(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状支持体と、表面に凹形状を有する表面層とを有し、更に該円筒状支持体と該表面層との間に該表面層と接する下層を有する積層型の電子写真感光体を製造する方法において、
下層用塗布液の塗布により下層用塗布液の塗膜を形成した後、該塗膜の表面に凹形状を形成して、表面に凹形状を有する下層を形成する工程、および、
表面に凹形状を有する該下層の表面に表面層用塗布液を塗布して、該下層の表面の凹形状に因る凹形状を表面に有する表面層を形成する工程
をこの順に含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
前記下層を形成する工程が、下層用塗布液の塗布により下層用塗布液の塗膜を形成した後、該塗膜を乾燥し、乾燥された該塗膜の表面に凸形状を有するモールドを加圧接触させることにより、表面に凹形状を有する下層を形成する工程である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記下層を形成する工程が、下層用塗布液の塗布により下層用塗布液の塗膜を形成した後、該塗膜を乾燥し、乾燥された該塗膜の表面に研磨粒子を吹き付けることにより、表面に凹形状を有する下層を形成する工程である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記下層を形成する工程が、下層用塗布液の塗布により下層用塗布液の塗膜を形成した後、該塗膜の表面を結露させ、結露した該塗膜を乾燥することにより、表面に凹形状を有する下層を形成する工程である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記表面層用塗布液が、重合性材料を含有する塗布液であり、且つ、前記表面層を形成する工程が、表面に凹形状を有する前記下層の表面に前記表面層用塗布液を塗布した後、該重合性材料を重合させて、前記表面層を形成する工程である請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記重合性材料が、フェノール誘導体又はアルコキシシラン誘導体である請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法に関する。詳しくは、表面に凹形状を有する電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機光導電性物質を用いた電子写真感光体（有機電子写真感光体）の研究開発が盛んに行われている。
【０００３】
電子写真感光体は、基本的には、支持体と該支持体上に形成された感光層とから構成されている。有機電子写真感光体を構成する感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を光導電性物質とし、これら材料を結着する樹脂として結着樹脂を使用する。感光層の層構成は夫々の機能を電荷発生層と電荷輸送層に機能分離した積層構成や、単一層にこれら材料を溶解や分散させた単層の層構成がある。電子写真感光体の大半は積層感光体の構成を採用し、この場合、電荷輸送層が表面層となることが多く、表面層を高耐久化するために、更に保護層を設ける場合もある。
【０００４】
電子写真感光体（以下、場合により単に「感光体」という）の表面層は、各種部材や用紙に接触する層であるために、接触に対する機械的強度あるいは表面層を構成する材料の化学的安定性のような種々の機能が要求される。これらの要求に対し、表面層を構成する材料の改良といった観点から多くの提案がなされている。
【０００５】
感光体表面層の接触に対する機械的強度向上を目的とした提案として、表面層に含有される樹脂の機械的強度を向上させる提案がなされている。中でも、樹脂の機械的強度向上として、表面層を形成する際に、表面層用材料として重合性材料を含有させ、表面層塗布後、重合させる提案がなされている（特許文献１乃至４）。これらの技術により、機械的強度の向上は図られている。しかしながら、これら重合性材料を有する表面層を形成するだけでは、感光体のクリーニング性に対し課題が発生する場合があり、機械的強度とクリーニング性を共に向上させることが望まれている。
【０００６】
これらの課題を解決する方法として、感光体表面を適度に粗面化し、クリーニングブレードと感光体との接触面積を低減する製造方法が提案されている。このような粗面化の製造方法として、特許文献５では、フィルム形状の研磨材を感光体表面と摺擦させる表面処理により、表面に溝を形成する感光体の製造方法が開示されている。特許文献６には、ブラシを用いて、スジ状の形状を形成する感光体の製造方法が開示されている。また、特許文献７及び８では、サンドブラスト処理することにより、表面に凹形状を形成する感光体の製造方法が提案されている。
【特許文献１】特開平９−２９７４２３号公報
【特許文献２】特開２００３−２４６７７１号公報
【特許文献３】特開平１１−２６５０８５号公報
【特許文献４】特開２００６−４７９４９号公報
【特許文献５】特開２００４−２７９９６７号公報
【特許文献６】特開昭５７−９４７７２号公報
【特許文献７】特開平２−１５０８５０号公報
【特許文献８】特開２００６−２６７８５６号公報
【特許文献９】特開２０００−６６４２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献５又は６に開示されている製造方法では、突発的に深い傷が感光体表面に入ることや加工された表面がささくれ状に微小領域で欠陥が発生する場合があった。特に重合性材料の重合により機械的強度を向上させている感光体の表面の加工に対しては、表面加工時の研磨シートの押し付け圧力やブラシの押し付け圧力を上げる対応が必要となることにより、突発的に生じる傷やささくれ状の欠陥の発生頻度に課題があった。
【０００８】
また、特許文献７及び８に開示されている製造方法では、高強度な表面層を有する電子写真感光体の加工、特に重合性材料の重合による表面層を有する感光体の表面加工が可能であり、感光体の特性も良好な結果が得られている。しかしながら、高強度な表面層の加工においては、特許文献８に開示されているように、高圧での砥粒の吹き付けが必要となっている。生産性の観点から、より低圧での砥粒の吹き付けが好ましく、改善が望まれている。また、高圧での砥粒の吹き付けは、砥粒が破損し、破損した砥粒が感光体表面に吹き付けられ、表面の加工均一性を低下させる恐れがあり、表面の加工均一性の観点からも改善が望まれている。
【０００９】
従って、高強度な表面層を有する感光体の表面を粗面化する製造方法として、感光体としての不具合を生じることなく、安定的に粗面化できる製造方法の開発が望まれている。
【００１０】
本発明の目的は、高強度な表面層を有する電子写真感光体の表面を粗面化する製造方法として、高い生産性を有し、かつ均一性の高い凹形状を電子写真感光体表面に作製できる電子写真感光体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に従って、円筒状支持体と、表面に凹形状を有する表面層とを有し、更に該円筒状支持体と該表面層との間に該表面層と接する下層を有する積層型の電子写真感光体を製造する方法において、
下層用塗布液の塗布により下層用塗布液の塗膜を形成した後、該塗膜の表面に凹形状を形成して、表面に凹形状を有する下層を形成する工程、および、
表面に凹形状を有する該下層の表面に表面層用塗布液を塗布して、該下層の表面の凹形状に因る凹形状を表面に有する表面層を形成する工程
をこの順に含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、高強度な表面層を有する積層型電子写真感光体の表面を粗面化する製造方法として、高い生産性を有し、かつ均一性の高い凹形状を電子写真感光体表面に作製できる電子写真感光体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００１９】
本発明の電子写真感光体の製造方法は、前述のとおり、円筒状支持体上に支持体上に表面層を有し、表面層と接する下層を有する積層型電子写真感光体の製造方法において、
（１）円筒状支持体上に下層用塗布液を塗布する下層塗布工程、
（２）塗布された下層用塗布液の塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する形状形成工程、
（３）形状が形成された塗膜表面に表面層用塗布液を塗布する表面層塗布工程、
を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
【００２０】
本発明における表面層及び下層とは、円筒状支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層である場合には、表面層は電荷輸送層を示し、下層は電荷発生層であることを示す。また、円筒状支持体側から電荷輸送層、電荷発生層の順に積層した逆層型感光層である場合には、表面層は電荷発生層を示し、下層は電荷輸送層であることを示す。
【００２１】
また、感光層上に保護層を有する場合には、本発明の表面層は保護層であり、下層は感光層であることを示す。感光層上に保護層を有する場合の下層の感光層としては、電荷発生層及び電荷輸送層のいずれも可能であるが、電荷輸送層であることが好ましい。
【００２２】
中でも、表面層は、円筒状支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層上に形成されることが好ましい。即ち、順層型感光層の電荷輸送層が下層であり、その上に表面層が形成されることが好ましい。
【００２３】
本発明における表面層は、表面層用塗布液を下層上に塗布されることにより形成されるが、その塗布液中に重合性材料を含有することが好ましい。更に、表面層用塗布液を塗布後、重合性材料の重合により表面層が形成されることが機械的強度向上の点から好ましい。本発明における重合性材料の重合の形態は任意であるが、好ましくは重合性材料が架橋された重合であることが好ましい。
【００２４】
本発明における重合性材料は、重合可能な材料であれば任意であるが、重合性材料が重合性官能基を有する化合物であること、フェノール誘導体であること及びアルコキシシラン誘導体の少なくともいずれかであることが好ましい。
【００２５】
前記重合性官能基を有する化合物が有する重合性官能基としては、重合可能な官能基はいずれの場合にも適応可能であるが、中でもアクリル基、ビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。これらの重合性官能基は、重合性を阻害しない範囲で置換基を有してもよい。有してもよい置換基としては、アルキル基、アリール基又はフルオロアルキル基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基又はイソプロピル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基又はナフチル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基であることが好ましい。
【００２６】
更に、前記重合性官能基を有する化合物としては、重合性官能基を有する高分子化合物であることが好ましい。前記重合性官能基を有する高分子化合物としては、前記重合性官能基を有する樹脂であることが好ましい。重合性官能基を有する樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキド樹脂又は不飽和樹脂が挙げられる。特には、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂又はポリアリレート樹脂であることが好ましい。
【００２７】
前記重合性官能基を有する高分子化合物の構造単位の例を下記式（１）に示す。
【００２８】
【化１】
0005094251.tif 000002
【００２９】
上記式（１）中、Ｒ１〜Ｒ８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はフルオロアルキル基を示す。Ｘ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子又は下記式（１−ａ）で示される二価の基を示す。
【００３０】
【化２】
0005094251.tif 000003
【００３１】
上記式（１−ａ）中、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基又はＲ９とＲ１０が結合することによる環構造を有する基を示す。
【００３２】
更に、上記式（１）及び上記式（１−ａ）中に記載のＲ１〜Ｒ１０の少なくともいずれか１つは、前記重合性官能基であることを示す。
【００３３】
上記式（１）中のＲ１〜Ｒ８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。
【００３４】
上記式（１−ａ）中のＲ９〜Ｒ１０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。Ｒ９とＲ１０が結合することによる環構造を有する基としては、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロヘプチレン基又はシクロオクチレン基が挙げられるが、シクロへキシレン基であることが好ましい。
【００３５】
上記式（１）及び上記式（１−ａ）中に記載のＲ１〜Ｒ１０の少なくともいずれか１つは重合性官能基であるが、中でも、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。更には、ビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。
【００３６】
また、前記重合性官能基を有する高分子化合物の構造単位の例を下記式（２）に示す。
【００３７】
【化３】
0005094251.tif 000004
【００３８】
上記式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はフルオロアルキル基を示す。Ｙ１は、二価の有機基を示す。Ｘ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子又は下記式（２−ａ）で示される二価の基を示す。
【００３９】
【化４】
0005094251.tif 000005
【００４０】
上記式（２−ａ）中、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基又はＲ１９とＲ２０が結合することに環構造を有する基を示す。
【００４１】
更に、上記式（２）及び上記式（２−ａ）中に記載のＲ１１〜Ｒ２０の少なくともいずれか１つは前記重合性官能基であることを示す。
【００４２】
上記式（２）中のＲ１１〜Ｒ１８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。
【００４３】
上記式（２−ａ）中のＲ１９〜Ｒ２０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。Ｒ１９とＲ２０が結合することによる環構造を有する基としては、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロヘプチレン基又はシクロオクチレン基が挙げられるが、シクロへキシレン基であることが好ましい。
【００４４】
上記式（２）中のＹ１は、二価の有機基を示す。二価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキレン基又は置換基を有してもよいアリーレン基が挙げられる。置換基を有してもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基又はヘキシレン基が挙げられる。中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基又はブチレン基が好ましい。置換基を有してもよいアリーレン基としては、下記式（２−ｂ−１）〜（２−ｂ−５）で示される構造が挙げられる。
【００４５】
【化５】
0005094251.tif 000006
【００４６】
中でも、（２−ｂ−１）、（２−ｂ−２）又は（２−ｂ−５）で示される構造であることが好ましい。
【００４７】
置換基を有してもよいアルキレン基又は置換基を有してもよいアリーレン基が有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基又は重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基が挙げられるが、中でもビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。
【００４８】
上記式（２）及び上記式（２−ａ）中に記載のＲ１１〜Ｒ２０の少なくともいずれか１つは重合性官能基であるが、中でも、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。更には、ビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。
【００４９】
次に、前記重合性官能基を有する高分子化合物の具体的な構造単位の例を示すがこれらに限定されるものではない。
【００５０】
【化６】
0005094251.tif 000007
【００５１】
【化７】
0005094251.tif 000008
【００５２】
【化８】
0005094251.tif 000009
【００５３】
【化９】
0005094251.tif 000010
【００５４】
【化１０】
0005094251.tif 000011
【００５５】
中でも、（１−４）、（２−２）、（２−７）又は（２−１４）で示される構造単位であることが好ましい。
【００５６】
前記重合性官能基を有する高分子化合物は、重合性官能基を有さない構造単位と共重合させてもよい。
【００５７】
重合性官能基を有さない構造単位の例として下記式（３）で示される構造単位が挙げられる。
【００５８】
【化１１】
0005094251.tif 000012
【００５９】
上記式（３）中、Ｒ２１〜Ｒ２８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はフルオロアルキル基を示す。Ｘ３は、単結合、酸素原子、硫黄原子又は下記式（３−ａ）で示される二価の基を示す。
【００６０】
【化１２】
0005094251.tif 000013
【００６１】
上記式（３−ａ）中、Ｒ２９及びＲ３０は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基又はＲ２９とＲ３０が結合することによる環構造を有する基を示す。
【００６２】
上記式（３）中のＲ２１〜Ｒ２８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。
【００６３】
