(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（２）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）−        （２）
(1)構造単位Ｍ１が式（１）：
【化１】
0004923376.tif 000305
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基。ただし、Ａ〜Ｃの少なくとも１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）
の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位
(2)構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
(3)構造単位ＮがＭ１、Ｍ２と共重合可能な単量体に由来する構造単位
で示される含フッ素重合体であり、Ｍ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９８モル％含んでなる分子量１０００〜１００００００の含フッ素重合体。
【請求項２】
式（３）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｍ３）−（Ｎ）−      （３）
(1)構造単位Ｍ１が式（１）：
【化２】
0004923376.tif 000306
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸解離性または酸分解性の官能基。ただし、ｂが０またはＲがフッ素原子を含まない場合はＡ〜Ｃの少なくとも１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）
の酸解離性または酸分解性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位
(2)構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
(3)構造単位Ｍ３が式（４）：
【化３】
0004923376.tif 000307
（式中、Ａ1、Ｂ1、Ｃ1およびＤ1はＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、ａは０または１〜３の整数）
で示される脂環式単量体に由来する構造単位
(4)構造単位ＮがＭ１、Ｍ２、Ｍ３と共重合可能な単量体に由来する構造単位
で示される含フッ素重合体でありＭ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝１００モル％としたときＭ１＋Ｍ３／Ｍ２は３０／７０〜７０／３０モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９８モル％、構造単位Ｍ２を１〜９８モル％、構造単位Ｍ３を１〜９８モル％、および構造単位Ｎを０〜９７モル％含んでなる数平均分子量１０００〜１００００００の含フッ素重合体。
【請求項３】
酸反応性基を有する含フッ素重合体を構成する式（１）の含フッ素脂環式単量体における酸反応性基Ｙ2が酸解離性または酸分解性の官能基である請求項１記載の含フッ素重合体。
【請求項４】
酸解離性または酸分解性の官能基が
【化４】
0004923376.tif 000308
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29は同じかまたは異なり炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ13、Ｒ16はＨまたは炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ17、Ｒ23は炭素数２〜１０の２価の炭化水素基）である請求項２または３記載の含フッ素重合体。
【請求項５】
酸解離性または酸分解性の官能基が
【化５】
0004923376.tif 000309
（Ｒ30は炭素数１〜１０のアルキル基）
である請求項４記載の含フッ素重合体。
【請求項６】
酸解離性または酸分解性の官能基が酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基である請求項２〜５のいずれかに記載の含フッ素重合体。
【請求項７】
酸反応性基Ｙ2が酸により縮合反応しえる官能基である請求項１または２記載の含フッ素重合体。
【請求項８】
酸により縮合反応しえる官能基が−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基から選ばれるものである請求項７記載の含フッ素重合体。
【請求項９】
式（１）の含フッ素脂環式単量体においてＡ、Ｂ、Ｃの少なくともひとつがフッ素原子である請求項１または３〜８のいずれかに記載の含フッ素重合体。
【請求項１０】
式（１）の含フッ素脂環式単量体においてＡ、Ｂ、Ｃの少なくともひとつがフッ素原子または含フッ素アルキル基である請求項２〜８のいずれかに記載の含フッ素重合体。
【請求項１１】
構造単位Ｍ２が炭素数２または３の含フッ素エチレン性単量体である請求項１〜１０のいずれかに記載の含フッ素重合体。
【請求項１２】
酸反応性基を有する含フッ素重合体において構造単位Ｍ２がテトラフルオロエチレンまたはクロロトリフルオロエチレンから選ばれる単量体に由来する構造単位である請求項１１記載の含フッ素重合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は酸反応性基を含有した新規な含フッ素ポリマーに関し、さらに真空紫外領域のエネルギー線（放射線）に対し、透明性高く、フォトレジストでの使用に適した含フッ素ベースポリマー用材料、それらを用いた化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
大規模集積回路（ＬＳＩ）の高集積化の必要性が高まるにつれて、フォトリソグラフィー技術について、微細加工技術が求められている。この要求に対して、従来のｇ線（波長４３６ｎｍ）やｉ線（波長３６５ｎｍ）よりも短波長である遠紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー光（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を露光光源として利用することが試みられており、実用化されつつある。
【０００３】
最近、さらなる超微細加工技術として真空紫外領域のＦ2レーザー光（波長１５７ｎｍ）を利用したプロセスが検討されつつあり、今後のテクノロジーノード０．１μｍを目指した露光技術として有望視されている。
【０００４】
一方、パターン形成においては、各波長のエネルギー線での透明性、解像度、感度、ドライエッチング耐性などの点で有利となる化学増幅型レジストが検討されている。化学増幅型レジストとは、たとえばポジ型の場合、アルカリ現像液に可溶な樹脂に酸の作用により脱保護するような置換基を導入して溶解抑制効果をもたせた樹脂と光、電子線などのエネルギー線の照射により酸を発生する化合物（以下、光酸発生剤と称する）を含有する感エネルギー線組成物である。この組成物に光や電子線を照射すると、光酸発生剤から酸が生じ、露光後の加熱（postexposure bake、以下、「ＰＥＢ」ということもある）により、溶解抑制効果を与えていた置換基を酸が脱保護する。その結果、露光部分がアルカリ可溶性となり、アルカリ現像液で処理することにより、ポジ型のレジストパターンが得られる。このとき、酸は触媒として作用し、微量で効果を発揮する。またＰＥＢにより酸の働きが活発になり、連鎖反応的に化学反応が促進され、感度が向上する。
【０００５】
このような化学増幅型レジストに用いられる従来の樹脂の例としては、フェノール性樹脂の水酸基の一部または全部をアセタールやケタールなどの保護基で保護したもの（ＫｒＦレジスト）、メタクリル酸系樹脂のカルボキシル基に酸解離性のエステル基を導入したもの（ＡｒＦレジスト）などがあげられる。
【０００６】
しかしながら、これら従来のレジスト用ポリマーは、真空紫外の波長領域では強い吸収をもち、より超微細パターン化プロセスとして利用が検討されている波長１５７ｎｍのＦ2レーザー光において透明性が低い（分子吸光度係数が大きい）という根本的な問題がある。したがって、Ｆ2レーザーで露光するためにはレジストの膜厚を極端に薄くする必要があり、実質上、単層のＦ2レジストとしての使用は困難である。
【０００７】
ところで、R.R.Kunz、T.M.BloomsteinらはJournal of Photopolymer Science and Technology(Vol.12,No.4(1999)561-569）において１５７ｎｍでの各種材料の透明性を比較し、フルオロカーボン類が、透明性が良好であることが記載されており、Ｆ2レジストとしての可能性を示唆している。
【０００８】
しかしながら、この報文には、既存のフルオロカーボン系ポリマーについて１５７ｎｍでの透明性が高いことが記載されているのみで、フッ素ポリマーの好ましい具体的な構造は記載されていない。また、たとえばポジ型やネガ型の化学増幅型レジストに必要な官能基を導入した含フッ素ポリマーについては透明性評価どころか合成すらなされていない。まして、化学増幅型レジストとして好ましい含フッ素ベースポリマー材料やそれを用いた好ましいレジスト組成物については全く示唆されておらず、フッ素ポリマーを用いてのＦ2レジストパターン形成の可能性については見出していない。
【０００９】
その後、E.I.du Pont de Nemours and CompanyのA.E.Feiringらは、特定のフッ素ポリマーがＦ2レジスト用途として有用であることをＰＣＴ特許公開公報ＷＯ００／１７７１２（２０００年３月３０日公開）で示した。
【００１０】
この公開特許においては、フルオロオレフィンの構造単位と複環構造を有する構造単位を有するフッ素ポリマーを用いることが記載されているが、複環構造を持たないフッ素ポリマー、例えば鎖状の含フッ素エチレン性重合体については記載されていない。
【００１１】
また、ポジ型レジストに必要な酸解離性（または酸分解性）の官能基のフッ素ポリマーへの導入は従来のアクリル系、メタクリル系、ノルボルネン系、ビニルエステル系のモノマーに酸解離性（または酸分解性）の官能基を導入した単量体を共重合することで実施しているが、フッ素原子やフルオロアルキル基を酸解離性（または酸分解性）の官能基と同時に含む単量体を用いた例示はない。
【００１２】
また、レジストに用いるフッ素ポリマーを構成する複環構造の例示の一つとしてノルボルネン誘導体が記載されハロゲン置換ノルボルネンの記載はあるが、具体的にフッ素置換されたもの、一つの分子にフッ素原子と酸反応性基が同時に置換されたもの、更に特定の位置に置換されたもの、等の例示、具体例の記載はない。
【００１３】
更にその後、E.I.du Pont de Nemours and CompanyのA.E.Feiringらは、−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨまたは−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）Ｏ−Ｒｂ含有のフッ素ポリマーがＦ2レジスト用途として有用であることをＰＣＴ特許公開公報ＷＯ００／６７０７２（２０００年１１月９日公開）で示した。
【００１４】
本公開特許において−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨまたは−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）Ｏ−Ｒｂのフッ素ポリマーへの導入は−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨまたは−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）Ｏ−Ｒｂを有するエチレン性単量体やノルボルネン誘導体の共重合によるものが記載されており、酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基を有する含フッ素単量体の構造単位を含むものは例示されてない。
【００１５】
また、レジストに用いるフッ素ポリマーの例示の一つとして−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）ＯＨまたは−Ｃ（Ｒｆ）（Ｒｆ’）Ｏ−Ｒｂを含むノルボルネン誘導体が記載されており、その中に、ハロゲン置換ノルボルネンの記載もあるが、具体的にフッ素置換されたもの、一つの分子にフッ素原子と酸反応性基（特に酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基）が同時に置換されたもの、更に特定の位置に置換されたもの、等の例示、具体例の記載はない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の第一の目的は、酸反応性基を有し、レジスト用ポリマーとしても利用可能な新規な含フッ素ポリマーおよびその被膜を提供することにある。
【００１７】
第二の目的は、真空紫外領域の波長（たとえば１５７ｎｍ）に対して透明性が高く、化学増幅型フォトレジストのベースポリマーとして利用可能な酸反応性基を導入した含フッ素ベースポリマー用材料を提供することにある。
【００１８】
さらに、第三の目的は、酸反応性基を有する含フッ素ポリマーと光酸発生剤を含み、Ｆ2レーザーを光源としたパターン化プロセス化に利用可能な化学増幅型のフォトレジスト組成物、およびそれを被覆して得られる被膜を提供することにある。
【００１９】
さらに松下電器産業（株）の勝山らは、ハロゲン原子などを含むレジスト材料を用いて、１ｎｍ〜１８０ｎｍ帯の波長の露光光でのパターン形成方法を提案している（特開２０００−３２１７７４公報、２０００年１１月２４日公開）。しかし、ハロゲン原子を含むレジスト用ベース樹脂として、−ＣＨ2ＣＦ3基、−ＣＨ（ＣＦ3）2基を側鎖に有するメタクリル酸エステルの構造単位を有するメタクリル樹脂が記載されているのみであり、主鎖にフッ素原子を有するものは記載されていないし、化学増幅型レジスト（ポジまたはネガ）として動作しうる官能基とフッ素原子を同時に含む含フッ素単量体の構造単位を有するポリマーについては具体的に記載されていない。さらには、主鎖に環構造を有するポリマーについての記載もない。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を行なった結果、酸反応性基を有する新規な含フッ素ポリマーを見出しレジスト用ポリマーとしても有用であることを見出した。
【００２１】
また、レジスト用ベースポリマー材料として、特定の酸反応性基を有する含フッ素ポリマーが有効であり、さらに真空紫外領域での透明性が高いことを見出した。
【００２２】
またさらに、これらレジスト用ベースポリマー材料と光酸発生剤を含む組成物がレジスト組成物として有用で、コーティングにより真空紫外領域での透明性の高い被膜が得られ、ポジ型やネガ型の化学増幅型レジストとして動作可能であることを見出した。
【００２３】
本発明の第Ｉ（以下、発明Ｉということもある）は、酸反応性基として酸解離性または酸分解性の官能基を有する新規な含フッ素ポリマーに関する。
【００２４】
本発明の第Ｉの新規な含フッ素ポリマーの１つは、式Ｉ−（１）で示される含フッ素アクリル系重合体の第１である。
式Ｉ−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ａ１）−          Ｉ−（１）
（式中、Ｍ１は
【化１】
0004923376.tif 000002
Ｍ２は
【化２】
0004923376.tif 000003
（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ4、Ｘ5は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ3、Ｘ6は同じかまたは異なりＨ、Ｃｌ、ＣＨ3、ＦまたはＣＦ3；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基；Ｒ1は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；Ｒｆ1は炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基または炭素数３〜２０の含フッ素アリール基；ｎ１は０または１）、
Ａ１は構造単位Ｍ１、Ｍ２と共重合可能な単量体に由来する構造単位）であり、
Ｍ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％および構造単位Ａ１を０〜９８モル％含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体。
【００２５】
その他、後述する式Ｉ−（２）、式Ｉ−（３）で示される第２および第３の含フッ素重合体にも関する。
【００２６】
さらに、これらの含フッ素重合体からなるベースポリマー用材料、さらには酸反応性基含有含フッ素重合体と光酸発生剤と溶剤とからなる化学増幅型フォトレジスト組成物にも関する。
【００２７】
本発明の第II（以下、発明IIということもある）は、（Ａ）酸反応性基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、および
（Ｃ）溶剤からなる組成物であって、
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）が、
式II−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）−                    II−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸反応性基を有するエチレン性単量体に由来する構造単位、
(2)構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(3)構造単位ＮがＭ１、Ｍ２と共重合可能なエチレン性単量体に由来する構造単位
で示される重合体であり、Ｍ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９８モル％含んでなり、側鎖中に複環構造の部位を含まない含フッ素重合体である化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【００２８】
本発明の第III（以下、発明IIIということもある）は、（Ａ）酸反応性基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、および
（Ｃ）溶剤からなる組成物であって、
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）が、
式III−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）−                  III−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸反応性基を有するエチレン性単量体に由来する構造単位
(2)構造単位Ｍ２がポリマー主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する構造単位
(3)構造単位ＮがＭ１、Ｍ２と共重合可能な含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
で示される重合体であり、Ｍ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９８モル％含んでなり、主鎖及び側鎖中に複環構造の部位を含まない含フッ素重合体である化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【００２９】
本発明の第IV（以下、発明IVということもある）は、（Ａ）酸解離性または酸分解性の官能基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、および
（Ｃ）溶剤からなる組成物であって、
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）が、
式IV−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｍ３）−（Ｎ）−          IV−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸解離性または酸分解性の官能基であって、酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基を有する含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(2)構造単位Ｍ２が脂環式単量体に由来する構造単位、
(3)構造単位Ｍ３は含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
(4)構造単位ＮはＭ１、Ｍ２、Ｍ３と共重合可能なエチレン性単量体に由来する構造単位
で示される重合体であり、Ｍ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２／Ｍ３は１〜９８／１〜９８／１〜９８モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９８モル％、構造単位Ｍ２を１〜９８モル％、構造単位Ｍ３を１〜９８モル％および構造単位Ｎを０〜９７モル％含んでなる化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【００３０】
本発明の第Ｖ（以下、発明Ｖということもある）は、（Ａ）酸反応性基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、および
（Ｃ）溶剤からなる組成物であって、
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）が、
式Ｖ−１（１）：
【化３】
0004923376.tif 000004
（式中、Ａ、ＢおよびＣは、Ｈ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基。ただし、ｂが０またはＲがフッ素原子を含まない場合はＡ〜Ｃのいずれか１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）
に示される酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位Ｍ１を含む含フッ素重合体である化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、真空紫外領域（１５７ｎｍ）のエネルギー線（放射線）に対して透明性の高い新規な酸反応性基を有する含フッ素重合体が提供でき、これを使用してフォトレジストに適した含フッ素ベースポリマー用材料、それらを用いた化学増幅型レジスト組成物が提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
発明の第Ｉの開示（発明Ｉ）は、酸反応性基として酸解離性または酸分解性の官能基を有する新規な含フッ素ポリマーに関する。
【００３３】
まず式Ｉ−（１）で示される新規な含フッ素アクリル系重合体の第１について説明する。
【００３４】
式Ｉ−（１）の含フッ素重合体においてＹ1を有する構造単位Ｍ１が必須成分としてＸ1、Ｘ2、Ｘ3がともにフッ素原子以外であり、かつｎ１＝０またはＲ1にフッ素原子を含まない場合、含フッ素アクリルの構造単位Ｍ２を必須成分として含有し、Ｍ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２＝１〜９９／１〜９９モル％比の共重合体である。
【００３５】
ただし、Ｍ１中にフッ素原子を含む場合は、Ｍ１の構造体から選ばれる１種以上の重合体であってよい（Ｍ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２＝１〜１００／０〜９９モル％比）。
【００３６】
式Ｉ−（１）で示される含フッ素重合体は、好ましくは式Ｉ−（１）−１：
−（Ｍ１ａ）−（Ｍ２ａ）−（Ａ１）−
（式中、Ｍ１ａは
【化４】
0004923376.tif 000005
Ｍ２ａは
【化５】
0004923376.tif 000006
（式中、Ｙ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ4、Ｘ5、Ｒ1、Ｒｆ1、ｎ１は式Ｉ−（１）と同じ）、
Ａ１は構造単位Ｍ１ａ、Ｍ２ａと共重合可能な単量体に由来する構造単位）であり、Ｍ１ａ＋Ｍ２ａ＝１００モル％としたときＭ１ａ／Ｍ２ａは１〜１００／０〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１ａを１〜１００モル％、構造単位Ｍ２ａを０〜９９モル％および構造単位Ａ１を０〜９９モル％含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【００３７】
さらに好ましい具体例としては、式Ｉ−（１）−２：
−（Ｍ１ｂ）−（Ｍ２ｂ）−（Ａ１）−
（式中、Ｍ１ｂは
【化６】
0004923376.tif 000007
Ｍ２ｂは
【化７】
0004923376.tif 000008
（式中、Ｙ1、Ｒ1、Ｒｆ1、ｎ１は式Ｉ−（１）と同じ）、
Ａ１は構造単位Ｍ１ｂ、Ｍ２ｂと共重合可能な単量体に由来する構造単位）であり、Ｍ１ｂ＋Ｍ２ｂ＝１００モル％としたときＭ１ｂ／Ｍ２ｂは１〜１００／０〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１ｂを１〜１００モル％、構造単位Ｍ２ｂを０〜９９モル％および構造単位Ａ１を０〜９９モル％含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【００３８】
式Ｉ−（１）−１、式Ｉ−（１）−２のように酸反応性の官能基を有し、α位にＦ原子を有する含フッ素アクリル系重合体は耐熱性、機械的特性に優れるだけでなく、屈折率が低いために光学特性に優れ、またさらに真空紫外領域まで透明性が高く、種々の光学用途、レジストなどの半導体用途に利用できる点で特に好ましい。
【００３９】
式Ｉ−（１）、式Ｉ−（１）−１、式Ｉ−（１）−２において−ＯＲ1−は有していてもなくてもよく、含む場合、Ｒ1は前述の２価の炭化水素基や含フッ素アルキレン基から選ばれるものでよいが、好ましくは２価の炭化水素基、具体的には
【化８】
0004923376.tif 000009
などが好ましくあげられる。
【００４０】
式Ｉ−（１）、式Ｉ−（１）−１、式Ｉ−（１）−２において−Ｒｆ1は上記の含フッ素アルキル基から選ばれ、具体的には、−（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｆ、（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｈ、−（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｃｌ（ただしｍ：１〜５、ｎ：１〜１０の整数）、
【化９】
0004923376.tif 000010
などが好ましくあげられる。
【００４１】
本発明の式Ｉ−（１）、式Ｉ−（１）−１、式Ｉ−（１）−２の重合体はそれぞれの構造単位Ｍ１とＭ２に相当するエチレン性不飽和単量体と、必要とすればＡ１に相当する単量体；Ｍ１とＭ２とＡ１；Ｍ１ａとＭ２ａとＡ１（いずれも相当する単量体）；Ｍ１ｂとＭ２ｂとＡ１（いずれも相当する単量体）を重合することによって得られる。
【００４２】
酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1を有する構造単位Ｍ１〜Ｍ１ｂ（以下、特に断らない限り、Ｍ１に代表させる）用の単量体の具体的としては、
【化１０】
0004923376.tif 000011
などがあげられる。
【００４３】
上記Ｍ１を構成する単量体の具体例のうち式（ｉ）および（ii）の化合物は文献、特許に未記載の化合物でありこれらを用いた重合体も同様に文献、特許未記載の化合物である。
【００４４】
重合体を構成するもう一方の構造単位Ｍ２〜Ｍ２ｂ（以下、特に断らない限り、Ｍ２に代表させる）用の単量体の具体例としては、
【化１１】
0004923376.tif 000012
などがあげられる。
【００４５】
本発明における式Ｉ−（１）、式Ｉ−（１）−１、式Ｉ−（１）−２において、酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1は酸またはカチオンの作用によって解離反応または分解反応を起こす官能基を指す。
【００４６】
これらの反応は低温で開始するものであっても、高温に加熱することによって始めて開始するものであってもよい。
【００４７】
なかでもＹ1は酸の作用によって、親水性の基に変化することができる官能基であることが好ましい。さらには、含フッ素重合体をアルカリ水溶液に可溶化させる能力を有する基に変化することができる官能基であることが好ましい。
【００４８】
具体的には、酸の作用によって−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基などへ変換可能な官能基が好ましい。
【００４９】
Ｙ1の具体例としては、
【化１２】
0004923376.tif 000013
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29は同じかまたは異なり炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ13、Ｒ16はＨまたは炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ17、Ｒ23は炭素数２〜１０の２価の炭化水素基）などがあげられる。
【００５０】
さらに、具体的には、
【化１３】
0004923376.tif 000014
（Ｒ30は炭素数１〜１０のアルキル基）
などが好ましく例示される。
【００５１】
これらの官能基の機能によって、種々の酸感応性材料、感光性材料、レジスト材料などへの利用が可能となる。
【００５２】
Ｍ１、Ｍ２と共重合可能な単量体に由来する構造単位Ａ１は任意成分であり、特に限定されず、目的とする含フッ素重合体の用途、要求性能などによって適宜選定すればよい。構造単位Ａ１を与える単量体としては、たとえばつぎの化合物などがあげられる。
【００５３】
アクリル系単量体（ただしＭ１およびＭ２を与える単量体は除く）：
【化１４】
0004923376.tif 000015
（Ｘ：Ｈ、ＣＨ3、Ｆ、ＣＦ3から選ばれるもの）
【００５４】
スチレン系単量体：
【化１５】
0004923376.tif 000016
【００５５】
エチレン系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨ2、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ3、ＣＨ2＝ＣＨＣｌなど
【００５６】
マレイン酸系単量体：
【化１６】
0004923376.tif 000017
【００５７】
アリル系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＣＯＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｂｒなど
【００５８】
アリルエーテル系単量体：
【化１７】
0004923376.tif 000018
官能基を有することもある脂環式単量体：
【化１８】
0004923376.tif 000019
（Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基、Ｚ1は酸で解離しない官能基）
【００６０】
含フッ素脂環式単量体：
式（９）：
【化１９】
0004923376.tif 000020
（式中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、ｍは０〜３の整数。ただし、Ａ〜Ｄのいずれか１つはフッ素原子を含む）
【００６１】
具体的には、
【化２０】
0004923376.tif 000021
などがあげられる。
【００６２】
そのほか、
【化２１】
0004923376.tif 000022
などもあげられる。
【００６３】
官能基を有する含フッ素脂環式単量体：
式（１０）：
【化２２】
0004923376.tif 000023
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基。ただし、ｂが０またはＲがフッ素原子を含まない場合はＡ〜Ｃのいずれか１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）で表わされる新規な含フッ素単量体があげられる。
【００６４】
これらのなかでも、Ａ、Ｂ、Ｃのいずれかがフッ素原子であることが好ましく、またはＡ〜Ｃにフッ素原子が含まれない場合はＲのフッ素含有率が６０重量％以上であることが好ましく、さらにはパーフルオロアルキレン基であることが、重合体に透明性を付与できる点で好ましい。
【００６５】
具体的には、
【化２３】
0004923376.tif 000024
【化２４】
0004923376.tif 000025
などがあげられる。
【００６６】
または、式（１１）：
【化２５】
0004923376.tif 000026
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基である）で表わされる新規な含フッ素単量体があげられる。
【００６７】
具体的には、
【化２６】
0004923376.tif 000027
【化２７】
0004923376.tif 000028
などのノルボルネン骨格を有するものが好ましくあげられる。
【００６８】
そのほか、
【化２８】
0004923376.tif 000029
などもあげられる。
【００６９】
これらの脂環式単量体に含まれる酸反応性基Ｙ2とは詳しくは、酸解離性または酸分解性の官能基および酸縮合性の官能基である。
【００７０】
(1)酸解離性または酸分解性の官能基：
具体的には、酸またはカチオンの作用により−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基などに変化する能力をもち、前記式Ｉ−（１）のＭ１に関連して列挙したＹ1が好ましくあげられる。
【００７１】
(2)酸縮合反応性の官能基：
酸縮合反応性の官能基は、具体的には酸またはカチオンの作用による自己縮合、重縮合あるいは架橋剤の存在下、酸の作用による架橋剤との縮合反応または重縮合反応を起こす官能基、または酸やカチオンによる転位反応（たとえば、ピナコール転位、カルビノール転位）などで、極性変化を起こす官能基であって、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基等から選ばれるものが好ましい具体例である。
【００７２】
式Ｉ−（１）、式Ｉ−（１）−１、式Ｉ−（１）−２の重合体において、Ｍ１とＭ２の比率（Ｍ１／Ｍ２、Ｍ１ａ／Ｍ２ａ、Ｍ１ｂ／Ｍ２ｂ）は用途、目的とする機能、官能基Ｙ1の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば、酸との反応後、アルカリ可溶性とするためには、いずれも構造単位Ｍ１（Ｍ１ａ、Ｍ１ｂ）が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２（Ｍ２ａ、Ｍ２ｂ）とＡ１の合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在する重合体であることが好ましい。
【００７３】
式Ｉ−（１）、式Ｉ−（１）−１、式Ｉ−（１）−２の重合体の分子量は用途、目的、使用形態に応じて数平均分子量で１０００〜１００００００の範囲から選択できるが、好ましくは、３０００〜７０００００、さらに好ましくは５０００〜５０００００程度であり、低すぎる分子量は得られるポリマー被膜の耐熱性や機械特性が不充分となりやすく、高すぎる分子量は加工性の面で不利になりやすい。特にコーティング用材料の形態として薄層被膜の形成を目的とする場合、高すぎる分子量は成膜性において不利となり、好ましくは３０００００以下、特に好ましくは、２０００００以下である。
【００７４】
本発明の式Ｉ−（１）の重合体の具体的なＭ１、Ｍ２の組み合わせは上記の例示から目的とする用途、物性（特にガラス転移点、融点など）、機能（透明性、屈折率など）によって種々選択できるが、通常、Ｍ１側で官能基Ｙ1の機能をもたせ、それ以外の前記機能はＭ２の種類（特にＲｆ1基）、存在比率、Ａ１の種類や存在比率などを選択して調整するものである。たとえば、耐熱性、機械特性向上を狙って、高Ｔｇまたは高融点のポリマーを目的とする場合、Ｍ２用の単量体は嵩高い側鎖のものから選ばれるのが好ましく、たとえば、
【化２９】
0004923376.tif 000030
などが好ましく選択できる。
【００７５】
逆に、柔軟性や弾性（エラストマー性）を付与したい場合は、Ｍ２は低温でも運動性の高い側鎖を有するものから選ばれるのが好ましく、たとえばＭ２用の単量体のうち、
【化３０】
0004923376.tif 000031
などが好ましく選択できる。
【００７６】
また、光学用途（プラスチック光ファイバー（ＰＯＦ）など）、半導体関連用途（レジスト、層間絶縁膜など）を狙いとして透明、低屈折率のポリマーを目的とする場合、Ｍ１、Ｍ２、Ａ１を含めたポリマー全体のフッ素原子含有率をできるだけ高くすることが好ましく、フッ素原子含有比率を３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは６０重量％以上とすることが好ましく、その点でも式Ｉ−（１）における、Ｘ3、Ｘ6がフッ素原子またはＣＦ3であることが好ましく、さらに、Ｍ２をよりフッ素含有量の高いものを選択することが好ましく、たとえばＭ２用の単量体のうち、
【化３１】
0004923376.tif 000032
などが好ましく選ばれる。
【００７７】
こうして得られた式Ｉ−（１）の含フッ素重合体は耐熱性が良好で、非晶性で真空紫外領域も含め、広い波長範囲で透明性が高く、低屈折率であるためプラスチック光ファイバーなどの光学用途、レジストや層間絶縁膜などの半導体関連用途などに利用できる。
【００７８】
発明の第Ｉの別の新規な含フッ素ポリマーは、式Ｉ−（２）と式Ｉ−（２ａ）で示される含フッ素アリル系重合体または含フッ素ビニル系重合体である。
【００７９】
新規な含フッ素ポリマーの第２は、式Ｉ−（２）：
−（Ｍ３）−（Ｍ４）−（Ｍ５）−（Ａ２）−
（式中、
Ｍ３は
【化３２】
0004923376.tif 000033
Ｍ４は
【化３３】
0004923376.tif 000034
Ｍ５は
【化３４】
0004923376.tif 000035
（式中、Ｘ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ10、Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ16、Ｘ17、Ｘ18は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ15はＨ、ＦまたはＣＦ3；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基；Ｚ1は酸により解離または分解反応しない官能基；Ｚ2はＨ、ＦまたはＣｌ；Ｒ2、Ｒｆ2、Ｒｆ3は同じかまたは異なり炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ３、ｎ４、ｎ５は同じかまたは異なり０〜２の整数；ｎ６、ｎ７、ｎ８、ｎ１０は同じかまたは異なり０または１；ｎ９は１）、
Ａ２は構造単位Ｍ３〜Ｍ５と共重合可能な単量体に由来する構造単位）であり、Ｍ３＋Ｍ４＋Ｍ５＝１００モル％としたときＭ３／Ｍ４／Ｍ５は１〜１００／０〜９９／０〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ３を１〜１００モル％、構造単位Ｍ４を０〜９９モル％、構造単位Ｍ５を０〜９９モル％および構造単位Ａ２を０〜９９モル％含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【００８０】
新規な含フッ素ポリマーの第３は、式Ｉ−（２ａ）：
−（Ｍ３ａ）−（Ｍ４ａ）−（Ｍ５ａ）−（Ａ２）−
（式中、Ｍ３ａは
【化３５】
0004923376.tif 000036
Ｍ４ａは
【化３６】
0004923376.tif 000037
Ｍ５ａは
【化３７】
0004923376.tif 000038
（式中、Ｒ2aは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ９は０または１；Ｘ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ10、Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ15、Ｘ16、Ｘ17、Ｘ18、Ｙ1、Ｚ1、Ｚ2、Ｒｆ2、Ｒｆ3、ｎ３、ｎ４、ｎ５、ｎ６、ｎ７、ｎ８およびｎ１０は前記式（２）と同じ（ただし、Ｘ13、Ｘ14、Ｚ2のうち少なくとも１つがＦであるか、Ｘ15がＦまたはＣＦ3）、
Ａ２は構造単位Ｍ３ａ〜Ｍ５ａと共重合可能な単量体に由来する構造単位）であり、Ｍ３ａ＋Ｍ４ａ＋Ｍ５ａ＝１００モル％としたときＭ３ａ／（Ｍ４ａ＋Ｍ５ａ）は１〜９０／１０〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ３ａを１〜９０モル％、構造単位Ｍ４ａを０〜９９モル％、構造単位Ｍ５ａを０〜９９モル％および構造単位Ａ２を０〜９９モル％含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【００８１】
なお以下、特に断らない限り、構造単位Ｍ３およびＭ３ａはＭ３に、構造単位Ｍ４およびＭ４ａはＭ４に、構造単位Ｍ５およびＭ５ａはＭ５に代表させて説明する。
【００８２】
構造単位Ｍ３は酸解離性または酸分解性の官能基を有する単量体の構造単位であり、必須成分として存在し、含フッ素重合体に新たな機能を付与することができる。
【００８３】
構造単位Ｍ４は、酸に解離または分解反応はしないがフッ素ポリマーに溶解性や架橋性、基材との密着性を付与・調整できる官能基を有するもので含フッ素単量体の構成単位として好ましいものである。
【００８４】
構造単位Ｍ５は官能基を有さない含フッ素単量体の構成単位であり、重合体の機械的特性、耐熱性（ガラス転移点や融点）を目的に応じて調整できる点で好ましい。さらに、Ｍ４とＭ５で重合体全体のフッ素含有量も調整でき、重合体に透明性付与、低屈折率化などが可能となる点で好ましい成分である。
【００８５】
構造単位Ａ２は前記式Ｉ−（１）で述べたものと同様であって任意成分であり、必要に応じた要求性能を付与するために共重合させる成分である。
【００８６】
本発明の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２ａ）の含フッ素重合体は、Ｍ３にフッ素が含有している場合、Ｍ３の構造単位から選ばれる１種または２種以上の構造単位のみからなり、Ｍ４、Ｍ５、Ａ２を含まなくてもよい。
【００８７】
つまり、式Ｉ−（２）はＭ３の構造単位中にはフッ素原子を有しており、その場合、Ｍ３の構造群から選ばれる構造単位のみで構成される重合体であってもよい。
【００８８】
一方、式Ｉ−（２ａ）は式Ｉ−（２ａ）中のＭ３ａが酸解離基Ｙ1は有していてもフッ素原子を含有しない構造単位の場合も含み、Ｍ４ａまたはＭ５ａのいずれか一方の構造単位を必須成分として含有してなる重合体である。
【００８９】
式Ｉ−（２）の重合体において、構造単位Ｍ３として式Ｉ−（２）−１：
【化３８】
0004923376.tif 000039
（式中、Ｙ1、Ｒ2は式Ｉ−（２）と同じ）で示されるものを含む重合体があげられる。
【００９０】
式Ｉ−（２）−１の重合体においては、構造単位Ｍ４がさらに式（２）−２：
【化３９】
0004923376.tif 000040
（式中、Ｒｆ2、Ｚ1は式Ｉ−（２）と同じ）で示されるものであり、Ｍ３／Ｍ４／Ｍ５が１〜９９／１〜９９／０〜９８モル％比である重合体が好ましくあげられる。
【００９１】
本発明の式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２の重合体において、Ｍ３を構成する単量体として好ましい具体例は、
【化４０】
0004923376.tif 000041
（ａ１＋ｂ１＋ｃ１：０〜３０、ｄ１：０または１、ｅ１：０〜５、Ｘ55：ＦまたはＣＦ3、Ｘ58：ＨまたはＦ、Ｘ57：Ｈ、ＦまたはＣＦ3。ただし、Ｘ58がＨの場合、ａ１＋ｂ１＋ｃ１＋ｄ１が０ではない）、
さらに具体的には、
【化４１】
0004923376.tif 000042
【００９２】
さらに、本発明の式Ｉ−（２）−２の重合体において、Ｍ４を構成する単量体として好ましい具体例は、
【化４２】
0004923376.tif 000043
（ａ２＋ｂ２＋ｃ２：０〜３０、ｄ２：０または１、ｅ２：０〜５、Ｘ59：ＦまたはＣＦ3、Ｘ60、Ｘ62：ＨまたはＦ、Ｘ61：Ｈ、ＦまたはＣＦ3。ただし、Ｘ61、Ｘ62がＨの場合、ａ２＋ｂ２＋ｃ２＋ｄ２＋ｅ２が０ではない）、
さらに具体的には、
【化４３】
0004923376.tif 000044
などがあげられる。
【００９３】
式Ｉ−（２）においてもう一つの好ましい重合体としては、構造単位Ｍ３が式Ｉ−（２）−３：
【化４４】
0004923376.tif 000045
（式中、Ｙ1、Ｒ2は式Ｉ−（２）と同じ）で示されるものを含む重合体である。
【００９４】
式Ｉ−（２）−３の重合体においては、構造単位Ｍ４がさらに式Ｉ−（２）−４：
【化４５】
0004923376.tif 000046
（式中、Ｒｆ2、Ｚ1は式Ｉ−（２）と同じ）で示されるものであり、Ｍ３／Ｍ４／Ｍ５が１〜９９／１〜９９／０〜９８モル％比である重合体が好ましくあげられる。
【００９５】
本発明の式Ｉ−（２）−３、式Ｉ−（２）−４の重合体において、Ｍ３を構成する単量体として好ましい具体例は、
【化４６】
0004923376.tif 000047
（ａ３＋ｂ３＋ｃ３：０〜３０、ｄ３：０〜２、ｅ３：０〜５、Ｘ63、Ｘ65：ＦまたはＣＦ3、Ｘ64：ＨまたはＦ）、
さらに具体的には、
【化４７】
0004923376.tif 000048
などがあげられる。
【００９６】
本発明の式Ｉ−（２）−４の重合体において、Ｍ４を構成する単量体としての好ましい具体例としては、
【化４８】
0004923376.tif 000049
（ａ４＋ｂ４＋ｃ４：０〜３０、ｄ４：０〜２、ｅ４：０〜５、Ｘ66、Ｘ68：ＦまたはＣＦ3、Ｘ67：ＨまたはＦ）、
さらに具体的には、
【化４９】
0004923376.tif 000050
があげられる。
【００９７】
式Ｉ−（２）の含フッ素重合体においてＭ３を構成する単量体として、前述の式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−３に示した好ましい具体例以外の好ましい単量体としては、たとえば
【化５０】
0004923376.tif 000051
（Ｒｆは式Ｉ−（２）のＲｆ2と同じ）
などがあげられ、より具体的には、
【化５１】
0004923376.tif 000052
などがあげられる。
【００９８】
式Ｉ−（２）の含フッ素重合体においてＭ４を構成する単量体として、前述の式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−３に示した好ましい具体例以外の好ましい単量体としては、たとえば
【化５２】
0004923376.tif 000053
（Ｒｆは式Ｉ−（２）のＲｆ2と同じ）
などがあげられ、より具体的には、
【化５３】
0004923376.tif 000054
などがあげられる。
【００９９】
式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２の重合体において、Ｍ３、Ｍ４およびＭ５の比率は用途、目的とする機能、官能基Ｙ1の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば、酸との反応後、含フッ素重合体をアルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ３が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ４とＭ５とＡ２の合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０１００】
また、式Ｉ−（２ａ）の重合体において、構造単位Ｍ５ａが式Ｉ−（２ａ）−５：
【化５４】
0004923376.tif 000055
（式中、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ15、Ｘ18、Ｚ2およびｎ５は式（２ａ）と同じ）であり、Ｍ３／（Ｍ４＋Ｍ５）が１〜９０／９９〜１０モル％比であり、かつＭ３／Ｍ４／Ｍ５が１〜９０／０〜９８／１〜９９モル％比である重合体が好ましい。
【０１０１】
式Ｉ−（２ａ）−５の重合体においてさらに構造単位Ｍ３ａが、式（２ａ）−６：
【化５５】
0004923376.tif 000056
（式中、Ｒ2bは炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；Ｙ1は式Ｉ−（２ａ）−５と同じ）である重合体、または
式Ｉ−（２ａ）−７：
【化５６】
0004923376.tif 000057
（式中、Ｒ2bおよびＹ1は式Ｉ−（２ａ）−５と同じ）である重合体
が好ましくあげられる。
【０１０２】
本発明の式Ｉ−（２ａ）−５、式Ｉ−（２ａ）−６、式Ｉ−（２ａ）−７の重合体において、Ｍ３を構成する単量体としての好ましい具体例としては、前述の構造単位Ｍ１に相当する含フッ素単量体と同じものが好ましく例示され、それに加えてフッ素を含まない単量体であってもよい。フッ素原子を含まない単量体の好ましい具体例としては、
【化５７】
0004923376.tif 000058
