(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
集塵フィルタにマイクロ波を照射し、前記集塵フィルタに吸着し捕捉された吸着ダストと前記集塵フィルタとの密着力を低減する密着力低減装置と、
前記集塵フィルタに圧縮空気を吹き付け、前記密着力低減装置により密着力が低減した前記吸着ダストを前記集塵フィルタから離脱させ、前記吸着ダストを固形物として回収する固形物回収装置
とを備えることを特徴とするフィルタ再生システム。
【請求項２】
前記密着力低減装置は、上部反射板と下部反射板とを有するマイクロ波照射容器と、
該マイクロ波照射容器に接続されたマイクロ波導入手段
とを備えることを特徴とする請求項１に記載のフィルタ再生システム。
【請求項３】
前記下部反射板の上に、前記マイクロ波をランダムな方向に乱反射する乱反射誘起手段が設けられていることを特徴とする請求項２に記載のフィルタ再生システム。
【請求項４】
前記乱反射誘起手段として複数の金属球が配置されていることを特徴とする請求項３に記載のフィルタ再生システム。
【請求項５】
集塵フィルタにマイクロ波を照射し、前記集塵フィルタに吸着し捕捉された吸着ダストと前記集塵フィルタとの密着力を低減する工程と、
前記集塵フィルタに圧縮空気を吹き付け、前記密着力を低減する工程により密着力が低減した前記吸着ダストを前記集塵フィルタから離脱させ、前記吸着ダストを固形物として回収する工程
とを含むことを特徴とする集塵フィルタの再生方法。
【請求項６】
前記密着力を低減する工程は、上部反射板と下部反射板とを有するマイクロ波照射容器の内部に前記集塵フィルタを収納し、前記マイクロ波照射容器に接続されたマイクロ波導入手段から前記集塵フィルタに前記マイクロ波を照射して行うことを特徴とする請求項５に記載の集塵フィルタの再生方法。
【請求項７】
前記密着力を低減する工程において、前記下部反射板の上に設けられた乱反射誘起手段によりランダムな方向に乱反射した前記マイクロ波を用いることを特徴とする請求項６に記載の集塵フィルタの再生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、集塵フィルタの再生処理方法、及びこの再生処理方法を実施可能とする再生システムに係り、特に、通常の系に取り付けた状態での系内再生処理では回復できない程度まで劣化し、交換により系から取り外された後の集塵フィルタを再生する系外再生処理方法、及びこの系外再生処理方法を実施可能とする再生システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置、プラント、内燃機関、産業排気物処理炉等の排ガスは、その排ガス中に有害物質を含む微粒子が高濃度で含まれている可能性がある。このような排ガス中の微粒子はバグフィルタやセラミックフィルタ等の集塵フィルタを用いて捕集あるいは除去される。多くの場合、これらの集塵フィルタは系に取り付けた状態で系内再生処理を実施し、再生使用を繰り返す。再生使用するためには、系に内蔵した逆洗手段を用いて、集塵フィルタを逆洗し、集塵フィルタに吸着した吸着ダストを除去する（特許文献１参照。）。使用中に集塵フィルタに捕捉されたダストは、この系内再生処理により、系外に排出される。
【０００３】
逆洗により集塵フィルタは、系内再生処理より、系に取り付けたまま再生使用されるものの、集塵フィルタの一部には、逆洗により再生できない部分が残るので、集塵フィルタの系内再生処理による再生使用を繰り返せば、集塵フィルタの一部の再生できない部分の吸着ダストの蓄積量が増大することにより、集塵フィルタが劣化し、系内再生処理が不可能となり、集塵フィルタが交換のため系から取り外される。
【０００４】
劣化して、新品との交換のため系から取り外された集塵フィルタを、系外再生処理（特殊再生処理）により再生して再利用することも試みられている。系外再生処理としては、薬品による溶解処理と加熱分解による熱分解処理が知られている。
【０００５】
しかしながら、薬品による溶解処理の場合、薬品の後処理が必要であり、又、フィルタ材質によっては、薬品耐食性がないので、薬品による溶解処理が実施できない場合もある。
