(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数個取りの基板の表面に形成された複数のパッドに導電性ボールを供給し、その後前記基板を所定の大きさに個片化する基板の製造方法であって、
前記基板の表面のうち一の領域に含まれるパッドに対応する複数の孔を有する導電性ボール供給部材を前記基板の前記一の領域に対向させ、前記複数の孔が前記一の領域に含まれるパッドと一致するように前記導電性ボール供給部材の位置を調整し、前記導電性ボール供給部材の各孔を利用して前記基板のパッドに前記導電性ボールを供給するものであり、
前記導電性ボール供給部材は、その面積が前記一の領域の面積よりも広く、複数のフレームを格子状に組み合わせた構成とされており、その中央部には前記複数の孔が形成されたボール供給部が設けられ、その他の部分には開口部または凹部が形成されていることを特徴とする基板の製造方法。
【請求項２】
前記導電性ボール供給部材は、位置の調整が完了した後、前記基板の一の領域に近接した状態に保持されることを特徴とする請求項１に記載の基板の製造方法。
【請求項３】
前記導電性ボール供給部材は、前記各孔が前記基板の一の領域に形成された各パッドと一致するように位置を調整されて前記基板の上面に保持され、前記導電性ボールが上方から前記各孔に挿入されることを特徴とする請求項１または２に記載の基板の製造方法。
【請求項４】
前記導電性ボール供給部材は、前記各孔が前記基板の一の領域に形成された各パッドと一致するように位置を調整されて前記基板の下面に保持され、前記導電性ボールが下方から前記各孔に挿入されることを特徴とする請求項１または２に記載の基板の製造方法。
【請求項５】
前記導電性ボールは、前記導電性ボール供給部材に対向するように配置された導電性ボール供給装置により前記導電性ボール供給部材の前記各孔を介して前記パッドに供給されることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の基板の製造方法。
【請求項６】
前記導電性ボール供給装置は、前記導電性ボール供給部材が前記基板の上面または下面に対向するように設けられると共に前記導電性ボールを前記導電性ボール供給部材の各孔を介して前記基板のパッドに供給することを特徴とする請求項５に記載の基板の製造方法。
【請求項７】
前記導電性ボール供給部材は、前記基板の一の領域に対向する複数の吸引孔を有し、前記複数の吸引孔に吸引された導電性ボールを前記基板の前記一の領域の前記パッドに対向する位置まで搬送し、その後前記基板のパッドに供給することを特徴とする請求項１または２に記載の基板の製造方法。
【請求項８】
前記導電性ボール供給部材は、導電性ボール供給装置に保持されていることを特徴とする請求項５又は６に記載の基板の製造方法。
【請求項９】
前記パッドにフラックスを塗布し、前記導電性ボールが前記フラックスを介して前記パッドに接着されることを特徴とする請求項１乃至８何れかに記載の基板の製造方法。
【請求項１０】
多数個取りの基板の表面に形成された複数のパッドに導電性ボールを供給する基板の製造装置であって、
導電性ボール供給部材を前記基板の表面のうち一の領域に対向させる位置に搬送する搬送手段と、
前記導電性ボール供給部材の各孔が前記パッドに一致するように前記導電性ボール供給部材の位置を前記一の領域に対して調整する位置調整手段と、
前記導電性ボール供給部材の各孔に前記導電性ボールを供給する導電性ボール供給手段と、を有し、
前記導電性ボール供給部材は、前記一の領域の面積よりも広い面積を有し、複数のフレームを格子状に組み合わせた構成とされており、その中央部には前記パッドに対応する複数の孔が形成されたボール供給部が設けられ、その他の部分には開口部または凹部が形成されていることを特徴とする基板の製造装置。
【請求項１１】
前記請求項１０に記載の基板の製造装置であって、
前記位置調整手段により前記基板の一の領域に対向する位置を調整された前記導電性ボール供給部材を前記一の領域に近接した状態に保持する保持手段を有することを特徴とする基板の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板の製造方法及び基板の製造装置に係り、特に基板の複数のパッドに導電性ボールを確実に供給する基板の製造方法及び基板の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＢＧＡ（Ball Grid Array）型またはフリップチップ型等の配線基板では、所定の間隔で配列されたパッドにフラックスを塗布した後、フラックス上に導電性ボールが供給され、リフローによりパッド上に半田バンプが形成される。
【０００３】
また、配線基板の製造ラインでは、半導体チップの小型化に伴って導電性ボールの小径化、及び間隔の小ピッチ化がなされるため、多数の導電性ボールを正確且つ効率よく全パッドに配列することが望まれている。
【０００４】
従来の導電性ボールの供給方式としては、例えば、複数のパッドと同じピッチで配列された複数の孔を有するマスク（導電性ボール供給部材）を基板上に載置し、マスク上に多数の導電性ボールを供給してマスクの各孔内に導電性ボールを一つずつ落とし込む振り込み方式（例えば、特許文献１、２参照）と、マスクが装着された吸着治具によりマスクの各孔に導電性ボールを吸着し、吸着治具を基板上に移動して吸着の解除により導電性ボールを基板上のパッドに供給する吸着搭載方式（例えば、特許文献３参照）とがある。
【０００５】
このようにマスクを用いた方法では、生産効率を高めるために複数の配線基板を個片化する前の大きな基板の状態で複数の配線基板に対して一括して導電性ボールを供給するようにしている。
【０００６】
ここで、従来の振り込み方式を用いた製造方法について説明する。図１Ａは多数個取りの基板を示す平面図である。図１Ｂは多数個取りの基板に対応するマスクを示す平面図である。図１Ｃはマスクの孔と基板のパッドとの位置合わせが一致した場合の縦断面図である。図１Ｄはマスクの孔と基板のパッドとの位置合わせが不一致の場合の縦断面図である。
【０００７】
図１Ａに示されるように、多数個取りの基板１０は、複数の配線基板２０（２０１〜２０ｎ）がＸ方向及びＹ方向に並設されており、各配線基板２０には複数のパッド３０（３０１〜３０ｎ）がＸ方向及びＹ方向に一定のピッチ（間隔）で露出するように配列されている。尚、図１Ａにおいては、説明の便宜上、配線基板２０の領域を明確にするため境界線を示してあるが、実際にはこのような境界線は存在しない。
【０００８】
図１Ｂに示されるように、マスク（導電性ボール供給部材）４０は、基板１０よりもＸ方向及びＹ方向に大きい寸法に形成されており、複数の配線基板２０（２０１〜２０ｎ）に対応する領域毎に複数のパッド３０（３０１〜３０ｎ）と同じピッチの複数の導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）が設けられている。また、導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）は、パッド３０（３０１〜３０ｎ）よりも僅かに大径に設けられている。
マスク４０は、例えば、磁性を有する薄い金属プレートなどからなり、上記基板１０の上面に対向する位置に搬送されて基板１０に対するＸ方向及びＹ方向の位置を調整されて基板１０の上面に載置される。
【０００９】
図１Ｃに示されるように、マスク４０は、導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）がパッド３０（３０１〜３０ｎ）と一致する位置に調整されて固定される。マスク４０の固定方法としては、例えば、マスク４０が磁性材により形成されている場合には、基板１０の下面側に永久磁石または電磁石を配置し、磁力によりマスク４０を吸着して基板１０の上面に固定する方法が用いられる。
【００１０】
そして、導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）がパッド３０（３０１〜３０ｎ）と一致するように基板１０に対するマスク４０の位置を調整した後、多数の導電性ボール６０を供給して導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）に振り込む。パッド３０（３０１〜３０ｎ）の表面には、フラックスが塗布されているので、導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）に挿入された球状の導電性ボール６０は、粘着性を有するフラックスに貼着される。この後、リフローを行なって導電性ボール６０を溶融させてパッド３０（３０１〜３０ｎ）に接続された半田バンプを形成する。
【特許文献１】特開２００６−００５２７６号公報
【特許文献２】特開平０９−１６２５３３号公報
【特許文献３】特開２００３−１００７８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところが、基板１０は、各種の工程を経て絶縁層及び導電層が積層されているため、各工程の処理を行なう過程でパッド３０（３０１〜３０ｎ）の位置がＸ、Ｙ方向に伸縮する。例えば、図１Ｂに示されるように、マスク４０の導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）が設けられた各領域Ａ１〜Ａ５に分けて考えてみると、マスク中央の領域Ａ３では、導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）とパッド３０（３０１〜３０ｎ）とが一致しているため、導電性ボール６０をパッド３０（３０１〜３０ｎ）に供給することができる。また、領域Ａ３より外側に位置する領域Ａ２，Ａ４では、導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）とパッド３０（３０１〜３０ｎ）とが僅かにずれているが、パッド３０（３０１〜３０ｎ）の一部が導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）と一致しているので、導電性ボール６０をパッド３０（３０１〜３０ｎ）に供給することができる。
