(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
びんを被覆する１つの回転機械の複数の構成部品を制御する少なくとも１つのコントローラのための制御指令を自動的に発生するための方法であって、
前記回転機械は、
１つの中心点の周りに回転するようになった複数の処理ステーション、
前記回転機械の前記複数の構成部品を制御する前記少なくとも１つのコントローラ、
前記少なくとも１つのコントローラのための前記制御指令を発生するための少なくとも１つのプログラマルコンピュータ，及び
前記の少なくとも１つのプログラマルコンピュータと接続された１つの入力及び表示端末からなり、
ここで前記複数の処理ステーションは、前記びんのホルダーを持つこと，及び、前記複数の処理ステーションの前記中心点の周りの周縁位置に従って前記びんの被覆のためのプロセスステップを実行するための手段を有すること、
前記の方法は次のプロセスステップからなり：
イ．前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータの第１メニュレベル内に、対応する周縁位置パラメタで回転機械の周縁に分布した各区分を画成すること；
ロ．前記第１メニュレベル内に画成した各区分を参照して、前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータの第２メニュレベル内の前記各区分内において、前記びんの被覆のための前記プロセスステップを制御するのに必要な処理ステーション又は回転機械の対応する機能を決定すること，ここで前記区分と連携する対応する機能は、前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータに接続された入力及び表示端末手段によって対話的にかつ選択的に選択されるものであり；
ハ．上記ロにおいて、入力及び表示端末によって対話的に選択された対応機能をもとに各区分内に実行される前記プロセスステップのため、前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータ内に一つの制御コードの形態で前記制御指令を自動的に発生すること、
上記ロにおいて、入力及び表示端末によって対話的に選択された対応機能をもとに各区分内に実行される前記プロセスステップのため、前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータ内に一つの制御コードの形態で前記制御指令を自動的に発生すること、
前記制御コードは機械語コードであり、前記メニュレベルを経由して対話的にエントリーされた対応機能の前記位置パラメタ及び機械制御パラメタは、自動的に入力されそして機械語コードが機械語コードテンレート及び前記パラメタから自動的に発生され、並びに、
前記対応する機能はガス監視、ガス制御、バルブ監視、バルブ制御、プラズマ監視、プラズマ制御、マイクロ波監視、マイクロ波制御、温度監視，及び温度制御である、
方法。
【請求項２】
前記各区分は前記対応する周縁位置パラメタを度合によって定義かつ画成するものであること、及び前記各区分内での前記対応機能の実行は前記度合内の角度による位置パラメタによって決定される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記各対応機能は、前記各区分内の前記機能の開始及び前記機能の終端を画定する他の周縁位置パラメタに従って前記各区分内で制御される請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記制御指令は各区分内の個々の機能をトリガーするための時間遅れの指令を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記区分内でセンサに対し、所望値、警報値及び誤差値の定義がなされること、及び前記センサは拒否を検知する手段を有する請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記機械語コードテンプレートは、機械制御パラメタのマクロ定義による前記機械制御パラメタを備えたコードテンプレートである請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記の制御コードは前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータから、前記制御コードに従った前記回転機械の操作のため、前記少なくとも一つのコントローラへと転送される請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも一つのコントローラは前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータからなる請求項１記載の方法。
