(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一線上に位置して、ケミカルを基板に噴射する多数の第１及び第２噴射ノズルを有する第１及び第２噴射配管と、
前記第１及び第２噴射配管間で前記第１及び第２噴射ノズルをスウィングさせるために、互いに隣接する前記第１及び第２噴射配管の端部に駆動力を提供する駆動部と、を含むケミカル噴射装置。
【請求項２】
前記第１及び第２噴射配管は互いに隣接した端部に第１及び第２被動板をそれぞれ含み、前記駆動部は、前記第１及び第２被動板間に前記第１及び第２被動板をスウィングさせるための駆動板を含み、前記駆動板と前記第１及び第２被動板のそれぞれは、前記駆動力が伝達されるように構成されることを特徴とする請求項１記載のケミカル噴射装置。
【請求項３】
前記駆動板と前記第１及び第２被動板のそれぞれは、前記駆動力が磁気力によって伝達されるようにそれぞれの回転中心周囲に配置された多数のマグネチックを含むことを特徴とする請求項２記載のケミカル噴射装置。
【請求項４】
前記駆動部は、
前記駆動力を発生するモーターと、
前記モーター及び前記駆動板と連結され、前記モーターの回転を線形往復直線運動に転換し、スウィング動作のために前記往復直線運動を前記駆動板に伝達する動力伝達部と、を更に含むことを特徴とする請求項２記載のケミカル噴射装置。
【請求項５】
前記動力伝達部は、
前記モーターと連結され回転する偏心ホイールと、
前記偏心ホイールの偏心部位と前記駆動板の偏心部位をリンク連結して、前記回転力を前記往復駆動力に転換するリンク連結部と、を含むことを特徴とする請求項４記載のケミカル噴射装置。
【請求項６】
前記駆動板は、
前記第１被動板と向き合いながら前記動力伝達部と連結された第１駆動板と、
前記第２被動板と向き合いながら前記第１駆動板と中心軸が連結され、前記第１駆動板のようにスウィング動作する第２駆動板と、を含むことを特徴とする請求項４記載のケミカル噴射装置。
【請求項７】
前記動力伝達部及び前記駆動板を収容するハウジングを更に含むことを特徴とする請求項４記載のケミカル噴射装置。
【請求項８】
前記駆動板と前記第１及び第２被動板は、前記ハウジングの側壁を挟んで、互いに向き合って配置されることを特徴とする請求項７記載のケミカル噴射装置。
【請求項９】
前記第１及び第２噴射配管のそれぞれと平行に位置し、前記ケミカルを前記基板に噴射する多数の第３及び第４噴射ノズルをそれぞれ有する第３及び第４噴射配管を更に含むことを特徴とする請求項１記載のケミカル噴射装置。
【請求項１０】
前記第１及び第３噴射配管と前記第２及び第４噴射配管をそれぞれ連結し、前記駆動力による前記第１及び第２噴射配管のスウィング動作を前記第３及び第４噴射配管に伝達するスウィング伝達部を更に含むことを特徴とする請求項９記載のケミカル噴射装置。
【請求項１１】
前記第１、第２、第３、及び第４噴射ノズルは前記基板に突出された形状を有し、前記スウィング伝達部は、前記第１及び第３噴射ノズルと前記第２及び第４噴射ノズルをそれぞれリンク連結する構造を有することを特徴とする請求項１０記載のケミカル噴射装置。
【請求項１２】
前記スウィング伝達部は、前記第１及び第３噴射配管と前記第２及び第４噴射配管をそれぞれ駆動ギアと被動ギアを通じて連結する構造を有することを特徴とする請求項１０記載のケミカル噴射装置。
【請求項１３】
前記スウィング伝達部は、前記第１及び第３噴射配管と前記第２及び第４噴射配管をそれぞれラック（ｒａｃｋ）ギアとピニオンギアを通じて連結する構造を有することを特徴とする請求項１０記載のケミカル噴射装置。
【請求項１４】
基板を処理するための空間を提供する工程チャンバーと、
前記工程チャンバーの外部から内部に互いに平行に設置され、外部からケミカルが供給される第１及び第２供給配管と、
前記工程チャンバーの内部で前記第１及び第２供給配管のそれぞれと垂直に連結され、互いに同一線上に位置し、前記ケミカルを基板に噴射する多数の第１及び第２噴射ノズルを有する第１及び第２噴射配管と、
前記第１及び第２噴射配管の間で前記第１及び第２噴射ノズルをスウィングさせるために、互いに隣接する前記第１及び第２噴射配管の端部に駆動力を提供する駆動部と、を含む基板処理装置。
【請求項１５】
前記第１及び第２噴射配管のそれぞれは、互いに隣接した端部に第１及び第２被動板を含み、前記駆動部は、前記第１及び第２被動板間に前記第１及び第２被動板をスウィングさせるための駆動板を含み、
前記駆動部は、
前記工程チャンバーの外部に設置され、回転力を発生するモーターと、
前記モーター及び前記駆動板と連結され、前記回転力を往復駆動力に転換し、スウィング動作のために前記往復駆動力を前記駆動板に伝達する動力伝達部と、を更に含むことを特徴とする請求項１４記載の基板処理装置。
【請求項１６】
前記第１及び第２供給配管のそれぞれと前記第１及び第２噴射配管のそれぞれの間に設置され、前記第１及び第２噴射配管のスウィング動作を可能にするカプラーを更に含むことを特徴とする請求項１４記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はケミカル噴射装置及びこれを含む基板処理装置に関し、より詳細には、移送する基板にケミカルを噴射する装置及び前記ケミカルの噴射を通じて基板を処理する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体集積回路素子のうちの１つであるディスプレイ素子は、ガラス材質の基板を基礎として蒸着工程、エッチング工程、フォトリソグラフィ工程、洗浄工程等を行って製造される。
