(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光触媒性被覆（３）を少なくとも表面の一部に備える基体（１）であって、結晶状態で光触媒性の少なくとも１種の金属Ｂの酸化物のみを含む無機バインダー（５）を用いて、光触媒性の金属Ａの酸化物の結晶化粒子（４）が、被覆（３）に配合されている基体（１）を得る方法であって、
前記被覆（３）を、下記の成分を含む液相分散体から付着させ、そして熱処理し：
金属Ａの酸化物の結晶化粒子（４）；及び
金属Ｂの酸化物のための少なくとも１種の前駆体、
金属Ａの酸化物、及び金属Ｂの酸化物のための前駆体に含まれる金属の質量による相対的割合Ａ／Ｂが、６０／４０〜４０／６０である、
光触媒性被覆（３）を少なくとも表面の一部に備える基体（１）を得る方法。
【請求項２】
前記無機バインダー（５）が、光触媒特性を欠いている少なくとも１種の金属Ｍの酸化物を更に含み、かつ
前記被覆（３）を、金属Ｍの酸化物のための少なくとも１種の前駆体を更に含む前記液相分散体から付着させ、金属Ａの酸化物、金属Ｂの酸化物のための前駆体、及び金属Ｍの酸化物のための前駆体に含まれる金属の質量による相対的割合Ａ／（Ｂ＋Ｍ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記無機バインダー（５）が、酸化ケイ素（Ｓｉ）を更に含み、かつ
前記被覆（３）を、酸化ケイ素（Ｓｉ）のための少なくとも１種の前駆体を更に含む前記液相分散体から付着させ、金属Ａの酸化物、金属Ｂの酸化物のための前駆体、及び酸化ケイ素（Ｓｉ）のための前駆体に含まれる金属の質量による相対的割合Ａ／（Ｂ＋Ｓｉ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記無機バインダー（５）が、光触媒特性を欠いている少なくとも１種の金属Ｍの酸化物及び酸化ケイ素（Ｓｉ）を更に含み、かつ
前記被覆（３）を、金属Ｍの酸化物のための少なくとも１種の前駆体及び酸化ケイ素（Ｓｉ）のための少なくとも１種の前駆体を更に含む前記液相分散体から付着させ、金属Ａの酸化物、金属Ｂの酸化物のための前駆体、金属Ｍの酸化物のための前駆体、及び酸化ケイ素（Ｓｉ）のための前駆体に含まれる金属の質量による相対的割合Ａ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記無機バインダー（５）が、少なくとも部分的に結晶化している、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
金属Ａ及びＢの酸化物が、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、及び酸化タングステンの少なくとも１種から選ばれる金属酸化物である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
金属Ａ及びＢの酸化物の両方が、酸化チタンである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
金属Ａの酸化物の結晶化粒子（４）が、５ｎｍ〜２０ｎｍの平均サイズの結晶干渉領域を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
金属Ａの酸化物の結晶化粒子（４）が、少なくとも１つの有機又は水性溶媒中の分散体として提供される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
金属Ｂの酸化物のための前駆体が、式Ｂ（ＯＲ）４のテトラアルコキシド、式ＢＲ′（ＯＲ）３のトリアルコキシド、及び金属ハライドからなる群より選ばれる（Ｒ及びＲ′は炭素含有残基）、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
金属Ｂの酸化物のための前駆体が、少なくとも１つのキレート／安定剤を含む液相中に分散されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
金属Ｍの酸化物のための前駆体が、式Ｍ（ＯＲ）４のテトラアルコキシド、式ＭＲ′（ＯＲ）３のトリアルコキシド、及び金属ハライドからなる群より選ばれる（Ｒ及びＲ′は炭素含有残基）、請求項２又は４に記載の方法。
【請求項１３】
金属Ｍの酸化物のための前駆体が、少なくとも１つのキレート／安定剤を含む液相中に分散されている、請求項２又は４に記載の方法。
【請求項１４】
前記被覆が、有機金属化合物型の前駆体及び結晶化粒子を含む分散体を用いて、液相熱分解により付着される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記被覆が、有機金属化合物型の前駆体及び結晶化粒子を含む分散体を用いて、浸漬、セル被覆、ラミナー被覆及びスプレー被覆からなる群より選択される付着法を使用するゾル−ゲル法によって、付着される、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記被覆に対する熱処理を、少なくとも４００℃で行う、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
光触媒性被覆（３）を少なくとも表面の一部に備え、かつ結晶状態で光触媒性の少なくとも１種の金属Ｂの酸化物のみを含む少なくとも部分的に結晶化された無機バインダーを用いて、光触媒性の金属Ａの酸化物の結晶化粒子（４）が、前記被覆（３）に配合されている、基体（１）であって、
前記被覆（３）は、金属Ａの酸化物の結晶化粒子及び金属Ｂの酸化物に含有される金属の質量についての相対的割合Ａ／Ｂが、６０／４０〜４０／６０である、
光触媒性被覆（３）を少なくとも表面の一部に備える基体（１）。
【請求項１８】
前記無機バインダー（５）が、光触媒特性を欠いている少なくとも１種の金属Ｍの酸化物を更に含み、かつ
