(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線照射により硬化して人工爪を形成するために用いられる人工爪組成物であって、該組成物中に、紫外線の照射により重合可能な下記式（I）で示される酸応答性モノマーを２０〜７０質量％含有し、該組成物を紫外線照射により硬化して形成した人工爪が有機溶媒を含まないｐＨ３．５以下の酸性水溶液により除去可能であることを特徴とする、上記人工爪組成物。
0005090140.tif 000007
〔式（I）中、Ｗは水素原子または炭素原子数１〜３のアルキル基を表し；Ｘは酸素原子または−ＮＨ−基を表し；Ｙは炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し；Ｚは同一でも異なってもよく、水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。〕
【請求項２】
上記式（I）で示される酸応答性モノマーが、２−ジメチルアミノエチルメタクリレートおよび／または３−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドである、請求項１記載の人工爪組成物。
【請求項３】
請求項１または２記載の人工爪組成物をヒトまたは動物の爪に塗布後、紫外線を照射して硬化させてなる人工爪を除去するために用いられる除去液であって、該除去液が有機溶媒を含まないｐＨ３．５以下の酸性水溶液からなることを特徴とする、上記除去液。
【請求項４】
請求項１または２記載の人工爪組成物をヒトまたは動物の爪に塗布後、紫外線を照射して硬化させてなる人工爪を、有機溶媒を含まないｐＨ３．５以下の酸性水溶液に接触させて除去することを特徴とする、人工爪除去方法。
【請求項５】
請求項１または２記載の人工爪組成物と、請求項３記載の除去液を含む、ネイルアートキット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は紫外線の照射により硬化させて人工爪を形成するために用いられる人工爪組成物に関する。本発明は特に、上記人工爪を除去する際に、従来のようにアセトン等の有機溶媒を用いることなく、酸性溶液を用いて安全かつ簡便に除去可能な人工爪組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、手や足の爪にデザインを施すネイルアートに対する人気が高まり、爪（自爪）に合成樹脂製の人工爪（付け爪）を形成する技術も種々提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。特に最近、ウレタン系樹脂と光重合性モノマーを含むジェル状の人工爪組成物（ジェルネイル組成物）を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪（ジェルネイル）が、仕上がりがクリアである、爪との密着性が高く長持ちする、アクリル系樹脂のような臭いがない、等の理由から注目を集めている。
【０００３】
しかしながら、このジェルネイルを除去するときは、従来、ジェルネイル表面を粗目のファイル（爪用やすり）でこすって傷を付けて除去液を滲み込みやすくさせた後、アセトン等の有機溶媒（除去液）に浸したコットンを上記ジェルネイル上に乗せ、これをアルミホイル等で巻いて５〜１０分間程度そのまま放置してジェルネイルを膨潤させた後、この膨潤したジェルネイルをへら状若しくはスティック状器具等を用いて剥がす方法が主流であった。しかしながらこの方法は指先や爪が有機溶媒でかさついたりもろくなったりして身体への負担が大きいという問題があった。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２５６１３４号公報
【特許文献２】特開２００４−２７５７３６号公報
【特許文献３】特表２００２−５０５９１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、ジェルネイルのもつ仕上がりのクリアさ、爪との密着性が高く長持ちする、等の本来の長所を損なわず、しかも、除去時に有機溶媒を用いずに、指先や爪に負担なく簡便かつ安全に除去することができる人工爪組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、人工爪組成物（ジェルネイル組成物）に特定のイオン性モノマー、特にはカチオン性モノマー、最も好ましくは特定の酸反応性モノマー、を配合することにより、人工爪（ジェルネイル）除去に際し、例えばレモン果汁等の酸性液を用いて簡便かつ安全に、指先や爪に負担をかけることなく除去することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち本発明は、紫外線照射により硬化して人工爪を形成するために用いられる人工爪組成物であって、該組成物中に紫外線の照射により重合可能なイオン性モノマーを含有することを特徴とする、上記人工爪組成物を提供する。
【０００８】
また本発明は、紫外線の照射により重合可能なイオン性モノマーがカチオン性モノマーである、上記人工爪組成物を提供する。
【０００９】
また本発明は、紫外線の照射により重合可能なイオン性モノマーが下記式（I）で示される酸応答性モノマーである、上記人工爪組成物を提供する。
【００１０】
0005090140.tif 000002
【００１１】
〔式（I）中、Ｗは水素原子または炭素原子数１〜３のアルキル基を表し；Ｘは酸素原子または−ＮＨ−基を表し；Ｙは炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表し；Ｚは同一でも異なってもよく、水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。〕
【００１２】
