(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽に収容された食器を洗浄する食器洗浄機であって、
洗浄槽内の水を加熱するヒータと、
そのヒータとは別に、水を加熱して水蒸気を発生させるスチーム発生装置を備えており、
そのヒータが洗浄槽内に設けられており、
そのスチーム発生装置が外部の給水源から洗浄槽へ水を供給する給水経路に組み込まれている食器洗浄機。
【請求項２】
前記スチーム発生装置で発生した水蒸気が、給水経路を介して洗浄槽へ供給される請求項１の食器洗浄機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、食器洗浄機に関する。特に、スチーム発生装置を備える食器洗浄機に関する。
【背景技術】
【０００２】
食器洗浄機において、スチーム発生装置を備えるものが普及している。この種の食器洗浄機では、食器の洗浄を開始する前に、洗浄槽の内部に水蒸気を充満させ、食器にこびりついた汚れを浮き上がらせる。その後に洗浄を行うことによって、食器に強固に付着した汚れをも取り除くことができる。
【０００３】
特許文献１に、スチーム発生装置を備える食器洗浄機が開示されている。この食器洗浄機では、洗浄槽へ水を供給する給水経路とは別個にスチーム発生装置が設けられている。スチーム発生装置には給水経路から分岐した経路から水が供給される。スチーム発生装置は水を加熱して水蒸気を発生させ、給水経路とは別個の蒸気経路を通じて洗浄槽へ水蒸気を送り込む。
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１３０１４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
食器洗浄機に供給される水は多くの場合水道水であり、スチーム発生装置で水を蒸発させると、水道水に含まれるカルシウムやカルキに起因して、スチーム発生装置の内部にスケールが堆積していく。スチーム発生装置にスケールが堆積すると、水を蒸発させるための加熱効率が低下し、必要とされる量の水蒸気を発生させるまでの時間が長期化してしまう。また、スチーム発生装置に堆積したスケールによって、スチーム発生装置への水の流入口や、発生した水蒸気を洗浄槽へ送り出す流出口が、徐々に塞がれてしまうという問題もある。このため、スチーム発生装置を備える食器洗浄機では、スチーム発生装置に堆積したスケールを定期的に取り除く作業が不可欠となる。このようなメンテナンス作業は面倒なものであり、利用者の利便性を損なうものであった。スチーム発生装置でのスケールの堆積を抑制することができれば、このようなメンテナンス作業は不要となり、利用者の利便性が向上する。
【０００６】
本発明は、上記の問題を解決するために創作されたものであり、スチーム発生装置の内部にスケールが堆積していくことを抑制することが可能な食器洗浄機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は洗浄槽に収容された食器を洗浄する食器洗浄機として具現化される。その食器洗浄機は水を加熱して水蒸気を発生させるスチーム発生装置を備えている。その食器洗浄機では、洗浄槽へ水を供給する給水経路にスチーム発生装置が組み込まれている。
【０００８】
上記の食器洗浄機では、スチーム発生装置が洗浄槽へ水を供給する給水経路に組み込まれているので、スチーム発生装置への水の供給と、スチーム発生装置で発生した水蒸気の洗浄槽への供給が、洗浄槽へ水を供給する給水経路を通して行われる。このような構成を採用すると、食器の洗浄やすすぎのために洗浄槽へ給水する度に、スチーム発生装置の内部を水が通過し、スチーム発生装置の内部が洗い流される。これによって、水蒸気を発生させたことでスチーム発生装置の内部にスケールが生じても、その後の洗浄槽への給水に伴って、スチーム発生装置からスケールが取り除かれる。スチーム発生装置の内部にスケールが堆積していくことを抑制することができる。
