(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送されていく鋳鋼片の表層を直流プラズマによって溶融処理する方法において、
直流プラズマによる前記鋳鋼片の上面に対する溶融処理と並行して、誘導コイルによる誘導加熱によって前記鋳鋼片の搬送方向両側端面の上部領域を溶融するとともに、当該上部領域の溶融部を当該誘導コイルの電磁力によって保持することを特徴とする、鋳鋼片の表層溶融処理方法。
【請求項２】
前記上部領域は、前記鋳鋼片の上面から、当該鋳鋼片の厚さの１／２以下の範囲であることを特徴とする、請求項１に記載の鋳鋼片の表層溶融処理方法。
【請求項３】
前記鋳鋼片の上面に金属又は合金を添加することを特徴とする、請求項１または２に記載の鋳鋼片の表層溶融処理方法。
【請求項４】
前記誘導加熱は、搬送されていく鋳鋼片の両側に配置した誘導コイルによって行なわれ、
当該誘導コイルと鋳鋼片の端面との間に、耐火物からなる壁体を配置することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の鋳鋼片の表層溶融処理方法。
【請求項５】
前記誘導加熱は、搬送されていく鋳鋼片の両側に配置した誘導コイルによって行なわれ、
当該誘導コイルと鋳鋼片の端面との間に、水冷される導電性金属からなる複数のセグメントを、間隔をあけて配置することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の鋳鋼片の表層溶融処理方法。
【請求項６】
搬送されていく鋳鋼片の表層を、当該鋳鋼片の上方に配置したプラズマトーチからのプラズマアークによって溶融処理する装置において、
前記搬送されていく鋳鋼片の両側に配置されて、誘導加熱によって前記鋳鋼片の搬送方向両側端面の上部領域を溶融するとともに、当該上部領域の溶融部を電磁力によって保持する誘導コイルを有することを特徴とする、鋳鋼片の表層溶融処理装置。
【請求項７】
前記誘導コイルと鋳鋼片の端面との間に、耐火物からなる壁体が配置されたことを特徴とする、請求項６に記載の鋳鋼片の表層溶融処理装置。
【請求項８】
前記誘導コイルと鋳鋼片の端面との間に、水冷される導電性金属からなる複数のセグメントが、間隔をあけて配置されていることを特徴とする、請求項６に記載の鋳鋼片の表層溶融処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば鋼の連続鋳造鋳片や、圧延途中の鋼片などの鋳鋼片の表層を、プラズマによって加熱溶融処理するための表層溶融処理方法及びその装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば連続鋳造後の鋳片や圧延途中の鋼片の表層を溶融して改質する処理には、プラズマ加熱装置が用いられている（特許文献１参照）。
【０００３】
プラズマ加熱装置は、例えば搬送される鋳片に対向配置されたトーチを陰極、鋳片を陽極とする直流プラズマのプラズマトーチを備え、当該プラズマトーチと鋳片との間にプラズマアークを発生させ、そのプラズマアークの熱によって鋳片を加熱して溶融し、その表層を例えば改質処理するようになっている。
【０００４】
鋳鋼片の表層を溶融処理する場合には、鋳鋼片の表層をプラズマアークによって均一に加熱、溶融させ、可能な限り鋳鋼片の表層を均一に溶融処理する必要がある。したがって、たとえば特許文献１等に示す技術を用いて幅の広い鋳鋼片を加熱する場合、鋳鋼片の幅方向全体にプラズマアークを当てて、鋳鋼片を加熱する必要がある。このため、交流磁場の電磁力を用いてプラズマアークを鋳鋼片の幅方向（鋳鋼片の搬送方向とは直角の方向）に往復移動させて、鋳鋼片の上面を幅方向に渡って全面に加熱溶融することが提案されている（特許文献２参照）。なお本願において「鋳鋼片」とは、「鋳片」と「鋼片」を総称したものであり、「鋳片」とは鋳造後の鋼材を、「鋼片」とは鋳片を圧延した後の鋼材を意味している。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１９５５１２号公報
