(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に基板が固定されるステージと、前記基板の上方に配置され該基板と相対移動可能に支持された塗布ノズルと、前記塗布ノズルと一体的に移動し前記基板と前記塗布ノズルとの間の距離を測定する測定手段と、前記塗布ノズルの先端から吐出させた液体材料を前記基板上に塗布するとともに前記測定手段の測定値に基づいて前記塗布ノズルを昇降制御して前記距離を一定に保ちつつ前記基板と前記塗布ノズルとを水平方向に相対的に移動させる制御手段と、を備えた塗布装置において、
前記基板上における前記測定手段の測定位置における前記液体材料を含む物体の有無を判断する判断手段を備え、
前記制御手段は、前記判断手段の判断結果に基づき、前記測定位置に前記物体が存在しない場合は前記測定手段による測定値に基づいて前記塗布ノズルを昇降制御し、前記測定位置に物体が存在する場合は前記測定手段の測定を停止させて以前の測定値に基づいて前記塗布ノズルを昇降制御する、ことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置において、
前記測定手段は、
前記基板上に光を照射する投光部と前記投光部から照射され前記測定位置において反射された光を受光する受光部とを備え、受光位置に応じた信号を出力する距離センサと、
前記測定手段からの信号に基づいて前記塗布ノズルと前記基板との間の距離を算出する測定部と、から構成される、ことを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の塗布装置において、
前記判断手段は、
前記基板上における前記測定手段の測定位置に光を照射する投光部と、基板の上面における反射光を受光する受光部とを有し、該受光部における受光状態に応じた信号を出力する光学センサと、
前記光学センサからの信号に基づき、前記測定位置において前記基板の上面上に前記液体材料を含む物体が存在するか否かを判断する判断部と、から構成される、ことを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の塗布装置において、
前記制御手段は、前記測定位置に前記物体が存在しない場合は前記測定部における距離を算出させ、前記測定位置に物体が存在する場合は前記測定部における算出を停止するようにした、ことを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
請求項２又は３に記載の塗布装置において、
前記制御手段は、前記測定位置に前記物体が存在しない場合は前記距離センサを作動状態とし、前記測定位置に前記物体が存在する場合は前記距離センサを非作動状態とする、ことを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
請求項１〜５のうちの何れか１項に記載の塗布装置において、
前記制御手段は、前記測定位置に前記物体が存在する場合に直前の測定値に基づいて前記塗布ノズルを昇降制御する、ことを特徴とする塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板と液体材料と塗布する塗布ノズルとを相対的に移動させることで該基板上に液体材料を所望のパターンに塗布する塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の塗布装置では、描画する対象となる基板に撓みが生じていると、基板と塗布ノズルとの相対的な移動に伴い該基板と塗布ノズルとの距離が変動するため、液体材料の塗布量、塗布形状（液体材料の幅）等に変動が生じて所望のパターンを描画することが困難となる。そこで、従来の塗布装置では、基板と塗布ノズル先端との間の距離を測定する距離センサを備え、この距離センサの測定結果に基づき塗布ノズルを昇降させることで、基板とノズル先端との間の距離を一定に保ちつつ液体材料を塗布している。
【０００３】
しかしながら、このような塗布装置において、既に塗布した液体材料等の既設物上で基板とノズル先端との距離が測定されると、その既設物の厚み分だけその測定に誤差が生じ、その誤差を含めて塗布ノズルを昇降させるために塗布液量、塗布形状等が変動してしまうという問題があった。
【０００４】
そこで、この問題点を解消する技術として、例えば特許文献１に開示されるものがある。特許文献１では、距離センサとして光学式変位計を用い、距離センサにより測定される値が、設定された基板上とノズル先端との間の設定値に対する閾値を越える期間、距離センサが既設物上にあると判断し距離の測定を停止し、基板と塗布ノズルとの間の距離を変化させずにその直前の値に固定する。このため、既設物上での距離の測定を回避して塗布ノズルの不要な昇降を防止することが可能となっている。
