(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
直列に配置した前室、加熱室、浸炭室及び冷却室を有する連続真空浸炭炉において、
前記加熱室と前記浸炭室の間、及び前記浸炭室と前記冷却室の間に、それぞれ仕切扉を介して搬送室を設けるとともに、前記加熱室及び浸炭室及び冷却室に、それぞれ処理品支持用の架台を設け、
昇降駆動される基材部上に前後両方向に伸縮駆動されるテレスコピック型のアームをそなえた移送装置を、前記各搬送室に設けて、前記移送装置により、前記各搬送室の前段側の処理室内の処理品を後段側の処理室内に移送するようにしたことを特徴とする連続真空浸炭炉。
【請求項２】
直列に配置した前室、加熱室、浸炭室及び冷却室を有する連続真空浸炭炉において、
前記加熱室と前記浸炭室の間に、仕切扉を介して搬送室を設けるとともに、前記加熱室及び浸炭室及び冷却室に、それぞれ処理品支持用の架台を設け、
昇降駆動される基材部上に前後両方向に伸縮駆動されるテレスコピック型のアームをそなえた移送装置を、前記搬送室及び前記冷却室にそれぞれ設けて、前記移送装置により、前記加熱室内の処理品を前記浸炭室内に、前記浸炭室内の処理品を前記冷却室内にそれぞれ移送するようにするとともに、
前記冷却室に、下降状態にある前記移送装置の上側に位置する水平面上に並列配置され左右方向に移動自在にガイドされた前後方向に延びる一対の遮熱板と、該遮熱板の下面に沿って配置され前後方向に延びる開口部を隔てて炉体に固設された固定板と、前記各遮熱板を相互に近接・離間駆動して前記開口部を閉鎖・開放させる駆動機とをそなえてなる開閉シャッタ式の遮熱装置を設け、前記冷却室内に移送され架台上に支持された処理品と下降状態にある前記移送装置との間を、前記開口部を閉鎖した状態の前記遮熱板により仕切るようにしたことを特徴とする連続真空浸炭炉。
【請求項３】
前記冷却室に設けた処理品支持用の架台を、前記移送装置による処理品の受渡し位置である下降位置と、前記架台の前後方向に延びる支持梁部が前記遮熱板の上端部より上側に位置する上昇位置との間を、昇降させる架台昇降装置を設けたことを特徴とする請求項２記載の連続真空浸炭炉。
【請求項４】
直列に配置した前室、加熱室、浸炭室及び冷却室を有する連続真空浸炭炉において、
前記加熱室と前記浸炭室の間に、仕切扉を介して搬送室を設けるとともに、前記加熱室及び浸炭室に、それぞれ処理品支持用の架台を設け、
昇降駆動される基材部上に前後両方向に伸縮駆動されるテレスコピック型のアームをそなえた移送装置を、前記搬送室及び前記冷却室にそれぞれ設けるとともに、前記冷却室に処理品支持装置として、処理品底面の左右側縁部を支承する支持片部をそなえ前記移送装置による処理品の受渡し位置に前記支持片部が位置する下降位置と該下降位置から所定ストローク上昇した上昇位置との間を、前記冷却室の上部に設けた駆動機により昇降駆動されるゴンドラを設けて、前記移送装置により、前記加熱室内の処理品を前記浸炭室内に、前記浸炭室内の処理品を前記冷却室内にそれぞれ移送するようにするとともに、
前記冷却室に、下降状態にある前記移送装置の上側に位置する水平面上に並列配置され左右方向に移動自在にガイドされた前後方向に延びる一対の遮熱板と、該遮熱板の下面に沿って配置され前後方向に延びる開口部を隔てて炉体に固設された固定板と、前記各遮熱板を相互に近接・離間駆動して前記開口部を閉鎖・開放させる駆動機とをそなえてなる開閉シャッタ式の遮熱装置を設け、前記冷却室内に移送され上昇位置にある前記ゴンドラに支持された処理品と下降状態にある前記移送装置との間を、前記開口部を閉鎖した状態の前記遮熱板により仕切るようにしたことを特徴とする連続真空浸炭炉。
【請求項５】
前記ゴンドラの左右両側面部に、該ゴンドラに支持された処理品の左右両側面に対面して配置した側部遮熱板を取付けたことを特徴とする請求項４記載の連続真空浸炭炉。
【請求項６】
前記遮熱板の前後両端部に、上向きに延びる断熱板を固設し、
前記遮熱板の閉鎖時に、該遮熱板と共に移動して閉鎖状態となった前記断熱板により、前記冷却室内に収容した処理品の前後両側面部と冷却室の前後両壁板との間を仕切る断熱壁体を形成させるようにしたことを特徴とする請求項２ないし請求項５のいずれかに記載の連続真空浸炭炉。
【請求項７】
前記遮熱板の上面側に、表面が該遮熱板の先端側に向かって上方へ湾曲し、遮熱板閉鎖時に冷却風を上方へ偏向させる整流体部を設けたことを特徴とする請求項２ないし請求項６のいずれかに記載の連続真空浸炭炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、直列に配置した前室、加熱室、浸炭室及び冷却室を有し、真空状態で処理品の浸炭処理をおこなう連続真空浸炭炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、鉄合金部品などの処理品の連続真空浸炭処理をおこなう炉としては、直列に配置した前室(装入室)、加熱室、浸炭室及び冷却室を有する連続真空浸炭炉が多く用いられている(たとえば特許文献１，２参照。)。
【特許文献１】特開２００４−１０７７０５号公報
【特許文献２】特開２００６−１３７９６４号公報
【０００３】
ところがこれらの連続真空浸炭炉においては、処理品を各室に順次移送する移送手段としては、上記特許文献１に記載の炉ではローラハース式の移送装置を、上記特許文献２に記載の炉ではウオーキングビーム式の内部送り装置を、それぞれ用いているため、浸炭室内に設けたこれらの移送装置の各構成部材、特に鉄系合金部材が、高温下で繰返し真空浸炭処理を受ける結果、上記各構成部材に歪みを生じたり靱性が低下して脆くなり、また可動部材に煤やタールが付着堆積することとあいまって動作不良を生じ、短期間で移送装置の修理・交換などが必要となり、またこれらの保守・交換作業期間中は連続真空浸炭処理が中断され、炉操業の支障となるという問題点を有するものであった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この発明は上記従来の問題点を解決しようとするもので、処理品の移送装置が浸炭室内の真空浸炭雰囲気に曝されることがなく、真空浸炭に起因する移送装置の劣化や動作不良の発生を防止することができる連続真空浸炭炉を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、請求項１記載の連続真空浸炭炉は、直列に配置した前室、加熱室、浸炭室及び冷却室を有する連続真空浸炭炉において、前記加熱室と前記浸炭室の間、及び前記浸炭室と前記冷却室の間に、それぞれ仕切扉を介して搬送室を設けるとともに、前記加熱室及び浸炭室及び冷却室に、それぞれ処理品支持用の架台を設け、昇降駆動される基材部上に前後両方向に伸縮駆動されるテレスコピック型のアームをそなえた移送装置を、前記各搬送室に設けて、前記移送装置により、前記各搬送室の前段側の処理室内の処理品を後段側の処理室内に移送するようにしたことを特徴とする。
