(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に形成された感光性樹脂層を露光後にアルカリ溶液により現像して画像を形成する画像形成工程と、
画像が形成された基板の前記画像形成面に残存するアルカリ溶液を、噴射ノズルと基板面との距離を５０〜２５０ｍｍとして水温５〜４０℃の純水でノズル噴射圧０．５ＭＰａ以下にて置換することにより洗浄する第１の洗浄工程と、
前記洗浄後の前記基板の画像形成面に、さらに噴射ノズルと基板面との距離を５０〜１５０ｍｍとして水温５〜４０℃の純水をノズル噴射圧３〜２４ＭＰａにて噴射して残渣を除去することにより洗浄する第２の洗浄工程と、
を有する画像形成方法。
【請求項２】
前記感光性樹脂層が着色剤を含み、前記画像として着色された画像パターンを形成することにより、前記画像パターンで構成されたカラーフィルタを形成することを特徴とする請求項１に記載の画像形成方法。
【請求項３】
前記画像形成工程は、仮支持体上に少なくとも感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用いて前記基板上に感光性樹脂層を転写形成する転写工程を含み、基板上に転写形成された感光性樹脂層を露光後にアルカリ溶液により現像することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の画像形成方法。
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載の画像形成方法を用いて形成されたカラーフィルタ。
【請求項５】
請求項４に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光後の感光性樹脂層をアルカリ溶液により現像を行なって画像を形成する画像形成方法、並びに該画像形成方法を用いて形成されたカラーフィルタ及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタは、近年、顔料分散レジストを基板に塗布する方法を中心に発達してきた。但し、この方法では、スピン塗布法などを用いるため、顔料分散レジストのロスが多く、均一に塗布するための条件コントロールも難しいという問題を有していた。その解決手段として、熱可塑性樹脂層を有する感光性転写材料を用いる方法が提案されている。
【０００３】
感光性転写材料を用いる方法では、予め仮支持体上に均一に塗布された感光性樹脂層（顔料や感光性樹脂を含む。）を、所望の基板上に転写（ラミネート）するため、スピンコーターのように、感光性樹脂が多量にロスすることがなく、膜厚も均一に形成することができる。この感光性転写材料を用いる方法では、仮支持体上にさらに熱可塑性樹脂層を設けることで、転写時に感光性樹脂層を基板上に存在する凹凸に追従させ、感光性樹脂層の基板上での厚みを一定に保つことができる。この場合、感光性樹脂層の現像前に、熱可塑性樹脂層を除去する必要があり、１％トリエタノールアミン水溶液等の現像液で処理する等の方法が採られている（以下、この工程を「ＰＤ工程」ということがある。）。
また、熱可塑性樹脂層の除去後には、感光性樹脂層の非露光部（非画像部）を現像除去してパターンを顕在化するために、更にアルカリ現像液を用いた現像処理が行なわれており（以下、この工程を「ＣＤ工程」ということがある。）、そのアルカリ現像液として、例えば、炭酸塩と陰イオン界面活性剤とを含むアルカリ現像液が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、感光性樹脂層の現像後は、感光性樹脂層に含まれている成分が現像残渣として基板上に残存することがある。そのため、この現像残渣を除去する目的で、現像工程の後に、洗浄剤（界面活性剤を主成分として含む現像残膜除去用液）を用い、この液中で回転ブラシにより擦ることにより残渣を洗浄除去する方法が提案されている（以下、この工程を「ＳＤ工程」ということがある。）。これにより、得られるカラーフィルタの現像残渣が著しく減り、カラーフィルタの品質が向上した。
【０００５】
最近では、コストダウンの観点から、顔料分散レジストをスリット状ノズルを用いて塗布し、顔料分散レジストの省液化を図るカラーフィルタの製造法（以下、スリット状ノズルを用いた塗布を「スリットコート法」ということがある。）が提案されている。ところが、黒色パターン用やスペーサー用等の一部の材料は、スリットコート法ではスジが生じやすい等の問題を含んでいることから、このような材料は転写法で基板上に設け、それ以外の材料はスリットコート法で設ける方法が知られている。このようにすることで、生産性良くカラーフィルタを製造できるとされている。
【特許文献１】特開平０５−２０４１６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のようにＳＤ工程を導入することにより、現像残渣の発生が著しく減少したものの、近年では基板が大型化し、基板の大型化に伴なって回転ブラシの軸長も長くなる傾向にある。そのため、ブラシの当たり方が弱い部分は、残渣除去が不充分となりやすく、ブラシの当りムラが発生する可能性があることから、現像後の洗浄において従来以上により精度の高いブラシ管理が必要になりつつある。
【０００７】
現像後の洗浄は、上記のような回転ブラシで行なうほか、超高圧マイクロジェットなどの高圧噴射装置で水を噴射して残渣を除去する方法も提案されている。例えば、基板の巾方向に複数のノズルを並べて高圧純水を噴射して残渣を除去することで残渣除去することができるが、この場合には各ノズルの噴射圧のバラツキなどによって基板にスジ状のムラが発生してしまうことがある。
【０００８】
また、上記のように黒色パターンやスペーサー用等の材料を転写法で形成し、それ以外の材料をスリットコート法で形成する場合、転写法により画像が形成された基板上の非画素領域等に現像残渣が残ってしまうと、その後に塗布する際に塗布欠陥が発生したり、スペーサーを形成する場合には、スペーサーのバラツキが大きくなって、表示装置とした際の表示ムラに繋がる可能性がある等の課題がある。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、感光性樹脂層を露光後に現像して画像形成する場合において、現像残渣の発生を抑えながら、現像等のアルカリ処理後におけるムラの発生を抑制し、高品質の画像（カラーフィルタを含む）を形成し得る画像形成方法、並びに現像残渣及びムラが低減された高品質のカラーフィルタ及び表示装置を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、現像後の残渣除去を行なう場合に、高圧噴射装置で純水を高圧噴射する前に予め、高圧噴射装置による水圧よりも低い、すなわち残渣除去に適さない低圧力（例えば、水温５〜４０℃、ノズル噴射角０〜１８０°、及び噴射ノズルと基板面との距離５０〜２５０ｍｍであるときにノズル噴射圧０．５ＭＰａ以下）で基板上に残存するアルカリ溶液を純水で洗い流す等により置換する操作を設けることが、感光性樹脂層の現像後から残渣除去までの過程で生じやすいムラの発生を軽減できるとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
【００１１】
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞   基板に形成された感光性樹脂層を露光後にアルカリ溶液により現像して画像を形成する画像形成工程と、画像が形成された基板の前記画像形成面に残存するアルカリ溶液を、噴射ノズルと基板面との距離を５０〜２５０ｍｍとして水温５〜４０℃の純水でノズル噴射圧０．５ＭＰａ以下にて置換することにより洗浄する第１の洗浄工程と、前記洗浄後の前記基板の画像形成面に、さらに噴射ノズルと基板面との距離を５０〜１５０ｍｍとして水温５〜４０℃の純水をノズル噴射圧３〜２４ＭＰａにて噴射して残渣を除去することにより洗浄する第２の洗浄工程と、を有する画像形成方法である。
【００１２】
＜２＞  前記感光性樹脂層が着色剤を含み、前記画像として着色された画像パターンを形成することにより、前記画像パターンで構成されたカラーフィルタを形成することを特徴とする前記＜１＞に記載の画像形成方法である。
【００１３】
＜３＞  前記画像形成工程は、仮支持体上に少なくとも感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用いて前記基板上に感光性樹脂層を転写形成する転写工程を含み、基板上に転写形成された感光性樹脂層を露光後にアルカリ溶液により現像することを特徴とする前記＜１＞又は前記＜２＞に記載の画像形成方法である。
【００１４】
＜４＞  前記＜２＞又は前記＜３＞に記載の画像形成方法を用いて形成されたカラーフィルタである。
【００１５】
＜５＞  前記＜４＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、感光性樹脂層を露光後に現像して画像形成する場合に、現像残渣の発生を抑えながら、現像等のアルカリ処理後におけるムラの発生を抑制し、高品質の画像（カラーフィルタを含む）を形成し得る画像形成方法を提供することができる。また、
