(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１および第２の支持体（１１０ａ、１１０ｂ、２１０ａ、２１０ｂ）の接合によって形成され、一部で前記第１および第２の支持体の一方が他方から解放され、マイクロエレクトロニクスまたはマイクロメカニクスデバイスに用いられる、多層構造体の製造方法であって、
ａ）  熱処理により第１の応力調整層（１３０、２２０）をもつ第１の支持体（１３０ａ、２１０ａ）を形成するとともに、第２の支持体（１１０ｂ、２１０ｂ）および熱処理により形成された第２の応力調整層（１２０、２３０）をもつ第２の支持体（１１０ｂ、２１０ｂ）の少なくとも一つを形成して、前記第１及び第２の応力調整層は、方法終了時に所望の構造体応力をもつような材質及び厚さをもつようにするステップと、
ｂ）  ２つの前記応力調整層を介して前記第１および第２の支持体の接合を行うステップと、
ｃ）  前記ステップｂ）の後、前記所望の構造体応力をこの構造体で調整するのに十分な温度および時間で熱処理を実施するステップと、
ｄ）  接合後、前記第１及び第２の支持体の少なくとも一つを薄型化する薄型化ステップと、
接合に先立ち前記第１および第２の支持体の少なくとも一方にガス種を注入して形成された破砕領域に沿って肉薄化し、前記支持体の一部を破砕する分離ステップとを含む方法。
【請求項２】
前記第１および第２の支持体の接合ステップが、貼りあわせ接合を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第１および第２の応力調整層は、第１および第２の支持体による応力の符号がそれぞれ反対になるような厚みで複数の材料から構成されるようにしたことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも一つの応力調整層の上に少なくとも一つの中間層が配置されるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記接合が、層どうしの貼りあわせ接合（分子間接合）を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
前記ステップｂ）に先立ち、ウェーハ接合により結合される層を用意し、これらの層の表面状態を調整するようにしたことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ステップｂ）に際し、ウェーハ接合を室温で実施するようにしたことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記接合が、蝋付け、溶接、層間相互拡散、接着剤による接合の中から選択された、少なくとも一つの貼りあわせ技術を使用する接合を含むようにしたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記接合が、接合層を介して行われるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記ステップａ）の時に、前記第１の支持体（１１０ａ、２１０ａ）に第１の応力調整層（１３０、２２０）を形成し、第２の支持体（１１０ｂ、２１０ｂ）に第２の応力調整層（１２０、２３０）を形成し、前記ステップｂ）の時に、前記第１及び第２の応力調整層間のウェーハ接合（分子間接合）を行うようにしたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１および第２の応力調整層は、第１の支持体に形成され、前記接合が、第２の支持体と、表面の第１および第２の応力調整層のいずれかとの間で行われるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記薄膜化ステップは、熱およびまたは機械処理を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記薄型化ステップ前に得られる構造体応力は、この応力が破砕ゾーン位置の分離に寄与するように構成されることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記応力調整層の少なくとも一つが、スパッタ、エピタキシ、化学蒸着、たとえば化学気相成長法（ＣＶＤ）、減圧気相成長法（ＬＰＣＶＤ）、プラズマＣＶＤといった方法の中から選択された方法による材料蒸着によって形成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記応力調整層の少なくとも一つが、前記支持体の表面酸化によって得られるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記応力調整層のうち少なくとも一つが、前記支持体への種注入によって得られるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記支持体が、シリコン、ゲルマニウム、炭化シリコン、III−Vタイプの半導体II−VIタイプの半導体、ガラス、超伝導体、ダイヤモンド、セラミック材料（ＬｉＮｂＯ３、ＬｉＴａＯ３）、および石英の中から選択される少なくとも一つの材料からなり、前記応力調整層が、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＮ、金属、金属合金、およびダイヤモンドまたは一つの主要層の材料の中から選択した少なくとも一つの材料からなることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、内部応力制御を特徴とする、特に接合または接着、特にウェーハ接合（分子間接合）により得られる多層構造体の製造方法に関する。
【０００２】
応力制御のなされた多層構造体とは、一つの構造体が、主要層と呼ばれる少なくとも２つの支持体を含み、これらの支持体の間に引っ張り応力または圧縮応力を有する構造体を意味する。これらの応力は、構造体の使用目的に応じて決定かつ制御される。
【０００３】
本発明は、マイクロエレクトロニクスの分野で基板または補強材として適用され、またマイクロメカニカル分野では、たとえばダイヤフラムセンサの製造のために適用される。
【０００４】
【従来の技術】
