(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチビーム走査方式の光走査装置であって、
複数のレーザ発光源を配置してなる面発光型レーザ光源と、
この面発光型レーザ光源の各レーザ発光源から放射される直線偏光状態のレーザ光の光束形態を以後の光学系に適した形態に変換する第１光学系と、
偏向反射面を有し、上記第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束を、上記偏向反射面により反射させて偏向する偏向手段と、
上記第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束を、上記偏向反射面近傍に、副走査方向に相互に分離した主走査方向に長い線像として結像させる第２光学系と、
上記偏向手段により偏向された複数の偏向レーザ光束を被走査面上に、副走査方向に相互に分離した複数の光スポットとして集光する第３光学系と、
上記面発光型レーザ光源と上記第１光学系との間に配置された平行平板状の１／４波長板と、
上記第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束を光量分離し、分離したレーザ光束を光量検知光束として検知する光量検知手段と、
この光量検知手段の検知結果に基づき、面発光型レーザ光源における複数のレーザ発光源の発光強度を個別に調整する光量調整手段と、
上記第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束のビーム整形を行うアパーチャと、を有し、
上記１／４波長板の光学軸が、第１光学系の光軸の回りに、主走査方向に対して±４５度となるように、上記１／４波長板の配置態位が定められ、
上記アパーチャの開口径を主走査方向についてＡｙ、副走査方向についてＡｚとするとき、上記１／４波長板が、
Ａｙ＞Ａｚのときは、第１光学系の光軸に直交する面に対して副走査方向に傾けられ、
Ａｙ＜Ａｚのときは、第１光学系の光軸に直交する面に対して主走査方向に傾けられて配置されることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
請求項１記載の光走査装置を複数組有し、各組の主走査領域が、副走査方向に互いに平行に重複する配列となるように構成されたタンデム型の光走査装置。
【請求項３】
請求項２記載の光走査装置において、
複数組の光走査装置は、光偏向手段としてのポリゴンミラーを共用するように構成されたことを特徴とするタンデム型の光走査装置。
【請求項４】
光導電性の感光体に対して光走査により画像書込みを行って静電潜像を形成し、形成された静電潜像をトナー画像として可視化する画像形成装置であって、  
光走査装置として、請求項１〜３の任意の１に記載のものを用いることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は光走査装置および画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光走査による画像形成はデジタル複写装置やレーザプリンタ等、各種の画像形成装置として広く実施されている。光走査による画像形成の高速化を実現できる光走査方式としてマルチビーム走査方式が知られ、この走査方式に適したレーザ光源として、近来、面発光型レーザ光源（以下「ＶＣＳＥＬ」と称する。）の使用が意図されている。  
従来からマルチビーム走査方式のレーザ光源として知られた「端面発光型の半導体レーザアレイ」や、端面発光型の半導体レーザを複数個用い「ビーム合成プリズムを用いてビーム合成」するものでは、同時に使用できるレーザ発光源の数は高々数個程度である。  
これに対し、ＶＣＳＥＬは、複数のレーザ光が放出される同一面内に「数十〜数百のレーザ発光源」を配列でき、同時に数十〜数百の走査線を光走査することができ、マルチビーム走査の利点である画像形成の高速性を十分に生かすことができる。
【０００３】
しかしながら、ＶＣＳＥＬをレーザ光源として用いる場合に、以下の如き問題がある。
【０００４】
即ち、ＶＣＳＥＬから放射されるレーザ光は「直線偏光」状態であるが、同一ＶＣＳＥＬに複数のレーザ発光源を配置した場合、各レーザ発光源から放射されるレーザ光の偏光方向を揃えることが困難であり、偏光方向の揃った複数レーザ光を得ることが難しい。
【０００５】
