(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（１’）で表される化合物。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（Ｌ’）ｋ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２・・・（１’）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１：水素原子またはメチル基。
Ｒ２：炭素数１〜８のアルキル基。
Ｌ’：−（ＣＨ２）ｐＯ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、または−Ｃｙ−ＯＣＯ−（ただし、ｐは２〜８の整数。）。
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌ’が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｌ’が−（ＣＨ２）ｐＯ−であるかまたはｋが０である場合のＥ１とＥ３の夫々は１，４−フェニレン基であり、Ｅ２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
ｋ：０または１。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物から選ばれる２種以上の化合物を含むか、または、請求項１に記載の化合物の１種以上と、請求項１に記載の化合物以外の重合性液晶の１種以上とを含むことを特徴とする液晶組成物。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物の量が、液晶組成物中の重合性液晶の合計量に対して５０〜１００質量％である請求項２に記載の液晶組成物。
【請求項４】
請求項１に記載の化合物とそれ以外の重合性液晶との合計含有量が、液晶組成物に対して９０質量％以上である請求項２に記載の液晶組成物。
【請求項５】
液晶組成物中の全重合性液晶に対する請求項１に記載の化合物の割合が２０モル％以上である、請求項２〜４のいずれかに記載の液晶組成物。
【請求項６】
請求項２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなることを特徴とする光学異方性材料。
【請求項７】
光学異方性材料が波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用する光学異方性材料である、請求項６に記載の光学異方性材料。
【請求項８】
重合性液晶を７５質量％以上含む液晶組成物であって、全重合性液晶に対して下式（１）で表される化合物５質量％以上を含み、かつ下式（１）で表される化合物と、下式（３Ａ）、（３Ｂ）及び（３Ｃ）で表される少なくとも１種の化合物とを全重合性液晶に対して５０質量％以上含む液晶組成物を、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなり、波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用するものであることを特徴とする光学異方性材料。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（Ｌ）ｋ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−（Ｅ４）ｍ−（Ｅ５）ｎ−Ｒ２・・・（１）
ＣＨ２＝ＣＲ３−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｚ２−Ｒ４・・・（３Ａ）
ＣＨ２＝ＣＲ５−ＣＯＯ−Ｚ３−Ｚ４−Ｒ６・・・（３Ｂ）
ＣＨ２＝ＣＲ７−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｖ−Ｏ−Ｐｈ−Ｚ５−Ｒ８・・・（３Ｃ）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基。
Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ８はそれぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基。
Ｌは−（ＣＨ２）ｐＯ−、−（ＣＨ２）ｑ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−（ただし、ｐおよびｑはそれぞれ独立に２〜８の整数。）。
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６、Ｅ７、Ｅ８、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５はそれぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
ｋ、ｍ、ｎ：それぞれ独立に０または１。ただし、ｋが１であり、かつＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−である場合、ｍおよびｎの少なくとも一方は０である。
Ｐｈ：１，４−フェニレン基。
ｖ：１〜８の整数。
【請求項９】
前記式（１）で表される化合物が、下記式（１Ｂ）で表される化合物である、請求項８に記載の光学異方性材料。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２・・・（１Ｂ）
ただし、式中の記号は前記式（１）と同じ意味を示す。
【請求項１０】
前記式（１Ｂ）で表される化合物が、下記式（１Ｂａ）または（１Ｂｂ）で表される化合物である、請求項９に記載の光学異方性材料。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２・・・（１Ｂａ）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ２・・・（１Ｂｂ）
ただし、式中の記号は前記式（１）と同じ意味を示す。
【請求項１１】
請求項２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を、１対の支持体間に挟持し、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなることを特徴とする光学素子。
【請求項１２】
光学素子が波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用する光学素子である、請求項１１に記載の光学素子。
【請求項１３】
重合性液晶を７５質量％以上含む液晶組成物であって、全重合性液晶に対して下式（１）で表される化合物５質量％以上を含み、かつ下式（１）で表される化合物と、下式（３Ａ）、（３Ｂ）及び（３Ｃ）で表される少なくとも１種の化合物とを全重合性液晶に対して５０質量％以上含む液晶組成物を、１対の支持体間に挟持し、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなり、波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用するものであることを特徴とする光学素子。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（Ｌ）ｋ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−（Ｅ４）ｍ−（Ｅ５）ｎ−Ｒ２・・・（１）
ＣＨ２＝ＣＲ３−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｚ２−Ｒ４・・・（３Ａ）
ＣＨ２＝ＣＲ５−ＣＯＯ−Ｚ３−Ｚ４−Ｒ６・・・（３Ｂ）
ＣＨ２＝ＣＲ７−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｖ−Ｏ−Ｐｈ−Ｚ５−Ｒ８・・・（３Ｃ）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基。
Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ８はそれぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基。
Ｌは−（ＣＨ２）ｐＯ−、−（ＣＨ２）ｑ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−（ただし、ｐおよびｑはそれぞれ独立に２〜８の整数。）。
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６、Ｅ７、Ｅ８、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５はそれぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
ｋ、ｍ、ｎ：それぞれ独立に０または１。ただし、ｋが１であり、かつＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−である場合、ｍおよびｎの少なくとも一方は０である。
Ｐｈ：１，４−フェニレン基。
ｖ：１〜８の整数。
【請求項１４】
前記式（１）で表される化合物が、下記式（１Ｂ）で表される化合物である、請求項１３に記載の光学素子。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２・・・（１Ｂ）
ただし、式中の記号は前記式（１）と同じ意味を示す。
【請求項１５】
前記式（１Ｂ）で表される化合物が、下記式（１Ｂａ）または（１Ｂｂ）で表される化合物である、請求項１４に記載の光学素子。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２・・・（１Ｂａ）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ２・・・（１Ｂｂ）
ただし、式中の記号は前記式（１）と同じ意味を示す。
【請求項１６】
請求項１１〜１５のいずれかに記載の光学素子を用いてなる回折素子。
【請求項１７】
請求項１１〜１５のいずれかに記載の光学素子を用いてなる位相板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な化合物、該化合物を含む液晶組成物、該液晶組成物を重合させてなる光学異方性材料、および光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光ディスクの大容量化を図るため、情報の書き込み、読み取りに使用されるレーザー光の短波長化が進んでいる。現在、ＣＤでは波長７８０ｎｍ、ＤＶＤでは波長６６０ｎｍのレーザー光が使用されているが、次世代光記録メディアでは、波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光の使用が検討されている。これに伴い、波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光（以下、青色レーザー光とも記す。）を変調する回折素子、位相板等の光学素子が必要となり、該波長帯のレーザー光に対応できる光学異方性材料が求められている。【０００３】
一方、重合性官能基を有する液晶分子は、重合性モノマーとしての性質と液晶としての性質とを併有する。したがって、重合性官能基を有する液晶分子を配向させた後に重合反応を行うと、液晶分子の配向が固定された光学異方性材料が得られる。光学異方性材料は、メソゲン骨格に由来する屈折率異方性等の光学異方性を有し、該性質を利用して回折素子、位相板等に応用されている。【０００４】
このような光学異方性材料としては、たとえば、下式（２）で表される化合物（ただし、式中のＱは、１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｚはアルキル基である。）を含む液晶組成物を重合させてなる高分子液晶が報告されている（特開平１０−１９５１３８号公報参照。）。【０００５】
