(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個の半導体素子を積層して積層体を形成した後、前記積層体の側面に側面配線を形成して、前記半導体素子の各々を電気的に接続した積層型半導体装置を製造する際に、
前記半導体素子として、その電極端子に一端が接続された配線の少なくとも一部が側面側に延出又は露出している半導体素子を用い、
前記半導体素子の各側面側に延出又は露出された配線を接続するように、転写ワイヤの所定長さに亘って付着させた導電性粒子を含有する導電性ペーストを、前記転写ワイヤに張力を付与しつつ回転させて前記積層体の側面に転写して、前記側面配線を形成することを特徴とする積層型半導体装置の製造方法。
【請求項２】
半導体素子として、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤの少なくとも一部が側面側に延出されている半導体素子を用いる請求項１記載の積層型半導体装置の製造方法。
【請求項３】
半導体素子として、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤが、側面に当接状態で延出されている半導体素子を用いる請求項１又は請求項２記載の積層型半導体装置の製造方法。
【請求項４】
電極端子に一端が接続された金属ワイヤが側面に当接状態で延出されている半導体素子として、電極端子が形成された電極端子形成面が上面となるように半導体素子を搭載した金属箔に、一端を接続した金属ワイヤの他端を半導体素子の電極端子に接続する打ち上げ方式でワイヤボンディングした後、前記金属ワイヤを半導体素子の側面に当接するように前記半導体素子を回転し、次いで、前記金属ワイヤを所定箇所で切断して得た半導体素子を用いる請求項３記載の積層型半導体装置の製造方法。
【請求項５】
半導体素子として、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤが、側面を当接状態で横断して、前記一面側に対して反対側面まで延出している半導体素子を用いる請求項１又は請求項２記載の積層型半導体装置の製造方法。
【請求項６】
側面に当接状態で横断した金属ワイヤが電極端子形成面に対して反対側面まで延出されている半導体素子として、電極端子が形成された電極端子形成面が上面となるように半導体素子を搭載した金属箔に、一端を接続した金属ワイヤの他端を半導体素子の電極端子に接続する打ち上げ方式でワイヤボンディングした後、前記金属ワイヤが半導体素子の側面に当接し且つ前記電極端子形成面に対して反対側面に当接するように半導体素子を回転又はスライドした後、前記金属ワイヤを所定箇所で切断して得た半導体素子を用いる請求項５記載の積層型半導体装置の製造方法。
【請求項７】
転写ワイヤとして、金属製の転写ワイヤを用いる請求項１〜６のいずれか一項記載の積層型半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は側面配線の形成方法に関し、更に詳細には複数個の半導体素子を積層して積層体を形成した後、前記積層体の側面に側面配線を形成して、前記半導体素子の各々を電気的に接続した積層型半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数個の半導体素子を積層して積層体を形成した後、積層体の側面に側面配線を形成して、半導体素子の各々を電気的に接続した積層型半導体装置については、例えば下記特許文献１に提案されている。
かかる積層型半導体装置の側面配線は、図１４に示す様に、半導体素子１００，１００・・を積層して形成した積層体Ａの側面に沿って、ノズル１０２から導電性粒子が含有された導電性ペーストを吐出して導電性ペーストから成る線状部１０４，１０４・・を形成した後、線状部１０４，１０４・・に加熱処理を施すことによって形成できる。
【特許文献１】特表２００１−５１４４４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
図１４に示す様に、導電性ペーストによって積層体Ａの側面に側面配線を容易に形成できる。
しかし、図１４に示す様に、ノズル１０２から導電性ペーストを吐出して形成される側面配線の太さは、ノズル１０２のノズル口径によって決定される。一方、ノズル１０２のノズル口径は、口径を過大に細化すると、導電性ペーストの粘度によっては連続吐出ができ難くなるおそれがある。このため、ノズル１０２のノズル口径の細化には限界が存在し、形成される側面配線の細化にも限界がある。