上記式（３−ａ）中のＲ２９〜Ｒ３０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。Ｒ２９とＲ３０が結合することによる環構造を有する基としては、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロヘプチレン基又はシクロオクチレン基が挙げられるが、シクロへキシレン基であることが好ましい。
【００６４】
また、前記重合性官能基を有さない高分子化合物の構造単位の例を下記式（４）に示す。
【００６５】
【化１３】
0005094251.tif 000014
【００６６】
上記式（４）中、Ｒ３１〜Ｒ３８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はフルオロアルキル基を示す。Ｙ２は、二価の有機基を示す。Ｘ４は、単結合、酸素原子、硫黄原子又は下記式（４−ａ）で示される二価の基を示す。
【００６７】
【化１４】
0005094251.tif 000015
【００６８】
上記式（４−ａ）中、Ｒ３９及びＲ４０は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基又はＲ３９とＲ４０が結合することによる環構造を有する基を示す。
【００６９】
上記式（４）中のＲ３１〜Ｒ３８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。
【００７０】
上記式（４−ａ）中のＲ３９〜Ｒ４０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。Ｒ３９とＲ４０が結合することによる環構造を有する基としては、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロヘプチレン基又はシクロオクチレン基が挙げられるが、シクロへキシレン基であることが好ましい。
【００７１】
上記式（４）中のＹ２は、二価の有機基を示す。二価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキレン基又は置換基を有してもよいアリーレン基が挙げられる。置換基を有してもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基又はヘキシレン基が挙げられる。中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基又はブチレン基が好ましい。置換基を有してもよいアリーレン基としては、下記式（４−ｂ−１）〜（４−ｂ−５）で示される構造が挙げられる。
【００７２】
【化１５】
0005094251.tif 000016
【００７３】
中でも、（４−ｂ−１）、（４−ｂ−２）又は（４−ｂ−５）であることが好ましい。
【００７４】
置換基を有してもよいアルキレン基又は置換基を有してもよいアリーレン基の有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基又は重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。
【００７５】
次に、前記重合性官能基を有さない構造単位の具体的例を示すがこれらに限定されるものではない。
【００７６】
【化１６】
0005094251.tif 000017
【００７７】
【化１７】
0005094251.tif 000018
【００７８】
【化１８】
0005094251.tif 000019
【００７９】
【化１９】
0005094251.tif 000020
【００８０】
【化２０】
0005094251.tif 000021
【００８１】
中でも、（３−２）、（４−１）、（４−２）、（４−５）、（４−６）、（４−７）、（４−１０）又は（４−１２）で示される構造単位であることが好ましい。
【００８２】
重合性官能基を有する高分子化合物は、重合性官能基を有する構造単位と重合性官能基を有さない構造単位との共重合が可能である。その場合の共重合比は、重合性官能基を有する構造単位が、高分子の全構造単位中に３０モル％以上含有されることが好ましい。更には、重合性官能基を有する構造単位が高分子の全構造単位中に５０モル％以上含有されることが好ましい。
【００８３】
重合性官能基を有する高分子化合物の分子量は任意であるが、重量平均分子量（Ｍｗ）において、５，０００以上３００，０００以下であることが感光体の塗工性が良好である点で好ましい。更に、１０，０００以上２００，０００以下であることが好ましい。
【００８４】
本発明において、樹脂の重量平均分子量は、常法に従い、以下のようにして測定されたものである。
【００８５】
すなわち、測定対象樹脂をテトラヒドロフラン中に入れ、数時間放置した後、振盪しながら測定対象樹脂とテトラヒドロフランと良く混合し（測定対象樹脂の合一体が無くなるまで混合し）、更に１２時間以上静置した。
【００８６】
その後、東ソー（株）製のサンプル処理フィルターマイショリディスクＨ−２５−５を通過させたものをＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）用試料とした。
【００８７】
次に、４０℃のヒートチャンバー中でカラムを安定化させ、この温度におけるカラムに、溶媒としてテトラヒドロフランを毎分１ｍｌの流速で流し、ＧＰＣ用試料を１０μｌ注入して、測定対象樹脂の重量平均分子量を測定した。カラムには、東ソー（株）製のカラムＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍを用いた。
【００８８】
測定対象樹脂の重量平均分子量の測定にあたっては、測定対象樹脂が有する分子量分布を、数種の単分散ポリスチレン標準試料により作成された検量線の対数値とカウント数との関係から算出した。検量線作成用の標準ポリスチレン試料には、アルドリッチ社製の単分散ポリスチレンを用いた。単分散ポリスチレンとしては分子量が、３，５００、１２，０００、４０，０００、７５，０００、９８，０００、１２０，０００、２４０，０００、５００，０００、８００，０００、１，８００，０００のものを１０点用いた。検出器にはＲＩ（屈折率）検出器を用いた。
【００８９】
また、前記重合性官能基を有する化合物としては、アリールアミン誘導体であることが好ましい。本発明における重合性官能基を有するアリールアミン誘導体とは、少なくとも１つの重合性官能基を有するアリール基を有するアミン化合物であることを示す。本発明における重合性官能基を有するアリールアミン誘導体を下記式（５）に示す。
【００９０】
【化２１】
0005094251.tif 000022
【００９１】
上記式（５）中、Ｒ５１〜Ｒ５５は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はフルオロアルキル基を示す。Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示す。ただし、Ｒ５１〜Ｒ５５の少なくともいずれか１つは、下記式（５−ａ）で示される構造であることを示す。
【００９２】
【化２２】
0005094251.tif 000023
【００９３】
上記式（５−ａ）中、Ｚ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子又は二価の有機基を示す。Ａ１は、重合性官能基を示す。
【００９４】
上記式（５）中のＲ５１〜Ｒ５５で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基又はフェニル基であることが好ましい。
【００９５】
上記式（５）中のＡｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。これらが有してもよい置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基又は重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アミノ基としては、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基又はジアリールアミノ基が挙げられるが、ジアリールアミノ基であること好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基が挙げられるが、中でもアクリル基又はビニル基であることが好ましい。これら重合性官能基は、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基に対し、アルキレン基を介して結合してもよい。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基又はブチレン基が挙げられるが、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。
【００９６】
上記式（５−ａ）中のＺ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子又は二価の有機基を示す。二価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキレン基又は置換基を有してもよいアリーレン基が挙げられる。置換基を有してもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基又はヘキシレン基が挙げられる。中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基又はブチレン基が好ましい。置換基を有してもよいアリーレン基としては、フェニレン基又はナフチレン基が挙げられるが、フェニレン基であることが好ましい。置換基を有してもよいアルキレン基又は置換基を有してもよいアリーレン基の有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。
【００９７】
上記式（５−ａ）中のＡ１は、重合性官能基を示す。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基が挙げられるが、中でもアクリル基又はビニル基であることが好ましい。
【００９８】
以下に、重合性官能基を有するアリールアミン誘導体の具体的な例を示すがこれらに限定されるものではない。
【００９９】
【化２３】
0005094251.tif 000024
【０１００】
【化２４】
0005094251.tif 000025
【０１０１】
【化２５】
0005094251.tif 000026
【０１０２】
【化２６】
0005094251.tif 000027
【０１０３】
【化２７】
0005094251.tif 000028
【０１０４】
【化２８】
0005094251.tif 000029
【０１０５】
中でも、（５−１）、（５−２）、（５−４）、（５−５）、（５−９）、（５−１１）又は（５−１５）であることが好ましい。
【０１０６】
また、本発明における重合性材料は、重合可能な材料であれば任意であるが、フェノール誘導体であることが好ましい。本発明におけるフェノール誘導体とは、重合工程後、フェノール樹脂となる原料を示す。フェノール誘導体は、重合モノマーであっても、フェノール部位が繰り返されるオリゴマーであってもよいし、複数の原料を組み合わせてもよい。
【０１０７】
本発明におけるフェノール誘導体は、下記式（６）で示される構造を有する。
【０１０８】
【化２９】
0005094251.tif 000030
【０１０９】
上記式（６）中のＲ６１〜Ｒ６５は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、置換基を有してもよいアミノ基、水酸基又は重合性官能基を示す。
【０１１０】
上記式（６）中のＲ６１〜Ｒ６５で示される置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基又は下記式（６−ａ）で示される基が挙げられるが、
【０１１１】
【化３０】
0005094251.tif 000031
【０１１２】
メチル基、エチル基又は上記式（６−ａ）で示される基であることが好ましい。更には、上記式（６）中のＲ６１あるいはＲ６５の少なくともいずれか１つが上記式（６−ａ）で示される基であることが特に好ましい。置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。置換基を有してもよいアミノ基としては、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基又はジアリールアミノ基が挙げられるが、ジアリールアミノ基であること好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基が挙げられるが、中でもビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。これら重合性官能基は、アルキレン基を介して結合してもよい。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基又はブチレン基が挙げられるが、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。
【０１１３】
上記式（６）中のＲ６１〜Ｒ６５で示される置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいアミノ基が有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基又は重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アミノ基としては、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基が挙げられるが、ジアリールアミノ基であること好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基が挙げられるが、中でもビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。これら重合性官能基は、アルキレン基を介して結合してもよい。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基又はブチレン基が挙げられるが、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。
【０１１４】
次に、本発明におけるフェノール誘導体の構造の例を示すがこれらに限定されるものではない。
【０１１５】
【化３１】
0005094251.tif 000032
【０１１６】
【化３２】
0005094251.tif 000033
【０１１７】
中でも、（６−２）、（６−５）又は（６−６）であることが好ましい。
【０１１８】
また、本発明における重合性材料は、重合可能な材料であれば任意であるが、アルコキシシラン誘導体であることが好ましい。本発明におけるアルコキシシラン誘導体とは、加水分解による重合が可能なケイ素原子含有化合物であることを示し、アルコキシ基を少なくとも１つ以上置換基に有するケイ素原子化合物であることを示す。アルコキシシラン誘導体は、重合モノマーであっても、重合可能な置換基を有するケイ素原子を複数個有するオリゴマーであってもよいし、複数の原料を組み合わせてもよい。
【０１１９】
本発明におけるアルコキシシラン誘導体はアルコキシ基を少なくとも１つ有する。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基及びエトキシ基であることが好ましい。
【０１２０】
本発明におけるアルコキシシラン誘導体の構造を下記式（７）に示す。
【０１２１】
【化３３】
0005094251.tif 000034
【０１２２】
上記式（７）中のＲ７１〜Ｒ７４は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、水酸基、ハロゲン原子及び重合性官能基を示すが、Ｒ７１〜Ｒ７４のうち少なくとも１つはアルコキシ基である。
【０１２３】
上記式（７）中のＲ７１〜Ｒ７４で示される置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基が挙げられるが、メチル基、エチル基で示される基であることが好ましい。置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基及びエトキシ基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基又はノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子及び臭素原子が挙げられるが、塩素原子であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基が挙げられるが、中でもビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。これら重合性官能基は、アルキレン基を介して結合してもよい。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基又はブチレン基が挙げられるが、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。
【０１２４】
上記式（７）中のＲ７１〜Ｒ７４で示される置換基を有してもよいアルキル基及び置換基を有してもよいアリール基が有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基又は重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が挙げられるが、メチル基又はエチル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基又はナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アミノ基としては、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基が挙げられるが、ジアリールアミノ基であること好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基が挙げられるが、中でもビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。これら重合性官能基は、アルキレン基を介して結合してもよい。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基又はブチレン基が挙げられるが、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。
【０１２５】
次に、本発明におけるアルコキシシラン誘導体の構造の例を示すがこれらに限定されるものではない。
