(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）で示される化合物：
【化１】
0005095212.tif 000040
［式中、Ａは−Ｏ−であり、
ｎは０および１から選択される整数であり、
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基であり、
ｍは１であり、
Ｑは、下式で表されるＱ１〜Ｑ５：
【化２】
0005095212.tif 000041
から選択され、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、それぞれ独立に、水酸基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ７−Ｃ１４アラルキルオキシ基、および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択され、
Ｒ５は、水素原子、水酸基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ７−Ｃ１４アラルキルオキシ基、および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択され、
Ｒｘは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、
Ａｒ１は、フェニレン基、ナフチレン基、チエニレン基、ピリジニレン基、インドリレン基、またはピラゾリレン基であり、これらの基は１以上のＲｂにより置換されていてもよく、
Ａｒ２は、フェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾジオキソリル基、２，３−ジヒドロベンゾフラニル基、または２，３−ジヒドロベンゾチエニル基であり、これらの基は１以上のＲｂにより置換されていてもよく、
Ｒｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子；水酸基；ハロゲン原子または水酸基またはアミノ基から選択される１から４個の置換基で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基およびＣ３−Ｃ８シクロアルキル基；１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基；ハロゲン原子または水酸基またはアミノ基から選択される１から４個の置換基で置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキルオキシ基およびＣ１−Ｃ６アルキルチオ基；シアノ基；Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基；Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基；カルボキシ基；−ＣＯ２Ｒｉ；−ＣＯＮＲｉＲｊ；酸素原子、窒素原子および硫黄原子から独立に選択される１以上のヘテロ原子を含む５もしくは６員へテロアリール基；および酸素原子、窒素原子および硫黄原子から独立に選択される１以上のヘテロ原子を含む４〜６員ヘテロシクリル基から選択され、
ＲｉおよびＲｊは、それぞれ独立に、水素原子、およびＣ１−Ｃ６アルキル基から選択される］
またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２】
ｎが１である、請求項１に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４が水酸基であり、Ｒ５が、水素原子および水酸基から選択される、請求項１または２に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項４】
Ａｒ１上において、置換基Ａが結合する環原子に隣接する環原子に置換基−（ＣＲ６Ｒ７）ｍ−Ａｒ２が結合する、請求項２または３に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項５】
ｎが０である、請求項１記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項６】
Ａｒ１上において、Ｑが結合する環原子から２原子離れた環原子に置換基−（ＣＲ６Ｒ７）ｍ−Ａｒ２が結合する、請求項５に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５が水酸基である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項８】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５が、それぞれ独立に、水酸基および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項９】
ｍが１であり、ｎが１であり、Ａが−Ｏ−であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５が、それぞれ独立に、水酸基および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択される、請求項１に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１０】
ｍが１であり、ｎが０であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５が、それぞれ独立に、水酸基および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択される、請求項１に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１１】
Ａｒ２が１以上のＲｂで置換されていてもよいフェニル基である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１２】
Ａｒ１がフェニレン基、チエニレン基、ピリジニレン基（これらの基は１以上のＲｂで置換されていてもよい）である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１３】
［２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，６Ｓ］−４−ヒドロキシメチル−６−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
［２−（４−トリフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シクロペンチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−クロロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
（２−ベンジルフェニル）−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−イソプロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ｎ−プロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−トリフルオロメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メチルスルファニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［３−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−トリフルオロメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−４−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−４−メトキシフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−６−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−４−フルオロフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−フルオロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［５−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メチルスルホニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−フルオロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３，４−ジメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−エチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シアノベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−トリフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−アミノメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−エトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ジフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［３−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−３−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；および
［２−（３−フルオロ−４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノシド；
［４−（４−シクロプロピルベンジル）ピリジン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−カルボキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ビニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
｛２−［４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンジル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イルメチル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−フルオロ−４−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシ−３−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ピラゾール−１−イルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−クロロ−４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３，４−メチレンジオキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シクロブチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−アセチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−５−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−エチルベンジル）チオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（ベンゾチオフェン−２−イル）メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
（Ｒ）−｛２−［１−（４−シクロプロピルフェニル）エチル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
（Ｓ）−｛２−［１−（４−シクロプロピルフェニル）エチル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シクロプロピルベンジル）−５−メチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−エチルベンジル）−５−メチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［５−クロロ−２−（４−シクロプロピルベンジル）チオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−６−［２−（４−シクロプロピルベンジル）フェノキシ］−４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−４−ヒドロキシメチル−６−［２−（４−メトキシベンジル）フェノキシ］シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２，４−ジメトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２，４−ジメトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−メチルフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−メチルフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−メトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−トリフルオロメトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−イソプロピルベンジル）−２−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−ヒドロキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−５−ヒドロキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−５−ヒドロキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
４−［１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドール−３−イル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
から選択される化合物、またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩を含む医薬組成物。
【請求項１５】
Ｎａ＋−グルコース共輸送体阻害剤として使用される、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩を含む医薬組成物。
【請求項１６】
糖尿病、高血糖症に起因する糖尿病性合併症、または肥満症の予防または治療のために使用される、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩を含む医薬組成物。
【請求項１７】
糖尿病がインスリン依存性糖尿病（１型糖尿病）またはインスリン非依存性糖尿病（２型糖尿病）である、請求項１６に記載の医薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は医薬品として有用なシクロヘキサン誘導体、またはそのプロドラッグもしくはそれらの薬理学的に許容される塩に関する。さらに詳しくは、特にＮａ+−グルコース共輸送体２（ＳＧＬＴ２）を阻害することによりインスリン依存性糖尿病（１型糖尿病）、インスリン非依存性糖尿病（２型糖尿病）などの糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症などの高血糖症に起因する疾患の予防または治療剤として有用なシクロヘキサン誘導体およびプロドラッグおよびそれらの塩に関する。
【背景技術】
【０００２】
食生活の欧米化、慢性的な運動不足などにより、近年糖尿病患者が増大している。糖尿病患者においては、慢性的な高血糖によりインスリン分泌およびインスリン感受性が共に低下し、これがさらに血糖値を上昇させ症状の悪化を招いている。これまでに糖尿病治療薬として、ビグアナイド薬、スルホニルウレア薬、グリコシダーゼ阻害薬、インスリン抵抗性改善薬等が使用されている。しかしながら、ビグアナイド薬には乳酸アシドーシス、スルホニルウレア薬には低血糖、グリコシダーゼ阻害薬には下痢等の副作用が報告されており、これらとは異なった新しい作用機序の糖尿病治療薬の開発が切に望まれているのが現状である。【０００３】
天然由来のグルコース誘導体であるフロリジンが腎臓近位尿細管のＳ１サイトに存在するナトリウム依存性グルコース共輸送体２（ＳＧＬＴ２）を阻害することで腎臓での過剰なグルコースの再吸収を阻害、グルコース排泄を促進し、血糖降下作用を示すことが報告されており（非特許文献１を参照のこと）、それ以来現在に至るまで、ＳＧＬＴ２阻害に基づく糖尿病治療薬の研究が盛んに行われている。【０００４】
例えば、特開２０００−８００４１号公報（特許文献１）、国際公開第０１／０６８６６０号（特許文献２）、国際公開第０４／００７５１７号（特許文献３）などにおいて、ＳＧＬＴ２の阻害剤として用いられる化合物が報告されている。しかしながら、フロリジンおよび上記の特許出願に記載の化合物はいずれもグルコースを部分構造として有しており、これらが経口投与されると小腸に存在するグリコシダーゼなどにより容易に加水分解を受け、薬理作用が速やかに消失することが問題視されている。また、フロリジンの場合、アグリコン部であるフロレチンが促進拡散型の糖輸送体を強力に阻害すると報告されており、例えばラット静脈にフロレチンを投与すると脳内グルコース濃度が減少するという悪影響が報告されている（例えば、非特許文献２を参照のこと）。【０００５】
そこでこのような分解を防ぎ吸収効率を向上させる目的で、化合物をプロドラッグ化する試みが行われている。しかし、プロドラッグを投与する場合は標的とする器官内またはその近傍で的確に代謝され活性化合物に変化することが望ましいが、生体にはさまざまな代謝酵素が存在し、また個体差も多く、プロドラッグに安定した作用を発現させることは困難な場合が多い。また、化合物のグリコシド結合を炭素−炭素結合に変換する試みもなされている（特許文献４〜８を参照のこと）が、活性および代謝安定性などを含む医薬品としての特性について一層の向上が求められている。
【特許文献１】特開２０００−０８００４１号公報
【特許文献２】国際公開第０１／０６８６６０号パンフレット
【特許文献３】国際公開第０４／００７５１７号パンフレット
【特許文献４】米国特許出願公開第２００１／０４１６７４号
【特許文献５】米国特許出願公開第２００２／１３７９０３号
【特許文献６】国際公開第０１／０２７１２８号パンフレット
【特許文献７】国際公開第０２／０８３０６６号パンフレット
【特許文献８】国際公開第０４／０１３１１８号パンフレット
【非特許文献１】Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．、第９３巻、第１０３７頁、１９９４年
【非特許文献２】Ｓｔｒｏｋｅ、第１４巻、第３８８頁、１９８３年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、医薬品として好ましい特性を有するシクロヘキサン誘導体を提供することである。本発明の目的は、特に、血糖降下作用を有し、さらに薬効持続性、代謝安定性または安全性などの医薬品として好ましい特性を有するシクロヘキサン誘導体を提供することである。さらに本発明の目的は、インスリン依存性糖尿病（１型糖尿病）、インスリン非依存性糖尿病（２型糖尿病）などの糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症などの高血糖症に起因する疾患の予防または治療のために用いられる医薬組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために本発明者が鋭意検討を行った結果、式（Ｉ）で表されるシクロヘキサン誘導体が優れたＳＧＬＴ２阻害活性を有するという知見を得て本発明の完成に至った。【０００８】
すなわち本発明の１つの側面によれば、式（Ｉ）で示されるシクロヘキサン誘導体：【０００９】
【化１】
0005095212.tif 000002
【００１０】
［式中、Ａは−Ｏ−、−ＣＨ2−、または−ＮＨ−であり、
ｎは０および１から選択される整数であり、
Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ1−Ｃ6アルキル基であり、
ｍは１〜３から選択される整数であり、
Ｑは、下式で表されるＱ1〜Ｑ5：【００１１】
【化２】
0005095212.tif 000003
【００１２】
から選択され、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、１以上のＲａで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基、１以上のＲａで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルコキシ基、１以上のＲｂで置換されていてもよいＣ7−Ｃ14アラルキルオキシ基、および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択され、
Ｒｘは、１以上のＲａで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基、１以上のＲｂで置換されていてもよいアリール基、１以上のＲｂで置換されていてもよいヘテロアリール基、１以上のＲａで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルコキシ基、または−ＮＲｅＲｆであり、
Ａｒ1は、１以上のＲｂで置換されていてもよいアリーレン基、または１以上のＲｂで置換されていてもよいヘテロアリーレン基であり、当該へテロアリーレン基は芳香族炭素環または芳香族ヘテロ環と縮合環を形成していてもよく、
Ａｒ2は、１以上のＲｂで置換されていてもよいアリール基、または１以上のＲｂで置換されていてもよいヘテロアリール基であり、
Ｒａは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルコキシ基、１以上のＲｄで置換されていてもよいアリール基、１以上のＲｄで置換されていてもよいアリールオキシ基、１以上のＲｄで置換されていてもよいヘテロアリール基、１以上のＲｄで置換されていてもよいヘテロアリールオキシ基、メルカプト基、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルフィニル基、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル基、−ＮＲｆＲｇ、および１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキルカルボニル基から選択され、
Ｒｂは、それぞれ独立に、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルケニル基、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ3−Ｃ8シクロアルキル基、１以上のＲｄで置換されていてもよいＣ7−Ｃ14アラルキル基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルコキシ基、１以上のＲｄで置換されていてもよいアリール基、１以上のＲｄで置換されていてもよいアリールオキシ基、１以上のＲｄで置換されていてもよいヘテロアリール基、１以上のＲｄで置換されていてもよいヘテロアリールオキシ基、メルカプト基、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルフィニル基、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル基、−ＮＲｆＲｇ、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキルカルボニル基、Ｃ1−Ｃ3アルキレンジオキシ基、ヘテロシクリル基、−ＣＯ2Ｒｉ、および−ＣＯＮＲｉＲｊから選択され、
Ｒｃは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルコキシ基、１以上のＲｄで置換されていてもよいアリール基、１以上のＲｄで置換されていてもよいアリールオキシ基、１以上のＲｄで置換されていてもよいヘテロアリール基、１以上のＲｄで置換されていてもよいヘテロアリールオキシ基、アミノ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルアミノ基、およびジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ基から選択され、
Ｒｄは、それぞれ独立に、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルコキシ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ7−Ｃ14アラルキル基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、Ｃ1−Ｃ6アルキルアミノ基、およびジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ基から選択され、
Ｒｅは、水素原子、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基、１以上のＲｄで置換されていてもよいアリール基、または１以上のＲｄで置換されていてもよいヘテロアリール基であり、
Ｒｆは、水素原子、または１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基であり、
Ｒｇは、水素原子、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキルカルボニル基、１以上のＲｄで置換されていてもよいアリール基、１以上のＲｄで置換されていてもよいヘテロアリール基、カルバモイル基、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルコキシカルボニル基、または１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキルスルホニル基であり、または
ＲｅとＲｆ、およびＲｆとＲｇは、それらが結合する窒素原子と一緒になって、４〜７員ヘテロ環を形成してもよく、
ＲｉおよびＲｊは、それぞれ独立に、水素原子、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基、１以上のＲｃで置換されていてもよいＣ3−Ｃ8シクロアルキル基、および１以上のＲｄで置換されていてもよいＣ7−Ｃ14アラルキル基から選択される］
またはそのプロドラッグもしくはそれらの薬理学的に許容される塩が提供される。【００１３】
本発明の別の側面によれば、ｎが１である式（Ｉ）で示されるシクロヘキサン誘導体またはそのプロドラッグもしくはそれらの薬理学的に許容される塩が提供される。ここで、Ａは−Ｏ−または−ＮＨ−であることが好ましい。また、Ａｒ1上において、置換基Ａが結合する環原子に隣接する環原子に置換基−（ＣＲ6Ｒ7）m−Ａｒ2が結合する置換様式が好ましく、例えばＡｒ1がフェニレン基である場合はオルト置換体が、また例えばＡｒ1がチエニレン基である場合は、２，３置換、または３，４置換が、さらに例えばＡｒ1がピリジニレン基である場合は、２，３置換、３，４置換、４，５置換、または５，６置換が好ましい。また、Ａｒ1がピラゾリレン基である場合は、３，４置換、４，５置換、または１，５置換が好ましい。なお、置換基Ａおよび置換基−（ＣＲ6Ｒ7）m−Ａｒ2は環窒素原子に結合していてもよい。【００１４】
本発明の別の側面によれば、ｎが０である式（Ｉ）で示されるシクロヘキサン誘導体またはそのプロドラッグもしくはそれらの薬理学的に許容される塩が提供される。ここで、Ａｒ1上において、Ｑが結合する環原子から２原子離れた環原子に置換基−（ＣＲ6Ｒ7）m−Ａｒ2が結合する置換様式が好ましく、例えばＡｒ1がフェニレン基である場合はメタ置換体が、また例えばＡｒ1がピリジニレン基である場合は、２，４置換、３，５置換、４，６置換、または１，６置換が、さらに例えばＡｒ1がインドリレン基である場合は、１，３置換、３，４置換、４，６置換、または５，７置換が好ましい。また、Ａｒ1がピラゾリレン基である場合は、１，３置換、３，５置換、または１，４置換が好ましい。なお、置換基Ａおよび置換基−（ＣＲ6Ｒ7）m−Ａｒ2は環窒素原子に結合していてもよい。【００１５】
上記の式（Ｉ）において、ｍは１が好ましい。またＡｒ1は、フェニレン基、ナフチレン基、チエニレン基、ピリジニレン基、インドリレン基、またはピラゾリレン基、特にフェニレン基、チエニレン基、ピリジニレン基、またはインドリレン基（これらの基は１以上のＲｂにより置換されていてもよい）が好ましい。【００１６】
上記の式（Ｉ）において、ｍは１が好ましく、またＡｒ2は、フェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾジオキソリル基、２，３−ジヒドロベンゾフラニル基、または２，３−ジヒドロベンゾチエニル基、特にフェニル基、ベンゾジオキソリル基、または２，３−ジヒドロベンゾフラニル基（これらの基は１以上のＲｂにより置換されていてもよい）が好ましい。【００１７】
上記の式Ｑ1〜Ｑ5において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、およびＲ5は、それぞれ独立に、水酸基および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択される基が好ましい。【００１８】
本発明のさらに別の側面によれば、ｍが１であり、ｎが１であり、Ａが−Ｏ−または−ＮＨ−であり、Ａｒ1がフェニレン基、ナフチレン基、チエニレン基、ピリジニレン基、インドリレン基、またはピラゾリレン基（これらの基は１以上のＲｂで置換されていてもよい）であり、Ａｒ2がフェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾジオキソリル基、２，３−ジヒドロベンゾフラニル基、または２，３−ジヒドロベンゾチエニル基（これらの基は１以上のＲｂで置換されていてもよい）であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、およびＲ5が、それぞれ独立に、水酸基および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択される、上記式（Ｉ）の化合物、またはそのプロドラッグもしくはそれらの薬理学的に許容される塩が提供される。【００１９】
本発明のさらに別の側面によれば、ｍが１であり、ｎが０であり、Ａｒ1がフェニレン基、ナフチレン基、チエニレン基、ピリジニレン基、インドリレン基、またはピラゾリレン基（これらの基は１以上のＲｂで置換されていてもよい）であり、Ａｒ2がフェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾジオキソリル基、２，３−ジヒドロベンゾフラニル基、または２，３−ジヒドロベンゾチエニル基（これらの基は１以上のＲｂで置換されていてもよい）であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、およびＲ5が、それぞれ独立に、水酸基および−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択される、上記式（Ｉ）の化合物、またはそのプロドラッグもしくはそれらの薬理学的に許容される塩が提供される。【００２０】
さらに、本発明の別の側面によれば、
［２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，６Ｓ］−４−ヒドロキシメチル−６−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
［２−（４−トリフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シクロペンチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−クロロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
（２−ベンジルフェニル）−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−イソプロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ｎ−プロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−トリフルオロメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メチルスルファニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［３−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−トリフルオロメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−４−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−４−メトキシフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−６−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−４−フルオロフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−フルオロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［５−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メチルスルホニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−フルオロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３，４−ジメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−エチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シアノベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−トリフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−アミノメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−エトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ジフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［３−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−３−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；および
［２−（３−フルオロ−４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノシド；
［４−（４−シクロプロピルベンジル）ピリジン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−カルボキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ビニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
｛２−［４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンジル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イルメチル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−フルオロ−４−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシ−３−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−ピラゾール−１−イルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３−クロロ−４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（３，４−メチレンジオキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シクロブチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−アセチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−メトキシベンジル）−５−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−エチルベンジル）チオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（ベンゾチオフェン−２−イル）メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
（Ｒ）−｛２−［１−（４−シクロプロピルフェニル）エチル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
（Ｓ）−｛２−［１−（４−シクロプロピルフェニル）エチル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−シクロプロピルベンジル）−５−メチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［２−（４−エチルベンジル）−５−メチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
［５−クロロ−２−（４−シクロプロピルベンジル）チオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド；
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−６−［２−（４−シクロプロピルベンジル）フェノキシ］−４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−４−ヒドロキシメチル−６−［２−（４−メトキシベンジル）フェノキシ］シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２，４−ジメトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２，４−ジメトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−メチルフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−メチルフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−メトキシフェニル］ヒドロキシメチルシクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−トリフルオロメトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−イソプロピルベンジル）−２−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−ヒドロキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−５−ヒドロキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−５−ヒドロキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール；
４−［１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドール−３−イル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール；
から選択される化合物、またはそのプロドラッグもしくはそれらの薬理学的に許容される塩もまた提供される。【００２１】
本発明のさらに別の側面によれば、Ｎａ+−グルコース共輸送体阻害剤として使用される、上記式（Ｉ）の化合物を含む医薬組成物が提供される。【００２２】
本発明のさらに別の側面によれば、例えばインスリン依存性糖尿病（１型糖尿病）またはインスリン非依存性糖尿病（２型糖尿病）などの糖尿病、高血糖症に起因する糖尿病性合併症、または肥満症の予防または治療のために使用される、上記式（Ｉ）の化合物を含む医薬組成物が提供される。【００２３】
本発明のさらに別の側面によれば、上記式（Ｉ）の化合物またはその塩の有効治療量を患者に投与することを含む、インスリン依存性糖尿病（１型糖尿病）、インスリン非依存性糖尿病（２型糖尿病）などの糖尿病および高血糖症に起因する糖尿病性合併症、肥満症の予防または治療方法が提供される。【００２４】
前記式Ｑ１〜Ｑ５において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、それぞれ独立に、例えば、水酸基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシ基、Ｃ７−Ｃ１４アラルキルオキシ基、または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｘから選択される基であってもよく、特にＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５がすべて水酸基であることが好ましい。
【００２５】
本発明化合物においてｎは１であることが好ましく、この場合、Ａは−Ｏ−、−ＮＨ−であることが好ましく、特に−Ｏ−が好ましい。【００２６】
前記式（Ｉ）において、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に選択される１から４個の置換基Ｒｂにより置換されてもよく、Ｒｂとしては、ハロゲン原子；水酸基；ハロゲン原子または水酸基またはアミノ基から選択される１から４個の置換基で置換されてもよいＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ3−Ｃ8シクロアルキル基；ハロゲン原子または水酸基またはアミノ基から選択される１から４個の置換基で置換されてもよいＣ1−Ｃ6アルキルオキシ基およびＣ1−Ｃ6アルキルチオ基；シアノ基；Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル基；ニトロ基；カルボキシ基；−ＮＲｅＲｆ（ここで、Ｒｅは水素原子、Ｃ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ1−Ｃ6アルキルカルボニル基、カルバモイル、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル基、またはＣ1−Ｃ6アルコキシカルボニル基であり；Ｒｆは、水素原子またはＣ1−Ｃ6アルキル基である）；５もしくは６員へテロアリール基；または４〜６員ヘテロシクリル基が好ましい。【００２７】
Ａｒ1で示される基のうち、アリーレン基とは芳香族炭素環、好ましくは炭素数が６〜１０の芳香族炭素環からなる２価の基であって、例えばフェニレン基、ナフチレン基などが含まれる。ヘテロアリーレン基とは、芳香族ヘテロ環、好ましくは６〜１０員の芳香族ヘテロ環からなる２価の基であって、例えばピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、フラン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ピラゾール環、インダゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イソキサゾール環、ベンゾイソキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、ピリミジン環、ウリジン環、ピラジン環、ピリダジン環を含むヘテロアリーレン基などが含まれる。特に、Ａｒ1はフェニレン基、ナフチレン基、またはピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、フラン環、ベンゾフラン環、ピラゾール環を含むヘテロアリーレン基が好ましく、さらにはフェニレン基、チエニレン基、ピリジニレン基、およびインドリレン基が好ましい。【００２８】
Ａｒ2で示される基のうち、アリール基とはフェニル基、ナフチル基、アズレニル基を示し、ヘテロアリール基とはピロリル基、インドリル基、ピリジル基、キノリニル基、イソキノリニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ピラゾリル基、インダゾリル基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、イソキサゾリル基、ベンゾイソキサゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ピリミジニル基、ウラシリル基、ピラジニル基、ピリダジニル基などを示し、Ａｒ2はフェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾジオキソリル基、フリル基、ベンゾフラニル基または２，３−ジヒドロベンゾフラニル基が好ましく、さらにはフェニル基、ベンゾジオキソリル基、または２，３−ジヒドロベンゾフラニル基が好ましい。【００２９】
本明細書において「Ｃ1−Ｃ6アルキル基」とは、炭素数１〜６の直鎖状、分岐鎖状のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、３−メチルブチル、２−メチルブチル、１−メチルブチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３−エチルブチル、および２−エチルブチルなどが含まれる。好ましいＣ1−Ｃ6アルキル基としては、例えば、直鎖状または分岐鎖状の炭素数１〜３のものが挙げられ、メチル、エチルが特に好ましい。【００３０】
本明細書において「Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル基」とは、炭素数３〜８の環状のアルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどが含まれる。【００３１】
本明細書において「Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基」とは、アルキル部分として炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有するアルキルオキシ基を意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、３−メチルブトキシ、２−メチルブトキシ、１−メチルブトキシ、１−エチルプロポキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、４−メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、２−メチルペントキシ、１−メチルペントキシ、３−エチルブトキシなどが含まれる。【００３２】
本明細書において「アリール基」とは、炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基を有するアリール基を意味し、例えば、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチルなどが含まれる。【００３３】
本明細書において「Ｃ7−Ｃ14アラルキル」とは既に定義したアリール基を含む炭素数が７〜１４のアリールアルキル基を意味し、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチルなどを意味する。【００３４】
本明細書において「Ｃ7−Ｃ14アラルキルオキシ」とは既に定義したアラルキル基を含む、炭素数が７〜１４のアリールアルキルオキシ基を意味し、例えば、ベンジルオキシ、１−フェネチルオキシ、２−フェネチルオキシ、１−ナフチルメチルオキシ、２−ナフチルメチルオキシなどを意味する。【００３５】
本明細書において「ヘテロアリール基」とは、１以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から独立に選択されるヘテロ原子を含む５〜１０員芳香族ヘテロ環基を意味し、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、インドリル、キノリニル、イソキノリニルなどが含まれる。好ましいヘテロアリール基は、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基などの５〜６員ヘテロアリール基であり、特にピラゾリル基が好ましい。【００３６】
本明細書において「アリールオキシ基」とは、アリール部分として既に定義した炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基を有するアリールオキシ基を意味し、例えば、フェノキシ、１−ナフトキシおよび２−ナフトキシなどが含まれる。【００３７】
本明細書において「ヘテロアリールオキシ基」とは、ヘテロアリール部分として既に定義した１またはそれ以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を含む５〜１０員芳香族ヘテロ環基を有するヘテロアリールオキシ基を意味し、例えば、フリルオキシ、チエニルオキシ、ピロリルオキシ、イミダゾリルオキシ、ピラゾリルオキシ、オキサゾリルオキシ、イソオキサゾリルオキシ、チアゾリルオキシ、イソチアゾリルオキシ、オキサジアゾリルオキシ、チアジアゾリルオキシ、トリアゾリルオキシ、テトラゾリルオキシ、ピリジルオキシ、ピリミジニルオキシ、ピラジニルオキシ、ピリダジニルオキシ、インドリルオキシ、キノリニルオキシ、イソキノリニルオキシなどが含まれる。好ましいヘテロアリールオキシ基は、５〜６員環ヘテロアリールオキシ基である。【００３８】
本明細書において「Ｃ1−Ｃ6アルキルアミノ基」とは、アルキル部分として炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有するアルキルアミノ基を意味し、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、ｉ−プロピルアミノ、ｎ−ブチルアミノ、ｓ−ブチルアミノ、ｉ−ブチルアミノ、ｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペンチルアミノ、３−メチルブチルアミノ、２−メチルブチルアミノ、１−メチルブチルアミノ、１−エチルプロピルアミノ、ｎ−ヘキシルアミノ、４−メチルペンチルアミノ、３−メチルペンチルアミノ、２−メチルペンチルアミノ、１−メチルペンチルアミノ、３−エチルブチルアミノ、および２−エチルブチルアミノなどが含まれる。【００３９】
本明細書において「ジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ」とは、２つのアルキル部分として炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有するジアルキルアミノ基を意味し、当該２つのアルキル部分は同一でも異なっていてもよい。当該「ジ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）アミノ」には、例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジｎ−プロピルアミノ、ジｉ−プロピルアミノ、ジｎ−ブチルアミノ、メチル−ｎ−ブチルアミノ、メチル−ｓ−ブチルアミノ、メチル−ｉ−ブチルアミノ、メチル−ｔ−ブチルアミノ、エチル−ｎ−ブチルアミノ、エチル−ｓ−ブチルアミノ、エチル−ｉ−ブチルアミノ、およびエチル−ｔ−ブチルアミノなどが含まれる。【００４０】
本明細書において「Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ基」とは、アルキル部分として炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有するアルキルチオ基を意味し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、ｉ−プロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、ｉ−ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、ｎ−ペンチルチオ、３−メチルブチルチオ、２−メチルブチルチオ、１−メチルブチルチオ、１−エチルプロピルチオ、ｎ−ヘキシルチオ、４−メチルペンチルチオ、３−メチルペンチルチオ、２−メチルペンチルチオ、１−メチルペンチルチオ、３−エチルブチルチオ、および２−エチルブチルチオなどが含まれる。【００４１】
本明細書において「Ｃ1−Ｃ6アルキルスルフィニル基」とは、アルキル部分として炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有するアルキルスルフィニル基（−ＳＯ−Ｒ）を意味し、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、ｉ−プロピルスルフィニル、ｎ−ブチルスルフィニル、ｓ−ブチルスルフィニル、ｉ−ブチルスルフィニル、ｔ−ブチルスルフィニル、ｎ−ペンチルスルフィニル、３−メチルブチルスルフィニル、２−メチルブチルスルフィニル、１−メチルブチルスルフィニル、１−エチルプロピルスルフィニル、ｎ−ヘキシルスルフィニル、４−メチルペンチルスルフィニル、３−メチルペンチルスルフィニル、２−メチルペンチルスルフィニル、１−メチルペンチルスルフィニル、３−エチルブチルスルフィニル、および２−エチルブチルスルフィニルなどが含まれる。【００４２】
本明細書において「Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル基」とは、アルキル部分として炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有するアルキルスルホニル基を意味し、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、ｉ−プロピルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、ｓ−ブチルスルホニル、ｉ−ブチルスルホニル、ｔ−ブチルスルホニル、ｎ−ペンチルスルホニル、３−メチルブチルスルホニル、２−メチルブチルスルホニル、１−メチルブチルスルホニル、１−エチルプロピルスルホニル、ｎ−ヘキシルスルホニル、４−メチルペンチルスルホニル、３−メチルペンチルスルホニル、２−メチルペンチルスルホニル、１−メチルペンチルスルホニル、３−エチルブチルスルホニル、および２−エチルブチルスルホニルなどが含まれる。【００４３】
本明細書において「−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｒｘ」には、例えば、Ｃ1−Ｃ6アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ7−Ｃ14アラルキルカルボニルオキシ基、Ｃ1−Ｃ6アルコキシカルボニルオキシ基、Ｃ7−Ｃ14アラルキルオキシカルボニルオキシ基などが含まれる。ここで、Ｃ1−Ｃ6アルキルカルボニルオキシ基としてはアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基などが挙げられ、特にアセチルオキシ基が好ましい。Ｃ7−Ｃ14アラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基、ナフチルメチルカルボニルオキシ基などが挙げられ、ベンジルカルボニルオキシ基が好ましい。【００４４】
Ｃ1−Ｃ6アルコキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基などが挙げられ、メトキシカルボニルオキシ基が好ましい。Ｃ7−Ｃ14アラルキルオキシカルボニルオキシ基としてはベンジルオキシカルボニルオキシ基、ナフチルメチルオキシカルボニルオキシ基などが挙げられ、ベンジルオキシカルボニルオキシ基が好ましい。【００４５】
本明細書においてハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子などが挙げられる。【００４６】
本明細書において４〜７員ヘテロ環とは、完全に飽和であっても、部分的にもしくは完全に不飽和であってもよい、１以上の窒素原子とさらに１以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から独立に選択されるヘテロ原子を含んでいてもよいヘテロ環を意味し、例えば、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリンなどが含まれ、特にピペリジンが好ましい。【００４７】
本明細書において「芳香族炭素環」は、６〜１０員の芳香族炭素環を意味し、例えばベンゼン環およびナフタレン環などが含まれる。【００４８】
本明細書において「芳香族ヘテロ環」は、１以上の酸素原子、窒素原子および硫黄原子から独立に選択されるヘテロ原子を含む５〜６員の芳香族ヘテロ環を意味し、例えばピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、フラン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ピラゾール環、インダゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イソキサゾール環、ベンゾイソキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、ピリミジン環、ウリジン環、ピラジン環、ピリダジン環などが含まれる。【００４９】