ウェーハの貼りあわせ（ｗａｆｅｒ  ｂｏｎｄｉｎｇ）技術により組み立てられる多層構造体の中では、たとえば、ＳＯＩ構造体（絶縁体上のシリコン／ｓｉｌｉｃｏｎ  ｏｎ  ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）を挙げることができる。一般に、ＳＯＩ多層構造体は、支持体の役割をする厚いシリコン層と、酸化シリコンからなる絶縁層と、シリコンの表面薄膜とを含み、その厚みは、数十ナノメートル〜数十マイクロメートルである。
【０００５】
ＳＯＩ構造体の製造では、一般に、少なくとも一方が酸化シリコン表面層で被覆された２枚のシリコンウェーハを、ウェーハ接合（分子間接合）により接触させる。
【０００６】
接触後、ウェーハは、一般に調節雰囲気下で熱処理を受ける。熱処理の目的は、内部接触を改良し、その結果としてウェーハの接合を改良することにある。
【０００７】
存在する材料、特に酸化シリコンと接触するシリコンが、熱処理時に互いに応力を課すことがある。応力は、特に、接触する材料の熱膨張係数の差Δｌ／ｌに関連する。こうした接触面の材料の熱膨張率の差はまた、密接に結合される構造体の冷却時にさまざまな応力の原因になる。
【０００８】
一般に、シリコンウェーハ上のＳｉＯ２膜は、特定の温度で製造される場合、冷却時にウェーハに変形を生じることがある。熱による相対的な変形Δｌ／ｌは、シリコンに対して約２．６・１０−６／Ｋであり、シリコンの熱酸化により構成されるＳｉＯ２の酸化物に対しては約５．１０−７／Ｋである。
【０００９】
シリコンウェーハの片面に酸化膜が形成されると、ウェーハの中心にある撓みの測定により、応力による変形を量子化することができる。熱膨張係数の差のために、温度が下がると、シリコンウェーハ上で酸化膜の収縮が生じる。この収縮は、ウェーハの盛り上がりとなって現れる。この盛り上がりは、酸化膜が厚ければ厚いほど顕著であり、表面形状の変形を招くことがある。
【００１０】
添付図１〜４は、ウェーハの貼りあわせによる従来の方法で構成されたＳＯＩ構造体に発生する応力を示す。
【００１１】
図１は、薄い熱酸化物層２０ａを表面に有するシリコンウェーハとして、第一の主要層（支持体１０ａ）を示している。
【００１２】
シリコンからなる第１の支持体１０ａと、表面酸化物層２０ａとから形成されるアセンブリがアーチ型になっていることが分かる。酸化物層２０ａの表面は盛り上がっている。
【００１３】
参照符号１０ｂは、第２の支持体を形成するシリコンウェーハを示しており、この層の平行な面は平らである。図示された例では、主要層１０ａ、１０ｂは、最初に同程度の厚みを有する。
【００１４】
図２は、第１および第２の支持体１０ａ、１０ｂの接合によって得られる構造体を示す。これらの層は、酸化物層２０ａにより結合されている。アセンブリは、上記と同様に、表面酸化物層２０ａへの第２のシリコン支持体１０ｂの貼りあわせ接合を含む。こうした接合は、熱処理により強化される。
【００１５】
接合後に得られる構造体は、殆ど変形していないことが分かる。実際、シリコンの厚みが同程度である場合、各支持体上で酸化物の層が発生する応力は、補正し合う傾向がある。
【００１６】
ＳＯＩタイプ構造体の表面シリコン膜は、一般に、たとえば部品要素の電気的絶縁への要求に厚みを適合させた薄膜である。この構造体の剛性は、厚いシリコン層によって確保される。
【００１７】
かくして、図２の構造体から典型的なＳＯＩ構造体を得るには、シリコン支持体の一つを薄型化しなければならない。薄型化は、さまざまなＢＳＯＩ（シリコンはめ込み絶縁体「Ｂｏｎｄｅｄ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ」）法、ＢＥＳＯＩ（エッチング停止層を備えたＢＳＯＩ「Ｂｏｎｄｅｄ  ｗｉｔｈ  Ｅｔｃｈ  ｓｔｏｐ  ｌａｙｅｒ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ」）法で知られている薄型化技術によって行うことができる。この点に関して、資料（７）を引用することができる（本明細書の末尾参照）。
【００１８】
シリコン支持体の一つが薄型化されると、酸化シリコン層との境界で発生する応力がもはや補正されなくなる。
【００１９】
図３、４は、支持体１０ｂ、１０ａの薄型化によってそれぞれ得られる構造体を示す。これらの構造体は、撓みを有し、シリコン薄膜の面は、それぞれの場合に盛り上がっている。
【００２０】
支持体の厚みのみならず、埋め込まれた酸化シリコン層の厚み、すなわち支持体と薄い表面層との間でサンドイッチ状になった酸化物の層が、最終的に得られる構造体の撓みをコントロールするパラメータの一部をなす。
【００２１】
たとえば、マイクロメートル単位の厚みで埋め込まれる熱酸化物の膜２０ａに対して、得られる撓みの値は、シリコン表面薄膜１０ａの厚みが２５μｍ、シリコン支持体の厚みが約５００μｍであるとき、５０μｍより大きいことがある。シリコン表面膜の厚みが５０μｍ以上に増えた場合、撓みは約２５μｍに減少する。これは、酸化物の膜の厚みよりもシリコン膜の厚みが大きいことを示している。
【００２２】
構造体の変形を少なくするために検討できる措置は、構造体の厚い支持体の背面と呼ばれる自由面に第二の酸化物膜を設けることにある。この措置により、実際に、接触前にウェーハの変形を減らすことができる。しかしながら、幾つかの用途では、背面の酸化物膜を除去することが必要である。ところで、薄型化の後に、酸化物の膜が背面から除去されると、変形が再び現れ、主に酸化物の膜の厚みに関連して最終的にＳＯＩ構造体が変形することが分かっている。
【００２３】
この点に関して、本明細書の末尾に明記した資料（１）を参照することができる。
【００２４】
図５に示された別の実施形態によれば、それぞれが酸化物の膜２０ａ、２０ｂを表面に備えた２個のシリコンの支持体１０ａ、１０ｂを接触させることにより、応力の影響を減らすように試みることができる。酸化物の膜の厚みは、同程度の厚みである。しかしながら、支持体の一つを薄型化するときに構造体に変形が現れることが認められる。さらに、図５に示すように、２個の支持体の最初の撓みが、酸化物の表面層の表面接触をますます難しいものにしている。これは、適切でない接触ゾーンで局部的に発生し、従って、最終構造体に空洞あるいは欠陥が生じることがある。
【００２５】
シリコン層と酸化シリコン層とを結合する構造体に対する上記の変形現象は、非常に多くの材料の組み合わせに対してみられる。しかしながら、発生する変形は、接触する材料、また特に、発生する引っ張り応力または圧縮応力のタイプに応じて変わってくる。
【００２６】
