(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレートの識別情報を表すコード又はマークを読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報を前記マススペクトルと組み合わせて記憶するとともに、
予め質量分析装置内の記憶装置にサンプルプレートの識別情報と当該サンプルプレート表面の凹凸に関する情報を対応させて登録しておき、前記読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報に基づき、前記記憶装置から当該サンプルプレート表面の凹凸情報を読み出して、各試料付着場所の高さ情報を求め、求めた高さ情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なう
ようにしたことを特徴とするMALDIイオン源を備えた質量分析装置。
【請求項２】
サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレートの識別情報を表すコード又はマークを読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報を前記マススペクトルと組み合わせて記憶するとともに、
前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレート表面の凹凸に関する情報を表すコード又はマークを前記読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレート表面の凹凸に関する情報に基づき、各試料付着場所の高さ情報を求め、求めた高さ情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なう
ようにしたことを特徴とするMALDIイオン源を備えた質量分析装置。
【請求項３】
前記読み取り手段として、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料を観察する観察手段を兼用したことを特徴とする請求項１記載のMALDIイオン源を備えた質量分析装置。
【請求項４】
サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面にサンプルプレート表面の凹凸に関する情報を表すコード又はマークを設けると共に、該コード又はマークを読み取る読み取り手段を設け、前記データ処理部では、前記読み取り手段によって読み取られたサンプルプレート表面の凹凸に関する情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なうようにしたことを特徴とするMALDIイオン源を備えた質量分析装置。
【請求項５】
前記データ処理部では、前記読み取り手段によって読み取られたサンプルプレート表面の凹凸に関する情報に基づき、各試料付着場所の高さ情報を求め、求めた高さ情報に基づき、対応する各マススペクトルについて質量較正を行なうようにしたことを特徴とする請求項４記載のMALDIイオン源を備えた質量分析装置。
【請求項６】
前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレートの識別情報を表すコード又はマークを前記読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報を前記マススペクトルと組み合わせて記憶するようにしたことを特徴とする請求項４又は５記載のMALDIイオン源を備えた質量分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、生体高分子などの定性・定量を行なう際に用いられるMALDI（Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization）イオン源を備えた質量分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
MALDI法は、使用するレーザー光波長に吸収帯をもつマトリックス（液体や結晶性化合物、金属粉など）に試料を混合溶解させて固化し、これにレーザー照射して試料を気化あるいはイオン化させる方法である。MALDI法に代表されるレーザー光によるイオン化では、イオン生成時の初期エネルギー分布が大きい。そこで、これを時間収束させるため、遅延引き出し法がほとんどの場合で用いられる。これは、レーザー照射より数百nsec遅れてパルサー電圧を印加する方法である。
【０００３】
一般的なMALDIイオン源と遅延引き出し法の概念図を図４に示す。サンプルプレート１１上に、マトリックス（液体や結晶性化合物、金属粉など）に試料を混合溶解させて固化した試料１２を載せる。試料１２の状態が観察できるように、レンズ１６、ミラー１５、ＣＣＤカメラ１７を配置している。レンズ１３、ミラー１４によりレーザーをサンプルに照射し、サンプルを気化あるいはイオン化する。生成したイオンは、中間電極１８、ベース電極１９に印加された電圧により加速され、図示しない飛行時間型質量分析部に導入される。
【０００４】
