(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムを制御する装置であって、
前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定める搬送先決定部と、
前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させる退避部と、
前記搬送先決定部により前記退避後の被処理体の搬送先が新たに定められた場合、新たな搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件を満たしているとき、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することを禁止する搬送禁止部と、を備える処理システムの制御装置。
【請求項２】
前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理によっても前記搬送先の処理室内部が安定状態に整えられていない場合を含む請求項１に記載された処理システムの制御装置。
【請求項３】
前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前の処理が前記搬送先の処理室内部をクリーニングすべきタイミングであるのにもかかわらず、前記直前の処理がクリーニング処理でない場合を含む請求項２に記載された処理システムの制御装置。
【請求項４】
前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前の処理が前記搬送先の処理室内部をクリーニングした後、シーズニングすべきタイミングであるのにもかかわらず、前記直前の処理がシーズニング処理でない場合を含む請求項２に記載された処理システムの制御装置。
【請求項５】
前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理によって前記搬送先の処理室内部が前記退避後の被処理体を含むロットの次のロットを受け入れる状態に整えられた場合を含む請求項１〜４のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
【請求項６】
前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行されるクリーニング処理によって前記搬送先の処理室内部が前記次のロットを受け入れる状態に整えられた場合を含む請求項５に記載された処理システムの制御装置。
【請求項７】
前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件とは、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行されるシーズニング処理によって前記搬送先の処理室内部が前記次のロットを受け入れる状態に整えられた場合を含む請求項５に記載された処理システムの制御装置。
【請求項８】
前記搬送先決定部は、
前記搬送禁止部により搬送を禁止された被処理体の搬送先を、正常に稼働している他の処理室のいずれかに搬送するように定めるか、または異常が発生した処理室の復帰を待って復帰した処理室に搬送するように定める請求項１〜７のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
【請求項９】
前記処理システムは、前記複数の処理室の各処理室と前記搬送機構との間にて前記各処理室と前記搬送機構とを連結する前処理室をさらに備え、
前記退避部は、
被処理体が前記前処理室に搬入されたとき、被処理体が搬送先の処理室に搬入されたと判定する請求項１〜８のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
【請求項１０】
前記搬送禁止部は、
クリーニング用の被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されたとき、前記前処理室に連結した前記処理室にて実行される直前の処理はクリーニング処理であると判定する請求項９に記載された処理システムの制御装置。
【請求項１１】
前記搬送禁止部は、
シーズニング用の被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されたとき、前記前処理室に連結した前記処理室にて実行される直前の処理はシーズニング処理であると判定する請求項９に記載された処理システムの制御装置。
【請求項１２】
前記搬送先決定部は、
被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されるタイミングに連動して、前記被処理体収容ポートに収容された次の被処理体の搬送先を定める請求項９〜１１のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
【請求項１３】
前記搬送先決定部は、
被処理体が前記被処理体収容ポートから前記搬送機構に搬出されるタイミングに連動して、前記被処理体収容ポートに収容された次の被処理体の搬送先を定める請求項１〜１１のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
【請求項１４】
前記退避部は、
前記複数の処理室の各処理室の定期メンテナンスまたは前記各処理室に異常が発生した場合、前記各処理室は被処理体の搬入を禁止する状態にあると判定する請求項１〜１３のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
【請求項１５】
前記処理システムは、ウエハまたは基板を処理するシステムである請求項１〜１４のいずれかに記載された処理システムの制御装置。
【請求項１６】
被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムを制御する方法であって、
前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定め、
前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させ、
前記退避後の被処理体の搬送先を新たに定め、
前記新たに定められた搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件の場合、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することを禁止する処理システムの制御方法。
【請求項１７】
被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムの制御をコンピュータに実行させるために用いられる制御プログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定める処理と、
前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させる処理と、
前記退避後の被処理体の搬送先を新たに定める処理と、
