(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体や空気、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位に波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を５．０×１０４μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射して当該対象付着物に付着しているか又は当該対象含有物に含有しているかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌対象に傷をつけた後、当該殺菌対象を５５℃から８５℃までの範囲内において５分乃至６分加熱して殺菌する
かび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌方法。
【請求項２】
充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体や空気、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位を５５℃から８５℃までの範囲内において５分乃至６分加熱して当該対象付着物に付着しているか又は当該対象含有物に含有しているかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌対象に温度による刺激を与えた後、当該殺菌対象に波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を１．５×１０５μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射して殺菌する
かび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌方法。
【請求項３】
上記殺菌対象に対する上記加熱は、熱水、熱風、蒸気等の加熱媒体をかけて行うことによる
請求項１又は２記載のかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌方法。
【請求項４】
上記殺菌対象に対する上記加熱は、電磁波の照射により加熱して行うことによる
請求項１又は２記載のかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌方法。
【請求項５】
充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体や空気、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位に波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を５．０×１０４μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射して当該対象付着物に付着しているか又は当該対象含有物に含有しているかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌対象に傷を生じさせる紫外線照射手段と、
上記紫外線の照射により生じた上記傷を有する上記殺菌対象に対して５５℃から８５℃までの範囲内において５分乃至６分熱を加える加熱手段と、を設けた
かび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌装置。
【請求項６】
充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体や空気、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位を５５℃から８５℃までの範囲内において５分乃至６分加熱して当該対象付着物に付着しているか又は当該対象含有物に含有しているかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌対象に温度による刺激を与える加熱手段と、
上記温度の刺激を有する上記殺菌対象に対して波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を１．５×１０５μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射する紫外線照射手段と、を設けた
かび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌装置。
【請求項７】
上記加熱手段は、上記殺菌対象に対して熱した熱水、熱風、蒸気等の加熱媒体をかけて加熱する媒体加熱手段である
請求項５又は６記載のかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌装置。
【請求項８】
上記加熱手段は、上記殺菌対象に対して電磁波を照射して加熱する赤外線照射装置、レーザ照射装置等の電磁波加熱手段である
