(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源を発光させるための制御基板と、
前記光源から出射された光束を偏向走査する偏向器と、
底部と側壁とを有し、前記底部の内側に前記偏向器が配置される光学箱と、
を備え、
前記制御基板が、前記光学箱の前記側壁の外壁に対して、前記制御基板の基板面が前記外壁に対向するように組付けられた光学走査装置において、
前記光学箱の前記底部の外側に設けられ、前記制御基板が前記光学箱に組付けられる際に使用される第１工具に係合するための第１係合部を備え、
前記第１係合部は、
前記制御基板の前記基板面と平行な仮想面上に設けられ、かつ、
前記制御基板が前記光学箱に固定される固定部を前記基板面に直交する方向に投影した領域を挟む２箇所に少なくとも設けられている
ことを特徴とする光学走査装置。
【請求項２】
前記光学箱の前記底部の外側には、前記光学箱を補強するための補強リブが複数設けられ、
前記第１係合部は、前記２箇所にそれぞれ設けられている２つの補強リブに少なくとも設けられていることを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
【請求項３】
前記第１係合部は、少なくとも前記２箇所の間にわたって設けられた凹部又は凸部であって、前記第１工具に設けられた凸部又は凹部に係合するための凹部又は凸部であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学走査装置。
【請求項４】
前記光学箱のうち前記底部に対向する開口側の端面に設けられ、前記制御基板が前記光学箱に組付けられる際に使用される第２工具に係合するための第２係合部をさらに備え、
前記第２係合部は、
前記制御基板の前記基板面と平行な仮想面上に設けられ、かつ、
前記制御基板が前記光学箱に固定される固定部を前記基板面に直交する方向に投影した領域を挟む２箇所に少なくとも設けられている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学走査装置。
【請求項５】
前記第２係合部は、少なくとも前記２箇所の間にわたって設けられた凹部又は凸部であって、前記第２工具に設けられた凸部又は凹部に係合するための凹部又は凸部であることを特徴とする請求項４に記載の光学走査装置。
【請求項６】
前記第１係合部は、前記制御基板の前記基板面に直交する方向において、前記制御基板と前記光学箱の重心との間に設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光学走査装置。
【請求項７】
前記第２係合部は、前記制御基板の前記基板面に直交する方向において、前記制御基板と前記光学箱の重心との間に設けられていることを特徴とする請求項４又は５に記載の光学走査装置。
【請求項８】
前記光源から出射された光束が前記偏向器に入射するまでの光軸と、前記偏向器により偏向走査される走査領域の中心となる光軸とが成す角度が９０度未満であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＢＰ（レーザビームプリンタ）やデジタル複写機、デジタルＦＡＸ等の画像形成装置に適用される光学走査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学走査装置内に具備されている光学部品の配置については、様々なものが提案されている。
【０００３】
光学走査装置において、制御基板又は、レーザ光源から出射されたレーザ光を平行光にするコリメータレンズと一体に調整されたレーザユニットは、複数ビームの際の、調整し易さや、部品点数低減等のコスト面から、光学箱の側壁に外付けする構成が望ましい。
【０００４】
このような構成は、例えば特許文献１の図１で開示されているものに代表される。
【特許文献１】特開平９−２４３９４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来例のような光学走査装置の場合、制御基板をビス固定（セルフタップ）によって光学箱に取り付ける際、主に２通りの方法がありそれぞれ固有の未解決の課題を有していた。
【０００６】
