(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層とを有し、前記有機層がキレート配位子を含むバリア性積層体であって、
前記キレート配位子が、下記一般式（１）で表される化合物および一般式（２）で表される化合物から選択される化合物の少なくとも１種とその他の重合性化合物とを重合してなる、バリア性積層体。
一般式（１）
【化１】
0005052418.tif 000021
（一般式（１）中、Ｒ1およびＲ3は、それぞれ、水素原子または置換基であり、Ｒ1およびＲ3の少なくとも一方は、重合性基を含む。Ｒ2は、−（ＣＨＲc）−で表される基であり、Ｒcは水素原子または置換基である。）
一般式（２）
【化２】
0005052418.tif 000022
（一般式（２）中、Ｒ4は、一つ以上の置換基であり、いずれの環に含まれていてもよく、それぞれ水素原子または置換基であり、Ｒ4の少なくとも１つは、重合性基を含む。）
【請求項２】
前記有機層が、高分子化合物を主成分とし、該有機層中に含まれるキレート配位子が前記高分子化合物と化学的に結合している、請求項１に記載のバリア性積層体。
【請求項３】
前記有機層が、重合性化合物を塗布した後あるいは塗布しながら重合させてなる、請求項１または２に記載のバリア性積層体。
【請求項４】
前記キレート配位子が金属配位した後５員環又は６員環の環構造となりうるキレート配位子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
【請求項５】
有機層の表面に無機層が設けられている、請求項１〜４のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
【請求項６】
有機層と無機層を交互に積層し、少なくとも２層の無機層を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
【請求項７】
無機層がＳｉまたはＡｌの、酸化物、窒化物または酸窒化物であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
【請求項８】
無機層を反応性スパッタリング法によって成膜してなる、請求項１〜７のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
【請求項９】
無機層がＣＶＤ法によって成膜してなる、請求項１〜７のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
【請求項１０】
支持体上に、請求項１〜９のいずれか１項に記載のバリア性積層体を設けたガスバリアフィルム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のガスバリアフィルムを基板に用いたデバイス。
【請求項１２】
請求項１０に記載のガスバリアフィルムを用いて封止したデバイス。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のバリア性積層体を用いて封止したデバイス。
【請求項１４】
前記デバイスが、電子デバイスである、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記デバイスが、有機ＥＬ素子である、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１６】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のバリア性積層体または請求項１０に記載のガスバリアフィルムを用いた光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バリア性積層体、ならびに、これを用いた、ガスバリアフィルム、デバイスおよび光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示素子や有機ＥＬ素子（有機電界発光素子）等の分野においては、重くて割れやすいガラス基板に代わって、軽量で割れることのないプラスチックフィルム基板が採用され始めている。しかしながら、外界からのガスの遮断（封止、ガスバリア性）という観点において、一般にプラスチックフィルム基板はガラス基板と比較すると水蒸気バリア性に劣るという問題がある。水蒸気バリア性に劣るフィルム基板を液晶表示素子や有機ＥＬ素子に用いると、水蒸気が液晶セル内に侵入して表示欠陥が発生しやすくなる。これを解決するためにプラスチックフィルム支持体上にバリア性を有する無機層を形成することが広く行われている。具体的には特許文献１に開示されているようにプラスチックフィルム支持体上に酸化珪素を蒸着することや、特許文献２で示されているようにプラスチックフィルム支持体上に酸化アルミニウムを蒸着することが知られている。また、特許文献３ではプラスチックフィルム支持体上に酸化珪素、酸化アルミニウム、インジウムおよびスズの複合酸化物をスパッタリング法により成膜したものが知られており、該文献において、最も良好なものでは無機層１層あたり０．０１１ｇ／ｍ2／ｄａｙのガスバリア能（水蒸気透過率）を達成している。しかしながら、有機ＥＬ素子に適用するために必要と考えられるガスバリア能は０．００１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、特許文献３のガスバリア能では有機ＥＬ素子に適応させる目的では十分とは言えない。特許文献４には、無機酸化物薄膜層と変性ポリビニルアルコール樹脂層との積層体において、変性ポリビニルアルコール樹脂層に金属化合物の触媒を含有させることが記載されている。すなわち、低分子の錯体が変性ポリビニルアルコール樹脂層に添加されている。しかしながら、近年の高いバリア性能の要求を考慮すれば、性能が十分とはいえない。
【０００３】
【特許文献１】特公昭５３−１２９５３号公報（第１頁〜第３頁）
【特許文献２】特開昭５８−２１７３４４号公報（第１頁〜第４頁）
【特許文献３】特開２００２−２６４２７４号公報
【特許文献４】特開２００４−３３０６７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記課題を解決することを目的としたものであって、よりバリア性能に優れたバリア性積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題のもと、本発明者が鋭意検討を行った結果、以下の手段により、上記課題は解決された。
