(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハを保持する保持溝を上部に形成した保持体と、
前記保持溝を傾斜させた洗浄後の保持体に向けて乾燥剤を噴射して保持体を乾燥させる乾燥手段と、
前記乾燥手段を保持体に沿って移動させる移動手段と、
前記乾燥手段に設け、保持体の上部側に向けて乾燥剤を噴射する第１の乾燥剤噴射口と、
前記第１の乾燥剤噴射口よりも下方側で、かつ、乾燥時の移動方向に対して後方側に設け、保持体の下部側に向けて乾燥剤を噴射する第２の乾燥剤噴射口と、
前記第１の乾燥剤噴射口と第２の乾燥剤噴射口の上下方向及び前後方向の間に設け、保持体の側部に向けて乾燥剤を噴射する第３の乾燥剤噴射口と、
を有することを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
左右の保持体を、各保持溝を外側に向けて傾斜させたことを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
上部に形成した保持溝でウエハを保持する保持体を洗浄した後に、保持体に向けて乾燥剤を噴射する乾燥手段を保持体に沿って移動させて保持体の乾燥を行う洗浄方法において、
前記乾燥手段に設けた第１の乾燥剤噴射口から前記保持溝を傾斜させた保持体の上部側に向けて乾燥剤を噴射し、
前記第１の乾燥剤噴射口よりも下方側で、かつ、乾燥時の移動方向に対して後方側に設けた第２の乾燥剤噴射口から保持体の下部側に向けて乾燥剤を噴射し、
前記第１の乾燥剤噴射口と第２の乾燥剤噴射口の上下方向及び前後方向の間に形成した第３の乾燥剤噴射口から保持体の側部に向けて乾燥剤を噴射することを特徴とする洗浄方法。
【請求項４】
左右の保持体を、各保持溝を外側に向けて傾斜させることを特徴とする請求項３に記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置及び洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、たとえば半導体ウエハの洗浄処理を行う基板処理装置においては、複数枚の半導体ウエハを保持体で保持して装置内部を搬送するための搬送機構を設けるとともに、保持体に付着した汚染物を洗浄するための洗浄機構を設けていた。
【０００３】
この洗浄機構は、被洗浄体としての保持体に向けて洗浄液を噴射する洗浄手段と保持体に向けて乾燥剤を噴射する乾燥手段とを一体化した洗浄乾燥手段を保持体に沿って往復移動可能に構成しており、乾燥手段には、保持体の側部に向けて乾燥剤を噴射する複数の乾燥剤噴射口を上下に縦一列に並べて形成していた。
【０００４】
そして、洗浄機構は、洗浄乾燥手段の往動時に洗浄液噴射口から保持体に向けて洗浄液を噴射して保持体の洗浄動作を行い、その後、洗浄乾燥手段の復動時に乾燥剤噴射口から保持体に向けて乾燥剤を噴射して保持体の乾燥動作を行い、洗浄乾燥手段の往復移動で保持体の洗浄を完結するようにしていた。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２６６０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、上記従来の洗浄機構では、乾燥手段の乾燥剤噴射口を上下に縦一列に並べて形成していたために、乾燥手段が保持体の上部側から下部側まで同時に乾燥剤を噴き付けながら保持体に沿って移動することになり、保持体の上部側に噴き付けられた乾燥剤によって流下した洗浄液が保持体の下部側に付着してしまい、保持体の乾燥を良好に行えないおそれがあった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
そこで、請求項１に係る本発明では、洗浄装置において、ウエハを保持する保持溝を上部に形成した保持体と、前記保持溝を傾斜させた洗浄後の保持体に向けて乾燥剤を噴射して保持体を乾燥させる乾燥手段と、前記乾燥手段を保持体に沿って移動させる移動手段と、前記乾燥手段に設け、保持体の上部側に向けて乾燥剤を噴射する第１の乾燥剤噴射口と、前記第１の乾燥剤噴射口よりも下方側で、かつ、乾燥時の移動方向に対して後方側に設け、保持体の下部側に向けて乾燥剤を噴射する第２の乾燥剤噴射口と、前記第１の乾燥剤噴射口と第２の乾燥剤噴射口の上下方向及び前後方向の間に設け、保持体の側部に向けて乾燥剤を噴射する第３の乾燥剤噴射口とを有することにした。
