(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の側端面をエッチング処理する基板処理装置であって、
ガラス基板の端縁部が遊挿されたときに当該ガラス基板の側端面および端縁部表裏面を覆う開口部が設けられた本体部と、
ガラス基板の端縁部が遊挿された前記開口部の内側に所定のエッチング液を供給する薬液供給手段と、
前記薬液供給手段によって前記開口部に供給された所定のエッチング液を回収する薬液回収手段と、
を備え、
前記薬液供給手段は、
前記開口部に形設され、前記開口部にガラス基板の端縁部を遊挿したときの当該ガラス基板の側端面と略平行の面に対して、３０度以上６０度以下の所定の角度に傾斜して前記エッチング液を前記開口部に供給する供給口を有し、
前記薬液回収手段は、
前記開口部に形設され、前記開口部にガラス基板の端縁部を遊挿したときの当該ガラス基板の側端面と略平行の面に対して３０度以上６０度以下の所定の角度に傾斜して前記エッチング液を前記開口部から回収する排出口を有しており、
前記供給口および前記排出口は、前記開口部の内部であって、かつ、前記開口部にガラス基板の端縁部が遊挿されたときの前記ガラス基板の側端面の位置よりも内側に相対向して形設されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記本体部に付設され、前記開口部に遊挿されたガラス基板の表面および裏面と対向する面に疎水性部材を形設したフラップ部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置であって、
前記本体部の開口部内側の内壁面に、親水性部材を形設していることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記供給口は、前記開口部の内側であって、水平に支持されたガラス基板の端縁部が前記開口部に遊挿されたときの当該ガラス基板の上面側に形設され、
前記排出口は、前記開口部の内側であって、当該ガラス基板の下面側に形設されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
少なくともガラス基板の端縁部が前記開口部に遊挿されるときに、前記開口部の内側に前記所定のエッチング液を供給しつつ前記開口部から前記所定のエッチング液を回収するように前記薬液供給手段と前記薬液回収手段とを制御する制御手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
エッチング処理するガラス基板の形状が角型であり、前記ガラス基板を第１方向に搬送する第１搬送手段をさらに備え、
前記本体部は、
前記第１搬送手段によって搬送されるガラス基板の前記第１方向と略平行の端縁に沿って配置されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置であって、
前記第１方向と略直角に交わる第２方向に沿って搬送する第２搬送手段と、
前記第１搬送手段によって搬送されるガラス基板を前記第２搬送手段に受け渡す受渡手段と、
をさらに備え、
前記本体部が、前記第２手段によって搬送されるガラス基板の前記第２方向と略平行の端縁に沿ってさらに配置されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
エッチング処理するガラス基板の形状が角型であり、
前記本体部は、
第１方向と平行の前記ガラス基板の端縁と、前記第１方向に略直角に交わる第２方向と平行の前記ガラス基板の端縁とに沿ってそれぞれ配置されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
ガラス基板を支持しつつ回転させる回転手段をさらに備え、
前記本体部は、
前記回転手段によって支持されるガラス基板の端縁に沿って配置されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
エッチング処理するガラス基板の形状が角型であり、
前記本体部を前記ガラス基板の第１方向に沿って配置しつつ多段に積層した第１処理部と、
前記本体部を前記第１方向と略直角に交わる前記ガラス基板の第２方向に沿って配置しつつ多段に積層した第２処理部と、
前記第１処理部と前記第２処理部との間で、前記ガラス基板を鉛直方向に沿って多段に支持しつつ搬送可能な多段式搬送手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
ガラス基板を多段に支持しつつ回転させる多段式回転手段と、
前記多段式回転手段によって支持された前記ガラス基板の端面に沿って前記本体部を多段に積層した第３処理部と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記所定のエッチング液は、
フッ化アンモニウム、バッファードフッ酸、界面活性剤を含むフッ酸の群から選ばれる液体であることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記薬液供給手段は、前記供給口に接続され、前記所定のエッチング液を送給する薬液送給手段を含み、
前記薬液回収手段は、前記排出口に接続され、使用済みの前記所定のエッチング液を収容する使用済薬液収容手段を含み、
前記供給口に接続され純水を送給する純水送給手段と、
前記供給口に接続され熱風を送給する熱風送給手段と、
前記供給口の接続先を前記薬液送給手段、前記純水送給手段または前記熱風送給手段に切り換える第１切換手段と、
前記排出口に接続され前記開口部から使用済みの前記純水を廃棄する純水廃棄手段と、
前記排出口に接続され前記開口部の内部の気体を排気する排気手段と、
前記排出口の接続先を前記薬液収容手段、前記純水廃棄手段または前記排気手段に切り換える第２切換手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の側端面をエッチングする技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば液晶ディスプレイ等のＦＰＤ製造分野においては、ディスプレイの輝度の向上や、バックライトの省電力化等の対策のために、バックライトからの光を有効に透過させる有効透過面積の拡大が重要となっている。ここで、ガラス基板上に形成される配線が、光を遮断する大きな要因となっている。
【０００３】
現状では、開口率を向上させるために、従来よりも配線の線幅を狭く（例えば、５ミクロン）、かつ、配線の高さ幅を大きく（例えば、１ミクロン）なるように設計される。上記所定の幅および高さを有する溝をガラス基板の主面に形成させるため、主としてフッ酸等のエッチング液を使用したウェットエッチング法が基板処理に適用されている（以下、「エッチング処理」と称する。）。そして、このような技術は、例えば特許文献１に開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−６６８６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、通常のガラス基板の側端面には、加工硬化層および無数の細かなひび割れ・亀裂（マイクロクラック）が存在する。そのため、上記のガラス基板の表面のエッチング処理を行うことによって、加工硬化層の残留応力が解放され、端面のマイクロクラックから、比較的大きなクラックおよびガラス片が発生するという問題があった。
【０００６】