【０００３】
このような工程のうち、エッチング工程又は洗浄工程は、工程チャンバーに移送部を用いて前記基板を移送した後、前記それぞれの工程によるケミカルを移送する前記基板にケミカル噴射部を通じて噴射する基板処理装置によって行われる。
【０００４】
具体的に、前記ケミカル噴射部は、外部から前記工程チャンバーの内部に設置された供給配管と前記工程チャンバーの内部で垂直に連結され前記ケミカルが実質的に噴射される多数の噴射ノズルを有する噴射配管を通じて前記ケミカルを噴射する。
【０００５】
この際、前記噴射配管は、前記基板のサイズによって前記供給配管から互いに平行に多数が連結される。又、前記噴射配管は、前記噴射ノズルをスウィングさせて移送する前記基板に前記ケミカルが均一に噴射されるようにするためにスウィング動作を行う。
【０００６】
このために、前記噴射配管のそれぞれの前記供給配管と反対される端部には、前記スウィング動作のための駆動力を提供するために駆動部が連結される。ここで、前記駆動部は１つの駆動源を用いて前記噴射配管を一度にスウィングさせる。
【０００７】
しかし、最近、前記基板のサイズが大きくなるに従って、前記噴射配管の個数に増加し、その長さも長くなるに従って、１つの前記駆動源から提供される前記駆動力に負荷がかかる問題点がある。
【０００８】
即ち、前記駆動力による前記噴射配管のスウィング動作が不安定に行われることができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、本発明は、このような問題点を勘案したもので、本発明の目的は、駆動部を通じて噴射配管を安定にスウィングさせることができるケミカル噴射装置を提供することにある。
【００１０】
又、本発明の他の目的は、前記したケミカル噴射装置を含む基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前述した本発明の目的を達成するために、一特徴によるケミカル噴射装置は、第１噴射配管、第２噴射配管、及び駆動部を含む。前記第１及び第２噴射配管は同一線上に位置し、ケミカルを基板に噴射する多数の第１及び第２噴射ノズルを有する。前記駆動部は、前記第１及び第２噴射配管間で前記第１及び第２噴射ノズルをスウィングさせるために互いに隣接する前記第１及び第２噴射配管の端部に駆動力を提供する。
【００１２】
前記第１及び第２噴射配管は、互いに隣接した端部に第１及び第２被動板をそれぞれ含む。又、前記駆動部は、前記第１及び第２被動板間に前記第１及び第２被動板をスウィングさせるための駆動板を含む。これに、前記駆動板と前記第１及び第２被動板のそれぞれは、前記駆動力が伝達されるように構成される。
【００１３】
又、前記駆動板と前記第１及び第２被動板のそれぞれは、前記駆動力が磁気力によって伝達されるようにそれぞれの回転中心周囲に配置された多数のマグネチックを含む。
前記駆動部は、回転力を発生するモーター、及び前記モーター及び前記駆動板と連結され前記回転力を往復駆動力に転換してスウィング動作のために前記往復駆動力を前記駆動板に伝達する動力伝達部を更に含む。
【００１４】
これに、前記動力伝達部は、前記モーターと連結され回転する偏心ホイール、及び前記偏心ホイールの偏心部位と前記駆動板の偏心部位をリンク連結して前記回転力を前記往復駆動力に転換するリンク連結部を含む。
【００１５】
又、前記駆動板は前記第１被動板と向かい合いながら前記動力伝達部と連結された第１駆動板及び前記第２被動板と向かい合いながら前記第１駆動板と中心軸が連結され前記第１駆動板のようにスウィング動作する第２駆動板を含むことができる。
【００１６】
一方、前記ケミカル噴射装置は、前記動力伝達部及び前記駆動板を収容するハウジングを更に含むことができる。これに、前記駆動板と前記第１及び第２被動板は前記ハウジングの側壁を挟んで互いに向かい合って配置されることができる。
【００１７】
又、前記ケミカル噴射装置は、前記第１及び第２噴射配管のそれぞれと平行に位置して、前記ケミカルを前記基板に噴射する多数の第３及び第４噴射ノズルをそれぞれ有する第３及び第４噴射配管を更に含むことができる。
【００１８】
これに、前記ケミカル噴射装置は、前記第１及び第３噴射配管と前記第２及び第４噴射配管をそれぞれ連結して前記駆動力による前記第１及び第２噴射配管のスウィング動作を前記第３及び第４噴射配管に伝達するスウィング伝達部を更に含むことができる。
【００１９】
この際、前記第１、第２、第３、及び第４噴射ノズルが前記基板に突出された形状を有する場合、前記スウィング伝達部は、前記第１及び第３噴射ノズルと前記第２及び第４噴射ノズルをそれぞれリンク連結する構造を有することができる。
【００２０】
これと異なり、前記スウィング伝達部は、前記第１及び第３噴射配管と前記第２及び第４噴射配管をそれぞれ駆動ギアと被動ギアを通じて連結する構造を有することができる。
