(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板および第２基板の間に挟持された液晶層と、液晶層の厚みを制御する非導電性材料からなるストライプ状厚み制御素子とを備えた液晶セルであって、前記厚み制御素子が第１基板に形成された第１スペーサーと、第２基板に形成された第２スペーサーを含み、両スペーサーは、その底部において、前記第１及び前記第２基板のそれぞれで透明電極間に当該透明電極間距離より幅広に形成され、両スペーサーが交差部で当接して液晶層の厚みを制御し、両スペーサは可視領域において透過率が１％以下であることを特徴とする液晶セルと、
偏光板と
を備えた垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤ。
【請求項２】
前記スペーサーが多層構造のスペーサーを含み、多層構造スペーサーにおいて、基板側スペーサー層の上に形成する反対基板側スペーサー層は、基板側スペーサー層上面の幅よりも狭い底面と、当該反対基板側スペーサー層底面より狭い上面とを備え、最も基板側のスペーサー層を低透過率としたことを特徴とする請求項１に記載の垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤ。
【請求項３】
前記反対基板側スペーサー層底面の幅／前記基板側スペーサー層上面の幅の比率が１／２以下である請求項２記載の垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤ。
【請求項４】
前記垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤが単純ドットマトリクス型もしくはアクティブドットマトリクス型であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はスペーサー機能を有する液晶表示装置に関し、特に垂直配向型ＥＣＢモード液晶表示装置に好適な、液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来使用されている液晶表示装置では、一般に透明電極を形成した２枚のガラス基板間に液晶を挟持しており、そのギャップを制御するスペーサーとしてガラスもしくはプラスチックからなる球状もしくは円柱状または繊維状のスペーサーを用いている。これらのスペーサーは、一般に配向処理を施した電極基板上に散布して配置した後に他方の基板と貼り合せ、その後に液晶を注入して液晶表示装置を作成する。
図８は、垂直配向型ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード液晶表示装置（ＥＣＢ−ＬＣＤ）９０の一例を示す。垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤ９０は、誘電率異方性が負の液晶層９５を一対のガラス基板９３で挟持した液晶セル９８と、該液晶セルの外側に配置した一対の偏光板９１とからなる。
【０００３】
電圧無印加時においては図８（ａ）に示すように液晶分子９６が上下基板９３に対して垂直に配向している。このため、基板面内方向においては光学的な異方性がなく、偏光軸を直交させて配置する直交ニコル配置の偏光板により挟持することにより、直交偏光板の黒レベルがそのまま得られ、高いコントラストの表示が得られ易い。一方、斜め入射の光に対しては光学的異方性を示すため、光漏れが発生する。そこで、負の（一軸性）屈折率異方性を有する光学補償板９２を設けることにより、液晶層９５の光学的異方性を補償して黒表示の視角補償を実施している。
駆動用電源９７から電圧を印加すると、はじめに液晶セルの上下の基板間の中央部の液晶分子から倒れはじめ、それと共に液晶層のリターデーションが変化して透過率が上昇する。なお、図８において９４は垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤの液晶層を制御するための透明電極および垂直配向膜を示し、上記したスペーサーは省略している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤにおいてもギャップを制御するスペーサーとしてガラスもしくはプラスチックからなる球状もしくは円柱状または繊維状のスペーサーを液晶セル９８内全面に略均一に分散している。したがって、表示画素内にスペーサーが存在する。表示画素内にスペーサーが存在すると、スペーサーを起点としてブラッククロスが発生し、特に基板法線方向から水平方向に視角を振った場合に表示の均一性が目立って悪くなる。なお、ブラッククロスとは、有効画素内における電圧印加時の暗部、すなわち液晶分子配向が偏光板偏光軸と平行または直交になっている表示欠陥をいう。
