(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよびジフェニルカーボネートから実質的になる混合物を、下記式（１）
Ａ０＝−７．８８＋０．１７９×ｌｏｇＣ０＋３．３５４×ｌｏｇＴ０＋
０．００７８×Ｕ０＋０．００１７τ０                  ．．．（１）
ここで、Ｃ０は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｔ０は貯蔵槽内の溶融混合物の温度（℃）であり、Ｕ０は貯蔵槽の加熱媒体の温度と溶融混合物の温度との温度差（℃）でありそしてτ０は貯蔵槽内の溶融混合物の平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される溶融保存パラメーター（Ａ０）が０以下となる条件下に、溶融状態で保持することを特徴とする、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートの混合物の保存法。
【請求項２】
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートとのエステル交換触媒を実質的に含有しない混合物が上記混合物である請求項１に記載の保存法。
【請求項３】
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートを、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１モルに対しジフェニルカーボネート１．０〜１．２モルの割合で含有する混合物が上記混合物である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
降温下で結晶を析出する温度よりも高く且つ３００℃よりも低い温度で、上記混合物を溶融状態で保持する請求項１に記載の方法。
【請求項５】
溶融保存パラメーター（Ａ０）が−０．６〜−０．００１の間にある請求項１に記載の方法。
【請求項６】
保持時間が２時間を超える請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ジフェニルカーボネートを、下記式（２）
Ａ１＝−８．０８＋０．１４５×ｌｏｇＣ１＋３．３５×ｌｏｇＴ１＋
０．００７×Ｕ１＋０．０００７τ１                  ．．．（２）
ここで、Ｃ１は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｔ１は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの温度（℃）であり、Ｕ１は貯蔵槽の加熱媒体の温度とジフェニルカーボネートの温度との温度差（℃）でありそしてτ１は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される溶融保存パラメーター（Ａ１）が０以下となる条件下に、溶融状態で保持することを特徴とする、ジフェニルカーボネートの保存法。
【請求項８】
溶融保存パラメーター（Ａ１）が−１．６〜−０．００１である請求項７に記載の方法。
【請求項９】
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを、下記式（４）
Ｂ１＝−０．４２５＋０．１３１×ｌｏｇＣ２＋０．０４７×ｌｏｇＭ１
−０．００１２×Ｔ２＋０．００１７τ２                ．．．（４）
ここで、Ｃ２は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｍ１は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの水分率（ｐｐｍ）であり、Ｔ２は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの温度（℃）でありそしてτ２は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される粉体保存パラメーター（Ｂ１）が０以下となる条件下に、粉体状態で保持することを特徴とする、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの保存法。
【請求項１０】
粉体保存パラメーター（Ｂ１）が−０．７〜−０．０００１である請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ジフェニルカーボネートを、下記式（３）
Ｂ２＝−０．４２５＋０．１３１×ｌｏｇＣ３＋０．０４７×ｌｏｇＭ２
−０．００１２Ｔ３＋０．００１７×τ３                ．．．（３）
ここで、Ｃ３は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｍ２は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの水分率（ｐｐｍ）であり、Ｔ３は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの温度（℃）でありそしてτ３は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される粉体保存パラメーター（Ｂ２）が０以下となる条件下に、粉体状態で保持することを特徴とする、ジフェニルカーボネートの保存法。
【請求項１２】
粉末保存パラメーター（Ｂ２）が−０．７〜−０．０００１である請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとして、請求項９に記載された保存法で保存された２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを使用する請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
ジフェニルカーボネートとして、請求項７に記載された保存法で保存されたジフェニルカーボネートを使用する請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
ジフェニルカーボネートとして、請求項１１に記載された保存法で保存されたジフェニルカーボネートを使用する請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
請求項１の保存法で保存されていた、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートの溶融混合物を、アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下、エステル交換反応せしめることを特徴とする芳香族ポリカーボネートの製造法。
【請求項１７】
請求項９の保存法で保存されていた２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートとを、アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下、エステル交換反応せしめることを特徴とする芳香族ポリカーボネートの製造法。
【請求項１８】
ジフェニルカーボネートとして、請求項７に記載された保存法で保存されたジフェニルカーボネートを使用する請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
ジフェニルカーボネートとして、請求項１１に記載された保存法で保存されたジフェニルカーボネートを使用する請求項１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
技術分野
本発明は芳香族ポリカーボネートの製造に用いられる原料の保存方法およびその方法で保存された原料を用いて色調の優れた芳香族ポリカーボネートを製造する方法に関する。
【０００２】
従来の技術
ビスフェノールＡとホスゲンとの界面重縮合から得られるポリカーボネート樹脂は、その優れた機械的特性、熱的特性から各種用途、例えば電気電子部品、光学部品、自動車部品等に幅広く用いられている。しかしながら有毒であるホスゲンを用いることで安全性に問題があり、溶媒として塩化メチレンを使用することで環境破壊を招くなどの問題点が多い。また塩化メチレンや副生物である塩化ナトリウムに由来する塩素分がポリカーボネートに残留することで、各種部品成形時に金属を腐食する問題がある。そこで最近塩化メチレンやホスゲンを使用しないエステル交換法によるポリカーボネートが脚光を浴びている。しかしながら、エステル交換法で得られるポリカーボネートは高温で長時間の熱履歴を受けるため色調の悪化など品質的に優れたものは得られにくい。特に近年、ＤＶＤ、ＭＯ、ＣＤＲなどの高密度、高精度が必要な光学用途において使用されるポリカーボネートでは、熱安定性の不足による着色および熱変性によるゲル化は直接的に最終製品のブロックエラーレートなどの光学特性および引張り、曲げ、靭性などの機械特性に影響を及ぼすため、エステル交換法ポリカーボネートの更なる色調の向上、熱安定性の向上が要求されている。
【０００３】
この課題を解決しようとして例えば独国特許公開第２４３９５５２号公報では精製したビスフェノールＡとジフェニルカーボネートを、そのモル比が３０／７０〜７０／３０、好ましくは４５／５５〜５５／４５になるようにして送り、均一溶融状態で保存した後、エステル交換反応釜内に仕込み重合する方法が提案されている。特開平６−３２８８５号公報ではポリカーボネート中の残留金属量を少なくするためにエステル交換反応の金属材質をＦｅ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｃｒから選択される金属を含有する金属材質からなる反応器を用い、かつ反応器内の水分量を５００ｐｐｍ以下に保ち、ポリカーボネートを製造している。
特開平６−３２８８６号公報には、芳香族ジヒドロキシ化合物を精製後溶融し、それを固化させることなく酸素の実質的不存在下で反応器に供給しそして炭酸ジエステルと混合して重縮合反応を行う、芳香族ポリカーボネートの製造法が開示されている。
特開平６−３２８８７号公報には、粉末状の芳香族ジヒドロキシ化合物と溶融炭酸ジエステルとを酸素の実質的不存在下に混合し、形成された溶液を重縮合反応に付す、芳香族ポリカーボネートの製造法が開示されている。
特開平７−２６０１０号公報には、ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを、酸素濃度２ｐｐｍ以下の雰囲気中で、エステル交換せしめる方法が開示されている。
しかしながら、上記いずれの方法によっても十分に良好な色調を持つ芳香族ポリカーボネートは得られていない。
【０００４】
発明の開示
本発明の目的は、色調に優れた芳香族ポリカーボネートを製造するのに有効な、原料の保存方法を提供することにある。
【０００５】
本発明の他の目的は、製造される芳香族ポリカーボネートの色調に影響を与える、原料保存条件の種々のパラメーターおよびそれらの種々のパラメーター相互間の関連性を考慮した、原料の保存方法を提供することにある。
【０００６】
本発明のさらに他の目的は、本発明の保存方法により保存された原料を用いて、色調の優れた芳香族ポリカーボネートを製造する方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかとなろう。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよびジフェニルカーボネートから実質的になる混合物を、下記式（１）
Ａ０＝−７．８８＋０．１７９×ｌｏｇＣ０＋３．３５４×ｌｏｇＴ０＋
０．００７８×Ｕ０＋０．００１７τ０                  ．．．（１）
ここで、Ｃ０は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｔ０は貯蔵槽内の溶融混合物の温度（℃）であり、Ｕ０は貯蔵槽の加熱媒体の温度と溶融混合物の温度との温度差（℃）でありそしてτ０は貯蔵槽内の溶融混合物の平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される溶融保存パラメーター（Ａ０）が０以下となる条件下に、溶融状態で保持することを特徴とする、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートの混合物の保存法（以下、原料混合物の溶融保存法ということがある）によって達成される。
【０００７】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第２に、
ジフェニルカーボネートを、下記式（２）
Ａ１＝−８．０８＋０．１４５×ｌｏｇＣ１＋３．３５×ｌｏｇＴ１＋
０．００７×Ｕ１＋０．０００７τ１                  ．．．（２）
