(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明高分子フィルムの一方の表面に下引き層、レジスト付着防止層をこの順に設け、反対面に粘着層を設けた表面保護フィルムであって、前記下引き層がメラミン系化合物を含有してなるものであり、前記レジスト付着防止層がシランカップリング剤を添加した付加反応型シリコーン組成物を硬化させてなるものであって、前記シランカップリング剤として分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分解物が含まれていることを特徴とする表面保護フィルム。
【請求項２】
前記付加反応型シリコーン組成物の反応主成分がメチルヘキセニル・ジメチルポリシロキサンであることを特徴とする請求項１記載の表面保護フィルム。
【請求項３】
前記アルコキシシラン加水分解物がγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランであることを特徴とする請求項１記載の表面保護フィルム。
【請求項４】
前記メラミン系化合物が、ヘキサメトキシメチルメラミンであることを特徴とする請求項１記載の表面保護フィルム。
【請求項５】
前記透明高分子フィルムの厚みが、４〜１２μｍであることを特徴とする請求項１記載の表面保護フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント基板用原稿などに用いる表面保護フィルムに関し、特にプリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォトレジストを露光する際の原稿（フォトマスク）の表面に好適に用いられる表面保護フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常、プリント配線板や樹脂凸版は、液状フォトレジストなどの粘着性のあるフォトレジストに露光用原稿を密着露光して作製される。かかる露光用原稿は、フォトレジストに密着して使用されるので、その表面に何らの処理も施さないと、露光終了後の原稿を剥がす際にフォトレジストの一部が原稿表面に残存してしまい、汚れを生じてしまう。このような事情から、従来より露光用原稿上のフォトレジストに対向する面に、表面にレジスト付着防止層を有する表面保護フィルムを設けるようにしている。
【０００３】
このようなフォトマスク用表面保護フィルムとしては、ポリエステル基材の片面に粘着層が、他面にレジスト付着防止層が設けられているものが提案されている（特開平１１−７１２１号等）。
【０００４】
そして、このような表面保護フィルムについては、使用に際してそのレジスト付着防止層の表面を定期的に溶剤によってクリーニング（拭き取り操作）することが行われるために、このようなクリーニング後においてもレジスト付着防止性が低下せずにレジストに対して離型持続性を保持していることが要求される。
【０００５】
そこで、本発明者らは、特開２０００−２７３４１２号において、レジスト付着防止層表面の溶剤によるクリーニング後においても、そのレジスト付着防止性が低下せずにレジストに対して離型持続性を有する表面保護フィルムを提案している。この特開２０００−２７３４１２号の表面保護フィルムにおいては、低級アルコール等の洗浄溶剤によるクリーニングに対してはレジスト付着防止性が低下せずにレジストに対してある程度離型持続性を高めることができた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、最近のフォトレジストの塗布方法としては、量産性を高めるために従来のスクリーン印刷からスプレーコートやカーテンコートという方法が取られるようになって来ている。そのためフォトレジスト中に含まれる溶剤の成分や含有量が変化してきており、そのフォトレジスト中に含まれる多価アルコールやその誘導体等からなる溶剤によって、レジスト付着防止層が徐々に侵されてしまい、その離型持続性が十分なものではなくなってしまった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであって、レジスト付着防止層表面が洗浄溶剤によるクリーニングよって侵されることがないと共にフォトレジスト中に含まれる多価アルコールやその誘導体等からなる溶剤によっても侵されることがないことにより、そのレジスト付着防止性が低下せずにレジストに対する極めて高い離型持続性を有する表面保護フィルムを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者らは、このような目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の化合物を含有する下引き層と、特定のシランカップリング剤を添加してなる特定のシリコーン組成物を硬化させたレジスト付着防止層を、透明高分子フィルム表面にこの順序に積層することによって、下引き層とレジスト付着防止層との接着性が極めて向上して、上記のような課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明の表面保護フィルムは、透明高分子フィルムの一方の表面に下引き層、レジスト付着防止層をこの順に設け、反対面に粘着層を設けた表面保護フィルムであって、前記下引き層がメラミン系化合物を含有してなるものであり、前記レジスト付着防止層がシランカップリング剤を添加した付加反応型シリコーン組成物を硬化させてなるものであって、前記シランカップリング剤として分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分解物が含まれていることを特徴とするものである。