【特許文献２】特開昭５４−１４２１５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら前記従来の技術では、鋳鋼片の上面を均一に加熱溶融するには好適であったが、搬送方向両側端面部分を溶融するには至らなかった。搬送方向両側端面部分については、当該部分も溶融処理しないと、表面性状が荒れた状態のままになったり、端面表層部に存在する介在物を浮遊させて除去することができなくなり、この状態のまま圧延処理を実施すると、製品表面に疵が発生するおそれがある。
【０００７】
そのため従来技術の下では、この種の鋳鋼片の表層溶融処理を水平状態で実施する場合、上面の表層溶融処理が終わった後、続けて下面の表層溶融処理を行い、さらに続けて両端面（いわゆる短辺）の表層溶融処理を、別途実施する必要があった。その結果、いわば４面処理を行なうこととなり、処理工程の増加を招くとともに、短辺の表層溶融処理を行なうためだけの専用の処理設備が別な場所に別途必要となっていた。
【０００８】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、鋳鋼片の表層溶融処理を行なうにあたり、上面の表層溶融処理の際に、幅方向両側端面（いわゆる短辺）の表層溶融処理も同時に行うようにして、従来よりも処理工程を減らし、上記問題の解決を図ることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記問題を解決するため、本発明は、搬送されていく鋳鋼片の表層を直流プラズマによって溶融処理する方法において、
直流プラズマによる前記鋳鋼片の上面に対する溶融処理と並行して、誘導コイルによる誘導加熱によって前記鋳鋼片の搬送方向両側端面の上部領域を溶融するとともに、当該上部領域の溶融部を当該誘導コイルの電磁力によって保持することを特徴としている。
【００１０】
誘導コイルによる誘導加熱によって前記鋳鋼片の搬送方向両側端面の上部領域を溶融すると、そのままでは溶融部が下方に垂れ落ちてしまうが、誘導コイルの配置を、たとえば鋳鋼片の搬送方向両端面の外側に、搬送方向と平行に配置すると、その際に発生するピンチ力によって、溶融部は内側（鋳鋼片の中心側）に押される。これによって溶融部が垂れ落ちることなく、保持される。なお鋳鋼片が搬送されて誘導コイルによる加熱溶融領域のピーク部分を過ぎると、それに伴って次第に加熱温度が低下して冷却され、両側端面の溶融部は、プラズマによる溶融処理部と同様に固化していく。したがって、本発明によれば、鋳鋼片の上面の表層溶融処理の際に、搬送方向の両側端面（いわゆる短辺）の表層溶融処理も同時に行うことが可能である。
【００１１】
本発明は、その後に圧延処理を伴うか否かを問わず実施可能であるが、発明者の知見によれば、たとえばスラブは次工程の熱間圧延工程において圧延されると、スラブの幅方向端面（短辺）の溶融部は、圧延後は上部領域は上面に、下部領域は下面に回りこむ。したがってこのような次工程の圧延処理を考慮すれば、前記上部領域は、前記鋳鋼片の上面から、当該鋳鋼片の厚さの１／２以下の範囲であることが提案できる。
【００１２】
かかる場合、予め圧下率に応じてそのような回り込み量を調べておけば、実際の端面の溶融処理工程において溶融処理する上部領域の長さ（鋳鋼片上面の位置から厚み方向の長さ）を、無駄なく設定することが可能である。回り込み量を調べるにあたっては、たとえば予めスラブの端面に疵状のマーキングを施しておき、圧延を行い調査することが提案できる。さらにまた実際に発明者が調べたところでは、２５０ｍｍ厚のスラブを６ｍｍの厚さに圧延した場合、上面や下面に回り込む量は、鋳鋼片上面の位置から厚み方向に１０ｍｍ〜４０ｍｍ程度である。したがってこの圧下率の場合には、実際に端面の溶融処理を実施する場合の上部領域の長さの設定は、１０ｍｍ〜４０ｍｍを下限とし、一方上限は、鋳鋼片の厚みの１／２以下でよいことになる。
【００１３】
本発明は、性状を整えたり、介在物を浮遊させるために使用してもよいが、もちろん従来のプラズマによる表層溶融処理と同様、前記鋳鋼片の上面に金属又は合金を添加するようにしてもよい。