ここで、Ｃ１は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｔ１は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの温度（℃）であり、Ｕ１は貯蔵槽の加熱媒体の温度とジフェニルカーボネートの温度との温度差（℃）でありそしてτ１は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される溶融保存パラメーター（Ａ１）が０以下となる条件下に、溶融状態で保持することを特徴とする、ジフェニルカーボネートの保存法（以下、ジフェニルカーボネートの溶融保存法ということがある）によって達成される。
【０００８】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第３に、
ジフェニルカーボネートを、下記式（３）
Ｂ２＝−０．４２５＋０．１３１×ｌｏｇＣ３＋０．０４７×ｌｏｇＭ２
−０．００１２Ｔ３＋０．００１７×τ３                ．．．（３）
ここで、Ｃ３は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｍ２は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの水分率（ｐｐｍ）であり、Ｔ３は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの温度（℃）でありそしてτ３は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される粉体保存パラメーター（Ｂ２）が０以下となる条件下に、粉体状態で保持することを特徴とする、ジフェニルカーボネートの保存法（以下、ジフェニルカーボネートの粉末保存法ということがある）によって達成される。
【０００９】
本発明の上記目的および利点は、本発明によれば、第４に、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを、下記式（４）
Ｂ１＝−０．４２５＋０．１３１×ｌｏｇＣ２＋０．０４７×ｌｏｇＭ１
−０．００１２×Ｔ２＋０．００１７τ２                ．．．（４）
ここで、Ｃ２は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｍ１は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの水分率（ｐｐｍ）であり、Ｔ２は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの温度（℃）でありそしてτ２は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される粉体保存パラメーター（Ｂ１）が０以下となる条件下に、粉体状態で保持することを特徴とする、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの保存法（以下、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの粉末保存法ということがある）によって達成される。
【００１０】
最後に、本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第５に、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートとを本発明の上記保存方法の少なくとも１つを利用して保存し、それらの混合物をアルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下、エステル交換反応せしめることを特徴とする芳香族ポリカーボネートの製造法によって達成される。
【００１１】
発明の好ましい実施の態様
以下、本発明方法を順次説明する。本発明の原料混合物の溶融保存法によって先ず説明する。
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）はモノマーとしての安定性、さらにはそれに含まれる不純物の量が少ないものの入手が容易である。
またこれと反応する炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネートが用いられる。
【００１２】
本発明の混合物の溶融保存法によれば、上記の如き２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートとの溶融混合物、好ましくは２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１モルに対しジフェニルカーボネート１．０〜１．２モルの割合で含有する溶融混合物は
Ａ０＝−７．８８＋０．１７９×ｌｏｇＣ０＋３．３５４×ｌｏｇＴ０＋
０．００７８×Ｕ０＋０．００１７τ０                  ．．．（１）
ここで、Ｃ０は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｔ０は貯蔵槽内の溶融混合物の温度（℃）であり、Ｕ０は貯蔵槽の加熱媒体の温度と溶融混合物の温度との温度差（℃）でありそしてτ０は貯蔵槽内の溶融混合物の平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される溶融保存パラメーター（Ａ０）が０以下となる条件下に、溶融状態で保持される。
【００１３】
溶融保存パラメーターＡ０がゼロ以下すなわち０もしくは負の値となる溶融保存条件を採用することによって色調の優れるポリカーボネートの製造が可能となる。溶融保存パラメーターＡ０がゼロを超えると、得られるポリカーボネートの色調が著しく悪化するため好ましくない。より好ましくは溶融保存パラメーターＡ０を−０．６以上−０．００１以下の範囲を示す条件で保存することである。
得られるポリカーボネートの色調の良し悪しは、ポリカーボネートのペレット（短径×長径×長さ（ｍｍ）＝２．５×３．３×３．０）のＬａｂ値を測定し、黄色度の尺度として用いられているｂ値によって判定される。従来エステル交換法にて製造したポリカーボネートは、重合中あるいは成型時など高温で長時間の熱履歴を受けたときに黄色く変色しやすく、ペレットのｂ値がゼロを超える値になり、光学用途など色調が重要な成型品を得ることが困難であった。
しかしながら、本発明の上記保存法で保存した溶融混合物を原料として芳香族ポリカーボネートを製造することにより、このｂ値がゼロ以下のペレットが製造できることが本発明者により明らかにされた。
【００１４】
上記式(１)においてＣ０は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度を示し、貯蔵槽内の酸化反応による着色の影響を減らすためにも、該濃度は小さい方が溶融保存パラメーターＡ０をゼロ以下に保つ点で好ましい。そのため貯蔵槽内は酸素濃度の少ない窒素、ヘリウムなどの不活性気体で充分置換させ、さらには必要に応じて原料そのものに含まれる微量酸素を取り除くために、例えば溶融混合物中に不活性気体をバブリングするとかあるいは溶融混合物を脱酸素剤中を通過せしめる方法等を採用するのが好ましい。
Ｔ０、Ｕ０およびτ０はそれぞれ、溶融混合物温度、溶融混合物と加熱媒体との温度差および貯蔵槽内の該混合物の平均滞留時間を表す。いずれも溶融下での熱履歴および酸化反応を抑制するためにも可能な限り小さい方が好ましく、局所的な温度斑や滞留時間斑をなくすためにも貯蔵槽内は常時攪拌混合しておくのが好ましい。
また貯蔵槽内の溶融混合物の温度は、該溶融混合物が安定に保存でき、液状で移送が容易である温度であれば特に制限はないが、降温下で最初に結晶を析出する温度（結晶析出温度）よりも高く且つ３００℃以下、好ましくは結晶析出温度＋１℃以上２２０℃以下、より好ましく結晶析出温度＋１℃以上２００℃以下である。例えばビスフェノールＡとジフェニルカーボネートの等モル混合物の場合は約１２５℃である。
【００１５】
本発明者はこれらの条件を要因として、製造したポリカーボネートのｂ値に対する各要因の寄与の度合いを解析し、上記式(１)を得るに至ったのである。これらの条件は製造されるポリカーボネートの色調に影響を及ぼすので、可能な限り重合開始直前まで測定を継続し、溶融保存パラメーターＡ０がゼロ以下になるように保つのが望ましい。
保存される上記溶融混合物は、保存中は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートとのエステル交換触媒を実質的に含有しない混合物であるのが好ましい。エステル交換触媒を含むと芳香族モノヒドロキシ化合物が副生するため溶融保存パラメーターの式の精度が悪くなり好ましくない。
本発明の上記溶融混合物の保存法は溶融保持の時間が２時間を超える際に特に顕著な効果をもたらす。
【００１６】
また溶融貯蔵槽は、溶融混合物に対して耐食性を有する材料で構成されていることが望ましい。例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０４Ｌ、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ６３０、ＳＣＳ１３、ＳＣＳ１４、ＳＣＳ１６、ＳＣＳ１９の如きステンレススチール；ＨＣｒ（硬質クロム）、ニッケルなどのメッキ、ステライト盛り、またはＨＩＰ（熱間静水圧プレス）法ライニングなどを施したカーボンスチールが好ましい。特に、ステンレススチールが好ましい。また、好ましくは、溶融貯蔵槽の配管や配管継ぎ手もまた同様の材料で形成されている。材質は貯蔵槽と配管と配管継手とで異なってもよいが、望ましくは同じ材質とし、熱膨張による影響を減らすことが配管の強度面、デッドスペースの面から好ましい。また、特に、配管に使用される材料としては熱処理を既に行ったものが、高温時の応力の影響を考えると好ましい。
また溶融貯蔵槽に使用される装置形式においては特に制限がなく、加熱媒体によって加熱を行い攪拌装置を備えた、通常良く知られている竪型攪拌槽や横型攪拌槽等が使用できる。なかでも例えば竪型バッチ形式の攪拌槽を用いるのが好ましい。
【００１７】
本発明者の研究によれば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートの混合物を上記の如く溶融保存する方法の他に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンあるいはジフェニルカーボネートを別個に適切な条件下に保存する方法によっても、色調の良好な芳香族ポリカーボネートが製造できることが明らかにされた。以下、これらの方法について説明するが、それらの方法には、ジフェニルカーボネートの溶融保存法および粉末保存法並びに２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの粉末保存法が包含される。
ジフェニルカーボネートの溶融保存法によれば、ジフェニルカーボネートは、下記式（２）
Ａ１＝−８．０８＋０．１４５×ｌｏｇＣ１＋３．３５×ｌｏｇＴ１＋
０．００７×Ｕ１＋０．０００７τ１                  ．．．（２）
ここで、Ｃ１は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｔ１は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの温度（℃）であり、Ｕ１は貯蔵槽の加熱媒体の温度とジフェニルカーボネートの温度との温度差（℃）でありそしてτ１は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される溶融保存パラメーター（Ａ１）が０以下となる条件下に、溶融状態で保持される。
より好ましい溶融保存パラメーターＡ１は−１．６〜−０．００１である。
【００１８】
上記式(１)においてＣ１は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度を示し、貯蔵槽内の酸化反応による着色の影響を減らすためにも、該濃度は小さい方が溶融保存パラメーターＡ１をゼロ以下に保つ点で好ましい。そのため貯蔵槽内は酸素濃度の少ない窒素、ヘリウムなどの不活性気体で充分置換させ、さらには必要に応じて原料そのものに含まれる微量酸素を取り除くために、例えば溶融ジフェニルカーボネート中に不活性気体をバブリングするとかあるいは溶融ジフェニルカーボネートを脱酸素剤中を通過せしめる方法等を採用するのが好ましい。
Ｔ１、Ｕ１およびτ１はそれぞれ、溶融ジフェニルカーボネート温度、溶融ジフェニルカーボネートと加熱媒体との温度差および貯蔵槽内の溶融ジフェニルカーボネートの平均滞留時間を表す。いずれも溶融下での熱履歴および酸化反応を抑制するためにも可能な限り小さい方が好ましく、局所的な温度斑や滞留時間斑をなくすためにも貯蔵槽内は常時攪拌混合しておくのが好ましい。
貯蔵槽内の溶融ジフェニルカーボネートの温度は、好ましくはジフェニルカーボネートの融点以上２５０℃以下、より好ましくはジフェニルカーボネートの融点以上２００℃以下である。
【００１９】
また、ジフェニルカーボネートの粉末保存法によれば、ジフェニルカーボネートは、下記式（３）
Ｂ２＝−０．４２５＋０．１３１×ｌｏｇＣ３＋０．０４７×ｌｏｇＭ２
−０．００１２Ｔ３＋０．００１７×τ３                ．．．（３）