【００１２】
しかしながら、マスク４０の周縁部近傍に設けられた領域Ａ１、Ａ５では、導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）とパッド３０（３０１〜３０ｎ）とが完全にずれているため、導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）に挿入された導電性ボール６０は、図１Ｄに示されるように、パッド３０（３０１〜３０ｎ）から外れた基板１０の絶縁層に搭載されることになり、パッド３０（３０１〜３０ｎ）上には半田バンプを形成することができない。
【００１３】
このように、従来の製造方法では、基板１０上の領域Ａ１〜Ａ５によってパッド３０（３０１〜３０ｎ）の位置がマスク４０の導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）に対して大きくずれた場合には、導電性ボール６０をパッド３０に供給することができない領域が発生してしまうという問題が生じる。尚、図１Ｂに示す各領域Ａ１〜Ａ５における導電性ボール挿通孔５０（５０１〜５０ｎ）とパッド３０（３０１〜３０ｎ）と相対的な位置ずれ傾向は、必ずこのようになると決まっているのではなく、基板１０の伸縮による影響を分かりやすく示したものである。
また、基板の伸縮は、一様に現れることは希であるので、殆ど左右非対称に伸縮することが多く、また、ロット毎に異なる方向に伸縮することもある。このような、基板の伸縮によるパッド３０の位置ずれの対策としては、ロット毎の伸縮方向及び伸縮量を測定し、その測定結果に応じた位置に導電性ボール挿通孔５０が形成されたマスク４０を用意する方法が考えられる。しかしながら、この方法では、ロット毎に異なるマスク４０を製作することになるため、実施することは難しい。
【００１４】
そこで、本発明は上記事情に鑑み、上記課題を解決した基板の製造方法及び基板の製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。
【００１６】
本発明は、多数個取りの基板の表面に形成された複数のパッドに導電性ボールを供給し、その後前記基板を所定の大きさに個片化する基板の製造方法であって、
前記基板の表面のうち一の領域に含まれるパッドに対応する複数の孔を有する導電性ボール供給部材を前記基板の前記一の領域に対向させ、前記複数の孔が前記一の領域に含まれるパッドと一致するように前記導電性ボール供給部材の位置を調整し、前記導電性ボール供給部材の各孔を利用して前記基板のパッドに前記導電性ボールを供給するものであり、
前記導電性ボール供給部材は、その面積が前記一の領域の面積よりも広く、複数のフレームを格子状に組み合わせた構成とされており、その中央部には前記複数の孔が形成されたボール供給部が設けられ、その他の部分には開口部または凹部が形成されていることにより、上記課題を解決する。
【００１７】
本発明は、前記導電性ボール供給部材は、位置の調整が完了した後、前記基板の一の領域に近接した状態に保持されることにより、上記課題を解決する。
【００１８】
本発明は、前記導電性ボール供給部材が、前記各孔が前記基板の一の領域に形成された各パッドと一致するように位置を調整されて前記基板の上面に保持され、前記導電性ボールが上方から前記各孔に挿入されることにより、上記課題を解決する。
【００１９】
本発明は、前記導電性ボール供給部材が、前記各孔が前記基板の一の領域に形成された各パッドと一致するように位置を調整されて前記基板の下面に保持され、前記導電性ボールが下方から前記各孔に挿入されることにより、上記課題を解決する。
【００２０】
本発明は、前記導電性ボール供給部材が、前記基板の一の領域に対向する複数の吸引孔を有し、前記複数の吸引孔に吸引された導電性ボールを前記基板の前記一の領域の前記パッドに対向する位置まで搬送し、その後前記基板のパッドに供給することにより、上記課題を解決する。
【００２１】
本発明は、前記導電性ボールは、前記導電性ボール供給部材に対向するように配置された導電性ボール供給装置により前記導電性ボール供給部材の前記各孔を介して前記パッドに供給されることにより、上記課題を解決する。
【００２２】
本発明は、前記導電性ボール供給装置は、前記導電性ボール供給部材が前記基板の上面または下面に対向するように設けられると共に前記導電性ボールを前記導電性ボール供給部材の各孔を介して前記基板のパッドに供給することにより、上記課題を解決する。
【００２３】
本発明は、前記導電性ボール供給部材は、導電性ボール供給装置に保持されていることにより、上記課題を解決する。
【００２５】
本発明は、前記パッドにフラックスを塗布し、前記導電性ボールが前記フラックスを介して前記パッドに接着されることにより、上記課題を解決する。
【００２６】
本発明は、多数個取りの基板の表面に形成された複数のパッドに導電性ボールを供給する基板の製造装置であって、導電性ボール供給部材を前記基板の表面のうち一の領域に対向させる位置に搬送する搬送手段と、前記導電性ボール供給部材の各孔が前記パッドに一致するように前記導電性ボール供給部材の位置を前記一の領域に対して調整する位置調整手段と、前記導電性ボール供給部材の各孔に前記導電性ボールを供給する導電性ボール供給手段と、を有し、前記導電性ボール供給部材は、前記一の領域の面積よりも広い面積を有し、複数のフレームを格子状に組み合わせた構成とされており、その中央部には前記パッドに対応する複数の孔が形成されたボール供給部が設けられ、その他の部分には開口部または凹部が形成されていることにより、上記課題を解決するものである。
本発明は、前記位置調整手段により前記基板の一の領域に対向する位置を調整された前記導電性ボール供給部材を前記一の領域に近接した状態に保持する保持手段を有することにより、上記課題を解決するものである。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、基板の表面のうち一の領域に含まれるパッドに対応する複数の孔を有する導電性ボール供給部材を基板の前記一の領域に対向させ、複数の孔が前記一の領域に含まれるパッドと一致するように導電性ボール供給部材の位置を調整し、導電性ボール供給部材の各孔を利用して基板のパッドに導電性ボールを供給するため、基板の伸縮により複数のパッドの位置が基板全体で不規則的に変化していても導電性ボール供給部材の各孔を領域毎のパッドと一致するように容易に位置合わせすることができ、多数個取りの基板の全パッドに導電性ボールを確実に供給することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【実施例１】
【００２９】
図２Ａは、本発明による基板の製造装置の一実施例を模式的に示す平面図である。図２Ｂはテーブル上の基板に個別マスクが載置された状態を示す平面図である。図２Ｃはテーブル上の基板に個別マスクを載置した状態を示す側面図である。図２Ｄは個別マスクに導電性ボールを供給する状態を示す側面図である。図２Ｅは個別マスクの除去、基板の搬出を説明するための平面図である。
【００３０】
図２Ａに示されるように、基板製造装置１００は、多数個取りの基板１１０が搬送される基板搬送経路１２０と、個別マスク（導電性ボール供給部材）１３０が搬送されるマスク搬送経路１４０と、基板１１０が載置されるテーブル１７０と、各機器を制御する制御装置１８０と、導電性ボール供給装置２４０、フラックス塗布装置２５０、マスク搬出装置２７０、基板搬出装置２８０とを有する。基板１１０は、複数の配線基板を個片化する前の状態であり、個別マスク１３０は基板１１０よりも小さい領域に対応する大きさに形成されている。尚、本実施例では、個別マスク１３０は、磁性材により形成されており、且つ配線基板の大きさに対応する寸法に形成されている。
基板搬送経路１２０は、基板１１０を搬入する基板搬入装置１５０と、基板１１０の表面に形成されたパッド１１２の位置を検出するパッド検出装置１６０と、パッドにフラックスを塗布するフラックス塗布装置２５０を有する。パッド検出装置１６０では、例えば、ＣＣＤカメラなどの撮像装置を用いてテーブル１７０上に載置された基板１１０に形成された多数のパッド位置（ＸＹ座標位置）を検出し、その基板検出データ（パッド位置情報）を制御装置１８０に出力する。制御装置１８０は、基板検出データを記憶装置１９０に格納する。フラックス塗布装置２５０は、インクジェット方式のヘッドを有しており、基板検出データに基づいて基板１１０上に露出する各パッドにフラックスを塗布する。
【００３１】
基板１１０のパッド１１２は、各配線基板となる領域１１４１〜１１４ｎ毎に所定間隔で配列されている（図２Ｅ参照）。尚、本実施例では、各領域１１４１〜１１４ｎが各配線基板に対応するように設定された場合を例に挙げて説明するが、これに限らず、例えば、一の領域が二枚以上の複数枚の配線基板に対応するようにしても良い。
【００３２】
また、テーブル１７０は、内部に基板１１０を真空吸着するための真空発生装置（基板保持手段）１７２と、個別マスク１３０を磁気吸着するための磁力発生装置（マスク保持手段）１７４とを有する。基板１１０が上記基板搬入装置１５０によりテーブル１７０上に搬送されて載置されると、真空発生装置１７２による真空がテーブル１７０内の吸着通路に導入される。これにより、テーブル１７０上に載置された基板１１０は、テーブル１７０に吸着（固定）される。
