(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽と、該洗浄槽内に設けられていてその間を通過するワークに対し高温純水を噴射可能の噴霧ノズルを設けた一対の洗浄管と、該洗浄管へ高温純水を供給する高温純水供給管と、ドレン抜きとを設けた洗浄装置と；
前記ワークの化学処理を行う為の処理槽と、前記化学処理を施す為の薬液を貯蔵する為のタンクと、該タンク内の前記薬液を前記処理槽へ送る為のポンプと、前記処理槽内から前記化学処理終了後の前記薬液を前記タンクへ戻す為の戻り配管と、前記タンク内に設置されていて一端が純水供給ラインに接続され他端がラインヒータを介して前記高温純水供給管に接続された熱交換器とを設けた高温純水発生装置；
とを備えた高温純水洗浄システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークを高温洗浄するための高温純水洗浄システムに関し、具体的には、ワークの洗浄に用いる高温純水を効率よく得るシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子搭載用部材の一つとしてリードフレームやＴＡＢテープがある。例えば、リードフレームは、銅、銅合金、鉄合金等の条材を基材とし、打ち抜き金型を用いたプレス法により、あるいはフォトリソグラフ法を用いたエッチング法によりリードフレームパターンを作製し、全面、あるいは必要部にめっきを施して得ている。
また、例えば、ＴＡＢテープは、ポリイミドフィルム等の絶縁性樹脂フィルムの表面に銅、ニッケル、クロムやこれらの合金からなる薄いシード層を設け、その上に銅層を設けた基材を用い、アディティブ法、セミアディティブ法、サブトラクティブ法などにシード層と銅層とを用いて加工して配線パターンを形成して得ている。
【０００３】
これらのリードフレームやＴＡＢテープは、生産コストを低下させるべくコイル状に巻かれた長尺の基材を用い、リール・トウ・リール方式で生産されるのが一般的である。例えば、前記のようにして製造されたリードフレームやＴＡＢテープの全面や必要箇所にめっきを施す際には、配線パターンが設けられた該基材（以下、「ワーク」という）を、巻き出しロールより巻き出してアルカリ洗浄槽、水洗槽、酸洗槽、水洗槽、めっき槽、水洗槽、乾燥機を経由させて巻き取りロールに巻き取っている。（例えば、特許文献１参照）。
このような加工工程において、水洗槽は、相反する液性の液が次工程に流れ込むことを押さえる役割や、めっき液が次工程に流れ込むことにより処理必要廃水の増加を抑える役割を果たしている。
【０００４】
ところで、従来、高温水を用いてワークを洗浄するための装置の一つに図２に示されるようなものがある。図２において、１は純水供給ラインであり、２はラインヒータ、３は高温純水供給管、４は洗浄管、Ｗはワーク、５はドレン抜き、６は洗浄槽である。
ワークＷは洗浄槽６内に設けられた一対の対向する洗浄管４の間を通過するようになっており、それぞれの洗浄管４には、ワークＷに対してラインヒータ２により高温にされ高温純水供給管３を介して供給された高温純水を噴霧可能の噴霧ノズルが設けられている。ワークＷに対して噴霧された後の純水は、ドレン抜き５より洗浄槽６外に排出される。
【特許文献１】２０００−４５０９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、図２の装置では、洗浄用の純水はラインヒータ２をワンパスするのみであるため、この方法で常温の純水を必要な温度まで昇温させようとすると、例えば流量８ｌ／ｍｉｎの２０℃の純水を流量８ｌ／ｍｉｎの６０℃の高温純水にしようとすると、用いるラインヒータ２の電気容量は２２．２ｋＷと比較的大きなものとなる。加えて、洗浄槽６から排出されるドレンにはワークＷに付着していた汚染物質が含まれているため、このドレンを回収槽に溜めても、再利用することは困難である。従って、大容量のラインヒータ２を用いて純水を昇温させて洗浄に用い、発生したドレンは捨てざるを得ないので、この洗浄方法は、省エネルギーの観点から問題となっていた。
【０００６】
一方、ワークＷの化学エッチング等の前処理、レジスト層の剥離、配線部へのめっき等の化学処理を行う為の装置がある。図３はその装置の一例を示しているが、この装置は、化学処理を行うための薬液７が貯蔵されるタンク８と、化学処理を行う為に薬液７を循環させる為のポンプ９と、その循環された薬液７を用い化学処理を行う為の処理槽１０とから構成されているが、ポンプ９から発生する熱や化学処理に伴い発生する反応熱により薬液の温度が上昇する傾向がある。そのため、図示しない冷却装置を用いたり、タンク８の材料を熱伝導性のよいものとし、放熱しやすくしたりして薬液７の温度を一定に維持するようにしている。従って、このような化学処理装置においても、省エネルギー的観点より問題があるとされていた。
【０００７】
