(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射ビームを調整する照明システムと、
パターニングデバイスを支持するパターニングデバイスサポートであって、パターン化放射ビームを形成するために前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニングデバイスサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板の目標部分上に前記パターン化放射ビームを投影する投影システムと、
リソグラフィ装置の移動可能な物体の移動によって引き起こされたガス伝搬ノイズを減衰させるパッシブノイズダンパとを備え、
前記パッシブノイズダンパが前記移動可能な物体上に配置される、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記パッシブノイズダンパは、前記物体の移動方向に沿ってガス中での物体の貫通を改善するために前記移動可能な物体に位置決めされた空気力学的な構造を含み、前記空気力学的な構造が、前記移動可能な物体の最大寸法の区域よりも小さい移動の方向の前面区域を有する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記パッシブノイズダンパがパネルアブソーバ、ラビリンス、メンブレン、もしくはベロー、またはそれの任意の組合せを含み、前記ベローが前記移動可能な物体の第１の側、または前記第１の側の反対側の第２の側、または前記第１の側および第２の側の両方に設けられる、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記パッシブノイズダンパが、前記移動可能な物体の反対方向に移動するように構成された移動可能な部分を含み、前記移動可能な部分および前記移動可能な物体がガス流または圧力波または両方のバランスを得るように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記パッシブノイズダンパが、移動の方向に前記移動可能な物体の前に配置された第１の空間およびそれの後ろに配置された第２の空間と、前記移動可能な物体の移動中に前記第１の空間から押しやられたガスを前記第２の空間に誘導するための前記密閉型ガスシステムとを含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
第１のベローが前記移動可能な物体の第１の側に接続され、第２のベローが前記移動可能な物体の、前記第１の側の反対側の第２の側に接続され、前記第１および第２のベローが互いに接続される、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記パッシブノイズダンパがパネル形のノイズ吸収デバイスを含み、
前記パネル形のノイズ吸収デバイスが前記移動可能な物体に取り付けられる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記パネル形のノイズ吸収デバイスが発泡材料を含む、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記パネル形のノイズ吸収デバイスがパネルアブソーバである、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
パネル形の吸収デバイスが平坦であるかまたはアーチ形である、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記移動可能な物体が移動可能である前記リソグラフィ装置のコンパートメント内に、前記パネル形のノイズ吸収デバイスが取り付けられる、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記ガス伝搬ノイズの発生源と前記ガス伝搬ノイズに敏感なエレメントとの間に配置されるノイズシールドをさらに含み、前記パネル形の吸収デバイスが前記ノイズシールドに取り付けられる、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記パネル形のノイズ吸収デバイスが、前記ガス伝搬ノイズに敏感なエレメントが配置された前記リソグラフィ装置のコンパートメントに取り付けられる、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記パネル形のノイズ吸収デバイスが前記エレメントを囲む、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記エレメントが前記投影システムである、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のガス伝搬ノイズ（gas borne noise）を低減する方法、およびデバイスを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、基板上に、通常、基板のターゲット部分上に所望のパターンを付ける機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。そのような場合、パターニングデバイス、あるいはマスクまたはレチクルと呼ばれるものを使用してＩＣの個々の層上に形成されるべき回路パターンを生成することができる。このパターンは基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、１つまたはいくつかのダイの一部を含む）上に転写することができる。パターンの転写は、一般に、基板上に与えられた放射感応性材料（レジスト）の層上への結像を介してなされる。一般に、単一の基板は、連続的にパターニングされる隣接するターゲット部分のネットワークを含むであろう。従来のリソグラフィ装置は、ターゲット部分上に全パターンを同時に露光することによって各ターゲット部分が照射されるいわゆるステッパと、所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームによりパターンをスキャンすると同時に、同期して、この方向と平行または反平行に基板をスキャンすることによって各ターゲット部分が照射されるいわゆるスキャナとを含む。基板上にパターンをインプリントすることによってパターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置のリソグラフィプロセスにおいて、パターニングデバイスによって放射ビームに与えられるパターンが、例えば、オーバーレイエラー、結像エラー、または焦点エラーなしに基板のターゲット部分上に適切に投影されるように、少なくともパターニングデバイス、投影システム、および基板ステージは互いに対して適切に位置合わせされることが望ましい。特に、パターニングデバイスサポート（レチクルステージ）および基板テーブル（基板ステージ）が、基板の特定の部分に対してパターンの特定の部分を位置決めするために移動可能であるスキャナでは、高精度位置決めが望ましい。これらの移動のために、高精度でパターニングデバイスサポートおよび基板テーブルの位置を制御する位置決めシステムが備えられる。