また、ＶＣＳＥＬから放射されるレーザ光の偏光方向は経時的に変動することも知られており、かりに、偏光方向の揃った複数レーザ光を実現できたとしても、時間の経過とともに各レーザ光の偏光方向にばらつきが発生してしまう。
【０００６】
周知の如く、直線偏光状態にある光の反射率は「反射角により大きく変化」する。  
このため、レーザ光を偏向させるポリゴンミラーの偏向反射面への入射角変化や、ｆθレンズのレンズ面等への入射角変化に従い「被走査面に到達するレーザ光の光量」が変動する。このような「被走査面に到達するレーザ光の光量変動」の補正は従来から「シェーディング」補正として知られている。
【０００７】
直線偏光状態にある光の反射率の「反射角による変化」は、反射面に対するＰ偏光成分とＳ偏光成分とで異なるところから、従来から知られたシェーディング補正として、レーザ光源から放射されたレーザ光が、偏向反射面に入射する以前に、偏光状態を「円偏向もしくは楕円偏向」に変更することが知られている。
【０００８】
また、端面発光型の半導体レーザとは異なり、ＶＣＳＥＬはレーザ光が発光面からのみ放射される。このため発光光量の制御を行うためには、放射されたレーザ光の一部を分離して光量制御用のセンサに導光し、センサの出力に応じて発光量を制御する必要がある。
【０００９】
レーザ光の分離には一般に半透鏡が用いられるため、偏光方向の変動により半透鏡での反射率が変化すると、反射率変化による変化に応じた発光光量の制御が行われてしまうため、シェーディング補正にも狂いが生じることになる。  
このような点を考慮した光走査装置そして特許文献１記載のものが知られている。
【００１０】
【特許文献１】特開２００５―１５６９３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
この発明は、ＶＣＳＥＬを用いるマルチビーム走査方式において、発光光量制御とシェーディング補正とを良好に行いうる新規な光走査装置および、この光走査装置を用いる画像形成装置の実現を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この発明の光走査装置はマルチビーム走査方式の光走査装置であって、面発光型レーザ光源（ＶＣＳＥＬ）と、第１〜第３光学系と、偏向手段と、１／４波長板と、光量検知手段および光量調整手段とを有する。
【００１３】
「ＶＣＳＥＬ」は、複数のレーザ発光源を配置してなる。  
レーザ発光源は、その一つ一つからレーザ光を放射させる発光構造であり、ＶＣＳＥＬの同一面に１次元状もしくは２次元状に配置される。放射されるレーザ光は勿論「直線偏光状態」である。  
レーザ発光源の配置形態や配置数は、マルチビーム走査方式により同時に光走査される走査線の間隔や走査線により決定される。
【００１４】
「第１光学系」は、面発光型レーザ光源の各レーザ発光源から放射される直線偏光状態のレーザ光束の光束形態を以後の光学系に適した形態に変換する。  
「以後の光学系に適した光束形態」は、例えば「平行光束や弱い発散性、弱い集束性の光束」である。従って、第１光学系はコリメートレンズあるいは正の屈折力を持つレンズであることができる。
【００１５】
「偏向手段」は、偏向反射面を有し、第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束を、偏向反射面により反射させて偏向する手段であり、具体的には「ポリゴンミラー」や、回転単面鏡、回転２面鏡を用いることができる。
【００１６】
「第２光学系」は、第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束を、偏向反射面近傍に「副走査方向に相互に分離した主走査方向に長い線像」として結像させる機能を持つ光学系であり、例えば、副走査方向に正のパワーを持つ「シリンドリカルレンズやシリンドリカルミラー」を用いることができる。
【００１７】
「第３光学系」は、偏向手段により偏向された複数の偏向レーザ光束を、被走査面上に「副走査方向に相互に分離した複数の光スポット」として集光する機能を持つ光学系であり「ｆθ機能」を有するｆθレンズであることが好ましい。  
マルチビーム走査方式の光走査は上記「複数の光スポット」により行われる。
【００１８】
複数のレーザ光束は、第２光学系の作用により偏向反射面近傍に「主走査方向に長い線像」として結像しているので、偏向された複数のレーザ光束を被走査面上に光スポットとして集光する第３光学系は「主走査方向と副走査方向とのパワーが異なるアナモルフィックな光学系」であり、第２光学系と第３光学系とは協同して偏向手段における面倒れを補正する機能を有する。
