(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
走行するウェブ状の被塗布基材の表面に、該被塗布基材の走行方向と対向するように回転し、その回転方向で、前記被塗布基材の直前にドクターブレードを有するリバース塗布ロールと、前記リバース塗布ロールの下側にバックアップロールと、塗布液が蓄えられたインキパンを配設してなる塗布装置において、
前記バックアップロールが、塗布液のピックアップロールを兼用し、かつ、前記バックアップロールの前後の両方に塗布液のピックアップを行う計量ロールを配し、かつ、前記バックアップロール及び前記両方の計量ロールがインキパン中の塗布液に浸されており、かつ、前記バックアップロールは正逆回転が可能であることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記計量ロールはバックアップロールとの隙間を調整できることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
前記リバース塗布ロールは被塗布基材の塗布面の反対面に圧胴ロールを有しないキスコート方式であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記リバース塗布ロールの直径が２０φ〜５０φであることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記リバース塗布ロールは、セル形状が連続した斜めのスパイラル状の溝である塗布ロールであることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記リバース塗布ロールは、小径ロールにワイヤーを巻装したワイヤバーであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項７】
正逆回転可能なバックアップロール、及び該バックアップロールの前後の両方に設けられる計量ロールがインキパン中の塗布液に浸されており、インキパンから前記バックアップロール及び前記計量ロールへ塗布液のピックアップを連続的に行い、バックアップロールへ塗布液を連続的に転移させ、さらにバックアップロールから塗布液をリバース塗布ロールへ連続的に転移させ、リバース塗布ロール上の塗布液をドクターブレードで定量以外を掻き取った後に走行するウェブ状の被塗布基材の表面に被塗布基材とを連続的に接触させる事で塗布液を前記被塗布基材に連続的に転移させることにより被塗布基材層と塗布膜とからなる塗布物を連続的に製造することを特徴とする塗布物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、精密塗布に関するものであり、特に安定した塗布面を容易に得られる塗布装置及び塗布物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、塗布装置としてはグラビア方式、ロッドコート方式、リバースロールコート方式などが知られ、被塗布材、塗布液の種類等、塗布物の用途等に応じ適宜選定され使用されている。
【０００３】
しかしながら、その中のグラビア方式は、セル内の塗布液を転移させる方式である以上セルパターンが塗布面に残ってしまうという欠点を有している。この問題は塗布液の濃度、粘度の調整によるレベリングの改善だけでは、なかなか均一な塗膜、平滑な塗布面を得ることが出来ず、特に薄膜に至ってはスムージングも困難なため良好な塗布面を得ることが困難である。
【０００４】
また、ロッドコート方式はインキングロールにより転移された塗布液をワイヤバーで掻き落とす方式で、構造上軽便であるが塗布液の粘度が高い場合、薄膜を得るのが困難であり、かつ流れに沿った縦筋が発生しやすいという欠点を有している。
【０００５】
また、リバースロールコート方式は平滑な塗布面が得られる優れた塗布方式であるが、調整に熟練を有すること、微妙な粘度変化で膜厚が変化してしまうということ、縦筋がでやすいこと、薄膜を得るのが困難であるなどの欠点を有している。
【０００６】
