(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
［Ａ］下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒。
【化１】
0005053010.tif 000021
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。Ｒ1はＺと連結していてもよく、またＲ5はＺと連結していてもよい。
Ｍは、周期律表第４族の遷移金属原子を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。
Ｙは、酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を示す。
Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示す。
式中、ＹとＺとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよく、ＹとＲ1とを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。
また式中、点線表示は配位結合を示す。）
【請求項２】
［Ａ］一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物のＹと、Ｍに配位し、Ｚと隣接するＯとを結ぶ最短結合数が５または６である請求項１に記載のオレフィン多量化用触媒。
【請求項３】
［Ａ］一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物ならびに、
［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のオレフィン多量化用触媒。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒の存在下で、エチレンを三量化させる１−ヘキセンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オレフィン多量化用触媒およびエチレン多量体の製造方法に関し、詳しくは遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒および、オレフィン多量化用触媒の存在下でエチレンを多量化し、1−ヘキセンもしくは１−オクテンを製造する方法に関する
。
【背景技術】
【０００２】
工業化されているオレフィンの多量化の大部分は有機アルミニウムや遷移金属化合物を触媒として実施され、特にエチレンの多量化ではα−オレフィン類の混合物が得られる。１−ヘキセンおよび１−オクテンはα−オレフィン類の中でも、ポリオレフィン原料として需要が特に大きく、１−ヘキセンおよび１−オクテンの選択性の高い製造法が望まれているが、そのような選択的製造法として工業化されているのはクロム化合物を用いるエチレン三量化方法のみである（例えば、特許文献１参照）。この場合、１００バールのエチレン圧力条件下において１時間・１ミリモルのクロム原子当たり約８ｋｇの１−ヘキセンが得られるが、製造に関わる圧力や触媒の費用を低減させるためにはより低圧力で活性が高い方が好ましい。また、クロム化合物以外の遷移金属化合物を用いるエチレン三量化によって１−ヘキセンを製造する技術の例は非常に少ない(例えば、特許文献２、３、非特
許文献１、２参照)。また、エチレンの四量化によって１−オクテンを得る技術はクロム
化合物を用いた技術が知られているが、工業化には至っていない(例えば、非特許文献３
参照)。
【特許文献１】米国特許第５８５６２５７号明細書
【特許文献２】特表２００４−５２４９５９号公報
【特許文献３】国際公開第０１／６８５７２号パンフレット
【非特許文献１】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ誌２００１年１２３巻７４２３−７４２４頁
【非特許文献２】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ誌２００４年６８９巻３６４１−３６６８頁
【非特許文献３】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ誌２００４年１２６巻１４７１２−１４７１３頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は前記従来技術の有する課題を鑑みてされたものであり、優れた活性を有するオレフィン多量化触媒を提供することと、該オレフィン多量化触媒存在下での、高い選択率を有するエチレン三量化による１−ヘキセンの製造方法や、エチレン四量化による１−オクテンの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは上記問題点を解決するため鋭意検討した結果、特定の構造を有する遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒が優れた活性を有し、該触媒の存在下でエチレンを原料として多量化反応を行うと、１−ヘキセンもしくは１−オクテンを生成する選択率が高く、１−ヘキセンもしくは１−オクテンの製造に好適であることを見出し、本発明を完成させた。
【０００５】
すなわち本発明は、以下の［１］〜［５］に関する。
［１］
［Ａ］下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒
。
【０００６】
【化２】
0005053010.tif 000002
【０００７】
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。Ｒ1はＺ
と連結していてもよく、またＲ5はＺと連結していてもよい。
Ｍは、周期律表第４族の遷移金属原子を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。
Ｙは、酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を示す。
Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示す。
式中、ＹとＺとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよく、ＹとＲ1とを結
ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。
また式中、点線表示は配位結合を示す。）
［２］
［Ａ］一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物のＹと、Ｍに配位し、Ｚと隣接
するＯとを結ぶ最短結合数が５または６である［１］に記載のオレフィン多量化用触媒。
【０００８】
［３］
［Ａ］一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物ならびに、
［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする［１］または［２］に記載のオレフィン多量化用触媒。
【０００９】
［４］
［１］〜［３］のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒の存在下で、エチレンを三量化させる１−ヘキセンの製造方法。
【００１０】
［５］
［１］〜［３］のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒の存在下で、エチレンを四
量化させる１−オクテンの製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、高い活性を有するオレフィン多量化用触媒を提供することができる。さらに、本発明に係るエチレン多量化技術によれば、高い活性および選択性で１−ヘキセンもしくは１−オクテンを製造することができ、工業的に極めて価値がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明のオレフィン多量化用触媒および、該オレフィン多量化用触媒を用いた１−ヘキセンもしくは１−オクテンの製造方法について具体的に説明する。
なお、本発明において、オレフィンの多量化とは、オレフィンを２〜１０量体にすることである。
【００１３】
本発明のオレフィン多量化用触媒は、［Ａ］前記一般式（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物を含んでいる。また、オレフィン多量化用触媒は通常、［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含んでいる。
【００１４】
なお、（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物を「イオン化イオン性化合物」とも記す。
［［Ａ］遷移金属錯体化合物］
本発明のオレフィン多量化触媒に含まれる［Ａ］遷移金属錯体化合物は、下記一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物である。
【００１５】
【化３】
0005053010.tif 000003
【００１６】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。Ｒ1
はＺと連結していてもよく、またＲ5はＺと連結していてもよい。
【００１７】
より具体的には、Ｒ1〜Ｒ5が水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基 
、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基、アルミニウム含有基またはヒドロキシ基であることが好ましい。
【００１８】
ここで、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−ブロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０、さらに好ましくは１〜１０、より好ましくは２〜１０の直鎖状または分岐状のアルキル基；  ビニル、アリル(ａｌｌｙｌ)、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状また は分岐状
のアルケニル基；  エチニル、プロパルギルなど炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；  シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；  シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素原子数５〜３０の環状不飽和炭化水素基；  フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール(ａｒｙｌ)基；  トリル、イソプロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、ジメチルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニルなどのアルキル置換アリール基; ベンジリデン、メチリデン、エチリデンなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは５〜１０のアルキリデン基などが挙げられる。
