(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスク基板にパターンを形成する工程と、
前記基板上に形成された前記パターンの実際の位置と設計上の位置との間の位置ずれ情報を算出する位置ずれ情報算出工程と、
前記算出された位置ずれ情報に応じた体積膨張となるように、前記基板内の所定の位置に周囲のマスク基板領域よりも体積が膨張した異質層を形成する異質層形成工程と、
を含むことを特徴とするインプリントマスクの製造方法。
【請求項２】
前記異質層形成工程では、前記位置ずれ情報に応じて照射するレーザ光の照射量と照射位置を算出し、前記算出した照射量と照射位置に基づきレーザ光を照射して、前記基板の一部に周囲のマスク基板領域よりも体積が膨張した異質層を形成することを特徴とする請求項１に記載のインプリントマスクの製造方法。
【請求項３】
前記異質層形成工程では、前記位置ずれ情報に応じてイオン注入量と注入位置を算出し、前記算出したイオン注入量と注入位置に基づきイオン注入を行って、前記基板の一部に周囲よりも体積が膨張した異質層を形成することを特徴とする請求項１に記載のインプリントマスクの製造方法。
【請求項４】
前記マスク基板の複数の端面を同時に押し付けて、前記基板に形成されたパターンを所定のサイズに縮小させる倍率補正工程をさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のインプリントマスクの製造方法。
【請求項５】
半導体基板上に形成された被加工膜上の全面に塗布材を塗布する塗布工程と、
請求項１〜４のいずれか１つの方法で製造された前記インプリントマスクを、前記基板に対して位置合せをして、前記塗布材を介して前記被加工膜上に押し付ける押付工程と、
前記塗布材を固化させる塗布材固化工程と、
前記インプリントマスクを前記被加工膜から離して、前記被加工膜上に残された塗布材パターンをマスクに前記被加工膜を加工する加工工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ナノインプリント用のインプリントマスクの製造方法と、このインプリントマスクを使用した半導体装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体装置の微細化の進行に伴って、半導体装置の製造プロセスに用いられているフォトリソグラフィ工程での課題が顕著になりつつある。つまり、現時点における最先端の半導体装置の設計ルールはハーフピッチ（ｈｐ）２２ｎｍ程度にまで微細化してきており、従来の光を用いた縮小パターン転写によるリソグラフィでは解像力が不足し、パターン形成が困難な状況になっている。そこで、近年では、このようなリソグラフィに代わって、ナノインプリント技術が用いられるようになってきている。
【０００３】
このナノインプリントは、インプリントマスクを基板上に塗布されたインプリント材（塗布材）に押し付けてインプリント材を固化させ、インプリントマスク上に形成されたパターンの型を取るようにして基板上にパターン形成する技術である。そのため、このナノインプリントでは、従来の光を用いたリソグラフィで問題となっていた焦点深度や収差、露光量などの変動要因が少なく、高精度のインプリントマスクが完成すれば非常に簡便にかつ精度良くパターン転写を行うことができる可能性がある。
【０００４】
ところで、半導体装置の製造には、予めパターンが形成された基板の上に新たなパターンを形成する工程が含まれるが、この工程にナノインプリントを用いる場合には、インプリントマスクと基板との間の高いアライメント精度が求められる。しかし、通常、インプリントマスクに形成されたパターンは位置歪を有しているので、下地となるパターンに合わせてパターン形成するためには、インプリントマスクのパターン位置歪を解消しておくことが好ましい。このパターン位置歪のうち、たとえば倍率などの１次成分のずれに関しては、インプリントマスクの端面を押すことによって、ずれを解消することが可能である（たとえば、非特許文献１参照）。しかし、インプリントマスクが２次以上の複雑な形状のパターン位置ずれを有する場合や倍率を拡大しなければならない場合等には、上記特許文献１に記載のインプリントマスクの端面を押してパターンの倍率を縮小させる方法では、インプリントマスクのパターン位置歪を解消することができないという問題点があった。
