(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）のオルガノシリコン化合物
【化１】
0004950404.tif 000023
ここで：
・ｎは２０〜３５であり、
・ｋは０〜１００であり、
・ｉは０に等しいかまたは１であり、
・Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は、互いに同一かまたは異なり得、飽和の、直鎖または分枝鎖の、Ｃ1〜Ｃ6アルキルおよび加水分解性基からなる群から選択され、ここで、前記加水分解性基は、ハロゲン原子、−Ｎ（ＣＨ3）2基および−ＯＲ基（Ｒは、飽和の、直鎖または分岐鎖の、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基である）からなる群から選択され、Ｘ1、Ｘ2またはＸ3からの少なくとも１つは前記加水分解性基を示し、そして
・ｋ＝０およびｉ＝０の場合、ＺはＲ1基を示し、
・ｋ＝０およびｉ＝１の場合、Ｚは、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1、−ＮＲ1Ｒ2、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2または−ＳＲ1基あるいはハロゲン原子を示し、
・ｋ≧１およびｉ＝０の場合、Ｚは、−Ｒ1、−ＣＯＲ1、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2、−ＣＦ3または−（ＣＦ2）jＣＦ3基［ｊは、１〜１０である］を示し、
・ｋ≧１およびｉ＝１の場合、Ｚは、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1、−ＮＲ1Ｒ2、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2、−ＳＲ1、−ＣＦ3または−（ＣＦ2）jＣＦ3基［ｊは、上記に定義される通りである］あるいはハロゲン原子を示し、
・Ｒ1およびＲ2は、同一または異なり得、水素原子；１〜２４の炭素原子を含む、必要に応じて置換された、飽和または不飽和のおよび直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖；あるいは芳香族基を示し、但し、Ｒ１はフッ化炭素基以外であり、ｋ＝ｉ＝０およびｎ＝１９の場合、Ｒ1は−（ＣＨ2）6−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡ＣＨ基以外であり、そして、ｋ＝ｉ＝０およびｎ＝１８の場合、Ｒ1は−（ＣＨ2）2−ＣＮ基以外である。
【請求項２】
前記加水分解性基が、ハロゲン原子、−Ｎ（ＣＨ3）2基および−ＯＲ基（Ｒは、飽和の、直鎖または分枝鎖の、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基である）からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
ｎが２０〜２５であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
ｋが０〜５であることを特徴とする、前記請求項のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】
Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が塩素原子を示し、ｎが２２に等しく、ｉが０に等しく、ｋが１または３に等しく、そしてＺが−ＣＯＣＨ3基を示すことを特徴とする、前記請求項のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が塩素原子を示し、ｎが２２に等しく、ｉが１に等しく、ｋが２に等しく、そしてＺが−ＣＯＯＣＨ3基を示すことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】
ｉが１以外である請求項１〜５のいずれか１項に記載の式（Ｉ）の化合物の製造方法であって、以下の段階：
ａ）式ＨＯ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）k−Ｈのジオールと式（II）の不飽和化合物：
【化２】
0004950404.tif 000024
との反応による、式（III）の不飽和前駆体：
【化３】
0004950404.tif 000025
の製造；
［ここで、Ｙは、脱離基を示し、そしてｎおよびｋは、請求項１〜５のいずれか１項に定義される通りである］
ｂ）式（III）の化合物のヒドロキシル末端の官能化による、式（IV）の不飽和前駆体：
【化４】
0004950404.tif 000026
［ここで、Ｚおよびｉは、請求項１〜５のいずれか１項に定義される通りである］
の製造；
ｃ）式ＨＳｉＸ1Ｘ2Ｘ3のヒドロシランを使用する、式（IV）の不飽和前駆体のヒドロシリル化による、式（Ｉ）のシリコン化合物：
【化５】
0004950404.tif 000027
［ここで、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3の少なくとも１つは、ハロゲン原子を示す］
の製造；ならびに
ｄ）必要に応じて、請求項１〜５のいずれか１項に定義されるＸ1、Ｘ2および／またはＸ3基を使用する、段階ｃ）において得られた化合物のＸ1、Ｘ2およびＸ3基の１以上の置換による、式（Ｉ）の別の化合物の製造、を含む、方法。
【請求項８】
ｉが１に等しい請求項１〜４および６のいずれか１項に記載の式（Ｉ）の化合物の製造方法であって、以下の段階：
ａ）請求項５に定義される式（II）の不飽和化合物と式ＨＯ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）k+1−Ｈのジオールとの反応による、式（III’）の不飽和前駆体：
【化６】
0004950404.tif 000028
［ｎおよびｋは、請求項１〜４および６のいずれか１項に定義される通りである］の製造；
ｂ）化合物（III’）のヒドロキシル末端の酸化による、式（IV’）の不飽和前駆体：
【化７】
0004950404.tif 000029
［ここで、Ｚは、カルボン酸官能基を示す］
の製造；
ｃ）必要に応じて、請求項１〜４および６のいずれか１項に定義される別のＺ基を使用する、式（IV’）の化合物の該カルボン酸末端の官能化；
ｄ）式ＨＳｉＸ1Ｘ2Ｘ3のヒドロシランを使用する、式（IV’）の不飽和前駆体のヒドロシリル化による、式（Ｉ）のシリコン化合物：
【化８】
0004950404.tif 000030
［ここで、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3の少なくとも１つは、ハロゲン原子を示す］
の製造；ならびに
ｅ）必要に応じて、請求項１〜４および６のいずれか１項に定義されるＸ1、Ｘ2および／またはＸ3基を使用する、段階ｄ）において得られた化合物のＸ1、Ｘ2およびＸ3基の１以上の置換による、式（Ｉ’）の別の化合物の製造、を含む、方法。