【０００４】
[0004]  一方で結像の精度、例えばオーバーレイおよび焦点、他方でスループットへの要求が絶え間なく増大する状態で、パターニングデバイスサポート、投影システム、および基板テーブルの適切なアライメントが望ましい。リソグラフィ装置のスループットを増加させるには、パターニングデバイスサポートおよび基板テーブルを互いに対しておよび投影システムに対して移動し位置合わせする速度および加速度を増加させることが望ましい。
【０００５】
[0005]  しかし、パターニングデバイスサポートまたは基板テーブルを移動させると、ガス流および圧力波がもたらされることがあり、それらは、これらのステージとさらに投影システムが存在する空間を通って伝搬することがある。さらに、パターニングデバイスサポートおよび基板テーブルの作動力がステージの一部の振動を引き起こし、それが作業スペースを通る音響信号またはガス流などのガス流および／または圧力波をもたらすことがある。これらのガス流および／または圧力波は、投影システム、またはレンズなどの投影システムの少なくとも一部、または投影システムが取り付けられるフレームを励振することがある。ガス流および／または圧力波は、パターニングデバイスサポート、投影システム、および基板テーブルのアライメントに関連するリソグラフィ装置の他の部分、例えばステージ位置測定システムのセンサまたはセンサターゲット対象物などを励振することもある。投影システムまたは他の部分の励振は、オーバーレイ、フェージングおよび／または焦点エラーなどの結像エラーを引き起こすことがある。
【０００６】
[0006]  一般に、パターニングデバイスサポートの移動による投影システムの励振には３つの発生源があることが見いだされている。１つの発生源のタイプは、ガス伝搬ノイズ、すなわち、パターニングデバイスサポートと投影システムとの間に存在するガス、例えば空気によって伝搬されるノイズである。このガス伝搬ノイズは、一般に、パターニングデバイスサポートの加速の結果であり、それによって、移動の方向のパターニングデバイスサポートの前のガスコラムが、移動するパターニングデバイスサポートによって遠くに押しやられ、一方、ガスは、移動するパターニングデバイスサポートによって生成された空間に吸い込まれる。このガス伝搬ノイズは一般に例えば１５０Ｈｚ未満の低周波ノイズであり、オーバーレイエラーをもたらすことがある。
【０００７】
[0007]  別の発生源のタイプは構造体伝搬ノイズ（structure borne noise）である。パターニングデバイスサポートの移動およびその移動で要望される力が、パターニングデバイスサポートのいくつかの部分またはパターニングデバイスサポートのサポート構造体の励振をもたらすことがある。この励振は、リソグラフィ装置の構造体伝達経路または音響伝達経路、例えばパターニングデバイスサポートおよび投影システムを共に支持するフレームまたはフレームの組合せを介して投影システムに移送されることがある。この構造体伝搬ノイズは、一般に、１５０Ｈｚより上の高い周波数範囲である場合があり、オーバーレイおよび／またはフェージングに悪い影響を有することがある。
【０００８】
[0008]  さらに、パターニングデバイスサポートの一部またはパターニングデバイスサポートのサポート構造体の励振は、これらの部分の振動をもたらすこともある。これらの振動する部分は、さらに投影システムまたは他のエレメントを励振する圧力波を引き起こすことがある。これは、投影システムまたは他のエレメントの相対的に高い周波数の振動をもたらし、オーバーレイおよび／またはフェージングに悪い影響を引き起こす。
【０００９】
[0009]  第３の発生源のタイプは、移動可能な物体の鋭い縁部によって引き起こされる渦の離脱または乱流である。これは、一般により高い周波数範囲、例えば５００Ｈｚより上のノイズを生成することがある。
【発明の概要】
【００１０】
[0010]  移動可能な物体の移動の結果としてのガス伝搬ノイズに起因する外乱に敏感なエレメントの励振が実質的に低減されるリソグラフィ装置を提供することが望ましい。特に、パターニングデバイスサポートの移動の結果としてのガス伝搬ノイズに起因する投影システムの励振が実質的に低減されるリソグラフィ装置を提供することが望ましい。
【００１１】
[0011]  本発明の一実施形態によれば、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、パターン化放射ビームを形成するためにパターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを付与することができるサポートと、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板のターゲット部分上にパターン化放射ビームを投影するように構成された投影システムと、リソグラフィ装置の移動可能な部分の移動によって引き起こされたガス伝搬ノイズを減衰させるかまたは防止するように構成されたパッシブノイズダンパとを含むリソグラフィ装置が提供される。
【００１２】
[0012]  本発明の一実施形態によれば、リソグラフィ装置の移動可能な部分の移動によって引き起こされたガス伝搬ノイズを減衰させるかまたは防止するように構成されたパッシブノイズダンパを設けることによって、リソグラフィ装置のガス伝搬ノイズを低減する方法が提供される。
【００１３】
