(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平に保持するチャックと、マスクを前記チャックに保持された基板へ向き合わせて保持するマスクホルダとを備え、マスクのパターンを基板へ焼き付ける露光装置であって、
前記マスクホルダは、マスクの四辺の各周辺部を保持する４つの独立したホルダ部を有し、
前記マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を、少なくとも３点でそれぞれ支持する支持手段と、
前記支持手段の各ホルダ部を支持する点の高さを調整する第１の機構を有し、該第１の機構により前記支持手段の各ホルダ部を支持する点の高さを調整して、前記支持手段に支持された各ホルダ部を傾斜させ、また前記支持手段に支持された各ホルダ部を傾斜させる角度を変更する第１の調整手段と、
前記マスクホルダの前記支持手段により支持されていない向かい合う２つのホルダ部をそれぞれ保持して移動する移動手段と、
前記移動手段の角度を調整する第２の機構を有し、該第２の機構により前記移動手段の角度を調整して、前記移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させ、また前記移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させる角度を変更する第２の調整手段とを備え、
前記第１の調整手段及び前記第２の調整手段により各ホルダ部を傾斜させて、マスクに重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与え、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いるとき、マスクの大きさに応じて、前記移動手段によりマスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を移動し、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、前記第１の調整手段及び前記第２の調整手段により各ホルダ部を傾斜させる角度を変更して、マスクに与える湾曲を変えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の露光を行う露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてフォトマスク（以下、「マスク」と称す）のパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
大型の基板を対象とした露光装置では、基板を水平に置いた状態で露光を行うのが一般的である。その場合、マスクはマスクホルダにより基板の上方に基板へ向き合わせて保持され、マスクには重力によってたわみが発生する。マスクにたわみが発生すると、基板へのパターンの焼付けが均一に行われない。
【０００４】
従来、マスクのたわみを小さくするために、例えば特許文献１に記載の様に、マスクの二辺の近傍を下方から支持し、マスクの二辺の縁部を上方から押圧することによって、マスクのたわみを機械的に矯正する方法が行われていた。また、近年では、例えば特許文献２に記載の様に、マスク上面に負圧室を設け、マスクに単位面積当たりの質量を相殺する負圧をかけることによって、マスクのたわみを抑制する方法も行われている。
【特許文献１】特開２００１−１０９１６０号公報
【特許文献２】特開２００３−１３１３８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、マスクも大型化し、マスクの重力によるたわみが大きくなってきた。マスクが大型化しても、露光時に要求されるパターンの焼付け精度は従来と同様であり、マスクのたわみを所定以下に抑制して、パターンの焼付け精度を保つ必要がある。しかしながら、従来の方法では、マスクが大型化してたわみが大きくなるにつれ、マスクのたわみを十分に抑制することができなくなってきた。
【０００６】
また、近年、表示用パネルの需要増大に伴い基板の大きさが多様化し、多様な大きさのマスクが使用される様になってきた。従来、異なる大きさの基板の露光を行うには、露光装置のマスクホルダをマスクの大きさに合わせて交換する必要があった。そして、マスクの大きさによって異なる大きさのたわみを抑制する必要があった。
【０００７】
