(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント配線用の基板を載置する露光テーブルと、
該露光テーブルに基板を搬送する搬送装置と、
該搬送装置に設けられ、前記基板を前記露光テーブルに押しつけて変形基板を矯正する昇降可能なプレートと、
前記テーブルとプレートとの間を密閉し、密閉空間を形成するシール装置と、
前記シール装置により形成された密閉空間を吸引して負圧にする吸引装置と、を備え、
前記プレートは前記密閉空間の負圧により下降して前記基板を前記露光テーブルに押しつけて基板を矯正する、
ことを特徴とする基板の露光装置。
【請求項２】
前記プレートに基板を保持するための吸引装置が設けられ、
前記搬送装置は、該吸引装置に基板を保持して基板の搬送を行う、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
基板を載置するテーブルと、
該テーブルに基板を搬送する搬送装置と、
該搬送装置に設けられ、前記基板を前記テーブルに押しつけて変形基板を矯正する昇降可能なプレートと、
前記テーブルとプレートとの間を密閉し、密閉空間を形成するシール装置と、
前記シール装置により形成された密閉空間を吸引して負圧にする吸引装置と、を備え、
前記プレートは前記密閉空間の負圧により下降して前記基板を前記テーブルに押しつけて基板を矯正する、
ことを特徴とする基板の矯正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、露光装置及び基板の矯正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板を製造する露光装置において、基板搬送装置より搬送された基板を位置決め用の露光テーブルに載置し、吸引固定して露光する構成が採用されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３７００３７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、プリント配線用の基板は、半導体ウエーハ等に比べて反りや歪み等の基板変形が発生しやすく且つ変形量も大きく、露光テーブルとの間に隙間が発生し、その結果吸引のリークが生じて吸着が不完全或いは困難になる問題があった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明の露光装置は、プリント配線用の基板を載置する露光テーブルと、該露光テーブルに基板を搬送する搬送装置と、該搬送装置に設けられ、前記基板を前記露光テーブルに押しつけて変形基板を矯正する昇降可能なプレートと、前記テーブルとプレートとの間を密閉し、密閉空間を形成するシール装置と、前記シール装置により形成された密閉空間を吸引して負圧にする吸引装置と、を備え、前記プレートは前記密閉空間の負圧により下降して前記基板を前記露光テーブルに押しつけて基板を矯正する、ことを特徴とする。
また本発明の基板の矯正装置は、基板を載置するテーブルと、該テーブルに基板を搬送する搬送装置と、該搬送装置に設けられ、前記基板を前記テーブルに押しつけて変形基板を矯正する昇降可能なプレートと、前記テーブルとプレートとの間を密閉し、密閉空間を形成するシール装置と、前記シール装置により形成された密閉空間を吸引して負圧にする吸引装置と、を備え、前記プレートは前記密閉空間の負圧により下降して前記基板を前記テーブルに押しつけて基板を矯正する、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の露光装置及び矯正装置によれば、密閉空間を作って真空密着によりプレートを介して基板をテーブルに押しつけるため、強力な荷重をかけることが出来、基板が厚板で強い反力のある変形も矯正することができる。そのため露光装置にあっては、基板吸着時のリークを防止し、効率的な露光を行うことができる。
しかも、大きな荷重をかけるために大型の装置を必要とせず、装置の小型化が実現できる。
また、プレートの大きさを適用する最大の基板サイズに合わせておけば、基板サイズに関係なく、基板をエッジ部まで確実に挟み込み、基板全面へ均等な荷重をかけることが可能である、等の効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下本発明のプリント配線基板用の露光装置の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１において、露光テーブル１は露光すべき被露光対象であるプリント配線用の基板９９を載置し、該基板９９に対して光源５０、マスク５１，投影レンズ５２により露光が行われる。露光テーブル１は駆動装置（図示せず）により、ＸＹＺ方向移動可能であり、且つθ方向に回転可能になっている。
【０００８】
露光テーブル１には吸引孔１０が設けられており、吸引ポンプ１１により基板９９を吸引して固定するように構成されている。吸引ポンプ１１には圧力センサ１２が設けられており、吸引圧力を検出して、吸引が正常に行われているか否か検出できるようになっている。