【００１０】
また、本発明の表面保護フィルムは、前記付加反応型シリコーン組成物の反応主成分がメチルヘキセニル・ジメチルポリシロキサンであることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の表面保護フィルムは、前記アルコキシシラン加水分解物がγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランであることを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明の表面保護フィルムは、前記メラミン系化合物がヘキサメトキシメチルメラミンであることを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の表面保護フィルムは、前記透明高分子フィルムの厚みが４〜１２μｍであることを特徴とするものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の表面保護フィルムについて、詳細に説明する。
【００１５】
本発明の表面保護フィルムは、透明高分子フィルムの一方の表面に下引き層、レジスト付着防止層をこの順に設け、反対面に粘着層を設けたものである。
【００１６】
ここで使用される透明高分子フィルムとしては、露光の際に使われる紫外線の透過率の高いものであれば良く、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、アクリル、ポリ塩化ビニル等の透明性に優れる高分子フィルムが用いられる。特に二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが機械的強度、寸法安定性に優れているために好適に使用され、適宜易接着層等を設けたものも好適に使用される。透明高分子フィルムの厚みは、解像度に影響するため薄い方が好ましいが、取扱性も考慮して、１〜１００μｍ、好ましくは２〜２５μｍ、さらに望ましくは４〜１２μｍの範囲が好適に採用される。
【００１７】
次に透明高分子フィルムの一方の表面に設けられる下引き層は、メラミン系化合物を含有してなるものである。ここで下引き層は、メラミン系化合物を好ましくは１０重量％以上、より好ましくは２０重量％以上含有することによって、下引き層とレジスト付着防止層との接着性を向上させることができる。そのため下引き層には、そのメラミン系化合物の接着向上作用を阻害しない範囲で、メラミン系化合物以外にも他のバインダー樹脂等を含有させることができる。
【００１８】
ここで含有できる他のバインダー樹脂としては、メラミン系化合物の下引き層とレジスト付着防止層との接着向上作用を阻害しないものであれば特に限定されず、透明高分子フィルムとの接着性に優れるものを採用することができる。望ましくはメラミン系化合物と架橋硬化可能な樹脂を採用することが好ましい。このようにメラミン系化合物と架橋硬化可能な樹脂を含有させることにより、下引き層自体の耐溶剤性や下引き層と透明高分子フィルムとの接着性を調整することが容易になるという効果を奏することができるようになる。ここでメラミン系化合物と架橋硬化可能な樹脂としては、アクリル系樹脂、アルキド系樹脂、ポリエステル系樹脂などを挙げることができ、特に透明高分子フィルムに対する下引き層の接着性を向上させる観点からは、アクリル系樹脂を採用することが好ましい。ここで採用されるアクリル系樹脂としてはアクリル酸およびそのエステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸およびそのエステルなどの重合体および共重合体が挙げられ、特に末端にヒドロキシル基やカルボキシル基を有するアクリルポリオール樹脂等を採用することが好ましい。
【００１９】
次にメラミン系化合物とは、メラミン、メチロールメラミン若しくはその誘導体、又はこれらを縮合反応させるなどして得られるメラミン樹脂、等のメラミンを出発原料とする化合物のことを意味する。特に他のバインダー樹脂との架橋硬化の際に高い反応性を有する観点からは、メチロールメラミン若しくはその誘導体を採用することが好ましく、特にモノメチロールメラミンからヘキサメチロールメラミンまであるメチロールメラミンの中ではヘキサメチロールメラミンを採用することが好ましい。更にこのメチロールメラミンの誘導体としては、メチロールメラミンをアルキル化したアルコキシメチルメラミンが挙げられ、特に末端のアルキル基がメチル基であるメトキシメチルメラミン若しくはブチル基であるブトキシメチルメラミンを採用することが好ましく、中でもヘキサメトキシメチルメラミンを採用することにより他のバインダー樹脂との反応性を極めて向上させることができるので好ましい。
【００２０】
このように他のバインダー樹脂との反応性の高いメラミン系化合物を採用することで、下引き層自体の耐溶剤性や透明高分子フィルム及びレジスト付着防止層との接着性などの性能をより向上させ、レジストに対する離型持続性により優れたものにできる。
【００２１】
更に、メラミン系化合物の硬化温度を低くして、硬化速度を上昇させる作用として、下引き層に硬化触媒を含有させることが望ましい。そのような硬化触媒としては、例えば塩酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、シュウ酸、マレイン酸、ヘキサミン酸、ジメチル酸、ピロリン酸、フタル酸、アクリル酸等が挙げられ、特にｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸等のスルホン酸が好ましく用いられる。
