(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板に金属膜と金属酸化物膜とが成膜されてなる表面鏡において、ガラス基板の上にＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜、ＳｉＮｘＯｙ膜、Ｎｂ２Ｏ５膜を順次積層してなり、該Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜は、Ａｌ膜の上に、前記ＳｉＮｘＯｙ膜側へ行く程酸化されるＡｌＯｚ膜が成膜されてなり、該ＳｉＮｘＯｙ膜と接する所で０．１≦ｚ≦１．０であり、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜の、（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚）が、０．３以下であることを特徴とする表面鏡。
【請求項２】
ガラス基板とＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜との間にＳｉＮｘＯｙ膜が成膜され、その上にＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜、ＳｉＮｘＯｙ膜、Ｎｂ２Ｏ５膜を順次積層してなることを特徴とする請求項１に記載の表面鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属膜と酸化物膜とが積膜されてなる表面鏡に関し、特にスクリーンの背面から画像を投影するリアプロジェクションテレビやスキャナー等の電子複写装置に用いる表面鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大画面表示装置としてリアプロジェクションテレビ、フラットパネルディスプレイおよびプロジェクションテレビなどがあるが、中でもリアプロジェクションテレビは、安価であるという理由から、かなりの普及がみられる。
【０００３】
リアプロジェクションテレビは、ＣＲＴ等の表示画面を、光学系を用いてスクリーンに映すものであり、鏡を用いて表示光を反射させることにより、小さい奥行きで光路を長くして、大きなスクリーンに映すようにしている。
【０００４】
リアプロジェクションテレビに用いられる鏡として、ガラス基板に銀鏡反応でＡｇ膜を成膜し、Ａｇ膜上に保護膜を形成してなる、いわゆる裏面鏡といわれるものと、ガラスの表面に金属膜を形成してその上に酸化物膜を形成して、酸化物膜の面から光を入射して、金属膜で反射させる表面鏡とが用いられている。
【０００５】
裏面鏡は、反射膜が耐久性のある保護膜を用いて保護されており、浴室などに用いることができるほど耐久性は良いが、光は、Ａｇ膜で反射する他にガラス面でも反射をするため、スクリーンに映し出される表示には２重像が生じるという問題や、ガラス基板による表示光の吸収のため、反射率が低いといった問題点がある。
【０００６】
物理蒸着法などでガラス面に金属膜を成膜されてなる表面鏡は反射率が大きく、金属膜が表示光を、ガラスを通過させずに、直接反射させるため、２重像の問題もない。
【０００７】
例えば、特許文献１には、Ａｇを主成分としてＰｄ、ＡｕおよびＲｕを添加した金属膜をスパッタリング法で作成される表面鏡が開示されている。
【０００８】
しかし、このような鏡は、一般家庭用で使用されるリアプロジェクションテレビに使用するには、貴金属を用いるため高価であり、また、高温・高湿雰囲気に対する耐久性に問題がある。
【０００９】
そこで、最近は金属膜にＡｌを用いた表面鏡が用いられている。例えば、Ａｌを用いた表面鏡として特許文献２では、基板にＴｉＯ２、ＡｌＯ２、Ａｌ、ＴｉＯ２の順に薄膜を積膜した反射鏡が提案しされている。この表面鏡の反射率は９０％以下であり、また、反射膜の硬度に難点がある。
【００１０】
また特許文献３には、基板にＳｉＯ２、Ａｌ、Ｃｒ、Ａｌ２Ｏ３の順に薄膜を積膜した反射鏡が提案されているが、この表面鏡の反射率も低く、リアプロジェクタテレビやスキャナー等の電子複写装置に用いることはできない。
【００１１】
そこで、一般的に用いられている表面鏡は、ガラス基板にＡｌ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２の順に成膜した増反射タイプの反射鏡が使用されているが、この膜構成は、耐磨耗性能が劣り、表面が汚れた場合に布等で拭く事ができない。
【００１２】
この欠陥を解決するものとして、特許文献４は、基板にＡｌ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｉｘＮｙの順に薄膜を積膜した表面鏡が提案されている。この膜構成の表面鏡は、耐磨耗性の改善が見られるが、Ａｌ膜の構造は改善されていないので、十分な硬度や耐久性が得られていない。
