図（図１のＡ−Ｂ断面図）である。
【図３】第１の実施形態に係る液晶表示装置の断面図（図１のＣ−Ｄ断面図）である。
【図４】第１の実施形態に係る液晶表示装置のＴＦＴ基板が備える第１の表層共通電極の平面図である。
【図５】第１の実施形態に係る液晶表示装置のカラーフィルター基板が備える第２の表層共通電極の平面図である
【図６】第１の実施形態の変形例１の場合における導通部の構造を示す断面図（図１のＣ−Ｄ断面図）である。
【図７】第１の実施形態の変形例２の場合における導通部の構造を示す断面図（図１のＣ−Ｄ断面図）である。
【図８】第１の実施形態の変形例３の場合における導通部の構造を示す断面図（図１のＣ−Ｄ断面図）である。
【図９】第１の実施形態の変形例３の場合における導通部の構造を示す断面図（図１のＣ−Ｄ断面図）である。
【図１０】第２の実施形態に係る液晶表示装置のＴＦＴ基板の平面図である。
【図１１】第２の実施形態係る液晶表示装置のＴＦＴ基板が備える第１の表層共通電極の平面図である。
【図１２】第２の実施形態に係る液晶表示装置のカラーフィルター基板が備える第２の表層共通電極の平面図である。
【図１３】第３の実施形態に係る液晶表示装置のＴＦＴ基板及びカラーフィルター基板の周縁部の構造を示す断面図である。
【図１４】第３の実施形態に係る液晶表示装置の平面図である。
【図１５】第３の実施形態に係る液晶表示装置の断面図（図１のＣ−Ｄ断面図）である。
【図１６】従来のＩＰＳ方式の液晶表示装置が備えるＴＦＴ基板の平面図である。
【図１７】従来のＩＰＳ方式の液晶表示装置の断面図である。
【図１８】特許文献１の液晶表示装置の断面図である。
【図１９】特許文献１の液晶表示装置のＴＦＴ基板が備える第２の表層共通電極を示す平面図である。
【符号の説明】
【０１３３】
１    ＴＦＴ基板
２    カラーフィルター基板（対向基板）
３    液晶層
４    ガラス基板
６    共通電極配線
７    走査信号線
８    データ線（映像信号線）
９    画素電極
９ａ  画素電極櫛歯（櫛歯状部分）
９ｂ  蓄積容量形成部
１１  第１の表層共通電極
１１ａ  格子状部
１１ｂ  共通電極櫛歯（櫛歯状部分）
１３    表示エリア
２１    ブラックマトリクス層（遮光層）
２３    第２の表層共通電極
２３ａ  格子状部
２３ｂ  共通電極櫛歯（櫛歯状部分）
３０    導通部
３１    導電性スペーサ
３２    導電性柱
１００  液晶表示装置
２００  液晶表示装置
２０１  ＴＦＴ基板
２０８  データ線
２０９  画素電極
２１１  第１の表層共通電極
２１１ａ  格子状部
２１１ｂ  共通電極櫛歯（櫛歯状部分）
２２３  第２の表層共通電極
２２３ａ  格子状部
２２３ｂ  共通電極櫛歯（櫛歯状部分）
【図１】
0005093724.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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