たとえば、図６が示すように、窒化シリコン膜３０をシリコンウェーハ１０に配置した場合、この蒸着は、実施条件に応じて冷却後に、同じく変形をもたらす様々な応力を発生することがある。
【００２７】
窒化シリコンとシリコンとの間の応力は、材料に本質的な原因があるが、熱膨張率の差に関連する熱による原因を同様に有する。たとえば、化学気相成長法（ＣＶＤ）により得られる窒化シリコン膜の熱膨張率は、約４．２・１０−６／Ｋであるが、この熱膨張率は、シリコンに対しては２．６・１０−６／Ｋである。窒化シリコンの蒸着は高温で行われるので、冷却時に強い応力が現れる。
【００２８】
しかし、たとえば図６と図１を比較すると、窒化シリコン３０の層の表面は、酸化シリコン層２０ａの凸面とは反対にへこんでいる。
【００２９】
こうした曲率の差は、窒化シリコンと酸化シリコンが、シリコン主要支持体に構成される時に、ほぼ反対の応力を有することとなって現れる（引っ張り応力−圧縮応力）。
【００３０】
図６に従って窒化シリコン膜でそれぞれ被覆された２個のシリコン支持体の結合は、窒化物の膜が向かい合うときに、同様に接着性または接触品質の問題を提起する。特に、窒化シリコン層の間の境界領域に気泡が形成され、最終構造体に局部的に欠陥を発生することがある。
【００３１】
上記の問題の明確な説明については、本明細書の巻末に挙げた、様々な層の間の接触応力に関する資料（２）、（３）、（４）、（５）、（６）を参照されたい。
【００３２】
特に資料（３）は、シリコンウェーハの表面に形成された酸化シリコン表面膜が発生する応力の影響を、第二の窒化シリコン膜によりこの表面膜を被覆することによって補正可能であることを示している。
【００３３】
このようにしてほぼ平らな構造体を得ることができる。
【００３４】
第二の膜（窒化物）の厚みは、平らな面を持つ構造体を最終的に得るために正確に制御しなければならない。
【００３５】
層の間で発生する応力は、たとえば連続蒸着により製造される層の場合のように、単に接触材料に関連するだけではなく、層間のウェーハの貼りあわせの品質にも関連する。
【００３６】
かくして、資料（３）に従って構造体が被る後処理、すなわち他の層とこのような構造体との結合は、応力の均衡を変化させるので、構造体の最終応力の制御が難しくなる。
【００３７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、少なくとも一つの貼りあわせステップを含み、異なる材料の支持体を結合した後で構造体に現れる応力を正確に制御できる多層構造体の製造方法を提案することにある。
【００３８】
特に、本発明の目的は、平ら、または所定の撓みを有する最終構造体を得るために、応力を変化させて調整可能な、上記方法を提案することにある。
【００３９】
本発明の目的は、応力を制御した構造体を得るために、貼りあわせを使用することによって少なくとも一つの結晶層（支持体）を変位可能にすることにある。
【００４０】
本発明の目的はまた、異なる材料の層の間の境界領域で接触欠陥のない構造体を実現可能な、上記の方法を提案することにある。
【００４１】
本発明の目的はさらに、この構造体の製造の前処理または後処理を考慮に入れることができ、たとえば分離を得るための注入処理といった工業利用の要求に適合する方法を提案することにある。
【００４２】
【課題を解決するための手段】
これらの目的に到達するために、より詳しくは、本発明は、少なくとも２つの応力調整層の積層により互いに結合され、所定の構造体応力を有し、主要層（支持体）と呼ばれる少なくとも一つの第１および第２の支持体を含む、多層構造体の製造方法を目的とし、
第１および第２の支持体（１１０ａ、１１０ｂ、２１０ａ、２１０ｂ）の接合によって形成され、一部で前記第１および第２の支持体の一方が他方から解放され、マイクロエレクトロニクスまたはマイクロメカニクスデバイスに用いられる、多層構造体の製造方法であって、
ａ）  熱処理により第１の応力調整層（１３０、２２０）をもつ第１の支持体（１３０ａ、２１０ａ）を形成するとともに、第２の支持体（１１０ｂ、２１０ｂ）および熱処理により形成された第２の応力調整層（１２０、２３０）をもつ第２の支持体（１１０ｂ、２１０ｂ）の少なくとも一つを形成して、前記第１及び第２の応力調整層は、方法終了時に所望の構造体応力をもつような材質及び厚さをもつようにするステップと、
ｂ）  ２つの前記応力調整層を介して前記第１および第２の支持体の接合を行うステップと、
ｃ）  前記ステップｂ）の後、前記所望の構造体応力をこの構造体で調整するのに十分な温度および時間で熱処理を実施するステップと、
ｃ）  接合後、前記第１及び第２の支持体の少なくとも一つを薄型化する薄膜化ステップと、
接合に先立ち前記第１および第２の支持体の少なくとも一方にガス種を注入して形成された破砕領域に沿って肉薄化し、前記支持体の一部を破砕する分離ステップとを含む。
【００４３】
たとえば、第１の調整層および第２の調整層は、第１の支持体および第２の支持体の上にそれぞれ別個にある場合（すなわち接合前）、反対方向の変形を引き起こすように選択される（製造タイプ、性質、厚み）。こうした変形は、必ずしも同程度に行われるわけではない。
【００４４】
幾つかの実施形態では、少なくとも一つの調整層の上に中間層が配置され、所望の多層構造体を得られるようにしている。
【００４５】
有利なことには、その後、ステップｂ）の後に、この構造体で前記所定の構造体応力を調整するのに十分な温度と時間による熱処理を実施することができる。
【００４６】
好適な実施形態によれば、貼りあわせ接合は、ウェーハの貼りあわせ接合とすることができる。
【００４７】
本発明は、また、蝋付け、融着、接着剤による接合、層間の相互拡散、または、これらの様々な技術の組み合わせの中から選択された接合を用いることができる。これらの技術では、接合が、いわゆる接合層によって行われる。接合層は、調整層の間か、あるいは一つの調整層と対応する支持体との間にある。
【００４８】
構造体応力とは、各調整層の応力と、各支持体の応力と、結合の境界領域に関連する応力とから生ずる応力を意味する。
【００４９】
構造体応力は、凸形または凹形の撓み、すなわち、得られた構造体の表面の平面特性を決定する。
【００５０】
場合によってはステップｂ）の後に行われる熱処理により、接合品質を改善するだけではなく、特に、使用される熱の収支を調整することによって、層間の接触応力を変え、引っ張り応力と圧縮応力とのバランスを調整することができる。
【００５１】