本発明によれば、現像残渣及びムラが低減された高品質のカラーフィルタ及び表示装置を提供することができる。
本発明においては、特に、感光性樹脂層の形成を感光性転写材料を用いて転写により行なう場合に、現像後の仕上がり向上（基板上の現像除去された非画素部等での残渣やムラの低減）を図り、洗浄時に用いる回転ブラシの精度管理を厳しく行なわなくても、高い品質の画像（カラーフィルタ含む）を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の画像形成方法について詳細に説明し、該説明を通じて本発明のカラーフィルタ及びこれを備えた表示装置についても詳述する。
【００１８】
＜画像形成方法＞
本発明の画像形成方法は、基板に形成された感光性樹脂層を露光後にアルカリ溶液により現像して画像を形成する画像形成工程と、画像が形成された基板の画像形成面に残存するアルカリ溶液を、噴射ノズルと基板面との距離を５０〜２５０ｍｍとして水温５〜４０℃の純水でノズル噴射圧０．５ＭＰａ以下にて置換することにより洗浄する第１の洗浄工程と、前記洗浄後の基板の画像形成面に、さらに噴射ノズルと基板面との距離を５０〜１５０ｍｍとして水温５〜４０℃の純水をノズル噴射圧３〜２４ＭＰａにて噴射して残渣を除去することにより洗浄する第２の洗浄工程とを設けて構成されたものであり、必要に応じて、更に他の工程を有していてもよい。
【００１９】
本発明においては、露光後の感光性樹脂層をアルカリ溶液で現像して画像を形成した後、画像が形成された基板に対して純水を高圧噴射して画像形成面の現像残渣を除去、洗浄するに先立って、純水を用いて現像後に基板の画像形成面に残っているアルカリ溶液を洗い流して純水に置換しておくようにすること（すなわち２段階洗浄）で、その後に高圧噴射装置で残渣除去する際に、残渣除去性を維持したまま、噴射圧の不均一により生じやすいムラの発生を防止できるので、非画像部の残渣及び画像中のムラが低減された高品質の画像（カラーフィルタを含む。）を得ることができる。
なお、本発明にいうアルカリ溶液は、熱可塑性樹脂層の除去（前記ＰＤ工程）用のアルカリ現像液、感光性樹脂層の除去（前記ＣＤ工程）用のアルカリ現像液、及び現像後の残渣除去（前記ＳＤ工程）用の洗浄液を含むものである。
【００２０】
以下、本発明の画像形成方法を構成する各工程について詳述する。
［画像形成工程］
画像形成工程は、基板に形成された感光性樹脂層を露光後にアルカリ溶液（以下、単に現像液ともいう。）により現像して画像を形成する。本工程では、後述するように基板に形成された感光性樹脂層を露光した後、露光で硬化されていない領域を現像除去して、所望の露光パターンを顕在化する。
【００２１】
現像は、現像液としてアルカリ溶液を用い、アルカリ溶液中に浸漬する方法やアルカリ溶液をシャワーするシャワー型処理槽により行なえる。特に、基板を搬送する搬送機構の上方にシャワーノズルが多数設けられたシャワー型処理槽を用いる方法が好ましい。シャワー型処理槽を用いると、短時間で均一に感光性樹脂層を現像することが可能である。
シャワー型処理槽におけるノズルとしては、フラットノズル、コーン型ノズル、間接噴射などを挙げることができる。特に、フラット型ノズルを用いることで、シャワーの衝突力により、未露光の感光性樹脂が脱膜的に効率よく除去することができる。
【００２２】
現像液であるアルカリ溶液の温度は、通常は室温付近から４０℃の範囲であることが好ましい。また、ここでの現像は、感光性樹脂層を現像処理するものであるが、後述の感光性転写材料を用いる場合には、熱可塑性樹脂層、中間層、及び感光性樹脂層を一度に現像を行なってもよい。好ましくは、現像ムラや感光性樹脂層の現像時の現像液による層の劣化を少なくするため、熱可塑性樹脂層及び中間層を先に溶解除去した後、感光性樹脂層の現像を行なう。熱可塑性樹脂層及び中間層の現像後に感光性樹脂層の現像を行なう場合、熱可塑性樹脂層及び中間層の除去に使用する現像液は、感光性樹脂層を劣化させないようなものを選択することが好ましい。この方法は、熱可塑性樹脂層及び中間層と、感光性樹脂層との溶解速度の差を考慮して現像液を選ぶことにより、あるいは液温、スプレー圧、擦る際の圧力等の現像処理条件を適宜組み合わせることにより行なうことができる。
【００２３】
感光性樹脂層現像（ＣＤ工程）用の現像液であるアルカリ溶液は、炭酸塩の少なくとも１種と陰イオン界面活性剤の少なくとも１種とを含有することが好ましい。
前記炭酸塩は、ナトリウム塩及び／又カリウム塩を含有することが好ましい。炭酸塩がナトリウム塩及び／又はカリウム塩であることで、必要なｐＨ領域での緩衝液を得ることができる。また、感光性樹脂層の現像に際して低残渣効果を得ることができる。炭酸塩の陽イオンとしては、ナトリウムイオン及びカリウムイオン以外の他の陽イオンを含有してもよい。他の陽イオンとしては、リチウムイオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンを挙げることができる。このように炭酸塩中にナトリウムイオンとカリウムイオン以外の陽イオンが含有される場合、ナトリウムイオンとカリウムイオンの含有量の和は、炭酸塩中の全陽イオンに対して、６０質量％〜１００質量％であることが好ましく、９０質量％〜１００質量％であることがより好ましい。炭酸塩は、例えばリチウム塩のみ又はアンモニウム塩のみではなく、ナトリウム塩及び／又はカリウム塩を含むと、必要なｐＨ領域で良好な緩衝力を得ることができ、また、良好な低残渣効果が得られる。
【００２４】
感光性樹脂層を現像する際の炭酸塩の濃度（以下、これを「現像時濃度」ということがある。）は、０．０４〜０．５モル／ｋｇが好ましく、より好ましくは０．０６〜０．５モル／ｋｇであり、最も好ましくは０．０８〜０．４モル／ｋｇである。炭酸塩の現像時濃度は、０．０４モル／ｋｇ以上であると低残渣効果が良好であり、０．５モル／ｋｇ以下であると画像（例えばカラーフィルタの着色画素）のエッジ付近に残膜が残るのを抑制することができる。
【００２５】
現像液は、使用状態より濃い液を製造し、これを輸送・ストックしておき、使用時に適宜希釈することがコスト上好ましい。かかる観点からは、現像液が生産された状態（以下、この状態の現像液の濃度を「保存時濃度」ということがある。）を考慮すると、炭酸塩の保存時濃度は、０．１〜１．０モル／ｋｇが好ましい。炭酸塩の保存時濃度は、０．１モル／ｋｇ以上であると非画像部の低残渣効果及び画像近傍の残膜抑制効果が得られると共にコスト的にも有利であり、１．０モル／ｋｇ以下であると輸送・保存時に析出物が発生するのを抑制することができる。したがって、現像液は、保存時濃度が現像時濃度に対して、好ましくは２〜６倍、より好ましくは３〜６倍、最も好ましくは４〜５倍である。
【００２６】
現像液の現像時濃度におけるｐＨとしては、好ましくはｐＨ９．３〜１０．９であり、より好ましくはｐＨ９．５〜１０．７であり、最も好ましくはｐＨ９．７〜１０．６である。ｐＨは、９．３以上であると現像速度を速めることができ、スループットが良好となり、加えて良好な緩衝力が得られる。また、１０．９以下であると、良好な残渣除去性が得られ、加えて良好な緩衝力を得ることができる。
【００２７】
前記陰イオン界面活性剤としては、例えば、ナフタレンスルホン酸誘導体塩、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩が好適に挙げられる。
前記ナフタレンスルホン酸誘導体塩としては、ナフタレンスルホン酸の塩及び少なくとも１つのアルキル基を有するアルキルナフタレンスルホン酸の塩から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。アルキルナフタレンスルホン酸のアルキル基としては、炭素数１〜６の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基がより好ましく、ブチル基が更に好ましい。アルキルナフタレンスルホン酸のアルキル基の置換基数としては、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。ナフタレンスルホン酸誘導体の具体例としては、ナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸を挙げることができる。
前記ナフタレンスルホン酸誘導体塩は、それぞれ１種単独で、又は２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用することが好ましい。また、ナフタレンスルホン酸誘導体塩としては、ナトリウム塩及び／又はカリウム塩が好ましい。
【００２８】
現像液は、他の成分として水と混和性の有機溶剤を含んでいてもよい。
水と混和性の有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機溶剤の現像液中の濃度は、０．１〜４０質量％が一般的である。
【００２９】
また、感光性転写材料を用いる場合、上記のＣＤ工程前に、必要に応じて熱可塑性樹脂層及び中間層を現像除去するためのアルカリ処理（ＰＤ工程）を設けることができる。
ＰＤ工程に用いる現像液であるアルカリ溶液は、アルカノールアミンを含む溶液が好ましく、トリエタノールアミンおよび／またはジエタノールアミンを含む溶液が特に好ましい。
