(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、遮光材料、樹脂、および撥液性材料を含有する撥液性遮光部形成用組成物を塗布し、撥液性遮光部形成用層を形成する撥液性遮光部形成用層形成工程と、
前記撥液性遮光部形成用層を露光する露光工程と、
前記撥液性遮光部形成用層を現像する現像工程と、
現像された前記撥液性遮光部形成用層を焼成し、撥液性遮光部を形成する焼成工程と、
前記撥液性遮光部により区画された着色層形成用領域にインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成する着色層形成工程と
を有するカラーフィルタの製造方法であって、
前記現像工程および前記焼成工程の間に、前記透明基板、および前記透明基板上に前記撥液性遮光部形成用層が形成されたカラーフィルタ形成用基板を保管する保管工程を有し、
前記着色層形成工程が、前記焼成工程を行ってから１０時間以内に行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記保管工程が、湿度６０％以上の雰囲気下で前記カラーフィルタ形成用基板を保存する工程であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記保管工程が、温度７０℃以下の雰囲気下で前記カラーフィルタ形成用基板を保存する工程であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータの発達、特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。
【０００３】
このような液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタは、通常赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３原色の着色パターンを備えており、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素に対応する電極をＯＮ、ＯＦＦさせることで液晶がシャッタとして作動し、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素を光が通過してカラー表示が行われる。
【０００４】
このようなカラーフィルタの形成方法として、例えば、基材上に撥液性の遮光部を形成し、この撥液性の遮光部により区画された開口部（着色層形成用領域）にインクジェット法により着色層を形成する方法が提案されている（例えば特許文献１参照。）。
【０００５】
この方法によれば、上記遮光部の撥液性を利用して、インクジェット法により着色層形成用領域に着色層形成用塗工液を塗布して着色層を形成することが可能であることから、複雑な工程を繰り返す必要がなく、製造効率がよいという利点を有している。また着色層形成の際に現像液等を用いる必要がないことから、他の部材の劣化等が生じるおそれもないものとすることができる。
【０００６】
このようなインクジェット法を用いたカラーフィルタの製造ラインにおいて、例えばインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布する工程が止まってしまった場合や、大量のカラーフィルタを製造する場合等には、上記遮光部が形成された基板等を一時的に保管する必要がある。しかしながら、タイミングや条件等を管理することなく上記遮光部が形成された基板を放置した場合、インクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布した際、着色層形成用塗工液が均一にぬれ広がらず、白抜けが発生する等の問題があった。これは、上記遮光部から滲出した撥液性材料等が着色層形成用領域に付着し、着色層形成用領域の親液性が不足するからであると考えられる。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−１８７１１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、カラーフィルタの製造中に、一時的にカラーフィルタ形成用基板を放置した場合であっても、白抜け等のない高品質な着色層を形成可能なカラーフィルタの製造方法の提供が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、透明基板上に、遮光材料、樹脂、および撥液性材料を含有する撥液性遮光部形成用組成物を塗布し、撥液性遮光部形成用層を形成する撥液性遮光部形成用層形成工程と、上記撥液性遮光部形成用層を露光する露光工程と、上記撥液性遮光部形成用層を現像する現像工程と、現像された上記撥液性遮光部形成用層を焼成し、撥液性遮光部を形成する焼成工程と、上記撥液性遮光部により区画された着色層形成用領域にインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成する着色層形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、上記現像工程および上記焼成工程の間に、上記透明基板および上記透明基板上に上記撥液性遮光部形成用層が形成されたカラーフィルタ形成用基板を保管する保管工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１０】
