(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリルゴムを含む応力緩和層と、応力緩和層の両面に設けられ、アクリルゴムと熱硬化性樹脂を含む接着剤層と、を有し、
前記接着剤層に含まれるアクリルゴム含量が、アクリルゴムと熱硬化性樹脂との合計含量中の５〜９０質量％であることを特徴とする静電チャック装置用接着シート。
【請求項２】
前記応力緩和層がアクリルゴムと、シリコーンゴム以外のゴムとを含むことを特徴とする請求項１に記載の静電チャック装置用接着シート。
【請求項３】
請求項１または２に記載の静電チャック装置用接着シートを有することを特徴とする静電チャック装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電チャック装置用接着シート、および静電チャック装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造においては、半導体ウエハをプラズマエッチング装置などの加工装置の所定位置に固定する必要がある。特に、半導体ウエハ上に微細なパターンを描画し、多数の半導体素子を形成する集積回路の作製においては、半導体ウエハを確実に固定することが不可欠である。半導体ウエハを固定する手段として、機械式、真空式、および電気式のチャック装置が用いられている。これらの中でも、電気式チャック装置、すなわち、静電チャック装置は、平坦でない半導体ウエハであっても密着性よく固定できると共に、取扱いが簡単で、真空中でも使用できるという利点を有している。静電チャック装置は、絶縁体で挟まれた内部電極に電圧を印加し、これによって生ずる静電気を利用して被吸着物を吸着する。この際、内蔵するヒーターによって吸着（チャック）面を加熱し、ウエハを所望の温度に加熱してエッチングなどの処理が行われる。ウエハなどの被加熱物の加熱においては、これを高度に均一に加熱することが要求される。チャック面の温度分布の均一化を図ったセラミック製の静電チャックも報告されている（例えば、特許文献１、２）。
静電チャック装置のチャック面を構成する絶縁保持板を、薄いセラミック板にすることで、吸着力を高めることができる一方、静電チャック装置の熱履歴によりセラミック板の反りが顕在化する。その結果、ウエハの吸着力が低下するばかりでなく、ウエハの加熱斑を生じる原因となる。半導体ウエハの大型化および生産効率の向上に伴い、ウエハ加工時のプラズマ処理温度が高温化しているため、チャック面のセラミック板の反りを解決することが急務となっている。これまでにも、セラミック製絶縁板の反りを抑えるための提案がなされている（例えば、特許文献３）。
また、静電チャック装置は、チャック面のセラミック板と基盤とをシリコーンゴム系の接着剤で貼合したものが多い。このような静電チャック装置では、シリコーンウエハのエッチング工程およびプラズマクリーニング工程で、セラミック板と基盤の間の接着剤層がプラズマによりサイドエッチングを受けて侵食される。この結果、外周部と中央部では、前記接着剤の侵食部分の存在により、基盤とチャック面との熱伝導に差が生じる。また、シリコーン系ゴムはセラミック板と基盤の間の接着力が十分でなく、少しのサイドエッチングでも層間剥離の影響を受けやすかった。このような接着剤層の侵食にかかる問題に対する報告もなされている（例えば特許文献４）。
【特許文献１】特開平４−３５８０７４号公報
【特許文献２】特開２００５−３４７５５９号公報
【特許文献３】特開２００２−８３８６２号公報
【特許文献４】特開２０００−１１４３５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の技術では、チャック面のセラミック板の反りを十分に抑えることができなかった。また、シリコーンゴム系の接着剤では、プラズマによる侵食を有効に抑えることができなかった。
本発明は、ウエハの加熱斑の原因となるチャック面のセラミック板の反り発生を防止し、接着剤層のプラズマ侵食を解消できる静電チャック装置用接着シート、ならびに該接着シートを備え、ウエハの加熱斑を防止できる静電チャック装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の静電チャック装置用接着シートは、アクリルゴムを含む応力緩和層と、応力緩和層の両面に設けられ、アクリルゴムと熱硬化性樹脂を含む接着剤層と、を有することを特徴とする。
また、前記接着剤層に含まれるアクリルゴム含量が、アクリルゴムと熱硬化性樹脂との合計含量中の５〜９０質量％であることが好ましく、前記応力緩和層はアクリルゴムと、シリコーンゴム以外のゴムを含むことができる。
【０００５】