請求項５又は６記載のかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明は、容器や包装材、搬送具等の対象付着物に付着しているか又は液体や空気、原材料等の対象含有物に含有している殺菌対象であるかび類や芽胞状態にある菌類を殺菌するかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌方法及びその殺菌装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、容器に飲料や医薬品、工業用製品、化粧品等の内容物を充填する際に、容器は、内容物を充填する充填装置の前段又は後段において紫外線を照射することによって表面に付着しているかび類を死滅させて殺菌がなされている。このような容器に付着しているかび類の殺菌方法としては、一般に、紫外線の照射による紫外線殺菌、加熱水や加熱蒸気等の熱をかける加熱殺菌、或いは薬液をかけて殺菌する薬液殺菌等が行われている。
【０００３】
しかしながら、従来の紫外線による殺菌、加熱による殺菌、或いは薬液による殺菌方法においては、一部のかび類に対しては有効であったが、それほど殺菌の効果が期待できないかび類があるという課題があった。
【０００４】
即ち、かび類のなかには、紫外線に対して強い耐性を有するものが存在する。このかび類の一具体例としてケトミウムかびやコウジかび等がある。このケトミウムかびやコウジかびは、紫外線に強く、なお且つ熱にもある程度の耐性があるという性質を有しており、また、セルロース分解力が強く、日本工業規格（ＪＩＳ）による防黴剤被検菌の１つとしてＡＴＣＣ６２０５株が指定されている。
このケトミウムかびやコウジかびは、穀物やマーガリン等の食品、若しくは枯葉や土壌以外にも、紙やパルプ、ビニール、木材等に付着して生息しており、その生息分布も世界的であり日本全国で認められている。
【０００５】
また、かび類には分類されないが、熱に強い菌類として芽胞を形成する枯草菌等が知られている。この芽胞状態にある菌類は、熱に対しては非常に強いが、紫外線に対して比較的弱いものであることが、本発明者の試験・研究等によって明らかになった。
このようなケトミウムかびやコウジかび或いは芽胞状態を形成する菌類は、土や汚れた水等は勿論のこと、汚れた空気中にも含まれているため、容器や包装紙、包装袋その他にも容易に付着してしまう。特に、容器等が静電気を帯びている場合には、その付着力が極めて大きいために、容器等を衛生的な状態で使用するためには、その容器等を殺菌する必要がある。
【０００６】
そのため、医薬品や食品等の包装に使用される容器は、一般に、充填室で内容物を充填する前に、上述した紫外線殺菌手段や加熱殺菌手段等を使用して、予め殺菌されている。
この場合、大量生産される成品の場合には、容器は予め多量に製造しておき、必要な量を充填室に搬入するという方法が採用されていることが多い。この際、多量の容器は、段ボールの箱等に詰められて保管庫等に保管されており、箱詰め状態で製造ラインに搬送された後、箱から出されてラインコンベヤに乗せられ、充填室に搬送されている。そのため、例えば、段ボールにケトミウムかびが付着して繁殖している場合には、そのケトミウムかびが容器に付着して製造ラインに供給される可能性がある。
【０００７】
そこで、充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器を殺菌する処理が行われていたが、単に紫外線を照射する方法や単に加熱するだけの従来の殺菌方法では、ケトミウムかびやコウジかび等に傷が付く程度で、これらケトミウムかびやコウジかび等を完全に死滅させることができず、容器の殺菌が十分に行われたとは言えない状態であった。
その結果、充填装置で容器に内容物を充填する際に、ケトミウムかび等が付着したままの容器に内容物が充填されることにより、容器等を介して内容物が汚染される可能性があった。また、容器が充填室に搬入される際に、ケトミウムかび等が容器から充填室内に移る可能性があり、充填室がケトミウムかび等によって直に汚染される可能性もあった。
【特許文献】
特開平２−４６９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような従来の課題に鑑みてなされたものであり、紫外線のみによる殺菌、或いは加熱のみによる殺菌ではなく、紫外線と加熱とを組み合わせ、かび類や芽胞状態にある菌類に紫外線を照射してかび類等に傷をつけた後当該かび類等を加熱するか、又はかび類等を加熱した後当該かび類等に紫外線を照射することにより、かび類等を効果的に殺菌することができるかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌方法及びその殺菌装置を提供することを目的としている。
【０００９】
本発明に係るかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌方法は、充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体や空気、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位に波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を５．０×１０４μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射して対象付着物に付着しているか又は対象含有物に含有しているかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌対象に傷を付けた後、殺菌対象を５５℃から８５℃までの範囲内において５分乃至６分加熱して殺菌する。
【００１０】