【０００５】
ところで、このような垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤは、画素電極を形成して表示を得た場合に上下基板に形成した電極が交差する表示領域の電極形状の相違により斜め電界が発生し、表示領域周辺の液晶分子はこの斜め電界に従って傾きを示す。そこで、本出願人による特願平２−５７７８３号のように、この性質を積極的に利用してドットマトリクス表示の各表示画素の電極内にスリットを形成し、斜め電界による液晶分子の配向を利用して各画素内を主に４分割したマルチドメインを形成して視角を広げた液晶表示装置も提案されている。マルチドメイン化することで視野角を広げることができたが、画素端部において斜め電界の影響による黒レベルの低下が生じる。
【０００６】
また、各画素内において均一な配向を示す配向処理ではなく、各画素内において異なる配向方向のベクトルを持ってマルチドメイン化する液晶表示装置も提案されている。
しかし、このようなマルチドメイン化した垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤにおいては、逆に閾値電圧付近で画素エッジ付近から配向変形が発生し、これが高ｄｕｔｙマルチプレックス駆動時における黒レベル上昇の主要因となる。
【０００７】
図９は一方の基板側の電極（図において画素中央部）に２０μｍφの円形スリットを形成して上記した斜め電界による影響を利用してマルチドメイン化した垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤの単純ドットマトリクス電極の交差部を観察したものである。（ａ）〜（ｃ）は垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤの偏光顕微鏡観察結果であり、（ｂ）においてはスペーサーにより配向が乱れてスペーサーを起点としたブラッククロスが発生している。また、（ａ）は良好なマルチドメイン配向を呈しているものの、偏光状態を変えて観察すると（ｃ）のようなスペーサーに起因する黒点が観察される。
このように、スペーサーに起因する表示画素均一性と、光漏れという問題があった。
【０００８】
本発明は、以上の点から、簡単な構成により、表示画素内の表示品位の均一性を向上させた液晶セルを提供することを目的としている。また、電圧無印加時において黒表示を実施した際に、光漏れの発生しにくいようにした液晶表示装置を提供すること、良好なマルチドメイン配向が得られる液晶表示装置を提供することを他の目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、本発明の第一の態様によれば、第１基板および第２基板の間に挟持された液晶層と、液晶層の厚みを制御する非導電性材料からなるストライプ状厚み制御素子とを備えた液晶セルであって、前記厚み制御素子が第１基板に形成された第１スペーサーと、第２基板に形成された第２スペーサーを含み、両スペーサーは、その底部において、前記第１及び前記第２基板のそれぞれで透明電極間に当該透明電極間距離より幅広に形成され、両スペーサーが交差部で当接して液晶層の厚みを制御し、両スペーサは可視領域において透過率が１％以下であることを特徴とする液晶セルと、偏光板とを備えた垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤ、により達成される。
【００１０】