（Ｒ30〜Ｒ33は２価の炭化水素基、例えば２価のアルキレン基、２価の脂環式炭化水素、２価の芳香族炭化水素、酸素、窒素、イオウなどを含む炭化水素基など）、
より具体的には、
【化５８】
0004923376.tif 000059
などがあげられる。
【０１０３】
本発明の式Ｉ−（２ａ）−５、式Ｉ−（２ａ）−６、式Ｉ−（２ａ）−７の重合体において、Ｍ４を構成する単量体として好ましい具体例は、前述の式Ｉ−（２）−２、式Ｉ−（２）−４で例示した構造単位Ｍ４用の単量体と同じものが好ましく例示される。
【０１０４】
本発明の式Ｉ−（２ａ）−５、式Ｉ−（２ａ）−６、式Ｉ−（２ａ）−７の重合体において、Ｍ５を構成する単量体としての好ましい具体例としては、
【化５９】
0004923376.tif 000060
などがあげられる。
【０１０５】
本発明の式Ｉ−（２ａ）、Ｉ−（２ａ）−５、Ｉ−（２ａ）−６、Ｉ−（２ａ）−７の重合体において、Ｍ３ａ、Ｍ４ａおよびＭ５ａの比率は用途、目的とする機能、官能基Ｙ1の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば、酸との反応後、含フッ素重合体をアルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ３ａが５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ４ａとＭ５ａとＡ２の合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０１０６】
本発明の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２）−１〜式Ｉ−（２）−４、式Ｉ−（２ａ）、式Ｉ−（２ａ）−５〜式Ｉ−（２ａ）−７の重合体において、酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1は、前述の式Ｉ−（１）の官能基Ｙ1と同様のものが好ましく例示できる。
【０１０７】
本発明の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２）−１〜式Ｉ−（２）−４、式Ｉ−（２ａ）、式Ｉ−（２ａ）−５〜式Ｉ−（２ａ）−７の重合体において、酸で分解しない官能基Ｚ1とは、酸やカチオンの作用によっては分解または解離しない官能基である。ただし、自己縮合や重縮合反応、架橋剤の存在化、縮合や重縮合反応などは起こしてもかまわない。なかでも、架橋剤などを含まない系において、官能基Ｚ1と酸（またはカチオン）の接触のみによっては、その官能基自体は変化しないものであることが好ましい。
【０１０８】
酸で分解しない官能基Ｚ1の好ましい具体例としては、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＣＮなどがあげられる。
【０１０９】
酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1と酸で分解しない官能基Ｚ1とを含フッ素重合体に共存させ、それぞれの官能基の種類、存在比率を調整することによって、たとえば酸との反応前後で含フッ素重合体のアルカリや溶剤に対する溶解性を調整できること、酸反応前後のアルカリや溶剤に対する溶解度差を調整できること、酸反応前の含フッ素重合体に基材への密着性などの機能を付与できることなどの好ましい効果が得られる。
【０１１０】
これらの官能基の機能によって、種々の酸感応性材料、感光性材料、レジスト材料などへの利用が可能となる。
【０１１１】
構造単位Ａ２は任意成分であり、構造単位Ｍ３、Ｍ４、Ｍ５と共重合し得る単量体であれば特に限定されず、目的とする含フッ素重合体の用途、要求特性に応じて適宜選定すればよい。
【０１１２】
構造単位Ａ２を与える単量体としては、たとえばつぎの単量体があげられる。
【０１１３】
脂環式単量体：
【化６０】
0004923376.tif 000061
（Ｙ1は酸解離性、酸分散性の官能基、Ｙ2は酸反応性の官能基、Ｚ1は酸で分解しない官能基）
【０１１４】
含フッ素脂環式単量体：
式（９）：
【化６１】
0004923376.tif 000062
（式中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、ｍは０〜３の整数。ただし、Ａ〜Ｄのいずれか１つはフッ素原子を含む）
【０１１５】
具体的には、
【化６２】
0004923376.tif 000063
などがあげられる。
【０１１６】
そのほか、
【化６３】
0004923376.tif 000064
などもあげられる。
【０１１７】
官能基を有する含フッ素脂環式単量体：
式（１０）：
【化６４】
0004923376.tif 000065
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基。ただし、ｂが０またはＲがフッ素原子を含まない場合はＡ〜Ｃのいずれか１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）で表わされる新規な含フッ素単量体があげられる。
【０１１８】
これらのなかでも、Ａ、Ｂ、Ｃのいずれかがフッ素原子であることが好ましく、またはＡ〜Ｃにフッ素原子が含まれない場合はＲのフッ素含有率が６０重量％以上であることが好ましく、さらにはパーフルオロアルキレン基であることが、重合体に透明性を付与できる点で好ましい。
【０１１９】
具体的には、
【化６５】
0004923376.tif 000066
【化６６】
0004923376.tif 000067
などがあげられる。
【０１２０】
または、式（１１）：
【化６７】
0004923376.tif 000068
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基である）で表わされる新規な含フッ素単量体があげられる。
【０１２１】
具体的には、
【化６８】
0004923376.tif 000069
【化６９】
0004923376.tif 000070
などのノルボルネン骨格を有するものが好ましくあげられる。
【０１２２】
そのほか、
【化７０】
0004923376.tif 000071
（Ｎ：０〜１０、Ｘ：ＦまたはＦＣ3）
などもあげられる。
【０１２３】
これらの脂環式単量体に含まれる酸反応性基Ｙ2とは詳しくは、酸解離性または酸分解性の官能基および酸縮合性の官能基である。
【０１２４】
(1)酸解離性または酸分解性の官能基：
酸解離性または酸分解性の官能基は、酸またはカチオンの作用により−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基などに変化する能力をもつものである。
【０１２５】
酸解離性または酸分散性の官能基は具体的には、前記式Ｉ−（１）のＭ１に関連して列挙したＹ1が好ましくあげられる。
【０１２６】
(2)酸縮合反応性の官能基：
具体的には酸またはカチオンの作用による自己縮合、重縮合あるいは架橋剤の存在下、酸の作用による架橋剤との縮合反応または重縮合反応を起こす官能基、または酸やカチオンによる転位反応（たとえば、ピナコール転位、カルビノール転位）などで、極性変化を起こす官能基であって、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基等から選ばれるものが好ましい具体例である。
【０１２７】
エチレン系単量体：
エチレン、プロピレン、ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど
ビニルエーテル系またはビニルエステル系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨＯＲ、ＣＨ2＝ＣＨＯＣＯＲ（Ｒ：炭素数１〜２０の炭化水素基）など
【０１２８】
アリル系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＣＯＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｂｒなど
【０１２９】
アリルエーテル系単量体：
【化７１】
0004923376.tif 000072
【０１３０】
本発明の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２）−１〜式Ｉ−（２）−４、式Ｉ−（２ａ）、式Ｉ−（２ａ）−５〜式Ｉ−（２ａ）−７の重合体の分子量は、用途、目的、使用形態に応じて数平均分子量で１０００〜１００００００の範囲から選択できるが、好ましくは、３０００〜７０００００、さらに好ましくは５０００〜５０００００程度であり、低すぎる分子量は得られるポリマー被膜の耐熱性や機械特性が不充分となりやすく、高すぎる分子量は加工性の面で不利になりやすい。特にコーティング用材料の形態としての薄層被膜の形成を目的とする場合、高すぎる分子量は成膜性において不利となり、好ましくは３０００００以下、特に好ましくは２０００００以下である。
【０１３１】
本発明の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２ａ）の重合体の具体的な構造単位Ｍ３、Ｍ４、Ｍ５、Ａ２の組み合わせは、上記の例示から目的とする用途、物性（特にガラス転移点、融点など）、機能（透明性、屈折率など）によって種々選択できる。
【０１３２】
通常、Ｍ３側で酸解離性または酸分解性の機能（つまり分解の前後で機能や性状が変化する機能）をもたせ、Ｍ３の分解後の官能基とＭ４の官能基で分解後の重合体に機能を付与し、Ｍ５さらに要すればＡ２でその他の機能、性状をコントロールする。これらの機能、性状のバランスは、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ５、Ａ２のそれぞれの種類、存在比率などを選択して調整するものである。
【０１３３】
たとえば、光学用途（ＰＯＦなど）、半導体（レジスト、層間絶縁膜など）用途を狙いとして透明、低屈折率のポリマーを目的とする場合、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ５、Ａ２を含めたポリマー全体のフッ素原子含有率をできるだけ高くすることが好ましく、フッ素原子含有比率を３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは６０重量％以上とすることが好ましく、その点でも式Ｉ−（２）−２、式Ｉ−（２）−４、式Ｉ−（２ａ）−６〜式Ｉ−（２ａ）−７などが好ましく選ばれる。こうして得られた含フッ素重合体は耐熱性が良好で、非晶性で真空紫外領域も含め、広い波長範囲で透明性が高く、低屈折率であるためプラスチック光ファイバーなどの光学用途、レジストや層間絶縁膜などの半導体関係用途などに利用できる。
【０１３４】
特に、本発明の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２ａ）の重合体は総じて、真空紫外領域の透明性が高いことを見出した。そのため、レジスト、ペリクルなどの半導体・液晶用途、反射防止剤などの光学材料用途などに有用である。
【０１３５】
またさらに、気体（特に酸素）選択透過性が良好であることも見出したため、酸素富化膜などにも有用である。
【０１３６】
本発明の新規な含フッ素ポリマーの第４は、式Ｉ−（３）で示される含フッ素脂肪族環状ポリマーである。
【０１３７】
式Ｉ−（３）：
−（Ｍ６）−（Ｍ７）−（Ａ３）−
（式中、Ｍ６は
【化７２】
0004923376.tif 000073
Ｍ７は
【化７３】
0004923376.tif 000074
（式中、Ｘ19、Ｘ20、Ｘ23、Ｘ24、Ｘ25、Ｘ26は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ21、Ｘ22は同じかまたは異なりＨ、Ｆ、ＣｌまたはＣＦ3；Ｒｆ4は炭素数１〜１０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１０のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基；ｎ１２は０〜３の整数；ｎ１１、ｎ１３、ｎ１４、ｎ１５は同じかまたは異なり０または１の整数；Ｘ27、Ｘ28、Ｘ29、Ｘ30は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基；Ｒ3は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ１６は０〜２の整数；ｎ１７は０または１）、
Ａ３は構造単位Ｍ６、Ｍ７と共重合可能な単量体に由来する構造単位）であり、
Ｍ６＋Ｍ７＝１００モル％としたときＭ６／Ｍ７は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ６を１〜９９モル％、構造単位Ｍ７を１〜９９モル％および構造単位Ａ３を０〜９８モル％含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体。
【０１３８】
本発明の式Ｉ−（３）の含フッ素重合体は、フッ素を有する脂肪族環状の構造単位Ｍ６と酸解離性または酸分解性の官能基を有するエチレン性単量体に由来する構造単位Ｍ７と、これらの構造単位Ｍ６、Ｍ７と共重合可能な任意構造単位Ａ３とからなる重合体である。
【０１３９】
本発明の式Ｉ−（３）の重合体において、構造単位Ｍ６が式Ｉ−（３）−１：
【化７４】
0004923376.tif 000075
（式中、Ｒｆ4は炭素数１〜１０の含フッ素アルキレン基）で示されるものを含む重合体が好ましい。
【０１４０】
この式Ｉ−（３）−１の重合体を構成する構造単位Ｍ６用の単量体としては、
【化７５】
0004923376.tif 000076
などが具体的に例示でき、構造単位Ｍ７を構成する単量体と共重合することによって得られる。
【０１４１】
一方、本発明の式Ｉ−（３）−１の重合体の構造単位Ｍ７を与える単量体は、前述の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２ａ）において構造単位Ｍ３用の単量体として例示したものが好ましく使用できる。とりわけ式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２で示した官能基Ｙ1を有する含フッ素アリルエーテル類、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ2−Ｏ−Ｒ2−Ｙ1（式中、Ｒ2、Ｙ1は式Ｉ−（２）−１と同じ）、式Ｉ−（２）−３、式Ｉ−（２）−４で示した官能基Ｙ1を有する含フッ素ビニルエーテル類、ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−Ｒ2−Ｙ1（式中、Ｒ2、Ｙ1は式Ｉ−（２）−３と同じ）と同様なものが共重合性も良好で、得られた重合体に官能基Ｙ1の酸反応性の機能と透明性、低屈折率性、非粘着性、防汚性などに優れた性能を付与できる点で好ましく、式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２、式Ｉ−（２）−３、式Ｉ−（２）−４に関して示したＭ３用の単量体の具体例と同様のものがＩ−（３）−１の重合体のＭ７用としても同様に利用できる。
【０１４２】
本発明の式Ｉ−（３）の重合体において、構造単位Ｍ６が式Ｉ−（３）−２：
【化７６】
0004923376.tif 000077
または式Ｉ−（３）−３：
【化７７】
0004923376.tif 000078
で示される構造単位であることが好ましい。
【０１４３】
これらの式Ｉ−（３）−２、式Ｉ−（３）−３の重合体を構成する単量体成分Ｍ６は、具体的には、ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2のジエン化合物を共重合成分に用いて、環化重合して得られたものである。
【０１４４】
本発明者らは上記ジエン化合物と前述の一般式Ｉ−（３）−１で記載した酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1を有する構造単位Ｍ７用単量体との共重合時においても上記ジエン化合物は環化重合が生じること、さらに酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1を有する単量体（Ｍ７）との共重合性が良好であることを見出した。
【０１４５】
つまり、式Ｉ−（３）−１の重合体の構造単位Ｍ７用の単量体として例示したものが好ましく使用できる。とりわけ式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２で示した官能基Ｙ1を有する含フッ素アリルエーテル類、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ2−Ｏ−Ｒ2−Ｙ1（式中、Ｒ2、Ｙ1は式Ｉ−（２）−１と同じ）、式Ｉ−（２）−３、式（２）−４で示した官能基Ｙ1を有する含フッ素ビニルエーテル類、ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−Ｒ2−Ｙ1（式中、Ｒ2、Ｙ1は式Ｉ−（２）−３と同じ）と同様なものが共重合性も良好で、得られた重合体に官能基Ｙ1の酸反応性の機能と透明性、低屈折率性、非粘着性、防汚性などに優れた性能を付与できる点で好ましく、式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２、式Ｉ−（２）−３、式Ｉ−（２）−４に関して示したＭ３用の単量体の具体例と同様のものがＩ−（３）−１の重合体のＭ７用としても同様に利用できる。
【０１４６】
さらに、本発明の式Ｉ−（３）の重合体において、構造単位Ｍ６が式Ｉ−（３）−４：
【化７８】
0004923376.tif 000079
または式Ｉ−（３）−５：
【化７９】
0004923376.tif 000080
または式Ｉ−（３）−６：
【化８０】
0004923376.tif 000081
（式中、Ｘ19、Ｘ20、Ｘ23、Ｘ24はＨまたはＦ）で示される構造単位であるものを含む重合体が好ましい。
【０１４７】
本発明の式Ｉ−（３）−４、式Ｉ−（３）−５、式Ｉ−（３）−６の重合体の構造単位Ｍ６は、具体的にはＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＸ19Ｘ20（式中、Ｘ19、Ｘ20はＨまたはＦ）で示されるジエン化合物を用いて、環化重合してえられたものである。さらに、具体的には、ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2、ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＨ2のジエン化合物を用いて、環化重合してえられたものである。
【０１４８】
本発明者らは上記ジエン化合物と前述の一般式Ｉ−（３）−１で記載した酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1を有する構造単位Ｍ７用単量体との共重合時においても上記ジエン化合物は環化重合が生じること、さらに酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1を有する単量体（Ｍ７）との共重合性が良好であることを見出した。
【０１４９】
つまり、式Ｉ−（３）−１の重合体の構造単位Ｍ７用の単量体として例示したものが好ましく使用できる。とりわけ式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２で示した官能基Ｙ1を有する含フッ素アリルエーテル類、ＣＨ2＝ＣＦＣＦ2−Ｏ−Ｒ2−Ｙ1（式中、Ｒ2、Ｙ1は式Ｉ−（２）−１と同じ）、式Ｉ−（２）−３、式Ｉ−（２）−４で示した官能基Ｙ1を有する含フッ素ビニルエーテル類、ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−Ｒ2−Ｙ1（式中、Ｒ2、Ｙ1は式Ｉ−（２）−３と同じ）と同様なものが共重合性も良好で、得られた重合体に官能基Ｙ1の酸反応性の機能と透明性、低屈折率性、非粘着性、防汚性などに優れた性能を付与できる点で好ましく、式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２、式Ｉ−（２）−３、式Ｉ−（２）−４に関して示したＭ３用の単量体の具体例と同様のものがＩ−（３）−１の重合体のＭ７用としても同様に利用できる。
【０１５０】
本発明の式Ｉ−（３）、式Ｉ−（３）−１〜式Ｉ−（３）−６の重合体において酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1は、前述の式Ｉ−（１）、式Ｉ−（２）で記載のものと同様のものが好ましく利用でき、同様なものが好ましく例示できる。
【０１５１】
任意成分である構造単位Ａ３は、構造単位Ｍ６、Ｍ７と共重合し得る単量体であれば特に限定されず、たとえば前述の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２ａ）などに関して説明した構造単位Ｍ４、Ｍ５、さらには前述の式Ｉ−（２）や式Ｉ−（２ａ）などに関して説明した構造単位Ａ２と同様な構造単位が利用できる。
【０１５２】
式Ｉ−（３）、式Ｉ−（３）−１〜式Ｉ−（３）−６の重合体の分子量は用途、目的、使用形態に応じて数平均分子量で１０００〜１００００００の範囲から選択できるが、好ましくは、３０００〜７０００００、さらにに好ましくは５０００〜５０００００程度であり、低すぎる分子量は得られるポリマー被膜の耐熱性や機械特性が不充分となりやすく、高すぎる分子量は加工性の面で不利になりやすい。特にコーティング用材料の形態として薄層被膜の形成を目的とする場合、高すぎる分子量は成膜性において不利となり、好ましくは３０００００以下、特に好ましくは２０００００以下である。
【０１５３】
本発明の式Ｉ−（３）の重合体の具体的な構造単位Ｍ６、Ｍ７、Ａ３の組み合わせは、上記の例示から目的とする用途、物性（特にガラス転移点、融点など）、機能（透明性、屈折率など）によって種々選択できる。
【０１５４】
通常、Ｍ７側で酸解離性または酸分解性の機能（つまり分解の前後で機能や性状が変化する機能）をもたせ、Ｍ７の分解後の官能基とＭ６の官能基で分解後の重合体に機能を付与し、Ｍ６さらに要すればＡ３でその他の機能、性状をコントロールする。これらの機能、性状のバランスは、Ｍ６、Ｍ７、Ａ３のそれぞれの種類、存在比率などを選択して調整するものである。
【０１５５】
これら式Ｉ−（３）、式Ｉ−（３）−１〜式Ｉ−（３）−６の環状含フッ素重合体は構造的には嵩高く、自由体積が大きく、フッ素含有率も高いため、
・ガラス転移点が高く機械的物性が良好、
・耐熱性が良好、
・広い波長範囲で透明性が高い、
・低屈折率、
・撥水性、非粘着・防汚性に優れる
などの特徴があり好ましい。それに加えて、官能基Ｙ1の酸と反応する機能や酸との反応後に、含フッ素重合体が
・アルカリ水溶液への親和性、溶解性の付与、
・溶剤可溶性、親水性等の付与、
・基材などへの密着性、接着性の付与、
・架橋性の付与
などの機能を獲得できるため好ましく、反射防止剤や光ファイバーなどの光学材料、レジストやペリクル、層間絶縁膜材料などの半導体関連材料、コーティング材、気体（特に酸素）選択透過性材料、電子・電気部品（成形材料）、防湿処理材などに利用できる。
【０１５６】
たとえば、光学用途（ＰＯＦなど）、半導体関連用途（レジスト、層間絶縁膜など）を狙いとして透明、低屈折率のポリマーを目的とする場合、Ｍ６、Ｍ７、Ａ３を含めたポリマー全体のフッ素原子含有率をできるだけ高くすることが好ましく、フッ素原子含有比率を３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは６０重量％以上とすることが好ましい。こうして得られた含フッ素重合体は耐熱性が良好で、非晶性で真空紫外領域も含め、広い波長範囲で透明性が高く、低屈折率であるためプラスチック光ファイバーなどの光学用途、レジストや層間絶縁膜などの半導体関連用途などに利用できる。特に、本発明の式Ｉ−（３）の重合体は総じて、真空紫外域の透明性が高いことを見出した。そのため、レジスト、ペリクルなどの半導体・液晶用途、反射防止剤などの光学材料用途、などに有用である。
【０１５７】
本発明の式Ｉ−（３）、式Ｉ−（３）−１〜式Ｉ−（３）−６の重合体において、Ｍ６、Ｍ７、Ａ３の比率は用途、目的とする機能、官能基Ｙ1の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば、酸との反応後、アルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ７が５〜９９モル％、好ましくは１０〜９９モル％、特に好ましくは２０〜９９モル％存在し、構造単位Ｍ６とＡ３の合計が１〜９５モル％、好ましくは１〜９０モル％、特に好ましくは１〜８０モル％存在することが好ましい。
【０１５８】
また、上記環状構造の優れた特徴を発揮させるためには、構造単位Ｍ６が３０〜９９モル％、好ましくは４０〜９９モル％、特に好ましくは６０〜９９モル％存在し、構造単位Ｍ７とＡ３の合計が１〜７０モル％、好ましくは１〜６０モル％、特に好ましくは１〜４０モル％存在することが好ましい。
【０１５９】
本発明の式Ｉ−（１）、式Ｉ−（２）および式Ｉ−（３）の重合体はいずれも酸解離性または酸分離性の官能基Ｙ1を有することが特徴である。含フッ素重合体にこれら官能基を導入する方法としては、あらゆる方法が利用可能であるが、一般には、
(1)官能基Ｙ1を有する単量体を予め合成し重合して得る方法、
(2)一旦、他の官能基を有する重合体を合成しその重合体に高分子反応により官能基変換し官能基Ｙ1を導入する方法
などが採用できる。
【０１６０】
たとえば、(2)の方法として、一旦、ＯＨ基を有する含フッ素重合体（たとえば、Ｍ４とＭ５からなる重合体）を作製した後、トルエンスルホン酸類などの酸の存在下、エチルビニルエーテル、ジヒドロピランなどのビニルエーテル類を反応させて酸分解性の官能基（ケタール類）を導入する方法；１，２−ジオールを有する含フッ素重合体にケトン類を反応させて、酸分解性の官能基（環状のアセタール化合物）を得る方法などが採用できる。
【０１６１】
本発明の式Ｉ−（１）、式Ｉ−（２）、式Ｉ−（３）にそれぞれ記載の新規な含フッ素重合体は、それぞれ構成単位に相当する官能基Ｙ1を有するエチレン性単量体（Ｍ１、Ｍ３、Ｍ７）、エチレン性単量体（Ｍ２、Ｍ４、Ｍ５）、環構造を形成する環状モノマーまたはジエン化合物（Ｍ６）を、公知の種々の方法で（共）重合することで得られる。重合方法はラジカル重合法、アニオン重合法、カチオン重合法などが利用でき、なかでも本発明の重合体を得るための各単量体はラジカル重合性が良好で、さらに組成や分子量などの品質のコントロールがしやすい点、工業化しやすい点でラジカル重合法が好ましく用いられる。すなわち重合を開始するには、ラジカル的に進行するものであれば手段は何ら制限されないが、たとえば有機または無機ラジカル重合開始剤、熱、光あるいは電離放射線などによって開始される。重合の種類も溶液重合、バルク重合、懸濁重合、乳化重合などを用いることができる。また分子量は、重合に用いるモノマーの濃度、重合開始剤の濃度、連鎖移動剤の濃度、温度によって制御される。生成する共重合体の組成は、仕込みモノマーの組成によって制御可能である。
【０１６２】
本発明Ｉの第２は、化学増幅型フォトレジストに用いるに適した含フッ素ベースポリマー用材料に関するものである。
【０１６３】
本発明のフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー用材料は酸反応性基Ｙ2を有する含フッ素ポリマーからなる。酸反応性基Ｙ2とは詳しくは、酸解離性または酸分解性の官能基および酸縮合性の官能基である。
【０１６４】
(1)酸解離性または酸分解性の官能基：
酸解離性または酸分解性の官能基は、酸反応前はアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により、アルカリ系の現像液に可溶化させることができる官能基である。
【０１６５】
具体的には、酸またはカチオンの作用により−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基などに変化する能力をもち、その結果含フッ素重合体自体がアルカリに溶解するものである。
【０１６６】
それによってポジ型のレジストのベースポリマーとして利用できるものである。酸解離性または酸分解性の官能基は具体的には、前記式Ｉ−（１）のＭ１に関連して列挙したＹ1：
【化８１】
0004923376.tif 000082
（式中の符号は前記と同じ）
が好ましく利用でき、さらに具体的には
【化８２】
0004923376.tif 000083
（Ｒ30は炭素数１〜１０のアルキル基）
などが好ましく例示される。
【０１６７】
(2)酸縮合反応性の官能基：
酸縮合反応性の官能基は、酸反応前はアルカリ（または溶剤）に可溶であるが酸の作用により、重合体自体をアルカリ系の現像液（または後述の溶剤と同じ）に不溶化させることができる官能基である。
【０１６８】
具体的には酸またはカチオンの作用による自己縮合、重縮合あるいは架橋剤の存在下、酸の作用による架橋剤との縮合反応または重縮合反応を起こす官能基、または酸やカチオンによる転位反応（たとえば、ピナコール転位、カルビノール転位）などで、極性変化を起こす官能基であって、いずれにしてもその結果、重合体自体はアルカリ（または溶剤）に不溶となるものである。
【０１６９】
それによって、ネガ型のレジストのベースポリマーとして利用できるものである。
【０１７０】
酸縮合性の官能基としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基等から選ばれるものが好ましい具体例である。
【０１７１】
使用する場合、架橋剤としては特に制限なく、従来ネガ型レジストの架橋剤として慣用されているものの中から任意に選択して用いることができる。
【０１７２】
たとえば、Ｎ−メチロール化メラミン、Ｎ−アルコキシメチル化メラミン化合物、尿素化合物、エポキシ化合物、イソシアネート化合物などが好ましい具体例である。
【０１７３】
本発明のフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー用材料は前記酸反応性基を有するエチレン性単量体の構造単位を有するものが好ましい。
【０１７４】
具体例としては、
（Ｉ）酸反応性基Ｙ2を有する含フッ素エチレン性単量体に由来する式（４）：
【化８３】
0004923376.tif 000084
（式中、Ｘ31、Ｘ32、Ｘ34は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ33はＨ、ＣＨ3、Ｃｌ、ＦまたはＣＦ3；Ｙ2は酸反応性の官能基；Ｒ4は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｐ１は０〜２；ｑ１は０または１；ｒ１は０または１；ｓ１は０または１の整数；ただし、ｓ１が０またはＲ4がフッ素原子を含まない場合、Ｘ31、Ｘ32、Ｘ34の少なくとも１つがフッ素原子であるかまたはＸ33がＦまたはＣＦ3である）で表される構造単位を有するポリマー
を含んでなる含フッ素ベースポリマー用材料（Ｉ）であってもよい。
【０１７５】
本発明の含フッ素ベースポリマー用材料（Ｉ）はフッ素含有率も高く設定もできる点で好ましく、真空紫外領域での透明性も高く、レジスト用途において好ましく利用できる。
【０１７６】
さらに本発明の含フッ素ベースポリマー用材料（Ｉ）においてｑ１＝０であるものが、特に真空紫外領域の光線の透過性が高く、Ｆ2レーザー光を用いたパターン化プロセスに好ましく利用できる。
【０１７７】
（II）酸反応性の官能基Ｙ2を有するエチレン性単量体に由来する式（５）：
【化８４】
0004923376.tif 000085
（式中、Ｘ35、Ｘ36、Ｘ38は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ37はＨ、ＣＨ3、Ｃｌ、ＦまたはＣＦ3；Ｙ2は酸反応性の官能基；Ｒ5は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｐ２は０〜２；ｑ２は０または１；ｒ２は０または１の整数；ｓ２は０または１の整数）で表される構造単位（ａ）、および
式（６）：
【化８５】
0004923376.tif 000086
（式中、Ｘ39、Ｘ40、Ｘ42は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ41はＨ、ＣＨ3、Ｃｌ、ＦまたはＣＦ3；Ｚ3はＨ、ＦまたはＣｌ；Ｒ6は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｐ３は０〜２；ｑ３は０または１；ｒ３は０または１の整数；ｓ３は０または１の整数；ただし、ｓ３が０またはＲ6がフッ素原子を含まない場合、Ｘ39、Ｘ40、Ｘ42、Ｚ3の少なくとも１つがフッ素原子であるかまたはＸ41がＦまたはＣＦ3である）で表される含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位（ｂ）を有するポリマー
を含んでなる含フッ素ベースポリマー用材料（II）であってもよい。
【０１７８】
式（５）の官能基Ｙ2有する構造単位（ａ）は、フッ素原子を有していても、有していなくてもよい。
【０１７９】
この含フッ素ベースポリマー用材料（II）は、式（６）の構造単位（ｂ）を選択することによって含フッ素ベースポリマー材料の物性（Ｔｇや機械的物性）をコントロールできること、フッ素含有率をコントロールできること、現像液への溶解性や膨潤性などをコントロールできることなどの効果が得られるので好ましく、レジスト材料としては、真空紫外領域での透明性が高く、高解像度化、高感度化などが可能である点が好ましく、さらには低コスト化も可能である。
【０１８０】
さらに本発明の含フッ素ベースポリマー用材料（II）においてｑ２＝０または／およびｑ３＝０であるものが、特に真空紫外領域の光線の透過性が高く、Ｆ2レーザー光を用いたパターン化プロセスに好ましく利用できる。
【０１８１】
（III）式（５）に示す酸反応性の官能基Ｙ2を有するエチレン性単量体の構造単位（ａ）と式（７）に示す含フッ素脂肪族環状の構造単位（ｂ）を有する含フッ素ポリマー。
式（５）：
【化８６】
0004923376.tif 000087
（式中、Ｘ35、Ｘ36、Ｘ38は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ37はＨ、ＣＨ3、Ｃｌ、ＦまたはＣＦ3；Ｙ2は酸反応性の官能基；Ｒ5は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｐ２は０〜２；ｑ２は０または１；ｒ２は０または１の整数；ｓ２は０または１の整数）で表される含フッ素エチレン性単量体に由来するの構造単位（ａ）、および
式（７）：
【化８７】
0004923376.tif 000088
（式中、Ｘ43、Ｘ44、Ｘ47、Ｘ48、Ｘ49、Ｘ50は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ45、Ｘ46は同じかまたは異なりＨ、Ｆ、ＣｌまたはＣＦ3；Ｒｆ5は炭素数１〜１０の含フッ素アルキレン基または炭素数１〜１０のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基；ｎ１９は０〜３の整数；ｎ１８、ｎ２０、ｎ２１、ｎ２２は同じかまたは異なり０または１の整数）で表される含フッ素脂肪族環状構造単位（ｃ）を有するポリマー
を含んでなる含フッ素ベースポリマー用材料（III）であってもよい。
【０１８２】
この含フッ素ベースポリマー用材料（III）においても、式（５）の官能基Ｙ2を有する構造単位はフッ素原子を有していても、有していなくてもよい。
【０１８３】
この含フッ素ベースポリマー用材料（III）は脂肪族環状の構造単位（ｃ）により、嵩高く、自由体積が大きく、Ｔｇを高く設定でき、機械的物性も良好であるため好ましい。またフッ素含有率が同じであっても、真空紫外領域も含め透明性を高くすることができるため好ましい。その結果、レジスト用として用いた場合、真空紫外領域での透明性が高く、高解像度、高感度化が可能であるため好ましい。
【０１８４】
さらに本発明の含フッ素ベースポリマー用材料（III）においてｑ２＝０であるものが、特に真空紫外領域の光線の透過性が高く、Ｆ2レーザー光を用いたパターン化プロセスに好ましく利用できる。
【０１８５】
これらのフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー用材料（II）および（III）において、なかでも酸反応性基Ｙ2を有する式（５）の構造単位（ａ）は含フッ素エチレン性単量体の構造単位であるのが好ましく、具体的には式（８）：
【化８８】
0004923376.tif 000089
（式中、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ54は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ53はＨ、ＣＨ3、Ｃｌ、ＦまたはＣＦ3；Ｙ2は酸反応性の官能基；Ｒｆ6は炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｐ４は０〜２；ｑ４は０または１；ｒ４は０または１の整数）で表される含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位であることが好ましい。
【０１８６】
それによって、含フッ素ベースポリマー用材料のフッ素含有率をさらに向上させることができ、特に真空紫外領域の光線の透過性をより高くでき、好ましい。
【０１８７】
さらに、なかでもｑ４＝０であるものが、特に真空紫外領域の光線の透過性が高く、Ｆ2レーザー光を用いたパターン化プロセスに好ましく利用できる。
【０１８８】
酸反応性の官能基としては、前記Ｙ1または前記酸縮合性基があげられる。
【０１８９】
本発明のフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー用材料（Ｉ）、（II）、（III）において、酸反応性基Ｙ2を有する構造単位（式（４）、（５））において、フッ素原子を含むもので好ましい具体例としては、つぎのものがあげられる。
【０１９０】
(1)含フッ素アクリル系単量体の構造単位：
具体的には、
【化８９】
0004923376.tif 000090
【０１９１】
(2)含フッ素アリルエーテル系単量体の構造単位：
具体的には、
ＣＨ2＝ＣＦＣＦ2−Ｏ−Ｒ4−Ｙ2  （Ｒ4、Ｙ2は式（４）と同じ）、
ＣＦ2＝ＣＦＣＦ2−Ｏ−Ｒ4−Ｙ2  （Ｒ4、Ｙ2は式（４）と同じ）、
具体的には、
【化９０】
0004923376.tif 000091
さらに具体的には、
【化９１】
0004923376.tif 000092
などが例示できる。
【０１９２】
(3)含フッ素ビニルエーテル系単量体の構造単位：
具体的には、
【化９２】
0004923376.tif 000093
さらに具体的には、
【化９３】
0004923376.tif 000094
などがあげられる。
【０１９３】
上記具体例のうち式（ｖ）、（ｖｉ）は文献、特許に未記載の化合物であり、これらを用いた重合体も同様に文献、特許未記載の化合物である。
【０１９４】
(4)その他、含フッ素ビニル化合物：
【化９４】
0004923376.tif 000095
などがあげられる。
【０１９５】
本発明のフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー用材料（II）、（III）において、酸反応性基Ｙ2を有する構造単位（式（４）、（５））を与える単量体はフッ素原子を含まないものであってもよく、具体的には、
【化９５】
0004923376.tif 000096
より具体的には、
【化９６】
0004923376.tif 000097
などがあげられる。
【０１９６】
本発明のフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー用材料において、酸反応性基Ｙ2を有する単量体とそれ以外の単量体とを共重合して含フッ素ベースポリマー用材料を得る場合、共重合成分としては前述の酸反応性基Ｙ2を有する単量体と共重合可能なものであれば特に限定されないが、好ましくは、式（６）に相当するエチレン性単量体、式（７）記載の環状の構造単位を形成できる単量体（環状モノマーやジエンモノマーなど）が好ましく、具体的には
(1)前述の式Ｉ−（１）、式Ｉ−（１）−１、式Ｉ−（１）−２で示したアクリル系含フッ素重合体の構造単位Ｍ２に相当する単量体が好ましく、前述のＭ２の具体例で示したものと同様な含フッ素アクリル単量体が、同様に好ましく利用できる。
【０１９７】
(2)前述の式Ｉ−（２）、式Ｉ−（２ａ）、式Ｉ−（２）−１、式Ｉ−（２）−２、式Ｉ−（２）−３、式Ｉ−（２）−４、式Ｉ−（２ａ）−５、式Ｉ−（２ａ）−６、式Ｉ−（２ａ）−７で示した構造単位Ｍ４、Ｍ５に相当する単量体が好ましく、前述のＭ４、Ｍ５の具体例で示したものと同様なエチレン性単量体が、同様に好ましく利用できる。
【０１９８】
(3)式Ｉ−（３）、式Ｉ−（３）−１〜式Ｉ−（３）−６で示した構造単位Ｍ６に相当する単量体、特にＭ６の構造単位を形成できる環状単量体やジエン系単量体が好ましく、前述のＭ６の具体例で示したものと同様な単量体が、同様に好ましく利用できる。
【０１９９】
(4)式Ｉ−（１）における構造単位Ａ１に相当する単量体の具体例や、式Ｉ−（２）における構造単位Ａ２に相当する単量体の具体例で示したものと同様の単量体が、同様に好ましく利用できる。
【０２００】
本発明のフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー用材料において、酸反応性基Ｙ2を有する単量体が含フッ素エチレン性単量体である場合の共重合成分として、真空紫外領域の透明性を低下させない範囲で、フッ素を含まない単量体を共重合してもよい。
【０２０１】
具体的には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、アクリレート類、メタクリレート類、マレイン酸類、スチレン類、アリルエーテル類、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどがあげられる。
【０２０２】
さらにこれらフッ素を含まない単量体は含フッ素ベースポリマー用材料に用いる酸反応性基を有する重合体の第３成分として、たとえばフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー用材料（II）、（III）の第３成分の構造単位として当然に用いることができるものである。
【０２０３】
これまでに例示の含フッ素ポリマー材料は、酸反応性の官能基Ｙ2の効果により、フォトレジスト用の材料として効果的に利用でき、さらに２００ｎｍ以下の真空紫外領域の光線に対して透明性が良好（つまり吸収がない）であるため、今後微細加工に向かう、パターン化プロセスに用いられる１５７ｎｍの波長のＦ2レーザーに対する透明性が高いことから、テクノロジーノード０．１μｍを生産性よくパターン化プロセスのレジスト用材料として利用できることにより好ましい。Ｆ2レジストのベースポリマー用材料として用いるためには、本発明の含フッ素ベースポリマー用材料は、１５７ｎｍ波長での分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下であることが好ましく、さらには１．５μｍ-1以下であることが好ましく、さらには１．０μｍ-1以下であることが好ましい。
【０２０４】
言いかえると、０．１μｍの光路長（膜厚）での１５７ｎｍ波長の透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上の性能が要求されるが、本発明の含フッ素ポリマー材料を用いることにより、これらの性能を達成可能とする。
【０２０５】
これらの透過性材料を用いることによって、Ｆ2レーザーでの単層レジストプロセスを可能とするものである。
【０２０６】
本発明Ｉの第３は、酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマーをバインダーとして含有する化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【０２０７】
化学増幅型フォトレジストは樹脂（ポリマー）成分と光酸発生剤を含有し、エネルギー線照射部で酸発生剤から酸を発生させ、その触媒作用を利用するものである。化学増幅型のポジ型フォトレジストはエネルギー線照射部で発生した酸が、その後の熱処理（postexposure bake：ＰＥＢ）によって拡散し、樹脂等の酸解離性または酸分解性の官能基を脱離させるとともに酸を再発生することにより、そのエネルギー線照射部をアルカリ可溶化する。
【０２０８】
化学増幅型ポジ型レジストには樹脂成分がアルカリ可溶性であり、かかる樹脂成分および酸発生剤に加えて、酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有し、それ自体ではアルカリ可溶性樹脂に対して溶解抑止能をもつが、酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性となる溶解抑止剤を含有するものと、樹脂成分が酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有しそれ自体ではアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性になるものとがある。
【０２０９】
また化学増幅型のネガ型フォトレジストは、一般に樹脂成分が酸で縮合反応できる官能基を有し、かつアルカリ可溶性であり、この樹脂成分および酸発生剤に加えて、架橋剤を含有するものである。
【０２１０】
かかるネガ型フォトレジストにおいては、エネルギー線照射部で発生した酸がＰＥＢによって拡散し、樹脂成分中の酸縮合性の官能基や架橋剤に作用し、そのエネルギー線照射部のバインダー樹脂を硬化させアルカリ不溶化しまたは難溶化させる。
【０２１１】
本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物は、これら上記のポジ型、ネガ型に対応できるものであり、
（Ａ）酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、
（Ｃ）溶剤
からなる組成物である。
【０２１２】
つぎに、本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物に用いられる酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）について説明する。
【０２１３】
酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）における酸反応性官能基とは、前記と同様に酸解離性または酸分解性官能基と、酸で縮合反応を起こす（縮合反応性）の官能基のことを示し、含フッ素ポリマー（Ａ）としてはつぎの３つのものが好ましく利用できる。
【０２１４】
(1)酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマーは、前述のポジ型フォトレジストに用いられる。酸解離性または酸分解性官能基は、前述の保護基とも呼ばれ、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体は、アルカリ不溶または難溶であるが、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により解離または分解し、含フッ素ポリマー（Ａ）がアルカリ可溶と変化する機能を有するものであり、さらに含フッ素ポリマー（Ａ）中の官能基の分解により発生した脱離基からも酸が発生し、さらに分解反応を促進させる効果を有するものである。
【０２１５】
酸解離性または酸分解性官能基の具体例は、前述のフォトレジストに用いる含フッ素ポリマーの部分で説明したものが同様に好ましく利用できる。
【０２１６】
(2)酸により縮合反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーは、ネガ型フォトレジストに用いられる。酸による縮合反応性の官能基は、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により縮合・重縮合反応または転位反応を起こすものであって、それによって自己架橋反応、分子内転位反応、架橋剤を含む組成物により架橋剤との架橋反応などが起こり、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体、現像液（アルカリまたは溶剤）に可溶であったものが、不溶または難溶化させる機能を有するものである。酸により縮合反応性の官能基の具体例は、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基などから選ばれるものが好ましい。
【０２１７】
またさらに本発明の縮合反応性の官能基は、酸との反応前、それ自体アルカリや溶剤などの現像液に対して可溶化する機能を付与できるもの（例、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＯＨなど）がなかでも好ましいが、酸により縮合反応（架橋反応）して現像液に不溶化する機能のみ（−ＣＮ、エポキシ基など）を有するものであってもよい。この場合現像液に対して可溶化する機能を有する他の官能基と組み合わせて使用したり、含フッ素ポリマーの骨格自体を現像液に可溶化できる構造とすることでネガ型フォトレジストとして利用できる。
【０２１８】
なかでも特に酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマーは、酸との反応前にはアルカリ可溶性のポリマーであることが好ましく、現像液に溶剤（特に可燃性溶剤）を用いず水系での現像プロセス（溶解プロセス）が可能となり、安全性、環境面で有利となる。
【０２１９】
本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物における酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）は上記酸解離性または酸分解性、または酸縮合性の官能基を有するもので、フッ素原子を有するもの、特に炭素−フッ素結合を有するものから広く選択できる。一般的には、
