(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示面に光学フィルターが取り付けられている画像表示装置であって、光学フィルターが表示面から順に、色素およびポリマーバインダーを含むフィルター層、厚みが１０μｍ以上５００μｍ以下の２軸延伸フィルムからなる透明支持体、１層または２層からなり厚みの合計が５０〜１７０ｎｍであり、少なくとも一層がガラス転移温度が６０℃以下−１０℃以上のポリマーを含む下塗り層、そして可視光に対する反射防止能を有する反射防止層が設けられていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記下塗り層が、透明支持体に隣接する第１層下塗り層、およびその上に設けられる第２層下塗り層からなることを特徴とする請求項１記載の画像表示装置。
【請求項３】
第１層下塗り層および第２層下塗り層のいずれも、ガラス転移温度が６０℃以下−１０℃以上のポリマーを含むことを特徴とする請求項２記載の画像表示装置。
【請求項４】
第１層下塗り層がスチレン−ブタジエン系共重合体からなり、第２層下塗り層がアクリル系樹脂層からなることを特徴とする請求項２記載の画像表示装置。
【請求項５】
ガラス転移温度が６０℃以下−１０℃以上のポリマーが、室温で１０００乃至１ＭＰａの弾性率を有することを特徴とする請求項１記載の画像表示装置。
【請求項６】
プラズマディスプレイパネルであることを特徴とする請求項１〜請求項５記載の画像表示装置。
【請求項７】
液晶表示装置であることを特徴とする請求項１〜請求項５記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可視光を吸収するフィルター層、透明支持体、特に２軸延伸フィルムからなる透明支持体、および反射防止層を有する光学フィルターを備えた画像表示装置に関する。特に、本発明は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置の表示面に、反射防止、および色再現性改良のために光学フィルターが取り付けられている画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、多種の画像表示装置（ディスプレイ）例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイの開発とこれらを組み込んだ機器が実用化されている。
これらの画像表示装置は、様々な問題例えば、表示素子の色純度や色分離が不十分なため色補正を要する問題、ディスプレイ上に背景が映り込む事でコントラストが低下する問題、表示素子に起因する赤外線や電磁波の外部漏洩の問題等を抱えている。これらのそれぞれの問題に対しては、例えば、色補正のための可視フィルター、反射防止膜、赤外線遮蔽フィルター、電磁波遮蔽フィルター等をディスプレイの前面に用いることが提案されている。
【０００３】
特に、フィルターによる色補正については、特許文献１〜８に記載がある。
光学フィルターの形成方法には様々な方法が開示されている。特許文献２、４〜６に記載の光学フィルターでは、透明支持体に染料または顔料を添加して、支持体をフィルターとして機能させている。特許文献７記載の光学フィルターでは、透明支持体と反射防止層との間に設けられるハードコート層（表面硬化層）を着色し、ハードコート層をフィルターとして機能させている。また、特許文献９に記載の光学フィルターでは、色素と金属アルコキシドの混合液を塗布、乾燥、焼成して、フィルター層として機能させている。更に、特許文献８記載の光学フィルターでは、色素及びマトリクスポリマーを適当な溶媒に溶解、塗布して、フィルター層として機能させている。
しかし、これらの方法で形成したフィルター層は、フィルター層中の色素濃度が高くなると、フィルター層がある特定の波長の光を反射するようになり、光学フィルターの色補正機能を悪化させるようになる。逆に、フィルター層中の色素濃度を低くすると、光学フィルターとしての光学濃度を得る為にフィルター層の膜厚を厚くしなければならない。従って、塗布によるフィルター層の製造工程では、乾燥不良や膜のひび割れ等の故障が発生し易くなる。
【０００４】
また、特に反射防止には今まで、眼鏡、カメラ等のレンズ等で用いられている、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層反射防止膜が用いられており、この多層反射防止膜では層数が多いほど広い波長領域の光に対し有効であることから、従来真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法により透明薄膜を多数積層することが行われてきた。
但しこれらの方法では高度な真空が必要であり装置が大がかりなものとなること、さらに予め設計された屈折率と膜厚との関係に従い、各層の膜厚を高度に制御することが必要なため、生産性に問題があり、大面積のフィルム上に低コストで反射防止膜を製造することは難しかった。
さらにフィルムは熱で変形、変質するため高温に晒すことは出来ず、フィルムの揮発成分（水分、溶剤等）が高真空度を保つことを阻害するため、フィルム上に真空蒸着法、スパッタリング法等により屈折率の異なる透明薄膜を積層させる場合、薄膜の厚み、強度等が不均一になり易い等の問題もあった。
このような真空蒸着法、スパッタリング法による問題点を解決するために、湿式塗布により反射防止膜を形成する方法が検討されてきた。例えば特許文献１０には、微細空孔と１〜３００ｎｍの無機微粒子とを有し、基材より屈折率の低い反射防止層を有する反射防止性透明材料が開示されているが、この方法でも屈折率を低くするため、得られたサンプルを真空下で活性ガスによって処理する必要があり、結果として蒸着と同じ様な問題（大きな真空系、活性ガス処理の微妙な制御）を抱えていた。
また、特許文献１１〜１３にはシリカ微粒子とバインダーとしてのシラン加水分解物を用いた低屈折率層を含む反射防止膜が開示されているが、この構成では低屈折率層の屈折率を十分低くすることが難しく、低い反射率が得られないと言う問題点があった。
【０００５】
これらの各フィルターはそれぞれがディスプレイの種類により多様な課題を要求される。例えば色補正用の可視フィルターは、表示素子の特性に応じたシャープな吸収体を形成する必要があり、これ以外にもガラス練り込み等の耐熱化、物理性強化が求められる。また反射防止膜は、可視光の全領域で理想的な反射率を得るためには多層化が必要となり、蒸着法や塗布法で多層膜を形成するには工程上の困難さやコスト高の問題を伴う。従って、ディスプレイの前面板に多くの機能を持たせようとすると、それぞれの機能のフィルターに要求される特性の他に、１つの機能が他の機能を妨げてはならないという制約が生じる。そのため、多機能の前面板は未だ実用には至っていない。
