(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体および下記化学式［１］乃至［６］で表される化合物、一般式（１４）で表される化合物、および一般式（１３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であるヒンダートアミン系化合物を含む樹脂組成物であって、該重合体１００質量部に対して、ヒンダートアミン系化合物を０．０５〜５質量部含む樹脂組成物；
【化１】
0004881306.tif 000043
【化２】
0004881306.tif 000044
（式（１４）中、Ｒ２は水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜９のアルコキシ基または炭素原子数２〜９のアシル基を示す。ｍ２は０〜５０の実数である。ｎは重合度を示し２〜５０の実数である。）
【化３】
0004881306.tif 000045
（式（１３）中、Ｒ３およびＲ４は、いずれも水素原子であるか、いずれもメチル基である。
Ｒ５は水素原子である。
Ｘ３はＮである。
Ｗ１およびＷ２は、Ｎ（Ｒ６）を示し、Ｒ６は−Ｃ４Ｈ９である。
Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ１種であってもよく、２種を任意の割合で有していてもよい。
ｍ３は０〜５０の実数、ｎ３は３、ａ３は２、ｂ３は１である。）
【請求項２】
前記重合体が、一般式（２）
【化４】
0004881306.tif 000046
（式（２）中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数である。
Ｒａは、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒｂは、水素原子、又は炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒｃは、炭素原子数２〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲｄ（Ｒｄは、水素原子、又は炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。）である。
Ｒａ、Ｒｂ、ＲｃおよびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。）
で表わされる、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項３】
前記重合体が、下記一般式（７）
【化５】
0004881306.tif 000047
（式（７）中、Ｒａは、炭素原子数２〜２０の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒｂは、水素原子、又は炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
ＲａおよびＲｂは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。）
で表される一種又は二種以上の構造を有する重合体である、請求項１または２に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
前記重合体の共重合比ｙ／ｘが、５０／５０≦ｙ／ｘ≦９５／５である、請求項２または３に記載の樹脂組成物。
【請求項５】
前記重合体が、エチレンおよびテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンからなる共重合体である、請求項１乃至４のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項６】
ヒンダートアミン系化合物の分子量が、５００〜５００００であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項７】
一般式（１４）で表される前記化合物は、化学式［７］または化学式［８］で表される化合物であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の樹脂組成物：
【化６】
0004881306.tif 000048
（式中、ｎは重合度を示し、２〜５０の実数である。）。
【請求項８】
一般式（１３）において、ｍ３は１〜５０の実数である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項９】
一般式（１３）で表される前記化合物は、化学式［９］乃至化学式［１７］のいずれかで表される化合物であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の樹脂組成物：
【化７】
0004881306.tif 000049
【化８】
0004881306.tif 000050
【請求項１０】
鉄原子の含有量が５ｐｐｍ以下である、請求項１乃至９のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項１１】
前記重合体１００質量部に対して、リン系安定剤を０．０１〜１質量部含む、請求項１乃至１０のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項１２】
前記重合体１００質量部に対して、親水性安定剤を０．０５〜５質量部含む、請求項１乃至１１のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項１３】
光学部品の成形に用いられる、請求項１乃至１２のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれかに記載の樹脂組成物を成形して得られる光学部品。
【請求項１５】
光路差付与構造を有する、請求項１４に記載の光学部品。
【請求項１６】
光ピックアップ装置に用いられる、請求項１４または１５に記載の光学部品。
【請求項１７】
前記光ピックアップ装置は、波長の異なる複数の光源を用いるとともに、基板厚の異なる複数種の光情報記録媒体に対して情報の記録または再生が可能である、請求項１６に記載の光学部品。
【請求項１８】
前記光源の少なくとも一つが、３９０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長を有する、請求項１７に記載の光学部品。
【請求項１９】
前記光学部品の少なくとも一部がアクチュエータに保持されて可動可能である、請求項１６乃至１８のいずれかに記載の光学部品。
【請求項２０】
請求項１６乃至１９のいずれかに記載の光学部品を用いた、光ピックアップ装置。
【請求項２１】
３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲の波長を含む光源を有する光学系において用いられる、請求項１４に記載の光学部品。
【請求項２２】
請求項１乃至１３のいずれかに記載の樹脂組成物を光学部品の材料として用いる方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光線透過率等の光学特性に優れる樹脂組成物、該樹脂組成物を成形して得られる光学部品、および光学部品を用いた光ピックアップ装置に関するものである。より詳しくは、４０５ｎｍ前後の、いわゆる青紫光のレーザー光源を用いる光ピックアップ装置、および光ピックアップ装置に用いられる光学部品への使用に最適な樹脂組成物、該樹脂組成物を成形して得られる光学部品および、光学部品を用いた光ピックアップ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在までに、ＣＤ（コンパクト・ディスク）、ＤＶＤ（ディジタル・ビデオ・ディスク、あるいはディジタル・バーサタイル・ディスク）などの光情報記録媒体（光ディスク、あるいはメディアともいう）に対して情報の再生・記録を行うための光ピックアップ装置（光ヘッド、光ヘッド装置などともいわれる）が開発および製造され、一般に普及している。また最近では、より高密度の情報記録を可能とした光情報記録媒体の規格についても研究開発が行われている。
このような光ピックアップ装置は、レーザーダイオードなどの光源から出射された光束を、ビーム整形プリズム、コリメータ、ビームスプリッタ、対物レンズ等の光学部品からなる光学系を介して光ディスクの情報記録面に集光させてスポットを形成する。そして、記録面上の情報記録孔、いわゆるピットからの反射光を、再度光学系を介して今度はセンサー上に集光させ、電気信号に変換することにより情報を再生する。この際、情報記録孔の形状によって反射光の光束も変化するため、これを利用して、「０」、「１」の情報を区別する。なお、光ディスクの情報記録面の上には保護基板として、プラスティック製の保護層、カバーガラスとも言われる保護層が設けられている。【０００３】
またＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ等の記録型メディアに情報の記録を行う場合、記録面上にレーザー光束によるスポットを形成し、記録面上の記録材に熱化学変化を生ぜしめる。これによって、たとえばＣＤ−Ｒの場合は熱拡散性色素が不可逆変化することにより、情報記録孔と同様の形状が形成される。ＣＤ−ＲＷの場合は相変化型材料を用いているため、熱化学変化によって結晶状態と非晶質状態との間で可逆変化するので、情報の書き換えが可能となる。
そしてＣＤ規格の光ディスクから情報を再生するための光ピックアップ装置は、対物レンズの開口数（ＮＡ）が０．４５前後であり、用いられる光源の波長は７８５ｎｍ前後である。また記録用としては、開口数０．５０程度のものが用いられることが多い。なお、ＣＤ規格の光ディスクの保護基板厚さは１．２ｍｍである。
光情報記録媒体としてＣＤが広く普及しているが、ここ数年、ＤＶＤが普及してきている。ＤＶＤは、ＣＤに比べて保護基板厚を薄くし、さらに情報記録孔を小さくすることにより、情報記録量を多くしたものである。ＤＶＤは、ＣＤが約６００〜７００ＭＢ程度であるのに対し、約４．７ＧＢという大容量の記録容量を有し、映画等の動画像を記録した頒布媒体として用いられることが多い。【０００４】
ＤＶＤ規格の光ディスクから情報を再生するための光ピックアップ装置は、原理的にはＣＤ用の光ピックアップ装置と同様の構造を有している。しかしながら、前述のように情報記録孔が小さくなっていること等から、ＮＡが０．６０前後の対物レンズや、６５５ｎｍ前後の光源波長が用いられている。また記録用としては、ＮＡが０．６５程度の対物レンズが用いられることが多い。なお、ＤＶＤ規格の光ディスクの保護基板厚さは０．６ｍｍである。
またＤＶＤ規格の光ディスクについても記録型のものが既に実用化されており、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−ＲＷ／Ｒ、ＤＶＤ＋ＲＷ／Ｒなどの各規格がある。これらに関する技術的原理もまた、ＣＤ規格の場合と同じである。そして上述の通り、さらに高密度・高容量の光ディスクが提案されつつある。このような光ディスクに対しては、４０５ｎｍ前後の光源波長を有する、いわゆる青紫光のレーザー光源が用いられている。「高密度・高容量の光ディスク」については、使用される波長が決まったとしても、保護基板厚、記憶容量、ＮＡ等は一律には決まらない。
記録密度を大幅に向上させるためには、光ディスクの保護基板厚を薄くし、それにともなってＮＡを大きくすることになる。逆に、保護基板厚およびＮＡを、ＤＶＤなどの従来の光ディスクの規格と同様とすることもできる。この際は物理的な記録密度は大幅には増大しないものの、光学系として要求される性能が比較的緩やかになる。
具体的には、保護基板の厚さが０．１ｍｍとなるように薄くしたものや、ＤＶＤと同じ０．６ｍｍにしたものなどが提案されている。【０００５】
上述してきたような光ピックアップ装置に用いられる光学部品の多くは、プラスティック樹脂によって射出成形されたものか、またはガラス製の押圧成形されたものがほとんどである。このうち、後者のガラス製の光学部品は、一般に温度変化に対する屈折率変化が小さい。そのため、熱源となる光源近くに配置されるビーム整形プリズムに用いられるが、その一方で製造コストが比較的高いという問題がある。このため、コリメータ、カップリングレンズ、対物レンズなどの各光学部品への採用は減少している。これに対して前者のプラスティック樹脂製の光学部品は、射出成形によって安価に製造できるというメリットがあるため、最近では非常に多く用いられている。しかしながら、プラスティック素材は使用波長域に吸収を有し、使用に伴い光学性能が劣化することがある。【０００６】
また、情報の再生、いわゆる読み出しを高速で行ったり、あるいは情報の記録を高速で行うためには、光量を向上させて、集光スポットを確実に形成する必要がある。光量を向上させる最も簡単な方法は、レーザーダイオードのパワーをあげることによって、ダイオードの発光量を上昇させることである。しかしながら、使用に伴う光学部品の光学性能の劣化が大きくなり、設計通りの光学性能を達成できなくなるという問題が生じる。また、レーザーのパワー上昇に伴い、雰囲気温度が上昇することも、樹脂の劣化を促進する要因となる。また、高速で作動させるためには、アクチュエータを高速で稼動する必要がある。これにより熱が発生するため、同様に樹脂の劣化を促進する要因となる。
そこで光学部品に用いられるプラスティックの、使用時の光学性能の変化を抑制するための様々な工夫が提案されている。【０００７】
例えば、特許文献１には、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレンの開環重合体の水素添加物などの熱可塑性ノルボルネン系樹脂１００質量部に対し、ヒンダードアミン系耐光安定剤０．０３〜１質量部、フェノール系酸化防止剤０．００２〜２質量部、およびリン系酸化防止剤０．００２〜１質量部を含有する樹脂組成物が記載されている。しかし、特許文献１に記載の樹脂組成物は、光に対する安定性が充分でなく青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に用いるのに適さない。また、フェノール系酸化防止剤とヒンダードアミン系耐光安定剤とから形成される塩により着色するため、透過率を悪化させる欠点があった。また、成形時の発泡が起こりやすく、複屈折が悪いため高精度の光学部品が得られない問題もある。【０００８】
また、特許文献２には、ビニル脂環式炭化水素重合体と、数平均分子量（Ｍｎ）が１，０００〜１０，０００のヒンダードアミン系耐光安定剤とを含有する樹脂組成物が記載されている。この樹脂組成物は、加工安定性に優れ、耐光安定性、耐熱性、透明性に優れた成形体を得ることができると記載されている。この樹脂組成物は前記技術に比較して成形時の発泡性および複屈折は改善されるものの、光に対する安定性は充分でなく青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に用いるのに適さない。また、特許文献２に記載の樹脂組成物は、青紫レーザー光照射により白濁してしまうという欠点があった。【０００９】
また、特許文献３には、環状ポリオレフィン系樹脂、分子量が３００以上、温度２０℃における蒸気圧が１×１０−８Ｐａ以下であり加熱減量測定での５％質量減少温度が２００℃以上であるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤および、分子量が５００以上、温度２０℃における蒸気圧が１×１０−６Ｐａ以下であり加熱減量測定での５％質量減少温度が２５０℃以上であるヒンダードアミン系光安定剤を含有する、耐候性樹脂組成物が開示される。この樹脂組成物は、耐候性および耐光性に優れるとともに、透明性、耐熱性に優れ、成形加工時の発塵性が少なく、光学部品に成形加工した際に優れた光学特性を発揮すると記載されている。この樹脂組成物によれば、耐熱性が向上し、前技術同様に成形時の発泡は抑えられるものの、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤による吸収があり実際には青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に用いるのに適さない。また、吸水率が高いという欠点もあった。【００１０】
また、特許文献４には、ビニル脂環式炭化水素重合体１００質量部および酸化防止剤０．００１〜２．０質量部を含有する樹脂組成物からなるペレットＡと、ビニル脂環式炭化水素重合体１００質量部および耐光安定剤２〜２０質量部を含有する樹脂組成物からなるペレットＢとを、質量比で５≦Ａ／Ｂ≦５０の比率で混合し、次いで、溶融成形する技術が記載されている。この方法によれば、着色がなく、長期に紫外線を照射しても色調変化しない成形体を得ることができると記載されている。しかしながら、成形時の安定性、樹脂の透明性および光に対する安定性ともに充分でなく、実際に青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に用いるのに適さない。また、製造および成形工程が煩雑で、大量生産に向いている方法とは言えない。
また、特許文献５には、芳香族ビニル単量体を付加重合反応させ、次いで芳香環を水素化することによって得られた脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有する重合体（Ａ）と、６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピンのような一分子内に燐酸エステル構造とフェノール構造とを有する酸化防止剤（Ｂ）とを含有する樹脂組成物が開示されている。この樹脂組成物の成形体は、機械的強度に優れ、さらに青紫色レーザーなどの短波長で高強度の光線を照射しても着色しないと記載されている。しかしながら、使用中の樹脂の劣化により光学性能は充分に安定しているとは言えず、青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に用いるのが困難であった。
【特許文献１】特開平９−２６８２５０号公報
【特許文献２】ＷＯ  ０１／０９２４１２
【特許文献３】特開２００１−７２８３９号公報
【特許文献４】特開２００３−２７６０４７号公報
【特許文献５】特開２００４−８３８１３号公報
【発明の開示】
【００１１】
本発明の課題は、成形性、低複屈折、耐熱性、大量生産性、機械強度、光線透過率を維持しつつ、青紫レーザー光源使用中の光線透過率の低下のみならず光学性能劣化の極めて小さい、光学部品に好適な樹脂組成物、該樹脂組成物を成形して得られる光学部品、および光学部品を使用した光ピックアップ装置を提供することである。
【００１２】
本発明者らは、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体および、特定のヒンダートアミン系化合物を含む樹脂組成物が、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
すなわち本発明は、（１）樹脂組成物、（２）光学部品、（３）光ピックアップ装置を提供する。
