(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状支持体と、重合性材料の重合により形成された表面層と、を有する電子写真感光体であって、該電子写真感光体の表面に長軸径が０．５μｍ以上８０μｍ以下の凹形状を有する電子写真感光体
を製造する方法において、
下記工程（１）、（２’）および（３）をこの順に有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法：
（１）円筒状支持体上に重合性材料を含有する表面層用塗布液の塗膜を形成する工程、
（２’）該塗膜を乾燥させた後、凸形状を有するモールドを該塗膜の表面に加圧接触させることにより、凹形状を該塗膜の表面に形成する工程、
（３）該重合性材料を重合させる重合工程。
【請求項２】
円筒状支持体と、重合性材料の重合により形成された表面層と、を有する電子写真感光体であって、該電子写真感光体の表面に長軸径が０．５μｍ以上８０μｍ以下の凹形状を有する電子写真感光体
を製造する方法において、
下記工程（１）、（２”）および（３）をこの順に有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法：
（１）円筒状支持体上に重合性材料を含有する表面層用塗布液の塗膜を形成する工程、
（２”）該塗膜の表面を結露させた後、該塗膜を乾燥させることにより、凹形状を該塗膜の表面に形成する工程、
（３）該重合性材料を重合させる重合工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機光導電性物質を用いた電子写真感光体（有機電子写真感光体）の研究開発が盛んに行われている。
【０００３】
電子写真感光体は、基本的には、支持体と該支持体上に形成された感光層とから構成されている。有機電子写真感光体を構成する感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を光導電性物質とし、これら材料を結着する樹脂として結着樹脂を使用する。感光層の層構成は夫々の機能を電荷発生層と電荷輸送層に機能分離した積層構成や、単一層にこれら材料を溶解や分散させた単層の層構成がある。電子写真感光体の大半は積層感光体の構成を採用し、この場合、電荷輸送層が表面層となることが多く、表面層を高耐久化するために、更に保護層を設ける場合もある。
【０００４】
電子写真感光体（以下、単に「感光体」ともいう）の表面層は、各種部材や用紙に接触する層であるために、接触に対する機械的強度あるいは表面層を構成する材料の化学的安定性のような種々の機能が要求される。これらの要求に対し、表面層を構成する材料の改良といった観点から多くの提案がなされている。
【０００５】
感光体表面層の接触に対する機械的強度向上を目的とした提案として、表面層を形成する際に、表面層用材料として重合性材料を含有させ、表面層塗布後、重合させる提案がなされている（特許文献１乃至４）。これらの技術により、機械的強度の向上は図られている。しかしながら、これら重合性材料を有する表面層を形成するだけでは、感光体のクリーニング性に対し課題が発生する場合があり、機械的強度とクリーニング性を共に向上させることが望まれている。
【０００６】
これらの課題を解決する方法として、感光体表面を適度に粗面化し、クリーニングブレードと感光体との接触面積を低減する製造方法が提案されている。このような粗面化の製造方法として、特許文献５では、フィルム形状の研磨材を感光体表面と摺擦させる表面処理により、表面に溝を形成する感光体の製造方法が開示されている。特許文献６には、ブラシを用いて、スジ状の形状を形成する感光体の製造方法が開示されている。また、特許文献７および８では、サンドブラスト処理することにより、表面に凹形状を形成する感光体の製造方法が提案されている。
【特許文献１】特開平９−２９７４２３号公報
【特許文献２】特開２００３−２４６７７１号公報
【特許文献３】特開平１１−２６５０８５号公報
【特許文献４】特開２００６−４７９４９号公報
【特許文献５】特開２００４−２７９９６７号公報
【特許文献６】特開昭５７−９４７７２号公報
【特許文献７】特開平２−１５０８５０号公報
【特許文献８】特開２００６−２６７８５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献５または６に開示されている製造方法では、突発的に深い傷が感光体表面に入ることや加工された表面がささくれ状に微小領域で欠陥が発生する場合があった。特に重合性材料の重合により機械的強度を向上させている感光体の表面の加工に対しては、表面加工時の研磨シートの押し付け圧力やブラシの押し付け圧力を上げる対応が必要となることにより、突発的に生じる傷やささくれ状の欠陥の発生頻度に課題があった。
【０００８】
また、特許文献７および８に開示されている製造方法では、重合性材料の重合による表面層を有する感光体の表面加工が可能であり、感光体の特性も良好な結果が得られている。しかしながら、重合性材料の重合による表面層の加工においては、特許文献８に開示されているように、高圧での砥粒の吹き付けが必要となっている。生産性の観点から、より低圧での砥粒の吹き付けが好ましく、改善が望まれている。また、高圧での砥粒の吹き付けは、砥粒が破損し、破損した砥粒が感光体表面に吹き付けられ、表面の加工均一性を低下させる恐れがあり、表面の加工均一性の観点からも改善が望まれている。
【０００９】
従って、重合性材料の重合による表面層を有する感光体の表面を粗面化する製造方法として、感光体としての不具合を生じることなく、安定的に粗面化できる製造方法の開発が望まれている。
【００１０】
本発明の課題は、重合性材料の重合による表面層を有する感光体の表面を粗面化する製造方法として、高い生産性を有し、かつ均一性の高い凹凸形状を感光体表面に作製できる電子写真感光体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、円筒状支持体と、重合性材料の重合により形成された表面層と、を有する電子写真感光体であって、該電子写真感光体の表面に長軸径が０．５μｍ以上８０μｍ以下の凹形状を有する電子写真感光体
を製造する方法において、
下記工程（１）、（２’）および（３）をこの順に有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法である：
（１）円筒状支持体上に重合性材料を含有する表面層用塗布液の塗膜を形成する工程、
（２’）該塗膜を乾燥させた後、凸形状を有するモールドを該塗膜の表面に加圧接触させることにより、凹形状を該塗膜の表面に形成する工程、
（３）該重合性材料を重合させる重合工程。
また、本発明は、円筒状支持体と、重合性材料の重合により形成された表面層と、を有する電子写真感光体であって、該電子写真感光体の表面に長軸径が０．５μｍ以上８０μｍ以下の凹形状を有する電子写真感光体
を製造する方法において、
下記工程（１）、（２”）および（３）をこの順に有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法である：
（１）円筒状支持体上に重合性材料を含有する表面層用塗布液の塗膜を形成する工程、
（２”）該塗膜の表面を結露させた後、該塗膜を乾燥させることにより、凹形状を該塗膜の表面に形成する工程、
（３）該重合性材料を重合させる重合工程。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、重合性材料の重合による表面層を有する感光体の表面を粗面化する製造方法として、高い生産性を有し、かつ均一性の高い凹凸形状を感光体表面に作製できる電子写真感光体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００１４】
本発明の電子写真感光体の製造方法は、前述のとおり、円筒状支持体上に重合性材料の重合より形成される表面層を有する電子写真感光体の製造方法において、
（１）円筒状支持体上に重合性材料を含有する表面層用塗布液を塗布する表面層塗布工程、
（２）塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に凹凸形状を形成する形状形成工程、
（３）形状形成工程後、重合性材料を重合させる重合工程
を含む工程により製造されることを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
【００１５】
本発明における表面層とは、感光層が単層型感光層である場合には感光層を示す。また、感光層が、円筒状支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層である場合には電荷輸送層を示す。また、感光層が、円筒状支持体側から電荷輸送層、電荷発生層の順に積層した逆層型感光層である場合には電荷発生層を示す。
【００１６】
また、感光層上に保護層を有する場合には、本発明の表面層は、保護層であることを示す。
【００１７】
本発明における表面層は、重合性材料の重合により形成される表面層を示す。本発明における重合性材料の重合の形態は任意であるが、好ましくは重合性材料が架橋された重合であることが好ましい。
【００１８】
本発明における重合性材料は、重合可能な材料であれば任意であるが、重合性材料が重合性官能基を有する化合物であることまたはフェノール誘導体であることの少なくともいずれかであることが好ましい。
【００１９】
前記重合性官能基としては、重合可能な官能基はいずれの場合にも適応可能であるが、中でもアクリル基、ビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。これらの重合性官能基は、重合性を阻害しない範囲で置換基を有してもよい。有してもよい置換基としては、アルキル基、アリール基またはフルオロアルキル基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基またはイソプロピル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基またはナフチル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基であることが好ましい。
【００２０】
さらに、前記重合性官能基を有する化合物としては、重合性官能基を有する高分子化合物であることが好ましい。前記重合性官能基を有する高分子化合物としては、前記重合性官能基を有する樹脂であることが好ましい。重合性官能基を有する樹脂としては、以下のものが挙げられる。アクリル樹脂。スチレン樹脂。ポリエステル樹脂。ポリカーボネート樹脂。ポリアリレート樹脂。ポリサルホン樹脂。ポリフェニレンオキシド樹脂。エポキシ樹脂。ポリウレタン樹脂。アルキド樹脂。不飽和樹脂。特には、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂またはポリアリレート樹脂であることが好ましい。
【００２１】
前記重合性官能基を有する高分子化合物の構造単位の例を下記式（１）
【００２２】
【化１】
0005080888.tif 000002
【００２３】
に示す。
【００２４】
上記式（１）中、Ｒ１〜Ｒ８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはフルオロアルキル基を示す。Ｘ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子または下記式（１−ａ）
【００２５】
【化２】
0005080888.tif 000003
【００２６】
で示される二価の基であることを示す。
【００２７】
上記式（１−ａ）中、Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基またはＲ９とＲ１０が結合することによる環構造を有する基を示す。
【００２８】
さらに、上記式（１）および上記式（１−ａ）中に記載のＲ１〜Ｒ１０の少なくともいずれか１つは、前記重合性官能基であることを示す。
【００２９】
上記式（１）中のＲ１〜Ｒ８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。
【００３０】
上記式（１−ａ）中のＲ９〜Ｒ１０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。Ｒ９とＲ１０が結合することによる環構造を有する基としては、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロヘプチレン基またはシクロオクチレン基が挙げられるが、シクロへキシレン基であることが好ましい。
【００３１】
上記式（１）および上記式（１−ａ）中に記載のＲ１〜Ｒ１０の少なくともいずれか１つは重合性官能基であるが、中でも、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。さらには、ビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。
【００３２】
また、前記重合性官能基を有する高分子化合物の構造単位の例を下記式（２）
【００３３】
【化３】
0005080888.tif 000004
【００３４】
に示す。
【００３５】
上記式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはフルオロアルキル基を示す。Ｘ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子または下記式（２−ａ）
【００３６】
【化４】
0005080888.tif 000005
【００３７】
で示される二価の基であることを示す。Ｙ１は、二価の有機基であることを示す。
【００３８】
上記式（２−ａ）中、Ｒ１９およびＲ２０は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基またはＲ１９とＲ２０が結合することに環構造を有する基を示す。
【００３９】
さらに、上記式（２）および上記式（２−ａ）中に記載のＲ１１〜Ｒ２０の少なくともいずれか１つは前記重合性官能基であることを示す。
【００４０】
上記式（２）中のＲ１１〜Ｒ１８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。
【００４１】
上記式（２−ａ）中のＲ１９〜Ｒ２０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。Ｒ１９とＲ２０が結合することによる環構造を有する基としては、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロヘプチレン基またはシクロオクチレン基が挙げられるが、シクロへキシレン基であることが好ましい。
【００４２】
上記式（２）中のＹ１は、二価の有機基を示す。二価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキレン基または置換基を有してもよいアリーレン基が挙げられる。置換基を有してもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基またはヘキシレン基が挙げられる。中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基またはブチレン基が好ましい。置換基を有してもよいアリーレン基としては、下記式（２−ｂ−１）〜（２−ｂ−５）
【００４３】
【化５】
0005080888.tif 000006
【００４４】
【化６】
0005080888.tif 000007
【００４５】
【化７】
0005080888.tif 000008
【００４６】
【化８】
0005080888.tif 000009
【００４７】
【化９】
0005080888.tif 000010
【００４８】
で示される構造が挙げられる。
【００４９】
中でも、（２−ｂ−１）、（２−ｂ−２）または（２−ｂ−５）で示される構造であることが好ましい。
【００５０】
置換基を有してもよいアルキレン基または置換基を有してもよいアリーレン基が有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基または重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基が挙げられるが、中でもビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。
【００５１】
上記式（２）および上記式（２−ａ）中に記載のＲ１１〜Ｒ２０の少なくともいずれか１つは重合性官能基であるが、中でも、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。さらには、ビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。
【００５２】
次に、前記重合性官能基を有する高分子化合物の具体的な構造単位の例を示すが限定はされない。
【００５３】
【化１０】
0005080888.tif 000011
【００５４】
【化１１】
0005080888.tif 000012
【００５５】
【化１２】
0005080888.tif 000013
【００５６】
【化１３】
0005080888.tif 000014
【００５７】
【化１４】
0005080888.tif 000015
【００５８】
【化１５】
0005080888.tif 000016
【００５９】
【化１６】
0005080888.tif 000017
【００６０】
【化１７】
0005080888.tif 000018
【００６１】
【化１８】
0005080888.tif 000019
【００６２】
【化１９】
0005080888.tif 000020
【００６３】
【化２０】
0005080888.tif 000021
