(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレーザ光を記録層内で干渉させて、前記記録層内に干渉縞を形成する干渉縞の形成方法であって、
前記記録層に第１の干渉縞を形成する工程と、
前記第１の干渉縞の形成により収縮した記録層の位置を検出する工程と、
前記記録層の位置を検出した後で、第２の干渉縞を形成する工程と、を備え、
前記第２の干渉縞を形成する工程において、前記第１の干渉縞に対する前記第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、検出した前記記録層の位置に基づいて、前記レーザ光の位相を変化または前記記録層を移動させることを特徴とする干渉縞の形成方法。
【請求項２】
レーザ光を出射する光源と、
前記光源から出射されたレーザ光を分岐させるビームスプリッタと、
前記ビームスプリッタで分岐した一方のレーザ光を反射または通過させることで、前記一方のレーザ光を記録層に照射する第１光学系と、
前記ビームスプリッタで分岐した他方のレーザ光を反射または通過させることで、前記他方のレーザ光を前記記録層に照射する第２光学系と、
前記記録層の位置を検出する位置センサと、
前記光源と、前記第１光学系および前記第２光学系の少なくとも１つの光学系とを制御することで、前記記録層に干渉縞を形成する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記光源からレーザ光を出射させることで前記記録層に第１の干渉縞を形成する工程と、当該第１の干渉縞の形成により収縮した記録層の位置を前記位置センサで検出する工程と、前記記録層の位置を検出した後で、第２の干渉縞を形成する工程とを実行可能であり、前記第２の干渉縞を形成する工程において、前記第１の干渉縞に対する前記第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、前記位置センサで検出した前記記録層の位置に基づいて、前記第１光学系および前記第２光学系の少なくとも１つを制御することで、前記レーザ光の位相を変化させることを特徴とする干渉縞形成装置。
【請求項３】
前記第１光学系は、
前記ビームスプリッタで分岐した一方のレーザ光を透過させる第１ハーフミラーと、
前記第１ハーフミラーを透過した前記一方のレーザ光を、前記第１ハーフミラーに跳ね返すことで、前記一方のレーザ光を前記第１ハーフミラーの反射面によって記録層に反射させる第１反射板と、を備え、
前記第２光学系は、
前記ビームスプリッタで分岐した他方のレーザ光を透過させる第２ハーフミラーと、
前記第２ハーフミラーを透過した前記他方のレーザ光を、前記第２ハーフミラーに跳ね返すことで、前記他方のレーザ光を前記第２ハーフミラーの反射面によって前記記録層に反射させる第２反射板と、を備え、
前記第１反射板または前記第２反射板は、移動装置によって光軸方向に移動自在に構成され、
前記制御装置は、前記位置センサで検出した前記記録層の位置に基づいて、前記移動装置を制御することで、前記レーザ光の位相を変化させるように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の干渉縞形成装置。
【請求項４】
前記第１光学系および前記第２光学系の少なくとも一方には、印加される電圧の変化により屈折率を変化させる屈折率調整素子が設けられ、
前記制御装置は、前記位置センサで検出した前記記録層の位置に基づいて、前記屈折率調整素子に印加する電圧を制御することで、前記レーザ光の位相を変化させるように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の干渉縞形成装置。
【請求項５】
記録層を支持する支持台と、
前記記録層に複数のレーザ光を照射可能な照射装置と、を備えた干渉縞形成装置であって、
前記記録層の位置を検出する位置センサと、
前記支持台を移動させる移動装置と、
前記照射装置と前記移動装置を制御することで、前記記録層に干渉縞を形成する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記光源からレーザ光を出射させることで前記記録層に第１の干渉縞を形成する工程と、当該第１の干渉縞の形成により収縮した記録層の位置を前記位置センサで検出する工程と、前記記録層の位置を検出した後で、第２の干渉縞を形成する工程とを実行可能であり、前記第２の干渉縞を形成する工程において、前記第１の干渉縞に対する前記第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、前記位置センサで検出した前記記録層の位置に基づいて、前記移動装置を制御することで、前記記録層を移動させることを特徴とする干渉縞形成装置。
