(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置におけるプリント基板の直描工程で使用する露光パターンデータを検査するための露光パターンデータ検査装置であって、
当該露光パターンデータ検査装置は、
前記露光パターンデータと当該露光パターンデータの基になった設計データを入力するデータ入力手段と、
前記露光パターンデータと前記設計データとを比較することによって前記露光パターンデータの検査を行う比較検査手段と、
前記比較検査手段による検査結果を出力する検査結果出力手段とを備え、
前記データ入力手段によって入力される前記設計データには、当該設計データが示すパターンの各部分の属性を示す属性情報が含まれており、
前記比較検査手段は、前記設計データに含まれる属性情報に基づいて、前記露光パターンデータが示すパターンの各部分を当該部分の属性に応じた検査基準に従って検査し、
前記比較検査手段は、前記属性情報に基づいて、前記露光パターンデータが示すパターンの各部分がパッド部分か否か、ライン部分か否か、外枠部分か否か、ベタ部分か否かの少なくともいずれか１つを判別することを特徴とする、露光パターンデータ検査装置。
【請求項２】
前記比較検査手段は、前記属性情報に基づいて、前記露光パターンデータが示すパターンと前記設計データが示すパターンのズレの許容量を変化させることを特徴とする、請求項１に記載の露光パターンデータ検査装置。
【請求項３】
前記比較検査手段は、前記露光パターンデータが示すパターンの或る部分が前記設計データが示すパターンの対応する部分に対して太っている、または細っているときに、当該部分を欠陥と見なすか否かを前記属性情報に基づいて判定することを特徴とする、請求項１または２に記載の露光パターンデータ検査装置。
【請求項４】
前記設計データがベクトル形式のデータであり、前記露光パターンデータがラスタ形式のデータであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の露光パターンデータ検査装置。
【請求項５】
露光装置におけるプリント基板の直描工程で使用する露光パターンデータを検査するための露光パターンデータ検査方法であって、
当該露光パターンデータ検査方法は、
前記露光パターンデータと当該露光パターンデータの基になった設計データを入力するデータ入力工程と、
前記露光パターンデータと前記設計データとを比較することによって前記露光パターンデータの検査を行う比較検査工程と、
前記比較検査工程における検査結果を出力する検査結果出力工程とを備え、
前記データ入力工程において入力される前記設計データには、当該設計データが示すパターンの各部分の属性を示す属性情報が含まれており、
前記比較検査工程では、前記設計データに含まれる属性情報に基づいて、前記露光パターンデータが示すパターンの各部分を当該部分の属性に応じた検査基準に従って検査し、
前記比較検査工程では、前記属性情報に基づいて、前記露光パターンデータが示すパターンの各部分がパッド部分か否か、ライン部分か否か、外枠部分か否か、ベタ部分か否かの少なくともいずれか１つを判別することを特徴とする、露光パターンデータ検査方法。
【請求項６】
露光装置におけるプリント基板の直描工程で使用する露光パターンデータを検査するための露光パターンデータ検査プログラムであって、
当該露光パターンデータ検査プログラムは、コンピュータに、
前記露光パターンデータと当該露光パターンデータの基になった設計データを入力するデータ入力工程と、
前記露光パターンデータと前記設計データとを比較することによって前記露光パターンデータの検査を行う比較検査工程と、
前記比較検査工程における検査結果を出力する検査結果出力工程とを実行させるものであり、
前記データ入力工程において入力される前記設計データには、当該設計データが示すパターンの各部分の属性を示す属性情報が含まれており、
前記比較検査工程では、前記設計データに含まれる属性情報に基づいて、前記露光パターンデータが示すパターンの各部分を当該部分の属性に応じた検査基準に従って検査し、