【００１９】
上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで置換されていてもよく、たとえば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。
【００２０】
また、上記炭化水素基は、水素原子が他の炭化水素基で置換されていてもよく、たとえばベンジル、クミル、ジフェニルエチル、トリチルなどのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。
【００２１】
さらに、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基；  アルコシキ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸素含有基；  アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったものなどの窒素含有基；  ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基；  メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基；  ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などのリン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を有していてもよい。
【００２２】
これらのうち、特に、メチル、エチル、ｎ−ブロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０、さらに好ましくは１〜１０、より好ましくは２〜１０の直鎖状または分岐状のアルキル基；  フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；  これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数６〜３０ 、好ましくは
６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基等が好ましい。
【００２３】
ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。
【００２４】
酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、リン含有基としては、上記炭化水素基に含まれていてもよい置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
ホウ素含有基としては、上記炭化水素基に含まれていてもよい置換基として例示したものと同様のもののほか、アルキル基置換ホウ素、アリール基置換ホウ素、ハロゲン化ホウ素、アルキル基置換ハロゲン化ホウ素等の基が挙げられる。アルキル基置換ホウ素としては、（Ｅｔ）2Ｂ−、（ｉＰｒ）2Ｂ−、（ｉＢｕ）2Ｂ−、（Ｅｔ）3Ｂ、（ｉＰｒ）3Ｂ
、（ｉＢｕ）3Ｂ；  アリール基置換ホウ素としては、（Ｃ6Ｈ5）2Ｂ−、（Ｃ6Ｈ5）3Ｂ
、（Ｃ6Ｆ5）3Ｂ、（３，５−（ＣＦ3）2Ｃ6Ｈ3）3Ｂ；  ハロゲン化ホウ素としては、ＢＣｌ2−、ＢＣｌ3；  アルキル基置換ハロゲン化ホウ素としては、（Ｅｔ）ＢＣｌ−、（ｉＢｕ）ＢＣｌ−、（Ｃ6Ｈ5）2ＢＣｌなどが挙げられる。このうち三置換のホウ素につ
いては、配位結合した状態であることがある。ここで、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｉＢｕはイソブチル基を表す。
【００２５】
アルミニウム含有基としては、アルキル基置換アルミニウム、アリール基置換アルミニウム、ハロゲン化アルミニウム、アルキル基置換ハロゲン化アルミニウム等の基が挙げられる。アルキル基置換アルミニウムとしては、（Ｅｔ）2Ａｌ−、（ｉＰｒ）2Ａｌ−、（ｉＢｕ）2Ａｌ−、（Ｅｔ）3Ａｌ、（ｉＰｒ）3Ａｌ、（ｉＢｕ）3Ａｌ；  アリール基置換アルミニウムとしては、（Ｃ6Ｈ5）2Ａｌ−；  ハロゲン化アルミニウムとしては、Ａ
ｌＣｌ2−、ＡｌＣｌ3；  アルキル基置換ハロゲン化アルミニウムとしては、（Ｅｔ）ＡｌＣｌ−、（ｉＢｕ）ＡｌＣｌ−などが挙げられる。このうち三置換のアルミニウムについては、配位結合した状態であることがある。ここで、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｉＢｕはイソブチル基を表す。
【００２６】
ケイ素含有基としては、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基などが挙げられる。このうち炭化水素置換シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリルなどが挙げられる。
【００２７】
これらの中では、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。
【００２８】
ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムおよびスズに置換したものが挙げられる。
窒素含有基のうち、アミド基としては、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが、イミド基としては、アセトイミド、ベンズイミドなどが、イミノ基としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが好ましく例示される。
【００２９】
イオウ含有基のうち、アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ等が、アリールチオ基としては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオ等が、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが、スルホンエステル基としては、スルホン酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニルなどが、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミド、Ｎ−メチルスルホンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミドなどが好ましく挙げられる。
【００３０】
Ｒ1〜Ｒ5は、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
【００３１】
Ｒ1はＺと連結していてもよく、またＲ5はＺと連結していてもよい。Ｒ1やＲ5がＺと連結する場合には、Ｒ1やＲ5とＺとの連結によって、芳香環、脂肪環、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成してもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
【００３２】
前記一般式（Ｉ）において、Ｍは周期律表第４族の遷移金属原子を示し、好ましくは
、ジルコニウム、チタンまたはハフニウムであり、より好ましくはチタンである。
【００３３】
前記一般式（Ｉ）において、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基
、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示す。なお、Ｘで示される基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。
【００３４】
ここで、ハロゲン原子としては通常、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。
炭化水素基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ5で例示したものと同様のものが挙げられる。
【００３５】
具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；  シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基；  ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；  ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；  フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの炭化水素基には、ハロゲン化炭化水素、具体的には炭素原子数１〜３０の炭化水素基の少なくとも一つの水素がハロゲン置換した基も含まれる。これらのうち、炭素原子数が１〜２０のものが好ましい。
【００３６】
また、ヘテロ環式化合物残基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ5で例示したものと同様のものが挙げられる。
酸素含有基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ5で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、ヒドロキシ基；  メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコシキ基；  フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；  フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基；  アセトキシ基；  カルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３７】
イオウ含有基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ5で例示したものと同様のものが挙
げられ、具体的には、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；  メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基；  アルキルチオ基；  アリールチオ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
窒素含有基として具体的には、前記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ5で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、アミノ基；  メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基；  フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
ホウ素含有基として具体的にはテトラフェニルボレート以外のＢＲ4（Ｒは水素、アル
キル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原子等を示す）が挙げられる。
