(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、
重量平均分子量が２００以上、１０００未満である高屈折率樹脂Ａ、重量平均分子量が１０００以上、１０万未満である高屈折率樹脂Ｂ、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含み、かつ、含まれる樹脂成分中における前記高屈折率樹脂Ａと高屈折率樹脂Ｂとの合計量が１０〜８０質量％（固形分比）である樹脂組成物を、前記光透過性基材上に塗布して前記ハードコート層を形成する工程を有し、
前記高屈折率樹脂Ａ及び前記高屈折率樹脂Ｂは、屈折率が１．５５〜１．６５である
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
【請求項２】
高屈折率樹脂Ａと高屈折率樹脂Ｂとの含有比（高屈折率樹脂Ａ／高屈折率樹脂Ｂ）が、固形分質量比で（９５／５）〜（５／９５）である請求項１記載の光学積層体の製造方法。
【請求項３】
浸透性溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の光学積層体の製造方法。
【請求項４】
バインダー樹脂は、屈折率が１．５５未満であり、かつ、重量平均分子量２００以上、１０００未満である樹脂１と、屈折率が１．５５未満であり、かつ、重量平均分子量１０００以上、１０万以下である樹脂２とを含む請求項１、２又は３記載の光学積層体の製造方法。
【請求項５】
樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも１つの元素の酸化物を含有する請求項１、２、３又は４記載の光学積層体の製造方法。
【請求項６】
樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を有する請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体の製造方法。
【請求項７】
光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有する請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体の製造方法。
【請求項８】
光透過性基材は、トリアセチルセルロースである請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体の製造方法。
【請求項９】
請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学積層体の製造方法により得られることを特徴とする光学積層体。
【請求項１０】
最表面に請求項９記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
【請求項１１】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項９記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
最表面に請求項９記載の光学積層体、又は、請求項１１記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置の最表面には、反射防止のための光学積層体が設けられている。このような反射防止用光学積層体は、光の散乱や干渉によって、像の写り込みを抑制したり反射率を低減したりするものである。
【０００３】
上記反射防止用光学積層体において、蛍光等の外光から照射された光線による反射を少なくし、その表示面の視認性を高めるための方法の一つとして、屈折率の異なる層を積層することが従来より行われている（特許文献１）。しかし、屈折率の差が大きい層を積層させた反射防止積層体にあっては、互いに重なりあった層の界面において、界面反射や干渉縞が生じ、その結果、画像の視認性が低下するといった問題があった。
【０００４】
このような干渉縞の発生を抑制する方法として、基材上に、基材を溶解する溶剤を含む樹脂組成物を用いてハードコート層を形成する方法が知られている（特許文献２、３）。
特許文献３では、重量平均分子量が２００以上１００００以下であり、かつ２超過の官能基を有する樹脂と、重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、かつ２以下の官能基を有する樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる組成物によりハードコート層を基材上に形成することにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止する光学積層体が開示されている。
【０００５】
しかしながら、比較的屈折率の高いハードコート層を形成するために、ハードコート層に高屈折率樹脂を添加した場合、浸透性溶剤を使用して形成しても、干渉縞の発生の抑制が十分ではなく、視認性が低下するといった問題があった。
【特許文献１】特開２００３−７５６０３号公報
【特許文献２】特開２００３−２０５５６３号公報
【特許文献３】特開２００６−２９９２２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑みて、界面反射と干渉縞の発生を有効に抑制し、視認性に優れる光学積層体を形成するための製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、重量平均分子量が２００以上、１０００未満である高屈折率樹脂Ａ、重量平均分子量が１０００以上、１０万以下である高屈折率樹脂Ｂ、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含み、かつ、含まれる全樹脂成分中における前記高屈折率樹脂Ａと高屈折率樹脂Ｂとの合計量が１０〜８０質量％（固形分比）である樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布して上記ハードコート層を形成する工程を有し、上記高屈折率樹脂Ａ及び高屈折率樹脂Ｂは、屈折率が１．５５〜１．６５であることを特徴とする光学積層体の製造方法である。
上記高屈折率樹脂Ａと上記高屈折率樹脂Ｂとの含有比（高屈折率樹脂Ａ／高屈折率樹脂Ｂ）が、固形分質量比で（９５／５）〜（５／９５）であることが好ましい。
上記浸透性溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも１種であるであることが好ましい。
上記バインダー樹脂は、屈折率が１．５５未満であり、かつ、重量平均分子量２００以上、１０００未満である樹脂１と、屈折率が１．５５未満であり、かつ、重量平均分子量１０００以上、１０万以下である樹脂２とを含むことが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも１つの元素の酸化物を含有することが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を有することが好ましい。
上記光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有することが好ましい。
上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
【０００８】
本発明はまた、上述の光学積層体の製造方法により得られることを特徴とする光学積層体でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】
本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、重量平均分子量が２００以上、１０００未満である高屈折率樹脂Ａ、重量平均分子量が１０００以上、１０万以下である高屈折率樹脂Ｂ、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含む樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布して上記ハードコート層を形成する工程を有することを特徴とする光学積層体の製造方法である。上記ハードコート層を形成する工程を有することで、界面反射と干渉縞の発生を好適に防止し、視認性に優れる光学積層体を得ることができる。
