(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一面が無機材料製の耐熱性板により形成され、内部に被調理物が収容される調理室と、
前記調理室内に収容された前記被調理物を加熱する加熱手段とを備え、
前記耐熱性板にあって前記調理室内に臨む面に、珪素酸化物とジルコニウム酸化物を含有する皮膜を設け、前記耐熱性板にあって接着剤を付ける部分には、前記皮膜を設けていないことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記皮膜は、アルカリ土類金属化合物と水を含有していることを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記皮膜を形成する塗料は、加熱によって分解して無色になる色素によって着色してあることを特徴とする請求項１または２記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記調理室内に水蒸気を供給することが可能な水蒸気供給手段を備えたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の加熱調理器。
【請求項５】
前記水蒸気供給手段を、前記耐熱性板の温度が所定温度以下のときに稼動させることを特徴とする請求項４記載の加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調理室の少なくとも一面が無機材料製の耐熱性板により形成された構成の加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、調理室内に収容された被調理物を、加熱手段としてマイクロ波やヒータ等によって加熱調理する加熱調理器においては、調理時に発生する油煙や被調理物の滓（食品滓）が調理室の内壁面に付着し、これらが焦げ付いてしまうことがあった。このように食品滓が付着し、こびりついた場合には、衛生的に問題があり、しかもその食品滓から臭いが発生する場合もあり、被調理物への臭い移り等の問題も生じていた。また、マイクロ波によって調理するものの場合、調理室の壁面が汚れてくると、マイクロ波の反射率が低下し、被調理物（食品）を加熱する効率までも低下するおそれがあった。さらに、調理室の壁面に食品滓が大量に付着している場合には、ここでマイクロ波が吸収されることがあり、また加熱によって炭化した場合には、ここから発火するおそれもあり、安全上でも問題があった。このため、調理室内を清掃する必要がある。
【０００３】
一方、このようなことに対処する手段として、例えば調理室の内壁面にフッ素樹脂を含む皮膜を形成し、汚れを付き難くすることが考えられる。このような手段では、調理室内壁面の表面に汚れが付着しても、フッ素樹脂の非粘着性によって汚れが剥がれ易くなる。しかしながら、フッ素樹脂を含む皮膜は、耐熱温度が低く、一般に２７０℃以上になる調理室の内壁面では、皮膜が溶融したり、劣化・分解したりして、使用することができない。
【０００４】
別の手段として、皮膜内にマンガンを主体とした酸化物触媒を入れ、付着した油等を酸化分解する方法が考えられる。この方法は、掃除する手間は省けるが、触媒の活性を保つために皮膜表面が多孔質になっており、凹凸が多いために、大量に付着した汚れはかえってこびりつき易くなるという欠点があった。また、この皮膜は、一般に金属に対しては密着するが、セラミック板やガラス板には適応できないとう欠点があった。
【０００５】
また、別の手段として、調理室内に水蒸気を供給することが可能な水蒸気供給手段を備え、調理室内を適度な温度に加熱した状態で、前記水蒸気供給手段により調理室内に水蒸気を供給して調理室の内壁面に結露を生じさせるようにすることで、調理室の内壁面に付着した汚れに水分を含ませて、汚れを拭き取りやすくすることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−８４１２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記した特許文献１に記載された手段を採用しても、清掃性が今ひとつよくないものであった。特に調理室の壁面の一面を、マイクロ波を透過させることが可能なセラミック板で構成した場合、そのセラミック板表面の微細なクラックに汚れが浸透し、さらに汚れが取れ難くなりやすいという課題がある。