前記新たに定められた搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件の場合、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することを禁止する処理と、を含む制御プログラムを記憶した記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理体に所定の処理を施す処理システムの制御装置、処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体に関し、より詳細には被処理体の搬送を制御する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体工場内に配置された処理システムのほとんどは、被処理体を搬送する搬送機構とともに、被処理体に所定の処理を施す２以上の処理室を有している。この場合、各被処理体を複数の処理容器にいかに搬送するかは、処理システムのスループットを上げ、生産性を向上させるために重要である。そこで、効率よく被処理体を処理するために、複数の処理室に対して順番に被処理体が搬送されるように被処理体の搬送先を定める方法がある（以下、ＯＲ搬送とも称呼する。）。
【０００３】
ＯＲ搬送中に、故障などで任意の処理室に異常が生じた場合、異常が生じた処理室に搬送する予定であった被処理体を一旦、キャリアに退避させ、退避させた被処理体を正常な処理室に搬送することにより、システム全体のスループットをなるべく低下させないほうがよい。そこで、従来から、処理室の運転状況によって搬送経路を最適化する技術が提案されている（たとえば、特許文献１〜４を参照。）。これによれば、いずれかの処理室が故障などによって使用できなくなった場合でも、その他の処理室を使用して効率よく被処理体を処理することができる。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−９３７９１号公報
【特許文献２】特開２００２−２４６３７７号公報
【特許文献３】特開２００２−２５２２６３号公報
【特許文献４】特開平１１−６７８６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、一旦退避した被処理体を正常な処理室に搬送し直し、所望の処理を施すと不具合が生じる場合がある。たとえば、正常な処理室内部が安定状態に整えられていない場合、その処理室にて処理を施された被処理体は製品不良となる可能性があり、同一ロット中の他の被処理体との間に特性上のバラツキが生じ、そのロット全体の品質が保証できないため、ロットに含まれるウエハ全体を製品として出荷できないおそれがある。
【０００６】
たとえば、被処理体の処理が各処理室規定の処理枚数や処理時間に達すると、処理室内壁への反応生成物の付着や処理室内の各部材の温度等の経時的変化に伴う処理室内の状態の変化に対して処理室内の雰囲気を整えるためにクリーニングを行う必要がある。このため、製品ウエハの処理の合間にクリーニング用ウエハも搬送する場合がある。
【０００７】
また、前記クリーニング後、処理室内の状態を安定化させるためにロット安定ダミーウエハを用いたシーズニング処理を行う場合には、製品ウエハの処理の合間にロット安定ダミーウエハも搬送される。この場合、クリーニング処理後であってシーズニング処理前の処理室に被処理体を搬送すると、正常な処理室内部が安定状態に整えられていないため、その処理室にて処理を施された被処理体は、製品不良となるおそれがある。
【０００８】
また、稼働中の処理室の内部が次ロットを受け入れる雰囲気に整えられている後、現ロットに含まれる上記退避された被処理体をその処理室に搬送すると、搬送された被処理体を処理することにより処理室内部の雰囲気が変わり、次ロットの処理に悪影響を及ぼすおそれがある。たとえば、ロットの処理がクリーニング処理で終了するように各ウエハを搬送すべきところ、クリーニング後の処理室にて一旦退避させた被処理体を搬送した場合である。
【０００９】
以上のように、正常に稼働中の処理室であっても、被処理体を処理する直前に実行される処理の内容によっては、当該被処理体の搬送を禁止したほうがよい場合がある。そこで、本発明は、処理室の運転状況によって搬送経路を最適化する際、処理室にて直前に実行される処理の内容に基づき、所定の場合には定められた搬送先への搬送を禁止する処理システムの制御装置、処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち、上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムを制御する装置が提供される。その制御装置は、前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定める搬送先決定部と、前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させる退避部と、前記搬送先決定部により前記退避後の被処理体の搬送先が新たに定められた場合、新たな搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件を満たしているとき、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することを禁止する搬送禁止部と、を備える。
【００１１】
これによれば、異常等が生じて搬入禁止となった処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体は、一旦、被処理体収容ポートに退避される。その後、退避された被処理体の搬送先が新たに定められた場合、新たな搬送先の処理室にて、退避された被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件を満たしているとき、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することが禁止される。
【００１２】
前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件としては、たとえば、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理によっても前記搬送先の処理室内部が安定状態に整えられていない場合が挙げられる。
【００１３】
より具体的には、前記退避後の被処理体を処理する直前の処理が前記搬送先の処理室内部をクリーニングすべきタイミングであるのにもかかわらず、前記直前の処理がクリーニング処理でない場合が挙げられる。
【００１４】
また、前記退避後の被処理体を処理する直前の処理が前記搬送先の処理室内部をクリーニングした後、シーズニングすべきタイミングであるのにもかかわらず、前記直前の処理がシーズニング処理でない場合が挙げられる。
【００１５】
このような場合、前記搬送先の処理室内部は、被処理体を処理できる程度に良好な状態に整えられていないので、その装置内部で退避された被処理体を処理すると製品不良を起こすおそれがある。
【００１６】
また、前記退避後の被処理体の搬送を禁止する所定の条件の他の一例としては、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理によって、前記搬送先の処理室内部が、前記退避後の被処理体を含むロットの次のロットを受け入れる状態に整えられた場合が挙げられる。
【００１７】
より具体的には、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行されるクリーニング処理によって前記搬送先の処理室内部が前記次のロットを受け入れる状態に整えられた場合が挙げられる。
【００１８】
また、前記退避後の被処理体を処理する直前に実行されるシーズニング処理によって前記搬送先の処理室内部が前記次のロットを受け入れる状態に整えられた場合が挙げられる。
【００１９】
このような場合、前記搬送先の処理室内部は次のロットを受け入れる雰囲気に整えられているので、その装置内部で現ロットに含まれる前記退避後の被処理体を処理すると前記搬送先の処理室内部の雰囲気が変わり、現ロットや次ロットの被処理体を処理したときに製品不良を起こすおそれがある。
【００２０】