そこで上記欠点を解決し、精密な塗布を可能にする塗布方式に、２０φ〜５０φの小径の塗布ロールを用いたリバースキスコート方式があり、良好な塗布面が得られることが知られている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、上記の小径の塗布ロールを使用したリバースキスコート方式は塗布ロールの径が小さいほど良好な塗布面が得られ、その径は通常２０φから３０φが良いとされているが、塗布幅が広い場合、特に１０００ｍｍを越える場合、小径の塗布ロールは剛性に限界があるため自重によりたわみを生じるという欠点を有している。そのため径を大きくすることによりたわみを防止するという手段が取られているが径を大きくすると塗布面は悪化する傾向にある。
【０００８】
さらに被塗布基材には適宜な張力を必要とするが、この張力により小径の塗布ロールのたわみが増長される。この小径の塗布ロールにたわみが生ずると当然のことながら中央部と両端部では被塗布基材への接触圧力に差異が生じ、結果として中央部と両端部に膜厚の違いが出ることになる。
【０００９】
また、わずかなたわみでも小径の塗布ロールの回転が速くなると小径のリバース塗布に振動を起こすようになり、特定の回転数ではいわゆる共振を起こすようになる。このような現象を起こすと塗布面には横段模様が発生し塗布欠陥になるばかりか、装置自体にも過負荷がかかり好ましい状態とはいえない。
【００１０】
また、中央部と両端部の基材への接触圧力が極端に異なると被塗布基材に皺が発生することにもなり、その皺の部分に塗布欠陥（抜け）が生じるばかりか、正常な巻取り物が得られなくなる。
【００１１】
また、塗布ロールは一般的にはインキパンのようなインキが蓄えられた容器に浸されているいわゆるドブ付けの形式を採ることが多いが、この形式は無用な泡を巻き込みピンホール抜けの塗布欠陥を招きやすい。またこのドブ付け方式は塗布液が暴れるため平滑な塗布には不向きな形態である。特にベタ（印刷用語で、印刷面に濃淡の差や白く抜けた部分がなく、印刷インキで完全に覆われている部分をいう）刷りの場合、縦筋ムラが出やすくなる。
【００１２】
また、このような小径の塗布ロールによるリバースキスコート方式で、高速塗布を行う場合、十分な塗布量を得るためには、塗布ロールの高速回転が必要とし、上記のようにドブ付け方式では、塗布液の飛散を招くことになり飛散した塗布液が被塗布基材に付着し塗布欠陥となるという問題がある。
そこで、小径の塗布ロールによるリバースキスコート方式の塗布装置を用いて、膜厚が均一で、横段模様や縦筋ムラがなく、高速塗布でも塗布液の飛散による塗布膜欠陥のない塗布膜が得られる塗布装置が求められていたので、走行するウェブ状の被塗布基材の表面に、該被塗布基材の走行方向と対向するように回転し、その回転方向で、前記被塗布基材の直前にドクターブレードを有する小径のリバース塗布ロールで所定の厚さに塗布する塗布装置において、前記リバース塗布ロールの下側にバックアップロールを配設してなることを特徴とする塗布装置としたものが考えられていた。
具体的には、小径のリバース塗布ロールの下側にバックアップロールを配設することによって、リバース塗布ロールに「たわみ」が無くなるので、中央部と両側端部の膜厚は均一となり、高速回転での共振による横段模様がなくなり、被塗布基材の皺による抜け欠陥のない塗布膜が得られる塗布装置が考えられていた。
しかし、バックアップロールで直接塗布液も供給量を制御していたためにその供給量に伴う塗布となってしまい、塗布むらの原因になっていた。
【００１３】
本発明は、かかる従来技術の問題点を解決するものであり、その課題とするところは、バックアップロールで塗布液を供給してもムラがなく、高速塗布でも塗布液の飛散による塗布膜欠陥のない塗布膜が得られる塗布装置及び塗布物の製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明に於いて上記問題を達成するために、まず請求項１の発明では、走行するウェブ状の被塗布基材の表面に、該被塗布基材の走行方向と対向するように回転し、その回転方向で、前記被塗布基材の直前にドクターブレードを有するリバース塗布ロールと、前記リバース塗布ロールの下側にバックアップロールと、塗布液が蓄えられたインキパンを配設してなる塗布装置において、
前記バックアップロールが、塗布液のピックアップロールを兼用し、かつ、前記バックアップロールの前後の両方に塗布液のピックアップを行う計量ロールを配し、かつ、前記バックアップロール及び前記両方の計量ロールがインキパン中の塗布液に浸されており、かつ、前記バックアップロールは正逆回転が可能であることを特徴とする塗布装置としたものである。
【００１５】
