(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）所定の幅を有する無効領域に囲まれ、複数の液晶セル領域が画定される一対の基板を準備する工程と、
（ｂ）前記一対の基板のうちいずれか一方の基板上の、前記無効領域の少なくとも一部に前記一対の基板間の距離を仮に規定するギャップコントロール材を配したダミーの壁部を配する工程と、
（ｃ）前記一対の基板の間に前記ダミーの壁部が介装される向きに前記一対の基板同士を重ねて張り合わせる工程と、
（ｄ）前記一対の基板間に、後の工程で硬化できる液晶材を充填する工程と、
（ｅ）前記液晶セル領域の前記液晶材の一部を硬化させて液晶パネルを形成する工程と、
（ｆ）前記液晶パネルを前記無効領域に沿って前記液晶セル領域ごとに切断し、前記液晶セル領域から前記ダミーの壁部を全て切り離す工程と
を含む液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記（ｂ）工程は、少なくとも１の開口部を有し前記液晶セル領域を略囲む形状のダミーの壁部を形成する工程である請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記（ｄ）の工程は、光を照射することにより硬化できる液晶材を充填する工程であり、前記（ｅ）工程は、前記液晶セル領域の前記液晶材の一部に開口を有する遮光マスクを用いて開口の形成されている領域に対応する領域にのみ光を照射し前記液晶材を硬化させる工程を含む請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置の製造方法に関し、特に小型の液晶装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶装置、特に小型の液晶装置は、以下のような工程により製造されていた。
【０００３】
図１０から図１６までに液晶装置の製造工程を示す。
【０００４】
２枚のガラス基板を準備する。配向処理を行う。
【０００５】
図１０（Ａ）に示すように、第１のガラス基板１０１上に、ディスペンサＤを用いて所定の粒径を有するギャップコントロール材（以下「ＧＣ材」という。）１０１ａを散布する。
【０００６】
図１０（Ｂ）に示すように、第２の基板１０３上に、所定の粒径を有するＧＣ剤１０３ａを添加したシール材１０３ｂを塗布する。シール材１０３ｂは、例えば注入口１０５を有し、液晶装置用の表示部の外周を囲む形状に塗布されている。尚、図１０（Ａ）、（Ｂ）において、ガラス基板１０１、１０３に対して１つの液晶セルが設けられている場合について示したが、実際には、ガラス基板に対して、多数の液晶セルが形成されている。
【０００７】
図１１に示すように、第１及び第２のガラス基板１０１、１０３を重ね合わせる。液晶の注入口１０５を有する空セルＥＣが形成される。
【０００８】
図１２に示すように、プレス機Ｐを用いて第１及び第２のガラス基板１０１、１０３を外側の面から押圧する。
【０００９】
両方のガラス基板１０１、１０３をプレスした状態のままで、ヒータＨにより熱処理を行う。シール材１０３ｂが硬化して第１の基板１０１と第２の基板１０３とがシール材１０３ｂを介して固定される。
【００１０】
尚、通常の熱硬化型のシール材１０３ｂに代えて、紫外線硬化樹脂を含むシール材を用いても良い。この場合には、熱処理の代わりに紫外線光を照射することによりシール材を硬化させる方法を用いることができる。
【００１１】
図１３に示すように、ダイヤモンドカッターＤＣにより、ガラス基板１０１とガラス基板１０３との上にスクライブラインＳＬ（カットライン）を形成する。スクライブラインＳＬは、ガラス基板の切断を容易にし、切断箇所を規定する。スクライブラインＳＬは、ガラス基板内に形成されている各液晶セル１０７を囲むように形成される。
【００１２】
１つの液晶セル１０７の四隅を囲むスクライブラインＳＬのうち１のスクライブラインＳＬ１は、液晶セル１０７の液晶注入口１０５の開口面と揃うように形成されている。
【００１３】
１つの液晶セル１０７と隣接して形成されている液晶セル１０７の液晶注入口１０５も、１本のスクライブラインＳＬ１に沿ってその開口面が並ぶ。
【００１４】
スクライブラインＳＬに沿ってガラス基板１０１，１０３を劈開する。
【００１５】