遅延引き出し法の飛行時間測定のシーケンスを図４に合わせて示す。まず、中間電極１８とサンプルプレート１１の電位を同電位Ｖsにしておく。次にレーザー発振を知らせる図示しないレーザー装置からの信号を受けてから、数百nsec後に中間電極１８の電位Ｖsを高速で電位Ｖ1に変化させ、サンプルプレート１１と中間電極１８の間に電位勾配を作り、生成したイオンを加速させる。飛行時間計測の開始時間は、中間電極電圧の変化開始時間と同期させる。
【０００５】
イオンの飛行時間は、サンプルプレート１１と中間電極１８との間に発生する加速電場の強さで決まるため、サンプルプレート１１と中間電極１８の間の距離は、サンプルプレート１１のどこの位置においても、常に正確に同じでなければならない。
【０００６】
MALDI法をイオン源に採用した質量分析計では、一般に、レーザー照射により生成したイオンを引き出す電場を作る目的のために、サンプルプレート１１にはステンレスなどの導電性材料が用いられる。そして、導電性サンプルプレート１１表面には、試料を滴下する位置を示すための目印が彫刻されている。彫刻の数は、９６個（１２行×８列）、３８４個（２４行×１６列）、１５３６個（４８行×３２列）などが一般的である。
【０００７】
使用するにあたっては、彫刻された目印内に試料１２を滴下させたサンプルプレート１１を質量分析計内に導入設置する。そして、サンプルプレート１１表面をＣＣＤカメラ１７で観察しながら、滴下された試料１２にレーザー光を照射して、試料をイオン化させることにより、質量分析が行なわれる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−４３０１４号公報
【特許文献２】特表２００３−５３４６３４号公報
【特許文献３】特開２００４−３４７５２４号公報
【特許文献４】特表２００５−５１３４９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところが、試料用丸印の数が多いサンプルプレートを複数枚使用して測定を行なう場合では、測定している試料が分からなくなったり、どのサンプルプレートに何の試料を滴下したのかが分からなくなったり、使用したサンプルプレートと測定データとの間が対応付けられなくなったりする可能性がある。
【００１０】
また、試料を滴下した状態でサンプルプレートを保管しておいた場合、測定者が誤ったサンプルプレートを使用しないためには、サンプルプレートを個別管理する必要がある。
【００１１】
また、サンプルプレートの表面はでこぼこし、ゆがみが発生している。ゆがみは、おおよそ±０．１ｍｍ程度のオーダーであるが、このゆがみが質量分解能や質量軸に影響を与えて、正しいマススペクトルが得られないことがあるので、ゆがみ情報に基づいて質量較正を行なう必要がある。
【００１２】
本発明の目的は、上述した点に鑑み、サンプルプレートの個別管理や、サンプルプレートのゆがみ情報に基づく質量較正を容易に行なうことのできるMALDIイオン源およびMALDIイオン源用サンプルプレートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この目的を達成するため、本発明にかかるMALDIイオン源を備えた質量分析装置は、
サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレートの識別情報を表すコード又はマークを読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報を前記マススペクトルと組み合わせて記憶するとともに、
予め質量分析装置内の記憶装置にサンプルプレートの識別情報と当該サンプルプレート表面の凹凸に関する情報を対応させて登録しておき、前記読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報に基づき、前記記憶装置から当該サンプルプレート表面の凹凸情報を読み出して、各試料付着場所の高さ情報を求め、求めた高さ情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なう
ようにしたことを特徴としている。
【００１４】
また、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレートの識別情報を表すコード又はマークを読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報を前記マススペクトルと組み合わせて記憶するとともに、
前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレート表面の凹凸に関する情報を表すコード又はマークを前記読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレート表面の凹凸に関する情報に基づき、各試料付着場所の高さ情報を求め、求めた高さ情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なう
ようにしたことを特徴としている。
【００１７】
また、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面にサンプルプレート表面の凹凸に関する情報を表すコード又はマークを設けると共に、該コード又はマークを読み取る読み取り手段を設け、前記データ処理部では、前記読み取り手段によって読み取られたサンプルプレート表面の凹凸に関する情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なうようにしたことを特徴としている。