この第一の態様では、両基板内面にスペーサー層を設けたことにより、液晶層の厚みは第１スペーサー＋第２スペーサーの厚みに制御されるので、別途スペーサーを散布することなく、液晶セル全体の厚みを均一に且つ容易に制御することができる。また、従来のような散布したスペーサーによって表れるブラッククロスが発生しないので表示品位を向上させることができ得る。さらに、第１スペーサーもしくは第２スペーサーは存在するが他方のスペーサーと当接しない箇所においては、何れか一方のスペーサーが存在するものの他方のスペーサー分の高さの隙間が空いており液晶分子を液晶セル内に注入することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好適な実施形態を図１乃至図７を参照しながら、詳細に説明する。  図１、図２および図３は本発明による液晶表示装置の一実施形態として、単純マトリクスとした垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤの液晶セルを示している。液晶セル１０は、ストライプ状のＩＴＯ透明電極からなる行電極８を形成した第１ガラス基板１と同じくストライプ状のＩＴＯ透明電極からなる列電極９を形成した第２ガラス基板２を、行電極８と列電極９が直交して対向配設するようにして重ねシール５にて周辺部を貼り合わせてなる。また、両基板１，２間には液晶層６が挟持され、基板１，２の液晶層と接する表面には図示しない垂直配向膜を形成する等の配向処理を施して液晶分子７が電圧無印加状態において垂直に配向するようにしている。
【００１５】
第１ガラス基板１および第２ガラス基板２は透光性の基板ならばガラスに限らずプラスチック等でも良く、ＳｉＯ２アンダーコートが施されたガラス基板が好ましい。行電極８および列電極９は、互いが交差する箇所の液晶分子を駆動制御するもので、ＩＴＯ以外の他の透明電極材料であっても構わないし、また非透光性の電極材料を併設していても良い。また、その表面には５００オングストローム程度の垂直配向膜を塗布する配向処理を施すことが好ましい。液晶層６は垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤの液晶セルとするために誘電率異方性が負の液晶材料、例えばメルクジャパン社製のＳＬＭ４３０２をｄ／ｐ＝０の条件で配設する。
【００１６】
以上の構成は、従来の垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤの液晶セルと同様の構成であるが、本発明実施形態における液晶セル１０においては、以下の点で異なる構成となっている。
即ち、上記液晶セル１０の基板間距離を制御するために、従来の液晶セルにおいてはガラスもしくはプラスチックからなる球状もしくは円柱状または繊維状のスペーサーを配向処理を施した電極基板上に散布して配置しており、液晶層７と同一厚みのスペーサーが液晶セル１０の全面に略均一に分散しているが、本発明実施形態においては、第１ガラス基板１の内面側に第１基板スペーサー３を形成し、第２ガラス基板内面に同様に第２スペーサー４を形成し、第１スペーサー３と第２スペーサー４とが液晶セル１０の全面で略均一の割合で、両スペーサー３，４が交差する構成としている。
【００１７】
具体的には、図１に示したように第１ガラス基板１の行電極８間には非導電性の第１スペーサー３がストライプ状に形成されており、第２ガラス基板２の列電極９間にも非導電性の第２スペーサー４がストライプ状に形成されている。これにより、液晶セル１０内にて両スペーサーが交差する箇所においては、図２に示したように第１スペーサー３と第２スペーサー４とが重ね合わさって液晶セル１０のギャップを制御する。なお、両スペーサーが交差しない箇所においては図３に示したように第１スペーサー３と第２スペーサー４とが交差しないので、第２スペーサー４（または第１スペーサー３）が他方の基板１（または基板２）に当接することはない。
【００１８】
スペーサー３，４は、非導電性材料からなり所望の箇所に選択的に設けることが可能な様々なものを用いることができる。例えば紫外線により重合する性質を有する感光性樹脂を用いてスペーサーを作成する場合には、ストライプ状の電極を形成したガラス基板の表面にスピンナー等により被膜を形成し、その後、露光、現像工程を経てストライプ状のスペーサーを形成することができ得る。ＳｉＯ２などの非感光性材料を用いてスペーサーを作成する場合には、ストライプ状の開口を設けた真空成膜マスクを用いてＳｉＯ２を真空蒸着する等の手段により形成することができ得る。
また、スペーサーの形状はストライプ状のものに限るものでもないし、単純ドットマトリクスの液晶表示装置に限るものでもない。例えば第１ガラス基板としてＴＦＴスイッチング素子と該素子に接続する多数の矩形表示画素とそのゲートまたはソース電極ライン上に点在するように設けた第１スペーサーとを備えた基板を用い、第２ガラス基板として各画素に対応したカラーフィルターとその画素間に形成した金属ブラックマスクと上記金属ブラックマスク上に各画素のカラーフィルターを囲むようにして設けた函状の第２スペーサーを備えた基板を用いて液晶セルを作製してもよい。