若しくは、本発明に係るかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌方法は、充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体や空気、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位を５５℃から８５℃までの範囲内において５分乃至６分加熱して対象付着物に付着しているか又は対象含有物に含有しているかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌対象に温度による刺激を与えた後、殺菌対象に波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を１．５×１０５μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射して殺菌する。
【００１１】
また、本発明に係るかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌装置は、充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位に波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を５．０×１０４μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射して対象付着物に付着しているか又は対象含有物に含有しているかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌対象に傷を生じさせる紫外線照射手段と、紫外線の照射により生じた傷を有する殺菌対象に対して５５℃から８５℃までの範囲内において５分乃至６分熱を加える加熱手段と、を設ける。
【００１２】
若しくは、本発明に係るかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌装置は、充填装置によって容器に内容物を充填使用される前において、使用される容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位を５５℃から８５℃までの範囲内において５分乃至６分加熱して対象付着物に付着しているか又は対象含有物に含有しているかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌対象に温度による刺激を与える加熱手段と、温度による刺激を有する殺菌対象に対して波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を１．５×１０５μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射する紫外線照射手段と、を設ける。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。図１は、本発明のかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌方法の一実施例の構成を説明するためのブロック説明図、図２は本発明のかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌装置の一実施例の構成を示す説明図である。
【００１４】
図１及び図２に示す本発明のかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌方法及びその殺菌装置は、殺菌対象としてかび類及び芽胞状態にある菌類を適用したものである。この「かび類」としては、例えば、ケトミウムかび、コウジかびその他のかび類を挙げることができる。また、「芽胞状態にある菌類」としては、例えば、芽胞を形成する枯草菌、バチルス・セレウス（Bacillus cereus）等を挙げることができる。尚、この殺菌対象は、かび類又は芽胞状態にある菌類のいずれか一方のみの殺菌を目的とするものであっても良いことは勿論である。
【００１５】
このような殺菌対象を殺菌することが必要とされるものとしては、殺菌対象が付着される対象付着物や対象含有物を挙げることができる。ここで、「対象付着物」とは、その物の表面（正面側の表面のみならず、背面側の裏面や、底面或いは凹凸部の凹んだ部分等の隠れた部分も含む。）に殺菌対象が付着することがあるため殺菌処理が必要とされるものをいう。
【００１６】
対象付着物としては、例えば、飲料水や果実飲料、コーヒー飲料、水薬その他の液体や加工食品、加工野菜等の固定物等が収納される「容器」、この容器を１個又は２個以上収納することができる「包装材」、この包装材を搬送するための「搬送具」等を挙げることができる。更に、これらを具体的に述べると、容器には容器本体と容器蓋体とが含まれ、容器本体としては、例えば、ペットボトル、ビン、カン、紙パック、ビニール袋等を挙げることができ、容器蓋体としては、例えば、プラスチックキャップ、金属キャップ（アルミニウム、スチール等）、コルク栓等を挙げることができる。
【００１７】
包装材としては、例えば、包装用箱（段ボール製、木製、プラスチック製等）やその中仕切、包装紙、包装用袋（紙製、プラスチック製等）やその中敷等を挙げることができる。更に、搬送具としては、例えば、プラスチックや木材等によって形成された搬送用パレット、搬送用ボード、キャビネット、ケーシング等を挙げることができる。
【００１８】
また、「対象含有物」とは、その物の内部に殺菌対象が含浸されたり混入されたりすることがあるため殺菌処理が必要とされるものをいう。このような対象含有物としては、例えば、水道水や井戸水等の飲料水、果実飲料、コーヒー飲料その他の飲料、水薬や健康飲料その他の医薬品若しくは医薬部外品、蒲鉾やソーセージその他の加工食品、漬物やその他の加工野菜等の固定物等を挙げることができる。