本発明の静電チャック装置は、前記静電チャック装置用接着シートを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、ウエハの加熱斑の原因となるチャック面のセラミック板の反り発生を防止し、接着剤層のプラズマ侵食を解消できる静電チャック装置用接着シート、ならびに該接着シートを備え、ウエハの加熱斑を防止できる静電チャック装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の実施形態について、一例を挙げて説明する。
＜静電チャック装置用接着シート＞
図１は本実施形態の静電チャック装置の断面図である。
本発明の静電チャック装置用接着シート１０は、応力緩和層１２の両面に第１接着剤層１４と第２接着剤層１６が積層されている。
【０００８】
応力緩和層１２は、アクリルゴムが含まれるゴム状弾性体であれば特に限定されることはなく、目的に応じて選択することができる。
応力緩和層１２に含まれるアクリルゴムは、（メタ）アクリル酸アルキルエステルの重合体、または該アルキルエステルを主成分とし、これに活性基を有する第二成分を共重合した共重合体を挙げることができる。このうち、（メタ）アクリル酸のアルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチルなどの１種または２種以上を挙げることができる。
また、活性基を有する第２成分としては、例えばジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニルクロルアセテート、アリルクロルアセテート、２−クロロエチルビニルエーテル、ビニルアクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルスチリルビニルシラン、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、アルキルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、２−クロロエチルアクリレート、モノクロル酢酸ビニル、ビニルノルボルネン、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などの１種または２種以上を挙げることができる。これらの活性基を有する第二成分は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルの１５質量％以下、好ましくは１０質量％以下の範囲で使用される。
さらに、アクリルゴム中には、第三成分として、アクリロニトリル、スチレン、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどの単量体の１種または２種以上を４０質量％以下併用することができる。
本発明のアクリルゴムの共重合方法は特に限定されず、通常の方法で製造されるが、質量平均分子量を１００万以上に重合するには溶液重合法では難しく、乳化重合法やパール重合法など、乳化剤を利用した方法で合成することが一般的である。使用に当たってはアクリルゴムの粉末をそのまま用いたり、有機溶媒に溶解して用いることができる。市販されている実用的なアクリルゴムを例示すれば、日本ゼオン株式会社製の「Ｎｉｐｏｌゴム」、帝国化学産業株式会社製の「テイサンゴム」、株式会社トウペ製「トアアクロン」、東亜合成化学株式会社製「アクロンゴム」などが挙げられる。
【０００９】
応力緩和層１２の厚さは特に規定されるものではなく、静電チャック装置の能力や規模にしたがって設定することができる。一般的には２０〜１５０μｍであることが好ましい。この範囲であると、長期間使用し接着剤層が劣化して収縮した場合も充分な応力緩和効果を有するからである。
応力緩和層１２にはアクリルゴム以外に、シリコーンゴムを除くゴムが含まれていても良い。例えば、ブチルゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、ウレタンゴム、天然ゴムなどを挙げることができる。また、応力緩和層１２におけるアクリルゴムの配合割合は、７０質量％未満であると応力緩和効果が得にくい。したがって、７０質量％以上配合することが好ましい。
また、応力緩和層１２には、目的に応じて酸化防止剤、フィラーなどが添加されていても良い。
【００１０】
第１接着剤層１４、第２接着剤層１６は、アクリルゴムと熱硬化性樹脂を含む。
アクリルゴムは前記応力緩和層１２と同様のものを使用することができる。第１接着剤層１４、第２接着剤層１６におけるアクリルゴム含量は特に規定されることはないが、５質量％未満であると耐プラズマ性が不充分となる恐れがあり、９０質量％を超えると充分な接着力が発現しにくい。したがって、５〜９０質量％であることが好ましく、１０〜９０質量％であることがより好ましい。
【００１１】