【０００６】
この発明において「前」側とは、炉内を移送され前工程(前段)側から後工程(後段)側へと進行する処理品の進行方向上流側(前工程室側)を称し、「後」側とはその反対方向側を称し、また「左右」とは、前後方向に対する水平面上における左右方向を称するものとする。
【０００７】
請求項１記載の発明によれば、基材部上にテレスコピック型のアームをそなえた移送装置により、加熱室内の処理品を浸炭室内に、浸炭室内の処理品を冷却室内に、それぞれ移送することができ、これら移送後の移送装置はテレスコピック型のアームを短縮状態として各搬送室内に収容することができ、各搬送室と仕切扉で仕切られた浸炭室において処理品の浸炭処理をおこなうことにより、移送装置は浸炭室内の真空浸炭雰囲気に曝されることがない。
【０００８】
また請求項２記載の発明は、直列に配置した前室、加熱室、浸炭室及び冷却室を有する連続真空浸炭炉において、前記加熱室と前記浸炭室の間に、仕切扉を介して搬送室を設けるとともに、前記加熱室及び浸炭室及び冷却室に、それぞれ処理品支持用の架台を設け、昇降駆動される基材部上に前後両方向に伸縮駆動されるテレスコピック型のアームをそなえた移送装置を、前記搬送室及び前記冷却室にそれぞれ設けて、前記移送装置により、前記加熱室内の処理品を前記浸炭室内に、前記浸炭室内の処理品を前記冷却室内にそれぞれ移送するようにするとともに、前記冷却室に、下降状態にある前記移送装置の上側に位置する水平面上に並列配置され左右方向に移動自在にガイドされた前後方向に延びる一対の遮熱板と、該遮熱板の下面に沿って配置され前後方向に延びる開口部を隔てて炉体に固設された固定板と、前記各遮熱板を相互に近接・離間駆動して前記開口部を閉鎖・開放させる駆動機とをそなえてなる開閉シャッタ式の遮熱装置を設け、前記冷却室内に移送され架台上に支持された処理品と下降状態にある前記移送装置との間を、前記開口部を閉鎖した状態の前記遮熱板により仕切るようにしたことを特徴とする。
【０００９】
請求項２記載の発明によれば、基材部上にテレスコピック型のアームをそなえた移送装置により、加熱室内の処理品を浸炭室内に、浸炭室内の処理品を冷却室内に、それぞれ移送することができ、これら移送後の移送装置はテレスコピック型のアームを短縮状態として搬送室内及び冷却室内に収容することができ、これら搬送室及び冷却室と仕切扉で仕切られた浸炭室において処理品の浸炭処理をおこなうことにより、移送装置は浸炭室内の真空浸炭雰囲気に曝されることがない。また浸炭室と冷却室との間には搬送室を設けずに、浸炭室からの処理品抽出用の移送装置は、浸炭室に隣合う冷却室に設けたので、上記搬送室設置分のスペースが不要であり、真空浸炭炉の炉全長、従って炉設置スペースが、小さくて済む。
【００１０】
また冷却室内において、冷却処理のために架台上に支持された処理品と下降状態にある移送装置との間を、開閉シャッタ式の遮熱装置の遮熱板により仕切るようにしたので、浸炭室から冷却室内に移送された直後の高温の処理品からの放射熱が移送装置に達するのが上記遮熱板に阻止され、移送装置は高温に加熱されることなく、長期にわたって支障なく使用できるのである。
【００１１】
また請求項３記載の発明は、請求項２記載の連続真空浸炭炉において、前記冷却室に設けた処理品支持用の架台を、前記移送装置による処理品の受渡し位置である下降位置と、前記架台の前後方向に延びる支持梁部が前記遮熱板の上端部より上側に位置する上昇位置との間を、昇降させる架台昇降装置を設けたことを特徴とする。
【００１２】
この請求項３記載の発明によれば、冷却室において架台昇降装置により、移送装置による処理品の受渡し時には架台を下降位置に、処理品の冷却処理時には架台を上昇位置に、それぞれ位置させることができるので、冷却室に設ける移送装置の昇降ストロークは格別大ストロークのものとする必要がなく、搬送室内に設ける移送装置と同型機を用いて移送装置の小型・共通化及びその制御の共通化をはかることができる。
【００１３】
また請求項４記載の発明は、直列に配置した前室、加熱室、浸炭室及び冷却室を有する連続真空浸炭炉において、前記加熱室と前記浸炭室の間に、仕切扉を介して搬送室を設けるとともに、前記加熱室及び浸炭室に、それぞれ処理品支持用の架台を設け、昇降駆動される基材部上に前後両方向に伸縮駆動されるテレスコピック型のアームをそなえた移送装置を、前記搬送室及び前記冷却室にそれぞれ設けるとともに、前記冷却室に処理品支持装置として、処理品底面の左右側縁部を支承する支持片部をそなえ前記移送装置による処理品の受渡し位置に前記支持片部が位置する下降位置と該下降位置から所定ストローク上昇した上昇位置との間を、前記冷却室の上部に設けた駆動機により昇降駆動されるゴンドラを設けて、前記移送装置により、前記加熱室内の処理品を前記浸炭室内に、前記浸炭室内の処理品を前記冷却室内にそれぞれ移送するようにするとともに、前記冷却室に、下降状態にある前記移送装置の上側に位置する水平面上に並列配置され左右方向に移動自在にガイドされた前後方向に延びる一対の遮熱板と、該遮熱板の下面に沿って配置され前後方向に延びる開口部を隔てて炉体に固設された固定板と、前記各遮熱板を相互に近接・離間駆動して前記開口部を閉鎖・開放させる駆動機とをそなえてなる開閉シャッタ式の遮熱装置を設け、前記冷却室内に移送され上昇位置にある前記ゴンドラに支持された処理品と下降状態にある前記移送装置との間を、前記開口部を閉鎖した状態の前記遮熱板により仕切るようにしたことを特徴とする。
【００１４】
請求項４記載の発明によれば、請求項２記載の発明と同様に、基材部上にテレスコピック型のアームをそなえた移送装置により、加熱室内の処理品を浸炭室内に、浸炭室内の処理品を冷却室内に、それぞれ移送することができ、これら移送後の移送装置はテレスコピック型のアームを短縮状態として搬送室内及び冷却室内に収容することができ、これら搬送室及び冷却室と仕切扉で仕切られた浸炭室において処理品の浸炭処理をおこなうことにより、移送装置は浸炭室内の真空浸炭雰囲気に曝されることがない。また浸炭室と冷却室との間には搬送室を設けずに、浸炭室からの処理品抽出用の移送装置は、浸炭室に隣合う冷却室に設けたので、上記搬送室設置分のスペースが不要であり、真空浸炭炉の炉全長、従って炉設置スペースが、小さくて済む。