[0013]  本発明の一実施形態によれば、放射感応性材料で基板を被覆するステップと、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、パターン化放射ビームを形成するためにパターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを付与することができるサポートと、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板のターゲット部分上にパターン化放射ビームを投影するように構成された投影システムと、リソグラフィ装置の移動可能な部分の移動によって引き起こされたガス伝搬ノイズを減衰させるように構成されたパッシブノイズダンパとを含むリソグラフィ装置を使用して、基板上に放射のパターン化ビームを投影するステップと、基板を現像するステップと、基板をベーキングするステップとを含むデバイス製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
[0014]  次に、本発明の実施形態が、例としてのみ、対応する参照記号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら説明される。
【００１５】
【図１】[0015]本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0016]本発明の一実施形態による図１のリソグラフィ装置の一部を示す図である。
【図３】[0017]本発明の一実施形態による（共振）パネルアブソーバの例の断面を示す図である。
【図４】[0018]本発明の一実施形態によるパッシブノイズダンパを示す図である。
【図５】[0019]本発明の一実施形態によるパッシブノイズダンパを示す図である。
【図６ａ】[0020]本発明の一実施形態によるパッシブノイズダンパを示す図である。
【図６ｂ】[0020]本発明の一実施形態によるパッシブノイズダンパを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
[0021]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射または任意の他の適切な放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、いくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決めデバイスＰＭに接続されたパターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴとを含む。この装置は、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴまたは「基板サポート」をさらに含む。この装置は、パターニングデバイスＭＡにより放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳをさらに含む。
【００１７】
[0022]  照明システムは、放射を誘導し、整形し、または制御するために、屈折式、反射式、磁気式、電磁気式、静電気式、もしくは他のタイプの光学コンポーネント、またはそれらの任意の組合せなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００１８】
[0023]  パターニングデバイスサポート、パターニングデバイスの方位、リソグラフィ装置の設計、および例えばパターニングデバイスが真空環境中に保持されるかどうかなどの他の条件によって決まる方法でパターニングデバイスを保持する。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスを保持するために、機械式、真空式、静電気式、または他のクランプ技法を使用することができる。パターニングデバイスサポートは、例えば必要に応じて固定にも可動にもすることができるフレームまたはテーブルとすることができる。パターニングデバイスサポートは、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置にあるようにすることができる。本明細書における「レチクル」または「マスク」という用語のいかなる使用も「パターニングデバイス」というより一般的な用語と同義であると考えることができる。
【００１９】
[0024]  本明細書で使用される「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用することができるあらゆるデバイスを指すものと広義に解釈されるべきである。例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、放射ビームに付与されたパターンは基板のターゲット部分の所望のパターンと正確に対応しないことがあることに留意されたい。一般に、放射ビームに付与されたパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に対応することになる。
【００２０】
[0025]  パターニングデバイスは透過式でも反射式でもよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクはリソグラフィではよく知られており、バイナリのレベンソン型（alternating）位相シフトおよびハーフトーン型（attenuated）位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプを含む。プログマブルミラーアレイの例は小さいミラーのマトリクス構成を使用し、各ミラーは入射する放射ビームを様々な方向に反射させるように個別に傾斜させることができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射される放射ビームにパターンを付与する。
【００２１】