（１）少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層とを有し、前記有機層がキレート配位子を含むことを特徴とするバリア性積層体。
（２）前記有機層が、高分子化合物を主成分とし、該有機層中に含まれるキレート配位子が前記高分子化合物と化学的に結合している、（１）に記載のバリア性積層体。
（３）前記有機層が、重合性化合物を塗布した後あるいは塗布しながら重合させてなる、（１）または（２）に記載のバリア性積層体。
（４）前記キレート配位子が金属配位した後５員環又は６員環の環構造となりうるキレート配位子であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
（５）前記キレート配位子のうち、金属が配位する原子がＯまたはＮである、（１）〜（４）のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
（６）前記キレート配位子が、下記一般式（１）で表される化合物および一般式（２）で表される化合物から選択される化合物の少なくとも１種を重合してなることを特徴とする、（１）〜（５）のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
一般式（１）
【化１】
0005052418.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ1およびＲ3は、それぞれ、水素原子または置換基であり、Ｒ1およびＲ3の少なくとも一方は、重合性基を含む。Ｒ2は、−（ＣＨＲc）−で表される基であり、Ｒcは水素原子または置換基である。）
一般式（２）
【化２】
0005052418.tif 000003
（一般式（２）中、Ｒ4は、一つ以上の置換基であり、いずれの環に含まれていてもよく、それぞれ水素原子または置換基であり、Ｒ4の少なくとも１つは、重合性基を含む。）
（７）有機層の表面に無機層が設けられている、（１）〜（６）のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
（８）有機層と無機層を交互に積層し、少なくとも２層の無機層を有する、（１）〜（７）のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
（９）無機層がＳｉまたはＡｌの、酸化物、窒化物または酸窒化物であることを特徴とする、（１）〜（８）のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
（１０）無機層を反応性スパッタリング法によって成膜してなる、（１）〜（９）のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
（１１）無機層がＣＶＤ法によって成膜してなる、（１）〜（９）のいずれか１項に記載のバリア性積層体。
（１２）支持体上に、（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のバリア性積層体を設けたガスバリアフィルム。
（１３）（１２）に記載のガスバリアフィルムを基板に用いたデバイス。
（１４）（１２）に記載のガスバリアフィルムを用いて封止したデバイス。
（１５）（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のバリア性積層体を用いて封止したデバイス。
（１６）前記デバイスが、電子デバイスである、（１３）〜（１５）のいずれか１項に記載のデバイス。
（１７）前記デバイスが、有機ＥＬ素子である、（１３）〜（１５）のいずれか１項に記載のデバイス。
（１８）（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のバリア性積層体または（１２）に記載のガスバリアフィルムを用いた光学部材。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、よりバリア性に優れたガスバリアフィルムを得ることが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機ＥＬ素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を含む意味で使用される。
【０００８】
＜バリア性積層体＞
本発明のバリア性積層体は、少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層とを有し、前記有機層がキレート配位子を含むことを特徴とする。このような有機層を有するバリア性積層体とすることにより、バリア性を向上させることができる。
特に、有機層がキレート配位子を含むことにより、隣接する無機層の成膜初期における金属のマイグレーションが抑制され、無機層の緻密度が向上した結果としてバリア性能により優れたバリア性積層体が得られる。従って、本発明のバリア性積層体は、好ましくは、上記有機層の表面に無機層を設けた構成である。さらに好ましくは、少なくとも２層の上記構成の有機層と、少なくとも１層の無機層とが交互に積層した構造である。このような構成とすることにより、有機層と無機層の密着性が向上し、バリア性がより向上する。
【０００９】
（有機層）
本発明における有機層は、キレート配位子を含み、好ましくは、高分子化合物を主成分とし、キレート配位子が、該高分子化合物と化学的に結合している有機層が好ましい。ここで、高分子化合物を主成分とするとは、高分子化合物が、有機層を構成する第一の成分であり、通常は、有機層の８０重量％以上が高分子化合物であることをいう。キレート配位子は、より好ましくは、金属配位した後５員環又は６員環の環構造となりうるキレート配位子であり、さらに好ましくは、金属が配位する原子がＯまたはＮであるキレート配位子である。本発明の有機層は、好ましくは、以下の一般式（１）〜（５）で表される化合物のいずれか１種以上を重合してなるものであり、より好ましくは、一般式（１）〜（５）で表される化合物のいずれか１種以上と、他の重合性化合物を重合してなるものである。特に本発明では、一般式（１）または（２）で表される化合物のいずれか１種以上と、他の重合性化合物を重合してなるものである。
【００１０】
一般式（１）
【化３】
0005052418.tif 000004
（一般式（１）中、Ｒ1およびＲ3は、それぞれ、メチル基またはその他の置換基であり、Ｒ1およびＲ3の少なくとも一方は、重合性基を含む。Ｒ2は、−（ＣＨＲc）−で表される基であり、Ｒcは水素原子または置換基である。）
【００１１】