さらには、これらの反射防止層、選択吸収フィルター層をもつ前面板は前面板の後ろにある表示素子の破損時の飛散防止のみならず、自身の耐破損性が十分なものであることが必要であり、一定以上の強度が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】
特開昭５８−１５３９０４号公報
【特許文献２】
特開昭６１−１８８５０１号公報
【特許文献３】
特開平３−２３１９８８号公報
【特許文献４】
特開平５−２０５６４３号公報
【特許文献５】
特開平９−１４５９１８号公報
【特許文献６】
特開平９−３０６３６６号公報
【特許文献７】
特開平１０−２６７０４号公報
【特許文献８】
国際公開第９８／２３９８０号パンフレット
【特許文献９】
特開平７−２０９５１０号公報
【特許文献１０】
特開昭６０−５９２５０号公報
【特許文献１１】
特開昭５９−４９５０１号公報
【特許文献１２】
特開昭５９−５０４０１号公報
【特許文献１３】
特開平７−４８５２７号公報
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、製造適性に優る、かさばらず軽い、かつ機械的強度が高い等の課題を満足する多機能の光学フィルターを用いた画像表示装置を提供することであり、特に反射防止機能に加えて適切な色補正機能を有する光学フィルターを用いた画像表示装置を提供することである。
さらに、本発明の目的は、ディスプレイパネルの外光の映り込みによる視認性の低下を抑え、色調整を行うことである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的は、下記の発明により達成された。
（１）表示面に光学フィルターが取り付けられている画像表示装置であって、光学フィルターが表示面から順に、色素およびポリマーバインダーを含むフィルター層、厚みが１０μｍ以上５００μｍ以下の２軸延伸フィルムからなる透明支持体、１層または２層からなり厚みの合計が５０〜１７０ｎｍであり、少なくとも一層がガラス転移温度が６０℃以下−１０℃以上のポリマーを含む下塗り層、そして可視光に対する反射防止能を有する反射防止層が設けられていることを特徴とする画像表示装置。
（２）前記下塗り層が、透明支持体に隣接する第１層下塗り層、およびその上に設けられる第２層下塗り層からなることを特徴とする（１）記載の画像表示装置。
（３）第１層下塗り層および第２層下塗り層のいずれも、ガラス転移温度が６０℃以下−１０℃以上のポリマーを含むことを特徴とする（２）記載の画像表示装置。
（４）第１層下塗り層がスチレン−ブタジエン系共重合体からなり、第２層下塗り層がアクリル系樹脂層からなることを特徴とする（２）記載の画像表示装置。
（５）ガラス転移温度が６０℃以下−１０℃以上のポリマーが、室温で１０００乃至１ＭＰａの弾性率を有することを特徴とする（１）記載の画像表示装置。
（６）プラズマディスプレイパネルであることを特徴とする（１）から（５）記載の画像表示装置。
（７）液晶表示装置であることを特徴とする（１）から（５）記載の画像表示装置。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】  陰極管表示装置（ＣＲＴ）またはプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の本体Ａの前面に本発明の前面板を用いた場合の断面概念図である。（ａ）は本体Ａと前面板Ｄが密着した場合、（ｂ）は本体Ａと前面板Ｄの間に空間がある場合の概念図である。
【図２】  前面板の層構成の断面模式図である。（ａ）および（ｂ）は図１（ａ）の、（ｃ）および（ｄ）は図１（ｂ）の配置に対応する層構成の例である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明は下記に挙げるいくつかの例により説明することができるが、特に断らない限りそれらの例に限定されるものではない。
本発明においてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）とは、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
前面板とは該プラズマディスプレイパネルの前面に位置する基板のことである。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板はプラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。
本発明におけるプラズマディスプレイ表示装置とは少なくともプラズマディスプレイパネル本体と筐体をふくむ表示装置全体のことである。前面板を有する場合はこれもプラズマディスプレイ表示装置に含まれる。
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。
【００１１】
本発明の画像表示装置用の光学フィルターおよびそれを用いた前面板の代表的な層構成を、図面を参照しながら説明する。
以下、陰極管表示装置（ＣＲＴ）およびプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用の前面板として、またはその一部として使用する場合の層構成について説明する。
第１図は陰極管表示装置（ＣＲＴ）またはプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の本体Ａの前面に本発明の前面板Ｄを用いた場合の断面概念図である。第１図（ａ）は本体Ａと前面板Ｄとが密着し、各種のフィルター層や反射防止層からなる光学フィルターＣが前面板の支持体の片面（前面）にのみ設けられている場合、第１図（ｂ）は本体Ａと前面板Ｄとの間に空間があり、各種フィルター層や反射防止層からなる光学フィルターＣが前面板の支持体の両面に設けられている場合の概念図である。
第２図は光学フィルターおよびそれを用いた前面板の層構成の断面模式図である。第２図（ａ）および第２図（ｂ）は第１図（ａ）の配置に対応する光学フィルターおよびそれを用いた前面板の層構成の例であり、第２図（ｃ）および第２図（ｄ）は第１図（ｂ）の配置に対応する光学フィルターおよびそれを用いた前面板の層構成の例である。
