(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ＩＶ）
【化１】
0004866237.tif 000016
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。）
で表される化合物であるアダマンタン誘導体。
【請求項２】
請求項１で表されるアダマンタン誘導体を構成成分とする重合体を含有するフォトレジスト用感光材料。
【請求項３】
反応促進剤として、炭酸塩又は第３級アミンを使用し、
一般式（ＶＩ）
【化２】
0004866237.tif 000017
（式中、Ｘはハロゲン原子を示す。Ｙは炭素数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基又は２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏを示す。Ｙのアルキル基は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基によって置換されてもよい。また、複数のＹは同じでもよく、異なっていてもよい。ｋは０〜１５の整数を示し、ｍは０又は１を示す。）
で表されるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類と、一般式（ＶＩＩ）
【化３】
0004866237.tif 000018
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。）
で表される（メタ）アクリル酸類またはその酸無水物を反応させることを特徴とする、一般式（Ｉ）
【化４】
0004866237.tif 000019
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｙは炭素数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基又は２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏを示す。Ｙのアルキル基は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基によって置換されてもよい。また、複数のＹは同じでもよく、異なっていてもよい。ｋは０〜１５の整数を示し、ｍは０又は１を示す。）
で表されるアダマンタン誘導体の製造方法。
【請求項４】
一般式（ＶＩ）で表されるハロメチルアダマンチル（メチル）エーテル類が、１−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタン、２−（クロロメトキシ）アダマンタン、２−シアノメチル−２−（クロロメトキシ）アダマンタン又は４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタンである請求項３記載のアダマンタン誘導体の製造方法。
【請求項５】
炭酸塩が炭酸リチウム、炭酸カリウム、又は炭酸ナトリウムである請求項３に記載のアダマンタン誘導体の製造方法。
【請求項６】
第３級アミンがトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、又はピリジンである請求項３記載のアダマンタン誘導体の製造方法。
【請求項７】
さらに溶媒を用いて再結晶又は晶析により精製することを特徴とする請求項３〜６のいずれかに記載のアダマンタン誘導体の製造方法。
【請求項８】
溶媒が脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒から選ばれる少なくとも一種である請求項７に記載のアダマンタン誘導体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なアダマンタン誘導体、その製造方法及び該アダマンタン誘導体を用いて得られるフォトレジスト用感光材料に関し、さらに詳しくは、フォトリソグラフィー分野における感光性樹脂などの機能性樹脂のモノマーとして有用な新規なアダマンチルオキシメチル（メタ）アクリレート類、このものを効率よく製造する方法、及び該（メタ）アクリレート類から得られる重合体を含むフォトレジスト用感光材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
アダマンタンは、シクロヘキサン環が４個、カゴ形に縮合した構造を有し、対称性が高く、安定な化合物であり、その誘導体は、特異な機能を示すことから、医薬品原料や高機能性工業材料の原料などとして有用であることが知られている。例えば光学特性や耐熱性などを有することから、光ディスク基板、光ファイバーあるいはレンズなどに用いることが試みられている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
また、アダマンタンエステル類を、その酸感応性、ドライエッチング耐性、紫外線透過性などを利用して、フォトレジスト用樹脂原料として、使用することが試みられている（例えば、特許文献３参照）。
一方、近年、半導体素子の微細化が進むに伴い、その製造におけるリソグラフィー工程において、さらなる微細化が要求されており、したがって、ＫｒＦ、ＡｒＦあるいはＦ2エキシマレーザー光などの短波長の照射光に対応したフォトレジスト材料を用いて、微細パターンを形成させる方法が種々検討されている。そして、前記エキシマレーザー光などの短波長の照射光に対応できる新しいフォトレジスト材料の出現が望まれている。【０００３】
従来から、アセタールやケタール構造の導入により、共存させる（光分解型）酸発生剤による易分解性向上を図ったレジスト材の例は幾つかあり、モノマーの段階でフェノール性水酸基をこれらの基によって保護し、スチレンと共重合して素材としたり（例えば、特許文献４参照）、ポリマーを製造し、後からこれらの保護基を導入する例（例えば、特許文献５参照）が知られている。前者はスチレン系樹脂がベースとなっているため、ＡｒＦやＦ2エキシマレーザー光に対する透明性が不十分であり、また後者は保護化率が３０〜４０モル％位に留まってしまうため、高解像性に関しては問題を抱えたままだった。これらの問題点の解決を図るべく、モノマーとして、アダマンタン骨格およびアセタールを併せ持つ化合物（アダマンチルオキシメチル （メタ）アクリレート類）が指向されていたが、合成法がなく実現に至っていなかった。【０００４】
【特許文献１】特開平６−３０５０４４号公報
【特許文献２】特開平９−３０２０７７号公報
【特許文献３】特開平４−３９６６５号公報