前記被覆（３）において、金属Ａの酸化物、金属Ｂの酸化物、及び金属Ｍの酸化物に含まれる金属の質量による相対的割合Ａ／（Ｂ＋Ｍ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項１７に記載の基体（１）。
【請求項１９】
前記無機バインダー（５）が、酸化ケイ素（Ｓｉ）を更に含み、かつ
前記被覆（３）において、金属Ａの酸化物、金属Ｂの酸化物、及び酸化ケイ素（Ｓｉ）に含まれる金属の質量による相対的割合Ａ／（Ｂ＋Ｓｉ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項１７に記載の基体（１）。
【請求項２０】
前記無機バインダー（５）が、光触媒特性を欠いている少なくとも１種の金属Ｍの酸化物及び酸化ケイ素（Ｓｉ）を更に含み、かつ
前記被覆（３）において、金属Ａの酸化物、金属Ｂの酸化物、金属Ｍの酸化物、及び酸化ケイ素（Ｓｉ）に含まれる金属の質量による相対的割合Ａ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項１７に記載の基体（１）。
【請求項２１】
屈折率を測定することにより計算される前記被覆（３）の多孔度が４０％よりも大きい、請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の基体（１）。
【請求項２２】
前記被覆が、５〜８０ｎｍの大きさを有する前記結晶化粒子を含み、前記結晶化粒子の結晶干渉領域が、５〜２０ｎｍの大きさを有し、かつ無機バインダーが、少なくとも部分的に粒子の形態である、請求項１７〜２１のいずれか一項に記載の基体（１）。
【請求項２３】
前記無機バインダーが、少なくとも部分的に５〜２５ｎｍの大きさを有する粒子の形態である、請求項２２に記載の基体（１）。
【請求項２４】
前記被覆が、結晶化ＴｉＯ２粒子、及び部分的に結晶化したＴｉＯ２を主成分とする無機バインダーを含む、請求項１７〜２３のいずれか一項に記載の基体（１）。
【請求項２５】
前記被覆が、ＴｉＯ２粒子、及び部分的に結晶化したＴｉＯ２とＳｉＯ２とを配合している無機バインダーを含んでいる、請求項１７〜２３のいずれか一項に記載の基体。
【請求項２６】
前記ＴｉＯ２粒子がアナターゼ型である、請求項２４又は２５に記載の基体。
【請求項２７】
前記被覆が、最大で２の屈折率を有する、請求項２４〜２６のいずれか一項に記載の基体。
【請求項２８】
少なくとも１種の層が、前記基体と前記光触媒性被覆との間に挿入されている、請求項１７〜２７のいずれか一項に記載の基体。
【請求項２９】
前記少なくとも１種の層が、アルカリ金属に対するバリア機能、及び／又は光学的機能、及び／又は帯電防止機能、及び／又は粘着機能を有する、請求項２８に記載の基体。
【請求項３０】
前記少なくとも１種の層が、Ｓｉ、ＳｉＯ２、ＳｉＯＣ、ＳｉＯＮ、及びＳｉ３Ｎ４からなる群より選択される、請求項２８又は２９に記載の基体。
【請求項３１】
前記少なくとも１種の層が、金属酸化物を主成分とする層である、請求項２８又は２９に記載の基体。
【請求項３２】
ガラス又はプラスチック型の少なくとも１種の透明材料を含む、請求項１７〜３１のいずれか一項に記載の基体。
【請求項３３】
ガラス又はプラスチック型の少なくとも１種の透明材料が、テレビ機器又はコンピューター機器用のスクリーンの窓材部分を形成するためのものである、請求項３２に記載の基体。
【請求項３４】
前記スクリーンが、タッチスクリーンである、請求項３３に記載の基体。
【請求項３５】
断熱窓材の内側又は外側面の一部、又は積層若しくは「モノリシック」窓材の一部を形成している、請求項３２に記載の基体。
【請求項３６】
前記断熱窓材が、１又は複数のガス中間層を有する断熱窓材又は「真空」断熱窓材の一部である、請求項３５に記載の基体。
【請求項３７】
金属又はセラミック型の、壁材、クラッディング材、屋根材、又は床材で構成されている、請求項１７〜３１のいずれか一項に記載の基体。
【請求項３８】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法によって得られる、請求項１７〜３７のいずれか一項に記載の基体。
【請求項３９】
結晶化二酸化チタン（Ｔｉ）粒子、及び
結晶状態で光触媒性の金属Ｂの酸化物のための少なくとも１種の前駆体
を含む液相分散体であって、
前記結晶化二酸化チタン（Ｔｉ）粒子、及び金属Ｂの酸化物のための少なくとも１種の前駆体に含まれる金属の質量による相対的割合Ｔｉ／Ｂが、６０／４０〜４０／６０である、
光触媒性被覆（３）を少なくとも表面の一部に備える基体（１）であって、結晶状態で光触媒性の少なくとも１種の金属Ｂの酸化物のみを含む無機バインダー（５）を用いて、光触媒性の金属Ａの酸化物の結晶化粒子（４）が前記被覆（３）に配合されている基体（１）を得るために用いられる分散体。
【請求項４０】
光触媒特性を欠いている少なくとも１種の金属Ｍの酸化物を更に含み、かつ
前記結晶化二酸化チタン（Ｔｉ）粒子、金属Ｂの酸化物のための前駆体、金属Ｍの酸化物のための前駆体に含まれる金属の質量による相対的割合Ｔｉ／（Ｂ＋Ｍ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項３９に記載の分散体。
【請求項４１】
酸化ケイ素（Ｓｉ）を更に含み、かつ
前記結晶化二酸化チタン（Ｔｉ）粒子、金属Ｂの酸化物のための前駆体、及び酸化ケイ素（Ｓｉ）のための前駆体に含まれる金属の質量による相対的割合Ｔｉ／（Ｂ＋Ｓｉ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項３９に記載の分散体。
【請求項４２】
光触媒特性を欠いている少なくとも１種の金属Ｍの酸化物及び酸化ケイ素（Ｓｉ）を更に含み、かつ