（１）繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体および下記化学式［１］乃至［６］で表される化合物、一般式（１４）で表される化合物、および一般式（１３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であるヒンダートアミン系化合物を含む樹脂組成物であって、該重合体１００質量部に対して、ヒンダートアミン系化合物０．０５〜５質量部を含む樹脂組成物。
【００１４】
【化１】
0004881306.tif 000002
【化２】
0004881306.tif 000003
（式（１４）中、Ｒ２は水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜９のアルコキシ基または炭素原子数２〜９のアシル基を示す。ｍ２は０〜５０の実数である。ｎは重合度を示し２〜５０の実数である。）
【化３】
0004881306.tif 000004
（式（１３）中、Ｒ３およびＲ４は、いずれも水素原子であるか、いずれもメチル基である。
Ｒ５は水素原子である。
Ｘ３はＮである。
Ｗ１およびＷ２は、Ｎ（Ｒ６）を示し、Ｒ６は−Ｃ４Ｈ９である。
Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ１種であってもよく、２種を任意の割合で有していてもよい。
ｍ３は０〜５０の実数、ｎ３は３、ａ３は２、ｂ３は１である。）
（２）上記（１）に記載の樹脂組成物を成形して得られる光学部品。
（３）上記（２）の光学部品を用いた、光ピックアップ装置。
【００１５】
本発明の樹脂組成物によれば、成形性、低複屈折、耐熱性、大量生産性、機械強度、光線透過率を維持しつつ、青紫レーザー光源使用中の光線透過率の低下のみならず光学性能劣化が極めて小さいため、光学部品に好適に用いることができる。本発明の樹脂組成物からなる光学部品および光ピックアップ装置は、充分な光学性能を持ちながら、紫外に近い領域のレーザ光で用いても劣化を起こし難く、また使用に際して性能に変化が生じ難いことから、工業的に極めて価値がある。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。【００１７】
【図１】本発明に関わる光ピックアップ装置の図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明について詳細に説明する。【００１９】
［繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体］
本発明の繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体（以下、単に「脂環族構造を有する重合体」ともいう）は、重合体の繰り返し単位の少なくとも一部に脂環族構造を有するものであればよく、具体的には一般式（２）で表される１種ないし２種以上の重合体を含むことが好ましい。【００２０】
（化２）
0004881306.tif 000005
式（２）中、ｘ，ｙは共重合比を示し、０／１００≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。ｘ，ｙはモル基準である。
ｎは置換基Ｑの置換数を示し、０≦ｎ≦２の実数であり、好ましくは０である。
Ｒａは、炭素原子数２〜２０、好ましくは２〜１２の炭化水素基よりなる群から選ばれる２＋ｎ価の基である。
Ｒｂは、水素原子、又は、炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
Ｒｃは、炭素原子数２〜１０、好ましくは２〜５の炭化水素基よりなる群から選ばれる４価の基である。
Ｑは、ＣＯＯＲｄである。Ｒｄは、水素原子、又は炭素原子数１〜１０の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。好ましくは、水素原子、又は炭素原子数１〜３の炭化水素基である。
なお、Ｒａ、Ｒｂ、ＲｃおよびＱは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。【００２１】
また前記一般式（２）において、Ｒａは、好ましくは、炭素原子数２〜１２の炭化水素基から選ばれる１種ないし２種以上の２価の基であり、さらに好ましくはｎ＝０の場合、一般式（３）で表される２価の基であり、最も好ましくは、前記一般式（３）において、ｐが０または１である２価の基である。Ｒａの構造は１種のみ用いても、２種以上を併用しても構わない。【００２２】
（化３）
0004881306.tif 000006
ここで、式（３）中、ｐは、０〜２の整数である。【００２３】
また、前記一般式（２）において、Ｒｂの例としては水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基等が挙げられるが、好ましくは、水素原子および／またはメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。【００２４】
また、前記一般式（２）において、Ｒｃの例としては、ｎ＝０の場合、以下の一般式（４）〜（６）などが挙げられる。【００２５】
（化４）
0004881306.tif 000007
式（４）〜式（６）中、Ｒａは一般式（２）に同じ。【００２６】
また、前記一般式（２）において、ｎは好ましくは０である。【００２７】
また、重合のタイプは本発明において全く制限されるものではなく、付加重合、開環重合等の公知の様々な重合タイプを適用することができる。付加重合としては、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合等を挙げることができる。本発明においては、光学性能の劣化を抑制する観点からランダム共重合体を用いることが好ましい。【００２８】
主たる成分として用いられる樹脂の構造が上記のものであると、透明性、屈折率および複屈折率等の光学物性に優れ、高精度の光学部品を得ることができる。【００２９】
（繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体の例示）
前記一般式（２）で表される重合体を大きくわけると、以下の（ｉ）〜（iv）の４種の重合体に大別される。
（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体
（ii）開環重合体またはその水素添加物
（iii）ポリスチレン誘導体の水素添加物
（iv）その他の重合体
以下、順に説明する。【００３０】
［（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体］
（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体は、一般式（７）で表現される環状オレフィン系共重合体である。例えば、エチレンまたは炭素原子数が３〜３０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン由来の構成単位（Ａ）と、環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）とからなる。【００３１】
（化５）
0004881306.tif 000008
式（７）中、Ｒａは、炭素原子数２〜２０、好ましくは２〜１２の炭化水素基よりなる群から選ばれる２価の基である。
Ｒｂは、水素原子、又は炭素原子数１〜１０、好ましくは１〜５の炭化水素基よりなる群から選ばれる１価の基である。
なお、ＲａおよびＲｂは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
ｘ，ｙは共重合比を示し、５／９５≦ｙ／ｘ≦９５／５を満たす実数である。好ましくは５０／５０≦ｙ／ｘ≦９５／５、さらに好ましくは、５５／４５≦ｙ／ｘ≦８０／２０である。ｘ，ｙはモル基準である。【００３２】
（エチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位（Ａ））
エチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位（Ａ）は、下記のようなエチレン、または炭素原子数が３〜３０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン由来の構成単位である。
具体的には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどが挙げられる。これらのなかでは、エチレンが好ましい。これらのエチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位は、本発明の効果を損なわない範囲で２種以上含まれていてもよい。【００３３】
（環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ））
環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、下記一般式（８）、一般式（９）および一般式（１０）で表される環状オレフィン由来の構成単位よりなる群から選ばれる少なくとも１種からなる。
一般式（８）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、以下の構造を有するものである。【００３４】
（化６）
0004881306.tif 000009
式（８）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１である。なお、ｗが１の場合には、ｗを用いて表される環は６員環となり、ｗが０の場合には、この環は５員環となる。Ｒ６１〜Ｒ７８ならびにＲａ１およびＲｂ１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基である。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。また炭化水素基としては、通常、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキル基または芳香族炭化水素基が挙げられる。【００３５】
より具体的には、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、アミル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、オクタデシルなどが挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、上記炭素原子数１〜２０のアルキル基に１個または複数のハロゲン原子が置換した基が挙げられる。またシクロアルキル基としては、シクロヘキシルなどが挙げられ、芳香族炭化水素基としてはフェニル、ナフチルなどが挙げられる。【００３６】
さらに上記一般式（８）において、Ｒ７５とＲ７６とが、Ｒ７７とＲ７８とが、Ｒ７５とＲ７７とが、Ｒ７６とＲ７８とが、Ｒ７５とＲ７８とが、またはＲ７６とＲ７７とがそれぞれ結合して、すなわち互いに共同して、単環または多環の基を形成していてもよい。さらに、このようにして形成された単環または多環が二重結合を有していてもよい。単環よりも多環のほうが少ない含有量で高いガラス転移温度（Ｔｇ）の共重合体を得られるので、耐熱性の面から多環が好ましい。またさらに、少ない環状オレフィン仕込み量で製造できる利点がある。ここで形成される単環または多環の基としては、具体的に以下のようなものが挙げられる。【００３７】
（化７）
0004881306.tif 000010
上記例示において、１または２の番号を付した炭素原子は、上記一般式（８）においてそれぞれＲ７５（Ｒ７６）またはＲ７７（Ｒ７８）が結合している炭素原子を表す。
Ｒ７５とＲ７６とで、またはＲ７７とＲ７８とでアルキリデン基を形成していてもよい。このアルキリデン基は、通常は炭素原子数２〜２０である。アルキリデン基の具体的な例としては、エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデンなどが挙げられる。【００３８】
一般式（９）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、以下の構造を有するものである。【００３９】
（化８）
0004881306.tif 000011
式（９）中、ｘおよびｄは０または１以上の正の整数であり、ｙおよびｚは０、１または２である。また、Ｒ８１〜Ｒ９９は、お互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基またはアルコキシ基であり、Ｒ８９およびＲ９０が結合している炭素原子と、Ｒ９３が結合している炭素原子またはＲ９１が結合している炭素原子とは、直接あるいは炭素原子数１〜３のアルキレン基を介して結合していてもよい。またｙ＝ｚ＝０のとき、Ｒ９５とＲ９２またはＲ９５とＲ９９とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。【００４０】
ハロゲン原子としては、上記式（８）中のハロゲン原子と同じものを例示することができる。
脂肪族炭化水素基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基または炭素原子数３〜１５のシクロアルキル基が挙げられる。より具体的には、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、アミル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、オクタデシルなどが挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロヘキシルなどが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、アリール基、アラルキル基などが挙げられ、具体的には、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチルなどが挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロホキシなどが挙げられる。ここで、Ｒ８９およびＲ９０が結合している炭素原子と、Ｒ９３が結合している炭素原子またはＲ９１が結合している炭素原子とは、直接または炭素原子数１〜３のアルキレン基を介して結合していてもよい。すなわち、上記二個の炭素原子がアルキレン基を介して結合している場合には、Ｒ８９とＲ９３とが、または、Ｒ９０とＲ９１とが互いに共同して、メチレン基（−ＣＨ２−）、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）またはプロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）の内のいずれかのアルキレン基を形成している。
さらに、ｙ＝ｚ＝０のとき、Ｒ９５とＲ９２またはＲ９５とＲ９９とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。具体的には、ｙ＝ｚ＝０のとき、Ｒ９５とＲ９２とにより形成される以下のような芳香族環が挙げられる。単環よりも多環のほうが少ない含有量で高いガラス転移温度（Ｔｇ）の共重合体を得られるので、耐熱性の面から多環が好ましい。またさらに、少ない環状オレフィン仕込み量で製造できる利点がある。【００４１】
（化９）
0004881306.tif 000012
ｌは上記一般式（９）におけるｄと同じである。
一般式（１０）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、以下の構造を有するものである。【００４２】
（化１０）
0004881306.tif 000013
式（１０）中、Ｒ１００とＲ１０１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数１〜５の炭化水素基であり、またｆは１≦ｆ≦１８である。炭素原子数１〜５の炭化水素基としては好ましくはアルキル基、ハロゲン化アルキル基またはシクロアルキル基を挙げることができる。これらの具体例は上記式（８）のＲ６１〜Ｒ７８の具体例から明らかである。【００４３】
上記のような一般式（８）、（９）または（１０）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）として、具体的には、ビシクロ−２−ヘプテン誘導体（ビシクロヘプト−２−エン誘導体）、トリシクロ−３−デセン誘導体、トリシクロ−３−ウンデセン誘導体、テトラシクロ−３−ドデセン誘導体、ペンタシクロ−４−ペンタデセン誘導体、ペンタシクロペンタデカジエン誘導体、ペンタシクロ−３−ペンタデセン誘導体、ペンタシクロ−４−ヘキサデセン誘導体、ペンタシクロ−３−ヘキサデセン誘導体、ヘキサシクロ−４−ヘプタデセン誘導体、ヘプタシクロ−５−エイコセン誘導体、ヘプタシクロ−４−エイコセン誘導体、ヘプタシクロ−５−ヘンエイコセン誘導体、オクタシクロ−５−ドコセン誘導体、ノナシクロ−５−ペンタコセン誘導体、ノナシクロ−６−ヘキサコセン誘導体、シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物の誘導体、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン誘導体、１，４−メタノ−１，４，４ａ，５，１０，１０ａ−ヘキサヒドロアントラセン誘導体、炭素原子数３〜２０のシクロアルキレン誘導体などが挙げられる。【００４４】
また上記の一般式（８）、（９）または（１０）で表わされる環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）の中で、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン誘導体およびヘキサシクロ［６．６．１．１３，６．１１０，１３．０２，７．０９，１４］−４−ヘプタデセン誘導体が好ましく、特にテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンが好ましい。【００４５】
上記のような一般式（８）または（９）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、シクロペンタジエンと対応する構造を有するオレフィン類とをディールス・アルダー反応させることによって製造することができる。これらの一般式（８）、（９）または（１０）で表される環状オレフィン由来の構成単位（Ｂ）は、２種以上含まれていてもよい。また、上記モノマーを用いて重合したものは必要に応じて変成することができ、その場合にモノマー由来の構造単位の構造を変化させることができる。たとえば水素添加処理によって、条件によりモノマー由来の構造単位中のベンゼン環等をシクロヘキシル環とすることができる。
本発明において、「（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体」としては、エチレンと、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンとからなる共重合体であることが好ましい。