【０００８】
また、請求項２に係る本発明では、前記請求項１に係る本発明において、左右の保持体を、各保持溝を外側に向けて傾斜させることにした。
【０００９】
また、請求項３に係る本発明では、上部に形成した保持溝でウエハを保持する保持体を洗浄した後に、保持体に向けて乾燥剤を噴射する乾燥手段を保持体に沿って移動させて保持体の乾燥を行う洗浄方法において、前記乾燥手段に設けた第１の乾燥剤噴射口から前記保持溝を傾斜させた保持体の上部側に向けて乾燥剤を噴射し、前記第１の乾燥剤噴射口よりも下方側で、かつ、乾燥時の移動方向に対して後方側に設けた第２の乾燥剤噴射口から保持体の下部側に向けて乾燥剤を噴射し、前記第１の乾燥剤噴射口と第２の乾燥剤噴射口の上下方向及び前後方向の間に形成した第３の乾燥剤噴射口から保持体の側部に向けて乾燥剤を噴射することにした。
【００１０】
また、請求項４に係る本発明では、前記請求項３に係る本発明において、左右の保持体を、各保持溝を外側に向けて傾斜させることにした。
【発明の効果】
【００１１】
そして、本発明では、以下に記載する効果を奏する。
【００１２】
すなわち、本発明では、第１の乾燥剤噴射口よりも下方側で、かつ、乾燥時の移動方向に対して後方側に第２の乾燥剤噴射口を設けているために、第１の乾燥剤噴射口から被洗浄体に乾燥剤が吹き付けられた後に、第２の乾燥剤噴射口から被洗浄体に乾燥剤が吹き付けられることになり、被洗浄体の洗浄後の乾燥時において第１の乾燥剤噴射口から被洗浄体の上部側に噴き付けられた乾燥剤によって流下した洗浄液をその後に第２の乾燥剤噴射口から被洗浄体の下部側に噴き付けられる乾燥剤で乾燥させることができ、被洗浄体の乾燥を良好に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明の具体的な実施例について、半導体ウエハ（基板）の洗浄処理や乾燥処理を施す基板処理装置を例に挙げて図面を参照しながら説明する。
【００１４】
図１に示すように、基板処理装置１は、複数枚の半導体ウエハ（以下、「ウエハ２」という。）を収容したキャリア３の搬入及び搬出を行うキャリア搬入出部４と、キャリア３に収容されたウエハ２の搬入及び搬出を行うウエハ搬入出部５と、ウエハ２の洗浄処理及び乾燥処理を行うウエハ処理部６とで構成している。
【００１５】
キャリア搬入出部４は、キャリア３を載置するキャリアステージ７に密閉状の開閉扉８を形成し、この開閉扉８の内側にキャリア搬送機構９とキャリアストック10とキャリア載置台11を配設している。
【００１６】
そして、キャリア搬入出部４では、キャリア搬送機構９によってキャリアステージ７に載置されたキャリア３を必要に応じてキャリアストック10に一時的に保管するとともに、キャリア載置台11に搬入するようにしている。また、キャリア搬入出部４では、ウエハ処理部６で処理が完了したウエハ２が収容されたキャリア３に対し、搬入時とは逆に、キャリア載置台11に載置されたキャリア３を必要に応じてキャリア搬送機構９によってキャリアストック10に一時的に保管するとともに、キャリアステージ７に搬出するようにしている。
【００１７】
ウエハ搬入出部５は、キャリア搬入出部４との間に密閉状の開閉扉12を形成するとともに、この開閉扉12の内側にウエハ搬入出機構13とウエハ搬送機構14の始端部とを配設している。
【００１８】
そして、ウエハ搬入出部５では、キャリア搬入出部４のキャリア載置台11に載置したキャリア３に収容されたウエハ２をウエハ搬入出機構13によってウエハ搬送機構14に搬入するとともに、ウエハ搬送機構14によってウエハ処理部６にウエハ２を搬送し、一方、ウエハ処理部６で処理が完了したウエハ２をウエハ搬送機構14によってウエハ処理部６からウエハ搬入出機構13に搬送するとともに、ウエハ搬入出機構13によってウエハ搬送機構14からキャリア搬入出部４のキャリア載置台11に載置したキャリア３に搬出するようにしている。