第２図（ａ）では２軸延伸透明支持体とハードコート層および２軸延伸透明支持体とフィルター層との間には、十分な接着強度を得るために下塗り層を設けることが好ましい。
第２図（ｂ）では２軸延伸透明支持体とフィルター層との間に十分な接着強度を得るために下塗り層を設けることが好ましい。フィルター層とガラス透明支持体との間は、例えば市販のアクリル系粘着剤を用いて容易に接着することができる。
第２図（ｃ）および第２図（ｄ）では２軸延伸透明支持体とフィルター層および２軸延伸透明支持体と反射防止層との間には、十分な接着強度を得るために下塗り層を設けることが好ましい。
【００１２】
（透明支持体）
本発明において使用する透明支持体について詳述する。本発明において使用することのできる透明支持体の例には、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート）、ポリアリレート（例、ビスフェノールＡとフタル酸の縮合物）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、アクリル（ポリメチルメタクリレート）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。
透明支持体の厚みは５μｍ以上５ｃｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以上１ｃｍ以下であることがさらに好ましく、８０μｍ以上１．２ｍｍ以下であることが最も好ましい。
【００１３】
透明支持体として、２軸延伸フィルムを使用することが好ましい。
２軸延伸透明フィルムの材料の例には、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアリレート（例、ビスフェノールＡとフタル酸の縮合物）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリオキシエチレンが含まれる。中でも、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート（例、ビスフェノールＡとフタル酸の縮合物）が好ましく、機械的強度、耐久性、汎用性、耐熱性等の観点からポリエステル、中でもエチレンテレフタレート、エチレン−２，６−ナフタレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルが好ましい。本発明においてポリエチレンテレフタレートとはエチレンテレフタレート単位を主たる繰り返し単位とする重合体である。また本発明においてポリエチレンナフタレートとはエチレン−２，６−ナフタレート単位を主たる繰り返し単位とする重合体である。ここで「主たる繰り返し単位とする」とは該繰り返し単位を７０モル％以上、好ましくは８５モル％以上、さらに好ましくは９５モル％以上含む重合体のことであり共重合可能なほかの成分、エチレングリコール以外のグリコール成分、テレフタル酸あるいは２，６−ナフタレンジカルボン酸以外のジカルボン酸成分、あるいは少量の３官能成分が共重合されていることは差し支えない。
２軸延伸透明支持体は上記の樹脂を主たる成分とする樹脂組成物を溶融押し出し、２軸延伸、熱固定されてなるフィルムである。
２軸延伸透明支持体の厚みは１０μｍ以上５００μｍ以下であり、２０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以上２００μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００１４】
本発明の２軸延伸透明支持体は、上記２軸延伸および特定の厚みの相乗効果により支持体そのものの光線透過率が大きく、機械的強度と耐熱性に優れるため、種々の機能を有する層を積層することが可能となった。
透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。引っ張り衝撃強度の弱い透明支持体では厚いものを使わないと一定以上の衝撃強度を付与することができないため、目的の透過率を付与できない可能性がある。このため引っ張り襲撃強度は最低でも２９４ｋＪ／ｍ２、実際には３９２ｋＪ／ｍ２以上であることが必要である。引っ張り衝撃強度はＡＳＴＭＤ１８２２−９３により求めることができる。
ヘイズは、５％以下であることが好ましく、４％以下であることがさらに好ましい。
屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましい。
透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０重量％であることが好ましく、０．０５〜１０重量％であることがさらに好ましい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルクおよびカオリンが含まれる。
透明支持体には下塗り層との接着性をより強固にするために表面処理を施すことが好ましい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、およびオゾン酸化処理を挙げることができ、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火炎処理が好ましく、コロナ放電処理がさらに好ましい。
【００１５】
（フィルター層）
フィルター層は波長が５００乃至６２０ｎｍの範囲に吸収極大を持つことが好ましく、より好ましくは波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲と５６０乃至６２０ｎｍの範囲の両方に吸収極大をもつことである。
波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲の透過率は２０乃至８５％の範囲であることが好ましく、より好ましくは４０乃至８５％の範囲である。
波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲の吸収極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を調整するために設定される。緑の蛍光体の発光域は、なだらかにカットすることが好ましい。波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲の吸収極大での半値幅（吸収極大での吸光度の半分の吸光度を示す波長領域の幅）は、３０乃至３００ｎｍであることが望ましく、４０乃至３００ｎｍであることがより好ましく、５０乃至１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０乃至１５０ｎｍであることが最も好ましい。
