Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼リベット桁のリベットをスタッド付きボルトに置き替えて、該スタッド付きボルトのスタッド部にコンクリートを形成し、堅牢なジベル化合成桁を得ることを特徴とする鋼リベット桁の補修方法。
【請求項２】
（ａ）ウエブに固定されるフランジ下面板と、
（ｂ）該フランジ下面板上にフランジ上面板を接合するスタッド付きボルトと、
（ｃ）該スタッド付きボルトのスタッド部に形成されるコンクリートとを具備することを特徴とするジベル化合成桁。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鋼リベット桁に係り、特に、経年化した鋼リベット桁の補修方法及びそれによって構築されるジベル化合成桁に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在用いられている鋼リベット桁は経年化（老朽化）してきており、補修・補強を行うべき時期が到来している。
【０００３】
図３は従来の鋼リベット桁の構造を示す斜視図、図４はその鋼リベット桁の断面を示す写真、図５はその鋼リベット桁の上面を示す写真である。
【０００４】
図３において、１０１はウエブ、１０２はフランジ下面板、１０３はフランジ上面板、１０４はフランジ下面板１０２とフランジ上面板１０３とを接合するリベット、１０５はフランジ上面板１０３に形成されるコンクリートである。
【特許文献１】なし
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記したように、従来の鋼リベット桁の多くは経年化（老朽化）してきており、補修・補強を行うべき時期となっている。
【０００６】
従来、鋼リベット桁の補修方法に、コンクリートを巻き付ける合成桁化がある。
【０００７】
しかし、コンクリートと鋼リベット桁とのずれ止めを配置するのは、溶接性の困難さから難しいとされている。
【０００８】
本発明は、上記状況に鑑みて、従来の鋼リベット桁をスタッド付きボルトに置き替えて、かつ、そこにコンクリートを形成し、堅牢なジベル化合成桁を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成するために、
〔１〕鋼リベット桁の補修方法において、鋼リベット桁のリベットをスタッド付きボルトに置き替えて、このスタッド付きボルトのスタッド部にコンクリートを形成し、堅牢なジベル化合成桁を得ることを特徴とする。
【００１０】
〔２〕ジベル化合成桁において、ウエブに固定されるフランジ下面板と、このフランジ下面板上にフランジ上面板を接合するスタッド付きボルトと、このスタッド付きボルトのスタッド部に形成されるコンクリートとを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、次のような効果を奏することができる。
【００１２】
（１）ずれ止めとしてのスタッドは溶接する必要が無いので、施行を簡便にすることができる。
【００１３】
（２）従来のリベット孔を流用することにより、リベット桁に新たにスタッド付きボルトの設置孔を設ける必要が無いので、施行が容易である。
【００１４】
（３）鋼桁とコンクリートをより一層一体化させた堅牢なジベル化合成桁を構築することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の鋼リベット桁の補修方法において、鋼リベット桁のリベットをスタッド付きボルトに置き替えて、このスタッド付きボルトのスタッド部にコンクリートを形成し、堅牢なジベル化合成桁を得る。
【実施例】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１７】
図１は本発明の実施例の鋼リベット桁の補修方法を示す模式図である。
【００１８】
（１）まず、図１（ａ）に示すように、銅リベット桁においてフランジ下面板１とフランジ上面板２とを接合するリベット３が設けられている。
【００１９】
（２）次に、図１（ｂ）に示すように、リベット孔４からリベット３を撤去する。
【００２０】
（３）次いで、図１（ｃ）に示すように、そのリベット孔４へスタッド付きボルト５を設置する。このスタッド付きボルト５は、ヘッド６とそのヘッドに一体化されるスタッド部８と、先端に位置する螺合部７とその螺合部７に螺着するナット９からなる。ここで、「ジベル（鋼材の）」は、鋼とコンクリートを合成させる構造の桁において、コンクリートと鋼の付着をとるために鋼材の表面に取り付けたずれ止めの突起をいい、ここでは、スタッド付きボルト１４が突起の役割を果たす。
【００２１】
図２は本発明の実施例のジベル化合成桁を示す斜視図である。
【００２２】
この図において、１１はウエブ、１２はフランジ下面板、１３はフランジ上面板、１４は従来のリベットと取り替えられたスタッド付きボルト、１５はスタッド付きボルト１４のヘッド、１６はスタッド付きボルト１４の先端に位置する螺合部、１７はスタッド付きボルト１４のスタッド部、１８はフランジ上面板１３上に配置されるコンクリート、１９は螺合部１６に螺着するナットである。
【００２３】
このように構成することにより、スタッド付きボルト１４のスタッド部１７はコンクリート１８に食い込むように配置されている。そのため、ウエブ１１−フランジ１２，１３−コンクリート１８はスタッド付きボルト１４によってより一体化されて、堅牢なジベル化合成桁を得ることができる。
【００２４】
ここで、「ジベル（鋼材の）」は、鋼とコンクリートを合成させる構造の桁において、コンクリートと鋼の付着をとるために鋼材の表面に取り付けたずれ止めの突起をいい、ここでは、スタッド付きボルト１４が突起の役割を果たす。
【００２５】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づき種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
【産業上の利用可能性】
【００２６】
本発明の鋼リベット桁の補修方法及びそれによって構築されるジベル化合成桁は、ウエブ−フランジ−コンクリートが一体化され、より堅牢なジベル化合成桁として利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施例の鋼リベット桁の補修方法を示す模式図である。
【図２】本発明の実施例のジベル化合成桁を示す斜視図である。
【図３】従来の鋼リベット桁の構造を示す斜視図である。
【図４】従来の鋼リベット桁の断面を示す写真である。
【図５】従来の鋼リベット桁の上面を示す写真である。