前記比較検査工程では、前記属性情報に基づいて、前記露光パターンデータが示すパターンの各部分がパッド部分か否か、ライン部分か否か、外枠部分か否か、ベタ部分か否かの少なくともいずれか１つを判別することを特徴とする、露光パターンデータ検査プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムに関し、特に、露光装置におけるプリント基板の直描工程で使用する露光パターンデータを検査するための露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント基板の製造工程では、基板上に形成すべき配線パターンを一旦フィルムに露光することでマスクを作成した後に、このマスクを用いた露光処理によりパターンを基板に描画する方式（以下ではマスク方式と称す）が一般的であったが、近年、マスクを作成することなく、パターンを表すラスタデータ（以下、露光パターンデータと称す）に基づいてレーザーで基板にパターンを直接描画する方式（以下では直描方式と称す）が用いられるようになってきている。
【０００３】
プリント基板をマスク方式により製造する場合には、ＣＡＤ（Computer Aided Design）システムやＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）システムで作成された設計データに基づいてマスクを作成した後、このマスクを検査することによって、プリント基板の信頼性を向上させることができる。
【０００４】
なお、実際に作成したマスクを検査するのではなく、マスクを生成するために用いられるフォトマスクデータを検査することによって、マスクの信頼性を高める手法が存在する（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に開示されているフォトマスクデータ検証システムでは、ＣＡＤシステムにより生成されたＣＡＤデータとフォトマスクデータをそれぞれラスタデータに変換した後、これらのラスタデータを画素毎に比較することによってフォトマスクデータを検証する。これにより、欠陥のあるマスクを無駄に生成してしまうことを防止することができる。
【特許文献１】特許第３４０１４４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、プリント基板を直描方式により製造する場合には、マスク方式のようにマスクやフォトマスクデータを検査することによってプリント基板の信頼性を向上させることはできない。そこで、プリント基板を直描方式で製造する場合には、直接方式による露光工程（直描工程）を経て実際に製造したプリント基板を検査するか、上記露光パターンデータをディスプレイの画面に表示して目視により露光パターンデータの正当性を検査する必要があった。
【０００６】
しかしながら、実際に製造したプリント基板を検査する方法では、プリント基板に欠陥が見つかった場合に、そのプリント基板の製造に要した時間とコストが無駄になってしまうという問題がある。また、露光パターンデータを目視により検査する方法では、露光パターンデータは高解像度であるため、検査作業に多大な時間を要するという問題と、欠陥を見逃しやすいという問題がある。
【０００７】
それゆえに本発明は、プリント基板を直描方式により製造する場合において、直描工程で使用する露光パターンデータを従来よりも短時間で正確に検査することのできる露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。なお、括弧内の参照符号及び図番号は、図面との対応関係の一例を示したものであって、本発明の範囲を何ら限定するものではない。
【０００９】
本発明の露光パターンデータ検査装置（３０）は、露光装置（４０）におけるプリント基板の直描工程で使用する露光パターンデータを検査するための装置であって、データ入力手段（３２）と、比較検査手段（３４）と、検査結果出力手段（３８）とを備える。データ入力手段は、露光パターンデータと当該露光パターンデータの基になった設計データを入力する。比較検査手段は、露光パターンデータと設計データとを比較することによって露光パターンデータの検査を行う（図３）。検査結果出力手段は、比較検査手段による検査結果を出力する。データ入力手段によって入力される設計データには、当該設計データが示すパターンの各部分の属性を示す属性情報が含まれている。比較検査手段は、設計データに含まれる属性情報に基づいて、露光パターンデータが示すパターンの各部分を当該部分の属性に応じた検査基準（図７）に従って検査する。