【０００５】
【非特許文献１】D.  L.  White  and  O.  R.  Wood  II,  “Novel  alignment  system  for  imprint  lithography”, The  Journal  of  Vacuum  Society  Technology  B  18(6) ,  November/December  2000,  American  Vacuum  Society
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、パターン位置ずれを有するインプリントマスクのパターン位置ずれを補正することができるインプリントマスクの製造方法を提供することを目的とする。また、この製造方法によって得られたインプリントマスクを用いた半導体装置の製造方法を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によれば、マスク基板にパターンを形成する工程と、前記基板上に形成された前記パターンの実際の位置と設計上の位置との間の位置ずれ情報を算出する位置ずれ情報算出工程と、前記算出された位置ずれ情報に応じた体積膨張となるように、前記基板内の所定の位置に周囲のマスク基板領域よりも体積が膨張した異質層を形成する異質層形成工程と、を含むことを特徴とするインプリントマスクの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、パターン位置ずれを有するインプリントマスクのパターン位置ずれを補正することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下に添付図面を参照して、本発明にかかるインプリントマスクの製造方法および半導体装置の製造方法の最良な実施の形態を詳細に説明する。なお、この実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の実施の形態で用いられるインプリントマスクの断面図は模式的なものであり、実際の比率を現すものではない。
【００１０】
図１は、本発明の実施の形態で使用されるインプリントマスク製造装置の機能構成の一例を模式的に示すブロック図である。このインプリントマスク製造装置１０は、位置ずれ検出部１１と、位置ずれ補正情報記憶部１２と、レーザ照射条件算出部１３と、位置ずれ情報記憶部１４と、レーザ照射部１５と、これらの各処理部を制御する制御部１６と、を備える。
【００１１】
位置ずれ検出部１１は、マスク基板上の所定の位置について、実際にマスク基板に形成された基準パターンの理想的な位置からの位置ずれを検出し、隣接する理想的な基準パターン間の距離に対する位置ずれの割合を示すパターン位置変化率を算出する。なお、本実施の形態ではマスク基板上の所定の位置として、マスク基板上に形成される基準パターンによって囲まれる位置ずれ補正領域を用いるものとする。この位置ずれ検出部１１によって算出されたパターン位置変化率は、位置ずれ補正領域に関連付けされて位置ずれ情報記憶部１４に記憶される。ここで、基準パターンとは、マスク基板上に形成される半導体装置を製造するためのパターンの位置ずれ（位置歪）を検出するために設けられるパターンのことであり、設計上では所定の間隔で形成されることが決められているパターンのことである。また、位置ずれは、レーザ干渉計などによって検出することができる。
【００１２】
図２は、インプリントマスク基板の基準パターン形成状態を模式的に示す図であり、（ａ）は、インプリントマスク基板に形成された基準パターンの実際の位置と理想的な位置との関係の一例を模式的に示す平面図であり、（ｂ）は、基準パターンの位置ずれ量の算出方法の一例を示す図である。この図で、実線の十字パターン３１は、基板３０上に基準パターンが形成された実際の位置を示しており、点線の円形パターン３２は、基準パターンが配置される基板３０上の理想的な位置を示している。基準パターンの理想的な位置は、たとえば基準パターンの設計上の位置である。なお、マスク基板３０上の直交する２つの方向をｘ軸方向とｙ軸方向とする。
【００１３】