Ｒ1およびＲ3における置換基としては何でもよいが、アルキル基、アリール基、アルコキシ基などが挙げられる。重合性基を含む置換基としては、ラジカル重合性基を含む置換基が挙げられる。その重合性基としてはアクリル基、メタクリル基、ビニル基が好ましく、特にアクリル基が好ましい。Ｒ2は、−（ＣＨＲc）−で表される基であり、Ｒcにおける置換基としては、Ｒ1およびＲ3で挙げた置換基と同じものも挙げられるが、Ｒcは水素原子が好ましい。
【００１２】
一般式（２）
【化４】
0005052418.tif 000005
（一般式（２）中、Ｒ4は、それぞれ、水素原子または置換基であり、Ｒ4の少なくとも１つは、重合性基を含む。）
【００１３】
Ｒ4における置換基としては、Ｒ1およびＲ3における置換基と同じものが挙げられる。Ｒ4のうち重合性基を含むものは、アクリル基が好ましい。Ｒ4は、ＯＨ基が結合している側のものについて、重合性基を有することが好ましい。
【００１４】
一般式（３）
【化５】
0005052418.tif 000006
（一般式（３）中、Ｒ5およびＲ8は、それぞれ、水素原子または置換基であり、Ｒ5およびＲ8の少なくとも一方は、重合性基を含む。Ｒ6は、−（ＣＲaＲb）−で表される基であり、ＲaおよびＲbはそれぞれ水素原子または置換基である。Ｒ7は、水素原子または置換基である）
【００１５】
Ｒ5およびＲ8における置換基としては、Ｒ1およびＲ3で挙げた置換基と同じものが挙げられる。Ｒ5およびＲ8は、それぞれ、重合性基を含む場合、Ｎ原子には少なくとも２つ以上のメチレン鎖が直結していることが好ましく、Ｒ5およびＲ8のうち重合性基を含むものは、それぞれ、アクリル基が好ましい。
ＲaおよびＲbにおける置換基としては、Ｒ1およびＲ3で挙げた置換基と同じものが挙げられる。Ｒ6は、メチレンが好ましい。
Ｒ7における置換基としては、Ｒ1およびＲ3で挙げた置換基と同じものが挙げられる。Ｒ7は、水素原子が好ましい。
【００１６】
一般式（４）
【化６】
0005052418.tif 000007
（一般式（４）中、Ｒ9は、それぞれ、水素原子または置換基であり、Ｒ9の少なくとも１つは、重合性基を含む。Ｒ10は、水素原子または置換基である。）
【００１７】
Ｒ9における置換基としては、Ｒ1およびＲ3における置換基と同じものが挙げられる。Ｒ9のうち重合性基を含むものは、アクリル基が好ましい。Ｒ10における置換基としては、Ｒ1およびＲ3で挙げた置換基と同じものが挙げられる。Ｒ10は、水素原子が好ましい。
【００１８】
一般式（５）
【化７】
0005052418.tif 000008
（一般式（５）中、Ｒ11は、それぞれ、水素原子または置換基であり、Ｒ11の少なくとも１つは、重合性基を含む。Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ、水素原子または置換基である。）
【００１９】
Ｒ12およびＲ13における置換基としては、Ｒ1およびＲ3で挙げた置換基と同じものが挙げられる。Ｒ12およびＲ13は、それぞれ、水素原子が好ましい。
Ｒ14における置換基としては、Ｒ1およびＲ3で挙げた置換基と同じものが挙げられる。Ｒ14は、水素原子が好ましい。
Ｒ11における置換基としては、Ｒ1およびＲ3における置換基と同じものが挙げられる。Ｒ11のうち重合性基を含むものは、アクリル基が好ましい。
【００２０】
以下に本発明で好ましく用いられるキレート配位子を有する重合性化合物を例示するが本発明はこれらに限定されるものではないことは言うまでも無い。
【００２１】
【化８】
0005052418.tif 000009
【００２２】
本発明の有機層における、他の重合性化合物としては、公知の重合性化合物を広く採用することができ、ビニル化合物、（メタ）アクリレート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物が挙げられ、ビニル化合物、（メタ）アクリレート化合物が好ましく、アクリレート化合物がより好ましい。
本発明においては、一般式（１）〜（５）で表される化合物と、他の重合性化合物の割合（重量比）が、１：１９〜１：１であることが好ましく、１：９〜１：４であることがより好ましい。
【００２３】
（重合開始剤）
本発明における有機層は、通常、重合性化合物を含む重合性組成物を塗布硬化させて得られるが、該重合性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤を用いる場合、その含量は、重合性化合物の合計量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。光重合開始剤の例としてはチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から市販されているイルガキュア（Irgacure）シリーズ（例えば、イルガキュア６５１、イルガキュア７５４、イルガキュア１８４、イルガキュア２９５９、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９など）、ダロキュア（Darocure)シリーズ（例えば、ダロキュアＴＰＯ、ダロキュア１１７３など）、クオンタキュア（Quantacure）ＰＤＯ、サートマー(Sartomer）社から市販されているエザキュア（Ezacure）シリーズ（例えば、エザキュアＴＺＭ、エザキュアＴＺＴなど）、同じくオリゴマー型のエザキュアＫＩＰシリーズ等が挙げられる。
【００２４】
（有機層の形成方法）
有機層の形成方法としては、特に定めるものではないが、好ましくは、重合性化合物を塗布した後あるいは塗布しながら重合させて形成する。
より具体的には、溶液塗布法や真空成膜法により形成することができる。溶液塗布法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストル−ジョンコート法により塗布することができる。真空成膜法としては、特に制限はないが、真空蒸着、プラズマＣＶＤ等の成膜方法が好ましい。本発明においてはポリマーを溶液塗布しても良いし、特開２０００−３２３２７３号公報、特開２００４−２５７３２号公報に開示されているような無機物を含有するハイブリッドコーティング法を用いてもよい。
【００２５】