【化１】
0005012020.tif 000002
【０００６】
また、一般に、回折素子や位相板用の光学異方性材料に求められる特性としては、以下の特性が挙げられる。
（１）光の吸収が少ないこと。
（２）面内光学特性（リタデーション値等）が均一なこと。
（３）素子を構成する他の材料と光学特性を合わせやすいこと。
（４）屈折率の波長分散が小さいこと。
（５）耐久性が良好なこと。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特開平１０−１９５１３８号公報に記載された高分子液晶等の、従来から知られた材料は、青色レーザー光に対する耐久性が不充分である問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記の問題点を解決するためになされたものであり、光学異方性材料、および光学素子に要求される特性を満たし、かつ青色レーザー光に対する耐久性が高い新規な化合物、該化合物を含む液晶組成物、該液晶組成物を重合してなる光学異方性材料、および光学素子を提供する。すなわち、本発明は以下の発明を提供する。【０００９】
１．下式（１’）で表される化合物。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（Ｌ’）ｋ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２・・・（１’）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１：水素原子またはメチル基。
Ｒ２：炭素数１〜８のアルキル基。
Ｌ’：−（ＣＨ２）ｐＯ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、または−Ｃｙ−ＯＣＯ−（ただし、ｐは２〜８の整数。）。
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌ’が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｌ’が−（ＣＨ２）ｐＯ−であるかまたはｋが０である場合のＥ１とＥ３の夫々は１，４−フェニレン基であり、Ｅ２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
ｋ：０または１。
２．上記１に記載の化合物から選ばれる２種以上の化合物を含むか、または、上記１に記載の化合物の１種以上と、上記１に記載の化合物以外の重合性液晶の１種以上とを含むことを特徴とする液晶組成物。
３．上記１に記載の化合物の量が、液晶組成物中の重合性液晶の合計量に対して５０〜１００質量％である上記２に記載の液晶組成物。
４．上記１に記載の化合物とそれ以外の重合性液晶との合計含有量が、液晶組成物に対して９０質量％以上である上記２に記載の液晶組成物。
５．液晶組成物中の全重合性液晶に対する上記１に記載の化合物の割合が２０モル％以上である、上記２〜４のいずれかに記載の液晶組成物。
６．上記２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなることを特徴とする光学異方性材料。
７．光学異方性材料が波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用する光学異方性材料である、上記６に記載の光学異方性材料。
８．重合性液晶を７５質量％以上含む液晶組成物であって、全重合性液晶に対して下式（１）で表される化合物５質量％以上を含み、かつ下式（１）で表される化合物と、下式（３Ａ）、（３Ｂ）及び（３Ｃ）で表される少なくとも１種の化合物とを全重合性液晶に対して５０質量％以上含む液晶組成物を、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなり、波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用するものであることを特徴とする光学異方性材料。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（Ｌ）ｋ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−（Ｅ４）ｍ−（Ｅ５）ｎ−Ｒ２・・・（１）
ＣＨ２＝ＣＲ３−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｚ２−Ｒ４・・・（３Ａ）
ＣＨ２＝ＣＲ５−ＣＯＯ−Ｚ３−Ｚ４−Ｒ６・・・（３Ｂ）
ＣＨ２＝ＣＲ７−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｖ−Ｏ−Ｐｈ−Ｚ５−Ｒ８・・・（３Ｃ）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基。
Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ８はそれぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基。
Ｌは−（ＣＨ２）ｐＯ−、−（ＣＨ２）ｑ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−（ただし、ｐおよびｑはそれぞれ独立に２〜８の整数。）。
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６、Ｅ７、Ｅ８、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５はそれぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
ｋ、ｍ、ｎ：それぞれ独立に０または１。ただし、ｋが１であり、かつＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−である場合、ｍおよびｎの少なくとも一方は０である。
Ｐｈ：１，４−フェニレン基。
ｖ：１〜８の整数。
９．前記式（１）で表される化合物が、下記式（１Ｂ）で表される化合物である、上記８に記載の光学異方性材料。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２・・・（１Ｂ）
ただし、式中の記号は前記式（１）と同じ意味を示す。
１０．前記式（１Ｂ）で表される化合物が、下記式（１Ｂａ）または（１Ｂｂ）で表される化合物である、上記９に記載の光学異方性材料。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２・・・（１Ｂａ）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ２・・・（１Ｂｂ）
ただし、式中の記号は前記式（１）と同じ意味を示す。
１１．上記２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を、１対の支持体間に挟持し、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなることを特徴とする光学素子。
１２．光学素子が波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用する光学素子である、上記１１に記載の光学素子。
１３．重合性液晶を７５質量％以上含む液晶組成物であって、全重合性液晶に対して上記式（１）で表される化合物５質量％以上を含み、かつ上記式（１）で表される化合物と、上記式（３Ａ）、（３Ｂ）及び（３Ｃ）で表される少なくとも１種の化合物とを全重合性液晶に対して５０質量％以上含む液晶組成物を、１対の支持体間に挟持し、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなり、波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用するものであることを特徴とする光学素子。
１４．式（１）で表される化合物が、上記式（１Ｂ）で表される化合物である、上記１３に記載の光学素子。
１５．式（１Ｂ）で表される化合物が、上記式（１Ｂａ）または（１Ｂｂ）で表される化合物である、上記１４に記載の光学素子。
１６．上記１１〜１５のいずれかに記載の光学素子を用いてなる回折素子。
１７．上記１１〜１５のいずれかに記載の光学素子を用いてなる位相板。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、新規な化合物、該化合物を含む液晶組成物、該液晶組成物を重合させてなる光学異方性材料、および光学素子が得られる。該光学異方性材料、および光学素子は、青色レーザー光に対する耐久性に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本明細書においては、式（１）で表される化合物を化合物（１）とも記す。他の化合物についても同様に記す。「Ｐｈ」は１，４−フェニレン基を表し、「Ｃｙ」はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す。これらの環基は非置換の基であってもよく、該基中の水素原子が該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよく、それぞれ、非置換の基であることが好ましい。なお、環基が１，４−シクロヘキシレン基である場合、１位および４位の結合手はトランスの位置にある。また、アルキル基に構造異性の基が存在する場合はその全ての基を含み、直鎖アルキル基が好ましい。【００１２】
液晶性と重合性とを併有する化合物を、以下、重合性液晶という。以下における波長の記載は、中心波長±２ｎｍの範囲にあることを意味する。また、屈折率異方性をΔｎと略記する。【００１３】
下式（１）で表される化合物は、重合性と液晶性を併有する重合性液晶の一種である。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（Ｌ）ｋ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−（Ｅ４）ｍ−（Ｅ５）ｎ−Ｒ２・・・（１）
Ｒ１は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。Ｒ１が水素原子である場合、後述する化合物（１）を含む液晶組成物を光重合させて光学異方性材料および光学素子を得る際に、重合反応が速やかに進行するので好ましい。また、光重合反応によって得られる光学異方性材料および光学素子の特性が外部環境（温度等）の影響を受けにくく、リタデーションの面内分布が小さい利点もある。
【００１４】
Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基である。このことによって化合物（１）を含む液晶組成物の融点（Ｔｍ）（すなわち、結晶相−ネマチック相相転移点）を低くできる。Ｒ２としては、炭素数２〜６の該基が好ましい。また、化合物（１）が液晶性を示す温度範囲を広くできることから、Ｒ２は直鎖構造であることが好ましい。【００１５】
Ｌは、−（ＣＨ２）ｐＯ−、−（ＣＨ２）ｑ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−である（ただし、ｐおよびｑはそれぞれ独立に２〜８の整数であり、４〜６の整数が好ましい。Ｅ６、Ｅ７、およびＥ８は、１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、それぞれ非置換の基であることが好ましい。）。【００１６】
Ｌとしては、−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ２）ｐＯ−（好ましくは−（ＣＨ２）６Ｏ−）、および−Ｐｈ−（ＣＨ２）２Ｏ−が好ましい。【００１７】
Ｌが−Ｃｙ−ＣＯＯ−である場合は、後述する重合反応を行って光学異方性材料および光学素子とした場合に、大きなΔｎを発現できる。他の重合性液晶との相溶性が良好であり、Ｔｍを低くできる点ではＬが−Ｃｙ−ＯＣＯ−であることが好ましい。【００１８】
