Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
底壁(５)の背縁に延設した背壁(６)を直角に折り起し、該背壁（６）の一部をＨ形状に切り込んで内側に折り返して形成した折込片（２）に、該底壁(５)の正面縁に延設した内底板(１２)の先縁に縁設した前板(１３)を介して延設された前台板(１０)の先縁に、又は、該背壁(６)の天縁に内背板(１４)を介して延設された後台板(１１)の先縁に、延設した縦片(４)を差し込んで固定する事を特徴とした折込片固定雛壇。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、商品を陳列販売する為の販売雛壇に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の販売雛壇は、高さの異なる箱を接着して段差を形成していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従来の雛壇は、製造に箱を接着する為の手間が必要であり、使用時に於いても、箱を個別に組み立てる為の手間が必要であった。本発明では、前記従来技術の余分な手間を省略できる様にする、という課題の解決を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する為、外壁の一部を内側に折り込んで形成した折込片に、台板から延設された縦片を差し込んで固定する事で壇を形成する。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明物は、厚紙或いは段ボール紙を素材に用いて製造し、正面背面(前後)上下(天地)左右などの位置関係は組立完了状態で正面からを基準にして表示し、山折谷折で記述する折曲げ方向は外側からを基準にして表示し、左右方向を横（側）とし、横に対して直角に交差する方向を縦（前後天地）として表現する。
【０００６】
各部折り曲げ状態正面斜視図の図１に於いて、底壁５の背縁に延設した背壁６を直角に折り起し、折り起された背壁６両側縁と水平な底壁５の両側縁とを、同じ側どうしを直角三角形状の側壁７で繋いで外壁１を形成し、底壁５の一部からであっても良いのであるが、背板６の中央下部から横向きのＨ形状の切込を入れて形成した折込片２の基部を山折りして内側に折り込み、内側に折り込まれた折込片２の天縁中央から受切込８を形成し、前記の受切込８に台板３の先縁に延設して垂らした縦片４を差し込む事で台板３を固定し、縦片４の先縁は一直線であっても良いが入切込９を形成する事が望ましく、受切込８と入切込９とを噛み合わせる事で折込片２の折込角度を一定に保ち、台板３は前後に分離している事が望ましく、前後各々の台板３を前台板１０と後台板１１と別個に称する事とし、前台板１０は底壁５の正面縁に延設した内底板１２の先縁に延設した前板１３を介して延設され、後台板１１は背壁６の天縁に延設した内背板１４を介して延設され、前台板１０と後台板１１共に両側の縁に側片１５を延設して垂らす事で補強し、側壁７の取り付けは、底壁５（背壁６であっても良い）から折線を介して延設した側壁７の背縁（底縁であっても良い）に延設した接着片１６を、背壁６（底壁５であっても良い）の側端に接着して行ない、側壁７は一重であっても良いが、斜辺に切り端を出さない方が美観的にも良い事から、斜辺に延設した内側板１７を内側に袋折りし、内側板１７を接着によって固定する事が望ましい。
【０００７】
組み立て過程正面斜視図の図２に於いて、組み立て手順を述べるならば、天縁を内側に袋折して延設された内背板１４の下縁に延設して正面に折り込んだ後台板１１の正面縁に延設して垂らした縦片４を、正面に折り込んだ折込片２の天縁中央に切り込んだ受切込８に差し込んで後台板１１を固定し、底壁５の正面縁に山折線を介して延設した内底板１２の先縁に谷折線を介して延設した前板１３の先縁に山折線を介して延設した前台板１０の先縁に山折線を介して延設した縦片４を、受切込８に差し込む事で前台板１０は固定され、縦片４の先縁に折り込まれた折込片２と同幅の位置に入切込９を形成し、入切込９と受切込８とが互いに規定箇所で噛み合っているので、折込片２の折込角度は望ましい角度である直角を保持でき、折込片２は台板３を固定する他、台板３を下から支える事で補強の役割も果たし、縦片４は台板３の固定の他、直角に垂れ下がっている事で台板３を折れ曲りに対して補強している。
【０００８】