【００６４】
【化２１】
0005080888.tif 000022
【００６５】
【化２２】
0005080888.tif 000023
【００６６】
【化２３】
0005080888.tif 000024
【００６７】
【化２４】
0005080888.tif 000025
【００６８】
【化２５】
0005080888.tif 000026
【００６９】
【化２６】
0005080888.tif 000027
【００７０】
【化２７】
0005080888.tif 000028
【００７１】
【化２８】
0005080888.tif 000029
【００７２】
【化２９】
0005080888.tif 000030
【００７３】
【化３０】
0005080888.tif 000031
【００７４】
【化３１】
0005080888.tif 000032
【００７５】
【化３２】
0005080888.tif 000033
【００７６】
【化３３】
0005080888.tif 000034
【００７７】
【化３４】
0005080888.tif 000035
【００７８】
中でも、（１−４）、（２−２）、（２−７）または（２−１４）で示される構造単位であることが好ましい。
【００７９】
前記重合性官能基を有する高分子化合物は、重合性官能基を有さない構造単位と共重合させてもよい。
【００８０】
重合性官能基を有さない構造単位の例として下記式（３）
【００８１】
【化３５】
0005080888.tif 000036
【００８２】
で示される構造単位が挙げられる。
【００８３】
上記式（３）中、Ｒ２１〜Ｒ２８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはフルオロアルキル基を示す。Ｘ３は、単結合、酸素原子、硫黄原子または下記式（３−ａ）
【００８４】
【化３６】
0005080888.tif 000037
【００８５】
で示される二価の基であることを示す。
【００８６】
上記式（３−ａ）中、Ｒ２９およびＲ３０は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基またはＲ２９とＲ３０が結合することによる環構造を有する基を示す。
【００８７】
上記式（１）中のＲ２１〜Ｒ２８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。
【００８８】
上記式（３−ａ）中のＲ２９〜Ｒ３０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。Ｒ２９とＲ３０が結合することによる環構造を有する基としては、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロヘプチレン基またはシクロオクチレン基が挙げられるが、シクロへキシレン基であることが好ましい。
【００８９】
また、前記重合性官能基を有さない高分子化合物の構造単位の例を下記式（４）
【００９０】
【化３７】
0005080888.tif 000038
【００９１】
に示す。
【００９２】
上記式（４）中、Ｒ３１〜Ｒ３８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはフルオロアルキル基を示す。Ｘ４は、単結合、酸素原子、硫黄原子または下記式（４−ａ）
【００９３】
【化３８】
0005080888.tif 000039
【００９４】
で示される二価の基であることを示す。Ｙ２は、二価の有機基であることを示す。
【００９５】
上記式（４−ａ）中、Ｒ３９およびＲ４０は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基またはＲ３９とＲ４０が結合することによる環構造を有する基を示す。
【００９６】
上記式（４）中のＲ３１〜Ｒ３８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。
【００９７】
上記式（４−ａ）中のＲ３９〜Ｒ４０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。Ｒ３９とＲ４０が結合することによる環構造を有する基としては、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロヘプチレン基またはシクロオクチレン基が挙げられるが、シクロへキシレン基であることが好ましい。
【００９８】
上記式（４）中のＹ２は、二価の有機基を示す。二価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキレン基または置換基を有してもよいアリーレン基が挙げられる。置換基を有してもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基またはヘキシレン基が挙げられる。中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基またはブチレン基が好ましい。置換基を有してもよいアリーレン基としては、下記式（４−ｂ−１）〜（４−ｂ−５）
【００９９】
【化３９】
0005080888.tif 000040
【０１００】
【化４０】
0005080888.tif 000041
【０１０１】
【化４１】
0005080888.tif 000042
【０１０２】
【化４２】
0005080888.tif 000043
【０１０３】
【化４３】
0005080888.tif 000044
【０１０４】
で示される構造が挙げられる。
【０１０５】
中でも、（４−ｂ−１）、（４−ｂ−２）または（４−ｂ−５）であることが好ましい。
【０１０６】
置換基を有してもよいアルキレン基または置換基を有してもよいアリーレン基の有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基または重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。
【０１０７】
次に、前記重合性官能基を有さない構造単位の具体的例を示すが限定はされない。
【０１０８】
【化４４】
0005080888.tif 000045
【０１０９】
【化４５】
0005080888.tif 000046
【０１１０】
【化４６】
0005080888.tif 000047
【０１１１】
【化４７】
0005080888.tif 000048
【０１１２】
【化４８】
0005080888.tif 000049
【０１１３】
【化４９】
0005080888.tif 000050
【０１１４】
【化５０】
0005080888.tif 000051
【０１１５】
【化５１】
0005080888.tif 000052
【０１１６】
【化５２】
0005080888.tif 000053
【０１１７】
【化５３】
0005080888.tif 000054
【０１１８】
【化５４】
0005080888.tif 000055
【０１１９】
【化５５】
0005080888.tif 000056
【０１２０】
【化５６】
0005080888.tif 000057
【０１２１】
【化５７】
0005080888.tif 000058
【０１２２】
【化５８】
0005080888.tif 000059
【０１２３】
【化５９】
0005080888.tif 000060
【０１２４】
【化６０】
0005080888.tif 000061
【０１２５】
【化６１】
0005080888.tif 000062
【０１２６】
【化６２】
0005080888.tif 000063
【０１２７】
【化６３】
0005080888.tif 000064
【０１２８】
【化６４】
0005080888.tif 000065
【０１２９】
【化６５】
0005080888.tif 000066
【０１３０】
【化６６】
0005080888.tif 000067
【０１３１】
【化６７】
0005080888.tif 000068
【０１３２】
【化６８】
0005080888.tif 000069
【０１３３】
中でも、（３−２）、（４−１）、（４−２）、（４−５）、（４−６）、（４−７）、（４−１０）または（４−１２）で示される構造単位であることが好ましい。
【０１３４】
重合性官能基を有する高分子化合物は、重合性官能基を有する構造単位と重合性官能基を有さない構造単位との共重合が可能である。その場合の共重合比は、重合性官能基を有する構造単位が、高分子の全構造単位中に３０モル％以上含有されることが好ましい。さらには、重合性官能基を有する構造単位が高分子の全構造単位中に５０モル％以上含有されることが好ましい。
【０１３５】
重合性官能基を有する高分子化合物の分子量は任意であるが、重量平均分子量（Ｍｗ）において、５，０００以上３００，０００以下であることが感光体の塗工性が良好である点で好ましい。さらに、１０，０００以上２００，０００以下であることが好ましい。
【０１３６】
本発明において、樹脂の重量平均分子量は、常法に従い、以下のようにして測定されたものである。
【０１３７】
すなわち、測定対象樹脂をテトラヒドロフラン中に入れ、数時間放置した後、振盪しながら測定対象樹脂とテトラヒドロフランとよく混合し（測定対象樹脂の合一体がなくなるまで混合し）、さらに１２時間以上静置した。
【０１３８】
その後、東ソー（株）製のサンプル処理フィルターマイショリディスクＨ−２５−５を通過させたものをＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）用試料とした。
【０１３９】
次に、４０℃のヒートチャンバー中でカラムを安定化させ、この温度におけるカラムに、溶媒としてテトラヒドロフランを毎分１ｍｌの流速で流し、ＧＰＣ用試料を１０μｌ注入して、測定対象樹脂の重量平均分子量を測定した。カラムには、東ソー（株）製のカラムＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍを用いた。
【０１４０】
測定対象樹脂の重量平均分子量の測定にあたっては、測定対象樹脂が有する分子量分布を、数種の単分散ポリスチレン標準試料により作成された検量線の対数値とカウント数との関係から算出した。検量線作成用の標準ポリスチレン試料には、アルドリッチ社製の単分散ポリスチレンの分子量が以下の１０点のものを用いた。３，５００。１２，０００。４０，０００。７５，０００。９８，０００。１２０，０００。２４０，０００。５００，０００。８００，０００。１，８００，０００。検出器にはＲＩ（屈折率）検出器を用いた。
【０１４１】
また、前記重合性官能基を有する化合物としては、アリールアミン誘導体であることが好ましい。本発明における重合性官能基を有するアリールアミン誘導体とは、少なくとも１つの重合性官能基を有するアリール基を有するアミン化合物であることを示す。本発明における重合性官能基を有するアリールアミン誘導体を下記式（５）
【０１４２】
【化６９】
0005080888.tif 000070
【０１４３】
に示す。
【０１４４】
上記式（５）中、Ｒ５１〜Ｒ５５は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはフルオロアルキル基を示す。Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有しても良いアルキル基または置換基を有しても良いアリール基を示す。ただし、Ｒ５１〜Ｒ５５の少なくともいずれか１つは、下記式（５−ａ）
【０１４５】
【化７０】
0005080888.tif 000071
【０１４６】
で示される構造であることを示す。
【０１４７】
上記式（５―ａ）中、Ｚ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子または二価の有機基であることを示し、Ａ１は、重合性官能基であることを示す。
【０１４８】
上記式（５）中のＲ５１〜Ｒ５５で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基またはフェニル基であることが好ましい。
【０１４９】
上記式（５）中のＡｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有しても良いアルキル基または置換基を有しても良いアリール基を示す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。これらが有しても良い置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基または重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アミノ基としては、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基またはジアリールアミノ基が挙げられるが、ジアリールアミノ基であること好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基が挙げられるが、中でもアクリル基またはビニル基であることが好ましい。これら重合性官能基は、置換基を有しても良いアルキル基または置換基を有しても良いアリール基に対し、アルキレン基を介して結合しても良い。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基またはブチレン基が挙げられるが、エチレン基またはプロピレン基であることが好ましい。
【０１５０】
上記式（５―ａ）中のＺ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子または二価の有機基であることを示す。二価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキレン基または置換基を有してもよいアリーレン基が挙げられる。置換基を有してもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基またはヘキシレン基が挙げられる。中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基またはブチレン基が好ましい。置換基を有してもよいアリーレン基としては、フェニレン基またはナフチレン基が挙げられるが、フェニレン基であることが好ましい。置換基を有してもよいアルキレン基または置換基を有してもよいアリーレン基の有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。
【０１５１】
上記式（５―ａ）中のＡ１は、重合性官能基であることを示す。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基が挙げられるが、中でもアクリル基またはビニル基であることが好ましい。
【０１５２】
以下に、重合性官能基を有するアリールアミン誘導体の具体的な例を示すが限定はされない。
【０１５３】
【化７１】
0005080888.tif 000072
【０１５４】
【化７２】
0005080888.tif 000073
【０１５５】
【化７３】
0005080888.tif 000074
【０１５６】
【化７４】
0005080888.tif 000075
【０１５７】
【化７５】
0005080888.tif 000076
【０１５８】
【化７６】
0005080888.tif 000077
【０１５９】
【化７７】
0005080888.tif 000078
【０１６０】
【化７８】
0005080888.tif 000079
【０１６１】
【化７９】
0005080888.tif 000080
【０１６２】
【化８０】
0005080888.tif 000081
【０１６３】
【化８１】
0005080888.tif 000082
【０１６４】
【化８２】
0005080888.tif 000083
【０１６５】
【化８３】
0005080888.tif 000084
【０１６６】
【化８４】
0005080888.tif 000085
【０１６７】
【化８５】
0005080888.tif 000086
【０１６８】
【化８６】
0005080888.tif 000087
【０１６９】
【化８７】
0005080888.tif 000088
【０１７０】
【化８８】
0005080888.tif 000089
【０１７１】
【化８９】
0005080888.tif 000090
【０１７２】
【化９０】
0005080888.tif 000091
【０１７３】
【化９１】
0005080888.tif 000092
【０１７４】
【化９２】
0005080888.tif 000093
【０１７５】
中でも、（５−１）、（５−２）、（５−４）、（５−５）、（５−９）、（５−１１）または（５−１５）であることが好ましい。
【０１７６】
また、本発明における重合性材料は、重合可能な材料であれば任意であるが、フェノール誘導体であることが好ましい。本発明におけるフェノール誘導体とは、重合工程後、フェノール樹脂となる原料を示す。フェノール誘導体は、重合モノマーであっても、フェノール部位が繰り返されるオリゴマーであってもよいし、複数の原料を組み合わせてもよい。本発明におけるフェノール誘導体は、下記式（６）
【０１７７】
【化９３】
0005080888.tif 000094
【０１７８】
で示される構造を有する。
【０１７９】
上記式（６）中のＲ６１〜Ｒ６５は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、置換基を有してもよいアミノ基、水酸基または重合性官能基を示す。
【０１８０】
上記式（６）中のＲ６１〜Ｒ６５で示される置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基または下記式（６−ａ）
【０１８１】
【化９４】