【０１２６】
【化３４】
0005094251.tif 000035
【０１２７】
【化３５】
0005094251.tif 000036
【０１２８】
中でも、（７−２）、（７−５）又は（７−８）であることが好ましい。
【０１２９】
本発明における下層は、順層型感光層である場合には、電荷発生層であることを示す。また、逆層型感光層である場合には、下層は電荷輸送層であることを示す。また、感光層上に保護層を有する場合には、本発明の下層は感光層であることを示す。感光層上に保護層を有する場合の下層の感光層としては、電荷発生層及び電荷輸送層のいずれも可能であるが、電荷輸送層であることが好ましい。中でも、表面層は、円筒状支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層上に形成されることが好ましい。即ち、順層型感光層の電荷輸送層が下層であり、その上に表面層が形成されることが好ましい。
【０１３０】
本発明における下層が電荷発生層である場合の下層用塗布液について説明する。
【０１３１】
本発明における下層が電荷発生層である場合の電荷発生物質としては、以下のものが挙げられる。
・モノアゾ、ジスアゾ又はトリスアゾのようなアゾ顔料；
・金属フタロシアニン又は非金属フタロシアニンのようなフタロシアニン顔料；
・インジゴ又はチオインジゴのようなインジゴ顔料；
・ペリレン酸無水物又はペリレン酸イミドのようなペリレン顔料；
・アンスラキノン又はピレンキノンのような多環キノン顔料；
・スクワリリウム色素、ピリリウム塩又はチアピリリウム塩、トリフェニルメタン色素；
・セレン、セレン−テルル又はアモルファスシリコンのような無機物質；
・キナクリドン顔料、アズレニウム塩顔料、シアニン染料、キサンテン色素、キノンイミン色素又はスチリル色素。
【０１３２】
これら電荷発生物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。これらの中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンあるいはクロロガリウムフタロシアニンのような金属フタロシアニンは、高感度であるため好ましい。
【０１３３】
本発明における下層が電荷発生層である場合の結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂が挙げられる。また、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂又は塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂が挙げられる。特には、ブチラール樹脂が好ましい。これらは、単独、混合又は共重合体として１種又は２種以上用いることができる。
【０１３４】
本発明における下層が電荷発生層である場合の電荷発生層用塗布液に用いる溶剤は、使用する結着樹脂や電荷発生物質の溶解性や分散安定性から選択される。有機溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤又は芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。
【０１３５】
次に、本発明における下層が電荷輸送層である場合の下層用塗布液について説明する。
【０１３６】
本発明における下層が電荷輸送層である場合の電荷輸送物質としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物又はトリアリルメタン化合物が挙げられる。これら電荷輸送物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
【０１３７】
本発明における下層が電荷輸送層である場合の結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキッド樹脂又は不飽和樹脂。特には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂又はジアリルフタレート樹脂が好ましい。これらは、単独、混合又は共重合体として１種又は２種以上用いることができる。
【０１３８】
電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂とを溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。また、上記電荷輸送物質のうち単独で成膜性を有するものは、結着樹脂を用いずにそれ単独で成膜することにより、電荷輸送層とすることもできる。
【０１３９】
本発明における下層が電荷輸送層である場合の溶剤としては、以下のものが挙げられる。
・アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン系溶剤；
・酢酸メチル又は酢酸エチルのようなエステル系溶剤；
テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジメトキシメタン又はジメトキシエタンのようなエーテル系溶剤；
・トルエン、キシレン又はクロロベンゼンのような芳香族炭化水素溶剤。
【０１４０】
これら溶剤は、単独で使用してもよいが、２種類以上を混合して使用してもよい。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤又は芳香族炭化水素溶剤を使用することが、樹脂溶解性のような観点から好ましい。
【０１４１】
本発明における（１）で示された円筒状支持体上に下層用塗布液を塗布する下層塗布工程に関して説明する。
【０１４２】
本発明における円筒状支持体は、従来の電子写真感光体で用いられている円筒状支持体でよい。すなわち、円筒状支持体としては、導電性を有するもの（導電性円筒状支持体）が好ましく、アルミニウム、アルミニウム合金又はステンレスのような金属製の円筒状支持体を用いることができる。アルミニウム又はアルミニウム合金の場合は、ＥＤ管又はＥＩ管の引抜き管や、これらを切削、電解複合研磨（電解作用を有する電極と電解質溶液による電解及び研磨作用を有する砥石による研磨）、湿式又は乾式ホーニング処理したものも用いることができる。また、アルミニウム、アルミニウム合金又は酸化インジウム−酸化スズ合金を真空蒸着によって被膜形成された層を有する上記金属製円筒状支持体や樹脂製円筒状支持体を用いることもできる。樹脂製円筒状支持体の樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレン又はポリスチレン樹脂が挙げられる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子又は銀粒子のような導電性粒子を樹脂や紙に含浸した円筒状支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチックを用いることもできる。
【０１４３】
本発明における（１）で示された下層用塗布液とは、下層が電荷発生層である場合は電荷発生層用塗布液であり、下層が電荷輸送層である場合は電荷輸送層用塗布液であることを示す。
【０１４４】
本発明における（１）で示された下層用塗布液を塗布する塗布工程は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法又はリングコーティング法のような塗布方法を用いることができる。生産性の観点から浸漬コーティング法であることが好ましい。
【０１４５】
次いで、本発明における（２）で示された塗布された下層用塗布液の塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する形状形成工程について説明する。
【０１４６】
本発明における（２）で示された下層用塗布液の塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する方法としては、生産性及び形状の均一性の観点から以下の凹凸形成方法１乃至４で示される方法であることが好ましい。
【０１４７】
（凹凸形成方法１）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する方法としては、塗布された下層用塗布液の塗膜を乾燥後、凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を有するモールドを加圧接触させることにより、凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を下層用塗布液の塗膜表面に形成する工程であることが好ましい。
【０１４８】
前記下層用塗布液の塗膜を乾燥させる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥及び加熱送風乾燥であることが好ましい。
【０１４９】
前記凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を有するモールドを加圧接触させることにより、凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を下層用塗布液の塗膜表面に形成する方法とは、所定の形状を有するモールドを電子写真感光体の塗膜表面に加圧接触し形状転写を行う表面の形成方法であることを示す。図１は、本発明におけるモールドによる加圧接接による形状転写加工装置の概略図の例を示す図である。加圧及び解除が繰り返し行える加圧装置Ａに所定のモールドＢを取り付けた後、下層用塗布液を塗布された円筒状支持体Ｃに対して所定の圧力でモールドを当接させ形状転写を行う。その後、加圧を一旦解除し、前記円筒状支持体Ｃを回転させた後に、再度加圧そして形状転写工程を行う。この工程を繰り返すことにより、電子写真感光体全周にわたって所定の凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成することが可能である。また、形状形成を効率的に行う目的で、モールドや前記円筒状支持体Ｃを加熱してもよい。
【０１５０】
また、例えば図２に示されているように、初めに加圧装置Ａに前記円筒状支持体Ｃの塗膜表面一周長さ程度の所定形状を有するモールドＢを取り付ける。その後、前記円筒状支持体Ｃに対して所定の圧力をかけながら、前記円筒状支持体Ｃを回転（矢印で示す方向に）、移動（矢印で示す方向に）させることにより、感光体全周にわたって所定の凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成してもよい。
【０１５１】
また、シート状のモールドをロール状の加圧装置と前記円筒状支持体Ｃとの間に挟み、モールドシートを送りながら表面加工することも可能である。
【０１５２】
また、形状転写及び前記円筒状支持体Ｃの加熱温度は、本発明の形状が形成できる範囲で任意であるが、より低く制御されていることが形状を安定的に形成するうえで好ましい。
【０１５３】
モールド自体の材質や大きさ、形状は適宜選択することが出来る。材質としては、微細表面加工された金属及びシリコンウエハーの表面にレジストによりパターニングをしたもの、微粒子が分散された樹脂フィルム又は所定の微細表面形状を有する樹脂フィルムに金属コーティングされたものが挙げられる。モールド形状の一例を図３及び図４に示す。図３及び図４において、（１）は上から見たモールド形状を示し、（２）は横から見たモールド形状を示す図である。
【０１５４】
また、感光体に対して圧力の均一性を付与する目的で、モールドと加圧装置との間に弾性体を設けてもよい。
【０１５５】
上記、所定の形状を有するモールドを下層用塗布液の塗膜表面に圧接し形状転写を行う凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状の形成方法により、凹形状、凸形状の大きさ、形状及び配列の制御性が高く、高精度且つ自由度の高い塗膜表面の表面加工が可能である。
【０１５６】
（凹凸形成方法２）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する方法としては、塗布された下層用塗布液の塗膜を乾燥後、研磨粒子を表面に吹き付けることにより凹形状を形成する工程であることが好ましい。
【０１５７】
前記下層用塗布液の塗膜を乾燥させる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥及び加熱送風乾燥であることが好ましい。
【０１５８】
研磨粒子を表面に吹き付けることにより凹形状を形成する方法としては、乾式のブラスト法が挙げられる。ブラスト加工の方法としては、圧縮空気を用いて噴射する方法、モーターを動力として噴射する方法が挙げられるが、被処理体の凹形状形成を精密に制御が可能で、かつ設備の簡易性という点において、圧縮空気を用いる方法が好ましい。
【０１５９】
乾式ブラストに用いる研磨粒子としては以下の粒子が挙げられる。酸化アルミニウム粒子、ジルコニア粒子、炭化ケイ素粒子、ガラス粒子のようなセラミック粒子。ステンレス粒子、鉄粒子、亜鉛粒子のような金属粒子。ポリアミド樹脂粒子、ポリカーボネート樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子のような樹脂粒子。特に凹形状形成の効率及びコスト面からガラス粒子が好ましい。
【０１６０】
本発明において、使用する研磨粒子の体積基準粒度分布における平均粒径は、１０μｍ以上６０μｍ以下であることが好ましい。また、体積基準粒度分布における最頻径は、１０μｍ超過６０μｍ未満が好ましい。
【０１６１】
本発明における研磨粒子の平均粒径及び最頻径は、体積基準粒度分布に基づくものである。これらは種々の方法によって測定できるが、本発明においてはシスメックス社製フロー式粒子像分析装置ＦＰＩＡ−２１００を用いて測定を行っている。
【０１６２】
具体的な測定方法としては、予め容器中の不純物を除去した水１００ｍｌ以上１５０ｍｌ以下中に分散剤として界面活性剤、好ましくはアルキルベンゼンスルフォン酸塩を０．１ｍｌ以上０．５ｍｌ以下加え、更に測定試料を０．１ｇ以上０．５ｇ以下加える。試料を分散した懸濁液は超音波（５０ｋＨｚ、１２０Ｗ）を１分間以上３分間以下照射し、分散液濃度を１．２万個以上／μｌ２．０万個／μｌ以下とする。上記フロー式粒子像測定装置を用い、０．６μｍ以上４００μｍ以下（平均円形度においては１０．０５μｍ以上１００．４８μｍ未満）の円相当径を有する粒子の平均粒径及び最頻径を測定している。
【０１６３】
本発明において用いるブラスト加工装置の例を図５に示す。容器（不図示）に貯留されている研磨粒子は経路２４よりノズルに導かれ、経路２３より導入された圧縮空気を用いて噴射ノズル２１より噴射される。噴射された研磨粒子は、ワーク支持体２６により支持され自転している下層用塗布液を塗布された円筒状支持体２７に衝突する。２５は研磨粒子（ブラスト砥粒）である。
【０１６４】
このときノズルと前記円筒状支持体の距離は、ノズル固定冶具２２、アーム２９により調整されて決められる。ノズルは通常前記円筒状支持体の回転軸方向に対して移動しながら凹形状形成を行い、ノズル支持体２８が前記円筒状支持体の回転軸方向に移動することによりワークに対してムラ無く凹形状形成を施すことができる。
【０１６５】
この時、ノズルと前記円筒状支持体表面の最短距離は適当な間隔に調整する必要がある。噴射の動力に用いる圧縮空気の圧力も適度な圧力に調整する必要がある。コストの安価なガラスビーズは圧縮空気の圧力が高いと破損する場合があり、生産性の観点から圧縮空気は低圧で行うことが好ましい。
【０１６６】
（凹凸形成方法３）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する方法としては、塗布された下層用塗布液の塗膜表面を結露させた後、乾燥することにより凹形状を形成する工程であることが好ましい。
【０１６７】
前記下層用塗布液の塗膜表面を結露させる方法は、下層用塗布液を塗布された支持体を、塗膜表面が結露する雰囲気下に一定時間保持する工程を示す。この表面形成方法における結露とは、水の作用により塗膜表面に液滴が形成されたことを示す。塗膜を結露させる条件は、支持体を保持する雰囲気の相対湿度及び塗布液溶剤の揮発条件（例えば気化熱）によって影響を受け、適切な条件を選択することが重要である。特に、支持体を保持する雰囲気の相対湿度に主に依存する。塗膜表面を結露させる相対湿度は、４０％以上１００％以下であることが好ましい。更に相対湿度６０％以上９５％以下であることが好ましい。塗膜表面を結露させる工程には、結露による液滴形成が行われるのに必要な時間があればよい。生産性の観点から好ましくは１秒以上３００秒以下であり、更には１０秒以上１８０秒以下であることが好ましい。塗膜表面を結露させる工程には、相対湿度が重要であるが、雰囲気温度としては２０℃以上８０℃以下であることが好ましい。
【０１６８】
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する方法に適した下層用塗布液は、結着樹脂を含有することが好ましい。前記結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキッド樹脂及び不飽和樹脂が挙げられる。特には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂あるいはジアリルフタレート樹脂が好ましい。更には、ポリカーボネート樹脂あるいはポリアリレート樹脂であることが好ましい。これらは、単独、混合又は共重合体として１種又は２種以上用いることができる。
【０１６９】
また、本発明における（２）で示された塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する方法に適した下層用塗布液は、芳香族有機溶剤を含有することが好ましい。芳香族有機溶剤は、水に対して親和性の低い溶剤であり、結露工程における形状形成が安定的に行われる点で好ましい。具体的には、１，２−ジメチルベンゼン、１，３−ジメチルベンゼン、１，４−ジメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼンあるいはクロロベンゼンが挙げられる。更に、芳香族有機溶剤の含有量が下層用塗布液中の全溶剤質量に対し５０質量％以上８０質量％以下で含有する下層用塗布液であることが好ましい。
【０１７０】
また、形状部を安定的に作製する目的で、上記下層用塗布液中に芳香族有機溶剤を含有し、更に水との親和性の高い有機溶剤あるいは水を下層用塗布液中に含有してもよい。水との親和性の高い有機溶剤としては、下記に示すものが好ましい。
・（メチルスルフィニル）メタン（慣用名：ジメチルスルホキシド）、
・チオラン−１，１−ジオン（慣用名：スルホラン）、
・Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボキシアミド、
・Ｎ，Ｎ−ジエチルカルボキシアミド、
・ジメチルアセトアミド、
・１−メチルピロリジン−２−オン。
これらの有機溶剤は単独で含有することも、２種以上混合して含有することができる。