一方、近年、積層型半導体装置でも、大容量化、高密度化が求められており、側面配線も狭ピッチで形成することが要望されており、図１４に示すノズル１０２を用いることができなくなりつつある。
そこで、本発明は、ノズルから導電性ペーストを吐出して太い側面配線を巾広ピッチでしか形成できないという、従来の積層型半導体装置の製造方法の課題を解決し、細い側面配線を狭ピッチで形成できる積層型半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者等は、前記課題を解決すべく検討を重ねた結果、転写ワイヤの所定長さに亘って付着させた導電性ペーストを、複数個の半導体素子を積層して形成した積層体の側面に転写して側面配線を形成することによって、ノズルから導電性ペーストを吐出して形成した側面配線に比較して、細い側面配線を形成できることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、複数個の半導体素子を積層して積層体を形成した後、前記積層体の側面に側面配線を形成して、前記半導体素子の各々を電気的に接続した積層型半導体装置を製造する際に、前記半導体素子として、その電極端子に一端が接続された配線の少なくとも一部が側面側に延出又は露出している半導体素子を用い、前記半導体素子の各側面側に延出又は露出された配線を接続するように、転写ワイヤの所定長さに亘って付着させた導電性粒子を含有する導電性ペーストを、前記転写ワイヤに張力を付与しつつ回転させて前記積層した半導体素子の側面に転写して、前記側面配線を形成することを特徴とする積層型半導体装置の製造方法にある。
【０００５】
かかる本発明において、半導体素子として、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤの少なくとも一部が側面側に延出されている半導体素子を好適に用いることができる。
特に、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤが、側面に当接状態で延出されている半導体素子を好適に用いることができる。
金属ワイヤの導電性ペーストに対する濡れ性が良好であるため、半導体素子の側面に延出された金属ワイヤと導電性ペーストとが接触したとき、導電性ペーストが金属ワイヤの周面に集合され易く、隣接する側面配線との接触が避けられ、最終的に得られる積層型半導体装置の信頼性を向上できる。
この半導体素子は、電極端子が形成された電極端子形成面が上面となるように半導体素子を搭載した金属箔に、一端を接続した金属ワイヤの他端を半導体素子の電極端子に接続する打ち上げ方式でワイヤボンディングした後、前記金属ワイヤを半導体素子の側面に当接するように前記半導体素子を回転し、次いで、前記金属ワイヤを所定箇所で切断することによって得ることができる。
【０００６】
また、半導体素子として、一面側に形成された電極端子に一端が接続された金属ワイヤが、側面を当接状態で横断して、前記一面側に対して反対側面まで延出している半導体素子を好適に用いることができる。
この半導体素子は、電極端子が形成された電極端子形成面が上面となるように半導体素子を搭載した金属箔に、一端を接続した金属ワイヤの他端を半導体素子の電極端子に接続する打ち上げ方式でワイヤボンディングした後、前記金属ワイヤが半導体素子の側面に当接し且つ前記電極端子形成面に対して反対側面に当接するように半導体素子を回転又はスライドした後、前記金属ワイヤを所定箇所で切断して形成できる。
尚、本発明においては、転写ワイヤとして、金属製の転写ワイヤを好適に用いることができる。
【発明の効果】
【０００７】
本発明では、転写ワイヤの所定長さに亘って付着させた導電性粒子を含有する導電性ペーストを、複数個の半導体素子を積層して形成した積層体の側面に転写して側面配線を形成する。このため、ノズルから導電性ペーストを吐出して形成した側面配線に比較して細化された側面配線を形成できる。また、転写ワイヤの周面に付着した導電性ペーストの全量を転写でき、均斉な太さの側面配線を形成できる。その結果、積層体の側面に狭ピッチで側面配線を形成でき、大容量化、高密度化された積層型半導体装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明では、先ず、図１に示す様に、複数個の半導体素子１０，１０，１０を接着層１２を介して積層して積層体Ｐを形成する。