第１接着剤層１４、第２接着剤層１６に含まれる熱硬化性樹脂は特に規定されることはないが、エポキシ樹脂、フェノール樹脂を使用することが好ましい。
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノール型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、グリシジルエーテル型、グリシジルエステル型、グリシジルアミン型、トリヒドロキシフェニルメタン型、テトラグリシジルフェノールアルカン型、ナフタレン型、ジグリシジルジフェニルメタン型、ジグリシジルビフェニル型等の２官能または多官能エポキシ樹脂があげられるが、中でもビスフェノール型のものが好ましく、より好ましくはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である。
また、フェノール樹脂としては、アルキルフェノール樹脂、ｐ−フェニルフェノール樹脂、ビスフェノールＡ型フェノール樹脂等のノボラックフェノール樹脂およびレゾールフェノール樹脂、ポリフェニルパラフェノール樹脂等の公知のフェノール樹脂が挙げられる。特にノボラックフェノール樹脂が好ましく使用される。
これら熱硬化性樹脂は単独でも良いし、２種以上を用いてもよい。
【００１２】
第１接着剤層１４、第２接着剤層１６には、目的に応じて酸化防止剤、フィラーなどが添加されていても良い。また、エポキシ樹脂を用いる場合、熱硬化性接着剤層には、所望により、エポキシ樹脂用の硬化剤および硬化促進剤を含有させることができる。例えば、イミダゾール類、第３アミン類、フェノール類、ジシアンジアミド類、芳香族ジアミン類、有機過酸化物等を挙げることができる。
【００１３】
第１接着剤層１４、第２接着剤層１６の厚みは特に規定されることはなく、静電チャック装置の能力や規模にしたがって設定することができる。一般的には、第１接着剤層１４および第２接着剤層１６は、それぞれが２μｍ未満であると充分な接着力を得ることができにくく、２０μｍを超えると接着剤の硬化収縮が大きくなり、反りが大きくなりやすい。したがって、２〜２０μｍであることが好ましい。
また、第１接着剤層１４と第２接着剤層１６の構成や厚みは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。第１接着剤層１４と第２接着剤層１６の構成や厚みが同じである場合は、セラミック板の反りをより抑えることができる。
【００１４】
本実施形態の静電チャック装置用接着シート１０は、耐プラズマ性に優れ、かつ基盤ならびにセラミック板、電極との接着性に優れている。その結果、静電チャック装置用接着シート１０の、プラズマによる侵食および各部材との剥離を防止できる。
【００１５】
本発明の静電チャック装置用接着シート１０の製造方法は特に規定されることなく、既存の製造方法によって得ることができる。例えば、第２接着剤層１６となる接着剤を離型フィルムに塗布した後、加熱して第２接着剤層１６を構成するシートを得る。第１接着剤層１４、ならびに応力緩和層１２についても同様に、離型フィルムに塗布、加熱したシートを得る。ついで、得られた各シートの離型フィルムを剥がし、第２接着剤層１６に応力緩和層１２と第１接着剤層１４を順次積層する。全てのシートを積層した後、所定の条件で熱圧着することで、静電チャック装置用接着シート１０を得ることができる。
【００１６】
本発明の静電チャック装置用接着シートは上記実施形態に限定されるものではない。本発明の静電チャック装置用接着シートは３層の積層体に限られず、静電チャック装置の仕様や、使用方法に応じ４以上の層を有する積層体としても良い。
【００１７】
＜静電チャック装置＞
［第１の実施形態］
本発明の静電チャック装置の第１の実施形態について、図２を用いて説明する。図２は第１の実施形態の静電チャック装置２０の断面図である。また、説明の便宜上、各層は一定間隔を開けて図示している。実際の静電チャック装置では、各層が密着している。本実施形態の静電チャック装置２０は、基盤２６に前記静電チャック装置用接着シート１０、電極を内部に有するセラミック板２２が順に積層されている。電極は図示されない電源と接続されている。
【００１８】
ウエハを吸着固定するチャック面であるセラミック板２２は、電極を内部に有するものであり、かつ電気絶縁性および熱伝導性に優れ、溶剤に対する耐性があることが必要で、具体的にはアルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素、ジルコニア、ガラスなどが好ましく、表面が平滑なものが使用される。中でも安価なことからアルミナセラミックが好ましい。セラミック板２２の厚さは特に限定されないが、被吸着面の熱を逃しつつ十分な耐久性を確保する観点から、０．０５〜２．０ｍｍ、より好ましくは０．１〜２．０ｍｍである。０．０５ｍｍ未満であると圧着時に壊れやすく、２．０ｍｍより厚いと静電吸着力が低下する。