【００１５】
また冷却室内において、移送装置による処理品の受渡し時にはゴンドラを下降位置に位置させ、冷却処理時にはゴンドラを上昇位置に、それぞれ位置させることができるので、冷却室に設ける移送装置の昇降ストロークは格別大ストロークのものとする必要がなく、搬送室内に設ける移送装置と同型機を用いて移送装置の小型・共通化及びその制御の共通化をはかることができる。またゴンドラは冷却室上部に設けた駆動機により吊下状態で昇降駆動されるので、ゴンドラの下側には昇降駆動機構を設ける必要がなく、架台を昇降駆動する場合に上下方向にかさばる架台昇降駆動装置設置のためのスペースを冷却室下部に確保したり処理品パスラインを上方位置に設定する必要がなく、冷却室下部の構造の小型・簡素化及び真空浸炭炉全体の炉高の小型化をはかることができる。
【００１６】
そして冷却室内において、冷却処理のために上昇位置にあるゴンドラ（の支持片部上）に支持された処理品と下降状態にある移送装置との間を、開閉シャッタ式の遮熱装置の遮熱板により仕切るようにしたので、浸炭室から冷却室内に移送された直後の高温の処理品からの放射熱が移送装置に達するのが上記遮熱板に阻止され、移送装置は高温に加熱されることなく、長期にわたって支障なく使用できるのである。
【００１７】
また請求項５記載の発明は、請求項４記載の連続真空浸炭炉において、前記ゴンドラの左右両側面部に、該ゴンドラに支持された処理品の左右両側面に対面して配置した側部遮熱板を取付けたことを特徴とする。
【００１８】
この請求項５記載の発明によれば、浸炭室から冷却室内に移送されゴンドラ（の支持片部上）に支持された直後の高温の処理品の左右両側面部からの放射熱が側部遮熱板により遮熱されるので、この放射熱により、炉体側壁部側の冷却風循環路と処理品収容部との間の隔壁などの、処理品の左右両側に位置する炉体各部が過熱され劣化するのが防止される。
【００１９】
また請求項６記載の発明は、請求項２ないし請求項５のいずれかに記載の連続真空浸炭炉において、前記遮熱板の前後両端部に、上向きに延びる断熱板を固設し、前記遮熱板の閉鎖時に、該遮熱板と共に移動して閉鎖状態となった前記断熱板により、前記冷却室内に収容した処理品の前後両側面部と冷却室の前後両壁板との間を仕切る断熱壁体を形成させるようにしたことを特徴とする。
【００２０】
この請求項６記載の発明によれば、断熱板は遮熱板と一体となって開閉駆動され、処理品の移送時には開放状態となり移送の支障となることはなく、閉鎖状態では高温の処理品の前後両側面部に近い位置で該前後両側面部と冷却室の前後両壁板及び該壁板部に設けた開口部開閉用の扉との間を仕切るので、高温の処理品からの放射熱によりこれら壁板や扉部が昇温するのを防止でき、これら壁板や扉部への大掛かりな断熱材の付設や、この付設による扉の開閉ストロークの増大化などをはかる必要がなくなる。
【００２１】
また請求項７記載の発明は、請求項２ないし請求項６のいずれかに記載の連続真空浸炭炉において、前記遮熱板の上面側に、表面が該遮熱板の先端側に向かって上方へ湾曲し、遮熱板閉鎖時に冷却風を上方へ偏向させる整流体部を設けたことを特徴とする。
【００２２】
この請求項７記載の発明によれば、遮熱板閉鎖時に処理品の下方の左右中央部に位置する整流体部によって、冷却風が上方へ偏向され、冷却風がほぼ均一流となって処理品に吹付けられるので、処理品はほぼ均一に冷却され、遮熱板とは別個の整流板を処理品下方に進退自在に設けるなどの複雑な装置は不要であり、簡潔な構造の整流作用が得られる。
【発明の効果】
【００２３】
以上説明したように請求項１記載の発明によれば、浸炭室の前段側及び後段側に設けた各搬送室内に設けたテレスコピック型のアームをそなえた移送装置により、処理品の浸炭室内への送入・抽出をおこなうようにしたので、移送装置は浸炭室内の真空浸炭雰囲気に曝されることがなく、真空浸炭に起因する移送装置の劣化や動作不良の発生を防止することができる。
【００２４】
また請求項２記載の発明によれば、浸炭室の前段側に設けた搬送室内及び冷却室内に設けたテレスコピック型のアームをそなえた移送装置により、処理品の浸炭室内への送入・抽出をおこなうようにしたので、移送装置は浸炭室内の真空浸炭雰囲気に曝されることがなく、真空浸炭に起因する移送装置の劣化や動作不良の発生を防止することができるとともに、浸炭室に隣合う冷却室内に移送装置を設けたので真空浸炭炉の炉長方向設置スペースが小さくて済む。また冷却室内に設けた移送装置と冷却室内に支持された処理品との間を開閉シャッタ式の遮熱装置の遮熱板により仕切るようにしたので、移送装置は処理品により高温に加熱されることなく、長期にわたって支障なく使用できる。
【００２５】
また上記の請求項２記載の発明による効果に加えて、請求項３記載の発明によれば、冷却室に架台昇降装置を設けたので、冷却室内に設ける移送装置としては搬送室内に設ける移送装置と同型機あるいは同程度の昇降ストロークを有する移送装置を使用することができる。
【００２６】
また請求項４記載の発明によれば、上記の請求項２記載の発明による効果に加えて、ゴンドラは冷却室上部に設けた駆動機により昇降駆動されるので、架台昇降駆動装置を設ける場合に比べて冷却室の下部構造が小型・簡素化され、真空浸炭炉全体の炉高の小型化をはかることができる。
【００２７】
また上記の請求項４記載の発明による効果に加えて、請求項５記載の発明によれば、高温の処理品の左右両側面部からの放射熱が側部遮熱板により遮熱されるので、処理品の左右両側に位置する炉体各部の過熱を防止できる。
【００２８】
また上記の効果に加えて、請求項６記載の発明によれば、高温の処理品の前後両側面からの放射熱が断熱板により断熱されるので、冷却室の前後両壁板及びその開口部開閉用の扉の過度の昇温を防止できる。
【００２９】