【符号の説明】
【００２８】
１，１２    フランジ下面板
２，１３    フランジ上面板
３    リベット
４    リベット孔
５，１４    スタッド付きボルト
６，１５    スタッド付きボルトのヘッド
７，１６    スタッド付きボルトの先端部の螺合部
８，１７    スタッド付きボルトのスタッド部
９，１９    ナット
１１    ウエブ
１８    コンクリート
【図１】
0004913004.tif 000002
【図２】
0004913004.tif 000003
【図３】
0004913004.tif 000004
【図４】
0004913004.tif 000005
【図５】
0004913004.tif 000006
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼リベット桁のリベットを撤去し、該リベットが設けられていたリベット孔に鉄筋を設置し、該鉄筋の周りにコンクリートを流し込んでコンクリート形成体となし、堅牢なジベル化合成桁を構築することを特徴とする鋼リベット桁の補修方法。
【請求項２】
ウエブに固定されるフランジ下面板と、該フランジ下面板上に接合されるフランジ上面板を配置した鋼リベット桁の前記ウエブと前記フランジ下面板とを接合するリベット孔と、前記フランジ下面板と前記フランジ上面板とを接合するリベット孔とに鉄筋を配置し、そこにコンクリートを流し込んで、コンクリート形成体を得て構築されることを特徴とするジベル化合成桁。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鋼リベット桁の補修方法及びそれによって構築されるジベル化合成桁に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在用いられている鋼リベット桁は経年化（老朽化）してきており、補修・補強を行うべき時期が到来している。
【０００３】
図３は従来の鋼リベット桁の構造を示す斜視図、図４はその鋼リベット桁の断面を示す写真、図５はその鋼リベット桁の上面を示す写真である。
【０００４】
図３において、１０１はウエブ、１０２はフランジ下面板、１０３はフランジ上面板、１０４はフランジ下面板１０２とフランジ上面板１０３とを接合するリベット、１０５はフランジ上面板１０３に形成されるコンクリートである。
【特許文献１】なし
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記したように、従来の鋼リベット桁の多くは経年化（老朽化）してきており、補修・補強を行うべき時期となっている。
【０００６】
従来、鋼リベット桁の補修方法に、コンクリートを巻き付ける合成桁化がある。
【０００７】
しかし、コンクリートと鋼リベット桁とのずれ止めを配置するのは、溶接性の困難さから難しいとされている。
【０００８】
本発明は、上記状況に鑑みて、従来の鋼リベット桁のリベットを撤去して、そのリベット孔に鉄筋を貫通させた箇所にコンクリートを設置して堅牢なジベル化合成桁を構成する鋼リベット桁の補修方法及びそれによって構築されるジベル化合成桁を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成するために、
〔１〕鋼リベット桁の補修方法において、鋼リベット桁のリベットを撤去し、このリベットが設けられていたリベット孔に鉄筋を設置し、この鉄筋の周りにコンクリートを流し込んでコンクリート形成体となし、堅牢なジベル化合成桁を構築することを特徴とする。
【００１０】
〔２〕ジベル化合成桁において、ウエブに固定されるフランジ下面板と、このフランジ下面板上に接合されるフランジ上面板を配置した鋼リベット桁の前記ウエブと前記フランジ下面板とを接合するリベット孔と、前記フランジ下面板と前記フランジ上面板とを接合するリベット孔とに鉄筋を配置し、そこにコンクリートを流し、コンクリート形成体を得て構築されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、次のような効果を奏することができる。
【００１２】
（１）リベット孔に配置される鉄筋とコンクリートとの付着の度合を向上させることにより、堅牢なジベル化合成桁を構築することができる。
【００１３】
（２）鉄筋を配置する孔として従来のリベット孔を用いることができ、施行が容易である。
【００１４】
（３）ずれ止めとしてのスタッドを溶接する必要がなく、施行が簡便である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の鋼リベット桁の補修方法は、鋼リベット桁のリベットを撤去し、このリベットが設けられていたリベット孔に鉄筋を設置し、この鉄筋の周りにコンクリートを流し込んでコンクリート形成体となし、堅牢なジベル化合成桁を構築する。
【実施例】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１７】
図１は本発明の実施例の鋼リベット桁の補修方法を示す模式図である。
【００１８】
（１）まず、図１（ａ）に示すように、ウエブ１には桁の幅方向の左右に配置されるフランジ下面板２，２がリベット３により固定されている。さらに、左右のフランジ下面板２上にはフランジ上面板４が桁の幅方向の左右に配置されるリベット５及びリベット６によって固定されている。
【００１９】
（２）次に、図１（ｂ）に示すように、リベット３、５及び６をそれぞれ撤去する。よれにより、リベット孔７、８及び９が現れる。
【００２０】
（３）次いで、図１（ｃ）に示すように、そのリベット孔７、８及び９に鉄筋１０を配置する。
【００２１】
（４）次いで、図１（ｄ）に示すように、コンクリートを流し込んで、コンクリート形成体１１を形成する。
【００２２】
このようにして、従来の鋼リベット桁を堅牢なジベル化合成桁へと補修することができる。ここで、「ジベル（鋼材の）」とは、鋼とコンクリートを合成させる構造の桁において、コンクリートと鋼の付着をとるために鋼材の表面に取り付けたずれ止めのことをいう。
【００２３】
図２は本発明の実施例のジベル化合成桁を示す断面図である。
【００２４】
この図において、１２はウエブ、１３，１３は桁の幅方向の左右に配置されるフランジ下面板、１４は左右に配置されるフランジ下面板１３上に配置されるフランジ上面板、１９は従来のリベットと取り替えられた鉄筋であり、リベット孔１５と１６と１７とを貫通するように配置される。その鉄筋の周りにコンクリートを流し込んで、コンクリート形成体１８を構築する。
【００２５】
このように構成したので、従来のリベット孔１５と１６と１７を貫通する鉄筋を有する堅牢なジベル化合成桁を構築することができる。