【０００７】
本発明は上記した事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、調理室の少なくとも一面を、無機材料製の耐熱性板により構成するものにおいて、その耐熱性板の表面の清掃性を向上させることができる加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記した目的を達成するため、本発明の加熱調理器は、少なくとも一面が無機材料製の耐熱性板により形成され、内部に被調理物が収容される調理室と、前記調理室内に収容された前記被調理物を加熱する加熱手段とを備え、前記耐熱性板にあって前記調理室内に臨む面に、珪素酸化物とジルコニウム酸化物を含有する皮膜を設け、前記耐熱性板にあって接着剤を付ける部分には、前記皮膜を設けていないことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
耐熱性板にあって調理室内に臨む面に前記皮膜を設けることで、耐熱性板表面に微細なクラックなどの孔があってもその孔が塞がり、表面が滑らかとなる。そして、前記皮膜は親水性に優れているため、皮膜の表面に汚れが付着しても、その汚れ部分に水分を与えることで、水分が、汚れと前記皮膜との間に浸入しやすくなり、汚れが取れ易くなる。このため、耐熱性板の表面の清掃性を向上させることが可能になる。
【００１０】
また、前記皮膜はガラス質で非常に硬度が高く、酸化ジルコニウムなどを含んでいることから剥離し難くなり、たわしなどで擦っても問題はなく、さらに汚れ落しを容易にできる。さらに、前記皮膜は耐熱性も高く、２７０℃以上の調理温度にも全く問題なく使うことができ、皮膜の剥離や有害ガスの発生等の問題もない。また、皮膜は、酸化ジルコニウムなどを含んでいることから、遠赤外線放射率が高く、食品を加熱調理する上でも効率よく行なうことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を加熱調理器としてオーブンレンジに適用した一実施例について図面を参照して説明する。
まず、図１はオーブンレンジの縦断側面図を示している。この図１において、オーブンレンジの本体は、前面が開口した外箱１の内部に、同じく前面が開口した金属板製の内箱２を配設して構成されている。内箱２の内部は調理室３とされ、この調理室３の前面開口部は、上下方向に回動する扉４によって開閉されるようになっている。
【００１２】
内箱２の底部には凹部５が形成されていて、この凹部５に矩形状をなす底板６が配置されている。底板６の取付構造については後述する。この底板６は、調理室３の底面を構成している。この底板６は、無機材料例えばセラミック製で、本発明の耐熱性板を構成している。調理室３内の後部には、内箱２の後壁２ａの前面側に位置させて、スペーサ７ａを介して後部板７が配置されている。調理室３の後部は、後部板７と内箱２の後壁２ａとの二重構造となっている。後部板７も、底板６と同様に無機材料例えばセラミック製で、本発明の耐熱性板を構成している。この場合、調理室３は、左右側面と天井面が内箱２の左右側壁及び天井壁により構成され、底面が底板６により構成され、後面が後部板７と内箱２の後壁２ａとの二重構造により構成されている。
【００１３】
本体内の後部には、外箱１と内箱２の間に位置させて機械室８が形成されている。この機械室８には、マグネトロン（加熱手段）９の他、図示はしないがマグネトロン９の電源装置、マグネトロン９や電源装置を冷却する冷却ファンなどが配設されている。マグネトロン９はマイクロ波を発生するもので、その発生したマイクロ波は、内箱２の下方に配設された導波管１２を通し、前記底板６を通して調理室３内に供給されるようになっている。調理室３内に供給されたマイクロ波が、調理室３内に収容された被調理物（図示せず）に供給されることでその被調理物が加熱される。マグネトロン９は、調理室３内に収容された被調理物を加熱する加熱手段として機能する。
【００１４】
底板６の下面には、面状の電気ヒータからなる下ヒータ（加熱手段）１５が配設されている。内箱２の天井部の上面には、面状の電気ヒータからなる上ヒータ（加熱手段）１６が配設されている。下ヒータ１５及び上ヒータ１６も、調理室３内に収容された被調理物（図示せず）を加熱する加熱手段として機能する。