本発明の課題は、マスクの重力によるたわみを効果的に抑制することである。さらに、本発明の課題は、マスクの重力によるたわみの大きさが異なっても、マスクのたわみを効果的に抑制することである。また、本発明の課題は、パターンの焼付けを均一に行って、高品質な基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の露光装置は、基板を水平に保持するチャックと、マスクをチャックに保持された基板へ向き合わせて保持するマスクホルダとを備え、マスクのパターンを基板へ焼き付ける露光装置であって、マスクホルダが、マスクの四辺の各周辺部を保持する４つの独立したホルダ部を有し、マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を、少なくとも３点でそれぞれ支持する支持手段と、支持手段の各ホルダ部を支持する点の高さを調整する第１の機構を有し、第１の機構により支持手段の各ホルダ部を支持する点の高さを調整して、支持手段に支持された各ホルダ部を傾斜させ、また支持手段に支持された各ホルダ部を傾斜させる角度を変更する第１の調整手段と、マスクホルダの支持手段により支持されていない向かい合う２つのホルダ部をそれぞれ保持して移動する移動手段と、移動手段の角度を調整する第２の機構を有し、第２の機構により移動手段の角度を調整して、移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させ、また移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させる角度を変更する第２の調整手段とを備え、第１の調整手段及び前記第２の調整手段により各ホルダ部を傾斜させて、マスクに重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与え、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いるとき、マスクの大きさに応じて、移動手段によりマスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を移動し、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、第１の調整手段及び第２の調整手段により各ホルダ部を傾斜させる角度を変更して、マスクに与える湾曲を変えるものである。各ホルダ部を傾斜させて、マスクに重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与えるので、マスクの重力によるたわみが逆方向の湾曲により打ち消され、マスクのたわみが効果的に抑制される。
【０００９】
さらに、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、各ホルダ部を傾斜させる角度を変更するので、マスクの重力によるたわみの大きさが異なっても、ホルダ部を傾斜させる角度を変更することにより、マスクに与える湾曲を変えることが可能となる。
【００１０】
さらに、マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を少なくとも３点でそれぞれ支持する支持手段を備え、第１の調整手段が、支持手段の各ホルダ部を支持する点の高さを調整する第１の機構を有するので、簡単な構成で、マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部が傾斜され、またはホルダ部を傾斜させる角度が変更される。
【００１１】
さらに、マスクホルダの他の向かい合う２つのホルダ部を保持して移動する移動手段を備え、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いるとき、マスクの大きさに応じて、移動手段によりマスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を移動するので、従来の様にマスクホルダをマスクの大きさに合わせて交換する必要がなく、異なる大きさのマスクの交換が短時間で容易に行われる。そして、移動手段の角度を調整する簡単な作業で、ホルダ部が傾斜され、またはホルダ部を傾斜させる角度が変更される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、マスクホルダを、マスクの四辺の各周辺部を保持する４つの独立したホルダ部に分割し、各ホルダ部を傾斜させて、マスクに重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与えることにより、マスクの重力によるたわみを逆方向の湾曲により打ち消し、マスクのたわみを効果的に抑制することができる。
【００１４】