使用される熱の収支は、特にステップｃ）の前処理または後処理の熱収支（BUDGETS  THERMIQUES）を考慮することによって調整可能である。かくして、この構造体で行われる他の熱処理は、所定の応力を得るのに有害ではない。
【００５２】
熱処理における熱の収支はまた、層における応力を制御する他のパラメータに応じて調整される。
【００５３】
これらのパラメータの中では、
−使用材料と、これらの材料が被る処理
−支持体の厚みと、それらの製造方法
−表面の粗さの状態と、接触層の形状
−表面の洗浄品質と、多少とも親水性の表面特性、を挙げることができる。
【００５４】
熱収支の選択に対して上記のパラメータを考慮することにより、最終構造体の内部応力、従って、その変形を適合させることができる。特に、応力調整層における応力を、増加、減少あるいは逆転することさえ可能である。
【００５５】
本発明の第一の実施形態によれば、ステップａ）で、第２の支持体に第１の応力調整層を形成し、第２の支持体に第２の応力調整層を形成することができる。この場合、ステップｂ）で、調整層の間で接合を行う。
【００５６】
応力調整層と支持体との間の接触応力は、符号が反対であるので、応力調整層の一方が凸面を有し、第２の応力調整層が凹面を有する。
【００５７】
かくして、接合面は、ある程度までは形状が係合し、空洞等の接合欠陥あるいは不適切な接合ゾーンのない優れた品質の接触が得られる。
【００５８】
実施形態の変形例によれば、２個の応力調整層は、第１の支持体に形成可能であり、接合は、第２の支持体と、第１の支持体に結合される表面応力調整層との間で行うことができる。
【００５９】
本発明の別の特徴によれば、ステップｂ）の前に、ウェーハ接合（分子間接合）により結合される層の準備を行うことにより、これらの層の表面状態を調整して、層にたとえば親水性を与えることができる。
【００６０】
表面状態の調整は、円滑化処理（化学的、機械化学的または熱的処理）か、または反対に、組み立てられる少なくとも一つの層の表面を粗くする操作からなる。
【００６１】
接合面の粗さの程度を変化させることにより、層間の貼りあわせ（分子間接合）エネルギーを制御可能であり、従って、その結果として生じる応力をも制御可能である。
【００６２】
実施形態の変形例によれば、この方法は、接合後一つの主要層（支持体）を薄型化するステップを含むことができる。
【００６３】
少なくとも一つが絶縁体である応力調整層の上で、特にシリコンの薄層（支持体）の上に薄層を形成することは、たとえば、後でＩＣ（たとえばＳＯＩ基板）を構成する場合に有利である。
【００６４】
一つの支持体の薄型化は、機械的または機械化学的な研磨処理により行うことができる。
【００６５】
薄型化は、また、破砕により行ってもよい。その場合、この方法は、破砕ゾーンを形成するための少なくとも一つの支持体、もしくは少なくとも一つの調整層への、少なくとも一つのガス種注入を含み、薄型化ステップは、たとえば熱およびまたは機械処理により破砕ゾーンに沿って注入される前記支持体の分離ステップを含む。構造体応力は、その場合、薄型化ステップにより変化する。さらに、この方法の途中応力は、有利には、所定の構造体の「中間」応力として用いられ、薄型化に寄与する。薄型化の後、すなわち一つの支持体の分離後に得られる最終構造体は、「最終的な」新しい所定の構造体応力を有する。幾つかの変形実施形態において、本発明による構造体は、幾つかを薄型化、さらには除去可能である一定数を含むことができる。これは、一定数の場合、そうした層の役割が、薄型化に寄与する中間応力を適合させる場合のみ適正化されるからである。中間応力を適合させることは、それ自体が一つの目標である。分離に寄与する中間応力の使用により、注入種（水素およびまたは希ガス）の分量、およびまたは熱収支、およびまたは、分離のために加えられる一つまたは複数の機械的な力がもたらす作業、といったものを減らすことができる。たとえば、中間応力により、支持体の熱膨張率が異なる構造体において非常に少ない熱収支で分離を得られる。中間応力の制御により、注入条件または分離条件を変えることによって、方法を著しく改善できる。
【００６６】
ガス種注入による層における破砕ゾーンの構成は、それ自体既知の技術に従って行うことができる。
【００６７】
たとえば、一つの技術は、微小空洞または微小気泡からなる脆弱ゾーンを形成可能なガス種注入を使用する。
【００６８】
「微小空洞」または「微小気泡」とは、材料への水素およびまたは希ガスイオンの注入により発生するあらゆる空洞を意味する。空洞は、非常に平らな形状で、すなわち高さが低く、たとえば数個の原子間隔であっても、球形であっても、あるいはこの二つの形状とは異なる他のあらゆる形状であってもよい。これらの空洞は、自由気相およびまたは、空洞の壁をなす材料の原子に固定される注入イオンから出る気体原子を含むことができる。これらの空洞は、空であってもよい。
【００６９】
空洞は、一般に、「ｐｌａｔｅｌｅｔｓ」、「ｍｉｃｒｏｂｌｉｓｔｅｒｓ」、または「ｂｕｂｂｌｅｓ」とも呼ばれる。
【００７０】
ガス種とは、原子（たとえばＨ）、分子（たとえばＨ２）、イオン（Ｈ＋、Ｈ２＋）、同位体（たとえばデューテリウム）、あるいは同位体イオンの形状をとる、たとえば水素または希ガス等の元素を意味する。
【００７１】
さらに、イオン注入とは、イオン衝撃、拡散など、単独または組み合わせによるあらゆるタイプの上記の種の導入を意味する。
【００７２】
破砕の熱処理は、注入中および、破砕前に行われるステップの間に、支持体に供給される熱に依存する熱収支で行われる。場合に応じて、この熱処理は、時間およびまたは温度においてゼロになることがある。しかも、こうした熱処理は、単独または組み合わせて及ぼされる機械的な応力、たとえば引っ張り応力、剪断応力、撓み応力など、及ぼされる他の応力に応じて調整可能である。
【００７３】
熱処理は、固体材料のタイプとは無関係に、微小空洞の合体を招くので、微小空洞層の位置で構造体が脆弱化する。こうした脆弱化により、内部応力およびまたは微小空洞内の圧力によって材料を分離することができる。この分離は、自然に行われてもよいし、外部応力を加えて補助してもよい。
【００７４】
機械的な力は、層の面に垂直に、およびまたは層の面に平行に加えることができる。この力は、一地点または一つのゾーンに確定しても、あるいは、対称もしくは非対称に様々な場所に加えてもよい。
【００７５】