第１の方法は、光学走査装置の底面が下になるように、水平に置いた状態にし、光学箱の側面にある制御基板取り付け面に対して垂直に荷重が加わるように、制御基板の傾きに合わせドライバを当てる方法である。この方法では、重力方向に荷重を加えられないため、ビスの直進性が悪化してしまうことが懸念される。
【０００７】
第２の方法は、工具によって光学箱の側壁にある制御基板取り付け面が水平な状態になるように保持し、その状態で重力方向に荷重を加えてビス固定する方法である。この方法では、ビス締め荷重は重力方向に加えることができるものの、制御基板取り付け面を水平な状態で安定させて保持するために、光学箱を傾いた状態で保持する必要がある。すなわち、組立装置（組立工程、量産工程）がより複雑化してしまい、光学箱に制御基板を固定する工程における不良率が上がる要因の一つとなり得る。また、組立タクトが上がるという問題もあることから、第２の方法は、望ましいものではなかった。
【０００８】
本発明は上記したような事情に鑑みてなされたものであり、光学箱に制御基板を固定する際の不良率を、組立装置を複雑化することなく簡易な方法で低減させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明にあっては、
光源を発光させるための制御基板と、
前記光源から出射された光束を偏向走査する偏向器と、
底部と側壁とを有し、前記底部の内側に前記偏向器が配置される光学箱と、
を備え、
前記制御基板が、前記光学箱の前記側壁の外壁に対して、前記制御基板の基板面が前記外壁に対向するように組付けられた光学走査装置において、
前記光学箱の前記底部の外側に設けられ、前記制御基板が前記光学箱に組付けられる際
に使用される第１工具に係合するための第１係合部を備え、
前記第１係合部は、
前記制御基板の前記基板面と平行な仮想面上に設けられ、かつ、
前記制御基板が前記光学箱に固定される固定部を前記基板面に直交する方向に投影した領域を挟む２箇所に少なくとも設けられている
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、光学箱に制御基板を固定する際の不良率を、組立装置を複雑化することなく簡易な方法で低減させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に図面を参照して、この発明を実施するための最良の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状それらの相対配置などは、発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるべきものであり、この発明の範囲を以下の実施の形態に限定する趣旨のものではない。
【実施例１】
【００１２】
以下に、実施例１について説明する。
【００１３】
まず、画像形成装置の構成及び動作の概略を説明する。図４は、本実施例の光学走査装置３を具備した画像形成装置の概略構成を示す断面図である。
【００１４】
本実施例の画像形成装置は、電子写真方式のレーザビームプリンタである。
【００１５】
図４に示すように、被走査体（像担持体）としての感光体ドラム１の周囲に帯電ローラ２、光学走査装置３、現像装置４、クリーニング装置５が配置されている。そして、帯電ローラ２からのバイアス電圧印加によって一様に帯電された感光体ドラム１の表面に光学走査装置３から画像情報に応じた光走査をすることで感光体ドラム１に静電潜像を形成する。その潜像を現像装置４によってトナー現像して可視像化する。そのトナー像は、搬送ローラ６によって搬送される記録材Ｐが感光体ドラム１と転写ローラ７とで形成されるニップ部に搬送されたときに、転写ローラ７にバイアス電圧が印加されることで記録材Ｐに転写されるように構成されている。
【００１６】
その後、トナー像が転写された記録材Ｐは定着器８に搬送され、トナー定着された後に装置上部の排出部９へと排出される。一方、記録材Ｐへトナー像が転写された後に感光体ドラム１に残留したトナーは、クリーニング装置５によって除去される。
【００１７】
次に、本実施例の光学走査装置３の全体構成について説明する。図５は、本実施例の光学走査装置３の概略構成を示す斜視図である。
【００１８】