【００１０】
本発明の光学積層体の製造方法において、ハードコート層を形成する際、重量平均分子量の異なる２種の高屈折率樹脂を含む樹脂組成物を使用する。
上記樹脂組成物が２種の高屈折率樹脂を含むことにより、光透過性基材上に形成するハードコート層は、該光透過性基材や、その他必要に応じて積層する低屈折率層等との屈折率の差を大きくすることができ、反射防止性を向上させることができる。また、上記樹脂組成物は、重量平均分子量の異なる２種の高屈折率樹脂と浸透性溶剤を含むものであるため、ハードコート層を形成した際、低分子量のものは浸透性溶剤とともに一部基材に浸透することにより、明確な界面が形成されないので、干渉縞の発生を抑制することができるものである。
なお、本明細書において、「高屈折率樹脂」とは、屈折率が１．５５以上の樹脂を意味し、「樹脂」とは、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
【００１１】
本発明の光学積層体の製造方法により製造される光学積層体は、界面反射及び干渉縞の発生を好適に抑制することができるので、画像表示装置に設置した際、視認性に優れるものである。また、ハードコート層の成分の一部が光透過性基材に浸透して形成されるものであるため、層間の密着性にも優れるものである。
【００１２】
本発明の光学積層体の製造方法は、重量平均分子量が２００以上、１０００未満である高屈折率樹脂Ａ、重量平均分子量が１０００以上、１０万以下である高屈折率樹脂Ｂ、及び、浸透性溶剤を含む樹脂組成物を光透過性基材に塗布してハードコート層を形成する工程を有する。
【００１３】
上記高屈折率樹脂Ａの重量平均分子量が２００未満であると、分子中に高屈折率とするための成分の導入が困難となり、形成するハードコート層の屈折率を高くすることが困難となって製造する光学積層体の反射防止性が不充分になることがある。また、揮発性が高くなって人体への悪影響を及ぼしたり、乾燥工程で揮発して汚れ等の要因になったりすることがある。１０００以上であると、上述の浸透性溶剤とともに一部基材に浸透するという効果が得られないことがある。上記高屈折率樹脂Ａの重量平均分子量の好ましい下限は２６０である。
【００１４】
また、上記高屈折率樹脂Ｂの重量平均分子量が、１０００未満であると、形成するハードコート層の屈折率を充分に高くすることができないことがある。１０万を超えると、調製した樹脂組成物の粘度が高くなって均一に塗工できないことがある。上記高屈折率樹脂Ｂの重量平均分子量の好ましい下限は１２００、好ましい上限は４万である。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算にて得られた値である。
【００１５】
上記高屈折率樹脂Ａ及びＢは、屈折率が１．５５〜１．６５であるものが好ましい。このような高屈折の樹脂を含むことにより、本工程を経て形成するハードコート層の屈折率が上がり、その結果、該ハードコート層の上に低屈折率樹脂を積層した場合、反射率の低い光学積層体を得ることができる。
【００１６】
上記高屈折率樹脂Ａとして使用することができる市販品としては、例えば、「ＡＬＥＮ１０」（ビフェニル骨格の単官能アクリレート、屈折率１．５８、重量平均分子量２６８、新中村化学社製）、「ＥＸ１４２」（ビフェニル骨格の単官能エポキシ、屈折率１．５９、重量平均分子量２２６、ナガセケムテックス社製）、「Ｚ９０１４」（臭素含有アクリレート、屈折率１．５７、ＪＳＲ社製）、「Ｚ９００９Ｄ」（臭素含有アクリレート、屈折率１．５７、ＪＳＲ社製）等を挙げることができる。
【００１７】
上記高屈折率樹脂Ｂとして使用することができる市販品としては、例えば、「Ｒ１４０３Ｍ」（ウレタンアクリレート、屈折率１．５８、重量平均分子量１５００、第一工業製薬社製）、「ＨＲＲ２」（ウレタンアクリレート、屈折率１．５８、重量平均分子量１５００、昭和インク社製）等を挙げることができる。
【００１８】
上記樹脂組成物において、上記高屈折率樹脂Ａと上記高屈折率樹脂Ｂとの含有比（高屈折率樹脂Ａ／高屈折率樹脂Ｂ）は、固形分質量比で（５／９５）〜（９５／５）であることが好ましい。（５／９５）未満であると、高屈折率樹脂Ａが少なくなり、製造する光学積層体に干渉縞が発生し、光透過性基材との密着性が悪化するおそれがある。（９５／５）を超えると、高屈折率樹脂Ｂが少なくなり、製造する光学積層体に干渉縞が発生するおそれがある。
【００１９】
上記樹脂組成物において、上記高屈折率樹脂Ａと上記高屈折率樹脂Ｂの合計含有量は、後述する屈折率が１．５５未満のバインダー樹脂等を含む全樹脂成分の中において、１０〜８０質量％（固形分比）である。１０質量％未満であると、形成するハードコート層が高屈折率化されにくく目的とする効果が薄れる。８０質量％を超えると、形成するハードコート層の硬度が著しく低下し、また、光透過性基材との密着性が悪化して干渉縞が発生してしまう。更に、高屈折率樹脂Ａ及びＢは高価であるためコストアップとなってしまう。上記合計含有量（固形分比）の好ましい下限は２０質量％、好ましい上限は６０質量％である。
【００２０】
上記浸透性溶剤は、光透過性基材に対して浸透性が高く、上記基材を溶解又は膨潤させる溶剤である。
このような浸透性溶剤を使用することにより、製造する光学積層体に干渉縞をなくし、更には光透過性基材との密着性を向上させることができる。これは、以下に挙げる理由によると考えられる。
すなわち、本工程において光透過性基材上に上記樹脂組成物を塗布し、樹脂層を形成すると、該樹脂層中の浸透性溶剤が上記光透過性基材の表面付近に浸透するが、このとき、樹脂組成物の他の成分、具体的には主に高屈折率樹脂Ａ（及び、後述するバインダー樹脂）が、浸透性溶剤とともに光透過性基材中に浸透すると考えられる。そうすると、製造される光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との界面が不明確になって光透過性基材からハードコート層にかけて屈折率が徐々に変化するものとなり、干渉縞の発生をなくすことができるものと考えられる。また、ハードコート層の一部が光透過性基材の表面付近に浸透することとなるため、製造される光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との密着性が向上するものと考えられる。
【００２１】
上記浸透性溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類；テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類；その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン、又は、これらの混合物が挙げられる。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００２２】
上記浸透性溶剤の添加量としては、形成するハードコート層の厚さに合わせて適宜調整され、特に限定されないが、上記樹脂組成物中において、上記高屈折率樹脂Ａ、Ｂや後述するバインダー樹脂等の固形分１００質量部に対して、３０〜５００質量部程度であることが好ましい。３０質量部未満であると、光透過性基材上に形成するハードコート層が充分に光透過性基材に浸透せず、製造する光学積層体に干渉縞が発生することがある。また、形成するハードコート層の光透過性基材に対する密着性も不充分になることがある。５００質量部を超えると、充分な厚さのハードコート層を形成することができないことがあり、製造する光学積層体の反射防止性等の機能が不充分となることがある。より好ましい下限は４０質量部、より好ましい上限は４００質量部である。
【００２３】
上記ハードコート層を形成するための樹脂組成物は、更に、バインダー樹脂を含む。