本明細書において「ヘテロシクリル基」とは、完全に飽和であっても、部分的にもしくは完全に不飽和であってもよい、酸素原子、窒素原子および硫黄原子から独立に選択される１以上のヘテロ原子を含む４〜７員のヘテロ環基を意味し、例えば、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリル、イミダゾリル、イミダゾリニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、オキサゾリニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ヘキサメチレンイミノ、フリル、テトラヒドロフリル、チエニル、テトラヒドロチエニル、ジオキソラニル、オキサチオラニル、ジオキサニルなどが含まれる。当該ヘテロ環基の連結位置は、炭素原子上または窒素原子上の置換可能な位置であれば特に限定されない。【００５０】
本明細書において「Ｃ1−Ｃ3アルキレンジオキシ基」とは、式−Ｏ−（Ｃ1−Ｃ3アルキレン）−Ｏ−で表される２価の基であり、例えばメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、ジメチルメチレンジオキシ基などが含まれる。【００５１】
また本発明化合物には、互変異性体、光学異性体等の各種の立体異性体の混合物や単離されたものが含まれる。【００５２】
本発明化合物は、酸付加塩を形成する場合がある。また、置換基の種類によっては塩基との塩を形成する場合もある。かかる塩としては、具体的には、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸；ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等の有機酸；アスパラギン酸、グルタミン酸等の酸性アミノ酸との酸付加塩が挙げられる。また、塩基と形成する塩としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム等の無機塩基との塩；メチルアミン、エチルアミン、エタノールアミン等の有機塩基との塩；リジン、オルニチン等の塩基性アミノ酸との塩およびアンモニウム塩が挙げられる。
【００５３】
更に、本発明化合物には、水和物、薬理学的に許容される各種溶媒和物や結晶多形等も含まれる。【００５４】
なお、本発明化合物は後述する実施例に記載された化合物に限定されるものではなく、上記式（Ｉ）で示されるシクロヘキサン誘導体およびその製薬学的に許容される塩の全てを包含するものである。【００５５】
また、本発明には、生体内において代謝されて上記式（Ｉ）に変換される化合物、およびその製薬学的に許容される塩に変換される化合物である、いわゆるプロドラッグも含むものである。本発明化合物のプロドラッグを形成する基としては、Ｐｒｏｇ．Ｍｅｄ．第５巻、第２１５７−２１６１頁（１９８５年）に記載されている基や、広川書店１９９０年刊「医薬品の開発」第７巻分子設計１６３−１９８頁に記載されている基が挙げられる。【００５６】
本発明化合物は、その基本骨格または置換基の種類に基づく特徴に応じて、種々の公知の合成法を適用して製造することができる。その際、官能基の種類によっては、この官能基を原料または中間体の段階で適当な保護基で保護することが製造技術上好ましい場合があり、後の工程において当該保護基を除去し、所望の化合物を得ることができる。製造工程において保護が必要な官能基としては、例えば水酸基やカルボキシ基等を挙げることができ、それらの保護基としては例えばグリーン（Ｇｒｅｅｎｅ）およびウッツ（Ｗｕｔｓ）著、「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」第２版に記載の保護基を挙げることができる。使用する保護基、ならびに保護基の導入および除去の際の反応条件についても、上記文献などの公知の技術に基づいて適宜選択される。【００５７】
本発明化合物は、腎臓におけるグルコース再吸収に関わるナトリウム依存性グルコース供輸送体２（ＳＧＬＴ２）（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．、第９３巻、第３９７頁、１９９４年）の阻害活性を有する。ＳＧＬＴ２の阻害により、糖の再吸収が抑制され余分な糖を体外に排出されることにより、膵臓のβ細胞に負荷を与えずに高血糖を是正することによる糖尿病の治療効果およびインスリン抵抗性の改善効果がもたらされる。
【００５８】
したがって本発明の１つの側面によれば、ＳＧＬＴ２の活性を阻害することで改善しうる疾患または状態、例えば、糖尿病、糖尿病関連疾患および糖尿病合併症を予防または治療するための医薬が提供される。【００５９】
ここで、「糖尿病」とは、１型糖尿病、２型糖尿病、特定の原因によるその他の型の糖尿病を包含する。また、「糖尿病関連疾患」には、例えば肥満、高インスリン血症、糖代謝異常、高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常、高血圧、うっ血性心不全、浮腫、高尿酸血症、痛風などが含まれる。【００６０】
また、「糖尿病合併症」には、急性合併症および慢性合併症のいずれもが含まれる。「急性合併症」としては、例えば高血糖（ケトアシドーシスなど）、感染症（皮膚、軟部組織、胆道系、呼吸系、尿路感染など）などが挙げられ、「慢性合併症」としては、細小血管症（腎症、網膜症）、動脈硬化症（アテローム性動脈硬化症、心筋梗塞、脳梗塞、下肢動脈閉塞など）、神経障害（感覚神経、運動神経、自律神経など）、足壊症などが挙げられる。主要な糖尿病合併症として、糖尿病網膜症、糖尿病腎症、糖尿病神経障害が挙げられる。【００６１】
また、本発明化合物はＳＧＬＴ２活性阻害薬以外の異なった作用機序の糖尿病治療薬、糖尿病合併症治療薬、高脂血症治療薬、高血圧治療薬等と併用して使用することもできる。本発明化合物とその他の薬剤を組み合わせることによって、上記疾患においてそれぞれ単剤で得られる効果よりも併用した場合に相加的な効果が期待できる。【００６２】
併用可能な「糖尿病治療薬、糖尿病合併症治療薬」としては、例えば、インスリン感受性増強薬（ＰＰＡＲγアゴニスト、ＰＰＡＲα／γアゴニスト、ＰＰＡＲδアゴニスト、ＰＰＡＲα／γ／δアゴニスト等）、グリコシダーゼ阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナ−ゼ促進薬、トリぺプチジルぺプチダーゼＩＩ阻害薬、ジぺプチジルぺプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコーゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、糖新生阻害薬、フルクトースビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、グルコキナーゼ活性化薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコーゲン合成酵素キナ−ゼ３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド−１類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体、アミリンアゴニスト、グルココルチコイド受容体アンタゴニスト、１１β−ヒドロキシステロイドデヒデログナーゼ阻害薬、アルドース還元酵素阻害薬、プロテインキナーゼＣ阻害薬、γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニスト、ナトリウムチャンネルアンタゴニスト、転写因子ＮＦ−κＢ阻害薬、ＩＫＫβ阻害薬、脂質過酸化酵素阻害薬、Ｎ−ａｃｅｔｙｌａｔｅｄ−α−ｌｉｎｋｅｄ−ａｃｉｄ−ｄｉｐｅｐｔｉｄａｓｅ阻害薬、インスリン様成長因子−Ｉ、血小板由来成長因子（ＰＤＧＦ）、血小板由来成長因子（ＰＤＧＦ）類縁体、上皮増殖因子（ＥＧＦ）、神経成長因子、カルニチン誘導体、ウリジン、５−ヒドロキシ−１−メチルヒダントイン、ＥＧＢ−７６１、ビモクロモル、スロデキシド、Ｙ−１２８、ＴＡＲ−４２８などが挙げられる。【００６３】
糖尿病治療薬、糖尿病合併症治療薬としては、以下のような薬剤が例示される。【００６４】
「ビグアナイド薬」として塩酸メトフォルミン、フェンフォルミン等が挙げられる。【００６５】
「インスリン分泌促進薬」のうちスルホニルウレア系としては、例えばグリブリド（グリベンクラミド）、グリピジド、グリクラジド、クロルプロパミド等が、非スルホニルウレア系としてはナテグリニド、レパグリニド、ミチグリニド等が挙げられる。【００６６】
「インスリン製剤」は、遺伝子組換えヒトインスリンと動物由来インスリンを含む。また、作用時間によって３種類に分類され、即効型（ヒトインスリン、ヒト中性インスリン）、中間型（インスリン−ヒトイソフェンインスリン水性懸濁、ヒト中性インスリン−ヒトイソフェンインスリン水性懸濁、ヒトインスリン亜鉛水性懸濁、インスリン亜鉛水性懸濁）、持続型（ヒト結晶性インスリン亜鉛懸濁）等が挙げられる。【００６７】
「グリコシダーゼ阻害薬」としては、アカルボース、ボグリボース、ミグリトール等が挙げられる。【００６８】
「インスリン感受性増強薬」のうち、ＰＰＡＲγアゴニストとしては、トログリタゾン、ピオグリタゾン、ロシグリタゾン等が、ＰＰＡＲα／γデュアルアゴニストとしては、ＭＫ−７６７（ＫＲＰ−２９７）、Ｔｅｓａｇｌｉｔａｚａｒ、ＬＭ４１５６、ＬＹ５１０９２９、ＤＲＦ−４８２３、ＴＹ−５１５０１等が、ＰＰＡＲδアゴニストとしては、ＧＷ−５０１５１６等が挙げられる。【００６９】
「トリぺプチジルぺプチダーゼＩＩ阻害薬」としてはＵＣＬ−１３９等が挙げられる。【００７０】
「ジぺプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬」としてはＮＶＰ−ＤＰＰ７２８Ａ、ＬＡＦ−２３７、ＭＫ−０４３１、Ｐ３２／９８、ＴＳＬ−２２５等が挙げられる。【００７１】
「アルドース還元酵素阻害薬」としては、ガモレン酸アスコルビル、トルレスタット、エパルレスタット、フィダレスタット、ソルビニール、ポナルレスタット、リサレスタット、ゼナレスタット等が挙げられる。【００７２】
「γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニスト」としては、トピラマート等が挙げられる。【００７３】
「ナトリウムチャンネルアンタゴニスト」としては、メキシレチン塩酸塩等が挙げられる。【００７４】
「転写因子ＮＦ−κＢ阻害薬」としては、ｄｅｘｌｉｐｏｔａｍ等が挙げられる。【００７５】
「脂質過酸化酵素阻害薬」としてはメシル酸チリラザド等が挙げられる。【００７６】
「Ｎ−ａｃｅｔｙｌａｔｅｄ−α−ｌｉｎｋｅｄ−ａｃｉｄ−ｄｉｐｅｐｔｉｄａｓｅ阻害薬」としては、ＧＰＩ−５６９３等が挙げられる。【００７７】
「カルニチン誘導体」としては、カルニチン、塩酸レバセカルニン等が挙げられる。【００７８】
併用可能な「高脂血症治療薬、高血圧治療薬」としては、例えば、ヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬、フィブラート系化合物、β３−アドレナリン受容体アゴニスト、ＡＭＰＫ活性化薬、アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素阻害薬、プロブコール、甲状腺ホルモン受容体アゴニスト、コレステロール吸収阻害薬、リパーゼ阻害薬、ミクロソームトリグリセリドトランスファープロテイン阻害剤、リポキシゲナーゼ阻害薬、カルニチンパルミトイルトランスフェラーゼ阻害薬、スクアレン合成酵素阻害薬、低比重リポタンパク受容体促進薬、ニコチン酸誘導体、胆汁酸吸着薬、ナトリウム共役胆汁酸トランスポーター阻害薬、コレステロールエステル輸送蛋白阻害薬、アンジオテンシン変換酵素阻害薬、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬、エンドセリン変換酵素阻害薬、エンドセリン受容体アンタゴニスト、利尿薬、カルシウム拮抗薬、血管拡張性降圧薬、交感神経遮断薬、中枢性降圧薬、α２−アドレナリン受容体アゴニスト、抗血小板薬、尿酸生成阻害薬、尿酸排出促進薬、尿アルカリ化薬、食欲抑制薬、アディポネクチン受容体アゴニスト、ＧＰＲ４０アゴニスト、ＧＰＲ４０アンタゴニスト等を挙げることができる。
【００７９】
高脂血症治療薬、高血圧治療薬としては、以下のような薬剤が例示される。【００８０】
「ヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬」としては、フルバスタチン、ロバスタチン、プラバスタチン、セリバスタチン、ピタバスタチン等が挙げられる。【００８１】
「フィブラート系化合物」としては、ベザフィブラート、ベクロブラート、ビニフィブラート等が挙げられる。【００８２】
「スクアレン合成酵素阻害薬」としては、ＴＡＫ−４７５、α−ホスホノスルホネート誘導体（米国特許第５７１２３９６号明細書）等が挙げられる。【００８３】
「アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素阻害薬」としては、ＣＩ−１０１１、ＮＴＥ−１２２、ＦＣＥ−２７６７７、ＲＰ−７３１６３、ＭＣＣ−１４７、ＤＰＵ−１２９等が挙げられる。【００８４】
「低比重リポタンパク受容体促進薬」としては、ＭＤ−７００、ＬＹ−２９５４２７等が挙げられる。【００８５】
「ミクロソームトリグリセリドトランスファープロテイン阻害剤（ＭＴＰ阻害剤）」としては、米国特許第５７３９１３５号明細書、米国特許第５７１２２７９号明細書、米国特許第５７６０２４６号明細書等に記載の化合物が挙げられる。【００８６】
「食欲抑制薬」としては、アドレナリン・ノルアドレナリン作動薬（Ｍａｚｉｎｄｏｌ、エフェドリン等）、セロトニン作動薬（選択的セロトニン再取込み阻害薬、例えば、Ｆｌｕｖｏｘａｍｉｎｅ等）、アドレナリン・セロトニン作動薬（Ｓｉｂｕｔｒａｍｉｎｅ等）、メラノコルチン４受容体（ＭＣ４Ｒ）アゴニスト、α−メラノサイト刺激ホルモン（α−ＭＣＨ）、レプチン、ｃｏｃａｉｎｅ−ａｎｄ  ａｍｐｈｅｔａｍｉｎｅ−ｒｅｇｕｌａｔｅｄ  ｔｒａｎｓｃｒｉｐｔ（ＣＡＲＴ）等が挙げられる。【００８７】
「甲状腺ホルモン受容体アゴニスト」としては、リオチロニンナトリウム、レポチロキシンナトリウム等が挙げられる。【００８８】
「コレステロール吸収阻害薬」としては、エゼチミブ等が挙げられる。【００８９】
「リパーゼ阻害薬」としてはオルリスタット等が挙げられる。【００９０】
「カルニチンパルミトイルトランスフェラーゼ阻害薬」としては、エトモキシル等が挙げられる。【００９１】
「ニコチン酸誘導体」としては、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、ニコモール、ニコランジル等が挙げられる。【００９２】
「胆汁酸吸着薬」としては、コレスチラミン、コレスチラン、塩酸コレセベラム等が挙げられる。【００９３】
「アンジオテンシン変換酵素阻害薬」としては、カプトリル、マレイン酸エナラプリル、アラセプリル、シラザプリル等が挙げられる。【００９４】
「アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬」としては、カンデサルタンシレキセチル、ロサルタンカリウム、メシル酸エプロサルタン等が挙げられる。【００９５】
「エンドセリン変換酵素阻害薬」としては、ＣＧＳ−３１４４７、ＣＧＳ−３５０６６等が挙げられる。【００９６】
「エンドセリン受容体アンタゴニスト」としては、Ｌ−７４９８０５、ＴＢＣ−３２１４、ＢＭＳ−１８２８７４等が挙げられる。【００９７】
例えば、糖尿病等の治療において、本発明化合物とインスリン感受性増強薬（ＰＰＡＲγアゴニスト、ＰＰＡＲα／γアゴニスト、ＰＰＡＲδアゴニスト、ＰＰＡＲα／γ／δアゴニスト等）、グリコシダーゼ阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤およびジぺプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬からなる群より選択される少なくとも１種類の薬剤との併用が好ましいと考えられる。【００９８】
または、本発明化合物とヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬、フィブラート系化合物、スクアレン合成酵素阻害薬、アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転位酵素阻害薬、低比重リポタンパク受容体促進薬、ミクロソームトリグリセリドトランスファープロテイン阻害剤および食欲抑制薬からなる群より選択される少なくとも１種類の薬剤との併用が好ましいと考えられる。【００９９】
本発明の医薬は、全身的または局所的に経口または直腸内、皮下、筋肉内、静脈内、経皮等の非経口投与することができる。【０１００】
本発明の化合物を医薬として用いるためには、固体組成物、液体組成物、およびその他の組成物のいずれの形態でもよく、必要に応じて最適のものが選択される。本発明の医薬は、本発明の化合物に薬学的に許容されるキャリヤーを配合して製造することができる。具体的には、常用の賦形剤、増量剤、結合剤、崩壊剤、被覆剤、糖衣剤、ｐＨ調整剤、溶解剤、または水性もしくは非水性溶媒などを添加し、常用の製剤技術によって、錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤、粉剤、散剤、液剤、乳剤、懸濁剤、注射剤、などに調製する事ができる。賦形剤、増量剤としては、たとえば、乳糖、ステアリン酸マグネシウム、デンプン、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、アラビアゴム、オリーブ油、ゴマ油、カカオバター、エチレングリコールなどやその他常用されるものをあげる事ができる。【０１０１】
また、本発明化合物は、α、βもしくはγ−シクロデキストリンまたはメチル化シクロデキストリン等と包接化合物を形成させて製剤化することができる。【０１０２】
本発明化合物の投与量は、疾患、症状、体重、年齢、性別、投与経路等により異なるが、成人に対し、好ましくは０．ｌ−１０００ｍｇ／ｋｇ体重／日であり、より好ましくは０．１−２００ｍｇ／ｋｇ体重／日であり、これを１日１回または数回に分けて投与することができる。【０１０３】
本発明の化合物は、例えば以下に示す製造法によって合成することができる。なお、以下のスキーム中における「Ｂｎ」はベンジル基を表す。【０１０４】
鍵中間体である２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（ＩＶ）は、例えば以下のようにして製造することができる。【０１０５】
スキーム１【０１０６】
【化３】
0005095212.tif 000004
【０１０７】
まず、Ｄ−グルカールの１級水酸基を保護（例えば、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基で保護）した後に、２つの２級水酸基をベンジル基で保護し、その後に１級水酸基の保護基を除去（例えば、保護基がｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基の場合、テトラブチルアンモニウムフルオリドにより除去）することにより３，４−ジ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−グルカール（ＩＩ）を合成することができる。【０１０８】
次に、化合物（ＩＩ）から３，４，６−トリ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−Ｄ−グルカール（ＩＩＩ）へは５工程で変換することができる（Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．、第９２５頁，１９９８年）。【０１０９】
化合物（ＩＩＩ）から２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（ＩＶ）へは２工程で変換することができる（Ｌｉｅｂｉｇｓ  Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．、第２６７頁，１９９５年）。【０１１０】
化合物（Ｖ）は、文献（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ．１、第３２８７頁、１９９１年）記載の方法で製造することができる。または、以下のスキーム２に示すとおり、化合物（ＩＶ）を適当な酸化試薬（例えば、Ｓｗｅｒｎ法などの活性化ＤＭＳＯ、またはＰＣＣ、ＰＤＣ、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ  ｐｅｒｉｏｄｉｎａｎｅなど）により化合物（Ｖ）を製造することもできる：
スキーム２【０１１１】
【化４】
0005095212.tif 000005
【０１１２】
化合物（ＩＶ）は以下のようにして化合物（ＶＩＩ）へ変換することができる。【０１１３】
スキーム３【０１１４】
【化５】
0005095212.tif 000006
【０１１５】
化合物（ＩＶ）は、例えば安息香酸との光延反応の後に、加水分解を行い、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノース（ＶＩ）に誘導することができる。【０１１６】
次に、化合物（ＶＩ）に適当なハロゲン化剤（例えば、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、三塩化リン、三臭化リン、四塩化炭素−トリフェニルホスフィン、四臭化炭素−トリフェニルホスフィン、Ｎ−クロロスクシニド−トリフェニルホスフィン、Ｎ−ブロモスクシニド−トリフェニルホスフィン、ヨウ素−トリフェニルホスフィンなど）を作用させることにより、Ｘがハロゲン原子である化合物（ＶＩＩ）を製造することができる。【０１１７】
また、化合物（ＩＶ）に適当な溶媒中で、塩基性条件下にメタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、無水トリフルオロメタンスルホン酸などを作用させることにより、Ｘがメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基などである化合物（ＶＩＩ）を製造することができる。【０１１８】
例えば、式（Ｉ）化合物の中間体である下記式の化合物：【０１１９】
【化６】
0005095212.tif 000007
【０１２０】
（式中、Ｒ11は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）は、次の文献を参考に合成することができる：国際公開第０１／６８６６０号、国際公開第０１／０７４８３４号、国際公開第０１／０７４８３５号、国際公開第０２／２８８７２号、国際公開第０２／４４１９２号、国際公開第０２／０６４６０６号、国際公開第０３／０１１８８０号、国際公開第０４／０１４９３１号。【０１２１】
例えば式（Ｉ）化合物の中間体である下記式の化合物：【０１２２】
【化７】
0005095212.tif 000008
【０１２３】
（式中、Ｒ12は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）は、次の文献を参考に合成することができる：国際公開第０４／００７５１７号。【０１２４】
例えば式（Ｉ）化合物の中間体である下記式の化合物：【０１２５】
【化８】
0005095212.tif 000009
【０１２６】
（式中、Ｒ13は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）は、次の文献を参考に合成することができる：国際公開第ＷＯ０１／１６１４７号、国際公開第０２／３６６０２号、国際公開第０２／０５３５７３号、国際公開第０２／０６８４３９号、国際公開第０２／０６８４４０号、国際公開第０２／０８８１５７号、国際公開第０２／０９８８９３号、国際公開第０３／０２０７３７号、国際公開第０３／０９０７８３号。【０１２７】
例えば式（Ｉ）化合物の中間体である下記式の化合物：【０１２８】
【化９】
0005095212.tif 000010
【０１２９】
（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4はそれぞれ窒素原子、もしくはＣ−Ｒ14を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4のうち１つまたは２つは窒素原子であり、Ｒ14は先に定義したＲｂと同意義である）は、次の文献を参考に合成することができる：国際公開第０３／０００７１２号。【０１３０】
例えば式（Ｉ）化合物の中間体である下記式の化合物：【０１３１】
【化１０】
0005095212.tif 000011
【０１３２】
（式中、Ｒ15は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）は、例えば以下のスキーム４に従って調製することができる：
スキーム４【０１３３】
【化１１】
0005095212.tif 000012
【０１３４】
（式中、Ｒ16は先に定義したＲｂと同意義であり、Ｍ−ａｌｋｙｌおよびＭ−ａｒｙｌはそれぞれ、ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、フェニルマグネシウムブロミドなどの有機金属試薬を意味し、Ｘは塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンであり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１３５】
すなわち、化合物（ＸＩＶ）に適当な有機金属試薬（ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、フェニルマグネシウムブロミドなど）を作用させた後、Ａｒ2−ＣＨＯと反応させることにより化合物（ＸＶ）に誘導し、その後に適当な還元反応（パラジウム触媒などを用いる接触水素化など）より合成することができる。【０１３６】
本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム５に従って製造することができる：
スキーム５【０１３７】
【化１２】
0005095212.tif 000013
【０１３８】
（式中、Ｒ11は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１３９】
すなわち、化合物（ＩＶ）と化合物（ＶＩＩＩ）をアゾ試薬およびホスフィン類を用いる光延反応条件により縮合させ、その後にパラジウム触媒などを用いる接触水素化条件による脱保護、もしくは三フッ化ホウ素−ジメチルスルフィドなどによる脱保護を行うことで製造することができる。ここで本発明化合物の合成に使用することができるアゾ試薬としては、ジエチルアゾジカルボキシレート、テトラメチルアゾジカルボキサミド、１，６−ジメチル−１，５，７−ヘキサヒドロ−１，４，６，７−テトラゾシン−２，５−ジオンなどが挙げられ、ホスフィン類としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）ビフェニル、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィンなどが挙げられる。また、ホスホラン試薬を用いる光延反応によっても本発明化合物は合成できる。ここで使用することができるホスホラン試薬としては（シアノメチレン）トリブチルホスホラン、あるいは（シアノメチレン）トリメチルホスホランなどが挙げられる。また、化合物（ＸＶＩＩ）の置換基Ｒ11あるいはＡｒ2の置換基（ハロゲン、あるいは水酸基の場合はトリフレートなどに変換後）は、パラジウム触媒存在下、スズ試薬、あるいはボロン酸などを用いて変換することもできる。【０１４０】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム６に従っても製造することができる：
スキーム６【０１４１】
【化１３】
0005095212.tif 000014
【０１４２】
（式中、Ｘ5は塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンまたは、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどの脱離基であり、Ｒ11は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１４３】
すなわち、化合物（ＶＩＩ）と化合物（ＶＩＩＩ）を適当な溶媒中で塩基性条件下に縮合させることにより化合物（ＸＶＩ）を製造することもできる。ここで使用することができる塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドなどが挙げられる。【０１４４】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム７に従っても製造することができる：
スキーム７【０１４５】
【化１４】
0005095212.tif 000015
【０１４６】
（式中、Ｒ11は先に定義したＲｂと同意義であり、Ｒ”はＣ1−Ｃ6アルキル基、Ｃ7−Ｃ14アラルキル基またはアリール基であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１４７】
すなわち、化合物（ＩＶ）と化合物（ＸＶＩＩＩ）をアゾ試薬およびホスフィン類を用いる光延反応条件により縮合させた後に、アルコキシカルボニル基を常法によりホルミル基へ変換し化合物（ＸＸ）とし、次いでＡｒ2−Ｍ（Ｍはリチウム、マグネシウムハライドなどを表す）と作用させることで化合物（ＸＸＩ）へと変換し、その後にパラジウム触媒などを用いる接触水素化条件などにより水酸基とベンジル基を同時に、もしくはトリエチルシランなどで水酸基を還元後、三フッ化ホウ素−ジメチルスルフィドなどによりベンジル基を除去することで本発明化合物（ＸＶＩＩ）を製造することもできる。【０１４８】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム８に従っても製造することができる：
スキーム８【０１４９】
【化１５】
0005095212.tif 000016
【０１５０】
（式中、Ｘ11はハロゲン原子を表し、Ｒ11は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１５１】
すなわち、化合物（ＩＶ）と化合物（ＸＸＩＩ）を光延反応により化合物（ＸＸＩＩＩ）へ誘導した後に、有機金属試薬（ｎ−ブチルリチウムなどの低級アルキルリチウムなど）を作用させＡｒ2−ＣＨＯと反応させることにより、化合物（ＸＸＩ）を合成することもできる。【０１５２】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム９に従っても製造することができる：
スキーム９【０１５３】
【化１６】
0005095212.tif 000017
【０１５４】
（式中、Ｘ21およびＸ22ハロゲン原子を表し、Ｒ”は各々独立にＣ1−Ｃ6アルキル基から選択され、Ｒ11は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１５５】
すなわち、化合物（ＸＸＩＩＩ）にパラジウム触媒の存在下にヘキサアルキルジチンを作用させ化合物（ＸＸＩＶ）に誘導した後に、Ａｒ2−ＣＨ2Ｘ22とパラジウム触媒の存在下に反応させることにより、化合物（ＸＶＩ）を合成することもできる。ここで使用することができるヘキサアルキルジチンとしては、例えばヘキサメチルジチン、ヘキサブチルジチンなどが挙げられ、パラジウム触媒としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノエタン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）などが挙げられる。【０１５６】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム１０に従っても製造することができる：
スキーム１０【０１５７】
【化１７】
0005095212.tif 000018
【０１５８】
（式中、Ｒ12は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１５９】
すなわち、化合物（ＩＶ）と化合物（ＩＸ）をアゾ試薬およびホスフィン類を用いる光延反応条件により縮合させ化合物（ＸＸＶ）へ誘導し、その後にパラジウム触媒などを用いる接触水素化条件などにより、ケトンの還元とベンジル基の除去を同時に、もしくは水素化ホウ素ナトリウムなどによるケトンの還元、パラジウム触媒によるベンジル基の除去を段階的に行うことで、本発明化合物（ＸＸＶＩ）を製造することができる。【０１６０】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム１１に従っても製造することができる：
スキーム１１【０１６１】
【化１８】
0005095212.tif 000019
【０１６２】
（式中、Ｒ12は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１６３】
すなわち、化合物（ＩＶ）と化合物（Ｘ）をアゾ試薬およびホスフィン類を用いる光延反応条件により縮合させ化合物（ＸＸＶＩＩ）へ誘導した後に、Ａｒ2−Ｍ（Ｍはリチウム、マグネシウムハライドなどを表す）と作用させることで化合物（ＸＸＩ）へと変換し、その後にパラジウム触媒などを用いる接触水素化条件などにより、水酸基とベンジル基の除去を同時に、もしくは段階的に行うことで本発明化合物（ＸＸＶＩ）を製造することもできる。【０１６４】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム１２に従っても製造することができる：
スキーム１２【０１６５】
【化１９】
0005095212.tif 000020
【０１６６】
（式中、Ｘ5は先に定義したとおりであり、Ｒ13は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１６７】
すなわち、本発明化合物（ＸＸＸ）は、化合物（ＶＩＩ）と化合物（ＸＩ）を適当な溶媒中、塩基存在下に反応させて化合物（ＸＸＩＸ）に誘導し、その後にパラジウム触媒などを用いる接触水素化条件などによりベンジル基を除去することで製造することができる。【０１６８】
また、スキーム１０の製造法において、化合物（ＩＸ）の代わりに化合物（ＸＩＩ）を用いることにより、本発明化合物（ＸＸＸＩ）（Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4、およびＡｒ2は前記と同様である）を合成することができる。【０１６９】
【化２０】
0005095212.tif 000021
【０１７０】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム１３に従っても製造することができる：
スキーム１３【０１７１】
【化２１】
0005095212.tif 000022
【０１７２】
（式中、Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ17は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１７３】
すなわち、本発明化合物（ＸＸＸＶ）は、化合物（ＩＶ）をフタルイミドとの光延反応を行った後に、ヒドラジン、もしくはメチルアミンを作用させることにより化合物（ＸＸＸＩＩ）に誘導し、次いで化合物（ＸＸＸＩＩＩ）とのパラジウム触媒（例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノフェロセン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）など）、もしくは銅試薬（例えば、ヨウ化銅（Ｉ）など）の存在下のカップリング反応により化合物（ＸＸＸＩＶ）に変換し、その後にパラジウム触媒などを用いる接触水素化条件などによりベンジル基を除去することで製造することができる。【０１７４】
なお、化合物（ＸＸＸＩＩ）は化合物（ＩＶ）に対してアジ化ナトリウムなどとの光延反応を行った後に、トリフェニルホスフィンなどを作用させることで合成することもできる。【０１７５】
また、化合物（ＸＸＸＩＩＩ）は、以下のスキーム１４に従って、化合物（ＸＸＸＶＩ）にＡｒ2−Ｍを作用させて化合物（ＸＸＸＶＩＩ）に誘導した後に、ボロントリフルオリド−ジエチルエーテル錯体やトリフルオロ酢酸などの存在下にトリエチルシランで処理することにより製造することができる：
スキーム１４【０１７６】
【化２２】
0005095212.tif 000023
【０１７７】
（式中、Ｘは先に定義したとおりであり、Ｒ17は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１７８】
また、本発明化合物は、例えば以下に示すスキーム１５に従っても製造することができる：
スキーム１５【０１７９】
【化２３】
0005095212.tif 000024
【０１８０】
（式中、Ｒ18は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１８１】
すなわち、化合物（ＸＸＸＸ−Ｉ）は、化合物（ＸＸＸＶＩＩＩ）に適当なアルキルリチウム（例えば、ｎ−ブチルリチウムなど）を作用させ、化合物（Ｖ）と反応させて得られる化合物（ＸＸＸＩＸ−Ｉ）をパラジウム触媒などによる接触水素添加により製造することができる。同様に化合物（ＸＸＸＸ−ＩＩ）は（ＸＸＸＩＸ−ＩＩ）のパラジウム触媒による接触水素添加により直接、あるいは水酸基をアセチル化し、次いでパラジウム触媒などを用いる接触水素化反応（必要に応じ、塩酸などの酸を添加）によりアセトキシ基とベンジル基を除去することで製造することができる。ここで、化合物（ＸＸＸＶＩＩＩ）は、例えば国際公開第０１／２７１２８号に記載の方法で合成することができる。【０１８２】
化合物（ＸＸＸＸ）は以下に示すスキーム１６の方法で製造することもできる：
スキーム１６【０１８３】
【化２４】
0005095212.tif 000025
【０１８４】
（式中、Ｘ23およびＸ24はハロゲン原子であり、Ｒ18は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である）。【０１８５】
すなわち、化合物（ＸＸＸＸＩ）に適当なアルキルリチウム（例えば、ｎ−ブチルリチウムなど）を作用させた後に、化合物（Ｖ）と反応させて化合物（ＸＸＸＸＩＩ）に誘導し、生じた水酸基を、例えばメチルチオカルボニル化やイミダゾリルチオカルボニル化によりチオカルボニルオキシ基に変換した後に、適当なラジカル開始剤（例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリルや過酸化ベンゾイル）の存在下に適当なラジカル反応剤（例えば、水素化トリブチルスズなどのスズヒドリド試薬、ジフェニルシランなどのシラン試薬、ジ亜リン酸やジエチルホスファイトと３級アミンを組み合わせる条件）を作用させることによりデオキシ化を行い、化合物（ＸＸＸＸＩＩＩ）を合成する。次いで、適当なハロゲン化条件（例えば、Ｎ−ブロモコハク酸イミド、臭素、臭化水素など）によりベンジルハライド（ＸＸＸＸＩＶ）へ変換し、適当なパラジウム触媒（例えば、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノエタン）ジクロロパラジウム（II）など）の存在下にアリールハライド（ヘテロアリールハライドを含む）と反応させた後に、脱ベンジル化を行うことで化合物（ＸＸＸＸ）へ誘導することができる。【０１８６】
中間体（ＸＸＸＸＩＶ）は以下に示すスキーム１７の方法で製造することもできる：
スキーム１７【０１８７】
【化２５】
0005095212.tif 000026
【０１８８】
（式中、Ｒ18は先に定義したＲｂと同意義であり、Ｐは保護基であり、Ｘはハロゲン原子であり、Ａｒ2は前記と同意義である。）
すなわち、化合物（ＸＸＸＸＶＩ）の水酸基を適当な保護基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニル基など）で保護した後、適当なアルキルリチウム（例えば、ｎ−ブチルリチウムなど）を作用させ、化合物（Ｖ）と反応させて化合物（ＸＸＸＸＶＩＩ）に誘導する。次いで３級水酸基を、例えばメチルチオチオカルボニル化やイミダゾリルチオカルボニル化によりチオカルボニルオキシ基に変換し、適当なラジカル開始剤（例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリルや過酸化ベンゾイル）の存在下に適当なラジカル反応剤（例えば、水素化トリブチルスズなどのスズヒドリド試薬、ジフェニルシランなどのシラン試薬、ジ亜リン酸やジエチルホスファイトと３級アミンを組み合せる条件）を作用させることにより化合物（ＸＸＸＸＶＩＩＩ）に変換する。次いで、脱保護を行うことで化合物（ＸＸＸＸＩＸ）を得た後に、適当なハロゲン化条件（例えば、Ｘが臭素原子の場合は、トリフェニルホスフィン存在下にＮ−ブロモコハク酸イミド、臭素、四臭化炭素などを用いる条件）により化合物（ＸＸＸＸＩＶ）を合成することができる。【０１８９】
化合物（Ｌ）は以下に示すスキーム１８の方法で製造することもできる
スキーム１８【０１９０】
【化２６】
0005095212.tif 000027
【０１９１】
（式中、Ｒ11は先に定義したＲｂと同意義であり、Ａｒ2は前記と同意義である。）
すなわち、スキーム５の製造法において、化合物（ＩＶ）の代わりに化合物（ＬＩ）あるいは化合物（ＬＩＩ）を用いることにより、本発明化合物（Ｌ）を製造することができる。化合物（ＬＩ）は文献（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、６３巻、５６６８頁、１９９８年）
、化合物（ＬＩＩ）は文献（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、５６巻、７１０９頁、２０００年）記載の方法で合成することができる。【０１９２】
また、本発明化合物はスキーム１９の方法で製造することができる。【０１９３】
スキーム１９【０１９４】
【化２７】
0005095212.tif 000028
【０１９５】
（式中、Ｒ17は先に定義したＲｂと同意義であり、Ｘは先に定義したとおりであり、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基であり、Ａｒ2は前記と同意義である。）
すなわち、化合物（Ｖ）をトリフレート化して得られる（ＬＩＶ）を、化合物（ＸＸＸＩＩＩ）に適当なアルキルリチウム（ｎ−ブチルリチウムなど）を作用させ、ボロン酸エステル（トリメチルボレートなど）と処理して得られる化合物（ＬＶＩＩ）とともに、パラジウム触媒（テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムなど）存在下で処理することにより、（ＬＶ）を得ることができる。これをペンタメチルベンゼンなどの存在下に、三塩化ホウ素などと処理することにより化合物（ＬＶＩ）を製造することができる。【０１９６】
本発明の化合物の製造方法は、上記の方法に制限されない。発明の化合物は、例えばスキーム１〜１９に含まれる工程を適宜組み合わせることによっても合成することができる。
【発明の効果】
【０１９７】
本発明の化合物は、ＳＧＬＴ２阻害作用を有するのみならず、代謝安定性、経口吸収性、薬効持続性、安全性などの医薬品として好ましい特性を有する。従って本発明により、インスリン依存性糖尿病（１型糖尿病）、インスリン非依存性糖尿病（２型糖尿病）などの糖尿病および高血糖症に起因する糖尿病性合併症、肥満症の予防または治療（特に治療）に使用される、血糖降下作用を有する医薬組成物が提供される。
【実施例】
【０１９８】
本発明の内容を以下の実施例および試験例でさらに詳細に説明するが、本発明はその内容に限定されるものではない。【０１９９】
以下の実施例において、各略号は以下の意味を有する：
ＮＭＲ：核磁気共鳴スペクトル（ＴＭＳ内部標準）、ＭＳ：質量分析値、ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー。【０２００】
ＮＭＲ、ＭＳ、およびＨＰＬＣは以下の機器を用いて測定した：
ＮＭＲ：ＪＥＯＬ  ＪＮＭ−ＥＸ−２７０（２７０ＭＨｚ）、Ｖａｒｉａｎ  ｍｅｒｃｕｒｙ  ３００（３００ＭＨｚ）、またはＪＥＯＬ  ＪＮＭ−ＥＣＰ４００（４００ＭＨｚ）；
ＭＳ：Ｔｈｅｒｍｏ  Ｆｉｎｉｇａｎ社ＬＣＱ、またはＷａｔｅｒｓ社ｍｉｃｒｏｍａｓｓＺＱ；
ＨＰＬＣ：Ｗａｔｅｒｓ社２６９０／２９９６（検出器）。【０２０１】
ＨＰＬＣの測定条件は特に記載のない限り、以下のとおりである。【０２０２】
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：０．１％ＴＦＡ／ＭｅＣＮ（５％）＋０．１％ＴＦＡ／Ｈ２Ｏ（９５％）から０．１％ＴＦＡ／ＭｅＣＮ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（０．１％ＴＦＡ／ＭｅＣＮ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット。【０２０３】
実施例１
［２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシル）安息香酸  メチルエステルの合成
サリチル酸メチル（７２μＬ、０．５５７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４００μＬ）にトリフェニルホスフィン（１４６ｍｇ、０．５５７ｍｍｏｌ）、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（２００ｍｇ、０．３７１ｍｍｏｌ）を加えた後、ジエチルアゾジカルボキシレート（ＤＥＡＤ、８８μＬ、０．５５７ｍｍｏｌ）を滴下し、室温にて１０時間半攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３））にて精製し、標題化合物（１２３ｍｇ、４９％）を得た。【０２０４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．６０−１．８０（２Ｈ，ｍ）、２．１５−２．２４（１Ｈ，ｍ）、３．４８−３．６４（４Ｈ，ｍ）、３．７５−３．９０（１Ｈ，ｍ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、４．４３（３Ｈ，ｓ）、４．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．５１−４．９８（６Ｈ，ｍ）、６．９５−７．０２（１Ｈ，ｍ）、７．１０−７．５０（２２Ｈ，ｍ）、７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６５，７．７５Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：６９５［Ｍ＋Ｎａ］+
２）２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンジルアルコールの合成
２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシル）安息香酸  メチルエステル（１２３ｍｇ、０．１８３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３６０μＬ）に水素化リチウムアルミニウム（１０．４ｍｇ、０．２７４ｍｍｏｌ）を少しずつ加え、油浴（５５℃）にて３時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３））にて精製し、標題化合物（９５ｍｇ、８１％）を得た。【０２０５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．６０−１．８０（２Ｈ，ｍ）、２．１６−２．２２（１Ｈ，ｍ）、３．４６−３．７４（５Ｈ，ｍ）、４．４３（３Ｈ，ｓ）、４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．６６（２Ｈ，ｂｒ  ｓ）、４．８１−４．９６（５Ｈ，ｍ）、６．９４−７．３１（２４Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ＋）：６６７［Ｍ＋Ｎａ］＋
３）２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンズアルデヒドの合成
２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンジルアルコール（９５ｍｇ、０．１４７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１．５ｍＬ）にＤｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（９４ｍｇ、０．２２１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて４５分間攪拌した。反応液から不溶物を濾去し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３））にて精製し、標題化合物（７７ｍｇ、８１％）を得た。
【０２０６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．６０−１．８０（２Ｈ，ｍ）、２．１７−２．２３（１Ｈ，ｍ）、３．４８−３．７８（５Ｈ，ｍ）、４．４４（３Ｈ，ｓ）、４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．７３−４．９７（５Ｈ，ｍ）、７．００−７．３２（２２Ｈ，ｍ）、７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４８，７．８３Ｈｚ）、７．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４９，７．５８Ｈｚ）、１０．４（１Ｈ，ｓ）
４）［２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシル）フェニル］−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンズアルデヒド（７７ｍｇ、０．１１９ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１２０μＬ）に４−メトキシフェニルマグネシウムブロミドの０．５ＭのＴＨＦ溶液（４８０μＬ、０．２３８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１３時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥（無水硫酸マグネシウム）し、溶媒を減圧下濃縮した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３））にて精製し、標題化合物（６６ｍｇ、７４％）を得た。【０２０７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．６０−１．８０（２Ｈ，ｍ）、１．９５−２．０９（１Ｈ，ｍ）、２．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７８Ｈｚ）、３．３８−３．７９（５Ｈ，ｍ）、３．６５（１．２Ｈ，ｓ）、３．６９（１．８Ｈ，ｓ）、４．３３−４．９３（９Ｈ，ｍ）、５．９６−６．１６（１Ｈ，ｍ）、６．７３−７．４２（２８Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：７７３［Ｍ＋Ｎａ］+
５）［２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
［２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシル）］−（４−メトキシフェニル）メタノール（６６ｍｇ、０．０８７９ｍｍｏｌ）に２０％水酸化パラジウム炭素（１０ｍｇ）の塩酸メタノール溶液（２ｍＬ）を加え、水素雰囲気下３時間攪拌した。反応後、反応液を濾過し、濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：ジクロロメタン（１：１０））にて精製し、標題化合物（２０ｍｇ、６１％）を得た。【０２０８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ：０．８９−１．０３（１Ｈ，ｍ）、１．４０−１．６０（１Ｈ，ｍ）、２．０２−２．１０（１Ｈ，ｍ）、３．１８−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．５１（２Ｈ，ｍ）、３．６７−３．７１（１Ｈ，ｍ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、３．８２−３．９９（２Ｈ，ｍ）、４．１３−４．２２（１Ｈ，ｍ）、６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５７Ｈｚ）、６．８０−６．８６（１Ｈ，ｍ）、６．９９−７．１６（５Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ＋）：３９７［Ｍ＋Ｎａ］＋
ＨＰＬＣ保持時間：１０．６分
実施例２
［１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，６Ｓ］−４−ヒドロキシメチル−６−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
１）［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサノールの合成
３−（４−メトキシベンジル）−１−ブロモベンゼン（１５５ｍｇ、０．５５９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（０．８０ｍＬ）溶液に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムの２．４４Ｍヘキサン溶液（０．２３ｍＬ、０．５５９ｍｍｏｌ）を滴下し、２５分間攪拌した。次いで２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサノン（２００ｍｇ、０．３７３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（０．７０ｍＬ）溶液を滴下し、７５分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（２：５））にて精製し、標題化合物（８０ｍｇ、２７％）を１Ｒ−体と１Ｓ−体の混合物として得た。
【０２０９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．８２−１．９２（１Ｈ，ｍ）、２．３９−２．４４（１Ｈ，ｍ）、２．５６−２．６４（１Ｈ，ｍ）、３．３４−３．３９（１Ｈ，ｍ）、３．５５−３．８０（２Ｈ，ｍ）、３．６６（３Ｈ，ｓ）、３．７８（２Ｈ，ｓ）、３．８７−３．９４（２Ｈ，ｍ）、４．４２−５．０４（８Ｈ，ｍ）、６．６１−６．８４（４Ｈ，ｍ）、７．０６−７．４０（２３Ｈ，ｍ）、７．５５−７．６６（１Ｈ，ｍ）
２）酢酸  ［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキシル  エステルの合成
［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサノール（２０ｍｇ）、トリエチルアミン（０．００８ｍＬ）、および４−ジメチルアミノピリジン（０．７ｍｇ）のジクロロメタン（０．１０ｍＬ）溶液に氷冷下、無水酢酸（０．００３ｍＬ）を加えて室温にて２時間攪拌した。次いで、氷冷下に塩化アセチル（０．００３ｍＬ）を加えて、室温にて３０分間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてジクロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を濃縮し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（２：５））にて精製し、標題化合物（４．２ｍｇ）を得た。【０２１０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．８５（３Ｈ，ｓ）、２．０３−２．１７（２Ｈ，ｓ）、３．２０−３．４９（３Ｈ，ｍ）、３．６０−３．７２（２Ｈ，ｍ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、３．８７（２Ｈ，ｓ）、４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ）、４．３９−４．９５（８Ｈ，ｍ）、６．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、６．９９−７．４０（２４Ｈ，ｍ）、７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．６５（１Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：７９４［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
３）［１Ｓ，２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，６Ｓ］−４−ヒドロキシメチル−６−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３−トリオールの合成
酢酸  ［２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ］−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキシルエステル（４．２ｍｇ）のメタノール（０．２ｍＬ）−ＴＨＦ（０．２ｍＬ）の溶液に、２０％水酸化パラジウム−炭素（３ｍｇ）を加えて、水素雰囲気下に３時間攪拌した。反応液を濾過し、濾液を濃縮して得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝ジクロロメタン：メタノール（９：１））にて精製し、標題化合物（１．７ｍｇ）を単一のジアステレオマーとして得た。【０２１１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：１．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，１２．６Ｈｚ）、１．４８（１Ｈ，ｍ）、１．６５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ，３．３Ｈｚ）、２．４３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，４．２Ｈｚ）、３．０５−３．１７（２Ｈ，ｍ）、３．２６−３．４０（２Ｈ，ｍ）、３．６０（１Ｈ，ｍ）、３．７１（３Ｈ，ｓ）、３．８３（２Ｈ，ｓ）、４．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、４．２１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、４．４５（１Ｈ，ｂｒ）、４．６０（１Ｈ，ｂｒ）、６．８４（２Ｈ，ｍ）、６．９３−７．０８（３Ｈ，ｍ）、７．１０−７．２０（３Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７６［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
実施例３