又、前記スウィング伝達部は、前記第１及び第３噴射配管と前記第２及び第４噴射配管をそれぞれラックギアとピニオンギアを通じて連結する構造を有することができる。
【００２１】
前述した本発明の目的を達成するために、他の特徴によるケミカル噴射装置は、第１噴射配管、第２噴射配管、駆動部、及びスウィング伝達部を含む。前記第１及び第２噴射配管は互いに平行に位置し、ケミカルを基板に噴射する多数の第１及び第２噴射ノズルを有する。前記駆動部は、前記第１噴射配管の一端部に前記第１噴射ノズルをスウィングさせるために駆動力を提供する。前記スウィング伝達部は、前記第１噴射配管と前記第２噴射配管を連結し、前記駆動力による前記第１噴射配管のスウィング動作を前記第２噴射配管に伝達する。
【００２２】
この際、前記第１及び第２噴射ノズルが前記基板に突出された形状を有する場合、前記スウィング伝達部は、前記第１及び第２噴射ノズルをリンク連結する構造を有することができる。
【００２３】
これと異なり、前記スウィング伝達部は、前記第１及び第２噴射配管を駆動ギアと被動ギアを通じて連結する構造を有することができる。又、前記スウィング伝達部は、前記第１及び第２噴射配管をラックギアとピニオンギアを通じて連結する構造を有することができる。
【００２４】
前述した本発明の他の目的を達成するために、一特徴による基板処理装置は、工程チャンバー、第１供給配管、第２供給配管、第１噴射配管、第２噴射配管、及び駆動部を含む。前記工程チャンバーは、基板を処理するための空間を提供する。前記第１及び第２供給配管は、前記工程チャンバーの外部から内部に互いに平行に設置され、外部からケミカルが供給される。前記第１及び第２噴射配管は、前記工程チャンバーの内部で前記第１及び第２供給配管のそれぞれと垂直に連結され、互いに同一線上に位置し、前記ケミカルを基板に噴射する多数の第１及び第２噴射ノズルを有する。前記駆動部は、前記第１及び第２噴射配管の間で前記第１及び第２噴射ノズルをスウィングさせるために互いに隣接する前記第１及び第２噴射配管の端部に駆動力を提供する。
【００２５】
この際、前記第１及び第２噴射配管のそれぞれは、互いに隣接した端部に第１及び第２被動板を含み、前記駆動部は、前記第１及び第２被動板の間に前記第１及び第２被動板をスウィングさせるための駆動板を含むことができる。
【００２６】
この場合、前記駆動部は前記工程チャンバーの外部に設置され、回転力を発生するモーター及び前記モーター及び前記駆動板と連結され、前記回転力を往復駆動力に転換してスウィング動作のために前記往復駆動力を前記駆動板に伝達する動力伝達部を更に含むことができる。
【００２７】
一方、前記基板処理装置は、前記第１及び第２供給配管のそれぞれと前記第１及び第２噴射配管のそれぞれの間に設置され、前記第１及び第２噴射配管のスウィング動作を可能にする。
【００２８】
前記した本発明の他の目的を達成するために、他の特徴による基板処理装置は、工程チャンバー、供給配管、第１噴射配管、第２噴射配管、駆動部、及びスウィング伝達部を含む。前記工程チャンバーは、基板を処理するための空間を提供する。前記供給配管は、前記工程チャンバーの外部から内部に互いに平行に延長され、外部からケミカルが供給される。前記第１及び第２噴射配管は、前記工程チャンバーの内部で前記供給配管と垂直に連結され、互いに平行に位置し、前記ケミカルを基板に噴射する多数の第１及び第２噴射ノズルを有する。前記駆動部は、前記第１噴射配管の一端部に前記第１噴射ノズルをスウィングさせるために駆動力を提供する。前記スウィング伝達部は前記第１噴射配管と前記第２噴射配管を連結し、前記駆動力による前記第１噴射配管のスウィング動作を前記第２噴射配管に伝達する。
【発明の効果】
【００２９】
このようなケミカル噴射装置及びこれを含む基板処理装置によると、同一線上に配置された２つの第１及び第２噴射配管の間でこれらがスウィング動作することができるように駆動力を提供することにより、前記第１及び第２噴射配管を一体型に形成して、その端部で前記のような駆動力を提供する場合よりスウィング動作がより安定に行われるようにすることができる。
【００３０】
又、前記第１及び第２噴射配管のように２つに分けて前記基板にケミカルを噴射することにより、最近、基板のサイズが大きくなる趨勢に対しても弾力的に対応することができる。結果的に、サイズが大きくなる前記基板に前記ケミカルを前記第１及び第２噴射配管を通じて安定的に均一に噴射することにより、前記基板の品質向上を期待することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の一実施例による基板処理装置を概略的に示す構成図である。
【図２】図１に図示された基板処理装置の駆動部が配置された位置を上部から見た図である。
【図３】図２の駆動部の駆動板が形成された位置を正面から見た図である。
【図４】図２の駆動部を側部から見た図である。
【図５】図２に図示された駆動部によってスウィングする第１噴射ノズルを示す図である。
【図６】本発明の他の実施例による基板処理装置を概略的に示す構成図である。
【図７】図６に図示された基板処理装置の駆動部が配置された位置を上部から見た図である。
【図８】図７に図示された駆動部の一実施例によるスウィング伝達部を示す図である。
