【手続補正書】
【提出日】平成30年5月28日(2018.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ−Ａ：
【化２９】
2017522276.tif 000001
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体であって、式Ｉ−Ａにおいて：
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７の各々は独立して、水素またはジュウテリウムであり；ただし、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７のうちの少なくとも１つはジュウテリウムであり；
Ｘ１、Ｘ２、およびＸ４の各々は独立して、１２Ｃまたは１３Ｃから選択され；そして
Ｘ３は独立して、−１２Ｃ（Ｏ）−または−１３Ｃ（Ｏ）−から選択される、
化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項２】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４は独立して、ジュウテリウムまたは水素から選択され；
そしてＹ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項３】
Ｙ１およびＹ２は独立して、ジュウテリウムまたは水素から選択され；そしてＹ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項４】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は独立して、ジュウテリウムまたは水素から選択され；そしてＹ３およびＹ４はジュウテリウムである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項５】
Ｙ１、Ｙ３、およびＹ４は独立して、ジュウテリウムまたは水素から選択され；そしてＹ２、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項６】
Ｘ４は１３Ｃである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項７】
Ｘ１およびＸ４は１３Ｃである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項８】
Ｘ３は−１３Ｃ（Ｏ）−である、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項９】
Ｙ１、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；Ｙ２はジュウテリウムであり；そしてＸ４は１３Ｃである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項１０】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４は水素であり；Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムであり；そしてＸ１は１３Ｃである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項１１】
Ｙ１、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；Ｙ２はジュウテリウムであり；そしてＸ１は１３Ｃである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項１２】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；Ｙ４はジュウテリウムであり；そしてＸ１は１３Ｃである、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項１３】
Ｙ１は水素であり；Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムであり；Ｘ２は１３Ｃであり；そしてＸ３は−１３Ｃ（Ｏ）−である、請求項１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項１４】
式Ｉ−１：
【化３０】
2017522276.tif 000002
の化合物を調製するためのプロセスであって、式６ｂ：
【化３１】
2017522276.tif 000003
の化合物を、式１１：
【化３２】
2017522276.tif 000004
の化合物と、適切な条件下で反応させて、アミド結合を形成する工程を包含する、プロセス。
【請求項１５】
式１１：
【化３３】
2017522276.tif 000005
の前記化合物を調製する工程であって、式９：
【化３４】
2017522276.tif 000006
（式中、Ｘはハロゲンである）
の化合物を、式１０：
【化３５】
2017522276.tif 000007
の化合物と、適切な金属触媒クロスカップリング条件下で反応させて、保護されたアミン基を含む付加体を形成すること；および
得られた付加体を適切な脱保護条件に供すること
を含む、工程をさらに包含する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
式９：
【化３６】
2017522276.tif 000008
（式中、Ｘはハロゲンである）
の化合物を調製する工程であって、式８：
【化３７】
2017522276.tif 000009
の化合物を適切なハロゲン化条件下で反応させることを含む、工程をさらに包含する、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
式８：
【化３８】
2017522276.tif 000010
の化合物を調製する工程であって、式７：
【化３９】
2017522276.tif 000011
の化合物を適切な条件下で反応させて保護されたアミン基を生成することを含む、工程をさらに包含する、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
