(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
中央軸（１９）に低ボルトアーク放電配置が配置される排気可能な処理室（１）と、処理室の側壁、およびその側面に取付けられた、閉鎖可能な開口部に装着された少なくとも一つの被覆ソース（２１）と、工作物がその上に据え付けられ、さらなる工作物保持器（２）を設けることが可能な工作物キャリヤ（１０）とを備える、工作物処理のための真空装置であって、工作物キャリヤ（１０）が動力および媒体結合連結装置によって、処理室基底部の受容装置と解除可能なように接続され、かつ閉鎖可能な開口部（３ｂ，３ｃ）の断面が工作物キャリヤ（１０）のそれより大きいので、工作物キャリヤは、さらなる工作物保持器（２）に据え付けられた工作物と共に取り外され、真空装置から取り出し可能であることを特徴とする、真空装置。
【請求項２】
前記被覆ソース（２１）は、処理室の正面側に取付けられる、請求項１に記載の真空装置。
【請求項３】
連結装置が、工作物キャリヤおよび受容装置の動力連結ガイド装置および接続装置からなり、さらに受容装置では前記ガイドピンに対応する窪みとして形成されるので、工作物キャリヤが適切なリフト装置で持ち上げられると連結が分離され、工作物キャリヤが受容装置上に下ろされると、解除可能な接続が成立することを特徴とする、請求項１または２に記載の真空装置。
【請求項４】
連結装置が、工作物キャリヤ（１０）のガイドピンとして形成されることを特徴とする、請求項３に記載の真空装置。
【請求項５】
連結装置が、自動心出しアーバとして形成されることを特徴とする、請求項４に記載の真空装置。
【請求項６】
受容装置が、穿孔として形成される、請求項３から５のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項７】
工作物キャリヤが処理室（１）の中央軸（１９）の周りに回転可能なように配置されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項８】
工作物キャリヤ（１０）のための受容装置が処理室（１）の中央軸（１９）において回転可能なように配置されることを特徴とする、請求項１から７のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項９】
回転可能な受容装置が基本的に、排気可能な処理室の外側にエンジン駆動装置を備える垂直な中空軸（１１）として形成され、かつ、媒体の導通装置を有することを特徴とする、請求項１から８のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項１０】
媒体の導通装置は、陽極電流供給（１７）、基板バイアス（１６）、冷却媒体（１８）および測定管（８）を有することを特徴とする、請求項９に記載の真空装置。
【請求項１１】
処理装置内における工作物保持器の装入位置および取り出し位置を確定する手段を備えることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項１２】
前記手段は、エンドスイッチ、誘導近接スイッチ、機械式ストッパーまたは同類の機械式または電気機械式装置を備えることを特徴とする、請求項１１に記載の真空装置。
【請求項１３】
解除可能な連結の電気接続装置がすべり接触（２５）、スライド接触（２６）、ばね接触またはコンセントからなることを特徴とする、請求項１から１２のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項１４】
真空装置が、工作物キャリヤおよび工作物を備える処理室のための、ガス流入システム、ガス循環装置およびガス熱交換器を備える急速冷却／加熱システムを有することを特徴とする、請求項１から１３のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項１５】
ガス急冷／加熱システムが、基本的に１００ｍｂａｒから大気圧までの圧力領域のための圧力調整装置を備え、かつガスにはヘリウム、窒素または化成ガスが使用されることを特徴とする、請求項１４に記載の真空装置。
【請求項１６】
ガス急冷／加熱システムが、１００ｍｂａｒから８００ｍｂａｒでの圧力調整装置を備えることを特徴とする、請求項１５に記載の真空装置。
【請求項１７】
低ボルトアーク放電配置の陽極が、回転可能な受容装置の中央に装着されることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項１８】
