(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して、平均粒子径が１０μｍを超えて、２０μｍ未満のタルク（Ｂ）０．００１〜０．０３質量部を含有したポリアセタール樹脂組成物よりなることを特徴とするハードディスクのランプ成形体。
【請求項２】
ポリアセタール樹脂組成物が、（Ｃ）高分子潤滑剤として（ｃ-１）ポリオレフィン樹脂、及び／又は（ｃ-２）イソシアネート化合物とポリアルキレンオキサイドを重合して得られる重合体をポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．１〜１０質量部含有してなることを特徴とする請求項１記載のハードディスクのランプ成形体。
【請求項３】
タルク（Ｂ）が表面処理されていないことを特徴とする請求項１または２に記載のハードディスクのランプ成形体。
【請求項４】
ポリアセタール樹脂組成物が、ポリアセタール樹脂（Ａ）が溶融した状態にタルク（Ｂ）を添加して製造されたものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のハードディスクのランプ成形体。
【請求項５】
ポリアセタール樹脂組成物の融点が、１６７℃以上、１７３℃以下であることを特徴とする請求項１〜４いずれか一項に記載のハードディスクのランプ成形体。
【請求項６】
ポリアセタール樹脂組成物のＭＦＲが、２０〜４０ｇ／１０ｍｉｎであることを特徴とする請求項１〜５いずれか一項に記載のハードディスクのランプ成形体。
【請求項７】
ポリアセタール樹脂組成物が、（Ｄ）酸化防止剤、ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体又は化合物、ギ酸捕捉剤、耐候（光）安定剤、離型剤および潤滑剤から選ばれる少なくとも１種をポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．０１〜１０質量部含有してなることを特徴とする請求項１〜６いずれか一項に記載のハードディスクのランプ成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリアセタール樹脂が持つ機械物性バランスを有し、熱安定性に優れると共に、ランプ成形体に特有の洗浄後の熱安定性、洗浄後の寸法安定性及び、洗浄後の摩耗量に優れたハードディスクのランプ成形体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリアセタール樹脂は機械的強度、耐薬品性及び摺動性のバランスに優れ、且つその加工性が容易であることから、代表的エンジニアリングプラスチックスとして、電気機器や電気機器の機構部品、自動車部品及びその他の機構部品を中心に広範囲に亘って用いられている。ポリアセタール樹脂は、使用環境によっては劣化が促進されるような環境で用いられることが多く、更には利用分野の拡大によって、益々要求性能が高くなっているのが現状である。
ポリアセタール樹脂は、ハードディスクのランプ成形体として使用されているが、ハードディスクの部品に使用される場合、組み立ての前にアウトガス等による不良を発生させないように油脂分を洗浄する洗浄工程がある。しかしながらポリアセタール樹脂においては、洗浄工程の前後で特性が変化することがあった。
【０００３】
その特性として例えば、ポリアセタール樹脂が本来有する熱安定性、寸法精度、摩耗量などが挙げられる。特に本用途においては、洗浄されて使用されるために洗浄後の特性が重要になってきている。
ランプ成形体は、洗浄を行うと表面の潤滑剤、添加剤等から来る油脂分が洗浄されるため、洗浄前後の摩擦摩耗の性能は変化する。また、通常常温以上の温度をかけて洗浄するためポリアセタール樹脂の結晶状態等が変化し、洗浄前後の寸法精度も変化する。このように、洗浄後の物性は洗浄前の物性からは予測できないことが多い。
【０００４】
これらの要求に対し、一般的には結晶化核剤として窒化硼素を添加する方法（例えば、特許文献１）が挙げられるが、添加量、又は窒化硼素の分散状況によっては靭性の低下を引き起こしてしまい、物性バランスが十分ではない。又、その他に結晶核剤として本願範囲以上の量のタルクを添加する方法が挙げられる（例えば特許文献２、３、４）。しかしながらこれらの方法では、機械特性改良、寸法安定性向上には一定の効果があるが、洗浄後の熱安定性及び洗浄後の摩耗量を改良するには至っていない。さらにタルクと他の結晶化核剤の組み合わせとして、タルクとポリアルキレン／不飽和カルボン酸低級アルキルエステルポリマー成核物質を添加する方法（例えば特許文献５）、タルクとメラミン―ホルムアルデヒド縮合体を添加する方法（例えば特許文献６）、タルクとターポリマーを添加する方法（例えば特許文献７）が挙げられるが、これらの方法においても機械特性改良、寸法安定性向上には効果があるが、洗浄後の熱安定性及び洗浄後の摩耗量を改良するには至ってない。更に特許文献７には、タルクを単独で使用すると熱安定性に不利となる旨も記載されている。又、前述以外のタルク等の結晶化核剤を添加しない方法として、高融点範囲のポリオキシメチレンコポリマーを用いる方法（例えば特許文献８）が挙げられる。      
【０００５】
しかしながらこの方法では、機械特性改良には効果があるが、洗浄後の熱安定性、寸法精度及び洗浄後の摩耗量を改良するには至っていない。更に特許文献９には、溶剤洗浄後においても摺動性能が悪化しないハードディスク用ランプが記載されているが、洗浄後の寸法精度を改良するに至っていない。
このように従来技術では、ポリアセタール樹脂の特徴である機械的強度、耐薬品性及び摺動性のバランスを保持しつつ、洗浄後の熱安定性、寸法精度及び洗浄後の摩耗性をバランスよく有することが困難であった。
【特許文献１】特開昭４７−１１１３６号公報
【特許文献２】特公昭４５−３７６７２号公報
【特許文献３】特開昭６２−１８７７５１号公報
【特許文献４】特開２００１−２８８７号公報
【特許文献５】特表２００２−５００２５６号公報
【特許文献６】特表２００２−５０６１０７号公報
【特許文献７】特表２００４−５１２４１１号公報
【特許文献８】国際公開００／１７２４７号パンフレット
【特許文献９】国際公開０３／０５５９４５号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、ポリアセタール樹脂が持つ機械物性バランスを有し、熱安定性に優れると共に、洗浄後の熱安定性、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量に優れたポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して、特定粒子径のタルク（Ｂ）０．００１〜０．０３質量部を含有したポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は下記の通りである。
１．ポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して、平均粒子径が１０μｍを超えて、２０μｍ未満のタルク（Ｂ）０．００１〜０．０３質量部を含有してなることを特徴とするポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体。
２．ポリアセタール樹脂組成物が、（Ｃ）高分子潤滑剤として（ｃ-１）ポリオレフィン樹脂、及び／又は（ｃ-２）イソシアネート化合物とポリアルキレンオキサイドを重合して得られる重合体をポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．１〜１０質量部含有してなることを特徴とする１記載のハードディスクのランプ成形体。
【０００８】
３．タルク（Ｂ）が表面処理されていないことを特徴とする１または２に記載のハードディスクのランプ成形体。
４．該ポリアセタール樹脂組成物が、ポリアセタール樹脂（Ａ）が溶融した状態にタルク（Ｂ）を添加して製造されたものであることを特徴とする１〜３のいずれか一項に記載のハードディスクのランプ成形体。
５．ポリアセタール樹脂組成物の融点が、１６７℃以上、１７３℃以下であることを特徴とする１〜４いずれか一項に記載のハードディスクのランプ成形体。
６．ポリアセタール樹脂組成物のＭＦＲが、２０〜４０ｇ／１０ｍｉｎであることを特徴とする１〜５いずれか一項に記載のハードディスクのランプ成形体。