【００１０】
なお、比較検査手段は、属性情報に基づいて、露光パターンデータが示すパターンと設計データが示すパターンのズレの許容量を変化させてもよい（図７）。
【００１１】
また、比較検査手段は、露光パターンデータが示すパターンの或る部分が設計データが示すパターンの対応する部分に対して太っている、または細っているときに、当該部分を欠陥と見なすか否かを属性情報に基づいて判定してもよい（図９）。
【００１２】
また、比較検査手段は、属性情報に基づいて、露光パターンデータが示すパターンの各部分がパッド部分か否か、ライン部分か否か、外枠部分か否か、ベタ部分か否かの少なくともいずれか１つを判別してもよい（図７）。
【００１３】
また、設計データがベクトル形式のデータであり、露光パターンデータがラスタ形式のデータであってもよい。
【００１４】
本発明の露光パターンデータ検査方法（図８）は、露光装置（４０）におけるプリント基板の直描工程で使用する露光パターンデータを検査するための方法であって、データ入力工程（Ｓ１０，Ｓ１２）と、比較検査工程（Ｓ１４〜Ｓ２２）と、検査結果出力工程（Ｓ２４）とを備える。データ入力工程では、露光パターンデータと当該露光パターンデータの基になった設計データを入力する。比較検査工程では、露光パターンデータと設計データとを比較することによって露光パターンデータの検査を行う（図３）。検査結果出力工程では、比較検査工程における検査結果を出力する。データ入力工程において入力される設計データには、当該設計データが示すパターンの各部分の属性を示す属性情報が含まれている。比較検査工程では、設計データに含まれる属性情報に基づいて、露光パターンデータが示すパターンの各部分を当該部分の属性に応じた検査基準（図７）に従って検査する。
【００１５】
本発明の露光パターンデータ検査プログラムは、露光装置（４０）におけるプリント基板の直描工程で使用する露光パターンデータを検査するためのプログラムであって、コンピュータに、データ入力工程（Ｓ１０，Ｓ１２）と、比較検査工程（Ｓ１４〜Ｓ２２）と、検査結果出力工程（Ｓ２４）とを実行させるためのプログラムである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、露光パターンデータと当該露光パターンデータの基になった設計データとを比較することによって露光パターンデータの検査を行う。よって、プリント基板を実際に製造する前に検査ができるので、欠陥のあるプリント基板を無駄に製造してしまうことを防止できる。また、露光パターンデータの目視による検査が不要になるので、検査時間が短縮され、欠陥の見落としも防止できる。さらに、露光パターンデータが示すパターンの各部分の属性に応じた検査基準に従って検査を行うので、パターンの各部分の属性に応じた最適な検査基準に従って検査を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下では図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態に係る露光パターンデータ検査装置３０を含むプリント基板製造システムの全体構成を示すブロック図である。プリント基板製造システムは、露光パターンデータ検査装置３０の他に、ＣＡＤシステム１０、画像処理装置２０および露光装置４０を備える。ＣＡＤシステム１０、画像処理装置２０および露光パターンデータ検査装置３０は、典型的には、それぞれの機能に応じたアプリケーションソフトウェアをインストールした汎用コンピュータにより実現される。
【００１９】
ＣＡＤシステム１０は、プリント基板の設計データ（以下、ＣＡＤデータと称す）を生成するためのシステムである。ＣＡＤシステム１０は公知であるため、ここでは詳細な説明は省略する。ＣＡＤデータは、プリント基板の配線パターンや穴の形状などを示すベクトル形式のデータである。ＣＡＤシステム１０において作成されたＣＡＤデータは、ネットワーク回線または記録メディアを通じて画像処理装置２０へ送られる。
【００２０】