また、一般に、重合性液晶を重合させると、重合反応の前後でΔｎの値が低下する傾向があるが、Ｌが−（ＣＨ２）ｐＯ−、−（ＣＨ２）ｑ−等のポリメチレン基を有する基である場合は、重合反応の前後における、Δｎ値の低下を抑えることができる。【００１９】
ｋ、ｍ、およびｎ、はそれぞれ独立に０または１である。ただし、ｋが１でありかつＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−である場合、ｍおよびｎの少なくとも一方は０である。【００２０】
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４、およびＥ５は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。化合物（１）が有する環基の数は３〜５個であり、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはＣｙであり、かつ、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ１は、トランス−１，４−シクロヘキシレン基である。さらに、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはＰｈであることが好ましい。また、Ｐｈを複数個含む場合は、直接結合するＰｈの数は２個であることが好ましい。【００２１】
「Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３」の構造としては、化合物（１）のΔｎを大きくできる点からは「Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ」が好ましい。このことにより大きなΔｎを示す液晶組成物の調製が容易になる。また、青色レーザー光の吸収を抑制できる点からは。「Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ」が好ましい。【００２２】
化合物（１）としては、下記化合物（１Ａ）および下記化合物（１Ｂ）が好ましい。【００２３】
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｌ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２  ；（１Ａ）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２  ；（１Ｂ）
化合物（１Ａ）としては下記化合物（１Ａａ１）〜（１Ａａ４）が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２  ；（１Ａａ１）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２  ；（１Ａａ２）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２  ；（１Ａａ３）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−（ＣＨ２）２−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２；（１Ａａ４）
より具体的には下記化合物（１Ａａａ１）〜（１Ａａａ４）が好ましい
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ２；（１Ａａａ１）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ２；（１Ａａａ２）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ２；（１Ａａａ３）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ２；（１Ａａａ４）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２；（１Ａａａ５）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−（ＣＨ２）２−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ２；（1Ａａａ６）【００２４】
より具体的には、下記化合物が挙げられ、Ｒ１が水素原子である化合物が好ましく、Ｒ２に相当する部分が炭素数２〜６の直鎖アルキル基である化合物が特に好ましい。化合物（１Ａａａ５１）〜（１Ａａａ５８）については、ｐが４〜６である化合物が好ましく、ｐが６である化合物が特に好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＨ３；（1Ａａａ11）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５；（1Ａａａ12）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７；（1Ａａａ13）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９；（1Ａａａ14）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１；（1Ａａａ15）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３；（1Ａａａ16）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５；（1Ａａａ17）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７；（1Ａａａ18）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ３；（１Ａａａ21）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５；（1Ａａａ22）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７；（1Ａａａ23）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９；（1Ａａａ24）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ11  ；（1Ａａａ25）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ６Ｈ13  ；（1Ａａａ26）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ７Ｈ15  ；（1Ａａａ27）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ８Ｈ17  ；（1Ａａａ28）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＨ３；（1Ａａａ31）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５；（1Ａａａ32）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７；（1Ａａａ33）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９；（1Ａａａ34）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ11；（1Ａａａ35）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ13；（1Ａａａ36）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ15；（1Ａａａ37）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ17；（1Ａａａ38）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ３；（1Ａａａ41）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５；（1Ａａａ42）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７；（1Ａａａ43）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９；（1Ａａａ44）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ11；（1Ａａａ45）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ６Ｈ13；（1Ａａａ46）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ７Ｈ15；（１Ａａａ47）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ８Ｈ17；（１Ａａａ48）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＨ３
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ３；（1Ａａａ51）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５；（1Ａａａ52）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７；（1Ａａａ53）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９；（1Ａａａ54）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ11；{Ａａａ55}
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ13；（1Ａａａ56）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ15；（1Ａａａ57）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ17；（1Ａａａ58）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−（ＣＨ２）２−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ３；(1Ａａａ61)
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ２)2−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５；(1Ａａａ62)
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ２)2−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７；(１Ａａａ63)
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ２)2−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９；(1Ａａａ64)
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ２)2−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ11；(１Ａａａ65)
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ２)2−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ６Ｈ13；(１Ａａａ66)
