(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板の外周囲を一部に注入口が形成されたシール材により貼り合わせ、前記注入口から電気光学物質を注入したのち前記注入口が封止材により封止されてなる電気光学装置において、
前記一対の基板は、前記電気光学物質駆動用の各種配線が設けられている第１の基板と、ブラックマトリクスが設けられている第２の基板であり、前記第１の基板は、前記各種配線のうち前記注入口側に配設された配線には前記封止材の封止状態確認用の開口を形成し、
前記開口には、複数の線状パターンからなる目盛りを形成し、
前記第２の基板は、前記開口に対応する位置に前記ブラックマトリクスを設けていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記注入口側に配設された配線は、前記注入口近傍のシール材延在方向に沿って設けられた前記一対の基板間の導通状態を維持するための引回し配線であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記注入口側に配設された配線は金属材料からなり、該配線と前記目盛りは同一材料で形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は一対の基板を貼り合わせてなる電気光学装置、その製造方法及び電子機器に関する。詳しくは、一対の基板間に電気光学物質を注入するための注入口を高い信頼性で封止するとともに、電気光学装置の額縁部分をより小さくすることが可能な電気光学装置、この電気光学装置の製造方法及びこの電気光学装置を使用した電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話やデジタルカメラ等の携帯型電子機器の普及に伴い、液晶表示装置に代
表される電気光学装置の需要が益々高まっている。
【０００３】
液晶表示装置は、液晶駆動用のスイッチング素子（例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
）や画素電極等が形成されたアレイ基板と、カラーフィルタ層等が形成されたカラーフィ
ルタ基板と、から構成される液晶表示パネルを備えている。そしてこの液晶表示パネルは
、アレイ基板の画素電極が形成された面とカラーフィルタ基板のカラーフィルタ層が形成
された面が対向するように両基板を重ね合わせ、これらの基板の外周囲をシール材によっ
て貼り合わせ、この両基板及びシール材に囲まれた領域に液晶を封入することで形成され
ている。
【０００４】
上述した液晶表示パネル内への液晶の封入は、通常、両基板の外周囲の一部に形成され
た液晶注入用の注入口から液晶を真空注入法等を用いて注入し、この液晶の注入の後、注
入口を例えばエポキシ樹脂等からなる封止材で封止することによって行われる。
【０００５】
封止材の封入は、両基板の端部から両基板間に引き込まれる封止材の引き込み量を制御
する必要がある。これは封止材の引き込み量が小さければ注入口の十分な封止が行えず、
反対に封止材の引き込み量が大きくて表示画素上にまで及んでしまうと、表示ムラや気泡
などの原因となってしまうためである。このような問題点を解消するため、下記特許文献
１には液晶の注入口に目盛りを形成して封止材の引き込み量を監視できるようにした発明
が開示されている。
【０００６】
また、下記特許文献２には、少なくともストライプ状透明電極と配向膜が形成された２
枚のガラス基板を、配向膜が内側になるように向い合わせ、周辺をシール材にてシールし
、内部に液晶を封入し、且つシール材に設けられた液晶注入口を紫外線硬化樹脂で封止し
て成る液晶表示パネルにおいて、上記液晶注入口を上記ストライプ状透明電極の引出し電
極のない部分に設けたものが開示されている。
【特許文献１】特開２００７−１４７６７３号公報
【特許文献２】特開平５−  ５３１２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１に開示された発明によれば、封止材の引き込み量が目視できるため、適
切な引き込み量に制御でき、高い信頼性での封止が可能となる。しかしながら、本特許文
献１に開示された発明では、目盛りと基板上に形成された各種配線とは独立して形成され
ている。そして、目盛りは同一工程で形成されており、工程数を増やすことなく形成でき
るが、目盛りを形成することによりパネル基板周辺部に配線を配置することが出来ないた
め、周辺配線を配置する場所に制限が生じる。また、上記特許文献２に開示された発明で
は、液晶注入口を引出し電極のない位置に形成するため、液晶注入口の周囲に引出し電極
