(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光に励起されて波長２３０〜２６０ｎｍの範囲にピーク波長を有する紫外光を放出する、フッ素、並びにアルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属を含有する酸化マグネシウム粉末を含む、交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体保護層の放電空間側の表面に形成される紫外光放出層の製造材料。
【請求項２】
酸化マグネシウム源粉末と、アルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属のフッ化物の粉末とからなり、フッ化物を酸化マグネシウム源粉末中のマグネシウム１００モルに対して０．０５〜３０モルの量にて含む粉末混合物を焼成して得られた酸化マグネシウム焼成物粉末を含む、交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体保護層の放電空間側の表面に形成される紫外光放出層の製造材料。
【請求項３】
粉末混合物中のフッ化物が酸化マグネシウム源粉末中のマグネシウム１００モルに対して０．１〜２５モルの量にある請求項２に記載の紫外光放出層の製造材料。
【請求項４】
酸化マグネシウム源粉末と、アルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属のフッ化物の粉末とからなり、フッ化物を酸化マグネシウム源粉末中のマグネシウム１００モルに対して０．０５〜３０モルの量にて含む粉末混合物を焼成して得られた酸化マグネシウム焼成物粉末を含む、Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光に励起されて波長２３０〜２６０ｎｍの範囲にピーク波長を有する紫外光を放出する発光材料。
【請求項５】
マグネシウム、フッ素、そしてアルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属からなり、フッ素をマグネシウム１００モルに対して０．０１〜２４モルの量にて、かつ補助金属をマグネシウム１００モルに対して０．０１〜３０モルの量にて含む酸化マグネシウム焼成物粉末を含む、交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体保護層の放電空間側の表面に形成される紫外光放出層の製造材料。
【請求項６】
マグネシウム、フッ素、そしてアルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属からなり、フッ素をマグネシウム１００モルに対して０．０１〜２４モルの量にて、かつ補助金属をマグネシウム１００モルに対して０．０１〜３０モルの量にて含む酸化マグネシウム焼成物粉末を含む、Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光に励起されて波長２３０〜２６０ｎｍの範囲にピーク波長を有する紫外光を放出する発光材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光により励起されて、波長２５０ｎｍ付近の紫外光を放出する酸化マグネシウム焼成物粉末を用いた交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体保護層の放電空間側の表面に形成される紫外光放出層の製造材料及びＸｅガスのガス放電により生成した紫外光に励起されて波長２３０〜２６０ｎｍの範囲にピーク波長を有する紫外光を放出する発光材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
交流型プラズマディスプレイパネル（以下、ＡＣ型ＰＤＰともいう）は、一般に、画像表示面となる前面板と、放電ガスが充填された放電空間を挟んで対向配置された背面板とからなる。前面板は、前面ガラス基板、前面ガラス基板の上に形成された一対の放電電極、放電電極を被覆するように形成された誘電体層、そして誘電体層の表面に形成された誘電体保護層からなる。背面板は、背面ガラス基板、背面ガラス基板の上に形成されたアドレス電極、背面ガラス基板とアドレス電極とを被覆するように形成された、放電空間を区画するための隔壁、そして隔壁の表面に形成された赤、緑、青の蛍光体層からなる。
【０００３】
放電ガスとしては、一般にＸｅ（キセノン）とＮｅ（ネオン）との混合ガスが利用されている。この混合ガスでは、Ｘｅが放電ガスであり、Ｎｅはバッファガスである。
誘電体保護層の形成材料には、ＡＣ型ＰＤＰの作動電圧を低減し、かつ放電空間に生成したプラズマから誘電体層を保護するために、二次電子放出係数が高く、耐スパッタ性に優れる酸化マグネシウムが広く利用されている。