上記バインダー樹脂としては、屈折率が１．５５未満で透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂が好適に用いられる。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、分子量の異なる２種の樹脂を含むことが好ましい。分子量の異なる２種の樹脂を含むことにより、上記樹脂組成物を光透過性基材上に塗布した場合、上記浸透性溶剤とともに低分子の樹脂が光透過性基材へ浸透し、製造する光学積層体の界面反射及び干渉縞の発生をより抑制することができる。また、層間の密着性を高めることができる。更に、形成するハードコート層の鉛筆硬度を優れたものとすることもできる。
【００２４】
上記分子量の異なる２種の樹脂としては、屈折率が１．５５未満であり、かつ、重量平均分子量２００以上、１０００未満である樹脂１と、屈折率が１．５５未満であり、かつ、重量平均分子量１０００以上、１０万以下である樹脂２であることが好ましい。上記樹脂１及び２の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算にて得られた値である。
【００２５】
上記樹脂１としては、上述した屈折率及び重量平均分子量を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物が好適に用いられる。
上記３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート等が挙げられる。また、これらアクリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
【００２６】
また、上記（メタ）アクリレートは、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）アクリレート等のオリゴマーであってもよい。これらは、２種以上を併用してもよい。
【００２７】
上記（メタ）アクリレート系化合物の分子量が１０００を超えると、基材との密着性が悪化するだけでなく、干渉縞が消えないおそれがある。上記分子量は、７００以下であることがより好ましく、２８０〜６００であることが更に好ましい。
このような樹脂１を含有することで、製造する光学積層体に干渉縞の発生を抑制することができ、層間の密着性を優れたものとすることがきる。
【００２８】
上記樹脂２としては、上述した屈折率及び重量平均分子量を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物が好適に用いられる。
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物の市販品としては、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等が挙げられ；根上工業社製のアートレジンシリーズ、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳＢＡ、ＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３等が挙げられ；新中村化学社製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ４ＨＡ、Ｕ６Ｈ、Ｕ６ＨＡ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ等が挙げられ；ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０等が挙げられ；荒川化学社製のビームセットシリーズ、３７１、５７７等が挙げられ；三菱レーヨン社製のＲＱシリーズ、大日本インキ社製のユニディックシリーズ等が挙げられ；ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、ＣＮ９００６（サーマー社製）、ＣＮ９６８等が挙げられる。この中でも、好ましくは、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成社製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、アートレジンＨＤＰ（根上工業社製）、ビームセット３７１（荒川化学社製）、ビームセット５７７（荒川化学社製）Ｕ１５ＨＡ（新中村化学社製）等が挙げられる。
【００２９】
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物の重量平均分子量が１０００未満であると、基材への浸透性が増し、製造する光学積層体に充分な硬度が得られないことがある。１０万を超えると、粘度が高すぎて、好適な塗工をすることができないおそれがある。
このような樹脂２を含有することで、製造する光学積層体に充分な鉛筆硬度を付与することができる。
【００３０】
更に、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
【００３１】
また、上記バインダー樹脂としては、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂も挙げることができる。
【００３２】
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
【００３３】
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性に優れるという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００３４】
本工程で樹脂組成物を塗布する光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例としては、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としてセルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材との密着性や透明性を向上させることができる。更に、上記熱可塑性樹脂としては、上述のセルロース系樹脂の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等を使用することもできる。
【００３５】
上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
【００３６】
上記樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも１つの元素の酸化物（以下、これらをまとめて金属酸化物ともいう）を含有することが好ましい。上記金属酸化物を有することで、製造する光学積層体の鉛筆硬度を向上させることができる。
【００３７】
上記金属酸化物としては、なかでも、光反応性基を表面に有するコロイダルシリカが好適である。製造する光学積層体の鉛筆硬度を極めて優れたものとすることができる。
上記光反応性基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基等が挙げられる。
このような光反応性基を表面に有するコロイダルシリカは、例えば、シリカ微粒子の表面に上記光反応性基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等が挙げられる。
【００３８】
上記樹脂組成物における金属酸化物の配合量としては特に限定されず、該金属酸化物を有することによる鉛筆硬度向上効果を充分に享有するできるとともに、上述した本発明により製造される光学積層体の効果を阻害しない範囲で、上記樹脂組成物に適宜配合されることが好ましい。
【００３９】
また、上記樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を有することが好ましい。
上記樹脂組成物が帯電防止剤を含有することで、形成するハードコート層に帯電防止性を付与することができる。
【００４０】
上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物；スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物；上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【００４１】
上記帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。