組み立て完了正面斜視図の図３に於いて、商品を乗せて陳列する箇所は、内底板１２と台板３との二箇所であり、内底板１２は正面縁袋折り箇所の戻りによって浮き上がろうとするが、前記浮き上がりの防止策として、内底板１２に陳列物を乗せる事で、その重みによって自然に浮き上がらなくなるが、内底板１２の裏面を接着したり、内底板１２の両側縁を突出させ、前記突出側縁を内側に折り返された内側板１７の下縁に嵌め込むなどの従来技術を用いて解決する。
【０００９】
組み立て完了背面下斜視図の図４に於いて、縦片４が折込片２に差し込まれている事で台板３は固定され、折込片２は正面に観音開きの状態で折り込まれている事から、両側の折込片２と天面の台板３と正面の前板１３と底面の底壁５との五方で囲まれた収納孔１８を背壁６の中央下部に形成しており、既収納孔１８は陳列商品を補充する為のストックスペースとして活用できる。
【００１０】
【発明の効果】
外壁の部分的面である背壁の中央下部の領域を折り込んで形成した折込片に、台板の先縁に延設した縦片を差し込む事で台板は補強された状態で固定されるので、別個の箱を接着しなくても壇を形成でき、別個の箱を組み立てる手間が省略できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】各部折り曲げ状態正面斜視図
【図２】組み立て過程正面斜視図
【図３】組み立て完了正面斜視図
【図４】組み立て完了背面下斜視図
【符号の説明】
１  外壁
２  折込片
３  台板
４  縦片
【図１】
0004943575.tif 000002
【図２】
0004943575.tif 000003
【図３】
0004943575.tif 000004
【図４】
0004943575.tif 000005
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗工液が収納され、ウェブが進入するディップ槽と、
ディップ槽内に配置されウェブが巻付けられるローラと、
ディップ槽の上方に配置され、ディップ槽から上方へ向って排出されたウェブの表面の塗工液に対して冷風を吹付ける冷風吹き付け装置と、を備え、
冷風吹き付け装置は、塗工液の粘度を上げ、このことによりウェブ表面の塗工液の降下速度を低下させて冷風を吹付けない場合に比べて塗膜の膜厚が大きくなるよう塗工液に対して冷風を吹付けてウェブを傷付けることなく塗膜の膜厚を調整することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
冷風吹付装置は、ウェブの一面側に配置されていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
冷風吹付装置は、ウェブの両面側に配置されていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はウェブに対して塗工液を塗布する塗布装置に係り、とりわけウェブ上の塗工液の膜厚を調整することができる塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来よりウェブに対して塗工液を塗布する装置として、塗工液が収納されるとともにウェブが進入するディップ槽と、ディップ槽内に配置されウェブが巻付けられるローラとを備えたものが知られている。
【０００３】
このような塗布装置において、ウェブはディップ槽内に進入し、ローラに巻付けて反転した後、ディップ槽から排出される。この間、ウェブの両面に塗工液が塗布される。ウェブに塗布された塗工液は、その後ウェブに接触するミヤバーにより掻き取られ膜厚が調整される。
【０００４】
【発明が解決使用とする課題】
上述のように、ウェブに塗布された塗工液は、ウェブに接触するミヤバーにより掻き取られてその膜厚が調整されるが、ウェブとミヤバーとの接触によりウェブに傷がついたり、ミヤバーが摩耗することがある。また、ミヤバーの当接部の形状が一定しないと、塗工液の膜厚が安定しないこともある。
【０００５】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、ミヤバーをウェブに当接させることなく、ウェブ上の塗工液の膜厚を調整することができる塗布装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、塗工液が収納され、ウェブが進入するディップ槽と、ディップ槽内に配置されウェブが巻付けられるローラと、ディップ槽の上方に配置され、ディップ槽から上方へ向って排出されたウェブの表面の塗工液に対して冷風を吹付ける冷風吹き付け装置と、を備え、冷風吹き付け装置は、塗工液の粘度を上げ、このことによりウェブ表面の塗工液の降下速度を低下させて冷風を吹付けない場合に比べて塗膜の膜厚が大きくなるよう塗工液に対して冷風を吹付けてウェブを傷付けることなく塗膜の膜厚を調整することを特徴とする塗布装置である。
