(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターニングデバイスから基板にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置であって、
前記パターンデバイスによりパターンが付与されたパターン付き放射ビームを通過させ、前記パターンの転写に不要な放射ビームをシールドするためのシールドと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記シールド内に設けられ、前記リソグラフィ装置の音響振動を少なくとも部分的に減衰させるように構成された音響共振器と、
を含み、
前記シールドは、前記パターン付き放射ビームを通過させる開口部を有し、
前記音響共振器は、
周囲壁によって囲まれた、ガスを留めるための空間と、
前記ガスを前記空間に放出する、互いに異なる容量を有する複数のガスダクトと、
を含むヘルムホルツ共振器であり、
前記空間および前記複数のダクトは、前記シールド内に含まれており、
前記複数のガスダクトは、前記開口部と前記空間とを連通している、
リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記ダクトの壁が、前記ダクト内に音響抵抗を提供するように、少なくとも部分的にリブまたは起伏となっている、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記空間の前記周囲壁の少なくとも一部がアクティブエレメントによって形成され、前記空間の容量の変化をもたらす前記アクティブエレメントの変位を提供するように前記アクティブエレメントが駆動されることができる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、
前記基板を保持するように構成された基板テーブルと、
をさらに備える、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
パターン付き放射ビームを形成するために放射ビームをパターン形成すること、
シールドにより、前記パターン付き放射ビームを通過させ、前記パターンの転写に不要な放射ビームをシールドすること、
前記パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影すること、および
前記投影の間に音響振動を少なくとも部分的に減衰させること、を含み、
前記減衰が、
前記シールド内に設けられたヘルムホルツ共振器によって実行されるものであり、
前記ヘルムホルツ共振器が、
周囲壁によって囲まれた、ガスを留めるための空間と、
前記ガスを前記空間に放出する、互いに異なる容量を有する複数のガスダクトと、を含み、
前記空間および前記複数のダクトが、前記シールド内に含まれており、
前記複数のガスダクトが、前記パターン付き放射ビームの通過を可能にする開口部と前記空間とを連通するように構成されている、
デバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するように配置されたリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。その場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、ダイの一部、または１つ以上のダイを含む）に転写することができる。通常、パターンの転写は、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上への結像によって行われる。一般には、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置としては、ターゲット部分上にパターン全体を一度に露光することにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるステッパ、および放射ビームによってある特定の方向（「スキャン」方向）にパターンをスキャンすると同時に、この方向に平行または逆平行に基板をスキャンすることにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるスキャナが含まれる。パターンを基板上にインプリントすることにより、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  現在、リソグラフィにおいていくつかの傾向が見られる。第一に、リソグラフィ装置が、例えば一定の期間内に大量のウェーハを処理できるようにするために、リソグラフィ装置のスループット要件が高まっていることが観察される。
【０００４】
[0004]  第二に、精度要件が高くなる傾向があり、これは、より詳細な、すなわちより細かいパターンを基板に投影する強化された能力との組み合わせで、より詳細なパターンを有する基板の製造を可能にする。スループットが高くなることの結果として、リソグラフィ装置の可動部品は、より高速で、かつより高い加速で動く傾向がある。よって、このような動き（例えば音響振動）に起因する障害が増加する傾向がある。第二に精度要件が高くなったために、このような音響振動に対するリソグラフィ装置の部品の感度が、少なくともイメージング精度と比較して高くなる傾向がある。さらに、リソグラフィ装置では、他の多くの音響振動源（例えば、リソグラフィ装置の可動エレメント、清浄なまたは清浄化されたガス混合物を供給するためのガスダクト、冷却デバイス、ファンなど）が存在し得る。このような振動源、またはその他あらゆる振動源による音響振動は、リソグラフィ装置の一部（例えば、投影システム、投影システムのレンズエレメントまたはミラーエレメント、サポート位置測定システムまたは基板テーブル位置測定システムの位置センサ、アラインメントシステム、またはリソグラフィ装置のその他あらゆる部分などであるが、これらに限定されない）に影響を及ぼし得る。
【発明の概要】
【０００５】
[0005]  リソグラフィ装置の一部に対する音響振動の可能な影響を減らすことによって、リソグラフィ装置の精度、オーバレイ、またはその他あらゆるパラメータを高めることができることが望ましい。
【０００６】
[0006]  本発明の一実施形態によれば、パターニングデバイスから基板にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置が提供され、このリソグラフィ装置は、リソグラフィ装置の音響振動を少なくとも部分的に減衰させるための音響共振器を含む。この音響共振器はヘルムホルツ共振器を含み、このヘルムホルツ共振器は、周囲壁によって囲まれた、ガスをとどめるための空間と、ガスを空間に放出する、互いに異なる容量を有する複数のガスダクトと、を含む。