また上記の効果に加えて、請求項７記載の発明によれば、遮熱板の整流体部によって冷却風がほぼ均一流となって処理品に吹付けられるので、処理品がほぼ均一に冷却される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下図１〜図１２に示す第１例により、この発明の実施の形態を説明する。図１において、１は連続真空浸炭炉で、２は前室（装入室）、３は加熱室、４は浸炭室、５は冷却室で、６は加熱室３と浸炭室４の間に設けた搬送室である。各室間には仕切扉１１ａ〜１１ｄを設け、各室（の炉殻部）は一体に連結されているが、保守時などには切離せる構造となっており、図示のように炉体下部に車輪をそなえている。１２は処理品装入用の入口、１３は同じく取出用の出口で、それぞれエアシリンダ式の開閉装置１４，１５により開閉駆動される扉１６，１７をそなえている。また仕切扉１１ａ〜１１ｄは、それぞれ横置きシリンダ式の開閉装置１８により開閉駆動される。またこの炉における真空浸炭処理対象物である処理品Ｗは、各図において角体状に略図示してあるが、具体的には、複数段の棚板をそなえた保持具の前記棚板部に多数個の処理対象部品を保持させトレイ上に支持したものや、上記処理対象部品をバスケットに収容しトレイ上に支持したものなど、真空浸炭処理及び移送に適した形態を有するものであり、この発明においてはこれらの形態の処理単位品としてまとめられたものを処理品と称し、処理品Ｗの底面とは上記処理単位品の底面、具体的には上記トレイの底面などを称するものとする。
【００３１】
前室２から冷却室５に至る各室は、図示しない真空排気装置に接続され、さらに浸炭室４は図示しない浸炭性ガス供給源に、冷却室５は図示しない雰囲気ガス（窒素ガス）供給源に、それぞれ接続されている。また加熱室３及び浸炭室４は、それぞれ炉殻内に設けた断熱壁２１，２２で四周を囲繞された室内に、図示しない電熱式のヒータをそなえ、炉殻に固設された処理品Ｗ支持用の架台２５，２５をそなえている。この架台２５は図２に示すように、処理品Ｗの底面の左右側縁部を支承する前後方向に延びる支持梁２５ａの前後両端部に支柱２５ｂを固着したコ字状の枠体を、左右に間隔をおいて２組配設して成り、この間隔部に後述する移送装置３０の伸長状態のテレスコピックアーム３１（詳しくはその上部アーム３４）が進入できる構造となっている。また冷却室５には、処理品Ｗ支持用の上記と同様な構成の架台２５を昇降させる架台昇降装置７０を設けてあり、その構成については、冷却室５の詳細構造とともに後述する。
【００３２】
３０は処理品Ｗ移送用の移送装置で、搬送室６，冷却室５，及びこの例では前室２にも、設けられている。この移送装置３０は、図３〜図８に示す構成を有する。なおこれらの図は搬送室６に設けた移送装置３０を示すものであるが、冷却室５及び前室２に設けたものも、これと同一構成を有するものである。図中、３１はテレスコピックアームで、ベースアーム３２に中間アーム３３を長手方向に移動自在に支持し、この中間アーム３３に上部アーム３４を長手方向に移動自在に支持し、後述する駆動及び連動機構により中間アーム３３及び上部アーム３４が連動して、図示の短縮（原点）状態から図中矢印Ｓで示す前方及び矢印Ｔで示す後方へ伸長し、また短縮状態に引戻駆動されるものである。なお中間アーム３３のベースアーム３２への支持構造、及び上部アーム３４の中間アーム３３への支持構造としては、相対移動する一方のアームにアーム長手方向に並設したローラにより、他方のアームを長手方向に移動自在に支持する構造を有するものであるが、その詳細な図示は省略する。
【００３３】
図３及び図４に示すように２組のテレスコピックアーム３１，３１のベースアーム３２，３２の前後両端部を２本の連結梁３５で連結して、昇降駆動される支持部材である四角枠組状の昇降枠３６を構成し、各連結梁３５の左右両端部には、ガイドを兼ねた駆動片３７が下向きに固設してある。３８は搬送室６の炉殻６ａの底部に固設した支持台で、この支持台３８の四隅部に立設固着したガイド板３９が、上記昇降枠３６の各駆動片３７に設けた縦溝に摺動自在に嵌合し、これによって昇降枠３６、従って各テレスコピックアーム３１は、ガイド板３９により上下に昇降自在にガイドされている。
【００３４】
そして図３及び図６に示すように、支持台３８の前後中央部には、炉殻６ａの外部に取付けた回転駆動機４０の出力軸に継手４１を介して連結された駆動軸４２が回転自在に支持され、この駆動軸４２に設けたスプロケット４３，４３によりチェーン４４，４４を介して回転駆動される従動軸４５ａ，４５ｂが、図示しない軸受により支持台３８の前後両端部に回転自在に支持されている。各従動軸４５ａ，４５ｂの両端部には、図５に示すように、この従動軸の軸心と偏心した位置に駆動ローラ４６を軸支したクランク状（偏心カム状）の駆動子４７を固設し、この駆動ローラ４６を前記駆動片３７の内面側に凹設した前後方向に延びる溝４８に係合させてあり、この駆動子４７及び駆動片３７によって昇降枠３６及びその上部支持物（処理品Ｗ移送時には処理品Ｗを含む）が支持されるとともに、回転駆動機４０により前記チェーン駆動機構を介して従動軸４５ａ，４５ｂを１８０度回転させることにより、昇降枠３６及びその上部支持物は、駆動ローラ４６と従動軸４５ａ，４５ｂの偏心量の２倍に相当する昇降行程Ｙだけ、図示の下降位置から上昇し、さらにこれらの従動軸の１８０度回転により図示の下降位置へと下降駆動される。
【００３５】
次に各テレスコピックアーム３１は、図７に示すようにそのベースアーム３２の前後中間部に設けた各駆動ボックス４９内の駆動スプロケット５０，５０を同時に回転駆動する駆動軸５１を、炉殻６ａの外部に取付けた回転駆動機５２の出力軸に継手５３を介して連結し、この駆動軸５１の回転により、テレスコピックアーム３１の伸縮駆動を次のようにしておこなうようになっている。
【００３６】
すなわち、図８に略図示するように、ベースアーム３２の前後両端部に内蔵・軸支したスプロケット５４ａ，５４ｂと、前記駆動ボックス４９内に軸支したスプロケット５５，５５と、前記駆動スプロケット５０に、駆動チェーン５６を巻掛け、この駆動チェーン５６に噛合う複数個の直列状に配置した歯５７を中間アーム３３の上辺部の左右中央部下面に下向きに突設固着してあり、駆動軸５１の回転により駆動チェーン５６及び歯５７を介して中間アーム３３が、前方（矢印Ｓ方向）あるいは後方（矢印Ｔ方向）へ駆動される。一方各アームの連動用に、中間アーム３３の前端部には連動用のローラ５８ａが、後端部にはこれと左右位置を変えてローラ５８ｂが、それぞれ内蔵・軸支され、上部アーム３４の上辺部下面に一端部Ｐを固着した連動用のチェーン５９ａがローラ５８ａに巻掛けられたのち他端部をベースアーム３２に固着され、また上部アーム３４の上辺部下面に一端部Ｑを固着した連動用のチェーン５９ｂがローラ５８ｂに巻掛けられたのち、他端部をベースアーム３２に固着されている。
【００３７】