【００１５】
内箱２の背面には熱風供給装置１８（加熱手段）のケーシング１９が設けられており、このケーシング１９内に、ファンモータ２０によって回転駆動される熱風用ファン２１、及び電気ヒータからなる熱風用ヒータ２２が配設されている。ケーシング１９の外側には遮熱カバー１９ａが装着されている。内箱２の後壁２ａには、図２にも示すように、熱風用ファン２１の中央部に対応する部位に位置させて多数の小孔からなる吸込口２３が形成されていると共に、吸込口２３の周りに位置させて多数の小孔からなる吹出口２４が形成されている。後壁２ａの前部に位置する前記後部板７には、吸込口２３及び吹出口２４に対応する部位に開口部２５が形成されている。
【００１６】
上記熱風供給装置１８において、ファンモータ２０によって熱風用ファン２１が回転されると、調理室３内の空気が吸込口２３からケーシング１９内に吸引され、そして熱風用ヒータ２２により加熱されて熱風となり、その熱風が周囲の吹出口２４から調理室３内に吐出される。このような熱風の循環によって、調理室３内に収容された被調理物（図示せず）が加熱調理される。この熱風供給装置１８も、調理室３内に収容された被調理物を加熱する加熱手段として機能する。内箱２の左右両側壁の内面には、棚を載置するための棚受け部２６が上下２段に設けられている。
【００１７】
また、本体内における内箱２の外側には、図３に示すように、水蒸気供給手段を構成する水蒸気供給装置２７が設けられている。この水蒸気供給装置２７は、内箱２の左側壁に設けられた水蒸気発生容器２８と、この水蒸気発生容器２８に設けられた水蒸気用ヒータ２９と、内箱２の下方に設けられた貯水部３０と、水蒸気発生容器２８と貯水部３０とを連通する給水路３１と、この給水路３１の途中に設けられたポンプ３２と、内箱２の左側壁に設けられた水蒸気供給口３３ａを有するカバー部材３３とを備えている。この水蒸気供給装置２７は、水蒸気発生容器２８を水蒸気用ヒータ２９により加熱すると共に、貯水部３０内の水をポンプ３２により給水路３１を通して水蒸気発生容器２８内に供給することにより、水蒸気発生容器２８内にて水蒸気を発生させ、この発生した水蒸気を水蒸気供給口３３ａから調理室３内に供給する機能を備えている。
【００１８】
ここで、上記底板６において、調理室３内に臨む面である上面には、珪素酸化物と、ジルコニウム酸化物と、アルカリ土類金属化合物と、水を含有する皮膜３５を設けている。この皮膜３５は、親水性に優れている。この皮膜３５は、底板６に例えば次のようにして設ける。まず、珪素酸化物と、ジルコニウム酸化物と、アルカリ土類金属化合物と、水と、水以外の溶媒としてアルコールを適量ずつ混合して、皮膜形成用の塗料を作製する。そして、この塗料を、底板６の片面のみに、例えばスプレーを用いて塗布する。この後、その底板６に熱風を吹き付けて乾燥させることによって皮膜３５を形成する。塗料は、ローラーコートで塗布するようにしてもよい。
【００１９】
皮膜３５を設けた底板６は、図４に示すように、内箱２の底部における凹部５の開口部周縁部に、耐熱性のシリコーンなどの接着剤３６によって接着固定する。底板６は、凹部５の周縁部に形成された段部５ａにて支持される。このとき、底板６の周囲の端面６ａに接着剤３６を付着させるので、その端面６ａには、皮膜３５を設けないようにしておく（図５（ａ）参照）。このようにすることで、接着剤３６の接着強度が低下することを防止できる。ちなみに、図５（ｂ）に示すように、底板６の周囲の端面６ａにも皮膜３５を設けた場合、皮膜３５に親水性があるために、調理時に発生する水分や清掃時の水分が、接着剤３６と皮膜３５との間に入り込みやすくなり、接着剤３６による接着強度が低下して底板６が剥がれ易くなってしまうおそれがある。この点、本実施例の構成とすることで、そのような不具合を防止できる。
【００２０】
また、このように底板６を接着剤３６にて接着固定する場合には、皮膜形成用の塗料に、加熱乾燥時に分解して飛んでしまうような着色可能な色素を入れておけば、塗料を底板６に塗布した際に塗布した場所が容易にわかるので、塗料が万一必要な場所以外に付着しても容易にわかるようにすることができる。この色素には、例えばメチレンブルーやエオシン等の水溶性の色素が好ましい。
【００２１】