このようにして、ロット中の被処理体に一つでも不良品が発生すると、同一ロット中の他の処理済み被処理体との間で特性上のバラツキが生じ、後工程において同一ロットに含まれる被処理体の少なくともいずれかに製品としての質が確保されていない製品がまじっていると判断され、同一ロットに含まれる被処理体のすべてを製品として出荷できないおそれがある。
【００２１】
更に、現ロットの退避後の被処理体の処理により搬送先の処理室内部の雰囲気が多少なりとも変わるので、次のロットを受け入れる雰囲気に搬送先の処理室内部を整えるためにさらなる処理が必要となり、処理システム全体のスループットを低下させる原因ともなる。
【００２２】
よって、本発明によれば、正常に稼働中の処理室であっても、たとえば、その内部が安定状態に整えられていない場合や次ロットを受け入れる状態に整えられている場合等、被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件に該当する場合、当該被処理体の搬送を禁止する。
【００２３】
すなわち、通常は、ＯＲ搬送により処理の効率化を図り、異常等によりある処理室が搬入禁止になった場合には、搬入禁止を搬送先としていた被処理体を退避させ、退避させた被処理体を新たな搬送先に搬送する処理を原則とするが、上記所定の条件に該当する場合には退避後の被処理体の搬送を禁止し、これにより、不良品の発生を抑制し、同一ロット中の被処理体の特性にバラツキが生じること防止することにより、処理システム全体の生産性を高めることができる。
【００２４】
前記搬送先決定部は、前記搬送禁止部により搬送を禁止された被処理体の搬送先を、正常に稼働している他の処理室のいずれかに搬送するように定めるか、または異常が発生した処理室の復帰を待って復帰した処理室に搬送するように定めてもよい。
【００２５】
前記処理システムは、前記複数の処理室の各処理室と前記搬送機構との間にて前記各処理室と前記搬送機構とを連結する前処理室をさらに備え、前記退避部は被処理体が前記前処理室に搬入されたとき、被処理体が搬送先の処理室に搬入されたと判定してもよい。あるいは、被処理体がいずれかの処理室に搬入されたとき、前記退避部は被処理体が搬送先の処理室に搬入されたと定めてもよい。
【００２６】
前記搬送禁止部は、クリーニング用の被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されたとき、前記前処理室に連結した前記処理室にて実行される直前の処理はクリーニング処理であると判定してもよい。
【００２７】
前記搬送禁止部は、シーズニング用の被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されたとき、前記前処理室に連結した前記処理室にて実行される直前の処理はシーズニング処理であると判定してもよい。
【００２８】
さらに、前記搬送禁止部はレシピに示された処理手順に基づき、前記処理室にて実行される直前の処理を判定しても良い。これによれば、ロット安定ダミーウエハを用いずに処理室をクリーニングやシーズニングする場合でも、直前の処理を的確に判断することができる。
【００２９】
前記搬送先決定部は、被処理体が前記搬送機構から前記前処理室に搬入されるタイミングに連動して、前記被処理体収容ポートに収容された次の被処理体の搬送先を定めてもよい。
【００３０】
あるいは、前記搬送先決定部は、被処理体が前記被処理体収容ポートから前記搬送機構に搬出されるタイミングに連動して、前記被処理体収容ポートに収容された次の被処理体の搬送先を定めてもよい。
【００３１】
前記退避部は、前記複数の処理室の各処理室の定期メンテナンスまたは前記各処理室に異常が発生した場合、前記各処理室は被処理体の搬入を禁止する状態にあると判定してもよい。なお、処理システムは、ウエハまたは基板を処理するシステムであってもよい。
【００３２】
上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムを制御する方法であって、前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定め、前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させ、前記退避後の被処理体の搬送先を新たに定め、前記新たに定められた搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件の場合、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することを禁止する処理システムの制御方法が提供される。
【００３３】
上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、被処理体に所定の処理を施す複数の処理室と、被処理体を収容する被処理体収容ポートと、前記複数の処理室と前記被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構と、を有する処理システムの制御をコンピュータに実行させるために用いられる制御プログラムを記憶した記憶媒体であって、前記複数の処理室のうち正常に稼働している処理室に対して被処理体が順番に搬送されるように前記被処理体収容ポートに収容された被処理体の搬送先を定める処理と、前記複数の処理室のいずれかが被処理体の搬入を禁止する状態にある場合、前記搬入禁止の処理室を搬送先と定め、かつ前記搬入禁止の処理室に未だ搬入していない被処理体を、一旦、被処理体収容ポートに退避させる処理と、前記退避後の被処理体の搬送先を新たに定める処理と、前記新たに定められた搬送先の処理室にて前記退避後の被処理体を処理する直前に実行される処理が所定の条件の場合、新たな搬送先に前記退避後の被処理体を搬送することを禁止する処理と、を含む制御プログラムを記憶した記憶媒体が提供される。
【００３４】
これらによれば、異常等が生じた処理室に搬送を予定していた被処理体を新たな搬送先に搬送する場合、搬送先の処理室にて直前に実行される処理の内容を考慮し、所定の場合には搬送先への搬送が禁止される。これにより、処理室内部の状態を良好に保ちながら、不良品の発生を抑止し、処理済み被処理体の製品としての特性にバラツキが生じること防ぐことができる。この結果、歩留まりを向上させ、生産性を高めることができる。
【発明の効果】
【００３５】
以上説明したように、本発明によれば、プロセス処理室の運転状況によって搬送経路を最適化する際、処理室にて直前に実行される処理の内容に基づき、所定の場合には定められた搬送先への搬送を禁止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明及び添付図面において、同一の構成及び機能を有する構成要素については、同一符号を付することにより、重複説明を省略する。
【００３７】
（第１実施形態）
まず、図１を参照しながら本発明の第１実施形態にかかる処理システムの概要を説明する。なお、本実施形態では、処理システムを用いてシリコンウエハ（以下、ウエハＷとも称呼する。）をエッチング処理する例を挙げて説明する。
【００３８】
（処理システムの概要）
処理システム１０は、ＥＣ（Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ：装置コントローラ）２００、４つのＭＣ（Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ：マシーンコントローラ）３００ａ〜３００ｄ、２つのＰＭ１（Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｍｏｄｕｌｅ：プロセスモジュール），ＰＭ２および２つのＬＬＭ１（Ｌｏａｄ  Ｌｏｃｋ  Ｍｏｄｕｌｅ：ロードロックモジュール）、ＬＬＭ２を有している。
【００３９】