【特許文献４】特開平７−９２６８１号公報
【特許文献５】特開平６−５１５１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、このような状況下でなされたもので、フォトリソグラフィー分野における感光性樹脂などの機能性樹脂のモノマーとして有用なアダマンタン誘導体、このものを効率よく製造する方法及び該アダマンタン誘導体から得られる重合体を含むフォトレジスト用感光材料を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を有するアダマンチル（メチル）オキシメチル（メタ）アクリレート類は、文献未載の新規な化合物であって、その目的に十分に適合し得ること、そしてこれらの化合物は、対応するハロメチル アダマンチルエーテル類と（メタ）アクリル酸類又はその酸無水物を反応させることにより、効率よく製造し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基いて完成したものである。【０００７】
すなわち、本発明は、
（１）一般式（Ｉ）【０００８】
【化１】
0004866237.tif 000002
【０００９】
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｙは炭素数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基又は２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏを示す。また、複数のＹは同じでもよく、異なっていてもよい。ｋは０〜１５の整数を示し、ｍは０又は１を示す。）
で表される構造を有することを特徴とするアダマンタン誘導体、
（２）一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体が、一般式（ＩＩ）【００１０】
【化２】
0004866237.tif 000003
【００１１】
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。）
で表される化合物である上記（１）記載のアダマンタン誘導体、
（３）一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体が、一般式（ＩＩＩ）【００１２】
【化３】
0004866237.tif 000004
【００１３】
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。）
で表される化合物である上記（１）記載のアダマンタン誘導体、
（４）一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体が、一般式（ＩＶ）【００１４】
【化４】
0004866237.tif 000005
【００１５】
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。）
で表される化合物である上記（１）記載のアダマンタン誘導体、
（５）一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体が、一般式（Ｖ）【００１６】
【化５】
0004866237.tif 000006
【００１７】
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。）
で表される化合物である上記（１）記載のアダマンタン誘導体、
（６）一般式（ＶＩ）【００１８】
【化６】
0004866237.tif 000007
【００１９】
（式中、Ｘはハロゲン原子を示す。Ｙは炭素数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基又は２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏを示す。また、複数のＹは同じでもよく、異なっていてもよい。ｋは０〜１５の整数を示し、ｍは０又は１を示す。）
で表されるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類と、一般式（ＶＩＩ）【００２０】
【化７】
0004866237.tif 000008
【００２１】
（式中、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。）
で表される（メタ）アクリル酸類またはその酸無水物を反応させることを特徴とする、一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体の製造方法、
（７）一般式（ＶＩ）で表されるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類が、１−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタン、２−（クロロメトキシ）アダマンタン、２−シアノメチル−２−（クロロメトキシ）アダマンタン又は４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタンである上記（６）記載のアダマンタン誘導体の製造方法、
（８）反応促進剤として、炭酸塩又は第３級アミンを使用する上記（６）又は（７）に記載のアダマンタン誘導体の製造方法、
（９）さらに一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体が、溶媒を用いて再結晶又は晶析により精製して得られる上記（６）〜（８）のいずれかに記載のアダマンタン誘導体の製造方法、
（１０）前記溶媒が脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒から選ばれる少なくとも一種である上記（９）に記載のアダマンタン誘導体の製造方法、
（１１）一般式（ＶＩ）で表されるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類が、一般式（ＶＩＩＩ）
【００２２】
【化８】
0004866237.tif 000009
【００２３】
（式中、Ｙ、ｋ及びｍは前記に同じである。）
で表されるアダマンチル基を有するアルコールに、一般式（ＩＸ）【００２４】
【化９】
0004866237.tif 000010
【００２５】
（式中、Ｒ2は独立に水素、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基を示す。）
