(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部及び支持台を含むマスクフレームと、
マトリックス状に配列された複数のパターンを含むパターン部及び前記支持台に溶接するために前記パターン部から第１方向に延長され、前記第１方向に垂直である第２方向に互いに離隔される複数の引張溶接部を有するパターンマスクと、
を含むことを特徴とするマスク組立体。
【請求項２】
前記第２方向に隣接する引張溶接部間の離隔距離は、前記第２方向に配列されたパターン間の距離に等しいことを特徴とする請求項１に記載のマスク組立体。
【請求項３】
前記引張溶接部は、前記支持台に結合されるための第１溶接部及び前記パターンの整列状態を補正するための第２溶接部を含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマスク組立体。
【請求項４】
前記パターンマスクは、微細金属マスクであることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項５】
前記パターンマスクは、ステンレス鋼、インバー、ニッケル、コバルト及びこれらの合金からなるグループから選択されたいずれか一つによって形成されることを特徴とする請求項４に記載のマスク組立体。
【請求項６】
前記マスクフレームは、前記パターンマスクの引張溶接部に接触する第１マスクフレーム及び前記第１マスクフレームに結合される第２マスクフレームを含むことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項７】
前記第１マスクフレームは、前記パターンマスクと同一材質であることを特徴とする請求項６に記載のマスク組立体。
【請求項８】
前記第２マスクフレームは、前記第１マスクフレームよりも軽い重量の物質で形成されることを特徴とする請求項６または請求項７に記載のマスク組立体。
【請求項９】
前記第２マスクフレームは、アルミニウム、マグネシウム、チタン及びこれらの合金からなるグループから選択されたいずれか一つによって形成されることを特徴とする請求項６〜請求項８のいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項１０】
前記第１マスクフレーム及び第２マスクフレームは同一領域に形成される第１ホールを含み、
前記マスクフレームは前記第１マスクフレームと第２マスクフレームとを結合するために、前記第１ホールに挿入される連結部材をさらに含むことを特徴とする請求項６〜請求項９のいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項１１】
前記第１マスクフレーム及び第２マスクフレームのうちいずれか一つのマスクフレームは残りの一つのマスクフレーム方向に突出した突出部を含み、
前記残りの一つのマスクフレームは前記突出部に対応するように形成された第２ホールを含むことを特徴とする請求項６〜請求項９のいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項１２】
前記マスクフレームには複数のパターンマスクが溶接され、
前記複数のパターンマスクは隣接したパターンマスクとパターン部が接触することを特徴とする請求項１〜請求項１１のいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項１３】
前記複数のパターンは、一つまたは複数のスリットを含むことを特徴とする請求項１〜請求項１２のいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項１４】
開口部及び支持台を含むマスクフレームを提供する工程と、
マトリックス状に配列された複数のパターンを含むパターン部及び前記パターン部から第１方向に延長され、前記第１方向に垂直である第２方向に互いに離隔される複数の引張溶接部を含むパターンマスクを提供する工程と、
前記パターンマスクのパターン部が前記マスクフレームの開口部に位置し、前記パターンマスクの複数の引張溶接部が前記マスクフレームの支持台と接触するように前記パターンマスクとマスクフレームとを位置する工程と、
前記パターンマスクの複数の引張溶接部とマスクフレームの支持台とを１次溶接して前記パターンマスクとマスクフレームとを結合する工程と、
前記パターンマスクの第１方向に配列されたパターンの整列状態を測定する工程と、
前記整列状態によって前記第１方向に配列されたパターンから延長された引張溶接部と支持台とを２次溶接する工程と、
を含むことを特徴とするマスク組立体の製造方法。
【請求項１５】