【０００４】
従来より、ＡＣ型ＰＤＰにおいては、発光特性の向上を目的として、誘電体保護層の放電空間側の表面に、放電ガスにより生成する紫外光によって励起されて、蛍光体層の蛍光体を励起し得る波長の紫外光を放出する紫外光放出層を設けることが検討されている。すなわち、放電ガスから放出される紫外光に加え、紫外光放出層から放出される紫外光を用いて蛍光体層の蛍光体を励起させることにより、蛍光体層の発光効率を向上させる方法である。
【０００５】
例えば、特許文献１には、マグネシウムが加熱されて発生した蒸気が気相酸化されることによって生成した、ＢＥＴ法によって測定した平均粒子径が５００オングストローム以上、好ましくは２０００オングストローム以上の気相法酸化マグネシウム単結晶体からなる紫外光放出層を、誘電体保護層の放電空間側の表面に形成したＡＣ型ＰＤＰが開示されている。そして、この紫外光放出層は２３０〜２５０ｎｍの範囲にピーク波長を有する紫外光を放出し、その波長の紫外光によっても蛍光体が励起されて発光するため、ＰＤＰの輝度が増加することが開示されている。
【特許文献１】特開２００６−５９７８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、ＡＣ型ＰＤＰなどのガス放電発光装置の誘電体保護層の上に形成する紫外光放出層の材料として有用な、Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光により励起されると、波長２５０ｎｍ付近にピーク波長を有する紫外光を高い効率で放出する酸化マグネシウム焼成物粉末を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、酸化マグネシウム源粉末と、アルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属のフッ化物の粉末とからなり、フッ化物を酸化マグネシウム源粉末中のマグネシウム１００モルに対して０．０５〜３０モルの量にて含む粉末混合物を焼成することによって、フッ素をマグネシウム１００モルに対して０．０１〜２４モルの量にて、かつ補助金属をマグネシウム１００モルに対して０．０１〜３０モルの量にて含む酸化マグネシウム焼成物粉末を得ることができることを見出した。そして、この酸化マグネシウム焼成物粉末が、Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光によって励起されて波長２５０ｎｍ付近（特に、波長２３０〜２６０ｎｍの範囲）にピーク波長を有する紫外光を高い効率で放出することを確認して、本発明を完成した。
更に、本発明者は、上記補助金属のフッ化物粉末の代わりに、補助金属の酸化物粉末又は加熱により金属酸化物に転化する補助金属の化合物粉末（フッ化物粉末を除く）と、フッ化マグネシウム粉末及びフッ化アンモニウム粉末からなる群より選ばれる少なくとも一種のフッ化物粉末とを、補助金属の量が粉末混合物中のマグネシウムの合計量１００モルに対して０．０５〜３０モルの範囲にあって、かつフッ化物粉末中のフッ素の量が補助金属１モルに対して０．１〜１０モルの範囲となる量にて用いることによっても、Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光によって励起されて波長２５０ｎｍ付近の紫外光を高い効率で放出する酸化マグネシウム焼成物粉末が得られることを見出した。
【０００８】
従って、本発明は、酸化マグネシウム源粉末と、アルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属のフッ化物の粉末とからなり、フッ化物を酸化マグネシウム源粉末中のマグネシウム１００モルに対して０．０５〜３０モルの量にて含む粉末混合物を焼成して得られた酸化マグネシウム焼成物粉末を含む、交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体保護層の放電空間側の表面に形成される紫外光放出層の製造材料、もしくはＸｅガスのガス放電により生成した紫外光に励起されて波長２３０〜２６０ｎｍの範囲にピーク波長を有する紫外光を放出する発光材料にある。粉末混合物の焼成温度は、８５０〜１５００℃の範囲の温度にあることが好ましい。フッ化物粉末は、酸化マグネシウム源粉末中のマグネシウム１００モルに対して０．１〜２５モルの量にあることが好ましい。
【００１０】