また、共重合のタイプは本発明において全く制限されるものではなく、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合等、公知の様々な共重合タイプを適用することができるが、好ましくはランダムコポリマーである。【００４６】
［（ii）開環重合体またはその水素添加物］
（ii）開環重合体またはその水素添加物とは、前記一般式（２）における好ましい例として挙げた構造のうち、一般式（５）で表わされる構成単位を含む環式オレフィン重合体である。
また、環式オレフィン重合体は、極性基を有するものであってもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基などが挙げられる。
環式オレフィン重合体は、通常、環式オレフィンを重合することによって、具体的には、脂環式オレフィンを開環重合することによって得られる。また、極性基を有する環式オレフィン重合体は、例えば、前記環式オレフィン重合体に極性基を有する化合物を変性反応により導入することによって、あるいは極性基を含有する単量体を共重合成分として共重合することによって得られる。【００４７】
環式オレフィン重合体を得るために使用される脂環式オレフィンとして具体的には、
ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、５−メチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，５−ジメチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ブチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ヘキシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−オクチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−オクタデシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エチリデン−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メチリデン−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ビニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−プロペニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メトキシ−カルビニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シアノ−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−メチル−５−メトキシカルボニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−エトキシカルボニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−５−エニル−２−メチルプロピオネイト、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−５−エニル−２−メチルオクタネイト、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸無水物、５−ヒドロキシメチルビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−ｉ−プロピルビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシ−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸イミド、５−シクロペンチル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−シクロヘキセニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、５−フェニル−ビシクロ〔２．２．１〕−ヘプト−２−エン、トリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、トリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカ−３−エン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３，７−ジエン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３，８−ジエン、トリシクロ〔４．４．０．１２，５〕ウンデカ−３−エン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕−トリデカ−２，４，６−１１−テトラエン（別名：１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ〔８．４．０．１１１，１４．０３，８〕−テトラデカ−３，５，７，１２−１１−テトラエン（別名：１，４−メタノ−１，４，４ａ，５，１０，１０ａ−ヘキサヒドロアントラセン）、テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、８−メチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−エチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メチリデン−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−エチリデン−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−ビニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−プロペニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−メチル−８−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシメチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−カルボキシ−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロペンチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロヘキシル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−シクロヘキセニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、８−フェニル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン、ペンタシクロ〔６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３〕−ペンタデカ−３，１０−ジエン、ペンタシクロ〔７．４．０．１３，６．１１０，１３．０２，７〕−ペンタデカ−４，１１−ジエンなどのノルボルネン系単量体；
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテンのごとき単環のシクロアルケン；ビニルシクロヘキセンやビニルシクロヘキサンなどのビニル脂環式炭化水素系単量体；
シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの脂環式共役ジエン系単量体；などが挙げられる。脂環式オレフィンは、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。【００４８】
なお、共重合可能な単量体を必要に応じて共重合させることができる。その具体例としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどの炭素数２〜２０のエチレンまたはα−オレフィン；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどのシクロオレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどの非共役ジエン；等が挙げられる。これらの単量体は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
脂環式オレフィンの重合方法は、格別な制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。これらの開環重合物は、耐熱性、安定性、光学物性の面から、水素添加して用いることが好ましい。水素添加方法は公知の方法を用いることができる。【００４９】
［（iii）ポリスチレン誘導体の水素添加物］
（iii）ポリスチレン誘導体の水素添加物としては、ビニル化合物を単量体として得られる（共）重合体の水素添加物である。ビニル化合物としては、ビニル芳香族化合物、ビニル脂環式炭化水素化合物などを挙げることができる。
ビニル芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチレン、α−イソプロピルスチレン、α−ｔ−ブチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフルオロスチレン、４−フェニルスチレンなどのスチレン類等を挙げることができる。
ビニル脂環式炭化水素化合物としては、ビニルシクロヘキサン、３−メチルイソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘキサン類；４−ビニルシクロヘキセン、４−イソプロペニルシクロヘキセン、１−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、１−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセン、２−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン類等を挙げることができる。【００５０】
本発明においては、前述の単量体と共重合可能な他の単量体を共重合させてもよい。共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、イソブテン、２−メチル−１−ブテン、２−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテンなどのα−オレフィン系単量体；シクロペンタジエン、１−メチルシクロペンタジエン、２−メチルシクロペンタジエン、２−エチルシクロペンタジエン、５−メチルシクロペンタジエン、５，５−ジメチルシクロペンタジエン、ジシクロペンタジエンなどのシクロペンタジエン系単量体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのモノ環状オレフィン系単量体；ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、フラン、チオフェン、１，３−シクロヘキサジエンなどの共役ジエン系単量体；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどのニトリル系単量体；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、などの（メタ）アクリル酸エステル系単量体；アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などの不飽和脂肪酸系単量体；フェニルマレイミド；メチルビニルエーテル；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどの複素環含有ビニル化合物系単量体等が挙げられる。【００５１】
重合に用いる上記単量体の混合物は、耐熱性、低複屈折性、機械強度等の観点から、ビニル芳香族化合物および／またはビニル脂環式炭化水素化合物を、通常、５０質量％以上、好ましくは７０〜１００質量％、より好ましくは８０〜１００質量％含有するものが好ましい。単量体混合物は、ビニル芳香族化合物およびビニル脂環式炭化水素化合物の双方を含有していても構わない。【００５２】
［（iv）その他の重合体］
（iv）その他の重合体としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体とビニル化合物（エチレンや、α−オレフィンなど）との付加重合体、単環シクロアルケンの重合体、脂環式共役ジエン系単量体の重合体、ビニル脂環式炭化水素系単量体の重合体、芳香族オレフィン重合体などが挙げられるが、前記（ｉ）〜（iii）に含まれない構造であっても、一般式（２）の範囲内において、任意に選択可能である。例えば、前記、（ｉ）〜（iii）相互、あるいは、公知の共重合可能なモノマーを共重合せしめたものが挙げられる。【００５３】
また、共重合のタイプは本発明において全く制限されるものではなく、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合等、公知の様々な共重合タイプを適用することができるが、好ましくはランダムコポリマーである。
上記（ｉ）〜（iv）で大別される４種のポリマーのうち、光学特性上好ましいものは（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンとシクロオレフィンとの共重合体であり、その中でも最も好ましいものはエチレン・テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン共重合体である。【００５４】
（主鎖の一部として用いることのできるその他の構造）
また本発明で用いられる、脂環族構造を有する重合体は、本発明の成形方法によって得られる製品の良好な物性を損なわない範囲で、必要に応じて他の共重合可能な単量体から誘導される繰り返し構造単位を有していてもよい。その共重合比は限定されないが、好ましくは２０モル％以下、さらに好ましくは０〜１０モル％であり、共重合量が２０モル％以下であれば、光学物性を損なうことなく、高精度の光学部品を得ることができる。また、共重合の種類は限定されない。【００５５】
（繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体の分子量）
本発明で用いられる脂環族構造を有する重合体の分子量は限定されるものではないが、分子量の代替指標として極限粘度［η］を用いた場合、好ましくは、温度１３５℃のデカリン中で測定される極限粘度［η］が、０．０３〜１０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．０５〜５ｄｌ／ｇであり、最も好ましくは０．１０〜２ｄｌ／ｇである。極限粘度［η］が上記範囲にあると、良好な成形性を得ることができるとともに、成形物の機械的強度が損なわれることがない。【００５６】
（繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体のガラス転移温度）
本発明で使用される繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは、５０〜２４０℃である。さらに好ましくは５０〜１６０℃である。最も好ましくは、１００〜１５０℃である。ガラス転移温度（Ｔｇ）が上記範囲であると、成形品を光学部品として使用する際に、十分な耐熱性を得ることができるとともに、良好な成形性を得ることができる。
ガラス転移温度の測定装置等は限定されるものではない。例えば示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて、熱可塑性非晶性樹脂のガラス転移温度を測定することができる。例えば、ＳＥＩＫＯ電子工業（株）製ＤＳＣ−２０を用いて昇温速度１０℃／分で測定する方法などが挙げられる。【００５７】
このような脂環族構造を有する重合体は、各々以下のようにして製造することができる。
（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体は、例えば、特開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６１−１２０８１６号公報、特開昭６１−１１５９１２号公報、特開昭６１−１１５９１６号公報、特開昭６１−２７１３０８号公報、特開昭６１−２７２２１６号公報、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報などの方法に従い適宜条件を選択することにより製造することができる。（ii）開環重合体またはその水素添加物は、特開昭６０−２６０２４号公報、特開平９−２６８２５０号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開２００１−７２８３９号公報などの方法に従い適宜条件を選択することにより製造することができる。（iii）ポリスチレン誘導体の水素添加物は、ＷＯ  ０１／０９２４１２、特開２００３−２７６０４７号公報、特開２００４−８３８１３号公報などの方法に従い適宜条件を選択することにより製造することができる。
さらに、脂環族構造を有する重合体の製造工程において、少なくとも一度、該重合体または該重合体および原料である単量体を含む系に、水素添加触媒および水素を接触させて、該重合体および／または単量体が持つ不飽和結合の少なくとも一部を水素化することで、該重合体の耐熱性、透明性等の光学性能を向上させることができる。なお、上記水素化いわゆる水素添加は、従来公知の方法で行うことができる。【００５８】
［ヒンダートアミン系化合物］
本発明で使用される、ヒンダートアミン系化合物としては、以下の一般式（１）で表わされる化合物が挙げられる。本発明において用いられるヒンダートアミン系化合物は、立体障害アミン構造を有する。【００５９】
（化１１）
0004881306.tif 000014
式（１）中、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜９のアルコキシ基または炭素原子数２〜９のアシル基であり、好ましくは水素原子またはメチル基、さらに好ましくは水素原子である。このような構造である場合、十分な耐候性を得ることができる。
Ｘは直接結合、または、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、リン原子から選ばれる少なくとも１種を含み、分子量１２〜１００００であるａ＋ｂ価の基を示す。基の構造は限定されないが、分子量が１００００以下であると、樹脂中での十分な移動速度が得られ、光学性能を損なうことなく良好な耐光性を得ることができる。