７．ポリアセタール樹脂組成物が、（Ｄ）酸化防止剤、ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体又は化合物、ギ酸捕捉剤、耐候（光）安定剤、離型剤および潤滑剤から選ばれる少なくとも１種をポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．０１〜１０質量部含有してなることを特徴とする１〜６いずれか一項に記載のハードディスクのランプ成形体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、ポリアセタール樹脂が持つ機械物性バランスを有し、熱安定性に優れると共に、洗浄後の熱安定性、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量に優れたハードディスクのランプ成形体の提供が可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明で用いるポリアセタール樹脂（Ａ）としては、ホルムアルデヒド単量体又はその３量体（トリオキサン）や４量体（テトラオキサン）等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーを単独重合して得られる実質上オキシメチレン単位のみから成るポリアセタールホモポリマーや、ホルムアルデヒド単量体又はその３量体（トリオキサン）や４量体（テトラオキサン）等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーとエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、エピクロルヒドリン、１，３−ジオキソランや１，４−ブタンジオールホルマールなどのグリコールやジグリコールの環状ホルマール等の環状エーテル、環状ホルマールとを共重合させて得られたポリアセタールコポリマーを代表例としてあげることができる。
【００１１】
また、単官能グリシジルエーテルを共重合させて得られる分岐を有するポリアセタールコポリマーや、多官能グリシジルエーテルを共重合させて得られる架橋構造を有するポリアセタールコポリマーも用いることができる。さらに、両末端または片末端に水酸基などの官能基を有する化合物、例えばポリアルキレングリコールの存在下、ホルムアルデヒド単量体又はホルムアルデヒドの環状オリゴマーを重合して得られるブロック成分を有するポリアセタールホモポリマーや、同じく両末端または片末端に水酸基などの官能基を有する化合物、例えば水素添加ポリブタジエングリコールの存在下、ホルムアルデヒド単量体又はその３量体（トリオキサン）や４量体（テトラオキサン）等のホルムアルデヒドの環状オリゴマーと環状エーテルや環状ホルマールとを共重合させて得られるブロック成分を有するポリアセタールコポリマーも用いることができる。
【００１２】
以上のように、本発明においては、ポリアセタールホモポリマー、コポリマーいずれも用いることが可能である。  好ましいのはポリアセタールコポリマーである。
１，３−ジオキソラン等のコモノマーは、一般的にはトリオキサン１ｍｏｌに対して０．１〜６０ｍｏｌ％、好ましくは０．１〜２０ｍｏｌ％、更に好ましくは０．１３〜１０ｍｏｌ％用いられる。
本発明において特に好適なポリアセタールコポリマーの融点は１６２℃〜１７３℃であり、好ましくは１６７℃〜１７３℃、より好ましくは１６７℃〜１７１℃である。融点が１６７℃〜１７１℃のポリアセタールコポリマーは、トリオキサンに対して１．３〜３．５ｍｏｌ％程度のコモノマーを用いることにより得ることができる。
【００１３】
ポリアセタールコポリマーの重合における重合触媒としては、ルイス酸、プロトン酸及びそのエステル又は無水物等のカチオン活性触媒が好ましい。ルイス酸としては、例えば、ホウ酸、スズ、チタン、リン、ヒ素及びアンチモンのハロゲン化物が挙げられ、具体的には三フッ化ホウ素、四塩化スズ、四塩化チタン、五フッ化リン、五塩化リン、五フッ化アンチモン及びその錯化合物又は塩が挙げられる。また、プロトン酸、そのエステルまたは無水物の具体例としては、パークロル酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パークロル酸−３級ブチルエステル、アセチルパークロラート、トリメチルオキソニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。中でも、三フッ化ホウ素；三フッ化ホウ素水和物；及び酸素原子又は硫黄原子を含む有機化合物と三フッ化ホウ素との配位錯化合物が好ましく、具体的には、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル、三フッ化ホウ素ジ−ｎ−ブチルエーテルを好適例として挙げることができる。
【００１４】
重合方法は、従来公知の方法、例えば、ＵＳ−Ａ−３０２７３５２、ＵＳ−Ａ−３８０３０９４、ＤＥ−Ｃ−１１６１４２１、ＤＥ−Ｃ−１４９５２２８、ＤＥ−Ｃ−１７２０３５８、ＤＥ−Ｃ−３０１８８９８及び特開昭５８−９８３２２号、特開平７−７０２６７号に記載の方法を採用できる。
ポリアセタールコポリマーの重合方法としては、一般には塊状重合で行われ、バッチ式、連続式いずれも可能である。用いられる重合装置としては、コニーダー、２軸スクリュー式連続押出混錬機、２軸パドル型連続混合機等のセルフクリーニング型押出混錬機が使用され、溶融状態のモノマーが重合機に供給され、重合の進行とともに固体塊状のポリアセタールコポリマーが得られる。
【００１５】
以上の重合で得られたポリアセタールコポリマーには、熱的に不安定な末端部〔−（ＯＣＨ２）ｎ−ＯＨ基〕が存在するため、そのままでは実用に供することはできない。そこで、不安定な末端部の分解除去処理を実施することが必要であるが、次に示す特定の不安定末端部の分解除去処理を行なうことが好適である。特定の不安定末端部の分解除去処理とは、下記一般式（１）で表わされる少なくとも１種の第４級アンモニウム化合物の存在下に、ポリアセタールコポリマーの融点以上２６０℃以下の温度で、ポリアセタールコポリマーを溶融させた状態で熱処理するものである。
【００１６】
［Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｎ＋］ｎＸ−ｎ  式（１）
【００１７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、各々独立して、炭素数１〜３０の非置換アルキル基または置換アルキル基；炭素数６〜２０のアリール基；炭素数１〜３０の非置換アルキル基または置換アルキル基が少なくとも１個の炭素数６〜２０のアリール基で置換されたアラルキル基；又は炭素数６〜２０のアリール基が少なくとも１個の炭素数１〜３０の非置換アルキル基または置換アルキル基で置換されたアルキルアリール基を表わし、非置換アルキル基または置換アルキル基は直鎖状、分岐状、または環状である。上記置換アルキル基の置換基はハロゲン、水酸基、アルデヒド基、カルボキシル基、アミノ基、又はアミド基である。また、上記非置換アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアリール基は水素原子がハロゲンで置換されていてもよい。ｎは１〜３の整数を表わす。Ｘは水酸基、又は炭素数１〜２０のカルボン酸、ハロゲン化水素以外の水素酸、オキソ酸、無機チオ酸もしくは炭素数１〜２０の有機チオ酸の酸残基を表わす。）
【００１８】
第４級アンモニウム化合物は、上記一般式（１）で表わされるものであれば特に制限はないが、一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４が、各々独立して、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基であることが好ましく、この内更に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４の少なくとも１つが、ヒドロキシエチル基であるものが特に好ましい。具体的には、テトラメチルアンモニウム、テトエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウム、テトラデシルトリメチルアンモニウム、１，６−ヘキサメチレンビス（トリメチルアンモニウム）、デカメチレン−ビス−（トリメチルアンモニウム）、トリメチル−３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルアンモニウム、トリメチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、トリエチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、トリプロピル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、トリ−ｎ−ブチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウム、トリプロピルベンジルアンモニウム、トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウム、トリメチルフェニルアンモニウム、トリエチルフェニルアンモニウム、トリメチル−２−オキシエチルアンモニウム、モノメチルトリヒドロキシエチルアンモニウム、モノエチルトリヒドロキシエチルアンモニウム、オクダデシルトリ（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、テトラキス（ヒドロキシエチル）アンモニウム等の水酸化物；塩酸、臭酸、フッ酸などの水素酸塩；硫酸、硝酸、燐酸、炭酸、ホウ酸、塩素酸、よう素酸、珪酸、過塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素酸、クロロ硫酸、アミド硫酸、二硫酸、トリポリ燐酸等のオキソ酸塩；チオ硫酸などのチオ酸塩；蟻酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、イソ酪酸、ペンタン酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、安息香酸、シュウ酸などのカルボン酸塩等が挙げられる。
