(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁板の一方の面に絶縁距離を設けて接合された第１の金属電極板と第２の金属電極板とが形成された主基板と、上記第１の金属電極板に、コレクタ電極が接合された第１のＩＧＢＴチップとカソード電極が接合された第１のダイオードチップと、上記第２の金属電極板に、コレクタ電極が接合された第２のＩＧＢＴチップとカソード電極が接合された第２のダイオードチップと、上記主基板と対向する層間絶縁板の面に形成され、第１のゲート電極接続用回路と第２のゲート電極接続用回路と出力電極接続用回路と負極電極接続用回路とを構成する金属板の下層配線回路と、上記下層配線回路形成面と反対側の上記層間絶縁板の面に形成され、正極電極接続用回路を構成する、上記負極電極接続用回路より広幅の金属板の上層配線回路とが設けられたバスバー基板とを備えた電力用半導体モジュールであって、上記正極電極接続用回路には、第１の金属電極板と接合する、上記正極電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、上記第１のゲート電極接続用回路には、上記第１のＩＧＢＴチップのゲート電極と接合する、上記第１のゲート電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、上記第２のゲート電極接続用回路には、上記第２のＩＧＢＴチップのゲート電極と接合する、上記第２のゲート電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、上記出力電極接続用回路には、上記第１のＩＧＢＴチップのエミッタ電極と上記第１のダイオードチップのアノード電極と上記第２の金属電極板とに各々接合する、上記出力電極接続用回路自身で形成された各突起が設けられ、上記負極電極接続用回路には、上記第２のＩＧＢＴチップのエミッタ電極と上記第２のダイオードチップのアノード電極とに各々接合する、上記負極電極接続用回路自身で形成された各突起が設けられたことを特徴とする電力用半導体モジュール。
【請求項２】
第１のゲート電極接続用回路と第２のゲート電極接続用回路と出力電極接続用回路と負極電極接続用回路と正極電極接続用回路との各突起が設けられた部分と重なる層間絶縁板の位置に貫通孔を設け、上記第１のゲート電極接続用回路と上記第２のゲート電極接続用回路と上記出力電極接続用回路と上記負極電極接続用回路との各突起が設けられた部分と重なる正極電極接続用回路の位置に貫通孔が設けられたことを特徴とする請求項１に記載の電力用半導体モジュール。
【請求項３】
主基板と、上記主基板に搭載された各ＩＧＢＴチップおよび各ダイオードチップと、バスバー基板と、上記主基板と上記各ＩＧＢＴチップと上記各ダイオードチップと上記バスバー基板とを収納する枠体と、上記枠体に設けられた、第１のゲート電極端子と第２のゲート電極端子と出力電極端子と負極電極端子と正極電極端子と、上記第１のゲート電極端子と第１のゲート電極接続用回路とを接続するワイヤーボンドと、上記第２のゲート電極端子と第２のゲート電極接続用回路とを接続するワイヤーボンドと、上記出力電極端子と出力電極接続用回路とを接続するワイヤーボンドと、上記負極電極端子と負極電極接続用回路とを接続するワイヤーボンドと、上記正極電極端子と正極電極接続用回路とを接続するワイヤーボンドとを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の電力用半導体モジュール。
【請求項４】
第１のゲート電極接続用回路に直接に接合された第１のゲート電極端子と、第２のゲート電極接続用回路に直接に接合された第２のゲート電極端子と、出力電極接続用回路に直接に接合された出力電極端子と、負極電極接続用回路に直接に接合された負極電極端子と、正極電極接続用回路に直接に接合された正極電極端子とを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の電力用半導体モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体スイッチングチップとダイオードチップとを用いた電力用半導体モジュールに関し、特に半導体スイッチングチップとダイオードチップとの配線のインダクタンスを低減させた構造である電力用半導体モジュールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電気自動車や産業用機器に用いられているモータの駆動装置であるインバータ装置等の電力用半導体装置は、直流からモータを駆動する交流を得るために、大電流を高速スイッチングする必要がある。そこで、インバータには、電力用スイッチングチップとしてのＩＧＢＴ（Ｉｎｓｕｌａｔｅｄ  Ｇａｔｅ  Ｂｉｐｏｌａｒ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）チップとダイオードチップとが用いられている。
