(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを水平方向に移動させつつ順次当該ワークの第１面及び第２面を露光する露光装置における、当該ワークの第１面を露光する第１露光部と第２面を露光する第２露光部との間に設置される反転部であって、
一方の平面がワークを保持する保持面として用いられる板状のベースと、
前記保持面と平行な方向を向いた回転軸を中心として、前記ベースを、前記保持面を水平且つ下方に向けた初期状態から少なくとも１８０度回転自在に支持する支持機構と、
前記支持機構を介して前記ベースを回転させる回転駆動機構と、
前記ワークの表面と接触することにより前記ワークの表面に付着した塵芥を除塵する除塵装置と、
前記除塵装置を移動させる移動機構と、
前記回転駆動機構及び前記移動機構を制御することにより、前記ベースが前記初期状態にある状態から前記ベースを回転させ、前記保持面が水平方向に対して傾斜する位置にて前記ベースを停止させてから、前記除塵装置を前記ベースの保持面に保持されているワークの表面上を接触させつつ移動させ、その後、前記保持面が水平方向を向くように前記ベースを回転させるコントローラと
を備えたことを特徴とする露光装置の反転部。
【請求項２】
前記支持機構は、前記ベースを、前記初期状態から１８０度を超える範囲で回転自在に支持し、
前記コントローラは、前記ベースを、前記初期状態から１８０度を超えた位置にて停止させてから、前記除塵装置を前記ベースの保持面に保持されているワークの表面上を接触させつつ移動させ、その後、前記保持面が水平方向を向くように前記ベースを反転させる
ことを特徴とする請求項１記載の露光装置の反転部。
【請求項３】
前記除塵装置は、前記ワークの表面を転がることによって、前記ワークの表面に付着した塵芥をその表面に付着させる粘着ローラを備えている
ことを特徴とする請求項１記載の露光装置の反転部。
【請求項４】
前記コントローラは、前記ベースを、前記保持面が下方を向き且つ水平方向に対して傾斜した位置にて停止させてから、前記除塵装置を前記ベースの保持面に保持されているワークの表面上を接触させつつ移動させ、その後、前記保持面が上方を向き且つ水平となるように前記ベースを反転させる
ことを特徴とする請求項１記載の露光装置の反転部。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子回路基板、液晶素子用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス素子基板等の両面にフォトレジスト層が形成されてなる平面基材（ワーク）に、パターンを露光させる露光装置に組み込まれ、表面用の露光装置と裏面用の露光装置との間で基板を反転させるための反転部に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子回路基板（プリント回路基板）は、例えば、携帯電話，各種モバイル，パーソナルコンピュータ等の電子機器に搭載されるが、基板上に多数の回路部品を実装する必要等があるので、表裏両面にパターンを形成した基板が必要とされている。また、液晶素子用ガラス基板やＰＤＰ用ガラス素子基板等でも、表裏両面にパターンを形成する場合がある。かかる表裏両面にパターンが形成された基板を製造するために用いられる露光装置としては、処理効率の向上のため、ワークを一方向に移動させて順次表裏各面の露光を行えるように、ワークの第１面用の露光部と第２面用の露光部とを別個独立に備え、両露光装置の間にワークを表裏反転させる反転装置を設置するものが、一般的である。
【０００３】
なお、各露光装置における露光の方式としては、ワークの外側面に対してマスクを重ね、このマスク越しに光をワークに塗布された感光剤層を露光させるコンタクト方式及びプロキシミティ方式と、ワークのフォトレジスト層に対してパターンの像を投影したりレーザ光を走査しつつ変調することによってフォトレジスト層上にパターンを描画するダイレクト露光方式とが実用されている。何れの方式においても、精密なパターンの形成のためには、ワークを載置すべきステージに真空吸着装置又はクランプ装置を組み込んで、ワークをステージ表面に固定する必要がある。
【０００４】
但し、ステージ表面上には、塵，埃，又は当該基板の前に当該ステージに固定したワークから剥落したフォトレジスト材料，基材片等の塵芥が不可避的に散在するので、当該ステージ表面を何ら保守作業せずにそのままワークを固定することに因って、これらの塵芥がワークに転写されてしまうという問題を生じる。具体的には、上述したワークの表裏両面に連続的にパターンを形成可能な露光装置においては、第１面用の露光部においてステージ上に塵芥が存在すると、これがワークの第２面に付着してしまうが、当該ワークが反転装置によって反転されて第２面用の露光部に移送されると、この第２面が露光対象面となる。その結果、第２面に付着している塵芥が光を遮蔽して、フォトレジスト層にその影を映り込ませるので、現像処理後において回路の導通不良若しくは短絡等の欠陥を生じさせてしまうのである。
【０００５】
そのため、ワークの表裏両面に連続的にパターンを形成可能な露光装置においては、第１面のステージにおいてワークの第２面に転写された塵芥を、第２面用のステージ上にて当該第２面に対して露光が行われるまでの間に、当該第２面から除去する必要が生じる。
【０００６】
かかる必要に対処するには、露光装置において従来用いられてきた除塵装置を、第１面用の露光部のステージから第２面用の露光部のステージまでの間に設置することにより、ワークの第２面から塵芥を除去（以下、「除塵」という）することが考えられる。下記特許文献１〜３には、従来の除塵装置が開示されている。
【０００７】
例えば、特許文献１は、露光装置のステージ（露光テーブル１８）上にワーク（基板１１）を載置するために水平移動するハンドラ（搬入キャリア１８）の先端に粘着ローラ（除塵ローラ１６）を取り付け、当該ハンドラ（搬入キャリア１８）によってステージ（露光テーブル１８）上に載置されたワーク（基板１１）の表面を、当該ハンドラ（搬入キャリア１８）の後退時に当該粘着ローラ（除塵ローラ１６）によって除塵し、この粘着ローラ（除塵ローラ１６）によって集められた塵芥を転写ローラ（１７）によって回収する構成を、開示している。この除塵装置を、第２面用のステージにワークを載置するハンドラに用いれば、上述したワークの第２面に対する除塵を行うことができる。
【０００８】
また、特許文献２は、露光装置（露光ステージＣ）の直前に除塵装置（除塵手段８）を設け、ワーク（基板１）における露光対象面を除塵する構成を、開示している。この除塵装置を、第１面用の露光部と反転装置との間，若しくは、反転装置と第２面用の露光部との間に、ワークの第２面に向けて設置すれば、上述したワークの第２面に対する除塵を行うことができる。
【０００９】
更に、特許文献３は、基板の元となる平面基材をワークとするものではないが、ワーク（印刷済みのイレーザブルペーパー）を粘着ローラ１１と非粘着ローラ１３との間を通すことによって、ワーク（印刷済みのイレーザブルペーパー）から塵芥（トナー）を除去する構成を、開示している。この除塵装置を、第１面用の露光部と反転装置との間，若しくは、反転装置と第２面用の露光部との間に、ワークの第２面が粘着ローラ１１に接触するように設置すれば、上述したワークの第２面に対する除塵を行うことができる。
【特許文献１】特許第３５３３８０号公報
【特許文献２】特許第２８４７８０８号公報
【特許文献３】特許第２８４０４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、第１面用の露光部と反転装置との間にワークの第２面を除塵する除塵装置を設置したとしても、当該ワークが反転装置によって反転される際に、当該第２面は反転装置の何れかの部材と接触せざるを得ないので、結局、反転装置の当該部材によって汚染されてしまうことになる。また、反転装置と第２面用の露光部との間に除塵装置を設置する場合であっても、反転装置と第２面用の露光部との間に当該除塵装置の設置スペースを置かなければならないので、水平方向における露光装置全体の長さが長大になってしまうという問題が生じる。さらに、上記特許文献３のようにワークの上下をローラによって挟み込む構成において、ワークに曲がり癖がついて波打っている場合には、ワークの全域に対して均等に加圧することが難しいので、安定して稼働できないという問題がある。
【００１１】
