(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の一次力および前記一次力に関連付けされるピッチトルクを生成するように構成される電磁モータによって対象物を位置決めするための方法であって、
前記対象物を位置決めするための所望の力およびトルクを決定すること、前記モータにより生成されるべき前記一次力を決定すること、前記一次力または前記所望の力およびトルクのいずれかより前記ピッチトルクを決定すること、および、前記一次力を生成するための、前記モータに対する所望の信号を決定すること、を含むサイクルを含み、
次のサイクルの中で前記所望の力およびトルクを計算することにより前記次のサイクルのための前記所望の力およびトルクを決定する代わりに、前記次のサイクルにおいて、前記一次力を決定する前に、前記対象物を位置決めするための前記所望の力およびトルクが、前記次のサイクルから直前のサイクルにおいて決定された前記ピッチトルクを使用して修正される、
方法。
【請求項２】
前記一次力を決定する前に、前記所望の力およびトルクは、前記前のサイクルにおいて決定された前記ピッチトルクを減じることによって修正される、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ピッチトルクは、前記電磁モータの位置測定に基づいて決定される、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ピッチトルクは、前記対象物の速度測定または速度セットポイントに基づいて決定される、
請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記対象物を位置決めするように構成され、複数の一次力および前記一次力に関連付けされるピッチトルクを生成するように構成される電磁モータと、前記電磁モータを制御するように配置構成される制御ユニットと、を備え、
前記制御ユニットは、
前記対象物の位置決めを達成するための所望の力およびトルクを決定すること、前記所望の力およびトルクに基づいて、前記電磁モータにより生成されるべき前記一次力を決定すること、前記一次力または前記所望の力およびトルクのいずれかよりもたらされる前記ピッチトルクを決定すること、および、前記一次力を生成するための所望の信号を決定すること、を含むサイクルを実施するように構成され、
次のサイクルの中で前記所望の力およびトルクを計算することにより前記次のサイクルのための前記所望の力およびトルクを決定する代わりに、前記次のサイクルにおいて、前記一次力が、前記所望の力およびトルクと、前記次のサイクルから直前のサイクルにおいて決定されたピッチトルクと、に基づいて決定される、
対象物を位置決めするためのステージ装置。
【請求項６】
前記制御ユニットは、前記一次力を決定するために、所望の力およびトルクから、前記決定されたピッチトルクを減じるように構成される、
請求項５に記載のステージ装置。
【請求項７】
使用時に、前記複数の一次力は、所与の方向への少なくとも１つの一次力と、前記一次力に関連付けされるピッチトルクとをそれぞれが生成する複数のコイルセットのそれぞれにより生成される、
請求項５に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記電磁モータは、第１の方向および第２の方向に前記対象物を位置決めするように構成される平面モータを含む、
請求項７に記載のステージ装置。
【請求項９】
使用時に、前記平面モータの永久磁石アレイが、前記第１および前記第２の両方向への摩擦が実質的にない状態で変位可能である、
請求項８に記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記永久磁石アレイの位置を使用して、前記所望のモータ信号および前記ピッチトルクを決定する、
請求項８に記載のステージ装置。
【請求項１１】
前記ピッチトルクは、前記電磁モータの位置測定に基づいて決定される、
請求項６に記載のステージ装置。
【請求項１２】
前記ピッチトルクは、前記対象物の速度測定または速度セットポイントに基づいて決定される、
請求項１１に記載のステージ装置。
【請求項１３】
放射ビームを調整するように構成される照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付けされた放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成されるパターン支持体と、
基板を保持するように構成される基板支持体と、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付けされた放射ビームを投影するように構成される投影システムと、
前記支持体の１つを位置決めするように構成されるステージ装置と、を備え、
前記ステージ装置は、
前記支持体の前記１つを位置決めするように配置構成され、複数の一次力および前記一次力に関連付けされるピッチトルクを生成するように配置構成される電磁モータと、前記電磁モータを制御するように配置構成される制御ユニットと、を含み、
前記制御ユニットは、
前記支持体の前記１つの位置決めを達成するための前記所望の力およびトルクを決定すること、前記所望の力およびトルクに基づいて、前記電磁モータにより生成されるべき前記一次力を決定すること、前記一次力または前記所望の力およびトルクのいずれかよりもたらされる前記ピッチトルクを決定すること、および、前記一次力を生成するための前記所望の信号を決定すること、を含むサイクルを実施するように構成され、
次のサイクルの中で前記所望の力およびトルクを計算することにより前記次のサイクルのための前記所望の力およびトルクを決定する代わりに、前記次のサイクルにおいて、前記一次力が、前記所望の力およびトルクと、前記次のサイクルから直前のサイクルにおいて決定されたピッチトルクと、に基づいて決定される、
リソグラフィ装置。
【請求項１４】
複数の一次力および前記一次力に関連付けされるピッチトルクを生成するように構成される電磁モータによって対象物を位置決めするための方法であって、
前記対象物を位置決めするための所望の力およびトルクを決定すること、
前記決定された所望の力およびトルクに基づいて、前記モータにより生成されるべき前記一次力を決定すること、
前記一次力または前記所望の力およびトルクのいずれかより前記ピッチトルクを計算すること、および、
前記一次力を生成するための、前記モータに対する所望の信号を決定すること、を含み、
前記所望の力およびトルクを再計算することにより前記所望の力およびトルクを決定する代わりに、前記一次力を決定する前に、前記計算されたピッチトルクの直前の値を使用して、前記対象物を位置決めするための前記決定された所望の力およびトルクを修正する、
方法。
【請求項１５】
対象物を位置決めするように構成され、複数の一次力および前記一次力に関連付けされるピッチトルクを生成するように構成される電磁モータと、前記電磁モータを制御するように配置構成される制御ユニットと、を備え、
前記制御ユニットは、
前記対象物の位置決めを達成するための所望の力およびトルクを決定すること、
前記所望の力およびトルクに基づいて、前記電磁モータにより生成されるべき前記一次力を決定すること、