【００３０】
更に、本発明における画像形成工程で感光性転写材料を用いた場合は、上記の感光性樹脂層の現像（ＣＤ工程）後に、更に、残渣除去を行なうためのアルカリ処理（ＳＤ工程）を設けてもよい。この場合のアルカリ溶液には、界面活性剤を主成分として含む現像残渣除去用のアルカリ洗浄液が一般に用いられる。
現像残渣除去用のアルカリ洗浄液としては、アセチレン系界面活性剤、アルキルエーテル系界面活性剤、フェノキシオキシアルキレン系界面活性剤、ナフタレン系界面活性剤から選択される少なくとも一種の界面活性剤を含有するアルカリ性溶液が好ましい。
【００３１】
本発明における画像形成工程では、上記の現像前に、基板上の感光性樹脂層を所望のパターン状に露光する露光工程を設けることができる。以下、露光工程について説明する。
【００３２】
露光工程では、基板上に形成された感光性樹脂層を、所定のマスクを介して、パターン状に露光（パターン露光）する。パターン露光に使用される光源は、感光性樹脂層の感光性に応じて選択される。例えば、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源を使用することができる。特開平６−５９１１９号公報に記載のように、４００ｎｍ以上の波長領域の光透過率が２％以下である光学フィルタ等を併用してもよい。パターン露光時の露光量は、２００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲が好ましく、１５０ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲がより好ましく、更に好ましい範囲は１００〜７０ｍＪ／ｃｍ２である。特に、露光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２以下の場合、タクトタイムの短縮という点で好ましい。
【００３３】
本発明における画像形成工程において、前記露光工程の前には、被露光対象である感光性樹脂層を形成する工程を設けることができる。この工程では、露光・現像される感光性樹脂層を、感光性樹脂層形成用の塗布液の塗布、又は仮支持体上に感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用いた転写のいずれの方法で形成してもよい。本発明の画像形成方法においては、現像残渣の低減効果及び高圧噴射を行なった際の画像ムラの発生防止効果の向上に効果的である点から、感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を転写形成する転写工程による場合が好ましい。
感光性転写材料、及び感光性樹脂層形成用の塗布液の各成分の詳細は後述する。
【００３４】
転写による場合は、例えば仮支持体上に該仮支持体側から順に熱可塑性樹脂、中間層、感光性樹脂層が積層された感光性転写材料の感光性樹脂層の表面を基板面に貼り合わせ（ラミネート）、仮支持体を剥がし取ることによって、基板上に感光性樹脂層を転写形成する。このとき、感光性転写材料の基板面への貼り合わせは、一般に、感光性転写材料の感光性樹脂層を保護するために予め設けられている保護フィルムを除去した後、除去により露出した感光性樹脂層の表面を基板面に重ね、加圧、加熱して行なわれる。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及びオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。オートカットラミネーターは、生産性をより高めることができる。
【００３５】
仮支持体を剥がし取って貼り合わせた後、所定のマスク並びに熱可塑性樹脂及び中間層を介して、上記と同様の露光工程を設けることにより感光性樹脂層をパターン状に露光する。
【００３６】
本発明における画像形成工程では、画像として、ＲＧＢ等の１色又は２色以上に着色された着色パターン（例えば着色画素）を基板上に形成することにより、該画像パターンで構成されたカラーフィルタを形成することができる。すなわち、この場合は、本発明の画像形成方法は、カラーフィルタを作製するカラーフィルタの製造方法として利用することができる。
【００３７】
カラーフィルタを作製する場合、ＲＧＢなどの着色画素は、既述の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を転写形成する転写法により形成することができるが、好ましくは、塗布時の塗布欠陥発生防止の観点から、感光性転写材料を用いてブラックマトリクスなどの遮光パターンを形成した後に、感光性樹脂層を塗布により形成する工程を経て形成する。この場合、基板上のブラックマトリクスなどの遮光パターンが形成された側に、着色画素を形成するための感光性樹脂層形成用の塗布液を前記遮光パターンの上から塗布し、現像、露光することにより着色画素を形成する。例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色画素を形成する場合、例えば、初めに赤色画素を形成するための塗布液を塗布、乾燥させた後にパターン露光、現像、及び加熱処理を行なって赤色画素を形成し、次いで同様に緑色画素、青色画素を形成する。その後、遮光パターン及び全ての着色画素（ここではＲＧＢ）が形成された基板を再加熱することにより、カラーフィルタを得ることができる。
また、形成されたカラーフィルタの上には、感光性転写材料を用いて、更にカラーフィルタとこれに対向配置される基板との距離を所定の間隔に保つためのスペーサ材が形成されることが好ましい。
上記において、塗布液の塗布は、公知の塗布法により行なうことができ、例えば、スピナー法、ロールコーター法、インクジェット法、スリットコーター法、スリット・スピン法などが挙げられる。これらの塗布法の中で、液ロス減の観点から、スリットコーターを用いる塗布法がより好ましい。該方法としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００２３］に記載のスリット状ノズルを用いた方法を参照することができる。塗布法によって形成される感光性樹脂層の層厚は、基板上の遮光パターンの厚みに対応させて設定される。
【００３８】
［第１の洗浄工程］
本発明の画像形成方法においては、高圧噴射装置により残渣除去する後述の第２の洗浄工程の前に、前記画像形成工程で画像形成された基板の画像形成面に残存するアルカリ溶液を、噴射ノズルと基板面との距離を５０〜２５０ｍｍとして水温５〜４０℃の純水でノズル噴射圧０．５ＭＰａ以下にて置換することにより洗浄（以下、水洗リンスともいう。）を行なう第１の洗浄工程を設ける。第１の洗浄工程での洗浄は、後述の第２の洗浄工程のように現像後に基板上に残存する残渣を除去するには適さない圧力で、純水を基板の画像形成面に供給して行なうものである。
【００３９】
基板上にアルカリ溶液の成分が残った状態で高圧噴射装置により残渣除去するとムラが発生しやすいため、少なくとも基板上に残っているアルカリ溶液を純水で水洗リンスすることにより、後の残渣除去性を確保しながら、現像後のアルカリ溶液の残存によるムラの発生が防止される。
【００４０】
水洗リンスの方法としては、基板上の残渣を除去するのに適さない低圧力、すなわち、ノズル噴射圧０．５ＭＰａ以下（このとき、水温５〜４０℃、ノズル噴射角０〜１８０°、噴射ノズルと基板面との距離５０〜２５０ｍｍ）となる圧力で純水が基板の画像形成面に供給される方法であれば、特に制限はない。具体的には、純水をシャワーノズルやスリットノズルから基板にシャワーする方法や、純水中に基板を浸漬する方法、等が挙げられる。本発明においては、基板を搬送する搬送機構の上にシャワーノズルが多数設けられたシャワー型処理槽を用いる方法が好ましい。
【００４１】
シャワーに用いるノズルは、ムラが生じない範囲で任意に選択することができるが、広角に噴出可能なノズル形状がムラの発生防止の点で好ましい。基板面の全体に水が均等に行きわたるように、扇型の広がりをもって噴射する噴射ノズルが好適であり、この噴射ノズルを単独で又は扇の広がり方向に複数配列して洗浄することが可能である。
【００４２】
［第２の洗浄工程］
第２の洗浄工程は、前記第１の洗浄工程で洗浄が終了した後の基板の画像形成面に、更に、第１の洗浄工程での洗浄時における水圧より高い圧力、具体的にはノズル噴射圧３〜２４ＭＰａにて、噴射ノズルと基板面との距離を５０〜１５０ｍｍとして水温５〜４０℃の純水を噴射して残渣を除去することにより洗浄を行なう。
【００４３】
本工程での純水の噴射は、第１の洗浄工程での水圧より高い圧力であればよいが、本工程では基板上に残存する残渣を除去できる圧力で噴射する必要がある点で、例えば、水温５〜４０℃、ノズル噴射角３５〜１６５°、及び噴射ノズルと基板面との距離５０〜１５０ｍｍであるときにノズル噴射圧２ＭＰａ以上となる圧力で、純水を基板の画像形成面に噴射することが好ましい。より好ましいノズル噴射圧は、画素の欠けなどの発生がなく、残渣を除去できる点で、２〜３４ＭＰａであり、特に好ましくは３〜２４ＭＰａである。
【００４４】
