(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリグルタルイミドシートを含む、電子ディスプレイ用途のためのプラスチック基材であって、ポリグルタルイミドシートは、１ｍｍ以下の厚さを有し、及び少なくとも１５０℃のＴｇと、少なくとも８８％の全白色光透過率と、ポリグルタルイミドシートのＴｇより２０℃低い温度で４時間加熱した際に０．１％以下の収縮率を有し；ポリグルタルイミドシートは、スタイラスプロファイラーで測定した場合に、プロファイルにおいて、２０ｍｍのサンプリング長さに亘って１μｍ以下のシートの波打ちを有し；並びに、ポリグルタルイミドシートは６ｎｍ未満のオプティカルリターダンスを有する、電子ディスプレイ用途のためのプラスチック基材。
【請求項２】
架橋被覆の少なくとも一つの層を更に含む請求項１に記載の基材。
【請求項３】
バリヤー被覆の少なくとも一つの層を更に含む請求項１又は２に記載の基材。
【請求項４】
カラーフィルター被覆の少なくとも一つの層を更に含む請求項１又は２に記載の基材。
【請求項５】
透明な導電性被覆の少なくとも一つの層を更に含む請求項１又は２に記載の基材。
【請求項６】
１ｍｍ以下の厚さを有するポリグルタルイミドシートであって、少なくとも１５０℃のＴｇと、少なくとも８８％の全白色光透過率と、ポリグルタルイミドシートのＴｇより２０℃低い温度で４時間加熱した際に０．１％以下の収縮率を有するポリグルタルイミドシート；ここで、ポリグルタルイミドシートは、スタイラスプロファイラーで測定した場合に、プロファイルにおいて、２０ｍｍのサンプリング長さに亘って１μｍ以下のシートの波打ちを有し；及び、ポリグルタルイミドシートは６ｎｍ未満のオプティカルリターダンスを有する；
ポリグルタルイミドシートのいずれかの面上に配置された架橋被覆の層；
グルタルイミドシートの外側の架橋被覆のそれぞれの層の上に配置されたバリヤー被覆の層；及び
架橋被覆の外側のバリヤー被覆の層の上に配置された透明な導電性被覆の層；
を含むことを特徴とする電子ディスプレイ用途のためのプラスチック基材。
【請求項７】
架橋被覆が、多官能性アクリレートと有機官能性シランとの反応生成物を含み且つ分散されたシリカを含み、バリヤー被覆がオキシ窒化ケイ素を含み、透明な導電性被覆がインジウムスズオキシドを含む請求項６に記載の基材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の背景
本発明はプラスチック基材に関する。より詳しくは、本発明は、電子ディスプレイ用途のための基材としてポリグルタルイミドを用いることに関する。
【０００２】
電子ディスプレイは、電子的に発生させた図画及び文字画像を表示するために用いられる装置である。多くの異なるタイプの電子ディスプレイがあり、より多くのものが開発されている。よりよく知られているタイプの電子ディスプレイとしては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）；陰極線管（ＣＲＴ）；発光ダイオードの列（ＬＥＤ）；プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）；電界放射ディスプレイ（ＦＥＤ）；及びエレクトロルミネセンス（ＥＬ）ディスプレイがある。電子装置がより一層小型化するにつれて、携帯性の装置に対する需要が高まっている。ＬＣＤ及びＥＬディスプレイは、それらの軽量性及び他のディスプレイ技術に対してより低い電力消費のために、かかる携帯性装置において特に有用である。
【０００３】
基本的なＬＣＤユニットは、導電性被覆を有する二つの透明なシート（当該技術において基材と称される）で製造されたセルであり、被覆されたシートは、接着性のセル封止材料で端部に沿って一緒にサンドイッチされて、液晶及びスペーサーが充填されている。液晶ディスプレイセル中に含ませることのできる更なる部品としては、例えば、液晶流体を整列させるために用いられるアラインメント層、カラーフィルター被覆、薄層トランジスタのような活性電子装置、及び偏光子が挙げられる。ＥＬディスプレイは、概して、導電性被覆を有する少なくとも一つの透明な基材から構成され、画像生成媒体としてエレクトロルミネセンス蛍光体を用いる。これらのタイプのディスプレイで製造される電子装置は、電子ディスプレイ上に画像を生成させるために用いるドライバのような他の電子部品を含む。
【０００４】
ディスプレイ装置のための基材は、通常、光学的品質のガラス又は石英から製造されていた。これは、これらの材料が、光学的透明性及び平滑性に関する要求を満足し、良好なガス及び湿分バリヤー特性並びに良好な熱及び化学耐性を有しているからである。他方、ガラス及び石英は、脆性で破壊されやすく、したがって、厚さ１ｍｍ未満の薄いシート又はフィルムにおける有用性が制限される。
【０００５】
種々のプラスチックが、より軽量で、より薄いシート又はフィルムにさえも成形することができ、破壊に対してより抵抗性であるので、代替基材として提案されている。ディスプレイ製造プロセス中の適当な熱安定性を与えるためには、高温プラスチック（少なくとも１５０℃のＴｇを有するもの）が好ましい。かかる材料としては、例えば、ポリアクリレート、ポリスルホン、ポリカーボネート及びポリイミドのような熱可塑性樹脂が挙げられる。
【０００６】
米国特許第４，８０２，７４２号（イチカワら）においては、ＬＣＤ用のプラスチック基材材料として、ポリエーテルスルホン及びポリカーボネートのようなある種のプラスチックを用いることが記載されている。ポリエーテルスルホンは、２２０℃のＴｇを有し、したがって、基材材料として用いるのに他のプラスチックよりも好ましい。しかしながら、この樹脂は、琥珀色を有しており、したがって薄層フィルムに対して適用するのには制限がある。ポリカーボネートは、ポリエーテルスルホンよりも、より薄い色及びより高い白色光透過率を有するが、そのＴｇ（１５０℃）は望ましい程度に低く、比較的高い応力−光学係数（ｓｔｒｅｓｓ−ｏｐｔｉｃ  ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）を有する（その結果、より大きな複屈折を示す）。
【０００７】
これらのタイプのプラスチック基材から製造される電子ディスプレイが、約２０年の間開発されてきたが、これらのプラスチックは全て基材材料としてのそれらの特性に悪影響を与える制限を有しているので、制限された商業的成功しか達成されていない。これらの制限としては、不満足な光学品質、平滑性、耐溶剤性、耐熱性、及びガスバリヤー特性が挙げられる。通常、プラスチック基材におけるこれらの欠点の幾つかを改良するために、被覆が用いられてきた。
【０００８】
ヨーロッパ特許ＥＰ７７０８９９Ａ１（Ｐａｃｚｋｏｗｓｋｉ）においては、液晶ディスプレイにおけるプレートとして有用なプラスチック基材の両面処理のための方法及び複合材料が開示され、複合材料は、処理して液晶セルの両面を形成した後は除去できるようになっている。この出願の要点は、プラスチック基材の二つの片を同時に処理して、ＬＣＤセルの両面を形成する二つのプレートの間の処理条件の違いを最小にする方法におかれている。この出願においては、材料のＵＶ吸収に関する以外は基材材料の選択についての議論はなく、ＩＴＯ以外の基材に対する被覆の議論はない。
【０００９】
良好な光学品質、平滑性、耐溶剤性、耐熱性、及びガスバリヤー性を有するプラスチック基材材料に対する必要性が未だ存在する。
【００１０】
発明の概要
本発明は、少なくとも１５０℃のＴｇ、少なくとも８８％の全白色光透過率（ｔｏｔａｌ  ｗｈｉｔｅ  ｌｉｇｈｔ  ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ）、及び０．１％以下の収縮率（ｓｈｒｉｎｋａｇｅ）を有する２５ｍｍ以下のポリグルタルイミドシートを含むことを特徴とする電子ディスプレイ用途のためのプラスチック基材に関する。この基材は、更に、ポリグルタルイミドシートの上に被覆された光学層を含み、かかる層は、架橋被覆、バリヤー被覆及び透明な導電性被覆から独立して選択される。
【００１１】
本発明は、また、少なくとも９５％のイミド化度（ｉｍｉｄｉｚａｔｉｏｎ  ｌｅｖｅｌ）及び１重量％以下の酸レベル（ａｃｉｄ  ｌｅｖｅｌ）を有するポリグルタルイミドにも関する。
【００１２】
図面の簡単な説明
図１Ａは、通常の「オーバーフロー」法装置の正面図であり、図１Ｂは、図１１Ａの装置の側面図である。
図２は、本発明の電子プレートの一態様の断面の概念図である。
図３は、本発明の電子プレートの他の態様の断面の概念図である。
【００１３】
発明の詳細な記述
本明細書において用いる以下の用語は、特記のない限り、以下の定義を有する。「ガラス転移温度」又は「Ｔｇ」は、ポリマーが、比較的硬質で脆性の状態から比較的軟質で粘稠のゴム状の状態へと変化する狭い温度範囲の中間点である。「プラスチック」は、シートに成形することのできる熱可塑性ポリマーのようなポリマーを意味する。「ポリマー」及び「樹脂」という用語は、本明細書全体に亘って互いに交換可能に用いられ、「ポリグルタルイミド」及び「イミド化アクリル」という用語は交換可能に用いられる。「シート」は、約２５ｍｍ以下の厚さを有するシートを意味し、「フィルム」（０．５ｍｍ未満の厚さを有するシート）を包含するものと意図される。「収縮」は、加熱／冷却サイクルにかけたシートにおいて起こる不可逆性の寸法変化を意味する。「（メタ）」という用語を「アクリレート」に関して用いることは、メタクリレート又はアクリレートの両方を包含することを意味する。以下の略号を明細書中において用いる。ｃｍ＝センチメートル；ｍｍ＝ミリメートル；ｎｍ＝ナノメートル；μ＝ミクロン（マイクロメートル）；Å＝オングストローム（１０−１０メートル）；ｇ＝グラム；ｍｅｑ／ｇ＝１グラムあたりのミリ当量；ｍＬ＝ミリリットル；Ｐａ＝パスカル；ｋＰａ＝キロパスカル；Ｐａ−ｓ＝パスカル・秒；ｓｅｃ＝秒；ｍｉｎ＝分；ｈｒｓ＝時間；ｗｔ％＝重量％；ＵＶ＝紫外線；ＩＲ＝赤外線；ＰＭＭＡ＝ポリメチルメタクリレート；及びＩＴＯ＝インジウムスズオキシド。他に示さない限りにおいて、示されている温度は全て℃である。他に示さない限りにおいて、定義された範囲は境界値を含む範囲である。