【請求項９】
固体支持体の表面に、組織化自己集合単層（organized self-assembled monolayer）を形成するための、式（Ｉ’）の化合物の使用：
【化９】
0004950404.tif 000031
ここで：
・ｎは２０〜３５であり、
・ｋは０〜１００であり、
・ｉは０に等しいかまたは１であり、
・Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は、互いに同一かまたは異なり得、飽和の、直鎖または分枝鎖の、Ｃ1〜Ｃ6アルキルおよび加水分解性基からなる群から選択され、ここで、前記加水分解性基は、ハロゲン原子、−Ｎ（ＣＨ3）2基および−ＯＲ基（Ｒは、飽和の、直鎖または分岐鎖の、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基である）からなる群から選択され、Ｘ1、Ｘ2またはＸ3からの少なくとも１つは前記加水分解性基を示し、そして
・ｋ＝０およびｉ＝０の場合、ＺはＲ1基を示し、
・ｋ＝０そしてｉ＝１の場合、Ｚは、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1、−ＮＲ1Ｒ2、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2または−ＳＲ1基あるいはハロゲン原子を示し、
・ｋ≧１そしてｉ＝０の場合、Ｚは、−Ｒ1、−ＣＯＲ1、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2、−ＣＦ3または−（ＣＦ2）jＣＦ3基［ｊは、１〜１０である］を示し、
・ｋ≧１そしてｉ＝１の場合、Ｚは、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1、−ＮＲ1Ｒ2、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2、−ＳＲ1、−ＣＦ3または−（ＣＦ2）jＣＦ3基［ｊは、上記に定義される通りである］あるいはハロゲン原子を示し、
・Ｒ1およびＲ2は、同一または異なり得、水素原子；１〜２４の炭素原子を含む、必要に応じて置換された、飽和または不飽和のおよび直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖；あるいは芳香族基を示し、但し、Ｒ１はフッ化炭素基以外である。
【請求項１０】
表面が組織化自己集合単層（organized self-assembled monolayer）によって修飾されている固体支持体であって、該単層が、請求項９に定義される式（Ｉ’）の少なくとも１つのオルガノシリコン化合物の網目構造を含むことを特徴とする、固体支持体。
【請求項１１】
前記固体支持体が、その表面が、修飾される前に、ヒドロキシル基を提示するようなものであることを特徴とする、請求項１０に記載の支持体。
【請求項１２】
前記固体支持体が、ガラス、セラミックス、金属および半金属からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１１に記載の支持体。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の固体支持体の製造方法であって、以下の段階：
ａ）固体支持体からの汚染物質の除去、およびその表面の水和および／またはヒドロキシル化、
ｂ）少なくとも１つの無極性炭化水素溶媒を含む少なくとも２つの溶媒の混合液への、請求項９に定義される式（Ｉ’）の少なくとも１つのオルガノシリコン化合物の、不活性雰囲気下での、導入、
ｃ）段階ｂ）において調製された溶液中の浸漬による、段階ａ）において得られた支持体のシラン化、ならびに
ｄ）溶媒を使用しての、段階ｃ）において得られた修飾化支持体のすすぎ、を含むことを特徴とする、方法。
【請求項１４】
段階ａ）が、前記固体支持体の性質に従って、１以上の溶媒および／または酸化剤および／またはヒドロキシル化剤、洗剤またはオゾンとの光化学処理を使用して行われることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
段階ｂ）が、少なくとも１つの無極性炭化水素溶媒および少なくとも１つの極性溶媒の混合物中で行われることを特徴とする、請求項１３または請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
無極性溶媒および極性溶媒の容量比が、７０／３０〜９５／５であることを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記方法の段階ｂ）における溶媒の混合物中のオルガノシリコン化合物の濃度が、１×１０-5〜１×１０-2ｍｏｌ／リットルであることを特徴とする、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
共有結合を介しての生体分子の合成または固定化における、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の固体支持体（但し、請求項９に定義される式（Ｉ’）の化合物において、ＺがＲ1基の場合を除く）の使用。
【請求項１９】
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の固体支持体上における生体分子の合成方法であって、該生体分子が一連の繰り返し単位から構成されること、および該方法が、該繰り返し単位をグラフトする連続段階を含み、第１にグラフトされる繰り返し単位が、該固体支持体上に存在する前記オルガノシリコン化合物のＺ基に関して反応性である官能基を保有していることを特徴とする、方法。
【請求項２０】
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の固体支持体上における生体分子の固定化方法であって、前記オルガノシリコン化合物のＺ基に関して反応性である官能基を保有する該生体分子を、該固体支持体へグラフトする段階を含むことを特徴とする、方法。
【請求項２１】
前記オルガノシリコン化合物のＺ末端官能基が、−ＯＣＯＲ1基（ここで、Ｒ1は、請求項９に定義される通りである）、または−ＣＯＯＲ1基（ここで、Ｒ1は、請求項９に定義される通りであり、そして水素原子以外である）である場合、好適な化学処理による対応のアルコールまたはカルボン酸官能基の脱保護段階によって先行されることを特徴とする、請求項１９または請求項２０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、オルガノシリコン化合物、それらの製造法、および固体支持体の表面にこれらの化合物の自己集合単層（self-assembled monolayer）を堆積させることにおけるそれらの使用に関する。本発明はまた、このように修飾された固体支持体、およびそれらの製造方法、さらに生体分子の合成または固定化（immobilization）におけるそれらの使用に関する。
