(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内に蒸着材料を収容する蒸発源と被蒸着体とを配置すると共に、前記蒸発源と被蒸着体との間を前記蒸着材料が気化される温度に加熱された筒状体で囲み、前記蒸発源から気化した蒸着材料を前記筒状体内を通して前記被蒸着体の表面に蒸着させる真空蒸着装置において、
前記筒状体外に設けられ、前記蒸発源から気化した蒸着材料を付着させてその蒸着膜厚を計測する膜厚計測部と、
前記筒状体の内部空間と前記膜厚計測部との間を接続して設けられ、前記蒸発源から気化した蒸着材料を前記膜厚計測部に誘導する誘導路と、を備え、
前記誘導路は、屈曲部を備えると共に、誘導路ヒータが設けられ、前記蒸着材料が気化される温度に加熱されることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
前記誘導路は、前記筒状体の側部の前記蒸発源の近傍に接続されることを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置。
【請求項３】
前記誘導路を開閉して前記膜厚計測部へ流れる気化した蒸着材料の流量を調整可能に形成されると共に、前記蒸着材料が気化される温度に加熱される誘導路開閉手段を更に備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空雰囲気で蒸着材料を気化させると共に被蒸着体の表面に所定の蒸着レートで蒸着材料を蒸着させる真空蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空蒸着装置は、真空チャンバ内に蒸着材料を収容した蒸発源と被蒸着体とを対向させて配置し、真空チャンバ内を減圧させて真空雰囲気とした状態で蒸発源を加熱して蒸着材料を気化させ、気化させた蒸着材料を被蒸着体の表面に堆積させることによって蒸着を行うものである。一般的な蒸発源の加熱方法としては、蒸発源に加速させた電子を照射する電子ビーム法や、タングステンやモリブデン等の高融点金属から成る抵抗体に電流を流してこれを発熱させ、この抵抗体を用いて蒸発源を加熱する抵抗加熱法等がある。これらの加熱方法によって気化された蒸着材料の気化分子は、蒸発源から放射状に拡散するので、被蒸着体へ向かって進行しない蒸着材料が多い。このような被蒸着体へ向かって進行しない蒸着材料は、被蒸着体の表面に付着せず、形成に寄与しない無効材料となり、蒸着の歩留まりを低下させると共に、被蒸着体の表面への蒸着速度を低下させる原因となる。
【０００３】
そこで、真空チャンバ内の蒸発源と被蒸着体とが対向する空間を囲むように筒状体を配置して、蒸発源から気化した蒸着材料を、筒状体内を通して被蒸着体の表面に蒸着させると共に、筒状体の内側面を蒸着材料が堆積しない温度に加熱した真空蒸着装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
図４は、この種の真空蒸着装置の構成の一例を示す。真空蒸着装置は、真空チャンバ１０１内に、蒸着材料１０２を収容する蒸発源１０３と、この蒸発源１０３と対向するように被蒸着体１０４とが配置され、蒸発源１０３と被蒸着体１０４との間には筒状体１０５が配置される。蒸発源１０３は、蒸発源ヒータ１０３ａを備え、蒸着材料１０２を気化させる。筒状体１０５は、その周囲に筒状体ヒータ１０５ａが設けられ、その内側面に蒸着材料１０２が堆積されない温度に加熱される。蒸発源１０３から気化した蒸着材料１０２は、直接又は筒状体１０５の内側面で反射されながら被蒸着体１０４の方向へ進み、被蒸着体１０４の表面に堆積する。また、被蒸着体１０４の方向へ直接進行しない蒸着材料１０２は筒状体１０５内でも加熱されるので、筒状体１０５の内側面に蒸着材料１０２が堆積することがなく、歩留まりの低下等を防止することができる。
【０００５】