【００１９】
セラミック板２２の内部に設けられている電極の材質は、金属箔等の導電材料であればよい。電極は電圧を印加した際に吸着力を発生できる導電性の材質であれば如何なるものでも使用することができる。導電性の材質として、金属の薄膜が好ましく、具体的には、蒸着、メッキまたはスパッタリング等によって形成した金属薄膜、銅箔等の金属箔、導電性ペーストで形成した薄層等である。これらに使用することが好ましい金属材は、銅、アルミニウム、金、銀、白金、クロム、ニッケル、タングステンなどが挙げられる。特に、蒸着、メッキまたはスパッタリング等で形成した金属薄膜、銅箔等の金属箔が好ましく使用される。
【００２０】
基盤２６は特に限定されないが、プラズマに侵されない材質であれば、特に限定されずに使用できる。例えば、アルミニウムを基材として、表面にセラミック溶射、アルマイト処理等の表面処理を施したものが好ましく使用される。なお、基盤２６には、必要に応じて、恒温水などを通す調温手段、ウエハ冷却用ガスを通すガス孔、および電極に電圧を印加する手段等を設けることが好ましい。
【００２１】
本実施形態の静電チャック装置２０は、セラミック板２２と静電チャック装置用接着シート１０との接着性が高い。また、静電チャック装置用接着シート１０は耐プラズマ性が高く、サイドエッチングによる侵食が少ない。また、応力緩和層１２の復元力によって、長時間にわたりセラミック板２２の反りを防止することができる。セラミック板２２の反りを解消した結果、チャック面の温度斑を抑え、ウエハへのエッチングレート差を防止することができる。
【００２２】
［第２の実施形態］
次に、本発明の静電チャック装置の第２の実施形態について、図３を用いて説明する。図３は第２の実施形態の静電チャック装置３０の断面図である。また、説明の便宜上、各層は一定間隔を開けて図示している。実際の静電チャック装置では、各層が密着している。本実施形態の静電チャック装置３０は、基盤２６に前記静電チャック装置用接着シート１０、ポリイミドフィルム３８、電極３６、接着剤層３４、セラミック板３２が順に積層されている。電極は図示されない電源と接続されている。
【００２３】
セラミック板３２は、電気絶縁性および熱伝導性に優れ、溶剤に対する耐性があることが必要で、具体的にはアルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素、ジルコニア、ガラスなどが好ましく、表面が平滑なものが使用される。中でも安価なことからアルミナセラミックが好ましい。セラミック板３２の厚さは特に限定されないが、被吸着面の熱を逃しつつ十分な耐久性を確保する観点から、０．０５〜２．０ｍｍ、より好ましくは０．１〜２．０ｍｍである。０．０５ｍｍ未満であると圧着時に壊れやすく、２．０ｍｍより厚いと静電吸着力が低下する。
【００２４】
電極３６はポリイミドフィルム３８に、所定のパターン状にスパッタリングして形成されたもので、導電性材料からなる。例えば、ニッケル、クロム、アルミニウム、銅等が挙げられる。
【００２５】
ポリイミドフィルム３８は特に限定されることはなく、例えば「カプトン」（商品名、東レ・デュポン株式会社製）、「アピカル」（商品名、株式会社カネカ製）、「ユーピレックス」（商品名、宇部興産株式会社製）等を例示することができる。
ポリイミドフィルム３８の厚さは特に限定されないが、１０〜７５μｍが好ましく、１０〜５０μｍがより好ましい。熱伝導性の観点からは薄い方が好ましいが、機械的強度、耐電圧および耐久性を考慮すると、２５〜５０μｍが特に好ましい。
【００２６】
接着剤層３４の接着剤の組成は、接着性、耐熱性の高いものであれば特に限定されることはないが、耐プラズマ性の観点から、第１の実施形態における第１接着剤層、第２接着剤層と同様のものを用いることが好ましい。接着剤層３４の厚さは特に限定されないが、熱伝導性と接着性を考慮すると５〜１００μｍであることが好ましく、５〜５０μｍがより好ましく、５〜３０μｍが更に好ましい。
【００２７】
本実施形態の静電チャック装置３０において、静電チャック装置用接着シート１０は耐プラズマ性が高く、サイドエッチングによる侵食が少ない。また、ポリイミドフィルム３８を介してセラミック板３２と積層されていても、応力緩和層１２の復元力によって、長時間にわたりセラミック板３２の反りを防止することができる。セラミック板３２の反りを解消した結果、チャック面の温度斑を抑え、ウエハへのエッチングレート差を防止することができる。
【実施例】
【００２８】
以下、本発明について実施例を挙げて具体的に説明するが、実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