【００１４】
本発明のポリグルタルイミドとしては、米国特許第４，７２７，１１７号（Ｈａｌｌｄｅｎ−Ａｂｂｅｒｔｏｎら）、米国特許第４，２４６，３７４号（Ｋｏｐｃｈｉｋ）、米国特許第３，２８４，４２５号（Ｓｃｈｒｏｄｅｒら）及び米国特許第５，０７３，６０６号（ササキら）に記載されているものが挙げられる。これらの特許の開示は、ポリグルタルイミドの調製を教示している範囲において参照としてここに包含する。かかる反応の詳細はここでは説明しないが、ポリグルタルイミドを調製するためのこれらの方法は全て、ＰＭＭＡとアミンとの高温反応を含むものである。
【００１５】
高いＴｇ、処理温度における高い安定性、及び高い光透過率を有する本発明のポリグルタルイミド樹脂は、また、低い複屈折のシート及びフィルムを形成し、このために、高い使用温度の光学品質シート又はフィルムを必要とする用途に特に適したものになっている。
【００１６】
本発明のポリグルタルイミドの調製においては、反応時間又は温度を上昇させることによって、イミド化度を上昇させることができる。原則的に、イミド化度を１００％に上昇させることが可能であるが、実際上は、イミド化度が１００％に近づくと、反応が大きく遅延し、完全なイミド化が達成される前にポリマーが劣化し始める。
【００１７】
ここで、驚くべきことに、ポリグルタルイミドにおけるイミド化度が９５％を超えると、得られる材料は、光透過度の減少が殆どない及至全くない状態で遥かに高いＴｇを有し、よりすぐれた熱安定性を有し、処理中の泡の形成が遥かに少ないことが見出された。
【００１８】
概して、イミド化度が約９５％のポリイミドを調製すると、残留する非イミド基の多くは、メタクリル酸基又はそのアミン塩の形態であり、従って、例えばＣＨ３ＮＨ２及びＰＭＭＡから誘導されるイミド化度９５％のポリイミドは、実際には、大まかには約９５％のイミド基と５％の酸基（その一部は、モノ、ジ又はトリメチルアンモニウムメタクリレート塩の形態であってよい）のコポリマーである。これらの塩の存在は、例えば、これらの塩を、アミンよりも強い塩基（例えばＫＯＨ又はＮａＯＨ）で交換−中和することによって確認することができる。次に、ＫＯＨによる滴定の間に放出されるアミンを、例えばガスクロマトグラフィーによって検出することができる。
【００１９】
ここで、予期しなかったことに、少量の酸及び酸−アミン塩（約０．３ｗｔ％）であっても、高温処理温度におけるシート品質に大きな悪影響を与え、泡又は縞の形成を引き起こし、均一で欠陥のない光学シートを製造することが困難であった。
【００２０】
理論的には、イミド化度を１００％近く（この点では残留酸基レベルは０％である）に上昇させて、残留酸及び酸塩のレベルが下式１で示すレベルと同等にすることによって、ポリイミドポリマー中の残留酸レベルを減少させることが可能である。式１によって表される線は、米国特許第３，８２４，４２５号において開示されている酸レベル（及びしたがって組成）を表し、また、米国特許第４，２４６，３７４号又は米国特許第５，０７３，６０６号において開示されている酸レベルも同様であると考えられる。
ｗｔ％酸基レベル＝１００−（ｗｔ％イミド化度）        式１
【００２１】
しかしながら、イミド化反応は、酸基中間体を経て最終生成物へと進行する逐次段階反応である（これは、また、中間的なイミド基からトラップされた基を除去するための縮重転位反応をも含む）。この固有の反応順序の結果、酸基レベルが減少するにつれて、増加イミド化度もまた減少し（これは、この前駆体基が反応することを必要とするからである）、１００％イミド化度に近づくと反応時間は無限大に近づくので、試みは実施不能である。１００％イミド化を達成することに対する他の制限は、反応時間が長くなるか、温度が上昇するか、またはこの両方が起こるにつれて、ポリマーの分解が大きくなり始める（約９９．７％のイミド化において）ということである。
【００２２】
対照的に、米国特許第４，７２７，１１７号の方法においては、酸基を非反応性の基に転化させる（キャッピング）することによって、イミド化度とは独立して酸レベルを減少させることができる。しかしながら、この開示においては、極めて低い酸レベルを有する９５％を超えるイミド化度のものは検討されなかった。したがって、本発明は、はじめて、式１で示される線の下側に位置する残留酸及び／又は酸塩レベルを有する９５〜９９．７％イミド化範囲のポリイミド組成物を開示するものであり、即ち、本発明は、式２で示される酸レベル／イミド化度の関係に好ましく従う組成物を開示するものである。
（ｗｔ％酸基レベル＜１００−（ｗｔ％イミド化度）        式２
【００２３】
より好ましくは、９５．０〜９９．７％のイミド化度において、残留酸レベルは１．０ｗｔ％未満、最も好ましくは０．３ｗｔ％以下である。
【００２４】
最後に、通常、測定された窒素レベルパーセント（％Ｎ）を用いて、式３に示す関係式によってイミド化ｗｔ％を決定する。
ｗｔ％イミド化＝１００・（％Ｎ／Ｋ）      式３
（式３における定数Ｋは、用いるアミンに依存して変化する。メチルアミンに関するＫの値は８．３７７％である）。これは、全ての窒素が環式イミドの形態であるという仮定がなされている。しかしながら、アミン−酸塩が存在する場合には、これらはイミドの形態でない窒素を与える。
【００２５】
以下の例によって問題点を説明する。米国特許第４，２４６，３７４号の方法にしたがって典型的な高度にイミド化された試料を調製すると、８．３０７％の窒素レベルが測定され、これにより、９９．２ｗｔ％の％イミド化度が予測される。しかしながら、この材料を滴定すると、０．４３６ｍｅｑ／ｇの酸度が示される。これは、以下の組成：９６．３％イミド；１．７％メタクリル酸；及び２．０％メタクリル酸のモノメチルアミン塩（約３．７％の結合酸基）に相当する。したがって、８．４％の％Ｎレベルを達成しつつ、１ｗｔ％を超える酸基を残留させることさえも、容易に可能である。このように、％Ｎ値が僅かに不正確なイミド化度を導く場合があるが、本発明者らは式３から算出される上述の％イミド化度を維持する。これは、従来の文献の殆どがこの方法で定義しているからである。しかしながら、上記の例に類似した他のポリグルタルイミドを米国特許第４，７２７，１１７号の方法にしたがって調製し、滴定すると、０．００〜０．０８ｗｔ％の残留酸レベル並びに８．１１％の窒素レベルが測定された（９６．８％イミド、３．１２〜３．０４％ＭＭＡ、０．００〜０．０８％ＭＡＡ）。このポリイミドは、特に下記に説明する「オーバーフロー」法によって実質的にボイドのない光学品質のシートに押出すのに非常に好適であった。
【００２６】
本発明の基材を形成するのに用いるポリグルタルイミド材料を、添加剤と配合して、有利な特性及び所期の特性を与えることができる。かかる添加剤としては、例えば、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤、ケイ光性又は吸光性染料、静電防止添加剤、離型剤、充填剤及び粒子が挙げられる。特定の目的のために用いる添加剤のタイプ及び量は、当業者に公知であり、ここでは更に説明しない。
【００２７】
本発明の光学品質のポリグルタルイミドシートは、当業者に公知の任意の種々の方法に従って製造することができ、かかる方法としては、ソルベントキャスト、圧縮成形、押出、カレンダリング及び圧縮ポリッシュ、並びに製造後延伸又はアニーリングが挙げられるが、これらに限定されない。本発明のポリグルタルイミドシートを製造する好ましい方法は、冷却すると低い複屈折、低い収縮率、良好な平滑性及び良好な光学的透明性の所望の特性を有するプラスチックシートになる溶融「ウェブ」をオーバーフローダイを用いて形成する、改良押出法である。かかる方法及び装置は、本出願と同日付で出願された共に継続中の「プラスチックシートを形成するための方法及び装置」と題された米国特許出願において開示されている。参照を容易にするために、この方法を、以下、「オーバーフロー法」と称する。
【００２８】
図１Ａ及び１Ｂを参照すると、「オーバーフロー法」のための代表的な装置が示されている。ソース１０からの溶融ポリマーは、導管１２を通ってオーバーフローダイ２０に送られ、ここで、導管への導管開口を通ってダイ２０に送られる。ダイ２０に送られる際の溶融ポリマーの温度は、ダイ２０に近接して配置されているヒーター１５を用いることによって保持されている。溶融ポリマーがダイの開口を満たすにつれて、計量装置を通ってダイリップ上に押出され、ダイ２０の側部の周りに流れ出る。ダイ２０の頂部において、側部から流れ出た溶融ポリマーが収束して、溶融ウェブ２７の始まりを形成する。溶融ウェブ２７は、溶融ウェブをダイ２０から離すように導くタンクトレッド３１、３２、３３及び３４の二つの対によってその端部で採取される。溶融ウェブ２７がダイ２０から離されて導かれるにつれて、ウェブの温度は、徐々にポリマーのガラス転移温度以下に低下し、その結果、冷却シート４０が得られる。
【００２９】
本発明のグルタルイミド基材シート（本明細書においては「ベースシート」と称する）は、概して、２５ｍｍ以下の厚さを有し、４００ｍｍの長さに亘って１０％以下の厚さ変動を有する。ベースシートの厚さは、５ｍｍ以下、最も好ましくは１ｍｍ以下であることが好ましい。本発明のベースシートを特徴づけるのに有用な他のパラメーターとしては、例えば、シートの波打ち（ｗａｖｉｎｅｓｓ）、シートの粗さ、収縮率及び複屈折が挙げられる。