前記結晶化二酸化チタン（Ｔｉ）粒子、金属Ｂの酸化物のための前駆体、金属Ｍの酸化物のための前駆体、及び酸化ケイ素（Ｓｉ）のための前駆体に含まれる金属の質量による相対的割合Ｔｉ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）が、６０／４０〜４０／６０である、
請求項３９に記載の分散体。
【請求項４３】
前記二酸化チタン粒子がアナターゼ結晶形である、請求項３９〜４２のいずれか一項に記載の分散体。
【請求項４４】
前記二酸化チタン粒子が、５〜８０ｎｍの平均大きさ、及び５〜２０ｎｍの平均大きさの結晶干渉領域を有する、請求項３９〜４３のいずれか一項に記載の分散体。
【請求項４５】
金属Ｂの酸化物が、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ及び酸化タングステンからなる群より選ばれる、請求項３９〜４４のいずれか一項に記載の分散体。
【請求項４６】
金属Ｍの酸化物が、酸化アルミニウム及び酸化ジルコニウムからなる群より選ばれる、請求項４０又は４２に記載の分散体。
【請求項４７】
金属Ｂの酸化物のための前駆体が、有機金属化合物である、請求項３９〜４６のいずれか一項に記載の分散体。
【請求項４８】
前記有機金属化合物が、式Ｂ（ＯＲ）４のテトラアルコキシド、式ＢＲ’（ＯＲ）３のトリアルコキシド、及び金属ハライドからなる群より選択される（Ｒ及びＲ’は炭素含有残基）、請求項４７に記載の分散体。
【請求項４９】
金属Ｍの酸化物のための前駆体が、有機金属化合物である、請求項４０又は４２に記載の分散体。
【請求項５０】
前記有機金属化合物が、式Ｍ（ＯＲ）４のテトラアルコキシド、式ＭＲ’（ＯＲ）３のトリアルコキシド、及び金属ハライドからなる群より選択される（Ｒ及びＲ’は炭素含有残基）、請求項４９に記載の分散体。
【請求項５１】
酸化ケイ素（Ｓｉ）のための前駆体が、シリコンアルコキシドからなる群より選ばれる、請求項４１又は４２に記載の分散体。
【請求項５２】
キレート／安定剤を更に含む、請求項３９〜５１のいずれか一項に記載の分散体。
【請求項５３】
液相が、水、エチレングリコール、エタノール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物からなる群より選ばれる溶媒を含む、請求項３９〜５２のいずれか一項に記載の分散体。
【請求項５４】
結晶化二酸化チタン（Ｔｉ）粒子、
金属Ｂの酸化物のための前駆体としての、チタンテトラブトキシド、及び
酸化ケイ素（Ｓｉ）のための前駆体としての、テトラオルトシリケート
を含む、請求項４１又は４２に記載の分散体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、光触媒被覆を備える基体、そのような被覆を得る方法、及びその種々の用途に関する。
【０００２】
本発明は特に、金属酸化物、特に酸化チタンに基づく半導体材料を含む被覆に関するものである。ここで、この被覆は、適切な波長の放射の効果により、有機物の酸化を生じるラジカル反応を開始する能力がある。
【０００３】
このような被覆は、被覆される材料に新しい機能性、特に汚れ防止性、殺かび性、及び殺菌性を与えることを可能にし、そして任意に親水性、防曇性、光学的性質等を併有する。
【０００４】
非常に幅広い種類の基体を考慮することができ、特に、窓ガラス製品（ｇｌａｚｉｎｇ）；タイル、スレート、スラブ及び舗装用材のような、壁材、クラッディング材、屋根材及び床材；並びに特に乗物又は建築物の分野で用いられる材料、特に建築産業で用いられる材料を考慮することができる。これらの材料は、ガラス、金属、ガラス−セラミック、セメントレンガ、及び木、石又はこれらの天然材から再構成された材料、プラスチック又は、繊維状材料、特にろ過工程等のための無機羊毛状型の繊維状材料から製造されうる。
【０００５】
さらに、それらは特に窓ガラスとして使用される透明材料として分類され得、たとえばガラス基体、又はポリエステル若しくはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のようなアクリレートで製造される基体のようなフレキシブル若しくはリジットのプラスチックで製造される基体が挙げられる。
【０００６】
さらに、基体は、ガラス基体のような「単一材料」（“ｓｉｎｇｌｅ−ｍａｔｅｒｉａｌ”）であると考えられ、又は壁の下塗り（ｗａｌｌ−ｒｅｎｄｅｒ）型の被覆を備えた壁材のような材料の重なり又は層を含む、と考えられうる。
【０００７】
光触媒特性を有する結晶化アナターゼＴｉＯ２を含む被覆は、国際特許出願ＷＯ９７／１０１８６及びＷＯ９７／１０１８５ですでに知られており、これらの被覆は適切な有機金属前駆体の熱分解、及び／又は無機又は有機バインダー中に埋込まれ、且つ「予め結晶化された」ＴｉＯ２粒子、から得られる。
【０００８】
したがって、本発明の目的は、種々の期待される用途で出会うエージング条件にさらされるとき、光触媒性能が長く継続するように、これらの種類の被覆を改良することである。
【０００９】
このように、本発明の目的は、これらの種類の被覆を改良して、その耐久性、特に機械的又は化学的耐久性を増大させると同時に、特に光触媒特性を維持又は向上することである。
【００１０】
本発明の要旨は、第一に、少なくとも表面の一部に光触媒被覆を備える基体を得る方法であり、ここでは、光触媒特性を有する金属Ａの酸化物の結晶化粒子が、結晶状態で光触媒特性を有する少なくとも１種の金属Ｂの酸化物を含む無機バインダーを用いて、被覆中に配合されている。このバインダーは、さらに、任意に、少なくとも１種の、光触媒特性を欠いている金属Ｍの酸化物及び／又は少なくとも１種の酸化ケイ素ＳｉＯ２型のケイ素化合物を含有していてもよい。この方法は、（ａ）金属Ａの酸化物の結晶化粒子；及び（ｂ）無機バインダーの金属Ｂの酸化物のための少なくとも１種の前駆体化合物、並びに任意に金属Ｍの酸化物及び／又はケイ素化合物のための前駆体化合物を含む１又は複数の液相分散体から、被覆を付着させることを含み、ここでＡ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）比で定義される相対的割合は６０／４０〜４０／６０である。この比は、一方で、金属Ａの質量と、金属Ｂ並びに任意の金属Ｍ及びケイ素（Ｓｉ）の質量と比に相当し、粒子の形態の金属Ａの酸化物、並びに金属Ｂの酸化物及び任意の金属Ｍの酸化物とＳｉＯ２型のケイ素化合物のための前駆体は、組成物中にそれぞれ含まれる。