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ２)2−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ７Ｈ15；(1Ａａａ67)
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ２)2−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ８Ｈ17；(1Ａａａ68）【００２５】
化合物（１Ｂ）としては、下記化合物（１Ｂａ）および下記化合物（１Ｂｂ）が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２・・・（１Ｂａ）
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ２・・・（１Ｂｂ）【００２６】
化合物（１Ｂａ）としては、下記化合物が挙げられる。これらのうち、Ｒ１が水素原子である下記化合物（１Ｂａ−１）〜（１Ｂａ−８）が好ましく、下記化合物（１Ｂａ−２）〜（１Ｂａ−６）が特に好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ３  ；（１Ｂａ−１）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５  ；（１Ｂａ−２）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７  ；（１Ｂａ−３）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９  ；（１Ｂａ−４）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１  ；（１Ｂａ−５）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３  ；（１Ｂａ−６）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５  ；（１Ｂａ−７）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７  ；（１Ｂａ−８）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ３  ；（１Ｂａ−９）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５  ；（１Ｂａ−１０）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７  ；（１Ｂａ−１１）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９  ；（１Ｂａ−１２）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１  ；（１Ｂａ−１３）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３  ；（１Ｂａ−１４）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５  ；（１Ｂａ−１５）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７  ；（１Ｂａ−１６）【００２７】
化合物（１Ｂｂ）としては下記化合物が挙げられ、Ｒ１が水素原子である下記化合物（１Ｂｂ−１）〜（１Ｂｂ−８）が好ましく、下記化合物（１Ｂｂ−２）〜（１Ｂｂ−６）が特に好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ３  ；（１Ｂｂ−１）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５  ；（１Ｂｂ−２）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７  ；（１Ｂｂ−３）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９  ；（１Ｂｂ−４）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１  ；（１Ｂｂ−５）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ６Ｈ１３  ；（１Ｂｂ−６）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ７Ｈ１５  ；（１Ｂｂ−７）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ８Ｈ１７  ；（１Ｂｂ−８）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ３  ；（１Ｂｂ−９）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５  ；（１Ｂｂ−１０）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７  ；（１Ｂｂ−１１）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９  ；（１Ｂｂ−１２）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１  ；（１Ｂｂ−１３）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ６Ｈ１３  ；（１Ｂｂ−１４）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ７Ｈ１５  ；（１Ｂｂ−１５）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ８Ｈ１７  ；（１Ｂｂ−１６）。
【００２８】
化合物（１）の製造方法について、具体例を挙げて説明する（ただし、式中の記号は前記と同じ意味を示す。）。
【００２９】
＜製造方法１＞
式（１）において、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−、Ｅ１がＣｙ、Ｅ２がＰｈである場合の化合物（１）の合成方法としては、以下に示す方法が挙げられる。すなわち、下記化合物（Ａ）と式ＣＨ２＝ＣＲ１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物とを反応させて、化合物（Ｂ）を得て、次に該化合物（Ｂ）と化合物（Ｃ）とをエステル化反応させる方法が挙げられる。【００３０】
【化２】
0005012020.tif 000003
【００３１】
＜製造方法２＞
式（１）においてＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、Ｅ１がＣｙ、Ｅ２がＰｈである場合の化合物（１）の合成方法としては、以下に示す方法が挙げられる。すなわち、下記化合物（Ｄ）と式ＣＨ２＝ＣＲ１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物とをエステル化反応させて、下記化合物（Ｅ）を得て、次に該化合物（Ｅ）と下記化合物（Ｆ）とを縮合反応させる方法が挙げられる。なお、ＤＣＣはジシクロヘキシルカルボジイミドを表す。【００３２】
【化３】
0005012020.tif 000004
【００３３】
＜製造方法３＞
化合物（１Ｂａ）は下記化合物（Ｇ）と、下記化合物（Ｈ）およびマグネシウムから調製したグリニア試薬とを反応させて下記化合物（Ｉ）を得て、該化合物（Ｉ）の脱水反応を行って下記化合物（Ｊ）を得て、該化合物（Ｊ）を還元して下記化合物（Ｋ）得て、該化合物（Ｋ）の脱保護反応を行って下記化合物（Ｍ）を得て、該化合物（Ｍ）と式ＣＨ２＝ＣＲ１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物とをエステル化反応させる方法によって得られる。【００３４】
【化４】
0005012020.tif 000005
【００３５】
＜製造方法４＞
式（１）において、Ｌが−（ＣＨ２）ｐＯ−であり、ｍ＝ｎ＝０であり、Ｅ１＝Ｅ３＝Ｐｈであり、Ｅ２＝Ｃｙである場合の化合物（１）の合成方法としては、以下に示す方法が挙げられる。すなわち、前記化合物（Ｍ）と式ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐ−Ｂｒで表される化合物とを反応させることによって得ることができる。【００３６】
【化５】
0005012020.tif 000006
【００３７】
＜製造方法５＞
化合物（１Ｂｂ）は、の製造方法下記化合物（Ｎ）と下記化合物（Ｐ）とを反応させて化合物（Ｑ）を得て、該化合物（Ｑ）の脱保護反応を行って下記化合物（Ｒ）を得て、つぎに該化合物（Ｒ）と式ＣＨ２＝ＣＲ１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物とを反応させてる方法によって得ることができる。【００３８】
【化６】
0005012020.tif 000007
【００３９】
＜製造方法６＞
式（１）において、Ｌが−Ｐｈ−（ＣＨ２）２−、ｍ＝ｎ＝０、Ｅ１＝Ｅ２＝Ｐｈ、Ｅ３＝Ｃｙである場合の化合物（１）の合成方法としては、以下の方法が挙げられる。すなわち、下記化合物（Ｓ）と下記化合物（Ｔ）とをカップリング反応させて下記化合物（Ｕ）を得て、該化合物（Ｕ）の脱保護反応を行って下記化合物（Ｖ）を得て、該化合物（Ｖ）と式ＣＨ２＝ＣＲ１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物をエステル化反応させる方法が挙げられる。【００４０】
【化７】
0005012020.tif 000008
【００４１】
化合物（１）は、３個、４個、または５個の環基が直接結合した構造を有していることにより、青色レーザー光に対する耐久性が良好である。
【００４２】
また、−Ｐｈ−ＣＯ−構造を含まないこと、波長４００ｎｍ以下の短波長領域においても光吸収のない環式飽和炭化水素基である−Ｃｙ−を有することにより、青色レーザー光の吸収が小さい。さらに、−Ｐｈ−を有する場合（特に２個以上のＰｈを有する場合）には、Δｎを大きくできる。【００４３】
化合物（１Ａａａ１）〜（１Ａａａ４）のように、電子吸引性のアクリロイル基またはメタクリロイル基に対して、電子供与性の−Ｃｙ−が直結している場合は、エステル結合の安定化も耐久性の改善に寄与していると考えられる。また、一般に重合性液晶を重合させると、重合反応の前後でΔｎの値が低下する傾向があるが、化合物（１Ａａａ５）のようにアクリロイル基またはメタクリロイル基にポリメチレン基を有する構造が結合している場合は、Δｎ値の低下を抑制できる。【００４４】
また、化合物（１Ｂａ）のように、ＰｈとＣｙとが交互に結合しており、共役が不連続となっている場合、該構造が青色レーザー光の吸収抑制に寄与していると考えられる。そして、該構造をとることによって、化合物（１）の融点（Ｔｍ）を低くでき、他の化合物との相溶性も改善できる。【００４５】
したがって、化合物（１）を用いることにより、青色レーザー光に対して充分な耐久性を有し、位相差等の特性にも優れる光学異方性材料および光学素子を提供できる。
本発明の化合物は、上記化合物（１）のうち、下式（１’）で表される化合物である。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（Ｌ’）ｋ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−Ｒ２・・・（１’）
Ｒ１は、水素原子またはメチル基である。
Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基である。