さらに、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、各ホルダ部を傾斜させる角度を変更することにより、マスクの重力によるたわみの大きさが異なっても、マスクのたわみを効果的に抑制することができる。
【００１５】
さらに、マスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を少なくとも３点でそれぞれ支持し、各点の高さを調整することにより、簡単な構成で、ホルダ部を傾斜させることができ、またはホルダ部を傾斜させる角度を変更することができる。
【００１６】
さらに、マスクホルダの他の向かい合う２つのホルダ部を保持して移動する移動手段を設け、移動手段の角度を調整して、移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させ、また移動手段に保持された各ホルダ部を傾斜させる角度を変更し、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いるとき、マスクの大きさに応じて、移動手段によりマスクホルダの向かい合う２つのホルダ部を移動し、マスクの重力によるたわみの大きさに応じて、ホルダ部を傾斜させる角度を変更することにより、異なる大きさのマスクの交換を短時間で容易に行うことができ、移動手段の角度を調整する簡単な作業で、ホルダ部を傾斜させることができ、またはホルダ部を傾斜させる角度を変更することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、プロキシミティ方式の露光装置の例を示している。露光装置は、チャック１０、ステージ１１、ホルダフレーム２０、マスクホルダ、ホルダ部支持装置、ホルダ部移動装置、及び調整機構を含んで構成されている。なお、露光装置は、これらの他に、露光用光源、チャック１０へ基板１を供給する供給ユニット、チャック１０から基板１を回収する回収ユニット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えているが、本実施の形態では発明に直接関係しない部分は省略してある。
【００１９】
露光対象である基板１が、チャック１０に搭載されている。チャック１０は、基板１の下面を真空吸着して、基板１を水平に保持する。基板１の上方には、マスク２がマスクホルダによって保持されている。マスクホルダは、マスク２の周辺部を保持する複数の独立したホルダ部２４ａ，２４ｂから成り、マスク２をチャック１０に保持された基板１へ向き合わせて保持する。ホルダ部２４ａは、後述するホルダ部支持装置により、ホルダフレーム２０に取り付けられている。また、ホルダ部２４ｂは、後述するホルダ部移動装置により、ホルダフレーム２０に移動可能に取り付けられている。
【００２０】
ステージ１１は、チャック１０を搭載しながら、ＸＹ方向へ移動し、θ方向へ回転し、またＺ方向へ移動及びチルトする。ステージ１１のＸＹ方向への移動及びθ方向への回転によって、基板１のアライメントが行われる。また、ステージ１１のＺ方向への移動及びチルトによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。
【００２１】
なお、本実施の形態では、ステージ１１によりマスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、ホルダ部２４ａ，２４ｂが取り付けられたホルダフレーム２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００２２】
図２は、ホルダフレームの上面図である。また、図３は、ホルダフレームの下面図である。ホルダフレーム２０は、フレーム２１ａ，２１ｂ、及びプレート２２ａ，２２ｂを含んで構成されている。フレーム２１ａ，２１ｂは、断面がＩ字形の形材であり、図２に示す様に、２つフレーム２１ａと２つのフレーム２１ｂとが組み合わされて、四角形の枠を構成している。フレーム２１ａ，２１ｂにより構成された四角形の枠の底面には、図３に示す様に、２つの略コの字形のプレート２２ａと、２つの四角形のプレート２２ｂとが取り付けられている。
【００２３】
図３において、プレート２２ａは、破線で示す四角形の枠の左右に取り付けられており、一部が四角形の枠の内側へ迫り出している。プレート２２ｂは、２つのプレート２２ａに挟まれ、破線で示す四角形の枠の上下に取り付けられており、一部が四角形の枠の内側及び外側へ迫り出している。プレート２２ａが四角形の枠の内側へ迫り出した部分と、プレート２２ｂが四角形の枠の内側へ迫り出した部分とにより、四角形の枠の内側に四角形の開口が形成されている。
【００２４】
