(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも上下に移動する一対のビームで被処理物を被処理物載置部から持ち上げおよび被処理物載置部に下げて置くウォーキングビーム式搬送装置において、
前記ビームを上下移動させるモータと、前記ビームの上下位置を検出する位置検出手段と、位置検出手段により検出されたビームの上下位置に基づいてモータによるビームの上下移動速度を制御する制御手段とを備え、
位置検出手段は、第１〜第４遮光スイッチよりなり、ビームが上昇位置に達したことを第１遮光スイッチが検出し、前記ビームが下降位置に達したことを第２遮光スイッチが検出し、前記ビームが上昇位置および下降位置間における第１速度切換位置に達したことを第３遮光スイッチが検出し、前記ビームが上昇位置および下降位置間における第１速度切換位置下方の第２速度切換位置に達したことを第４遮光スイッチが検出し、
制御手段は、ビームの上昇ストロークにおいて、ビームを第２遮光スイッチが検出してから第４遮光スイッチが検出するまでの間は、ビームを高速で上昇させ、ビームを第４遮光スイッチが検出してから第３遮光スイッチが検出するまでの間は、ビームを低速で上昇させ、ビームの下降ストロークにおいて、ビームを第１遮光スイッチが検出してから第３遮光スイッチが検出するまでの間は、ビームを高速で下降させ、ビームを第３遮光スイッチが検出してから第４遮光スイッチが検出するまでの間は、ビームを低速で下降させるようにモータを制御し、
ビームの低速上昇のさいに、ビームが被処理物を載置部から持ち上げ、ビームの低速下降のさいに、ビームが被処理物を載置部に下げて置くようになされているウォーキングビーム式搬送装置。
【請求項２】
制御手段は、ビームの上昇ストロークにおいて、ビームを第３遮光スイッチが検出してから第１遮光スイッチが検出するまでの間は、ビームを高速で上昇させ、ビームの下降ストロークにおいて、ビームを第４遮光スイッチが検出してから第２遮光スイッチが検出するまでの間は、ビームを高速で下降させるようにモータを制御する請求項１に記載のウォーキングビーム式搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、炉などの連続熱処理装置に用いられる搬送装置に関する。特に、半導体基板、ＬＣＤパネルやプラズマディスプレーパネルなどのガラス基板やプリント配線基板などの板状被処理物の処理のためにクリーンルーム内などで用いられる炉などの処理装置用の搬送装置に関する。
【０００２】
なお、本明細書において前後左右は被処理物の移動方向を基準にいうものとする。
【０００３】
【従来の技術】
クリーンルーム内などで用いられる炉などの処理装置用の搬送装置は発塵が少ないことが要求される。このような要求を満たす搬送装置の１つとして、ウォーキングビーム式搬送装置がある。
【０００４】
ウォーキングビーム式搬送装置は、左右に間隔をおいて設けられかつ前後方向に伸びた一対の移動ビームと、移動ビーム間に左右に間隔をおいて配された一対の固定ビームとを備え、以下のようにして被処理物を搬送する。
【０００５】
まず、固定ビームより低い位置にある移動ビームが上方向に移動して固定ビーム上の載置位置にある被処理物を持ち上げる。ついで、持ち上げた被処理物が次の載置位置に達するまで移動ビームが前方に移動する。そして、移動ビームが下方に移動して被処理物が固定ビーム上の次の載置位置に載せられる。この後、移動ビームは後方へと移動する。
【０００６】
上記の一連動作が繰り返されて被処理物が順次固定ビーム上を順次前方の載置位置へと載せ替えられて搬送される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の反応装置においては、クリーンルーム内で処理される被処理物は、半導体基板やガラス基板であり、搬送中に破損する恐れがあるため、載置部から被処理物を上方に移動させる速度および被処理物を下方に移動させて載置部に載せる速度には一定の制限が生じる。すなわち、被処理物が破損する恐れが生じるほどには被処理物を上下方に移動させる速度を速くすることができない。このため、全体として搬送速度を速くすることが困難であるという問題がある。ところで、搬送速度は、被処理物の温度分布にも影響を及ぼす場合があるため、搬送速度を速くできないと、被処理物の温度分布を好ましい状態にすることが困難な場合もある。
【０００８】
本発明は上記問題を解決することを課題とし、被処理物の搬送速度を従来の装置に比して速くすることができ、被処理物の温度分布を好ましい状態にすることができる搬送装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
上記課題を解決するために本発明の搬送装置は、
少なくとも上下に移動する一対のビームで被処理物を被処理物載置部から持ち上げおよび被処理物載置部に下げて置くウォーキングビーム式搬送装置において、前記ビームの上下位置を検出する位置検出手段を備え、位置検出手段により検出されたビームの上下位置に基づいてビームの上下移動速度を制御する制御手段とを備え、ビームが被処理物を載置部から持ち上げるさいおよび載置部に下げて置くさいのビームの上下移動速度が遅くなるようになされている
ものである。
【００１０】
この装置によれば、被処理物を載置部から持ち上げるさいおよび被処理物を載置部に下げ置くさいの速度を遅くし、被処理物が載置部から離れているときの速度を速くして被処理物を上下方に移動させる速度が一定である場合に比し、被処理物を上下方に移動させる速度を速くすることができる。従って、被処理物の搬送速度の設定範囲が広くなり、被処理物の温度分布を好ましい状態にすることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の搬送装置の１実施形態について説明する。