（IV）酸反応性の官能基を有するエチレン性含フッ素重合体、
（Ｖ）酸反応性の官能基を有し、主鎖に環構造を有する含フッ素重合体
のなかから選ばれることが好ましい。
【０２２０】
（Ｖ）の環構造を主鎖に有する含フッ素重合体は、なかでも
（Ｖ−１）酸反応性の官能基を有し、主鎖に含フッ素脂肪族環を有する含フッ素重合体
であることが透明性の面で好ましい。
【０２２１】
一方、酸反応性官能基の含フッ素ポリマーへの導入は、酸反応性官能基を有するエチレン性単量体の構造単位として導入することが好ましく、一般に酸反応性官能基を有するエチレン性単量体の重合（ホモ重合または共重合）や、他の官能基を有するエチレン性単量体の構造単位を有する含フッ素ポリマーなどに高分子反応などにより酸反応性官能基に変換する方法などにより導入できる。
【０２２２】
なかでも、酸反応性官能基を有するエチレン性単量体の構造単位は、含フッ素エチレン性単量体の構造単位であることが透明性などの面で好ましい。
【０２２３】
本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物における、酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）は、前述の新規な含フッ素ポリマーやフォトレジストに用いる含フッ素ポリマー材料と同様のものがそれぞれ好ましく用いられる。具体的には前述の（Ｉ）、（II）、（III）の含フッ素ベースポリマー材料が好ましく、含フッ素ポリマー（Ａ）を構成する単量体単位も前述の含フッ素ベースポリマー材料の例示と同様のものが好ましく使用できる。
【０２２４】
またさらに、本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物において、含フッ素ポリマー（Ａ）としては、酸反応性の官能基Ｙ2を有するつぎに示す式（１０）または式（１１）の新規含フッ素脂環式単量体の繰返し単位を有する含フッ素ポリマーであってもよく、これらを用いることによってポジ型またはネガ型のフォトレジストに対応でき、透明性に優れたフォトレジスト組成物が得られるだけでなく、エッチング耐性にも優れたフォトレジスト組成物となり得る点で好ましい。
【０２２５】
式（１０）の新規含フッ素脂環式単量体としては、
【化９７】
0004923376.tif 000098
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基。ただし、ｂが０またはＲがフッ素原子を含まない場合はＡ〜Ｃのいずれか１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）で表わされる含フッ素単量体があげられる。
【０２２６】
これらのなかでも、Ａ、Ｂ、Ｃのいずれかがフッ素原子であることが好ましく、またはＡ〜Ｃにフッ素原子が含まれない場合はＲのフッ素含有率が６０％以上であることが好ましく、さらにはパーフルオロアルキレン基であることが、重合体に透明性を付与できる点で好ましい。
【０２２７】
具体的には、
【化９８】
0004923376.tif 000099
【化９９】
0004923376.tif 000100
などがあげられる。
【０２２８】
または、式（１１）の新規含フッ素脂環式単量体としては、
【化１００】
0004923376.tif 000101
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基である）で表わされる含フッ素単量体があげられる。
【０２２９】
具体的には、
【化１０１】
0004923376.tif 000102
【化１０２】
0004923376.tif 000103
などのノルボルネン骨格を有するものが好ましくあげられる。
【０２３０】
これらの酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体の繰返し単位を有する含フッ素ポリマーとしては、つぎのようなポリマーがあげられる。
【０２３１】
(1)式（１０）の含フッ素脂環式単量体とエチレン性単量体からなる共重合体。
共重合成分であるエチレン性単量体としては、たとえばエチレン、プロピレン、ブテン、塩化ビニルなどのエチレン系単量体；アクリル系単量体；メタクリル系単量体；アリル系単量体；アリルエーテル系単量体；スチレン系単量体などがあげられる。
【０２３２】
(2)式（１０）の含フッ素脂環式単量体と含フッ素エチレン性単量体からなる共重合体。
共重合成分である含フッ素エチレン性単量体としては、たとえばテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ＣＦ2＝ＣＦＲｆ（Ｒｆは炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基）、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、トリフルオロエチレンなどが好ましくあげられ、特に透明性を付与できる点で好ましい。
【０２３３】
(3)式（１０）および／または式（１１）の含フッ素脂環式単量体の開環重合物および／またはその開環重合物を水素付加した重合体。
【０２３４】
(4)式（１０）および／または式（１１）の含フッ素脂環式単量体と式（１２）：
【化１０３】
0004923376.tif 000104
（式中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、ａは０または１〜３の整数）で示される脂環式単量体との開環共重合体および／またはその開環共重合体を水素付加した共重合体。
【０２３５】
また、本発明のフォトレジスト組成物において用いる含フッ素ポリマー（Ａ）としては、前述の含フッ素脂環式単量体の繰返し単位を含む含フッ素ポリマー以外に、酸反応性の官能基を含まない含フッ素脂環式単量体と酸反応性官能基を有する単量体、たとえば共重合可能な酸反応性基を有する脂環式単量体や酸反応性基を有するエチレン性単量体とからなる共重合体であってもよい。
【０２３６】
酸反応性基を含まない含フッ素脂環式単量体としては、式（９）：
【化１０４】
0004923376.tif 000105
（式中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、ｍは０〜３の整数。ただし、Ａ〜Ｄのいずれか１つはフッ素原子を含む）
【０２３７】
具体的には、
【化１０５】
0004923376.tif 000106
などが具体的にあげられる。
【０２３８】
酸反応性基を有する脂環式単量体としては、前述の式（１０）および式（１１）の単量体であってもよいし、さらにはフッ素原子を含まない
【化１０６】
0004923376.tif 000107
などの単量体であってもよい。
【０２３９】
これらの脂環式単量体の混合物を開環重合した共重合体および／またはその開環共重合体を水素付加した共重合体などが含フッ素ポリマーの好ましい例示である。
【０２４０】
共重合可能な酸反応性基を有するエチレン性単量体としては、酸反応性基Ｙ2を有するアクリル系単量体、メタクリル系単量体、スチレン系単量体などが好ましくあげられる。
【０２４１】
本発明Ｉの化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）は、その物質自体にまたはその物質を含むレジスト組成物に放射線を照射することによって、酸またはカチオンを発生する化合物である。２種以上の混合物として用いることもできる。たとえば有機ハロゲン化合物、スルホン酸エステル、オニウム塩、ジアゾニウム塩、ジスルホン化合物等の公知の化合物、およびこれらの混合物があげられる。具体的には、たとえばトリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリブロモメチル）−６−ｐ−メトキシフェニル−ｓ−トリアジンなどのハロアルキル基含有ｓ−トリアジン誘導体、１，２，３，４−テトラブロモブタン、１，１，２，２−テトラブロモエタン、四臭化炭素、ヨードホルムなどのハロゲン置換パラフィン系炭化水素類、ヘキサブロモシクロヘキサン、ヘキサクロロシクロヘキサン、ヘキサブロモシクロドデカンなどのハロゲン置換シクロパラフィン系炭化水素類、ビス（トリクロロメチル）ベンゼン、ビス（トリブロモメチル）ベンゼンなどのハロアルキル基含有ベンゼン誘導体、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリクロロメチルフェニルスルホン等のハロアルキル基含有スルホン化合物類、２，３−ジブロモスルホランなどのハロゲン含有スルホラン化合物類、トリス（２，３−ジブロモプロピル）イソシアヌレートなどのハロアルキル基含有イソシアヌレート類、トリフェニルスルホニウムクロライド、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネートなどのスルホニウム塩、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネ−ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネートなどのヨードニウム塩、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェニル、１，２，３−トリス（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）ベンゼン、ｐ−トルエンスルホン酸ベンゾインエステル、メタンスルホン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸ブチル、１，２，３−トリス（メタンスルホニルオキシ）ベンゼン、メタンスルホン酸フェニル、メタンスルホン酸ベンゾインエステル、トリフルオロメタンスルホン酸メチル、トリフルオロメタンスルホン酸エチル、トリフルオロメタンスルホン酸ブチル、１，２，３−トリス（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ベンゼン、トリフルオロメタンスルホン酸フェニル、トリフルオロメタンスルホン酸ベンゾインエステルなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２，３，４−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２，４，６−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２，３，４−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２，３，４−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２，４，６−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２，３，４−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（３−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（４−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（３−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（４−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２，３，４−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２，４，６−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２，３，４−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、２，４−ジメチルフェニルスルホニル−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、２，４−ジメチルフェニルスルホニル−（２，３，４−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（３−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（４−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタンなどのスルホンジアジド類、ｏ−ニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホネートなどのｏ−ニトロベンジルエステル類、Ｎ，Ｎ′−ジ（フェニルスルホニル）ヒドラジドなどのスルホンヒドラジド類などがあげられる。
【０２４２】
光酸発生剤としては、発生する酸がスルホン酸、スルフェン酸、スルフィン酸のいずれかである化合物が好ましい。具体的には、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホネートなどのオニウムのスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸フェニル、１，２，３−トリス（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）ベンゼンなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−トリフルオロメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（３−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（４−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（３−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（４−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２，３，４−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２，４，６−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル−（２，３，４−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２，３，４−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２，４，６−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、シクロペンチルスルホニル−（２，３，４−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（３−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（４−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（３−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（４−メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２，３，４−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２，４，６−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２，３，４−トリエチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、２，４−ジメチルフェニルスルホニル−（２，４，６−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、２，４−ジメチルフェニルスルホニル−（２，３，４−トリメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（２−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（３−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル−（４−フルオロフェニルスルホニル）ジアゾメタンなどのスルホンジアジド類、ｏ−ニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホネートなどのｏ−ニトロベンジルエステル類などがあげられるが、特にスルホンアジド類が好ましい。
【０２４３】
さらに上記例示に加えて、フッ素原子を含有するオニウム塩型の光酸発生剤も利用でき、たとえば式：
【化１０７】
0004923376.tif 000108
（式中、Ａ1はヨウ素、硫黄、セレン、テルル、窒素またはリンから選ばれる元素であり；
Ａ1がヨウ素の場合は、Ｒ2-1およびＲ3-1は存在せず、Ｒ1-1は炭素数１〜１５のアルキル基または炭素数６〜１５のアリール基であり；
Ａ1が硫黄、セレンまたはテルルの場合は、Ｒ3-1は存在せず、Ｒ1-1およびＲ2-1はそれぞれ独立して、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基、炭素数７〜３５のアルキルアリールアミノ基または炭素数１２〜４０のジアリールアミノ基であり、Ｒ1-1とＲ2-1は互いに結合して環を形成していてもよい；
Ａ1が窒素またはリンの場合は、Ｒ1-1、Ｒ2-1およびＲ3-1はそれぞれ独立して、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基、炭素数７〜３５のアルキルアリールアミノ基または炭素数１２〜４０のジアリールアミノ基であり、Ｒ1-1とＲ2-1とＲ3-1はそれぞれ互いに結合して１つ以上の環を形成してもよく、またはＲ3-1は存在せず、Ｒ1-1とＲ2-1が結合してＡ１を含む芳香族環を形成してもよい；
ただし、前記アルキル基、ジアルキルアミノ基のアルキル基およびアルキルアリールアミノ基のアルキル基は、アリール基、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはケイ素原子で置換されていてもよく分岐していてもよく環を形成していてもよく、前記アリール基、アルキルアリールアミノ基のアリール基およびジアリールアミノ基のアリール基は、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミド基、シアノ基、アルカノイル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基またはアシルオキシ基で置換されていてもよい；
Ｒｆは分岐していてもよく環を形成していてもよい炭素数１〜１５のペルフルオロアルキル基または該ペルフルオロアルキル基のフッ素の一部が水素で置換されたものであり；
Ｘ-はブレンステッド酸の共役塩基である）で表されるフルオロアルキルオニウム塩
または式：
【化１０８】
0004923376.tif 000109
（式中、Ａ2およびＡ3は同じかまたは異なり、いずれもヨウ素、硫黄、セレン、テルル、窒素またはリンから選ばれる元素であり；
Ａ2またはＡ3がヨウ素の場合は、Ｒ4-1、Ｒ5-1、Ｒ7-1およびＲ8-1は存在せず；
Ａ2またはＡ3が硫黄、セレンまたはテルルの場合は、Ｒ5-1およびＲ8-1は存在せず、Ｒ4-1およびＲ7-1はそれぞれ独立して、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基、炭素数７〜３５のアルキルアリールアミノ基または炭素数１２〜４０のジアリールアミノ基であり；
Ａ2またはＡ3が窒素またはリンの場合は、Ｒ4-1、Ｒ5-1、Ｒ7-1およびＲ8-1はそれぞれ独立して、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基、炭素数７〜３５のアルキルアリールアミノ基または炭素数１２〜４０のジアリールアミノ基であり、Ｒ4-1とＲ5-1、またはＲ7-1とＲ8-1はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい；
ただし、前記アルキル基、ジアルキルアミノ基のアルキル基およびアルキルアリールアミノ基のアルキル基は、アリール基、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはケイ素原子で置換されていてもよく分岐していてもよく環を形成していてもよく、前記アリール基、アルキルアリールアミノ基のアリール基およびジアリールアミノ基のアリール基は、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミド基、シアノ基、アルカノイル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基またはアシルオキシ基で置換されていてもよい；
Ｒ6-1はアリール基、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはケイ素原子で置換されていてもよく分岐していてもよく環を形成していてもよい炭素数１〜１５のアルキレン基；
Ｒｆは分岐していてもよく環を形成していてもよい炭素数１〜１５のペルフルオロアルキル基または該ペルフルオロアルキル基のフッ素の一部が水素で置換されたものであり；
Ｘ-はブレンステッド酸の共役塩基である）で表されるフルオロアルキルオニウム塩型などが好ましくあげられる。
【０２４４】
具体例としては、中心元素がヨウ素であるフルオロアルキルオニウム塩：
【化１０９】
0004923376.tif 000110
【０２４５】
中心元素が硫黄であるフルオロアルキルオニウム塩：
【化１１０】
0004923376.tif 000111
【０２４６】
【化１１１】
0004923376.tif 000112
【０２４７】
【化１１２】
0004923376.tif 000113
【０２４８】
【化１１３】
0004923376.tif 000114
【０２４９】
【化１１４】
0004923376.tif 000115
【０２５０】
【化１１５】
0004923376.tif 000116
【０２５１】
中心元素がセレンであるフルオロアルキルオニウム塩：
【化１１６】
0004923376.tif 000117
【０２５２】
中心元素がテルルであるフルオロアルキルオニウム塩：
【化１１７】
0004923376.tif 000118
【０２５３】
中心元素が窒素であるフルオロアルキルオニウム塩：
【化１１８】
0004923376.tif 000119
【０２５４】
中心元素がリンであるフルオロアルキルオニウム塩：
【化１１９】
0004923376.tif 000120
【０２５５】
【化１２０】
0004923376.tif 000121
【０２５６】
これらの例示のフルオロアルキルオニウム塩におけるＸ−は、ブレンステッド酸の共役塩基である。ブレンステッド酸としては、トリフルオロメタンスルホン酸、テトラフルオロエタンスルホン酸、ペルフルオロブタンスルホン酸、ペルフルオロペンタンスルホン酸、ペルフルオロヘキサンスルホン酸、ペルフルオロオクタンスルホン酸、ジフルオロメタンスルホン酸などのフルオロアルキルスルホン酸のほか、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、硫酸、フルオロスルホン酸、クロロスルホン酸、ＨＢＦ4、ＨＳｂＦ6、ＨＰＦ6、ＨＳｂＣｌ5Ｆ、ＨＳｂＣｌ6、ＨＡｓＦ6、ＨＢＣｌ3Ｆ、ＨＡｌＣｌ4などがあげられるが、これに限定されるわけではない。特に、強酸であり、フッ化水素や塩化水素を発生しないという点から、フルオロアルキルスルホン酸が好ましい。
【０２５７】
これら含フッ素アルキル基を有するオニウム塩は、それ自体真空紫外領域での透明性が高い点で好ましく、また一方では本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物における酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）との相溶性が良好となる点で好ましい。
【０２５８】
本発明Ｉの化学増幅型フォトレジスト組成物における光酸発生剤の含有量は、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）１００重量部に対して０．１〜３０重量部が好ましく、さらには０．２〜２０重量部が好ましく、最も好ましくは０．５〜１０重量部である。
【０２５９】
光酸発生剤の含有量が０．１重量部より少なくなると、感度が低くなり、３０重量部より多く使用すると光酸発生剤の光を吸収する量が多くなり、光が基板まで充分に届かなくなって、解像度が低下しやすくなる。
【０２６０】
また本発明Ｉのフォトレジスト組成物には、上記の光酸発生剤から生じた酸に対して塩基として作用できる有機塩基を添加してもよい。
【０２６１】
有機塩基の添加目的は、露光からＰＥＢまでの間に光酸発生剤から発生した酸が移動してレジストパターンが寸法変動を起こすのを防ぐためである。したがって、上記のごとき光酸発生剤から生じた酸を中和しうる化合物であれば、特に限定されないが、塩基として無機化合物を用いると、パターン形成後、レジストを除去した後に微量の残査が生じ、悪影響を与えることから、有機塩基が好ましい。有機塩基とは、含窒素化合物から選ばれる有機アミン化合物であり、具体的には、ピリミジン、２−アミノピリミジン、４−アミノピリミジン、５−アミノピリミジン、２，４−ジアミノピリミジン、２，５−ジアミノピリミジン、４，５−ジアミノピリミジン、４，６−ジアミノピリミジン、２，４，５−トリアミノピリミジン、２，４，６−トリアミノピリミジン、４，５，６−トリアミノピリミジン、２，４，５，６−テトラアミノピリミジン、２−ヒドロキシピリミジン、４−ヒドロキシピリミジン、５−ヒドロキシピリミジン、２，４−ジヒドロキシピリミジン、２，５−ジヒドロキシピリミジン、４，５−ジヒドロキシピリミジン、４，６−ジヒドロキシピリミジン、２，４，５−トリヒドロキシピリミジン、２，４，６−トリヒドロキシピリミジン、４，５，６−トリヒドロキシピリミジン、２，４，５，６−テトラヒドロキシピリミジン、２−アミノ−４−ヒドロキシピリミジン、２−アミノ−５−ヒドロキシピリミジン、２−アミノ−４，５−ジヒドロキシピリミジン、２−アミノ−４，６−ジヒドロキシピリミジン、４−アミノ−２，５−ジヒドロキシピリミジン、４−アミノ−２，６−ジヒドロキシピリミジン、２−アミノ−４−メチルピリミジン、２−アミノ−５−メチルピリミジン、２−アミノ−４，５−ジメチルピリミジン、２−アミノ−４，６−ジメチルピリミジン、４−アミノ−２，５−ジメチルピリミジン、４−アミノ−２，６−ジメチルピリミジン、２−アミノ−４−メトキシピリミジン、２−アミノ−５−メトキシピリミジン、２−アミノ−４，５−ジメトキシピリミジン、２−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジン、４−アミノ−２，５−ジメトキシピリミジン、４−アミノ−２，６−ジメトキシピリミジン、２−ヒドロキシ−４−メチルピリミジン、２−ヒドロキシ−５−メチルピリミジン、２−ヒドロキシ−４，５−ジメチルピリミジン、２−ヒドロキシ−４，６−ジメチルピリミジン、４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルピリミジン、４−ヒドロキシ−２，６−ジメチルピリミジン、２−ヒドロキシ−４−メトキシピリミジン、２−ヒドロキシ−４−メトキシピリミジン、２−ヒドロキシ−５−メトキシピリミジン、２−ヒドロキシ−４，５−ジメトキシピリミジン、２−ヒドロキシ−４，６−ジメトキシピリミジン、４−ヒドロキシ−２，５−ジメトキシピリミジン、４−ヒドロキシ−２，６−ジメトキシピリミジンなどのピリミジン化合物類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２，６−ジメチルピリジン等のピリジン化合物類、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、ビス（２−ヒドロキシエチル）イミノトリス（ヒドロキシメチル）メタンなどの炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基で置換されたアミン類、２−アミノフェノール、３−アミノフェノール、４−アミノフェノールなどのアミノフェノール類などがあげられる。有機塩基としては、ピリミジン類、ピリジン類またはヒドロキシ基をもつアミン類が好ましく、特にヒドロキシ基をもつアミン類が好ましい。これらは単独で用いても２種以上を混合使用してもよい。本発明のフォルトジスト組成物における有機塩基の含有量は、光酸発生剤の含有量に対して、０．１〜１００モル％が好ましく、さらに好ましくは、１〜５０モル％である。０．１モル％より少ない場合は解像性が低く、１００モル％よりも多い場合は、低感度になる傾向にある。
【０２６２】
また、本発明Ｉの化学増幅型フォトレジスト組成物において、酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）を用いてネガ型レジスト組成物とする場合、必要に応じて架橋剤を用いてもよい。
【０２６３】
使用する架橋剤としては特に制限なく、従来ネガ型レジストの架橋剤として慣用されているもののなかから任意に選択して用いることができる。
【０２６４】
たとえば、Ｎ−メチロール化メラミン、Ｎ−アルコキシメチロール化メラミン化合物、尿素化合物、エポキシ化合物、イソシアネート化合物などが好ましい具体例である。
【０２６５】
これらは単独で用いてもよいし、２種以上組合せて用いてもよい。なかでも該メラミン樹脂と尿素樹脂を組合せて用いるのが有利である。
【０２６６】
本発明Ｉのフォトレジスト（特にネガ型）組成物おける、架橋剤の含有割合は、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）１００重量部に対して３〜７０重量部、好ましくは５〜５０重量部、さらに好ましくは１０〜４０重量部の範囲で選ばれるのがよい。３重量部未満ではレジストパターンが形成されにくいし、７０重量部をこえると光透過性が低下し、解像度が低下しやすくなったり現像性が低下するため好ましくない。
【０２６７】
本発明Ｉのフォトレジスト組成物は必要に応じてさらに溶解抑制剤、増感剤、染料、接着性改良剤、保水剤などこの分野で慣用されている各種の添加剤を含有することもできる。化学増幅型レジストで酸を発生させるためには、水の存在が必要となるが、ポリプロピレングリコールなどの保水剤を少量存在させることにより、酸を効果的に発生させることができる。
【０２６８】
これら添加剤を用いる場合、それらの量は合計で組成物中の全固型分重量に対して２０重量％程度までである。
【０２６９】
本発明Ｉの化学増加型フォトレジスト組成物において、溶剤（Ｃ）は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、および前述の例示の種々の添加剤を溶解し得るものであり、良好な塗装性（表面平滑性、膜厚の均一性など）を得られるものであれば特に限定されず用いることができる。
【０２７０】
好ましい溶剤（Ｃ）としては、たとえばメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系溶媒、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチルなどのエステル系溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶媒、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノンなどのケトン系溶媒、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、クロロトルエンなどの芳香族炭化水素類あるいはこれらの２種以上の混合溶媒などがあげられる。
【０２７１】
またさらに、含フッ素ポリマー（Ａ）の溶解性を向上させるために、必要に応じてフッ素系の溶剤を用いてもよい。
【０２７２】
たとえばＣＨ3ＣＣｌ2Ｆ（ＨＣＦＣ−１４１ｂ）、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨＣｌ2／ＣＣｌＦ2ＣＦ2ＣＨＣｌＦ混合物（ＨＣＦＣ−２２５）、パーフルオロヘキサン、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、メトキシ−ノナフルオロブタン、１，３−ビストリフルオロメチルベンゼンなどのほか、
【化１２１】
0004923376.tif 000122
などのフッ素系アルコール類、
ベンゾトリフルオライド、パーフルオロベンゼン、パーフルオロ（トリブチルアミン）、ＣｌＣＦ2ＣＦＣｌＣＦ2ＣＦＣｌ2などがあげられる。
【０２７３】
これらフッ素系溶剤も単独でも、またフッ素系溶剤同士、非フッ素系とフッ素系の２種以上を混合溶媒として用いてもよい。
【０２７４】
これらの溶剤（Ｃ）の量は、溶解させる固形分の種類や塗布する基材目標の膜厚、などによって選択されるが、塗布のし易さという観点から、レジスト組成物の全固形分濃度が０．５〜７０重量％、好ましくは１〜５０重量％、特に５〜３０重量％となるように使用するのが好ましい。
【０２７５】
本発明Ｉの化学増幅型レジスト組成物の使用方法としては従来のフォトレジスト技術のレジストパターン形成方法が用いられるが、好適に行なうには、まずシリコンウエーハのような支持体上に、該レジスト組成物の溶液をスピンナーなどで塗布し、乾燥して感光層を形成させ、これに縮小投影露光装置などにより、紫外線、ｄｅｅｐ−ＵＶ、エキシマレーザー光、Ｘ線を所望のマスクパターンを介して照射するか、あるいは電子線により描画し、加熱する。ついでこれを現像液、たとえば１〜１０重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液のようなアルカリ性水溶液などを用いて現像処理する。この形成方法でマスクパターンに忠実な画像を得ることができる。
【０２７６】
なかでも本発明Ｉの化学増幅型レジスト組成物を用いることによって、真空紫外領域においても透明性の高いレジスト被膜（感光層）を形成できることが見出されている。それによって特に今後０．１μｍのテクノロジーノートを目指して開発中のＦ2レーザー（１５７ｎｍ波長）を用いたフォトリソグラフィープロセスに好ましく利用できるものである。
【０２７７】
本発明Ｉの第４は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものを基材に被覆してなる被膜に関する。
【０２７８】
本発明Ｉの被膜は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものであって、該含フッ素ポリマーが真空紫外領域での光に対して透明性の高いものを被覆した被膜である。
【０２７９】
本発明Ｉの被膜に用いられる酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマーは１５７ｎｍでの分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらに好ましくは１．０μｍ-1以下のものである。
【０２８０】
これらの真空紫外領域での透明性の高い含フッ素ポリマーを基材に被覆した被膜は、Ｆ2レーザーを用いたフォトグラフィープロセスにおいて、レジスト被膜（感光層）として当然有用であるが、それ以外にＦ2リソグラフィーに用いるペリクル用途や、レンズなどの周辺光学部品やシリコンウェハーの反射防止膜、レンズや周辺光学部品の非粘着防汚膜などに利用できるため好ましい。
【０２８１】
本発明Ｉの被膜に用いられる含フッ素ポリマー中の酸反応性の官能基は、前述のフォトレジストに用いられる含フッ素ベースポリマー材料で説明したもの、つまり酸解離性または分解性の官能基、酸で縮合反応性の官能基を示し、具体的には、前述の含フッ素ベースポリマー用材料と同様のものが好ましくあげられる。酸解離性または分解性の官能基は、酸と反応後の官能基の効果により基材との密着性、接着性が向上し、強固に密着した被膜となり得る。また一方、酸による縮合反応性の官能基は、架橋剤等を含んでもよい系において酸で縮合反応（架橋反応）して、被膜の機械物性、耐薬品性、耐溶剤性などが向上する効果があり、好ましいものである。
【０２８２】
本発明Ｉの被膜に用いられる含フッ素ポリマーの具体的なものとしては、前述のフォトレジストに用いられるベースポリマー材料で説明した（Ｉ）、（II）、（III）の構造のものから真空紫外領域の光線に対する透明性の高いものが好ましく選択される。
【０２８３】
なかでも（Ｉ）で示した含フッ素ポリマーの式（４）の構造単位のなかでｑ１＝０のもの、（II）で示した含フッ素ポリマー式（５）、（６）の構造単位のなかでｑ２＝０、ｑ３＝０のもの、（III）式（５）の構造単位のなかでｑ２＝０のものが好ましく、またさらにポリマー中のフッ素含有率が３０％以上、好ましくは５０％以上、さらには６０％以上の含フッ素ポリマーであることが好ましい。
【０２８４】
本発明Ｉの被膜は、目的、狙い、用途に従ってあらゆる基材に施すことができる。特に透明性を必要とする用途、光学用途では、シリコンウェハー、ガラス、ＬｉＦ、ＣａＦ2、ＭｇＦ2、などの無機系基材、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂などの透明樹脂、その他金属系基材などにも施される。
【０２８５】
膜厚は、目的、用途に応じて広く選択できるが、透明性を狙いとする用途に利用する場合は、１．０μｍ以下、好ましくは、０．５μｍ以下、さらには０．３μｍ以下の薄膜であることが好ましい。
【０２８６】
さらに本発明Ｉの被膜をフォトレジストのレジスト被膜（感光層）として用いる場合は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物を塗布し、成膜した被膜であることが好ましい。
【０２８７】
本発明Ｉのレジスト被膜は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物をスピンコート等の塗装方法によってシリコンウエハーのような支持体上に塗布し、乾燥することによって形成され、被膜中には、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、その他の添加物など固形分成分が含まれている。
【０２８８】
本発明Ｉのレジスト被膜の膜厚は、通常１．０μｍ以下の薄層被膜であり、好ましくは０．５〜０．１μｍの薄膜である。
【０２８９】
さらに本発明Ｉのレジスト被膜は、真空紫外領域の透明性が高いものが好ましく、具体的には１５７ｎｍ波長の分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらには１．０μｍ-1以下であることが好ましく、Ｆ2レーザー（１５７ｎｍ）の光線を用いるリソグラフィープロセスに効果的に利用できる点で好ましい。
【０２９０】
なお、本発明のレジスト被膜が施される基材は、従来レジストが適用される各種基材が同様に利用できる。たとえばシリコンウェハー、有機系または無機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー、ガラス基板などのいずれでもよい。特に有機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー上での感度、プロファイル形状が良好である。
【０２９１】
本発明Ｉは合成例１〜１０、実施例１〜１１７および比較例１、２のすべてで支持されている。
【０２９２】
発明の第IIの開示（発明II）は、酸反応性官能基を有する特定の含フッ素ポリマーをバインダーとして含有する化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【０２９３】
化学増幅型フォトレジストは樹脂（ポリマー）成分と光酸発生剤を含有し、エネルギー線照射部で酸発生剤から酸を発生させ、その触媒作用を利用するものである。化学増幅型のポジ型フォトレジストはエネルギー線照射部で発生した酸が、その後の熱処理（postexposure bake：ＰＥＢ）によって拡散し、樹脂等の酸解離性または酸分解性の官能基を脱離させるとともに酸を再発生することにより、そのエネルギー線照射部をアルカリ可溶化する。
【０２９４】
化学増幅型ポジ型レジストには、樹脂成分がアルカリ可溶性であり、かかる樹脂成分および酸発生剤に加えて、酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有し、それ自体ではアルカリ可溶性樹脂に対して溶解抑止能をもつが、酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性となる溶解抑止剤を含有するものと、樹脂成分が酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有しそれ自体ではアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性になるものとがある。
【０２９５】
また化学増幅型のネガ型フォトレジストは、一般に樹脂成分が酸で縮合反応できる官能基を有し、かつアルカリ可溶性であり、この樹脂成分および酸発生剤に加えて、架橋剤を含有するものである。
【０２９６】
かかるネガ型フォトレジストにおいては、エネルギー線照射部で発生した酸がＰＥＢによって拡散し、樹脂成分中の酸縮合性の官能基や架橋剤に作用し、そのエネルギー線照射部のバインダー樹脂を硬化させアルカリ不溶化しまたは難溶化させる。
【０２９７】
第IIの発明（発明II）の化学増幅型フォトレジスト組成物は、これら上記のポジ型、ネガ型に対応できるものであり、
（Ａ）酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、
（Ｃ）溶剤
からなる組成物である。
【０２９８】
本発明者らは複環構造を含まない特定の酸反応性基含有含フッ素ポリマー（Ａ）が真空紫外領域の光に対して透明性が特に高く、耐エッチング性、酸との反応性、現像
液溶解性などのレジスト特性に優れていることを見出した。
【０２９９】
第IIの発明の化学増幅型フォトレジスト組成物に用いられる、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）の第１は
式II−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）−            II−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸反応性基を有するエチレン性単量体に由来する構造単位、
(2)構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(3)構造単位ＮがＭ１、Ｍ２と共重合可能なエチレン性単量体に由来する構造単位
で示される重合体でありＭ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９８モル％含んでなり、側鎖中に複環構造の部位を含まない含フッ素重合体であり、構造単位Ｍ２を構成する含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位により、透明性と耐ドライエッチング性を付与できる点で好ましい。
【０３００】
また一方、酸反応性基を有する含フッ素ポリマーが
式II−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）−            II−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸反応性基を有する含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(2)構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(3)構造単位ＮがＭ１、Ｍ２と共重合可能なエチレン性単量体に由来する構造単位
で示される重合体であってＭ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜１００／０〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜１００モル％、構造単位Ｍ２を０〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９９モル％含んでなり、側鎖中に複環構造の部位を含まない含フッ素重合体であることが好ましく、つまり構造単位Ｍ１に酸反応性基と同時にフッ素原子、または含フッ素アルキル基を含んでいることで、より透明性と耐ドライエッチング性をレジスト被膜に付与できる点で好ましい。
【０３０１】
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）の好ましいものの第２は、含フッ素アクリル系重合体であり、具体的には式II−（２）
−（Ｍ１−１）−（Ｍ２−１）−（Ｎ）−          II−（２）
構造単位Ｍ１が下記Ｍ１−１
Ｍ１−１が
【化１２２】
0004923376.tif 000123
構造単位Ｍ２が下記Ｍ２−１、
Ｍ２−１が
【化１２３】
0004923376.tif 000124
（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ4、Ｘ5は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ3、Ｘ6は同じかまたは異なりＨ、Ｃｌ、ＣＨ3、ＦまたはＣＦ3；Ｙ2は酸反応性の官能基；Ｒ1は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；Ｒｆ1は炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基または炭素数３〜２０の含フッ素アリール基；ｎ１は０または１）で示される重合体であり単位Ｍ１−１＋単位Ｍ２−１＝１００モル％としたとき単位Ｍ１−１／単位Ｍ２−１は１〜９９／１〜９９モル％比の含フッ素重合体である。
【０３０２】
但し、Ｍ１−１中にフッ素原子を含む場合はＭ１−１の構造体のから選ばれる一種以上の重合体であっても良い単位Ｍ１−１＋単位Ｍ２−１＝１００モル％としたとき単位Ｍ１−１／単位Ｍ２−１は１〜１００／０〜９９モル％比
なかでも構造単位Ｍ１−１はフッ素原子または含フッ素アルキル基を含むことが好ましく、中でもとくに下記のＭ１−１ａ
【化１２４】
0004923376.tif 000125
（式中、Ｘ1、Ｘ2は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｙ2は酸反応性の官能基；Ｒ1は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ１は０または１）
が重合性もよく、従来のアクリル系重合体に比べて特に透明性、耐ドライエッチ性を改善できる点で、また更に耐熱性、機械的特性の点でも好ましい。
さらに好ましい具体例としては、
Ｍ１−１ｂ、
【化１２５】
0004923376.tif 000126
（式中、Ｙ2は酸反応性の官能基、Ｒ1は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ１は０または１）
Ｍ１−１、Ｍ１−１ａ、Ｍ１−１ｂにおいて−ＯＲ1−は有していてもなくてもよく、含む場合、Ｒ1は前述の２価の炭化水素基や含フッ素アルキレン基から選ばれるものでよいが、好ましくは複環構造を除く２価の炭化水素基、具体的には
【化１２６】
0004923376.tif 000127
などが好ましくあげられる。
【０３０３】
構造単位Ｍ２−１において−Ｒｆ1は上記の含フッ素アルキレン基から選ばれ、具体的には、−（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｆ、（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｈ、−（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｃｌ（ただしｍ：１〜５、ｎ：１〜１０の整数）、
【化１２７】
0004923376.tif 000128
などが好ましくあげられる。
【０３０４】
本発明の含フッ素ポリマー（Ａ）はそれぞれの構造単位Ｍ１−１とＭ２−１に相当するエチレン性単量体と、必要とすればＮに相当する単量体；Ｍ１とＭ２とＮ；Ｍ１−１（またはＭ１−１ａ、Ｍ１−１ｂ）とＭ２−１とＮ（いずれも相当する単量体）を重合することによって得られる。
【０３０５】
酸反応性の官能基Ｙ2を有する構造単位Ｍ１、Ｍ１−１、Ｍ１−１ａ、Ｍ１−１ｂ（以下、特に断らない限り、Ｍ１に代表させる）用の単量体の具体的としては、
【化１２８】
0004923376.tif 000129
などがあげられる。
【０３０６】
上記具体例のうち式（ｉ）、（ｉｉ）は文献、特許未記載の化合物であり、これらを用いた重合体も同様に文献、特許未記載の化合物である。
【０３０７】
重合体を構成するもう一方の構造単位Ｍ２−１（以下、特に断らない限りＭ２に代表させる）用の単量体の具体例としては、
【化１２９】
0004923376.tif 000130
などがあげられる。
【０３０８】
Ｍ１、Ｍ２と共重合可能な単量体に由来する構造単位Ｎは任意成分であり、特に限定されず、目的とする含フッ素重合体の用途、要求性能などによって適宜選定すればよい。構造単位Ｎを与える単量体としては、たとえばつぎの化合物などがあげられる。
【０３０９】
アクリル系単量体（ただしＭ１およびＭ２を与える単量体は除く）：
【化１３０】
0004923376.tif 000131
【０３１０】
スチレン系単量体：
【化１３１】
0004923376.tif 000132
【０３１１】
エチレン系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ3、ＣＨ2＝ＣＨＣｌなど
【０３１２】
マレイン酸系単量体：
【化１３２】
0004923376.tif 000133
【０３１３】