そこで、本願発明は、第１面用の露光部と第２面用の露光部との間に反転装置が設置され、ワークを第１面用の露光部，反転装置，第２面用の露光部の順に移送することによって当該ワークの両面に対して露光を行う露光装置において、ワークの移送方向における装置全体の長さを増やすことなく、また、反転装置による反転後のワークの第２面に対する除塵を可能とすることを目的とし、かかる目的を実現できる反転装置の除塵装置の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するために案出された本発明の露光装置の反転部は、ワークを水平方向に移動させつつ順次当該ワークの第１面及び第２面を露光する露光装置における、当該ワークの第１面を露光する第１露光部と第２面を露光する第２露光部との間に設置される反転部であって、一方の平面がワークを保持する保持面として用いられる板状のベースと、前記保持面と平行な方向を向いた回転軸を中心として、前記ベースを、前記保持面を水平且つ下方に向けた初期状態から少なくとも１８０度回転自在に支持する支持機構と、前記支持機構を介して前記ベースを回転させる回転駆動機構と、前記ワークの表面と接触することにより前記ワークの表面に付着した塵芥を除塵する除塵装置と、前記除塵装置を移動させる移動機構と、前記回転駆動機構及び前記移動機構を制御することにより、前記ベースが前記初期状態にある状態から前記ベースを回転させ、前記保持面が水平方向に対して傾斜する位置にて前記ベースを停止させてから、前記除塵装置を前記ベースの保持面に保持されているワークの表面上を接触させつつ移動させ、その後、前記保持面が水平方向を向くように前記ベースを回転させるコントローラとを、備えたことを特徴とする。
【００１３】
かかる反転部が露光装置に組み込まれると、ベースが初期状態にあるときに、第１露光部において第１面の露光のなされたワークが、その保持面にて保持される。その後、コントローラが、回転駆動機構を制御することにより、ベースを回転させ、前記保持面が水平方向に対して傾斜する位置にて停止させる。そこで、コントローラは、移動機構を制御することにより、除塵装置をワークの表面に接触させつつ当該表面上を移動させることによって、当該表面の除塵を行う。このようにしてワークの除塵が完了した後に、コントローラは、回転駆動機構を制御することにより、その保持面が上方を向き且つ水平となる位置まで、ベースを回転させる。その後、ベースの保持面に保持されていたワークは、第２露光部に移動されることになる。
【発明の効果】
【００１４】
以上のように構成された本発明による露光装置によると、ワークが水平方向に対して傾斜された状態で除塵されるので、移動機構による除塵装置の水平方向における移動範囲が少なくて済む。その結果、反転装置全体の水平方向における幅を抑えることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を、複数例、説明する。
【実施形態１】
【００１６】
＜露光装置の全体構成＞
本実施形態による露光装置は、露光及びエッチング処理後に回路配線として残る金属膜とフォトレジスト層とを両面に夫々積層してなる平面基材をワークＷとし、このワークの各面のフォトレジスト層に対して夫々コンタクト方式によってパターンを露光するものである。従って、本実施形態の露光装置では、反転部に反転後のワークの第２面を除塵するための除塵装置を組み込む他、各露光部に、マスクの下面（ワークに接触する面）の除塵をするための除塵装置を組み込むことが必要となる。マスクの透光部に塵芥が付着していると上述した描画の欠陥が生じるし、遮光部に塵芥が付着している場合であっても、マスクがワークに接触することによってその塵芥がワークに転写されてしまい、これが下流の装置を汚染してしまうからある。同様の理由に因り、各露光装置のテーブルの表面を除塵する必要があるが、本実施形態においては、同一の除塵装置によって、同じ露光装置内におけるマスク下面の除塵とテーブル上面の除塵を行えるように、工夫してある。
【００１７】
図１は、本実施形態による露光装置の概略構成を示す側面透視図である。この図１に示されるように、この露光装置は、水平方向に（図１の左側から右側に向けて）、投入部１，第１露光部２，反転部３，第２露光部４，排出部５を配置することによって、構成されている。
投入部１は、作業者若しくは図示せぬロボットが、未露光のワークＷを第１ハンドラ６に拾い上げさせるべく載置するためのステージ１ａを有する。
【００１８】
この第１ハンドラ６は、図１の左右方向に延びた腕を有し、この腕の両端に夫々、ワークＷを着脱自在に吸着するパッドを、昇降可能に備えている。そして、第１ハンドラ６全体を図示せぬリニアスライドによって図１の左右方向に移動することにより、図中左端のパッドによって吸着したワークＷを投入部１から第１露光部２まで移送してそのステージ８上に置き去り、図中右端のパッドによって吸着したワークＷを第１露光部２から反転部３まで移送して、その反転装置９内に置き去る。
【００１９】
第１露光部２は、投入部１から移送されたワークＷの第１面にマスク１０を重ね、フォトレジスト層を感光させる波長帯域の光（例えば紫外光）をこのマスク１０越しに照射することによってマスク１０の透光部として描かれたパターンを第１面上のフォトレジスト層に露光する装置である。そのため、この第１露光部２は、第１ハンドラ６によってワークＷが載置されるとともに、このワークＷをマスク１０に向けて上昇させ、また、下降させるステージ８と、マスク１０を保持するホルダ１１と、フォトレジスト層を感光させるための光を発する光源１２とから、構成されている。なお、ステージ８表面には図示せぬ吸引ポンプに連通する多数の吸引口が開けられており、これら吸引口を通じて空気が吸引されることによって、このステージ８表面にワークＷが吸着される。なお、図１においては、ハンドラ６がマスク１０の直下に在るように描かれているが、マスク１０は、第１ハンドラ６に対して紙面に直行する方向にずれた位置に配置されていても良い。この場合には、ステージ８には、昇降する機能の他、紙面に直行する方向に水平移動する機能が備わっている必要がある。かかる構成が採用されると、テーブル８の昇降に際して第１ハンドラ６を退避させる必要がなくなり、また、ＵＶランプ１２から漏れ光の遮光が容易となる。なお、投入部１と第１露光部２との間に設けられ、第１露光部２のマスク１０下面とステージ８上面とを除塵するためのクリーニングユニット１２については、後で詳しく説明する。
【００２０】
反転部３は、第１ハンドラ６によって第１露光部２から移送された第１面が露光済みのワークＷを反転するための反転装置９及び、この反転装置９によって反転されたワークＷの第２面を除塵するためのクリーニングユニット１３を内蔵している。これら反転装置９及びクリーニングユニット１３の詳細な構成については、後で詳しく説明する。
【００２１】
第２露光部４は、第１露光部２と同一の構成を有している。従って、図１において、第１露光部２と共通する第２露光部４の部品には、第１露光部２のものと同じ番号を付し、個々の説明を省略する。
【００２２】
第２ハンドラ７は、図１の左右方向に延びた腕を有し、この腕の両端に夫々、ワークＷを着脱自在に吸着するパッドを、昇降可能に備えている。そして、第２ハンドラ７全体を図示せぬリニアスライドによって図１の左右方向に移動することにより、図中左端のパッドによって吸着したワークＷを反転部３から第２露光部４まで移送してそのステージ８上に置き去り、図中右端のパッドによって吸着したワークＷを第２露光部４から排出部５まで移送して、排出部５のステージ５ａ上に置き去る。このようにして排出部５のステージ５ａ上に置かれた露光済みのワークＷは、作業者若しくは図示せぬロボットによって取り出されて、次の処理工程に移動される。なお、第２露光部４と排出部５との間に設けられ、第２露光部４のマスク１０下面とステージ８上面とを除塵するためのクリーニングユニット１２については、後で詳しく説明する。
＜反転部の反転装置＞
【００２３】
図２は、初期状態にある反転装置９を、図１における左上に視点を置いて示す斜視図であり、図３は、図２と同じ状態を示す平面図であり、図４は、図２と同じ状態を図１と同じ方向から示す側面図であり、図５は、図２と同じ状態を第１露光部２側に視点を置いて示す正面図であり、図６は、図３及び図４におけるVI-VI線に沿った縦断面を示す断面図である。また、図７は、反転後に開閉ベース２１，２２を開放した状態を第１露光部２側に視点を置いて示す正面図である。また、図８は、図７の状態から開閉ベース２１，２２を閉じ且つ上昇させた状態を図１における右上に視点を置いて示す斜視図であり、図９は、図８と同じ状態を示す平面図であり、図１０は、図８と同じ状態を図１と同じ方向から示す側面図であり、図１１は、図８と同じ状態を第２露光部４側に視点を置いて示す背面図である。
【００２４】