高圧噴射装置としては、超高圧マイクロジェットが好ましい。超高圧マイクロジェットは、基板面への印加圧力が、通常は２０〜３５０ｋｇｆ／ｃｍ２（１．９〜３４．３ＭＰａ）であり、好ましくは３０〜２５０ｋｇｆ／ｃｍ２（３．９〜２４．５ＭＰａ）のものをさす。印加圧力は、ノズルの形状によって選定され、本発明では猫目型ノズル（断面が凹レンズ状）が好ましい。
【００４５】
超高圧マイクロジェットの噴射角は、水洗作用に大きな影響を及ぼすパラメータであり、感光性樹脂層の表面に対する噴射角が垂直（９０°）である場合が最も残渣除去作用が強い。一方、非露光部における除去は、単に残渣除去作用が強いだけでは不充分で、機械的な水の衝撃によって不要の成分を基板から除去しなければない。そのためには、純水の噴射方向は基板に対して垂直（９０°）が最も良いが、基板の法線方向と純水の噴射方向とのなす角度が±０〜２０°程度とし、基板の進行方向において純水の着水点の前方から又は後方に噴射してもよい。
【００４６】
経済的な実施形態としては連続水洗を採用するのが実際的であるが、その場合に感光性樹脂層の幅方向に水が均等に行きわたるように、扇型の広がりをもって噴射する噴射ノズルを単独で、又は扇の広がり方向に複数配列し、その扇面状の噴射の方向に対して直角方向に感光性樹脂を定速移動しながら水の噴射部分を通過する方法を採って連続水洗処理を行なうことが好ましい。上記の噴射圧、衝撃角度、水流広がり形状など、本発明の効果を奏し得る高圧噴射装置は、超高圧ジェット精密洗浄システムＡＦシリーズ（旭サナック（株）製）が挙げられる。中でも、相対的に高圧な噴射用にはＡＦ５４００ＳやＡＦ６２００ＳＷが、相対的に低圧な噴射用にはＡＦ２８００ＩＩが、適している。上記の噴射印加圧、衝撃角度、及び水流広がり形状等を有する装置であれば、この機種に限定されるものではなく本工程での洗浄手段として適用できる。
【００４７】
本発明においては、現像残渣の除去性を保ちながら現像後のムラの発生を抑制し、高品質の画像（カラーフィルタを含む）を形成する観点から、前記第１の洗浄工程での純水の供給は、噴射ノズル（水温５〜４０℃、ノズル噴射角０〜１８０°）と基板面との距離５０〜２５０ｍｍであるときにノズル噴射圧０．５ＭＰａ以下となる圧力で行ない、前記第２の洗浄工程での純水の噴射は、噴射ノズル（水温５〜４０℃、ノズル噴射角３５〜１６５°）と基板面との距離５０〜１５０ｍｍであるときにノズル噴射圧３〜２４ＭＰａとなる圧力で行なう場合が好ましい。
【００４８】
本発明の画像形成方法としては、前記画像形成工程及び洗浄工程の後に必要に応じて、ポスト露光やポストベーク（加熱処理）を行なってもよい。転写からポストベークまでの操作については、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００６７］〜［００６９］、［００７２］〜［００７４］に記載を好適な例として参照することができる。
【００４９】
本発明の画像形成方法により形成される画像としては、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）等の着色パターン（例えば着色画素）、ブラックマトリクスなどの遮光パターン、並びにフォトスペーサ、等を挙げることができる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００５０】
（感光性転写材料）
次に、感光性樹脂層の形成に用いる感光性転写材料について略説する。
感光性転写材料は、仮支持体上に該仮支持体側から順に、熱可塑性樹脂層、中間層、及び感光性樹脂層が設けられたものが好ましい。感光性転写材料の製造は、例えば、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００６４］〜［００６６］に記載の工程を設けることによって行なえる。
【００５１】
−仮支持体−
感光性転写材料における仮支持体としては、可撓性を有し、加圧、若しくは加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮若しくは伸びを生じないことが好ましい。そのような仮支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００５２】
−熱可塑性樹脂層−
感光性転写材料における熱可塑性樹脂層は、被転写体である基板の表面に凹凸が存在する場合に凹凸に追従するようにクッション性を持たせるものである。
この熱可塑性樹脂層を構成する成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。
【００５３】
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルあるいはそのケン化物などのエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステルあるいはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物などの塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルあるいはそのケン化物などのスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルあるいはそのケン化物などのビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンなどのポリアミド樹脂、等の有機高分子が挙げられる。
【００５４】
−中間層−
感光性転写材料には、複数の塗布層の塗布時及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載の、酸素遮断機能のある酸素遮断層が好ましい。この場合、露光時の感度が向上し、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
前記酸素遮断層としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらのうち、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを組み合わせて含む層である。
【００５５】
−感光性樹脂層−
感光性樹脂層は、ブラックマトリクスなどの遮光性が求められる場合は、特開２００５−３８６１号公報に記載の感光性黒色樹脂層や、特開２００４−２４００３９号公報に記載の着色組成物からなる層などと同様にして形成することができる。また、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）などの着色パターン（例えばカラーフィルタを構成する着色画素など）を形成する場合は、特開２００６−２３６９６号公報に記載の着色感光性樹脂組成物からなる層と同様にして形成することができる。
【００５６】
ＲＧＢ等の着色パターン形成用の感光性樹脂層は、仮支持体上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）等の所望の色相に対応する感光性樹脂層形成用の塗布液を塗布等することにより形成することができる。感光性樹脂層形成用の塗布液の調製に用いる着色剤を以下に示す。塗布の方法については既述した通りである。
着色剤は、ＲＧＢ等の着色画素の色相に応じて任意の顔料、染料等が選択される。着色剤としては、赤色、緑色、青色、黄色、紫色、マゼンタ色、シアン色の公知の顔料及び染料を使用することができる。好ましい例としては、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、及びモナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）を挙げることができる。また、カラーフィルタの形成に特に好適な顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３等を挙げることができる。
前記顔料及び染料は、一般に５μｍ以下の平均粒径を有するものが好ましく、１μｍ以下が好ましい。カラーフィルタを形成する場合、好ましい平均粒径は０．５μｍ以下である。
【００５７】
−保護フィルム−
仮支持体上の感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために、薄い保護フィルムを設けることが好ましい。保護フィルムは、仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離できるものが用いられる。
保護フィルムに用いる材料としては、例えば、シリコーン紙、ポリオレフィンシートもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
【００５８】
（基板）
基板としては、特に制限はなく、ガラス板、樹脂製のシートやフィルム、樹脂被覆紙などの公知の基材から所望により選択することができる。中でも、透明性の基板が好適であり、例えば、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、あるいはプラスチックフィルム等を挙げることができる。
【００５９】
前記基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性樹脂組成物又は感光性転写材料との間の密着を良好にすることができる。カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報に記載の方法が好適である。