空セルＥＣを有する個々の液晶セル１０７が形成される。
【００１６】
次に、図１４に示すように、液晶セル１０７に設けられている空セルＥＣの液晶注入口１０５が一平面上に揃うように、把持具１１０に複数個の液晶セル１０７をセットする。
【００１７】
図１５（Ａ）に示すように、把持具１１０にセットされた状態の複数の液晶セル１０７を、真空チャンバＶＣ中に入れる。液晶Ｅを入れた液晶収容容器１１５も真空チャンバＶＣ内に置く。真空チャンバＶＣを真空引きする。
【００１８】
図１５（Ｂ）に示すように、所定の真空度に達した時点で、複数の液晶装置用セル１０７を移動させて空セルＥＣの少なくとも液晶注入口１０５が液晶充填容器１１５に浸かる状態にする。真空チャンバＶＣ内を大気圧に戻すと、液晶充填容器１１５内の液晶が液晶注入口１０５から空セルＥＣ内に注入される。
【００１９】
図１６（Ａ）に示すように、液晶が注入された液晶セル１０７を、プレス用治具１１１に挟む。プレス用治具１１１の端面から液晶注入口１０５がはみ出している状態にする。所定の圧力で液晶セル１０７をプレスする。余分な液晶Ｅが注入口１０５から出る。
【００２０】
図１６（Ｂ）に示すように、注入口１０５から出た余分の液晶をふき取った後、注入口１０５を塞ぐ。例えば、エンドシール材ＥＳを注入口１０５の周りに塗り、
ＵＶ光の照射又は熱処理によりエンドシール材ＥＳを硬化させる。
【００２１】
以上の工程により、液晶セルを形成することができる。
【００２２】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記の液晶装置の製造方法には、以下のような問題点があった。
【００２３】
１）上記の製造方法によれば、注入口が設けられている方向（辺）に揃えてガラス基板をカットする必要がある。その辺は上下の基板の端面が揃うため、一方のガラス基板表面に引き出し用の電極を形成することができない。そのため、引き出し用の電極を取り出す方向が決まってしまい、液晶装置の設計上の自由度が低くなるという問題があった。
【００２４】
２）上記の工程中には、非常に多くの（自動化が困難な）工程があり、製造工程が複雑になり、製造コストも高くなる。特に、小さい液晶セルを製造する場合には、注入口が一平面上に揃っていない場合のように注入治具へのセット状態が適切でないと、全ての注入口が液晶中に浸からずに注入不良を起こすという問題点があった。
【００２５】
３）治具へのセット及びプレス工程が多く、液晶セルの表面を傷つけやすいという問題がある。
【００２６】
特に、基板のカット工程において発生するガラスの切り子が基板表面に多く付着すると、後の工程においてガラス基板表面などに傷が入る原因となる。切り子を除去するために洗浄工程を追加することも可能ではあるが、さらに工程が増加するという問題が生じる。加えて、洗浄工程を経ても切り子は完全には除去されにくいという問題点もあった。
【００２７】
４）メインシールやエンドシールの近くは液晶の配向や電気工学的特性が劣化しやすいという問題があった。
【００２８】
本発明の目的は、液晶セルの製造工程を少なくして短時間で製造することができ、かつ、液晶セルのガラス基板の表面を傷つけにくい液晶装置の製造方法を提供することである。特に小型の液晶セルに適している。
【００２９】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、液晶装置の製造方法は、（ａ）所定の幅を有する無効領域に囲まれ、複数の液晶セル領域が画定される一対の基板を準備する工程と、（ｂ）前記一対の基板のうちいずれか一方の基板上の、前記無効領域の少なくとも一部に前記一対の基板間の距離を仮に規定するギャップコントロール材を配したダミーの壁部を配する工程と、（ｃ）前記一対の基板の間に前記ダミーの壁部が介装される向きに前記一対の基板同士を重ねて張り合わせる工程と、（ｄ）前記一対の基板間に、後の工程で硬化できる液晶材を充填する工程と、（ｅ）前記液晶セル領域の前記液晶材の一部を硬化させて液晶パネルを形成する工程と、（ｆ）前記液晶パネルを前記無効領域に沿って前記液晶セル領域ごとに切断し、前記液晶セル領域から前記ダミーの壁部を全て切り離す工程とを含む。
【００３３】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について説明する前に、発明者の行った考察について説明する。