本発明は更に、マグネシウム、フッ素、そしてアルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属からなり、フッ素をマグネシウム１００モルに対して０．０１〜２４モルの量にて、かつ補助金属をマグネシウム１００モルに対して０．０１〜３０モルの量に含む酸化マグネシウム焼成物粉末を含む、交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体保護層の放電空間側の表面に形成される紫外光放出層の製造材料、もしくはＸｅガスのガス放電により生成した紫外光に励起されて波長２３０〜２６０ｎｍの範囲にピーク波長を有する紫外光を放出する発光材料にもある。
【発明の効果】
【００１２】
本発明で用いる酸化マグネシウム焼成物粉末は、後述の実施例に示すデータから明らかなように、Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光により励起されて波長２５０ｎｍ付近（波長２３０〜２６０ｎｍの範囲）にピーク波長を有する紫外光を高い効率で放出する。ＡＣ型ＰＤＰや蛍光体ランプ等のガス放電発光装置に使用される蛍光体材料は、前記特許文献１に記載されているように波長２５０ｎｍ付近の紫外光に励起されて可視光を放出することが知られている。このため、上記の酸化マグネシウム焼成物粉末から製造された酸化マグネシウム膜を、ＡＣ型ＰＤＰや蛍光体ランプ等のＸｅガスを放電ガスに用いたガス放電発光装置の放電空間内、特に誘電体保護層の放電空間側の表面に配置すると、Ｘｅガスのガス放電により放電空間内に放出される、波長２５０ｎｍ付近の紫外光の光量を増加させることができ、その結果、ガス放電発光装置から放出される可視光の量を増加させることが可能になる。従って、上記の酸化マグネシウム焼成物粉末は、ＡＣ型ＰＤＰの誘電体保護層の放電空間側の表面に形成される紫外光放出層の製造用として特に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明で用いる酸化マグネシウム焼成物粉末は、酸化マグネシウム源粉末と、アルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属のフッ化物粉末とを、補助金属のフッ化物の量がマグネシウム１００モルに対して０．０５〜３０モルの範囲となる割合にて含む粉末混合物を焼成することにより製造される。
【００１４】
上記の酸化マグネシウム焼成物粉末の製造において、酸化マグネシウム源粉末としては、酸化マグネシウム粉末、及び加熱により酸化マグネシウム粉末に転化するマグネシウム化合物粉末を用いることができる。加熱により酸化マグネシウム粉末に転化するマグネシウム化合物粉末の例としては、水酸化マグネシウム粉末、塩基性炭酸マグネシウム粉末、硝酸マグネシウム粉末及び酢酸マグネシウム粉末が挙げられる。酸化マグネシウム源粉末は、酸化マグネシウム粉末であることが好ましく、気相合成酸化法により製造された酸化マグネシウム粉末が特に好ましい。気相合成酸化法とは、金属マグネシウム蒸気と酸素含有気体とを気相で接触させて、金属マグネシウムを酸化して酸化マグネシウム粉末を製造する方法である。
【００１５】
酸化マグネシウム源粉末の純度は、９９．９５質量％以上であることが好ましい。酸化マグネシウム源粉末は、ＢＥＴ比表面積が５〜１５０ｍ2／ｇ、特に７〜５０ｍ2／ｇの範囲にあることが好ましい。なお、酸化マグネシウム源粉末の粒子径は、本発明の効果を損なわない限り特に制限されない。
【００１６】
上記の酸化マグネシウム焼成物粉末の製造に用いる補助金属のフッ化物粉末は、純度が９９．０質量％以上であることが好ましい。フッ化物粉末の粒子径は本発明の効果を損なわない限り特に制限されない。フッ化物粉末は、無水物であってもよいし、水和物であってもよい。フッ化物粉末は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００１７】
本発明で用いることができるアルカリ金属のフッ化物粉末の例としては、フッ化リチウム粉末、フッ化ナトリウム粉末及びフッ化カリウム粉末を挙げることができる。アルカリ土類金属のフッ化物粉末の例としては、フッ化カルシウム粉末及びフッ化バリウム粉末を挙げることができる。希土類金属のフッ化物粉末の例としては、フッ化イットリウム粉末、フッ化セリウム粉末及びフッ化ガドリニウム粉末を挙げることができる。
【００１８】
上記の酸化マグネシウム焼成物粉末の製造に際しては、まず、酸化マグネシウム源粉末と補助金属のフッ化物粉末とを混合し、粉末混合物を調製する。酸化マグネシウム源粉末とフッ化物粉末との配合割合は、フッ化物の量がマグネシウム１００モルに対して０．０５〜３０モルの範囲、好ましくは０．１〜２５モルの範囲、更に好ましくは０．２〜１５モルの範囲となる割合である。
【００１９】
上記の混合工程で得られた粉末混合物は、次いで加熱炉に入れられ、通常は、昇温速度１００〜５００℃／時間の条件で、好ましくは８５０〜１５００℃の範囲、より好ましくは９００〜１５００℃の範囲、更に好ましくは１０００〜１５００℃の範囲の温度にまで加熱され、次いでその範囲の温度で好ましくは１０分以上、より好ましくは２０分〜５時間、更に好ましくは２０分〜２時間加熱焼成される。粉末混合物の焼成物は次いで、通常は、降温速度１００〜５００℃／時間の条件で室温まで冷却され、目的の酸化マグネシウム焼成物粉末が得られる。