【００１２】
図１には本発明の搬送装置を実施する搬送装置(2)を備えた連続炉(1)が示され、図２には後述する移動ビーム(4)の上下移動速度を制御するための位置検出手段および制御手段の概念が示されている。
【００１３】
ここで、搬送装置(2)は、左右に間隔をおいて設けられた一対の移動ビーム(4)と、移動ビーム(4)間に左右に間隔をおいて設けられた一対の固定ビーム(5)とを備えている。移動ビーム(4)の間隔および固定ビーム(5)の間隔は被処理物(P)の幅より小さく、被処理物(P)を載せることができるようになっている。
【００１４】
移動ビーム(4)の炉体から後方に突出した部分にはビーム(4)から下方に突出した前後スライド板(7)が取り付けられ、スライド板(7)に上下動板(6)が取り付けられている。
【００１５】
前後スライド板(7)は図示しないモータによって前後に駆動され、上下動板(6)に対して前後に移動し、移動ビーム(4)を前進位置と後進位置との間を移動させる。一方、上下動板(6)は、モータ(M)によって上下に駆動され、前後スライド板(7)および移動ビーム(4)を一体に上下に動かして移動ビーム(4)を固定ビーム(5)より上の上昇位置および固定ビーム(5)より下の下降位置の間を移動させるものである。モータ(M)によって上下動板(6)を駆動する機構およびモータによって前後スライド板(7)を駆動する機構は公知のものであり詳細な説明は省略する。
【００１６】
上下動板(6)には、これから後方に突出した遮光板(6a)が設けられている。また、４つの遮光スイッチ(S1)(S2)(S3)(S4)が、遮光板(6a)の上下動により光が遮られる位置に上下に間隔をおいて設けられている。
【００１７】
遮光スイッチ(S1)は移動ビーム(4)が上昇位置に達したことを検出するためのものであり、遮光スイッチ(S4)は移動ビーム(4)が下降位置に達したことを検出するためのものである。そして、両スイッチ(S1)(S4)間に２つのスイッチ(S2)(S3)が配されている。両スイッチ(S2)(S3)は以下のような位置に設けられる。すなわち、遮光板(6a)が２つのスイッチ(S2)(S3)間を動いている間に移動ビーム(4)が固定ビーム(5)から被処理物(P)を持ち上げるおよび固定ビーム(5)に被処理物(P)を下げ置くような位置に設けられる。
【００１８】
図２に示すようにスイッチ(S1)(S2)(S3)(S4)はプロクラムロジックコントローラ(PLC)に接続されている。そして、プロクラムロジックコントローラ(PLC)によって制御されるインバータ(INV)によりモータ(M)がインバータ駆動される。なお、プロクラムロジックコントローラ(PLC)によってインバータ(INV)を制御する構成及び遮光スイッチ(S1)(S2)(S3)(S4)の構成は公知のものであり、詳細な説明は省略する。
【００１９】
以下、移動ビーム(4)の動作について説明する。
【００２０】
移動ビーム(4)は、まず後退位置かつ上昇位置にある初期状態をとる。この状態の移動ビーム(4)に被処理物(P)が載せられる。
【００２１】
被処理物(P)が載せられた移動ビーム(4)は前進位置まで前進して停止する。ついで、移動ビーム(4)が下降する。移動ビーム(4)が下降して遮光板(6a)がスイッチ(S2)の光を遮ると、インバータ(I)によりモータ(M)に供給される電力が低くなって移動ビーム(4)の下降速度がそれまでより遅くなる。さらに移動ビーム(4)が下降して被処理物(P)が固定ビーム(5)に載せ替えられた後、遮光板(6a)がスイッチ(S3)の光を遮るとインバータ(I)によりモータ(M)に供給される電力が高くなって移動ビーム(4)の下降速度がそれまでより速くなる。
【００２２】
移動ビーム(4)が固定ビーム(5)より下方の下降位置まで下降すると移動ビーム(4)は後退位置まで後退する。
【００２３】
後退位置まで後退した移動ビーム(4)は、上昇位置まで上昇し初期状態を取る。この際、固定ビーム(5)上の被処理物(P)は移動ビーム(4)に載せ替えられて持ち上げられるが、遮光板(6a)がスイッチ(S2)(S3)間を移動している間の移動ビーム(4)の上昇速度は、その他の時の上昇速度に比して遅くなる。これは上記と同様に遮光スイッチ(S1)(S2)(S3)(S4)によって移動ビーム(4)の位置を検出し、この位置に基づきインバータ(I)からモータ(M)に供給される電力が変化することにより行われる。
【００２４】
上記搬送装置は、一方のビーム(4)が上下および前後に移動し、他方のビーム(5)が固定されたものであるが、本発明の搬送装置はこれに限られず、両方のビームが交互に移動して被処理物(P)が搬送されるものや、一方のビームが上下に移動し、他方のビームが前後に移動して被処理物(P)が搬送されるものも含まれる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ａは本発明の搬送装置を実施する搬送装置を備えた炉の縦断面図、ｂは同搬送装置の要部の横断面図である。
【図２】同搬送装置の速度制御手段の概念図である。
【符号の説明】
(1)               炉
(2)               搬送装置
(4)               移動ビーム
(5)               固定ビーム
(I)               制御手段（インバータ）
(P)               被処理物
(S1)(S2)(S3)(S4)  位置検出手段（遮光スイッチ）
【図１】
0004922495.tif 000002
【図２】
0004922495.tif 000003