(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に流路が形成されたマニホールドと、該マニホールドに取り付けられた複数の流体制御弁とを有する原料液供給ユニットにおいて、
前記マニホールドが平板状の立方体であり、前記マニホールドの第１平板面に第１原料液供給バルブが固設され、前記マニホールドの第２平板面に第２原料液供給バルブが固設されていること、
前記第１原料液供給バルブと前記第２原料液供給バルブは前記マニホールドをはさんで固設されていること、
前記マニホールドには、第１側面に出力ポートを備える主出力路が形成され、前記主出力路と前記第１原料液供給バルブとを連通する第１弁孔が形成され、前記主出力路と前記第２原料液供給バルブとを連通する第２弁孔が形成されていること、
前記第１原料液供給バルブと前記第２原料液供給バルブは前記マニホールドをはさんで対向して固設されていること、
前記原料液供給ユニットは対称形であること、
前記マニホールドには、前記第１側面と対向する対向面に前記第１原料液供給バルブに連通する第１原料液供給流路が形成されていること、
前記マニホールドには、前記対向面に前記第２原料液供給バルブに連通する第２原料液供給流路が形成されていること、
前記マニホールド内に、クリーニング液供給ポートを有する第２側面から前記主出力路に連通する、第２流路を有すること、
前記第２側面は、前記第１側面の一辺及び前記対向面の一辺が当接していること、
を特徴とする原料液供給ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載する原料液供給ユニットにおいて、
前記マニホールドの前記第１平板面と前記第２平板面の距離が１０ｍｍ以下であること、
を特徴とする原料液供給ユニット。
【請求項３】
請求項１に記載する原料液供給ユニットにおいて、
前記マニホールドの前記第１平板面に前記第１原料液供給バルブが溶接により固設され、前記マニホールドの前記第２平板面に前記第２原料液供給バルブが溶接により固設されていること、
を特徴とする原料液供給ユニット。
【請求項４】
請求項１に記載する原料液供給ユニットにおいて、
前記第２流路と前記主出力路の接合箇所が接合角であること、
前記接合角の角度は９０度未満であること、
を特徴とする原料液供給ユニット。
【請求項５】
請求項１に記載する原料液供給ユニットにおいて、
前記第１弁孔の長さと前記第２弁孔の長さが同じであること、
を特徴とする原料液供給ユニット。
【請求項６】
請求項１又は請求項５に記載する原料液供給ユニットにおいて、
前記第１弁孔の径と前記第２弁孔の径が同じであること、
を特徴とする原料液供給ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、内部に流路が形成されたマニホールドと、該マニホールドに取り付けられた複数の流体制御弁とを有する原料液供給ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来この種の技術として、下記の特許文献１に記載されるものがある。
図１０に従来技術である原料液供給ユニット１００を示す。
ここで原料液供給液とは、例えば、金属を含有する液体であり、気化器により金属を含む蒸気とされ、チャンバに供給される。原料液供給ユニット１００の内部に流路１０７、１０８が形成されたマニホールド１０１があり、マニホールド１０１に、ドレイン排出バルブ１０２、第１原料液供給バルブ１０３、第２原料液供給バルブ１０４、クリーニング液供給バルブ１０５、パージガス供給バルブ１０６、気化器排出バルブ１１４が取付けられている。ドレイン排出バルブ１０２、第１原料液供給バルブ１０３、第２原料液供給バルブ１０４、クリーニング液供給バルブ１０５、パージガス供給バルブ１０６は、各々Ｖ字形状流路１１０、１１１、１１２、１１３を介して連通している。ドレイン排出バルブ１０２と気化器排出バルブ１１４とは流路１０９を介して連通している。気化器排出バルブ１１４は、流路１０７により、気化器へと連通している。
【０００３】