これら各図に示されるように、この反転装置９は、各ハンドラ６，７と平行に反転部３内の図示せぬフレームに敷設された一対のガイドレール２０，２０と、各ガイドレール２０，２０によって長手方向にスライドのみ可能にガイドされた一対のリニアスライド２３，２３と、各リニアスライド２３，２３の間に、その長手方向を各レール２０の方向（便宜上、以下「ｚ方向」と称する）及び鉛直方向（便宜上、以下「ｙ方向」と称する）に夫々直交する方向（便宜上、以下「ｘ方向」と称する）に向けて掛け渡されて固定され、且つその両端（支柱部２４ａ，２４ａ）がｙ方向上向きに直角に折り曲げられたのと等価な形状を有する支柱部材２４と、各支柱部２４ａ，２４ａの上端近傍にｘ方向に向けて設けられた回転軸（ワークＷの移動方向に直交する方向に設けられた回転軸）を中心に、夫々回動自在に支柱部材２４の内側に保持された板状部材からなる一対の回転板２５，２５と、各回転板２５，２５の内側面上にその長手方向を初期状態におけるｙ方向に向けて固定された角材形状を有する昇降テーブル２６，２６と、各昇降テーブル２６をそのｚ方向両側から挟むように配置され、各昇降テーブル２６に対して初期状態におけるｙ方向にスライドのみ自在に保持される２個一組（計４個）の角柱状のスライダ２７，２７と、各組のスライダ２７，２７の一端面（初期状態における下端面）同士の間に掛け渡されるとともに内側（反転装置９の中心寄り）に張り出すように固定されたシリンダ台座２８と、各組のスライダ２７，２７とシリンダ台座２８とがなす角に内接するように固定された開閉ベースブラケット２９と、ｚ方向を向いた軸によって各開閉ブラケット２９，２９に対して夫々枢支されている一対の開閉ベース２１，２２と、両昇降テーブル２６，２６の内面同士の間に固定されている吸着ベース３０と、ステー（図８においては図示略）３１を介して反転部３の図示せぬフレームにおける下流側（図１における右側）に固定され、その一端が支柱部材２４の中心に連結された状態でｚ方向に向けられたシャフト３２を出没させる反転装置移動シリンダ３３と、一方の支柱部２４ａの外面に固定され、回転軸を介して回転板２５を回転駆動する回転駆動モータ（サーボモータ）３４と、各シリンダ台座２８の表面（初期状態における下面）に固定され、その一端が各シリンダ台座２８を貫通して昇降テーブル２６に連結されたシャフト３６を出没させる昇降用シリンダ３５，３５と、各開閉ベースブラケット２９，２９に固定されて各開閉ベース２１，２２を各開閉ベースブラケット２９，２９に対して回動させる開閉モータ３７，３７とから、構成されている。
【００２５】
「ベース」としての吸着ベース３０は、図３に示されるようにほぼ方形の平面形状を有しており、初期状態において下流側に位置する側面が一方のスライダ２７と面一となるように、両昇降テーブル２６，２６の間に挟まれて固定されている。この吸着ベース３０の内面（両開閉ベース２１，２２に対向する面）は、Ｘ方向における両側縁に沿って形成されたリブ３０ａ，３０ａを残して、断面矩形となるように凹んでいる。この凹みが、ワークＷを収容する保持面としての収容凹部３０ｂである。図６に示すように、この収容凹部３０ｂの表面には、真空吸着手段としての吸引ポンプ４４（図１３参照）に連通する多数の吸引口３０ｃが開けられており、この吸引口３０ｃに連通する真空排気用配管３０ｄを通じて空気が吸引されることにより、この収容凹部３０ｂ内に収容されたワークＷが真空吸着される。
【００２６】
上述した支持柱部２４，回転軸，回転板２５，２５が、吸着ベース３０（ベース）をその収容凹部３０ａの内面（保持面）を水平且つ下方に向けた初期状態から少なくとも１８０度回転自在に支持する支持機構に相当する。また、回転駆動モータ３４が、支持機構を介して吸着ベース３０（ベース）を回転させる回転駆動機構に相当する。
【００２７】
開閉ベースブラケット２９，２９は、吸引ベース３０の外縁と重なる外縁を有する矩形枠から、Ｘ方向における中央部分を切除したのと等価な形状を、有している。これら両開閉ベースブラケット２９，２９の内縁の内側に、若干のクリアランスを空けて、両開閉ベース２１，２２がＸ方向に並べて収容されている。そして、各開閉ベース２１，２２は、各開閉ベースブラケット２９のｚ方向における両端の鈎状に折れ曲がった部分同士の間にｚ方向を向けて掛け渡された回転軸により軸支され、当該軸を中心に開閉される。上述したクリアランスは、かかる回転途中における各開閉ベース２１，２２と各開閉ベースブラケットとの干渉を回避するために設けられている。そして、各開閉ブラケット２９は、ｚ方向における両端面とｘ方向における側面が夫々吸着ベース３０と面一となり且つ各リブ３０ａと平行となるように、一対のスライダ２７，２７及びシリンダ台座２８に固定されている。
【００２８】
各開閉モータ３７は、初期状態において下流側に位置する各開閉ベースブラケット２９の端面に固定され、上記回転軸を通じて各開閉ベース２１，２２を回転駆動する。
【００２９】
各開閉ベース２１，２２は、矩形の２枚の板であり、その内側面（吸着ベース３０に対向する面）における各開閉モータ３７，３７の近傍には、ｚ方向における位置が互いに一致するように、同一形状の位置決めピン２１ａ，２２ａが、夫々突出形成されている。なお、これら位置決めピン２１ａ，２２ａの高さは、吸着ベース３０の収容凹部３０ａの深さ及びワークＷの厚さよりも低い。
【００３０】
以上の構成により、反転装置移動シリンダ３３がシャフト３２を繰り込むことにより、スライダ２３上に構築されている装置全体，とりわけ吸引ベース３０及び開閉ベース２１，２２が、ガイドレール２０に沿って、ｚ方向下流側（図１の右側）へ向かって移動する。
【００３１】
また、回転駆動モータ３４が回転板２５を回転駆動することにより、両支柱部２４ａ，２４ａ同士の間に構築されている装置全体，とりわけ吸引ベース３０及び開閉ベース２１，２２が、回転軸に沿って反転する。なお、吸引ベース３０及び開閉ベース２１，２２の回動は、これら吸引ベース３０又は開閉ベース２１，２２がガイドレールに当接しない範囲において、回転駆動モータ３４に対する制御に基づいて規制される。即ち、図１における反時計方向への回転は、吸引ベース３０の収容凹部３０ｂが水平となる回転位置（即ち、初期状態の回転位置）において規制され、時計方向への回転は、初期状態の回転位置から１８０度を超え、２７０度に至らない回転位置において規制される。なお、回転駆動モータ３４はサーボモータであるので、これに対する制御に基づいて所定の回転位置に吸引ベース３０が停止されると、外部から吸引ベース３０に対して力が加わっても、その状態が維持されることになる。
【００３２】
また、両昇降シリンダ３５がシャフト３６を繰り込むと、各スライダ２７が昇降テーブル２６に沿ってスライドし、これに固定されている両開閉ベースブラケット２９，２９及び開閉ベース２１，２２が吸引ベース３０に接近し、各開閉ベースブラケット２９，２９が吸引ベース３０の各リブ３０ａ，３０ａに接触した位置にて停止する。逆に、両昇降シリンダ３５がシャフト３６を繰り出すと、各スライダ２７が昇降テーブル２６に沿ってスライドし、これに固定されている両開閉ベースブラケット２９，２９及び開閉ベース２１，２２が吸引ベース３０から離反し、両開閉ベース２１，２２及び吸引ベース３０が反転する前においては、各開閉ベース２１，２２の内面が各露光部２，４におけるテーブル８表面の降下位置（図１にて一点鎖線で示すパスレベル）と面一となる位置にて停止する。
【００３３】
また、両開閉モータ３７，３７が両開閉ベース２１，２２を回転駆動すると、両開閉ベース２１，２２が、吸引ベース３３と平行な状態から、図７に示すように吸引ベース３３に対して垂直となる状態まで回転し、これによって、吸引ベース３３の収容凹部３０ｂが、外部に露出される。
＜反転部のクリーニングユニット＞
【００３４】
図１２は、クリーニングユニット１３の全体を図２と同じ方向から示す斜視図である。この図１２に示されるように、防塵装置としてのクリーニングユニット１３は、移動機構としてのＹ−Ｚテーブル４０によって、反転部３内に保持されている。このＺ−Ｙテーブル４０は、ｙ方向に向けて反転部３の図示せぬフレームに固定された一対のガイドレール４１，４１と、各ガイドレール４１によって夫々ｙ方向にスライド自在に保持された一対のｙテーブル４２，４２と、ｚ方向に向けて両ｙテーブル４２，４２の間に掛け渡されたガイドレール４３と、このガイドレールによってｚ方向にスライド自在に保持されたｚテーブル４４と、ｘ方向に向けてｚテーブル４４から突出するように固定されたステー４５とから、構成される。なお、各ｙテーブル４２，４２及びｚテーブル４４は、夫々、内蔵するアクチュエータによって各ガイドレール４１，４３に対してスライドし且つ位置決めされる。  
【００３５】
クリーニングユニット１３は、図１２に示すような箱形のケーシングに収容されており、その上流側（図１における左側）の下縁が切り欠かれ、これによって形成された開口に、回転軸をｘ方向に向けた粘着ローラ４６が、回転自在に取り付けられている。このクリーニングユニット１３のＹ−Ｚ平面に沿った縦断面を図１に示す。この縦断面に示されるように、粘着ローラ４６は、これと平行な回転軸を介して回転自在に保持された転写ローラ４７に接触し、この転写ローラ４７が回転することによって従動し、除塵対象面上を転がり、除塵対象面上に付着していた塵芥を絡め取り、より強い粘着力を有する転写ローラ４７の表面に、当該塵芥を転写させる。なお、転写ローラ４７は、チェーンやギヤ等の公知の伝達装置を介して、駆動モータ４８によって回転駆動される。