【００１８】
また、前記データ処理部では、前記読み取り手段によって読み取られたサンプルプレート表面の凹凸に関する情報に基づき、各試料付着場所の高さ情報を求め、求めた高さ情報に基づき、対応する各マススペクトルについて質量較正を行なうようにしたことを特徴としている。
【００１９】
また、前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレートの識別情報を表すコード又はマークを前記読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報を前記マススペクトルと組み合わせて記憶するようにしたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のMALDIイオン源を備えた質量分析装置によれば、
サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレートの識別情報を表すコード又はマークを読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報を前記マススペクトルと組み合わせて記憶するとともに、
予め質量分析装置内の記憶装置にサンプルプレートの識別情報と当該サンプルプレート表面の凹凸に関する情報を対応させて登録しておき、前記読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報に基づき、前記記憶装置から当該サンプルプレート表面の凹凸情報を読み出して、各試料付着場所の高さ情報を求め、求めた高さ情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なうようにしたので、
サンプルプレートの個別管理や、サンプルプレートのゆがみ情報に基づく質量較正を容易に行なうことのできるMALDIイオン源およびサンプルプレートを提供することが可能になった。
【００２４】
また、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレートの識別情報を表すコード又はマークを読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレートの識別情報を前記マススペクトルと組み合わせて記憶するとともに、
前記サンプルプレートの表面に当該サンプルプレート表面の凹凸に関する情報を表すコード又はマークを前記読み取り手段により読み取り可能に設けると共に、該読み取り手段によって読み取られたサンプルプレート表面の凹凸に関する情報に基づき、各試料付着場所の高さ情報を求め、求めた高さ情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なうようにしたので、
サンプルプレートの個別管理や、サンプルプレートのゆがみ情報に基づく質量較正を容易に行なうことのできるMALDIイオン源およびサンプルプレートを提供することが可能になった。
【００２５】
また、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料に順次レーザー光を照射してイオン化し、得られた試料イオンを質量分析部に導入して試料のマススペクトルを測定し、得られたマススペクトルをデータ処理部でデータ処理して質量分析を行なうようにしたMALDIイオン源を備えた質量分析装置において、前記サンプルプレートの表面にサンプルプレート表面の凹凸に関する情報を表すコード又はマークを設けると共に、該コード又はマークを読み取る読み取り手段を設け、前記データ処理部では、前記読み取り手段によって読み取られたサンプルプレート表面の凹凸に関する情報に基づき、サンプルプレート表面の異なる場所に付着させた試料から得られた各マススペクトルについて質量較正処理を行なうようにしたので、
サンプルプレートの個別管理や、サンプルプレートのゆがみ情報に基づく質量較正を容易に行なうことのできるMALDIイオン源およびサンプルプレートを提供することが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。図１は、本発明にかかるMALDIイオン源用サンプルプレートの一実施例である。
【００２７】
ステンレス製サンプルプレート表面には、縦方向にＡ〜Ｐの１６行、横方向に１〜２４の２４列からなる２．５ｍｍφの３８４個の試料滴下用丸印（目印）がＹＶＯ４レーザーによりレーザー彫刻されている。また、３８４個の試料滴下用丸印の間には、２．５ｍｍφの９６個から成る別の試料滴下用丸印（目印）がＹＶＯ４レーザーによりレーザー彫刻されている。
【００２８】
また、サンプルプレート右側のふちには、製造年月日（６桁の数字）とロット番号（３桁の数字）がＹＶＯ４レーザーによりレーザー彫刻されている。図１の例では、２００６年７月２７日製作の１枚目を示す９桁の数字、０６０７２７００１が刻まれている。また、９桁の数字の隣には、製造年月日と製造番号を記号化したＱＲコード（Quick Response code：いわゆる２次元コード）が刻まれ、読み取り機で読み取り可能になっている。この実施例では、ＱＲコードが使用されているが、ＱＲコードの代わりにバーコードやマークであっても良い。このコードまたはマークを、サンプルプレートの個体識別ＩＤとして利用する。