アリル系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＣＯＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｂｒなど
【０３１４】
アリルエーテル系単量体：
【化１３３】
0004923376.tif 000134
【０３１５】
Ｍ１−１、Ｍ２−１の構造単位を有する重合体において、Ｍ１−１（またはＭ１−１ａ、Ｍ１−１ｂ）とＭ２−１の比率は用途、目的とする機能、官能基Ｙ2の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば、酸との反応後、アルカリ可溶性とするためには、いずれも構造単位Ｍ１（Ｍ１ａ、Ｍ１ｂ）が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２−１とＮの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在する重合体であることが好ましい。
【０３１６】
上記、含フッ素ポリマー（Ａ）の分子量は用途、目的、使用形態に応じて数平均分子量で１０００〜１００００００の範囲から選択できるが、好ましくは、３０００〜７０００００、さらに好ましくは５０００〜５０００００程度であり、低すぎる分子量は得られるポリマー被膜の耐熱性や機械特性が不充分となりやすく、高すぎる分子量は加工性の面で不利になりやすい。特にコーティング用材料の形態として薄層被膜の形成を目的とする場合、高すぎる分子量は成膜性において不利となり、好ましくは３０００００以下、特に好ましくは、２０００００以下である。
【０３１７】
Ｍ１−１、Ｍ２−１の構造単位を有する含フッ素重合体の具体的なＭ１−１、Ｍ２−１の組み合わせは上記の例示から目的とする用途、物性（特にガラス転移点、融点など）、機能（透明性、屈折率など）によって種々選択できるが、通常、Ｍ１−１側で官能基Ｙ2の機能をもたせ、それ以外の前記機能はＭ２−１の種類（特にＲｆ基）、存在比率、Ｎの種類や存在比率などを選択して調整するものである。たとえば、耐熱性、機械特性向上を狙って、高Ｔｇまたは高融点のポリマーを目的とする場合、Ｍ２−１用の単量体は嵩高い側鎖のものから選ばれるのが好ましく、たとえば、
【化１３４】
0004923376.tif 000135
などが好ましく選択できる。
【０３１８】
レジスト、特にＦ２レジスト用途を狙いとして真空紫外領域の透明性の高いポリマーを目的とする場合、Ｍ１−１、Ｍ２−１、Ｎを含めたポリマー全体のフッ素原子含有率をできるだけ高くすることが好ましく、フッ素原子含有比率を３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは６０重量％以上とすることが好ましく、その点でもにおける、Ｍ１−１、Ｍ２−１のＸ3、Ｘ6がフッ素原子またはＣＦ3であることが好ましく、さらに、Ｍ２−１をよりフッ素含有量の高いものを選択することが好ましく、たとえばＭ２−１の単量体のうち、
【化１３５】
0004923376.tif 000136
などが好ましく選ばれる。
【０３１９】
こうして得られた含フッ素重合体は非晶性で真空紫外領域も含め、広い波長範囲で透明性が高くレジスト用の、特にＦ２レジスト用のベースポリマーに利用できる。
【０３２０】
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）の好ましいものの第３および第４は、含フッ素アリル系重合体または含フッ素ビニル系重合体である。
【０３２１】
その第３は、式II−（３）：
−（Ｍ１−２）−（Ｍ２−２）−（Ｍ２−３）−（Ｎ）−        II−（３）
（式中、
Ｍ１−２は
【化１３６】
0004923376.tif 000137
Ｍ２−２は
【化１３７】
0004923376.tif 000138
Ｍ２−３は
【化１３８】
0004923376.tif 000139
（式中、Ｘ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ10、Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ16、Ｘ17、Ｘ18は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ15はＨ、ＦまたはＣＦ3；Ｙ2は酸反応性の官能基；Ｚ1は酸により解離または分解反応しない官能基；Ｚ2はＨ、ＦまたはＣｌ；Ｒ2、Ｒｆ2、Ｒｆ3は同じかまたは異なり炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ３、ｎ４、ｎ５は同じかまたは異なり０〜２の整数；ｎ６、ｎ７、ｎ８、ｎ１０は同じかまたは異なり０または１；ｎ９は１）、
Ｎは構造単位Ｍ１−２、Ｍ２−２、Ｍ２−３と共重合可能な単量体に由来する構造単位）であり、単位Ｍ１−２＋単位Ｍ２−２＋単位Ｍ２−３＝１００モル％としたとき単位Ｍ１−２／単位Ｍ２−２／単位Ｍ２−３は１〜１００／０〜９９／０〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１−２を１〜１００モル％、構造単位Ｍ２−２を０〜９９モル％、構造単位Ｍ２−３を０〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９９モル％含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【０３２２】
その第４は、式II−（４）：
−（Ｍ１−３）−（Ｍ２−２）−（Ｍ２−３）−（Ｎ）−    II−（４）
（式中、Ｍ１−３は
【化１３９】
0004923376.tif 000140
Ｍ２−２は
【化１４０】
0004923376.tif 000141
Ｍ２−３は
【化１４１】
0004923376.tif 000142
（式中、Ｒ2aは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ９は０または１；Ｘ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ10、Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ15、Ｘ16、Ｘ17、Ｘ18、Ｙ2、Ｚ1、Ｚ2、Ｒｆ2、Ｒｆ3、ｎ３、ｎ４、ｎ５、ｎ６、ｎ７、ｎ８およびｎ１０は前記式（３）と同じ（ただし、Ｘ13、Ｘ14、Ｚ2のうち少なくとも１つがＦであるか、Ｘ15がＦまたはＣＦ3）、
Ｎは構造単位Ｍ１−３、Ｍ２−２、Ｍ２−３と共重合可能な単量体に由来する構造単位）であり、Ｍ１−３＋Ｍ２−２＋Ｍ２−３＝１００モル％としたとき単位Ｍ１−３／（単位Ｍ２−２＋単位Ｍ２−３）は１〜９０／１０〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１−３を１〜９０モル％、構造単位Ｍ２−２を０〜９９モル％、構造単位Ｍ２−３を０〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９９モル％含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【０３２３】
なお以下、特に断らない限り、構造単位Ｍ１−２およびＭ１−３はＭ１−２に代表させて説明する。
【０３２４】
構造単位Ｍ１−２は酸解離性または酸分解性の官能基を有する単量体の構造単位であり、必須成分として存在し、含フッ素重合体に新たな機能を付与することができる。
【０３２５】
構造単位Ｍ２−２は、酸に解離または分解反応はしないがフッ素ポリマーに溶解性や架橋性、基材との密着性を付与・調整できる官能基を有するもので含フッ素単量体の構成単位として好ましいものである。
【０３２６】
構造単位Ｍ２−３は官能基を有さない含フッ素単量体の構成単位であり、重合体の機械的特性、耐熱性（ガラス転移点や融点）を目的に応じて調整できる点で好ましい。さらに、Ｍ２−２とＭ２−３で重合体全体のフッ素含有量も調整でき、重合体に透明性付与、低屈折率化などが可能となる点で好ましい成分である。
【０３２７】
構造単位Ｎは前記式II−（１）で述べたものと同様であって任意成分であり、必要に応じた要求性能を付与するために共重合させる成分である。
【０３２８】
本発明の式II−（３）、式II−（４）の含フッ素重合体は、Ｍ１−２にフッ素が含有している場合、Ｍ１−２の構造単位から選ばれる１種または２種以上の構造単位のみからなり、Ｍ２−２、Ｍ２−３、Ｎを含まなくてもよい。
【０３２９】
つまり、式II−（３）はＭ１−２の構造単位中にはフッ素原子を有しており、その場合、Ｍ２−１の構造群から選ばれる構造単位のみで構成される重合体であってもよい。
【０３３０】
一方、式II−（４）は式II−（４）中のＭ１−３が酸解離基Ｙ1は有していてもフッ素原子を含有しない構造単位の場合も含み、Ｍ２−２またはＭ２−３のいずれか一方の構造単位を必須成分として含有してなる重合体である。
【０３３１】
式II−（３）の重合体において、好ましくは、下記の構造単位を持つ式II−（３ａ）の重合体であり、
−（Ｍ１−２ａ）−（Ｍ２−２ａ）−（Ｍ２−３）−（Ｎ）−    II−（３ａ）
構造単位Ｍ１−２ａが
【化１４２】
0004923376.tif 000143
（式中、Ｙ2、Ｒ2は式II−（３）と同じ）で示されるもの構造単位が好ましい。
【０３３２】
Ｍ２−２ａは
【化１４３】
0004923376.tif 000144
（式中、Ｒｆ2、Ｚ1は式II−（２）と同じ）で示されるものが好ましく、単位Ｍ１−２／単位Ｍ２−２／単位Ｍ２−３が１〜９９／１〜９９／０〜９８モル％比である重合体が好ましくあげられる。
【０３３３】
本発明のII−（３）、II−（３ａ）の重合体において、Ｍ１−２、Ｍ１−２ａを構成する単量体として好ましい具体例は、
【化１４４】
0004923376.tif 000145
（ａ１＋ｂ１＋ｃ１：０〜３０、ｄ１：０または１、ｅ１：０〜５、Ｘ55：ＦまたはＣＦ3、Ｘ58：ＨまたはＦ、Ｘ57：Ｈ、ＦまたはＣＦ3。ただし、Ｘ58がＨの場合、ａ１＋ｂ１＋ｃ１＋ｄ１が０でない）、
さらに具体的には、
【化１４５】
0004923376.tif 000146
【０３３４】
さらに、本発明の式II−（３ａ）の重合体において、Ｍ２−２、Ｍ２−２ａを構成する単量体として好ましい具体例は、
【化１４６】
0004923376.tif 000147
（ａ２＋ｂ２＋ｃ２：０〜３０、ｄ２：０または１、ｅ２：０〜５、Ｘ59：ＦまたはＣＦ3、Ｘ60、Ｘ62：ＨまたはＦ、Ｘ61：Ｈ、ＦまたはＣＦ3。ただし、Ｘ61、Ｘ62がＨの場合、ａ２＋ｂ２＋ｃ２＋ｄ２＋ｅ２が０でない）、
さらに具体的には、
【化１４７】
0004923376.tif 000148
などがあげられる。
【０３３５】
式II−（３）においてもう一つの好ましい重合体としては、式II−（３ｂ）
−（Ｍ１−２ｂ）−（Ｍ２−２ｂ）−（Ｍ２−３）−（Ｎ）−    II−（３ｂ）
Ｍ１−２ｂが
【化１４８】
0004923376.tif 000149
（式中、Ｙ2、Ｒ2は式（３）と同じ）で示される構造単位であり、
Ｍ２−２ｂは
【化１４９】
0004923376.tif 000150
（式中、Ｒｆ2、Ｚ1は式II−（２）と同じ）で示される構造単位である。
【０３３６】
式II−（３ｂ）の重合体においては単位Ｍ１−２／単位Ｍ２−２／単位Ｍ２−３が１〜９９／１〜９９／０〜９８モル％比である重合体が好ましくあげられる。
【０３３７】
本発明IIの式II−（３ｂ）の重合体において、Ｍ１−２を構成する単量体として好ましい具体例は、
【化１５０】
0004923376.tif 000151
（ａ３＋ｂ３＋ｃ３：０〜３０、ｄ３：０〜２、ｅ３：０〜５、Ｘ63、Ｘ65：ＦまたはＣＦ3、Ｘ64：ＨまたはＦ）、
さらに具体的には、
【化１５１】
0004923376.tif 000152
などがあげられる。
【０３３８】
これら具体例のうち式（ｖ）、（ｖｉ）は文献、特許に未記載の化合物であり、これらを用いた重合体も同様に文献、特許未記載の化合物である。
【０３３９】
本発明IIの式II−（３ｂ）の重合体において、Ｍ２−２を構成する単量体としての好ましい具体例としては、
【化１５２】
0004923376.tif 000153
（ａ４＋ｂ４＋ｃ４：０〜３０、ｄ４：０〜２、ｅ４：０〜５、Ｘ66、Ｘ68：ＦまたはＣＦ3、Ｘ67：ＨまたはＦ）、
さらに具体的には、
【化１５３】
0004923376.tif 000154
があげられる。
【０３４０】
式II−（２）の含フッ素重合体においてＭ１−２を構成する単量体として、前述のＭ１−２ａ、Ｍ１−２ｂに示した好ましい具体例以外の好ましい単量体としては、たとえば
【化１５４】
0004923376.tif 000155
（Ｒｆは式（２）のＲｆ2と同じ）
などがあげられ、より具体的には、
【化１５５】
0004923376.tif 000156
などがあげられる。
【０３４１】
式II−（３）の含フッ素重合体においてＭ２−２を構成する単量体として、前述のＭ２−２ａ、Ｍ２−２ｂに示した好ましい具体例以外の好ましい単量体としては、たとえば
【化１５６】
0004923376.tif 000157
（Ｒｆは式II−（２）のＲｆ2と同じ）
などがあげられ、より具体的には、
【化１５７】
0004923376.tif 000158
などがあげられる。
【０３４２】
式II−（３）、式II−（３ａ）、式II−（３ｂ）の重合体において、Ｍ１−２（Ｍ１−２ａ、Ｍ１−２ｂ）、Ｍ２−２（Ｍ２−２ａ、Ｍ２−２ｂ）およびＭ２−３の比率は用途、目的とする機能、官能基Ｙ2の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば、酸との反応後、含フッ素重合体をアルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ３が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２−２とＭ１−３とＮの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０３４３】
また、式II−（４）の重合体において、好ましくは式II−（４ａ）
−（Ｍ１−３）−（Ｍ２−２）−（Ｍ２−３ａ）−      II−（４ａ）
構造単位Ｍ２−３ａが
【化１５８】
0004923376.tif 000159
（式中、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ15、Ｘ18、Ｚ2およびｎ５は式（２ａ）と同じ）であり、単位Ｍ１−３／（単位Ｍ２−２＋単位Ｍ２−３ａ）が１〜９９／９９〜１０モル％比であり、かつ単位Ｍ１−３／単位Ｍ２−２／単位Ｍ２−３ａが１〜９０／０〜９８／１〜９９モル％比である重合体が好ましい。
【０３４４】
式II−（４ａ）の重合体においてさらに構造単位Ｍ１−３はＭ１−３ａが好ましく、構造単位Ｍ１−３ａは
【化１５９】
0004923376.tif 000160
（式中、Ｒ2bは炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；Ｙ2は酸反応性基）である重合体、
式II−（４ａ）の重合体においてさらに構造単位Ｍ１−３はＭ１−３ｂが好ましく、構造単位Ｍ１−３ｂは
【化１６０】
0004923376.tif 000161
（式中、Ｒ2bおよびＹ2は式II−（Ｍ１−３ａ）と同じ）である重合体
が好ましくあげられる。
【０３４５】
本発明IIの式II−（４）、II−（４ａ）の重合体において、Ｍ１−３を構成する単量体としての好ましい具体例としては、前述の構造単位Ｍ１−２に相当する含フッ素単量体と同じものが好ましく例示され、それに加えてフッ素を含まない単量体であってもよい。フッ素原子を含まない単量体の好ましい具体例としては、
【化１６１】
0004923376.tif 000162
（Ｒ30〜Ｒ33は２価の炭化水素基、例えば２価のアルキレン基、２価の複環構造を除く脂環式炭化水素、２価の芳香族炭化水素、酸素、窒素、イオウなどを含む複環構造を除く炭化水素基など）、
より具体的には、
【化１６２】
0004923376.tif 000163
などがあげられる。
【０３４６】
本発明IIの式II−（４）、II−（４ａ）の重合体において、Ｍ２−２を構成する単量体として好ましい具体例は、前述の式II−（３）、II−（３ａ）、II−（３ｂ）で例示した構造単位Ｍ２−２用の単量体と同じものが好ましく例示される。
【０３４７】
本発明IIの式II−（３）、II−（４）、II−（４ａ）の重合体において、Ｍ２−３を構成する単量体としての好ましい具体例としては、
【化１６３】
0004923376.tif 000164
などがあげられる。
【０３４８】
本発明の式II−（３）、II−（３ａ）、II−（３ｂ）、式II−（４）、II−（４ａ）の重合体において、酸で分解しない官能基Ｚ1とは、酸やカチオンの作用によっては分解または解離しない官能基である。ただし、自己縮合や重縮合反応、架橋剤の存在化、縮合や重縮合反応などは起こしてもかまわない。なかでも、架橋剤などを含まない系において、官能基Ｚ1と酸（またはカチオン）の接触のみによっては、その官能基自体は変化しないものであることが好ましい。
【０３４９】
酸で分解しない官能基Ｚ1の好ましい具体例としては、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＣＮなどがあげられる。
【０３５０】
例えば、酸反応性基Ｙ2が酸解離性または酸分解性の場合、酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ2と酸で分解しない官能基Ｚ1とを含フッ素重合体に共存させ、それぞれの官能基の種類、存在比率を調整することによって、たとえば酸との反応前後で含フッ素重合体のアルカリや溶剤に対する溶解性を調整できること、酸反応前後のアルカリや溶剤に対する溶解度差を調整できること、酸反応前の含フッ素重合体に基材への密着性などの機能を付与できることなどの好ましい効果が得られる。
【０３５１】
これらの官能基の機能によって、種々の酸感応性材料、感光性材料、レジスト材料などへの利用が可能となる。
【０３５２】
構造単位Ｎは任意成分であり、構造単位Ｍ１−２、Ｍ２−２、Ｍ２−３と共重合し得る単量体であれば特に限定されず、目的とする含フッ素重合体の用途、要求特性に応じて適宜選定すればよい。
【０３５３】
エチレン系単量体：
エチレン、プロピレン、ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど
【０３５４】
ビニルエーテル系またはビニルエステル系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨＯＲ、ＣＨ2＝ＣＨＯＣＯＲ（Ｒ：炭素数１〜２０の炭化水素基）など
【０３５５】
アリル系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＣＯＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｂｒなど
【０３５６】
アリルエーテル系単量体：
【化１６４】
0004923376.tif 000165
【０３５７】
本発明の式II−（３）、II−（３ａ）、II−（３ｂ）、式II−（４）、II−（４ａ）重合体の分子量は、用途、目的、使用形態に応じて数平均分子量で１０００〜１００００００の範囲から選択できるが、好ましくは、３０００〜７０００００、さらに好ましくは５０００〜５０００００程度であり、低すぎる分子量は得られるポリマー被膜の耐熱性や機械特性が不充分となりやすく、高すぎる分子量は加工性の面で不利になりやすい。特にコーティング用材料の形態としての薄層被膜の形成を目的とする場合、高すぎる分子量は成膜性において不利となり、好ましくは３０００〜２０００００、特に好ましくは３０００〜１０００００である。
【０３５８】
本発明の式II−（３）、式II−（４）の重合体の具体的な構造単位Ｍ１−２（またはＭ１−３）、Ｍ２−２、Ｍ２−３、Ｎの組み合わせは、上記の例示から目的とする用途、物性（特にガラス転移点など）、機能（透明性、屈折率など）によって種々選択できる。
【０３５９】
通常、構造単位Ｍ１−２側で酸反応性の機能（つまり酸の作用の前後で機能や性状が変化する機能）をもたせ、Ｍ１−２の分解後の官能基とＭ２−２の官能基で分解後の重合体に機能を付与し、Ｍ２−３さらに要すればＮでその他の機能、性状をコントロールする。これらの機能、性状のバランスは、Ｍ１−２、Ｍ２−２、Ｍ２−３、Ｎのそれぞれの種類、存在比率などを選択して調整するものである。
【０３６０】
たとえば、レジスト、特にＦ２レジスト用途を狙いとして真空紫外領域の透明性を目的とする場合、Ｍ１−２、Ｍ２−２、Ｍ２−３、Ｎを含めたポリマー全体のフッ素原子含有率をできるだけ高くすることが好ましく、フッ素原子含有比率を３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは６０重量％以上とすることが好ましく、その点でも構造単位Ｍ１−２ａ、Ｍ１−２ｂ、Ｍ２−３ａ、Ｍ２−３ｂ、Ｍ２−３ａを含む重合体などが好ましく選ばれる。こうして得られた含フッ素重合体は耐熱性が良好で、非晶性で真空紫外領域も含め、広い波長範囲で透明性が高く、レジスト、特にＦ２レジスト用ベースポリマーとして有用である。
【０３６１】
特に、本発明IIの式II−（３）、式II−（４）の重合体は総じて、真空紫外域の透明性が高いことを見出した。そのため、Ｆ２レジスト、Ｆ２ペリクルなどの半導体材料用途などに有用である。
【０３６２】
本発明の化学増幅型レジスト組成物において酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）は酸反応性基Ｙ2を有する含フッ素ポリマーからなる。酸反応性基Ｙ2は詳しくは、酸解離性または酸分解性の官能基および酸縮合性の官能基である。
【０３６３】
(1)酸解離性または酸分解性の官能基：
酸解離性または酸分解性の官能基は、酸反応前はアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により、アルカリ系の現像液に可溶化させることができる官能基である。
【０３６４】
具体的には、酸またはカチオンの作用により−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基などに変化する能力をもち、その結果フッ素重合体自体がアルカリに溶解するものである。
【０３６５】
それによってポジ型のレジストのベースポリマーとして利用できるものである。
【０３６６】
酸解離性または酸分散性の官能基は具体的には、
【化１６５】
0004923376.tif 000166
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29は同じかまたは異なり炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ13、Ｒ16はＨまたは炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ17、Ｒ23は炭素数２〜１０の２価の炭化水素基）
が好ましく利用でき、さらに具体的には
【化１６６】
0004923376.tif 000167
（Ｒ30は炭素数１〜１０のアルキル基）
などが好ましく例示される。
【０３６７】
これらの酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマーは、前述のポジ型フォトレジストに用いられる。酸解離性または酸分解性官能基は、前述の保護基とも呼ばれ、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体は、アルカリ不溶または難溶であるが、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により解離または分解し、含フッ素ポリマー（Ａ）がアルカリ可溶と変化する機能を有するものであり、さらに含フッ素ポリマー（Ａ）中の官能基の分解により発生した脱離基からも酸が発生し、さらに分解反応を促進させる効果を有するものである。
【０３６８】
これらの酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマーにおいて、構造単位Ｍ１、Ｍ２およびＮの比率は組成物の種類、狙いとする機能、官能基Ｙ2の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば酸との反応後の含フッ素重合体をアルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ１が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２と構造単位Ｎの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０３６９】
(2)酸縮合反応性の官能基：
酸縮合反応性の官能基は、酸反応前はアルカリ（または溶剤）に可溶であるが酸の作用により、重合体自体をアルカリ系の現像液（または前述と同じ溶剤）に不溶化させることができる官能基である。
【０３７０】
具体的には酸またはカチオンの作用による自己縮合、重縮合あるいは架橋剤の存在下、酸の作用による架橋剤との縮合反応または重縮合反応を起こす官能基、または酸やカチオンによる転位反応（たとえば、ピナコール転位、カルビノール転位）などで、極性変化を起こす官能基であって、いずれにしてもその結果、重合体自体はアルカリ（または溶剤）に不溶となるものである。
【０３７１】
酸縮合性の官能基としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基等から選ばれるものが好ましい具体例である。
【０３７２】
これらの酸により縮合反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーは、ネガ型フォトレジストに用いられる。酸による縮合反応性の官能基は、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により縮合・重縮合反応または転位反応を起こすものであって、それによって自己架橋反応、分子内転位反応、架橋剤を含む組成物により架橋剤との架橋反応などが起こり、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体、現像液（アルカリまたは溶剤）に可溶であったものが、不溶または難溶化させる機能を有するものである。
【０３７３】
またさらに本発明の縮合反応性の官能基は、酸との反応前、それ自体アルカリや溶剤などの現像液に対して可溶化する機能を付与できるもの（例、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＯＨなど）がなかでも好ましいが、酸により縮合反応（架橋反応）して現像液に不溶化する機能のみ（−ＣＮ、エポキシ基など）を有するものであってもよい。この場合現像液に対して可溶化する機能を有する他の官能基と組み合わせて使用したり、含フッ素ポリマーの骨格自体を現像液に可溶化できる構造とすることでネガ型フォトレジストとして利用できる。
【０３７４】
なかでも特に酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマーは、酸との反応前にはアルカリ水溶液可溶性のポリマーであることが好ましく、現像液に溶剤（特に可燃性溶剤）を用いず水系での現像プロセス（溶解プロセス）が可能となり、安全性、環境面で有利となる。
【０３７５】
アルカリ水溶液可溶性を与えるためには構造単位Ｍ１が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２と構造単位Ｎの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０３７６】
架橋剤としては特に制限なく、従来ネガ型レジストの架橋剤として慣用されているものの中から任意に選択して用いることができる。
【０３７７】
本発明IIの式（１）、式（２）および式（３）、式（４）の重合体はいずれも酸反応性の官能基Ｙ2を有することに特徴がある。含フッ素重合体にこれら官能基を導入する方法としては、あらゆる方法が利用可能であるが、一般には、
(1)官能基Ｙ2を有する単量体を予め合成し重合して得る方法、
(2)一旦、他の官能基を有する重合体を合成しその重合体に高分子反応により官能基変換し官能基Ｙ2を導入する方法
などが採用できる。
【０３７８】
たとえば、(2)の方法で酸解離性または酸分解性の官能基を導入する例として、一旦、ＯＨ基を有する含フッ素重合体を作製した後、トルエンスルホン酸類などの酸の存在下、エチルビニルエーテル、ジヒドロピランなどのビニルエーテル類を反応させて酸分解性の官能基（ケタール類）を導入する方法；１，２−ジオールを有する含フッ素重合体にケトン類を反応させて、酸分解性の官能基（環状のアセタール化合物）を得る方法などが採用できる。
【０３７９】
本発明の組成物に用いる含フッ素ポリマー（Ａ）は、それぞれ構成単位に相当する官能基Ｙ2を有するエチレン性単量体（Ｍ１）、含フッ素エチレン性単量体（Ｍ２）、必要に応じて任意成分（Ｎ）に相当する含フッ素エチレン性単量体を、公知の種々の方法で（共）重合することで得られる。重合方法はラジカル重合法、アニオン重合法、カチオン重合法などが利用でき、なかでも本発明の重合体を得るための各単量体はラジカル重合性が良好で、さらに組成や分子量などの品質のコントロールがしやすい点、工業化しやすい点でラジカル重合法が好ましく用いられる。すなわち重合を開始するには、ラジカル的に進行するものであれば手段は何ら制限されないが、たとえば有機または無機ラジカル重合開始剤、熱、光あるいは電離放射線などによって開始される。重合の種類も溶液重合、バルク重合、懸濁重合、乳化重合などを用いることができる。また分子量は、重合に用いるモノマーの濃度、重合開始剤の濃度、連鎖移動剤の濃度、温度によって制御される。生成する共重合体の組成は、仕込みモノマーの組成によって制御可能である。
【０３８０】
本発明IIの化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）は、その物質自体にまたはその物質を含むレジスト組成物に放射線を照射することによって、酸またはカチオンを発生する化合物である。２種以上の混合物として用いることもできる。
【０３８１】
本発明IIの化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）の例示としては、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０３８２】
本発明IIの化学増幅型フォトレジスト組成物における光酸発生剤（Ｂ）の含有量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した比率と同様のものが好ましく適用される。
【０３８３】
また本発明IIのフォトレジスト組成物には、上記の光酸発生剤から生じた酸に対して塩基として作用できる有機塩基を添加してもよい。
【０３８４】
添加する有機塩基としては第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０３８５】
有機塩基の添加量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した添加比率と同様のものが好ましく適用される。
【０３８６】
これら有機塩基の添加によって第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したと同様の効果を本発明のレジスト組成物に与えるものである。
【０３８７】
また、本発明IIの化学増幅型フォトレジスト組成物において、酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）を用いてネガ型レジスト組成物とする場合、必要に応じて架橋剤を用いてもよい。
【０３８８】
使用する架橋剤としては特に制限なく、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０３８９】
本発明IIのフォトレジスト（特にネガ型）組成物おける、架橋剤の含有割合は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した使用量と同様のものが好ましく適用される。
【０３９０】
本発明IIのフォトレジスト組成物は必要に応じてさらに溶解抑制剤、増感剤、染料、接着性改良剤、保水剤などこの分野で慣用されている各種の添加剤を含有することもできる。
【０３９１】
これらの添加剤の具体例は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０３９２】
これら添加剤を用いる場合、それらの添加量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した使用比率と同様のものが好ましく適用される。
【０３９３】
本発明IIの化学増加型フォトレジスト組成物において、溶剤（Ｃ）は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、および前述の例示の種々の添加剤を溶解し得るものであり、良好な塗装性（表面平滑性、膜厚の均一性など）を得られるものであれば特に限定されず用いることができる。
【０３９４】
好ましい溶剤（Ｃ）としては、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。これらの溶剤（Ｃ）の存在比率は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した存在比率と同様のものが好ましく適用される。
【０３９５】
本発明IIの化学増幅型レジスト組成物の使用方法としては従来のフォトレジスト技術のレジストパターン形成方法が用いられ、そのパターン形成方法は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様の方法が好ましく適用できる。
【０３９６】
なかでも本発明IIの化学増幅型レジスト組成物を用いることによって、真空紫外領域においても透明性の高いレジスト被膜（感光層）を形成できることが見出されている。それによって特に今後０．１μｍのテクノロジーノートを目指して開発中のＦ2レーザー（１５７ｎｍ波長）を用いたフォトリソグラフィープロセスに好ましく利用できるものである。
【０３９７】
発明の第IIの開示（発明II）は、酸反応性の官能基を有する前記含フッ素ポリマー（Ａ）からなるものを基材に被覆してなる被膜にも関する。
【０３９８】
本発明IIの被膜は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものであって、該含フッ素ポリマーが真空紫外領域での光に対して透明性の高いものを被覆した被膜である。
【０３９９】
本発明IIの被膜に用いられる酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマーは１５７ｎｍでの分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらに好ましくは１．０μｍ-1以下のものである。
【０４００】
これらの真空紫外領域での透明性の高い含フッ素ポリマーを基材に被覆した被膜は、Ｆ2レーザーを用いたフォトグラフィープロセスにおいて、レジスト被膜（感光層）として当然有用であるが、それ以外にＦ2リソグラフィーに用いるペリクル用途や、レンズなどの周辺光学部品やシリコンウェハーの反射防止膜、レンズや周辺光学部品の非粘着防汚膜などに利用できるため好ましい。
【０４０１】
本発明IIの被膜は、目的、狙い、用途に従ってあらゆる基材に施すことができる。特に透明性を必要とする用途、光学用途では、シリコンウェハー、ガラス、ＬｉＦ、ＣａＦ2、ＭｇＦ2、などの無機系基材、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂などの透明樹脂、その他金属系基材などにも施される。
【０４０２】
膜厚は、目的、用途に応じて広く選択できるが、透明性を狙いとする用途に利用する場合は、１．０μｍ以下、好ましくは、０．５μｍ以下、さらには０．３μｍ以下の薄膜であることが好ましい。
【０４０３】
さらに本発明IIの被膜をフォトレジストのレジスト被膜（感光層）として用いる場合は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物を塗布し、成膜した被膜であることが好ましい。
【０４０４】
本発明IIのレジスト被膜は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物をスピンコート等の塗装方法によってシリコンウエハーのような支持体上に塗布し、乾燥することによって形成され、被膜中には、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、その他の添加物など固形分成分が含まれている。
【０４０５】
本発明IIのレジスト被膜の膜厚は、通常１．０μｍ以下の薄層被膜であり、好ましくは０．５〜０．１μｍの薄膜である。
【０４０６】
さらに本発明IIのレジスト被膜は、真空紫外領域の透明性が高いものが好ましく、具体的には１５７ｎｍ波長の分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらには１．０μｍ-1以下であることが好ましく、Ｆ2レーザー（１５７ｎｍ）の光線を用いるリソグラフィープロセスに効果的に利用できる点で好ましい。
【０４０７】
なお、本発明IIのレジスト被膜が施される基材は、従来レジストが適用される各種基材が同様に利用できる。たとえばシリコンウェハー、有機系または無機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー、ガラス基板などのいずれでもよい。特に有機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー上での感度、プロファイル形状が良好である。
【０４０８】
なお、この第IIの発明に直接係わる合成例は合成例１〜６であり、実施例は実施例１〜９、１２〜２２、２５〜３５、４７、６２〜７５、８８〜９３、１１２〜１１７である。
【０４０９】
発明の第IIIの開示（発明III）は、発明IIと同様に、酸反応性官能基を有する特定の含フッ素ポリマーをバインダーとして含有する化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【０４１０】
化学増幅型フォトレジストは樹脂（ポリマー）成分と光酸発生剤を含有し、エネルギー線照射部で酸発生剤から酸を発生させ、その触媒作用を利用するものである。化学増幅型のポジ型フォトレジストはエネルギー線照射部で発生した酸が、その後の熱処理（postexposure bake：ＰＥＢ）によって拡散し、樹脂等の酸解離性または酸分解性の官能基を脱離させるとともに酸を再発生することにより、そのエネルギー線照射部をアルカリ可溶化する。
【０４１１】
化学増幅型ポジ型レジストには、樹脂成分がアルカリ可溶性であり、かかる樹脂成分および酸発生剤に加えて、酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有し、それ自体ではアルカリ可溶性樹脂に対して溶解抑止能をもつが、酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性となる溶解抑止剤を含有するものと、樹脂成分が酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有しそれ自体ではアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性になるものとがある。
【０４１２】
また化学増幅型のネガ型フォトレジストは、一般に樹脂成分が酸で縮合反応できる官能基を有し、かつアルカリ可溶性であり、この樹脂成分および酸発生剤に加えて、架橋剤を含有するものである。
【０４１３】
かかるネガ型フォトレジストにおいては、エネルギー線照射部で発生した酸がＰＥＢによって拡散し、樹脂成分中の酸縮合性の官能基や架橋剤に作用し、そのエネルギー線照射部のバインダー樹脂を硬化させアルカリ不溶化しまたは難溶化させる。
【０４１４】
第IIIの発明（発明III）の化学増幅型フォトレジスト組成物は、これら上記のポジ型、ネガ型に対応できるものであり、
（Ａ）酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、
（Ｃ）溶剤
からなる組成物である。
【０４１５】
本発明者らは複環構造を含まない特定の酸反応性基含有含フッ素ポリマー（Ａ）が真空紫外領域の光に対して透明性が特に高く、耐エッチング性、酸との反応性、現像液溶解性などのレジスト特性に優れていることを見出した。
【０４１６】
第IIIの発明の化学増幅型フォトレジスト組成物に用いられる、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）は
式III−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）−            III−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸反応性基を有するエチレン性単量体に由来する構造単位
(2)構造単位Ｍ２がポリマー主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する構造単位
(3)構造単位ＮがＭ１、Ｍ２と共重合可能な含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
で示される重合体でありＭ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９８モル％含んでなり、主鎖及び側鎖中に複環構造の部位を含まない含フッ素重合体であり、構造単位Ｍ２を構成するポリマー主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する構造単位により、透明性と耐ドライエッチング性を付与できる点で好ましい。
【０４１７】
中でも、構造単位Ｍ１が酸反応性基を有する含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位であることが好ましく、つまり構造単位Ｍ１に酸反応性基と同時にフッ素原子、または含フッ素アルキル基を含んでいることで、より透明性と耐ドライエッチング性をレジスト被膜に付与できる点で好ましい。
【０４１８】
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）の構造単位Ｍ１の好ましいものは、構造単位Ｍ１がＭ１−１、
Ｍ１−１が
【化１６７】
0004923376.tif 000168
（式中、Ｘ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ16は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｙ2は酸反応性基；Ｒ2aは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ６、ｎ９は０または１；ｎ３は０〜２の整数）である。
【０４１９】
上記の構造単位Ｍ１−１はフッ素原子またはフルオロアルキル基を含むものであっても、含まないものであっても良い。
【０４２０】
中でも、Ｘ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ16のいずれかがフッ素原子であるか、またはＲ2aが炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基であることが透明性や耐ドライエッチ性の面で好ましい。
【０４２１】
なかでも構造単位Ｍ１−１の好ましいのもとしては、Ｍ１−１ａ
【化１６８】
0004923376.tif 000169
（式中、Ｙ2は酸反応性基、Ｒ2bは炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基）である。
【０４２２】
上記、構造単位Ｍ１−１ａを構成する単量体として好ましい具体例は、
【化１６９】
0004923376.tif 000170
（ａ１＋ｂ１＋ｃ１：０〜３０、ｄ１：０または１、ｅ１：０〜５、Ｘ55：ＦまたはＣＦ3、Ｘ58：ＨまたはＦ、Ｘ57：Ｈ、ＦまたはＣＦ3。ただし、Ｘ58がＨの場合、ａ１＋ｂ１＋ｃ１＋ｄ１が０でない）、
さらに具体的には、
【化１７０】
0004923376.tif 000171
【０４２３】
構造単位Ｍ１−１の好ましいもう一つのもとしては、Ｍ１−１ｂ
【化１７１】
0004923376.tif 000172
（式中、Ｙ2は酸反応性基、Ｒ2bは炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基）である。
【０４２４】
上記、構造単位Ｍ１−１ｂを構成する単量体として好ましい具体例は、
【化１７２】
0004923376.tif 000173
（ａ３＋ｂ３＋ｃ３：０〜３０、ｄ３：０〜２、ｅ３：０〜５、Ｘ63、Ｘ65：ＦまたはＣＦ3、Ｘ64：ＨまたはＦ）、
さらに具体的には、
【化１７３】
0004923376.tif 000174
などがあげられる。
【０４２５】
前述に示した構造単位Ｍ１−１ａ、構造単位Ｍ１−１ｂ以外の構造単位Ｍ１−１の好ましい単量体としては、たとえば
【化１７４】
0004923376.tif 000175
（Ｒｆは式（２）のＲｆ2と同じ）
などがあげられ、より具体的には、
【化１７５】
0004923376.tif 000176
などがあげられる。
【０４２６】
また、構造単位Ｍ１はフッ素を含まないエチレン性単量体であっても良く、その場合、Ｍ１を構成するエチレン性単量体の好ましいものは
【化１７６】
0004923376.tif 000177
（Ｒ30〜Ｒ33は２価の炭化水素基、例えば２価のアルキレン基、２価の複環構造を除く脂環式炭化水素、２価の芳香族炭化水素、酸素、窒素、イオウなどを含む複環構造を除く炭化水素基など）、
より具体的には、
【化１７７】
0004923376.tif 000178
などがあげられる。
【０４２７】
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）を構成する構造単位Ｍ２は主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する構造単位であり、好ましいものとしては、構造単位Ｍ２−１
【化１７８】
0004923376.tif 000179
（式中、Ｘ19、Ｘ20、Ｘ23、Ｘ24、Ｘ25、Ｘ26は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ21、Ｘ22は同じかまたは異なりＨ、Ｆ、ＣｌまたはＣＦ3；Ｒｆ4は炭素数１〜１０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１０のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基；ｎ１２は０〜３の整数；ｎ１１、ｎ１３、ｎ１４、ｎ１５は同じかまたは異なり０または１の整数）
構造単位Ｍ２−１の好ましい具体例としては、構造単位Ｍ２−１ａ
【化１７９】
0004923376.tif 000180
（式中、Ｒｆ4は炭素数１〜１０の含フッ素アルキレン基）で示される構造単位が挙げられ、
これらの構造単位Ｍ２−１ａ構成する単量体としては、
【化１８０】
0004923376.tif 000181
などが具体的に例示でき、構造単位Ｍ１を構成する単量体と共重合することによって得られる。
【０４２８】
構造単位Ｍ２−１のもう一つの好ましい具体例としては、構造単位Ｍ２−１ｂ
【化１８１】
0004923376.tif 000182
または構造単位Ｍ２−１ｃ
【化１８２】
0004923376.tif 000183
で示される構造単位であることが好ましい。
【０４２９】
これらの構造単位Ｍ２−１ｂ、構造単位Ｍ２−１ｃを構成する単量体としては、具体的には、ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2のジエン化合物を共重合成分に用いて、環化重合して得られたものである。
【０４３０】
さらに、構造単位Ｍ２−１の好ましい具体例として構造単位Ｍ２−１ｄが式III−（３）−４：
【化１８３】
0004923376.tif 000184
または構造単位Ｍ２−１ｅ：
【化１８４】
0004923376.tif 000185
または構造単位Ｍ２−１ｆ
【化１８５】
0004923376.tif 000186
（式中、Ｘ19、Ｘ20、Ｘ23、Ｘ24はＨまたはＦ）で示される構造単位が挙げられる。
【０４３１】
構造単位Ｍ２−１ｄ、構造単位Ｍ２−１ｅ、構造単位Ｍ２−１ｆは具体的にはＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＸ19Ｘ20（式中、Ｘ19、Ｘ20はＨまたはＦ）で示されるジエン化合物を用いて、環化重合してえられたものである。さらに、具体的には、ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2、ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＨ2のジエン化合物を用いて、環化重合してえられたものである。
【０４３２】
さらに、そのほか含フッ素脂肪族環状の構造単位を構成する単量体としては、
【化１８６】
0004923376.tif 000187
（Ｙ2は酸反応性基）
などもあげられる。
【０４３３】
酸反応性を有する含フッ素ポリマー（Ａ）において構造単位Ｎは任意成分であり、Ｍ１、Ｍ２と共重合可能な含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位から選ばれるものである。
【０４３４】
構造単位Ｎの好ましいものはＮ−１、
【化１８７】
0004923376.tif 000188
（式中、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ18は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ15はＨ、ＦまたはＣＦ3；Ｚ2はＨ、ＦまたはＣｌ；Ｒｆ3は同じかまたは異なり炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ５は同じかまたは異なり０〜２の整数；ｎ１０は同じかまたは異なり０または１、ただしｎ１０が０の場合、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ18、Ｚ2の少なくとも１つがフッ素原子かまたはＸ15がフッ素原子またはＣＦ3）