上記の各チェーンの配設により、図８（ａ）に示すように駆動軸５１を矢印Ｕ方向に回転駆動すると、矢印方向に移動する駆動チェーン５６により歯５７を介して中間アーム３３が前方（矢印Ｓ方向）へ移動し、この移動する中間アーム３３のローラ５８ａに巻掛けたチェーン５９ａにより上部アーム３４が中間アーム３３上を該中間アーム３３の移動量に等しい量（従ってベースアーム３２に対しては該移動量の２倍）だけ前方へ移動して、伸長状態へと前方へ駆動される。また同図（ｂ）に示すように駆動軸５１を矢印Ｖ方向に回転駆動すると、上記と反対に中間アーム３３が後方（矢印Ｔ方向）へ移動するとともに、チェーン５９ｂにより上部アーム３４が中間アーム３３上を後方へ移動して、伸長状態へと後方へ駆動される。また前方へ伸長した状態から、図３に示す短縮状態に戻すときは、図８（ｂ）と同様な駆動及びチェーン５９ｂによる連動作用により、また後方へ伸張した状態から同じく短縮状態に戻すときは、図８（ａ）と同様な駆動及びチェーン５９ａによる連動作用により、それぞれ短縮状態に戻されるのである。
【００３８】
上記の各室に設けた移送装置３０に対して、各室に設けた架台２５（冷却室５においては後述する下降状態での架台２５）及び図示しない炉外に設けた装入テーブル及び抽出テーブルの各上面（処理品Ｗ支持面）は、前記下降位置にある移送装置３０の上面（上部アーム３４の上面）位置と、これから昇降行程Ｙだけ上昇した上昇位置との中間位置にある。そしてたとえば搬送室６の移送装置３０により、処理品Ｗを加熱室３内から浸炭室４内に移送するには、各仕切扉を開いた状態で、下降位置に保持したテレスコピックアーム３１を前方へ伸長駆動して、上部アーム３４が加熱室３の架台２５上の処理品Ｗの下側に達したら、昇降枠３６（従ってテレスコピックアーム３１）を上昇駆動して処理品Ｗを上部アーム３４上に移載し、次いでテレスコピックアーム３１を短縮状態に引戻し後さらに後方へ伸長駆動して、処理品Ｗが浸炭室４の架台２５上に達したら昇降枠３６（テレスコピックアーム３１）を下降駆動してその架台２５上に処理品Ｗを移載し、テレスコピックアーム３１を短縮状態に戻せば移送は完了する。他の室に設けた移送装置３０によっても、同様な昇降・伸縮動作により、処理品Ｗの移送をおこなうことができる。なお冷却室５においては、後述する昇降駆動される架台２５が、移送装置３０と同室に設けられているが、下降状態の架台２５上への処理品Ｗの移送及びこの架台２５上から炉外の抽出テーブル上への処理品Ｗの移送は、上記と同じ移送装置３０の昇降及び伸縮動作によっておこなわれる。
【００３９】
次に図９及び図１０は、冷却室５の詳細構造を示し、６１は冷却時の処理品Ｗの頂部及び側部を包囲する隔壁、６２はこの隔壁６１と炉殻５ａとの間に形成した雰囲気ガスの循環路、６３は雰囲気ガス循環用の送風機、６４は雰囲気ガス冷却用の熱交換器から成る冷却器、６５，６５は循環路６２の前後両端部を仕切る仕切壁であり、この仕切壁６５には、隔壁６１の左右巾と同じ開口幅の開口部６６を設けてある。そして炉殻５ａの底部に固設した支持台６７上に、前記の搬送室６（及び前室２）と同じ移送装置３０が設置してあり、また処理品Ｗ移送用の架台２５は、架台昇降装置７０により、移送装置３０による処理品Ｗの受渡し位置である図９に鎖線で示す下降位置と、架台２５の前後方向に延びる支持梁２５ａ部が後述する遮熱板８１の（整流体部８１ａの）上端部より上側に位置する実線で示す上側位置との間を、昇降駆動されるようになっている。
【００４０】
この架台昇降装置７０としてこの例では、架台２５の４本の長尺の支柱２５ｂを、炉殻５ａの底部を貫通させてその下端を昇降台７１に連結し、この昇降台７１と基礎上に設けた基台７２の間に、中央部を軸７３により枢着した起伏式のレバー７４，７５を２組介装して、軸７３，７３間にシリンダ部を取付けた油圧シリンダ７６のピストンロッドに、レバー７４，７５の縁面部間に挟圧されて前後動によりレバー７４，７５の挟角を変化させて昇降台７１を昇降駆動するローラ７７を取付けて成る昇降駆動機構を用いている。上記のレバー７４，７５は、それぞれ一端部(図９における右端部)を昇降台７１，基台７２に枢着され、レバー７４の他端部には基台７２の底板面上を転動するローラ７４ａを、レバー７５の他端部には昇降台７１の頂板下面上を転動するローラ７５ａを、それぞれ軸着してある。そして油圧シリンダ７６のピストンロッド引込駆動により、ローラ７７を挟む両レバー７４，７５は挟角拡大方向に駆動されて、架台２５は図９に実線で示す上昇状態となる。また油圧シリンダ７６のピストンロッドを伸張方向に駆動すれば、ローラ７７の前進移動に伴って、昇降台７１及びその上側の各部の自重により両レバー７４，７５は挟角縮小方向に駆動されて、架台２５は図９に鎖線で示す下降状態に切替えられるのである。
【００４１】
一方、８１，８１は、下降状態にある移送装置３０の上側に位置する水平面上に並列配置された前後方向に延びる一対の遮熱板、８２，８２はこの遮熱板８１の下面に沿って配置され、前後方向に延びる開口部８３（図１１参照）を隔てて炉殻５ａに固設された固定板で、この固定板８２上に設けたガイド８４によって、各遮熱板８１は左右方向に移動自在にガイドされており、この例では遮熱板８１及び固定板８２は、いずれも普通鋼の型枠の表面にセラミック成形体を固定した構造である。８５は遮熱板８１を相互に近接離間駆動するエアシリンダ式の駆動機であり、この駆動機８５及び遮熱板８１，８１及び固定板８２，８２により、開閉シャッタ式の遮熱装置８０が形成されている。またこの例では遮熱板８１，８１の上面側には、表面が遮熱板の先端側に向って上方へ湾曲した整流体部８１ａを設け、また遮熱板８１，８１の前後両端部には、セラミック成形体から成り上向きに延びる断熱板８６，８６を一体に立設してあり、これらの断熱板の上端部は、仕切壁６５の外面部に設けた左右方向に延びるガイド８７によってガイドされている。そして図１１（ｂ）及び図１２（ｂ）に示すように各遮熱板８１には、遮熱板８１，８１が相互に近接駆動されて開口部８３を閉鎖する際に、上昇状態にある架台２５の支柱２５ｂと干渉しないように、先端部に向って開口する切欠８１ｂを２箇所に設けてある。
【００４２】
上記の架台２５の昇降動作及び遮熱板８１の開閉動作を、これと関連する移送装置３０の動作と合わせて説明すると、浸炭室４内の架台２５上の処理品Ｗを冷却室５内に移送する際は、図１１に示すように遮熱装置８０の遮熱板８１，８１を後退させて開口部８３を開放状態、架台２５を下降状態としておき、下降状態とした前記移送装置３０のテレスコピックアーム３１の浸炭室４内への伸長駆動と上昇駆動に続く短縮駆動と下降駆動により、処理品Ｗを架台２５上に移載する。（なお図１１及び図１２は、図１０における遮熱装置８０及び架台２５のみを略図示するものである。）続いて図１２に示すように、前記架台昇降装置７０により架台２５を上昇駆動して上昇位置に保持し、遮熱板８１，８１を相互に近接駆動して開口部８３を閉鎖した状態とする。これによって各遮熱板８１と同体の断熱板８６，８６も、同図に示すように近接駆動されて仕切壁６５の開口部６６（図９参照）を閉鎖した状態となる。この状態で送風機６３を運転して冷却室５における処理品Ｗの冷却処理がおこなわれ、冷却処理後は先ず遮熱板８１，８１（及び断熱板８６，８６）を離間方向へ駆動して図１１に示す開放状態とし、次いで架台２５を下降位置まで下降駆動した後、移送装置３０の上昇駆動及びテレスコピックアーム３１の後方への伸長駆動と下降駆動により、処理品Ｗを図示しない炉外の抽出テーブル上に移送し、テレスコピックアーム３１を短縮駆動して冷却室５内に収容した状態とすればよい。