本発明によれば、上記現像工程および上記焼成工程の間に上記保管工程が行われることから、上記保管工程を行った場合であっても、上記着色層形成工程により、着色層形成用領域に均一に着色層形成用塗工液を塗布することが可能となり、白抜け等のない、高精細な着色層を形成することが可能となる。一般的に、焼成工程により撥液性遮光部中に含有される撥液性材料が表面に滲出しやすいが、本発明においては上記焼成工程後に保管する時間を置くことなく、上記着色層形成工程を行うことから、上記着色層形成用領域表面の親液性を良好なものとすることができるからである。
【００１１】
上記発明においては、上記保管工程を、湿度６０％以上の雰囲気下で上記カラーフィルタ形成用基板を保存する工程とすることが好ましい。これにより、上記着色層形成用領域表面に撥液性の材料等が付着することが少ないものとすることができ、着色層形成工程において白抜け等のない着色層を形成することができるからである。
【００１２】
また上記発明においては、上記保管工程を、温度７０℃以下の雰囲気下で上記カラーフィルタ形成用基板を保存する工程とすることが好ましい。これにより、現像された上記撥液性遮光部形成用層から撥液性材料が表面に滲出し難いものとすることができ、着色層形成用領域に、上記撥液性材料が付着することが少ないものとすることができるからである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、上記保管工程を行った場合であっても、上記着色層形成工程により、着色層形成用領域に均一に着色層形成用塗工液を塗布することが可能となり、白抜け等のない、高精細な着色層を形成することが可能となるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタの製造方法に関するものである。以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について詳しく説明する。
【００１５】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板上に、遮光材料、樹脂、および撥液性材料を含有する撥液性遮光部形成用組成物を塗布し、撥液性遮光部形成用層を形成する撥液性遮光部形成用層形成工程と、上記撥液性遮光部形成用層を露光する露光工程と、上記撥液性遮光部形成用層を現像する現像工程と、現像された上記撥液性遮光部形成用層を焼成し、撥液性遮光部を形成する焼成工程と、上記撥液性遮光部により区画された着色層形成用領域にインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布し、着色層を形成する着色層形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法であって、上記現像工程および上記焼成工程の間に、上記透明基板および上記透明基板上に上記撥液性遮光部形成用層が形成されたカラーフィルタ形成用基板を保管する保管工程を有することを特徴とする方法である。
【００１６】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、例えば図１に示すように、透明基板１上に所定の材料を含有する撥液性遮光部形成用組成物を塗布し、撥液性遮光部形成用層２を形成する撥液性遮光部形成用層形成工程（図１（ａ））と、上記撥液性遮光部形成用層２を、例えばフォトマスク３等を用いて露光光６で露光する露光工程（図１（ｂ））と、上記撥液性遮光部形成用層２を現像する現像工程（図１（ｃ））と、上記撥液性遮光部形成用層２を焼成し、撥液性遮光部４を形成する焼成工程（図示せず）と、上記撥液性遮光部４により区画された着色層形成用領域（図中、ａで示される領域）に着色層形成用塗工液を塗布して着色層５を形成する着色層形成工程（図１（ｄ））とを有するカラーフィルタの製造方法であり、上記現像工程と上記焼成工程との間に、上記透明基板１、および遮光部形成用層２を有するカラーフィルタ形成用基板１０を保管する保管工程（図示せず）が行われる方法である。なお、本発明でいう保管とは、１２時間以上カラーフィルタ形成用基板に対して何ら処理を行わず、静置することをいうこととする。
【００１７】
通常、撥液性材料を含有する撥液性遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を、着色層を形成する前に保管した場合等には、撥液性遮光部により区画された着色層形成用領域に着色層形成用塗工液を塗布して着色層を形成した際、白抜けが生じやすいという問題があった。これは、上記撥液性材料が撥液性遮光部から滲出してしまい、上記着色層形成用領域の表面に付着してしまうこと等によるものであると考えられる。なお、上記撥液性材料は、撥液性遮光部を形成する際の焼成工程中や、焼成工程後に、表面に滲出しやすい。