【００１９】
ウエハ処理部６は、ウエハ２の洗浄処理を行う第１〜第３のウエハ洗浄装置15,16,17と、ウエハ２の洗浄処理及び乾燥処理を行うウエハ洗浄乾燥装置18と、ウエハ搬送機構14に設けたウエハ２を保持する保持体19の洗浄を行う洗浄装置20とを並べて配設するとともに、これら各装置15,16,17,18,20に沿ってウエハ搬送機構14を配設している。
【００２０】
そして、ウエハ処理部６では、ウエハ搬送機構14によってウエハ搬入出部５からウエハ２を第１〜第３のウエハ洗浄装置15,16,17やウエハ洗浄乾燥装置18に搬送して、ウエハ２の洗浄処理や乾燥処理を行い、その後、処理後のウエハ２をウエハ搬送機構14によってウエハ搬入出部５へ再び搬送するようにしている。
【００２１】
また、ウエハ処理部６では、ウエハ搬送機構14の保持体19を洗浄装置20で洗浄して、保持体19に付着した汚染物がウエハ２に転写しないようにしている。
【００２２】
この洗浄装置20は、図２に示すように、ウエハ搬送機構14の前方にケーシング21を配設するとともに、ケーシング21の側面及び前面にウエハ搬送機構14の保持体19を挿通する開口22を形成し、この開口22からケーシング21の内部に保持体19を収容するようにしている。
【００２３】
また、洗浄装置20は、ケーシング21の内部に収容した保持体19に沿って洗浄乾燥手段23を移動手段24によって移動可能に設けるとともに、ケーシング21の内部にエアー噴出手段25を配設している。
【００２４】
以下に、ウエハ搬送機構14、洗浄乾燥手段23、エアー噴出手段25の構成について説明する。
【００２５】
まず、ウエハ搬送機構14の構成について説明すると、ウエハ搬送機構14は、図２及び図３に示すように、第１〜第３のウエハ洗浄装置15,16,17やウエハ洗浄乾燥装置18に沿って移動可能に形成した移動体26に保持体19を形成している。この保持体19は、ウエハ２の下部を保持する下部保持体27とウエハ２の左右側部を保持する左右一対の左右保持体28,29とで構成しており、各保持体27,28,29の上部にウエハ２を１枚ずつ保持する保持溝30を前後に並べて形成している。
【００２６】
下部保持体27は、移動体26の中央部に突出させた固定軸31に固定アーム32を介して取付けている。また、左右保持体28,29は、移動体26の左右側部に突出させた回動軸33,34に回動アーム35,36を介して取付けている。これにより、下部保持体27は、移動体26に固定されており、左右保持体28,29は、移動体26に対して回動可能に取付けられている。そして、左右保持体28,29は、回動軸33,34を回転駆動することによって、図３に示すように、ウエハ２を保持する時には、回動アーム35,36を左右外側に跳ね上げ保持溝30を内側に向けてウエハ２の左右端部を保持する保持姿勢（図３中、一点鎖線で示す状態。）とし、一方、洗浄時には、回動アーム35,36を下方に垂下させ保持溝30を外側に傾斜状に向けた洗浄姿勢（図３中、実線で示す状態。）とすることができ、保持姿勢と洗浄姿勢とに姿勢変更可能としている。ここで、左右保持体28,29は、保持姿勢では外側に移動して左右の間隔が拡大し、一方、洗浄姿勢では内側に移動して左右の間隔が縮小するようにして、洗浄姿勢のほうが保持姿勢よりも小型化させるようにしている。このように、左右保持体28,29の洗浄姿勢を保持姿勢よりも小型化させることによって、洗浄装置20の小型化を図ることができる。
【００２７】
次に、洗浄乾燥手段23の構成について説明すると、洗浄乾燥手段23は、図２及び図４〜図８に示すように、洗浄ユニット37と洗浄乾燥ユニット38と乾燥ユニット39とカバー板40とを順に一体的に取付けており、移動手段24によって保持体19に沿って一体的に往復移動し、往動時（図２において、保持体19の先端側（左側）から基端側（右側）に移動する時）に洗浄ユニット37と洗浄乾燥ユニット38から保持体19に向けて洗浄液を噴射して保持体19の洗浄を行い、復動時（図２において、保持体19の基端側（右側）から先端側（左側）に移動する時）に洗浄乾燥ユニット38と乾燥ユニット39から保持体19に向けて乾燥剤を噴射して洗浄後の乾燥を行って、一連の洗浄動作を完結するようにしている。