かかるインバータでは、小型軽量化が要求されるとともに、インバータに用いられているモジュール内の配線インダクタンスを小さくして、ＩＧＢＴの発生損失を低減させることが重要となっている。
【０００３】
インバータ装置等の電力用半導体装置の小型軽量化を図るものとして絶縁基板面に配線経路を形成したバスバー基板の配線構造体が用いられている。そして、このようなバスバー基板において、絶縁基板の、一方の面に負極電極接続用回路を形成し、他方の面に正極電極接続用回路を形成し、且つ負極電極接続用回路と正極電極接続用回路とを平行になるように配置すると、回路面から発生する磁界がキャンセルされ、インバータのモジュール内の配線インダクタンスを低減できることが知られている。
このようなバスバー基板を備えたインバータ装置では、バスバー基板における絶縁基板の下面に設けられた配線回路は、電力用半導体チップと直接接合できるが、絶縁基板の上面に設けられた配線回路は、配線回路と電力用半導体チップとを接合するのに、スペーサ等の中間体が必要であり、コストが増加するとともに、中間体の接合工程が必要となり、生産性が低下するとの問題があった。
【０００４】
上記問題を解決する電力変換装置として、スイッチングチップの負側端子に接続される一方の平行導電バーと、スイッチングチップの正側端子に接続される他方の平板導電バーとで、絶縁板を挟み込む２枚の平板導電バーからなるバスバー基板の配線構造体がある。
このバスバー基板には、下層に位置する平板導電バーの所定箇所に開口部を形成し、上層に位置する平板導電バーにおける、下層の平板導電バーの開口部に相当する箇所に、下層の平板導電バーの開口部から突き出す突出部を形成し、例えば、上層の平板導電バーの突出部をスイッチングチップの負側端子に接続し、下層の平板導電バーをスイッチングチップの正側端子に接続することが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−１０１６７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般にインバータ装置等の電力用半導体装置に用いられる電力用スイッチングチップであるＩＧＢＴチップとダイオードチップとはチップの厚みが異なるケースが多い。また、バスバー基板における、一方の面の負極電極接続用回路と他方の面の正極電極接続用回路とを平行にしてインダクタンスの低減を図るためには、どちらかの電極接続用回路と、チップを搭載している金属電極板の配線パターンとの接続も必要である。
また、ＩＧＢＴチップとダイオードチップとには、その表面の電界緩和のため、各チップ表面の周辺にガードリングと呼ばれる緩和層が形成されており、ガードリングは、その上を交差する配線と十分な絶縁距離を保つ必要がある。
【０００７】
しかし、上記従来の２枚の平板導電バーで絶縁板を挟み込み、下層の平板導電バーの所定箇所に開口部を形成し、上層の平板導電バーにおける、下層の平板導電バーの開口部に相当する箇所に、下層の平板導電バーの開口部から突き出す突出部を形成したバスバー基板では、電力用半導体装置に用いられる、厚みの異なるスイッチングチップとスイッチングチップを搭載する配線パターンとを、上層と下層との平板導電バーで同時に接続することは不可能であるとの問題があった。
また、上記従来のバスバー基板では、下層の平板導電バーをスイッチングチップに接触させると下層の平板導電バーとガードリングとの絶縁距離を保つことができず、また、下層の平板導電バーとガードリングとに絶縁距離を設けると、下層の平板導電バーとスイッチングチップとの直接の接合が困難になるとの問題があった。
【０００８】