さらに、ガラス基板の表面をエッチング処理した後に、純水等による洗浄処理およびエアナイフ等による乾燥処理を行うことによって、多数のガラス片からなるパーティクルがガラス基板の端面より発生する。これら発生したパーティクルは、通常のディスプレイ製造エリア（ガラス基板表面の、例えば端面から１０ｍｍの領域（端縁部）を除くエリア）に大量に拡散してしまう。これらは、配線不良の原因ともなり、基板製造の歩留まりが悪化する等の問題があった。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、ガラス基板の側端面から、加工硬化層や無数のマイクロクラックを除去する基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、ガラス基板の側端面をエッチング処理する基板処理装置であって、ガラス基板の端縁部が遊挿されたときに当該ガラス基板の側端面および端縁部表裏面を覆う開口部が設けられた本体部と、ガラス基板の端縁部が遊挿された前記開口部の内側に所定のエッチング液を供給する薬液供給手段と、前記薬液供給手段によって前記開口部に供給された所定のエッチング液を回収する薬液回収手段とを備え、前記薬液供給手段は、前記開口部に形設され、前記開口部にガラス基板の端縁部を遊挿したときの当該ガラス基板の側端面と略平行の面に対して、３０度以上６０度以下の所定の角度に傾斜して前記エッチング液を前記開口部に供給する供給口を有し、前記薬液回収手段は、前記開口部に形設され、前記開口部にガラス基板の端縁部を遊挿したときの当該ガラス基板の側端面と略平行の面に対して３０度以上６０度以下の所定の角度に傾斜して前記エッチング液を前記開口部から回収する排出口を有しており、前記供給口および前記排出口は、前記開口部の内部であって、かつ、前記開口部にガラス基板の端縁部が遊挿されたときの前記ガラス基板の側端面の位置よりも内側に相対向して形設されることを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２の発明は、請求項１の発明に係る基板処理装置であって、前記本体部に付設され、前記開口部に遊挿されたガラス基板の表面および裏面と対向する面に疎水性部材を形設したフラップ部をさらに備えることを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３の発明は、請求項１または２の発明に係る基板処理装置であって、前記本体部の開口部内側の内壁面に、親水性部材を形設していることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項４の発明は、請求項１の発明に係る基板処理装置であって、前記供給口は、前記開口部の内側であって、水平に支持されたガラス基板の端縁部が前記開口部に遊挿されたときの当該ガラス基板の上面側に形設され、前記排出口は、前記開口部の内側であって、当該ガラス基板の下面側に形設されることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項５の発明は、請求項１ないし４のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、少なくともガラス基板の端縁部が前記開口部に遊挿されるときに、前記開口部の内側に前記所定のエッチング液を供給しつつ前記開口部から前記所定のエッチング液を回収するように前記薬液供給手段と前記薬液回収手段とを制御する制御手段をさらに備えることを特徴とする。
【００１５】
また、請求項６の発明は、請求項１ないし５のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、エッチング処理するガラス基板の形状が角型であり、前記ガラス基板を第１方向に搬送する第１搬送手段をさらに備え、前記本体部は、前記第１搬送手段によって搬送されるガラス基板の前記第１方向と略平行の端縁に沿って配置されることを特徴とする。
【００１６】
また、請求項７の発明は、請求項６の発明に係る基板処理装置であって、前記第１方向と略直角に交わる第２方向に沿って搬送する第２搬送手段と、前記第１搬送手段によって搬送されるガラス基板を前記第２搬送手段に受け渡す受渡手段とをさらに備え、前記本体部が、前記第２手段によって搬送されるガラス基板の前記第２方向と略平行の端縁に沿ってさらに配置されることを特徴とする。
【００１７】
また、請求項８の発明は、請求項１ないし５のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、エッチング処理するガラス基板の形状が角型であり、前記本体部は、第１方向と平行の前記ガラス基板の端縁と、前記第１方向に略直角に交わる第２方向と平行の前記ガラス基板の端縁とに沿ってそれぞれ配置されることを特徴とする。
【００１８】
また、請求項９の発明は、請求項１ないし５のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、ガラス基板を支持しつつ回転させる回転手段をさらに備え、前記本体部は、前記回転手段によって支持されるガラス基板の端縁に沿って配置されることを特徴とする。
【００１９】
また、請求項１０の発明は、請求項１ないし５のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、エッチング処理するガラス基板の形状が角型であり、前記本体部を前記ガラス基板の第１方向に沿って配置しつつ多段に積層した第１処理部と、前記本体部を前記第１方向と略直角に交わる前記ガラス基板の第２方向に沿って配置しつつ多段に積層した第２処理部と、前記第１処理部と前記第２処理部との間で、前記ガラス基板を鉛直方向に沿って多段に支持しつつ搬送可能な多段式搬送手段とをさらに備えることを特徴とする。
【００２０】
また、請求項１１の発明は、請求項１ないし５のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、ガラス基板を多段に支持しつつ回転させる多段式回転手段と、前記多段式回転手段によって支持された前記ガラス基板の端面に沿って前記本体部を多段に積層した第３処理部とをさらに備えることを特徴とする。
【００２１】
また、請求項１２の発明は、請求項１ないし１１のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、前記所定のエッチング液は、フッ化アンモニウム、バッファードフッ酸、界面活性剤を含むフッ酸の群から選ばれる液体であることを特徴とする。
【００２２】
また、請求項１３の発明は、請求項１ないし１２のいずれかの発明に係る基板処理装置であって、前記薬液供給手段は、前記供給口に接続され、前記所定のエッチング液を送給する薬液送給手段を含み、前記薬液回収手段は、前記排出口に接続され、使用済みの前記所定のエッチング液を収容する使用済薬液収容手段を含み、前記供給口に接続され純水を送給する純水送給手段と、前記供給口に接続され熱風を送給する熱風送給手段と、前記供給口の接続先を前記薬液送給手段、前記純水送給手段または前記熱風送給手段に切り換える第１切換手段と、前記排出口に接続され前記開口部から使用済みの前記純水を廃棄する純水廃棄手段と、前記排出口に接続され前記開口部の内部の気体を排気する排気手段と、前記排出口の接続先を前記薬液収容手段、前記純水廃棄手段または前記排気手段に切り換える第２切換手段とをさらに備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１ないし１３に記載の発明によれば、ガラス基板の側端面を中心に、効率的にエッチング処理できるため、当該側端面の加工硬化層やマイクロクラックを除去することができる。また、ガラス基板の表面をエッチング処理する場合に、ガラス基板の側端面のエッチング処理をあらかじめ行っておくことにより、側端面からのパーティクル発生を抑制することができる。