ここで、Ｃ３は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｍ２は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの水分率（ｐｐｍ）であり、Ｔ３は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの温度（℃）でありそしてτ３は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される粉体保存パラメーター（Ｂ２）が０以下となる条件下に、粉体状態で保持される。
より好ましい粉体保存パラメーター（Ｂ２）は−０．７〜−０．０００１である。
【００２０】
上記式(３)においてＣ３は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度を示し、貯蔵槽内の酸化反応による着色の影響を減らすためにも、該濃度は小さい方が粉体保存パラメーターＢ２を小さくする点で好ましい。そのため貯蔵槽内は酸素濃度の少ない窒素、ヘリウムなどの不活性気体を充分置換させるのが好ましい。
Ｍ２は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの水分率をあらわす。水分の存在は重合釜内での原料、オリゴマーおよびポリマーの加水分解を促進し、加水分解による着色要因成分の生成を増長するので、水分率は少ない方が好ましい。
Ｔ３は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの粉体温度を表す。粉体保存の温度が高い方が粉体保存パラメーターＢ２を小さく保つことができ好ましい。
τ３は貯蔵槽内のジフェニルカーボネートの平均滞留時間を表す。貯蔵槽内保存中に他の色調に悪影響を及ぼす物質の混入を避けるために短い方が粉体保存パラメーターＢ２を小さく保つことができ好ましい。
また、局所的な温度斑や滞留時間斑をなくすためにも貯蔵槽内は常時攪拌混合しておくのが好ましく、重合釜へ仕込む直前まで、該貯蔵槽に保存しておき、水分量、酸素濃度、粉体温度を随時測定、記録しておき粉体保存パラメーターＢ２がゼロ以下になっていることを確認しながら保存しておくことが好ましい。
貯蔵槽内のジフェニルカーボネート粉体の温度は、好ましくは−５０℃以上ジフェニルカーボネートの融点未満、より好ましくは−３０℃以上５０℃以下である。
【００２１】
さらに、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの粉末保存法によれば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンは、下記式（４）
Ｂ１＝−０．４２５＋０．１３１×ｌｏｇＣ２＋０．０４７×ｌｏｇＭ１
−０．００１２×Ｔ２＋０．００１７τ２                ．．．（４）
ここで、Ｃ２は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度（ｐｐｍ）であり、Ｍ１は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの水分率（ｐｐｍ）であり、Ｔ２は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの温度（℃）でありそしてτ２は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの平均滞留時間（ｈｒ）である、
で定義される粉体保存パラメーター（Ｂ１）が０以下となる条件下に、粉体状態で保持される。
より好ましい粉体保存パラメーターＢ１は−０．７〜−０．０００１である。
【００２２】
上記式(４)においてＣ２は貯蔵槽内の雰囲気の酸素濃度を示し、貯蔵槽内の酸化反応による着色の影響を減らすためにも、該濃度は小さい方が粉体保存パラメーターＢ１を小さくする点で好ましい。そのため貯蔵槽内は酸素濃度の少ない窒素、ヘリウムなどの不活性気体を充分置換させるのが好ましい。
Ｍ１は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの水分率をあらわす。水分の存在は重合釜内での原料、オリゴマーおよびポリマーの加水分解を促進し、加水分解による着色要因成分の生成を増長するので、水分率は少ない方が好ましい。
Ｔ２は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの粉体温度を表す。粉体保存の温度が高い方が粉体保存パラメーターＢ１を小さく保つことができ好ましい。
τ２は貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの平均滞留時間を表す。貯蔵槽内保存中に他の色調に悪影響を及ぼす物質の混入を避けるために短い方が粉体保存パラメーターＢ１を小さく保つことができ好ましい。
【００２３】
また、局所的な温度斑や滞留時間斑をなくすためにも貯蔵槽内は常時攪拌混合しておくのが好ましく、重合釜へ仕込む直前まで、該貯蔵槽に保存しておき、水分量、酸素濃度、粉体温度を随時測定、記録しておき粉体保存パラメーターＢ１がゼロ以下になっていることを確認しながら保存しておくことが好ましい。
貯蔵槽内の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン粉体の温度は、好ましくは−５０℃以上２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの融点未満、より好ましくは−３０℃以上５０℃以下である。
なお、上記したジフェニルカーボネートの溶融保存法、ジフェニルカーボネートの粉末保存法および２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの粉末保存法において、記載のない事項は、原料混合物の溶融保存法について記載された事項がそのままあるいは当業者に自明の事実を加えて適用されると理解されるべきである。
【００２４】
本発明の前記した原料混合物の溶融保存法の好ましい実施態様として、
（ａ）２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの粉末保存法で保存された２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを使用する方法
（ｂ）ジフェニルカーボネートの粉末保存法で保存されたジフェニルカーボネートを使用する方法
または
（ｃ）ジフェニルカーボネートの溶融保存法で保存されたジフェニルカーボネートを使用する方法
が挙げられる。上記好ましい実施態様により保存された、溶融原料混合物を原料として芳香族ポリカーボネートを製造することにより、色調の一層優れたつまり負のｂ値を持つポリカーボネートを製造することができる。
次に、本発明による芳香族ポリカーボネートの製造法を説明する。
【００２５】
本発明の芳香族ポリカーボネートの製造法では、本発明の前記保存法の少なくとも１の保存法によって、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートの少なくともいずれか一方の原料が保存されていたものを用いる。
具体例には、（ｉ）原料混合物の溶融保存法によって保存された、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートの混合物を用いる方法、（ii）２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの粉末保存法によって保存された２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを用いる方法、（iii）ジフェニルカーボネートの粉末保存法によって保存されたジフェニルカーボネートを用いる方法および（iv）ジフェニルカーボネートの溶融保存法によって保存されたジフェニルカーボネートを用いる方法を挙げることができる。上記（ii）の方法と（iii）の方法または上記（ii）の方法と（iv）の方法の組合せは、上記（ii）の方法の好ましい態様である。
【００２６】
本発明の芳香族ポリカーボネートの製造法は、上記の如く、本発明の保存法の少なくとも１つを適用した原料を用いる点で特徴的である。原料混合物は、アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下、エステル交換反応に付される。
アルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の水酸化物、炭酸水素化物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホウ素塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェノール、フェノールの塩等が挙げられる。
具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、シアン酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ酸ナトリウム、フェニル化ホウ酸カリウム、フェニル化ホウ酸リチウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジカリウム、リン酸水素ジリチウム、ビスフェノールＡのジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙げられ、就中ビスフェノールＡのジナトリウム塩、フェノールのナトリウム塩が好ましく用いられる。
【００２７】
また、アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸水素化物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、安息香酸塩、ビスフェノール、フェノールの塩等が挙げられる。
具体例としては、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸バリウム、酢酸ストロンチウム、硝酸カルシウム、硝酸バリウム、硝酸ストロンチウム、亜硝酸カルシウム、亜硝酸バリウム、亜硝酸ストロンチウム、亜硫酸カルシウム、亜硫酸バリウム、亜硫酸ストロンチウム、シアン酸カルシウム、シアン酸バリウム、シアン酸ストロンチウム、チオシアン酸カルシウム、チオシアン酸バリウム、チオシアン酸ストロンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸ストロンチウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素バリウム、水素化ホウ素ストロンチウム、安息香酸カルシウム、安息香酸バリウム、安息香酸ストロンチウム、ビスフェノールＡのカルシウム塩、バリウム塩、ストロンチウム塩、フェノールのカルシウム塩、バリウム塩、ストロンチウム塩などが挙げられる。
【００２８】
本願発明においては所望により、触媒のアルカリ金属化合物として、（ａ）周期律表第１４族の元素のアート錯体のアルカリ金属塩または（ｂ）周期律表第１４族の元素のオキソ酸のアルカリ金属塩を用いることができる。ここで周期律表第１４族の元素とは、ケイ素、ゲルマニウム、スズのことをいう。
これらのアルカリ金属化合物を重縮合反応触媒として用いることにより、重縮合反応を迅速かつ十分にすすめることができる利点を有する。また、重縮合反応中に生成する分岐反応のような、好ましくない副反応を低いレベルに抑えることができる。
【００２９】
（ａ）周期律表第１４元素のアート錯体のアルカリ金属塩としては、特開平７−２６８０９１号公報に記載のものが好ましく用いられる。具体的には、ゲルマニウム（Ｇｅ）の化合物；ＮａＧｅ（ＯＭｅ）５、ＮａＧｅ（ＯＥｔ）５、ＮａＧｅ（ＯＰｒ）５、ＮａＧｅ（ＯＢｕ）５、ＮａＧｅ（ＯＰｈ）５、ＬｉＧｅ（ＯＭｅ）５、ＬｉＧｅ（ＯＢｕ）５、ＬｉＧｅ（ＯＰｈ）５を挙げることができる。
スズ（Ｓｎ）の化合物としては、例えばＮａＳｎ（ＯＭｅ）３、ＮａＳｎ（ＯＭｅ）２（ＯＥｔ）、ＮａＳｎ（ＯＥｔ）３、ＮａＳｎ（ＯＰｒ）３、ＮａＳｎ（Ｏ−ｎ−Ｃ６Ｈ１３）３、ＮａＳｎ（ＯＭｅ）５、ＮａＳｎ（ＯＥｔ）５、ＮａＳｎ（ＯＢｕ）５、ＮａＳｎ（Ｏ−ｎ−Ｃ１２Ｈ２５）５、ＮａＳｎ（ＯＰｈ）５、ＮａＳｎＢｕ２（ＯＭｅ）３を挙げることができる。
また（ｂ）周期律表第１４族元素のオキソ酸のアルカリ金属塩としては、例えばケイ酸（ｓｉｌｉｃｉｃ  ａｃｉｄ）のアルカリ金属塩、スズ酸（ｓｔａｎｉｃ  ａｃｉｄ）のアルカリ金属塩、ゲルマニウム(II)酸（ｇｅｒｍａｎｏｕｓ  ａｃｉｄ）のアルカリ金属塩、ゲルマニウム（IV）酸（ｇｅｒｍａｎｉｃ  ａｃｉｄ）のアルカリ金属塩を好ましいものとして挙げることができる。
【００３０】
ケイ酸のアルカリ金属塩は、例えばモノケイ酸（ｍｏｎｏｓｉｌｉｃｉｃ  ａｃｉｄ）またはその縮合体の酸性あるいは中性アルカリ金属塩であり、その例としては、オルトケイ酸モノナトリウム、オルトケイ酸ジナトリウム、オルトケイ酸トリナトリウム、オルトケイ酸テトラナトリウムを挙げることができる。