【００２８】
洗浄ユニット37は、矩形板状のユニット本体41に各保持体27,28,29を挿通する３個の開口42,43,44を左右に並べて形成するとともに、各開口42,43,44の左右側部に３個の洗浄液噴射口45a,45b,45cを上下に間隔をあけて縦一列に形成し、さらには、ユニット本体41に各洗浄液噴射口45a,45b,45cに連通する連通路46を形成しており、この連通路46に純水を供給する純水供給源47を開閉バルブ48を介して連通連結している。これにより、洗浄ユニット37は、開閉バルブ48を開放状態とすることで、純水供給源47から供給される純水を洗浄液として各開口42,43,44の洗浄液噴射口45a,45b,45cから各保持体27,28,29の側部に向けて噴射するようにしている。
【００２９】
洗浄乾燥ユニット38は、矩形板状のユニット本体49に３個の２流体混合ノズル50,51,52を取付けるとともに、各２流体混合ノズル50,51,52に純水供給源47と窒素ガスを供給する窒素ガス供給源53とをそれぞれ開閉バルブ54,55を介して連通連結しており、各２流体混合ノズル50,51,52の噴射口56,57,58を各保持体27,28,29の直上方に位置させている。これにより、洗浄乾燥ユニット38は、両開閉バルブ54,55を開放状態とすることで、純水供給源47から供給される純水と窒素ガス供給源53から供給される窒素ガスとを各２流体混合ノズル50,51,52で混合し、混合流体を洗浄液として各２流体混合ノズル50,51,52の噴射口56,57,58から各保持体27,28,29の上部に向けて噴射するようにしている。また、洗浄乾燥ユニット38は、純水側の開閉バルブ54を閉塞状態とするとともに窒素ガス側の開閉バルブ55だけを開放状態とすることで、窒素ガス供給源53から供給される窒素ガスを乾燥剤として各２流体混合ノズル50,51,52の噴射口56,57,58から各保持体27,28,29の上部に向けて噴射するようにしている。
【００３０】
ここで、洗浄乾燥ユニット38では、左右の２流体混合ノズル50,52の噴射口56,58を左右保持体28,29の直上方に配置しており、洗浄時には左右保持体28,29が保持溝30を外側に傾斜状に向けた洗浄姿勢となっているため、左右保持体28,29の保持溝30に対して相対的に外側に傾斜した状態で洗浄液を噴射するようにしている。
【００３１】
乾燥ユニット39は、矩形板状のユニット本体59に各保持体27,28,29を挿通する３個の開口60,61,62を左右に並べて形成するとともに、各開口60,61,62の左右側部に４個の乾燥剤噴射口63a,63b,63c,63dを上下に間隔をあけて形成し、さらには、ユニット本体59に各乾燥剤噴射口63a,63b,63c,63dに連通する連通路64を形成しており、この連通路64に窒素ガス供給源53を開閉バルブ65を介して連通連結している。これにより、乾燥ユニット39は、開閉バルブ65を開放状態とすることで、窒素ガス供給源53から供給される窒素ガスを乾燥剤として各開口60,61,62の乾燥剤噴射口63a,63b,63c,63dから各保持体27,28,29の側部に向けて噴射するようにしている。
【００３２】
この乾燥ユニット39では、図５に示すように、４個の乾燥剤噴射口63a,63b,63c,63dが上方側から順に乾燥時の移動方向（図２において、保持体19の基端側（右側）から先端側（左側）に移動する方向）に対して前方側に位置するように形成しており、最上部に形成した乾燥剤噴射口63aを他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dよりも乾燥時の乾燥手段の移動方向に対して前方側に形成し、また、他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dは、上方に形成した乾燥剤噴射口63b,63cを下方に形成した乾燥剤噴射口63c,63dよりも乾燥時の乾燥手段の移動方向に対して前方側に形成している。