【００２９】
また、サンプルプレートのゆがみ情報、すなわち個々の試料位置ごとのサンプルプレートの凹凸情報は、製造年月日と製造番号を記号化したＱＲコードの中に記録されている。このゆがみ情報は、レーザー光照射により生成したイオンを加速して引き出す際に、サンプルプレート１１と中間電極１８の間の距離を補正するのに使用される。
【００３０】
サンプルプレート１１と中間電極１８との距離は３ｍｍ程度なので、もしサンプルプレート１１に±０．１ｍｍの凹凸があれば、サンプルプレート１１と中間電極１８との間に発生する加速電場の強さに±３％程度の誤差を生じてしまう。そこで、サンプルプレート１１の凹凸（ゆがみ）に関する情報をＱＲコードに予め書き込んでおき、試料にレーザー光を照射して試料をイオン化する前に、試料位置ごとのサンプルプレートの凹凸に関する情報をＱＲコードから読み取り機で読み取って、加速されたイオンの飛行時間から質量電荷比を計算する際の計算式に、このサンプルプレート−中間電極間距離の機械的誤差を繰り込んで、質量較正を行なわせる。
【００３１】
実際、装置寸法、印加電圧等、個々のパラメータから解析される理論キャリブレーションによると、サンプルプレート１１と中間電極１８の距離が短くなると、イオンの飛行時間も短くなり、サンプルプレート１１と中間電極１８の距離が長くなると、イオンの飛行時間も長くなるという傾向がある。この傾向は、イオンの種類、マトリックスの種類、レーザーの種類を問わず見られる傾向なので、本実施例を実施すれば、サンプルプレートの凸になっている部位に置かれた試料をイオン化した場合では、質量電荷比は大きくなる方向（飛行時間を長く補正する方向）に質量較正され、サンプルプレートの凹になっている部位に置かれた試料をイオン化した場合では、質量電荷比は小さくなる方向（飛行時間を短く補正する方向）に質量較正されることになる。
【００３２】
このように構成することにより、サンプルプレート１１のゆがみを補正された正しい電極間隔に基づいて正確な飛行時間を得ることができるので、機械的誤差のない、質量較正されたイオンの正確な質量電荷比を求めることが可能になる。
【００３３】
なお、サンプルプレートのゆがみ情報（凹凸情報）については、サンプルプレート表面に直接レーザー彫刻しないで、質量分析装置内のハードディスクなどの記憶装置にサンプルプレートの個体識別ＩＤ情報と対応させて電子ファイルとして登録しておき、サンプルプレート表面の個体識別ＩＤ情報を読み取り機で読み取った際に、そのＩＤ情報に基づいて、前記記憶装置から直接電子ファイルを読み出すように構成しても良い。
【００３４】
図２は、本発明にかかるMALDIイオン源の一実施例である。図中１は、真空チャンバである。真空チャンバ１には、サンプルプレート４を載置したＸＹステージ６が設置されている。このＸＹステージ６がＸＹ方向に移動することにより、ＸＹステージ６に対向する位置に設置されたサンプルプレート表面観察およびＩＤ観察装置（例えばＣＣＤカメラ）２が、サンプルプレート４の個体識別ＩＤを読み取る。
【００３５】
このサンプルプレート表面観察およびＩＤ観察装置２は、サンプルプレート４の個体識別ＩＤ読み取りに引き続いて、サンプルプレート個別のゆがみ情報が記録されたＱＲコードをも読み取る。同時にサンプルプレート４表面の試料滴下用丸印内に滴下された試料５が観察される。
【００３６】
なお、サンプルプレート４のゆがみ情報（凹凸情報）については、サンプルプレート４表面にＱＲコードを直接レーザー彫刻しないで、図示しない質量分析装置内のハードディスクなどの記憶装置にサンプルプレート４の個体識別ＩＤ情報と対応させて電子ファイルとして登録しておき、サンプルプレート表面の個体識別ＩＤ情報をサンプルプレート表面観察およびＩＤ観察装置２で読み取った際に、その読み取られたＩＤ情報に基づいて、前記記憶装置から直接電子ファイルを読み出すように構成しても良いことは、前に述べた通りである。
【００３７】
サンプルプレート表面観察およびＩＤ観察装置２が取り付けられた真空チャンバ１の壁面上には、サンプルプレート表面観察およびＩＤ観察装置２とＸＹステージ６とを結ぶ軸線から少しずれた位置に、試料５をイオン化するためのレーザー３が置かれている。レーザー３が試料５の表面を照射することにより、試料５はイオン化または気化される。
【００３８】
生成した試料イオンをサンプルプレート４表面から質量分析計に向けて引き出すための加速電場を作るのに必要な中間電極とベース電極は、実際には存在しているが、要部を簡略に見せるため、図２からは省かれている。
【００３９】
なお、図２は、あくまで概念図であって、サンプルプレート表面観察およびＩＤ観察装置２、レーザー装置３、サンプルプレート５、およびＸＹステージ６の位置関係には、レンズやミラー等を適宜組み合わせて使用することにより、さまざまな配置上の変形パターンがあり得ることは言うまでもない。
【００４０】
本発明にかかる質量分析計は、図３に示すように、MALDIイオン源２０の後段にイオンのマススペクトルを測定する飛行時間型質量分析計等の質量分析部２１、質量分析部２１の後段に質量分析部２１で得られたマススペクトルの質量較正を行なうコンピュータ等のデータ処理部２２、データ処理部２２の後段に、得られたデータをサンプル画像および画像認識したサンプルプレートＩＤと併せて記憶するハードディスク等の記憶部２３を備えている。