前記第２方向に隣接した引張溶接部間の離隔距離を前記第２方向に配列されたパターン間の距離と等しく形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項１６】
前記複数の引張溶接部は、１次溶接のための第１溶接部及び２次溶接のための第２溶接部を含むことを特徴とする請求項１４または請求項１５に記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項１７】
前記パターンマスクはステンレス鋼、ニッケル、コバルト、インバー及びこれらの合金からなるグループから選択されたいずれか一つで形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１４〜請求項１６のいずれか１つに記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項１８】
前記パターンマスクの複数の引張溶接部と接触する第１マスクフレームに、前記第１マスクフレームと互いに異なる材質によって形成された第２マスクフレームを結合して前記マスクフレームを形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１４〜請求項１７のいずれか１つに記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項１９】
前記第１マスクフレームは、前記パターンマスクと同一材質で形成する工程を含むことを特徴とする請求項１８に記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項２０】
前記第２マスクフレームは、前記第１マスクフレームよりも軽い重量の物質で形成する工程を含むことを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項２１】
前記第２マスクフレームをアルミニウム、マグネシウム、チタン及びこれらの合金からなるグループから選択されたいずれか一つで形成する工程を含むことを特徴とする請求項１８〜請求項２０のいずれか１つに記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項２２】
前記第１マスクフレーム及び第２マスクフレームの同一領域に第１ホールを形成する工程と、
前記第１ホールに連結部材を挿入して前記第１マスクフレームと第２マスクフレームとを結合する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１８〜請求項２１のいずれか１つに記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項２３】
前記第１マスクフレーム及び第２マスクフレームのうちいずれか一つのマスクフレームに残りの一つのマスクフレームの方向に突出した突出部を形成する工程と、
前記残りの一つのマスクフレームに前記突出部に対応する第２ホールを形成して前記第１マスクフレームと第２マスクフレームとを結合する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１８〜請求項２１のいずれか１つに記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項２４】
前記マスクフレームに、隣接したパターンマスクとパターン部が接触する複数のパターンマスクを溶接する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１４〜請求項２３のいずれか１つに記載のマスク組立体の製造方法。
【請求項２５】
前記２次溶接を前記パターンマスクの引張溶接部ごとに個別的に行う工程を含むことを特徴とする請求項１４〜請求項２４のいずれか１つに記載のマスク組立体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク組立体及びその製造方法（Ｍａｓｋ  Ａｓｓｅｍｂｌｙ  ａｎｄ  Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ  ｍｅｔｈｏｄ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｓａｍｅ）に関する。