【００４２】
上記帯電防止剤は、導電性金属酸化物微粒子であってもよい。上記導電性金属酸化物微粒子としては特に限定されず、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の値はすべて屈折率を表すものである。）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＣｅＯ２（１．９５）、酸化インジウム錫（略称  ＩＴＯ；１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称ＡＴＯ；２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称ＡＺＯ；２．０）等を挙げることができる。
【００４３】
上記帯電防止剤の含有量としては、上記帯電防止剤を含有することの効果を充分に享有できるとともに、上述した本発明により製造される光学積層体に得られる効果を阻害しない範囲で、上記樹脂組成物に適宜配合されることが好ましい。
【００４４】
上記ハードコート層を形成するための樹脂組成物は、上述した成分の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤等を挙げることができる。
【００４５】
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤は、公知のものを使用するとよい。    
【００４６】
上記樹脂組成物は、上述した高屈折率樹脂Ａ、高屈折率樹脂Ｂ、浸透性溶剤、バインダー樹脂及びその他の成分を混合して分散処理することにより得られる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用するとよい。
【００４７】
本工程では、上記樹脂組成物を光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系化合物が挙げられる。なかでも、発明の効果を発揮しやすいという観点からトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）であることがより好ましい。
【００４８】
上記光透過性基材の厚みは、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましい下限は３０μｍ、より好ましい上限は２００μｍである。
【００４９】
更に、上記光透過性基材は、その上にハードコート層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。また、上記光透過性基材がトリアセチルセルロースの場合、ケン化処理をあらかじめ行ってもよい。上記ケン化処理は既知の方法・条件で行ってよい。
【００５０】
上記樹脂組成物を光透過性基材上に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
また、上記樹脂組成物の塗布量としては目的とするハードコート層の膜厚等を考慮して適宜決定されるが、０．１〜３０ｇ／ｍ２であることが好ましい。０．１ｇ／ｍ２未満であると、形成するハードコート層の硬度が低下する恐れがある。また、膜厚のコントロールが難しくなり性能のバラツキが大きくなることがある。３０ｇ／ｍ２を超えると、製造した光学積層体を曲げた場合にクラックが入りやすくなり問題となることがある。また、コスト的にも高くなるため好ましくない。より好ましい下限は１ｇ／ｍ２、より好ましい上限は２０ｇ／ｍ２である。
【００５１】
上記ハードコート層を形成する方法としては、上記樹脂組成物を上記光透過性基材に塗布して樹脂層を形成した後、必要に応じて該樹脂層加熱し、活性エネルギー線照射により、硬化させて形成する方法が挙げられる。
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００５２】
本工程を経て形成されるハードコート層は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであることが好ましい。上記硬度を有することにより、所望の耐擦傷性等を実現できる光学積層体を製造することができる。
【００５３】
本発明の光学積層体の製造方法は、帯電防止層を形成する工程を有することが好ましい。
上記帯電防止層は、例えば、上述した帯電防止剤を及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記樹脂としては特に限定されず、例えば、上述の樹脂組成物で例示したバインダー樹脂等が挙げられる。
なお、上記帯電防止層を形成する工程は、上記ハードコート層を光透過性基材上に形成する工程の前に行ってもよく、上記ハードコート層を光透過性基材上に形成する工程の後に行ってもよい。前者の場合、製造する光学積層体は、光透過性基材上に帯電防止層が形成され、該帯電防止層上にハードコート層が形成された構造となる。一方、後者の場合、製造する光学積層体は、光透過性基材上にハードコート層が形成され、該ハードコート層上に帯電防止層が形成された構造となる。
【００５４】
また、本発明の光学積層体の製造方法は、上述した工程を経て形成したハードコート層の上に、更に、低屈折率層を形成する工程を有することが好ましい。
上記高屈折率樹脂Ａ及び高屈折率樹脂Ｂを含むハードコート層の上に、低屈折率層を形成することにより、屈折率の異なる層が複数形成されて反射防止性能をより高めることができる。上記低屈折率層は、屈折率が１．５０未満であることが好ましく、１．４５以下であることがより好ましい。
【００５５】
上記低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。
【００５６】
上記フッ素系樹脂とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。重合性化合物はとして特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。
【００５７】
フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐２，２‐ジメチル−１，３−ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
【００５８】
フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。
【００５９】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００６０】
フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；などが挙げられる。
【００６１】
また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００６２】
上記したほか、更には、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；等も、フッ素系樹脂として用いることができる。
【００６３】
低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（低屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶媒に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記ハードコート層上に上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤等の添加剤は、例えば、ハードコート層で使用するものと同様のものを使用することができる。また、帯電防止剤、防眩剤は、光学積層体の技術分野において公知のものを使用することができる。
【００６４】
上記溶媒としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ  −メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができる。なかでも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡが好ましい。