また、ガラス基板の側端面に積極的にエッチング液を衝突させることによって、エッチング処理時間を短縮できるとともに、発生するガラス屑の剥離を促進させることができる。
また、ガラス基板の側端面に積極的にエッチング液を所定の角度に傾斜させて衝突させることによって、エッチング処理時間を短縮できるとともに、発生するガラス屑の剥離を促進させることができる。さらに、それらのガラス屑をスムーズに排出させることができる。
【００２４】
また、請求項２に記載の発明によれば、開口部において、エッチング液の安定したメニスカスを保持できるため、効率的にガラス基板の側端面のエッチングを行うことができる。
【００２５】
また、請求項３に記載の発明によれば、本体部の開口部の内部にエッチング液を安定して保持することができる。
【００２８】
また、請求項４に記載の発明によれば、エッチング処理により発生するガラス屑を、重力を利用することによって効率的にガラス基板の側端面から剥離させるとともに、容易に排出することができる。
【００２９】
また、請求項５に記載の発明によれば、ガラス基板を開口部に遊挿したときに、エッチングを素早く開始できるため、エッチング処理の時間を短縮できる。
【００３０】
また、請求項６および７に記載の発明によれば、ガラス基板の搬送経路上でエッチング処理を行うことができる。したがって、基板製造に必要な時間を短縮できる。
【００３１】
また、請求項１０および１１に記載の発明によれば、一度に複数のガラス基板について、側端面のエッチング処理を行うことができる。
【００３２】
また、請求項１３に記載の発明によれば、開口部に連通する供給口および排出口を一つずつにまとめることができるため、本体部の加工コストを抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。
【００３４】
＜１．  第１の実施の形態＞
＜１．１．構成および機能＞
図１は、第１の実施の形態における基板処理装置１の概略上面図である。
【００３５】
なお、図１において、図示および説明の都合上、Ｚ軸方向が鉛直方向を表し、ＸＹ平面が水平面を表すものとして定義するが、それらは位置関係を把握するために便宜上定義するものであって、以下に説明する各方向を限定するものではない。以下の各図についても同様である。
【００３６】
基板処理装置１は、主として搬送ローラ群２０，２１と、受渡部３と、処理部４０，４１と、制御部８とで構成される。なお、本実施の形態では、処理するガラス基板９０の形状を略長方形である角型として説明するが、もちろんこれに限られるものではなく、正方形等であってもよい。以下の各実施の形態においても同様とする。
【００３７】
搬送ローラ群２０は、図１中、Ｘ方向（第１方向）に配列された複数の搬送ローラ２０１と駆動機構２０２とから構成される。搬送ローラ２０１はＹ方向に長手方向を有し、駆動機構２０２と接続する軸を備える。駆動機構２０２を駆動することによって、その動力が当該軸に伝達され、搬送ローラ２０１が回転される。したがって、搬送ローラ群２０は、下方から水平に支持したガラス基板９０を（＋Ｘ）方向へ搬送することができる。本実施の形態においては、搬送ローラ群２０が本発明に係る第１搬送手段に相当する。
【００３８】
搬送ローラ群２１は、図１中、Ｙ方向（第２方向）に配列された複数の搬送ローラ２１１と駆動機構２１２とから構成される。搬送ローラ２０１と同様に、搬送ローラ２１１は、軸を介して駆動機構２１２と接続しており、Ｘ方向に長手方向を有する。駆動機構２１２を駆動することによって、その動力が搬送ローラ２１１の軸に伝達され、搬送ローラ２１１が回転する。したがって、搬送ローラ群２１は、下方から支持したガラス基板９０を（＋Ｙ）方向へ搬送することができる。本実施の形態において、搬送ローラ群２１は、本発明に係る第２搬送手段に相当する。なお、搬送ローラ群２１の上端の高さ位置は、搬送ローラ群２０の上端の高さ位置よりも上方となるように設定される。
【００３９】
受渡部３は搬送ローラ３０１と、搬送ローラ３０１の駆動機構３０２と上下ローラ３０３と上下ローラ駆動部３０４とで構成される。受渡部３は、搬送ローラ群２０と、搬送ローラ群２１とで形成されるガラス基板９０の搬送路の中間に設けられ、搬送ローラ群２０により搬送されてきたガラス基板９０を、搬送ローラ群２１に受け渡す機能を有する。
【００４０】
ここで、受渡部３による搬送ローラ群２０と搬送ローラ群２１との間でのガラス基板９０の受け渡し動作について説明する。なお、搬送ローラ３０１は、搬送ローラ２０１と同一の形状等を有しており、それぞれの上端の高さ位置は、同一とされる。
【００４１】
受渡部３では、駆動機構３０２を駆動することによって、その動力が搬送ローラ３０１の軸に伝達され、搬送ローラ３０１が回転される。したがって、搬送ローラ群２０により搬送されてきたガラス基板９０は、さらに（＋Ｘ）方向へ搬送される。
【００４２】
一方、上下ローラ３０３は、搬送ローラ３０１の間に設けられており、かつ、ガラス基板９０が受渡部３の所定の位置に搬送されるまでは、上端の高さ位置が搬送ローラ３０１の上端の高さ位置よりも低くなるように配置される。
【００４３】
ここで、受渡部３によるガラス基板９０の受け渡し動作について説明する。まず、ガラス基板９０が所定の位置に搬送されると、上下ローラ駆動部３０４を駆動することによって、上下ローラ３０３が上方へ移動される。この上昇中に、上下ローラ３０３上端がガラス基板９０の下面と当接し、そのままガラス基板９０が上方へ押し上げられる。
【００４４】
さらに上下ローラ３０３上端の高さ位置が搬送ローラ２１１上端の高さ位置と略同一となると、上下ローラ３０３の上昇が停止される。そして、上下ローラ駆動部３０４を駆動することによって、その動力が上下ローラ３０３の軸に伝達され、上下ローラ３０３が回転し、ガラス基板９０（＋Ｙ）方向へ搬送方向が変更される。そして、ガラス基板９０が受渡部３から搬送ローラ群２１へと受け渡される。以上が、受渡部３によるガラス基板９０の受け渡し動作の説明である。
【００４５】
図２は、処理部４０の概略斜視図である。
【００４６】
処理部４０は、搬送ローラ群２０上の位置に配置されており、主として本体部４０１，４０２（図１参照）を備えている。本体部４０１，４０２は、Ｘ方向を長手方向とする直方体状の形状を有しており、親水性樹脂から形成される。本体部４０１は、搬送ローラ群２０によって搬送されるガラス基板９０の左側（（＋Ｙ）側）に、本体部４０２は、当該ガラス基板９０の右側（（−Ｙ）側）にそれぞれ対向するように配置される。
【００４７】
本体部４０１の一方側の側面の中央付近には、本体部４０１の長手方向（Ｘ方向）に渡って開口する開口部４０３が設けられている。開口部４０３の大きさは、ガラス基板９０の側端面および端縁部の表裏面を覆うことが可能なサイズであり、その長手方向の長さは、ガラス基板９０のＸ方向（第１方向、搬送ローラ群２０によるガラス基板９０の搬送方向）と平行な側端面の長さよりも長く設定されている。
【００４８】