【００４３】
上記構成の各装置をそなえた連続真空浸炭炉１により処理品Ｗの真空浸炭処理をおこなうには、図示しない炉外の送入テーブル上の処理品Ｗを前室２内に移送し待機後、加熱室３に移送して加熱処理し、加熱後の処理品Ｗを搬送室６を経て浸炭室４内に移送して真空浸炭処理し、次いで冷却室５内に移送して常圧下で窒素ガス循環による冷却処理後、図示しない炉外の抽出テーブル上に送出するという処理を、順次炉内搬送される複数の処理品Ｗに対して連続的におこなう。このとき各処理室における処理時の室内圧力調節の他、処理品Ｗの移送時には、仕切扉を介して隣合う２室内の圧力を同程度の圧力とするなどの圧力調節を、処理工程の進行に応じて適宜おこなう。
【００４４】
上記の処理品Ｗの加熱室３内への移送、加熱室３内の処理品Ｗの浸炭室４内への移送、及び浸炭室４内の処理品Ｗの冷却室５内への移送は、それぞれ移送装置３０を用いて、前述したその昇降及び伸長・短縮駆動によりおこなわれる。そしてこれらの移送行程後の移送装置３０は、テレスコピックアーム３１を短縮状態として、前室２，搬送室６及び冷却室５にそれぞれ収容され、これら各室と仕切扉１１ａ〜１１ｄで仕切られた状態で、加熱室３における処理品Ｗの加熱処理、及び浸炭室４における処理品Ｗの真空浸炭処理がおこなわれる。
【００４５】
これによって、搬送室６に設けた移送装置３０、及び冷却室５に設けた移送装置３０は、いずれも浸炭室４内の真空浸炭雰囲気に曝されて処理品Ｗと共に真空浸炭処理されるということがないので、これらの移送装置は真空浸炭に起因する劣化や動作不良を生じることなく、長期にわたって支障なく使用できる。また浸炭室４からの処理品Ｗ抽出用の移送装置３０は冷却室５に設け、浸炭室４と冷却室５の間には移送装置設置用の搬送室を設けていないので、連続真空浸炭炉１の全長は短くて済む。
【００４６】
また冷却室５における処理品Ｗの冷却処理は、前述したように下降状態の架台２５上に移送装置３０により真空浸炭処理後の処理品Ｗを移載したのち、架台２５を上昇駆動して上昇位置に保持し、遮熱装置８０の遮熱板８１，８１を相互に近接駆動して開口部８３を閉鎖した状態でおこなう。これによって、架台２５上に支持された処理品Ｗと下降状態にある移送装置３０との間が遮熱板８１，８１により仕切られるので、特に移送直後の高温の処理品Ｗからの放射熱が移送装置３０に達するのが遮熱板８１，８１によって阻止され、移送装置３０は高温に加熱されることなく、長期にわたって支障なく使用できるのである。
【００４７】
そして上記の冷却処理時においては、図１０において循環路６２から隔壁６１の下部開口部を経て炉中心側に流入する冷却風は、同図に鎖線で示す閉鎖状態の遮熱板８１，８１の各整流体部８１ａにより破線矢印で示すように上方へ偏向され、ほぼ均一流となって処理品Ｗに吹付けられるので、処理品Ｗはほぼ均一に冷却される。また遮熱板８１，８１と一体になって駆動された断熱板８６，８６が、隔壁６１の開口部６６を閉鎖して処理品Ｗの前後両側面部と、冷却室５の前後の両壁板５ｂ，５ｃ及びこれら壁板に設けた開口部開閉用の扉との間を仕切るので、これらの壁板や扉部が処理品Ｗからの放射熱により過度に昇温するのが防止される。
【００４８】
また冷却室５において、架台昇降装置７０により架台２５を、移送装置３０により処理品Ｗの受渡し時には下降位置に、冷却処理時には処理品Ｗを遮熱板８１，８１より上方に保持する上昇位置に、それぞれ位置させるようにしたので冷却室５に設ける移送装置３０は上記の上昇位置まで昇降できる大昇降ストロークのものとする必要はなく、搬送室６に用いる固定式の架台２５上への処理品受渡し用の小昇降ストロークの移送装置３０を、冷却室５においても用いることができるのである。
【００４９】
次に図１３〜図１４に示す第２例により、この発明の実施の形態を説明する。この例の連続真空浸炭炉は、前記第１例の連続真空浸炭炉１において、冷却室５の代りに図１３〜図１４に示す冷却室７を用い、その他の構成は上記連続真空浸炭炉１と同じであるので、炉全体の図示は省略して、冷却室７の構成について説明する。そして冷却室７は、第１例の冷却室５における架台昇降装置７０により昇降駆動される架台２５の代りに、処理品Ｗの支持装置として、冷却室７の上部に設けた駆動機９６により昇降駆動されるゴンドラ９０を設けたものであり、その他の構成は冷却室５と同じであるので、図９〜図１０と同一または相当部分については図９〜図１０と同一符号を付して図示し、それらの詳細な説明は省略する。なお本例では上記のように架台２５を用いないので、前記第１例において遮熱装置８０の遮熱板８１に設けた切欠８１ｂは、設けなくてよい。
【００５０】
図１３〜図１４において、９０はゴンドラで、前後に間隔をおいて配設され下向きに開口するコ字状の２個の枠体９１，９１の下端部に、それぞれ断面Ｌ字形の支持材９２の前後端部を固着して、処理品Ｗの底面の左右両縁部が（上面に）支承される支持片部９３，９３を設けて成る。９４はこのゴンドラ９０の昇降駆動装置で、炉殻７ａの上部の支持台９５に取付けられた同期運転される２基の電動式のねじジャッキから成る駆動機９６の各出力軸（昇降軸）を、各枠体９１の上梁中央部に連結され炉殻７ａの貫通部で上下動自在にガイドされた２本の吊下ロッド９７の上端部に、それぞれ連結して成る。またこの例では、ゴンドラ９０の支持片部９３上に支持された処理品Ｗの左右両側面に対面する２枚の側部遮熱板９８を、その下縁部を支持材９２の縦片部に、前後縁部を各枠体９１の縦材内側面部に、それぞれ取付けることにより、ゴンドラ９０に取付けてあり、この側部遮熱板９８は、表面側を光輝面処理されたステンレス鋼板から成る。
【００５１】
そして上記の昇降駆動装置９４によりゴンドラ９０が、冷却室７の下部に設けた移送装置３０による処理品Ｗの受渡し位置（たとえば下降状態にある移送装置３０のテレスコピックアーム３１の上面から移送装置３０の前記昇降行程Ｙの１／２程度上側の位置）に支持片部９３（の上面）が位置する下降位置と、この冷却室７に設けた前記第１例と同じ開閉シャッタ式の遮熱装置８０の遮熱板８１の（整流体部８１ａの）上端部より上側の位置にゴンドラ９０の下端面が位置する上昇位置との間を、昇降駆動されるように、昇降駆動装置９４によるゴンドラ９０の昇降ストロークが設定されている。