特に、マスクフレームにパターンマスクを引張溶接してマスク組立体を製造する場合、前記マスクフレームに溶接される前記パターンマスクの引張溶接部の構造を変更することで、前記マスクフレームとパターンマスクとを容易に溶接することができ、前記パターンマスクのパターンが精密に整列されることで、前記マスク組立体による歪不良率を最小化することができるマスク組立体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板表示装置（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ）は軽量薄型であるため、陰極線管表示装置（Ｃａｔｈｏｄｅ−ｒａｙ  Ｔｕｂｅ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ）に代替される表示装置として用いられている。その代表的な例として、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ；ＬＣＤ）と有機電界発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ；ＯＬＥＤ）がある。そのうち、有機電界発光表示装置は液晶表示装置に比べて輝度特性及び視野角特性が優れ、バックライト（Ｂａｃｋｌｉｇｈｔ）を必要とせず、超薄型に実現することができるという長所がある。
【０００３】
このような有機電界発光表示装置は、有機薄膜に陰極（Ｃａｔｈｏｄｅ）から注入される電子（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ）と正極（Ａｎｏｄｅ）から注入される正孔（Ｈｏｌｅ）とが再結合して励起子を形成し、形成された励起子からのエネルギーにより特定波長の光が発生される現象を利用した表示装置である。
【０００４】
前記有機電界発光表示装置は、ガラス、ステンレス鋼または合成樹脂で形成された基板上に陰極、正極及び有機薄膜などを選択的に形成させるように、フォトリソグラフィまたは複数のスリット（ｓｌｉｔ）を含むパターンを含むマスク組立体を利用した蒸着法を用いて製造される。このうち、フォトリソグラフィは、一部領域にフォトレジストを塗布した後、湿式エッチングまたは乾式エッチングする方法で前記フォトレジストを剥離する過程及びエッチング過程で水気が流入するので、前記有機薄膜のように水気によって劣化される物質は前記マスク組立体を利用した蒸着法が主に用いられる。
【０００５】
前記のような有機電界発光表示装置はフルカラー（ｆｕｌｌ−ｃｏｌｏｒ）をディスプレイさせるために、Ｒ、Ｇ、Ｂ有機発光層を含む有機電界発光素子を形成していて、複数の開口部が形成されたマスクパターンを蒸着対象物、すなわち、前記Ｒ、Ｇ、Ｂ有機発光層を含む有機電界発光素子が形成される基板上に整列させて、前記マスクパターンの開口部を介して前記Ｒ、Ｇ、Ｂ有機発光層などの蒸着対象物を前記基板に提供して所望する形状のパターンを基板上に蒸着することによって、基板上の所定領域に前記Ｒ、Ｇ、Ｂ有機発光層を含む有機電界発光素子をそれぞれ形成するので、前記マスク組立体のパターンは非常に精密に整列しなければならない。
【特許文献１】韓国公開特許第２００３−００９３９５９号公報
【特許文献２】韓国公開特許第２００４−００４５２８４号公報
【特許文献３】韓国公開特許第２００４−００８４３１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このようなマスク組立体は前記パターンの位置精度を向上させるために、第１方向にパターンが配列された複数のスティックパターンマスクをマスクフレームに引張溶接する方法があるが、各スティックパターンマスクの間の隙間がないようにしなければならず、スティックパターンマスクの流動によって整列及び溶接が困難であるという問題点があった。
【０００７】
また、前記スティックパターンマスクの問題点を解決するために、パターンがマトリックス状に配列されたパターン部を含むパターンマスクをマスクフレームに引張溶接する方法があるが、各列または行方向に配列されたパターンを精密に整列するために行う補正溶接により隣接した列または行に位置するパターンの位置が再調整されるので、前記マスク組立体の位置精度が低下し、それによる歪不良率が増加するという問題点があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明はこのような従来技術の問題点を解決するものとして、マトリックス状に配列されるパターンを含むパターンマスクのパターン部から延長される引張溶接部の構造を変更して、補正溶接により隣接した列または行に位置するパターンの位置を再調整しないようにすることによって、前記パターンマスクとマスクフレームとを容易に溶接することができ、マスク組立体の位置精度を向上させることのできるマスク組立体及びその製造方法を提供する。
【０００９】