図１に戻って、本体部４０１は、図示しない移動機構に接続されており、搬送ローラ群２０によってガラス基板９０が処理部４０の所定の位置に搬送されるまで、図１中、（＋Ｙ）方向の二点鎖線で示す待機位置に配置される。そして、ガラス基板９０が所定の位置まで搬送されてくると、搬送ローラ群２０によるガラス基板９０の移動が停止される。そして、図示しない移動機構によって本体部４０１が、図１中、（−Ｙ）方向に移動されることによって、開口部４０３の内部に、ガラス基板９０の端縁部が遊挿される。
【００４９】
図３は、処理部４０の本体部４０１の断面とその他の各構成を概略的に示す図である。
【００５０】
処理部４０は、送給部５と回収部６とをさらに備えている。送給部５は、所定のエッチング液（アンモニウムフッ酸、バッファードフッ酸、または、界面活性剤を含むフッ酸等）を送給する薬液送給部５０と、純水を送給する純水送給部５１と、熱風を送給する熱風送給部５２とを備える。これらは、一つの配管を介して本体部４０１と接続されており、配管との各接続部には、バルブ５０１，５１１，５２１がそれぞれ設けられている。したがって、バルブ５０１，５１１，５２１と、薬液送給部５０と、純水送給部５１と、熱風送給部５２とを制御することによって、本体部の内部にエッチング液、純水および熱風のそれぞれを独立して送給することができる。
【００５１】
また、回収部６は、使用済みのエッチング液を回収して収容する使用済薬液収容部６０と、使用済みの純水を廃棄する純水廃棄部６１と、排気部６２とをさらに備える。これらは一つの配管を介して本体部４０１と接続されており、当該配管との各接続部には、バルブ６０１，６１１，６２１がそれぞれ設けられている。したがって、バルブ６０１，６１１，６２１と、使用済薬液収容部６０と、純水廃棄部６１と、排気部６２とを制御することによって、本体部４０１の内部から使用済みエッチング液、使用済み純水および、本体部４０１内部の大気とを分離して回収することが出来る。
【００５２】
本体部４０１には、開口部４０３の上下位置に、図３中、Ｘ方向を長手方向とする中空の空洞部が設けられており、上方の空洞部は、供給口４０４を介して開口部４０３と連通接続されている。また、下方の空洞部は排出口４０５を介して開口部４０３と連通接続されている。
【００５３】
例えば、薬液送給部５０からエッチング液が本体部４０１に送給されると、供給口４０４を介して開口部４０３の内部にエッチング液が供給される。したがって、本実施の形態においては、薬液送給部５０と供給口４０４とが本発明に係る薬液供給手段に相当する。
【００５４】
一方、薬液送給部５０から開口部４０３に供給されたエッチング液は、排出口４０５を介して、使用済薬液収容部６０に回収される。したがって、本実施の形態においては、使用済薬液収容部６０と排出口４０５とが本発明に係る薬液回収手段に相当する。
【００５５】
図３に示すように、供給口４０４は、開口部４０３にガラス基板９０が遊挿されたときの当該ガラス基板９０の側端面に略平行な面（図３中、ＸＺ平面）に対して３０度以上６０度以下の所定の角度（例えば４５度）であって、かつ、供給方向が、図３中、右斜め下となるように傾斜して設けられる。さらに、開口部４０３に遊挿されたガラス基板９０の側端面の位置よりも（＋Ｙ）側（開口部４０３の内側）の位置において、上方の空洞部と開口部４０３とが連通するように供給口４０４の位置が設定される。
【００５６】
一方、排出口４０５は、ＸＹ平面に対して３０度以上６０度以下の所定の角度（例えば４５度）であって、かつ、Ｙ方向軸について供給口４０４と鏡体関係となる方向に傾斜して設けられる。さらに、開口部４０３に遊挿されたガラス基板の側端面の位置よりも（＋Ｙ）側の位置において、下方の空洞部と開口部４０３とが連通するように排出口４０５の位置が設定される。そして、供給口４０４と排出口４０５とは、相対向するように開口部４０３の内部に設けられる。
【００５７】
また、本体部４０１の（＋Ｙ）側（開口部４０３の開口方向）の開口部４０３の上下には、それぞれ疎水性樹脂で形成されたフラップ部４０６が付設される。フラップ部４０６は、その長手方向が本体部４０１の長手方向と略同一の長さを有している（図２参照）。また、一対のフラップ部４０６は、ガラス基板９０と対向するフラップ部４０６の面と開口部４０３のガラス基板の表面と対向する面とが水平面内において面一となるように、本体部４０１にそれぞれ付設される。なお、本実施の形態では、フラップ部４０６を疎水姓樹脂で形成されるとしているが、これに限られるものではなく、例えば、開口部４０３に遊挿されるガラス基板９０の表面と対向する面のみが疎水性部材で形成されていてもよい。
【００５８】
例えば、薬液送給部５０から本体部４０１にエッチング液が供給された場合には、供給口４０４を通じて、エッチング液がガラス基板９０の側端面に向けて吐出される。吐出されたエッチング液は、ガラス基板９０の側端面に衝突した後、開口部４０３の内部にて流動し、その後、排出口４０５を介して使用済薬液収容部６０により回収される。これにより、ガラス基板９０の側端面がエッチングされる。
【００５９】
図１に示すように、本体部４０２は、本体部４０１がエッチング処理するガラス基板９０の側端面と反対側の側端面についてエッチング処理する。なお、本体部４０２の構造および動作、本体部４０２に接続される各構成については、本体部４０１と同様であるので、説明を省略する。
【００６０】
処理部４１は、搬送ローラ群２１上の位置に配置されており、主として本体部４１１，４１２を備えている。本体部４１１，４１２は、Ｙ方向を長手方向とする直方体上の形状を有しており、親水性樹脂から形成される。本体部４１１は、図１中、搬送ローラ群２１によって搬送されるガラス基板９０の左側（（−Ｘ）側）に、本体部４１２は、当該ガラス基板９０の右側（（＋Ｘ）側）にそれぞれ配置される。
【００６１】
なお、処理部４１についても、送給部５および回収部６（図示せず）を備えており、本体部４１１，４１２にそれぞれ接続されている。また、処理部４１は、処理部４０でエッチング処理されていないガラス基板９０の側端面についてエッチング処理を行う。
【００６２】
図４は、制御部８と基板処理装置１の各部との接続を示したブロック図である。
【００６３】
制御部８は、プログラムに従って各種データを処理する演算部８０と、プログラムや各種データを保存する記憶部８１とを内部に備える。また、オペレータが基板処理装置１に対して必要な指示を入力するための操作部８２と、各種データを表示する表示部８３とを備える。
【００６４】
制御部８は、図１においては図示しないケーブルにより各機構と電気的に接続されている。制御部８の演算部８０は、操作部８２からの入力信号や、図示しない各種センサなどからの信号に基づいて、駆動機構２０２による搬送ローラ群２０のガラス基板９０の搬送動作や、受渡部３のガラス基板の受け渡し動作、処理部４０，４１によるエッチング処理動作等を制御する。
【００６５】
なお、制御部８の構成のうち、記憶部８１の具体的例としては、データを一時的に記憶するＲＡＭ、読み取り専用のＲＯＭ、および磁気ディスク装置などが該当する。ただし、記憶部８１は、可搬性の光磁気ディスクやメモリーカードなどの記憶媒体、およびそれらの読み取り装置により代用されてもよい。また、操作部８２には、ボタンおよびスイッチ類（キーボードやマウスなどを含む。）などが該当するが、タッチパネルディスプレイのように表示部８３の機能を兼ね備えたものであってもよい。表示部８３には、液晶ディスプレイや各種ランプなどが該当する。
【００６６】
＜１．２．動作＞
次に、基板処理装置１の動作について、図１ないし３を参照しつつ説明する。
【００６７】