画像処理装置２０は、ＣＡＤシステム１０において作成されたＣＡＤデータから、露光装置におけるプリント基板の直描工程で使用可能なラスタ形式の露光パターンデータを作成する。このとき、必要に応じて補正処理も同時に行われる。この補正処理の一例として、露光工程よりも後に行われるエッチング工程におけるエッチング速度のムラを考慮して、ＣＡＤシステム１０で作成されたパターンの一部を予め太らせたり細らせたりする処理がある。なお、画像処理装置２０のデータ変換機能またはパターン補正機能が、ＣＡＤシステム１０または露光装置４０に組み込まれていてもよい。
【００２１】
露光パターンデータ検査装置３０は、ＣＡＤシステム１０において作成されたＣＡＤデータを参照して、画像処理装置２０において作成された露光パターンデータを検査する。露光パターンデータ検査装置３０の詳細については後述する。露光パターンデータ検査装置３０において露光パターンデータに欠陥が見つかった場合には、ユーザは、画像処理装置２０を操作して露光パターンデータを適宜修正する。なお、欠陥の原因が露光パターンデータの基になったＣＡＤデータにある場合には、ユーザはＣＡＤシステム１０を操作してＣＡＤデータを適宜に修正する。
【００２２】
露光装置４０は、露光パターンデータ検査装置３０によって欠陥が存在しないことが確認された後の露光パターンデータに基づいて、直描方式による露光処理を行う。直描方式による露光処理は、例えば、露光パターンデータに基づいてＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）を制御し、露光パターンデータが示すパターンに対応する基板上の領域に光を照射することによって行われる。このような直描方式の露光装置４０は公知であるため、ここでは露光装置４０の構成や動作についての詳しい説明は省略する。
【００２３】
次に、露光パターンデータ検査装置３０の構成を説明する。
【００２４】
図２は、露光パターンデータ検査装置３０の内部構成を示す機能ブロック図である。露光パターンデータ検査装置３０は、データ入力部３２と、比較検査部３４と、検査基準テーブル３６と、検査結果出力部３８とを備える。
【００２５】
データ入力部３２は、露光パターンデータ検査装置３０において作成された露光パターンデータ（検査対象となる露光パターンデータ）と、この露光パターンデータの基になったＣＡＤデータを、ネットワーク回線、通信ケーブルまたは可搬型記憶媒体等を通じて入力する。
【００２６】
比較検査部３４は、データ入力部３２によって入力された露光パターンデータ（ラスタ形式）が示すパターンと、ＣＡＤデータ（ベクトル形式）が示すパターンとを比較し、露光パターンデータが示すパターンに欠陥があるかどうかを検査する。このとき、比較検査部３４は、検査基準テーブル３６に規定されている検査基準に従って露光パターンデータを検査する。検査基準テーブル３６の詳細については後述する。
【００２７】
検査結果出力部３８は、比較検査部３４において行われた検査の結果（欠陥箇所を示す座標や画像等）を出力する。検査結果の内容は、例えば、欠陥箇所を示す座標であってもよいし、欠陥箇所を示す画像であってもよい。欠陥箇所を示す画像は、例えば、露光パターンデータの欠陥位置周辺の拡大画像であってもよいし、露光パターンデータの欠陥位置周辺の拡大画像にＣＡＤデータが示すパターンの輪郭線を重畳表示したものであってもよい。また、検査結果の出力先は、例えば、露光パターンデータ検査装置３０に接続されたディスプレイの画面であってもよいし、ＣＡＤシステム１０または画像処理装置２０等のコンピュータシステムであってもよい。
【００２８】
次に、露光パターンデータ検査装置３０における比較検査部３４の動作を説明する。
【００２９】
図３は、検査対象となる露光パターンデータと、この露光パターンデータの基になったＣＡＤデータが示すパターンの輪郭を示している。本実施形態では、露光パターンデータはラスタ形式の画像データである。露光装置４０の方式の違いにより、露光パターンデータが非圧縮の画像データである場合もあれば、ランレングス符号化などで圧縮された画像データである場合もある。露光装置４０は、この２値画像データに基づいて基板にパターンを描画する。より具体的には、露光装置４０は、２値画像データのオン画素に対応する基板上の領域に光を照射し、オフ画素に対応する領域には光を照射しない。
【００３０】