【請求項９】
びんの被覆用の回転機械であって、前記回転機械は、
１つの中心点の周りに回転するようになった（複数の）処理ステーション、
前記回転機械の前記（複数の）構成部品を制御する前記少なくとも１つのコントローラ、
う前記少なくとも１つのコントローラのための前記制御指令を発生するための少なくとも１つのプログラマルコンピュータ，及び
前記の少なくとも１つのプログラマルコンピュータと接続された１つの入力及び表示端末、からなり、
ここで前記（複数の）処理ステーションは、前記びんのホルダーを持つこと，及び、前記（複数の）処理ステーションの前記中心点の周りの周縁位置に従って前記びんの被覆のためのプロセスステップを実行するための手段を有すること、
前記の少なくとも１つのプログラマルコンピュータは次のものからなり：
前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータの第１メニュレベル内に、対応する周縁位置パラメタで前記回転機械の周縁に配分された各区分を画成する手段；
前記第１メニュレベル内に画成された各区分を参照して、前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータの第２メニュレベル内に、前記各区分内において、前記びんの被覆のための前記プロセスステップを制御するのに必要な処理ステーション又は回転機械の対応する機能を決定する手段，ここで前記区分と連携した対応する機能は、前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータに接続された入力及び表示端末手段によって対話的にかつ選択的に選択されるものであり；、及び
入力及び表示端末によって対話的に選択された対応機能をもとに各区分内に実行され前
記プロセスステップのため、前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータ内に一つの制御コードの形態で前記制御指令を自動的に発生する手段、
前記制御コードは機械語コードであり、前記メニュレベルを経由して対話的にエントリーされた対応機能の前記位置パラメタ及び機械制御パラメタは、自動的に入力されそして機械語コードが機械語コードテンレート及び前記パラメタから自動的に発生され、並びに、
前記対応する機能はガス監視、ガス制御、バルブ監視、バルブ制御、プラズマ監視、プラズマ制御、マイクロ波監視、マイクロ波制御  、温度監視，及び温度制御である、
回転機械。
【請求項１０】
前記各区分を、前記対応する周縁位置パラメタの度合によって、及び前記各区分内の他の周縁位置パラメタによる前記各区分内の前記対応する機能によって、定義及び画定される手段を含む請求項９に記載の回転機械。
【請求項１１】
前記各区分の開始に相当する度合で前記各区分の初期の周縁位置を決定するための手段及び前記区分の終端に相当する度合で終わりの周縁位置を決定するための手段を含む請求項９に記載の回転機械。
【請求項１２】
各区分内の個々の機能のための時間遅れを特定するための手段を含む請求項９に記載の回転機械。
【請求項１３】
センサの検知値の上限及び下限を特定するための手段、及び前記センサは前記各区分内のびんをチェックして拒否するための手段を含む請求項９に記載の回転機械。
【請求項１４】
前記各区分の全てに対し、包括的機械制御パラメタを妥当と特定する手段を含む請求項９に記載の回転機械。
【請求項１５】
前記包括的機械制御パラメタは、速度値、所望値、所望範囲、警報値、誤差値の少なくとも一つである請求項１４に記載の回転機械。
【請求項１６】
前記各区分は前記周縁位置パラメタの初期値を度合によって定義したものである請求項１４に記載の回転機械。
【請求項１７】
前記制御指令を前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータから前記回転機械又は処理ステーションへオンライン伝送するための手段を含む請求項９に記載の回転機械。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのコントローラは、前記回転機械の構成部品のための複数のマイクロコントローラであるか、又は一つのプログラマル論理コンピュータである請求項９に記載の回転機械。
【請求項１９】
前記機械語コードテンプレートが、マクロ定義により機械語パラメタの付与されたコードテンプレートである請求項９に記載の回転機械。
【請求項２０】