【００１９】
「光量検知手段」は、第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束を光量分離し、分離したレーザ光束を光量検知光束として検知する。  
即ち、光量検知手段は、複数のレーザ光束の各々における一部を「光量検知用光束として分離」する分離光学素子と、分離された光量検知用光束を受光するセンサ（受光素子）と、光量検知用光束をセンサに導光する導光手段により構成される。
【００２０】
センサは複数の光束を個別に受光できるものである。  
導光手段は、導光光路を屈折するミラーを有することができるが、個々の光量検知用光束をセンサに個別的に集光させるレンズを有することが好ましい。
【００２１】
「光量調整手段」は、光量検知手段の検知結果に基づき、面発光型レーザ光源における複数のレーザ発光源の発光強度を個別に調整する手段である。  
上記導光手段、センサおよび光量調整手段としては、例えば、特許文献１に記載された公知のものを適宜利用できる。
【００２２】
「１／４波長板」は、ＶＣＳＥＬと第１光学系との間に配置され、形態としては「平行平板状」である。  
そして、１／４波長板は、その光学軸が「第１光学系の光軸の回りに、主走査方向に対して±４５度となる」ように配置態位が定められている。  
１／４波長板はＶＣＳＥＬと第１光学系との間に配置されるので、ＶＣＳＥＬから放射される複数のレーザ光束は何れも「発散状態」で１／４波長板に入射する。  
１／４波長板は複屈折性のものであり、これに直交する直線偏光状態の光（レーザ光）に対して位相差：９０度を付与する。
【００２３】
請求項１記載の光走査装置における１／４波長板は「第１光学系の光軸に直交する平面に対して傾けて配置」される。このようにすることにより、ＶＣＳＥＬから放射されて１／４波長板により反射されたレーザ光が、ＶＣＳＥＬのレーザ発光源に戻り、ＶＣＳＥＬの発光に影響することを有効に軽減もしくは防止することができる。
請求項１記載の光走査装置はまた、第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束のビーム整形を行うアパーチャを有する。 
「アパーチャの開口径」を主走査方向についてＡｙ、副走査方向についてＡｚとするとき、１／４波長板は、Ａｙ＞Ａｚのときは「第１光学系の光軸に直交する面に対して副走査方向」に傾け、Ａｙ＜Ａｚのときは「第１光学系の光軸に直交する面に対して主走査方向」に傾けて配置される。    
【００２４】
１／４波長板を「「第１光学系の光軸に直交する面に対して主（副）走査方向に傾ける」とは、副（主）走査方向に平行な軸の回りに回転させて傾けることを意味する。  
なお、請求項１の光走査装置の何れにおいても、少なくともＶＣＳＥＬと１／４波長板と第１光学系、あるいはこれらとアパーチャ、さらには、光量検知手段、光量調整手段とは、同一のケーシングあるいはハウジングに、相互の位置関係を調整して一体的に組み付けてユニット化しておくことが好ましい。
【００２５】
上記請求項１記載の光走査装置は、同一構成のものを複数組用い、これらを「各組の主走査領域が、副走査方向に互いに平行に重複する配列」となるように構成して「タンデム型の光走査装置」とすることができる（請求項２）。
【００２６】
このタンデム型の光走査装置は、複数組の光走査装置が「光偏向手段としてのポリゴンミラーを共用する」ように構成することができる（請求項３）。即ち、この場合には、複数組の光走査装置はそれぞれ「ＶＣＳＥＬ、第１光学系〜第３光学系、光量検知手段、光量調整手段、１／４波長板」を個別に有するが、偏向手段としてのポリゴンミラーは、複数の光走査装置に共通化されるのである。
【００２７】
この発明の画像形成装置は「光導電性の感光体に対して光走査により画像書込みを行って静電潜像を形成し、形成された静電潜像をトナー画像として可視化する画像形成装置」であって、光走査装置として、請求項１〜３の任意の１に記載のものを用いることを特徴とする（請求項４）。
【００２８】
説明を補足すると、上記の如く、この発明の光走査装置では、１／４波長板はＶＣＳＥＬと第１光学系との間に配置され、複数のレーザ光は、発散状態で１／４波長板に入射する。  
従って、１／４波長板の「位相差を与える厚さ」を透過する透過長さは、各レーザ光における１／４波長板への入射角により異なり、１／４波長板を透過したレーザ光の偏光状態は、円偏向状態、楕円偏向状態、場合によってはさらに直線偏光状態が混在した状態となる。