陽極（５）が受容装置平面において水平方向に分割可能であり、上部解除部材は陽極ヘッドとして取り外し可能であることを特徴とする、請求項１７に記載の真空装置。
【請求項１９】
処理室におけるプラズマ影響のために、磁場発生器が取付けられ、その磁場発生器は永久磁石、磁石コイル（６，７）、ヘルムホルツ式コイルのいずれかであることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか１項に記載の真空装置。
【請求項２０】
ヘルムホルツ式コイル対の一方のコイル（７ｃ）の直径が、他方（６ｃ）のそれより小さく、かつ処理室の下方中央に、処理室中央軸を中心に配向配置されることを特徴とする、請求項１９に記載の真空装置。
【請求項２１】
前記コイルはその巻数が異なることを特徴とする、請求項２０に記載の真空装置。
【請求項２２】
直径が小さいコイルの方が巻数が多いことを特徴とする、請求項２１に記載の真空装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、低ボルトアーク放電配置がその中央軸に配置された排気可能な処理室と、処理室の側壁に装着された少なくとも一つの被覆ソースと、さらに工作物が、場合によってはさらなる工作物保持器に載せられてその上に据え付けられる工作物キャリヤとを備える、工作物処理のための真空装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
現行技術においては、様々な真空処理プロセスにおいて、真空被覆の前および／または後に、洗浄および／または加熱段階があることが知られている。そのような段階は特に、布設層に優れた付着強度を付与するために必要である。これは特に、工作物、特に工具や機械的に高負荷の部材が摩耗に強い硬質材層で被覆さるべき場合に重要である。そのような層は、例えば穴あけ器、フライスや変形工具のような工具、ないし歯車、噴射用ノズル、タペット、カム軸のような部材、ならびにその他、高速移動する部材、または高負荷がかかる部材において、極めて高い機械的負荷および研磨負荷にさらされる。したがって、基板層との極めて優れた付着は、有効かつ経済的利用の前提となる。そのような工作物に有効な前処理方法は加熱、特に電子衝撃による加熱であり、またイオンエッチングないしスパッタエッチングによるエッチングである。例えば、プラズマ放電からのイオン衝撃による加熱はＤＥ  ３３  ３０  １４４によって周知のものとなった。プラズマ放電経路はまた、例えばアルゴンイオンのような重い不活性ガスを発生させるためにも使用可能であるが、この場合、不活性気体はプラズマから工作物ないし基板へと加速され、ＤＥ  ２８  ３３  ８７６に記載されているように、上記工作物ないし基板をスパッタエッチングする。スパッタエッチングの他に知られているのは、さらに活性ガスを用いてプラズマ放電を促進し、工作物を反応化学エッチングするという方法であるが、この反応エッチングとスパッタエッチングとの混合形態もまた可能である。上述の方法では、補助手段として処理室がしばしば、好ましくはヘルムホルツのコイル対のような電子磁石コイル配置によって包囲されるが、これによってプラズマにさらに影響を与えることが可能となり、例えばプラズマ密度の上昇、ないしプラズマ包囲の集中等が可能となり、それによってより強いイオン衝撃が生じ、あるいはプラズマ処理中にコイル電流を例えば変化させることによって、装置内のプラズマ分布を制御すること等が可能である。
【０００３】
これら全ての前処理方法において重要なのは、その後の被覆が基板に上手く付着するよう、工作物表面を整えることである。上記配置においてプラズマ発生させるには、装置の中央軸に配置された低ボルトアーク放電が使用されるが、その際工作物は一定の距離をおいてこのアークの周りに、シリンダー表面に沿って配置される。続いて加熱蒸着または陰極スパッタ、あるいはアーク蒸着のように、それらの混合形態で被覆が行われる。その場合、それぞれのプロセスに従って、被覆中の、それぞれの基板バイアスによってさらなるイオン衝撃が生じるが、これはイオンめっき（ｉｏｎ  ｐｌａｔｉｎｇ）として知られている。
【０００４】