本発明の前記目的は、開口部及び支持台を含むマスクフレームと、マトリックス状に配列された複数のパターンを含むパターン部及び前記支持台に溶接するために前記パターン部から第１方向に延長され、前記第１方向に垂直である第２方向に互いに離隔される複数の引張溶接部を含むパターンマスクと、を含むマスク組立体によって達成することができる。
【００１０】
また、本発明の前記目的は、開口部及び支持台を含むマスクフレームを提供する工程と、マトリックス状に配列された複数のパターンを含むパターン部及び前記パターン部から第１方向に延長され、前記第１方向に垂直である第２方向に互いに離隔される複数の引張溶接部を含むパターンマスクを提供する工程と、前記パターンマスクのパターン部が前記マスクフレームの開口部に位置し、前記パターンマスクの複数の引張溶接部が前記マスクフレームの支持台に接触するように前記パターンマスクとマスクフレームとを位置する工程と、前記パターンマスクの複数の引張溶接部とマスクフレームの支持台を１次溶接して前記パターンマスクとマスクフレームとを結合する工程と、前記パターンマスクの第１方向に配列されたパターンの整列状態を測定する工程と、前記整列状態によって前記第１方向に配列されたパターンから延長された引張溶接部と支持台とを２次溶接する工程と、を含むマスク組立体の製造方法によって達成することができる。
【発明の効果】
【００１１】
したがって、本発明に係るマスク組立体及びその製造方法はパターンマスクのパターン部から複数の引張溶接部が延長され、前記複数の引張溶接部は前記第１方向に垂直である第２方向に互いに離隔されて、前記パターンマスクの補正溶接によって第２方向に隣接したパターンの位置が再調整されないようにすることによって、前記パターンマスクとマスクフレームとを容易に溶接することができ、マスク組立体の位置精度を向上させ、これにより前記マスク組立体による歪不良率を最小化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、添付した図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。しかしながら、本発明は、ここで説明する実施形態に限定されるわけではなく、他の形態で具体化することができる。したがって、ここに開示される実施形態は発明の開示を完全なものとすると共に、当業者に本発明の思想を十分に伝えるために提供されるものである。
【００１３】
なお、説明の都合上、図面において、層及び領域の厚みは誇張されており、図示する形態が実際とは異なる場合がある。また、ある部分が「連結」されていると記載した場合、これは「直接的に連結」された場合に限らず、それらの間に他の素子をおいて「電気的に接続」された場合も含む。明細書の全体において同一の参照番号は、同一の構成要素を示す。
【００１４】
図１は本発明の実施形態によるマスク組立体を示す分離斜視図であり、図２Ａは図１のＡ領域を拡大した図面として本発明の実施形態によるマスク組立体のパターンを拡大した斜視図であり、図２Ｂは図１のＢ領域を拡大した図面として本発明の実施形態によるマスク組立体のパターンマスクとマスクフレームとの溶接領域を拡大した平面図である。
【００１５】
図１、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、本発明の実施形態によるマスク組立体は開口部１２０及び支持台１１０を含むマスクフレーム１００、並びに複数のパターンＡを含むパターン部Ｃ及び前記支持台１１０に溶接するために前記パターン部Ｃから第１方向Ｙに延長され、前記第１方向Ｙに垂直である第２方向Ｘに互いに離隔された複数の引張溶接部２３０を含むパターンマスク２００を含む。ここで本発明の実施形態では、前記マスクフレーム１００に二つのパターンマスク２０１、２０２が溶接されることを説明しているが、前記マスクフレーム１００に一つのパターンマスク２００を溶接することもでき、三つ以上のパターンマスク２００を溶接することもできる。
【００１６】
前記パターンマスク２００は金属薄膜で形成された微細金属マスク（Ｆｉｎｅ  ｍｅｔａｌ  ｍａｓｋ）であることがあって、前記金属薄膜は、ステンレス鋼（Ｓｔｅｅｌ  Ｕｓｅ  Ｓｔａｉｎｌｅｓｓ；ＳＵＳ）、インバー（Ｉｎｖａｒ）、ニッケル、コバルト及びこれらの合金からなるグループから選択されたいずれか一つによって形成することができる。
【００１７】
また、前記マスクフレーム１００に複数のパターンマスク２００が溶接される場合、前記パターンマスク２００のパターン部Ｃは、前記パターンマスク２００の引張溶接部２３０よりも隣接したパターンマスク２００の方向に突出するようにし、前記隣接したパターンマスク２００のパターン部Ｃは接触し、隣接したパターンマスク２００の引張溶接部２３０は互いに離隔されるようにすることが好ましい。