【００２９】
１／４波長板は上記の如く、その光学軸が「第１光学系の光軸の回りに、主走査方向に対して±４５度となる」ように配置態位が定められているので、入射するレーザ光の偏光方向がどのような向きでも、例えば±９０°の範囲で変動しても、１／４波長板を透過したレーザ光の偏光成分は、円偏光、楕円偏光、直線偏光の何れの偏光状態でも、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分が略１：１となる。
【００３０】
即ち、１／４波長板を透過したレーザ光束のＰ偏光成分とＳ偏光成分とが実質的に等しくなるので、これらレーザ光束の一部を光量分離して光量検知を行い、検知光量を所定量に制御することにより良好な光量制御を行なうことができ、また、良好なシェーディング補正を実現できる。
【発明の効果】
【００３１】
以上に説明したように、この発明によれば新規な光走査装置および画像形成装置を実現できる。この発明の光走査装置は、上記の如き構成であるので、光源として用いられるＶＣＳＥＬから放射されるレーザ光の偏光状態やその時間的変化に拘わらず、シェーディング補正を良好に行なうことができ、従って、今光走査装置を用いる画像形成装置は良好にシェーディング補正された光走査により良好な画像を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、実施の形態を説明する。  
図１に光走査装置の光学配置の１例を示す。  
図１（ａ）は、光源側ユニット１から、被走査面１１に至る光路を構成する光学系を、１平面内に仮想的に展開して示している。  
光源側ユニット１は、上に説明した、ＶＣＳＥＬと、第１光学系、１／４波長板、光量検知手段、光量調整手段、ビーム整形用のアパーチャを有し、これらをケーシング内に位置関係を調整して組み込み、ユニット化してなる。  
図１（ｂ）はＶＣＳＥＬ１Ａを説明図的に示している。ＶＣＳＥＬ１Ａは発光面に、図の如く複数のレーザ発光源１Ａ１１，・・・１Ａｉｊ，・・がアレイ配列されて、各レーザ発光源から発散性のレーザ光が放射されるようになっている。なお、図１（ｂ）に図示されていないが、ＶＣＳＥＬ１Ａには、個々のレーザ発光部１Ａｉｊを駆動する駆動回路が含まれている。
【００３３】
従って、光源側ユニット１からは「ＶＣＳＥＬから放射された複数のレーザ光が１／４波長板を透過してＰ偏光成分とＳ偏光成分の割合を１：１とされ、第１光学系により適宜の光束形態に変換され、ビーム整形された後、光量検知手段により光量分離されたレーザ光」として射出する。
【００３４】
そして、光量検知手段により検知される光量に応じて、ＶＣＳＥＬの各レーザ発光源の発光量が光量調整手段により適正に制御される。
【００３５】
説明の具体性のために、第１光学系の作用は「コリメート作用」であるとする。従って光源側ユニット１から放射される複数のレーザ光束は何れも平行光束である。また、これら複数のレーザ光束は第１光学系の像側焦点面位置において互いに交差するが、ビーム整形用のアパーチャは、複数レーザ光束が交差する上記「像側焦点面」に合致して配置され、複数レーザ光束を同時にビーム整形する。
【００３６】
図１（ａ）に示すように、光源側ユニット１から放射された複数のレーザ光束は、第２光学系であるシリンドリカルレンズ５により副走査方向（図面に直交する方向）に集束傾向を与えられ、偏向手段であるポリゴンミラー７の偏向反射面近傍に「相互に副走査方向に分離し、主走査方向に長い線像」として結像する。ポリゴンミラー７は、この実施の形態例においては偏向反射面を４面もつものである。
【００３７】
ポリゴンミラー７の偏向反射面により反射された各レーザ光束は「第３光学系」を構成するレンズ８、１０の作用により被走査面１１上にビームスポットとして集光する。レンズ８、１０はガラスまたは樹脂で形成することができる。
【００３８】
被走査面１１上に集光する複数のビームスポットは、第１〜第３光学系による「ＶＣＳＥＬ１Ａのレーザ発光源１Ａｉｊの像」であり、主・副走査方向に分離し、ポリゴンミラー７の等速回転により、複数走査ラインを同時にマルチビーム走査する。
【００３９】
レンズ８、１０により構成される「第３光学系」は機能的には所謂「ｆθレンズ」であり、ポリゴンミラー７の等速回転に伴い、等角速度的に偏向する各レーザ光束のビームスポットの被走査面１１上での変位を等速化する機能を有している。  