これにより、乾燥ユニット39は、乾燥剤噴射口63a,63b,63c,63dから各保持体27,28,29の側部に向けて上側から順に乾燥剤を噴射するようにしており、最上部に形成した乾燥剤噴射口63aから噴射する乾燥剤を他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dから噴射する乾燥剤よりも先に各保持体27,28,29に噴射し、また、他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dのうち上方に形成した乾燥剤噴射口63b,63cから噴射する乾燥剤を下方に形成した乾燥剤噴射口63c,63dから噴射する乾燥剤よりも先に各保持体27,28,29に噴射するようにしている。
【００３３】
このように、乾燥ユニット39では、上部側に設けた第１の乾燥剤噴射口63aの下方側で、かつ、乾燥時の乾燥手段の移動方向に対して後方側に第２の乾燥剤噴射口63dを形成するとともに、第１の乾燥剤噴射口63aと第２の乾燥剤噴射口63dの上下方向及び前後方向（乾燥時の乾燥手段の移動方向）の間に第３の乾燥剤噴射口63b,63cを形成して、第１の乾燥剤噴射口63aから各保持体27,28,29の側部に向けて乾燥剤を噴射し、その後、第３の乾燥剤噴射口63b,63cから各保持体27,28,29の側部に向けて乾燥剤を噴射し、さらにその後、第２の乾燥剤噴射口63dから各保持体27,28,29の側部に向けて乾燥剤を噴射するようにしている。これにより、乾燥ユニット39では、上部側の乾燥剤噴射口63a,63b,63cから各保持体27,28,29の上部側に噴き付けられた乾燥剤によって流下した洗浄液を、その後に下部側の乾燥剤噴射口63b,63c,63dから各保持体27,28,29の下部側に噴き付けられる乾燥剤で乾燥させることができ、各保持体27,28,29の乾燥を良好に行うことができる。
【００３４】
カバー板40は、各保持体27,28,29を挿通する３個の開口66,67,68を形成しており、洗浄液が散乱するのを防止している。
【００３５】
次に、エアー噴出手段25の構成について説明すると、エアー噴出手段25は、ケーシング21の上部に配設した上部エアー噴出ユニット69と、ケーシング21の側面側の開口22の上部に配設した側部エアー噴出ユニット70と、ケーシング21の前面側の開口22の上部に配設した前部エアー噴出ユニット71とで構成し、各ユニット69,70,71にエアーを供給するエアー供給源72を開閉バルブ73を介して連通連結している。
【００３６】
そして、上部エアー噴出ユニット69では、ケーシング21の内部全体に下方に向けてエアーを噴出し、ケーシング21の内部が全体的に下方に流動する雰囲気を形成して、洗浄液の散乱を防止し、また、側部エアー噴出ユニット70及び前部エアー噴出ユニット71では、ケーシング21の開口22の上部から下方に向けてエアーを噴出し、開口22にエアーカーテンを形成して、洗浄液が開口22から漏れ出るのを防止している。
【００３７】
洗浄装置20は、以上のように構成しており、以下のようにして保持体19の洗浄を行う。
【００３８】
まず、洗浄装置20は、移動手段24によって洗浄乾燥手段23をケーシング21の後端部側（図２中、左側）に移動させておき、ウエハ搬送機構14の保持体19を保持姿勢から洗浄姿勢に姿勢変更した後に、ウエハ搬送機構14の移動体26を移動させ、保持体19をケーシング21の内部に収容する。
【００３９】
次に、洗浄装置20は、エアー噴出手段25によって上部エアー噴出ユニット69、側部エアー噴出ユニット70、前部エアー噴出ユニット71からエアーを噴出し、移動手段24によって洗浄乾燥手段23をケーシング21の後端部側から前端部側（図２において、保持体19の先端側（左側）から基端側（右側））に移動させるとともに、開閉バルブ48を開放状態とすることで、純水供給源47から供給される純水を洗浄液として洗浄ユニット37の各開口42,43,44の洗浄液噴射口45a,45b,45cから各保持体27,28,29の側部に向けて噴射し、開閉バルブ54,55を開放状態とすることで、純水供給源47から供給される純水と窒素ガス供給源53から供給される窒素ガスとを洗浄乾燥ユニット38の各２流体混合ノズル50,51,52で混合し、混合流体を洗浄液として各２流体混合ノズル50,51,52の噴射口56,57,58から各保持体27,28,29の上部に向けて噴射する。