Ｌ’は−（ＣＨ２）ｐＯ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、または−Ｃｙ−ＯＣＯ−である（ただし、ｐは２〜８の整数。）。
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基である（ただし、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌ’が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｌ’が−（ＣＨ２）ｐＯ−であるかまたはｋが０である場合のＥ１とＥ３の夫々は１，４−フェニレン基であり、Ｅ２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ｋは、０または１である。
【００４６】
本発明の化合物（１’）を含む上記化合物（１）は、高分子液晶を得るための液晶組成物の一成分として使用されることが好ましい。この場合、化合物（１）は、単独で充分広い液晶温度範囲を有し、特に液晶相を示す温度範囲が高温側に広い特徴を有する。高分子液晶を得るための液晶組成物が低温側においても液晶性を示すように、この液晶組成物は化合物（１）から選ばれる２種以上の化合物を含む液晶組成物、または化合物（１）と化合物（１）以外の重合性液晶とを含む液晶組成物であることが好ましい。このような液晶組成物とすることによって、液晶相を示す温度範囲をより広くできる。また、融点（Ｔｍ）降下が生じるため、その取り扱いが容易になる。
【００４７】
液晶組成物が、化合物（１）から選ばれる２種以上の化合物を含む場合、相溶性を良好とするため、Ｒ２部分以外は同一構造であり、Ｒ２部分の炭素数が異なる化合物の２種以上を含むことが好ましい。具体的には、Ｒ２が炭素数２〜４の直鎖アルキル基である化合物から選ばれる少なくとも１種と、Ｒ２が炭素数５〜８の直鎖アルキル基である化合物から選ばれる少なくとも１種とを含有することが好ましく、Ｒ２がｎ−プロピル基である化合物と、Ｒ２がｎ−ペンチル基である化合物とを含有することが特に好ましい。また、メソゲン構造が同一である場合の化合物の２種以上を含むことも好ましい。【００４８】
液晶組成物が、化合物（１）と化合物（１）以外の重合性液晶とを含む場合、化合物（１）以外の重合性液晶としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物が好ましく、アクリロイル基を有する化合物が特に好ましい。また、この重合性液晶としては、青色レーザー光に対する耐久性が高いことが好ましいことより、そのメソゲン構造中に、−Ｐｈ−ＣＯ−構造を含まないことが好ましい。【００４９】
化合物（１）以外の重合性液晶としては、下記化合物（３Ａ）〜（３Ｃ）が好ましい。以下、これらを総称して化合物（３）ともいう。
ＣＨ２＝ＣＲ３−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｚ２−Ｒ４・・・（３Ａ）
ＣＨ２＝ＣＲ５−ＣＯＯ−Ｚ３−Ｚ４−Ｒ６・・・（３Ｂ）
ＣＨ２＝ＣＲ７−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｖ−Ｏ−Ｐｈ−Ｚ５−Ｒ８・・・（３Ｃ）【００５０】
ただし、式中のＰｈおよびＣｙは前記と同じ意味を示し、その他の記号は以下の意味を示す。
Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７：それぞれ独立に水素原子またはメチル基。
Ｒ４、Ｒ６、Ｒ８：それぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基。
Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。
ｖ：１〜８の整数。【００５１】
化合物（３Ａ）〜化合物（３Ｃ）の具体例としては、下記化合物（３Ａａ）、下記化合物（３Ａｂ）、下記化合物（３Ｂｃ）、下記化合物（３Ｂｄ）、下記化合物（３Ｂｅ）、下記化合物（３Ｃｆ）、および下記化合物（３Ｃｇ）が挙げられる（ただし、式中のＰｈおよびＣｙは前記と同じ意味を示す。ｖ１およびｖ２はそれぞれ独立に１〜８の整数を示す。ａ〜ｇはそれぞれ独立に１〜８の整数を示し、２〜６の整数が好ましく、３または５が特に好ましい。）。これらの化合物は１種または２種以上を用いることができる。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−（ＣＨ２）ａＨ（３Ａａ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ２）ｂＨ（３Ａｂ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ２）ｃＨ（３Ｂｃ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ２）ｄＨ（３Ｂｄ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−（ＣＨ２）ｅＨ（３Ｂｅ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｖ１−Ｏ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ２）ｆＨ（３Ｃｆ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｖ２−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−（ＣＨ２）ｇＨ（３Ｃｇ）【００５２】
液晶組成物を調製する場合の好ましい組み合わせは、化合物（１）の種類に応じて適宜選択され、たとえば、以下に示す組み合わせが好ましい。
（１）下記化合物（１Ａａａ１）と下記化合物（３Ｂｃ）とを含む液晶組成物、
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ２；（１Ａａａ１）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ２）ｃＨ；（３Ｂｃ）
（２）下記化合物（１Ｂａ）と下記化合物（３Ｂｃ）とを含む液晶組成物、
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２；（１Ｂａ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ２）ｃＨ；（３Ｂｃ）
（３）下記化合物（１Ｂａ）と下記化合物（３Ｂｄ）とを含む液晶組成物、
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２；（１Ｂａ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ２）ｄＨ；（３Ｂｄ）
（４）下記化合物（１Ｂｂ−３）、下記化合物（１Ｂｂ−５）、下記化合物（３Ｂｃ３）、および下記化合物（３Ｂｃ５）を含む液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ２）３Ｈ；（１Ｂｂ−３）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ２）５Ｈ；（１Ｂｂ−５）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ２）３Ｈ；（３Ｂｃ３）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ２）５Ｈ；（３Ｂｃ５）。
（５）下記化合物（１Ａａａ５）と下記化合物（１Ｂａ）とを含む液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２；（1Ａａａ５）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２；（１Ｂａ）
（６）下記化合物（１Ａａａ６）と下記化合物（１Ｂａ）とを含む液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−（ＣＨ２）２−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ２；（1Ａａａ６）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２；（１Ｂａ）
【００５３】
高分子液晶を製造するための液晶組成物としては、重合性液晶を７５質量％以上含む液晶組成物であり、９０質量％以上含む液晶組成物が好ましい。この液晶組成物は、非液晶性の重合性化合物や非重合性の液晶化合物を含んでもよい。液晶組成物としては、非液晶性重合性化合物や非重合性液晶化合物を実質的に含まず、重合性液晶を９０質量％以上、特に９５質量％以上、含む液晶組成物が好ましい。本発明において、高分子液晶を製造するための液晶組成物としては、液晶組成物中の全重合性液晶に対して化合物（１）を少なくとも５質量％含む液晶組成物が好ましい。【００５４】
本発明において高分子液晶を製造するために適した液晶組成物は、前記のように化合物（１）の２種以上を含有する液晶組成物、および、化合物（１）の１種以上と化合物（３）の１種以上とを含有する液晶組成物である。これらの液晶組成物における化合物（１）と化合物（３）の合計量は、液晶組成物中の全重合性液晶に対して５０〜１００質量％であることが好ましく、８０〜１００質量％であることが特に好ましい。【００５５】
さらに、液晶組成物中の重合性液晶が実質的に化合物（１’）のみからなるか、または化合物（１）と化合物（３）のみからなる液晶組成物がとりわけ好ましい。化合物（１）と化合物（３）とが併用される場合は、両者の合計量に対する化合物（１）の割合は２０モル％以上であることが好ましい。特に液晶相を示す温度範囲を拡げること等を目的として化合物（３）を併用する場合、その効果をより発揮させるためには両者の合計に対する化合物（１Ａ）の割合は２０〜７０モル％が好ましく、化合物（１Ｂａ）の割合は２０〜９０モル％が好ましく、化合物（１Ｂｂ）の割合は２０〜７０モル％が好ましい。
【００５６】
本発明の液晶組成物は、化合物（１）および化合物（３）等の重合性液晶以外の成分（以下、他の成分と記す。）を含んでいてもよい。他の成分としては、重合開始剤、重合禁止剤、カイラル剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、二色性色素等が挙げられる。【００５７】
液晶組成物に含まれる化合物（１）および化合物（３）等の重合性液晶の総量（以下、「液晶の総量」と記す。）、および、他の成分の割合は用途によって調整することが好ましい。たとえば、他の成分としてカイラル剤を使用する場合、液晶の総量は、液晶組成物に対して２０〜９５質量％が好ましく、５０〜９５質量％が特に好ましい。カイラル剤の量は、液晶組成物に対して５〜８０質量％が好ましく、５〜５０質量％が特に好ましい。【００５８】
他の成分として二色性色素を使用する場合、液晶の総量は、液晶組成物に対して８０〜９９質量％が好ましく、８２〜９７質量％が特に好ましい。二色性色素の量は、液晶組成物に対して１〜２０質量％が好ましく、３〜１８質量％が特に好ましい。【００５９】
他の成分として、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等を使用する場合は、これらの成分の量は液晶組成物に対して５質量％以下が好ましく、２質量％以下が特に好ましい。この場合の液晶の総量は、液晶組成物に対して９５〜１００質量％が好ましく、９８〜１００質量％が特に好ましい。重合開始剤の割合については後述する。【００６０】
つぎに、本発明の光学異方性材料について説明する。本発明の光学異方性材料は、前記液晶組成物を、該液晶組成物が液晶相を示す状態でかつ液晶が配向した状態で重合反応を行うことによって得られる。【００６１】
液晶組成物が液晶相を示す状態に保つためには、雰囲気温度をネマチック相−等方相相転移温度（Ｔｃ）以下にすればよいが、Ｔｃに近い温度では液晶組成物のΔｎがきわめて小さいので、雰囲気温度の上限は（Ｔｃ−１０）℃以下とすることが好ましい。【００６２】