【図９】図７に図示された駆動部の他の実施例によるスウィング伝達部を示す図である。
【図１０】図９のＡ部分の拡大図である。
【図１１】図７に図示された駆動部の更に他の実施例によるスウィング伝達部を示す図である。
【図１２】図１１のＢ部分の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下に添付図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。本発明は多様に変更することができ、多様な形態を有することができること、特定の実施形態を図面に例示して本文に詳細に説明する。しかし、これは、本発明を特定の開示形態に限定するのではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物、乃至代替物を含むことを理解すべきである。各図面を説明しながら類似の参照符号を類似の構成要素に対して付与した。図面において、構造物の寸法は本発明の明確性のために実際より拡大して示した。
第１、第２等の用語は、多様な構成要素を説明するために使用することができるが、構成要素は用語によって限定されない。用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的としてのみ使用される。例えば、本発明の権利範囲から逸脱することなしに、第１構成要素は第２構成要素と称されてもよく、同様に第２構成要素も第１構成要素に称されてもよい。単数の表現は、文脈上、明白に相違が示されない限り、複数の表現を含む。
本出願において、「含む」または「有する」等の用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品、又はこれらを組み合わせたものが存在することを意図するものであって、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品、又はこれらを組み合わせたもの等の存在または付加の可能性を予め排除しないことを理解しなければならない。
【００３３】
なお、異なるものとして定義しない限り、技術的であるか科学的な用語を含めてここで用いられる全ての用語は、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者によって一般的に理解されるものと同一の意味を有している。一般的に用いられる辞典に定義されているもののような用語は、関連技術の文脈上で有する意味と一致する意味を有することと解釈すべきであり、本出願で明白に定義されない限り、異常的であるか過度に形式的な意味に解釈されない。
【００３４】
図１は本発明の一実施例による基板処理装置を概略的に示す構成図で、図２は図１に図示された基板処理装置の駆動部が配置された位置を上部から見た図である。
図１及び図２を参照すると、本発明の一実施例による基板処理装置１０００は、工程チャンバー１００、移送部２００、第１供給配管３００、第２供給配管４００、及びケミカル噴射部５００を含む。
【００３５】
前記工程チャンバー１００は、ディスプレイ素子を製造するためのガラス材質の基板Ｇを対象として工程を処理するための空間を提供する。ここで、前記工程は、一例として、前記基板Ｇをエッチングするためのエッチング工程又は前記基板Ｇを洗浄するための洗浄工程でもよい。又、前記基板Ｇは、半導体素子を製造するための半導体材質の基板Ｇでもよい。
【００３６】
前記移送部２００は、前記工程チャンバー１００の内部に設置される。前記移送部２００は、前記基板Ｇを前記工程チャンバー１００の内部で連続的に移送する。前記移送部２００は、前記基板Ｇの幅に沿って互いに平行に配置された多数のローラー２１０を含むことができる。
【００３７】
ここで、前記基板Ｇを移送するための回転力は、エネルギー効率の側面で前記ローラー２１０のうち一部にのみ提供される。この際、前記回転力が提供される前記ローラー２１０の間の距離は、前記基板Ｇの移送方向に沿った長さより短いことが好ましい。
【００３８】
前記第１供給配管３００は、前記工程チャンバー１００の外部から内部に延長設置される。前記第１供給配管３００は、外部のケミカル供給部１０と連結される。これにより、前記第１供給配管３００にはケミカルＣが供給される。
【００３９】
ここで、前記ケミカルＣは、前記基板Ｇを対象としてエッチング工程又は洗浄工程を進行しようとする場合、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）、塩酸（ＨＣｌ）、フッ酸（ＨＦ）、過酸化水素溶液（Ｈ２Ｏ２）、脱イオン水（Ｈ２Ｏ）などを含むことができる。
【００４０】
前記第２供給配管４００は、前記第１供給配管３００と互いに平行に前記工程チャンバー１００の外部から内部に設置される。これに、前記第１及び第２供給配管３００、４００は、前記工程チャンバー１００の入口及び出口にそれぞれ隣接するように設置されることができる。これは、前記工程チャンバー１００で前記ケミカルＣが噴射されることができる領域を最大に確保するためである。
【００４１】
このような前記第２供給配管４００も前記第１供給配管３００と同様に、前記ケミカル供給部１０と連結され前記ケミカルＣの供給を受ける。