【００２６】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づき種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
【産業上の利用可能性】
【００２７】
本発明の鋼リベット桁の補修方法は、鋼とコンクリートとの付着の度合を向上させた堅牢なジベル化合成桁として利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施例の鋼リベット桁の補修方法を示す模式図である。
【図２】本発明の実施例のジベル化合成桁を示す断面図である。
【図３】従来の鋼リベット桁の構造を示す斜視図である。
【図４】従来の鋼リベット桁の断面を示す写真である。
【図５】従来の鋼リベット桁の上面を示す写真である。
【符号の説明】
【００２９】
１，１２    ウエブ
２，１３    フランジ下面板
３，５，６    リベット
４，１４    フランジ上面板
７，８，９，１５，１６，１７    リベット孔
１０，１９    鉄筋
１１，１８    コンクリート形成体
【図１】
0004913005.tif 000002
【図２】
0004913005.tif 000003
【図３】
0004913005.tif 000004
【図４】
0004913005.tif 000005
【図５】
0004913005.tif 000006
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）スパッタ源もしくはターゲットから第１の距離で、絶縁層を有する凹部のさらされた表面上に、０．１３３Pa（１mTorr ）以下の圧力で、チタン層をスパッタすること、（ｂ）スパッタ源もしくはターゲットから第２のもっと短い距離で、絶縁層を有するチタン層上に、０．１３３Pa（１mTorr ）〜０．６６５Pa（５mTorr ）の圧力で、化学量論的な窒化チタンをスパッタすること、を単一チャンバ内で、真空破壊なしに実施することを含み、第１の距離が４００〜４３０mmの範囲にあり、かつ第２の距離が２２５〜２７５mmの範囲にある、半導体ウェハ上の絶縁層の高アスペクト比凹部にバリア層を形成する方法。
【請求項２】
第１の距離が４３０mmである請求項１記載の方法。
【請求項３】
第２の距離が２４５mmである請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ウェハが、第１および第２の距離の間で移動可能な支持体上にわたって取り付けられている請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
支持体の移動がコンピュータで制御される請求項４記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ上の絶縁層（dielectric layer）の高アスペクト比凹部（recess）にバリア層を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電極配線材料、たとえばアルミニウム合金もしくは銅が下にある絶縁層を傷つけるのを防止するため、または、ＷＦ6 （タングステンの堆積に用いられる）がチタン層に達するのを防止するために、半導体上にバリア層を形成させることは周知である。一般にこれらはＴｉシード層（seed layer）および化学量論的なＴｉＮの上層を含む。多くの方法がこのような層の形成について提案されているが、それらはほとんどすべてが、絶縁層内で高アスペクト比の凹部に深く、十分なバリア層を形成しようとするとき、かなりの困難と出会う。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
半導体ウェハにおいて、造作は増々小さくなるにつれて、そのような凹部のアスペクト比は増大する。一般に、ＴｉおよびＴｉＮに対するスパッタ距離は約４５mmであり、通常スパッタは約０．６６５Pa（約５mTorr ）の圧力で行われる。方向性の問題のために、とくに窒素がＴｉＮの形成のために存在するとき、高アスペクト比の孔（hole）に形成されるバリア層は、あまりうまくいかないことが多い。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、半導体ウェハ上の絶縁層の高アスペクト比凹部にバリア層を形成する方法にあり、
（ａ）スパッタ源もしくはターゲットから第１の距離で、絶縁層を有する凹部のさらされた表面上に、０．１３３Pa（１mTorr ）以下の圧力で、チタン層をスパッタすること、
（ｂ）スパッタ源もしくはターゲットから第２のもっと短い距離で、絶縁層を有するチタン層上に、０．１３３Pa（１mTorr ）〜０．６６５Pa（５mTorr ）の圧力で、化学量論的な窒化チタンをスパッタすること、を単一チャンバ内で、真空破壊なしに実施することを含む。
【０００５】
第１の距離は４００〜４５０mmの範囲にあり、約４３０mmの距離が特に好適である。第２の距離は２２５〜２７５mmの範囲にあり、約２４５mmの距離が特に好適である。
この方法は、第１と第２の距離の間で移動可能な支持体上にわたってウェハを取り付けることを含む。
【０００６】
上述の提案は、数多くの利点を有する。まず、特に低圧力で、ターゲットおよび絶縁層の間の通常でなく大きな距離でチタンスパッタを実施することにより、チタン分子の方向性を著しく増加させる。これらは、低圧力によって、散布量が比較的小さいこと、さらにはウェハと源との比較的大きな距離により、凹部の上部に到達する材料の大部分が、凹部の底部に垂直（normal）もしくはほとんど垂直を向き、したがってその長さを進み、バリアが特に要求される凹部の底部に到達しそうであるからである。通常、ウェハの表の面への堆積は不必要であり、特に不利になりうる。
【０００７】
したがって、比較的大きな割合がともかく凹部に堆積するということを期待して全体スパッタ収量を増加させようとする通常のアプローチと異なり、本発明においては、一般にウェハの全体的な被覆は減少するけれども凹部の底部で形成される層を増大させる見込みのあるように、ターゲットに関してウェハを位置させ、条件を調整することが採用される。
【０００８】
ＴｉＮ堆積が化学量論的ＴｉＮを形成することを確実にするために、十分な量の窒素を存在させねばならず、そうすると必然的に圧力が増加する。しかしながら、本発明においては、０．６６５Pa（５mTorr ）以下の標準チャンバ圧力で実施することがなお可能である。窒素の存在のために、比較的大きな散布になることは必然的であり、この環境で、ウェハと源との減少した距離が必要であると見出された。しかしながら、本発明においては、通常よりもはるかに大きな距離が使用され得、それにより、なおこの堆積の方向性を増加することができるものである。