で表されるカルボニル化合物及びハロゲン化水素ガスを溶媒の存在下で反応させて得ることを特徴とする上記（６）〜（１０）のいずれかに記載のアダマンタン誘導体の製造方法、
（１２）前記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるアダマンチル基を有するアルコール、前記一般式（ＩＸ）で表されるカルボニル化合物及びハロゲン化水素ガスを溶媒の存在下で反応させて得られた溶液に、必要に応じて水を加えて有機層と水層に分液することを特徴とする上記（１１）に記載のアダマンタン誘導体の製造方法、
（１３）一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体が、一般式(ＩＩ)〜（ＩＶ）のいずれかで表される化合物である上記（６）〜（１２）のいずれかに記載のアダマンタン誘導体の製造方法、
及び
（１４）一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体を構成成分とする重合体を含有するフォトレジスト用感光材料、
を提供するものである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明のアダマンタン誘導体は、新規なアダマンチルオキシメチル（メタ）アクリレート類であって、フォトリソグラフィー分野における感光性樹脂などの機能性樹脂のモノマーとして有用であり、また、従来のアダマンタン系（メタ）アクリレート類に比べ、アセタール構造を有するため、酸と容易に反応し、より高度な解像が可能になり得る。更に、露光後の表面荒れ（ＬＥＲ：レジストの側面にできる凹凸、ＬＷＲ：配線を真上から見た場合のうねり）の改善、ＰＥＢ（露光によって発生した酸を拡散させるための熱処理）の温度依存性等の改善効果が期待できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明のアダマンタン誘導体は、一般式（Ｉ）で表される化合物であり、以下、化合物及びそれらの製造方法について説明する。
まず、本発明の化合物は、一般式（Ｉ）【００２８】
【化１】
0004866237.tif 000011
【００２９】
で表される構造を有するアダマンチル（メチル）オキシメチル（メタ）アクリレート類である。
前記一般式（Ｉ）において、Ｒ1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｙは炭素数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基又は２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏを示す。ここで、複数のＹは同じでもよく、異なっていてもよい。ｋは０〜１５の整数を示し、ｍは０又は１を示す。
上記において、Ｙにおける炭素数１〜１０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、各種ノニル基、各種デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基等によって置換されたものであってもよい。また、Ｙにおけるハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることができる。【００３０】
前記一般式（Ｉ）で表される好ましい化合物として、例えば、（１−アダマンチルオキシ）メチル （メタ）アクリレート、（２−アダマンチルオキシ）メチル （メタ）アクリレート、（１−アダマンチルメトキシ）メチル （メタ）アクリレート、（２−アダマンチルメトキシ）メチル （メタ）アクリレート、［（２−メチル−２−アダマンチル）オキシ］メチル（メタ）アクリレート、［（２−エチル−２−アダマンチル）オキシ］メチル （メタ）アクリレート、［（２−シアノメチル−２−アダマンチル）オキシ］メチル(メタ)アクリレート、［（４−オキソ−１−アダマンチル）オキシ］メチル （メタ）アクリレート、［（４−オキソ−２−アダマンチル）オキシ］メチル （メタ）アクリレート、［（パーフルオロ−１−アダマンチル）オキシ］メチル （メタ）アクリレート、［（パーフルオロ−２−アダマンチル）オキシ］メチル （メタ）アクリレート、［（パーフルオロ−１−アダマンチル）メトキシ］メチル （メタ）アクリレート、［（パーフルオロ−２−アダマンチル）メトキシ］メチル （メタ）アクリレート及びこれらの化合物の（メタ）アクリレートを、α−トリフルオロメチルアクリレートに置き換えた化合物などを挙げることができる。中でも、（２−アダマンチルオキシ）メチル メタクリレート、（１−アダマンチルメトキシ）メチル メタクリレート、［（４−オキソ−２−アダマンチル）オキシ］メチル メタクリレート、［（２−シアノメチル−２−アダマンチル）オキシ］メチル(メタ)アクリレートなどが好ましい。【００３１】
上記本発明のアダマンタン誘導体の好ましい製造方法について説明する。
この製造方法においては、本発明のアダマンタン誘導体は、前記一般式（ＶＩ）で表されるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類と、前記一般式（ＶＩＩ）で表される（メタ）アクリル酸類またはその酸無水物とを反応（以下、反応Ａという。）させることによって得られる。なお、ここで、ハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類とは、ハロメチル アダマンチルメチル エーテル又はハロメチル アダマンチル エーテルをいう。【００３２】
まず、反応Ａにおいて原料として使用される前記一般式（ＶＩ）で表されるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類の製造方法について説明する。前記一般式（ＶＩ）で表されるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類は、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるアダマンタン基を有するアルコールに、前記一般式（ＩＸ）で表されるカルボニル化合物及びハロゲン化水素ガスを溶媒の存在下で反応（以下、反応Ｂという。）させて得られる。このような反応としては、アダマンチル（メチル）アルコール類と、ホルムアルデヒドの混合物に、ハロゲン化水素ガスを吹き込む例が挙げられる（特願２００３−４１４４４５号明細書）。