【００１１】
有利には、被覆の付着／処理条件は、無機バインダー、特にその一部を形成する金属Ｂの酸化物が、最終的な被覆で少なくとも部分的に結晶化するように選択される。
【００１２】
好適には、金属Ａ及び金属Ｂの酸化物は、少なくとも次の酸化物の一つから選択される：酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ及び酸化タングステン。一つの特に好適な態様は、金属Ａ及び金属Ｂの酸化物の双方を、酸化チタン（二酸化チタン）である高度に光触媒能を有するアナターゼ結晶形の形態で選択することにある。
【００１３】
固有の光触媒特性を欠いている金属Ｍの酸化物は例えば、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムである。
【００１４】
本件発明者は、今まで容易には調和させられなかった二つの拘束、すなわち光触媒性能及び耐久性を調和することに、この方法において成功した。特に本件発明者は、被覆の光触媒性を長く継続させるのに成功した。これは、被覆の触媒効果が、それに配合されている粒子によることが大きいであろうことがわかり、その粒子はすでに結晶化されており、最初から触媒としすでに活性があるからである。したがって、被覆において粒子の量を最大にしたいところである。しかしながら、驚くべきことに、粒子は過度に多い量でも、そして過度に低い量でも、望ましい二つの目標（すなわち、光触媒特性及び十分な耐久性）に適さないことが判明した。本発明により見出された比の調整は、金属Ａの酸化物の粒子の量及び種類が、金属Ｂの酸化物を含むバインダーの形態、被覆の比較的著しい光触媒的特性における変化、並びに長い時間での保持においてそのようなパラメータの線形関数でないことに影響するとき、達成するのがますます困難である。
【００１５】
したがって、本発明の方法は、満足すべき水準の光触媒活性及びこの高い水準の光触媒活性の長時間化の維持の間を最大に調和させる範囲内で、Ａ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）比を選択しうることを示す。少なくとも被覆の光触媒性能についてはこの理由は完全にはわからない。無機バインダーも被覆の活性に貢献しているのが有利であるかもしれない。さらに、得られる被覆は優れた光学的性質、特に高い光透過率及び非常に低い水準のヘイズを有するのに役立つことに注目すべきである。
【００１６】
上述の金属Ｂの酸化物のための前駆体及び任意の金属Ｍの酸化物のための前駆体は、適切な処理、特に熱処理の効果で、酸化物に分解することができる有機金属化合物であるのが好ましい。ケイ素化合物、特にＳｉＯ２前駆体については、シリコンアルコキサイド（シラン）類の化合物を用いることができる。
【００１７】
有利には、本発明の方法は、金属Ａの酸化物の結晶化粒子（特にアナターゼ形態で主に結晶化されたＴｉＯ２）を、微結晶（ｃｒｙｓｔａｌｌｉｔｅｓ）の凝集体の形態、好ましくは約５〜８０ｎｍの平均大きさの凝集体であって約５〜２０ｎｍ（特に５〜１０ｎｍ）の平均大きさの微結晶を有する凝集体を、液相中の分散体特に水性媒体中のコロイド分散体又は有機溶媒中の分散体で使用する。これらの大きさは、対象となる凝集体及び微結晶の「直径」に相当し、それらの形状を球体になぞらえる（必ずしもこの場合にそうでなくても。特に、当該凝集体がほとんど水晶体の形状又は棒状であっても。）。微結晶の凝集体について述べるよりもむしろ、もっと正確な用語が実際に使用され得、すなわち、凝集体は粒子であり、微結晶は結晶干渉の領域（ｄｏｍａｉｎ  ｏｆ  ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ）という用語により言及されうるものである。第１の近似で、同一の凝集体が最終的な被覆で見られ、これらは、ほとんど又は全く、構造的又は寸法の変更を受けないと考えられうる。事実、光触媒被覆を得るための方法が熱処理（以下に詳細に説明される）を含むときには、この処理で、これらの粒子は構造的に改変され、すなわち微結晶の大きさが明らかに増加することになる。例えばＴｉＯ２微結晶が最初は約５〜１０ｎｍの大きさであるとき、それらは最終的な被覆において約１０〜２０ｎｍであるのが通常である。すなわち、それらの大きさはおよそ２倍になる（１．５〜２．５倍）。これらの粒子の詳細な説明は、たとえば前述の出願において、ＷＯ９７／１０１８５、又はＷＯ９８／２３５４９の番号で公開された１９９７年１１月１８日のＷＯ／ＦＲ９７／０２０６８又はＦＲ２，６８１，５３４において、みられる。
【００１８】
好ましくは、金属Ｂの酸化物、及び任意に金属Ｍの酸化物のための前駆体有機金属化合物は、式Ｍ（ＯＲ）４（ここでＭは当該金属、及びＲは直鎖又は分枝アルキル型の炭素含有残基であり、これらはすべて同一か又は異なっており、特に１〜６の炭素原子を有する）のテトラアルコキシド類から選ばれる。例えば、チタンテトラブトキシド又はチタンテトライソプロポキシドを挙げることができる。ＭＲ′（ＯＲ）３型のトリアルコキシド（Ｒ及びＲ′は前述のテトラアルコキシドと同一又は異なった種類のもの）、又はハロゲン化物、特に塩化チタンからそれらを選ぶこともできる。これらの前駆体は高度に加水分解しやすく反応性に富むので、少なくとも１種のキレート／安定剤をそれらと一緒に溶解するのが好適である。例えば、アセチルアセトン（２，４−ペンタンジオン）、ベンゾイルアセトン（１−フェニル−１，３−ブタンジオン）及びジイソプロピルアセチルアセトンのようなβ−ジケトン型、又は他に酢酸、ジエタノールアミン、又はエチレングリコール又はテトラオクチレングリコールのようなグリコールの一族の化合物が挙げられる。次に、溶液中の前駆体濃度（たとえば、所与の固体含量）は、１又は２以上の有機溶媒を用いる適切な希釈により調整される。