＜反転部の制御系＞
【００３６】
上述した吸引ポンプ４４，反転装置移動シリンダ３３，回転駆動モータ３４，昇降シリンダ３５，３５，回転モータ３７，３７，ｙテーブル４２，４２，ｚテーブル４３，及び駆動モータ４８は、夫々、図１３に示すように、反転部３全体の動作を制御する制御装置である反転部コントローラ４９に接続され、この反転部コントローラ４９から制御信号及び駆動電力を供給されて、所定のシーケンスに従った動作を行う。なお、この反転部コントローラ４９自体は、露光装置全体の動作を制御する制御装置である全体コントローラ５０に接続され、この全体コントローラ５０によって動作タイミング等を制御される。以下、反転部コントローラ４９が反転部各部を制御するシーケンスを、図１４乃至図２８に基づいて、説明する。なお、図１４乃至図１９によって示す動作が行われている間、クリーニングユニット１３は停止したままであるので、その図示が省略されている。
【００３７】
図１４は、初期状態にある反転装置９を示している。この初期状態においては、両開閉ベース２１，２２が吸引ベース３０と平行となっており、両開閉ベースブラケット２９，２９が吸引ベース３０のリブ３０ａ，３０ａから離間しており、支柱部材２４が最も下流側（図中右側）に移動しており、吸引ベース３０が各開閉ベース２１，２２の上方に位置し且つ水平方向を向く回転位置に保持されている。図１４に示す初期状態においては、上述したように、両開閉ベース２１，２２の内面は、パスレベル（図１４における一点鎖線）と面一となっている。この状態において、全体コントローラ５０の制御の下、上述した第１ハンドラ６は、第１露光部２にて第１面の露光を完了したワークＷを、両開閉ベース２１，２２と吸引ベース３０との隙間に挿入し、両開閉ベース２１，２２の内面上における位置決めピン２１ａ，２２ａに当接する位置に載置する。この状態を、図１５に示す。
【００３８】
次に、反転部コントローラ４９は、両開閉ベースブラケット２９，２９が上昇して吸引ベース３０のリブ３０ａ，３０ａに接触する位置で停止するように各昇降シリンダ３５，３５を制御する。この位置においては、ワークＷの第１面が吸引ベース３０の収容凹部３０ａの内面に接触する。但し、この時点では、反転部コントローラ４９は、吸引ポンプ４４を作動させない。この状態を、図１６に示す。
【００３９】
次に、反転部コントローラ４９は、回転駆動モータ３４及び反転部移動シリンダ３３を同期させ、両開閉ベース２１，２２及び吸引ベース３０を図中時計方向に回転させるとともに、支柱部材２４を上流側へ移動させる。この制御により、反転装置９の状態は、図１７、図１８、図１９の順に変化する。
【００４０】
なお、図１７に示すように両開閉ベース２１，２２が傾斜しだすと、この時点においては吸着ベース３０による真空吸着はなされていないので、ワークＷ自体の重量により、ワークＷが両位置決めピン２１ａ，２２ａに完全に突き当たる状態を確保できるので、その姿勢及び位置が正される。そこに至り、反転部コントローラ４９は、吸引ポンプ４４を作動させて、ワークＷを吸引ベース３０の収容凹部３０ａの内面に吸着させる。その結果として、ワークＷのアライメントが自動的に完了してしまうので、第２露光部４前に特別なプリアライメント機構を設ける必要がなくなる。
【００４１】
図１９の状態においては、両開閉ベース２１，２２及び吸引ベース３０は水平となり、支柱部材２４は最も上流側の位置に移動している。この図１９に示す状態から、反転部コントローラ４９は、更に回転駆動モータ３４を制御し、両開閉ベース２１，２２及び吸引ベース３０を更に回転させて、吸引ベース３０の収容凹部３０ａが上方を向き且つその先端が水平方向から下方へ傾斜した状態にて停止させる（図２０参照）。この角度は、例えば、水平方向から３０度である。
【００４２】
次に、反転部コントローラ４９は、両回転モータ３７，３７を制御して、両開閉ベース２１，２２を開放させる。この状態を図２１に示す。なお、図２１に描かれた破線は、Ｙ−Ｚテーブル４０を制御するために予め反転部コントローラに設定されているクリーニングユニット１３の移動軌跡である（図においては、粘着ローラ４６の中心の移動軌跡として示した）。即ち、反転部コントローラ４９は、この破線に示す移動軌跡に沿ってクリーニングユニットを移動させるように、両ｙテーブル４２及びｚテーブル４３を制御するのである。
【００４３】
具体的には、クリーニングユニット１３は、先ず、図２１に示す位置から図２２に示す位置まで下降し、吸着ベース３０の収容部３０ａ内に固定されているワークＷの第２面の表面と粘着ローラ４６の外周面とを線接触させる。次に、クリーニングユニット１３は、駆動モータ４８によって転写ローラ４７を介して粘着ローラ４６を（図２２における時計方向に）同期回転させつつ、吸着ベース３０と平行に、下流側へ向けて斜めに下降するように移動する。この移動の途中において、粘着ローラ４６は、ワークＷの第２面上を加圧しつつ転がり、この第２面を除塵する（図２３参照）。そして、クリーニングユニット１３は、粘着ローラ４６が収容部３０ａの端部に至ると（図２４参照）、一旦吸着ベース３０に対して垂直に離間した後に（図２５参照）、吸着ベース３０と平行に、上流側へ向けて斜めに上昇するように移動する（図２６参照）。そして、クリーニングユニット１３は、粘着ローラ４６が収容部３０ａの端部に至ると（図２４参照）、鉛直に上昇して、図２１に示す初期位置に復帰する。
【００４４】
次に、反転部コントローラ４９は、回転駆動モータ３４を逆転させて、吸引ベース３０が水平となる回転位置に戻す（図２７参照）。このとき、吸引ベース３０の収容凹部３０ａの内面は、パスレベルと面一となっている。そこで、反転部コントローラ４９は、吸引ポンプ４４による吸引を停止させる。すると、全体コントローラ５０の制御の下、上述した第２ハンドラ７がワークＷを取り上げて第２露光部４へ移動させる（図２８参照）。
【００４５】
次に、反転部コントローラ４９は、両回転モータ３７を制御することによって、両開閉ベース２１，２２を閉じて、吸引ベース３０と平行となる位置に復帰させる。また、両開閉ベースブラケット２９，２９が吸引ベース３０のリブ３０ａ，３０ａから離間するように各昇降シリンダ３５，３５を制御する。上述した図８乃至図１１は、この状態を示すものである。
【００４６】
次に、反転部コントローラ４９は、支柱部材２４が最も下流側（図中右側）に移動するよう反転装置移動シリンダ３３を制御しつつ、吸引ベース３０が各開閉ベース２１，２２の上方に位置し且つ水平方向を向くように回転駆動モータ３４を制御することにより、図１４に示す初期状態に復帰させる。
＜各露光部のクリーニングユニット＞  
【００４７】
各露光部２，４のクリーニングユニット１２，１２も、反転部３のクリーニングユニット１３と同様に、図１２に示したものと全く同じ構造を有するＹ−Ｚテーブルによって支持されており、Ｙ−Ｚ面内で、予め設定された軌跡に沿って移動する。図１には、これらクリーニングユニット１２，１２のＹ−Ｚ面内での縦断面も示されている。
【００４８】
各クリーニングユニット１２は、箱形のケーシングに収容されている。但し、図１２と異なり、その上流側（図１における左側）の下縁及び上縁が切り欠かれ、それによって形成された各開口に、回転軸をｘ方向に向けた粘着ローラ５７，５７が、夫々、回転自在に取り付けられている。図２９は、各クリーニングユニット１３を上流側から見た状態を示す透視図である。この図２９及び図１に示されるように、両粘着ローラ５７，５７は、これと平行な回転軸を介して回転自在に保持された転写ローラ５８に接触し、この転写ローラ５８が回転することによって従動し、除塵対象面上を転がり、除塵対象面上に付着していた塵芥を絡め取り、より強い粘着力を有する転写ローラ５８の表面に、当該塵芥を転写させる。なお、転写ローラ５８は、ケーシングの外側に固定された駆動モータ５３によって回転駆動される。
＜各露光部の制御＞
【００４９】
図１３に示すように、全体コントローラ５０は、更に、第１露出部２を制御するための第１露出部コントローラ５６及び第２露出部４を制御するための第２露出部コントローラ５１に対して、制御信号を供給している。そして、各露出部コントローラ５１，５５には、夫々、Ｙ−Ｚテーブル５２，駆動モータ５３，ステージ８の上昇機構５５，ステージ８の吸引ポンプ５４，ＵＶランプ１２が接続されており、各露出部コントローラ５１，５５から、夫々、制御信号及び駆動電力を供給されている（図１３においては、第２露光部コントローラ５１に接続されているもののみを図示し、第１露光部コントローラ５６に接続されているものの図示を省略した。）。以下、各露光部コントローラ５１，５６が各露光部２，４のクリーニングユニット１２を制御するシーケンスを、図３０乃至図３５に基づいて、説明する。なお、第１露光部コントローラ５１が行う制御と第２露光部コントローラ５６が行う制御とは、動作タイミング及びクリーニングユニット１２の退避位置（第１露光部２のクリーニングユニット１２は搬入部１内，第２露光部４のクリーニングユニット１２は排出部５内）が異なるのみで、それ以外は全く同じである。そこで、第２露光部コントローラ５１を例にとって、以下の説明を行う。