図５に示すように、光学走査装置３には光源としての半導体レーザ４１がレーザ支持部材４２に圧入等によって内部に組み込まれ、半導体レーザ４１を発光させるための制御基板４３に半田付けされて接続されている。半導体レーザ４１は画像情報に応じて変調されたレーザ光Ｌ１を出射するレーザ光源である。また、レーザ支持部材４２は、レーザ光源を保持する光源保持手段となるものであり、本実施形態ではガラス繊維強化プラスチックなど剛性の高い部材によって構成されている。
【００１９】
半導体レーザ４１から出射したレーザ光は筐体としての光学箱５０に予め接着固定された複合レンズ４４によって平行光，所望の収束光又は発散光に変換され、レーザ光の走査
方向とは直交する副走査方向に収束し、回転多面鏡４５の反射面上に線状に結像される。
【００２０】
複合レンズ４４と回転多面鏡４５の間には開口絞り５１が配置され、レーザ光の光束が制限されている。レーザ光源から出射された光束を偏向走査する偏向器としての回転多面鏡４５は駆動モータ４６によって高速で回転し、レーザ光を被走査体である感光体ドラム１上に走査する。この走査されたレーザ光は感光体ドラム１上を等速で移動する、いわゆるｆθ特性を有する結像レンズ４７を透過して、折り返しミラー４８で反射され、感光体ドラム１上に結像することで潜像が形成される。ここで、回転多面鏡４５は、光学箱５０の底面（底部）５６の内側に配設されている。
【００２１】
制御基板４３に搭載されている検知センサ４９は画像の書き出し位置を制御するものであって、回転多面鏡４５によって走査された画像域外のレーザ光を受光して水平同期信号を発生する。制御基板４３は、光学箱５０の側壁の外壁（側壁のうち外側）５２に対して、制御基板４３の基板面４３ａが光学箱５０の外壁５２と対向するようにビス５４，５５によって固定されている。光学箱５０の開口部は図示しない蓋部材等によって閉塞される。
【００２２】
ここで、半導体レーザ４１及び制御基板４３から回転多面鏡４５までを入射系とし、回転多面鏡４５から感光体ドラム１までを走査系と定義する。
【００２３】
入射系の光軸（回転多面鏡４５に入射する光軸）と走査系の光軸（画像中心）の成す角度が、９０°である場合には、次のようなことが懸念される。すなわち、画像形成装置及び光学走査装置の形状の制約から、入射系及び走査系の距離を決め、偏向器ファセット幅、画像形成に必要な画角等を考慮して設計すると、光路長が伸びてしまい、回転多面鏡のファセット幅を大きくしなければならない。
【００２４】
このことから、半導体レーザ４１から出射して回転多面鏡４５に入射するまでのレーザ光Ｌ１の光軸と、走査領域の中心となるレーザ光Ｌ２（像高ゼロ）の光軸とが成す角度αはｆθレンズと干渉しない範囲で小さくする（９０度未満とする）のが望ましい。本実施例では、角度αを８５度としている。
【００２５】
図１は、本実施例の光学走査装置３の光学箱５０の底面５６を外側から見た斜視図である。
【００２６】
図１に示すように、光学箱５０における底面外壁（底部のうち外側）５６ａには、第１係合部としての溝（凹部）７１が設けられている。この溝７１は、制御基板４３の基板面４３ａに対して平行に配置されており、対向する側壁間、すなわち側壁（側面）５３ａから側壁５３ｂまで連通して設けられている。
【００２７】
なお、レーザ支持部材４２は、高い精度で調整された後、光学箱５０に接着固定される。次に、制御基板４３に設けられたリードピン穴をレーザ支持部材４２によって支持されている半導体レーザ４１のリードピンに通して、半田付けが行われる。最後に、ビス５４，５５によって制御基板４３の基板面４３ａが光学箱５０の外壁５２と対向するように組付けられ、光学箱５０の外壁５２に固定される。
【００２８】
次に、制御基板４３の光学箱５０への組付け方法について説明する。
【００２９】
図２は、本実施例の光学走査装置３、及び、量産時における制御基板組立工具の一部を示す分解斜視図である。図３は、本実施例の光学走査装置３、及び、量産時における制御基板組立工具の一部を示す図であり、図２を正面から見た図である。
【００３０】
制御基板４３が光学箱５０に組付けられる際に使用される工具（第１工具）８０には、凸形状のレール（凸部）８１が設けられている。そして、光学箱５０の底面外壁５６ａに設けられた溝７１が、レール８１に係合（当接）した状態で、光学走査装置３の組立が行われる。また、量産時等においては、光学箱５０は、溝７１がレール８１に係合した状態で、レール８１に沿って搬送される。