【００６５】
上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。
【００６６】
空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子等を挙げることができる。空隙を有するシリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調整することができる。
空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子を挙げることができる。
【００６７】
被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業社製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【００６８】
上記「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、８ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、ハードコート層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。
【００６９】
上記低屈折率層形成用組成物の調製方法は、上述の成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、上記ハードコート層の形成において上述した公知の装置を使用して混合することができる。
【００７０】
低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。上記粘度は、より好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）である。
【００７１】
上記低屈折率層形成用組成物をハードコート層上に塗布して塗膜を形成する方法としては、公知の方法に従えば良い。例えば、上記ハードコート層の形成における樹脂組成物の塗布方法と同様の各種方法を用いることができる。
【００７２】
塗膜の硬化方法としては、例えば、上記ハードコート層の形成における樹脂組成物の硬化方法と同様の方法を挙げることができる。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
【００７３】
低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（Ｉ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）    （Ｉ）
（上記式中、
ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。
【００７４】
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＩＩ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５        （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００７５】
本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体は、光透過性基材上にハードコート層、必要に応じて帯電防止層や低屈折率層を有するものであるが、その他にも任意の層として防汚染層、防眩層、中屈折率層等を備えているものであってよい。上記防汚染層、防眩層、中屈折率層は、一般に使用される防汚染剤、防眩剤、中屈折率剤又は樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。
【００７６】
上記光学積層体の全光線透過率は、９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９２％以上であることがより好ましく、９４％以上であることが更に好ましい。
【００７７】
上記光学積層体のヘイズ値は、１０％以下であることが好ましい。１０％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記ヘイズ値は、５％以下であることがより好ましい。１％以下であれば更に好ましい。
【００７８】
上記光学積層体の一態様について、図を用いて説明する。図１は、上から順に低屈折率層１、ハードコート層２、光透過性基材３を備えてなる光学積層体を示す。このような本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体もまた、本発明の一つである。上記光学積層体は、このような態様の他に、目的に応じて任意の層からなるものであってもよく、また、上述した態様に限定されないものである。
【００７９】
偏光素子の表面に、上記光学積層体を、上記光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。
【００８０】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００８１】
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。
【００８２】
上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
【００８３】
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００８４】
上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
【００８５】
上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴ等の画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
【００８６】
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００８７】
本発明の光学積層体の製造方法は、上述した光透過性基材上にハードコート層を形成する工程を有するため、界面反射と干渉縞が抑制され、優れた視認性を有する光学積層体を製造することができる。本発明により製造された光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００８８】
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。
【００８９】
（製造例１  樹脂組成物１の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物１を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                      ５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ−ＲＥＮ−１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）        ２．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）          ２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９０】
（製造例２  樹脂組成物２の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物２を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）        ５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ−ＲＥＮ−１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）        ２．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）          ２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９１】