ＥＣ２００は、顧客側ＬＡＮ（Ｌｏｃａｌ  Ａｒｅａ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）７００ａ、７００ｂを介してホストコンピュータ１００、管理サーバ６００にそれぞれ接続されている。管理サーバ６００は、ＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）８００などの情報処理機器に接続されている。オペレータは、ＰＣ８００を操作することにより処理システム１０に指令を送るようになっている。ＥＣ２００、ＭＣ３００ａ〜３００ｄ、ＰＭ１、ＰＭ２、ＬＬＭ１、ＬＬＭ２は工場内に設けられていて、工場内ＬＡＮによりそれぞれ接続されている。
【００４０】
ホストコンピュータ１００は、データ管理など処理システム１０の全体を管理する。ＥＣ２００は、ウエハをエッチング処理する手順を示したシステムレシピを保持し、システムレシピにしたがってＰＭ１、ＰＭ２、ＬＬＭ１、ＬＬＭ２を動作させるように各ＭＣ３００に制御信号を送信するとともに動作後のデータの履歴管理などを行う。
【００４１】
ＭＣ３００ａ〜３００ｄはプロセスレシピを保持していて、ＥＣ２００から送信された制御信号に基づいて、プロセスレシピの手順にしがたいＰＭ１、ＰＭ２に設けられた各機器をそれぞれ駆動することにより、ウエハＷの処理を制御するとともに、ＬＬＭ１、ＬＬＭ２に設けられた各機器をそれぞれ駆動することにより、ウエハＷの搬送を制御する。
【００４２】
ＰＭ１、ＰＭ２は、内部を所定の真空状態に保持した状態にてたとえばエッチング処理などの所定の処理をウエハＷに施す処理室である。ＬＬＭ１、ＬＬＭ２は、内部を所定の減圧状態に保持した状態にて大気側から真空状態にあるＰＭへウエハＷを搬入するとともにＰＭ側から大気側へウエハを搬出する搬送室である。管理サーバ６００は、オペレータの操作によりＰＣ８００から送信されたデータに基づいて、各装置の動作条件などを設定する。
【００４３】
（処理システムの内部構成）
つぎに、処理システム１０の内部構成について、図２を参照しながら説明する。処理システム１０は、第１のプロセスシップＰＳ１、第２のプロセスシップＰＳ２、搬送ユニットＴＲ、位置合わせ機構ＡＬおよびカセットステージＣＳを有している。
【００４４】
第１のプロセスシップＰＳ１は、ＰＭ１およびＬＬＭ１を有している。第２のプロセスシップＰＳ２は、第１のプロセスシップＰＳ１と平行に配設されていて、ＰＭ２およびＬＬＭ２を有している。ＬＬＭ１、ＬＬＭ２は、その両端に設けられたゲートバルブＶの開閉により内部圧力を調整しながら、各搬送アームＡｒｍａ、Ａｒｍｂに把持されたウエハＷを各ＰＭから搬送ユニットＴＲまたは搬送ユニットＴＲから各ＰＭに搬送する。
【００４５】
搬送ユニットＴＲは矩形の搬送室であり、第１のプロセスシップＰＳ１および第２のプロセスシップＰＳ２に接続されている。搬送ユニットＴＲには搬送アームＡｒｍｃが設けられていて、搬送アームＡｒｍｃを用いて、ＬＬＭ１、ＬＬＭ２内の搬送アームＡｒｍａ，Ａｒｍｂと連動しながらウエハＷを搬送する。
【００４６】
搬送ユニットＴＲの一端には、ウエハＷの位置決めを行う位置合わせ機構ＡＬが設けられていて、ウエハＷを載置した状態で回転台ＡＬａを回転させながら、光学センサＡＬｂによりウエハ周縁部の状態を検出することにより、ウエハＷの位置を合わせるようになっている。
【００４７】
搬送ユニットＴＲの側部には、カセットステージＣＳが設けられている。カセットステージＣＳには、３つのカセット容器Ｃが載置されている。各カセット容器Ｃには、複数のウエハＷが多段に収容される。
【００４８】
かかる構成により、各カセット容器Ｃ内の各ウエハＷは、搬送ユニットＴＲを介してカセット容器Ｃから搬出され、位置合わせ機構ＡＬにて位置をあわせた後、プロセスシップＰＳ１，ＰＳ２に交互に一枚ずつ搬送され、ＬＬＭ１，ＬＬＭ２を通ってＰＭ１またはＰＭ２に搬送され、エッチング処理後、各機構を経由して再びいずれかのカセット容器Ｃに収容される。このようにして、ウエハＷをＰＭ１およびＰＭ２に交互に一枚ずつ搬送する方法をＯＲ搬送という。
【００４９】
なお、ＰＭ１、ＰＭ２は被処理体に所定の処理を施す複数の処理室の一例であり、カセットステージＣＳ（カセット容器Ｃ）は被処理体を収容する被処理体収容ポートの一例である。また、搬送ユニットＴＲは複数の処理室と被処理体収容ポートとの間にて被処理体を所定の搬送先に搬送する搬送機構の一例であり、ＥＣ２００（またはＭＣ３００）は、処理システム１０を制御する装置の一例である。ＬＬＭ１，ＬＬＭ２は各処理室と搬送機構とに連結された前処理室の一例である。
【００５０】
（ＥＣ、ＭＣのハードウエア構成）
つぎに、ＥＣ２００のハードウエア構成について、図３を参照しながら説明する。なお、ＭＣ３００のハードウエア構成はＥＣ２００と同様であるためここでは説明を省略する。
【００５１】
図３に示したように、ＥＣ２００は、ＲＯＭ２０５、ＲＡＭ２１０、ＣＰＵ２１５、バス２２０、内部インタフェース（内部Ｉ／Ｆ）２２５および外部インタフェース（外部Ｉ／Ｆ）２３０を有している。
【００５２】
ＲＯＭ２０５には、搬送処理を制御するプログラムやウエハ処理を制御するプログラム、異常発生時に起動するプログラム、各種レシピ等が記録されている。ＲＡＭ２１０には、各種プログラムやデータが蓄積されている。なお、ＲＯＭ２０５およびＲＡＭ２１０は、記憶装置の一例であり、ＥＥＰＲＯＭ、光ディスク、光磁気ディスクなどの記憶装置であってもよい。
【００５３】
ＣＰＵ２１５は、各種レシピにしたがってウエハの搬送および処理を制御する。バス２２０は、ＲＯＭ２０５、ＲＡＭ２１０、ＣＰＵ２１５、内部インタフェース２２５および外部インタフェース２３０の各デバイス間でデータをやりとりする経路である。
【００５４】
内部インタフェース２２５は、データを入力し、必要なデータを図示しないモニタやスピーカ等に出力するようになっている。外部インタフェース２３０は、ＬＡＮ等のネットワークにより接続されている機器との間でデータを送受信するようになっている。
【００５５】
（ＥＣの機能構成）
つぎに、ＥＣの機能構成について、ＥＣ２００の各機能をブロックにて示した図４を参照しながら説明する。ＥＣ２００は、記憶部２５０、搬送先決定部２５５、退避部２６０、搬送禁止部２６５、ウエハ処理制御部２７０、通信部２７５および搬送制御部２８０の各ブロックにより示される機能を有している。
【００５６】
記憶部２５０は、ＰＭ１およびＰＭ２にてウエハＷに所望の処理を施すための処理手順を示したレシピ群２５０ａ（レシピａ〜レシピｎ）を記憶する。搬送先決定部２５５は、ＰＭ１およびＰＭ２のうち正常に稼働しているＰＭに対してウエハＷが順番にＯＲ搬送されるようにカセットステージＣＳのカセット容器Ｃに収容されたウエハＷの搬送先を定める。
【００５７】
退避部２６０は、ＰＭ１またはＰＭ２のいずれかがウエハＷの搬入を禁止する状態にある場合、搬入禁止のＰＭに搬送されるように定められ、かつ搬入禁止のＰＭに未だ搬入していないウエハＷを、一旦、カセットステージＣＳに退避させる。なお、ＰＭがウエハＷの搬入を禁止する状態の一例としては、ＰＭの定期メンテナンスやＰＭに異常（エラー）が発生した場合が挙げられる。
【００５８】
搬送禁止部２６５は、搬送先決定部２５５により退避後のウエハＷの搬送先が新たに定められた場合、新たな搬送先のＰＭにて退避後のウエハＷを処理する直前に実行される処理が所定の条件を満たしているとき、新たな搬送先に退避後のウエハＷを搬送することを禁止する。
【００５９】
ウエハ処理制御部２７０は、オペレータから指定されたレシピを記憶部２５０から選択し、レシピの手順にしたがって各ＰＭにて実行されるエッチング処理を制御するための駆動信号を出力する。通信部２７５は、主にＭＣ３００と情報を送受信する。通信部２７５は、ウエハを処理するための駆動信号をＭＣ３００に送出する。