【００１３】
最近、表面鏡はプロジェクションテレビ用途に加え、スキャナー等の電子複写装置に使用されている。スキャナー等の電子複写装置に使用される、表面鏡は、大板から短冊状に切断し、シーミングを行う工程が必要となる。この切断、シーミング工程において、表面鏡に傷の発生や汚れの付着防止のため、大板状の表面鏡に養生膜を事前に貼付しておく必要がある。
【００１４】
表面鏡の膜が弱いと、この養生膜を剥す工程で、膜剥離が起きてしまう。また、短冊状で膜剥離が起きない事を確認する抜き取り試験に於いても、短冊のエッジから膜剥離が置き易くなり、歩留り低下の原因となる。また、プロジェクションテレビ用途でも、養生膜を貼付して出荷する事があり、スキャナー等の電子複写装置用途と同様に、養生膜を剥す際の膜剥離が問題となっている。
【００１５】
特許文献５では、ガラス基板と反射膜として働くＡｌ金属膜との密着性を改良する方法として、ガラス基板の表面をイオンエッチングによる改質する方法、およびガラス基板とＡｌ金属膜との間にＳｉＯ２を成膜する事が提案されている。しかし、Ａｌ金属膜とＡｌ金属膜上に成膜される酸化物膜との密着性を改善するには至っていなかった。
【特許文献１】特開２００１−２２６７６５号公報
【特許文献２】特開平６−５１１１０号公報
【特許文献３】特開平６−１３０２１０号公報
【特許文献４】特開平６−１３０２１０号公報
【特許文献５】特開２００６−３３７７７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
反射膜であるＡｌ膜上に増反射作用および保護膜として働く金属酸化膜もしくは金属窒化酸化膜を成膜した時、Ａｌと金属酸化膜もしくは金属窒化酸化膜との密着性が弱く、十分な耐久性を有しておらず、リアプロジェクションテレビやスキャナー等の電子複写装置に用いる表面鏡に用いるのが困難であった。本発明は反射膜であるＡｌ膜と増反射膜および保護膜として働く金属酸化膜もしくは金属窒化酸化膜との密着性が優れた表面鏡を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の表面反射鏡は、ガラス基板に金属膜と金属酸化物膜又は、金属窒化膜及び金属酸化膜が成膜されてなる表面鏡において、ガラス基板の上にＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜、ＳｉＮｘＯｙ膜、Ｎｂ２Ｏ５膜を順次積層してなることを特徴とする表面鏡である。
【００１８】
また、本発明の表面反射鏡は、前記表面鏡において、ガラス基板とＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜との間にＳｉＮｘＯｙ膜が成膜されてあることを特徴とする表面鏡である。
【００１９】
また、本発明の表面反射鏡は、前記表面鏡において、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜の、（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚）が、０．３以下であることを特徴とする表面鏡である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の表面鏡は、リアプロジェクションテレビやスキャナー等の電子複写装置で必要とする密着性が優れた表面鏡を提供することを可能とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の表面鏡は、図１に示すような、ガラス基板１１に、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３、ＳｉＮｘＯｙ膜１４、Ｎｂ２Ｏ５膜１５が、この順に物理蒸着法で積膜されて、反射膜１０を形成する表面鏡１、または、図２に示すように、ガラス基板１１に、ＳｉＮｘＯｙ膜１２、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３、ＳｉＮｘＯｙ膜１４、Ｎｂ２Ｏ５膜１５、がこの順に物理蒸着法で積膜されて、反射膜１０′を形成する表面鏡１´である。
【００２２】
ガラス基板１１には、平滑性が良く、ある程度の剛性をもって歪みにくい部材として、比較的低コストで得られる、表面の平滑性が良いフロート法によるソーダライムガラスの使用が簡便である。
【００２３】
また、表面鏡  の表面に凹凸があると、これが濃淡状のスジとなってスクリーンに投写されて不具合となるため、ガラス表面を研磨してウネリを取り除いた研磨品をガラス基板１１に用いることが好ましい。
【００２４】
また、ガラスが自重により歪むとスクリーンに投写された映像も歪むために、ヤング率が高いガラス、たとえば高歪点ガラスをガラス基板１１として使用できる。