【００１４】
前記誘導加熱は、搬送されていく鋳鋼片の両側に配置した誘導コイルによって行なわれ、当該誘導コイルと鋳鋼片の端面との間に、耐火物からなる壁体を配置するようにしてもよい。搬送中の鋳鋼片は振動を伴っており、端面の溶融部が当該振動によって誘導コイルに接触することも考えられる。したがって、当該誘導コイルと鋳鋼片の端面との間に、耐火物からなる壁体を配置しておけば、誘導コイルの保護を図ることができる。また同時に溶融部の保温が図れ、さらに壁体を端面に近接して配置することで、溶融部の表面性状が、いわゆる湯面の波立ちによって凹凸が生じて粗くなることを抑えることができる。
【００１５】
前記した耐火物の壁体に代えて、当該誘導コイルと鋳鋼片の端面との間に、水冷される導電性金属からなる複数のセグメントを、間隔をあけて配置するようにしてもよい。かかる場合にも、誘導コイルの保護を図ることができるが、それに加え、仮に溶融部が当該セグメントに接触しても、直ちに冷却されてピンチ力によって内側に押し戻されるので、防護壁としての耐久性が、前記耐火物の壁体よりも向上する。
【００１６】
別な観点によれば、本発明は、搬送されていく鋳鋼片の表層を、当該鋳鋼片の上方に配置したプラズマトーチからのプラズマアークによって溶融処理する装置において、前記搬送されていく鋳鋼片の両側に配置されて、誘導加熱によって前記鋳鋼片の搬送方向両側端面の上部領域を溶融するとともに、当該上部領域の溶融部を電磁保持する誘導コイルを有する、鋳鋼片の表層溶融処理装置である。
【００１７】
かかる装置においても、前記誘導コイルと鋳鋼片の端面との間に、耐火物からなる壁体が配置されたり、水冷される導電性金属からなる複数のセグメントが、間隔をあけて配置されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、鋳鋼片の表層溶融処理を行なうにあたり、上面の表層溶融処理の際に、両端面（いわゆる短辺）の表層溶融処理も同時に行うことができるので、従来よりも処理工程を減らすことが可能であり、また上面の表層溶融処理の際に、両端面の表層溶融処理も同時に行うので、従来のように両端面の表層溶融処理だけを行なう設備を、別な場所に独立して設ける必要がない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の好ましい実施の形態について図を参照して説明する。図１は、本実施の形態にかかる表層溶融処理装置１の構成の概略を側面からみた模式図であり、図２は同じく正面からみた模式図である。
【００２０】
この表層溶融処理装置１は、水平方向に搬送される鋳片Ｈの搬送ライン上に設けられている。表層溶融処理装置１は、例えば搬送方向Ａに搬送される鋳片Ｈの上方に配置された、１本または複数本のプラズマトーチＴを有している。本実施の形態では、図示の都合上、３本のプラズマトーチＴを描図している。プラズマトーチＴは、複数本の場合には鋳片Ｈの幅方向Ｂに沿って並列に配置されるが、プラズマトーチＴ自体の本数は任意である。プラズマトーチＴの先端部は、例えばアルゴンガスや、水素とアルゴンガスの混合ガスのガス雰囲気にされるチャンバ２内に配置されている。
【００２１】
プラズマトーチＴは、直流電源（図示せず）からの電圧の印加によって、鋳片Ｈとの間に直流プラズマによるプラズマアークＰを形成させる。プラズマアークＰには、鋳片Ｈ側からプラズマトーチ側に電流が流れている。プラズマアークＰを生成するためのプラズマガスとしては、非酸化性ガス、例えばアルゴンガスや、水素とアルゴンガスの混合ガスが好ましい。
【００２２】
プラズマトーチＴの下方であって、かつ鋳片Ｈの搬送方向Ａの前後、すなわちプラズマトーチＴによって形成されるプラズマアークＰの搬送方向Ａの前後には、線状の電磁コイル１１、１２が、対向して平行に設けられている。これらの電磁コイル１１、１２は、交流電源（図示せず）からの交流電流の供給によって、プラズマアークＰに対して周期的にローレンツ力を作用させて、プラズマアークＰを、供給される交流の周波数に応じて鋳片Ｈの幅方向Ｂに往復移動させる。これによって、プラズマアークＰは、鋳片Ｈの上面に対して幅方向Ｂに渡って照射可能である。