波長が５６０乃至６２０ｎｍの範囲の吸収極大での透過率は、０．０１乃至８０％の範囲であることが望ましい。好ましくは０．０１乃至６０％の範囲であり、特に好ましくは０．０１乃至４０％である。
波長が５６０乃至６２０ｎｍの範囲の吸収極大は、赤色蛍光体の色純度を低下させているサブバンドを選択的にカットするために設定される。ＰＤＰにおいては、ネオンの励起によって放出される５８５ｎｍ付近の不要な発光をカットすると同時に赤色蛍光体からの短波側の光をカットする。本発明により吸収極大を分離したことで、緑の蛍光体の色調に悪影響を与えること無く、選択的に光をカットできる。緑の蛍光体の色調への影響をさらに低下させるため、吸収スペクトルのピークをシャープにすることが好ましい。具体的には、波長が５６０乃至６２０ｎｍの範囲の吸収極大での半値幅は、５乃至２００ｎｍであることが望ましく、１０乃至１００ｎｍであることがより好ましく、１０乃至５０ｎｍであることが最も好ましい。
【００１６】
上記の吸収スペクトルを付与するために、色素（染料または顔料）を用いて、フィルター層を形成する。
本発明におけるフィルター層の色素とバインダーの重量比は、１：５０〜１：２０００の範囲であることが望ましく、１：７５〜１：１０００であることが好ましく、１：１００〜１：５００にあることが更に好ましい。色素／バインダー比がこの範囲よりも大きければ、フィルター層中の色素濃度が高い為に、フィルター層がある特定の波長の光を反射するようになり、光学フィルターの色補正機能を悪化させる。逆に、この範囲よりも小さければ、フィルター層中の色素濃度が低く、所望の光学濃度にする為にフィルター層の膜厚を厚くしなければならない。厚いフィルター層の形成においては、塗布、乾燥工程で塗布スジ、乾燥不良、膜のひび割れ等の故障を伴い、あるいは層を分割して薄膜を塗り重ねたとしても工程が複雑となり、製造は容易ではない。
波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ染料としては、スクアリリウム系、アゾメチン系、シアニン系、オキソノール系、アントラキノン系、アゾ系またはベンジリデン系の化合物が好ましく用いられる。アゾ染料としては、ＧＢ５３９７０３号、同５７５６９１号、ＵＳ２９５６８７９号および堀口 博著「総説 合成染料」三共出版などに記載の多くのアゾ染料を使用することができる。一般式（ａ６）で表わされるアゾ染料が好ましい。波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ染料の例を以下に示す。
【００１７】
【化１】
0004854892.tif 000002
【００１８】
【化２】
0004854892.tif 000003
【００１９】
【化３】
0004854892.tif 000004
【００２０】
式中Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に水素原子または一価の基を表わし、Ｍは金属原子を表わし、ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ独立に１〜４の整数を表わす。Ｍで表わされる金属原子としては、遷移金属が好ましく、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄなどを挙げることができ、Ｃｕが特に好ましい。
【００２１】
【化４】
0004854892.tif 000005
【００２２】
【化５】
0004854892.tif 000006
【００２３】
【化６】
0004854892.tif 000007
【００２４】
【化７】
0004854892.tif 000008
【００２５】
波長が５６０乃至６２０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ染料としては、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系またはアゾ系の化合物が好ましく用いられる。波長が５６０乃至６２０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ染料の例を以下に示す。
【００２６】
【化８】
0004854892.tif 000009
【００２７】
【化９】
0004854892.tif 000010
【００２８】
【化１０】
0004854892.tif 000011
【００２９】
【化１１】
0004854892.tif 000012
【００３０】
【化１２】
0004854892.tif 000013
【００３１】
また、波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲と波長が５６０乃至６２０ｎｍの範囲の両方に吸収極大を持つ染料をフィルター層に用いることもできる。例えば、染料を微粒子分散物のような会合体の状態にすると、一般に波長が長波長側にシフトして、ピークがシャープになる。そのため、波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ染料には、その会合体が５６０乃至６２０ｎｍの範囲に吸収極大を持つものもある。そのような染料が部分的に会合体を形成した状態で使用すると、波長が５００乃至５５０ｎｍの範囲と波長が５６０乃至６２０ｎｍの範囲の両方に吸収極大を得ることができる。そのような染料の例を以下に示す。
【００３２】
【化１３】
0004854892.tif 000014
【００３３】
【化１４】
0004854892.tif 000015
【００３４】
フィルター層には、以上のような２種類以上の染料を組み合わせて用いることができる。
フィルター層は、さらにポリマーバインダーを含む。天然ポリマー（例、ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸）または合成ポリマー（例、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド）をポリマーバインダーとして用いることができる。親水性ポリマー（上記天然ポリマー、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、水溶性ポリアミド）が特に好ましい。
フィルター層の厚さは０．１μｍ乃至５ｃｍであることが好ましく、０．５μｍ乃至１ｃｍであることがさらに好ましく、１μｍ乃至７ｍｍであることが最も好ましい。