この配置の利点は、より低い粒子エネルギで低ボルトアーク放電から大きなイオン流を引き出すことが可能であり、したがって工作物を傷めずに処理可能である点である。被覆さるべき部材は物理的に、低ボルトアークに点火するため装置中央に装着された装置の周りに移動配置される必要があるが、そのためには機械的構造が比較的複雑になる。したがって今日、被覆さるべき部材は、装置軸を中心として回転対称に配置され、またそれ自体が好ましくは回転木馬（カリューゼル）状の個々の工作物キャリヤに回転運動するように装着された工作部物保持器に固定されることが多い。さらに、様々なプロセス段階を実施するために、中央に配置された陽極および個々の工作物保持器ないし工作物キャリヤに異なる電位を与え、かつこれらを互いに、さらには質量電位におかれた装置に対して電気的に絶縁せねばならない。必要とあれば温度センサやその他の計測装置のために、さらにその他の電気引込み線が設けられ得る。上述のように機械的かつ電気的条件が複雑であるため、同時に多数の、あるいは個々に相応の重量のある部材を被覆するための工業施設では、工作物保持器ないし回転木馬状の工作物キャリヤが回転運動可能なように、しかしながら簡単には解除され得ないように、装置ないし装置基底部と接合された。しかしながら側面開口部からの装入および取り出しは、特に低ボルトアーク放電配置が中央位置に取付けられているため、困難である。したがって、大工業に使用される際には、装置基底部をその上に据え付けられた工作物キャリヤと共に液圧によって、または主軸駆動装置によって沈降させることが可能な配置が選択された。さらに考えられる形態では、受容器が上方に持ち上げられる。両者に共通するのは、搬出入開口部として形成された装置基底部ないし受容器のための全ての供給管（例えば冷却水や電気）を費用のかかる可動部として設けられねばならないという問題点である。さらに、必要とされる構造の高さ、およびそのような装置の装入および積み下ろしの際の長い停止時間は不経済である。
【０００５】
このような欠点に対処するため、ＵＳ  ５，７０９，７８４では特に大工業大量生産に適した装置が公開された。そこでは、この規模（被覆幅１０００ｍｍ以上）の低ボルトアーク放電配置を備えるＰＶＤ装置に初めて、簡単な正面装入および取り出し部が設けられた。さらに、少なくとも一つの低ボルトアーク放電配置が、その直線方向が可動工作物キャリヤと平行に、受容器の側面に装着された。しかしながら中央被覆空間の外側における非対称配置は、低ボルトアーク放電配置が中央に配置された場合と比較すると、幾何学的条件が制限されるため取り扱い上有利ではない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、この発明の課題は、現行技術における上述の欠点を回避し、さらに真空処理装置における工作物の短時間処理を可能にし、特に装置の停止時間を短縮し、簡易な構造およびより高い経済性を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この課題は、工作物キャリヤが、動力および媒体結合連結装置によって処理室基底部の受容装置と解除可能なように接続され、かつ被覆室がその側面に、特に好ましくは正面側に、断面が工作物キャリヤのそれより大きい閉鎖可能な開口部を有することによって、したがって工作物キャリヤが、場合によってはさらなる工作物保持器に取付けられた工作物と共に取り外され、真空装置から取り出され得ることによって、達成される。
【０００８】
中央低ボルトアーク放電装置を使用することによって、そのような放電装置の対称配置の利点を全て備えた処理室中央軸からの、エッチングないしイオン強化被覆が可能となる。さらに、場合によっては磁気プラズマ焦点合わせの対称性により利点が得られる。工作物キャリヤと受容装置との連結が解除可能であることにより、好ましくは特に処理室側面の開口部を介して、工作物キャリヤの迅速な装入および取り出しが可能である。
【０００９】
ある実施形態では、工作物キャリヤに動力結合ガイドおよび接続装置が設けられるが、これらの装置は真空装置の受容装置における対応する部材と一致する。取り外しの際には、真空装置内の工作物キャリヤが、例えば適切なリフト装置によって持ち上げられて、連結解除される。逆に装入の際には、処理室の受容装置上に工作物キャリヤが下ろされることによって、動力および媒体結合接続が成立する。ある好ましい実施形態では、受容装置の対応する窪み、好ましくは穿孔に係合するガイドピン、好ましくは自動心出しアーバによる、解除可能な連結のためのガイドおよび接続装置が実現される。さらなる例では、アーバが工作物キャリヤまたは受容装置に取付け可能であり、あるいはその両者が組み合わされる。さらに、ガイドピンの非対称配置によって、工作物キャリヤと受容装置との位置対応が明確となる。
【００１０】
この発明のある実施例によると、工作物キャリヤは処理室の中央軸の周りを回転可能である。この発明は、現行技術に対応し、場合によっては、それぞれの使用目的に合致した工作物保持器をさらに備える、その他の工作物キャリヤの使用を許容する。
【００１１】