【００２０】
また、補助金属のフッ化物粉末に代えて、補助金属の酸化物粉末又は加熱により金属酸化物に転化する補助金属の化合物粉末（フッ化物粉末を除く）と、フッ化マグネシウム粉末及びフッ化アンモニウム粉末からなる群より選ばれる少なくとも一種のフッ化物粉末とを用いても、紫外光を高い効率で放出する酸化マグネシウム焼成物粉末を同様に製造することができる。これらの補助金属の酸化物粉末又は化合物粉末とフッ化物粉末とを用いる場合は、酸化マグネシウム源粉末と、補助金属の酸化物粉末又は化合物粉末と、フッ化物粉末とを、補助金属の量が粉末混合物中のマグネシウム１００モルに対して０．０５〜３０モルの範囲、好ましくは０．１〜２５モルの範囲、更に好ましくは０．２〜１５モルの範囲となり、フッ化物粉末中のフッ素の量が粉末混合物中の補助金属１モルに対して０．１〜１０モルの範囲、好ましくは０．５〜５モルの範囲となる割合で混合した混合粉末として焼成する。
【００２１】
加熱により補助金属の酸化物粉末に転化する化合物粉末としては、例えば、補助金属の水酸化物粉末、炭酸塩粉末、重炭酸塩粉末、硝酸塩粉末、酢酸塩粉末、シュウ酸塩粉末などが挙げられる。補助金属の酸化物粉末又は化合物粉末、及びフッ化物粉末は、純度が９９．０質量％以上であることが好ましい。これらの粉末の粒子径は本発明の効果を損なわない限り特に制限されない。
【００２２】
以上のようにして得られる酸化マグネシウム焼成物粉末は、酸化マグネシウムを主成分とし、フッ素と、アルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属とを含む焼成物粉末である。
【００２３】
上記の酸化マグネシウム焼成物粉末は、フッ素の含有量がマグネシウム１００モルに対して０．０１〜２４モルの範囲にあることが好ましく、０．０２〜１２モルの範囲にあることがより好ましく、０．０２〜５モルの範囲にあることが更に好ましい。補助金属の含有量は、マグネシウム１００モルに対して０．０１〜３０モルの範囲にあることが好ましく、０．０２５〜２５モルの範囲にあることがより好ましく、０．１〜５モルの範囲にあることが更に好ましい。また、補助金属の含有量は、フッ素１モルに対して、０．２５〜５０モルの範囲にあることが好ましく、０．４〜３０モルの範囲にあることが更に好ましい。また上記の酸化マグネシウム焼成物粉末は、ＢＥＴ比表面積が０．１〜３０ｍ2／ｇの範囲にあることが好ましい。
【００２４】
上記の酸化マグネシウム焼成物粉末は、スプレー法や静電塗布法などの公知の方法を用いることにより、ＡＣ型ＰＤＰや蛍光体ランプの紫外光放出層として有用な酸化マグネシウム膜とすることができる。酸化マグネシウム焼成物粉末の粒子径は本発明の効果を損なわない範囲であれば特に制限されない。
【実施例】
【００２５】
［実施例１〜３０、及び比較例１、２］
気相合成酸化法により製造された酸化マグネシウム粉末（２０００Ａ、宇部マテリアルズ（株）製、純度：９９．９８質量％、ＢＥＴ比表面積：８．７ｍ2／ｇ）６．０ｇ（０．１４９モル）に、下記表１に示す金属フッ化物粉末を、下記表１に示す量にて添加し、混合して粉末混合物を得た。得られた粉末混合物を容量２５ｍＬのアルミナ坩堝に投入し、アルミナ坩堝に蓋をして電気炉に入れ、２４０℃／時間の昇温速度にて、炉内温度を下記表１の温度にまで昇温し、次いでその温度で３０分間加熱焼成した。その後、炉内温度を２４０℃／時間の降温速度で室温まで冷却して、酸化マグネシウム焼成物粉末を得た。
【００２６】
表１
────────────────────────────────────────
金属フッ化物粉末      金属フッ化物粉末の添加量*)      炉内温度（℃）────────────────────────────────────────
実施例１    ＬｉＦ            ０．０１９３ｇ（０．５モル）      １２００
実施例２    ＬｉＦ            ０．０３８６ｇ（１．０モル）      １２００
実施例３    ＮａＦ            ０．０３１３ｇ（０．５モル）      １２００
実施例４    ＮａＦ            ０．０６２５ｇ（１．０モル）      １２００
実施例５    ＫＦ              ０．０４３２ｇ（０．５モル）      １２００
実施例６    ＫＦ              ０．０８６４ｇ（１．０モル）      １２００
実施例７    ＣａＦ2           ０．０５８１ｇ（０．５モル）      １２００