［２−（４−トリフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−トリフルオロメトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（３．３ｇ，１２．６４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１２６ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５９Ｍ，８．７ｍＬ）を滴下し、同温で１５分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−トリフルオロメトキシベンズアルデヒド（２．０ｇ，１０．５２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４２ｍＬ）を滴下した。同温で４０分、０℃にて４５分攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、無色油状の標題化合物（３．０３ｇ、７７％）を得た。【０２１２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）、５．０１（２Ｈ，ｓ）、６．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、６．８４−７．００（２Ｈ，ｍ）、７．０３−７．３７（１１Ｈ，ｍ）
２）２−（４−トリフルオロメトキシベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−トリフルオロメトキシフェニル）メタノール（１．５ｇ、４．０１ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２７ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１５０ｍｇ）を加え、さらに３６％ＨＣl（０．３３ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１６時間攪拌した後に０℃に冷やし、炭酸カリウム（０．５４ｇ）を加えて３０分攪拌後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、白色固体の標題化合物（１．０５ｇ、９７％）を得た。【０２１３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９８（２Ｈ，ｓ）、４．８３（１Ｈ，ｓ）、６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、６．９９−７．１３（４Ｈ，ｍ）、７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）
３）［２−（４−トリフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−トリフルオロメトキシベンジル）フェノール（２９８ｍｇ，１．１１ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２．５ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（４００ｍｇ、０．７４ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．２８ｍＬ、１．１１ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、１９１ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））、更に分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて処理した。得られた粗生成物をテトラヒドロフラン（１．４ｍＬ）、メタノール（２．８ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（２０ｍｇ）を加えて水素雰囲気下、１時間４５分攪拌した後触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（６７ｍｇ、２１％）を得た。【０２１４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８５−０．９９（１Ｈ，ｍ）、１．４４−１．６１（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．１１（１Ｈ，ｍ）、３．１２−３．３３（２Ｈ，ｍ）、３．３８−３．４８（２Ｈ，ｍ）、３．６４−３．７３（１Ｈ，ｍ）、３．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．１２−４．２３（１Ｈ，ｍ）、６．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、６．９６−７．１７（５Ｈ，ｍ）、７．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４２８［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．７分
実施例４
［２−（４−シクロペンチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−ブロモフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（４．４ｇ，１６．７２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１６８ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５９Ｍ，１１．５７ｍＬ）を滴下し、同温で１５分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−ブロモベンズアルデヒド（２．４７ｇ，１３．３４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）を滴下した。同温で３０分、０℃にて３０分攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、無色油状の標題化合物（４．０８ｇ、８３％）を得た。【０２１５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）、５．０１（２Ｈ，ｓ）、５．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）、６．８６−６．９９（２Ｈ，ｍ）、７．０９−７．３９（１１Ｈ，ｍ）
２）１−ベンジルオキシ−２−（４−ブロモベンジル）ベンゼンの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−ブロモフェニル）メタノール（３．８８ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（１９．５ｍＬ）に−４０℃にてトリエチルシラン（１．８４ｍＬ，１１．５５ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（１．３３ｍＬ，１０．５ｍｍｏｌ）を加え、同温で０．５時間攪拌した。飽和炭酸カリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（２．８６ｇ、７７％）を得た。【０２１６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９５（２Ｈ，ｓ）、５．０３（２Ｈ，ｓ）、６．８１−６．９２（２Ｈ，ｍ）、６．９６−７．３６（１１Ｈ，ｍ）
３）１−［４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル］シクロペンタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−（４−ブロモベンジル）ベンゼン（１．５ｇ，４．２５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１６．５ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５９Ｍ，２．９４ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、シクロペンタノン（３５７ｍｇ，４．２５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４ｍＬ）を滴下した。同温で５０分、０℃にて１時間攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、無色油状の標題化合物（１．１４ｇ、７５％）を得た。【０２１７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４７−２．０２（８Ｈ，ｍ）、４．００（２Ｈ，ｓ）、５．０３（２Ｈ，ｓ）、６．７９−６．８９（２Ｈ，ｍ）、７．０２−７．３６（１１Ｈ，ｍ）
４）２−（４−シクロペンチルベンジル）フェノールの合成
１−［４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル］シクロペンタノール（１．１４ｇ、３．１９ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２１ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１１４ｍｇ）を加え、さらに３６％ＨＣl（０．２５５ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、一晩攪拌した後に０℃に冷やし、炭酸カリウム（４２５ｍｇ）を加えて２０分攪拌後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：２０））にて精製し、白色固体の標題化合物（７４４ｍｇ、９２％）を得た。【０２１８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４４−１．８４（６Ｈ，ｍ）、１．９３−２．０９（２Ｈ，ｍ）、２．８４−３．００（１Ｈ，ｍ）、３．９５（２Ｈ，ｓ）、４．７６（１Ｈ，ｓ）、６．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．０２−７．２０（６Ｈ，ｍ）
５）［２−（４−シクロペンチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−シクロペンチルベンジル）フェノール（３５１ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３．１ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−ヘキサン：ジクロロメタン：アセトン（１２：３：１））にて処理して粗生成物（５５５ｍｇ）を得た。得られた粗生成物（１００ｍｇ）をテトラヒドロフラン（０．９ｍＬ）、メタノール（１．８ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（１２．６ｍｇ）を加えて水素雰囲気下、７時間攪拌した後触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（４０ｍｇ、５８％）を得た。【０２１９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．７９−０．９６（１Ｈ，ｍ）、１．４４−１．８６（７Ｈ，ｍ）、１．９３−２．０７（３Ｈ，ｍ）、２．８４−２．９９（１Ｈ，ｍ）、３．１２−３．３１（２Ｈ，ｍ）、３．３７−３．４８（２Ｈ，ｍ）、３．６２−３．７１（１Ｈ，ｍ）、３．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．０８−４．２０（１Ｈ，ｍ）、６．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、６．９３−７．１４（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１３［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１４．５分
実施例５
［２−（４−クロロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−クロロフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（６．０ｇ，２２．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２２８ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，１０．３ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−クロロベンズアルデヒド（２．６７ｇ，１９．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（７６ｍＬ）を滴下した。同温で２時間攪拌後、さらに０℃で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（４．７６ｇ、７７％）を得た。【０２２０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．９４（１Ｈ，ｓ）、５．０１（２Ｈ，ｓ）、５．９９（１Ｈ，ｓ）、６．９２−７．００（２２Ｈ，ｍ）、７．１７−７．４１（１１Ｈ，ｍ）
２）１−ベンジルオキシ−２−（４−クロロベンジル）ベンゼンの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−クロロフェニル）メタノール（４．７６ｇ，１４．６ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（１５０ｍＬ）に−４０℃にてトリエチルシラン（２．８ｍＬ，１７．６ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（１．８４ｍＬ，１４．６ｍｍｏｌ）を加え、同温で２時間攪拌した。さらに０℃で１時間攪拌後、水を加え塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（３．８３ｇ、８５％）を得た。【０２２１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９７（２Ｈ，ｓ）、５．０３（２Ｈ，ｓ）、６．８７−６．９２（２Ｈ，ｍ）、７．０８−７．３７（１１Ｈ，ｍ）
３）２−（４−クロロベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−（４−クロロベンジル）ベンゼン（５０．０ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（２．０ｍＬ）に氷冷下、ジメチルスルフィド（１０５．１μＬ，２．４３ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（５１．３μＬ，０．４ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に反応液を室温に上げながら、１９時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（３３．４ｍｇ、９４％）を得た。【０２２２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９５（２Ｈ，ｓ）、４．６０（１Ｈ，ｓ）、６．７５−６．７８（１Ｈ，ｍ）、６．８６−６．９２（１Ｈ，ｍ）、７．０７−７．２７（６Ｈ，ｍ）
４）［２−（４−クロロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−クロロベンジル）フェノール（３０４．５ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物を塩化メチレン（８ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ジメチルスルフィド（２．１７ｍＬ，５０．２ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（１．０８ｍＬ，８．５１ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に反応液を室温に上げながら、２５時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１２２．６ｍｇ、３５％）を得た。【０２２３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．２，１１．１Ｈｚ）、１．５３（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．０９（１Ｈ，ｍ）、３．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、３．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、３．４３−３．５１（２Ｈ，ｍ）、３．６８−３．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．９，３．９Ｈｚ）、３．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、３．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．１５−４．２３（１Ｈ，ｍ）、６．８５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．０８−７．２３（６Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．７分
実施例６
（２−ベンジルフェニル）−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−ベンジルフェノールの合成
２−（４−クロロベンジル）フェノール（６１８．５ｍｇ、２．８３ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（２４０ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下、３日間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（３４８．４ｍｇ、６７％）を得た。【０２２４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９９（２Ｈ，ｓ）、４．６５（１Ｈ，ｓ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．０９−７．３１（６Ｈ，ｍ）
２）（２−ベンジルフェニル）−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−ベンジルフェノール（２５６．５ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２１時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：１）の混合溶液（１４ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（１１８．８ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、１５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（８４ｍｇ、２６％）を得た。【０２２５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．０，１１．７Ｈｚ）、１．４９−１．５９（１Ｈ，ｍ）、２．０３−２．０９（１Ｈ，ｍ）、３．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、３．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）、３．３４（４Ｈ，ｓ）、３．４４−３．５０（２Ｈ，ｍ）、３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．９，４．２Ｈｚ）、３．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．１３−４．２２（１Ｈ，ｍ）、６．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、７．０６−７．２４（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３４５［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．６分
実施例７
［２−（４−イソプロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−イソプロピルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（３．０ｇ，１１．４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１１４ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，５．１４ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−イソプロピルベンズアルデヒド（１．４１ｇ，９．４９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３８ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、さらに０℃で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（２．６３ｇ、８４％）を得た。【０２２６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ： １．２６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、２．８４−２．９４（１Ｈ，ｍ）、５．０２（２Ｈ，ｓ）、６．０２（１Ｈ，ｓ）、６．９０−７．００（２Ｈ，ｍ）、７．１５−７．３４（１１Ｈ，ｍ）
２）２−（４−イソプロピルベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−イソプロピルフェニル）メタノール（２．６３ｇ、７．９２ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（２６３ｍｇ）を加え、さらに２N−ＨＣl（０．４ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１．３１ｇ、７３％）を得た。【０２２７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、２．８２−２．９２（１Ｈ，ｍ）、３．９６（２Ｈ，ｓ）、４．６７（１Ｈ，ｓ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．１０−７．１５（６Ｈ，ｍ）
３）［２−（４−イソプロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−イソプロピルベンジル）フェノール（３１５．１ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：１）の混合溶液（１４ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（１２７．８ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、１７時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（９７．１ｍｇ、２７％）を得た。【０２２８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．９，１２．０Ｈｚ）、１．２２（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．４８−１．５８（１Ｈ，ｍ）、２．０２−２．０９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝３．９，４．２Ｈｚ）、２．７８−２．８７（１Ｈ，ｍ）、３．１２−３．２４（２Ｈ，ｍ）、３．４３−３．４９（２Ｈ，ｍ）、３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，４．２Ｈｚ）、３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ）、４．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、４．１３−４．２１（１Ｈ，ｍ）、６．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、７．０６−７．１５（６Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８７［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１３．１分
実施例８
［２−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−シクロプロピルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．２ｇ，８．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（８３ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．６Ｍ，３．５ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−シクロプロピルベンズアルデヒド（１．１ｇ，６．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２８ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（1．7ｇ、７５％）を得た。【０２２９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６５−０．６９（２Ｈ，ｍ）、０．９２−０．９７（２Ｈ，ｍ）、１．８６−１．９０（１Ｈ，ｍ）、２．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、５．０３（２Ｈ，ｓ）、６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、７．１７−７．２６（５Ｈ，ｍ）、７．３２−７．３５（４Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３１５［Ｍ＋Ｎａ］+
２）１−ベンジルオキシ−２−（４−シクロプロピルベンジル）ベンゼンの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−シクロプロピルフェニル）メタノール（１．３ｇ，４．０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（７ｍＬ）に−４０℃にてトリエチルシラン（０．７３ｍＬ，４．６ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．５ｍＬ，４．０ｍｍｏｌ）を加え、同温で１．５時間攪拌した。さらに０℃で３０分攪拌後、水を加え塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：７））にて精製し、標題化合物（１．２ｇ、９５％）を得た。【０２３０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６３−０．６７（２Ｈ，ｍ）、０．８９−０．９４（２Ｈ，ｍ）、１．８４−１．８７（１Ｈ，ｍ）、３．９８（２Ｈ，ｓ）、５．０６（２Ｈ，ｓ）、６．８７−６．９７（４Ｈ，ｍ）、７．０８−７．２６（４Ｈ，ｍ）、７．３１−７．３７（５Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３３２［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
３）２−（４−シクロプロピルベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−（４−シクロプロピルベンジル）ベンゼン（１．１ｇ，３．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（２４ｍＬ）に氷冷下、ジメチルスルフィド（２．２ｍＬ，５１．７ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（１．１ｍＬ，８．８ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に反応液を室温に上げながら、２３時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：4））にて精製し、標題化合物（６２０．７ｍｇ、７９％）を得た。【０２３１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ： ０．６５−０．６７（２Ｈ，ｍ）、０．９０−０．９４（２Ｈ，ｍ）、１．８５−１．８６（１Ｈ，ｍ）、３．９５（２Ｈ，ｓ）、４．９０（１Ｈ，ｓ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．８８（１Ｈ，ｔ，J＝７．７Ｈｚ）、７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．２０（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：２４７［Ｍ＋Ｎａ］+
４）［２−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−シクロプロピルベンジル）フェノール（３４８ｍｇ，１．５５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３．５ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５５７ｍｇ、1．０３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３７ｍＬ、１．５５ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２６７ｍｇ、１．５５ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら１５時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物を塩化メチレン（３．５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ジメチルスルフィド（１．３ｍＬ，３０．３ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．６５ｍＬ，５．１ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に反応液を室温に上げながら、１４時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（９：１））にて精製し、アセトンから再結晶して標題化合物（９７．８mg、２５％）を得た。【０２３２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．５７−０．６１（２Ｈ，ｍ）、０．８１−０．９５（３Ｈ，ｍ）、１．５０（１Ｈ，ｓ）、１．７９−１．８５（１Ｈ，ｍ）、１．９９−２．０３（１Ｈ，ｍ）、３．１５−３．３３（２Ｈ，ｍ）、３．４２−３．４８（２Ｈ，ｍ）、３．６６−３．７２（１Ｈ，ｍ）、３．８１−３．９９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、４．４１−４．８５（１Ｈ，ｍ）、６．８０−７．１５（８Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０７［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．３分
実施例９
［２−（４−ｎ−プロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）［２−（４−ｎ−プロピルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
実施例８で合成した１−ベンジルオキシ−２−（４−シクロプロピルベンジル）ベンゼン(６４０．８ｍｇ、２．０ｍｍｏｌ）を２,２−ジメチルプロパノール（１２ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（６４ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて処理した。得られた粗生成物（３４８ｍｇ）のトルエン溶液（３．５ｍＬ）に窒素気流下、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５５７ｍｇ、１．０３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３９ｍＬ、１．５５ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２６７ｍｇ、１．５５ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて処理した。得られた粗生成物を２，２−ジメチルプロパノール（１５ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（１５９ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、１７時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（９：１））にて精製し、標題化合物（１６４．４ｍｇ）を得た。【０２３３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８８−０．９４（４Ｈ，ｍ）、１．４８−１．６３（３Ｈ，ｍ）、２．０５−２．０９（１Ｈ，ｍ）、２．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、３．１３−３．３０（２Ｈ，ｍ）、３．４６（２Ｈ，ｍ）、３．７０（１Ｈ，ｍ）、３．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．６０−４．８８（１Ｈ，ｍ）、６．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．００−７．１６（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８７［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１３．３分
実施例１０
［２−（４−トリフルオロメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−トリフルオロメチルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．６ｇ，９．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，４．０ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−トリフルオロメチルベンズアルデヒド（１．６ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で２時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（２．６ｇ、８２％）を得た。【０２３４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、５．０２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．４，４．８Ｈｚ）、６．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、６．９４−７．０２（２Ｈ，ｍ）、６．９６−７．１６（２Ｈ，ｍ）、７．２４−７．３３（５Ｈ，ｍ）、７．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、７．５３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３５９［Ｍ＋Ｈ］+
２）２−（４−トリフルオロメチルベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−トリフルオロメチルフェニル）メタノール（２．４６ｇ、６．８５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（６８．５ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（２４６ｍｇ）を加え、さらに３６％ＨＣl（０．５９ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、３．５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：８））にて精製し、標題化合物（１．４９ｇ、８６％）を得た。【０２３５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：４．０３（２Ｈ，ｓ）、４．７２（１Ｈ，ｓ）、６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、７．０８−７．１５（２Ｈ，ｍ）、７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：２７５［Ｍ＋Ｎａ］+
３）［２−（４−トリフルオロメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−トリフルオロメチルベンジル）フェノール（３５１ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：１）の混合溶液（５ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（２０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（７４ｍｇ、１９％）を得た。【０２３６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，１２．９Ｈｚ）、１．４８−１．６１（１Ｈ，ｍ）、２．０５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，４．２Ｈｚ）、３．１５−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．４２−３．４９（２Ｈ，ｍ）、３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．９，１０．５Ｈｚ）、３．９６−４．１５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．７，２８．２Ｈｚ）、４．１７−４．２４（１Ｈ，ｍ）、６．８７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．２，７．５Ｈｚ）、７．０２−７．２０（３Ｈ，ｍ）、７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４３５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．３分
実施例１１
［２−（４−メチルスルファニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−メチルスルファニルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．８９ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３８ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５９Ｍ，６．９２ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−メチルスルファニルベンズアルデヒド（１．６７ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１２ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（２．１４ｇ、５８％）を得た。【０２３７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．４７（３Ｈ，ｓ）、２．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、５．０３（２Ｈ，ｓ）、６．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、６．９２−７．００（２Ｈ，ｍ）、７．２１−７．３４（１１Ｈ，ｍ）
２）１−ベンジルオキシ−２−（４−メチルスルファニルベンジル）ベンゼンの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−メチルスルファニルフェニル）メタノール（２．１３ｇ，６．３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（１５ｍＬ）に−４０℃にてトリエチルシラン（１．２３ｍＬ，７．７２ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．８８ｍＬ，５．４８ｍｍｏｌ）を加え、同温で１．５時間攪拌した。さらに０℃で３０分攪拌後、水を加え塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（１．９ｇ、９５％）を得た。【０２３８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．４６（３Ｈ，ｓ）、３．９７（２Ｈ，ｓ）、５．０５（２Ｈ，ｓ）、６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ）、７．１０−７．３５（１１Ｈ，ｍ）
３）２−（４−メチルスルファニルベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−（４−メチルスルファニルベンジル）ベンゼン（１．９ｇ，５．９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（１５ｍＬ）に氷冷下、ジメチルスルフィド（７．２５ｍＬ，１３８ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（２．１ｍＬ，１３ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に反応液を室温に上げながら、４８時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（１．１９ｇ、９１％）を得た。【０２３９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．４６（３Ｈ，ｓ）、３．９５（２Ｈ，ｓ）、４．６５−４．７５（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）、６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．０９−７．２１（６Ｈ，ｍ）
４）［２−（４−メチルスルファニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メチルスルファニルベンジル）フェノール（３２０ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物を塩化メチレン（１０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ジメチルスルフィド（３．２８ｍＬ，６３ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．９４ｍＬ，５．９ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に反応液を室温に上げながら、２０時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１０２ｍｇ、２８％）を得た。【０２４０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８０−０．９５（１Ｈ，ｍ）、１．４５−１．６０（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．１０（１Ｈ，ｍ）、２．４２（３Ｈ，ｓ）、３．１２−３．３３（２Ｈ，ｍ）、３．４０−３．５０（２Ｈ，ｍ）、３．６３−３．７０（１Ｈ，ｍ）、３．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．１５−４．２３（１Ｈ，ｍ）、６．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、７．００−７．１８（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９１［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．６分
実施例１２
［３−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシ−６−フルオロフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
国際公開ＷＯ０４／０４８３３５に記載の２−ベンジルオキシ−６−フルオロベンズアルデヒド（２．２５ｇ、９．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）に窒素気流下、室温で４−メトキシフェニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（０．５M、２１．５ｍＬ）を滴下した。室温で１．５時間攪拌後、氷冷下で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（２．８２ｇ、８５％）を得た。【０２４１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、６．７４−６．８４（４Ｈ，ｍ）、７．１１−７．３１（８Ｈ，ｍ）
２）３−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェノールの合成
２−ベンジルオキシ−６−フルオロフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノール（２．５４ｇ、７．５１ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（３８１ｍｇ）を加え、さらに２Ｎ−ＨＣｌ（２ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１．４８ｇ、８５％）を得た。【０２４２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．９６（２Ｈ，ｓ）、４．９０（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）、６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，８．０Ｈｚ）、７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）
３）［３−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）−フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、３−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェノール（３２３ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：４）の混合溶液（５ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（６３ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（８６ｍｇ、２４％）を得た。【０２４３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９０−１．０５（１Ｈ，ｍ）、１．４５−１．６０（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．１０（１Ｈ，ｍ）、３．１７−３．３５（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．５２（２Ｈ，ｍ）、３．６５−３．７０（１Ｈ，ｍ）、３．７２（３Ｈ，ｓ）、３．９３（２Ｈ，ｓ）、４．１５−４．２５（１Ｈ，ｍ）、６．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０９−７．１８（３Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ-）：３９１［Ｍ−Ｈ］-
ＨＰＬＣ保持時間：１０．８分
実施例１３
［２−（３−トリフルオロメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（３−トリフルオロメチルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．０ｇ，７．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．７Ｍ，３．４ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−トリフルオロメチルベンズアルデヒド（２．０ｇ，１１．４ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で３時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（２．２ｇ、８０％）を得た。【０２４４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、４．９７−５．０７（２Ｈ，ｍ）、６．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、６．９５−７．０３（２Ｈ，ｍ）、７．１６−７．２０（２Ｈ，ｍ）、７．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７，２．０Ｈｚ）、７．２９−７．３６（４Ｈ，ｍ）、７．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、７．４６−７．５５（２Ｈ，ｍ）、７．６７（１Ｈ，ｓ）
２）２−（３−トリフルオロメチルベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−（３−トリフルオロメチルフェニル）メタノール（３．３２ｇ、９．３ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１６６ｍｇ）を加え、さらに３６％ＨＣl（０．２ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、７２時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（２．２６ｇ、９６％）を得た。【０２４５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：４．０４（２Ｈ，ｓ）、４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．８６−６．９０（１Ｈ，ｍ）、７．０９−７．１６（２Ｈ，ｍ）、７．３４−７．４６（３Ｈ，ｍ）、７．５０（１Ｈ，ｓ）．
３）［２−（３−トリフルオロメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（３−トリフルオロメチルベンジル）フェノール（３５１ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（５：２）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（４５ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、１５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（５６ｍｇ、１４％）を得た。【０２４６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８８−１．０２（１Ｈ，ｍ）、１．５２−１．６８（１Ｈ，ｍ）、２．１０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．４，３．９Ｈｚ）、３．２０−３．３８（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．５５（２Ｈ，ｍ）、３．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，１０．８Ｈｚ）、３．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、４．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ）、４．２０−４．３２（１Ｈ，ｍ）、６．８９−６．９５（１Ｈ，ｍ）、７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、７．１６−７．２６（２Ｈ，ｍ）、７．４２−７．５８（４Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１３［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．０分
実施例１４
［２−（４−メトキシベンジル）−４−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）１−ベンジルオキシ−２−ブロモ−４−メチルベンゼンの合成
２−ブロモ−４−メチルフェノール（１．５ｇ、８．０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（４０ｍＬ）に炭酸カリウム（１．３２ｇ、９．６ｍｍｏｌ）を加え、さらにベンジルブロミド（１．０５ｍＬ、８．８ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて１２時間攪拌した後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１．７２ｇ、７７％）を得た。【０２４７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．３０（３Ｈ，ｓ）、５．１２（２Ｈ，ｓ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９９−７．０３（１Ｈ，ｍ）、７．２８−７．４１（４Ｈ，ｍ）、７．４５−７．４８（２Ｈ，ｍ）
２）（２−ベンジルオキシ−５−メチルフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモ−４−メチルベンゼン（１．７２ｇ，６．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．７Ｍ，２．７５ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−メトキシベンズアルデヒド（１．２７ｇ，９．３ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で２時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１．４６ｇ、７０％）を得た。【０２４８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．２８（３Ｈ，ｓ）、２．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、５．００（２Ｈ，ｓ）、５．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、６．８０−６．８８（３Ｈ，ｍ）、７．００−７．０５（１Ｈ，ｍ）、７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、７．１９−７．３４（７Ｈ，ｍ）
３）２−（４−メトキシベンジル）−４−メチルフェノールの合成
（２−ベンジルオキシ−５−メトキシフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノール（１．４６ｇ、４．３ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（７３ｍｇ）を加え、さらに３６％ＨＣl（０．１ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、７２時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（０．８ｇ、８０％）を得た。【０２４９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．２４（３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．８９（２Ｈ，ｓ）、４．５５−４．５６（１Ｈ，ｍ）、６．６５−６．６９（１Ｈ，ｍ）、６．８０−６．８６（２Ｈ，ｍ）、６．８８−６．９４（２Ｈ，ｍ）、７．１１−７．１６（２Ｈ，ｍ）
４）［２−（４−メトキシベンジル）−４−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メトキシベンジル）−４−メチルフェノール（３１７ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（５：２）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（４４ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（８８ｍｇ、２４％）を得た。【０２５０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８８−１．０２（１Ｈ，ｍ）、１．４２−１．６０（１Ｈ，ｍ）、２．０４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．４，４．０Ｈｚ）、２．２１（３Ｈ，ｓ）、３．１７−３．３２（２Ｈ，ｍ）、３．４３−３．５１（２Ｈ，ｍ）、３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，１０．７Ｈｚ）、３．７４（３Ｈ，ｓ）、３．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、４．０６−４．１６（１Ｈ，ｍ）、６．７７−６．８２（２Ｈ，ｍ）、６．８６−６．９６（３Ｈ，ｍ）、７．０６−７．１５（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．２分