＜接着剤層の製造＞
アクリルゴム（日本ゼオン株式会社製、Ｎｉｐｏｌ  ＡＲ７１）５０質量部と、エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製、ＪＥＲ８２８）２５質量部と、レゾールフェノール樹脂（昭和高分子株式会社製、ショウノールＣＫＭ−９０８Ａ）２５質量部とに、触媒として２エチル−４メチルイミダゾール１質量部を添加した組成物を接着剤に用いた。
前記の組成物をメチルエチルケトンに溶解して固形分が３０質量％の接着剤塗料を調製し、離型性ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ３８μｍ）の片面に塗布した後、１５０℃で３分間加熱乾燥して、厚さ１０μｍの接着剤層を作製した。
＜応力緩和層の製造＞
アクリルゴム（日本ゼオン株式会社製、Ｎｉｐｏｌ  ＡＲ７１）７０質量部、アクリロニトリルブタジエンゴム（日本ゼオン株式会社製、商標名：Ｎｉｐｏｌ １００１）３０質量部とをメチルエチルケトンに溶解して固形分が３０質量％の塗料を調製し、離型性ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ３８μｍ）の片面に塗布した後、１５０℃で３分間加熱乾燥して、厚さ２５μｍのシートを作製した。この厚さ２５μｍのシートを４枚使用して、ラミネート機（株式会社エム・シー・ケー製、ＦＰＣ−６００ＤＦ）で９０℃、１ｍ／ｍｉｎ、０．１ＭＰａの条件で熱圧着して、厚さ１００μｍの応力緩和層を作成した。
＜静電チャック装置用接着シートの製造＞
接着剤層、応力緩和層、接着剤層をラミネート機（株式会社エム・シー・ケー製、ＦＰＣ−６００ＤＦ）で８０℃、１ｍ／ｍｉｎ、０．１ＭＰａの条件で順次熱圧着して、接着剤層／応力緩和層／接着剤層＝１０μｍ／１００μｍ／１０μｍの静電チャック装置用接着シートを製造した。
＜静電チャック装置の製造＞
得られた静電チャック装置用接着シートを１００ｍｍ×１００ｍｍに裁断した後、１００ｍｍ×１００ｍｍ×５ｍｍのアルミニウム基盤に貼着し、さらに電極入りセラミック板を貼り合わせて静電チャック装置を製造した。
静電チャック装置用接着シートとアルミニウム基盤および該接着シートとセラミック板の貼り合わせは、１５０℃／３０分間の真空プレス（圧力条件：０．１ＭＰａ）で行い、真空プレス作業後に接着剤層の接着剤の熱硬化を完了させるために通風オーブン内で１５０℃で１２時間の熱処理を施した。
【００２９】
（実施例２）
応力緩和層を５０μｍとした以外は実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３０】
（実施例３）
応力緩和層を２００μｍとした以外は実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３１】
（実施例４）
接着剤層を２μｍとした以外は実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３２】
（実施例５）
接着剤層を２０μｍとした以外は実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３３】
（実施例６）
接着剤層の組成物として、アクリルゴム（日本ゼオン株式会社製、Ｎｉｐｏｌ  ＡＲ７１）１０質量部と、エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製、ＪＥＲ８２８）４５質量部と、レゾールフェノール樹脂（昭和高分子株式会社製、ショウノールＣＫＭ−９０８Ａ）４５質量部とに対し、触媒として２エチル−４メチルイミダゾールを１質量部添加した組成物を用いて接着剤層を製造した以外は、実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３４】
（実施例７）
接着剤層の組成物として、アクリルゴム（日本ゼオン株式会社製、Ｎｉｐｏｌ  ＡＲ７１）９０質量部と、エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製、ＪＥＲ８２８）５質量部、レゾールフェノール樹脂（昭和高分子株式会社製、ショウノールＣＫＭ−９０８Ａ）５質量部とに、触媒として２エチル−４メチルイミダゾール１質量部を添加した組成物を用いて接着剤層を製造した以外は、実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３５】
（実施例８）
応力緩和層の組成物として、アクリルゴム（日本ゼオン株式会社製、Ｎｉｐｏｌ  ＡＲ７１）１００質量部をメチルエチルケトンに溶解して固形分が３０質量％の塗料を調製した以外は、実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３６】