【００３５】
（下塗り層）
本発明では、今まで述べたフィルター層、赤外遮断層、電磁波遮断層を支持体上に設ける場合には支持体に下塗り層を設けることができる。下塗り層としては室温での弾性率が１０００乃至１ＭＰａ、好ましくは８００乃至５ＭＰａ、さらに好ましくは５００乃至１０ＭＰａの柔らかいポリマーが好ましい。またその厚みは５０ｎｍ乃至１７０ｎｍである。
下塗り層に使用されるポリマーはガラス転移温度が６０℃以下−１０℃以上である。ガラス転移温度が６０℃以下−１０℃以上のポリマーの例としては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリルまたはメチルビニルエーテルの重合または共重合させたものを挙げることができる。また下塗りは複数層設けることができ２層設けることが好ましい。
【００３６】
（反射防止層）
反射防止層としては、正反射率が３．０％以下、好ましくは１．８％以下である。反射防止層としては通常低屈折率層を設ける。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、１．２０乃至１．５５であることが好ましく、１．３０乃至１．５０であることがさらに好ましい。 低屈折率層の厚さは、５０乃至４００ｎｍであることが好ましく、５０乃至２００ｎｍであることがさらに好ましい。
低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−１３０１０３号、同６−１１５０２３号、同８−３１３７０２号、同７−１６８００４号の各公報記載）、ゾルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１号、同６−２９９０９１号、同７−１６８００３号の各公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５９２５０号、特開平５−１３０２１号、同６−５６４７８号、同７−９２３０６号、同９−２８８２０１号の各公報に記載）として形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層は、３乃至５０体積％の空隙率を有することが好ましく、５乃至３５体積％の空隙率を有することがさらに好ましい。
【００３７】
広い波長領域の反射を防止するためには、低屈折率層に、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積層することが好ましい。
高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０乃至１．９０であることが好ましい。
中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ乃至１００μｍであることが好ましく、１０ｎｍ乃至１０μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ乃至１μｍであることが最も好ましい。
中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマーを用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。
さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバインダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子の屈折率は、１．８０乃至２．８０であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例には、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳが含まれる。
被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物（例、キレート化合物）、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成することもできる。
【００３８】
（電磁波および赤外線遮へい層）
本発明において電磁波遮断効果を有する層の表面抵抗は０．０１乃至５００Ω／□、より好ましくは０．０１乃至１０Ω／□である。電磁波遮蔽効果を付与するには、前面板の透過率を低下させないため透明導電層を用いることが好ましい。
透明導電層としては、金属層、金属酸化物層、導電性ポリマー層等を挙げるこができる。
透明導電層を形成する金属としては、例えば銀、パラジウム、金、白金、ロジウム、アルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、錫、タングステン、イリジウム、鉛単独もしくはこれらの合金を挙げることができるが、好ましくは銀、パラジウム、金、白金、ロジウム単独もしくはこれらの合金である。ここで銀とパラジウムの合金が好ましく、このとき銀の含有率は６０％乃至９９％が好ましく、８０％乃至９８％が更に好ましい。金属層の膜厚は１〜１００ｎｍが好ましく、５〜４０ｎｍが更に好ましく、１０〜３０ｎｍが最も好ましい。膜厚が１ｎｍ未満では電磁波遮蔽効果が乏しく、１００ｎｍを超えると可視光線の透過率が低下する。
透明導電層を形成する金属酸化物としては、例えば酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ、ＡＴＯなどを挙げることができる。この膜厚は２０〜１０００ｎｍが好ましい。さらに好ましくは４０〜１００ｎｍである。これら金属透明導電層と酸化物透明導電層を合わせて用いるのも好ましい。また、同一層内に金属と導電性金属酸化物が共存することも好ましい。
金属層の保護、酸化劣化防止および可視光線の透過率を高めるために透明酸化物層を積層することができる。この透明酸化物層は導電性があってもなくてもかまわない。透明酸化物層としては例えば２〜４価金属の酸化物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび金属アルコキサイド化合物等の薄膜が挙げられる。
透明導電層、透明酸化物層を形成する方法としては特に制限はなく、任意の加工処理方法を選択することが可能である。例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法、該当する金属あるいは金属酸化物の超微粒子の塗布等いずれの公知技術も用いることが可能である。