実施例１５
［２−（３−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（３−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、２−ベンジルオキシベンズアルデヒド（３．０ｇ、１４．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）に氷冷下で３−メトキシフェニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（１．０M、１７．０ｍＬ）を滴下した。室温で１時間攪拌後、氷冷下で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（４．９２ｇ、１００％）を得た。【０２５１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，６．０Ｈｚ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、４．９８−５．１０（２Ｈ，ｍ）、６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、６．７７−６．８２（１Ｈ，ｍ）、６．８８−７．０１（４Ｈ，ｍ）、７．１９−７．３５（９Ｈ，ｍ）
２）２−（３−メトキシベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−（３−メトキシフェニル）メタノール（１．６８ｇ、５．２４ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１６８ｍｇ）を加え、さらに３６％ＨＣｌ（０．２ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１．２９ｇ、１００％）を得た。【０２５２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．９７（２Ｈ，ｓ）、４．６９（１Ｈ，ｓ）、６．７３−６．９２（５Ｈ，ｍ）、７．１０−７．２３（３Ｈ，ｍ）
３）［２−（３−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（３−メトキシベンジル）フェノール（２９８ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（５：２）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（５５ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１１１ｍｇ、３２％）を得た。【０２５３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９７−１．１１（１Ｈ，ｍ）、１．５２−１．６８（１Ｈ，ｍ）、２．１２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．４，４．０Ｈｚ）、３．２２−３．３９（２Ｈ，ｍ）、３．４９−３．５６（２Ｈ，ｍ）、３．７２−３．７８（１Ｈ，ｍ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．１８−４．２７（１Ｈ，ｍ）、６．７２−６．９２（４Ｈ，ｍ）、７．０５−７．２２（４Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７５［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．６分
実施例１６
［２−（４−メトキシベンジル）−４−メトキシフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−ベンジルオキシ−５−メトキシベンズアルデヒドの合成
２−ヒドロキシ−５−メトキシベンズアルデヒド（３．０ｇ、１９．７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（５０ｍＬ）に炭酸カリウム（３．２７ｇ、２３．６ｍｍｏｌ）を加え、さらにベンジルブロミド（２．６ｍＬ、２１．７ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて２４時間攪拌した後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（４．８ｇ、１００％）を得た。【０２５４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．８０（３Ｈ，ｓ）、５．１５（２Ｈ，ｓ）、６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１１（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝３．４，９．１Ｈｚ）、７．３２−７．４４（６Ｈ，ｍ）、１０．５０（１Ｈ，ｓ）
２）（２−ベンジルオキシ−５−メトキシフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、２−ベンジルオキシ−５−メトキシベンズアルデヒド（２．０ｇ、８．２５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）に氷冷下で４−メトキシフェニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（０．５M、１９．８ｍＬ）を滴下した。室温で１時間攪拌後、氷冷下で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１））にて精製し、標題化合物（２．９ｇ、１００％）を得た。【０２５５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、４．９６（２Ｈ，ｓ）、５．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、６．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，９．０Ｈｚ）、６．８１−６．８７（３Ｈ，ｍ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、７．１９−７．３６（７Ｈ，ｍ）
３）２−（４−メトキシベンジル）−４−メトキシフェノールの合成
（２−ベンジルオキシ−５−メトキシフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノール（２．５４ｇ、７．２５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（２５０ｍｇ）を加え、さらに３６％ＨＣｌ（０．２５ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１．６２ｇ、９１％）を得た。【０２５６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７４（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．９０（２Ｈ，ｓ）、４．４１（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）、６．６４−６．８６（５Ｈ，ｍ）、７．１１−７．１６（２Ｈ，ｍ）
４）［２−（４−メトキシベンジル）−４−メトキシフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メトキシベンジル）−４−メトキシフェノール（３４０ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（５：２）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（４０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、６時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１２８ｍｇ、３４％）を得た。【０２５７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９４−１．０８（１Ｈ，ｍ）、１．４５−１．６２（１Ｈ，ｍ）、２．０６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．０，４．０Ｈｚ）、３．２０−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．４６−３．５６（２Ｈ，ｍ）、３．７０−３．８０（１Ｈ，ｍ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、３．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．０４−４．１４（１Ｈ，ｍ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ）、６．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，８．７Ｈｚ）、６．８０−６．８８（２Ｈ，ｍ）、７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．１２−７．１８（２Ｈ、ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０５［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．２分
実施例１７
［２−（４−メトキシベンジル）−６−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−ベンジルオキシ−３−メチルベンズアルデヒドの合成
２−ヒドロキシ−３−メチルベンズアルデヒド（３．０ｇ、２２．０７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（５０ｍＬ）に炭酸カリウム（３．６５ｇ、２６．４ｍｍｏｌ）を加え、さらにベンジルブロミド（２．９ｍＬ、２４．２ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて２６時間攪拌した後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（５．０ｇ、１００％）を得た。【０２５８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．３６（３Ｈ，ｓ）、４．９７（２Ｈ，ｓ）、７．１６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、７．３６−７．４９（６Ｈ，ｍ）、７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．８Ｈｚ）、１０．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ）
２）（２−ベンジルオキシ−３−メチルフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、２−ベンジルオキシ−３−メチルベンズアルデヒド（１．８７ｇ、８．２５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）に氷冷下で４−メトキシフェニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（０．５M、１９．８ｍＬ）を滴下した。室温で１時間攪拌後、氷冷下で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（２．７６ｇ、１００％）を得た。【０２５９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．３６（３Ｈ，ｓ）、２．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、４．６４−４．７３（２Ｈ，ｍ）、６．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、６．７７−６．８６（２Ｈ，ｍ）、７．０２−７．０８（１Ｈ，ｍ）、７．１５−７．２１（２Ｈ，ｍ）、７．２２−７．２８（２Ｈ，ｍ）、７．３４−７．４０（５Ｈ，ｍ）
３）２−（４−メトキシベンジル）−６−メチルフェノールの合成
（２−ベンジルオキシ−３−メチルフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノール（２．７６ｇ、８．２５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（３０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（２７６ｍｇ）を加え、さらに濃塩酸（０．２７ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１８時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１．７５ｇ、９３％）を得た。【０２６０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．２２（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．９３（２Ｈ，ｓ）、４．６３（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）、６．７７−６．８６（３Ｈ，ｍ）、６．９６−７．０５（２Ｈ，ｍ）、７．１１−７．１７（２Ｈ，ｍ）
４）［２−（４−メトキシベンジル）−６−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メトキシベンジル）−６−メチルフェノール（３１８ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら４８時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（５：２）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（７２ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１８０ｍｇ、５０％）を得た。【０２６１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１６−１．３５（２Ｈ，ｍ）、１．７４−１．８８（１Ｈ，ｍ）、２．３３（３Ｈ，ｓ）、３．１６−３．２６（２Ｈ，ｍ）、３．４２−３．５２（１Ｈ，ｍ）、３．５４−３．６８（２Ｈ，ｍ）、３．７４（３Ｈ，ｓ）、３．９２−４．０２（２Ｈ，ｍ）、４．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．７７−６．８３（２Ｈ，ｍ）、６．８６−６．９１（２Ｈ，ｍ）、６．９６−７．０４（１Ｈ，ｍ）、７．０５−７．１２（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１１［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．８分
実施例１８
［２−（４−メトキシベンジル）−４−フルオロフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシ−５−フルオロフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモ−４−フルオロベンゼン（１．５ｇ，５．３３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（６０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，２．４ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−メトキシベンズアルデヒド（０．６ｇ，４．４２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（０．９８ｇ、６６％）を得た。【０２６２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．８，４．９Ｈｚ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、４．９８（２Ｈ，ｓ）、６．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）、６．８３−６．９０（４Ｈ，ｍ）、７．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０，９．０Ｈｚ）、７．２０−７．３４（７Ｈ，ｍ）
２）４−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシ−５−フルオロフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノール（０．９８ｇ、２．９０ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（１８．６ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（９８ｍｇ）を加え、さらに２Ｎ−ＨＣｌ（１ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：６））にて精製し、標題化合物（０．５５ｇ、８２％）を得た。【０２６３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８９（２Ｈ，ｓ）、４．６５（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）、６．６８−６．７３（１Ｈ，ｍ）、６．７７−６．８７（４Ｈ，ｍ）、７．１１−７．１２（２Ｈ，ｍ）
３）［２−（４−メトキシベンジル）−４−フルオロフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メトキシベンジル）−４−フルオロフェノール（３２３ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら４８時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（５：２）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（２２ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１０３ｍｇ、２９％）を得た。【０２６４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９９−１．１３（１Ｈ，ｍ）、１．５０−１．６５（１Ｈ，ｍ）、２．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．４，４．０Ｈｚ）、３．２２−３．３５（２Ｈ，ｍ）、３．５０−３．５７（２Ｈ，ｍ）、３．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，１０．７Ｈｚ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．８７−４．０２（２Ｈ，ｍ）、４．１１−４．２１（１Ｈ，ｍ）、６．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，９．４Ｈｚ）、６．８３−６．９２（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．７，８．９Ｈｚ）、７．１２−７．２０（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．９分
実施例１９
［２−（３−フルオロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（３−フルオロフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（３．３ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，５．６５ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、３−フルオロベンズアルデヒド（１．４０ｇ，１１．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（２．２６ｇ、６５％）を得た。【０２６５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、５．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）、５．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）、６．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、６．８５−７．１５（５Ｈ，ｍ）、７．１７−７．４（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３０８［M］+
２）２−（３−フルオロベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−（３−フルオロフェニル）メタノール（２．５４ｇ、７．５１ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（３０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（３００ｍｇ）を加え、さらに２Ｎ−ＨＣｌ（０．３ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、５日間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（６２０ｍｇ、４２％）を得た。【０２６６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９８（２Ｈ，ｓ）、４．７０（１Ｈ，ｓ）、６．７５−７．３（８Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ-）：２０１［Ｍ−Ｈ］-
３）［２−（３−フルオロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
窒素気流下、２−（３−フルオロベンジル）フェノール（２２５ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２．５ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノース（４００ｍｇ、０．７４３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．２７８ｍＬ、１．１１ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、１９２ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を０℃で５時間撹拌後、徐々に室温まで上げながら１４時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（２：５）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（４０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（７６ｍｇ、２８％）を得た。【０２６７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２４．７Ｈｚ，１３．２Ｈｚ）、１．４５−１．６２（１Ｈ，ｍ）、２．０９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ，４Ｈｚ）、３．１６−３．３（２Ｈ，ｍ）、３．４−３．５５（２Ｈ，ｍ）、３．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，３．８Ｈｚ）、３．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ）、４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ）、４．１−４．３（１Ｈ，ｍ）、６．８−６．９５（３Ｈ，ｍ）、７．０−７．０６（２Ｈ，ｍ）、７．０８−７．２７（３Ｈ，ｍ）．
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３６３［Ｍ＋Ｈ］+、３８５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．９分
実施例２０
［２−（３−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）［２−（３−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
Ｕｚｂｅｋｓｋｉｉ  Ｋｈｉｍｉｃｈｅｓｋｉｉ  Ｚｈｕｒｎａｌ（１９８４），（６），３１−４  などに記載の２−（３−メチルベンジル）フェノール（２２８ｍｇ、１．１５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２．５ｍＬ）に窒素気流下、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノース（４１３ｍｇ、０．７４３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．２３３ｍＬ、１．１５ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、１９８ｍｇ、１．１５ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら１５時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（２：５）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（４０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、６時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１０９ｍｇ、４０％）を得た。【０２６８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２４．４Ｈｚ，１２．９Ｈｚ）、１．４５−１．６２（１Ｈ，ｍ）、２．０６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．１，４．０Ｈｚ）、２．２７（３Ｈ，ｓ）、３．１５−３．３０（２Ｈ，ｍ）、３．４２−３．５２（２Ｈ，ｍ）、３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，３．９Ｈｚ）、３．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．１−４．２５（１Ｈ，ｍ）、６．８１−６．８８（１Ｈ，ｍ）、６．９−７．２（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７６［Ｍ＋ＮＨ4］+、３５９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．４分
実施例２１
［５−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−ベンジルオキシ−１−ブロモ−４−フルオロベンゼンの合成
２−ブロモ−５−フルオロフェノール（３．０ｇ，１５．７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（１５．７ｍＬ）に、炭酸カリウム（２．６１ｇ，１８．８ｍｍｏｌ）を加えて、窒素気流下、室温で１５分間攪拌した。この溶液に、同温にてベンジルブロミド（２．６９ｇ，１５．７ｍｍｏｌ）を滴下し、同温で一晩攪拌した。硫酸水素カリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−ヘキサン）にて精製し、無色油状の標題化合物（４．３１ｇ、９８％）を得た。【０２６９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：５．１４（２Ｈ，ｓ）、６．５６−６．７２（２Ｈ，ｍ）、７．３１−７．５２（６Ｈ，ｍ）
２）（２−ベンジルオキシ−４−フルオロフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、２−ベンジルオキシ−１−ブロモ−４−フルオロベンゼン（１．４ｇ，５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５９Ｍ，３．１４ｍＬ）を滴下し、同温で１５分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−メトキシベンズアルデヒド（６８０ｍｇ，４．９９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）を滴下した。同温で１．５時間攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−ヘキサン：ジクロロメタン：アセトン（１２：３：１））にて精製し、無色油状の標題化合物（１．４１ｇ、８３％）を得た。【０２７０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、４．９９（２Ｈ，ｓ）、６．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ）、６．６２−６．７０（２Ｈ，ｍ）、６．８１−６．８６（２Ｈ，ｍ）、７．１９−７．３８（８Ｈ，ｍ）
３）２−（４−メトキシベンジル）−５−フルオロフェノールの合成
（２−ベンジルオキシ−４-フルオロフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノール（２．０９５ｇ、６．１９ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（２００ｍｇ）を加え、さらに２N−ＨＣl（０．３ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１６時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（４８９ｍｇ、３４％）を得た。【０２７１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８９（２Ｈ，ｓ）、４．８８（１Ｈ，ｓ）、６．５０−６．４０（２Ｈ，ｍ）、６．８０−６．８８（２Ｈ，ｍ）、７．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，８．２Ｈｚ）、７．０８−７．１５（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ-）：２３１［Ｍ−Ｈ］-
４）［５−フルオロ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メトキシベンジル）−５−フルオロフェノール（３２３ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２．５ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９２８ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３４６ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２４０ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら１７時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（２：５）の混合溶液（７ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（４０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２２時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（５９ｍｇ、１６％）を得た。【０２７２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２４．４，１２．９Ｈｚ）、１．５−１．６５（１Ｈ，ｍ）、２．０４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．４，４．１Ｈｚ）、３．１７−３．３５（２Ｈ，ｍ）、３．４３−３．５５（２Ｈ，ｍ）、３．６５−３．７５（１Ｈ，ｍ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ）、３．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ）、４．１−４．２２（１Ｈ，ｍ）、６．５６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．５，２．７Ｈｚ）、６．７５−６．８８（３Ｈ，ｍ）、７．０−７．１３（３Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．０分
実施例２２
［２−（４−メチルスルホニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−メチルスルファニルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、２−ベンジルオキシベンズアルデヒド（２．６０ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２４ｍＬ）に４−メチルスルファニルフェニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（０．５M、３５ｍＬ）を０℃で滴下した。室温で２時間攪拌後、氷冷下で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（３．９１ｇ、９５％）を得た。【０２７３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．４７（３Ｈ，ｓ）、２．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）、５．０３（２Ｈ，ｓ）、６．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、６．９０−７．００（２Ｈ，ｍ）、７．１５−７．３５（１１Ｈ，ｍ）
２）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−メタンスルホニルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−メチルスルファニルフェニル）メタノール（３．００ｇ，８．９２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（２５ｍＬ）に０℃にてメタ−クロロ過安息香酸（４．４０ｇ，２２．２ｍｍｏｌ）を加え、同温で３０分間攪拌した。濾過により沈殿物を除去した後、濾液を２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液にて洗浄した。洗浄液を塩化メチレンにて抽出し、合わせた有機層を水および飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去し標題化合物（３．１８ｇ、９７％）を得た。【０２７４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．０２（３Ｈ，ｓ）、３．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、５．００（１Ｈ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ）、５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）、６．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、６．９５−７．０３（２Ｈ，ｍ）、７．１６−７．２２（２Ｈ，ｍ）、７．２４−７．３８（５Ｈ，ｍ）、７．５３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
３）２−（４−メタンスルホニルベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−メタンスルホニルフェニル）メタノール（３．００ｇ，８．１４ｍｍｏｌ）のメタノール（３０ｍＬ）−酢酸エチル（３０ｍＬ）混合溶液に２０％水酸化パラジウム触媒（２９９ｍｇ）および３６％ＨＣｌ（１５０μＬ，１．７８ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下、６時間攪拌した。炭酸水素ナトリウムを加え３０分間攪拌して中和した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：２））にて精製し、標題化合物（１．８１ｇ、８５％）を得た。【０２７５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．０２（３Ｈ，ｓ）、４．０６（２Ｈ，ｓ）、５．００（１Ｈ，ｓ）、６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ）、７．０８−７．１７（２Ｈ，ｍ）、７．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
４）［２−（４−メタンスルホニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メタンスルホニルベンジル）フェノール（３６５ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン（２ｍＬ）−ＴＨＦ（１ｍＬ）混合溶液に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９２８ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２４２ｍｇ、１．４１ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２５時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４→１：２））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール（３ｍＬ）−ＴＨＦ（２ｍＬ）混合溶媒に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（２７．２ｍｇ）および１滴の２Ｎ塩酸を加え、水素雰囲気下、２．５時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中和した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（８：１））にて精製し、標題化合物（１２０ｍｇ、３１％）を得た。【０２７６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１３．０，１３．０，１３．０Ｈｚ）、１．５３（１Ｈ，ｍ）、２．０３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１３．０，４．０，４．０Ｈｚ）、３．０７（３Ｈ，ｓ）、３．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，８．９Ｈｚ）、３．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，９．０Ｈｚ）、３．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，９．０Ｈｚ）、３．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，６．１Ｈｚ）、３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．０Ｈｚ）、４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ）、４．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ）、４．１４−４．２６（１Ｈ，ｍ）、６．８８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４２３［Ｍ＋Ｈ］+，４４０［Ｍ＋ＮＨ4］+，４４５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：９．０分
実施例２３
［２−（４−フルオロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−（４−フルオロベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．０４ｇ，７．７５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（６０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５９Ｍ，４．９ｍＬ）を滴下し、同温で２０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−フルオロベンズアルデヒド（８０１ｍｇ，６．４５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）を滴下した。同温で１．５時間攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去し、標題化合物の粗生成物（２．３５ｇ）を得た。得られた粗生成物のメタノール溶液（１５ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１８６ｍｇ）を加え、さらに２Ｎ−ＨＣｌ（４００μＬ）を加えた。水素雰囲気下、３時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（９９６ｍｇ、７７％）を得た。【０２７７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９５（２Ｈ，ｓ）、４．７２（１Ｈ，ｓ）、７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．１Ｈｚ）、６．８８（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．５，１．１Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，８．７Ｈｚ）、７．０６−７．２０（４Ｈ，ｍ）
２）［２−（４−フルオロベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−フルオロベンジル）フェノール（２８４ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９２８ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．４０ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２４１ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２１時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：８→１：３））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール（４ｍＬ）−ＴＨＦ（２ｍＬ）混合溶媒に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（１８．４ｍｇ）および１滴の２Ｎ塩酸を加え、水素雰囲気下、１．５時間攪拌した。飽和重曹水を加え中和し、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１→８：１））にて精製し、標題化合物（１５３ｍｇ、４６％）を得た。【０２７８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１２．９，１２．９，１２．９Ｈｚ）、１．５５（１Ｈ，ｍ）、２．０８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１３．２，３．９，３．９Ｈｚ）、３．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，９．０Ｈｚ）、３．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，９．０Ｈｚ）、３．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，８．７Ｈｚ）、３．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８，６．０Ｈｚ）、３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８，４．２Ｈｚ）、３．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、４．２０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１１．４，９．０，４．８Ｈｚ）、６．８５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，８．９Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．０６−７．２３（４Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３６３［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．９分
実施例２４
［２−（３，４−ジメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−（３，４−ジメトキシベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（１．７４ｇ，６．６１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５９Ｍ，４．４ｍＬ）を滴下し、同温で１時間攪拌した。この溶液に−７８℃下、３，４−ジメトキシベンズアルデヒド（１．００ｇ，６．０２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（８ｍＬ）を滴下した。同温で１．５時間攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去し、粗生成物（２．３８ｇ）を得た。この粗生成物をメタノール（２０ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（１９６ｍｇ）を加え、さらに２Ｎ−ＨＣｌ（３０μｌ）を加えた。水素雰囲気下、２３時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（６５３ｍｇ、４４％）を得た。【０２７９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、３．９４（２Ｈ，ｓ）、４．７３（１Ｈ，ｓ）、６．７４−６．８２（２Ｈ，ｍ）、６．７８（１Ｈ，ｓ）、６．８９（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．５，１．１Ｈｚ）、７．０８−７．１７（２Ｈ，ｍ）
２）［２−（３，４−ジメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（３，４−ジメトキシベンジル）フェノール（３４２ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（２．５ｍＬ）−ＴＨＦ（１．０ｍＬ）混合溶液に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５０４ｍｇ、０．９３６ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．４０ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２４２ｍｇ、１．４１ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２２時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール（２ｍＬ）−ＴＨＦ（２ｍＬ）混合溶媒に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（２１．９ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１０８ｍｇ、３８％）を得た。【０２８０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．０１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１３．１，１３．１，１１．６Ｈｚ）、１．５５（１Ｈ，ｍ）、２．０８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１３．３，３．８，３．８Ｈｚ）、３．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，９．２Ｈｚ）、３．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，８．９Ｈｚ）、３．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，９．２Ｈｚ）、３．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，６．３Ｈｚ）、３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．１Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、３．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．１９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１１．５，９．０，４．６Ｈｚ）、６．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３，２．０Ｈｚ）、６．８１（１Ｈ，ｓ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、６．８４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．５Ｈｚ）、７．１４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．２，１．７Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０５［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：９．７分
実施例２５
［２−（４−エチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）［２−（４−エチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
国際公開第ＷＯ０４／０５２９０２あるいはＷＯ０１／０７４８３４などに記載の２−（４−エチルベンジル）フェノール（２３６ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２．５ｍＬ）に窒素気流下、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（４００ｍｇ、０．７４ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．２８ｍＬ、１．１１ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、１９１ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２５時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：２）の混合溶液（４ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（２０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、１時間半攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をＴＬＣ（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（４０ｍｇ、１４％）を得た。【０２８１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８６−１．００（１Ｈ，ｍ）、１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．４５−１．６２（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．１１（１Ｈ，ｍ）、２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．１６−３．３０（２Ｈ，ｍ）、３．４３−３．４９（２Ｈ，ｍ）、３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．６，４．１Ｈｚ）、３．８４−４．０２（２Ｈ，ｍ）、４．１２−４．２４（１Ｈ，ｍ）、６．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、６．９９−７．１６（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．３分
実施例２６
［２−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）［２−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素雰囲気下、実施例１で得た［２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（１００ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１．３ｍＬ）に、−７８℃にて三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液（１．０Ｍ、０．８０ｍＬ、０．８０ｍｍｏｌ）を加えた後、冷却浴を取り除き、室温にて１時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をＨＰＬＣ（展開液＝メタノール：２０ｍＭ酢酸アンモニウム水溶液）にて精製し、標題化合物（４５ｍｇ、４７％）を得た。【０２８２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９２−１．０６（１Ｈ，ｍ）、１．４７−１．６７（１Ｈ，ｍ）、２．０３−２．１１（１Ｈ，ｍ）、３．１８−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．５２（２Ｈ，ｍ）、３．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．１Ｈｚ）、３．７９−３．９５（２Ｈ，ｍ）、４．１２−４．２２（１Ｈ，ｍ）、６．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、６．９９−７．１６（５Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３６１［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：８．９分
実施例２７
［２−（４−シアノベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）［２−（４−シアノベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−シアノベンジル）フェノール（２９１ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン（２ｍＬ）−ＴＨＦ（１ｍＬ）混合液に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら１４時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））および分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３））にて処理し、粗生成物（１３０ｍｇ）を得た。得られた粗生成物（５５ｍｇ）を塩化メチレン（０．５０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ジメチルスルフィド（０．１９ｍＬ、４．４ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．０９５ｍＬ，０．７５ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温にて、５時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をＴＬＣ（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１７．５ｍｇ、１２％）を得た。【０２８３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８３−０．９６（１Ｈ，ｍ）、１．４４−１．６０（１Ｈ，ｍ）、１．９９−２．０７（１Ｈ，ｍ）、３．１４−３．３２（２Ｈ、ｍ）、３．３８−３．５０（２Ｈ，ｍ）、３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．０Ｈｚ）、３．９３−４．１３（２Ｈ，ｍ）、４．１５−４．２２（１Ｈ，ｍ）、６．８５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．１１−７．１８（２Ｈ，ｍ）、７．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９２［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．２分
