(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を保持するとともに、中心部が中空になった保持プレートと、
前記保持プレートに固定連結され、中心部が中空になった回転軸と、
前記回転軸を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部と、
前記保持プレートの中空内に配置されるとともに、中心部が中空形状になった本体と、該本体に設けられて前記被処理体を支持するリフトピンとを有するリフトピンプレートと、
前記回転軸の中空内および前記リフトピンプレートの前記本体の中空内で上下方向に延在し、前記保持プレートに保持された前記被処理体に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記回転軸の中空内および前記リフトピンプレートの前記本体の中空内で上下方向に延在し、前記保持プレートに保持された前記被処理体に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、
前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、
前記被処理体を洗浄した洗浄液を排出する排液管と、
を備え、
前記リフトピンプレートの前記本体は傾斜面を有し、
前記リフトピンプレートが前記下方位置にあるときに、前記不活性ガス供給部の先端は、前記洗浄液供給部の先端よりも高い位置に位置するとともに、前記リフトピンプレートの前記本体の傾斜面の上端よりも高い位置に位置していることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記被処理体を洗浄した洗浄液は、前記排液管を介して、その自重により排出されることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
吸引装置をさらに備え、
前記被処理体を洗浄した洗浄液は、前記吸引装置による駆動力を受けて前記排液管を介して、排出されることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記リフトピンプレートの前記本体の傾斜面は、前記排液管の先端に向かって降下することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記リフトピンプレートの前記本体の傾斜面は、周縁外方に向かって降下することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記リフトピンプレートの前記本体の傾斜面は、前記排液管の先端に向かって降下する内周部分と、当該内周部分の周縁外方に位置して周縁外方に向かって降下する外周部分とを有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記リフトピンは、前記リフトピンプレートの本体の周縁外方に支持部を介して設けられ、
当該支持部の横断面は多角形からなり、当該多角形の頂角が上方に向かっていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項８】
前記保持プレートの内周部分は、前記リフトピンプレートの傾斜面と略同一角度で傾斜するとともに、当該リフトピンプレートの傾斜面と同一平面内に位置する傾斜面を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項９】
前記不活性ガス供給管は、先端に向かって細くなる開口を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１０】
前記洗浄液供給部は、前記排液管としても機能することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転駆動されている被処理体に洗浄液を供給して、当該被処理体を洗浄する液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に示すように、従来から、被処理体である半導体ウエハ（以下、ウエハとも呼ぶ）を保持するとともに、中空になった底板と、底板に固定連結され、スピンモータにより回転駆動される回転軸と、回転軸内で延在し、底板に保持されたウエハに洗浄液を供給する供給管路と、上昇することによって下方からウエハを支持することができる基板押し上げピンと、を備えた液処理装置は知られている。