【０００７】
[0007]  本発明の一実施形態によれば、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、パターニングデバイスパターン付き放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニングデバイス支持するように構成されたサポートと、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、リソグラフィ装置の音響振動を少なくとも部分的に減衰させるように構成された音響共振器とを含むリソグラフィ装置が提供される。
【０００８】
[0008]  本発明の一実施形態によれば、パターン付き放射ビームを形成するために放射ビームをパターン形成すること、基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影すること、および、投影の間に音響振動を少なくとも部分的に減衰させることを含み、この減衰が、周囲壁によって囲まれた、ガスをとどめるための空間と、ガスを空間に放出する、互いに異なる容量を有する複数のガスダクトと、を含むヘルムホルツ共振器を使用して実行される、デバイス製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
[0009]  本発明のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の概略図を参照して以下に説明する。これらの図面において同じ参照符号は対応する部分を示す。
【図１】[0010]  図１は、本発明の一実施形態が提供され得るリソグラフィ装置である。
【図２】[0011]  図２（Ａ）〜図２（Ｃ）は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置に適用される共振器の多様な実施形態の概略図である。
【図３】[0012]  図３は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のサポート、シールド、および投影システムの概略図である。
【図４】[0013]  図４は、図３によるシールドの抽象的な上面断面図である。
【図５】[0014]  図５は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置のガス供給管の概略図である。
【図６】[0015]  図６は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置の下流の投影レンズおよびレンズマウントの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
[0016]  図１は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置を概略的に示している。このリソグラフィ装置は、放射ビームＢ（例えば紫外線または他の適切な放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬ、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置付けるように構成された第１位置決めデバイスＰＭに連結されている、パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴを含む。装置はまた、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置付けるように構成された第２位置決めデバイスＰＷに連結されている、基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴもしくは「基板サポート」も含む。
【００１１】
[0017]  装置は、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付けられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳをさらに含む。
【００１２】
[0018]  照明システムとしては、放射を誘導し、整形し、または制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、またはその他のタイプの光コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光コンポーネントを含むことができる。
【００１３】
[0019]  パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造は、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計、および、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどの他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造は、機械式、真空式、静電式またはその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造は、例えば、必要に応じて固定または可動式にすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造は、パターニングデバイスを、例えば、投影システムに対して所望の位置に確実に置くことができる。本明細書において使用される「レチクル」または「マスク」という用語はすべて、より一般的な「パターニングデバイス」という用語と同義であると考えるとよい。
【００１４】
[0020]  本明細書において使用される「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用できるあらゆるデバイスを指していると、広く解釈されるべきである。なお、留意すべき点として、放射ビームに付与されたパターンは、例えば、そのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンに正確に一致しない場合もある。通常、放射ビームに付けたパターンは、集積回路などのターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定機能層に対応することになる。