また、この真空蒸着装置は、気化された蒸着材料１０２を、例えば水晶振動子等の検出素子１６１に付着させて時間当たりの蒸着膜厚（蒸着レート）を計測する膜厚計測部１０６と、筒状体１０５から膜厚計測部１０６へ蒸着材料１０２を誘導する誘導路１０７と、蒸発源１０３の温度を制御するコントローラ１０８とを備える。この真空蒸着装置は、膜厚計測部１０６で計測された蒸着レートに応じて蒸発源ヒータ１０３ａの加熱温度を制御して蒸着材料１０２の蒸着速度を調整する、いわゆるフィードバック制御を行いながら被蒸着体１０４の表面に蒸着膜を形成する。
【特許文献１】特開２００４−５９９８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述した真空蒸着装置は、筒状体１０５から誘導路１０７へ進んだ蒸着材料１０２の一部が誘導路１０７の内側面に付着して、膜厚計測部１０６へ流れる気化された蒸着材料１０２のコンダクタンスを経時的に変化させ、膜厚計測部１０６が蒸着レートを安定的に計測できないことがあった。また、加熱された筒状体１０５からの輻射熱によって膜厚計測部１０６が安定動作せず、正確な蒸着レートを計測できないことがあった。更に、誘導路１０７が蒸発源１０３の近傍に設けられると、蒸着材料１０２が突沸したときに、検出素子１６１の表面に液滴等の塊状の蒸着材料１０２が直接入射してしまい、膜厚計測部１０６が計測した蒸着レートが変動することがあった。そのため、この真空蒸着装置では、正確な蒸着レートに基づいたフィードバック制御を行うことができず、被蒸着体１０４に対して高精度な蒸着膜を形成することが困難であった。
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するものであり、正確な蒸着レートを安定的に計測することができ、この蒸着レートに基づいたフィードバック制御を行うことにより、被蒸着体に対して高精度な蒸着膜を形成することができる真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、真空チャンバ内に蒸着材料を収容する蒸発源と被蒸着体とを配置すると共に、前記蒸発源と被蒸着体との間を前記蒸着材料が気化される温度に加熱された筒状体で囲み、前記蒸発源から気化した蒸着材料を前記筒状体内を通して前記被蒸着体の表面に蒸着させる真空蒸着装置において、前記筒状体外に設けられ、前記蒸発源から気化した蒸着材料を付着させてその蒸着膜厚を計測する膜厚計測部と、前記筒状体の内部空間と前記膜厚計測部との間を接続して設けられ、前記蒸発源から気
化した蒸着材料を前記膜厚計測部に誘導する誘導路と、を備え、前記誘導路は、屈曲部を備えると共に、誘導路ヒータが設けられ、前記蒸着材料が気化される温度に加熱されるものである。
【０００９】
請求項２の発明は、請求項１に記載の真空蒸着装置において、前記誘導路は、前記筒状体の側部の前記蒸発源の近傍に接続されるものである。
【００１０】
請求項３の発明は、請求項１又は請求項２に記載の真空蒸着装置において、前記誘導路を開閉して前記膜厚計測部へ流れる気化した蒸着材料の流量を調整可能に形成されると共に、前記蒸着材料が気化される温度に加熱される誘導路開閉手段を更に備えたものである。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１の発明によれば、蒸着材料が誘導路の内側面に堆積することがないので、筒状体から膜厚計測部へ流れる気化された蒸着材料のコンダクタンスを安定化させることができる。また、筒状体と膜厚計測部との距離を、膜厚計測部が筒状体からの輻射熱の影響を受け難くなるよう設定することができ、膜厚計測部を安定動作させることができる。更に、誘導路に備えられた屈曲部により、突沸した蒸着材料が膜厚計測部に直接入射することがないので、突沸によって蒸着レートが変動することもない。そのため、膜厚計測部は正確な蒸着レートを安定的に計測することができ、この蒸着レートに基づいて蒸発源の加熱温度を制御するフィードバック制御を行うことにより、被蒸着体に対して高精度な蒸着膜を形成することができる。
【００１２】