重合反応としては、光重合反応および熱重合反応等が挙げられ、光重合反応が好ましい。光重合反応に用いる光としては、紫外線または可視光線が好ましい。光重合反応を行う場合は光重合開始剤を用いることが好ましく、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、ベンジル類、ミヒラーケトン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、およびチオキサントン類等から適宜選択される。光重合開始剤は１種または２種以上を使用できる。光重合開始剤の量は、液晶組成物の全体量に対して０．１〜５質量％が好ましく、０．３〜２質量％が特に好ましい。【００６３】
つぎに本発明の光学素子について説明する。本発明の光学素子は、配向処理が施された１対の支持体間に前記液晶組成物を挟持し、該液晶組成物が液晶相を示す状態でかつ液晶が配向した状態で重合反応を行うことによって得られる。【００６４】
支持体としては、ガラス製または樹脂製の透明基板に配向処理を施した支持体が好ましい。配向処理は、綿、羊毛、ナイロン、ポリエステル等の繊維で透明基板表面を直接ラビングする方法、透明基板表面にポリイミド配向膜を積層した後に該配向膜表面を上記繊維等でラビングする方法、透明基板表面に無機材料を斜方蒸着する方法等によって行うことが好ましい。【００６５】
つぎに、配向処理が施された面にガラスビーズなどのスペーサを配置し、複数枚の支持体を所望の間隔に制御して対向させ、支持体間に液晶組成物を挟持した後に重合反応を行う。重合反応は、前記光学異方性材料を作製する場合の重合反応と同様に行うことができる。重合反応によって得られた光学素子は、支持体に挟持したまま用いてもよく、支持体から剥離して用いてもよい。【００６６】
本発明の光学異方性材料および光学素子は、青色レーザー光に対して良好な耐久性を示すので、該レーザー光を透過させて使用する光学異方性材料および光学素子として有用である。特に、該レーザー光の位相状態および／または波面状態を変調する用途に使用される光学異方性材料や該光学異方性材料からなる部材を有する光学素子として有用である。たとえば、偏光ホログラム等の回折素子、位相板等として光ヘッド装置に搭載して使用される。偏光ホログラムとしては、レーザー光源からの出射光が光ディスクの情報記録面によって反射されて発生する信号光を分離し、受光素子へ導光する例が挙げられる。位相板としては、１／２波長板として使用し、レーザー光源からの出射光の位相差制御を行う例、１／４波長板として光路中に設置し、レーザー光源の出力を安定化する例が挙げられる。
【実施例】
【００６７】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。ただし、例１〜例２０は実施例であり、例２１は比較例である。なお、以下の例における光重合開始剤は、チバスペシャリティーケミカルズ社製のイルガキュアー９０７を用いた。【００６８】
［例１］化合物（１Ａａａ１３）の合成例
［例１−１］化合物（Ｅ−１）の合成例【００６９】
【化８】
0005012020.tif 000009
【００７０】
滴下装置、撹拌機を装備した３つ口フラスコ中に化合物（Ｄ−１）（２５ｇ）、トリエチルアミン（２１．７ｇ）、ＴＨＦ（３００ｍＬ）を加えた。そこにアクリル酸クロリド（１８．８ｇ）を、反応温度が２０℃を超えないように氷冷しながら滴下した。滴下終了後、室温で２４時間撹拌を行い、濃塩酸（２ｍＬ）、水（２００ｍＬ）およびジエチルエーテル（２００ｍＬ）を反応液に添加して分液した後、有機層を回収した。回収した有機層を水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別した後、溶媒を留去することによって化合物（Ｅ−１）を含む粗生成物（３１ｇ）を得た。【００７１】
［例１−２］化合物（１Ａａａ１３）の合成例【００７２】
【化９】
0005012020.tif 000010
【００７３】
撹拌機を装備した３つ口フラスコ中に、例１−１で得た化合物（Ｅ−１）を含む粗生成物（９．３ｇ）、化合物（Ｆ−１）（１４．４ｇ）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（１６．７ｇ）、ジメチルアミノピリジン（１．８ｇ）、ジクロロメタン（３００ｍＬ）を加え、室温で２４時間撹拌した。【００７４】
撹拌終了後、不溶物をろ過し、ろ液に１ｍｏｌ／ＬのＨＣｌ水溶液（１００ｍＬ）を加えて分液した後、有機層を回収した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ過後、溶媒を留去して粗結晶を得た。粗結晶をジクロロメタン（３０ｍＬ）に溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝６／４、容量比）により精製し、目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮して得られた白色粉末結晶を、ヘキサン／ジクロロメタン（８／２、容量比）（２００ｍＬ）から再結晶して化合物（１Ａａａ１３）（１０．６ｇ）を得た。収率は４８％であった。【００７５】
化合物（１Ａａａ１３）の結晶からネマチック相への相転移温度は１３４℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は２９９．６℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ａａａ１３）の６０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１８６３（外挿値）であった。【００７６】
化合物（１Ａａａ１３）の１ＨＮＭＲスペクトルの結果は以下の通りであった。
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９７（ｔ、３Ｈ）、１．４〜１．８（ｍ、１２Ｈ）、２．０〜２．４（ｍ、７Ｈ）、２．６〜２．７（ｍ、３Ｈ）、４．８１（ｍ、２Ｈ）、５．８〜６．７（ｍ、３Ｈ）、７．２〜７．４（ｄｄ、８Ｈ）。【００７７】
［例２］化合物（１Ａａａ５３−６）の合成例【００７８】
【化１０】
0005012020.tif 000011
【００７９】
化合物（Ｍ−１）（５．００ｇ、０．０１７モル）、式ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ２）６−Ｂｒで表される化合物（３．３７ｇ、０．０１９モル）、炭酸カリウム（４．２２ｇ、０．０３１モル）、ヨウ化カリウム（０．４０ｇ、０．００２モル）、および脱水アセトン（２００ｍＬ）の混合物を、２４時間加熱還流した。ジエチルエーテル（１００ｍＬ）、水（２００ｍL）を加えて分液し、有機層を回収した。有機層を１Ｍ塩酸（１００ｍＬ）で洗浄し、つぎに飽和塩化ナトリウム溶液（２００ｍＬ）で洗浄した後、再度有機層を回収した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（展開液：ジクロロメタン／ヘキサン＝５／５、容量比）により精製し、目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶にヘキサン（１００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（１Ａａａ５３−６）（５．６４ｇ）を得た。収率は７４％であった。【００８０】
化合物（１Ａａａ５３−６）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１１０℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は２００℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ａａａ５３−６）の８０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０９０３であった。【００８１】
化合物（１Ａａａ５３−６）のＮＭＲスペクトル；
1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）０．９（ｔ、３Ｈ）、１．３〜１．８（ｍ、１８Ｈ）、２．３（ｔ、２Ｈ）、２．５〜２．７（ｍ、２Ｈ）、３．９（ｔ、２Ｈ）、４．２（ｔ、２Ｈ）、５．８〜６．４（ｄｄ、３Ｈ）、７．０〜７．２（ｍ、８Ｈ）。【００８２】
［例３］化合物（１Ａａａ６３）の合成例
［例３−１］化合物（Ｕ−１）の合成例【００８３】
【化１１】
0005012020.tif 000012
【００８４】
還流装置、撹拌機を装備した１Ｌの４つ口フラスコに、既報（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，ＰａｒｔＡ,２７,４５３（１９８９））にしたがって合成した化合物（Ｓ−１）（１８．８ｇ、０．０６５モル）、化合物（Ｔ−１）（１５．８ｇ、０．０６４ｇ）、Ｐｄ［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）３］４（５．５５ｇ）、２０％炭酸ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）、脱水テトラヒドロフラン（６００ｍＬ）を加え、窒素気流下、７０℃にて２４時間加熱撹拌を行った。反応終了後、ジエチルエーテル（２００ｍＬ）、水（２００ｍＬ）を加えて、有機層を回収した。有機層を１Ｍ塩酸（１００ｍＬ）、飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、再度有機層を回収した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（展開液：ジクロロメタン／ヘキサン＝５／５、容量比）により精製し、目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶にヘキサン（１００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（Ｕ−１）（１７．２ｇ）を得た。収率は６５％であった。【００８５】
［例３−２］化合物（Ｖ−１）の合成例【００８６】
【化１２】
0005012020.tif 000013
【００８７】
例３−１で得た化合物（Ｕ−１）（１０．０ｇ、０．０６４モル）と脱水ジクロロメタン（２００ｍＬ）との混合物中に、三臭化ホウ素（２．７５ｇ、０．０６４モル）を滴下した。滴下操作は、反応液の温度が１０℃を超えないよう、氷冷しながら行った。室温で４時間撹拌を続けた後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収した有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去し、濾液を濃縮することによって粉末結晶を得た。ジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（９０ｍＬ）を用いて再結晶を行い、化合物（Ｖ−１）（９．２７ｇ）を得た。収率は９６％であった。【００８８】
［例３−３］化合物（１Ａａａ６３）の合成例【００８９】
【化１３】
0005012020.tif 000014
【００９０】
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに例３−２で得た化合物（Ｖ−１）（８．０ｇ、０．０２モル）、トリエチルアミン（３．１２ｇ、０．０３モル）、テトラヒドロフラン（２００ｍＬ）を加えた。窒素気流下で、内温が２０℃を超えないように氷冷しながら、アクリル酸クロリド（２．８８ｇ、０．０３モル）を滴下した。２４時間撹拌した後、濃塩酸（２ｍＬ）、氷（２０ｇ）、および水（３０ｍＬ）の混合物を添加して分液し、有機層を回収した。例３−１と同様に後処理および再結晶を行い、化合物（１Ａａａ６３）（７．０５ｇ）を得た。収率は７８％であった。【００９１】