【０１７１】
前記下層用塗布液の塗膜表面を結露させた後、乾燥をさせる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥及び加熱送風乾燥であることが好ましい。また、均一性の高い凹形状を形成するためには、速やかな乾燥であることが重要であるため、加熱乾燥が行われることが好ましい。乾燥工程における乾燥温度は、１００℃以上１５０℃以下であることが好ましい。乾燥する乾燥工程時間は、支持体上に塗布された塗布液中の溶剤及び結露工程によって形成した水滴が除去される時間があればよい。乾燥工程時間は、２０分以上１２０分以下であることが好ましく、更には４０分以上１００分以下であることが好ましい。
【０１７２】
前記結露による形状形成は、製造方法で示した範囲内で製造条件の調整を行うことにより形状の制御が可能である。凹形状部は、例えば、本発明に記載の下層用塗布液中の溶剤種、溶剤含有量、結露工程における相対湿度、結露工程における保持時間、乾燥温度により制御可能である。
【０１７３】
（凹凸形成方法４）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する方法としては、塗布された下層用塗布液の塗膜表面に対し、下層用塗布液と同一成分を吹き付け後、乾燥することにより凸形状を形成する工程であることが好ましい。すなわち、塗膜表面に凸形状を形成する方法とは、下層用塗布液の塗膜表面に対し、下層用塗布液と同一の成分を霧化して吹き付けて凸部を形成する方法を示す。
【０１７４】
本発明における塗布された下層用塗布液の塗膜表面に対し、下層用塗布液と同一の成分を吹き付ける方法としては、下記の方法が挙げられる。
・下層用塗布液を高圧のエアーと混合し微粒化してノズルから噴霧するスプレー法、
・液滴を粒子で吐出させるヘッド部を含むインクジェットユニットを用いる方法。
【０１７５】
吹き付ける下層用塗布液の粘度を、適切な粘度になるように必要に応じて下層用塗布液に含まれる溶剤で希釈を行うことも可能である。
【０１７６】
本発明における塗布された下層用塗布液の塗膜表面に対し、下層用塗布液と同一の成分を吹き付ける方法により、微小な粒子となった塗布液と同一の成分が、塗膜表面に吹き付けられた際に、微小な粒子の大きさの独立した凸形状が塗布表面に形成される。
【０１７７】
前記下層用塗布液の塗膜表面に対し、下層用塗布液と同一の成分を吹き付けた後、乾燥をさせる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥及び加熱送風乾燥であることが好ましい。乾燥工程における乾燥温度は、１００℃以上１５０℃以下であることが好ましい。乾燥する乾燥工程時間は、支持体上に塗布された塗布液中の溶剤が除去される時間があればよい。乾燥工程時間は、２０分以上１２０分以下であることが好ましく、更には４０分以上１００分以下であることが好ましい。
【０１７８】
次いで、本発明における（３）で示された形状形成後の塗膜表面に表面層用塗布液を塗布する表面層塗布工程について説明する。
【０１７９】
前述のように本発明における表面層とは、円筒状支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層である場合には、表面層は電荷輸送層を示す。また、円筒状支持体側から電荷輸送層、電荷発生層の順に積層した逆層型感光層である場合には、表面層は電荷発生層を示す。また、感光層上に保護層を有する場合には、本発明の表面層は保護層を示す。
【０１８０】
本発明における（３）で示された形状形成後の塗膜表面に表面層用塗布液を塗布する表面層塗布工程は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法又はリングコーティング法のような塗布方法を用いることができる。生産性の観点から浸漬コーティング法であることが好ましい。
【０１８１】
前述のように本発明における表面層は、表面層用塗布液を下層上に塗布されることにより形成されるが、その塗布液中に重合性材料を含有することが好ましい。更に、表面層用塗布液を塗布後、重合性材料の重合により表面層が形成されることが機械的強度向上の点から好ましい。本発明における重合性材料の重合の形態は任意であるが、好ましくは重合性材料が架橋された重合であることが好ましい。
【０１８２】
上記重合性材料を重合させる重合工程について説明する。
【０１８３】
重合工程は、重合性材料が重合反応を起こす重合方法であれば、材料に応じ、適した重合方法を選択できる。重合方法としては、加熱による重合、紫外線照射による重合、放射線照射による重合又は加水分解による重合であることが好ましい。
【０１８４】
前記重合性材料の加熱による重合工程について説明する。加熱方法は、重合性材料が重合反応を起こす方法であれば任意である。具体的には、発熱体からの熱放射による加熱又は円筒状支持体の電磁誘導による加熱方法が挙げられる。前記重合性材料の加熱による重合工程で重合反応を行う場合、連鎖重合あるいは重縮合が好ましい。また、重合工程で架橋重合であることが好ましい。
【０１８５】
加熱による重合として、連鎖重合を行う場合には、ラジカル連鎖重合であることが好ましい。加熱によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料としては、重合性官能基を有する化合物であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。また、複数の重合性材料を表面層塗布液中に含有してもよい。加熱によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料を含有する表面層塗布液中にラジカル開始剤を用いることも可能である。ラジカル開始剤としては、ｐ−メトキシ過酸化ベンゾイル、ｍ，ｍ’−ジメトキシ過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビスイソブチルニトリル、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチルエステル又は４，４’−アゾビス−４−シアノヘプタン酸が挙げられる。
【０１８６】
また、加熱による重縮合反応を行う場合には、有機金属化合物を用いたゾルゲル法による縮合反応又はフェノール樹脂とホルムアルデヒドのような２種類以上の分子が反応する重縮合又は置換フェノールによる重縮合反応が挙げられる。中でも、フェノール樹脂とホルムアルデヒドのような２種類以上の分子が反応する重縮合又はレゾール型フェノール樹脂による重縮合反応であることが好ましい。更に、レゾール型フェノール樹脂による重縮合反応であることがより好ましい。
【０１８７】
加熱による重縮合反応を行う場合には、表面層塗布液中に重縮合可能な重合性材料を含有している。重縮合可能な重合性材料としては、上記式（６）で示される化合物であることが好ましい。また、フェノール樹脂とホルムアルデヒドのような２種類以上の分子が反応する重縮合を用いる場合のアルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール又はアセトアルデヒドが挙げられる。
【０１８８】
加熱による重合工程は、重合が十分に進行するように、１００℃以上で加熱されることが好ましい。また、過度の加熱は電子写真感光体の特性を低下させる恐れがあるため、２００℃以下であることが好ましい。更には、１２０℃以上１７０℃以下で加熱が行われることが好ましい。重合工程に必要な時間は、重合が十分に進行するように、５分以上重合工程が行われることが好ましい。また、加熱時間が長過ぎると電子写真感光体の特性を低下させる恐れがあるため、１２０分以下であることが好ましい。更には、２０分以上９０分以下であることが好ましい。
【０１８９】
前記重合性材料の紫外線照射による重合工程について説明する。紫外線照射方法は重合性材料が重合反応を起こす方法であれば任意である。前記重合性材料の紫外線照射による重合工程で重合反応を行う場合、連鎖重合であることが好ましい。連鎖重合を行う場合には、ラジカル連鎖重合であることが好ましい。また、重合工程で架橋重合であることが好ましい。
【０１９０】
紫外線照射によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料としては、重合性官能基を有する化合物であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。また、複数の重合性材料を表面層塗布液中に含有してもよい。紫外線照射によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料を含有する表面層塗布液中に光開始剤を用いてもよい。光開始剤としては、光開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、チオキサントン、ベンゾインブチルエーテル、アシロキシムエステル又はジベンゾスロベンが挙げられる。
【０１９１】
紫外線照射によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合の光源としては、重合性材料あるいは光開始剤の種類により最適なものが選択される。光源としては、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー又はＨｅ−Ｃｄレーザーが挙げられる。中でも、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ又は超高圧水銀ランプが好ましい。
【０１９２】
紫外線照射による重合工程で重合を行う場合には、重合可能であれば重合工程の雰囲気は任意であるが、重合を十分に進行させる点で、酸素濃度が少ない条件下で行うことが好ましい。更には、窒素ガス下で行われることが好ましい。また、重合工程に必要な時間は、紫外線照射により十分に重合が進行する時間があればよい。また、紫外線照射後には加熱処理を行うことも可能である。
【０１９３】
前記重合性材料の放射線照射による重合工程について説明する。放射線照射方法は、重合性材料が重合反応を起こす方法であれば任意である。前記重合性材料の放射線照射による重合工程で重合反応を行う場合、連鎖重合であることが好ましい。連鎖重合を行う場合には、ラジカル連鎖重合であることが好ましい。また、重合工程で架橋重合であることが好ましい。
【０１９４】
本発明における放射線としては、特許公報９において開示された放射線と同様に、電子線及びγ線が挙げられる。中でも、装置の大きさ、安全性、コスト及び汎用性の点から電子線であることが好ましい。電子線照射で重合工程を行う場合、電子線の加速器としては、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型又はラミナー型のいずれの方式も使用することができる。また、電子線の加速電圧としては、３００ｋＶ以下が好ましく、更には１５０ｋＶ以下であることが好ましい。また、電子線の線量としては、１０ｋＧｙ以上１，０００ｋＧｙ以下であることが好ましく、更には５００ｋＧｙ以下であることが好ましい。
【０１９５】
放射線照射によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料としては、重合性官能基を有する化合物であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基又はエポキシ基であることが好ましい。また、複数の重合性材料を表面層塗布液中に含有してもよい。
【０１９６】
放射線照射による重合工程で重合を行う場合には、重合可能であれば重合工程の雰囲気は任意であるが、重合を十分に進行させる点で、酸素濃度が少ない条件下で行うことが好ましい。更には、窒素ガス下で行われることが好ましい。また、重合工程に必要な時間は、放射線照射により十分に重合が進行する時間があればよい。また、放射線照射後には加熱処理を行うことも可能である。
【０１９７】
前記重合性材料の加水分解による重合工程について説明する。前記重合性材料の加水分解による重合工程は、重合性材料がアルコキシシラン誘導体である場合に適応される。アルコキシシラン誘導体は、空気中の水蒸気といった水が介在することにより加水分解反応を起こし重合反応が進行する。常湿状態でも加水分解反応は進行するが、速やかに反応を進行させるためにアルコキシシラン誘導体を含有する表面層塗布液を塗布後、相対湿度５０％以上９０％以下で保持することが好ましい。更に、反応を速やかに進行させるためにアルコキシシラン誘導体を含有する表面層塗布液を塗布後、加熱雰囲気下で保持してもよい。この場合の加熱雰囲気温度は、２５℃以上４０℃以下であることが好ましい。また、加水分解による重合後に加熱処理を行うことも可能である。
【０１９８】
本発明の製造方法により、電子写真感光体の表面に凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を安定的に形成することが可能である。
【０１９９】
本発明の電子写真感光体の製造方法により製造された電子写真感光体の表面は、凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を有している。
【０２００】
前記電子写真感光体表面の凹形状としては、感光体表面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線及び曲線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形、五角形あるいは六角形が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、円形状あるいは楕円形状が挙げられる。直線及び曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形、角の円い六角形あるいは扇形が挙げられる。また、本発明における電子写真感光体の表面の凹形状は、感光体断面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線及び曲線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形あるいは五角形が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、部分円形状あるいは部分楕円形状が挙げられる。直線及び曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形あるいは扇形が挙げられる。前記電子写真感光体表面の凹形状の具体例としては、図６（ａ）乃至（ｇ）（凹形状の形状例（表面））及び図７（ｈ）乃至（ｎ）（凹形状の形状例（断面）））で示される凹形状が挙げられる。前記電子写真感光体表面の凹形状は、個々に異なる形状、大きさあるいは深さを有してもよく、また、全ての凹形状が同一の形状、大きさあるいは深さであってもよい。更に、前記電子写真感光体表面は、個々に異なる形状、大きさあるいは深さを有する凹形状と、同一の形状、大きさあるいは深さを有する凹形状が組み合わされた表面であってもよい。また、これらの形状が、重複部分を有しても、相互に重なり合ってもよい。
【０２０１】
また、前記電子写真感光体表面の凹形状の大きさについて説明する。前記凹形状の指標として長軸径（Ｌ１）を用いる。前記長軸径（Ｌ１）とは、各凹形状部の開孔部を横切る直線のうち、最大となる直線の長さを示す。具体的には、図６（ａ）乃至（ｇ）中の長軸径（Ｌ１）及び図７（ｈ）乃至（ｎ）中の長軸径（Ｌ１）で示されているように、前記電子写真感光体表面における凹形状の開孔部周囲の表面を基準とし、各凹形状における表面開孔部の最大長さを示す。例えば、凹形状の表面形状が円状の場合は直径を示し、表面形状が楕円状の場合は長径を示し、表面形状が四角形の場合は対角線のうち長い対角線を示す。前記電子写真感光体表面における凹形状の長軸径（Ｌ１）は、任意であるが、０．５μｍ以上８０μｍ以下であることが好ましい。更には、１μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることが更に好ましい。
【０２０２】
また、前記電子写真感光体表面の凹形状の深さについて説明する。前記凹形状の指標として深さ（Ｄ）を用いる。前記深さ（Ｄ）とは、各凹形状の最深部と開孔面との距離を示す。具体的には、図７（ｈ）乃至（ｎ）中の深さ（Ｄ）で示されているように、前記電子写真感光体表面における凹形状の開孔部周囲の表面を基準とし、凹形状の最深部と開孔面との距離を示す。前記電子写真感光体表面における凹形状の深さ（Ｄ）は、任意であるが、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。更には、０．３μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることが更に好ましい。
【０２０３】
また、前記電子写真感光体表面の凹形状は、感光体表面の凹形状が形成されている領域は、感光体表面の全域であってもよいし、表面の一部分に形成されていてもよいが、表面全域に凹形状が形成されていることが好ましい。また、前記電子写真感光体表面の凹形状は、前記電子写真感光体表面の１００μｍ四方中に１個以上７０，０００個以下有することが好ましい。更には、１００個以上５０，０００個以下有することが好ましい。なお、上記の１００μｍ四方の領域は、電子写真感光体の表面を感光体回転方向に４等分し、該感光体回転方向と直交する方向に２５等分して得られる計１００箇所の領域のそれぞれの中に、一辺１００μｍの正方形の領域を設けて測定している。
【０２０４】
前記電子写真感光体表面の凸形状としては、感光体表面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線及び曲線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形、五角形あるいは六角形が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、円形状あるいは楕円形状が挙げられる。直線及び曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形、角の円い六角形あるいは扇形が挙げられる。また、本発明における電子写真感光体の表面の凸形状は、感光体断面の観察では、例えば、直線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形あるいは五角形が挙げられる。前記電子写真感光体表面の凸形状の具体例としては、図８（ａ）乃至（ｇ）（凸形状の形状例（表面））及び図９（ｈ）乃至（ｌ）（凸形状の形状例（断面））で示される凸形状が挙げられる。前記電子写真感光体表面の凸形状は、個々に異なる形状、大きさあるいは高さを有してもよく、また、全ての凸形状が同一の形状、大きさあるいは高さであってもよい。更に、前記電子写真感光体表面は、個々に異なる形状、大きさあるいは高さを有する凹形状と、同一の形状、大きさあるいは高さを有する凸形状が組み合わされた表面であってもよい。また、これらの形状が、重複部分を有しても、相互に重なり合ってもよい。