【００１５】
[0021]  パターニングデバイスは、透過型であっても、反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは公知であり、バイナリ、レゼンソン型(alternating)位相シフト、およびハーフトーン型(attenuated)位相シフトなどのマスク型、ならびに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームを様々な方向に反射させるように、個別に傾斜させることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射される放射ビームにパターンを付ける。
【００１６】
[0022]  本明細書において使用される「投影システム」という用語は、使われている露光放射にとって、あるいは液浸液の使用または真空の使用といった他の要因にとって適切な、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型、および静電型光学系、またはそれらのあらゆる組合せを含むあらゆる型の投影システムを包含していると広く解釈されるべきである。本明細書において使用される「投影レンズ」という用語はすべて、より一般的な「投影システム」という用語と同義であると考えるとよい。
【００１７】
[0023]  本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、透過型のもの（例えば、透過型マスクを採用しているもの）である。また、リソグラフィ装置は、反射型のもの（例えば、上述のプログラマブルミラーアレイを採用しているもの、または反射型マスクを採用しているもの）であってもよい。
【００１８】
[0024]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブルもしくは「基板サポート」（および／または２つ以上のマスクテーブルもしくは「マスクサポート」）を有する型のものであってもよい。そのような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルもしくはサポートは並行して使うことができ、または予備工程を１つ以上のテーブルもしくはサポート上で実行しつつ、別の１つ以上のテーブルもしくはサポートを露光用に使うこともできる。
【００１９】
[0025]  また、リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように、比較的高屈折率を有する液体（例えば水）によって基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプのものであってもよい。また、リソグラフィ装置内の別の空間（例えば、パターニングデバイス（例えばマスク）と投影システムとの間）に液浸液を加えてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために用いることができる。本明細書において使用される「液浸」という用語は、基板のような構造物を液体内に沈めなければならないという意味ではなく、単に、露光中、投影システムと基板との間に液体があるということを意味するものである。
【００２０】
[0026]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受ける。例えば、放射源がエキシマレーザである場合、放射源とリソグラフィ装置は、別個の構成要素であってもよい。そのような場合には、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているとはみなされず、また放射ビームは、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ、例えば、適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを使って送られる。
【００２１】
[0027]  その他の場合においては、例えば、放射源が水銀ランプである場合、放射源は、リソグラフィ装置の一体部分とすることもできる。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要ならばビームデリバリシステムＢＤとともに、放射システムと呼んでもよい。
【００２２】
[0028]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するように構成されたアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（通常、それぞれσ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯといったさまざまな他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調整すれば、放射ビームの断面に所望の均一性および強度分布をもたせることができる。
【００２３】
[0029]  放射ビームＢは、パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されているパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に入射して、パターニングデバイスによってパターン形成される。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを通り抜けた後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームの焦点をあわせる。第２位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または静電容量センサ）を使って、例えば、さまざまなターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置付けるように、基板テーブルＷＴを正確に動かすことができる。同様に、第１位置決めデバイスＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示的に示されていない）を使い、例えば、マスクライブラリからマスクを機械的に取り出した後またはスキャン中に、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置付けることもできる。