また、前記後部板７において、調理室３内に臨む面である前面にも、前記底板６と同様な皮膜３５を設けている。そして、この後部板７も、詳細には示されていないが、内箱２の後壁２ａの前面に接着剤により接着固定する。この場合も、後部板７において接着剤を付着させる部分には、皮膜３５は設けないようにしておく。なお、内箱２の後壁２ａの前面にも、全面にわたって、底板６と同様な皮膜３５を設けている。
【００２２】
前記扉４の下部前面には、図示はしないが操作パネルが設けられている。この操作パネルには、複数の操作部４１及び表示部４２（いずれも図６参照）が設けられている。
図６は、本発明のオーブンレンジにおける電気的構成を概略的に示すブロック図である。この図６において、制御装置４３はマイクロコンピュータで構成されており、オーブンレンジの作動全般を制御する制御手段として機能するものである。制御装置４３には、操作部４１、庫内温度センサ４４、赤外線センサ４５、水蒸気用温度センサ４６、扉スイッチ４７などからの信号が入力する。このうち、庫内温度センサ４４は、例えばサーミスタからなり、調理室３内の温度を検出する。赤外線センサ４５は、調理室３内に収容された被調理物の温度を検出する。水蒸気用温度センサ４６は、例えばサーミスタからなり、水蒸気発生容器２８の温度を検出する。扉スイッチ４７は、扉４の開閉を検出する。
【００２３】
そして、制御装置４３は、これらの入力信号と、予め備えた制御プログラムに基づいて、表示部４２、報知器４８、マグネトロン９、上ヒータ１６、下ヒータ１５、ファンモータ２０、熱風用ヒータ２２、ポンプ３２、水蒸気用ヒータ２９、庫内灯４９、換気ファン５０等を制御する機能を有している。このうち、報知器４８は報知用のブザーであり、庫内灯４９は調理室３内を照明するものであり、換気ファン５０は調理室３内を換気するものである。
【００２４】
次に、上記構成の作用を説明する。
調理を行う場合には、一般的には、被調理物を調理室３内に収容して底板６の上に置き、または棚受け部２６に掛けた棚の上に置いて、扉４を閉じ、操作パネル４０の操作部４１を選択操作して調理を開始させる。すると、制御装置４３は、マグネトロン９、または上ヒータ１６や下ヒータ１５、若しくは熱風供給装置１８の熱風用ヒータ２２及びファンモータ２０、或いは水蒸気供給装置２７のポンプ３１及び水蒸気用ヒータ２９を作動させて、被調理物を加熱調理する。
【００２５】
そして、このような加熱調理を繰り返すうちに、調理室３の壁面が被調理物から出た油や食品滓等で汚れ、清掃すべき段階に達したときに、使用者は、調理室３に被調理物を収容しない状態で、操作パネルの操作部４１を操作して、「清掃モード」を実行させる。
【００２６】
図７は、制御装置４３の「清掃モード」における実行内容を示している。まず、庫内灯４９を点灯させて調理室３内を照明する（ステップＳ１）。次いで、調理室３内の温度を庫内温度センサ４４により検出し（調理室３内の温度は赤外線センサ４５により検出することもできる）、その検出温度が６０℃以下であるか否かを判断する（ステップＳ２）。オーブン調理直後のように調理室３内の温度が高く、庫内温度センサ４４の検出温度が６０℃を超えるような場合には、後述するように調理室３内に水蒸気を供給しても調理室３内の壁面に結露が生じない。このため、庫内温度センサ４４の検出温度が６０℃を超えるような場合には、６０℃以下になるまで待機する。
【００２７】
庫内温度センサ４４の検出温度が６０℃以下の場合（ＹＥＳ）にはステップＳ３に移行し、庫内温度センサ４４の検出温度が４０℃以上であるか否かを判断する。ここで、庫内温度センサ４４の検出温度が４０℃未満である場合（ＮＯ）には、上ヒータ１６及び下ヒータ１５を通電して調理室３内が４０℃以上になるまで加熱する（ステップＳ３，Ｓ４）。汚れに水分を与えて汚れを取れ易くするためには、調理室３内の温度がある程度高い方が好ましく、例えば５０℃くらいが好ましい。調理室３内が４０℃以上であると判断したら（ＹＥＳ）、ステップＳ５へ移行し、上ヒータ１６及び下ヒータ１５を断電する。この後、水蒸気供給装置２７の水蒸気用ヒータ２９を通電し、水蒸気発生容器２８を加熱する（ステップＳ６）。そして、水蒸気用温度センサ４６により水蒸気発生容器２８の温度を検出しながら、水蒸気用温度センサ４６の検出温度が１８０℃に達するまで水蒸気発生容器２８を加熱する（ステップＳ６，Ｓ７）。
【００２８】