【０２０５】
また、前記電子写真感光体表面の凸形状の大きさについて説明する。前記凸形状の指標として長軸径（Ｌ２）を用いる。前記長軸径（Ｌ２）とは、各凸形状部の周囲の表面を基準とし、各凸形状と周囲の表面とが接する部位の最大長さを示す。具体的には、図８（ａ）乃至（ｇ）中の長軸径（Ｌ２）及び図９（ｈ）乃至（ｌ）中の長軸径（Ｌ２）で示されている長さであることを示す。例えば、凸形状の表面形状が円状の場合は直径を示し、表面形状が楕円状の場合は長径を示し、表面形状が四角形の場合は対角線のうち長い対角線を示す。前記電子写真感光体表面における凸形状の長軸径（Ｌ２）は、任意であるが、０．５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましい。更には、１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることが更に好ましい。
【０２０６】
また、前記電子写真感光体表面の凹形状の高さについて説明する。前記凹形状の指標として高さ（Ｈ）を用いる。前記高さ（Ｈ）とは、各凸形状の最頂部と周囲の表面との距離を示す。具体的には、図９（ｈ）乃至（ｌ）中の高さ（Ｈ）で示されている距離を示す。前記電子写真感光体表面における凸形状の高さ（Ｈ）は、任意であるが、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。更には、０．３μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることが更に好ましい。
【０２０７】
また、前記電子写真感光体表面の凸形状は、感光体表面の凸形状が形成されている領域は、感光体表面の全域であってもよいし、表面の一部分に形成されていてもよいが、表面全域に凸形状が形成されていることが好ましい。また、前記電子写真感光体表面の凸形状は、前記電子写真感光体表面の１００μｍ四方中に１個以上７０，０００個以下有することが好ましい。更には、１００個以上５０，０００個以下有することが好ましい。なお、上記の１００μｍ四方の領域は、電子写真感光体の表面を感光体回転方向に４等分し、該感光体回転方向と直交する方向に２５等分して得られる計１００箇所の領域のそれぞれの中に、一辺１００μｍの正方形の領域を設けて測定している。
【０２０８】
前記電子写真感光体表面の凹凸形状は、例えば、市販のレーザー顕微鏡、光学顕微鏡、電子顕微鏡あるいは原子力間顕微鏡を用いて測定可能である。
【０２０９】
レーザー顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。
・超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−８５５０、超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９０００及び超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９５００（いずれも（株）キーエンス社製）：
・表面形状測定システムＳｕｒｆａｃｅ  Ｅｘｐｌｏｒｅｒ  ＳＸ−５２０ＤＲ型機（（株）菱化システム社製）：
・走査型共焦点レーザー顕微鏡ＯＬＳ３０００（オリンパス（株）社製）：
・リアルカラーコンフォーカル顕微鏡オプリテクスＣ１３０（レーザーテック（株）社製）。
【０２１０】
光学顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。
・デジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００及びデジタルマイクロスコープＶＨＸ−２００（いずれも（株）キーエンス社製）：
・３ＤデジタルマイクロスコープＶＣ−７７００（オムロン（株）社製）。
【０２１１】
電子顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。
・３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡ＶＥ−９８００及び３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡ＶＥ−８８００（いずれも（株）キーエンス社製）：
・走査型電子顕微鏡コンベンショナル／Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  ＳＥＭ（エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）社製）：
・走査型電子顕微鏡ＳＵＰＥＲＳＣＡＮ  ＳＳ−５５０（（株）島津製作所社製）。
【０２１２】
原子力間顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。
・ナノスケールハイブリッド顕微鏡ＶＮ−８０００（（株）キーエンス社製）：
・走査型プローブ顕微鏡ＮａｎｏＮａｖｉステーション（エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）社製）：
・走査型プローブ顕微鏡ＳＰＭ−９６００（（株）島津製作所社製）。
【０２１３】
上記顕微鏡を用いて、所定の倍率により、測定視野内の凹凸形状の長軸径、深さ及び高さを計測することが出来る。
【０２１４】
一例として、Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｘｐｌｏｒｅｒ  ＳＸ−５２０ＤＲ型機による解析プログラムを利用した測定例について説明する。測定対象の電子写真感光体をワーク置き台に設置し、チルト調整して水平を合わせ、ウェーブモードで電子写真感光体の周面の３次元形状データを取り込む。その際、対物レンズの倍率を５０倍とし、１００μｍ×１００μｍ（１００００μｍ２）の視野観察としてもよい。この方法で、測定対象の感光体の表面を感光体回転方向に４等分し、該感光体回転方向と直交する方向に２５等分して得られる計１００箇所の領域のそれぞれの中に、一辺１００μｍの正方形の領域を設けて測定する。
【０２１５】
次に、データ解析ソフト中の粒子解析プログラムを用いて電子写真感光体の表面の等高線データを表示する。
【０２１６】
凹凸の形状、長軸径、深さ及び高さのような凹凸形状の解析パラメーターは、形成された凹凸形状によって各々最適化することが出来る。例えば、長軸径１０μｍ程度の凹凸形状の観察及び測定を行なう場合、長軸径上限を１５μｍ、長軸径下限を１μｍ、深さ下限を０．１μｍ及び体積下限を１μｍ３以上としてもよい。そして、解析画面上で凹凸形状と判別できる凹凸形状の個数をカウントし、これを凹凸形状の個数とする。
【０２１７】
なお、凹凸形状の長軸径が１μｍ程度以下の凹凸形状については、レーザー顕微鏡及び光学顕微鏡による観察が可能であるが、より測定精度を高める場合には、電子顕微鏡による観察及び測定を併用することが望ましい。
【０２１８】
次に、本発明による電子写真感光体の構成について説明する。
【０２１９】
上記のとおり、本発明の電子写真感光体は、支持体と、該支持体上に設けられた有機感光層（以下、単に「感光層」ともいう。）とを有する。本発明による電子写真感光体は、一般的には、円筒状支持体上に感光層を形成した円筒状有機電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状の形状も可能である。
【０２２０】
支持体としては、前述の支持体が挙げられる。支持体の表面は、レーザー光等の散乱による干渉縞の防止等を目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理等を施してもよい。
【０２２１】
支持体の体積抵抗率は、支持体の表面が導電性を付与するために設けられた層である場合、その層の体積抵抗率は、１×１０１０Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、特には１×１０６Ω・ｃｍ以下であることがより好ましい。
【０２２２】
支持体と、後述の中間層又は感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、レーザー光等の散乱による干渉縞の防止や、支持体の傷の被覆を目的とした導電層を設けてもよい。これは、導電性粉体を適当な結着樹脂に分散させた塗布液を塗工することにより形成される層である。
【０２２３】
このような導電性粉体としては、以下のようなものが挙げられる。
・カーボンブラック、アセチレンブラック；
・アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛又は銀のような金属粉；
・導電性酸化スズ又はＩＴＯのような金属酸化物粉体。
【０２２４】
また、同時に用いられる結着樹脂としては、以下の熱可塑樹脂、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。
ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン；
ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール；
アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂又はアルキッド樹脂。
【０２２５】
導電層は、上記導電性粉体と結着樹脂を、
・テトラヒドロフラン又はエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶剤；
・メタノールのようなアルコール系溶剤；
・メチルエチルケトンのようなケトン系溶剤；
・トルエンのような芳香族炭化水素溶剤；
に分散し、又は溶解し、これを塗布することにより形成することができる。導電層の平均膜厚は０．２μｍ以上４０μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましく、更には５μｍ以上３０μｍ以下であることがより一層好ましい。
【０２２６】
導電性顔料や抵抗調節顔料を分散させた導電層は、その表面が粗面化される傾向にある。
【０２２７】
支持体又は導電層と、感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、バリア機能や接着機能を有する中間層を設けてもよい。中間層は、例えば、感光層の接着性改良、塗工性改良、支持体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護のために形成される。
【０２２８】
中間層は、硬化性樹脂を塗布後硬化させて樹脂層を形成する、あるいは結着樹脂を含有する中間層用塗布液を導電層上に塗布し、乾燥することによって形成することができる。
【０２２９】
中間層の結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。
ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸類、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリグルタミン酸又はカゼインのような水溶性樹脂；
ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリグルタミン酸エステル樹脂。
【０２３０】
電気的バリア性を効果的に発現させるためには、また、塗工性、密着性、耐溶剤性及び抵抗のような観点から、中間層の結着樹脂は熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、熱可塑性ポリアミド樹脂が好ましい。ポリアミド樹脂としては、溶液状態で塗布できるような低結晶性又は非結晶性の共重合ナイロンが好ましい。中間層の平均膜厚は、０．０５μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、更には０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
【０２３１】
また、中間層において電荷（キャリア）の流れが滞らないようにするために、中間層中に、半導電性粒子を分散させる、あるいは、電子輸送物質（アクセプターのような電子受容性物質）を含有させてもよい。
【０２３２】
次に、本発明における感光層について説明する。
【０２３３】
本発明における電荷発生層用塗布液及び電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、前述の電荷発生物質が挙げられる。また、電荷発生層に用いる結着樹脂としては、前述の結着樹脂が挙げられる。また、電荷発生層用塗布液に用いる溶剤としては、前述の溶剤が挙げられる。
【０２３４】
電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂及び溶剤と共に分散して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。また、電荷発生層は、電荷発生物質の蒸着膜としてもよい。分散方法としては、ホモジナイザー、超音波、ボールミル、サンドミル、アトライター又はロールミルを用いた方法が挙げられる。電荷発生物質と結着樹脂との割合は、質量比で１０：１乃至１：１０の範囲が好ましく、特には３：１乃至１：１の範囲がより好ましい。
【０２３５】
電荷発生層の平均膜厚は５μｍ以下であることが好ましく、特には０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
【０２３６】
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤及び／又は可塑剤を必要に応じて添加することもできる。また、電荷発生層において電荷（キャリア）の流れが滞らないようにするために、電荷発生層には、電子輸送物質（アクセプターのような電子受容性物質）を含有させてもよい。
【０２３７】
本発明における電荷輸送層用塗布液及び電荷輸送層に用いられる電荷輸送物質としては、前述の電荷輸送物質が挙げられる。また、電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、前述の結着樹脂が挙げられる。また、電荷輸送層用塗布液に用いる溶剤としては、前述の溶剤が挙げられる。
【０２３８】
電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解して得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。電荷輸送物質と結着樹脂との割合は、質量比で２：１乃至１：２の範囲が好ましい。
【０２３９】
電荷輸送層の平均膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、特には１０μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましい。
【０２４０】
また、電荷輸送層には、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤及び／又は可塑剤を必要に応じて添加することもできる。
【０２４１】
保護層としては、前述の重合性材料の重合により形成されることが挙げられる。また、下層に電荷輸送層を塗布し、凹凸形成した後、更に電荷輸送層を形成することが挙げられる。これらの保護層の平均膜厚は、０．１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、更には１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
【０２４２】
本発明の電子写真感光体の各層には各種添加剤を添加することができる。添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤あるいは耐光安定剤のような劣化防止剤や、有機微粒子や無機微粒子が挙げられる。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系耐光安定剤、硫黄原子含有酸化防止剤、リン原子含有酸化防止剤が挙げられる。有機微粒子としては、フッ素原子含有樹脂粒子、ポリスチレン微粒子、ポリエチレン樹脂粒子のような高分子樹脂粒子が挙げられる。無機微粒子としては、シリカ、アルミナのような金属酸化物が挙げられる。
【０２４３】
次に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成について説明する。
【０２４４】
図１０に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す。
【０２４５】
図１０において、円筒状の電子写真感光体１は、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。
【０２４６】
回転駆動される該電子写真感光体１の表面は、帯電手段（一次帯電手段：帯電ローラー等）３により、正又は負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光等の露光手段（不図示）から出力される露光光（画像露光光）４を受ける。こうして電子写真感光体１の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
【０２４７】
電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、現像手段５の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体１の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段（転写ローラー等）６からの転写バイアスによって、転写材供給手段（不図示）から電子写真感光体１と転写手段６との間（当接部）に電子写真感光体１の回転と同期して取り出されて給送された転写材（紙等）Ｐに順次転写されていく。
【０２４８】
トナー像の転写を受けた転写材Ｐは、電子写真感光体１の表面から分離されて定着手段８へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物（プリント、コピー）として装置外へプリントアウトされる。
【０２４９】
トナー像転写後の電子写真感光体１の表面は、クリーニング手段（クリーニングブレード等）７によって転写残りの現像剤（トナー）の除去を受けて清浄面化される。更に前露光手段（不図示）からの前露光光（不図示）により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図１０に示すように、帯電手段３が帯電ローラー等を用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。
【０２５０】