【０００２】
組織化自己集合単層（organized self-assembled monolayer）（ＳＡＭ）は、分子が組織化されて［この組織化は、分子鎖間の相互作用に起因する］、安定な単分子および十分に秩序正しい（well-ordered）異方性膜を与える、分子の集合物（assemblage）として定義される（A. Ulman, Chem. Rev., 1996, 96, 1533-1554）。
【０００３】
再現可能に（reproducibly）得られ得る（J.B. Brozska et al., Langmuir, 1994, 10, 4367-4373）、これらの自己集合単層は、化学処理（酸性または塩基性）に耐性である緻密で（dense）そして均一な膜を形成するという顕著な特徴を有する。
【０００４】
例えばオクタデシルトリクロロシランを使用する、固体支持体上におけるＳＡＭの形成は、化学的にもそして構造的にも十分に規定されたパラメータを有する均一な有機表面の製造を可能にする。これらの表面は、特に自己集合現象および界面化学に関する、基礎的研究のための二次元モデルとして機能し得る（A. Ulman, 同書に）。
【０００５】
種々のオルガノシリコン化合物は、オリゴヌクレオチドを固定化するかまたはそれらをインサイチュ(in situ)で合成する目的での、固体支持体の官能化のためのカップリング剤として使用されている（L.A. Chrisey et al., Nucleic Acids Research, 1996, 24, 15, 3031-3039, U. Maskos et al., Nucleic Acids Research, 1992, 20, 7, 1679-1684）。しかし、これらの研究において使用されるオルガノシリコンカップリング剤は、オリゴヌクレオチドの合成または固定化のための引き続いての化学的処理に対して非常に少ない耐性を有する、不均一膜を形成する。さらに、これらのカップリング剤での膜の形成は、再現可能（reproducible）でない。
【０００６】
従って、本発明者らは、先行技術の欠点を克服し、そして固体支持体の表面で真のＳＡＭ、すなわち安定な単層膜［ここで、分子が自己集合し（self-assembled）そして組織化され（organized）ている］を得ることを可能にするカップリング剤を提供する目標を設定した。本発明者らはまた、固体支持体へ再現可能に（reproducibly）グラフトされ得、同時に支持体上に形成された単層の表面で生体分子の合成または固定化を可能にする、カップリング剤を提供する目標を設定した。
【０００７】
本発明の主題は、式（Ｉ）のオルガノシリコン化合物である：
【０００８】
【化１０】
0004950404.tif 000002
【０００９】
ここで：
・ｎは１５〜３５、好ましくは２０〜２５であり、
・ｋは０〜１００、好ましくは０〜５であり、
・ｉは０に等しいかまたはそれより大きい整数であり、好ましくは０又は１に等しい、
・Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は、互いに同一かまたは異なり得、飽和の、直鎖または分枝鎖の、Ｃ1〜Ｃ6アルキルおよび加水分解性基からなる群から選択され、Ｘ1、Ｘ2またはＸ3からの少なくとも１つは加水分解性基を示し、そして
・ｋ＝０およびｉ＝０の場合、ＺはＲ1基を示し、
・ｋ＝０およびｉ≧１の場合、Ｚは、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1、−ＮＲ1Ｒ2、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2または−ＳＲ1基あるいはハロゲン原子を示し、
・ｋ≧１そしてｉ＝０の場合、Ｚは、−Ｒ1、−ＣＯＲ1、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2、−ＣＦ3または−（ＣＦ2）jＣＦ3基［ｊは、１〜１０である］を示し、
・ｋ≧１そしてｉ≧１の場合、Ｚは、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1、−ＮＲ1Ｒ2、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2、−ＳＲ1、−ＣＦ3または−（ＣＦ2）jＣＦ3基［ｊは、上記に定義される通りである］あるいはハロゲン原子を示し、
・Ｒ1およびＲ2は、同一または異なり得、水素原子；１〜２４の炭素原子を含む、必要に応じて置換された、飽和または不飽和のおよび直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖；あるいは芳香族基を示し、但し、ｋ＝ｉ＝０およびｎ＝１５の場合、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＦ3基以外であり、そしてｋ＝ｉ＝０およびｎ＝１９の場合、Ｒ1は−（ＣＨ2）6−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡ＣＨ基以外である。
【００１０】
Ｚが、ｉの値とは関係なく、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1または−ＣＯＯＲ1基を示す場合、そしてｋ≧１の場合、Ｚは、ヒドロキシルまたはカルボン酸官能基の保護から得られる任意の基を示し得ることが明瞭に理解される。例えば、Protective groups in organic synthesis (T.W. Greene et al., 2nd edition, Wiley Interscience) に記載される保護基（例えば、環式保護基）。
【００１１】
本発明の意味において、用語“芳香族”は、１以上のアリール環（例えば、フェニル環）を有する任意の基を意味すると理解される。用語“加水分解性基”は、水性媒体中で酸と反応して化合物Ｘ1Ｈ、Ｘ2ＨまたはＸ3Ｈを与え得る任意の基を意味すると理解される。
【００１２】
好ましくは、該加水分解性基は、ハロゲン原子、−Ｎ（ＣＨ3）2基および−ＯＲ基（Ｒは、飽和の、直鎖または分枝鎖の、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基である）からなる群から選択される。
【００１３】
Ｚ基および加水分解性基に関して、好適なハロゲン原子は、塩素、臭素またはヨウ素と同様に、フッ素でもある。
【００１４】
本発明に従うオルガノシリコン化合物は、有利なことに、使用され得る末端Ｚ基の多様性の点から［当業者に周知の有機化学反応に従って望まれるようにこれらのＺ基が修飾または官能化されることが可能である］、非常に様々な官能性を示す。
【００１５】
有利な実施形態によれば、式（Ｉ）の化合物は、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が塩素原子を示し、ｎが２２に等しく、ｉが０に等しく、ｋが１または３に等しく、そしてＺが−ＣＯＣＨ3基を示すようなものである。
【００１６】