（製造例３  樹脂組成物３の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物３を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                  ２．５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）    ２．５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ−ＲＥＮ−１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）        ２．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）          ２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９２】
（製造例４  樹脂組成物４の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物４を調製した。
ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７、荒川化学製）                      ２．５質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴ３０、日本化薬製）    ２．５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ―ＲＥＮ―１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）        ２．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）          ２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９３】
（製造例５  樹脂組成物５の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物５を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                      ５質量部
高屈折率樹脂Ａ（ＥＸ１４２、ナガセケムテックス製、Ｍｗ２２６）    ２．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（ＨＲＲ２、昭和インク、Ｍｗ１５００）                ２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９４】
（製造例６  樹脂組成物６の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物６を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製                        ７質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ―ＲＥＮ―１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）        １．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）          １．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９５】
（製造例７  樹脂組成物７の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物７を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）        ３質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ―ＲＥＮ―１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）        ３．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）          ３．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９６】
（製造例８  樹脂組成物１’の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物１’を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                      ５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）              ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９７】
（製造例９  樹脂組成物２’の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物２’を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）        ５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）              ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９８】
（製造例１０  樹脂組成物３’の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物３’を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                      ５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ―ＲＥＮ―１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）            ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【００９９】
（製造例１１  樹脂組成物４’の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物４’を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）        ５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ−ＲＥＮ−１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）            ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【０１００】
（製造例１２  樹脂組成物５’の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物５’を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                  ２．５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）    ２．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）              ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【０１０１】