【００５２】
この冷却室７においては、第１例の冷却室５と同様に、処理品Ｗ移送時には遮熱装置８０の遮熱板８１及び断熱板８６は開口部開放状態としておき、移送装置３０の前述した昇降及び伸長・短縮駆動により浸炭室４から抽出した処理品Ｗは、下降位置にあるゴンドラ９０の支持片部９３上へ移載し、次いでゴンドラ９０を上昇駆動して上昇位置に保持し、遮熱板８１，８１及びこれと同体の断熱板８６，８６を相互に近接駆動して開口部閉鎖状態とする。この状態で処理品Ｗの冷却処理をおこなったのち、冷却処理後は、遮熱板８１，８１及び断熱板８６，８６を離間駆動して開放状態とし、ゴンドラ９０を下降位置まで下降駆動したのち、移送装置３０によりゴンドラ９０の支持片部９３上の処理品Ｗを炉外の図示しない抽出テーブル上に移送し、短縮状態とした移送装置３０を冷却室７内に収容した状態とすればよい。
【００５３】
上記構成の冷却室７を、第１例の連続真空浸炭炉１の冷却室５の代りに最後段部にそなえた連続真空浸炭炉においては、第１例と同様にして順次炉内搬送される処理品Ｗの連続真空浸炭処理がおこなわれ、この際の処理品Ｗの各処理室内への移送は、第１例と同様に前室２，搬送室６，及び冷却室７に設けた移送装置３０によりそれぞれおこなわれる。そして冷却室７に設けた移送装置３０は、第１例と同様に浸炭室４内の処理品Ｗの冷却室７内への移送後は冷却室７に収容され、この冷却室７と仕切扉１１ｄで仕切られた浸炭室４内で処理品Ｗの真空浸炭処理がおこなわれ、これによって、浸炭室４内の真空浸炭雰囲気に曝されて処理品Ｗと共に真空浸炭処理されるということがないので、真空浸炭に起因する劣化や動作不良を生じることなく、長期間にわたって支障なく使用できる。また第１例と同様に浸炭室４からの処理品Ｗ抽出用の移送装置３０は冷却室７に設け、浸炭室４と冷却室７の間には移送装置設置用の搬送室を設けていないので、真空浸炭炉の全長は短くて済む。
【００５４】
また冷却室７における処理品Ｗの冷却処理は、前述したように下降状態のゴンドラ９０上に移送装置３０により真空浸炭処理後の処理品Ｗを移載したのち、ゴンドラ９０を上昇駆動して上昇位置に保持し、遮熱装置８０の遮熱板８１，８１を相互に近接駆動して開口部８３を閉鎖した状態でおこなう。これによって、ゴンドラ９０上に支持された処理品Ｗと下降状態にある移送装置３０との間が遮熱板８１，８１により仕切られるので、特に移送直後の高温の処理品Ｗからの放射熱が移送装置３０に達するのが遮熱板８１，８１によって阻止され、移送装置３０は高温に加熱されることなく、長期にわたって支障なく使用できるのである。
【００５５】
またこの例においても第１例と同様に、冷却処理時には遮熱板８１に設けた整流体部８１ａによる冷却風の上方への偏向作用により、第１例と同様に処理品Ｗはほぼ均一に冷却され、また遮熱板８１，８１と一体になって駆動される断熱板８６，８６が、隔壁６１の開口部６６を閉鎖して処理品Ｗの前後両側面部と、冷却室７の前後の両壁板７ｂ，７ｃ及びこれら壁板に設けた開口部開閉用の扉との間を仕切るので、これらの壁板や扉部が処理品Ｗからの放射熱により過度に昇温するのが防止される。また冷却室７において、ゴンドラ９０を、移送装置３０により処理品Ｗの受渡し時には下降位置に、冷却処理時には処理品Ｗを遮熱板８１，８１より上方に保持する上昇位置に、それぞれ位置させるようにしたので冷却室７に設ける移送装置３０は上記の上昇位置まで昇降できる大昇降ストロークのものとする必要はなく、搬送室６に用いる固定式の架台２５上への処理品受渡し用の小昇降ストロークの移送装置３０を、冷却室７においても用いることができるのである。
【００５６】
これに加えてこの例では、ゴンドラ９０は冷却室上部に設けた駆動機９６（及び昇降駆動装置９４）により吊下状態で昇降駆動されるので、第１例におけるような架台昇降装置７０設置のための大きなスペースを冷却室下部に確保する必要がなく、冷却室７の下部の構造の小型・簡素化及び真空浸炭炉全体の炉高の小型化をはかることができる。またゴンドラ９０に支持された処理品Ｗの左右両側面に対向して設けた側部遮熱板９８により、高温の処理品Ｗの左右両側面からの放射熱が遮熱されるので、処理品Ｗの左右両側に位置する隔壁６１やゴンドラ９０の支持材９２部等の過熱を防止できるのである。
【００５７】
次に図１５及び図２〜図１２に示す第３例により、この発明の実施の形態を説明する。なおこの例の連続真空浸炭炉は、冷却室の構造及び冷却室と浸炭室の間に搬送室を設けた点が前記第１例と異なるが、その他の構成は第１例と同じであるので、第１例と同一または相当部分については第１例の各図と同一符号を付して図示する。図１５において、１０１は連続真空浸炭炉で、２は前室（装入室）、３は加熱室、４は浸炭室、８は冷却室で、６は加熱室３と浸炭室４の間に設けた搬送室、９は浸炭室４と冷却室８の間に設けた搬送室である。各室間には仕切扉１１ａ〜１１ｅを設け、各室（の炉殻部）は一体に連結されているが、保守時などには切離せる構造となっており、図示のように炉体下部に車輪をそなえている。１２は処理品装入用の入口、１３は同じく取出用の出口で、それぞれエアシリンダ式の開閉装置１４，１５により開閉駆動される扉１６，１７をそなえている。また仕切扉１１ａ〜１１ｅは、それぞれ横置きシリンダ式の開閉装置１８により開閉駆動される。またこの炉における真空浸炭処理対象物である処理品Ｗは、各図において角体状に略図示してあるが、この点は前記第１例と同じであり、具体的な処理品の支持形態や処理品Ｗの底面の指称部位などについては、第１例において前述した通りである。
【００５８】
前室２から冷却室８に至る各室は、図示しない真空排気装置に接続され、さらに浸炭室４は図示しない浸炭性ガス供給源に、冷却室８は図示しない雰囲気ガス（窒素ガス）供給源に、それぞれ接続されている。また加熱室３及び浸炭室４は、それぞれ炉殻内に設けた断熱壁２１，２２で四周を囲繞された室内に、図示しない電熱式のヒータをそなえ、冷却室８は炉殻内に設けた隔壁２３で四周を囲繞された室内に冷却用雰囲気を循環させる送風機２４、及び隔壁２３の左右両側に形成したガス循環路に設けた図示しない冷却器とをそなえている。また加熱室３及び浸炭室４及び冷却室８は、炉殻に固設された処理品Ｗ支持用の架台２５をそれぞれそなえている。この架台２５は図２に示すように、処理品Ｗの底面の左右側縁部を支承する前後方向に延びる支持梁２５ａの前後両端部に支柱２５ｂを固着したコ字状の枠体を、左右に間隔をおいて２組配設して成り、この間隔部に後述する移送装置３０の伸長状態のテレスコピックアーム３１（詳しくはその上部アーム３４）が進入できる構造となっている。