比較検査部３４は、検査対象となる露光パターンデータが示すパターンと、この露光パターンデータの基になったＣＡＤデータが示すパターンとを比較する。このときの比較方法としては、いくつかの方法が考えられる。以下では、典型的な比較方法として、「中心比較」、「完全包括比較」、「重なり比較」の３つの比較方法についてそれぞれ説明する。しかしながら、これらの３つの比較方法とは異なる比較方法を用いても構わない。
【００３１】
まず、図４を参照して「中心比較」について説明する。中心比較とは、露光パターンデータの各画素の中心が、ＣＡＤデータが示すパターンの輪郭の内部に位置するか否かを判断することによって、露光パターンデータが示すパターンとＣＡＤデータが示すパターンとを比較する方法である。露光パターンデータの画素Ｂ−３（Ｂ列における３行目の画素）はオフ画素であるが、その中心は、ＣＡＤデータが示すパターンの輪郭の内部に位置するので、中心比較においては画素Ｂ−３は本来はオン画素のはずである。よって、この画素Ｂ−３は、ＣＡＤデータが示すパターンからズレている画素（ズレ画素）であると判定される。また、画素Ｄ−７はオン画素であるが、その中心は輪郭の外部に位置するので、本来はオフ画素のはずである。よって、画素Ｄ−７もズレ画素であると判定される。同様にして、画素Ｇ−４もズレ画素であると判定される。つまり、中心比較では、中心が輪郭の内部に位置するようなオフ画素と、中心が輪郭の外部に位置するようなオン画素が、ズレ画素として判定される。中心比較は、露光パターンデータが示すパターンが、ＣＡＤデータが示すパターンとほぼ同じサイズかどうかを検証したいときに有用である。
【００３２】
次に、図５を参照して「完全包括比較」について説明する。完全包括比較とは、露光パターンデータの各画素の４つの角の全てが、ＣＡＤデータが示すパターンの輪郭の内側に位置するか否かを判断することによって、露光パターンデータが示すパターンとＣＡＤデータが示すパターンとを比較する方法である。露光パターンデータの画素Ｂ−４はオン画素であるが、その４つの角のうちの２つしか輪郭の内側に位置していないので、完全包括比較においては画素Ｂ−４は本来はオフ画素のはずである。よって、この画素Ｂ−４はズレ画素であると判定される。また、画素Ｃ−６はオン画素であるが、その４つの角のうちの３つしか輪郭の内側に位置していないので、本来はオフ画素のはずである。よって、画素Ｃ−６もズレ画素であると判定される。同様にして、画素Ｂ−５，画素Ｃ−２，画素Ｄ−２，画素Ｄ−７，画素Ｅ−２，画素Ｆ−３，画素Ｆ−６，画素Ｇ−４もズレ画素であると判定される。つまり、完全包括比較では、全ての角が輪郭の内部に位置するようなオフ画素と、少なくとも１つの角が輪郭の外部に位置するようなオン画素が、ズレ画素として判定される。完全包括比較は、露光パターンデータが示すパターンが、ＣＡＤデータが示すパターンからはみ出していないかどうかを検証したいときに有用である。
【００３３】
次に、図６を参照して「重なり比較」について説明する。重なり比較とは、露光パターンデータの各画素の４つの角の少なくとも１つが、ＣＡＤデータが示すパターンの輪郭の内側に位置するか否かを判断することによって、露光パターンデータが示すパターンとＣＡＤデータが示すパターンとを比較する方法である。露光パターンデータの画素Ｂ−２はオフ画素であるが、その４つの角のうちの１つが輪郭の内側に位置しているので、重なり比較においては画素Ｂ−２は本来はオン画素のはずである。よって、この画素Ｂ−２はズレ画素であると判定される。また、画素Ｂ−３はオフ画素であるが、その４つの角のうちの２つが輪郭の内側に位置しているので、本来はオン画素のはずである。よって、画素Ｂ−３もズレ画素であると判定される。同様にして、画素Ｂ−６，画素Ｃ−７，画素Ｅ−７，画素Ｆ−２，画素Ｆ−７，画素Ｇ−３，画素Ｇ−５，画素Ｇ−６もズレ画素であると判定される。つまり、重なり比較では、少なくとも１つの角が輪郭の内部に位置するようなオフ画素と、全ての角が輪郭の外部に位置するようなオン画素が、ズレ画素として判定される。重なり比較は、露光パターンデータが示すパターンが、ＣＡＤデータが示すパターンを完全にカバーしているかどうかを検証したいときに有用である。
【００３４】