まず、基板処理装置１は、搬送ローラ群２０を駆動することによって、ガラス基板９０を、図１中、（＋Ｘ）方向へ向けて搬送させる。そして、処理部４０の位置にガラス基板９０が搬送されると、基板処理装置１は、搬送ローラ群２０の駆動を停止させる。
【００６８】
次に、基板処理装置１は、本体部４０１を（−Ｙ）方向へ、本体部４０２を（＋Ｙ）方向へ移動させる。これにより、搬送ローラ群２０に支持されたガラス基板９０のＸ方向に平行な端縁部を、それぞれの開口部４０３に遊挿させる（図２参照）。なお、本体部４０１，４０２を移動させずに、始めから本体部４０１，４０２を、図１中、実線で示す位置（処理位置）にそれぞれ配置させておいてもよい。
【００６９】
次に、基板処理装置１は、処理部４０の薬液送給部５０を稼働させつつバルブ５０１を開放することによって、本体部４０１，４０２の開口部４０３の内部にエッチング液を供給する。一方で、基板処理装置１は、使用済薬液収容部６０を稼働させつつバルブ６０１を開放することによって、本体部４０１，４０２から使用済みの薬液を回収する。この動作によって、開口部４０３において、エッチング液が供給されつつ排出されるため、遊挿されたガラス基板９０の側端面を効率的にエッチング処理することができる（図３参照）。なお、本体部４０１，４０２を、ガラス基板９０が本体部４０１，４０２から外れない範囲で、例えば、図１中、Ｘ方向への揺動を繰り返させることによって、エッチング処理の促進および均一化を図ることができる。
【００７０】
なお、エッチング処理によって、ガラス基板９０の側端面から発生したガラス片等は、使用済薬液収容部６０に回収される。ここで、例えば適当なフィルタで回収した使用済みのエッチング液を濾過して薬液送給部５０に戻すことで、エッチング液として再利用することも可能である。
【００７１】
また、ガラス基板９０を開口部４０３に遊挿させる前に、開口部４０３にエッチング液を供給しておき、あらかじめ開口部４０３内をエッチング液で満たしておくことで、ガラス基板９０の側端面のエッチング処理を迅速に開始させることも可能である。
【００７２】
所定の時間の間、エッチング処理を行った後、基板処理装置１は、薬液送給部５０および使用済薬液収容部６０の稼動を停止させ、バルブ５０１，６０１を閉じる。そして、純水送給部５１および純水廃棄部６１を稼働させつつ、バルブ５１１，６１１を開放する。これにより、本体部４０１，４０２の内部に純水を供給して、ガラス基板９０の端縁部の洗浄処理を行う。
【００７３】
所定の時間、洗浄処理を行った後、基板処理装置１は、純水送給部５１および純水廃棄部６１の稼動を停止させ、バルブ５１１，６１１を閉じる。そして熱風送給部５２および排気部６２を稼働させつつバルブ５２１，６２１を開放する。これにより、本体部４０１，４０２内部に熱風を供給して、ガラス基板９０の端縁部の乾燥処理を行う。
【００７４】
所定の時間、乾燥処理を行うと、熱風送給部５２および排気部６２の稼動を停止させ、バルブ５２１，６２１を閉じる。そして、基板処理装置１は、本体部４０１，４０２を所定の待機位置へ移動させる。
【００７５】
次に、基板処理装置１は、再び搬送ローラ群２０を駆動することによって、ガラス基板９０を受渡部３まで搬送させる（図１参照）。そして、受渡部３にガラス基板９０が到達すると、基板処理装置１は、受渡部３を駆動することによって、ガラス基板９０を搬送ローラ群２１へ受け渡す。さらに基板処理装置１は、搬送ローラ群２１を駆動することによって、ガラス基板９０を（＋Ｙ）方向へ搬送する。
【００７６】
ガラス基板９０が処理部４１の位置に到達すると、基板処理装置１は、処理部４１を駆動させる。処理部４１は、処理部４０の動作とほぼ同様の動作を行うことによって、ガラス基板９０のＹ方向に平行な側端面をエッチング処理する。以上が、基板処理装置１の動作についての説明である。
【００７７】
＜１．３．効果＞
基板処理装置１では、フラップ部４０６が疎水性樹脂で形成されているため、エッチング液を供給しているときには、フラップ部４０６とガラス基板９０の間において、液面が安定したメニスカスを形成し、エッチング液が開口部４０３内に維持される。したがって、エッチング液が外部に漏れるのを抑制できるため、効率的にガラス基板９０の側端面のエッチング処理を行うことができる。
【００７８】
また、純水送給部５１によって、純水を本体部４０１の内部に供給した場合にも、同様の作用によって、ガラス基板９０の端面部を洗浄することができる。したがって、エッチング処理によって発生したガラス片等からなるパーティクルが、ディスプレイ製造エリア）の表面に付着することを抑制できる。
【００７９】
また、熱風送給部５２により本体部４０１の内部に熱風を供給した場合には、供給口４０４から熱風がガラス基板９０の側端面に向けて吐出され、ガラス基板９０の端縁部を乾かすことができる。また、開口部４０３に供給された熱風などの空気は、排出口４０５を介して、排気部６２により排気されるため、エッチング処理により発生したガラス片等からなるパーティクルが、ガラス基板９０のディスプレイ製造エリアへ飛散するのを抑制できる。
【００８０】
また、ガラス基板９０のディスプレイ製造エリアにおける配線形成のためのエッチング処理を行う際、あらかじめガラス基板９０の側端面をエッチング処理しておくことで側端面の加工硬化層やマイクロクラックを除去できるため、ガラス基板９０の側端面からのパーティクル発生を抑制できる。これにより、配線形成の信頼性を高めることができ、基板製造の歩留まりを向上させることができる。
【００８１】
＜２．  第２の実施の形態＞
＜２．１．構成および機能＞
第１の実施の形態では、２方向へ延びる搬送ローラ群２０，２１と、受渡部３を設けた搬送機構について説明したが、ガラス基板９０の側端面をエッチング処理するための搬送機構は、これに限られるものではない。
【００８２】
図５は、第２の実施の形態における基板処理装置１ａの概略上面図である。なお、第１の実施の形態と同様の構成については適宜同符号を付し、説明を省略する。以下の各実施の形態においても同様とする。
【００８３】
基板処理装置１ａは、主として搬送ローラ群２２と、処理部４２，４３と、搬送ロボット７と、図示しない制御部とを備える。
【００８４】
搬送ローラ群２２は、主としてＸ方向に配置される複数の搬送ローラ２２１から構成される。搬送ローラ群２２は、搬送ローラ群２０と同様の構成を備える。すなわち、図示しない駆動機構を駆動することで、搬送ローラ２２１を回転させ、これにより、搬送ローラ２２１の上端にて支持したガラス基板９０を（＋Ｘ）方向へ搬送させることができる。なお、搬送ローラ群２２によって搬送されているガラス基板９０の４つの各辺（端縁）について、図５中、Ｘ方向と平行の２つの端縁を「Ｘ方向端縁」とし、Ｙ方向と平行の端縁を「Ｙ方向端縁」と称する。
【００８５】
処理部４２は、主として本体部４２１，４２２と、アーム支持部４２７と、支持アーム４２８とを備える。なお、処理部４２は、ガラス基板９０の支持機構を除けば、第１の実施の形態における処理部４０とほぼ同様の構成であるため、ここでは異なる点について説明する。
【００８６】
アーム支持部４２７は、図示しない基部に固着される。また、アーム支持部４２７は、その側面に複数の支持アーム４２８（図５では２個）が付設されている。アーム支持部４２７および支持アーム４２８は、本体部４２１，４２２の間に配置され、支持アーム４２８によって下方からガラス基板９０を支持することができる。
【００８７】