上記請求項１の発明によれば、バックアップロールの前または後もしくはその両方に計量ロールを配することでバックアップロールに供給する塗布液を適正値に保つことが可能で、過剰供給を防ぐことができ、また不要は泡立ちを防ぐ作用もある塗布装置を提供できる。
【００１７】
また、請求項１の発明によれば、小径のリバース塗布ロールがインキパンにドブ付けしていないので、泡の巻き込みによるピンホールが無く、塗布液の暴れによる縦筋ムラがなく、かつ高速回転での塗布液の飛散による欠陥のない塗布膜が得られる塗布装置を提供できる。
【００１９】
また、バックアップロールの回転を正逆、変速を可能とすることによって、塗布液の種類、粘度等による塗布液のピックアップに過不足のないように調整可能な塗布装置とすることができる。
【００２０】
また、請求項２の発明では前記計量ロールはバックアップロールとの隙間を調整できることを特徴とする請求項１記載の塗布装置としたものである。
上記請求項２の発明によれば、それによりバックアップロールに供給する塗布液の液量を細かく調整することが可能で、特に塗布速度に応じた適性供給量を調整することができる。
【００２１】
また、前記計量ロールは変速機構を有することにより安定的に塗布液を供給でき、塗布液の暴れによる縦筋ムラがなく、かつ高速回転での塗布液の飛散による欠陥のない塗布膜が得られる塗布装置を提供できる。
本構成によれば、バックアップロールに供給する塗布液の液量を細かく調整することが可能で、特に塗布速度に応じた適性供給量を調整することができる。
【００２２】
また、請求項３の発明では、前記リバース塗布ロールは被塗布基材の塗布面の反対面に圧胴ロールを有しないキスコート方式であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の塗布装置としたものである。
上記請求項３の発明によれば、圧胴ロールを用いないので、被塗布基材に対して、比較的低い当接力で当接する塗布ロールのみで塗布することになり、塗布ムラが無く、面精度のよい塗布膜とすることができ、さらに傷のつきやすい被塗布基材に対しても面精度のよい塗布膜とすることができる。
【００２３】
また、請求項４の発明では、前記リバース塗布ロールの直径が２０φ〜５０φの小径であることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載の塗布装置としたものである。
【００２４】
上記請求項４の発明によれば、リバース塗布ロールの直径を２０φ〜５０φの範囲の細いものにすると、リバース塗布ロールと被塗布基材との接触面積（幅）が極力狭くなるため塗布液の溜まりが少なくなり、従って塗布液の切れが良くなり、塗布面も安定した均一で平滑な非常に薄い塗布膜とする塗布装置を供給できる。このリバース塗布ロールの直径が５０φを越えるとリバース塗布ロールと被塗布基材との接触面積（幅）が広くなり塗布液の溜まりが大きくなるため塗布液は概ね泳ぎ、塗布ムラができるようになり、また２０φに満たないと、リバース塗布ロールが細すぎて自重以外による「たわみ」等を含め材料的にも不安定となり、塗布膜の不良になる危惧があるので好ましくない。
【００２５】
また請求項５の発明では、前記リバース塗布ロールは、セル形状が連続した斜めのスパイラル状の溝であるグラビア版ロールであることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載の塗布装置としたものである。
【００２６】
また請求項６の発明では、前記リバース塗布ロールは、小径ロールにワイヤーを巻装したワイヤバーであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の塗布装置としたものである。
【００２７】
上記請求項５または６の発明によれば、セル形状が連続した斜めのスパイラル状の溝であるグラビア版ロール、あるいは小径ロールにワイヤーを巻装したワイヤバーとし、その表面をドクターブレードで余分な塗布液を掻き落とし易い形態とすることによって、塗布される塗布液の量（厚さ）を精度良く制御することができるので、塗布膜の面精度をより向上させる塗布装置を供給できる。