また本発明は、上記式（I）で示される酸応答性モノマーを２０〜７０質量％含有する、上記人工爪組成物を提供する。
【００１３】
また本発明は、上記人工爪組成物をヒトまたは動物の爪に塗布後、紫外線を照射して硬化させてなる人工爪を除去するために用いられる除去液であって、該除去液がｐＨ３．５以下の酸性水溶液からなることを特徴とする、上記除去液を提供する。
【００１４】
また本発明は、上記人工爪組成物をヒトまたは動物の爪に塗布後、紫外線を照射して硬化させてなる人工爪を、ｐＨ３．５以下の酸性水溶液に接触させて除去することを特徴とする、人工爪除去方法を提供する。
【００１５】
また本発明は、上記の人工爪組成物と除去液を含む、ネイルアートキットを提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、ジェルネイルのもつ仕上がりのクリアさ、爪との密着性が高く長持ちする、等の本来の長所を損なわず、しかも、除去時に有機溶媒を用いずに、指先や爪に負担なく簡便かつ安全に除去することができる人工爪組成物（ジェルネイル組成物）が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明について詳述する。
【００１８】
本発明の人工爪組成物は、紫外線の照射により光硬化し、人工爪（付け爪）形成に用いられるもので、該組成物中に紫外線の照射により重合可能なイオン性モノマーを含有する点に特徴がある。ここでいうイオン性モノマーとは、酸性領域、特にはｐＨ３．５以下の領域でイオン解離し得る官能基を有するモノマーである。イオン性モノマーとしてカチオン性モノマーが好ましい。
【００１９】
本発明では、上記イオン性モノマーとして、最も好ましくは下記式（I）で示される酸応答性モノマーが用いられる。以下の説明において、上記イオン性モノマーについては、該酸応答性モノマーを代表例として説明する。
【００２０】
0005090140.tif 000003
【００２１】
上記式（I）中、各置換基は以下の意味を表す。
Ｗは水素原子または炭素原子数１〜３のアルキル基を表す。
Ｘは酸素原子または−ＮＨ−基を表す。
Ｙは炭素原子数１〜１０、好ましくは１〜４、のアルキレン基を表す。
Ｚは同一でも異なってもよく、水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。
【００２２】
上記式（I）で表される酸応答性モノマーとして、例えば下記式（II）で表される２−ジメチルアミノエチルメタクリレートや、下記式（III）で表される３−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド等が挙げられ、これらが好適に用いられる。ただしこれら例示に限定されるものでない。
【００２３】
0005090140.tif 000004
【００２４】
0005090140.tif 000005
【００２５】
本発明の人工爪組成物（ジェルネイル組成物）には、上記式（I）で表される酸応答性モノマーの他に、一般にジェルネイル組成物に含まれる成分を適宜配合することができる。
【００２６】
このような成分として、被膜形成用ポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤、溶剤等が挙げられる。
【００２７】
上記被膜形成用ポリマーとしてはウレタン系ポリマーが用いられる。ここでポリマーとしてコポリマー、オリゴマーも含むものとする。ウレタン系ポリマーとしては、例えばポリウレタン、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリウレタン−ポリビニルピロリドン、ポリエステル−ポリウレタン、ポリエーテル−ポリウレタン、ポリ尿素−ポリウレタン等が挙げられる。本発明では特に、紫外線硬化性のある基（例えば、（メタ）アクリロイル基など）を含むウレタン系モノマーの重合体、同オリゴマー、あるいは該オリゴマーを含むポリマー、等が好ましく用いられる。これらの例としてウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー、ポリウレタン（メタ）アクリレート等が好ましく用いられる。ただしこれら例示に限定されるものでない。
【００２８】
上記光重合性モノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、カルドエポキシジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド等が挙げられる。ただしこれら例示に限定されるものでない。
【００２９】
上記光重合開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン；ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシ−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル誘導体；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体；２−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパン等のアセトフェノン誘導体；ミヒラーズケトン、２，４，６−（トリハロメチル）トリアジン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロノパン、ジメチルベンジルケタール、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、トリブロモメチルフェニルスルホン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン等が挙げられる。ただしこれら例示に限定されるものでない。
【００３０】