別の有利な実施形態によれば、式（Ｉ）の化合物は、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が塩素原子を示し、ｎが２２に等しく、ｉが１に等しく、ｋが２に等しく、そしてＺが−ＣＯＯＣＨ3基を示すようなものである。
【００１７】
驚くべきことに、選択された生成物は、実際に、固体支持体の表面で真のＳＡＭ、すなわち分子が自己集合されそして組織化されている安定な単層膜を得ることを可能にする。
【００１８】
本発明の別の主題は、ｉが１以外である上記に記載の式（Ｉ）の化合物の製造方法であって、該方法は以下の段階：
ａ）式ＨＯ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）k−Ｈのジオールと式（II）の不飽和化合物：
【００１９】
【化１１】
0004950404.tif 000003
【００２０】
との反応による式（III）の不飽和前駆体：
【００２１】
【化１２】
0004950404.tif 000004
【００２２】
［ここで、Ｙは、脱離基を示し、そしてｎおよびｋは、式（Ｉ）に関して上記に定義される通りである］
の製造；
ｂ）式（III）の化合物のヒドロキシル末端の官能化による、式（IV）の不飽和前駆体：
【００２３】
【化１３】
0004950404.tif 000005
【００２４】
［ここで、Ｚおよびｉは、式（Ｉ）に関連して上記に定義される通りである］
の製造；
ｃ）式ＨＳｉＸ1Ｘ2Ｘ3のヒドロシランを使用する、式（IV）の不飽和前駆体のヒドロシリル化による、式（Ｉ）のシリコン化合物：
【００２５】
【化１４】
0004950404.tif 000006
【００２６】
［ここで、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3の少なくとも１つは、ハロゲン原子を示す］
の製造；ならびに
ｄ）必要に応じて、本発明に従う式（Ｉ）の化合物に関連して定義されるＸ1、Ｘ2および／またはＸ3基を使用する、段階ｃ）において得られた化合物のＸ1、Ｘ2およびＸ3基の１以上の置換による、式（Ｉ）の別の化合物の製造、
を含む。
【００２７】
式（III）の化合物のヒドロキシル末端の官能化の段階ｂ）は、例えば、ｉが０に等しい場合、Ｚが−ＣＯＲ1基を示す場合には塩化アルキルを使用するエステル化反応によって行われ得、Ｒ1は、本発明に従う式（Ｉ）の化合物に関して定義される通りである。
【００２８】
本発明の別の主題は、ｉが１に等しい上記に記載の本発明に従う式（Ｉ）の化合物の製造方法であって、該方法は以下の段階：
ａ）上記に定義される式（II）の不飽和化合物と式ＨＯ−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）k+1−Ｈのジオール［ｎおよびｋは、本発明に従う式（Ｉ）の化合物に関連して上記に定義される通りである］との反応による式（III’）の不飽和前駆体：
【００２９】
【化１５】
0004950404.tif 000007
【００３０】
の製造；
ｂ）化合物（III’）のヒドロキシル末端の酸化による、式（IV’）の不飽和前駆体：
【００３１】
【化１６】
0004950404.tif 000008
【００３２】
［ここで、Ｚは、カルボン酸官能基を示す］
の製造；
ｃ）必要に応じて、本発明に従う式（Ｉ）の化合物に関連して定義される別のＺ基を使用する、式（IV’）の化合物の該カルボン酸末端の官能化；
ｄ）式ＨＳｉＸ1Ｘ2Ｘ3のヒドロシランを使用する、式（IV’）の不飽和前駆体のヒドロシリル化による、式（Ｉ）のシリコン化合物：
【００３３】
【化１７】
0004950404.tif 000009
【００３４】
［ここで、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3の少なくとも１つは、ハロゲン原子を示す］
の製造；ならびに
ｅ）必要に応じて、本発明に従う式（Ｉ）の化合物に関連して定義されるＸ1、Ｘ2および／またはＸ3基を使用する、段階ｄ）において得られた化合物のＸ1、Ｘ2およびＸ3基の１以上の置換による、式（Ｉ）の別の化合物の製造、
を含む。
【００３５】
本発明に従う式（Ｉ）の化合物の製造について上記に記載される方法において、ｉの値に関わらず、段階ａ）は、有利には、極性溶媒（例えば、水またはテトラヒドロフラン）中、塩基性媒体中および溶媒の還流温度で行われ；式（II）の化合物に存在する脱離基Ｙとして、ハロゲン原子またはトシル基が使用され得；さらに、不飽和前駆体のヒドロシリル化の段階は、トリクロロシランの存在下で行われ得る。
【００３６】
本発明に従う式（Ｉ）のオルガノシリコン化合物は、例えば、ゾル−ゲル法において使用され得、つまり、加水分解され、次いで架橋されて新規材料を得ることができ、あるいは、例えばペンダント鎖（pendent chains）の形態で導入される官能基によって、これらのポリマーの化学的および機械的特性を修飾する目的で、新しいポリマーの合成におけるコモノマー（comonomers）として機能し得る。それらはまた、固体支持体の表面に組織化自己集合単層を形成するための使用され得る。
【００３７】
従って、本発明の別の主題は、固体支持体の表面に、組織化自己集合単層（organized self-assembled monolayer）を形成するための、一般式（Ｉ’）のオルガノシリコン化合物の使用である：
【００３８】
【化１８】
0004950404.tif 000010
【００３９】
ここで：
・ｎは１５〜３５であり、
・ｋは０〜１００であり、
・ｉは０に等しいかまたはそれより大きい整数であり、
・Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は、互いに同一かまたは異なり得、飽和の、直鎖または分枝鎖の、Ｃ1〜Ｃ6アルキルおよび加水分解性基からなる群から選択され、Ｘ1、Ｘ2またはＸ3からの少なくとも１つは加水分解性基を示し、そして
・ｋ＝０およびｉ＝０の場合、ＺはＲ1基を示し、
・ｋ＝０およびｉ≧１の場合、Ｚは、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1、−ＮＲ1Ｒ2、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2または−ＳＲ1基あるいはハロゲン原子を示し、
・ｋ≧１そしてｉ＝０の場合、Ｚは、−Ｒ1、−ＣＯＲ1、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2、−ＣＦ3または−（ＣＦ2）jＣＦ3基［ｊは、１〜１０である］を示し、
・ｋ≧１そしてｉ≧１の場合、Ｚは、−ＯＲ1、−ＯＣＯＲ1、−ＮＲ1Ｒ2、−ＣＯＯＲ1、−ＣＯＮＲ1Ｒ2、−ＳＲ1、−ＣＦ3または−（ＣＦ2）jＣＦ3基［ｊは、上記に定義される通りである］あるいはハロゲン原子を示し、
・Ｒ1およびＲ2は、同一または異なり得、水素原子；１〜２４の炭素原子を含む、必要に応じて置換された、飽和または不飽和のおよび直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖；あるいは芳香族基を示す。