[0026]  本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射に適した、または液浸液の使用もしくは真空の使用などの他の要因に適した、屈折式、反射式、反射屈折式、磁気式、電磁気式、および静電式の光学システム、またはこれらの任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを包含するものと広義に解釈されるべきである。本明細書における「投影レンズ」という用語のいかなる使用も「投影システム」というより一般的な用語と同義であると考えることができる。
【００２２】
[0027]  ここに示されるように、装置は透過タイプ（例えば透過マスクを使用する）である。代わりに、この装置は反射タイプ（前述で参照したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用するか、または反射マスクを使用する）とすることができる。
【００２３】
[0028]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）またはそれよりも多い基板テーブルまたは「基板サポート」（および／または２つ以上のマスクテーブルまたは「マスクサポート」）を有するタイプとすることができる。そのような「マルチステージ」機械では、追加のテーブルまたはサポートを並列に使用することができ、あるいは１つまたは複数の他のテーブルまたはサポートを露光のために使用しながら１つまたは複数のテーブルまたはサポートで準備ステップを行うことができる。
【００２４】
[0029]  リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように比較的高い屈折率を有する液体、例えば水によって基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプとすることもできる。液浸液は、リソグラフィ装置の他の空間、例えばマスクと投影システムとの間に適用することもできる。液浸技法を使用して投影システムの開口数を増加させることができる。本明細書で使用されるような「液浸」という用語は、基板などの構造体が液体中に沈められなければならないことを意味せず、むしろ液体が露光中投影システムと基板との間に置かれていることだけを意味する。
【００２５】
[0030]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。例えば放射源がエキシマレーザである場合、放射源とリソグラフィ装置は別個の構成要素とすることができる。そのような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを備えるビームデリバリシステムＢＤを用いて放射源ＳＯからイルミネータＩＬに送られる。他の場合、例えば放射源が水銀ランプである場合、放射源はリソグラフィ装置の一体部分とすることができる。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要であればビームデリバリシステムＢＤと共に、放射システムと呼ぶことができる。
【００２６】
[0031]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するように構成されたアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面における強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（通常それぞれσ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調整することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの様々な他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使用して、放射ビームの断面に所望の均一性および強度分布を有するように放射ビームを調整することができる。
【００２７】
[0032]  放射ビームＢは、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブルＭＴ）に保持されるパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。放射ビームＢはパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを通過した後、投影システムＰＳを通り抜け、投影システムＰＳは基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを合焦する。第２の位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または容量センサ）を用いて、例えば放射ビームＢの経路中に様々なターゲット部分Ｃを位置決めするように基板テーブルＷＴを正確に移動することができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭおよび別の位置センサ（図１に明確には示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリからの機械的抽出の後にまたはスキャン中に、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めすることができる。一般に、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の移動は、第２のポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合（スキャナとは反対に）、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴはショートストロークアクチュエータにのみ接続することができ、または固定することができる。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡおよび基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは専用のターゲット部分を占めるが、それらはターゲット部分間の空間に配置することができる（これらはけがき線アライメントマークとして知られている）。同様に、１つよりも多いダイがパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ上に備えられている状況では、マスクアライメントマークはダイ間に配置することができる。