（製造例１３  樹脂組成物６’の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物６’を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                  ２．５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）    ２．５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ−ＲＥＮ−１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）            ５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【０１０２】
（製造例１４  樹脂組成物７’の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物７’を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                  ０．５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）    ０．５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ−ＲＥＮ−１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）        ４．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）          ４．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
メチルエチルケトン                                                    １０質量部
【０１０３】
（製造例１５  樹脂組成物８’の調製）
下記に示す組成を混合して樹脂組成物８’を調製した。
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成製）                  ２．５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬製）    ２．５質量部
高屈折率樹脂Ｂ（Ｒ１４０３、第一工業製薬製、Ｍｗ１５００）          ２．５質量部
高屈折率樹脂Ａ（Ａ−ＲＥＮ−１０、新中村化学製、Ｍｗ２６８）        ２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
レベリング剤（大日本インキ製、メガファックＭＣＦ３５０−５）        ０．２質量部
トルエン                                                              １０質量部
【０１０４】
（実施例１）
光透過性基材として、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士写真フィルム製、ＴＦ８０ＵＬ、厚さ８０ミクロン）を用意し、このフィルムの表面に調製した樹脂組成物１を、湿潤重量２６ｇ／ｍ２（乾燥重量１３ｇ／ｍ２）で塗布（バーコーティング）して樹脂層を形成し、次いで、５０℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製）を用いて、照射線量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行うことにより、樹脂組成物１を用いて形成した樹脂層を硬化させて、ハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。膜厚は、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近（膜厚０．１０μｍ）になるように形成させた。
【０１０５】
（実施例２〜７、比較例１〜８）
樹脂組成物１を、樹脂組成物２〜７、１’〜８’に変更した以外は、実施例１と同様にして実施例２〜７、比較例１〜８に係る光学積層体を製造した。
【０１０６】
（評価）
実施例１〜７及び比較例１〜８で得られた各光学積層体について、以下の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０７】
（干渉縞の有無）
実施例１〜７及び比較例１〜８で得られた各光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から各光学積層体を、３波長蛍光灯で目視しで観察し、干渉縞の発生の有無を以下の基準により評価した。
○：干渉縞の発生はなかった。
×：干渉縞の発生があった。
【０１０８】
（反射防止効果の評価）
まず、実施例１〜７及び比較例１〜８で製造した光学積層体のハードコート層の上に、下記組成の低屈折率樹脂組成物を用いて、０．１０ミクロンの厚さ（Ｄｒｙ）となるように積層した。
＜低屈折率樹脂組成物組成＞
「空隙を有する」処理シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分は２０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、粒径５０ナノメートル）                          １１．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）                  １．５８質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１質量部
シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学社製）                    ０．１質量部
メチルイソブチルケトン                                                ３２質量部
ＰＧＭＥ                                                              ２０質量部
【０１０９】
＜反射率の測定＞
反射Ｙ値は、島津製作所製  ＭＰＣ３１００分光光度計にて、５°正反射率を３８０〜７８０ｎｍまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト（ＭＰＣ３１００内蔵）で算出される、視感反射率を示す値である。なお、５°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ（寺岡製）を貼って測定した。以下の基準にて評価を行った。
◎：反射率が１．２％未満であった
○：反射率が１．２％以上であった
【０１１０】
（鉛筆硬度試験）
上述した方法で低屈折率層を形成した各光学積層体を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度Ｈ）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて実施し、以下の評価基準で評価を行った。
評価○：傷なし／測定回数＝４／５，５／５
評価×：傷なし／測定回数＝０／５，１／５，２／５，３／５
【０１１１】
【表１】
0005076763.tif 000002
【０１１２】
表１より、実施例の光学積層体は、干渉縞が発生せず、鉛筆強度反射防止性能がともに良好なものを得ることができたのに対し、比較例の光学積層体は、干渉縞が発生し鉛筆硬度が劣るものもあった。
【産業上の利用可能性】
【０１１３】
本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】本発明の光学積層体の概要図の一例である。
【符号の説明】
【０１１５】
１  低屈折率層
２  ハードコート層
３  光透過性基材
【図１】
0005076763.tif 000003