【特許文献１】特許第２７５２５５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記特許文献１の塗布装置では、受光素子に入射される光、つまり基板表面からの反射光により距離を測定しており、入射光量が少ない場合には測定精度が低下したり、測定そのものが不可能になったりする。そして、液体材料は基板上に断面略円弧状に形成され、断面両縁部では距離を計測するために距離センサの受光素子に向かって反射される光の量が低下するため、測定精度が低下する。このため、測定値が閾値を越えない場合が発生し、その距離に応じて塗布ノズルを昇降させるため、塗布液量、塗布形状等が変動してしまうという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、基板と塗布ノズルとの間の距離を適正に保つことができる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、上面に基板が固定されるステージと、前記基板の上方に配置され該基板と相対移動可能に支持された塗布ノズルと、前記塗布ノズルと一体的に移動し前記基板と前記塗布ノズルとの間の距離を測定する測定手段と、前記塗布ノズルの先端から吐出させた液体材料を前記基板上に塗布するとともに前記測定手段の測定値に基づいて前記塗布ノズルを昇降制御して前記距離を一定に保ちつつ前記基板と前記塗布ノズルとを水平方向に相対的に移動させる制御手段と、を備えた塗布装置において、前記基板上における前記測定手段の測定位置における前記液体材料を含む物体の有無を判断する判断手段を備え、前記制御手段は、前記判断手段の判断結果に基づき、前記測定位置に前記物体が存在しない場合は前記測定手段による測定値に基づいて前記塗布ノズルを昇降制御し、前記測定位置に物体が存在する場合は前記測定手段の測定を停止させて以前の測定値に基づいて前記塗布ノズルを昇降制御するようにした。
【０００８】
この発明では、判断手段により、距離を測定する基板上の測定位置に液体材料を含む物体が存在するか否かが判断される。そして、測定位置に物体が存在しない場合には測定手段により測定された距離に基づいて塗布ノズルが昇降制御され、測定位置に物体が存在する場合には距離の測定が停止されて以前の測定値に基づいて塗布ノズルが昇降制御される。これにより、基板と塗布ノズルの相対移動中において、測定手段の測定位置に液体材料等の物体が存在する場合にはその測定位置では距離の測定は行われないため、存在する物体による塗布ノズルの昇降制御が抑止される、つまり液体材料上と塗布ノズルの先端との間の距離は基板と塗布ノズルとの相対移動に反映されず、基板と塗布ノズルとの間の距離を適正に保つことが可能となる。また、物体の存在の判断と、基板までの距離の測定とを異なる手段により行うようにしたことで、それぞれの手段を最適化することで精度の良い測定・判断を行うことが可能となる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置において、前記測定手段は、前記基板上に光を照射する投光部と前記投光部から照射され前記測定位置において反射された光を受光する受光部とを備え、受光位置に応じた信号を出力する距離センサと、前記測定手段からの信号に基づいて前記塗布ノズルと前記基板との間の距離を算出する測定部と、から構成される。この発明によれば、基板の上面における反射光を受光した位置に基づいて、基板と塗布ノズルとの間の距離を測定するため、精度良く非接触で距離を測定することができる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の塗布装置において、前記判断手段は、前記基板上における前記測定手段の測定位置に光を照射する投光部と、基板の上面における反射光を受光する受光部とを有し、該受光部における受光状態に応じた信号を出力する光学センサと、前記光学センサからの信号に基づき、前記測定位置において前記基板の上面上に前記液体材料を含む物体が存在するか否かを判断する判断部と、から構成される。
【００１１】