【００２８】
[0033]  図示の装置は、以下のモードの少なくとも１つで使用することができる。
【００２９】
[0034]  １．ステップモードでは、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」、および基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」を本質的に静止したままにしながら、放射ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分Ｃ上に一度に投影される（すなわち単一静止露光）。次に基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」は、異なるターゲット部分Ｃを露光することができるようにＸおよび／またはＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一静止露光で結像されたターゲット部分Ｃのサイズを制限する。
【００３０】
[0035]  ２．スキャンモードでは、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」、および基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」が同期してスキャンされながら、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち単一動的露光）。パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）および結像反転特性によって決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一動的露光におけるターゲット部分の幅（非スキャン方向に）を制限するが、スキャン動作の長さがターゲット部分の高さ（スキャン方向に）を決定する。
【００３１】
[0036]  ３．別のモードでは、パターニングデバイスサポート（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「マスクサポート」は本質的に静止したままでプログラマブルパターニングデバイスを保持し、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」が移動されるかまたはスキャンされながら、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃ上に投影される。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の各移動の後にまたはスキャン中の連続する放射パルス間に所望に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この操作モードは、前述で参照したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００３２】
[0037]  前述の使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードを使用することもできる。
【００３３】
[0038]  図２は、図１のリソグラフィ装置の一部を示す。パターニングデバイスステージ１はパターニングデバイスを支持する。パターニングデバイスステージ１は投影システム３の上に配置される。投影システム３の下に、基板５を搬送する基板ステージ４が位置決めされる。パターニングデバイスステージ１および基板ステージ４は高精度で移動可能であり、その結果、投影中に、パターニングデバイスステージ１および基板ステージ４は投影システム３に対してスキャン移動で移動して、基板ステージ４によって支持された基板５のターゲット部分上にレチクル２によって付与されたパターンを有する投影ビームを投影することができる。
【００３４】
[0039]  投影システム３は、実質的に固定フレームであるメトロロジーフレームまたはメトロフレーム６によって支持される。メトロフレーム６はいくつかのエアマウント８によってベースフレーム７に取り付けられる。ベースフレーム７のいかなる振動もメトロフレーム６に伝わらないように、これらのエアマウント８はアクティブまたはパッシブのダンピングデバイスを含むことができる。このようにして、投影システム３の振動／移動に起因するパターン化ビームの基板５上への投影におけるオーバーレイエラーまたは焦点エラーなどの結像エラーを低減するために、投影システム３はベースフレーム７の振動から実質的に切り離される。
【００３５】
[0040]  しかし、パターニングデバイスステージ１の移動は、パターニングデバイスステージ１のまわりで、その結果、プロセス区域、すなわちパターニングデバイスステージ１、投影システム３、および基板ステージ４が配置される区域にガス流および圧力波、すなわちガス伝搬ノイズを引き起こすことがある。その移動はパターニングデバイスステージのパターニングデバイスサポートの振動を引き起こすこともある。この構造体伝搬ノイズは、それに対して敏感なエレメント、例えば投影システム３の外乱を引き起こすこともある。
【００３６】
[0041]  構造体伝搬ノイズはこれらのエレメントの振動を引き起こすことがあり、それが再びガス伝搬ノイズ、すなわちガス流または圧力波をもたらすことがある。このように、この間接的なガス伝搬ノイズはパターニングデバイスステージの移動によって間接的に引き起こされる。
【００３７】
[0042]  パターニングデバイスステージ１の移動に起因するガス流および／または圧力波のうちのいくらかが、投影システム３または投影システム３を支持するメトロフレーム６の方向に伝搬することがある。
【００３８】
[0043]  従来のリソグラフィ装置では、投影システム３またはメトロフレーム６は、これらのガス流および／または圧力波によって励振されることがあり、それが投影システム、特に、投影システム３のレンズおよび／または他の光学エレメントの移動をもたらすことがある。これらの移動は投影システム３を通過する放射ビームに影響を及ぼし、それがオーバーレイエラーおよび／または焦点エラーおよび／またはフェージングをもたらすことがある。これは望ましくない。