図４は、図２の矢印Ｄで示す方向に見たホルダフレームの側面図である。また、図５は、図２の矢印Ｅで示す方向に見たホルダフレームの側面図である。フレーム２１ａ，２１ｂにより構成された四角形の枠の側面には、断面がＩ字形の形材を覆って板材が取り付けられており、形材自身の側面は見えない。図４及び図５に示す様に、プレート２２ｂが四角形の枠の外側へ迫り出した部分には、補強板２３が取り付けられている
【００２５】
図６は、ホルダ部が取り付けられたホルダフレームの上面図である。また、図７は、ホルダ部が取り付けられたホルダフレームの下面図である。ホルダ部２４ａは、図７に示す様に、支持アーム３１及び支持ブロック３３を含むホルダ部支持装置により、プレート２２ａの下面に取り付けられている。ホルダ部支持装置は、１つのホルダ部２４ａを４点で支持し、ホルダ部２４ａを支持する４点の高さは、後述する調整機構により調整される。なお、本実施の形態では、ホルダ部支持装置が１つのホルダ部２４ａを４点で支持しているが、本発明はこれに限らず、１つのホルダ部２４ａを少なくとも３点で支持すればよい。
【００２６】
ホルダ部２４ｂは、図６及び図７に示す様に、ガイドベース４１、レール４２及びリニアガイド４３を含むホルダ部移動装置により、プレート２２ｂの下面に移動可能に取り付けられている。ホルダ部移動装置は、ホルダ部２４ｂを保持して移動し、ホルダ部移動装置の角度は、後述する調整機構により調整される。なお、図７において、ホルダ部移動装置は、その大部分がホルダ部２４ｂの上方に位置し、破線で示されている。
【００２７】
ホルダ部２４ｂは２つのホルダ部２４ａに挟まれ、ホルダ部２４ａとホルダ部２４ｂとにより、プレート２２ａとプレート２２ｂとで形成された開口の内側に、露光光が通る四角形の開口が形成されている。図７に示す様に、四角形のマスク２がこの開口を覆ってホルダ部２４ａ，２４ｂに取り付けられ、ホルダ部２４ａ，２４ｂは、四角形のマスク２の四辺の周辺部を保持する。
【００２８】
図８は、図６のＡ−Ａ部の断面図である。本実施の形態では、後述する調整機構により、ホルダ部支持装置がホルダ部２４ａを支持する４点の高さを調整して、ホルダ部２４ａを水平に対して角度αだけ傾斜させる。また、図９は、図６のＢ−Ｂ部の断面図である。本実施の形態では、後述する調整機構により、ホルダ部２４ｂを保持して移動するホルダ部移動装置の角度を調整して、ホルダ部２４ｂを水平に対して角度βだけ傾斜させる。この様にホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させることにより、マスク２に重力によるたわみと逆方向へ湾曲が与えられる。この湾曲によって、マスク２の重力によるたわみが打ち消され、マスク２のたわみが効果的に抑制される。
【００２９】
以下、本実施の形態によるホルダ部支持装置、ホルダ部移動装置及び調整機構の詳細を説明する。図１０は、図６からホルダフレームを取り除いた状態で見たホルダ部支持装置、ホルダ部移動装置及び調整機構の上面図である。図１１（ａ）は図１０のＦ−Ｆ部の断面図、図１１（ｂ）は図１０の矢印Ｇで示す方向に見たホルダ部支持装置及び調整機構の側面図である。
【００３０】
ホルダ部２４ａを支持するホルダ部支持装置は、支持アーム３１、ボール受け３２ａ、支持ブロック３３、調整ボルト３５、ロックナット３６、ボール３７、平座金３８、及びねじ３９を含んで構成されている。また、ホルダ部支持装置のホルダ部２４ａを支持する点の高さを調整する調整機構は、ねじ穴３４、調整ボルト３５、及びロックナット３６を含んで構成されている。
【００３１】
図１１（ａ）において、ホルダ部２４ａは、吸着溝２５によりマスク２の周辺部を真空吸着して保持している。ホルダ部２４ａには、略Ｌ字形の支持アーム３１が、Ｌ字を逆さにした状態で取り付けられている。支持アーム３１の横方向に伸びたアーム部の下面には、ボール受け３２ａが頭部を下にして埋め込まれている。ボール受け３２ａの頭部は平らに加工されている。
【００３２】
図１１（ｂ）において、破線で示すプレート２２ａには、略Ｕ字形の支持ブロック３３が取り付けられている。図１１（ａ）において、支持ブロック３３の底部には、貫通したねじ穴３４が形成されている。調整ボルト３５が、ねじ穴３４にねじ込まれ、ロックナット３６で固定されている。調整ボルト３５の頭部には、破線で示す円錐状の窪みが形成されている。この窪みにはボール３７が入れられており、ボール３７は、ボール受け３２ａの頭部に接触して、支持アーム３１が取り付けられたホルダ部２４ａを点で支持している。
【００３３】
支持ブロック３３の底部には、ねじ穴３４の他に、ねじが切られていない貫通孔が設けられている。貫通孔には、平座金３８を介してねじ３９が挿入され、ねじ３９は、支持アーム３１の横方向に伸びたアーム部に設けられたねじ穴４０にねじ込まれている。このねじ３９は、振動等によってボール３７がボール受け３２ａの頭部から外れるのを防止するためのものである。