【０００９】
上記の食器洗浄機では、スチーム発生装置が、内部に水を貯める本体部と、本体部内に貯められた水を加熱するヒータと、本体部内へ水を供給する給水口と、本体部内の所定の高さの開口部に連通する出水口を備えており、洗浄槽へ水を供給する際には、給水口から供給される水が本体部内に貯められていき、本体部内の水位が開口部の高さに達すると、開口部から溢れ出た水が出水口を経て洗浄槽へ供給され、洗浄槽へ水蒸気を供給する際には、本体部内に貯められた水がヒータで加熱されて蒸発し、発生した水蒸気が開口部から出水口を経て洗浄槽へ供給されることが好ましい。
【００１０】
上記の食器洗浄機によれば、洗浄槽への給水の際には、まずスチーム発生装置の本体部内に水が貯められていき、本体部内の水位が開口部にまで達すると、出水口から洗浄槽へと水が流れ出ていく。その後にスチーム発生装置が水蒸気を発生させる際には、本体部内の所定の高さまですでに水が貯められており、その水をヒータで加熱することで発生する水蒸気は、開口部から出水口を経て洗浄槽へ流れ出ていく。このような構成を採用することによって、洗浄槽への給水系統とスチーム発生装置の構成を簡素化することができる。
なお本体部内の開口部は、本体部内で上向きに開口していてもよいし、横向きに開口していてもよいし、下向きに開口していてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の食器洗浄機によれば、スチーム発生装置の内部にスケールが堆積していくことを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の好適な実施形態を説明する。
（形態１）  食器洗浄機は、スチーム発生装置が水蒸気を発生させるスチーム工程の後に、食器を洗浄する洗浄工程と、食器をすすぐすすぎ工程をそれぞれ実施する。
【実施例】
【００１３】
本発明を具現化した実施例の食器洗浄機を図面を参照しながら説明する。図１は、食器洗浄機１０の縦断面図である。食器洗浄機１０は、引き出し式の食器洗浄機である。食器洗浄機１０は、本体１２と洗浄槽１４と扉１５を備えている。
洗浄槽１４は、本体１２と扉１５で形成される空間に収容されている。洗浄槽１４は、本体１２にスライド可能に支持されている。洗浄槽１４は、本体１２に対して前後方向（図１の左右方向）にスライド可能である。洗浄槽１４は、扉１５に連結されている。扉１５を前方（図１の左方向）へ引き出すと、扉１５とともに洗浄槽１４が引き出される。洗浄槽１４は、上部が開放された箱状に形成されている。洗浄槽１４には、洗浄ノズル２１、食器カゴ６１等が収容されている。洗浄ノズル２１には、複数の噴射口２１ａが形成されている。食器カゴ６１は、種々の食器１９を保持するために、食器１９に対応した形状に形成されている。
【００１４】
洗浄槽１４の上方には、シール蓋５６が配置されている。シール蓋５６は、図示しない昇降機構によって本体１２と連結されている。扉１５が閉じられた状態（洗浄槽１４が本体１２に収容されている状態）では、シール蓋５６は降下して洗浄槽１４の上側開口部に蓋をする。洗浄槽１４が本体１２から引き出されるときには、シール蓋５６は上昇して洗浄槽１４の上側開口部を開放する。
【００１５】
洗浄槽１４の底面３９には、吸込凹部３１が形成されている。吸込凹部３１の上側開口部は、残菜フィルタ１７によって覆われている。残菜フィルタ１７はメッシュ状に形成されている。残菜フィルタ１７は、洗浄槽１４から取り外すことができる。底面３９の下方には、ポンプ２７が設けられている。ポンプ２７は、内蔵する電気モータによってインペラ２８を回転する。ポンプ２７は、インペラ２８を一方向（順方向）に回転することもできるし、その逆の方向（逆方向）に回転することもできる。インペラ２８が配置されている空間と吸込凹部３１は、吸込流路３２によって連通されている。ポンプ２７が配置されている底面３９の上方には、電気式のヒータ３０が装着されている。ヒータ３０の下方には、サーミスタ５５が配置されている。サーミスタ５５は、洗浄槽１４に洗浄水やすすぎ水が入れられているときには水の温度を検出し、洗浄水やすすぎ水が入れられていないときには洗浄槽１４内の空気の温度を検出する。