【００１８】
本発明においては、上記現像工程および上記焼成工程の間に上記保管工程が行われることから、焼成工程により撥液性材料が表面に滲出した場合であっても、直後に着色層形成工程が行われることから、撥液性遮光部に滲出した撥液性材料が着色層形成用領域表面に付着することが少ないものとすることができる。したがって、上記着色層形成工程において、着色層形成用領域に均一に着色層形成用塗工液を塗布することが可能となり、白抜け等のない、高精細な着色層を形成することが可能となるのである。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の各工程について説明する。
【００１９】
１．保管工程
まず、本発明における保管工程について説明する。本発明における保管工程は、上記透明基板、およびその透明基板上に形成された撥液性遮光部形成用層を有するカラーフィルタ形成用基板を保管する工程であり、後述する現像工程および焼成工程の間に行われる工程である。
【００２０】
本発明において、上記カラーフィルタ形成用基板を保管する方法としては、上記カラーフィルタ形成用基板表面に不純物等が付着したり、カラーフィルタ形成用基板に傷が生じたり変質が生じること等のない方法であれば特に限定されるものではない。例えば、カラーフィルタの製造ライン上で保管する方法であってもよく、また例えば所定の装置内に保管する方法等であってもよい。本発明においては特に、所定の装置内等、密閉された空間内に上記カラーフィルタ形成用基板が保管することが好ましい。これにより、上記カラーフィルタ形成用基板表面に不純物が付着することが少ないものとすることができるからである。また、カラーフィルタ形成用基板に紫外線が照射されない空間内にカラーフィルタ形成用基板を保管することが本発明においては特に好ましい。これにより、上記撥液性形成用層が硬化して撥液性材料が撥液性遮光部形成用層表面に滲出してしまうことが少ないものとすることができるからである。
【００２１】
また上記カラーフィルタ形成用基板が保管されるスペースの雰囲気についても特に限定されるものではないが、本発明においては特に、湿度が４５％以上の雰囲気下で保管されることが好ましく、中でも５５％以上、特に６０％以上の雰囲気下で保管されることが好ましい。これにより、上記着色層形成用領域の表面に、撥液性材料が付着し難いものとすることができるからである。
【００２２】
また、上記カラーフィルタ形成用基板を保管する雰囲気の温度としては、７０℃以下とされることが好ましく中でも１０℃〜４０℃程度、特に１５℃〜２５℃程度とされることが好ましい。これにより、上記撥液性遮光部形成用層が硬化して表面に撥液性材料が滲出してしまうことを防ぐことができ、上記着色層形成用領域の表面に、撥液性材料が付着し難いものとすることができるからである。
【００２３】
本工程により上記カラーフィルタ形成用基板を保管する時間としては、３日以内、中でも２日以内、特に１日以内とすることが好ましい。これにより、上記着色層形成工程において、上記着色層形成用領域に高精細に着色層を形成することが可能となるからである。
【００２４】
また本工程において保管されるカラーフィルタ形成用基板は、透明基板、およびこの透明基板上に形成された撥液性遮光部形成用層を有するものである。上記透明基板としては、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様とすることができ、例えば石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。
【００２５】
また上記撥液性遮光部形成用層としては、後述する撥液性遮光部形成用層形成工程で形成される撥液性遮光部形成用層が、後述する露光工程および現像工程により、露光および現像されたものである。上記撥液性遮光部形成用層の形成材料や、形成方法、露光方法、および現像方法等については後述する各工程の項で説明するので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００２６】
２．撥液性遮光部形成用層形成工程
次に、本発明における撥液性遮光部形成用層形成工程について説明する。本発明における撥液性遮光部形成用層形成工程は、透明基板上に、遮光材料、樹脂、および撥液性材料を含有する撥液性遮光部形成用組成物を塗布し、撥液性遮光部形成用層を形成する工程である。
【００２７】
本発明において、上記撥液性遮光部形成用組成物を塗布する方法としては、特に限定されるものではなく、スピンコート法やダイコート法等、一般的な塗布方法で塗布する方法や、透明基板上に上記撥液性遮光部形成用組成物からなる層を有するフィルム（ドライフィルム）を、ラミネート法等、一般的なフィルムの積層方法で積層する方法等とすることができる。なお、本工程においては必要に応じて、塗布された撥液性遮光部形成用層や積層されたフィルムをプリベーク等してもよい。
【００２８】