【００１９】
このような対象付着物や対象含有物の殺菌すべき部位に紫外線を照射する紫外線照射手段としては、波長が１８０ｎｍ（ナノメートル）から４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を放射することができるもの、例えば、紫外線を放射する紫外線ランプ、同じく紫外線を放射することができる発光ダイオード（ＬＥＤ）や半導体レーザ等を適用することができる。
【００２０】
また、対象付着物や対象含有物の殺菌すべき部位を加熱する加熱手段は、加熱媒体を所定温度に加熱した後その加熱媒体を殺菌対象に掛けたり吹きつけたりして加熱媒体を介して殺菌対象を加熱する媒体加熱手段と、電磁波を殺菌対象に照射してその殺菌対象自体に分子運動を生じさせて直に加熱する電磁波加熱手段と、に分類することができる。
【００２１】
この加熱手段のうち媒体加熱手段としては、加熱媒体として熱水を用いる熱水加熱手段と、加熱媒体として熱風を用いる熱風加熱手段と、加熱媒体として加熱蒸気を用いる蒸気加熱手段と、を挙げることができる。また、電磁波加熱手段としては、赤外線や遠赤外線を放射する赤外線ランプを用いた赤外線照射装置、同じく赤外線等を放射することができる発光ダイオード（ＬＥＤ）やレーザ光の発射が可能な半導体レーザを用いたレーザ照射装置等を適用することができる。
【００２２】
図１に示すように、かび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌方法は、容器１に付着したかび類及び芽胞状態にある菌類（以下「かび類等」という。）に紫外線を照射するＵ・Ｖ照射ゾーン２と、このＵ・Ｖ照射ゾーン２の後段に位置して容器１に付着したかび類等を加熱する加熱処理ゾーン３等によって構成されている。加熱処理ゾーン３には、容器１に付着したかび類等の加熱手段として加熱装置４が設置されており、この加熱装置４が熱水、蒸気又は熱風を容器１に付着したかび類等に掛ける。
【００２３】
また、加熱装置４が容器に付着したかび類等に熱水や蒸気を掛ける場合、加熱処理ゾーン３には、乾燥処理ゾーン５が設けられる。この乾燥処理ゾーン５には、温風又は熱風を供給する乾燥装置６が設置されており、この乾燥装置６が温風又は熱風を容器１に供給することによって、容器１に残存する加熱装置４が掛けた熱水や蒸気の水分を蒸発させて乾燥させる。更に、加熱処理ゾーン３の後段には、洗浄処理ゾーン７と内容物充填ゾーン８とが設けられている。この洗浄処理ゾーン７は、容器１に付着した埃や汚れ、異物等を洗い流す。内容物充填ゾーン８は、容器１に内容物を充填し、容器１は内容物が充填されることに、よって成品９となる。
【００２４】
このように構成したことにより、容器１に付着したかび類等の殺菌方法は、次のようにして容器１に付着したかび類等を殺菌することができる。まず、容器１は、Ｕ・Ｖ照射ゾーン２に移送されて、紫外線が照射される。これにより、容器１に付着しているかび類等は、紫外線への耐性が弱いものは死滅し、紫外線への耐性が強いものは死滅しないが傷がつけられる。
【００２５】
次に、容器１は、加熱処理ゾーン３に移送されて、加熱装置４によって熱水、蒸気又は熱風が掛けられる。このとき、容器１は、上下を反転させて熱水、蒸気又は熱風が掛けられる。これにより、容器１に付着しているかび類等の中で紫外線の照射によって死滅しなかったかび類又は芽胞状態にある菌類は、紫外線によりつけられた傷から熱が加えられて死滅し、なおかつ、容器１を上下を反転させることにより、容器１内に熱水や蒸気が入り込むことが防止される。その結果、容器１に付着しているかび類等は、効果的に殺菌される。
【００２６】
次に、容器１は、加熱処理ゾーン３の加熱装置４に熱水や蒸気を掛けられた場合、乾燥処理ゾーン５に移送されて、乾燥装置６によって温風又は熱風が供給されて乾燥される。次に、容器１は、洗浄処理ゾーン７に移送されて埃や汚れ、異物等が洗い流され、内容物充填ゾーン８で内容物が充填されて成品９とされる。尚、この実施例において加熱処理ゾーン３は、加熱装置４によって熱水、蒸気又は熱風を容器１に掛ける構成としたが、熱水、蒸気又は熱風を容器１内に入れて加熱するようにしてもよい。
【００２７】
上記のような構成を有する容器に付着したかび類等の殺菌方法は、例えば、図２に示すように、殺菌装置として無菌充填装置に用いられる。
【００２８】
この無菌充填装置１０は、搬入された容器を予備洗浄して殺菌液を充填する予備洗浄装置１１と、この予備洗浄装置１１に連結配置した複数の互いに反対方向に移動する往復振動コンベア１２と、この往復振動コンベア１２に連結した、容器を転倒させて殺菌液を除去し、更に、容器の外側を洗浄する殺菌剤除去外側洗浄装置１３と、この殺菌剤除去外側洗浄装置１３の後段に配設した無菌水で容器の内部を洗浄する無菌水洗浄装置１４と、この無菌水洗浄装置１４に連接した容器に内容物を充填する充填装置１５と、キャップを被冠する被冠装置１６等によって構成されている。
【００２９】
また、無菌充填装置１０は、容器の各装置への移送手段として図示しないコンベヤが用いられており、このコンベヤと各装置とは無菌化された気体が供給されるトンネル１７によって覆われている。
【００３０】
このような構成を有する無菌充填装置１０において、殺菌装置１８は、容器が搬入される入口Ａに設置されている。これにより、殺菌装置１８は、無菌充填装置１０に搬入される容器に紫外線を照射し、更に熱水を掛けて容器に付着したかび類等を殺菌し、無菌充填装置１０内に通される容器をかび類等が付着していない状態にする。その結果、殺菌装置１８は、無菌充填装置１０内に容器を介してかび類等が入り込むことを防止して、無菌充填装置１０が常時無菌状態を保持できるようにしている。