である。
【０４３５】
構造単位Ｎ−１は官能基を有さない含フッ素単量体の構成単位であり、重合体の機械的特性、ガラス転移点を目的に応じて調整できる点で好ましい。さらに、重合体全体のフッ素含有量も調整でき、重合体に透明性付与が可能となる点で好ましい成分である
【０４３６】
さらに構造単位Ｎ−１は構造単位Ｎ−１ａ、
【化１８８】
0004923376.tif 000189
（式中、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ18、は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ15はＨ、ＦまたはＣＦ3：Ｚ2はＨ、ＦまたはＣｌ；ｎ５は同じかまたは異なり０〜２の整数、ただしＸ13、Ｘ14、Ｘ18、Ｚ2の少なくとも１つがフッ素原子かＸ15がフッ素原子またはＣＦ3）
が好ましい。
【０４３７】
構造単位構造単位Ｎ−１、Ｎ−１ａを構成するの好ましい単量体の具体例としては
【化１８９】
0004923376.tif 000190
などがあげられる。
【０４３８】
また、構造単位Ｎが、構造単位Ｍ１に用いた官能基Ｙ2以外の官能基を有する含フッ素エチレン性単量体に由来するもの、構造単位Ｎ−２であっても良い。
【０４３９】
構造単位Ｎ−２は、酸に解離または分解反応はしないがフッ素ポリマーに溶解性や架橋性、基材との密着性を付与・調整できる官能基を有するもので含フッ素単量体の構成単位として好ましいものである。
【０４４０】
構造単位Ｎ−２を構成する単量体として好ましい具体例は、
【化１９０】
0004923376.tif 000191
（ａ２＋ｂ２＋ｃ２：０〜３０、ｄ２：０または１、ｅ２：０〜５、Ｘ59：ＦまたはＣＦ3、Ｘ60、Ｘ62：ＨまたはＦ、Ｘ61：Ｈ、ＦまたはＣＦ3。ただし、Ｘ61、Ｘ62がＨの場合、ａ２＋ｂ２＋ｃ２＋ｄ２＋ｅ２が０でない）、
さらに具体的には、
【化１９１】
0004923376.tif 000192
さらに、
【化１９２】
0004923376.tif 000193
（ａ４＋ｂ４＋ｃ４：０〜３０、ｄ４：０〜２、ｅ４：０〜５、Ｘ66、Ｘ68：ＦまたはＣＦ3、Ｘ67：ＨまたはＦ）、
さらに具体的には、
【化１９３】
0004923376.tif 000194
などが挙げられる。
【０４４１】
またさらに、
【化１９４】
0004923376.tif 000195
（Ｒｆは炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基）
などがあげられ、より具体的には、
【化１９５】
0004923376.tif 000196
（Ｚ1は酸により解離または分離反応しない官能基）
などがあげられる。
【０４４２】
本発明のフォトレジストに用いる含フッ素ベースポリマー材料は酸反応性基Ｙ2を有する含フッ素ポリマーからなる。酸反応性基Ｙ2とは詳しくは、酸解離性または酸分解性の官能基および酸縮合性の官能基である。
【０４４３】
(1)酸解離性または酸分解性の官能基：
酸解離性または酸分解性の官能基は、酸反応前はアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により、アルカリ系の現像液に可溶化させることができる官能基である。
【０４４４】
具体的には、酸またはカチオンの作用により−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基などに変化する能力をもち、その結果フッ素重合体自体がアルカリに溶解するものである。
【０４４５】
それによってポジ型のレジストのベースポリマーとして利用できるものである。酸解離性または酸分解性の官能基は具体的には、
【化１９６】
0004923376.tif 000197
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29は同じかまたは異なり炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ13、Ｒ16はＨまたは炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ17、Ｒ23は炭素数２〜１０の２価の炭化水素基）
が好ましく利用でき、さらに具体的には
【化１９７】
0004923376.tif 000198
（Ｒ30は炭素数１〜１０のアルキル基）
などが好ましく例示される。
【０４４６】
これらの酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマーは、前述のポジ型フォトレジストに用いられる。酸解離性または酸分解性官能基は、前述の保護基とも呼ばれ、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体は、アルカリ不溶または難溶であるが、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により解離または分解し、含フッ素ポリマー（Ａ）がアルカリ可溶と変化する機能を有するものであり、さらに含フッ素ポリマー（Ａ）中の官能基の分解により発生した脱離基からも酸が発生し、さらに分解反応を促進させる効果を有するものである。
【０４４７】
これらの酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマーにおいて、構造単位Ｍ１、Ｍ２およびＮの比率は組成物の種類、狙いとする機能、官能基Ｙ2の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば酸との反応後の含フッ素重合体をアルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ１が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２と構造単位Ｎの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０４４８】
(2)酸縮合反応性の官能基：
酸縮合反応性の官能基は、酸反応前はアルカリ（または溶剤）に可溶であるが酸の作用により、重合体自体をアルカリ系の現像液（または前述と同じ溶剤）に不溶化させることができる官能基である。
【０４４９】
具体的には酸またはカチオンの作用による自己縮合、重縮合あるいは架橋剤の存在下、酸の作用による架橋剤との縮合反応または重縮合反応を起こす官能基、または酸やカチオンによる転位反応（たとえば、ピナコール転位、カルビノール転位）などで、極性変化を起こす官能基であって、いずれにしてもその結果、重合体自体はアルカリ（または溶剤）に不溶となるものである。
【０４５０】
酸縮合性の官能基としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基等から選ばれるものが好ましい具体例である。
【０４５１】
使用する場合、架橋剤としては特に制限なく、従来ネガ型レジストの架橋剤として慣用されているものの中から任意に選択して用いることができる。
【０４５２】
これらの酸により縮合反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーは、ネガ型フォトレジストに用いられる。酸による縮合反応性の官能基は、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により縮合・重縮合反応または転位反応を起こすものであって、それによって自己架橋反応、分子内転位反応、架橋剤を含む組成物により架橋剤との架橋反応などが起こり、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体、現像液（アルカリまたは溶剤）に可溶であったものが、不溶または難溶化させる機能を有するものである。
【０４５３】
またさらに本発明の縮合反応性の官能基は、酸との反応前、それ自体アルカリや溶剤などの現像液に対して可溶化する機能を付与できるもの（例、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＯＨなど）がなかでも好ましいが、酸により縮合反応（架橋反応）して現像液に不溶化する機能のみ（−ＣＮ、エポキシ基など）を有するものであってもよい。この場合現像液に対して可溶化する機能を有する他の官能基と組み合わせて使用したり、含フッ素ポリマーの骨格自体を現像液に可溶化できる構造とすることでネガ型フォトレジストとして利用できる。
【０４５４】
なかでも特に酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマーは、酸との反応前にはアルカリ水溶液可溶性のポリマーであることが好ましく、現像液に溶剤（特に可燃性溶剤）を用いず水系での現像プロセス（溶解プロセス）が可能となり、安全性、環境面で有利となる。
【０４５５】
アルカリ水溶液可溶性を与えるためには構造単位Ｍ１が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２と構造単位Ｎの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０４５６】
これらの酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマーにおいて、構造単位Ｍ１、Ｍ２およびＮの比率は組成物の種類、狙いとする機能、官能基Ｙ2の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば酸との反応前の含フッ素重合体をアルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ１が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２と構造単位Ｎの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０４５７】
これらの酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）の分子量は用途、目的、使用形態に応じて数平均分子量で１０００〜１００００００の範囲から選択できるが、好ましくは、３０００〜７０００００、さらにに好ましくは５０００〜５０００００程度であり、低すぎる分子量は得られるポリマー被膜の耐熱性や機械特性が不充分となりやすく、高すぎる分子量は加工性の面で不利になりやすい。特にコーティング用材料の形態として薄層被膜の形成を目的とする場合、高すぎる分子量は成膜性において不利となり、好ましくは２０００００以下、特に好ましくは１０００００以下である。
【０４５８】
これらの酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）の具体的な構造単位Ｍ１、Ｍ２、Ｎの組み合わせは、上記の例示から目的とする用途、物性（特にガラス転移点、融点など）、機能（透明性、耐ドライエッチ性）によって種々選択できる。
【０４５９】
通常、構造単位Ｍ１側で酸解離性または酸分解性の機能や架橋性（つまり分解の前後で機能や性状が変化する機能）をもたせ、構造単位Ｍ２さらに要すれば構造単位Ｎでその他の機能、性状をコントロールする。これらの機能、性状のバランスは、構造単位Ｍ１、Ｍ２、Ｎのそれぞれの種類、存在比率などを選択して調整するものである。
【０４６０】
これら主鎖に含フッ素脂肪族環状の重合体は構造的には嵩高く、自由体積が大きく、フッ素含有率も高いため、
・ガラス転移点が高く機械的物性が良好、
・耐熱性が良好、
・広い波長範囲で透明性が高い、
・低屈折率、
・耐ドライエッチ性が良好
などの特徴があり好ましい。それに加えて、官能基Ｙ2の酸と反応する機能や酸との反応後に、含フッ素重合体が
・アルカリ水溶液への親和性、溶解性の付与、
・溶剤可溶性、親水性等の付与、
・基材などへの密着性、接着性の付与、
・架橋性の付与
などの機能を獲得できるため好ましく、レジスト用ポリマー、特にＦ２レジスト用ポリマーとして好適である。
【０４６１】
たとえば、レジスト、特にＦ２レジスト用途を狙いとして真空紫外領域での透明性を目的とする場合、Ｍ１、Ｍ２、Ｎを含めたポリマー全体のフッ素原子含有率をできるだけ高くすることが好ましく、フッ素原子含有比率を３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは６０重量％以上とすることが好ましい。こうして得られた含フッ素ポリマーは耐熱性が良好で、非晶性で真空紫外領域も含め、広い波長範囲で透明性が高く、特に、これら主鎖に含フッ素脂肪族環状ポリマーが真空紫外領域の透明性が高いことを見出した。そのため、レジスト、特にＦ２レジスト関連用途に有用である。
【０４６２】
また一方、上記環状構造の優れた特徴を発揮させるためには、構造単位Ｍ２が３０〜９９モル％、好ましくは４０〜９９モル％、特に好ましくは６０〜９９モル％存在し、構造単位Ｍ１とＮの合計が１〜７０モル％、好ましくは１〜６０モル％、特に好ましくは１〜４０モル％存在することが好ましい。
【０４６３】
本発明IIIの化学増幅型レジスト組成物に用いる含フッ素ポリマーはいずれも酸反応性の官能基Ｙ2を有することに特徴がある。含フッ素重合体にこれら官能基を導入する方法としては、あらゆる方法が利用可能であるが、一般には、
(1)官能基Ｙ2を有する単量体を予め合成し重合して得る方法、
(2)一旦、他の官能基を有する重合体を合成しその重合体に高分子反応により官能基変換し官能基Ｙ2を導入する方法
などが採用できる。
【０４６４】
たとえば、(2)の方法で酸解離性または酸分解性の官能基を導入する例として、一旦、ＯＨ基を有する含フッ素重合体を作製した後、トルエンスルホン酸類などの酸の存在下、エチルビニルエーテル、ジヒドロピランなどのビニルエーテル類を反応させて酸分解性の官能基（ケタール類）を導入する方法；１，２−ジオールを有する含フッ素重合体にケトン類を反応させて、酸分解性の官能基（環状のアセタール化合物）を得る方法などが採用できる。
【０４６５】
本発明の組成物に用いる含フッ素ポリマー（Ａ）は、それぞれ構成単位に相当する官能基Ｙ2を有するエチレン性単量体（Ｍ１）、環構造を形成する環状モノマーまたはジエン化合物（Ｍ２）、必要に応じて任意成分（Ｎ）に相当する含フッ素エチレン性単量体を、公知の種々の方法で（共）重合することで得られる。重合方法はラジカル重合法、アニオン重合法、カチオン重合法などが利用でき、なかでも本発明の重合体を得るための各単量体はラジカル重合性が良好で、さらに組成や分子量などの品質のコントロールがしやすい点、工業化しやすい点でラジカル重合法が好ましく用いられる。すなわち重合を開始するには、ラジカル的に進行するものであれば手段は何ら制限されないが、たとえば有機または無機ラジカル重合開始剤、熱、光あるいは電離放射線などによって開始される。重合の種類も溶液重合、バルク重合、懸濁重合、乳化重合などを用いることができる。また分子量は、重合に用いるモノマーの濃度、重合開始剤の濃度、連鎖移動剤の濃度、温度によって制御される。生成する共重合体の組成は、仕込みモノマーの組成によって制御可能である。
【０４６６】
本発明IIIの化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）は、その物質自体にまたはその物質を含むレジスト組成物に放射線を照射することによって、酸またはカチオンを発生する化合物である。２種以上の混合物として用いることもできる。
【０４６７】
本発明IIIの化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）の例示としては、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０４６８】
本発明IIIの化学増幅型フォトレジスト組成物における光酸発生剤（Ｂ）の含有量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した比率と同様のものが好ましく適用される。
【０４６９】
また本発明IIIのフォトレジスト組成物には、上記の光酸発生剤から生じた酸に対して塩基として作用できる有機塩基を添加してもよい。
【０４７０】
添加する有機塩基としては第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０４７１】
有機塩基の添加量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した添加比率と同様のものが好ましく適用される。
【０４７２】
これら有機塩基の添加によって第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したと同様の効果を本発明のレジスト組成物に与えるものである。
【０４７３】
また、本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物において、酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）を用いてネガ型レジスト組成物とする場合、必要に応じて架橋剤を用いてもよい。
【０４７４】
使用する架橋剤としては特に制限なく、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０４７５】
本発明のフォトレジスト（特にネガ型）組成物おける、架橋剤の含有割合は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した使用量と同様のものが好ましく適用される。
【０４７６】
本発明のフォトレジスト組成物は必要に応じてさらに溶解抑制剤、増感剤、染料、接着性改良剤、保水剤などこの分野で慣用されている各種の添加剤を含有することもできる。
【０４７７】
これらの添加剤の具体例は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０４７８】
これら添加剤を用いる場合、それらの添加量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した使用比率と同様のものが好ましく適用される。
【０４７９】
本発明IIIの化学増加型フォトレジスト組成物において、溶剤（Ｃ）は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、および前述の例示の種々の添加剤を溶解し得るものであり、良好な塗装性（表面平滑性、膜厚の均一性など）を得られるものであれば特に限定されず用いることができる。
【０４８０】
好ましい溶剤（Ｃ）としては、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０４８１】
これらの溶剤（Ｃ）の存在比率は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した存在比率と同様のものが好ましく適用される。
【０４８２】
本発明IIIの化学増幅型レジスト組成物の使用方法としては従来のフォトレジスト技術のレジストパターン形成方法が用いられ、そのパターン形成方法は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様の方法が好ましく適用できる。
【０４８３】
なかでも本発明の化学増幅型レジスト組成物を用いることによって、真空紫外領域においても透明性の高いレジスト被膜（感光層）を形成できることが見出されている。それによって特に今後０．１μｍのテクノロジーノートを目指して開発中のＦ2レーザー（１５７ｎｍ波長）を用いたフォトリソグラフィープロセスに好ましく利用できるものである。
【０４８４】
酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものを基材に被覆してなる被膜に関する。
【０４８５】
本発明IIIの被膜は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものであって、該含フッ素ポリマーが真空紫外領域での光に対して透明性の高いものを被覆した被膜である。
【０４８６】
本発明IIIの被膜に用いられる酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマーは１５７ｎｍでの分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらに好ましくは１．０μｍ-1以下のものである。
【０４８７】
これらの真空紫外領域での透明性の高い含フッ素ポリマーを基材に被覆した被膜は、Ｆ2レーザーを用いたフォトグラフィープロセスにおいて、レジスト被膜（感光層）として当然有用であるが、それ以外にＦ2リソグラフィーに用いるペリクル用途や、レンズなどの周辺光学部品やシリコンウェハーの反射防止膜、レンズや周辺光学部品の非粘着防汚膜などに利用できるため好ましい。
【０４８８】
本発明IIIの被膜は、目的、狙い、用途に従ってあらゆる基材に施すことができる。特に透明性を必要とする用途、光学用途では、シリコンウェハー、ガラス、ＬｉＦ、ＣａＦ2、ＭｇＦ2、などの無機系基材、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂などの透明樹脂、その他金属系基材などにも施される。
【０４８９】
膜厚は、目的、用途に応じて広く選択できるが、透明性を狙いとする用途に利用する場合は、１．０μｍ以下、好ましくは、０．５μｍ以下、さらには０．３μｍ以下の薄膜であることが好ましい。
【０４９０】
さらに本発明IIIの被膜をフォトレジストのレジスト被膜（感光層）として用いる場合は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物を塗布し、成膜した被膜であることが好ましい。
【０４９１】
本発明IIIのレジスト被膜は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物をスピンコート等の塗装方法によってシリコンウエハーのような支持体上に塗布し、乾燥することによって形成され、被膜中には、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、その他の添加物など固形分成分が含まれている。
【０４９２】
本発明IIIのレジスト被膜の膜厚は、通常１．０μｍ以下の薄層被膜であり、好ましくは０．５〜０．１μｍの薄膜である。
【０４９３】
さらに本発明IIIのレジスト被膜は、真空紫外領域の透明性が高いものが好ましく、具体的には１５７ｎｍ波長の分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらには１．０μｍ-1以下であることが好ましく、Ｆ2レーザー（１５７ｎｍ）の光線を用いるリソグラフィープロセスに効果的に利用できる点で好ましい。
【０４９４】
なお、本発明のレジスト被膜が施される基材は、従来レジストが適用される各種基材が同様に利用できる。たとえばシリコンウェハー、有機系または無機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー、ガラス基板などのいずれでもよい。特に有機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー上での感度、プロファイル形状が良好である。
【０４９５】
なお、この第IIIの発明に直接係わる実施例は実施例１０、１１、２３および２４である。
【０４９６】
発明の第IVの開示（発明IV）は、酸反応性官能基を有する特定の含フッ素ポリマーをバインダーとして含有する化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【０４９７】
化学増幅型フォトレジストは樹脂（ポリマー）成分と光酸発生剤を含有し、エネルギー線照射部で酸発生剤から酸を発生させ、その触媒作用を利用するものである。化学増幅型のポジ型フォトレジストはエネルギー線照射部で発生した酸が、その後の熱処理（postexposure bake：ＰＥＢ）によって拡散し、樹脂等の酸解離性または酸分解性の官能基を脱離させるとともに酸を再発生することにより、そのエネルギー線照射部をアルカリ可溶化する。
【０４９８】
化学増幅型ポジ型レジストには樹脂成分がアルカリ可溶性であり、かかる樹脂成分および酸発生剤に加えて、酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有し、それ自体ではアルカリ可溶性樹脂に対して溶解抑止能をもつが、酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性となる溶解抑止剤を含有するものと、樹脂成分が酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有しそれ自体ではアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性になるものとがある。
【０４９９】
第IVの発明（発明IV）の化学増幅型フォトレジスト組成物は、これら上記のポジ型に対応できるものであり、
（Ａ）酸解離性または酸分解性基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、
（Ｃ）溶剤
からなる組成物である。
【０５００】
本発明者らは特定の酸解離性または酸分解性基を有する含フッ素エチレン性単量体と脂環式単量体からなる特定の含フッ素ポリマー（Ａ）が真空紫外領域の光に対して透明性が特に高く、耐エッチング性、酸との反応性、現像液溶解性などのレジスト特性に優れていることを見出した。
【０５０１】
第IVの発明（発明IV）の化学増幅型フォトレジスト組成物に用いられる、酸反応性基を有する含フッ素ポリマーは
式IV−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｍ３）−（Ｎ）−      IV−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸解離性または酸分解性の官能基であって、酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基を有する含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(2)構造単位Ｍ２が脂環式単量体に由来する構造単位、
(3)構造単位Ｍ３は含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
(4)構造単位ＮはＭ１、Ｍ２、Ｍ３と共重合可能なエチレン性単量体の構造単位
で示される重合体であり、Ｍ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２／Ｍ３は１〜９８／１〜９８／１〜９８モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９８モル％、構造単位Ｍ２を１〜９８モル％、構造単位Ｍ３を１〜９８モル％および構造単位Ｎを０〜９７モル％含んでなる含フッ素ポリマーである。
【０５０２】
酸解離性または酸分解性の官能基のうち、酸の作用によって分解し、カルボキシル基に変化する官能基とフッ素原子、フルオロアルキル基を同時に含有する特定のエチレン性単量体由来の構造単位Ｍ１を有することがポリマーの特徴であり、それによって、カルボキシル基の良好なアルカリ水溶液（現像液）可溶性を利用して、高感度のポジ型レジストが得られると同時に、フッ素原子、フルオロアルキル基の効果により、従来のアクリル系単量体の構造単位に比べて、真空紫外領域での透明性が良好となり、Ｆ２レジスト用としても有利となることを見出した。
【０５０３】
また、脂環式単量体も構造単位（Ｍ２）を有することで、耐ドライエッチ性の良好なレジスト被膜となる。
【０５０４】
さらに、含フッ素エチレン性単量体の構造単位Ｍ３を必須成分として含めることによってさらに、透明性の付与、耐ドライエッチ性の改善が達成できることを見出した。
【０５０５】
つまり、上記酸解離性または酸分解性の官能基を有する含フッ素エチレン性単量体の構造単位Ｍ１と脂環式単量体の構造単位Ｍ２と含フッ素エチレン性単量体の構造単位Ｍ３を同時に含有する含フッ素ポリマーによって、真空紫外領域での透明性、耐ドライエッチ性、露光感度、現像液溶解性などレジストとしての必要な機能を得ることが出来るものである。
【０５０６】
次に、各構造単位について以下に具体的に述べる。
【０５０７】
酸解離性または酸分解性の酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）の好ましいもの第１は、含フッ素アクリル系重合体であり、
構造単位Ｍ１がＭ１−１、
Ｍ１−１が
【化１９８】
0004923376.tif 000199
（式中、Ｘ1、Ｘ2は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ3は同じかまたは異なりＨ、Ｃｌ、ＣＨ3、ＦまたはＣＦ3；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基であって酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基；Ｒ1は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ１は０または１、ただしｎ１が０、またはＲ1中にフッ素原子を含まない場合はＸ1またはＸ2の少なくとも１つはフッ素原子であるかまたはＸ3がフッ素原子またはＣＦ3）である。
【０５０８】
つまり主鎖および／または側鎖にフッ素原子、フルオロアルキル基を有する含フッ素アクリル系の単量体であって、酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基を有する構造単位である。
【０５０９】
中でもとくに下記のＭ１−１ａ
【化１９９】
0004923376.tif 000200
（式中、Ｘ1、Ｘ2は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基であって酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基；Ｒ1は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ１は０または１）が重合性もよく、従来のアクリル系重合体に比べて特に透明性、耐ドライエッチ性を改善できる点で、また更に耐熱性、機械的特性の点でも好ましい。
【０５１０】
さらに好ましい具体例としては、
Ｍ１−１ｂ、
【化２００】
0004923376.tif 000201
（式中、Ｒ1は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ１は０または１）
Ｍ１−１、Ｍ１−１ａ、Ｍ１−１ｂにおいて−ＯＲ1−は有していてもなくてもよく、含む場合、Ｒ1は前述の２価の炭化水素基や含フッ素アルキレン基から選ばれるものでよいが、好ましくは２価の炭化水素基、具体的には
【化２０１】
0004923376.tif 000202
などが好ましくあげられる。
【０５１１】
ただし、−ＯＲ1−は有していないか、Ｒ1にフッ素原子を含まない場合は、前記構造単位Ｍ１−１におけるＸ1、Ｘ2、Ｘ3のいずれかにフッ素原子またはフッ素を含む基を有するものである。
【０５１２】
酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1を有するアクリル系の構造単位Ｍ１−１、Ｍ１−１ａ、Ｍ１−１ｂ（以下、特に断らない限り、Ｍ１に代表させる）用の単量体の具体的としては、
【化２０２】
0004923376.tif 000203
などがあげられる。
【０５１３】
上記具体例のうち式（ｉ）、（ii）は文献、特許未記載の化合物であり、これらを用いた重合体も同様に文献、特許未記載の化合物である。
【０５１４】
酸解離性または酸分解性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）において構造単位Ｍ１の好ましいものの第２は、含フッ素アリル系または含フッ素ビニル系単量体に由来する構造単位である。
【０５１５】
具体的にはＭ１がＭ１−２、
Ｍ１−２が
【化２０３】
0004923376.tif 000204
（式中、Ｘ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ16は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基であって酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基；Ｒ2aは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ６、ｎ９は０または１；ｎ３は０〜２の整数、ただしｎ９＝０であるか、Ｒ2aがフッ素原子を含まない場合はＸ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ16のいずれかにフッ素原子を含む）の構造単位である。
【０５１６】
つまり、主鎖または側鎖にフッ素原子、フルオロアルキル基を有するアリル系、アリルエーテル系、ビニル系、ビニルエーテル系の単量体に由来し、酸で反応してカルボキシル基に変化する官能基を有する構造単位であり、特にフッ素原子含有比率を向上させることができ、透明性、特に真空紫外領域の透明性を向上させることができる点で、さらに耐ドライエッチ性を向上させることができる点で好ましい。
【０５１７】
上記、Ｍ１−２の構造単位においてはＲ2aが炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基であること（ただしｎ９＝１）が透明性の面で特に好ましい。
【０５１８】
なかでも構造単位Ｍ１−２は、より具体的には、下記Ｍ１−２ａ
【化２０４】
0004923376.tif 000205
（式中、Ｒ2bは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基であって酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基）
が好ましく、含フッ素エチレン性単量体など種々の他の単量体と共重合性も良好で、さらにポリマーの透明性、特に真空紫外領域の透明性を改善できる点で好ましく、さらに、Ｒ2bが炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基であることが透明性の面で好ましい。
【０５１９】
Ｍ１−２ａを構成する単量体として好ましい具体例は、
【化２０５】
0004923376.tif 000206
（ａ１＋ｂ１＋ｃ１：０〜３０、ｄ１：０または１、ｅ１：０〜５、Ｘ55：ＦまたはＣＦ3、Ｘ56、Ｘ58：ＨまたはＦ、Ｘ57：Ｈ、ＦまたはＣＦ3、ただしＸ58がＨの場合、ａ１＋ｂ１＋ｃ１＋ｄ１が０ではない）、
さらに具体的には、
【化２０６】
0004923376.tif 000207
【０５２０】
また構造単位Ｍ１−２のもう一つの好ましい具体例としては、下記構造単位Ｍ１−２ｂ
構造単位Ｍ１−２ｂは
【化２０７】
0004923376.tif 000208
（式中、Ｒ2bは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基であって酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基）が好ましく、他の含フッ素エチレン性単量体と共重合性も良好で、さらにポリマーの透明性、特に真空紫外領域の透明性を改善できる点で好ましく、さらに、Ｒ2bが炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基であることが透明性の面で好ましい。
【０５２１】
Ｍ１−２ｂを構成する単量体として好ましい具体例としては、
【化２０８】
0004923376.tif 000209
（ａ３＋ｂ３＋ｃ３：０〜３０、ｄ３：０〜２、ｅ３：０〜５、Ｘ63、Ｘ65：ＦまたはＣＦ3、Ｘ64：ＨまたはＦ）、
さらに具体的には、
【化２０９】
0004923376.tif 000210
などがあげられる。
【０５２２】
これらの具体例のうち式（iii）、（iv）は文献、特許未記載の化合物であり、これらを用いた重合体も同様に文献、特許未記載の化合物である。
【０５２３】
Ｍ１−２を構成する単量体として、前述のＭ１−２ａ、Ｍ１−２ｂに示した好ましい具体例以外の好ましい単量体としては、たとえば
【化２１０】
0004923376.tif 000211
（ＲｆはＭ１−２ｂのＲ2bと同じ）
などがあげられ、より具体的には、
【化２１１】
0004923376.tif 000212
などがあげられる。
【０５２４】
酸解離性または酸分解性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）において構造単位Ｍ２は脂肪族環状構造を有する構造単位であり、主鎖中に環構造を有するものであっても、側鎖に環構造を持っている構造単位でも良い。
【０５２５】
これらの環構造によって酸解離性または酸分解性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）に良好な耐ドライエッチ性を付与できる点で好ましい。
【０５２６】
なかでも特に主鎖に環構造を有する構造単位がポリマーのガラス転位温度を高く設定できる点で、耐ドライエッチ性の点で好ましい。
【０５２７】
主鎖に環状構造を形成する単量体の具体例としては、
脂環式炭化水素類
【化２１２】
0004923376.tif 000213
（Ｚ1は、構造単位Ｍ１中の官能基以外の官能基）
含フッ素脂環式単量体：
式（９）：
【化２１３】
0004923376.tif 000214
（式中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、ｍは０〜３の整数。ただし、Ａ〜Ｄのいずれか１つはフッ素原子を含む）
具体的には、
【化２１４】
0004923376.tif 000215
などがあげられる。
【０５２８】
そのほか、
【化２１５】
0004923376.tif 000216
などもあげられる。
【０５２９】
官能基を有する含フッ素脂環式単量体：
【化２１６】
0004923376.tif 000217
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基。ただし、ｂが０またはＲがフッ素原子を含まない場合はＡ〜Ｃのいずれか１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）で表わされる新規な含フッ素単量体があげられる。
【０５３０】
これらのなかでも、Ａ、Ｂ、Ｃのいずれかがフッ素原子であることが好ましく、またはＡ〜Ｃにフッ素原子が含まれない場合はＲのフッ素含有率が６０重量％以上であることが好ましく、さらにはパーフルオロアルキレン基であることが、重合体に透明性を付与できる点で好ましい。
【０５３１】
具体的には、
【化２１７】
0004923376.tif 000218
【化２１８】
0004923376.tif 000219
などがあげられる。
【０５３２】
または、式（１１）：
【化２１９】
0004923376.tif 000220
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基である）で表わされる新規な含フッ素単量体があげられる。
【０５３３】
具体的には、
【化２２０】
0004923376.tif 000221
【化２２１】
0004923376.tif 000222
などのノルボルネン骨格を有するものが好ましくあげられる。
【０５３４】
そのほか、
【化２２２】
0004923376.tif 000223
などもあげられる。
【０５３５】
これらの脂環式単量体に含まれる酸反応性基Ｙ2とは詳しくは、酸解離性または酸分解性の官能基および酸縮合性の官能基である。
【０５３６】
(1)酸解離性または酸分解性の官能基：
酸解離性または酸分解性の官能基は、酸反応前はアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により、アルカリ系の現像液に可溶化させることができる官能基である。
【０５３７】
具体的には、酸またはカチオンの作用により−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基などに変化する能力をもち、その結果フッ素重合体自体がアルカリに溶解するものである。
【０５３８】
それによってポジ型のレジストのベースポリマーとして利用できるものである。酸解離性または酸分散性の官能基は具体的には、前記式Ｉ−（１）のＭ１に関連して列挙したＹ1が好ましくあげられる。
【０５３９】
(2)酸縮合反応性の官能基：
酸縮合反応性の官能基は、酸反応前はアルカリ（または溶剤）に可溶であるが酸の作用により、重合体自体をアルカリ系の現像液（または前述と同じ溶剤）に不溶化させることができる官能基である。
【０５４０】
具体的には酸またはカチオンの作用による自己縮合、重縮合あるいは架橋剤の存在下、酸の作用による架橋剤との縮合反応または重縮合反応を起こす官能基、または酸やカチオンによる転位反応（たとえば、ピナコール転位、カルビノール転位）などで、極性変化を起こす官能基であって、いずれにしてもその結果、重合体自体はアルカリ（または溶剤）に不溶となるものである。
【０５４１】
それによって、ネガ型のレジストのベースポリマーとして利用できるものである。
【０５４２】
酸縮合性の官能基としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基等から選ばれるものが好ましい具体例である。
【０５４３】
これらのなかでも、複環構造を有する構造単位を持つものが、エッチング耐性を向上できる点で好ましい。
【０５４４】
なかでも特に、主鎖に複環構造を有する構造単位としては、ノルボルネンおよびノルボルネン誘導体に由来する構造単位がノルボルネンおよびノルボルネン誘導体自体が含フッ素エチレン性単量体との共重合性が高い点で、また得られたポリマーがガラス転位点を高く設定できる点で、耐ドライエッチ性を高くすることができる点で好ましい。
【０５４５】
また、環状炭化水素モノマーの水素の一部またはすべてがフッ素原子で置換したものが透明性、特に真空紫外領域の透明性に優れている点で好ましい。
【０５４６】
また、一方側鎖に脂肪族環状構造を有する単量体としては、
【化２２３】
0004923376.tif 000224
等が挙げられる。
【０５４７】
酸解離性または酸分解性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）を構成する構造単位Ｍ３は含フッ素エチレン性単量体の構造単位であり、含フッ素ポリマーに透明性、特に真空紫外領域の透明性を改善できる。
【０５４８】
構造単位Ｍ３の詳しくは
下式の構造単位Ｍ３−１、
【化２２４】
0004923376.tif 000225
（式中、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ18は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ15はＨ、ＦまたはＣＦ3；Ｚ2はＨ、ＦまたはＣｌ；Ｒｆ3は同じかまたは異なり炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ５は０〜２の整数；ｎ１０は０または１、ただしｎ１０が０の場合、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ18、Ｘ15、Ｚ2のいずれかにフッ素原子を含む）で示される含フッ素エチレン性単量体由来の構造単位である。
【０５４９】
構造単位Ｍ３を構成する単量体としての好ましい具体例としては、
【化２２５】
0004923376.tif 000226
などがあげられる。
【０５５０】
なかでも、炭素数２または３のエチレン性単量体であって、フッ素原子を少なくとも１つ以上含有する単量体が共重合性の面で好ましくい。
【０５５１】
具体例としては、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニル等が挙げられ、特にテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンが好ましい。
【０５５２】
また構造単位Ｍ３は含フッ素エチレン性単量体由来の構造単位であって、構造単位Ｍ１に含まれる官能基を除く官能基Ｚ1を含んだもの（構造単位Ｍ３−２とする）であっても良く、例えば、酸で分解しない官能基であることが好ましい。架橋剤などを含まない系において、官能基Ｚ1と酸の接触によってはその官能基自体変化しないものであることが好ましい。
【０５５３】
酸で分解しない官能基Ｚ1の好ましい具体例としては、−ＣＨ2ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＣＮなどがあげられる。
【０５５４】
例えば、酸解離性または酸分解性の官能基Ｙ1と酸で分解しない官能基Ｚ1とを含フッ素重合体に共存させ、それぞれの官能基の種類、存在比率を調整することによって、たとえば酸との反応前後で含フッ素重合体のアルカリや溶剤に対する溶解性を調整できること、酸反応前後のアルカリや溶剤に対する溶解度差を調整できること、酸反応前の含フッ素重合体に基材への密着性などの機能を付与できることなどの好ましい効果が得られる。
【０５５５】
これら酸で分解しない官能基Ｚ1を含む構造単位を形成する、官能基Ｚ1を有する含フッ素エチレン性単量体の具体例は構造単位Ｍ１で示した酸分解性または酸解離性の官能基Ｙ1を有する含フッ素エチレン性単量体で例示したもののそれぞれの官能基Ｙ1を上記Ｚ1に置き換えたものが、好ましく利用できる。
【０５５６】
これらの官能基の機能によって、種々の酸感応性材料、感光性材料、レジスト材料などへの利用が可能となる。
【０５５７】
また、さらに構造単位Ｍ３−１、Ｍ３−２以外の含フッ素エチレン性単量体であっても良く、例えば、含フッ素アクリル（ただし、構造単位Ｍ１−１に含まれるものは除く）であってもよい。
【０５５８】
具体的には構造単位Ｍ３−３、
Ｍ３−３が、
【化２２６】
0004923376.tif 000227
（式中、Ｘ4、Ｘ5は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ6はＨ、Ｃｌ、ＣＨ3、ＦまたはＣＦ3；Ｒｆ1は炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基または炭素数３〜２０の含フッ素アリール基）で示される構造単位のものが好ましいものである。
【０５５９】
構造単位Ｍ３−３において−Ｒｆ1は上記の含フッ素アルキル基から選ばれ、具体的には、−（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｆ、（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｈ、−（ＣＨ2）m（ＣＦ2）n−Ｃｌ（ただしｍ：１〜５、ｎ：１〜１０の整数）、
【化２２７】
0004923376.tif 000228
などが好ましくあげられる。
【０５６０】
構造単位Ｍ３−３を形成する単量体の具体例としては、
【化２２８】
0004923376.tif 000229
【０５６１】
構造単位Ｎは任意成分であり、構造単位Ｍ１、Ｍ１−１、Ｍ１−２、Ｍ−２、Ｍ３−１、Ｍ３−２と共重合し得る単量体であれば特に限定されず、目的とする含フッ素重合体の用途、要求特性に応じて適宜選定すればよい。
【０５６２】
エチレン系単量体：
エチレン、プロピレン、ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど
【０５６３】
ビニルエーテル系またはビニルエステル系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨＯＲ、ＣＨ2＝ＣＨＯＣＯＲ（Ｒ：炭素数１〜２０の炭化水素基）など
【０５６４】
アリル系単量体：
ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＣＯＯＨ、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｂｒなど
【０５６５】
アリルエーテル系単量体：
【化２２９】
0004923376.tif 000230
【０５６６】
その他、アクリル、メタクリル系（ただしフッ素原子を含まない）単量体などが挙げられる。
【０５６７】
これら酸分解性または酸解離性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）の分子量は、用途、目的、使用形態に応じて数平均分子量で１０００〜１００００００の範囲から選択できるが、好ましくは、３０００〜７０００００、さらに好ましくは５０００〜５０００００程度であり、低すぎる分子量は得られるポリマー被膜の耐熱性や機械特性が不充分となりやすく、高すぎる分子量は加工性の面で不利になりやすい。特にコーティング用材料の形態としての薄層被膜の形成を目的とする場合、高すぎる分子量は成膜性において不利となり、好ましくは３０００〜２０００００、特に好ましくは３０００〜１０００００である。
【０５６８】
含フッ素ポリマー（Ａ）の具体的な構造単位Ｍ１、Ｍ１−１、Ｍ１−２、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ３−１、Ｎの組み合わせは、上記の例示から目的とする用途、物性（特にガラス転移点、融点など）、機能（透明性、屈折率など）によって種々選択できる。
【０５６９】
通常、構造単位Ｍ１側で酸反応性の機能（つまり酸の作用の前後で機能や性状が変化する機能）をもたせ、Ｍ１の分解後の官能基と場合によってＭ３−２の官能基とで分解後の重合体に機能を付与し、Ｍ２で耐ドライエッチ性の付与やＴｇのコントロールを行い、Ｍ３−１さらに要すればＮでその他の機能、性状をコントロールする。これらの機能、性状のバランスは、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３−１、Ｍ３−２、Ｎのそれぞれの種類、存在比率などを選択して調整するものである。