通常、パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴの移動は、第１位置決めデバイスＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を使って達成することができる。同様に、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」の移動も、第２位置決めデバイスＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使って達成することができる。ステッパの場合は（スキャナとは対照的に）、パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴは、ショートストロークアクチュエータのみに連結されてもよく、または固定されてもよい。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡおよび基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１およびＭ２と、基板アライメントマークＰ１およびＰ２とを使って、位置合わせされてもよい。例示では基板アライメントマークが専用ターゲット部分を占めているが、基板アライメントマークをターゲット部分とターゲット部分との間の空間内に置くこともできる（これらは、スクライブラインアライメントマークとして公知である）。
【００２４】
[0030]  同様に、複数のダイがパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に設けられている場合、マスクアライメントマークは、ダイとダイの間に置かれてもよい。
【００２５】
[0031]  例示の装置は、以下に説明するモードのうち少なくとも１つのモードで使用できる。
【００２６】
[0032]  １．ステップモードにおいては、パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」を基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度に（すなわち、単一静止露光）ターゲット部分Ｃ上に投影する。その後、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」は、Ｘおよび／またはＹ方向に移動され、それによって別のターゲット部分Ｃを露光することができる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静止露光時に結像されるターゲット部分Ｃのサイズが限定される。
【００２７】
[0033]  ２．スキャンモードにおいては、パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」を同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一動的露光）。パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴに対する基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムＰＳの（縮小）拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズよって、単一動的露光時のターゲット部分の幅（非スキャン方向）が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ（スキャン方向）が決まる。
【００２８】
[0034]  ３．別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、パターニングデバイスサポートもしくはサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴもしくは「マスクサポート」を基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」を動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴもしくは「基板サポート」の移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００２９】
[0035]  上述の使用モードの組合せおよび／またはバリエーション、あるいは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。
【００３０】
[0036]  図２（Ａ）〜図２（Ｃ）は、本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置で使用する共振器の多様な実施形態の断面図である。音響振動の減衰は投影の間に行うことができる。一実施形態では、音響共振器はヘルムホルツ共振器を含む。図２（Ａ）は、複数のガスダクトＧＤおよび空間ＳＰを含む共振器を示す。ガスダクトおよび空間は、運転中にガス（例えば空気、清浄空気、超清浄乾燥空気、合成空気、窒素、またはその他あらゆるガスまたは混合ガスなど）で充填することができる。あるいは、ガスダクトおよび空間は、蒸気またはその他あらゆる適切な液体で充填することができる。ガスダクトは、空間ＳＰと共振器の外部環境ＯＥとの間の接続を提供する。空間は、壁ＷＬによって囲まれ、ガスダクトを介してのガスまたは他の物質の置換を可能にするだけなので、バネ質点特性の性質を有するシステムを形成し得る。よって、ガスダクトＧＤの中のガス（またはその他）は質量を形成する一方で、空間ＳＰの中のガス（またはその他）はバネを形成する。外側環境ＯＥの音響振動がガスダクトの入口に達すると、それによってバネ質点アセンブリが発生され、ガスダクトの中のガスによって質量が形成される一方で、空間ＳＰの中のガスによってバネが形成される。音響振動がバネ質点組み合わせの共振周波数帯域にあるときに、外側の領域に振動の反射および／または減衰が起こる。ここで示される実施形態では複数のガスダクトが設けられ、これら複数のガスダクトは異なる容量（異なる長さ、異なる直径、高さ、またはその他あらゆるパラメータ）を有し、その結果、これらによって形成されたバネ-質点組み合わせの各々について多様な共振周波数を生じる。その結果として、複数の周波数範囲の音響振動は、音響共振器によって減衰させることができる。部分的に重なり合う共振範囲または隣接する複数の共振周波数範囲が提供されるように、バネ-質点組み合わせの共振周波数範囲を選択し得る。