請求項２の発明によれば、膜厚計測部に備えられた検出素子に付着する蒸着材料の相対量が多くなるので、膜厚計測部における検出感度が向上し、より正確に蒸着レートを計測することができると共に、この蒸着レートに基づいてフィードバック制御を行うことにより、被蒸着体に対してより高精度な蒸着膜を形成することができる。
【００１３】
請求項３の発明によれば、被蒸着体に蒸着膜を形成しない待機時間において誘導路を閉鎖して、膜厚計測部への蒸着材料の流入を遮断することにより、膜厚計測部に備えられた検出素子に対する蒸着材料の付着が低減され、検出素子の交換頻度を少なくすることができ、メンテナンスの頻度も少なくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の第１の実施形態に係る真空蒸着装置について、図１を参照して説明する。本実施形態の真空蒸着装置は、真空チャンバ１内に蒸着材料２を収容する蒸発源３と、蒸発源３から気化した蒸着材料２を蒸着させる被蒸着体４と、蒸発源３と被蒸着体４との間に配置される筒状体５とを備える。蒸発源３は、蒸着材料２を加熱する蒸発源ヒータ３ａと、蒸着材料２の加熱温度を検知する適宜の温度センサ（図示せず）とを備える。真空チャンバ１は、蒸着材料２及び被蒸着体４を容易に交換できるよう構成されており、その側面には真空ポンプ（図示せず）が接続される。被蒸着体４は、蒸着作業を行うときに真空チャンバ１内に配置される。
【００１５】
筒状体５は、一方が閉口し、他方が開口した筒状部材であり、蒸発源３が配置される底部５１と、被蒸着体４に向けて気化された蒸着材料２が放出される開口部５２と、底部５１と開口部５２とを連接し、気化された蒸着材料２を被蒸着体４へ導く側部５３とを備える。底部５１及び側部５３は、それらの外部に筒状体ヒータ５ａが設けられ、蒸着材料２が気化される温度に加熱される。気化された蒸着材料２は筒状体５内を通って開口部５２から放出され、被蒸着体４の表面に堆積する。なお、図１は、気化した蒸着材料２が上方向に進んで被蒸着体４に堆積するよう構成された例を示すが、本実施形態の真空蒸着装置は必ずしもこの構成に限られない。例えば、筒状体５が横方向に配置され、気化した蒸着材料２が横方向に進んで被蒸着体４に堆積するよう構成されていてもよい。また、筒状体５は、図示したような直管型に限られず、例えば屈曲型であってもよい。
【００１６】
また、真空蒸着装置は、筒状体５の外部に設けられて蒸着材料２を付着させて時間当たりの蒸着膜厚（蒸着レート）を計測する膜厚計測部６と、筒状体５の内部空間と膜厚計測部６との間を接続するように設けられ、蒸発源３から気化された蒸着材料２を膜厚計測部６へ誘導する誘導路７と、膜厚計測部６が計測した蒸着レートに応じて蒸発源３の温度を制御するコントローラ８とを備える。膜厚計測部６は、例えば、検出素子６１として水晶振動子を備えた水晶振動子膜厚計等が用いられ、蒸着材料２の付着に伴う水晶振動子の振動周波数の変化から蒸着膜厚を検出して蒸着レートを計測すると共に、蒸着レートに関する情報を含む制御信号をコントローラ８へ出力する。コントローラ８は、ＣＰＵ及びメモリ等から成り、膜厚計測部６から受信した制御信号に応じて蒸発源ヒータ３ａの加熱温度を制御して蒸着材料２の蒸着速度を調整する。
【００１７】
筒状体５の側部５３には、開口部（以下、側部開口部という）５４が形成され、この側部開口部５４に誘導路７が接続される。誘導路７は屈曲部７１を備え、この屈曲部７１は蒸発源３と膜厚計測部６とが直面しない屈曲角を有するように形成される。また、誘導路７は、その外周に誘導路ヒータ７ａが設けられ、蒸着材料２が気化される温度に加熱される。
【００１８】
次に、本実施形態の真空蒸着装置の動作を説明する。被蒸着体４に蒸着材料２を蒸着させるとき、まず、真空ポンプを用いて真空チャンバ１内を真空状態に減圧すると共に、筒状体ヒータ５ａ及び誘導路ヒータ７ａを作動させて筒状体５及び誘導路７を加熱する。筒状体５及び誘導路７の温度は、蒸着材料２が気化される温度に設定される。続いて、蒸発源ヒータ３ａを作動させて蒸発源３に収容された蒸着材料２を加熱してこれを気化させる。気化された蒸着材料２は、直接又は側部５３の内側面で反射しながら被蒸着体４の方向へ進み、蒸着材料２と対向するよう配置された被蒸着体４の表面に堆積する。このとき、被蒸着体４の方向へ直接進行しない蒸着材料２は、筒状体５内でも加熱されるので気体状態のまま被蒸着体４へ飛翔する。そのため、側部５３の内側面に蒸着材料２が堆積されず、歩留まりの低下等を防止することができる。