なお、上記３つの比較方法のうちのいずれの比較方法が最適であるかは、製造しようとするプリント基板の種類やユーザの好みに応じて変わるので、比較検査部３４においていずれの比較方法を用いて比較検査を行うかを、キーボードなどの入力装置を通じてユーザが自由に指定できるようにするのが望ましい。これは、入力装置を通じて入力されるユーザの指示に応じて比較検査部３４における比較方法を切り替える手段を、露光パターンデータ検査装置３０にさらに設けることにより実現可能である。
【００３５】
なお、ＣＡＤデータが示すパターンと露光パターンデータが示すパターンとの間でズレが生じる主な原因としては、ベクトル形式のＣＡＤデータをラスタ形式の露光パターンデータに変換する際の量子化誤差および変換エラーや、画像処理装置２０で行われる前述のパターン補正処理（太らせ／細らせ処理）が挙げられる。
【００３６】
なお、比較検査部３４は、上記のような比較を行うときに、ＣＡＤデータまたは露光パターンデータのいずれか一方もしくは両方の形式を必要に応じて他の形式に変換してから比較を行うようにしてもよい。例えば、ＣＡＤデータをベクトル形式のデータからビットマップデータやランレングスデータや変化点データ（２値の画像データを「０」→「１」または「１」→「０」に変化する点の座標のリストとして表したデータ）に変換してもよい。
【００３７】
比較検査部３４は、上記のようにしてズレ画素を検出した後、このズレ画素が欠陥画素であるかどうかを、検査基準テーブル３６に従って判断する。ただし、図７の検査基準テーブル３６は単なる一例に過ぎない。
【００３８】
露光パターンデータの検査においては、露光パターンを構成している部品毎に検査基準を変えるのが望ましい。例えば、信号ライン（図１０参照）については、プリント基板の品質に比較的大きく影響するので、ライン幅や、近接するパターンとの間の間隔などを厳しくチェックすべきである。パッド部（図１０参照）については、面積が十分かどうかをチェックすべきである。グランド部（図１０参照）については、プリント基板の品質にあまり影響しないので、少々の歪み、太り、細りは無視しても構わない。クリアランスホール（ドリル穴）（図１１参照）については、正しい位置に位置しているかどうかをチェックすべきである。検査基準テーブル３６には、露光パターンを構成している部品毎に異なる検査基準が規定されている。比較検査部３４は、露光パターンデータにおける各点がどの部品に相当するかを、ＣＡＤデータに含まれる属性情報（部品属性情報）から判断することができる。ＣＡＤデータに含まれる属性情報としては、例えば、信号ライン、パッド部、グランド部、クリアランス（ドリル）ホール等がある（図１０、図１１参照）。
【００３９】
比較検査部３４は、ズレ画素を検出すると、まず、このズレ画素がパターンのパッド部分におけるズレ画素なのか、ライン部分におけるズレ画素なのか、外枠部分におけるズレ画素なのか、ベタ部分におけるズレ画素なのか、その他の部分におけるズレ画素なのかを、ＣＡＤデータに含まれる属性情報に基づいて判断する。さらに比較検査部３４は、このズレ画素のズレ量（ＣＡＤデータが示すパターンに対してどれだけズレているかを示す値）を計算する。ズレ量の計算方法としては種々の方法が考えられる。一例として、ズレ画素の中心から、ＣＡＤデータが示すパターンの輪郭線までの距離をズレ量として算出してもよい。それから比較検査部３４は、検査基準テーブル３６を参照し、このズレ画素が欠陥画素であるかどうかを判断する。図７の検査基準テーブル３６では、パッド部分やライン部分については、パターンにズレがあると重大な欠陥に繋がる可能性が高く、したがって高い精度が要求されるので、ズレ量が１画素であっても欠陥画素と見なす。また、外枠部分やベタ部分については、パターンに多少のズレがあっても重大な欠陥に繋がる可能性が低いので、ズレ量が５画素未満の場合は欠陥画素とは見なさず、ズレ量が５画素以上の場合にのみ欠陥画素と見なす。また、その他の部分については、ズレ量が３画素以上の場合にのみ欠陥画素と見なす。
【００４０】
なお、複数の検査基準テーブルを用意しておき、比較検査部３４が参照すべき検査基準テーブルを、ユーザが必要に応じて切り替え可能となるように、露光パターンデータ検査装置３０を構成してもよい。
【００４１】
次に、図８のフローチャートを参照して、露光パターンデータ検査装置３０の動作を説明する。
【００４２】