反応Ｂの原料である前記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるアダマンタン基を有するアルコールとしては、２−アダマンタノール、２−アダマンタンメタノールなどの他、前記一般式（ＶＩＩＩ）においてＹが、２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏを示す場合、４−オキソ−２−アダマンタノール、３，５−ジメチル−４−オキソ−２−アダマンタノール、３，５−ジメチル−４−オキソ−２−アダマンタノール、３，７−ジメチル−４−オキソ−２−アダマンタノール、２−メチル−４−オキソ−２−アダマンタノール、２−エチル−４−オキソ−２−アダマンタノール、４−オキソ−２−アダマンチルメタノール、４−オキソ−２−パーフルオロアダマンタノール、４−オキソ−２−パーフルオロアダマンタンメタノールなどを挙げることができる。【００３３】
また、反応Ｂの原料である前記一般式（ＩＸ）で表されるカルボニル化合物として、ホルムアルデヒド（パラホルムアルデヒド）、アセトアルデヒド、アセトン、プロピオンアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、エチルメチルケトン、イソプロピルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、ジエチルケトンなどが挙げられる。カルボニル化合物の量は、アダマンタン基を有するアルコール１モルに対して、通常１〜５モルである。
反応Ｂの原料であるハロゲン化水素ガスは乾燥したものが好ましい。市販のボンベから供給する方法やハロゲン化ナトリウムと濃硫酸を反応させ発生したハロゲン化水素ガスを供給する方法が採用できる。ハロゲン化水素ガスの量は、アダマンタン基を有するアルコール１モルに対して、通常１〜２０モルである。ハロゲン化水素ガスとして、一般に塩化水素ガスが使用される。【００３４】
反応Ｂで用いられる溶媒は、反応温度において、アダマンタン基を有するアルコールの溶解度が０．５質量％以上、好ましくは５質量％以上であり、かつ水の溶解度が５質量％以下である溶媒から選ばれる。具体的には、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル等などのエーテル系溶媒；ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒が挙げられる。
溶媒量は、通常反応混合物中のアダマンタン基を有するアルコールの濃度が０．５質量％以上、好ましくは５質量％以上となる量である。この時、原料となるアダマンタン基を有するアルコールは懸濁状態でもよいが、溶解していることが望ましい。また、使用前に溶媒中の水分を取り除いておくことが望ましい。【００３５】
反応Ｂの反応条件については、反応温度は、通常−２００〜２００℃であり、好ましくは−７８〜５０℃である。反応温度が−２００℃以上であれば、反応速度の低下による反応時間の増加をおさえることができる。一方、反応温度が２００℃以下であれば、副反応による副生成物が増加することはなく、塩化水素ガスの溶媒への溶解度の低下によるハロゲン化水素ガスの使用量の増加をおさえることができる。
反応圧力は、通常絶対圧力で０．０１〜１０ＭＰａの範囲が採用される。反応圧力がこの範囲であれば、塩化水素ガスの溶解度が低下することもなく、反応時間が長くなり過ぎることもない。また、特別の耐圧の装置が不要となるので、経済的である。反応圧力の好ましい範囲は、常圧〜１ＭＰａである。
反応時間は、通常１分〜２４時間、好ましくは３０分〜５時間である。【００３６】
上記反応Ｂが終了した後、得られた溶液に必要に応じて水を加えて十分攪拌してから静置することで、有機層と水層に分液することが好ましい。原料であるカルボニル化合物の未反応分を水層に移動させて、反応Ｂで得られる反応生成物へのカルボニル化合物の混入を防ぐことで、純度の高い本発明のアダマンタン誘導体を得ることができる。また、反応生成物の精製方法として蒸留を選択した場合、蒸留装置へのカルボニル化合物の付着を大幅に低減することも可能となる。
なお、反応生成物の精製については、蒸留、晶析、カラム分離などが採用可能であり、生成物の性状と不純物の種類により精製方法を選択すればよい。【００３７】
反応Ｂで得られるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類としては、例えば、１−（クロロメトキシ）アダマンタン、２−（クロロメトキシ）アダマンタン、１−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタン、２−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタン、２−メチル−２−（クロロメトキシ）アダマンタン、２−エチル−２−（クロロメトキシ）アダマンタン、２−シアノメチル−２−（クロロメトキシ）アダマンタン、４−オキソ−１−（クロロメトキシ）アダマンタン、４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタン、パーフルオロ−１−（クロロメトキシ）アダマンタン、パーフルオロ−２−（クロロメトキシ）アダマンタン、パーフルオロ−１−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタン、パーフルオロ−２−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタン、１−（ブロモメトキシ）アダマンタン、２−（ブロモメトキシ）アダマンタン、１−［（ブロモメトキシ）メチル］アダマンタン、２−［（ブロモメトキシ）メチル］アダマンタン、２−メチル−２−（ブロモメトキシ）アダマンタン、２−エチル−２−（ブロモメトキシ）アダマンタン、２−シアノメチル−２−（ブロモメトキシ）アダマンタン、４−オキソ−１−（ブロモメトキシ）アダマンタン、４−オキソ−２−（ブロモメトキシ）アダマンタン、パーフルオロ−１−（ブロモメトキシ）アダマンタン、パーフルオロ−２−（ブロモメトキシ）アダマンタン、パーフルオロ−１−［（ブロモメトキシ）メチル］アダマンタン、パーフルオロ−２−［（ブロモメトキシ）メチル］アダマンタンなどが挙げられる。中でも、２−（クロロメトキシ）アダマンタン、１−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタン、２−シアノメチル−２−（クロロメトキシ）アダマンタン、４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタンが好ましい。これと反応させる（メタ）アクリル酸類又はその酸無水物の使用量は、ハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類に対して、通常モル比で１〜１．５の範囲である。【００３８】