スズ酸のアルカリ金属塩は、例えばモノスズ酸（ｍｏｎｏｓｔａｎｉｃ  ａｃｉｄ）またはその縮合体の酸性あるいは中性アルカリ金属塩であり、その例としてはモノスズ酸ジナトリウム塩（Ｎａ２ＳｎＯ３・ｘＨ２Ｏ、ｘ＝０〜５）、モノスズ酸テトラナトリウム塩（Ｎａ４ＳｎＯ４）を挙げることができる。
ゲルマニウム（II）酸（ｇｅｒｍａｎｏｕｓ  ａｃｉｄ）のアルカリ金属塩は、例えばモノゲルマニウム酸またはその縮合体の酸性あるいは中性アルカリ金属塩であり、その例としてはゲルマニウム酸モノナトリウム塩（ＮａＨＧｅＯ２）を挙げることができる。
ゲルマニウム（IV）酸（ｇｅｒｍａｎｉｃ  ａｃｉｄ）のアルカリ金属塩は、例えば、モノゲルマニウム（IV）酸またはその縮合体の酸性あるいは中性アルカリ金属塩であり、その例としてはオルトゲルマニウム酸モノリチウム塩（ＬｉＨ３ＧｅＯ４）、オルトゲルマニウム酸ジナトリウム塩、オルトゲルマニウム酸テトラナトリウム塩、ジゲルマニウム酸ジナトリウム塩（Ｎａ２Ｇｅ２Ｏ５）、テトラゲルマニウム酸ジナトリウム塩（Ｎａ２Ｇｅ５Ｏ１１）を挙げることができる。
【００３１】
上記の如き触媒としてのアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物は、当該触媒中のアルカリ金属元素またはアルカリ土類金属元素が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１モル当り１×１０−８〜５×１０−５当量となる場合で好ましく使用される。より好ましい割合は同じ基準に対し５×１０−７〜１×１０−５当量となる割合である。上記使用範囲を逸脱すると、得られるポリカーボネートの諸物性に悪影響を及ぼしたり、また、エステル交換反応が充分に進行せず高分子量のポリカーボネートが得られない等の問題があり好ましくない。
ここで本願明細書に言うアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の当量は、触媒１分子中に含まれるアルカリ金属元素またはアルカリ土類金属元素の価数の総和と触媒のモル数との積を意味し、触媒１分子中にアルカリ金属元素（１価）が１つ含まれる場合には、触媒１モルは触媒１当量に等しくなり、アルカリ土類金属元素（２価）が１つ含まれる場合には、触媒１モルは触媒２当量に等しくなる。また、触媒１分子中にアルカリ金属元素（１価）が２つ含まれる場合には触媒１モルは触媒２当量に等しくなる。
【００３２】
また、触媒として用いる含窒素塩基性化合物としては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ４ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ４ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂｕ４ＮＯＨ）、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（φ−ＣＨ２（Ｍｅ）３ＮＯＨ）、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなどのアルキル、アリール、アルキルアリール基などを有するアンモニウムヒドロオキシド類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ヘキサデシルジメチルアミンなどの３級アミン類；あるいはテトラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ４ＮＢＨ４）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド（Ｂｕ４ＮＢＨ４）、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ４ＮＢＰｈ４）、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ４ＮＢＰｈ４）などの塩基性塩を挙げることができる。
上記含窒素塩基性化合物は、含窒素塩基性化合物中のアンモニウム窒素原子が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１モル当り１×１０−５〜５×１０−３当量となる割合で用いるのが好ましい。より好ましい割合は同じ基準に対し２×１０−５〜５×１０−４当量となる割合である。特に好ましい割合は同じ基準に対し５×１０−５〜５×１０−４当量となる割合である。
【００３３】
ここで本願明細書に言う含窒素塩基性化合物の触媒の当量は、触媒１分子中に含まれる塩基性窒素化合物の価数の総和と触媒のモル数との積を意味し、触媒１分子中に塩基性窒素元素（１価）が１つ含まれる場合には、触媒１モルは触媒１当量に等しくなる。例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ４ＮＯＨ）１モルは触媒１当量に等しくなる。
上記の如き重縮合反応には、上記触媒と一緒に、必要により、周期律表第１４族元素のオキソ酸および同元素の酸化物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の助触媒を共存させることができる。
これら助触媒を特定の割合で用いることにより、末端の封鎖反応、重縮合反応速度を損なうことなく、重縮合反応中に生成し易い分岐反応や、成型加工時における装置内での異物の生成、やけといった好ましくない副反応をより効果的に抑制することができる。
周期律表第１４元素のオキソ酸としては、例えばケイ酸、スズ酸、ゲルマニウム酸を挙げることができる。
周期律表第１４元素の酸化物としては、例えば一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、一酸化スズ、二酸化スズ、一酸化ゲルマニウム、二酸化ゲルマニウムおよびこれらの縮合体を挙げることができる。
【００３４】
助触媒は重縮合反応触媒中のアルカリ金属元素１モル（原子）当り、助触媒中の周期律表第１４族の金属元素が５０モル（原子）以下となる割合で存在せしめるのが好ましい。同金属元素が５０モル（原子）を超える割合で助触媒を用いると、重縮合反応速度が遅くなり好ましくない。
助触媒は、重縮合反応触媒のアルカリ金属元素１モル（原子）当り、助触媒の周期律表第１４族の金属元素が０．１〜３０モル（原子）となる割合で存在せしめるのがさらに好ましい。
これらの触媒系は、重縮合反応に用いることにより重縮合反応および末端封止反応を迅速かつ十分に進めることができる利点を有する。また重縮合反応系中に生成する分岐反応のような好ましくない副反応を低いレベルに抑えることができる。
【００３５】
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートを加熱溶融下反応させてエステル交換反応にて芳香族ポリカーボネートを製造するにあたり、常圧または減圧下でかつ不活性ガス雰囲気下で、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートとを加熱および撹拌し、得られる溶融混合物に前述の触媒を添加し、エステル交換反応を開始させる。このときジフェニルカーボネートと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンは、ジフェニルカーボネートが２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１モルに対して、好ましくは１．００〜１．２０モル、より好ましくは１．００５〜１．１０モル、さらに好ましくは１．０１〜１．０５モルとなる割合で用いられる。また、必要に応じて、脂肪族ジオールとして、例えばエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，１０−デカンジオール等を、ジカルボン酸類として、例えば、コハク酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、シクロヘキサンカルボン酸、テレフタル酸等を、オキシ酸類として、例えば、乳酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等を用いることができる。
反応温度は通常１４０〜３００℃であり重合の進行と共に反応温度を高めることが好ましく実施される。また、反応系の圧力は系を減圧にするかもしくは大量の不活性ガスを流通させて生成するフェノールの留出を容易にさせ反応を進めることが好ましく実施される。
【００３６】
本発明を実施するのに使用される重縮合反応器の装置形式は特に制限が無く、通常知られている竪型攪拌槽や横形攪拌槽やルーダー等が使用できる。
さらに詳しくは、反応を回分式で実施する場合は２基の竪型攪拌槽を用い、精留塔を付設した第1攪拌槽に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンとジフェニルカーボネートを前記モル比で仕込み、不活性ガスで置換した後、加熱溶融させ、これに前記重合触媒を所定量添加した後、系を真空に引きつつ加熱し、初期の重合を行わせた後、精留塔を持たない第２の攪拌槽に反応液を移送し系をさらに高真空とし、且つ温度も高めて所定の重合度となるまで重合を継続させることが好ましい。この時、含窒素塩基性化合物の反応系内濃度を本発明範囲に維持するために、例えば、第1攪拌槽における反応の途中や第２攪拌槽への移送の過程で適当量の含窒素塩基性化合物を追加して反応させることができる。
反応を連続式で実施する場合は複数の攪拌槽を用い、この内、反応物の粘度が低い第一重合槽には精留塔を付設した竪型攪拌槽を用い、反応物の粘度が高まり副生する芳香族モノヒドロキシ化合物の除去が難しくなる後期重合槽には横形攪拌槽や、２軸ルーダーを使用し、これらを直列に設置し、連続的に溶融した原料と触媒を第1重合槽に送り込むと共に最終重合槽から連続的に所定重合度のポリカーボネートを抜き出すことが好ましく実施される。この時、含窒素塩基性化合物の反応系内濃度を本発明範囲に維持するために、例えば、第1攪拌槽を初めとする個々の重合槽に適当量の含窒素塩基性化合物を追加して反応させることができる。
【００３７】
また本発明においては先述の溶融貯蔵槽と初期重合反応を行う竪型攪拌槽とを兼用して用いたり、あるいは両者を別の攪拌槽として用いる形式にしたりすることができる。
このようにして本発明の方法で得られたポリカーボネートに最終重合槽内または最終重合槽から移送後に触媒失活剤を添加することもできる。該触媒失活剤は触媒の活性を著しく低下させるものであり、本発明に使用するエステル交換による重合触媒の失活剤としては、特開平８−５９９７５号公報記載のような公知の剤が有効に使用される。この中でもスルホン酸のアンモニウム塩、スルホン酸のホスホニウム塩、スルホン酸のエステルが好ましい。
この中でもスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が好ましく、さらにドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等のドデシルベンゼンスルホン酸の上記塩類やパラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩等のパラトルエンスルホン酸の上記塩類が好ましい。またスルホン酸のエステルとしてベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、パラトルエンスルホン酸メチル、パラトルエンスルホン酸エチル、パラトルエンスルホン酸ブチル、パラトルエンスルホン酸オクチル、パラトルエンスルホン酸フェニル等が好ましく用いられる。本発明においては、これらの触媒失活剤の内、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、パラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩が最も好ましく使用される。
本発明で用いられるこの様な触媒失活剤は単独でポリカーボネートに添加してもよく、水と触媒失活剤の混合液として同時にポリカーボネートに添加してもよい。
【００３８】
本発明における溶融重合で得られるポリカーボネートに対する触媒失活剤の添加量は、アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物より選ばれた前記主重縮合触媒１当量あたり０．５〜５０当量の割合で、好ましくは０．５〜１０当量の割合で、さらに好ましくは０．８〜５当量の割合で使用される。ここで触媒失活剤の当量は失活剤１分子中に存在する、触媒金属の１価当りと反応し得る部位の数を表わし、触媒失活剤のモルと当量の関係は、失活剤１分子中に該反応部位が１個存在する場合には１モルは１当量に等しくなり、該反応部位が２個存在する場合には１モルは２当量に等しくなる。これは通常、ポリカーボネート樹脂に対し０．０１〜５００ｐｐｍの割合で使用することに相当する。
これらの触媒失活剤は直接、または適当な溶剤に溶解または分散させて溶融状態のポリカーボネートに添加、混練する。この様な操作を実施するのに用いられる設備に特に制限は無いが、例えば２軸ルーダー等が好ましく、触媒失活剤を溶剤に溶解または分散させた場合はベント付きの２軸ルーダーが特に好ましく使用される。
【００３９】