【００１９】
中でも、水酸化物（ＯＨ−）、硫酸（ＨＳＯ４−、ＳＯ４ ２−）、炭酸（ＨＣＯ３−、ＣＯ３２−）、ホウ酸（Ｂ（ＯＨ）４−）、カルボン酸の塩が好ましい。カルボン酸の内、蟻酸、酢酸、プロピオン酸が特に好ましい。これら第４級アンモニウム化合物は、単独で用いてもよいし、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、上記第４級アンモニウム化合物に加えて、公知の不安定末端部の分解促進剤であるアンモニアやトリエチルアミン等のアミン類等を併用しても何ら差し支えない。
用いる第４級アンモニウム化合物の量は、ポリアセタールコポリマーと第４級アンモニウム化合物の合計質量に対する下記式（２）で表わされる第４級アンモニウム化合物由来の窒素の量に換算して０．０５〜５０質量ｐｐｍ、好ましくは１〜３０質量ｐｐｍであ
る。
【００２０】
Ｐ×１４／Ｑ    式（２）
【００２１】
（式中、Ｐは第４級アンモニウム化合物のポリアセタールコポリマーに対する濃度（質量ｐｐｍ）を表わし、１４は窒素の原子量であり、Ｑは第４級アンモニウム化合物の分子量を表わす。）
【００２２】
第４級アンモニウム化合物の添加量が０．０５質量ｐｐｍ未満であると不安定末端部の分解除去速度が低下し、５０質量ｐｐｍを超えると不安定末端部分解除去後のポリアセタールコポリマーの色調が悪化する。
本発明に用いるポリアセタール樹脂の不安定末端部の分解除去処理は、融点以上２６０℃以下の温度でポリアセタールコポリマーを溶融させた状態で熱処理することにより達成される。用いる装置には特に制限はないが、押出機、ニーダー等を用いて熱処理することが好適である。また、分解で発生したホルムアルデヒドは減圧下で除去される。第４級アンモニウム化合物の添加方法には特に制約はなく、重合触媒を失活する工程にて水溶液として加える方法、重合で生成したポリアセタールコポリマーパウダーに吹きかける方法などがある。いずれの添加方法を用いても、ポリアセタールコポリマーを熱処理する工程で添加されて居れば良く、押出機の中に注入したり、押出機等を用いてフィラーやピグメントの配合を行なう品種であれば，樹脂ペレットに該化合物を添着し、その後の配合工程で不安定末端除去操作を実施してもよい。
【００２３】
不安定末端除去操作は、重合で得られたポリアセタールコポリマー中の重合触媒の失活させた後に行なうことも可能であるし、また重合触媒を失活させずに行なうことも可能である。重合触媒の失活操作としては、アミン類等の塩基性の水溶液中で重合触媒を中和失活する方法を代表例として挙げることができる。また、重合触媒の失活を行なわずに、融点以下の温度で不活性ガス雰囲気下にて加熱し、重合触媒を揮発低減した後、本不安定末端除去操作を行なうことも有効な方法である。
以上の特定の不安定末端部分解除去処理により、不安定末端部が殆ど存在しない非常に熱安定性に優れたポリアセタールコポリマーを得ることができる。
本発明で用いるハードディスクのランプ成形体のポリアセタール樹脂（Ａ）のＭＦＲはランプ成形体が成形できる範囲の１〜１１０ｇ／１０ｍｉｎであるが、洗浄後の寸法精度を改良するため６〜８０ｇ／１０ｍｉｎであることが好ましい。さらに好ましくは２０〜４０ｇ／１０ｍｉｎである。
【００２４】
次に本発明で用いるタルク（Ｂ）について説明する。
本発明で用いられるタルク（Ｂ）の化学名は含水珪酸マグネシウムであり、一般的にＳｉＯ２約６０％、ＭｇＯ約３０％と結晶水４.８％が主成分である。真比重は２．７〜２．８であり、白色度はＪＩＳ  Ｋ−８１２３に準じて測定した数値が９３％以上、ＰＨはＪＩＳ  Ｋ−５１０１に準じて測定した数値が９．0〜１０の範囲が好ましい。又、４５μｍ篩残分はＪＩＳ  Ｋ−５１０１に準じて測定した数値が０．２％以下、好ましくは０．１％以下、より好ましくは０．０８％以下である。タルク（Ｂ）の樹脂組成物中の平均粒子径は、後述の方法により測定される平均粒子径が、洗浄後の熱安定性、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量改良の点から１０μｍを超え、２０μｍ未満である必要があり、好ましくは１１〜１９μｍ、より好ましくは１２〜１８μｍである。
【００２５】
本発明において、樹脂組成物中のタルクの平均粒子径とは顕微鏡法により測定することができる。具体的には、本発明のポリアセタール樹脂組成物のペレットを、例えばポリアセタールの融点以上に加熱可能なプレス機等で薄膜を作成し、偏光顕微鏡を用いて粒子像を観察及び写真撮影し、無作為に選んだ最低１００個のタルクの最大粒子径と個数を測定することで平均粒子径を求めることができる。
本発明で用いられるタルク（Ｂ）は樹脂との親和性を向上させるために公知の表面処理剤を用いることができる。表面処理剤としては例えば、アミノシラン、エポキシシラン等のシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、さらには脂肪酸(飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸)、脂環族カルボン酸及び樹脂酸や金属石鹸をあげることができる。タルク（Ｂ）中の表面処理剤の添加量としては好ましくは３質量％以下、より好ましくは２質量％以下であり、最も好ましくは実質的に表面処理されていないことである。
【００２６】
本発明のポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体中のタルク（Ｂ）の含有量はポリアセタール樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．００１〜０．０３質量部であり、洗浄後の熱安定性、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量改良の点から０．００１質量部以上、０．０３質量部以下である必要がある。好ましくは０．００２〜０．０３質量部、より好ましくは０．００５〜０．０２質量部、特に好ましくは０．００５〜０．０１５質量部である。
本発明のポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体中のタルク含有量を定量するには、例えば、ハードディスクのランプ成形体を塩酸等で加水分解し、タルクを定量する方法や、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ)発光分析により、タルク起因である金属成分（Ｓｉ、Ｍｇ）を定量する方法が挙げられる。
【００２７】
本発明で用いるポリアセタール樹脂組成物のＭＦＲは、ランプ成形体が成形できる範囲の１〜１１０ｇ／１０ｍｉｎであるが、洗浄後の寸法精度を改良するため６〜８０ｇ／１０ｍｉｎであることが好ましい。さらに好ましくは２０〜４０ｇ／１０ｍｉｎである。
また、ポリアセタール樹脂組成物の好適な融点は洗浄後の寸法精度、洗浄後の摩耗量改良の観点から１６２℃〜１７３℃であり、好ましくは１６７℃〜１７３℃、より好ましくは１６７℃〜１７１℃である。
【００２８】
次に本発明で用いる高分子潤滑剤（Ｃ）について説明する。
本発明においては、（Ｃ）高分子潤滑剤として、（ｃ−１）ポリオレフィン樹脂、および／又は（ｃ−２）イソシアネート化合物とポリアルキレンオキサイドとを重合して得られる重合体を用いることが、ランプ成形体に特有の洗浄後の摩耗量改善の観点から好ましい。
（ｃ−１）ポリオレフィン樹脂は、一般式（３）で示すオレフィン系化合物のホモ重合体、共重合体、またはその変性体である。
【００２９】
【化１】
0004903748.tif 000002
【００３０】
〔式中、Ｒ５は水素原子またはメチル基であり、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、カルボキシル基、２〜５個の炭素原子を含むアルキルカルボキシル基、２〜５個の炭素原子を有するアシルオキシ基、またはビニル基を意味する。〕