Ｙは直接結合、または、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、リン原子から選ばれる少なくとも１種を含む分子量１２〜１００００の基を示す。
なお、Ｒ、ＸおよびＹは、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。【００６０】
ａおよびｂはそれぞれの構造単位の分子内における数を示し、いずれも１以上の実数である。ａが０より大きいと耐光性が発現し、ｂが０より大きいと樹脂との親和性が得られる。製造方法によっては、ａおよび／またはｂの一部が０となるものが混入する場合がある。その場合、ａおよび／またはｂの一部が０となるものも用いることができる。またａは１〜５０、好ましくは１〜４０の実数、ｂは１〜５０、好ましくは１〜４０の実数であり、ａ，ｂがこれらの数字範囲内であると、ヒンダートアミン系化合物の樹脂中での十分な移動速度が得られ、光学性能のバランスを損なうことがない。
またｍは０〜５０の実数、好ましくは１〜５０の実数、より好ましくは３〜５０の実数、さらに好ましくは５〜５０、特に好ましくは５〜３４の実数である。上記範囲であると、樹脂との親和性が得られ、良好な耐光性を得ることができる。【００６１】
また、前記一般式（１）で表わされるヒンダートアミン系化合物の好ましい例としては、入手のし易さと安定性等の理由により、以下の一般式（１１）〜（１３）から選ばれる少なくとも１種の構造であることが好ましい。【００６２】
（化１２）
0004881306.tif 000015
式（１１）中、Ａは酸素原子またはＮＨである。Ｒ１は水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜９のアルコキシ基または炭素原子数２〜９のアシル基を示す。Ｘ１は１種ないし２種以上の分子量１２〜１００の炭化水素基を示す。なお、Ａ、Ｒ１およびＸ１は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。ｍ１は０〜５０の実数、ａ１は１〜３の実数、ｂ１は１〜３の実数である。【００６３】
（化１３）
0004881306.tif 000016
（式（１２）中、Ｒ２は水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜９のアルコキシ基または炭素原子数２〜９のアシル基を示す。Ｘ２は分子量１２〜１００００の１種ないし２種以上の炭化水素基を示す。なお、Ｒ２およびＸ２は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。ｍ２は０〜５０の実数、ａ２は１〜５０の実数、ｂ２は１〜５０の実数である。）【００６４】
【化１４】
0004881306.tif 000017
式（１３）中、Ｒ３およびＲ４は、各々独立に水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜９のアルコキシ基、または炭素原子数２〜９のアシル基であり、好ましくは、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基およびアシル基であり、特に好ましくは水素原子とメチル基である。
Ｒ５は水素原子または炭素原子数１〜９のアルキル基であり、好ましくは水素原子および炭素原子数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子とメチル基である。
Ｘ３はＮＨまたは酸素原子であり、特に好ましくはＮＨである。
Ｗ１およびＷ２は、各々独立に酸素原子またはＮ（Ｒ６）を示し、好ましくはＮ（Ｒ６）である。Ｗ１またはＷ２がＮ（Ｒ６）である場合、Ｒ６は水素原子または炭素原子数１〜９のアルキル基であり、特に炭素原子数２〜６のアルキル基が好ましく、ｎ−ブチル基が最も好ましい。
なお、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｗ１、Ｗ２およびＸ３は、それぞれ１種であってもよく、２種以上を任意の割合で有していてもよい。
また、ｍ３は０〜５０の実数であり、好ましくは１〜５０の実数、より好ましくは３〜５０の実数、さらに好ましくは５〜３４の実数、特に好ましくは５〜１７の実数である。ｎ３は２または３であり、好ましくは３である。ａ３は１または２であり、好ましくは２である。ｂ３は１または２であり、好ましくは１である。
式（１３）の化合物におけるｍ３の下限値が１以上であると、式（１３）の化合物は、脂環族構造を有する重合体のうちでも特に、「（ｉ）エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体」との相溶性に優れる。そのため、樹脂組成物から得られる成形体は、青紫色レーザに対する光線透過率の低下のみならず光学性能の劣化を効果的に抑制することができる。
【００６５】
一般式（１１）のヒンダートアミン系化合物の具体例としては以下の化学式［１］〜［６］が挙げられる。【００６６】
（化１５）
0004881306.tif 000018
一般式（１２）の好ましい態様としては、一般式（１４）に示される構造を例示することができる。【００６７】
（化１６）
0004881306.tif 000019
ここで、Ｒ２およびｍ２は一般式（１２）と同様であり、ｎは重合度を示し２〜５０の実数である。【００６８】
一般式（１４）の具体例としては、以下の化学式［７］および化学式［８］が挙げられる。【００６９】
（化１７）
0004881306.tif 000020
ここで、ｎは重合度を示し、２〜５０の実数である。【００７０】
また、一般式（１３）の具体例としては、以下の化学式［９］〜［１７］が挙げられる。【００７１】
（化１８）
0004881306.tif 000021
【００７２】
（化１９）
0004881306.tif 000022
【００７３】
（ヒンダートアミン系化合物の分子量）
一般式（１）で表されるヒンダートアミン系化合物の分子量は限定されるものではないが、光学部品としての具体的な用途、成形物の形状に応じた最適な分子量のものを選択する必要がある。例えば、光ピックアップ装置に用いられる光学部品にはさまざまな形状のものがあり、一概に言えるものではないが、分子量は好ましくは５００〜５００００、さらに好ましくは１０００〜２００００、最も好ましくは１０００〜１００００である。分子量が上記範囲内であれば、樹脂中でのヒンダートアミン系化合物の十分な移動速度を得ることができ、本発明で使用される脂環構造を有する重合体の持つ光学性能を損なうことなく、良好な耐光安定性と光学性能を得ることができる。さらに、ヒンダートアミン系化合物が必要以上に成形体の表面に浮き出ることがなく光学性能も損なわれず好ましい。【００７４】
（ヒンダートアミン系化合物の添加量）
本発明で使用されるヒンダートアミン系化合物の添加量は、脂環族構造を有する重合体１００質量部に対し、好ましくは０．０５〜５質量部であり、さらに好ましくは０．２〜５質量部であり、最も好ましくは、０．４〜４質量部である。ヒンダートアミン系化合物を上記範囲で使用することで、脂環族構造を有する重合体の成形性、機械強度、耐熱性および透明性を損なうことなく、良好な耐光性を得ることができる。【００７５】
（ヒンダートアミン系化合物の製法）
本発明で使用されるヒンダートアミン系化合物として、一般式（１１）および一般式（１２）で表わされる化合物は、市場から容易に入手可能であり、例えば、旭電化工業（株）製、ＡＤＫＳＴＡＢ  ＬＡ−６７、ＢＡＳＦ社製、Ｕｖｉｎｕｌ  ５０５０Ｈなどが例示できる。また一般式（１３）で表わされる化合物は、以下の一般式（１５）で表わされる化合物と一般式（１６）で表わされる化合物とを、カップリングさせることにより製造することができる。【００７６】
（化２０）
0004881306.tif 000023
式（１５）中、Ｒ３およびＲ４は水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜９のアルコキシ基および炭素原子数２〜９アシル基であり、好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基およびアシル基であり、特に好ましくは水素原子とメチル基である。Ｗ１およびＷ２は同一または異なっていてもよく、酸素原子またはＮ（Ｒ６）を示し、好ましくはＮ（Ｒ６）である。Ｗ１またはＷ２がＮ（Ｒ６）である場合、Ｒ６は水素原子または炭素原子数１〜９のアルキル基であり、特に炭素原子数２〜６のアルキル基が好ましく、ｎ−ブチル基が最も好ましい。【００７７】
（化２１）
0004881306.tif 000024
式（１６）中、Ｒ５は水素原子および炭素原子数１〜９のアルキル基であり、好ましくは水素原子および炭素原子数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子とメチル基である。Ｘ３はＮＨまたは酸素原子であり、特に好ましくはＮＨである。
また、ｍ３は０〜５０の実数であり、好ましくは５〜３４の実数、さらに好ましくは５〜１７の実数である。ｎ３は２または３であり、好ましくは３である。ａ３は１または２であり、好ましくは２である。ｂ３は１または２であり、好ましくは１である。【００７８】
一般式（１６）で表わされる２つのアミノ基末端を持つ化合物は、分子内に直鎖または分岐鎖のアルキル鎖末端を持つ市販品のアミンから既知の合成法により入手することができ、例えば特表平９−５０６５０１号公報、特表平９−５０８１７０号公報に記載の方法で合成することができる。【００７９】
以下に、一般式（１５）で表される化合物と一般式（１６）で表される化合物の反応により、本発明の一般式（１３）で表される化合物を得る方法について、さらに詳細に説明する。
一般式（１５）で表される化合物と一般式（１６）で表される化合物とのモル比は、最も好ましくは２：１であるが、いずれか片方の化合物を過剰量供給してもよい。過剰量を用いる場合、その量は好ましい量に対して１．０１〜１０．０倍である。両化合物の反応器への仕込み方は特に制限はなく、例えば、両化合物全量を一括して反応器に移し、反応を開始させてもよいし、片方の化合物中に、もう片方の化合物を反応させながら徐々に添加してもよい。
反応は、脱酸剤の存在下に実施してもよい。使用する脱酸剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルイミダゾール、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）などの有機塩基を挙げることができる。【００８０】
反応に用いる溶媒としては、反応に影響しない溶媒であればよく、特に限定されないが、例えば、水；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテルなどのエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；アセトニトリルなどのニトリル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類；ジメチルスルホキシドなどの含硫黄溶媒；１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）などを挙げることができる。【００８１】
これらの溶媒は単独あるいは混合物として使用することができ、混合物として用いる場合、任意の比で使用できる。なお、原料の一般式（１５）で表される化合物と一般式（１６）で表される化合物は、反応溶媒に溶解させて反応させてもよいし、スラリー状態で反応させてもよい。なお水と相溶しない有機溶媒と水との混合物を反応溶媒として選択した場合は、テトラブチルアンモニウム塩（例えば硫酸水素テトラブチルアンモニウム）などの相間移動触媒を共存させてもよい。
反応溶媒の使用量は特に限定されないが、原料の一般式（１５）で表される化合物１ｇに対して、１〜１０００ｇ、好ましくは１〜５００ｇ、より好ましくは１〜１００ｇの範囲である。
本反応は、０℃から溶媒の沸点までの温度範囲で実施される。好ましくは、５０〜１５０℃で実施される。なお、オートクレーブ中で反応する場合は、前記の温度範囲に限定されず、０〜３００℃、好ましくは０〜２５０℃の範囲で実施される。
反応時間は特に限定されず、原料、反応条件等に応じて適宜決められるが、通常１０分〜７２時間である。【００８２】
本発明の一般式（１３）で表される化合物の単離方法については、特に限定されない。生成物が反応溶媒から析出した場合は、濾取もしくは遠心分離することによって単離が可能であり、反応溶媒に溶解している場合は、減圧下溶媒を留去する方法や適当な溶媒を加えて析出させ、濾取もしくは遠心分離する方法が採用可能である。また適当な酸と処理することにより、塩を形成させて前記操作を行ってもよく、これらの方法を組み合わせて実施してもよい。【００８３】
［リン系安定剤］
本発明の樹脂組成物は、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体１００質量部に対して、リン系安定剤を０．０１〜１質量部含むことが好ましい。リン系安定剤によって、本発明の樹脂組成物にレーザー照射を行った際に発生する白濁を抑えることができ、上記数値範囲において特にその効果に優れる。【００８４】
リン系安定剤としては、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、トリス（シクロヘキシルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレンなどのモノホスファイト系化合物；４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４’−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）、４，４’−イソプロピリデン−ビス（ジフェニルモノアルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ジ−トリデシルホスファイト−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（イソデシルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（ノニルフェニルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジメチルフェニルホスファイト）、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニルホスファイト）などのジホスファイト系化合物等を挙げることができる。その他、耐加水分解性を上げる目的で、立体障害の高い基を周囲に持つ比較的高分子量のリン系安定剤、たとえば、トリス［２−［［２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェフィン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、一分子内に燐酸エステル構造とフェノール構造とを有するものとして例えば、６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン、６−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピンなどを用いることもできる。【００８５】
これらの中でも、６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス［２−［［２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェフィン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス［２−［［２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェフィン−６−イル］オキシ］エチル］アミンなどが特に好ましい。【００８６】
［親水性安定剤］
本発明の樹脂組成物は、樹脂の耐湿熱特性の向上や、成形時の離型性の向上等を目的として、親水性の安定剤を添加することが好ましい。親水性安定剤として例えば、特開平９−２４１４８４号公報に記載の多価アルコール類、特開２００１−２６７１８号公報に記載の多価アルコール、多価アルコールと脂肪酸のエステル、ソルビトール系誘導体、親水基と疎水基とを有する化合物などが挙げられる。【００８７】
（多価アルコール）
多価アルコールとしては、分子量が２０００以下で、同一分子中のヒドロキシル基の数に対する炭素原子数の比率が１．５〜３０、好ましくは３〜２０、特に好ましくは６〜２０で、炭素原子数が６以上のものが挙げられる。この比率と炭素原子数の範囲内であれば、熱可塑性樹脂との相溶性が良く、溶融混練時に発泡を起こして透明性に悪影響を及ぼすこともない。好ましい炭素原子数の範囲は６〜１００であり、さらに好ましくは、６〜６０である。
この多価アルコールとしては、分子中の少なくとも１個のヒドロキシル基が、１級炭素原子と結合しているもの、あるいは、炭素原子数／ヒドロキシル基数の比率が１．５〜３０で炭素原子数６以上の多価アルコールが好ましい。
本発明の多価アルコールには、分子内にエーテル結合、チオエーテル結合、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基を有しているものも含まれるが、好ましくは脂肪族多価アルコールである。【００８８】
多価アルコールの具体例としては、３,７,１１,１５−テトラメチル−１,２,３−トリヒドロキシヘキサデカン、ジヒドロキシオクタン、トリヒドロキシオクタン、テトラヒドロキシオクタン、ジヒドロキシノナン、トリヒドロキシノナン、テトラヒドロキシノナン、ペンタヒドロキシノナン、ヘキサヒドロキシノナン、ジヒドロキシトリアコンタン、トリヒドロキシトリアコンタン、エイコサヒドロキシトリアコンタンなどが挙げられる。これらの中では、３,７,１１,１５−テトラメチル−１,２,３−トリヒドロキシヘキサデカンが好ましい。
また、多価アルコールとして、具体的には１,２−ヘキサデカンジオール、２,３−ヘプタデカンジオール、１,３−オクタデカンジオール、１,２−デシルテトラデカンジオールなども挙げられる。【００８９】
（多価アルコールと脂肪酸のエステル）
多価アルコールと脂肪酸のエステルとしては、たとえば、特開２００１−２６６８２号公報に記載のソルビトール系誘導体等が透明性に優れ、高温高湿度雰囲気下における透明性低下が少ない樹脂組成物が得られるので好適に用いられる。
その他のエステルとしては、特公平０７−００７５２９号公報記載の多価アルコールの脂肪酸エステルがグリセリンまたはペンタエリスリトールの一部をエステル化したものであるものも好適な例として挙げられる。【００９０】
（ソルビトール系誘導体）
ソルビトール系誘導体としては、下記の一般式（１７）〜（２２）で表される化合物を挙げることができる。【００９１】
（化２２）
0004881306.tif 000025