【０００７】
本発明によれば、ウェブがディップ槽内に進入してウェブの表面に塗工液が塗布される。ウェブの表面の塗工液に対して冷風吹付装置から冷風が吹付けられて、塗工液の膜厚が調整される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【０００９】
図１および図２は、本発明による塗布装置の一実施の形態を示す図である。
【００１０】
図１および図２に示すように、塗布装置１０は塗工液１２が収納されウェブＷが進入するディップ槽１１と、ディップ槽１１内に配置され、ウェブＷが巻き付けられるローラ１３とを備えている。またディップ槽１１の上方に、ディップ槽１１から排出されたウェブＷの表面の塗工液１２に対して冷風を吹付ける冷風吹付装置１５が設けられている。
【００１１】
冷風吹付装置１５は１０℃〜１５℃の冷風を吹付けるものであり、ウェブＷの一面側に配置されているが、ウェブＷの両面側に配置してもよい。
【００１２】
次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について、図１および図２により説明する。
【００１３】
図１および図２に示すように、塗工液（例えばレジスト）１２が収納されたディップ槽１１にたいしてウェブ（例えば金属板）Ｗが進入する。ウェブＷはその後、ローラ１３に巻付いて反転した後、上方へ排出される。
【００１４】
この間、ウェブＷの両面に塗工液１２が塗布される。ウェブＷの両面に塗布された塗工液１２は、時間の経過とともに下方へ降下し、その後固化して塗膜となり膜厚が決定する。
【００１５】
この場合、塗工液１２の降下速度は、塗工液の粘度および密度により変化する。
【００１６】
本発明においては、ディップ槽１１から排出するウェブＷに対して、冷風吹付装置１５から冷風を吹付けるため、塗工液１２の粘度を変化させることができる。すなわち、冷風吹付装置１５から１０℃〜１５℃の冷風を吹付けることにより、塗工液１２の粘度を上げ、塗工液の降下速度を低下させることができる。冷風を吹付けて降下速度を低下させ、塗工液１２をゆっくり降下させた場合、塗工液１２が固化して形成された塗膜の膜厚ｈ１は、冷風を吹付けない場合の塗膜の膜厚ｈ２より大きくなり、塗膜の厚膜化を図ることができる（図２）。なお、図２において、冷風吹付装置１１へ達する前のウェブＷの両面における塗工液１２の膜厚Ｓ１、Ｓ２は略同一となっている。
【００１７】
以上のように、本実施の形態によれば、ウェブＷに傷を付けることなく、塗膜の薄膜を調整することができる。
【００１８】
【実施例】
次に本発明の具体的実施例について説明する。
【００１９】
本発明による塗布装置において、ウェブ（金属板）Ｗに対して塗工液（レジスト）を塗布し、その後、冷風吹付装置１５から、温度１１℃（雰囲気温度２５℃）および風速１．２ｍ／Ｓの条件で、ウェブＷに対して冷風を吹き付けた。この時、塗工液１２が固化した際の塗膜の膜厚は８μｍとなり、一方冷風を吹付けない場合の塗膜の膜厚は７μｍとなった。
【００２０】
【表１】
0004977928.tif 000002
【００２１】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ウェブに対して傷をつけることなく、ウェブの両面に形成された塗膜の膜厚を調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による塗布装置の一実施の形態で示す斜視図。
【図２】塗布装置の冷風吹付装置近傍を示す拡大図。
【符号の説明】
１０  塗布装置
１１  ディップ槽
１２  塗工液
１３  ローラ
１５  冷風吹付装置
Ｗ  ウェブ
ｈ１、ｈ２、Ｓ１、Ｓ２  膜厚
【図１】
0004977928.tif 000003
【図２】