【００１９】
また、気化された蒸着材料２の一部は、側部開口部５４から誘導路７を通って膜厚計測部６の検出素子６１に付着し、膜厚計測部６は時間当りの蒸着膜厚（蒸着レート）を計測する。計測された蒸着レートに関する情報は制御信号に変換されてコントローラ８に入力される。コントローラ８はこの制御信号に応じて蒸発源ヒータ３ａに供給される電力を制御して、蒸着材料２に対する加熱温度を調節することにより、蒸着材料２の蒸着速度を調整する。
【００２０】
ここに誘導路７は、誘導路ヒータ７ａによって蒸着材料２が気化される温度に加熱される。そのため、誘導路７に進入した蒸着材料２が誘導路７の内側面に堆積することはなく、筒状体５から膜厚計測部６へ流れる気化された蒸着材料２のコンダクタンスが安定化する。また、誘導路ヒータ７ａを設けたことにより、誘導路７が長く設計されても蒸着材料２が誘導路７の内側面に堆積しないので、筒状体５と膜厚計測部６との距離を、膜厚計測部６が筒状体５や蒸発源３からの輻射熱の影響を受け難くなるよう設定することができ、膜厚計測部６を安定動作させることができる。そのため、膜厚計測部６は正確な蒸着レートを安定的に計測することができ、コントローラ８はこの蒸着レートに基づいて蒸発源ヒータ３ａの加熱温度を制御して蒸着材料２の蒸着速度を調整することができる。なお、誘導路７は筒状体５に比べて遥かに小さな部材から成るので、誘導路７を蒸着材料２が気化される温度に加熱するために誘導路ヒータ７ａから生じる輻射熱は、筒状体ヒータ５ａからの輻射熱に比べると僅かであり、膜厚計測部６の動作に及ぼす影響は少ない。
【００２１】
また、誘導路７は屈曲部７１を備えるので、蒸発源３で蒸着材料２が突沸しても、膜厚計測部６に液滴等の塊状の蒸着材料２が直接入射することがなく、突沸による蒸着レートの変動を生じることもない。これらの構成を備えたことにより、本実施形態の真空蒸着装置は、正確な蒸着レートを安定的に計測することができ、この蒸着レートに基づくフィードバック制御を行うことにより、被蒸着体４に対して高精度な蒸着膜を形成することができる。
【００２２】
好ましくは、図中に示したように、蒸発源３と筒状体５の開口部５２との間には、気化された蒸着材料２が開口部５２側へ飛翔しながら移動するときの飛翔経路を制御する制御部材５５が設けられる。制御部材５５は、筒状体５の内周の同形状の板材に所定個数の貫通孔を設けて形成されたものである。この制御部材５５を設けることにより、開口部５２を通過する蒸着材料２の濃度を均一にすることができ、被蒸着体４に蒸着される蒸着膜の膜厚の内面分布を均一化することができる。
【００２３】
次に、本発明の第２の実施形態に係る真空蒸着装置について、図２を参照して説明する。本実施形態の真空蒸着装置は、誘導路７が、筒状体５の側部５３のうち、蒸発源３の近傍に接続されているものである。その他の構成は上記第１の実施形態と同様である。蒸発源３の近傍は、筒状体５内の他の部分と比べて、気化された蒸着材料２の濃度が高くなる。そのため、蒸発源３の近傍に誘導路７を接続することにより、膜厚計測部６に備えられた検出素子（例えば水晶振動子）の表面に付着する蒸着材料２の相対量が多くなり、膜厚計測部６における検出感度が向上する。これにより、本実施形態の真空蒸着装置は、より正確に蒸着レートを計測することができ、この蒸着レートに基づいてフィードバック制御を行うことにより、被蒸着体４に対して更に高精度な蒸着膜を形成することができる。
【００２４】