【請求項６】
複数のレーザ光の干渉により干渉縞が形成された記録層を有する干渉縞形成媒体の製造方法であって、
前記記録層に第１の干渉縞を形成する工程と、
前記第１の干渉縞の形成により収縮した記録層の位置を検出する工程と、
前記記録層の位置を検出した後で、第２の干渉縞を形成する工程と、を備え、
前記第２の干渉縞を形成する工程において、前記第１の干渉縞に対する前記第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、検出した前記記録層の位置に基づいて、前記レーザ光の位相を変化または前記記録層を移動させることを特徴とする干渉縞形成媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の干渉縞を媒体に形成するための干渉縞の形成方法および干渉縞形成装置ならびに干渉縞が形成された干渉縞形成媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、２本のコヒーレントな平面波の光を、フォトポリマーなどの光・屈折率変調材料に照射し、この材料内で２本の光を干渉させて干渉縞を形成することで、この干渉縞の光強度に応じて屈折率の縞を形成する技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。このような干渉縞は、グレーティング（回折格子）として機能するため、干渉縞が形成された媒体（干渉縞形成媒体）は、光学部材として利用されたり、情報記録媒体として利用されたりしている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−０７１５５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前記した従来技術では、フォトポリマーへの露光を続けると、材料の重合により材料が収縮してしまい、干渉縞の位置がずれてしまうおそれがあった。
【０００５】
そこで、本発明は、干渉縞の位置ずれを抑制することができる干渉縞の形成方法および干渉縞形成装置ならびに干渉縞形成媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決する本発明は、複数のレーザ光を記録層内で干渉させて、前記記録層内に干渉縞を形成する干渉縞の形成方法であって、前記記録層に第１の干渉縞を形成する工程と、前記第１の干渉縞の形成により収縮した記録層の位置を検出する工程と、前記記録層の位置を検出した後で、第２の干渉縞を形成する工程と、を備え、前記第２の干渉縞を形成する工程において、前記第１の干渉縞に対する前記第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、検出した前記記録層の位置に基づいて、前記レーザ光の位相を変化または前記記録層を移動させることを特徴とする。
【０００７】
ここで、「記録層の位置を検出する」とは、記録層の面を直接検出する意味を含む他、記録層以外の層（例えば、記録層を挟持する基板等）の面を検出することで間接的に記録層の面を検出する意味をも含む。
【０００８】
本発明によれば、複数のレーザ光を記録層内で干渉させて第１の干渉縞を形成する際に、記録層が収縮すると、この収縮に伴って移動する記録層の位置が検出される。そして、第２の干渉縞を形成する工程において、第１の干渉縞に対する第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、検出した記録層の位置に基づいて、レーザ光の位相を変化または記録層を移動させる。これにより、記録層の収縮により第１の干渉縞の位置がずれたとしても、第２の干渉縞の位置を調整して、第１の干渉縞に対する第２の干渉縞の位置ずれを抑えることができる。
【０００９】
なお、前記した干渉縞の形成方法は、干渉縞が形成される記録層を有した干渉縞形成媒体の製造方法に利用できる。ここで、干渉縞形成媒体としては、例えば光ディスクや、偏光板などの光学部材が挙げられる。
【００１０】