次に、反応Ａについて説明する。
反応Ａは、反応Ｂで得られた前記一般式（ＶＩ）で表されるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類と、前記一般式（ＶＩＩ）で表される（メタ）アクリル酸類またはその酸無水物とを反応させることで、本発明のアダマンタン誘導体を得る反応である。【００３９】
反応Ａでは、必要により反応促進剤が使用され、必要により溶媒が使用される。
反応Ａで用いられる反応促進剤として、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ピリジンなどの第３級アミン；炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの炭酸塩が挙げられる。これらの反応促進剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。【００４０】
反応Ａで用いられる溶媒としては、反応促進剤に対して安定で、原料であるハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類の溶解度が、反応温度において、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは５質量％以上のものを用いる。溶媒量は反応混合物中のハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類の濃度が好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは５質量％以上となる量である。この際、ハロメチル アダマンチル（メチル） エーテル類が懸濁状態でもよいが、溶解していることが望ましい。具体的には、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、また、反応促進剤としても使用されるトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ピリジンなども挙げることができる。これらの溶媒は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。【００４１】
反応Ａの反応温度は、通常、−２００〜２００℃の範囲が採用される。この範囲であれば、反応速度が低下することもなく、反応時間が長くなり過ぎることもない。また、重合物の副生が増加することもない。好ましくは、室温〜５０℃の範囲である。
反応Ａの反応圧力は、通常、絶対圧力で０．０１〜１０ＭＰａの範囲が採用される。この範囲であれば、特別な耐圧の装置は必要ではなく、経済的である。好ましくは、常圧〜１ＭＰａの範囲である。
また、反応時間については、通常、１分〜２４時間、好ましくは３０分〜６時間の範囲である。【００４２】
反応Ａの終了後、水洗により塩を除いて、必要に応じてメタノール、エーテル、ｎ−ヘキサン等の貧溶媒で再沈殿法により、副生成物の重合物を取り除き、目的化合物を精製する。
目的化合物の精製分離については、蒸留、再結晶、晶析、カラム分離などが可能である。中でも、純度が高く、かつ色相の優れた目的化合物を得られることから、再結晶又は晶析による精製分離が好ましい。
該精製分離で用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、１−ヘキセンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；蟻酸メチル、酢酸エチルなどのエステル系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒；メタノール、エタノール、２−プロパノールなどのアルコール系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水などを挙げることができる。これらの溶媒は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよいが、純度が高く、かつ色相の優れた目的化合物を高い回収率で得ることができることから、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒を用いることが好ましく、脂肪族炭化水素系溶媒がより好ましい。
このようにして、前記一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体が得られる。
得られた化合物の同定は、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、液体クロマトグラフィー（ＬＣ）、ガスクロマトグラフィー質量分析（ＧＣ−ＭＳ）、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）、赤外分光法（ＩＲ）、融点測定装置などを用いて行うことができる。
前記一般式（Ｉ）で表されるアダマンタン化合物を、２−メチル−２−アダマンチル メタクリレート等のモノマーと共重合させて得られるポリマーはフォトレジスト用感光材料に使用できる。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明を実施例及び比較例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
〔実施例１〕
構造式【００４４】
【化１０】
0004866237.tif 000012
【００４５】
で表される（１−アダマンチルメトキシ）メチル メタクリレートの合成
２リットルのガラス反応器に攪拌装置、滴下ロートを取付け、１−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタン１４０．０３ｇ（６５２ミリモル）、重合禁止剤として、メトキノン０．２８ｇ（２，０００質量ｐｐｍ）を、テトラヒドロフラン１，２００ミリリットルに溶解させ、液温が５℃になるまで冷却した。この時点で容器内の状態は無色透明な溶液となった。次いで、トリエチルアミン９９．１７ｇ（９８０ミリモル）を２．３ミリリットル／分の速さで滴下を開始した後、引き続いてメタクリル酸８３．９４ｇ（９７５ミリモル）を１．４ミリリットル／分の速さで滴下した（滴下時間は、トリエチルアミンを滴下してから1時間で終わるようした）。この時、メタクリル酸を滴下すると発熱が観察されるので、液温２０℃以下になるよう調節した。この時点で溶液の状態は白濁溶液となった。その後、経時的にサンプリングを行い、ガスクロマトグラフィーにて原料の消失、目的物の生成を確認した。反応終了後に氷水１００ミリリットル、飽和塩化ナトリウム水溶液１００ミリリットルを加え、３分間撹拌した。すると、白濁した反応溶液が無色透明な溶液となった。その後、ジエチルエーテル（３００ミリリットルで３回）で抽出操作をおこなった。