本発明は、上述の如き従来装置の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、化学処理に用いる薬液の温度を一定に保ちつつ、長尺のワークを連続的に高温純水で洗浄するための省エネルギー化された高温純水洗浄システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明による高温純水洗浄システムは、洗浄槽と、該洗浄槽内に設けられていてその間を通過するワークに対し高温純水を噴射可能の噴霧ノズルを設けた一対の洗浄管と、該洗浄管へ高温純水を供給する高温純水供給管と、ドレン抜きとを設けた洗浄装置と；前記ワークの化学処理を行う為の処理槽と、前記化学処理を施す為の薬液を貯蔵する為のタンクと、該タンク内の前記薬液を前記処理槽へ送る為のポンプと、前記処理槽内から前記化学処理終了後の前記薬液を前記タンクへ戻す為の戻り配管と、前記タンク内に設置されていて一端が純水供給ラインに接続され他端がラインヒータを介して前記高温純水供給管に接続された熱交換器とを設けた高温純水発生装置；とを備えている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に依れば、従来、冷水等と共に除去していた前記薬液を循環させるポンプが発生する熱や、化学処理に伴い発生する熱が、純水を昇温するのに有効に利用でき、結果としてラインヒータの容量を小さくすることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態を図１に示した一実施例に基づき説明する。
本発明では、図１に示す如く、高温純水洗浄システムを、洗浄装置Ａと高温純水発生装置Ｂとから構成する。洗浄装置Ａは、洗浄槽６と、洗浄槽６内に設けられた一対の洗浄管４と、洗浄管４への高温純水供給管３と、洗浄槽６に設けられたドレン抜き５とからなり、ワークＷは前記一対の洗浄管４の間を通過するようになっており、それぞれの洗浄管４には、ワークＷに対して高温にされた純水を噴霧可能の噴霧ノズルが設けられている。
【００１１】
そして、高温発生装置Ｂは、ワークＷの前処理、レジスト層の剥離、めっき等の化学処理を行う為の薬液が貯蔵されるタンク８と、タンク８内の薬液７を、化学処理を行う為の処理槽１０へ送るためのポンプ９と、薬液７を用いて化学処理を行う為の処理槽１０と、その化学処理を行う為の薬液が貯蔵されたタンク８内に設置された熱交換器１１と、前記洗浄装置Ａの直前に設けられたラインヒータ２とから構成される。
更に、１は純水供給ラインであり、２はラインヒータ、１２は処理槽１０の下部に設けられた移送配管、１３はタンク８への戻り配管である。
【００１２】
図１において、純水供給ライン１により供給された純水は、熱交換器１１からラインヒータ２を経由し、高温純水供給管３を介して洗浄管４に供給されるが、途中、熱交換器１１でポンプ９や化学処理により発生した熱を受け取り、ラインヒータ２で所定温度に加熱される。これにより、純水をラインヒータ２により所定温度にまで到達させる為のΔｔ（昇温温度）を小さくする事が可能となり、ラインヒータ２の電気容量を小さくする事が可能となった。また、これにより薬液７の温度上昇を防ぐ事が可能となった。
【００１３】
実施例
先ず、タンク８に５０００Ｌの薬液７を貯蔵し、貯蔵されたその薬液７は、化学処理を行う為に、ポンプ９として５.５ｋＷのポンプ３台を用いて処理槽１０へ移送され、化学処理終了後、戻り配管１３を通じて再びタンク８へ戻される循環構造とした。タンク８に貯蔵された薬液７の温度は、最初室温（２４度）であったが、運転を１時間続行したところ２６度にまで上昇した。このため、ポンプ９が薬液７に与えた熱エンエルギーは１時間あたり約１２kWであることが分った。また、タンク８内に設置された熱交換器１１（総括伝熱係数１７０kcal/ｍ2・ｈｒ・℃、伝熱面積３０ｍ2）を介して、その中を常時流過する純水（温度２０度、流量８ L/min）に熱エネルギーが与えられ、熱交換器１１の出口では純水の温度が２４度まで上昇した。
【００１４】
その結果、純水の温度を所定温度の６０度まで上昇させる為の昇温温度（Δｔ）は４０度から３６度となり、Δｔを４度小さくする事が可能であることが分った。これを電気容量に置き換えると２．２ｋＷの削減となり、純水をワンパスで高温（６０度）に上げる為のラインヒータ２の電気容量は２２．２ｋＷから２０ｋＷへ小さくする事が可能となった。かくして、２０ｋＷのラインヒータ２により６０度にまで昇温された８L/minの純水により、高温純水洗浄を行うことができた。また、このことにより、ポンプ９が発生する熱エネルギー（１０３２０kcal/hr）は、循環する薬液７と熱交換器１１を介して純水に与えられる為、室温（２４度）にて使用する薬液７の温度上昇を防ぐ事も可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る高温純水洗浄システムの概略構成図である。
【図２】この種従来の高温純水洗浄装置の概略構成図である。
【図３】この種従来の化学処理装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００１６】
１                純水供給ライン
２                ラインヒータ
３                高温純水供給管
４                洗浄管
５                ドレン抜き
６                 洗浄槽
７                 薬液
８                 タンク
９                 ポンプ
１０               処理槽
１１               熱交換器
１２               移送配管
１３               戻り配管
Ａ                 洗浄装置
Ｂ                 高温純水発生装置
Ｗ                 ワーク
【図１】
0004978492.tif 000002
【図２】
0004978492.tif 000003
【図３】
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