【００３１】
更に、無菌充填装置１０は、仕切りＸのように間仕切りしてもよい。このとき、殺菌装置１８は、予備洗浄装置１１で熱水が用いられることによって、加熱装置と略同一の効果が得られる。また、無菌充填装置１０において殺菌装置は、他の位置に設置してもよい。即ち、第２の実施例に係る殺菌装置１９は、無菌充填装置１０の容器が搬出される出口Ｂに設置されており、外部からかび類等が入り込むということを防止している。これにより、殺菌装置１９は、無菌充填装置１０内が常時無菌状態を保持できるようにしている。
【００３２】
第３の実施例に係る殺菌装置２０は、充填装置１５より前段に設置されており、充填装置１５がかび類等によって汚染されることを防止している。これにより、充填装置１５は、容器に内容物を充填する際に内容物にかび類等が混合して容器に充填するということが防止される。
【００３３】
第４の実施例に係る殺菌装置２１は、充填装置１５より後段に設置されており、充填装置１５がかび類等によって汚染されることを防止している。これにより、充填装置１５は、容器に内容物を充填する際に内容物にかび類等が混合して容器に充填されるということが防止される。
【００３４】
次に、上記装置等を使用して行った試験例について説明する。
【００３５】
試験例１
（１）．試験の名称
バチルス ズブチルス（Bacillus subtilis）に対する紫外線殺菌ランプの不活性化試験
（２）．目的
バチルス ズブチルスの紫外線耐性確認のため、このテストを行った。
（３）．供試菌及び数量
バチルス ズブチルス ＩＦＯ１３７２１
入手期日：平成１１年９月２１日
【００３６】
（４）．試験条件
紫外線殺菌ランプ：ＳＧＬ−１０００Ｔ５ ＨＯＳＨＩＮ（株式会社豊振産業所製）１本
ランプ管壁からの距離：３００ｍｍ
安定時のＵＶ値：２３００μＷ／ｃｍ２（受光計トプコンＵＶＲ−２）
試験容器／菌液量：９０ｍｍ時計皿／１ｍｌ ｎ＝３（表中の結果：１ｍｌ中の菌数）
試験菌濃度：１０３〜１０４個／ｍｌ
紫外線照射時間（ｓｅｃ）：０，２６，３９，７８，１５６
紫外線照射量（μＷ・ｓ／ｃｍ２）：結果表中に記載
供試菌の調整：入手の菌液より希釈調整
菌数測定：寒天希釈法
培養条件 標準寒天培地 ３５±１℃ ９６時間培養
【００３７】
（５）．結果
不活性化試験結果
【表１】
0005043273.tif 000002
【００３８】
（６）．考察：表１に示すように、９６時間培養を条件にした殺菌率では１０−４つまり紫外線照度が６００００μＷ・ｓ／ｃｍ２以上の照射が必要と考えられる。
【００３９】
試験例２
（１）．試験の名称
アスペルギルス ニガー（Aspergillus nigar）に対する紫外線殺菌ランプの不活性化試験
（２）．目的
アスペルギルス ニガーの紫外線耐性確認のため、このテストを行った。
（３）．供試菌及び数量
アスペルギルス ニガー ＩＦＯ４４１４
入手期日：平成１１年９月２１日
【００４０】
（４）．試験条件
紫外線殺菌ランプ：ＳＧＬ−１０００Ｔ５ ＨＯＳＨＩＮ １本
ランプ管壁からの距離：３００ｍｍ
安定時のＵＶ値：２３００μＷ／ｃｍ２
試験容器／菌液量：９０ｍｍ時計皿／１ｍｌ ｎ＝３（表中の結果：１ｍｌ中の菌数）
試験菌濃度：１０２〜１０３個／ｍｌ
紫外線照射時間（sec）：０，７，１３，２６，３９
紫外線照射量（μＷ・ｓ／ｃｍ２）：結果表中に記載
供試菌の調整：入手の菌液より希釈調整
菌数測定：寒天希釈法
培養条件 ポテトデキストロース寒天培地 ２７±２℃ ９６時間培養
【００４１】
（５）．結果
不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
【表２】
0005043273.tif 000003
【００４２】
（６）．考察：表２に示すように、９６時間培養及び４８時間培養では殺菌率に差はなかった。９００００μＷ・ｓ／ｃｍ２で９９％の殺菌率が得られている。通常１６００００μＷ・ｓ／ｃｍ２程度必要といわれているので、今回の菌は多少ＵＶ耐性が低いか、初菌数が少ないせいと考えられる。
【００４３】
試験例３
（１）．試験の名称
ケトミウム カビ（Chaetomium globosum）に対する紫外線殺菌ランプの不活性化試験（熱及び次亜塩素酸の前処理）
（２）．目的
ケトミウム カビは熱以外は非常に耐性が強い。そこで、今回、熱（３０℃，３６℃，４０℃各５分間処理）に次亜塩素酸（１ｐｐｍ，３ｐｐｍ，５ｐｐｍ）を加えさらにＵＶを照射してテストを行った。
（３）．供試菌及び数量
ケトミウム カビ ＡＴＣＣ６２０５ １菌株
【００４４】
（４）．試験条件
紫外線殺菌ランプ：ＳＧＬ−１０００Ｔ５ ＨＯＳＨＩＮ １本
ランプ管壁からの距離：３００ｍｍ
安定時のＵＶ値：２３００μＷ／ｃｍ２
試験容器／菌液量：９０ｍｍ時計皿／１ｍｌ ｎ＝２（表中の結果：１ｍｌ中の菌数）
試験菌濃度：１０３〜１０４個／ｍｌ
紫外線照射時間（sec）：０，２２，４４，６６
紫外線照射量（μＷ・ｓ／ｃｍ２）：結果表中に記載
供試菌の調整：試験開始１週間前にポテトデキストロース寒天平板培地に塗抹し、２７±２℃で培養した菌体を、３０℃，３６℃，４０℃で５分間程度熱処理し、それぞれの次亜塩素酸濃度に約１分間接触させた後、ＵＶ照射を行った。
菌数測定：寒天希釈法
培養条件 ポテトデキストロース寒天培地 ２７±２℃ ９６時間培養
【００４５】
（５）．結果
試験例３−Ａ