【００１９】
本発明実施形態による液晶セル１０は、以上のように構成されており、対向する基板の各々の内面に形成した第１スペーサー３と第２スペーサー４とが交差することにより所望の液晶セルギャップが得られるものとされており、別体に散布するスペーサーが不要となる。
また、別体に散布するスペーサーが不要となるので、表示画素内において別体に散布したスペーサーに起因する配向不良、非駆動箇所がなくなり、その分開口率を高めることができ得るし、コントラストを向上させることもでき得るようになる。また、ブラッククロスも発生しなくなり、表示画素の均一性が向上し、表示品位が良くなる。
【００２０】
しかし、上記した液晶セル１０を感光性樹脂スペーサー３，４を用いて作成した場合において、従来よりは少ないものの新たな光漏れが観察された。図４はストライプ状とした行電極８を形成した第１ガラス基板およびストライプ状とした行電極９を形成した第２ガラス基板の夫々の表面にアクリル系の有機材料からなる感光性樹脂を用いて、厚みを変えて第１スペーサー３および第２スペーサー４を形成した基板を作成し、第１ガラス基板および第２ガラス基板を対向させてその周辺部をシール５にて貼り合せ、その後に液晶層７を注入して封止した液晶セル１０に、偏光板をクロスニコル配置にて設けた液晶表示装置を電圧無印加状態で観察したものである。（ｃ）が第１スペーサー３および第２スペーサー４の各々の厚みを２．７μｍとした液晶表示装置で液晶層の厚みが約５．４μｍ。（ｂ）が第１スペーサー３および第２スペーサー４の各々の厚みを２．１μｍとした液晶表示装置で液晶層の厚みが約４．２μｍ。（ａ）が第１スペーサー３および第２スペーサー４の各々の厚みを１．７μｍとした液晶表示装置で液晶層の厚みが約３．４μｍの単純ドットマトリクスとした垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤである。
【００２１】
図４の（ａ），（ｂ），（ｃ）からわかるように、液晶表示装置の各画素内においては従来のようなスペーサーが存在しないので光漏れは見られず、各画素内の均一性は良好である。しかしながら、各画素の境界、即ち、第１スペーサー３および第２スペーサー４と各画素との境界部において光漏れが観察された。光漏れの度合いは膜厚の厚い（ａ）が大きく、（ｂ），（ｃ）と薄くなるにしたがって少なくなるものの光漏れはなくならない。膜厚を薄くすることで目立ちにくくなる傾向を示したものの、所定のリターデーションの値を得るために膜厚を制御しようとすると光漏れ度合いも変化し、リターデーションの違いにより光漏れが異なる。
【００２２】
この原因について考察したところ、スペーサー形状がテーパー状断面を有していることが形状観察（外観顕微鏡観察および断面顕微鏡観察）および測定から判明した。図５は図４の各スペーサーの形状を触針式表面粗さ測定機（ＤＥＫＴＡＫ社製  ３０３０、触針先端半径０．３μｍ）にて測定した結果で、第１もしくは第２スペーサーは（ａ）（ｂ）（ｃ）の順に各々２．７μｍ、２．１μｍ、１．７μｍの高さを有し、側面がテーパー形状をなしている。液晶セル内における液晶分子の配向状態を光学顕微鏡等で観察したところ、第１スペーサーもしくは第２スペーサーに接する領域の液晶分子７ａがスペーサー側面のテーパーに沿って傾斜し、これにより光漏れが発生していると考えられる。従来の散布するスペーサーを用いた液晶表示装置においては、スペーサー形状が球状もしくは円柱状をなしていたのでかかる現象が目立たなかったが、テーパー側面の本発明実施形態においては、かかる問題が顕著に表れたものと推定される。
【００２３】
そこで、かかる問題を解決するために、第１スペーサーおよび第２スペーサーの各々を２層構造スペーサーとして液晶セルを作成した。図６は、２層構造スペーサーを採用した第２の実施形態の液晶セル２０を表すもので、先の実施形態と同一の構成については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