【００１９】
本発明の第１の変形によれば、本発明の被覆の無機バインダーは、金属Ｂの酸化物のみを含み、したがって、上述のＡ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）比はもっと簡単にＡ／Ｂ比になる。
【００２０】
本発明の第２の変形によれば、無機バインダーは、金属Ｂの酸化物、ＴｉＯ２型酸化物及びケイ素化合物であるＳｉＯ２型酸化物を含み、したがってＡ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）比はＡ／（Ｂ＋Ｓｉ）となる。
【００２１】
本発明による方法を実施する最も簡単な方法は、前駆体を含む分散体及び粒子を含む分散体から、被覆を付着させることからなり、この場合には分散体を基板上にスプレーするか又は単一分散体中に基板を浸漬する前に、単一分散体に予め混合される。ただし、いくつかの別々の分散体、特に２つの分散体から、予めそれらを混合することなしに、被覆を付着させることも考えられる。
【００２２】
第１の種類の付着方法は、「熱間」付着といわれる。ここでは、分散体と基体との接触の間、基体は、前駆体を熱分解させるのに十分なほど高温である。これは液相熱分解型の方法である。
【００２３】
第２の型の方法は「冷間」付着といわれる。ここでは、分散体と基体との接触の間、基体は室温、又は少なくとも前駆体の熱分解を生じさせないような低い温度である。これらはゾル−ゲル型の方法であり、浸漬、セル（ｃｅｌｌ−）被覆、ラミナー（ｌａｍｉｎａｒ−）被覆、又はスプレー被覆型の付着方法を含む。
【００２４】
分散体と基体と接触段階の後の熱処理は、被覆を硬化させ、前駆体が完全に分解するのを確実にするために、「冷間」分解の場合に必要である。しかしながら、これは、「熱間」分解法の場合にも有利である。なぜなら、それは被覆の結合を向上し得、前駆体の分解から生じるバインダーの少なくとも部分的な結晶化にも有利でありうるからである。この処理は少なくとも４００℃、例えば４５０℃超、より特に基体がこの種類の処理に耐えうる場合、すなわち基体がガラス、セラミック又はガラス−セラミックマトリックスを有する場合には、５５０〜５００℃の範囲で特に実施される。
【００２５】
また、本発明は、結晶状態で光触媒特性を有する金属Ｂの酸化物を含む少なくとも部分的に結晶化された無機バインダーを用いて光触媒特性を有する金属Ａの酸化物の結晶化粒子を配合した光触媒被覆を少なくとも表面の一部に備える基体であり、特に、上述の方法により得られるような基体である。この基体は、高い多孔度、特に４０％超、好ましくは４５〜６５％の多孔度により特徴づけられる。この多孔度は、実際の層の屈折率（ｉｎｄｅｘ）を測定し、その物質が完全に密である場合の屈折率と比較することによって、間接的に計算されうる。屈折率測定は、層の表面粗さの程度を少なくとも部分的に考慮するので、この間接法は、層の多孔度及び表面形態をかなり示している。
【００２６】
（他の間接法も存在し、特にこれは、被覆厚みに関連して、基体の面積あたり付着された被覆の質量を測定することからなる。）。
【００２７】
実際、この高多孔度は、多くの利点を有する。第１に、それは物質の屈折率を減少させること、そしてその光学的外観を変えることができる。ＴｉＯ２を主成分とする被覆（主にアナターゼとして結晶化されたＴｉＯ２粒子及びＴｉＯ２を主原料とするバインダー、任意にＳｉＯ２を配合してなるものが挙げられる）の場合には、屈折率を２以下に低下させること；特に約１．４〜１．８、好ましくは約１．７〜１．８に低下させることができ、これはそのよく知られている反射性の外観を非常に減少させることを可能にする。
【００２８】
さらに被覆の多孔度は、高表面粗さと関連しており、したがって被覆の高度に展開された表面積は、光触媒活性に有利である。
【００２９】
最後に、前述のＷＯ９８／２３５４９に記述されるように、多分２つの異なる種類があるこの粗さは、向上した永続的な親水性を被覆に与え、これによって著しい雨への耐性及び防曇性（水滴は不可視フィルムにひろがる）を与え、雨水に伴う飛沫同伴による鉱物不純物の除去を促進する。驚くべきことに、この高多孔度は、機械的観点から、被覆を過度にひどく弱くすることにはならない。
【００３０】
また、本発明の要旨は、少なくとも表面の一部に光触媒特性を有する被覆を備える基体にあり、ここでは、結晶状態で光触媒特性を有する少なくとも１種の金属Ｂの酸化物、並びに任意の少なくとも１種の光触媒特性を欠いている金属Ｍの酸化物及び／又は酸化ケイ素型のケイ素化合物を含む無機バインダーを用いて、光触媒特性を有する金属Ａの酸化物の結晶化粒子が配合されており、特にこの基体は前述の方法により得られる。この基体は、金属Ａの酸化物粒子、並びに無機バインダーの金属Ｂの酸化物、及び任意の金属Ｍの酸化物及びケイ素化合物の組成物に含まれるそれぞれの金属（及び任意にＳｉの）の質量について、相対的割合Ａ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）が６０／４０〜４０／６０であることにより特徴づけられる。
【００３１】
本発明において、期待される基体は、多孔性であること（例えば期待される基体がタイルであるとき）、又は繊維状外観（たとえば無機断熱ウール（ｍｉｎｅｒａｌｉｎｓｕｌａｔｉｏｎｗｏｏｌ））を有しうることに注目すべきである。基体が光触媒被覆を備えると述べられるとき、被覆はその表面に付着されるが、さらに基体が多孔質／繊維状であれば、ある深さを超えて基体に含浸させうることも理解されるべきである。したがって、基体が多孔質でないとき、例えば基体がガラス基体であるときは、基体上の厚みによって被覆の量が表わされ、又は特に基体がある多孔度を有するときには、単位面積当たりの材料の量によって被覆の量が表わされうる。