【００３３】
マスク搬送経路１４０は、個別マスク１３０が収納されたマスク収納部２００と、マスク収納部２００から個別マスク１３０を１枚ずつ吸着して基板１１０上に搬入するマスク搬入装置２１０と、個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２の位置を検出するマスク孔検出装置２２０とを有する。
【００３４】
マスク搬入装置２１０は、マスク収納部２００に収納された個別マスク１３０を上方から真空または磁気を用いた吸引力で吸着し、上方に持ち上げてテーブル１７０へ搬送する。マスク孔検出装置２２０は、例えば、ＣＣＤカメラなどの撮像装置を用いて搬送過程の個別マスク１３０に形成された多数の導電性ボール挿通孔１３２の位置（ＸＹ座標位置）を検出し、そのマスク孔検出データ（マスク孔位置情報）を制御装置１８０に出力する。制御装置１８０は、マスク孔検出データを記憶装置１９０に格納する。
【００３５】
導電性ボール供給装置２４０は、マスク検出データに基づいて基板１１０上に載置された各個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）の導電性ボール挿通孔に導電性ボールを挿入する。
【００３６】
図２Ｂに示されるように、マスク搬入装置２１０は、テーブル１７０上に載置された基板１１０の上面の各領域に個別マスク１３０を搬送し、基板１１０の領域毎に位置調整を行なう。その際、制御装置１８０は、記憶装置１９０に格納された基板検出データとマスク孔検出データとを照合して各領域でパッド１１２の位置と導電性ボール挿通孔１３２の位置とが一致するように個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）の位置調整制御を行なう。
【００３７】
図２Ｃに示されるように、テーブル１７０には、磁力発生装置１７４からの通電により電磁力を発生する電磁石２３０が設けられている。基板１１０の領域に対する位置を調整された個別マスク１３０は、電磁石２３０からの磁力によって基板１１０上に吸引される。尚、個別マスク１３０は、磁力によって吸着されるようにＮｉやＦｅ等の軟磁性材により形成されている。
【００３８】
基板１１０上の全ての領域に個別マスク１３０が位置調整されて載置されると、図２Ｄに示されるように、導電性ボール供給装置２４０のヘッド２４２が個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）の上方を移動しながら導電性ボール２６０を個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２に挿入する。導電性ボール２６０は、導電性材料（例えば、Ｐｂ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｗ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ａｌ等）により形成された球状体、あるいは樹脂を核とし、その表面を前記導電性材料で被覆した球状体であり、個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔より小径に形成されている。
また、基板１１０は、エポキシ樹脂やポリイミド樹脂等の絶縁性樹脂からなる絶縁層１１６の上面にＣｕ層からなるパッド１１２と、パッド１１２の間を覆うソルダレジスト１１３とが形成されている。さらに、基板１１０は、絶縁層１１６の下面にもＣｕ層からなるパッド１１７と、パッド１１７の間を覆うソルダレジスト１１８とが形成されており、パッド１１２と１１７との間はＣｕ層からなる貫通電極１１９により電気的に接続されている。
尚、パッド１１２,１１７は、Ｃｕ層のみに限らず、Ａｕ層が基板表面に露出するようにＡｕ層、Ｎｉ層を積層する構成としても良く、あるいは、Ａｕ層が基板表面に露出するようにＡｕ層、Ｎｉ層、Ｐｄ層、Ｃｕ層の順に積層したり、あるいはＡｕ層、Ｐｄ層、Ｎｉ層の順に積層したりする構造など、他のめっき構造としても良い。
【００３９】
基板１１０上に載置された個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）の全導電性ボール挿通孔１３２に導電性ボール２６０が挿入されると、マスク搬出装置２７０により全個別マスク１３０を除去する。その後、図２Ｅに示されるように基板搬出装置２８０により基板１１０をテーブル１７０から搬出させて基板１１０をリフロー処理する。リフロー処理により、導電性ボール２６０は、基板１１０のパッド１１２に半田付けされた半球形状の半田バンプとなる。尚、図２Ｅにおいては、説明の便宜上、各領域１１４１〜１１４ｎの境界を示す境界線を破線で示してあるが、実際にはこのような境界線は存在しない。
【００４０】
ここで、上記基板製造装置１００を用いた基板の製造方法について図３Ａ〜図３Ｌにより説明する。図３Ａ〜図３Ｌは基板の製造方法（その１〜その１２）を説明するための図である。尚、図３Ａ〜図３Ｌにおいて、基板１１０を部分的に図示しており、基板製造装置１００の全体の構成は、前述した図２Ａ〜図２Ｅに示す通りである。
【００４１】
図３Ａにおいて、多数個取りの基板１１０を製作し、基板搬入装置１５０によりテーブル１７０上に搬送する。テーブル１７０上に基板１１０が載置されると、真空発生装置１７２によりテーブル１７０内の吸引通路に真空が導入されて基板１１０をテーブル１７０上に保持する。尚、基板１１０は、前述したように絶縁層１１６の上面に複数のパッド１１２が所定間隔で形成されている。
図３Ｂにおいて、テーブル１７０上に載置された基板１１０の一の領域１１４の上面側に配列されたパッド１１２の位置（ＸＹ座標位置）をパッド検出装置１６０のＣＣＤカメラ１６２により検出する。このＣＣＤカメラ１６２により検出されたパッド位置情報は、記憶装置１９０に格納される。
【００４２】
図３Ｃにおいて、フラックス塗布装置２５０のインクジェットノズル２５２を各領域１１４（１１４１〜１１４ｎ）のパッド１１２の上方に移動させて液状のフラックス２５４をパッド１１２の表面に塗布する。フラックス２５４は、粘性を有するため、導電性ボール２６０が投下されると、導電性ボール２６０はフラックス２５４を介してパッド１１２に接着される。
【００４３】
図３Ｄにおいて、マスク搬入装置２１０の吸着ヘッド２１２により真空吸着された個別マスク１３０の下面側から導電性ボール挿通孔１３２の位置（ＸＹ座標位置）をマスク孔検出装置２２０のＣＣＤカメラ２２２により検出する。このＣＣＤカメラ２２２により検出されたマスク孔位置情報は、記憶装置１９０に格納される。
【００４４】
図３Ｅにおいて、マスク搬入装置２１０の吸着ヘッド２１２は、当該領域１１４に個別マスク１３０を搬送した後、上記記憶装置１９０に格納された当該領域１１４に対応するパッド位置情報及びマスク孔位置情報を読み出し、このパッド位置情報及びマスク孔位置情報に基づいて導電性ボール挿通孔１３２の位置が基板１１０のパッド１１２の位置と一致するように吸着ヘッド２１２の移動位置を調整する。この位置調整制御は、記憶装置１９０に格納されたパッド位置情報とマスク孔位置情報とを照合して個別マスク１３０を降下させるため、当該領域１１４における導電性ボール挿通孔１３２の位置をパッド１１２の位置に一致させることができる。
【００４５】
個別マスク１３０に対向する領域１１４では、基板１１０の製造工程による加熱処理などによって伸縮しているが、基板１１０全体の伸縮量に比して領域１１４内の伸縮量が数分の一であるので、個別マスク１３０の全導電性ボール挿通孔１３２を当該領域１１４の全パッド１１２に対して容易に位置合わせすることができる。
【００４６】
従って、本実施例によれば、各個別マスク１３０単位で、当該領域１１４における導電性ボール挿通孔１３２の位置をパッド１１２の位置に一致させることができるので、基板１１０全体での各パッド１１２の位置に対して各導電性ボール挿通孔１３２の位置が一致している。これにより、基板１１０の全パッド１１２に導電性ボール２６０を正確に供給することが可能になる。
【００４７】
図３Ｆにおいて、個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２の位置が基板１１０のパッド１１２の位置と一致すると、吸着ヘッド２１２が降下して個別マスク１３０を基板１１０当該領域１１４に載置する。この個別マスク１３０の搬送は、基板１１０の全領域１１４（１１４１〜１１４ｎ）に対して行なわれる。
【００４８】
図３Ｇにおいて、基板１１０の全領域１１４（１１４１〜１１４ｎ）に対して位置調整された個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）が載置されると（図２Ｂ参照）、磁力発生装置１７４により電磁石２３０が励磁され、全個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）を電磁石２３０の磁力により保持する。これで、マスク搬入装置２１０によるマスク搬入を終了する。尚、磁力発生装置１７４による電磁石２３０の励磁は、個別マスク１３０を載置する前に行なっても良い。
【００４９】
図３Ｈにおいて、導電性ボール供給装置２４０が基板１１０上の各個別マスク１３０の上方に移動して各個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２に導電性ボール２６０を挿入する。導電性ボール供給装置２４０は、多数の導電性ボール２６０を収納する収納室２４２を有し、収納室２４２の底板には、導電性ボール２６０を落下させるための開口２４４が設けられている。そして、導電性ボール供給装置２４０は、開口２４４を個別マスク１３０の上面に近接対向させた状態で水平移動しながら導電性ボール２６０を開口２４４から個別マスク１３０上面に供給する。