実施例８    ＣａＦ2           ０．１１６２ｇ（１．０モル）      １２００
実施例９    ＢａＦ2           ０．１３０５ｇ（０．５モル）      １２００
実施例１０  ＢａＦ2           ０．２６１０ｇ（１．０モル）      １２００
実施例１１  ＡｌＦ3           ０．０４１８ｇ（０．３３モル）    １２００
実施例１２  ＡｌＦ3           ０．０６２５ｇ（０．５モル）      １２００
実施例１３  ＡｌＦ3           ０．１２５０ｇ（１．０モル）      １２００
実施例１４  ＺｎＦ2・４Ｈ2Ｏ  ０．１３０６ｇ（０．５モル）      １２００
実施例１５  ＺｎＦ2・４Ｈ2Ｏ  ０．２６１２ｇ（１．０モル）      １２００
実施例１６  ＳｎＦ2           ０．１１６７ｇ（０．５モル）      １２００
実施例１７  ＳｎＦ2           ０．２３３４ｇ（１．０モル）      １２００
実施例１８  ＣｅＦ3           ０．０９６７ｇ（０．３３モル）    １２００
実施例１９  ＣｅＦ3           ０．１４６０ｇ（０．５モル）      １２００
実施例２０  ＣｅＦ3           ０．２９２０ｇ（１．０モル）      １２００
実施例２１  ＹＦ3             ０．１０９０ｇ（０．５モル）      １２００
実施例２２  ＹＦ3             ０．２１８０ｇ（１．０モル）      １２００
実施例２３  ＧｄＦ3           ０．０１５９ｇ（０．１モル）      １２００
実施例２４  ＧｄＦ3           ０．０７９６ｇ（０．５モル）      １２００
実施例２５  ＮａＦ            ０．０１６０ｇ（０．２５モル）    １０００
実施例２６  ＮａＦ            ０．１８８０ｇ（３．０モル）      １０００
実施例２７  ＮａＦ            ０．７５０ｇ（１２．０モル）      １０００
実施例２８  ＮａＦ            １．５００ｇ（２４．０モル）      １０００
実施例２９  ＮａＦ            ０．０６３０ｇ（１．０モル）      １３００
実施例３０  ＮａＦ            ０．１２５０ｇ（２．０モル）      １３００
────────────────────────────────────────
比較例１    添加せず              −                            １２００
比較例２    ＮｉＦ2           ０．１４３９ｇ（１．０モル）      １２００
────────────────────────────────────────
＊：括弧内は、金属フッ化物粉末の添加量をマグネシウム１００モルに対するモル量に換算した値。
ＬｉＦ：フッ化リチウム粉末（純度：９９．９質量％）
ＮａＦ：フッ化ナトリウム粉末（純度：９９質量％）
ＫＦ：フッ化カリウム粉末（純度：９９．９９質量％）
ＣａＦ2：フッ化カルシウム粉末（純度：９９質量％）
ＢａＦ2：フッ化バリウム粉末（純度：９９．９９９質量％）
ＡｌＦ3：フッ化アルミニウム粉末（純度：９９．９質量％）
ＺｎＦ2・４Ｈ2Ｏ：フッ化亜鉛・四水和物粉末（純度：９９質量％）
ＳｎＦ2：フッ化スズ粉末（純度：９９質量％）
ＣｅＦ3：フッ化セリウム粉末（純度：９９．９９質量％）
ＹＦ3：フッ化イットリウム粉末（純度：９９．９質量％）
ＧｄＦ3：フッ化ガドリニウム粉末（純度：９９．９９質量％）
ＮｉＦ2：フッ化ニッケル粉末（純度：９９質量％）
【００２７】
実施例１〜３０及び比較例１、２にて製造した酸化マグネシウム焼成物粉末に含まれるフッ素及びフッ化物として添加した金属の含有量、並びに紫外光発光強度は以下の方法により測定した。その結果を下記の表２に示す。
【００２８】
［フッ素及びフッ化物として添加した金属の含有量］
酸化マグネシウム焼成物粉末を塩酸で溶解して調製した溶液中のフッ素及びフッ化物として添加した補助金属の含有量を測定する。フッ素量は、ＪＩＳ−０１０２（工場排水試験方法）の３４．１に記載の方法により測定し、補助金属量はＩＣＰ発光分析により測定する。
【００２９】
［紫外光発光強度］
酸化マグネシウム焼成物粉末にＸｅガスのガス放電により生成した紫外光を照射して、焼成物粉末から放出された紫外光スペクトルを測定し、波長２５０ｎｍ付近（波長２３０〜２６０ｎｍの範囲）の最大ピーク値を紫外光発光強度として求める。
【００３０】
表２
────────────────────────────────────────
金属含有量        フッ素含有量      紫外光発光強度