【００５９】
３０は処理品Ｗ移送用の移送装置で、搬送室６，搬送室９，及びこの例では前室２にも、設けられている。この移送装置３０は、図３〜図８に示す構成を有する。なおこれらの図は搬送室６に設けた移送装置３０を示すものであるが、搬送室９及び前室２に設けたものも、これと同一構成を有するものである。そして移送装置３０は第１例と同じ構成を有し、その各部の動作も前述した通りであるので、詳細な説明は省略する。
【００６０】
上記の各室に設けた移送装置３０に対して、各室に設けた架台２５及び図示しない炉外に設けた装入テーブルの各上面（処理品Ｗ支持面）は、前述した下降位置にある移送装置３０の上面（上部アーム３４の上面）位置と、これから昇降行程Ｙだけ上昇した上昇位置との中間位置にある。そしてたとえば搬送室６の移送装置３０により、処理品Ｗを加熱室３内から浸炭室４内に移送するには、各仕切扉を開いた状態で、下降位置に保持したテレスコピックアーム３１を前方へ伸長駆動して、上部アーム３４が加熱室３の架台２５上の処理品Ｗの下側に達したら、昇降枠３６（従ってテレスコピックアーム３１）を上昇駆動して処理品Ｗを上部アーム３４上に移載し、次いでテレスコピックアーム３１を短縮状態に引戻し後さらに後方へ伸長駆動して、処理品Ｗが浸炭室４の架台２５上に達したら昇降枠３６（テレスコピックアーム３１）を下降駆動してその架台２５上に処理品Ｗを移載し、テレスコピックアーム３１を短縮状態に戻せば移送は完了する。他の室に設けた移送装置３０によっても、同様な昇降・伸縮動作により、処理品Ｗの移送をおこなうことができる。
【００６１】
上記構成の各装置をそなえた連続真空浸炭炉１０１により処理品Ｗの真空浸炭処理をおこなうには、図示しない炉外の送入テーブル上の処理品Ｗを前室２内に移送し待機後、加熱室３に移送して加熱処理し、加熱後の処理品Ｗを搬送室６を経て浸炭室４内に移送して真空浸炭処理し、次いで浸炭処理後の処理品Ｗを搬送室９を経て冷却室８内に移送して常圧下で窒素ガス循環による冷却処理後、図示しないフォーク等の抽出装置により炉外に送出するという処理を、順次炉内搬送される複数の処理品Ｗに対して連続的におこなう。このとき各処理室における処理時の室内圧力調節の他、処理品Ｗの移送時には、仕切扉を介して隣合う２室内の圧力を同程度の圧力とするなどの圧力調節を、処理工程の進行に応じて適宜おこなう。
【００６２】
上記の処理品Ｗの加熱室３内への移送、加熱室３内の処理品Ｗの浸炭室４内への移送、及び浸炭室４内の処理品Ｗの冷却室８内への移送は、それぞれ移送装置３０を用いて、前述したその昇降及び伸長・短縮駆動によりおこなわれる。そしてこれらの移送行程後の移送装置３０は、テレスコピックアーム３１を短縮状態として、前室２，搬送室６及び搬送室９にそれぞれ収容され、これら各室と仕切扉１１ａ〜１１ｄで仕切られた状態で、加熱室３における処理品Ｗの加熱処理、及び浸炭室４における処理品Ｗの真空浸炭処理がおこなわれる。
【００６３】
これによって、搬送室６に設けた移送装置３０、及び搬送室９に設けた移送装置３０は、いずれも浸炭室４内の真空浸炭雰囲気に曝されて処理品Ｗと共に真空浸炭処理されるということがないので、これらの移送装置は真空浸炭に起因する劣化や動作不良を生じることなく、長期にわたって支障なく使用できるのである。
【００６４】
この発明は上記各例に限定されるものではなく、たとえば遮熱板８１，断熱板８６，側部遮熱板９８等の材質は、上記以外のものとしてもよく、また遮熱板８１を整流体部８１ａを有しない平板状のものとしたり、断熱板８６及び側部遮熱板９８を省略することも可能である。また移送装置３０におけるテレスコピックアーム３１の伸縮駆動機構及び昇降機構や、架台昇降装置７０、ゴンドラ９０の昇降駆動装置９４などの各具体的構成は、上記以外のものとしてもよい。また上記各例では前室２にも他室と同じくテレスコピック型のアームをそなえた移送装置３０を設けたが、処理品の炉外から前室２内への及び前室２から加熱室３内への移送装置としては、他の形式の移送装置を用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】この発明の実施の形態の第１例を示す連続真空浸炭炉の略示縦断面図である。
【図２】図１及び図１５のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図１の連続真空浸炭炉における移送装置の縦断面図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ線断面図（平面図）である。
【図５】図４のＣ−Ｃ線部分拡大断面図である。
【図６】図３のＤ−Ｄ線断面図である。
【図７】図３のＥ−Ｅ線断面図である。
【図８】図３の移送装置の駆動機構を示す模式的説明図である。
【図９】図１の連続真空浸炭炉における冷却室の縦断面図（図１０におけるＧ−Ｇ線断面図）である。
【図１０】図９のＦ−Ｆ線断面図である。
【図１１】図１０における遮熱装置の開放状態を示す略示断面図（ａ）及びＨ−Ｈ線断面図（ｂ）である。
【図１２】図１０における遮熱装置の閉鎖状態を示す略示断面図（ａ）及びＩ−Ｉ線断面図（ｂ）である。
【図１３】この発明の実施の形態の第２例を示す冷却室の縦断面図である。
【図１４】図１３のＪ−Ｊ線断面図である。
【図１５】この発明の実施の形態の第３例を示す連続真空浸炭炉の略示縦断面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１…連続真空浸炭炉、２…前室、３…加熱室、４…浸炭室、５…冷却室、６…搬送室、７…冷却室、８…冷却室、９…搬送室、１１ａ〜１１ｅ…仕切扉、２５…架台、３０…移送装置、３１…テレスコピックアーム、３６…昇降枠、４０…回転駆動機、５２…回転駆動機、５６…駆動チェーン、５９ａ…チェーン、５９ｂ…チェーン、６１…隔壁、６３…送風機、６６…開口部、７０…架台昇降装置、７１…昇降台、７６…油圧シリンダ、８０…遮熱装置、８１…遮熱板、８１ａ…整流体部、８２…固定板、８３…開口部、８５…駆動機、８６…断熱板、９０…ゴンドラ、９１…枠体、９３…支持片部、９４…昇降駆動装置、９６…駆動機、９８…側部遮熱板、１０１…連続真空浸炭炉。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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