かかる半導体素子１０には、一面側に形成された電極端子１４に一端が接続された金属ワイヤとしての金ワイヤ１６が、側面に当接状態で延出されている。これらの半導体素子１０，１０，１０を積層して積層体Ｐを形成する際には、半導体素子１０の側面に延出されている金ワイヤ１６が直線上に配設されるように各半導体素子１０の位置を調整する。
図１に示す半導体素子１０を形成するには、図２に示す様に、吸着板２０上にアルミ箔等の金属箔２２を載置すると共に、金属箔２２に形成した貫通孔２４上に半導体素子１０を載置する。金属箔２２に載置された半導体素子１０は、その電極端子１４が形成された電極端子形成面が上面となるように載置する。
更に、この金属箔２２及び半導体素子１０を、吸着板２０の吸着力を発現して、吸着板２０の所定箇所に各々所定箇所に固定する。この際に、半導体素子１０は、金属箔２２の貫通孔２４を介して吸着板３０の所定箇所に吸着固定される。
この様に、吸着板２０の吸着力で固定されている金属箔２２の半導体素子１０の近傍に、ワイヤボンダーによって金ワイヤ１６の一端を接続した後、金ワイヤ１６をキャピラリーから引き出して半導体素子１０の電極端子１４上に金ワイヤ１６の他端を接続して引き千切る。
【０００９】
次いで、図３（ａ）に示す様に、吸着板２０の吸着を解除して、半導体素子１０及び金属箔２２を吸着板２０から取り出す。吸着板２０の吸着を解除したとき、半導体素子１０は移動可能となる。
このため、図３（ｂ）に示す様に、半導体素子１０を１８０°回転し、電極端子形成面を金属箔２２の方向（下面方向）を向くようにする。
次いで、図３（ｃ）に示す様に、半導体素子１０の金ワイヤ１６の一端を接続した電極端子１４側の側面が金ワイヤ１６に当接するように、半導体素子１０を９０°回転した後、半導体素子１０の電極端子形成面の反対側面近傍の箇所［図３（ｃ）に示す矢印の箇所］で金ワイヤ１６を切断することによって、電極端子１４に一端が接続された金ワイヤ１６が側面に当接状態で延出された半導体素子１０を得ることができる。
【００１０】
ところで、図２に示す金ワイヤ１６は、金属箔２２から半導体素子１０の電極端子１４への方向、いわゆる打ち上げ方式でワイヤボンディングした。この様に、打ち上げ方式のワイヤボンディングによれば、半導体素子１０の電極端子１４上での金ワイヤ１６の立ち上がりを可及的に小さくできる。このため、図３（ｂ）に示す様に、半導体素子１０を１８０°回転して、電極端子形成面を金属箔２２の方向（下面方向）に向かせたとき、金属箔２２によって電極端子１４近傍の金ワイヤ１６を押し潰すことを防止できる。
一方、図４（ａ）に示す如く、金ワイヤ１６を、半導体素子１０の電極端子１４から金属箔２２への方向、いわゆる打ち落し方式でボンディングすると、半導体素子１０の電極端子１４上での金ワイヤ１６の立ち上がりが大きくなる。このため、図４（ｂ）に示す如く、半導体素子１０を１８０°回転して、電極端子形成面を金属箔２２の方向（下面方向）に向かせたとき、金属箔２２によって電極端子１４近傍の金ワイヤ１６を押し潰す。押し潰された金ワイヤ１６は、隣接する電極端子１４に一端が接続された金ワイヤ１６と接触するおそれがある。
【００１１】
図１に示す積層体Ｐの側面には、半導体素子１０，１０，１０の各側面に延出されている金ワイヤ１６，１６，１６を電気的に接続する側面配線を、銀粒子、銅粒子或いはカーボン粒子等の導電性粒子が熱硬化性樹脂等の樹脂中に含有された導電性ペーストを塗布して形成する。
この金ワイヤ１６の導電性ペーストとの濡れ性が良好であるため、半導体素子１０の側面に延出した金ワイヤ１６と導電性ペーストとが接触したとき、導電性ペーストが金ワイヤ１０の周面に集合され易く、隣接する側面配線との接触が避けられ、最終的に得られる積層型半導体装置の信頼性を向上できる。
かかる導電性ペーストの塗布は、図５に示す様に、転写ワイヤ３０を用いて行う。この転写ワイヤ３０としては金属製の転写ワイヤ、特にタングステン製の転写ワイヤを好適に用いることができる。
この転写ワイヤ３０を用いて積層体Ｐの側面に導電性ペーストを塗布する際には、先ず、図５（ａ）に示す様に、台３２上に滴下した導電性ペーストの液滴３４中に転写ワイヤ３０を接触させて、液滴３４を形成する導電性ペーストの表面張力で転写ワイヤ３０の表面に付着させる。この際に、転写ワイヤ３０は一端側から他端側方向［図５（ａ）に示す矢印方向］に移動させて、転写ワイヤ３０の所定長さに亘って導電性ペーストを付着させる。