【００１８】
前記パターンマスク２００のパターンＡは複数のスリット２１０を含み、第１方向Ｙ及び第２方向Ｘにマトリックス状に配列される。ここで本発明の実施形態では、前記パターンＡが前記第１方向Ｙを長軸とする楕円状の複数のスリット２１０を含むことを説明しているが、前記パターンＡは一つのスリット２１０を含むこともでき、前記スリット２１０の形状は前記第２方向Ｘを長軸とする楕円状とすることができる。
【００１９】
前記複数の引張溶接部２３０は、前記複数のパターンＡを含むパターン部Ｃから前記第１方向Ｙで延長され、前記第２方向Ｘに隣接した引張溶接部２３０は互いに離隔している。ここで、前記第２方向Ｘに隣接した引張溶接部２３０の間の離隔距離ｄは、各引張溶接部２３０の補正溶接により前記第２方向Ｘに隣接したパターンＡの位置が再調整されることを最小化するために、前記第２方向Ｘに配列されたパターンＡの間の距離と等しくすることが好ましい。
【００２０】
また、前記複数の引張溶接部２３０は、前記パターンマスク２００とマスクフレーム１００との結合のための第１溶接部２３１と、前記パターンＡの整列状態を補正するための第２溶接部２３２とをそれぞれ備え、前記パターンＡの整列のための補正溶接点Ｐ２が前記パターンマスク２００とマスクフレーム１００との間の結合のための結合溶接点Ｐ１に影響を与えないようにすることによって、前記パターンＡの整列のための補正溶接により前記パターンマスク２００とマスクフレーム１００との間の結合力が低下することを防止する。
【００２１】
ここで、本発明の実施形態と異なって、前記パターンマスク２００とマスクフレーム１００間の結合のための結合溶接点Ｐ１が前記パターンＡの整列のための補正溶接点Ｐ２よりも前記パターン部Ａ側に位置することもあるが、前記パターンマスク２００とマスクフレーム１００とが結合した後、前記パターンＡの補正がなされることを考慮し、本発明の実施形態と同様に前記補正溶接点Ｐ２が前記結合溶接点Ｐ１よりも前記パターン部Ａ側に位置するのが好ましい。
【００２２】
前記マスクフレーム１００は、前記パターンマスク２００のパターン部Ｃに対応される開口部１２０を含み、前記パターンマスク２００の複数の引張溶接部２３０と接触し、溶接される支持台１１０を含む。ここで、前記マスクフレーム１００の支持台１１０は、前記パターンマスク２００と溶接性を向上させるために前記パターンマスク２００と同一材質とすることが好ましい。
【００２３】
前記マスクフレームの支持台１１０は、図３Ａないし図３Ｃに示すように、前記パターンマスク２００に接触する第１マスクフレーム１１２及び前記第１マスクフレーム１１２に結合して前記第１マスクフレーム１１２と互いに異なる物質で形成された第２マスクフレーム１１４を含むことができ、前記マスクフレーム１００の重量が増加した場合、前記マスク組立体の総重量が増加して前記マスク組立体の取扱性が悪くなり、前記マスク組立体を用いた表示装置の生産性が低下することを考慮し、前記第２マスクフレーム１１４が前記第１マスクフレーム１１２よりも軽い物質で形成することもできる。
【００２４】
ここで、前記第１マスクフレーム１１２は、前記パターンマスク２００の複数の引張溶接部２３０と接触するので、前記マスクフレーム１００とパターンマスク２００の溶接性のために、前記パターンマスク２００と同一材質とすることが好ましい。
【００２５】
また、前記パターンマスク２００はステンレス鋼、インバー、ニッケル、コバルト及びこれらの合金からなるグループから選択されたいずれか一つによって形成されることを考慮して、前記第２マスクフレーム１１４はアルミニウム、マグネシウム、チタン及びこれらの合金からなるグループから選択されたいずれか一つによって形成することが好ましい。
【００２６】
前記第１マスクフレーム１１２と第２マスクフレーム１１４との結合方法は、図３Ａに示すように、前記第１マスクフレーム１１２及び第２マスクフレーム１１４の同一領域に第１ホール１１２ａ、１１４ａを形成し、前記第１ホール１１２ａ、１１４ａに連結部材１１５を挿入する方法と、図３Ｂ及び図３Ｃに示すように、前記第１マスクフレーム１１２に前記第２マスクフレーム１１４の方向に突出する突出部１１２ｂを形成し、前記第２マスクフレーム１１４に前記突出部１１２ｂに対応する第２ホール１１４ｂを形成するか、又は前記第２マスクフレーム１１４に前記第１マスクフレーム１１２の方向に突出する突出部１１４ｃを形成し、前記第１マスクフレーム１１２に前記突出部１１４ｃに対応する第２ホール１１２ｃを形成する方法と、がある。