前記一次力または前記所望の力およびトルクのいずれかよりもたらされる前記ピッチトルクを計算すること、および、
前記一次力を生成するための前記所望の信号を決定すること、を行うように構成され、
前記制御ユニットは、前記所望の力およびトルクを再計算することにより前記所望の力およびトルクを決定する代わりに、前記一次力を決定する前に、前記計算されたピッチトルクの直前の値を使用して、前記対象物を位置決めするための前記決定された所望の力およびトルクを修正するように配置構成される、
対象物を位置決めするためのステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、対象物を位置決めするための方法、ステージ装置およびリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、基板上に、通常は基板のターゲット部分上に、所望のパターンを与える機械である。例えば、リソグラフィ装置は、集積回路（ＩＣ）の製造において使用することが可能である。その場合、マスクまたはレチクルと代替的に呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成されるべき回路パターンを生成することができる。このパターンは、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば一部の、１つのまたはいくつかのダイを含む）上に転写することが可能である。典型的には、パターンの転写は、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層の上に像を形成することによる。一般的には、単一の基板は、次々にパターニングされる隣接し合うターゲット部分のネットワークを含む。従来のリソグラフィ装置は、各ターゲット部分がターゲット部分上への全パターンの一度の露光により照射されるいわゆるステッパ、ならびに各ターゲット部分が放射ビームによるパターンの所与の方向（「スキャニング」方向）へのスキャニングと同時に、この方向に対して平行なまたは逆平行な基板の同期的なスキャニングとによって照射されるいわゆるスキャナを含む。また、基板上にパターンをインプリントすることにより、パターンをパターニングデバイスから基板に転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  基板に対してパターニングデバイスを正確に位置決めするために、１つまたは複数の電磁モータを備えるステージ装置がしばしば適用される。
【０００４】
[0004]  一般的には、そのような電磁モータは、電流を印加することの可能な１つまたは複数のコイルを含む第１のパーツと、使用時に第１のパーツと協働して第１のパーツと第２のパーツとの間に力を生成する第２のパーツとを含む。例えば、第２のパーツは、交番磁界を所与の方向にまたは所与の平面内に生成する永久磁石の１次元アレイまたは２次元アレイを含んでよく、この磁界が、第１のパーツの通電コイルと相互に作用して両パーツ間に力を生成する。
【０００５】
[0005]  リソグラフィ装置内において例えば基板テーブルなどの対象物を位置決めするために使用される電磁モータが、一次力、すなわち対象物を位置決めするための所与の方向への力を生成すると共に、ピッチトルクなどの寄生効果を同時に引き起こし得ることが知られている。このような現象は、例えば参照により本明細書にその全体として組み込まれる欧州特許第１３５７４３４号で、平面モータについて十分に説明される。
【０００６】
[0006]  ピッチトルクにより、対象物の正確な位置決めが損われるおそれがあり、例えば電磁モータと、対象物および電磁モータ間に据えられる高精度位置決めステージとの間のクロストークによって、対象物が電磁モータに直接的には結合されない場合でも、ピッチトルクの発生が、位置決めされるべき対象物の位置決めに影響を及ぼすことがある。そのような高精度位置決めステージへのクロストークが低い場合であっても、例えばモータから高精度位置決めステージへのケーブルまたはホースによる力の伝達が常にある程度あり、したがって対象物の位置決めに影響を及ぼす。
【０００７】
[0007]  ピッチトルクにより、電磁モータを構成する両パーツ間の相対位置が変わることがある。一般的に、両パーツは、空気軸受などのタイプの軸受によって離間された状態に保たれるか、またはモータ自体が、両モータパーツ間の所定のまたは好ましいまたは最小の距離を維持するために必要な力を生成することができる。ピッチトルクの発生は、これを、両モータパーツが互いに接触するようになることさえある程にまで妨害する場合がある。これは、対象物の位置決めエラーをもたらすのとは別に、モータの一方のまたは両方のパーツに損傷をもたらす、またはモータが作動する区域の汚染をもたらすことがある。モータパーツ間のこのような衝突を回避するための解決策は、両パーツ間の距離を広げることである。しかし、当業者は、両パーツ間の距離の拡大は両パーツ間の磁気結合を低下させるため、これがモータの効果の低下をもたらすことを理解するであろう。効果の低下とは別に、ピッチトルクによる位置決めエラーの発生はこのアプローチによって十分には解消されないことが明らかであろう。したがって、欧州特許第１３５７４３４号には、ピッチトルクの影響が実質的に低減されるように構成される改良されたコントローラを使用して所要のモータ力を生成することが提案されている。しかし、これは、かなりの量の計算能力を要することがある。必要な計算をコントローラの１つのサンプル内で達成することが困難なため、提案された方法をデジタルコントローラにおいて実行することが困難な場合がある。コントローラの出力を遅延させる、すなわち計算を実施するためにいくつかのサンプルを使用することが、制御ループの安定性または得られる位置精度に影響を及ぼすことがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
[0008]  電磁モータのピッチトルクの補償を少なくとも部分的に可能にするが、既知の方法に比べより低い計算量を使用する解決策を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
[0009]  本発明の一態様によれば、使用時に複数の一次力および一次力に関連付けされるピッチトルクを生成する電磁モータにより対象物を位置決めするための方法が提供され、この方法は、対象物を位置決めするための所望の力およびトルクを決定すること、モータにより生成されるべき一次力を決定すること、一次力または所望の力のいずれかよりピッチトルクを決定すること、および、一次力を生成するためのモータに対する所望の信号を決定することを含み、次のサイクルにおいて、一次力の決定の前に、対象物を位置決めするための所望の力およびトルクは、前のサイクルにおいて決定されたピッチトルクに基づいて修正される。
【００１０】
[0010]  本発明の別の態様によれば、使用時に複数の一次力および一次力に関連付けされるピッチトルクを生成する、対象物を位置決めするための電磁モータと、電磁モータを制御するように配置構成される制御ユニットを含む、対象物を位置決めするためのステージ装置が提供され、この制御ユニットは、対象物の位置決めを達成するための所望の力およびトルクを決定し、所望の力およびトルクに基づいて電磁モータにより生成されるべき一次力を決定し、一次力または所望の力およびトルクのいずれかよりもたらされるピッチトルクを決定し、一次力を生成するための所望の信号を決定するように構成され、次のサイクルにおいて、一次力を決定する前に、対象物を位置決めするための所望の力およびトルクは、前のサイクルにおいて決定されたピッチトルクに基づいて修正される。