【００５０】
図３０は、第２露光部４において、ステージ８上に吸引ポンプ５４によって吸着されたワークＷを、当該ステージ８を上昇機構５５によって上昇させることによって、マスク１０に当接させた状態を示している。この状態において、第２露光部コントローラ５１は、ＵＶランプ１２を発光させることにより、マスク１０越にワークＷの第２面を露光して、マスク１０に描かれたパターンを露光する。この際、クリーニングユニット１２は、第２露光部４によって制御されたＹ−Ｚテーブル５２によって、排出部５内に退避されている。
【００５１】
次に、第２露光部コントローラ５１は、上昇機構５５を制御することにより、ステージ８を、その上面がパスレベルと面一となるまで下降させるとともに、吸引ポンプ５４を停止させる。この状態においてハンドラ７がステージ８上のワークＷを把持し（図３１参照）、排出部５に移動させる（図１参照）。
【００５２】
次に、第２露光部コントローラ５１は、Ｙ−Ｚテーブル５２を制御することにより、クリーニングユニット１２を図３２に示す初期位置，即ち、上側の粘着ローラ５７がマスク１０の下面における一端に当接した位置に、移動させる。なお、図３２に描かれた破線は、Ｙ−Ｚテーブル５２を制御するために予め第２露光部コントローラ５１に設定されているクリーニングユニット１２の移動軌跡である（図においては、上側の粘着ローラ５７の中心の移動軌跡として示した）。即ち、第２露光部コントローラ５１は、この破線に示す移動軌跡に沿ってクリーニングユニット１２を移動させるように、Ｙ−Ｚテーブル５２を制御するのである。
【００５３】
具体的には、クリーニングユニット１２は、先ず、図３２に示す位置から図３３に示す位置までｚ方向に水平移動する。この間、第２露光部コントローラ５１は、駆動モータ５３を回転させることにより、クリーニングユニット１２自体の移動速度に同期させて、上側の粘着ローラ５７を図中反時計方向に回転させる。これによって、マスク１０の下面を粘着ローラ５７が加圧しつつ転がり、マスク１０の下面が除塵される。
【００５４】
次に、ステージ８が若干量上昇するとともに、クリーニングユニット１２が図３３に示す位置から図３４に示す位置まで下降して、その下側の粘着ローラ５７をステージ８の上面に接触させる。
【００５５】
次に、クリーニングユニット１２は、図３４に示す位置から図３５に示す位置までｚ方向に水平移動する。この間、駆動モータ５３が同方向に回転し続けているので、クリーニングユニット１２自体の移動速度に同期して、下側の粘着ローラ５７が図中反時計方向に回転している。これによって、ステージ８の上面を粘着ローラ５７が転がり、ステージ８の上面が除塵される。
【００５６】
なお、図３６は、第１露光部２においてはマスク１０の下面の除塵がなされ、反転部３においてはワークＷの第２面の除塵がなされ、第２露光部４においてはステージ８の上面の除塵がなされている状態を示している。
【００５７】
なお、各露光部２，４において除塵をするタイミングは、ステージ８とマスク１０との間に空間ができるタイミングであれば良く、予め一定の露光サイクルで除塵が開始されても良いし、任意の露光が完了して、ワークＷが排出したタイミングで除塵が開始されても良い。
＜本実施形態による利点＞
１．反転部３における反転装置９の上方に、ワークＷの第２面を除塵するクリーニングユニット１３を設けたことによる利点
【００５８】
本実施形態によると、ワークＷの第２面を除塵するクリーニングユニット１３を、反転部３における反転装置９の上方に設置している。従って、反転装置９と第２露光部４との間に除塵装置の設置スペースを確保する必要がないので、露光装置全体のｚ方向（ワークＷが移動する方向）におけるサイズを抑えることができる。
２．反転装置９が吸着ベース３０を初期状態から１８０度を超えて回転させ、その先端が斜め下方に傾いた状態で除塵を行うことによる利点
【００５９】
本実施形態によると、クリーニングユニット１３を用いてワークＷの第２面を除塵する際に、ワークＷが固定されている吸着ベース３０が水平方向に対して傾斜した状態で除塵を行っている。その結果、ｚ方向におけるクリーニングユニット１３の移動幅は、ワークの幅に対する傾斜角の余弦で足りることになる。よって、吸着ベース３０を水平に向けて除塵をする場合よりも、ｚ方向におけるクリーニングユニット１３の移動スペースを減らすことができるので、クリーニングユニット１３を設けない場合と比較して、反転部３のｚ方向における幅が拡大することを抑えることができる。なお、吸着ベース３０の傾斜角が大きくなれば大きくなるほど上記効果は向上するが、吸着ベース３０を水平に向けたときに反転装置９全体が占めるｚ方向の領域よりもクリーニングユニット１３の移動スペースを狭くしたとしても、反転部３のｚ方向における幅をそれ以上に狭くすることはできないという上限が存在する。また、傾斜角が大きくなると、除塵後に吸着ベース３０を水平に戻すのに要する時間が増えてしまう。従って、この傾斜角については、３０度以内の角度とすることが望ましい。また、これにより、吸引ベース３０に要する吸引力が過大となるのを抑えることができる。
【００６０】
なお、上記効果は、吸着ベース３０水平から傾斜させることによって得られるので、吸着ベース３０が初期状態から１８０度回転して水平に至る前に停止させて除塵することも、本発明の範囲に含まれる。但し、上述したように１８０度を超えて回転させた状態で除塵を行うようにすれば、クリーニングユニット１３の鉛直方向における移動スペースを低い位置に設定することができるので、反転部３の全高を抑えることができるというメリットがある。
【００６１】
なお、本実施形態においては、サーボモータである回転駆動モータ３４によって吸着ベース３０の回転位置決めを行っている。そして、吸着ベース３０自体は剛性を有する板である。従って、クリーニングユニット１３の粘着ローラ４６のワークＷに対する圧力を高くすることができるので、ワークＷに曲がり癖がついていたとしても、一定の圧力を掛けて除塵を行うことができる。
３．各露光部２，４のクリーニングユニット１２が、上下に粘着ローラ５７，５７を備えていることによるメリット
【００６２】
本実施例において各露光部２，４のクリーニングユニット１２は、上下に粘着ローラ５７，５７を備えており、夫々、同一の転写ローラ５８に接触している。かかる構成を採用することにより、本実施形態によれば、一台のクリーニングユニット１２をｚ方向に往復させる間に、一往復する間にマスク１０の下面とステージ上面とを除塵することができる。このような効果は、粘着ローラが一本しかないクリーニングユニットによっても、可能ではある。しかし、それを実現するには、粘着ローラを転写ローラよりも大径なものにしたり、粘着ローラを転写ローラに対して公転自在に構成したり、粘着ローラを転写ローラから独立して移動させるといった工夫が必要となる。しかしながら、粘着ローラを転写ローラよりも大径なものにするならば、転写ローラの寿命が短くなってしまうという問題が生じ、粘着ローラを転写ローラに対して公転自在に構成するには機構が複雑化してコストや重量が大きなってしまうという問題が生じ、粘着ローラを転写ローラから独立して移動させるならば、除塵途中で粘着ローラの粘着力が落ちてしまうという問題が生じる。本実施形態では、クリーニングユニット１２は、マスク下面用として転写ローラ５８よりも高い位置に設置した粘着ローラ５７と、ステージ上面用として転写ローラ５８よりも低い位置に設置した粘着ローラ５７とを予め備えているので、かかる問題が一切生じないというメリットがある。
４．反転部３においてワークＷの第２面を除塵する他、各露光部２，４において夫々マスク１０の下面とステージ８の上面を除塵することによるメリット
【００６３】
上述したように反転装置９から第２露光部４のステージまでの途中にクリーニングユニット１３によるワークＷの第２面に対する除塵がなされれば、第１露光部において第２面に付着した塵芥によって第２面に形成された配線パターンに欠陥が生じるという問題を、解消することはできる。しかし、第１露光部２にて付着した塵芥が多すぎる場合には、当該クリーニングユニット１３による除塵が十分になされない可能性もある。従って、そもそも第１露光部２においてワークＷの第２面に塵芥が付着しないように除塵することが、上記欠陥を完全に防ぐためには望ましい。そのため、本実施形態においては、第１露光部２に上記クリーニングユニット１２を設け、マスク１０の下面とステージ８の上面の除塵を行っているのである。