【０５７０】
たとえば、レジスト、特にＦ２レジスト用途を狙いとして真空紫外領域の透明性を目的とする場合、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｎを含めたポリマー全体のフッ素原子含有率をできるだけ高くすることが好ましく、フッ素原子含有比率を３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは６０重量％以上とすることが好ましく、その点でも構造単位Ｍ１−１、Ｍ１−２ａ、Ｍ１−２ｂ、Ｍ３−１、Ｍ３−２を含む重合体などが好ましく選ばれる。こうして得られた含フッ素重合体は耐熱性が良好で、非晶性で真空紫外領域も含め、広い波長範囲で透明性が高く、レジスト、特にＦ２レジスト用ベースポリマーとして有用である。
【０５７１】
特に、本発明の例示の重合体は総じて、真空紫外領域の透明性が高いことを見出した。そのため、Ｆ２レジスト、Ｆ２ペリクルなどの半導体材料用途などに有用である。
【０５７２】
本発明の化学増幅型レジスト組成物において酸解離性または酸分解性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）は、酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基を有することが特徴である。
【０５７３】
これらの官能基の効果によって、含フッ素ポリマー（Ａ）に対し酸反応前はアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により、アルカリ系の現像液に可溶化させることができる。
【０５７４】
それによってポジ型のレジストのベースポリマーとして利用できるものである。
【０５７５】
酸解離性または酸分解性基は具体的には
【化２３０】
0004923376.tif 000231
（Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20は同じかまたは異なり、炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｒ’はＨまたは炭素数１〜１０の炭化水素基）
などがあげられ、
なかでも、
−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3、−ＯＣＨ2ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3などが好ましいものである。
【０５７６】
これらの酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマーは、前述のポジ型フォトレジストに用いられる。酸解離性または酸分解性官能基は、前述の保護基とも呼ばれ、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体は、アルカリ不溶または難溶であるが、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により解離または分解し、含フッ素ポリマー（Ａ）がアルカリ可溶と変化する機能を有するものであり、さらに含フッ素ポリマー（Ａ）中の官能基の分解により発生した脱離基からも酸が発生し、さらに分解反応を促進させる効果を有するものである。
【０５７７】
本発明の酸によりカルボキシル基に変化する官能基を導入した含フッ素ポリマーを用いた化学増幅型レジストは、露光感度も高く、酸反応後（脱保護後）の現像液への溶解性も良好であり、解像度の高いパターンが得ることができる点で好ましい。
【０５７８】
さらに、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いる前述の含フッ素ポリマー（Ａ）はカルボン酸系の官能基を導入したにもかかわらず、透明性、特に真空紫外領域での透明性が高く、Ｆ２レーザーによる露光においても高感度で、高解像度の微細レジストパターン、さらに微細回路パターンを得ることができるものである。
【０５７９】
これらの酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）において、構造単位Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３およびＮの比率は組成物の種類、狙いとする機能、官能基Ｙ1の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば酸との反応後の含フッ素重合体をアルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ１が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２と構造単位Ｎの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０５８０】
本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いる含フッ素ポリマーに官能基を導入する方法としては、あらゆる方法が利用可能であるが、一般には、
(1)官能基Ｙ1を有する単量体を予め合成し重合して得る方法、
(2)一旦、他の官能基を有する重合体を合成しその重合体に高分子反応により官能基変換し官能基Ｙ1を導入する方法
などが採用できる。
【０５８１】
本発明の組成物に用いる含フッ素ポリマー（Ａ）は、それぞれ構成単位に相当する官能基Ｙ1を有するエチレン性単量体（Ｍ１）、脂環式単量体（Ｍ２）、含フッ素エチレン性単量体（Ｍ３）、必要に応じて任意成分（Ｎ）に相当する含フッ素エチレン性単量体を、公知の種々の方法で（共）重合することで得られる。重合方法はラジカル重合法、アニオン重合法、カチオン重合法などが利用でき、なかでも本発明の重合体を得るための各単量体はラジカル重合性が良好で、さらに組成や分子量などの品質のコントロールがしやすい点、工業化しやすい点でラジカル重合法が好ましく用いられる。すなわち重合を開始するには、ラジカル的に進行するものであれば手段は何ら制限されないが、たとえば有機または無機ラジカル重合開始剤、熱、光あるいは電離放射線などによって開始される。重合の種類も溶液重合、バルク重合、懸濁重合、乳化重合などを用いることができる。また分子量は、重合に用いるモノマーの濃度、重合開始剤の濃度、連鎖移動剤の濃度、温度によって制御される。生成する共重合体の組成は、仕込みモノマーの組成によって制御可能である。
【０５８２】
本発明の化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）は、その物質自体にまたはその物質を含むレジスト組成物に放射線を照射することによって、酸またはカチオンを発生する化合物である。２種以上の混合物として用いることもできる。
【０５８３】
本発明の化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）の例示としては、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０５８４】
本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物における光酸発生剤（Ｂ）の含有量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した比率と同様のものが好ましく適用される。
【０５８５】
また本発明のフォトレジスト組成物には、上記の光酸発生剤から生じた酸に対して塩基として作用できる有機塩基を添付してもよい。
【０５８６】
添加する有機塩基としては第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０５８７】
有機塩基の添加量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した添加比率と同様のものが好ましく適用される。
【０５８８】
これら有機塩基の添加によって第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したと同様の効果を本発明のレジスト組成物に与えるものである。
【０５８９】
本発明IVのフォトレジスト組成物は必要に応じてさらに溶解抑制剤、増感剤、染料、接着性改良剤、保水剤などこの分野で慣用されている各種の添加剤を含有することもできる。
【０５９０】
これらの添加剤の具体例は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０５９１】
これら添加剤を用いる場合、それらの添加量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した使用比率と同様のものが好ましく適用される。
【０５９２】
本発明IVの化学増加型フォトレジスト組成物において、溶剤（Ｃ）は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、および前述の例示の種々の添加剤を溶解し得るものであり、良好な塗装性（表面平滑性、膜厚の均一性など）を得られるものであれば特に限定されず用いることができる。
【０５９３】
好ましい溶剤（Ｃ）としては、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０５９４】
これらの溶剤（Ｃ）の存在比率は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した存在比率と同様のものが好ましく適用される。
【０５９５】
本発明IVの化学増幅型レジスト組成物の使用方法としては従来のフォトレジスト技術のレジストパターン形成方法が用いられ、そのパターン形成方法は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様の方法が好ましく適用できる。
【０５９６】
なかでも本発明IVの化学増幅型レジスト組成物を用いることによって、真空紫外領域においても透明性の高いレジスト被膜（感光層）を形成できることが見出されている。それによって特に今後０．１μｍのテクノロジーノートを目指して開発中のＦ2レーザー（１５７ｎｍ波長）を用いたフォトリソグラフィープロセスに好ましく利用できるものである。
【０５９７】
本発明IVはまた、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものを基剤に被覆してなる被膜に関する。
【０５９８】
本発明IVの被膜は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものであって、該含フッ素ポリマーが真空紫外領域での光に対して透明性の高いものを被覆した被膜である。
【０５９９】
本発明IVの被膜に用いられる酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマーは１５７ｎｍでの分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらに好ましくは１．０μｍ-1以下のものである。
【０６００】
これらの真空紫外領域での透明性の高い含フッ素ポリマーを基材に被覆した被膜は、Ｆ2レーザーを用いたフォトグラフィープロセスにおいて、レジスト被膜（感光層）として当然有用であるが、それ以外にＦ2リソグラフィーに用いるペリクル用途や、レンズなどの周辺光学部品やシリコンウェハーの反射防止膜、レンズや周辺光学部品の非粘着防汚膜などに利用できるため好ましい。
【０６０１】
本発明IVの被膜は、目的、狙い、用途に従ってあらゆる基材に施すことができる。特に透明性を必要とする用途、光学用途では、シリコンウェハー、ガラス、ＬｉＦ、ＣａＦ2、ＭｇＦ2、などの無機系基材、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂などの透明樹脂、その他金属系基材などにも施される。
【０６０２】
膜厚は、目的、用途に応じて広く選択できるが、透明性を狙いとする用途に利用する場合は、１．０μｍ以下、好ましくは、０．５μｍ以下、さらには０．３μｍ以下の薄膜であることが好ましい。
【０６０３】
さらに本発明IVの被膜をフォトレジストのレジスト被膜（感光層）として用いる場合は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物を塗布し、成膜した被膜であることが好ましい。
【０６０４】
本発明IVのレジスト被膜は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物をスピンコート等の塗装方法によってシリコンウエハーのような支持体上に塗布し、乾燥することによって形成され、被膜中には、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、その他の添加物など固形分成分が含まれている。
【０６０５】
本発明IVのレジスト被膜の膜厚は、通常１．０μｍ以下の薄層被膜であり、好ましくは０．５〜０．１μｍの薄膜である。
【０６０６】
さらに本発明IVのレジスト被膜は、真空紫外領域の透明性が高いものが好ましく、具体的には１５７ｎｍ波長の分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらには１．０μｍ-1以下であることが好ましく、Ｆ2レーザー（１５７ｎｍ）の光線を用いるリソグラフィープロセスに効果的に利用できる点で好ましい。
【０６０７】
なお、本発明IVのレジスト被膜が施される基材は、従来レジストが適用される各種基材が同様に利用できる。たとえばシリコンウェハー、有機系または無機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー、ガラス基板などのいずれでもよい。特に有機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー上での感度、プロファイル形状が良好である。
【０６０８】
本発明（発明IV）の第２は新規な含フッ素重合体に関するものである。
【０６０９】
本発明IVの含フッ素重合体は、酸分解性または酸解離基の官能基であって、酸によりカルボキシル基に変化する官能基を有する含フッ素重合体である。
【０６１０】
その新規な含フッ素重合体の第１は
式IV−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｍ３）−（Ｎ）−        IV−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸解離性または酸分解性の官能基であって、酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基を有する含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(2)構造単位Ｍ２が脂環式単量体に由来する構造単位、
(3)構造単位Ｍ３は含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
(4)構造単位ＮはＭ１、Ｍ２、Ｍ３と共重合可能なエチレン性単量体の構造単位
で示される重合体であり、Ｍ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２／Ｍ３は１〜９８／１〜９８／１〜９８モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９８モル％、構造単位Ｍ２を１〜９８モル％、構造単位Ｍ３を１〜９８モル％および構造単位Ｎを０〜９７モル％含んでなる含フッ素ポリマーであって、
構造単位Ｍ１がＭ１−１、
Ｍ１−１が
【化２３１】
0004923376.tif 000232
（式中、Ｘ1、Ｘ2は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ3はＨ、Ｃｌ、ＣＨ3、ＦまたはＣＦ3；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基であって酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基；Ｒ1は炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ１は０または１、ただしｎ１が０、またはＲ1中にフッ素原子を含まない場合はＸ1またはＸ2の少なくとも１つがフッ素原子であるか、またはＸ3がフッ素原子またはＣＦ3である）で示される構造単位である数平均分子量１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【０６１１】
その新規な含フッ素重合体の第２は、
式IV−（１）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｍ３）−（Ｎ）−              IV−（１）
(1)構造単位Ｍ１が酸解離性または酸分解性の官能基であって、酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基を有する含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(2)構造単位Ｍ２が脂環式単量体に由来する構造単位、
(3)構造単位Ｍ３は含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
(4)構造単位ＮはＭ１、Ｍ２、Ｍ３と共重合可能なエチレン性単量体の構造単位
で示される重合体であり、Ｍ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２／Ｍ３は１〜９８／１〜９８／１〜９８モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９８モル％、構造単位Ｍ２を１〜９８モル％、構造単位Ｍ３を１〜９８モル％および構造単位Ｎを０〜９７モル％含んでなる含フッ素ポリマーであって、
Ｍ１がＭ１−２、
Ｍ１−２が
【化２３２】
0004923376.tif 000233
（式中、Ｘ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ16は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｙ1は酸解離性または酸分解性の官能基であって酸と反応してカルボキシル基に変化する官能基；Ｒ2aは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ６、ｎ９は０または１；ｎ３は０〜２の整数、ただしＲ2aがフッ素原子を含まない場合はＸ7、Ｘ8、Ｘ9、Ｘ16のいずれかにフッ素原子を含む）で示される構造単位である数平均分子量１０００〜１００００００含フッ素重合体である。
【０６１２】
これらの新規な含フッ素重合体において構造単位Ｍ１の具体的に好ましいものは、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸解離性基または酸分解性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０６１３】
また、新規な含フッ素重合体において構造単位Ｍ２の具体的に好ましいものは、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸解離性基または酸分解性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０６１４】
また、新規な含フッ素重合体において構造単位Ｍ３の具体的に好ましいものは、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸解離性基または酸分解性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０６１５】
また、新規な含フッ素重合体において構造単位Ｎの具体的に好ましいものは、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸解離性基または酸分解性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０６１６】
また、新規な含フッ素重合体を構成する構造単位Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｎの好ましい組成例は本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸解離性基または酸分解性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０６１７】
また、新規な含フッ素重合体の製造方法についての好ましい例示は、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸解離性基または酸分解性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０６１８】
これらの含フッ素重合体は、透明性が高く、低屈折性、高Ｔｇといった性質をもち、レジスト用ポリマーだけでなく、反射防止膜、ペリクル、光ファイバー、光導波路などの光学用途に好ましく利用できる。
【０６１９】
なお、この第IVの発明に直接係わる合成例は合成例１、２、６、７、９および１０であり、実施例は実施例３７〜４０、４５、４６、４８〜５７、５９〜６１、７６、７７、８０〜８７、９４〜９６、１００〜１０１、１０２〜１０４、１０８〜１１１であり、比較例は１、２である。
【０６２０】
発明の第Ｖの開示（発明Ｖ）は、酸反応性官能基を有する特定の含フッ素ポリマーをバインダーとして含有する化学増幅型フォトレジスト組成物に関する。
【０６２１】
化学増幅型フォトレジストは樹脂（ポリマー）成分と光酸発生剤を含有し、エネルギー線照射部で酸発生剤から酸を発生させ、その触媒作用を利用するものである。化学増幅型のポジ型フォトレジストはエネルギー線照射部で発生した酸が、その後の熱処理（postexposure bake：以下ＰＥＢと略す）によって拡散し、樹脂等の酸解離性または酸分解性の官能基を脱離させるとともに酸を再発生することにより、そのエネルギー線照射部をアルカリ可溶化する。
【０６２２】
化学増幅型ポジ型レジストには樹脂成分がアルカリ可溶性であり、かかる樹脂成分および酸発生剤に加えて、酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有し、それ自体ではアルカリ可溶性樹脂に対して溶解抑止能をもつが、酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性となる溶解抑止剤を含有するものと、樹脂成分が酸の作用により解離または分解しうる官能基（保護基）を有しそれ自体ではアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により上記官能基（保護基）が解離した後はアルカリ可溶性になるものとがある。
【０６２３】
また化学増幅型のネガ型フォトレジストは、一般に樹脂成分が酸で縮合反応できる官能基を有し、かつアルカリ可溶性であり、この樹脂成分および酸発性剤に加えて、架橋剤を含有するものである。
【０６２４】
かかるネガ型フォトレジストにおいては、エネルギー線照射部で発生した酸がＰＥＢによって拡散し、樹脂成分中の酸縮合性の官能基や架橋剤に作用し、そのエネルギー線照射部のバインダー樹脂を硬化させアルカリ不溶化しまたは難溶化させる。
【０６２５】
第Ｖの発明（発明Ｖ）の化学増幅型フォトレジスト組成物は、これら上記のポジ型、ネガ型に対応できるものであり、
（Ａ）酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマー、
（Ｂ）光酸発生剤、
（Ｃ）溶剤
からなる組成物である。
【０６２６】
本発明者らは酸反応性基とフッ素原子またはフルオロアルキル基を一分子中に含有する特定のノルボルネン誘導体由来の構造単位をもつフッ素ポリマー（Ａ）が真空紫外領域の光に対して透明性が特に高く、耐エッチング性、酸との反応性、現像液溶解性などのレジスト特性に優れていることを見出した。
【０６２７】
第Ｖの発明の化学増幅型フォトレジスト組成物に用いられる酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）は
式Ｖ−（１）：
【化２３３】
0004923376.tif 000234
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基。ただし、ｂが０またはＲがフッ素原子を含まない場合はＡ〜Ｃのいずれか１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）
に示される酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位Ｍ１を含む含フッ素重合体である。
【０６２８】
ポリマーにノルボルネン骨格を導入することで耐ドライエッチ性が向上することは従来から知られているが、従来のノルボルネン誘導体は透明性、特に真空紫外領域での透明性について、充分とは言えなかった。今回、ノルボルネン誘導体の特定の位置にフッ素原子、フルオロアルキル基を導入することで透明性、特に真空紫外領域の透明性が向上することを見出した。
【０６２９】
またさらに、従来からレジスト用ポリマーとして必要な酸反応性基を他のエチレン性単量体（アクリル系単量体など）の重合などにより導入してきたが、それらによって透明性（特に真空紫外領域の透明性）、耐ドライエッチ性が低下してしまう。今回、レジストに必要な酸反応性基をノルボルネン誘導体にフッ素原子またはフルオロアルキル基と同時に一分子中に導入することで、それを重合して得られた含フッ素ポリマーに良好な透明性（特に真空紫外領域の透明性）と、耐ドライエッチ特性を両立できることを見出した。
【０６３０】
本発明の含フッ素ポリマー（Ａ）を形成する、上記式の酸反応性基を有する含フッ素ノルボルネンは、なかでも、Ａ、Ｂ、Ｃのいずれかがフッ素原子であることが好ましく、またＡ〜Ｃにフッ素原子が含まれない場合はＲのフッ素含有率が６０重量％％以上であることが好ましく、さらにはパーフルオロアルキレン基であることが、重合体に透明性を付与できる点で好ましい。
【０６３１】
具体的には、
【化２３４】
0004923376.tif 000235
【化２３５】
0004923376.tif 000236
などがあげられる。
【０６３２】
本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物に用いられる酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）は、これら含フッ素脂環式単量体の構造単位を必須成分として有するものある。
【０６３３】
なかでも、これらの酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体の繰返し単位を有する含フッ素ポリマーとしては、つぎのようなポリマーが好ましくあげられる。
(1)式Ｖ−（１）の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体とエチレン性単量体からなる共重合体。
【０６３４】
共重合成分であるエチレン性単量体としては、たとえばエチレン、プロピレン、ブテン、塩化ビニルなどのエチレン系単量体；アクリル系単量体；メタクリル系単量体；アリル系単量体；アリルエーテル系単量体；スチレン系単量体などがあげられる。
(2)式Ｖ−（１）の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体と含フッ素エチレン性単量体からなる共重合体。
【０６３５】
共重合成分である含フッ素脂環式単量体としては、たとえばテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ＣＦ２＝ＣＦＲｆ（Ｒｆは炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基）、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、トリフルオロエチレンなどが好ましくあげられ、特に透明性を付与できる点で好ましい。
(3)式Ｖ−（１）の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体の開環重合物および／またはその開環重合物を水素付加した重合体。
【０６３６】
(4)式Ｖ−（１）の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体と
【化２３６】
0004923376.tif 000237
（式中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、ａは０または１〜３の整数）で示される脂環式単量体との開環共重合体および／またはその開環共重合体を水素付加した共重合体
などが挙げられる。
【０６３７】
なかでも、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）が、
式Ｖ−（２）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）−                  Ｖ−（２）
(1)構造単位Ｍ１が式（１）の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位、
(2)構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
(3)構造単位ＮがＭ１、Ｍ２と共重合可能な単量体に由来する構造単位
で示される含フッ素重合体でありＭ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９８モル％含んでなる重合体であることが好ましい。
【０６３８】
これらの含フッ素ポリマーは構造単位Ｍ１とともに含フッ素エチレン性単量体を共重合させたもので、さらに透明性、特に真空紫外領域の透明性を向上できる点で好ましい。
【０６３９】
酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）として、好ましいもう一つの重合体は、
式Ｖ−（３）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｍ３）−（Ｎ）−                Ｖ−（３）
構造単位Ｍ１が前記、式Ｖ−（１）の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位
構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位
構造単位Ｍ３が式（４）：
【化２３７】
0004923376.tif 000238
（式中、Ａ1、Ｂ1、Ｃ1およびＤ1はＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｍ１の酸反応性基以外の官能基、ａは０または１〜３の整数）
で示される脂環式単量体に由来する構造単位、
構造単位ＮがＭ１、Ｍ２、Ｍ３と共重合可能な単量体に由来する構造単位
で示される含フッ素重合体でありＭ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝１００モル％としたときＭ１＋Ｍ３／Ｍ２は３０／７０〜７０／３０モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９８モル％、構造単位Ｍ２を１〜９８モル％、構造単位Ｍ３を１〜９８モル％、および構造単位Ｎを０〜９７モル％含んでなる重合体である。
【０６４０】
これら構造単位Ｍ３を導入することで、さらに耐ドライエッチ特性を向上できる点で、また言いかえると、含フッ素ポリマー（Ａ）中の酸反応性基の官能基濃度を耐ドライエッチ特性を低下させずにコントロールできる点でも好ましい。
【０６４１】
構造単位Ｍ３を形成する式（４）のノルボルネン誘導体はフッ素原子を含んでいても含んでいなくてもよく、公知のノルボルネン、または置換ノルボルネン類の中から選ばれる。
【０６４２】
式Ｖ−（２）、Ｖ−（３）で示した含フッ素ポリマー（Ａ）を構成する構造単位Ｍ２の含フッ素エチレン性単量体としては
下式の構造単位Ｍ２−１、
【化２３８】
0004923376.tif 000239
（式中、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ18は同じかまたは異なりＨまたはＦ；Ｘ15はＨ、ＦまたはＣＦ3；Ｚ2はＨ、ＦまたはＣｌ；Ｒｆ3は同じかまたは異なり炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基、炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基または炭素数３〜２０の含フッ素アリーレン基；ｎ５は０〜２の整数；ｎ１０は０または１、ただしｎ１０が０の場合、Ｘ13、Ｘ14、Ｘ18、Ｚ2の少なくとも１つがフッ素原子であるかまたはＸ15がフッ素原子またはＣＦ3である）で示される含フッ素エチレン性単量体由来の構造単位である。
【０６４３】
構造単位Ｍ２を構成する単量体としての好ましい具体例としては、
【化２３９】
0004923376.tif 000240
などがあげられる。
【０６４４】
なかでも、炭素数２または３のエチレン性単量体であって、フッ素原子を少なくとも１つ以上含有する単量体が共重合性の面で好ましくい。
【０６４５】
具体例としては、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニル等が挙げられ、特にテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンが好ましい。
【０６４６】
構造単位Ｎは任意成分であり、構造単位Ｍ１、Ｍ２、と共重合し得る単量体であれば特に限定されず、目的とする含フッ素ポリマーの要求特性に応じて適宜選定すればよい。
【０６４７】
前述の本発明の化学増幅型レジストに用いる含フッ素ポリマー（Ａ）の分子量は、用途、目的、使用形態に応じて数平均分子量で１０００〜１００００００の範囲から選択できるが、好ましくは、３０００〜７０００００、さらに好ましくは５０００〜５０００００程度であり、低すぎる分子量は得られるポリマー被膜の耐熱性や機械特性が不充分となりやすく、高すぎる分子量は加工性の面で不利になりやすい。特にコーティング用材料の形態としての薄層被膜の形成を目的とする場合、高すぎる分子量は成膜性において不利となり、好ましくは２０００００以下、特に好ましくは１０００００以下である。
【０６４８】
含フッ素ポリマー（Ａ）の具体的な構造単位Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｎの組み合わせは、上記の例示から目的とする用途、物性（特にガラス転移点など）、機能（透明性、屈折率など）によって種々選択できる。
【０６４９】
通常、構造単位Ｍ１側で酸反応性の機能（つまり酸の作用の前後で機能や性状が変化する機能）と耐ドライエッチ特性をもたせ、Ｍ２、さらに要すればＮでその他の機能、性状をコントロールする。これらの機能、性状のバランスは、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｎのそれぞれの種類、存在比率などを選択して調整するものである。
【０６５０】
たとえば、レジスト、特にＦ２レジスト用途を狙いとして真空紫外領域の透明性を目的とする場合、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｎを含めたポリマー全体のフッ素原子含有率をできるだけ高くすることが好ましく、フッ素原子含有比率を３０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは６０重量％以上とすることが好ましく、その点でも式Ｖ−（２）、式Ｖ−（３）の重合体が好ましく選ばれる。こうして得られた含フッ素ポリマーは耐熱性が良好で、非晶性で真空紫外領域も含め、広い波長範囲で透明性が高く、レジスト、特にＦ２レジスト用ベースポリマーとして有用である。
【０６５１】
特に、本発明の式Ｖ−（２）、式Ｖ−（３）の重合体は総じて、真空紫外域の透明性が高いことを見出した。そのため、Ｆ２レジスト、Ｆ２ペリクルなどの半導体材料用途などに有用である。
【０６５２】
本発明の化学増幅型レジスト組成物において酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）は酸反応性基Ｙ2を有する含フッ素ポリマーからなる。酸反応性基Ｙ2は詳しくは、酸解離性または酸分解性の官能基および酸縮合性の官能基である。
【０６５３】
(1)酸解離性または酸分解性の官能基：
酸解離性または酸分解性の官能基は、酸反応前はアルカリに不溶または難溶であるが酸の作用により、アルカリ系の現像液に可溶化させることができる官能基である。
【０６５４】
具体的には、酸またはカチオンの作用により−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3Ｈ基などに変化する能力をもち、その結果フッ素重合体自体がアルカリに溶解するものである。
【０６５５】
それによってポジ型のレジストのベースポリマーとして利用できるものである。
【０６５６】
酸解離性または酸分解性の官能基は具体的には、
【化２４０】
0004923376.tif 000241
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29は同じかまたは異なり炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ13、Ｒ16はＨまたは炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｒ17、Ｒ23は炭素数２〜１０の２価の炭化水素基）
が好ましく利用でき、さらに具体的には
【化２４１】
0004923376.tif 000242
（Ｒ30は炭素数１〜１０のアルキル基）
などが好ましく例示される。
【０６５７】
これらのなかでも酸で反応してカルボキシル基に変化するものが好ましくアルカリ水溶液（現像液）可溶性にすぐれる点で好ましい。具体的には
【化２４２】
0004923376.tif 000243
（Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20は同じかまたは異なり、炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｒ’はＨまたは炭素数１〜１０の炭化水素基）
などがあげられ、
なかでも、
−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3、−ＯＣＨ2ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3などが好ましいものである。
【０６５８】
これらの酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマーは、前述のポジ型フォトレジストに用いられる。酸解離性または酸分解性官能基は、前述の保護基とも呼ばれ、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体は、アルカリ不溶または難溶であるが、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により解離または分解し、含フッ素ポリマー（Ａ）がアルカリ可溶と変化する機能を有するものであり、さらに含フッ素ポリマー（Ａ）中の官能基の分解により発生した脱離基からも酸が発生し、さらに分解反応を促進させる効果を有するものである。
【０６５９】
これらの酸解離性または酸分解性官能基を有する含フッ素ポリマーにおいて、構造単位Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３およびＮの比率は組成物の種類、狙いとする機能、官能基Ｙ2の種類等に応じて前記の範囲で種々選択できるが、たとえば酸との反応後の含フッ素重合体をアルカリ可溶性とするためには、構造単位Ｍ１が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２、Ｍ３と構造単位Ｎの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０６６０】
(2)酸縮合反応性の官能基：
酸縮合反応性の官能基は、酸反応前はアルカリ（または溶剤）に可溶であるが酸の作用により、重合体自体をアルカリ系の現像液（または前述と同じ溶剤）に不溶化させることができる官能基である。
【０６６１】
具体的には酸またはカチオンの作用による自己縮合、重縮合あるいは架橋剤の存在下、酸の作用による架橋剤との縮合反応または重縮合反応を起こす官能基、または酸やカチオンによる転位反応（たとえば、ピナコール転位、カルビノール転位）などで、極性変化を起こす官能基であって、いずれにしてもその結果、重合体自体はアルカリ（または溶剤）に不溶となるものである。
【０６６２】
酸縮合性の官能基としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ3Ｈ、エポキシ基等から選ばれるものが好ましい具体例である。
【０６６３】
これらの酸により縮合反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーは、ネガ型フォトレジストに用いられる。酸による縮合反応性の官能基は、光酸発生剤（Ｂ）からエネルギー線照射により発生した酸により縮合・重縮合反応または転位反応を起こすものであって、それによって自己架橋反応、分子内転位反応、架橋剤を含む組成物により架橋剤との架橋反応などが起こり、反応前の含フッ素ポリマー（Ａ）自体、現像液（アルカリまたは溶剤）に可溶であったものが、不溶または難溶化させる機能を有するものである。
【０６６４】
またさらに本発明の縮合反応性の官能基は、酸との反応前、それ自体アルカリや溶剤などの現像液に対して可溶化する機能を付与できるもの（例、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＯＨなど）がなかでも好ましいが、酸により縮合反応（架橋反応）して現像液に不溶化する機能のみ（−ＣＮ、エポキシ基など）を有するものであってもよい。この場合現像液に対して可溶化する機能を有する他の官能基と組み合わせて使用したり、含フッ素ポリマーの骨格自体を現像液に可溶化できる構造とすることでネガ型フォトレジストとして利用できる。
【０６６５】
なかでも特に酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマーは、酸との反応前にはアルカリ水溶液可溶性のポリマーであることが好ましく、現像液に溶剤（特に可燃性溶剤）を用いず水系での現像プロセス（溶解プロセス）が可能となり、安全性、環境面で有利となる。
【０６６６】
酸反応性基Ｙ2が酸縮合基の場合の比率は、構造単位Ｍ１が５〜１００モル％、好ましくは１０〜１００モル％、特に好ましくは２０〜１００モル％存在し、構造単位Ｍ２、Ｍ３と構造単位Ｎの合計が０〜９５モル％、好ましくは０〜９０モル％、特に好ましくは０〜８０モル％存在することが好ましい。
【０６６７】
架橋剤としては特に制限なく、従来ネガ型レジストの架橋剤として慣用されているものの中から任意に選択して用いることができる。
【０６６８】
本発明の式Ｖ−（１）、式Ｖ−（２）および式Ｖ−（３）の重合体はいずれも酸反応性の官能基Ｙ2を有することに特徴がある。含フッ素重合体にこれら官能基を導入する方法としては、あらゆる方法が利用可能であるが、一般には、
(1)官能基Ｙ2を有する単量体を予め合成し重合して得る方法、
(2)一旦、他の官能基を有する重合体を合成しその重合体に高分子反応により官能基変換し官能基Ｙ2を導入する方法
などが採用できる。
【０６６９】
たとえば、(2)の方法で酸解離性または酸分解性の官能基を導入する例として、一旦、ＯＨ基を有する含フッ素重合体を作製した後、トルエンスルホン酸類などの酸の存在下、エチルビニルエーテル、ジヒドロピランなどのビニルエーテル類を反応させて酸分解性の官能基（ケタール類）を導入する方法；１，２−ジオールを有する含フッ素重合体にケトン類を反応させて、酸分解性の官能基（環状のアセタール化合物）を得る方法などが採用できる。
【０６７０】
本発明の組成物に用いる含フッ素ポリマー（Ａ）は、それぞれ構成単位に相当する官能基Ｙ2を有する含Ｆノルボルネン単量体（Ｍ１）、含フッ素エチレン性単量体（Ｍ２）、必要に応じて任意成分（Ｎ）に相当する単量体を、公知の種々の方法で（共）重合することで得られる。重合方法はラジカル重合法、アニオン重合法、カチオン重合法などが利用でき、なかでも本発明の重合体を得るための各単量体はラジカル重合性が良好で、さらに組成や分子量などの品質のコントロールがしやすい点、工業化しやすい点でラジカル重合法が好ましく用いられる。すなわち重合を開始するには、ラジカル的に進行するものであれば手段は何ら制限されないが、たとえば有機または無機ラジカル重合開始剤、熱、光あるいは電離放射線などによって開始される。重合の種類も溶液重合、バルク重合、懸濁重合、乳化重合などを用いることができる。また分子量は、重合に用いるモノマーの濃度、重合開始剤の濃度、連鎖移動剤の濃度、温度によって制御される。生成する共重合体の組成は、仕込みモノマーの組成によって制御可能である。
【０６７１】
本発明の化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）は、その物質自体にまたはその物質を含むレジスト組成物に放射線を照射することによって、酸またはカチオンを発生する化合物である。２種以上の混合物として用いることもできる。
【０６７２】
本発明の化学増幅型レジスト組成物において、光酸発生剤（Ｂ）の例示としては、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０６７３】
本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物における光酸発生剤（Ｂ）の含有量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した比率と同様のものが好ましく適用される。
【０６７４】
また本発明のフォトレジスト組成物には、上記の光酸発生剤から生じた酸に対して塩基として作用できる有機塩基を添付してもよい。
【０６７５】
添加する有機塩基としては第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０６７６】
有機塩基の添加量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した添加比率と同様のものが好ましく適用される。
【０６７７】
これら有機塩基の添加によって第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したと同様の効果を本発明のレジスト組成物に与えるものである。
【０６７８】
また、本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物において、酸縮合性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）を用いてネガ型レジスト組成物とする場合、必要に応じて架橋剤を用いてもよい。
【０６７９】
使用する架橋剤としては特に制限なく、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０６８０】
本発明のフォトレジスト（特にネガ型）組成物おける、架橋剤の含有割合は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した使用量と同様のものが好ましく適用される。
【０６８１】
本発明のフォトレジスト組成物は必要に応じてさらに溶解抑制剤、増感剤、染料、接着性改良剤、保水剤などこの分野で慣用されている各種の添加剤を含有することもできる。
【０６８２】
これらの添加剤の具体例は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０６８３】
これら添加剤を用いる場合、それらの添加量は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した使用比率と同様のものが好ましく適用される。
【０６８４】
本発明の化学増幅型フォトレジスト組成物において、溶剤（Ｃ）は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、および前述の例示の種々の添加剤を溶解し得るものであり、良好な塗装性（表面平滑性、膜厚の均一性など）を得られるものであれば特に限定されず用いることができる。
【０６８５】
好ましい溶剤（Ｃ）としては、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様のものが好ましく用いられる。
【０６８６】
これらの溶剤（Ｃ）の存在比率は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示した存在比率と同様のものが好ましく適用される。
【０６８７】
本発明の化学増幅型レジスト組成物の使用方法としては従来のフォトレジスト技術のレジストパターン形成方法が用いられ、そのパターン形成方法は、第Ｉの発明の開示（発明Ｉ）における化学増幅型レジスト組成物で示したものと同様の方法が好ましく適用できる。
【０６８８】
なかでも本発明の化学増幅型レジスト組成物を用いることによって、真空紫外領域においても透明性の高いレジスト被膜（感光層）を形成できることが見出されている。それによって特に今後０．１μｍのテクノロジーノートを目指して開発中のＦ2レーザー（１５７ｎｍ波長）を用いたフォトリソグラフィープロセスに好ましく利用できるものである。
【０６８９】
本発明Ｖはまた、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものを基材に被覆してなる被膜に関する。
【０６９０】
本発明の被膜は、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマーからなるものであって、該含フッ素ポリマーが真空紫外領域での光に対して透明性の高いものを被覆した被膜である。