処理部４２では、ガラス基板９０が搬送ロボット７により支持アーム４２８に載置されると、基板処理装置１ａは、本体部４２１を二点鎖線で示す待機位置から（−Ｙ）方向の実線で示す処理位置へ移動させる。一方、本体部４２２については、（＋Ｙ）方向の処理位置へ移動させる。そして、本体部４２１，４２２に設けられた開口部４０３にガラス基板９０のＹ方向端縁を遊挿させる。そして、基板処理装置１ａは、各開口部４０３内部にエッチング液を供給し、ガラス基板９０の側端面をエッチング処理する。
【００８８】
処理部４３は、主として本体部４３１，４３２と、アーム支持部４３７ａ，４３７ｂと、支持アーム４３８ａ，４３８ｂとから構成される。処理部４３は、ガラス基板９０の支持機構を除いて、第１の実施の形態における処理部４１とほぼ同様の構成であるため、異なる点について説明する。
【００８９】
本体部４３１，４３２は、Ｘ方向に長手方向を有し、かつ、互いに対向するように配置される。アーム支持部４３７ａ，４３７ｂは、互いに対向し合う面において、支持アーム４３８ａ，４３８ｂがそれぞれ付設される。支持アーム４３８ａは、図５に示すように、アーム支持部４３７ａの側面に対して２箇所で付設されており、ガラス基板９０を（−Ｘ）側について下方から支持する。一方、支持アーム４３８ｂは、その逆側（（＋Ｘ）側）からガラス基板９０を支持する。
【００９０】
本体部４３１および４３２は、ガラス基板９０が処理部４３に搬送されてくる時点において、それぞれ二点鎖線で示す待機位置に退避している。そして、処理部４３においてエッチング処理を開始する際には、（＋Ｘ）方向の実線で示す処理位置に移動されることによって、ガラス基板９０の端縁部が本体部４３１，４３２の開口部４０３に遊挿される。
【００９１】
なお、処理部４２，４３にはそれぞれ送給部５および回収部６（図示せず）が備えられており、各本体部４２１，４２２および各本体部４３１，４３２にそれぞれ接続されている（図３参照）。
【００９２】
搬送ロボット７は、主として移動機構７０と、回転機構７１と、支持部７２と、支持アーム７３とを備える。移動機構７０によって、搬送ロボット７はＸＹ方向に移動可能とされる。また、移動機構７０の上方には、回転機構７１が設置されている。そして、回転機構の上方には、支持部７２が設置されており、支持部７２の側面に支持アーム７３が付設される。搬送ロボット７は、回転機構７１を駆動することによって、支持部７２および支持アーム７３を水平面内で回転させることができる。なお、搬送ロボット７は、支持部７２および支持アーム７３を上下に一体的に昇降させる昇降機構（図示せず）をさらに備える。
【００９３】
＜２．２．動作＞
次に、基板処理装置１ａの動作について図５を参照しつつ説明する。
【００９４】
まず、基板処理装置１は、ガラス基板９０を搬送ローラ群２２を駆動することによって（＋Ｘ）方向へ搬送する。そして、ガラス基板９０が所定の位置まで搬送されると、搬送ロボット７は、支持アーム７３を搬送ローラ群２２の所定の各ローラ間の隙間に進入させ、そして支持アーム７３を上昇させることによって、搬送ローラ群２２からガラス基板９０を受け取る。
【００９５】
次に、搬送ロボット７は、支持アーム７３がＸ方向と平行となるように支持部７２を回転させる（図５に示す位置）。そして、搬送ロボット７は、支持したガラス基板９０を処理部４２に搬送し、ガラス基板９０を支持アーム４２８の上方に載置させる。
【００９６】
そして、処理部４２は、第１の実施の形態における処理部４０と同様にガラス基板９０の当初のＹ方向端縁の側端面についてエッチング処理、洗浄処理および乾燥処理を実行する。なお、ガラス基板が本体部４２１，４２２を外れない範囲で、本体部４２１，４２２を、図５中、Ｘ方向へ揺動を繰り返させることによって、エッチング処理の促進および均一化を図ることもできる。
【００９７】
エッチング処理等が終了すると、基板処理装置１ａは、本体部４２１，４２２を待機位置へ退避させる。そして搬送ロボット７は、処理部４２からエッチング処理を終えたガラス基板９０を受け取る。なお、本体部４２１，４２２の処理位置（図５中、実線で示す位置）あるいは退避位置（図５中、二点鎖線で示す位置）への移動は必ずしも必要ではなく、常時処理位置に配置しておいてもよい。搬送ロボット７は、ガラス基板９０を受けとった後、支持アーム７３がＹ方向と平行となるように、支持部７２および支持アーム７３を、図５中、右回りに９０度回転させる。そして搬送ロボット７は、処理部４３にガラス基板９０を搬送して、支持アーム４３８ａ，４３８ｂに載置させる。
【００９８】
なお、本体部４３２は、二点鎖線で示すように（−Ｘ）側の待機位置に退避しているため、ガラス基板９０が処理部４３に搬送されてくるとき、本体部４３２が、ガラス基板９０や支持アーム７３と干渉することはない。
【００９９】
そして、処理部４３は、ガラス基板９０の当初のＸ方向端縁の側端面について処理部４２によるガラス基板９０の当初のＹ方向端縁の処理と同様にエッチング処理を実行する。エッチング処理が終わると、搬送ロボット７は、処理部４３からガラス基板９０を回収し、支持アーム７３がＹ方向と平行となるように支持部７２を１８０度回転させつつ搬送ローラ群２２に向けて移動する。
【０１００】
そして、搬送ロボット７は、支持アーム７３にて支持していたエッチング処理済みのガラス基板９０を搬送ローラ群２２に受け渡す。搬送ローラ群２２に受け渡されたガラス基板９０は、搬送ローラ群２２によって搬送方向の下流（図５中、（＋Ｘ）方向）へ搬送される。
【０１０１】
以上が、基板処理装置１ａの動作についての説明である。
【０１０２】
＜２．３．効果＞
以上のように、本実施の形態では、搬送ロボット７を備えることによって、ガラス基板９０の搬送機構のスペースを省略できる。したがって、基板処理装置１ａの載置スペースを削減できる。
【０１０３】
＜３．  第３の実施の形態＞
上記の実施の形態では、ガラス基板９０の側端面をエッチング処理する処理部が二箇所に分けて設けられていたが、もちろんこれに限られるものではなく、処理部が一箇所であってもよい。
【０１０４】
図６は、第３の実施の形態における基板処理装置１ｂの概略上面図である。
【０１０５】
基板処理装置１ｂは、主として本体部４０１，４０２，４１１，４１２と、下方からガラス基板９０を支持する支持機構（図示せず）を備える。本体部４０１，４０２は、Ｘ方向に長手方向を有するように配置され、かつ、それぞれの開口部４０３が対向するように配置される。また、本体部４１１，４１２は、Ｙ方向に長手方向を有するように配置され、かつ、それぞれの開口部４０３が対向するように配置される。
【０１０６】
なお、各本体部４０１，４０２，４１１，４１２には、それぞれ第１の実施の形態における送給部５および回収部６（図示せず）がそれぞれ接続されている（図３参照）。
【０１０７】
ここで、基板処理装置１ｂの動作について説明する。まず、基板処理装置１ｂは、本体部４０１を（＋Ｘ）方向、本体部４０２を（−Ｘ）方向の処理位置へそれぞれ水平移動させることによって、支持機構に支持されたガラス基板９０のＹ方向と平行の側端面を各開口部４０３に遊挿させる。そして、基板処理装置１ｂは、開口部４０３内にエッチング液等を供給することにより、エッチング処理、洗浄処理および乾燥処理を行う。
【０１０８】
エッチング処理等が終了すると、基板処理装置１ｂは、本体部４０１，４０２を待機位置（図６中、実線で示す位置）へ退避させる。そして、本体部４１１を（−Ｙ）方向、本体部４１２を（＋Ｙ）方向の処理位置へそれぞれ水平移動させ、ガラス基板９０のＸ方向と平行の側端面についてエッチング処理を行う。
【０１０９】