第１原料液が気化器へと流動している状態から、第２原料液が気化器へと流動している状態へと置き換える際に、第１原料液と第２原料液が混合されないようにするため、流路１０７、１０８をクリーニングする。そのため、第１原料液供給バルブ１０３からの第１原料液の供給を停止し、クリーニング液供給バルブ１０５からクリーニング液を供給し、流路１０７、１０８をクリーニングする。流路１０７、１０８をクリーニングした後に第２原料液供給バルブ１０４より、第２原料液を供給することで、置き換えができる。第２原料液を第１原料液に置き換える際も同様に、流路１０７、１０８をクリーニングした後に、第１原料液を置き換えることが必要とされる。第１原料液を切換え第２原料液とし、第２原料液を切換え第１原料液とするサイクルを１サイクルとする。
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−４８３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来技術である特許文献１に係る原料液供給ユニット１００には、以下の問題があった。
（１）特許文献１の発明では、第１原料液供給バルブ１０３、第２原料液供給バルブ１０４から、流路１０７までは、Ｖ字形状流路１１０、１１１を通ることから、流路の長さが長くクリーニング液を流した時に、第１原料液や第２原料液を置換するまでの時間が多く掛かり、プロセス時間を短縮できないという問題がある。
原料液は高価なものも含まれ、流路が長いと、それだけ気化器へと流れずにクリーニング液により流されるだけの無駄な原料液が増えることになり、コスト面で望ましくない。
【０００６】
近年、半導体製造工程において、ＳＴＯ（ストロンチウム鉛酸化合物）などをＡＬＤ法（原子層成長）を用いて成膜することが行われている。
具体的には、Ｓｒソース（第１原料液）とＯ３ガスとを反応させるＳｒＯ膜付け工程とＴｉソース（第２原料液）とＯ３ガスと反応させるＴｉＯ膜付け（１サイクル）を、数〜数十サイクル繰返すことで複合酸化膜ＳＴＯ膜が形成する。
ここで、１つの気化器に対してこれら第１原料液、第２原料液を使用するため、例えば最初に第１原料液を使用した後に第２原料液を使用する場合には、第２原料液を流す前にクリーニング液でクリーニングを行う必要がある。よって、膜付け１サイクルあたり２回のクリーニングが必要となり、この時間が短いことが望まれる。
本発明より１回のクリーニング時間を例えば数秒短縮し、１０サイクルの成膜を行う場合には、数十秒の短縮をすることができる。液の置換時間を短縮することができれば、それにより生産能率が上がり、同じ時間でより多くの半導体を製造することができ、半導体のコストダウンを実現できる。
【０００７】
(２)また、複数の原料液を供給する場合、第２原料液供給バルブ１０４は第１原料液供給バルブ１０３よりも、気化器から遠い場所に取付けられているため、Ｖ字形状流路１１１の分の流路の長さが長くなるため、原料液到達時間がＶ字形状流路１１１の分だけ気化器への到達時間が遅くなる。そのため、第２原料液供給バルブ１０４から原料液の供給材料別の制御が必要となり生産設備にコストが掛かる問題があった。
【０００８】
そこで、本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、流路の長さを短くすることにより、液の置換時間を短縮できる原料液供給ユニットを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明に係る原料液供給ユニットは、以下の構成を有する。
（１）内部に流路が形成されたマニホールドと、該マニホールドに取り付けられた複数の流体制御弁とを有する原料液供給ユニットにおいて、前記マニホールドが平板状の立方体であり、前記マニホールドの第１平板面に第１原料液供給バルブが固設され、前記マニホールドの第２平板面に第２原料液供給バルブが固設されていること、前記第１原料液供給バルブと前記第２原料液供給バルブは前記マニホールドをはさんで固設されていること、前記マニホールドには、第１側面に出力ポートを備える主出力路が形成され、前記主出力路と前記第１原料液供給バルブとを連通する第１弁孔が形成され、前記主出力路と前記第２原料液供給バルブとを連通する第２弁孔が形成されていること、前記第１原料液供給バルブと前記第２原料液供給バルブは前記マニホールドをはさんで対向して固設されていること、前記原料液供給ユニットは対称形であること、前記マニホールドには、前記第１側面と対向する対向面に前記第１原料液供給バルブに連通する第１原料液供給流路が形成されていること、前記マニホールドには、前記対向面に前記第２原料液供給バルブに連通する第２原料液供給流路が形成されていること、前記マニホールド内に、クリーニング液供給ポートを有する第２側面から前記主出力路に連通する、第２流路を有すること、前記第２側面は、前記第１側面の一辺及び前記対向面の一辺が当接していること、を特徴とする。