前記少なくとも１つのコントローラは、前記少なくとも１つのプログラマルコンピュータである請求項９に記載の回転機械。
【請求項２１】
前記各区分は、前記入力及び表示端末手段の入力用スクリーン上に表示される請求項２０に記載の回転機械。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は入力及び表示端末を含む回転機械に処理ステーションを設けた、回転機械の制御指令発生装置及び方法に関する。特に、回転機械及びその構成部品を制御するＰＬＣ（プログラム可能論理制御装置）及びマイクロコントローラのための機械語コードを発生するシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明の制御対象とするもののような回転機械は広範な用途で用いられている。図１に示す回転機械はプラズマで、びん特にプラスティックびんの被覆をするのに用いられている。びんの面を被覆し、それにより面のバリア特性を修正する。他の用途も可能である。回転機械では、処理ステーションが中心点の周りに回転し、びんを含んでいる。図２から明らかなように、回転位置に応じて異なる工程が実行される。
【０００３】
この装置を種類の異なるびんに用いるとき、機械の制御を修正する必要がある。ＰＬＣ制御が複雑なこと、またマイクロコントローラ制御を用いるため、ユーザーの手動によるプログラムの作成は合理的でない。
【０００４】
機械及びＰＬＣのための既知のプログラミングツールはユーザーの要求を考慮せず、既に用いられている部品等の再使用を主目的としている。従って、それらはＰＬＣのプログラムの開発者に向けられている。従って、後の時点で再びライブラリとして挿入されるモジュールとして作成される。だが、この手法は、ユーザーがそのような低プログラミングレベルで作業するのは合理的でないので上記問題を解決しない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、回転機械を駆動させる制御プログラムの自動的発生を、情報の対話的入力により可能にする装置及び方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的は、独立請求項の特徴を有する本発明によって達成される。本発明の有利な更なる発展は従属請求項において特徴付けられる。
【０００７】
詳細には、本発明は処理ステーションを設けた回転機械に対する制御指令を発生する装置及び方法に関する。好ましい実施態様においては、これ等処理ステーションはびんを受け取るためのホルダーを有する。さらに、ガスが処理ステーションを介して、また圧力管理システムを介して供給される。これ等処理ステーションは一つのＰＬＣにより中央的に、又は夫々別個のＰＣＬにより、又は複数の特定マイクロコントローラにより制御可能である。これ等構成要素のプログラム化はコード指令により行うことができる。装置の更なる構成要素は、プログラムを対話的に創る入力及び表示端末である。これは、Windows（登録商標）等のウィンドウで表示したインターフェース付きのラップトップであると良い。回転機械はびんの種類又は被膜の種類に応じてそれぞれ制御される必要があるので、回転機械の個々の構成部品と処理ステーションを制御する種々のプログラムが創られるべきである。制御指令が複雑なことやそれに伴ってプログラミングに誤りが生じ易いため、概してレシピに基づくプログラムを通常のユーザーが創るのは合理的でない。
【０００８】
従って、本発明は構造化メニュー案内法を用いて、回転機械を制御するプログラムコードをユーザーに創らせるシステムを提供する。
【０００９】
この場合、第１のメニューレベルでは、周縁位置パラメタを用いて区分（セグメント）を回転機械上に定める。周縁パラメタは度数、周縁円のセンチメートル又は他の同等の値で良い。好ましい実施例では、度数である。従って、回転機械上に複数の区分を定義でき、その中で特定の機能が制御される。
【００１０】
回転機械又は処理ステーションの機能は、第１のメニューレベルにおける区分の定義に関して第２のメニューレベルにおいて決定される。従って、円形軌道を、機能が制御される論理区分に分割することができる。これらの機能はマスクを用いて対話的に選択され、論理区分内の機能が制御される。制御コード形式の制御指令が上記区分化に基づいて発生され、次いで機械に転送される。
【００１１】
好ましい実施態様において、区分は度数で定義され、それにより互いに限界が定められる。区分の実行は同様に区分内で度数により決定でき、度数はデルタとして区分の始めの部分に加算され、機能の開始又は休止を決定する。或いはまた、区分内の機能の開始又は最後を、例えば遅延等の時間定義で決定しても良い。この時間単位は例えば、論理区分を通る時間から測られた機能がオンオフ切り換えられたか、或いは所定時間単位の間、作動されることを指し、後者は回転速度から直接決定される。