【００１６】
洗浄槽１４の底面３９には、洗浄ノズル２１が回転可能に取付けられている。洗浄ノズル２１は、ポンプ２７の第１吐出口１１と連通している。ポンプ２７が駆動し、インペラ２８が順方向に回転すると、洗浄槽１４内の洗浄水が洗浄ノズル２１に送出される。洗浄ノズル２１に送出された洗浄水は、複数の噴射口２１ａから洗浄槽１４内に噴射される。複数の噴射口２１ａの一部の噴射口は、水を噴射したときに洗浄ノズル２１に回転モーメントを発生させる。
【００１７】
扉１５には、操作パネル１６と排気経路１８が配置されている。操作パネル１６には、各種のボタンやランプ等が設けられている。排気経路１８は、洗浄槽１４の内側と外側を連通している。
【００１８】
本体１２の後方壁３３（図１の右側の壁）には、排水ホース３４が接続されている。排水ホース３４とポンプ２７の第２吐出口３５は、排水流路３６によって連通されている。排水流路３６の排水ホース３４と接続されている側の端部には、排水逆止弁３８が装着されている。排水逆止弁３８は、排水ホース３４から排水流路３６に排水が逆流するのを防止する。ポンプ２７が駆動し、インペラ２８が逆方向に回転すると、洗浄槽１４内の洗浄は、排水流路３６を介して、洗浄槽１４から排水される。
【００１９】
また、本体１２の後方壁３３には、給水ホース４０の一端が接続されている。給水ホース４０の他端は、図示しない給水源に接続される。給水ホース４０には、水道水（冷水）が直接供給されることもあるし、給湯器によって加熱された温水が供給されることもある。給水ホース４０の一端は、第１給水流路４２を介して本体１２内部の給水弁４１に接続されている。給水弁４１は、内蔵するソレノイドに駆動されて開閉する。給水弁４１は、第２給水流路４３を介してスチーム発生装置６５に連通している。
【００２０】
スチーム発生装置６５は、必要に応じて、供給された水を加熱して蒸発させる。スチーム発生装置６５に供給された水は、蒸発して水蒸気となって送り出されることもあるし、加熱されることなくスチーム発生装置６５を単に通過することもある。スチーム発生装置６５は、第３給水流路６６を経由して、洗浄槽１４に設けられたノズル６７に連通している。スチーム発生装置６５で発生した水蒸気は、第３給水流路６６を経由してノズル６７から洗浄槽１４内に噴霧される。また、スチーム発生装置６５を単に通過した水も、第３給水流路６６を経由してノズル６７から洗浄槽１４内に流れ込む。
【００２１】
本体１２の後方壁３３と洗浄槽１４の後方壁５１の間には、乾燥ファン５２が配置されている。乾燥ファン５２は、内蔵するモータでファン５３を回転駆動する。洗浄槽１４は、吸気経路６３を介して乾燥ファン５２と接続されている。
本体１２の底面５７には、凹部５８が形成されている。凹部５８には、水漏れ検知センサ５９の２本の電極が差し込まれている。洗浄槽１４から外部に水が漏れ、その漏れた水が凹部５８に流れ込むと、電極間が導通して水漏れ検知センサ５９がオンになる。
【００２２】
洗浄槽１４の前方には、水位検知器４５が配置されている。水位検知器４５は、水位室４６とフロート４７とバー４８と水位スイッチ４９を備えている。水位室４６は、水位経路５０によって吸込凹部３１と連通されている。フロート４７は、水位室４６内に配置されている。バー４８は、フロート４７の上部に固定されており、水位室４６から上方に突出している。水位スイッチ４９は、バー４８の上方に配置されている。洗浄槽１４内に水が供給されると、水位経路５０を介して水位室４６にも水が導入される。水位室４６内の水位は、洗浄槽１４内の水位と同一である。即ち、洗浄槽１４内に給水されて、洗浄槽１４内の水位が上昇すると、水位室４６内の水位も上昇する。フロート４７は、水位室４６に導入された水によって浮上する。水位室４６内の水位の上昇に伴って、フロート４７が浮上されると、バー４８の上端が水位スイッチ４９に接触する。これにより、水位スイッチ４９がオンになる。