を形成することができない。したがって、この液晶注入口が形成された液晶表示パネルの
額縁領域は大きくする必要があるため、結果として表示領域の面積を制約する一因となっ
てしまう。
【０００８】
本技術は従来技術の上記問題点に鑑みてなされたものであって、本技術の目的は、注入口への封止材の封入の際の信頼性を低下させることなく、しかも額縁領域を大きくする必要のない電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を使用した電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本技術の第１の態様に係る電気光学装置は、一対の基板の外周囲を一部に注入口が形成されたシール材により貼り合わせ、前記注入口から電気光学物質を注入したのち前記注入口が封止材により封止されてなる電気光学装置において、
前記一対の基板の少なくとも一方には、前記電気光学物質駆動用の各種配線が設けられているとともに、該各種配線のうち前記注入口側に配設された配線には、前記封止材の封止状態確認用の開口が形成されており、さらに、前記開口には複数の線状パターンからなる目盛りが形成されていることを特徴とする。
【００１０】
上記技術によれば、注入口側に配設された配線に封止材の封止状態確認用の開口を形成することにより、この開口部分で封止材の封止状態が確認できるようになるため、従来のように注入口を配線が形成されていない位置に形成する必要がない。すなわち、例えば近年の電気光学装置は小型化、狭額縁化の要望が高く、しかも額縁部分に高密度に配線が形成されている。このような電気光学装置において、従来の封止状態の確認構造では配線が形成されていない領域を別途設ける必要がある。しかしながら、本技術においては配線に開口を設けるので配線が形成されていない領域を形成する必要がなく、したがって額縁部分を大きくとる必要がない。加えて、開口部分に線状パターンからなる目盛りを形成することにより、封止材の封止状態がより詳細に視認できる。したがって、本技術の電気光学装置によれば、注入口への封止材の封入の際の信頼性を低下させることなく、しかも額縁領域の狭い電気光学装置を提供することができるようになる。
【００１１】
また、上記第１の態様に係る電気光学装置は、前記注入口側に配設された配線は、前記
注入口近傍のシール材延在方向に沿って設けられた前記一対の基板間の導通状態を維持す
るための引回し配線であることを特徴とする。
【００１２】
上記技術によれば、一対の基板間の導通状態を維持するための引回し配線は、通常抵抗値をできるだけ小さくするために他の配線より太く形成されているので、開口を容易に形成することができる。
【００１３】
また、上記第１の態様に係る電気光学装置は、前記注入口側に配設された配線は金属材
料からなり、該配線と前記目盛りは同一材料で形成されていることを特徴とする。
【００１４】
上記技術によれば、開口が形成される配線を遮光性金属材料で形成すると、開口部分が視認しやすくなるので封入状態の確認作業がより容易になる。また、目盛りを配線と同時に形成することで目盛りを形成するために製造工程を増大させることがない。詳しくは、例えばこの配線をフォトリソグラフィー法等を用いて露光形成する場合には、単にマスクパターンを変更するのみで形成することができる。
【００１５】
本技術の第２の態様に係る電気光学装置の製造方法は、
（１）一対の基板上に各種配線を形成する工程と、
（２）前記一対の基板の一部を除く外周囲をシール材により貼り合わせるとともに、該一対の基板の一部に注入口を形成する工程と、
（３）前記一対の基板間に前記注入口から電気光学物質を注入する工程と、
（４）前記電気光学物質が注入された後に前記注入口を封止材により封止する工程と、
を備える電気光学装置の製造方法において、
前記（１）工程において形成される各種配線のうち、前記一対の基板の少なくとも一方に配線される前記注入口側の配線には前記封止材の封止状態確認用の開口を形成し、前記（４）工程は前記開口を基準として前記封止材の封入を行うことを特徴とする。
【００１６】
上記技術によれば、上記工程を経て形成される電気光学装置は封止材の封入を開口を基準として行っているので、封止の際の信頼性が高く、また、この開口が配線に形成されているので開口が形成されていない電気光学装置とほとんど同じ額縁領域を維持することができるようになる。
【００１７】
本技術の第３の態様に係る電子機器は、上記いずれかに記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
【００１８】