【００１１】
[0011]  本発明のさらに別の態様によれば、放射ビームを調整するように配置構成される照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付けされた放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成される支持体と、基板を保持するように構成される基板テーブルと、基板のターゲット部分上にパターン付けされた放射ビームを投影するように構成される投影システムとを含むリソグラフィ装置が提供され、さらにこのリソグラフィ装置は、使用時に複数の一次力および一次力に関連付けされるピッチトルクを生成する、パターニングデバイスまたは基板を位置決めするように構成される電磁モータと、電磁モータを制御するように配置構成される制御ユニットとを含む、パターニングデバイスまたは基板を位置決めするためのステージ装置を含み、制御ユニットは、対象物の位置決めを達成するための所望の力およびトルクを決定し、所望の力およびトルクに基づいて電磁モータにより生成されるべき一次力を決定し、一次力または所望の力およびトルクのいずれかよりもたらされるピッチトルクを決定し、一次力を生成するための所望の信号を決定するように構成され、次のサイクルにおいて、一次力を決定する前に、対象物を位置決めするための所望の力およびトルクは、前のサイクルにおいて決定されたピッチトルクに基づいて修正される。
【００１２】
[0012]  本発明の一態様において、複数の一次力および一次力に関連付けされるピッチトルクを生成するように配置構成される電磁モータによって対象物を位置決めするための方法が提供され、この方法は、対象物を位置決めするための所望の力およびトルクを決定すること、決定された所望の力およびトルクに基づいてモータにより生成されるべき一次力を決定すること、一次力または所望の力およびトルクのいずれかよりピッチトルクを計算すること、および、一次力を生成するためのモータに対する所望の信号を決定することを含み、一次力を決定する前に、計算されたピッチトルクの前の値を使用して、対象物を位置決めするための決定された所望の力およびトルクを修正する。
【００１３】
[0013]  本発明の他の態様において、対象物を位置決めするように構成され、複数の一次力および一次力に関連付けされるピッチトルクを生成するように構成される電磁モータと、電磁モータを制御するように構成される制御ユニットとを含む、対象物を位置決めするためのステージ装置が提供され、制御ユニットは、対象物の位置決めを達成するための所望の力およびトルクを決定し、所望の力およびトルクに基づいて電磁モータにより生成されるべき一次力を決定し、一次力または所望の力およびトルクのいずれかよりもたらされるピッチトルクを計算し、一次力を生成するための所望の信号を決定するように構成され、一次力を決定する前に、制御ユニットは、計算されたピッチトルクの前の値を使用して、対象物を位置決めするための決定された所望の力およびトルクを修正するように構成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
[0014]  以下、対応する参照符号が対応する部分を表す添付の概略図を参照して、本発明の実施形態が、単なる例示として説明される。
【００１５】
[0026]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射または任意の他の適切は放射）を調整するように構成される照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、いくつかのパラメータにしたがってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成される第１の位置決めデバイスＰＭに連結される、支持構造体または支持体またはパターン支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴとを含む。また、この装置は、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、いくつかのパラメータにしたがって基板を正確に位置決めするように構成される第２の位置決めデバイスＰＷに連結される、基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴすなわち「基板支持体」を含む。さらに、この装置は、基板Ｗの（例えば１つまたは複数のダイを含む）ターゲット部分Ｃ上に、パターニングデバイスＭＡにより放射ビームＢに与えられたパターンを投影するように構成される投影システム（例えば屈折型投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１６】
[0027]  照明システムは、放射を配向付けし、成形しまたは制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型または他タイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組合せなどの、様々なタイプの光学コンポーネントを含んでよい。
【００１７】
[0028]  支持構造体は、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計および、例えばパターニングデバイスが真空環境内に保持されるかどうかなどの他の条件に応じて、パターニングデバイスを保持する。支持構造体は、パターニングデバイスを保持するために、機械式、真空式、静電式または他のクランプ技術を使用することが可能である。支持構造体は、フレームまたはテーブルであってよく、例えばこれらは、必要に応じて固定式または可動式のものであってよい。支持構造体により、パターニングデバイスを例えば投影システムに対して所望の位置に置くことを確実にすることができる。本明細書において使用される「レチクル」または「マスク」という語はいずれも、より一般的な語である「パターニングデバイス」と同義であると見なしてよい。
【００１８】
[0029]  本明細書において使用される「パターニングデバイス」という語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用することが可能な任意のデバイスを指すものとして、広く解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフティングフィーチャすなわちいわゆるアシストフィーチャを含む場合には、基板のターゲット部分の所望のパターンと正確には一致しないことがある点に留意すべきである。一般的には、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などの、ターゲット部分に生成されるデバイスにおける特定の機能層に一致する。
【００１９】