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は、高さの異なるＩＧＢＴチップとダイオードチップおよびＩＧＢＴチップとダイオードチップとを搭載した配線パターンである金属電極板に、導電バーで形成された上層配線回路と下層配線回路とを同時に接続でき、下層配線回路とガードリングとの絶縁距離を保つことができるとともに、配線インダクタンスを小さくできるバスバー基板の配線構造体を備えた電力用半導体モジュールを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係わる電力用半導体モジュールは、絶縁板の一方の面に絶縁距離を設けて接合された第１の金属電極板と第２の金属電極板とが形成された主基板と、第１の金属電極板に、コレクタ電極が接合された第１のＩＧＢＴチップとカソード電極が接合された第１のダイオードチップと、第２の金属電極板に、コレクタ電極が接合された第２のＩＧＢＴチップとカソード電極が接合された第２のダイオードチップと、主基板と対向する層間絶縁板の面に形成され、第１のゲート電極接続用回路と第２のゲート電極接続用回路と出力電極接続用回路と負極電極接続用回路とを構成する金属板の下層配線回路と、下層配線回路形成面と反対側の層間絶縁板の面に形成され、正極電極接続用回路を構成する、負極電極接続用回路より広幅の金属板の上層配線回路とが設けられたバスバー基板とを備えた電力用半導体モジュールであって、正極電極接続用回路には、第１の金属電極板と接合する、正極電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、第１のゲート電極接続用回路には、第１のＩＧＢＴチップのゲート電極と接合する、第１のゲート電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、第２のゲート電極接続用回路には、第２のＩＧＢＴチップのゲート電極と接合する、第２のゲート電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、出力電極接続用回路には、第１のＩＧＢＴチップのエミッタ電極と第１のダイオードチップのアノード電極と第２の金属電極板とに各々接合する、出力電極接続用回路自身で形成された各突起が設けられ、負極電極接続用回路には、第２のＩＧＢＴチップのエミッタ電極と第２のダイオードチップのアノード電極とに各々接合する、負極電極接続用回路自身で形成された各突起が設けられたものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係わる電力用半導体モジュールは、絶縁板の一方の面に絶縁距離を設けて接合された第１の金属電極板と第２の金属電極板とが形成された主基板と、第１の金属電極板に、コレクタ電極が接合された第１のＩＧＢＴチップとカソード電極が接合された第１のダイオードチップと、第２の金属電極板に、コレクタ電極が接合された第２のＩＧＢＴチップとカソード電極が接合された第２のダイオードチップと、主基板と対向する層間絶縁板の面に形成され、第１のゲート電極接続用回路と第２のゲート電極接続用回路と出力電極接続用回路と負極電極接続用回路とを構成する金属板の下層配線回路と、下層配線回路形成面と反対側の層間絶縁板の面に形成され、正極電極接続用回路を構成する、負極電極接続用回路より広幅の金属板の上層配線回路とが設けられたバスバー基板とを備えた電力用半導体モジュールであって、正極電極接続用回路には、第１の金属電極板と接合する、正極電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、第１のゲート電極接続用回路には、第１のＩＧＢＴチップのゲート電極と接合する、第１のゲート電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、第２のゲート電極接続用回路には、第２のＩＧＢＴチップのゲート電極と接合する、第２のゲート電極接続用回路自身で形成された突起が設けられ、出力電極接続用回路には、第１のＩＧＢＴチップのエミッタ電極と第１のダイオードチップのアノード電極と第２の金属電極板とに各々接合する、出力電極接続用回路自身で形成された各突起が設けられ、負極電極接続用回路には、第２のＩＧＢＴチップのエミッタ電極と第２のダイオードチップのアノード電極とに各々接合する、負極電極接続用回路自身で形成された各突起が設けられたものであり、電力用半導体モジュール内のインダクタンスを低減することができ、下層配線回路と各チップ表面の周辺のガードリングとの絶縁距離を保つことができ、上層および下層配線回路と、高さの異なるチップや金属板電極とを、スペーサ等の部材を用いることなく、一括に接続することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールの外観を示す斜視図である。