本発明では、通常、重合性化合物を含む組成物を、光照射して硬化させるが、照射する光は、通常、高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線である。照射エネルギーは０．１Ｊ／ｃｍ2以上が好ましく、０．５Ｊ／ｃｍ2以上がより好ましい。重合性化合物として、（メタ）アクリレート系化合物を採用する場合、空気中の酸素によって重合阻害を受けるため、重合時の酸素濃度もしくは酸素分圧を低くすることが好ましい。窒素置換法によって重合時の酸素濃度を低下させる場合、酸素濃度は２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましい。減圧法により重合時の酸素分圧を低下させる場合、全圧が１０００Ｐａ以下であることが好ましく、１００Ｐａ以下であることがより好ましい。また、１００Ｐａ以下の減圧条件下で０．５J／ｃｍ2以上のエネルギーを照射して紫外線重合を行うのが特に好ましい。
【００２６】
本発明における有機層は、平滑で、膜硬度が高いことが好ましい。有機層の平滑性は１μｍ角の平均粗さ（Ｒａ値）として１ｎｍ未満であることが好ましく、０．５ｎｍ未満であることがより好ましい。モノマーの重合率は８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９２％以上であることが特に好ましい。ここでいう重合率とはモノマー混合物中の全ての重合性基のうち、反応した重合性基の比率を意味する。重合率は赤外線吸収法によって定量することができる。
【００２７】
有機層の膜厚については特に限定はないが、薄すぎると膜厚の均一性を得ることが困難になるし、厚すぎると外力によりクラックを発生してバリア性が低下する。かかる観点から、有機層の厚みは５０ｎｍ〜２０００ｎｍが好ましく、２００ｎｍ〜１５００ｎｍがより好ましい。
また、有機層は先に記載したとおり平滑であることが好ましい。有機層の平滑性は１μｍ角の平均粗さ（Ｒａ値）として１ｎｍ未満が好ましく、０．５ｎｍ未満であることがより好ましい。有機層の表面にはパーティクル等の異物、突起が無いことが要求される。このため、有機層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス１００００以下が好ましく、クラス１０００以下がより好ましい。
有機層の硬度は高いほうが好ましい。有機層の硬度が高いと、無機層が平滑に成膜されその結果としてバリア能が向上することがわかっている。有機層の硬度はナノインデンテーション法に基づく微小硬度として表すことができる。有機層の微小硬度は１００Ｎ／ｍｍ以上であることが好ましく、１５０Ｎ／ｍｍ以上であることがより好ましい。
有機層は２層以上積層することが好ましい。この場合、少なくとも１層が、上述した有機層であればよく、他の有機層は、上述した有機層であっても、他の有機層であってもよい。また、有機層の１層として、米国公開特許２００４−４６４９７号明細書に開示してあるように無機層との界面が明確で無く、組成が膜厚方向で連続的に変化する層であってもよい。
【００２８】
（無機層）
無機層は、通常、金属化合物からなる薄膜の層である。無機層の形成方法は、目的の薄膜を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法（ＰＶＤ）、種々の化学的気相成長法（ＣＶＤ）、めっきやゾルゲル法等の液相成長法がある。無機層に含まれる成分は、上記性能を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属酸化窒化物または金属酸化炭化物であり、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、またはＴａから選ばれる１種以上の金属を含む酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物などを好ましく用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特にＳｉまたはＡｌの金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。
本発明により形成される無機層の平滑性は、１μｍ角の平均粗さ（Ｒａ値）として１ｎｍ未満であることが好ましく、０．５ｎｍ以下がより好ましい。無機層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス１００００以下が好ましく、クラス１０００以下がより好ましい。
【００２９】
無機層の厚みに関しては特に限定されないが、１層に付き、通常、５〜５００ｎｍの範囲内であり、好ましくは１０〜２００ｎｍである。無機層は複数のサブレイヤーから成る積層構造であってもよい。この場合、各サブレイヤーが同じ組成であっても異なる組成であってもよい。また、上述したとおり、米国公開特許２００４−４６４９７号明細書に開示してあるように有機層との界面が明確で無く、組成が膜厚方向で連続的に変化する層であってもよい。
【００３０】
（有機層と無機層の積層）
有機層と無機層の積層は、所望の層構成に応じて有機層と無機層を順次繰り返し製膜することにより行うことができる。無機層を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などの真空製膜法で形成する場合、有機層も前記フラッシュ蒸着法のような真空製膜法で形成することが好ましい。バリア層を製膜する間、途中で大気圧に戻すことなく、常に１０００Ｐａ以下の真空中で有機層と無機層を積層することが特に好ましい。圧力は１００Ｐａ以下であることがより好ましく、５０Ｐａ以下であることがより好ましく、２０Ｐａ以下であることがさらに好ましい。
特に、本発明は、少なくとも２層の有機層と少なくとも２層の無機層を交互に積層した場合に、高いバリア性を発揮することができる。さらに、本発明では、上述した有機層の表面に無機層を設けることにより、該有機層と該無機層の密着性が向上し、より好ましい。
【００３１】
（機能層）
本発明の積層体においては、バリア性積層体上、もしくはその他の位置に、機能層を有していても良い。機能層については、特開２００６−２８９６２７号公報の段落番号００３６〜００３８に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。
【００３２】
バリア性積層体の用途
本発明のバリア性積層体は、通常、支持体の上に設けるが、この支持体を選択することによって、様々な用途に用いることができる。支持体には、基材フィルムのほか、各種のデバイス、光学部材等が含まれる。具体的には、本発明のバリア性積層体はガスバリアフィルムのバリア層として用いることができる。また、本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、バリア性を要求するデバイスの封止に用いることができる。本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは、光学部材にも適用することができる。以下、これらについて詳細に説明する。