【００２２】
また下引き層には、メラミン系化合物や他のバインダー樹脂の他にも、下引き層とレジスト付着防止層との接着向上作用を阻害しない範囲で、微粒子、可塑剤、酸化防止剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤などの各種の添加剤を含有させることが可能である。
【００２３】
特に、フォトマスク用の表面保護フィルムとしては、密着露光時の真空引きをし易くする観点から、表面保護フィルムのレジスト付着防止層側の表面に凹凸を設けることが好ましいため、下引き層に微粒子を含有させることで表面に凹凸を形成することが好ましい。この微粒子としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、カオリン、クレー、タルク等の体質顔料や、アクリル樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等の合成樹脂粒子等が使用でき、平均粒径で０．１〜５．０μｍのものが好ましく、より好適には０．５〜３．０μｍのものが使用される。
【００２４】
ここで下引き層の厚みとしては、基本的には限定されるものではないが、表面保護フィルムとしての厚みを薄くすることで密着露光の際の解像度を向上させる観点から、シリコーン系樹脂層及び透明高分子フィルムとの接着向上作用を低下させない範囲で、出来るだけ薄いことが好ましい。そこで具体的には０．０２〜４．０μｍ、望ましくは０．２〜２．０μｍの範囲が好適に採用される。
【００２５】
次に下引き層上に設けられるレジスト付着防止層は、シランカップリング剤を添加した付加反応型シリコーン組成物を硬化させてなるものである。
【００２６】
ここで付加反応型シリコーン組成物とは、反応主成分としてのジオルガノポリシロキサンに架橋剤として作用する成分を加え、必要に応じて溶剤等により希釈した組成物であって、下引き層上に塗布して加熱乾燥硬化させて積層することによって、レジスト付着防止層を形成するものである。
【００２７】
ここで付加反応型シリコーン組成物の反応主成分となるジオルガノポリシロキサンとしては、ケイ素原子に直結したビニル基若しくは高級アルケニル基がケイ素原子に直結したものが好適であり、メチルビニル・ジメチルポリシロキサン、メチルフェニル・メチルビニル・ジメチルポリシロキサン等のビニル基含有ジオルガノポリシロキサンや、メチルブテニル・ジメチルポリシロキサン、メチルオクテニル・ジメチルポリシロキサン、メチルへキセニル・ジメチルポリシロキサン等の炭素数４〜８程度の高級アルケニル基を有するジオルガノポリシロキサンが挙げられる。尚、特に厚みが４〜１２μｍの透明高分子フィルムのように耐熱性に乏しいものを採用する場合においては、比較的低温で十分にシリコーン組成物を付加反応させることができるようになるものとして、メチルへキセニル・ジメチルポリシロキサンを好適に採用することができる。これにより表面保護フィルムとしての平面性等を改善することができるようになる。
【００２８】
また付加反応型シリコーン組成物中に含まれる架橋剤として作用する成分としては、少なくとも１分子中に３個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。このケイ素原子に結合する水素原子以外の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基のような脂肪族飽和結合を有しない一価炭化水素基が挙げられる。そして、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、反応主成分であるジオルガノポリシロキサン１００重量部に対して０．５〜３０重量部の範囲が好適である。０．５重量部以上にすることにより、付加反応型シリコーン組成物の硬化を十分にすることができ、３０重量部以下にすることにより、レジスト付着防止層の経時的な劣化を抑制することができるようになる。
【００２９】
また、シリコーン系樹脂層を構成する付加反応型シリコーン組成物には、組成物の保存安定性を向上するためにアルキルアルコール、エンイン化合物等の付加反応制御剤等を加えることが有効である。また、付加反応型シリコーン組成物の架橋硬化を促進するためには、塩化白金酸等の白金化合物からなる白金触媒をこれら組成物に加えることが極めて有効である。
【００３０】
そして、本発明で下引き層とレジスト付着防止層との接着向上作用をもたらすためには、この付加反応型シリコーン組成物に添加するシランカップリング剤として分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分解物が含まれていることを必要とする。
【００３１】
即ち、付加反応型シリコーン組成物には、少なくとも分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分解物を含んでいればよいが、好ましくは付加反応型シリコーン組成物の固形分１００重量部に対して１重量部以上添加していることが望ましい。ここでこの分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分解物としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン等が挙げられ、特にγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランが好ましく採用される。
【００３２】