【特許文献１】特開平９−２９０１９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の液処理装置においては、ウエハを洗浄するために用いられた薬液やリンス液などの洗浄液が、貫通穴を介して基板押し上げピンに付着する可能性があった。このため、ウエハの乾燥工程の後に、基板押し上げピンによってウエハを持ち上げて搬送ロボットに受け渡すときに、基板押し上げピンに付着した洗浄液の液滴がウエハの裏面に付着することがあった。
【０００４】
このようにウエハに洗浄液が付着すると、液滴が付着したウエハ自体にウオーターマークが形成されるだけでなく、ウエハが運び込まれたキャリア内の湿度が上昇してしまい、キャリア内に収容された他のウエハにもウオーターマークが形成されることがある。
【０００５】
また、従来の液処理装置においては、二重供給管路内部に、不活性ガス接続路に接続された第１の通路と洗浄液接続路に接続された第２の通路とが設けられ、第１の通路と第２の通路の先端が同じ高さに位置している。このため、第１の通路内に、洗浄液が流入してしまうことがある。
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、被処理体を持ち上げる部材に洗浄液が残ることを防止することによって、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止し、かつ、不活性ガス供給部内に洗浄液が流入することを防止するとともに、被処理体に不活性ガスを効率よく供給する液処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による液処理装置は、
被処理体を保持するとともに、中空になった保持プレートと、
前記保持プレートに固定連結され、中空になった回転軸と、
前記回転軸を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部と、
前記保持プレートの中空内に配置され、本体と前記被処理体を支持するリフトピンとを有するリフトピンプレートと、
前記回転軸の中空内で延在し、前記保持プレートに保持された前記被処理体に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記回転軸の中空内で延在し、前記保持プレートに保持された前記被処理体に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、
前記リフトピンプレートを昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材と、
前記被処理体を洗浄した洗浄液を排出する排液管と、
を備え、
前記リフトピンプレートは傾斜面を有し、
前記不活性ガス供給部の先端が、前記洗浄液供給部の先端よりも高い位置に位置している。
【０００８】
このような構成によって、リフトピンプレートに洗浄液が残ることを防止することができ、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができる。また、不活性ガス供給部内に洗浄液が流入することを防止するとともに、被処理体に不活性ガスを効率よく供給することもできる。
【０００９】
本発明による液処理装置において、
前記被処理体を洗浄した洗浄液は、前記排液管を介して、その自重により排出されることが好ましい。
【００１０】
本発明による液処理装置において、
吸引装置をさらに備え、
前記被処理体を洗浄した洗浄液は、前記吸引装置による駆動力を受けて前記排液管を介して、排出されることが好ましい。
【００１１】
本発明による液処理装置において、
前記リフトピンプレートの傾斜面は、前記排液管の先端に向かって降下することが好ましい。
【００１２】
本発明による液処理装置において、
前記リフトピンプレートの傾斜面は、周縁外方に向かって降下することが好ましい。
【００１３】
本発明による液処理装置において、
前記リフトピンプレートの傾斜面は、前記排液管の先端に向かって降下する内周部分と、当該内周部分の周縁外方に位置して周縁外方に向かって降下する外周部分とを有することが好ましい。
【００１４】
本発明による液処理装置において、
前記リフトピンは、前記リフトピンプレートの本体の周縁外方に支持部を介して設けられ、
当該支持部の横断面は多角形からなり、当該多角形の頂角が上方に向かっていることが好ましい。
【００１５】
このような構成によって、リフトピンプレートのリフトピンに洗浄液が残ることをより確実に防止することができる。
【００１６】
本発明による液処理装置において、