【００２３】
図２はスチーム発生装置６５の構成を模式的に示している。スチーム発生装置６５は、内部に水を貯めることができる箱型容器状の本体部７０と、本体部７０の上部開口を閉塞する蓋部７２を備えている。蓋部７２は本体部７０に対して着脱可能に取り付けられている。本体部７０の蓋部７２と当接する部位にはシールパッキン７４が装着されており、蓋部７２と本体部７０の当接部位は気密に封止される。
【００２４】
本体部７０の底部には図１の第２給水流路４３に連通する給水口７６が設けられている。給水口７６は本体部７０の内側底面で開口しており、第２給水流路４３から供給される水は本体部７０の内部に貯められていく。
【００２５】
本体部７０の内部には、本体部７０の内側底面から上方向に伸びて上向きに開口する出水管７７が設けられている。出水管７７の上端の開口部７９は、本体部７０の内部における規定水位と同じ高さに位置合わせされている。この規定水位は、本体部７０内の水を全て蒸発させたときに、後述するスチーム工程で必要とされる水蒸気量を発生させることが可能な水位に設定される。開口部７９は出水管７７の下端の出水口７８を介して図１の第３給水流路６６に連通している。スチーム発生装置６５に第２給水流路４３から給水がされると、本体部７０の内部の水位が上昇していき、その水位が規定水位を超えると、本体部７０の内部の水が開口部７９から出水口７８へ溢れ出る。出水口７８から溢れ出た水は、第３給水流路６６へ流れ込み、ノズル６７を介して洗浄槽１４へ供給される。
【００２６】
本体部７０の底部には、スチームヒータ８０が設けられている。スチームヒータ８０は略Ｕ字状の形状をしており、本体部７０の底部を加熱する。スチームヒータ８０に通電すると、本体部７０が加熱されて高温となり、本体部７０の内部の水が加熱される。加熱によって本体部７０の内部の水は蒸発して水蒸気となり、開口部７９から出水口７８を経て第３給水流路６６へと流入する。第３給水流路６６へ流入した水蒸気は、ノズル６７を介して洗浄槽１４の内部へ噴霧される。
【００２７】
本体部７０の底部にはスチームサーミスタ８２が設けられている。スチームサーミスタ８２の温度検知部８３は、本体部７０の内側底面から突出する高さとなるように配置されている。スチームサーミスタ８２は温度検知部８３における温度を検出する。
【００２８】
本体部７０の底部にはバイメタルスイッチ８４が内蔵されている。バイメタルスイッチ８４は、通常時にはオンとなっているが、本体部７０の底部が異常な高温となったときにオフに切換わる。
【００２９】
図１の水位検知器４５の上方には、コントローラ６０が装着されている。コントローラ６０には、操作パネル１６、ポンプ２７、ヒータ３０、給水弁４１、水位スイッチ４９、乾燥ファン５２、サーミスタ５５、水漏れ検知センサ５９、スチームヒータ８０、スチームサーミスタ８２、バイメタルスイッチ８４が接続されている。コントローラ６０は、内蔵するＣＰＵ６０ａ、メモリ６０ｂ等によって、接続されている各装置の動作を制御する。メモリ６０ｂは、各装置の制御するための情報を記憶している。
【００３０】
図３はコントローラ６０が行う処理手順を示すフローチャートである。図３に示すように、本実施例の食器洗浄機１０は、洗浄槽１４内に食器１９を収容した後に、スチーム工程Ｓ２、洗浄工程Ｓ４、すすぎ工程Ｓ６、乾燥工程Ｓ８を順に実施して、洗浄槽１４内の食器１９を洗浄する。スチーム工程Ｓ２については、後に詳述する。洗浄工程Ｓ４では、洗浄槽１４内の洗浄水をポンプ２７によって吸引し、吸引した洗浄水を洗浄ノズル２１から食器１９に噴射し、食器１９を洗浄する。すすぎ工程Ｓ６では、洗浄槽１４の排水と給水を繰り返しながら、洗浄槽１４内の水をポンプ２７によって吸引し、吸引した水を洗浄ノズル２１から食器１９に噴射して、食器１９をすすぐ。乾燥工程Ｓ８では、乾燥ファン５２を駆動しつつヒータ３０による加熱を行い、洗浄槽１４内に温風を送り込んで食器１９を乾燥させる。
【００３１】