化合物（１Ａａａ６３）の結晶相からネマチック相への相転移温度は２００℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は３７０℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ａａａ６３）の６０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．２４４３（外挿値）であった。【００９２】
化合物（１Ａａａ６３）のＮＭＲスペクトル;
1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）０．９６（ｔ、３Ｈ）、１．１〜１．４（ｍ、９Ｈ）、１．９１（ｍ、４Ｈ）、２．５１（ｍ、１Ｈ）、２．８８（ｔ、４Ｈ）、５．９〜６．７(ｍ、３Ｈ)、７．０〜７．２（ｄｄ、４Ｈ）、７．４〜７．６（ｄｄ、８Ｈ）。【００９３】
［例４］化合物（１Ｂａ−３）の合成例【００９４】
【化１４】
0005012020.tif 000015
【００９５】
化合物（Ｍ−１）（３．０ｇ、０．０１０モル）、テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）、およびトリエチルアミン（１．２７ｇ、０．０１２モル）の混合物に、アクリル酸クロリド（１．１０ｇ、０．０１２モル）を添加した。滴下操作は、反応液の温度が２０℃を超えないよう、氷冷しながら行った。２４時間撹拌した後、濃塩酸（２ｍＬ）、氷（２０ｇ）および水（３０ｍＬ）の混合物を加えて分液し、有機層を回収した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）で洗浄し、つぎに水洗した後、再度有機層を回収した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。濾液をカラムクロマトグラフィー（展開液：ジクロロメタン／ヘキサン＝５／５、容量比）により精製し、目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶にジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（９０ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（１Ｂａ−３）（２．７ｇ）を得た。収率は７６％であった。【００９６】
化合物（１Ｂａ−３）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１２４℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は２００℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ｂａ−３）の５０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０８（外挿値）であった。【００９７】
化合物（１Ｂａ−３）の１ＨＮＭＲスペクトルを以下に示す。
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）０．９（ｔ、３Ｈ）、１．４〜１．８（ｍ、１０Ｈ）、２．５〜２．７（ｍ、４Ｈ）、６．０〜６．６（ｄｄ、３Ｈ）、７．０〜７．２（ｓ、８Ｈ）。【００９８】
［例５］化合物（１Ｂｂ−３）の合成例
［例５−１］化合物（Ｑ−１）の合成例【００９９】
【化１５】
0005012020.tif 000016
【０１００】
還流装置、撹拌機を装備した１Ｌの４つ口フラスコに化合物（Ｎ−１）（１８．２ｇ、０．０６４モル）、化合物（Ｐ）（９．７５ｇ、０．０６４モル）、Ｐｄ［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）３］４（５．５５ｇ、０．００４８モル）、２０％炭酸ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）、テトラヒドロフラン（６４０ｍＬ）を加え、窒素気流下、７０℃にて２４時間反応を行った。反応終了後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収した有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）で洗浄し、つぎに水洗し、再度有機層を回収した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。濾液をカラムクロマトグラフィー（展開液：ジクロロメタン／ヘキサン＝５／５、容量比）により精製して目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶にジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（９０ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（Ｑ−１）（１７．４ｇ）を得た。収率は８６％であった。【０１０１】
［例５−２］化合物（Ｒ−１）の合成例【０１０２】
【化１６】
0005012020.tif 000017
【０１０３】
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに例５−１で得た化合物（Ｑ−１）（１０ｇ、０．０３２モル）、ジクロロメタン（３００ｍＬ）を加えた。窒素気流下にて、１ｍｏｌ／Ｌの三臭化ホウ素−ジクロロメタン溶液（３４ｍＬ）を３０分かけて滴下した。滴下操作は、内温が１０℃を超えないように氷冷しながら行った。室温で２時間撹拌を続けた後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収した有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去し、濾液を濃縮することによって粉末結晶を得た。ジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（９０ｍＬ）を用いて再結晶を行い、化合物（Ｒ−１）（８．９３ｇ）を得た。収率は９４％であった。【０１０４】
［例５−３］化合物（１Ｂｂ−３）の合成例【０１０５】
【化１７】
0005012020.tif 000018
【０１０６】
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに例５−２で得た化合物（Ｒ−１）（８．０ｇ、０．０２７モル）、トリエチルアミン（３．４０ｇ、０．０３３モル）、テトラヒドロフラン（３００ｍＬ）を加えた。窒素気流下で、内温が２０℃を超えないように氷冷しながら、アクリル酸クロリド（２．９４ｇ、０．０３３モル）を滴下した。２４時間撹拌した後、濃塩酸（２ｍＬ）、氷（２０ｇ）、および水（３０ｍＬ）の混合物を添加して分液し、有機層を回収した。例１−１と同様に後処理および再結晶を行い、化合物（１Ｂｂ−３）（８．１ｇ）を得た。収率は８６％であった。【０１０７】
化合物（１Ｂｂ−３）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１６０℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は１９８℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ｂｂ−３）の５０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１８（外挿値）であった。【０１０８】
化合物（１Ｂｂ−３）の1ＨＮＭＲスペクトルを以下に示す。
1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ3、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９１（ｔ、３Ｈ）、１．０９(ｍ、２Ｈ)、１．１〜１．４（ｍ、５Ｈ）、１．５０（ｍ、２Ｈ）、１．９１（ｔ、４Ｈ）、２．５１（ｍ、１Ｈ）、５．９〜６．７(ｍ、３Ｈ)、７．０〜７．３（ｄｄ、４Ｈ）、７．４〜７．６（ｄｄ、４Ｈ）。【０１０９】
［例６］化合物（１Ｂｂ−５）の合成例
［例６−１］化合物（Ｑ−２）の合成例【０１１０】
【化１８】
0005012020.tif 000019
【０１１１】
化合物（Ｎ−１）（１８．２ｇ、０．０６４モル）を化合物（Ｎ−２）（２０．１ｇ、０．０６４モル）に変更する以外は、例５−１と同様の操作を行い、化合物（Ｑ−２）（１８．７ｇ）を得た。収率は８７％であった。【０１１２】
［例６−２］化合物（Ｒ−２）の合成例【０１１３】
【化１９】
0005012020.tif 000020
【０１１４】
化合物（Ｑ−１）（１０ｇ、０．０３２モル）を例６−１で合成した化合物（Ｑ−２）（１０．９ｇ、０．０３２モル）に変更する以外は例５−２と同様にして化合物（Ｒ−２）（１９．７ｇ）を得た。収率は８２％であった。【０１１５】
［例６−３］化合物（１Ｂｂ−５）の合成例【０１１６】
【化２０】
0005012020.tif 000021
【０１１７】
化合物（Ｒ−１）（８．０ｇ、０．０２７モル）を例６−２で得た化合物（Ｒ−２）（８．８ｇ、０．０２７モル）に変更する以外は、例５−３と同様にして化合物（１Ｂｂ−５）（８．０ｇ）を得た。収率は８２％であった。【０１１８】
化合物（１Ｂｂ−５）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１６０℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は１９８℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ｂｂ−５）の５０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１８（外挿値）であった。【０１１９】
化合物（１Ｂｂ−５）の1ＨＮＭＲスペクトルを以下に示す。
1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ3、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９１(ｔ、３Ｈ)、１．０９(ｍ、２Ｈ)、１．１〜１．４ （ｍ、９Ｈ）、１．５０（ｍ、２Ｈ）、１．９１（ｔ、４Ｈ）、２．５１（ｍ、１Ｈ）、５．９〜６．７(ｍ、３Ｈ)、７．０〜７．３（ｄｄ、４Ｈ）、７．４〜７．６（ｄｄ、４Ｈ）。【０１２０】
［例７］液晶組成物の調製例（その１）
例１で合成した化合物（１Ａａａ１３）と、下記化合物（３Ｂｃ３）とを１：１の割合（モル比）で混合して液晶組成物Ａを得た。液晶組成物Ａは４３．４℃で結晶化した。また、ネマチック相から等方相への相転移温度は１２５℃以上であった。つぎに、液晶組成物Ａに光重合開始剤を液晶組成物Ｂに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ａ１を得た。【０１２１】
【化２１】
0005012020.tif 000022
【０１２２】
［例８］液晶組成物Ｂの調製例（その２）
例２で得た化合物（１Ａａａ５３−６）と例４で得た化合物（１Ｂａ−３）とを、１：１（モル比）で混合して液晶組成物Ａを得た。液晶組成物Ｂは５９．０℃〜１１６．６℃の間でネマチック相を示した。つぎに、液晶組成物Ｂに光重合開始剤を液晶組成物Ａに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｂ１を得た。【０１２３】
［例９］液晶組成物の調製例（その３）
例３で得た化合物（１Ａａａ６３）と下記化合物（３Ｂｃ３）と下記化合物（３Ｂｃ５）を、２：１：１（モル比）で混合して液晶組成物Ｃを得た。液晶組成物Ｃは５０．０℃〜１２０．６℃の間でネマチック相を示した。つぎに、液晶組成物Ｃに光重合開始剤を液晶組成物Ｃに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｃ１を得た。【０１２４】
【化２２】
0005012020.tif 000023
【０１２５】
［例１０］液晶組成物の調製例（その４）