【００２５】
ガラス基板１１の厚さについては、特に限定するものではないが、厚いガラスの方が薄いガラスよりも、使用する際、自重による歪みが小さく、結果として像が歪まなくなるが、厚くすると重量が重くすると、特にリアプロジェクションテレビの様な大型テレビでは、組み立て時のハンドリングが難しくなり、さらに、表面鏡の成膜時において搬送系の構造材への負担が増すといった問題があるために、通常は２〜８ｍｍの厚さであることが望ましい。
【００２６】
このガラス基板１１に反射膜１０、１０´を形成するための、物理蒸着法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法等の方法を用いることができる。なかでも、成膜が容易なこと、膜の密着性が良好なこと等から、スパッタリング法が推奨される。
【００２７】
図２に示す、ガラス基板１１の表面に成膜されるＳｉＮｘＯｙ膜１２は、その上に形成されるＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３を直接ガラス基板に成膜するものより、Ａｌ膜の結晶性を更に高めて、ガラス基板１１とＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３との密着性を向上させるために成膜するもので、１〜５０ｎｍの膜厚とすることが好ましい。
【００２８】
さらに、ＳｉＮｘＯｙ膜１２の厚みは、１００ｎｍ程度と厚くした場合も特に問題はないが、Ａｌの結晶性は、５０ｎｍ以上では殆んど変わらないので、コスト的に５０ｎｍ以下とすることが望ましい。また、成膜されるＳｉＮｘＯｙ膜１２は、０≦ｘ≦１．５、０．５≦ｙ≦２．０とすることが、密着性を良好にするので好ましい。
【００２９】
Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３は、６０ｎｍ以上の膜厚にすれば９０％以上の可視光線反射率が得られ、また、６０ｎｍ以上で厚みを増やしても反射率は大きくならないので、膜厚は６０ｎｍとすれば十分である。但しそれ以上の膜厚としても、特に問題はない。
【００３０】
Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３は、Ａｌ膜の上に酸化度が徐々に変化するＡｌＯｚ傾斜膜が成膜されてなる膜であり、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚の中心部から、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３上のＳｉＮｘＯｙ膜１４側に行く程、酸化されている膜である。
【００３１】
Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３は、Ａｌターゲットを用い、Ａｒガスなどの不活性ガスと酸素ガスとの雰囲気下でスパッタリングして得ることができる。成膜する時に、酸素ガスをＡｌターゲットの一方向より供給させ、Ａｌターゲット上で酸素濃度に勾配を持たせることで、成膜することができる。
【００３２】
特に、インライン式スパッタリング装置では、図３に示す様に、Ａｌターゲット２３の基板進行方向側にずらして、酸素ガスを供給する酸素ガス配管２９を設置し、酸素ガス配管２９から酸素ガスを導入し、Ａｌターゲット２３の幅方向で酸素ガス濃度に勾配を持たせて成膜する方法が有効である。
【００３３】
ＳｉＮｘＯｙ膜１４と接するＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３側の酸化度が高すぎる時は、反射率低下の要因となる。また、酸化度が少なすぎると、十分な膜密着性が得られない。そのため、ＳｉＮｘＯｙ膜１４と接する所でのＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜の酸化度は、０．１≦ｚ≦１．０が好ましい。更に好ましいのは、０．２≦ｚ≦０．８である。
【００３４】
また、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚において、（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚）が大きすぎると、十分な密着性が得られないため、（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚）は０．３以下であることが望ましい。
（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚）の値は、図５に示すような、オージェマイクロプローブによる深さ方向分析より得られるスペクトルチャートから算定することができる。