図４はスチーム工程Ｓ２におけるコントローラ６０の処理の詳細を示すフローチャートである。
【００３２】
ステップＳ１２では、給水弁４１を開いて、給水源からの給水を開始する。スチーム発生装置６５の本体部７０の内部へ水が流れ込み、本体部７０内の水位が上昇していく。本体部７０内の水位が規定水位を超えると、第３給水流路６６へ水が溢れ出て、洗浄槽１４にも水が供給される。洗浄槽１４へ供給された水は、水位検知器４５の水位室４６にも流入する。
【００３３】
ステップＳ１４では、水位スイッチ４９がオンになるまで待機する。給水によって、洗浄槽１４の水位とともに水位室４６の水位が上昇し、水位スイッチ４９がオンになると、ステップＳ１６で給水弁４１を閉じる。水位スイッチ４９がオンに切換った時点では、洗浄槽１４内の水位は水位スイッチ４９に対応する水位にまで達しており、スチーム発生装置６５の本体部７０内の水位は規定水位にまで達している。
【００３４】
ステップＳ１８では、スチームヒータ８０への通電を開始する。これによって、スチーム発生装置６５の本体部７０の内部の水が加熱されて、本体部７０内の水温が上昇していく。
【００３５】
ステップＳ２０では、スチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃に達したか否かを判断する。図５はスチーム発生装置６５において、規定水位まで貯められた水をスチームヒータ８０で加熱した場合の、スチームサーミスタ８２の検出温度の履歴を示している。本実施例のスチーム発生装置６５では、本体部７０内で発生した水蒸気は小口径のノズル６７を介して洗浄槽１４へ導入されるため、高温の水蒸気の発生によって本体部７０内の気圧が上昇し、本体部７０の内部の水の沸点は１００℃よりも高温となる。従って、本体部７０内の水が沸騰するよりも早くスチームサーミスタ８２の検出温度は１００℃を超えることになる。
【００３６】
ステップＳ２０でスチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃に満たない場合（ＮＯの場合）、処理はステップＳ２２へ進む。ステップＳ２２では、スチームヒータ８０への通電を開始してからの経過時間が５分に達したか否かを判断する。
【００３７】
ステップＳ２２で経過時間が５分に満たない場合（ＮＯの場合）には、処理はステップＳ２０へ戻り、再びスチームサーミスタ８２の検出温度の判定を行う。
【００３８】
ステップＳ２２で経過時間が５分を超えた場合（ＹＥＳの場合）には、ステップＳ２６で操作パネル１６を通じて利用者に異常を報知し、ステップＳ３４でスチームヒータ８０への通電を終了して、スチーム工程を終了する。
【００３９】
スチーム発生装置６５は、本体部７０内に規定水位まで貯められた水を５分以内に全て蒸発させるように設計されているので、本来であれば、スチームヒータ８０への通電を開始してから、スチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃に達することなく、５分が経過してしまうことはない。しかしながら、スチームヒータ８０の故障によって、加熱能力が不足し、本体部７０も内部に蓄えられた水も十分に加熱されないまま、５分が経過してしまう場合がある。また、スチームヒータ８０が正常に動作し、本体部７０もその内部に蓄えられた水も十分に加熱されているにも関わらず、スチームサーミスタ８２の故障によって、温度が低く検出されて、検出温度が１００℃に達しない場合もある。本実施例の食器洗浄機１０では、いずれの場合についても、スチームヒータ８０への通電開始から５分が経過した時点で、利用者に異常を報知して、強制的に洗浄工程Ｓ４へと移行する。その後、洗浄工程Ｓ４、すすぎ工程Ｓ６、乾燥工程Ｓ８を順に実施して、食器洗浄機１０は運転を終了する。
【００４０】