【００３９】
[0044]  本出願の一実施形態では、そのような部分、例えば投影システムおよびメトロフレームはガス流および／または圧力波に敏感であると見なされる。この実施形態では、特に、ガス流および／または圧力波にさらされたときリソグラフィ装置の投影の精度、例えばリソグラフィ装置のオーバーレイ、フェージングおよび／または焦点が低減されるように影響されるリソグラフィ装置の部分は、ガス流および／または圧力波に敏感であると見なされる。そのような部分には、例えば、ステージ位置測定システムのセンサまたはセンサターゲット対象物、例えば干渉計またはエンコーダグレーティングもしくはグリッドなどが含まれることがある。
【００４０】
[0045]  図２のリソグラフィ装置において、シールドデバイスがシールドプレート９の形態で設けられ、それは一方のレチクルステージ１と他方の投影システム３およびメトロフレーム６との間に配置される。シールドプレート９は、好ましくは、ガス流および／または圧力波を実質的に吸収するかまたは反射するように構成された比較的弾力的で重いプレートであり、好ましくは、その結果生じる反力がリソグラフィ装置の他の部分に導かれるようにベースフレーム７に取り付けられる。望ましい場合、シールドプレート９自体によるガス流および／または圧力波の生成を避けるようにシールドプレート９を構造上ベースフレーム７から分離するためにシールドプレート９を弾力的に支持することができる。シールドプレート９を設けることによって、投影システム３またはメトロフレーム６の方向に伝わるすべてのガス流および／または圧力波は少なくとも大部分がシールドプレート９によって吸収されるかまたは反射され、したがって、投影システム３またはメトロフレーム６に達しないことになる。その結果、投影システム３および／またはメトロフレーム６はガス流および／または圧力波によって励振されないかまたは実質的にほとんど励振されないようにすることができ、投影の精度は、パターニングデバイスステージの１のガス伝搬ノイズおよび構造体伝搬ノイズによって引き起こされたガス流および／または圧力波の存在によって悪影響が及ぼされることがないようにできる。
【００４１】
[0046]  シールドプレート９は、好ましくは、少なくとも露光フェーズ中にパターニングデバイスステージ１を移動することができる区域全体と、投影システム３の場所との間に、およびメトロフレームがガス流および／または圧力波に敏感である場合、好ましくは、メトロフレーム６との間にも延びる。放射のパターン化ビームがシールドプレート９を横断する場所に、放射のパターン化ビームがシールドプレート９を通過するために、開口１０がシールドプレート９に設けられる。
【００４２】
[0047]  シールドプレートおよびその代替の実施形態が、２００７年４月１９日に出願され、本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願第１１／７８５，７５１号に、より詳細に記載されており、その内容は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
【００４３】
[0048]  シールドプレートの開口１０、またはパターニングデバイスステージ１が取り付けられるコンパートメント１１と、投影システム３が配置されるコンパートメント１２との間の他の開口の存在に起因して、ガス流および／または圧力波が投影システムコンパートメント１２に達するかもしれない可能性が依然としてある。これは、ガス流および／または圧力波反射ステージコンパートメント１１の反射の結果でもある。その結果、ガス流および／または圧力波は依然として開口１０を通って投影システムコンパートメントに入り、投影システム３の励振を引き起こすことがある。
【００４４】
[0049]  本発明の一実施形態によれば、リソグラフィ装置中にいくつかのパネルアブソーバ１３、１４、１５、および１６を配置することが提案される。これらのパネルアブソーバはパッシブノイズダンパの役割をする。
【００４５】
[0050]  図３に、パネルアブソーバ２０の一例がより詳細に示される。パネルアブソーバ２０は、例えばスペーサ２２によって互いに隔てられた２つのプレート形の物体２１を含む共振システムである。２つのプレート形の物体の間に、ガラス繊維または発泡材料などの吸音材料２３を配置することができる。代替の実施形態では、プレート形の物体の間の空間をガス、例えば空気で充填することができる。一実施形態では、プレート形の物体２１はパネルアブソーバの様々な挙動を得るために穴を開けることができる。
【００４６】
[0051]  発泡材料のような吸音材料の物体と比較してパネルアブソーバの利点は、所望の周波数範囲に調整することができる比較的広帯域の有効周波数範囲をパネルアブソーバは有することができることである。有効周波数範囲は、一般に、発泡材料の単独の物体の有効周波数範囲よりも非常に低い。これは、関連する周波数範囲が一般に数百Ｈｚである本発明の一実施形態の用途では、パネルアブソーバの厚さは２、３センチメートルに限定することができるが、一方、発泡材料の単独の物体の厚さはかなり大きくなるという結果になる。
【００４７】
[0052]  パネルアブソーバによって高い減衰を達成するために、機械インピーダンスは、好ましくは、空気圧とパネル振動との間で十分な結合を得るために、圧力波が伝搬するガス（本実施例では空気）のインピーダンスとほぼ等しく選ばれるべきである。
【００４８】
[0053]  次に、再度、図２を参照すると、パネルアブソーバ１３、１４、１５、および１６は異なる適切な場所に配置することができる。パネルアブソーバ１３は反射ステージコンパートメント１１の側壁上に配置され、パネルアブソーバ１４は反射ステージ１の側のシールドプレート９上に配置され、パネルアブソーバ１５は、反射ステージの上部カバー上に配置され、パネルアブソーバ１６は投影システム３上に配置される。代替の実施形態では、パネルアブソーバ１３、１４、１５、１６のうちの１つまたは複数を省略することができるか、または投影システムコンパートメント１２の壁またはシールドプレート９の下面などの他の場所またはさらに適切な場所に配置することができる。
【００４９】