上記技術によれば、上記電気光学装置を備えることにより、上述した効果を奏する電子機器を提供することができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本技術の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態は、本技術の技術思想を具体化するための電気光学装置、その製造方法及び電子機器を例示するものとして液晶表示パネルを例にとり説明したものであって、本技術をこの液晶表示パネルに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。
【実施例１】
【００２０】
図１は本技術の一実施形態に係る液晶表示パネルの平面図、図２はアレイ基板上に形成された１画素領域の配線構造を示す拡大平面図、図３は図２のIII−III線で切断した断面図、図４はアレイ基板上の配線構造を示すためにカラーフィルタ基板、シール材及び封止材を透視した図１のIV部分を拡大して示す要部拡大平面図、図５は図１の液晶表示パネルの要部を切断して示すものであり、図５Ａは図４のＶＡ−ＶＡ線で切断した断面図、図５Ｂは図４のＶＢ−ＶＢ線で切断した断面図、図５Ｃは図４のＶＣ−ＶＣ線で切断した断面図、図６は本技術の一実施形態に係る液晶表示パネルを有する電子機器を示すものであって、図６Ａは本技術の液晶表示パネルを搭載したパーソナルコンピュータを示す図、図６Ｂは本技術の液晶表示パネルを搭載した携帯電話機を示す図である。
【００２１】
本実施例に係る液晶表示パネル１は、図１に示すように、アレイ基板１０及びカラーフ
ィルタ基板２０と、両基板１０、２０を貼り合わせるシール材３０と、アレイ基板１０、
カラーフィルタ基板２０及びシール材３０により囲まれた領域に封入された液晶（電気光
学物質）４０と、から構成されたいわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）型の液晶表示パネル
である。
【００２２】
アレイ基板１０は、矩形状のガラス基板１１の表面に形成される表示領域ＤＡに液晶駆
動用の各種配線等が形成されたものである。このアレイ基板１０はカラーフィルタ基板２
０よりもその長手方向の長さが長く、両基板１０、２０を貼り合わせた際に外部に延在す
る延在部１１ａが形成されるようになっており、この延在部１１ａには駆動信号を出力す
るＩＣチップあるいはＬＳＩ等からなるドライバＤｒが設けられている。また、カラーフ
ィルタ基板２０は、矩形状のガラス基板２１の表面に各種配線等が形成されたものである
。
【００２３】
アレイ基板１０の表示領域ＤＡ内には、マトリクス状に形成された複数本の走査線５１
及び信号線５２と、複数本の走査線５１間に設けられ、この走査線５１と平行な複数本の
補助容量線５３と、ソース電極Ｓ、ゲート電極Ｇ、ドレイン電極Ｄ、及び半導体層５４か
らなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）５５と、走査線５１と信号線
５２とで囲まれた領域を覆う画素電極５６と、が設けられている。なお、ＴＦＴ５５の半
導体層５４としてはポリシリコン（ｐ−Ｓｉ）又はアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）が
通常用いられるがこれに限られずアクティブ素子であればよい。また、複数本の走査線５
１及び信号線５２により囲まれた領域が１画素領域ＰＡを形成している。
【００２４】
カラーフィルタ基板２０には、アレイ基板１０の画素領域ＰＡに合わせてマトリクス状に設けられたブラックマトリクス６１と、このブラックマトリクス６１により囲まれた領域に設けられる赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等のカラーフィルタ６２と、カラーフィルタ６２を覆うように設けられた共通電極６３と、が少なくとも設けられている。ただし、本技術はこれに限定されることなく、横電界方式の場合には共通電極がない場合もあるし、白黒表示であればカラーフィルタがない場合もあるし、色補完型のカラー表示の場合には三原色ではなく３種類以上のカラーフィルタで構成する場合もある。
【００２５】
シール材３０はアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の外周囲同士を貼り合わせ
るものであって、熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂材、例えばエポキシ樹脂から構成
される。このシール材３０は、詳しくはアレイ基板１０の表示領域ＤＡの外縁部に沿って
塗布されるとともに、その一部は液晶注入口３１を形成するためにアレイ基板１０の側端