上記溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶剤およびこれらのアセテート系溶剤、酢酸メチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤等が挙げられる。ただしこれら例示に限定されるものでない。
【００３１】
本発明人工爪組成物中には、さらに所望により、一般に人工爪組成物中に配合され得る添加成分を、本発明効果を損わない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、樹脂粉末（ポリ（メタ）アクリル酸、等）、増粘剤、湿潤剤等が挙げられる。ただしこれら例示に限定されるものでない。
【００３２】
本発明人工爪組成物（溶剤を含む全成分）中における各成分配合量は、特に限定されるものでないが、上記式（I）で示される酸応答性モノマーは２０〜７０質量％が好ましく、より好ましくは２５〜５０質量％である。配合量が少なすぎると酸性溶液での除去を行うのが難しく、一方、多すぎると人工爪がもろくなりがちで、好ましくない。
【００３３】
他配合成分の配合量は特に限定されるものでなく、人工爪組成物を爪に塗布するに十分な塗布性を持ち、紫外線照射により光硬化して一定程度の硬さを有する人工爪を形成することができるものであれば、特に限定されるものでないが、ウレタン系ポリマーは０．１〜８０質量％程度、光重合性モノマーは１〜３０質量％程度、光重合開始剤は０．００１〜１０質量％程度、溶剤は１〜６０質量％程度が好ましい。
【００３４】
このようなジェルネイル組成物を用いて人工爪を形成するには、まず自爪上にジェルネイル組成物を塗布した後、紫外線を照射して、組成物を光硬化させることで形成することができる。
【００３５】
本発明人工爪組成物は、上記式（I）で示される酸応答性モノマーを配合することで、除去時に、従来のアセトン等の有機溶媒の代わりに、ｐＨ３．５以下の酸性溶液に接触させて安全かつ簡便に除去することができる。該酸性溶液のｐＨの下限値は特に限定されるものでないが、安全性の観点からｐＨ１．０程度以上とするのが好ましい。かかる酸性溶液として具体的には、リン酸緩衝液、クエン酸液、炭酸、酢酸、リンゴ酸、グリコール酸等が挙げられる。また「レモン果汁」等として市販されている製品等も用いることできる。
【００３６】
接触の方法は特に限定されるものでなく、酸性溶液に浸したコットン等をジェルネイル上に乗せて放置する方法、上記酸性溶液中に指先（ジェルネイル形成）を浸漬する方法、酸性溶液をジェルネイル上に滴下、あるいはシャワー状に吹き付ける方法等が挙げられる。ただしこれら例示に限定されるものでない。
【００３７】
除去方法の具体例を以下に示す。すなわち、ジェルネイル表面をファイル（爪用やすり）でこすってジェルネイル表面に粗めに傷を付けた後、酸性除去液に浸したコットンを上記ジェルネイル上に乗せ、これをアルミホイル等で巻いて３〜５分間程度そのまま放置してジェルネイルを膨潤させた後、この膨潤したジェルネイルをへら状若しくはスティック状器具等を用いることで、指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。また有機溶媒を用いないことから環境保護の点からも好ましい。
【００３８】
なお、上記方法において、酸性溶液に浸したコットンをアルミホイルで巻く作業を行わなくとも、コットンを乗せた後の放置時間を長めにするだけで、上記と同等の除去効果が得られる。
【００３９】
またクエン酸緩衝液等の弱酸を用いる場合には、コットンを用いる代わりに、該弱酸水溶液中に３〜５分間程度、指先（ジェルネイル形成）を浸すことでジェルネイルを膨潤させることができ、より簡便に除去が可能である。
【００４０】
本発明では上記人工爪組成物と除去液を含むネイルアートキットを提供することができる。
【実施例】
【００４１】
本発明について以下に実施例を挙げてさらに詳述するが、本発明はこれによりなんら限定されるものではない。
【００４２】
（実施例１）
下記表１に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物（試料１〜６）を得た。なお試料１は市販のジェルネイル組成物で、上記式（I）で示す酸応答性モノマーを配合していない。
【００４３】
得られた各組成物０．２５ｇを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物（塗膜）を目視で観察したところ、完全に固化（硬化）しており、光沢があった。
【００４４】
この光硬化した試料１〜６の各組成物（光硬化膜）の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、ｐＨ２．０、３．０、４．０、５．８のクエン酸緩衝液に５分間浸漬させた。次いで、取り出した各試料（硬化膜）につき、基材からの除去のしやすさを下記評価基準により評価した。結果を表１に示す。
（評価基準）
◎：容易に除去が可能であった（硬化膜が十分に膨潤した）
○：除去が可能であった（硬化膜が膨潤した）
△：除去にやや時間を要したが、除去が可能であった（硬化膜がやや膨潤した）
×：除去不可であった（硬化膜が膨潤しなかった）。
【００４５】
【表１】
0005090140.tif 000006
【００４６】
表１の結果から明らかなように、式（I）で示す酸応答性モノマーを配合しない試料１（市販のジェルネイル組成物）は、酸性溶液で除去することができなかったのに対し、上記酸応答性モノマーを配合した試料２〜６は、本発明範囲内の酸性溶液を用いて除去することができた。
【００４７】
なお、本発明試料のほとんどにおいて、ｐＨ４．０を超える酸性溶液に浸漬しても硬化膜が膨潤しないことから、日常生活においてｐＨが４．０を超える物質や溶液等に指先（本発明のジェルネイル形成）が接触しても、ジェルネイルが膨潤するおそれがなく、ジェルネイルの耐久性が損われないという利点がある。