レンズ８、１０による第３光学系はまた、ポリゴンミラー７の偏向反射面位置と被走査面１１の位置とを「副走査方向に関して共役な関係」としており、副走査方向に関しては前記「主走査方向に長い線像」が第３光学系の物点となるので、ポリゴンミラー７の「面倒れ」が補正されるようになっている。なお、説明中の例では、第３光学系を構成する２枚のレンズ８、１０は共に樹脂製である。
【００４０】
図１における被走査面１１は実体としては「光導電性の感光体の感光面」である。  
図２は、図１（ａ）の構成の光走査装置を組合せた「タンデム式の光走査装置」の光学系部分を、副走査方向、即ち、偏向手段であるポリゴンミラー７の回転軸方向から見た状態を示している。図示の簡単のため、ポリゴンミラー７から光走査位置である各被走査面に至る光路上における光路屈曲用のミラーの図示を省略し、光路が平面上にあるように描いた。
【００４１】
この光走査装置では、４つの被走査面１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋをそれぞれ光ビームで光走査する。４つの被走査面１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋの実体は「光導電性の感光体ドラムの感光面」であり、これら４個の感光体ドラムに形成される静電潜像をマゼンタ、イエロー、シアン、黒のトナーで個別に可視化し、得られる４色のトナー画像を重ね合わせてカラー画像を形成する。従って、以下において被走査面と、その実体をなす感光体ドラムには共通の符号を付する。
【００４２】
図２において、符号１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋは「光源側ユニット」を示す。光源側ユニット１Ｙ、１Ｍは、図面に直交する方向である副走査方向に重なりあうように配置されている。光源側ユニット１ＭのＶＣＳＥＬの各レーザ発光源は「マゼンタ画像に対応する画像信号」により強度変調され、光源側ユニット１ＹのＶＣＳＥＬの各レーザ発光源は「イエロー画像に対応する画像信号」により強度変調される。
【００４３】
同様に、光源側ユニット１Ｃ、１Ｋも副走査方向に重なりあうように配置され、光源側ユニット１ＣのＶＣＳＥＬの各レーザ発光源は「シアン画像に対応する画像信号」により強度変調され、光源側ユニット１ＫのＶＣＳＥＬの各レーザ発光源は「黒画像に対応する画像信号」により強度変調される。
【００４４】
光源側ユニット１Ｙ、１ＭのＶＣＳＥＬの個々のレーザ発光源から放射されたレーザ光は、１／４波長板を透過し、第１光学系のコリメート作用により平行光束化され、アパーチャによりビーム整形され、光量分離されてこれら光源側ユニットから放射される。
【００４５】
これらのレーザ光束は、第２光学系であるシリンダレンズ５Ｙ、５Ｍ（副走査方向に重なり合うように配置されている。）により、それぞれ副走査方向へ集光されて偏向手段としてのポリゴンミラー７に入射する。
【００４６】
シリンダレンズ５Ｙ、５Ｍによる複数の「主走査方向に長い線像」はポリゴンミラー７の偏向反射面近傍に副走査方向に分離して結像し、偏向されるレーザ光束は、それぞれ、第３光学系をなすレンズ８Ｙ、８Ｍ、１０Ｙ、１０Ｍを透過し、これらレンズの作用により被走査面１１Ｙ、１１Ｍに副走査方向に分離したビームスポットを形成し、これら被走査面をマルチビーム走査方式で光走査する。
【００４７】
同様に、光源側ユニット１Ｃ、１ＫのＶＣＳＥＬの個々のレーザ発光源から放射されたレーザ光は、１／４波長板を透過し、第１光学系のコリメート作用により平行光束化され、アパーチャによりビーム整形され、光量分離されてこれら光源側ユニットから放射される。
【００４８】
これら放射されたレーザ光束は第２光学系であるシリンダレンズ５Ｃ、５Ｋによりそれぞれ、副走査方向へ集光され、ポリゴンミラー７に入射して偏向され、それぞれ、第３光学系をなすレンズ８Ｃ、８Ｋ、１０Ｃ、１０Ｋを透過し、これらレンズの作用により被走査面１１Ｃ、１１Ｋに副走査方向に分離したビームスポットを形成し、これら被走査面をマルチビーム走査方式で光走査する。
【００４９】
図３は、図２に示す光走査装置を用いた画像形成装置の構成を示す図である。図３において符号２０で示す部分が、図２に即して説明した「光走査装置」の部分である。  