水蒸気用温度センサ４６の検出温度が１８０℃に達したら（ＹＥＳ）、ステップＳ８へ移行してポンプ３１をオンし、貯水部３０の水を水蒸気発生容器２８に供給する。これにより、水蒸気発生容器２８内において水蒸気が発生し、その水蒸気が水蒸気供給口３３ａから調理室３内に供給される。調理室３内に供給された水蒸気は調理室３内の壁面において結露し、その水分が汚れに浸透し、汚れをふやかすようになる。
【００２９】
この水蒸気の供給動作を所定時間（３０分から１時間程度）行なう（ステップＳ８、Ｓ９）。所定時間が経過すれば、上記水蒸気用ヒータ２９及びポンプ３１の作動を停止させると共に、報知器４８を所定時間作動させて、調理室３内の清掃（拭き取り）が可能になったことを報知する（ステップＳ１０、Ｓ１１）。
【００３０】
この後、扉スイッチ４７による扉４の開閉の検知結果から、扉４が開放されたか否かの判断をし（ステップＳ１２）、開放された（ＹＥＳ）と判断されれば、その後、例えば１分以上等の所定時間が経過したか否かの判断をし（ステップＳ１３）、その所定時間が経過した（ＹＥＳ）と判断されたところで、扉４が閉鎖されたか否かの判断をする（ステップＳ１４）。通常は、扉４が開放されてから閉鎖されるまでの間に、調理室３の壁面に付着した汚れを拭き取る清掃が行われる。
【００３１】
ここで、調理室３の一部を構成する底板６及び後部板７のようなセラミック製の板は、一般的に表面にケイ酸塩からなるガラス質の膜が形成されている。しかしながら、このままでは、加熱こびりつきが、表面の微細なクラックに入り込み取れ難くなっている。この点、本実施例のように、それらセラミック製の底板６及び後部板７にあって調理室３内に臨む面に、珪素酸化物とジルコニウム酸化物を含む皮膜３５を設けたことにより、表面のクラックなどの孔が塞がり滑らかとなると共に、表面の親水性が増す。このため、図８に示すように、皮膜３５部分に汚れ５５が付着しても、水蒸気などによって水分５６を供給することで、皮膜３５の親水性の効果により、汚れ５５と皮膜３５との間に水分５６が入り込み（（ｂ）参照）、汚れ５５を浮かすようになり、その汚れ５５を容易に除去できるようになる。
【００３２】
図７に戻って、ステップＳ１４で、扉４が閉鎖された（ＹＥＳ）と判断されれば、換気ファン５０を所定時間作動させて調理室３に外気を取り込み、その分、調理室３の空気を外部に排出させる吸・排気を行う（ステップＳ１５）。これにより、調理室３内の水分を排出する。
【００３３】
また、ステップＳ１２で、扉４が開放されていない（ＮＯ）と判断されれば、ステップＳ１１の終了報知を例えば５回等の所定回数行ったか否かの判断をし（ステップＳ１６）、所定回数行っていない（ＮＯ）と判断されれば、例えば２分等の所定時間が経過したか否かの判断をし（ステップＳ１７）、所定時間がエラー! リンクが正しくありません。た（ＹＥＳ）と判断されたところで、ステップＳ１１に戻って終了報知を再度行う。そして、ステップＳ１６で、終了報知を所定回数行った（ＹＥＳ）と判断されれば、ステップＳ１５に進んで、換気ファン５０を作動させることによる調理室３の吸・排気を行う。
【００３４】
上記した実施例によれば次のような作用効果を得ることができる。
調理室３の一部を構成するセラミック製の底板６及び後部板７にあって調理室３内に臨む面に、珪素酸化物とジルコニウム酸化物を含む皮膜３５を設けたことにより、表面のクラックなどの孔が塞がり滑らかとなると共に、表面の親水性が増す。このため、皮膜３５部分に汚れ５５が付着しても、水蒸気などによって水分５６を供給することで、皮膜３５の親水性の効果により、汚れ５５と皮膜３５との間に水分５６が入り込み、汚れ５５を浮かすようになり、その汚れ５５を容易に除去できるようになる。これにより、それら底板６及び後部板７の清掃性、ひいては調理室３内の清掃性を向上させることが可能になる。
【００３５】
前記皮膜３５はガラス質で非常に硬度が高く、酸化ジルコニウムなどを含んでいることから剥離し難く、たわしなどで擦っても問題はなく、さらに汚れ落しを容易にしている。前記皮膜３５は耐熱性も高く、２７０℃以上の調理温度にも全く問題なく使うことができ、皮膜３５の剥離や有害ガスの発生等の問題もない。
【００３６】
また、前記皮膜３５は、酸化ジルコニウムなどを含んでいることから、皮膜３５を設けた本実施例の底板６（後部板７）は、図９に示すように、皮膜３５を設けていない通常のセラミック板の場合に比べて遠赤外線放射率が高く、遠赤外線効果により食品の加熱調理を効率よく行なうことが可能となる。図９において、縦軸の輻射率は、黒体を１００％としている。