【００３１】
（ｃ−１）ポリオレフィン樹脂は具体的には、ホモ重合体および共重合体として、ポリエチレン（高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン）、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、ポリプロピレン−ブテン共重合体、ポリブテン、ポリブタジエンの水添物、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−メタアクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。変性体としては、他のビニル化合物の一種以上をグラフトさせたグラフト共重合体；α，β−不飽和カルボン酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、ナジック酸等）またはその酸無水物で（必要により過酸化物を併用して）変性したもの；オレフィン系化合物と酸無水物を共重合したものが挙げられる。
【００３２】
これらの中でも、ポリエチレン（高圧法低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン）、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−オクテン共重合体が好ましい。
これら（ｃ−１）ポリオレフィン樹脂について、特に限定はないが、メルトフローレート（ＡＳＴＭ−Ｄ１２３８−５７Ｔ）が０．５〜１５０ｇ／１０分の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは３〜１２０ｇ／１０分の範囲であり、最も好ましくは５〜１００ｇ／１０分の範囲である。メルトフローレートを０．５ｇ／１０分以上とすることで、摺動性能が良好となり、また、１５０ｇ／１０分以下とすることで、ハクリのレベルが良好となる。
【００３３】
（ｃ−２）イソシアネート化合物とポリアルキレンオキサイドとを重合して得られる重合体は、イソシアネート化合物とポリアルキレンオキサイドとを、押出機、ニーダー、バンバリーミキサーなどの反応器を用いて溶融混練することで得られる。なお、必要に応じて、イソシアネート化合物とポリアルキレンオキサイドとの溶融混練の際に、低分子ジオール化合物を添加してもよい。また、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、およびトルエンなどの溶媒、ジブチル錫ラウレート、ジオクチル錫ラウレートなどの有機金属化合物、トリエチルアミン、ジアザビシクロウンデセンなどのアミン類などのウレタン化触媒を用いることも可能である。詳細は特開平７−３１６４２１号公報や特開平８−９２４７６号公報に記載されている。
【００３４】
イソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、ジイソシアネートメチルヘキサン、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、およびヘキサメチレンジジイソシアネートの環状３量体からなる群から選ばれる少なくとも１種を挙げることができ、これらの中ではトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジソシアネートが好ましく、さらにトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジソシアネートがより好ましい。
【００３５】
ポリアルキレンオキサイドとしては、例えば、重合度が４〜１０００、好ましくは１０〜５００の範囲の、ポリエチレングリコール、エチレンオキサイドプロピレンオキサイド共重合体、ポリプロピレングリコール、ポリ−１，４−ブタンジオール、およびポリテトラメチレングリコールから選ばれる少なくとも１種を挙げることができる。
必要に応じて用いられる低分子ジオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、重合度４以下のポリアルキレンオキサイド（ポリエチレングリコール、エチレンオキサイドプロピレンオキサイド共重合体、ポリプロピレングリコール、ポリ１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコールなど）を用いることが可能であり、これらの中でも、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオールが好ましい。
【００３６】
イソシアネート化合物およびポリアルキレンオキサイド（および必要に応じて低分子ジオール化合物）を重合して得られる重合体の重量平均分子量は、クロロホルムを溶媒として、ゲルパーメーションクロマトグラフで測定したポリスチレン換算重量平均分子量で、１０，０００〜５００，０００の範囲が好ましく、２０，０００〜３００，０００の範囲がより好ましい。重量平均分子量が１０，０００以上の場合には、成形品のハクリが良好となり、また、重量平均分子量が５００，０００以内の場合は、摺動性および表面外観が良好となる。
これら（Ｃ）高分子潤滑剤の配合割合は、（Ａ）ポリアセタール樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．２〜７質量部、さらに好ましくは０．５〜５質量部である。添加量が０．１質量部以上であれば、充分な摺動性を付与することができ、添加量１０質量部以内においては、摩耗量が小さく、ハクリも良好である。
【００３７】
本発明に用いるポリアセタール樹脂組成物は、用途に応じて適当な添加剤を配合することにより、熱安定性に優れたポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体を得ることができる。好適な具体例としては、ポリアセタール樹脂１００質量部に対し、（Ｄ）酸化防止剤、ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体又は化合物、ギ酸捕捉剤、耐候（光）安定剤、離型剤、および潤滑剤から選ばれる少なくとも１種を０．０１〜１０質量部含有してなるポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体を挙げることができる。
【００３８】
酸化防止剤としてはヒンダートフェノール系酸化防止剤が好ましい。具体的には、例えばｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル−３−（３’−メチル−５’−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−テトラデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４ −ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、１，４− ブタンジオール−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル −５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン等が挙げられる。好ましくは、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］及びペンタエリスリトールテトラキス［メチレン‐３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンである。これらの酸化防止剤は１種類で用いても良いし、２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【００３９】
ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体又は化合物の例としては、ナイロン４−６、ナイロン６、ナイロン６−６、ナイロン６−１０、ナイロン６−１２、ナイロン１２等のポリアミド樹脂、及びこれらの重合体、例えば、ナイロン６／６−６／６−１０、ナイロン６／６−１２等を挙げることができる。また他に、アクリルアミド及びその誘導体、アクリルアミド及びその誘導体と他のビニルモノマーとの共重合体が挙げられ、例えばアクリルアミド及びその誘導体と他のビニルモノマーとを金属アルコラートの存在下で重合して得られたポリ−β−アラニン共重合体を挙げることができる。その他にアミド化合物、アミノ置換トリアジン化合物、アミノ置換トリアジン化合物とホルムアルデヒドの付加物、アミノ置換トリアジン化合物とホルムアルデヒドの縮合物、尿素、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、イミダゾール化合物、イミド化合物を挙げることができる。