この発明によれば、測定手段の測定位置に光が照射され、その反射光により測定値における物体の有無が判断される。従って、反射光の光量の変化や、反射光の光路の変化により、液体材料を含む物体の有無が容易に且つ確実に判断される。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項２又は３に記載の塗布装置において、前記制御手段は、前記測定位置に前記物体が存在しない場合は前記測定部における距離を算出させ、前記測定位置に物体が存在する場合は前記測定部における算出を停止するようにした。この発明によれば、距離の測定を容易に停止することが可能となる。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項２又は３に記載の塗布装置において、前記制御手段は、前記測定位置に前記物体が存在しない場合は前記距離センサを作動状態とし、前記測定位置に前記物体が存在する場合は前記距離センサを非作動状態とした。この発明によれば、距離の測定を容易に停止することが可能となる。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のうちの何れか１項に記載の塗布装置において、前記制御手段は、前記測定位置に前記物体が存在する場合に直前の測定値に基づいて前記塗布ノズルを昇降制御するようにした。
【００１５】
この発明では、判断手段により測定位置が液体材料の表面にあると判断される間は、そう判断される直前に測定手段が測定した値がその位置での基板の上面と塗布ノズルの先端との間の距離として用いられる。このため、基板上に液体材料が塗布された部分では、基板の上面と塗布ノズルとの間の距離は、液体材料が塗布された部分に近接した部分での距離で好適に近似される。
【発明の効果】
【００１６】
従って、上記記載の発明によれば、基板と塗布ノズルとの間の距離を適正に保つことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を貼り合わせ基板製造装置のシール描画装置に具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１に示す本実施形態のシール描画装置１は、２種類の基板（下基板、上基板）の間に液晶を封入してアクティブマトリクス型液晶表示パネル等を製造する製造ライン（図示略）に備えられている。この貼り合わせ基板製造装置において、シール描画装置１は２枚の基板の対向面（本実施形態では、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａ）に光硬化性接着剤を含む液体材料としてのシール材Ｒを枠状に塗布するシール材塗布工程を行うものである。
【００１８】
シール描画装置１を構成する直方体状の基台１１上には、直方体状をなすステージ１２が載置されている。このステージ１２の上面１２ａは水平に形成されている。下基板Ｗ１はステージ１２内に設けられた吸着装置（図示略）にてステージ１２との間に介在する気体が吸引されることで発生する真空吸着力によりステージ１２上に固定される。
【００１９】
ステージ１２が載置された基台１１には、ステージ１２を跨ぐガントリ１３が設けられている。ガントリ１３は、基台１１から上方に向かって互いに平行に延びる一対の支持脚１３ａと、２つの支持脚１３ａ間に掛け渡され該支持脚１３ａの上端部同士を連結する連結部１３ｂとによりコ字状をなしている。一対の支持脚１３ａの基端部は、基台１１の上面においてステージ１２の両側に該ステージ１２に沿って平行に形成された一対の案内溝１１ａ内にそれぞれ挿入されている。そして、ガントリ１３は、基台１１内に一対の支持脚１３ａにそれぞれ対応して設けられたｙ軸アクチュエータ１４により、案内溝１１ａに沿ってｙ方向（図１における紙面垂直方向）に移動される。
【００２０】
ガントリ１３の連結部１３ｂには、ｘ軸アクチュエータ１５の駆動力により該連結部１３ｂに沿ってｘ方向に移動するｘ軸ベース１６が設けられるとともに、該ｘ軸ベース１６には、ｚ軸アクチュエータ１７の駆動力によりｚ方向に沿って移動するｚ軸ベース１８が設けられている。尚、ｘ方向はｙ方向と直交する方向であるとともに、ｚ方向はｙ方向及びｘ方向の両方向と直交する方向である。そして、図１においては、左右方向がｘ方向、上下方向がｚ方向となっている。
【００２１】
このｚ軸ベース１８には、シール充填部１９が該ｚ軸ベース１８と一体移動可能に取り付けられている。シール充填部１９は、略円筒状の下基板Ｗ１に塗布するためのシール材Ｒが充填されたシリンジ１９ａと、該シリンジ１９ａからシール材Ｒを吐出させるようにシリンジ１９ａの容積を変化させる部材（図示略）を駆動する吐出モータ１９ｂとを備えている。シリンジ１９ａの下端部は、下端に向かうに連れてその直径が小さくなる円錐形状に形成されるとともに、その下端にはシール材Ｒを吐出する塗布ノズル２０が取着されている。ｚ軸ベース１８、シリンジ１９ａ及び塗布ノズル２０は、上記各アクチュエータ１４，１５，１７の駆動によりｘ方向、ｙ方向及びｚ方向に移動可能になっている。即ち、下基板Ｗ１と塗布ノズル２０とは、ｘ方向及びｙ方向で相対的に移動可能となっている。
【００２２】