【０００９】
露光テーブル１の入り側には搬送装置２が設けられており、搬入コンベア５３により前工程から搬送されてきた基板９９を露光テーブル１上に載置するように構成されている。
【００１０】
搬送装置２は、プレート２０を有し、このプレート２０は昇降ガイド２５により上下方向昇降自由に保持されている。プレート２０には保持吸引孔２１が設けられ、保持吸引ポンプ２２により基板９９を吸引し、吊り上げて保持するように構成されている。
プレート２０の周囲にはパッキン３が設けられており、露光テーブル１に接触して、露光テーブル１と吸引孔１０との間に密閉空間９０を形成できるようになっている。
パッキン３はパッキンポンプ３１により伸縮可能になっており、パッキン３に空気が充填されたときに膨らんでパッキンとして機能するようになっている。
【００１１】
搬送装置２のプレート２０には、更にパッキン３の内側に真空吸引孔４０が設けられ、真空ポンプ４に連通している。この真空ポンプ４の吸引により前記した密閉空間９０を吸引してほぼ真空に近い状態まで密閉空間９０内圧を低下させることが出来るように構成されている。
なお、２’は搬出用の搬送装置、５４は搬出コンベアである。
【００１２】
制御装置５は露光装置全体の制御を行っており、前記露光テーブル１、保持吸引ポンプ２２、パッキンポンプ３１、真空ポンプ４、吸引ポンプ１１も制御装置５により制御されている。
【００１３】
図２により動作を説明する。
搬送装置２が搬入コンベア５３より基板９９を受け取り、保持吸引孔２１と保持吸引ポンプ２２により吸引保持し、露光テーブル１に搬送する。（ａ）
次に露光テーブル１が基板９９を受け取るため上昇し、プレート２０を押し上げる位置まで上昇したら、吸引孔１０と吸引ポンプ１１により基板９９を吸引して基板吸着を行う。同時に保持吸引ポンプ２２からブローして搬送装置２による保持を解く。（ｂ）
【００１４】
基板９９が変形している場合、基板９９と露光テーブル１の間に隙間が出来、吸引ポンプ１１による吸引の基板吸着圧力が上がらない。これを制御装置５が圧力センサ１２からの検出信号により検出し、パッキン３に正圧をかけ伸張させ、露光テーブル１と接触させて密閉空間９０を生成する。（ｃ）
【００１５】
次に、保持吸引ポンプ２２のブローを停止し、真空吸引孔４０と真空ポンプ４により密閉空間９０を吸引し、密閉空間９０内を真空に近い状態にする。プレート２０は昇降ガイド２５により上下方向昇降自由であるから、大気圧によりプレート２０は押圧され、プレート２０と露光テーブル１により基板９９に荷重をかけ、基板９９を矯正する。（ｄ）
基板９９は真空圧力により大きな荷重を掛けられるため、効果的に変形が矯正される。
【００１６】
基板９９の変形が矯正され、リークが解消されると吸引ポンプ１１による基板吸着が正常に行われる。圧力センサ１２からの吸着圧力が所定の設定値に達したら、真空ポンプ４を停止し、パッキン３を収縮させて密閉空間９０を開放し、露光テーブル１を下降させる。そして搬送装置２を搬入コンベア５３上に退避させる。その後位置合わせなどを行い、露光を実行する。（ｅ）
【００１７】
次に図３により制御装置５の動作を説明する。
搬送装置２が基板９９を露光テーブル１に搬送し、載置すると（ステップＳ１）、吸引ポンプ１１を稼働して基板９９を吸引して基板吸着を行う（ステップＳ２）。圧力センサ１２からの検出圧力をチェックし、所定値以上であれば、吸着が正常に行われていると判断し、ステップＳ７に飛び露光動作を行う（ステップＳ３）。検出圧力が所定値に達していない場合、吸着が正常に行われていないと判断し、パッキンポンプ３１を稼働しパッキン３に正圧をかけて膨張させ、密閉空間９０を生成させ（ステップＳ４）、プレート２０により基板９９に荷重をかけ、基板９９を矯正する（ステップＳ５）。基板９９が矯正され、正常な吸着が行われ、圧力センサ１２からの検出圧力が所定の設定値に達したら（ステップＳ６）、真空ポンプ４を停止し、搬送装置２を退避させ、露光処理を実行する（ステップＳ７）。
【００１８】
なお、上記では本発明を露光装置に提供した場合について説明したが、基板９９を変形を矯正する矯正装置として実現することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態の動作を示す説明図。
【図３】本発明の一実施形態の動作を示すフローチャート図。
【符号の説明】
【００２０】
１：露光テーブル、２：搬送装置、３：パッキン、４：真空ポンプ、５：制御装置、１０：吸引孔、１１：吸引ポンプ、１２：圧力センサ、２０：プレート、２１：保持吸引孔、２２：保持吸引ポンプ、２５：昇降ガイド、３０：真空ポンプ、３１：パッキンポンプ、４０：真空吸引孔、５０：光源、５１：マスク、５２：投影レンズ、５３：搬入コンベア、５４：搬出コンベア、９０：密閉空間、９９：基板。
【図１】
0004949195.tif 000002
【図２】
0004949195.tif 000003
【図３】
0004949195.tif 000004