上記で得られた溶液を２回に分けて、１００ミリリットルの氷水で洗浄し、その後、溶液を硫酸マグネシウムで脱水処理をおこなった。ここで重合禁止剤としてメトキノン０．０２８ｇ（２００質量ｐｐｍ）を加えた。つづいて、活性炭２２．５ｇで脱色処理をし、溶媒をエバポレーターで留去すると、目的物の（１−アダマンチルメトキシ）メチル メタクリレート１４２．６４ｇ（単離収率８２．７％、ＧＣ純度９６．４１％）を得た。以下、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、ＧＣ−ＭＳの各データを示した。【００４６】
・核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）：ＣＤＣｌ3
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）：１．３７（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，６Ｈ，ｊ）、
１．４８（ｄ，Ｊ＝１２．２Ｈｚ，３Ｈ，ｈ  ｏｒ  ｈ'）、
１．５８（ｄ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ，３Ｈ，ｈ'  ｏｒ  ｈ）、１．７７（ｓ，３Ｈ，ａ）、
１．８３（ｓ，３Ｈ，ｉ）、３．１７（ｓ，２Ｈ，ｆ）、４．６８（ｓ，２Ｈ，ｅ）、
５．４０（ｓ，１Ｈ，ｂ1）、５．９７（ｓ，１Ｈ，ｂ2）
13Ｃ−ＮＭＲ（１２７ＭＨｚ）：１８．０１（ａ）、２７．５８（ｉ）、
３３．７４（ｇ）、３６．５２（ｈ  ｏｒ  ｊ）、３８．８８（ｊ  ｏｒ  ｈ）、
８１．９０（ｆ）、８４．０４（ｅ）、１２５．０４（ｂ）、１３６．６３（ｃ）、
１６９．５１（ｄ）
・ガスクロマトグラフィー質量分析（ＧＣ−ＭＳ）：ＥＩ
２４６（Ｍ+−１８，１．５％）、２３４（Ｍ+−ＣＨ2Ｏ，０．１％）、
１７８（１４．３％）、１４９（４５．６％）、１３５（１００％）、
１０７（１５．２％）、９３（２４．３％）、７９（２１．１％）、
６９（１５．１％）、４１（１７．９％）【００４７】
〔実施例２〕
構造式【００４８】
【化１１】
0004866237.tif 000013
【００４９】
で表される（２−アダマンチルオキシ）メチル メタクリレートの合成
実施例１において、１−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタンの代わりに、２−（クロロメトキシ）アダマンタン１３０．５２ｇ（６５０ミリモル）を使用したこと以外は同様に実施した。なお、最後に溶媒をエバポレーターで留去した後、ジエチルエーテル／ｎ−ヘキサンにより再結晶をした結果、目的物の（２−アダマンチルオキシ）メチル メタクリレート１２２．２６ｇ（単離収率７５．１％、ＧＣ純度９８．６０％）を得た。以下、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、ＧＣ−ＭＳの各データを示した。【００５０】
・核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）：ＣＤＣｌ3
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）：１．５０（ｄ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ，２Ｈ）、
１．６８（ｄ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ，２Ｈ）、１．７１（ｓ，２Ｈ）、
１．７９〜１．８７（ｍ，４Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ，ａ）、
２．０３〜２．０５（ｍ，３Ｈ）、２．０７（ｓ，１Ｈ）、
３．７６（ｔ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１Ｈ，ｆ）、５．４６（ｓ，２Ｈ，ｅ）、
５．５９（ｔ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ，ｂ1）、６．１３（ｓ，１Ｈ，ｂ2）
13Ｃ−ＮＭＲ（１２７ＭＨｚ）：１８．１９（ａ）、
２７．１１（ｈ  ｏｒ  ｈ'  ｏｒ  ｊ  ｏｒ  ｊ'）、
２７．３３（ｈ  ｏｒ  ｈ'  ｏｒ  ｊ  ｏｒ  ｊ'）、
３１．４０（ｇ  ｏｒ  ｉ  ｏｒ  ｉ'）、
３２．５２（ｈ  ｏｒ  ｈ'  ｏｒ  ｊ  ｏｒ  ｊ'）、
３６．５０（ｇ  ｏｒ  ｉ  ｏｒ  ｉ'）、３７．４７（ｇ  ｏｒ  ｉ  ｏｒ  ｉ'）、
８２．９５（ｆ）、８８．６１（ｅ）、１２５．８９（ｂ）、１３６．３２（ｃ）、
１６６．８８（ｄ）
・ガスクロマトグラフィー質量分析（ＧＣ−ＭＳ）：ＥＩ
２２０（Ｍ+−ＣＨ2Ｏ，２９．９％）、１６４（５７．５％）、
１３４（９３．５％）、１３５（１００％）、１２２（２１．４％）、
９２（６８．９％）、７９（４３．２％）、６９（５１．５％）、４１（４７．６％）【００５１】
〔実施例３〕
構造式【００５２】
【化１２】
0004866237.tif 000014
【００５３】
で表される［（４−オキソ−２−アダマンチル）オキシ］メチル メタクリレートの合成
実施例１において、１−［（クロロメトキシ）メチル］アダマンタンの代わりに、４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタン１３９．５５ｇ（６５０ミリモル）を使用したこと以外は同様に実施した。その結果、目的物の［（４−オキソ−２−アダマンチル）オキシ］メチル メタクリレート１４９．８０ｇ（単離収率８７．２％、ＧＣ純度９８．１５％）を得た。以下、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、ＧＣ−ＭＳの各データを示した。【００５４】
・核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）：ＣＤＣｌ3
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）：１．６３〜１．６６（ｍ）、