【０００６】
一方、加熱分解による熱分解処理の場合、ランニングコストが高い問題があり、更には熱分解後の排気ガス処理が必要であるという問題がある。
【０００７】
このように、従来の集塵フィルタの系外再生処理には種々の困難性が付随している。なお、以下において系外再生処理を、単に「再生処理」と呼ぶ。
【特許文献１】特開平７−３１０５２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、薬品の後処理や熱分解後の排気ガス処理が不要であり、薬品耐食性がないフィルタ材質にも適用可能で、しかもランニングコストが低い、集塵フィルタの再生処理方法、及びこの再生処理方法を実施可能とするフィルタ再生システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様は、集塵フィルタにマイクロ波を照射し、集塵フィルタに吸着し捕捉された吸着ダストと集塵フィルタとの密着力を低減する密着力低減装置と、集塵フィルタに圧縮空気を吹き付け、密着力低減装置により密着力が低減した吸着ダストを集塵フィルタから離脱させ、吸着ダストを固形物として回収する固形物回収装置とを備えるフィルタ再生システムであることを要旨とする。
【００１０】
本発明の第２の態様は、集塵フィルタにマイクロ波を照射し、集塵フィルタに吸着し捕捉された吸着ダストと集塵フィルタとの密着力を低減する工程と、集塵フィルタに圧縮空気を吹き付け、密着力を低減する工程により密着力が低減した吸着ダストを集塵フィルタから離脱させ、吸着ダストを固形物として回収する工程とを含む集塵フィルタの再生方法であることを要旨とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、薬品の後処理や熱分解後の排気ガス処理が不要であり、薬品耐食性がないフィルタ材質にも適用可能で、しかもランニングコストが低い、集塵フィルタの再生処理方法、及びこの再生処理方法を実施可能とするフィルタ再生システムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
次に、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。但し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
【００１３】
又、以下に示す本発明の実施の形態は、本発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。
【００１４】
（フィルタ再生システム）
本発明の実施の形態に係るフィルタ再生システムは、図１に示すような、セラミックフィルタ等の集塵フィルタ１３にマイクロ波を照射し、集塵フィルタ１３に吸着し捕捉された吸着ダストと集塵フィルタ１３との密着力を低減する密着力低減装置と、図２に示すような、集塵フィルタ１３に圧縮空気を吹き付け、密着力低減装置により密着力が低減した吸着ダストを集塵フィルタ１３から離脱させ、吸着ダストを固形物として回収する固形物回収装置とを備える。以下に密着力低減装置と固形物回収装置を説明する。
【００１５】
−密着力低減装置−
図１に示すように、本発明の実施の形態に係るフィルタ再生システムの一部を構成する密着力低減装置は、被処理対象である集塵フィルタ（セラミックフィルタ）１３を収納するマイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）と、マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）に接続され、集塵フィルタ１３にマイクロ波を照射するマイクロ波導入手段（１８，１７，１６）、マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の内部の雰囲気をパージするパージガス供給部（１１i，１０i，９i）及びパージガス排出部（９o，１０o，１１o）とを備える。
【００１６】
マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）は、上部反射板１１、上部反射板１１に対向する下部反射板１２、上部反射板１１と下部反射板１２とを接続する側壁板１４、側壁板１４に対向するフィルタ挿入扉１５を備える直方体である。直方体であるので紙面の手前及び、紙面の奥に、図示を省略した他の側壁板が存在し、電磁波的に密閉空間を構成している。下部反射板１２の上には、入射したマイクロ波をランダムな方向に乱反射する乱反射誘起手段として、直径５ｍｍ〜２０ｍｍ程度の金属製の乱反射球Ｑj-1，Ｑj，Ｑj+1，Ｑj+2，…が配置されている。マイクロ波をランダムな方向に乱反射すれば良いので、乱反射誘起手段としては、乱反射球Ｑj-1，Ｑj，Ｑj+1，Ｑj+2，…以外にも、金属製の円柱やパイプ、或いは正１２面体、正２０面体、立方８面体、２０・１２面体、四方６面体、五方１２面体、切頂４面体、切頂６面体、切頂８面体、切頂１２面体、切頂２０面体等を含む種々の多面体を使用しても良い。簡単な手法としては、乱反射球Ｑj-1，Ｑj，Ｑj+1，Ｑj+2，…として、パチンコ球やボールベアリング球が使用可能である。
【００１７】
上部反射板１１、上部反射板１１及び図示を省略した２枚の側壁板により矩形の筒が形成されるが、フィルタ挿入扉１５に面する側の矩形の筒の端部にはフランジ１９が設けられ、フランジ１９とフィルタ挿入扉１５とは電磁波吸収材料からなるパッキン２０を用いて接続され、電磁波の漏洩を防止している。具体的には、フランジ１９とフィルタ挿入扉１５とは、図示を省略したクランプ若しくはボルト／ナット等により固定される。側壁板１４、フィルタ挿入扉１５及び図示を省略した２枚の側壁板も反射板として機能している。被処理対象である集塵フィルタ１３は図示を省略した誘電体からなる保持具により、マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）のほぼ中央に固定される。
【００１８】
マイクロ波導入手段（１８，１７，１６）は、マイクロ波発振器１８と、マイクロ波発振器１８とマイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の間に設けられたマイクロ波伝送路１６としての導波管、マイクロ波伝送路（導波管）１６の一部に設けら、マイクロ波伝送路１６のインピーダンスを調製するスタブ１７を備える。マイクロ波伝送路１６は、導波管以外に、同軸ケーブル、ストリップ線路、コプラナ線路等の周知の高周波伝送路が使用可能である。マイクロ波発振器１８から発生したマイクロ波は、マイクロ波伝送路１６を介して伝送され、上部反射板１１の一部に設置したマイクロ波照射口から出力される。マイクロ波照射口から出力されたマイクロ波は、上部反射板１１、下部反射板１２及び乱反射球Ｑj-1，Ｑj，Ｑj+1，Ｑj+2，…によって多重反射を繰り返し、マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の内部に設置された集塵フィルタ１３に向けて照射される。マイクロ波の多重反射により、マイクロ波照射口から出力されたマイクロ波を、最終的に効率よく被処理対象である集塵フィルタ１３に吸収させることができる。詳細な構造を示していないが、スタブ１７の構造は導波管、同軸ケーブル、マイクロストリップ線路、コプラナ導波路などの高周波伝送線路の構造に合わせて選べば良い。又、図１ではマイクロ波照射口を単なる導波管の開口部として模式的に示しているが、実際には、導波管の先端に矩形ホーンアンテナや円錐ホーンアンテナ等のアンテナ手段を設けても良く、マイクロ波伝送路１６が同軸ケーブル、ストリップ線路、コプラナ線路等の場合は、マイクロ波伝送路１６の先端にループアンテナ等のアンテナ手段を設けても良い。
【００１９】
パージガス供給部（１１i，１０i，９i）は、供給管１１i，９iと、供給管９iと供給管１１iとの間に設けられたパージガス制御弁１０iとからなり、パージガス排出部（９o，１０o，１１o）は、排出管９o，１１oと、排出管９oと排出管１１oとの間に設けられた排出制御弁１０oとからなる。排出管１１oの下流側の端部には図示を省略したパージガス収納容器を設け、パージガス収納容器には毒ガスや腐食性ガス等の有害物質ガスのガス検知器を設置しておく。パージガス収納容器は産業排気物処理炉に接続しておき、パージガスに毒ガスや腐食性ガス等の有害物質ガスが含まれているときは、産業排気物処理炉で処理可能になっている。パージガス供給部（１１i，１０i，９i）及びパージガス排出部（９o，１０o，１１o）は、電磁波の漏洩を考慮して金属で構成する。