【０００９】
本発明は、ウェハのための移動プラテン（platen）もしくは支持体を用いて特に好適に実施され得、そして支持体の移動は、スパッタ工程と連結されるようにコンピュータで制御されうる。
このように、ウェハもしくは一団（batch ）のウェハが、スパッタターゲットに関し第１と第２の距離の間を移動しうる支持体上でチャンバへ導入されることが提案される。チャンバは基底（base）圧力まで排気され、ついで０．１３３Pa（１mTorr ）以下にもどされ、チタンスパッタがシード層を形成するために行なわれる。このシーケンスの期間は実験的な検定（empirical calibration ）もしくはプロセス−バイ−プロセス（process-by-process ）の条件、で決定されうる。
【００１０】
この工程の終りに、プラテンは第２の距離に移動され、そしてアルゴンおよび窒素混合物がチャンバに導入され、チャンバ圧力は０．１３３〜０．６６５Pa（１〜５mTorr ）とされる。ついで、ＴｉＮ層が形成され、ウェハはチャンバから取り除かれる。この方法も、原料処理量の観点から特に効率的であり、シード層の望ましくない酸化を避けることがわかる。
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液中の溶質が水酸化ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸２ナトリウムおよびジエタノールアミンよりなり、その組成が重量比で、水酸化ナトリウム：エチレンジアミン四酢酸２ナトリウム・２H2O：ジエタノールアミン＝１：０．８〜１．３：２．０〜３．０であって、溶液が質量百分率で溶質を５５〜２．７％含有する水溶液であることを特徴とする蒸着膜の剥離剤又はガラス面の洗浄剤。
【請求項２】
請求項１の蒸着膜の剥離剤又はガラス面の洗浄剤を用いた蒸着膜の剥離またはガラス面の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業の属する技術分野】
本発明は、ガラス及びプラスチックスの表面改質のために行われる工程の不良蒸着膜の溶解剥離及び前工程としての表面洗浄に関するものである。より具体的には本発明は、レンズや反射鏡などの蒸着の際に生ずる不良品の蒸着膜剥がしおよび面上に付着したアルミナや珪酸塩などの除去に使用される剥離剤水溶液に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
膜剥がし剤としては、従来より弗化水素酸塩液やアルカリ金属水酸化物の溶液が使用されてきた。しかし、弗化水素酸塩はガラス素地を腐蝕し、使用時に注意を要するので、対象がプラスチックス素地が主体となり、ガラスには敬遠されている。水酸化物の溶液は溶解力が弱く、溶解後に溶質の析出が生じて洗浄面に再付着する問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ガラス素地を腐蝕することなく蒸着膜及び／又は付着物を除去し、再析出しない剥がし液の提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、溶液中の溶質が水酸化ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸２ナトリウム（以下、「ＥＤＴＡ-２Ｎａ」と略称する。）およびジエタノールアミンよりなり、その組成が重量比で、水酸化ナトリウム：エチレンジアミン四酢酸２ナトリウム・２H2O：ジエタノールアミン＝１：０．８〜１．３：２．０〜３．０であって、溶液が質量百分率で溶質を５５〜２．７％含有する水溶液であることを特徴とする蒸着膜の剥離剤又はガラス面の洗浄剤を要旨としている。
【０００７】
また、本発明は、溶液中の溶質が水酸化ナトリウム、ＥＤＴＡ-２Ｎａおよびジエタノールアミンよりなり、その組成が、水酸化ナトリウム：ＥＤＴＡ-２Ｎａ・２Ｈ2Ｏ：ジエタノールアミン＝１：０．８〜１．３：２．０〜３．０よりなり、ならびに溶質を５５〜２．７％含有する水溶液である、ことを特徴とする蒸着膜の剥離剤又はガラス面の洗浄剤を用いた蒸着膜の剥離またはガラス面の洗浄方法を要旨としている。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明は課題を解決するために、表面の蒸着膜及び／又は付着物をキレート剤の作用で溶解除去する。キレート剤が作用するｐＨを維持し、キレートを安定させるために水酸化ナトリウムを用いる。更に生成するキレートの析出を防ぐためにジエタノールアミンを加えて目的を達した。
【００１０】
本発明を実施するには、水１５．８重量部に水酸化ナトリウム１．３２重量部を溶解する。この溶液に水酸化ナトリウムの０．８〜１．３倍量（好ましくは１．０倍量）のＥＤＴＡ-２Ｎａ・２Ｈ2Ｏ（例えば商品名キレスト−２００）を加えて撹拌溶解する。溶解後、水酸化ナトリウムの２．０〜３．０倍量のジエタノールアミンを加えて溶解することよりなる剥離剤を作成する。
【００１１】
剥離を実施するには、この剥離剤又は目的に応じた水で希釈した液に目的物を浸漬し、蒸着膜及び／又は付着物を除去する。液温を４０〜６０℃に温めれば除去に要する時間を短縮することができる。所要時間は除去する目的物の厚さ、種類により異なる。
水酸化ナトリウムの比率が高過ぎると基材であるガラス又はプラスチックスに悪影響を及ぼすおそれがあり、低過ぎれば剥離に長時間を要し、遂には完全に剥離しない状況となる。ジエタノールアミンが多過ぎる場合は剥離、洗浄に影響はないが、後工程の水洗液のＢＯＤ負荷が大きくなる。少な過ぎればキレートの析出を起こし、所期の目的を達しない。
汎用性を考慮するならば、水酸化ナトリウム ５．０〜７．０ｗ／ｗ％、ＥＤＴＡ-２Ｎａ・２Ｈ2Ｏ ５．０〜７．０ｗ／ｗ％、ジエタノールアミン １３．０〜１６．０ｗ／ｗ％、水残量の組成が適する。運搬その他の理由で水を減じて濃度を２倍とすることもできるが、液の粘性が多少上昇する。しかし、低温での凍結を防止できる。
【００１２】
【実施例】
本願発明の詳細を実施例で説明する。本願発明はこれら実施例によって何ら限定されるものではない。
【００１３】
実施例１
表１の組成の溶液を作成し、液温６０℃に加温した後、ガラス上にＡｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＯの順で蒸着された試料を浸漬すれば、約２時間後に蒸着膜の干渉色は消失した。