0004977928.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高純度亜鉛ガス及び高純度四塩化珪素ガスを反応させる四塩化珪素の亜鉛ガス化還元法により生成された高純度シリコンを篩で篩って、５０重量％以上が１ｍｍサイズのスクリーンを通過しない樹枝状結晶もしくは鱗状結晶を得る工程を有すること（洗浄工程を行うものを除く。）を特徴とする抵抗値が「Ｎ＞０．１Ωｃｍ」もしくは「Ｐ＞１Ωｃｍ」の太陽電池用高純度多結晶シリコンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高純度亜鉛ガス及び高純度四塩化珪素ガスを反応させる四塩化珪素の亜鉛ガス化還元法により生成された高純度シリコンに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の方式は、ＴＣＳ（三塩化シラン）を水素ガスにより還元反応を行い高純度シリコンを生成させているが、反応効率が悪く且つ大電力を消費するために、高純度多結晶シリコンで約５，０００円／ｋｇと高価となり、太陽電池用としては不適格品が一部使用されているに過ぎない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高純度亜鉛ガス及び高純度四塩化珪素ガスを、９００℃〜１１００℃のガス化雰囲気において反応させることにより、高純度シリコン結晶を生成させるものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、金属亜鉛及び四塩化珪素をそれぞれ加熱蒸発する蒸発器と、蒸発した四塩化珪素及び金属亜鉛を不活性ガスをキャリアとして温度制御、流量制御を行いつつ所定の量を反応器に導入して還元反応を行わせると、高純度シリコンが生成する。
尚、樹枝状結晶もしくは鱗状結晶等の生成割合は、運転条件により変動する。
【０００５】
上記で生成した高純度シリコンは大部分が樹枝状結晶や鱗状結晶よりなるが、形状が一定ではなく微粒子や粉体も含む。尚、キャステイング等の後工程での取り扱いの便の為に、難溶解の粉体は篩等で除去後、加熱・融解し固化した塊状の多結晶シリコンとする。
【０００７】
【実施例１】
上記０００５項により製造した製品の品質を下記に示す。
（１）測定条件：ＣＺキャロットＸ’ｔａｌ ４Ｐ測定。
（２）抵抗値：Ｎ２７０Ωｃｍ（Ｔｏｐ−５％）、Ｎ４００Ωｃｍ（Ｔｏｐ−６０％）
（３）Ｂレベル：Ｐ２４０Ωｃｍ（Ｔｏｐ−５％）、Ｐ２８０Ωｃｍ（Ｔｏｐ−６０％）
（４）ＬＴ：８０μ−ｓｅｃ
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リード線を介してガス感応部に通電してジュール熱により昇温させてガスを検出するガス検出素子と、前記リード線を介して前記ガス感応部に通電するとともにガス検出素子を固定する導電性のステーを備えた基台とからなるガス検出器の製造方法において、
前記ガス検出器を高分子蒸気を含有する環境に収容して高分子の薄膜を形成する工程と、前記リード線を介して前記ガス感応部に通電して前記ガス感応部を前記高分子の薄膜が気化、または分解する程度に加熱する工程とからなるガス検出器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス感応部を昇温させてガスを検出するガス検出器の製造方法、より詳細には接続部の防水加工に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガス検出器は、外力による破損などを防止するため通常、接続用のステーが設けられた容器に収容するとともに、ガス検出素子のリード線をステーに溶着して構成されている。
リード線とステーとは通常異なる金属材料により構成されているため、結露などによる水分が接続部に付着すると電食が生じて故障を引き起こす原因になる。
このため、接続部に塗料等を塗布して絶縁皮膜を形成することも考えられるが、容器が微小であるため、ガス検出素子を避けて接続部だけに塗布することは極めて困難な作業を伴う。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところはガス検出素子のリード線と基台のステーとの接続部に絶縁皮膜を形成することができるガス検出器の製造方法を提案することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
このような課題を達成するための本発明においては、リード線を介してガス感応部に通電してジュール熱により昇温させてガスを検出するガス検出素子と、前記リード線を介して前記ガス感応部に通電するとともにガス検出素子を固定する導電性のステーを備えた基台とからなるガス検出器の製造方法において、前記ガス検出器を高分子蒸気を含有する環境に収容して高分子の薄膜を形成する工程と、前記リード線を介して前記ガス感応部に通電して前記ガス感応部を前記高分子の薄膜が気化、または分解する程度に加熱する工程とを備える。