本発明における赤外線遮蔽効果とは、８００乃至１２００ｎｍの近赤外領域の線スペクトルを遮へいする機能をいう。この近赤外領域の線スペクトル遮蔽特性は８００ｎｍの透過率が１５％以下、８５０ｎｍでは５％以下であることが必要である。この赤外線遮蔽効果を付与するには透明プラスチック支持体に近赤外吸収性化合物を混合する方法を用いることができる。例えば銅原子を含有する樹脂組成物（特開平６−１１８２２８号公報）、銅化合物、リン化合物を含有する樹脂組成物（特開昭６２−５１９０号公報）、銅化合物、チオ尿素誘導体を含有する樹脂組成物（特開平６−７３１９７号公報）、タングステン系化合物を含有する樹脂組成物（ＵＳ３６４７７２９号公報）などを形成することによって容易に製造できる。銀を透明状に成膜する方法が電磁遮蔽に加えて赤外線遮蔽効果を持たせる方法として安価であり好ましい。
【００３９】
（その他の層）
本発明には、ハードコート層、潤滑層、防汚層、帯電防止層あるいは中間層を設けることもできる。
ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、シロキサン系のポリマー、オリゴマーまたはモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）を用いて形成することができる。シリカ系のフィラーをハードコート層に添加することもできる。
反射防止膜の最表面には潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例、シリコンオイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、２乃至２０ｎｍであることが好ましい。
または反射防止膜の最表面に防汚層を設けることもできる。防汚層は反射防止層の表面エネルギーを下げ、親水性、親油性の汚れを付きにくくするものである。そのほか防汚層は含フッ素ポリマーを用いて形成することができる。防汚層の厚さは２ｎｍ乃至１００ｎｍ、好ましくは５ｎｍ乃至３０ｎｍである。
本発明においては、表面にアンチグレア機能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に映るのを防止する機能）を付与することができる。例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そしてその表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３乃至３０％のヘイズを有する。
反射防止層（低屈折率層）、フィルター層、赤外線や電磁波の遮蔽層、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、防汚層、その他の層は、一般的な塗布方法により形成することができる。塗布方法の例には、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびホッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）が含まれる。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発行）に記載がある。
以下、本発明を具体的に実施例に基づき説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００４０】
実施例１〜３
（下塗り層の形成）
３種類の異なる厚さ２５０、１００、５０μｍの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した後、両面に屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を塗布し、下塗り層を形成した。乾燥後の膜厚さとして、フィルター層を設ける面には厚さ３００ｎｍ、低屈折率層を設ける面には厚さ１５０ｎｍとなるように塗布した。
【００４１】
（第２下塗り層の形成）
フィルター層を設ける面の下塗り層の上に、酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、乾燥後の厚さ１００ｎｍとなるように塗布し、低屈折率層を設ける面の下塗り層の上には屈折率１．５０、ガラス転移温度５０℃のアクリル系ラテックス（ＨＡ１６、日本アクリル（株）製）を乾燥後の厚さ２０ｎｍとなるように塗布し、第２下塗り層を形成した。
【００４２】
（反射防止層としての低屈折率層の形成）
反応性フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１９、日本合成ゴム（株）製）２．５０ｇにｔ−ブタノール１．３ｇを加え、室温で１０分間攪拌し、１μｍのポリプロピレンフィルターでろ過した。得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の片面（スチレン−ブタジエンコポリマーラテックス１５０ｎｍ、アクリルラテックス２０ｎｍを下塗り層とする面）に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が９６ｎｍとなるように塗布し、１２０℃で１５分間乾燥して硬化させ低屈折率層を形成した。
【００４３】
（フィルター層の形成）
ゼラチンの１０重量％水溶液１８０ｇに、染料（ｃ１）０．０５ｇおよび染料（ａ６−１）０．１５ｇを溶解させ、４０℃で３０分間攪拌した後、２μｍのポリプロピレンフィルターでろ過した。得られたフィルター層用塗布液を透明支持体の低屈折半層を塗布した反対側の第２下塗り層上に、乾燥膜厚が３．５μｍとなるように塗布し、１２０℃で１０分間乾燥してフィルター層を形成し、反射防止層とフィルター層を付与した支持体を作製した。
上記３種類の支持体の分光透過率を調べたところ、いずれも５３５ｎｍと５９５ｎｍに吸収極大を有し、吸収極大での透過率は、５３５ｎｍの吸収極大が６９％、５９５ｎｍの吸収極大が２３％であった。吸収極大の半値幅は、５３５ｎｍの吸収極大が６３ｎｍ、５９５ｎｍの吸収極大が３０ｎｍであった。
【００４４】
（ガラス透明支持体上への電磁波および赤外線遮へい層、反射防止層の塗設）
厚さ３ｍｍの無色透明ガラス板の表面に銀をスパッターし、表面抵抗が２．５Ω／平方ｃｍとなるように厚さ約１２ｎｍの膜を塗設した。
こうして塗設した銀の膜の上に、真空蒸着法を用いてＭｇＦ２、次にＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２の順に光学膜厚（屈折率と膜厚の積）が１３０〜１４０ｎｍとなるように蒸着した。この反射防止膜の反射率を測定したところ、表面反射率は０．６％であった。