シリンジ１９ａが取り付けられたｚ軸ベース１８には、ステージ１２上に配置された下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離を測定するための測定手段を構成する距離センサ３０が固定されている。また、同じくｚ軸ベース１８には、下基板Ｗ１上における距離センサ３０の測定位置Ｓ１（図２参照）に光を照射しその反射光を受光する判断手段を構成する光学センサ４０が固定されている。このため、距離センサ３０及び光学センサ４０は同じくｚ軸ベース１８に設けられたシリンジ１９ａ（塗布ノズル２０）と一体的に移動する。
【００２３】
上記したｙ軸アクチュエータ１４、ｘ軸アクチュエータ１５、ｚ軸アクチュエータ１７、吐出モータ１９ｂ、距離センサ３０及び光学センサ４０は、測定手段，判断手段，判断部を構成する制御装置５０に電気的に接続されている（図４参照）。制御装置５０は、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａに塗布ノズル２０の先端から吐出されるシール材Ｒにて所望のパターンを描画すべく、各アクチュエータ１４，１５，１７及び吐出モータ１９ｂを制御する。更に、制御装置５０は、距離センサ３０からの出力信号に基づいて、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離を算出し、その算出値に基づいて、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａから塗布ノズル２０の先端までの距離を一定にすべくアクチュエータ１７を制御する。
【００２４】
図２に示すように、距離センサ３０は光学式変位計でありは、下基板Ｗ１に向けて光Ｌ１を照射する投光部３１と、下基板Ｗ１上の測定位置Ｓ１で反射されたその光Ｌ１を受光する受光部３２とを備えている。受光部３２に備えられた受光素子（図示略）には、ＰＳＤ（Position Sensitive Detector ）やＣＣＤ（Charge Coupled Device ）が用いられる。受光部３２は、受光素子における光Ｌ１の受光位置に応じたデータを制御装置５０に出力する。
【００２５】
図２及び図３に示すように、光学センサ４０は細径円柱状に形成されるとともに径方向に沿って光を出射又は入射する投光部及び受光部を有する所謂サイドビュウ型光センサである。投光部４１は下基板Ｗ１上の距離センサ３０の測定位置Ｓ１に向けて光Ｌ２を照射するようにｚ軸ベース１８に固定され、受光部４２は下基板Ｗ１上の測定位置Ｓ１で反射された光Ｌ２（詳しくは反射光の正反射成分）を受光するように固定されており、投光部４１及び受光部４２は光ファイバを介して検出部４３に接続されている。検出部４３には発光素子及び受光素子が内蔵されるとともにそれらの駆動回路や判定回路が備えられている。発光素子から光は光ファイバを介して投光部４１に導かれ、その投光部４１から測定位置Ｓ１に向けて出射される。受光部４２に入射された光は光ファイバを介して検出部４３の受光素子に導かれる。
【００２６】
検出部４３は、受光部４２で受光した光Ｌ２の光量が予め設定された閾値を超えるか否か判断し、その判断に応じたレベルの検出信号を出力する。閾値は下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａにて反射して受光部４２に入射する光Ｌ２の量に応じた値に設定されており、例えば光Ｌ２が入射した時の値（Ｖａ）と、光Ｌ２が入射しないときの値（Ｖｂ）との中間値（Ｖｃ＝（Ｖａ＋Ｖｂ）／２）に設定されている。
【００２７】
本実施形態では、入射光量が閾値を超えている場合れば光学センサ４０をＯＮ状態であるとし、閾値を超えていなければ光学センサ４０をＯＦＦ状態であるとする。これにより、光学センサ４０は、測定位置Ｓ１が下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａにある場合はＯＮ状態となり、測定位置Ｓ１がシール材Ｒの表面にある場合はＯＦＦ状態となる。光学センサ４０の状態は、基板Ｗ１の上面Ｗ１ａ上の測定位置Ｓ１におけるシール材Ｒの有無を示す。つまり、光学センサ４０がＯＮ状態であればシール材Ｒが存在せず、ＯＦＦ状態であればシール材Ｒが存在する。そして、光学センサ４０は、その状態に応じた信号を制御装置５０に出力する。尚、ＯＮ状態を示す信号をＯＮ信号といい、ＯＦＦ状態を示す信号をＯＦＦ信号という。
【００２８】
なお、図２に示すように、下基板Ｗ１上において距離センサ３０により距離が測定される測定位置Ｓ１は、塗布ノズル２０によりシール材Ｒが塗布される塗布位置Ｓ２とはｘ方向及びｙ方向に離れた位置とされている。この測定位置Ｓ１は、塗布ノズル２０によるシール材Ｒの塗布を邪魔しないように、また、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離が測定される位置に設定されている。