【００３４】
第１基板と第２基板とを重ね合わせて形成する１枚の大型パネル中に一括して液晶材を注入できれば、空セルごとに注入口を合わせて液晶材を注入するよりも液晶注入工程が簡単になる。２インチ角程度の大きさの液晶セルを多数形成できる程度の大型パネル中に液晶材を注入した後に、液晶セルの表示領域を規定する。液晶材中に、注入後に外力により液晶材を硬化できるための硬化剤を混ぜておけば、液晶材を注入した後に液晶セルの表示領域を画定することができる。
【００３５】
上記の考察に基づき、以下に、本発明の第１の実施の形態による液晶装置およびその製造方法について図１から図３までを参照して説明する。
【００３６】
図１は、基板にシール材を配した状態を示す平面図である。図２および図３は、液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【００３７】
所望の配向処理を行った第１ガラス基板１上に多数の画素電極３を形成する。
【００３８】
画素電極３は、例えば垂直方向および水平方向に整列して設けられている。尚、図１では、画素電極は１表示領域に１つの画素電極のみが示されているが、一の表示領域内に複数の電極を設けても良い。各画素電極３の外周をほぼ取り囲むように、シール材５を形成する。より詳細には、垂直方向に並び水平方向に隣接する画素電極３の列の間に、垂直方向に延びる第１のシール剤５ａが形成されている。さらに、水平方向に並び垂直方向に隣接する画素電極３の行の間に、水平方向に延びる第２のシール剤５ｂが断続的に形成されている。シール材５ａ、５ｂは、熱硬化型シール材により形成される。
【００３９】
図２（Ａ）に示すように、シール材５ａ、５ｂには、所定の粒径を有するギャップコントロール剤（ＧＣ剤）７が添加されている。ＧＣ剤７が含まれるシール材５ａ、５ｂは、例えばディスペンサ装置により供給される。シール材５ａ、５ｂに添加するＧＣ剤７により、後に形成される液晶セルのセル厚を所望の値に制御するために、隣接する第１のシール材５ａ間の距離Ｗ１および第２のシール材５ｂの距離Ｌ１（図１）は、２インチ以内にすることが望ましい。２インチ以内であれば、大型のパネルを形成する際に、パネルを形成する両基板の間のギャップをほぼ一定に保つことが可能である。Ｌ１とＷ１とがあまり離れると、大型のパネルを形成する際に、パネルを形成する両基板の間のギャップをほぼ一定に保つことが難しくなる。
【００４０】
もちろん、シール材５中以外にもＧＣ剤を散布しても良い。但し、ＧＣ剤を散布する場合には、実際の表示部にはＧＣ剤が残らないように表示部にカバーを設けるなどの工夫をすることが好ましい。
【００４１】
図２（Ｂ）に示すように、第２のガラス基板１１の一表面上に共通電極１３を形成する。尚、画素電極３は、通常、複数のセグメント電極により形成され、複数のセグメント電極のいずれかの組み合わせに電圧を印加させる際の選択の仕方により特定の形状を表示することができる。
【００４２】
図２（Ｃ）に示すように、第１ガラス基板１と第２ガラス基板１１とを重ね合わせる。２枚のガラス基板１、１１は、それらを重ね合わせた状態において、各基板１、１１に形成されている画素電極３と対向電極（共通電極）１３とがそれぞれ対向する位置に重ね合わされる。ＧＣ剤７を添加した熱硬化型シール材５により所望の基板間距離を保ったままの状態で第１および第２の基板１、１１を重ね合わせ、両基板１、１１間の距離が近づく方向にプレスする。プレスした状態で熱処理を行うと、シール材５が硬化する。プレス機を用いて両基板の外側をプレスする代わりに、真空パック内に液晶セルを入れて真空パック内を減圧することにより、両基板間をプレスすることもできる。この場合には、両基板間に、減圧が可能な空間が設けられている必要がある。
【００４３】
空セル内に液晶材１５を注入する。液晶材１５中には、紫外線（ＵＶ）硬化型液晶（ＵＣＬ−００１：大日本インキ社製）が１０ｗｔ％、光反応開始剤が０．１ｗｔ％添加されている。図１には液晶材１５の注入口２１と注出口２３とが示されている。シール材５ａ（図１）の形状を、注出口２３が設けられるべき領域を閉じた形状にすることにより、注出口を設けずに注入口２１のみを具備している形状にしても良い。
【００４４】