【００３０】
シートの波打ち及び粗さは、スタイラスプロファイラー（ｓｔｙｌｕｓ  ｐｒｏｆｉｌｅｒ）で測定することができる。シートの波打ち（Ｗｙ）は、プロフィルにおける最大値と最小値との差であり、２０ｍｍのサンプリング長さに亘って、８ｍｍの長波長をカットオフしてフィルターにかけている。本発明のベースシートに関しては、Ｗｙは、１．０μ以下、好ましくは０．２μ以下、最も好ましくは０．０５μ以下であるべきである。
【００３１】
粗さの測定に関しては、表面プロファイルを、０．０８ｍｍのガウス長波長をカットオフし、さらに０．００２５ｍｍの短波長をカットオフしてフィルターにかける。評価長さは０．４ｍｍである。粗さのパラメーター（Ｒｑ）は、平均線からのフィルターされたプロファイルの根平均二乗平均偏差（ｒｏｏｔ  ｍｅａｎ  ｓｑｕａｒｅ  ａｖｅｒａｇｅ  ｄｅｖｉａｔｉｏｎ）である。本発明のベースシートに関しては、Ｒｑは５０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下、最も好ましくは５ｎｍ以下であるべきである。
【００３２】
本発明において用いる「収縮率」とは、Ｔｇと所定の相対関係にある加熱温度及び所定の加熱時間における、加熱の前後の試料の長さにおける変化率（パーセント）として定義される。Ｔｇより２０℃低い温度で４時間加熱した本発明のベースシートに関しては、収縮率は、０．１％以下、好ましくは０．０５％以下、最も好ましくは０．０１％以下であるべきである。
【００３３】
オプティカルリターダンス（ｏｐｔｉｃａｌ  ｒｅｔａｒｄａｎｃｅ）は、光が複屈折材料を通過する場合に、一つの光学軸に沿って偏光した光の、これと直交する第２の光学軸に沿って偏光させた光に対する相のリターデーションを意味する。複屈折は、二つの直交する光学軸に沿った屈折率の差である。材料の複屈折率（△ｎ）は、式４によるオプティカルリターダンス（ＯＲ）に関連する。式中、ｔは材料の厚さである。
ＯＲ＝△ｎ・ｔ        式４
【００３４】
本発明のベースシートに関しては、オプティカルリターダンスは、２０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下、最も好ましくは５ｎｍ以下であるべきである。
【００３５】
本発明の好ましい態様においては、プラスチック基材は、１以上の被覆（本明細書においては、集合的に「被覆パッケージ」と称する）を含む。本発明のグルタルイミドシートは、良好な平滑性及び光学的透明性、並びに低い複屈折及び収縮率を有するが、改良された特性を付与することができる１以上の被覆を施すことによって、他の特性を向上させることができる。影響を与えることのできる特性としては、硬度、耐スクラッチ性、耐化学薬品及び耐溶剤性、プラスチック基材に対する被覆層の接着性、異なるタイプの被覆の層の間の接着性、雰囲気安定性、ガス及び湿分バリヤー特性、及び光透過性が挙げられるが、これらに限定されない。被覆及びそれらの相対配置の適当な選択は重要であり、改良することを所望するベースシートの特性、被覆とベースシートとの相互作用、被覆層間の相互作用、及び被覆のコストによって決定される。
【００３６】
本発明の基材のための被覆パッケージは、少なくとも一つの被覆層を含む。本発明において用いることのできる異なるタイプの被覆層及びそれらの適用法を、以下に記載する。被覆の相対的配置に関連して、「内部」又は「内側」は、プラスチックベースシートにより近いことを意味し、「外部」又は「外側」は、プラスチックベースシートからより遠いことを意味する。
【００３７】
Ａ．架橋被覆層
架橋被覆層によって、耐溶剤性、耐摩耗性を改良することができ、プラスチック基材と引き続く被覆層との間（例えば、有機被覆と無機被覆との間）の接着を促進させることができる。架橋被覆層を用いる場合には、プラスチック基材の一方の面又は両面に施すことができる。
【００３８】
概して、架橋被覆層は、０．１〜２５μ、好ましくは０．５〜１０μ、より好ましくは１〜５μの厚さを有する。架橋可能な被覆は、好ましくは、当該技術において公知の１以上の被覆法によって施され、次に硬化される。当該技術において公知の被覆法の例としては、スピンコーティング、ディップコーティング、ロッドコーティング、ナイフコーティング、ブレードコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、往復ロールコーティング、スロットコーティング、押出コーティング、スライドコーティング及びカーテンコーティングが挙げられる。好適な方法は、Ｅ．Ｄ．Ｃｏｈｅｎ及びＥ．Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ（編）のＭｏｄｅｒｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９２）によって記載されている。
【００３９】
架橋被覆層は、１以上のポリマー、モノマー、又は１以上のポリマー、モノマー又は反応性オリゴマーの組み合わせから、これらをプラスチックシートの表面に施し、次に処理して重合を行わせることによって形成することができる。
【００４０】
架橋被覆層を形成するのに有用なポリマーとしては、アクリレートホモポリマー及びコポリマー、メタクリレートホモポリマー及びコポリマー、シリコンモノマーを含むアクリルポリマー、シリコーンポリマー、ポリウレタン、及びエポキシ樹脂が挙げられるが、これらに限定されない。架橋被覆層を形成するのに有用なポリマーの具体例としては、ポリ（メチルメタクリレート／メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン）、メタクリレート及び多官能性（メタ）アクリレートモノマーのコポリマー、ポリ（スチレン／多官能性コモノマー）コポリマー、ポリ（スチレン／アクリロニトリル／多官能性コモノマー）、及びメチルメタクリレート及びα−メチルスチレンと多官能性コモノマーとのコポリマーが挙げられる。
【００４１】
上記のポリマー及びコポリマーは、特にポリマーがコモノマー中に可溶性の場合には、多官能性コモノマー及び／又は粒子状混合物と組み合わせて用いることもできる。このために、反応性の末端基又はペンダント基を有する低分子量ポリマーがしばしば用いられ、これは時々「オリゴマー」と称される。また、共溶媒を用いて混合物を可溶化又は分散させることもできる。
【００４２】
多官能性コモノマーは、ポリマー技術の当業者に公知であり、スチレン及び（メタ）アクリレートタイプのコモノマーが挙げられるが、これらに限定されない。多官能性（メタ）アクリレートコモノマーは、しばしば、重合して、基材表面の変性に有用な架橋被覆を与えることができる。以下のものは、架橋被覆層の形成において有用な多官能性（メタ）アクリルコモノマーの例である：例えば１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート及びビスフェノール−Ａジメタクリレートをはじめとするジアクリレート及びメタクリレート；トリメチロールプロパントリアクリレートのようなモノマーをはじめとするトリアクリレート、及び、ペンタエリトリトールテトラアクリレートをはじめとするテトラアクリレート；ジペンタエリトリトールヘキサアクリレートのようなヘキサアクリレート。例えばヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなどをはじめとするヒドロキシアルキルアクリレート及びヒドロキシアルキルメタクリレートもまた有用である。
【００４３】
架橋剤として有用な多エチレン性不飽和モノマーの例としては、アリルメタクリレート；ジシクロペンテニルアクリレート及びメタクリレート、グリシジルメタクリレート；グリシジルアクリレート；モノジシクロペンテニルエーテルのようなネオペンチルグリコールのアクリレート及びメタクリレートエステル、エポキシ含有アクリレート及びメタクリレート；ジビニルベンゼン及びジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート及びメタクリレートが挙げられる。
【００４４】
架橋被覆層を形成するのに有用な更なるモノマーとしては、４γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン；γ−グリシジルオキシプロピルジメトキシシラン、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、テトラヒドロフルフラールアクリレート、コハク酸−トリメチロールエタン−アクリル酸縮合物、３［（２−アミノエチル）アミノ］プロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、トリメトキシメチルシラン、トリエトキシメチルシラン、無水フタル酸、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレート、フェニルトリエトキシシランが挙げられるが、これらに限定されない。これらのモノマー及びオリゴマーは、全て、更に、コロイダルシリカ又はシリカオルトエステル、たとえばＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）４、からの沈殿によって形成されるシリカ（ＳｉＯ２）及び／又はコロイド状金属酸化物と一緒に用いることができる。
【００４５】