【００６４】
また、第２露光部４のステージ８上にワークＷを固定する前にその第２面を除塵したとしても、第２露光部４のマスクに塵芥が付着していると、やはり、上記欠陥が生じてしまう。そのため、本実施形態においては、第２露光部４に上記クリーニングユニット１２を設け、マスク１０の下面とステージ８の上面の除塵を行っているのである。
【実施形態２】
【００６５】
本発明の第２実施形態は、上述した第１実施形態と比較して、反転装置及び第１ハンドラの構成のみが異なり、他の構成を共通とする。即ち、本第２実施形態においては、反転装置が第１ハンドラの機能の一部（ワークＷを第１露光部２から反転部３へ移送する機能）を兼ねており、その為、第１実施形態における反転装置９とは、その構成を異にしている。そこで、説明の重複を避けるために、本第２実施形態において第１実施形態のものと共通する構成については、図３７乃至図４９において第１実施形態のものと同じ参照番号を付してその説明を省略し、以下、反転装置６０の説明のみを行う。
【００６６】
図３７は、第２実施形態による露光装置の側面透視図であり、第１実施形態に関する図１に相当するものである。また、図３８は、第２実施形態における反転装置６０を下流側（図３７における右側）から見た状態を示す背面図である。これら図３７及び図３８は、第１露光部２においてステージ８上に固定されたワークＷの第１面に対する露光が完了して、ステージ８がパスライン（一点鎖線）の位置まで降下した状態（反転装置６０が初期状態にある状態）を示すものである。図３７では、図示が省略されているが、第１露光部２及び第２露光部４には夫々クリーニングユニット１２が備えられているとともに、投入部１のステージ１ａから第１露光部２のステージ８上にワークＷを移送する第１ハンドラ６が備えられている。
【００６７】
図３７及び図３８に示すように、第１露光部２から反転部３にかけて、水平方向を向いた板状のフレーム６１が、これら第１露光部２及び反転部３の筐体に固定されることによって、設置されている。なお、第１露光部２のステージ８の上昇機構５５は、このフレーム６１を貫通するように設置されている。
【００６８】
このフレーム６１上には、一対のリニアガイド６２，６２が、ｚ方向を向けて、相互に平行に設置されている。なお、これら一対のリニアガイド６２，６２は、ｘ方向において第１露光部２のステージ８を挟み、且つ、このステージ８の幅よりも十分に間隔を空けて、設置されている。
【００６９】
これら両リニアガイド６２，６２上には、板状の反転部テーブル６３が掛け渡されている。この反転部テーブル６３は、その上流側（図３７の左側）及び下流側が夫々切り欠かれ、全体の平面形状がＨ字型となっている。上流側が切り欠かれているのは、反転部６０が第１露光部２内に移動したときにステージ８の上昇機構５５との干渉を避けるためであり（図４１乃至図４３参照）、下流側が切り欠かれているのは、後述する固定テーブル６４が除塵のために傾くことを許容するためである（図４７参照）。
【００７０】
この反転部テーブル６３の上面におけるｘ方向における両側縁の各中央には、夫々、上記実施形態１におけるスライダ２７及び昇降テーブル２６に相当する多段式のｙステージ（図３８ではその一例として２段式のものを図示）６６が、設置されている。これら一対のｙステージ６６，６６の先端の間には、上記実施形態１の吸着ベース３０に相当する固定テーブル６４が、ｘ方向に向けられた回転軸を中心に、回転自在に軸支されている。従って、両ｙステージ６６，６６が同期して伸縮することにより、固定テーブル６４が、ｙ方向に上昇及び降下する。
【００７１】
この固定テーブル６４を両ｙステージ６６，６６に軸支するための回転軸は、固定テーブル６４のｘ方向における両側縁の中央を貫通しており、その一端は、図３７における手前側のｙステージ６６を貫通して、当該ｙステージ６６の先端近傍における外側面に固定された駆動モータ６５に直結されている。この駆動モータ６５は、上記実施形態１における回転駆動モータ３４に相当し、その回転軸を回転駆動することにより、固定テーブル６４をｙ−ｚ面内で反転させることができる。
【００７２】
固定テーブル６４は、ほぼ方形の平面形状を有しており、その片面（図３７及び図３８に示す初期状態において上側を向いた平面）６４ａには、図示せぬ吸引ポンプ４４に夫々連通した多数の吸引口６４ｂが開けられており、これら吸引口６４ｂを通じて吸引ポンプ４４が空気を吸引することにより、この面６４ａに面接触したワークＷが真空吸着される。即ち、この６４ａが「保持面」として機能する。
【００７３】
なお、この固定テーブル６４は、反転記６０が第１露光部２内に移動した際には、ステージ８を跨がなければならない。従って、固定テーブル６４のｘ方向における幅は、ステージ８の上面におけるｘ方向の幅よりも広く、上記両ｙステージ６６，６６は、ステージ８の各側縁から一定の空隙を開ける位置に設置されている。
【００７４】
また、この反転装置６０の保持面６４ａ上に固定されたワークＷの第２面を除塵するためのクリーニングユニット１３の粘着ローラ４６は、図３８に示すように、保持面６４ａのｘ方向における幅以上の長さを有している。
【００７５】
上述したように、本第２実施形態におけるその他の構成は、第１実施形態のものと同じである。例えば、反転部３のクリーニングユニット１３は、第１実施形態のものと同じ構成を有し、第１実施形態のものと同じＹ−Ｚテーブル４０によって支持され、且つ、ｙ−ｚ平面内で移動される。そして、このＹ−Ｚテーブル４０を構成するＹテーブル４２及びＺテーブル４３，クリーニングユニット１３を構成する駆動モータ４８や、上述した吸引ポンプ４４は、図１３に示される反転部コントローラ４９に接続されている。但し、上記第１実施形態と本第２実施形態との間における反転装置９，６０の構成の相違に依り、反転部コントローラ４９には、第１実施形態における反転装置移動シリンダ３３，回転駆動モータ３４，昇降シリンダ３５，句点モータ３７の代わりに、リニアスライド６２，６２の駆動機構，駆動モータ６５，ｙステージ６６，６６が接続されている。
【００７６】
以下、本第２実施形態において、反転部コントローラ４９，第１露光部コントローラ５６及び全体コントローラ５０が、反転装置６０，反転部３のクリーニングユニット１３及び第１露光部２のステージ８の上昇機構５５を制御するシーケンスを、図３７及び図３９乃至図４９に基づいて、説明する。
【００７７】
図３７に示す初期状態から、先ず、反転部コントローラ４９は、反転装置６０の両ｙステージ６６，６６を伸長させることにより、固定ステージ６４を上昇させる。この状態を図３９に示す。
【００７８】
次に、反転部コントローラ４９は、駆動モータ６５を制御することにより固定テーブル６４を１８０度回転させて、その保持面６４ａを下方へ向ける。この時、保持面６４ａの高さは、パスライン（一点鎖線）よりも高くなっている。この状態を、図４０に示す。
【００７９】
次に、反転部コントローラ４９は、リニアスライド６２，６２の駆動機構を制御することにより、保持面６４ａを下方へ向けたまま、反転装置６０を第１露光部２まで移動させ、固定テーブル６４を、ステージ８の上方に配置する。この状態を、図４１に示す。
【００８０】
次に、反転部コントローラ４９は、反転装置６０の両ｙステージ６６，６６を収縮させることにより、固定ステージ６４を下降させ、ステージ８の上面に固定されているワークＷの露光済みである第１面に、その保持面６４ａを面接触させる。この状態を図４２に示す。
【００８１】
図示せぬセンサにより、保持面６４ａとワークＷとの接触を検知すると、反転部コントローラ４９は、両ｙステージ６６，６６の収縮を停止するとともに、吸引ポンプ４４を動作させて、ワークＷを保持面６４ａに真空吸着させる。この時、第１露光部コントローラ５６は、全体コントローラ５０からの指示により、ステージ８の吸引ポンプ５４による真空吸着を停止させる。このようにしてワークＷを保持面６４ａに真空吸着させたまま、反転部コントローラ４９は、反転装置６０の両ｙステージ６６，６６を伸長させることにより、固定ステージ６４を上昇させ、ワークＷをステージ８の上面から離間させる。この状態を図４３に示す。
【００８２】
次に、反転部コントローラ４９は、リニアスライド６２，６２の駆動機構を制御することにより、反転装置６０を反転部３内における初期位置まで帰還させる。この状態を図４４に示す。
【００８３】
次に、反転部コントローラ４９は、駆動モータ６５を制御することにより、固定テーブル６４を１８０度回転させて、その保持面６４ａを上方へ向ける。この状態を、図４５に示す。
【００８４】