注入口２１のみを有する構造とすれば、注入口を除いて閉じた形状を利用して真空注入法により液晶材１５を注入できる。図１のように注入口２１と注出口２３とを有する形状であれば、注入口２１に液晶材１５を配置した状態で液晶材を加圧し、注出口２３から排気する加圧減圧法、または毛細管現象を利用した注入法を用いることができる。本実施の形態では毛細管現象を利用した方法を用いて液晶材１５を注入した。
【００４５】
図３（Ｄ）に示すように、上記の工程によりこのようにして形成した液晶セルをプレスした状態のままで、開口Ｏを有する遮光マスクＭＫを用いて、所定の領域（開口の形成されている領域に対応する領域）にのみＵＶ光を照射した。ＵＶ光を照射した領域は、最終的に液晶セルを形成する液晶セル領域２５を含む領域である。ＵＶ光を照射した領域の液晶材は、硬化する。硬化した液晶材の層を硬化液晶層と称し、符号１５ｄで示す。硬化液晶層１５ｄが形成されている領域は、図１では破線２５ａで示された範囲に対応し、この場合、この破線２５ａで囲まれた領域が液晶セル領域２５にほぼ対応する。
【００４６】
液晶セル領域２５は、第１および第２のシール材５（５ａ、５ｂ）が設けられている領域の内側の領域であり、かつ、画素電極３が設けられている領域を含む領域である。この領域がほぼ表示装置の表示領域に対応する。
【００４７】
図３（Ｅ）に示すように、第１の基板１にスクライブラインＳＬ１を、第２の基板１１にスクライブラインＳＬ２を形成する。スクライブラインＳＬ１、ＳＬ２に沿って基板１、１１を切断すれば、図３（Ｆ）に示すように、実際の液晶する３１ａが形成できる。尚、液晶セル３１と、隣接する別の液晶セル３１ａとの間の部分３１ｂは、無効領域（不要部分）となる。尚、スクライブラインＳＬ１およびスクライブラインＳＬ２により切断される無効領域内の液晶材を硬化させなければ、液状の部分を切断すればよいため、ガラス基板の切断が容易になる。
【００４８】
実際には、硬化液晶材１５ｄ中には、液晶材が固化した部分と液状のままの部分とが適度に分布しているものと考えられる。液晶材が固化した部分は、画素電極３と共通電極１３との間に電圧を印加しても、液晶のダイレクタ方向（配向方向）は変化しないが、液状の部分は、画素電極３と共通電極１３との間に電圧を印加することにより液晶のダイレクタ方向を変化させることができる。
【００４９】
本実施の形態による液晶表示技術によれば、液晶装置、特に表示部分の面積が小さい小型の液晶装置などを製造する際の工程が簡単になる。また、表示領域を囲むシール材などが残らないので、電極の引き出しを全てのカット面から行うことが可能であり、電極設計の自由度が増す。液晶装置を製造するための最終工程が液晶セルのカット及び劈開工程となるため、切り子などの影響により液晶セル表面に入る傷を最低限にすることができる。
【００５０】
２枚の基板を両側からプレスする工程を、気圧又は液体圧を利用して行うことができるため、液晶セルの破損を防ぐことができ、歩留まりが向上をする。加えて、液晶材料が、例えば、硬化前のシール材やエンドシール材などの液晶物質に直接接触しない。従って、所望の液晶配向状態、電気光学的特性を保ったまま（液晶の配向乱れや電気光学的特性の劣化などを生じさせずに）液晶セルを製造することができる。特に小型の液晶装置では、シール材の位置と表示部の位置との距離のマージンを大きくすることは難しいので、シール材周辺の液晶の特性を良好に保つことは重要である。
【００５１】
液晶セルを最終的にエンドシール材により封止する工程は、プレス治具へのセットなどに時間を要し、また、液晶材の押し出し工程にも手間がかかる。本実施の形態による液晶装置の製造方法を用いれば、エンドシールによる封止工程は不要であり、製造工程が簡略化される。
【００５２】
尚、本実施の形態では、図１でシール材５ａと５ｂとの間の領域に存在する液晶材を硬化させたが、シール材５ａ、５ｂ領域を含む領域を硬化させてもよい。また、シール材を、ほぼ閉じた形状を有し、かつ、一部に開口部を有している形状としてもよい。この場合には、開口部を含む領域内の液晶材を硬化させてもよいし、シール材と開口部を含む領域の液晶材を硬化させてもよい。
【００５３】
次に、本発明の第２の実施の形態による液晶装置およびその製造方法について、図４から図９までを参照して説明する。
【００５４】