[0030]  パターニングデバイスは、透過性または反射性のものであってよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイおよびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィにおいてよく知られており、バイナリ、レベンソン型（alternating）位相シフトおよびハーフトーン型（attenuated）位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドのマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの一例が、小さいミラーのマトリックス構成を使用し、各ミラーは、入射する放射ビームをそれぞれに異なる方向に反射するように個別に傾斜させることが可能である。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスにより反射される放射ビームにパターンを与える。
【００２０】
[0031]  本明細書において使用される「投影システム」という語は、露光放射の使用に適したまたは、液浸液の使用もしくは真空室の使用などの他の要素に適した、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型および静電型光学システム、あるいはそれらの任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを包含するものとして広く解釈されるべきである。本明細書において使用される「投影レンズ」という語はいずれも、より一般的な語である「投影システム」と同義であると見なしてよい。
【００２１】
[0032]  本明細書にて示されるように、装置は透過型のもの（例えば透過型マスクの使用）であってよい。代替として、装置は反射型のもの（例えば上記に参照されるタイプのプログラマブルミラーアレイの使用、または反射型マスクの使用）であってよい。
【００２２】
[0033]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブルすなわち「基板支持体」（および／または２つ以上のマスクテーブルすなわち「マスク支持体」）を有するタイプのものであってよい。そのような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルすなわち支持体を同時に使用することができ、すなわち予備ステップを１つまたは複数のテーブルすなわち支持体上で実施する一方で、１つまたは複数の他のテーブルすなわち支持体を露光用に使用することができる。
【００２３】
[0034]  また、リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように、基板の少なくとも一部分を比較的高い屈折率を有する液体、例えば水によって覆うことができるタイプのものであってよい。また、液浸液を、例えばパターニングデバイス（例えばマスク）と投影システムとの間などの、リソグラフィ装置内の他の空間に適用することができる。液浸技術を使用して、投影システムの開口数を増加させることが可能である。本明細書において使用される「液浸」という語は、基板などの構造体が液体中に浸漬されなければならないことを意味するのではなく、液体が露光の際に投影システムと基板との間に配置されることを意味するにすぎない。
【００２４】
[0035]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受ける。この放射源およびリソグラフィ装置は、例えば放射原がエキシマレーザである場合には、分離されたものであってよい。そのような場合には、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成するとは見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤの補助により、放射源ＳＯからイルミネータＩＬに進む。他の場合では、例えば放射原が水銀ランプである場合には、放射源はリソグラフィ装置の一体部分であってよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要であればビームデリバリシステムＢＤを加えて放射システムと呼ぶことができる。
【００２５】
[0036]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するように配置構成されたアジャスタＡＤを含んでよい。一般的には、イルミネータの瞳面における強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（通常、それぞれσ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）は、調節することが可能である。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの様々な他のコンポーネントを含んでよい。イルミネータは、放射ビームを調整して、その断面における所望の均一性および強度分布を得るために使用することができる。
【００２６】
[0037]  放射ビームＢは、支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴ上に保持されるパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによりパターン付けされる。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを横断すると、放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、同システムは基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束させる。第２の位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは静電容量センサ）の補助により、例えば放射ビームＢの経路中に個々のターゲット部分Ｃを位置決めするように、基板テーブルＷＴを正確に移動させることが可能となる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭおよび別の位置センサ（図１に明確には図示されない）を使用して、例えばマスクライブラリからの機械検索の後に、またはスキャンの最中に、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを正確に位置決めすることが可能である。一般的には、支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴの移動は、ロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）の補助により実現することができ、これらのモジュールが、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成する。同様に、基板テーブルＷＴすなわち「基板支持体」の移動は、ロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができ、これらのモジュールが、第２のポジショナＰＷの一部を形成する。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴはショートストロークアクチュエータのみに連結することができ、または固定することができる。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して整列させることができる。図示される基板アラインメントマークは専用ターゲット部分に位置を占めているが、これらはターゲット部分間のスペースに配置することができる（それらはスクライブレーンアラインメントマークとして知られる）。同様に、２つ以上のダイがパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ上に設けられる状況では、マスクアラインメントマークはダイ間に配置することができる。