【００４０】
アミド化合物の具体例としては、イソフタル酸ジアミドなどの多価カルボン酸アミド、アントラニルアミドが挙げられる。アミノ置換トリアジン化合物の具体例としては、２，４ −ジアミノ−ｓｙｍ−トリアジン、２，４，６−トリアミノ−ｓｙｍ−トリアジン、Ｎ−ブチルメラミン、Ｎ− フェニルメラミン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルメラミン、Ｎ， Ｎ−ジアリルメラミン、ベンゾグアナミン（２，４−ジアミノ−６−フェニル−ｓｙｍ−トリアジン）、アセトグアナミン（２，４−ジアミノ−６−メチル−ｓｙｍ−トリアジン）、２，４−ジアミノ−６− ブチル−ｓｙｍ−トリアジン等である。アミノ置換トリアジン類化合物とホルムアルデヒドとの付加物の具体例としては、Ｎ−メチロールメラミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチロールメラミン、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリメチロールメラミンを挙げることができる。
【００４１】
アミノ置換トリアジン類化合物とホルムアルデヒドとの縮合物の具体例としては、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物を挙げることができる。尿素誘導体の例としては、Ｎ−置換尿素、尿素縮合体、エチレン尿素、ヒダントイン化合物、ウレイド化合物を挙げることができる。Ｎ−置換尿素の具体例としては、アルキル基等の置換基が置換したメチル尿素、アルキレンビス尿素、アーリル置換尿素を挙げることができる。尿素縮合体の具体例としては、尿素とホルムアルデヒドの縮合体等が挙げられる。ヒダントイン化合物の具体例としては、ヒダントイン、５，５−ジメチルヒダントイン、５，５−ジフェニルヒダントイン等が挙げられる。
【００４２】
ウレイド化合物の具体例としては、アラントイン等が挙げられる。ヒドラジン誘導体としてはヒドラジド化合物を挙げることができる。ヒドラジド化合物の具体例としては、ジカルボン酸ジヒドラジドを挙げることができ、更に具体的には、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、スペリン酸ジヒドラジド、アゼライン酸ジヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、フタル酸ジヒドラジド、２，６−ナフタレンジカルボジヒドラジド等が挙げることができる。イミド化合物の具体例としてはスクシンイミド、グルタルイミド、フタルイミドを挙げることができる。
これらのホルムアルデヒド反応性窒素原子を含む重合体又化合物は、１種類で用いても良いし、２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【００４３】
ギ酸捕捉剤としては、上記のアミノ置換トリアジン化合物やアミノ置換トリアジン類化合物とホルムアルデヒドとの縮合物、例えばメラミン・ホルムアルデヒド縮合物等を挙げることができる。他のギ酸捕捉剤としては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、無機酸塩、カルボン酸塩又はアルコキシドが挙げられる。例えば、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムもしくはバリウムなどの水酸化物、上記金属の炭酸塩、リン酸塩、珪酸塩、ホウ酸塩、カルボン酸塩、さらには層状複水酸化物を挙げることができる。
上記カルボン酸塩のカルボン酸としては、１０〜３６個の炭素原子を有する飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸が好ましく、これらのカルボン酸は水酸基で置換されていてもよい。飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸塩の具体的な例としては、ジミリスチン酸カルシウム、ジパルミチン酸カルシウム、ジステアリン酸カルシウム、（ミリスチン酸−パルミチン酸）カルシウム、（ミリスチン酸−ステアリン酸）カルシウム、（パルミチン酸−ステアリン酸）カルシウムが挙げられ、中でも好ましくは、ジパルミチン酸カルシウム、ジステアリン酸カルシウムである。    
層状複水酸化物としては例えば下記一般式で表されるハイドロタルサイト類をあげることができる。
【００４４】
〔（Ｍ２＋）１−Ｘ（Ｍ３＋）Ｘ（ＯＨ）２〕Ｘ＋〔（Ａn−）ｘ／ｎ・ｍＨ２Ｏ〕Ｘ−
【００４５】
〔式中、Ｍ２＋は２価金属、Ｍ３＋は３価金属、Ａn−はｎ価（ｎは１以上の整数）のアニオン表わし、Ｘは、０＜Ｘ≦０．３３の範囲にあり、ｍは正の数である。〕
【００４６】
一般式（１）において、Ｍ２＋の例としてはＭｇ２＋、Ｍｎ２＋、Ｆｅ２＋、Ｃｏ２＋、Ｎｉ２＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋等、Ｍ３＋の例としては、Ａｌ３＋、Ｆｅ３＋、Ｃｒ３＋、Ｃｏ３＋、Ｉｎ３＋等、Ａｎ−の例としては、ＯＨ−、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、ＮＯ３−、ＣＯ３２−、ＳＯ４２−、Ｆｅ（ＣＮ）６３−、ＣＨ３ＣＯＯ−、シュウ酸イオン、サリチル酸イオン等をあげることができる。特に好ましい例としてはＣＯ３２−、ＯＨ−をあげることができる。具体例としては、Ｍｇ０．７５Ａｌ０．２５（ＯＨ）２（ＣＯ３）０．１２５・０．５Ｈ２Ｏで示される天然ハイドロタルサイト、Ｍｇ４．５Ａl２（ＯＨ）１３ＣＯ３・３．５Ｈ２Ｏ、Ｍｇ４．３Ａｌ２（ＯＨ）１２．６ＣＯ３等で示される合成ハイドロタルサイトを挙げることができる。
これらのギ酸捕捉剤は、１種類で用いても良いし、２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【００４７】
本発明で言う耐候（光）安定剤は、ベンゾトリアゾール系及び蓚酸アニリド系紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤の中から選ばれる１種若しくは２種以上が好ましい。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ− ３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス （α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ− ３’、５’−ビス−（α、α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。蓚酸アリニド系紫外線吸収剤の例としては、２−エトキシ−２’−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル− ２’−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、２− エトキシ−３’−ドデシルオキザリックアシッドビスアニリド等が挙げられる。好ましくは２−［２’−ヒドロキシ− ３’、５’−ビス−（α、α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ− ３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾールである。これらのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤はそれぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【００４８】
