(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
排気処理を行う排気ゾーンを備え、排気カートが炉内移動可能な連続炉において、少なくとも排気手段を搭載した前記排気カートに複数のパネルを保持し、各パネルのチップ管と排気カートの排気ヘッドとを接続するとともに、前記排気カートが前記排気ゾーンに至ると、前記排気ヘッドと排気手段をそれぞれ開閉弁を有する排気管で排気ヘッダを介して接続して当該排気カートを炉内移動させながら排気処理をするにあたり、前記排気ゾーン内で前記排気カートを移動させながら前記複数のパネルを排気処理している間に、前記排気ヘッダに取り付けた真空計が所定の真空度を示すか否かにより前記複数のパネルの排気不良を検知し、前記複数のパネルの排気不良を検知した場合、各パネルの前記開閉弁を全て閉としたのち、各パネルの開閉弁を順次開閉して各パネルの真空度を測定し、この測定真空度が許容範囲以外のものを不良品パネルとすることを特徴とする排気カート式連続排気処理における不良品パネルの検知方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の中空パネルの内部を排気カートで連続排気処理をする場合における不良品パネルの検知方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ＰＤＰ等のパネル内を真空排気する方法として、バッチ処理方式と連続処理方式とがあるが、いずれの方式においても、真空排気処理は複数のパネルをほぼ垂直状態あるいは水平状態に保持して炉内に位置させるとともに、各パネルに取り付けたチップ管をそれぞれ排気ヘッドに接続し、また、各排気ヘッドは排気ヘッダを介して真空排気装置（真空ポンプ）に接続することで行われる。なお、ＰＤＰにおいては、パネル内を真空排気した後、放電ガスを封入する必要があることから、前記排気ヘッダに放電ガス供給管が接続されている。
【０００３】
このため、チップ管と排気ヘッドとの接続不良、パネルの封着不良あるいはチップ管の破損等の排気不良の原因となる欠陥が一部のパネルにあれば、また、排気処理中に発生すると、各パネルの排気ヘッドが排気ヘッダを介して真空排気装置（真空ポンプ）に接続されているため、全てのパネルが排気不良になる。
【０００４】
ところで、前記排気不良の検知は、前記排気ヘッダに真空計を取り付け、この真空計により排気ヘッダの真空度状態を監視することで行われる。たとえば、排気処理中にチップ管の破損が生じると、排気ヘッダの真空度は急激に低下する。この場合、バッチ処理方式では、オペレータが手動で各パネルの排気用開閉弁を操作して不良品パネルを特定し、特定したパネルの排気用開閉弁を閉状態にすることで対応している。このような対応は、連続処理方式では、複数のパネルを積載した排気カートを炉内移動させながら排気処理を行うことから、バッチ処理方式と同様の対応（人手による確認）は作業安全面から困難であり、排気処理完了後（連続炉から搬出した後）、前記真空計により排気ヘッダの真空度状態を確認することで対応していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、連続処理方式におけるこの対応は、排気カートに搭載している複数パネルのうち１枚が不良であっても排気カートに搭載した全てのパネルは排気不良の状態下で所定の排気処理を施すことになるため、生産効率が低下するという問題が生じる。
【０００６】
本発明は、排気処理中に排気不良の原因となったパネルを検知し、残りのパネルの排気処理を継続することで生産性の低下を防止するようにした排気カート式排気処理における不良品パネルの検知方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記目的を達成するために、排気処理を行う排気ゾーンを備え、排気カートが炉内移動可能な連続炉において、少なくとも排気手段を搭載した前記排気カートに複数のパネルを保持し、各パネルのチップ管と排気カートの排気ヘッドとを接続するとともに、前記排気カートが前記排気ゾーンに至ると、前記排気ヘッドと排気手段をそれぞれ開閉弁を有する排気管で排気ヘッダを介して接続して当該排気カートを炉内移動させながら排気処理をするにあたり、前記排気ゾーン内で前記排気カートを移動させながら前記複数のパネルを排気処理している間に、前記排気ヘッダに取り付けた真空計が所定の真空度を示すか否かにより前記複数のパネルの排気不良を検知し、前記複数のパネルの排気不良を検知した場合、各パネルの前記開閉弁を全て閉としたのち、各パネルの開閉弁を順次開閉して各パネルの真空度を測定し、この測定真空度が許容範囲以外のものを不良品パネルとする排気カート式連続排気処理における不良品パネルの検知方法を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態を図１〜図５にしたがって説明する。