【００４１】
なお、記憶部２３は、サンプルプレートのゆがみ情報（凹凸情報）をサンプルプレートの個体識別ＩＤ情報と対応させて記憶している。ゆがみ情報は、サンプルプレートＩＤを読み取り機で読み取った際に、その読み取られたＩＤ情報に基づいて、記憶部２３からデータ処理部２２に読み出され、質量分析部２１で得られたマススペクトルの質量較正に利用される。
【００４２】
また、サンプルプレート４表面の観察画像および画像認識されたサンプルプレート４の個体識別ＩＤを解読し、測定データあるいは解析データと組み合わせて記憶部２３に保存する第１のソフトウェア２４、ならびに、バーコードまたはＱＲコードまたはマークまたは記憶部２３に記録されたサンプルプレート４表面のゆがみ情報からマススペクトルの質量較正を行なう第２のソフトウェア２５を、データ処理部２２の内部に備えている。
【００４３】
本実施例は、以下のように用いられる。
【００４４】
１．サンプルプレート４上の目印にしたがって、試料とマトリックスの混合溶液５を滴下する。
【００４５】
２．質量分析計内（真空チャンバ１内）にサンプルプレート４を導入し、ＸＹステージ６上に固定する。
【００４６】
３．導入されたサンプルプレート４のバーコードまたはＱＲコードをサンプルプレートＩＤ観察装置２によって観察し、プレートＩＤ情報を読み取る。このとき、サンプルプレート４のゆがみ情報を同時に読み取っても良い。
【００４７】
４．サンプルプレート表面観察装置２によりサンプルプレート４表面を観察しながら、ＸＹステージ６を用いてサンプルプレート４をＸＹ方向に移動させ、滴下された所望の試料スポット５を探す。
【００４８】
５．レーザー３により、試料スポット５にレーザー光を照射し、試料５をイオン化させ、質量分析装置の質量分析部で質量分析測定を開始する。
【００４９】
６．サンプルプレート４のゆがみ情報が記録されたバーコードまたはＱＲコードの読み取り結果をもとに、質量分析装置のデータ処理部に付属のソフトウェアを用いて質量分析部で得られたマススペクトルの質量較正と、サンプル画像および画像認識したサンプルプレートＩＤの記憶を行ない、測定データおよび解析データと組み合わせてハードディスクなどの記憶装置に保存する。
【００５０】
６’．別法として、予めハードディスクなどの記憶装置にプレートＩＤ情報と対応させてサンプルプレート４のゆがみ情報を電子ファイルとして登録しておき、読み取られたプレートＩＤ情報から対応するゆがみ情報を電子ファイルとして読み出して、質量分析装置のデータ処理部に付属のソフトウェアを用いて質量分析部で得られたマススペクトルの質量較正を行ない、サンプル画像および画像認識したサンプルプレートＩＤを測定データおよび解析データと組み合わせてハードディスクなどの記憶装置に保存しても良い。
【００５１】
７．ＸＹステージを移動させ、別の試料スポット５に対して同様の操作を行ない、質量分析測定を続ける。
【００５２】
８．質量分析測定がすべて終了したら、質量分析計内（真空チャンバ１内）からサンプルプレート４を取り出し、保管場所でサンプルプレートＩＤを読み取り、記憶させ、保管する。
【００５３】
このようにMALDI法で用いられる導電性サンプルプレートにサンプルプレートＩＤやプレートゆがみ情報を記録したバーコードまたはＱＲコードまたはマークを直接彫刻することにより、サンプルプレートの個体管理が可能となり、保管時などにおける試料の混同、紛失、取り違え等を回避することができる。
【００５４】
また、測定している試料のプレート情報が自動認識され、測定データとともに記録されることになり、測定に使用されたサンプルプレートの判別が容易にできる。
【００５５】
また、サンプルプレートのゆがみ情報をもとに、マススペクトルの質量較正ができる。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
MALDIイオン源を備えた質量分析装置に広く利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明にかかるサンプルプレートの一実施例を示す図である。
【図２】本発明にかかるMALDIイオン源の一実施例を示す図である。
【図３】本発明にかかる質量分析装置の一実施例を示す図である。
【図４】従来のMALDIイオン源の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００５８】
１：真空チャンバ、２：サンプルプレート表面観察およびサンプルプレートＩＤ観察装置、３：レーザー装置、４：サンプルプレート、５：試料、６：ＸＹステージ、１１：サンプルプレート、１２：試料、１３：レンズ、１４：ミラー、１５：ミラー、１６：レンズ、１７：ＣＣＤカメラ、１８：中間電極、１９：ベース電極、２０：MALDIイオン源、２１：質量分析部、２２：データ処理部、２３：記憶部、２４：第１のソフトウェア、２５：第２のソフトウェア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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