【００３５】
（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚）３２は、分析強度＝０でのオージェマイクロプローブのＡｌスペクトルのピーク幅とする。また、Ａｌ膜の膜厚３１は、分析強度＝０でのオージェマイクロプローブのＡｌスペクトルのピーク幅３２から、Ａｌスペクトルと酸素スペクトルが重なっている箇所の分析強度＝０での幅を引いた値であり、（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚）が算定される。
【００３６】
Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３の耐食性向上対策として、０〜５重量％以下のＭｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｎｄから選ばれる１種以上の金属を含有させることが好ましい。
【００３７】
Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｎｄを含有させるには、ＡｌターゲットにＭｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｎｄを含有させたターゲットを用い、Ａｒガス等の不活性雰囲気中で成膜することによって得られる。
【００３８】
但し、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３に含有させるＭｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｎｄが５重量％を越えると、Ａｌの結晶性が損なわれ反射率が低下するので好ましくない。
【００３９】
ＳｉＮｘＯｙ膜１４の厚みを３０ｎｍ以上にすれば、Ａｌ膜に直接Ｎｂ２Ｏ５膜を積膜したもの比べ、十分な硬度と耐高温・高湿性を有する表面鏡が得られる。またＮｂ２Ｏ５との屈折率の違いによる反射率の増反射効果を得るには、ＳｉＮｘＯｙ膜１４の厚みは、８０±４０ｎｍとすることが好ましい。
【００４０】
ＳｉＮｘＯｙ膜１４は、Ｓｉターゲットを用い、Ａｒガス、酸素ガス、窒素ガスの混合ガス雰囲気下でスパッタリングすることにより得られる。Ｓｉターゲットは、一般的にＢやＡｌが含まれたものが使用される。Ａｒガス、酸素ガス、窒素ガスの比率は、容積比で、Ａｒガス：３５〜８０％、酸素ガス：１５〜４５％、窒素ガス：５〜２５％とすることが最適である。
【００４１】
また、成膜されるＳｉＮｘＯｙ膜１４は、０≦ｘ≦１．５、０．５≦ｙ≦２．０とすることが、膜相互間の密着性を良好にするので好ましい。
【００４２】
Ｎｂ２Ｏ５膜１５は、Ｎｂターゲットを用い、Ａｒガスに対して５０〜１００重量％の酸素含有雰囲気下でスパッタリングすることにより得られ、金属膜の保護と増反射を目的として成膜される。
【００４３】
表面鏡１、１´をリアプロジェクションテレビやスキャナー等の電子複写装置に用いるためには、Ｎｂ２Ｏ５膜１５の厚みを３０ｎｍ以上とすることにより、十分な耐高温・高湿性と耐摩耗性が得られる。またＳｉＮｘＯｙとの屈折率の違いによる反射率の増反射効果を得るには、Ｎｂ２Ｏ５膜１５の厚みは６０±４０ｎｍとすることが好ましい。
【実施例】
【００４４】
以下に本発明の実施例として、図３に示す成膜装置を用いた、インライン方式のスパッタリング法による成膜について詳述するが、本発明の反射鏡は、この成膜法に限定されるものではない。
【００４５】
実施例１
洗浄、乾燥した厚み３ｍｍ、サイズ１０００ｍｍ×６００ｍｍのフロート法板ガラス基板を用いて図１に示す膜構成の表面鏡１を作製した。成膜は全てスパッタリング法で行った。
【００４６】
最初に、Ａｒガス１００（ｓｃｃｍ）、酸素ガス７０（ｓｃｃｍ）で、圧力０．１０（ｐａ）の雰囲気において、図示しない高周波電源装置（出力３ｋ、２Ａ）を用い、電圧は１０００ｖを印加して、反応性プラズマを発生させ、反応性プラズマの下を、約１（ｍ／ｍｉｎ）の速度でガラスを通過させ、板ガラス表面の改質を行った。
【００４７】
続いて、図示しない中周波電源装置を用いて、Ａｌターゲット２３を取り付けたデュアルカソード（図示せず）を用いて、Ａｒガス３００（ｓｃｃｍ）、酸素ガス１０（ｓｃｃｍ）、圧力０．５８Ｐａの雰囲気で、厚み７０ｎｍのＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３を成膜した。
【００４８】
なお、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３を成膜するとき、酸素ガスは、ＳｉＮｘＯｙ膜１４を成膜するＳｉターゲット２４側に位置をずらして設置した、酸素ガス配管２９によって導入した。
【００４９】