図１に示すように、本実施の形態の電力用半導体モジュール１００は、ケース１１内に、後述する主基板上に搭載されたＩＧＢＴチップとダイオードチップおよび配線構造体であるバスバー基板８０が収納されている。そして、ケース１１に設けられた出力電極端子１４と正極電極端子１５と負極電極端子１６と第１のゲート電極端子１３ａと第２のゲート電極端子１３ｂの各々は、対応するバスバー基板８０の各電極接続回路にワイヤーボンド１２により接続されている。そして、図示していないが、ケース１１内に封止樹脂が注入され、各チップとバスバー基板８０とを封止している。
本実施の形態で説明する電力用半導体モジュール１００は、上下アーム（２イン１）モジュールであり、後述するように、ケース１１内に電力用半導体チップであるＩＧＢＴチップとダイオードチップとの組が２セット収納されている。
【００１２】
図２は、本発明の実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールに用いられる主基板にＩＧＢＴチップとダイオードチップとを搭載した状態を示す上面模式図（ａ）とこの上面模式図におけるＡ−Ａ断面模式図（ｂ）である。
図２に示すように、本実施の形態の電力用半導体モジュール１００に用いられる主基板１７は、絶縁板５と、絶縁板５の一方の面に略平行に必要な絶縁距離を設けて接合された第１の金属電極板４ａと第２の金属電極板４ｂと、絶縁板５の他方の面に接合された金属板４とからなる。そして、主基板１７の第１の金属電極板４ａの面には、第１のＩＧＢＴチップ１ａと第１のダイオードチップ２ａが搭載され、第２の金属電極板４ｂの面には、第２のＩＧＢＴチップ１ｂと第２のダイオードチップ２ｂが搭載されている。
【００１３】
本実施の形態では、第１のＩＧＢＴチップ１ａと第２のＩＧＢＴチップ１ｂとが並び、第１のダイオードチップ２ａと第２のダイオードチップ２ｂとが並ぶように各金属電極板４ａ，４ｂとに載置されている。そして、第１のＩＧＢＴチップ１ａのコレクタ電極と第１のダイオードチップ２ａのカソード電極とが、第１の金属電極板４ａに接合しており、第２のＩＧＢＴチップ１ｂのコレクタ電極と第２のダイオードチップ２ｂのカソード電極とが、第２の金属電極板４ｂに接合している。さらに、第１のＩＧＢＴチップ１ａの第１のゲート電極３ａおよび第２のＩＧＢＴチップ１ｂの第２のゲート電極３ｂとが、ダイオードチップからＩＧＢＴチップの方向に向かって遠方側になるように、各ＩＧＢＴチップ１ａ，１ｂが配置されている。
【００１４】
図３は、本発明の実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールにおける主基板上の金属電極板とＩＧＢＴチップとダイオードチップとにバスバー基板を接合した接合体の上面模式図である。
図４は、図３に示す接合体におけるＢ−Ｂ断面模式図（ａ）とＣ−Ｃ断面模式図（ｂ）とである。
図５は、図３に示す接合体におけるＤ−Ｄ断面模式図（ｃ）とＥ−Ｅ断面模式図（ｄ）とである。
図６は、本発明の実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールに用いられるバスバー基板を構成する下層配線回路（ａ）と層間絶縁板（ｂ）と上層配線回路（ｃ）とを示す上面模式図である。
図３に示す接合体３０と、図４と図５とに示す接合体３０の各断面と、図６に示すバスバー基板の構成部材とから明らかなように、本実施の形態の電力用半導体モジュール１００に用いられるバスバー基板８０は、層間絶縁板８１の両面に金属の配線回路が設けられたものである。
そして、層間絶縁板８１における主基板と対向する面に形成された下層配線回路８３は、第１のゲート電極３ａと電気的に接続する第１のゲート電極接続用回路７ａと、第２のゲート電極３ｂと電気的に接続する第２のゲート電極接続用回路７ｂと、第１のＩＧＢＴチップ１ａのエミッタ電極と第１のダイオードチップ２ａのアノード電極と第２の金属電極板４ｂとを電気的に接続する出力電極接続用回路８と、第２のＩＧＢＴチップ１ｂのエミッタ電極と第２のダイオードチップ２ｂのアノード電極とを電気的に接続する負極電極接続用回路９とを備えている。
【００１５】
また、層間絶縁板８１における下層配線回路８３形成面の反対側の面に形成された上層配線回路８２は、第１の金属電極板４ａと電気的に接続する正極電極接続用回路６を構成している。
そして、上層配線回路８２である正極電極接続用回路６は、下層配線回路８３の負極電極接続用回路９より広幅になっている。
また、各電極接続回路は、対応する電極端子とワイヤーボンドで、電気的に接続されており、本実施の形態の電力用半導体モジュール１００の回路は、図７で表すことができる。
【００１６】
バスバー基板８０の下層配線回路８３を構成する各電極接続回路には、層間絶縁板８１との接合面と反対方向に、各電極接続回路自身の金属絞り加工で形成した突起が設けられている。