前記保持プレートの内周部分は、前記リフトピンプレートの傾斜面と略同一角度で傾斜するとともに、当該リフトピンプレートの傾斜面と同一平面内に位置する傾斜面を有することが好ましい。
【００１７】
このような構成によって、保持プレートを回転させて洗浄液を振り切るときに効率よく洗浄液を振り切ることができるとともに、気流の乱れを防止することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、リフトピンプレートが傾斜面を有するので、リフトピンプレートに洗浄液が残ることを防止することができ、被処理体の裏面に洗浄液が付着することを防止することができる。また、不活性ガス供給部の先端が、洗浄液供給部の先端よりも高い位置に位置するので、不活性ガス供給部内に洗浄液が流入することを防止するとともに、被処理体に不活性ガスを効率よく供給することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
第１の実施の形態
以下、本発明に係る液処理装置および液処理方法の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図５は本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【００２０】
図１に示すように、液処理装置は、被処理体である半導体ウエハＷ（以下、ウエハＷとも呼ぶ）を保持する保持部材６０を有するとともに、中空になった保持プレート１と、保持プレート１に固定連結され、中空になった回転軸２と、回転軸２を所定の回転方向に回転駆動する回転駆動部４０と、を備えている。
【００２１】
また、図１に示すように、回転軸２の周縁外方にはベアリング４７が配置されている。また、回転駆動部４０は、回転軸２の周縁外方に配置されたプーリ４２と、このプーリ４２に駆動ベルト４３を介して駆動力を付与するモータ４１とを有している。
【００２２】
また、図１および図２に示すように、保持プレート１の中空内には、傾斜面２５ａ，２５ｂを有する本体２５と、リフトピン２１を有するリフトピンプレート２０が配置されている。より具体的には、傾斜面２５ａ，２５ｂは、後述する排液管１３の先端に向かって降下する内周部分２５ａと、当該内周部分２５ａの周縁外方に位置して周縁外方に向かって降下する外周部分２５ｂとを有している。
【００２３】
また、図１乃至図３（ａ）に示すように、リフトピン２１は、リフトピンプレート２０の本体２５の周縁外方に支持部２２を介して設けられている。そして、この支持部２２の横断面は三角形からなり、当該三角形の鋭角からなる頂角が真上方向に向かっている（図３（ｂ）参照）。なお、図３（ｂ）は、図３（ａ）を直線Ｂ−Ｂで切断した断面図である。
【００２４】
また、図１に示すように、回転軸２の中空内には、リフトピンプレート２０に固定連結された支持軸３５が上下方向に延在している。また、図１に示すように、支持軸３５には、リフトピンプレート２０および支持軸３５を昇降させて、上方位置および下方位置に配置させる昇降部材３０が設けられている。
【００２５】
なお、図２に示すように、リフトピンプレート２０が下方位置にある場合でも、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間には間隙Ｇが設けられている。そして、当該間隙Ｇから薬液やリンス液などの洗浄液が流入しないように、Ｎ２などの気体が間隙Ｇから外方に向かって吹きつけられるようになっている（パージされるようになっている）。
【００２６】
また、図１および図２に示すように、リフトピンプレート２０の本体２５の周縁部には、下方突出部２６が設けられている。そして、この下方突出部２６により間隙Ｇを小さくすることによっても、リフトピンプレート２０と保持プレート１との間に洗浄液が流入することが防止されている。
【００２７】
また、図１および図２に示すように、支持軸３５とリフトピンプレート２０とは中空形状になっており、これら支持軸３５とリフトピンプレート２０の内部（中空空間内）には、保持プレート１に保持されたウエハＷの裏面側に洗浄液を供給する裏面側洗浄液供給管（洗浄液供給部）１１が上下方向に延在している。
【００２８】
また、図１に示すように、この裏面側洗浄液供給管１１には、三方弁５７を介して供給管５５が連結されている。また、この供給管５５には、供給切換部５３を介して、薬液を供給する薬液供給源５１とリンス液を供給するリンス液供給源５２が連結されている。
【００２９】