【００６０】
搬送制御部２８０は、搬送先決定部２５５、退避部２６０、搬送禁止部２６５からの指示に従い、所定の位置に所定のウエハを搬送するための信号を出力する。通信部２７５は、各ウエハの搬送先を指示するために前記信号をＭＣ３００に送出する。
【００６１】
なお、以上に説明したＥＣ２００の各部の機能は、実際には、図３のＣＰＵ２１５がこれらの機能を実現する処理手順を記述した制御プログラム（レシピを含む）を記憶したＲＯＭ２０５やＲＡＭ２１０などの記憶媒体から制御プログラムを読み出し、そのプログラムを解釈して実行することにより達成される。たとえば、本実施形態では、搬送先決定部２５５、退避部２６０、搬送禁止部２６５、ウエハ処理制御部２７０および搬送制御部２８０の各機能は、実際には、ＣＰＵ２１５がこれらの機能を実現する処理手順を記述したプログラムを実行することにより達成される。
【００６２】
（ＥＣの動作）
つぎに、ＥＣ２００により実行される搬送処理、ウエハ処理、異常発生時割込処理について説明する。図５のフローチャートに示された搬送処理および図６のフローチャートに示されたウエハ処理は、所定時間経過毎に別々に起動され、図７のフローチャートに示された異常発生時割込処理は、異常発生時に割込処理として起動される。
【００６３】
オペレータが、レシピおよびロット番号を指定してロットスタートボタンを「オン」すると、該当ロットが投入され、そのロットに含まれるウエハを順に搬送する準備が整う。このタイミングに連動して図５のステップ５００から搬送処理が開始され、図６のステップ６００からウエハ処理が開始される。
【００６４】
なお、本実施形態では、図８の下部に示すように、各ロットには、２５枚の製品ウエハＰ１〜Ｐ２５、クリーニング処理用のウエハ（クリーニング用ウエハＣ１、Ｃ２）、シーズニング処理用のウエハ（ロット安定ダミーウエハＳ１，Ｓ２）の３種類のウエハが含まれる。
【００６５】
製品ウエハの処理が各ＰＭに規定された処理枚数や処理時間に達すると、ＰＭの内壁への反応生成物の付着やＰＭ内の各部の温度等の経時的変化に伴う処理室内の状態の変化に対して処理室内の雰囲気を整えるためにクリーニングを行う必要がある。このため、本実施形態では、２５枚の製品ウエハを処理後（すなわち、ロットの最後）にクリーニング用ウエハＣ１、Ｃ２を搬送して、ＰＭ１，ＰＭ２をそれぞれクリーニングする。これによりＰＭ１，ＰＭ２内部の雰囲気は、次ロットを受け入れる状態に整えられる。
【００６６】
また、前記クリーニング後、処理室内の状態を安定化させるためにロット安定ダミーウエハを用いたシーズニング処理を行う場合もある。本実施形態では、現ロットの最初に、ＰＭ１、ＰＭ２内を製品ウエハの処理が行える程度に安定させるために、ロット安定ダミーウエハＳ１，Ｓ２を用いたシーズニング処理する。
【００６７】
ＰＭ１およびＰＭ２が正常に稼働している通常状態では、ウエハＷの搬送先は、ウエハＷをＰＭ１およびＰＭ２に交互に一枚ずつ搬送（ＯＲ搬送）するように定められる。したがって、オペレータにより指定されたロット番号の一番目のロット安定ダミーウエハＳ１は、ＰＭ１を搬送先として定められ、二番目のロット安定ダミーウエハＳ２は、ＰＭ２を搬送先として定められる。
【００６８】
（搬送処理）
搬送処理は図５のステップ５００から開始され、搬送制御部２８０はステップ５０５にて搬送すべきウエハがあるか否かを判定する。この時点では、搬送すべきロット安定ダミーウエハＳ１、Ｓ２が存在するので、搬送制御部２８０はステップ５１０にて該当ウエハＳ１、Ｓ２を搬送先ＰＭ１、ＰＭ２にそれぞれ搬送するための信号を出力する。この指示信号は、通信部２７５からＭＣ３００に伝えられ、ＭＣ３００の制御により各ＰＭの搬送機構が駆動することによって各ウエハのＯＲ搬送が開始される。なお、搬送すべきウエハがない場合には、ステップ５１０をスキップして次のステップ５１５に進む。
【００６９】
搬送先決定部２５５は、ステップ５１５にて前ウエハがカセット容器Ｃから搬出されたか否かを判定する。一般的に、処理システム１０は、ウエハの処理よりもウエハの搬送に多くの時間がかかる。特に、短時間プロセスの場合にはこの傾向は顕著である。よって、本実施形態の搬送処理では、搬送律速により処理済みのウエハがＰＭから搬出された後、次に処理すべきウエハがＰＭに搬入されるまでに待ち時間が生じないように、前ウエハがカセット容器Ｃから搬送ユニットＴＲに搬出されたタイミングに次ウエハの搬送先が定められる。
【００７０】
なお、搬送先決定部２５５は、上記のように、前ウエハがカセット容器Ｃから搬送ユニットＴＲに搬出されたタイミングに連動して次ウエハの搬送先を定める替わりに、前ウエハが搬送ユニットＴＲからＬＬＭに搬入されるタイミングに連動して、次ウエハの搬送先を定めてもよい。
【００７１】
さて、この時点では、ウエハＳ１、Ｓ２がカセット容器Ｃから搬出されているので、ステップ５２０に進んで、搬送先決定部２５５は、指定されたロット中に搬送先が定められていないウエハがあるか否かを判定する。現時点では現ロットに含まれるウエハＰ１、Ｐ２・・・Ｐ２５、Ｃ１、Ｃ２の搬送先が定められていない。よって、ステップ５２５に進んで搬送先決定部２５５は、各ウエハがＰＭ１，ＰＭ２に交互に搬送されるように次ウエハＰ１の搬送先をＰＭ１に決定し、ステップ５９５に進んで本処理を一旦終了する。
【００７２】
なお、ステップ５１５にて前ウエハがカセット容器Ｃから搬出されていないと判定された場合、およびステップ５２０にて指定されたロット中に搬送先が定められていないウエハはないと判定された場合には、直ちにステップ５９５に進んで本処理を一旦終了する。
【００７３】
（ウエハ処理）
一方、ウエハ処理は図６のステップ６００から開始され、ウエハ処理制御部２７０はステップ６０５にて新しいウエハが搬入されたか否かを判定する。新しいウエハが搬入された場合、ステップ６１０に進んでウエハ処理制御部２７０は、記憶部２５０に記憶されたレシピ群２５０ａのうち、オペレータにより指定されたレシピに従ってウエハにエッチング処理を施し、ステップ６９５に進んで本処理を一旦終了する。なお、新しいウエハが搬入されていない場合には、そのままステップ６９５に進んで本処理を一旦終了する。
【００７４】
（ＯＲ搬送時に起こりえる搬送状態と課題）
以上に説明したＯＲ搬送では、たとえば、ＰＭ１のレシピ時間がＰＭ２のレシピ時間よりも分単位で長い場合や、ＰＭ２でレシピのスキップを実施したことにより、ＰＭ１とＰＭ２のレシピ時間の差が分単位になった場合、既にプロセスシップＰＳ１向けにカセット容器Ｃから搬出されたウエハをプロセスシップＰＳ２向けにカセット容器Ｃから搬出されたウエハが追い越してしまうことがある。
【００７５】
たとえば、図１２に示したプロセスでは、ＰＭ１のレシピ時間がＰＭ２のレシピ時間よりも分単位で長いため、既にプロセスシップＰＳ１向けにカセット容器Ｃから搬出されたウエハＰ１９をプロセスシップＰＳ２向けにカセット容器Ｃから搬出されたウエハＰ２０が追い越し、ウエハＰ１９がＬＬＭ１に搬入されるより先にウエハＰ２０がＬＬＭ２に搬入される。
【００７６】
さらにＯＲ搬送を続けると、製品ウエハＰ２５をカセット容器Ｃから搬出した後、プロセスシップＰＳ２向けのクリーニング用ウエハＣ１が製品ウエハＰ２５を追い越してＬＬＭ２に搬送される。
【００７７】
このような搬送状況において生じる課題について、図１３を参照しながら説明する。図１３（ａ）に示したように、プロセスシップＰＳ２側での処理が先行している状態で図１３（ｂ）に示したように、ＰＭ１に故障が生じたためにＰＭ１へウエハを搬入することが禁止された場合、ＰＭ１を搬送先に予定していた製品ウエハＰ２５は、ＰＭ１に未搬入の状態なので、一旦、カセット容器Ｃに戻される。
【００７８】