0005080888.tif 000095
【０１８２】
で示される基が挙げられるが、メチル基、エチル基または上記式（６−ａ）で示される基であることが好ましい。さらには、上記式（６）中のＲ６１あるいはＲ６５の少なくともいずれか１つが上記式（６−ａ）で示される基であることが特に好ましい。置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基またはノナフルオロブチル基が挙げられるが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。置換基を有してもよいアミノ基としては、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基またはジアリールアミノ基が挙げられるが、ジアリールアミノ基であること好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基が挙げられるが、中でもビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。これら重合性官能基は、アルキレン基を介して結合しても良い。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基またはブチレン基が挙げられるが、エチレン基またはプロピレン基であることが好ましい。
【０１８３】
上記式（６）中のＲ６１〜Ｒ６５で示される置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を有してもよいアミノ基が有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基または重合性官能基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基が挙げられるが、メチル基またはエチル基であることが好ましい。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基が挙げられるが、フェニル基であることが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基またはプロポキシ基が挙げられるが、メトキシ基であることが好ましい。アミノ基としては、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基が挙げられるが、ジアリールアミノ基であること好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基が挙げられるが、中でもビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。これら重合性官能基は、アルキレン基を介して結合しても良い。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基またはブチレン基が挙げられるが、エチレン基またはプロピレン基であることが好ましい。
【０１８４】
次に、本発明におけるフェノール誘導体の構造の例を示すが限定はされない。
【０１８５】
【化９５】
0005080888.tif 000096
【０１８６】
【化９６】
0005080888.tif 000097
【０１８７】
【化９７】
0005080888.tif 000098
【０１８８】
【化９８】
0005080888.tif 000099
【０１８９】
【化９９】
0005080888.tif 000100
【０１９０】
【化１００】
0005080888.tif 000101
【０１９１】
【化１０１】
0005080888.tif 000102
【０１９２】
【化１０２】
0005080888.tif 000103
【０１９３】
中でも、（６−２）、（６−５）または（６−６）であることが好ましい
本発明における（１）で示された円筒状支持体上に重合性材料を含有する表面層用塗布液を塗布する表面層塗布工程に関して説明する。
【０１９４】
本発明における円筒状支持体は、従来の電子写真感光体で用いられている円筒状支持体でよい。すなわち円筒状支持体としては、導電性を有するもの（導電性円筒状支持体）が好ましく、アルミニウム、アルミニウム合金またはステンレスのような金属製の円筒状支持体を用いることができる。アルミニウムまたはアルミニウム合金の場合は、ＥＤ管、ＥＩ管や、これらを切削、電解複合研磨（電解作用を有する電極と電解質溶液による電解および研磨作用を有する砥石による研磨）、湿式または乾式ホーニング処理したものも用いることができる。また、アルミニウム、アルミニウム合金または酸化インジウム−酸化スズ合金を真空蒸着によって被膜形成された層を有する上記金属製支持体や樹脂製支持体を用いることもできる。樹脂製支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレンまたはポリスチレン樹脂が挙げられる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子または銀粒子のような導電性粒子を樹脂や紙に含浸した円筒状支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチックを用いることもできる。
【０１９５】
本発明における（１）で示された重合性材料を含有する表面層用塗布液とは、前記重合性材料を含有する塗布液を示す。重合性材料を含有する表面層用塗布液中には、必要に応じ、複数の重合性材料、重合性材料を溶解可能な溶剤、結着樹脂、電荷輸送物質、重合開始剤、酸化防止剤、耐光安定剤または離型性材料を添加してもよい。
【０１９６】
本発明における（１）で示された表面層用塗布液を塗布する塗布工程は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法またはリングコーティング法のような塗布方法を用いることができる。生産性の観点から浸漬コーティング法であることが好ましい。
【０１９７】
次いで、本発明における（２）で示された塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に凹凸形状を形成する形状形成工程について説明する。
【０１９８】
本発明における（２）で示された表面層用塗布液の塗膜表面に凹凸形状を形成する方法としては、生産性および形状の均一性の観点から以下の凹凸形成方法１乃至５で示される方法であることが好ましい。
【０１９９】
（凹凸形成方法１）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹凸形状を形成する方法としては、塗布された表面層用塗布液の塗膜を乾燥後、凹凸形状を有するモールドを加圧接触させることにより、凹凸形状を表面層用塗布液の塗膜表面に形成する工程であることが好ましい。
【０２００】
前記表面層用塗布液の塗膜を乾燥させる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥および加熱送風乾燥であることが好ましい。加熱乾燥を行う場合の乾燥温度および時間は、本発明の重合性材料の重合が十分に進行する温度や時間以下で行われることが重要である。従って、乾燥温度は重合開始温度以下であることが好ましく、また乾燥は短時間で行われることが好ましい。
【０２０１】
前記凹凸形状を有するモールドを加圧接触させることにより、凹凸形状を表面層用塗布液の塗膜表面に形成する方法とは、所定の形状を有するモールドを電子写真感光体の塗膜表面に圧接し形状転写を行う表面の形成方法であることを示す。図１は、本発明におけるモールドによる圧接形状転写加工装置の概略図の例を示す図である。加圧および解除が繰り返し行える加圧装置Ａに所定のモールドＢを取り付けた後、表面層用塗布液を塗布された円筒状支持体Ｃに対して所定の圧力でモールドを当接させ形状転写を行う。その後、加圧を一旦解除し、前記円筒状支持体Ｃを回転させた後に、再度加圧そして形状転写工程を行う。この工程を繰り返すことにより、電子写真感光体全周にわたって所定の凹凸形状を形成することが可能である。
【０２０２】
また、例えば図２に示されているように、加圧装置Ａに前記円筒状支持体Ｃの塗膜表面一周長さ程度の所定形状を有するモールドＢを取り付ける。その後、前記円筒状支持体Ｃに対して所定の圧力をかけながら、前記円筒状支持体Ｃを回転（矢印で示す方向に）、移動（矢印で示す方向に）させることにより、感光体全周にわたって所定の凹凸形状を形成してもよい。
【０２０３】
また、シート状のモールドをロール状の加圧装置と前記円筒状支持体Ｃとの間に挟み、モールドシートを送りながら表面加工することも可能である。
【０２０４】
また、形状転写を効率的に行う目的で、モールドや前記円筒状支持体Ｃを加熱してもよい。モールドおよび前記円筒状支持体Ｃの加熱温度は、本発明の形状が形成できる範囲で任意であるが、より低く制御されていることが形状を安定的に形成するうえで好ましい。
【０２０５】
モールド自体の材質や大きさ、形状は適宜選択することが出来る。材質としては、微細表面加工された金属およびシリコンウエハーの表面にレジストによりパターニングをしたもの、微粒子が分散された樹脂フィルムまたは所定の微細表面形状を有する樹脂フィルムに金属コーティングされたものが挙げられる。モールド形状の一例を図３および図４に示す。図３において、（１）は上から見た、モールド形状を示し、（２）は横から見た、モールド形状を示す図である。また、図４において、（１）は上から見た、モールド形状を示し、（２）は横から見た、モールド形状を示す図である。
【０２０６】
また、感光体に対して圧力の均一性を付与する目的で、モールドと加圧装置との間に弾性体を設けてもよい。
【０２０７】
上記、所定の形状を有するモールドを表面層用塗布液の塗膜表面に圧接し形状転写を行う凹凸形状の形成方法により、凹凸形状の大きさ、形状および配列の制御性が高く、高精度且つ自由度の高い塗膜表面の表面加工が可能である。
【０２０８】
（凹凸形成方法２）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹凸形状を形成する方法としては、塗布された表面層用塗布液の塗膜を乾燥後、研磨粒子を表面に吹き付けることにより凹形状を形成する工程であることが好ましい。
【０２０９】
前記表面層用塗布液の塗膜を乾燥させる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥および加熱送風乾燥であることが好ましい。加熱乾燥を行う場合の乾燥温度および時間は、本発明の重合性材料の重合が十分に進行する温度や時間以下で行われることが重要である。従って、乾燥温度は重合開始温度以下であることが好ましく、また乾燥は短時間で行われることが好ましい。
【０２１０】
研磨粒子を表面に吹き付けることにより凹形状を形成する方法としては、乾式のブラスト法が挙げられる。ブラスト加工の方法としては、圧縮空気を用いて噴射する方法、モーターを動力として噴射する方法が挙げられるが、被処理体の凹形状形成を精密に制御が可能で、かつ設備の簡易性という点において、圧縮空気を用いる方法が好ましい。
【０２１１】
乾式ブラストに用いる研磨粒子としては以下の粒子が挙げられる。酸化アルミニウム粒子、ジルコニア粒子、炭化ケイ素粒子、ガラス粒子のようなセラミック粒子。ステンレス粒子、鉄粒子、亜鉛粒子のような金属粒子。ポリアミド樹脂粒子、ポリカーボネート樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子のような樹脂粒子。特に凹形状形成の効率およびコスト面からガラス粒子が好ましい。
【０２１２】
本発明において、使用する研磨粒子の体積基準粒度分布における平均粒径は、１０μｍ以上６０μｍ以下であることが好ましい。また、体積基準粒度分布における最頻径は、１０μｍ超過６０μｍ未満が好ましい。
【０２１３】
本発明における研磨粒子の平均粒径および最頻径は、体積基準粒度分布に基づくものである。これらは種々の方法によって測定できるが、本発明においてはシスメックス社製フロー式粒子像分析装置ＦＰＩＡ−２１００を用いて測定を行っている。
【０２１４】
具体的な測定方法としては、予め容器中の不純物を除去した水１００ｍｌ以上１５０ｍｌ以下中に分散剤として界面活性剤、好ましくはアルキルベンゼンスルフォン酸塩を０．１ｍｌ以上０．５ｍｌ以下加え、さらに測定試料を０．１ｇ以上０．５ｇ以下程度加える。試料を分散した懸濁液は超音波（５０ｋＨｚ，１２０Ｗ）を１分間以上３分間以下照射し、分散液濃度を１．２万個／μｌ以上２．０万個／μｌ以下とする。上記フロー式粒子像測定装置を用い、０．６μｍ以上４００μｍ以下（平均円形度においては１０．０５μｍ以上１００．４８μｍ未満）の円相当径を有する粒子の平均粒径および最頻径を測定している。
【０２１５】
本発明において用いるブラスト加工装置の例を図５に示す。容器（不図示）に貯留されている研磨粒子は（３−４）の経路よりノズルに導かれ、（３−３）の経路より導入された圧縮空気を用いて噴射ノズル（３−１）より噴射される。噴射された研磨粒子は、ワーク支持体（３−６）により支持され自転している表面層用塗布液を塗布された円筒状支持体（３−７）に衝突する。（３−５）は研磨粒子（ブラスト砥粒）である。
【０２１６】
このときノズルと前記円筒状支持体の距離はノズル固定冶具（３−２）、アーム（３−９）により調整されて決められる。ノズルは通常前記円筒状支持体の回転軸方向に対して移動しながら凹形状形成を行い、ノズル支持体（３−８）が前記円筒状支持体の回転軸方向に移動することによりワークに対してムラ無く凹形状形成を施すことができる。
【０２１７】
この時、ノズルと前記円筒状支持体表面の最短距離は適当な間隔に調整する必要がある。噴射の動力に用いる圧縮空気の圧力も適度な圧力に調整する必要がある。重合性材料が重合した後の表面層の硬度は一般的に高くなるため、それに伴い加工に必要な圧縮空気の圧力は高くなる。コストの安価なガラスビーズは圧縮空気の圧力が高いと破損する場合があり、生産性の観点から圧縮空気は低圧で行うことが好ましい。
【０２１８】
（凹凸形成方法３）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹凸形状を形成する方法としては、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を結露させた後、乾燥することにより凹形状を形成する工程であることが好ましい。
【０２１９】
前記表面層用塗布液の塗膜表面を結露させる方法は、表面層用塗布液を塗布された支持体を、塗膜表面が結露する雰囲気下に一定時間保持する工程を示す。この表面形成方法における結露とは、水の作用により塗膜表面に液滴が形成されたことを示す。塗膜を結露させる条件は、支持体を保持する雰囲気の相対湿度および塗布液溶剤の揮発条件（例えば気化熱）によって影響を受け、適切な条件を選択することが重要である。特に、支持体を保持する雰囲気の相対湿度に主に依存する。塗膜表面を結露させる相対湿度は、４０％以上１００％以下であることが好ましい。さらに相対湿度６０％以上９５％以下であることが好ましい。塗膜表面を結露させる工程には、結露による液滴形成が行われるのに必要な時間があればよい。生産性の観点から好ましくは１秒以上３００秒以下であり、さらには１０秒以上１８０秒以下程度であることが好ましい。塗膜表面を結露させる工程には、相対湿度が重要であるが、雰囲気温度としては２０℃以上８０℃以下であることが好ましい。
【０２２０】
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹凸形状を形成する方法に適した表面層用塗布液は、重合性材料および有機溶剤を含有する塗布液であることが好ましい。さらには、表面層用塗布液中に重合性官能基を有する高分子化合物あるいは結着樹脂含有することが好ましい。前記結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキッド樹脂および不飽和樹脂が挙げられる。特には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂あるいはジアリルフタレート樹脂が好ましい。さらには、ポリカーボネート樹脂あるいはポリアリレート樹脂であることが好ましい。これらは単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【０２２１】
また、本発明における（２）で示された塗膜表面に凹凸形状を形成する方法に適した表面層用塗布液は、芳香族有機溶剤を含有することが好ましい。芳香族有機溶剤は、水に対して親和性の低い溶剤であり、結露工程における形状形成が安定的に行われる点で好ましい。具体的には、１，２−ジメチルベンゼン、１，３−ジメチルベンゼン、１，４−ジメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼンあるいはクロロベンゼンが挙げられる。さらに、芳香族有機溶剤の含有量が表面層用塗布液中の全溶剤質量に対し５０質量％以上８０質量％以下で含有する表面層用塗布液であることが好ましい。
【０２２２】
また、形状部を安定的に作製する目的で、上記表面層用塗布液中に芳香族有機溶剤を含有し、さらに水との親和性の高い有機溶剤あるいは水を表面層用塗布液中に含有してもよい。水との親和性の高い有機溶剤としては、以下のものが好ましい。（メチルスルフィニル）メタン（慣用名：ジメチルスルホキシド）。チオラン−１，１−ジオン（慣用名：スルホラン）。Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボキシアミド。Ｎ，Ｎ−ジエチルカルボキシアミド。ジメチルアセトアミド。１−メチルピロリジン−２−オン。これらの有機溶剤は単独で含有することも、２種以上混合して含有することができる。
【０２２３】