式（１７）中、各Ｒ、Ｒ'は互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数１〜８のアルキル基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルコキシ基のいずれかであり、ｍおよびｎはそれぞれ独立に０〜３の整数である。【００９２】
上記式（１７）で表される化合物として具体的には、１,３,２,４−ジベンジリデンソルビトール、１,３−ベンジリデン−２,４−ｐ−メチルベンジリデンソルビトール、１,３−ベンジリデン−２,４−ｐ−エチルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−メチルベンジリデン−２,４−ベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−エチルベンジリデン−２,４−ベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−メチルベンジリデン−２,４−ｐ−エチルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−エチルベンジリデン−２,４−ｐ−メチルベンジリデンソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−メチルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−エチルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−ｎ−プロピルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−ｉ−プロピルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−ｎ−ブチルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−ｓ−ブチルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−ｔ−ブチルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（２',４'−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−メトキシベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−エトキシベンジリデン）ソルビトール、１,３−ベンジリデン−２,４−ｐ−クロルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−クロルベンジリデン−２,４−ベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−クロルベンジリデン−２,４−ｐ−メチルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−クロルベンジリデン−２,４−ｐ−エチルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−メチルベンジリデン−２,４−ｐ−クロルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−エチルベンジリデン−２,４−ｐ−クロルベンジリデンソルビトールおよび１,３,２,４−ジ（ｐ−クロルベンジリデン）ソルビトールおよびこれらの２個以上の混合物を例示でき、特に１,３,２,４−ジベンジリデンソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−メチルベンジリデン）ソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−エチルベンジリデン）ソルビトール、１,３−ｐ−クロルベンジリデン−２,４−ｐ−メチルベンジリデンソルビトール、１,３,２,４−ジ（ｐ−クロルベンジリデン）ソルビトールおよびそれらの２種以上の混合物が好適に使用できる。【００９３】
上記のソルビトール系誘導体の中では、下記の一般式（１８）で表される化合物を好ましい例として挙げることができる。【００９４】
（化２３）
0004881306.tif 000026
式（１８）中、Ｒ、Ｒ'は互いに同一でも異なっていてもよく、メチル基またはエチル基を示す。【００９５】
（化２４）
0004881306.tif 000027
式（１９）中、各Ｒは互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数１〜８のアルキル基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルコキシ基のいずれかであり、ｍは０〜３の整数である。【００９６】
上記の一般式（１９）で表される化合物として具体的には、２,４−ベンジリデンソルビトール、２,４−ｐ−ｎ−プロピルベンジリデンソルビトール、２,４−ｐ−ｉ−プロピルベンジリデンソルビトール、２,４−ｐ−ｎ−ブチルベンジリデンソルビトール、２,４−ｐ−ｓ−ブチルベンジリデンソルビトール、２,４−ｐ−ｔ−ブチルベンジリデンソルビトール、２,４−（２',４'−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、２,４−ｐ−メトキシベンジリデンソルビトール、２,４−ｐ−エトキシベンジリデンソルビトール、２,４−ｐ−クロルベンジリデンソルビトールおよびこれらの２種以上の混合物が使用できる。【００９７】
（化２５）
0004881306.tif 000028
式（２０）中、各Ｒは互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数１〜８のアルキル基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルコキシ基のいずれかであり、ｎは０〜３の整数である。【００９８】
上記の式（２０）で表される化合物として具体的には、１,３−ベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−ｎ−プロピルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−ｉ−プロピルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−ｎ−ブチルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−ｓ−ブチルベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−ｔ−ブチルベンジリデンソルビトール、１,３−（２',４'−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１,３−ｐ−メトキシベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−エトキシベンジリデンソルビトール、１,３−ｐ−クロルベンジリデンソルビトールおよびこれらの２種以上の混合物が使用できる。【００９９】
（化２６）
0004881306.tif 000029
式（２１）中、Ｒ1〜Ｒ4は炭素原子数１０〜３０の脂肪族アシル基または水素原子である。【０１００】
上記の一般式（２１）で表される化合物として具体的には、１,５−ソルビタンモノステアレート、１,５−ソルビタンジステアレート、１,５−ソルビタントリステアレート、１,５−ソルビタンモノラウレート、１,５−ソルビタンジラウレート、１,５−ソルビタントリラウレート、１,５−ソルビタンモノパルミテート、１,５−ソルビタンジパルミテート、１,５−ソルビタントリパルミテートおよびこれらの２種以上の混合物が使用できる。【０１０１】
（化２７）
0004881306.tif 000030
式（２２）中、Ｒ5〜Ｒ8は炭素原子数１０〜３０の脂肪族アシル基または水素原子である。【０１０２】
上記の式（２２）で表される化合物として具体的には、１,４−ソルビタンモノステアレート、１,４−ソルビタンジステアレート、１,４−ソルビタントリステアレート、１,４−ソルビタンモノラウレート、１,４−ソルビタンジラウレート、１,４−ソルビタントリラウレート、１,４−ソルビタンモノパルミテート、１,４−ソルビタンジパルミテート、１,４−ソルビタントリパルミテートおよびこれらの２種以上の混合物が使用できる。
上記のソルビトール系誘導体のなかでは、前記式（１７）〜（２０）で表されるベンジリデンソルビトール誘導体が好ましく、さらには、前記式（１７）で表されるジベンジリデンソルビトール誘導体が好ましい。また上記の式（１７）〜（２２）で表されるソルビトール系誘導体は、１種単独でも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。【０１０３】
本発明においては、上述したソルビトール系誘導体の分散性向上のために、それを脂肪酸と混合して使用してもよい。用いられる脂肪酸としては、炭素原子数１０〜３０の脂肪酸が挙げられる。【０１０４】
（その他のエステル）
その他の多価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、アルコール性水酸基の一部がエステル化されたものを使用する。したがって、使用される多価アルコール脂肪酸エステルの具体例の一部としてグリセリンモノステアレート、グリセリンモノラウレート、グリセリンモノミリステート、グリセリンモノパルミテート、グリセリンジステアレート、グリセリンジラウレート等のグリセリン脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールモノラウレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールジラウレート、ペンタエリスリトールトリステアレート等のペンタエリスリトールの脂肪酸エステルが例示できる。【０１０５】
（親水基と疎水基とを有する化合物）
親水基と疎水基とを有する化合物としては、分子中に親水基と疎水基とを有する化合物において、該化合物の親水基がヒドロキシアルキル基であり、疎水基が炭素原子数６以上のアルキル基であるアミン化合物またはアミド化合物が挙げられる。【０１０６】
具体的には、たとえば、ミリスチルジエタノールアミン、2-ヒドロキシエチル-2-ヒドロキシドデシルアミン、2-ヒドロキシエチル-2-ヒドロキシトリデシルアミン、2-ヒドロキシエチル-2-ヒドロキシテトラデシルアミン、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレート、ジ-2-ヒドロキシエチル-2-ヒドロキシドデシルアミン、アルキル（炭素原子数８〜１８）ベンジルジメチルアンモニウムクロライド、エチレンビスアルキル（炭素原子数８〜１８）アミド、ステアリルジエタノールアミド、ラウリルジエタノールアミド、ミリスチルジエタノールアミド、パルミチルジエタノールアミド、などが挙げられる。これらのうちでも、ヒドロキシアルキル基を有するアミン化合物またはアミド化合物が好ましく用いられる。【０１０７】
上記のような親水性安定剤の配合量は、本発明で使用される脂環族構造を有する重合体１００質量部に対して、好ましくは０.０００１〜１０質量部、さらに好ましくは０．０５〜５質量部、特に好ましくは０．１〜３質量部である。上記の量で用いることにより、温度や湿度変化における光線透過率の低下や、微小なクラックの発生を防止することができ、該重合体の持つ良好な光学性能を損なうことがない。【０１０８】
［その他の安定剤］
本発明で用いる樹脂組成物には、上述の成分に加えてさらに、本発明の光学部品の良好な特性を損なわない範囲で、公知の親水性安定剤、耐候安定剤、耐熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、天然油、合成油、ワックス、有機または無機の充填剤などが配合されていてもよい。【０１０９】
たとえば、任意成分として配合される耐候安定剤は、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ニッケル系化合物、ヒンダードアミン系化合物等の紫外線吸収剤が挙げられる。【０１１０】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、具体的には、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−フェニル）−５−クロロ・ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−５−クロロ・ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｎ−オクトキシ・フェニル）ベンゾトリアゾールなどや、市販されているＴｉｎｕｖｉｎ  ３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ  ＰＳ（共に、チバ・ガイギー社製）、やＳＥＥＳＯＲＢ７０９（２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、白石カルシウム社製）などのベンゾトリアゾール誘導体などが例示される。【０１１１】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、具体的には、２，４−ジヒドロキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ・ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ・ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ・ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−スルフォベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルフォベンゾフェノン・トリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシロキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ・ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノンなどや、Ｕｖｉｎｕｌ  ４９０（２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ・ベンゾフェノンと他の四置換ベンゾフェノンの混合物、ＧＡＦ社製）、Ｐｅｒｍｙｌ  Ｂ−１００（ベンゾフェノン化合物、Ｆｅｒｒｏ社製）などが例示される。【０１１２】
ヒンダードアミン系化合物としては、たとえば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ' −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ' −ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物、２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン−Ｎ−オキシル、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシルピペリジン）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシピペリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−（トリス（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシルピペリジル−４−オキシカルボニル）ブチルカルボニルオキシ）エチル）２，４，６，１０−テトラオキサロスピロ〔５．５〕ウンデカン、１���６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物等が挙げられる。【０１１３】
また、任意成分として配合される耐熱安定剤としては、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アルキルエステル、２，２’−オキザミドビス［エチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなどのフェノール系酸化防止剤、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、１，２−ヒドロキシステアリン酸カルシウムなどの脂肪酸金属塩、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレートなどの多価アルコール脂肪酸エステルなどを挙げることができ、また、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、フェニル−４，４’−イソプロピリデンジフェノール−ペンタエリスリトールジフォスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジフォスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系安定剤を使用してもよい。【０１１４】
これらは単独で配合してもよいが、組み合わせて配合してもよい。たとえばテトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンとステアリン酸亜鉛とグリセリンモノステアレートとの組み合わせなどを例示できる。これらの安定剤は、１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