リン含有基として具体的には、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン基；  トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィンなどのトリアリールホスフィン基；  メチルホスファイト、エチルホスファイト、フェニルホスファイトなどのホスファイト基(ホスフィド基)；  ホスホン酸基；  ホスフィン酸基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
ケイ素含有基として具体的には、前記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ5で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、フェニルシリル、ジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどの炭化水素置換シリル基；  トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルエーテル基；  トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキル基；  トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【００４１】
ゲルマニウム含有基として具体的には、前記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ5で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基が挙げられる。
【００４２】
スズ含有基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ5で例示したものと同様のものが挙げられ、より具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基が挙げられる。
ハロゲン含有基として具体的には、ＰＦ6、ＢＦ4などのフッ素含有基、ＣｌＯ4、Ｓｂ
Ｃｌ6などの塩素含有基、ＩＯ4などのヨウ素含有基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４３】
アルミニウム含有基として具体的には、ＡｌＲ4（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有
してもよいアリール基、ハロゲン原子等を示す)が挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。
【００４４】
これらの中では、ハロゲン原子、アルキル基が好ましく、さらには塩素、臭素、メチル基が好ましい。
前記一般式（Ｉ）中、Ｙは酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を表し、エーテル構造、ケトン構造、アミン構造、イミン構造等を構成する原子である。
【００４５】
前記一般式（Ｉ）中、Ｚは置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示す。
前記一般式（Ｉ）中、Ｙと、Ｍに配位し、Ｚと隣接するＯとを結ぶ最短結合数は５または６であることが好ましい。
【００４６】
ＹとＭに配位し、Ｚと隣接するＯとが金属原子Ｍに配位することにより、本発明の［Ａ］遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化触媒は、１−ヘキセンや１−オクテンを高い選択性で製造することができる。ＹとＭに配位し、Ｚと隣接するＯとを結ぶ最短結合数が５または６であると、１−ヘキセンや１−オクテンをより高い選択性で製造することができるため好ましい。
【００４７】
なお、ＹとＭに配位し、Ｚと隣接するＯとを結ぶ最短結合数とは、下記（Ａ）、（Ｂ）のようにして数えることができ、（Ａ）の場合には４であり、（Ｂ）の場合には５である。
【００４８】
【化４】
0005053010.tif 000004
【００４９】
Ｚは、Ｍに配位し、Ｚと隣接するＯと前記Ｙとを結ぶ基であり、具体例としては化５〜１０に示す構造が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、化５〜１０の構造の中で水素原子がＲ1〜Ｒ5で例示した置換基によって置換されていてもよい。
【００５０】
なお、下記具体例において、炭素炭素二重結合に接合する波線は、シス体またはトランス体を意味する。
【００５１】
【化５】
0005053010.tif 000005
【００５２】
【化６】
0005053010.tif 000006
【００５３】
【化７】
0005053010.tif 000007
【００５４】
【化８】
0005053010.tif 000008
【００５５】
【化９】
0005053010.tif 000009
【００５６】
【化１０】
0005053010.tif 000010
【００５７】
前記一般式（Ｉ）中、ＹとＺとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよく、ＹとＲ1とを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。
また一般式（Ｉ）中、点線表示は配位結合を示す。
【００５８】
一般式(I)の具体的な構造としては以下に示すものが挙げられる。
【００５９】
【化１１】
0005053010.tif 000011
【００６０】
［Ａ］前記一般式（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物の合成は、例えばＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ誌２００３年６７８巻１３４〜１４１頁に記載の方法に準拠して行うことができる。
【００６１】
上記文献に記載の方法で得られた反応生成物は反応後、精製操作を行うことなく混合物のままオレフィン多量化触媒として用いることもできる。
本発明のオレフィン多量化触媒は通常上記［Ａ］遷移金属錯体化合物に加えて、［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる
少なくとも１種の化合物を含んでいる。
【００６２】
以下、（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物について説明する。
【００６３】
［（ｂ−１）有機金属化合物］
本発明で必要に応じて用いられる（ｂ−１）有機金属化合物として、具体的には下記のような周期律表第１、２族および第１２、１３族の有機金属化合物を挙げることができ、例えば以下に説明する（ｂ−１ａ）、（ｂ−１ｂ）、（ｂ−１ｃ）等が挙げられる。なお、本発明においては、［Ｂ］の（ｂ−１）有機金属化合物には後述する（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物は含まれないものとする。
【００６４】
（ｂ−１ａ）一般式ＲamＡｌ（ＯＲb）nＨpＸq（式中、ＲaおよびＲbは、互いに同一でも異なっていてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である）で表される有機アルミニウム化合物。
【００６５】
（ｂ−１ｂ）一般式Ｍ2ＡｌＲa4（式中、Ｍ2はＬｉ、ＮａまたはＫを示し、Ｒaは炭素
原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示す）で表される周期律表第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物。
【００６６】
（ｂ−１ｃ）一般式ＲaＲbＭ3（式中、ＲaおよびＲbは、互いに同一でも異なっていて
もよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｍ3はＭｇ、Ｚｎ
またはＣｄである）で表される周期律表第２族または１２族金属のジアルキル化合物。
【００６７】
前記の（ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物としては、次のような化合物を例示できる。一般式ＲamＡｌ（ＯＲb）3-m（式中、ＲaおよびＲbは、互いに同一でも異なっていてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは、好ましくは１．５≦ｍ≦３の数である。）で表される有機アルミニウム化合物、一般式ＲamＡｌＸ3-m（式中、Ｒaは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは好ましくは０＜ｍ＜３である。）で表される有機アルミニウム化合物、一般式ＲamＡｌＨ3-m（式中、Ｒaは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは２≦ｍ＜３である）で表される有機アルミニウム化合物、一般式ＲamＡｌ（ＯＲb）nＸq（式中、ＲaおよびＲbは、互いに同一でも異なって
いてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｑ＝３である）で表される有機アルミニウム化合物。
【００６８】
（ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として、より具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ（ｎ−ブチル）アルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリ（ｎ−アルキル）アルミニウム；  トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ（ｓｅｃ−ブチル）アルミニウム、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）アルミニウム、トリ（２−メチルブチル）アルミニウム、トリ（３−メチルブチル）アルミニウム、トリ（２−メチルペンチル）アルミニウム、トリ（３−メチルペンチル）アルミニウム、トリ（４−メチルペンチル）アルミニウム、トリ（２−メチルヘキシル）アルミニウム、トリ（３−メチルヘキシル）アルミニウム、トリ（２−エチルヘキシル）アルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム；
トリシクロヘキシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシクロ
アルキルアルミニウム；  トリフェニルアルミニウム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム；  ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイドライド；  （ｉＣ4Ｈ9）xＡｌy（Ｃ5Ｈ10）z（式中、ｘ、ｙ、ｚは正の数であり、ｚ≧２ｘである。ｉＣ4Ｈ9はイソブチル基を表す。）などで表されるイソプレニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム；
イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；  ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド；  エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；  Ｒa2.5Ａｌ（ＯＲb）0.5（式中、ＲaおよびＲbは、互いに同一でも異なっていてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示す。）などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム；  ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、エチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、ジイソブチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、イソブチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）などのジアルキルアルミニウムアリーロキシド；  ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド；エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム；  ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド；  エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム；  エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどが挙げられる。
【００６９】
また（ｂ−１ａ）に類似する化合物も使用することができ、たとえば窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物も挙げられる。このような化合物として、具体的には、（Ｃ2Ｈ5）2ＡｌＮ（Ｃ2Ｈ5）Ａｌ（Ｃ2Ｈ5）2などが挙げられる。
【００７０】
前記（ｂ−１ｂ）に属する化合物としては、ＬｉＡｌ（Ｃ2Ｈ5）4、ＬｉＡｌ（Ｃ7Ｈ15）4などが挙げられる。
また、前記（ｂ−１ｃ）に属する化合物としては、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウム等が挙げられる。
【００７１】
上記（ｂ−１ａ）〜（ｂ−１ｃ）以外の（ｂ−１）有機金属化合物としては、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリドなどを使用することもできる。
【００７２】
また多量化反応系内で上記有機アルミニウム化合物が形成されるような化合物、たとえばハロゲン化アルミニウムとアルキルリチウムとの組合せ、またはハロゲン化アルミニウムとアルキルマグネシウムとの組合せなどを使用することもできる。
【００７３】
（ｂ−１）有機金属化合物のなかでは、有機アルミニウム化合物が好ましい。上記のような（ｂ−１）有機金属化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
［（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物］
本発明で必要に応じて用いられる（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物は、従来公知のアルミノキサンであってもよく、また特開平２−７８６８７号公報に例示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。
【００７４】
従来公知のアルミノキサンは、たとえば下記のような方法によって製造することができ、通常、炭化水素溶媒の溶液として得られる。（１）吸着水を含有する化合物または結晶水を含有する塩類、たとえば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩化第１セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物を添加して、吸着水または結晶水と有機アルミニウム化合物とを反応させる方法。（２）ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどの媒体中で、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に直接水、氷または水蒸気を作用させる方法。（３）デカン、ベンゼン、トルエンなどの媒体中でトリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシドなどの有機スズ酸化物を反応させる方法。
【００７５】
なお該アルミノキサンは、少量の有機金属成分を含有してもよい。また回収された上記のアルミノキサンの溶液から溶媒または未反応有機アルミニウム化合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解またはアルミノキサンの貧溶媒に懸濁させてもよい。
【００７６】
アルミノキサンを調製する際に用いられる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記（ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物が挙げられる。
【００７７】
これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。
上記のような有機アルミニウム化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【００７８】
アルミノキサンの調製に用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素、ガソリン、灯油、軽油などの石油留分または上記芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハロゲン化物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水素溶媒が挙げられる。さらに、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を用いることもできる。これらの溶媒のうち特に芳香族炭化水素または脂肪族炭化水素が好ましい。
【００７９】
また本発明で用いられるベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物は、６０℃のベンゼンに溶解するＡｌ成分がＡｌ原子換算で通常１０％以下、好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下であるもの、すなわちベンゼンに対して不溶性または難溶性であるものが好ましい。
【００８０】
本発明で用いられる有機アルミニウムオキシ化合物の例としては、下記一般式（ｉ）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物も挙げられる。
【００８１】
【化１２】
0005053010.tif 000012
【００８２】
式中、Ｒ6は炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。Ｒ7は、互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。
前記一般式（ｉ）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物は、下記一般式（ｉｉ）で表されるアルキルボロン酸と、有機アルミニウム化合物とを、不活性ガス雰囲気下に不活性溶媒中で、−８０℃〜室温の温度で１分〜２４時間反応させることにより製造できる。
【００８３】
Ｒ6−Ｂ（ＯＨ）2                （ｉｉ）
(式中、Ｒ6は上記と同じ基を示す)
前記一般式（ｉｉ）で表されるアルキルボロン酸の具体的なものとしては、メチルボロン酸、エチルボロン酸、イソプロピルボロン酸、ｎ−ブロピルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、ｎ−ヘキシルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸、フェニルボロン酸、３，５−ジフルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸、３，５−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸等が挙げられる。これらの中では、メチルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、３，５−ジフルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸が好ましい。
【００８４】
これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
このようなアルキルボロン酸と反応させる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記（ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物が挙げられる。これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、特にトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【００８５】
上記のような（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
［（ｂ−３）イオン化イオン性化合物］
本発明で必要に応じて用いられる、（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物は、［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物である。従って、少なくとも［Ａ］遷移金属錯体化合物と接触させてイオン対を形成するものは、この化合物に含まれる。
【００８６】
このような化合物としては、特開平１−５０１９５０号公報、特開平１−５０２０３６号 公報、特開平３−１７９００５号公報、特開平３−１７９００６号公報、特開平３−
２０７７０３号公報、特開平３−３０７７０４号公報、米国特許５３２１１０６号明細書などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物などが挙げられる。さらに、ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物もあげることができる。
【００８７】
具体的には、ルイス酸としては、ＢＲ3（Ｒは、フッ素、メチル基、トリフルオロメチ
ル基などの置換基を有していてもよいフェニル基またはフッ素である）で示される化合物が挙げられ、たとえば、トリフルオロボロン、トリフェニルボロン、トリス（４−フルオ