前記表面層用塗布液の塗膜表面を結露させた後、乾燥をさせる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥および加熱送風乾燥であることが好ましい。また、均一性の高い凹形状を形成するためには、速やかな乾燥であることが重要であるため、加熱乾燥が行われることが好ましい。乾燥工程における乾燥温度は、１００℃以上１５０℃以下であることが好ましい。乾燥する乾燥工程時間は、支持体上に塗布された塗布液中の溶剤および結露工程によって形成した水滴が除去される時間があればよい。乾燥工程時間は、２０分以上１２０分以下であることが好ましく、さらには４０分以上１００分以下であることが好ましい。
【０２２４】
塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を結露させた後、乾燥することにより凹形状を形成する工程で形状形成を行う場合には、乾燥時には形状形成が行われているため、乾燥時に重合性材料の重合が行われてもよい。すなわち、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を結露させた後、乾燥することにより凹形状を形成する工程で形状形成を行う場合には、本発明における（３）で示された重合性材料を重合させる工程と乾燥が同時に行われてもよい。
【０２２５】
前記結露による形状形成は、製造方法で示した範囲内で製造条件の調整を行うことにより形状の制御が可能である。凹形状部は、例えば、本発明記載の表面層用塗布液中の溶剤種、溶剤含有量、結露工程における相対湿度、結露工程における保持時間、乾燥温度により制御可能である。
【０２２６】
（凹凸形成方法４）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹凸形状を形成する方法としては、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に対し、水もしくはアルコールを吹き付けた後、乾燥することにより凹形状を形成する工程であることが好ましい。すなわち、塗膜表面に凹凸形状を形成する方法とは、表面層用塗布液の塗膜表面に対し、水もしくはアルコールを霧化して吹き付けて凹部を形成する方法を示す。
【０２２７】
水もしくはアルコールを霧化して吹き付ける方法としては、以下の方法が挙げられる。水もしくはアルコールを高圧のエアーと混合し微粒化してノズルから噴霧するスプレー法または液滴を粒子で吐出させるヘッド部を含むインクジェットユニットを用いて塗膜表面に水もしくはアルコールを吹き付ける方法。
【０２２８】
塗膜表面に対し吹き付けるアルコールとしては、沸点が水よりも低いアルコールであることが好ましい。なかでもメタノール、エタノール、ｎ−プロパノールまたはイソプロパノールであることが好ましい。また、水もしくは前記アルコールを混合して吹き付けてもよい。
【０２２９】
塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に対し、水もしくはアルコールを吹き付けることにより、霧化した微小な粒子の大きさの独立した凹形状が塗膜表面に形成される。
【０２３０】
前記表面層用塗布液の塗膜表面に対し、水もしくはアルコールを吹き付けた後、乾燥をさせる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥および加熱送風乾燥であることが好ましい。また、均一性の高い凹形状を形成するためには、速やかな乾燥であることが重要であるため、加熱乾燥が行われることが好ましい。乾燥工程における乾燥温度は、１００℃以上１５０℃であることが好ましい。乾燥する乾燥工程時間は、支持体上に塗布された塗布液中の溶剤、塗膜表面に対し吹き付けられた水もしくはアルコールが除去される時間があればよい。乾燥工程時間は、２０分以上１２０分以下であることが好ましく、さらには４０分以上１００分以下であることが好ましい。
【０２３１】
塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に対し、水もしくはアルコールを吹き付けた後、乾燥することにより凹形状を形成する工程で形状形成を行う場合には、乾燥時には形状形成が行われているため、乾燥時に重合性材料の重合が行われてもよい。すなわち、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を結露させた後、乾燥することにより凹形状を形成する工程で形状形成を行う場合には、本発明における（３）で示された重合性材料を重合させる工程と乾燥が同時に行われてもよい。
【０２３２】
（凹凸形成方法５）
本発明における（２）で示された塗膜表面に凹凸形状を形成する方法としては、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に対し、表面層用塗布液と同一の成分を吹き付けた後、乾燥することにより凸形状を形成する工程であることが好ましい。すなわち、塗膜表面に凸形状を形成する方法とは、表面層用塗布液の塗膜表面に対し、表面層用塗布液と同一の成分を霧化して吹き付けて凹部を形成する方法を示す。
【０２３３】
本発明における塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に対し、表面層用塗布液と同一の成分を吹き付ける方法としては、以下の方法が挙げられる。表面層用塗布液を高圧のエアーと混合し微粒化してノズルから噴霧するスプレー法または液滴を粒子で吐出させるヘッド部を含むインクジェットユニットを用いる方法。吹き付ける表面層用塗布液の粘度を、適切な粘度になるように必要に応じて表面層用塗布液塗布液に含まれる溶剤で希釈を行うことも可能である。
【０２３４】
本発明における塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に対し、表面層用塗布液と同一の成分を吹き付ける方法により、微小な粒子となった塗布液と同一の成分が、塗膜表面に吹き付けられた際に、微小な粒子の大きさの独立した凸形状が塗膜表面に形成される。
【０２３５】
前記表面層用塗布液の塗膜表面に対し、表面層用塗布液と同一の成分を吹き付けた後、乾燥をさせる工程の乾燥方法は、加熱乾燥、送風乾燥、真空乾燥が挙げられ、これらの乾燥方法を組み合わせた方法を用いることができる。特に、生産性の観点から加熱乾燥および加熱送風乾燥であることが好ましい。乾燥工程における乾燥温度は、１００℃以上１５０℃以下であることが好ましい。乾燥する乾燥工程時間は、支持体上に塗布された塗布液中の溶剤が除去される時間があればよい。乾燥工程時間は、２０分以上１２０分以下であることが好ましく、さらには４０分以上１００分以下であることが好ましい。
【０２３６】
塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に対し、表面層用塗布液と同一の成分を吹き付けた後、乾燥することにより凸形状を形成する工程で形状形成を行う場合には、乾燥時には形状形成が行われているため、乾燥時に重合性材料の重合が行われてもよい。すなわち、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面に対し、表面層用塗布液と同一の成分を吹き付ける。その後、乾燥することにより凸形状を形成する工程で形状形成を行う場合には、本発明における（３）で示された重合性材料を重合させる工程と乾燥が同時に行われてもよい。
【０２３７】
次いで、本発明における（３）で示された形状形成工程後、重合性材料を重合させる重合工程について説明する。
【０２３８】
重合工程は、重合性材料が重合反応を起こす重合方法であれば、材料に応じ、適した重合方法を選択できる。重合方法としては、加熱による重合、紫外線照射による重合または放射線照射による重合であることが好ましい。
【０２３９】
前記重合性材料の加熱による重合工程について説明する。
【０２４０】
加熱方法は重合性材料が重合反応を起こす方法であれば任意である。具体的には、発熱体からの熱放射による加熱または円筒状支持体の電磁誘導による加熱方法が挙げられる。
【０２４１】
前記重合性材料の加熱による重合工程で重合反応を行う場合、連鎖重合あるいは重縮合が好ましい。また、重合工程で架橋重合であることが好ましい。
【０２４２】
加熱による重合として、連鎖重合を行う場合には、ラジカル連鎖重合であることが好ましい。加熱によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料としては、重合性官能基を有する化合物であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。また、複数の重合性材料を表面層用塗布液中に含有してもよい。加熱によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料を含有する表面層用塗布液中にラジカル開始剤を用いることも可能である。ラジカル開始剤としては、ｐ−メトキシ過酸化ベンゾイル、ｍ，ｍ’−ジメトキシ過酸化ベンゾイル、２，２’−アゾビスイソブチルニトリル、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチルエステルまたは４，４’−アゾビス−４−シアノヘプタン酸が挙げられる。
【０２４３】
また、加熱による重縮合反応を行う場合には、有機金属化合物を用いたゾルゲル法による縮合反応またはフェノール樹脂とホルムアルデヒドのような２種類以上の分子が反応する重縮合または置換フェノールによる重縮合反応が挙げられる。中でも、フェノール樹脂とホルムアルデヒドのような２種類以上の分子が反応する重縮合またはレゾール型フェノール樹脂による重縮合反応であることが好ましい。さらに、レゾール型フェノール樹脂による重縮合反応であることがより好ましい。
【０２４４】
加熱による重縮合反応を行う場合には、表面層用塗布液中に重縮合可能な重合性材料を含有している。重縮合可能な重合性材料としては、上記式（６）で示される化合物であることが好ましい。また、フェノール樹脂とホルムアルデヒドのような２種類以上の分子が反応する重縮合を用いる場合のアルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラールまたはアセトアルデヒドが挙げられる。
【０２４５】
加熱による重合工程は、重合が十分に進行するように、１００℃以上で加熱されることが好ましい。また、過度の加熱は電子写真感光体の特性を低下させる恐れがあるため、２００℃以下であることが好ましい。さらには、１２０℃以上１７０℃以下で加熱が行われることが好ましい。重合工程に必要な時間は、重合が十分に進行するように、５分以上重合工程が行われることが好ましい。また、加熱時間が長すぎると電子写真感光体の特性を低下させる恐れがあるため、１２０分以下であることが好ましい。さらには、２０分以上９０分以下であることが好ましい。
【０２４６】
前記重合性材料の紫外線照射による重合工程について説明する。
【０２４７】
紫外線照射方法は重合性材料が重合反応を起こす方法であれば任意である。前記重合性材料の紫外線照射による重合工程で重合反応を行う場合、連鎖重合であることが好ましい。連鎖重合を行う場合には、ラジカル連鎖重合であることが好ましい。また、重合工程で架橋重合であることが好ましい。
【０２４８】
紫外線照射によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料としては、重合性官能基を有する化合物であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。また、複数の重合性材料を表面層用塗布液中に含有してもよい。紫外線照射によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料を含有する表面層用塗布液中に光開始剤を用いてもよい。光開始剤としては、光開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラ−ケトン、チオキサントン、ベンゾインブチルエーテル、アシロキシムエステルまたはジベンゾスロベンが挙げられる。
【０２４９】
紫外線照射によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合の光源としては、重合性材料あるいは光開始剤の種類により最適なものが選択される。光源としては、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザーまたはＨｅ−Ｃｄレーザーが挙げられる。中でも、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプまたは超高圧水銀ランプが好ましい。
【０２５０】
紫外線照射による重合工程で重合を行う場合には、重合可能であれば重合工程の雰囲気は任意であるが、重合を十分に進行させる点で、酸素濃度が少ない条件下で行うことが好ましい。さらには、窒素ガス化で行われることが好ましい。また、重合工程に必要な時間は、紫外線照射により十分に重合が進行する時間があればよい。また、紫外線照射後には加熱処理を行うことも可能である。
【０２５１】
前記重合性材料の放射線照射による重合工程について説明する。
【０２５２】
放射線照射方法は重合性材料が重合反応を起こす方法であれば任意である。前記重合性材料の放射線照射による重合工程で重合反応を行う場合、連鎖重合であることが好ましい。連鎖重合を行う場合には、ラジカル連鎖重合であることが好ましい。また、重合工程で架橋重合であることが好ましい。
【０２５３】
本発明における放射線としては、特開２０００−６６４２５号公報において開示された放射線と同様に、電子線およびγ線が挙げられる。中でも、装置の大きさ、安全性、コストおよび汎用性の点から電子線であることが好ましい。電子線照射で重合工程を行う場合、電子線の加速器としては、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型またはラミナー型のいずれの方式も使用することができる。また、電子線の加速電圧としては、３００ＫＶ以下が好ましく、さらには１５０ＫＶ以下であることが好ましい。また、電子線の線量としては、１０ｋＧｙ以上１，０００ｋＧｙ以下であることが好ましく、さらには５００ｋＧｙ以下であることが好ましい。
【０２５４】
放射線照射によりラジカルを発生し連鎖重合を行う場合には、重合性材料としては、重合性官能基を有する化合物であることが好ましい。重合性官能基としては、アクリル基、ビニル基またはエポキシ基であることが好ましい。また、複数の重合性材料を表面層用塗布液中に含有してもよい。
【０２５５】
放射線照射による重合工程で重合を行う場合には、重合可能であれば重合工程の雰囲気は任意であるが、重合を十分に進行させる点で、酸素濃度が少ない条件下で行うことが好ましい。さらには、窒素ガス化で行われることが好ましい。また、重合工程に必要な時間は、放射線照射により十分に重合が進行する時間があればよい。また、放射線照射後には加熱処理を行うことも可能である。
【０２５６】
本発明の製造方法により、重合性材料の重合により形成される表面層の表面に凹凸形状を安定的に形成することが可能である。
【０２５７】
本発明の電子写真感光体の製造方法により製造された電子写真感光体の表面は、複数の凹凸形状を有している。
【０２５８】
前記電子写真感光体表面の凹形状としては、感光体表面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線および曲線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形、五角形あるいは六角形が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、円形状あるいは楕円形状が挙げられる。直線および曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形、角の円い六角形あるいは扇形が挙げられる。また、本発明における電子写真感光体の表面の凹形状は、感光体断面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線および曲線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形あるいは五角形が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、部分円形状あるいは部分楕円形状が挙げられる。直線および曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形あるいは扇形が挙げられる前記電子写真感光体表面の凹形状の具体例としては、以下のものが挙げられる。図６乃至図１２（凹形状の形状例（表面））および図１３乃至１９（凹形状の形状例（断面））で示される凹形状。前記電子写真感光体表面の凹形状は、個々に異なる形状、大きさあるいは深さを有してもよく、また、すべての凹形状が同一の形状、大きさあるいは深さであってもよい。さらに、前記電子写真感光体表面は、個々に異なる形状、大きさあるいは深さを有する凹形状と、同一の形状、大きさあるいは深さを有する凹形状が組み合わされた表面であってもよい。また、これらの形状が、重複部分を有しても、相互に重なり合ってもよい。
【０２５９】
また、前記電子写真感光体表面の凹形状の大きさについて説明する。前記凹形状の指標として長軸径（Ｌ１）を用いる。前記長軸径（Ｌ１）とは、各凹形状部の開孔部を横切る直線のうち、最大となる直線の長さを示す。具体的には、図６乃至図１２中の長軸径（Ｌ１）および図１３乃至図１９中の長軸径（Ｌ１）で示されているように、前記電子写真感光体表面における凹形状の開孔部周囲の表面を基準とし、各凹形状における表面開孔部の最大長さを示す。例えば、凹形状の表面形状が円状の場合は直径を示し、表面形状が楕円状の場合は長径を示し、表面形状が四角形の場合は対角線のうち長い対角線を示す。前記電子写真感光体表面における凹形状の長軸径（Ｌ１）は、任意であるが、０．５μｍ以上８０μｍ以下であることが好ましい。さらには、１μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０２６０】