【００３４】
調整機構による調整では、まず、事前にねじ３９を緩める。そして、ロックナット３６を緩め、ねじ穴３４にねじ込まれている調整ボルト３５のねじ込み量を変えて、ボール３７の高さを上下し、ホルダ部２４ａを支持する点の高さを調整する。そして、ロックナット３６を締めて、調整ボルト３５を固定する。調整後、再びねじ３９を締める。
【００３５】
図１２（ａ）は図１０のＨ−Ｈ部の断面図、図１２（ｂ）は図１０の矢印Ｊで示す方向に見たホルダ部支持装置及び調整機構の側面図である。図１１との相違は、図１１に示したボール受け３２ａの代わりに、ボール受け３２ｂを用いている点である。ボール受け３２ｂの頭部には、図１２（ａ），（ｂ）に破線で示す断面がＶ字形の溝が形成されている。この溝を、図１０の矢印Ｊに示す方向に配置することにより、溝と直交する方向において、ホルダ部２４ａの移動を制限し、ホルダ部２４ａの位置決めを行うことができる。なお、図１０において、ホルダ部２４ａはホルダ部支持装置により４点で支持されているが、図１２に示したボール受け３２ｂを用いて位置決めを行うのは、Ｈ−Ｈ部の１点だけでよい。もう１つのホルダ部２４ａについても、同様である。
【００３６】
図１３は、図６のＣ−Ｃ部の断面図である。ホルダ部２４ｂを保持して移動するホルダ部移動装置は、ガイドベース４１、レール４２、及びリニアガイド４３を含んで構成されている。また、ホルダ部移動装置の角度を調整する調整機構は、ねじ穴４４、調整ボルト４５、ロックナット４６、球面座金４７、平座金４８、ねじ４９、及びねじ穴５０及びを含んで構成されている。
【００３７】
図１３において、ホルダ部２４ｂは、吸着溝２５によりマスク２の周辺部を真空吸着して保持している。ホルダ部２４ｂには、リニアガイド４３が取り付けられている。リニアガイド４３は、ガイドベース４１に取り付けられたレール４２に沿って移動可能となっている。異なる大きさの基板を露光するために、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いたいという要求が高い。本実施の形態では、縦又は横の大きさが異なるマスクを用いる場合に、マスク２の大きさに応じて、ホルダ部移動装置によりホルダ部２４ｂを移動する。従来の様にマスクホルダをマスクの大きさに合わせて交換する必要がなく、異なる大きさのマスクの交換が短時間で容易に行われる。
【００３８】
プレート２２ｂには、複数の貫通したねじ穴４４が形成されている。調整ボルト４５が、ねじ穴４４にねじ込まれ、ロックナット４６で固定されている。調整ボルト４５の先端は、ねじ穴４４から突き出て、ガイドベース４１に埋め込まれた球面座金４７に接触している。球面座金４７を用いることにより、ガイドベース４１に不要な応力を加えることなく、ガイドベース４１を傾けることができる。調整ボルト４５には、ねじが切られていない貫通孔が設けられている。貫通孔には、平座金４８を介してねじ４９が挿入され、ねじ４９は、ガイドベース４１に設けられたねじ穴５０にねじ込まれている。
【００３９】
調整機構による調整では、まず、事前にねじ４９を緩める。そして、ロックナット４６を緩め、ねじ穴４４にねじ込まれている調整ボルト４５のねじ込み量を複数のねじ穴４４で互いに変えて、調整ボルト４５の先端が球面座金４７に接触する高さを変える。ホルダ部移動装置の角度を調整する。そして、ロックナット４６を締めて、調整ボルト４５を固定する。調整後、再びねじ４９を締める。
【００４０】
図１１乃至図１３に示した調整機構では、調整ボルト３５，４５のねじ込み量を変えることにより、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させる角度を変更することができる。そこで、本実施の形態では、マスク２の重力によるたわみの大きさに応じて、調整ボルト３５，４５のねじ込み量を変え、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させる角度を変更する。マスク２の重力によるたわみの大きさが異なっても、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させる角度を変更することにより、マスク２に与える湾曲を変えることが可能となる。
【００４１】
以上説明した実施の形態によれば、マスクホルダを、マスク２の周辺部を保持する複数の独立したホルダ部２４ａ，２４ｂに分割し、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させて、マスク２に重力によるたわみと逆方向へ湾曲を与えることにより、マスク２の重力によるたわみを逆方向の湾曲により打ち消し、マスク２のたわみを効果的に抑制することができる。
