【手続補正書】
【提出日】平成30年4月2日(2018.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
いくつかの実施形態において、銅エッチング溶液中の銅を酸化させる方法は、供給管により流体接続されたエッチング装置と酸化反応器を備えたシステムで行われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
酸化された銅エッチング溶液中の還元銅イオンＣｕ＋の濃度を低く保つことが重要である。銅エッチング溶液に多量の塩化物塩を添加することによって、エッチングプロセス中に反応（iii）に従って、塩化物イオンは、これらの銅イオンと結合して錯体ＣｕＣｌ２−を形成することができる。好適な塩化物塩の例は、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、ＭｇＣｌ２、ＣａＣｌ２及び／又はＮＨ４Ｃｌである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化剤（２１，３１，４１，５１ａ，５１ｂ）として酸素ガス及び／又は空気を使用することにより銅エッチング溶液中の銅を酸化させる方法であって、
ａ）Ｃｌ−及びＣｕ＋を含む酸性の還元された銅エッチング溶液中に酸化剤を導入する工程、
ｂ）工程ａ）で得られた溶液を撹拌する工程、
を含むことにより、反応：
【化１】
2017514015.tif 000001
を起こさせて、還元された銅エッチング溶液（２０，３０，４０，５０）よりも少ないＣｕ＋を含む酸化された銅エッチング溶液（２３，３３，４３，５３ａ，５３ｂ）を生成させることを含む、銅エッチング溶液中の銅を酸化させる方法。
【請求項２】
前記銅エッチング溶液中の銅を酸化させる方法は、供給管により流体接続されたエッチング装置（４５，５５）と酸化反応器（２２，３２，４２，５２ａ，５２ｂ）を備えたシステムで行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記酸化剤は、前記供給管内のＣｌ−及びＣｕ＋を含む前記酸性の還元された銅エッチング溶液中に導入される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
工程ａ）で得られた溶液が、前記酸化反応器内で撹拌される、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
前記酸化反応器から出る生成した酸化された銅エッチング溶液が、前記エッチング装置から出る前記還元された銅エッチング溶液よりも少ないＣｕ＋を含む、請求項２〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記還元された銅エッチング溶液が、Ｃｌ−を少なくとも２．５ｍｏｌ／Ｌの総濃度で含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記Ｃｌ−が、銅、アンモニウム、アルカリ金属及びアルカリ土類金属の塩化物塩、並びに塩酸からなる群から選ばれた少なくとも１つの化合物から誘導される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
工程ｂ）は、少なくとも１つの撹拌機により行われる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記方法は、さらに、前記供給管内で前記酸化剤を前記酸性の還元された銅エッチング溶液と混合する工程を含む、請求項２〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記混合が少なくとも１つの静的ミキサーにより行われる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記酸化反応器内の圧力が前記供給管内の圧力よりも低い、請求項２〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記供給管は、過圧、好ましくは０．０１〜１５バールの範囲内の過圧を有する、請求項２〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
複数の酸化反応器が並列に接続されている、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記還元された銅エッチング溶液及び酸化された銅エッチング溶液は、それぞれ、２０〜６０℃の範囲内の温度を有する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記酸化された銅エッチング溶液は、銅を８０〜２６０ｇ／Ｌの範囲内の総濃度で、Ｃｕ＋を０〜１９．５ｇ／Ｌの範囲内の濃度で、ＨＣｌ（ａｑ）を１〜４ｍｏｌ／Ｌの濃度で、及びＣｌ−を２．５〜１２ｍｏｌ／Ｌの範囲内の総濃度で含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記還元された銅エッチング溶液は、銅を８１〜２６０ｇ／Ｌの範囲内の総濃度で、Ｃｕ＋を０．０１〜２０ｇ／Ｌの範囲内の濃度で、ＨＣｌ（ａｑ）を１〜４ｍｏｌ／Ｌの濃度で、及びＣｌ−を２．５〜１２ｍｏｌ／Ｌの範囲内の総濃度で含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記酸化された銅エッチング溶液は、銅を８０〜２６０ｇ／Ｌの範囲内の総濃度で、Ｃｕ＋を０〜１９．５ｇ／Ｌの範囲内の濃度で、ＨＣｌ（ａｑ）を０．０１〜１ｍｏｌ／Ｌの濃度で、及びＣｌ−を２．５〜１２ｍｏｌ／Ｌの範囲内の総濃度で含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記還元された銅エッチング溶液は、銅を８１〜２６０ｇ／Ｌの範囲内の総濃度で、Ｃｕ＋を０．０１〜２０ｇ／Ｌの範囲内の濃度で、ＨＣｌ（ａｑ）を０．０１〜１ｍｏｌ／Ｌの濃度で、及びＣｌ−を２．５〜１２ｍｏｌ／Ｌの範囲内の総濃度で含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法により得られる酸化された銅エッチング溶液。
【請求項２０】
請求項１９に記載の酸化された銅エッチング溶液を使用してエッチングすることにより得られる印刷回路板。
【請求項２１】
印刷回路板をエッチングするための請求項１９に記載の酸化された銅エッチング溶液の使用。
【請求項２２】
銅エッチング溶液を酸化させて、反応：
【化２】
2017514015.tif 000002
を起こさせるためのシステムであって、
・還元された銅エッチング溶液（２０，３０，４０，５０）のための出口を有するエッチング装置（４５，５５）；
・酸化反応器（２２，３２，４２，５２ａ，５２ｂ）であって、当該酸化反応器の混合された銅エッチング溶液（３４，４４，５４ａ，５４ｂ）のための入口と、当該酸化反応器の酸化された銅エッチング溶液（２３，３３，４３，５３ａ，５３ｂ）のための出口とを有する酸化反応器（２２，３２，４２，５２ａ，５２ｂ）；及び
・前記エッチング装置の出口と前記酸化反応器の入口の間に接続された供給管であって、酸素ガス及び／又は空気である酸化剤（３１，４１，５１ａ，５１ｂ）のための入口を備えた供給管；
を備えたシステム。
【請求項２３】
還元された銅エッチング溶液のための前記入口が前記酸化反応器の底部に配置されており、前記酸化された銅エッチング溶液のための前記出口が前記酸化反応器の頂部に配置されている、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記酸化反応器内の圧力が前記供給管内の圧力よりも低い、請求項２２又は２３に記載のシステム。
【請求項２５】
少なくとも１つの撹拌機が前記酸化反応器の前記入口の近傍に配置されている、請求項２２〜２４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの撹拌機がインペラーである、請求項２２〜２５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２７】
前記酸化反応器は、少なくとも２つの撹拌機を備える、請求項２２〜２６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２８】
前記供給管は、さらに、前記酸化剤のための前記入口の下流に配置された少なくとも１つの静的ミキサーを備える、請求項２２〜２７のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２９】
前記酸化反応器は、さらに、少なくとも１つのポンプと、少なくとも１つのベンチュリ注入器を備えた内部循環システムを備える、請求項２２〜２８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項３０】
前記インペラーがバッフルを備える、請求項２２〜２９のいずれか一項に記載のシステム。