また、前記電子写真感光体表面の凹形状の深さについて説明する。前記凹形状の指標として深さ（Ｄ）を用いる。前記深さ（Ｄ）とは、各凹形状の最深部と開孔面との距離を示す。具体的には、図１３乃至図１９中の深さ（Ｄ）で示されているように、前記電子写真感光体表面における凹形状の開孔部周囲の表面を基準とし、凹形状の最深部と開孔面との距離を示す。前記電子写真感光体表面における凹形状の深さ（Ｄ）は、任意であるが、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。さらには、０．３μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０２６１】
また、前記電子写真感光体表面の凹形状は、感光体表面の凹形状が形成されている領域は、感光体表面の全域であってもよいし、表面の一部分に形成されていてもよいが、表面全域に凹形状が形成されていることが好ましい。また、前記電子写真感光体表面の凹形状は、前記電子写真感光体表面の１００μｍ四方中に１個以上７０，０００個以下有することが好ましい。さらには、１００個以上５０，０００個以下有することが好ましい。なお、上記の１００μｍ四方の領域は、電子写真感光体の表面を感光体回転方向に４等分し、該感光体回転方向と直交する方向に２５等分して得られる計１００箇所の領域のそれぞれの中に、一辺１００μｍの正方形の領域を設けて測定している。
【０２６２】
前記電子写真感光体表面の凸形状としては、感光体表面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線および曲線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形、五角形あるいは六角形が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、円形状あるいは楕円形状が挙げられる。直線および曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形、角の円い六角形あるいは扇形が挙げられる。また、本発明における電子写真感光体の表面の凸形状は、感光体断面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線および曲線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形あるいは五角形が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、部分円形状あるいは部分楕円形状が挙げられる。直線および曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形あるいは扇形が挙げられる前記電子写真感光体表面の凸形状の具体例としては、以下のものが挙げられる。図２０乃至図２６（凸形状の形状例（表面））および図２７乃至３３（凸形状の形状例（断面））で示される凸形状。前記電子写真感光体表面の凸形状は、個々に異なる形状、大きさあるいは高さを有してもよく、また、すべての凸形状が同一の形状、大きさあるいは高さであってもよい。さらに、前記電子写真感光体表面は、個々に異なる形状、大きさあるいは高さを有する凹形状と、同一の形状、大きさあるいは高さを有する凸形状が組み合わされた表面であってもよい。また、これらの形状が、重複部分を有しても、相互に重なり合ってもよい。
【０２６３】
また、前記電子写真感光体表面の凸形状の大きさについて説明する。前記凸形状の指標として長軸径（Ｌ２）を用いる。前記長軸径（Ｌ２）とは、各凸形状部の周囲の表面を基準とし、各凸形状と周囲の表面とが接する部位の最大長さを示す。具体的には、図２０乃至図２６中の長軸径（Ｌ２）および図２７乃至図３３中の長軸径（Ｌ２）で示されている長さであることを示す。例えば、凸形状の表面形状が円状の場合は直径を示し、表面形状が楕円状の場合は長径を示し、表面形状が四角形の場合は対角線のうち長い対角線を示す。前記電子写真感光体表面における凸形状の長軸径（Ｌ２）は、任意であるが、０．５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましい。さらには、１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０２６４】
また、前記電子写真感光体表面の凹形状の高さについて説明する。前記凹形状の指標として高さ（Ｈ）を用いる。前記高さ（Ｈ）とは、各凸形状の最頂部と周囲の表面との距離を示す。具体的には、図２７乃至図３３中の高さ（Ｈ）で示されている距離を示す。前記電子写真感光体表面における凸形状の高さ（Ｈ）は、任意であるが、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。さらには、０．３μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０２６５】
また、前記電子写真感光体表面の凸形状は、感光体表面の凸形状が形成されている領域は、感光体表面の全域であってもよいし、表面の一部分に形成されていてもよいが、表面全域に凸形状が形成されていることが好ましい。また、前記電子写真感光体表面の凸形状は、前記電子写真感光体表面の１００μｍ四方中に１個以上７０，０００個以下有することが好ましい。さらには、１００個以上５０，０００個以下有することが好ましい。なお、上記の１００μｍ四方の領域は、電子写真感光体の表面を感光体回転方向に４等分し、該感光体回転方向と直交する方向に２５等分して得られる計１００箇所の領域のそれぞれの中に、一辺１００μｍの正方形の領域を設けて測定している。
【０２６６】
前記電子写真感光体表面の凹凸形状は、例えば、市販のレーザー顕微鏡、光学顕微鏡、電子顕微鏡あるいは原子力間顕微鏡を用いて測定可能である。
【０２６７】
レーザー顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−８５５０、超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９０００および超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９５００（いずれも（株）キーエンス製）。表面形状測定システムＳｕｒｆａｃｅ  Ｅｘｐｌｏｒｅｒ  ＳＸ−５２０ＤＲ型機（（株）菱化システム製）。走査型共焦点レーザー顕微鏡ＯＬＳ３０００（オリンパス（株）製）。リアルカラーコンフォーカル顕微鏡オプリテクスＣ１３０（レーザーテック（株）製）。
【０２６８】
光学顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。デジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００およびデジタルマイクロスコープＶＨＸ−２００（いずれも（株）キーエンス製）。３ＤデジタルマイクロスコープＶＣ−７７００（オムロン（株）製）。
【０２６９】
電子顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡ＶＥ−９８００および３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡ＶＥ−８８００（いずれも（株）キーエンス製）。走査型電子顕微鏡コンベンショナル／Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  ＳＥＭ（エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製）。走査型電子顕微鏡ＳＵＰＥＲＳＣＡＮ  ＳＳ−５５０（（株）島津製作所製）。
【０２７０】
原子力間顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。ナノスケールハイブリッド顕微鏡ＶＮ−８０００（（株）キーエンス製）。走査型プローブ顕微鏡ＮａｎｏＮａｖｉステーション（エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製）。走査型プローブ顕微鏡ＳＰＭ−９６００（（株）島津製作所製）。
【０２７１】
上記顕微鏡を用いて、所定の倍率により、測定視野内の凹凸形状の長軸径、深さおよび高さを計測することが出来る。
【０２７２】
一例として、Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｘｐｌｏｒｅｒ  ＳＸ−５２０ＤＲ型機による解析プログラムを利用した測定例について説明する。測定対象の電子写真感光体をワーク置き台に設置し、チルト調整して水平を合わせ、ウェーブモードで電子写真感光体の周面の３次元形状データを取り込む。その際、対物レンズの倍率を５０倍とし、１００μｍ×１００μｍ（１００００μｍ２）の視野観察としてもよい。この方法で、測定対象の感光体の表面を感光体回転方向に４等分し、該感光体回転方向と直交する方向に２５等分して得られる計１００箇所の領域のそれぞれの中に、一辺１００μｍの正方形の領域を設けて測定する。
【０２７３】
次に、データ解析ソフト中の粒子解析プログラムを用いて電子写真感光体の表面の等高線データを表示する。
【０２７４】
凹凸形状の形状、長軸径、深さおよび高さのような凹凸形状の解析パラメーターは、形成された凹凸形状によって各々最適化することが出来る。例えば、長軸径１０μｍ程度の凹凸形状の観察および測定を行う場合、長軸径上限を１５μｍ、長軸径下限を１μｍ、深さ下限を０．１μｍおよび体積下限を１μｍ３以上としてもよい。そして、解析画面上で凹凸形状と判別できる凹凸形状の個数をカウントし、これを凹凸形状の個数とする。
【０２７５】
なお、凹凸形状の長軸径が１μｍ程度以下の凹凸形状については、レーザー顕微鏡および光学顕微鏡による観察が可能であるが、より測定精度を高める場合には、電子顕微鏡による観察および測定を併用することが望ましい。
【０２７６】
次に、本発明による電子写真感光体の構成について説明する。
【０２７７】
上記のとおり、本発明による電子写真感光体は、支持体と、該支持体上に設けられた有機感光層（以下、単に「感光層」ともいう。）とを有する。本発明による電子写真感光体は、一般的には、円筒状支持体上に感光層を形成した円筒状有機電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状あるいはシート状などの形状も可能である。
【０２７８】
感光層は、電荷輸送物質と電荷発生物質とを同一の層に含有する単層型感光層であっても、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とに分離した積層型（機能分離型）感光層であってもよい。本発明による電子写真感光体は、電子写真特性の観点から、積層型感光層が好ましい。また、積層型感光層は、支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層であっても、支持体側から電荷輸送層、電荷発生層の順に積層した逆層型感光層であってもよい。本発明による電子写真感光体において、積層型感光層を採用する場合、電子写真特性の観点から、順層型感光層が好ましい。また、電荷発生層を積層構造としてもよく、また、電荷輸送層を積層構造としてもよい。さらに、耐久性能向上等を目的とし感光層上に保護層を設けることも可能である。
【０２７９】
本発明における重合性材料の重合により形成される表面層は、感光体の最表面層を指す。具体的には、前記単層型感光層である場合は感光層を指す。また、順層型積層感光層である場合は、電荷輸送層を指し、逆層型積層感光層である場合は電荷発生層を指す。また、感光層上に保護層を設ける場合には、保護層を指す。
【０２８０】
支持体としては、前述のように、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましく、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金またはステンレスのような金属製の支持体を用いることができる。アルミニウムまたはアルミニウム合金の場合は、ＥＤ管、ＥＩ管や、これらを切削、電解複合研磨（電解作用を有する電極と電解質溶液による電解および研磨作用を有する砥石による研磨）、湿式または乾式ホーニング処理したものも用いることができる。また、アルミニウム、アルミニウム合金または酸化インジウム−酸化スズ合金を真空蒸着によって被膜形成された層を有する上記金属製支持体や樹脂製支持体を用いることもできる。樹脂製支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレンまたはポリスチレン樹脂が挙げられる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子または銀粒子のような導電性粒子を樹脂や紙に含浸した支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチックを用いることもできる。
【０２８１】
支持体の表面は、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止などを目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
【０２８２】
支持体の体積抵抗率は、支持体の表面が導電性を付与するために設けられた層である場合、その層の体積抵抗率は、１×１０１０Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、特には１×１０６Ω・ｃｍ以下であることがより好ましい。
【０２８３】
支持体と、後述の中間層または感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止や、支持体の傷の被覆を目的とした導電層を設けてもよい。これは導電性粉体を適当な結着樹脂に分散させた塗布液を塗工することにより形成される層である。
【０２８４】
このような導電性粉体としては、以下のようなものが挙げられる。カーボンブラック、アセチレンブラック；アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛または銀のような金属粉；導電性酸化スズまたはＩＴＯのような金属酸化物粉体。
【０２８５】
また、同時に用いられる結着樹脂としては、以下の熱可塑樹脂、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂樹脂が挙げられる。ポリスチレン。スチレン−アクリロニトリル共重合体。スチレン−ブタジエン共重合体。スチレン−無水マレイン酸共重合体。ポリエステル。ポリ塩化ビニル。塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体。ポリ酢酸ビニル。ポリ塩化ビニリデン。ポリアリレート樹脂。フェノキシ樹脂。ポリカーボネート。酢酸セルロース樹脂。エチルセルロース樹脂。ポリビニルブチラール。ポリビニルホルマール。ポリビニルトルエン。ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール。アクリル樹脂。シリコーン樹脂。エポキシ樹脂。メラミン樹脂。ウレタン樹脂。フェノール樹脂。アルキッド樹脂。
【０２８６】
導電層は、上記導電性粉体と結着樹脂を、以下の溶剤に分散し、または溶解し、これを塗布することにより形成することができる。テトラヒドロフランまたはエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶剤。メタノールのようなアルコール系溶剤。メチルエチルケトンのようなケトン系溶剤。トルエンのような芳香族炭化水素溶剤。導電層の平均膜厚は０．２μｍ以上４０μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましく、さらには５μｍ以上３０μｍ以下であることがより一層好ましい。
【０２８７】
導電性顔料や抵抗調節顔料を分散させた導電層は、その表面が粗面化される傾向にある。
【０２８８】
支持体または導電層と、感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、バリア機能や接着機能を有する中間層を設けてもよい。中間層は、例えば、感光層の接着性改良、塗工性改良、支持体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護のために形成される。
【０２８９】
中間層は、硬化性樹脂を塗布後硬化させて樹脂層を形成する、あるいは、結着樹脂を含有する中間層用塗布液を導電層上に塗布し、乾燥することによって形成することができる。
【０２９０】
中間層の結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸類、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリグルタミン酸またはカゼインのような水溶性樹脂。ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂またはポリグルタミン酸エステル樹脂。電気的バリア性を効果的に発現させるためには、また、塗工性、密着性、耐溶剤性および抵抗のような観点から、中間層の結着樹脂は熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、熱可塑性ポリアミド樹脂が好ましい。ポリアミド樹脂としては、溶液状態で塗布できるような低結晶性または非結晶性の共重合ナイロンが好ましい。中間層の平均膜厚は、０．０５μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、さらには０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