さらに真空被覆装置での使用に有利なのは、工作物キャリヤのための受容装置を真空室中央軸において回転可能なように実施することである。もう一つの有利な特徴であるエンジン駆動によってまた、場合によっては、工作物キャリヤ上にこれもまたカリューゼルとして実施され得るさらなる工作物保持器に載せられた、処理を施されるべき工作物は被覆ソース／エッチングソースの側を通過させられ、均一な処理が可能となる。
【００１２】
受容装置が基本的に、受容室内のその上方端部に受容装置が装着され、かつその下方軸端部が雰囲気領域内にある垂直な中空軸として形成されると、従来の装置によって真空密の回転ダクトが実現され得る。その場合有利なことに、エンジン駆動装置は整備のため手が届きやすいように外側に取付け可能であり、かつ中空軸を通して測定管、制御管および供給管（電流供給、バイアス電圧、測定管、冷却媒体）が処理室内に導かれ得る。電気接続は、例えばすべり接触、スライダ接触、ばね接触またはコンセントによって成立し得る。
【００１３】
この発明のさらなる実施形態によると真空装置は、工作物キャリヤおよび工作物を備える処理室のための高速ガス冷却／加熱システムを有し、これによって、ガス流入システムを介して処理室内にガスを流入させ、装置内で活性循環させることができる。ガスを循環させるには、好ましくは初期真空発生装置の部材を利用することが可能である。ガスの熱を奪い、あるいは補給するガス熱交換器が循環システムに取付けられると、工作物への冷却／加熱効果が好ましくは、構造上容易に得られる。熱交換機の逆冷却は水または空気にあてることにより行われ、加熱は例えば電気によって行われ得る。ガスには、ヘリウム、窒素、化成ガス（窒素とわずかなパーセンテージの水素）またはその他、現行技術において知られているガスが使用される。圧力制御装置は、圧力領域が基本的に１００ｍｂａｒから大気圧の間、好ましくは８００ｍｂａｒとなるよう調整する。
【００１４】
好ましいさらなる実施形態においては、工作物保持器、受容装置、または装置のその他適切な箇所に、工作物保持器および受容装置の明確な装入および取り外し位置を確定または維持できるようにする機械装置または電気機械装置が設けられ得る。そのような位置の調整は、原動機によって有利に制御可能である。これに適しているのは、例えばエンドスイッチ、誘導近接スイッチ、機械的ストッパーまたは類似の装置である。
【００１５】
例えば基板バイアスまたは測定管のための電気接続は、さらなる実施形態によると、対応するように受容装置と工作物保持器とに設けられ得る接触部を介して成立し得る。これらの接続は好ましくはすべり接触、スライド接触、ばね接触またはコンセントとして成立し得る。ガイドおよび接続装置の実施形態に応じて、媒体結合接続は点―点接触または点―軸対称環状表面接触、あるいはその他の周知の実施形態で実現される。
【００１６】
さらなる好ましい実施例では、陽極が受容装置の構成要素として、ただし装置からは電気的に絶縁されて設けられる。受容装置の回転軸上に中央に取付けられる陽極は極めて簡単な形状である。この陽極は、機能が損なわれることなく、受容装置と共に回転するように実現され得る。実施形態に応じて、陽極は工作物キャリヤのための受容装置の下方または上方に配置され得る。上方に装着された位置では、陽極は受容装置平面において水平に分割可能なように形成可能であり、その上方の解除可能な部材は陽極ヘッドとして取り外し可能である。これは、整備および装置清掃の際に有利である。
【００１７】
陽極の冷却に必要な媒体、好ましくは冷却水は、基本的に軸に平行な管を介して、下方部が中空シリンダーとして形成されるのが有利な陽極に供給され、陽極ヘッド内の対応する組み込み機械部材によって分割され、続いて陽極中空シリンダーまたは第二の基本的に軸に平行な管を介して排出され得る。この際の導入および排出は、陽極の雰囲気側の下方端部において回転運動するよう固定された連結エレメントによって行われるのが有利である。
【００１８】
さらに、装入の際に陽極全体が装置内に留まるか、あるいは少なくとも陽極ヘッドが工作物キャリヤと共に装置から取り外されるかによってさらに、工作物キャリヤの載置ないし持ち上げによって自動的に作動する、冷却媒体の供給ないし排出のための連結装置が設けられ得る。
【００１９】
さらなる有利な実施形態では、真空装置の処理室が、プラズマに影響を与えるためのヘルムホルツコイル対式の磁気コイルによって囲まれ得る。少なくとも一つの、好ましくは下方の、直径の小さいコイルが、装置規定部の外側に、駆動装置の中空軸と同心で取付けられると、さらなる利点が得られる。すなわちこれによって、側面供給および取り出し開口部を受容室により柔軟に配置することが可能となる。驚くべきことに、このように大きさを変えることによってプラズマへの影響が干渉されることはまずない。さらなる実施形態によると、コイルの直径をより小さく、巻数をより多くすることができ、したがって磁場を調整するためのさらなる可能性が得られる。また、下方コイルのための、個々に調整される独立した電流／電圧供給も可能であろう。