【００３３】
＜ガスバリアフィルム＞
ガスバリアフィルムは、基材フィルムと、該基材フィルム上に形成されたバリア性積層体とを有する。ガスバリアフィルムにおいて、本発明のバリア性積層体は、基材フィルムの片面にのみ設けられていてもよいし、両面に設けられていてもよい。本発明のバリア性積層体は、基材フィルム側から無機層、有機層の順に積層していてもよいし、有機層、無機層の順に積層していてもよい。本発明の積層体の最上層は無機層でも有機層でもよい。
また、本発明におけるガスバリアフィルムは大気中の酸素、水分、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等を遮断する機能を有するバリア層を有するフィルム基板である。
ガスバリアフィルムを構成する層数に関しては特に制限はないが、典型的には２層〜３０層が好ましく、３層〜２０層がさらに好ましい。
ガスバリアフィルムはバリア性積層体、基材フィルム以外の構成成分（例えば、易接着層等の機能性層）を有しても良い。機能性層はバリア性積層体の上、バリア性積層体と基材フィルムの間、基材フィルム上のバリア性積層体が設置されていない側（裏面）のいずれに設置してもよい。
【００３４】
（プラスチックフィルム）
本発明におけるガスバリアフィルムは、通常、基材フィルムとして、プラスチックフィルムを用いる。用いられるプラスチックフィルムは、有機層、無機層等の積層体を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記プラスチックフィルムとしては、具体的には、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。
【００３５】
本発明のガスバリアフィルムを後述する有機ＥＬ素子等のデバイスの基板として使用する場合は、プラスチックフィルムは耐熱性を有する素材からなることが好ましい。具体的には、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１００℃以上および／または線熱膨張係数が４０ｐｐｍ／℃以下で耐熱性の高い透明な素材からなることが好ましい。Ｔｇや線膨張係数は、添加剤などによって調整することができる。このような熱可塑性樹脂として、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：１２０℃）、ポリカーボネート（ＰＣ：１４０℃）、脂環式ポリオレフィン（例えば日本ゼオン(株)製 ゼオノア１６００：１６０℃）、ポリアリレート（ＰＡｒ：２１０℃）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ：２２０℃）、ポリスルホン（ＰＳＦ：１９０℃）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：特開２００１−１５０５８４号公報の化合物：１６２℃）、ポリイミド（例えば三菱ガス化学（株）ネオプリム：２６０℃）、フルオレン環変性ポリカーボネート（ＢＣＦ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の化合物：２２５℃）、脂環変性ポリカーボネート（ＩＰ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の化合物：２０５℃）、アクリロイル化合物（特開２００２−８０６１６号公報の化合物：３００℃以上）が挙げられる（括弧内はＴｇを示す）。特に、透明性を求める場合には脂環式ポレオレフィン等を使用するのが好ましい。
【００３６】
本発明のガスバリアフィルムを偏光板と組み合わせて使用する場合、ガスバリアフィルムのバリア性積層体がセルの内側に向くようにし、最も内側に（素子に隣接して）配置することが好ましい。このとき偏光板よりセルの内側にガスバリアフィルムが配置されることになるため、ガスバリアフィルムのレターデーション値が重要になる。このような態様でのガスバリアフィルムの使用形態は、レターデーション値が１０ｎｍ以下の基材フィルムを用いたガスバリアフィルムと円偏光板（１／４波長板＋（１／２波長板）＋直線偏光板）を積層して使用するか、あるいは１／４波長板として使用可能な、レターデーション値が１００ｎｍ〜１８０ｎｍの基材フィルムを用いたガスバリアフィルムに直線偏光板を組み合わせて用いるのが好ましい。
【００３７】
レターデーションが１０ｎｍ以下の基材フィルムとしてはセルローストリアセテート（富士フイルム（株）：富士タック）、ポリカーボネート（帝人化成（株）：ピュアエース、（株）カネカ：エルメック）、シクロオレフィンポリマー（ＪＳＲ（株）：アートン、日本ゼオン（株）：ゼオノア）、シクロオレフィンコポリマー（三井化学（株）：アペル（ペレット）、ポリプラスチック（株）：トパス（ペレット））ポリアリレート（ユニチカ（株）：Ｕ１００（ペレット））、透明ポリイミド（三菱ガス化学（株）：ネオプリム）等を挙げることができる。
また１／４波長板としては、上記のフィルムを適宜延伸することで所望のレターデーション値に調整したフィルムを用いることができる。
【００３８】
本発明のガスバリアフィルムは有機ＥＬ素子等のデバイスとして利用されることから、プラスチックフィルムは透明であること、すなわち、光線透過率が通常８０％以上、好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。
本発明のガスバリアフィルムをディスプレイ用途に用いる場合であっても、観察側に設置しない場合などは必ずしも透明性が要求されない。したがって、このような場合は、プラスチックフィルムとして不透明な材料を用いることもできる。不透明な材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、公知の液晶ポリマーなどが挙げられる。
本発明のガスバリアフィルムに用いられるプラスチックフィルムの厚みは、用途によって適宜選択されるので特に制限がないが、典型的には１〜８００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。これらのプラスチックフィルムは、透明導電層、プライマー層等の機能層を有していても良い。機能層については、特開２００６−２８９６２７号公報の段落番号００３６〜００３８に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、耐溶剤層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。