【０２９１】
また、中間層において電荷（キャリア）の流れが滞らないようにするために、中間層中に、半導電性粒子を分散させる、あるいは、電子輸送物質（アクセプターのような電子受容性物質）を含有させてもよい。
【０２９２】
次に本発明における感光層について説明する。
【０２９３】
本発明による電子写真感光体に用いられる電荷発生物質としては、以下のものが挙げられる。モノアゾ、ジスアゾまたはトリスアゾのようなアゾ顔料。金属フタロシアニンまたは非金属フタロシアニンのようなフタロシアニン顔料。インジゴまたはチオインジゴのようなインジゴ顔料。ペリレン酸無水物またはペリレン酸イミドのようなペリレン顔料。アンスラキノンまたはピレンキノンのような多環キノン顔料。スクワリリウム色素、ピリリウム塩またはチアピリリウム塩、トリフェニルメタン色素。セレン、セレン−テルルまたはアモルファスシリコンのような無機物質。キナクリドン顔料、アズレニウム塩顔料、シアニン染料、キサンテン色素、キノンイミン色素またはスチリル色素。これら電荷発生物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。これらの中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンあるいはクロロガリウムフタロシアニンのような金属フタロシアニンは、高感度であるため、好ましい。
【０２９４】
感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いる結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。ポリカーボネート樹脂。ポリエステル樹脂。ポリアリレート樹脂。ブチラール樹脂。ポリスチレン樹脂。ポリビニルアセタール樹脂。ジアリルフタレート樹脂。アクリル樹脂。メタクリル樹脂。酢酸ビニル樹脂。フェノール樹脂。シリコーン樹脂。ポリスルホン樹脂。スチレン−ブタジエン共重合体樹脂。アルキッド樹脂。エポキシ樹脂。尿素樹脂。塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂。特には、ブチラール樹脂が好ましい。これらは単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【０２９５】
電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤と共に分散して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。また、電荷発生層は、電荷発生物質の蒸着膜としてもよい。分散方法としては、ホモジナイザー、超音波、ボールミル、サンドミル、アトライターまたはロールミルを用いた方法が挙げられる。電荷発生物質と結着樹脂との割合は、１：１０以上１０：１以下（質量比）の範囲が好ましく、特には１：１以上３：１以下（質量比）の範囲がより好ましい。
【０２９６】
電荷発生層用塗布液に用いる溶剤は、使用する結着樹脂や電荷発生物質の溶解性や分散安定性から選択される。有機溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。
【０２９７】
電荷発生層の平均膜厚は５μｍ以下であることが好ましく、特には０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
【０２９８】
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤および／または可塑剤を必要に応じて添加することもできる。また、電荷発生層において電荷（キャリア）の流れが滞らないようにするために、電荷発生層には、電子輸送物質（アクセプターのような電子受容性物質）を含有させてもよい。
【０２９９】
電荷発生層が表面層である場合には、重合性材料を前記電荷発生層塗布液に含有し、本発明の製造方法により感光体が製造される。
【０３００】
本発明による電子写真感光体に用いられる電荷輸送物質としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物またはトリアリルメタン化合物が挙げられる。これら電荷輸送物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
【０３０１】
電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂とを溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。また、上記電荷輸送物質のうち単独で成膜性を有するものは、結着樹脂を用いずにそれ単独で成膜し、電荷輸送層とすることもできる。
【０３０２】
感光層が積層型感光層である場合、電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキッド樹脂または不飽和樹脂。特には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂またはジアリルフタレート樹脂が好ましい。これらは単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【０３０３】
電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解して得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。電荷輸送物質と結着樹脂との割合は、１：２以上２：１以下（質量比）の範囲が好ましい。
【０３０４】
電荷輸送層用塗布液に用いる溶剤としては、以下のものが挙げられる。アセトンまたはメチルエチルケトンのようなケトン系溶剤。酢酸メチルまたは酢酸エチルのようなエステル系溶剤。テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジメトキシメタンまたはジメトキシエタンのようなエーテル系溶剤。トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンのような芳香族炭化水素溶剤。これら溶剤は、単独で使用してもよいが、２種類以上を混合して使用してもよい。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤を使用することが、樹脂溶解性のような観点から好ましい。
【０３０５】
電荷輸送層の平均膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、特には１０μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましい。
【０３０６】
また、電荷輸送層には、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤および／または可塑剤を必要に応じて添加することもできる。
【０３０７】
電荷輸送層が表面層である場合には、重合性材料を前記電荷輸送層塗布液に含有し、本発明の製造方法により感光体が製造される。
【０３０８】
表面層としては、例えば、電荷輸送層を重合性樹脂で構成することが挙げられ、また、上記の電荷輸送層上に第二の電荷輸送層あるいは保護層として重合性材料よりなる樹脂層を形成することが挙げられる。
【０３０９】
これらの第二の電荷輸送層あるいは保護層の平均膜厚は、０．１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、さらには１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
【０３１０】
第二の電荷輸送層あるいは保護層が表面層である場合には、重合性材料を前記第二の電荷輸送層あるいは保護層用塗布液に含有し、本発明の製造方法により感光体が製造される。
【０３１１】
本発明による電子写真感光体の各層には各種添加剤を添加することができる。添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤あるいは耐光安定剤のような劣化防止剤や、有機微粒子や無機微粒子が挙げられる。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系対光安定剤、硫黄原子含有酸化防止剤、リン原子含有酸化防止剤が挙げられる。有機微粒子としては、フッ素原子含有樹脂粒子、ポリスチレン微粒子、ポリエチレン樹脂粒子のような高分子樹脂粒子が挙げられる。無機微粒子としては、シリカ、アルミナのような金属酸化物が挙げられる。
【実施例】
【０３１２】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味する。
【０３１３】
（実施例１）
２３℃、６０％の環境下で熱間押し出しすることにより得られた、長さ２６０．５ｍｍ、直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ−Ａ３００３、アルミニウム合金のＥＤ管、昭和アルミニウム（株）製）を導電性円筒状支持体とした。
【０３１４】
導電性粒子としての酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率８０Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は５０％）６．６部、
結着樹脂としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分６０％）５．５部
および溶剤としてのメトキシプロパノール５．９部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルで３時間分散して、分散液を調製した。
【０３１５】
この分散液に、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製、平均粒径２μｍ）０．５部、
レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング（株）製）０．００１部を添加して攪拌し、導電層用塗布液を調製した。
【０３１６】
この導電層用塗布液を、導電性円筒状支持体上に浸漬コーティングし、温度１４０℃で３０分間乾燥、熱硬化して、導電性円筒状支持体上端から１３０ｍｍの位置の平均膜厚が１５μｍの導電層を形成した。
【０３１７】
さらに、導電層上に、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、帝国化学産業（株）製）４部および共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）２部を、
メタノール６５部／ｎ−ブタノール３０部の混合溶媒に溶解して得られた中間層用塗布液を浸漬コーティングし、温度１００℃で１０分間乾燥して、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が０．５μｍの中間層を形成した。
【０３１８】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン１０部、
ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）５部およびシクロヘキサノン２５０部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で１時間分散し、次に、酢酸エチル２５０部を加えて電荷発生層用塗布液を調製した。
【０３１９】
この電荷発生層用塗布液を、中間層上に浸漬コーティングし、温度１００℃で１０分間乾燥して、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が０．１６μｍの電荷発生層を形成した。
【０３２０】
次に、下記式（ＣＴＭ−１）
【０３２１】
【化１０３】
0005080888.tif 000104
【０３２２】
で示される構造を有する電荷輸送物質１０部、
重合性材料として上記式（１−２）で示される繰り返し単位から構成されるポリカーボネート樹脂［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］１０部を、
クロロベンゼン６５部およびジメトキシメタン３５部の混合溶媒に溶解し、重合性材料を含有する表面層用塗布液を調合した。
【０３２３】
なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）の測定方法は以下のとおりである。
【０３２４】
まず、試料０．５ｇをメチレンクロライド１００ｍｌに溶解し、改良Ｕｂｂｅｌｏｈｄｅ型粘度計を用いて、２５℃における比粘度を測定した。次に、この比粘度から極限粘度を求め、Ｍａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋの粘度式により、粘度平均分子量（Ｍｖ）を算出した。粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）により測定されるポリスチレン換算値とした。
【０３２５】
以上のように調製した表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に表面層用塗布液を塗布する工程を行った。
【０３２６】
塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を乾燥させる目的で、５０℃に加熱され保持されている乾燥機内で、１５分間の乾燥を行い、塗膜表面を形成した。この塗膜表面に対し、図２に示されたモールドによる圧接形状転写加工装置において、図３４に示された形状転写用のモールドを設置し表面加工を行った。加工時の電子写真感光体およびモールドの温度は１１０℃に制御し、５ＭＰａの圧力で加圧しながら、感光体を周方向に回転させ形状転写を行った。図３４において、（１）は上から見たモールド形状を示し、（２）は横から見たモールド形状を示す図である。図３４に示すモールドは円柱形状を有しており、その長軸径Ｄは１．０μｍ、高さＦは３．０μｍであり、モールドとモールドとの間隔Ｅは１．０μｍである。
【０３２７】
上記方法により、形状形成を行った後、前記支持体を、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０３２８】
このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が２０μｍである重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製した。
【０３２９】
作製した電子写真感光体について、感光体表面の外観評価＊１、形状測定＊２および形状の均一性評価＊３を行った。
【０３３０】
＊１：感光体表面の外観評価
作製された電子写真感光体の表面を超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９５００（（株）キーエンス社製）を用いて観察した。測定対象の電子写真感光体を円筒状支持体を固定できるよう加工された置き台に設置、対物レンズ倍率５０倍とし、感光体表面の１００μｍ四方を視野観察とし、凹形状部の測定を行った。上記の１００μｍ四方の領域は、電子写真感光体の表面を感光体回転方向に４等分し、該感光体回転方向と直交する方向に２５等分して得られる計１００箇所の領域のそれぞれの中に、一辺１００μｍの正方形の領域を設けて測定した。このようにして評価した範囲内で、外観評価を行った。結果を表１に示す。
【０３３１】
＊２：電子写真感光体の表面形状測定
前記外観評価で測定している範囲の測定視野内に観察された凹形状あるいは凸形状を解析プログラムを用いて解析を行った。測定視野内にある凹形状あるいは凸形状の表面部分の長軸径を測定し、その平均値を算出した。また、測定視野内にある凹形状あるいは凸形状の深さあるいは高さを測定し、その平均値を算出した。
【０３３２】
＊３：凹形状部の均一性の評価方法
前記外観評価で測定している範囲の測定視野内に観察された凹形状あるいは凸形状を解析プログラムを用いて解析を行った。測定視野内にある凹形状あるいは凸形状の表面部分の長軸径を測定し、その平均値を算出した。測定視野内にある凹形状あるいは凸形状のうち、前述の長軸径の平均値に対し、０．８倍以上の長軸径かつ１．２倍以下の長軸径を有する凹形状あるいは凸形状の個数を計測した。凹形状あるいは凸形状の均一性は、１００μｍ四方あたりの全凹形状あるいは凸形状の個数に対し、１００μｍ四方あたりの長軸径の平均値に対し、０．８倍以上の長軸径かつ１．２倍以下の長軸径を有する凹形状あるいは凸形状の個数の割合より求めた。（表４中の均一性は、（１００μｍ四方あたりの長軸径の平均値に対し０．８倍以上の長軸径かつ１．２倍以下の長軸径を有する凹形状あるいは凸形状の個数）／（１００μｍ四方あたりの全凹形状あるいは凸形状の個数）を示す。）
【０３３３】
実施例１で作製された感光体の表面の表面形状測定により、電子写真感光体の表面には、図３５に示される円柱状の凹形状が形成されていることが確認された。上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径Ｌ１の平均値は、１．０μｍであった。また、凹形状と、その凹形状と最も近い距離にある凹形状との平均距離は、１．０μｍの間隔で形成されていた。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さＤの平均値は、１．５μｍであった。
【０３３４】
（参考例２）