次に、本発明の第３の実施形態に係る真空蒸着装置について、図３を参照して説明する。本実施形態の真空蒸着装置は、誘導路７を開閉して膜厚計測部６へ流れる気化した蒸着材料２の流量を調整可能に形成されると共に、蒸着材料２が気化される温度に加熱される誘導路開閉部９（誘導路開閉手段）を更に備えたものである。この誘導路開閉部９は、側部開口部５４の近傍に配置され、誘導路７の開口径に適合するように形成された板状部材を回転又はスライドさせて、誘導路７の開口度合いを任意に調整するものである。なお、誘導路開閉部９の開閉動作は、真空蒸着装置の作動状況に応じて自動的に行われるよう構成されていることが望ましいが、手動で行われてもよい。その他の構成は上記第１又は第２の実施形態と同様である。
【００２５】
通常、真空蒸着装置を用いた蒸着作業においては、被蒸着体４を交換等するために、被蒸着体４に蒸着膜を形成しない待機時間がある。本実施形態においては、この待機時間中に、誘導路開閉部９を作動させて誘導路７を閉鎖して、膜厚計測部６への蒸着材料２の流入を遮断する。そして、フィードバック制御による蒸着を行うときのみ誘導路７を開くようにする。こうすれば、検出素子６１に対する蒸着材料２の付着が低減され、検出素子６１の交換頻度を少なくすることができ、メンテナンスの頻度も少なくなる。本実施形態は、上述した第２の実施形態のように、検出素子６１に蒸着材料２が付着し易い構成において好適に用いられる。
【００２６】
誘導路開閉部９は、図示したように、側部開口部５４の近傍に設けられると、筒状体ヒータ３ａによって筒状体３と共に加熱されるが、必ずしも側部開口部５４の近傍に限らず、誘導路７のいずれの位置に設けられてもよい。また、誘導路開閉部９は、誘導路ヒータ７ａによって誘導路７と共に加熱されるよう構成されてもよく、個別に開閉部ヒータ（図示せず）が設けられてもよい。このように、誘導路開閉部９が、蒸着材料２が気化される温度に加熱されることにより、その表面に蒸着材料２が堆積することはなく、その開閉動作に支障を生じることもない。
【実施例】
【００２７】
以下に、本発明の実施例について、比較例と対比することにより、より具体的に説明する。
【００２８】
（実施例１）
実施例１は、図１に示した第１の実施形態に対応するものである。筒状体５として、内壁の一辺が１００ｍｍ、高さ２３０ｍｍの直方体状の角筒が用いられ、筒状体５の加熱温度は２００℃に設定された。誘導路７が接続される側部開口部５４は、蒸発源３から８０ｍｍの高さに、開口直径が１０ｍｍになるよう形成された。誘導路７は、その内径が側部開口部５４の口径と同じ１０ｍｍに、側部開口部５４との接続部から屈曲部７１までの長さが３０ｍｍ、屈曲部７１から膜厚計測部６までの長さが３０ｍｍになるよう形成された。また、誘導路７は、側部５３との成す角が４０°となるよう接続され、屈曲部７１の角度は１３０°となるよう形成された。膜厚計測部６には、水晶振動子膜厚計が用いられた。
【００２９】
（実施例２）
実施例２は、図２に示した第２の実施形態に対応するものである。誘導路７が接続される側部開口部５４は、蒸発源３から４０ｍｍの高さに形成された。その他の構成は実施例１と同様である。
【００３０】
（実施例３）
実施例３は、図３に示した第３の実施形態に対応するものである。誘導路７が接続される側部開口部５４の近傍に誘導路開閉部９が設けられ、被蒸着体４に蒸着膜を形成するときに誘導路７を開き、蒸着膜を形成しない待機時間に誘導路７を閉鎖した。その他の構成は実施例２と同様である。
【００３１】
（比較例）
比較例は、図４に示した従来の真空蒸着装置に対応するものである。誘導路１０７は、筒状体１０５の側部の、蒸発源１０３から８０ｍｍの高さに接続され、その口径が１０ｍｍ、長さが３０ｍｍとなるよう形成された。また、誘導路１０７は、屈曲部を有しておらず、ヒータ等も設けられていない。その他の構成は実施例１と同様である。
【００３２】