【００５０】
上記図３Ｅで導電性ボール挿通孔１３２の位置が基板１１０のパッド１１２の位置と一致するように調整されているため、各個別マスク１３０の上面に投下された導電性ボール２６０は、各個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２を通過して各パッド１１２に塗布されたフラックス２５４に接着（仮止め）される。
【００５１】
図３Ｉにおいて、磁力発生装置１７４による電磁石２３０への通電が停止されて、個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）に対する保持が解除される。また、マスク搬出装置２７０により各個別マスク１３０を一枚ずつ持ち上げて基板１１０から除去する。
【００５２】
図３Ｊにおいて、基板搬出装置２８０により基板１１０をテーブル１７０から持ち上げて搬出し、さらに基板１１０をリフロー処理工程へ搬送する。基板１１０は、リフロー処理により、加熱されることで導電性ボール２６０が溶融されて半球形状の半田バンプ２６２となる。そのため、リフローされた基板１１０の各パッド１１２には、半田バンプ２６２が半田付けされたとなる。
【００５３】
図３Ｋにおいて、洗浄ノズル３００から洗浄液を基板１１０表面に噴射して基板表面のフラックス２５４を除去する。
【００５４】
図３Ｌにおいて、基板１１０の各領域１１４の境界線（図２Ｅ参照）に沿ってダイシングまたはダイシングソーによるＶカット等により切断し、基板１１０から配線基板３１０を個片化する。本実施例では、各配線基板３１０が前述した領域１１４と対応しており、各領域１１４から１個の配線基板３１０を得られる。
【００５５】
尚、配線基板３１０には、半導体チップなどの電子部品が実装される場合、半田バンプ２６２に電子部品の電極を接続してから配線基板３１０を個片化するようにしても良いし、複数の電子部品を基板１１０上に実装した後に配線基板３１０毎に個片化することも可能である。
【００５６】
このように、多数個取りの基板１１０の全領域１１４（１１４１〜１１４ｎ）に対して個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）が対向するように位置調整されて保持されることで、生産性を高められると共に、基板１１０の各パッド１１２に正確に半田バンプ２６２を形成することができ、従来のように基板１１０のロット毎にマスクを製作する必要がない。
【００５７】
また、上記実施例１においては、各領域１１４から１個の配線基板３１０が得られるようにした場合を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、各領域１１４から２個以上の配線基板３１０を得られるように領域１１４の範囲を拡大するようにしても良い。この場合、上記個別マスク１３０の面積をＸ，Ｙ方向に拡大して１枚の個別マスクで複数の配線基板３１０のパッド１１２をカバーすることができるように個別マスク１３０の各辺の寸法を大きくする。
【００５８】
また、上記実施例１においては、基板１１０の上面に露出するパッド１１２に導電性ボール２６０を供給する場合について説明したが、基板１１０の上下面を反転させて基板１１０の下面にパッド１１２が露出した場合にも上記方法で導電性ボール２６０を供給することは可能である。
【実施例２】
【００５９】
図４は、実施例２の基板製造装置を示す側面図である。尚、図４において、上記実施例１と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。図４に示されるように、実施例２の基板製造装置４００は、基板１１０の下面側のパッド１１２に導電性ボール２６０を供給するように構成されており、導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）、基板１１０を搬送する真空チャック４４０を有する。
【００６０】
基板１１０は、電磁石２３０を有する真空チャック４４０により吸着され、真空チャック４４０と共に導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）の上方に搬送される。導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）は、各個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）に対向するように基板１１０の下面側に個別に配置されている。
【００６１】
また、導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）は、上部が開口とされた導電性ボール収納箱４１２の内部に多数の導電性ボール２６０が収納され、導電性ボール収納箱４１２の底部には複数の空気噴射孔４１４が設けられている。複数の空気噴射孔４１４は、夫々コンプレッサ４２０から圧縮空気が空気配管４３０を介して供給される。導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）は、空気噴射孔４１４から上方に向けて圧縮空気が噴射されることで、各導電性ボール収納箱４１２に収納された導電性ボール２６０を個別マスク１３０に向けて飛ばすことができる。これにより、導電性ボール２６０は、導電性ボール挿通孔１３２を通過してパッド１１２に塗布されたフラックス２５４に接着（仮止め）される。
【００６２】
尚、本実施例では、コンプレッサ４２０から圧縮空気によって導電性ボール２６０を個別マスク１３０に向けて飛ばすようにしたが、これに限らず、例えば、導電性ボール収納箱４１２を振動させ、その振動による加速度で導電性ボール２６０を個別マスク１３０に供給することも可能である。
【００６３】
ここで、実施例２の製造方法について図５Ａ〜図５Ｅを参照して説明する。図５Ａ〜図５Ｅは、実施例２の製造方法（その１〜その５）を説明するための図である。尚、基板１１０の各領域１１４に個別マスク１３０を装着する工程は、前述した図３Ａ〜図３Ｇに示す方法と同じであるので、その説明は省略する。
【００６４】
図５Ａにおいて、搬送装置により移動する真空チャック４４０が、基板１１０を真空により吸着し、且つ電磁石２３０の磁力により個別マスク１３０を基板１１０の各装着位置に保持した状態で移動する。基板１１０は、個別マスク１３０が下面側となるように上下面を反転させた状態で搬送される。
【００６５】
図５Ｂにおいて、真空チャック４４０は、基板１１０の下面側の各個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）が導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）に対向する位置で停止する。
【００６６】
図５Ｃにおいて、真空チャック４４０が搬送装置の降下動作によって基板１１０を導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）に近接する高さ位置に降下させる。
【００６７】
図５Ｄにおいて、コンプレッサ４２０が起動して圧縮空気を生成する。コンプレッサ４２０からの圧縮空気は、空気配管４３０を介して複数の空気噴射孔４１４に供給される。これにより、導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）の各導電性ボール収納箱４１２に収納された導電性ボール２６０は、空気噴射孔４１４から噴射された圧縮空気の噴流によって浮上し、個別マスク１３０に向けて吹き付けられる。
【００６８】
個別マスク１３０は、前述した実施例１と同様に、導電性ボール挿通孔１３２の位置が基板１１０のパッド１１２の位置と一致するように調整されているため、導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）から飛ばされた導電性ボール２６０は、導電性ボール挿通孔１３２を通過してパッド１１２に塗布されたフラックス２５４に接着（仮止め）される。
【００６９】
図５Ｅにおいて、真空チャック４４０は、電磁石２３０への通電を停止して各個別マスク１３０を基板１１０から除去した後、搬送装置の搬送動作により基板１１０を導電性ボール供給装置４１０（４１０１〜４１０ｎ）から離間させる。この後は、前述した実施例１の図３Ｊ〜図３Ｌと同様に、導電性ボール２６０をリフローして半田バンプ２６２をパッド１１２に接続させ、さらにフラックス２５４を洗浄して各配線基板３１０に個片化する。
【００７０】
このように、実施例２においては、多数個取りの基板１１０の全領域１１４（１１４１〜１１４ｎ）に対して個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）が対向するように位置調整されて保持されることで、生産性を高められると共に、基板１１０の各パッド１１２に正確に半田バンプ２６２を形成することができ、従来のように基板１１０のロット毎にマスクを製作する必要がない。
【実施例３】
【００７１】
図６は、実施例３の基板製造装置を示す側面図である。尚、図６において、上記実施例１、２と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。図６に示されるように、実施例３の基板製造装置５００は、基板１１０の下面側のパッド１１２に導電性ボール２６０を供給するように構成されており、導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）、基板１１０を搬送する真空チャック４４０を有する。導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）の上部開口には、個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）が取り付けられている。