ステップＳ２０でスチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃を超える（ＹＥＳとなる）と、ステップＳ２４で１分間待機した後、ステップＳ２８へ進む。図５に示すように、スチームサーミスタ８２の検出温度が１００℃に達すると、１分も経たずに本体部７０の内部の水が沸騰し始め、スチームサーミスタ８２の検出温度は安定する（図中のＷ１参照）。従って、ステップＳ２４で１分間待機することで、これ以降のスチームサーミスタ８２の検出温度が安定する。
【００４１】
ステップＳ２８では、スチームサーミスタ８２の検出温度を基準温度としてメモリ６０ｂに記憶する。
【００４２】
ステップＳ３０では、スチームサーミスタ８２の検出温度が、５秒間継続して基準温度を下回るか否かを判断する。図５のＷ１に示すように、本体部７０内に十分な量の水がまだ残っており、水が沸騰を続けている間は、スチームサーミスタ８２の検出温度は下がることなく安定している。この場合、スチームサーミスタ８２の検出温度が５秒間継続して基準温度を下回ることがない。しかしながら、図５のＷ２に示すように、本体部７０内の水が全て蒸発しきる直前には、サーミスタの検出温度がわずかに低下する期間が存在する。この検出温度の低下は、スチームサーミスタ８２の温度検知部８３が本体部７０の内側底面から突出する高さに位置していることにより、本体部７０内の水位が温度検知部８３よりも低くなり、本体部７０内の水が蒸発する際の気化熱を始めとする温度検知部８３近傍での熱収支に変化が生じるためと考えられる。この場合、スチームサーミスタ８２の検出温度は５秒間継続して基準温度を下回ることになる。なお、図５のＷ３は、本体部７０内の水が全て蒸発しきった後もスチームヒータ８０への通電を継続した場合（いわゆる空だきを行った場合）のスチームサーミスタ８２の検出温度を示している。本実施例の食器洗浄機１０では、本体部７０内の水が全て蒸発しきってからもスチームヒータ８０への通電を継続することはないので、実際にはＷ３に示すような検出温度の履歴となることなない。
【００４３】
ステップＳ３０でスチームサーミスタ８２の検出温度が５秒間継続して基準温度を下回った場合（ＹＥＳの場合）には、ステップＳ３４でスチームヒータ８０への通電を終了して、スチーム工程Ｓ２を終了する。そうでない場合（ＮＯの場合）には、ステップＳ３２へ進む。
【００４４】
ステップＳ３２では、スチームヒータ８０への通電を開始してからの経過時間が５分に達したか否かを判断する。経過時間が５分に達していない場合（ＮＯの場合）には、ステップＳ３０へ戻り、再びスチームサーミスタ８２の検出温度の判定を行う。経過時間が５分に達した場合（ＹＥＳの場合）には、ステップＳ３４でスチームヒータ８０への通電を終了して、スチーム工程Ｓ２を終了する。
【００４５】
なお上述の一連の処理の間に、スチーム発生装置６５のバイメタルスイッチ８４がオフに切換わると、割り込み処理によって、コントローラ６０が行う処理はステップＳ２６へと強制的に移行し、ステップＳ２６で利用者に異常を報知して、ステップＳ３４でスチームヒータ８０への通電を終了した後、スチーム工程Ｓ２を終了する。
【００４６】
スチーム工程Ｓ２が終了した時点においては、洗浄槽１４内にはすでに水位スイッチ４９に対応する水位の給水がなされている。図２の洗浄工程Ｓ４では、この水を利用して食器の洗浄を行う。
【００４７】
本実施例の食器洗浄機１０では、スチーム工程Ｓ２の最初に行うステップＳ１２、Ｓ１４およびＳ１６の給水処理において、食器洗浄機１０に給水される水がスチーム発生装置６５の本体部７０の内部を通過して洗浄槽１４へと流れ込む。これによって、スチーム発生装置６５の本体部７０の内側が洗い流され、それ以前の運転で生じた微量のスケールがスチーム発生装置６５から取り除かれる。
【００４８】
また、本実施例の食器洗浄機１０では、すすぎ工程Ｓ６における洗浄槽１４への給水処理の際にも、食器洗浄機１０へ給水される水がスチーム発生装置６５の本体部７０の内部を通過して洗浄槽１４へと流れ込む。これによって、スチーム発生装置６５の本体部７０の内側が洗い流され、直前のスチーム工程Ｓ２で生じた微量のスケールがスチーム発生装置６５から取り除かれる。