ここで、搬送の効率を考えるとＰＭ１が復帰するまで製品ウエハＰ２５を待機させるより、稼働中のＰＭ２を製品ウエハＰ２５の新たな搬送先に定めて、製品ウエハＰ２５をプロセスシップＰＳ２に搬送し、ＰＭ２にて製品ウエハＰ２５にエッチング処理を施すのが好ましい。
【００７９】
そこで、図１３（ｃ）に示したように、製品ウエハＰ２５をプロセスシップＰＳ２に搬送し、ＰＭ２にてエッチング処理を施すと、その直前のクリーニング用ウエハＣ１を用いたクリーニング処理により、ＰＭ２内部が次ロットを受け入れる状態に整えられていたにもかかわらず、現ロットに含まれる製品ウエハＰ２５の処理によりＰＭ２の内部の雰囲気が変わり、次ロットの処理に悪影響を及ぼすおそれがある。
【００８０】
また、ＰＭ２は、クリーニング処理済みであるがシーズニング処理前の状態なので、内部の雰囲気は製品ウエハＰ２５を処理できる程度に安定な状態に整えられていない。この結果、ＰＭ２にてエッチング処理を施された製品ウエハＰ２５が不良品となるおそれがあり、現ロットの他の処理済み製品ウエハとの間に特性上のバラツキが生じ、後工程において現ロットに含まれる製品ウエハの少なくともいずれかに製品として出荷できる程度の質が確保されていない製品がまじっていると判断されてしまい、現ロットに含まれる製品ウエハのすべてを製品として出荷できないおそれがある。
【００８１】
さらに、現ロットの製品ウエハの処理によりＰＭ２の内部の雰囲気が多少なりとも変わるので、次のロットを受け入れる雰囲気にＰＭ２の内部を整えるためにさらなる処理が必要となる。
【００８２】
このように、正常に稼働中のＰＭであっても、退避ウエハを処理する直前に実行される処理の内容によっては、当該ウエハの搬送を禁止したほうがよい場合がある。そこで、本実施形態の異常発生時割込処理では、一旦退避させたウエハを新たな搬送先ＰＭに搬送する場合、搬送先ＰＭにて退避ウエハを処理する直前に実行される処理を考慮し、必要な場合には当該ウエハを新たな搬送先に搬送することを禁止する。
【００８３】
以下では、この異常発生時割込処理について、図７に示したフローチャートを参照しながら説明する。なお、ＰＭの異常発生時、ＰＭの異常発生を知らせる割込信号がＭＣ３００からＥＣ２００に出力される。ここでは、ＯＲ搬送中、図８（ｂ）に示したＰＭ１にて製品ウエハＰ２１を処理中にＰＭ１に異常が発生し、ＰＭ１を管理するＭＣ３００ａからＥＣ２００に割込信号が出力され、この割込信号を受け取ったＥＣ２００のＣＰＵ２１５により図７の異常発生時割込処理が実行されるようになっている。
【００８４】
（異常発生時割込処理）
異常発生時割込処理はステップ７００から開始され、退避部２６０は、ステップ７０５にて異常（エラー）が発生したＰＭ（以下、異常が発生したＰＭを異常ＰＭとも称呼する。）を搬送先とし、かつ、異常ＰＭに未搬入であったウエハをカセット容器Ｃに退避させる。図８（ｂ）では、異常ＰＭ１を搬送先とし、かつ異常ＰＭ１に未搬入であった製品ウエハＰ２５をカセット容器Ｃに一旦退避させている。ここで、退避部２６０はウエハが未搬入であるか否かを、ウエハがＬＬＭに搬入されたかどうかで判定する。つまり、ＰＭ１に異常が発生したとき、製品ウエハＰ２１，Ｐ２３，Ｐ２４、Ｃ１は搬送済み、製品ウエハＰ２５は未搬入と判定される。
【００８５】
つぎに、ステップ７１０に進んで、搬送禁止部２６５は、搬送先決定部２５５が製品ウエハＰ２５の新たな搬送先として正常に稼働しているＰＭ（以下、正常に稼働しているＰＭを正常ＰＭとも称呼する。）に搬送するように定めた場合、正常ＰＭにて退避ウエハの処理の直前に実行される処理を特定する。図８（ｂ）では、クリーニング用ウエハＣ１がＬＬＭに搬入されているので、退避ウエハＰ２５をＰＭ２に搬送したときに退避ウエハＰ２５の直前に実行される処理はクリーニング処理であると特定される。
【００８６】
次いでステップ７１５に進み、搬送禁止部２６５は、所定の条件に基づき、特定された直前処理の次に該当ウエハを処理することが禁止されているか否かを判定する。所定の条件の一例としては、退避ウエハを処理する直前に実行される処理では搬送先ＰＭの内部が次に製品ウエハを処理できるほど安定状態に整えられていない場合が挙げられる。
【００８７】
より具体的には、搬送先ＰＭの内部をクリーニングすべきタイミングであるのに退避ウエハを処理する直前の処理がクリーニング処理でない場合が挙げられる。また、搬送先ＰＭの内部をクリーニングした後、シーズニングすべきタイミングであるのに退避ウエハを処理する直前の処理がシーズニング処理でない場合が挙げられる。
【００８８】
このような場合、搬送先ＰＭの内部は、製品ウエハを処理できる程度に良好な状態に整えられていないので、その装置内部で退避ウエハを処理すると退避ウエハが不良品となるおそれがあり、また、現ロットに含まれるウエハの特性にバラツキが生じるおそれがある。
【００８９】
また、退避ウエハの搬送を禁止する所定の条件の他の一例としては、退避ウエハを処理する直前に実行される処理によってＰＭ内部が退避ウエハを含むロットの次のロットを受け入れる状態に整えられた場合が挙げられる。
【００９０】
より具体的には、退避ウエハを処理する直前に実行されるクリーニング処理によって、ＰＭ内部が前記次ロットを受け入れる状態に整えられた場合が挙げられる。また、退避ウエハを処理する直前に実行されるシーズニング処理によってＰＭ内部が前記次ロットを受け入れる状態に整えられた場合が挙げられる。
【００９１】
このような場合、搬送先ＰＭの内部は、次のロットを受け入れる雰囲気に整えられているので、その装置内部で現ロットのウエハを処理すると退避ウエハが不良品となるおそれがあり、また、現ロットに含まれるウエハ及び次ロットに含まれるウエハの特性にバラツキが生じるおそれがある。
【００９２】
上述した各場合において、同一ロット内のウエハの特性にバラツキが生じると、後工程において当該ロットに含まれる製品ウエハの少なくともいずれかに製品としての質が確保されていない製品がまじっていると判断されてしまい、当該ロットに含まれる製品ウエハのすべてを製品として出荷できないおそれがある。
【００９３】
更に、現ロットの製品ウエハの処理により搬送先ＰＭの内部の雰囲気が多少なりとも変わるので、次のロットを受け入れる雰囲気に搬送先ＰＭの内部を整えるためにさらなる処理が必要となり、処理システム１０全体のスループットを低下させる原因ともなる。
【００９４】
たとえば、図８（ｃ）に示した状況では、製品ウエハＰ２５をプロセスシップＰＳ２に搬送し、ＰＭ２にてエッチング処理を施すと、その直前のクリーニング用ウエハＣ１を用いたクリーニング処理により、ＰＭ２内部が次ロットを受け入れる状態に整えられていたにもかかわらず、現ロットの製品ウエハＰ２５の処理によりＰＭ２の内部の雰囲気が変わり、次ロットの処理に悪影響を及ぼすおそれがある。
【００９５】
また、ＰＭ２は、クリーニング処理済みであるがシーズニング後ではないので、ＰＭ２の内部は製品ウエハを処理できる程度に安定な状態に整えられていない。この結果、ＰＭ２にてエッチング処理を施された製品ウエハＰ２５が不良品となり、同一ロット中の他の処理済み製品ウエハとの間に特性上のバラツキが生じ、現ロットに含まれる製品ウエハのすべてを製品として出荷できないおそれがある。
【００９６】
更に、現ロットの製品ウエハＰ２５の処理によりＰＭ２の内部の雰囲気が多少なりとも変わるので、次ロットを受け入れる雰囲気にＰＭ２の内部を整えるためにさらなる処理が必要となる。
【００９７】
そこで、本実施形態にかかる異常発生時割込処理では、以上に示した搬送状態の場合、図７のステップ７１５にて、搬送禁止部２６５は「Ｙｅｓ」と判定し、退避ウェハＰ２５をＰＭ２へ搬送することを禁止する。次いで、ステップ７２０に進んで、搬送先決定部２５５は異常ＰＭの復帰後、退避ウエハＰ２５を復帰したＰＭ１に搬送するように搬送先を決定する。
【００９８】