【００３１】
レーザ支持部材４２が高い精度で調整された後、接着固定された状態で光学箱５０が工具８０の所定位置まで搬送されると、支持工具８３ａ，８３ｂ，８３ｃ，８３ｄにより光学箱５０が支持され、制御基板４３が光学箱５０の制御基板取り付け位置に配置される。続いて図示しないドライバでビス５４，５５が回され、制御基板４３が光学箱５０の外壁５２に外部から固定される構成になっている。
【００３２】
ここで、溝７１とレール８１の関係は、光学箱５０の搬送を効率的に行うことと、ビス締めを行う際、荷重を支えることの二つの役割を担っている。溝７１にレール８１が嵌まっているので、搬送方向以外の方向に対しては、自由度を持たない。
【００３３】
溝７１は制御基板４３の基板面４３ａに対して平行に設けられているので、ビス締め荷重が加わる方向とビス締め荷重を支持するレール８１の向きが垂直になる。従って、ビス締め荷重が加わることによる光学箱５０の回転または倒れを防ぎ、光学箱５０を安定した姿勢に保持することができる。
【００３４】
また、溝７１は、制御基板４３を光学箱５０に止めているビス５４，５５によるビス止め位置（図２，３に示す固定部（ビス穴）５０ａ，５０ｂ）の間隔よりも長く設けられている。これにより、ビス締め時の荷重点を図２のＸ方向に投影した領域を、溝７１とレール８１により構成される支持点で挟み込む構成とすることができるので、荷重によるモーメントの発生を抑制することができる。
【００３５】
したがって、光学箱５０をより安定した姿勢に保持しながら、搬送及びビス締めを行うことができる。
【００３６】
また、図３に示すように、溝７１は制御基板４３の基板面４３ａに対して平行に設けられているので、レール８１が水平になるように工具設計することによって、レール８１に溝７１を嵌め合わせると自動的に制御基板４３は水平に保持されることになる。よって、工具を複雑化することなく、光学箱５０を必要な分だけ容易に回転させて、制御基板４３を水平に保持した状態で、重力方向にビス締め荷重を加えることができるため、ビスの直進性を向上させることができる。
【００３７】
図６は、光学箱５０の変形例を示す斜視図である。
【００３８】
図６に示すように、光学箱５０の底面外壁５６ａには、光学箱５０の重量を増やさずに剛性を上げるために補強リブ６０が複数設けられる場合がある。その場合には、複数の補強リブ６０を連通するような１つの溝７１を設ける。図６においては、複数の補強リブ６０によって、光学箱５０の底面外壁５６ａを形成しているため、搬送性を考慮して側壁５３ａから側壁５３ｂまで連通した溝７１としている。また、光学箱５０の外縁部のみに他の底面と高さの違う補強リブがある場合には、外縁部間を結ぶ１つの溝とするとよい。
【００３９】
さらに、溝７１の位置は、図６のＸ方向において、光学走査装置３の重心位置と制御基板４３との間に設けるとよい。これは、ビス締め荷重によって起こる光学箱５０の変形による光学走査装置３の特性悪化を防ぐためである。
【００４０】
本実施例では、光学箱５０に溝７１を設け、工具８０に凸形状のレール８１を設ける構成について説明したが、これに限るものではない。すなわち、光学箱５０に、凸形状の係合部（レール等の凸部）を設け、工具８０に凹形状の溝を設ける構成でもよく、装置の仕様、設計与件によって適宜選択するとよい。
【００４１】
また、本実施例では、制御基板４３の光学箱５０に対するビス固定点を２点として説明したが、２点以上で固定されるものであってもよく、制御基板４３の回路パターンや、光学箱５０の取り付け位置を鑑みながら固定点数を決めるとよい。
【００４２】
また、本実施例では、工具８０に係合する第１係合部として、ビス５４，５５のビス止め位置の間隔よりも長い溝７１を光学箱５０に設けているが、これに限るものではない。第１係合部としては、制御基板４３の基板面４３ａと平行な仮想面上に設けられ、かつ、制御基板４３が光学箱５０に固定される固定部５０ａ，５０ｂを基板面４３ａに直交する方向に投影した領域を挟む２箇所に少なくとも設けられるものであればよい。このように、荷重点を支持点で挟み込む構成とすることにより、荷重によるモーメントの発生を抑制することができる。
【００４３】