【００２９】
図４に示すように、制御装置５０の測定部５１は、距離センサ３０の受光部３２が受光した光Ｌ１に基づくデータＤ１を入力する。そして、制御装置５０は、光学センサ４０からＯＮ信号を入力した場合は、データＤ１に基づいて測定位置Ｓ１における下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離を算出する。更に、制御装置５０は、測定部５１において距離を算出すると、その測定値に基づいて下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離を一定に保つようにｚ軸アクチュエータ１７を駆動してｚ軸ベース１８、即ち塗布ノズル２０（図１参照）を昇降させる。そして、制御装置５０は、吐出モータ１９ｂを制御して適量のシール材Ｒを下基板Ｗ１に向けて吐出させる。
【００３０】
一方、制御装置５０は、光学センサ４０からＯＦＦ信号を入力した場合は、測定部５１における距離の算出を停止するし、直前の測定値に基づいて下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離を一定に保つようにｚ軸アクチュエータ１７を駆動する。この結果、ｚ軸ベース１８、即ち塗布ノズル２０の高さは、それ以前にＯＮ信号を入力した時、つまり基板Ｗ１の上面上にシール材Ｒ等が存在しないときに測定した高さを維持する。この状態において、制御装置５０は、吐出モータ１９ｂを制御して適量のシール材Ｒを下基板Ｗ１に向けて吐出させる。
【００３１】
ここで、制御装置５０が実行する距離を測定するための制御について図５（ａ），（ｂ）を参照して説明する。
今、ｚ軸ベース１８（塗布ノズル１８、距離センサ３０、及び光学センサ４０）が図面において左から右に向かって移動する。
【００３２】
先ず、下基板Ｗ１上にシール材Ｒが塗布されていない位置では、光学センサ４０は、受光部４２に下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａにて反射した光が入射するためＯＮ状態となり、ＯＮ信号を出力する。従って、制御装置５０の測定部５１は、距離センサ３０からのデータＤ１に基づいて測定位置Ｓ１における下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離を算出する。
【００３３】
次に、下基板Ｗ１上にシール材Ｒが塗布されている位置では、光学センサ４０は、受光部４２に下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａにて反射した光が入射されないためＯＦＦ状態となり、ＯＦＦ信号を出力する。従って、制御装置５０の測定部５１は、距離センサ３０からのデータＤ１に基づく距離の算出を停止する。尚、図５（ｂ）に示すデータＤ１において、破線で示す部分は、入射光量が少なく、誤差が大きくなる領域を示している。
【００３４】
更に、下基板Ｗ１上にシール材Ｒが塗布されていない位置では、光学センサ４０は、受光部４２に下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａにて反射した光が入射するためＯＮ状態となり、ＯＮ信号を出力する。従って、制御装置５０の測定部５１は、距離センサ３０からのデータＤ１に基づいて測定位置Ｓ１における下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離を算出する。
【００３５】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）光学センサ４０により、下基板Ｗ１上の距離センサ３０により測定される測定位置Ｓ１において、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａ上にシール材Ｒが存在するか否かが判断される。そして、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａ上にシール材Ｒが存在しないと判断されると距離センサ３０からのデータＤ１に基づいて測定部５１により距離が測定され、上面Ｗ１ａ上に塗布されたシール材Ｒが存在すると判断されると測定部５１による距離の測定は停止される。これにより、下基板Ｗ１と塗布ノズル２０の相対移動中において、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａ上にシール材Ｒが存在するときの測定、つまり塗布ノズル２０の先端からシール材Ｒの上面までの距離の測定が行われないため、シール材Ｒ上と塗布ノズル２０の先端との間の距離はノズル２０の昇降制御に反映されない、つまり下基板Ｗ１と塗布ノズル２０との間の距離を適正に保ち、塗布液量、塗布形状等の変動を抑制することができる。