第１のゲート電極接続用回路７ａでは第１のゲート電極３ａに対向する部分に第１のゲート電極接続用回路の突起２０ａが設けられ、第２のゲート電極接続用回路７ｂでは第２のゲート電極３ｂに対向する部分に第２のゲート電極接続用回路の突起２０ｂが設けられており、各突起は対向する各電極に接合されている。
また、出力電極接続用回路８では、第１のＩＧＢＴチップ１ａのエミッタ電極と対向する部分に出力電極接続用回路の第１の突起２０ｃが設けられ、第１のダイオードチップ２ａのアノード電極と対向する部分に出力電極接続用回路の第２の突起２０ｄが設けられ、第２の金属電極板４ｂと対向する部分に出力電極接続用回路の第３の突起２０ｅが設けられており、各突起は対向する各電極および金属電極板に接合されている。
また、負極電極接続用回路９では、第２のＩＧＢＴチップ１ｂのエミッタ電極と対向する部分に負極電極接続用回路の第１の突起２０ｆが設けられ、第２のダイオードチップ２ｂのアノード電極と対向する部分に負極電極接続用回路の第２の突起２０ｇが設けられており、各突起は対向する各電極に接合されている。
【００１７】
また、バスバー基板８０の上層配線回路８２を構成する正極電極接続用回路６にも、第１の金属電極板４ａと対向する部分において、層間絶縁板８１との接合面方向に正極電極接続回路自身の金属絞り加工で形成した正極電極接続用回路の突起２０ｈが設けられ、この突起２０ｈが対向する第１の金属電極板４ａと接合している。
本実施の形態では、各突起と、各電極および金属電極板との接合は、導電性接合材（図示せず）により行われている。
本実施の形態では、突起２０ａと突起２０ｂとは、各１個であり、突起２０ｃと突起２０ｄと突起２０ｅと突起２０ｆと突起２０ｇと突起２０ｈとは、各２個であるが、突起の数は、これらに限定されるものではなく、電力用半導体モジュールの容量により適宜決められる。
【００１８】
また、層間絶縁板８１には、上層配線回路８２と下層配線回路８３との突起が設けられた部分と重なる位置と、下層配線回路８３における出力電極接続用回路８と負極電極接続用回路９とにワイヤーボンド１２を接続する部分と重なる位置とに、貫通孔が形成されている。
層間絶縁板８１における、上層配線回路８２の突起と重なる貫通孔には、上層配線回路８２に設けられた突起２０ｈが挿通しており、下層配線回路８３の各突起と重なる貫通孔には、下層配線回路８３に突起を形成する時に治工具が挿通される。
また、上層配線回路８２にも、下層配線回路８３における、突起が設けられた部分と重なる位置と、ワイヤーボンド１２を接続する部分と重なる位置とに、貫通孔が形成されている。この上層配線回路８２に形成された貫通孔は、層間絶縁板８１の貫通孔と重なっており、層間絶縁板８１に形成された貫通孔より大きく、層間絶縁板８１の貫通孔は上層配線回路８２の貫通孔の内側に配置されている。
【００１９】
本実施の形態において、主基板１７を構成する絶縁板５には、高い絶縁性と高い熱伝導性が要求されるために、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等のセラミック板、あるいは、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂に高熱伝導性を有するセラミックフィラーを混合したエポキシシートが、用いられる。
また、主基板１７を構成する、第１の金属電極板４ａと第２の金属電極板４ｂと金属板４とに用いられる、材料には、銅系金属、アルミニウム等の高い熱伝導性と低い電気抵抗とを有する金属が挙げられる。
また、導電性接合材には、銅や銀フィラーを熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂に混合した導電性ペースト、または、はんだ等が、用いられる。導電性ペーストは、どの様な金属材料表面のチップにも、突起を接合できるが、はんだは、チップ表面の金属材料がアルミニウムの場合には突起を接合できず、表面の金属材料がニッケルや金等の限定された金属材料表面のチップに用いられる。
【００２０】
また、バスバー基板８０の層間絶縁板８１は、十分な絶縁性を有している必要があり、その材料は、例えば、両面に接着剤が塗布されたポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート等の熱可塑性樹脂シート、半硬化のエポキシやポリイミド等の熱硬化性樹脂シート、さらにはガラスクロス等の繊維で強化された樹脂シートが挙げられる。