また、基板の膜厚としては、特に限定されるものではないが、７００〜１２００μｍが一般に好ましく、５００〜１１００μｍが特に好ましい。
【００６０】
＜カラーフィルタ＞
本発明のカラーフィルタは、既述の本発明の画像形成方法により形成されたものであり、着色された画像パターンを有し、該画像パターン上にスペーサーが設けられたものでもよい。本発明のカラーフィルタは、本発明の画像形成方法によって既述のように、純水を高圧噴射する第２の洗浄工程前に基板上のアルカリ溶液を予め純水で置換する第１の洗浄工程を設ける２段階洗浄を行なって形成されるので、残渣、画像中のムラや画素欠陥及びスペーサーでは高さバラツキが低減された高品質を有している。
【００６１】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、既述の本発明のカラーフィルタを備えたものであり、それ以外は特に制限はなく、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが含まれる。
【００６２】
表示装置の定義や各表示装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
【００６３】
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置が特に好ましい。液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。液晶表示装置には、特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明は、これらの中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば、「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）、１９９６年発行）」に記載されている。更には、ＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用可能である。これらの方式については、例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門、２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【００６４】
液晶表示装置は、カラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサー、視野角補償フィルムなどの様々な部材から構成される。これらの部材については、例えば、「'９４ 液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島 健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表 良吉、（株）富士キメラ総研、２００３年発行）」に記載されている。
【００６５】
本発明の表示装置は、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）のような様々な表示モードを採用できる。
本発明の表示装置は、本発明のカラーフィルタを備えていることにより、テレビ、モニターに搭載したときに表示ムラが防止され、広い色再現域と高コントラストを発揮でき、ノートパソコン用ディスプレイやテレビモニター等の大画面の表示装置等にも好適に用いることができる。
【実施例】
【００６６】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【００６７】
（実施例１）
［カラーフィルタの作製］
＜１．感光性濃色組成物の調製＞
−カーボンブラック分散液（Ｋ−１）の調製−
下記の各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いたビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて８時間微分散処理を施し、カーボンブラック分散液（Ｋ−１）を得た。
<組成>
・カーボンブラック（デグッサ社製，カラーブラックＦＷ２）  ・・・２６．７部
・分散剤（楠本化成製ディスパロンＤＡ７５００  酸価２６  アミン価４０）
・・・３．３部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）共重合体
（分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの５０質量％溶液）                                                ・・・１０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ・・・６０部
【００６８】
得られたカーボンブラック分散液（Ｋ−１）を用いて、下記表１の処方で感光性濃色組成物ＣＫ−１を調製した。表１中の数値の単位は「部」である。
【００６９】
【表１】
0005008590.tif 000002
【００７０】
前記表１中の各成分の詳細は下記の通りである。
・樹脂溶液Ｃ−２：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝８５／１５モル比）共重合体、（Ｍｗ１００００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの５０ｗｔ％溶液）
・ＵＶ硬化性樹脂Ｃ−３：商品名サイクロマーＰ  ＡＣＡ−２５０  ダイセル化学工業（株）製〔側鎖に脂環、ＣＯＯＨ基、及びアクリロイル基のあるアクリル系共重合体、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）〕
・重合性化合物Ｃ−５：商品名  ＴＯ−１３８２  東亞合成（株）製
（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの末端ＯＨ基の一部をＣＯＯＨ基に置換した５官能のアクリロイル基を有するモノマーが主成分。）
・開始剤Ｃ−７：商品名「ＯＸＥ−０２」  チバ・スペシャルテイ・ケミカルズ社製
・界面活性剤Ｃ−８：商品名「メガファックＲ３０」  大日本インキ化学工業（株）製
・溶剤：ＰＧＭＥＡ＝プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＥＥＰ＝３−エトキシエチルプロピオネート
【００７１】
＜２．塗布によるブラックマトリクスの形成＞
−感光性濃色組成物層の形成−
得られた感光性濃色組成物ＣＫ−１を、ガラス基板（コーニング社製ミレニアム  ０．７ｍｍ厚）にスリットコーター（型番ＨＣ６０００、平田機工株式会社製）を用いて、ポストベーク後の膜厚が１．２μｍとなるようにスリットとガラス基板間の間隔、吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。
【００７２】
−プリベーク、露光−
次いで、ホットプレートを用いて、９０℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、ミラープロジェクション方式露光機（型番ＭＰＡ−８０００、キヤノン株式会社社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２で露光した。
【００７３】
−現像−
その後、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０％現像液（ＣＤＫ−１を１部、純水を９９部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２０ＭＰａに設定して６０秒間現像した。その後、２５℃の純水を２０秒間、フラット型ノズル（圧力０．０５ＭＰａ、噴射角１１０°）にてシャワーで、該ノズルから基板面まで１５０ｍｍ離れたカラーフィルタ基板の画素形成面に吹きかけ、カラーフィルタ基板上の現像液及び洗浄液を純水で洗い流すように置換した。その後、超高圧マイクロジェット（ジェット精密洗浄システムＡＦシリーズ  ＡＦ６２００ＳＷ（旭サナック（株）製））を用いて、４ＭＰａの圧力で２５℃の純水をカラーフィルタ基板の基板面から１００ｍｍの距離を離して１５秒間、高圧噴射してカラーフィルタ基板の画素形成面に残っている残渣を除去することにより、ブラックマトリクスパターンを得た。
【００７４】
−ベーク−
次いで、２２０℃のクリーンオーブンで４０分間ポストベーク処理し、着色画素形成領域の開口が９０μｍ×２００μｍで、ブラックマトリックスの厚みが１．２μｍで、ブラックマトリックスの線幅が約２５μｍの格子状ブラックマトリクス基板を形成した。Ｘ-Ｒｉｔｅ  ３６１Ｔ(Ｖ)（サカタインクスエンジニアリング（株）製）を用いて、形成されたブラックマトリックスの光学濃度（ＯＤ）を測定したところ、４．２であった。
【００７５】
＜３．感光性着色組成物の調製＞
−３−１．赤色（Ｒ）用感光性着色組成物ＣＲ−１の調製−