部に向かって延びている（図１及び図２参照）。なお、液晶注入口３１が形成される位置
は、図１ではアレイ基板１０のドライバＤｒが形成された側の短辺に対向する短辺のほぼ
中央部に形成されている。ただし、その他の部分、例えばアレイ基板１０のいずれか一方
の長辺の隅部等に設けることも可能である。
【００２６】
次に上述の液晶表示パネル１の製造工程を図２及び図３を参照して簡単に説明する。な
お、ここでは両基板１０、２０の表示領域ＤＡ内に形成される配線等について特に説明を
行う。
（アレイ基板の製造工程）
アレイ基板１０は、ガラス基板１１上に所定厚のアルミニウム、モリブデン、クロム、
チタンあるいはこれらの合金からなる導電物質を成膜する。また、前述した材料以外の材
料でも可能である。そして、周知のフォトリソグラフィー法を用いてパターニングするこ
とによりその一部をエッチング除去して、横方向に伸びる複数本の走査線５１と、これら
複数本の走査線５１間に位置する補助容量線５３と、走査線５１から延在するゲート電極
Ｇと、補助容量線５３の一部を拡幅して形成される補助容量電極５３ａと、ゲート配線（
図示省略）と、引回し配線１５と、を形成する。なお、ここでは引回し配線１５の構成に
ついてはその説明を省略し、後に詳細に説明を行う。
【００２７】
次に、前記工程によって走査線５１や補助容量線５３等が形成されたガラス基板１１上
を覆うように所定厚のゲート絶縁膜５７が成膜される。このゲート絶縁膜５７としては窒
化シリコンなどからなる透明な樹脂材が用いられる。
【００２８】
次に、ゲート絶縁膜５７上に半導体層、例えばａ−Ｓｉを成膜する。そして、ゲート電
極Ｇを覆う部分を残してａ−Ｓｉ層をエッチング除去し、ＴＦＴ５５の一部となる半導体
層５４を形成する。そして同様の手法により、上述の工程で複数の層が形成されたガラス
基板１１上に更に導電物質を成膜し、走査線５１に交差する方向に延びる複数本の信号線
５１、この信号線５１から延設され半導体層５４に接続されるソース電極Ｓ、補助容量電
極５３ａ上を覆うとともに一端が半導体層５４に接続されるドレイン電極Ｄ、及び、ソー
ス配線（図示省略）をパターニングする。これにより、ガラス基板１１の走査線５１と信
号線５２との交差部近傍にはスイッチング素子となるＴＦＴ５５が形成される。なお、上
述したゲート配線及びソース配線は、走査線５１及び信号線５２とドライバＤｒとを電気
的に接続するために設けられるものであって、液晶表示パネル１の額縁部分に引回されて
いる。加えて、ゲート配線は走査線５１及び信号線５２の何れに接続していても良いし、
ソース配線についても走査線５１及び信号線５２の何れに接続していても良い。
【００２９】
さらにまた、これらの各種配線を覆うようにガラス基板１１上に表面の安定化のための
無機絶縁材料からなる保護絶縁膜（パッシベーション膜）５８を成膜し、続いて、アレイ
基板１０の表面を平坦化するための有機絶縁材料からなる層間膜５９が成膜される。なお
、この層間膜５９及び保護絶縁膜５８の補助容量電極５３ａ上に位置する部分には後述す
る画素電極５６とドレイン電極Ｄとを電気的に接続するためのコンタクトホールＣＨが設
けられている。そして、走査線５１及び信号線５２によって囲まれた１画素領域ＰＡごと
に例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）または、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）からなる画
素電極５６を形成する。このとき好ましくはその外縁部が走査線５１及び信号線５２上に
位置し、かつ隣接する画素電極５６同士が非接続状態となるように設ける。以上の工程に
よりアレイ基板１０が製造される。
【００３０】
（カラーフィルタ基板の製造工程）
カラーフィルタ基板２０の表示領域ＤＡ内には、アレイ基板１０に形成された複数の画
素領域ＰＡに合わせて、詳しくは、アレイ基板１０と重ね合わせた際に走査線５１及び信
号線５２に対向するようにマトリクス状に形成されたブラックマトリクス６１が設けられ
る。このブラックマトリクス６１は金属クロム、カーボンやチタンを含有するレジストか
らなる樹脂ブラック、あるいはニッケル等の金属材料を用いて形成され高い遮光性及び低
反射性を備えている。なお、このブラックマトリクス６１はスパッタリング法及びフォト
リソグラフィー法を用いて形成される。
【００３１】
次に、ブラックマトリクス６１によって区画された領域、すなわちアレイ基板１０の画
素領域ＰＡに対向する領域には、複数色、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色い