さらに、最終構造体応力を適合させたい場合、破砕の熱収支を考慮して、適合ステップの熱収支を設定する。最終構造体の応力調整ステップは、たとえば表面酸化およびまたは化学的エッチングおよびまたはプラズマエッチングおよびまたは研磨による薄型化ステップを同様に含むことができる。
【００７６】
応力調整層を構成するために複数の実施形態を検討可能である。
【００７７】
第一の実施形態によれば、少なくとも一つの応力調整層は、スパッタ、エピタキシ、化学蒸着、たとえば化学気相成長法、減圧気相成長法（ＬＰＣＶＤ）、プラズマＣＶＤの中から選択された方法の中から選択した方法に従った成膜によって形成することができる。
【００７８】
変形実施形態によれば、応力調整層はまた、一つの主要層（支持体）の表面酸化によって得られる。
【００７９】
特に、一つの主要層がシリコン層である場合、一つの調整層は、ＳｉＯ２熱酸化物の層とすることができる。
【００８０】
第三の実施形態によれば、少なくとも一つの応力調整層は、主要層（支持体）に種を注入することによって得られる。
【００８１】
一つの主要層（支持体）への種の注入により、諸特性が変更されるゾーンをこの層の表面に形成することができる。
【００８２】
特に、種の注入によって、応力を発生し、あるいは材料の密度を局部的に変えることができる。注入された種の大半が配置される深さは、注入条件に依存する。たとえば、注入がイオン注入タイプである場合は、エネルギーに依存する。この深さによって決定される注入種の膜と、大半の注入種が配置される膜の近傍とは、その場合、二つの応力調整層のうちの一方の層を構成する。注入種の膜と、第２の主要層（支持体）の表面との間に含まれる膜は、二つの応力調整層の膜のうち一方を構成することができる。
【００８３】
応力の強さは、種の性質、分量、または様々な注入パラメータ（温度、注入電流、エネルギー、．．．）に依存する。注入は、特に、たとえば水素およびまたは希ガスのようなガス種で構成することができる。
【００８４】
構造体内に応力が存在すると、分離に寄与し、注入された種（水素およびまたは希ガス）の分量、およびまたは熱収支、およびまたは、分離のために加えられる一つまたは複数の機械的な力がもたらす作業、といったものを減らすことができる。かくして、この応力の存在により、注入条件または分離条件を変えることができる。応力の制御によって、この方法を著しく改善できる。たとえば主要層（支持体）の熱膨張率が異なる構造体において非常に少ない熱収支で破砕が得られる。注入は、構造体の接合前に実施しても接合後に実施してもよい。
【００８５】
少なくとも一つの調整層が十分に厚い、およびまたは剛性である一定の場合、通常は隣接する主要層（支持体）を省くか、あるいは、主要層（支持体）とこの調整層とを一緒にすることができる。分離後は、変化した主要層（支持体）と、多層の積層とが得られ、この積層は、応力調整層を含む主要層（支持体）として再利用可能である。
【００８６】
上記の製造方法は、各種の材料からなる主要層（支持体）に適合される。同じまたは異なる材料からなる主要層（支持体）は、たとえば、単結晶、多結晶またはアモルファス材料、たとえばシリコン、ゲルマニウム、炭化シリコン、ＧａＡｓ、ＧａＮ、ＩｎＰ等のIII−ＶまたはII−ＶＩタイプの半導体、ガラスまたは石英、超伝導材料、ダイヤモンド、またはセラミック材料（ＬｉＮｂＯ３、ＬｉＴａＯ３、．．．）からなる。
【００８７】
かくして、主要層（支持体）は、一つまたは複数の、たとえば貼りあわせ層、蒸着層またはエピタキシ層から形成できる。
【００８８】
応力調整層は、たとえば、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＮ、ダイヤモンド、金属（Ｐｄ、金属合金、．．．）の中から選択した材料、あるいは一つの主要層を構成可能な材料、あるいはこれらの材料の組み合わせからなる。
【００８９】
本発明はまた、第１の主要層（支持体）と、第１の主要層（支持体）と接触する少なくとも一つの第１の応力調整層と、前記第１の応力調整層と接触する少なくとも一つの第二の応力調整層と、第二の応力調整層と接触する第二の主要層（支持体）との積層を順に含む、内部応力を制御した多層構造体に関する。この構造体において、第一および第二の応力調整層は、符号がそれぞれ反対である第一および第二の主要層（支持体）との接触応力を有する。
【００９０】
特定の用途では、この構造体が、浮遊ダイヤフラムを有し、浮遊ダイヤフラムが、第二または第一の主要層（支持体）から解放された、第一および第二の主要層（支持体）のいずれかの少なくとも一部を含む。
【００９１】
浮遊ダイヤフラムは、他の機能層を支持可能である。たとえば、浮遊ダイヤフラムがさらに、第一および第二の主要層（支持体）のいずれかの前記一部を被覆する少なくとも一つの超伝導体材料の層を含むことができる。
【００９２】
本発明の他の特徴および長所は、添付図面を参照しながら、以下の説明を読めば、いっそう明らかになるであろう。この説明は、限定的ではなく、全くの例として挙げられたものである。
【発明の実施の形態】
【００９３】
第一の実施例は、非常に薄いシリコン膜と、厚いシリコン基板により支持される２個の応力調整層とからなる積層構造体の製造に関する。記載される実施形態は、薄いシリコン表面層を形成するために分離方法を用いている。
【００９４】
図７に示した第一のステップでは、厚さ４００ｎｍの窒化シリコンＳｉ３Ｎ４の膜が、減圧気相成長法（ＬＰＣＶＤ）によって、第１の支持体としての第一の主要層１１０ａをなすシリコンウェーハ上に形成される。減圧気相成長法により、主要層（支持体）にわずかな撓みをもたらす膜を構成できる。これは、特に、蒸着がこの層の両面で実施される場合である。
【００９５】
窒化シリコン膜１３０は、第一の応力調整層を構成する。
【００９６】
本発明の変形実施形態によれば、この応力調整層の上に、酸化シリコン膜と酸窒化シリコン膜とからなる、たとえば数ｎｍの厚さの中間層を配置することができる。この中間層は、この場合、たとえば、接合のために使用されるウェーハの貼りあわせ接合を促進するか、あるいは主要層と境界領域との電気的な品質を改善することができる。
【００９７】
シリコンウェーハは、場合によっては、図示していないが、たとえば厚さ１０ｎｍのきわめて薄い酸化シリコン層によって予め被覆される。このようなきわめて薄い層の長所は、たとえば、後述する表面シリコン層との境界領域の電子品質を、優れたものにすることにある。
【００９８】