【００２０】
【発明の実施の形態】
次に、例として概略図を参考に、この発明の説明がなされる。
【００２１】
図１は、現行技術において大工業用に使用される装置の概略図である。受容室１ａの中央軸１９にはイオン化室４および陽極５が配置される。陽極は下方から５ａのように装置基底部を通って導入されるか、あるいは上方から、５ａ′に図示されたように装置内に導入され得る。低ボルトアークを安定化させるためさらに、装置には上部コイル６ａおよび下部コイル７ａが取付けられる。回転載置された工作物保持器２は、装入開口部３ａとして形成された装置基底部上か、あるいは同様に装入開口部３ａ上に取付けられた、ここでは図示されない、同様に回転運動する工作物キャリヤ上に固定される。
【００２２】
これによると、運動矢印２０で象徴的に図示された装入および取り出しは、装入開口部３ａの下方への移動によってのみ実施され得る。その結果、装置構造の高さが高くなり、それに応じたスペースが必要とされ、かつ装入および取り出しが面倒で時間がかかる、という欠点が生じる。同じことが、個々には図示されないが、装入および取り出しのために受容室が上方に持ち上げられる形態にもあてはまる。上記両形態には、装入開口部３ａとして形成された装置基底部ないし受容部１ａのための全ての供給管（冷却水および電気）をコストの高い可動タイプとして設けねばならない、というさらなる欠点がある。
【００２３】
図２は、簡単な正面装入および取り出し開口部３ｂを有する低ボルトアーク放電配置を備える真空装置を示す。イオン化室４および陽極５ｂからなる、少なくとも一つの低ボルトアーク放電配置はさらに、受容室１ｂの側面に、工作物キャリヤ１０上に可動装着された工作物保持器２に平行に取付けられる。
【００２４】
図３は、受容室１ｃ、中央軸１９に配置された、イオン化室４と陽極５ｃとからなる低ボルトアーク放電装置、上部コイル６ｃ、下部コイル７ｃ、蒸化ソース２１、工作物キャリヤ１０ｃ、工作物保持器２、ならびに前方からアクセスできる装入開口部３ｃを備える、この発明による真空処理装置の概略図である。真空ポンプスタンド、ガス供給部、測定管、調整および制御装置、ならびに操作エレメントのような、その他の周知の装置構成要素はここでは図示されない。
【００２５】
工作物キャリヤが回転運動載置されるにもかかわらず、受容室につながる真空密の移行部になる、コストはかかるが容易に分離可能な媒体供給を確実にするために（工作物キャリヤにおける基板電圧、ならびに必要とあれば様々な測定電圧、陽極における、ないし陽極への陽極電圧および冷却水）、以下の図面について説明される、この発明による様々な解決法が考えられた。全ての実施形態に共通なのは、工作物キャリヤ１０が、ここには詳細には図示されないが既知の吊り上げ装置、例えばフォークリフトによって、ベアリング２３を備える基礎プレート２４から簡単に持ち上げられ、その上に固定された工作物保持器２ならびに被覆された工作物が装置から取り出され得る、という点である。その際には、工作物キャリヤの下方縁部を十分な遊びをもって、陽極５の上方縁部上に持ち上げるだけで十分である。したがって全体では、連結された被覆位置から２，３センチメートル、最大でも約１デシメートルまで持ち上げるだけでよい。
【００２６】
図４に示されたこの発明の実施例は、機械的に容易に実現可能な構想を示す。ここでは陽極５ｄが、基礎プレート２４ｄの下側、ないし工作物キャリヤ１０ｄの下側に取付けられることによって、冷却水供給管１８および陽極電流供給管１７ｄが偏心で設置され得る。これには、中空軸１１ｄ内にその他の媒体管のためのより大きな空間が残される、という利点がある。この実施形態において重要なのは、低ボルトアークがここには図示されないイオン化室から陽極５ｄへと、できるだけ干渉されずに燃焼できるように、基礎プレート２４ｄと／または工作物キャリヤ１０ｄとを構成することである。これは例えば、基礎プレート２４ｄおよび／または工作物キャリヤ１０ｄにスポークを設けることによって可能である。低ボルトアークに晒されるそのような組み込み部材がエッチングによって過度に損なわれるのを妨げるため、これらの部材は、バイアス電位から絶縁され質量電位におかれた板金で保護されるのが有利である。
【００２７】