【００１４】
【表１】
0004868563.tif 000002
【００１５】
実施例２
実施例１の組成液を５０℃に加温し、Ａｌ蒸着した凹面鏡に注ぎ溜める。数分後、細かな気泡を発してＡｌ蒸着膜は剥離溶解する。
【００１６】
実施例３
表２の組成の液は、−２０℃に冷却していても凍結せず、粘性の高い液となるが機能は変わらない。この液を１０〜２０倍に水で希釈した液を５０℃に温め、この中にアルミナ及び珪酸の粉が付着したガラス板を浸漬すれば、１０〜２０分で清浄な面となる。
【００１７】
【表２】
0004868563.tif 000003
【００１８】
【発明の効果】
レンズその他のガラス、プラスチックス表面の改質のために行われる表面処理において、表面処理の失敗、その他の理由で蒸着膜や付着物を除去する組成物を提供することができる。また、表面処理の前工程として表面の付着物を除去する組成物を提供することができる。
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
排水処理設備において、水質監視用ｐＨ計と定期的に自動洗浄を行うように設定されている参照用ｐＨ計とを併用し、両ｐＨ計の指示値の差が、所定値以上の場合に、水質監視用ｐＨ計の指示値が不良であると判定し、洗浄処理を行うとともに、洗浄処理中、水質監視機能を参照用ｐＨ計で代替することを特徴とする水質監視用ｐＨ計の運用方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水質監視用ｐＨ計のセンサ汚濁による指示値異常を未然に防止するための水質監視用ｐＨ計の運用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種工場からの排水をまとめて中和処理する排水処理設備では、反応槽に流入してくるｐＨ値を常時測定し、この反応槽ｐＨ値が目標とする規定ｐＨ値に近づくように、中和剤の注入量の増減を決定し中和処理を行い、管理ｐＨ範囲に処理された排水が処理水として公共水域に放流される。
【０００３】
従来ｐＨ測定では、ｐＨ計を１基のみ設置し連続計測を行っているが、工業排水にはスラッジ等の不純物を含んでおり、スラッジ等が測定用電極の表面に付着すると正確な起電力が測定できなくなり、正確なｐＨ値を表示できなくなる。そこで通常定期的にｐＨ計を手動または自動にて洗浄し、センサの汚濁を防止してｐＨ指示値の異常防止に努めている。
【０００４】
ｐＨ計１基のみで排水処理を行う場合は、手動洗浄では、人手の問題から８時間に１回、通常は１日に１回洗浄するのが限度で、この途中でセンサの汚染が生じると対処できないという問題がある。
【０００５】
また自動洗浄では、設定次第で洗浄間隔は縮められるが、自動洗浄中はｐＨ値の計測ができないので、連続して排水が流入する排水処理設備では排水をせき止めることができないため、中和作業の対応ができないという問題もある。
【０００６】
さらには、１基のｐＨ計だけでは、ｐＨ計の計測指示値が設定値からはずれても、ｐＨ指示値自体が設定から外れているのか、ｐＨ計の指示値不良で値が異常であるのかが分からないという問題もある。
【０００７】
特許文献１では、２台以上のｐＨ計を用いてその精度を検証する方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００１−５０９３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
図２は、工場排水が連続して流入する排水流末ピットにおけるｐＨ計２基体制の設置事例である。
【０００９】
流末ピットにおいては、放流水のｐＨ値を監視すると共に、アルカリ側に振れた排水が流れてきた場合に備えて、硫酸滴下による排水中和機能をもっており、この中和処理用に水質監視用ｐＨ計１とは別のｐＨ計２を設置している。
【００１０】
このケースにおいて、水質監視用ｐＨ計１がセンサ部汚濁により指示値不良を起こした場合、実際に流出している排水とは違うｐＨ値が示されることになり、排水管理上の問題が生じる。また、中和処理用のｐＨ計２がセンサ部汚濁により指示値不良を起こした場合、アルカリ水が流れてきた場合に中和処理が行われなかったり、逆に中和処理不要時に硫酸滴下を行ってしまう等、水質異常を起こす危険性がある。
【００１１】
更に中和処理異常を起こし、水質が異常となった場合でも、実際に水質がおかしいのか、水質監視用ｐＨ計１の指示値がおかしいのか分からないという問題もある。
【００１２】
上述したように,単にｐＨ計を多数設置すれば管理精度があがるわけではないので、本発明は、簡便で、コストのかからない信頼性の高い水質監視用ｐＨ計１の運用方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
発明者は、上述した課題を解決するために、ｐＨ計の構成及び測定方法を鋭意検討し、本発明に至ったものである。
【００１４】
第一の発明は、排水処理設備において、水質監視用ｐＨ計と定期的に自動洗浄を行うように設定されている参照用ｐＨ計とを併用し、両ｐＨ計の指示値の差が、所定値以上の場合に、水質監視用ｐＨ計の指示値が不良であると判定し、洗浄処理を行うとともに、洗浄処理中、水質監視機能を参照用ｐＨ計で代替することを特徴とする水質監視用ｐＨ計の運用方法である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は、水質監視を行う固定式ｐＨ計において、水質監視用ｐＨ計１と参照用ｐＨ計３を設置し、両ｐＨ計間の偏差を監視することにより、水質監視用ｐＨ計１の指示異常を早期に発見できるようになったため、水質異常を未然に防止できるようになった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の実施の形態を図を用いて説明する。
【００１８】
図１に示すように、排水処理設備の水質監視を行う固定式ｐＨ計において、水質監視用ｐＨ計１と併用して参照用ｐＨ計３を設置する。この参照用ｐＨ計３は、排水によるセンサ部の汚濁によってｐＨ計の感度劣化を防止するため、自動洗浄機能付きのｐＨ計とし、定期的に自動洗浄するように設定することが望ましい。
【００１９】
そして、ｐＨ計の測定値は監視装置に送られて、両ｐＨ計の測定値の差を常時監視する。この差が所定値以上の場合に警報が発令されて、水質監視用ｐＨ計１の指示値異常がオペレータに伝達される。
【００２０】