次に、反転部コントローラ４９は、反転装置６０の両ｙステージ６６，６６を収縮させることにより、固定ステージ６４を下降させ、その保持面４６ａをパスラインと同じ高さに合わせる。このように固定ステージ６４を下降させるのは、その保持面４６ａに保持されたワークＷに対する除塵のためのクリーニングユニット１３の移動領域を低くするためである。この状態を図４６に示す。
【００８５】
次に、反転部コントローラ４９は、駆動モータ６５を制御することにより、保持面４６ａが水平方向から下流側へ４５度傾くまで、固定ステージ６４を（図４６における時計方向に）回転させる。このようにして保持面４６ａを傾け終わると、反転部コントローラ４９は、ｙ−ｚテーブル４０を制御することにより、クリーニングユニット１３をｙ−ｚ平面内で移動させることにより、その粘着ローラ４６を、保持面４６ａに固定されたワークＷの第２面上において転がす。具体的には、クリーニングユニット１３は、その粘着ローラ４６の外周面を、ワークＷの上流側の端縁に線接触させ、続いて、駆動モータ４８によって転写ローラ４７を介して粘着ローラ４６を（図４６における時計方向に）同期回転させつつ、保持面４６ａと平行に、下流側へ向けて斜めに下降するように移動する。この移動の途中において、粘着ローラ４６は、ワークＷの第２面上を加圧しつつ転がり、この第２面を除塵する（図４７参照）。そして、クリーニングユニット１３は、粘着ローラ４６がワークＷの下流側の端縁に達すると、粘着ローラ４６をワークＷの第２面から離間させて、初期位置に復帰する（図４８参照）。
【００８６】
次に、反転部コントローラ４９は、駆動モータ６５を逆転させて、保持面４６ａが水平となる回転位置に、固定ステージ６４を戻す（図４８参照）。このとき、固定ステージ６４の保持面４６ａは、パスレベルと面一となっている。そこで、反転部コントローラ４９は、吸引ポンプ４４による吸引を停止させる。すると、全体コントローラ５０の制御の下、上述した第２ハンドラ７がワークＷを取り上げて第２露光部４へ移動させる（図４９参照）。
【００８７】
その後、第２露光部４において、当該ワークＷの第２面に対する露光がなされ、当該ワークＷが排出部５から取り出され、第１露光部２において、次のワークＷの第１面に対する露光が完了すると、図３７に示す初期状態に復帰することになる。
【実施形態３】
【００８８】
本発明の第３実施形態は、上述した第２実施形態と比較して、反転部３のクリーニングユニット１３’が、反転装置６０’の固定テーブル６４の下方に配置されており、そのケーシングの上面における下流側の縁に粘着ローラ４６が配置されていることが主として異なり、その結果、下方を向いた保持面６４ａに固定されたワークＷの第２面をクリーニングユニット１３が除塵することとなるため、このクリーニングユニット１３の移動領域を確保すべく、フレーム６１’，反転部テーブル６３’の形状が上記第２実施形態のものと異なり、また、反転部コントローラ４９による制御のシーケンスも上記第２実施形態のものと異なっている。それ以外の構成については、本第３実施形態は、上記第２実施形態と全く同じである。そこで、説明の重複を避けるために、本第３実施形態において第２実施形態のものと共通する構成については、図５０乃至図６３において第２実施形態のものと同じ参照番号を付してその説明を省略し、以下、第２実施形態との相違点についてのみ、説明を行う。
【００８９】
図５０は、第３実施形態による露光装置の側面透視図であり、上記第２実施形態に関する図３７に相当するものである。また、図５１は、第３実施形態における反転装置６０’を下流側（図５０における右側）から見た状態を示す背面図である。これら図５０及び図５１は、第１露光部２においてステージ８上に固定されたワークＷの第１面に対する露光が完了して、ステージ８がパスライン（一点鎖線）の位置まで降下した状態（反転装置６０が初期状態にある状態）を示すものである。図５０では、図示が省略されているが、第１露光部２及び第２露光部４には夫々クリーニングユニット１２が備えられているとともに、投入部１のステージ１ａから第１露光部２のステージ８上にワークＷを移送する第１ハンドラ６が備えられている。
【００９０】
図５０及び図５１に示すように、反転部３内において、Ｙ−Ｚテーブル４０によるクリーニングユニット１３’の移動領域は、初期位置にある反転装置６０の下方を占めている。従って、クリーニングユニット１３’の移動領域には空間が確保されていなければならないので、フレーム６１’及び反転部テーブル６３’は、当該移動領域と抵触する箇所において夫々切り欠かれている。なお、この切り欠きの結果、反転部テーブル６３’の平面形状は第２実施形態のものと同じＨ字型を維持することができなくなる。その代わり、後述するように本第３実施形態においては、固定テーブル６４を上昇させたまま除塵が行われるので、その保持面６４ａを傾斜させてても固定テーブル６４が反転部テーブル６３’と干渉することがなく、よって、反転部テーブル６３’には固定テーブル６４との干渉を避けるための切り欠きが不要となる。そのため、本第３実施形態における反転部テーブル６３’の平面形状は、第１露光部２のステージ８の上昇機構との干渉及び反転部３内におけるクリーニングユニット１３’の移動領域との抵触を回避するために上流側のみが開いた、コの字型となっている。また、クリーニングユニット１３’は、反転装置６０の両ｙステージ６６，６６の間を通って反転テーブル６４に接触することになるので、図５１に示すように、そのｘ方向における幅は、両ｙステージ６６，６６の間隔よりも狭くなっている。
【００９１】
以下、本第３実施形態において、反転部コントローラ４９，第１露光部コントローラ５６及び全体コントローラ５０が、反転装置６０’，反転部３のクリーニングユニット１３’及び第１露光部２のステージ８の上昇機構５５を制御するシーケンスを、図５０及び図５２乃至図６３に基づいて、説明する。
【００９２】
図５０に示す初期状態から、先ず、反転部コントローラ４９は、反転装置６０’の両ｙステージ６６，６６を伸長させることにより、固定ステージ６４を上昇させる。この時、ｙ−ｚテーブル４０は、クリーニングユニット１３’を、反転部テーブル６３’と干渉させぬように、その移動領域の下限における最下流側の位置に退避させている。この状態を図５２に示す。
【００９３】
次に、反転部コントローラ４９は、駆動モータ６５を制御することにより固定テーブル６４を１８０度回転させて、その保持面６４ａを下方へ向ける。この時、保持面６４ａの高さは、パスライン（一点鎖線）よりも高くなっている。この状態を、図５３に示す。
【００９４】
次に、反転部コントローラ４９は、リニアスライド６２，６２の駆動機構を制御することにより、保持面６４ａを下方へ向けたまま、反転装置６０’を第１露光部２まで移動させ、固定テーブル６４を、ステージ８の上方に配置する。この状態を、図５４に示す。
【００９５】
次に、反転部コントローラ４９は、反転装置６０’の両ｙステージ６６，６６を収縮させることにより、固定ステージ６４を下降させ、ステージ８の上面に固定されているワークＷの露光済みである第１面に、その保持面６４ａを面接触させる。この状態を図５５に示す。
【００９６】
図示せぬセンサにより、保持面６４ａとワークＷとの接触を検知すると、反転部コントローラ４９は、両ｙステージ６６，６６の収縮を停止するとともに、吸引ポンプ４４を動作させて、ワークＷを保持面６４ａに真空吸着させる。この時、第１露光部コントローラ５６は、全体コントローラ５０からの指示により、ステージ８の吸引ポンプ５４による真空吸着を停止させる。このようにしてワークＷを保持面６４ａに真空吸着させたまま、反転部コントローラ４９は、反転装置６０’の両ｙステージ６６，６６を伸長させることにより、固定ステージ６４を上昇させ、ワークＷをステージ８の上面から離間させる。この状態を図５６に示す。
【００９７】
次に、反転部コントローラ４９は、リニアスライド６２，６２の駆動機構を制御することにより、反転装置６０’を反転部３内における初期位置まで帰還させる。この状態を図５７に示す。
【００９８】
次に、反転部コントローラ４９は、駆動モータ６５を制御することにより、保持面４６ａが水平方向から上流側へ４５度傾くまで、固定ステージ６４を（図５７における時計方向に）回転させる。この状態を図５８に示す。このようにして保持面４６ａを傾け終わると、反転部コントローラ４９は、ｙ−ｚテーブル４０を制御することにより、クリーニングユニット１３’をｙ−ｚ平面内で移動させることにより、その粘着ローラ４６を、保持面４６ａに固定されたワークＷの第２面上において転がす。具体的には、クリーニングユニット１３’は、その粘着ローラ４６の外周面を、ワークＷの下流側の端縁に線接触させ（図５９参照）、続いて、駆動モータ４８によって転写ローラ４７を介して粘着ローラ４６を（図５９における時計方向に）同期回転させつつ、保持面４６ａと平行に、上流側へ向けて斜めに上昇するように移動する。この移動の途中において、粘着ローラ４６は、ワークＷの第２面上を加圧しつつ転がり、この第２面を除塵する。そして、クリーニングユニット１３’は、粘着ローラ４６がワークＷの上流側の端縁に達すると（図６０参照）、粘着ローラ４６をワークＷの第２面から離間させて、初期位置に復帰する（図６１参照）。