【００１０】
（２）（１）に記載する原料液供給ユニットにおいて、前記マニホールドの前記第１平板面と前記第２平板面の距離が１０ｍｍ以下であること、を特徴とする。
（３）（１）に記載する原料液供給ユニットにおいて、前記マニホールドの前記第１平板面に前記第１原料液供給バルブが溶接により固設され、前記マニホールドの前記第２平板面に前記第２原料液供給バルブが溶接により固設されていること、を特徴とする。
（４）（１）に記載する原料液供給ユニットにおいて、前記第２流路と前記主出力路の接合箇所が接合角であること、前記接合角の角度は９０度未満であること、を特徴とする。
（５）（１）に記載する原料液供給ユニットにおいて、前記第１弁孔の長さと前記第２弁孔の長さが同じであること、を特徴とする。
（６）（１）又は（５）に記載する原料液供給ユニットにおいて、前記第１弁孔の径と前記第２弁孔の径が同じであること、を特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
上記構成から生じる作用及び効果について説明する。
上記（１）の発明に係る原料液供給ユニットによると、前記マニホールドが平板状の立方体であり、前記マニホールドの第１平板面に第１原料液供給バルブが固設され、前記マニホールドの第２平板面に第２原料液供給バルブが固設されていること、前記第１原料液供給バルブと前記第２原料液供給バルブは前記マニホールドをはさんで固設されていること、前記マニホールドには、第１側面に出力ポートを備える主出力路が形成され、前記主出力路と前記第１原料液供給バルブとを連通する第１弁孔が形成され、前記主出力路と前記第２原料液供給バルブとを連通する第２弁孔が形成されていること、前記第１原料液供給バルブと前記第２原料液供給バルブは前記マニホールドをはさんで対向して固設されていること、前記原料液供給ユニットは対称形であること、前記マニホールドには、前記第１側面と対向する対向面に前記第１原料液供給バルブに連通する第１原料液供給流路が形成されていること、前記マニホールドには、前記対向面に前記第２原料液供給バルブに連通する第２原料液供給流路が形成されていること、前記マニホールド内に、クリーニング液供給ポートを有する第２側面から前記主出力路に連通する、第２流路を有すること、前記第２側面は、前記第１側面の一辺及び前記対向面の一辺が当接していることにより、第１弁孔と第２弁孔の長さが短くすることができる。それにより、クリーニング液を流した時に、第１弁孔又は第２弁孔をクリーニング液に置換するのに時間が掛からなくなり、プロセス時間を短縮できるのである。
プロセス時間の短縮により、同じ時間で多くの半導体に薄膜を数１０層に形成することができるようになるため、生産能率が上がり、同じ時間でより多くの半導体を製造することができる。
また、第１原料液供給バルブと第２原料液供給バルブはマニホールドをはさんで対向して固設され、原料液供給ユニットは対称形であるため、第１弁孔と第２弁孔の長さが同じにすることができ、原料液の供給材料別の制御が不要であり生産設備にコストが掛からない。
【００１２】
具体的には、上記（２）の発明に係る原料液供給ユニットによると、マニホールドの第１平板面と第２平板面の距離が１０ｍｍ以下と短いため、第１原料液供給バルブと第２原料液供給バルブの弁体同士の距離も近くなる。そのため、第１原料液供給バルブ及び第２原料液供給バルブとを連通する第１弁孔及び第２弁孔の長さも、例えば１．５ｍｍと主出力路と極近傍となる。第１弁孔及び第２弁孔の長さが１．５ｍｍと短いと、気化器へと流れずにクリーニング液により流されるだけの無駄な原料液を少なくすることができ、コストを抑えることができる。
【００１３】
また、上記（３）の発明に係る原料液供給ユニットによると、第１原料液供給バルブ及び第２原料液供給バルブを溶接によりマニホールドに固設できるため、溶接をしないで固設した場合と比較して、第１弁孔及び第２弁孔の長さを短くすることができるため、原料液を置き換える際に、流路を洗浄する体積が少なくて済むため、置換時間に掛かる時間も少なくて済む。
上記（４）の発明に係る原料液供給ユニットによると、原料液供給量変動の原因となる流路内気泡の排出を促進し、原料液供給濃度変動の原因となるクリーニング液混入を抑制することができる。