【００２０】
マイクロ波発振器１８としては、マグネトロン、進行波管、クライストロン、カルシノトロン等の電子管、ガンダイオード、インパットダイオード、タンネットダイオード、或いは、高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）、ヘテロ接合バイポーラトランジスタ、理想型ＳＩＴ等を用いたＭＭＩＣ等の半導体発信素子、或いはジョセフソン励起素子等を適宜用いることができ、通常、出力５００Ｗ〜２０ｋＷ、好ましくは３ｋＷ〜１０ｋＷのものを用いる。また、図１ではマイクロ波伝送路１６を介して上部反射板１１の一部に設置したマイクロ波照射口からマイクロ波を出力しているが、マイクロ波照射口は、側壁板１４、或いは図示を省略した２枚の側壁板等に設けても良い。又、マイクロ波伝送路１６を介さずに、マイクロ波発振器１８を上部反射板１１、側壁板１４或いは図示を省略した２枚の側壁板等に直接取付けてもよい。更に、腐食性ガスが放出されないことが確認されている環境であれば、マイクロ波発振器１８をマイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の内部に設けても良い。
【００２１】
集塵フィルタ１３は、その目的により種々の材質と構造のものがあり、多様であるが、本発明の実施の形態に係るフィルタ再生システムに好適な代表例としては、材質がコージェライトで、１５０□×５００ｍｍＬ、又は、φ２５０×７００ｍｍＬの柱状形状の両端面間を軸方向に貫通する複数の流路（セル）を有するハニカム構造で、流路（セル）のピッチが６ｍｍ又は４ｍｍ、細孔径が５μｍ又は１５μｍのセラミックフィルタ等が例示できる。上部反射板１１、側壁板１４の形状は特に限定されるものではなく、集塵フィルタ１３の形状等に合わせて種々の形状に設計することができ、ドーム形状、円錐形状、四角錘形状などの形状にしても構わないが、できるだけ集塵フィルタ１３の全体にマイクロ波が照射されるように設計することが望ましい。また、上部反射板１１、下部反射板１２、側壁板１４、乱反射球Ｑj-1，Ｑj，Ｑj+1，Ｑj+2，…の材質は、マイクロ波を吸収しない材質であればよく、例えば、真鋳、銅、青銅、アルミニウム、ステンレス（ＳＵＳ）などを使用でき、種々の金属の表面に金や銀等をメッキした構造でもよい。吸着ダストが、ハロゲン化合物等の腐食性物質を含むような場合は、耐食性に優れたステンレス（ＳＵＳ）などの材質が好ましく用いられる。
【００２２】
集塵フィルタに対し、吸着ダストの密着力の低減化処理する場合、照射するマイクロ波の出力や周波数、照射方法は、特に限定されるものではなく、吸着ダストの温度が所定の範囲に保持できるよう電気的に制御すればよい。出力が低すぎる場合は吸着ダストの密着力の低減化反応が少なくなり、出力が高すぎる場合は吸着ダストが高温になり有害ガスが放出される危険性が増す他、マイクロ波の利用率が悪くなるため、電気的に制御しながら５００Ｗ〜２０ｋＷの範囲にするのが望ましい。周知のように、マイクロ波には、周波数３０ＧＨｚ〜３００ＧＨｚのミリ波（ＥＨＦ）、３ＧＨｚ〜３０ＧＨｚのセンチ波（ＳＨＦ）、３００ＭＨｚ〜３ＧＨｚの極超短波（ＵＨＦ）が含まれるが、マイクロ波の周波数は、吸着ダストの吸収波長及び集塵フィルタを構成するセラミックス等の材料の吸収波長を考慮して適宜選択すればよく、３００ＧＨｚ以上の電磁波や、更にはテラヘルツ帯の電磁波も使用可能である。マイクロ波の周波数が１ＧＨｚ未満では、多くの吸着ダストはマイクロ波を吸収しにくいので、吸着ダストの加熱が不十分となる。３００ＧＨｚを超える周波数範囲では、５００Ｗ以上の出力を実現する有効な発振器が限られている問題があるが、吸着ダストの種類により、吸着ダストの選択的加熱に有効な周波数になり得る。マイクロ波の照射は連続照射、間欠照射のいずれの方法であってもよいが、電気的に制御しながら連続照射するのが好ましい。周波数帯の異なる複数のマイクロ波導入手段を設けること、或いは周波数可変のマイクロ波発振器１８を備えることにより、マイクロ波の周波数を吸着ダストの吸収波長に調製することが可能である。