これらのコモノマーと一緒に用いることができる光重合開始剤の例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２−ジメトキシ−２−フェニルベンゾエート、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセチルフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１オン、ベンゾフェノンが挙げられる。これらのコモノマーと一緒に用いることができる熱開始剤としては、ペルオキシド、ペルオキシカーボネート、アゾ開始剤、ニトロキシド及び多官能性開始剤が挙げられる。
【００４６】
また、ポリウレタン被覆を用いることもできる。これらの被覆は、ジオールとジイソシアネートとの反応の生成物である。ジオールの例としては、ポリプロピレングリコール及び１，４−ブタンジオールが挙げられる。ジイソシアネートの例としては、イソフェノンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート及び４，４’−メチレンビスフェニルイソシアネートが挙げられる。これらのコモノマー又はオリゴマーは、また、２−ヒドロキシエチルアクリレート又はメタクリレートのようなアクリルモノマーでキャップして、多官能性アクリレート又はメタクリレート或いはこれらの組み合わせと反応させることもできる。
【００４７】
メラミンタイプの架橋被覆を用いることもできる。これらの硬化ポリマーは、メラミン（トリアミノトリアジン）とホルムアルデヒドとの反応生成物、イミノ−メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、グリコルリルホルムアルデヒド樹脂、及び尿素ホルムアルデヒド樹脂から形成される。
【００４８】
更に、表面の変性、接着又は相溶化のために、非架橋ポリマー層を加えることができる。かかるポリマーとしては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリーレート、ポリビニリデンフルオリド、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリビニルブチラール、ポリジメトキシシラン、及びポリビニルアセテートが挙げられる。
【００４９】
ポリマーは、液体又は溶融形態であってよく、生（ｎｅａｔ）で或いは溶媒中で用いることができる。架橋は、ポリマーをプラスチックシートに施した後に行われる。モノマーを用いて被覆を形成する場合には、モノマーは溶媒中で用いることができる。次に、重合をその場で行わせる。架橋又は重合（本明細書中では、集合的に「硬化」と称する）は、例えば、加熱又はＵＶ光への曝露のような方法によって行うことができる。被覆を熱硬化させるために用いられる時間及び温度は、ベースシートの温度限界並びに被覆の組成に依存する。用いる手順、及びＵＶ硬化のために必要な波長は、被覆の組成に依存するが、概して、広波長の紫外ランプ源（ｂｒｏａｄ  ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ  ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  ｌａｍｐ）を用いることができる。
【００５０】
１以上の架橋被覆層を用いる場合には、一つを被覆パッケージの内側層のアンカーコートとして機能させ、他の一つをベースシート及び被覆パッケージの外側層のトップコートとして機能させることができる。トップコートは、基材に対して、例えば耐化学薬品性、耐摩耗性、プラスチックシートの表面における不均一性を平滑にするような改良された特性を与えることができる。他の態様においては、基材の表面に障害を与えずに物品を取り扱う（例えば輸送中に）ためにポリエステル又はポリエチレンフィルムのような一時的な層を、部分的に被覆された基材に施して、引き続く処理工程の前に除去することができる。
【００５１】
以下の記載は、架橋ポリマー被覆を施すための一つの手順の一例である。他の適用法を用いることができることが当業者には認識されるであろう。被覆組成物を濾過して、０．５〜１．０μよりも大きな粒子を除去する。組成物を、制御された湿度及び温度の、清浄な、ダストのない雰囲気中で、予め清浄化されたプラスチックシートに施す。好適な清浄雰囲気の例は、層流フード（ｌａｍｉｎａｒｆｌｏｗ  ｈｏｏｄ）である。
【００５２】
被覆組成物は、上記に列記した被覆法の一つによって施す。ディップコーティングは、個々のシートを被覆するのに好都合な方法である。ディップコーティング法においては、シートを取り出す速度及び適用中の組成物の粘度を調節して、１〜５μの最終被覆厚さを得る。溶媒が存在する場合には、被覆を室温で乾燥させて、溶媒を蒸発させるようにすることができる。
【００５３】
被覆組成物が、硬化するために熱を必要とする場合には、被覆は、対流オーブン中で硬化させることができる。硬化時間は、温度及び被覆の組成に依存するが、通常の硬化時間及び温度は、８５℃で４時間乃至１７０℃で１０分である。例えば、Ｓｉｌｖｕｅ１００（ＳＤＣ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）のような熱硬化性シリコーン被覆樹脂を８５℃で硬化させる場合には、硬化時間は４時間であってよく、同じ被覆樹脂を１２５℃で硬化させる場合には、硬化時間は１時間であってよい。シリコーン官能性アクリレートＸＦ−１１４２（ＳＤＣ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）のように、被覆組成物が硬化するのにＵＶ光を必要とする場合には、２５０〜３５０ｎｍの波長の光を供給するランプを用いることによって、被覆を硬化させることができる。かかるランプの例は、１平方センチメートルあたり１５０ミリジュール（ｍＪ／ｃｍ２）の最小エネルギーを有する中圧水銀ランプである。硬化に必要な時間は、ランプのエネルギーに依存し、エネルギーがより大きい程、必要な硬化時間はより小さい。例えば、ＸＦ−１１４２は、１１８ワット／ｃｍの集束ビーム下において約５ｍ／分の速度で硬化することができる。
【００５４】
プラスチックシート又は他の被覆に対する被覆の接着性を向上させなければならない場合には、プラスチックと被覆との間において、プライマーコーティング又は他の表面調製法を用いることができる。通常、被覆の接着性及び耐久性を向上させるためにプライマーが用いられる。プライマーは、１以上のポリマー又はより小さな分子の溶液であってよい。他の態様においては、プライマーは、プラスチックシートに対して侵食性の溶媒であってよい。溶液を用いる場合には、溶液を濾過して、１．０μより大きな粒子、より好ましくは０．５μ未満の粒子を除去することが好ましい。プライマーは、フローコーティング、ディップコーティング又はスプレーコーティングのような被覆法によって施すことができる。プライマーは、通常、０．０５〜０．５μの層で施す。アクリル及びポリカーボネートプラスチックに対するシリコーン硬質被覆の接着性を促進させるために用いられる商業的に入手できるプライマーの例は、ＳＨＰ４０１プライマー（ＧＥ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ，Ｗａｔｅｒｆｏｒｄ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ）である。適用の後、プライマー被覆は、通常、空気中で粘着性がなくなるまで乾燥され、オーブン中でさらに乾燥させることができる。プラスチック基材に対する被覆の接着性を向上させるための他の方法は、例えば、Ｆ．ＧａｒｂａｓｓｉらによってＰｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｒｆａｃｅｓ，ｆｒｏｍ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｔｏ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９４）において記載されているコロナ処理のようなプラズマ処理である。次に、１以上の更なる架橋性被覆を上記記載のように施すことができる。接着性の促進は、また、反応性カップリング剤を用いることによって達成することができる。反応性カップリング剤の例としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びトリメトキシシリルプロピルメタクリレートが挙げられる。
【００５５】
また、プラズマ蒸着を用いて、ダイアモンド様被覆又はフルオロカーボン被覆をはじめとする炭素被覆のような架橋被覆を施すこともできる。プラズマポリマーは、普通のポリマーではないが、通常は室温で気体状であるが、表面上に凝縮させてネットワークに形成することのできる分子から形成される。プラズマポリマーとしては、メタンのような炭化水素；ペルフルオロエタンのようなハロカーボン；及びヘキサメチルジシロキサン及びテトラメチルシランのような有機シリコーンのようなモノマーから形成されるポリマーが挙げられるが、これらに限定されない。プラズマ蒸着及びプラズマポリマーの適用は、Ｈ．Ｂｉｄｅｒｍａｎ及びＹ．Ｏｓａｄａによって、Ｐｌａｓｍａ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ，１９９２）において記載されている。
【００５６】
Ｂ．バリヤー層
バリヤー層は、ガス又は湿分の透過を減少させる被覆である。バリヤー層の組成は、有機又は無機であってよい。バリヤー層は、また、バリヤー被覆の材料が耐溶剤性で、プラスチックシートへのかかる溶剤の移動を防止又は大きく減少させることができる場合には、耐溶剤性被覆としても有用である。バリヤー層は、用いる場合には、プラスチックシートの１面又は両面に施すことができる。
【００５７】