また、請求項７の発明では、正逆回転可能なバックアップロール、及び該バックアップロールの前後の両方に設けられる計量ロールがインキパン中の塗布液に浸されており、インキパンから前記バックアップロール及び前記計量ロールへ塗布液のピックアップを連続的に行い、バックアップロールへ塗布液を連続的に転移させ、さらにバックアップロールから塗布液をリバース塗布ロールへ連続的に転移させ、リバース塗布ロール上の塗布液をドクターブレードで定量以外を掻き取った後に走行するウェブ状の被塗布基材の表面に被塗布基材とを連続的に接触させる事で塗布液を前記被塗布基材に連続的に転移させることにより被塗布基材層と塗布膜とからなる塗布物を連続的に製造することを特徴とする塗布物の製造方法としたものである。
これによりバックアップロールで塗布液を供給してもムラがなく、高速塗布でも塗布液の飛散による塗布膜欠陥のない塗布膜が得られる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を詳細に説明する。
本発明の塗布装置は、図１の側面概略図に示すように、走行するウェブ状の被塗布基材３０の表面に、該被塗布基材３０の走行方向Ｐと対向するように回転し、その回転方向Ｒで、前記被塗布基材３０の直前にドクターブレード２０が配設されているリバース塗布ロール１０で所定の厚さに塗布するリバースキスコート方式の塗布装置１において、前記リバース塗布ロール１０の下側にバックアップロール４０を、またバックアップロール４０に供給される塗布液６２の供給量を制御する計量ロール５０を配設してなる塗布装置１である。
【００２９】
即ち、図２に示す従来の塗布装置１のように、小径のリバース塗布ロール１０はその自重により「たわみ」を生じて、塗布する上で不具合をきたすものであり、のこ「たわみ」を押さえるために上記バックアップロール４０で支えようとするものである。この「たわみ」を生じさせる原因としては被塗布基材３０にかかる張力もある。張力により被塗布基材３０は小径のリバース塗布ロール１０を押しつけることになり、「たわみ」はされに助長される。
【００３０】
このようにリバース塗布ロール１０に「たわみ」が生ずると当然のことながら中央部と両端部では被塗布基材３０への接触圧力に差異が生じ、結果として中央部と両端部に膜厚の差異が出るばかりでなく、被塗布基材３０に皺が発生することにもなり、この皺の部分が塗布欠陥（抜け）の原因にもなる。
【００３１】
このバックアップロール４０は、図１に示すように、小径のリバース塗布ロール１０を支えるように下から接触させることにより小径のリバース塗布ロール１０の被塗布基材３０にかかる張力による「たわみ」を防止することができる。
【００３２】
また、小径のリバース塗布ロール１０のわずかな「たわみ」でも、その回転が速くなるとリバース塗布ロール１０が振動を起こすようになり、特定の回転数ではいわゆる共振を起こすようになり、このような現象を起こすと塗布面には横段模様が発生し塗布欠陥となるばかりか、装置自体にも過負荷がかかり好ましい状態とはいえない。本発明の塗布装置１を構成するバックアップロール４０はこの振動も抑える役割を果たすものである。
【００３３】
また、このバックアップロール４０は小径のリバース塗布ロール１０を支えるように下から接触させることにより、リバース塗布ロール１０のブレを押さえる役割を果たし、小径のリバース塗布ロール１０の回転の正常化をもたらすことができる。
【００３４】
この場合、上記バックアップロール４０の径の制限はなく小径のリバース塗布ロール１０の「たわみ」を防止得る十分な剛性を有する構造のものであればよいが、通常のインキパン６２の大きさなどを考慮すれば１００φから２００φの範囲の径が使いやすい。
【００３５】
また、上記バックアップロール４０は塗布液６０のピックアップロールを兼用するものである。図２に示すように、従来のリバース塗布ロール１０は一般的にはインキパン６２に塗布液６０が蓄えられた容器に浸されている、いわゆるドブ付けの形式を採ることが多いが、この形式では無用な泡を巻き込みピンホール抜けの塗布欠陥を招きやすく、またこのドブ付け方式は塗布液６０がインキパン６２内で暴れるため平滑な塗布には不向きな形態である。特にベタ刷りの場合、縦筋ムラとなって現れ易くなる。
【００３６】
また本発明ではバックアップロール４０が正逆回転が可能でかつ変速機能を有するものであり、このバックアップロール４０を使用することによりリバース塗布ロール１０への塗布液供給が円滑に行われるようになるものである。
【００３７】
すなわちバックアップロール４０は塗布液６０にドブ付けされており回転しながら塗布液６０を掻き上げて小径のリバース塗布ロール１０に供給する。塗布液６０の性質、版深（溝深）、塗布量、塗布速度に応じて回転方向、回転速度を調整すればよい。