【００２３】
鋳片ＨにおけるプラズマトーチＴからのプラズマアークＰが照射される位置の幅方向両側、すなわち前記搬送されていく鋳片Ｈの両側の外方には、線状の誘導コイル２１、２２が対向配置されている。たとえば搬送方向Ａに向かって右側に配置されている誘導コイル２１について詳しく説明すると、この誘導コイル２１は、複数の線状の誘導コイル２１が、鋳片Ｈの幅方向端面の外方において鋳片Ｈの搬送方向Ａと平行に、かつ多段に配置されている。これら誘導コイル２１に対しては交流電源２３からの交流電流が供給される。誘導コイル２１の設置長さＬは、鋳片Ｈの搬送速度にもよるが、概ね５０〜１００ｍｍである。また誘導コイル２１の多段配置の高さｈは、鋳片Ｈの幅方向端面において所望の溶融処理を行なう上部領域を、加熱溶融するに足りるように設定されている。
【００２４】
誘導コイル２１と鋳片Ｈの端面との間には、図３にも示したように、耐火物からなる壁体２４が配置されている。この壁体２４の長さ、高さは、誘導コイル２１をカバーするように設定されている。本実施の形態において使用した壁体２４は、マグネシアボードからなっている。また壁体２４の内側端面と鋳片Ｈの端面との間の隙間ｄは、壁体が鋳片に凝固しないためには、１ｍｍ以上の距離に設定されていることが好ましい。但し、隙間ｄが大きすぎると電磁力が弱くなるので、隙間ｄは５ｍｍ以下が好ましい。
【００２５】
プラズマトーチＴよりも搬送方向後方側には，搬送方向Ａからみて，各プラズマトーチＴ間の位置に，鋳片Ｈの上面に対して，金属や合金を添加するためのアロイング素材供給部３１が配置されている。また鋳片Ｈの上面における幅方向端面近傍に対しても，金属や合金を添加するためのアロイング素材供給部３１が配置されている。これらアロイング素材供給部３１に対しては，チャンバ２外に設置されたアロイング素材ホッパー（図示せず）から，アロイング素材となる所定量の金属や合金の粉末、粒等が供給される。
【００２６】
本実施の形態にかかる表層溶融処理装置１は，以上の構成を有しており，鋳片Ｈの表層溶融処理を行なう場合，プラズマトーチＴと鋳片Ｈとの間に直流プラズマによるプラズマアークＰを形成した状態で，図４に示したように，アロイング素材供給部３１から所定の金属や合金等のアロイング素材３２を鋳片Ｈに対して供給しつつ，鋳片Ｈを搬送する。このとき電磁コイル１１，１２を作動させることで，図５の往復矢印で示したように，プラズマアークＰは交流磁場による電磁力を受けて，鋳片Ｈの幅方向Ｂに往復移動する。これによって鋳片Ｈの上面の表層部は，全面に渡って順次溶融処理されて，アロイング素材３２を添加した所定の表層溶融処理が行なわれていく。
【００２７】
そしてかかるプラズマアークＰによる上面の溶融処理の際に，鋳片Ｈの幅方向の両側に配置されている誘導コイル２１，２２に対して交流電源２３から交流電流を印加すると，誘導加熱によって，鋳片Ｈの幅方向両端面の上部領域Ｘが加熱溶融される。このとき上部領域Ｘにおいて溶融した部分は，垂れ落ちようとするが，誘導コイルの磁場Ｇによるピンチ力によって，同図中の太矢印で示したように、溶融部分は幅方向Ｂ沿って中心側へと押し付けられるから、垂れ落ちることはなく、保持される。また同時にこのピンチ力によって溶融部分は攪拌され、添加されるアロイング素材も、均一に溶融部分に混ざりこむ。
【００２８】
誘導コイル２１，２２に対して印加されている交流の向きが変わっても、図６に示したように、磁場Ｇの向きが逆になるだけで、磁場Ｇによって発生するピンチ力によって、やはり溶融部分は、同図中の太矢印で示したように中心側へと押し付けられるから、垂れ落ちることはない。
【００２９】