【００３６】
（２）光学センサ４０は、入射光量と閾値とを比較し、測定位置Ｓ１において下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａ上の物体の有無に応じた信号Ｄ２を出力する。距離センサ３０は、光学センサ４０と同様に、投光部３１と受光部３２とを備えているため、受光部３２における受光量により物体の有無を判断するようにすることも可能である。しかし、単に物体の有無を検出するために適した光と、距離を精度良く測定するために適した光とは、ビームの形状等が異なる。しかし、距離センサ３０にて物体の有無を検出するために投光部３１から出射するビームの形状等を距離測定と物体検出とに合わせて最適化ことは困難である。従って、光学センサ４０を用いることにより、測定位置Ｓ１が下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａにあるかシール材Ｒの表面にあるか否かの判断を、容易に且つ的確に行うことができる。
【００３７】
（３）制御装置５０により測定位置Ｓ１がシール材Ｒの表面にあると判断される間は、そう判断される直前に測定部５１が測定した値がその測定位置Ｓ１での下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離として用いられる。このため、下基板Ｗ１上にシール材Ｒが塗布された部分では、下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０との間の距離は、シール材Ｒが塗布された部分に近接した部分での距離で好適に近似される。
【００３８】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、下基板Ｗ１に対して塗布ノズル２０が移動したが、これ以外にも例えば、塗布ノズル２０に対して下基板Ｗ１が移動する構成としてもよい。
【００３９】
・上記実施形態では、測定位置Ｓ１において下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａ上に物体（シール材Ｒ）が存在すると判断される間は距離の測定を停止するようにしたが、距離センサ３０の動作を停止する、つまり非作動状態とするようにしてもよい。この場合、制御装置は、距離センサ３０を非作動状態とするとともに、以前の測定結果に基づいてｚ軸アクチュエータ１７を制御するようにする。この結果、上記実施形態と同様に、下基板Ｗ１と塗布ノズル２０との間の距離を適正に保ち、塗布液量、塗布形状等の変動を抑制することができる。
【００４０】
・上記実施形態では、測定位置Ｓ１にシール材Ｒが存在すると判断した間は、直前の測定値に基づきｚ軸アクチュエータ１７を制御するものとしたが、過去の測定値を演算した結果、例えばそのときまでに測定部５１が算出した距離の平均値に基づき制御を行うようにしてもよい。また、測定値や平均値等を記憶装置（メモリ）に保持するものとしてもよい。
【００４１】
・上記実施形態では、各アクチュエータ１４，１５，１７の制御を行う制御装置５０が下基板Ｗ１の上面Ｗ１ａと塗布ノズル２０の先端との間の距離の算出を行ったが、これ以外にも例えば、距離センサ３０に制御装置を設け、その制御装置が距離の算出を行ってもよい。
【００４２】
・上記実施形態において、光学センサ４０をＯＮ/ＯＦＦ状態とする閾値を変更可能としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】シール描画装置を示す概略構成図である。
【図２】シール描画装置の塗布ノズル付近の平面図である。
【図３】シール描画装置の塗布ノズル付近の側面図である。
【図４】シール描画装置の電気的構成を説明するブロック図である。
【図５】（ａ），（ｂ）は、光学センサ及び測定部の動作説明図である。
【符号の説明】
【００４４】
Ｗ１…下基板、Ｗ１ａ…下基板の上面、Ｓ１…測定位置、Ｌ１…測定手段が照射する光、Ｌ２…判断手段が照射する光、１２…ステージ、２０…塗布ノズル、３０…測定手段を構成する距離センサ、３１…投光部、３２…受光部、４０…判断手段を構成する光学センサ、４３…判断手段を構成する検出部、５０…測定手段を構成する制御装置、５１…測定手段を構成する測定部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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