【００３８】
この塗布液６０によっては、或いは版深（溝深）、塗布量、塗布速度によって小径のリバース塗布ロール１０に対して順回転の方がよい場合と逆回転の方がよい場合があるが液の粘度、配合物などの液の性質に応じて使い分ければよい。またリバース塗布ロール１０の版深（溝深）、塗布量、塗布速度に応じて回転速度も調整すればよい。版深（溝深）が深い場合、塗布量が多い場合、塗布速度が速い場合は回転速度を上げる方向になるが一概に速ければ良いというものでなく適正な回転数があるものである。速すぎる場合はの塗布液６０の飛散や泡の巻き込みによるピンホール抜けなどの弊害もでるので好ましくない。
【００３９】
本発明では、図１に示すように、上記小径のリバース塗布ロール１０自体は塗布液６０にドブ付けされていない。この塗布液６０はバックアップロール４０から必要量だけ転移供給される。この時リバース塗布ロール１０は小径のため大径の塗布ロールに比べて回転数は多くなり通常３倍から１０倍程度になる。回転数が多くなれば塗布液６０の飛散の問題ばかりか塗布液６０の暴れによる塗布面のムラや泡の巻き込みをもたらすことになる。それに反して本発明のバックアップロール４０から転移供給される場合、バックアップロール４０の回転数は小径のリバース塗布ロール１０の回転数の３分の１から１０分の１になるため塗布液はバックアップロール４０にて緩やかに掻き上げられ小径の塗布ロールに供給されるため塗布液の暴れによる塗布面のムラや泡の巻き込みによるピンホール抜けの欠陥がなくなる。
【００４０】
また供給方法は、バックアップロール４０と小径のリバース塗布ロール１０が接触しながら供給されるため、塗布液６０は小径のリバース塗布ロール１０のセル（溝）内に強制的に押し込まれ、塗布液の転移が安定して行われる。特に高粘度の塗布液６０やフィラー分が配合された塗布液には有効である。
【００４１】
本発明では、バックアップロール４０に対して塗布液６０の供給量を制御する計量ロール５０ａおよび５０ｂを配設してなる塗布装置１である。この計量ロール５０がない場合、バックアップロール４０に書き上げられる塗布液６０の量は制限がないため不必要な分まで掻きあげられるため、小径のリバース塗布ロール１０とバックアップロール４０の間に塗布液６０数多く溜まり、塗布液６０が暴れるため不必要な泡の巻き込みによるピンホール抜けを生じることになる。また高速塗布の場合、バックアップロール４０の回転も高回転となるため、バックアップロール４０に書き上げられた塗布液６０が飛散し塗布欠陥となる。
【００４２】
本発明では、バックアップロール４０に対して塗布液６０の供給量を制御する計量ロール５０ａおよび５０ｂを配設することにより適宜な量の塗布液６０をバックアップロール４０に供給し、塗布液６０の暴れや飛散を防止するものである。
【００４３】
即ち、ドクター２１ａ及び２１ｂにて塗布液６０を掻き落とした計量ロール５０とバックアップロール４０のクリアランス（隙間）を調整することにより、塗布液６０の供給量を制御しようとするものである。クリアランス量は塗布液６０の性質、版深（溝深）、塗布量、塗布速度に応じて調整すればよい。
【００４４】
また、計量ロール５０の回転数はクリアランス量と同様に塗布液６０の性質、版深（溝深）、塗布量、塗布速度に応じて調整すればよい。
【００４５】
この、２本の計量ロール５０はバックアップロール４０回転方向に応じて使い分ければよい。即ちバックアップロール４０の回転方向が小径のリバース塗布ロール１０に対して逆回転の場合は計量ロール５０ａを使用し、順回転の場合は計量ロール５０ｂを使用すれば良い。
【００４６】
また、上記リバース塗布ロール１０は、一般のグラビア塗布方式と異なり塗布面の逆側に圧胴ロールを有しないリバースキスコート方式である。圧胴ロールを有するとそもそも圧胴機構の精度の問題を生ずる。すなわち圧胴の真円度、平行度、加圧力、クリアランス量、基材に対するズリ応力などが微妙に影響し平滑な塗布面が得られにくい。この点はキスコート方式の場合、圧胴の要因を除くことができ、被塗布基材３０への転写の要素は単純に張力のみで決まるため複雑な調整は不要で平滑な塗布面が簡便に得られるものである。
【００４７】