【００３９】
＜デバイス＞
本発明のバリア性積層体およびガスバリアフィルムは空気中の化学成分（酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等）によって性能が劣化するデバイスに好ましく用いることができる。前記デバイスの例としては、例えば、有機ＥＬ素子、液晶表示素子、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池等）等の電子デバイスを挙げることができ有機ＥＬ素子に好ましく用いられる。
【００４０】
本発明のバリア性積層体は、また、デバイスの膜封止に用いることができる。すなわち、デバイス自体を支持体として、その表面に本発明のバリア性積層体を設ける方法である。バリア性積層体を設ける前にデバイスを保護層で覆ってもよい。
【００４１】
本発明のガスバリアフィルムは、デバイスの基板や固体封止法による封止のためのフィルムとしても用いることができる。固体封止法とはデバイスの上に保護層を形成した後、接着剤層、ガスバリアフィルムを重ねて硬化する方法である。接着剤は特に制限はないが、熱硬化性エポキシ樹脂、光硬化性アクリレート樹脂等が例示される。
【００４２】
（有機ＥＬ素子）
ガスバリアフィルム用いた有機ＥＬ素子の例は、特開２００７−３０３８７号公報に詳しく記載されている。
【００４３】
（液晶表示素子）
反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ／４板、そして偏光膜からなる構成を有する。本発明におけるガスバリアフィルムは、前記透明電極基板および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。透過型液晶表示装置は、下から順に、バックライト、偏光板、λ／４板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ／４板および偏光膜からなる構成を有する。このうち本発明の基板は、前記上透明電極および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。液晶セルの種類は特に限定されないが、より好ましくはＴＮ型（Twisted Nematic）、ＳＴＮ型（Super Twisted Nematic）またはＨＡＮ型（Hybrid Aligned Nematic）、ＶＡ型(Vertically Alignment)、ＥＣＢ型（Electrically Controlled Birefringence）、ＯＣＢ型（Optically Compensated Bend）、ＩＰＳ型（In-Plane  Switching）、ＣＰＡ型(Continuous Pinwheel Alignment)であることが好ましい。
【００４４】
（太陽電池）
本発明のガスバリアフィルムは、太陽電池素子の封止フィルムとしても用いることができる。ここで、本発明のガスバリアフィルムは、接着層が太陽電池素子に近い側となるように封止することが好ましい。本発明のガスバリアフィルムが好ましく用いられる太陽電池素子としては、特に制限はないが、例えば、単結晶シリコン系太陽電池素子、多結晶シリコン系太陽電池素子、シングル接合型、またはタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池素子、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）やインジウム燐（ＩｎＰ）等のＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体太陽電池素子、カドミウムテルル（ＣｄＴｅ）等のＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池素子、銅/インジウム/セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅/インジウム/ガリウム/セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池素子、色素増感型太陽電池素子、有機太陽電池素子等が挙げられる。中でも、本発明においては、上記太陽電池素子が、銅/インジウム/セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅/インジウム/ガリウム/セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池素子であることが好ましい。
【００４５】
（その他）
その他の適用例としては、特表平１０−５１２１０４号公報に記載の薄膜トランジスタ、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載のタッチパネル、特開２０００−９８３２６号公報に記載の電子ペーパーに記載の太陽電池等が挙げられる。
【００４６】
＜光学部材＞
本発明のガスバリアフィルムを用いる光学部材の例としては円偏光板等が挙げられる。
（円偏光板）
本発明におけるガスバリアフィルムを基板としλ／４板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ／４板の遅相軸と偏光板の吸収軸とが４５°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向（ＭＤ）に対し４５°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開２００２−８６５５５４号公報に記載のものを好適に用いることができる。
【実施例】
【００４７】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【００４８】
＜モノマーの合成＞
（１−アミノナフタレンの合成）
下記スキーム１に従い１−アミノナフタレンの合成を行った。イソプロピルアルコール１５０ｍｌ、水２５ｍｌの混合溶媒に、鉄粉５０ｇ、塩化アンモニウム１ｇを加え９０℃に加熱した。そこに１−ニトロナフタレン（アルドリッチ社製）２５ｇをイソプロピルアルコール１００ｍｌに溶解させた溶液をゆっくり滴下し攪拌した。反応後ろ過し、エバポレータにて濃縮し、析出させ、再びろ過し１−アミノナフタレンを１８．３１ｇ得た。同定は質量分析、Ｈ−ＮＭＲおよびＩＲにて行った。
【００４９】
スキーム１