【００３７】
前記皮膜３５は、アルカリ土類金属化合物と水を含有している。このような構成とすることで、皮膜３５中に生成される微細な分子径レベルの孔も塞がるようになる。これにより、皮膜３５の表面が一層滑らかになり、付着した汚れが皮膜３５の内部まで浸透することを防止できる。しかも、水との親和力がさらに増すため、付着した汚れが一層剥がれ易くなる。また、基材であるセラミックスの表面のガラス層との親和力も高まるため、皮膜３５の密着性も向上し、長期間にわたって清掃性の向上の維持が可能となる。
【００３８】
ここで、清掃性の効果について図１０を参照して説明する。本発明の清掃性の効果を確認するために、次のような試験を行った。オーブンレンジで付着する可能性のある各種調味料、食品などを、前記皮膜３５を設けたセラミック板（本実施例）の表面と、皮膜３５を設けない一般的なセラミック板（比較例）の表面に塗布し、３００℃で６０分間加熱してこびりつかせた後、オーブン庫内でスチーム動作（２０分間）により水分を供給し、その後湿った布で拭き取る方法で、付着物の除去程度を観察した。その結果が図１０に示されている。この結果を見ると、明らかに本実施例の場合には、比較例に比べて清掃性が向上していることがわかる。
【００３９】
底板６及び後部板７において接着剤３６を付ける分部には、前記皮膜３５を設けないようにしたので、前述したように、接着剤３６による接着強度の低下を防止することができる。また、皮膜形成用の塗料に、加熱乾燥時に分解して飛んでしまうような着色可能な色素を入れておくことで、塗料を底板６に塗布した際に塗布した場所が容易にわかるので、塗料が万一必要な場所以外に付着しても容易にわかるようにすることができる。
【００４０】
調理室３内に水蒸気を供給することが可能な水蒸気供給装置２７を備えているので、清掃モードの際に、その水蒸気供給装置２７により調理室３内に水蒸気を供給することで、汚れを取れ易くでき、清掃性を向上できる。
【００４１】
清掃モードの際に、水蒸気供給装置２７を、調理室３内の温度（ひいては底板６及び後部板７の温度）が所定温度である６０℃以下のときに稼動させるようにしているので、調理室３の内面に結露が生じやすくでき、汚れを取れ易くできる。
【００４２】
さらに、内箱２の後壁２ａの前面にも全面にわたって前記皮膜３５を設けるようにしているので、皮膜３５の遠赤外線放射効果により、調理室３内の温度の均一化を図ることが可能となる。また、内箱２の後壁２ａの前面にあって、後部板７の開口部２５から調理室３内に露出した部分の清掃性も向上できる。
【００４３】
本発明は、上記した実施例にのみ限定されるものではなく、次のように変形または拡張できる。
底板６及び後部板７は、耐熱性板としてセラミック製の板を例示したが、耐熱性のガラス板を用いるようにしても良い。
清掃時に調理室３の内面に水分を与える手段としては、水蒸気供給装置２７による水蒸気に限らず、ミストを供給するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の一実施例を示すオーブンレンジの縦断側面図
【図２】調理室を前方から見た図
【図３】水蒸気供給装置部分を示す部分縦断正面図
【図４】底板の取り付け方を示す分解斜視図
【図５】（ａ）は本実施例における底板の取付状態を示す縦断面図、（ｂ）は比較例を示す（ａ）相当図
【図６】電気的構成を示すブロック図
【図７】清掃モードにおける制御内容を示すフローチャート
【図８】（ａ）は底板の皮膜の表面に付着した汚れに水分が与えられた状態を示す断面図、（ｂ）は（ａ）の一部の拡大断面図
【図９】遠赤外線放射効率を比較する特性図
【図１０】清掃性の試験結果を示す図
【符号の説明】
【００４５】
図面中、２は内箱、３は調理室、４は扉、６は底板（耐熱性板）、７は後部板（耐熱性板）、９はマグネトロン（加熱手段）、１５は下ヒータ（加熱手段）、１６は上ヒータ（加熱手段）、１８は熱風供給装置（加熱手段）、２７は水蒸気供給装置（水蒸気供給手段）、３５は皮膜、３６は接着剤を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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