図５および図６に示された例では、陽極５が基本的に平行に、工作物キャリヤ１０の基礎表面に、またはいくらかその上方に取付けられるため、陽極５とイオン化室４との間において、視覚的に遮るもののない視界の接続が成立する。これによって、プラズマプロセスにおいては普通の、異なる電位の組み込み部材間の暗黒部間隔に注意すると、干渉二次プラズマが形成されることなく、安定した低ボルトプラズマが点火され、かつ維持され得る。
【００２８】
図５では、真空内を通るすべり接触２５ｅを介して陽極電流供給１７ｅが行われるが、この実施例は、工作物キャリヤ用のその他の測定管が全く必要とされない場合に有利である。
【００２９】
この発明の極めて有利な実施例は図６に示される。ここでは、基板バイアス供給１６および陽極電流供給１７ｆが雰囲気側において、好ましくは中空軸１１ｆないし陽極５ｆへのすべり接触２５ｇによって行われる。中空軸１１ｆ内を導かれ、かつ共に動く、少なくとも一つの測定エレメント供給管８ｆ，ｇの測定は、雰囲気側において、それぞれ必要に応じて設けられるいくつかのスライド接触（図示されず）を介して行われる。基礎プレート２４ｆから工作物キャリヤへの信号伝達は少なくとも一つのコンセントを介して行われ、その際の微細な位置決めは好ましくは、例えば相互に被さった錐面によって心出しされたベアリング２３ｆを介して行われる。
【００３０】
この発明による、簡単な持ち上げによって解除可能な、受容装置の基礎プレートへの工作物キャリヤの連結によって初めて、中央に配置された低ボルトアーク放電装置が設けられたＰＶＤ（物理的蒸着）被覆装置に、正面装入開口部を設けることが可能である。これによって、装置室の容積が同じか、または同様のその他の装置に比して、明らかに低い構造が得られる。これによって可能となった極めて迅速な装入および取り出しは特に、そのような装置の生産性に有利に働く。例えば二つ以上の複数の工作物キャリヤが使用されると、被覆された工作物を有する工作物キャリヤは、被覆されていない工作物を有する工作物キャリヤと迅速に交換可能である。したがって、工作物保持器の装着は、被覆プロセスの間に行われ得る。
【００３１】
低ボルトアーク放電装置を中央に配置することによって得られる、さらなる本質的利点は、必要とあれば被覆プロセスの間でも、特にエッチングから被覆工程に移行する際に、さらなるイオン化が可能である点である。これは、特に反応ガスを用いて実施されるスパッタプロセスにおいてしばしば有利であることが証明された。例えばそれによってまた、様々な層構造を有する特定のナノ積層構造の布設が可能となる。
【００３２】
この発明による柔軟なＰＶＤ装置によって初めて、アーク被覆においてもまたそのような被覆プロセス、ないし低ボルトアークエッチングと被覆工程との間の流れるような移行を実現することが可能である。さらに必要とあれば、そのように配置された低ボルトアーク放電装置によって、工作物をプロセス温度まで加熱し得る。
【００３３】
この発明によるＰＶＤ装置によって初めて、プロセスを中断せずにスパッタプロセスおよびアーク被覆プロセスを分離して順番にまたは、取り混ぜて行い、同時に中央低ボルトアークプラズマによるプラズマ前処理ないしプラズマ強化を組み入れることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】現行技術において周知の、中央低ボルトアーク放電配置を備える真空装置を示す。
【図２】現行技術による、非対称の低ボルトアーク放電配置を備える真空装置を示す。
【図３】この発明による真空装置の、一実施例を説明する図である。
【図４】下部陽極配置を備える、連結装置の配置の詳細を示す図である。
【図５】上部陽極配置を備える、連結装置の配置の詳細を示す図である。
【図６】連結装置の好ましい一実施例の本質的特長をまとめた図である。
【符号の説明】
１  処理室、１ａ  受容室、１ｂ  受容室、１ｃ  受容室、２  工作物保持器、３ａ  装入開口部、３ｂ  取り出し開口部、３ｃ  装入開口部、４  イオン化室、５，５ｂ，５ｃ，５ｄ  陽極、６ａ  上部コイル、７ａ，７ｃ  下部コイル、８  測定管、１０ｃ，１０ｄ  工作物キャリヤ、１１ｄ，１１ｆ  中空軸、１６  基板バイアス、１７ｄ  陽極電流供給管、１８  冷却媒体、１９  中央軸、２１  蒸化ソース、２３ｆ  ベアリング、２４ｄ，２４ｆ  基礎プレート、２５ｅ，２５ｇ  すべり接触、２６  スライド接触。
【図１】
0005043263.tif 000002
【図２】
0005043263.tif 000003
【図３】
0005043263.tif 000004
【図４】
0005043263.tif 000005
【図５】
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【図６】
0005043263.tif 000007