ここで何故、この分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分解物を付加反応型シリコーン組成物に添加することで、この付加反応型シリコーン組成物を硬化させてなるレジスト付着防止層とメラミン系化合物を含有してなる下引き層との接着性が向上するのかは明らかではない。しかし、何らかの作用によって付加反応型シリコーン組成物が付加反応することによって形成されるシリコーンポリマー中に当該アルコキシシラン加水分解物が取りこまれ、それと前後して当該アルコキシシラン加水分解物中のエポキシ基が開環することでヒドロキシル基が形成され、このヒドロキシル基が下引き層中のメラミン系化合物と反応することで化学的に結合して、両層を強固に接着させているものと考えられる。よってこのように両層が強固に接着することにより、レジスト付着防止層が失われる等によってレジスト付着防止性が低下するようなことがなく、レジストに対する離型持続性に極めて優れる表面保護フィルムを得ることができるようになるものと考えられる。
【００３３】
また、この付加反応型シリコーン組成物には、例えばγ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン等の、他のシランカップリング剤を併用することも適宜行い得る。
【００３４】
ここでレジスト付着防止層の厚みとしては、０．０５〜５．０μｍ、好ましくは０．１〜２．０μｍの範囲が採用される。特に、下引き層に微粒子を含有させて凹凸を形成した場合には、その凹凸を埋めない厚みに調整することが好ましい。
【００３５】
次に、透明高分子フィルムの下引き層やレジスト付着防止層が設けられる面とは反対の面に設けられる粘着層は、一般に使用されるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などが使用できる。また、帯電防止などの性能を持つ粘着剤を使用しても良い。この粘着層の厚みとしては、透明性（解像度）を阻害せず、適度な粘着性が得られるよう、０．５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ、さらに好ましくは２〜４μｍの範囲が採用される。また粘着層には、その粘着性によって表面保護フィルムの取り扱い性が低下しないようにするために、プラスチックフィルムや紙等の表面に離型処理を施した離型フィルムを貼り合わせることも適宜行い得る。
【００３６】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。尚、「部」「％」とあるのは特に断りのない限り重量基準である。
【００３７】
［実施例］
厚み６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ルミラー：東レ社）の一方の表面に下記組成の下引き層用塗工液ａとレジスト付着防止層用塗工液ｂを、反対面に下記組成の粘着層用塗工液をそれぞれ順次塗布し、加熱乾燥硬化させることにより、約０．５μｍの下引き層、約０．５μｍのレジスト付着防止層、約２μｍの粘着層を形成した。この際レジスト付着防止層の硬化温度は１００℃、１分で行った。また、粘着層の表面には取り扱い性を考慮して厚み２５μｍの離型フィルム（ＭＲＢ：三菱化学ポリエステルフィルム社）を貼り合わせて、表面保護フィルムとした。尚、下記下引き層用塗工液ａに使用しているアクリルポリオール樹脂のモノマー共重合比は、メタクリル酸メチル８３部、アクリル酸エチル８部、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル８部、メタクリル酸１部のものである。また、下記レジスト付着防止層用塗工液ｂに使用している付加反応型シリコーン組成物中のジオルガノポリシロキサンの主成分はメチルヘキセニル・ジメチルポリシロキサンである。
【００３８】
＜下引き層用塗工液ａ＞
・アクリルポリオール樹脂                  ３．５部
・ヘキサメトキシメチルメラミン（ニカラックMW-30M
：三和ケミカル社）                      １．５部
・ｐ−トルエンスルホン酸メタノール溶液（<固形分５
０％>）                                 ０．５部
・シリカ微粒子（サイリシア４３５：富士シリシア化学
社）                                    ０．３部
・メチルエチルケトン                    ９４．２部
【００３９】
＜レジスト付着防止層用塗工液ｂ＞
・付加反応型シリコーン組成物（LTC750A<固形分３０％
>:東レ・ダウコーニング・シリコーン社）    ８０部
・白金触媒（SRS212：東レ・ダウコーニング・シリコー
ン社）                                  ０．８部
・シランカップリング剤（γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、TSL8350:東芝シリコーン社）１部
・トルエン                            ４１８．２部
【００４０】
＜粘着層用塗工液＞
・アクリル酸エステル共重合体（アロンタックSCL-200
<固形分４０％>：東亞合成化学社）          １０部
・トルエン                                  １０部
・酢酸エチル                                １０部
【００４１】
［比較例１］