【発明の効果】
【０００５】
リード線とステーとの接続部を含む領域には蒸着により緻密な高分子の薄い膜が形成されて外気と確実に遮断される一方、ジュール熱によりガス感応部の高分子の膜だけが選択的に除去される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
そこで以下に本発明の詳細を図示した実施例に基づいて説明する。
図１（Ａ）は、本発明が対象とするガス検出器１で、絶縁性の基台２の底部を貫通するように形成された複数の導電性ステー３、３にガス感応部に通電してジュール熱により昇温させてガスを検出するガス検出素子４のリード線５、５が溶着や半田付けにより伝導関係を形成するように固定してされている。
【０００７】
このようなガス検出素子４としては、通電により発熱する白金抵抗線により構成された熱伝導型ガス検出素子や、接触燃焼式ガス検出素子が挙げられる。
【０００８】
なお、接触燃焼式ガス検出素子は、図１（Ｂ）に示したように耐熱性、耐食性を有する抵抗線をコイル状に整形したヒータ４１の外周に、所定組成の酸化触媒粉末と絶縁粉末とを水等の液で泥状に混練した泥状物を滴下して球状に付着させ、自然乾燥により固化させた後に焼結してガス感応部４２を作り付けて所定温度で焼成して構成されている。
【０００９】
ガス感応部４２を構成する泥状物は、例えば酸化触媒粉末、及び絶縁粉末は、粉砕等の行程を経て微粉末状に加工されたＰｔ、Ｐｄ、ＰｔＯ、ＰｄＯから選ばれた１種、または複数種が用いられ、酸化触媒粉末が３０ｗｔ％以上、好ましくは４０ｗｔ％以上となるようにアルミナ、酸化珪素などの耐熱性絶縁粉末に混練して調製されている。
【００１０】
このガス検出器１を高分子蒸着装置の作業室に収容して高分子、このましくは分子量の低い単純な高分子材料、例えばポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレンを蒸気として飛散させると、図２（Ａ）に示したようにガス検出器４を構成している部材の露出面に高分子の薄い膜１０が均質、かつ強固に形成される。
【００１１】
もとより蒸着により形成された高分子の薄い膜１０は、浸漬や塗布により形成された皮膜に比較してステーホールやブローホールなどの欠陥が極めて少ないため、ステー３、３とリード線５、５との接続部６は高分子の薄い膜１０により外気から完全に遮断された状態となっている。
【００１２】
高分子の膜厚が所定値に到達した段階でガス検出器１を取り出し、ステー３、３を介してガス検出素子１に給電すると、ガス検出素子１を構成するヒータ４１が発熱する。このとき、ガス感応部４２の温度が高分子を気化、または分解し、かつガス感応部４２を損傷しない程度の温度まで加熱する。
【００１３】
これによりガス検出素子１、より詳細にはヒータ及びこれの表面のガス感応部４２等の発熱部の高分子の薄い膜が気化して霧散する一方、ガス検出素子のリード線５、５とステー３、３との接続部６等を含む他の領域の温度は、高分子の軟化温度よりも低いため、高分子の膜１０は残存する。
【００１４】
これにより、熱伝導型ガス検出素子を構成するヒータ等のガス感応部４２は、高分子を蒸着する以前と同等の状態となる一方、ガス検出素子のリード線５とステー３との接続部６に形成されている高分子の薄い膜１０は残存する。
【００１５】
なお、上述の実施例においては、ヒータ４１の通電によりガス感応部４２の高分子を気化させているが、通電による発熱だけでなくガス感応部４２にレーザ光を照射して加熱するようにしてもよい。
【００１６】
また、上述の実施例ではガス検出器を対象として説明したが、周囲の温度を検出するために、ガス検出器とともにブリッジに組み込まれるヒータで構成される補償素子に対しても同様の処理を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図（Ａ）、（Ｂ）は、それぞれ本発明の製造方法の対象となるガス検出器、及びガス検出素子の一実施例を示す図である
【図２】図（Ａ）、（Ｂ）は、それぞれ本発明の製造方法の過程を、ガス感応部及びリード線とステーとの領域を拡大して模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００１８】
１  ガス検出器１    ２  絶縁性の基台    ３  導電性ステー    ４  ガス検出素子    ５  リード線    ４１  ヒータ    ４２  ガス感応部    １０  高分子の薄い膜
【図１】