[0054]  リソグラフィ装置中にパネルアブソーバを設けることによって、ガス伝搬ノイズ、すなわちパターニングデバイスステージ１の移動によって引き起こされる圧力波またはガス流を吸収することができる。このガス伝搬ノイズは、直接ガス伝搬ノイズ、すなわちパターニングデバイスステージ１の移動によって直接引き起こされたガス流または圧力波である場合があるが、間接ガス伝搬ノイズ、すなわち構造体伝搬ノイズにより振動するエレメントに起因するガス流または圧力波である場合もある。
【００５０】
[0055]  パターニングデバイスステージコンパートメント１１中のパネルアブソーバ１３、１４、および１５の存在により、音の反射は強力に低減され、したがって、パターニングデバイスステージの全音圧レベルが低減される。このために、より少ないガス流および／または圧力波しか開口１０を通ることができない。
【００５１】
[0056]  ガス流および／または圧力波が、開口１０、またはパターニングデバイスステージコンパートメント１１と投影システムコンパートメント１２との間の他の間隙を通り、投影システムコンパートメント１２に入る場合、ガス流および／または圧力波を、投影システム３に取り付けられるパネルアブソーバ１６によって減衰させることができる。パネルアブソーバ１６はアーチ形であり、投影システム３の円柱状の外側表面と一致する。任意の他の適切な形状を使用することもできる。
【００５２】
[0057]  パネルアブソーバはパネル形のノイズ吸収デバイスのようなものが好ましいが、発泡材料のパネル形の本体などの任意の他のタイプの適切なデバイスを本発明の別の実施形態に適用することもできる。
【００５３】
[0058]  リソグラフィ装置の一実施形態では、パターニングデバイスステージなどの移動可能な物体によって引き起こされたガス伝搬ノイズを減衰させるためにパネル形のノイズ吸収デバイスを設けることができ、一方、シールドプレート９を省略することができる。
【００５４】
[0059]  図４は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置の一部、特に、パターニングデバイス３１を支持するパターニングデバイスステージ３０の側面図を示す。そのようなパターニングデバイスステージ３０は、一般に、移動方向に沿ったスキャン移動をするために設けられる。このスキャン移動中、パターニングデバイスステージ３０の前の移動の方向の空気は遠くに押しやられるが、同時に、パターニングデバイスステージ３０の後ろにパターニングデバイスステージ３０によって生成された空間に空気は吸い込まれ得る。図２の実施形態に関して説明したように、この移動はガス伝搬ノイズを引き起こし、それが投影システムの方に伝搬することがある。
【００５５】
[0060]  パターニングデバイスステージ３０は２つのフレームプレート３２の間に配置され、フレームプレート３２の間にパターニングデバイスステージコンパートメント３３が画定される。これらのプレート３２、またはパターニングデバイスステージ３０が配置される空間の範囲を定めるリソグラフィ装置中に存在する任意の他の構成エレメントの存在のために、パターニングデバイスステージ３０の移動はパターニングデバイスステージ３０の前の比較的より多くの空気を押して動かし、パターニングデバイスステージ３０の後ろの空間により多くの空気を吸い込むことがある。レチクルステージ３０が移動する区域の範囲を定める他の構築物が、例えば照明モジュール、バランスマス、ノイズシールドプレートなどである場合がある。
【００５６】
[0061]  図４の実施形態では、パターニングデバイスステージ３０の移動によって生成されたガス伝搬ノイズを吸収するために、ノイズ吸収材料または物体３４がパターニングデバイスステージ３０の前後に付加される。このノイズ吸収部分／物体は発泡材料などの適切な材料の物体とすることができるが、図４に示されるようなパネルアブソーバ、ラビリンス、メンブレン、もしくはベロー、またはそれの任意の組合せとすることもできる。そのようなノイズ吸収材料または物体３４が存在すると、パターニングデバイスステージ３０の移動によって生成されたノイズの量を低減することができる。その結果、このノイズは投影システムなどのこのノイズに敏感なエレメントに達しないことになる。
【００５７】
[0062]  図５は本発明の一実施形態による別の構成を示し、パターニングデバイスステージ３０の前後の端部は、渦の離脱を防止するかまたは低減するための空気力学的な構造または形状を備えている。空気力学的な構造は、ステージ３０を取り巻くガス中でのステージ３０の貫通を改善するように構成される。特に、パターニングデバイスステージの前後の区域を低減して、パターニングデバイスステージ３０の移動に対するガス抵抗を低減する。パターニングデバイスステージ３０のガス抵抗を低減する任意の適切な形状を使用して、パターニングデバイスステージ３０の移動によって引き起こされたガス流および／または圧力波を低減し、投影システムなどのそのようなノイズに敏感なエレメントを励振することがあるガス伝搬ノイズを避けることができる。
【００５８】
[0063]  図６ａおよび６ｂは、パターニングデバイスステージ３０の移動によって引き起こされたガス伝搬ノイズを低減するための本発明の一実施形態による別の代替の構成をさらに示す。図６ａおよび６ｂの実施形態では、第１のベロー３６がパターニングデバイスステージ３０の第１の端部に取り付けられ、第２のベロー３７が移動の方向においてパターニングデバイスステージの反対側の端部に取り付けられる。第１のベロー３６と第２のベロー３７とは管路３８によって互いに接続される。
【００５９】
[0064]  図６ａでは、パターニングデバイスステージ３０は中央位置に示されている。パターニングデバイスステージが、例えば、右に移動すると、第２のベロー３７は圧縮され、一方、第１のベロー３６は伸張される。第２のベロー３７の圧縮により第２のベロー３７から押しやられたガスは、第１のベロー３６の方に管路３８を介して押しやられ、第１のベロー３６は伸張する。第１のベロー３６、第２のベロー３７、および管路３８の内部体積は同じままであるので、パターニングデバイスステージ３０の前で遠くに押しやられたガスの体積は反対側のパターニングデバイスステージの後ろに残された空きスペースを満たすことになる。
【００６０】