ポリゴンミラー７は図２に示したように偏向反射面を４面有し、図３に示すように「２段構成」となっており、上段で偏向される光束のうち一方は、光路折り曲げミラーｍＭ１、ｍＭ２、ｍＭ３により屈曲された光路により感光体ドラム１１Ｍに導光され、他方の光ビームは、光路折り曲げミラーｍＣ１、ｍＣ２、ｍＣ３により屈曲された光路により感光体ドラム１１Ｃに導光される。
【００５０】
また、ポリゴンミラー７の下段側で偏向される光束のうち一方は、光路折り曲げミラーｍＹにより屈曲された光路により感光体ドラム１１Ｙに導光され、他方の光ビームは、光路折り曲げミラーｍＫにより屈曲された光路により感光体ドラム１１Ｋに導光される。
【００５１】
従って、前記４個の光源側ユニット１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋからのレーザ光束により、４個の感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋがマルチビーム走査方式で光走査される。  
感光体ドラム１１Ｙ〜１１Ｋは何れも時計回りに等速回転され、帯電手段をなす帯電ローラＴＹ、ＴＭ、ＴＣ、ＴＫにより均一帯電され、それぞれ対応する光走査を受けてイエロー、マゼンタ、シアン、黒の各色画像を書込まれ対応する静電潜像（ネガ潜像）を形成される。
【００５２】
これら静電潜像はそれぞれ現像装置ＧＹ、ＧＭ、ＧＣ、ＧＫにより反転現像され、感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ上にそれぞれイエロートナー画像、マゼンタトナー画像、シアントナー画像、黒トナー画像が形成される。
【００５３】
これらの各色トナー画像は、図示されない「転写シート」上に転写される。即ち、転写シートは搬送ベルト１７により搬送され、転写器１５Ｙにより感光体ドラム１１Ｙ上からイエロートナー画像を転写され、転写器１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋによりそれぞれ、感光体ドラム１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋから、マゼンタトナー画像、シアントナー画像、黒トナー画像を順次に転写される。
【００５４】
このようにして転写シート上においてイエロートナー画像〜黒トナー画像が重ね合わせられてカラー画像を合成的に構成する。このカラー画像が定着装置１９により転写シート上に定着される。なお、各感光体ドラム上に形成された各色のトナー画像を「中間転写ベルト上において重ね合わせ」てカラー画像となし、このカラー画像を転写シート上に転写・定着しても良い。
【００５５】
図３において、ポリゴンミラー７の右側に偏向される光ビームが入射するレンズ８Ｙ、８Ｍは、図においては分離して描いてあるが、これらは互いに２段に重ねて一体化してもよい。図３において、ポリゴンミラー７の左側に偏向される光ビームが入射するレンズ８Ｃ、８Ｋについても同様である。
【００５６】
図２に即して説明した光源側ユニット１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋは、構造的には「図１に示した光源側ユニット１と同一」である。従って以下に、光源側ユニット１を例として、その構造と機能とを説明する。
【００５７】
図４は、光源側ユニット１を説明図的に示す図である。  
図４において、符号１００はＶＣＳＥＬを示す。ＶＣＳＥＬ１００は、発光素子部１０１と駆動回路１０２とを有している。符号１０４は１／４波長板、符号１０６は「第１光学系」としてのカップリングレンズ、符号１０８はアパーチャ、符号１１０はケーシングを示す。
【００５８】
即ち、ＶＣＳＥＬ１００、１／４波長板１０４、カップリングレンズ１０６とアパーチャ１０８とは、相互の位置関係を調整されてケーシング１１０に組み付けられてユニット化されている。  
このようにすることにより、上記ユニットを組付ける際の調整において１／４波長板１０４の面精度誤差を吸収するような調整が可能となる。またユニット内に一体的に保持することで、１／４波長板１０４の配置態位の経時変動を小さく出来、１／４波長板１０４の光学特性変動を抑制できる。
【００５９】
なお、この形態例では、１枚のカップリングレンズによりレーザ光を平行光束化しているが、コリメート作用を有するカップリングレンズを複数枚のレンズで構成できることはいうまでもない。
【００６０】
図４において、符号１１２はハーフミラー、符号１１４はミラー、符号１１６は集光レンズ、符号１１８は受光手段を示す。
【００６１】