また本工程により形成される撥液性遮光部形成用層の膜厚は、形成する撥液性遮光部の膜厚等に応じて適宜選択されるものであるが、通常１μｍ〜４μｍ程度、中でも１．５μｍ〜２．５μｍ程度とされることが好ましい。
【００２９】
ここで、本工程に用いられる上記撥液性遮光部形成用材料としては、遮光材料、樹脂、および撥液性材料を含有するものであれば特に限定されるものではなく、通常、上記遮光材料、樹脂、および撥液性材料に、光開始剤やモノマー等を添加したもの等とすることができる。
【００３０】
上記遮光材料としては、一般的に樹脂製遮光部の形成に用いられる材料を用いることができる。このような遮光材料としては、例えば、カーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子等を挙げることができる。
【００３１】
また、上記樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−ビニル共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、エチレン−メタクリル酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等を用いることができる。
【００３２】
さらに、重合可能なモノマーであるメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、グリシジル（メタ）アクリレートの中から選ばれる１種以上と、（メタ）アクリル酸、アクリル酸の二量体（例えば、東亞合成化学（株）製Ｍ−５６００）、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの無水物の中から選ばれる１種以上からなるポリマー又はコポリマーも例示できる。また、上記のコポリマーにグリシジル基又は水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させたポリマー等も例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３３】
また、上記撥液性材料としては、撥液性遮光部を形成した際に所望の撥液性を発現できるものであれば特に限定されるものではない。このような撥液性材料としては、例えば、フッ素含有化合物、および、低表面エネルギー物質の微粒子等を挙げることができる。
【００３４】
上記フッ素含有化合物としては、例えば、下記式（１）または（２）で表される化合物のモノマーまたはオリゴマー等を例示することができる。
【００３５】
一般式（１）：Ｒｆ−Ｘ−Ｒｆ´
一般式（２）：（Ｒｆ−Ｘ−Ｒ）−Ｙ−（Ｒ´−Ｘ´−Ｒｆ´）
【００３６】
ここで、上記式（１）または（２）において、ＲｆおよびＲｆ´はフルオロアルキル基、ＲおよびＲ´はアルキレン基を表し、ＲｆとＲｆ´また、ＲとＲ´は同一でも異なっていてもよい。また、Ｘ、Ｘ´およびＹは、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ''−、−ＯＣＯＮＲ''−、−ＳＯ２ＮＲ''−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２Ｏ−、−Ｏ−、−ＮＲ''−、−Ｓ−、−ＣＯ−、ＯＳＯ２Ｏ−、−ＯＰＯ（ＯＨ）Ｏ−のうちのいずれかを表し、Ｘ、Ｘ´およびＹは同一でも異なっていてもよい。Ｒ''はアルキル基または水素を表す。
【００３７】
また、上記フッ素含有化合物としては、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロエチレンプロピレン樹脂、パーフルオロアルコキシ樹脂等も用いることができる。
【００３８】
一方、上記低表面エネルギー物質の微粒子としては、例えば、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテル系共重合体、３フッ化エチレン−フッ化ビニリデン共重合体等からなる微粒子や、シリコーン微粒子等を挙げることができる。
【００３９】
本発明において、上記撥液性材料は、撥液性遮光部形成用組成物の固形分中に０．０５重量％〜２．０重量％の範囲内、中でも０．５重量％〜１．０重量％の範囲内含有されていることが好ましい。これにより、後述する焼成工程を行った後に、表面に上記撥液性材料が表面に滲出し難いものとすることができ、滲出した撥液性材料が着色層形成用領域に付着することが少ないものとすることができるからである。
【００４０】
また、上記撥液性遮光部形成用組成物に用いることが可能なモノマーとしては、例えば多官能アクリレートモノマーが挙げられ、アクリル基やメタクリル基等のエチレン性不飽和結合含有基を２つ以上有する化合物を用いることができる。具体的には、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等を例示することができる。
【００４１】
多官能アクリレートモノマーは、２種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、本発明において（メタ）アクリルとはアクリル又はメタクリルのいずれかであることを意味し、（メタ）アクリレートとはアクリレート基又はメタクリレートのいずれかであることを意味する。