上記（５）の発明に係る原料液供給ユニットによると、主流路へ連通する第１弁孔及び第２弁孔の長さが同じであるため、同じ流量であれば、原料液到達時間が同じであるため、原料液別の制御は必要ない。
上記（６）の発明に係る原料液供給ユニットによると、主流路へ連通する第１弁孔及び第２弁孔の径が同じであるため、同じ流量であれば、原料液到達時間が同じであるため、原料液別の制御は必要ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
次に、本発明に係る第１原料液供給ユニット１７の一実施の形態について図面を参照して説明する。
第１原料液供給ユニット１７を包含する原料液供給装置１の平面図を図２に示す。
図２に示すように線Ｌにより、原料液供給装置１は左右に分かれる。線Ｌより右側が第１原料液供給ユニット１７であり、線Ｌより左側が第２原料液供給ユニット１９である。原料液供給装置１は、第１原料液供給ユニット１７及び第２原料液供給ユニット１９により構成されている。
第１原料液供給ユニット１７は、マニホールド７、第１原料液供給バルブ２及び第２原料液供給バルブ３から構成されている。
第２原料液供給ユニット１９は、マニホールド８、クリーニング液供給バルブ４、パージガス供給バルブ５及びドレイン排出バルブ６から構成されている。
【００１５】
第１原料液供給ユニット１７の構成について説明する。
図３は、図２の原料液供給装置１の右側面図を示す。図４は、図２の原料液供給装置１のＢ−Ｂ右断面図を示す。図１は、図４中の原料液供給装置１のＨ部分の拡大図を示す。また、図７に、第１原料液供給ユニット１７の分解斜視図を示す。
図１に示すように、マニホールド７の内部には、主出力路１４が形成されている。主出力路１４の始点である接合角３７には、第１弁孔２１ａ、及び第２弁孔２１ｂが連通している。
本実施例においては、マニホールド７は平板状であるため、第１原料液供給バルブ２と第２原料液供給バルブ３の弁体同士の距離も近い。例えば、マニホールド７の第１平板面４６と第２平板面４７との距離が１０ｍｍ以下の長さである場合には、第１原料液供給バルブ２及び第２原料液供給バルブ３とを連通する第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの長さも、１．５ｍｍと主出力路１４と極近傍となる。第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの長さは１．５ｍｍで同じである。
第１弁孔２１ａは弁座２４ａの中心を貫通しており、第２弁孔２１ｂは弁座２４ｂの中心を貫通している。弁座２４ａには、弁体５５ａが板ばね５３ａの復元力により当接されており、弁座２４ｂには、弁体５５ｂが板ばね５３ｂの復元力により当接されている。
【００１６】
図７に示すように、マニホールド７の形状は、第１平板面４６と、第１平板面４６と対向する面である第２平板面４７を有する平板状の立方体である。
図２に示すように、マニホールド７の第１平板面４６に第１原料液供給バルブ２が固設され、マニホールド７の第２平板面４７に第２原料液供給バルブ３が固設されている。第１原料液供給バルブ２と第２原料液供給バルブ３はマニホールド７をはさんで、対向して左右対称に固設されている。
図７に示すように、マニホールド７の第１平板面４６の中心には第１凹部５０が形成され、第１平板面４６の反対側側面である第２平板面４７の中心には第２凹部５１が形成されている。マニホールド７の第３側面６６には、第１原料液供給ポート９及び第２原料液供給ポート１０が形成されている。第１側面４８には、出力ポートを備える主出力路１４が形成されている。
【００１７】
第１凹部５０には、第１スペーサ５２ａ、板ばね５３ａ、第２スペーサ５４ａ、弁シート５５ａ、プランジャ５６ａ、鉄心５７ａ、コイルボビン５８ａ、フレーム５９ａ、皿小ねじ６０ａが付設されている。第２凹部５１も同様の構成物品が付設されている。
第１凹部５０、第２凹部５１が形成されていることにより、第１原料液供給バルブ２及び第２原料液供給バルブ３の最も外側に位置するフレーム５９ａ、５９ｂを嵌合させることができる。マニホールド７と第１原料液供給バルブ２及び第２原料液供給バルブ３とを密着させることができ、マニホールド７の中心にある主出力路１４に近づくことができる。それにより、主出力路１４から連通する第１弁孔２１ａと第２弁孔２１ｂの長さを１．５ｍｍと短くすることができる。弁孔の長さが１．５ｍｍと短いため、細孔加工により第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの径を０．２５ｍｍとすることが可能となる。