また、本発明に係る干渉縞形成装置は、レーザ光を出射する光源と、前記光源から出射されたレーザ光を分岐させるビームスプリッタと、前記ビームスプリッタで分岐した一方のレーザ光を反射または通過させることで、前記一方のレーザ光を記録層に照射する第１光学系と、前記ビームスプリッタで分岐した他方のレーザ光を反射または通過させることで、前記他方のレーザ光を前記記録層に照射する第２光学系と、前記記録層の位置を検出する位置センサと、前記光源と、前記第１光学系および前記第２光学系の少なくとも１つの光学系とを制御することで、前記記録層に干渉縞を形成する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記光源からレーザ光を出射させることで前記記録層に第１の干渉縞を形成する工程と、当該第１の干渉縞の形成により収縮した記録層の位置を前記位置センサで検出する工程と、前記記録層の位置を検出した後で、第２の干渉縞を形成する工程とを実行可能であり、前記第２の干渉縞を形成する工程において、前記第１の干渉縞に対する前記第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、前記位置センサで検出した前記記録層の位置に基づいて、前記第１光学系および前記第２光学系の少なくとも１つを制御することで、前記レーザ光の位相を変化させることを特徴とする。
【００１１】
これによれば、位置センサで検出された記録層の位置が変化した場合には、制御装置が、第１の干渉縞に対する第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、例えば第１光学系を制御することで、レーザ光の位相を変化させる。これにより、記録層の収縮により第１の干渉縞の位置がずれたとしても、第２の干渉縞の位置を調整して、第１の干渉縞に対する第２の干渉縞の位置ずれを抑えることができる。
【００１２】
また、前記第１光学系は、前記ビームスプリッタで分岐した一方のレーザ光を透過させる第１ハーフミラーと、前記第１ハーフミラーを透過した前記一方のレーザ光を、前記第１ハーフミラーに跳ね返すことで、前記一方のレーザ光を前記第１ハーフミラーの反射面によって記録層に反射させる第１反射板と、を備え、前記第２光学系は、前記ビームスプリッタで分岐した他方のレーザ光を透過させる第２ハーフミラーと、前記第２ハーフミラーを透過した前記他方のレーザ光を、前記第２ハーフミラーに跳ね返すことで、前記他方のレーザ光を前記第２ハーフミラーの反射面によって前記記録層に反射させる第２反射板と、を備え、前記第１反射板または前記第２反射板は、移動装置によって光軸方向に移動自在に構成され、前記制御装置は、前記位置センサで検出した前記記録層の位置に基づいて、前記移動装置を制御することで、前記レーザ光の位相を変化させるように構成されていてもよい。
【００１３】
これによれば、位置センサで検出された記録層の位置が変化した場合には、制御装置が、移動装置を制御して、例えば第１反射板を移動させることで、レーザ光の位相を変化させるので、第１の干渉縞に対する第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えることができる。
【００１４】
また、前記第１光学系および前記第２光学系の少なくとも一方には、印加される電圧の変化により屈折率を変化させる屈折率調整素子が設けられ、前記制御装置は、前記位置センサで検出した前記記録層の位置に基づいて、前記屈折率調整素子に印加する電圧を制御することで、前記レーザ光の位相を変化させるように構成されていてもよい。
【００１５】
これによれば、位置センサで検出された記録層の位置が変化した場合には、制御装置が、屈折率調整素子に印加する電圧を制御して、屈折率調整素子の屈折率を変化させることで、レーザ光の位相を変化させるので、第１の干渉縞に対する第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えることができる。
【００１６】
また、本発明に係る干渉縞形成装置は、記録層を支持する支持台と、前記記録層に複数のレーザ光を照射可能な照射装置と、を備えた干渉縞形成装置であって、前記記録層の位置を検出する位置センサと、前記支持台を移動させる移動装置と、前記照射装置と前記移動装置を制御することで、前記記録層に干渉縞を形成する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記光源からレーザ光を出射させることで前記記録層に第１の干渉縞を形成する工程と、当該第１の干渉縞の形成により収縮した記録層の位置を前記位置センサで検出する工程と、前記記録層の位置を検出した後で、第２の干渉縞を形成する工程とを実行可能であり、前記第２の干渉縞を形成する工程において、前記第１の干渉縞に対する前記第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えるように、前記位置センサで検出した前記記録層の位置に基づいて、前記移動装置を制御することで、前記記録層を移動させるように構成されていてもよい。
【００１７】