下記組成の各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いてビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて４時間微分散処理を施し、赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）を得た。
<組成>
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４（ＳＥＭ観察での平均粒子径43nm）  ・・・１１部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７（ＳＥＭ観察での平均粒子径58nm）  ・・・４部
・下記分散樹脂Ａ−３                                              ・・・５部
・分散剤（商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ビックケミー社製）
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの３０％溶液）・・・３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
〔＝７５／２５［モル比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）〕              ・・・９部
・溶剤Ｂ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ・・・６８部
【００７６】
得られた赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）を用いて、下記組成の赤色（Ｒ）用感光性着色組成物ＣＲ−１を調製した。
<組成>
・前記赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）  ・・・１００部
・エポキシ樹脂（商品名：ＥＨＰＥ３１５０、ダイセル化学工業社製）  ・・・２部
・重合性化合物：ジペンタエリスリトールペンタ・ヘキサアクリレート  ・・・８部
・重合開始剤：４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン  ・・・１部
・重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１    ・・・１部
・重合開始剤：ジエチルチオキサントン    ・・・０．５部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール    ・・・０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Megafac R30、大日本インキ化学工業社製）・・・０．０１部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：テトロニックR150，ADEKA社製）  ・・・０．２部
・溶剤：プロピレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート    ・・・３０部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ・・・１００部
【００７７】
−３−２．緑色（Ｇ）用感光性着色組成物ＣＧ−１の調製−
下記組成の各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いたビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて８時間微分散処理を施し、緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を得た。
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６（ＳＥＭ観察での平均粒子径47nm）  ・・・１１部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ１５０（ＳＥＭ観察での平均粒子径39nm）・・・７部
・下記分散樹脂Ａ−３    ・・・５部
・分散剤（商品名：Disperbyk-161、ビックケミー社製、３０％溶液）  ・・・３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（＝８５／１５［モル比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％））  ・・・１１部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ・・・７０部
【００７８】
得られた緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を用いて、下記組成の緑色（Ｇ）用感光性着色組成物ＣＧ−１を調製した。
・前記緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）  ・・・１００部
・エポキシ樹脂：（商品名）ＥＨＰＥ３１５０（ダイセル化学工業社製）  ・・・２部
・重合性化合物：ジペンタエリスリトールペンタ・ヘキサアクリレート  ・・・８部
・重合性化合物：ペンタエリスリトールのテトラ（エトキシアクリレート）  ・・・２部
・重合開始剤：１，３−ビストリハロメチル−５−ベンゾオキソラントリアジン  ・・・２部
・重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１    ・・・１部
・重合開始剤：ジエチルチオキサントン    ・・・０．５部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール    ・・・０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Megafac R08、大日本インキ化学工業社製）  ・・・０．０２部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：エマルゲンＡ−６０、花王社製）  ・・・０．５部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ・・・１２０部
・溶剤：プロピレングリコールｎ−プロピルエーテルアセテート  ・・・３０部
【００７９】
−３−３．青色（Ｂ）用感光性着色組成物ＣＢ−１の調製−
下記組成の各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いてビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて４時間微分散処理を施し、青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）を得た。
<組成>
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：６（ＳＥＭ観察での平均粒子径55nm  ・・・１４部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３（ＳＥＭ観察での平均粒子径61nm）・・・１部
・下記分散樹脂Ａ−３    ・・・５部
・分散剤（商品名：Disperbyk-161、ビックケミー社製、３０％溶液）  ・・・３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体  ・・・４部
（＝８０／２０［モル比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％））
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ・・・７３部
【００８０】
得られた青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）を用いて、下記組成の青色（Ｂ）用感光性着色組成物ＣＢ−１を調製した。
<組成>
・前記青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）  ・・・１００部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体  ・・・７部
（＝８０／２０［モル比］共重合体、分子量３０，０００）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％））
・エポキシ樹脂：セロキサイド２０８０（商品名；ダイセル化学工業社製）・・・２部
・ＵＶ硬化性樹脂：サイクロマーＰＡＣＡ−２５０（商品名；ダイセル化学工業社製）
（側鎖に脂環、ＣＯＯＨ基、及びアクリロイル基のあるアクリル系共重合体、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）  ・・・４部