【００４０】
一般式（Ｉ’）のオルガノシリコン化合物の使用は、上記に与えられるＳＡＭの定義に対応する緻密な（dense）そして組織化した単層によって、固体支持体の表面を有利に修飾することを可能にする。表面上にこのように形成される単層は、化学処理（酸性または塩基性）に関して高い耐性を示す。本発明に従うオルガノシリコン剤によって支持体の表面上に形成される単層の堅牢性（robstness）および均一性が、例えば、腐食に対して支持体を処理することを可能にする。
【００４１】
支持体へグラフトされた該化合物は、表面とのシロキサンタイプの強固な共有結合を生じさせ、そしてそれらのアルキル鎖間に強固な結合を現し、該分子の自己集合の結果、シロキサン結合を保護する。さらに、グラフトは再現性（reproducible）であり、そしてグラフトされた化合物のＺ基は高い化学反応性を示す。
【００４２】
本発明の別の主題は、表面が組織化自己集合単層（organized self-assembled monolayer）によって修飾されている固体支持体であって、該単層が、上記に定義される一般式（Ｉ’）の少なくとも１つのオルガノシリコン化合物の網目構造を含むことを特徴とする。
【００４３】
本発明の意味において、用語“網目構造（network）”は、分子が組織化されており、そして分子の鎖が互いに共有結合または非共有結合（例えば、ファンデルワールス力）を介して相互作用している、分子の集合を意味すると理解される。
【００４４】
該単層はまた、本発明に従う一般式（Ｉ’）のオルガノシリコン化合物に加えて、支持体上における式（Ｉ’）の化合物の密度を減少させることを可能にする、固体支持体へグラフトされ得る任意の他のタイプの化合物を、このような効果が望まれる場合に含み得ること（“混合”単層の製造）が明らかに理解される。
【００４５】
好適な固体支持体は、水和表面を有するものである。好ましくは、該固体支持体は、その表面が、修飾される前に、ヒドロキシル基を提示するようなものである。それは、有利には、ガラス、セラミックス（好ましくは、酸化物タイプのもの）、金属（例えば、アルミニウムまたは金）および半金属（semimetals）（例えば、酸化ケイ素（oxidixed silicon））からなる群から選択される。
【００４６】
本発明の別の主題は、上記に定義される固体支持体の製造方法であって、以下の段階：
ａ）固体支持体からの汚染物質の除去、およびその表面の水和および／またはヒドロキシル化、
ｂ）少なくとも１つの無極性炭化水素溶媒を含む少なくとも２つの溶媒の混合物への、上記に定義される一般式（Ｉ’）の少なくとも１つのオルガノシリコン化合物の、不活性雰囲気下での、導入、
ｃ）段階ｂ）において調製された溶液中での浸漬による、段階ａ）において得られた支持体のシラン化、ならびに
ｄ）溶媒、好ましくは極性溶媒を使用しての、段階ｃ）において得られた修飾化支持体のすすぎ、
を含むことを特徴とする。
【００４７】
用語、固体支持体の“汚染物質（contaminant）”は、支持体の表面に存在し、そして支持体自体の化学構造の一部を形成しない、任意の化合物（例えば、グリース（grease）、ダストまたは他の化合物）を意味すると理解される。
【００４８】
本発明に従う方法は、有利には、無機表面の特性を化学的に修飾することを可能し、これは、表面へグラフトされるオルガノシリコン化合物によって導入されるＺ基の機能（function）として達成される。
【００４９】
特に有利な様式において、固体支持体の性質に従って、段階ａ）は、１以上の溶媒および／または酸化剤および／またはヒドロキシル化剤（例えば、クロム（VI）／硫酸混合物）、洗剤（例えば、Ｈｅｌｌｍａｎｅｘ（登録商標））、オゾンを用いた光化学処理（photochemical treatment）または任意の他の好適な処理を使用して行われる。
【００５０】
段階ｂ）は、有利には、少なくとも１つの無極性炭化水素溶媒および少なくとも１つの極性溶媒の混合物中で行われ得る。この場合、極性溶媒に関する無極性溶媒の容量比は、好ましくは７０／３０〜９５／５である。例としてそして限定を意味せずに、使用され得る無極性炭化水素溶媒はシクロヘキサンであり、そして使用され得る極性溶媒はクロロホルムである。
【００５１】
本発明に従う方法の段階ｂ）における溶媒の混合物中のオルガノシリコン化合物の濃度は、有利には、１×１０-5〜１×１０-2ｍｏｌ／リットルである。
【００５２】
支持体のシラン化の段階ｃ）は、使用される溶媒に従って、１分〜３日の時間の間、そして−１０℃〜１２０℃の温度で、行われ得る。
【００５３】
表面が本発明に従う組織化自己集合単層によって修飾されている、固体支持体は、有利には、Ｚ末端基の性質の機能（function）として、生体分子（例えば、オリゴヌクレオチドまたはタンパク質）の合成または固定化のための支持体として、使用され得る。
【００５４】
従って、本発明の別の主題は、共有結合を介しての生体分子の合成または固定化における上記に記載の固体支持体の使用である。
【００５５】
本発明のより特定の主題は、上記に記載の固体支持体上における生体分子の合成方法であって、該生体分子が一連の繰り返し単位（a sequence of repeat units）から構成されること、および該方法が、該繰り返し単位をグラフトする連続段階を含み、第１にグラフトされる繰り返し単位が、該固体支持体上に存在する前記オルガノシリコン化合物のＺ基に関して反応性である官能基を保有していることを特徴とする。
【００５６】
本発明の更なる主題は、上記に記載の固体支持体上における生体分子の固定化方法であって、それは前記オルガノシリコン化合物のＺ基に関して反応性である官能基を保有する該生体分子を、該固体支持体へグラフトする段階を含むことを特徴とする。
【００５７】
上記に記載の生体分子の合成または固定化のための方法を行う前に、そしてオルガノシリコン化合物のＺ末端官能基が、例えば、−ＯＣＯＲ1基（ここで、Ｒ1は、本発明に従う化合物の式（Ｉ’）に関連して定義される通りである）、または−ＣＯＯＲ1基（ここで、Ｒ1は、本発明に従う化合物の式（Ｉ’）に関連して定義される通りであるが、水素原子以外である）である場合に、対応のアルコールまたはカルボン酸官能基が、好適な化学処理（例えば、水／エタノール混合液中０．５Ｍ水酸化カリウム）によって、必要であれば、予め脱保護され得る。
【００５８】
上記で今記載した適用に加えて、本発明に従う固体支持体はまた、例えばそして限定を意味せずに、無機支持体へ触媒をグラフトするために、またはコンビナトリアル化学の分野において、固体支持体上において種々の化学合成を行うために、使用され得る。それらはまた、引き続いての化学修飾に供され得る；例えば、本発明に従う臭素化されたオルガノシリコン化合物がグラフトされている固体支持体のアミンでの処理は、殺生物特性（biocidal properties）を有する表面を得ることを可能にする。
【００５９】