【００３２】
本発明による被覆は、上述の方法で得られていても且つ／又は固有の特徴が上述のとおり述べられた被覆に適合していても、有利には次の構造を有する（特に金属Ａ及び金属Ｂの酸化物がともにＴｉＯ２を主成分とする場合）：結晶化粒子は５〜８０ｎｍの大きさを有し、結晶干渉領域は５〜２０ｎｍの大きさを有し（上述のきまりによる）、且つ無機バインダーは、粒子間のすきまで結晶化粒子のまわりにある少なくとも部分的に粒子の形であり、それらは、５〜２５ｎｍ、好ましくは１０〜２０ｎｍの平均大きさを有する。おおよそ球形のこれらの「粒子」は、完全には結晶せず、測定するのが困難なほど非常に小さい規模で多分部分的に結晶化しており、それによって粒子を「包入」（「ｅｎｃａｐｓｕｌａｔｅ」）して、それらを共に結合する。
【００３３】
有利には、本発明の基体は、本発明の光触媒被覆を備え、それは本質的にアナタ−ゼ形のＴｉＯ２粒子、及び部分的に結晶化したＴｉＯ２とＳｉＯ２とを組み合わせている無機バインダーを含む。好ましくは、被覆は、屈折率が２以下、特に１．５〜１．９、又は１．６〜１．９、又は１．６〜１．８である。
【００３４】
一つの態様によると、少なくとも１種の層が、基体と光触媒被覆との間に挿入され、その層は種々の機能（光学的機能、基体から移動しやすいアルカリ金属のような化学種に対するバリア機能、帯電防止機能、粘着機能等）を有しうる。
【００３５】
Ｓｉ、ＳｉＯ２、ＳｉＯＮ、ＳｉＯＣ及びＳｉ３Ｎ４のようなケイ素化合物を主成分とする層、又は任意にドープされた金属化合物（Ｆ：ＳｎＯ２、Ｓｂ：ＳｎＯ２、等）を主成分とする層がありうる。
【００３６】
このような被覆を備える基体は、すでに本出願の序言で言及された。それらは、ガラス又はプラスチック型の透明な材料を含み、特に建物又は乗物に取り付けられる窓ガラス、又はテレビ又はコンピューター型の機器のためのスクリーン、例えばタッチスクリーン、又は積層若しくは「モノリシック」窓ガラス（すなわち、単一の窓ガラス又は単一のプラスチックシート）の一部を形成するためである。さらに、本発明の被覆を備える透明な基体を断熱多層窓ガラス構造に組み入れることが有利であり、被覆は窓ガラスの内側面又は外側面になされる。基体は、１又は複数のガス中間層を有する一般的な断熱窓ガラスであってもよく、たとえばＳａｉｎｔ−ＧｏｂａｉｎＶｉｔｒａｇｅ社より、ＢＩＶＥＲ又はＣＬＩＭＡＬＩＴＤ、ＣＯＮＴＲＡＴＨＥＲＭ、ＣＯＮＴＡＳＯＮＯＲ、ＣＯＮＴＡＲＩＳＣの名で市場に出されている。また基体は、「真空」窓ガラスとよばれ、ガス中間層が真空で置き換わっているものであってもよく、これらは例えばヨーロッパ特許６４５，５１６号に記載されている。特に後者の場合には外側に面する断熱ガラス窓の面上に、外側面として被覆をおくことが特に有利であり、その結果、その親水性によって、曇りの形成を防止する。
【００３７】
本発明の被覆は、さらに、冷凍装置／冷蔵庫の窓ガラス壁に有利である。実際に、多くの材料を、本発明の被覆のための基体として用いることができ、例えば、金属、セラミック、プラスチック又はセメント材料は、タイル及びスレートのような、壁材、クラッディング材又は屋根材としての用途で建築に用いられる。さらに、それらは、住居の内部又は外部の床又は壁に取り付けられる材料、例えばスラブ又はタイルであってもよい。
【００３８】
さらに、断熱及び／又は防音のための無機ウール型の繊維状材、又は他に補強のための織物糸型の繊維にも被覆を付着させることができる。これらの繊維状材は、ろ過工程における用途を見出し得る。例えば所望に応じて、本発明の被覆の汚れ防止性、殺菌性、殺カビ性、及び防曇特性を活用することができる。
【００３９】
さらに本発明の要旨は、液相分散体にあり、それは特に上述のとおりであり、本発明による光触媒被覆の製造に用いられうる。この分散体は特に、水、エチレングリコール、エタノール、プロピレングリコール及びそれらの混合物から選ばれる溶媒を含む。
【００４０】
本発明の分散体の二酸化チタン結晶相は、好ましくは主にアナターゼ結晶相である。「主に」は、被覆の二酸化チタン粒子におけるアナターゼ含量が、質量で５０％より大きいことを意味する。好適には、被覆の粒子は、８０％より大きいアナタ−ゼ含量を有する。結晶相の結晶化度及び性質は、Ｘ線回折により測定される。
【００４１】
本発明の分散体は、二酸化チタン粒子の分散体を、前駆体化合物及び／又はケイ素化合物の溶液と混合することにより通常得られる。使用される化合物の性質によって、この混合の間に、共溶媒、界面活性剤又は安定剤のような添加剤を加えることもできる。混合は、更に、超音波で分散体を攪拌することにより改良されうる。
【００４２】
本発明の更なる詳細及び有利な特徴は、以下の制限されない例証の説明、そして図面の助けを得て明らかであろう。
【００４３】
【実施例】
実施例の第１のシリーズは、本質的に二酸化チタンを主成分とし、透明基体１上へのいわゆる「汚れ防止」被覆の付着に関する。
【００４４】
基体１は、透明で、平らなシリカ−ソーダ石灰ガラス（面積１５×４０ｃｍ２、厚さ４ｍｍ）である。本発明はこの特定の種類のガラスに限定されないのは、もちろんである。さらに、ガラスは平らでなく、曲がっていてもよい。
【００４５】
被覆３と基体１との間に、被覆の光触媒特性に有害なアルカリ金属に対する拡散バリアを形成させる目的で、シリコンオキシカーバイド（ＳｉＯＣ）を主成分とする薄層２、及び／又は、光学的機能を有する層、例えば化学蒸着（ＣＶＤ）法により公知の方法で付着され、且つ約５０ｎｍの厚さを有する層を任意に設けてもよい。
【００４６】
２つの異なる「冷間」付着法を使用した。すなわち、約５〜３０ｃｍ／分の排水速度の浴におけるセル被覆法での浸漬による付着、並びにスプレー被覆、すなわち冷液体スプレーによる付着法を使用した。これらのよく知られた方法は、上述の特許出願で詳細に説明されており、これを参照しうる。