まず、データ入力部３２は、露光パターンデータを入力し（Ｓ１０）、さらにＣＡＤデータを入力する（Ｓ１２）。
【００４３】
次に、比較検査部３４は、露光パターンデータが示すパターンとＣＡＤデータが示すパターンの位置合わせとスケール合わせを行う（Ｓ１４）。
【００４４】
続いて、比較検査部３４は、前述した比較処理によってズレ画素を検出し（Ｓ１６）、ＣＡＤデータに含まれる属性情報に基づいて、検出されたズレ画素がパターンのどの部分（または部品）かを判断し（Ｓ１８）、そのズレ画素のズレ量を検出する（Ｓ２０）。そして、比較検査部３４は、検査基準テーブル３６に従って、そのズレ画素が欠陥画素かどうかを判定する（Ｓ２２）。
【００４５】
比較検査部３４における検査が完了すると、検査結果出力部３８は、検出された欠陥画素の位置を示す座標データまたは画像データを検査結果として出力する（Ｓ２４）。例えば、比較検査部３４は、検査結果を示す画像データとして図４のような画像をディスプレイに表示してもよい。
【００４６】
ユーザは、検査結果出力部３８によって出力される検査結果を見て、必要に応じてＣＡＤデータまたは露光パターンデータを修正することができる。なお、ユーザがＣＡＤデータまたは露光パターンデータを手動で修正する代わりに、露光パターンデータ検査装置３０において、ズレ画素のズレ量が許容量以下になるように露光パターンデータを自動で修正（太らせ処理、細らせ処理など）する修正手段を設けてもよい。
【００４７】
以上のように、本実施形態によれば、ズレ画素がパターンのどの部分（または部品）に対応しているかをＣＡＤデータに含まれる属性情報に基づいて判断し、その部分（または部品）に応じた検査基準に従って、ズレ画素が欠陥画素であるかどうかを判断する。これにより、パターン全体を同一の検査基準に従って比較検査する場合に比べて種々のメリットが生じる。例えば、パターン全体を同一の検査基準に従って比較検査する場合には、プリント基板の品質にあまり影響しない外枠部分やベタ部分のわずかなズレについても欠陥としてユーザに提示されるので、結果としてユーザが検査結果を確認する手間が無駄に増えてしまい、品質により大きく影響する欠陥を見逃してしまう可能性が増えてしまう。
【００４８】
なお本実施形態では、ＣＡＤデータに含まれる属性情報を利用して、ズレ画素がパターンのどの部分（または部品）かを判断しているが、ズレ画素がパターンのどの部分（または部品）かを判断する他の方法として、露光パターンデータに対して画像認識処理を行う方法も考えられる。しかしながら、画像認識処理を行う場合には、処理時間が長くなったり、誤認識が生じたり等の問題があるので、ＣＡＤデータに含まれる属性情報を利用する方が効果的である。もちろん、ＣＡＤデータに含まれる属性情報を利用するだけでなく、それに加えて画像認識処理も行うようにしても構わない。
【００４９】
なお本実施形態では、ズレ画素が欠陥画素かどうかを図７に示すような検査基準テーブル３６を用いて判定しているが、本発明はこれに限らない。例えば、図７に示す検査基準に加えて、図９に示すような追加の検査基準に従ってズレ画素が欠陥画素かどうかを判定してもよい。図９に示す追加の検査基準は、露光工程よりも後に行われるエッチング工程におけるエッチング速度のムラを考慮した検査基準となっている。例えば、ラインの先端部分については、エッチング工程におけるエッチング速度が比較的速く、オーバーエッチングとなりやすいので、露光パターンデータが示すパターンがＣＡＤデータが示すパターンよりも太くても問題にならないことが多い。むしろ、オーバーエッチングを見越して、画像処理装置２０において、ラインの先端部分を太らせるように露光パターンデータを補正することもある。よって、図９に示す追加の検査基準では、ラインの先端部分のズレ画素については、露光パターンデータが示すパターンがＣＡＤデータが示すパターンよりも太っている場合は、欠陥画素と見なさないようにしている。これにより、画像処理装置２０において正しい補正処理（ラインの先端部分に対する太らせ処理）が行われた場合には、その部分は欠陥とは見なさず、画像処理装置２０において間違った補正処理（ラインの先端部分に対する細らせ処理）が行われた場合には、その部分を欠陥と見なしてユーザに通知することができるようになる。
【００５０】