図４は、基板上にシール材を配した状態を示す平面図である。図５（Ａ）から図９（Ｈ）までは、液晶装置の製造工程を示す断面図である。
【００５５】
図４および図５（Ａ）に示すように、第１のガラス基板５１の一表面上に、複数の液晶セル領域に対応する複数の画素電極５３を形成する。画素電極５３の上に配向膜（図示せず）を形成しても良い。
【００５６】
熱硬化型のシール材５５を、例えばディスペンサ５４により形成する。シール材５５は、例えば矩形の液晶セル領域（１又は複数の画素電極５３を含む）の外周を囲むように閉じた形状で形成されており、線幅は２００μｍである。シール材５５中に、後に基板間距離を所望の値に保つためのギャップコントロール材（ＧＣ材）５７が混ぜられている。
【００５７】
図５（Ｂ）に示すように、第２のガラス基板６１の一表面上に、例えば垂直配向膜６２を形成する。
【００５８】
図６（Ｃ）に示すように、第１のガラス基板５１と第２のガラス基板６１とを、シール材５５を形成した面と垂直配向膜６２を形成した面とが向かい合うように重ね合わせる。この状態で、プレス機７１により第１および第２の基板５１、６１を外側から、両基板５１、６１間の距離が近づく方向にプレスする。プレスしたままの状態で、両基板５１、６１の近くに配置したヒータ７３により熱処理を行い、シール材５５を硬化する。
【００５９】
図７（Ｄ）に示すように、両基板５１、６１をプレス機７１から取り外した後、第１の基板５１から第２の基板６１を剥離する。剥離の方法としては、剥離材を用いる方法を用いれば良い。
【００６０】
尚、基板上にシールパターンを形成する方法としては、基板上にスピンコート法などを用いて感光性の材料を塗布し、フォトリソグラフィーによりパターニングする方法を用いることができる。或いは、ＧＣ材を含む光硬化型シール材又は熱硬化型シール材をディスペンサやスクリーン印刷法により基板上に形成し、別の平滑面（例えば表面エネルギーの低い材料を用いるか、表面エネルギーが低くなるような処理を施すか、または表面エネルギーが低くなるような膜を形成した、ガラス、石英、セラミックス、ＳＵＳ、テフロン、アルミニウムなど）に、所望の基板間距離に対応する均一な高さを得るために必要な程度の力で）押しつけた状態で熱または光によりＧＣ材を含む光硬化型シール材又は熱硬化型シール材を硬化し、硬化後は別の平滑面を剥離して壁をつくる方法などを用いても良い。
【００６１】
第１の基板５１の一表面に、所望のシール材により形成され閉じたシールパターン５５（図４）が形成される。
【００６２】
図７（Ｅ）に示すように、閉じたシールパターン５５内に液晶セル領域が形成される。液晶セル領域内には１又は複数の画素電極５３が形成されている。
【００６３】
次いで、閉じたシールパターン５５内にディスペンサ７５を用いて液晶材６５を滴下する。液晶材６５中には、ＵＶキュアラブル液晶（ＵＣＬ−００１：大日本インキ社製）が１０ｗｔ％、光反応開始剤（イルガキュア７８４：チバスペシャリティケミカルズ社製）が０．１ｗｔ％添加されている。液晶材６５は、閉じたシールパターン５５から上りあがるか又は溢れる程度に十分な量を滴下する。
【００６４】
図８（Ｆ）に示すように、真空チャンバＶＣ内において、真空引きにより減圧した状態で別の基板と重ね合わせる。別の基板（ここでは便宜的に第２の基板と同じ符号６１で示す）６１は、図５（Ｂ）で用いた第２の基板６１を用いても良いし、第２の基板とは別の基板を用いても良い。第２の基板または別の基板６１の表面には、共通電極６３を形成しておく。第１の基板５１と別の基板６１とは、画素電極５３と共通電極６３とが対面する方向に重ね合わせる。液晶材６５は、閉じたシールパターン５５から溢れ出して、液晶セル領域外にも入っていく。
【００６５】
両基板５１、６１は、透明な真空パック内に入れておく。この状態で真空パック内を排気することにより液晶セルをプレスする。尚、前述のように、真空パック内に基板を入れる場合には、基板５１、６１間に減圧ができる空間を形成しておく必要がある。
【００６６】