基板１１０は、真空チャック４４０により吸着され、真空チャック４４０と共に導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）の上方に搬送される。
【００７２】
また、導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）は、上部開口に個別マスク１３０が装着された導電性ボール収納箱５１２の内部に多数の導電性ボール２６０が収納され、導電性ボール収納箱５１２の底部には複数の空気噴射孔５１４が設けられている。複数の空気噴射孔５１４には、夫々コンプレッサ４２０から空気配管４３０が連通されている。
【００７３】
導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）は、空気噴射孔５１４から上方に向けて圧縮空気が噴射されることで、各導電性ボール収納箱５１２に収納された導電性ボール２６０が個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２を通過してパッド１１２に塗布されたフラックス２５４に接着（仮止め）される。
【００７４】
ここで、実施例３の製造方法について図７Ａ〜図７Ｅを参照して説明する。図７Ａ〜図７Ｅは、実施例３の製造方法（その１〜その５）を説明するための図である。
【００７５】
図７Ａにおいて、搬送装置により移動する真空チャック４４０が、基板１１０を吸着した状態で移動する。基板１１０には、個別マスク１３０が取り付けられてなく、パッド１１２が下面側となるように上下面を反転させた状態で搬送される。
【００７６】
図７Ｂにおいて、真空チャック４４０は、基板１１０の下面側の各パッド１１２が導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）に設けられた個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）の導電性ボール挿通孔１３２と一致するように位置調整されて停止する。尚、導電性ボール挿通孔１３２とパッド１１２との位置調整は、前述した実施例１の場合と同様にパッド１１２の位置（ＸＹ座標位置）をパッド検出装置１６０のＣＣＤカメラ１６２により検出し、導電性ボール挿通孔１３２の位置（ＸＹ座標位置）をマスク孔検出装置２２０のＣＣＤカメラ２２２により検出する。そして、このＣＣＤカメラ１６２，２２２により検出されたパッド位置情報及びマスク孔位置情報は、記憶装置１９０に格納される。パッド位置情報とマスク孔位置情報とを照合することにより、個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）の各導電性ボール挿通孔１３２と各パッド１１２とが一致するように位置調整することが可能になる。
【００７７】
図７Ｃにおいて、真空チャック４４０が搬送装置の降下動作によって基板１１０の下面を導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）の個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）に近接する高さ位置に降下させる。
【００７８】
図７Ｄにおいて、コンプレッサ４２０により生成された圧縮空気が、空気配管４３０を介して複数の空気噴射孔５１４に供給される。これにより、導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）の各導電性ボール収納箱５１２に収納された導電性ボール２６０は、空気噴射孔５１４から噴射された圧縮空気の噴流によって浮上し、個別マスク１３０の各導電性ボール挿通孔１３２を通過して基板１１０の各パッド１１２に向けて吹き付けられる。
【００７９】
導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）に装着された個別マスク１３０は、前述した実施例１と同様に、導電性ボール挿通孔１３２の位置が基板１１０のパッド１１２の位置と一致するように調整されているため、導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）から飛ばされた導電性ボール２６０は、導電性ボール挿通孔１３２を通過してパッド１１２に塗布されたフラックス２５４に接着（仮止め）される。
【００８０】
図７Ｅにおいて、真空チャック４４０は、搬送装置の搬送動作により基板１１０を導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）から離間させる。この後は、前述した実施例１の図３Ｊ〜図３Ｌと同様に、導電性ボール２６０をリフローして半田バンプ２６２をパッド１１２に接続させ、さらにフラックス２５４を洗浄して各配線基板３１０に個片化する。
【００８１】
本実施例では、導電性ボール供給装置５１０（５１０１〜５１０ｎ）に個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）が取り付けられているので、個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）を除去する工程を省略できる。
【００８２】
このように、実施例３においては、多数個取りの基板１１０の全領域１１４（１１４１〜１１４ｎ）に対して個別マスク１３０（１３０１〜１３０ｎ）が対向するように位置調整されて保持されることで、生産性を高められると共に、基板１１０の各パッド１１２に正確に半田バンプ２６２を形成することができ、従来のように基板１１０のロット毎にマスクを製作する必要がない。
【実施例４】
【００８３】
図８は、実施例４の基板製造装置を示す側面図である。尚、図８において、上記実施例１〜３と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。図８に示されるように、実施例４の基板製造装置６００は、テーブル１７０上に載置された基板１１０のパッド１１２に対して導電性ボール搬送装置６１０により導電性ボール２６０を搬送するように構成されている。
【００８４】
導電性ボール搬送装置６１０は、移動ベース６２０の下面に導電性ボール２６０を吸着するため複数の個別吸着ヘッド（導電性ボール供給部材）６３０を有する。移動ベース６２０は、内部に導電性ボール２６０を真空吸着するための真空発生装置６４０と、吸着ヘッド６３０を磁気吸着するための磁力発生装置６５０とを有する。
【００８５】
各個別吸着ヘッド６３０は、基板１１０の各領域１１４に対向するように配置されており、内部に導電性ボール２６０を吸引するための複数の吸引孔６３２が設けられている。複数の吸引孔６３２は、基板１１０の各パッド１１２に対応する間隔で配置されている。
【００８６】
さらに、各個別吸着ヘッド６３０は、各吸引孔６３２の位置が基板１１０の各領域のパッド１１２の位置と一致するように位置調整される。そして、各個別吸着ヘッド６３０の位置調整が完了すると、各個別吸着ヘッド６３０は磁力発生装置６５０による磁力によって移動ベース６２０に固定される。
【００８７】
このように、各個別吸着ヘッド６３０の位置が各パッド１１２に対応するように調整された状態で真空発生装置６４０による真空が各個別吸着ヘッド６３０の吸引孔６３２に導入され、吸引孔６３２に導電性ボール２６０を吸着させる。尚、吸引孔６３２の開口は、導電性ボール２６０の直径よりも小径であるので、導電性ボール２６０は各個別吸着ヘッド６３０の下面にパッド１１２と同じ間隔で吸着される。
【００８８】
導電性ボール搬送装置６１０は、各個別吸着ヘッド６３０の下面に吸着された複数の導電性ボール２６０をテーブル１７０上に載置された基板１１０上に搬送し、降下動作を行なって複数の導電性ボール２６０を一括して基板１１０の全パッド１１２に供給する。導電性ボール２６０が各パッド１１２に塗布されたフラックス２５４に接着（仮止め）されると、真空発生装置６４０を停止させて導電性ボール２６０の吸引を停止した後、移動ベース６２０を上昇させる。
【００８９】
これで、基板１１０の全パッド１１２には、導電性ボール２６０が供給される。この後、基板１１０は、リフローされて半田バンプ２６２が各パッド１１２に接続され、フラックスを洗浄された後、各配線基板３１０に個片化される。
【００９０】
この実施例４では、個別マスク１３０の代りに各個別吸着ヘッド６３０の位置を領域１１４毎に位置調整することで各個別吸着ヘッド６３０の吸引孔６３２の位置と基板１１０の各パッド１１２の位置とを容易に一致させることができる。
【００９１】
このように、実施例４においては、多数個取りの基板１１０の全領域１１４（１１４１〜１１４ｎ）に対して個別吸着ヘッド６３０が対向するように位置調整されることで、生産性を高められると共に、基板１１０の各パッド１１２に正確に半田バンプ２６２を形成することができ、従来のように基板１１０のロット毎にマスクを製作する必要がない。
【実施例５】
【００９２】
図９は、実施例５の基板製造装置を示す側面図である。尚、図９において、上記実施例１〜４と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。図９に示されるように、実施例５の基板製造装置７００は、基板１１０の上面側のパッド１１２に導電性ボール２６０を供給するように構成されており、導電性ボール供給装置７１０を有する。個別マスク１３０は、導電性ボール供給装置７１０の下部開口に保持されている。