上述の電子写真感光体１、帯電手段３、現像手段５、転写手段６及びクリーニング手段７等の構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成してもよい。更に、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンター等の電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図１０では、電子写真感光体１と、帯電手段３、現像手段５及びクリーニング手段７とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレール等の案内手段１０を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ９としている。
【０２５１】
図１１に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えたフルカラー電子写真装置（インライン方式）の概略構成の一例を示す。
【０２５２】
図１１において、１Ｙ（イエロー）、１Ｍ（マゼンタ）、１Ｃ（シアン）、１Ｋ（ブラック）は円筒状の電子写真感光体（第１色〜第４色用電子写真感光体）であり、それぞれ軸２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｋを中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。
【０２５３】
回転駆動される第１色用電子写真感光体１Ｙの表面は、第１色用帯電手段（一次帯電手段：帯電ローラー等）３Ｙにより、正又は負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光等の露光手段（不図示）から出力される露光光（画像露光光）４Ｙを受ける。露光光４Ｙは、目的のカラー画像の第１色成分像（例えばイエロー成分像）に対応した露光光である。こうして第１色用電子写真感光体１Ｙの表面に、目的のカラー画像の第１色成分像に対応した第１色成分静電潜像（イエロー成分静電潜像）が順次形成されていく。
【０２５４】
張架ローラー１２によって張架された転写材搬送部材（転写材搬送ベルト）１４は、矢印方向に第１色〜第４色用電子写真感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋとほぼ同じ周速度で回転駆動される。転写材搬送部材の速度は、例えば第１色〜第４色用電子写真感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの周速度に対して９７〜１０３％である。また、転写材供給手段１７から給送された転写材（紙等）Ｐは、転写材搬送部材１４に静電的に担持（吸着）され、第１色〜第４色用電子写真感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋと転写材搬送部材との間（当接部）に順次搬送される。
【０２５５】
第１色用電子写真感光体１Ｙの表面に形成された第１色成分静電潜像は、第１色用現像手段５Ｙのトナーにより現像されて第１色トナー画像（イエロートナー画像）となる。次いで、第１色用電子写真感光体１Ｙの表面に形成担持されている第１色トナー画像が、第１色用転写手段（転写ローラー等）６Ｙからの転写バイアスによって、第１色用電子写真感光体１Ｙと第１色用転写手段６Ｙとの間を通過する転写材搬送部材１４に担持された転写材Ｐに順次転写されていく。
【０２５６】
第１色トナー画像転写後の第１色用電子写真感光体１Ｙの表面は、第１色用クリーニング手段（クリーニングブレード等）７Ｙによって転写残トナーの除去を受けて清浄面化された後、繰り返し第１色トナー画像形成に使用される。
【０２５７】
第１色用電子写真感光体１Ｙ、第１色用帯電手段３Ｙ、第１色成分像に対応した露光光４Ｙを出力する第１色用露光手段、第１色用現像手段５Ｙ及び第１色用転写手段６Ｙをまとめて第１色用画像形成部と称する。
【０２５８】
第２色用電子写真感光体１Ｍ、第２色用帯電手段３Ｍ、第２色成分像に対応した露光光４Ｍを出力する第２色用露光手段、第２色用現像手段５Ｍ及び第２色用転写手段６Ｍを有する第２色用画像形成部の動作は、第１色用画像形成部の動作と同様である。また、第３色用電子写真感光体１Ｃ、第３色用帯電手段３Ｃ、第３色成分像に対応した露光光４Ｃを出力する第３色用露光手段、第３色用現像手段５Ｃ及び第３色用転写手段６Ｃを有する第３色用画像形成部の動作は、第１色用画像形成部の動作と同様である。また、第４色用電子写真感光体１Ｋ、第４色用帯電手段３Ｋ、第４色成分像に対応した露光光４Ｋを出力する第４色用露光手段、第４色用現像手段５Ｋ及び第４色用転写手段６Ｋを有する第４色用画像形成部の動作は、第１色用画像形成部の動作と同様である。すなわち、転写材搬送部材１４に担持され、第１色トナー画像が転写された転写材Ｐに、第２色トナー画像（マゼンタトナー画像）、第３色トナー画像（シアントナー画像）、第４色トナー画像（ブラックトナー画像）が順次転写されていく。こうして転写材搬送部材１４に担持された転写材Ｐに目的のカラー画像に対応した合成トナー画像が形成される。
【０２５９】
合成トナー画像が形成された転写材Ｐは、転写材搬送部材１４の表面から分離されて定着手段８へ導入されて像定着を受けることによりフルカラー画像形成物（プリント、コピー）として装置外へプリントアウトされる。
【０２６０】
また、第１色〜第４色用クリーニング手段７Ｙ、７Ｍ、７Ｃ、７Ｋによる転写残トナー除去後の第１色〜第４色用電子写真感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの表面を、前露光手段からの前露光光により除電処理してもよい。また、図１１に示すように、第１色〜第４色用帯電手段３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｋが帯電ローラー等を用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。
【０２６１】
上述の電子写真感光体、帯電手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段等の構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成してもよい。更に、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンター等の電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図１１では、画像形成部ごとに、電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレール等の案内手段（不図示）を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ９Ｙ、９Ｍ、９Ｃ、９Ｋとしている。
【実施例】
【０２６２】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味する。
【０２６３】
（実施例１）
２３℃／６０％ＲＨの環境下で押し出し工程により得られた、直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍの表面が切削加工されたアルミニウムシリンダーを支持体（円筒状支持体）とした。
【０２６４】
次に、
導電性粒子としての酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子          ６．６部
（粉体抵抗率８０Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は５０％）
結着樹脂としてのフェノール樹脂                                    ５．５部
（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分６０％）
及び溶剤としてのメトキシプロパノール５．９部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルで３時間分散して、分散液を調製した。
【０２６５】
この分散液に、
表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子                          ０．５部
（商品名：トスパール１２０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製、平均粒径２μｍ）
レベリング剤としてのシリコーンオイル                          ０．００１部
（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング（株）製）
を添加して攪拌し、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を、導電性円筒状支持体上に浸漬コーティングし、温度１４０℃で３０分間乾燥、熱硬化して、導電性円筒状支持体上端から１３０ｍｍの位置の平均膜厚が１５μｍの導電層を形成した。
【０２６６】
更に、導電層上に、
Ｎ−メトキシメチル化ナイロン                                          ４部
（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、帝国化学産業（株）製）
共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）      ２部
を、メタノール６５部／ｎ−ブタノール３０部の混合溶媒に溶解して得られた中間層用塗布液を浸漬コーティングし、温度１００℃で１０分間乾燥して、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が０．５μｍの中間層を形成した。
【０２６７】
次に、
下記構造式（ＣＧＭ−１）で示されるアゾ顔料                            ２部
【０２６８】
【化３６】
0005094251.tif 000037
【０２６９】
ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＬＳ、積水化学製）          １部
シクロヘキサノン                                                    ５０部
を、１ｍｍφガラスビーズを用いたサンドミル装置で１０時間分散し、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、中間層上に浸漬コーティングし、温度１００℃で１０分間乾燥して、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が０．１６μｍの電荷発生層を形成した。
【０２７０】
次に、
下記構造式（ＣＴＭ−１）で示される電荷輸送物質１０部
【０２７１】
【化３７】
0005094251.tif 000038
【０２７２】
結着樹脂として上記式（３−２）で示される構造単位からなるポリカーボネート樹脂  １０部
（ユーピロンＺ−４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］
をクロロベンゼン６５部及びジメトキシメタン３５部の混合溶媒に溶解し、電荷輸送層用塗布液（下層用塗布液）を調合した。
【０２７３】
なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）の測定方法は以下のとおりである。まず、試料０．５ｇをメチレンクロライド１００ｍｌに溶解し、改良Ｕｂｂｅｌｏｈｄｅ型粘度計を用いて、２５℃における比粘度を測定した。次に、この比粘度から極限粘度を求め、Ｍａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋの粘度式により、粘度平均分子量（Ｍｖ）を算出した。
【０２７４】
以上のように調製した電荷輸送層用塗布液（下層用塗布液）を、電荷発生層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に電荷輸送層用塗布液（下層用塗布液）を塗布する工程を行った。その後、装置内が１２０℃に加熱されていた送風乾燥機内に、下層用塗布液が塗布された円筒状支持体を入れ、乾燥工程を６０分間行った。このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が２０μｍの電荷輸送層（下層）を形成した。
【０２７５】
次いで、前記下層用塗布液の塗膜表面に対し、図２に示されたモールドによる圧接形状転写加工装置において、図１２に示された形状転写用のモールドを設置し表面加工を行った。加工時の電子写真感光体及びモールドの温度は１１０℃に制御し、５ＭＰａの圧力で加圧しながら、感光体を周方向に回転させ形状転写を行った。図１２において、（１）は上から見たモールド形状を示し、（２）は横から見たモールド形状を示す図である。図１２に示すモールドは円柱形状を有しており、その長軸径Ａは１０．０μｍ、高さＣは１０．０μｍであり、モールドとモールドとの形状間隔Ｂは１．０μｍである。
【０２７６】
次に、
上記式（ＣＴＭ−１）で示される構造を有する電荷輸送物質２部、
結着樹脂として上記式（２−２）及び（２−７）の構造単位を１：１の比で共重合されたポリアリレート樹脂［重量平均分子量（Ｍｗ）：１２０，０００］５部、
クロロベンゼン７０部及びジメトキシメタン２３部の混合溶媒に溶解し、表面層用塗布液を調合した。以上のように調製した表面層用塗布液を、形状形成された塗膜表面上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に表面層用塗布液を塗布する工程を行った。上記方法により、形状形成を行った後、前記支持体を、予め１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行った。このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が５μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を作製した。
【０２７７】
作製した電子写真感光体について、感光体表面の外観評価、形状測定及び形状の均一性評価を行った。
【０２７８】
＜感光体表面の外観評価＞
作製された電子写真感光体の表面を超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９５００（（株）キーエンス社製）を用いて観察した。測定対象の電子写真感光体を円筒状支持体を固定できるよう加工された置き台に設置、対物レンズ倍率５０倍とし、感光体表面の１００μｍ四方を視野観察とし、凹形状部の測定を行った。上記の１００μｍ四方の領域は、電子写真感光体の表面を感光体回転方向に４等分し、該感光体回転方向と直交する方向に２５等分して得られる計１００箇所の領域のそれぞれの中に、一辺１００μｍの正方形の領域を設けて測定した。このようにして評価した範囲内で、外観評価を行った。結果を表１に示す。
【０２７９】
＜電子写真感光体の表面形状測定＞
前記外観評価で測定している範囲の測定視野内に観察された凹形状あるいは凸形状を解析プログラムを用いて解析を行った。測定視野内にある凹形状あるいは凸形状の表面部分の長軸径を測定し、その平均値を算出した。また、測定視野内にある凹形状あるいは凸形状の深さあるいは高さを測定し、その平均値を算出した。
【０２８０】
＜凹凸形状の均一性の評価方法＞
前記外観評価で測定している範囲の測定視野内に観察された凹形状あるいは凸形状を解析プログラムを用いて解析を行った。測定視野内にある凹形状あるいは凸形状の表面部分の長軸径を測定し、その平均値を算出した。測定視野内にある凹形状あるいは凸形状のうち、前述の長軸径の平均値に対し、０．８倍以上の長軸径あるいは１．２倍以下の長軸径を有する凹形状あるいは凸形状の個数を計測した。凹形状あるいは凸形状の均一性は、１００μｍ四方あたりの全凹形状あるいは凸形状の個数に対し、１００μｍ四方あたりの長軸径の平均値に対し、０．８倍以上の長軸径あるいは１．２倍以下の長軸径を有する凹形状あるいは凸形状の個数の割合より求めた。表１中の均一性は、（１００μｍ四方あたりの長軸径の平均値に対し０．８倍以上の長軸径あるいは１．２倍以下の長軸径を有する凹形状あるいは凸形状の個数）／（１００μｍ四方あたりの全凹形状あるいは凸形状の個数）を示す。
【０２８１】
実施例１で作製された感光体の表面の表面形状測定により、電子写真感光体の表面には、図１３に示される円柱状の凹形状が形成されていることが確認された。上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径（Ｌ１）の平均値は、３．０μｍであった。また、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、８．０μｍの間隔で形成されていた。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さ（Ｄ）の平均値は、１．５μｍであった。結果を表１に示す。
【０２８２】
更に、作製した電子写真感光体について、電子写真感光体の特性評価を行った。
【０２８３】
＜電子写真感光体の特性評価＞
上記製造方法により製造した電子写真感光体を、キヤノン（株）製レーザービームプリンターＬＢＰ−２５１０（帯電（一次帯電）：接触帯電方式、プロセススピード：９４．２ｍｍ／ｓ）のプロセスカートリッジに装着した。このプロセスカートリッジを用いて、電子写真感光体の回転モータの駆動電流値（電流値Ａ）を測定した。この評価は、電子写真感光体とクリーニングブレードとの負荷量を評価したものである。得られた電流値の大きさは、電子写真感光体とクリーニングブレードとの負荷量の大きさを示す。更に、前述の下層に対する形状形成を行わない下層を作製した後、同様の表面層を作製した電子写真感光体を用いて、回転モータの駆動電流値（電流値Ｂ）を測定した。このようにして得られた下層に形状形成を行った電子写真感光体の回転モータの駆動電流値（電流値Ａ）と、下層に形状形成を行っていない電子写真感光体の回転モータの駆動電流値（電流値Ｂ）との比を算出した。評価は、雰囲気温度２３℃及び相対湿度５０％の環境下で行った。得られた（電流値Ａ）／（電流値Ｂ）の数値を、相対的なトルク比率として比較した。この相対的なトルク比率の数値は、電子写真感光体とクリーニングブレードとの負荷量の増減を示し、トルク比率の数値が小さいほうが電子写真感光体とクリーニングブレードとの負荷量が小さいことを示す。結果を表１に示す。
【０２８４】
（実施例２）
表面層用塗布液中の上記式（２−２）及び（２−７）の構造単位を１：１の比で共重合されたポリアリレート樹脂を（１−４）の構造単位を有するポリカーボネート樹脂［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］に代えた。これ以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０２８５】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、７．８μｍの間隔で形成されていた。