ヒンダードアミン系光安定剤の例としては、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−（４，６−ビス−（ブチル−（Ｎ−メチル２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミン・１，３，５−トリアジン・Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６，テトラメチル−４−ピペリジル−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６，テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンの重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３―テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６，テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６，テトラメチル−１−ピペリジンエタノールの縮合物、デカン２酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステルと１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’，−テトラメチル−３，９−［２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン］ジエタノールとの縮合物などが挙げられる。好ましくはビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス−（Ｎ−メチル−２，２，６，６ −テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’，−テトラメチル−３，９− ［２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン］ジエタノールとの縮合物である。これらヒンダードアミン系光安定剤はそれぞれ単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
離型剤、潤滑剤としては、アルコール、脂肪酸及びそれらの脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレングリコール、平均重合度が１０〜５００であるオレフィン化合物、シリコーンが好ましく使用される。
【００４９】
本発明においては、本発明の目的を損なわない範囲で、更に適当な公知の添加剤を必要に応じて配合することができる。具体的には、無機充填材、結晶核剤、導電材、熱可塑性樹脂、および熱可塑性エラストマー、顔料などをあげることができる。
前記無機充填剤は繊維状、粉粒子状、板状及び中空状の充填剤が用いられる。繊維状充
填剤としては、ガラス繊維、炭素繊維、シリコーン繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化硼素繊維、窒化硅素繊維、硼素繊維、チタン酸カリウム繊維、さらにステンレス、アルミニウム、チタン、銅、真鍮等の金属繊維等の無機質繊維があげられる。また、繊維長の短いチタン酸カリウムウイスカー、酸化亜鉛ウイスカー等のウイスカー類も含まれる。なお、芳香族ポリアミド樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂等の高融点有機繊維状物質も使用する事ができる。
【００５０】
粉粒子状充填剤としては、カーボンブラック、シリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ガラ
ス粉、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、カオリン、クレー、珪藻土、ウォラストナイトの如き珪酸塩、酸化鉄、酸化チタン、アルミナの如き金属酸化物、硫酸カルシウム、硫酸バリウムの如き金属硫酸塩、炭酸マグネシウム、ドロマイト等の炭酸塩、その他炭化珪素、窒化硅素、窒化硼素、各種金属粉末等があげられる。
板状充填剤としてはマイカ、ガラスフレーク、各種金属箔があげられる。中空状充填剤
としては、ガラスバルーン、シリカバルーン、シラスバルーン、金属バルーン等があげら
れる。これらの充填剤は１種又は２種以上を併用して使用することが可能である。これら
の充填剤は表面処理されたもの、未表面処理のもの、何れも使用可能であるが、成形表面
の平滑性、機械的特性の面から表面処理の施されたものの使用のほうが好ましい場合がある。表面処理剤としては従来公知のものが使用可能である。例えば、シラン系、チタネート系、アルミニウム系、ジルコニウム系等の各種カップリング処理剤が使用できる。具体的にはＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリスステアロイルチタネート、ジイソプロポキシアンモニウムエチルアセテート、ｎ−ブチルジルコネート等が挙げられる。
導電剤としては、導電性カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブ、金属粉末又は繊維が挙げられる。
【００５１】
熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリカーネート樹脂、未硬化のエポキシ樹脂が挙げられる。また、これらの変性物も含まれる。熱可塑性エラストマーとしては、 ポリウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリスチレン系エラストマー、ポリアミド系エラストマーが挙げられる。
顔料としては、所望に応じてポリアセタール樹脂に通常用いられる公知の顔料を、本願の目的を妨げない範囲で用いることができる。無機系顔料及び有機系顔料、メタリック系顔料、蛍光顔料等が挙げられる。無機系顔料とは樹脂の着色用として一般的に使用されているものを言い、例えば、硫化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、チタンイエロー、コバルトブルー、燃成顔料、炭酸塩、りん酸塩、酢酸塩やカーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、塩素性炭素鉛、塩基性硫酸鉛、塩基性珪酸鉛、金属硫化物等を言う。有機系顔料とは縮合ウゾ系、イノン系、フロタシアニン系、モノアゾ系、ジアゾ系、ポリアゾ系、アゾメチン系、メチン系、インダンスロン系、ピランスロン系、フラバンスロン系、ベンゼンスロン系、ペリノン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、ピルールピロール系、キノフタロン系、アンスラキノン系、複素環系、ペンノン系、キナクリドン系、チオインジコ系、ベリレン系、ジオキサジン系、フタロシアニン系等の顔料がある。
【００５２】
本発明においては、これらの顔料の１種又は２種以上を併用して用いる事ができるが、必要とする色調を得るため通常は２種以上の顔料を併用する。
顔料のトータル添加量は、ポリアセタール樹脂１００質量部に対して、０．００５〜５．０質量部が好ましい。ポリアセタール樹脂の熱安定性の点から、５．０質量部以下であることが好ましい。
本発明ランプ成形体に用いるポリアセタール樹脂組成物を製造する方法は、一般的な押出機を用いて製造することができる。押出機としては１軸又は多軸紺練押出機等が挙げられ、中でも減圧装置を備えた２軸押出機が好ましい。該ポリアセタール樹脂組成物を製造する方法としては、ポリアセタール樹脂（Ａ）とタルク（Ｂ）を押出機トップからフィードする方法やタルク（Ｂ）をサイドフィードから添加する方法が挙げられ、タルク（Ｂ）をサイドフィードする方法が好ましい。
【００５３】
また、（Ｄ）成分を添加する際の製造方法としては、具体的には、
＜１＞ポリアセタール樹脂（Ａ）、（Ｄ）成分とをヘンシェルミキサー、タンブラー、Ｖ字型ブレンダーなどで混合した後、押出機トップよりフィードし、更にタルク（Ｂ）を定量フィーダー等でサイドフィードから添加して溶融混練する方法、
＜２＞ポリアセタール樹脂（Ａ）を押出機トップよりフィードし、更にタルク（Ｂ）、（Ｄ）成分を定量フィーダー等でサイドフィードより添加して溶融混練する方法、
＜３＞ポリアセタール樹脂（Ａ）、（Ｄ）成分とをヘンシェルミキサー、タンブラー、Ｖ字型ブレンダーなどで混合した後、押出機トップよりフィードし、更にタルク（Ｂ）をポリアセタール樹脂等でマスターバッチ化し、定量フィーダー等でサイドフィードから添加して溶融混練する方法、
【００５４】
＜４＞ポリアセタール樹脂（Ａ）を押出機トップよりフィードし、更にタルク（Ｂ）、（Ｄ）成分をポリアセタール樹脂等でマスターバッチ化して定量フィーダー等でサイドフィードから添加して溶融混練する方法、
＜５＞ポリアセタール樹脂（Ａ）とタルク（Ｂ）、（Ｄ）成分とをヘンシェルミキサー、タンブラー、Ｖ字型ブレンダーなどで混合した後、押出機を用いて溶融混錬する方法、
＜６＞ポリアセタール樹脂（Ａ）の一部と（Ｄ）成分を押出機トップよりフィードし、更にポリアセタール樹脂（Ａ）の残りとタルク（Ｂ）を定量フィーダー等でサイドフィードより添加して一旦溶融混練する方法、が挙げられる。
これらの中で得られるポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体の洗浄後の熱安定性、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量改良の点から、タルク（Ｂ）をポリアセタール樹脂が溶融した状態に添加する＜１＞、＜２＞、＜３＞、＜４＞、＜６＞の方法が好ましく、特に好ましくは＜６＞の製造方法である。