なお、裏面側洗浄液供給管１１と、裏面側洗浄液供給管１１に三方弁５７を介して連結された供給管５５と、この供給管５５に連結された薬液供給源５１およびリンス液供給源５２と、によって裏面側洗浄液供給機構が構成されている（図１参照）。
【００３０】
ところで、裏面側洗浄液供給管１１は、保持プレート１に保持されたウエハＷを洗浄した洗浄液を排出する排液管１３としても機能する。すなわち、図１に示すように、裏面側洗浄液供給管１１には、三方弁５７を介して、外部に連通した排出管５９が連結されている。このため、三方弁５７のうち、供給管５５側が閉じられ排出管５９側が開かれた状態において、裏面側洗浄液供給管１１は排液管１３として機能することとなる。
【００３１】
また、図１および図２に示すように、支持軸３５とリフトピンプレート２０の内部（中空空間内）には、保持プレート１に保持されたウエハＷの裏面側にＮ２などの不活性ガス（乾燥ガス）を供給する不活性ガス供給管（不活性ガス供給部）１０が上下方向に延在している。なお、図１乃至図３（ａ）に示すように、不活性ガス供給管１０の先端（上端）は、裏面側洗浄液供給管１１の先端（上端）よりも高い位置に位置している。ところで、この不活性ガス供給管１０の開口は、先端に向かって細くなっている（図１および図２参照）。このため、不活性ガス供給管１０から供給される不活性ガスを速い速度で、ウエハＷの裏面に供給することができる。
【００３２】
ところで、この不活性ガス供給管１０と、当該不活性ガス供給管１０に連結された不活性ガス供給源５０と、によって不活性ガス供給機構が構成されている（図１参照）。
【００３３】
また、図１に示すように、保持プレート１の上方には、保持プレート１によって保持されたウエハＷの表面側に洗浄液を供給する表面側洗浄液供給部６５が配置されている。
【００３４】
ところで、洗浄液とは、薬液やリンス液のことを意味している。そして、薬液としては、例えば、希フッ酸、アンモニア過水(ＳＣ１)、塩酸過水(ＳＣ２)などを用いることができる。他方、リンス液としては、例えば、純水（ＤＩＷ）などを用いることができる。
【００３５】
また、表面側洗浄液供給部６５からはＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などからなる乾燥液も供給されるようになっている。
【００３６】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００３７】
まず、昇降部材３０によって、リフトピンプレート２０が上方位置（ウエハ搬送ロボットがウエハＷを受け渡す位置）に位置づけられる（上方位置づけ工程８１）（図４参照）。より具体的には、昇降部材３０によって支持軸３５が上方位置に位置づけられ、このことによって、支持軸３５に固定連結されたリフトピンプレート２０が上方位置に位置づけられる。
【００３８】
次に、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によって、ウエハ搬送ロボット（図示せず）からウエハＷが受け取られ、当該リフトピン２１によってウエハＷが支持される（支持工程８２）（図４参照）。
【００３９】
次に、昇降部材３０によって、リフトピンプレート２０が下方位置（ウエハＷを洗浄液によって処理する位置）に位置づけられる（下方位置づけ工程８３）（図１および図４参照）。より具体的には、昇降部材３０によって支持軸３５が下方位置に位置づけられ、このことによって、支持軸３５に固定連結されたリフトピンプレート２０が下方位置に位置づけられる。
【００４０】
このようにリフトピンプレート２０が下方位置に位置づけられる際に、保持プレート１の保持部材６０によって、ウエハＷが保持される（保持工程）（図１参照）。
【００４１】
次に、回転駆動部４０によって回転軸２が回転駆動されることによって、保持プレート１で保持されたウエハＷが回転される（回転工程）。
【００４２】
このように、保持プレート１に保持されたウエハＷと、リフトピンプレート２０とが回転している間に、以下の工程が行われる。
【００４３】
まず、表面側洗浄液供給部６５と裏面側洗浄液供給機構とによって、ウエハＷに薬液が供給される（薬液供給工程９１）（図１および図４参照）。すなわち、表面側洗浄液供給部６５によってウエハＷの表面に薬液が供給されるとともに、裏面側洗浄液供給機構によって（裏面側洗浄液供給管１１から）ウエハＷの裏面に薬液が供給される。このとき、供給管５５には、供給切換部５３を介して、薬液供給源５１から薬液が供給されている。
【００４４】