また本発明においては、本発明の目的をそこなわない範囲でポリカーボネートに他の各種添加剤を添加することができる。この添加剤は触媒失活剤と同様に溶融状態のポリカーボネートに添加することが好ましい。この様な添加剤としては、例えば、耐熱安定剤、エポキシ化合物、紫外線吸収剤、離型剤、着色剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、滑剤、有機充填剤、無機充填剤等をあげることができる。
これらの内でも耐熱安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色剤等が特に一般的に使用され、これらは２種以上組み合わせて使用することができる。
本発明に用いられる耐熱安定剤としては、例えば、燐化合物、フェノール系安定剤、有機チオエーテル系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤等を挙げることができる。
紫外線吸収剤としては、一般的な紫外線吸収剤が用いられ、例えば、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等を挙げることができる。
離型剤としては一般的に知られた離型剤を用いることが出来、例えば、パラフィン類などの炭化水素系離型剤、ステアリン酸等の脂肪酸系離型剤、ステアリン酸アミド等の脂肪酸アミド系離型剤、ステアリルアルコール、ペンタエリスリトール等のアルコール系離型剤、グリセリンモノステアレート等の脂肪酸エステル系離型剤、シリコーンオイル等のシリコーン系離型剤等を挙げることができる。
着色剤としては有機系や無機系の顔料や染料を使用することができる。
これらの添加剤の添加方法に特に制限はないが、例えば、直接ポリカーボネートに添加してもよく、マスターペレットを作成して添加してもよい。
【００４０】
さらに本発明の方法で得られたポリカーボネートには本発明の目的を損なわない範囲で剛性などを改良するために固体フィラーおよび／または本発明のポリカーボネート以外の熱可塑性樹脂を配合することが可能であって、それによりポリカーボネート組成物を提供することもできる。
【００４１】
【実施例】
以下、本発明の実施例および比較例を挙げて本発明を詳述するが、これらの例は本願発明を例示するためのものであり、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。なお実施例および比較例中の「ｐｐｍ」及び「部」は特に断らない限り「重量ｐｐｍ」または「重量部」である。なお以下の実施例および比較例において原料および得られたポリカーボネートの物性は以下のようにして測定した。
【００４２】
１）酸素濃度
原料を溶融貯蔵した貯蔵槽から排出される窒素中の酸素濃度を愛知産業（株）製ＯＡ−１型酸素分析計にて測定した。
２）温度
溶融混合液と加熱媒体の温度は通常に市販されている熱電対で測定を行い、両者の差を算出した。加熱媒体の温度とは溶融混合されている槽ジャケットに導入される直前の温度であり、溶融混合物の温度を維持するに必要な最大の温度である。上記酸素濃度と温度は溶融開始から重合開始直前まで測定を行った。また粉体の温度は通常に市販されている熱電対で測定を行った。上記酸素濃度と温度は貯蔵開始から重合開始直前まで測定を行った。
３）水分率
精秤した試料１０ｇの水分量を(株)チノー社製  精密微量水分計ＣＺＡ−３０００を用いて測定し、水分率を求めた。
４）粘度平均分子量
０．７ｇ／ｄｌの塩化メチレン溶液をウベローデ型粘度計を用い固有粘度を測定し、下記数式(II)により粘度平均分子量を求めた。
［η］＝１．２３×１０−４×Ｍｗ０．８３                (II)
［上記数式(II)において［η］は固有粘度を、Ｍｗは粘度平均分子量をあらわす。］
５）色調（ｂ値）
ポリカーボネートペレット（短径×長径×長さ（ｍｍ）＝２．５×３．３×３．０）のＬａｂ値を日本電色工業製ＮＤ−１００１ＤＰを用い反射法で測定し、黄色度の尺度としてｂ値を用いた。
【００４３】
実施例１
精留塔、撹拌機、ジャケットを備え、かつ酸素分析計に接続された堅型バッチ形式のＳＵＳ３１６製のオートクレーブにビスフェノールＡを１０００部、ジフェニルカーボネ−ト９６０部を仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて噴射させながら液温を１３０℃にするように、１３５℃の熱媒体をオートクレーブのジャケットに流通して１０時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．５４１に相当した。ついでビスフェノールＡ１モルに対し、金属として５×１０−７当量のナトリウムフェノキシドと塩基性窒素として１×１０−４当量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを加え、２２０℃まで加熱しながら減圧度を１時間かけて４．０ｋＰａ（３０ｍｍＨｇ）とし、この状態を１時間継続して大半のフェノールを留去した。ついで２７０℃まで温度を上げながら、１時間かけて減圧度１３３Ｐａ（１ｍｍＨｇ）とし、その後１時間反応を行い、粘度平均分子量１５２００のポリカーボネートを得た。溶融状態にあるポリカーボネートはダイスより押し出しペレタイザーによりペレット化した。結果を表１に示す。
【００４４】
実施例２
酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１８０℃にするように、１８５℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１１ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．０７３に相当した。結果を表１に示す。
【００４５】
実施例３
酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１４０℃の熱媒体を流通させ、４０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１０ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．４６５に相当した。結果を表１に示す。
【００４６】
実施例４
酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１６０℃にするように、１７０℃の熱媒体を流通させ、４０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１０ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．１６２に相当した。結果を表１に示す。
【００４７】
実施例５
酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１６０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１０ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．３６０に相当した。結果を表１に示す。
【００４８】
実施例６
酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１３５℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は４８ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．４３３に相当した。結果を表１に示す。
【００４９】
実施例７
酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１４０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は５３ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．３８６に相当した。結果を表１に示す。
【００５０】
実施例８
酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１６０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は５０ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．２３５に相当した。結果を表１に示す。
【００５１】
実施例９
酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１３５℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１０８ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．３７０に相当した。結果を表１に示す。
【００５２】
実施例１０
酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１４０℃の熱媒体を流通させ、４０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１０２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．２８４に相当した。結果を表１に示す。
【００５３】
実施例１１
酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１６０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１０９ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．１７４に相当した。結果を表１に示す。
【００５４】
比較例１
酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１８０℃にするように、１９０℃の熱媒体を流通させ、４０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１１ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は０．０１７に相当した。結果を表１に示す。
【００５５】
比較例２
酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１８０℃にするように、２１０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は０．１２８に相当した。結果を表１に示す。
【００５６】
比較例３
酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１８０℃にするように、１８５℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は４８ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は０．０４１に相当した。結果を表１に示す。
【００５７】
比較例４
酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１８０℃にするように、１９０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は５２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は０．０８６に相当した。結果を表１に示す。
【００５８】
比較例５
酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１６０℃にするように、１９０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は５７ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は０．０７８に相当した。結果を表１に示す。
【００５９】
比較例６
酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１８０℃にするように、１８５℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は０．１０７に相当した。結果を表１に示す。
【００６０】
比較例７
酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１６０℃にするように、１７０℃の熱媒体を流通させ、４０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１０１ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は０．０１７に相当した。結果を表１に示す。
【００６１】
比較例８
酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１５０℃にするように、１８０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持する以外は実施例１と同様にした。この時、酸素分析計は１０９ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は０．０３４に相当した。結果を表１に示す。
【００６２】
実施例１２
攪拌機を備え、酸素分析計と接続された３ＬのＳＵＳ３１６製の貯蔵容器にビスフェノールＡを１０００部仕込み、攪拌しながら、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間噴射させた。このビスフェノールＡを基準ビスフェノールＡとした。この基準ビスフェノールＡの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ビスフェノールＡを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間噴射させ、０．０５部の水を加え攪拌しながら、さらに−１０℃にて１２時間保持した。このビスフェノールＡの水分率は４８ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１８３に相当した。このビスフェノールＡ１０００部と９０℃にて溶融保持したジフェニルカーボネ−ト９６０部を精留塔および撹拌機を備えた堅型バッチ形式の反応器に仕込み、ビスフェノールＡ１モルに対し、アルカリ金属化合物として５×１０−７当量のナトリウムフェノキシドと含窒素塩基性化合物として１×１０−４当量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを加え、２２０℃まで加熱しながら減圧度を１時間かけて４ｋＰａ（３０ｍｍＨｇ）とし、この状態を１時間継続して大半のフェノールを留去した。ついで２７０℃まで温度を上げながら、１時間かけて減圧度１３３Ｐａ（１ｍｍＨｇ）とし、その後１時間反応を行い、粘度平均分子量１５２００のポリカーボネートを得た。溶融状態にあるポリカーボネートはダイスより押し出し、ペレタイザーによりペレット化した。ｂ値は−０．４であった。結果を表２に示す。
【００６３】
実施例１３
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４７ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．２０７に相当した。結果を表２に示す。
【００６４】
実施例１４
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、１０℃にて１２０時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４５ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０２４に相当した。結果を表２に示す。
【００６５】
実施例１５
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４５ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．２３２に相当した。結果を表２に示す。
【００６６】
実施例１６
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、３０℃にて１２０時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４８ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０４７に相当した。結果を表２に示す。
【００６７】
実施例１７
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、−１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９４ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１６９に相当した。結果を表２に示す。
【００６８】
実施例１８
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９７ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１９２に相当した。結果を表２に示す。
【００６９】
実施例１９
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、１０℃にて１２０時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９８ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．００８に相当した。結果を表２に示す。
【００７０】
実施例２０
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９４ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．２１７に相当した。結果を表２に示す。
【００７１】
実施例２１
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、３０℃にて１２０時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９３ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０３３に相当した。結果を表２に示す。
【００７２】
実施例２２
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、−１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４７６ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１３６に相当した。結果を表２に示す。
【００７３】
実施例２３
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４８３ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１５９に相当した。結果を表２に示す。
【００７４】
実施例２４
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４９１ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１８３に相当した。結果を表２に示す。
【００７５】
実施例２５
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０１部の水を加えて、−１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は８ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１２８に相当した。結果を表２に示す。
【００７６】
実施例２６
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０１部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は８ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１７６に相当した。結果を表２に示す。
【００７７】
実施例２７
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、−１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４４ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０９３に相当した。結果を表２に示す。
【００７８】
実施例２８
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４８ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１３９に相当した。結果を表２に示す。
【００７９】
実施例２９
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、−１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９５ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０７７に相当した。結果を表２に示す。
【００８０】
実施例３０
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９２ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．１２６に相当した。結果を表２に示す。
【００８１】
実施例３１
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、−１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４７１ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０４４に相当した。結果を表２に示す。
【００８２】
実施例３２
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４７４ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０９２に相当した。結果を表２に示す。
【００８３】
実施例３３
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．０１部の水を加えて、−１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は８ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０４９に相当した。結果を表２に示す。
【００８４】
実施例３４
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．０１部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は７ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０９９に相当した。結果を表２に示す。
【００８５】
実施例３５
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．０５部の水を加えて、−１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４２ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０１５に相当した。結果を表２に示す。
【００８６】
実施例３６
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．０５部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４６ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０６１に相当した。結果を表２に示す。
【００８７】
実施例３７
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．１０部の水を加えて、１０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９３ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０２３に相当した。結果を表２に示す。
【００８８】
実施例３８
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．１０部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９７ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０４６に相当した。結果を表２に示す。
【００８９】
実施例３９
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．５０部の水を加えて、３０℃にて１２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４６５ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０１４に相当した。結果を表２に示す。