図９（Ｇ）に示すように、両基板５１、６１をプレスした状態で光干渉させたレーザ光（アルゴンイオンレーザ：波長５１４ｎｍ）を照射して液晶を硬化させる。基板５１、６１を挟んでレーザ光の入射方向と反対側には、基板とほぼ平行に設けられた反射板８１が設けられている。プレス状態のまま表示部９１およびその付近のみにレーザ干渉光が当たるように光を集める。表示部９１およびその近傍の領域を含む液晶セル領域に存在する液晶が硬化して、硬化部分６５ｄを形成する。尚、硬化部分６５ｄが形成される領域は、シール材５５が形成されている領域及びその外側近傍の領域を含む。第１の実施の形態の場合と同じように、シール材５５を含まない領域にのみ硬化部分６５ｄを形成しても良い。
【００６７】
尚、レーザ光を光干渉させるには、レーザ光と反射板により反射した反射光との間で干渉を起こさせれば良い。このようにすると、ホログラムと同様の原理により、光強度が層状に異なるレーザ光が形成され、被照射部分に、照射光の強度の違いに起因した層状の領域が形成される。
【００６８】
レーザ光の波長としては、５１４ｎｍ以外に、例えば４８８ｎｍや３６８ｎｍの波長を有するレーザ光を用いても良い。
【００６９】
また、ＵＶ硬化型の液晶材中に例えば可視光に感度を有する所定の反応開始剤を混合することにより、可視光レーザにより液晶材を硬化させることも可能である。
【００７０】
図９（Ｈ）に示すように、硬化部分６５ｄ（液晶硬化層）以外の位置であって隣接するシール材５５の間の領域にスクライブラインを形成し、それに沿って基板を劈開する。複数の液晶セル９３ａが形成される。
【００７１】
尚、硬化部分６５ｄ以外の位置であって隣接するシール材５５の間の領域にスクライブラインＳＬ３を形成したので、劈開が行いやすい。液状の液晶材の部分を含むため、劈開に対する抵抗が少ないからである。
【００７２】
尚、レーザ干渉光を照射することにより液晶材を硬化させた硬化部分６５ｄは、液晶材が固化している部分と液状の部分とが基板面と平行な方向に層状に形成されている。もちろん、レーザ干渉光の照射方向をかえることにより、基板面に対して傾斜を有している層を形成することもできる。
【００７３】
層状に形成された液状の部分（液晶材）は、画素電極５３と共通電極６３とに電圧を印加することにより、液晶の配向方向を制御することができる。
【００７４】
本実施の形態による液晶表示技術によれば、液晶装置、特に表示部分の面積が小さい小型の液晶装置などを製造する際の工程が簡単になる。また、液晶装置を製造するための最終工程が液晶セルのカット及び劈開工程となるため、切り子などの影響により液晶セル表面に入る傷を最低限にすることができる。２枚の基板を両側からプレスする工程を、気圧又は液体圧を利用して行うことができるため、液晶セルの破損を防ぐことができ、歩留まりが向上をする。
【００７５】
液晶材料が、例えば、硬化前のシール材やエンドシール材などに直接接触しない。従って、所望の液晶配向状態、電気光学的特性を保ったまま（液晶の配向乱れや電気光学的特性の劣化などを生じさせずに）液晶セルを製造することができる。特に小型の液晶装置では、シール材の位置と表示部の位置との距離のマージンを大きくすることは難しいので、シール材周辺の液晶の特性を良好に保つことは重要である。
【００７６】
液晶セルを最終的にエンドシール材により封止する工程は、プレス治具へのセットなどに時間を要し、また、液晶材の押し出し工程にも手間がかかる。本実施の形態による液晶装置の製造方法を用いれば、エンドシールによる封止工程は不要であり、製造工程が簡略化される。
【００７７】
紫外線（ＵＶ）硬化型液晶の添加量は、５ｗｔ％から４０ｗｔ％の間であるのが好ましい。
【００７８】
ガラス基板以外に、フィルムやプラスチック基板などの有機材料の基板を用いても良い。
【００７９】
プレス機を用いて基板をプレスする方法としては、表面を精度良く仕上げたアルミニウムやセラミックスなどを、基板をプレスする面に適用すると良い。ウレタンゴムなどのクッションを用いてプレスしても良い。真空パックを用いて減圧することにより両基板間をプレスする場合には、少なくとも一方の面をエアや窒素などの気体や水などの液体の圧力によりプレスすることもできる。
【００８０】
スクライブラインの形成方法としては、ダイヤモンドカッターなどによりカットラインを形成した後、基板に圧力を加えて劈開する方法が一般的であるが、切り子が発生する恐れがあるので、ピエゾなどによりダイヤモンドカッターに超音波振動を与える方法や高出力レーザによりカットする方法を用いても良い。高出力レーザによりカットする方法などを用いれば、基板全厚をカットすることもできる。たとえば基板を台の上に置き、基板表面を含む領域上を延伸性のフィルムによって覆うことにより基板を固定すれば、基板を所望のおきなにカットするのも容易になる。