ＶＣＳＥＬ１００は、その発光素子部１０１の発光面に、図１（ｂ）に示した如く複数のレーザ発光源１Ａｉｊが配列されており、駆動回路１０２が、印加される画像信号によりレーザ発光源１Ａｉｊを個別的に点滅させる。  
このようにして、発光素子部１０１の発光面からマルチビーム走査を行う複数のレーザ光が発散光束として放射される。図４においては、図の繁雑をさけるべく、カップリングレンズ１０６の光軸に主光線が合致する光束のみを示している。
【００６２】
放射された複数のレーザ光は発散しつつ、１／４波長板１０４に入射する。  
１／４波長板１０４は、平行平板ガラスの片面に複屈折による「１／４波長板」の機能を有し、その光学軸を「主走査方向（図面に直交する方向）に対して±４５度となる」ように、即ち、光学軸が主走査方向に対して４５度もしくは−４５度傾くように配置されている。
【００６３】
１／４波長板１０４はまた、図に示すように、図面に直交する主走査方向に平行な軸の回りの回転によりカップリングレンズ１０６の光軸に対して副走査方向に傾けて配置されることにより、１／４波長板１０４により反射されたレーザ光が発光素子部１０１の発光面に戻って活性層に入射し光量変化や変調に支障を来たすことがないようにしている。
【００６４】
１／４波長板１０４を透過した複数レーザ光は、前述の如く、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分とが１：１で混在する状態となり、カップリングレンズ１０６のコリメート作用により、レーザ光ごとに平行光束化される。  
このようにして平行光束化された複数のレーザ光束は、その主光線が、カップリングレンズ１０６の像側焦点面位置で、カップリングレンズ１０６の光軸と交わる。アパーチャ１０８は、上記像側焦点面に合致し、その開口中心がカップリングレンズ１０６の光軸に合致するように配置される。
【００６５】
従って、複数のレーザ光束は、アパーチャ１０８の単一の開口を通過してビーム整形される。アパーチャ１０８の開口部は、主走査方向（図面に直交する方向）に長い矩形形状であり、アパーチャ１０８以後の光学系に対するレーザ光束の光束断面形状は「主走査方向に長い矩形形状」となる。
【００６６】
一方、上記の如くに１／４波長板１０４をカップリングレンズ１０６の光軸に対して傾けて配置すると、これに起因して収差が発生する。  
１／４波長板１０４を「カップリングレンズ１０６の光軸に対して傾ける傾け方」としては、前述のように、主走査方向に傾ける場合と、この実施の形態例のように副走査方向に傾ける場合とが考えられる。  
図４の例において、１／４波長板１０４を「主走査方向に傾けた場合」を考えると、開口が主走査方向に長いため、開口の主走査方向の両端部での収差が大きくなる。  
これに対し、図４のように、１／４波長板１０４を副走査方向に傾けた場合には、開口の副走査方向幅が小さいため、収差が小さく「より良好なマルチビーム走査」を行うことができるのである。
【００６７】
アパーチャ１０８によりビーム整形された複数のレーザ光束は、ハーフミラー１１２に入射し、各レーザ光束のその光量の大部分、例えば９５％がハーフミラー１１２を透過し、残りの５％が光量分離されて光量調整に供される。
【００６８】
ハーフミラー１１２により光量分離された複数のレーザ光束は、ミラー１１４により反射され、集光レンズ１１０により受光手段１１８に受光される。  
即ち、複数のレーザ光束は、カップリングレンズ１０６と集光レンズ１１６とにより、受光手段１１８の受光面上に、発光素子部１０１の発光面における複数のレーザ発光源の配列像を結像する。  
受光手段１１８は、このように結像されたレーザ光束ごとの光量を検知し、各レーザ光束に対応するレーザ発光源の発光量を検出し、その結果を制御回路１２０に向けて出力する。受光手段１１８は、例えばＣＣＤエリアセンサで構成することができる。
【００６９】
即ち、ハーフミラー１１２、ミラー１１４、集光レンズ１１６および受光手段１１８は「複数のレーザ光束を光量分離し、分離したレーザ光束を光量検知光束として検知する光量検知手段」を構成する。  
制御回路１２０は、入力する各レーザ発光源の発光量のデータに基づき、ＶＣＳＥＬ１００の駆動回路１０２を介して、各レーザ発光源の光量調整を行う。即ち、制御回路１２０は「この光量検知手段の検知結果に基づき、面発光型レーザ光源における複数のレーザ発光源の発光強度を個別に調整する光量調整手段」を構成する。
【００７０】