・重合性化合物：ジペンタエリスリトールペンタ・ヘキサアクリレート  ・・・１２部
・重合開始剤：１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル）−１−（ｏ−アセチルオキシム）エタノン  ・・・３部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール  ・・・０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Megafac R08、大日本インキ化学工業社製）  ・・・０．０２部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：エマルゲンＡ−６０、花王社製）  ・・・１．０部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル  ・・・２０部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ・・・１５０部
【００８１】
＜４．分散樹脂Ａ−３の合成＞
（１．連鎖移動剤Ａ３の合成）
ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）〔ＤＰＭＰ；堺化学工業（株）製〕（下記化合物（３３））７．８３部、及び吸着部位を有し、かつ炭素−炭素二重結合を有する下記化合物（ｍ−６）４．５５部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル２８．９０部に溶解させ、窒素気流下、７０℃に加熱した。これに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）〔Ｖ−６５、和光純薬工業（株）製〕０．０４部を加えて３時間加熱した。更に、Ｖ−６５を０．０４部加え、窒素気流下、７０℃で３時間反応させた。室温まで冷却することで、以下に示すメルカプタン化合物（連鎖移動剤Ａ３）の３０％溶液を得た。
【００８２】
【化１】
0005008590.tif 000003
【００８３】
（２．分散樹脂Ａ―３の合成）
前記のようにして得られた連鎖移動剤Ａ３の３０％溶液４．９９部、メタクリル酸メチル１９．０部、メタクリル酸１．０部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル４．６６部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。この混合溶液を攪拌しながら、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ−６０１、和光純薬工業（株）製〕０．１３９部、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．３６部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９．４０部の混合溶液を２．５時間かけて滴下した。滴下終了してから、９０℃で２．５時間反応させた後、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル０．０４６部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．００部の混合溶液を投入し、更に２時間反応させた。反応液にプロピレングリコールモノメチルエーテル１．５２部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１．７部を加え、室温まで冷却することで特定分散樹脂Ａ−３（ポリスチレン換算の重量平均分子量２４０００）の溶液（特定分散樹脂３０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル２１質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４９質量％）を得た。
この特定分散樹脂Ａ−３の酸価は４８ｍｇ／ｇであった。分散樹脂Ａ−３の構造を以下に示す。
【００８４】
【化２】
0005008590.tif 000004
【００８５】
＜カラーフィルタの作製＞
−感光性着色組成物層の形成−
得られた赤色（Ｒ）用感光性着色組成物ＣＲ−１を、前記ブラックマトリックス基板のブラックマトリックス形成面側に、塗布した。具体的には、感光性濃色組成物層を形成する場合と同様に、ポストベーク後の感光性着色組成物層の層厚が約２．１μｍとなるようにスリットとブラックマトリックス基板間の間隔、吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。
【００８６】
−プリベーク、露光−
次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、ミラープロジェクション方式露光機（型番ＭＰＡ−８０００、キヤノン株式会社製）を用いて、９０ｍＪ／ｃｍ２で露光した。また、露光パターンと、ブラックマトリックスとの重なり（露光重なり量）が８．０μｍとなるようにマスクパターンと露光機を設定した。
【００８７】
−現像、ベーク−
その後、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０質量％現像液（ＣＤＫ−１を１部、純水を９９部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２ＭＰａに設定して、４５秒現像した。その後、２５℃の純水を２０秒間、フラット型ノズル（圧力０．０５ＭＰａ、噴射角１１０°）にてシャワーで、該ノズルから基板面まで１５０ｍｍ離れたカラーフィルタ基板の画素形成面に吹きかけ、カラーフィルタ基板上の現像液及び洗浄液を純水で洗い流すように置換した。その後、超高圧マイクロジェット（ジェット精密洗浄システムＡＦシリーズ，ＡＦ６２００ＳＷ（旭サナック（株）製））を用いて、４ＭＰａの圧力で２５℃の純水をカラーフィルタ基板の基板面から１００ｍｍの距離を離して１５秒間、高圧噴射してカラーフィルタ基板の画素形成面に残っている残渣を除去した。次いで、２２０℃のクリーンオーブンで３０分間ポストベーク処理し、熱処理済みの赤色画素を形成した。
【００８８】
次いで、赤色（Ｒ）用感光性着色組成物ＣＲ−１を、緑色（Ｇ）用感光性着色組成物ＣＧ−１に代えた以外は同様にして、上記の感光性着色組成物層の形成、プリベーク、露光、現像、及びベークを順次行なって緑色画素を形成した。さらに、赤色（Ｒ）用感光性着色組成物ＣＲ−１を、青色（Ｂ）用感光性着色組成物ＣＢ−１に代えた以外は同様にして、青色画素を形成して、ＲＧＢ３色よりなるカラーフィルタを得た。
【００８９】
次に、得られたカラーフィルタの赤色画素、緑色画素、及び青色画素、並びにブラックマトリクスの上に更に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。以下、これを「カラーフィルタ基板」と称する。
【００９０】
［スペーサーの作製］
＜スペーサー用感光性転写フィルムの作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、下記処方Ａからなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥層厚１６．５μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
【００９１】
〔熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ａ〕
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝５５／１１．７／４．５／２８．８［モル比］、重量平均分子量９０，０００）共重合体    ・・・２５．０部
・スチレン／アクリル酸（＝６３／３７［モル比］、重量平均分子量８，０００）共重合体    ・・・５８．４部
・２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパン    ・・・３９．０部
・下記界面活性剤１    ・・・１０．０部
・メタノール    ・・・９０．０部
・１−メトキシ−２−プロパノール    ・・・５１．０部
・メチルエチルケトン    ・・・７００部
【００９２】
＊界面活性剤１
・下記構造物１    ・・・３０％
・メチルエチルケトン    ・・・７０％
【００９３】
【化３】
0005008590.tif 000005
【００９４】
次に、形成した熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｂからなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚１．５μｍの中間層を積層した。
〔中間層用塗布液の処方Ｂ〕
・ポリビニルアルコール    ・・・３．２２部
（ＰＶＡ−２０５、鹸化率８０％、（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン    ・・・１．４９部
（ＰＶＰ  Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）