窒化物の膜１３０を形成後、この窒素膜１３０を通して、約２．５・１０１６ａｔ／ｃｍ２の注入量で水素注入が行われる。注入により破砕ゾーン１１２が形成される。水素注入パラメータは、たとえば蒸着条件に応じて窒化物の膜の撓みが変わる場合、変えることができる。
【００９９】
図７に同様に示した第２の支持体（以下第２の主要層）としての第二のシリコンウェーハ１１０ｂには、酸化雰囲気での熱処理により酸化シリコン膜１２０を形成する。酸化物の膜の厚さは、窒化物の膜１３０の厚さにほぼ匹敵する。
【０１００】
第二のシリコンウェーハ１１０ｂと酸化物の膜１２０とは、それぞれ、第二の主要層と、第二の応力調整層とを形成する。
【０１０１】
シリコンの主要層に最初に形成された窒化シリコンの層と酸化シリコンの層とは、符号が反対の接触応力を発生する。これは、窒化物の応力調整層の表面と、酸化物の応力調整層の表面とが、それぞれ、へこんだり盛り上がったりする主要層の変形となって現れる。
【０１０２】
この方法は、その後、応力調整層１２０、１３０の表面を親水性にするためのウェーハ洗浄ステップが行われる。洗浄により、一般に２次の値（ＲＭＳ：二乗平均平方根値）が０．７ｎｍ未満である制御面の微小粗さが得られるが、これは、直接ウェーハの貼りあわせに匹敵する。微小粗さは、たとえば１０−２μｍ−１〜１０３μｍ−１の空間周波数範囲で原子力顕微鏡検査法により測定および制御することができる。接合前のウェーハ洗浄ステップによる表面粗さの制御は、ここでは、窒化シリコン膜に対して表面研磨技術の長所として示され、その厚みは、少なくとも十分の数ミクロンに達しうる。
【０１０３】
洗浄ステップにより、結合エネルギーを変更することができるので、応力調整層の接合により後で形成される２個の層の特別応力を変更することができる。
【０１０４】
さらに、洗浄ステップは、この方法を機械化学的な研磨ステップから解放可能であるため、続くステップで形成される積層構造体の膜の厚さを同様に非常に均質化することができる。
【０１０５】
この方法の次のステップは、実際に、接合を行うための応力調整層の直接接触を含む。この操作は室温で行われる。
【０１０６】
図７から、層の変形の係合特性により、不適切な接触のおそれを最低限に抑えられることが分かる。
【０１０７】
接合後、温度５００゜Ｃで３０分間、第一の熱処理を行って、図７に示した破砕ゾーン１１２で破砕を引き起こし、第一の主要層１１０ａから薄い表面層１１４を切り離すことができる。この表面層は、場合によっては中間層に結合される応力調整層１２０、１３０からなる２層を介して第二の主要層１１０ｂに結合され続ける。熱処理は、機械応力の付加により全部または一部を補助可能である。従って、破砕に必要な熱収支を減らすことができる。熱収支は、時間および温度においてゼロであってもよい。
【０１０８】
得られた構造体を図８、９に示した。
【０１０９】
薄いシリコン表面層１１４の厚さは、約十分の数マイクロメートルである。この層は、第一のシリコン主要層に注入された分離層（破砕層）のガス種の侵入度により決められる。注入は、窒化シリコン膜１３０を通って行われるので、注入深度、従って、シリコン薄膜１１４の厚みは、窒化シリコン膜１３０の厚みにも依存する。
【０１１０】
第一の主要層１１０ａが応力調整層を備えるので、ゾーン１１２における破砕に必要な注入量を減らし、およびまたは第一の破砕熱処理の熱収支を減らし、およびまたは機械的な分離力を減らすことができる。実際、応力調整層、特に窒化シリコン層１３０が第一のシリコン主要層１１０ａにもたらす特別な応力により、破砕が促進される。
【０１１１】
たとえば、温度、エネルギー、また最終的にはコストを節約することができる。
【０１１２】
比較として、同じ注入条件（エネルギー、電流、温度、．．．）と伝達熱処理条件とで、分離を得るための最小分量は、窒化物の膜に代えて厚さ４００ｎｍの熱酸化物の膜を用いる従来の積層構造体に対して、３．５・１０１６ａｔ／ｃｍ２である。
【０１１３】
次のステップでは、第二の熱処理を行う。この処理は、予め接触する２個の応力調整層の間の境界領域における結合を密接なものにし、最終的に得られる構造体にもたらされる応力を変更または修正するという二つの役割がある。
【０１１４】
積層の層の厚み、接触前の表面状態、また特に、第二の処理の熱収支を適合させることによって、二つの層１２０、１３０が発生する応力を制御し、従って、最終構造体の凸形または凹形の変形を制御することができる（図８、９）。
【０１１５】
たとえば、ダイヤフラム装置に適用する場合、ダイヤフラムの部分的な解放後、予め引っ張り力を与えたダイヤフラムを得られる凹形の積層構造体を構成することが有利である。
【０１１６】
実施される熱収支に応じて、正の撓み、負の撓み、または撓みなしとすることができる。
【０１１７】
第二の熱処理は、もちろん、第一の熱処理と、場合によっては機械的な応力の使用とを考慮する。
【０１１８】
たとえば、第二の熱処理は、１１００゜Ｃで２時間行うことができる。約４００ｎｍの同じ厚さの酸化物の膜と窒化物の膜に対して、約５０μｍだけ凸形に撓んだ構造体が得られる。
【０１１９】
最終積層構造体の撓みは、応力を適合させる窒化物の層１２０および酸化シリコン層１３０の厚みＥｎｉｔとＥｏｘとの比Ｒｅと、構造体に加えられる熱収支との二つのパラメータに主に依存する。一定の接着温度における層の厚みの比の影響は、構造体の撓みが有効応力と調整層の厚みとに比例することとなって現れる。
【０１２０】
さらに、独自のものとして、実施される第二の熱処理の温度Ｔｃが変わると、２つの層の有効応力が変わってくる。適用される熱処理の結果は、特に、接合境界領域の状態（微小粗さ、層どうしの結合密度、．．．）に依存する。 たとえば比Ｒｅ＝１に対し、温度上昇ΔＴｃ＝１００゜Ｃによって、２つの層における応力増加Δσ／σがΔσ／σ＝１００％となる。
【０１２１】
図１０は、応力調整層の厚みの比（Ｒｅ＝Ｅ窒化物／Ｅ酸化物）に応じて、異なる二つの処理温度Ｔ１、Ｔ２（Ｔ２＞Ｔ１）で最終的に得られる構造体の撓みを任意の単位で示すグラフである。
【０１２２】
図１１〜１５に関して後述するこの方法の第二の実施例では、２個の応力調整層が、ＳｉＯ２膜と、一方の主要層に注入される層とから構成される。
【０１２３】
図１１が示すように、第一の応力調整層２２０は、シリコンウェーハへの種注入によって形成される。注入により損なわれないウェーハ部分は、第一の主要層２１０ａを形成する。
【０１２４】
たとえば、注入は、分量１０１６ａｔｏｍｅｓ／ｃｍ２、エネルギー１３５ｋｅＶで行うことができる。
【０１２５】