次いで、厚み８０ｎｍのＳｉＮｘＯｙ膜１４を、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３を成膜するときに用いた電源装置と同様の電源装置を用い、Ｓｉターゲットを取り付けたカソード（図示しない）を使用して、Ａｒ１５０（ｓｃｃｍ）、酸素９０（ｓｃｃｍ）、窒素２５（ｓｃｃｍ）圧力０．６９（ｐａ）の雰囲気で成膜した。
【００５０】
さらに、ＳｉＮｘＯｙ膜１４の上に、Ｎｂターゲットを用いて、Ｎｂ２Ｏ５膜を６０ｎｍ成膜した。成膜は、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３を成膜するときに用いた電源装置と同様の電源装置を用い、Ｎｂターゲットを取り付けたカソード（図示しない）を使用し、Ａｒ１７０（ｓｃｃｍ）、酸素１００（ｓｃｃｍ）、圧力０．６４（ｐａ）の雰囲気で成膜した。
【００５１】
この表面鏡１を、オージェマイクロプローブ（日本電子株式会社製ＪＡＭＰ３０）で測定し、図６の結果を得た。図６から（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ膜の膜厚）の値を算出した結果、０．０７であった。
【００５２】
実施例２
洗浄、乾燥した厚み３ｍｍ、サイズ１０００ｍｍ×６００ｍｍのフロート法板ガラス基板を用いて図２に示す膜構成の表面鏡１´を作製した。成膜は全てスパッタリング法で行った。
【００５３】
最初に、Ａｒ１００（ｓｃｃｍ）、酸素７０（ｓｃｃｍ）で圧力０．１０ｐａの雰囲気において、図示しない高周波電源装置（出力３ｋ、２Ａ）を用い、電圧は１０００ｖを印加して反応性プラズマを発生させ、反応性プラズマの下を、約１（ｍ／ｍｉｎ）の速度でガラスを通過させ、ガラス表面の改質を行った。
【００５４】
次に、図示しない中周波電源を用いて、Ｓｉターゲット２２を取り付けたデュアルカソード（図示しない）用いて、アルゴン１８０（ｓｃｃｍ）、酸素２０（ｓｃｃｍ）窒素１０（ｓｃｃｍ）で圧力０．３５（ｐａ）の雰囲気において厚み１０ｎｍのＳｉＮｘ０ｙ膜１２を成膜した。
【００５５】
次いで、ＳｉＮｘＯｙ膜１２の上に、ＳｉＮｘ０ｙ膜１２を成膜するときに用いた電源装置と同様の電源装置を用い、Ａｌターゲット２３を取り付けたデュアルカソード（図示しない）用いて、Ａｒ３００（ｓｃｃｍ）、酸素１０（ｓｃｃｍ）、圧力０．５８（Ｐａ）の雰囲気で厚み７０ｎｍのＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３を成膜した。
【００５６】
なお、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３を成膜するとき、酸素ガスは、ＳｉＮｘＯｙ膜１４を成膜するＳｉターゲット２４側に位置をずらして設置した、酸素ガス配管２９によって導入した。
【００５７】
次いで、厚み８０ｎｍのＳｉＮｘＯｙ膜１４を、さらに、ＳｉＮｘＯｙ膜１４の上に、厚み６０ｎｍのＮｂ２Ｏ５膜１５を、実施例１と同様にして、成膜した。
【００５８】
この表面鏡をオージェマイクロプローブ（日本電子株式会社製ＪＡＭＰ３０）測定した結果が、図７である。
【００５９】
図７から（Ａｌ膜の膜厚）／（Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ膜の膜厚）の値を算出した結果、０．０９であった。
【００６０】
比較例１
Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜１３の代わりに、Ａｌ膜１６を成膜した。以外は全て実施例２と同様の成膜を行い、表面鏡１″を作製した。Ａｌ膜１６はＡｌターゲットを取り付けたデュアルカソード（図示しない）用いて、Ａｒ３００（ｓｃｃｍ）、圧力０．５２（Ｐａ）の雰囲気で厚み７０ｎｍ成膜した。
【００６１】
比較例１で作製した表面鏡１″を実施例１と同様にしてオージェマイクロプローブで測定した結果が図７である。図８より、（Ａｌ膜の膜厚）／（金属Ａｌ膜の膜厚＋ＡｌＯｚ膜の膜厚）の比率を算出した結果、０．４２であった。
【００６２】
なお、オージェマイクロプローブで測定した図６〜８の結果において、Ｃａが検出されているのは、ガラス基板に達するまで深さ方向に分析したためであり、反射膜からＣａが検出されたものではない。
【００６３】
〔密着性の評価〕
実施例１、実施例２、比較例１の表面鏡に関して、反射膜の密着性評価を実施した。評価方法は、成膜直後の１０００ｍｍ×６００ｍｍサイズの表面鏡ガラスを室温で３０分間冷却後に、日東電工製養生膜ＳＰＶ２２４（以後養生膜と呼ぶ）を貼付する。その後、養生膜を貼付した状態で、１５ｍｍ×２００ｍｍの細長い形状の短冊にホィールカッターで切断する。この短冊に湿式のシーミングを実施し、短冊に付着した水分をウエスで拭取り後、４５℃の温風で乾燥させた。乾燥させた短冊を用い、所定時間が経過した後、養生膜を反射膜から剥し、反射膜の密着性を評価した。