【００９３】
また、テーブル１７０は、内部に基板１１０を真空吸着するための真空発生装置（図示せず）が設けられている。そして、基板１１０が上記基板搬入装置１５０（図２Ａ参照）によりテーブル１７０上に搬送されて載置されると、真空発生装置による真空がテーブル１７０内の吸着通路に導入される。これにより、テーブル１７０上に載置された基板１１０は、テーブル１７０に吸着（固定）される。
【００９４】
導電性ボール供給装置７１０は、図示しない移動装置により、多数個取りの基板１１０の上部をＸ，Ｙ方向（水平方向）及びＺ方向（垂直方向）に移動可能な構成とされている。この導電性ボール供給装置７１０は、ヘッド２４２、ボール収納部２７４、及び個別マスク１３０等を有した構成とされている。
【００９５】
ヘッド２４２は、下部開口に個別マスク１３０が取り付けられている。即ち、本実施例では個別マスク１３０は導電性ボール供給装置７１０に保持された構成とされている。また、ヘッド２４２の個別マスク１３０の保持位置よりも若干上部位置には、ボール回収経路２８２が接続されている。更に、ヘッド２４２の内部には、導電性ボール２６０を収納するボール収納部２７４が設けられている。
【００９６】
ボール収納部２７４は、その内部に導電性ボール２６０を収納する機能を奏するものである。このボール収納部２７４の上面には、開口部２７５が形成されている。また、ボール収納部２７４の側面には複数の空気噴射孔７１４が設けられている。この空気噴射孔７１４は、コンプレッサ４２０（図４で示したのと同様のもの）と接続されている。よって、コンプレッサ４２０で生成された圧縮空気は、空気噴射孔７１４からボール収納部２７４の内部に噴射される構成となっている。
【００９７】
また、ボール収納部２７４の開口部２７５が形成された上面と空気噴射孔７１４の配設位置との間には、篩（ふるい）２７８が設けられている。この篩２７８は、複数の篩孔２７９が形成されている。この篩孔２７９の直径は、導電性ボール２６０が通過できるよう（篩い落とされるよう）に導電性ボール２６０の直径より若干大きく設定されている。このように、篩孔２７９は導電性ボール２６０の直径より若干大きい程度の直径の孔であるため、多数個の導電性ボール２６０がボール収納部２７４の篩２７８の上部に収納された場合、図９に示されるように、導電性ボール２６０は直ちに篩孔２７９を通過してしまうようなことはなく、ボール収納部２７４内に収納された状態となる。
【００９８】
また、ボール収納部２７４は、振動発生装置７２２に接続されている。この振動発生装置７２２は、起動することによりボール収納部２７４を振動させる。よって、ボール収納部２７４の篩２７８の上部に収納されていた導電性ボール２６０は、振動発生装置７２２によりボール収納部２７４で移動する。そしてこの移動に伴い導電性ボール２６０が篩孔２７９の形成位置に進入すると、導電性ボール２６０は篩孔２７９を通過し個別マスク１３０に向け落下する。
【００９９】
個別マスク１３０の上部に落下した導電性ボール２６０は、個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２を通過してパッド１１２に塗布されたフラックス２５４に接着（仮止め）される。この際、本実施例ではボール収納部２７４に収納された全ての導電性ボール２６０を同時に個別マスク１３０に供給するのではなく、先ず導電性ボール２６０をボール収納部２７４を振動させることにより篩２７８から篩い落とす。そして、この篩い落とされた導電性ボール２６０が導電性ボール挿通孔１３２を通過し、パッド１１２上のフラックス２５４に接着（仮止め）される。よって、導電性ボール２６０は導電性ボール挿通孔１３２に円滑に挿入され、挿入効率及び挿入信頼性の向上を図ることができる。
【０１００】
一方、ヘッド２４２の開口部２７５と対向する位置には、ボール返却経路２８４が接続されている。このボール返却経路２８４は、ボール回収装置７２０に接続されている。ボール回収装置７２０は、ボール収納部２７４の下部に落下した導電性ボール２６０の内、フラックス２５４に接着しなかったもの回収する装置である。
【０１０１】
具体的には、先ずボール回収装置７２０は、ボール収納部２７４の下部に残存する導電性ボール２６０をボール回収経路２８２を介して吸引することにより回収する。続いて、ボール回収装置７２０は、この回収した導電性ボール２６０を圧縮空気と共にボール返却経路２８４に向け吐出する。ボール返却経路２８４の端部は、ボール収納部２７４に形成された開口部２７５に向け開口している。よって、ボール回収装置７２０から送出された導電性ボール２６０は、ボール収納部２７４の篩２７８の上部位置に再び収納される。尚、上記したボール回収装置７２０、振動発生装置７２２、及び導電性ボール供給装置７１０を移動させる移動装置は、制御装置１８０（図２Ａ参照）により駆動制御される構成とされている。
【０１０２】
ここで、実施例５の製造方法について図９、図１０Ａ〜図１０Ｃを参照して説明する。図９及び図１０Ａ〜図１０Ｃは、実施例５の製造方法（その１〜その４）を説明するための図である。
【０１０３】
先に図３Ａ〜図３Ｃを用いて説明した処理は、本実施例でも同様に行なわれる。即ち、別個の工程で作成された多数個取りの基板１１０は、基板搬入装置１５０によりテーブル１７０上に搬送されると共に載置される。そして、真空発生装置１７２によりテーブル１７０内の吸引通路に真空が導入され、これにより基板１１０はテーブル１７０上に保持される。
【０１０４】
テーブル１７０上に基板１１０が載置されると、その一の領域１１４の上面側に配列されたパッド１１２の位置をＣＣＤカメラ等により検出する。また、導電性ボール供給装置７１０の下部開口に設けられた個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２の位置もＣＣＤカメラ等により検出しておく。更に、基板１１０に設けられたパッド１１２には、インクジェットノズルを用いて予めフラックス２５４が配設される。
【０１０５】
上記のようにパッド１１２にフラックス２５４が配設されると、移動装置が起動し、導電性ボール供給装置７１０は基板１１０の導電性ボール２６０を配設しようとする一の領域１１４上に向けて水平移動する。そして、ヘッド２４２の下部に保持された個別マスク１３０に形成された導電性ボール挿通孔１３２と、基板１１０のパッド１１２が一致する位置まで移動すると、移動装置は導電性ボール供給装置７１０の移動を停止する。
【０１０６】
尚、導電性ボール挿通孔１３２とパッド１１２との位置調整は、前述した各実施例の場合と同様にパッド１１２の位置（ＸＹ座標位置）をパッド検出装置１６０のＣＣＤカメラ１６２により検出した情報と、導電性ボール挿通孔１３２の位置（ＸＹ座標位置）をマスク孔検出装置２２０のＣＣＤカメラ２２２により検出した情報に基づき行なうことができる。
【０１０７】
上記のように導電性ボール供給装置７１０が導電性ボール挿通孔１３２とパッド１１２とが一致する位置まで移動すると、続いて移動装置は個別マスク１３０が基板１１０と近接する位置まで導電性ボール供給装置７１０を基板１１０に向け下降させる。この際、導電性ボール供給装置７１０は、個別マスク１３０に基板１１０のフラックス２５４が付着しない程度の位置まで下降（垂直移動）される。図９は、導電性ボール供給装置７１０が上記の所定位置まで下降した状態を示している。尚、この導電性ボール供給装置７１０が移動している間、ボール回収装置７２０、振動発生装置７２２、及びコンプレッサ４２０は停止した状態となっている。
【０１０８】
上記のようにした導電性ボール供給装置７１０が基板１１０上に位置決めされると、続いて振動発生装置７２２が起動する。振動発生装置７２２が起動することによりボール収納部２７４は振動する（この際、ヘッド２４２は振動しないよう構成されている）。よって、ボール収納部２７４の振動に伴い篩２７８も振動し、この篩２７８から篩い落とされた導電性ボール２６０のみが個別マスク１３０に向け落下する。そして、個別マスク１３０の上部に落下した導電性ボール２６０は、個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２を通過してパッド１１２に塗布されたフラックス２５４に接着（仮止め）される。
【０１０９】
この際、本実施例ではボール収納部２７４に収納された全ての導電性ボール２６０を同時に個別マスク１３０に供給するのではなく、篩２７８から篩い落とされた導電性ボール２６０が個別マスク１３０の上部に供給され、更にこの個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２を通過した導電性ボール２６０のみがパッド１１２上のフラックス２５４に接着（仮止め）される構成とされている。この構成とすることにより、導電性ボール２６０は導電性ボール挿通孔１３２に円滑に挿入され、挿入効率及び挿入信頼性の向上を図ることができる。
【０１１０】
即ち、従来のように全ての導電性ボール２６０を一括的に個別マスク１３０に供給した場合には、下部に位置する導電性ボール２６０はその上部に積み重なった導電性ボール２６０の重さにより円滑な移動が阻害され、導電性ボール挿通孔１３２に導電性ボール２６０が円滑に導入されない現象が発生する。しかしながら、個別マスク１３０に対して導電性ボール２６０を徐々に供給することにより、個別マスク１３０上における導電性ボール２６０の移動を許容でき、よって挿入効率及び挿入信頼性の向上を図ることができる。
【０１１１】