【００１２】
次いで、図５（ｂ）に示す様に、転写ワイヤ３０を積層体Ｐの側面に押し付けて、転写ワイヤ３０の周面に付着した導電性ペースト３６を積層体Ｐの側面に転写する。積層体Ｐの側面に転写された導電性ペーストから成る線状部３８は、加熱処理を施すことによって側面配線を形成できる。
ここで、転写ワイヤ３０を積層体Ｐの側面に押し付けて導電性ペースト３６を積層体Ｐの側面に転写する際には、転写ワイヤ３０に張力を付与しつつ回転することによって、形成される側面配線の太さ等を一定とすることができる。
この様にして積層体Ｐの側面に側面配線を形成した状態を図６に示す。図６は、厚さ２００μｍの４枚の半導体素子１０を接着層１２を介して積層した図１に示す積層体Ｐに、太さ４３μｍの転写ワイヤ３０によって導電性ペーストを転写して側面配線４０，４０・・を形成した状態を示す顕微鏡写真である。
この側面配線４０，４０・・は、厚さ２００μｍの半導体素子１０よりも細い。このため、側面配線４０，４０・・のピッチは５２０μｍであるが、２６０μｍのピッチでも形成可能である。
【００１３】
ところで、図７に示す如く、図１に示す積層体Ｐの側面に、塗布装置５０のノズル５０ａから導電性ペーストを吐出して側面配線を形成した場合には、その側面配線は太いものとなる。
このことを図８に示す。図８は、厚さ２００μｍの４枚の半導体素子１０を接着層１２を介して積層した図１に示す積層体Ｐに、塗布装置５０の口径１５０μｍのノズル５０ａから導電性ペーストを吐出して形成した側面配線４０′，４０′・・の顕微鏡写真である。図８から明らかな様に、側面配線４０′の最大巾は、厚さ２００μｍの半導体素子１０よりも巾広に形成されている。このため、側面配線４０′，４０′・・のピッチを２６０μｍとすることは極めて困難である。
【００１４】
図１に示す積層体Ｐは、構成する半導体素子１０が、その側面に金ワイヤ１６が当接状態で延出されているものであるが、図９に示す様に、半導体素子１０の側面に当接状態で延出された金ワイヤ１６を、半導体素子１０の電極端子１４が形成された電極端子形成面に対して反対側面まで延出してもよい。
図９に示す半導体素子１０を形成するには、図２に示す様に、吸着板２０上に載置した金属箔２２の貫通孔２４上に半導体素子１０を載置し、吸着板２０の吸着力を発現して固定した金属箔２２の半導体素子１０の近傍に、ワイヤボンダーによって金ワイヤ１６の一端を接続した後、金ワイヤ１６をキャピラリーから引き出して半導体素子１０の電極端子１４上に金ワイヤ１６の他端を接続して引き千切る。
次いで、図３（ａ）に示す様に、吸着板２０の吸着を解除して、半導体素子１０及び金属箔２２を吸着板２０から取り出した後、図１０（ａ）に示す様に、半導体素子１０を金ワイヤ１６の方向［図１０（ａ）の矢印方向］にスライドし、金ワイヤ１６が半導体素子１０の側面に当接状態で横断するように、半導体素子１０の側面を金ワイヤ１６に当接させる。
図１０（ａ）に示す状態の半導体素子１０は、図３（ｃ）に示す様に、金属箔２２に対して垂直に立設されている半導体素子１０を、その電極端子形成面が上面となるように９０°回転することによっても得ることができる。
その後、図１０（ｂ）に示す様に、金属箔２２の一部を折り曲げて、半導体素子１０の電極端子形成面に対して反対側面側に延出されている金ワイヤ１６を露出し、半導体素子１０の反対側面に延出されている金ワイヤ１６の部分［半導体素子１０の反対側面の角部近傍の部分（矢印で示す部分）］をカッター等で切断することによって、電極端子１４に一端が接続された金ワイヤ１６が側面に密着状態で横断し、電極端子形成面に対して反対側面まで延出されている半導体素子１０を得ることができる。
ところで、図１０（ａ）に示す様に、半導体素子１０をスライドして半導体素子１０の側面に金ワイヤ１６を延出する際には、半導体素子１０の電極端子形成面の反対面側に金ワイヤ１６を延出させることなく、電極端子形成面側の角部で金ワイヤ１６を引き千切ってもよい。この様に金ワイヤ１６を引き千切る場合には、金ワイヤ１６の所定箇所に予めクリップ等で傷を付けておくことによって、容易に所定箇所で金ワイヤ１６を切断できる。
【００１５】
電極端子１４に一端が接続された金ワイヤ１６が側面に当接状態で横断し、電極端子形成面に対して反対側面まで延出されている複数個の半導体素子１０，１０，１０は、図９に示す様に、電極端子１４が形成された電極端子形成面の各々が同一方向を向くように接着層１２，１２を介して積層して積層体Ｐを形成する。この際に、半導体素子１０，１０，１０の各側面に延出されている金ワイヤ１６が一直線状となるように、半導体素子１０，１０，１０を位置調整する。