オペレータは更にポータブルｐＨ計等で水質を確認し、水質監視用ｐＨ計１の指示値が不良であることを最終確認した後、水質監視用ｐＨ計１の洗浄を行う。この際、ｐＨ値を確認後に計測を手動で参照用ｐＨ計３に切り替えることにより、監視及び制御を継続して行うことが可能となる。水質監視用ｐＨ計１の洗浄完了後、必要に応じてｐＨ計の校正を行った後、水質監視用ｐＨ計１、参照用ｐＨ計３の２基体制に戻す。
【００２１】
なお、両ｐＨ計の測定値の差を監視する際の所定値は、ｐＨ値で０．５以上とするのが好ましい。この値は、表１に示すように事前に試験を行い、水質監視用ｐＨ計１により測定されるｐＨ値と参照用ｐＨ計３により測定されるｐＨ値の差を確認し、所定値としては０．５が妥当であると判断したものである。
【００２２】
この所定値をあまり小さくすると頻繁に異常警報が発令され、監視員はその処置に忙殺されることとなる。一方あまり大きな値にすると、ｐＨ計の故障等を見落とすことにもなる。従って、この値をどの程度に設定するかは、使用する運用機器、運用環境によって適宜設定するのが好ましい。
【００２３】
【表１】
0005024149.tif 000002
【００２４】
以上により、排水処理設備で排水中に水質管理用に水質監視用ｐＨ計１を浸漬してｐＨ測定をする場合も参照用ｐＨ計３を用いて測定値の偏差管理を行うことにより精度の高いｐＨ測定ができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施の形態を説明する図である。
【図２】工場排水の中和作業例を説明する図である。
【符号の説明】
【００２６】
１    水質監視用ｐＨ計
２    中和処理用ｐＨ計
３    参照用ｐＨ計
【図１】
0005024149.tif 000003
【図２】
0005024149.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
和瓦葺き屋根の最上部に散水管（１）を配置し、各和瓦（２）の凹部（４）及び凸部（３）に出水するようにした融雪装置において、前記和瓦の凸部側面（６）の上部に、撥水剤（７）を塗布または付着させることにより前記和瓦の凸部の傾斜面（５）に流れる水が、前記撥水剤の撥水作用により隣の瓦に落ちることなく、また前記凸部の最上部を超えることなく流れ落ちることを特徴とする散水式屋根融雪装置。
【請求項２】
前記撥水剤は、フッ素系、シリコーン系、パラフイン系、ジルコニューム系から選ばれる１種または２種以上の撥水剤であることを特徴とする請求項１に記載した散水式屋根融雪装置。
【請求項３】
前記和瓦は、既存の屋根に施設された和瓦、または新しく製造された和瓦を含む請求項１に記載した散水式屋根融雪装置。
【発明の詳細な説明】
【発明に属する技術分野】
【０００１】本発明は屋根融雪装置に関し、消雪水が持つ熱を和瓦全面に効率よく伝達することにより、屋根に積もった雪を効率的に溶かすのに利用する。
【背景技術】
【０００２】従来、和瓦の融雪装置には、和瓦の裏面に発熱ヒータを設け、この発熱ヒータの発熱を利用して屋根に積もった雪を溶かすようにしたもの、（例えば、特許文献１，２参照）屋根にパイプを導設し、和瓦表面に特殊な導水溝を施した瓦屋根上に、消雪水を散水することにより屋根上に積もった雪を溶かすようにしたものなどがある。（例えば、特許文献３参照）
前者のような装置では、多大なランニングコストが要するし、後者のような装置では、従来施設されていた和瓦を廃棄し、新しく施設しなければならなくなり多大な初期費用が必要となってくる。【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２９９３４１号公報
【特許文献２】特開平１０−０９６２９７号公報
【特許文献３】実公平２−３５９３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】従来の施設された和瓦屋根に、パイプを導設して散水しても、瓦凹部にのみ散水した水が集まり、凹部の中央のみの雪だけが溶け、トンネル状になって、全体の雪は全く消雪することができなかった。すなわち凸部に流された水は、自然と凹部または、隣の瓦に流れ込んでしまう。凸部に流された水が、そのまま凸部に水脈を作ることができれば、凸部に流れている水の熱を凸部の部分に伝えることができ、凸部の雪を消すことができるようになる。【０００５】本発明は、前記した屋根融雪装置の数々の欠点を解決し、従来施設された瓦をそのまま利用して、初期費用も少なく、ランニングコストも少なくて済む屋根融雪装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】本発明の請求項１に記載の発明は、和瓦凸部側面６の上部に、撥水剤を塗布または付着させることにより、図２の凸部３の傾斜側５に流れる水は、撥水剤の撥水作用により隣の瓦に落ちることなく、また凸部の最上部を超えることなく、１本の流水路８として流れ落ちてゆく。この作り出された流水路８に流れる水の熱は、凸部全体に伝達され、凸部の雪を溶かしてゆき、凹部の流水９の消雪作用と相まって、瓦全体の雪を消雪可能とする特徴を有する手段を採用した。【０００７】本発明の請求項２に記載する発明は、請求項１において使用される撥水剤を、エマルジョン型、溶剤型を問わずフッ素系、シリコーン系、パラフイン系、ジルコニューム系から選ばれる１種または２種以上の撥水剤を使用する手段を採用した。【０００８】本発明の請求項３に記載する発明は、請求項１を対象とする瓦材を、既存に敷かれた瓦およびこれから建築する家の新しい瓦に対しても使用する手段を採用した
【発明の効果】
【０００９】本発明によって、これまで敷かれていた瓦を取り外す事なく、瓦凸部側面６の上部に例えばシリコーン系塗装材を塗布する。これを敷かれていたすべての瓦に施し、屋根最上部に水を散布するパイプを配置し、各瓦の凹部、凸部に均一に出水するように調整する。これにより、従来の融雪装置では、考えられなかった初期費用およびランニングコストで消雪することが可能となる。
【実施例】
【００１０】  実施例を図３にて説明する。通常市販のシリコーン系塗装材７を、瓦側面６の最上部に直線状に均一正確に塗り、乾燥凝固させる。この瓦を図３の如く、屋根上に敷き詰めて、屋根上部に配置されたパイプ１より、散水させ、屋根上に積雪した雪を消雪させる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】  和瓦の平面図
【図２】  和瓦の断面図
【図３】  融雪の実施図
【符号の説明】
【００１２】    １  散水管
２  和瓦
３  和瓦凸部
４  和瓦凹部
５  和瓦凸部傾斜面
６  和瓦凸部側面
７  撥水性塗装材
８  凸部側流水断面
９  凹部面流水断面
【図１】
0005024651.tif 000002
【図２】