表面層用塗布液を塗布する工程までは、実施例１と同様に行った。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を乾燥させる目的で、５０℃に加熱され保持されている乾燥機内で、１５分間の乾燥を行い、塗膜表面を形成した。この塗膜表面に対し、図５に示すブラスト装置を用いて研磨粒子を吹き付ける処理を行った。研磨粒子として、球状ガラスビーズ（商品名：ＵＢ−０１Ｌ、（株）ユニオン社製、体積平均粒径２８．５μｍ）を用いた。研磨粒子を吹き付け処理における圧縮空気の圧力は７８ｋＰａ、噴射ノズルの回転軸方向への移動速度は４３０ｍｍ／分、ワーク（円筒状支持体）の回転速度は６０ｒｐｍ、噴射ノズルとワークとの距離は１００ｍｍで行った。上記条件による吹き付け処理を塗膜表面に対し１回行った。
【０３３５】
上記方法により、形状形成を行った後、前記支持体を、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０３３６】
このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が２０μｍの重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３３７】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１２μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、２．５μｍであった。
【０３３８】
（実施例３）
表面層用塗布液を調合する工程までは、実施例１と同様に行った。以上のように調製した表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に表面層用塗布液を塗布する工程を行った。表面層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度４５％および雰囲気温度２５℃の状態で行った。塗布工程終了から６０秒後、予め装置内を相対湿度７０％および雰囲気温度３０℃の状態にされていた装置内に、表面層用塗布液が塗布された塗膜表面を有する円筒状支持体を１２０秒間保持した。この処理により塗膜表面に凹形状を形成した。
【０３３９】
形状形成工程終了から６０秒後、予め装置内が１４０℃に加熱されていた送風乾燥機内に、円筒状支持体を入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０３４０】
このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が２１μｍの重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３４１】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、４．２μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、６．０μｍであった。
【０３４２】
（参考例４）
表面層用塗布液を塗布する工程までは、実施例１と同様に行った。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を有する支持体を１２０ｒｐｍで回転させ、直径５０μｍの液滴にした水を５秒間吹き付ける工程を行った。
【０３４３】
水吹き付けによる形状形成工程終了後、予め装置内が１４０℃に加熱されていた送風乾燥機内に、円筒状支持体を入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０３４４】
このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が１９μｍの重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３４５】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、２．９μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、１．０μｍであった。
【０３４６】
（参考例５）
表面層用塗布液を塗布する工程までは、実施例１と同様に行った。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を乾燥させる目的で、５０℃に加熱され保持されている乾燥機内で、１５分間の乾燥を行い、塗膜表面を形成した。実施例１の表面層用塗布液をクロロベンゼンを塗布液１部に対し１９部添加することで希釈を行った。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を有する支持体を１２０ｒｐｍで回転させ、塗膜表面に対し希釈した表面層用塗布液を５秒間吹き付ける工程を行った。
【０３４７】
表面層用塗布液の吹き付けによる形状形成工程終了後、予め装置内が１４０℃に加熱されていた送風乾燥機内に、円筒状支持体を入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０３４８】
このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が２２μｍの重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３４９】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凸形状の長軸径の平均値は、２．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凸形状の高さの平均値は、０．８μｍであった。
【０３５０】
（実施例６）
実施例１で用いられている重合性材料を、上記式（２−２）および（２−７）の構造単位を１：１の比で共重合されたポリアリレート樹脂［重量平均分子量（Ｍｗ）：１２０，０００］に変更した以外は実施例１と同様の製造方法で電子写真感光体を作製した。得られた感光体を実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、１．３μｍであった。
【０３５１】
（参考例７）
参考例２で用いられている重合性材料を、上記式（２−２）および（２−７）の構造単位を１：１の比で共重合されたポリアリレート樹脂［重量平均分子量（Ｍｗ）：１２０，０００］に変更した以外は参考例２と同様の製造方法で電子写真感光体を作製した。得られた感光体を参考例２と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、１．８μｍであった。
【０３５２】
（実施例８）
実施例３で用いられている重合性材料を、上記式（２−２）および（２−７）の構造単位を１：１の比で共重合されたポリアリレート樹脂［重量平均分子量（Ｍｗ）：１２０，０００］に変更した以外は実施例３と同様の製造方法で電子写真感光体を作製した。得られた感光体を実施例３と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、３．８μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、４．５μｍであった。
【０３５３】
（参考例９）
参考例４で用いられている重合性材料を、上記式（２−２）および（２−７）の構造単位を１：１の比で共重合されたポリアリレート樹脂［重量平均分子量（Ｍｗ）：１２０，０００］に変更した以外は参考例４と同様の製造方法で電子写真感光体を作製した。得られた感光体を参考例４と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、２．５μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、０．９μｍであった。
【０３５４】
（参考例１０）
参考例５で用いられている重合性材料を、上記式（２−２）および（２−７）の構造単位を１：１の比で共重合されたポリアリレート樹脂［重量平均分子量（Ｍｗ）：１２０，０００］に変更した以外は参考例５と同様の製造方法で電子写真感光体を作製した。得られた感光体を参考例５と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凸形状の長軸径の平均値は、２．２μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凸形状の高さの平均値は、０．７μｍであった。 
【０３５５】
（実施例１１）
実施例１で用いられている重合性材料を、上記式（２−１４）および（４−１２）の構造単位を７：３の比で共重合されたポリアリレート樹脂［重量平均分子量（Ｍｗ）：１２０，０００］に変更した以外は実施例１と同様の製造方法で電子写真感光体を作製した。得られた感光体を実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、１．４μｍであった。
【０３５６】
（実施例１２）
実施例３で用いられている重合性材料を、上記式（２−１４）および（４−１２）の構造単位を７：３の比で共重合されたポリアリレート樹脂［重量平均分子量（Ｍｗ）：１２０，０００］に変更し、
さらに、溶剤を（メチルスルフィニル）メタン０．１部およびジメトキシメタン３４．９部に変更した。以上のように調製した表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に表面層用塗布液を塗布する工程を行った。表面層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度７０％および雰囲気温度２５℃の状態で行った。塗布直後より結露が進行し、表面に凹形状が形成された。
【０３５７】
形状形成工程終了後、予め装置内が１４０℃に加熱されていた送風乾燥機内に、円筒状支持体を入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０３５８】
このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が２１μｍの重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３５９】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、３．１μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、２．９μｍであった。
【０３６０】
（実施例１３）
実施例１で用いられている重合性材料を、上記式（１−４）の構造単位を有するポリカーボネート樹脂［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］に変更した以外は実施例１と同様の製造方法で電子写真感光体を作製した。得られた感光体を実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、１．５μｍであった。
【０３６１】
（実施例１４）
実施例３で用いられている重合性材料を、上記式（１−４）の構造単位を有するポリカーボネート樹脂［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］に変更し、さらに、溶剤を（メチルスルフィニル）メタン０．１部およびジメトキシメタン３４．９部に変更した。以上のように調製した表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に表面層用塗布液を塗布する工程を行った。表面層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度７０％および雰囲気温度２５℃の状態で行った。塗布直後より結露が進行し、表面に凹形状が形成された。
【０３６２】
形状形成工程終了後、予め装置内が１４０℃に加熱されていた送風乾燥機内に、円筒状支持体を入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０３６３】
このようにして、円筒状支持体上端から１３０ｍｍ位置の平均膜厚が２１μｍの重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３６４】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、３．６μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、３．０μｍであった。
【０３６５】
（実施例１５）
電荷発生層を円筒状支持体上に作製するまでは、実施例１と同様に作製した。
【０３６６】
次いで上記式（ＣＴＭ−１）で示される電荷輸送物質１０部、
結着樹脂としてポリカーボネート樹脂（商品名：ユーピロンＺ−４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］１０部を、
クロロベンゼン６５部およびジメトキシメタン３５部の混合溶媒に溶解し、電荷輸送層用塗布液を調合した。作製された電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、電荷輸送層を形成した。形成された電荷輸送層は支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が平均膜厚２２μｍであった。
【０３６７】
次いで、重合性材料として上記式（５−５）で示される化合物１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）１０部、
光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１部およびトルエン７９部により表面層用塗布液を調合した。
【０３６８】
上記表面層用塗布液を、上記電荷輸送層が形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、５０℃に加熱された乾燥機中で１０分間乾燥し、表面層用塗布液の塗膜を形成した。上記の方法により作製された塗膜表面に対して、図２に示されたモールドによる圧接形状転写加工装置において、図３４に示された形状転写用のモールドを設置し表面加工を行った。加工時の電子写真感光体およびモールドの温度は８０℃に制御し、２ＭＰａの圧力で加圧しながら、感光体を周方向に回転させ形状転写を行った。
【０３６９】
その後、形状形成された表面塗膜を有する支持体に対し、メタルハライドランプ、照射強度６５０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間９０秒の条件で光照射を行った。その後、１４０℃で６０分乾燥を加えた。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４μｍの重合性材料の重合による表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３７０】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３７１】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、０．９μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、１．４μｍであった。
【０３７２】
（実施例１６）
電荷輸送層作製までは実施例１５と同様の方法で作製した。次いで、重合性材料として上記式（５−５）で示される化合物１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）１０部、
光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１部およびトルエン７９部により表面層用塗布液を調合した。
【０３７３】
以上のように調製した表面層用塗布液を、電荷輸送層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に表面層用塗布液を塗布する工程を行った。表面層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度４５％および雰囲気温度２５℃の状態で行った。塗布工程終了から６０秒後、予め装置内を相対湿度７０％および雰囲気温度３０℃の状態にされていた装置内に、表面層用塗布液が塗布された塗膜表面を有する円筒状支持体を６０秒間保持した。この処理により塗膜表面に凹形状を形成した。
【０３７４】
その後、形状形成された表面塗膜を有する支持体に対し、実施例１５と同様の条件で紫外線照射による重合を行い、表面層を形成した。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４μｍの重合性材料の重合による表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３７５】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３７６】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、３．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、４．２μｍであった。
【０３７７】
（参考例１７）
電荷輸送層作製までは実施例１５と同様の方法で作製した。次いで、重合性材料として上記式（５−５）で示される化合物１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）１０部、
光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１部およびトルエン７９部により表面層用塗布液を調合した。
【０３７８】