実施例２８
［２−（３−トリフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−（３−トリフルオロメトキシベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．５ｇ，９．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（９５ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，４．３ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、３−トリフルオロメトキシベンズアルデヒド（１．５ｇ，７．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３２ｍＬ）を滴下した。同温で２時間攪拌後、さらに０℃で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール（２０ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（２００ｍｇ）、２N−ＨＣl（０．１８７ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１３時間攪拌した。反応液に炭酸カリウム（８５０ｍｇ）を加え、室温にて３０分攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（１．４０ｇ、９９％）を得た。【０２８４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９９（２Ｈ，ｓ）、４．７１（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）、６．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、６．９２−６．８６（１Ｈ，ｍ）、７．０２−７．１５（５Ｈ，ｍ）、７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）
２）［２−（３−トリフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（３−トリフルオロメトキシベンジル）フェノール（３７３ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：２）の混合溶液（１０ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（１００ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、１３時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をＴＬＣ（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１０４ｍｇ、２６％）を得た。【０２８５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８６−１．００（１Ｈ，ｍ）、１．４５−１．６０（１Ｈ，ｍ）、２．０１−２．０９（１Ｈ，ｍ）、３．１５−３．３１（２Ｈ，ｍ）、３．４１−３．４８（２Ｈ，ｍ）、３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．１Ｈｚ）、３．８８−４．１１（２Ｈ，ｍ）、４．１３−４．９５（１Ｈ，ｍ）、６．８２−６．８７（１Ｈ，ｍ）、７．００−７．３０（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４２９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．４分
実施例２９
［２−（４−アミノメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド酢酸塩
１）［２−（４−アミノメチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド酢酸塩の合成
実施例２７で得られた［２−（４−シアノベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの粗生成物（６３ｍｇ）をメタノール−ＴＨＦ（１：２）の混合溶液（１ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（１０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２３時間攪拌した後、触媒をろ過、溶媒を減圧下留去し、［２−（４−アミノメチルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの粗生成物を得た。この粗生成物を塩化メチレン（０．５５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ジメチルスルフィド（０．２２ｍＬ，５．１ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．１１ｍＬ，０．８６ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２２時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をＨＰＬＣ（展開液＝メタノール：２０ｍＭ酢酸アンモニウム水溶液）にて精製し、標題化合物（１９ｍｇ）を得た。【０２８６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ： ０．８５−０．９９（１Ｈ，ｍ）、１．４２−１．５８（１Ｈ，ｍ）、１．８８（３Ｈ，ｓ）、１．９３−２．０１（１Ｈ，ｍ）、３．１４−３．６７（５Ｈ，ｍ）、３．８７−４．０７（２Ｈ，ｍ）、４．０１（２Ｈ，ｓ）、４．１１−４．２０（１Ｈ，ｍ）、６．７９−６．８５（１Ｈ，ｍ）、６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．１Ｈ）、７．０１−７．１６（２Ｈ，ｍ）、７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７４［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：７．３分
実施例３０ 
［５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）［５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
国際公開ＷＯ０４／０５８６８２あるいはＷＯ０２／０６４６０６あるいはＷＯ０２／０４４１９２などに記載の５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェノール（３４０ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に窒素気流下、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら１７時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：２）の混合溶液（５ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（５０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、３時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をＴＬＣ（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１１９ｍｇ、３２％）を得た。【０２８７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８４−０．９８（１Ｈ，ｍ）、１．４４−１．６０（１Ｈ，ｍ）１．９８−２．０６（１Ｈ，ｍ）、３．１３−３．４７（５Ｈ，ｍ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．７１−３．８８（２Ｈ，ｍ）、４．０６−４．１６（１Ｈ，ｍ）、６．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．２Ｈｚ）、６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、６．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０５［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．７分
実施例３１
［２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）４−［（２−ベンジルオキシフェニル）ヒドロキシメチル］安息香酸メチルエステルの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（７．８４ｇ，２９．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３００ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．７１Ｍ，１２．１ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−メトキシカルボニルベンズアルデヒド（４．７８ｇ，２９．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（４．１５ｇ、４１％）を得た。【０２８８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、５．０２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１１．４Ｈｚ）、６．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、６．９４−７．００（２Ｈ，ｍ）、７．１８−７．４２（９Ｈ，ｍ）、７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
２）４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチルエステルの合成
窒素気流下、４−［（２−ベンジルオキシフェニル）−ヒドロキシメチル］安息香酸メチルエステル（４．１５ｇ，１１．９ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（２２．７ｍＬ）に−４０℃にてトリエチルシラン（２．２７ｍＬ，１３．５ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（１．５２ｍＬ，１１．８８ｍｍｏｌ）を加え、同温で１．５時間攪拌した。さらに０℃で３０分攪拌後、水を加え塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（２．３９ｇ、６２％）を得た。【０２８９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．８９（３Ｈ，ｓ）、４．０５（２Ｈ，ｓ）、５．０２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）、６．９２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．１２−７．３６（９Ｈ，ｍ）、７．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３３３［Ｍ＋Ｈ］+
３）４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチルエステルの合成
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチルエステル（２．３９ｇ、７．１９ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（７０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（２３９ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下、５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し標題化合物（１．１６ｇ、９６％）を得た。【０２９０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．８９（３Ｈ，ｓ）、４．０４（２Ｈ，ｓ）、４．７６（１Ｈ，ｓ）、６．７７（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．１３（２Ｈ，ｍ）、７．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：２４３［Ｍ＋Ｈ］+
４）［２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチルエステル（７４１．４ｍｇ、３．０６ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（６．９ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（１．１０ｇ、２．０４ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．７７ｍＬ、３．０６ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、５２６．５ｍｇ、３．０６ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、表題化合物（４２９．０ｍｇ、２８％）を得た。【０２９１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．４０（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１２．０，１２．０Ｈｚ）、１．６５−１．７４（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．０９（１Ｈ，ｍ）、３．４３−３．５９（２Ｈ，ｍ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、４．００（２Ｈ，ｓ）、４．３２−３．９２（８Ｈ，ｍ）、６．９１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０４−７．３２（２５Ｈ，ｍ），７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
５）［２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
［２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（３８．１ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）をメタノール−ＴＨＦ（２：１）の混合溶液（１．５ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（５ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１２．９ｍｇ、６５％）を得た。【０２９２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８９−１．００（１Ｈ，ｍ）、１．４７−１．６２（１Ｈ，ｍ）、２．０３−２．０９（１Ｈ，ｍ）、３．１６−３．２３（２Ｈ，ｍ）、３．４２−３．４９（２Ｈ，ｍ）、３．５１−３．８７（１Ｈ，ｍ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、４．００−４．１７（２Ｈ，ｍ）、４．１９−４．２３（１Ｈ，ｍ）、６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．１２−７．２０（２Ｈ，ｍ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０３［Ｍ＋Ｎａ］+
実施例３２
［２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）［２−（４−カルボキシベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素雰囲気下、［２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（１００．０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）のエタノール−ＴＨＦ（４：１）溶液（１．５ｍＬ）に室温にて、５Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（０．１５ｍＬ）を加え、２２時間攪拌した。その後氷冷下、５Ｎ−塩酸水溶液を加え中和した。塩化メチレンで抽出、乾燥（硫酸ナトリウム）し、減圧濃縮し表題化合物（９１．３ｍｇ、９４％）を得た。【０２９３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４２（１Ｈ，ｄｄｄ、Ｊ＝１２．４，１２．４，１２．４Ｈｚ）、１．５５−１．６７（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．０４（１Ｈ，ｍ）、３．４１−３．６１（２Ｈ，ｍ）、４．０２（２Ｈ，ｓ）、４．３５−３．９２（８Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．０５−７．３２（２５Ｈ，ｍ），７．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：７４９［Ｍ＋Ｈ］+
２）［２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素雰囲気下、［２−（４−ヒドロキシカルボニルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（４５．０ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．２ｍＬ）溶液に室温にて、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール  １水和物（９．０ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ）,１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１２．０ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した後、氷冷下アンモニア水（０．５ｍＬ）を加え、２７時間攪拌した。減圧下濃縮し、分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン＝１：１０）にて精製し、表題化合物（３９．１ｍｇ、８９％）を得た。【０２９４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３１−１．４９（１Ｈ，ｍ）、１．６２−１．７６（１Ｈ，ｍ）、１．９６−２．０８（１Ｈ，ｍ）、３．３９−３．６６（２Ｈ，ｍ）、４．０２（２Ｈ，ｓ）、４．３３−４．９６（８Ｈ，ｍ）、６．８８−６．９７（１Ｈ，ｍ）、７．０４−７．３９（２５Ｈ，ｍ），７．５４−７．６１（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：７４８［Ｍ＋Ｈ］+
３）［２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
［２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（３９．１ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）のメタノール−ＴＨＦ（２：１）溶液（３ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（５ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：５））にて精製し、標題化合物（１９．２ｇ、９９％）を得た。【０２９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，１１．７Ｈｚ）、１．４８−１．６２（１Ｈ，ｍ）、１．９６−２．０８（１Ｈ，ｍ）、３．１６−３．３３（４Ｈ，ｍ）、３．４２−３．５９（２Ｈ，ｍ）、３．６５−３．７３（１Ｈ，ｍ）、３．９３−４．２６（３Ｈ，ｍ）、６．８７（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．０２−７．２１（３Ｈ，ｍ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８８［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：８．０分
実施例３３
［２−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）［２−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素雰囲気下、実施例３２で得た［２−（４−カルボキシベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（４５．０ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．２ｍＬ）溶液に室温にて、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール  １水和物（９．０ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ），１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１２．０ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した後、氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン水溶液（０．５ｍＬ）を加え、２７時間攪拌させた。減圧下濃縮し、分取ＴＬＣ（メタノール：塩化メチレン＝１：１０）にて精製し、表題化合物（４４．１ｍｇ、９６％）を得た。【０２９６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４２−１．５２（１Ｈ，ｍ）、１．６６−１．７８（１Ｈ，ｍ）、２．０５−２．１４（１Ｈ，ｍ）、２．８３（３Ｈ，ｓ）、３．０４（３Ｈ，ｓ）、３．４４−３．６８（５Ｈ，ｍ）、３．９９（２Ｈ，ｓ）、４．３５−４．５３（１Ｈ，ｍ）、４．６８（２Ｈ，ｓ）、４．８３−４．９４（３Ｈ，ｍ）、６．９１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．０４−７．３６（２７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：７７６［Ｍ＋Ｈ］+
２）［２−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
［２−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルベンジル）フェニル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（４４．１ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）のメタノール−ＴＨＦ（２：１）溶液（３ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（５ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：５））にて精製し、標題化合物（２０．１ｍｇ、８７％）を得た。【０２９７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８６−１．００（１Ｈ，ｍ）、１．４５−１．５８（１Ｈ，ｍ）、１．９８−２．０６（１Ｈ，ｍ）、２．９５（３Ｈ，ｓ）、３．０３（３Ｈ，ｓ）、３．１３−３．４９（５Ｈ，ｍ）、３．６２−３．６８（１Ｈ，ｍ）、３．８８−４．２１（３Ｈ，ｍ）、６．９１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、６．９８−７．１５（３Ｈ，ｍ）、７．２６（４Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１６［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：８．９分
実施例３４
［２−（４−エトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−（４−エトキシベンジル）−フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．５ｇ，９．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（９０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．７１Ｍ，３．８ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−エトキシベンズアルデヒド（１．２９ｍＬ，１．８６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）を滴下した。同温で２時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて処理した。得られた粗生成物のメタノール溶液（２６．８ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１４７ｍｇ）を加え、さらに３６％ＨＣｌ（０．４ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（８２８．１ｍｇ、３８％）を得た。【０２９８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３９（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．９３（２Ｈ，ｓ）、３．９９（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７．０Ｈｚ）、６．７７−６．９０（４Ｈ，ｍ）、７．０９−７．１４（４Ｈ，ｍ）
２）［２−（４−エトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−エトキシベンジル）フェノール（３１９．６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３．２ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール（５ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（５６ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１３３．５ｍｇ、３６％）を得た。【０２９９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８９−１．０３（１Ｈ，ｍ）、１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．４８−１．６２（１Ｈ，ｍ）、２．０２−２．１１（１Ｈ，ｍ）、３．１８−３．３３（３Ｈ，ｍ）、３．３５（２Ｈ，ｓ），３．４４−３．５２（２Ｈ，ｍ）、３．６８−３．７４（１Ｈ，ｍ）、３．８１−４．０２（４Ｈ，ｍ）、４．１３−４．２３（１Ｈ，ｍ）、６．７４−６．８７（４Ｈ，ｍ）、６．９９−７．１７（４Ｈ、ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１１［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．４分
実施例３５
［２−（４−ジフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−（４−ジフルオロメトキシベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．５ｇ，９．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（９０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．７１Ｍ，３．８ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−ジフルオロメトキシベンズアルデヒド（１．２３ｍＬ，１．８６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）を滴下した。同温で２時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて処理した。得られた粗生成物のメタノール溶液（２６．８ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１４７ｍｇ）を加え、さらに濃塩酸（０．４ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（１．０３ｇ、４２％）を得た。【０３００】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９７（２Ｈ，ｓ）、６．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７４．４Ｈｚ）６．７７（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８７−６．９１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．０９−７．１５（２Ｈ，ｍ）、７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
２）［２−（４−ジフルオロメトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−ジフルオロメトキシベンジル）フェノール（３５０．０ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３．２ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール（５ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（６９ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（１５３．１ｍｇ、４０％）を得た。【０３０１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８７−１．０１（１Ｈ，ｍ）、１．４８−１．６２（１Ｈ，ｍ）、２．０１−２．１１（１Ｈ，ｍ）、３．１７−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．４３−３．５４（２Ｈ，ｍ）、３．６７−３．７３（１Ｈ，ｍ）、３．９６（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝２２．９，１４．７Ｈｚ）、４．１４−４．２６（１Ｈ，ｍ）、６．７２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７４．５Ｈｚ）、６．８３−７．２５（８Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４３３［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．６分
実施例３６
［２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（３．３ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１２６ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，５．６５ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンズアルデヒド（１．６８ｇ，１０．４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４２ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（２．１７ｇ、６０％）を得た。【０３０２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３２（９Ｈ，ｓ）、２．８６（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）、５．０２（２Ｈ，ｓ）、６．０３（１Ｈ，ｓ）、６．０３−７．００（２Ｈ，ｍ）、７．１３−７．３９（１１Ｈ，ｍ）
２）２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メタノール（２．１７ｇ、６．２６ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２７ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（２１７ｍｇ）を加え、さらに２Ｎ−ＨＣｌ（０．５２ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（１．３ｇ、８６％）を得た。【０３０３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２９（９Ｈ，ｓ）、３．９６（２Ｈ，ｓ）、４．６５（１Ｈ，ｓ）、６．７５−６，９１（２Ｈ，ｍ）、７．０９−７．３２（６Ｈ，ｍ）
３）［２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェノール（３３４ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：１）の混合溶液（１２ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（６０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（５７ｍｇ、１５％）を得た。【０３０４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８９−１．０１（１Ｈ，ｍ）、１．２９（９Ｈ，ｓ）、１．５３−１．５９（１Ｈ，ｍ）、２．０４−２．１１（１Ｈ，ｍ）、３．１９−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．５１（２Ｈ，ｍ）、３．７１（１Ｈ，ｄｄ，１０．８，４．５Ｈｚ）、３．９５（２Ｈ，ｍ）、４．１９（１Ｈ，ｍ）、６．８４（１Ｈ，ｍ）、７．０１−７．１７（５Ｈ，ｍ）、７．２６−７．２８（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０１［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１３．７分
実施例３７
［２−（４−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−ｐ−トリルメタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（３．３ｇ，１２．５４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１２６ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，５．６５ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、４−メチルベンズアルデヒド（１．２８ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４２ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（２．３ｇ、７１％）を得た。【０３０５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．３３（３Ｈ，ｓ）、２．８７（１Ｈ，ｓ）、５．０２（２Ｈ，ｓ）、６．０３（１Ｈ，ｓ）、６．０９−６．９９（２Ｈ，ｍ）、７．０９−７．３４（１１Ｈ，ｍ）
２）２−（４−メチルベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−ｐ−トリルメタノール（１．５ｇ、４．４３ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２７ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１５０ｍｇ）を加え、さらに２N−ＨＣl（０．３７ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（６１７ｍｇ、７０％）を得た。【０３０６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．５５（３Ｈ，ｓ）、３．９５（２Ｈ，ｓ）、４．６５（１Ｈ，ｓ）、６．７５−６，９０（２Ｈ，ｍ）、７．０９−７．２５（６Ｈ，ｍ）
３）［２−（４−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メチルベンジル）フェノール（２７５ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２３９ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応液を徐々に室温まで上げながら２０時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：１）の混合溶液（８ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（４４ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２４時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（２０ｍｇ、６％）を得た。【０３０７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８４−０．９７（１Ｈ，ｍ）、１．４４−２．０３（１Ｈ，ｍ）、１．９６−２．０３（１Ｈ，ｍ）、２．２２（３Ｈ，ｓ）、３．１３−３．３０（２Ｈ，ｍ）、３．３９−３．４６（２Ｈ，ｍ）、３．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８，４．５Ｈｚ）、３．９５（２Ｈ，ｍ）、４．１２（１Ｈ，ｍ）、６．７６−６．８１（１Ｈ，ｍ）、６．９２−７．０３（５Ｈ，ｍ）、７．０６−７．１１（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８１［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．４分
実施例３８
［２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）３−ベンジルオキシ−２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェンの合成
国際公開ＷＯ０４／００７５１７記載の方法により合成した（３−ベンジルオキシ−５−トリフルオロメチルチオフェン−２−イル）−（４−メトキシフェニル）メタノン（２２０．２ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）とトリエチルシラン（１．３４ｍＬ，８．４１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１．１ｍＬ）に窒素気流下、０℃にてトリフルオロ酢酸（３ｍＬ）を５分間かけて滴下した。同温で６時間４５分間撹拌後、トリエチルシラン（０．９ｍＬ，５．６１ｍｍｏｌ）を添加した。同温で１６時間４５分間撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（１０８．８ｍｇ、５１％）を得た。【０３０８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．９６（２Ｈ，ｓ）、５．０４（２Ｈ，ｓ）、６．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，ｓ）、７．３０−７．４１（５Ｈ，ｍ）
２）２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン−３−オールの合成
窒素気流下、（３−ベンジルオキシ−２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン（１７０．５ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（４．５ｍＬ）に−７８℃にて三臭化ホウ素ジメチルスルフィド錯体のジクロロメタン溶液（０．４７ｍＬ，０．４７ｍｍｏｌ）を加え、同温で５分間、０℃にて１１時間攪拌した。反応混合物に水を加え塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（１１７．０ｍｇ、９０％）を得た。【０３０９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．８０（３Ｈ，ｓ）、３．９７（２Ｈ，ｓ）、４．４７（１Ｈ，ｓ）、６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
３）［２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン−３−イル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン−３−オール（１１７ｍｇ，０．４１ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（０．８５ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（１４６ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．１０ｍＬ、０．４１ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、７０ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応混合物を室温にて１８．５時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０〜１：８））にて処理した。得られた生成物を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：８））にて精製し、標題化合物（４７．２ｍｇ）を得た。【０３１０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．５６−１．８０（２Ｈ，ｍ）、１．９６−２．１０（１Ｈ，ｍ）、３．４０−３．７０（５Ｈ，ｍ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．９６（２Ｈ，ｓ）、３．９６−４．１６（１Ｈ，ｍ）、４．４４（２Ｈ，ｓ）、４．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、４．７０−５．００（５Ｈ，ｍ）、６．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．０６−７．３８（２３Ｈ，ｍ）
４）［２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、［２−（４−メトキシベンジル）−５−トリフルオロメチルチオフェン−３−イル］−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（４５．２ｍｇ，０．０５６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（０．５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ジメチルスルフィド（０．１４５ｍＬ，３．３５ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．０７ｍＬ，０．５６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を同温にて５分間、室温にて１９時間撹拌した後、氷冷下で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝ｎ−ヘキサン：アセトン（１：１））にて精製し、標題化合物（１２．２ｍｇ、４９％）を得た。【０３１１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１５−１．３５（１Ｈ，ｍ）、１．４０−１．６５（１Ｈ，ｍ）、１．９５−２．１５（１Ｈ，ｍ）、３．１５−３．３５（２Ｈ，ｍ）、３．３５−３．６０（２Ｈ，ｍ）、３．６５−３．８０（１Ｈ，ｍ）、３．７５（３Ｈ，ｍ）、３．９０−４．０６（１Ｈ，ｍ）、４．０１（２Ｈ，ｍ）、６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．４０（１Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４４８［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．４分
実施例３９
［３−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−ベンジルオキシ−６−メトキシ安息香酸ベンジルエステルの合成
窒素気流下、６−メトキシサリチル酸（５．０７ｇ、３０．１５ｍｍｏｌ）と水素化ナトリウム（６０％ｗ／ｗ、３．０２ｇ、７５．３８ｍｍｏｌ）の混合物を氷冷下撹拌しながら、ＤＭＦ（３０ｍＬ）を加えた。同温で１０分間撹拌後、ベンジルブロミド（８．９５ｍＬ、７５．３８ｍｍｏｌ）を５分間かけて加え、反応混合物を同温で３０分間、室温にて２．５時間撹拌した。氷冷下飽和塩化アンモニウム水溶液および水を加え、エーテルで抽出した。有機層を水および飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄、乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０〜１：５））にて精製し、標題化合物（６．２４ｇ、５９％）を得た。【０３１２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．８１（３Ｈ，ｓ）、５．０８（２Ｈ，ｓ）、５．３５（２Ｈ，ｓ）、６．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）、６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）、７．１５−７．４５（１１Ｈ，ｍ）
２）（２−ベンジルオキシ−６−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、水素化リチウムアルミニウム（０．８８ｇ、２３．１４ｍｍｏｌ）のエーテル懸濁液（３５ｍＬ）に室温で２−ベンジルオキシ−６−メトキシ安息香酸ベンジルエステル（６．２ｇ、１７．８０ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（２０ｍＬ）を１５分間かけて加えた。反応混合物を加熱還流下２時間撹拌した。氷冷下酢酸エチル（２ｍＬ）を滴下後、飽和ロッシェル塩水溶液（２０ｍＬ）を滴下し、混合物を室温で２０分間撹拌した。セライト濾過し、濾液に飽和ロッシェル塩水溶液（１５ｍＬ）を添加し、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝エーテル：ｎ−ヘキサン（１：１））にて精製し、標題化合物（４．７５ｇ、１００％）を得た。【０３１３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、４．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、５．１０（２Ｈ，ｓ）、６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，８．２Ｈｚ）、７．２８−７．４７（５Ｈ，ｍ）
３）（２−ベンジルオキシ−６−メトキシフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシ−６−メトキシフェニル）メタノール（３．５２ｇ、１４．４１ｍｍｏｌ）およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＯ、２．５３ｇ、２１．６１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１４．５ｍＬ）を水浴で冷却し、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムパールテネート（ＴＰＡＰ、１５２ｍｇ、０．４３ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を同温で２０分間、室温で１．７５時間撹拌後、セライト濾過し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３〜１：２．５））にて処理した。得られた化合物をＴＨＦに溶解して水浴で冷却し、窒素気流下４−メトキシフェニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（０．５Ｍ、３０．３ｍＬ）を滴下した。室温で１．２５時間撹拌後、室温で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液にて洗浄、乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４〜１：３．５））にて精製し、標題化合物（３．６６ｇ、７２％）を得た。
【０３１４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、４．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）５．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）、６．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、６．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、６．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．１０−７．４０（８Ｈ，ｍ）
４）３−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシ−６−メトキシフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノール（２．１３ｇ、６．０８ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（０．３２ｇ）を加え、さらに２Ｎ−ＨＣｌ（１．８ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、２４時間撹拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１．３１ｇ、８９％）を得た。【０３１５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．９８（２Ｈ，ｓ）、４．６７（１Ｈ，ｓ）、６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，８．２Ｈｚ）、７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
５）［３−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、３−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェノール（３４３ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン−ＴＨＦ溶液（トルエン２．５ｍＬ、ＴＨＦ０．３ｍＬ）に、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５０４ｍｇ、０．９４ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．４０ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２４２ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応混合物を氷冷下１．２５時間、室温で２２時間撹拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０〜１：５））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：４）の混合溶液（１０ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（９４ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、５時間撹拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１５：１〜１０：１））にて精製し、標題化合物（１２１ｍｇ、３２％）を得た。【０３１６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８５−１．０５（１Ｈ，ｍ）、１．４０−１．６５（１Ｈ，ｍ）、１．９５−２．１５（１Ｈ，ｍ）、３．１０−３．３０（２Ｈ，ｍ）、３．４０−３．５５（２Ｈ，ｍ）、３．６０−３．７５（１Ｈ，ｍ）、３．７１（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．９２（２Ｈ，ｓ）、４．０５−４．２５（１Ｈ，ｍ）、６．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．６５−６．７５（３Ｈ，ｍ）、７．０５−７．１５（３Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０５［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．６分
実施例４０
［２−（４−メトキシベンジル）−３−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシ−６−メチルフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、水素化リチウムアルミニウム（０．８２ｇ、２１．５０ｍｍｏｌ）のエーテル懸濁液（３０ｍＬ）に室温で２−ベンジルオキシ−６−メチル安息香酸エチルエステル（４．４７ｇ、１６．５４ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（１５ｍＬ）を１０分間かけて加えた。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した。氷冷下酢酸エチル（２ｍＬ）を滴下後、飽和ロッシェル塩水溶液（２０ｍＬ）を滴下し、混合物を室温で１時間撹拌した。セライト濾過し、濾液に飽和ロッシェル塩水溶液（１０ｍＬ）を添加し、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（３．８４ｇ、１００％）を得た。【０３１７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、２．４０（３Ｈ，ｓ）、４．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、５．１１（２Ｈ，ｓ）、６．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．２５−７．５０（５Ｈ，ｍ）
２）２−ベンジルオキシ−６−メチルベンズアルデヒドの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシ−６−メチルフェニル）メタノール（３．４６ｇ、１５．１６ｍｍｏｌ）およびＮ−メチルモルホリンＮ−オキシド（ＮＭＯ、２．６６ｇ、２２．７３ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１０ｍＬ）を水浴で冷却し、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムパールテネート（ＴＰＡＰ、１５２ｍｇ、０．４３ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を同温で１．７５時間撹拌後、セライト濾過し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（３．０８ｇ、９０％）を得た。【０３１８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．５９（３Ｈ，ｓ）、５．１６（２Ｈ，ｓ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．２５−７．５０（６Ｈ，ｍ）、１０．７３（１Ｈ，ｓ）
３）（２−ベンジルオキシ−６−メチルフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、２−ベンジルオキシ−６−メチルベンズアルデヒド（３．０８ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）を水浴で冷却し、４−メトキシフェニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（０．５Ｍ、３０．３ｍＬ）を滴下した。室温で１．７５時間撹拌後、氷冷下で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液にて洗浄、乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：６〜１：５））にて精製し、標題化合物（４．５７ｇ、１００％）を得た。