【００４９】
スチーム発生装置６５の本体部７０の内側を洗い流した水は、洗浄槽１４に貯められて、その後の洗浄工程Ｓ４やすすぎ工程Ｓ６において、食器の洗浄やすすぎに利用されることになる。しかしながら、一度のスチーム工程Ｓ２で生じるスケールはごく微量であるから、本体部７０の内部を洗い流した水であっても、問題なく食器の洗浄やすすぎに利用することができる。
【００５０】
以上のように、本実施例の食器洗浄機１０では、スチーム発生装置６５が洗浄槽１４へ水を供給する給水経路に組み込まれており、洗浄槽１４への給水に伴ってスチーム発生装置６５の内部が洗い流される構成となっている。これによって、スチーム発生装置６５の内部にスケールが堆積していくことを抑制することができる。
【００５１】
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
例えばスチーム発生装置６５の代わりに、図６のスチーム発生装置１６５や、図７のスチーム発生装置２６５を用いることもできる。図６のスチーム発生装置１６５では、出水管７７が本体部７０の側面に設けられており、出水管７７の開口部７９は本体部７０の内側側面に形成されている。図７のスチーム発生装置２６５では、出水管７７が蓋部７２と一体的に形成されており、出水管７７の下端の開口部７９は本体部７０の内部に形成されている。スチーム発生装置１６５、２６５はいずれも、スチーム発生装置６５と同様に、洗浄槽１４へ水を供給する給水経路に組み込まれており、給水源から供給された水を蒸発させて洗浄槽１４へ水蒸気を送り出すこともできるし、供給された水を単に通過させることもできる。洗浄槽１４への給水に伴って本体部７０の内部が洗い流されるので、本体部７０の内部にスケールが堆積していくことを抑制することができる。
また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本実施例の食器洗浄機の断面模式図。
【図２】本実施例のスチーム発生装置の断面模式図。
【図３】本実施例の食器洗浄機の全工程を示すフローチャート。
【図４】本実施例のスチーム工程を示すフローチャート。
【図５】本実施例のスチームサーミスタの検出温度の履歴を示す図。
【図６】本実施例の変形例のスチーム発生装置の断面模式図。
【図７】本実施例の他の変形例のスチーム発生装置の断面模式図。
【符号の説明】
【００５３】
１０   食器洗浄機
１１   第１吐出口
１２   本体
１４   洗浄槽
１５   扉
１６   操作パネル
１７   残菜フィルタ
１８   排気経路
１９   食器
２１   洗浄ノズル
２１ａ 噴射口
２７   ポンプ
２８   インペラ
３０   ヒータ
３１   吸込凹部
３２   吸込流路
３３   後方壁
３４   排水ホース
３５   第２吐出口
３６   排水流路
３８   排水逆止弁
３９   底面
４０   給水ホース
４１   給水弁
４２   第１給水流路
４３   第２給水流路
４５   水位検知器
４６   水位室
４７   フロート
４８   バー
４９   水位スイッチ
５０   水位経路
５１   後方壁
５２   乾燥ファン
５３   ファン
５５   サーミスタ
５６   シール蓋
５７   底面
５８   凹部
５９   水漏れ検知センサ
６０   コントローラ
６０ｂ メモリ
６１   食器カゴ
６３   吸気経路
６５   スチーム発生装置
６６   第３給水流路
６７   ノズル
７０   本体部
７２   蓋部
７４   シールパッキン
７６   給水口
７７   出水管
７８   出水口
７９   開口部
８０   スチームヒータ
８２   スチームサーミスタ
８３   温度検知部
８４   バイメタルスイッチ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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