ずれかからなるカラーフィルタ６２が形成される。そして、これらブラックマトリクス６
１及びカラーフィルタ６２が形成された表示領域ＤＡを覆うようにＩＴＯ等からなる共通
電極６３が形成される。以上の工程によりカラーフィルタ基板２０が形成される。
【００３２】
（液晶表示パネルの組み立て工程）
上述した工程を経て製造されたアレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０は、それぞ
れのガラス基板１１、２１の各種配線が形成された表面に配向膜が塗布され、この配向膜
を焼成した後、その表面にラビングローラを用いてラビング処理を行う。そして、両基板
１０、２０のいずれか一方の基板、例えばアレイ基板１０の表示領域ＤＡ上に複数個の柱
状スペーサ（図示省略）を配設し、さらにアレイ基板１０の表示領域ＤＡの外周囲を覆う
ようにシール材３０を塗布する。その後、両基板１０、２０の表面同士を対向させて貼り
合わせ、シール材３０を硬化させることにより空セルを形成する。
【００３３】
この空セルが形成されると、次にこの空セル内に液晶４０を注入する。詳しくは、シー
ル材３０をアレイ基板１０に塗布する際に予め設けておいた液晶注入口３１から真空注入
により液晶４０を注入する。そして、液晶４０が注入された後液晶注入口３１を封止材３
２により封止する。この後、偏光フィルムやドライバＤｒ等の装着を行うことにより一連
の液晶表示パネル製造工程が完了する。
【００３４】
次に、上記製造工程の際にアレイ基板１０に形成される引回し配線１５について詳細に
説明する。
引回し配線１５は、アレイ基板１０の表示領域ＤＡ外、すなわち額縁部分にガラス基板
の外周縁に沿って形成されている。この引回し配線１５は、ドライバＤｒから出力される
制御信号をカラーフィルタ基板２０側に送るための配線であり、コモン配線とも呼ばれる
ものである。そして、この引回し配線１５は走査線５１及び信号線５２等に比して幅広な
配線（例えば幅１ｍｍ程度）から構成されている。なお、引回し配線１５とカラーフィル
タ基板２０、詳しくはカラーフィルタ基板２０に設けられた共通電極６３との接続は、引
回し配線１５がガラス基板１１の隅部に設けられたコンタクト材１６（図１参照）に電気
的に接続し、このコンタクト材１６が共通電極６３にも電気的に接続されることでなされ
るものである。
【００３５】
また、この引回し配線１５は金属材料、例えばアルミニウム、モリブデン、クロム等か
ら形成されており、図４及び図５に示すように、シール材３０が塗布される領域に一部が
重なるように配設され、且つ液晶注入口３１を横切るように設けられている。なお、この
引回し配線３１の表面は絶縁膜、例えばゲート絶縁膜５７で被覆されている。なお、図５
においては引回し配線１５がゲート絶縁膜５７のみに被覆されているものとして図示され
ているが、その他の絶縁膜（例えば保護絶縁膜５８や層間膜５９）や配向膜に被覆される
ようにしてもよいし、引回し配線１５の表面が外部に露出していてもよい。さらにまた、
引回し配線１５は、好ましくは走査線５１及び補助容量線５３と同一の金属材料から形成
され、且つ走査線５１及び補助容量線５３の製造工程と同時に形成するようにする。ただ
し、必ずしも走査線５１等と同時に形成する必要はなく、例えば信号線５２等と同一材料
で同時に形成するようにすることも当然可能であり、その場合には引回し配線１５は保護
絶縁膜５８等により被覆されることになる。
【００３６】
一方、カラーフィルタ基板２０の額縁部分は、ブラックマトリクス６１を延在させるこ
とにより被覆されている。この構造は主に光漏れを防止する目的でなされたものであるが
、後述する封止材３２の封入工程時において封入状態を視認しやすくする効果をも備えて
いる。なお、アレイ基板１０及びカラーフィルタ基板２０の額縁部分の幅は、共に約２ｍ
ｍ程度である。
【００３７】
このアレイ基板１０の液晶注入口３１部分の配線構造について図４及び図５を参照して
以下に詳述する。
図４に示すように、アレイ基板１０のドライバＤｒが設けられていない方の短辺には液
晶注入口３１が形成される。液晶注入口３１は既に上述したとおり、この短辺に向かって
シール材３０の一部を屈曲させて塗布することで形成されるものである。そして、この液
晶注入口３１が形成されるアレイ基板１０の額縁部分には、短辺に沿って延在するシール
材３０と一部が重なり、且つこのシール材３０とほぼ平行に引回し配線１５が配設されて
いる。この引回し配線１５は液晶注入口３１の液晶注入方向に直交するようにこの液晶注
入口３１を横切るように配設されている。そして、この引回し配線１５の液晶注入口３１
と重なる部分には、矩形状の開口１５ａが形成されていると共に、この開口１５ａの中央