また、予め（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）からなる高濃度マスターバッチを作成しておき、射出成形時にポリアセタール樹脂で希釈することにより本発明のポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体を得ることもできる。
（Ｃ）成分を添加する場合は、＜１＞〜＜６＞の方法においてトップまたはサイドのいずれでフィードしてもよく、更に、
【００５５】
＜７＞ポリアセタール樹脂（Ａ）を押出機トップよりフィードし、更にタルク（Ｂ）、成分（Ｄ）を定量フィーダー等でサイドフィードより添加して一旦溶融混練し、得られたペレットと高分子潤滑剤（Ｃ）をさらに溶融混練する方法、も挙げられる。
本発明のポリアセタール樹脂組成物よりなるハードディスクのランプ成形体を成形する方法については特に制限するものではなく、公知の成形方法、例えば、押出成形、射出成形、真空成形、ブロー成形、射出圧縮成形、加飾成形、他材質成形、ガスアシスト射出成形、発砲射出成形、低圧成形、超薄肉射出成形（超高速射出成形）、金型内複合成形（インサート成形、アウトサート成形）等の成形方法の何れかによって成形することができる。
【実施例】
【００５６】
以下、実施例及び比較例よって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
［測定方法］
〈平均粒子径の測定方法〉
住友重機工業（株）製ＳＨ−７５射出成形機を用いて、シリンダー温度２００℃、射出圧力６０ＭＰａ、射出時間１５秒、冷却時間２５秒、金型温度１２０℃にて、ハードディスクのランプ成形体を作製した。ランプ成形体を２００℃に設定したプレス機で薄膜を作成し、偏光顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ製ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ＷＰＯＬ）を用いて粒子像を４００倍の倍率で観察及び写真撮影し、無作為に選んだ１００個のタルクの最大粒子径（最大長径）を一つ一つ測定し、その１００個の最大粒子径の平均値を平均粒子径とした。
【００５７】
〈タルク含有量の測定方法〉
住友重機工業（株）製ＳＨ−７５射出成形機を用いて、シリンダー温度２００℃、射出圧力６０ＭＰａ、射出時間１５秒、冷却時間２５秒、金型温度１２０℃にて、ハードディスクのランプ成形体を作製した。ランプ成形体２００ｇを０．１Ｎ塩酸水溶液３００ｍｌと混合し、ガラス製耐圧瓶に仕込んだ状態の物を１０バッチ準備した。これらを滅菌器により加圧状態で１３０℃、６〜１０時間分解させた後、１０バッチ分の分解液中のタルクを濾過し、その濾過残渣物を更にクロロホルム等で洗浄及び濾過を行い、タルク以外の添加剤を除去した。残ったタルクを減圧乾燥後、質量を量りランプ成形体中のタルク含有量とした。
【００５８】
〈ＭＦＲの測定方法〉
メルトフローレイト；ＡＳＴＭ  Ｄ−１２３８−５７Ｔに基づいて測定。条件は荷重２．１６ｋｇｆ、温度１９０℃である。
〈融点の測定方法〉
示差熱量計（パーキンエルマー社製、ＤＳＣ−２Ｃ）を用い、一旦２００℃まで昇温させ融解させた試料を１００℃まで冷却し、再度２．５℃／分の速度にて昇温する過程で発生する発熱スペクトルのピークの温度を融点とした。
【００５９】
〈洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度の測定方法〉
住友重機工業（株）製ＳＨ−７５射出成形機を用いて、シリンダー温度２００℃、射出圧力６０ＭＰａ、射出時間１５秒、冷却時間２５秒、金型温度１２０℃にて、ハードディスクのランプ成形体を作製した。このランプ成形体を５０℃に加温されたクロロホルム／メタノール混合溶液（７０／３０容量比）に４時間浸漬した後、表面を同溶剤で洗浄し、６０℃の熱風乾燥機で２時間乾燥を行い、さらに予め１４０℃で１時間乾燥処理を施した。得られたランプ成形体を窒素気流下（５０ＮＬ／ｈｒ）、２４０℃で加熱溶融し、ランプ成形体から発生するホルムアルデヒドガスを水に吸収した後、亜硫酸ソーダ法により滴定した。その際、加熱開始から１０分後までのホルムアルデヒド発生量（ｐｐｍ）をＹ１０、同９０分をＹ９０としたときに、
１０〜９０分の発生速度（Ｙ９０―Ｙ１０）／８０（ｐｐｍ／ｍｉｎ．）
として算出した。ホルムアルデヒド発生速度は、ｎ＝５で測定した数値の平均値とした。これら値が小さいことは、洗浄後の熱安定性に優れることを示す。
【００６０】
〈洗浄後の寸法精度の測定〉
住友重機工業（株）製ＳＨ−７５射出成形機を用いて、シリンダー温度２００℃、射出圧力６０ＭＰａ、射出時間１５秒、冷却時間２５秒、金型温度１２０℃にて、ハードディスクのランプ成形体を作製した。さらに、これらランプ成形体を５０℃に加温されたクロロホルム／メタノール混合溶液（７０／３０容量比）に４時間浸漬した後、表面を同溶剤で洗浄し、６０℃の熱風乾燥機で２時間乾燥を行った。得られた成形体について、図２に示すランプの寸法測定位置の間隔を同様に測定した。設計寸法との差異を表１に示した。この差が小さい方が、寸法精度に優れる。
【００６１】
〈洗浄後の摩耗量の測定〉
住友重機工業（株）製ＳＨ−７５射出成形機を用いて、シリンダー温度２００℃、射出圧力６０ＭＰａ、射出時間１５秒、冷却時間２５秒、金型温度１２０℃にて、ハードディスクのランプ成形体を作製した。これらの成形体を、５０℃に加温されたクロロホルム／メタノール混合溶液（７０／３０容量比）に４時間浸漬した後、表面を同溶剤で洗浄し、６０℃の熱風乾燥機で２時間乾燥を行った。得られた成形体の上端面について、往復動摩擦摩耗試験機（東洋精密（株）製ＡＦＴ−１５ＭＳ型）を用いて、荷重１９．６Ｎ、線速度３０ｍｍ／ｓｅｃ、往復距離６ｍｍ、往復回数５，０００回、および環境温度２３℃の条件で摺動させた後、ランプ成形体の摩耗量深さを測定した。相手材料としては、ＳＵＳ３０４試験片（直径５ｍｍの球）を用いた。
【００６２】
［原材料］
〈ポリアセタール樹脂ａ−１〉
熱媒を通すことができるジャッケット付きの２軸セルフクリーニングタイプの重合機（Ｌ／Ｄ＝８）を８０℃に調整し、トリオキサンを４ｋｇ／ｈｒ、コモノマーとして１，３−ジオキソランを４２．８ｇ／ｈ（トリオキサン１ｍｏｌに対して、１．３ｍｏｌ％）、連鎖移動剤としてメチラールをトリオキサン１ｍｏｌに対して２．３５×１０−３ｍｏｌを連続的に添加した。さらに重合触媒として三フッ化硼素ジ−ｎ−ブチルエーテラートをトリオキサン１ｍｏｌに対して１．５×１０−５ｍｏｌで連続的に添加し重合を行なった。重合機より排出されたポリアセタールコポリマーをトリエチルアミン０．１％水溶液中に投入し重合触媒の失活を行なった。失活されたポリアセタールコポリマーを遠心分離機でろ過した後、ポリアセタールコポリマー１００質量部に対して、第４級アンモニウム化合物として水酸化コリン蟻酸塩（トリエチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムフォルメート（ｂ−１））を含有した水溶液１質量部を添加して、均一に混合した後１２０℃で乾燥した。水酸化コリン蟻酸塩の添加量は、添加する水酸化コリン蟻酸塩を含有した水溶液中の水酸化コリン蟻酸塩の濃度を調整することにより行い、窒素量に換算して２０質量ｐｐｍとした。乾燥後のポリアセタールコポリマーをベント付き２軸スクリュー式押出機に供給し、押出機中の溶融しているポリアセタールコポリマー１００質量部に対して水を０．５質量部添加し、押出機設定温度２００℃、押出機における滞留時間７分で不安定末端部分の分解除去を行なった。不安定末端部分の分解されたポリアセタールコポリマーは、ベント真空度２０Ｔｏｒｒの条件下に脱揮され、押出機ダイス部よりストランドとして押出され、ペレタイズされた。このようにして得られたポリアセタール樹脂（ａ−１）の融点は１６９．５℃、ＭＦＲは３０ｇ／１０ｍｉｎであった。
【００６３】
〈ポリアセタール樹脂ａ−２〉  
ポリアセタール樹脂を重合する際、１，３ジオキソランの連続添加量を１２８．３ｇ／ｈ（トリオキサン１ｍｏｌに対して、３．９ｍｏｌ％）とした以外はポリアセタール樹脂（ａ−１）の製造と同様の操作を行いポリアセタール樹脂（ａ−２）を得た。このようにして得られたポリアセタール樹脂（ａ−２）の融点は１６４．５℃、ＭＦＲは３０ｇ／１０ｍｉｎであった。
〈ポリアセタール樹脂ａ−３〉
トリオキサンを４ｋｇ／ｈｒ、コモノマーとして１，３−ジオキソランを４２．８ｇ／ｈ（トリオキサン１ｍｏｌに対して、１．３ｍｏｌ％）、連鎖移動剤としてメチラールをトリオキサン１ｍｏｌに対して１．５２×１０−３ｍｏｌを連続的に添加した以外は、ポリアセタール樹脂（ａ−１）の製造と同様の操作を行いポリアセタール樹脂（ａ−３）を得た。このようにして得られたポリアセタール樹脂（ａ−３）の融点は１６９．１℃、ＭＦＲは８ｇ／１０ｍｉｎであった。