（モル）          （モル）
────────────────────────────────────────
実施例１          ０．１            ０．０６          ３５６００
実施例２          ０．２            ０．０９          ５８３００
実施例３          ０．１            ０．０５        １２０３４４
実施例４          ０．２            ０．１０        １４１５００
実施例５          ０．１            ０．０７          ９９８７６
実施例６          ０．２            ０．１２          ９９７６７
実施例７          ０．５            ０．８２          ８６７１１
実施例８          １．０            １．６３          ８３２８９
実施例９          ０．５            ０．８９          ６６６６７
実施例１０        １．０            １．９１          ７３６４４
実施例１１        ０．３３          ０．２１          ７８５１１
実施例１２        ０．５            ０．３１          ９３１７８
実施例１３        １．０            ０．４７        １２２９８９
実施例１４        ０．５            ０．０３          ５０８４４
実施例１５        １．０            ０．０４          ３８８３３
実施例１６        ０．５            ０．０３          ３５３５６
実施例１７        １．０            ０．０７          ４３４００
実施例１８        ０．３３          ０．１０          ４０２６７
実施例１９        ０．５            ０．１３          ７１８６７
実施例２０        １．０            ０．２６          ９２１００
実施例２１        ０．５            ０．７３          ９８８４４
実施例２２        １．０            １．５２        １０３２６７
実施例２３        ０．１            ０．１７          ７８７４４
実施例２４        ０．５            ０．５９        １３１９１７
実施例２５        ０．０８          ０．０８        １１５６４４
実施例２６        ０．８            ０．７２        １１７９００
実施例２７        ２．２            ２．０            ７９９１１
実施例２８        ４．９            ４．２            ７６２８９
実施例２９        ０．１            ０．０５        １１１８６７
実施例３０        ０．１８          ０．０８        １９６１４４
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比較例１          なし              ０                  発光せず
比較例２          １．０            ０．２４              １００
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注１）金属含有量及びフッ素含有量は、マグネシウム１００モルに対する含有量。
注２）紫外光発光強度は、比較例２の紫外光発光強度を１００とした相対値。
【００３１】
表２に示した結果から明らかなように、酸化マグネシウム源粉末と、アルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属のフッ化物粉末とを本発明の範囲で含む粉末混合物を焼成して得られた酸化マグネシウム焼成物粉末は、Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光により励起されて波長２５０ｎｍ付近（波長２３０〜２６０ｎｍの範囲）にピーク波長を有する紫外光を高い効率で放出する。一方、比較例２に示すようにフッ化ニッケル粉末などの遷移金属のフッ化物粉末を用いて製造した酸化マグネシウム焼成物粉末は、波長２５０ｎｍ付近の紫外光を放出しても、その量はわずかである。