【００４５】
（前面板の作製）
低屈折率層およびフィルター層を塗布したポリエチレンテレフタレートフィルムのフィルター層面にアクリル系の粘着剤を厚さ３０μｍの厚さで塗布し、上記反射防止層を蒸着したガラス板の反射防止層を蒸着した面とは反対面に貼りつけ、本発明の前面板を作製した。
【００４６】
実施例４〜６
（下塗り層の形成）
３種類の異なる厚さ２５０、１００、５０μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した後、フィルター層を設ける面に、屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を厚さ３００ｎｍとなるように塗布し、反対面の低屈折率層を設ける面には、屈折率１．５８、ガラス転移温度−１０℃の塩化ビニリデン−アクリル酸−メチルアクレートコポリマーからなるラテックスを厚さ１４５ｎｍとなるように塗布した。
【００４７】
（第２下塗り層の形成）
実施例１〜３と同様にして第二下塗り層を形成した。
【００４８】
（反射防止層としての低屈折率層の形成）
実施例１〜３と同様にして低屈折率層を形成した。
【００４９】
（フィルター層の形成）
染料（ａ６−１）のかわりに染料（ａ５）０．１５ｇを使用した以外は実施例１〜３と同様にしてフィルター層を形成し、反射防止層とフィルター層を付与した支持体を作製した。
上記３種類の支持体の分光透過率を調べたところ、いずれも５３４ｎｍと５９４ｎｍに吸収極大を有し、吸収極大での透過率は、５３４ｎｍの吸収極大が６５％、５９４ｎｍの吸収極大が２１％であった。吸収極大の半値幅は、５３４ｎｍの吸収極大が７８ｎｍ、５９４ｎｍの吸収極大が２８ｎｍであった。
【００５０】
（前面板の作製）
実施例１〜３と同様に電磁波および赤外線遮へい層、反射防止層を塗設したガラス透明支持体上に実施例１〜３と同様に反射防止層およびフィルター層を塗布したポリエチレンテレフタレートフィルムを貼りつけ、前面板を作製した。
【００５１】
実施例７〜９
（下塗り層の形成）
実施例１〜３と同様にして下塗り層を形成した。
【００５２】
（第２下塗り層の形成）
実施例１〜３と同様にして第二下塗り層を形成した。
【００５３】
（低屈折率層の形成）
実施例１〜３と同様にして低屈折率層を形成した。
【００５４】
（フィルター層の形成）
染料（ａ６−１）のかわりに染料（ａ１）０．０５ｇを使用した以外は実施例１〜３と同様にしてフィルター層を形成し、反射防止層とフィルター層を付与した支持体を作製した。
上記３種類の支持体の分光透過率を調べたところ、いずれも５３３ｎｍと５９４ｎｍに吸収極大を有し、吸収極大での透過率は、５３３ｎｍの吸収極大が６３％、５９４ｎｍの吸収極大が２２％であった。吸収極大の半値幅は、５３３ｎｍの吸収極大が６３ｎｍ、５９４ｎｍの吸収極大が２９ｎｍであった。
【００５５】
（前面板の作製）
実施例１〜３と同様に電磁波および赤外線遮へい層、反射防止層を塗設したガラス透明支持体上に実施例１〜３と同様に反射防止層およびフィルター層を塗布したポリエチレンテレフタレートフィルムを貼りつけ、本発明の前面板を作製した。
【００５６】
（フィルター機能の評価）
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＳ４２０２Ｊ−Ｈ、富士通（株）製）の前面板を取り外し、実施例１〜９で作製した前面板を、フィルター層がプラズマディスプレイパネルの画像表示面に向くように本体に取り付けた。電磁波および赤外線遮へい層をプラズマディスプレイパネルの背面の金属部アースに接続し、プラズマディスプレイパネルより放射される電磁波により電磁波および赤外線遮へい層に誘起される電圧をアースに導通し、機能の評価を実施した。評価項目として、電磁波および赤外線遮へい能、表示される画像のコントラストの測定および目視による色再現性の評価を行った。
電磁波遮へい能は、実施例１〜９のいずれにおいても周波数１０ＭＨｚ〜２００ＭＨｚの範囲で最低９デシベル以上が得られ、情報処理装置等で規制されている電磁波の外部漏洩レベルを達成した。また、近赤外線領域の線スペクトル遮へい能は、８００ｎｍで約８％、８５０ｎｍでは３％以下となり、周辺に設置される赤外線リモートコントロール装置に対する妨害を防止できた。
コントラストおよび目視による色再現性は実施例１〜９のいずれにおいても著しく改善された。コントラストは前面板を交換する前は１０：１であったが実施例ではいずれも１５：１であった。前面板の交換前にくらべて、オレンジ色の入った赤が純赤に、緑がかった青が鮮やかな青に、また黄ばんだ感じの白が純白に改良されていることを確認した。
【００５７】
実施例１０
（下塗り層の形成）
厚さ１００μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（引っ張り衝撃強度７８４ｋＪ／ｍ２）の両面をコロナ処理した後、両面に屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を塗布し、下塗り層を形成した。乾燥後の膜厚さとして、フィルター層を設ける面には厚さ３００ｎｍ、低屈折率層を設ける面には厚さ１５０ｎｍとなるように塗布した。
【００５８】
（第２下塗り層の形成）
実施例１〜３と同様にして第２下塗り層を形成した。
【００５９】
（低屈折率層の形成）
実施例１〜３と同様にして低屈折率層を形成した。
【００６０】
（フィルター層の形成）
染料（ｂ１３）０．０５ｇおよび染料（ａ１１）０．１５ｇを使用する以外は、実施例１〜３と同様にしてフィルター層を形成し、選択吸収フィルターＡを作製した。
上記フィルターＡの分光透過率を調べたところ、５３５ｎｍと５９５ｎｍに吸収極大を有し、吸収極大での透過率は、５３５ｎｍの吸収極大が６９％、５９５ｎｍの吸収極大が２３％であった。吸収極大の半値幅は、５３５ｎｍの吸収極大が６３ｎｍ、５９５ｎｍの吸収極大が３０ｎｍであった。また、表面反射率は１．２％であった。
【００６１】
実施例１１
透明支持体に５０μｍの透明なトリアセチルセルロースフィルム（引っ張り衝撃強度４９０ｋＪ／ｍ２）を用いた以外は実施例１０と全く同様の操作で選択吸収フィルターＢを作成した。
上記フィルターＢの分光透過率を調べたところ、５３５ｎｍと５９５ｎｍに吸収極大を有し、吸収極大での透過率は、５３５ｎｍの吸収極大が７１％、５９５ｎｍの吸収極大が２２％であった。吸収極大の半値幅は、５３５ｎｍの吸収極大が６４ｎｍ、５９５ｎｍの吸収極大が２９ｎｍであった。また、表面反射率は１．４％であった。
【００６２】
実施例１２