【００３１】
[0037]  図２（Ｂ）もまた、空間ＳＰと複数のガスダクトＧＤを有する共振器を示す。図２（Ａ）を参照して上述した特徴と説明に加えて、図２（Ｂ）に示される共振器は、空間ＳＰの壁ＷＬにアクティブエレメントＡＥを含む。適切な駆動信号でアクチュエータＡＥを駆動することによって、アクティブ質量減衰システムを提供することができるが、これは、空間ＳＰの容量を能動的に変化させるため、および／または空間ＳＰのガスによって形成されるバネを能動的に減衰させるために、アクティブエレメント（例えばスピーカ）が適用され得るからである。
【００３２】
[0038]  アクティブエレメントＡＥは、あらゆる適切なアクチュエータ（例えば圧電スピーカ、ダイナミックスピーカなど）によって形成することができる。アクティブエレメントは、外部環境ＯＥで音響振動を感知するように位置づけられた振動センサ（例えばマイク）からの信号を提供される制御デバイス（図示されていない）によって駆動され得る。留意すべき点として、アクティブエレメントが２つの方法で適用することができる。すなわち、上記のように、バネのバネ定数を変更するか、空間の能動的な容量変化による減衰を加えることであるが、これらの方法に代わって、またはこれらに加えて、アクティブエレメントが空間の振動に関して適切な位相関係で駆動される際に、作動するアクティブカウンタを提供し、それによって振動を減衰させることも可能である。センサは、外部環境ＯＥの振動を感知するように位置づけられる代わりに、空間ＳＰ自体の中の振動を感知するように位置づけられてもよい。
【００３３】
[0039]  音響共振器の他の例が図２（Ｃ）（図２（Ｂ）に類似したセットアップを提供する）で提供されるが、空間ＳＰの容量が大幅に減らされている。よって基本的に、図２（Ｃ）に示されるセットアップは、能動減衰を提供する。すなわち、共振器の質量がガスダクトのガスの質量によって形成される一方で、上述したように、バネはアクティブエレメントＡＥの能動的作動によって主に形成される。よって、図２（Ｃ）に示される構成は、このように能動減衰を提供するために適用することができる。図２（Ｃ）による構成の利点は、アクティブエレメントの適切な駆動によって、広範囲にわたるバネ特性の適応を可能にし、それによって、アクティブエレメントの適切な駆動によって共振器の望ましい特性を適応させることを可能にするということである。この場合、音響入力の結果としての空間ＳＰの圧力変化が減らされるように、アクティブエレメントおよびその制御を構成することができる。このように、アクティブエレメントを有する小さい空間ＳＰは、大きい空間ＳＰのように機能する。アクティブエレメントＡＥを駆動するために、コントローラは、オープン領域ＯＡ内の空間ＳＰ内に配置された、または空間ＳＰ外に配置された圧力センサまたはマイクからの圧力情報を使用することができる。
【００３４】
[0040]  図２（Ａ）〜２（Ｃ）に示される構成では、異なる長さの複数のガスダクトの代わりに、１つのガスダクト、または異なる高さ、直径などを有する複数のガスダクトを使用し、それによって望ましい1つの共振周波数域または複数の共振周波数域を得ることができる。共振周波数域を増やすために、すなわち共振器を周波数選択的ではなくするために、１つ以上ガスダクトに、例えばガスダクトの起伏を有する壁を提供することによって、または音響減衰または吸収材料を加えることによって、音響抵抗を提供し得る。それによって、抵抗および減衰がバネ-質点組み合わせに導入され、これによって共振周波数特性を平坦化する。
【００３５】
[0041]  図３は、パターニングデバイスＭＡを保持するパターニングデバイスサポートＭＴの非常に概要的な図である。パターン付きビームが、投影システムＰＳを経由して基板上に投影され得る。シールドＳＨＤは、サポートＭＴと投影システムＰＳの間に設けられ、それによって、例えば、投影システムＰＳに向かうパターニングデバイスサポートＭＴとパターニングデバイスＭＡの動きによって引き起こされる障害（振動、圧力、波など）から投影システムを保護する。スリットＳＬＴは、パターン付きビームが投影システムＰＳへと通過することを可能にするために、シールドＳＨＤ内に設けられる。このような振動、圧力波、その他が、スリットＳＬＴを介して投影システムＰＳに伝達することを少なくとも減らすために、音響共振器がスリットに設けられる。この実施形態では、共振器は、スリットＳＬＴの両側のシールドＳＨＤの中に設けられ、共振器のそれぞれが１つ以上のガスダクトＧＤおよび空間ＳＰを含み、それによって図２（Ａ）に示されるタイプの共振器を提供する。共振器の共振配置の中または近くにある振動、圧力、波などの周波数成分は、共振器の励起によって抑圧、減少、または反射される。これによって、投影システム、特にその光エレメント（レンズエレメント、ミラーエレメントなど）に対する影響は、少なくとも減少され得る。
【００３６】
[0042]  図４は、図３に示されるシールドＳＨＤの上面図である。図４で示されるように、各共振器は、それぞれの空間ＳＰに接続された複数のガスダクトを含む。スリットＳＬＴの両側に共振器を設けることによって、音響障害のより対称的な抑制を達成することができる。異なる長さの誘導ダクトの可能な利点は、図２（Ａ）を参照して上述した。すでに図２（Ｂ）を参照して説明したように、共振器の空間ＳＰの各々の周囲壁ＷＬを形成する部分としてアクティブエレメントＡＥを設けることができ、よって、図２（Ｂ）を参照して説明された効果の１つ以上を達成することができる。スリットＳＬＴに向かう音響障害を感知するために、スリットＳＬＴの近くに振動センサ（例えばマイク）を配置してもよい。センサは、空間ＳＰ内に置いてもよい。図４によるセットアップの代わりに、シールドＳＨＤ内の共振器は、それぞれ図２（Ａ）と２（Ｂ）に示されかつこれらを参照して説明したタイプの共振器の代わりに、図２（Ｃ）に示されかつこれを参照して説明したタイプの共振器であってもよい。
【００３７】