【００２７】
図１、図２Ａ、図２Ｂ及び図３Ａないし図３Ｃを参照して、本発明の実施形態によるマスク組立体の製造方法を説明すると、まず、開口部１２０及び支持台１１０を含むマスクフレーム１００と、マトリックス状に配列された複数のパターンＡを含むパターン部Ｃ及び前記パターン部Ｃから第１方向Ｙに延長され、前記第１方向Ｙに垂直である第２方向Ｘに互いに離隔される複数の引張溶接部２３０を含むパターンマスク２００と、を提供する。
【００２８】
ここで、前記パターンマスク２００の複数の引張溶接部２３０に接触する第１マスクフレーム１１２に前記第１マスクフレーム１１２と互いに異なる材質で形成された第２マスクフレーム１１４を結合して前記マスクフレーム１００を形成することができ、前記マスクフレーム１００の重量を最小化するために、前記第２マスクフレーム１１４は前記第１マスクフレーム１１２よりも軽い物質で形成することが好ましい。
【００２９】
次いで、前記パターンマスク２００のパターン部Ｃが前記マスクフレーム１００の開口部１２０に位置し、前記パターンマスク２００の複数の引張溶接部２３０が前記マスクフレーム１００の支持台１１０と接触するように前記パターンマスク２００とマスクフレーム１００を位置させ、前記パターンマスク２００の複数の引張溶接部２３０とマスクフレーム１００の支持台１１０とを１次溶接する。
【００３０】
ここで、前記複数の引張溶接部２３０とマスクフレーム１００の支持台１１０との間の１次溶接は、後続工程で前記第１方向Ｙに配列されたパターンＡの補正がなされることを考慮し、前記パターン部Ｃから所定距離離隔された位置Ｐ１に行うことが好ましい。
【００３１】
また、前記マスクフレーム１００に複数のパターンマスク２００が溶接される場合、前記パターンマスク２００のパターン部Ｃは前記パターンマスク２００の引張溶接部２３０より隣接したパターンマスク２００の方向に突出するようにし、前記隣接したパターンマスク２００のパターン部Ｃは接触され、隣接したパターンマスク２００の引張溶接部２３０は互いに離隔されるようにすることが好ましい。
【００３２】
続いて、前記パターンマスク２００の第１方向Ｙに配列されたパターンＡの整列状態を測定し、前記整列状態によって前記第１方向Ｙに配列されたパターンＡから延長された引張溶接部２３０と支持台１１０とを２次溶接し、前記第１方向Ｙに配列されたパターンＡを補正する。ここで、前記２次溶接は、複数の引張溶接部２３０で同時に行うことができるが、第１方向Ｙに配列された各パターンＡの整列状態が互いに異なっていて、前記整列状態の偏差が相当ある場合、前記２次溶接は前記第２方向Ｘに互いに離隔された前記パターンマスク２００の引張溶接部２３０ごとに個別的に行うことが好ましい。
【００３３】
結果的に本発明の実施形態によるマスク組立体及びその製造方法は、パターンマスク２００のパターン部Ｃから複数の引張溶接部２３０が延長されて、前記複数の引張溶接部２３０は前記第１方向Ｙに垂直である第２方向Ｘに互いに離隔することによって、前記パターンマスク２００とマスクフレーム１００とを容易に溶接することができ、前記パターンマスク２００の補正溶接によって第２方向Ｘに隣接したパターンの位置が再調整されないようにする。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施形態によるマスク組立体を示す分離斜視図である。
【図２Ａ】本発明の実施形態によるマスク組立体の一部を示す斜視図として図１のＡ領域を拡大した斜視図である。
【図２Ｂ】本発明の実施形態によるマスク組立体の一部を示す平面図として図１のＢ領域を拡大した平面図である。
【図３Ａ】本発明の実施形態によるマスク組立体のマスクフレームを示す断面図として図１の切断線Ｉ−Ｉ’による断面図である。
【図３Ｂ】本発明の実施形態によるマスク組立体のマスクフレームを示す断面図として図１の切断線Ｉ−Ｉ’による断面図である。
【図３Ｃ】本発明の実施形態によるマスク組立体のマスクフレームを示す断面図として図１の切断線Ｉ−Ｉ’による断面図である。
【符号の説明】
【００３５】
１００    マスクフレーム、
１１０    支持台、
２００    パターンマスク、
２１０    スリット、
２３０    引張溶接部、
２３１    第１溶接部、
２３２    第２溶接部。
【図１】
0004913786.tif 000002
【図２Ａ】
0004913786.tif 000003
【図２Ｂ】
0004913786.tif 000004
【図３Ａ】
0004913786.tif 000005
【図３Ｂ】
0004913786.tif 000006
【図３Ｃ】
0004913786.tif 000007