本発明に適用される排気カート式連続炉Ｔは、封着処理に引続き排気処理するもので、図１および図２に示すように、炉床に開口部７を全長にわたって有するとともに各々複数の室からなる封着処理ゾーンＡ、排気ゾーンＢおよび冷却ゾーンＣとからなる。
【０００９】
そして、封着処理ゾーンＡと排気ゾーンＢは、図２に示すように、炉内に循環バッフル１が設けられるとともに、循環通路２にラジアントチューブバーナまたは電熱ヒータ等の熱源３が配置され、炉内雰囲気は循環ファン４により吸入口５から吸引され、前記熱源３により加熱され、吐出口６から吐出することにより炉内を循環し、下記するガラスパネル組立体Ｐ１を加熱する。
【００１０】
なお、冷却ゾーンＣは前記封着処理ゾーンＡ（排気ゾーンＢ）における熱源３に加えて外気導入開口あるいは冷却チューブ等の冷却源（図示せず）を有するもので、他の構成は前記封着処理ゾーンＡ（排気ゾーンＢ）と同一である。
【００１１】
前記ガラスパネル組立体Ｐ１は、図４に示すように、表面ガラス基板Ｗ１とチップ管Ｐａ付裏面ガラス基板Ｗ２とのいずれか一方の対向する外周縁部に、融着用ガラスペーストからなる封着剤Ｓを塗布して重ね合わせ、クリップ等の治具Ｋにより一体に固定したものである。
【００１２】
図４に示す治具Ｋは、チップ管Ｐａ部分に適用するもので、チップ管Ｐａ側の一片ａにチップ管Ｐａの径より少し巾の広い長溝ｂを設け、この長溝ｂ内にチップ管Ｐａを位置させた状態で、貫通孔ｃを有する保持部材ｄを嵌合させることでチップ管Ｐａを支持するようにしたものである。なお、チップ管Ｐａの支持方法は前記保持部材ｄに限らず、他の構成としてもよい。
【００１３】
また、チップ管Ｐａ以外の部分を固定するクリップには前記長溝ｂは不必要である。
【００１４】
排気カート１０は、図２および図３に示すように、前記排気カート式連続炉Ｔの炉床下に敷設したレールＲ上をプッシャ（図示せず）により移動するもので、排気カート１０の上面には前記カート式連続炉Ｔの開口部７を貫通して炉内に位置する支柱１１ａと下記するガラスパネル組立体Ｐ１をほぼ垂直状態で炉巾方向に保持する保持部材１１ｂとからなる取付部材１１が複数配設されている。また、この取付部材１１の支柱１１ａには開口部７と若干の間隙をもって開口部７を遮蔽する断熱部材１２を排気カート１０の全長にわたって備えている。
【００１５】
さらに、排気カート１０には真空排気ポンプ１４を有する真空排気系と放電ガスボンベ１５を有する放電ガス供給系とが搭載されており、両者は電磁式開閉弁１６ａ，１６ｂを介して排気ヘッダ１７に接続され、排気ヘッダ１７には先端に排気ヘッド１８を備えた複数の排気管１９が電磁式開閉弁２０を介して接続されているとともに、真空計２１が取り付けられている。さらにまた、排気カート１０には下記するガラスパネルＰ２のチップ管Ｐａを溶断する封止ヒータ２３を備えている。
【００１６】
さらに、前記真空計２１には制御器２２が接続されており、下記するように、前記ガラスパネルＰ２が排気工程に入り、真空計２１が所定の真空度を表示しなかった場合、前記制御器２２がこれを検知して前記電磁式開閉弁２０を一旦全開としたのち、順次開閉して各ガラスパネルＰ２の真空度を真空計２１で読み取り、所定許容範囲外の不良品パネルを記憶するとともに警報を発する。これと同時に、当該不良品ガラスパネルの電磁式開閉弁２０を閉とし、他のガラスパネルＰ１の電磁式開閉弁２０を順次開閉してその真空度を検知する。なお、前記各ガラスパネルＰ２の真空度の検知工程は前記制御器２２に内蔵されたプログラムにしたがってなされ、そのデータは当該排気カート１０が炉外に搬出されたとき打出されるようになっている。
【００１７】
前記レールＲは図１に示すように、排気カート式連続炉Ｔの下方と、炉の側方（リターンライン部）にも設けられ、両端は装入，抽出トランスファーカーＴｆ１，Ｔｆ２で接続され、前記排気カート１０は循環使用されるとともに、前記冷却ゾーンＣと抽出トランスファーカーＴｆ２との間に、放電ガス封入・封止ゾーンＺｇが設けてある。
【００１８】