ロフェニル）ボロン、トリス(３，５−ジフルオロフェニル)ボロン、トリス（４−フルオロメチルフェニル）ボロン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（ｐ−トリル）ボロン、トリス（ｏ−トリル）ボロン、トリス（３，５−ジメチルフェニル）ボロンなどが挙げられる。
【００８８】
イオン性化合物としては、たとえば下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が挙げら
れる
【００８９】
【化１３】
0005053010.tif 000013
【００９０】
式中、Ｒ8+としては、Ｈ+、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニ
ウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオンなどが挙げられる。
【００９１】
Ｒ9〜Ｒ12は、互いに同一でも異なっていてもよい有機基、好ましくはアリール基また
は置換アリール基である。
前記カルボニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）カルボニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）カルボニウムカチオンなどの三置換カルボニウムカチオンなどが挙げられる。
【００９２】
前記アンモニウムカチオンとして具体的には、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリ(ｎ−プロピル)アンモニウムカチオン、トリ(ｎ−ブ
チル)アンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニウム カチオン；  Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウムカチオンなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムカチオン；  ジ（イソプロピル）アンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオンなどのジアルキルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。
【００９３】
前記ホスホニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムカチオンなどのトリアリールホスホニウムカチオンなどが挙げられる。
【００９４】
Ｒ8+としては、カルボニウムカチオン、アンモニウムカチオンなどが好ましく、特にトリフェニルカルボニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオンが好ましい。
【００９５】
またイオン性化合物として、トリアルキル置換アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリ ニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウム塩なども挙げ
られる。
【００９６】
トリアルキル置換アンモニウム塩として具体的には、たとえばトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ(ｎ−プロピル)アンモニウムテトラフェニルボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラフェニルボレート、トリメチルアンモニウムテトラ(
ｐ−トリル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラ(ｏ−トリル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル )アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(ｎ−プロピル)アンモニウムテトラ(ｏ，ｐ−ジメチルフェニル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラ(ｍ，ｍ−ジメチルフェニル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラ(ｐ
−トリフルオロメチルフェニル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラ(３，５−ジトリフルオロメチルフェニル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラ(ｏ−トリル)ボレートなどが挙げられる。
【００９７】
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩として具体的には、たとえばＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラフェニルボレートなどが挙げられる。
【００９８】
ジアルキルアンモニウム塩として具体的には、たとえばジ(ｎ−プロピル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラフェニルボレートなどが挙げられる。
【００９９】
さらにイオン性化合物として、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フェロセニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカ
ルベニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムペンタ フェニルシクロペンタジエニル錯体、下記式（ＩＶ）または（Ｖ）で表されるホウ
素化合物なども挙げられる。
【０１００】
【化１４】
0005053010.tif 000014
【０１０１】
(式中、Ｅｔはエチル基を示す。) 
【０１０２】
【化１５】
0005053010.tif 000015
【０１０３】
ボラン化合物として具体的には、たとえばデカボラン（１４）；  ビス〔トリ(ｎ−ブ
チル)アンモニウム〕ノナボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕デカボレー
ト、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ウンデカボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ドデカボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕デカクロロデカボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ドデカクロロドデカボレートなどのアニオンの塩；  トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ドデカハイドライドドデカボレート)コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ドデカハイドラ
イドドデカボレート)ニッケル酸塩（ＩＩＩ）などの金属ボランアニオンの塩などが挙げ
られる。
【０１０４】
カルボラン化合物として具体的には、たとえば、４−カルバノナボラン（１４）、１，３−ジカルバノナボラン（１３）、６，９−ジカルバデカボラン（１４）、ドデカハイドライド−１−フェニル−１，３−ジカルバノナボラン、ドデカハイドライド−１−メチル−１，３−ジカルバノナボラン、ウンデカハイドライド−１，３−ジメチル−１，３−ジカルバノナボラン、７，８−ジカルバウンデカボラン（１３）、２，７−ジカルバウンデカボラン（１３）、ウンデカハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボラン、ドデカハイドライド−１１−メチル−２，７−ジカルバウンデカボラン、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム１カルバデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム１−カルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム１−カルバドデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム１−トリメチルシリル−１−カルバデカボレート、トリ(ｎ−
ブチル)アンモニウムブロモ−１−カルバドデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウ
ム６−カルバデカボレート（１４）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム６−カルバデカボレート（１２）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム７カルバウンデカボレート（１３）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム７，８−ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ(ｎ−ブチ
ル)アンモニウム２，９−ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ(ｎ−ブチル)アンモ
ニウムドデカハイドライド−８−メチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ
−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−８−エチル−７，９−ジカルバウンデカ
ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−８−ブチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−８−アリル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−９−トリメチルシリル−７，８−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブ
チル)アンモニウムウンデカハイドライド−４，６−ジブロモ−７−カルバウンデカボレ
ートなどのアニオンの塩；  トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド−１
，３−ジカルバノナボレート)コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム
ビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボ
レート)コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル )アンモニウムビス(ウンデカハイド
ライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)ニッケル酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)銅酸塩
（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカ
ルバウンデカボレート)金酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート)鉄酸塩（ＩＩＩ）、
トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジ
カルバウンデカボレート)クロム酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(トリブロモオクタハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)コバルト酸塩（ＩＩ
Ｉ）、トリス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート)クロム酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート)マンガン酸塩（ＩＶ）、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート)
コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイド
ライド−７−カルバウンデカボレート)ニッケル酸塩（ＩＶ）などの金属カルボランアニ
オンの塩などが挙げられる。
【０１０５】
ヘテロポリ化合物は、ケイ素、リン、チタン、ゲルマニウム、ヒ素もしくは錫からなる原子と、バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンから選ばれる１種または２種以上の原子からなっている。具体的には、リンバナジン酸、ゲルマノバナジン酸、ヒ素バナジン酸、リンニオブ酸、ゲルマノニオブ酸、シリコノモリブデン酸、リンモリブデン酸、チタンモリブデン酸、ゲルマノモリブデン酸、ヒ素モリブデン酸、錫モリブデン酸、リンタングステン酸、ゲルマノタングステン酸、錫タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンタングストバナジンン酸、ゲルマノタングストバナジンン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、ゲルマノモリブドタングストバナジン酸、リンモリブドタングステン酸、リンモリブドニオブ酸、これらの酸の塩、例えば周期律表第１族または２族の金属、具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等との塩、およびトリフェニルエチル塩等の有機塩、およびイソポリ化合物を使用できるが、この限りではない。
【０１０６】
ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物としては、上記の化合物の中の１種に限らず、２種以上用いることができる。
上記のような （ｂ−３）イオン化イオン性化合物は、１種単独でまたは２種以上組み
合わせて用いられる。
【０１０７】
本発明のオレフィン多量化触媒を用いれば高い活性でオレフィン多量体が得られ、特にオレフィンとしてエチレンを用いた場合には、１−ヘキセンもしくは１−オクテンの選択性が高い。
【０１０８】
例えば助触媒成分としてメチルアルミノキサンなどの有機アルミニウムオキシ化合物（ｂ−２）を併用すると、エチレンに対して非常に高い三量化活性もしくは四量化活性を示し、１−ヘキセンもしくは１−オクテンを製造することができる。また助触媒成分としてトリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどのイオン化イオン性化合物（ｂ−３）を用いても、良好な活性かつ非常に高い選択率でエチレンから１−ヘキセンもしくは１−オクテンが得られる。
【０１０９】
また、本発明に係るオレフィン多量化用触媒は、［Ａ］遷移金属錯体化合物を含み、必要に応じて［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物、および（ｂ−３）イオン化イオン性化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含み、さらに必要に応じて後述するような［Ｃ］担体を含んでいてもよい。
【０１１０】
［［Ｃ］担体］
本発明で必要に応じて用いられる［Ｃ］担体は、無機または有機の化合物であって、顆粒状ないしは微粒子状の固体である。このうち無機化合物としては、多孔質酸化物、無機塩化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物が好ましい。
【０１１１】
多孔質酸化物として、具体的にはＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ、ＴｉＯ2、Ｂ2
Ｏ3、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ2など、またはこれらを含む複合物または混合物、例えば天然または合成ゼオライト、ＳｉＯ2−ＭｇＯ、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2−Ｔ
ｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｖ2Ｏ5、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3、ＳｉＯ2−ＴｉＯ2−ＭｇＯなどを使用す
ることができる。これらのうち、ＳｉＯ2および／またはＡｌ2Ｏ3を主成分とするものが
好ましい。
【０１１２】
なお、上記無機酸化物は、少量のＮａ2ＣＯ3、Ｋ2ＣＯ3、ＣａＣＯ3、ＭｇＣＯ3、Ｎａ
2ＳＯ4、Ａｌ2（ＳＯ4）3、ＢａＳＯ4、ＫＮＯ3、Ｍｇ（ＮＯ3）2、Ａｌ（ＮＯ3）3、Ｎ
ａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏなどの炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差
し支えない。
【０１１３】
このような多孔質酸化物は、種類および製法によりその性状は異なるが、本発明に好ましく用いられる担体は、粒径が１０〜３００μｍ、好ましくは２０〜２００μｍであって
、比表面積が５０〜１０００ｍ2／ｇ、好ましくは１００〜７００ｍ2／ｇの範囲にあり
、細孔容積が０．３〜３．０ｃｍ3／ｇの範囲にあることが望ましい。このような担体は
、必要に応じて１００〜１０００℃、好ましくは１５０〜７００℃で焼成して使用される。
【０１１４】
無機塩化物としては、ＭｇＣｌ2、ＭｇＢｒ2、ＭｎＣｌ2、ＭｎＢｒ2等が用いられる。無機塩化物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミルにより粉砕した後に用いてもよい。また、アルコールなどの溶媒に無機塩化物を溶解させた後、析出剤によって微粒子状に析出させたものを用いることもできる。
【０１１５】
本発明で担体として用いられる粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成される。また、本発明で担体として用いられるイオン交換性層状化合物は、イオン結合などによって構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物としては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用することもできる。
【０１１６】
また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パッキング型、アンチモン型、ＣｄＣｌ2型、ＣｄＩ2型などの層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物などを例示することができる。
【０１１７】
このような粘土、粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイトなどが挙げられ、イオン交換性層状化合物としては、α−Ｚｒ（ＨＡｓＯ4）2・Ｈ2Ｏ、α−Ｚｒ（ＫＰＯ4）2・３Ｈ2Ｏ、α−Ｔｉ（ＨＰＯ4）2、α−Ｔｉ（ＨＡｓＯ4）2・Ｈ2Ｏ、α−Ｓｎ（ＨＰＯ4）2・Ｈ2Ｏ、γ−Ｚｒ（ＨＰＯ4）2、γ−Ｔｉ（ＨＰＯ4）2、γ−Ｔｉ（ＮＨ4ＰＯ4）2・Ｈ2Ｏなどの多価金属の結晶性酸性塩などが挙げられる。
【０１１８】
このような粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径２０オングストローム以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上のものが好ましく、０．３〜５ｃｃ／ｇのものが特に好ましい。ここで、細孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法により、細孔半径２０〜３×１０4オングストロームの範囲について測定され
る。半径２０オングストローム以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇより小さいものを担体として用いた場合には、高い二量化活性が得られにくい傾向がある。
【０１１９】
本発明で用いられる粘土、粘土鉱物には、化学処理を施すことも好ましい。化学処理としては、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘土の結晶構造に影響を与える処理など、何れも使用できる。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理などが挙げられる。酸処理は、表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇなどの陽イオンを溶出させることによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体などを形成し、表面積や層
間距離を変えることができる。
【０１２０】
本発明で用いられるイオン交換性層状化合物は、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラーと呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の物質を導入することをインターカレーションという。インターカレーションするゲスト化合物としては、ＴｉＣｌ4、ＺｒＣｌ4などの陽イオン性無機化合物、Ｔｉ（ＯＲ）4、Ｚｒ（ＯＲ）4、ＰＯ（ＯＲ）3、Ｂ（ＯＲ）3などの金属アルコキシド(Ｒは炭化水素基など)、［Ａｌ13Ｏ4（ＯＨ）24］7+、［Ｚｒ4（ＯＨ）14］2+、［Ｆｅ3Ｏ（ＯＣＯＣＨ3）6］+などの金属水酸化物イオンなどが挙げられる。
【０１２１】
これらの化合物は単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
また、これらの化合物をインターカレーションする際に、Ｓｉ（ＯＲ）4、Ａｌ（ＯＲ
）3、Ｇｅ（ＯＲ）4などの金属アルコキシド(Ｒは炭化水素基など)などを加水分解して得た二量化物、ＳｉＯ2などのコロイド状無機化合物などを共存させることもできる。また
、ピラーとしては、上記金属水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に加熱脱水することにより生成する酸化物などが挙げられる。
【０１２２】