次に、表面側洗浄液供給部６５と裏面側洗浄液供給機構とによって、ウエハＷにリンス液が供給される（リンス工程９２）（図１および図４参照）。すなわち、表面側洗浄液供給部６５によってウエハＷの表面にリンス液が供給されるとともに、裏面側洗浄液供給機構によって（裏面側洗浄液供給管１１から）ウエハＷの裏面にリンス液が供給される。このとき、供給管５５には、供給切換部５３を介して、リンス液供給源５２からリンス液が供給されている。
【００４５】
このような薬液供給工程９１およびリンス工程９２において、リフトピンプレート２０の本体２５が傾斜面２５ａ，２５ｂを有するので、本体２５に薬液やリンス液などの洗浄液が残ることを防止することができる。また、このように本体２５に洗浄液が残ることが防止することによって、ウエハＷを持ち上げるリフトピン２１に洗浄液が残ることも防止することもできる。
【００４６】
また、本実施の形態では、リフトピン２１が、リフトピンプレート２０の本体２５の周縁外方に支持部２２を介して設けられ、かつ、この支持部２２の横断面が三角形からなり、当該三角形の鋭角からなる頂角が真上方向に向かっている（図３（ａ）（ｂ）参照）。このため、本体２５からリフトピン２１まで洗浄液が伝わって行くことを防止することができ、ウエハＷを持ち上げるリフトピン２１に洗浄液が残ることをより確実に防止することができる。
【００４７】
さらに、図１および図２に示すように、不活性ガス供給管１０の先端が、裏面側洗浄液供給管１１の先端よりも高い位置に位置するので、裏面側洗浄液供給管１１から供給される薬液やリンス液などの洗浄液が不活性ガス供給管１０内に流入することを防止することができる。
【００４８】
なお、このリンス工程９２において、裏面側洗浄液供給機構からウエハＷの裏面に供給されるリンス液は、途中から小流量で供給されるようになる。その後、この裏面側洗浄液供給機構から供給されるリンス液がリフトピン２１の本体２５内にためられる。
【００４９】
上述したリンス工程９２が終了すると、三方弁５７が切り換えられ、裏面側洗浄液供給管１１は排出管５９に連通され、排液管１３として機能する。そして、ウエハＷを洗浄したリンス液が、排液管１３を介して、その自重により排出される（排出工程９３）（図１および図４参照）。ここで、上述のように、リンス液をリフトピン２１の本体２５内に一度ためた後、当該リンス液を排液管１３によって排出するので、リフトピン２１の本体２５に付着した液滴を確実に洗い流すことができる。
【００５０】
このように、リンス液が排出されると、表面側洗浄液供給部６５からＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などからなる乾燥液が供給され、裏面側には不活性ガス供給機構の不活性ガス供給管１０からＮ２などからなる不活性ガス（乾燥気体）が供給される（乾燥工程９５）（図１および図４参照）。
【００５１】
このとき、不活性ガス供給管１０の先端が、裏面側洗浄液供給管１１の先端よりも高い位置に位置し、ウエハＷの裏面に近い位置に位置しているので、不活性ガスは、その流速が遅くなる前に、ウエハＷの裏面に到達することができる。このため、ウエハＷの裏面に、効率よく不活性ガスを供給することができる。
【００５２】
上述した乾燥工程９５が終了すると、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によってウエハＷが持ち上げられ、ウエハ搬送ロボットに移動させられる（搬出工程９６）（図４参照）。
【００５３】
ここで、上述のように、リフトピン２１およびリ本体２５には洗浄液が残っていない。このため、リフトピンプレート２０のリフトピン２１によってウエハＷを持ち上げる際に、リフトピン２１に残った洗浄液の液滴および本体２５に溜まった洗浄液の液滴がウエハＷの裏面に付着することはない。
【００５４】
この結果、液滴の付着したウエハＷ自体にウオーターマークが形成されることを防止することができ、かつ、ウエハＷが運び込まれたキャリア（図示せず）内に収容された他のウエハＷにウオーターマークが形成されてしまうことも防止することができる。
【００５５】
なお、リフトピンプレート２０の本体２５と保持プレート１の上面部分は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）などの親水性の材料からなることが好ましい。リフトピンプレート２０の本体２５と保持プレート１の上面部分を、このような親水性の材料から構成することによって、例え洗浄液の液滴が残ったとしても、その高さを小さくすることができ、洗浄液の液滴がウエハＷの裏面に付着することを、より確実に防止することができるためである。
【００５６】