【００４０】
このときに、洗浄乾燥ユニット38では、左右の２流体混合ノズル50,52の噴射口56,58から洗浄液を左右保持体28,29の保持溝30に対して相対的に外側に傾斜した状態で噴射するようにしている。そのため、洗浄液が傾斜した保持溝30に沿って円滑に流下することになり、洗浄液とともに汚染物を良好に流下させることができ、左右保持体28,29の洗浄を良好に行うことができる。
【００４１】
このように、洗浄乾燥ユニット38では、保持体19を洗浄する保持体洗浄機構としての洗浄装置20において、ウエハ２を左右保持体28,29で保持する保持姿勢（左右保持体28,29の使用時における使用姿勢）と、ウエハ２を保持する左右保持体28,29の保持面（保持溝30）を洗浄液噴射口（噴射口56,58）に対して傾斜させた洗浄姿勢（左右保持体28,29の使用時での使用面（保持溝30）を洗浄液噴射口（噴射口56,58）に対して傾斜させた洗浄姿勢）とに姿勢変更できるようにしているため、左右の２流体混合ノズル50,52の噴射口56,58から洗浄液を左右保持体28,29の保持溝30に対して相対的に外側に傾斜した状態で噴射することになり、洗浄液が傾斜した保持溝30に沿って円滑に流下することになるので、洗浄液とともに汚染物を良好に流下させることができ、左右保持体28,29の洗浄を良好に行うことができる。特に、洗浄乾燥ユニット38では、保持姿勢（使用姿勢）における左右保持体28,29の間隔よりも洗浄姿勢における左右保持体28,29の間隔のほうが狭くなるように姿勢変更するようにして、洗浄姿勢が保持姿勢（使用姿勢）よりも小型化するようにしているため、洗浄装置20を小型化することができる。
【００４２】
その後、洗浄装置20は、移動手段24によって洗浄乾燥手段23をケーシング21の前端部側（図２において、保持体19の基端側（右側））まで移動させた後に停止させ、開閉バルブ48,54,55を閉塞状態とすることで、洗浄液の噴射を停止する。
【００４３】
次に、洗浄装置20は、移動手段24によって洗浄乾燥手段23をケーシング21の前端部側から後端部側（図２において、保持体19の基端側（右側）から先端側（左側））に移動させるとともに、純水側の開閉バルブ54を閉塞状態とするとともに窒素ガス側の開閉バルブ55だけを開放状態とすることで、窒素ガス供給源53から供給される窒素ガスを乾燥剤として洗浄乾燥ユニット38の各２流体混合ノズル50,51,52の噴射口56,57,58から各保持体27,28,29の上部に向けて噴射し、開閉バルブ65を開放状態とすることで、窒素ガス供給源53から供給される窒素ガスを乾燥剤として乾燥ユニット39の各開口60,61,62の乾燥剤噴射口63a,63b,63c,63dから各保持体27,28,29の側部に向けて噴射する。
【００４４】
このときに、乾燥ユニット39では、４個の乾燥剤噴射口63a,63b,63c,63dが上方側から順に乾燥時の移動方向（図２において、保持体19の基端側（右側）から先端側（左側）に移動する方向）に対して前方側に位置するように形成しており、乾燥剤噴射口63a,63b,63c,63dから各保持体27,28,29の側部に向けて上側から順に乾燥剤を噴射するようにしている。そのため、各保持体27,28,29の上部側に噴き付けられた乾燥剤によって流下した洗浄液をその後に各保持体27,28,29の下部側に噴き付けられる乾燥剤で乾燥させることができ、各保持体27,28,29の乾燥を良好に行うことができる。
【００４５】