この場合も、制御装置によって適宜支持台に支持された記録層を移動させることができるので、第１の干渉縞に対する第２の干渉縞の最大ずれ量を抑えることができる。
【００１８】
また、本発明に係る干渉縞形成装置は、記録層を支持する支持台と、前記記録層に複数のレーザ光を出射する複数の光源と、を備えた干渉縞形成装置であって、前記記録層の光入射面の位置を検出する位置センサと、前記光源を前記レーザ光の光軸方向に移動させる移動装置と、前記位置センサで検出する前記記録層の光入射面の位置情報に基づいて、前記移動装置を制御することで、前記レーザ光の位相を変化させて干渉縞の形成位置をずらす制御装置と、を備えたものであってもよい。
【００１９】
この場合も、制御装置によって適宜光源を移動させることができるので、記録層の収縮により干渉縞を形成する位置がずれたとしても、この位置を調整して、干渉縞の位置ずれを抑えることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、第１の干渉縞の形成により収縮した記録層の位置に基づいてレーザ光の位相や記録層の位置を変化させることで、第１の干渉縞に対する第２の干渉縞の最大ずれ量を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。参照する図面において、図１は、本発明の一実施形態に係る光記録装置を示す構成図である。
【００２２】
図１に示すように、干渉縞形成装置の一例としての光記録装置１は、干渉縞形成媒体の一例としての光記録媒体２中でレーザ光を干渉させることで干渉縞を記録する装置である。
【００２３】
ここで、光記録媒体２は、記録層２１およびガラス基板２２を備えて構成されている。
【００２４】
記録層２１は、レーザ光の照射（詳しくは、情報光と参照光との干渉）によって反応することで、干渉縞を記録するものである。この記録層２１は、主に記録材を有しており、この記録材が情報光と参照光との干渉によって反応（例えば、重合反応）することで、干渉縞が形成される際に収縮する。なお、記録層２１を構成する記録材の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などが挙げられる。
【００２５】
ガラス基板２２は、記録層２１を支持する層である。なお、記録層２１を支持する層としては、ガラスに限らず、セラミックス、樹脂、などであってもよい。
【００２６】
光記録装置１は、光源１１、ビームスプリッタ１２、第１ハーフミラー１３、第１反射板１４、第２ハーフミラー１５、第２反射板１６、支持台１７、位置センサの一例としての距離センサ１８および制御装置１９を主に備えて構成されている。
【００２７】
光源１１は、所定の波長のレーザ光を出射するものである。そして、光源１１から出射されたレーザ光は、ビームスプリッタ１２に出射される。
【００２８】
ビームスプリッタ１２は、例えば、２つのプリズムを僅かな隙間を介して向かい合わせて構成したものであり、光源１１からのレーザ光の光軸上に配設されている。そして、このビームスプリッタ１２は、レーザ光を直進する光（例えば参照光）と、直角に反射されて曲げられる光（例えば情報光）とに分けている。
【００２９】
第１ハーフミラー１３は、一方向からくるレーザ光の少なくとも一部を透過可能であり、他方向からくるレーザ光の少なくとも一部を反射可能なミラーである。そして、第１ハーフミラー１３は、ビームスプリッタ１２を透過（分岐）した一方のレーザ光を第１反射板１４側に透過するように配置されている。また、第１ハーフミラー１３の反射面は、第１反射板１４で跳ね返されたレーザ光を、支持台１７に支持された光記録媒体２に跳ね返す向きに配置されている。
【００３０】
第１反射板１４は、レーザ光を反射するミラーであり、第１ハーフミラー１３を透過したレーザ光を、そのまま第１ハーフミラー１３に跳ね返すように配置されている。すなわち、第１反射板１４は、第１ハーフミラー１３を透過したレーザ光の光軸に直交するように配置されている。そして、この第１反射板１４は、移動装置の一例としての微動ステージ１４Ａによって光軸方向に移動自在に支持されている。なお、図示においては、第１反射板１４に入射してくるレーザ光と、第１反射板１４で反射したレーザ光とをずらして描いているが、実際に、反射されるレーザ光は、入射してくるレーザ光と同軸上に反射される（後述する第２反射板１６でも同様）。
【００３１】
第２ハーフミラー１５は、第１ハーフミラー１３と同様のミラーであり、ビームスプリッタ１２で反射された他方のレーザ光を第２反射板１６側に透過するように配置されている。また、第２ハーフミラー１５の反射面は、第２反射板１６で跳ね返されたレーザ光を、支持台１７に支持された光記録媒体２に跳ね返す向きに配置されている。