つぎに、本発明にかかる排気カート式連続排気処理における不良品パネルの検知方法を説明する。
【００１９】
まず、前記ガラスパネル組立体Ｐ１を積込み・積卸しゾーンＺで排気カート１０に積込む。
この場合、前記ガラスパネル組立体Ｐ１は図２および図３に示すように、チップ管Ｐａを断熱部材１２に設けた貫通孔１３に挿通し、たとえば、図示しないクリップ等の適宜手段により取付部材１１に固定して排気カート１０上にほぼ垂直状態でカート巾方向に載置固定するとともに、前記チップ管Ｐａは前記排気ヘッド１８に接続される。また、封止ヒータ２３がチップ管Ｐａ部に取り付けられる。
【００２０】
前述のように、複数のガラスパネル組立体Ｐ１を載積した排気カート１０は適宜手段で装入トランスファーカーＴｆ１に至り、ここで、排気カート式連続炉Ｔの装入側に移動し、プッシャ等により連結状態で順次排気カート式連続炉Ｔ内に装入されるとともに、排気カート式連続炉Ｔ内を間欠搬送される。したがって、前記開口部７は殆ど各排気カート１０の断熱部材１２で閉鎖された状態になる。
【００２１】
前記排気カート１０が排気カート式連続炉Ｔ内を移動する間に、ガラスパネル組立体Ｐ１は所定のヒートカーブにもとづいて加熱・冷却される。まず、ガラスパネル組立体Ｐ１は封着処理ゾーンＡで封着剤Ｓが溶融して両ガラス基板Ｗ１，Ｗ２を封着してガラスパネルＰ２とするとともに、チップ管Ｐａを封着する。そして、排気ゾーンＢに至ると、前記電磁式開閉弁１６ａを開、前記各電磁式開閉弁２０を開として各ガラスパネルＰ２内を真空排気ポンプ１４に連通し、各ガラスパネルＰ２内は１０−４〜１０−７Ｔｏｒｒまで排気されながら冷却ゾーンＣを経て炉外に搬出され、放電ガス封入・封止ゾーンＺｇに至ると、真空排気ポンプ１４を停止するとともに前記電磁式開閉弁１６ａを閉、１６ｂを開にすることにより放電ガスボンベ１５からたとえば、ネオン（Ｎｅ）、アルゴル（Ａｒ）あるいはキセノン（Ｘｅ）等の放電ガスをガラスパネルＰ２内に規定圧力（４００〜７６０Ｔｏｒｒ）まで封入する。
【００２２】
そして、前記放電ガスの封入が完了すると、封止ヒータ２３に通電してチップ管Ｐａを封じ切り、所定のＰＤＰとする。
【００２３】
その後、排気カート１０は抽出トランスファーカーＴｆ２を通って積込み・積卸しゾーンＺに移行し、ここで前記処理済ＰＤＰを積卸すとともに新規なガラスパネル組立体Ｐ１を積込み、前述の工程を繰り返す。
【００２４】
しかしながら、前記方法においては、排気カート式連続炉Ｔ内で各ガラスパネル組立体Ｐ１が封着されてガラスパネルＰ２となるが、１台の排気カート１０に搭載された複数のガラスパネルＰ２は１台の排気手段（真空ポンプ１４）により同時に排気処理されるため、一部のガラスパネルＰ２に封着不良、排気ヘッド１８とチップ管Ｐａとの接続不良あるいはチップ管Ｐａに破損等の排気不良の原因となる欠陥があれば、当該排気カート１０に搭載されたの全ガラスパネルＰ２が排気不良となる。
【００２５】
したがって、前記排気処理途中で、たとえば、排気ヘッダ１７に取り付けた真空計２１の真空度が急激に低下する（図５、ａ点参照）と、制御器２２がこれを検知して前記各電磁式開閉弁２０を一旦閉とするとともに警報を発して当該排気カート１０に搭載しているガラスパネルＰ２中に不良品が存在することを知らせる。その後、前記電磁式開閉弁２０をプログラムにしたがって順次開閉することで、不良品ガラスパネルを特定する。
【００２６】
すなわち、確認対象のガラスパネルＰ２が良品であると、排気ヘッダ１７に取り付けた真空計２１は所定の真空度を示すが、不良品であれば前記真空計２１は所定の真空度を示さないため、前記操作を繰り返して、不良品のガラスパネルＰ２を特定するとともにそのデータを記録する。なお、つぎのガラスパネルＰ２の真空度チェックに移行する際には、確認完了のガラスパネルＰ２の電磁式開閉弁２０は一旦閉とする。
【００２７】
前述のようにして、各ガラスパネルＰ２の真空度チェックが完了すると、不良品ガラスパネルの電磁式開閉弁２０を閉状態とし、他の電磁式開閉弁２０を開として排気処理を継続する。なお、排気ヘッダ１７の真空計２１が規定時間内に所定の真空度を示さない場合も同様な処理を行うものである。
【００２８】
そして、当該排気カート１０が冷却ゾーンＣを経て炉外に搬出されると、前記データから不良品ガラスパネルＰ２を特定し、現物確認のうえ、製品として使用できるか否かの最終決定を行い、良品のガラスパネルに放電ガスを封入し、積込み・積降しゾーンＺで他と区別して積降しを行うものである。
【００２９】