0005024651.tif 000003
【図３】
0005024651.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレングリコールとジエチレングリコールとが、３０：７０〜７０：３０の質量比で配合されてなり、前記エチレングリコール及び前記ジエチレングリコールの合計含有量が、９０質量％以上であることを特徴とするセメント粉砕助剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セメントの粉砕助剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
セメント工場において、セメント原料、セメントクリンカー、又はセメント製品等を粉砕する際には、その粉砕効率の向上を目的として粉砕助剤が添加されている。
該粉砕助剤としては、比較的安価で且つ粉砕効率に優れるという点、更には、該粉砕助剤が添加されたセメントの強度発現性が良好である等の観点から、従来、ジエチレングリコールの採用が検討されている（比特許文献１）。
【０００３】
【非特許文献１】「セメント技術年報  XXIII」社団法人セメント協会  昭和４５年１月２５日発行  ｐ１６３−１６９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ジエチレングリコールはエチレングリコールの製造に際して副生成物として得られていたことから、従来、比較的安価に入手することが可能であったが、該エチレングリコールの製造技術の進歩により副生成物の生成量が減少し、近年、入手が困難な状況となり、価格も上昇する傾向にある。
【０００５】
また、本発明者らが鋭意研究した結果、該ジエチレングリコールが残存したセメントは残存しないセメントと比較して、初期強度の増進効果はあるものの、長期強度が低下する場合があることが見出された。
【０００６】
そこで、本発明は、ジエチレングリコールを用いた場合のセメント粉砕効率、及び得られたセメントの初期強度増進効果を維持しつつ、さらに、得られたセメントの長期強度の低下を防止しうるようなセメント粉砕助剤を提供することを一の課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らが鋭意研究したところ、ジエチレングリコールに所定割合のエチレングリコールを混合することにより、ジエチレングリコールによる破砕効率や初期強度増進効果を維持しつつ、しかも長期強度の低下を防止しうること見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、エチレングリコールとジエチレングリコールとが、３０：７０〜７０：３０の質量比で配合されてなり、前記エチレングリコール及び前記ジエチレングリコールの合計含有量が、９０質量％以上であることを特徴とするセメント粉砕助剤を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係るセメント粉砕助剤によれば、ジエチレングリコールの使用量が減少しているにもかかわらず、ジエチレングリコールのみを用いた際のセメントの粉砕効率と同程度の粉砕効率が得られ、且つジエチレングリコールのみを用いて粉砕することによって得られたセメントの初期強度増進効果が維持され、しかも、長期強度低減を防止することが可能となる。
また、エチレングリコールは、ジエチレングリコールよりも流通量が多く且つ安価であるため、ジエチレングリコール単体を用いた場合と比較して、セメントの製造コストを低減しうるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明に係るセメント粉砕助剤は、エチレングリコールとジエチレングリコールとが、３０：７０〜７０：３０の質量比で配合されたものである。斯かる範囲よりもエチレングリコールが多くなると、セメントの粉砕効率や初期強度増進効果が低下してしまい、逆に、斯かる範囲よりもエチレングリコールが少なくなると、セメントの長期強度が低下してしまう。
エチレングリコールとジエチレングリコールの質量比は、好ましくは４０：６０〜６０：４０であり、特に好ましくは４５：５５〜５５：４５である。
【００１１】
また、本発明に係るセメント粉砕助剤は、エチレングリコール及びジエチレングリコールの合計含有量が、９０質量％以上となるように構成される。エチレングリコール及びジエチレングリコールの合計含有量が、９０質量％以上であるため、粉砕効率の改善効果がより一層顕著になるという効果がある。
【００１２】
本発明に係るセメント粉砕助剤の添加量は、従来のセメント粉砕助剤と同様であり、例えばセメントクリンカーを粉砕する場合、該セメントクリンカー１００質量部に対して０．０１〜０．０６質量部の範囲とすることができる。
【００１３】
また、セメントの粉砕方法の一形態としては、エチレングリコールとジエチレングリコールとを、３０：７０〜７０：３０の質量比で添加した状態でセメントの粉砕を行うものである。
これらエチレングリコール及びジエチレングリコールの添加は、セメントの粉砕時又は粉砕前に行うことができ、両者を同時に添加してもよく、あるいは別々に添加してもよい。
【００１４】
セメントの粉砕手段については特に限定されず、従来公知の手段を採用することができる。
【実施例】
【００１５】
（セメントの粉砕試験）
普通ポルトランドセメントクリンカー７ｋｇと、二水石膏２５０ｇと、下記表１に示した配合の粉砕助剤２．１ｇ（セメントクリンカー１００質量部に対して０．０３質量部）とをボールミルに入れて粉砕し、粉砕時間と粉末度（ブレーン比表面積）との関係を求めた。結果を表１及び図１に示す。
【００１６】
【表１】
0005024669.tif 000002
【００１７】
表１及び図１によれば、エチレングリコールとジエチレングリコールとを混合して添加した実施例１の場合には、添加しない比較例１と比べて粉砕効率が向上しているだけでなく、それぞれを単独で添加した比較例２及び３と比較しても、僅かながら粉砕効率が向上していることが認められる。
【００１８】
（強度発現試験）
次に、下記表２に示した粉砕助剤を普通ポルトランドセメントに添加し、ＪＩＳ  Ｒ  ５２０１「セメントの物理試験方法」に規定された試験方法に基づき、水量２７．８％で調製したセメントペーストについて、始発時間および終結時間、並びに材齢３日、７日及び２８日における圧縮強さを測定した。結果を下記表２に示す。
【００１９】
【表２】
0005024669.tif 000003
【００２０】