【化９】
0005052418.tif 000010
【００５０】
（Ｎ−ナフチルアクリルアミドの合成）
下記スキーム２に従い、Ｎ−ナフチルアクリルアミドの合成を行った。１−アミノナフタレン１５ｇをジクロロメタン１００ｍｌに溶解させ、水１００ｍｌ、炭酸水素ナトリウム１３ｇを加え攪拌した。次にアクリル酸塩化物９．５ｇを加えて十分攪拌し、Ｎ−ナフチルアクリルアミド画分を抽出した。これを、カラムクロマトグラフィーにより精製し１７ｇのＮ−ナフチルアクリルアミドを得た。同定は質量分析、Ｈ−ＮＭＲおよびＩＲにて行った。
【００５１】
スキーム２
【化１０】
0005052418.tif 000011
【００５２】
（Ｎ，５−（８−ヒドロキシキノリニル）アクリルアミドの合成）
下記スキーム３に従い、Ｎ，８−ヒドロキシキノリニルアクリルアミドの合成を行った。５−アミノ−８−ヒドロキシキノリンニ塩酸塩（アルドリッチ社製）２５ｇをジクロロメタン１００ｍｌに溶解させ、水１００ｍｌ、炭酸水素ナトリウム４０ｇを加え攪拌した。次にアクリル酸塩化物９．７ｇを加え十分攪拌し、Ｎ−ナフチルアクリルアミド画分を抽出した。これを、カラムクロマトグラフィーにより精製し１８．７５ｇのＮ，８−ヒドロキシキノリニルアクリルアミドを得た。同定は質量分析、Ｈ−ＮＭＲおよびＩＲにて行った。
【００５３】
スキーム３
【化１１】
0005052418.tif 000012
【００５４】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製＞
（有機層の作製）
ポリエチレンナフタレートフィルム（帝人デュポン社製、テオネックスＱ６５ＦＡ、厚さ１００μｍ）上に、下記化合物１と化合物２を１：１（重量比）で混合し（合計２０ｇ）、これに、紫外線重合開始剤（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製、商品名：Ｃｉｂａイルガキュアー９０７）０．６ｇ、２−ブタノン１９０ｇを添加して重合性組成物を調整した。該重合性組成物を液厚が５μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した。室温にて乾燥した後、窒素置換法により酸素濃度が０．１％となったチャンバー内にて高圧水銀ランプの紫外線を照射（積算照射量約２Ｊ／ｃｍ2）して有機層を硬化させ、膜厚が１０００ｎｍ±５０ｎｍの有機層を形成した（Ｏ−１）。
【００５５】
化合物１
【化１２】
0005052418.tif 000013
【００５６】
化合物２
【化１３】
0005052418.tif 000014
【００５７】
（無機層の作製）
有機層（Ｏ−１）をスパッタリング装置に搬入し、ターゲットとしてＡｌ、放電ガスとしてＡｒを用いてプラズマ放電させた。Ａｌ2Ｏ3の化学量論比になるようプラズマ発光をモニターしながら反応ガスとしてのＯ2の流量を制御しＡｌ2Ｏ3を１００ｎｍとなるように成膜してバリア性積層体を得た（ＢＦ−１）。
【００５８】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−２の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製において、化合物２を下記化合物３に代え、他は同様に行って有機層を形成した（Ｏ−２）。さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−２）を得た。
【００５９】
化合物３
【化１４】
0005052418.tif 000015
【００６０】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−３の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製において、化合物２を下記化合物４に代え、他は同様に行って有機層を形成した（Ｏ−３）。さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−３）を得た。
【００６１】
化合物４
【化１５】
0005052418.tif 000016
【００６２】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−４の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製において、化合物２を下記化合物５に代え、他は同様に行って有機層を形成した（Ｏ−４）。さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−４）を得た。
【００６３】
化合物５
【化１６】
0005052418.tif 000017
【００６４】
得られたガスバリアフィルムについて、下記手法により水蒸気透過率を測定した。
【００６５】
＜カルシウム法による水蒸気透過率の測定＞
G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERらSID Conference Record of the International Display Research Conference 1435-1438頁に記載の方法を用いて水蒸気透過率（ｇ／ｍ2／ｄａｙ）を測定した。このときの温度は４０℃、相対湿度は９０％とした。結果を下記表に示した。
【００６６】
【表１】
0005052418.tif 000018
【００６７】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−５の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製と同様に行って、有機層を形成した（Ｏ−１）。さらに、有機層（Ｏ−１）をスパッタリング装置に搬入し、ターゲットとしてＳｉ、放電ガスとしてＡｒを用いてプラズマ放電させた。Ｓｉ3Ｎ4の化学量論比になるようプラズマ発光をモニターしながら反応ガスとしてＮ2の流量を制御しＳｉ3Ｎ4を１００ｎｍとなるように成膜してガスバリアフィルムを得た（ＢＦ−５）。
【００６８】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−６の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−２の作製と同様に行って、有機層を形成した（Ｏ−２）。さらに、さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−５の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−６）を得た。