【００４２】
さらに、以上説明した実施の形態によれば、ホルダ部２４ａ，２４ｂを傾斜させる角度を変更することにより、マスク２の重力によるたわみの大きさが異なっても、マスク２のたわみを効果的に抑制することができる。
【００４３】
さらに、以上説明した実施の形態によれば、１つのホルダ部２４ａを少なくとも３点で支持し、各点の高さを調整することにより、簡単な構成で、ホルダ部２４ａを傾斜させることができ、またはホルダ部２４ａを傾斜させる角度を変更することができる。
【００４４】
さらに、以上説明した実施の形態によれば、ホルダ部２４ｂを保持して移動するホルダ部移動装置を設け、ホルダ部移動装置の角度を調整して、ホルダ部２４ｂを傾斜させ、またはホルダ部２４ｂを傾斜させる角度を変更することにより、異なる大きさのマスクの交換を短時間で容易に行うことができ、ホルダ部移動装置の角度を調整する簡単な作業で、ホルダ部２４ｂを傾斜させることができ、またはホルダ部２４ｂを傾斜させる角度を変更することができる。
【００４５】
本発明の露光装置又は露光方法を用いて基板の露光を行うことにより、マスクのたわみを抑制することができるので、パターンの焼付けを均一に行って、高品質な基板を製造することができる。
【００４６】
例えば、図１４は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、ガラス基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、ガラス基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４７】
また、図１５は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、ガラス基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００４８】
図１４に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１５に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明の露光装置又は露光方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】ホルダフレームの上面図である。
【図３】ホルダフレームの下面図である。
【図４】図２の矢印Ｄで示す方向に見たホルダフレームの側面図である。
【図５】図２の矢印Ｅで示す方向に見たホルダフレームの側面図である。
【図６】ホルダ部が取り付けられたホルダフレームの上面図である。
【図７】ホルダ部が取り付けられたホルダフレームの下面図である。
【図８】図６のＡ−Ａ部の断面図である。
【図９】図６のＢ−Ｂ部の断面図である。
【図１０】図６からホルダフレームを取り除いた状態で見たホルダ部支持装置、ホルダ部移動装置及び調整機構の上面図である。
【図１１】図１１（ａ）は図１０のＦ−Ｆ部の断面図、図１１（ｂ）は図１０の矢印Ｇで示す方向に見たホルダ部支持装置及び調整機構の側面図である。
【図１２】図１２（ａ）は図１０のＨ−Ｈ部の断面図、図１２（ｂ）は図１０の矢印Ｊで示す方向に見たホルダ部支持装置及び調整機構の側面図である。
【図１３】図６のＣ−Ｃ部の断面図である。
【図１４】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図１５】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００５０】
１  基板
２  マスク
１０  チャック
１１  ステージ
２０  ホルダフレーム
２１ａ，２１ｂ  フレーム
２２ａ，２２ｂ  プレート
２３  補強板
２４ａ，２４ｂ  ホルダ部
２５  吸着溝
３１  支持アーム
３２ａ，３２ｂ  ボール受け
３３  支持ブロック
３４  ねじ穴
３５  調整ボルト
３６  ロックナット
３７  ボール
３８  平座金
３９  ねじ
４０  ねじ穴
４１  ガイドベース
４２  レール
４３  リニアガイド
４４  ねじ穴
４５  調整ボルト
４６  ロックナット
４７  球面座金
４８  平座金
４９  ねじ
５０  ねじ穴
【図１】
0004879112.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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