表２によれば、ジエチレングリコールのみを粉砕助剤として使用した比較例２では、粉砕助剤を添加しない比較例１と比較して、初期強度（３日強度）の増進が図られるが、長期強度（２８日強度）が低下していることが認められる。また、エチレングリコールのみを粉砕助剤として使用した比較例３では、長期強度（２８日強度）の増進が図られるが、初期強度（３日強度）の増進効果が小さいことが認められる。
これに対し、エチレングリコールとジエチレングリコールとの混合物を粉砕助剤として使用した実施例１〜３では、粉砕助剤を添加しない比較例１と比較して初期強度（３日強度）の増進が図られるとともに、併せて長期強度（２８日強度）の増進効果も発揮されていることが認められる。
【００２１】
また、何れの実施例でも、凝結時間については比較例１とほぼ同様であり、凝結に悪影響を及ぼすことなく、上述のような強度増進効果を発揮しうることが認められる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】粉砕助剤の種類が粉砕効率に及ぼす影響を示したグラフ。
【図１】
0005024669.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの容器内で回転する対極に１組の気室を持つローターを位相差９０°で連結し、加熱装置から与えられた熱により膨張する気体と冷却装置に熱を奪われることで収縮する気体の力を２つのシリンダーへ一方のシリンダーと、一方のローターの冷却装置側の気室及び他方のローターの加熱装置側の気室とをそれぞれ接続する導管と、他方のシリンダーと、前記一方のローターの加熱装置側の気室及び前記他方のローターの冷却装置側の気室とをそれぞれ接続する導管を通して伝え、膨張を行うピストンと収縮を行うピストンを各々往復運動させることにより動力を得るとともに変速器を介して回転速度を１／２に減速しローターを回転させる。ローターの回転に伴い加熱及び冷却工程を終えた側のローターの気室とシリンダーを接続する導管はローターにより閉じられ、次に加熱及び冷却工程を始める側のローターの気室とシリンダーが導管によって接続され、直前の工程で膨張を終えたシリンダーへは冷却装置側の気室が、直前の工程で収縮を終えたシリンダーへは加熱装置側の気室が接続されることで気体の膨張収縮によるピストンの往復運動を継続させ動力をえる機関
【請求項２】
請求項１の構造を利用し、クランクシャフトへ外部から動力加えることにより容器内で回転するローターの気室内の気体の圧力を加圧放熱、減圧熱吸収することで熱を移動させる機関
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】本発明は気体の加熱冷却による膨張収縮による体積変化あるいは外部動力による加圧放熱、減圧熱吸収の特性を利用した機関である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００２】
【特許文献１】  特表２００８−５２８８６３公報
【特許文献２】  特開２００６−２５８０８７公報
【特許文献３】  特開２００８−１６３９３１公報
【特許文献４】  実公昭５９−０３７５９２公報
【特許文献５】  特開昭６０−２２３９９４公報
【特許文献６】  特開２００５−３５１２４３公報
【特許文献７】  特開２００１−１７３５１５公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】効率的に熱を動力に変換、あるいは動力で熱を運搬するための手法
【課題を解決するための手段】
【０００４】２つの容器内で回転する対極に１組の気室を持つローターを用いて加熱装置から与えられた熱で膨張する気体の力と冷却装置に熱を奪われることにより収縮する気体の力を用いてシリンダー内でピストンを往復運動させ動力を得るとともにローターを回転させ気体の膨張収縮運動によるピストンの往復運動を継続させる。
【発明の効果】
【０００５】エネルギー変換を連続的に行うことでエネルギー変換を効率的に行うことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】加熱装置と冷却装置間の温度差で気体の熱による膨張収縮運動を動力に変換する場合の動力を発生させるシリンダー２機と熱交換用ローター２機ならびに変速器の接続を示した構成図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】２つの容器内で回転する対極に１組の気室を持つローターを用い加熱装置から与えられた熱により膨張する気体と冷却装置に熱を奪われることで収縮する気体の力により２つのシリンダー内でピストンを往復運動させることにより動力を得るとともにローターを回転させ気体の膨張収縮によるピストンの往復運動を継続させる。
【実施例】
【０００８】図１でローター４の加熱装置側の気体は加熱装置の熱により膨張しローター４の容器に接続された導管７を通じシリンダー２のピストンを下方に運動させその間に冷却装置側の気体は収縮し導管６を通じシリンダー１のピストンを上方へ運動させクランクシャフト１１を回転させる。【０００９】クランクシャフト１１の回転は動力を発生させると同時に変速器３で回転速度を１／２に減速しローターへと伝達される。【００１０】この間、ローター４から位相を９０°遅らせ回転しているローター５の容器に接続される導管８と導管９はローター５により閉じられた状態であるため仕事を行わない。【００１１】ローター４が加熱工程を終えるとローター５の気室から収縮を終えたシリンダー１に対し導管９を通し膨張した気体が送られ、膨張を終えたシリンダー２からは導管８を通じてローター５の低温側気室へ気体の収縮作用により気体が送られピストン運動を継続させるこの間ローター４では導管がローターにより閉じられておりシリンダー１、シリンダー２に対し仕事を行わない。【００１２】制御バルブ１０は始動初期のシリンダー内の気体量を調整し始動性を高めるためまたは低回転運転時のピストンの上死点、下死点付近での不調和を防ぐため設ける。
【産業上の利用可能性】
【００１３】太陽光、地熱など自然エネルギーを用いた発電装置の動力源として運送装置全般、船舶、ハイブリッドシステムの動力装置として広範囲の用途に適用できる。また可逆サイクルを利用しクランクシャフトに外部から駆動力を与え空調用熱源装置として適用できる。
【符号の説明】
【００１４】  １      シリンダー
２      シリンダー
３      変速器（１：２）
４      ローター
５      ローター
６      導管
７      導管
８      導管
９      導管
１０      制御バルブ
１１      クランクシャフト
【図１】
0005024685.tif 000002