【００２７】
[0038]  図示される装置は、以下のモードの少なくとも１つにおいて使用することが可能である。
【００２８】
[0039]  １．ステップモードでは、支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴすなわち「マスク支持体」および、基板テーブルＷＴすなわち「基板支持体」が、実質的に静止状態に保たれ、放射ビームに与えられた全パターンが、一度でターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち単一静止露光）。次いで、基板テーブルＷＴすなわち「基板支持体」は、別のターゲット部分Ｃを露光することが可能となるようにＸ方向および／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一静止露光において像を形成されるターゲット部分Ｃのサイズを限定する。
【００２９】
[0040]  ２．スキャンモードでは、支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴすなわち「マスク支持体」および、基板テーブルＷＴすなわち「基板支持体」が、同期してスキャンされ、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち単一動的露光）。支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴすなわち「マスク支持体」に対する基板テーブルＷＴすなわち「基板支持体」の速度および方向は、投影システムＰＳの拡大率（縮小率）および像反転特性により決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一動的露光におけるターゲット部分の（非スキャニング方向の）幅を限定し、スキャニング動作の長さが、ターゲット部分の（スキャニング方向の）高さを決定する。
【００３０】
[0041]  ３．別のモードでは、支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴすなわち「マスク支持体」が、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ実質的に静的状態に保たれ、基板テーブルＷＴすなわち「基板支持体」が、移動されまたはスキャンされるとともに、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分Ｃ上に投影される。このモードでは、一般的にはパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴすなわち「基板支持体」の各移動の後で、またはスキャン中の連続放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この作動モードは、上記に参照されるタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することが可能である。
【００３１】
[0042]  上述のモードの使用もしくは全く異なるモードの使用の組合せおよび／または変形を使用することもできる。
【００３２】
[0043]  さらに、図１は、位置決めデバイスＰＭおよびＰＷの一方または両方を制御するように構成される制御ユニットＣＵを示す。位置決めデバイスＰＭおよびＰＷは、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡおよび基板Ｗの位置決めをそれぞれ可能にする１つまたは複数の電磁モータを含んでよい。一例として、位置決めデバイスＰＭは、支持構造体（例えばマスクテーブル）を位置決めするために、図３でさらに示されるリニアモータを含んでよく、位置決めデバイスＰＷは、例えば図４ａ、図４ｂ、図５ａおよび図５ｂにさらに示される平面モータを含んでよい。さらに、制御ユニットＣＵは、以下のサイクル手順、すなわち、対象物（すなわち、支持構造体（例えばマスクテーブル）または基板テーブル）を位置決めするための所望の力およびトルクを決定し、電磁モータ（すなわち位置決めデバイスＰＭのモータまたは位置決めデバイスＰＷのモータのいずれか、あるいは両方）によって生成されるべき一次力を決定し、使用時に電磁モータによって一次力または所望の力のいずれかより生成されるピッチトルクを決定し、一次力を生成するためのモータに対する所要の信号を決定し、次のサイクルで、一次力の決定の前に、前のサイクルのステップにおいて決定されたピッチトルクを使用して、対象物を位置決めするための所望の力およびトルクを修正するサイクル手順を実施するように構成される。そうすることにより、位置決めデバイス内の電磁モータのピッチトルクの影響に対処する簡単な手法が得られる。
【００３３】
[0044]  制御ユニットは、様々な手順を実施するように配置構成されるカルキュレータおよびコントローラを含んでよい。一実施形態においては、様々な手順を実行するための機械実行可能命令をカルキュレータおよび／またはコントローラにプログラムすることができる。
【００３４】
[0045]  本発明の一態様によれば、電磁モータにより対象物の位置を制御する方法が提供される。この方法は、以下において例が説明されるリニアモータまたは平面モータの両方を制御するために適用することが可能である。この制御方法は、図２ａまたは図２ｂに示されるフローチャートによって説明することができる。
【００３５】
[0046]  図２ａは、対象物を位置決めするための所望の（または所要の）力およびトルクを決定する第１の手順１００を概略的に示す。例えば、この手順１００は、測定される位置と所望の位置との比較を含んでよい。また、代替として、または追加として、この手順は、コントローラの出力信号を考慮に入れることができる。さらに、対象物を位置決めするための所望の力およびトルクを決定するためのこの手順は、変位されるべき対象物の物理的パラメータを考慮に入れることができ、そのようなパラメータは、例えば対象物の重量または慣性であってよいが、対象物の環境のパラメータを考慮に入れることもできる。この手順の結果、対象物に適用されると対象物の所望の位置決めがもたらされるかまたは位置の補正がもたらされる、所望の力およびトルクが得られる。次の手順１１０において、所望の力は、電磁モータにより生成される必要がある一次力に変換される。この変換は、変位される対象物に対する電磁モータの実際の位置およびレイアウトを考慮に入れる。