液晶セル２０は、ストライプ状のＩＴＯ透明電極からなる行電極８を形成した第１ガラス基板１と同じくストライプ状のＩＴＯ透明電極からなる列電極９を形成した第２ガラス基板２を、行電極８と列電極９が直交して対向配設するようにして重ねシール５にて周辺部を貼り合わせてなり、両基板１，２間には液晶層２６が挟持されている。また、基板１，２の液晶層と接する表面には図示しない垂直配向膜を形成する等の配向処理を施して液晶分子２７が電圧無印加状態において垂直に配向するようになされている。
【００２４】
ここまでの構成は先の実施形態と同様の構成であるが、本発明の第２の実施形態における液晶セル１０においては、以下の点で異なる構成となっている。
即ち、上記液晶セル２０の第１基板スペーサー２３が、基板側スペーサー層２３ａとその上面の幅よりも幅を狭めた反対基板側スペーサー層２３ｂの２層構造とされ、同様に第２ガラス基板内面に形成した第２スペーサー２４も基板側スペーサー層２４ａとその上面の幅よりも幅を狭めた反対基板側スペーサー層２４ｂの２層構造とした構成としている。
【００２５】
このような液晶セル２０を用いた液晶表示装置においては、基板側スペーサー層２３ａ，２４ａに接する領域の液晶分子２７ａは実施例１と同様に基板側スペーサー層２３ａ，２４ａのテーパー側面に沿って傾斜し、反対基板側スペーサー層２３ｂ，２４ｂに接する領域の液晶分子２７ｂも同様に反対基板側スペーサー層２３ｂ，２４ｂのテーパー側面に沿って傾斜する。このとき、反対基板側スペーサー層２３ｂ，２４ｂは基板側スペーサー層２３ａ，２４ａよりも狭まった幅とされているので、反対基板側スペーサー層２３ｂ，２４ｂは基板側スペーサー層２３ａ，２４ａの影に位置することになり殆ど観察されなくなる。したがって、観察され得る傾斜液晶分子の総量が減少し、光り漏れが低減する。
【００２６】
上記した実施形態の構成の液晶セル１０、２０は、例えば以下の方法により作成する。
（実施例１）
基板準備工程：１５０×１５０×１．１ｍｍのＳｉＯ２アンダーコートを施したガラス基板にシート抵抗１０ΩのＩＴＯをストライプ状（３３０μｍピッチ、ストライプ間距離２０μｍ）にパターニング形成して電極８，９を形成して第１ガラス基板１および第２ガラス基板２を準備した。
スペーサー形成工程：基板準備工程を終えた第１および第２ガラス基板上にスピンナーにて富士フィルムオーリン製の顔料分散ネガレジストＣＫ−６０２０Ｌの塗膜を形成し、マスク露光を施してパターニングし、各々の基板表面に２．５μｍの第１スペーサー３および第２スペーサー４を形成した。なお、該スペーサーを触針式表面粗さ測定機において形状の測定を実施したところ基板と接する底面の幅が約４０μｍ、上面の幅が約２０μｍの台形形状をなしテーパーの側面を備えていた。また、該スペーサーは７００ｎｍ近傍で数％の透過率を示すものの可視領域において１％以下の透過率の良好な遮光性を示していた。
液晶セル形成工程：スペーサー形成工程を終えた両基板上に垂直配向膜をフレキソ印刷機を用いて約５００オングストロームの厚みで形成し、第１ガラス基板１と第２ガラス基板２とを行電極８と列電極９とが交差するようにして重ね合せ、周辺をシリカボールスペーサーを混入したシール剤にて接着固定した。その後真空注入法により誘電率が負の液晶を注入してｄ／ｐ＝０、厚み５μｍの液晶層７を設けて、液晶セル１０を作成した。
【００２７】
（実施例２）
基板準備工程および液晶セル形成工程を実施例１と同一として液晶セル２０を作成し、スペーサー形成工程は次のようにして２層構造のスペーサー層とした。
スペーサー形成工程：基板準備工程を終えた第１ガラス基板１および第２ガラス基板２上にスピンナーにて富士フィルムオーリン製のカーボン系ネガレジストＣＫ−Ａ０２９の塗膜を形成し、マスク露光を施してパターニングし、各々の基板表面に１．２μｍの基板側スペーサー層２３ａ、２４ａを形成した。更にその上にスピンナーにてＪＳＲ製オプトマーＮＮ７００の塗膜を形成し、マスク露光を施してパターニングを実施し、各々の基板の基板側スペーサー２３ａ，２４ａ表面上に２．０μｍの反対基板側スペーサー層２３ｂ、２４ｂを形成した。なお、該スペーサーを触針式表面粗さ測定機において形状の測定を実施したところ、基板側スペーサー２３ａ，２４ａは基板と接する側の底面の幅が約４０μｍ、上面の幅が約３０μｍの台形形状をなし、反対基板側スペーサー２３ｂ，２４ｂは底面の幅が約２０μｍ、上面の幅が約１５μｍの台形形状をなし、夫々テーパーの側面を備えていた。また、基板側スペーサーは可視領域において０．２％以下の透過率であり高い遮光性を示していた。