前述のアレンジメントに加えて、本発明はまた、続く説明から明らかになるであろう他のアレンジメントを含み、該説明は、本発明に従うオルガノシリコン化合物の合成およびこれらのオルガノシリコン化合物の組織化自己集合単層による固体支持体の修飾の実施例、ならびに添付の図面を参照する。
【００６０】
しかし、これらの実施例は、本発明の主題の例示によってのみ与えられ、それらは本発明の限定を決して構成しないことが、明らかに理解されなければならない。
【００６１】
実施例１：式（Ｉ）のオルガノシリコン化合物の合成
１）不飽和アルコールの合成（図１）
・マグネシウム誘導体２の調製
マグネシウム（１．８ｇ、７０ｍｍｏｌ）を、５００ｍｌの三ツ口丸底フラスコへ、不活性雰囲気下で導入する。前もって７０ｍｌの無水ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）に溶解した、不飽和臭素化誘導体１（１６．３ｇ、７０ｍｍｏｌ）を滴下する。数滴のジブロモエタンが、該マグネシウムを活性化するために必要であり得る。反応混合物を、１時間３０分間還流させ、マグネシウム誘導体２を得、これを直ちに使用する。
【００６２】
・リチウムアルコキシド４の調製
ブロモアルコール３（１７．７ｇ、７０ｍｍｏｌ、１ｅｑ）を、不活性雰囲気下で、乾燥２５０ｍｌの三ツ口丸底フラスコ中、７０ｍｌの無水ＴＨＦに溶解する。溶液を−７８℃へ冷却し、次いでメチルリチウム（５０ｍｌ、８０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）を滴下する。リチウムアルコキシド４が得られる。
【００６３】
・不飽和アルコール５の調製
マグネシウム誘導体２を−７８℃へ冷却し、次いでヨウ化銅（１．１ｇ、３．５ｍｍｏｌ、０．０５ｅｑ）を添加した。溶液を２５分間−７８℃で攪拌し、次いで深紅色（crimson color）が得られるまで、周囲温度へ再加熱する。次いで、溶液を、直ちに−７８℃へ冷却し、そしてアルゴン雰囲気下で中空針（hollow needle）を使用してリチウムアルコキシド４を導入する。溶液を１時間−７８℃で、次いで１８時間周囲温度で攪拌する。過剰メチルリチウムを、エタノールの添加し、続いて１０％塩酸水溶液の添加による酸性媒体中での加水分解によって破壊する。有機相をジエチルエーテルで３回抽出する。エーテル相を合わせ、そして１０％塩酸溶液、水、そして最終的に飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で洗浄する。続いて、有機相を中性へ洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、次いで真空下で濃縮する。生成物をアセトンからの再沈殿で精製する。化合物５を白色固体の形態で得る（１９．８ｇ；融点６１．７−６２．８°Ｃ；収率８７％）。赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００６４】
【数１】
0004950404.tif 000011
【００６５】
２）エチレングリコールの導入（図２）
・不飽和塩素化誘導体６の合成
上記で得られたアルコール５（１５ｇ、４６ｍｍｏｌ、１ｅｑ）およびピリジン（４０．３６ｍｌ、６ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ）を、メカニカルスターラーを備えそして垂直還流冷却器を載せた２５０ｍｌの二ツ口丸底フラスコへ導入する。次いで、塩化チオニル（６ｍｌ、７０ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ）を滴下する。反応媒体を１時間攪拌し、次いでＯＨバンドが完全に消滅するまで還流させる（赤外分光法によってモニターされる）。続いて反応媒体を、加水分解し、次いでジエチルエーテルで３回抽出する。エーテル相を合わせ、１０％塩酸溶液、水、次いで飽和ＮａＨＣＯ3溶液で洗浄する。続いて、エーテル相を中性まで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、そして真空下で濃縮する。化合物６を黄色固体の形態で得、次いでシリカクロマトグラフィー（溶出液：石油エーテル／エーテル、７０／３０  ｖ／ｖ）によって精製し；白色固体を得る（１４ｇ；融点３４．１〜３４．９℃；収率７５％）。赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００６６】
【数２】
0004950404.tif 000012
【００６７】
・不飽和ヨウ素化誘導体７の合成
不飽和塩素化化合物６（１０．６ｇ、３２ｍｍｏｌ）およびヨウ化ナトリウム（２２ｇ、１４０ｍｍｏｌ、４ｅｑ）を、２５０ｍｌ丸底フラスコ中のアセトン（４０ｍｌ）に溶解する。次いで、溶液を１８時間還流させる。続いて、反応媒体をジエチルエーテルで抽出し、エーテル相を合わせ、次いで水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、そして真空下で濃縮する。生成物をアセトンからの沈殿操作によって精製する。化合物７を、黄色固体の形態で得る（１１ｇ；融点４１．１〜４２．０℃；収率８１％）。赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００６８】
【数３】
0004950404.tif 000013
【００６９】
・不飽和アルコール８の合成
２０ｍｌの無水ＴＨＦ中のエチレングリコール（１１．５ｇ、１８０ｍｍｏｌ、１０ｅｑ）および予め粉末にされた水酸化ナトリウム（３．７ｇ、９０ｍｍｏｌ、５ｅｑ）の溶液を、３０分間還流させる。ヨウ素化化合物７（８ｇ、１８ｍｍｏｌ、１ｅｑ）および硫酸水素テトラブチルアンモニウム（０．６２ｇ、１．８ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ）を添加する。続いて、反応媒体を７２時間還流する。周囲温度へ戻した後、塩酸水溶液（１０％、５０ｍｌ）を導入する。続いて、反応媒体をジエチルエーテルで３回抽出し；エーテル相を合わせ、そして１０％塩酸溶液で２回 、水、次いで飽和ＮａＨＣＯ3溶液で洗浄する。続いて、エーテル相を中性へ洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、そして真空下で濃縮する。得られた固体をジクロロメタンから再沈殿させ、次いでシリカクロマトグラフィーによって精製する（溶出液：ジクロロメタン／酢酸エチル；ｖ／ｖ：３０／７０）。化合物８を、白色固体の形態で得る（１．４ｇ；融点６１．２〜６２．４℃；収率２１％）。赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００７０】
【数４】
0004950404.tif 000014
【００７１】
・エステル形態で保護された不飽和アルコール９の合成