前記ケミカル噴射部５００は、前記第１及び第２供給配管３００、４００にそれぞれ連結された第１及び第２噴射配管５１０、５２０と前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０をスウィングさせるための駆動力を提供する駆動部５３０を含む。
【００４２】
以下、前記ケミカル噴射部５００は、図３、図４、及び図５を追加的に参照してより詳細に説明する。
図３は、図２の駆動部の駆動板が形成された位置を正面から見た図で、図４は、図２の駆動部を側部から見た図で、図５は、図２に図示された駆動部によってスウィングする第１噴射ノズルを示す図である。
【００４３】
図３、図４、及び図５を追加的に参照すると、前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０は同一線上に位置するようにそれぞれ前記第１及び第２供給配管３００、４００から連結される。
【００４４】
前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０のそれぞれは、前記基板Ｇのサイズによって前記第１及び第２供給配管３００、４００のそれぞれに多数が互いに平行に連結される。
これに、前記ケミカル噴射部５００は、前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０と前記第１及び第２供給配管３００、４００の間にこれらを連結するカプラー５７０を更に含む。前記カプラー５７０は、前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０に前記ケミカルＣが供給されるようにしながら前記駆動部５３０による前記第１及び第２噴射配管５２２のスウィング動作が可能であるように構成される。
【００４５】
前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０のそれぞれは、前記第１及び第２供給配管３００、４００から供給を受けた前記ケミカルＣを前記基板Ｇに直接的に噴射するために長手方向に沿って形成された第１及び第２噴射ノズル５１２、５２２を含む。
【００４６】
前記第１及び第２噴射ノズル５１２、５２２は、前記基板Ｇの方向に突出され所定の噴射角を有する形状に形成されることができる。これと異なり、前記第１及び第２噴射ノズル５２２は単純なホール形状に形成されることもできる。
【００４７】
前記駆動部５３０は、前記工程チャンバー１００の外部から前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０の間に延長される。これに、前記駆動部５３０は、前記工程チャンバー１００の外部に設置され回転力をモーター５４０、前記モーター５４０と連結され前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０の間に延長された動力伝達部５５０、及び前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０の間で前記動力伝達部５５０と連結され前記モーター５４０の回転力にスウィング動作する駆動板５６０を含む。ここで、前記駆動板５６０は、前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０のそれぞれに対応して多数が設置される。
【００４８】
前記動力伝達部５５０は、前記モーター５４２の中心軸と連結され回転する偏心ホイール５５２及び前記偏心ホイール５５２の偏心部位と前記駆動板５６０のそれぞれの偏心部位をリンク連結するリンク連結部５５４を含む。
【００４９】
前記リンク連結部５５４は、前記偏心ホイール５５２の偏心部位に連結された第１ロッド５５５、前記駆動板５６０のそれぞれの偏心部位を一括的に連結する第２ロッド５５６、及び前記第１及び第２ロッド５５５、５５６の間をリンク連結するリンク部５５７を含む。ここで、前記第１及び第２ロッド５５５、５５６のそれぞれの連結は、ボルトのような部材で前記偏心ホイール５５２と前記駆動板５６０に結合されることができる。
【００５０】
これにより、前記偏心ホイール５５２の回転力は、前記第１ロッド５５５と連結された前記リンク部５５７によって連結された前記第２ロッド５５６によって往復駆動力に転換される。結局、前記第２ロッド５５６と連結された前記駆動板５６０は、前記往復駆動力によってスウィング動作をすることになる。
【００５１】
一方、前記ケミカル噴射部５００は、前記工程チャンバー１００の内部で実質的な駆動が行われる前記動力伝達部５５０及び前記駆動板５６０を収容して外部から保護するためのハウジング５８０を更に含む。
【００５２】
即ち、前記ハウジング５８０は、前記動力伝達部５５０及び前記駆動板５６０の駆動によって前記基板Ｇが処理される空間が汚染されることを防止する。又、前記ハウジング５８０は、前記カバー５８２と下部カバー５８４に区分して前記動力伝達部５５０及び前記駆動板５６０の設置又は維持補修を容易にすることができる。
【００５３】
又、前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０のそれぞれには、前記駆動板５６０のそれぞれと向き合う端部に第１及び第２被動板５１４、５２４が設置される。前記第１及び第２被動板５１４、５２４は、前記駆動板５６０からスウィング動作が伝達される。