透明支持体に２５μｍの透明なポリカーボネート支持体（引っ張り衝撃強度８０４ｋＪ／ｍ２）を用いた以外は実施例１０と全く同様の操作で選択吸収フィルターＣを作成した。
上記フィルターＣの分光透過率を調べたところ、５３５ｎｍと５９５ｎｍに吸収極大を有し、吸収極大での透過率は、５３５ｎｍの吸収極大が６７％、５９５ｎｍの吸収極大が２０％であった。吸収極大の半値幅は、５３５ｎｍの吸収極大が６５ｎｍ、５９５ｎｍの吸収極大が２８ｎｍであった。また、表面反射率は１．３％であった。
【００６３】
比較例１
透明支持体に５０μｍの透明なポリスチレン支持体（引っ張り衝撃強度２０６ｋＪ／ｍ２）を用いた以外は実施例１０と全く同様の操作で選択吸収フィルターＤを作成した。
上記フィルターＤの分光透過率を調べたところ、５３５ｎｍと５９５ｎｍに吸収極大を有し、吸収極大での透過率は、５３５ｎｍの吸収極大が７１％、５９５ｎｍの吸収極大が２１％であった。吸収極大の半値幅は、５３５ｎｍの吸収極大が６６ｎｍ、５９５ｎｍの吸収極大が３１ｎｍであった。また、表面反射率は１．３％であった。
【００６４】
比較例２
透明支持体に１０μｍの透明なトリアセチルセルロースフィルム（引っ張り衝撃強度１４７ｋＪ／ｍ２）を用いた以外は実施例１０と全く同様の操作で選択吸収フィルターＥを作成した。
上記フィルターＥの分光透過率を調べたところ、５３５ｎｍと５９５ｎｍに吸収極大を有し、吸収極大での透過率は、５３５ｎｍの吸収極大が７１％、５９５ｎｍの吸収極大が２５％であった。吸収極大の半値幅は、５３５ｎｍの吸収極大が６２ｎｍ、５９５ｎｍの吸収極大が２９ｎｍであった。また、表面反射率は１．４％であった。
【００６５】
（耐衝撃テスト）
フィルターＡからＥを粘着剤で厚さ３ｍｍの強化ガラス板（１０ｃｍ角）に貼合し、前面板を作成した。この前面板をＪＩＳ−Ｋ−７２１１「硬化プラスチックの落錘衝撃試験方法通則」に従い５０％破壊高さを求めた。試験には直径約５０ｍｍ、質量０．５ｋｇの鋼球を用いた。破壊の判定基準は強化ガラスが小片に分離破壊するかどうかを基準とした。結果を表１に示す。
【００６６】
【表１】
0004854892.tif 000016
【００６７】
（実装試験）
ＰＤＰディスプレイ（富士通（株）製：ＰＤＳ４２０２Ｊ−Ｈ）の前面板を外して前面板裏面のフィルムを剥がし、実施例および比較例に記載されたフィルターＡ〜Ｅを粘着剤で貼り付けた。各サンプルについて表示コントラストの測定、および白色および赤色光の評価を行った。結果を表２に示す。
【００６８】
【表２】
0004854892.tif 000017
【００６９】
実施例および比較例から明らかなように、引っ張り衝撃強度３９２ｋＪ／ｍ２以上の透明フィルムをフィルター層および反射防止層の支持体として用いることで、前面板として耐衝撃性を有するものとすることができることがわかる。
【００７０】
実施例１３
（下塗り層の形成）
厚さ１７５μｍの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した後、両面に屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を塗布し、下塗り層を形成した。乾燥後の膜厚さとして、片面には厚さ３００ｎｍ、もう片面には厚さ１５０ｎｍとなるように塗布した。
【００７１】
（フィルター層の形成）
ゼラチンの１０重量％水溶液１８０ｇにｐＨが７になるように１規定の水酸化ナトリウム溶液を添加し、任意の割合で色素（ｂ１３）を添加し、３０℃で２４時間攪拌した。得られたフィルター層用塗布液を透明支持体の厚さ３００ｎｍの下塗り層側に、色素（ｂ１３）の塗布量が１５ｍｇ／ｍ２となるように塗布し、１２０℃で１０分間乾燥してフィルター層を形成した。ここで作製した試料Ａ−１〜Ａ−６のフィルター層の色素／ゼラチン重量比を表１に示す。
【００７２】
（反射防止層としての低屈折率層の形成）
反応性フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２５、ＪＳＲ（株）製）２．５０ｇにＭＩＢＫ５．０ｇを加え、室温で１０分攪拌し、１μｍのポリプロピレンフィルターでろ過した。得られた液を試料１〜６のフィルター層を形成した反対側に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が９６ｎｍになるように塗布し、１２０℃で１５分乾燥して硬化させて低屈折率層を形成した。
【００７３】
実施例１４
色素（ｂ１３）を色素（ｂ１６）に変更した以外は試料Ａ−１〜Ａ−６の作成方法と同様に試料Ｂ−１〜Ｂ−６を作成した。
【００７４】
（フィルター機能の評価）
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＳ４２０２Ｊ−Ｈ、富士通（株）製）の前面板の最表面（第１図に示されるプラズマディスプレイ表示装置のＥ面）のフィルムを剥がし、その代わりに実施例１３、１４で作成した光学フィルター（低屈折率層が設けられていない側の面）を接着剤で貼り付けた。目視により、光学フィルターのひび割れ故障、表示される画像について白色光と赤色光の評価を行った。
結果を表３に示す。
【００７５】
【表３】
0004854892.tif 000018
【００７６】
以上より明らかなように、フィルター層の色素／バインダー比を１：５０〜１：２０００の範囲にすることにより、ひび割れが無く、ＰＤＰの色バランスを補正できるフィルターが得られた。また試料貼付け面を第１図のＥ面からＦ面、Ｇ面に貼り付けた場合も同様の結果が得られた。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明の前面板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明の前面板は特に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）および陰極管表示装置（ＣＲＴ）の前面板として使用すると、顕著な効果が得られる。
【符号の説明】
【００７８】
Ａ  ＣＲＴまたはＰＤＰ
Ｂ  ２軸延伸透明支持体
Ｃ  光学フィルター（各種フィルター層および反射防止層）
Ｄ  前面板
Ｅ  前面板の観察側の面
Ｆ  前面板のＣＲＴまたはＰＤＰ側の面
Ｇ  ＣＲＴまたはＰＤＰの観察側表面
１  反射防止層
２  電磁波および赤外線遮へい層
３  ハードコート層
４  ２軸延伸透明支持体
５  フィルター層
６  ガラス透明支持体
【図１】
0004854892.tif 000019
【図２】
0004854892.tif 000020