0004919516.tif 000002
【図２】
0004919516.tif 000003
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
天井面等に固定される支持具と、支持具に取り付けられ、引掛部を設けてある吊掛具を有し、吊掛具は、シャフトの上端部に緩衝ばねを介して頭体を設けてある吊掛装置において、頭体の下端部に上接続部を設けると共に、シャフトの上端部に下接続部を設けて成り、緩衝ばねは、その上下端部を頭体の上接続部とシャフトの下接続部にそれぞれ接続させて成り、下接続部は上接続部よりも接続強度が弱い構造としたことを特徴とする吊掛装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に、室内の天井面に取り付けて、物干具や観葉植物や絵画等を吊り下げて使用する吊掛装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、前述のような吊掛装置として特開平６−１２１７２５号公報に記載された発明のように、本発明と同様に頭体の下端部に上接続部を設けると共に、シャフトの上端部に下接続部を設けて成り、緩衝ばねは、その上下端部を上接続部と下接続部にそれぞれ接続させて成る吊掛装置は提案されている。
【特許文献１】特開平６−１２１７２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
この種の吊掛装置においては、引掛部に一定以上の重いものを吊り下げた場合、吊掛具は、緩衝ばねが伸びて外れて、取り付けられている天井が壊れるのを防止するようになっている。その際に、上記従来例においては、その詳細な説明中に上接続部と下接続部の接続強度に関する記載がないことから、あるいは、その図面から、それぞれの接続強度を相違させた構造とはなっていないと推定できるものであり、上接続部から外れるか、下接続部から外れるかわからず、上接続部から外れた場合には、吊掛具は、緩衝ばねと共に落下するものであり、伸びきった緩衝ばねの鋭利な端部が人に当たって怪我をする危険性があるという問題がある。
【０００４】
本発明は、吊掛具の緩衝ばねが伸びて外れた場合でも、人を傷つける危険を極力回避できるようにすることを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、天井面等に固定される支持具と、支持具に取り付けられ、引掛部を設けてある吊掛具を有し、吊掛具は、シャフトの上端部に緩衝ばねを介して頭体を設けてある吊掛装置において、頭体の下端部に上接続部を設けると共に、シャフトの上端部に下接続部を設けて成り、緩衝ばねは、その上下端部を頭体の上接続部とシャフトの下接続部にそれぞれ接続させて成り、下接続部は上接続部よりも接続強度が弱い構造としたものである。
【発明の効果】
【０００６】
以上のように本発明によれば、シャフトの上端部の緩衝ばねは、その上下端部を頭体の上接続部とシャフトの下接続部にそれぞれ接続させて成り、下接続部は、上接続部よりも接続強度を弱くして成るので、引掛部に一定以上の重いものを吊り下げて、万が一吊掛具の緩衝ばねが伸びて外れた場合でも、緩衝ばねの下接続部の接続が外れ、緩衝ばねが頭体に取り付けられたまま残って落下することがなく、伸びきった緩衝ばねの鋭利な端部が人を傷つけることがなく、万が一の時の安全性を向上させることができるという効果がある。
【実施例】
【０００７】
本発明の吊掛装置は、天井面等に固定される支持具１に、略棒状の吊掛具２を着脱可能に取り付けて成るものである。
【０００８】
吊掛具２は、シャフト７の下端にリング状の引掛部６を設け、上端に緩衝ばね４を介して頭体３を取り付けられ、この頭体３の上部を支持具１に挿入して回動することによって、吊掛具２が支持具１に対して着脱することができるようになっている。着脱する機構については、例えば前記特開平６−１２１７２５号公報に記載された機構でもよいし、他の機構でもよく、さらに、吊掛具２を支持具１に取り付けられたまで、着脱することができなくてもいいもので、ここでは省略する。
【０００９】
頭体３には、下半部に上接続部８を設ける共に、接続具５には、上半部に下接続部９を設けて成り、緩衝ばね４の上下端部をそれぞれ上接続部８と下接続部９に接続してある。緩衝ばね４は、引掛部６に下方向に急激に大きな荷重がかかった時や吊掛具２が揺動する方向に力がかかった時に、伸長してその衝撃を緩和する機能を有している。
【００１０】