【００２３】
吸着ダストの密着力の低減化処理の雰囲気はパージガス供給部（１１i，１０i，９i）から不活性ガスを供給して、不活性ガス中で行うことが望ましい。パージガス供給部（１１i，１０i，９i）から不活性ガスを供給し、パージガス排出部（９o，１０o，１１o）からパージガスを排出する。集塵フィルタ１３の吸着ダストの密着力の低減化処理の温度は吸着ダストの種類に応じて、個別にその蒸気圧特性を考慮する必要があるが、一般には、１５０℃以下が望ましく、好ましくは１００℃以下、特に好ましくは１５〜８０℃の範囲である。マイクロ波加熱による吸着ダストの密着力の低減化処理の温度を１５℃以上にすることにより、吸着ダストの密着力の低減化反応が進行する。一方、２００℃を超える場合は、吸着ダストの密着力の低減化反応は十分進むが、多くの場合、吸着ダストから有害物質がガスとして生成し易くなるので好ましくない。排出管１１oの下流側の端部に接続されたパージガス収納容器において、ガス検知器が有害物質ガスを検知した場合は、マイクロ波の出力を下げ、密着力の低減化処理に必要な条件を設定し直す。
【００２４】
予備試験等により、吸着ダストから有害物質のガスが放出されないことが十分に確認されているような集塵フィルタ１３の場合であれば、自然雰囲気中で吸着ダストの密着力の低減化処理を行うこともできる。自然雰囲気中で吸着ダストの密着力の低減化処理を行う際には、電磁波の漏洩の問題があるので、パージガス供給部（１１i，１０i，９i）のパージガス制御弁１０iとパージガス排出部（９o，１０o，１１o）の排出制御弁１０oとを共に開放にして自然換気するようにすれば良い。電磁波の漏洩を防ぐためには、供給管１１i，９i及び排出管９o，１１oに曲げ部を設けておき、供給管１１i，９i及び排出管９o，１１oの内壁部に電磁波吸収層を設けておけばよい。
【００２５】
−固形物回収装置−
本発明の実施の形態に係るフィルタ再生システムの一部を構成する固形物回収装置は、図２に示すように、密着力低減装置によって、吸着ダストの密着力の低減化処理をされた後の集塵フィルタ１３を収納する固形物回収容器２３と、固形物回収容器２３のエアー導入口に接続され、集塵フィルタ１３に圧縮空気を吹き付け、密着力低減装置により密着力が低減した吸着ダストを集塵フィルタ１３から離脱させる固形物回収エアー供給部（２５ｃ，２２ｂ，２５ｄ）と、固形物回収容器２３のエアー排出口に接続され、圧縮空気の吹き付けにより集塵フィルタ１３から離脱した吸着ダストを固形物として回収する固形物回収エアー排出部（２５ｅ，２２ｃ，２５ｆ）とを備える。
【００２６】
集塵フィルタ１３が柱状形状で、柱状形状の両端面間を軸方向に貫通する複数の流路（セル）を有するハニカム構造であれば、集塵フィルタ１３は、図示を省略した保持具により、固形物回収容器２３のほぼ中央に固定される。保持具は、集塵フィルタ１３の上部端部を密閉状態で固定し、固形物回収エアー供給部（２５ｃ，２２ｂ，２５ｄ）から供給された圧縮空気が、集塵フィルタ１３の流路（セル）に選択的に供給されるように、集塵フィルタ１３の上部端部と固形物回収容器２３との間の空間を流体的に遮蔽している。
【００２７】
固形物回収エアー供給部（２５ｃ，２２ｂ，２５ｄ）は、供給管２５ｃ，２５ｄと、供給管２５ｄと供給管２５ｃとの間に設けられた固形物回収エアー噴出弁２２ｂとからなり、固形物回収エアー排出部（２５ｅ，２２ｃ，２５ｆ）は、排出管２５ｅ，２５ｆと、排出管２５ｅと排出管２５ｆとの間に設けられた排出制御弁２２ｃとからなる。固形物回収エアーを出来る限り少量とするためにはエアータンク２１の容量、エアータンク２１から固形物回収エアー噴出弁２２までの供給管２５ｃの寸法、さらに固形物回収エアー噴出弁２２ｂの口径、流量係数、固形物回収エアー噴出弁２２ｂから固形物回収容器２３までの供給管２５ｄの寸法を適正に設定すればよい。一方、排出管２５ｅ，２５ｆは、固形物回収により離脱した固形物が有効に通過できるように、口径の大きなパイプが好ましく、その長さもなるべく短いものが好ましい。特に、排出管２５ｅ，２５ｆの口径を集塵フィルタ１３の軸方向に垂直な断面積と同程度、若しくはそれより大きくしておけば、固形物回収により離脱した固形物が有効に通過できる。固形物回収エアー噴出弁２２ｂ及び排出制御弁２２ｃは、例えば短時間で開閉可能な電磁弁が用いられる。排出制御弁２２ｃは、固形物が容易に通過可能なようにゲート弁のような口径の大きな弁が望ましい。