また、バスバー基板８０の上層配線回路８２と下層配線回路８３との材料は、低い電気抵抗と高い熱伝導性を有すると同時に、各突起を形成するに必要な十分な伸び特性を有している必要があり、銅板が好ましい。
例えば、ガラスエポキシ銅張り基板は、ガラスクロス強化エポキシ樹脂シートの層間絶縁板８１と、銅板の上層配線回路８２および下層配線回路８３とからなるバスバー基板８０として用いることができる。
また、出力電極端子１４と正極電極端子１５と負極電極端子１６と第１のゲート電極端子１３ａと第２のゲート電極端子１３ｂとに用いる材料には、電気抵抗の少ない銅合金系の金属が好ましい。
ワイヤーボンドの材料としてはアルミニウムが好ましく、封止樹脂としてはシリコーンゲルやエポキシ樹脂等が好ましい。
【００２１】
本実施の形態の電力用半導体モジュール１００の製造方法の一例を説明する。
最初に、主基板１７の製造方法について説明する。
両面に金属板が接合された絶縁板５の一方の面の金属板を、エッチング等により加工し、第１の金属電極板４ａと第２の金属電極板４ｂとを形成することにより主基板１７を作製する。
【００２２】
次に、バスバー基板８０の製造方法について説明する。
前もって接着性を有する層間絶縁板８１の両面に金属板を接着させた後、エッチング等により、上層配線回路８２および下層配線回路８３を形成する。上層配線回路８２には、下層配線回路８３の突起を設ける位置と対向する位置に貫通孔が形成されている。次に、上層配線回路８２の貫通孔部分に露出した層間絶縁板８１をルータ等により除去し、層間絶縁板８１に貫通孔を形成する。
また、上層配線回路８２の突起を設ける領域と対向する部分には、下層配線回路８３が設けられていないので、上層配線回路８２の突起を設ける位置と対向する層間絶縁板８１の部分も、上層配線回路８２形成面と反対側の面からルータ等により層間絶縁板８１を除去し、層間絶縁板８１に貫通孔を形成する。
次に、突起を備えた金型およびこの突起に対応した位置に凹部を備えた金型を用いて、下層配線回路８３の貫通孔部に露出した部分と、上層配線回路８２の層間絶縁板８１の貫通孔に対向する部分とをプレスすることにより、配線回路を形成する金属板を絞り加工し、バスバー基板８０の下層配線回路８３と上層配線回路８２とに突起を形成する。
【００２３】
また、主基板１７における、第１の金属電極板４ａに第１のＩＧＢＴチップ１ａのコレクタ電極と第１のダイオードチップ２ａのカソード電極とを接合し、第２の金属電極板４ｂに、第２のＩＧＢＴチップ１ｂのコレクタ電極と第２のダイオードチップ２ｂのカソード電極とを接合する。
次に、ＩＧＢＴチップとダイオードチップとを搭載した主基板１７に、突起が形成された上層配線回路８２と下層配線回路８３とを備えたバスバー基板８０を重ねて、バスバー基板８０の各電極接続回路の突起を、対応するＩＧＢＴチップの電極とダイオードチップの電極と金属電極板とに導電性接合材で接合し、接合体３０を作製する。
次に、接合体３０をケース１１に収納し、ケース１１に設けられた出力電極端子１４と正極電極端子１５と負極電極端子１６と第１のゲート電極端子１３ａと第２のゲート電極端子１３ｂの各電極端子と、バスバー基板８０の対応する電極接続回路とを、ワイヤーボンド１２で接続する。
次に、ケース１１内に封止樹脂を注入して、電力用半導体モジュール１００を完成する。
【００２４】
本実施の形態の電力用半導体モジュール１００では、上層配線回路８２を構成する正極電極接続用回路６に設けられた、第１の金属電極板４ａと接合する突起２０ｈが最も長く、下層配線回路８３の出力電極接続用回路８に設けられた、第２の金属電極板４ｂと接合する突起２０ｅが次に長い。下層配線回路８３に設けられたその他の突起も、各チップの厚さに応じた長さで形成されている。
また、本実施の形態の電力用半導体モジュール１００では、第１のＩＧＢＴチップ１ａと第２のＩＧＢＴチップ１ｂとが隣接し、第１のダイオードチップ２ａと第２のダイオードチップ２ｂとが隣接する配置となっているが、例えば、第１のＩＧＢＴチップ１ａと第２のダイオードチップ２ｂとが隣接し、第１のダイオードチップ２ａと第２のＩＧＢＴチップ１ｂとが隣接する配置や、第１のＩＧＢＴチップ１ａと第１のダイオードチップ２ａと第２のダイオードチップ２ｂと第２のＩＧＢＴチップ１ｂとが、この順に１列に並ぶ配置であっても良い。
【００２５】
本実施の形態の電力用半導体モジュール１００は、バスバー基板８０が用いられており、層間絶縁板８１を介して、正極電極接続用回路６と負極電極接続用回路９とが、重なって平行に配置されていると同時に、負極電極接続用回路９に比べ正極電極接続用回路６が広幅となっているため、電力用半導体モジュール内のインダクタンスを低減することができる。