【００１２】
更に、センサに対する所望値、警報値及び誤差値をある区分内で特定することができる。これ等のデータはまた包括的に特定でき、品質決定、特に不合格品の決定に用いることができ、従ってこの区分内のより具体的な情報がより優先される場合に、全区分に対する基礎となすことができる。これ等は例えば、速度、所望パラメタ、警報値、誤差値等の包括的機械制御パラメタである。
【００１３】
例えばびんを被覆するための好ましい実施態様において、局部機能（論理区分内の）及び包括的機能は次のようなもので良い：バルブ制御、バルブ監視、ポンプ制御、ポンプ監視、マイクロ波制御、マイクロ波監視、温度監視、温度制御、プラズマ制御、プラズマ監視、ガス制御、ガス監視。他の機能も勿論可能であり、回転機械の使用に応じて得られる。
【００１４】
パラメタを構造化様式で入力すると、これ等パラメタは一括したパラメタ組み合わせ又は完成コードとしての保存が可能である。コードは機械語コードテンプレート、或いはテンプレートと簡単に呼ばれるものに基づいて発生される。これに、スキャン‐パーサプロセスの前に一般にマクロエディタにより置換されるマクロ指令が一般に加わる。斯く作成されたコードは回転機械上で解釈されるか、機械に転送される前に更に編集される。だが、特殊マクロプログラム識別を用いて指令を編集コードで修正することもできる。だが、この手法には、アドレスの再配置／平行移動があり得ることから、より大きな努力の必要が伴う。コード創成の後、このコードは機械及び個々のコントローラに転送すれば良い。
【００１５】
これ等全ての準備活動は回転機械及び個々の処理ステーションのためのプログラムコードの完成に関する限り、ＰＣ又はラップトップ上で行うのが良い。斯く生成されたプログラム破片及びコード指令は次に、例えば電話回線等の回路接続を介して転送することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１及び図２に示すような一実施態様において、回転式被覆システム３１は１２個の処理ステーション３２又は１２個の室を含んで成る。各室３２（二重リアクタ）には、２つのＷＭ（マイクロ波）発生器３３が夫々設けられている。
【００１７】
区分化は、２つの室が接着プロモータのため常に被覆相（１７，１８，１９，２０）にあるように行われる。４つの室（９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６）は常にバリアのための被覆相にある。他の区分（２１，２２，１，２）では、びんが機械に移送されるか、機械を離れる。他の区分では、ポンプ機能が制御される（３，４，５，６）。これ等はリングメイン（ring main）により、ガス発生器に連結されている。このガス発生器は先駆物質貯蔵容器により、供給される。主排気施設があり、これに各リアクタがマニホールドを介して連結されている。接着プロモータとバリア夫々のため、圧力がマニホールドで中央でに調整される(図３)。
【００１８】
図３は包括的レシピパラメタの調整を示しており、これには速度調整と物質流調整とがある。記載は自明のことであるので、図１を参照して、これに付き更なるコメントを要しない。
【００１９】
図４は、図２に関するフラッディング区分（１７，１８，１９，２０）から成る第５区分における制御を示す。この区分は２７５°から始まる。これ等内部エアレーション及び外部エアレーションの機能は夫々８０ｍｓ及び１５０ｍｓの遅延の後、開始して活動化され、区分の開始に対して２５°の後、終了する。フラッシングガスが次いで圧入されるが、これは１４０ｍｓの遅延の後、区分を覆うように開始される。これは区分の端部を必然的に含むので、フラッシングは遅くともびんの排出時には停止する。
【００２０】
保護の範囲は冒頭の請求の範囲で決定され、上記記載には限定されない。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】処理ステーションを備える回転機械の斜視図であるが、処理ステーションの全てが示されていない。
【図２】回転機械の論理区分化を示す概略図である。
【図３】包括的パラメタマスクのスクリーンショットである。
【図４】区分パラメタマスクのスクリーンショットである。
【符号の説明】
【００２２】
３１ 回転式被覆システム
３２ 処理ステーション（室）
３３ ＭＷ発生器
【図１】
0004963853.tif 000002
【図２】
0004963853.tif 000003
【図３】
0004963853.tif 000004
【図４】
0004963853.tif 000005