このようにして、プラズマアークＰによる上面の表層溶融処理と並行して、誘導コイル２１、２２によって鋳片Ｈの幅方向端面の上部領域Ｘの表層も溶融処理がなされる。したがって、本実施の形態にかかる表層溶融処理装置１によれば、鋳片Ｈに対して、上面の表層溶融処理と、幅方向端面の上部領域Ｘの表層溶融処理とが同時に行なえる。それゆえ、たとえばスラブの全面に対して表層溶融処理を施す場合にも、上部領域Ｘの長さを適宜設定することで、同一装置を使用して上面と下面の２回の溶融処理を行なえば足り、従来よりも工程数が少なくてすむ。また幅方方向端面の溶融処理を行なうにあたっても、従来の溶融処理装置に対して、幅方向両側に誘導コイルを配置するだけでよいので、幅方向端面専用の溶融設備を別の場所に別途設置する必要はない。
【００３０】
さらにまた本実施の形態では、誘導コイル２１、２２と鋳片Ｈの端面との間には、例えばアルミナ系やマグネシア系等のＣを含有しない耐火物からなる壁体２４が配置されているので、端面の溶融部分が飛び散ることがあっても、誘導コイル２１、２２に接触することはなく、誘導コイル２１、２２を保護することができる。
【００３１】
また壁体２４が上部領域Ｘの溶融部分を覆う格好となっているから、溶融部分からの放熱は押えられ、その結果誘導加熱に要する交流電源２４の消費電力を抑えることができる。
【００３２】
さらにまた壁体２４は、上部領域Ｘに近接して配置されているので、いわゆる湯面の波立ち現象によって溶融部分の表面に凹凸が形成されようとしても、これを壁体２４と端面との間の隙間ｄの長さ以下に抑えて、表面粗度を小さく押えることが可能である。
【００３３】
そのようにして鋳片Ｈの幅方向端面の上部領域Ｘを溶融処理する場合、上部領域Ｘの高さ（鋳片Ｈの上面から上部領域Ｘの下端までの長さ）をどのように設定するかは、処理対象となる鋳鋼片の用途、サイズ、鋼種類に応じて任意に設定することができる。
【００３４】
たとえば後に圧延工程を伴う場合、既述したように、圧延されると鋳鋼片の幅方向両端面（短辺）の溶融部分は、圧延後は上部領域は上面に、下部領域は下面に回りこむ。したがってこのような次工程の圧延工程を考慮すれば、溶融対象とする上部領域Ｘの高さは、必ずしも鋳片Ｈの厚みの１／２に設定する必要はなく、それよりも短いもので足りる。発明者の知見では、前述の圧下率では上部領域Ｘの高さは、１０ｍｍ〜４０ｍｍを下限として設定すればよいとの知見を得ている。なお上部領域Ｘの高さは、圧下率に応じて適宜設定することが好ましい。
【００３５】
前記実施の形態では、誘導コイル２１、２２と鋳片Ｈの端面との間に、耐火物からなる壁体２４を配置したが、これに代えて図７に示したように、水冷される導電性金属からなる複数のセグメント４１を、間隔Ｄをあけて配置するようにしてもよい。このセグメント４１は、たとえば四角柱の銅によって構成され、中心には冷却水が流れる流路４２が形成されている。
【００３６】
このようなセグメント４１を耐火物からなる壁体２４に代えて配置しても、間隔Ｄを適切に設定することで、端面の溶融部分が飛び散って、誘導コイル２１、２２に接触してスパークが発生することを防止できる。なおこのセグメント４１は間隔Ｄをあけて設置されているので、誘導コイル２１による誘導電流は、各セグメント４１において渦電流となり、その結果、各セグメント４１に発生する固有の誘導電流に起因する磁場はキャンセルされて、前記した耐火物からなる壁体２４と同様に、端面の上部領域を誘導加熱によって溶融することができ、またピンチ力によって溶融部分を保持することができる。そしてセグメント４１自体は水冷されているので、表面温度は常に低く抑えられており、セグメント４１に接触した溶融金属は直ちに冷却され、前記ピンチ力によって直ちに端面側へと押し戻される。それゆえ耐火物からなる壁体よりも耐久性は向上している。なおセグメント４１、４１間の間隔Ｄの長さについては、飛び散った溶融部分が誘導コイル２１、２２に接触するのを防止するという観点からすれば短いもの程よく、発明者らの知見では０．２ｍｍ未満が好適であり、０．１ｍｍ未満がさらに好ましい。なお間隔Ｄの下限値については、特に規定されるものではなく、各セグメント４１において渦電流を生じさせるという機能からして、間隔Ｄが存在していればよい。
【実施例１】
【００３７】
（金属を添加した例）