以上のように、各本体部４０１，４０２，４１１，４１２を支持機構に支持されたガラス基板９０の周囲に配置させることによって、基板処理装置１ｃの載置スペースを省略することができる。なお、本実施の形態においても各本体部４０１，４０２，４１１，４１２を揺動させることによって、エッチング処理の促進および均一化を図ることができる。
【０１１０】
＜４．  第４の実施の形態＞
第３の実施の形態では、所定の支持機構によって支持されたガラス基板９０の４つの辺（端縁）のそれぞれに対して、各本体部４０１，４０２，４１１，４１２を備えていたが、処理部を１つとする基板処理装置の構成はこれに限られるものではない。
【０１１１】
図７は、第４の実施の形態における基板処理装置１ｃの概略側面図である。
【０１１２】
基板処理装置１ｃは、主として本体部４４１，４４２と、回転支持部４４７と、図示しない制御部を備える。
【０１１３】
本体部４４１，４４２は、第１の実施の形態における本体部４０１，４０２と同様の構造を有する。また、本体部４４１，４４２は、回転支持部４４７に支持されるガラス基板９０を挟んで互いに対向する位置に配置される。
【０１１４】
なお、基板処理装置１ｃは、送給部５および回収部６（図示せず）を備えており、各本体部４４１，４４２にそれぞれ接続されている（図３参照）。
【０１１５】
回転支持部４４７は、本体部４４１，４４２の中央の位置に配置される。回転支持部４４７は、その上端にガラス基板９０を保持することが可能であり、また、所定の回転軸を中心として、保持したガラス基板９０を回転させることができる。本実施の形態において、回転支持部４４７は、本発明に係る回転手段に相当する。なお、この回転支持部４４７の回転機構は、例えば、図示しない回転モータを制御部で制御することによって実現される。
【０１１６】
以上が、基板処理装置１の構成および機能についての説明である。次に、基板処理装置１ｃの動作について説明する。
【０１１７】
基板処理装置１ｃは、まず、ガラス基板９０が回転支持部４４７に支持された状態で、本体部４４１を（−Ｙ）方向、本体部４４２を（＋Ｙ）方向の処理位置へそれぞれ水平移動させることによって、それぞれの開口部４０３に回転支持部４４７の上端に支持したガラス基板９０の端縁部を遊挿させる。そして、本体部４４１，４４２の各開口部４０３内部にエッチング液等を供給することによって、ガラス基板９０の側端面のエッチング処理、洗浄処理および乾燥処理を行う。
【０１１８】
エッチング処理等が終了すると、基板処理装置１ｃは、本体部４４１，４４２を所定の待機位置（例えば、図７に示す位置）に退避させ、回転支持部４４７を駆動することによって、ガラス基板９０を水平姿勢を保った状態で、９０度回転させる。
【０１１９】
次に、基板処理装置１ｃは、再度本体部４４１，４４２を、処理位置へ水平移動させて、（まだエッチング処理を行っていない）ガラス基板９０の側端面を、それぞれの開口部４０３に遊挿させ、２回目のエッチング処理、洗浄処理および乾燥処理を実行する。
【０１２０】
これらの動作により、基板処理装置１ｃはガラス基板９０の側端面の全てをエッチング処理することができる。
【０１２１】
上記のように、基板処理装置１ｃでは、回転支持部４４７を設けることによって、基板処理装置の載置スペースを削減できるうえに、本体部の数を基板処理装置１ｂに比べて２台に減らすことができる。また、本体部の数を１台とした場合であっても、回転支持部４４７によって上記のようにガラス基板９０を回転させることで、ガラス基板９０の全側端面のエッチング処理を実行することができる。なお、本実施の形態においても、各本体部４４１，４４２を揺動させることでエッチング処理の促進、および均一化を図ることができる。
【０１２２】
＜５．  第５の実施の形態＞
＜５．１．構成および機能＞
第１および第２の実施の形態では、処理部において処理するガラス基板９０の数が一枚毎であったが、基板処理装置を所定の構成とすることで、複数のガラス基板９０を同時にエッチング処理することも可能である。
【０１２３】
図８は、第５の実施の形態における基板処理装置１ｄの概略上面図である。基板処理装置１ｄは、主に第１処理部４２ａと、第２処理部４３ａと、多段式搬送ロボット７ａと、図示しない制御部とで構成される。
【０１２４】
なお、第１処理部４２ａは、主として鉛直方向に多段に積層された複数の本体部４２１，４２２と、鉛直方向に多段に積層されたアーム支持部４２７および支持アーム４２８とで構成され、第１処理部４２ａのこれら各構成の配置方向は、第２の実施の形態における処理部４２の各構成の配置方向と同様である。
【０１２５】
図９は、鉛直方向に多段に積層された複数の本体部４２１の概略断面図である。図９に示すように、第１処理部４２ａにおける本体部４２１は、鉛直方向に多段に積層されておる。処理部４２ａでは、各本体部４２１に設けられた各開口部４０３に一枚ずつのガラス基板９０を遊挿させることによって、一度に複数のガラス基板９０の側端面をエッチング処理することができる。
【０１２６】
図８に戻って、第２処理部４３ａは、主として鉛直方向に多段に積層された複数の本体部４３１，４３２と、鉛直方向に多段に積層されたアーム支持部４３７ａ，４３７ｂおよび支持アーム４３８ａ，４３８ｂとで構成される。また、第２処理部４３ａの各構成の配置位置は、第２の実施の形態における処理部４３の各構成の配置位置と同様である。
【０１２７】
第２処理部４３ａは、第１処理部４２ａと同様に、一度に複数のガラス基板９０の各側端面をエッチング処理することが可能である。ただし、処理するガラス基板の側端面は、第１処理部で処理した所定方向（第１方向）に平行なガラス基板９０の側端面と略直角に交わる方向（第２方向）に平行の側端面を処理対象としている。
【０１２８】
なお、第１処理部４２ａおよび第２処理部４３ａは、それぞれ送給部５および回収部６（図示せず）を備えており、各本体部４２１，４２２および各本体部４３１，４３２に、それぞれ接続されている（図３参照）。
【０１２９】
多段式搬送ロボット７ａは、第２の実施の形態における支持部７２および支持アーム７３が鉛直方向に多段に積層された構造を有しており、一度に複数のガラス基板９０を保持することができる。なお、保持される複数のガラス基板９０の各ガラス基板間の間隔は、ガラス基板９０を遊挿する各本体部４２１の各開口部４０３の間隔（図９参照）に合わせて設定される。
【０１３０】
＜５．２．動作＞
次に、基板処理装置１ｄの動作について図８を参照しつつ説明する。
【０１３１】
まず基板処理装置１ｄは、複数のガラス基板９０を多段に支持した多段式搬送ロボット７ａを第１処理部４２ａに移動させ、複数のガラス基板９０を鉛直方向に多段に設けられた支持アーム４２８に載置する。そして、基板処理装置１ｄは、第１処理部４２ａにおいて、ガラス基板９０の所定方向の側端面のエッチング処理、洗浄処理および乾燥処理を実行する。
【０１３２】
次に、多段式搬送ロボット７ａは、エッチング処理等が終了したガラス基板９０を受け取って、図８中、（＋Ｘ）方向に後退する。そして、多段式搬送ロボット７ａは、各支持部７２を、図８中、右回りに９０度回転させることによって、支持アーム７３とＹ方向とが平行となるように方向転換する。
【０１３３】
次に、多段式搬送ロボット７ａは、（＋Ｙ）方向に移動して、支持しているガラス基板９０を第２処理部４３ａへと搬送する。そして、多段に積層された複数の支持アーム４３８ａ，４３８ｂにガラス基板９０を受け渡す。そして、基板処理装置１ｄは、第２処理部４３ａにおいてガラス基板９０のエッチング処理等を実行する。なお、本実施の形態においても、処理中に本体部４２１，４２２，４３１，４３２を揺動させることによって、エッチング処理の促進および均一化を図ることができる。また、処理中にアーム支持部４２７，４３７ａ，４３７ｂ、あるいは支持アーム４２８，４３８ａ，４３８ｂを揺動させることによっても、エッチング処理の促進および均一化を図ることができる。