また、プロセス酸化防止剤として、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などが挙げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。【０１１５】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２−第３ブチル−６−（３−第３ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−第３アミル−６−（１−（３，５−ジ−第３アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレートなどの特開昭６３−１７９９５３号公報や特開平１−１６８６４３号公報に記載されるアクリレート系フェノール化合物；２，６−ジ−第３ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−第３ブチル−４−エチルフェノール、オクタデシル−３−（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−第３ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−第３ブチルフェノール）、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メタン、３，９−ビス（２−（３−（３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ）−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス（メチレン−３−（３’，５’−ジ−第３ブチル−４’−ヒドロキシフェニルプロピオネート）メタン［すなわち、ペンタエリスリメチル−テトラキス（３−（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート）］、トリエチレングリコールビス（３−（３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）、トコフェノールなどのアルキル置換フェノール系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第３ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、６−（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−第３ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジンなどのトリアジン基含有フェノール系化合物；などが挙げられ、これらの中でも、アクリレート系フェノール化合物やアルキル置換フェノール系化合物が好ましく、アルキル置換フェノール系化合物が特に好ましい。更にテトラキス（メチレン−３−（３’，５’−ジ−第３ブチル−４’−ヒドロキシフェニルプロピオネート）メタンは耐熱性、安定性に優れ、好ましい。【０１１６】
イオウ系酸化防止剤は、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどを挙げることができる。【０１１７】
ラクトン系酸化防止剤は、ラクトン構造を含む化合物ものであれば特に限定はされないが、芳香族系のラクトン化合物が好ましい。この中でもベンゾフラノン骨格を有するものがより好ましく、さらにアリール基を置換基としてフラン環の側鎖に有する３−アリールベンゾフラン−２−オンがより好ましく、一例として５，７−ジ−第三ブチル−３−（３、４−ジ−メチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オンを挙げることができる。【０１１８】
［樹脂組成物の製造方法］
本発明の樹脂組成物の製造方法は特に限定されず、公知の方法で製造することができる。具体的には、脂環族構造を有する重合体およびヒンダートアミン系化合物、また目的に応じてリン系安定剤および親水性安定剤、さらに本発明の目的を損なわない範囲で上記その他の安定剤を添加して混合した後フラッシュ乾燥、または、各成分をヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、メルトブレンダー、ホモミキサー等を用いて混合した後、押出機を用いてペレット化することで、ペレット状の樹脂組成物として得ることができる。さらに、目的とする成形物の形状に応じて、射出成形法、押出成形法、吹込成形法、真空成形法、スラッシュ成形法等により、成形物として得ることができる。【０１１９】
（金属成分含有量）
本発明の樹脂組成物は、該樹脂組成物中に含まれる金属成分として、鉄原子（Ｆｅ）の含有量が５ｐｐｍ以下であることが好ましい。鉄原子の含有量については公知の方法により定量することができ、例えば原子吸光分析などを例示することができる。鉄原子の含有量が５ｐｐｍを超えて微量でも樹脂中に存在すると、著しく耐光性が低下し、好ましくは１ｐｐｍ以下、最も好ましくは０．５ｐｐｍ以下である。【０１２０】
（その他の金属成分）
その他の金属成分についても、樹脂の劣化を促進する可能性がある金属成分については本発明の効果を妨げない範囲内に抑える必要があり、これら金属成分としては、例えばバナジウム、亜鉛、カルシウムなどが挙げられる。本発明においては、原料、触媒、プロセスから樹脂中に混入する金属を最小限とする必要があり、例えば塩酸吸収剤として用いられるステアリン酸亜鉛等の亜鉛化合物にも樹脂劣化促進効果がある。また、残留する金属触媒成分が少ないと透明性等の光学物性を損なうことがなく好ましい。【０１２１】
（全光線透過率および分光光線透過率）
本発明の樹脂組成物を光学用途に使用する場合、光線を透過させることが必須であるので、光線透過率が良好であることが好ましい。光線透過率は用途に応じて分光光線透過率または全光線透過率により規定される。
全光線、あるいは複数波長域での使用が想定される場合、全光線透過率が良いことが必要であり、反射防止膜を表面に設けていない状態での全光線透過率は８５％以上、好ましくは８８〜９３％である。全光線透過率が８５％以上であれば必要な光量を確保することができる。全光線透過率の測定方法は公知の方法が適用でき、測定装置等も限定されないが、例えばＡＳＴＭ  Ｄ１００３に準拠して、熱可塑性、非晶性樹脂を厚み３ｍｍのシートに成形し、ヘーズメーターを用いて、本発明の樹脂組成物を成形して得られるシートの全光線透過率を測定する方法などが挙げられる。【０１２２】
また特定波長域のみで利用される光学系、たとえばレーザ光学系の場合、全光線透過率が高くなくても、該波長域での分光光線透過率が良ければ使用することができる。この場合、使用波長における、反射防止膜を表面に設けていない状態での分光光線透過率は好ましくは８５％以上、さらに好ましくは８６〜９３％である。分光光線透過率が８５％以上であれば必要な光量を確保することができる。また測定方法および装置としては公知の方法が適用でき、具体的には分光光度計を例示することができる。【０１２３】
また本発明の樹脂組成物からなる成形体は、３００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長、さらに３９０〜４２０ｎｍの波長、特に４００〜４２０ｎｍの波長、例えばレーザー光の光線透過率に優れる。波長４００ｎｍにおける分光光線透過率が８５％以上、好ましくは８６〜９３％であり、且つ劣化を生じ難いことから、光学部品として使用した場合の光学性能の変化が生じにくい。
尚、光学部品として用いる場合、公知の反射防止膜を表面に設けることにより、光線透過率をさらに向上させることができる。【０１２４】
［光学部品］
本発明の樹脂組成物から得られる成形体は、３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲の光線透過率に優れる。そのため、３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲の波長を含む光源を有する光学系において、光学部品として用いることができる。光学部品とは光学系機器等に使用される部品であり、具体的には、ＵＶ用の検出装置に使用する分析セル、ＵＶカットフィルタを使用しない撮像系に使用される光学部品、太陽電池用フィルター等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物から得られる成形体は、さらに光学レンズや光学プリズムとして、カメラの撮像系レンズ；顕微鏡、内視鏡、望遠鏡レンズなどのレンズ；眼鏡レンズなどの全光線透過型レンズ；ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＷＯＲＭ（追記型光ディスク）、ＭＯ（書き変え可能な光ディスク；光磁気ディスク）、ＭＤ（ミニディスク）、ＤＶＤ（デジタルビデオディスク）などの光ディスクのピックアップレンズ；レーザービームプリンターのｆθレンズ、センサー用レンズなどのレーザー走査系レンズ；カメラのファインダー系のプリズムレンズ；センサーレンズ、回折板、コリメータ、対物レンズ、ビームエキスパンダー、ビームシェイパーなどの光ピックアップ装置用レンズなどに、特に好適に用いることができる。本発明の樹脂組成物から得られる成形体は、３９０〜４２０ｎｍの範囲の光線透過率に特に優れるため、青紫色レーザー光源を用いた光ピックアップ装置用レンズとして好適に用いることができる。光ディスク用途としては、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＷＯＲＭ（追記型光ディスク）、ＭＯ（書き変え可能な光ディスク；光磁気ディスク）、ＭＤ（ミニディスク）、ＤＶＤ（デジタルビデオディスク）などが挙げられる。その他の光学用途としては、液晶ディスプレイなどの導光板；偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムなどの光学フィルム；光拡散板；光カード；液晶表示素子基板などが挙げられる。【０１２５】
本発明の樹脂組成物は、球状、棒状、板状、円柱状、筒状、チューブ状、繊維状、フィルムまたはシート形状などに成形して、例えば上記の種々の形態で使用することができる。
光学部品を成型する方法としては特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができ、その用途および形状にもよるが、射出成形法、押出成形法、吹込成形法、真空成形法、スラッシュ成形法等が適用可能であるが、射出成形法が成形性、生産性の観点から好ましい。また、成形条件は使用目的、または成形方法により適宜選択されるが、例えば射出成形における樹脂温度は、通常１５０〜４００℃、好ましくは２００〜３５０℃、より好ましくは２３０〜３３０℃の範囲で適宜選択される。
本発明の樹脂組成物は、低複屈折性、透明性、機械強度、耐熱性、低吸水性に優れるため、種々の用途に使用でき、特に光ピックアップ装置に使用される光学部品に好適に用いることができる。【０１２６】
［光路差付与構造］
光路差付与構造とは、光学部品の少なくとも一つの光学面に、該光学面を通過する所定の光に対して予め定められた光路差を付与する機能を持つ構造である。
以下、ピックアップ装置に関する図１にて、光路差付与構造をさらに詳細に説明する。
本発明の樹脂組成物から得られる成形体は光学部品として、第１光源、前記第２光源および前記第３光源の共通光路に配置され、回折構造を有する対物レンズＯＢＬに使用される。そして、対物レンズに鋸歯状の回折構造を設けている。【０１２７】
これは光軸を中心として、同心円状に細かい段差を設けたものであり、隣り合う輪帯を通過した光束は、所定の光路差を与えられる。そしてこの鋸歯のピッチ（回折パワー）や深さ（ブレイズド化波長）を設定することにより、「高密度な光ディスク」に対しては、第１光源からの光束が２次回折光による集光スポットとして形成され、ＤＶＤに対しては、第２光源からの光束が１次回折光による集光スポットとして形成されるようになっている。
このように、回折次数が異なる光を利用することにより、各々の場合における回折効率を高くすることができ、光量を確保することができる。
まだＣＤに対しては、第３光源からの光束を、ＤＶＤと同じ次数の回折光にすることが好ましいが、これは適宜他の次数になるようにしても良い。この例では、ＤＶＤと同じ１次の回折光として集光スポットを形成するようにしている。【０１２８】
このような回折構造は、光路差付与構造の一例であるが、他に公知の「位相差付与構造」や「マルチレベル構造」も採用することができる。
またここでは、光ディスクフォーマットの基板厚差にもとづく球面収差を補正する目的で光路差付与構造が採用されているが、それだけでなく、使用波長の波長差や、使用波長の変動（モードホップ）に基づいて生じる収差の補正にももちろん使用可能である。前者の場合は５０ナノメートル以上の波長差に基づいて生じる球面色収差の補正であり、後者の場合は５ｎｍ以内の微小な波長変動を補正する。【０１２９】
この例では、回折構造を対物レンズに設けた例を説明したが、コリメータやカップリングレンズなどの他の光学部品に設けることはもちろん可能である。また屈折面、非球面を有する光学部品に、このような素材を用いることが、もっとも好ましい。本発明の樹脂組成物を用いることにより、従来ガラスでのみ実現できた長時間の使用が実現できるようになった上、さらにガラスレンズでは不可能であった光路差付与構造を有するレンズを容易に提供することができる。【０１３０】
［光ピックアップ装置］
光ピックアップ装置とは、光情報記録媒体に対して情報の再生および／または記録を行う機能を有する装置であって、光を出射する光源と、前記光の前記光情報記録媒体への照射および／または前記光情報記録媒体で反射される光の集光を行なう光学部品を備えたものである。光ピックアップ装置の仕様は限定されないが、本願発明の効果を説明するために、図１を参照して、光ピックアップ装置に使用される、本発明の樹脂組成物から得られる光学部品の例について説明する。【０１３１】
図１では、使用波長が４０５ｎｍのいわゆる青紫色レーザー光源を用いた「高密度な光ディスク」、ＤＶＤ、ＣＤの３フォーマット互換の光ピックアップ装置をターゲットとしており、第１光情報記録媒体として保護基板厚ｔ１が０．６ｍｍの「高密度な光ディスク」、第２光情報記録媒体として保護基板厚ｔ２が０．６ｍｍのＤＶＤ、第３光情報記録媒体として保護基板厚ｔ３が１．２ｍｍのＣＤを想定している。それぞれＤ１、Ｄ２、Ｄ３が基板厚を示している。
図１は、本願発明に関わる光ピックアップ装置を示す模式図である。
レーザーダイオードＬＤ１は、第１光源であり、波長λ１が４０５ｎｍの青紫色レーザーが用いられるが、波長が３９０ｎｍ〜４２０ｎｍである範囲のものを適宜採用することができる。ＬＤ２は、第２光源であり、波長λ２が６５５ｎｍの赤色レーザーが用いられるが、波長が６３０ｎｍ〜６８０ｎｍである範囲のものを適宜採用することができる。ＬＤ２は、第３光源でもあり、波長λ３が７８０ｎｍの赤外レーザーが用いられるが、波長が７５０ｎｍ〜８００ｎｍである範囲のものを適宜採用することができる。【０１３２】
レーザーダイオードＬＤ２は、第２の光源（ＤＶＤ用の光源）、第３の光源（ＣＤ用の光源）の、２つの発光点を同一のパッケージに収めた、いわゆる２レーザー１パッケージの光源ユニットである。
このパッケージのうち、第２の光源を光軸上に位置するように調整するので、第３の光源については光軸上からやや離れた処に位置する。そのため、像高が生じてしまうものの、この特性を改善するための技術も既に知られており、それらの技術を必要に応じて適用することができる。ここでは補正板ＤＰを用いることによりその補正を行っている。補正板ＤＰにはグレーティングが形成されており、それによって光軸からのズレを補正する。
なおＬＤ２から実線で描かれているのがＤＶＤ用の光源光束であり、点線で描かれているのがＣＤ用の光源光束である。ビームスプリッタＢＳ１はＬＤ１およびＬＤ２から入射する光源光束を対物レンズＯＢＬの方向へ透過または反射させる。【０１３３】
ＬＤ１から投光された光束は、ビーム品位向上のため、ビームシェイパーＢＳＬに入射してから上述のＢＳ１を経て、コリメータＣＬに入射する。これによって無限平行光にコリメートされたのち、ビームスプリッタＢＳ３、さらに凹レンズと凸レンズとから構成されるビームエキスパンダーＢＥを経て対物レンズＯＢＬに入射する。そして第１光情報記録媒体の保護基板を介して情報記録面上に集光スポットを形成する。そして情報記録面上で反射したのち、同じ経路をたどって、コリメータＣＬを通過してから、ビームスプリッタＢＳ３によって進行方向を変換された後、センサーレンズＳＬ１を経てセンサーＳ１に集光する。このセンサーによって光電変換され、電気信号となる。
なおビームエキスパンダーＢＥと対物レンズＯＢＬとの間には図示しないλ／４（四分の一波長）板が配置されており、行きと帰りとで丁度半波長分位相がずれて偏光方向が変わる。このため復路の光束はＢＳ３によって進行方向が変わる。
さてビームシェイパーＢＳＬは、光軸に対して垂直なある方向と、この方向に対して垂直な方向の、２つの方向に対してそれぞれ異なった曲率を有している（光軸について、回転非対象な曲率を有している）。【０１３４】
光源から出射された光束は、半導体光源の構造上、光軸に対して垂直である方向と、この方向に対して垂直な方向の、２つの方向に対してそれぞれ発散角が異なっており、光軸方向から見て楕円状のビームとなっている。このままでは光ディスク用の光源光束として好ましくないため、ビームシェイパーＢＳＬによって各々の方向に異なった屈折作用を与えることにより、出射光束が略円形断面のビームとなるようにしている。またここではＬＤ１の光路中にビームシェイパーＢＳＬを配置しているが、ＬＤ２の光路に配置することも当然可能である。
ＬＤ２から投光された光束も、ＬＤ１の場合と同様に、光ディスク（第２光情報記録媒体、第３光情報記録媒体）に集光スポットを形成し、反射して最終的にセンサーＳ２に集光する。ＢＳ１によって光路が一致するようにせしめられているだけであって、ＬＤ１の場合と変わりはない。【０１３５】
なお対物レンズＯＢＬは、この図では単一のレンズであるが、必要に応じて複数の光学部品から構成されるようにしてもよい。
本発明の樹脂組成物からなる成形体は低複屈折性を有することから、これらの構成の装置に最適に使用できることが明らかである。【０１３６】
［アクチュエータ］
光ピックアップ装置に関する図１において、各ＬＤから投光された光束が光ディスクの保護基板を介して情報記録面に集光する状態が描かれているが、再生／記録する光ディスクによって、基本的な位置がアクチュエータによって切り替わり、その基準位置からピント合わせ（フォーカシング）を行う。【０１３７】
そして各々の光情報記録媒体の保護基板厚、さらにピットの大きさにより、対物レンズＯＢＬに要求される開口数も異なる。ここでは、ＣＤ用の開口数は０．４５、ＤＶＤおよび「高密度な光ディスク」の開口数は０．６５としている。ただし、ＣＤについては０．４３〜０．５０、ＤＶＤについては０．５８〜０．６８の範囲で適宜選択可能である。なおＩＲは不要光をカットするための絞りである。
また対物レンズＯＢＬには平行光が入射しているが、コリメートせずに、有限発散光が入射するような構成であってもよい。【０１３８】
本発明の樹脂組成物を用いることにより、従来ガラスでのみ実現できた長時間の使用が実現できるようになった上、さらにアクチュエータ等による駆動に必要なトルクが、ガラスレンズに比べ大幅に軽減できることが明らかである。【０１３９】
（実施例）
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また実施例および比較例において、各性状の測定および物性測定方法は以下の方法で実施した。
まず、使用したヒンダートアミン系化合物の合成例を示す。また融点は、試料をキャピラリーに２〜３ｍｍ程度の厚さに採取し、浴液中で加熱した時の融け終わりの温度を示す。【０１４０】
（合成例１）
化学式［９］で表わされる化合物の合成。【０１４１】
（化２８）
0004881306.tif 000031
【０１４２】
Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）メチルアミン１４．５ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン１０５．１ｇ、炭酸カリウム３０．４ｇの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）６００ｍｌ溶液を１００℃で１７時間攪拌した。さらにＮ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）メチルアミン１．７ｇを溶液に追加し、１００℃で１２時間攪拌した。室温まで放冷後に水５００ｍｌを加え、酢酸エチル７００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水５００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物  ７５．２ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８９−０．９８（１２Ｈ、ｍ）、１．０５−１．４３（６２Ｈ、ｍ）、１．４３−１．７６（２２Ｈ、ｍ）、２．１９（３Ｈ、ｓ）、２．４０（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）、３．３０−３．４４（１２Ｈ、ｍ）、５．１８（４Ｈ、ｂｒ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１１４４
融点：８５℃【０１４３】
（合成例２）
化学式［１０］で表わされる化合物の合成。【０１４４】
（化２９）
0004881306.tif 000032
【０１４５】
（１）Ｎ，Ｎ−ビス（２−シアノエチル）ヘキシルアミンの合成
ヘキシルアミン１５．５ｇの水溶液（１５０ｍｌ）に、室温下アクリロニトリル２０．１ｇを０．５時間かけて滴下し、その後７０℃で３時間撹拌した。室温まで放冷後、酢酸エチル１５０ｍｌを加えて抽出した。分液により得た有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶媒を留去して標題化合物３１．４ｇを無色油状物として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８９（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．２３−１．３５（６Ｈ、ｍ）、１．３５−１．５０（２Ｈ、ｍ）、２．３８−２．５５（６Ｈ、ｍ）、２．８６（４Ｈ、ｔ、６．８Ｈｚ）【０１４６】
（２）Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ヘキシルアミンの合成
オートクレーブにＮ，Ｎ−ビス（２−シアノエチル）ヘキシルアミン３１．０ｇ、ＲａｎｅｙＣｏ４．６５ｇ、１，４−ジオキサン１５０ｍｌを装入し、水素初気圧９．１ＭＰａ、１１０℃で２時間水素添加反応を行った。触媒を濾去後、得られた濾液を濃縮乾固することにより、標題化合物３２．４ｇを淡赤色油状物として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８８（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．２６−１．３４（６Ｈ、ｍ）、１．３４−１．５０（２Ｈ、ｍ）、１．５０−１．６９（４Ｈ、ｍ）、２．３５−２．４７（６Ｈ、ｍ）、２．６７−２．７９（４Ｈ、ｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：２１５【０１４７】
（３）化学式［１０］で表される化合物の合成
Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ヘキシルアミン２１．５ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン１１２．９ｇ、炭酸カリウム３０．４ｇの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）１０００ｍｌ溶液を１００℃で１４時間攪拌した。さらにＮ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ヘキシルアミン３．２ｇを溶液に追加し、１００℃で１１時間攪拌した。室温まで放冷後に水５００ｍｌを加え、酢酸エチル７００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水５００ｍｌで２回、飽和食塩水３０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物  ５７．０ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８４−０．９４（１５Ｈ、ｍ）、１．０５−１．２８（７０Ｈ、ｍ）、１．２８−１．７３（２２Ｈ、ｍ）、２．３５（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．４６（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、３．２９−３．４１（１２Ｈ、ｍ）、５．１５（４Ｈ、ｂｒ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１２１４
融点：７２℃【０１４８】
（合成例３）
化学式［１１］で表わされる化合物の合成。【０１４９】
（化３０）
0004881306.tif 000033
【０１５０】
（１）Ｎ，Ｎ−ビス（２−シアノエチル）ドデシルアミンの合成
１−アミノドデカン２７．８ｇのエタノール溶液（１５０ｍｌ）  に、室温下アクリロニトリル３９．８ｇを０．５時間かけて滴下し、その後、酢酸２２．５ｇを０．５時間かけて滴下し、７７℃で１０時間攪拌した。室温まで放冷後に水１５０ｍｌ、２８％アンモニア水２２．８ｇを加え、酢酸エチル３３０ｍｌで抽出した。分液により得た有機層を水１００ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物３９．７ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９０（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．２１−１．３２（１８Ｈ、ｍ）、１．３２−１．５１（２Ｈ、ｍ）、２．５２−２．５９（６Ｈ、ｍ）、２．８２（４Ｈ、ｔ、６．５Ｈｚ）【０１５１】
（２）Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミンの合成
オートクレーブにＮ，Ｎ−ビス（２−シアノエチル）ドデシルアミン１９．７ｇ、ＲａｎｅｙＣｏ１．９７ｇ、１，４−ジオキサン８０ｍｌを装入し、水素初気圧８．２ＭＰａ、１２０℃で２時間水素添加反応を行った。触媒を濾去後、得られた濾液を濃縮乾固することにより、標題化合物２１．０ｇを淡赤色油状物として得た。本操作をもう一度行うことにより、計４０．８ｇの標題化合物である淡赤色油状物を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８８（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．２６−１．３７（１８Ｈ、ｍ）、１．３７−１．４７（２Ｈ、ｍ）、１．５３−１．６８（４Ｈ、ｍ）、２．３５−２．４７（６Ｈ、ｍ）、２．７２−２．８５（４Ｈ、ｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：２９９【０１５２】
（３）化学式［１１］で表される化合物の合成
Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミン３０．０ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン１０７．７ｇ、炭酸カリウム３０．４ｇの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）７００ｍｌ溶液を１００℃で１６時間攪拌した。室温まで放冷後に水５００ｍｌを加え、酢酸エチル７００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水５００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物  ６０．７ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８３−０．８９（１５Ｈ、ｍ）、１．１１−１．２５（８２Ｈ、ｍ）、１．２５−１．６９（２２Ｈ、ｍ）、２．３２（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．４３（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、３．２７−３．３７（１２Ｈ、ｍ）、５．２４（４Ｈ、ｂｒ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１２９８
融点：６０℃【０１５３】
（合成例４）
化学式［１２］で表わされる化合物の合成。【０１５４】
（化３１）
0004881306.tif 000034
【０１５５】
（１）Ｎ，Ｎ−ビス（２−シアノエチル）オクタデシルアミンの合成
ステアリルアミン４１．７ｇのエタノール溶液（１５０ｍｌ）  に、室温下アクリロニトリル４０．２ｇを０．５時間かけて滴下し、その後、酢酸２２．５ｇを０．５時間かけて滴下し、７７℃で１０時間攪拌した。室温まで放冷後に水２００ｍｌ、２８％アンモニア水２２．８ｇを加え、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。分液により得た有機層を水１００ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌで洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を留去後、濃縮残渣をイソプロピルアルコールを溶媒として再結晶化し、標題化合物４２．４ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８８（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．２０−１．３８（３０Ｈ、ｍ）、１．３８−１．４７（２Ｈ、ｍ）、２．４３−２．５５（６Ｈ、ｍ）、２．８６（４Ｈ、ｔ、６．９Ｈｚ）【０１５６】
（２）Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）オクタデシルアミンの合成
オートクレーブにＮ，Ｎ−ビス（２−シアノエチル）オクタデシルアミン４２．１ｇ、ＲａｎｅｙＣｏ３．２６ｇ、１，４−ジオキサン１５０ｍｌを装入し、水素初気圧８．０ＭＰａ、１１０℃で２時間水素添加反応を行った。触媒を濾去後、得られた濾液を濃縮乾固することにより、標題化合物４２．３ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８８（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．２６−１．３６（３０Ｈ、ｍ）、１．３６−１．４７（２Ｈ、ｍ）、１．５３−１．６６（４Ｈ、ｍ）、２．３５−２．５０（６Ｈ、ｍ）、２．７２−２．７９（４Ｈ、ｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３【０１５７】
（３）化学式［１２］で表される化合物の合成
Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）オクタデシルアミン３８．４ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン１０７．７ｇ、炭酸カリウム３０．４ｇの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）９００ｍｌ溶液を１００℃で１６時間攪拌した。さらにＮ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）オクタデシルアミン１．５ｇを溶液に追加し、１００℃で１１．５時間攪拌した。室温まで放冷後に水５００ｍｌを加え、酢酸エチル７００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水５００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物  ７４．２ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８５−０．９４（１５Ｈ、ｍ）、１．０５−１．３３（９４Ｈ、ｍ）、１．３３−１．７３（２２Ｈ、ｍ）、２．３５（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ）、２．４６４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、３．２９−３．４３（１２Ｈ、ｍ）、５．２６（４Ｈ、ｂｒ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１３８２
融点：４６℃【０１５８】
（合成例５）
化学式［１３］で表される化合物の合成。【０１５９】
（化３２）
0004881306.tif 000035
【０１６０】
Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ブチルアミン１２．４ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン６４．４ｇ、炭酸カリウム１０．０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１５０ｍｌ溶液を１２０℃で８時間攪拌した。室温まで放冷後に水４５０ｍｌを加え、酢酸エチル６００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水４５０ｍｌで２回、飽和食塩水３０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物６２．１ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８０−０．９４（１５Ｈ、ｍ）、１．１２（２４Ｈ、ｓ）、１．２７（２４Ｈ、ｓ）、１．１６−１．７８（３６Ｈ、ｍ）、１．７０（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、２．２９−２．４０（２Ｈ、ｍ）、２．４５（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３．１６−３．３８（８Ｈ、ｍ）、３．３９（４Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝５．９、１１．９Ｈｚ）、５．０６−５．４０（４Ｈ、ｍ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１１８６
融点：７８℃【０１６１】
（合成例６）
化学式［１４］で表される化合物の合成。【０１６２】
（化３３）
0004881306.tif 000036
【０１６３】
Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）メチルアミン４．４９ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン３３．５ｇ、炭酸カリウム８．２１ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）７５ｍｌ溶液を１２０℃で７時間攪拌した。室温まで放冷後に水２００ｍｌを加え、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水２００ｍｌで２回、飽和食塩水３０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物２１．２ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９０（１２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．０９（２４Ｈ、ｓ）、１．１５（２４Ｈ、ｓ）、１．１０−１．６５（３２Ｈ、ｍ）、１．７２（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２．１８（３Ｈ、ｓ）、２．２４（１２Ｈ、ｓ）、２．３８（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．９Ｈｚ）、３．２０−３．４０（８Ｈ、ｍ）、３．３８（４Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．９、１２．９Ｈｚ）、５．００−５．２８（４Ｈ、ｍ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１２００
融点：９４℃【０１６４】
（合成例７）
化学式［１５］で表される化合物の合成。【０１６５】
（化３４）
0004881306.tif 000037
【０１６６】
Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ブチルアミン８．４４ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン５０．８ｇ、炭酸カリウム１２．４ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１００ｍｌ溶液を１２０℃で７時間攪拌した。室温まで放冷後に水４００ｍｌを加え、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水４００ｍｌで２回、飽和食塩水３０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物３５．４ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８２−０．９６（１５Ｈ、ｍ）、１．０９（２４Ｈ、ｓ）、１．１５（２４Ｈ、ｓ）、１．１６−１．７０（３６Ｈ、ｍ）、１．７０（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、２．２４（１２Ｈ、ｓ）、２．３１−２．４０（２Ｈ、ｍ）、２．４５（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３．１８−３．３８（８Ｈ、ｍ）、３．３８（４Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．６、１２．５Ｈｚ）、４．９５−５．３５（４Ｈ、ｍ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１２４２
融点：８６℃【０１６７】
（合成例８）
化学式［１６］で表される化合物の合成の合成。【０１６８】
（化３５）
0004881306.tif 000038