【０６９１】
本発明の被膜に用いられる酸反応性官能基を有する含フッ素ポリマーは１５７ｎｍでの分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらに好ましくは１．０μｍ-1以下のものである。
【０６９２】
これらの真空紫外領域での透明性の高い含フッ素ポリマーを基材に被覆した被膜は、Ｆ2レーザーを用いたフォトグラフィープロセスにおいて、レジスト被膜（感光層）として当然有用であるが、それ以外にＦ2リソグラフィーに用いるペリクル用途や、レンズなどの周辺光学部品やシリコンウェハーの反射防止膜、レンズや周辺光学部品の非粘着防汚膜などに利用できるため好ましい。
【０６９３】
本発明の被膜は、目的、狙い、用途に従ってあらゆる基材に施すことができる。特に透明性を必要とする用途、光学用途では、シリコンウェハー、ガラス、ＬｉＦ、ＣａＦ2、ＭｇＦ2、などの無機系基材、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂などの透明樹脂、その他金属系基材などにも施される。
【０６９４】
膜厚は、目的、用途に応じて広く選択できるが、透明性を狙いとする用途に利用する場合は、１．０μｍ以下、好ましくは、０．５μｍ以下、さらには０．３μｍ以下の薄膜であることが好ましい。
【０６９５】
さらに本発明の被膜をフォトレジストのレジスト被膜（感光層）として用いる場合は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物を塗布し、成膜した被膜であることが好ましい。
【０６９６】
本発明のレジスト被膜は、前述の化学増幅型フォトレジスト組成物をスピンコート等の塗装方法によってシリコンウエハーのような支持体上に塗布し、乾燥することによって形成され、被膜中には、酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、その他の添加物など固形分成分が含まれている。
【０６９７】
本発明のレジスト被膜の膜厚は、通常１．０μｍ以下の薄層被膜であり、好ましくは０．５〜０．１μｍの薄膜である。
【０６９８】
さらに本発明のレジスト被膜は、真空紫外領域の透明性が高いものが好ましく、具体的には１５７ｎｍ波長の分子吸光度係数が３．０μｍ-1以下のものであり、好ましくは１．５μｍ-1以下、さらには１．０μｍ-1以下であることが好ましく、Ｆ2レーザー（１５７ｎｍ）の光線を用いるリソグラフィープロセスに効果的に利用できる点で好ましい。
【０６９９】
なお、本発明のレジスト被膜が施される基材は、従来レジストが適用される各種基材が同様に利用できる。たとえばシリコンウェハー、有機系または無機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー、ガラス基板などのいずれでもよい。特に有機系反射防止膜が設けられたシリコンウェハー上での感度、プロファイル形状が良好である。
【０７００】
本発明（発明Ｖ）の第２は新規な含フッ素重合体に関するものである。
【０７０１】
本発明Ｖの含フッ素重合体の第１は、酸反応性の官能基を有する新規な含フッ素ノルボルネン誘導体に由来する構造単位を含むものであり、詳しくは
式Ｖ−（１）：
【化２４３】
0004923376.tif 000244
（式中、Ａ、ＢおよびＣはＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、Ｒは炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の含フッ素アルキレン基または炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基、ａは０または１〜３の整数、ｂは０または１、Ｙ2は酸反応性の官能基。ただし、ｂが０またはＲがフッ素原子を含まない場合はＡ〜Ｃのいずれか１つはフッ素原子または含フッ素アルキル基である）
に示される酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位Ｍ１を含む数平均分子量が１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【０７０２】
本発明Ｖの新規な含フッ素重合体の第２は、
式Ｖ−（２）；
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）−            Ｖ−（２）
構造単位Ｍ１が式Ｖ−（１）の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位、
構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
構造単位ＮがＭ１、Ｍ２と共重合可能な単量体に由来する構造単位
で示される含フッ素重合体でありＭ１＋Ｍ２＝１００モル％としたときＭ１／Ｍ２は１〜９９／１〜９９モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％および構造単位Ｎを０〜９８モル％含んでなる分子量１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【０７０３】
本発明Ｖの新規な含フッ素重合体の第３は、
式Ｖ−（３）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｍ３）−（Ｎ）−            Ｖ−（３）
構造単位Ｍ１式Ｖ−（１）の酸反応性基を有する含フッ素脂環式単量体に由来する構造単位、
構造単位Ｍ２が含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、
構造単位Ｍ３が式（４）：
【化２４４】
0004923376.tif 000245
（式中、Ａ1、Ｂ1、Ｃ1およびＤ1はＨ、Ｆ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基、ａは０または１〜３の整数）
で示される脂環式単量体に由来する構造単位、
構造単位ＮがＭ１、Ｍ２、Ｍ３と共重合可能な単量体に由来する構造単位
で示される含フッ素重合体でありＭ１＋Ｍ２＋Ｍ３＝１００モル％としたときＭ１＋Ｍ３／Ｍ２は３０／７０〜７０／３０モル％比であり、構造単位Ｍ１を１〜９８モル％、構造単位Ｍ２を１〜９８モル％、構造単位Ｍ３を１〜９８モル％、および構造単位Ｎを０〜９７モル％含んでなる数平均分子量１０００〜１００００００の含フッ素重合体である。
【０７０４】
これらの新規な含フッ素重合体において構造単位Ｍ１の具体的に好ましいものは、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０７０５】
また、新規な含フッ素重合体において構造単位Ｍ２の具体的に好ましいものは、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０７０６】
また、新規な含フッ素重合体において構造単位Ｍ３の具体的に好ましいものは、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０７０７】
また、新規な含フッ素重合体において構造単位Ｎの具体的に好ましいものは、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０７０８】
また、新規な含フッ素重合体を構成する構造単位Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｎの好ましい組成例（組成比率など）は本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０７０９】
また、新規な含フッ素重合体を構成する構造単位Ｍ１の酸反応性基の好ましい例示については、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０７１０】
また、新規な含フッ素重合体の製造方法についての好ましい例示は、本発明の化学増幅型レジスト組成物に用いた、酸反応性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）で記載した具体例が、同様に好ましく例示できる。
【０７１１】
これら三種の新規な含フッ素ポリマーは、式Ｖ−（１）の新規なノルボルネン誘導体由来の構造単位を有することが特徴であり、これら新規ノルボルネン誘導体は、種々の方法によって得ることができるが、一般的に酸反応性基Ｙ2を有する含フッ素エチレン性単量体とシクロペンタジエン類とのＤｉｅｒｓ−Ａｌｄｅｒ反応によって得ることができるものである。
【０７１２】
これらの含フッ素重合体は、透明性が高く、低屈折性、高Ｔｇといった性質を持ち、なお酸反応性、酸縮合性（架橋性）の官能基を有している点から、レジスト用途だけでなく反射防止膜、ペリクル、光ファイバー、光導波路などの光学用途に好ましく利用できる。
【０７１３】
なお、この第Ｖの発明に直接係わる合成例は合成例８〜１０であり、実施例は実施例３６、４１〜４４、５８、７８、７９、９７〜９９、１０５〜１０７比較例１、２である。
【実施例】
【０７１４】
つぎに本発明を実施例などにより説明するが、本発明はこれらの実施例などに限定されるものではない。
【０７１５】
合成例１（−ＯＣ−（ＣＨ3）3基を有する含フッ素アクリレートの合成）
還流冷却器、温度計、撹拌機、滴下漏斗を備えたガラス製の１Ｌ  ４ッ口フラスコに塩化メチレン４００ｇ、ｔｅｒｔ−ブタノール１０３．６ｇ、トリエチルアミン１１１ｇを仕込み、５℃に氷冷し保った。
【０７１６】
窒素気流下、撹拌を行ないながら、α−フルオロアクリル酸フルオライド：ＣＨ2＝ＣＦＣＯＦの９２ｇを約６０分かけて滴下した。
【０７１７】
滴下終了後、室温まで温度を上げ、１．５時間撹拌を継続した。
【０７１８】
反応終了後の混合物を水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸留により、ｔ−ブチル−αフルオロアクリレートＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣ−（ＣＨ3）3  １０５ｇを得た。同定はＧＣ−Ｍａｓｓ、19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析により構造を確認した。
【０７１９】
実施例１（−ＯＣ−（ＣＨ3）3基を有する含フッ素アクリレート共重合体の合成）
還流冷却器、温度計、撹拌機を備えた２００ｍｌガラス製４ッ口フラスコに、ＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣＨ（ＣＦ3）2：１２ｇ、合成例１で得たＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣ（ＣＨ3）3：２．５ｇを酢酸エチル５０ｇに溶かし、撹拌しながら窒素ガスを約３０分間バブリングした。
【０７２０】
ついでメルカプト酢酸イソオクチルの０．２０７ｇと２，２−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）の０．０５２ｇを加え、６５℃で５時間加熱撹拌した。粘度の高いポリマー溶液を得た。
【０７２１】
ポリマー溶液を大量のｎ−ヘキサン中に注ぎ、ポリマーを析出させた。析出したポリマーを取り出し乾燥し１０．５ｇの重合体を単離した。重合体の組成は、19Ｆ−ＮＭＲ分析よりＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣ（ＣＨ3）3：ＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣＨ（ＣＦ3）2＝２３：７７モル％の構造単位を有する重合体であった。元素分析によるＦ原子：４５．４８ｗｔ％、ＧＰＣ分析による数平均分子量Ｍｎは１６００００、ＤＳＣ分析によるガラス転移点（ＴＧ）は１２３℃であった。
【０７２２】
実施例２（−ＯＣ−（ＣＨ3）3基を有する含フッ素アクリレート共重合体の合成）
実施例１と同じ装置において、ＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣＨ（ＣＦ3）2：８．９ｇ、合成例１で得たＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣ（ＣＨ3）3：５．３ｇ、メルカプト酢酸イソオクチル０．０４７ｇ、ＡＩＢＮ：０．０１４ｇを用いて、７０℃で５時間反応させた以外は実施例１と同様にして、重合およびポリマーの精製を行ない、８．５ｇの重合体を得た。
【０７２３】
重合体の組成は、19Ｆ−ＮＭＲ分析よりＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣ（ＣＨ3）3：ＣＨ2＝ＣＦＣＯＯＣＨ（ＣＦ3）2＝４７：５３モル％の構造単位を有する重合体であった。元素分析によるＦ原子：３８．６４重量％、ＧＰＣ分析によるＭｎ：５００００、ＤＳＣ分析によるＴＧ：１３０℃であった。
【０７２４】
実施例３（ＯＨ基を有する含フッ素アリルエーテルホモポリマーの合成）
撹拌装置を備えた１００ｍｌガラス製フラスコに、パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）
【化２４５】
0004923376.tif 000246
２０．４ｇと［Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）3−ＣＯＯ−］2の８．０ｗｔ％パーフルオロヘキサン溶液８．６ｇを入れ、充分に窒素置換を行なったのち、窒素気流下、２０℃で２４時間撹拌を行なった。高粘度の固体が生成した。
【０７２５】
得られた固体をジエチルエーテルに溶解させたものを、パーフルオロヘキサンに注ぎ、分離、乾燥させ、無色透明な重合体を１８．６ｇ得た。19Ｆ−ＮＭＲ分析、ＩＲ分析により、上記含フッ素アリルエーテルの構造単位のみからなる、側鎖末端にＯＨ基を有する含フッ素重合体であった。テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒に用いるＧＰＣ分析により数平均分子量は、２１０００であった。
【０７２６】
実施例４（ＯＨ基を有する含フッ素アリルエーテルのホモポリマーの合成）
パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）にかえて、パーフルオロ−（１，１，６，６−テトラハイドロ−２−トリフルオロメチル−３−オキサ−５−ヘキサノール）
【化２４６】
0004923376.tif 000247
の１２ｇを用いた以外は実施例３と同様にして、重合およびポリマーの精製を行なったところ、無色透明な重合体１０．５ｇを得た。
【０７２７】
19Ｆ−ＮＭＲ、ＩＲ分析により、上記含フッ素アリルエーテルの構造単位のみからなる、側鎖末端に−ＯＨ基を有する含フッ素重合体であった。ＧＰＣ分析により数平均分子量は７３００であった。
【０７２８】
合成例２（−ＯＣＨ2ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3基を有する含フッ素アリルエーテルの合成）
合成例１と同様な２００ｍｌガラス製４ッ口フラスコにテトラヒドロフラン５０ｍｌを入れ、窒素気流下、あらかじめヘキサンにて洗浄したナトリウムハイドライド（６０％）７．８ｇを加えたのち、５℃に冷却しパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフロオメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール
【化２４７】
0004923376.tif 000248
の８０ｇをゆっくり滴下し、さらに室温で１時間撹拌した。ついでクロロ酢酸−ｔ−ブチル：ＣｌＣＨ2ＣＯＯＣ−（ＣＨ3）3の３０ｇを３０分かけて滴下し、室温で２時間撹拌した。
【０７２９】
混合物を５００ｍｌの中に放ち、有機層を分液、水洗、乾燥、蒸留することによって式：
【化２４８】
0004923376.tif 000249
で示される酸解離性基を有する含フッ素アリルエーテルを５８．０ｇ得た。沸点７５〜７７℃／７ｍｍＨｇ。
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析により、上記単量体を同定し、確認した。
【０７３０】
実施例５（−ＯＣＨ2ＣＯＯＣ−（ＣＨ3）3基を有する含フッ素アリルエーテル重合体の合成）
パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）にかえて、合成例２で得た酸解離性基を有する含フッ素アリルエーテル
【化２４９】
0004923376.tif 000250
の６．７ｇとパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）
【化２５０】
0004923376.tif 000251
の１５．３ｇを用いた以外は実施例３と同様にして重合とポリマーの精製を行ない、無色透明な重合体１９．３ｇを得た。
【０７３１】
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ分析より重合体は、上記各単量体の構造単位−ＯＣＨ2ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3基含フッ素アリルエーテル：−ＣＨ2ＯＨ基含フッ素アリルエーテル＝２６：７４モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１４４００であった。
【０７３２】
実施例６（−ＯＣＨ2ＣＯＯＣ−（ＣＨ3）3基を有する含フッ素アリルエーテル重合体の合成）
合成例２で得た酸解離性基を有する含フッ素アリルエーテル
【化２５１】
0004923376.tif 000252
の１３．４５ｇとパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）
【化２５２】
0004923376.tif 000253
の１０．２ｇを用いた以外は、実施例５と同様にして重合およびポリマーの精製を行ない、無色透明な重合体２０．１ｇを得た。
【０７３３】
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ分析により、この重合体は、上記各単量体の構造単位で−ＯＣＨ2ＣＯＯＣ−（ＣＨ3）3基含フッ素アリルエーテル：−ＣＨ2ＯＨ基含フッ素アリルエーテル＝４３：５７モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１３２００であった。
【０７３４】
実施例７（ＯＨ基を有する含フッ素アリルエーテル重合体の１−エトキシエチル化）
還流冷却器、温度計、撹拌機、滴下漏斗を備えたガラス製の１００ｍｌ  ４ッ口フラスコに、実施例３で得たＯＨ基を有する含フッ素アリルエーテルホモポリマーの１０．０ｇとジエチルエーテル５０ｍｌに入れ完全に溶解させたのち、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．０２３ｇを溶解させた。窒素気流下、室温で撹拌を行ないながらエチルビニルエーテル０．４４ｇをジエチルエーテル１０ｍｌに溶解させたものを３０分かけて滴下した。
【０７３５】
反応後の混合物をｎ−ヘキサン５００ｍｌへ注ぎ、ポリマーを析出させ、分離、乾燥させ、無色透明な重合体９．１ｇを得た。19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ分析によりこの重合体の１−エトキシエチル化率（ＯＨ基と１−エトキシエチル基の合計に対する１−エトキシエチル基の割合）は１５モル％であった。
【０７３６】
このものは、
【化２５３】
0004923376.tif 000254
含フッ素アリルエーテル／−ＣＨ2ＯＨ基含フッ素アリルエーテル＝１５／８５モル％の組成の構造単位を有する共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は２０２００であった。
【０７３７】
実施例８（ＯＨ基を有する含フッ素アリルエーテル重合体の１−エトキシエチル化）
エチルビニルエーテルを０．８８ｇを用いた以外は実施例７と同様にして１−エトキシエチル化反応、ポリマーの精製を行ない、無色透明な重合体９．５ｇを得た。
【０７３８】
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ分析により、この重合体の１−エトキシエチル化率は３８モル％であった。
【０７３９】
このものは、
【化２５４】
0004923376.tif 000255
含フッ素アリルエーテル／−ＣＨ2ＯＨ基含フッ素アリルエーテル＝３８／６２モル％の組成の構造単位を有する共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１９２００であった。
【０７４０】
合成例３（
【化２５５】
0004923376.tif 000256
を有する含フッ素アリルエーテルの合成）
合成例１と同様なガラス製４ッ口フラスコにジクロロメタン５０ｍｌ、パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）の８０ｇとｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．０２ｇを溶解させた。撹拌を行ないながら室温にてジヒドロピラン
【化２５６】
0004923376.tif 000257
の１７．６ｇを３０分間かけて滴下したのち、室温で６時間撹拌を継続した。
【０７４１】
反応後の混合物が蒸留により
【化２５７】
0004923376.tif 000258
を有する含フッ素アリルエーテル
【化２５８】
0004923376.tif 000259
を６３．４ｇ得た。沸点７４〜７６℃／４ｍｍＨｇであった。
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析により構造を確認した。
【０７４２】
実施例９（
【化２５９】
0004923376.tif 000260
を有する含フッ素アリルエーテル重合体の合成）
パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）にかえて合成例３で得た酸解離性基
【化２６０】
0004923376.tif 000261
を有する含フッ素アリルエーテル
【化２６１】
0004923376.tif 000262
の１２．３ｇとパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）
【化２６２】
0004923376.tif 000263
の１０．２ｇを用いた以外は実施例３と同様にして重合およびポリマーの精製を行ない、無色透明な重合体１９．１ｇを得た。
【０７４３】
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ分析により、この重合体は上記各単量体の構造単位からなり、
【化２６３】
0004923376.tif 000264
含フッ素アリルエーテル／−ＣＨ2ＯＨ基含フッ素アリルエーテル＝６５／３５モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１０２００であった。
【０７４４】
実施例１０（ＯＨ基を有する含フッ素環状ポリマーの合成）
撹拌装置を備えた２００ｍｌガラス製フラスコに、パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）
【化２６４】
0004923376.tif 000265
の６．１ｇ、パーフルオロ（５，５−ジハイドロ−アリルビニルエーテル）
［ＣＨ2＝ＣＦＣＦ2ＯＣＦ＝ＣＦ2］の６．７ｇ、ＨＦＣ−２２５（ＣＦ3ＣＦ2ＣＨＣｌ2／ＣＣｌＦ3ＣＦ2ＣＨＣｌＦの混合物）の１６０ｇおよび［Ｈ（ＣＦ2ＣＦ2）3−ＣＯＯ］2−の８．０ｗｔ％パーフルオロヘキサン溶液６．９ｇを入れ、充分に窒素置換を行なったのち、窒素気流下、２０℃で２４時間撹拌を行なった。反応混合物中の溶媒をエヴァポレーターで留去、濃縮したのちヘキサン中に注ぎポリマーを析出、分離、乾燥を行なったところ、無色透明な重合体１０．２ｇを得た。
【０７４５】
得られた重合体は、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ＴＨＦなどの汎用溶剤に対して溶解性は良好であった。
【０７４６】
重合体のＩＲ分析は、−ＯＨ基の吸収がみられ、二重結合の吸収（１４００〜１７００Åの範囲）はみられなかった。
【０７４７】
また、19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ分析により、重合体は
【化２６５】
0004923376.tif 000266
のいずれかの環状構造を示し、構造単位の比率（ａ／ｂ）が６５／３５モル％比の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１８３００であった。
【０７４８】
実施例１１（ＯＨ基を有する環状ポリマーの１−エトキシエチル化）
実施例７と同様のガラス製１００ｍｌ  ４ッ口フラスコに実施例１０で得たＯＨ基を有する環状ポリマー１０．０ｇとジエチルエーテル５０ｍｌを入れ完全に溶解させたのちｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．０１２ｇを溶解させた。窒素気流下室温で撹拌を行ないながらエチルビニルエーテル１．１ｇをジエチルエーテル１０ｍｌに溶解させたものを３０分かけて滴下した。
【０７４９】
反応後の溶液から実施例７と同様にポリマーを単離し、無色透明な重合体９．６ｇを得た。
【０７５０】
ＩＲ分析により−ＯＨ基の消失が確認され、19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ分析により重合体の１−エトキシエチル化率は１００％であった。
【０７５１】
つまり実施例１０に記載の環状構造単位／
【化２６６】
0004923376.tif 000267
含有アリルエーテル構造単位が６５／３５モル％比の共重合体であった。
ＧＰＣ分析による数平均分子量は１７５００であった。
【０７５２】
実施例１２（−ＯＨ基と−ＳＯ3Ｈ基を有する含フッ素ポリマーの合成）
パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）にかえて、−ＳＯ2Ｆ基を有するパーフルオロビニルエーテル
【化２６７】
0004923376.tif 000268
の２．２ｇとパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）
【化２６８】
0004923376.tif 000269
の１８．４ｇを用いた以外は実施例３と同様にして、重合とポリマーの精製を行ない、無色透明な重合体１７．８ｇを得た。
【０７５３】
得られたポリマーを１０％ＮａＯＨ水に浸し加水分解させ、1Ｎ−ＨＣｌ水溶液に浸し、水洗後、乾燥させ、重合体１６．１ｇを得た。
【０７５４】
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析により、上記各単量体の構造単位、−ＳＯ3Ｈ含有パーフルオロビニルエーテル／ＯＨ基含有含フッ素アリルエーテルが８．７／９１．３モル％比の共重合体であった。
【０７５５】
実施例１３（−ＯＨ基と−ＣＯＯＨ基を有する含フッ素アリルエーテル重合体の合成）
パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）に代えて、パーフルオロ−（９，９−ジハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネン酸）
【化２６９】
0004923376.tif 000270
の１０．７ｇと、パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネノール）
【化２７０】
0004923376.tif 000271
の１０．２ｇを用いた以外は、実施例３と同様にして重合とポリマー精製を行ない無色透明な重合体１６．５ｇを得た。
【０７５６】
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ分析より、上記各単量体の構造単位、ＣＯＯＨ含有含フッ素アリルエーテル／ＯＨ基含有含フッ素アリルエーテルが５３／４７モル％比の共重合体であった。
【０７５７】
実施例１４〜２４（塗布用組成物の作成と真空紫外領域１５７ｎｍの透明性の測定）
（１）塗布用組成物の作成
表１に示した酸反応性の官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）と光酸発生剤（Ｂ）および溶剤（Ｃ）を表記載の比率で混合、溶解させたものを、０．５μｍＰＴＦＥ製メンフランフィルターで濾過した。
【０７５８】
なお光酸発生剤としてＳ−（トリフルオロメチル）−ジベンゾチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート
【化２７１】
0004923376.tif 000272
を用いた。
【０７５９】
（２）コーティング
(1)透明性測定用基材（ＭｇＦ2）への塗布
ＭｇＦの基板上に、各塗布用組成物をスピンコーターを用い、室温で１０００回転の条件でコートした。塗布後１００℃で１５分間焼成し、透明な被膜を作成した。
【０７６０】
(2)膜厚測定
ＭｇＦ基板にかえてシリコンウエハーを用いた以外は上記と同じ条件でそれぞれの塗布用組成物を用いてシリコンウエハー上に被膜を形成した。
【０７６１】
ＡＦＭ装置（セイコー電子（株）ＳＰＩ３８００）にて被膜の厚さを測定した。結果を表１に示す。
【０７６２】
（３）真空紫外領域の透明性測定
(1)測定装置
・瀬谷−波岡型分光装置（高エネルギー研究機構：ＢＬ−７Ｂ）
・スリット  ７／８−７／８
・検出器  ＰＭＴ
・グレーティング（ＧＩＩ：ブレーズ波長１６０ｎｍ、１２００本／ｍｍ）
光学系は、H. NambaらのRev. Sic. Instrum.,60(7)、1917(1989)を参照。
【０７６３】
(2)透過スペクトルの測定
各塗布用組成物から（２）(1)の方法で得たＭｇＦ２基板上に形成した被膜の２００〜１００ｎｍの透過スペクトルを上記の装置を用いて測定した。
【０７６４】
その中から１５７ｎｍにおける透過率（％）を表１に示した。さらに透過率と被膜の膜厚から分子吸光度係数を算出し、表１に示した。
【０７６５】
【表１】
0004923376.tif 000273
【０７６６】
実施例２５（酸反応性の確認）
実施例６で得た−ＯＣＨ2ＣＯＯＣ−（ＣＨ3）3基を有する含フッ素アリルエーテル重合体１．０ｇを０．１Ｎ−ＨＣｌ水５０ｍｌに５０℃、１時間浸漬させた。つぎに上記塩酸水に浸漬させたポリマーと、浸漬させない、実施例６で得た重合体の１．０ｇのそれぞれを、２．３８％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液５０ｍｌに５０℃１時間浸漬させた。
【０７６７】
実施例６の重合体自体は、上記アルカリ水溶液には不溶であったが、実施例６の重合体をＨＣｌ水に浸漬させたものはアルカリ水溶液に完全に溶解した。
【０７６８】
実施例２６（ＣＯＯＨ基を有する含フッ素アリルエーテルとフッ化ビニリデンとの共重合体の合成）
バルブ、圧力ゲージおよび温度計を備えた１００ｍｌステンレススチール製オートクレーブにパーフルオロ（９，９−ジハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネン酸）：
【化２７２】
0004923376.tif 000274
の３．５２ｇとパーフルオロヘキサン５０ｍｌ、ジノルマルプロピルパーオキシカーボネート（ＮＰＰ）０．１ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりフッ化ビニリデン（ＶｄＦ）８．９ｇを仕込み、４０℃にて２０時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１２．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０７６９】
未反応モノマーを放出したのち、析出した固形物を取り出し、ジエチルエーテルに溶解させ、ヘキサンとトルエンとの混合溶剤（５０／５０）で再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体４．８ｇを得た。
【０７７０】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＶｄＦ／ＣＯＯＨ基含有含フッ素アリルエーテルが８１／１９モル％の共重合体であった。
【０７７１】
実施例２７（ＯＨ基を有するビニルエーテルとテトラフルオロエチレンとの共重合体の合成）
実施例２６と同様のオートクレーブに２−ヒドロキシエチルビニルエーテルの１２ｇとＨＦＣ−２２５（実施例１０と同じもの）の４０ｍｌ、ジノルマルプロピルパーオキシカーボネート（ＮＰＰ）０．９５ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１３．８ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１２．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０７７２】
未反応モノマーを放出したのち、析出した固形物を取り出し、アセトンに溶解させ、ヘキサンとベンゼンとの混合溶剤（５０／５０）で再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体６．５ｇを得た。
【０７７３】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ヒドロキシエチルビニルエーテルが５２／４８モル％の共重合体であった。
【０７７４】
合成例４（
【０７７５】
【化２７３】
0004923376.tif 000275
基を有する含フッ素アクリレートの合成）
還流冷却器、温度計、撹拌機、滴下漏斗を備えたガラス製の５００ｍｌの４ッ口フラスコに塩化メチレン１５０ｍｌ、パーフルオロフェノール：
【化２７４】
0004923376.tif 000276
４０．４ｇ、トリエチルアミン３０．１ｇを仕込み、５℃に氷冷し保った。
【０７７６】
窒素気流下、撹拌を行ないながら、α−フルオロアクリル酸フルオライド：ＣＨ2＝ＣＦＣＯＦの２５ｇを約３０分かけて滴下した。
【０７７７】
滴下終了後、室温まで温度を上げ、２．５時間撹拌を継続した。
【０７７８】
反応終了後の混合物を水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸留により、パーフルオロフェニル−αフルオロアクリレート：
【化２７５】
0004923376.tif 000277
４７ｇ（５６〜５７℃／７．０ｍｍＨｇ）を得た。同定はＧＣ−Ｍａｓｓ、19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析により構造を確認した。
【０７７９】
合成例５（
【化２７６】
0004923376.tif 000278
基を有する含フッ素アクリレートの合成）
合成例４においてパーフルオロフェノールに代えてフェノールを２１ｇ用いた以外は合成例４と同様にして反応を行なったところ、フェニル−αフルオロアクリレート：
【化２７７】
0004923376.tif 000279
２８ｇを得た。同定はＧＣ−Ｍａｓｓ、19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析により構造を確認した。
【０７８０】
実施例２８（パーフルオロフェニル−αフルオロアクリレートの単独重合体の合成）
実施例３と同様な１００ｍｌガラス製フラスコに合成例４で得たパーフルオロフェニル−αフルオロアクリレート７ｇと酢酸エチル２０ｍｌを加え、攪拌しながら窒素ガスを約３０分間バブリングした。ついで、２，２−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）の０．０６ｇを加え、６０℃にて３時間加熱攪拌し、粘度の高いポリマー溶液を得た。
【０７８１】
このポリマー溶液を酢酸エチルとメタノールの混合液（５０／５０）に加え、ポリマーを析出させて取り出し、さらにＮ−メチルピロリドンに溶解させ、酢酸エチルとメタノールとの混合液（５０／５０）で再沈殿させ、乾燥を行なっったところ、４．５ｇの単独重合体が得られた。
【０７８２】
実施例２９（フェニル−αフルオロアクリレートの単独重合体の合成）
実施例２８において、パーフルオロフェニル−αフルオロアクリレートに代えて合成例５で得たフェニル−αフルオロアクリレート４．５ｇを用いた以外は実施例２８と同様にして単独重合体の合成を行なったところ、３．２ｇの単独重合体が得られた。
【０７８３】
実施例３０〜３５（真空紫外線領域１５７ｎｍの透明性の測定）
つぎに示す工程で真空紫外線領域１５７ｎｍの透明性の測定を行なった。
（１）塗布用組成物の作製
表２に示す含フッ素ポリマーと溶剤を同表に記載の比率で混合し溶解させたものを０．５μｍＰＴＦＥ製メンブランフィルターで濾過した。
（２）コーティング
実施例１４の同様にしてＭｇＦ２基材上への塗布および膜厚測定を行なった。結果を表２に示す。
（３）真空紫外線領域１５７ｎｍの透明性の測定
実施例１４と同様にして透過スペクトルを測定し、１５７ｎｍにおける透過率と分子吸光度係数を算出した。結果を表２に示す。
【０７８４】
【表２】
0004923376.tif 000280
【０７８５】
実施例３６（含フッ素ノルボルネンの合成）
還流冷却器、温度計、撹拌機、滴下漏斗を備えたガラス製の３００ｍｌの４ッ口フラスコにシクロペンタジエン６１ｇ、合成例１で得たｔ−ブチル−αフルオロアクリレート２６ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌおよびハイドロキノン０．１ｇを仕込み、２５℃に保った。
【０７８６】
窒素気流下、撹拌を行ないながら、ボロントリフルオライド・ジエチルエーテル錯体４．０ｇを滴下し、滴下終了後、室温で４８時間攪拌して反応させた。
【０７８７】
反応終了後、蒸留によりテトラヒドロフランを留去し、残留物を取り出し、水を加え、塩化メチレンにより抽出した。塩化メチレン層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
【０７８８】
乾燥後有機層を分離し、塩化メチレンをエバポレーターで留去した後、蒸留により酸反応性基を有する含フッ素ノルボルネン：
【化２７８】
0004923376.tif 000281
１４ｇ（７０〜７２℃／２ｍｍＨｇ）を得た。
同定はＧＣ−Ｍａｓｓ、19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲにより構造を確認した。
【０７８９】
実施例３７（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブにビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（２−ノルボルネン）の１０．５ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート１６．２ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．５ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）２２．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の７．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから４．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０７９０】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出し濃縮後ヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体３６．５ｇを得た。
【０７９１】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが１１／２０／６９モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は２３０００であった。
【０７９２】
実施例３８（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍＬのオートクレーブに２−ノルボルネンの１０．５ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート１６．２ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．５ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから８．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０７９３】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出し濃縮後ヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２４．５ｇを得た。
【０７９４】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが１９／２２／５９モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１７０００であった。
【０７９５】
実施例３９（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブに２−ノルボルネンの１０．５ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート９．８ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．５ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０７９６】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２０．９ｇを得た。
【０７９７】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが３１／３０／３９モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は９８００であった。
【０７９８】
実施例４０（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブに２−ノルボルネンの１１．８ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート９．８ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．５ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．１ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０７９９】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１８．０ｇを得た。
【０８００】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが４５／３５／２０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４３００であった。
【０８０１】
実施例４１（テトラフルオロエチレンと含フッ素ノルボルネンとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブに実施例３６で得た含フッ素ノルボルネン１５．９ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３０．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．６ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８０２】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体８．５ｇを得た。
【０８０３】
この共重合体の組成比は、19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／含フッ素ノルボルネンが５０／５０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４６００であった。
【０８０４】
実施例４２（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンと含フッ素ノルボルネンとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブに２−ノルボルネンの７．０ｇ、実施例３６で得た含フッ素ノルボルネン４７．５ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３０．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．１ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．３ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８０５】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１３．５ｇを得た。
【０８０６】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／含フッ素ノルボルネンが５０／１４／３６モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４６００であった。
【０８０７】
実施例４３（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンと含フッ素ノルボルネンとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブに２−ノルボルネンの１４ｇ、実施例３６で得た含フッ素ノルボルネン３１ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３０．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから８．９ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８０８】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１７．５ｇを得た。
【０８０９】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／含フッ素ノルボルネンが５３／２５／２２モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４０００であった。
【０８１０】
実施例４４（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンと含フッ素ノルボルネンとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブに２−ノルボルネンの２７．３ｇ、実施例３６で得た含フッ素ノルボルネン４７．４ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３０．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．１ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８１１】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１６．５ｇを得た。
【０８１２】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／含フッ素ノルボルネンが５６／２９／１５モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は５３００であった。
【０８１３】
実施例４５（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンと含フッ素アリルエーテルとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブに２−ノルボルネンの１７．０ｇ、合成例２で得た含フッ素アリルエーテル
【化２７９】
0004923376.tif 000282
３９．１ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８１４】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体９．０ｇを得た。
【０８１５】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／含フッ素アリルエーテルが５０／３４／１６モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は３９００であった。
【０８１６】
合成例６（−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3基を有する含フッ素アリルエーテルの合成）
合成例１と同様な３００ｍｌガラス製４ッ口フラスコにピリジン５０ｍｌを入れ、窒素気流下、塩化チオニル５０ｇを加えたのち、５℃に冷却しパーフルオロ−（９，９−ジハイドロ−２，５−ビストリフルオロメチル−３，６−ジオキサ−８−ノネン酸）
【化２８０】
0004923376.tif 000283