１．７１〜１．７６（ｍ）、１．８５〜１．８９（ｍ）、１．９３〜１．９５（ｍ）、
１．９６（ｓ）、２．００〜２．０５（ｍ）、２．１９（ｓ）、
２．２６〜２．２９（ｍ）、２．３３〜２．３６（ｍ）、２．４４〜２．４８（ｍ）、
２．５１（ｓ）、２．７７（ｓ）、２．８１（ｓ）、
３．８２（ｔ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ，ｆ2）、
４．１７（ｄｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，５．４Ｈｚ，１ｈ，ｆ1）、
５．３８〜５．４５（ｍ，２Ｈ，ｅ1＆ｅ2）、
５．６２〜５．６４（ｍ，１Ｈ，ｂ11＆ｂ12）、６．１３（ｓ，１Ｈ，ｂ22）、
６．１７（ｓ，ｂ21）
13Ｃ−ＮＭＲ（１２７ＭＨｚ）：１８．１５（ａ1）、１８．３３（ａ2）、
２６．３４（ｋ1）、２６．５６（ｋ2）、
３０．００（ｊ2  ｏｒ  ｌ2  ｏｒ  ｎ2  ｏｒ  ｏ2）、３１．７５（ｍ2）、
３２．２３（ｍ1）、３２．６５（ｊ2  ｏｒ  ｌ2  ｏｒ  ｎ2  ｏｒ  ｏ2）、
３２．９２（ｊ1  ｏｒ  ｌ1  ｏｒ  ｎ1  ｏｒ  ｏ1）、
３３．４０（ｊ2  ｏｒ  ｌ2  ｏｒ  ｎ2  ｏｒ  ｏ2）、
３５．２０（ｊ1  ｏｒ  ｌ1  ｏｒ  ｎ1  ｏｒ  ｏ1）、
３７．９７（ｊ1  ｏｒ  ｌ1  ｏｒ  ｎ1  ｏｒ  ｏ1）、
３８．８１（ｊ2  ｏｒ  ｌ2  ｏｒ  ｎ2  ｏｒ  ｏ2）、
３８．９７（ｊ1  ｏｒ  ｌ1  ｏｒ  ｎ1  ｏｒ  ｏ1）、４５．３７（ｉ2）、
４６．３２（ｉ1）、５１．６９（ｇ1）、５２．２６（ｇ2）、８０．８４（ｆ2）、
８５．５１（ｆ1）、８７．７４（ｅ1）、８８．２８（ｅ2）、
１２６．３５（ｂ1  ｏｒ  ｂ2）、１２６．３９（ｂ2  ｏｒ  ｂ1）、
１３５．９２（ｃ2）、１３５．９７（ｃ1）、１６６．５４（ｄ2）、
１６６．６９（ｄ1）、２１４．６３（ｈ2）、２１５．３２（ｈ1）
注）添字１：主異性体、添字２：副異性体
・ガスクロマトグラフィー質量分析（ＧＣ−ＭＳ）：ＥＩ
２６４（Ｍ+，０．５％）、１７８（４２．１％）、１６５（９．９％）、
１５０（３８．８％）、１４９（３０．９％）、１２１（４１．３％）、
９３（１９．１％）、７９（４１．２％）、６９（１００％）、４１（４６．２％）【００５５】
〔実施例４〕
２−（クロロメトキシ）アダマンタンの合成
塩化水素ガス導入用のノズルを取付けた５００ミリリットルのナス型フラスコにマグネチックスターラーを入れて、２−アダマンタノール３０．４ｇ（２００ミリモル）、パラホルムアルデヒド７．８１ｇ（２６０ミリモル）及び乾燥したジクロロメタン２００ミリリットルを加え、３０℃に保ちながら攪拌した。ここにノズルを通じて塩化水素ガス３６．５ｇ（１０００ミリモル）を１２０分間吹き込んだ。さらに１２０分間攪拌後、溶液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、２−アダマンタンノールは完全に転化し、選択率９９．０％で２−（クロロメトキシ）アダマンタンが得られていることを確認した。
上記で得られた溶液を分液ロートに移し、有機層と水層とを分液した。有機層よりジクロロメタンを留去し、２−（クロロメトキシ）アダマンタンの無色透明液体３９．０ｇ（単離収率９７．２％、ＧＣ純度９９．０％）を得た。【００５６】
〔実施例５〕
（２−アダマンチルオキシ）メチル メタクリレートの合成
温度計、攪拌装置及び滴下ロートを取付けた３００ミリリットルのフラスコにマグネチックスターラーを入れて、メタクリル酸１９．４ｇ及びヘキサン１００ミリリットルを加えて、０℃に冷却した後、攪拌しながらトリエチルアミン２２．８ｇ（２２５ミリモル）を２０分間かけて滴下した。続いて、実施例４で得られた２−（クロロメトキシ）アダマンタン３０．１ｇ（１５０ミリモル）を液温が１０℃以上とならないように滴下した。滴下が終了した後、１時間攪拌を続け、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、２−（クロロメトキシ）アダマンタンが完全に転化していることを確認した。
得られた溶液を分液ロートに移し、水洗、アルカリ洗浄、水洗を行った後、４０℃から−１０℃まで冷却し晶析した。固液分離後、固体を−１０℃のヘキサンでリンスした。室温下、真空乾燥したところ、（２−アダマンチルオキ）メチル メタクリレートの白色固体２９．０ｇ（単離収率７８．０％、ＧＣ純度９９．３％）が得られた。
このようにして得られた（２−アダマンチルオキシ）メチル メタクリレート０．２ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート０．８ｇに溶解し、溶液の濁りを目視により確認したところ、溶液は無色透明であり、濁りは認められず、純度の高い目的化合物を得ることができた。【００５７】
〔実施例６〕
４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタンの合成
塩化水素ガス導入用のノズルを取付けた５００ミリリットル三つ口フラスコにマグネチックスターラーを入れて、４−オキソ−２−アダマンタノール３３．２４ｇ（２００ミリモル）、パラホルムアルデヒド９．０１ｇ（３００ミリモル）及び乾燥したジクロロメタン２００ミリリットルを加え、３０℃に保ちながら攪拌した。ここにノズルを通じて塩化水素ガス３６．５ｇ（１０００ミリモル）を１２０分間吹き込んだ。さらに１２０分間攪拌後、溶液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、２−アダマンタノールは完全に転化し、選択率９４．０％で４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタンが得られていることを確認した。
上記で得られた溶液を分液ロートに移し、有機層と水層とを分液した。有機層よりジクロロメタンを留去した後、蒸留にて精製を行い、４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタンを３７．０ｇ（単離収率８６．０％、ＧＣ純度９８．８％）を得た。蒸留した際に、装置へのパラホルムアルデヒドの付着は認められなかった。【００５８】
〔実施例７〕
［（４−オキソ−２−アダマンチル）オキシ］メチル メタクリレートの合成