【００１８】
図５は、図２の原料液供給装置１の下側面図を示す。図６は、図２の原料液供給装置１のＡ−Ａ下断面図を示す。
図６に示すように、マニホールド７の第１側面４８には気化器へと連通する連通孔３０を備える連通部２９が係合されている。連通部２９には、ネジ孔４２が形成されており、連通部２９は、ネジ４４によりマニホールド７と結合している。
第２側面４９には、マニホールド８が係合されている。第２側面４９には、マニホールド８から連通する第１流路３５と連通する第２流路３６が形成されている。第２流路３６と主出力路１４との接合部分には、接合角３７があり接合角３７の角度は約８０度である。
【００１９】
次に第２原料液供給ユニット１９の構成について説明する。
図６に示すように、マニホールド８内には、マニホールド７の第２流路３６へ連通する第１流路３５が形成されている。第１流路３５には、クリーニング液供給孔３２、ドレイン排出孔３３が連結している。
また、マニホールド８内には、ネジ孔３８が形成されており、マニホールド８は、ネジ３９によりマニホールド７と結合している。
マニホールド８に係合している、クリーニング液供給バルブ４、パージガス供給バルブ５、及びドレイン排出バルブ６の内部の構成は、前記第１原料液供給バルブ２と同様である。
【００２０】
次に、作用の説明として、第１原料液を切換え第２原料液とし、第２原料液を切換え第１原料液とする１サイクルを説明する。
ここで原料液供給液とは、例えば、金属を含有する液体であり、気化器により金属を含む蒸気とされ、チャンバに供給される。
図８は、図４の第１原料液供給バルブ２を拡大した図である。図８では、第１原料液供給バルブ２の弁体５５ａが弁座２４ａに当接した閉弁状態を示す。図９は、図８の第１原料液供給バルブの弁体５５ａが弁座２４ａから離間した開弁状態を示す。
第１原料液供給バルブ２は、図８に示すように、第１弁室２２ａに対して、第１原料液供給ポート９より第１原料液が供給されるが、常時、板ばね５３ａの復元力により、弁体５５ａを弁座２４ａに押し付け、第１弁孔２１ａを閉じている。また、第２原料液供給バルブ３も同様に第２弁孔２１ｂが閉じられた状態にある。
ここで、コイルボビン５８ａに電圧を印加して鉄心５７ａを磁化すると、図９に示すように、板ばね５３ａの復元力に抗して、プランジャ５６ａが鉄心５７ａの磁力に吸引されて、プランジャ５６ａと鉄心５７ａが当接する。プランジャ５６ａが当接するように移動するので、プランジャ５６ａに係合している弁体５５ａが弁座２４ａから離間し、第１弁孔２１ａを開くことができる。第１弁孔２１ａが開かれると、弁室２２ａに供給された第１原料液が、第１弁孔２１ａを通過し、その後主出力路１４へ流出する。
【００２１】
第１原料液の供給を止める時は、コイルボビン５８ａへの電圧を解除する。電圧が解除されると、プランジャ５６ａが鉄心５７ａの磁力から解放されるため、板ばね５３ａの復元力により、弁シート５５ａを弁座２４ａに押し付け、第１弁孔２１ａが閉じられる。
第１弁孔２１ａを閉じたとき、第１弁孔２１ａは、１．５ｍｍと短いため、第１弁孔２１ａに滞留した第１原料液は僅かな量である。第１弁孔２１ａに残留した第１原料液は気化器へと流れずにクリーニング液により流されるだけの液であるため、量を少なくすることができれば、それだけコストを抑えることができる。
つぎに、第１原料液と第２原料液が混合されないようにするため、第１弁孔２１ａ及び主出力路１４をクリーニングする。クリーニング液供給バルブ４の、クリーニング液の供給する開弁手順は、前記第１原料液供給バルブ２と同様である。
供給されたクリーニング液は、クリーニング液供給孔３２、第１流路３５、第２流路３６、接合角３７、主出力路１４、連通路３０を介して、図示しない排水路へと排水される。
クリーニング液は、接合角３７を流れる際に接合角３７に連通する第１弁孔２１ａをクリーニングする。第１弁孔２１ａは、長さが１．５ｍｍと短く、径も０．２５ｍｍと小さいためクリーニングすべき第１弁孔２１ａの空間が狭く、クリーニング液により短時間でクリーニングすることができる。具体的には、本実施例においては、デッドボリュームを従来技術と比較して約９０パーセント低減することができた。