【００６４】
〈タルク（ｂ）〉
ｂ−１：日本タルク株式会社製ＭＳ（表面未処理）
ｂ−２：（ｂ−１）日本タルク株式会社製ＭＳをアミノプロピルトリエトキシシラン１％で表面処理したもの
ｂ−３：日本タルク株式会社製Ｐ−３（表面未処理）
ｂ−４：日本タルク株式会社製Ｋ−１（表面未処理）
ｂ−５：日本タルク株式会社製ＭＳ−ＫＹ（表面未処理）
ｂ−６：窒化硼素
【００６５】
[実施例１〜３]                                                                  
ポリアセタール樹脂（ａ−１）１００質量部に、酸化防止剤としてトリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］０．３質量部及び、ギ酸捕捉剤としてジステアリン酸カルシウム０．１５質量部とヘンシェルミキサーを用いて均一に混合した。この混合物を２００℃に設定されたＬ／Ｄ＝３０の３０ｍｍベント付２軸押出機のメインフィード口からフィードし、メインフィード口の下流に設置されたサイドフィード口より表１に示した量のタルク（ｂ−１）をフィードし、スクリュー回転数１００ｒｐｍで溶融混錬することによりポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００６６】
[実施例４〜６]
サイドフィード口より表１に示したタルク（ｂ−２）をフィードした以外は実施例１同様に操作してポリアセタール樹脂ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００６７】
[実施例７〜９]
ポリアセタール樹脂（ａ−２）を用いた以外は実施例１同様に操作してポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００６８】
[実施例１０〜１２]
サイドフィード口より表１に示したタルク（ｂ−２）をフィードした以外は実施例７同様に操作してポリアセタール組成物樹脂ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。 
【００６９】
[実施例１３]
ポリアセタール樹脂（ａ−１）１００質量部に、酸化防止剤としてトリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］０．３質量部、ギ酸捕捉剤としてジステアリン酸カルシウム０．１５質量部及び、タルク（ｂ−１）０．０１質量部とをヘンシェルミキサーを用いて均一に混合した。この混合物を２００℃に設定されたＬ／Ｄ＝３０の３０ｍｍベント付２軸押出機のメインフィード口からフィードし、スクリュー回転数１００ｒｐｍで溶融混錬することによりポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７０】
[実施例１４]
ポリアセタール樹脂（ａ−１）９５質量部に、酸化防止剤としてトリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］０．３質量部及び、ギ酸捕捉剤としてジステアリン酸カルシウム０．１５質量部とヘンシェルミキサーを用いて均一に混合した。この混合物を２００℃に設定されたＬ／Ｄ＝３０の３０ｍｍベント付２軸押出機のメインフィード口からフィードし、メインフィード口の下流に設置されたサイドフィード口よりポリアセタール樹脂（ａ−１）５質量部及びタルク（ｂ−１）０．０１質量部をフィードし、スクリュー回転数１００ｒｐｍで溶融混錬することによりポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７１】
[実施例１５]
ポリアセタール樹脂（ａ−３）を用いた以外は実施例１同様に操作してポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７２】
[実施例１６]
ポリアセタール樹脂（ａ−１）１００質量部に、酸化防止剤としてトリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］０．３質量部及び、ギ酸捕捉剤としてジステアリン酸カルシウム０．１５質量部とヘンシェルミキサーを用いて均一に混合した。この混合物を２００℃に設定されたＬ／Ｄ＝３０の３０ｍｍベント付２軸押出機のメインフィード口からフィードし、メインフィード口の下流に設置されたサイドフィード口より表１に示した量のタルク（ｂ−１）及び（Ｃ）高分子潤滑剤「（ｃ−１）ポリオレフィン樹脂として、エチレン−ブテン共重合体（ブテン含量１０モル％、メルトフローレート７０ｇ／１０分（ＡＳＴＭ Ｄ−１２３８−５７Ｔ））、及び（ｃ−２）イソシアネート化合物とポリアルキレンオキサイドを重合して得られる重合体として、平均分子量２，０００のポリエチレングリコール８９質量部とジフェニルメタンジイソシアネート１１質量部」を３質量部フィードし、スクリュー回転数１００ｒｐｍで溶融混錬することによりポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。尚、（Ｃ）高分子潤滑剤のゲルパーメーションクロマトグラフ（クロロホルム溶媒）を用いて測定した、得られた樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は２００，０００であった（測定装置ｐｕｍｐ ＨＩＴＡＣＨＩ  ５１０）。
得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７３】
[比較例１] 
ポリアセタール樹脂（ａ−１）１００質量部に、酸化防止剤としてトリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］０．３質量部及び、ギ酸捕捉剤としてジステアリン酸カルシウム０．１５質量部とヘンシェルミキサーを用いて均一に混合した。この混合物を２００℃に設定されたＬ／Ｄ＝３０の３０ｍｍベント付２軸押出機のメインフィード口からフィードし、スクリュー回転数１００ｒｐｍで溶融混錬することによりポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７４】
[比較例２〜６]
ポリアセタール樹脂（ａ−１）１００質量部に、酸化防止剤としてトリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］０．３質量部及び、ギ酸捕捉剤としてジステアリン酸カルシウム０．１５質量部とヘンシェルミキサーを用いて均一に混合した。この混合物を２００℃に設定されたＬ／Ｄ＝３０の３０ｍｍベント付２軸押出機のメインフィード口からフィードし、メインフィード口の下流に設置されたサイドフィード口より表１に示した量の各種タルクをフィードし、スクリュー回転数１００ｒｐｍで溶融混錬することによりポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７５】
[比較例７]
ポリアセタール樹脂（ａ−２）を使用した以外は比較例１と同様に操作してポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７６】
[比較例８]
ポリアセタール樹脂（ａ−２）を使用した以外は比較例２と同様に操作してポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、タルク含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７７】
［比較例９］
サイドフィード口より窒化硼素（ｂ−６）０．０１質量部をフィードした以外は比較例２同様に操作してポリアセタール樹脂組成物ペレットを製造した。得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを前述の測定方法により、平均粒子径、窒素化硼素含有量、融点、ＭＦＲ、洗浄後のホルムアルデヒドガス発生速度、洗浄後の寸法精度及び洗浄後の摩耗量の評価を行った。
【００７８】
【表１】
0004903748.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明は上述のとおり、ポリアセタール樹脂が持つ機械物性バランスを有し、熱安定性に優れると共に、ランプ成形体に特有の洗浄後の熱安定性、洗浄後の寸法安定性及び、洗浄後の摩耗量に優れるために、ハードディスクのランプ成形体の分野で好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】ハードディスク内部機構図
【図２】ハードディスクランプ成形体の横方向からの図と寸法測定位置
【図１】
0004903748.tif 000004
【図２】
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