部を液晶注入口３１の液晶注入方向に平行な方向へ縦断するように目盛り１５ｂが形成さ
れている。この目盛り１５ｂは所定間隔をおいて引回し配線１５に延在方向に延びる複数
本の線分によって構成されている。また、この目盛り１５ｂは引出し配線１５と同一材料
からなる層をガラス基板１１上に配設することにより形成されるものであって、引回し配
線１５を例えばフォトリソグラフィー法で形成する際に使用されるマスクパターンを変更
するだけで容易に形成することが可能である。
【００３８】
このように開口１５ａ内に目盛り１５ｂを形成することで、封止材３２が液晶注入口３
１内にどの程度入り込んでいるかが定量的に認識できるようになるので、より正確な封止
作業を実現することが可能となる。
【００３９】
また、開口１５ａは液晶表示パネル１のアレイ基板１０側の面から見た際にカラーフィ
ルタ基板２０のブラックマトリクス６１が視認できる。すなわち、この開口１５ａは液晶
注入口３１の封止工程において封止材３２の液晶注入口３１内への入り込みを視認するこ
とが可能な、封止状態確認用の開口１５ａとなる。
【００４０】
以上の構成を備えることにより、本実施例に係る液晶表示パネル１によれば、液晶注入
口３１を封止する際、液晶４０が封入されたセルのアレイ基板１０側から開口１５ａ部分
から目盛１５ｂを監視し、封止材３２が液晶注入口３１内に十分入り込んでいるかを確認
することで、高い信頼性の封止作業を行えるようになる。なお、この確認作業については
作業員による目視で行う必要はなく、例えば光検出器等を使用することで自動的に確認す
るようにすることも可能である。また、引回し配線１５の配設位置を何ら変更することな
く、単に引回し配線１５に開口１５ａ及び目盛り１５ｂを形成するだけで封止作業の信頼
性向上が図れるので、液晶表示パネル１の額縁部分の幅を変更する必要もない。
【００４１】
尚、本技術の技術思想は本技術の実施例で説明したＴＦＴだけに特化したものではなく、ＴＦＤ、ＬＴＰＳ、ＥＬ、ＰＤＰ、ＳＴＮなど様々な構造にも汎用可能である。
【００４２】
以上、本技術の実施例１として液晶表示パネルの例を説明した。このような本技術の液晶表示パネル１は、パーソナルコンピュータ、携帯電話機、携帯情報端末などの電子機器に使用することができる。このうち、液晶表示パネル７１をパーソナルコンピュータ７０に使用した例を図６Ａに、同じく液晶表示パネル７６を携帯電話機７５に使用した例を図６Ｂに示す。ただし、これらのパーソナルコンピュータ７０及び携帯電話機７５の基本的構成は当業者に周知であるので、詳細な説明は省略する。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１は本技術の一実施形態に係る液晶表示パネルの平面図である。
【図２】図２はアレイ基板上に形成された１画素領域の配線構造を示す拡大平面図である。
【図３】図３は図２のIII−III線で切断した断面図である。
【図４】図４はアレイ基板上の配線構造を示すためにカラーフィルタ基板、シール材及び封止材を透視した図１のIV部分を拡大して示す要部拡大平面図である。
【図５】図５は図１の液晶表示パネルの要部を切断して示すものであり、図５Ａは図４のＶＡ−ＶＡ線で切断した断面図、図５Ｂは図４のＶＢ−ＶＢ線で切断した断面図、図５Ｃは図４のＶＣ−ＶＣ線で切断した断面図である。
【図６】図６は本技術の一実施形態に係る液晶表示パネルを有する電子機器を示すものであって、図６Ａは本技術の液晶表示パネルを搭載したパーソナルコンピュータを示す図、図６Ｂは本技術の液晶表示パネルを搭載した携帯電話機を示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
１：液晶表示パネル  １０：アレイ基板  １１：ガラス基板  １５：引回し配線  １５ａ
：開口  １５ｂ：目盛り  ２０：カラーフィルタ基板  ２１：ガラス基板  ３０：シール
材  ３１：液晶注入口  ３２：封止材  ４０：液晶  ＤＡ：表示領域  ＰＡ：画素領域  
５１：走査線  ５２：信号線  ５３：補助容量線  ５４：半導体層  ５５：ＴＦＴ  ５６
：画素電極  ５７：ゲート絶縁膜  ５８：保護絶縁膜（パッシベーション膜）  ５９：層
間膜  ６１：ブラックマトリクス  ６２：カラーフィルタ  ６３：共通電極
【図１】
0005026883.tif 000002
【図２】
0005026883.tif 000003
【図３】
0005026883.tif 000004
【図４】
0005026883.tif 000005
【図５】
0005026883.tif 000006
【図６】
0005026883.tif 000007