図２（ａ）の円形パターン３２で示されるように、マスク基板３０上のｘ軸方向とｙ軸方向に所定の間隔（たとえば、５ｍｍ間隔）で格子状に基準パターンが形成されることが望ましいが、実際には、十字パターン３１で示されるように基準パターンの実際の位置は、理想的な位置（円形パターン３２）に比べてずれて形成されてしまう。そこで、位置ずれ検出部１１は、マスク基板３０上に形成された複数の基準パターンのうち、４つの基準パターンによって構成される最も小さい矩形状の領域（位置ずれ補正領域）について、ｘ軸方向とｙ軸方向のそれぞれに関して隣接する基準パターンの実際の位置（十字パターン３１）を用いて理想的な位置（円形パターン３２）からの位置ずれ量を検出する。そして、理想的な基準パターン（円形パターン３２）間の距離に対する、ｘ軸方向とｙ軸方向のそれぞれの位置ずれ量の割合であるパターン位置変化率を算出する。このパターン位置変化率はすべての位置ずれ補正領域について算出される。
【００１４】
たとえば、図２（ｂ）に示される４つの実線の十字パターン３１−１〜３１−４で囲まれた位置ずれ補正領域Ｒにおけるパターン位置変化率を求める場合について説明する。なお、ここでは、この位置ずれ補正領域Ｒのｘ軸方向のパターン位置変化率は、位置ずれ補正領域Ｒの上辺での検出結果を用いて算出するものとし、ｙ軸方向のパターン位置変化率は、位置ずれ補正領域Ｒの右辺での検出結果を用いて算出するものとする。
【００１５】
位置ずれ補正領域Ｒのｘ軸方向の位置ずれ量Δｘは、上述した前提より位置ずれ補正領域Ｒの上辺を構成する十字パターン３１−１，３１−２間のｘ軸方向の距離ｘrと、理想的な位置に形成される隣接する基準パターンである円形パターン３２間のｘ軸方向の距離ｘiの差として計測される。また、位置ずれ補正領域Ｒのｙ軸方向の位置ずれ量Δｙは、同じく位置ずれ補正領域Ｒの右辺を構成する十字パターン３１−２，３１−４間のｙ軸方向の距離ｙrと、対応する理想的な位置に形成される隣接する円形パターン３２間のｙ軸方向の距離ｙiの差として計測される。
【００１６】
そして、ｘ軸方向のパターン位置変化率は、理想的な位置での基準パターン（円形パターン３２）間の距離ｘiに対するｘ軸方向の位置ずれ量ΔｘであるΔｘ／ｘiとして求められる。また、ｙ軸方向のパターン位置変化率は、理想的な位置での基準パターン（円形パターン３２）間の距離ｙiに対するｙ軸方向の位置ずれ量ΔｙであるΔｙ／ｙiとして求められる。なお、位置ずれ量Δｘ，Δｙは、理想的な位置からのずれの絶対値で表現している。これらのパターン位置変化率は、ナノメータオーダの位置ずれを累積してミリメータオーダでのマクロな位置ずれ量として求めたものである。
【００１７】
なお、上記した例では、マスク基板上パターンの位置ずれの検出に、マスク基板上に形成した基準パターンを用いる場合を挙げたが、マスク基板上に基準パターンを形成せず、マスク基板上に形成された、通常の半導体装置のデバイスパターンを形成するためのマスクパターンの位置ずれの検出を行うようにしてもよい。すなわち、マスク基板に形成したデバイスパターン形成用パターンの理想的な位置からの位置ずれを検出してもよい。
【００１８】
位置ずれ補正情報記憶部１２は、マスク基板へのレーザの照射量および照射位置とレーザ照射後のパターン位置変化量（率）との間の関係を示す位置ずれ補正情報を記憶する。この位置ずれ補正情報は、照射するレーザ光の波長や出力、ビーム径、ビーム長さ、マスク基板材料などの違いによって異なるものであるので、予め実験によって求めておく。なお、本実施の形態では、レーザの照射量として、レーザパルスの照射数を用いている。
【００１９】
図３は、照射位置がマスク基板の厚さの中央付近の場合のレーザの照射量とパターン位置変化量（率）の関係を示す位置ずれ補正情報の一例を示す図である。この図において、横軸は単位面積当たりのレーザパルスの照射数（以下、レーザパルス照射密度という）を示し、縦軸は膨張する方向のパターン位置変化率を示している。この位置ずれ補正情報は、マスク基板の厚さ方向中央付近での正方形の所定の面積（たとえば、１０ｍｍ四方の面積）に所定数のレーザパルスを照射したときの、その正方形の辺上の位置変化の割合として求められる。この図に示されるように、レーザパルス照射密度とパターン位置変化率との間には高い相関関係があり、レーザパルス照射密度が低いほどパターン位置変化率が小さく、レーザパルス照射密度が高いほどパターン位置変化率が大きくなる。つまり、実際のパターン位置の理想的なパターン位置からのずれ量がわかれば、位置ずれ補正情報からそのずれ量を補正するためのレーザパルス照射密度が求められる。