【００３６】
[0047]  電磁モータが電流または電流のセット（例えば二相または三相電流システム）を印加される場合、電磁モータは、印加電流の適切な転流によりモータが所与の方向に変位される際に実質的に一定に維持され得る所与の方向への力を生成することができる。この力を電磁モータの一次力と呼ぶ。したがって、第２の手順１１０においてなされる変換は、対象物を位置決めするための所望の力およびトルクを、印加に応じてモータまたは複数のモータにより生成することが可能な力に変換する。また、このプロセスを利得平衡化（Gain Balancing）と呼び、このプロセスのより詳細な説明は、参照により本明細書に組み込まれる欧州特許第１３５７４３４号に見ることが可能である。本発明により説明される方法では、利得平衡化は、発生するピッチトルクなどのモータのいかなるスプリアス効果も考慮に入れないことが理解されよう。図２ａの手順１１０において実施される利得平衡化は、電磁モータにより生成することの可能な一次力だけを考慮に入れる。発生するスプリアストルク（モータが一次力を生成する際に発生する寄生トルク）は、利得平衡化ステップには取り入れられない。利得平衡化ステップの際に寄生トルクを考慮に入れることは可能である（例えばこの一例が、欧州特許第１３５７４３４号に記載される第２の実施形態である）が、これは以下の欠点を有する場合があることを指摘することが可能である。
【００３７】
[0048]  利得均衡化を実施するための計算量が増加する場合がある。所与の方向にリニアモータまたは平面モータが変位する際に生じる寄生トルク（すなわちピッチトルク）が、一定を維持せず、モータの両協働パーツ（すなわち電流を印加することの可能な１つまたは複数のコイルを含む第１のパーツと、概して交互分極永久磁石のアレイを含む、第１のパーツと協働する第２のパーツ）の相対位置に左右される点を指摘することが可能である。その結果、寄生トルクが両モータパーツの相対位置に左右されるために、この相対位置を知り、利得均衡化プロセスにおいて考慮に入れることが必要となる。これは、コントローラの処理能力に影響を及ぼし得る多大な計算量を必要とする場合がある。
【００３８】
[0049]  したがって、利得均衡化プロセスの際にピッチトルクの影響を取り入れないことが有益である。
【００３９】
[0050]  本発明の一実施形態による方法の次の手順においては、利得平衡化プロセスにより決定される一次力を使用して、これらの力に関連付けされるピッチトルクを決定する。例えば、この計算は、両モータパーツ間の相対位置に基づくことが可能であり、この相対位置は、以下で例が説明される種々の手法で決定することができる。ピッチトルクを決定するのと同時に、電磁モータに動力供給するための信号を所望の一次力に基づいて決定することができる（１３０）。このプロセスは、モータのコイルまたは複数のコイルに印加されるべき電流についての所望の転流角の決定を伴ってよい。また、このプロセスは、両モータパーツ間の相対位置に基づくことができる。両モータパーツ間の相対位置は、両モータパーツ間に配置される位置測定システムにより正確に測定される必要はなく、また、この相対位置は、一方のモータパーツが静止状態に保たれる場合には、他方のモータパーツの位置測定から導出することができる。
【００４０】
[0051]  一次力より計算されるピッチトルクを考慮に入れるために、本発明の一実施形態による制御方法は、一次力の計算の前に、計算されたピッチトルクを使用して、対象物の位置決めのための所望の力およびトルクを修正する。これは、図２ａでフィードバックループ１４０により示される。
【００４１】
[0052]  さらに、有益にも本発明は、計算されたピッチトルクがコントローラにおいて信号として取得可能であるので、診断のために計算されたピッチトルクを評価することを可能にするという点に言及することが可能である。欧州特許第１３５７４３４号の第２の実施形態とは異なり、データ追跡を使用して、この信号を視覚化し分析することができる。
【００４２】
[0053]  一次力を生成するための所望の信号を取得するためのプロセスをこの修正が遅延させないように、例えば欧州特許第１３５７４３４号の第１の実施形態においてなされるように計算されたピッチトルクを一次力の前セットと組み合わせる代わりに、前のステップにおいて計算されたピッチトルクを使用する。説明される方法はピッチトルクの補償を行う一方でデジタルコントローラでの実施が容易であるという良好な結果をもたらす点を指摘することができる。既知の方法と比較して、説明される方法はより低い計算能力しか要さない。
【００４３】
[0054]  本発明の一実施形態において、修正は、一次力の計算の前に、所望の力およびトルクから計算されたピッチトルクを減じることからなる。
【００４４】
[0055]  さらに、利得均衡化がピッチトルクなどの寄生効果を考慮に入れずに実施される場合、利得均衡化プロセスは行列要素が一定であり得る行列乗算として表すことができることを指摘することが可能である。したがって、所望の力およびトルクに関する行列乗算を実施することによって、電磁モータについての一次力を取得することができる。そのような状況において、一次力（または複数の力）に関連付けされるピッチトルクは、一次力が所望の力の関数として表し得るので、所望の力から均一に取得され得ることが当業者には理解されよう。図２ｂは、この状況についての流れ図を示す。対象物を位置決めするための計算された所望の力に基づき、これらの力に関連付けされるピッチトルクが計算される（２００）。次いで、図２ａのプロセスにおけるように、次のサンプルにおいて、計算されたピッチトルクを使用して、矢印２１０により示されるように、モータの一次力の決定の前に所望の力およびトルクを修正することができる。
【００４５】
[0056]  例えば、説明される方法は、リソグラフィ装置などにおける対象物を位置決めするように構成されるステージ装置において適用することができる。そのような装置では、パターニングデバイスおよび（パターニングデバイスのパターンが投影されるまたはプリントされる）基板は共に、正確な位置決めを必要とする。
【００４６】
[0057]  以下の図が、この制御方法を適用することができるいくつかの電磁モータを例示として示す。
【００４７】