この結果、図８（ｄ）に示したように、退避ウエハＰ２５は、ＰＭ１の復帰後ＬＬＭ１に搬送され、ＰＭ１にて処理される。これによれば、図８の下部に示したように、退避ウエハＰ２５を正常稼動中のＰＭ２に搬送することを禁止したことにより、ＰＭ１，ＰＭ２ともに現ロットの最終処理ウエハがクリーニング用ウエハＣ１，Ｃ２となるため、同一ロット内のすべての製品ウエハの特性をバラツキなく良好に保つことにより、歩留まりを高く保つことができる。また、現ロットの処理終了時、すべてのＰＭ内部が、次ロットを受け入れる雰囲気に整えられているため、次ロットの処理をスムーズに開始することができる。
【００９９】
なお、図７のステップ７１５にて、正常ＰＭに退避ウエハを搬送することが禁止されていないと判定された場合には、ステップ７２５に進み、搬送先決定部２５５は、退避ウエハの搬送先を正常ＰＭに変更する。この結果、異常ＰＭの復帰を待つことなく退避ウエハを処理することができ、異常時においても現ロットのウエハを効率的に処理することができる。
【０１００】
（他の搬送状況における異常発生時割込処理）
つぎに、他の搬送状況における異常発生時割込処理について説明する。ここでは、図９に示したように、各ロットは、ロットの初めにクリーニング用ウエハＣ１、Ｃ２を用いたクリーニング処理を行い、つぎに、ロット安定ダミーウエハＳ１，Ｓ２を用いたシーズニング処理を行うことによってＰＭ１，ＰＭ２の内部を製品ウエハＰｎの処理に適した雰囲気に整えてから２５枚の製品ウエハＰ１〜Ｐ２５を搬送する。
【０１０１】
図９（ａ）では、ウエハをＯＲ搬送することにより、オペレータにより指定されたロット番号のクリーニング用ウエハＣ１，Ｃ２がＰＭ１、ＰＭ２にそれぞれ搬送され、次いでロット安定ダミーウエハＳ１がＰＭ１に搬送され、製品ウエハＰ１の搬送先がＰＭ１に決定された状態である。この状況においてＰＭ１に異常が発生する。
【０１０２】
（異常発生時割込処理）
このとき起動された図７の異常発生時割込処理では、ステップ７０５にて、退避部２６０は、異常が発生したＰＭ１を搬入先として待機していた製品ウエハＰ１をカセット容器Ｃに退避させ、つぎに、搬送禁止部２６５は、ステップ７１０にて製品ウエハＰ１の搬送先をＰＭ２に定めた場合、ＰＭ２にて退避ウエハの直前に実行される処理を特定する。図９（ｂ）に示したように、退避ウエハＰ１の直前にＰＭ２にて実行される処理はクリーニング処理である。
【０１０３】
次いで、ステップ７１５に進み、搬送禁止部２６５は、所定の条件に基づき、特定された直前処理の次に退避ウエハＰ１を処理することが禁止されているか否かを判定する。本実施形態の場合、正常ＰＭ２の内部をクリーニング後、シーズニングしてから製品ウエハを処理する必要がある。よって、クリーニング後、シーズニング前のＰＭ２の内部は、製品ウエハを処理できる程度に良好な状態に整えられていないので、ＰＭ２にて退避ウエハＰ１を処理すると処理後のウエハＰ１の特性が製品として出荷できるレベルに達しないおそれがある。
【０１０４】
そこで、本実施形態にかかる異常発生時割込処理では、以上に示した搬送状態の場合、図７のステップ７１５にて、搬送禁止部２６５は、正常ＰＭ２に退避ウエハＰ１を搬送することを禁止すると判定し、ステップ７２０に進んで、搬送先決定部２５５は異常ＰＭ１の復帰後、退避ウエハＰ１を復帰したＰＭ１に搬送するように搬送先を決定し、ステップ７９５にて本処理を一旦終了する。
【０１０５】
これによれば、図９の下部に示したように、退避ウエハＰ１を正常稼動中のＰＭ２に搬送することを禁止したことにより、ＰＭ１，ＰＭ２ともにクリーニング用ウエハＣ１，Ｃ２、ロット安定ダミーウエハＳ１，Ｓ２の順に処理された後、製品ウエハＰ１〜Ｐ２５が処理される。このため、すべての製品ウエハの特性を良好に保つことができるとともに、現ロットに含まれる製品ウエハに特性上のバラツキが生じず、歩留まりを高く保つことができる。
【０１０６】
なお、所定期間経過しても異常ＰＭ１が復帰しない場合、再び図７の異常発生時割込処理を起動してもよい。このとき、図９(ｃ)に示したように、ロット安定ダミーウエハＳ２がＰＭ２に搬送された状態であったとする。
【０１０７】
この場合、既に製品ウエハＰ１はカセット容器に退避されているので（ステップ７０５）、ステップ７１０に進んで搬送禁止部２６５は、製品ウエハＰ１の搬送先を再び正常ＰＭ２に定めた場合、ＰＭ２にて退避ウエハＰ１の直前に実行される処理を特定する。この時点では、退避ウエハＰ１の直前にＰＭ２にて実行される処理はシーズニング処理である。
【０１０８】
そこで、搬送禁止部２６５は、ステップ７１５にて特定された直前処理の次に退避ウエハＰ１を処理することは禁止されていないと判定し、ステップ７２５に進んで、搬送先決定部２５５は、退避ウエハＰ１を正常ＰＭ２に搬送するように決定し、ステップ７９５にて本処理を一旦終了する。
【０１０９】
この結果、図９（ｄ）に示したように、ＰＭ１，ＰＭ２ともにクリーニング用ウエハＣ１，Ｃ２、ロット安定ダミーウエハＳ１，Ｓ２の順に処理された後、製品ウエハＰ１〜Ｐ２５が処理される。これにより、異常ＰＭの復帰の状況に応じて、臨機応変に各ウエハを複数のＰＭに搬送することができ、異常時においても処理システム全体の効率を高く維持することができる。
【０１１０】
以上に説明したように、本実施形態に係る処理システム１０によれば、いずれかのＰＭに異常が発生した場合、正常に稼働中の処理室であっても、たとえば、その内部が安定状態に整えられていない場合や次ロットを受け入れる状態に整えられている場合等、ウエハを処理する直前に実行される処理が所定の条件に該当する場合、当該ウエハの搬送を禁止することができる。
【０１１１】
なお、処理システム１０が３以上のＰＭを有する場合、ステップ７１５にて退避ウエハの正常ＰＭへの搬送を禁止すると判定されたとき、ステップ７２０において異常ＰＭの復帰を待ってから復帰したＰＭに退避ウエハを搬送する替わりに、正常稼動している他のＰＭを退避ウエハの新たな搬送先に特定してもよい。
【０１１２】
また、退避部２６０はウエハがＬＬＭに搬入されたとき、ウエハが搬送先のＰＭに搬入されたと定めたが、ウエハがいずれかのＰＭに搬入されたとき、退避部２６０はウエハが搬送先のＰＭに搬入されたと定めるようにしてもよい。
【０１１３】
さらに、搬送禁止部２６５はレシピに示された処理手順に基づき、退避ウエハの新たな搬入先であるＰＭにて実行される直前の処理を判定しても良い。これによれば、ロット安定ダミーウエハを用いずにウエハレスの状態でＰＭをクリーニングやシーズニングする場合でも、搬入先ＰＭで実行される直前の処理を的確に判断することができる。
【０１１４】
以上に説明した各実施形態において、各部の動作はお互いに関連しており、互いの関連を考慮しながら、一連の動作として置き換えることができ、これにより、処理システムの制御装置の実施形態を、処理システムの制御方法の実施形態とすることができる。また、上記各部の動作を、各部の処理と置き換えることにより、処理システムの制御方法の実施形態を、処理システムを制御するための制御プログラムの実施形態とすることができる。また、処理システムを制御するための制御プログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶させることにより、処理システムを制御するための制御プログラムの実施形態を制御プログラムに記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体の実施形態とすることができる。
【０１１５】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【０１１６】
（処理システムの変形例１）