【００９９】
次に、反転部コントローラ４９は、駆動モータ６５を制御することにより、固定テーブル６４を図６１における時計方向に１３５度（若しくは、反時計方向に２２５度）回転させて、その保持面６４ａを水平とし、且つ、上方へ向ける。そして、反転部コントローラ４９は、反転装置６０’の両ｙステージ６６，６６を収縮させることにより、固定ステージ６４を下降させ、その保持面４６ａをパスラインと同じ高さに合わせる。この状態を図６２に示す。
【０１００】
次に、反転部コントローラ４９は、吸引ポンプ４４による吸引を停止させ、全体コントローラ５０の制御の下、上述した第２ハンドラ７がワークＷを取り上げて第２露光部４へ移動させる（図６３参照）。
【０１０１】
その後、第２露光部４において、当該ワークＷの第２面に対する露光がなされ、当該ワークＷが排出部５から取り出され、第１露光部２において、次のワークＷの第１面に対する露光が完了すると、図５０に示す初期状態に復帰することになる。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明の第１の実施形態である露光装置の概略側面透視図
【図２】初期状態にある反転装置の斜視図
【図３】初期状態にある反転装置の平面図
【図４】初期状態にある反転装置の側面図
【図５】初期状態にある反転装置の正面図
【図６】図３及び図４のVI−VI線に沿った縦断面図
【図７】反転後に両開閉ベースを開放した状態を示す正面図
【図８】反転後の反転装置の斜視図
【図９】反転後の反転装置の平面図
【図１０】反転後の反転装置の側面図
【図１１】反転後の反転装置の背面図
【図１２】クリーニングユニット及びＹ−Ｚテーブルの斜視図
【図１３】露光装置の制御系の回路構成を示すブロック図
【図１４】反転装置の動作説明図
【図１５】反転装置の動作説明図
【図１６】反転装置の動作説明図
【図１７】反転装置の動作説明図
【図１８】反転装置の動作説明図
【図１９】反転装置の動作説明図
【図２０】反転装置の動作説明図
【図２１】反転装置の動作説明図
【図２２】クリーニングユニットの動作説明図
【図２３】クリーニングユニットの動作説明図
【図２４】クリーニングユニットの動作説明図
【図２５】クリーニングユニットの動作説明図
【図２６】クリーニングユニットの動作説明図
【図２７】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図２８】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図２９】各露光部のクリーニングユニットの正面透視図
【図３０】各露光部のクリーニングユニットの動作説明図
【図３１】各露光部のクリーニングユニットの動作説明図
【図３２】各露光部のクリーニングユニットの動作説明図
【図３３】各露光部のクリーニングユニットの動作説明図
【図３４】各露光部のクリーニングユニットの動作説明図
【図３５】各露光部のクリーニングユニットの動作説明図
【図３６】各クリーニングユニットが夫々除塵を行っている状態を示す図
【図３７】本発明の第２の実施形態である露光装置の概略側面透視図
【図３８】反転装置の背面図
【図３９】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４０】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４１】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４２】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４３】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４４】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４５】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４６】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４７】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４８】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図４９】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図５０】本発明の第３の実施形態である露光装置の概略側面透視図
【図５１】反転装置の背面図
【図５２】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図５３】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図５４】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図５５】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図５６】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図５７】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図５８】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図５９】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図６０】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図６１】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図６２】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【図６３】反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図
【符号の説明】
【０１０３】
２        第１露光部
３        反転部
４        第２露光部
８        ステージ
９        反転装置
１０        マスク
１２        ＵＶランプ
２１        開閉ベース
２２        開閉ベース
２４        支柱部
２５        回転版
２６        昇降テーブル
２７        スライダ
２９        開閉ベースブラケット
３０        吸着ベース
３４        回転駆動モータ
３７        回転モータ
４０        Ｙ−Ｚテーブル
４９        反転部コントローラ
６０        反転装置
６４        固定テーブル
６５        駆動モータ
６６        ｙステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
0005004786.tif 000021
【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
0005004786.tif 000031
【図３１】
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【図３２】
0005004786.tif 000033
【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
0005004786.tif 000039
【図３９】
0005004786.tif 000040
【図４０】
0005004786.tif 000041
【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
0005004786.tif 000046
【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図６１】
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【図６２】
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【図６３】
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