無機バリヤー層を形成するのに有用な材料としては、ケイ素、チタン及びアルミニウムのような金属の酸化物及び窒化物が挙げられる。無機バリヤー層として有用な酸化物及び窒化物としては、二酸化ケイ素、一酸化ケイ素及び他のケイ素酸化物；窒化ケイ素；酸化アルミニウム；窒化アルミニウム；二酸化チタン；酸化チタン；酸化イットリウム；酸化マグネシウム；及びこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。オキシ窒化ケイ素及びオキシ窒化アルミニウムのような酸化物及び窒化物の混合形態を用いることもでき、炭化ケイ素のような非酸化物材料であってもよい。例えば、二酸化ケイ素及び酸化アルミニウムのように、複数の金属を同時に付着させることによって形成される複合材料もまた有用である。これらの材料の多重層、例えば酸化ケイ素と窒化ケイ素との多重層もまた、バリヤーフィルムとして有用である場合がある。無機被覆を形成するのに有用な他の種類の材料としては、ゾル−ゲル被覆、有機／無機ハイブリッド材料、及びポリシラザン前駆体又はシリカ充填ポリシラザン前駆体を用いるセラミック酸化物が挙げられる。オキシ窒化ケイ素を用いることが最も好ましい。
【００５８】
得られるバリヤー層の組成及び特性は、例えば、無機材料中における原子の構造的配向性、密度、モルホロジー、バリヤー層中における異なる原子種の付着の相対速度、バリヤー層の付着中に存在する原子種の相対割合のようなファクターによって決定される。無機フィルムは、例えば、蒸発、スパッタリング、化学蒸着法、物理蒸着法、プラズマ蒸着法、イオンプレーティング、及びプラズマ化学蒸着法のような標準的な減圧付着法によって施すことができる。プラスチックシートに関するＴｇを超える基材の加熱を引き起こさない方法が好ましい。無機フィルムに関する減圧付着法は、Ｒ．Ｆ．Ｂｕｎｓｈａｈ（編）によって、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  ｆｏｒＦｉｌｍｓ  ａｎｄ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ，第２版（Ｎｏｙｅｓ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｐａｒｋ  Ｒｉｄｇｅ，ＮＪ，１９９４）において記載されている。
【００５９】
有機バリヤー層としてはポリマーが好ましい。酸素バリヤー特性が所望の場合に、本発明において用いるための有機バリヤー層を形成するのに有用なポリマーとしては、ポリビニルアルコール；エチレンビニルアルコール；ポリビニリデンフルオリド及びポリビニリデンクロリドのようなハロゲン化ポリマー；及びポリアクリロニトリル及びそのコポリマー；が挙げられるが、これらに限定されない。水蒸気バリヤー性が所望の場合に、本発明において用いるための有機バリヤー層を形成するのに有用なポリマーとしては、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンクロリド、ポリビニリデンフルオリド及びこれらのコポリマーのようなハロゲン化ポリマー；ポリアクリロニトリル及びそのコポリマー；ナイロン；テトラフルオロエチレンと環式ペルフルオロビニルアリルエーテルとのコポリマー；フッ素化ポリイミド；エチレン及び環式オレフィンのポリマー及びコポリマー；及びノルボルネンモノマーのポリマー及びコポリマー；が挙げられるが、これらに限定されない。架橋被覆層に関して上述したもののようなプラズマ重合によって形成されるポリマーもまた、バリヤー材料として有用である場合がある。
【００６０】
有機フィルムは、例えば、スピンコーティング、ディップコーティング、ロッドコーティング、ナイフコーティング、ブレードコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、往復ロールコーティング、スロットコーティング、押出コーティング、スライドコーティング及びローラーコーティングのような当業者に公知の方法によって、溶融ポリマー又はポリマー溶液の形態で施すことができる。ローラーコーティング法は、メニスカスコーティング、グラビアコーティング及びキッスコーティングのような周知の方法を包含する。かかる被覆法は、Ｅ．Ｄ．Ｃｏｈｅｎ及びＥ．Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ（編）によって、Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９２）において記載されている。他の態様においては、ポリマー有機フィルム被覆は、フィルムの積層、又はポリマー材料及びプラスチックシートの共押出によって、プラスチックシートに施すことができる。
【００６１】
バリヤー層の特性は、プラスチック基材の最終的なバリヤー特性に影響を与える。例えば、バリヤーの化学組成は、酸素透過性及び水透過性に影響を与える可能性がある。フィルムにおける欠陥は、バリヤー特性に悪影響を与える可能性がある。例えば、ピンホールはフィルムのバリヤー特性に影響を与える。フィルムの密度もまた、そのバリヤー特性に影響を与え、密度がより低いと、フィルムのガス透過性が上昇する可能性がある。バリヤー層の厚さもまた、バリヤー特性に影響を与える。例えば、無機バリヤー層を用いる時に、無機材料の不完全な層を付着させた場合は、バリヤー特性が悪影響を受ける。
【００６２】
Ｃ．透明な導電性層
本発明の基材は、光学ディスプレイにおいて用いるための導電性被覆で被覆することができる。例えば、基材を液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）において用いる場合には、導電性被覆が必要である。透明な導電性層を用いる場合には、概して、ＬＣＤセルの「内側」になり液晶に最も近接する一方の面のみに施す。
【００６３】
本発明の方法を用いるもののような、ディスプレイ用途において有用な本発明の基材のための透明な導電性被覆として有用な材料の例としては、インジウムスズオキシド（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化カドミウム（ＣｄＯ）、カドミウムスズオキシド（Ｃｄ２ＳｎＯ４）、及びこれらの混合物が挙げられる。他の態様においては、例えば、ポリアニリン又はポリビニレンフェニレンのようなポリマー導電性被覆を用いることができる。導電性被覆は、また、導電性を上昇させる種々のドーパント原子又は分子を含んでいてよい。液晶ディスプレイのための導電性被覆に必要な抵抗は、製造されるディスプレイのタイプに依存するが、通常、５００オーム／平方以下、好ましくは１００オーム／平方以下、より好ましくは５０オーム／平方以下の抵抗を有する。
【００６４】
Ｄ．カラーフィルター被覆
所望の場合には、１以上のカラーフィルター被覆を本発明の被覆基材中に含ませることができる。好ましくは、１以上のカラーフィルター被覆は、ベースシートに対して、導電性被覆の内側に配置する。場合によって用いる１以上のカラーフィルター被覆は、トップコートと共に又はこれを用いずに、用いることができる。トップコートが存在する場合には、カラーフィルター被覆をトップコートの内側に配置することが好ましい。他の態様においては、カラーフィルター被覆は、また、トップコートとして機能させることもできる。カラーフィルター被覆は、例えば、染料又は顔料を含むポリマーであってよい。
【００６５】
１以上の被覆層を用いる場合には、層を積層しなければならない論理的な順番は存在しないが、被覆は隣接する被覆及びプラスチックシートそれ自体に対して接着していなければならない。さらに、被覆されたプラスチックシートは、それ自体、ある種の特性を有していなければならず、これらが、用いられる被覆又は被覆が配置される順番を決定する可能性がある。例えば、バリヤー被覆が化学的な攻撃に対して耐性を有しない場合には、それを攻撃する溶剤にバリヤー被覆が曝露されるような状態にすることはできない。同様に、バリヤー被覆がプラスチックシートに対して接着しない場合には、架橋被覆層の一つのようなアンカーコートを、プラスチックシートとバリヤー被覆との間に用いて、接着性を向上させることができる。
【００６６】
図２に示す本発明の被覆基材の好ましい態様においては、架橋被覆２をまずプラスチックシート１の両側に施し；無機ガスバリヤー層３を架橋被覆層２の上に施し；更なる架橋層２をガスバリヤー層３の上に施し；最後に、ＩＴＯの層４を被覆基材の一方の側に施す。
【００６７】
図３に示す他の好ましい態様においては、架橋被覆２をプラスチックシート１の両面に施し；無機ガスバリヤー被覆３を架橋被覆２の上に施し；ＩＴＯの層４を被覆基材の一方の側に施す。
【００６８】
Ｗ．Ｃ．Ｏ’ＭａｒａによってＬｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙｓ（Ｖａｎ  Ｎｏｓｔｒａｎｄ  Ｒｅｉｎｈｏｌｄ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９３）において記載されたものと同様の材料及び方法を用いることによって、本発明の基材を液晶ディスプレイセル中に含ませることができる。基材から液晶セルを形成する方法は、以下の１以上の工程を含むことができる：フォトリソグラフ法を用いて透明な導電性フィルムを少なくとも一つの基材上にパターニングし；液晶アラインメント材料を二つの基材の上の導電性被覆に施し；アラインメント層をラビングして、基材にアラインメント特性を与え；スペーサー粒子を少なくとも一つの基材に施し；少なくとも一つの基材にエッジシールを施し、二つの基材を、導電性層を互いに向き合わせて適当な配向で接触させ；エッジシールを硬化し；液晶を、基材の間に形成された狭いギャップ中に射出し；ギャップをシールする。本発明の基材は、液晶及びポリマーの複合体を含むタイプをはじめとする全てのタイプの液晶ディスプレイセルにおいて用いることができる。