このように、乾燥ユニット39では、最上部に形成した乾燥剤噴射口63aを他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dよりも乾燥時の乾燥手段の移動方向に対して前方側に形成して、最上部に形成した乾燥剤噴射口63aから噴射する乾燥剤を他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dから噴射する乾燥剤よりも先に保持体19に噴射するようにしているため、最上部の乾燥剤噴射口63aから保持体19の上部側に噴き付けられた乾燥剤によって流下した洗浄液をその後に他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dから保持体19の下部側に噴き付けられる乾燥剤で乾燥させることができ、保持体19の乾燥を良好に行うことができる。特に、乾燥ユニット39では、他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dも、上方に形成した乾燥剤噴射口63b,63cを下方に形成した乾燥剤噴射口63c,63dよりも乾燥時の乾燥手段の移動方向に対して前方側に形成して、他の乾燥剤噴射口63b,63c,63dのうち上方に形成した乾燥剤噴射口63b,63cから噴射する乾燥剤を下方に形成した乾燥剤噴射口63c,63dから噴射する乾燥剤よりも先に保持体19に噴射するようにしているため、これによっても、上部側の乾燥剤噴射口63b,63cから保持体19の上部側に噴き付けられた乾燥剤によって流下した洗浄液をその後に下部側の乾燥剤噴射口63c,63dから保持体19の下部側に噴き付けられる乾燥剤で乾燥させることができ、保持体19の乾燥を良好に行うことができる。
【００４６】
その後、洗浄装置20は、移動手段24によって洗浄乾燥手段23をケーシング21の後端部側（図２において、保持体19の先端側（左側））まで移動させた後に停止させ、開閉バルブ55,65を閉塞状態とすることで、乾燥剤の噴射を停止し、また、エアー噴出手段25によって上部エアー噴出ユニット69、側部エアー噴出ユニット70、前部エアー噴出ユニット71からエアーの噴出を停止する。
【００４７】
以上に説明したように、洗浄装置20は、洗浄乾燥手段23を移動手段24によって保持体19に沿って往復移動し、往動時（図２において、保持体19の先端側（左側）から基端側（右側）に移動する時）に洗浄ユニット37と洗浄乾燥ユニット38から保持体19に向けて洗浄液を噴射して保持体19の洗浄を行い、復動時（図２において、保持体19の基端側（右側）から先端側（左側）に移動する時）に洗浄乾燥ユニット38と乾燥ユニット39から保持体19に向けて乾燥剤を噴射して洗浄後の乾燥を行って、一連の洗浄動作を完結するようにしている。これにより、洗浄装置20では、洗浄ユニット37と洗浄乾燥ユニット38とが協働して洗浄手段として機能し、また、洗浄乾燥ユニット38と乾燥ユニット39とが協働して乾燥手段として機能する。
【００４８】
そして、上記基板処理装置１では、第１の乾燥剤噴射口63aの下方側で、かつ、乾燥時の乾燥手段の移動方向に対して後方側に第２の乾燥剤噴射口63dを形成している。
【００４９】
そのため、上記構成の基板処理装置１では、第１の乾燥剤噴射口63aから各保持体27,28,29の側部に向けて乾燥剤を噴射し、その後、第２の乾燥剤噴射口63dから各保持体27,28,29の側部に向けて乾燥剤を噴射することになり、上部側の第１の乾燥剤噴射口63aから各保持体27,28,29の上部側に噴き付けられた乾燥剤によって流下した洗浄液を、その後に下部側の第２の乾燥剤噴射口63dから各保持体27,28,29の下部側に噴き付けられる乾燥剤で乾燥させることができ、各保持体27,28,29の乾燥を良好に行うことができる。
【００５０】