【００４７】
被覆は、２つの最初の溶液／分散体１及び２を混合することにより得られる分散体から付着される。
【００４８】
（溶液１）
これは、ＴｉＯ２を主成分とする無機バインダーのための有機金属前駆体を含む溶液である。それは、エタノール中に溶解しているアセチルアセトネート（ＣＨ３−ＣＯ−ＣＨ２−ＣＯ−ＣＨ３）で安定化されたチタニウムイソプロピレート｛Ｔｉ（ＯＣＨ（ＣＨ３）２）４｝である。
【００４９】
（分散体２）
これは、次の性質を有する光触媒結晶化粒子を含むエチレングリコール液相である：
粒子の比表面積：≧３５０ｍ２／ｇ
粒子の大きさ：約４０ｎｍ
粒子を形成する微結晶の大きさ：７ｎｍ
結晶相：８０％より多いアナターゼ。
【００５０】
溶液１を分散体２と混合することによって得られる分散体の組成は、望ましいＴｉ（２）／Ｔｉ（１）比、すなわち分散体２の粒子からのチタニウム（２）の質量と、溶液１の前駆体からのチタニウム（１）の質量との比を得るために調整される。（前駆体の１００％が酸化物に転換されると仮定すると、この比は、粒子からの酸化チタンの質量と、金属前駆体からの酸化チタンの質量との比であってもよく、これは同一のことに帰する。）
【００５１】
実施例１〜７は、相当する付着条件下、すなわち浴排出速度（６ｃｍ／分）及び溶液１の前駆体からのチタニウム濃度（すなわち、酸化物の質量に換算して３％固体含有が同じ条件でのセル被覆法浸漬による付着に関する）。
【００５２】
付着の後に、基体は、約４５０〜５００℃で少なくとも３０分間にわたって熱処理を受ける。
【００５３】
下記の表１の記号は、それぞれ下記のとおりである：
Ｔｉ（２）／Ｔｉ（１）比：上述のとおり（単位なし）；
被覆（３）の厚み（ｅ）：（単位ｎｍ）；
光透温率値ＴＬ：（単位％）Ｄ６５発光体を用いて測定；
「ヘイズ」値：（単位％）全可視範囲にわたり積算光透過に対する拡散透過の比で測定。
【００５４】
【表１】
0004911376.tif 000002
【００５５】
実施例８は、実施例４で使用されたのと同じ分散体から製造されたが、０．７ｂａｒ（０．７×１０５Ｐａ）の圧力でいわゆるエアなしスプレーノズルを用いて冷スプレーで基体上に付着された。得られた層は、約４５０〜５００℃で少なくとも３０分間の熱処理の後に、表１に示されるように、厚み約３５〜６０ｎｍ、ＴＬ値８８．６％、及びヘイズ値０．６％を有していた。
【００５６】
上述の実施例１〜８は、被覆の加速エージングをシミュレートする目的で処理の前後の光触媒活性に関して評価された。
【００５７】
光触媒活性は次のような方法で測定される。
（１）被覆の約１５ｃｍ２について試験を実行；
（２）試料の秤量、並びに基体の厚さ、ＴＬ及びヘイズの測定；
（３）ガラス／スプレーノズル距離２０ｃｍ、基体は垂直、３〜４回の連続したパスで、パルミチン酸溶液（１Ｌのクロロホルムついて酸８ｇ）のスプレー付着；
（４）付着した酸の厚さをｎｍ単位測定するために、パルミチン酸を付着させた後の試料を秤量；
（５）付着後のヘイズ及びＴＬの測定；
（６）ＵＶＡ照射時間（約３０Ｖ／ｍ２）の関数として、ヘイズの変化の測定；
（７）ヘイズが５０％に減少した時間のグラフによる決定：この時間はＴ１／２（消滅）と呼ばれる；
（８）ν（ｎｍ／ｈ）＝［パルミチン酸の厚さ（ｎｍ）］／［２×ｔ１／２（消滅）（ｈ）］で定義される、消滅速度ν（ｎｍ／ｈ）の速度として被覆の光触媒活性を評価。
【００５８】
被覆のエージングは、下記のように被覆を機械的に磨耗させることからなる：
試料の大きさ：７ｃｍ×１５ｃｍ
荷重負荷：６００ｇ
研磨布の面積：１．５ｃｍ２
サイクル数（ｎ）（１サイクル＝フェルト及び荷重のキャリアアームの１往復運動）：２００及び５００。
【００５９】
表２の記号は、それぞれ下記のとおりである：
消滅速度ν１：磨耗前
消滅速度ν２：２００サイクル後
消滅速度ν３：５００サイクル後。
【００６０】
【表２】
0004911376.tif 000003
【００６１】
さらに、分析は、実施例３、４及び５における被覆は、非常に単純化した態様で図１に示されるものに多分近い構造を有することを示した（ガラス基体１、ＳｉＯＣ層２及び被覆３）。この被覆は、被覆の無機バインダーを形成するアモルファス又はわずかに結晶性のＴｉＯ２凝集体の間に、粒子又は結晶性集合体５を含む。
【００６２】
図２は、特に実施例４に関し、実施例４の表面外観についての情報を与える走査電子顕微鏡で得られた写真である。ここでは、やや粗い表面は、被覆に大きな発達した表面積を提供している。
【００６３】
実施例４は約１．６５の屈折率を有することに注目すべきである。第１の近似で、「バルク」ＴｉＯ２の屈折率は２．４であることを前提とすると、被覆の多孔度は、約（２．４−１．６５）／（２．４−１）、すなわち約５４％であると考えられる。実施例４による被覆も、強い親水性を示す。活性化するためにＵＶＡ光線に２０分間されされ、暗所に入れられて、水の触媒角ψが定期的に測定される：この接触角は少なくとも２０日間にわたって暗所において１０°未満のままである。
【００６４】
次の結論がデータから引き出される：すべての望ましい性質を兼ね備えるのは、実施例３、４、６及び８、並びに特にＴｉ（２）／Ｔｉ（１）比が５０／５０である実施例５である。ここで、望ましい性質は下記のとおりである：
・高いＴＬ、低いヘイズ、及び２未満の屈折率。これらは被覆に非常に好ましい光学的外観を与える；
・機械的攻撃の後でさえなお存在する満足すべき光触媒活性。これは、被覆の耐久性を示し、受け入れられる「寿命」により、これらの被覆を現実の条件、例えば外部窓ガラスに用いることを可能にする。これらは実際に、適度な５００磨耗サイクルの後にもかかわらず、なお光触媒活性を示す実施例である。
【００６５】