１．不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
２．３０℃，３６℃，４０℃で各５分間程度熱処理した後、それぞれの次亜塩素酸濃度で約１分間接触させた菌株に紫外線を照射した。
【表３】
0005043273.tif 000004
【００４６】
この試験例３−Ａを更に詳細に説明すると、３−Ｂ〜３−Ｄのようになった。
【００４７】
試験例３−Ｂ
試験条件 ３０℃５分間程度熱処理＋次亜塩素酸処理
【表４】
0005043273.tif 000005
【００４８】
試験例３−Ｃ
試験条件 ３６℃５分間程度熱処理＋次亜塩素酸処理
【表５】
0005043273.tif 000006
【００４９】
試験例３−Ｄ
試験条件 ４０℃５分間程度熱処理＋次亜塩素酸処理
【表６】
0005043273.tif 000007
【００５０】
（６）．考察：表３及び表４〜表６に示すように、熱の違いや薬品の濃度では変化が見られなかったが、紫外線照射によって９０％の殺菌率を得ることができた。
【００５１】
試験例４
（１）．試験の名称
ケトミウム カビ（Chaetomium globosum）に対する紫外線殺菌ランプの不活性化試験
（２）．目的
ケトミウム カビの紫外線耐性確認及びそのときの数が、カビ数１０／１００／１０００オーダーでのＵＶ殺菌効果の変化確認。４８時間／９６時間培養でのカビ増殖率を確認する。
（３）．供試菌及び数量
ケトミウム カビ ＡＴＣＣ６２０５ １菌株
【００５２】
（４）．試験条件
紫外線殺菌ランプ：ＳＧＬ−１０００Ｔ５ ＨＯＳＨＩＮ １本
ランプ管壁からの距離：３００ｍｍ
安定時のＵＶ値：２３００μＷ／ｃｍ２
試験容器／菌液量：９０ｍｍ時計皿／１ｍｌ ｎ＝５（表中の結果：１ｍｌ中の菌数）
試験菌濃度：１０，１０２．１０３個／ｍｌ
紫外線照射時間（ｓｅｃ）：０，２２，４４，６６
紫外線照射量（μＷ・ｓ／ｃｍ２）：結果表中に記載
供試菌の調整：試験開始１週間前にポテトデキストロース寒天平板培地に塗抹し、２７±２℃で培養した菌体を供試した。
菌数測定：寒天希釈法
培養条件 ポテトデキストロース寒天培地 ２７±２℃ ９６時間培養
【００５３】
（５−１）．結果４Ａ−１
１．不活性化試験結果
２．菌濃度：１０オーダー個／ｍｌの試験
【表７】
0005043273.tif 000008
培養時間９６時間
【００５４】
（５−２）．結果４Ａ−２
１．不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
２．菌濃度：１０オーダー個／ｍｌの試験
【表８】
0005043273.tif 000009
＊：培養日数  ａ：４８時間  ｂ：９６時間
【００５５】
（５−３）．結果４Ｂ−１
１．不活性化試験結果
２．菌濃度：１０２オーダー個／ｍｌの試験
【表９】
0005043273.tif 000010
【００５６】
（５−４）．結果４Ｂ−２
１．不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
２．菌濃度：１０２オーダー個／ｍｌの試験
【表１０】
0005043273.tif 000011
＊：培養日数 ａ：４８時間 ｂ：９６時間
【００５７】
（５−５）．結果４Ｃ−１
１．不活性化試験結果
２．菌濃度：１０３オーダー個／ｍｌの試験
【表１１】
0005043273.tif 000012
【００５８】
（５−６）．結果４Ｃ−２
１．不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
２．菌濃度：１０３オーダー個／ｍｌの試験
【表１２】
0005043273.tif 000013
＊：培養日数  ａ：４８時間  ｂ：９６時間
【００５９】
（６）．考察：表７及び表９、表１１に示すように、ケトミウムの紫外線耐性は、最初のオーダーが低下、それ以上の殺菌効果は、ＵＶ量を増やしても殆ど影響変化が見られない。また、表８及び表１０、表１２に示すように、一度殺菌されたカビが９６時間で極端に増えることはない
【００６０】
試験例５
（１）．試験の名称
ケトミウム カビ（Chaetomium globosum）に対する紫外線殺菌ランプの不活性化試験
（２）．目的
ケトミウム カビに強い紫外線を照射、それによる耐性確認とその高い照射量で殺菌されたカビの４８時間／９６時間培養でのカビ増殖率を確認する。
（３）．供試菌及び数量
ケトミウム カビ ＡＴＣＣ６２０５ １菌株
【００６１】
（４）．試験条件
紫外線殺菌ランプ：ＳＧＬ−１０００Ｔ５ ＨＯＳＨＩＮ １本
ランプ管壁からの距離：３００ｍｍ
安定時のＵＶ値：２３００μＷ／ｃｍ２
試験容器／菌液量：９０ｍｍ時計皿／１ｍｌ ｎ＝３（表中の結果：１ｍｌ中の菌数）
試験菌濃度：１０３〜１０４個／ｍｌ
紫外線照射時間（sec）：０，２２，４４，６５，８７，１０９，１３０
紫外線照射量（μＷ・ｓ／ｃｍ２）：結果表中に記載
供試菌の調整：試験開始１週間前にポテトデキストロース寒天平板培地に塗抹し、２７±２℃で培養した菌体を供試した。
菌数測定：寒天希釈法
培養条件 ポテトデキストロース寒天培地 ２７±２℃ ９６時間培養
【００６２】
（５−１）．結果５−Ａ
不活性化試験結果
【表１３】
0005043273.tif 000014
培養時間９６時間
【００６３】
（５−２）．結果５−Ｂ
不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
【表１４】
0005043273.tif 000015
【００６４】