[0058]  図３は、第１のパーツ３００を含む電磁モータの断面図を概略的に示し、この第１のパーツ３００は、第１のコイルセット（またはフォーサ）３１０および第２のコイルセット（またはフォーサ）３２０を含む。さらに、第１のパーツは、永久磁石３４０（それらの分極が磁石内部の矢印により示される）のアレイを含む第２のパーツ３３０と協働するように構成され、この磁石のアレイは、好ましくは鉄などの導磁性材料を含む部材３５０に取り付けられる。両パーツ間に力を生成するために、コイルセット（またはフォーサ）に電流または複数の電流を印加することができる。図示される構成において、各コイルセットは、例えば三相電源から印加することができる３つのコイルを含む。適切な転流角が電流に対して与えられる場合には、パーツが互いに対してＹ方向に変位する際に、Ｙ方向に一定の力を生成することが可能となることが確実となり得る。したがって、このＹ力が、モータの一次力と見なされる。また、さらに、図示されるモータは、適切な転流が与えられる場合には、第１のパーツ３００が第２のパーツ３３０に対してＹ方向に変位する際に実質的に一定に維持され得るＺ方向への力を生成することができる点を指摘することができる。したがって、またこの力は、モータの一次力を構成する。実際には、図示されるモータの一次力は、各コイルセットにおける個別のコイルにより生成される個々の力から結果的に得られる力である。両モータパーツが互いに対し変位する場合には（個々のコイルにおける電流と、磁界との相互作用とが共に、変位により変化するため）これらの個々の力は一定でないため、Ｙ方向またはＺ方向への結果的に得られる力に加えて、位置依存トルクコンポーネントを生成することがある。このトルクは、図３において矢印３６０により概略的に示され、これはＸ軸を中心とするトルクであり、このＸ軸はこの図のＹＺ平面に対して垂直である。理解されるように、このトルクは、生成される一次力と、両モータパーツ間の相対位置との関数として表すことができる。
【００４８】
[0059]  電磁モータが図３の場合のように２つ以上のフォーサを含む場合、各フォーサは、作動中にそのような寄生トルクを生成し得ることが理解されよう。実際には、全フォーサから結果的に得られるトルクは、図２ａまたは図２ｂに示されるようなプロセスによって少なくとも部分的に補正することの可能なピッチトルクである。
【００４９】
[0060]  また、対象物の位置を制御する方法は、欧州特許第１３５７４３４号で説明される平面モータにおいて適用することができる。そのような平面モータは、図３に示される２次元バージョンのモータとして理解することができる。Ｙ方向に力を生成するように構成されるフォーサに加えて、そのような平面モータは、Ｘ方向に力を生成するように構成される１つまたは複数のフォーサを含み、一般的にこのＸ方向はＹ方向に対して垂直である。Ｘ方向に力（または複数の力）を生成するために、平面モータの永久磁石アレイは、交番磁界がＸ方向およびＹ方向の両方に生成されるように構成される。例えば、これは、図４ａに示される永久磁石４００のチェッカボードパターンにより得ることができる。磁石の内部の参照符号ＮおよびＳは、個別の磁石４１０の分極（Ｎ極またはＳ極）を表す。当業者には理解されるであろうが、平面モータの効果は、永久磁石アセンブリに関していわゆる２次元ハルバッハ配列を使用して改善することができる。そのような磁石の配置構成が図４ｂに示され、磁石４５０、４５２、４５４および４５６は、磁石の内部の矢印により示されるように分極される永久磁石である。図５ａは、本発明の一実施形態に適用することのできる平面モータの上面図を概略的に示す。図５ａは、永久磁石５００の２次元アレイを、モータのフォーサ５１０と共に示す。図示される平面モータのフォーサは、矢印５３０により示される方向に一次力を生成するように配置される複数のコイルセット５２０を含む。さらに、図５ａは、永久磁石アレイの磁場周期を示す磁極ピッチτを示す。図５ｂは、平面モータのフォーサ５６０に対するコイルセット５５０の代替の構成を示す。
【００５０】
[0061]  既に上で述べたように、電磁モータのフォーサまたは複数のフォーサにより生成されるピッチトルクは、両モータパーツの相対位置に左右され、モータの一次力（または複数の力）と両モータパーツの相対位置との関数として表すことができる。この情報を取得する一手法は、相対位置を測定するためにモータの両パーツ間に測定システムを提供することである。そのような測定システムの一例として、（コイルセットまたは複数のコイルセットを含む）モータのフォーサパーツが、永久磁石アレイ（またはアセンブリ）の磁場を測定するように構成される１つまたは複数のホールセンサを備えることができる。ホールセンサ（または複数のホールセンサ）の出力信号は、所望の位置情報を提供して、補正されるまたは考慮に入れられる必要のあるピッチトルクの決定を可能にする。同様に、エンコーダベース測定システムなどの代替の測定システムを適用することができる。
【００５１】
[0062]  対象物の位置決めのためにステージ装置においてモータを適用する場合に、対象物の位置を測定するための位置測定システムが既にある場合がある。例えば、そのような測定システムは、干渉計システムまたはエンコーダベースシステムを含んでよく、例えば装置の基準に対する対象物の位置を測定することを可能にし得る。モータのフォーサパーツに対する対象物の位置情報および、基準に対する永久磁石パーツの位置に関する位置情報と組み合わされることにより、両モータパーツの相対位置を得ることができる。そのようなセットアップが図６に図示される。図６は、ベース６１０に取り付けられたステージ装置６００を概略的に示す。このステージ装置は、装置の基準６６０に対してＹ方向に対象物６５０（例えばリソグラフィ装置の基板テーブル）を変位させるために、（ベース６１０に取り付けられ、例えば図３、図４ａ、図４ｂまたは図５ａに図示されるような永久磁石アレイであってよい）第２のパーツ６４０と協働するように構成される第１のパーツ６３０（例えば図３、図５ａまたは図５ｂに示されるようなフォーサ）を含む電磁モータ６２０を含む。さらに、この装置は、基準６６０に対する対象物６５０の位置を測定するように配置構成される位置測定システム６７０を含む。基準６６０に対する電磁体の第２のパーツ６４０の位置が固定される場合、対象物テーブルの位置測定を適用して、第２のパーツに対する電磁モータの第１のパーツの位置を決定することができ、この位置情報が、電磁モータにより生成されるピッチトルクを決定することが望ましい場合がある。
【００５２】
[0063]  リソグラフィ装置において（支持構造体（例えばマスクテーブル）または基板テーブルの位置決めなど）対象物の高い位置決め精度が望まれる装置では、ステージ位置決めデバイスの反作用力による重要パーツの励振を緩和するまたは回避するために、バランス・マス・アレンジメント（balance mass arrangement）がしばしば適用される。そのようなバランス・マス・アレンジメントが図７に概略的に示される。図６に適用される対応する参照番号が、ステージ装置の対応する部分を表すために使用される。しかし、図６とは対照的に、電磁モータ６２０の第２のパーツ６４０は、ベース６１０に取り付けられず、少なくともモータの一次力の方向に対応する方向に、ベース６１０に対する摩擦が実質的にない状態で変位可能である態様で（矢印６９０により示される）構成される。そのようにすることにより、このパーツ６４０上に作用する一次力の反作用力が、このパーツをモータの第１のパーツ６３０とは逆方向に変位させることができる。このような構成により、反作用力による重要な機械パーツの励振を回避するまたは緩和することが可能となる。
【００５３】
[0064]  そのようなバランス・マス・アレンジメントにおいて第２のパーツに対する第１のモータパーツの位置を決定するために、例えば基準６６０に対する電磁モータ６２０の第２のパーツ６４０の位置を決定するように構成される第２の測定システム６８０を適用することができる。位置測定システム６７０より取得される位置情報と組み合わせて、第２のモータパーツに対する第１のモータパーツの位置が得られ、これを使用してモータのピッチトルクを決定することができる。