【００２０】
なお、この例では、位置ずれ補正情報として、照射位置がマスク基板の厚さの中央付近である場合のレーザパルス照射密度と位置変化の割合との間の関係を用いる場合を例に挙げているが、マスク基板の厚さ方向の照射位置と位置変化量（率）との間の関係を用いてもよい。この場合の位置ずれ補正情報は、たとえば、マスク基板の正方形の所定の面積（たとえば、１０ｍｍ四方の面積）の厚さ方向の各位置に所定量のレーザパルスを照射したときの、その正方形の辺上の位置変化の量（割合）として求められる。さらに、マスク基板の厚さ方向の照射位置と位置変化量（率）との間の関係のみならず、マスク基板の水平方向の照射位置と位置変化量（率）との間の関係を用いて、位置ずれ補正情報を求めてもよい。
【００２１】
レーザ照射条件算出部１３は、位置ずれ補正領域Ｒのパターン位置変化量（率）から、位置ずれ補正情報を用いてその位置ずれを解消するためのレーザパルス照射条件、例えばレーザパルス照射密度を求め、このレーザパルス照射密度に各位置ずれ補正領域Ｒの面積を乗じることで、各位置ずれ補正領域Ｒにおけるレーザパルス照射数を算出する。ここで算出するレーザ照射条件としては、レーザ照射量およびレーザ照射位置等の照射条件が含まれる。レーザパルス照射数等の照射条件は、位置ずれ情報記憶部１４に各位置ずれ補正領域に対応付けて記憶される。なお、ここでは、レーザパルスの照射位置をマスク基板の厚さ方向の中央付近に固定した場合を例に挙げているので、レーザ照射条件算出部１３は位置ずれ補正情報を用いてレーザ照射量を算出する例を示したが、たとえばレーザパルスの照射量を所定値に固定したときのレーザ照射位置を算出するようにしてもよい。
【００２２】
なお、位置ずれ補正領域Ｒにおけるｘ軸方向とｙ軸方向のパターン位置変化率が異なる場合には、パターン位置変化率が負のもの（隣接するパターン間の距離が縮小する方向の変化を示すもの）で、その絶対値が大きい方の値を用いてレーザ照射量を算出する。また、パターン位置変化率が膨張する方向の値を示す場合には、レーザ照射による位置ずれ補正は行わない。これは、レーザ照射による位置ずれの補正は、マスク基板の体積の膨張を利用して、収縮して形成されたパターンを補正するものであり、膨張して形成されたパターンを収縮するように補正することができないからである。なお、パターン位置変化率が０以下の場合には、その位置ずれ補正領域に対する位置ずれ補正が行われないので、レーザ照射量の算出によって、位置ずれ補正が行われる領域が設定されることになる。
【００２３】
位置ずれ情報記憶部１４は、位置ずれ検出部１１によって検出されたパターン位置変化量（率）と、レーザ照射条件算出部１３によって算出された基板上の各位置ずれ補正領域のレーザ照射条件と、をマスク基板上の位置ずれ補正領域に対応付けて位置ずれ情報として記憶する。なお、この位置ずれ情報記憶部１４に記憶されるパターン位置変化率は、マスク基板に形成されたデバイスパターン形成用マスクパターンのパターン位置変化率である必要があるが、この例で示されるようにデバイスパターン形成用マスクパターンに代えて基準パターンを用いて算出したパターン位置変化率としてもよい。また、この位置ずれ情報中のレーザ照射条件は、レーザを照射するマスク基板の位置である照射位置と、その位置に照射するレーザ照射量と、を含むものである。この照射位置は、たとえば、デバイスパターンの中心からマスク基板の厚さ方向または水平方向に所定の距離ずれた位置などのように位置ずれ情報記憶部１４に記憶される。
【００２４】
レーザ照射部１５は、位置ずれ情報記憶部１４に記憶された各位置ずれ補正領域でのレーザ照射条件に基づいて、マスク基板上の各位置（位置ずれ補正領域）に所定のパルス数のレーザ光を照射する。このレーザ照射部１５は、マスク基板を保持する基板保持機能と、基板にレーザ光を照射するレーザ光源と、位置ずれ情報に含まれるマスク基板上の位置にレーザ光を照射するための位置合わせ機能と、を含む。ここで、レーザ光源としては、ＹＡＧ（Yttrium  Aluminum  Garnet）レーザや炭酸ガスレーザなどの赤外線レーザをパルス状に出力する赤外線レーザ光源が用いられる。また、レーザ光源は、基板の厚さ方向の所定の位置（たとえば、中心部付近）にレーザ光が焦点を結ぶように設定可能な構成となっている。
【００２５】