【０３１９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．３８（３Ｈ，ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、４．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ）、４．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）、５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）、６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ）、６．７５−６．９０（４Ｈ，ｍ）、６．９０−７．０５（２Ｈ，ｍ）、７．１０−７．３５（６Ｈ，ｍ）
４）２−（４−メトキシベンジル）−３−メチルフェノールの合成
（２−ベンジルオキシ−６−メチルフェニル）−（４−メトキシフェニル）メタノール（２．３９ｇ、７．１５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（０．３６ｇ）を加え、さらに３６％ＨＣl（０．３６ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１１時間撹拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（１．４０ｇ、８６％）を得た。【０３２０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．２８（３Ｈ，ｓ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．９９（２Ｈ，ｓ）、４．６１（１Ｈ，ｓ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．７０−６．８５（３Ｈ，ｍ）、６．９５−７．１５（３Ｈ，ｍ）
５）［２−（４−メトキシベンジル）−３−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−メトキシベンジル）−３−メチルフェノール（３１８ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン−ＴＨＦ溶液（トルエン１ｍＬ、ＴＨＦ０．１ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２４２ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応混合物を氷冷下１０分間、室温で２３時間撹拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：７〜１：６））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：３）の混合溶液（４ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（６６ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、６．５時間撹拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（５５ｍｇ、１５％）を得た。【０３２１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８５−１．０５（１Ｈ，ｍ）、１．４５−１．６５（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．１５（１Ｈ，ｍ）、２．２１（３Ｈ，ｓ）、３．１５−３．３０（２Ｈ，ｍ）、３．４０−３．５５（２Ｈ，ｍ）、３．６５−３．７５（１Ｈ，ｍ）、３．７２（３Ｈ，ｓ）、３．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ）、４．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ）、４．０５−４．２０（１Ｈ，ｍ）、６．７０−６．８０（３Ｈ，ｍ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．９５−７．１０（３Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１１［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．２分
実施例４１
［２−（３−フルオロ−４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノシド
１）（２−ベンジルオキシフェニル）−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）メタノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（２．５ｇ，９．５０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）に−７８℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５４Ｍ，６．７９ｍＬ）を滴下し、同温で３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃下、３−フルオロ−４−メトキシベンズアルデヒド（１．３２ｇ，８．５６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（８ｍＬ）を滴下した。同温で１時間攪拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（２．７９ｇ、９６％）を得た。【０３２２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、５．０３（２Ｈ，ｓ）、５．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、６．８５−７．１０（５Ｈ，ｍ）、７．２１−７．３５（７Ｈ，ｍ）
２）２−（３−フルオロ−４−メトキシベンジル）フェノールの合成
（２−ベンジルオキシフェニル）−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）メタノール（１．５０ｇ、４．４３ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２９ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（１５０ｍｇ）を加え、さらに２N−ＨＣl（２ｍＬ）を加えた。水素雰囲気下、１５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（０．９５ｇ、９２％）を得た。【０３２３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．８５（３Ｈ，ｓ）、３．９１（２Ｈ，ｓ）、４．６９（１Ｈ，ｂｒ  ｓ）、６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，８．０Ｈｚ）、６．８４−６．９７（４Ｈ，ｍ）、７．０９−７．１６（２Ｈ，ｍ）
３）［２−（３−フルオロ−４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（３−フルオロ−４−メトキシベンジル）フェノール（３２３ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−５ａ−カルバ−α−Ｄ−グルコピラノース（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（０．３５ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ、２４２ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）を同温で加えた。反応混合物を徐々に室温まで上げながら４０．５時間撹拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：６））にて処理した。得られた粗生成物をメタノール−ＴＨＦ（１：２）の混合溶液（６ｍＬ）に溶解し、２０％水酸化パラジウム触媒（６５ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、２時間撹拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（７８ｍｇ、２１％）を得た。【０３２４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８５−１．０５（１Ｈ，ｍ）、１．４０−１．６５（１Ｈ，ｍ）、１．９５−２．１５（１Ｈ，ｍ）、３．３５−３．６０（２Ｈ，ｍ）、３．６０−４．００（３Ｈ，ｍ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、４．０５−４．２５（１Ｈ，ｍ），６．７０−７．２０（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９２［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．７分
実施例４２
［４−（４−シクロプロピル−ベンジル）ピリジン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）３−（２−トリメチルシリルエトキシメトキシ）ピリジンの合成
水素化ナトリウム（３．８５ｇ、９６．３ｍｍｏｌ）をヘキサンで洗浄し、ジメトキシエタン（９０ｍＬ）を加えた。３−ヒドロキシピリジン（４．９７ｇ、５２．３ｍｍｏｌ）を氷冷下１０分間かけて加えた。１０分間攪拌した後、２−（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド（１０．０ｍＬ、５６．５ｍｍｏｌ）を氷冷下で２５分間かけて加えた。室温で１４．５時間攪拌した後、氷冷下で反応液に水を加えエーテルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開液＝へキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、標題化合物（１０．８ｇ、９２％）を得た。【０３２５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．００（９Ｈ，ｓ）、０．９３−０．９８（２Ｈ，ｍ）、３．７３−３．７９（２Ｈ，ｍ）、５．２４（２Ｈ，ｓ）、７．１８−７．２３（１Ｈ，ｍ）、７．３４−７．３８（１Ｈ，ｍ）、８．２５（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝４．７，１．４Ｈｚ）、８．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０，０．６Ｈｚ）
２）（４−シクロプロピルフェニル）−［３−（２−トリメチルシリルエトキシメトキシ）ピリジン−４−イル］メタノールの合成
窒素気流下、３−（２−トリメチルシリルエトキシメトキシ）ピリジン（１．７７ｇ、７．８５ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ溶液（３１ｍＬ）に、−７０℃でｔ−ブチルリチウムのｎ−ペンタン溶液（１．４７Ｍ、６．２０ｍＬ）を２５分かけて滴下した。−７０℃で１時間攪拌した後に４−シクロプロピルベンズアルデヒド（１．４９ｇ、１０．１９ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（１０ｍＬ）を２５分かけて滴下した。−７０℃で２時間および室温で２時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−へキサン：酢酸エチル（２：１））にて精製し、標題化合物（２．１７ｇ、７４％）を得た。【０３２６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：−０．０４（９Ｈ，ｓ）、０．６１−０．６６（２Ｈ，ｍ）、０．８４−０．９６（４Ｈ，ｍ）、１．７９−１．９０（１Ｈ，ｍ）、３．４８−３．５９（２Ｈ，ｍ）、５．１３（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝２２．８，６．９Ｈｚ）、６．００（１Ｈ，ｓ）、６．９７−６．９９（２Ｈ，ｍ）、７．２０−７．２３（２Ｈ，ｍ）、７．４８（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝４．９Ｈｚ）、８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）、８．２７（１Ｈ，ｓ）
３）（４−シクロプロピルフェニル）−［３−（２−トリメチルシリルエトキシメトキシ）−ピリジン−４−イル］メタノンの合成
窒素気流下、（４−シクロプロピルフェニル）−［３−（２−トリメチルシリルエトキシメトキシ）ピリジン−４−イル］メタノール（２．１７ｇ，５．８４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（３１ｍＬ）に、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ  Ｐｅｒｉｏｄｉｎａｎｅ（２．７１ｇ，６．３９ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１．５時間攪拌した。さらに、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ  Ｐｅｒｉｏｄｉｎａｎｅ（０．２７ｇ，０．６４ｍｍｏｌ）を加え、１．５時間攪拌した。不溶物をろ過し、そのろ液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１））にて精製し、標題化合物（１．９６ｇ、９１％）を得た。【０３２７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：−０．０４（９Ｈ，ｓ）、０．７６−０．９０（４Ｈ，ｍ）、１．０５−１．１２（２Ｈ，ｍ）、１．９２−１．９８（１Ｈ，ｍ）、３．５６−３．６２（２Ｈ，ｍ）、５．１７（２Ｈ，ｓ）、７．０９−７．１３（２Ｈ，ｍ）、７．１９−７．２１（１Ｈ，ｍ）、７．６７−７．７１（２Ｈ，ｍ）、８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６７Ｈｚ）、８．６５（１Ｈ，ｓ）
４）（４−シクロプロピルフェニル）−（３−ヒドロキシピリジン−４−イル）メタノンの合成
（４−シクロプロピルフェニル）−［３−（２−トリメチルシリルエトキシメトキシ）ピリジン−４−イル］メタノン（１．９６ｇ、５．３０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４９ｍＬ）にｐ−トルエンスルホン酸１水化物（３．０３ｇ、１５．９ｍｍｏｌ）を加え、６５℃で１時間攪拌した。室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、エーテルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−へキサン：酢酸エチル（２：３））にて精製し、標題化合物（１．１０ｇ、８７％）を得た。【０３２８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８０−０．８６（２Ｈ，ｍ）、１．０９−１．１６（２Ｈ，ｍ）、１．９７−２．０３（１Ｈ，ｍ）、７．１８−７．２２（２Ｈ，ｍ）、７．４２（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝５．２，０．６Ｈｚ）、７．６３−７．６８（２Ｈ，ｍ）、８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、８．５９（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝０．６Ｈｚ）、１１．１５（１Ｈ，ｓ）
５）（４−シクロプロピルフェニル）−［３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）ピリジン−４−イル］メタノンの合成
窒素気流下、（４−シクロプロピルフェニル）−（３−ヒドロキシピリジン−４−イル）メタノン（０．１８ｇ、０．７４ｍｍｏｌ）、（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキサノ−ル（０．２０ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（０．１９ｇ、０．７４ｍｍｏｌ）およびトルエン（１．３ｍＬ）の混合物に、氷冷下、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート（０．１４ｍＬ、０．７２ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。室温で３時間攪拌した後に、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−へキサン：酢酸エチル（２：３））にて精製し、標題化合物（０．２０ｇ、７１％）を得た。【０３２９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７−０．７３（２Ｈ，ｍ）、１．００−１．０６（２Ｈ，ｍ）、１．３９−１．４７（１Ｈ，ｍ）、１．８１−１．８８（１Ｈ，ｍ）、２．０９−２．１６（１Ｈ，ｍ）、３．３７−３．５８（５Ｈ，ｍ）、４．３６−４．５１（６Ｈ，ｍ）、４．７６−４．８６（３Ｈ，ｍ）、６．９８−７．０７（４Ｈ，ｍ）、７．１３−７．３５（１９Ｈ，ｍ）、７．６２−７．６６（２Ｈ，ｍ）、８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）、８．５４（１Ｈ，ｓ）
６）（４−シクロプロピルフェニル）−［３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）ピリジン−４−イル］メタノールの合成
（４−シクロプロピルフェニル）−［３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）ピリジン−４−イル］メタノン（０．２０ｇ，０．２６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１．３７ｍＬ）−水（０．６７ｍＬ）溶液に氷冷下にて水素化ホウ素ナトリウム（４０ｍｇ，１．０６ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１４．５時間攪拌した。反応混合物にＴＨＦを加え、氷冷下にて濃塩酸（０．２ｍＬ）を加え１０分間攪拌した。飽和炭酸ナトリウム水溶液を加え、室温にて１０分間攪拌した。酢酸エチルで抽出し、有機層を乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（３：２））にて精製し、標題化合物（０．２０ｇ、１００％）をジアステレオマー混合物として得た。【０３３０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．４７−０．５３（１Ｈ，ｍ），０．５８−０．６３（１Ｈ，ｍ）、０．８０−０．９２（２Ｈ，ｍ）、１．０９−１．２７（２Ｈ，ｍ）、１．６８−１．８４（２Ｈ，ｍ）、３．３２−３．６４（５Ｈ，ｍ）、４．３４−４．５３（４Ｈ，ｍ）、４．７０−４．８８（５Ｈ，ｍ）、５．８４（０．５Ｈ，ｓ）、５．９６（０．５Ｈ，ｓ），６．８５−６．９７（３Ｈ，ｍ）、７．０５−７．３５（２１Ｈ，ｍ）、７．４３−７．４８（１Ｈ，ｍ）、８．２０−８．２４（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：７６２［Ｍ＋Ｈ］+
７）４−［クロロ−（４−シクロプロピルフェニル）メチル］−３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）ピリジンの合成
窒素気流下、（４−シクロプロピルフェニル）−［３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）ピリジン−４−イル］メタノ−ル（０．２０ｇ，０．２６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（３．０ｍＬ）に氷冷下にて塩化チオニル（０．０５ｍＬ，０．６８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで抽出し、有機層を乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１））にて精製し、標題化合物（０．２０ｇ、１００％）をジアステレオマー混合物として得た。【０３３１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．５１−０．５３（１Ｈ，ｍ），０．６１−０．６４（１Ｈ，ｍ）、０．８３−０．９３（２Ｈ，ｍ）、１．１０−１．１８（１Ｈ，ｍ）、１．６６−１．７７（３Ｈ，ｍ）、２．１５−２．２７（１Ｈ，ｍ）、３．３０−３．６６（５Ｈ，ｍ）、４．３８−４．５５（４Ｈ，ｍ）、４．８３−４．９１（４Ｈ，ｍ）、６．２３（０．５Ｈ，ｓ）、６．３９（０．５Ｈ，ｓ）、６．８５−６．９６（３Ｈ，ｍ）、７．１１−７．３３（２１Ｈ，ｍ）、７．５４−７．５８（１Ｈ，ｍ）、８．２６−８．４２（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：７８０［Ｍ＋Ｈ］+
８）４−（４−シクロプロピルベンジル）−３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）ピリジンの合成
窒素気流下、４−［クロロ−（４−シクロプロピルフェニル）メチル］−３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）ピリジン（０．２２ｇ，０．２８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（４．１ｍＬ）−酢酸（１２．４ｍＬ）溶液に亜鉛（０．１４ｇ、２．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１４時間攪拌した。酢酸エチルを加え、飽和炭酸ナトリウム水溶液にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１））にて精製し、標題化合物（０．１４ｇ、６７％）を得た。【０３３２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．５７−０．６２（２Ｈ，ｍ）、０．８６−０．９２（２Ｈ，ｍ）、１．５１−１．５９（１Ｈ，ｍ）、１．７０−１．８５（２Ｈ，ｍ）、２．０８−２．１５（１Ｈ，ｍ）、３．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１，２．５Ｈｚ）、３．５３−３．７０（４Ｈ，ｍ）、３．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、４．４２−４．５４（４Ｈ，ｍ）、４．７１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．６，１０．７Ｈｚ），４．８３−４．９３（３Ｈ，ｍ）、６．９０−７．３４（２５Ｈ，ｍ）、８．１１（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝４．７Ｈｚ）、８．３５（１Ｈ，ｓ）
９）［４−（４−シクロプロピルベンジル）ピリジン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
の合成
窒素気流下、４−（４−シクロプロピルベンジル）−３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）ピリジン（１３６ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（７．１ｍＬ）に−７８℃でペンタメチルベンゼン（０．４０ｇ、２．７０ｍｍｏｌ）、三塩化ホウ素の塩化メチレン溶液（１．０Ｍ、１．００ｍＬ、１．００ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃で３．５時間攪拌した。メタノール（１．７ｍＬ）を加えた後、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１．０Ｍ、４ｍＬ）を加え、室温で１０分間攪拌した。不溶物をろ過し、そのろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（５：１））にて精製し、標題化合物（６６ｍｇ、９５％）を得た。【０３３３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．６０−０．６５（２Ｈ，ｍ）、０．８８−０．９５（２Ｈ，ｍ）、１．０６−１．１９（１Ｈ，ｍ）、１．５６−１．６１（１Ｈ，ｍ）、１．８１−１．８８（１Ｈ，ｍ）、２．０５−２．１２（１Ｈ，ｍ）、３．２０−３．２７（２Ｈ，ｍ）、３．４７−３．５５（２Ｈ，ｍ）、３．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，３．８Ｈｚ）、３．９０−４．０３（２Ｈ，ｍ）、４．２８−４．３６（１Ｈ，ｍ）、６．９７（２Ｈ，ｔｄ、Ｊ＝８．２，１．９Ｈｚ）、７．０７−７．１０（３Ｈ，ｍ）、８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ）、８．３０（１Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８６［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：８．４０分
実施例４３
［２−（４−カルボキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
実施例３１で得た［２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（７２．０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）のメタノール−ＴＨＦ溶液（１０ｍＬ−５ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（７．２ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下、１５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し標題化合物（３８．２ｍｇ、１００％）を得た。【０３３４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８６−１．００（１Ｈ，ｍ）、１．５１−１．５８（１Ｈ，ｍ）、２．０１−２．１１（１Ｈ，ｍ）、３．１６−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．４３−３．５０（２Ｈ，ｍ）、３．６７−３．７３（１Ｈ，ｍ）、３．９５−４．８８（３Ｈ，ｍ）、６．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、７．１２−７．２１（２Ｈ，ｍ）、７．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．６分
実施例４４
［２−（４−ビニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）２−（４−ブロモベンジル）フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−（４−ブロモベンジル）ベンゼン（１．０ｇ，２．８３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（３０．０ｍＬ）に氷冷下、ジメチルスルフィド（１．８３ｍＬ，４２．４６ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．９ｍＬ，７．０７ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に反応液を室温に上げながら、１９時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（５２７ｍｇ、７０．８％）を得た。【０３３５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９２（２Ｈ，ｓ）、４．６２（１Ｈ，ｓ）、６．７３−６．７６（１Ｈ，ｍ）、６．８５−６．９９（１Ｈ，ｍ）、７．０６−７．１４（４Ｈ，ｍ）、７．３５−７．４０（２Ｈ，ｍ）
２）トリフルオロメタンスルホン酸  （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキシル  エステルの合成
（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサノール（３００ｍｇ，０．５５７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（５．５ｍＬ）にピリジン（２０５μＬ，２．５３ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（２１０μＬ，１．２５ｍｍｏｌ）を加えた。同温度にて１時間攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで抽出した。合わせた有機層を飽和硫酸水素カリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、粗生成物（３８０ｍｇ）を得た。【０３３６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９，１４．０Ｈｚ）、２．００−２．１４（２Ｈ，ｍ）、３．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，２．３Ｈｚ）、３．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．６，２．６Ｈｚ）、３．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．２，９．３Ｈｚ）、３．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，３．４Ｈｚ）、３．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．５，９．３Ｈｚ）、４．４０（２Ｈ、ｓ）、４．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、４．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ）、４．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）、４．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、５．３３（１Ｈ，ｂｒ）、７．１５−７．３０（２０Ｈ，ｍ）
３）［２−（４−ブロモベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−（４−ブロモベンジル）ベンゼン（３８６ｍｇ、１．４６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液を氷浴で冷却し、ＮａＨ（６０％，５２ｍｇ）を添加した。同温度で１０分間撹拌後、この反応混合物を−４０℃でトリフルオロメタンスルホン酸  （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキシル  エステル（６５５ｍｇ，０．９７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２．５ｍＬ）懸濁液に滴下した。同温度で２分間、−４０℃から０℃で３０分間、０℃で１時間撹拌後、飽和食塩水および水を添加した。エーテルで抽出し、有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて粗精製し、粗生成物（２００ｍｇ）を得た。得られた粗生成物を窒素気流下、塩化メチレン（２．５ｍＬ）に溶解した。氷冷下でジメチルスルフィド（０．６ｍＬ，１３．４８ｍｍｏｌ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（２８４μｌ，２．２ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に反応液を室温に上げながら、２５時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（１０：１））にて精製し、標題化合物（４０．０ｍｇ、４２．９％）を得た。【０３３７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１３．２，Ｊ＝１１．１Ｈｚ）、１．４４−１．５９（１Ｈ，ｍ）、２．０３−２．０９（１Ｈ，ｍ）、３．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、３．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、３．２３−３．２６（２Ｈ，ｍ）、３．３７−３．４５（２Ｈ，ｍ）、３．６３−３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．６，３．９Ｈｚ）、３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ）、４．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ）、４．０９−４．１８（１Ｈ，ｍ）、６．７９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．０３−７．１３（４Ｈ，ｍ）、７．２７−７．３２（２Ｈ，ｍ）
４）[２−（４−ビニルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、［２−（４−ブロモベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド（４０ｍｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）のトルエン（２ｍＬ）に溶解し、トリブチルビニルスズ（３６ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（２．７ｍｇ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（１．５ｍｇ，０．００７ｍｍｏｌ）を加えた後、１１０℃で１５時間還流させた。反応液を室温まで冷却し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１０））にて精製し、標題化合物（９ｍｇ，２５．７％）を得た。【０３３８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１２．０，１１．７）、１．４２−１．５５（１Ｈ，ｍ）、１．９６−２．０３（１Ｈ，ｍ）、３．１０−３．１９（２Ｈ，ｍ）、３．２２−３．２５（２Ｈ，ｍ）、３．３６−３．４４（２Ｈ，ｍ）、３．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．６，４．１Ｈｚ）、３．８１−４．０８（２Ｈ，ｍ）、４．０９−４．１６（１Ｈ，ｍ）、５．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，１．２Ｈｚ）、５．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１８．０，１．２Ｈｚ）、６．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１８．０，１１．０Ｈｚ）、６．７８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、７．０２−７．２４（６Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７０［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．８分
実施例４５
｛２−［４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンジル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）１−ジエトキシメチル−４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンゼンの合成
窒素気流下、氷浴で冷却したジイソプロピルアミン（３．４０ｍＬ，２４．２ｍｍｏｌ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，９．９４ｍＬ）を滴下後、ＴＨＦ（２０ｍＬ）を添加した。得られた溶液を−７８℃に冷却し、ジエチル（ジフルオロメチル）ホスホネート（３．６２ｍＬ，２３．１ｍｍｏｌ）を滴下した。同温度で５分間撹拌後、テレフタルアルデヒド  モノジエチルアセタール（４．２ｍＬ，２１．０ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を同温度で５０分間、室温で２０分間、７０℃から７５℃で３４時間撹拌した。室温に冷却後、飽和塩化アンモニウム水溶液および水を加え、エーテルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：２０））にて精製し、標題化合物（１．１０ｇ，２２％）を得た。【０３３９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２４（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、３．４５−３．６８（４Ｈ，ｍ）、５．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２６．４，３．８Ｈｚ）、５．４９（１Ｈ，ｓ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
２）４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンズアルデヒドの合成
窒素気流下、氷浴で冷却した１−ジエトキシメチル−４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンゼン（９９８．１ｍｇ，４．１２ｍｍｏｌ）のエーテル（４ｍＬ）溶液に２Ｍ塩酸水溶液（２．５ｍＬ）を添加し、反応混合物を同温度で３分間、室温で３．７５時間撹拌した。エーテルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。【０３４０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：５．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２５．７，３．５Ｈｚ）、７．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、９．９８（１Ｈ，ｓ）
３）（２−ベンジルオキシフェニル）−［４−（２，２−ジフルオロビニル）フェニル］メタノールの合成
窒素気流下、２−ベンジルオキシブロモベンゼン（１．６３ｇ，６．１８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，２．６６ｍＬ）を滴下した。同温度で２５分間撹拌後、先に得られた粗４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンズアルデヒドのＴＨＦ（１ｍＬ）溶液を滴下した。同温度で１．２５時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液および水を添加した。エーテルで抽出し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（１．１７ｇ，８１％）を得た。【０３４１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）、４．９８−５．０４（２Ｈ，ｍ）、５．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２６．４，３．８Ｈｚ）、６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）、６．８８−７．０４（２Ｈ，ｍ）、７．１４−７．３８（１１Ｈ，ｍ）
４）１−ベンジルオキシ−２−［４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンジル］ベンゼンの合成
窒素気流下、（２−ベンジルオキシフェニル）−［４−（２，２−ジフルオロビニル）フェニル］メタノール（１．１４ｇ，３．２４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１０ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却し、トリエチルシラン（５．１７ｍＬ，３２．３５ｍｍｏｌ）を添加した。三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．４９ｍＬ，３．８８ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下し、反応混合物を−７８℃で５分間、氷冷下で１０分間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水を添加し、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：３０））にて精製し、標題化合物（９８４．５ｍｇ，９０％）を得た。【０３４２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：４．００（２Ｈ，ｓ）、５．０５（２Ｈ，ｓ）、５．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２６．２，３．８Ｈｚ）、６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ）、７．０５−７．４０（１１Ｈ，ｍ）
５）２−［４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンジル］フェノールの合成
窒素気流下、１−ベンジルオキシ−２−［４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンジル］ベンゼン（９８４．５ｍｇ，２．９３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１２ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却し、三臭化ホウ素−ジメチルスルフィドの塩化メチレン溶液（１．０Ｍ，７．３２ｍＬ）を滴下した。同温度で１０分間、氷冷下で２時間撹拌後、さらに三臭化ホウ素−ジメチルスルフィドの塩化メチレン溶液（４．３９ｍＬ）を滴下した。同温度で３．５時間撹拌後、水酸化ナトリウム水溶液および炭酸水素ナトリウム水溶液を添加した。塩化メチレンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：７））にて精製し、標題化合物（６４７．５ｍｇ，９０％）を得た。【０３４３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．９８（２Ｈ，ｓ）、４．６２（１Ｈ，ｓ）、５．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２６．２，３．８Ｈｚ）、６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．８４−６．９４（１Ｈ，ｍ）、７．０４−７．３２（６Ｈ，ｍ）
６）｛２−［４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンジル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−［４−（２，２−ジフルオロビニル）ベンジル］フェノール（８０ｍｇ，０．３２４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）の溶液を氷浴で冷却し、ＮａＨ（６０％，１３ｍｇ）を添加した。同温度で１０分間撹拌後、この反応混合物を−４０℃でトリフルオロメタンスルホン酸  （１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキシル  エステル（１８１ｍｇ，０．２７０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２．５ｍＬ）懸濁液に滴下した。同温度で２分間、−４０℃から０℃で３０分間、０℃で１時間撹拌後、飽和食塩水および水を添加した。エーテルで抽出し、有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：７））にて精製して目的物（１８０．７ｍｇ）を得た。その内６５ｍｇ（０．０８４８ｍｍｏｌ）を窒素気流下、ペンタメチルベンゼン（１８８ｍｇ，１．２７ｍｍｏｌ）と混合し、塩化メチレン（２．５ｍＬ）に溶解した。−７８℃に冷却後、ボロントリクロリドの塩化メチレン溶液（１．０Ｍ，０．４２ｍＬ）を滴下した。反応混合物を同温度で２．２５時間撹拌後、メタノール（０．５ｍＬ）を滴下した。同温度でナトリウムメトキシドのメタノール溶液（１Ｍ，１．２６ｍＬ）を滴下後、室温で１５分間撹拌した。混合物をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１０））にて精製し、標題化合物（２２．１ｍｇ，６４％）を得た。【０３４４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８２−１．０４（１Ｈ，ｍ）、１．４４−１．６４（１Ｈ，ｍ）、１．９８−２．１２（１Ｈ，ｍ）、３．１２−３．２８（２Ｈ，ｍ）、３．４０−３．５４（２Ｈ，ｍ）、３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．０Ｈｚ）、３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．１０−４．２６（１Ｈ，ｍ）、５．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２７．０，４．０Ｈｚ）、６．７８−６．９０（１Ｈ，ｍ）、６．９６−７．３０（７Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０６［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１８．５１分
＜ＨＰＬＣ測定条件＞
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／Ｈ2Ｏ（９５％）＋１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（５％）から１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット
実施例４６−５８
相当する出発原料と試薬を用い、上記実施例と同様な操作により目的化合物を得た。【０３４５】
実施例４６
［２−（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イルメチル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ）、１．４９−１．５８（１Ｈ，ｍ）、２．０１−２．０７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，４．５Ｈｚ）、３．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、３．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ）、３．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、３．３０−３．５３（２Ｈ，ｍ）、３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，４．２Ｈｚ）、３．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、３．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．１３−４．２１（１Ｈ，ｍ）、４．４７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．９９−７．１５（４Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８６［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．５分
実施例４７
［２−（３−フルオロー４−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ）、１．４８−１．５９（１Ｈ，ｍ）、２．０４−２．１０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，４．２Ｈｚ）、２．１８（３Ｈ，ｓ）、３．１８−３．３２（２Ｈ，ｍ）、３．４４−３．５１（２Ｈ，ｍ）、３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，３．９Ｈｚ）、３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、３．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．１４−４．２２（１Ｈ，ｍ）、６．８１−６．９０（３Ｈ，ｍ）、７．００−７．１７（４Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７６．４［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．７分
実施例４８
［２−（４−メトキシ−３−メチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１２．９，１１．７Ｈｚ）、１．４７−１．５７（１Ｈ，ｍ）、２．０１−２．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，４．２Ｈｚ）、２．１２（３Ｈ，ｓ）、３．１８−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．５２（２Ｈ，ｍ）、３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，４．２Ｈｚ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、３．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、４．１４−４．２１（１Ｈ，ｍ）、６．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、６．９５−７．１５（５Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．５分
実施例４９
［２−（４−ピラゾール−１−イルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１２．９，１１．４Ｈｚ）、１．４９−１．５９（１Ｈ，ｍ）、２．０２−２．０９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．３，４．２Ｈｚ）、３．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、３．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３．４３−３．５３（２Ｈ，ｍ）、３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，４．２Ｈｚ）、３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ）、４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、４．１６−４．２４（１Ｈ，ｍ）、６．４９（１Ｈ，ｓ）、６．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．６８（１Ｈ，ｓ）、８．１２（１Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１１［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．５分
実施例５０
［２−（３−クロロ−４−メトキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２４．４，１３．２Ｈｚ）、１．５−１．６５（１Ｈ，ｍ）、２．０５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．５，４．１Ｈｚ）、３．１８−３．３５（２Ｈ，ｍ）、３．４３−３．５５（２Ｈ，ｍ）、３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．１Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、３．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、４．１５−４．２５（１Ｈ，ｍ）、６．８６（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．４，１．１Ｈｚ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．０−７．２（５Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０９［Ｍ＋Ｈ］+、４３１［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．２５分
実施例５１
［２−（３，４−メチレンジオキシベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．０１（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ）、１．４５−１．６４（１Ｈ，ｍ）、２．０４−２．１３（１Ｈ，ｍ）、３．１９−３．３５（４Ｈ，ｍ）、３．４６−３．５４（２Ｈ，ｍ）、３．６９−３．７４（１Ｈ，ｍ）、３．８９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝１６．１），４．１５−４．２２（１Ｈ，ｍ）、５．８６（２Ｈ，ｓ），６．６８（３Ｈ，ｓ）、６．８５（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６．１Ｈｚ）、７．００−７．１８（３Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．６分
実施例５２
［２−（４−シクロブチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８１−０．９６（１Ｈ，ｍ）、１．４５−１．６１（１Ｈ，ｍ）、１．７８−２．３７（７Ｈ，ｍ）、３．１５−３．３４（５Ｈ，ｍ）、３．４０−３．５５（２Ｈ，ｍ）、３．６６−４．７６（１Ｈ，ｍ）、３．９５（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝１３．７Ｈｚ）、４．１３−４．２４（１Ｈ，ｍ）、６．８７（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝８．１Ｈｚ）、６．９７−７．１７（７Ｈ、ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４２５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１３．６分
実施例５３
［２−（４−アセチルベンジル）フェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８４−０．９８（１Ｈ，ｍ）、１．５０−１．５６（１Ｈ，ｍ）、２．００−２．０８（１Ｈ，ｍ）、２．５５（３Ｈ，ｓ）、３．１５−３．３２（３Ｈ，ｍ）、３．４２−３．５０（２Ｈ，ｍ）、３．６５−３．７０（１Ｈ，ｍ）、３．９４−４．２４（３Ｈ，ｍ）、４．８９（２Ｈ，ｓ）、６．８６（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．１２−７．２０（２Ｈ、ｍ）、７．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８６［Ｍ＋１］+
ＨＰＬＣ保持時間：９．８分
実施例５４
［２−（４−メトキシベンジル）−５−メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．９２−１．０６（１Ｈ，ｍ）、１．５１−１．６６（１Ｈ，ｍ），２．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，４．０Ｈｚ）、２．３２（３Ｈ，ｓ）、３．２１−３．４０（２Ｈ，ｍ）、３．４７−３．５６（２Ｈ，ｍ）、３．７１−３．７８（１Ｈ，ｍ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ）、４．１４−４．２６（１Ｈ，ｍ）、６．６８−６．７２（１Ｈ，ｍ）、６．７８−６．８５（２Ｈ，ｍ）、６．８６−６．９１（１Ｈ，ｍ）、６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．１０−７．１６（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８８［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．２６分
実施例５５
［２−（４−エチルベンジル）チオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．４０−１．８０（１Ｈ，ｍ）、２．０４−２．０９（１Ｈ，ｍ）、２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５８Ｈｚ）、３．１９−３．５５（５Ｈ，ｍ）、３．８８−３．９６（１Ｈ，ｍ）、３．９９（２Ｈ，ｍ）、６．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、７．０６−７．１５（５Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７８［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．９分