【０２８６】
（実施例３）
下層用塗布液を塗布し、その塗膜表面に形状形成を行う工程までは、実施例１と同様に行った。
【０２８７】
次いで、
上記式（５−５）で示される化合物                                  １０部
トリメチロールプロパントリアクリレート                            １０部
（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬製）
光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン  １部
（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
及びトルエン７９部により表面層用塗布液を調合した。上記表面層用塗布液を、下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、５０℃に加熱された乾燥機中で１０分間乾燥した後、支持体に対し、メタルハライドランプ、照射強度６５０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間９０秒の条件で光照射を行った。その後、１４０℃で６０分乾燥を加えた。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０２８８】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、５．８μｍの間隔で形成されていた。
【０２８９】
（実施例４）
下層用塗布液を塗布し、その塗膜表面に形状形成を行う工程までは、実施例１と同様に行った。
【０２９０】
次いで、
上記式（５−９）で示される化合物                            １０部
１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン    １５部
（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）社製）
及び１−プロパノール１５部を混合し、溶解させた表面層用塗布液を調合した。
【０２９１】
上記表面層用塗布液を、下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、５０℃に加熱された乾燥機中で１０分間乾燥し、その後、窒素雰囲気下において加速電圧１５０ｋＶ及びビーム電流３．０ｍＡの条件で支持体を２００ｒｐｍで回転させながら１．６秒間電子線照射を行った。引き続いて、窒素雰囲気下において、支持体周囲の温度を２５℃から１２５℃まで３０秒かけて昇温させた。なお、このときの電子線の吸収線量を測定したところ、１５ｋＧｙであった。また、電子線照射及び加熱重合反応雰囲気の酸素濃度は１５ｐｐｍ以下であった。上記処理を行った支持体を、大気中において２５℃まで自然冷却し、その後、１００℃に加熱された乾燥機内で３０分間、大気中で加熱処理を行った。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０２９２】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、６．４μｍの間隔で形成されていた。
【０２９３】
（実施例５）
下層用塗布液を塗布し、その塗膜表面に形状形成を行う工程までは、実施例１と同様に行った。
【０２９４】
次いで、上記式（６−６）で示されるフェノール誘導体１０部、フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−４８０４、群栄化学（株）社製）１０部及びエタノール８０部により表面層用塗布液を調合した。
【０２９５】
上記表面層用塗布液を、下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、予め１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が２μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０２９６】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、３．６μｍの間隔で形成されていた。
【０２９７】
（実施例６）
下層用塗布液を塗布し、その塗膜表面に形状形成を行う工程までは、実施例１と同様に行った。
【０２９８】
次いで、上記式（７−２）で示されるアルコキシシラン誘導体１０部、上記式（７−８）で示されるアルコキシシラン誘導体６部、エタノール４０部及びイソプロパノール４４部により表面層用塗布液を調合した。
【０２９９】
上記表面層用塗布液を、下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。塗布工程終了から６０秒後、予め装置内を相対湿度７０％及び雰囲気温度３０℃の状態にされていた装置内に、表面層用塗布液が塗布された塗膜表面を有する円筒状支持体を１０分間保持した。その後、予め装置内が８０℃に加熱されていた送風乾燥機内に、円筒状支持体を入れ、６０分間の乾燥を行い、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が２．５μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３００】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、４．６μｍの間隔で形成されていた。
【０３０１】
（実施例７）
実施例１で使用したモールドを、図１４で示したモールド（長軸径Ａ：７．０μｍ、高さＣ：７．０μｍ、モールドとモールドとの形状間隔Ｂ：０．５μｍ）に変更した以外は、実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【０３０２】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、表面には図１５で示された形状が形成され、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、６．０μｍの間隔で形成されていた。
【０３０３】
（実施例８）
実施例２で使用したモールドを、実施例７で使用したモールドに変更した以外は、実施例２と同様に電子写真感光体を作製した。
【０３０４】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、６．０μｍの間隔で形成されていた。
【０３０５】
（実施例９）
実施例３で使用したモールドを、実施例７で使用したモールドに変更した以外は、実施例３と同様に電子写真感光体を作製した。
【０３０６】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、４．９μｍの間隔で形成されていた。
【０３０７】
（実施例１０）
実施例４で使用したモールドを、実施例７で使用したモールドに変更した以外は、実施例４と同様に電子写真感光体を作製した。
【０３０８】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、５．２μｍの間隔で形成されていた。
【０３０９】
（実施例１１）
実施例５で使用したモールドを、実施例７で使用したモールドに変更した以外は、実施例５と同様に電子写真感光体を作製した。
【０３１０】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、３．９μｍの間隔で形成されていた。
【０３１１】
（実施例１２）
実施例６で使用したモールドを、実施例７で使用したモールドに変更した以外は、実施例６と同様に電子写真感光体を作製した。
【０３１２】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。なお、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との形状間隔Ｅは、４．５μｍの間隔で形成されていた。
【０３１３】
（実施例１３）
実施例１と同様の方法で、下層用塗布液を調合、塗布した。その後、塗布された下層用塗布液の塗膜表面を乾燥させる目的で、５０℃に加熱され保持されている乾燥機内で、１５分間の乾燥を行い、塗膜表面を形成した。この塗膜表面に対し、図５に示すブラスト装置を用いて研磨粒子を吹き付ける処理を行った。研磨粒子として、球状ガラスビーズ（商品名：ＵＢ−０１Ｌ、（株）ユニオン社製、体積平均粒径２８．５μｍ）を用いた。研磨粒子を吹き付け処理における圧縮空気の圧力は７８ｋＰａ、噴射ノズルの回転軸方向への移動速度は４３０ｍｍ／分、ワーク（円筒状支持体）の回転速度は６０ｒｐｍ、噴射ノズルとワークとの距離は１００ｍｍで行った。上記条件による吹き付け処理を塗膜表面に対し１回行った。上記方法により、形状形成を行った後、前記支持体を、予め１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行った。このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が１５μｍの電荷輸送層（下層）を形成した。
【０３１４】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例３で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例３と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３１５】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３１６】
（実施例１４）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例１３と同じ方法で行った。
【０３１７】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例５で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例５と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が２μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３１８】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３１９】
（実施例１５）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例１３と同じ方法で行った。
【０３２０】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例６で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例６と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が２．５μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３２１】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３２２】
（実施例１６）
電荷発生層を円筒状支持体上に作製するまでは、実施例１と同様に作製した。
【０３２３】
次いで、下記構造式（ＣＴＭ−２）で示される電荷輸送物質５部、
【０３２４】
【化３８】
0005094251.tif 000039
【０３２５】
下記構造式（ＣＴＭ−３）で示される電荷輸送物質５部、
【０３２６】
【化３９】
0005094251.tif 000040
【０３２７】
結着樹脂として前記ポリカーボネート樹脂１０部、
（ユーピロンＺ−４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］
クロロベンゼン６５部及びジメトキシメタン３５部の混合溶媒に溶解し、電荷輸送層用塗布液（下層用塗布液）を調合した。
【０３２８】
作製された電荷輸送層用塗布液（下層用塗布液）を電荷発生層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に下層用塗布液を塗布する工程を行った。下層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度４５％及び雰囲気温度２５℃の状態で行った。塗布工程終了から６０秒後、予め装置内を相対湿度７０％及び雰囲気温度４０℃の状態にされていた装置内に、表面層用塗布液が塗布された塗膜表面を有する円筒状支持体を１２０秒間保持した。この処理により塗膜表面に凹形状を形成した。上記方法により、形状形成を行った後、前記支持体を、予め１２０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行った。このようにして、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚１５μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３２９】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例１で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例１と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３３０】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３３１】
（実施例１７）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例１６と同じ方法で行った。
【０３３２】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例２で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例２と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３３３】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３３４】
（実施例１８）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例１６と同じ方法で行った。
【０３３５】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例３で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例３と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３３６】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３３７】
（実施例１９）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例１６と同じ方法で行った。
【０３３８】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例４で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例４と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３３９】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３４０】
（実施例２０）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例１６と同じ方法で行った。
【０３４１】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例５で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例５と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が２．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３４２】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３４３】
（実施例２１）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例１６と同じ方法で行った。
【０３４４】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例６で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例６と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が２．５μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３４５】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３４６】
（実施例２２）
電荷発生層を円筒状支持体上に作製するまでは、実施例１と同様に作製した。
【０３４７】
次いで、
上記構造式（ＣＴＭ−２）で示される電荷輸送物質  ５部
上記構造式（ＣＴＭ−３）で示される電荷輸送物質  ５部
結着樹脂として前記ポリカーボネート樹脂        １０部
（ユーピロンＺ−４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］
をクロロベンゼン６５部、ジメトキシメタン３２部及び（メチルスルフィニル）メタン３部の混合溶媒に溶解し、電荷輸送層用塗布液（下層用塗布液）を調合した。
【０３４８】