本発明で用いられる粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分けなどの処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いてもよい。さらに、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２３】
これらのうち、好ましいものは粘土または粘土鉱物であり、特に好ましいものはモンモリロナイト、バーミキュライト、ヘクトライト、テニオライトおよび合成雲母である。
有機化合物としては、粒径が１０〜３００μｍの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げることができる。具体的には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテンなどの炭素原子数が２〜１４のα−オレフィンを主成分として生成される(共)二量化体またはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分として生成される(共)二量化体、およびそれらの変成体を例示することができる。
【０１２４】
本発明に係るオレフィン多量化用触媒は、前記［Ａ］遷移金属錯体化合物を含み、必要に応じて前記［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および、（ｂ−３）イオン化イオン性化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含み、必要に応じて担体［Ｃ］をさらに含むが、さらに必要に応じて後述するような［Ｄ］有機化合物成分を含むこともできる。
【０１２５】
［［Ｄ］有機化合物成分］
本発明において、［Ｄ］有機化合物成分は、必要に応じて、多量化性能を向上させる目的で使用される。このような有機化合物としては、アルコール類 、フェノール性化合物
、カルボン酸、リン化合物およびスルホン酸塩等が挙げられるが、これに限られるものではない。
【０１２６】
アルコール類およびフェノール性化合物としては、通常、Ｒ13−ＯＨで表されるものが使用され（ここで、Ｒ13は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０の
ハロゲン化炭化水素基を示す）、アルコール類としては、Ｒ13がハロゲン化炭化水素の
ものが好ましい。
【０１２７】
また、フェノール性化合物としては、水酸基のα,α’−位が炭素原子数１〜２０の炭
化水素で置換されたものが好ましい。
カルボン酸としては、通常、Ｒ14−ＣＯＯＨで表されるものが使用される。Ｒ14は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基を示し、特に炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基が好ましい。
【０１２８】
リン化合物としては、Ｐ−Ｏ−Ｈ結合を有するリン酸類、Ｐ−ＯＲ、Ｐ＝Ｏ結合を有するホスフェート、ホスフィンオキシド化合物が好ましく使用される。
スルホン酸塩としては、下記一般式（ＶＩ）で表されるものが使用される。
【０１２９】
【化１６】
0005053010.tif 000016
【０１３０】
式（ＶＩ）中、Ｍ4は周期律表第１〜１４族の元素である。Ｒ15は水素、炭素原子数１
〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。ｍは1〜７の整数であり、ｎはＭの価数であり、１≦ｎ≦７で
ある。
【０１３１】
本発明のオレフィン多量化触媒は、オレフィンの多量化に用いることができるが、特にエチレンの多量化を好適に行うことができる。以下、オレフィンの多量化方法について、エチレンを例として説明する。
【０１３２】
［エチレンの多量化方法］
エチレン多量化方法について説明する。
本発明に係るエチレン多量化方法は、上記の触媒の存在下にエチレンを多量化、好ましくは三量化もしくは四量化させることからなる。
【０１３３】
なお、エチレンの三量化法とは、エチレンから１−ヘキセンを製造する方法であり、エチレンの四量化法とは、エチレンから１−オクテンを製造する方法である。
多量化の際、上記成分［Ａ］を反応器に添加する方法、各成分の使用法、添加方法、添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。
【０１３４】
（１）成分［Ａ］のみを反応器に添加する方法。
（２）成分［Ａ］と、（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）イオン化イオン性化合物から選ばれる少なくとも１種の成分［Ｂ］(以下単に「成分［Ｂ］」という)とを任意の順序で反応器に添加する方法。
【０１３５】
（３）成分［Ａ］と成分［Ｂ］とを予め接触させた触媒を反応器に添加する方法。
（４）成分［Ａ］と成分［Ｂ］を予め接触させた触媒成分、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。
【０１３６】
（５）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分のみを反応器に添加する方法。
（６）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
【０１３７】
（７）成分［Ａ］と成分［Ｂ］とを担体［Ｃ］に担持した触媒を反応器に添加する方法
。
（８）成分［Ａ］と成分［Ｂ］とを担体［Ｃ］に担持した触媒成分、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。
【０１３８】
（９）成分［Ｂ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分、および成分［Ａ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１０）成分［Ｂ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分、成分［Ａ］、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。
【０１３９】
（１１）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ｂ］を担体［Ｃ］に担持した成分を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１２）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分、成分［Ｂ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。
【０１４０】
（１３）成分［Ａ］および成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１４）成分［Ａ］、成分［Ｂ］、および有機化合物成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
【０１４１】
（１５）成分［Ｂ］と成分［Ｄ］をあらかじめ接触させた成分、および成分［Ａ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１６）成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ａ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
【０１４２】
（１７）成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ａ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１８）成分［Ａ］と成分［Ｂ］を予め接触させた触媒成分、および成分［Ｄ］を任意の順序 で反応器に添加する方法。
【０１４３】
（１９）成分［Ａ］と成分［Ｂ］を予め接触させた触媒成分、および成分［Ｂ］、成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（２０）成分［Ａ］と成分［Ｂ］を予め接触させた触媒成分、および成分［Ｂ］と成分［Ｄ］をあらかじめ接触させた成分を任意の順序で反応器に添加する方法。
【０１４４】
（２１）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分、成分［Ｂ］および、成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（２２）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分と成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
【０１４５】
（２３）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ｂ］と成分［Ｄ］をあらかじめ接触させた成分を任意の順序で反応器に添加する方法。
（２４）成分［Ａ］と［Ｄ］を予め接触させた触媒成分を反応器に添加する方法。
【０１４６】
（２５）成分［Ａ］と成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を予め任意の順序で接触させた触媒成分を反応器に添加する方法。
（２６）成分［Ａ］と成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を予め接触させた触媒成分および、成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。
【０１４７】
（２７）成分［Ａ］と成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した触媒を反応器に添加する方法。
（２８）成分［Ａ］と成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した触媒を反応器に添加する方法。
【０１４８】
（２９）成分［Ａ］と成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分および、成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。
【０１４９】
本発明に係る１−ヘキセンもしくは１-オクテンの製造方法では、上記のようなオレフ
ィン多量化用触媒の存在下に、エチレンを多量化することにより１−ヘキセンもしくは１-オクテンを得る。本発明では、多量化は溶解反応、懸濁反応などの液相反応法または気
相反応法のいずれにおいても実施できる。
【０１５０】
液相三量化法もしくは四量化法においては、不活性炭化水素媒体を用いるが、用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素；  シクロペンタン、シクロへキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素；  ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；  エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物などを挙げることができる。
【０１５１】
上記のようなオレフィン多量化用触媒を用いて、１−ヘキセンもしくは１−オクテンの製造を行うに際して、成分［Ａ］は、反応容積１リットル当り、通常１０-12〜１０-2モ