このような注入により、応力調整層２２０、すなわち注入により妨害されたゾーンは、数十ＭＰａの圧縮応力を発生する。簡略化のために、図１１〜１５では、応力がもたらす層の変形を示していない。
【０１２６】
図１２に示した第二の注入は、もっと深く、ガス種によって行われる。この注入は、応力調整層２２０を通って行われ、分離（破砕）層２１２を形成する。
【０１２７】
たとえば、約５・１０１６ａｔｏｍｅｓ／ｃｍ２の量の水素を注入することができる。
【０１２８】
エネルギーは、注入深度を、厚くしたり薄くしたりすることができ、主要層２１０ａ中に、薄い表面層２１４を決定することができる。この表面層は、分離層２１２により画定される。
【０１２９】
さらに、図１３に示すように、第二の主要層２１０ｂを構成する別のシリコンウェーハの表面に、厚さ約２００ｎｍの酸化シリコン（ＳｉＯ２）膜２３０が形成される。酸化シリコン膜２３０は、応力調整層を構成する。
【０１３０】
これらの層が接触するやいなや、応力調整層の微小粗さと親水性とによって、ウェーハの貼りあわせ（分子間接合）が可能になるように、応力調整層を備えた主要層は、、洗浄される。
【０１３１】
応力調整層の接触による主要層の接合を図１４に示した。
【０１３２】
酸化シリコン層２３０と注入層２２０との接触により、同様に２層の応力調整層を構成することができる。
【０１３３】
少なくとも一つの応力調整層は、十分に厚く、およびまたは剛性である場合、通常、隣接する主要層は、省略するか、またはこの調整層と一体化することができる。
【０１３４】
いわゆる第一の伝達熱処理は（場合によっては応力調整層の間の貼りあわせを同様に強化することができる）、破砕層に従って破砕を可能にするのに十分な熱収支となるようにして実行される。この熱処理は、たとえば連続式、可変式、あるいはパルス式に適用することができる。こうした伝達熱処理は、場合によっては、たとえば引っ張り応力およびまたは剪断応力およびまたは撓み応力といった機械的な応力を与えて補助してもよい。与えられる応力に応じて、熱収支（熱損失）は、温度および時間を低減して、さらにはゼロにして実施可能である。
図１５に示すように、破砕により、薄い層２１４と第一の主要層２１０ａとを分離できる。２つの応力調整層が発生するこれらの応力により、注入される種の分量を低減し、伝達処理の熱損失または機械的な分離応力を減らすことができる。
【０１３５】
たとえば、分離（破砕）は、４５０゜Ｃで３０分間、この構造体を加熱することにより引き起こすことができる。比較として、応力調整層がない図１２と同様の基板で分離を引き起こす場合、分離を得るには、少なくとも５００゜Ｃの温度で３０分間処理することが必要である。
【０１３６】
さらに、最終的な熱処理を行う。積層構造体では、２つの層の各応力調整層が、有効応力に従う。有効応力の合力は、２個のウェーハの貼りあわせ機構と、与えられる各種の熱処理とによって全体として変えることができる。その場合、最終積層構造体は、特に最終熱処理によって適合可能な応力に従う。
【０１３７】
２つの特別な層に付加的な応力の影響をもたらすために、有利には、様々な熱処理を機械的に補助することができる（たとえば引っ張り応力、圧縮応力、剪断応力、撓み応力、あるいは、層の性質に応じた静電磁場または磁場の適用）。
【０１３８】
第三の実施例によれば、図示されていない変形実施形態が、層の伝達破砕による一方の主要層の薄型化を行わないことからなる。他の準備ステップは、第二の実施例で説明したステップと同じであり、一方の主要層の薄型化は、それが望まれる場合、単に機械的およびまたは化学的な研磨によって行うことができる。
【０１３９】
本発明の別の応用実施形態によれば、薄型化後に得られる表面層と、応力調整層および最終構造体の中間層の全部または一部とに、ダイヤフラム等のコンポーネントを設けることができ、積層構造体の製造時に有効応力が制御される。このような方法の利点は、たとえば表面層の表面を利用して、たとえばダイヤフラムの生成時に、ダイヤフラムの応力調整層を設ける必要なしに、エピタキシーを行えるようにしたことにある。
【０１４０】
こうした別の実施形態の応用例として、ダイヤフラムボロメータを製造するための、シリコン表面層へのＹＢａＣｕＯタイプの超伝導体のエピタキシーを挙げることができる。このエピタキシは、一般に、有利には、いわゆる「ｂｕｆｆｅｒ」（バッファ）調整層とシード層（「ｓｅｅｄ  ｌａｙｅｒｓ」）との使用を仮定している。これらの調整層は、超伝導体とシリコンとの間の結晶パラメータを適合させることを目的としている。これらの層は、たとえばシリコンにＹＢａＣｕＯを蒸着する場合、ＭｇＯ、ＣｅＯ２、ＺｒＯ２とすることができる。
【０１４１】
シリコン表面層は、前述の方法、すなわち水素注入と分離とによって得られる層である。このシリコン層の生成方法の終わりに得られる２個の応力調整層を備えた積層構造体の応力は、一つまたは複数の連続エピタキシの品質に対して、この応力が、これらのエピタキシにいっそう適合する圧縮応力支持体を提供する限り、最も重要である。
【０１４２】
さらに、エピタキシによる超伝導体の蒸着の前に、たとえばエッチングによりダイヤフラムを製造できるようにすることが有利である。
【０１４３】
上記の説明は、シリコンバルクの主要層に関するものであるが、主要層は、それ自体が、複数の下層を含む多層構造体を備えうることを意味する。
【０１４４】
また、酸化シリコン調整層が、有効である場合、この層は、熱酸化あるいは自然酸化によって形成可能である。
【０１４５】
さらに、主要層は、上記の処理の前または後に形成される電子、機械または光コンポーネントを含むことができる。
【０１４６】
次に、浮遊ダイヤフラム構造体の様々な製造ステップと実施形態とを断面で示す図１６〜２０を参照しながら、本発明の特定の適用例について説明する。
【０１４７】
図１６は、第一の主要層の薄型化または破砕に関して図１５と同じ多層構造体を示す。
【０１４８】
図１５と同じまたは同様の部分に対しては同じ参照符号を用いる。図１６の構造体は、第一の主要層から得られる薄いシリコン層２１４と、一組の応力調整層２２０、２３０と、同じくシリコンからなり、ここでは支持基板を構成する第二の主要層２１０ｂとを含む。
【０１４９】
簡略化のために、応力調整層の組または２層は、以下、単独の参照符号２２５で表す。
【０１５０】
薄い層２１４は、この構造体に製造したいダイヤフラムの輪郭に対応するパターンを備えた、エッチングマスク２４０で被覆されている。より詳しくは、マスクは、浮遊ダイヤフラムの形状を決定するために構造体のエッチングゾーンを露呈する開口部を有する。