１／４波長板１０４を透過した複数レーザ光は、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分とが１：１で混在する状態であるので、良好な光量調整が可能である。
【００７１】
従って、図４の如き光源側ユニット１を用いて、図１のような、あるいは図２のような光走査装置を構成し、図３のような画像形成装置を構成すれば、光量調整が適正に行なわれるので、良好なマルチビーム走査で「濃度むらのない画像」を形成できる。
【００７２】
図４に即して説明した光源側ユニット１を用いて、図１の如く構成された光走査装置は、マルチビーム走査方式の光走査装置であって、複数のレーザ発光源を配置してなる面発光型レーザ光源１００と、この面発光型レーザ光源の各レーザ発光源１Ａｉｊから放射される直線偏光状態のレーザ光の光束形態を以後の光学系に適した形態に変換する第１光学系１０６と、偏向反射面を有し、第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束を、偏向反射面により反射させて偏向する偏向手段７と、第１光学系により光束形態を変換された複数のレーザ光束を、偏向反射面近傍に、副走査方向に相互に分離した主走査方向に長い線像として結像させる第２光学系５と、偏向手段により偏向された複数の偏向レーザ光束を被走査面１１上に、副走査方向に相互に分離した複数の光スポットとして集光する第３光学系８，１０と、面発光型レーザ光源１００と第１光学系１０６との間に配置された平行平板状の１／４波長板１０４と、第１光学系１０６により光束形態を変換された複数のレーザ光束を光量分離して、分離したレーザ光束を光量検知光束として検知する光量検知手段１１２，１１４，１１６，１１６，１１８と、この光量検知手段の検知結果に基づき、面発光型レーザ光源１００における複数のレーザ発光源の発光強度を個別に調整する光量調整手段１２０とを有し、１／４波長板１０４の光学軸が、第１光学系１０６の光軸の回りに、主走査方向に対して±４５度となるように、１／４波長板１０４の配置態位が定められている。
【００７３】
また、１／４波長板１０４は、第１光学系１０６の光軸に直交する平面に対して傾けて配置されることにより「１／４波長板１０４により反射されたレーザ光が発光素子部１０１の発光面に戻って活性層に入射し光量変化や変調に支障を来たす」ことがない。
【００７４】
さらに、アパーチャ１０８の開口は「主走査方向に長い矩形形状」であって開口径：Ａｙ＞Ａｚであり、１／４波長板１０４は副走査方向に傾けられている。
【００７５】
また、図４に示す光源側ユニットを、図２に示す光走査装置に用いると、かかる光走査装置は、図１に示した如き光走査装置を複数組有し、各組の主走査領域が、副走査方向に互いに平行に重複する配列となるように構成されたタンデム型の光走査装置であり、複数組の光走査装置は、光偏向手段としてのポリゴンミラー７を共用するように構成される。
【００７６】
図４に示した「ＶＣＳＥＬ１００、１／４波長板１０４、カップリングレンズ１０６、アパーチャ１０８をケーシング１１０により一体化したユニットから射出する複数のレーザ光束はＰ偏光成分とＳ偏光成分とが１：１となっている」ので、シェーディング補正が極めて良好に行われる。  
従って、光量調整を別の手段で行う場合や、光量調整を必要としない場合には、上記ユニットのみを光源側ユニットとして光走査装置、画像形成装置を構成し、良好なシェーディング補正を実行しつつマルチビーム光走査・画像形成を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】光走査装置の光学配置の１例を説明するための図である。
【図２】タンデム型の光走査装置の光学配置の１例を説明するための図である。
【図３】図２の光走査装置を用いた画像形成装置の実施の１形態を説明するための図である。
【図４】光源側ユニットの実施の形態を説明するための図である。
【符号の説明】
【００７８】
１００      面発光型レーザ光源  
１０４      １／４波長板  
１０６      カップリングレンズ（第１光学系）
１０８      アパーチャ
１１２      ハーフミラー  
１１４      ミラー  
１１６      集光レンズ  
１１８      受光手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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