【００５４】
[0065]  図８は、矢印１５０によってピッチトルクを計算するための位置測定の使用が示される本発明の一実施形態による方法のより詳細な流れ図を概略的に示す。さらに、図８は、フィードバックループＦＢ１７０およびフィードフォワードループＦＦ１８０を含んでよいコントローラ１６０を概略的に示す。このコントローラは、対象物の位置測定のフィードバック１９０と組み合わせて、位置決めされる対象物のセットポイント１８５を使用することができる。点線１８８により示されるように（図７で示される）ピッチトルクの計算において、対象物のこの位置測定を使用することもできることに留意されたい。
【００５５】
[0066]  さらに、図２ａ、図２ｂまたは図８による電磁モータのピッチトルクの影響を考慮に入れるための方法は、以下のように改善されてよい。すなわち、上述のように、この上述の方法において、計算されたピッチトルクを使用して、所望の力およびトルクを修正する。しかし、このために使用するピッチトルクは、前のサンプルにおいて計算される。そのため、計算されたピッチトルクは、生じ得るモータの実際の変位を考慮に入れない。この変位は、以下のようにして考慮に入れることができる。すなわち、次のサンプルにおける両モータの実際の相対位置に基づいてピッチトルクを計算するのではなく、次のサンプルにおける両モータの相対位置の推定に基づいてピッチトルクを計算することができる。この推定は、例えばモータの実速度に関する情報と組み合わせて、両パーツの実際の相対位置より取得することができる。実速度に基づき、かつ２つのサンプル間の時間間隔を知ることにより、次のサンプルにおけるモータの位置を推定し、この位置を使用してピッチトルクを計算することが可能となる。測定から取得することのできる実速度を使用する代わりに、２つ以上の位置の測定より速度を取得することができる。代替として、位置決めのためのセットポイントが速度セットポイントも含む場合、この速度セットポイントを適用して、次のサンプルにおける両モータパーツの相対位置の推定を得ることができる。ピッチトルクの計算のために速度を使用して改善された位置基準を得ることに加えて、モータの加速を使用してさらなる改善を実現することができる。
【００５６】
[0067]  本文では、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して特定の参照をする場合があるが、本明細書で説明されるリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用の誘導および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造など、他の用途を有し得ることを理解すべきである。それらのような他の用途において、本明細書で使用される「ウェーハ」または「ダイ」という語はいずれも、より一般的な語である「基板」または「ターゲット部分」とそれぞれ同義であると見なしてよいことが、当業者には理解されよう。本明細書で言及される基板は、例えばトラック（典型的には、基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツールおよび／またはインスペクションツールにおいて、露光の前または後に処理されてよい。適用可能であれば、本明細書の開示は、それらのおよび他の基板処理ツールに適用してよい。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを製造するために２度以上処理されてよく、したがって本明細書で使用される基板という語は、複数の処理された層を既に含む基板を指してもよい。
【００５７】
[0068]  本明細書で使用される「放射」および「ビーム」という語は、紫外（ＵＶ）線（例えば約３６５、２４８、１９３、１５７または１２６ｎｍの波長を有する）および極端紫外（ＥＵＶ）線（例えば５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、ならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを含む、全てのタイプの電磁放射を包含する。
【００５８】
[0069]  場合が許すならば、「レンズ」という語は、屈折型、反射型、磁気型、電磁型および静電型光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントの中の任意の１つまたは組合せを指してよい。
【００５９】
[0070]  本発明の特定の実施形態が上述で説明されたが、本発明は説明された以外の他の形態においても実施し得ることが理解されよう。例えば、本発明は、上記で開示された方法を記述する１つまたは複数の連続的な機械読取可能命令を含むコンピュータプログラム、またはそのようなコンピュータプログラムを記憶するデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとってよい。
【００６０】
[0071]  上記の説明は、限定的なものではなく、例示的なものとして意図される。したがって、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく説明された本発明に対して変更をなし得ることが、当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】[0015]本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置の図である。
【図２ａ】[0016]本発明の一実施形態の第１の流れ図を概略的に示す図である。
【図２ｂ】[0017]本発明の一実施形態の第２の流れ図を概略的に示す図である。
【図３】[0018]本発明の一実施形態において適用することが可能な電磁モータを概略的に示す図である。
【図４ａ】[0019]本発明の一実施形態によるステージ装置において適用することが可能な平面モータにおいて適用することが可能な２次元永久磁石アレイを概略的に示す図である。
【図４ｂ】[0020]本発明の一実施形態によるステージ装置において適用することが可能な平面モータにおいて適用することが可能な別の２次元永久磁石アレイを概略的に示す図である。
【図５ａ】[0021]本発明の一実施形態において適用することが可能な平面モータの上面図を概略的に示す図である。
【図５ｂ】[0022]本発明の一実施形態において適用することが可能な平面モータにおいて適用することが可能なフォーサの可能なレイアウトの概略図である。
【図６】[0023]本発明の一実施形態によるステージ装置の概略図である。
【図７】[0024]本発明の一実施形態による別のステージ装置の概略図である。
【図８】[0025]本発明の一実施形態の第３の流れ図を概略的に示す図である。
【図１】
0004990864.tif 000002
【図２ａ】
0004990864.tif 000003
【図２ｂ】
0004990864.tif 000004
【図３】
0004990864.tif 000005
【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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