本発明の塗布装置１のリバース塗布ロール１０の直径は２０φ〜５０φの範囲が好ましく、小径にすると更に面状態が良くなるため２０φ〜３０φ程度がより好ましく、このようにリバース塗布ロール１０を小径にすることによって、リバース塗布ロール１０と被塗布基材３０との接触面積（幅）が極力狭くなるため塗布液６０の溜まりが少なくなり、従って塗布液６０の切れが良くなり塗布面も安定した均一、平滑なものになる。リバース塗布ロール１０の直径が５０φを越えるとリバース塗布ロール１０と被塗布基材３０との接触面積（幅）が広くなり塗布液６０の溜まりが大きくなるため塗布液は概ね泳ぎ、塗布ムラとなる危惧があり、２０φに満たないと、細すぎてリバース塗布ロール１０の自重以外の「たわみ」等に対する材料的安定性がなくなるので、塗布膜に種々の欠陥が生じる危惧があり好ましくない。
【００４８】
また、本発明では、図３の正面拡大図に示すようにリバース塗布ロールを、セル形状が連続した斜めのスパイラル状の溝１２からなるグラビア版ロール１０ａとした塗布装置である。
【００４９】
リバース式のグラビア版ロールのセル形状としては一般的には格子、ハニカムが最も一般的であるが基本的には独立したセル形状であるため往々にしてグラビア目と呼ばれるセル形状が塗布面に残ることがある。塗布液の粘度調整やスムーザーによっても平滑な塗布面を得ることは困難である。良好な塗布面を得るためには、図３に示すように、独立したセル形状ではなく、通常斜線版或いは万線版と呼ばれる連続した斜めの溝の集合体即ちスパイラル状の溝１２が良好な塗布面を得ることができる。連続した斜めの溝の場合セルは独立していないため塗布液のつながりが出来るため均一で平滑な塗布面が得られることになる。
【００５０】
また、本発明では、図４の正面拡大図に示すように、リバース塗布ロール１０は小径ロール１１にワイヤー１４を巻装したワイヤバー１０ｂとした塗布装置である。
【００５１】
上記ワイヤバー１０ｂでは、巻装したワイヤー１４とワイヤー１４の隙間に塗布液６０が強制的に押し込まれるもので、塗布液の転移が安定して行われる。このワイヤバー１０ｂでの塗布量（厚み）の調整は、ワイヤー１４の太さによって行われるものである。
なお、塗布液は、ウェブ状の被塗布基材の表面に被塗布基材とを連続的に接触させる事で塗布液を前記被塗布基材に連続的に転移させることだけで被塗布基材層の塗布膜となるものでも良いが、必要に応じて塗布液の水分成分や溶剤成分を除去する自然乾燥工程や、加熱乾燥工程、赤外線乾燥工程、重合縮合工程や現像工程の様な固化工程を含むものであっても良い。
【００５２】
【実施例】
次に実施例により、本発明を具体的に説明する。
《実施例１》
小径のリバース塗布ロールとして図３に示す連続した斜めのスパイラル状の溝１２からなるグラビア版ロール１０ａを用い、図１に示すように、その小径のリバース塗布ロール１０の下側にバックアップロール４０を有し、そのリバース塗布ロール１０が走行するウェブ状の被塗布基材３０に対してリバース回転する。この塗布装置１は、被塗布基材３０の塗布面の逆側（図面では上側）に圧胴を有しないキスコート式であり、この時の被塗布基材３０が小径のリバース塗布ロール１０にかかる圧力は、ウェブ状被塗布基材３０の張力のみであり、この張力は前幅で１２ｋｇであった。
【００５３】
小径のリバース塗布ロール１０はバックアップロール４０によって支えられており、小径のリバース塗布ロール１０の自重或いは被塗布基材３０の張力による「たわみ」が抑えられていた。また小径のリバース塗布ロール１０がバックアップロール４０に支えられることにより主計の小径のリバース塗布ロール１０が高速回転になったときの振動も同時に抑えられていた。
【００５４】
塗布液６０は、計量ロール５０により必要量だけバックアップロール４０に転移され、小径のリバース塗布ロール１０にさらに転移供給される。このバックアップロール４０は正逆回転が可能で、また回転数も可変である。
【００５５】
本実施例での小径のリバース塗布ロール１０の径は３０φであり両側の軸受けまでのスパンは１５００ｍｍのものを使用した。またバックアップロール４０の径は８０φのものを用いた。
【００５６】
この塗布装置１にバックアップロール４０を設置して静止状態の「たわみ」の値を測定したところ０．０２ｍｍであった。更にリバース塗布ロール１０の回転数を３００ｒｐｍまで上げてブレを測定したところ最大値で０．０５ｍｍまでのブレに抑えることができた。
【００５７】