（６）．考察：表１３に示すように、５０ｍＷで９０％、２００ｍＷで９９％、３００ｍＷでも９９％それ以上の効果は、紫外線を高く照射しても上がらない。また、表１４に示すように、４８時間／９６時間の培養時間の差は殆どない。
【００６５】
試験例６
（１）．試験の名称
ケトミウム カビ（Chaetomium globosum）に対する紫外線殺菌ランプの不活性化試験
（２）．目的
ケトミウム カビに非常に強い紫外線を照射、それによる耐性確認とその高い照射量で殺菌されたカビの４８時間／９６時間培養でのカビ増殖率を確認する。
（３）．供試菌及び数量
ケトミウム カビ ＡＴＣＣ６２０５ １菌株
【００６６】
（４）．試験条件
紫外線殺菌ランプ：ＳＧＬ−１０００Ｔ５ ＨＯＳＨＩＮ １本
ランプ管壁からの距離：３００ｍｍ
安定時のＵＶ値：２３００μＷ／ｃｍ２
試験容器／菌液量：９０ｍｍ時計皿／１ｍｌ ｎ＝３（表中の結果：１ｍｌ中の菌数）
試験菌濃度：１０３〜１０４個／ｍｌ
紫外線照射時間（sec）：０，１３０，１７４，２１８，２６１，３０５，３４８，３９２，４３５
紫外線照射量（μＷ・ｓ／ｃｍ２）：結果表中に記載
供試菌の調整：試験開始１週間前にポテトデキストロース寒天平板培地に塗抹し、２７±２℃で培養した菌体を供試した。
菌数測定：寒天希釈法
培養条件 ポテトデキストロース寒天培地  ２７±２℃  ９６時間培養
【００６７】
（５−１）．結果６−Ａ
不活性化試験結果
【表１５】
0005043273.tif 000016
培養時間９６時間
【００６８】
（５−２）．結果６−Ｂ
不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
【表１６】
0005043273.tif 000017
【００６９】
（６）．考察：表１５に示すように、高照射と殆ど同じ結果で１００個以下のオーダーになると、いくら紫外線を照射しても殺菌率効果は上がらない。また、表１６に示すように、４８時間／９６時間での差は殆どない。
【００７０】
試験例７
（１）．試験の名称
ケトミウム カビ（Chaetomium globosum）に対する紫外線殺菌ランプの不活性化試験
（２）．目的
ケトミウム カビの温度耐性確認と、その状態で更に紫外線を照射して殺菌後のカビが４８時間９６時間培養での増加率を確認する。
（３）．供試菌及び数量
ケトミウム カビ ＡＴＣＣ６２０５ １菌株
【００７１】
（４）．試験条件
紫外線殺菌ランプ：ＳＧＬ−１０００Ｔ５ ＨＯＳＨＩＮ １本
ランプ管壁からの距離：３００ｍｍ
安定時のＵＶ値：２３００μＷ／ｃｍ２
試験容器／菌液量：９０ｍｍ時計皿／１ｍｌ ｎ＝２（表中の結果：１ｍｌ中の菌数）
試験菌濃度：１０３〜１０４個／ｍｌ
紫外線照射時間（sec）：０，２２，４４，６６
紫外線照射量（μＷ・ｓ／ｃｍ２）：結果表中に記載
供試菌の調整：試験開始１週間前にポテトデキストロース寒天平板培地に塗抹し、２７±２℃で培養した菌体を、３５℃，４０℃，４５℃，５０℃，６０℃で各５分間程度保ち、その状態にてＵＶ照射を行った。
菌数測定：寒天希釈法
培養条件 ポテトデキストロース寒天培地 ２７±２℃ ９６時間培養
【００７２】
（５−１）．結果７−Ａ
１．不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
２．３５℃，４０℃，４５℃，５０℃，６０℃で各５分間熱処理した菌株
【表１７】
0005043273.tif 000018
【００７３】
（５−２）．結果７Ａ−１
３５℃５分間熱処理
【表１８】
0005043273.tif 000019
【００７４】
（５−３）．結果７Ａ−２
４０℃５分間熱処理
【表１９】
0005043273.tif 000020
【００７５】
（５−４）．結果７Ａ−３
４５℃５分間熱処理
【表２０】
0005043273.tif 000021
【００７６】
（５−５）．結果７Ａ−４
５０℃５分間熱処理
【表２１】
0005043273.tif 000022
【００７７】
（５−６）．結果７Ａ−５
６０℃５分間熱処理
【表２２】
0005043273.tif 000023
【００７８】
（６）．考察：表１７〜表２１に示すように、ケトミウムの温度耐性は、５０℃までは殆ど殺菌効果が見られない。表１７及び表２２に示すように、６０℃になると９９．９％の効果が出る。そこに紫外線を５０ｍＷ／１００ｍＷ照射して効果はある。そして、１５０ｍＷ程度の照射量では、ゼロ近くにすることが可能である。
【００７９】
試験例８
（１）．試験の名称
ケトミウム カビ（Chaetomium globosum）に対する紫外線殺菌ランプの不活性化試験（熱後処理）
（２）．目的
ケトミウム カビの温度耐性プラス紫外線照射テストの確認を前段階で調べたので今回は、逆に紫外線を照射した後、温度を掛け、前回との違いを確認した。また、そのとき残存または、ゼロのカビが４８時間９６時間培養で増加するかの確認もした。
（３）．供試菌及び数量
ケトミウム カビ ＡＴＣＣ６２０５ １菌株
【００８０】
（４）．試験条件
紫外線殺菌ランプ：ＳＧＬ−１０００Ｔ５ ＨＯＳＨＩＮ １本
ランプ管壁からの距離：３００ｍｍ
安定時のＵＶ値：２３００μＷ／ｃｍ２
試験容器／菌液量：９０ｍｍ時計皿／１ｍｌ ｎ＝２（表中の結果：１ｍｌ中の菌数）
試験菌濃度：１０３〜１０４個／ｍｌ
紫外線照射時間（sec）：０，２２，４４，６６
紫外線照射量（μＷ・ｓ／ｃｍ２）：結果表中に記載
供試菌の調整：試験開始１週間前にポテトデキストロース寒天平板培地に塗抹し、２７±２℃で培養した菌体をＵＶ照射した後、４５℃，５０℃，６０℃で５分間程度熱処理した。