実施例５６
［（ベンゾチオフェン−２−イル）メチルフェニル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．０４（１Ｈ，ｍ）、１．４０−１．８０（１Ｈ，ｍ）、２．０８−２．１６（１Ｈ，ｍ）、３．１４−３．６７（５Ｈ，ｍ）、４．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ）、４．１９−４．２７（１Ｈ，ｍ）、４．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８．１，６．６Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｓ）、７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．１７−７．２８（４Ｈ，ｍ）、７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４００［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．０分
実施例５７
｛２−［１−（４−シクロプロピルフェニル）エチル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド  （分取ＴＬＣ（展開液：メタノール：塩化メチレン＝１：１０）で単離した、極性の低い方の異性体）
1Ｈ―ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．３，９．０Ｈｚ）、０．５６−０．６６（２Ｈ，ｍ）、０．８４−０．９６（２Ｈ，ｍ）、１．３６−１．５４（１Ｈ，ｍ）、１．５２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．７６−１．８８（２Ｈ，ｍ）、３．０４−３．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８，９．９Ｈｚ）、３．２５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、３．２６−３．４０（１Ｈ，ｍ）、３．４２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．９Ｈｚ）、３．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．４，４．８Ｈｚ）、４．０８−４．２２（１Ｈ，ｍ）、４．５０（１Ｈ，  ｄｄ，Ｊ＝１２．０，６．３Ｈｚ）、６．８４−６．９９（４Ｈ，ｍ）、６．９９−７．０６（２Ｈ，ｍ）、７．０６−７．２８（１Ｈ，ｍ）、７．２０−７．２６（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．７分
実施例５８
｛２−［１−（４−シクロプロピルフェニル）エチル］フェニル｝−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド  （分取ＴＬＣ（展開液：メタノール：塩化メチレン＝１：１０）で単離した、極性の高い方の異性体）
1Ｈ―ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．５６−０．６６（２Ｈ，ｍ）、０．８４−０．９６（２Ｈ，ｍ）、１．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．６，９．０Ｈｚ）、１．４４−１．６４（１Ｈ，ｍ）、１．５３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．７６−１．８８（１Ｈ，ｍ）、２．１３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１２．２，４．５，３．３Ｈｚ）、３．２０−３．２８（２Ｈ，ｍ）、３．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、３．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．４，６．６Ｈｚ）、３．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．４，２．４Ｈｚ）、４．０６−４．２２（１Ｈ，ｍ）、４．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．０，６．３Ｈｚ）、６．８２−７．０３（４Ｈ，ｍ）、７．０６−７．１６（４Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９９［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．７分
実施例５９
［２−（４−シクロプロピルベンジル）−５−メチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）（４−シクロプロピルフェニル）−（３−メトキシ−５−メチルチオフェン−２−イル）メタノンの合成
実施例３８と同様にして合成した（４−シクロプロピルフェニル）−（３−メトキシチオフェン−２−イル）メタノン（１．０５ｇ、４．０６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）に窒素雰囲気下、ヨウ化メチル（２．５３ｍＬ、４０．６ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液を−７８℃に冷却し、リチウムジイソプロピルアミドのヘプタン−ＴＨＦ−エチルベンゼン溶液（２．０Ｍ、２．４４ｍＬ、４．８８ｍｍｏｌ）を２０分かけて加えた。同温度で３時間攪拌した。この溶液にさらにリチウムジイソプロピルアミドのヘプタン−ＴＨＦ−エチルベンゼン溶液（２．０Ｍ、２．４４ｍＬ、４．８８ｍｍｏｌ）を２０分かけて加え、２時間攪拌し、飽和塩化アンモニウム溶液を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（５８９ｍｇ、５３％）を得た。【０３４６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７４−０．８０（２Ｈ，ｍ）、１．００−１．０６（２Ｈ，ｍ）、１．９１−１．９７（１Ｈ，ｍ）、２．４９（３Ｈ，ｓ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）
２）（４−シクロプロピルフェニル）−（３−ヒドロキシ−５−メチルチオフェン−２−イル）メタノンの合成
窒素気流下、（４−シクロプロピルフェニル）−（３−メトキシ−５−メチルチオフェン−２−イル）メタノン（５８２ｍｇ，２．１４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（１２ｍＬ）に−１５℃で三塩化ホウ素の塩化メチレン溶液（１．０Ｍ、６．４ｍＬ、６．４ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１００））にて精製し、標題化合物（４９７ｍｇ、９０％）を得た。【０３４７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７６−０．８２（２Ｈ，ｍ）、１．０３−１．１０（２Ｈ，ｍ）、１．９３−１．９８（１Ｈ，ｍ）、２．４９（３Ｈ，ｓ）、６．５７（１Ｈ，ｓ）、７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１２．８０（１Ｈ，ｓ）
３）（４−シクロプロピルフェニル）−［５−メチル−３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）チオフェン−２−イル］メタノンの合成
窒素気流下、（４−シクロプロピルフェニル）−（３−ヒドロキシ−５−メチルチオフェン−２−イル）メタノン（３６０ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）、（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキサノール（５００ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３６５ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）およびトルエン（３．１ｍＬ）の混合物に、氷冷下、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート（０．２７ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で１５時間攪拌した後に、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−へキサン：酢酸エチル（４：１））にて精製し、標題化合物（２３７ｍｇ、３３％）を得た。【０３４８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７０−０．７３（２Ｈ，ｍ）、０．９９−１．０２（２Ｈ，ｍ）、１．３５−１．５０（１Ｈ，ｍ）、１．６４−１．７２（１Ｈ，ｍ）、１．８７−１．９４（１Ｈ，ｍ）、２．０７−２．１４（１Ｈ，ｍ）、２．４４（３Ｈ，ｓ）、３．３６−３．５６（５Ｈ，ｍ）、４．０７−４．１３（１Ｈ，ｍ）、４．３３−４．８８（８Ｈ，ｍ）、６．６１（１Ｈ，ｓ）、７．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．０５−７．３５（２２Ｈ，ｍ）、７．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
４）２−（４−シクロプロピルベンジル）−５−メチル−３−［（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロへキシルオキシ］チオフェンの合成
窒素雰囲気下、（４−シクロプロピルフェニル）−［５−メチル−３−（（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）チオフェン−２−イル］メタノン（２３７ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５ｍＬ）溶液に氷冷下でクロロトリメチルシラン（０．４６ｍＬ、３．６５ｍｍｏｌ）、水素化シアノホウ素ナトリウム（２３０ｍｇ，３．６５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間攪拌した。塩化メチレンを加えて、セライトろ過し、ろ液を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物（１３５ｍｇ、５８％）を得た。【０３４９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．５８−０．６５（２Ｈ，ｍ）、０．８６−０．９４（２Ｈ，ｍ）、１．２３−１．２８（１Ｈ，ｍ）、１．５７−１．６５（１Ｈ，ｍ）、１．７７−１．８６（１Ｈ，ｍ）、２．０６−２．１２（１Ｈ，ｍ）、２．３３（３Ｈ，ｓ）、３．４３−３．６５（５Ｈ，ｍ）、３．９３（２Ｈ，ｓ）、３．９８−４．０８（１Ｈ，ｍ）、４．４４（２Ｈ，ｓ）、４．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、４．７５−４．９７（５Ｈ，ｍ）、６．５５（１Ｈ，ｓ）、６．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．１８−７．３７（２０Ｈ，ｍ）
５）［２−（４−シクロプロピルベンジル）−５−メチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
窒素気流下、２−（４−シクロプロピルベンジル）−５−メチル−３−［（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチルシクロへキシルオキシ）］チオフェン（１３４ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（６ｍＬ）に−７８℃でペンタメチルベンゼン（３９０ｍｇ、２．６３ｍｍｏｌ）、三塩化ホウ素の塩化メチレン溶液（１．０Ｍ、０．８８ｍＬ、０．８８ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃で１時間攪拌した。メタノールを加え、反応液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（２０：１））にて精製し、標題化合物（３５ｍｇ、４９％）を得た。【０３５０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．６２−０．６８（２Ｈ，ｍ）、０．９０−０．９７（２Ｈ，ｍ）、１．１０−１．２１（１Ｈ，ｍ）、１．４３−１．５６（１Ｈ，ｍ）、１．８２−１．９５（１Ｈ，ｍ）、２．０３−２．１１（１Ｈ，ｍ）、２．３６（３Ｈ，ｓ）、３．２５−３．９０（６Ｈ，ｍ）、３．９４（２Ｈ，ｍ）、６．６３（１Ｈ，ｍ）、６．９８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．１１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．９Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ-）：４０３［Ｍ−Ｈ］-
実施例６０
［２−（４−エチルベンジル）−５−メチルチオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
相当する出発原料と試薬を用い、実施例５９と同様な操作を行うことにより目的化合物を得た。【０３５１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１０−１．２２（４Ｈ，ｍ）、１．４０−１．５４（１Ｈ，ｍ）、２．０２−２．０９（１Ｈ，ｍ）、２．３３（３Ｈ，ｓ）、２．５８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．６Ｈｚ）３．２２−３．２５（２Ｈ，ｍ）、３．２８−３．３５（２Ｈ，ｍ）、３．３９−３．４５（１Ｈ，ｍ）、３．５２（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１０．７，６．２Ｈｚ）、３．７１（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１０．７，４．０Ｈｚ）、３．８３−３．９０（１Ｈ，ｍ）、６．６０（１Ｈ，ｓ）、７．０６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．１１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．２Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９３［Ｍ＋Ｈ］+、４１５［Ｍ＋Ｎａ］+
実施例６１
［５−クロロ−２−（４−シクロプロピルベンジル）チオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシド
１）４−シクロプロピル−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルベンズアミドの合成
窒素気流下、１−ブロモ−４−シクロプロピルベンゼン（１．８ｇ、９．１３ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（１．６Ｍ、６．０ｍＬ、９．５９ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下した。この溶液を−７８℃で１０分間攪拌し、Ｎ，Ｎ’−ジメトキシ−Ｎ，Ｎ’−ジメチルウレア（１．４２ｇ、９．５９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５ｍＬ）を滴下した。室温で３０分攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−へキサン：酢酸エチル（４：１））にて精製し、標題化合物（８７５ｍｇ、９５％）を得た。【０３５２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７３−０．７８（２Ｈ，ｍ）、０．９７−１．０３（２Ｈ，ｍ）、１．８７−１．９４（１Ｈ，ｍ）、３．３４（３Ｈ，ｓ）、３．５６（３Ｈ，ｓ）、７．０８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．６０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３Ｈｚ）
２）（５−クロロ−３−メトキシチオフェン−２−イル）−（４−シクロプロピルフェニル）メタノンの合成
窒素気流下、文献（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５８，４６２９−４６３３（１９９３））記載の方法により合成した２−ブロモ−５−クロロ−３−メトキシチオフェン（８８２ｍｇ、３．８８ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（１．６Ｍ、２．４３ｍＬ、３．８８ｍｍｏｌ）を滴下した。この溶液を−７８℃で１０分間攪拌し、４−シクロプロピル−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルベンズアミド（８７５ｍｇ、４．２６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３ｍＬ）を滴下した。反応液を−７８℃で３０分攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−へキサン：酢酸エチル（４：１））にて精製し、標題化合物（７１４ｍｇ、６３％）を得た。【０３５３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７５−０．８１（２Ｈ，ｍ）、１．０２−１．０８（２Ｈ，ｍ）、１．９２−１．９８（１Ｈ，ｍ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、６．７８（１Ｈ，ｓ）、７．１０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．６８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．３Ｈｚ）
３）［５−クロロ−２−（４−シクロプロピルベンジル）チオフェン−３−イル］−５ａ−カルバ−β−Ｄ−グルコピラノシドの合成
合成した（５−クロロ−３−メトキシチオフェン−２−イル）−（４−シクロプロピル−フェニル）メタノンと相当する試薬を用い、実施例５９と同様な操作を行うことにより、目的化合物を得た。【０３５４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．６３−０．６６（２Ｈ，ｍ）、０．８８−０．９３（２Ｈ，ｍ）、１．１５−１．２１（１Ｈ，ｍ）、１．６１−１．６７（１Ｈ，ｍ）、１．８２−１．８７（１Ｈ，ｍ）、１．９９−２．０３（１Ｈ，ｍ）、３．２２−３．５７（４Ｈ，ｍ）、３．７０−３．７４（１Ｈ，ｍ）、３．８７−３．９１（１Ｈ，ｍ）、３．９２（２Ｈ，ｓ）、６．８６（１Ｈ，ｓ）、６．９７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．０９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．１Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４２５［Ｍ＋Ｈ］+
実施例６２
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−６−［２−（４−シクロプロピルベンジル）フェノキシ］−４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール
１）１−（４−シクロプロピルフェニル）メチル−２−［（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−２−エニルオキシ］ベンゼンの合成
窒素気流下、文献（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６３，５６６８−５６７１（１９９８））記載の（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−４，５，６−トリス（ベンジルオキシ）−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−２−エノール（５１ｍｇ，０．０９５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３００μＬ）に２−（４−シクロプロピルベンジル）フェノール（３１ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（７０μＬ、０．２８ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（４８ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）を同温で加えた。同温で２０時間攪拌後、ヘキサンを加え沈殿物を濾別し、濾液の溶媒を留去した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５））にて精製し、標題化合物（４４ｍｇ、６２％）を得た。【０３５５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．５４（２Ｈ，ｍ）、０．８４（２Ｈ，ｍ）、１．７５（１Ｈ，ｍ）、３．８２−３．９２（３Ｈ，ｍ）、３．９３（２Ｈ，ｓ）、４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ）、４．３５（１Ｈ，ｂｒ）、４．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、４．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ）、４．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ）、４．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、４．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、４．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、５．０４（１Ｈ，ｂｒ）、５．６５（１Ｈ，ｓ）、６．８−７．４（２８Ｈ，ｍ）
２）（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−６−［２−（４−シクロプロピルベンジル）フェノキシ］−４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオールの合成
窒素気流下、１−（４−シクロプロピルフェニル）メチル−２−［（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−２−エニルオキシ］ベンゼン（１２ｍｇ，０．０１６ｍｍｏｌ）およびペンタメチルベンゼン（２４ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（３００μＬ）に−７８℃にて三塩化ホウ素の１．０Ｍ塩化メチレン溶液（１６０μＬ，０．１６ｍｍｏｌ）を加え、同温で１．５時間攪拌した。メタノールを加えた後、室温まで昇温し減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：８））にて精製し、標題化合物（４．１ｍｇ、７０％）を得た。【０３５６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．６１（２Ｈ，ｍ）、０．８９（２Ｈ，ｍ）、１．８３（１Ｈ，ｍ）、３．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．５，７．８Ｈｚ）、３．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．５，７．８Ｈｚ）、３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ）、３．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ）、４．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、４．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、４．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、５．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、６．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、６．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．９７−７．１８（３Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．５分
実施例６３
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−４−ヒドロキシメチル−６−［２−（４−メトキシベンジル）フェノキシ］シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール
１）１−（４−メトキシフェニル）メチル−２−［（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−２−エニルオキシ］ベンゼンの合成
窒素気流下、文献（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，５６，７１０９−７１２２（２０００））を参考に合成した（１Ｓ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ，６Ｓ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−１−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサン−１，３−ジオール（５６１ｍｇ，１．０１ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３ｍＬ）に２−（４−メトキシベンジル）フェノール（２９９ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン（３８０μＬ、１．５３ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた後、テトラメチルアゾジカルボキサミド（２６１ｍｇ、１．５２ｍｍｏｌ）を同温で加えた。同温で２０時間攪拌後、ヘキサンを加え沈殿物を濾別し、濾液の溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：７→１：１））にて精製し、標題化合物（３１２ｍｇ、４２％）を得た。【０３５７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．６４（３Ｈ，ｓ）、３．８０−３．９５（３Ｈ，ｍ）、３．９２（２Ｈ，ｓ）、４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ）、４．３６（１Ｈ，ｂｒ）、４．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ）、４．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ）、４．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、４．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、４．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、４．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、４．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、５．０５（１Ｈ，ｂｒ）、５．６７（１Ｈ，ｓ）、６．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．８０−７．４０（２６Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：７５５［Ｍ＋Ｎａ］+
２）（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−４−ヒドロキシメチル−６−［２−（４−メトキシベンジル）フェノキシ］シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオールの合成
窒素気流下、１−（４−メトキシフェニル）メチル−２−［（１Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−２−エニルオキシ］ベンゼン（３１２ｍｇ，０．４２６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（１２ｍＬ）に−７８℃にて三塩化ホウ素の１．０Ｍ塩化メチレン溶液（６．０ｍＬ，６．０ｍｍｏｌ）を加え、同温で１．５時間攪拌した。メタノールを加えた後、室温まで昇温し減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：８））にて精製し、標題化合物（３７．９ｍｇ、２４％）を得た。【０３５８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：３．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．５，８．０Ｈｚ）、３．７３（１Ｈ，ｍ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、３．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ）、３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ）、４．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、４．１６（１Ｈ，ｍ）、４．８１（１Ｈ，ｍ）、５．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、６．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、７．１３（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．８分
実施例６４
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオール
１）３−（４−エチルベンジル）フェニルボロン酸の合成
窒素気流下、１−ブロモ−３−（４−エチルベンジル）ベンゼン（２．１９ｇ，７．９６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，３．４２ｍＬ）を滴下後、同温度で２０分間撹拌した。トリメチルボレート（２．６８ｍＬ，２３．８７ｍｍｏｌ）を添加後、同温度で５分間、室温で１２．５時間撹拌した。氷浴で冷却後、濃塩酸（１０ｍＬ）を滴下し、同温度で１時間撹拌した。混合物をエーテルで抽出し、有機層を水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた白色固体にヘキサン−酢酸エチル（１０：１）（５ｍＬ）を添加し、ろ過後、ヘキサン−酢酸エチル（１０：１）で洗浄した。得られた白色粉末を減圧乾燥して、標題化合物（６０４．２ｍｇ，３２％）を得た。【０３５９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．６２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、４．０７（２Ｈ，ｓ）、７．１０−７．２０（４Ｈ，ｍ）、７．３６−７．４４（２Ｈ，ｍ）、８．００−８．１０（２Ｈ，ｍ）
２）トリフルオロメタンスルホン酸  （３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｒ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−１−エニル  エステルの合成
窒素気流下、氷浴で冷却したジイソプロピルアミン（１１３μＬ，０．８０６ｍｍｏｌ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（３２２μＬ，０．７８７ｍｍｏｌ）を滴下後、ＴＨＦ（０．８ｍＬ）を添加した。得られた溶液を−７８℃に冷却し、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサノン（２０５．９ｍｇ，０．３８４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１ｍＬ）溶液を滴下し、同温度で１２分間撹拌した。Ｎ−（５−クロロ−２−ピリジル）トリフルイミド（４５２ｍｇ，１．１５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１．２ｍＬ）溶液を滴下し、反応混合物を同温度で２．５時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水を加えて反応を停止し、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０→１：８））にて精製し、標題化合物（１６１．４ｍｇ，６３％）を得た。【０３６０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：２．６０−２．７０（１Ｈ，ｍ）、３．４０−３．５８（２Ｈ，ｍ）、３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．９，９．７Ｈｚ）、３．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．７，７．１Ｈｚ）、４．３２−４．５４（４Ｈ，ｍ）、４．７０−４．９４（５Ｈ，ｍ）、５．７６−５．８３（１Ｈ，ｍ）、７．１０−７．４０（２０Ｈ，ｍ）
３）１−（４−エチルベンジル）−３−［（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−１−エニル］ベンゼンの合成
窒素気流下、トリフルオロメタンスルホン酸  （３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｒ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−１−エニル  エステル（６５６ｍｇ，０．９８１ｍｍｏｌ）、Ｋ3ＰＯ4（２５０ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）、ＫＢｒ（１４０ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）、３−（４−エチルベンジル）フェニルボロン酸（２８３ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）およびＰｄ（ＰＰｈ3）4（５６．６ｍｇ，０．０４９ｍｍｏｌ）の混合物にジオキサン−水（１０：１）（１２ｍＬ）を添加し、反応混合物を１００℃から１０５℃で２６時間加熱撹拌した。室温に冷却後、飽和食塩水および水を添加した。エーテルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０→１：８））にて精製し、標題化合物（５１０．０ｍｇ，７３％）を得た。【０３６１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．６４−２．７５（１Ｈ，ｍ）、３．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，５．９Ｈｚ）、３．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，３．５Ｈｚ）、３．６８−３．７９（１Ｈ，ｍ）、３．９２（２Ｈ，ｓ）、４．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．７，７．３Ｈｚ）、４．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ）、４．４５（２Ｈ，ｓ）、４．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ）、４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ）、４．７９−５．００（４Ｈ，ｍ）、５．８５−５．９２（１Ｈ，ｍ）、６．７３−６．８２（２Ｈ，ｍ）、６．９８−７．４２（２６Ｈ，ｍ）
４）（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサ−４−エン−１，２，３−トリオールの合成
窒素気流下、１−（４−エチルベンジル）−３−［（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−４，５，６−トリスベンジルオキシ−３−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサ−１−エニル］ベンゼン（４９４．５ｍｇ，０．６９２ｍｍｏｌ）およびペンタメチルベンゼン（１．０５ｇ，７．０６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３８ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却し、ＢＣｌ3の塩化メチレン溶液（１．０Ｍ，７．５４ｍＬ）を滴下した。反応混合物を同温度で１０分間、−７０℃で１．５時間撹拌後、メタノール（２０ｍＬ）を添加した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：２０→１：１０））にて粗精製し、分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１０））にて精製し、標題化合物（４６．２ｍｇ，１９％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．２７−２．４４（１Ｈ，ｍ）、２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．４４−３．６８（３Ｈ，ｍ）、３．７６−３．９４（３Ｈ，ｍ）、４．４５−４．５７（１Ｈ，ｍ）、５．７４−５．８４（１Ｈ，ｍ）、６．９５−７．２５（８Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７２［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１８．３７分
＜ＨＰＬＣ測定条件＞
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／Ｈ2Ｏ（９５％）＋１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（５％）から１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット
実施例６５
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
１）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］シクロヘキサノールおよび（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］シクロヘキサノールの合成
窒素気流下、４−ブロモ−２−（４−エチルベンジル）−１−メトキシベンゼン（９０８ｍｇ，２．９８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却しながら、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．７０Ｍ，１．０３ｍＬ）を滴下した。反応混合物を同温度で１０分間撹拌した。この溶液に（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサノン（１．００ｇ，１．８６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍＬ）溶液を滴下し、−７８℃で３０分間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液および水を添加して反応を停止した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５→１：１））にて精製し、（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］シクロヘキサノール（０．３２ｇ，２３％）および（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］シクロヘキサノール（０．８９ｇ，６４％）を得た。【０３６２】
（１Ｒ）−体：1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．８０−２．００（２Ｈ，ｍ）、２．２０−２．３６（１Ｈ，ｍ）、２．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．３５−３．４２（１Ｈ，ｍ）、３．６５−４．０５（１０Ｈ，ｍ）、４．４１−４．４５（３Ｈ，ｍ）、４．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、６．７８−６．８４（３Ｈ，ｍ）、６．９９−７．２０（６Ｈ，ｍ）、７．２０−７．４０（１８Ｈ，ｍ）
（１Ｓ）−体：1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．４０−１．５４（２Ｈ，ｍ）、１．７８−１．８８（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１３．７Ｈｚ），２．４３（１Ｈ，ｓ），２．４７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，８．９Ｈｚ），３．５３−３．７２（４Ｈ，ｍ）、３．８０（３Ｈ，ｓ），３．８６−３．９３（２Ｈ，ｍ），４．４１（２Ｈ，ｓ）、４．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．６７−４．７９（２Ｈ，ｍ），４．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、５．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．１４−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２１−７．４０（１８Ｈ，ｍ），７．５６−７．６３（２Ｈ，ｍ）
２）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオールの合成
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］シクロヘキサノール（５０．０ｍｇ，０．０６７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（０．５ｍＬ）−メタノール（２ｍＬ）溶液に２０％水酸化パラジウム触媒（１０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下室温にて１５時間撹拌した。触媒をろ過後、ろ液を減圧下、濃縮した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１０））にて精製し、標題化合物（２０ｍｇ，７４％）を得た。【０３６３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．６５−１．８４（２Ｈ，ｍ）、２．０１−２．１４（１Ｈ，ｍ）、２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．３９−３．４６（１Ｈ，ｍ）、３．６２−３．７５（４Ｈ，ｍ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．９４（２Ｈ，ｓ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３０−７．３８（２Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４２０［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１７．７０分
＜ＨＰＬＣ測定条件＞
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／Ｈ2Ｏ（９５％）＋１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（５％）から１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット
実施例６６
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
１）２−（４−エチルベンジル）−１−メトキシ−４−［（１Ｓ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロへキシル］ベンゼンの合成
実施例６５で得られた（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］シクロヘキサノール（１２４ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２ｍＬ）溶液を−５℃に冷却し、トリエチルシラン（０．３９ｍＬ，２．４４ｍｍｏｌ）を添加した。トリフルオロ酢酸（０．１２ｍＬ，１．６ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を−５℃で１時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を添加した。塩化メチレンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：９））にて精製し、標題化合物（１０ｍｇ，８％）を得た。【０３６４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．５８−１．９６（３Ｈ，ｍ）、２．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．５５−２．７０（１Ｈ，ｍ），３．４３−３．６２（５Ｈ，ｍ）、３．７８−４．００（６Ｈ，ｍ），４．４３（２Ｈ，ｓ）、４．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ）、４．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、４．８２−４．９３（３Ｈ，ｍ）、６．７５−６．８２（３Ｈ，ｍ）、６．９９−７．１８（９Ｈ，ｍ）、７．２０−７．３８（１５Ｈ，ｍ）
２）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）−４−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオールの合成
２−（４−エチルベンジル）−１−メトキシ−４−（（１Ｓ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロへキシル）ベンゼン（１０ｍｇ，０．０１３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（０．２ｍＬ）−メタノール（１ｍＬ）溶液に２０％水酸化パラジウム触媒（１０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下室温にて１３時間撹拌した。触媒をろ過後、ろ液を減圧下、濃縮した。得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１０））にて精製し、標題化合物（３．９ｍｇ，７５％）を得た。【０３６５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、１．３４−１．４８（１Ｈ，ｍ）、１．６０−１．７６（１Ｈ，ｍ）、１．８３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．５，３．５Ｈｚ），２．４８−２．６６（３Ｈ，ｍ）、３．３０−３．３８（２Ｈ，ｍ），３．４２−３．５２（１Ｈ，ｍ）、３．５８−３．６５（１Ｈ，ｍ）、３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．９２（２Ｈ，ｓ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．０２−７．１４（６Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０６［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．５３分
＜ＨＰＬＣ測定条件＞
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／Ｈ2Ｏ（９５％）＋１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（５％）から１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット
実施例６７
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
１）（３−ブロモ−４−エトキシフェニル）−（４−エチルフェニル）メタノールの合成
マグネシウム（３５３ｍｇ，１４．５ｍｍｏｌ）にＴＨＦ（１０ｍＬ）を加え、さらに１−ブロモ−４−エチルベンゼン（２ｍＬ，１４．５ｍｍｏｌ）を滴下して１時間加熱還流した。反応液を０℃まで冷却し、３−ブロモ−４−エトキシベンズアルデヒド（２．２１ｇ，９．６８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５ｍＬ）を加え、同温度にて１．５時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出を行った。飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−ヘキサン→ｎ−ヘキサン：酢酸エチル（３：１））にて精製し、標題化合物（２．８３ｇ，８８％）を得た。【０３６６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ）、２．６３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．０７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ）、６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．２０−７．３０（３Ｈ，ｍ）、７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）
２）２−ブロモ−１−エトキシ−４−（４−エチルベンジル）ベンゼンの合成
（３−ブロモ−４−エトキシフェニル）−（４−エチルフェニル）メタノール（２．８３ｇ，８．４４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（２０ｍＬ）にトリエチルシラン（２．７ｍＬ，１６．９ｍｍｏｌ）と三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（１．２ｍＬ，９．４７ｍｍｏｌ）を０℃にて加え、３時間攪拌した。メタノール（５０％）−水（４ｍＬ）を加えた後、塩化メチレンにて抽出した。飽和食塩水で洗浄の後、硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝ｎ−ヘキサン→ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（４％（ｖ／ｖ）））にて精製し、標題化合物（２．６９ｇ，１００％）を得た。【０３６７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．６２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．８５（２Ｈ，ｓ）、４．０６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．００−７．１５（３Ｈ，ｍ）、７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）
３）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−、および（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］シクロヘキサノールの合成
窒素気流下、２−ブロモ−１−エトキシ−４−（４−エチルベンジル）ベンゼン（１．１８ｇ，３．７０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（９ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却しながら、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５９Ｍ，２．３０ｍＬ，３．６６ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を同温度で１時間撹拌した後、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサノン（１．５０ｇ，２．８０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４．５ｍＬ）溶液を滴下し、−７８℃で１０分間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止した。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、（１Ｒ）−体（８８４ｍｇ，４１％）および（１Ｓ）−体（７４０ｍｇ，３４％）を得た。
【０３６８】
（１Ｒ）−体：1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．３，４．１Ｈｚ）、２．２０−２．３５（１Ｈ，ｍ）、２．６２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．６７−２．８２（１Ｈ，ｍ）、３．０−３．３（１Ｈ，ｂｒ）、３．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．０Ｈｚ）、３．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．８，９．８Ｈｚ）、３．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，４．０Ｈｚ）、３．８６−４．１０（３Ｈ，ｍ）、３．９１（２Ｈ，ｓ）、４．４４（２Ｈ，ｓ）、４．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ）、４．５８（１Ｈ，ｂｒ）、４．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ）、４．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、４．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、６．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、７．００−７．４０（２４Ｈ，ｍ）、７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）
（１Ｓ）−体：1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．４０−１．５５（１Ｈ，ｍ）、１．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．３，１３．３Ｈｚ）、２．５０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．７，３．２Ｈｚ）、３．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．８Ｈｚ）、３．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，５．３Ｈｚ）、３．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８，８．７Ｈｚ）、３．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．５，９．５Ｈｚ）、３．８９（２Ｈ，ｓ）、４．０−４．１（２Ｈ，ｍ）、４．３９（２Ｈ，ｓ）、４．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、４．６４−４．７２（３Ｈ，ｍ）、４．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、４．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、４．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、６．９８−７．４２（２５Ｈ，ｍ）、７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）
４）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオールの合成