【０１５１】
マスク２４０は、たとえば、露光マスクを通って露光され、次いで現像されて成形される感光性樹脂のマスクである。
【０１５２】
そして図１７に示すように、マスク２４０の開口部を介した第一の異方性エッチングにより、薄い層２１４と、２個の応力調整層の全部または一部とを通って延びる溝２４２を形成できる。エッチングはまた、第二の主要層で停止される。エッチングを停止するには、多層構造体の形成に先立ち、第二の主要層にエッチング停止層（図示せず）を配置すれば、容易に行うことができる。
【０１５３】
溝は、浮遊ダイヤフラムを後で形成するための中央部分２４４を画定する。しかしながら、明記しなければならないのは、溝が、中央部分２４４を全面的に囲むわけではなく、中央部分を囲む構造体２４５に中央部分をつなぐ「ブリッジ（梁）」を保持することである。これらの「ブリッジ」は、図１７に示すように、図の断面の外にあるために示されていないが、場合によっては、たとえば電気およびまたは熱伝導を可能にする浮遊ダイヤフラムの保持ビームを、最終構造体で構成することができる。
【０１５４】
図１８に示された次のステップは、２つの応力調整層の少なくとも一部を除去できる選択的な異方性エッチングを含み、薄い層の一部、この場合には、これ以降、浮遊ダイヤフラムを構成する中央部分２４４を遊離せしめる。
【０１５５】
簡略化のため、図は、異方性エッチングの際に、溝で２個の層２２５の側面に場合によっては行われるエッチングを考慮していない。
【０１５６】
図１９は、第二の主要層２１０ｂすなわち支持基板を選択的にエッチング可能にする異方性エッチングによって、ダイヤフラムを遊離させるようにした実施形態の変形例を示す。
【０１５７】
ダイヤフラムはまた、第二の主要層と、２個の応力調整層との組み合わせエッチングにより遊離させることが可能である。
【０１５８】
さらに、エッチングに関して、マスク２４０を形成する樹脂層は、除去してもよい。
【０１５９】
図２０は、エッチングに先立ち付加的な層を薄い層２１４に形成した、図１８と同様の特定の実施形態を示している。
【０１６０】
付加的な層は、例では、シード層２４６およびまたはバッファ層と、たとえばＹＢａＣｕＯタイプの超伝導体材料の層２４８とを含む。
【０１６１】
シード層２４６およびまたはバッファ層（図示せず）は、薄いシリコン層における超伝導体材料の成長を促すことができ、およびまたは、薄い層のシリコンと超伝導体との間の結晶格子が場合によって一致しないとき、これを修正することができる。これらの層は、図１８または１９に関する前述の方法でエッチングされ、浮遊ダイヤフラム２４４で図２０の最終構造体が得られる。
【０１６２】
除去されたエッチングマスク２４０の場所が破線で示されている。
【０１６３】
記載された浮遊ダイヤフラム構造体の考えられる用途は、たとえばボロメータタイプの装置の製造である。
【引用資料】
（１）Ｂｏｗｅｒ他「Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６２、２６」１９９３年、３４８５ページ
（２）Ｍ．Ｔａｍｕｒａ他「Ｊｐａ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．」第１１巻、第８号１９７２年８月、１０９７ページ
（３）Ｈ．Ｍｉｋｏｓｈｉｂａ「Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．」第１２３巻、第１０号、１９７６年１０月  １５３９ページ
（４）Ｓ．Ｓａｎｃｈｅｚ他「Ｊ．Ｍｉｃｈｒｏｍｅｃｈ．Ｍｉｃｒｏｅｎｇ．７」１９９７年）１１１−１１３ページ
（５）Ｈａｒｅｎｄｔ他「Ｓｅｎｓｏｒｓ  ａｎｄ  Ａｃｔｕａｔｏｒｓ  Ａ、２５−２７」（１９９１年）８７−９２ページ
（６）Ｃ．Ｇｕｉ、Ｍ．Ｅｌｗｅｎｓｐｏｅｋ、Ｊ．Ｇ．Ｅ．  ＧａｒｄｅｎｅｉｒｅｓＰ．Ｖ．Ｌａｍｂｅｃｋ「Ｅ．Ｃ．Ｓ．」第９７−３６巻、１９９７年  １１４ページ
（７）フランス特許ＦＲ−Ａ−２６８１４７２
【図面の簡単な説明】
【図１】  接合前の第１および第２の主要層（支持体）の概略断面図であり、一方の層が、内部応力を発生しうる材料からなる表面膜で被覆されている。
【図２】  図１の層を含む構造体の、接合後の図である。
【図３】  主要層（支持体）の一方を薄型化した後の、図２の構造体の概略断面図である。
【図４】  主要層（支持体）の一方を薄型化した後の、図２の構造体の概略断面図である。
【図５】  引っ張り応力を有する表面層をそれぞれ支持する一組の主要層（支持体）を概略的に示す図である。
【図６】  引っ張り応力を有する表面層を支持する一つの主要層（支持体）の概略図である。
【図７】  本発明の方法の特定の実施形態による多層構造体の製造ステップを示す、概略断面図である。
【図８】  本発明の方法の特定の実施形態による多層構造体の製造ステップを示す、概略断面図である。
【図９】  本発明の方法の特定の実施形態による多層構造体の製造ステップを示す、概略断面図である。
【図１０】  熱処理パラメータに応じて、この方法により得られる構造体の撓み値を任意の目盛で示すグラフである。
【図１１】  本発明による方法の別の実施形態の連続ステップを示す概略断面図である。
【図１２】  本発明による方法の別の実施形態の連続ステップを示す概略断面図である。
【図１３】  本発明による方法の別の実施形態の連続ステップを示す概略断面図である。
【図１４】  本発明による方法の別の実施形態の連続ステップを示す概略断面図である。
【図１５】  本発明による方法の別の実施形態の連続ステップを示す概略断面図である。
【図１６】  本発明の特定の用途による、浮遊ダイヤフラム構造体の連続製造ステップを示す概略断面図である。
【図１７】  本発明の特定の用途による、浮遊ダイヤフラム構造体の連続製造ステップを示す概略断面図である。
【図１８】  本発明の特定の用途による、浮遊ダイヤフラム構造体の連続製造ステップを示す概略断面図である。
【図１９】  図１８の構造体の変形実施形態を構成する構造体の概略断面図である。
【図２０】  図１８の構造体の別の変形実施形態を構成する構造体の概略断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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