[0043]  図５は、リソグラフィ装置のガス供給管ＧＳＴの概略例を示し、ガス供給管は、リソグラフィ装置の一部に出口領域ＯＡを介してガスまたは混合ガスを供給するように構成される。例えば、リソグラフィ装置の感応性領域に非常に清浄なガスを供給することができ、速いガス流などによって冷却を行うことができる。図５では、非常に概略的で真直なガス供給管ＧＳＴが示されているが、ガス供給管はいかなる長さ、直径、形状、外形などでもよい。図５は、ガス供給管ＧＳＴのガスの流れを提供する推進デバイスＦＮ（例えばファン、ポンプ、またはその他のデバイス）をさらに概略的に示している。図５は、誘導ダクトＧＤおよび空間ＳＰ（図２（Ａ）に示されかつこれを参照して説明したタイプ）を含む共振器であり、共振器は、ガス供給管の壁の中に、かつその出口領域ＯＡの近くに設けられる。共振器は、ガス供給管の出口領域からの振動、圧力波、またはその他の音響影響を減らし、かつ反射するのを助けることができる。このような振動、圧力波などは、多様な原因（例えば推進デバイスＦＮ、ガス供給管内のリブ付きの表面、またはその他あらゆる原因による）によって発生され得る。当然のことながら、図５に示される例では、図２（Ａ）に示されかつこれを参照して説明した共振器の代わりに、図２（Ｂ）、図２（Ｃ）、またはその他の共振器を適用することができる。
【００３８】
[0044]  図６は、投影レンズＰＬＳ（例えば投影システムＰＳの下流の投影レンズ）の概略図である。その一部が断面図に示されたレンズマウントが、この例では図２に示されたタイプの共振器が設けられている。共振器は、レンズマウントの外部環境に向かうガスダクト、およびレンズマウント内に設けられた空間を含む。図６では、共振器は投影レンズＰＬＳの両面に示されている。複数のこのような共振器は、幾何学的に有利な方法でレンズに対する音響影響の抑制を達成するために、レンズの周囲に設けられることが理解される。このような音響影響（振動、圧力波など）を抑制することによって、投影レンズＰＬＳに対するその効果を減少することができ、その結果、投影レンズＰＬＳによる基板に対するパターンビームの投影の精度を改善することができる。図２（Ａ）に示される共振器の原則の代わりに、図２（Ｂ）および／または図２（Ｃ）で描かれるような他の共振器を適用することもできる。
【００３９】
[0045]  本明細書で音響振動という用語が用いられる場合、これはあらゆる音響影響（例えば、音響圧力波、音響振動、音響ショックなど）を含むと理解されるべきである。また、音響振動という用語は、あらゆる媒体（例えばガス、液体および／または固体）の振動を含むと理解されるべきである。よって、本明細書において音響振動という用語は、あらゆる周波数範囲のあらゆる振動パターン（例えば正弦波、衝撃波、爆発、パルスなど）を含み得る。よって、音響振動という用語が、人間の耳で聞き取れる音波に限定されないと理解されるべきことを強調しておく。
【００４０】
[0046]  本明細書において、ＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造といった他の用途を有し得ることが理解されるべきである。当業者にとっては当然のことであるが、そのような別の用途においては、本明細書で使用される「ウェーハ」または「ダイ」という用語はすべて、それぞれより一般的な「基板」または「ターゲット部分」という用語と同義であるとみなしてよい。本明細書に記載した基板は、露光の前後を問わず、例えば、トラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、および／またはインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示内容を上記のような基板プロセシングツールおよびその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに基板は、例えば、多層ＩＣを作るために複数回処理されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は、すでに多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。
【００４１】
[0047]  光リソグラフィの関連での本発明の実施形態の使用について上述のとおり具体的な言及がなされたが、当然のことながら、本発明は、他の用途、例えば、インプリントリソグラフィに使われてもよく、さらに状況が許すのであれば、光リソグラフィに限定されることはない。インプリントリソグラフィにおいては、パターニングデバイス内のトポグラフィによって、基板上に創出されるパターンが定義される。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジスト層の中にプレス加工され、基板上では、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組合せによってレジストは硬化される。パターニングデバイスは、レジストが硬化した後、レジスト内にパターンを残してレジストの外へ移動される。
【００４２】
[0048]  本明細書で使用される「放射」および「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、または１２６ｎｍの波長、またはおよそこれらの値の波長を有する）、および極端紫外線（ＥＵＶ）（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、ならびにイオンビームや電子ビームなどの微粒子ビームを含むあらゆる種類の電磁放射を包含している。
【００４３】
[0049]  「レンズ」という用語は、文脈によっては、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電型光コンポーネントを含む様々な種類の光コンポーネントのいずれか１つまたはこれらの組合せを指すことができる。
【００４４】
[0050]  以上、本発明の具体的な実施形態を説明してきたが、本発明は、上述以外の態様で実施できることが明らかである。例えば、本発明は、上記に開示した方法を表す１つ以上の機械読取可能命令のシーケンスを含むコンピュータプログラムの形態、またはこのようなコンピュータプログラムが記憶されたデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気ディスクまたは光ディスク）の形態であってもよい。
【００４５】
[0051]  上記の説明は、制限ではなく例示を意図したものである。したがって、当業者には明らかなように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本記載の発明に変更を加えてもよい。 
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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