【００６９】
本発明は以下の態様を含む。
（１） 少なくとも１５０℃のＴｇ、少なくとも８８％の全白色光透過率、及び０．１％以下の収縮率を有する２５ｍｍ以下のポリグルタルイミドシートを含むことを特徴とする電子ディスプレイ用途のためのプラスチック基材。
（２） ポリグルタルイミドシートが、更に、２０ｎｍ以下のオプティカルリターダンスを有する前記（１）に記載の基材。
（３） ポリグルタルイミドシートが、１ｍｍ以下の厚さを有する前記（１）に記載の基材。
（４） 架橋被覆の少なくとも一つの層を更に含む前記（１）に記載の基材。
（５） 架橋被覆が、アクリレートホモポリマー及びコポリマー、メタクリレートホモポリマー及びコポリマー、シリコンモノマーを含むアクリルポリマー、シリコーンポリマー、ポリウレタン、エポキシ樹脂、及びプラズマ蒸着ポリマーからなる群から選択されるポリマーを含む前記（４）に記載の基材。
（６） 架橋被覆が、（メタ）アクリレート及び有機官能性アルコキシシランからなる群から選択されるホモ又はコポリマーを含む前記（５）に記載の基材。
（７） 架橋被覆が、ポリ（メチルメタクリレート／メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン）、（メタ）アクリレート及び多官能性（メタ）アクリレートモノマーのコポリマー、ポリ（スチレン／多官能性コモノマー）コポリマー、ポリ（スチレン／アクリロニトリル／多官能性コモノマー）、及びメチルメタクリレート及びα−メチルスチレンと多官能性コモノマーとのコポリマーからなる群から選択されるポリマーを含む前記（６）に記載の基材。
（８） バリヤー被覆の少なくとも一つの層を更に含む前記（１）又は（４）に記載の基材。
（９） バリヤー被覆が、金属酸化物、金属窒化物、金属オキシ窒化物、炭化ケイ素及びこれらの混合物からなる群から選択される無機材料を含む前記（８）に記載の基材。
（１０） 無機材料が、二酸化ケイ素、一酸化ケイ素及び他のケイ素酸化物；窒化ケイ素；酸化アルミニウム；窒化アルミニウム；二酸化チタン；酸化スズ；酸化イットリウム；酸化マグネシウム；オキシ窒化ケイ素；オキシ窒化アルミニウム；炭化ケイ素；及びこれらの混合物からなる群から選択される前記（９）に記載の基材。
（１１） バリヤー被覆が、ガス抵抗性又は湿分抵抗性を有するポリマーを含む前記（８）に記載の基材。
（１２） 基材抵抗性を有するポリマーが、ポリビニルアルコール；エチレンビニルアルコール；ハロゲン化ポリマー；ポリアクリロニトリル及びそのコポリマー；及びプラズマポリマーからなる群から選択される前記（１１）に記載の基材。
（１３） 湿分抵抗性を有するポリマーが、ハロゲン化ポリマー及びコポリマー；ポリアクリロニトリル及びそのコポリマー；ナイロン；テトラフルオロエチレンと環式ペルフルオロビニルアリルエーテルとのコポリマー；フッ素化ポリイミド；エチレン及び環式オレフィンのポリマー及びコポリマー；ノルボルネンモノマーのポリマー及びコポリマー；及びプラズマポリマーからなる群から選択される前記（１１）に記載の基材。
（１４） カラーフィルター被覆の少なくとも一つの層を更に含む前記（１）、（４）又は（８）に記載の基材。
（１５） カラーフィルターが、染料又は顔料を含むポリマーを含む前記（１４）に記載の基材。
（１６） 透明な導電性被覆の少なくとも一つの層を更に含む前記（１）、（４）、（８）又は１４に記載の基材。
（１７） 透明な導電性被覆が、インジウムスズオキシド、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化カドミウム、カドミウムスズオキシド、及びこれらの混合物からなる群から選択される前記（１６）に記載の基材。
（１８） 少なくとも１５０℃のＴｇ、少なくとも８８％の全白色光透過率、及び０．１％以下の収縮率を有する２５ｍｍ以下のポリグルタルイミドシート；ポリグルタルイミドシートのいずれかの面上に配置された架橋被覆の層；グルタルイミドシートの外側の架橋被覆のそれぞれの層の上に配置されたバリヤー被覆の層；及び架橋被覆の外側のバリヤー被覆の層の上に配置された透明な導電性被覆の層；を含むことを特徴とする電子ディスプレイ用途のためのプラスチック基材。
（１９） 架橋被覆が、多官能性アクリレートと有機官能性シランとの反応生成物を含み且つ分散されたシリカを含み、バリヤー被覆がオキシ窒化ケイ素を含み、透明な導電性被覆がインジウムスズオキシドを含む前記（１８）に記載の基材。
（２０） 少なくとも一つの基材が前記（１５）に記載の基材であり、一緒にサンドイッチされていて、それらの端部で一緒にシールされて、内部空間が形成されている二つの基材；及び二つの基材の間に形成された内部空間内に分散された液晶の層；を含む、電子ディスプレイ用途において有用な液晶ディスプレイセル。
（２１） 少なくとも９５％のイミド化度及び１重量％以下の酸レベルを有するポリグルタルイミド。
（２２） 酸レベルが０．３重量％以下である前記（２１）に記載のポリグルタルイミド。
以下の実施例は、本発明の更なる種々の特徴を示すために与えられるが、本発明の範囲を全ての点で制限するものではない。
【００７０】
参考例１：ポリグルタルイミドの調製
以下は、本発明の基材として有用なポリグルタルイミドの四つの例である。
プラスチックＡ：
イミド化剤としてメチルアミンを、再エステル化剤として無水ジメチルカーボネートを用いて、米国特許第４，７２７，１１７号において教示された方法によりポリマーを調製した。ポリマーの窒素含量は約７．５ｗｔ％であった。残留酸含量は０．３ｗｔ％であった。ポリマーのＴｇは１５５℃であった。０．８ｍｍの厚さの成形シートの全光透過率は９２％であった。
【００７１】
プラスチックＢ：
イミド化剤としてアンモニアを用いて、米国特許第４，２４６，３７４号に教示された方法によりポリマーを調製した。ポリマーの窒素含量は約８．２重量％であった。Ｔｇは２０５℃であった。１ｍｍの厚さの成形シートの全光透過率は９０％であった。
【００７２】
プラスチックＣ：
米国特許第４，７２７，１１７号に教示された方法によって、以下の二段階工程でポリマーを調製した。
【００７３】
工程１：ペレット化したＰＭＭＡ試料（Ｍｗ＝１３４，０００）を、１１０ｇ／分の速度で、４００ｒｐｍで運転された２０ｍｍの逆回転タンジェンシャル二軸押出機の供給ゾーンに供給することによって、イミド化反応を行なった。ポリマーを、１６５℃の設定温度で運転されている１０．２直径長さ（ｄｉａｍｅｔｅｒｓ  ｌｏｎｇ）の供給ゾーンを通して送り、更に長さ３ｃｍの溶融ブリスター上で３００℃の設定温度で運転されている６３．０直径長さの加圧反応ゾーン中に送り、その中に、溶融ブリスターの末端から５．７直径下流（ｄｉａｍｅｔｅｒｓ  ｄｏｗｎｓｔｒｅａｍ）の点で７２７０ｋＰａで４９ｇ／分の速度でポンプ移送することによって無水モノメチルアミンを導入した。過剰のアミンとガス状の副生成物を、溶融ブリスターの端部から４５直径下流の点で７２７０ｋＰａにセットされた圧力調整バルブから取り出された。次に、得られたポリマーを、長さ７．６ｃｍの第２の溶融ブリスター上で、２８０〜２９０℃及び８．５ｋＰａの１２．５直径長さの脱蔵ゾーン中に送った。脱蔵ゾーンの末端におけるポリマーを、単軸スクリュー中に送り、溶融ダイからポンプで押出し、水浴中で短く冷却した後、ペレット化して回収した。製造されたポリマーは、８．２１％の窒素レベル％及び０．４３６ｍｅｑ／ｇの滴定レベル（３．７５ｗｔ％のメタクリル酸レベルに相当する）、及び１０８，０００（ゲル透過クロマトグラフィーによって測定）のＭｗを有していた。次に、回収されたポリマーグルタルイミドを、下記の工程２に示すように、ポリマー溶融体に、メチルアミンに代えてジメチルカーボネートを加えた他は同様の構造の押出機及びスクリューを通して再び通過させた。
【００７４】
工程２：ペレット化されたポリイミドを、９０ｇ／分の速度で、４００ｒｐｍで運転している２０ｍｍの逆回転タンジェンシャル二軸押出機の供給ゾーンに供給することによって、メタクリル酸の再エステル化反応を行なった。ポリマーを、上記記載のように３００℃に設定された反応ゾーン中に送り、その中に、上記記載のように４６５０ｋＰａで９．０ｇ／分の速度でポンプ移送することによって無水ジメチルカーボネートを導入した。過剰のジメチルカーボネート及びガス状の副生成物を、上記記載のようにして、４６５０ｋＰａで除去した。次に、得られたポリマーを、第２の溶融ブリスター（長さ７．６ｃｍ）の上で、２８０〜３００℃及び圧力８．５ｋＰａの１２．５直径長さの脱蔵ゾーン中に送った。ポリマーを上記と同様の方法で回収し、８．１１％の窒素レベル％及び０．００〜０．０１ｍｅｑ／ｇの滴定レベル（０．００〜０．０８％のメタクリル酸レベルに相当する）を有するポリマーを得た。
【００７５】
実施例２：高品質ポリグルタルイミド基材の調製
ポリグルタルイミド樹脂（Ｍｗ＝９７，５００；約１８０℃のＴｇ）を、重量測定供給器を用いて２．５ｇ／秒の速度で、３０：１のＬ：Ｄ比を有する直径２インチ（５ｃｍ）の単軸排気２ステージ押出機中にスターブフィードした（ｓｔａｒｖｅ  ｆｅｄ）。押出機バレルは、供給末端における２４６℃から放出末端における３２９℃までの温度プロファイルを有していた。７２０〜７５０ｍｍＨｇの脱蔵ベントを用いて、樹脂を脱蔵した。スクリューは３０ｒｐｍで回転させた。ギヤタイプの溶融ポンプを用いて、溶融樹脂を、スクリーンパックフィルターを通して、直径１．５８８ｃｍの内部導管及び０．９６５〜１．０６７ｍｍに先細りしている長さ４０ｃｍのスロットを有する長さ６５ｃｍのオーバーフローダイにポンプ移送させた。溶融ポンプ温度は３２９℃であった。溶融ポンプ吸引圧力は約４１００ｋＰａであった。溶融ポンプ放出圧力は約１６５０ｋＰａであった。ダイの内部孔を介して加熱油系（油温＝３４３℃）を用いてダイを加熱し、強制通気オーブン（温度＝２８０℃）によってダイの周囲の空気を加熱した。ダイの先端部において形成された溶融ウェブを、１．２ｃｍ／秒の速度で運転されている二対のタンクトレッド（ｔａｎｋ  ｔｒｅａｄｓ）を用いて移送し、室温の自然対流によって冷却した。