不飽和アルコール８（０．９ｇ、２．７ｍｍｏｌ）を、１００ｍｌの二ツ口丸底フラスコ中、ジクロロメタン（１０ｍｌ）およびトリエチルアミン（０．６ｍｌ、５．４ｍｍｏｌ、２ｅｑ）に懸濁させる。反応媒体を０℃へ冷却し、次いで塩化アセチル（０．５ｍｌ、４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ）を、シリンジを使用して滴下する。反応媒体を１５分間０℃で、次いで１時間３０分周囲温度で攪拌する。続いて、それを加水分解し、次いでジエチルエーテルで３回抽出する。エーテル相を合わせ、そして１０％塩酸溶液、水、次いで飽和ＮａＨＣＯ3溶液で洗浄する。次いで、エーテル相を中性まで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、そして真空下で濃縮する。化合物９を白色固体の形態で得る（０．９ｇ；収率１００％）。赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００７２】
【数５】
0004950404.tif 000015
【００７３】
３）３つのエチレングリコール単位の導入（図２）
上記で得られた不飽和ヨウ素化誘導体７およびトリエチレングリコールから出発して、不飽和アルコール１０を得、次いでエステル化して生成物１１を得る。これは、上述と同一のプロトコルに従って行われる。
【００７４】
赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによる生成物１０の分析は、以下の通りである。
【００７５】
【数６】
0004950404.tif 000016
【００７６】
赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによる生成物１１の分析は、以下の通である。
【００７７】
【数７】
0004950404.tif 000017
【００７８】
４）不飽和エステルの調製（図３）
上記で得られた不飽和アルコール１０から出発して、対応の酸および対応のエステルを以下のように調製した。
【００７９】
・酸１２の調製
不飽和アルコール１０（３ｇ、６．６ｍｍｏｌ）を１００ｍｌの三ツ口丸底フラスコ中の１０ｍｌのアセトンに懸濁させる。５ｍｌの２Ｍジョーンズ試薬（Bowden et al., J. Chem. Soc., 1946, 39）を懸濁液に添加する。懸濁液を２時間還流させる。周囲温度へ戻した後、アセトンを蒸発させ、そして固体を濾別し、次いで水で５回および０℃に冷却したアセトンで３回リンスする。続いて、固体をＴＨＦ／アセトン混合物（ｖ／ｖ：９／１）からの再結晶によって精製し、化合物１２を白色固体の形態で得る（２．９ｇ；収率９４％）。赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００８０】
【数８】
0004950404.tif 000018
【００８１】
・エステル１３の調製
酸１２（２．９ｇ、６．４ｍｍｏｌ）を、１００ｍｌの三ツ口丸底フラスコ中、０℃、不活性雰囲気下で、無水トルエン（７ｍｌ）に溶解させる。塩化オキサリル（１．２２ｇ、９．６ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ）を滴下し、次いで混合物を周囲温度で２時間攪拌する。続いて、過剰の反応物および溶媒を、真空下で蒸発させる。塩化アシルをアルゴン下で一時的に保存する。予め塩化カルシウム上で蒸留させたメタノール（６ｍｌ、１２８ｍｍｏｌ、２０ｅｑ）を、徐々に添加する。続いて、反応媒体を１８時間還流し、その後周囲温度へ戻し、次いで過剰メタノールを蒸発させる。次いで、反応媒体を３回ジエチルエーテルで抽出する。エーテル相を合わせ、そして１０％塩酸溶液、水、および飽和ＮａＨＣＯ3溶液で洗浄する。続いて、エーテル相を中性まで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、そして真空下で濃縮する。化合物１３を白色固体の形態で得、次いでシリカクロマトグラフィー（溶出液：石油エーテル／エーテル、容積で５０／５０）によって精製する。３００ｍｇの白色固体を得る（収率１０％）。赤外ならびにプロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００８２】
【数９】
0004950404.tif 000019
【００８３】
単一エチレングリコール単位を含むアルコール８を使用することによって、対応の酸およびエステルがまた、アルコール１０から出発してここで記載したのと同一のプロトコルに従って得られ得る。
【００８４】
５）不飽和前駆体のシリル化（図４）
エステル９（１５０ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）を、不活性雰囲気下、乾燥Ｓｃｈｌｅｎｋチューブへ導入する。新たに蒸留したトリクロロシラン（０．３ｍｌ、２．２ｍｍｏｌ、６ｅｑ）、無水トルエン（０．３ｍｌ）およびＡＢＣＲによって販売される（リファレンス６８４７８−９２−２）ｄｒｏｐｐｅｒ  Ｋａｒｓｔｄ触媒（ＰＣＯ  ７２）を添加する。次いで、反応媒体を２時間４０℃へ冷却する。周囲温度へ戻した後、トルエンおよび過剰なトリクロロシランを、ベーンポンブ（vane pump）（圧力は０．５ｍｍＨｇである）を使用して、減圧下で、蒸発させる。化合物１４を白色固体の形態で得、そしてアルゴン下で保存する（収率９９％）。それは、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が塩素原子を示し、ｎが２２に等しく、ｉが０に等しく、ｋが１に等しく、そしてＺが−ＣＯＣＨ3基を示す、本発明に従う式（Ｉ）のオルガノシリコン化合物である。
【００８５】
プロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによる化合物１４の分析は、以下の通りである。
【００８６】
【数１０】
0004950404.tif 000020
【００８７】
化合物１１から出発することによってそして同一のプロトコルを使用することによって、対応のオルガノシリコン化合物１５が得られる。それは、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が塩素原子を示し、ｎが２２に等しく、ｉが０に等しく、ｋが３に等しく、そしてＺが−ＣＯＣＨ3基を示す、本発明に従う式（Ｉ）のオルガノシリコン化合物である。プロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００８８】
【数１１】
0004950404.tif 000021
【００８９】
上記で得られた化合物１３から出発することによってそして同一のプロトコルを使用することによって、対応のオルガノシリコン化合物１６が得られる。それは、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が塩素原子を示し、ｎが２２に等しく、ｉが１に等しく、ｋが２に等しく、そしてＺが−ＣＯＯＣＨ3基を示す、本発明に従う式（Ｉ）の化合物である。プロトンおよびカーボン−１３ＮＭＲによるその分析は、以下の通りである。
【００９０】
【数１２】
0004950404.tif 000022
【００９１】