【００８１】
尚、上記の実施の形態による液晶装置は、小型の液晶ディスプレイや、インスタントフィルムや、印画紙用書き込み光源、光ピックアップ、カメラの絞り、シャッタ、レーザプリンタ等の液晶光シャッタ、液晶レンズ、液晶光ヘッド、液晶センサを備えた製品全般が対象となる。
【００８２】
以上、本発明の実施の形態について例示したが、その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
【００８３】
【発明の効果】
液晶装置の製造工程において、液晶セルを短時間で製造することができ、かつ、液晶セル表面のガラス基板の表面を傷つけにくい。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１実施の形態による液晶装置の製造方法を示す平面図である。
【図２】  図２（Ａ）から（Ｃ）までは、本発明の第１の実施の形態よる液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図３】  図３（Ｄ）から図３（Ｆ）までは、本発明の第１の実施の形態よる液晶装置の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図４】  本発明の第２の実施の形態による液晶装置の製造方法を示す平面図である。
【図５】  図５（Ａ）、（Ｂ）は、本発明の第２の実施の形態による液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図６】  図６（Ｃ）は、本発明の第２の実施の形態による液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図７】  図７（Ｄ）、（Ｅ）は、本発明の第２の実施の形態による液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図８】  図８（Ｆ）は、本発明の第２の実施の形態による液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図９】  図９（Ｇ）、（Ｈ）は、本発明の第２の実施の形態による液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図１０】  一般的な液晶装置の製造工程を示す図である。図１０（Ａ）は、第１の基板上にスペーサ剤を配置する工程を示す図であり、図１０（Ｂ）は、第２の基板上にシール材を配置する工程を示す図である。
【図１１】  一般的な液晶装置の製造工程を示す図であり、図１０に示す工程に続く工程を示す図である。
【図１２】  一般的な液晶装置の製造工程を示す図であり、図１１に示す工程に続く工程を示す図である。
【図１３】  一般的な液晶装置の製造工程を示す図であり、図１２に示す工程に続く工程を示す図である。
【図１４】  一般的な液晶装置の製造工程を示す図であり、図１３に示す工程に続く工程を示す図である。
【図１５】  図１５（Ａ）、（Ｂ）は、一般的な液晶装置の製造工程を示す図である。
【図１６】  図１６（Ａ）、（Ｂ）は、一般的な液晶装置の製造工程を示す図である。
【符号の説明】
１  第１の基板
３  画素電極
５ａ、５ｂ  シール材
７  ギャップコントロール材
１１  第２の基板
１３  共通電極
１５  液晶材
１５ｄ  硬化液晶層
２５  液晶セル領域
５１  第１の基板
５３  画素電極
５５  シールパターン
６１  第２の基板
６３  共通電極
６５ｄ  硬化部分
９３ａ  液晶セル
【図１】
0004911484.tif 000002
【図２】
0004911484.tif 000003
【図３】
0004911484.tif 000004
【図４】
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【図５】
0004911484.tif 000006
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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