【００３２】
第２反射板１６は、レーザ光を反射するミラーであり、第２ハーフミラー１５を透過したレーザ光を、そのまま第２ハーフミラー１５に跳ね返すように配置されている。すなわち、第２反射板１６は、第２ハーフミラー１５を透過したレーザ光の光軸に直交するように配置されている。
【００３３】
なお、前記した第１ハーフミラー１３および第１反射板１４は、第１光学系に相当し、前記した第２ハーフミラー１５および第２反射板１６は、第２光学系に相当する。
【００３４】
支持台１７は、光記録媒体２を支持する台であり、第１ハーフミラー１３および第２ハーフミラー１５から反射されてくる各レーザ光が、光記録媒体２の表面２１ａに所定の入射角で入射するように配置されている。
【００３５】
距離センサ１８は、光記録媒体２の記録層２１の表面２１ａ（光入射面）の位置を測定するセンサである。この距離センサ１８としては、例えば、記録層２１の表面２１ａに超音波を照射して跳ね返ってきた超音波の時間に基づいて、記録層２１の表面２１ａと距離センサ１８間の距離（記録層２１の表面位置に換算可能な情報）を測定するものを採用することができる。ただし、正確性と機構の簡便性の観点から、距離センサ１８としては、マッハツェンダー干渉方式や共焦点方式を採用するのが好ましい。そして、距離センサ１８で検出した記録層２１の表面位置情報は、制御装置１９に出力される。
【００３６】
制御装置１９は、距離センサ１８で検出した表面位置情報に基づいて、微動ステージ１４Ａを制御するものである。具体的に、制御装置１９は、微動ステージ１４Ａを制御して第１反射板１４の位置を変化させることで、記録層２１に照射する２本のレーザ光のうち一方の位相を変化させて、記録層２１内における干渉縞の形成位置をずらすように作動する。ここで、微動ステージ１４Ａを制御する方法としては、例えば、実験やシミュレーションなどによって得られる、距離センサ１８で検出する表面位置の変化量と、微動ステージ１４Ａによる第１反射板１４の移動量との関係を示すマップを記憶装置に記憶させておき、この記録したマップを参照して表面位置の変化量から微動ステージ１４Ａの制御量を決定する方法などが挙げられる。なお、この方法では、距離センサ１８から取得した表面位置情報と前回の表面位置情報とから変化量を算出し、この変化量とマップとに基づいて制御量（移動量）を取得して、第１反射板１４の位置を適宜変更できる。
【００３７】
次に、本実施形態に係る光記録装置１による光記録媒体２の製造方法について説明する。参照する図面において、図２は、光記録媒体の製造方法を示す図であり、２本のレーザ光を照射して干渉縞を形成する工程を示す説明図（ａ）と、記録層の収縮後に従来の方法で干渉縞を形成した状態を示す説明図（ｂ）と、２本のレーザ光の一方の位相をずらす工程を示す説明図（ｃ）である。
【００３８】
図２（ａ）に示すように、光記録装置１により光記録媒体２の記録層２１に対して２本のレーザ光を照射し、干渉させると、記録層２１内に、２本のレーザ光の各光軸間の角度を二等分する方向に沿うように干渉縞Ｓ１が形成される。そして、このように記録層２１内で干渉縞Ｓ１が形成される際には、記録層２１内の記録材が反応（例えば、重合反応）することで、図２（ｂ）に示すように、記録層２１が厚み方向において収縮する。これにより、記録層２１に形成した干渉縞Ｓ１は、元の角度（図２（ａ）参照）よりも寝た状態となる。
【００３９】
そして、このように干渉縞Ｓ１の形成角度が変化した後において、さらに干渉縞を形成する場合、従来のようなレーザ光の位相を変化させることができない装置では、レーザ光の位相が変わらないことにより、図２（ｂ）に示すように、記録層２１の収縮により寝た状態となる干渉縞Ｓ１とは異なる角度で干渉縞Ｓ２が形成される。これにより、収縮後に形成された干渉縞Ｓ２と収縮前に形成された干渉縞Ｓ１は、記録層２１の光入射面側において大きくずれてしまう。
【００４０】
これに対し、本実施形態の構造においては、記録層２１が収縮すると、変化した記録層２１の表面位置が距離センサ１８で検出される（第１工程）。そして、このように距離センサ１８で検出される表面位置情報が変化することで、制御装置１９は、その変化量とマップに基づいて、第１反射板１４の移動量を取得し、この移動量に基づいて微動ステージ１４Ａを制御して第１反射板１４を所定量移動させる（第２工程）。これにより、図２（ｃ）に示すように、２本のレーザ光のうち一方のレーザ光の位相が変化して、収縮後の干渉縞Ｓ２の形成位置を、元の干渉縞Ｓ１の位置に近づけるようにずらすことができる。そのため、従来のような製造方法に比べて、収縮前の干渉縞Ｓ１と収縮後の干渉縞Ｓ２との最大ずれ量を極力小さく抑えることができる。