【０１６９】
合成例２と同様にして得られたＮ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ヘキシルメチルアミン２８．８ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン１２０．１ｇ、炭酸カリウム７６．５ｇの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）５００ｍｌ溶液を１００℃で１２時間攪拌した。室温まで放冷後に水５００ｍｌを加え、酢酸エチル７００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水５００ｍｌで２回、飽和食塩水３０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物６８．４gを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．７８−０．９６（１５Ｈ、ｍ）、１．０９（２４Ｈ、ｓ）、１．１５（２４Ｈ、ｓ）、１．１０−１．７６（４０Ｈ、ｍ）、１．７０（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、２．２４（１２Ｈ、ｓ）、２．２８−２．４０（２Ｈ、ｍ）、２．４５（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３．２０−３．４０（８Ｈ、ｍ）、３．３８（４Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．６、１２．５Ｈｚ）、５．００−５．２８（４Ｈ、ｍ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１２７０
融点：８１℃【０１７０】
（合成例９）
化学式［１７］で表される化合物の合成。【０１７１】
（化３６）
0004881306.tif 000039
【０１７２】
合成例３と同様にして得られたＮ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミン１２．２ｇ、２−クロロ−４，６−ビス（Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン４５．１ｇ、炭酸カリウム１１．１ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１００ｍｌ溶液を１２０℃で７時間攪拌した。室温まで放冷後に水３５０ｍｌを加え、酢酸エチル４００ｍｌで抽出した。分液により得られた有機層を水３５０ｍｌで２回、飽和食塩水３０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物２３．３ｇを白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８０−０．９６（１５Ｈ、ｍ）、１．０９（２４Ｈ、ｓ）、１．１５（２４Ｈ、ｓ）、１．１０−１．７０（５２Ｈ、ｍ）、１．７０（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、２．２４（１２Ｈ、ｓ）、２．２９−２．３９（２Ｈ、ｍ）、２．４５（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３．１８−３．４０（８Ｈ、ｍ）、３．３８（４Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．６、１２．５Ｈｚ）、５．００−５．３２（４Ｈ、ｍ）
ＭＳ（ＦＤ，ｍ／ｚ）：１３５４
融点：６７℃【０１７３】
次に、各物性値の測定方法は以下の通りである。
［溶融流れ指数（ＭＦＲ）］
ＡＳＴＭ  Ｄ１２３８に準じ２６０℃、荷重２．１６ｋｇで測定。【０１７４】
［軟化温度（ＴＭＡ）］
デュポン社製  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて、厚さ１ｍｍのシートの熱変形挙動により測定した。シート上に石英製針を載せて荷重４９ｇをかけ、速度５℃／分で昇温させ、針がシートに０．６３５ｍｍ侵入した温度を軟化温度とした。【０１７５】
［ヘイズ（ＨＡＺＥ）］
シリンダー温度２６０℃、金型温度１２５℃に設定された射出成形機（東芝機械（株）製ＩＳ−５０）により、射出成形された４５ｍｍφ×３ｍｍ（厚さ）の光学面を持つテストピースを用い、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に基づいて測定した。【０１７６】
［鉄原子の含有量］
樹脂組成物１００ｇを蒸発皿に計りとり、電気炉にて、空気中４００℃で３０分間加熱して灰分を得た。この灰分中の鉄原子の量を、原子吸光分析により測定することにより、樹脂組成物中の鉄原子の量を求めた。【０１７７】
［波長４００ｎｍでの分光光線透過率（Ｔ４００）］
シリンダー温度２６０℃、金型温度１２５℃に設定された射出成形機（東芝機械（株）製ＩＳ−５０）により、射出成形された４５ｍｍφ×３ｍｍ（厚さ）の光学面を持つテストピースを用い、分光光度計を用いて、波長４００ｎｍにおける光線透過率を測定した。【０１７８】
［環境試験（Δヘイズ）］
上記ヘイズ測定の後、角板を温度８０℃、相対湿度９０％の雰囲気下に４８時間放置した後、再度ヘイズ（Ｈａｚｅ）を測定し、環境試験前に比較してのヘイズの増分をΔヘイズとした。【０１７９】
［青紫色レーザ光での信頼性評価］
シリンダー温度２６０℃、金型温度１２５℃に設定された射出成形機（東芝機械（株）製ＩＳ−５０）により、射出成形された４５ｍｍφ×３ｍｍ（厚さ）の光学面を持つテストピースを用い、レーザーダイオード（ネオアーク社製ＴＣ４０３０Ｓ−Ｆ４０５ＡＳＵ）を用いて波長４０５±１０ｎｍ、２００ｍＷ／ｃｍ２の青紫色レーザ光を６０℃の恒温槽に載置したテストピースの中心に１０００時間照射した。照射前、および照射２５０時間毎に１０００時間まで、テストピースの中心３ｍｍφの波面ＲＭＳ値を測定し、経時変化を評価した。ＲＭＳ値の測定はレーザ干渉計（ザイゴ社製ＰＴＩ  ２５０ＲＳ（直線偏光仕様））を使用した。また、実体顕微鏡によりテストピース照射部位を観察し、白濁および異物付着の有無を確認した。結果は次の記号で表記した。
（ＲＭＳ値の評価）
○：ＲＭＳ値変化無し。
△：ＲＭＳ値変化率が０．０１λ未満で観測された。
×：ＲＭＳ値が０．０１λ以上変化している。または、測定不能となった。
（白濁および異物付着の評価）
▽：白濁および異物の付着が顕著に観察された。【０１８０】
実施例および比較例で使用したヒンダートアミン系化合物、リン系安定剤および親水性安定剤等は、以下の化合物を使用した。
（化合物Ａ）
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとトリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物（旭電化工業株式会社製、商品名アデカスタブ  ＬＡ−６７）
（化合物Ｂ）
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−Ｃ１２−２１およびＣ１８不飽和脂肪酸エステル（サイテック社製、商品名ＣＹＡＳＯＲＢ  ＵＶ−３８５３）
（化合物Ｃ）
下記の化学式［１３］で表わされる化合物（ＢＡＳＦ製、商品名Ｕｖｉｎｕｌ  ５０５０Ｈ（分子量３５００、融点１２５℃））【０１８１】
（化３７）
0004881306.tif 000040
ここで、ｎは重合度を示示す。
（化合物Ｄ）
ビス（２，２’，６，６’−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート（チバガイギー社製、商品名ＴＩＮＵＶＩＮ  ７７０）
（化合物Ｅ）
合成例１により得られた、化学式［９］で表わされる化合物。
（化合物Ｆ）
合成例２により得られた、化学式［１０］で表わされる化合物。
（化合物Ｇ）
合成例３により得られた、化学式［１１］で表わされる化合物。
（化合物Ｈ）
合成例４により得られた、化学式［１２］で表わされる化合物。
（化合物Ｉ）
合成例５によって得られた化学式［１３］で表される化合物。
（化合物Ｊ）
合成例６によって得られた化学式［１４］で表される化合物。
（化合物Ｋ）
合成例７によって得られた化学式［１５］で表される化合物。
（化合物Ｌ）
合成例８によって得られた化学式［１６］で表される化合物。
（化合物Ｍ）
合成例９によって得られた化学式［１７］で表される化合物。【０１８２】
（リン系安定剤Ａ）
トリス［２−［［２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェフィン−６−イル］オキシ］エチル］アミン（チバガイギー社製、商品名ＩＲＧＡＦＯＳ１２）
（リン系安定剤Ｂ）
６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン（住友化学株式会社製、商品名スミライザーＧＰ）【０１８３】
（親水性安定剤）
ペンタエリスリトールモノステアリルエステル（花王株式会社製、商品名エキセパールＰＥ−ＭＳ）【０１８４】
［樹脂組成物Ａの製造方法］
（触媒の調製）
ＶＯ（ＯＣ２Ｈ５）Ｃｌ２をシクロヘキサンで希釈し、バナジウム濃度が６．７ミリモル／Ｌ−シクロヘキサンであるバナジウム触媒を調製した。エチルアルミニウムセスキクロリド（Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）１．５Ｃｌ１．５）をシクロヘキサンで希釈し、アルミニウム濃度が１０７ミルモル／Ｌ−ヘキサンである有機アルミニウム化合物触媒を調製した。
（重  合）
攪拌式重合器（内径５００ｍｍ、反応容積１００Ｌ）を用いて、連続的にエチレンとテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンとの共重合反応を行った。
この共重合反応を行う際には、前記方法によって調製されたバナジウム触媒を、重合溶媒として用いられた重合器内のシクロヘキサンに対するバナジウム触媒濃度が０．６ミリモル／Ｌになるような量で重合器内に供給した。
また、有機アルミニウム化合物であるエチルアルミニウムセスキクロリドを、Ａｌ／Ｖ＝８．０になるような量で重合器内に供給した。重合温度を１１℃とし、重合圧力を１．８ｋｇ／ｃｍ２Ｇとして連続的に共重合反応を行った。
（脱  灰）
重合器より抜出した、エチレン・テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン共重合体溶液を、水およびｐＨ調節剤として、濃度が２５重量％のＮａＯＨ溶液をこの共重合体溶液に添加し重合反応を停止させ、また、共重合体中に存在する触媒残渣をこの共重合体溶液中から除去（脱灰）した。
前記脱灰処理を行った、エチレン・テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン共重合体のシクロヘキサン溶液に、必要に応じて、上記のリン系安定剤および親水性安定剤を表１に記載の量で添加した後、加熱工程にて熱源として２０ｋｇ／ｃｍ２Ｇの水蒸気を用いた二重管式加熱器（外管径２Ｂ、内管径３／４Ｂ、長さ２１ｍ）に、シクロヘキサン溶液中の共重合体の濃度を５重量％とした前記共重合体のシクロヘキサン溶液を１５０ｋｇ／Ｈの量で供給して、１８０℃に加熱した。
次いで、熱源として２５ｋｇ／ｃｍ２Ｇの水蒸気を用いた二重管式フラッシュ乾燥器（外管径２Ｂ、内管径３／４Ｂ、長さ２７ｍ）とフラッシュホッパー（容積２００Ｌ）とを用いて、前記加熱工程を経た前記共重合体のシクロヘキサン溶液から重合溶媒であるシクロヘキサンとともに大半の未反応モノマーを除去することでフラッシュ乾燥された溶融状態の環状オレフィンランダム共重合体を得た。次いで、ベント付二軸混練押出機を用い、上記の溶融状態の環状オレフィンランダム共重合体を押出機の樹脂装入部より装入した後、ベント部分より揮発物を除去する目的で、トラップを介し真空ポンプで吸引しつつ、ベント部よりも下流側のシリンダー部に、前記の化合物Ａ〜Ｍを表１に記載の量で添加し、押出機のベント部より下流側で混練して混合した。次いで、押出機出口に取り付けられたアンダーウォーターペレタイザーによりペレット化し、得られたペレットを温度１００℃の熱風にて４時間乾燥した。
尚、表１中のリン系安定剤、親水性安定剤および化合物Ａ〜Ｍの添加量は、重合体１００質量部に対する添加量（質量部）である。【０１８５】
［樹脂組成物Ｂの製造方法］
窒素置換した耐圧容器に、スチレン７．６８ｋｇとイソプレン０．３２ｋｇを添加して混合攪拌し、脱水シクロヘキサン３２ｋｇ、混合モノマー０．４ｋｇ及びジブチルエーテル０．０１ｋｇを仕込み、５０℃で撹拌しながらｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（濃度１５％）０．０４５４ｋｇを添加して重合させた。重合開始から０．５時間経過後、混合モノマー７．６ｋｇを１時間かけて連続的に添加した。混合モノマーの添加終了から０．５時間経過後、イソプロピルアルコール０．０１ｋｇを添加し、スチレン−イソプレンランダム共重合体が溶解した重合反応溶液を得た。
次いで、上記重合反応溶液４０ｋｇに、安定化ニッケル水素化触媒Ｅ２２Ｕ（日揮化学工業社製；６０％ニッケル担持シリカ−アルミナ担体）０．３ｋｇを添加混合し混合液を得、それをオートクレーブに仕込んだ。該オートクレーブに水素ガスを供給し、撹拌しながら、オートクレーブ内を１６０℃、４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行った。水素化反応終了後、濾過により水素化触媒を除去して、無色透明な溶液を得た。
水素化されたスチレン−イソプレンランダム共重合体のシクロヘキサン溶液に、上記のリン系安定剤を表１に記載の量で添加した後、加熱工程にて熱源として２０ｋｇ／ｃｍ２Ｇの水蒸気を用いた二重管式加熱器（外管径２Ｂ、内管径３／４Ｂ、長さ２１ｍ）に、シクロヘキサン溶液中の共重合体の濃度を５重量％とした前記共重合体のシクロヘキサン溶液を１５０ｋｇ／Ｈの量で供給して、１８０℃に加熱した。
次いで、熱源として２５ｋｇ／ｃｍ２Ｇの水蒸気を用いた二重管式フラッシュ乾燥器（外管径２Ｂ、内管径３／４Ｂ、長さ２７ｍ）とフラッシュホッパー（容積２００ｌ）とを用いて、前記加熱工程を経た前記共重合体のシクロヘキサン溶液から重合溶媒であるシクロヘキサンとともに大半の未反応モノマーを除去することでフラッシュ乾燥された溶融状態のビニル脂環式炭化水素重合体を得た。次いで、ベント付二軸混練押出機を用い、上記の溶融状態のビニル脂環式炭化水素重合体を押出機の樹脂装入部より装入した後、ベント部分より揮発物を除去する目的で、トラップを介し真空ポンプで吸引しつつ、ベント部よりも下流側のシリンダー部に、前記の化合物ＧまたはＨを表１に記載の量で添加し、押出機のベント部より下流側で混練して混合した。次いで、押出機出口に取り付けられたアンダーウォーターペレタイザーによりペレット化し、得られたペレットを温度１００℃の熱風にて４時間乾燥した。
尚、表１中のリン系安定剤、および化合物ＧまたはＨの添加量は、重合体１００質量部に対する添加量（質量部）である。【０１８６】
［樹脂組成物Ｃの製造方法］
窒素雰囲気下、脱水したシクロヘキサン５０ｋｇに、１−ヘキセン０．０８２ｋｇ、ジブチルエーテル０．０１５ｋｇ、トリイソブチルアルミニウム０．０３ｋｇを室温で反応器に入れ混合した後、４５℃に保ちながら、８−メチル−テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕−ドデカ−３−エン（メチルテトラシクロドデセン、以下、「ＭＴＤ」と略記する。）２０ｋｇと、六塩化タングステン（０．７％トルエン溶液）８ｋｇとを、２時間かけて連続的に添加し重合した。
重合溶液にブチルグリシジルエーテル０．１０６ｋｇとイソプロピルアルコール０．０５２ｋｇを加えて重合触媒を不活性化し重合反応を停止させた。次いで、得られた開環重合体を含有する反応溶液７０ｋｇに対して、シクロヘキサン３０ｋｇを加え、さらに水素化触媒としてニッケル−アルミナ触媒（日揮化学社製）０．５ｋｇを加え、水素により５ＭＰａに加圧し、撹拌しながら温度２００℃まで加温し、４時間反応させ、さらに濾過により水素化触媒を除去して、無色透明な溶液を得た。
水素化されたＭＴＤ開環重合体のシクロヘキサン溶液に、上記のリン系安定剤を表１に記載の量で添加した後、加熱工程にて熱源として２０ｋｇ／ｃｍ２Ｇの水蒸気を用いた二重管式加熱器（外管径２Ｂ、内管径３／４Ｂ、長さ２１ｍ）に、シクロヘキサン溶液中の共重合体の濃度を５重量％とした前記共重合体のシクロヘキサン溶液を１５０ｋｇ／Ｈの量で供給して、１８０℃に加熱した。
次いで、熱源として２５ｋｇ／ｃｍ２Ｇの水蒸気を用いた二重管式フラッシュ乾燥器（外管径２Ｂ、内管径３／４Ｂ、長さ２７ｍ）とフラッシュホッパー（容積２００ｌ）とを用いて、前記加熱工程を経た前記共重合体のシクロヘキサン溶液から重合溶媒であるシクロヘキサンとともに大半の未反応モノマーを除去することでフラッシュ乾燥された溶融状態のＭＴＤ開環重合体の水素添加物を得た。次いで、ベント付二軸混練押出機を用い、上記の溶融状態のＭＴＤ開環重合体の水素添加物を押出機の樹脂装入部より装入した後、ベント部分より揮発物を除去する目的で、トラップを介し真空ポンプで吸引しつつ、ベント部よりも下流側のシリンダー部に、前記の化合物ＧまたはＨを表１に記載の量で添加し、押出機のベント部より下流側で混練して混合した。次いで、押出機出口に取り付けられたアンダーウォーターペレタイザーによりペレット化し、得られたペレットを温度１００℃の熱風にて４時間乾燥した。
尚、表１中のリン系安定剤および化合物ＧまたはＨの添加量は、重合体１００質量部に対する添加量（質量部）である。【０１８７】
（実施例１〜２５および比較例１〜３）
上記の製造方法により、表１に示したリン系安定剤、親水性安定剤および化合物Ａ〜Ｍを含む樹脂組成物（Ａ）〜（Ｃ）を製造した。樹脂組成物の溶融流れ指数（ＭＦＲ）、軟化温度（ＴＭＡ）を表１に示す。
次いで、得られた樹脂組成物を、シリンダー温度２６０℃、金型温度１２５℃に設定された射出成形機（東芝機械（株）製ＩＳ−５０）にて射出成形して、４５ｍｍφ×３ｍｍ（厚さ）の光学面を持つテストピース作製し、ヘイズ（ＨＡＺＥ）、波長４００ｎｍでの分光光線透過率（Ｔ４００）、青紫色レーザ光での信頼性評価、および環境試験（Δヘイズ）を実施した。結果を表２に示す。
尚、実施例１４と実施例１５の添加剤処方は同じであるが、実施例１４および実施例１５の樹脂組成物中の鉄原子の含有量はそれぞれ、実施例１４は０．４ｐｐｍ、実施例１５は５．６ｐｐｍであった。【０１８８】
（表１）
0004881306.tif 000041
【０１８９】
（表２）
0004881306.tif 000042
【産業上の利用可能性】
【０１９０】
本発明の樹脂組成物は、成形性、低複屈折、耐熱性、大量生産性、機械強度、光線透過率に優れ、特に、青紫レーザー光源使用中の光線透過率低下を防ぐことができ、光学性能の劣化が極めて小さい光学部品に好適な樹脂組成物である。本発明の樹脂組成物から得られる光学部品は、光ピックアップ装置に用いられる光学部品として好適に使用することができる。
【図１】
0004881306.tif 000051