また、各電極端子１３ａ，１３ｂ，１４，１５，１６と対応するバスバー基板８０の電極接続回路とが、ワイヤーボンドで接続されている。すなわち、熱膨張係数が１６ｐｐｍ／℃である銅の電極接続回路は、熱膨張係数が３ｐｐｍ／℃と低熱膨張性であるシリコンチップに比べ、ワイヤーボンドとの熱膨張係数差が小さいので、ワイヤーボンドの接続信頼性が飛躍的に向上する。
また、各電極端子１３ａ，１３ｂ，１４，１５，１６の位置は任意に変更できるため、外部電極の自由な配置が可能となる。
本実施の形態の電力用半導体モジュール１００では、各電極端子がピン構造となっているが、ＩＧＢＴチップもしくはダイオードチップから流れる電流の大きさに応じて、スプリング等の形状の電極端子を用いても良い。
本実施の形態の電力用半導体モジュール１００に用いられるバスバー基板８０において、上層配線回路８２と下層配線回路８３との貫通孔部での沿面絶縁距離は、用いられる電力用半導体チップの駆動電圧、および、用いられる封止樹脂の絶縁特性により決定される。例えば、１２００Ｖ系の電力用半導体チップを接続し、封止樹脂にシリコーンゲルを用いる場合、この絶縁距離は約２ｍｍあれば良い。
【００２６】
本実施の形態の電力用半導体モジュール１００では、バスバー基板８０の下層配線回路８３に突起が設けられ、これらの突起がチップと接合しているので、下層配線回路８３が、各チップ表面の周辺のガードリングと、十分な絶縁距離を保つことができる。この絶縁距離は、例えば、１２００Ｖ系の電力用半導体チップを接続し、封止樹脂にシリコーンゲルを用いた場合、約２ｍｍあれば良い。
また、上層および下層配線回路８２，８３に設けられた突起は、上層および下層配線回路８２，８３を形成する金属板を絞り加工にて形成しているので、異なる大きさや長さの突起も、１回の金型プレスで作製できる。すなわち、上層および下層配線回路８２，８３と、高さの異なるチップや金属板電極とを、スペーサ等の部材を用いることなく一括に接続できるので、部品点数と組み立て工程との削減ができ、電力用半導体モジュールの製造コストの低減が図れる。
【００２７】
実施の形態２．
図８は、本発明の実施の形態２に係わる電力用半導体モジュールに用いられるバスバー基板を構成する下層配線回路（ａ）と層間絶縁板（ｂ）と上層配線回路（ｃ）とを示す上面模式図である。
図８に示すバスバー基板の構成部材から明らかなように、本実施の形態で用いられるバスバー基板は、実施の形態１のバスバー基板８０と、層間絶縁板と上層配線回路とが異なる。すなわち、本実施の形態の電力用半導体モジュールはバスバー基板が異なる以外、実施の形態１の電力用半導体モジュールと同様である。
本実施の形態のバスバー基板は、下層配線回路９３における、出力電極接続回路と負極電極接続回路とに形成された突起の部分と重なる、層間絶縁板９１と上層配線回路９２との位置には貫通孔は設けられていない。
すなわち、本実施の形態のバスバー基板における、層間絶縁板９１には、正極電極接続回路に形成された突起の部分に重なる位置と、第１のゲート電極接続用回路と第２のゲート電極接続用回路と出力電極接続用回路と負極電極接続用回路とのワイヤーボンドが接続される部分と重なる位置とに、のみ貫通孔が設けられている。また、上層配線回路９２には、第１のゲート電極接続用回路と第２のゲート電極接続用回路と出力電極接続用回路と負極電極接続用回路とのワイヤーボンドが接続される部分と重なる位置にのみ貫通孔が設けられている。しかし、下層配線回路９３は、実施の形態１のバスバー基板８０に用いられたものと同様である。
【００２８】
次に、本実施の形態の電力用半導体モジュールに用いられるバスバー基板の製造方法の一例について説明する。
まず、層間絶縁板９１の貫通孔を形成する部分をルータ等で除去する。次に、金型を用いて金属板をプレスして、貫通孔と突起とを有する上層配線回路９２を形成する。また、金型を用いて金属板をプレスして、各電極接続用回路と突起とを有する下層配線回路９３を形成する。次に、両面に接着剤を塗布した層間絶縁板９１に、上層配線回路９２と下層配線回路９３とを接着する。この時、下層配線回路９３はタイバーを設けた状態で接着し、後からタイバーを除去しても良い。
本実施の形態では、上層配線回路９２に貫通孔が少ないので、上層配線回路９２で構成する正極電極接続回路の負極電極接続用回路と重なる面積が大きくでき、電力用半導体モジュール内のインダクタンスの低減効果が大きくなる。
【００２９】
実施の形態３．
図９は、本発明の実施の形態３に係わる電力用半導体モジュールの外観を示す斜視図である。