（比較例１）
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｂ２３２４）をメチルエチルケトンに溶解して固形分が２５質量％の接着剤塗料を調製し、離型性ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ３８μｍ）の片面に塗布した後、１５０℃で３分間加熱乾燥して、厚さ２５μｍのシートを製造した。
得られたシートを用い、実施例１と同様に厚さ１００μｍの応力緩和層を製造した。接着剤層を設けなかった以外は、実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３７】
（比較例２）
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｂ２３２４）５０質量部と、エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製、ＪＥＲ８２８）２５質量部、レゾールフェノール樹脂（昭和高分子株式会社製、ショウノールＣＫＭ−９０８Ａ）２５質量部とに、触媒として２エチル−４メチルイミダゾール１部添加した組成物を用いて接着剤層を製造した以外は、実施例１と同様にして、静電チャック装置を製造した。
【００３８】
（比較例３）
比較例１で得られた応力緩和層を用いた以外は、実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００３９】
（比較例４）
接着剤層を設けなかった以外は、実施例１と同様にして静電チャック装置を製造した。
【００４０】
上記実施例１〜７および比較例１〜４によって得られた静電チャック装置を用い、接着力、平面度、および耐プラズマ性を以下の方法で試験した。それぞれの試験結果は表１に示す。
（接着性）
＜試験方法＞
製造した静電チャック装置を１５０℃のオーブンに１０００時間加熱した後、接着剤層とセラミック板および基盤の層間で膨れ、剥がれなどの有無を確認した。
＜判断基準＞
○・・・・・膨れ、剥がれなし
△・・・・・一部剥がれているが、平面度に影響なし
×・・・・・著しい膨れ、剥がれあり
【００４１】
（平面度）
＜試験方法＞
製造した静電チャック装置を、画像測定システム（株式会社ニコン製、ＮＥＸＩＶ  ＶＭＲ−６５５５）により、静電チャック装置のセラミック板全面にわたりＺ軸方向を測定して、その最高値と最低値の差を平面度とした。測定は、１５０℃、１０００時間加熱の前後で実施した。
＜判断基準＞
前記加熱前後の平面度の差異を用いて、以下の基準で評価を行った。
○・・・・・１０μｍ以下
△・・・・・１０μｍを超えて、２０μｍ未満
×・・・・・２０μｍ以上
【００４２】
（耐プラズマ性）
＜試験方法＞
製造した静電チャック装置をプラズマ発生装置（反応性スパッタエッチング方式）内に設置し、２４時間、プラズマ発生させた。プラズマ条件は、ＲＦ出力：２．５ｋＷ、１３．５６ＭＨｚガス圧力：１．３３×１０−３Ｐａ、反応性ガス：ＣＦ４、Ｏ２であった。この条件下のプラズマに１０００時間暴露し、初期値と比較して接着剤層の端面からの侵食を比較した。
＜判断基準＞
プラズマ侵食距離を計測し、以下の基準で評価を行った。
○・・・・・１μｍ以下
△・・・・・１μｍを超えて、１０μｍ未満
×・・・・・１０μｍ以上
【００４３】
【表１】
0004948337.tif 000002
【００４４】
実施例１〜８の結果から、本発明の静電チャック装置は接着性、平面性、耐プラズマ性の全てにおいて良好な結果であった。特に、耐プラズマ性はシリコーンゴムと比較して、改善されていることがわかった。一方の比較例１〜４は、いずれかの試験項目で不良な結果であった。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の静電チャック装置用接着シートの断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態にかかる静電チャック装置の断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態にかかる静電チャック装置の断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０         静電チャック装置用接着シート
１２         応力緩和層
１４         第１接着剤層
１６         第２接着剤層
２０、３０    静電チャック装置
【図１】
0004948337.tif 000003
【図２】
0004948337.tif 000004
【図３】
0004948337.tif 000005