【００５４】
一方、前記駆動板５６０は、これと連結された前記リンク連結部５５４の第２ロッド５５６によって前記第１及び第２被動板５１４、５２４に同時に前記スウィング動作を効率的に印加するのに困難性があり得る。これに、前記駆動板５６０は第１及び第２駆動板５６２、５６４を含む。
【００５５】
前記第１駆動板５６２は、前記第１被動板５１４と向き合う位置に設置され前記動力伝達部５５０のうち前記リンク連結部５５４の第２ロッド５５６と連結された構造を有する。即ち、前記第１駆動板５６２は、前記モーター５４０の回転力によってスウィング動作することになる。
【００５６】
前記第２駆動板５６４は、前記第２被動板５２４と向き合う位置に設置される。前記第２駆動板５６４は、前記第１駆動板５６２と中心が同じである中心軸によって連結される。これにより、前記第２駆動板５６４は前記第１駆動板５６２のスウィング動作がそのまま伝達される。
【００５７】
これに、前記第１及び第２駆動板５６２、５６４のそれぞれと前記第１及び第２被動板５１４、５２４の間には、前記ハウジング５８０の側壁が位置する。即ち、前記第１及び第２駆動板５６２、５６４のスウィング動作が前記第１及び第２被動板５１４、５２４に直接的に伝達されるのが不可能なので、干渉的な伝達が可能な磁気力を用いることができる。
【００５８】
即ち、前記第１及び第２駆動板５６２、５６４と前記第１及び第２被動板５１４、５２４のそれぞれにはこれらの回転中心周囲に第１及び第２マグネティック５６３、５６５と第３及び第４マグネティック５１５、５２５が形成される。
【００５９】
このように、前記モーター５４０から発生された回転力によってスウィング動作する前記第１及び第２駆動板５６２、５６４を用いて前記第１及び第２被動板５１４、５２４が前記のようにスウィング動作するようにすることにより、前記第１及び第２被動板５１４、５２４が設置された前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０もスウィングすることになり、結局、前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０に形成された前記第１及び第２噴射ノズル５２２もスウィングすることになる。これにより、前記第１及び第２噴射ノズル５２２はスウィング動作しながら前記ケミカルＣを前記基板Ｇに均一に噴射することができる。
【００６０】
又、同一線上に配置された２つの前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０の間でこれらがスウィング動作をすることができるように駆動力を提供することにより、前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０を一体型に形成してその端部で前記のような駆動力を提供する場合よりスウィング動作がより安定に行われるようにすることができる。
【００６１】
一方、前記第１及び第２噴射配管５１０，５２０のように２つに分けて前記基板Ｇに前記ケミカルＣを噴射することにより、最近、前記基板Ｇのサイズが大きくなる趨勢に対しても弾力的に対応することができる。
【００６２】
結果的に、サイズが大きくなる前記基板Ｇに前記ケミカルＣを前記第１及び第２噴射配管５１０、５２０を通じて安定的に均一に噴射することにより、前記基板Ｇの品質向上を期待することができる。
【００６３】
図６は、本発明の他の実施例による基板処理装置を概略的に示す構成図で、図７は、図６に図示された基板処理装置の駆動部が配置された位置を上部から見た図である。
本実施例では第１及び第２噴射配管をスウィングさせるための構成を除いては、図１乃至図５に図示された構成と同じなので、同じ構成には同じ参照番号を付与し、その重複説明は省略する。
【００６４】
図６及び図７を参照すると、本発明の他の実施例による基板処理装置１１００は、工程チャンバー１００、移送部２００、第１供給配管３００、第２供給配管４００、及びケミカル噴射部６００を含む。
【００６５】
前記工程チャンバー１００は、基板Ｇを処理するための空間を提供する。前記移送部２００は、前記工程チャンバー１００の内部で基板Ｇを移送させる。前記第１及び第２供給配管３００、４００は互いに平行に設置され外部のケミカル供給部１０からケミカルＣの供給を受ける。
【００６６】
前記ケミカル噴射部６００は、前記第１及び第２供給配管３００、４００にそれぞれカプラー６８０によって連結され、互いに平行に設置された少なくとも２つ以上の配管を具備する第１側噴射配管グループ６１０及び第２側噴射配管グループ６４０と前記第１側噴射配管グループ６１０及び前記第２側噴射配管グループ６４０のうちいずれか１グループに駆動力を提供する駆動部６７０を含む。
【００６７】
以下、前記第１側及び第２側噴射配管グループ６１０、６４０のうち前記駆動部６７０によって駆動力が提供される噴射配管を第１及び第２噴射配管６２０、６５０にそれぞれ定義し、駆動力が提供されない噴射配管をそれぞれ第３及び第４噴射配管６３０、６６０で定義する。
【００６８】