【００２８】
図２に示すように、供給管２５ｄの下流側の端部はエアー導入口において集塵フィルタ１３を収納した固形物回収容器２３に連通し、排出管２５ｅの上流側の端部はエアー排出口において固形物回収容器２３に連通している。エアー導入口にはノズルは設けられておらず、十分な開口面積が確保されている。供給管２５ｄのエアー流入方向軸は、集塵フィルタ１３の流路（セル）の通路方向軸とは平行に形成される例を示しているが、固形物回収により離脱した固形物が有効に、排出管２５ｅに回収される限り、本発明の実施の形態に係る固形物回収装置においては、集塵フィルタ１３の流路（セル）の通路方向軸と供給管２５ｄのエアー流入方向の軸は若干傾斜していても良い。
【００２９】
供給管２５ｃの上流側の端部はエアータンク２１につながっており、さらにエアータンク２１は供給管２５ａ，２５ｂと、供給管２５ａと供給管２５ｂとの間に設けられたストップバルブ２２ａを介して、エアー供給源に接続される。エアー供給源としては種々のコンプレッサや圧縮空気ボンベを利用することが可能である。排出管２５ｆの下流側の端部にはフィルタ等を設けて、固形物回収容器２３内から排出される固形物を回収するようにすれば良い。
【００３０】
固形物回収エアー噴出弁２２ｂを開とすることにより、圧縮空気が供給管２５ｃ，２５ｄを経由して固形物回収容器２３に流入し、固形物回収容器２３内の空気圧が急激に高まる。固形物回収エアーは、集塵フィルタ１３の流路（セル）から隔壁を通って集塵フィルタ１３の隣接する他の流路（セル）へ流出する。これにより集塵フィルタ１３の流路（セル）の内壁内に堆積されている微粒子を、流路（セル）の内壁から離脱させ、離脱した固形物が流路（セル）中を移動させ、更には、排出管２５ｅの方向へ固形物として吹き飛ばすことができる。集塵フィルタ１３の流路（セル）内に堆積されている微粒子はマイクロ波加熱により、集塵フィルタ１３に対する密着力が低減化し、集塵フィルタ１３から剥離又は剥離しかけているので、固形物回収容器２３内の空気圧が急激に高まることにより、集塵フィルタ１３の流路（セル）の内壁から容易に固形物として離脱し、排出管２５ｆの内部又は排出管２５ｆの出口側で回収される。或いは、排出管２５ｅの入り口側に設けたフィルタにおいて回収される。
【００３１】
（集塵フィルタの再生方法）
以下に本発明の実施の形態に係る集塵フィルタの再生方法を、集塵フィルタ１３が柱状形状で、柱状形状の両端面間を軸方向に貫通する複数の流路（セル）を有するハニカム構造である場合について説明する。なお、以下に述べる集塵フィルタの再生方法は、一例であり、特許請求の範囲に記載した趣旨の範囲内であれば、この変形例を含めて、これ以外の種々の方法により、実現可能であることは勿論である。
【００３２】
（イ）先ず、図１に示すように、密着力低減装置のフィルタ挿入扉１５を開けて、被処理対象である集塵フィルタ１３をマイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の内部に収納する。集塵フィルタ１３は、図示を省略した誘電体からなる保持具により、マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）のほぼ中央に固定される。
【００３３】