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）−１−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］シクロヘキサノール（６００ｍｇ，０．７７２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（６ｍＬ）−メタノール（３ｍＬ）溶液に２０％水酸化パラジウム触媒（６０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下２．５時間撹拌した。触媒をろ過後、ろ液を減圧下、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン→塩化メチレンメタノール（１２％（ｖ／ｖ）））にて精製し、標題化合物（１９７ｍｇ，６１％）を得た。【０３６９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．４３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．３，４．１Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｍ）、２．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．０，１３．０Ｈｚ）、２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、３．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．５，９．３Ｈｚ）、３．６０−３．６８（３Ｈ，ｍ）、３．８５（２Ｈ，ｓ）、４．０３（２Ｈ，ｍ）、４．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ、２．３Ｈｚ）、７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４３４［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１８．７１分
＜ＨＰＬＣ測定条件＞
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／Ｈ2Ｏ（９５％）＋１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（５％）から１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット
実施例６８
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
１）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオールの合成
実施例６７で得られた（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［２−エトキシ−５−（４−エチルベンジル）フェニル］シクロヘキサノール（４０２ｍｇ，０．５１７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４ｍＬ）−メタノール（２ｍＬ）溶液に２０％水酸化パラジウム触媒（７８ｍｇ）を加え、水素雰囲気下１９時間撹拌した。触媒をろ過後、ろ液を減圧下、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール＝１０：１）にて精製し、標題化合物（４２ｍｇ，２０％）を得た。【０３７０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．２５−１．５０（１Ｈ，ｍ）、１．３８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．６２（１Ｈ，ｍ）、１．７８（１Ｈ，ｍ）、２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．９５−３．１５（１Ｈ，ｂｒ）、３．２５−３．３３（２Ｈ，ｍ）、３．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８，６．１Ｈｚ）、３．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８、３．８Ｈｚ）、３．６５−３．８５（１Ｈ，ｍ）、３．８３（２Ｈ，ｓ）、４．００（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３、２．１Ｈｚ）、７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、７．０６（４Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０１［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．９８分
実施例６９−７４
相当する出発原料と試薬を用い、それぞれ実施例６７または実施例６８と同様な操作を行うことにより目的化合物を得た。【０３７１】
実施例６９
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２，４−ジメトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．９，３．８Ｈｚ）、１．９０−２．１０（１Ｈ，ｍ）、２．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．９，１３．２Ｈｚ）、２．５５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．３２−３．４２（１Ｈ，ｍ）、３．５８−３．７０（３Ｈ，ｍ）、３．７６−３．８８（２Ｈ，ｍ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）、６．５８（１Ｈ，ｓ）、７．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３５（１Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４５５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１７．８３分
＜ＨＰＬＣ測定条件＞
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／Ｈ2Ｏ（９５％）＋１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（５％）から１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット
実施例７０
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２，４−ジメトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．２４−１．４８（１Ｈ，ｍ）、１．５２−１．８２（２Ｈ，ｍ）、２．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．８６−３．０８（１Ｈ，ｍ）、３．２４−３．２９（１Ｈ，ｍ）、３．４８−３．６７（２Ｈ，ｍ）、３．６８−３．８４（３Ｈ，ｍ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、６．５６（１Ｈ，ｓ）、６．９３（１Ｈ，ｓ）、７．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１６［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１８．２６分
＜ＨＰＬＣ測定条件＞
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／Ｈ2Ｏ（９５％）＋１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（５％）から１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット
実施例７１
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−メチルフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．７０（１Ｈ，ｍ）、１．９４（１Ｈ，ｍ）、２．０５（１Ｈ，ｍ）、２．５３（３Ｈ，ｓ）、２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、３．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ）、３．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、３．８７（２Ｈ，ｓ）、４．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６，１．５Ｈｚ）、７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．０７（４Ｈ，ｍ）、７．４２（１Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０９［Ｍ＋Ｎａ］+
実施例７２
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−メチルフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．２４−１．３７（１Ｈ，ｍ）、１．５９−１．８１（２Ｈ，ｍ）、２．３０（３Ｈ，ｓ）、２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．９３（１Ｈ，ｍ）、３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．５０−３．６３（２Ｈ，ｍ）、３．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．２Ｈｚ）、３．８６（２Ｈ，ｓ）、６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ、２．１Ｈｚ）、７．０７（４Ｈ，ｓ）、７．１１（１Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ-）：３６９［Ｍ−Ｈ］-
実施例７３
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−メトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．１，３．９Ｈｚ）、１．９４−２．０４（１Ｈ，ｍ）、２．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．９，１３．２Ｈｚ）、２．５１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、３．２４−３．３７（１Ｈ，ｍ）、３．５７−３．６３（３Ｈ，ｍ）、３．７４（３Ｈ，ｓ）、３．８０−３．９０（２Ｈ，ｍ）、４．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９５−７．０１（５Ｈ，ｍ）、７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４２５［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．６９分
実施例７４
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．２４−１．５０（１Ｈ，ｍ）、１．５４−１．８５（２Ｈ，ｍ）、２．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．９０−３．１８（１Ｈ，ｍ）、３．２４−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，５．９Ｈｚ）、３．６０−３．７８（２Ｈ，ｍ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．８３（２Ｈ，ｓ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ）、７．０１−７．１１（５Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４０４［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．３３分
実施例７５
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−トリフルオロメトキシフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
相当する出発原料と試薬を用い、実施例６７と同様な操作を行うことにより目的化合物を得た。【０３７２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ）、２．００−２．１２（２Ｈ，ｍ）、２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、３．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．３，９．３Ｈｚ）、３．５８−３．７２（２Ｈ，ｍ）、３．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，９．２Ｈｚ）、３．９３（２Ｈ，ｓ）、３．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、７．０９（４Ｈ，ｓ）、７．１３（２Ｈ，ｍ）、７．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４７４［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１３．０９分
実施例７６−７８
相当する出発原料と試薬を用い、それぞれ実施例６８と同様な操作を行うことにより目的化合物を得た。【０３７３】
実施例７６
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−イソプロピルベンジル）−２−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．２１（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．２９−１．４２（１Ｈ，ｍ）、１．５９−１．８１（２Ｈ，ｍ）、２．７８−２．８９（１Ｈ，ｍ）、３．０６−３．１０（１Ｈ，ｍ）、３．２６−３．３４（２Ｈ，ｍ）、３．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，６．０Ｈｚ）、３．６２−３．８５（５Ｈ，ｍ）、３．８４（２Ｈ，ｓ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．２Ｈｚ）、７．０５−７．１１（５Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４００［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１３．０７分
実施例７７
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−エチルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．４３−１．５３（１Ｈ，ｍ）、１．６１−１．７８（１Ｈ，ｍ）、１．８５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．４，３．７Ｈｚ），２．５６−２．６８（３Ｈ，ｍ）、３．２９−３．４０（２Ｈ，ｍ）、３．５０−３．６６（２Ｈ，ｍ）、３．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．９，３．９Ｈｚ）、３．９４（２Ｈ，ｓ）、７．０４−７．２７（８Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３５７［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１２．１２分
実施例７８
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．４３−１．５２（１Ｈ，ｍ）、１．６４−１．７８（１Ｈ，ｍ）、１．８５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．５，３．７Ｈｚ）、２．５５−２．６６（１Ｈ，ｍ）、３．３３−３．４０（２Ｈ，ｍ）、３．５０−３．６４（２Ｈ，ｍ）、３．７６−３．８４（１Ｈ，ｍ）、３．８８（２Ｈ，ｓ）、６．６８−６．７４（２Ｈ，ｍ）、７．００−７．１４（５Ｈ，ｍ）、７．２０−７．２５（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３６２［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１３．７０分
実施例７９
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−ヒドロキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
窒素気流下、実施例７４で得た（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［５−（４−エチルベンジル）−２−メトキシフェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール（４０ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却し、ＢＢｒ3の塩化メチレン溶液（１．０Ｍ，０．３１ｍＬ）を滴下した。同温度で１０分間、氷冷下で２時間撹拌後、さらにＢＢｒ3の塩化メチレン溶液（０．２ｍＬ）を滴下した。同温度で３．５時間撹拌後、水酸化ナトリウムメタノール溶液（０．９３ｍＬ）を添加した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（３．５ｍｇ，９．１％）を得た。【０３７４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．８７−０．９８（１Ｈ，ｓ）、１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、１．３９−１．５２（１Ｈ，ｍ）、１．５９−１．６６（１Ｈ，ｍ）、１．７８−１．８３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．５，３．６Ｈｚ）、２．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．８，７．５Ｈｚ）、２．９６−３．０７（１Ｈ，ｍ）、３．３４（１Ｈ，ｓ）、３．５４−３．５９（１Ｈ，ｍ）、３．６２−３．６９（１Ｈ，ｍ）、３．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，３．９Ｈｚ）、３．８０（２Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、７．０５（４Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７２［Ｍ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．２分
実施例８０
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
１）４−［３−（（３ａＳ，４Ｓ，５ａＲ，９ａＲ，９ｂＲ）−２，２，８，８−テトラメチル−ヘキサヒドロ［１，３］ジオキソロ［４’，５’：３，４］ベンゾ［１，２−ｄ］［１，３］ジオキシン−４−イル）ベンジル］フェノールの合成
実施例７８で得られた（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−ヒドロキシベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール（４７ｍｇ，０．１３６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）溶液に０℃で２，２−ジメトキシプロパン（１４２ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）、次いでｐ−トルエンスルホン酸水和物（２ｍｇ）を加えた。反応液を室温で３０分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止した。混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（３４ｍｇ，５９％）を得た。【０３７５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１１−１．２４（１Ｈ，ｍ）、１．４２（６Ｈ，ｓ），１．４６（３Ｈ，ｓ），１．５３（３Ｈ，ｓ），１．７３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．７，３．９Ｈｚ）、１．８０−１．９３（１Ｈ，ｍ），２．９４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝４．０，１１．０Ｈｚ）、３．５９−３．９２（７Ｈ，ｍ）、４．８５（１Ｈ，ｓ）、６．７１−６．７６（２Ｈ，ｍ）、７．００−７．０８（５Ｈ，ｍ）、７．１９−７．２３（１Ｈ，ｍ）
２）トリフルオロメタンスルホン酸  ４−［３−（（３ａＳ，４Ｓ，５ａＲ，９ａＲ，９ｂＲ）−２，２，８，８−テトラメチル−ヘキサヒドロ−［１，３］ジオキソロ［４’，５’：３，４］ベンゾ［１，２−ｄ］［１，３］ジオキシン−４−イル）ベンジル］フェニル  エステルの合成
４−［３−（（３ａＳ，４Ｓ，５ａＲ，９ａＲ，９ｂＲ）−２，２，８，８−テトラメチル−ヘキサヒドロ−［１，３］ジオキソロ［４’，５’：３，４］ベンゾ［１，２−ｄ］［１，３］ジオキシン−４−イル）ベンジル］フェノール（３４ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（０．８ｍＬ）に溶解し、氷冷下撹拌した。ピリジン（１５ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）、２−［Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ピリジン（３４ｍｇ、０．０９６ｍｍｏｌ）、次いでＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（１ｍｇ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液に水を添加して反応を停止した。混合物を塩化メチレンで抽出し、有機層を水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（３７ｍｇ，８３％）を得た。【０３７６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１１−１．２４（１Ｈ，ｍ）、１．４２（６Ｈ，ｓ），１．４３（３Ｈ，ｓ），１．５３（３Ｈ，ｓ），１．７４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．７，３．９Ｈｚ）、１．８０−１．９３（１Ｈ，ｍ），２．９６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．１，３．６Ｈｚ）、３．５９−３．９２（５Ｈ，ｍ）、３．９８（２Ｈ，ｓ）、７．００−７．０３（２Ｈ，ｍ）、７．１０−７．３５（６Ｈ，ｍ）
３）（３ａＳ，４Ｓ，５ａＲ，９ａＲ，９ｂＲ）−４−［３−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−２，２，８，８−テトラメチル−ヘキサヒドロ［１，３］ジオキソロ［４’，５’：３，４］ベンゾ［１，２−ｄ］［１，３］ジオキシンの合成
窒素雰囲気下、トリフルオロメタンスルホン酸  ４−［３−（（３ａＳ，４Ｓ，５ａＲ，９ａＲ，９ｂＲ）−２，２，８，８−テトラメチル−ヘキサヒドロ［１，３］ジオキソロ［４’，５’：３，４］ベンゾ［１，２−ｄ］［１，３］ジオキシン−４−イル）ベンジル］フェニル  エステル（３８ｍｇ，０．０６８ｍｍｏｌ）、Ｋ3ＰＯ4（６５ｍｇ，０．３１ｍｍｏｌ）、臭化ナトリウム（７ｍｇ，０．０６８ｍｍｏｌ）、シクロプロピルボロン酸（９ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）およびＰｄ（ＰＰｈ3）4（８．０ｍｇ，０．００７ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（０．５ｍＬ）−水（０．０１７ｍＬ）を添加し、反応混合物を１００℃で６時間加熱撹拌した。室温に冷却後、水を添加した。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物（１０ｍｇ，３３％）を得た。【０３７７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６２−０．６８（２Ｈ，ｍ），０．８９−０．９６（２Ｈ，ｍ），１．１０−１．２４（１Ｈ，ｍ）、１．４２（３Ｈ，ｓ），１．４３（３Ｈ，ｓ），１．４６（３Ｈ，ｓ），１．５４（３Ｈ，ｓ），１．７４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．７，３．９Ｈｚ）、１．８０−１．９３（２Ｈ，ｍ），２．９４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．９，３．６Ｈｚ）、３．５９−３．９６（８Ｈ，ｍ）、６．９６−７．０７（７Ｈ，ｍ）、７．１６−７．２５（１Ｈ，ｍ）
４）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−４−［３−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオールの合成
（３ａＳ，４Ｓ，５ａＲ，９ａＲ，９ｂＲ）−４−［３−（４−シクロプロピルベンジル）フェニル］−２，２，８，８−テトラメチル−ヘキサヒドロ［１，３］ジオキソロ［４‘，５’：３，４］ベンゾ［１，２−ｄ］［１，３］ジオキシン（１０ｍｇ，０．０２２ｍｍｏｌ）のジオキサン（０．２ｍＬ）溶液を０℃に冷却し、２Ｎ塩酸水溶液（０．２ｍＬ）を滴下した。反応混合物を同温度で３時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を添加した。塩化メチレンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を分取ＴＬＣ（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１０））にて精製し、標題化合物（４．５ｍｇ，５１％）を得た。【０３７８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：０．６３−０．６８（２Ｈ，ｍ）、０．９１−０．９８（２Ｈ，ｍ）、１．４２−１．５２（１Ｈ，ｍ）、１．６２−１．７８（１Ｈ，ｍ）、１．８０−１．９４（２Ｈ，ｍ）、２．５４−２．６６（１Ｈ，ｍ）、３．３３−３．４０（２Ｈ，ｍ）、３．５０−３．６８（２Ｈ，ｍ）、３．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．９，３．９Ｈｚ）、３．９３（２Ｈ，ｓ）、６．８５−７．１６（７Ｈ，ｍ）、７．２１−７．２６（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３８６［Ｍ＋Ｈ2Ｏ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１８．４９分
＜ＨＰＬＣ測定条件＞
カラム：ＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ  ６．０ｘ１５０ｍｍ、５μｍ
移動相：１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／Ｈ2Ｏ（９５％）＋１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（５％）から１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％）まで２０分間のグラジエントをかけ、その後同条件（１０ｍＭ  ＡｃＯＮＨ4／ＭｅＯＨ（１００％））で５分間溶出
流速：１．５ｍＬ／分
カラム温度：室温
検出条件：２３０〜４００ｎｍの全波長の合計プロット
実施例８１
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
１）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−および（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］シクロヘキサノールの合成
窒素気流下、２−ブロモ−４−（４−エチルベンジル）−１−フルオロベンゼン（０．２６３ｇ、０．９００ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（３．０ｍＬ）に−７８℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４４Ｍ，０．３６８ｍＬ）を滴下し、同温で２時間攪拌した。２，３，４，−トリスベンジルオキシ−５−メチルシクロヘキサノン（０．４８３ｇ、０．９００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１．５ｍＬ）を加え、２時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を終了させ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：４））にて精製し、標題化合物の（１Ｒ）−体（０．１１７ｇ、１７．３％）および（１Ｓ）−体（０．３１１ｇ、４６．１％）を得た。【０３７９】
（１Ｒ）−体：1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１５−１．３２（３Ｈ，ｍ）、１．８１−１．９２（１Ｈ，ｂｒ）、２．２０−２．３８（２Ｈ，ｂｒ）、２．６２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．８Ｈｚ）、３．０７（１Ｈ，ｂｒ）、３．４０−３．５５（１Ｈ，ｍ）、３．６６−３．８０（２Ｈ，ｍ）、３．８４−４．０６（４Ｈ，ｍ）、４．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ）、４．４５（２Ｈ，ｓ）、４．５８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝１２．１Ｈｚ）、４．８０−４．９６（３Ｈ，ｍ）、６．７６−６．８４（２Ｈ，ｍ）、６．８６−７．００（１Ｈ，ｍ）、７．０２−７．４４（２３Ｈ，ｍ）、７．５２−７．６０（１Ｈ，ｍ）
（１Ｓ）−体：1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、１．３４−１．５５（１Ｈ，ｂｒ）、１．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）２．５０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）２．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，０．９Ｈｚ）、２．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ）、３．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．５，６．６Ｈｚ）、３．５７−３．７８（３Ｈ，ｍ）、３．８６−４．０６（３Ｈ，ｍ）、４．４０−５．００（８Ｈ，ｍ）、６．８０−７．６０（２６Ｈ，ｍ）、７．７２−７．８４（１Ｈ，ｍ）
２）（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオールの合成
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］シクロヘキサノール（２７１ｍｇ、０．３６１ｍｍｏｌ）のメタノール−ＴＨＦ（１：１）混合溶液（２０ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（４０ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下、３０分攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１０））にて精製し、標題化合物（４４．６ｍｇ，３１．６％）を得た。【０３８０】
1Ｈ―ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．１５−１．２６（１Ｈ，ｍ）、１．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．５，１３．２Ｈｚ）、２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、２．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．５，３．０Ｈｚ）、３．３０−３．８０（１Ｈ，ｍ）、３．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．９，５．７Ｈｚ）、３．５３−３．６６（２Ｈ，ｍ）、３．８３−３．９２（３Ｈ，ｍ）、６．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．３，８．１Ｈｚ）、７．００−７．２５（５Ｈ，ｍ）、７．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．８Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１３［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１０．９分
実施例８２
（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］−５−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
実施例８１で得られた（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［５−（４−エチルベンジル）−２−フルオロフェニル］シクロヘキサノール（３３ｍｇ、０．０４４ｍｍｏｌ）のメタノール−ＴＨＦ（１：１）混合溶液（１．４ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム触媒（７．５ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下、２．５時間攪拌した後、触媒をろ過した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝メタノール：塩化メチレン（１：１０））にて精製し、標題化合物（１７．５ｍｇ，１００％）を得た。【０３８１】
1Ｈ―ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．７０−１．７９（１Ｈ，ｍ）、１．９８−２．１１（２Ｈ，ｍ）、２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、３．３２−３．４５（１Ｈ，ｍ）、３．６０−３．７１（３Ｈ，ｍ）、３．９０（２Ｈ，ｓ）、３．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．３，８．１Ｈｚ）、７．０２−７．１２（５Ｈ，ｍ）、７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８、２．４Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：４１３［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１１．７分
実施例８３
（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−５−ヒドロキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
相当する出発原料と試薬を用い、実施例８１と同様な操作を行うことにより目的化合物を得た。【０３８２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．６２−１．８０（２Ｈ，ｍ）、１．９４−２．１０（１Ｈ，ｍ）、３．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．５，８．７Ｈｚ）、３．６２−３．７２（４Ｈ，ｍ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、３．８９（２Ｈ，ｓ）、６．７０−６．８２（２Ｈ，ｍ）、７．００−７．０３（２Ｈ，ｍ）、７．０６−７．１２（２Ｈ，ｍ）、７．２２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．２７−７．３２（１Ｈ，ｍ）、７．３４−７．３７（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３７５［Ｍ＋Ｈ］+
ＨＰＬＣ保持時間：９．５３分
実施例８４
（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−５−ヒドロキシメチル−１−［３−（４−メトキシベンジル）フェニル］シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラオール
相当する出発原料と試薬を用い、実施例８１と同様な操作を行うことにより目的化合物を得た。【０３８３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．２８−１．４４（１Ｈ，ｍ）、１．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ）、２．３５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．５，３．０Ｈｚ）、３．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，６．０Ｈｚ）、３．６０−３．７０（３Ｈ，ｍ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、３．８９（２Ｈ，ｓ）、６．７７−６．８２（２Ｈ，ｍ）、７．００−７．０５（１Ｈ，ｍ）、７．０６−７．１３（２Ｈ，ｍ）、７．２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．６０−７．６５（１Ｈ，ｍ）、７．６８−７．７０（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９７［Ｍ＋Ｎａ］+
ＨＰＬＣ保持時間：１４．６分
実施例８５
４−［１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドール−３−イル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオール
１）１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドールの合成
インドール（４．０ｇ、３４．１ｍｍｏｌ）のエタノール（２００ｍＬ）溶液に水酸化カリウム（２．４０ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）を添加し、室温で２時間撹拌した。溶媒を減圧下留去した。残渣をアセトン（２００ｍＬ）に溶解し、１−クロロメチル−４−エチルベンゼン（５．２８ｇ、３４．１ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を一昼夜、室温で攪拌した後、セライトろ過し、ろ液を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：５００））にて精製し、標題化合物（３．８ｇ，４７％）を得た。【０３８４】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、５．２７（２Ｈ，ｓ）、６．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，０．７Ｈｚ）、７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．０７−７．２２（５Ｈ，ｍ）、７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
２）３−ブロモ−１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドールの合成
臭素（０．４６ｍＬ、８．９３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２０ｍＬ）溶液に１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドール（２．０ｇ、８．５０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２０ｍＬ）溶液を室温で滴下した。反応液を２時間攪拌後、氷冷したピロ亜硫酸ナトリウム水溶液に空けた。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。酢酸エチルとｎ−ヘキサンから再結晶し、標題化合物（１．６８ｇ，６３％）を得た。【０３８５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、５．２３（２Ｈ，ｓ）、７．０５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１１−７．２２（５Ｈ，ｍ）、７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，１．９Ｈｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，１．９Ｈｚ）
３）（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドール−３−イル］シクロヘキサノールの合成
窒素気流下、３−ブロモ−１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドール（４２７ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（８ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，０．８９ｍＬ、１．４３ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を同温度で５分間撹拌した。この溶液に（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキサノン（８７５ｍｇ、１．６３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５．６ｍＬ）溶液を滴下し、−７８℃で２時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１０））にて精製し、標題化合物のｌｅｓｓ  ｐｏｌａｒ−体（３５４ｍｇ、３４％）、ｍｏｒｅ  ｐｏｌａｒ−体（１１５ｍｇ、１１％）を得た。【０３８６】
ｌｅｓｓ  ｐｏｌａｒ−体：1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．９３（２Ｈ，ｍ）、２．４０（１Ｈ，ｍ）、２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．４０−５．２２（１５Ｈ，ｍ）、７．０２−７．４０（２８Ｈ，ｍ）、７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
ｍｏｒｅ  ｐｏｌａｒ−体：1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．４０（１Ｈ，ｍ）、２．３８（２Ｈ，ｍ）、２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．４１−５．２４（１５Ｈ，ｍ）、６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０３−７．３４（２７Ｈ，ｍ）、７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
４）１−（４−エチルベンジル）−３−［（１Ｓ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキシル］−１Ｈ−インドールの合成
窒素気流下、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−ベンジルオキシメチル−１−［１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドール−３−イル］シクロヘキサノール（４６９ｍｇ、０．６１ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（６ｍＬ）溶液に０℃でトリエチルシラン（０．２１ｍＬ、１．２２ｍｍｏｌ）を滴下した。三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．０９３ｍＬ，０．７３ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下し、反応混合物を０℃で２時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を添加し、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（１：１５））にて精製し、標題化合物（２３２ｍｇ、５１％）を得た。【０３８７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．８７（２Ｈ，ｍ）、２．２７（１Ｈ，ｍ）、２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，１．７Ｈｚ）、３．５９−３．７０（２Ｈ，ｍ）、３．８８−４．００（２Ｈ，ｍ）、４．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、４．３８（２Ｈ，ｓ）、４．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ）、４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）、４．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ）、４．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、５．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）、６．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０８−７．３５（２４Ｈ，ｍ）、７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
５）４−［１−（４−エチルベンジル）−１Ｈ−インドール−３−イル］−６−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン−１，２，３−トリオールの合成
窒素気流下、１−（４−エチルベンジル）−３−［（１Ｓ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，３，４−トリスベンジルオキシ−５−（ベンジルオキシメチル）シクロヘキシル］−１Ｈ−インドール（２１３ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（４．７ｍＬ）に氷冷下でジメチルスルフィド（０．７２ｍＬ）および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．３６ｍＬ、２．８ｍｍｏｌ）を加えた。室温で６４時間攪拌した後、氷冷下で水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄、乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液＝塩化メチレン：メタノール（５０：１））にて精製し、標題化合物（４５ｍｇ、４１％）を得た。【０３８８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、１．６６（１Ｈ，ｍ）、１．７９（１Ｈ，ｍ）、２．１６（１Ｈ，ｍ）、２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、３．３３（１Ｈ，ｍ）、３．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，６．１Ｈｚ）、３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．７，４．２Ｈｚ）、３．７６−３．８８（３Ｈ，ｍ）、５．２９（２Ｈ，ｓ）、６．９８−７．１１（６Ｈ，ｍ）、７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．３０（１Ｈ，ｓ）、７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
ＭＳ（ＥＳＩ+）：３９６［Ｍ＋Ｈ］+
上記実施例の化合物の構造式を表１−表１０に示す。【０３８９】
【表１】
0005095212.tif 000029
【０３９０】
【表２】
0005095212.tif 000030
【０３９１】
【表３】
0005095212.tif 000031
【０３９２】
【表４】
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【０３９３】
【表５】
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【０３９４】
【表６】
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【０３９５】
【表７】
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【０３９６】
【表８】
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【０３９７】
【表９】
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【０３９８】
【表１０】
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【０３９９】
試験例１
ヒトＮａ+−グルコース共輸送体（ＳＧＬＴ１およびＳＧＬＴ２）活性阻害作用確認試験
１）ヒトＳＧＬＴ１発現ベクターの作製
ヒト小腸由来のｃＤＮＡライブラリー（Ｃｌｏｎｔｅｃｈ社製）を鋳型とし、合成ＤＮＡプライマーを用いて、ＫＯＤ＋ＤＮＡ  Ｐｏｌｙｍｅｒａｓｅ（東洋紡社製）によりＰＣＲを行い、ヒトＳＧＬＴ１  ｃＤＮＡを増幅した。次に、増幅された断片をＴｏｐｏ  ＴＡ  Ｃｌｏｎｉｎｇ  Ｄｕａｌ  Ｐｒｏｍｏｔｅｒキット（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ社製）を用いてｐｃＲＩＩ−Ｔｏｐｏベクターにクローニングし、大腸菌のコンピテントセル（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ社製、ＴＯＰ１０）に導入して、アンピシリン耐性を示すクローンをアンピシリン（５０ｍｇ／Ｌ）を含むＬＢ培地中で増殖させた。増殖した大腸菌から定法（Ｍａｎｉａｔｉｓら、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｌｏｎｉｎｇを参照）に従いプラスミドを精製した。このプラスミドを鋳型として、制限酵素認識部位を導入した合成ＤＮＡプライマーを用いて、ＫＯＤ＋ＤＮＡ  ＰｏｌｙｍｅｒａｓｅによりＰＣＲを行い、ヒトＳＧＬＴ１  ｃＤＮＡ（上流にＥｃｏ  ＲＩ認識部位、下流にＨｉｎｄ  ＩＩＩ認識部位が付加された断片）を増幅した。この増幅断片をＥｃｏ  ＲＩとＨｉｎｄ  ＩＩＩ消化し、消化断片を発現ベクターｐｃＤＮＡ３．１（−）（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ社製）の同認識部位にＲａｐｉｄ  ＤＮＡ  Ｌｉｇａｔｉｏｎ  ｋｉｔ（Ｒｏｃｈｅ  Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃｓ社製）を用いて連結した。連結した発現ベクターを大腸菌のコンピテントセル（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ社製、ＤＨ５α）に導入し、アンピシリンを含むＬＢ培地中で増殖させ、定法によりヒトＳＧＬＴ１発現ベクターを取得した。【０４００】
２）ヒトＳＧＬＴ２発現ベクターの作製
ヒト腎臓由来のｃＤＮＡライブラリー（Ｃｌｏｎｔｅｃｈ社製）を鋳型とし、合成ＤＮＡプライマーを用いて、ＫＯＤ＋ＤＮＡ  ＰｏｌｙｍｅｒａｓｅによりＰＣＲを行い、ヒトＳＧＬＴ２  ｃＤＮＡを増幅した。次に、増幅された断片をＴｏｐｏ  ＴＡ  Ｃｌｏｎｉｎｇ  Ｄｕａｌ  Ｐｒｏｍｏｔｅｒキットを用いてｐｃＲＩＩ−Ｔｏｐｏベクターにクローニングし、大腸菌のコンピテントセル（ＴＯＰ１０）に導入して、アンピシリン耐性を示すクローンをアンピシリン（５０ｍｇ／Ｌ）を含むＬＢ培地中で増殖させた。増殖した大腸菌から定法に従いプラスミドを精製した。このプラスミドを鋳型として、制限酵素認識部位を導入した合成ＤＮＡプライマーを用いて、ＫＯＤ＋ＤＮＡ  ＰｏｌｙｍｅｒａｓｅによりＰＣＲを行い、ヒトＳＧＬＴ２  ｃＤＮＡ（上流にＸｈｏ  Ｉ認識部位、下流にＨｉｎｄ  ＩＩＩ認識部位が付加された断片）を増幅した。この増幅断片をＸｈｏ  ＩとＨｉｎｄ  ＩＩＩ消化し、消化断片を発現ベクターｐｃＤＮＡ３．１（−）の同認識部位にＲａｐｉｄ  ＤＮＡ  Ｌｉｇａｔｉｏｎ  ｋｉｔを用いて連結した。連結した発現ベクターを大腸菌のコンピテントセル（ＤＨ５α）に導入し、アンピシリンを含むＬＢ培地中で増殖させ、定法によりヒトＳＧＬＴ２発現ベクターを取得した。【０４０１】
３）ヒトＳＧＬＴ１安定発現細胞とヒトＳＧＬＴ２安定発現細胞の作製
制限酵素Ｐｖｕ  Ｉで消化したヒトＳＧＬＴ１発現ベクターまたはヒトＳＧＬＴ２発現ベクターをＦｕＧＥＮＥ（Ｒｏｃｈｅ  Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃｓ社製）を用いてＣＨＯ−Ｋｌ細胞に導入した。遺伝子導入後、細胞をペニシリン（５０Ｕ／ｍＬ、ＳＩＧＭＡ社製）、ストレプトマイシン（５０ｍｇ／Ｌ、ＳＩＧＭＡ社製）、Ｇｅｎｅｔｉｃｉｎ（２００ｍｇ／Ｌ、ナカライテスク社製）と２０％ウシ胎児血清を含むＤＭＥＭ培地（Ｇｉｂｃｏ社製）中で３７℃、５％ＣＯ2存在下で約３週間培養し、Ｇｅｎｅｔｉｃｉｎ耐性のクローンを得た。これらのクローンの中からヒトＳＧＬＴ１あるいはヒトＳＧＬＴ２を安定発現する細胞を、ナトリウム依存的な糖（メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド）取り込み活性を指標に選択、取得した。【０４０２】
４）メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド取り込み阻害活性の測定
ヒトＳＧＬＴ１安定発現ＣＨＯ細胞あるいはヒトＳＧＬＴ２安定発現ＣＨＯ細胞を９６ウエルプレートに３００００〜４００００ｃｅｌｌ／ｗｅｌｌの密度でまき込み、４〜６日培養した。次に、これらの培養プレートの培地を除去し、１ウエルあたり前処置用緩衝液（塩化コリン１４０ｍＭ、塩化カリウム２ｍＭ、塩化カルシウム１ｍＭ、塩化マグネシウム１ｍＭ、２−［４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル］エタンスルホン酸１０ｍＭ、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液ｐＨ７．４）を１５０μＬ加え、３７℃で２０分間静置した。前処置用緩衝液を除去し、再び１ウエルあたり前処置用緩衝液を５０μＬ加え、３７℃で２０分間静置した。緩衝液（塩化ナトリウム１４０ｍＭ、塩化カリウム２ｍＭ、塩化カルシウム１ｍＭ、塩化マグネシウム１ｍＭ、メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド１ｍＭ、［４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル］エタンスルホン酸１０ｍＭ、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液  ｐＨ７．４）１００ｍＬに６．３ｍＬのメチル−α−Ｄ−（Ｕ−14Ｃ）グルコピラノシド（Ａｍｅｒｓｈａｍ  Ｐｈａｒｍａｃｉａ  Ｂｉｏｔｅｃｈ社製、２００ｍＣｉ／Ｌ）を加え混合し、取り込み用緩衝液とし、この取り込み用緩衝液に試験化合物を溶かし込んだ溶液を阻害活性測定用緩衝液として使用した。また、対照としては試験化合物を含まない取り込み用緩衝液を使用した。さらに、試験化合物およびナトリウム非存在下の基礎取り込み測定用に塩化ナトリウムに替えて１４０ｍＭの塩化コリンを含む基礎取り込み用緩衝液を同様に調製し測定に使用した。培養プレートのウエルより前処置用緩衝液を除去し、阻害活性測定用緩衝液を１ウエルあたり３５μＬずつ加え３７℃で４５分間静置した。阻害活性測定用緩衝液を除去し、洗浄用緩衝液（塩化コリン１４０ｍＭ、塩化カリウム２ｍＭ、塩化カルシウム１ｍＭ、塩化マグネシウム１ｍＭ、メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド１０ｍＭ、２−［４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル］エタンスルホン酸１０ｍＭ、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液ｐＨ７．４）を１ウエルあたり３００μＬずつ加え、すぐに除去した。この洗浄操作を更に１回行い、細胞溶解液（水酸化ナトリウム１Ｍ、ラウリル硫酸ナトリウム０．１％）を１ウエルあたり３０mＬずつ加え、細胞を可溶化した。ここに２Ｍ塩酸を１５μＬ添加し、この溶液４０μＬをＬｕｍａ−ｐｌａｔｅ（Ｐａｃｋａｒｄ社製）に移して、室温で一晩放置することで溶媒を蒸発させた。プレート上の試料の放射活性をトップカウント（Ｐａｃｋａｒｄ社製）にて計測した。対照の取り込み量から基礎取り込み量を差し引いた値を１００％とし、取り込み量の５０％阻害をする試験化合物濃度（ＩＣ50値）を濃度−阻害曲線から演算ソフト（ＥＬｆｉｔ  ｖｅｒ．３）により算出した。その結果、本発明化合物は、顕著なＳＧＬＴ２阻害作用を示した。本発明の代表的化合物のＳＧＬＴ２の阻害におけるＩＣ50値を表１１に示す。【０４０３】
【表１１】
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【産業上の利用可能性】
【０４０４】
本発明により優れたＳＧＬＴ２の活性阻害作用を示すシクロヘキサン化合物またはその製薬学的に許容される塩の提供が可能となった。本発明化合物は、糖尿病、糖尿病関連疾患または糖尿病性合併症の予防または治療薬として有用である。