前記第１及び第２噴射配管６２０、６５０と前記第３及び第４噴射配管６３０、６６０はそれぞれ同一線上に設置される。前記第１、第２、第３、及び第４噴射配管６２０、６５０、６３０、６６０にはそれぞれ前記ケミカルＣを前記基板Ｇに直接的に噴射するための第１、第２、第３、及び第４噴射ノズル６２２、６５２、６３２、６６２が形成される。
【００６９】
前記駆動部６７０は、前記工程チャンバー１００の外部から前記第１及び第２噴射配管６２０、６５０の間に延長される。これに、前記駆動部６７０は、前記工程チャンバー１００の外部で回転力を発生するモーター６７２、前記モーター６７２から前記第１及び第２噴射配管６２０、６５０の間に延長され前記回転力から転換された往復駆動力を伝達する動力伝達部６７４、及び前記第１及び第２噴射配管６２０、６５０の間で前記動力伝達部６７４と連結され前記往復駆動力からスウィング動作が発生する多数の駆動板６７６を含む。
【００７０】
前記動力伝達部６７４は、前記モーター６７３とリンク連結され前記回転力を前記往復駆動力に転換するリンク連結部６７５を含む。これに、前記駆動板６７６は、前記リンク連結部６７５が偏心部位に連結されることにより、前記リンク連結部６７５の往復駆動力によってスウィング動作することになる。
【００７１】
一方、前記ケミカル噴射部６００は、前記動力伝達部６７４及び前記駆動板６７６を収容して周囲から保護するためのハウジング６８５を更に含む。
前記第１及び第２噴射配管６２０、６５０のそれぞれは、前記駆動板６７６と向き合う端部に前記駆動板６７６からスウィング動作が誘導される第１及び第２被動板６２４、６５４を含む。
【００７２】
前記第１及び第２被動板６２４、６５４は、前記駆動板６７６との間に位置する前記ハウジング６８５の側壁によって前記スウィング動作の直接的な誘導が不可能なので、磁気力を用いる。この場合、前記駆動板６７６と前記第１及び第２被動板６２４、６５４のそれぞれには多数のマグネティックが形成されることができる。
【００７３】
このような構成において、前記ケミカル噴射部６００は、前記第１及び第２噴射配管６２０、６５０に誘導された前記スウィング動作を前記第３及び第４噴射配管６３０、６６０に伝達するためのスウィング伝達部６９０を更に含む。
【００７４】
前記スウィング伝達部６９０は、前記第１及び第３噴射配管６２０、６３０と前記第２及び第４噴射配管６５０、６６０をそれぞれ連結する構造を有する。
以下、前記スウィング伝達部６９０は、前記第１及び第３噴射配管６２０、６３０を連結する構成と前記第２及び第４噴射配管６５０、６６０を連結する構成が同じなので、前記第１及び第３噴射配管６２０、６３０を連結する構成を代表して説明する。
【００７５】
図８は、図７に図示された駆動部の一実施例によるスウィング伝達部を示す図である。
図８を追加的に参照すると、前記第１及び第３噴射配管６２０、６３０に形成された第１及び第３噴射ノズル６２２、６３２が第１及び第３配管本体６２６、６３６から前記基板Ｇ方向に突出され所定の噴射角を有するノズル形態に形成される。これに、前記スウィング伝達部６９０は、前記第１及び第３噴射ノズル６２２、６３２のそれぞれをリンク連結する構造を有する。
【００７６】
即ち、前記スウィング伝達部６９０は、前記第１噴射ノズル６２２が前記第１噴射配管６２０から誘導されたスウィング動作によってスウィングする時、これを直接的に前記第３噴射ノズル６３２に伝達して前記第３噴射ノズル６３２も前記第１噴射ノズル６２２と同時にスウィングするようにする。
【００７７】
この際、前記スウィング伝達部６９０は、前記第１及び第３噴射ノズル６２２、６３２を全部リンク連結することもでき、前記駆動部６７０から提供される駆動力が充分であれば、前記第１及び第３噴射ノズル６２２、６３２のうち一部のみリンク連結することもできる。
【００７８】
このように、前記駆動部６７０から駆動力を前記第１及び第２噴射配管６２０、６５０にのみ提供してこれらをスウィング動作させ、以後、前記第１及び第２噴射配管６２０、６５０のスウィング動作を周囲の前記第３及び第４噴射配管６３０、６６０に前記スウィング伝達部６９０を通じて伝達することにより、前記駆動部６７０のうち前記動力伝達部６７４と前記駆動板６７６の構成を簡素化させることができる。又、前記動力伝達部６７４と前記駆動板６７６の構成簡素化を通じてこれらをカバーする前記ハウジング６８５のサイズに縮小させることができる。
【００７９】
以下、他の実施例による前記スウィング伝達部を図９及び図１０を追加的に参照して説明する。
図９は、図７に図示された駆動部の更に他の実施例によるスウィング伝達部を示す図で、図１０は、図９のＡ部分の拡大図である。
【００８０】
本実施例では、スウィング伝達部の構成を除いては、図６乃至図８に図示された構成と同じなので、同じ構成については同じ参照番号を使用し、その重複される詳細な説明は省略する。
【００８１】
図９及び図１０を追加的に参照すると、ケミカル噴射部７５０の第１及び第３噴射配管７６０、７７０の第１及び第３噴射ノズル７６２、７７２は、第１及び第３配管本体７６４、７７４から前記基板Ｇ方向に突出されるか、ホール形態に形成される。ここで、前記第１配管本体７６４の端部には前記第１被動板７６６が設置される。
【００８２】