以上説明したように、本実施例によれば、工具８０を複雑化せずに制御基板４３の取り付け面（外壁５２）を水平な状態で安定させて保持することができるので、重力方向にビス締め荷重を加えることが可能となる。したがって、制御基板４３をビスによって光学箱５０に組付ける際、ビスの直進性を向上させることができ、ビス締め荷重を加えることによる光学箱５０の回転又は倒れを防ぐことが可能となる。その結果、制御基板の組付け時、特に、ビス固定時の不良率低減が可能となる。
【００４４】
また、溝７１の位置を光学箱５０の重心位置と制御基板４３との間に設けることによって、ビス締め荷重を加えることによる光学走査装置の特性悪化を防ぐ効果もある。
【００４５】
また、光学箱５０の溝７１と工具８０のレール８１が、搬送用としても機能しているので、組立効率が向上しタクトの短縮が可能であるとともに、ひいてはコストの低減につながる。
【実施例２】
【００４６】
以下に、実施例２について説明する。
【００４７】
図７は、本実施例の光学走査装置３、及び、量産時における制御基板組立工具の一部を示す分解斜視図である。なお、本実施例の画像形成装置及び光学走査装置の機能は、上述した実施例１と同様であり、ここでは省略し、実施例１と異なる構成部分について説明する。
【００４８】
本実施例においては、光学箱５０の底面外壁５６ａに実施例１同様、溝７１が設けられており、これに加えてさらに、光学箱５０のうち底面５６に対向する開口側の端面（上面）５７に第２係合部としての溝（凹部）７２が設けられている。
【００４９】
一方、制御基板組立工具としては、実施例１で説明した、凸形状のレール８１を有する工具８０に加えてさらに、凸形状のレール（凸部）８２を有する工具（第２工具）が用いられる。
【００５０】
２本の溝７１，７２はそれぞれ、２本のレール８１，８２に係合（当接）した状態で搬送される。なお、図７での説明を分かりやすくするためレール８２を支持する工具は図示
しないものとする。
【００５１】
レーザ支持部材４２が高い精度で調整された後、接着固定された状態で、光学箱５０が工具の所定位置まで搬送されると、支持工具８３ａ，８３ｂ，８３ｃ，８３ｄによって光学箱５０が支持され、制御基板４３が光学箱５０の制御基板取り付け位置に配置される。続いて図示しないドライバでビス５４，５５が回され、制御基板４３が光学箱５０に固定される構成になっている。
【００５２】
ここで、溝７１，７２とレール８１，８２の関係は、光学箱５０の搬送を効率的に行うこと、及び、ビス締めを行う際、荷重を支えることの二つの役割を担っている。溝７１，７２にレール８１，８２が嵌まっているので、搬送方向以外の方向に対しては、自由度を持たない。
【００５３】
溝７１，７２は制御基板４３の基板面４３ａに対して平行に設けられているので、ビス締め荷重が加わる方向とビス締め荷重を支持するレール８１，８２の向きが垂直になる。従って、ビス締め荷重が加わることによる光学箱５０の回転または倒れを防ぎ、光学箱５０を安定した姿勢に保持することができる。
【００５４】
また、溝７１，７２は、制御基板４３がビス５４，５５によって光学箱に対して止められるビス止め位置（固定部（ビス穴）５０ａ，５０ｂ）の間隔よりも長く設けられている。これにより、ビス締め時の荷重点を図７のＸ方向に投影した領域を、溝７１，７２とレール８１，８２により構成される支持点で挟み込む構成とすることができるので、荷重によるモーメントの発生を抑制することができる。
【００５５】
したがって、光学箱５０をより安定した姿勢に保持しながら、搬送及びビス締めを行うことができる。
【００５６】
また、溝７１，７２は制御基板４３の基板面４３ａに対して平行に設けられているので、レール８１，８２が水平になるように工具設計することによって、レール８１，８２に溝７１，７２を嵌め合わせると自動的に制御基板４３は水平に保持されることになる。よって、工具を複雑化することなく、光学箱５０を必要な分だけ容易に回転させて、制御基板４３を水平に保持した状態で、重力方向にビス締め荷重を加えることができるため、ビスの直進性を向上させることができる。
【００５７】
本実施例では、光学箱５０の端面５７と底面５６にそれぞれ設けられた２本の溝７２，７１で光学箱５０を支持するので、より安定して搬送することが可能になる。
【００５８】
さらに、ビス締め荷重が加わることによる図７のＺ方向への倒れについても抑制することが可能となる。
【００５９】