【００４１】
以上によれば、本実施形態において以下のような効果を得ることができる。
記録層２１の表面２１ａの位置に基づいてレーザ光の位相を変化させることで、干渉縞Ｓ２の形成位置をずらすことができるため、干渉縞Ｓ２の位置ずれを抑制することができる。
【００４２】
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、以下に例示するように様々な形態で利用できる。
前記実施形態では、記録層２１に照射するレーザ光に情報を埋め込んでいないが、本発明はこれに限定されず、公知の空間位相変調器やＤＭＤ素子を光路上に適宜設けることで記録層２１に照射する２本のレーザ光の一方に情報を埋め込んでもよい。なお、情報を埋め込まない場合には、光記録媒体２は偏光板などの光学素子として利用でき、情報を埋め込む場合には、光記録媒体２は光ディスクとして利用できる。
【００４３】
前記実施形態では、第１反射板１４を移動させるようにしたが、本発明はこれに限定されず、第２反射板１６に微動ステージを設けて、第２反射板１６を光軸方向に移動させてもよい。この場合も、２本のレーザ光のうち一方の位相を変化させて、干渉縞の形成位置を適宜変化させることができる。
【００４４】
また、第１反射板１４等のミラーを移動させる代わりに、媒質の屈折率を電圧で変化させる屈折率調整素子を用いて、レーザ光の位相を変化させてもよい。具体的には、例えば図３に示すように、図１に示した実施形態におけるハーフミラー１３，１５の代わりに、通常のミラー１３１，１５１を設け、各ミラー１３１，１５１と光記録媒体２（記録層２１）との間に、屈折率調整素子１３２，１５２を設ければよい。そして、この場合、制御装置１９１は、距離センサ１８で検出する表面位置の変化量と、各屈折率変調素子１３２，１５２の屈折率との関係を示すマップを記憶装置に記憶させており、このマップに基づいて各屈折率変調素子１３２，１５２に印加する電圧を制御している。なお、この形態におけるミラー１３１および屈折率調整素子１３２は第１光学系に相当し、ミラー１５１および屈折率調整素子１５２は第２光学系に相当する。これによれば、距離センサ１８で検出された記録層２１の位置が変化した場合には、制御装置１９１が、各屈折率調整素子１３２，１５２に印加する電圧を制御して、各屈折率調整素子１３２，１５２の屈折率を例えばそれぞれ異なる屈折率ｎ１，ｎ２に変化させることで、レーザ光の位相を変化させて干渉縞の形成位置をずらす。これにより、記録層の収縮により干渉縞を形成する位置がずれたとしても、この位置を調整して、干渉縞の位置ずれを抑えることができる。なお、屈折率調整素子は、必ずしも図３の形態のように第１光学系および第２光学系の両方に設ける必要はなく、第１光学系および第２光学系の少なくとも一方に設ければよい。
【００４５】
また、図３の形態において、ミラー１３１，１５１はいずれか一方だけ設けるようにしてもよい。例えばミラー１３１を無くす場合には、ビームスプリッタ１２を透過するレーザ光の光軸上に、屈折率調整素子１３２、光記録媒体２をこの順に設け、ミラー１５１の角度を光記録媒体２に向くように設定し、ミラー１５１で反射するレーザ光の光軸上に屈折率調整素子１５２を配置すればよい。
【００４６】
また、レーザ光の位相を変化させる代わりに、記録層２１の表面位置を変化させることで、干渉縞の形成位置を変化させてもよい。具体的には、例えば、図４に示すような光記録装置３で干渉縞を形成すればよい。ここで、この光記録装置３は、図１に示した実施形態と同様の光源１１、ビームスプリッタ１２、支持台１７および距離センサ１８を備えている。また、この光記録装置３は、図１の実施形態とは異なり、ビームスプリッタ１２を透過したレーザ光を光記録媒体２に反射する第１ミラー３１と、ビームスプリッタ１２で反射されたレーザ光を光記録媒体２に反射する第２ミラー３２と、支持台１７を記録層２１の収縮方向に移動させる微動ステージ１７Ａと、微動ステージ１７Ａを制御する制御装置３３とを備えている。そして、制御装置３３では、距離センサ１８で検出する表面位置の変化量と、微動ステージ１７Ａによる支持台１７の移動量との関係を示すマップを記憶装置に記憶させており、このマップに基づいて微動ステージ１７Ａを制御している。なお、この形態における光源１１、ビームスプリッタ１２、第１ミラー３１および第２ミラー３２は、照射装置の一例に相当する。
【００４７】