頭体３の上接続部８には、周囲の一部に螺旋溝１０を刻設し、接続具５の下接続部９には、周囲の一部に螺旋溝１１を刻設すると共に中央に割溝１２を設けてあり、緩衝ばね４にそれぞれの螺旋溝１０、螺旋溝１１をねじ込んで取り付ける。
【００１１】
緩衝ばね４は、かかる荷重が一定範囲内であれば、伸長した後その荷重を取り除けば元に戻るが、その一定範囲を越える荷重がかかると、伸長したままとなり、さらに大きな荷重をかけると、取り付けられた天井面が壊れないようにするために、外れるようになっている。
【００１２】
下接続部９は、その螺旋溝１１は上接続部８の螺旋溝１０よりも浅く短く、なおかつ中央に割溝１２を設けて内側方向に撓みやすくしており、緩衝ばね４は下接続部９からの方が外れやすい構造となっている。なお、外れやすくする構造としては、上記のように、浅く、短く、割溝を設けるという３つの要素を全て備えていなくても、そのうちの２つの要素でも、１つの要素でもよく、要するに、下接続部が上接続部よりも接続強度が弱い構造となっていればよい。
【００１３】
吊掛具２の引掛部６に一定範囲を越える大きな荷重がかかると、緩衝ばね４は、頭体３の上接続部８に接続したままで、接続具５の下接続部９から外れることになり、支持具１に緩衝ばね４を残して吊掛具２は落下する。なお、下接続部９は、シャフト７と別体の接続具５を固定してそこに設けてあるが、シャフト７に直接設けるようにすることもできる。
【００１４】
従って、吊掛具２が万が一落下しても、緩衝ばね４は落下せず、伸びきった緩衝ばね４の鋭利な端部が人を傷つけることがない。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】使用状態を示す正面図。
【図２】要部の縦断面図。
【図３】要部の分解正面図。
【図４】頭体の縦断面図。
【図５】接続具の縦断面図。
【符号の説明】
【００１６】
１    支持具
２    吊掛具
３    頭体
４    緩衝ばね
６    引掛部
７    シャフト
８    上接続部
９    下接続部
【図１】
0004919943.tif 000002
【図２】
0004919943.tif 000003
【図３】
0004919943.tif 000004
【図４】
0004919943.tif 000005
【図５】
0004919943.tif 000006
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
イソプロピルアルコール溶媒中、2-ベンゾイル安息香酸を２−５重量％量のパラジウム−炭素触媒の存在下に接触還元反応により還元することを特徴とする2-ベンジル安息香酸の製造方法。
【請求項２】
接触還元反応における水素圧が８〜１２ｋｇ/ｃｍ２である請求項 1に記載の2-ベンジル安息香酸の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は、抗アレルギー薬の製造上の重要な中間体化合物である式（Ｉ）
【０００２】
【化１】
0005008796.tif 000002
【０００３】
で表される2-ベンジル安息香酸の製造方法に関する。
【０００４】
【従来の技術】
式（Ｉ）で示される2-ベンジル安息香酸は、市販され容易に入手出来る式（ＩＩ)
【０００５】
【化２】
0005008796.tif 000003
【０００６】
で示される2-ベンゾイル安息香酸を還元することにより生産されてきた。
それらのうち最も工業的で、一般的に採用されうる還元反応の例としては、触媒的水素化反応を挙げることができる。これまでの触媒的水素添加反応は、パラジウム系触媒を用いる場合、酸性条件下の反応例、中性条件下の２、３の反応例が知られている。しかしながら、経済的かつ工業的に実施するには問題点が有った。即ち、酸性条件下での反応に際しては、特殊で高価な耐酸性の反応槽を必要とする例（ホーニング E.C.ら；ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー、71巻、1036-1037頁、1949年  Honing E.C.  et al; J. of American Chemical Society Vol. 71, 1036-1037, 1949）、中性条件での反応に於いては、メタノールまたはエタノール溶媒中、基質に対して２２重量％と云う大量の触媒を使用し、２０ｋｇ/ｃｍ２の水素圧中で反応させることが必要とされている例（ジャン フーシェ ら；ブレティン・デュ・ラ・ソシエテ・キミク・デュ・フランス、3113-3130頁、1972年；（Jean Fouche et al, Bulletin du la Societe Chimique de France 3113-3130, 1972)などが知られているのみであった。またニッケル系触媒を用いる場合では、比較的高い温度と１００ｋｇ/ｃｍ２以上というような高圧条件が必要であった（米国特許第2053430号）。