[0065]  図６ｂに、右に移動したときのパターニングデバイスステージが示されている。第１のベロー３６は伸張され、一方、第２のベロー３７は圧縮されていることが分かる。パターニングデバイスステージ３０が反対方向に移動すると、密閉型システムのガスは、パターニングデバイスステージ３０の左側からパターニングデバイスステージ３０の右側に管路３８を介して還流することになる。
【００６１】
[0066]  パターニングデバイスステージ３０の移動の方向の前後の側が密閉型ガスシステムで互いに接続されているので、レチクルステージ３０の移動に起因するノイズは実質的に低減される。さらに、ガスは密閉型ガスシステム内に存在するので、いかなる流れまたは圧力波も実質的に密閉されたガスシステム内にとどまり、これらの流れまたは圧力波はこのノイズに敏感な投影システムまたはいかなる他のエレメントにも達しないであろう。
【００６２】
[0067]  前述のノイズ低減ダンパ（またはノイズ低減デバイス）は、一般にパターニングデバイスステージ３０または任意の移動可能な物体の移動によって生成されたノイズの効果的なノイズ低減を得るために単独でまたは組合せで適用することができる。それに加えてまたは代替として、移動可能な物体が移動し、通常使用されるガスよりも低い密度を有するガス、例えば大気圧下の空気の代わりに真空環境を含む密閉型ガスシステムを備えることが可能である。例えば、密閉型ガスシステム内の密閉されたガスの圧力は１気圧よりも低い。さらに、ノイズの影響を低減させるために、ガス伝搬ノイズに敏感なエレメントの表面を減少させるかまたは適合させることが可能である。
【００６３】
[0068]  一実施形態では、移動可能な部分および移動可能なパターニングデバイスステージの両方によって生成されたガス流、または圧力波、または両方のバランスが得られるように、パッシブノイズダンパは、移動可能なパターニングデバイスステージの反対方向に移動するように構成された移動可能な部分を含む。移動可能な部分は、移動可能なパターニングデバイスステージによって生成されたガス流、または圧力波、または両方を実質的にバランスさせるように構造上設計することができる。
【００６４】
[0069]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用が特に参照されているが、本明細書で説明したリソグラフィ装置は集積光学システム、磁気ドメインメモリ用の誘導および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造のような他の用途を有することができることが理解されるべきである。そのような他の用途との関連で、本明細書の「ウェーハ」または「ダイ」という用語のいかなる使用もそれぞれ「基板」または「ターゲット部分」というより一般的な用語と同義であると見なすことができることを当業者なら理解されよう。本明細書で参照された基板は、露光の前または後に、例えば、トラック（一般に基板にレジストの層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツールおよび／またはインスペクションツール中で処理することができる。適用可能である場合、本明細書の開示はそのような基板処理ツールまたは他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は例えば多層ＩＣを生成するために２回以上処理することができ、その結果、本明細書で使用された基板という用語は多数の処理された層を既に含んでいる基板を指すこともできる。
【００６５】
[0070]  光学リソグラフィとの関連で本発明の実施形態の使用が前述で特に参照されているが、本発明は他の用途、例えばインプリントリソグラフィで使用することができ、状況が許す場合、光学リソグラフィに限定されないことが理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス中のトポグラフィが基板に生成されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジストの層にプレス加工することができ、その後、電磁放射、熱、圧力、またはそれの組合せを適用することによってレジストは硬化される。レジストが硬化した後、パターニングデバイスはレジストから外に移動され、パターンがレジスト中に残る。
【００６６】
[0071]  本明細書で使用された「放射」および「ビーム」という用語は、紫外（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、もしくは１２６ｎｍの波長、またはそれらに近い波長を有する）および極端紫外（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射、ならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを包含する。
【００６７】
[0072]  「レンズ」という用語は、状況が許す場合、屈折式、反射式、磁気式、電磁気式、および静電気式の光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントの任意の１つまたは組合せを指すことができる。
【００６８】
[0073]  本発明の特定の実施形態が前述で説明されたが、本発明は説明されたもの以外で実施できることが理解されよう。例えば、本発明は、前述で開示した方法を記述する機械読取可能な命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはそのようなコンピュータプログラムが中に記憶されているデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気または光学ディスク）の形態をとることができる。
【００６９】
[0074]  前述の説明は限定ではなく例示するためのものである。したがって、当業者には、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、説明された本発明に変形を加えることができることは明らかであろう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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