このような構成のインプリントマスク製造装置によって、マスク基板の補正を行う各位置（たとえば、デバイスパターン形成用マスクパターンの中心を原点とした、直交座標系によって定義される位置）のマスク基板の表面からの所定の深さ（この場合には、厚さ方向の中心付近）に、その位置でのパターン位置変化率にしたがったレーザパルス照射数のレーザ光が照射される。レーザ光が照射された位置では、瞬時に温度が上昇し、極短い時間溶融した後、すぐに冷却されることで、周囲に比して体積がわずかに増加した異質層が形成される。この異質層は周囲のマスク基板領域に比して体積が大きくなるので、各パターンが膨張するように変位する結果、パターンの理想的な位置に実際の位置が近づく。このようにして、２次以上の複雑な位置歪を有してしまったインプリントマスクでも、そのパターン位置を理想的なパターン位置に近づけることが可能となる。
【００２６】
つぎに、インプリントマスクの製造方法について説明する。図４は、本発明にかかるインプリントマスクの製造方法の手順の一例を示すフローチャートである。まず、石英基板などのマスク基板上の全面にレジスト層を形成し、所定の寸法で所定の形状に電子線やＸ線の照射を行う露光プロセスおよび現像プロセスによってレジストパターン（たとえばｈｐ２２ｎｍのメモリデバイスのゲート層を形成するためのゲート層パターン）を形成する。なお、この例では、マスク基板上に形成するパターンには、マスク基板上のパターンの位置ずれを検出するための基準パターンも含まれており、図２に示したように格子状のパターンとなるように形成されているものとするが、この基準パターンは必ずしも必要ではなく、マスク基板上に形成されるデバイスパターン形成用パターンを基準パターン代わりに使用してもよい。そして、このレジストパターンをマスクとしてマスク基板をエッチングした後、レジストパターンを除去してマスク基板上にパターンを形成する（ステップＳ１１）。このパターンを形成したマスク基板を、以下ではインプリントマスクともいう。また、この例では、厚さが約６ｍｍの石英基板を加工してインプリントマスクを形成するものとする。
【００２７】
通常、このマスク基板上へのパターン形成時に、マスク基板上に形成されるレジスト（レジスト以外にマスクとして使用する膜が形成されることもある）による応力の影響や、露光プロセスにおける描画装置の描画精度の限界によって、形成したパターンの位置が理想的な位置からずれる位置ずれ（位置歪）が生じる。
【００２８】
図５は、インプリントマスクの位置ずれの様子を模式的に示す平面図である。この図では、パターンを形成した側のインプリントマスクの面の一部の様子を示しており、点線は理想的なパターン位置４１を示しており、実線は実際に形成されたパターン位置４２を示している。この例で、理想的なパターン位置４１の間隔の半分が約２０ｎｍであるとするが、これらのパターン位置４１，４２は、実際のパターンの幅は示しておらず、パターンの中心位置を示している。また、この図５は、インプリントマスク内の一部のパターンを示しており、インプリントマスクの全体的な位置ずれの例は、図２に示されている。
【００２９】
この図５に示されるように、エッチングによってマスク基板上に形成された実際のパターン位置４２は、２次以上の複雑な形状を有している。また、中心部４３付近とパターン位置の四隅４４では、実際のパターン位置４２が理想的なパターン位置４１とほぼ一致しているが、パターン位置の各辺の中央部４５付近では、中心部４３付近に寄るように位置ずれが発生している。
【００３０】
ついで、位置ずれ検出部１１で、マスク基板に格子状に形成されたパターンの理想的な位置からの位置ずれを測定し、マスク基板上の各位置における理想的なパターン位置からの実際のパターン位置のずれの度合いを示すパターン位置変化率を算出する（ステップＳ１２）。たとえばこのパターン位置変化率の測定は、図２に示したように、４つのパターンで囲まれる正方形状の位置ずれ補正領域Ｒごとに求められる。この求められたパターン位置変化率は、位置ずれ補正領域Ｒに対応付けられて位置ずれ情報記憶部１４に記憶される。
【００３１】
図６は、インプリントマスク形成後のパターン位置の位置ずれの様子を模式的に示す断面図である。この図に示されるように、基板３０のある断面上に存在する４つの領域ＲA，ＲB，ＲC，ＲDのパターン位置変化率が、それぞれ、Ａ，Ｂ，０，Ｄ（Ａ，Ｂ，Ｄは正の整数であり、Ａ＞Ｂ＞Ｄであるとする）となったものとする。これらのパターン位置変化率Ａ，Ｂ，０，Ｄは、各領域ＲA，ＲB，ＲC，ＲDと対応付けられて位置ずれ情報として位置ずれ情報記憶部１４に記憶される。なお、ここで求められるパターン位置変化率は、実際の基準パターン間の距離が理想的な基準パターン間の距離に比して縮む方向を正として計算している。