図９に示すように、本実施の形態の電力用半導体モジュール２００は、出力電極端子１４と正極電極端子１５と負極電極端子１６と第１のゲート電極端子１３ａと第２のゲート電極端子１３ｂとを、対応する電極接続回路にワイヤーボンドを介して接続する代わりに、直接バスバー基板８０上の電極接続回路部に配置した以外、実施の形態１の電力用半導体モジュール１００と同様である。
各電極端子と対応する電極接続回路との接続は、はんだ等の導電性接着材で行う。
各電極端子をバスバー基板８０上の電極接続回路部に配置することは、熱膨張係数が同じ材料で電極接続回路部と電極端子とを直接接合することができ、実施の形態１の電力用半導体モジュール１００におけるワイヤーボンド接続より、接続信頼性がさらに向上する。
それと、バスバー基板８０面の任意な位置に各電極端子１３ａ，１３ｂ，１４，１５，１６を配置することが可能となるため、外部電極の配置の自由度がさらに向上する。
また、モジュールが大容量化した場合に、ワイヤーボンドの本数を増加させる必要があり接合工程が増えるとの、ワイヤーボンド接続における製造上の問題が、本実施の形態では解消できる。
【産業上の利用可能性】
【００３０】
本発明に係わる電力用半導体モジュールは、モジュール内の配線インダクタンスが低く、発生損失が小さいので、電気自動車や産業用機器用の高効率なモータ駆動装置として有効に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールの外観を示す斜視図である。
【図２】実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールに用いられる主基板にＩＧＢＴチップとダイオードチップとを搭載した状態を示す上面模式図（ａ）とこの上面模式図におけるＡ−Ａ断面模式図（ｂ）とである。
【図３】実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールにおける主基板上の金属電極板とＩＧＢＴチップとダイオードチップとにバスバー基板を接合した接合体の上面模式図である。
【図４】図３に示す接合体におけるＢ−Ｂ断面模式図（ａ）とＣ−Ｃ断面模式図（ｂ）とである。
【図５】図３に示す接合体におけるＤ−Ｄ断面模式図（ｃ）とＥ−Ｅ断面模式図（ｄ）とである。
【図６】実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールに用いられるバスバー基板を構成する下層配線回路（ａ）と層間絶縁板（ｂ）と上層配線回路（ｃ）とを示す上面模式図である。
【図７】実施の形態１に係わる電力用半導体モジュールの回路図である。
【図８】実施の形態２に係わる電力用半導体モジュールに用いられるバスバー基板を構成する下層配線回路（ａ）と層間絶縁板（ｂ）と上層配線回路（ｃ）とを示す上面模式図である。
【図９】実施の形態３に係わる電力用半導体モジュールの外観を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３２】
１ａ  第１のＩＧＢＴチップ、１ｂ  第２のＩＧＢＴチップ、
２ａ  第１のダイオードチップ、２ｂ  第２のダイオードチップ、
３ａ  第１のゲート電極、３ｂ  第２のゲート電極、４  金属板、
４ａ  第１の金属電極板、４ｂ  第２の金属電極板、５  絶縁板、
６  正極電極接続用回路、７ａ  第１のゲート電極接続用回路、
７ｂ  第２のゲート電極接続用回路、８  出力電極接続用回路、
９  負極電極接続用回路、１１  ケース、１２  ワイヤーボンド、
１３ａ  第１のゲート電極端子、１３ｂ  第２のゲート電極端子、１４  出力電極端子、
１５  正極電極端子、１６  負極電極端子、１７  主基板、
２０ａ  第１のゲート電極接続用回路の突起、
２０ｂ  第２のゲート電極接続用回路の突起、
２０ｃ  出力電極接続用回路の第１の突起、２０ｄ  出力電極接続用回路の第２の突起、
２０ｅ  出力電極接続用回路の第３の突起、２０ｆ  負極電極接続用回路の第１の突起、
２０ｇ  負極電極接続用回路の第２の突起、２０ｈ  正極電極接続用回路の突起、
３０  接合体、８０  バスバー基板、８１  層間絶縁板、８２  上層配線回路、
８３  下層配線回路、９１  層間絶縁板、９２  上層配線回路、９３  下層配線回路、
１００，２００  電力用半導体モジュール。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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