【００６９】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−７の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−３の作製と同様に行って、有機層を形成した（Ｏ−３）。さらに、さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−５の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−７）を得た。
【００７０】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−８の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−４の作製と同様に行って、有機層を形成した（Ｏ−４）。さらに、さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−５の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−８）を得た。
【００７１】
得られたガスバリアフィルムについて、上記と同様の手法により水蒸気透過率を測定した。
【００７２】
【表２】
0005052418.tif 000019
【００７３】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−９の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−１の作製と同様に行って、有機層を形成した（Ｏ−１）。さらに、有機層（Ｏ−１）をＣＶＤ装置に搬入し、シランガス（ＳｉＨ4）、アンモニアガス（ＮＨ3）および窒素ガス（Ｎ2）を導入した。周波数１３．５６ＭＨｚのＲＦ放電電力を印加して、温度２５℃、成膜圧力１０Ｐａで膜厚が１００ｎｍのＳｉ3Ｎ4層（無機層）を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−９）を作製した。
【００７４】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−１０の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−２の作製と同様に行って、有機層を形成した（Ｏ−２）。さらに、さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−９の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−１０）を得た。
【００７５】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−１１の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−３の作製と同様に行って、有機層を形成した（Ｏ−３）。さらに、さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−９の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−１１）を得た。
【００７６】
＜ガスバリアフィルムＢＦ−１２の作製＞
ガスバリアフィルムＢＦ−４の作製と同様に行って、有機層を形成した（Ｏ−４）。さらに、さらに、ガスバリアフィルムＢＦ−９の作製と同様に無機層を形成して、ガスバリアフィルム（ＢＦ−１２）を得た。
【００７７】
得られたガスバリアフィルムについて、上記と同様の手法により水蒸気透過率を測定した。
【００７８】
【表３】
0005052418.tif 000020
【００７９】
上記の結果から明らかなとおり、有機層にキレート配位子を付与した場合、バリア性能が向上することは明らかである。さらに、無機層をＣＶＤ法で作製した場合でも同様の効果が確認できる。
【００８０】
有機ＥＬ発光素子での評価
バリア性を評価するために、水蒸気や酸素で黒点（ダークスポット）欠陥を生じる有機ＥＬ素子を作成し評価した。まず、ＩＴＯ膜を有する導電性のガラス基板（表面抵抗値１０Ω／□）を２−プロパノールで洗浄した後、１０分間ＵＶ−オゾン処理を行った。この基板（陽極）上に真空蒸着法にて以下の化合物層を順次蒸着した。
（第１正孔輸送層）
銅フタロシアニン：膜厚１０ｎｍ
（第２正孔輸送層）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジナフチルベンジジン：膜厚４０ｎｍ
（発光層兼電子輸送層）
トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム：膜厚６０ｎｍ
（電子注入層）
フッ化リチウム：膜厚１ｎｍ
この上に、金属アルミニウムを１００ｎｍ蒸着して陰極とし、その上に厚さ３μｍ窒化珪素膜を平行平板ＣＶＤ法によって付け、有機ＥＬ素子を作成した。
次に、熱硬化型接着剤（エポテック３１０、ダイゾーニチモリ（株））を用いて、作成した有機ＥＬ素子上と、上記で作製した各ガスバリアフィルムを、バリア層が有機ＥＬ素子の側となるように貼り合せ、６５℃で３時間加熱して接着剤を硬化させた。このようにして封止された有機ＥＬ素子を各２０素子ずつ作成した。
作成直後の有機ＥＬ素子をソースメジャーユニット（ＳＭＵ２４００型、Keithley社製）を用いて７Ｖの電圧を印加して発光させた。顕微鏡を用いて発光面状を観察したところ、いずれの素子もダークスポットの無い均一な発光を与えることが確認された。
最後に、各素子を６０℃・相対湿度９０％の暗い室内に２４時間静置した後、発光面状を観察した。直径３００μｍよりも大きいダークスポットが観察された素子の比率を故障率と定義し、各素子の故障率を算出した。故障率は、本発明の素子については、いずれも、５％以下と良好であった。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明のガスバリアフィルムは、高いバリア性能を有するため、バリア性が求められる各種素子に広く採用することができる。本発明のガスバリアフィルムにおいは、有機層の平滑性を向上させることができるため、無機層も平滑に設けることができる。この結果、最表面の平滑性も向上させることができ、該ガスバリアフィルム上に形成するデバイスの性能を向上させることができる。