（ロ）次に、パージガス供給部（１１i，１０i，９i）及びパージガス排出部（９o，１０o，１１o）とを用いて、マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の内部を不活性ガスでパージしながら、マイクロ波発振器１８を起動して、スタブ１７によりインピーダンスマッチングをしながら、集塵フィルタ１３にマイクロ波を照射する。マイクロ波は、５００Ｗ〜２０ｋＷの範囲で電気的に制御しながら、３〜２０分の、予め定めた所定の時間、集塵フィルタ１３に照射する。マイクロ波の周波数は、吸着ダストの吸収波長及び集塵フィルタを構成するセラミックス等の材料の吸収波長を考慮して適宜選択すればよい。予備試験等により、吸着ダストから有害物質のガスが放出されないことが十分に確認されているような集塵フィルタ１３の場合であれば、パージガス供給部（１１i，１０i，９i）のパージガス制御弁１０iとパージガス排出部（９o，１０o，１１o）の排出制御弁１０oとを共に開放にして自然換気により、自然雰囲気中で処理をしてもよい。集塵フィルタ１３にマイクロ波が所定の時間、所定のパワーで照射されることにより、集塵フィルタ１３に吸着し捕捉されていた吸着ダストと集塵フィルタとの密着力が低減し、吸着ダストは剥離するか、剥離しかけの浮遊状態、若しくは剥離が容易な状態になる。
【００３４】
（ハ）所定の時間、吸着ダストの密着力の低減化処理がされたら、密着力低減装置のフィルタ挿入扉１５を開けて、集塵フィルタ１３をマイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の内部から取り出し、図２に示す固形物回収容器２３の内部に集塵フィルタ１３を収納する。集塵フィルタ１３は、図示を省略した保持具により、固形物回収容器２３のほぼ中央に、集塵フィルタ１３の上部端部を密閉状態にして固定し、集塵フィルタ１３の上部端部と固形物回収容器２３との間の空間を流体的に遮蔽する。
【００３５】
（ニ）そして、固形物回収エアー噴出弁２２ｂを開として、圧縮空気を供給管２５ｃ，２５ｄを経由して固形物回収容器２３に流入させ、固形物回収容器２３内の空気圧を急激に高め、固形物回収を開始する。固形物回収エアーは、集塵フィルタ１３の流路（セル）から隔壁を通って集塵フィルタ１３の隣接する他の流路（セル）へ流出する。固形物回収により、密着力を低減する工程により密着力が低減した吸着ダストは、簡単に集塵フィルタの流路（セル）の内壁から離脱し、流路（セル）中を移動後、排出管２５ｅの方向へ固形物として吹き飛ばされる。排出管２５ｅの方向へ吹き飛ばされた固形物は、排出管２５ｆの内部又は出口で回収する。或いは、排出管２５ｅの入り口側に設けたフィルタにおいて、吹き飛ばされた固形物を回収しても良い。
【００３６】
（実施例）
表１にマイクロ波による密着力低減処理条件（マイクロ波出力，マイクロ波周波数、マイクロ波照射時間）及び固形物回収処理の条件（固形物回収圧力）と再生率との関係を、実施例１〜４と比較例と比較しながら、密着力低減装置の反射板の条件と共に示した。再生率ηは、再生後の通気量をΦａ、再生前の通気量をΦｂ、初期通気量をΦｏとして：
η＝（Φａ−Φｂ）／（Φｏ−Φｂ）×１００％                ……（１）
で表される。初期通気量Φｏは、フィルタ生産時の通気量を示す。再生後の通気量Φａ、再生前の通気量Φｂ、初期通気量Φｏは、それぞれ、清浄エアーを使用し、フィルタに１ｍ／分で通気させ、フィルタの前後の圧力損失を測定し、差圧０．１ＭＰａに換算した値を使用した。用いたフィルタは、材質がコージェライトであり、１５０□×５００ｍｍＬの柱状形状で、柱状形状の両端面間を軸方向に貫通する複数の流路（セル）を有するハニカム構造で、流路（セル）のピッチ６ｍｍで、濾過膜の細孔径が５μｍである。
【表１】
0005068213.tif 000002
【００３７】
表１は、マイクロ波照射時間が１０分の場合に付いて、実施例１〜４と比較例とを比較するものであるが、実施例１及び２の乱反射誘起手段としてのＳＵＳ製の乱反射球（表１において「ＳＵＳ球」と表記。）を、下部反射板１２の上に備える場合が、再生率９９％で最も効率が高い。乱反射誘起手段を備えずに、フラットなＳＵＳ板を上部反射板１１と下部反射板１２として備えた実施例３及び４が、それぞれ再生率９６％及び８３％であり、反射板を備えない比較例の再生率６５％に比して十分大きな再生率であることがわかる。マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の直方体の内壁面は６面あるが、実施例３及び４においては、上部反射板１１と下部反射板１２以外の他の４面は特に、マイクロ波の反射板としての平坦性を有していない。