温度計、攪拌装置及び滴下ロートを取付けた３００ミリリットルのフラスコにマグネチックスターラーを入れて、メタクリル酸１９．４ｇ及びヘキサン１００ミリリットルを加えて、０℃に冷却した後、攪拌しながらトリエチルアミン２２．８ｇ（２２５ミリモル）を２０分間かけて滴下した。続いて実施例６で得られた４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタン３２．２ｇ（１５０ミリモル）を液温が１０℃以上とならないように滴下した。滴下が終了した後、１時間攪拌を続け、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、４−オキソ−２−（クロロメトキシ）アダマンタンが完全に転化していることを確認した。
得られた溶液に水を加えて反応を停止させた後、分液ロートに移し、水層を除去した。さらに有機層を純水で洗浄後分液し、溶媒を減圧濃縮したところ、［（４−オキソ−２−アダマンチル）オキシ］メチル メタクリレートの無色液体３７．３ｇ（単離収率９４．０％、ＧＣ純度９９．３％）が得られた。
このようにして得られた［（４−オキソ−２−アダマンチル）オキシ］メチル メタクリレート０．２ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート０．８ｇに溶解し、溶液の濁りを目視により確認したところ、溶液は無色透明であり、濁りは認められず、純度の高い目的化合物を得ることができた。【００５９】
〔比較例１〕
（２−アダマンチルオキシ）メチル メタクリレートの合成
塩化水素ガス導入用のノズルを取付けた５００ミリリットルのナス型フラスコにマグネチックスターラーを入れて、２−アダマンタノール３０．４ｇ（２００ミリモル）、パラホルムアルデヒド７．８１ｇ（２６０ミリモル）、無水硫酸マグネシウム２４．０ｇ（２００ミリモル）及び乾燥したジクロロメタン２００ミリリットルを加え、３０℃に保ちながら攪拌した。ここにノズルを通じて塩化水素ガス３６．５ｇ（１０００ミリモル）を１２０分間吹き込んだ。さらに１２０分間攪拌後、溶液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、２−アダマンタンノールは完全に転化し、選択率９６．５％で２−（クロロメトキシ）アダマンタンが得られていることを確認した。
上記で得られた溶液より硫酸マグネシウムをろ過して取り除いた後、溶液からジクロロメタンを留去したところ、パラホルムアルデヒドの固体と液体の２−（クロロメトキシ）アダマンタンからなる懸濁液４０．９ｇが得られた。得られた懸濁液を用いること以外は実施例５と同様にして（２−アダマンチルオキシ）メチル メタクリレートを合成した。
このようにして得られた（２−アダマンチルオキシ）メチル メタクリレート０．２ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート０．８ｇに溶解し、溶液の濁りを目視により確認したところ、溶液に濁りが認められ、目的化合物中にカルボニル化合物が不純物として含まれていることが分かった。【００６０】
〔実施例８〜１０、比較例２、３〕
実施例１〜３で合成した化合物、及び２−メチル−２−アダマンチル メタクリレート、２−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシメチルオキシフェニル）プロペンについて、下記の要領で酸分解性の評価とレジスト材特性の評価を行った。結果を第１表に示す。
・酸分解性
（１）ＮＭＲ用試料管に評価試料（１２０μモル）を入れ、ＤＭＳＯ−ｄ６（重水素ジメチルスルホキシド）０．６１ミリリットルで溶解させた。
（２）ここに、トリフルオロメタンスルホン酸５．３０μリットル（６０μモル）を加えた。この時点で、基質濃度２００μモル／ミリリットル、酸濃度１００μモル／ミリリットルとなった。
（３）この試料管をＮＭＲにセットし、１００℃にして分解反応を開始した。
（４）１０分後に1Ｈ−ＮＭＲを測定し、試料の分解率を算出した。【００６１】
・レジスト材特性
上記のようにして得られたアダマンチル（メチル）オキシメチル（メタ）アクリレート類は、例えばラジカル重合を経てポリマーに変換することによって、フォトレジスト材料に適宜変換することが可能である。具体的な重合方法については、特開２００１−２２０７５号公報、特開２００１−２７８０４号公報及び特開２００１−５１８４号公報に代表される方法に準拠することが可能である。
上記の方法に準拠して製造したアダマンチル（メチル）オキシメチル（メタ）アクリレート重合体及び共重合体は、次の方法によってレジスト材料としての特性を評価した。【００６２】
ＡｒＦ透明性とは、ＡｒＦレーザーの透過度を表し得るものである。ポリマー又はコポリマーをシリコンウエハーに５００ｎｍの膜厚で密着させた基板を用いて露光し、ウエハー現象、純水洗浄・乾燥の工程を経て、ウエハー断面のレジスト膜の形状を経て、ウエハー断面のレジスト膜の形状を電子顕微鏡で評価したものである。レジスト膜がウエハー表面までくっきりと侵食されているものを◎、ウエハー表面まで侵食は達しているが、基板との接触面でやや明瞭さが劣るものを○、侵食面がウエハー表面に達していないものを×と評価した。【００６３】
耐熱性とは、１２０℃にて６０秒のプリべークを行う際のレジストポリマーの耐性を表し得るものである。同一温度条件で、６０秒の熱履歴を与え、当初のポリマーとの構造変化をＮＭＲで追跡したところ、構造変化が全く認められないものを◎、構造変化はＮＭＲでは認められないものの、着色が僅かに起こり、熱による構造変化の開始が認められるものを○、構造変化がＮＭＲで明らかに判るものを△、また構造変化を経て、全く構造の違うものに変化したものを×と評価した。【００６４】
解像性とは、露光後の解像されるレジストパターンの最小寸法を測定し、０．０４５以上０．０５μｍ未満のものを◎、０．０５以上０．１５μｍ未満のものを○、０．１５μｍ以上のものを△と評価した。【００６５】
【表１】
0004866237.tif 000015
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本発明のアダマンタン誘導体は、新規なアダマンチルオキシメチル（メタ）アクリレート類であって、フォトリソグラフィー分野における感光性樹脂などの機能性樹脂のモノマーとして有用であり、また、従来のアダマンタン系（メタ）アクリレート類に比べ、アセタール構造を有するため、酸と容易に反応し、より高度な解像が可能になり得る。更に、露光後の表面荒れ（ＬＥＲ：レジストの側面にできる凹凸、ＬＷＲ：配線を真上から見た場合のうねり）の改善、ＰＥＢ（露光によって発生した酸を拡散させるための熱処理）の温度依存性等の改善効果が期待できる。