【００４２】
また、上記撥液性遮光部形成用組成物に用いることが可能な光開始剤としては、紫外線、電離放射線、可視光、或いは、その他の各波長、特に３６５ｎｍ以下のエネルギー線で活性化し得る光ラジカル重合開始剤を使用することができる。そのような光重合開始剤して具体的には、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本発明では、これらの光重合開始剤を１種のみ又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４３】
３．露光工程
次に、本発明における露光工程について説明する。本発明における露光工程は、上記撥液性遮光部形成用層を露光する工程であり、上記撥液性遮光部形成用層を露光する方法としては、目的とするパターン状に上記撥液性遮光部形成用層を露光可能な方法であれば特に限定されるものではない。
【００４４】
例えばフォトマスク等を用いて撥液性遮光部形成用層をパターン状に露光する方法や、レーザー等をパターン状に照射する方法等が挙げられる。このような露光の際に用いられるエネルギーや照射条件等については、一般的なカラーフィルタの形成の際に用いられるものと同様とすることができる。
【００４５】
４．現像工程
次に、本発明における現像工程について説明する。本発明における現像工程は、上記撥液性遮光部形成用層を現像する方法である。本工程において用いられる現像液については、上記撥液性遮光部形成用組成物に含有される樹脂の種類等に応じて適宜選択され、一般的な感光性レジストを現像する際と同様のものを用いることができる。
【００４６】
また、上記撥液性遮光部形成用層の現像時間や条件、現像方法等についても、一般的なカラーフィルタの遮光部を形成する際と同様とすることができる。
【００４７】
５．焼成工程
次に、本発明における焼成工程について説明する。本発明における焼成工程は、上記現像工程により現像された撥液性遮光部形成用層を焼成し、撥液性遮光部を形成する方法である。上記焼成方法としては、一般的な感光性レジストを焼成する方法と同様の方法とすることができ、通常１５０℃〜２５０℃程度、中でも２００℃〜２３０℃程度で上記撥液性遮光部形成用層を焼成する工程とすることができる。
【００４８】
また本工程により形成される撥液性遮光部の液体との接触角は、その撥液性遮光部に区画される着色層形成用領域の液体との接触角より１°以上高いものとされることが好ましい。これにより、上記撥液性遮光部および上記着色層形成用領域の液体との接触角の差を利用して、容易に着色層形成用領域のみに着色層形成用塗工液を塗布することが可能となるからである。
【００４９】
また上記撥液性遮光部の具体的な液体との接触角としては、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上、中でも表面張力３０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上、特に表面張力２０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以上とされることが好ましい。また、純水との接触角は１１°以上とされることが好ましい。これは、上記撥液性遮光部の上記液体との接触角が小さい場合、撥液性遮光部の撥液性が十分でなく、上記撥液性遮光部にも着色層形成用塗工液が付着してしまう可能性があるからである。
【００５０】
なお、ここでいう液体との接触角は、種々の表面張力を有する液体との接触角を接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジから液滴を滴下して３０秒後）し、その結果から、もしくはその結果をグラフにして得たものである。また、この測定に際して、種々の表面張力を有する液体としては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を用いることができる。
【００５１】
６．着色層形成工程
次に、本発明における着色層形成工程について説明する。本発明における着色層形成工程は、上記撥液性遮光部により区画された着色層形成用領域にインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布する工程である。
【００５２】
本工程において着色層形成用塗工液を塗布する方法としては、インクジェット法により着色層を形成する一般的な方法と同様とすることができる。また、本工程において着色層形成用塗工液を塗布するために用いられるインクジェット装置としては、一般的にカラーフィルタを製造する際に用いられるものと同様とすることができる。上記インクジェット装置として、１つのみインクジェットノズルを有するものが用いられてもよいが、本発明においては特に、複数のインクジェットノズルを有するものが用いられることが好ましい。これにより、効率よくカラーフィルタを製造することが可能となるからである。