【００２２】
また、接合角３７の角度は約８０度であるため、液体内の気泡が、第２流路３６への流れ込み防ぐことができ、気泡を接合角３７の角部に集めることができる。
それにより原料液供給量変動の原因となる流路内気泡の排出を促進し、原料液供給濃度変動の原因となるクリーニング液混入を抑制することができる。
第１弁孔２１ａ及び主出力路１４をクリーニングし終わったら、第２原料液を供給するため、クリーニング液の供給を止める。クリーニング液供給バルブ４の、クリーニング液の供給を止めるための閉弁手順は、前記第１原料液供給バルブ２と同様である。
【００２３】
第２原料液供給バルブ３は、図８に示す第１原料液供給バルブ２と同様の構成を採るため、常時は、板ばね５３ｂの復元力により、弁シート５５ｂを弁座２４ｂに押し付け、第２弁孔２１ｂを閉じている。
ここで、第２原料液供給バルブ３が開弁することにより、第２原料液が供給される。第２原料液を供給するための開弁手順は、前記第１原料液供給バルブ２と同様であるため省略する。
第２原料液を流し終わった後に、第２原料液の供給を止めるための、閉弁手順は、前記第１原料液供給バルブ２と同様であるため省略する。
続いて、前記と同様のクリーニング液を流す手順を行い、クリーニング液を流し終えることにより、第１原料液を切換え第２原料液とし、第２原料液を切換え第１原料液とする１サイクルが終了する。
【００２４】
近年、半導体製造工程において第１原料液による成膜と第２原料液による成膜（１サイクル）を、数〜数十サイクル繰返すことが行われている。
例えば、１０サイクルの成膜を行うとすると、１サイクルに２回のクリーニング液を流すため、クリーニングを１回する時間を例えば１秒間短縮することができるだけでも、全体で２０回分すなわち２０秒の時間を短縮することができる。液の置換時間を短縮することができれば、それにより生産能率が上がり、同じ時間でより多くの半導体を製造することができ、半導体のコストダウンを実現できる。
【００２５】
また、第１原料液及び第２原料液を流す時には、第１原料液バルブ２及び第２原料液供給バルブ３から主出力路１４へ連通する第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの長さが１．５ｍｍ同じであり、同じ流量であれば、原料液が到達する時間がほぼ同じであり、第１原料液と第２原料液とで異なる制御は必要ない。
制御コストを削減することができるため、結果として半導体のコストダウンを実現できる。
【００２６】
第１原料液供給バルブ２では、フレーム５９をマニホールド７に溶接し、溶接部６１ａを設けることにより、マニホールド７と第１原料液供給バルブ２とを接合させ、第１原料液の漏れを防止している。
さらに、マニホールド７に第１凹部５０が形成されているため、第１原料液供給バルブ２と表面上で当接させるだけでなく、嵌合させることができるため、溶接した際に溶接部６１ａから第１原料液が漏れにくくなる。すなわち、第１原料液が供給されている弁室２２ａとの間に固定された鉄心５７ａを挟むため、第１原料液が漏れるためには鉄心５７ａを介さなければならず、鉄心５７ａは一つ鉄の塊であるため液を漏らすことはないため、鉄心５７ａとマニホールド７の隙間の漏れのみを防止すればよいため、漏れを防止しやすい。
また、溶接部６１ａ、６１ｂを溶接することになるため、確実に溶接することができる。そのため、第１原料液、及び第２原料液が漏れることを防止することができる。
【００２７】
第１凹部５０、第２凹部５０ｂと第１原料液供給バルブ２及び第２原料液供給バルブ３の最外部品であるフレーム５９ａ、５９ｂは、溶接により嵌合している。溶接により嵌合させることにより、フレーム５９ａ、５９ｂ内にある、弁体５５ａ、５５ｂを、主出力路１４の近くに配置することができる。すなわち、溶接をしないで固設した場合と比較して、第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの長さを短くすることができるため、マニホールド７内をクリーニングする際に、流路を洗浄する弁孔の体積が少なくて済むため、置換時間に掛かる時間も少なくて済む。
【００２８】
以上説明したように本実施の形態に係る原料液供給ユニット１７は、第１弁孔２１ａと第２弁孔２１ｂの長さを短くすることができ、径を小さくすることができる。それにより、クリーニング液を流した時に、第１弁孔２１ａ又は第２弁孔２１ｂをクリーニング液に置換するのに時間が掛からなくなり、プロセス時間を短縮できるのである。