これに、前記スウィング伝達部７８０は、駆動ギア７８２及び被動ギア７８４を含む。前記駆動ギア７８２は前記第１配管本体７６４に結合される。前記駆動ギア７８２は、前記第１被動板７６６のスウィング動作が前記第１配管本体７６４を通じてそのまま伝達される。前記駆動ギア７８２は円周面に沿って多数の第１ギア７８３が形成される。
【００８３】
前記被動ギア７８４は、前記第３配管本体７７４に結合されながら前記駆動ギア７８２と構造的に連結される。即ち、前記被動ギア７８４は、円周面に沿って前記駆動ギア７８２の第１ギア７８３と噛み合いが可能な第２ギア７８５が形成される。
【００８４】
これにより、前記被動ギア７８４は、前記駆動ギア７８２のスウィング動作をそのまま伝達受けて前記第３配管本体７７４を通じて前記第３噴射ノズル７７２をスウィングさせる。
【００８５】
このような前記駆動ギア７８２と前記被動ギア７８４は、一例として、スパーギア（ｓｐｕｒ  ｇｅａｒ）又はヘリカルギア（ｈｅｌｉｃａｌ  ｇｅａｒ）等で構成されることができる。
【００８６】
従って、前記第１噴射配管７６０のスウィング動作を前記駆動ギア７８２と前記被動ギア７８４で構成された前記スウィング伝達部７８０を通じて前記第３噴射配管７７０に簡単に伝達することができる。
【００８７】
以下、更に他の実施例による前記スウィング伝達部を図１１及び図１２を追加的に参照して説明する。
図１１は、図７に図示された駆動部の更に他の実施例によるスウィング伝達部を示す図で、図１２は、図１１のＢ部分の拡大図である。
【００８８】
本実施例ではスウィング伝達部の構成を除いては、図６乃至図８に図示された構成と同じなので、同じ構成には同じ参照番号を使用し、その重複される詳細な説明は省略する。
図１１及び図１２を追加的に参照すると、ケミカル噴射部７００の第１及び第３噴射配管７１０、７２０の第１及び第３噴射ノズル７１２、７２２は第１及び第３配管本体７１４、７２４から形成される。ここで、前記第１配管本体７１４の端部には前記第１被動板７１６が設置される。
【００８９】
前記スウィング伝達部７３０は、前記第１及び第３配管本体７１４、７２４のうち前記第１及び第３噴射ノズル７１２、７２２と反対側で前記第１及び第３配管本体７１４、７２４の一部と同時に接触する構造を有する。
【００９０】
即ち、前記スウィング伝達部７３０は細くて長く形成されたバー形態であり、前記第１及び第３配管本体７１４、７２４と接触する部位に第１ギア７３２が形成されたラックギアタイプに形成される。
【００９１】
これに、前記第１及び第３配管本体７１４、７２４にも前記スウィング伝達部７３０と接触する部位に前記第１ギア７３２と噛み合いが可能な第２及び第３ギア７１５、７２５が形成される。
【００９２】
ここで、前記第２及び第３ギア７１５、７２５は、通常的に前記ラックギアと同時に使用されるピニオンギアタイプに形成されることができる。この際、前記第２及び第３ギア７１５、７２５は、前記第１及び第３配管本体７１４、７２４に直接形成されることもでき、別途に製作して前記第１及び第３配管本体７１４、７２４に結合させることもできる。
【００９３】
従って、前記第１噴射配管７１０のスウィング動作を前記ラックギア及び前記ピニオンギアタイプを用いて前記スウィング伝達部７３０を通じて前記第３噴射配管７２０に簡単に伝達することができる。
【００９４】
又、前記ケミカル噴射部６００は、前記スウィング伝達部７３０の前記第１配管本体７１４のスウィング動作による動きをガイドするためのガイド部（図示せず）を更に含むことができる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
前述した本発明は、同一線上に配置された２つの第１及び第２噴射配管の間でこれらがスウィング動作をすることができるように駆動力を提供することにより、前記スウィング動作が安定になされるようにする装置に利用されることができる。
【００９６】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特徴請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【００９７】
Ｃ    ケミカル
Ｇ    基板
１００    工程チャンバー
２００    移送部
３００    第１供給配管
４００    第２供給配管
５００    ケミカル噴射部
５１０    第１噴射配管
５２０    第２噴射配管
５３０    駆動部
５４０    モーター
５５０    動力伝達部
５６０    駆動板
５７０    カプラー
５８０    ハウジング
１０００    基板処理装置
【図１】
0004906889.tif 000002
【図２】
0004906889.tif 000003
【図３】
0004906889.tif 000004
【図４】
0004906889.tif 000005
【図５】
0004906889.tif 000006
【図６】
0004906889.tif 000007
【図７】
0004906889.tif 000008
【図８】
0004906889.tif 000009
【図９】
0004906889.tif 000010
【図１０】
0004906889.tif 000011
【図１１】
0004906889.tif 000012
【図１２】
0004906889.tif 000013