ところで、上記では、支持部２２の横断面が三角形からなり、当該三角形の鋭角からなる頂角が真上方向に向かっている態様を用いて説明したが、これに限られることはなく、支持部２２の横断面が多角形からなり、当該多角形の頂角が上方に向かっていればよい。例えば、支持部２２の横断面は四角形や五角形などからなってもよいし、頂角は鋭角になっていなくてもよい。しかしながら、上方に向かう頂角が鋭角になっている場合には、より効率よく、本体２５からリフトピン２１まで洗浄液が伝わって行くことを防止することができるので好ましい。
【００５７】
また、上記では、ウエハＷを洗浄したリンス液が、排液管１３を介して、その自重により排出される態様を用いて説明したが、これに限られることはない。例えば、図５に示すように、排出管５９にアスピレータなどからなる吸引装置５８が設けられ、ウエハＷを洗浄した洗浄液が、吸引装置５８による駆動力を受けて排液管１３を介して、排出される態様を用いてもよい。このような吸引装置５８を用いることによって、洗浄液をより効率よく排出することができる。
【００５８】
第２の実施の形態
次に、図６乃至図８により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図６乃至図８に示す第２の実施の形態は、リフトピンプレート２０の形態を変えたものであり、その他の構成は図１乃至図５に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００５９】
図６乃至図８に示す第２の実施の形態において、図１乃至図５に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００６０】
図６および図７に示すように、リフトピンプレート２０の本体２５の傾斜面２５ｃは、排液管１３の先端に向かって降下している。また、リフトピンプレート２０の本体２５の周縁部には、間隙Ｇから洗浄液が流入することを防止するための下方突出部２６’が設けられている。
【００６１】
本実施の形態によっても、第１の実施の形態と同様の効果を奏することができ、主要な点でいえば、以下の効果を奏することができる。
【００６２】
すなわち、図６および図７に示すように、リフトピン２１を有するリフトピンプレート２０が傾斜面２５ｃを有するので、薬液供給工程９１およびリンス工程９２において、リフトピンプレート２０の本体２５に薬液やリンス液などの洗浄液が残ることを防止することができる。
【００６３】
また、図６に示すように、保持プレート１の内周部分は、リフトピンプレート２０の傾斜面２５と略同一角度で傾斜するとともに、リフトピンプレート２０の傾斜面２５と同一平面内に位置する傾斜面１ａを有している。このため、乾燥工程９５において保持プレート１を回転させて洗浄液を振り切るときに、効率よく洗浄液を振り切ることができる。また、気流の乱れを防止することもできる。
【００６４】
また、図６および図７に示すように、不活性ガス供給管１０の先端が、裏面側洗浄液供給管１１の先端よりも高い位置に位置するので、裏面側洗浄液供給管１１から供給される薬液やリンス液などの洗浄液が不活性ガス供給管１０内に流入することを防止することができる。
【００６５】
さらに、図６および図７に示すように、不活性ガス供給管１０の先端が、裏面側洗浄液供給管１１の先端よりも高い位置に位置し、ウエハＷの裏面に近い位置に位置しているので、乾燥工程９５において、不活性ガスは、その流速が遅くなる前に、ウエハＷの裏面に到達することができる。このため、ウエハＷの裏面に、効率よく不活性ガスを供給することができる。
【００６６】
なお、本実施の形態においては、リフトピンプレート２０の本体２５の上面部分は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）などの親水性の材料ではなく、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）などの疎水性の材料から構成されてもよい。このように、リフトピンプレート２０の本体２５の上面部分を、疎水性の材料から構成することによって、洗浄液のはけを良くすることができ、リフトピンプレート２０に洗浄液が残ることを防止することができる。
【００６７】
ところで、リフトピンプレート２０のリフトピン２１は、第１の実施の形態と同様、支持部２２を介して本体２５に設けられてもよい（図８参照）。ここで、支持部２２の横断面は、第１の実施の形態と同様、三角形（多角形）からなり当該三角形の頂角が真上方向に向かっている。なお、図８に示す態様においては、保持プレート１の内周部分に位置する傾斜面１ａは、リフトピンプレート２０の傾斜面２５と同一平面内には位置しておらず、リフトピンプレート２０の傾斜面２５と異なる角度で傾斜している。