・メタノール    ・・・４２．３部
・蒸留水    ・・・５２４部
【００９５】
次に、形成された中間層上に更に、下記表２に示す処方Ｃ１からなる感光性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚４．１μｍの感光性樹脂層を積層した。
【００９６】
【表２】
0005008590.tif 000006
【００９７】
なお、前記表２に記載の処方中の各組成の詳細は以下の通りである。
＊顔料
・シリカゾルの３０％メチルイソブチルケトン分散物（商品名：ＭＩＢＫ−ＳＴ，日産化学工業（株）製）
＊バインダー１
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（＝２０／８０［モル比］、質量平均分子量３６０００）
＊ＤＰＨＡ液（重合性モノマー）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ・・・７６部
（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
・プロピレングリコールモノメチルエーテル  ・・・２４部
＊消色染料
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨ−Ｍ（保土ヶ谷化学（株）製）
＊界面活性剤２
・Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２（４０部）とＨ（Ｏ（ＣＨ３）ＣＨＣＨ２）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２（５５部）とＨ（ＯＣＨ２ＣＨ２）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２（５部）との共重合体〔重量平均分子量：３万〕・・・３０部
・メチルエチルケトン  ・・・７０部
【００９８】
以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層の積層構造（３層の合計層厚は２２．１μｍ）に構成した後、感光性樹脂層の表面に更にカバーフィルムとして厚み１２μｍのポリプロピレン製フィルムを加熱・加圧して貼り付け、スペーサー用感光性転写フィルムを作製した。
【００９９】
＜スペーサーの作製＞
得られたスペーサー用感光性転写フィルムのカバーフィルムを剥離し、露出した感光性樹脂層の表面を、上記で作製したＩＴＯ膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上に重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃＩＩ型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、１３０℃の加圧・加熱条件下で搬送速度２ｍ／分にて貼り合わせた。その後、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、感光性樹脂層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した。
【０１００】
次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（(株)大日本科研  製）を用いて、マスク（画像パターンを有する石英露光マスク）と、該マスクと熱可塑性樹脂層とが向き合うように配置したカラーフィルタ基板とを略平行に垂直に立てた状態で、マスク面と感光性樹脂層の中間層に接する側の表面との間の距離を４０μｍとし、マスクを介して熱可塑性樹脂層側から露光量６０ｍＪ／ｃｍ２にてプロキシミティー露光した。
【０１０１】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で５０秒間、フラットノズル噴射圧０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した（ＰＤ工程）。引き続き、このガラス基板の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
引き続き、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７モル／リットルの炭酸ナトリウム、５％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２９℃で３０秒間、フラット型ノズル噴射圧０．１５ＭＰａでシャワー現像し、スペーサーのパターン像を得た（ＣＤ工程）。
次いで、洗浄剤〔ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）〕を純水で１０倍に希釈した液を用いて３３℃で２０秒間、フラット型ノズル噴射圧０．０２ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行なった（ＳＤ工程）。
【０１０２】
残渣除去を終了した後、２５℃の純水を２０秒間、フラット型ノズル（圧力０．０５ＭＰａ、噴射角１１０°）にてシャワーで、該ノズルから基板面まで１５０ｍｍ離れたカラーフィルタ基板の画素形成面に吹きかけ、カラーフィルタ基板上の現像液及び洗浄液を純水で洗い流すように置換した。その後、超高圧マイクロジェット（ジェット精密洗浄システムＡＦシリーズ  ＡＦ６２００ＳＷ（旭サナック（株）製））を用いて、８ＭＰａの圧力で２５℃の純水をカラーフィルタ基板の基板面から１００ｍｍの距離を離して１５秒間、高圧噴射してカラーフィルタ基板の画素形成面に残っている残渣を除去することにより、スペーサーパターンを得た。
【０１０３】
次に、スペーサーパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、２３０℃下で３０分間加熱処理（ポストベーク）を行ない、スペーサーを形成した。
【０１０４】
［液晶表示装置の作製］
スペーサーが形成されたカラーフィルタ基板を用い、カラーフィルタの着色画素群の周囲を取り囲むように設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置に紫外線硬化樹脂のシール剤をディスペンサ方式により塗布し、ＭＶＡモード用液晶を滴下して対向基板と貼り合わせ、貼り合わされた基板をＵＶ照射した後、熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして液晶セルを作製した。この液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付け、次いで冷陰極管のバックライトを構成して偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
【０１０５】
（実施例２）
実施例１の「スペーサーの作製」において、Ｔ−ＳＤ３を純水で１０倍に希釈した液を用いて残渣の除去を行なう際に、ナイロン毛を有する回転ブラシを用いてスペーサーパターンを擦って残渣除去を行なうようにしたこと以外は、実施例１と同様にして、スペーサーを形成し、さらに液晶表示装置を作製した。
【０１０６】
（比較例１）
実施例１の「スペーサーの作製」において、Ｔ−ＳＤ３を純水で１０倍に希釈した液を用いてパターン像の周辺の残渣除去を終了した後、基板上の現像液及び洗浄液を純水で置換せずに純水を高圧噴射し、カラーフィルタ基板上の残渣を除去したこと以外は、実施例１と同様にして、スペーサーを形成し、さらに液晶表示装置を作製した。
【０１０７】
（比較例２）
実施例２の「スペーサーの作製」において、Ｔ−ＳＤ３を純水で１０倍に希釈した液を用いて残渣の除去を終了した後、基板上の現像液及び洗浄液を純水で置換せずに純水を高圧噴射し、カラーフィルタ基板上の残渣を除去したこと以外は、実施例２と同様にして、スペーサーを形成し、さらに液晶表示装置を作製した。
【０１０８】
（評価１）
上記の実施例及び比較例でのスペーサーの作製において、現像時に発生した現像ムラの発生状況を目視検査で観察すると共に、スペーサー周辺部の残渣、画素の欠陥（欠けやガタツキ）の発生状況を光学顕微鏡により観察し、下記の評価基準にしたがって評価した。評価結果は下記表３に示す。
<評価基準>
◎  ：残渣、画素欠陥の発生が全く見られなかった。
○  ：残渣、画素欠陥の発生が微かに見られた。
△  ：残渣、画素欠陥の発生が僅かに見られた。
△△：残渣、画素欠陥の発生が比較的多く見られた。 
×  ：残渣、画素欠陥の発生が画素のいたるところに見られた。
【０１０９】
【表３】
0005008590.tif 000007
【０１１０】
前記表３に示すように、高圧噴射装置により純水を噴射する前に、基板上の現像液及び洗浄剤を純水に置換した実施例では、現像ムラと現像残渣、画素欠陥を抑制することができた。これに対し、比較例では、特に高圧噴射によるムラの発生が見られ、画素欠陥の点でも劣っていた。
【０１１１】
（評価２）
実施例１〜２及び比較例１〜２で作製した液晶表示装置を用い、比較例の液晶表示装置と比較することにより実施例の液晶表示装置を評価したところ、良好な表示特性を示すことが確認された。