その後、図５に示す様に、積層体Ｐの側面に転写ワイヤ３０によって導電性ペーストから成る線状部３８を転写した後、加熱処理を施して側面配線４０を形成する。
【００１６】
図１及び図９に示す積層体Ｐでは、構成する半導体素子１０，１０，１０の各側面に電極端子１４に一端が接続された金ワイヤ１６が当接状態で延出されているが、図１１に示す様に、電極端子１４に一端が接続された金ワイヤ１６の他端が側面側に突出している半導体素子１０を用いることができる。
かかる半導体素子１０は、図３（ｂ）に示す様に、半導体素子１０を１８０°回転して電極端子形成面を金属箔２２の方向（下面方向）を向かせた状態で、図１２に示す様に、金ワイヤ１６の直線状部分が半導体素子１０の側面側から突出する部分［半導体素子１０の電極端子形成面の角部近傍（矢印で示す部分）］をカッター等で切断することによって得ることができる。
以上、説明した図１〜図１２に示す半導体素子１０としては、一面側に形成された電極端子１４に一端が接続された金ワイヤ１６を側面側に延出した半導体素子１０を用いていたが、図１３に示す様に、電極端子１４に一端が接続された配線の他端１５が側面に露出されている半導体素子１０を用いることができる。
また、図１、図９及び図１１に示す積層半導体装置Ｐでは、半導体素子１０，１０・・の各々は電極端子形成面が上面を向くように積層されているが、電極端子形成面が対向するように半導体素子１０，１０を積層してもよい。
更に、転写ワイヤ３０として、金属製の転写ワイヤ３０を用いたが、樹脂製の転写ワイヤであってもよく、表面に粗面加工等の加工が施されている転写ワイヤを用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明で用いる積層体Ｐの一例を説明する概略断面図である。
【図２】図１に示す積層体Ｐを構成する半導体素子１０を形成する工程の一部を説明する工程図である。
【図３】図１に示す積層体Ｐを構成する半導体素子１０を形成する工程の残りの工程を説明する工程図である。
【図４】図２に示す工程に対する比較例を説明する説明図である。
【図５】転写工程を説明する工程図である。
【図６】図５に示す転写工程で転写して形成した側面配線の状態を示す顕微鏡写真である。
【図７】図１に示す積層体Ｐの側面にノズルから導電性ペーストを吐出する方法を説明する説明図である。
【図８】図７に示すノズルから導電性ペーストを吐出して形成した側面配線の状況を示す顕微鏡写真である。
【図９】本発明で用いる積層体Ｐの他の一例を説明する概略断面図である。
【図１０】図９に示す積層体Ｐを構成する半導体素子１０を形成する工程図である。
【図１１】本発明で用いる積層体Ｐの他の一例を説明する概略断面図である。
【図１２】図１１に示す積層体Ｐを構成する半導体素子１０を形成する工程図である。
【図１３】本発明で用いる積層体Ｐを構成できる他の半導体素子１０を説明する斜視図である。
【図１４】複数個の半導体素子を積層した積層体Ａにノズルから導電性ペーストを吐出して側面配線を形成する従来方法を説明するための斜視図である。
【符号の説明】
【００１８】
１０  半導体素子
１２  接着層
１４  電極端子
１６  金ワイヤ（金属ワイヤ）
２０  吸着板
２２  金属箔
２４  貫通孔
３０  転写ワイヤ
３４  液滴
３６  導電性ペースト
３８  線状部
４０  側面配線
５０  塗布装置
５０ａ  ノズル
Ｐ  積層体
【図１】
0005110996.tif 000002
【図３】
0005110996.tif 000003
【図４】
0005110996.tif 000004
【図７】
0005110996.tif 000005
【図９】
0005110996.tif 000006
【図１０】
0005110996.tif 000007
【図１１】
0005110996.tif 000008
【図１２】
0005110996.tif 000009
【図１３】
0005110996.tif 000010
【図１４】
0005110996.tif 000011
【図２】
0005110996.tif 000012
【図５】
0005110996.tif 000013
【図６】
0005110996.tif 000014
【図８】
0005110996.tif 000015