【００６８】
このように、支持部２２を介して、リフトピン２１を本体２５に設けることによって、第１の実施の形態と同様、本体２５からリフトピン２１まで洗浄液が伝わって行くことを防止することができ、ウエハＷを持ち上げるリフトピン２１に洗浄液が残ることをより確実に防止することができる。
【００６９】
第３の実施の形態
次に、図９および図１０により、本発明の第３の実施の形態について説明する。図９および図１０に示す第３の実施の形態は、リフトピンプレート２０の形態を変えたものであり、その他の構成は図１乃至図５に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００７０】
図９および図１０に示す第３の実施の形態において、図１乃至図５に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００７１】
図９および図１０に示すように、リフトピンプレート２０の本体２５の傾斜面２５ｄは、周縁外方に向かって降下している。また、リフトピンプレート２０の本体２５の周縁部には、間隙Ｇから洗浄液が流入することを防止するための下方突出部２６”が設けられている。
【００７２】
本実施の形態によっても、第１の実施の形態と同様の効果を奏することができ、主要な点でいえば、以下の効果を奏することができる。
【００７３】
すなわち、図９および図１０に示すように、リフトピン２１を有するリフトピンプレート２０が傾斜面２５ｄを有するので、薬液供給工程９１およびリンス工程９２において、リフトピンプレート２０の本体２５に薬液やリンス液などの洗浄液が残ることを防止することができる。
【００７４】
また、図９および図１０に示すように、不活性ガス供給管１０の先端が、裏面側洗浄液供給管１１の先端よりも高い位置に位置するので、裏面側洗浄液供給管１１から供給される薬液やリンス液などの洗浄液が不活性ガス供給管１０内に流入することを防止することができる。
【００７５】
さらに、図９および図１０に示すように、不活性ガス供給管１０の先端が、裏面側洗浄液供給管１１の先端よりも高い位置に位置し、ウエハＷの裏面に近い位置に位置しているので、乾燥工程９５において、不活性ガスは、その流速が遅くなる前に、ウエハＷの裏面に到達することができる。このため、ウエハＷの裏面に、効率よく不活性ガスを供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液処理装置を示す側方断面図。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液処理装置を拡大した拡大側方断面図。
【図３】本発明の第１の実施の形態による液処理装置のリフトピンプレートの斜視図と支持部の断面図。
【図４】本発明の第１の実施の形態による液処理装置を用いた液処理方法のフロー図。
【図５】本発明の第１の実施の形態の変形例による液処理装置の一部を示す側方断面図。
【図６】本発明の第２の実施の形態による液処理装置を拡大した拡大側方断面図。
【図７】本発明の第２の実施の形態による液処理装置のリフトピンプレートの斜視図。
【図８】本発明の第２の実施の形態の変形例による液処理装置を拡大した拡大側方断面図。
【図９】本発明の第３の実施の形態による液処理装置を拡大した拡大側方断面図。
【図１０】本発明の第３の実施の形態による液処理装置のリフトピンプレートの斜視図。
【符号の説明】
【００７７】
１      保持プレート
２      回転軸
１０    不活性ガス供給管（不活性ガス供給部）
１１    裏面側洗浄液供給管（洗浄液供給部）
１３    排液管
２０    リフトピンプレート
２１    リフトピン
２２    支持部
２５    本体
２５ａ−２５ｄ  傾斜面
３０    昇降部材
４０    回転駆動部
５０    不活性ガス供給源
５１    薬液供給源
５２    リンス液供給源
５７    三方弁
５８    吸引装置
８１    上方位置づけ工程
８２    支持工程
８３    下方位置づけ工程
９１    薬液供給工程
９２    リンス工程
９３    排出工程
９５    乾燥工程
９６    搬出工程
Ｗ      ウエハ（被処理体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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