【００３２】
その後、レーザ照射条件算出部１３は、マスク基板上の各位置ずれ補正領域のパターン変化量から、位置ずれ補正情報記憶部１２に記憶された位置ずれ補正情報に基づいて、その位置ずれ補正領域におけるレーザパルス照射密度情報および照射位置情報を取得する。例えば、その位置ずれ補正領域の面積を取得したレーザパルス照射密度に乗じて、その位置ずれ補正領域で照射するレーザパルス数を算出する（ステップＳ１３）。
【００３３】
たとえば、図６における領域ＲA，ＲB，ＲC，ＲDのパターン位置変化率Ａ，Ｂ，０，Ｄを用いると、レーザパルス照射密度は、図３からそれぞれａ，ｂ，０，ｄ（ａ＞ｂ＞ｄ＞０）と求められる。そして、このレーザ照射密度に位置ずれ補正領域の面積が乗じられる。ここで、各位置ずれ補正領域の面積が等しいものと仮定すると、パターン位置変化率が大きいほど、位置ずれ補正領域のレーザパルスの照射数が多く設定され、パターン位置変化率が小さいほど、位置ずれ補正領域のレーザパルスの照射数が少なく設定される。
【００３４】
ついで、レーザ照射部１５は、レーザ照射条件算出部１３によって算出されたレーザパルス照射数に基づいて、基板の各位置ずれ補正領域にレーザパルスを照射し、インプリントマスク（マスク基板）の厚さ方向の中心付近に周囲のマスク基板構成材料に比して体積が増加した異質層を形成する（ステップＳ１４）。
【００３５】
図７は、インプリントマスクへのレーザ照射の様子を模式的に示す断面図であり、図８は、図５に示されるインプリントマスクへのレーザ照射によるパターン位置の補正の様子を模式的に示す一部平面図である。図７は、図６のインプリントマスクの断面図に対応しており、各領域ＲA，ＲB，ＲC，ＲDに照射されるレーザ照射数ｎA，ｎB，ｎC，ｎDは、ステップＳ１３で求められたａ，ｂ，０，ｄに比例している。このように、パターン位置歪を有する領域ＲA，ＲB，ＲDに、レーザＬが照射されると、上記したように周囲よりも体積が膨張した異質層３５がマスク基板３０の厚さ方向中央付近に形成される。
【００３６】
図８（ａ）は、図５に示されるインプリントマスクへのレーザ照射の様子を模式的に示す一部平面図であり、図８（ｂ）は、レーザ照射後のパターン位置の変化の様子を模式的に示す一部平面図である。図５に示すようなパターン位置歪を有する領域に、レーザＬが照射されると、上記したように異質層が形成され、レーザＬの照射位置を中心にして同心円状に異質層の体積膨張の影響が伝わり、レーザＬの照射位置の周囲のパターンがレーザＬの照射位置から離れる方向に向かって変位する。その結果、図８（ｂ）に示されるように、インプリントマスクのパターン形成時に生じた隣接するパターン間の距離が縮小する方向にずれたパターン位置が、その距離を拡大させることによって、パターンの位置ずれが解消される。また、各位置ずれ補正領域に照射されるレーザパルス数は、位置ずれ量を補正するのに必要な数に設定されているので、レーザ照射によって、実際のパターン位置が理想的なパターン位置付近に近づくような変位量となり、２次元平面内でパターン位置が変位した複雑な位置歪が解消され、１次の倍率成分による位置歪のみが残るだけとなる。しかも、１次の倍率成分は、インプリントマスクの実際のパターン位置４２が理想的なパターン位置４１に比べて拡大しているものであるので、ナノインプリント装置でインプリントマスクの端面を図８（ｂ）の矢印５０の方向に同時に押すことで解消可能である。以上によって、インプリントマスクの製造処理が終了する。
【００３７】
なお、インプリントマスクのパターン形成直後（パターンのエッチング直後）では、パターンの位置歪（位置ずれ）量が最大で約６ｎｍ存在したが、上記の工程によってインプリントマスクを製造し、１次の倍率成分を取り除いた残留の位置歪は約１ｎｍと非常に良好な値になった。
【００３８】
つぎに、このようなインプリントマスクを用いた半導体装置の製造方法について説明する。ここでは、インプリントマスクを用いてたとえばフォトリソグラフィでは解像力が不足する領域のパターンを被加工膜上に形成する場合（たとえばメモリデバイスの作製）を例に挙げて説明する。