同様に、図９に示す追加の検査基準では、パターンの凸角部分についても、エッチング工程におけるエッチング速度が比較的速く、オーバーエッチングとなりやすいので、露光パターンデータが示すパターンがＣＡＤデータが示すパターンよりも太っている場合は欠陥画素と見なさないようにしている（ただし、許容量を超えるほど太っている場合には欠陥画素と見なすようにしてもよい）。また、パターンの凹角部分については、エッチング工程におけるエッチング速度が比較的遅く、アンダーエッチングとなりやすいので、露光パターンデータが示すパターンがＣＡＤデータが示すパターンよりも細っている場合は欠陥画素と見なさないようにしている。ズレ画素がラインの先端部の画素なのか、凸角部分の画素なのか、凹角部分の画素なのかを、ＣＡＤデータに含まれる属性情報を参照して判断するのが好ましいが、画像認識処理によって判断しても構わない。
【００５１】
なお、複数のラインが狭い間隔で並んでいるような部分では、各ラインの幅が十分かどうかだけでなく、ライン間のスペース部分の幅が十分かどうかも、プリント基板の品質に大きく影響する。そこで、比較検査部３４では、露光パターンデータにおいて、ライン間隔が十分に確保できているかどうかの検査も行うようにしてもよい。露光パターンデータにおいて、どの部分がライン間の部分なのかは、ＣＡＤデータの属性情報に基づいて判断するのが好ましいが、画像認識処理によって判断しても構わない。
【００５２】
なお、ＣＡＤデータおよび露光パターンデータには、ドリル工程で利用されるドリル穴の位置および大きさを示すパターンが含まれている場合があるが、このようなドリル穴のパターンについても、本実施形態の比較検査部３４において検査することができる。つまり、検査基準テーブル３６に、ドリル穴の部分に対応した検査基準を設定しておくことによって、ドリル穴を開けるためのドリルマシーンの精度に応じた検査基準でドリル穴の検査をすることが可能となる。検査対象となるパターンのどの部分がドリル穴なのかは、ＣＡＤデータに含まれる属性情報に基づいて判断することができる。
【００５３】
なお、比較検査部３４の機能は、ハードウェアのみで実現してもよいし、汎用的なコンピュータとソフトウェア（露光パターンデータ検査プログラム）の組み合わせにより実現してもよい。後者の場合は、露光パターンデータ検査プログラムはコンピュータ読み取り可能な記録媒体を通じて露光パターンデータ検査装置３０に供給されてもよいし、通信回線を通じて露光パターンデータ検査装置３０に供給されてもよい。あるいは、露光パターンデータ検査装置３０の内部の不揮発性記憶装置に露光パターンデータ検査プログラムが予め格納されていてもよい。
【００５４】
なお、本発明はＣＡＤデータと露光パターンデータを比較する場合に限らず、属性情報を含むような他の任意の形式の設計データ（例えばＣＡＭデータ）と露光パターンデータを比較する場合にも適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明は、露光装置におけるプリント基板の直描工程で使用する露光パターンデータを検査するための露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】プリント基板製造システムの全体構成を示すブロック図
【図２】露光パターンデータ検査装置の内部構成を示す機能ブロック図
【図３】検査対象となる露光パターンデータと、ＣＡＤデータが示すパターンの輪郭を示す図
【図４】中心比較を示す図
【図５】完全包括比較を示す図
【図６】重なり比較を示す図
【図７】検査基準テーブルの一具体例
【図８】露光パターンデータ検査装置の動作を示すフローチャート
【図９】検査基準テーブルの変形例
【図１０】露光パターンデータが示すパターンの一例を示す図
【図１１】露光パターンデータが示すパターンの他の例を示す図
【符号の説明】
【００５７】
１０    ＣＡＤシステム
２０    画像処理装置
３０    露光パターンデータ検査装置
３２    データ入力部
３４    比較検査部
３６    検査基準テーブル
３８    検査結果出力部
４０    露光装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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