実施例２：式（Ｉ）のオルガノシリコン化合物を使用しての固体支持体のシラン化、および組織化自己集合単層の製造
１）固体支持体のシラン化
表面酸化シリコンディスク（surcace-oxidized silicon disk）を、支持体として使用する。ディスクを、その表面から汚染物質（contaminants）を除去しそしてそれを水和させるために、以下の手順にした従って清浄にする：
−新たに調製したクロム（ＶＩ）／硫酸混合物（２．５ｇのＫ2Ｃｒ2Ｏ4；２．５ｍｌの蒸留水；５０ｍｌの硫酸）中で１０分間の浸漬、
−ダストフィルターを備えた層流フード（laminar flow hood）下で、ディスクを脱イオン水に浸漬し、そして２０分間超音波へ供する。このプロセスを、それぞれ５および２分間の超音波への曝しの持続を２回繰り返す、
−ダストフィルターを備えた層流フード下で、ディスクを、不活性でそしてフィルターされた（filtered）雰囲気下で、乾燥させるためにシラン化リアクターへ導入する。リアクターを、４５分間、オイルバス中、１００℃で放置し、次いでオイルバスから取り出し、そしてその温度を１８℃へ戻す。
【００９２】
不活性雰囲気下で、所望の量で新たに調製した、実施例１で得られるオルガノシリコン化合物１４を、Ｃ6Ｈ12／ＣＣｌ4／ＣＨＣｌ3（ｖ／ｖ／ｖ：８０／１２／８）混合物のフラクションに溶解する。続いて、溶液中のオルガノシリコン化合物１４を、シリンジで回収し、次いで、溶媒混合物の残余を含むＳｃｈｌｅｎｃｋチューブへ導入し、この全容積は、好適な希釈（１×１０-5〜１×１０-2ｍｏｌ／リットル）のシラン化溶液を作製するために算出されている。溶媒を、それ自体が公知の手順に従って予め乾燥させた。
【００９３】
シラン化溶液をシリンジでリアクターへ導入し、そしてシリコンディスクを、この溶液中に１６時間浸漬させたままにする。
【００９４】
シラン化されたディスクをリアクターから回収し、次いでクロロホルム（ＨＰＬＣグレード）に浸漬し、そして超音波で２分間洗浄する。続いて、このプロセスを２回繰り返す。
【００９５】
２）修飾化表面のキャラクタライゼーション
表面が化合物１４で修飾されている、固体支持体が、上記で得られた。オルガノシリコン化合物のグラフト化を、共焦点ラマン分析法および赤外分光法を使用することによってモニターする。
【００９６】
３）表面ヒドロキシルの放出
必要であれば、表面ヒドロキシルを、以下のプロトコルを使用することによって放出させ得る：シラン化ディスクを、水／エタノール（ｖ／ｖ：１／１）混合物中のＫＯＨ（０．５Ｍ）の溶液に２０分間浸漬させる。引き続いて、ディスクを超音波で５分間脱塩水中で清浄する。このプロセスを水中で１回、次いでクロロホルム中で２回繰り返す。
【００９７】
４）ヒドロキシルの放出後の表面のキャラクタライゼーション
１）で与えられるプロトコルに従って、そして上記に示されるように表面エステルを鹸化後、支持体へ化合物１４をグラフト化する３つの実験後に得られる赤外スペクトルを図５に示す。透過率（transmission）は縦軸上に現れ、そして周波数（frequency）（ｃｍ-1）は横軸に現れる。３つのスペクトルは、２９１７および２８５０ｃｍ-1で組織化系（organized system）の特徴的なピークで、重ね合わせられていることに注意する。従って、それから、支持体へのオルガノシリコン化合物のグラフトは、再現性があり、そして組織化自己集合単層の形成を生じさせることが結論され得る。
【００９８】
上記で得られた修飾化表面のラマン分光分析研究が、図６に示される。図６ａは、グラフト化支持体の表面の密度を表し、表面の寸法は、横軸および縦軸に現れ（図における７ｍｍは、支持体における１μｍに対応する）、そして密度のスケールは、１３０〜１６５（任意の単位）に目盛りをつけられる（graduated）。表面の均一性は、この図によって実証される。支持体の表面の２つの異なるポイントで測定されたラマンスペクトルを、図６ｂおよび図６ｃに示す；縦軸は１秒当たりのカウントを示し、そして周波数は横軸に現れる。
【００９９】
従って、赤外およびラマンスペクトルは、明白に、組織化自己集合単層の特徴である、支持体に堆積された膜の均一性および表面上の分子の組織化を示す。赤外スペクトルはまた、膜のグラフト化が完全に再現性であることを示す。
【０１００】
実施例３：式（Ｉ）のオルガノシリコン化合物を使用しての固体支持体上におけるシラン化の他の例
ガラス顕微鏡スライド（glass microscope slide）を、支持体として使用する。ガラススライドを、２％水性Ｈｅｌｌｍａｎｅｘ（登録商標）溶液（Ｐｏｌｙｌａｂｏによってリファレンス１１２４０で販売）中、２時間、２０℃での浸漬、次いで多量の脱イオン水でのすすぎによって、清浄にする。
【０１０１】
ダストフィルターを備えた層流フード下で、ガラススライドを、不活性でそしてフィルターされた（filtered）雰囲気下で、乾燥させるためにグラフト化リアクターへ導入する。リアクターを、４５分間、１００℃でオイルバス中に置き、次いで、オイルバスから取り出し、そしてその温度を１８℃へ戻す。
【０１０２】
実施例２に示されるようにオルガノシリコン化合物１４を使用して調製されたシラン化溶液を、シリンジで、リアクターへ導入し、そしてガラススライドをこの溶液に１６時間浸漬させたままにする。シラン化支持体を、実施例２に記載されるようにすすぐ。
【０１０３】
赤外およびラマン分光分析による表面のキャラクタライゼーションは、ここでまた、支持体上における組織化自己集合単層の製造を実証する。
【０１０４】
上記から明らかになるものに加えて、本発明は、決して、今より明白に記載された実行、実施および適用形態に限定されない；逆に、それは、本発明の文脈または範囲から逸脱することなく、主題において科学技術者の思考に思いつき得る全てのその代替形態を含む。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１、２および３は、本発明に従うオルガノシリコン化合物の不飽和前駆体の合成を示す。
【図２】  図１、２および３は、本発明に従うオルガノシリコン化合物の不飽和前駆体の合成を示す。
【図３】  図１、２および３は、本発明に従うオルガノシリコン化合物の不飽和前駆体の合成を示す。
【図４】  図４は、これらの不飽和前駆体のシリル化を示す。
【図５】  図５は、オルガノシリコン化合物１４をＡｕ／Ｓｉ／ＳｉＯ2支持体へグラフトする３つの実験後に得られた赤外スペクトルを示す。
【図６ａ】  図６ａは、オルガノシリコン化合物１４がグラフトされているＡｕ／Ｓｉ／ＳｉＯ2支持体の表面のラマン分光分析によって分析された密度を示す。
【図６ｂ】  図６ｂおよび６ｃは、この表面の２つの異なるポイントで測定されたラマンスペクトルを示す。
【図６ｃ】  図６ｂおよび６ｃは、この表面の２つの異なるポイントで測定されたラマンスペクトルを示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図６ｃ】
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