実施例１乃至実施例３及び比較例について、夫々蒸着材料２及び被蒸着体４を配置して蒸着実験を行った。蒸着材料２にはトリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体（（株）同仁化学研究所製「Ａｌｑ３」）を用いた。被蒸着体４にはガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ×厚み０．７ｍｍ）を用い、このガラス基板を蒸発源３から２５０ｍｍの距離に水平に配置した。ガラス基板を配置した後、蒸着レートを４Å／ｓ、形成膜厚を１００ｎｍに設定して、夫々２０回の蒸着実験を繰り返し行った。また、各蒸着実験間には、ガラス基板の交換作業のため、約７分間のガラス基板に蒸着膜を形成しない時間（待機時間）があり、待機時間における蒸着レートを２Å／ｓとした。各蒸着実験で形成された蒸着膜の膜厚は、触針式段差計を用いて計測した。
【００３３】
【表１】
0005024075.tif 000002
【００３４】
表１に示すように、実施例１乃至実施例３では、比較例と比べて、形成された蒸着膜の膜厚の差異が少ない。この結果は、実施例１乃至実施例３において形成された蒸着膜の再現性が高いことを示す。すなわち、実施例１乃至実施例３は、誘導路７が加熱され、しかも膜厚計測部６に対する筒状体５からの輻射熱の影響が少なくなるよう構成されているので、膜厚計測部６は正確な蒸着レートを安定的に計測することができ、この蒸着レートに基づくフィードバック制御を行うことにより、ガラス基板に対して高精度な蒸着膜を形成することができる。また、実施例２及び実施例３は、実施例１と比べて、形成された蒸着膜の再現性が更に高い。これは、誘導路７を蒸発源３の近傍に接続したことにより、膜厚計測部６における検出感度が向上し、より正確に蒸着レートを計測することができ、この蒸着レートに基づくフィードバック制御により、ガラス基板に対して更に高精度な蒸着膜を形成することができることを示す。更に、比較例では、蒸着材料２の突沸による蒸着レートの変動があったのに対して、実施例１乃至実施例３では、誘導路７に屈曲部７１を備えたことにより、突沸による蒸着レートの変動はなかった。
【００３５】
実施例２及び実施例３は、誘導路７が蒸発源３の近傍に接続され、検出素子６１（水晶振動子）に蒸着材料２が付着し易い構成となっているが、実施例３では、誘導路開閉部９を設けたことにより、実施例２よりも水晶振動子の交換回数が少なくなった。なお、実施例３は、実施例２の構成に誘導路開閉部９を付加したものであるが、実施例３における水晶振動子の交換回数が実施例１よりも少ないことから明らかなように、誘導路開閉部９が実施例１の構成に付加されたときも水晶振動子の交換回数を少なくすることができる。
【００３６】
本発明は、突沸を生じ易い有機材料を蒸着材料として蒸着膜を形成するための蒸着装置、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子の発光層を成膜するため蒸着装置に好適に用いられる。有機ＥＬ素子の発光層を成膜するための蒸着装置は、ゲスト蒸着材料及びホスト蒸着材料等を気化させるため、少なくとも２つの蒸発源３が備えられ、コントローラ８は、これらの蒸発源３の加熱温度を個別に制御できるように構成される。すなわち、本発明の真空蒸着装置において、蒸発源３の個数及びこの蒸発源３に収容される蒸着材料の種類等は特に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る真空蒸着装置の一部断面構成図。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る真空蒸着装置の一部断面構成図。
【図３】本発明の第３の実施形態に係る真空蒸着装置の一部断面構成図。
【図４】従来の真空蒸着装置の一部断面構成図。
【符号の説明】
【００３８】
１    真空チャンバ
２    蒸着材料
３    蒸発源
３ａ    蒸発源ヒータ
４    被蒸着体
５    筒状体
５ａ    筒状体ヒータ
５３    側部
６    膜厚計測部
７    誘導路
７ａ    誘導路ヒータ
７１    屈曲部
９    誘導路開閉部（誘導路開閉手段）
【図１】
0005024075.tif 000003
【図２】
0005024075.tif 000004
【図３】
0005024075.tif 000005
【図４】
0005024075.tif 000006