第２のシリーズの実施例は、同一の「溶液１」及び同一の「分散体２」を主成分とする同一の種類の被覆に関する。付着条件は、浴排出時間が高く、２４ｃｍ／分である差異を除けば、上述の実施例１〜７と同一である。もう一つの差異は、基体に関する。基体は同一のガラスではあるが、ＣＶＤにより付着したＳｉＯＣの５０ｎｍ第１層で予め被覆し、ついで公知の方法で粉末熱分解によりフッ素ドープ酸化スズＦ：ＳｎＯ２の４５０ｎｍ第２層を付着させていた。更に、このシリーズの実施例では、光触媒被覆の量Ｑが、その厚さを測定するのではなく、基体の単位面積あたりの材料の量（μｇ／ｃｍ２で表わされる）を測定することによって評価される。
【００６６】
実施例の光触媒活性は、磨耗試験の前に測定される。すなわち、これは上述のν１値である。被覆の耐久性は単に、ラグ（布くず）で拭くことにより、定性的に評価される。ここで、「＋＋」は、被覆が非常に強い耐久性を有することを意味し、「＋」は、なお適切な耐久性を有することを意味し、また「−」は、ラグで拭いた後には、被覆が（ほとんど）除去されたことを意味する。
【００６７】
下の表３は、実施例９〜１３に関するものであり、Ｔｉ（２）／Ｔｉ（１）比（表１におけると同一の意味）、Ｑ値、ν１値及びラグ拭き評価を示す：
【００６８】
【表３】
0004911376.tif 000004
【００６９】
第１のシリーズについてと同一の傾向がこの表でみられる。すなわち、全く同一の又はほとんど同一の量の被覆が付着されている場合、Ｔｉ（２）／Ｔｉ（１）比が４０／６０及び５０／５０である実施例１１及び１２において、最適な結果が得られた。実施例１２のみが２００を超える光触媒活性及び修正された耐久性を示す。
【００７０】
第３のシリーズの実施例は、先のすべての実施例で用いられた分散体のＴｉＯ２粒子を用いた被覆に関するが、ＴｉＯ２をＳｉＯ２に配合したハイブリッドバインダーを用いている。
【００７１】
バインダーのための前駆体を含む溶液は、下記の成分を使用している：
溶媒：７５／２５の質量比のエタノール及びエチレングリコール；
安定剤：アセチルアセトネート；
ＴｉＯ２前駆体：チタニウムテトラブトキシド（ＴＢＴ）；
ＳｉＯ２前駆体：テトラエチルオルソシリケート（ＴＥＯＳ）。
【００７２】
ＴＢＴとＴＥＯＳとの相対的割合は、溶液中でＴｉＯ２／ＳｉＯ２質量比が１５／８５になるように調整される（すべてのＴＰＴがＴｉＯ２に転換され、且つすべてのＴＥＯＳがＳｉＯ２に転換されるとする）。
【００７３】
次に、この溶液は、先の実施例で用いられた粒子分散体に望ましい比ｒ、Ｔｉ粒子／（Ｔｉ前駆体＋ケイ素前駆体）が得られるような割合で加えられる。（溶液の固体含量は３％である）。
【００７４】
付着及び基体条件は実施例９〜１３におけるのと同一である。
【００７５】
下記の表４は、上述の比ｒの値、上述の速度ν１の値、被覆基体の反射率ＲＬ（％）、及び第１のシリーズの実施例の文脈で述べられた磨耗試験の５００サイクル後に観察されるＴＬの変化（ΔＴＬ）、並びにチタン（Ｔｉ）量のケイ素（Ｓｉ）量に対する比（酸化物質量基準）ｒ１｛ｒ１＝ＴｉＯ２粒子／（ＴｉＯ２バインダー＋ＳｉＯ２バインダー）｝を示している。
【００７６】
さらに、表は、被覆における全ＴｉＯ２量であるＱ１（粒子及びチタン前駆体から生じるＴｉＯ２）をμｇ／ｃｍ２単位で、且つ被覆の全質量として計算される量Ｑ２をμｇ／ｃｍ２単位で示している。
【００７７】
【表４】
0004911376.tif 000005
【００７８】
溶液の固体含量及び排水速度を調整することにより、比ｒを５５．３／４４．７に固定し、且つ付着する被覆の量を変えて、被覆を繰り返えした。
【００７９】
下記の表５は、実施例１５からの追加の例のために、上記のように、量Ｑ（μｇ／ｃｍ２）、測定されたときの対応する厚さｅ（ｎｍ）、ν１の値（ｎｍ／ｈ）、ＲＬの値、及びΔＴＬの値を示している。
【００８０】
【表５】
0004911376.tif 000006
【００８１】
この第３のシリーズの実施例から、バインダーにＳｉＯ２材料を添加するのが有利であることがわかる。この材料は光触媒に必要ではないが、被覆をより均一にし、且つ耐久性を増加させるのに役立つ。更に、比ｒが重要であるが、他のパラメータも必要であり、被覆のコスト、及び光学的外観に関する厚さの影響の両方を考慮すると、好適には１５〜４５μｇ／ｃｍ２である値Ｑが特に重要である。
【００８２】
本発明はこれらの特定の実施例に限定されないのはもちろんである。特に、結晶格子にドーパントを導入することによって、又は先に述べたＷＯ９７／１０１８５に記載されているような、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｍｏ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｖａ等を含む種類のドーパントで粒子を被覆することによってそれらをドープして、粒子５の光触媒活性を更に改良することも、本発明の範囲内である。
【００８３】
さらに、結晶状態で、光触媒でないか又はわずかしか光触媒活性を有さないような酸化物を含む無機バインダーを添加すること、例えばテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）のようなＳｉＯ２型の他の酸化物のための前駆体を分散体に添加することも、本発明の範囲内である。
【００８４】
上述のＡ／（Ｂ＋Ｍ＋Ｓｉ）比は、４０／６０〜６０／４０の範囲が最適であるが、要求が厳しくない場合には３５／６５〜４０／６０及び６５／３５〜６０／４０を考慮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の光触媒被覆の構造を示す。
【図２】  本発明の光触媒被覆の表面の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。
【図１】
0004911376.tif 000007
【図２】
0004911376.tif 000008