プロセス時間の短縮により、同じ時間で多くの半導体に薄膜を数１０層に形成することができるようになるため、生産能率が上がり、同じ時間でより多くの半導体を製造することができる。
具体的には、マニホールド７の第１平板面４６と第２平板面４７との距離が１０ｍｍ以下と長さが短いため、第１原料液供給バルブ２と第２原料液供給バルブ３の弁体同士の距離も近くなる。そのため、第１原料液供給バルブ２及び第２原料液供給バルブ３とを連通する第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの長さも、例えば１．５ｍｍと主出力路１４と極近傍となる。第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの長さが１．５ｍｍと短く、径が０．２５ｍｍと小さいと、気化器へと流れずにクリーニング液により流されるだけの無駄な原料液を少なくすることができ、コストを抑えることができる。
【００２９】
また、第１原料液供給バルブ２及び第２原料液供給バルブ３を溶接によりマニホールド７に固設できるため、溶接をしないで固設した場合と比較して、第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの長さを短くすることができるため、原料液を置き換える際に、流路を洗浄する体積が少なくて済み、置換時間に掛かる時間も少なくて済む。
また、主出力路へ連通する第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの長さが同じであり、原料液到達時間が同じであり、原料液別の制御は必要ない。
また、主出力路へ連通する第１弁孔２１ａ及び第２弁孔２１ｂの径が同じであり、原料液到達時間が同じであり、原料液別の制御は必要ない。
また、第２流路３６と主出力路１４の接合箇所に接合角３７の角度は約８０度であることにより、原料液供給量変動の原因となる流路内気泡の排出を促進し、原料液供給濃度度変動の原因となるクリーニング液混入を抑制することができる。
【００３０】
尚、本発明は、上記実施の形態に限定されることなく、色々な応用が可能である。
(１)本実施例では、溶接によるものとしたが、その他の方法、例えば、ろう付けによっても溶接部６１ａ、６１ｂを接合することができる。
(２)本実施例では、原料液供給液とは、金属を含有する液体としたが、その他の液体、気体を供給することもできる。
(３)本実施例では、第１弁孔、第２弁孔の長さを同じとしたが、異なる長さとすることもできる。
(４)本実施例では、第１弁孔、第２弁孔の径を同じとしたが、異なる径とすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】図４中の原料液供給装置１のＨ部分の拡大図である。
【図２】原料液供給装置１の平面図である。
【図３】図２の原料液供給装置１の右側面図である。
【図４】図２の原料液供給装置１のＢ−Ｂ右断面図である。
【図５】図２の原料液供給装置１の下側面図である。
【図６】図２の原料液供給装置１のＡ−Ａ下断面図である。
【図７】第１原料液供給ユニット１７の組立て斜視図である。
【図８】図４の第１原料液供給バルブ２を拡大した図である。第１原料液供給バルブ２の弁体５５ａが弁座２４ａに当接した閉弁状態を示した図である。
【図９】図８の第１原料液供給バルブの弁体５５ａが弁座２４ａから離間した開弁状態を示した図である。
【図１０】従来技術である原料液供給ユニット１００を示した図である。
【符号の説明】
【００３２】
１    原料液供給装置
２    第１原料液供給バルブ
３    第２原料液供給バルブ
４    クリーニング液供給バルブ
７    マニホールド
８    第２マニホールド
１４  主出力路
１７  原料液供給ユニット
２１ａ  第１弁孔
２１ｂ  第２弁孔
３６  第２流路
３７  接合角
４６  第１平板面
４７  第２平板面
４８  第１側面
４９  第２側面
６１ａ、６１ｂ  溶接部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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