このような光記録装置３では、図５（ａ）〜（ｂ）に示すように、干渉縞Ｓ１を形成した際に記録層２１が収縮すると、図１の実施形態と同様に、距離センサ１８から制御装置３３に出力される表面位置情報が変化することで、制御装置３３は、その変化量とマップに基づいて、支持台１７の移動量を取得し、この移動量に基づいて微動ステージ１７Ａを制御する。これにより、図５（ｃ）に示すように、記録層２１が収縮方向に移動して、干渉縞Ｓ２の形成位置を、元の干渉縞Ｓ１の位置に近づけるようにずらすことができる。そのため、従来のような製造方法に比べて、収縮前に形成した干渉縞Ｓ１と収縮後に形成する干渉縞Ｓ２との最大ずれ量を極力小さく抑えることができる。
【００４８】
なお、図４の形態では、支持台１７を記録層２１の収縮方向（厚み方向）に移動させるように構成したが、本発明はこれに限定されず、例えば図６（ａ），（ｂ）で示すように記録層２１の収縮により干渉縞Ｓ１が寝た状態に形成された記録層２１（光記録媒体２）を、図６（ｃ）に示すように、その面方向に沿って移動させるように構成してもよい。この場合も、従来のような製造方法に比べて、収縮前に形成した干渉縞Ｓ１と収縮後に形成する干渉縞Ｓ２との最大ずれ量を極力小さく抑えることができる。
【００４９】
前記実施形態では、干渉させるレーザ光を２本としたが、本発明はこれに限定されず、何本であってもよいが、特に、２本〜４本が好ましい。この理由は、本数が多いと、それらを調整して１点に集めるのが困難となるからであり、また、１本では干渉が起こらないからである。そのため、光学系をシンプルで、かつ、安定させるためには、２本〜４本が好ましい。なお、参照光と情報光とを同軸上においてまとめて記録層に照射するコリニア記録方法においても、レーザ光の数は２本と数える。
【００５０】
前記実施形態では、第１反射板１４および第２反射板１６に入射してくるレーザ光（以下、「入射光」という。）を、入射光と同軸上に反射させたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図７に示すように、第１反射板１４や第２反射板１６の反射面をＬ字状に形成することで、入射光を、入射光の光軸と平行であり、かつ、前記光軸からずれた軸上に反射させてもよい。
【００５１】
前記実施形態では、光記録媒体２を、記録層２１と、この記録層２１を支持するガラス基板２２とで構成したが、本発明はこれに限定されず、例えば、図８に示すように、記録層２１を一対のガラス基板２２で挟むことで光記録媒体２’を構成してもよい。また、図８に示すように、光記録媒体２’の光入射面（レーザ光が入射される面）側を、中央に孔１７１が形成された支持台１７２で支持する場合には、記録層２１の光入射面（表面２１ａ）ではなく、光入射面とは反対側の面２１ｂの位置を距離センサ１８で検出してもよい。なお、距離センサ１８で検出する面は、記録層２１を支持するガラス基板２２の表面であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の一実施形態に係る光記録装置を示す構成図である。
【図２】光記録媒体の製造方法を示す図であり、２本のレーザ光を照射して干渉縞を形成する工程を示す説明図（ａ）と、記録層の収縮後に従来の方法で干渉縞を形成した状態を示す説明図（ｂ）と、２本のレーザ光の一方の位相をずらす工程を示す説明図（ｃ）である。
【図３】レーザ光の位相を変化させる他の形態を示す構成図である。
【図４】支持台を移動させて記録層の表面位置を変化させる形態を示す構成図である。
【図５】図４に示す光記録装置による光記録媒体の製造方法を示す図であり、２本のレーザ光を照射して干渉縞を形成する工程を示す説明図（ａ）と、干渉縞の形成により記録層が収縮した状態を示す説明図（ｂ）と、記録層の表面位置を厚み方向に移動させる工程を示す説明図（ｃ）である。
【図６】図５の変形例を示す図であり、２本のレーザ光を照射して干渉縞を形成する工程を示す説明図（ａ）と、干渉縞の形成により記録層が収縮した状態を示す説明図（ｂ）と、記録層の表面位置を面方向に移動させる工程を示す説明図（ｃ）である。
【図７】第１反射板や第２反射板の反射面をＬ字状にした形態を示す構成図である。
【図８】距離センサで検出する面を変更した形態を示す構成図である。
【符号の説明】
【００５３】
１      光記録装置
２      光記録媒体
１１    光源
１２    ビームスプリッタ
１３    第１ハーフミラー
１４    第１反射板
１４Ａ  微動ステージ
１５    第２ハーフミラー
１６    第２反射板
１７    支持台
１８    距離センサ
１９    制御装置
２１    記録層
２１ａ  表面
Ｓ１，Ｓ２  干渉縞
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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