連続鋳造を完了した０．２％Ｃ鋼（単位は質量％）の厚さ２５０ｍｍ、幅を１２００ｍｍの鋳片を切断後に、前記した実施の形態で説明したプラズマ加熱溶融により溶融処理する方法を用いて、アロイング素材としてニッケルを添加して連続鋳造鋳片の表層５ｍｍを１０ｍｍ／ｓの速度で溶融処理した。この時、各プラズマトーチＴの間隔は１００ｍｍとし、１２本のトーチを使用した。また端部にはコーナーから４０ｍｍの高さまで１０ｍｍピッチで配置した内径６ｍｍ、外径８ｍｍのアルミナで被覆された水冷銅パイプ４本の誘導コイルを配置した。そして３０ｋＨｚの高周波電流を誘導コイルと連続鋳造鋳片の幅歩行端面間の磁束密度が０．０８Ｔとなるように通電し処理した。
【００３８】
その結果、全体に溶融深さが５ｍｍ±０．５ｍｍの均一な溶融状態が得られ、端部の溶け落ち現象も抑えられた。またカントバック分析でニッケル濃度が１質量％を目標として添加した、アロイング素材としてのニッケルの濃度も１±０．２％と良好であった。
【００３９】
なお、誘導コイルに加えて、処理する鋳鋼片と誘導コイル間に鋳鋼片との隙間が１ｍｍとなるように設置した耐火物あるいは水冷銅セグメントの壁体を併用した際には、溶融保持の際に発生する湯面の波立ちが抑えられ、そのような壁体を使用しない場合には短辺処理部の凹凸が１ｍｍ程度見られたものが、０．５ｍｍ以下と改善された。
【実施例２】
【００４０】
（介在物を浮遊させる例）
連続鋳造を完了した０．２％Ｃ鋼（単位は質量％）の厚さ２５０ｍｍ、幅を１２００ｍｍの鋳片を切断後に、前記した実施の形態で説明したプラズマ加熱溶融により溶融処理する方法を用いて、連続鋳造鋳片の表層５ｍｍを１０ｍｍ／ｓの速度で溶融処理した。各プラズマトーチＴの間隔は１００ｍｍとし、１２本のトーチを使用した。また端部にはコーナーから４０ｍｍの高さまで１０ｍｍピッチで配置した内径６ｍｍ、外径８ｍｍのアルミナで被覆された水冷銅パイプ４本の誘導コイルを配置した。そして３０ｋＨｚの高周波電流を誘導コイルと連続鋳造鋳片の幅歩行端面間の磁束密度が０．０８Ｔとなるように通電し、金属元素等を添加せずに溶融処理した。
【００４１】
そして処理前および処理後のサンプル（鋳造方向に５０ｃｍ、全幅及び溶融処理を行なう短辺部位の表面から深さ方向に１ｍｍピッチで段削りしたもの）について、５０μｍ以上の介在物、気泡数を調査したところ、処理前材料ではサンプル中に数個存在したのに対し、処理後材料では、溶融深さ５ｍｍ程度までは全く欠陥が観察されなかった。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、鋳鋼片の上面と幅方向端面を表層処理する際に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】実施の形態にかかる表層溶融処理装置の構成の概略を側面からみて模式的に示した説明図である。
【図２】実施の形態にかかる表層溶融処理装置の構成の概略を正面からみて模式的に示した説明図である。
【図３】耐火物からなる壁体の斜視図である。
【図４】実施の形態にかかる表層溶融処理装置によって溶融処理している様子を側面からみて模式的に示した説明図である。
【図５】鋳鋼片の上部領域を溶融処理している様子を正面からみて模式的に示した説明図である。
【図６】誘導コイルの電流の向きが図５とは逆になった場合の、鋳鋼片の上部領域を溶融処理している様子を正面からみて模式的に示した説明図である。
【図７】壁体に代えて使用可能なセグメントの斜視図である。
【符号の説明】
【００４４】
１    表層溶融処理装置
２    チャンバ
３    制御装置
１１、１２    電磁コイル
２１、２２    誘導コイル
２３    交流電源
２４    壁体
３１    アロイング素材供給部
４１    セグメント
４２    流路
Ａ    搬送方向
Ｂ    幅方向
ｄ    隙間
Ｄ    間隔
ｈ    高さ
Ｈ    鋳片
Ｌ    長さ
Ｐ    プラズマアーク
Ｔ    プラズマトーチ
Ｘ    上部領域
【図１】
0005009121.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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