図１０Ａは、ボール収納部２７４が振動し、これにより個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔１３２を介して一の領域１１４の全てのパッド１１２に導電性ボール２６０が供給された状態を示している。尚、全てのパッド１１２に導電性ボール２６０が供給されるまでには所定の時間を要し、この間もボール収納部２７４は振動した状態が維持されるため、個別マスク１３０の上部には篩２７８を通過し、かつパッド１１２に供給されなかった導電性ボール２６０が複数残存することとなる。
【０１１２】
上記のように全てのパッド１１２に対する導電性ボール２６０の供給が終了すると、振動発生装置７２２によりボール収納部２７４の振動が停止されると共に、個別マスク１３０の上部に残存する導電性ボール２６０の回収処理が行なわれる。この回収処理では、コンプレッサ４２０により生成された圧縮空気が空気噴射孔７１４を介してボール収納部２７４の内部に供給される。
【０１１３】
また、これと同時にボール回収装置７２０は、ボール収納部２７４の下部に残存する導電性ボール２６０をボール回収経路２８２を介して吸引することにより回収する。図１０Ｂは、個別マスク１３０上に残存する導電性ボール２６０をボール回収経路２８２から回収している状態を示している。この導電性ボール２６０の回収処理の際、空気噴射孔７１４から圧縮空気が吐出されているため、導電性ボール２６０は円滑にボール回収経路２８２内に導入され、よってボール収納部２７４内に導電性ボール２６０が残留するようなことはない。
【０１１４】
ボール回収装置７２０に回収された導電性ボール２６０は、圧縮空気と共にボール返却経路２８４に向け吐出される。前記のようにボール返却経路２８４の端部は、ボール収納部２７４に形成された開口部２７５に向け開口しているため、ボール回収装置７２０から送出された導電性ボール２６０はボール収納部２７４の篩２７８の上部位置に再び収納される。
【０１１５】
個別マスク１３０上に残存していた全ての導電性ボール２６０がボール収納部２７４に戻されると、導電性ボール供給装置７１０の移動装置が起動し、図１０Ｃに示すように先ず導電性ボール供給装置７１０を基板１１０から離間するよう上昇させる。続いて、移動装置は導電性ボール供給装置７１０を導電性ボール２６０を配設しない領域（例えば、図１０Ｃに１１４ｎで示す領域）に移動させる。そして、上記したと同様の導電性ボール２６０をパッド１１２上のフラックス２５４に接着させる処理を繰り返し実施する。
【０１１６】
基板１１０上の全ての領域１１４（１１４１〜１１４ｎ）に対する導電性ボール２６０の供給処理が終了すると、導電性ボール２６０をリフローして半田バンプ２６２をパッド１１２に形成し、さらにフラックス２５４を洗浄して各配線基板３１０に個片化する。
【０１１７】
本実施例では、導電性ボール供給装置７１０に個別マスク１３０が取り付けられており、かつ導電性ボール供給装置７１０が移動することにより基板１１０上の所定の領域１１４に導電性ボール２６０を供給するため、多数の個別マスク１３０及び導電性ボール供給装置を用意する必要がなくなり、製造設備の低コスト化を図ることができる。
る必要がない。
【実施例６】
【０１１８】
図１１Ａ及び図１１Ｂは、実施例６の基板製造装置を説明するための図である。尚、図１１Ａ及び図１１Ｂにおいて、上記実施例１〜５と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。また本実施例では、導電性ボール供給部材である個別マスク７３０に特徴を有するため、説明及び図示の便宜上、各図には基板１１０及び個別マスク７３０のみ図示し、他の構成については図示及び説明を省略するものとする。
【０１１９】
本実施例に係る基板製造装置に用いられる個別マスク７３０は、その面積が基板１１０に形成された一の領域１１４の面積よりも広く設定されている。また、個別マスク７３０は複数のフレーム７３４を格子状に組み合わせた構成とされており、その中央部に導電性ボール挿通孔１３２が形成されたボール供給部７３１を設けられた構成とされている。このように、複数のフレーム７３４を格子状に組み合わせることにより、個別マスク７３０には複数の開口部７３２が形成される。
【０１２０】
この開口部７３２の形状及び大きさは、基板１１０に設けられた各一の領域１１４（領域１１４１〜１１４ｎ）の形状及び大きさと同一となるよう構成されている。従って、ボール供給部７３１を基板１１０の導電性ボール２６０を供給しようとする領域１１４に位置決めすると、他の領域１１４は開口部７３２と対向した状態となる。
【０１２１】
ここで、個別マスク７３０のボール供給部７３１に隣接した開口部７３２の機能について、図１１Ｂを用いて説明する。尚、以下の説明において、各図においてボール供給部７３１の図中左側に位置する開口部７３２を特に開口部７３２Ａと示し、右側に位置する開口部７３２を開口部７３２Ｂと示すものとする。
【０１２２】
図１１Ｂに示すように、個別マスク７３０が基板１１０に位置決めされて配設された状態において、ボール供給部７３１の導電性ボール挿通孔１３２は基板１１０の領域１１４ｎ−１に形成されたパッド１１２と対向した状態となっている。よって、この位置決めされた状態において導電性ボール挿通孔１３２から導電性ボール２６０を供給すると、導電性ボール２６０はフラックス２５４を介してパッド１１２に接着される。
【０１２３】
この位置決めされた状態において、基板１１０の領域１１４ｎ−２は個別マスク７３０の開口部７３２Ａと対向しており、領域１１４ｎは開口部７３２Ｂと対向した状態となっている。本実施例では、領域１１４ｎ−２はパッド１１２にフラックス２５４が塗布された領域であり、領域１１４ｎは導電性ボール２６０がパッド１１２に既に接着された領域である。
【０１２４】
本実施例に係る個別マスク７３０を基板１１０に装着することにより、フラックス２５４が塗布された領域１１４ｎ−２、及び既に導電性ボール２６０が接着された領域１１４ｎが個別マスク７３０を構成するフレーム７３４により囲まれた構成となる。これにより、個別マスク７３０の開口部７３２Ａは塗布されたフラックス２５４を逃げるための開口として機能し、開口部７３２Ｂは供給済みの導電性ボール２６０を逃げる開口として機能する。よって、領域１１４ｎ−１に対する導電性ボール２６０の供給（搭載）時において、個別マスク７３０或いは導電性ボール供給装置２４０，４１０，５１０，６１０，７１０がパッド１１２或いは供給済みの導電性ボール２６０に接触することを防止でき、製造される基板１１０の信頼性を高めることができる（尚、フラックス２５４及び導電性ボール２６０は、請求項に記載のパッドへの搭載物に相当する）。
【実施例７】
【０１２５】
図１２Ａ〜図１２Ｃは、実施例７の基板製造装置を説明するための図である。尚、図１２Ａ〜図１２Ｃにおいて、上記実施例１〜６と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。また本実施例も導電性ボール供給部材である個別マスク７３０に特徴を有するため、説明及び図示の便宜上、各図には基板１１０及び個別マスク８３０のみ図示し、他の構成については図示及び説明を省略するものとする。
【０１２６】
前記した実施例６に係る個別マスク７３０は、フレーム７３４を格子状に組み合わせることにより少なくともボール搭載部７３１の隣接位置に開口部７３２（７３２Ａ，７３２Ｂ）を形成し、これをフラックス２５４及び導電性ボール２６０の逃げとして使用した。これに対して本実施例では、個別マスク８３０に複数の凹部８３２を形成することにより、実施例６に係る個別マスク７３０と同等の機能を奏させるよう構成したものである。
【０１２７】
図１２Ａは、基板１１０に個別マスク８３０を装着する前の状態を示しており、図１２Ｂは基板１１０に個別マスク８３０を装着した状態を示している。個別マスク８３０に形成された凹部８３２の形状及び大きさは、基板１１０に設けられた各一の領域１１４（領域１１４１〜１１４ｎ）の形状及び大きさと同一となるよう構成されている。従って、ボール供給部７３１を基板１１０の導電性ボール２６０を供給しようとする領域１１４に位置決めすると、他の領域１１４は個別マスク８３０の対応する各凹部８３２と対向した状態となる。
【０１２８】
この位置決めされた状態において、基板１１０の領域１１４ｎ−２は個別マスク８３０の凹部８３２Ａと対向しており、領域１１４ｎは凹部８３２Ｂと対向した状態となっている。図１２Ｃに示すように、本実施例でも領域１１４ｎ−２はパッド１１２にフラックス２５４が塗布された領域であり、領域１１４ｎは導電性ボール２６０がパッド１１２に既に接着された領域である。
【０１２９】
本実施例に係る個別マスク８３０を基板１１０に装着することにより、フラックス２５４が塗布された領域１１４ｎ−２、及び既に導電性ボール２６０が接着された領域１１４ｎが個別マスク８３０を構成する凹部８３２により覆われた構成となる。これにより、個別マスク７３０の凹部８３２Ａは塗布されたフラックス２５４の逃げ部として機能し、凹部８３２Ｂは供給済みの導電性ボール２６０を逃げる開口として機能する。よって本実施例においても、領域１１４ｎ−１に対する導電性ボール２６０の供給（搭載）時において、個別マスク８３０或いは導電性ボール供給装置２４０，４１０，５１０，６１０，７１０がパッド１１２或いは供給済みの導電性ボール２６０に接触することを防止でき、製造される基板１１０の信頼性を高めることができる。
【０１３０】
また図１２Ｃに示されるように本実施例では、実施例６と異なり基板１１０の領域１１４ｎ−２，１１４ｎは露出されることなく個別マスク８３０に完全に覆われる。このため、フラックス２５４及び導電性ボール２６０をより確実に保護することができ、より高い信頼性を実現することができる。
【実施例８】
【０１３１】