【０００７】
さらに、式（ＩＩ)で示される化合物を還元して得る他の反応の例としては、塩酸−亜鉛アマルガムによる還元、亜鉛末−硫酸銅−アンモニア水による高温での還元等が知られているが、いずれも製造に際して当該物質生産のための専用設備が必要となるばかりでなく、廃液処理等の面で環境に対する一層の配慮も必要となり、適量を、簡単に実施するには不向きである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
抗アレルギー薬製造上の重要中間体である2-ベンジル安息香酸を、汎用設備を用いて、低い水素圧下の工業的に実施し易い方法で容易かつ安価に製造する方法を提供する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、式（ＩＩ)で示される化合物を触媒的還元する反応について鋭意検討を行った結果、2-ベンゾイル安息香酸をイソプロピルアルコール溶媒中、パラジウムー炭素触媒を用いて接触還元することにより、従来の反応における触媒使用量よりも遥かに少ない量で、かつ遥かに低い水素圧下に反応を行って、2-ベンジル安息香酸が極めて好収率に得られることを見い出だし、この知見に基づいて本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明は、  イソプロピルアルコール溶媒中、2-ベンゾイル安息香酸を接触還元反応により還元することを特徴とする2-ベンジル安息香酸の製造方法である。
本発明の接触還元反応においては、パラジウム−炭素触媒を２-１０重量％量、より好ましくは２-５％存在させる。すなわち、従来の接触還元反応に比べて遥かに少量の触媒量で好収率の結果が得られる。
又、接触還元反応における水素圧は、５〜１５ｋｇ/ｃｍ２、より好ましくは、８−１２Ｋｇ/ｃｍ2程度の緩和な条件下であり、そのため特別高価な専用設備を必要としない。
【００１１】
本発明の接触還元反応に当たっては、２-ベンゾイル安息香酸を２-１０重量倍量のイソプロピルアルコールに溶解し、２-１０％量のパラジウムー炭素触媒（炭素上に３-１０％を担持させたもの）を加え、通常の加圧反応容器中で水素を通気しながら反応させる。
反応温度は、７０〜１３０℃、水素圧８-１２Ｋｇ/ｃｍ2程度である。
尚、本発明の出発物質である式(ＩＩ)で示される２−ベンゾイル安息香酸は、塩化アルミニウム等の触媒存在下に、無水フタル酸をベンゼンに作用させる公知の方法によって容易に得られる。
【００１２】
以下、本発明を実施例を用いて説明するが、本発明はこれに限定される物ではない。
【実施例】
実施例1
250ｇの市販の2-ベンゾイル安息香酸を600ｇのイソプロピルアルコールに溶解させ、オートクレーブに仕込んだ。ついで5.8ｇの5％パラジウム−炭素を加え、水素圧10Ｋｇ/ｃｍ２になるよう水素を導入する。温度を上昇させ、90℃程度に昇温させると、徐々に水素の吸収が始まる。約6時間をかけて110℃まで昇温させると水素の吸収が終了した。反応混合物を冷却後、触媒を濾別し、溶媒を濃縮、溜去して、粗2-ベンジル安息香酸240ｇを得た。
これを水から再結晶して融点116℃の白色針状結晶 212ｇを得た(収率90.2％)。
本結晶のＮＭＲ，ＩＲスペクトルを測定し、いずれも既知のスペクトルデータと比較し完全に一致したので2-ベンジル安息香酸であると確認した。｛ジ・アルドリッチ・ライブラリー・オブ・エヌエムアール・スペクトラ、第６巻１８３ページＡ（The ALDRICH LIBRARY of NMR SPECTRA,Vol.6,183 A） 及びジ・アルドリッチ・ライブラリー・オブ・インフラレッド・スペクトラ、８６３ページＡ（The ALDRICH  LIBRARY of INFRARED SPECTRA,863 A）など｝。
【００１３】
【発明の効果】
以上の如く、本発明の方法は、2-ベンジル安息香酸が従来技術に比し遥かに少ない触媒量で且つ低い水素圧下で進行し、抗アレルギー薬の重要中間体である2-ベンジル安息香酸が容易かつ好収率に得られる。
また、本方法の還元反応は、反応槽として汎用のものが使用でき、設備コストの面でも有利である。