また、本実施例では、２本の溝７１，７２を用い、光学箱５０を挟み込むように図７のＺ方向に対して光学箱５０の両側で光学箱５０を支持しているので、１本の溝で光学箱５０を支持する場合よりも、溝の深さを浅くすることが可能となる。これにより、溝を設けることによる光学箱５０の剛性低下や、設計上好ましくない振動モードの発生を抑制することができる。
【００６０】
また、本実施例では、光学箱５０に溝７１，７２を設け、工具に凸形状のレール８１，８２を設ける構成について説明したが、これに限るものではない。
すなわち、光学箱５０に、凸形状の係合部（レール等の凸部）を設け、工具に凹形状の溝を設ける構成でもよく、装置の仕様、設計与件によって適宜選択するとよい。
【００６１】
また、本実施例では、制御基板４３の光学箱５０に対するビス固定点を２点として説明したが、２点以上で固定されるものであってもよく、制御基板４３の回路パターンや、光学箱５０の取り付け位置を鑑みながら固定点数を決めるとよい。
【００６２】
また、本実施例では、第１，第２係合部として、ビス５４，５５のビス止め位置の間隔よりも長い溝７１，７２を光学箱５０に設けているが、これに限るものではない。第１，第２係合部としては、制御基板４３の基板面４３ａと平行な仮想面上に設けられ、かつ、制御基板４３が光学箱５０に固定される固定部５０ａ，５０ｂを基板面４３ａに直交する方向に投影した領域を挟む２箇所に少なくとも設けられるものであればよい。このように、荷重点を支持点で挟み込む構成とすることにより、荷重によるモーメントの発生を抑制することができる。
【００６３】
以上説明したように、本実施例によれば、工具を複雑化せずに制御基板４３の取り付け面（外壁５２）を水平な状態で安定させて保持することができるので、重力方向にビス締め荷重を加えることが可能となる。したがって、制御基板４３をビスによって光学箱５０に組付ける際、ビスの直進性を向上させることができ、ビス締め荷重を加えることによる光学箱５０の回転又は倒れを防ぐことが可能となる。その結果、制御基板の組付け時、特に、ビス固定時の不良率低減が可能となる。
【００６４】
また、ビス締め荷重を、図７のＺ方向において光学箱５０の両側、すなわち端面５７と底面５６で支持することにより、光学箱５０を、より安定した姿勢で保持することができる。その結果、ビス固定時の不良率低減が可能となる。また、光学箱５０の端面５７と底面５６の両方で支持することによって、深い溝を設けなくても安定した搬送が可能となる。
【００６５】
また、溝７１，７２の位置を図７のＸ方向において、光学箱５０（光学走査装置３）の重心位置と制御基板４３との間に設けるとよい。これにより、ビス締め荷重を加えることによって起こる光学箱５０の変形による光学走査装置３の特性悪化を防ぐことができる。
【００６６】
また、光学箱５０の溝７１，７２と工具のレール８１，８２が、搬送用としても機能しているので、組立効率が向上しタクトの短縮が可能であるとともに、ひいてはコストの低減につながる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】実施例１の光学走査装置の光学箱の底面を外側から見た斜視図である。
【図２】実施例１の光学走査装置及び制御基板組立工具の一部を示す分解斜視図である。
【図３】実施例１の光学走査装置及び制御基板組立工具の一部を示す図である。
【図４】実施例１の画像形成装置の概略構成を示す断面図である。
【図５】実施例１の光学走査装置の概略構成を示す斜視図である。
【図６】光学走査装置の光学箱の変形例を示す斜視図である。
【図７】実施例２の光学走査装置及び制御基板組立工具の一部を示す分解斜視図である。
【符号の説明】
【００６８】
３  光学走査装置
４１  半導体レーザ
４３  制御基板
４３ａ  基板面
４５  回転多面鏡
５０  光学箱
５０ａ，５０ｂ  固定部
５２  外壁
５６  底面（底部）
５６ａ  底面外壁
７１  溝
８０  工具
【図１】
0005031660.tif 000002
【図２】
0005031660.tif 000003
【図３】
0005031660.tif 000004
【図４】
0005031660.tif 000005
【図５】
0005031660.tif 000006
【図６】
0005031660.tif 000007
【図７】
0005031660.tif 000008