【００５３】
また、本工程に用いられる着色層形成用塗工液としては、製造されるカラーフィルタの種類等により適宜選択され、一般的にカラーフィルタの製造に用いられるものと同様とすることができる。
【００５４】
またさらに、本工程により形成される着色層は、通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３色で形成される。また上記着色層における着色パターン形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができ、着色面積は任意に設定することができる。
【００５５】
なお本工程が行われるタイミングとして具体的には、上記焼成工程を行ってから、６０時間以内、中でも３０時間以内、特に１０時間以内とされることが好ましい。これにより、上記着色層形成用領域に白抜け等がないように、着色層形成用塗工液を塗布することが可能となり、高品質な着色層を形成することが可能となるからである。
【００５６】
７．その他の工程
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した保管工程、撥液性遮光部形成工程、露光工程、現像工程、焼成工程、および着色層形成工程を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば焼成工程後に、上記撥液性遮光部が形成されたカラーフィルタ形成用基板の表面を洗浄する簡易水洗工程や、上記現像工程と焼成工程との間に、上記撥液性遮光部形成用層を露光する後露光工程等を有していてもよい。なお、上記後露光工程を行う場合、上記保管工程は、後露光工程の前に行ってもよく、また後露光工程の後に行ってもよい。本発明においては特に、上記後露光工程の後、すなわち後露光工程と焼成工程との間に上記保管工程を行うことが好ましい。
以下、上記簡易水洗工程および後露光工程について説明する。
【００５７】
（簡易水洗工程）
本発明における簡易水洗工程は、上記焼成工程により焼成された撥液性遮光部を有するカラーフィルタ形成用基板を水洗する工程である。本発明において、上記カラーフィルタ形成用基板を水洗する方法としては、特に限定されるものではなく、例えば上記カラーフィルタ形成用基板を水に浸漬させる方法や、上記カラーフィルタ形成用基板を水に浸漬させ超音波を照射する方法、上記カラーフィルタ形成用基板に、ノズル等により水を吹き付ける方法等が挙げられる。
【００５８】
上記液体の吹き付けに用いられるノズル等としては、一般的にスプレー洗浄等に用いられるノズル等と同様とすることができる。
【００５９】
本工程が行われるタイミングとしては、上記焼成工程を行った直後が好ましく、具体的には上記焼成工程を行ってから、２４時間以内、中でも１２時間以内、特に６時間以内とされることが好ましい。
【００６０】
また、水洗には２０℃〜２５℃の純水を用いることが好ましいが、アルコールやアルコール水溶液を用いてもよい。このようなアルコールとしては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられる。また、水溶液のアルコール濃度は５重量％〜５０重量％が好ましい。これにより、上記着色層形成用領域に水を吸着させることが可能となり、着色層形成用領域の親液性を高いものとすることができるからである。
【００６１】
（後露光工程）
また本発明における後露光工程としては、現像工程により現像された撥液性遮光部形成用層を後露光する工程である。本工程における後露光は、通常、透明基板側から上記撥液性遮光部形成用層を露光することにより行われる。本工程において後露光を行うことにより、透明基板側の撥液性遮光部形成用層を硬化させることができ、上記撥液性遮光部形成用層から上記撥液性材料が表面に滲出し難いものとすることが可能となる。
【００６２】
上記後露光に用いられるエネルギー等については、上述した露光工程と同様とすることができる。また、後露光は、通常、透明基板側から全面にエネルギーを照射することにより行うことができる。
【００６３】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００６４】
以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。
【００６５】
［実施例１］
＜ブラックマトリクスの形成＞
ガラス基板（コーニング製「７０５９」）上に、撥インク製組成物を含む以下の組成からなるブラックマトリクス用感光性塗料を塗布し、所定のプレベーク、露光、現像を行って、１５０μｍ・４００μｍの長方形の開口部を有するブラックマトリクスパターン（隔壁）を作製した。
【００６６】
（ブラックマトリクス用感光性塗料） 
・黒顔料（大日精化工業（株）製ＴＭブラック＃９５５０）      １４．０重量部
・分散剤（ビックケミー（株）製Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１１１）      １．２重量部
・ポリマー（昭和高分子（株）製ＶＲ６０）                      ２．８重量部