特に、上記基板処理装置１では、上部側に設けた第１の乾燥剤噴射口63aの下方側で、かつ、乾燥時の乾燥手段の移動方向に対して後方側に第２の乾燥剤噴射口63dを形成するとともに、第１の乾燥剤噴射口63aと第２の乾燥剤噴射口63dの上下方向及び前後方向（乾燥時の乾燥手段の移動方向）の間に第３の乾燥剤噴射口63b,63cを形成しているために、第１の乾燥剤噴射口63aから各保持体27,28,29の側部に向けて乾燥剤を噴射し、その後、第３の乾燥剤噴射口63b,63cから各保持体27,28,29の側部に向けて乾燥剤を噴射し、さらにその後、第２の乾燥剤噴射口63dから各保持体27,28,29の側部に向けて乾燥剤を噴射することになり、上部側の乾燥剤噴射口63a,63b,63cから各保持体27,28,29の上部側に噴き付けられた乾燥剤によって流下した洗浄液を、その後に下部側の乾燥剤噴射口63b,63c,63dから各保持体27,28,29の下部側に噴き付けられる乾燥剤で乾燥させることができ、各保持体27,28,29の乾燥を良好に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】基板処理装置を示す平面図。
【図２】洗浄装置を示す側面模式図。
【図３】ウエハ搬送機構を示す側面図（ａ）及び背面図（ｂ）。
【図４】洗浄乾燥手段を示す側面図（ａ）及び背面図（ｂ）。
【図５】同断面図
【図６】洗浄ユニットを示す側面断面図。
【図７】洗浄乾燥ユニットを示す側面断面図。
【図８】乾燥ユニットを示す側面断面図。
【符号の説明】
【００５２】
１  基板処理装置                      ２  ウエハ
３  キャリア                          ４  キャリア搬入出部
５  ウエハ搬入出部                    ６  ウエハ処理部
７  キャリアステージ                  ８  開閉扉
９  キャリア搬送機構                  10  キャリアストック
11  キャリア載置台                    12  開閉扉
13  ウエハ搬入出機構                  14  ウエハ搬送機構
15〜17  第１〜第３のウエハ洗浄装置    18  ウエハ洗浄乾燥装置
19  保持体                            20  洗浄装置
21  ケーシング                        22  開口
23  洗浄乾燥手段                      24  移動手段
25  エアー噴出手段                    26  移動体
27  下部保持体                        28,29左右保持体
30  保持溝                            31  固定軸
32  固定アーム                        33,34  回動軸
35,36  回動アーム                     37  洗浄ユニット
38  洗浄乾燥ユニット                  39  乾燥ユニット
40  カバー板                          41  ユニット本体
42,43,44  開口                        45a,45b,45c  洗浄液噴射口
46  連通路                            47  純水供給源
48  開閉バルブ                        49  ユニット本体
50,51,52  ２流体混合ノズル            53  窒素ガス供給源
54,55  開閉バルブ                     56,57,58  噴射口
59  ユニット本体                      60,61,62  開口
63a,63b,63c,63d  乾燥剤噴射口         64  連通路
65  開閉バルブ                        66,67,68  開口
69  上部エアー噴出ユニット            70  側部エアー噴出ユニット
71  前部エアー噴出ユニット            72  エアー供給源
73  開閉バルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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