【０１３４】
また、多段式搬送ロボット７ａがガラス基板９０を第１処理部４２ａ、あるいは第２処理部４３ａに搬送する際には、ガラス基板９０および各支持アーム７３と干渉しないように、各本体部４２１，４２２，４３１，４３２を待機位置（図８中、二点鎖線で示す各位置）に退避させておくのが望ましい。ただし、各本体部４２１，４２２については、必ずしも移動させる必要がなく、常に処理位置（図８中、実線で示す各位置）に配置しておいてもよい。
【０１３５】
以上が、基板処理装置１ｄの動作についての説明である。
【０１３６】
＜５．３．効果＞
本実施の形態における基板処理装置１ｄでは、一度に複数のガラス基板９０を処理することができるため、処理効率を向上させることができる。また、製品間の品質の差を小さくすることができる。
【０１３７】
＜６．  第６の実施の形態＞
第４の実施の形態では、ガラス基板９０を一枚ずつ処理する構成であったが、もちろん所定の構成とすることで、一度に複数のガラス基板９０を処理することも可能である。
【０１３８】
例えば、第４の実施の形態で示した本体部４４１，４４２をそれぞれ鉛直方向に多段に積層させるとともに、その本体部の中央に回転支持部４４７の代わりにガラス基板９０を鉛直方向に多段に支持可能な支持機構を備えることによって、一度に複数のガラス基板９０の側端面をエッチング処理することが可能となる。また、同時に基板処理装置の載置スペースを削減することも可能である。
【０１３９】
＜７．  第７の実施の形態＞
上記の実施の形態では、例えば本体部４０１において、開口部４０３の上方に設けられた供給口からガラス基板９０の側端部に向けてエッチング液等が供給されるが、本体部の構造はこれに限られるものではない。
【０１４０】
図１０は、第７の実施の形態における本体部４５１の概略断面図である。本体部４５１は、本体部４０１と同様にＸ方向に長手方向を有しており、その長手方向に沿って開口部４５３が設けられている。また、本体部４５１の上方と下方には、Ｘ方向に長手方向を有する空洞部がさらに設けられている。また、図示を省略しているが、本体部４５１には、第１の実施の形態で示した送給部５および回収部６が３つの配管を介して接続される。なお、上下の配管には、第１の実施の形態で示した送給部５が、中央部の配管には回収部６がそれぞれ接続される。
【０１４１】
開口部４５３内側の上面と下面にそれぞれ供給口４５４が設けられる。上方の供給口４５４は、開口部４５３にガラス基板９０の端縁部が遊挿されたときの当該ガラス基板９０の側端面に略平行な面（図１０ではＸＺ平面）に対して３０度以上６０度以下の所定の角度（例えば４５度）であって、かつ供給方向が、図１０中、左斜め下となるように傾斜して設けられる。一方、下方の供給口４５４については、傾斜の角度は上方の供給口４５４と同一であるが、供給方向が左斜め上となるように傾斜して設けられる。さらに、開口部４５３に遊挿されたガラス基板９０の側端面の位置よりも（＋Ｙ）側（開口部４５３の内側）の位置において、上下の空洞部と開口部とが連通するように供給口４５４の位置が設定される。また、排出口４５５は、中央の配管と開口部４５３とが連通するように設けられる。
【０１４２】
例えば基板処理装置１において、本体部４０１の代わりに、本体部４５１を取り付けた場合であっても、ガラス基板９０の側端面に向けて積極的にエッチング液を供給することができるため、ガラス基板９０の側端面を効率的にエッチング処理することができる等、同様の効果を得ることができる。
【０１４３】
＜８．  変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【０１４４】
例えば、基板処理装置１ｂ等では、支持機構によって支持されたガラス基板９０の端縁にそれぞれ所定の一方向に長手方向を有する本体部４０１，４０２，４１１，４１２を配置させていたが、本体部の形状はこれらに限定されるものではない。
【０１４５】
図１１は、変形例における基板処理装置１ｅの概略上面図である。基板処理装置１ｅは、主として本体部４６１，４６２を備えている。本体部４６１，４６２は、本体部４０１と同様に、開口部、供給口および排出口を有しており、それぞれガラス基板９０の周囲に配置されている。ただし、本体部４０１とは形状が異なり、本体部４６１，４６２の形状は、「くの字型」である。すなわち、例えば本体部４６１は、ガラス基板９０の隣合う２辺の側端面を同時に処理することができる。そして、本体部４６１によるエッチング処理が終了すると、次に本体部４６２によって残りの隣合う２辺の側端面をエッチング処理する。
【０１４６】
また、上記実施の形態では、本体部を処理位置と待機位置との間で、水平面内で移動させることで、ガラス基板９０や搬送機構と干渉しないようにしていたが、もちろん本体部を鉛直方向に移動可能に構成してもよい。
【０１４７】
また、第１および第２の実施の形態では、ガラス基板９０の搬送機構をローラによって実現されているが、これに限られるものではなく、例えば浮上搬送機構によって実現されていてもよい。
【０１４８】
また、上記の実施の形態では、角型のガラス基板９０を使用した場合について説明してきたが、側端面を処理するガラス基板の形状は角型に限られるものではない。ただし、本体部の形状を、処理するガラス基板の端縁部の形状に合わせることが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【０１４９】
【図１】第１の実施の形態における基板処理装置の概略上面図である。
【図２】処理部の概略斜視図である。
【図３】処理部の本体部の断面とその他の各構成を概略的に示す図である。
【図４】制御部と基板処理装置の各部との接続を示したブロック図である。
【図５】第２の実施の形態における基板処理装置の概略上面図である。
【図６】第３の実施の形態における基板処理装置の概略上面図である。
【図７】第４の実施の形態における基板処理装置の概略側面図である。
【図８】第５の実施の形態における基板処理装置の概略上面図である。
【図９】鉛直方向に多段に積層した本体部の概略断面図である。
【図１０】第７の実施の形態における本体部の概略断面図である。
【図１１】変形例における基板処理装置の概略上面図である。
【符号の説明】
【０１５０】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ  基板処理装置
２０，２１，２２  搬送ローラ群
３  受渡部
４０，４１，４２，４２ａ，４３，４３ａ  処理部
４０１，４０２，４１１，４１２，４２１，４２２，４３１，４３２，４４１，４４２，４５１，４６１，４６２  本体部
４０３，４５３  開口部
４０４，４５４  供給口
４０５，４５５  排出口
４０６  フラップ部
４４７  回転支持部
５  送給部
５０  薬液送給部
５１  純水送給部
５２  熱風送給部
５０１，５１１，５２１  バルブ
６  回収部
６０  使用済薬液収容部
６１  純水廃棄部
６２  排気部
６０１，６１１，６２１  バルブ
７  搬送ロボット
７ａ  多段式搬送ロボット
８  制御部
９０  ガラス基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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