以上のように調製した表面層用塗布液を、電荷輸送層上に浸漬コーティングし、円筒状支持体上に表面層用塗布液を塗布する工程を行った。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を乾燥させる目的で、５０℃に加熱され保持されている乾燥機内で、１５分間の乾燥を行い、塗膜表面を形成した。実施例１５の表面層用塗布液にトルエンを塗布液１部に対し１９部添加することで希釈を行った。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を有する支持体を１２０ｒｐｍで回転させ、塗膜表面に対し希釈した表面層用塗布液を５秒間吹き付ける工程を行った。
【０３７９】
その後、形状形成された表面塗膜を有する支持体に対し、実施例１５と同様の条件で紫外線照射による重合を行い、表面層を形成した。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が４μｍの重合性材料の重合による表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３８０】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３８１】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凸形状の長軸径の平均値は、１．８μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凸形状の高さの平均値は、０．９μｍであった。
【０３８２】
（実施例１８）
電荷発生層を円筒状支持体上に作製するまでは、実施例１と同様に作製した。
【０３８３】
次いで、下記式（ＣＴＭ−２）
【０３８４】
【化１０４】
0005080888.tif 000105
【０３８５】
で示される電荷輸送物質５部、下記式（ＣＴＭ−３）
【０３８６】
【化１０５】
0005080888.tif 000106
【０３８７】
で示される電荷輸送物質５部、
結着樹脂としてポリカーボネート樹脂（商品名：ユーピロンＺ−４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）［粘度平均分子量（Ｍｖ）４０，０００］１０部を
クロロベンゼン６５部およびジメトキシメタン３５部の混合溶媒に溶解し、電荷輸送層用塗布液を調合した。作製された電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、電荷輸送層を形成した。形成された電荷輸送層は平均膜厚２２μｍであった。
【０３８８】
次いで、重合性材料として上記式（５−９）で示される化合物１０部、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）製）１５部
および１−プロパノール１５部を混合し、溶解させた表面層用塗布液を調合した。
【０３８９】
上記表面層用塗布液を、上記電荷輸送層が形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、５０℃に加熱された乾燥機中で１０分間乾燥し、表面層用塗布液の塗膜を形成した。上記の方法により作製された塗膜表面に対して、図２に示されたモールドによる圧接形状転写加工装置において、図３４に示された形状転写用のモールドを設置し表面加工を行った。加工時の電子写真感光体およびモールドの温度は８０℃に制御し、２ＭＰａの圧力で加圧しながら、感光体を周方向に回転させ形状転写を行った。
【０３９０】
その後、窒素雰囲気下において加速電圧１５０ＫＶおよびビーム電流３．０ｍＡの条件で支持体を２００ｒｐｍで回転させながら１．６秒間電子線照射を行った。引き続いて、窒素雰囲気下において、支持体周囲の温度を２５℃から１２５℃まで３０秒かけて昇温させ、表面層に含有される重合性材料の重合反応を行った。なお、このときの電子線の吸収線量を測定したところ、１５ＫＧｙであった。また、電子線照射および加熱重合反応雰囲気の酸素濃度は１５ｐｐｍ以下であった。上記処理を行った支持体を、大気中において２５℃まで自然冷却し、その後、１００℃に加熱された乾燥機内で３０分間、大気中で、加熱処理を行った。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５μｍの重合性材料の重合による表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３９１】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３９２】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、１．５μｍであった。
【０３９３】
（参考例１９）
表面層用塗布液を調合するまでは、実施例１８と同様の方法により作製した。
【０３９４】
上記表面層用塗布液を、上記電荷輸送層が形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を有する支持体を１２０ｒｐｍで回転させ、直径５０μｍの液滴にした水を５秒間吹き付ける工程を行った。
【０３９５】
水吹き付けによる形状形成工程終了後、実施例１８と同様の方法で、表面層に含有される重合性材料の重合反応を行った。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５μｍの重合性材料の重合による表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３９６】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０３９７】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、３．５μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、０．８μｍであった。
【０３９８】
（参考例２０）
塗膜表面上に水を吹き付ける代わりにメタノールを吹き付けた以外は、参考例１９と同様の方法で感光体を作製した。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５μｍの重合性材料の重合による表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０３９９】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０４００】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１．６μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、０．３μｍであった。
【０４０１】
（参考例２１）
表面層用塗布液を調合するまでは、実施例１８と同様の方法により作製した。
【０４０２】
上記表面層用塗布液を、上記電荷輸送層が形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を乾燥させる目的で、５０℃に加熱され保持されている乾燥機内で、１５分間の乾燥を行い、塗膜表面を形成した。実施例１８の表面層用塗布液に１−プロパノールを塗布液１部に対し１０部添加することで希釈を行った。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を有する支持体を１２０ｒｐｍで回転させ、塗膜表面に対し希釈した表面層用塗布液を５秒間吹き付ける工程を行った。
【０４０３】
その後、実施例１８と同様の方法で、表面層に含有される重合性材料の重合反応を行った。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５μｍの重合性材料の重合による表面層を形成し、電子写真感光体を得た。支持体上端から１７０ｍｍ位置の平均膜厚が５μｍの重合性材料の重合による表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０４０４】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０４０５】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凸形状の長軸径の平均値は、１．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凸形状の高さの平均値は、０．６μｍであった。
【０４０６】
（実施例２２）
電荷輸送層を作製するまでは実施例１８と同様の方法にて作製した。
【０４０７】
次いで、重合性材料として上記式（６−６）１０部、フェノール樹脂（商品名：ＰＬ−４８０４、群栄化学（株）製）１０部およびエタノール８０部により表面層用塗布液を調合した。
【０４０８】
上記表面層用塗布液を、上記電荷輸送層が形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、５０℃に加熱された乾燥機中で１０分間乾燥し、表面層用塗布液の塗膜を形成した。上記の方法により作製された塗膜表面に対して、図２に示されたモールドによる圧接形状転写加工装置において、図３４に示された形状転写用のモールドを設置し表面加工を行った。加工時の電子写真感光体およびモールドの温度は８０℃に制御し、２ＭＰａの圧力で加圧しながら、感光体を周方向に回転させ形状転写を行った。
【０４０９】
上記方法により、形状形成を行った後、前記支持体を、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０４１０】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０４１１】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、０．８μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、１．２μｍであった。
【０４１２】
（参考例２３）
表面層用塗布液を調合するまでは、実施例２２と同様の方法により作製した。
【０４１３】
上記表面層用塗布液を、上記電荷輸送層が形成された円筒状支持体上に浸漬塗布した。その後、塗布された表面層用塗布液の塗膜表面を有する支持体を１２０ｒｐｍで回転させ、直径４０μｍの液滴にした水を１５秒間吹き付ける工程を行った。
【０４１４】
上記方法により、形状形成を行った後、前記支持体を、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０４１５】
このようにして、重合性材料の重合により形成される表面層を有する電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０４１６】
また、感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、０．２μｍであった。
【０４１７】
（比較例１）
実施例１において、表面層用塗布液を塗布後、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０４１８】
その後、プラスチック製のラッピングフィルムシート（粒度１５μｍ、３Ｍ社製）を用いて、上記感光体表面に押し付け、研磨を行った。実施例１と同様の表面の外観評価を行ったところ、測定視野内に研磨フィルムから剥がれた研磨粒子によると思われるささくれ状の傷が入っている部分が確認された。線状傷がランダムに形成されるため形状均一性の判断はできなかった。
【０４１９】
（比較例２）
参考例２において、表面層用塗布液を塗布後、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０４２０】
その後、参考例２の研磨粒子吹き付け条件と同じ条件で研磨粒子を表面に吹き付けたが、形状形成はほとんど確認できなかった。
【０４２１】
（比較例３）
参考例２において、表面層用塗布液を塗布後、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０４２２】
その後、参考例２の研磨粒子吹き付け条件のうち、圧縮空気の圧力を９００ｋＰａに上げて研磨粒子を表面に吹き付けた。実施例１と同様の評価を行った。感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、１０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、０．６μｍであった。
【０４２３】
（比較例４）
実施例２２において、表面層用塗布液を塗布後、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０４２４】
その後、プラスチック製のラッピングフィルムシート（粒度１５μｍ、３Ｍ社製）を用いて、上記感光体表面に押し付け、研磨を行った。実施例１と同様の表面の外観評価を行ったところ、測定視野内に研磨フィルムから剥がれた研磨粒子によると思われるささくれ状の傷が入っている部分が確認された。線状傷がランダムに形成されるため形状均一性の判断はできなかった。
【０４２５】
（比較例５）
実施例２２において、表面層用塗布液を塗布後、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０４２６】
その後、参考例２の研磨粒子吹き付け条件と同じ条件で研磨粒子を表面に吹き付けたが、形状形成はほとんど確認できなかった。
【０４２７】
（比較例６）
実施例２２において、表面層用塗布液を塗布後、あらかじめ１４０℃に加熱された乾燥機内に入れ、６０分間の乾燥を行い、重合性材料の重合を行った。
【０４２８】
その後、参考例２の研磨粒子吹き付け条件のうち、圧縮空気の圧力を９００ｋＰａに上げて研磨粒子を表面に吹き付けた。実施例１と同様の評価を行った。感光体の表面の表面形状測定により、上記１００μｍ四方中の凹形状の長軸径の平均値は、９．０μｍであった。また、上記１００μｍ四方中の凹形状の深さの平均値は、０．３μｍであった。
【０４２９】
実施例と比較例を比較すると、重合性材料の重合後に表面加工を行った場合、いずれの場合も感光体表面の形状形成の安定性や形状均一性において、重合前の表面加工が優位性が高いことを示している。重合性材料の重合後に表面加工では、形状均一性を高める目的で加工に必要な加工圧力を低くすると形状形成できない場合が有り、また加工圧力を高くすると形状均一性に劣る結果となっている。従って、重合性材料の重合前に形状形成を行うことにより、形状均一性と生産安定性の両立が可能であることが示唆されていると考えられる。
【０４３０】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【０４３１】
【図１】本発明で使用するモールドによる圧接形状転写加工装置の概略図の例を示す図である。
【図２】本発明で使用するモールドによる圧接形状転写加工装置の概略図の別の例を示す図である。
【図３】本発明で使用するにおけるモールドの形状の一例を示す図であり、（１）は上から見た、モールド形状を示し、（２）は横から見た、モールド形状を示す図である。
【図４】本発明で使用するにおけるモールドの形状の他の例を示す図であり、（１）は上から見た、モールド形状を示し、（２）は横から見た、モールド形状を示す図である。
【図５】本発明で使用するにおける研磨粒子吹き付け加工装置を示す図である。
【図６】本発明の凹形状の表面観察における一形状を示す。
【図７】本発明の凹形状の表面観察における一形状を示す。
【図８】本発明の凹形状の表面観察における一形状を示す。
【図９】本発明の凹形状の表面観察における一形状を示す。
【図１０】本発明の凹形状の表面観察における一形状を示す。
【図１１】本発明の凹形状の表面観察における一形状を示す。
【図１２】本発明の凹形状の表面観察における一形状を示す。
【図１３】本発明の凹形状の断面観察における一形状を示す。
【図１４】本発明の凹形状の断面観察における一形状を示す。
【図１５】本発明の凹形状の断面観察における一形状を示す。
【図１６】本発明の凹形状の断面観察における一形状を示す。
【図１７】本発明の凹形状の断面観察における一形状を示す。
【図１８】本発明の凹形状の断面観察における一形状を示す。
【図１９】本発明の凹形状の断面観察における一形状を示す。
【図２０】本発明の凸形状の表面観察における一形状を示す。
【図２１】本発明の凸形状の表面観察における一形状を示す。
【図２２】本発明の凸形状の表面観察における一形状を示す。
【図２３】本発明の凸形状の表面観察における一形状を示す。
【図２４】本発明の凸形状の表面観察における一形状を示す。
【図２５】本発明の凸形状の表面観察における一形状を示す。
【図２６】本発明の凸形状の表面観察における一形状を示す。
【図２７】本発明の凸形状の断面観察における一形状を示す。
【図２８】本発明の凸形状の断面観察における一形状を示す。
【図２９】本発明の凸形状の断面観察における一形状を示す。
【図３０】本発明の凸形状の断面観察における一形状を示す。
【図３１】本発明の凸形状の断面観察における一形状を示す。
【図３２】本発明の凸形状の断面観察における一形状を示す。
【図３３】本発明の凸形状の断面観察における一形状を示す。
【図３４】実施例１で使用したモールドの形状（部分拡大図）を示す図である。図３４における（１）は上から見たモールド形状を示し、（２）は横から見たモールド形状を示す図である。
【図３５】実施例１により得られた感光体最表面の凹形状の配列パターン（部分拡大図）を示す図である。図３５における（１）は感光体の表面に形成された凹形状の配列状態を示し、（２）は凹形状の断面形状を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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