【００３９】
半導体装置を製造する半導体基板上に形成された被加工膜上の全面に塗布材を塗布し、上記の製造工程で製造されたインプリントマスクのパターン形成面が塗布材に対向するように配置して、インプリントマスクと基板とを接近させる。ついで、インプリントマスクと半導体基板との間の位置合せを行った後、塗布材を介して基板にインプリントマスクを押し付けて、塗布材を変形させ、熱または光により塗布材を硬化させることで、インプリントマスクのパターンを塗布材に転写する。塗布材が十分に硬化した後、インプリントマスクを基板から離し、残った塗布材をエッチングすることで、基板の被加工膜上に塗布材パターンが形成される。そして、この塗布材パターンをマスクとして、エッチングを行うことによって、被加工膜を加工し、所望のサイズと形状を有する半導体装置を製造することができる。
【００４０】
このようにして製作したインプリントマスクを用いてメモリデバイスを製造すると、従来のインプリントマスクと比較してアライメント精度が格段に向上し、メモリデバイスの製造歩留まりも飛躍的に向上する。
【００４１】
なお、上述した説明では、異質層の形成に赤外線レーザを基板に照射する場合を例に挙げたが、ガリウムイオンなどを基板に注入するようにしてもよい。この場合には、パターン位置変化率に応じてイオン注入量を変化させる。このイオン注入によっても、レーザ照射の場合と同じ様に、インプリントマスクのパターンの位置歪を解消することが可能となる。
【００４２】
また、上述した説明では、レーザ照射位置を基板の厚さ方向中央付近としたが、これは、基板の厚さ方向の中央付近にレーザが照射されるようにすると、レーザ照射後の基板の反りを抑えることができるからである。しかし、意図的にレーザ照射後のインプリントマスクに反りを持たせたい場合には、基板の厚さ方向の中央付近ではなく、パターン形成側の面付近またはパターン形成面とは反対側の面付近に異質層を形成してもよい。図９は、異質層の形成位置によるインプリントマスクの形状の変化を模式的に示す断面図であり、（ａ）は、パターン形成側の面付近に異質層を形成した場合を示しており、（ｂ）は、パターン形成側とは反対側の面付近に異質層を形成した場合を示している。図９（ａ）のように基板３０のパターン形成側の面付近に異質層３５を形成した場合には、パターン形成側の面付近が膨張するので、パターン形成側の面が広がり、パターンが拡大するように補正される。また、図９（ｂ）のように基板３０のパターン形成側とは反対の面付近に異質層３５を形成した場合には、パターン形成側とは反対側の面が広がるために、パターンが縮小するように補正される。
【００４３】
以上のように、本実施の形態によれば、インプリントマスクのパターン形成後に、パターンの位置変化率に基づいてレーザを照射して異質層を形成し、異質層の膨張によってパターンの位置変化を生じるようにしたので、インプリントマスクのパターン形成時に生じた２次以上の複雑なパターンの位置ずれを除去して、実際のパターン位置が理想的な位置となるように補正することができるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の実施の形態で使用されるインプリントマスク製造装置の機能構成の一例を模式的に示すブロック図である。
【図２】インプリントマスクの基準パターン形成状態を模式的に示す図である。
【図３】位置ずれ補正情報の一例を示す図である。
【図４】本発明にかかるインプリントマスクの製造方法の手順の一例を示すフローチャートである。
【図５】インプリントマスクの位置ずれの様子を模式的に示す平面図である。
【図６】インプリントマスク形成後のパターン位置の位置ずれの様子を模式的に示す断面図である。
【図７】インプリントマスクへのレーザ照射の様子を模式的に示す断面図である。
【図８】図５に示されるインプリントマスクへのレーザ照射によるパターン位置の補正の様子を模式的に示す一部平面図である。
【図９】異質層の形成位置によるインプリントマスクの形状の変化を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
３０…マスク基板、３５…異質層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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