実施例の下引き層用塗工液ａを、下記組成の下引き層用塗工液ｃに変更した以外は実施例と同様にして表面保護フィルムを作製した。尚、下引き層用塗工液ｃに使用しているアクリルポリオール樹脂は実施例で使用しているアクリルポリオール樹脂と同じものである。
【００４２】
＜下引き層用塗工液ｃ＞
・アクリルポリオール樹脂                      ５部
・シリカ微粒子（サイリシア４３５：富士シリシア化学
社）                                    ０．３部
・メチルエチルケトン                    ９４．７部
【００４３】
［比較例２］
実施例のレジスト付着防止層用塗工液ｂを、下記組成のレジスト付着防止層用塗工液ｄに変更した以外は実施例と同様にして表面保護フィルムを作製した。
【００４４】
＜レジスト付着防止層用塗工液ｄ＞
・付加反応型シリコーン組成物（LTC750A<固形分３０％
>:東レ・ダウコーニング・シリコーン社）    ８０部
・白金触媒（SRS212：東レ・ダウコーニング・シリコー
ン社）                                  ０．８部
・トルエン                            ４１９．２部
【００４５】
［比較例３］
実施例のレジスト付着防止層用塗工液ｂを、下記組成のレジスト付着防止層用塗工液ｅに変更し、レジスト付着防止層の硬化温度を１３０℃、１分で行った以外は実施例と同様にして表面保護フィルムを作製した。尚、下記レジスト付着防止層用塗工液ｅに使用している付加反応型シリコーン組成物中のジオルガノポリシロキサンの主成分はメチルビニル・ジメチルポリシロキサンである。
【００４６】
＜レジスト付着防止層用塗工液ｅ＞
・付加反応型シリコーン組成物（KS847H<固形分３０％>
：信越化学工業社）                        ８０部
・白金触媒（CAT-PL-50T：信越化学工業社）  ０．８部
・シランカップリング剤（γ−（２−アミノエチル）ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、TSL8340：東芝シ
リコーン社）                                １部
・トルエン                            ４１８．２部
【００４７】
以上のようにして実施例及び比較例１〜３で得られた表面保護フィルムについて、以下のようにして離型持続性の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００４８】
［離型持続性の評価］
レジスト付着防止層の離型持続性を確認するため、レジスト付着防止層の表面を、エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）を用いて、それぞれ１０回、５０回、２００回拭き取り操作を行った後について、粘着テープ（ニットーポリエステル３１ｂ：日東電工社）をレジスト付着防止層の表面に貼り合わせ、剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎにおける１８０°剥離力の測定を行った。この際に剥離力が、１ｇ／２５．４ｍｍ〜３０ｇ／２５．４ｍｍであったものを「○」、３０ｇ／２５．４ｍｍ以上であったものを「×」とした。
【００４９】
【表１】
0004891500.tif 000002
【００５０】
表１の結果からも明らかなように、実施例の表面保護フィルムは、レジスト付着防止層の表面をクリーニングするために使用されるような低級アルコールであるエタノールに対しての耐性に優れるのみならず、フォトレジスト中に含まれるような多価アルコールであるプロピレングリコールモノメチルエーテルに対しての耐性にも優れ、極めて離型持続性に優れるものであった。
【００５１】
一方、比較例１の表面保護フィルムは、下引き層にメラミン系化合物を含有しておらず、下引き層とレジスト付着防止層との接着性が低いと考えられるため、エタノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテルに対する耐性に乏しく、離型持続性に劣るものであった。
【００５２】
また、比較例２の表面保護フィルムは、レジスト付着防止層にシランカップリング剤を添加しておらず、下引き層とレジスト付着防止層との接着性が低いと考えられるため、プロピレングリコールモノメチルエーテルに対する耐性に乏しく、離型持続性に劣るものであった。
【００５３】
また、比較例３の表面保護フィルムは、レジスト付着防止層に添加したシランカップリング剤として分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分解物を含まずに、下引き層とレジスト付着防止層との接着性が低いと考えられるため、エタノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテルに対する耐性に乏しく、離型持続性に劣るものであった。また、レジスト付着防止層を形成した付加反応型シリコーン組成物のジオルガノポリシロキサンがメチルヘキセニル・ジメチルポリシロキサンではないために加熱硬化温度を高くしたため、表面保護フィルムとしての平面性が損なわれるものであった。
【００５４】
【発明の効果】
本発明の表面保護フィルムによれば、レジスト付着防止層表面が洗浄溶剤によるクリーニングよって侵されることがないと共にフォトレジスト中に含まれる多価アルコールやその誘導体等からなる溶剤によっても侵されることがないことにより、そのレジスト付着防止性が低下せずにレジストに対する極めて高い離型持続性を有する表面保護フィルムを提供することができるようになる。