前記実施の形態では、各ガラスパネル組立体Ｐ１は排気カート１０上にほぼ垂直状態で保持する形式であるが、図６および図７に示すように、ガラスパネル組立体Ｐ１を水平状態で保持し、かつ、所定間隔をあけて段積みに、しかも若干ずらして保持するとともに、チップ管Ｐａを複数個所、たとえば、対称位置に２ヶ所設けた構成とする一方、排気カート１０に、前記第１実施形態に示す排気手段を２組設け、各排気手段の各排気ヘッド１８の排気管１９をパージガス供給管および放電ガス供給管に切換接続するガスヘッダ２４に電磁式開閉弁２５を介して接続するとともに、各排気ヘッダ１７の真空計２１，２１を共通の制御器２２に接続した構成としてある。
【００３０】
そして、各ガラスパネル組立体Ｐ１の各チップ管Ｐａ１，Ｐａ２を別個の排気手段の排気ヘッド１８に接続し、ガラスパネルＰ２内の排気工程の初期に、両チップ管Ｐａ１とＰａ２からガラスパネルＰ２内を排気、ついで一方のチップ管Ｐａ１からパージガスを供給して他方のチップ管Ｐａ２から排出し、再度ガラスパネルＰ２内を排気したのち他方のチップ管Ｐａ２からパージガスを供給、チップ管Ｐａ１から排出する工程を複数回繰り返すことからなる排気処理を行ってもよい。
【００３１】
なお、ガラスパネル組立体Ｐ１を若干ずらして保持する形式は、ガラスパネル組立体Ｐ１をほぼ垂直状態で保持する形式にも適用でき、また、ガラスパネルＰ２内の排気処理の初期に１本のチップ管によりパージガスの供給と排気を複数回繰り返すことからなる排気処理を行うようにしてもよいものである。
【００３２】
前記各実施の形態においては、ガラスパネル組立体Ｐ１を封着・排気処理を行うものについて述べたが、チップ管Ｐａが予め封着されたガラスパネルＰ２であってもよく、この場合は封着工程を経ることなく連続排気処理するものである。
【００３３】
また、前記説明では真空排気される対象物として、ガラスパネルを示したが、これに限らず、合成樹脂パネルあるいは金属パネルであってもよい。
【００３４】
さらに、前記説明では、パネルＰ２内を排気したのちガスを封入する場合について述べたが、ガスを封入することなくチップ管Ｐａを封止して断熱パネルとする場合であってもよい。
【００３５】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、排気処理を行う排気ゾーンを備え、排気カートが炉内移動可能な連続炉において、少なくとも排気手段を搭載した前記排気カートに複数のパネルを保持し、各パネルのチップ管と排気カートの排気ヘッドとを接続するとともに、前記排気カートが前記排気ゾーンに至ると、前記排気ヘッドと排気手段をそれぞれ開閉弁を有する排気管で排気ヘッダを介して接続して当該排気カートを炉内移動させながら排気処理をするにあたり、前記排気ゾーン内で前記排気カートを移動させながら前記複数のパネルを排気処理している間に、前記排気ヘッダに取り付けた真空計が所定の真空度を示すか否かにより前記複数のパネルの排気不良を検知し、複数のパネルの排気不良を検知すると、排気手段を駆動したまま各パネルの開閉弁を一旦全て閉としたのち、開閉弁を順次開閉することにより各パネルの排気状態を検知するものである。
【００３６】
したがって、不良品とされたパネル以外の開閉弁を開とすることにより、良品のパネルの排気処理が継続して行え生産性の効率低下を最小限とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明にかかるガラスパネルのカート式処理設備の概略平面図。
【図２】  図１の封着処理（排気）ゾーンの拡大断面図。
【図３】  ガラスパネル組立体を取り付けた排気カートの断面図。
【図４】  ガラスパネル組立体の説明用部分斜視図。
【図５】  排気工程における不良品パネルの検知状態を示す排気曲線。
【図６】  排気カートの他の実施形態を示す断面図。
【図７】  図６のパネルの積層状態を示す平面図。
【符号の説明】
Ｔ〜排気カート式連続炉、Ａ〜封着処理ゾーン、Ｂ〜排気ゾーン、Ｃ〜冷却ゾーン、Ｐａ〜チップ管、Ｐ１〜パネル組立体、Ｐ２〜パネル、Ｗ１〜表面ガラス基板、Ｗ２〜裏面ガラス基板、７〜開口部、１０〜排気カート、１４〜真空排気ポンプ、１５〜放電ガスボンベ、１６ａ，１６ｂ，２０〜（電磁式）開閉弁、１７〜排気ヘッダ、１８〜排気ヘッド、１９〜排気管、２１〜真空計、２２〜制御器。
【図１】
0005005133.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0005005133.tif 000008