例４で得た化合物（１Ｂａ−３）と前記化合物（３Ｂｃ５）とを、１：１（モル比）で混合して液晶組成物Ｄを得た。液晶組成物Ａは４５．４℃〜９２．１℃の間でネマチック相を示した。つぎに、液晶組成物Ｄに光重合開始剤を液晶組成物Ｄに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｄ１を得た。【０１２６】
［例１１］液晶組成物の調製例（その５）
例４で得た化合物（１Ｂａ−３）と下記化合物（３Ｂｄ−３）とを、１：１（モル比）で混合して液晶組成物Ｅを得た。液晶組成物Ｅは４３．７℃〜９０．８℃の間でネマチック相を示した。つぎに、液晶組成物Ｅに、光重合開始剤を液晶組成物Ｅに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｅ１を得た。【０１２７】
【化２３】
0005012020.tif 000024
【０１２８】
［例１２］液晶組成物の調製例（その６）
例５で得た化合物（１Ｂｂ−３）、例６で得た化合物（１Ｂｂ−５）、前記化合物（３Ｂｃ３）、および前記化合物（３Ｂｃ５）をモル比で１：１：１：１で混合して、液晶組成物Ｆを得た。液晶組成物Ｆは７７℃以上でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は１２４℃以上であった。つぎに、液晶組成物Ｆに光重合開始剤を液晶組成物Ｆに対して、それぞれ０．５質量％、１．０質量％添加し、液晶組成物Ｆ１、液晶組成物Ｆ２を得た。【０１２９】
［例１３］液晶組成物の調製例（その７）
例１２と同様の化合物を使用し、混合比を変更して液晶組成物Ｇを得た。化合物（１Ｂｂ−３）、化合物（１Ｂｂ−５）、化合物（３Ｂｃ３）、化合物（３Ｂｃ５）の混合比は７：７：１８：１８（モル比）とした。
液晶組成物Ｇは３０℃以上でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は１２４℃以上であった。
つぎに、液晶組成物Ｇに光重合開始剤を液晶組成物Ｇに対して、０．５質量％添加し、液晶組成物Ｇ１を得た。【０１３０】
[例１４]光学素子Ａの作製および評価例
縦５ｃｍ、横５ｃｍ、厚さ０．５ｍｍのガラス基板にポリイミド溶液をスピンコータで塗布して乾燥した後、ナイロンクロスで一定方向にラビング処理して支持体を作製した。
配向処理を施した面が向かい合うように２枚の支持体を接着剤を用いて貼り合わせてセルを作製した。接着剤には、直径４μｍのガラスビーズを添加し、支持体の間隔が４μｍになるように調整した。【０１３１】
つぎに、前記セル内に、例７で得た液晶組成物Ａ１を１００℃で注入した。８０℃において、強度８０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を積算光量が５３００ｍＪ／ｃｍ２となるよう照射して光重合反応を行い、光学素子Ａを得た。光学素子Ａはラビング方向に沿って水平配向していた。光学素子Ａの波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０４６であった。また、光学素子Ａは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。【０１３２】
また、光学素子ＡにＫｒレーザー（波長４０７ｎｍ、４１３ｎｍのマルチモード）を照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度２５℃、積算曝露エネルギー１５Ｗ×ｈｏｕｒ／ｍｍ２とした。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ａは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。【０１３３】
［例１５］光学素子Ｂの作製例および評価例
液晶組成物Ａ１を、例８で得た液晶組成物Ｂ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｂを得た。光学素子Ｂはラビング方向に沿って水平配向していた。光学素子Ｂの波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１１９であった。また、光学素子Ｂは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。【０１３４】
光学素子Ｂに対して、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｂは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。【０１３５】
［例１６］光学素子Ｃの作製例および評価例
液晶組成物Ａ１を、例９で得た液晶組成物Ｃ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｃを得た。光学素子Ｃはラビング方向に沿って水平配向していた。光学素子Ｃの波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０６８であった。また、光学素子Ｃは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。【０１３６】
光学素子Ｃに対して、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｃは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。【０１３７】
［例１７］光学素子Ｄの作製例および評価例
液晶組成物Ａ１を、例１０で得た液晶組成物Ｄ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｄを得た。光学素子Ｄはラビング方向に沿って水平配向していた。光学素子Ｄの波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０５５であった。また、光学素子Ｄは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。【０１３８】
光学素子Ｄに対し、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｄは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。【０１３９】
［例１８］光学素子Ｅの作製例および評価例
液晶組成物Ａ１を、例１１で得た液晶組成物Ｅ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｅを得た。光学素子Ｅは基板のラビング方向に水平配向していた。波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０５８であった。また、光学素子Ｅは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。【０１４０】
光学素子Ｅに対して例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１．７％であったことから、光学素子Ｅは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。【０１４１】
［例１９］光学素子の作製例（その１）
［例１９−１ａ］光学素子Ｆの作製例
液晶組成物Ａ１を、例１２で得た液晶組成物調製した液晶組成物Ｆ１に変更し、注入温度を１１０℃とし、重合温度を９０℃とする以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｆ１を得た。光学素子Ｆ１は基板のラビング方向に水平配向していた。光学素子Ｆ１は可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０６４であった。【０１４２】
［例１９−１ｂ］光学素子Ｆ１の評価例
光学素子Ｆ１に対し、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｆ１は青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。【０１４３】
［例１９−２］偏光ホログラムの作製例
ピッチ９μｍ、深さ３μｍの矩形格子をもつガラス基板上に、配向剤としてポリイミドをスピンコータで塗布し、熱処理した。つぎにナイロンクロスで格子と平行方向にラビング処理を行って支持体を作製した。前記の支持体を２枚準備し、配向処理が施された面が対向するように接着剤を用いて貼り合わせてセルを作製した。その際、配向方向が平行になるようにした。【０１４４】
このセル内に、例１２で得た液晶組成物Ｆ２を１００℃で注入した。つぎに、９０℃において、強度４０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３分間照射して光重合反応を行い、光学素子Ｆ２を得た。光学素子Ａ２の片面に１／４波長板を積層し、偏光ホログラムビームスプリッタを作製した。この偏光ホログラムビームスプリッタを光ヘッド装置に搭載したところ、波長６５０ｎｍのレーザー光に対して２７％の光利用効率を得た。【０１４５】
［例２０］光学素子の作製例
［例２０−１］光学素子Ｇの作製例
液晶組成物Ａ１を例１３で得た液晶組成物Ｇ１とする以外は例１４と同様の方法で光学素子Ｇを得た。光学素子Ｇは基板のラビング方向に水平配向していた。光学素子Ｇは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０３９であった。【０１４６】
［例２０−２］光学素子Ｇの評価例
光学素子Ｇに対して、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、また、波長４０５ｎｍのレーザー光に対する透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｇは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。【０１４７】
［例２１］
［例２１−１］液晶組成物の調製例（その８）
下記化合物（４ａ）、下記化合物（４ｂ）、下記化合物（４ｃ）、下記化合物（４ｄ）を１：１：１：１（質量比）で混合し、液晶組成物Ｈを調製した。つぎに、液晶組成物Ｈに光重合開始剤を液晶組成物Ｈに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｈ１を得た。【０１４８】
【化２４】
0005012020.tif 000025
【０１４９】
［例２１−２］光学素子Ｈの作製・評価例
液晶組成物Ａ１を、例２１−１で得た液晶組成物Ｈ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｈを得た。波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０４６であった。また、光学素子Ｈは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。【０１５０】
光学素子Ｈに対して例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は３０％であった。また、試験後の波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率は試験前の６０％に低下していた。
【産業上の利用可能性】
【０１５１】
本発明の新規化合物は、光学異方性材料に要求される特性を満たし、かつ青色レーザー光に対する耐久性に優れた化合物である。本発明の新規化合物を含む液晶組成物を重合してなる光学異方性材料、および光学素子は青色レーザー光に対する耐久性に優れることから、青色レーザー光を変調する回折素子および位相板等の材料として有効に用いうる。
なお、本出願の優先権主張の基礎となる、日本特許願２００４−１８５０９０号（２００４年６月２３日に日本特許庁に出願）、日本特許願２００４−１８７７８８号（２００４年６月２５日に日本特許庁に出願）および日本特許願２００４−１８７７９５号（２００４年６月２５日に日本特許庁に出願）の全明細書の内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。