【００９０】
実施例４０
攪拌機を備え、酸素分析計と接続された３ＬのＳＵＳ３１６製の貯蔵容器にビスフェノールＡを１０００部仕込み、攪拌しながら、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間噴射させた。このビスフェノールＡを基準ビスフェノールＡとした。この基準ビスフェノールＡの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ビスフェノールＡを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間噴射させ、０．０５部の水を加え、攪拌しながら、さらに１０℃にて１２時間保持した。このビスフェノールＡの水分率は４７ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．２０７に相当した。同様の貯蔵容器にジフェニルカーボネートを１０００部仕込み、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間噴射させた。このジフェニルカーボネートを基準ジフェニルカーボネートとした。この基準ジフェニルカーボネートの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ジフェニルカーボネートを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間噴射させ、０．０５部の水を加え、攪拌しながら、さらに−１０℃にて１２時間保持した。このジフェニルカーボネートの水分率は４４ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ２の値は−０．１８４に相当した。
このビスフェノールＡ１０００部とジフェニルカーボネ−ト９６０部を精留塔および撹拌機を備えた堅型バッチ形式の反応器に仕込み、ビスフェノールＡ１モルに対し、金属として５×１０-7当量のナトリウムフェノキシドと塩基性窒素として１×１０-4当量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを加え、２２０℃まで加熱しながら減圧度を１時間かけて４ｋＰａ（３０ｍｍＨｇ）とし、この状態を１時間継続して大半のフェノールを留去した。ついで２７０℃まで温度を上げながら、１時間かけて減圧度１３３Ｐａ（１ｍｍＨｇ）とし、その後１時間反応を行い、粘度平均分子量１５２００のポリカーボネートを得た。溶融状態にあるポリカーボネートはダイスより押し出しペレタイザーによりペレット化した。ビスフェノールＡの保存条件と結果を表２に示す。
【００９１】
比較例９
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、−１０℃にて１２０時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４９ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００１に相当した。結果を表２に示す。
【００９２】
比較例１０
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、−１０℃にて１２０時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９５ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１５に相当した。結果を表２に示す。
【００９３】
比較例１１
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、−１０℃にて９６時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４７０ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００７に相当した。結果を表２に示す。
【００９４】
比較例１２
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、１０℃にて１０８時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４８９ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００４に相当した。結果を表２に示す。
【００９５】
比較例１３
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、３０℃にて１３２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４９９ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０２１に相当した。結果を表２に示す。
【００９６】
比較例１４
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０１部の水を加えて、−１０℃にて９６時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は７ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１２に相当した。結果を表２に示す。
【００９７】
比較例１５
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０１部の水を加えて、３０℃にて１２０時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１０に相当した。結果を表２に示す。
【００９８】
比較例１６
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、−１０℃にて７２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４８ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１１に相当した。結果を表２に示す。
【００９９】
比較例１７
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．０５部の水を加えて、３０℃にて９６時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４６ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００３に相当した。結果を表２に示す。
【０１００】
比較例１８
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、−１０℃にて６０時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９５ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００５に相当した。結果を表２に示す。
【０１０１】
比較例１９
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．１０部の水を加えて、３０℃にて９６時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９１ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１７に相当した。結果を表１に示す。
【０１０２】
比較例２０
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、−１０℃にて４８時間保持する以外は実施例１と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４９０ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１８に相当した。結果を表２に示す。
【０１０３】
比較例２１
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を５０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、０．５０部の水を加えて、３０℃にて７２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４９９ｐｐｍ、酸素濃度は５０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１１に相当した。結果を表２に示す。
【０１０４】
比較例２２
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．０１部の水を加えて、−１０℃にて４８時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は７ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１０に相当した。結果を表２に示す。
【０１０５】
比較例２３
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．０１部の水を加えて、３０℃にて７２時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００８に相当した。結果を表２に示す。
【０１０６】
比較例２４
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．０５部の水を加えて、−１０℃にて２４時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４８ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００８に相当した。結果を表２に示す。
【０１０７】
比較例２５
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．０５部の水を加えて、３０℃にて４８時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４９ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００１に相当した。結果を表２に示す。
【０１０８】
比較例２６
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．１０部の水を加えて、１０℃にて３６時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９５ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＡの値は０．０１９に相当した。結果を表２に示す。
【０１０９】
比較例２７
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、
０．１０部の水を加えて、３０℃にて４８時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は９１ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．０１４に相当した。結果を表２に示す。
【０１１０】
比較例２８
基準ビスフェノールＡに酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、５０部の水を加えて、３０℃にて２４時間保持する以外は実施例１２と同様にした。このビスフェノールＡの水分率は４８０ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は０．００７に相当した。結果を表２に示す。
【０１１１】
実施例４１
精留塔、撹拌機、ジャケットを備え、かつ酸素分析計に接続された堅型バッチ形式のＳＵＳ３１６製のオートクレーブにジフェニルカーボネ−ト９６０部を仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて噴射させながらジフェニルカーボネ−トの液温を１２０℃にするように、１３０℃の熱媒体をオートクレーブのジャケットに流通して１００時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ１の値は−０．８１８に相当した。ついでビスフェノールＡを１０００部、ビスフェノールＡ１モルに対し、金属として５×１０−７当量のナトリウムフェノキシドと塩基性窒素として１×１０−４当量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを加え、２２０℃まで加熱しながら減圧度を１時間かけて４．０ｋＰａ（３０ｍｍＨｇ）とし、この状態を１時間継続して大半のフェノールを留去した。ついで２７０℃まで温度を上げながら、１時間かけて減圧度１３３Ｐａ（１ｍｍＨｇ）とし、その後１時間反応を行い、粘度平均分子量１５２００のポリカーボネートを得た。溶融状態にあるポリカーボネートはダイスより押し出しペレタイザーによりペレット化した。結果を表３に示す。