【００７６】
冷却されたシートから２００ｍｍ×２００ｍｍの片を切断し、試験した。得られたシートは、±０．０１５ｍｍの変動で、０．３９０ｍｍの厚さを有していた。表面の波打ちＷｙ及びＷｑは、それぞれ０．５μ未満及び０．１８μであり、表面粗さＲｑは７．６ｎｍであり、オプティカルリターダンスは６ｎｍ未満であった。１６０℃において測定した熱収縮は０．０３％以下であった。全光透過率は９２％であり、曇り度は０．３％であった。
【００７７】
実施例３：ポリグルタルイミドシート及び架橋被覆層からなる基材の調製
参考例１Ａのイミド化アクリルプラスチック（１５５℃のＴｇ、１．５４の屈折率）を、０．８ｍｍのスペーサーを用いて、研磨されたクロムプレートの間において、２４０℃での圧縮成形によって、厚さ０．８ｍｍの１０ｃｍ×１０ｃｍのシートに成形した。全白色光透過率は９２％であった。シートのオプティカルリターダンスは５ｎｍ未満であった。
【００７８】
プラスチックシートを、イソプロピルアルコールで洗浄し、多官能性アクリレート及びアミノ有機官能性シランの反応生成物から形成され、分散されたシリカ（製品ＸＦ−１１４２、ＳＤＣ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ  Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）を含む溶液を用いてディップコーティングした。被覆剤の粘度は約１０センチポイズであった。被覆溶液からの引き出し速度は１０ｃｍ／分であった。被覆を、２５０〜３６０ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー密度を施すことによって、広波長のＵＶ照射に曝露することにより硬化させた。得られた乾燥被覆厚さは、スタイラスプロファイラー（Ｓｕｒｆａｎａｌｙｚｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ  ５０００，Ｆｅｄｅｒａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ；Ｐｒｏｖｉｄｅｎｃｅ，Ｒｈｏｄｅ  Ｉｓｌａｎｄ）を用いて測定して、約３μであった。液晶ディスプレイのプラスチック基材としてのその使用に関する物理特性を下表１に示す。
【００７９】
実施例４：架橋被覆及びバリヤー被覆を有するポリグルタルイミド基材の調製
実施例３の手順にしたがって、参考例１Ａのポリグルタルイミドプラスチックシートを成形し、被覆し、硬化させた。実施例３と同様に、被覆剤溶液を、多官能性アクリレート及びアミノ有機官能性シランの反応生成物から形成し、分散シリカ（製品ＸＦ−１１４６，ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）を含ませた。次に、以下の手順にしたがうイオンビームスパッタリング法によって、オキシ窒化ケイ素フィルムをシートの両側に付着させた。
【００８０】
プラスチックシートの表面を、アルゴン／酸素プラズマ中で約３０分処理した。アルゴン（７５％の気体圧）、酸素（２２％）及び窒素（３％）からなる予め混合された雰囲気中において、イオンビームによってケイ素金属ターゲットをスパッタリングした。全気体圧力は約７×１０−４ｔｏｒｒであった。フィルム付着速度は約０．５オングストローム／秒であった。被覆の厚さは、６００オングストロームであると測定された（透過電子顕微鏡により測定した）。付着されたフィルムのＳｉ：Ｏ：Ｎ比を、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定した。原子比は、Ｓｉ：Ｏ：Ｎ＝１：１．０：０．３であると測定された。
【００８１】
被覆プラスチックの物理特性を下表１に示し、実施例３からの被覆プラスチックと比較した。
【００８２】
実施例５：架橋被覆及びバリヤー被覆を有するポリグルタルイミド基材の調製
以下の手順によるイオンビームスパッタリング法を用い、実施例４にしたがって調製されたプラスチックシートの両面にオキシ窒化ケイ素フィルムを付着させた。
【００８３】
プラスチックシートの表面を、アルゴン／酸素プラズマ中で約３０分処理した。アルゴン（７５％の気体圧）、酸素（２２％）及び窒素（３％）からなる予め混合された雰囲気中において、イオンビームによってケイ素金属ターゲットをスパッタリングした。バックグラウンド圧力は５×１０−５ｔｏｒｒであった。全気体圧力は約７×１０−４ｔｏｒｒであった。フィルム付着速度は約０．５オングストローム／秒であった。被覆の厚さは、１０００オングストロームであると測定された（透過電子顕微鏡により測定した）。付着されたフィルムのＳｉ：Ｏ：Ｎ比を、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定した。原子比は、Ｓｉ：Ｏ：Ｎ＝１：０．３：０．７であると測定された。
【００８４】
次に、ＳｉＯ０．３Ｎ０．７が被覆されたプラスチックシートを、シリカが充填されたアルコキシシラン被覆溶液（Ｓｉｌｖｕｅ１２１，ＳＤＣ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ  Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）中に浸漬した。被覆剤溶液の粘度は１０センチポイズであった。シートを、２５ｃｍ／分の速度で溶液から引き出し、被覆プラスチック基材を、室温において３０分空気乾燥した。被覆樹脂を、対流オーブン中において１２５℃で１時間加熱することによって、シルセスキオキサン（ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）被覆に硬化させた。得られたシルセスキオキサン被覆の厚さは約５μであった。
【００８５】
下表１は、この実施例５からの被覆プラスチックの物理特性を、実施例３及び４からの被覆プラスチック及び未被覆プラスチックと比較して示す。
【００８６】
【表１】
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【００８７】
実施例６：導電性層の適用
実施例３及び５からの被覆プラスチックの片、及び参考例１Ａからの未被覆プラスチックの片（対照目的）を、透明な導電性ＩＴＯフィルムで、一方の側を被覆した。ＩＴＯフィルム（インジウム：スズの比＝１０：１）を、ＤＣマグネトロンスパッタリングによって、ＩＴＯターゲットから施した（Ｒ．Ｆ．Ｂｕｎｓｈａｈ（編）のＨａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ｆｏｒ Ｆｉｌｍｓ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，第２版（Ｎｏｙｅｓ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｐａｒｋ Ｒｉｄｇｅ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）を参照）。ＩＴＯの厚さは約１５０ｎｍであった。ＩＴＯ接着性及び表面抵抗並びに最高使用温度を試験した。特性を下表２に報告する。
【００８８】
【表２】
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【００８９】
実施例７：被覆ポリグルタルイミド基材
参考例１Ｂのイミド化アクリルプラスチック（２０５℃のＴｇ）を、研磨されたクロムプレートの間において、２５０℃で、圧縮成形によって厚さ１．０ｍｍのシートに成形した。プラスチックシートは、直交偏光子の間で観察して、光を偏光しなかった。プラスチックシートを、実施例３と同様に、架橋被覆で被覆した。次に、実施例５と同様にシートをオキシ窒化ケイ素で被覆した後、シリカを充填したアルコキシシラン被覆溶液（Ｓｉｌｖｕｅ１２１，ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）中に浸漬し、硬化させた。
【００９０】
下表３は、未被覆プラスチックと比較した被覆プラスチックの特性を示す。
【００９１】
【表３】
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【００９２】
実施例８：被覆ポリグルタルイミドプラスチック基材
シートダイ及び研磨されたロールを有する直径６．３ｃｍの単軸２ステージ押出機を用いて、参考例１Ｃからのイミド化アクリルプラスチック（約１８０℃のＴｇ）を、０．４ｍｍのフィルムに押出した。押出機のバレル温度は３００〜３１５℃であり、ダイ温度は２８０℃であり、ロール温度は１３０℃であった。ロール速度は、約１００ｃｍ／分であった。０．４ｍｍのフィルムの全光透過率は９２％であった。
【００９３】
実施例４に記載のようにして、ポリグルタルイミドフィルムの、両側を被覆した。次に、被覆プラスチックを、実施例５に記載の方法にしたがって、オキシ窒化ケイ素フィルムで両側を被覆した。オキシ窒化ケイ素フィルムのターゲット厚さは８００Åであった。被覆プラスチックフィルム基材の特性を下表４に示す。
【００９４】
【表４】
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【００９５】
試験法