たとえば、上述した搬送処理（図５）、ウエハ処理（図６）および異常発生時割込処理(図７)を実行する処理システム１０は、図１０に示した構成であってもよい。処理システム１０は、カセットチャンバ（Ｃ／Ｃ）４００ｕ１、４００ｕ２、トランスファチャンバ（Ｔ／Ｃ）４００ｕ３、プリアライメント（Ｐ／Ａ）４００ｕ４、プロセスチャンバ（Ｐ／Ｃ）（＝ＰＭ）４００ｕ５、４００ｕ６を有している。
【０１１７】
Ｃ／Ｃ４００ｕ１、４００ｕ２には、処理前のウエハおよび処理済のウエハが収容されるとともに、クリーニング用ウエハおよびロット安定ダミーウエハが収容されている。Ｐ／Ａ４００ｕ４は、ウエハＷの位置決めを行う。
【０１１８】
Ｔ／Ｃ４００ｕ３には、屈伸および旋回可能な多関節状のアーム４００ｕ３１が設けられている。アーム４００ｕ３１は、アーム４００ｕ３１の先端に設けられたフォーク４００ｕ３２上にウエハを保持し、適宜屈伸および旋回しながらＣ／Ｃ４００ｕ１、４００ｕ２とＰ／Ａ４００ｕ４とＰ／Ｃ４００ｕ５、４００ｕ６との間でウエハを搬送するようになっている。
【０１１９】
かかる構成により、処理システム１０は、Ｔ／Ｃ４００ｕ３のアーム４００ｕ３１を用いてウエハをＣ／Ｃ４００ｕ１、４００ｕ２から搬出し、Ｔ／Ｃ４００ｕ３、Ｐ／Ａ４００ｕ４を経由してＰ／Ｃ４００ｕ５、４００ｕ６に搬入し、ウエハに対してエッチング処理などのプロセスを施した後、再び、Ｔ／Ｃ４００ｕ３を経由してＣ／Ｃ４００ｕ１、４００ｕ２へ搬出するようになっている。
【０１２０】
（処理システムの変形例２）
また、本発明の処理システム１０は、図１１に示した構成であってもよい。処理システム１０は、ウエハＷを搬送する搬送システムＨとウエハＷに対して成膜処理またはエッチング処理等の処理を行う処理システムＳとを有している。搬送システムＨと処理システムＳとは、ＬＬＭ４００ｔ１、４００ｔ２を介して連結されている。
【０１２１】
搬送システムＨは、カセットステージ４００Ｈ１と搬送ステージ４００Ｈ２とを有している。カセットステージ４００Ｈ１には、容器載置台Ｈ１ａが設けられていて、容器載置台Ｈ１ａには、４つのカセット容器Ｈ１ｂ１〜Ｈ１ｂ４が載置されている。各カセット容器Ｈ１ｂは、処理前のウエハＷ、処理済のウエハおよびクリーニングやシーズニングに用いるダミー処理用のウエハを多段に収容している。
【０１２２】
搬送ステージ４００Ｈ２には、屈伸および旋回可能な２本の搬送アームＨ２ａ１、Ｈ２ａ２が、磁気駆動によりスライド移動するように支持されている。搬送アームＨ２ａ１、Ｈ２ａ２は、先端に取り付けられたフォーク上にウエハＷを保持するようになっている。
【０１２３】
搬送ステージ４００Ｈ２の端部には、ウエハＷの位置決めを行う位置合わせ機構Ｈ２ｂが設けられている。位置合わせ機構Ｈ２ｂは、ウエハＷを載置した状態で回転台Ｈ２ｂ１を回転させながら、光学センサＨ２ｂ２によりウエハＷの周縁部の状態を検出することにより、ウエハＷの位置を合わせるようになっている。
【０１２４】
ＬＬＭ４００ｔ１、４００ｔ２には、その内部にてウエハＷを載置する載置台がそれぞれ設けられているとともに、その両端にてゲートバルブｔ１ａ、ｔ１ｂ、ｔ１ｃ、ｔ１ｄがそれぞれ設けられている。かかる構成により、搬送システムＨは、カセット容器Ｈ１ｂ１〜Ｈ１ｂ４とＬＬＭ４００ｔ１、４００ｔ２と位置合わせ機構Ｈ２ｂとの間でウエハＷを搬送するようになっている。
【０１２５】
処理システムＳには、トランスファチャンバ（Ｔ／Ｃ）（＝ＴＭ）４００ｔ３および６つのプロセスチャンバ（Ｐ／Ｃ）４００ｓ１〜４００ｓ６（＝ＰＭ）が設けられている。Ｔ／Ｃ４００ｔ３は、ゲートバルブｓ１ａ〜ｓ１ｆを介してＰ／Ｃ４００ｓ１〜４００ｓ６にそれぞれ連結されている。Ｔ／Ｃ４００ｔ３には、屈伸および旋回可能なアームＳａが設けられている。
【０１２６】
かかる構成により、処理システム１０は、搬送システムＨから処理システムＳに搬送されたウエハを、アームＳａを用いてＬＬＭ４００ｔ１、４００ｔ２からＴ／Ｃ４００ｔ３を経由してＰ／Ｃ４００ｓ１〜４００ｓ６に搬入し、ウエハに対してエッチング処理などのプロセスを施した後、再び、Ｔ／Ｃ４００ｔ３を経由してＬＬＭ４００ｔ１、４００ｔ２へ搬出し、搬送アームＨ２ａ１、Ｈ２ａ２がこれを受けとってカセット容器Ｈ１ｂに戻す。
【０１２７】
図１０及び図１１に示したように、ＰＭが３以上存在する処理システム１０においても、ウエハは各Ｐ／Ｃに順番に搬送される。このように、３以上のＰＭ（処理室）にウエハを順番に搬送する場合もＯＲ搬送の概念に含まれる。この場合にも、図７の異常発生時割込処理を実行することにより、正常に稼動している処理室の状態及び異常が発生した処理室の状況に応じて、臨機応変に各被処理体を複数の処理室に搬送することができ、異常時においても処理システム全体の効率を高く維持することができる。
【０１２８】
本発明にかかる処理システムの処理室の数はいくつであってもよい。また、本発明に用いられる被処理体は、シリコンウエハに限られず、石英やガラス等の基板であってもよい。
【０１２９】
また、処理室にて所望の処理を実行する装置の一例としては、エッチング装置、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長法）装置、アッシング装置、スパッタリング装置、コータデベロッパ、洗浄装置、ＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing：化学的機械的研磨）装置、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition：物理気相成長法）装置、露光装置、イオンインプランタなどが挙げられる。これらの装置は、マイクロ波プラズマ処理装置、誘導結合型プラズマ処理装置および容量結合型プラズマ処理装置などによって具現化されてもよい。
【０１３０】
さらに、本発明にかかる制御装置は、ＥＣ２００のみで具現化されてもよいし、ＥＣ２００とＭＣ３００とから具現化されていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１３１】
【図１】本発明の一実施形態にかかる処理システムの概念図である。
【図２】同実施形態にかかる処理システムの内部構成図である。
【図３】同実施形態にかかるＥＣのハードウエア構成図である。
【図４】同実施形態にかかるＥＣの機能構成図である。
【図５】同実施形態にて実行される搬送処理ルーチンを示したフローチャートである。
【図６】同実施形態にて実行されるウエハ処理ルーチンを示したフローチャートである。
【図７】同実施形態にて実行される異常発生時の割り込み処理ルーチンを示したフローチャートである。
【図８】同実施形態にかかる処理システム内の搬送状態を示した図である。
【図９】同実施形態にかかる処理システム内の搬送状態を示した他の図である。
【図１０】処理システムの他の内部構成図である。
【図１１】処理システムの他の内部構成図である。
【図１２】関連する処理システム内の搬送状態を示した図である。
【図１３】関連する処理システム内の搬送状態を示した他の図である。
【符号の説明】
【０１３２】
１００    ホストコンピュータ
２００    ＥＣ
２５０    記憶部
２５５    搬送先決定部
２６０    退避部
２６５    搬送禁止部
２７０    ウエハ処理制御部
２７５    通信部
２８０    搬送制御部
３００、３００ａ〜３００ｄ  ＭＣ
ＰＳ１，ＰＳ２  プロセスシップ
ＰＭ１，ＰＭ２  プロセスモジュール
ＬＬＭ１，ＬＬＭ２  ロードロックモジュール
ＴＲ  搬送ユニット
ＡＬ  位置合わせ機構
ＣＳ  カセットステージ
Ｃ    カセット容器
Ｐ１〜Ｐ２５  製品ウエハ
Ｃ１，Ｃ２    クリーニング用ウエハ
Ｓ１，Ｓ２    ロット安定ダミーウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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