比較例においては、マイクロ波照射容器（１１，１２，１４，１５）の６面が、マイクロ波の反射板としての平坦性を有していない。乱反射誘起手段を備えない実施例４はマイクロ波出力３ｋＷ、マイクロ波周波数１．２５ＧＨｚの場合であり、マイクロ波出力６ｋＷ、マイクロ波周波数２．５ＧＨｚの乱反射誘起手段を備えない実施例３に比し、再生率が低下しているが、乱反射誘起手段を備える実施例１はマイクロ波出力３ｋＷ、マイクロ波周波数１．２５ＧＨｚの場合と、マイクロ波出力６ｋＷ、マイクロ波周波数２．５ＧＨｚの乱反射誘起手段を備える実施例２とは、共に再生率が９９％であるので、乱反射誘起手段を備えることが有効であることが分かる。
【表２】
0005068213.tif 000003
【００３８】
表２は、マイクロ波照射時間が５分の場合の実施例５〜８とマイクロ波照射時間が１０分の場合の比較例とを比較するものであるが、実施例５及び６の乱反射誘起手段としてのＳＵＳ製の乱反射球（ＳＵＳ球）を下部反射板１２の上に備える場合が、それぞれ再生率９９％及び９５％であり、乱反射誘起手段を備えずに、フラットなＳＵＳ板を上部反射板１１と下部反射板１２のみを備えた実施例７及び８が、それぞれ再生率９１％及び８０％であり、マイクロ波照射時間が短いのにも関わらず、マイクロ波照射時間が１０分の比較例の再生率６５％に比して十分大きな再生率であることがわかる。乱反射誘起手段を備えない実施例８はマイクロ波出力３ｋＷ、マイクロ波周波数１．２５ＧＨｚの場合であり、マイクロ波出力６ｋＷ、マイクロ波周波数２．５ＧＨｚの乱反射誘起手段を備えない実施例７に比し、再生率が低下している。マイクロ波照射時間が５分の場合では、マイクロ波照射時間が１０分の表１に示した場合とは異なり、乱反射誘起手段を備えても実施例６のマイクロ波出力３ｋＷ、マイクロ波周波数１．２５ＧＨｚの場合の方が、マイクロ波出力６ｋＷ、マイクロ波周波数２．５ＧＨｚの乱反射誘起手段を備える実施例５の場合に比して、再生率が低い。しかし、表２からも、乱反射誘起手段を備えることが有効であることが分かる。
【００３９】
以上説明したように、本発明の実施の形態に係る集塵フィルタの再生方法によれば、薬品の後処理や熱分解後の排気ガス処理が不要であり、薬品耐食性がないフィルタ材質にも適用可能で、しかもランニングコストが低い、再生率８０％以上の集塵フィルタの再生処理方法、及びこの再生処理方法を実施可能とするフィルタ再生システムを提供することができる。特に、乱反射誘起手段を備えることにより、再生率９５％以上が達成できる。
【００４０】
（その他の実施の形態）
上記のように、本発明は上記の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面は本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の実施の形態に係るフィルタ再生システムの一部を構成する密着力低減装置の概略構造を説明する模式図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るフィルタ再生システムの一部を構成する固形物回収装置の概略構造を説明する模式図である。
【符号の説明】
【００４２】
９ｏ，１１ｏ…排出管
１０ｉ…パージガス制御弁
１０ｏ…排出制御弁
１１ｉ，９ｉ…供給管
１１…上部反射板
１２…下部反射板
１３…集塵フィルタ
１４…側壁板
１５…フィルタ挿入扉
１６…マイクロ波伝送路
１７…スタブ
１８…マイクロ波発振器
１９…フランジ
２０…パッキン
２１…エアータンク
２２ａ…ストップバルブ
２２ｂ…固形物回収エアー噴出弁
２２ｃ…排出制御弁
２３…固形物回収容器
２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ…供給管
２５ｅ，２５ｆ…排出管
【図１】
0005068213.tif 000004
【図２】
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