【０１１２】
比較例２９
堅型バッチ形式のＳＵＳ３１６製のオートクレーブに、ジフェニルカーボネ−ト９６０部を仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて噴射させながらジフェニルカーボネ−トの液温を２２０℃にするように、２３０℃の熱媒体をオートクレーブのジャケットに流通して１００時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ１の値は０．０６４に相当した。これ以外は実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１１３】
実施例４２
攪拌機を備え、酸素分析計と接続されたＳＵＳ３１６製の貯蔵容器にビスフェノールＡを１０００部仕込み、攪拌しながら、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間パージさせた。このビスフェノールＡを基準ビスフェノールＡとした。この基準ビスフェノールＡの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ビスフェノールＡを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間パージさせ、０．０５部の水を加え攪拌しながら、さらに３０℃にて１２時間保持した。このビスフェノールＡの水分率は４５ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．２３２に相当した。このビスフェノールＡとジフェニルカーボネ−ト９６０部を精留塔および撹拌機を備えた堅型バッチ形式の反応器に仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、混合物の液温を１３０℃にするように、１３５℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．５４１に相当した。これ以外は実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１１４】
実施例４３
攪拌機を備え、酸素分析計と接続されたＳＵＳ３１６製の貯蔵容器にビスフェノールＡを１０００部仕込み、攪拌しながら、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間パージさせた。このビスフェノールＡを基準ビスフェノールＡとした。この基準ビスフェノールＡの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ビスフェノールＡを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間パージさせ、０．０５部の水を加え攪拌しながら、さらに３０℃にて１２時間保持した。このビスフェノールＡの水分率は４５ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．２３２に相当した。このビスフェノールＡとジフェニルカーボネ−ト９６０部を精留塔および撹拌機を備えた堅型バッチ形式の反応器に仕込み、酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１６０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持した。この時、酸素分析計は１０９ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．１７４に相当した。これ以外は実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１１５】
実施例４４
精留塔、撹拌機、ジャケットを備え、かつ酸素分析計に接続された堅型バッチ形式のＳＵＳ３１６製のオートクレーブにジフェニルカーボネ−ト９６０部を仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて噴射させながらジフェニルカーボネ−トの液温を１２０℃にするように、１３０℃の熱媒体をオートクレーブのジャケットに流通して１００時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ１の値は−０．８１８に相当した。ついでビスフェノールＡを１０００部を加え、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１３５℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．５４１に相当した。これ以外は実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１１６】
実施例４５
精留塔、撹拌機、ジャケットを備え、かつ酸素分析計に接続された堅型バッチ形式のＳＵＳ３１６製のオートクレーブにジフェニルカーボネ−ト９６０部を仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて噴射させながらジフェニルカーボネ−トの液温を１２０℃にするように、１３０℃の熱媒体をオートクレーブのジャケットに流通して１００時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ１の値は−０．８１８に相当した。ついでビスフェノールＡを１０００部を加え、酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１６０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持した。この時、酸素分析計は１０９ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．１７４に相当した。これ以外は実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１１７】
実施例４６
攪拌機を備え、酸素分析計と接続されたＳＵＳ３１６製の貯蔵容器にジフェニルカーボネートを９６０部仕込み、攪拌しながら、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間パージさせた。このジフェニルカーボネートを基準ジフェニルカーボネートとした。この基準ジフェニルカーボネートの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ジフェニルカーボネートを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間パージさせ、０．０５部の水を加え攪拌しながら、さらに−１０℃にて１２時間保持した。このジフェニルカーボネートの水分率は４４ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ２の値は−０．１８４に相当した。このジフェニルカーボネートとビスフェノールＡ１０００部を精留塔および撹拌機を備えた堅型バッチ形式の反応器に仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１３５℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．５４１に相当した。これ以外は実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１１８】
実施例４７
攪拌機を備え、酸素分析計と接続されたＳＵＳ３１６製の貯蔵容器にジフェニルカーボネートを９６０部仕込み、攪拌しながら、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間パージさせた。このジフェニルカーボネートを基準ジフェニルカーボネートとした。この基準ジフェニルカーボネートの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ジフェニルカーボネートを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間パージさせ、０．０５部の水を加え攪拌しながら、さらに−１０℃にて１２時間保持した。このジフェニルカーボネートの水分率は４４ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ２の値は−０．１８４に相当した。このジフェニルカーボネートとビスフェノールＡ１０００部を精留塔および撹拌機を備えた堅型バッチ形式の反応器に仕込み、酸素濃度を１００ｐｐｍに調整した窒素を噴射させ、液温を１３０℃にするように、１６０℃の熱媒体を流通させ、１０時間保持した。この時、酸素分析計は１０９ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ０の値は−０．１７４に相当した。これ以外は実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１１９】
実施例４８
精留塔、撹拌機、ジャケットを備え、かつ酸素分析計に接続された堅型バッチ形式のＳＵＳ３１６製のオートクレーブにジフェニルカーボネ−ト９６０部を仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて噴射させながらジフェニルカーボネ−トの液温を１２０℃にするように、１３０℃の熱媒体をオートクレーブのジャケットに流通して１００時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ１の値は−０．８１８に相当した。
また攪拌機を備え、酸素分析計と接続されたＳＵＳ３１６製の貯蔵容器にビスフェノールＡを１０００部仕込み、攪拌しながら、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間パージさせた。このビスフェノールＡを基準ビスフェノールＡとした。この基準ビスフェノールＡの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ビスフェノールＡを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間パージさせ、０．０５部の水を加え攪拌しながら、さらに３０℃にて１２時間保持した。このビスフェノールＡの水分率は４５ｐｐｍ、酸素濃度は１０ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．２３２に相当した。上記で調整したジフェニルカーボネートとビスフェノールＡを用いて、実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１２０】
実施例４９
精留塔、撹拌機、ジャケットを備え、かつ酸素分析計に接続された堅型バッチ形式のＳＵＳ３１６製のオートクレーブにジフェニルカーボネ−ト９６０部を仕込み、酸素濃度を１０ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて噴射させながらジフェニルカーボネ−トの液温を１２０℃にするように、１３０℃の熱媒体をオートクレーブのジャケットに流通して１００時間保持した。この時、酸素分析計は１２ｐｐｍを示し、本発明の式におけるＡ１の値は−０．８１８に相当した。
また攪拌機を備え、酸素分析計と接続されたＳＵＳ３１６製の貯蔵容器にビスフェノールＡを１０００部仕込み、攪拌しながら、２０℃にて酸素濃度０．１ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて２０時間パージさせた。このビスフェノールＡを基準ビスフェノールＡとした。この基準ビスフェノールＡの水分はＮＤ（１ｐｐｍ未満）、酸素濃度は０．１ｐｐｍであった。この基準ビスフェノールＡを攪拌しながら２０℃にて、酸素濃度を２００ｐｐｍに調整した窒素を２Ｌ／分にて０．５時間パージさせ、０．５部の水を加え攪拌しながら、さらに３０℃にて１２時間保持した。このビスフェノールＡの水分率は４６５ｐｐｍ、酸素濃度は２００ｐｐｍであった。この時の本発明の式におけるＢ１の値は−０．０１４に相当した。上記で調整したジフェニルカーボネートとビスフェノールＡを用いて、実施例４１と同様に重合を行いポリカーボネートを得た。結果を表３に示す。
【０１２１】
【表１】
0005066320.tif 000002
【０１２２】
【表２】
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【０１２３】
【表３】
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【０１２４】
【表４】
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【０１２５】
【表５】
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