作製された電荷輸送層用塗布液（下層用塗布液）を電荷発生層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に下層用塗布液を塗布する工程を行った。下層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度７０％及び雰囲気温度２５℃の状態で行った。塗工直後より結露が進行し、塗膜表面に凹形状が形成された。上記方法により、形状形成を行った後、前記支持体を、予め１２０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行った。このようにして、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚１５μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３４９】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例１で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例１と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３５０】
（実施例２３）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例２２と同じ方法で行った。
【０３５１】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例２で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例２と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３５２】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３５３】
（実施例２４）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例２２と同じ方法で行った。
【０３５４】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例３で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例３と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３５５】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３５６】
（実施例２５）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例２２と同じ方法で行った。
【０３５７】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例４で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例４と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３５８】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３５９】
（実施例２６）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例２２と同じ方法で行った。
【０３６０】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例５で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例５と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が２．０μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３６１】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３６２】
（実施例２７）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例２２と同じ方法で行った。
【０３６３】
得られた下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に、実施例６で用いた表面層用塗布液を塗布し、実施例６と同様の方法により表面層を作製し、支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が２．５μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３６４】
得られた感光体に対し、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。結果を表１に示す。
【０３６５】
（比較例１）
実施例２において、下層塗布液塗布後、形状形成工程を行わず、乾燥し、下層を作製した以外は、実施例２と同様に表面層形成工程を行った。
【０３６６】
その後、プラスチック製のラッピングフィルムシート（粒度１５μｍ、３Ｍ社製）を用いて、上記感光体表面に押し付け、研磨を行った。実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。外観評価では、測定視野内に研磨フィルムから剥がれた研磨粒子によると思われるささくれ状の傷が入っている部分が確認された。線状傷がランダムに形成されるため形状均一性の判断はできなかった。
【０３６７】
（比較例２）
実施例２において、下層塗布液塗布後、形状形成工程を行わず、乾燥し、下層を作製した以外は、実施例２と同様に表面層形成工程を行った。上記感光体の表面層の表面に対し、図５に示すブラスト装置を用いて研磨粒子を吹き付ける処理を行った。研磨粒子として、球状ガラスビーズ（商品名：ＵＢ−０１Ｌ、（株）ユニオン社製、体積平均粒径２８．５μｍ）を用いた。研磨粒子を吹き付け処理における圧縮空気の圧力は７８ｋＰａ、噴射ノズルの回転軸方向への移動速度は４３０ｍｍ／分、ワーク（円筒状支持体）の回転速度は６０ｒｐｍ、噴射ノズルとワークとの距離は１００ｍｍで行った。上記条件による吹き付け処理を塗膜表面に対し１回行った。上記方法により、形状形成を行った後、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。外観評価及び形状測定を行うと、感光体表面には形状がほとんど形成されず、形状の均一性はできなかった。
【０３６８】
（比較例３）
実施例２において、下層塗布液塗布後、形状形成工程を行わず、乾燥し、下層を作製した以外は、実施例２と同様に表面層形成工程を行った。上記感光体の表面層の表面に対し、図５に示すブラスト装置を用いて研磨粒子を吹き付ける処理を行った。研磨粒子として、球状ガラスビーズ（商品名：ＵＢ−０１Ｌ、（株）ユニオン社製、体積平均粒径２８．５μｍ）を用いた。研磨粒子を吹き付け処理における圧縮空気の圧力は９５０ｋＰａ、噴射ノズルの回転軸方向への移動速度は４３０ｍｍ／分、ワーク（円筒状支持体）の回転速度は６０ｒｐｍ、噴射ノズルとワークとの距離は１００ｍｍで行った。上記条件による吹き付け処理を塗膜表面に対し１回行った。上記方法により、形状形成を行った後、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。測定視野内に破砕された研磨粒子によると思われる微小な傷が入っている部分が確認された部分があった。
【０３６９】
（比較例４）
実施例５において、下層塗布液塗布後、形状形成工程を行わず、乾燥し、下層を作製した以外は、実施例５と同様に表面層形成工程を行った。
【０３７０】
その後、プラスチック製のラッピングフィルムシート（粒度１５μｍ、３Ｍ社製）を用いて、上記感光体表面に押し付け、研磨を行った。実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。外観評価では、測定視野内に研磨フィルムから剥がれた研磨粒子によると思われるささくれ状の傷が入っている部分が確認された。線状傷がランダムに形成されるため形状均一性の判断はできなかった。
【０３７１】
（比較例５）
実施例５において、下層塗布液塗布後、形状形成工程を行わず、乾燥し、下層を作製した以外は、実施例５と同様に表面層形成工程を行った。上記感光体の表面層の表面に対し、比較例２と同様の条件による吹き付け処理を塗膜表面に行った。上記方法により、形状形成を行った後、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。外観評価及び形状測定を行うと、感光体表面には形状がほとんど形成されず、形状の均一性はできなかった。
【０３７２】
（比較例６）
実施例５において、下層塗布液塗布後、形状形成工程を行わず、乾燥し、下層を作製した以外は、実施例５と同様に表面層形成工程を行った。上記感光体の表面層の表面に対し、比較例３と同様の条件による吹き付け処理を塗膜表面に行った。上記方法により、形状形成を行った後、実施例１と同様に外観評価、形状測定、形状の均一性評価及び電子写真感光体の特性評価を行った。測定視野内に破砕された研磨粒子によると思われる微小な傷が入っている部分が確認された部分があった。
【０３７３】
【表１】
0005094251.tif 000041
【０３７４】
（実施例２８）
電荷発生層を円筒状支持体上に作製するまでは、実施例１と同様に作製した。
【０３７５】
次いで、実施例１と同様の方法で、下層用塗布液を調合、塗布した。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を乾燥させる目的で、５０℃に加熱され保持されている乾燥機内で、１５分間の乾燥を行い、塗膜表面を形成した。実施例１の表面層用塗布液をクロロベンゼンを塗工液１質量部に対し１９質量部添加することで希釈を行った。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を有する支持体を１２０ｒｐｍで回転させ、塗膜表面に対し希釈した表面層用塗布液を５秒間吹き付ける工程を行った。
【０３７６】
表面層用塗布液の吹き付けによる形状形成工程終了後、予め装置内が１２０℃に加熱されていた送風乾燥機内に、円筒状支持体を入れ、６０分間の乾燥を行った。このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が２１μｍの電荷輸送層（下層）を形成した。
【０３７７】
次いで、
上記式（５−５）で示される化合物                                  １０部
トリメチロールプロパントリアクリレート                            １０部
（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬製）
光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン  １部
（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
及びトルエン７９部により表面層用塗布液を調合した。上記表面層用塗布液を、下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、５０℃に加熱された乾燥機中で１０分間乾燥した後、支持体に対し、メタルハライドランプ、照射強度６５０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間９０秒の条件で光照射を行った。その後、１４０℃で６０分乾燥を加えた。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３７８】
このようにして得られた電子写真感光体に対し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表２に示す。
【０３７９】
（実施例２９）
下層用塗布液の塗膜表面に形状を形成する工程まで、実施例２２と同じ方法で行った。
【０３８０】
次いで、
上記式（５−９）で示される化合物                            １０部
１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン    １５部
（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）社製）
及び１−プロパノール１５部を混合し、溶解させた表面層用塗布液を調合した。
【０３８１】
上記表面層用塗布液を、下層用塗布液の塗膜表面に形状形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、５０℃に加熱された乾燥機中で１０分間乾燥し、その後、窒素雰囲気下において加速電圧１５０ｋＶ及びビーム電流３．０ｍＡの条件で支持体を２００ｒｐｍで回転させながら１．６秒間電子線照射を行った。引き続いて、窒素雰囲気下において、支持体周囲の温度を２５℃から１２５℃まで３０秒かけて昇温させた。なお、このときの電子線の吸収線量を測定したところ、１５ｋＧｙであった。また、電子線照射及び加熱重合反応雰囲気の酸素濃度は１５ｐｐｍ以下であった。上記処理を行った支持体を、大気中において２５℃まで自然冷却し、その後、１００℃に加熱された乾燥機内で３０分間、大気中で加熱処理を行った。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３８２】
このようにして得られた電子写真感光体に対し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表２に示す。
【０３８３】
【表２】
0005094251.tif 000042
【０３８４】
実施例と比較例を比較すると、表面層の下層に対し形状形成を行う製造方法では、感光体表面に対し凹形状、凸形状の少なくとも一方の形状を形成する製造方法よりも、形状形成の安定性や形状均一性において、優位性が高いことを示している。特に重合性材料の重合により表面層を形成する製造方法を工程上含む場合には、加工圧力を低くすると形状形成できない場合が有ることが示されている。また加工圧力を高くすると研磨粒子の破砕によると思われる微小な傷が発生する場合があることが示されている。以上より、本発明の製造方法を行うことにより、形状均一性と生産安定性の両立が可能であることが示唆されていると考えられる。
【０３８５】
また、本発明の製造方法により製造された電子写真感光体は、上記トルク評価においてトルク比率の数値が小さいことが示されている。この相対的なトルク比率の数値は、電子写真感光体とクリーニングブレードとの負荷量の増減を示し、トルク比率の数値が小さいほうが電子写真感光体とクリーニングブレードとの負荷量が小さいことを示している。従って、本発明の電子写真感光体とクリーニングブレードとの負荷量は小さく、プロセスカートリッジや電子写真装置に用いた場合に、優れたクリーニング特性を有することが示されている。
【図面の簡単な説明】
【０３８６】
【図１】本発明で使用するモールドによる圧接形状転写加工装置の概略図の例を示す図である。
【図２】本発明で使用するモールドによる圧接形状転写加工装置の概略図の別の例を示す図である。
【図３】本発明で使用するにおけるモールドの形状の一例を示す図であり、（１）は上から見た、モールド形状を示し、（２）は横から見た、モールド形状を示す図である。
【図４】本発明で使用するにおけるモールドの形状の他の例を示す図であり、（１）は上から見た、モールド形状を示し、（２）は横から見た、モールド形状を示す図である。
【図５】本発明で使用するにおける研磨粒子吹き付け加工装置を示す図である。
【図６】本発明の凹形状の表面観察における形状を示す。
【図７】本発明の凹形状の断面観察における形状を示す。
【図８】本発明の凸形状の表面観察における形状を示す。
【図９】本発明の凸形状の断面観察における形状を示す。
【図１０】接触帯電方式のプロセスカートリッジ及び電子写真装置の一例を示す図である。
【図１１】フルカラー接触帯電方式の電子写真装置の一例を示す図である。図１０で示したプロセスカートリッジを下からイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の順に縦型にタンデム式に並列した方式である。
【図１２】実施例１で使用したモールドの形状（部分拡大図）を示す図であり、（１）は上から見たモールド形状を示し、（２）は横から見たモールド形状を示す図である。
【図１３】実施例１により得られた感光体最表面の凹形状の配列パターン（部分拡大図）を示す図であり、（１）は感光体の表面に形成された凹形状の配列状態を示し、（２）は凹形状の断面形状を示す。
【図１４】実施例７で使用したモールドの形状（部分拡大図）を示す図であり、（１）は上から見たモールド形状を示し、（２）は横から見たモールド形状を示す図である。
【図１５】実施例７により得られた感光体最表面の凹形状の配列パターン（部分拡大図）を示す図であり、（１）は感光体の表面に形成された凹形状の配列状態を示し、（２）は凹形状の断面形状を示す。
【符号の説明】
【０３８７】
１  電子写真感光体
２  軸
３  帯電手段
４  露光光
５  現像手段
６  転写手段
７  クリーニング手段
８  定着手段
９  プロセスカートリッジ
１０  案内手段
Ｐ  転写材
１Ｙ  第１色用電子写真感光体
１Ｍ  第２色用電子写真感光体
１Ｃ  第３色用電子写真感光体
１Ｋ  第４色用電子写真感光体
２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｋ  軸
３Ｙ  第１色用帯電手段
３Ｍ  第２色用帯電手段
３Ｃ  第３色用帯電手段
３Ｋ  第４色用帯電手段
４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋ  露光光
５Ｙ  第１色用現像手段
５Ｍ  第２色用現像手段
５Ｃ  第３色用現像手段
５Ｋ  第４色用現像手段
６Ｙ  第１色用転写手段
６Ｍ  第２色用転写手段
６Ｃ  第３色用転写手段
６Ｋ  第４色用転写手段
７Ｙ  第１色用クリーニング手段
７Ｍ  第２色用クリーニング手段
７Ｃ  第３色用クリーニング手段
７Ｋ  第４色用クリーニング手段
９Ｙ、９Ｍ、９Ｃ、９Ｋ  プロセスカートリッジ
１２  張架ローラー
１４  転写材搬送部材
Ａ  モールドの形状部分の長軸径
Ｂ  モールドの形状部分の形状間隔
Ｃ  モールド形状部分の高さ（深さ）
Ｄ  凹形状の深さ
Ｅ  凹形状の形状間隔
【図１】
0005094251.tif 000043
【図２】
0005094251.tif 000044
【図３】
0005094251.tif 000045
【図４】
0005094251.tif 000046
【図５】
0005094251.tif 000047
【図６】
0005094251.tif 000048
【図７】
0005094251.tif 000049
【図８】
0005094251.tif 000050
【図９】
0005094251.tif 000051
【図１０】
0005094251.tif 000052
【図１１】
0005094251.tif 000053
【図１２】
0005094251.tif 000054
【図１３】
0005094251.tif 000055
【図１４】
0005094251.tif 000056
【図１５】
0005094251.tif 000057