菌数測定：寒天希釈法
培養条件 ポテトデキストロース寒天培地 ２７±２℃ ９６時間培養
【００８１】
（５−１）．結果８−Ａ
１．不活性化試験結果［培養日数とコロニー発生度合］
２．ＵＶ処理後、４５℃，５０℃，６０℃で各５分間熱処理
【表２３】
0005043273.tif 000024
【００８２】
（５−２）．結果８Ａ−１
４５℃５分間程度熱処理
【表２４】
0005043273.tif 000025
【００８３】
（５−３）．結果８Ａ−２
５０℃５分間程度熱処理
【表２５】
0005043273.tif 000026
【００８４】
（５−４）．結果８Ａ−３
６０℃５分間程度熱処理
【表２６】
0005043273.tif 000027
【００８５】
（６）．考察：表２３及び表２４に示すように、４５℃程度では、先に紫外線を１００ｍＷ照射で５９％の効果が出てきており、表２３及び表２５に示すように、５０℃の条件では、温度を掛ける前に１００ｍＷ照射しても４５℃との変化はあまり見られない。しかし、表２３及び表２６に示すように、６０℃においては、先に紫外線照射５０ｍＷ照射後６０℃５分ホールドでケトミウムカビがゼロに近づくことが確認できた。このことから５０ｍＷ／１００ｍＷ照射した後に６０℃の温度を５分程度かけることが今回のケトミウム カビを殺菌するのに良いことが確認できた。
【００８６】
以上、説明したが、本発明は実施の例に限定されるものではなく、例えば、実施例においては、容器１の上方から紫外線照射装置３によって紫外線を照射し、更に熱湯供給装置４によって熱水を掛けて殺菌を行っていたが、側部側や下方、内部等の他の方向、又は容器１全体を殺菌するようにしてもよい。また、容器１に熱を掛ける手段として、熱水を用いていたが、熱風その他の加熱媒体を用いる媒体加熱手段を適用できることは勿論のこと、赤外線、遠赤外線、レーザ光線その他の電磁波を照射して加熱する電磁波加熱手段を用いることもできる。この場合、波長が１８０ｎｍから４８０ｎｍまでの範囲内にある紫外線を５．０×１０４μＷ・ｓ／ｃｍ２以上照射すると良い。また、熱風の元になる空気に紫外線を照射して熱を加えるようにしても良い。
【００８７】
更に、容器１に対して掛ける熱の温度が５５℃〜８５℃のような低く、熱を掛ける時間がより多く必要とする等の場合には、熱を掛ける時間を確保するために螺旋構造等の通路を設けるといった手段を講じるとよい。一方、加熱媒体の温度を８５℃〜９９℃とする場合や、かび類等の殺菌対象自体の温度を８５℃〜９９℃とする場合、更にはこれ以上の高い温度を適用する場合には、加熱媒体を掛ける時間や電磁波を照射する時間を少なくすることができることは勿論である。
【００８８】
特に、殺菌対象に熱を加える場合には、紫外線を照射した直後の１分以内に、加熱媒体の温度又は殺菌対象の温度を５５℃〜８５℃とするときには、加熱媒体を掛ける時間及び電磁波を照射する時間は５分乃至６分は必要である。これに対して、加熱媒体の温度又は殺菌対象の温度を８５℃〜９９℃とするときには、加熱媒体を掛ける時間及び電磁波を照射する時間は２秒乃至３０秒という比較的短い時間でその目的を達成することができる。
このように、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変更できるものである。
【００８９】
【産業上の利用可能性】
以上説明したように、本出願のかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌方法によれば、容器や包装材、搬送具等の対象付着物又は液体や空気、原材料等の対象含有物の殺菌すべき部位に紫外線を照射して対象付着物に付着したかび類等又は対象含有物に含有したかび類等に傷をつけた後、このかび類等に熱水や熱風等の加熱媒体をかけて加熱するか、若しくは対象含有物の殺菌すべき部位を加熱して対象付着物に付着したかび類等又は対象含有物に含有したかび類等に温度による刺激を与えた後、このかび類等に紫外線を照射するようにしたため、紫外線と熱との協働作用によってかび類及び芽胞状態にある菌類を効果的に殺菌することができ、対象付着物や対象含有物及びこれらの周囲がかび類等によって汚染されるのを防止することができる。
【００９０】
また、本出願のかび類及び／又は芽胞状態にある菌類の殺菌装置によれば、紫外線照射手段と加熱手段とを設け、殺菌対象に紫外線を照射して傷を付けた後、その殺菌対象を加熱するか、若しくは殺菌対象を加熱して温度による刺激を与えた後、その殺菌対象に紫外線を照射する構成としたため、紫外線には強いが熱に弱いかび類等や、熱には強いが紫外線には弱いかび類等を、紫外線と熱との協働作用によって効果的に、しかも簡単且つ確実に殺菌することができる装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明に係るかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌方法の一実施例を示すブロック説明図である。
【図２】本発明に係るかび類及び芽胞状態にある菌類の殺菌装置の一実施例の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
【００９２】
１‥容器、  ２‥Ｕ・Ｖ照射ゾーン、  ３‥加熱処理ソーン、  ４‥加熱装置、  １０‥無菌充填装置、  １１‥予備洗浄装置、  １５‥充填装置、  １８，１９，２０，２１‥殺菌装置
【図１】
0005043273.tif 000028
【図２】
0005043273.tif 000029
0005043273.tif 000030