【００６４】
養生膜を引き剥す角度は、反射膜面に対して垂直方向とし、瞬時に引き剥がして、評価した。評価結果を表１に示す。
【００６５】
養生膜の引きはがしで反射膜の剥離が起きなかった短冊については、米国３Ｍ社製の幅が２５．４ｍｍのスコッチ透明フィルムテープ＃６１０（以後＃６１０テープと呼ぶ）を用いて膜剥離評価を実施した。
【００６６】
＃６１０テープを表面鏡の反射膜に貼り付け、３０秒後に＃６１０テープの端を持って剥した。
【００６７】
＃６１０テープの貼付方法は、短冊の両エッジ部より、＃６１０テープがはみ出すように空気が入らないように注意しながら、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００記載の碁盤目テープ法に準拠して、消しゴムで＃６１０テープの表面をこすり、反射膜に＃６１０テープを完全に付着させた。
【００６８】
＃６１０テープを付着させてから、１〜２分後に＃６１０テープの一方の端を持って、反射膜面に対して垂直方向に瞬時に引き剥がして、密着性を評価した。密着性の評価は、養生膜を剥した時と＃６１０テープを剥した時の膜剥れが起きた枚数によって行った。
【００６９】
また、密着性の評価は、反射膜を成膜した後、１時間後、１日後、７日後、１４日後、それぞれの時間が経過した短冊について実施した。評価結果を表１に示す。
【００７０】
【表１】
0005045261.tif 000002
【００７１】
表１に示すように、比較例１は、養生膜を剥しただけでも膜剥離が起きた。この剥離箇所をオージェマイクロプローブ（日本電子株式会社製ＪＡＭＰ３０）にて分析した結果、Ａｌ膜１６とＳｉＮｘＯｙ膜１３の界面で剥離している事が確認された。一方、実施例１、２で作製した、Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜を用いた表面鏡については、成膜後１時間から１４日経過したものについて、反射膜の剥離がおきず、成膜後の時間経過をしても、反射膜の密着性が維持されていることが確認された。
【００７２】
〔反射率の評価〕
実施例１、実施例２、比較例１に対して、分光光度計  （Ｕ−４００  型．日立製作所製）により入射角度８度の可視光線波長による反射率を測定した。反射率の測定結果を表２に示す。
【００７３】
【表２】
0005045261.tif 000003
【００７４】
実施例１、２の反射鏡の反射率は、比較例１とほとんど差異が無く、Ａｌ膜をＡｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜に変更しても、反射率に大きな変化の無いことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の実施例１の、表面鏡の膜構成を示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施例２の、表面鏡の膜構成を示す概略断面図である。
【図３】インラインスパッタ装置の概略図
【図４】比較例１の表面鏡の膜構成を示す概略断面図である。
【図５】（Ａｌの膜厚）／（Ａｌの膜厚＋ＡｌＯｚ傾斜膜の膜厚）の値を算定するための説明図。
【図６】実施例１のオージェマイクロプローブでの測定結果。
【図７】実施例２のオージェマイクロプローブでの測定結果。
【図８】比較例１のオージェマイクロプローブでの測定結果。
【符号の説明】
【００７６】
１、１´、１″    表面鏡
１０、１０´、１０″    反射膜
１１          ガラス基板
１２          ＳｉＮｘＯｙ膜
１３          Ａｌ−ＡｌＯｚ傾斜膜
１４          ＳｉＮｘＯｙ膜
１５          Ｎｂ２Ｏ５膜
１６          Ａｌ膜
２１          インラインスパッタリング装置
２２          Ｓｉターゲット
２３          Ａｌターゲット
２４          Ｓｉターゲット
２５          Ｎｂターゲット
２６          酸素ガス
２７          アルゴンガス
２８          窒素ガス
２９          酸素ガス配管
【図１】
0005045261.tif 000004
【図２】
0005045261.tif 000005
【図３】
0005045261.tif 000006
【図４】
0005045261.tif 000007
【図５】
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【図６】
0005045261.tif 000009
【図７】
0005045261.tif 000010
【図８】
0005045261.tif 000011