・モノマー（サートマー（株）製ＳＲ３９９）                    ３．５重量部
・添加剤（綜研化学（株）製Ｌ−２０）                          ０．７重量部
・開始剤１（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１）                                                １．６重量部
・開始剤２（４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン）          ０．３重量部
・開始剤３（２，４−ジエチルチオキサントン）                  ０．１重量部
・撥液剤（フッ素系樹脂）                                      ０．２重量部
・溶剤（エチレングリコールモノブチルエーテル）              ７５．６重量部
【００６７】
＜インクの調製＞
次に、下記に示す組成からなるインク粘度10ｃｐのＲＧＢ各色の熱硬化型ポリエポキシアクリレートインクを調製した。なお、上記粘度は、ローリングボール式粘度計（Ｐａａｒ  Ｐｈｙｓｉｃａ社製  自動微量粘度計  型番ＡＭＶｎ）で、測定条件（キャピラリー内径１．８ｍｍ、ボール直径１．５ｍｍ、温度２３℃、傾斜角度θ＝５０°）で測定した値である。
【００６８】
（赤インク）
・顔料（Ｃ.Ｉ.Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７）                ５．０重量部
・ポリマー（アクリル酸／ベンシルアクリレート共重合体）          ７０重量部 
・モノマー（２官能エポキシ含有モノマー）                      ５．０重量部 
・溶剤（ポリエチレングリコールモノアセテート）                  ２０重量部 
【００６９】
（緑インク）
・顔料（Ｃ.Ｉ.Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６）              ５．０重量部
・ポリマー（アクリル酸／ベンシルアクリレート共重合体）          ７０重量部 
・モノマー（２官能エポキシ含有モノマー）                      ５．０重量部 
・溶剤（ポリエチレングリコールモノアセテート）                  ２０重量部
【００７０】
(青インク)
・顔料（Ｃ.Ｉ.Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５＋Ｃ.Ｉ.Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３）                                                      ５．０重量部
・ポリマー（アクリル酸／ベンシルアクリレート共重合体）          ７０重量部 
・モノマー（２官能エポキシ含有モノマー）                      ５．０重量部
・溶剤（ポリエチレングリコールモノアセテート）                  ２０重量部
【００７１】
＜保管＞
その後、気温２３℃、湿度６２％の雰囲気下にて基板を3日間保管した。
【００７２】
＜後露光および焼成＞
保管していた基板に対して、ガラス上面もしくは下面から、あるいは上面及び下面から所定量の露光をし、その後、焼成を行った。
【００７３】
＜簡易水洗＞
プラズマ処理後の基板に５分間純水を吹きつけ、基板表面を洗浄した。
【００７４】
＜着色部の作製＞
保管していたブラックマトリクス基板を後露光およびポストベーク処理を施し、その後簡易洗浄した基板に対してインクを塗布し、塗布されたインクを開口部内で硬化させて着色部（画素）とし、カラーフィルタを作製した。
【００７５】
［比較例１］
現像工程までは実施例と同様にし、後露光および焼成を実施した後、気温２３℃、湿度６２％の雰囲気下にて基板を１日間保管した。保管後、簡易水洗処理をし、実施例と同様にして着色部（画素）を形成し、カラーフィルタを作製した。得られたカラーフィルタでは白抜けが発生していた。
【００７６】
［比較例２］
焼成までは比較例１と同様にし、保管工程は行わず、簡易水洗処理をし、実施例と同様にして着色部（画素）を形成し、カラーフィルタを作製した。白抜けのないカラーフィルタが得られた。
【００７７】
［評価］
実施例１および比較例２で得られたカラーフィルタでは、混色、白抜け等の欠陥は観察されなかったが、比較例１で得られたカラーフィルタでは白抜けが発生していた。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
【符号の説明】
【００７９】
１  …透明基板
２  …撥液性透明樹脂層
３  …フォトマスク
４  …撥液性遮光部
５  …着色層
６  …露光光
【図１】
0005023890.tif 000002