上記の実施例において調製した基材を試験するために以下の試験法を用いた。これらの試験法は一例であり、結果は方法に依存しないことが、当該技術において理解される。
【００９６】
光透過率
プラスチックシートの全光透過率は、Ｇａｒｄｎｅｒ  ＸＬ−２１１  Ｈａｚｅｇａｒｄ装置（Ｐａｃｉｆｉｃ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ；Ｓｉｌｖｅｒ  Ｓｐｒｉｎｇ，Ｍａｒｙｌａｎｄ）を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ−１００３の方法を用いて測定した。曇り度の測定は、同じ装置を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ−１００３のＡｐｐｅｎｄｉｘ  Ｘ２の方法によって行なった。
【００９７】
屈折率
プラスチックシートの屈折率は、ＡＳＴＭ  Ｄ−５４２の方法によって測定した。
【００９８】
オプティカルリターダンス
以下の方法で、６３２．８ｎｍの波長におけるオプティカルリターダンスを測定した。偏光されたレーザービーム（実験フレームに対して−４５°で偏光した）を、プラスチックシートを通して通過させ、次に、実験フレームに対して０°に設定した光学軸で配向した光弾性モジュレーター（ｐｈｏｔｏｅｌａｓｔｉｃｍｏｄｕｌａｔｏｒ：ＰＥＭ）（モデルＰＥＭ−９０，ＨＩｎｄｓ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃ．；Ｈｉｌｌｓｂｏｒｏ，Ｏｒｅｇｏｎ）を通して通過させた。ＰＥＭ電圧を、１／４波長リターダンス（１５８．２ｎｍ）に設定した。次に、光を、第２の線状偏光子（偏光軸＋４５°）を通して通過させ、シリコンダイオード検出器（モデルＰＤＡ−５０，ＴｈｏｒＬａｂｓ  Ｉｎｃ．；Ｎｅｗｔｏｎ，Ｎｅｗ  Ｊｅｒｓｅｙ）によって強度を検出した。ＰＥＭ及び検出器をモジュレートし、検出器からの信号を固定増幅器（モデル５２１０，ＥＧ＆ＧＰｒｉｎｃｅｔｏｎ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ；Ｐｒｉｎｓｔｏｎ，Ｎｅｗ  Ｊｅｒｓｅｙ）によって処理した。プラスチックシートを、レーザービームに対して直角に回転させて、最大信号を見出した。最大信号を、標準１／４波長板に関して測定された信号と比較することによって、オプティカルリターダンスを決定した。
【００９９】
ガラス転移温度
プラスチックのガラス転移温度を、示差走査熱量計（モデルＤＳＣ−７，Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ  Ｃｏｒｐ．；Ｎｏｒｗａｌｋ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ）によって測定した。試験の前に、それぞれの樹脂の２０ｍｇの試料を予め秤量した。プラスチックのそれぞれの試料を、計算されたガラス転移温度よりも２０℃高い温度に加熱し、その温度に１分間保持した後、室温に冷却することによって、予備コンディショニングした。熱容量対温度を、１分あたり２０℃の走査速度で記録した。商業的に入手し得るプラスチックに関するＴｇ値を製品文献から得た。
【０１００】
ガス透過
酸素透過を、Ｏｘｔｒａｎ１０００装置（Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌｓ，Ｉｎｃ．；Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）を用いて測定した。用いた試験手順はＡＳＴＭ  Ｄ−３９８５であった。試験気体は、相対湿度０％の１００％酸素であった。試験温度は２３℃であった。
水蒸気透過を、Ｐｅｒｍａｔｒａｎ  Ｗ６００装置（Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌｓ，Ｉｎｃ．；Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，Ｍｉｎｎｅｓｏ）を用いて測定した。用いた試験手順は、ＡＳＴＭ  Ｆ−１２４９であった。試験温度は３７℃であった。試験は、１００％の相対湿度下で行なった。測定値は、他に示さない限りにおいて、平衡状態において測定した。
【０１０１】
窒素含量
イミド化アクリルポリマーの窒素含量を、窒素分析器（Ｃａｒｌｏ  ＥｒｂａＳｔｒｕｍｅｎｔａｚｉｏｎｅ  ＮＡ１５００；Ｍｉｌａｎ，Ｉｔａｌｙ）を用いて測定した。装置中において、プラスチック（０．１ｇ）をフラッシュ燃焼によって完全に酸化した後、金属銅で還元して、酸素ガスを除去し、全ての窒素酸化物を元素状窒素に還元した。水及び二酸化炭素を濾過カラムによって除去した。最後に、窒素重量％を、アセトアニリド（Ｃ８Ｈ９ＮＯ）標準試料（窒素１０．３６％）を用いて、熱導電度検出器によって測定した。
【０１０２】
最高使用温度
被覆プラスチックを、所定の温度に３０分加熱し、室温に冷却し、視認及び顕微鏡により検査した。被覆中のクラック、被覆の外観における変化、被覆の粗化、又は被覆の剥離は、不可として示された。この手順を、不可が報告されるまで、１０℃の昇温間隔で繰り返した。プラスチックが破壊されることなく加熱することのできた最高温度が、最高使用温度として報告される。
【０１０３】
接着性
接着性をＡＳＴＭ  Ｄ−３３５９の方法によって測定した。試験の完了後に被覆によって覆われた試験領域の割合を記録した。１００％の値は、完全な接着性を示す。
【０１０４】
硬度
硬度を「鉛筆硬度試験」によって測定した。種々の程度の鉛硬度（最も軟質な６Ｂから最も硬質な９Ｈまで）の鉛筆を用いた。最も硬質の鉛筆をまず適用した。鉛筆を基材に対して４５°の角度に保持し、鉛筆を表面に沿って動かしながら均一で一定の圧力を加えた。表面にスクラッチを与えなかった鉛筆が見出されるまで、硬度を減少させた鉛筆を引き続いて用いた。基材の硬度を、表面にスクラッチを与えなかった最も硬質の鉛筆の硬度として報告した。
【０１０５】
耐摩耗性
１００ｇ／ｃｍ２の圧力を用いて、チーズクロスを、試料の表面上で１００ストローク擦った。基材の表面を、擦減及び損傷に関して視認した。
【０１０６】
耐溶剤性
プラスチック及び被覆プラスチックの片を室温（２３℃）で１０分間浸漬することによって、溶剤に対する耐性を測定した。用いた溶剤は、イソプロピルアルコール、脱イオン水、アセトン、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、酢酸ブチル、５％ＨＣｌ及びＥ７液晶混合物（ＥＭ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｈａｗｔｈｏｒｎｅ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋにより供給）であった。プラスチック基材の表面の状態の視認検査を報告した。溶剤に対する曝露後に外観の変化がなかった場合には、基材はその溶剤に対して耐性であると記載した。表面が、変形、剥離、粗化、クラッキング又は他の損傷を受けた場合には、基材は、その溶剤によって侵されたと報告した。
【０１０７】
ＩＴＯシート抵抗
四点プローブ法を用いて、導電性被覆のシート抵抗を測定した。四つのプローブチップ（金属オスミウム）を、等距離に離して直線状に整列させ、均一な力を用いて、導電性被覆プラスチックの表面に適用した。電流源を用いて、二つの外側のプローブチップを通して電流（Ｉ）を流した。二つの内側のプローブを通る電圧降下（Ｖ）を、電圧計を用いて測定した。式：
ＲＳ＝（π／ｌｎ２）・（Ｖ／Ｉ）
を用いてシート抵抗を算出した。
【０１０８】
滴定試験（ＭＡＡのｗｔ％）
滴定剤として０．１Ｎアルコール性ＫＯＨを用いて、１：１（ｖ：ｖ）のメチレンジクロリド：メタノール中に溶解したポリマーの０．１５ｇ試料の滴定によって（ＪＴ  Ｂａｋｅｒにより供給されるＨＰＬＣグレードのメチレンジクロリド、及びＥＭ  Ｓｃｉｅｎｃｅにより供給されるオムニソルブ（Ｏｍｎｉｓｏｌｖ）グレードのメタノール）、ポリメタクリルイミド中の全滴定可能酸性官能価を測定した。滴定の前に、試料を、超音波浴中で短く処理することによって溶解し、０．１ＮのＨＣｌ水溶液の０．２０ｃｃのアリコートを、滴定の直前に加えた。この撹拌された溶液に、０．１Ｎ−ＫＯＨ（メタノール中）を、ガラスｐＨ電極（ＰＨＧ２０１）及びカロメル参照電極、ＬｉＣｌ塩ブリッジ溶液（ＲＥＦ９０１）、およびＡＢＵ９３トリビュレット装置を有するＳＡＭ９０滴定セルを有するＶＩＴ９０滴定器（Ｒａｄｉｏｍｅｔｅｒ，Ｃｏｐｅｎｈａｇｅｎ）を用いて、電位差測定の終点に加えた。ＭＡＡに関するｍｅｑ／ｇ値を下式Ａから算出する。
［Ｎ］ＫＯＨ・［（終点までのｃｃ，試料）−（終点までのブランクｃｃ，ブランク）］／試料重量（ｇ）                              Ａ
ＭＡＡのｗｔ％値は、下式Ｂから算出する。
ｗｔ％ＭＡＡ＝１００［（ｍｅｑ／ｇ）・０．０８６０９ｇ／ｍｅｑ］＝８．６０９（ｍｅｑ／ｇ）                                  Ｂ
ＫＯＨ溶液は、無水フタル酸水素カリウムの滴定に基づいて標準化する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１Ａは、通常の「オーバーフロー」法装置の正面図であり、図１Ｂは、図１Ａの装置の側面図である。
【図２】  図２は、本発明の電子プレートの一態様の断面の概念図である。
【図３】  図３は、本発明の電子プレートの他の態様の断面の概念図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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