図１３は、実施例８の基板製造装置を説明するための図である。尚、図１３において、上記実施例１〜７と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。また本実施例も導電性ボール供給部材である個別マスク９３０に特徴を有するため、説明及び図示の便宜上、各図には基板１１０及び個別マスク９３０のみ図示し、他の構成については図示及び説明を省略するものとする。
【０１３２】
前記した実施例では、個別マスク１３０，７３０，８３０を導電性ボール２６０を基板１１０に供給するのに用いた。これに対して本実施例では、個別マスク９３０をスクリーン版として使用し、スキージ８４２を用いてクレームはんだ８４０をパッド１１２上にスクリーン印刷することを特徴としている。
【０１３３】
個別マスク９３０は実施例７で示した個別マスク８３０と基本的な構成は同一である。しかしながら、その上面をスキージ８４２が押圧しつつ移動するため、補強のための柱部９３４を凹部９３２（９３２Ａ，９３２Ｂ）に配設し、この柱部９３４が基板１１０と当接するよう構成している。これにより、個別マスク９３０の強度を高めることができ、上面をスキージ８４２が移動しても個別マスク９３０が変形したり破損したりすることを防止できる。
【産業上の利用可能性】
【０１３４】
上記実施例では、樹脂材を積層した基板を例に挙げて説明したが、本発明は、配線基板の製造に限らず、例えば、シリコン基板などのように多数個取り基板であれば適用することができるのは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１Ａ】多数個取りの基板を示す平面図である。
【図１Ｂ】多数個取りの基板に対応するマスクを示す平面図である。
【図１Ｃ】マスクの孔と基板のパッドとの位置合わせが一致した場合の縦断面図である。
【図１Ｄ】マスクの孔と基板のパッドとの位置合わせが不一致の場合の縦断面図である。
【図２Ａ】本発明による基板の製造装置の一実施例を模式的に示す平面図である。
【図２Ｂ】テーブル上の基板に個別マスクが載置された状態を示す平面図である。
【図２Ｃ】テーブル上の基板に個別マスクを載置した状態を示す側面図である。
【図２Ｄ】個別マスクに導電性ボールを供給する状態を示す側面図である。
【図２Ｅ】個別マスクの除去、基板の搬出を説明するための平面図である。
【図３Ａ】実施例１の基板の製造方法（その１）を説明するための図である。
【図３Ｂ】実施例１の基板の製造方法（その２）を説明するための図である。
【図３Ｃ】実施例１の基板の製造方法（その３）を説明するための図である。
【図３Ｄ】実施例１の基板の製造方法（その４）を説明するための図である。
【図３Ｅ】実施例１の基板の製造方法（その５）を説明するための図である。
【図３Ｆ】実施例１の基板の製造方法（その６）を説明するための図である。
【図３Ｇ】実施例１の基板の製造方法（その７）を説明するための図である。
【図３Ｈ】実施例１の基板の製造方法（その８）を説明するための図である。
【図３Ｉ】実施例１の基板の製造方法（その９）を説明するための図である。
【図３Ｊ】実施例１の基板の製造方法（その１０）を説明するための図である。
【図３Ｋ】実施例１の基板の製造方法（その１１）を説明するための図である。
【図３Ｌ】実施例１の基板の製造方法（その１２）を説明するための図である。
【図４】実施例２の基板製造装置を示す側面図である。
【図５Ａ】実施例２の基板の製造方法（その１）を説明するための図である。
【図５Ｂ】実施例２の基板の製造方法（その２）を説明するための図である。
【図５Ｃ】実施例２の基板の製造方法（その３）を説明するための図である。
【図５Ｄ】実施例２の基板の製造方法（その４）を説明するための図である。
【図５Ｅ】実施例２の基板の製造方法（その５）を説明するための図である。
【図６】実施例３の基板製造装置を示す側面図である。
【図７Ａ】実施例３の基板の製造方法（その１）を説明するための図である。
【図７Ｂ】実施例３の基板の製造方法（その２）を説明するための図である。
【図７Ｃ】実施例３の基板の製造方法（その３）を説明するための図である。
【図７Ｄ】実施例３の基板の製造方法（その４）を説明するための図である。
【図７Ｅ】実施例３の基板の製造方法（その５）を説明するための図である。
【図８】実施例４の基板製造装置を示す側面図である。
【図９】実施例５の基板製造装置及び基板の製造方法（その１）を説明するための図である。
【図１０Ａ】実施例５の基板の製造方法（その２）を説明するための図である。
【図１０Ｂ】実施例５の基板の製造方法（その３）を説明するための図である。
【図１０Ｃ】実施例５の基板の製造方法（その４）を説明するための図である。
【図１１Ａ】実施例６の基板の製造方法を説明するための図である。
【図１１Ｂ】図１１ＡにおけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図１２Ａ】実施例７の基板の製造方法（その１）を説明するための図である。
【図１２Ｂ】実施例７の基板の製造方法（その２）を説明するための図である。
【図１２Ｃ】図１２ＢにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１３】実施例８の基板の製造方法を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１３６】
１００,４００，５００，６００，７００  基板製造装置
１１０  基板
１１２  パッド
１１４，１１４１〜１１４ｎ  領域
１２０  基板搬送経路
１３０,１３０１〜１３０ｎ，７３０，８３０，９３０  個別マスク
１３２  導電性ボール挿通孔
１４０  マスク搬送経路
１５０  基板搬入装置
１６０  パッド検出装置
１７０  テーブル
１７２  真空発生装置
１７４  磁力発生装置
１８０  制御装置
１９０  記憶装置
２１０  マスク搬入装置
２２０  マスク孔検出装置
２４０,４１０（４１０１〜４１０ｎ）,５１０（５１０１〜５１０ｎ）,６１０，７１０  導電性ボール供給装置
２４２  ヘッド
２５０  フラックス塗布装置
２５４  フラックス
２６０  導電性ボール
２７０  マスク搬出装置
２７４  ボール収納部
２７８  篩
２７９  篩孔
２８０  基板搬出装置
２８２  ボール回収経路
２８４  ボール返却経路
４１４,５１４，７１４  空気噴射孔
４２０  コンプレッサ
４３０  空気配管
６２０  移動ベース
６３０  個別吸着ヘッド
６３２  吸引孔
６４０  真空発生装置
６５０  磁力発生装置
７２０  ボール回収装置
７２２  振動発生装置
７３１  ボール搭載部
７３２，７３２Ａ  ，７３２Ｂ  開口部
７３４  フレーム
８３２，８３２Ａ，８３２Ｂ，９３２，９３２Ａ，９３２Ｂ  凹部
８４０  クレームはんだ
８４２  スキージ
９３１  クリームはんだ配設部
９３４  柱部
【図１Ａ】
0004974818.tif 000002
【図１Ｂ】
0004974818.tif 000003
【図１Ｃ】
0004974818.tif 000004
【図１Ｄ】
0004974818.tif 000005
【図２Ａ】
0004974818.tif 000006
【図２Ｂ】
0004974818.tif 000007
【図２Ｃ】
0004974818.tif 000008
【図２Ｄ】
0004974818.tif 000009
【図２Ｅ】
0004974818.tif 000010
【図３Ａ】
0004974818.tif 000011
【図３Ｂ】
0004974818.tif 000012
【図３Ｃ】
0004974818.tif 000013
【図３Ｄ】
0004974818.tif 000014
【図３Ｅ】
0004974818.tif 000015
【図３Ｆ】
0004974818.tif 000016
【図３Ｇ】
0004974818.tif 000017
【図３Ｈ】
0004974818.tif 000018
【図３Ｉ】
0004974818.tif 000019
【図３Ｊ】
0004974818.tif 000020
【図３Ｋ】
0004974818.tif 000021
【図３Ｌ】
0004974818.tif 000022
【図４】
0004974818.tif 000023
【図５Ａ】
0004974818.tif 000024
【図５Ｂ】
0004974818.tif 000025
【図５Ｃ】
0004974818.tif 000026
【図５Ｄ】
0004974818.tif 000027
【図５Ｅ】
0004974818.tif 000028
【図６】
0004974818.tif 000029
【図７Ａ】
0004974818.tif 000030
【図７Ｂ】
0004974818.tif 000031
【図７Ｃ】
0004974818.tif 000032
【図７Ｄ】
0004974818.tif 000033
【図７Ｅ】
0004974818.tif 000034
【図８】
0004974818.tif 000035
【図９】
0004974818.tif 000036
【図１０Ａ】
0004974818.tif 000037
【図１０Ｂ】
0004974818.tif 000038
【図１０Ｃ】
0004974818.tif 000039
【図１１Ａ】
0004974818.tif 000040
【図１１Ｂ】
0004974818.tif 000041
【図１２Ａ】
0004974818.tif 000042
【図１２Ｂ】
0004974818.tif 000043
【図１２Ｃ】
0004974818.tif 000044
【図１３】
0004974818.tif 000045