の８４ｇをゆっくり滴下し、さらに氷冷下３時間撹拌した後に、過剰の塩化チオニル及び溶媒を減圧留去し反応混合物を得た。あらかじめ合成例１と同様な２００ｍｌガラス製４ッ口フラスコにトリエチルアミン５０ｍｌ、塩化メチレン５０ｍｌ、ｔｅｒｔ−ブチルタノール２０ｇを加え５℃に冷却したところに、この反応混合物をゆっくりと滴下した。滴下終了後室温までもどしさらに１２時間撹拌した。混合物を５００ｍｌの１Ｎ塩酸中に放ち、有機層を分液、水洗、乾燥、蒸留することによって式：
【化２８１】
0004923376.tif 000284
で示される酸解離性基を有する含フッ素アリルエーテルを７６．０ｇ得た。沸点４２〜４６℃／０．２ｍｍＨｇ。
19Ｆ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析により、上記単量体を同定し、確認した。
【０８１７】
実施例４６（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンと含フッ素アリルエーテルとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌのオートクレーブに２−ノルボルネンの１７．０ｇ、合成例６で得た含フッ素アリルエーテル
【化２８２】
0004923376.tif 000285
３３．２ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．３ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．４ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８１８】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１２．０ｇを得た。
【０８１９】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／含フッ素アリルエーテルが４７／４０／１３モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４４００であった。
【０８２０】
実施例４７（テトラフルオロエチレンと含フッ素ビニルエーテルとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍｌのオートクレーブに含フッ素ビニルエーテル：
ＣＨ2＝ＣＨＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）7ＣＦ3
２４．５ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから３．４ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８２１】
未反応モノマーを放出したのち、重合物を取り出しＨＣＦＣ−１４１ｂ、メタノール、ヘキサンで洗浄し、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１６．５ｇを得た。1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／含フッ素ビニルエーテル＝５１／４９モル％であった。
【０８２２】
実施例４８〜５７（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の脱保護およびアルカリ現像液に対する溶解性）
（１）脱保護
１００ｍｌのナスフラスコに各種のノルボルネンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体５ｇを塩化メチレン８０ｇに溶解させ、表３に示すトリフルオロ酢酸を加え室温で１２時間撹拌した。反応後、過剰のトリフルオロ酢酸と塩化メチレンを減圧留去した。残った固体成分を蒸留水で数回洗い、テトラヒドロフランに溶かしてヘキサンで再沈殿し、共重合体を分離した。脱保護率を1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より算出した。結果を表３に示す。
【０８２３】
（２）コーティング
実施例１４と同様にして得られた共重合物をプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に３．０％溶解させてシリコン基盤上へ塗布した。
【０８２４】
（３）アルカリ現像液に対する溶解性
２．３８％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液を共重合物を塗布したシリコン基材上に滴下して、溶解性を評価した。結果を表３に示す。
【０８２５】
【表３】
0004923376.tif 000286
【０８２６】
実施例５８（テトラフルオロエチレンと含フッ素ノルボルネンとの共重合体の脱保護およびアルカリ現像液に対する溶解性）
実施例４８と同様にして実施例４１で得た含フッ素ポリマーの脱保護およびアルカリ現像液に対する溶解性を評価した。トリフルオロ酢酸１６ｇ用いて脱保護したサンプルは２．３８％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液に溶解した。
【０８２７】
実施例５９（シクロペンテンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブにシクロペンテンの３．４ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート１．５ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の８．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから７．７ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８２８】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１．７ｇを得た。
【０８２９】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／シクロペンテン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが１８／４１／４１モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１５０００であった。
【０８３０】
実施例６０（シクロペンテンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブにシクロペンテンの１．７ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート１．５ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の８．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから７．７ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８３１】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２．９ｇを得た。
【０８３２】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／シクロペンテン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが２９／３６／３５モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１４０００であった。
【０８３３】
実施例６１（シクロペンテンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブにシクロペンテンの３．４ｇ、ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレート３．６ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の８．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから７．９ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８３４】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体３．８ｇを得た。
【０８３５】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／シクロペンテン／ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートが１３／１７／７０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は５８００であった。
【０８３６】
実施例６２（シクロペンテンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチルメタクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブにシクロペンテンの１．７ｇ、ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレート１．５ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の９．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから８．９ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８３７】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２．８ｇを得た。
【０８３８】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／シクロペンテン／ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートが３４／３７／２９モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は５６００であった。
【０８３９】
実施例６３（（パーフルオロオクチル）エチレンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに（パーフルオロオクチル）エチレン（ＣＨ2＝ＣＨ（ＣＦ2）7ＣＦ3）の１７．８ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート５．９ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）８．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の７．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから７．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８４０】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体７．８ｇを得た。
【０８４１】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／（パーフルオロオクチル）エチレン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが９／９／８２モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１７００００であった。
【０８４２】
実施例６４（（パーフルオロオクチル）エチレンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに（パーフルオロオクチル）エチレンの２２．３ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート１．５ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の７．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから５．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８４３】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体３．０ｇを得た。
【０８４４】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／（パーフルオロオクチル）エチレン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが１５／１９／６６モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は８９０００であった。
【０８４５】
実施例６５（（パーフルオロオクチル）エチレンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに（パーフルオロオクチル）エチレンの２２．３ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレート１．５ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の６．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから５．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８４６】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２．０ｇを得た。
【０８４７】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／（パーフルオロオクチル）エチレン／ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートが３７／３０／３３モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は８１００であった。
【０８４８】
実施例６６（（パーフルオロオクチル）エチレンとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに（パーフルオロオクチル）エチレンの２２．３ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレート０．７１ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の６．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから６．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８４９】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１．５ｇを得た。
【０８５０】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／（パーフルオロオクチル）エチレン／ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートが３４／３６／３０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１３０００であった。
【０８５１】
実施例６７（アリルアルコールとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブにアリルアルコール（ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＨ）２．４ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート５．８ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）８．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の６．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから６．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８５２】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体７．０ｇを得た。
【０８５３】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／アリルアルコール／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが８／３９／５３モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１２０００であった。
【０８５４】
実施例６８（アリルアルコールとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブにアリルアルコール２．９ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート１．５ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の９．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから８．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８５５】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２．４ｇを得た。
【０８５６】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／アリルアルコール／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが２０／５５／２５モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１２０００であった。
【０８５７】
実施例６９（４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オールとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オール・ＴＨＦ付加体（ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）2ＯＨ・ＴＨＦ）１１．２ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート２．９ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）８．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の６．５ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから６．２ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８５８】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体５．９ｇを得た。
【０８５９】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オール／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが１９／３３／４８モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は２８０００であった。
【０８６０】
実施例７０（４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オールとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オール・ＴＨＦ付加体１４．０ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート０．７３ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）８．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の８．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから７．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８６１】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２．６ｇを得た。
【０８６２】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オール／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが２３／４６／３１モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１７０００であった。
【０８６３】
実施例７１（４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オールとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オール・ＴＨＦ付加体１４．０ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレート３．６ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の８．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから７．９ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８６４】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体３．３ｇを得た。
【０８６５】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オール／ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートが１０／３５／５５モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４９００であった。
【０８６６】
実施例７２（４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オールとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オール・ＴＨＦ付加体１４．０ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレート０．７２ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．３ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の８．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから７．９ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８６７】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２．３ｇを得た。
【０８６８】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／４，４−ジトリフルオロメチル−１−ブテン−４−オール／ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートが４４／１６／４０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は６１００であった。
【０８６９】
実施例７３（（パーフルオロオクチル）エチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
温度計、滴下ろうと、還流管、三方コックのついた１００ｍｌの４つ口フラスコに、酢酸ブチル３０ｍｌ、ＡＩＢＮを０．５ｇ入れた。系内を十分に窒素置換したのち、窒素雰囲気下、オイルバスにより９５℃まで速やかに昇温させた。その後、（パーフルオロオクチル）エチレン２２．３ｇとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート３．７ｇと酢酸ブチルの混合溶液を、３時間かけて滴下した。滴下後さらに３時間攪拌し反応を続けた。
【０８７０】
反応終了後、重合溶液を取り出しエバポレータにより濃縮した後、ヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２．７ｇを得た。
【０８７１】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、（パーフルオロオクチル）エチレン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが１９／８１モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は７７００であった。
【０８７２】
実施例７４（（パーフルオロオクチル）エチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
温度計、滴下ろうと、還流管、三方コックのついた１００ｍｌの４つ口フラスコに、酢酸ブチル３０ｍｌ、ＡＩＢＮを０．５ｇ入れた。系内を十分に窒素置換したのち、窒素雰囲気下、オイルバスにより９５℃まで速やかに昇温させた。その後、（パーフルオロオクチル）エチレン１７．９ｇとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート２．９ｇと酢酸ブチルの混合溶液を、３時間かけて滴下した。滴下後さらに３時間攪拌し反応を続けた。
【０８７３】
反応終了後、重合溶液を取り出しエバポレータにより濃縮した後、ヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体３．３ｇを得た。
【０８７４】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、（パーフルオロオクチル）エチレン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが３７／６３モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１８００であった。
【０８７５】
実施例７５（（パーフルオロオクチル）エチレンとｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートとの共重合体の合成）
温度計、滴下ろうと、還流管、三方コックのついた１００ｍｌの４つ口フラスコに、酢酸ブチル３０ｍｌ、ＡＩＢＮを０．５ｇ入れた。系内を十分に窒素置換したのち、窒素雰囲気下、オイルバスにより９５℃まで速やかに昇温させた。その後、（パーフルオロオクチル）エチレン２２．３ｇとｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレート７．１ｇと酢酸ブチルの混合溶液を、３時間かけて滴下した。滴下後さらに３時間攪拌し反応を続けた。
【０８７６】
反応終了後、重合溶液を取り出しエバポレータにより濃縮した後、ヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体３．３ｇを得た。
【０８７７】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、（パーフルオロオクチル）エチレン／ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートが４０／６０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は７０００であった。
【０８７８】
合成例７（シクロペンテン誘導体の合成）
セプタム、還流管を付けた二口ナスフラスコに２−シクロペンテン−１−アセティックアシッド
【化２８３】
0004923376.tif 000287
（２５ｇ，０．１９８ｍｍｏｌ）と塩化チオニル（５０ｇ）とを入れ還流が始まる温度（８０℃、バス温１１０℃）まで加熱した。３時間反応させた後に過剰の塩化チオニルをアスピレーターで減圧留去した後に、蒸留することで酸塩化物を得た（ｂｐ．４４〜４７℃，４ｍｍＨｇ）。次に還流管、滴下ロート、温度計を付けた三口フラスコにｔｅｒｔ−ブタノール（５０ｍＬ）、エーテル（５０ｍＬ）を入れた。氷浴で冷やしながらｎ−ブチルリチウム（１７３ｍＬ，０．２７７ｍｏｌ）を１時間で滴下した。滴下終了しばらく攪拌した後、氷浴で冷やしながら先の酸塩化物を１時間かけて滴下した。滴下終了後室温で２４時間攪拌した。反応終了後、Ｒ２２５を入れ２Ｎ塩酸で数回、飽和食塩水で数回有機相を洗い、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、硫酸マグネシウムを濾過して溶媒を濃縮した。濃縮物を蒸留して目的のエステル
【化２８４】
0004923376.tif 000288
を３２ｇ得た（ｂｐ．５２〜５５℃，１ｍｍＨｇ）。
【０８７９】
同様にしてシクロペンテン誘導体
【化２８５】
0004923376.tif 000289
も合成した（ｂｐ．５７〜６０℃，５ｍｍＨｇ）。
【０８８０】
実施例７６（シクロペンテン誘導体とテトラフルオロエチレンとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに合成例７で得たシクロペンテン誘導体
【化２８６】
0004923376.tif 000290
４．６ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．５ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８８１】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体０．９ｇを得た。
【０８８２】
この共重合体の組成比は、元素分析の結果より、ＴＦＥ／シクロペンテン誘導体が５０／５０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１５００であった。
【０８８３】
実施例７７（シクロペンテン誘導体とテトラフルオロエチレンとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに合成例７で得たシクロペンテン誘導体
【化２８７】
0004923376.tif 000291
４．２ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．５ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８８４】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１．３ｇを得た。
【０８８５】
この共重合体の組成比は、元素分析の結果より、ＴＦＥ／シクロペンテン誘導体が５０／５０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は２１００であった。
【０８８６】
合成例８（ノルボルネン誘導体の合成）
２−シクロペンテン−１−アセティックアシッドの代わりにα−トリフルオロメチルアクリル酸
ＣＨ2＝Ｃ（ＣＦ3）ＣＯＯＨ
を用いた他は合成例７と同様にしてα−トリフルオロメチルアクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステル
ＣＨ2＝Ｃ（ＣＦ3）ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3
を合成した。次にこれを用いてシクロペンタジエンとＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応させ目的のノルボルネン誘導体
【化２８８】
0004923376.tif 000292
を得た。合成はｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートの代わりにα−トリフルオロメチルアクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステルを用いた他は実施例３６と同様に行った。
【０８８７】
実施例７８（ノルボルネン誘導体とテトラフルオロエチレンとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の１００ｍＬのオートクレーブに合成例８で得たノルボルネン誘導体
【化２８９】
0004923376.tif 000293
６．６ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．５ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）１０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８８８】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体２．２ｇを得た。
【０８８９】
この共重合体の組成比は、元素分析の結果より、ＴＦＥ／ノルボルネン誘導体が５０／５０モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４２００であった。
【０８９０】
実施例７９（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンと含フッ素ノルボルネン誘導体との共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍＬのオートクレーブに２−ノルボルネンの７．０ｇ、合成例８で得た含フッ素ノルボルネン誘導体
【化２９０】
0004923376.tif 000294
５８．７ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３０．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．７ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８９１】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１４．５ｇを得た。
【０８９２】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２−ノルボルネン／含フッ素ノルボルネンが４９／１９／３２モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４８００であった。
【０８９３】
実施例８０（２，３−ジヒドロフランとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の５００ｍＬのオートクレーブに２，３−ジヒドロフランの７．０ｇ、合成例１で得たｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレート５．８ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．８ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）４０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の９．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから８．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８９４】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１０．９ｇを得た。
【０８９５】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２，３−ジヒドロフラン／ｔｅｒｔ−ブチル−αフルオロアクリレートが２３／３３／４４モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は１６０００であった。
【０８９６】
実施例８１（２，３−ジヒドロフランとテトラフルオロエチレンとｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の５００ｍＬのオートクレーブに２，３−ジヒドロフランの７．０ｇ、ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレート５．６ｇ、実施例１０と同様のＨＣＦＣ−２２５の４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）０．８ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）４０．０ｇを仕込み、４０℃にて１８時間振とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の９．０ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから８．８ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０８９７】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しヘキサンで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体１０．８ｇを得た。
【０８９８】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２，３−ジヒドロフラン／ｔｅｒｔ−ブチル−メタクリレートが３３／３５／３２モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は９８００であった。
【０８９９】
実施例８２（シクロペンテンとテトラフルオロエチレンと含フッ素アリールエーテルとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍＬのオートクレーブにシクロペンテンの１３．０ｇ、合成例６で得た含フッ素アリールエーテル
【化２９１】
0004923376.tif 000295
３３．２ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．３ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．４ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０９００】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体９．０ｇを得た。
【０９０１】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／シクロペンテン／含フッ素アリールエーテルが４７／３９／１４モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４４００であった。
【０９０２】
実施例８３（シクロペンテンとテトラフルオロエチレンと含フッ素アリールエーテルとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍＬのオートクレーブにシクロペンテンの１３．０ｇ、合成例２で得た含フッ素アリールエーテル
【化２９２】
0004923376.tif 000296
３９．１ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．１ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．７ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０９０３】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体７．８ｇを得た。
【０９０４】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／シクロペンテン／含フッ素アリールエーテルが５０／３３／１７モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４２００であった。
【０９０５】
実施例８４（２，３−ジヒドロフランとテトラフルオロエチレンと含フッ素アリールエーテルとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍＬのオートクレーブに２，３−ジヒドロフランの１３．４ｇ、合成例６で得た含フッ素アリールエーテル
【化２９３】
0004923376.tif 000297
３３．２ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．３ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．４ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０９０６】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体９．５ｇを得た。
【０９０７】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２，３−ジヒドロフラン／含フッ素アリールエーテルが４７／３５／１８モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４１００であった。
【０９０８】
実施例８５（２，３−ジヒドロフランとテトラフルオロエチレンと含フッ素アリールエーテルとの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍＬのオートクレーブに２，３−ジヒドロフランの１３．４ｇ、合成例２で得た含フッ素アリールエーテル
【化２９４】
0004923376.tif 000298
３９．１ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを入れ、ドライアイス／メタノール液で冷却しながら系内を窒素ガスで充分置換した。ついでバルブよりテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）３６．０ｇを仕込み、４０℃にて１２時間浸とうして反応させた。反応の進行と共にゲージ圧は反応前の１０．１ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇから９．７ｋｇｆ／ｃｍ2Ｇまで低下した。
【０９０９】
未反応モノマーを放出したのち、重合溶液を取り出しメタノールで再沈殿させ、共重合体を分離した。恒量になるまで真空乾燥を行ない、共重合体８．８ｇを得た。
【０９１０】
この共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ分析の結果より、ＴＦＥ／２，３−ジヒドロフラン／含フッ素アリールエーテルが４９／３２／１９モル％の共重合体であった。
ＧＰＣ分析により数平均分子量は４５００であった。
【０９１１】
実施例８６〜９３（１５７ｎｍ波長光に対する透過係数、現像液に対する溶解性、耐ドライエッチング性の測定）
（１）吸光係数の測定
表４に示した各種ポリマーの３％酢酸ブチル溶液を調整し、ＭｇＦ２基板上に膜厚が１００〜２００ｎｍになるようにスピンコーターで塗布した。塗布した膜を室温で６時間以上乾燥後、実施例１４と同様にして真空紫外分光光度計で１５７ｎｍ波長光の透過率を測定した。また、同じ膜を干渉膜厚計により膜厚を測定し、透過率と膜厚から、吸光係数を算出した。表４に結果を示す。
【０９１２】
（２）現像液に対する溶解性の評価
ポリマーを溶媒に溶かし、トリフルオロ酢酸と反応させることにより、ポリマーに含まれるｔブチル保護基を脱保護させた。８５％以上のｔ−ブチル保護基が脱保護し、カルボン酸に変換されたことを1Ｈ−ＮＭＲで確認したのち、脱保護後ポリマーの１０％酢酸ブチル溶液を調整し、Ｓｉ基板上に膜厚が２００ｎｍになるようスピンコーターで塗布し、室温で６時間以上乾燥させた。乾燥後の膜の厚みをＡＦＭで行った後、３％ＴＭＡＨ水溶液に６０秒間浸した。その後、基板ごととりだし、室温で乾燥後ＡＦＭにより膜厚を測定し、残膜の有無を確認した。表４に結果を示す。
【０９１３】
（３）耐エッチング性の評価
ポリマーの１０％酢酸ブチル溶液を調整し、Ｓｉ基板上にスピンコーターで膜厚が２００ｎｍになるよう塗布した。１２０℃で２分間プリベークした後、干渉膜厚計で膜厚を測定した。その後、ＩＣＰ（誘導結合プラズマ）エッチング装置のチャンバー内に入れ、エッチングを行った。エッチングガス（Ａｒ／Ｎ2／Ｃ4Ｆ8混合ガス）の圧力は１０ｍＴｏｒｒ、プラズマ条件は上部電極が１３．５６ＭＨｚ，９００Ｗ、下部電極が４００ｋＨｚ，１００Ｗで行った。エッチング時間は６０秒で行った。
【０９１４】
エッチング後の膜厚を干渉膜厚計で測定し、エッチングレートを算出した。参照としてＡｒＦレーザー用リソグラフィーに用いられるレジスト（東京応化（株）製ＴＡｒＦ−６ａ−６３）を用いて同様にエッチングレートを求めて、それとのエッチングレートの比較で表した。つまり各数値は参照ポリマー（上記ＡｒＦレーザー用レジスト）のエッチングレートを１と置いて比率を示した。表４に結果を示す。表４は各種ポリマーについての１５７ｎｍでの吸光係数、３％ＴＭＡＨ水溶液に対する溶解性、耐ドライエッチング性（対ＡｒＦレジスト）に関する。
【０９１５】
【表４】
0004923376.tif 000299
【０９１６】
合成例９（ノルボルネンとテトラフルオロエチレンと−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3含有ノルボルネンの共重合体の合成）
実施例２６と同様の３００ｍｌオートクレーブに２−ノルボルネンの２７．３ｇ、−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3含有ノルボルネン：
【化２９５】
0004923376.tif 000300
の４５．４ｇ、ＨＣＦＣ−１４１ｂの１４０ｍｌ、テトラフルオロエチレン３０．０ｇ、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（ＴＣＰ）１．０ｇを用い、実施例４４と同様にして反応を行ない、共重合体１２．５ｇを得た。
【０９１７】
共重合体の組成比は、1Ｈ−ＮＭＲおよび19Ｆ−ＮＭＲ、元素分析によりＴＦＥ／２−ノルボルネン／−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3含有ノルボルネンが４９／３８／１３モル％であった。
【０９１８】
合成例１０（テトラフルオロエチレンと−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3基含有ノルボルネンの共重合体の合成）
実施例３６でえた含フッ素ノルボルネンに代えて、−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3基含有ノルボルネン：
【化２９６】
0004923376.tif 000301
の１３．９ｇを用いた以外は実施例４３と同様にして反応させ、含フッ素重合体を単離し、白色粉末６．９ｇを得た。
【０９１９】
この共重合体の組成比は1Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ、元素分析によりＴＦＥ／−ＣＯＯＣ（ＣＨ3）3含有ノルボルネンが５１／４９モル％であった。
【０９２０】
実施例９４〜１０１、比較例１、２
（１５７ｎｍ波長光に対する透過係数、現像液に対する溶解性、耐ドライエッチ耐性の測定）
表５に示した各種ノルボルネン含有含フッ素重合体について実施例８６と同様にして、
（１）吸光係数の測定、
（２）現像液に対する溶解性評価、
（３）耐エッチング性の評価を行なった。
結果を表５に示す。
【０９２１】
【表５】
0004923376.tif 000302
【０９２２】
実施例１０２〜１１７
（１）塗料用組成物の調製
表６に示した官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）と光酸発生剤（Ｂ）および溶剤（Ｃ）を表６記載の比率で実施例１４と同様にしてレジスト組成物を調製した。光酸発生剤（Ｂ）としてはＳ−（トリフルオロメチル）−ジベンゾチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート：
【化２９７】
0004923376.tif 000303
を用いた。
【０９２３】
（２）コーティング
実施例１４と同様にしてＭｇＦ2への塗布、膜厚測定を行なった。
【０９２４】
（３）真空紫外領域の透明性測定
実施例１４と同様にしてレジスト塗膜の透明性測定を行なった。
【０９２５】
【表６】
0004923376.tif 000304