【００２８】
図７（ａ），（ｂ）は、実施例１、実施例２の夫々の液晶セル１０、２０について電圧無印加時の画素領域をクロスクコル配置にて偏光顕微鏡観察した結果である。（ａ）からわかるように、液晶セル１０においてはスペーサーエッジに沿って光漏れが観察される。スペーサー材料は遮光性を示すので、テーパー側面により観察される光漏れは遮光性を示さない材料を用いてスペーサーを形成した場合に比べて、視角を振ったとき等の光漏れが目立ちにくくなっているものの光漏れが生じる。一方、（ｂ）に示したように２層構造のスペーサーとした実施例２においては、光漏れが殆ど観察されない。一部領域において僅かな光漏れが生じているが、２層構造スペーサーを形成する際のパターニング性が悪かったために生じているものと推定される。
反対基板側スペーサー層２３ｂ，２４ｂを基板側スペーサー層２３ａ，２４ａに対し十分に小さく、具体的には基板反対側スペーサー層底面の幅／基板側スペーサー層の上面幅の比率が１／２以下、好ましくは２／５〜１／１０程度にすると光漏れを少なくすることができ実質上問題とならない程度となる。また、基板側スペーサー２３ａ，２４ａを薄くして基板側スペーサー層近傍液晶分子２７ａを少なくすれば、さらに光漏れを小さくすることができるであろう。
【００２９】
尚、上記した実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲はこれらの態様に限られるものではない。例えば、第１スペーサーと第２スペーサーとを略同一厚みに形成するのではなく、一方の基板側のスペーサーを厚く形成するものとしたり、一方の基板側のスペーサー層のみを２層もしくは３層以上の多層構造スペーサーとしたり、カラーフィルター基板における着色画素間に形成するブラックマスクを厚く形成してスペーサー機能を兼用させる等の種々の変更も本発明に包含される。また、表示画素内を分割してマルチドメイン化した液晶表示装置も当然に含まれる。
【００３０】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、別体のスペーサーを散布等しなくても所定のセル間隔に制御した液晶セルを提供できるので、表示画素内の均一性を高めることができる。また、液晶表示装置全面内の均一性も向上させるとができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による液晶セルの第一の実施形態における概略斜視図である。
【図２】図１の液晶セルのＡ−Ａ線断面を模式的に示す説明図である。
【図３】図１の液晶セルのＢ−Ｂ線断面を模式的に示す説明図である。
【図４】本発明による第一の実施形態の液晶表示装置を観察した平面図である。
【図５】図４の第一の実施形態の液晶表示装置のスペーサーの形状を測定した結果である。
【図６】本発明による液晶セルの第二の実施形態を模式的に示す概略断面図である。
【図７】本発明による実施例１および実施例２における表示画素部分を観察した顕微鏡観察結果である
【図８】従来の垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤの表示原理を説明する分解斜視図である。
【図９】従来の垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤの表示画素部分を観察した顕微鏡観察結果である。
【符号の説明】
１        第１ガラス基板
２        第２ガラス基板
３，２３    第１スペーサー
４，２４    第２スペーサー
５        シール
６，２６，９５    液晶層
７，２７，９６    液晶分子
８        行電極
９        列電極
１０，２０，９８    液晶セル
２３ａ，２４ａ      基板側スペーサー
２３ｂ，２４ｂ      反対基板側スペーサー
９０      垂直配向型ＥＣＢ−ＬＣＤ
９１      偏光板
９２      光学補償板
９３      ガラス基板
９４      透明電極および垂直配向膜
９７      駆動用電源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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