上記状態の塗布装置１に塗布液６０を投入し、塗布速度３０ｍ／ｍｉｎ、小径のリバース塗布ロール１０の回転数を３００ｒｐｍで同条件の塗布テストを行ったところ横段模様と縦筋ムラは確認できなかった。この塗布サンプルを採取して幅方向の塗布量を測定したところ両端部は期待値の２．５〜２．６ｇ／ｍ2であったが中央部も２．５〜２．６ｇ／ｍ2であり目視でも両端部と中央部の濃度差は確認できなかった。さらにサンプルをルーペで観察したところ細かな気泡等の塗布欠陥は発見できず平滑な塗布物を得ることが出来た。
【００５８】
《比較例１》
実施例１での塗布装置に小径のリバース塗布ロール１０を設置してバックアップロールと計量ロールを取り付けない静止状態での「たわみ」の値を測定したところ０．４３ｍｍであった。更に回転数を３００ｒｐｍまで上げてブレを測定したところ最大値で０．６ｍｍまでのブレにが観測された。
【００５９】
このようなバックアップロールを取り付けない状態で塗布液を投入し塗布速度３０ｍ／ｍｉｎ、小径のリバース塗布ロール１０の回転数を３００ｒｐｍで塗布テストを行ったところ等間隔の横段模様と縦筋ムラが観測された。塗布サンプルを採取して幅方向の塗布量を測定したところ両端部は期待値の２．５〜２．６ｇ／ｍ2であったが、中央部は２．１〜２．２ｇ／ｍ2であり目視でも両端部と中央部の濃度差が確認できた。さらにサンプルをルーペで観察したところ細かな気泡が点在していることが判明した。
【００６０】
【発明の効果】
本発明は以上の構成であるから、下記に示す如き効果がある。
即ち、走行するウェブ状の被塗布基材の表面に、該被塗布基材の走行方向と対向するように回転する小径のリバース塗布ロールで塗布する塗布装置において、小径のリバース塗布ロールの下側にバックアップロールを配設することによって、リバース塗布ロールに「たわみ」が無くなるので、中央部と両端部の膜厚は均一となり、高速回転での共振による横段模様が無くなり、被塗布基材の皺による抜け欠点のない塗布膜が得られる塗布装置を提供することができる。
【００６１】
また、前記バックアップロールは、塗布液のピックアップロールを兼用するもので、小径のリバース塗布ロールがインキパンにドブ付けとしないので、泡の巻き込みによるピンホールがなく、塗布液の暴れによる縦筋ムラがなく、かつ高速回転での塗布液の飛散による塗布膜欠点のない塗布装置とすることができる。
【００６２】
また、前記バックアップロールの回転を正逆、変速を可能とすることによって、塗布液の種類、粘度等による塗布液のピックアップに過不足のないように調整可能な塗布装置とすることができる。
【００６３】
また前記リバース塗布ロールは、被塗布基材の塗布面の反対面に圧胴ロールを有しないリバースキスコート式とし、圧胴ロールを用いないので、被塗布基材に対して、比較的低い当接力で当接する塗布ロールのみで塗布することになり、よって塗布ムラが無く、面精度のよい塗布膜とすることができる。
【００６４】
また、前記リバース塗布ロールは、セル形状が連続した斜めのスパイラル状の溝であるグラビア版ロールもしくは小径ロールにワイヤーを巻装したワイヤバーとすることによって、その表面をドクターブレードで余分な塗布液を掻き落とし易い形態とし、塗布される塗布液の量（厚さ）を精度良く制御することができるので、塗布膜の面精度をより向上させる塗布装置を提供できる。
【００６５】
従って本発明は、ウェブ状の基材に極精密な塗布膜を得る装置として、優れた実用上の効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の塗布装置の一実施の形態を説明する側面図である。
【図２】従来の塗布装置の一事例を説明する側面図である。
【図３】本発明の塗布装置を構成するリバース塗布ロールの一実施の形態を説明する正面拡大図である。
【図４】本発明の塗布装置を構成するリバース塗布ロールの他の一実施の形態を説明する正面拡大図である。
【符号の説明】
１  塗布装置
１０  リバース塗布ロール
１０ａ  グラビア版ロール
１０ｂ  ワイヤバー
１１  小径ロール
１２  斜めスパイラル状の溝
１４  ワイヤー
２０  ドクターブレード
２１ａ  ドクターブレードａ
２１ｂ  ドクターブレードｂ
３０  被塗布基材
４０  バックアップロール
５０  計量ロール
６０  塗布液
６２  インキパン
Ｐ  被塗布基材の走行方向
Ｒ  リバース塗布ロールの回転方向
【図１】
0005044872.tif 000002
【図２】
0005044872.tif 000003
【図３】
0005044872.tif 000004
【図４】
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