ル、好ましくは１０-10〜１０-3モルとなるような量で用いられる。本発明では、成分［
Ａ］を、比較的薄い濃度で用いた場合であっても、高い多量化活性でエチレンを三量化もしくは四量化することができる。
【０１５２】
また、成分［Ｂ］を用いる場合、成分（ｂ−１）は、成分（ｂ−１）と、成分［Ａ］中の遷移金属錯体原子（Ｍ）とのモル比〔（ｂ−１）／Ｍ〕が、通常０．０１〜１０００００、好ましくは０．０５〜５００００となるような量で用いられる。
【０１５３】
成分（ｂ−２）は、成分（ｂ−２）中のアルミニウム原子と、成分［Ａ］中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（ｂ−２）／Ｍ〕が、通常１０〜５０００００、好ましくは２０〜１０００００となるような量で用いられる。
【０１５４】
成分（ｂ−３）は、成分（ｂ−３）と、成分［Ａ］中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（ｂ−３）／Ｍ〕が、通常１〜１０、好ましくは１〜５となるような量で用いられる。
成分［Ｃ］は、成分［Ａ］中の遷移金属原子（Ｍ）のモル当たりに対する成分［Ｃ］の比(ｇ/ｍｍｏｌ)が通常１００〜１００００、好ましくは１０００〜５０００となるよう
な量で用いられる。
【０１５５】
成分［Ｄ］は、成分［Ｂ］に対して、成分（ｂ−１）の場合、モル比〔（Ｄ）／（ｂ−１）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で、成分（ｂ−２）の場合、成分［Ｄ］と成分（ｂ−２）中のアルミニウム原子とのモル比〔（Ｄ）／（ｂ−２）〕が通常０．００１〜２、好ましくは０．００５〜１となるような量で、成分（ｂ−３）の場合、モル比〔（Ｄ）／（ｂ−３）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で用いられる。
【０１５６】
また、このようなオレフィン多量化用触媒を用いたエチレンの多量化温度は、通常、−
５０〜２００℃、好ましくは０〜１７０℃の範囲である。反応圧力は、通常、常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ2、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ2の条件であり、多量化反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。
【０１５７】
［実施例］
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１５８】
なお、反応生成物の収量および１−ヘキセン、１−オクテンの選択率は、ガスクロマトグラフィー（島津ＧＣ−１４Ａ、Ｊ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  ＤＢ−５カラム）を用いて分析した。
【０１５９】
［触媒活性］
単位時間当たりに得られた反応生成物の質量を、重合に使用した遷移金属触媒成分中の遷移金属原子量（ミリモル）で除して求めた。
【０１６０】
［１−ヘキセンもしくは１−オクテンの選択率］
以下の式に従い１−ヘキセンもしくは1-オクテンの選択率を求めた。
Ｓ（％）＝Ｗｐ／Ｗｒ×１００
Ｓ（％）：１−ヘキセンもしくは1-オクテンの選択率（重量分率）
Ｗｒ（重量）：反応により生成した炭素原子数が４以上からなる生成物の合計重量
Ｗｐ（重量）：反応により生成した１−ヘキセンもしくは１−オクテンの重量
以下に本発明に係る遷移金属化合物の具体的な合成例を示すとともに、エチレン多量化の具体的な実施例および比較例を示す。
【実施例１】
【０１６１】
＜化合物１の合成＞
【０１６２】
【化１７】
0005053010.tif 000017
【０１６３】
充分に乾燥した１００ｍLナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）に水素化ナト
リウム（６０wt% in ミネラルオイル）を０．８０ｇ（２０ｍｍｏｌ）を加えＤＭＦ２０
ｍLに縣濁させた後３，５−ジ−ｔ−ブチルカテコール（3,5-di-tert-butylcatechol）２．２２ｇ（１０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１０ｍLに溶かし０℃にて滴下した。０℃で１時間反
応後、４−ブロモブチルフェニルエーテル（4-bromobutylphenyl ether）２．２９ｇ（１０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１０ｍLに溶かし０℃にて滴下し、徐々に室温まで上昇させつつ１
４時間反応させた。反応液に注意深く１０ｗｔ％塩酸水を４０ｍL加えた後、ヘキサンで
抽出し、有機相を飽和食塩水で洗浄した後に硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去することにより４．１ｇの粗成生物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ヘキ
サン/トルエン＝3/1)を用いて精製することにより化合物１を０．６７６ｇ（１８．２％
、白色固体）を得た。
【０１６４】
得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
1H NMR (δ, CDCl3): 7.31-7.16 (m, 3H, Ar-H), 6.97-6.89 (m, 3H, Ar-H), 6.97 (d, J
= 2.3 Hz, 1H, Ar-H), 6.79(s, 1H, -OH), 4.12 (t, J = 5.9 Hz, 2H, -OCH2-), 4.05 (t, J = 5.9 Hz, 2H, -OCH2-), 2.05-1.97 (m, 4H, CH2), 1.55 (s, 9H, (CH3)3), 1.29 (s, 9H, (CH3)3).
＜化合物２および３の混合物の合成＞
【０１６５】
【化１８】
0005053010.tif 000018
【０１６６】
【化１９】
0005053010.tif 000019
【０１６７】
充分に乾燥した５０ｍLシュレンクフラスコ（磁気攪拌子入り）に化合物１を５５５．
３８ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加えＴＨＦ５ｍLに溶解させた。この混合液を−７８℃ま
で冷却した後に、n−ブチルリチウムの１．６ｍｏｌ/Lのヘキサン溶液１．１ｍL(１．６
５ｍｍｏｌ)を滴下し、１時間反応させた。この反応液にトリメチルシリルクロライドを
０．５ｍL（４．０ｍｍｏｌ）加え室温で１５時間反応させた後、溶媒を留去しヘキサン
で抽出することにより黄色オイルを得た。このオイルをジクロロメタン５ｍLに溶解させ
、充分に乾燥した５０ｍLシュレンクフラスコ（磁気攪拌子入り）に四塩化チタンの１．
０ｍｏｌ/Lジクロロメタン溶液を１．５ｍL（１．５ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン１５ｍLを加えたものに−７８℃にて滴下した。この反応液を徐々に室温まで昇温させつつ１７時間反応させた後、ヘキサン２０ｍLを加えた後、１０ｍLまで濃縮することにより固体を析出させた。この固体をろ取し、ヘキサンで洗浄することにより化合物２と化合物３の混合物を５９５ｍｇ（紫色固体）を得た。
【０１６８】
得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
FD-MS:
m/z = 523 (M+ C24H33Cl3O3Ti)  化合物２
m/z = 856 (M+ C48H66Cl2O6Ti)   化合物３
化合物２：化合物３  ＝  ７：１００ (ピーク強度比).
1H NMR (δ, CDCl3): [化合物２ (化合物３のピークと分離して観測されるピーク)] 4.51
(t, J = 6.1 Hz, -OCH2-), 3.76 (t, J = 6.1 Hz, -OCH2-).
[化合物３] 7.26-7.13 (m, 3H, Ar-H), 6.99-6.67 (m, 4H, Ar-H), 4.84 (quasi t, J = 7.6 Hz, 2H, -OCH2-), 4.01 (t, J = 6.1 Hz, 2H, -OCH2-), 2.33-2.16 (m, 2H, CH2), 1.94-1.79 (m, 2H, CH2), 1.31 (s, 9H, (CH3)3), 1.21 (s, 9H, (CH3)3).
化合物２：化合物３  ＝  1：19 (モル比)
＜エチレンの多量化反応＞
充分に窒素置換した内容積１００ｍＬのオートクレーブにトルエン２８．８ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(ＭＡＯ，１Ｍトルエン溶液)をアルミニウム原子換算で１．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、上記化合物２および３の混合物(各々０．０００３ｍ
ｍｏｌおよび０．００５９ｍｍｏｌ)をトルエン０．２ｍＬとともに加え、エチレン(０．８ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５〜２８
℃で３０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。生成物のうち１−ヘキセンの選択率は８％であった。ポリエチレンの選択率は９２％であり、これらの生成物量合計から算出した触媒活性は０．２８ｋｇ−生成物／（ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈ）であった。
【０１６９】
［比較例１］
充分に窒素置換した内容積１００ｍＬのオートクレーブにトルエン２８ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(ＭＡＯ，１Ｍトルエン溶液)をアルミニウム原子換算で１．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｒａｐｉｄ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ誌２００４年２５巻４９３−４９７頁に記載の下記化合物４(１ｍＭト
ルエン溶液)を０．００１ｍｍｏｌ加え、エチレン(０．８ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を
開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５〜３５℃で１０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原
子数１０以下)をポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行っ
た。生成物としてポリエチレンを１５４ｍｇ得たが、１−ヘキセンは検出されなかった。
【０１７０】
【化２０】
0005053010.tif 000020
【図面の簡単な説明】
【０１７１】
【図１】化合物２および３の混合物の1Ｈ  ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。
【図１】
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