式Ｉ−１：
【化４０】
2017522276.tif 000012
の化合物の固体形態であって、該形態は、化合物Ｉ−１の無水物遊離塩基、化合物Ｉ−１の水和物、または化合物Ｉ−１酒石酸からなる群より選択される、固体形態。
【請求項１９】
前記形態は、結晶性の化合物Ｉ−１の無水物遊離塩基である、請求項１８に記載の固体形態。
【請求項２０】
Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約９．９°、１２．８°、１５．４°、１７．０°、２３．１°、２７．８°、２９．０°、および３０．１°の１つまたはより多くのピークによって特徴付けられる、請求項１９に記載の固体形態。
【請求項２１】
図１ａに示されるものと実質的に同じＸ線粉末回折パターンを有すると特徴付けられる、請求項１９に記載の固体形態。
【請求項２２】
前記形態は、結晶性の化合物Ｉ−１の水和物である、請求項１８に記載の固体形態。
【請求項２３】
前記結晶性の化合物Ｉ−１の水和物は、１：３の、化合物Ｉ−１対水の比を有する、請求項２２に記載の固体形態。
【請求項２４】
約４０℃〜約１００℃の温度範囲で約１２．６％からの減量によって特徴付けられる、請求項２２に記載の固体形態。
【請求項２５】
Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約２７．５°、２０．６°、および９．７°の１つまたはより多くのピークによって特徴付けられる、請求項２２に記載の固体形態。
【請求項２６】
図１ｂに示されるものと実質的に同じＸ線粉末回折パターンを有すると特徴付けられる、請求項２２に記載の固体形態。
【請求項２７】
前記形態は、結晶性の化合物Ｉ−１酒石酸である、請求項１８に記載の固体形態。
【請求項２８】
前記結晶性の化合物Ｉ−１酒石酸は、１：１の、化合物Ｉ−１対酒石酸比を有する、請求項２７に記載の固体形態。
【請求項２９】
Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約７．１°、１８．３°、および１３．２°の１つまたはより多くのピークによって特徴付けられる、請求項２７に記載の固体形態。
【請求項３０】
図１ｃに示されるものと実質的に同じＸ線粉末回折パターンを有すると特徴付けられる、請求項２７に記載の固体形態。
【請求項３１】
式Ｉ−Ａ：
【化２９】
2017522276.tif 000013
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体であって、式Ｉ−Ａにおいて：
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７の各々は水素であり；
Ｘ１、Ｘ２、およびＸ４の各々は独立して、１２Ｃまたは１３Ｃから選択され；
Ｘ３は、−１２Ｃ（Ｏ）−または−１３Ｃ（Ｏ）−から選択され；そして、ここで、
Ｘ４は１３Ｃである；あるいは
Ｘ１およびＸ４は１３Ｃである；あるいは
Ｘ３は、−１３Ｃ（Ｏ）−である、
化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項３２】
Ｘ４は１３Ｃである、請求項３１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項３３】
Ｘ１およびＸ４は１３Ｃである、請求項３１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項３４】
Ｘ３は−１３Ｃ（Ｏ）−である、請求項３１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
【請求項３５】
式６ｂの化合物を、式１１の化合物と反応させる前記工程は、溶媒および有機塩基の存在下で起こる、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項３６】
前記溶媒は、ＮＭＰ、ＤＭＦまたはアニソールから選択される、請求項３５に記載のプロセス。
【請求項３７】
前記有機塩基は、脂肪族アミンである、請求項３５に記載のプロセス。
【請求項３８】
前記脂肪族アミンは、トリエチルアミンまたはＤＩＰＥＡから選択される、請求項３７に記載のプロセス。
【請求項３９】
適切な金属触媒クロスカップリング条件は、金属触媒、適切な溶媒、および適切な塩基
を含む、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項４０】
前記金属触媒は、パラジウム触媒である、請求項３９に記載のプロセス。
【請求項４１】
前記パラジウム触媒は、ＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２、Ｐｄ（Ｐｈ３）４、およびＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）から選択される、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４２】
前記適切な塩基は、リン酸カリウム、Ｋ２ＣＯ３、ｔＢｕＯＫおよびＮａ２ＣＯ３の１つまたはより多くを含む、請求項３９に記載のプロセス。
【請求項４３】
前記適切な溶媒は、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、トルエン、およびエタノールの１つまたはより多くを含む、請求項３９に記載のプロセス。
【請求項４４】
化合物Ｉ−１を適切な条件下で処理して、結晶性の化合物Ｉ−１の無水物遊離塩基を提供する工程をさらに含む、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項４５】
前記結晶性の化合物Ｉ−１の無水物遊離塩基は、Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約９．９°、１２．８°、１５．４°、１７．０°、２３．１°、２７．８°、２９．０°、および３０．１°の１つまたはより多くのピークを有することによって特徴付けられる、請求項４４に記載のプロセス。
【請求項４６】
結晶性の化合物Ｉ−１の無水物遊離塩基を適切な条件下で処理して、結晶性の化合物Ｉ−１の水和物を提供する工程をさらに含む、請求項４４に記載のプロセス。
【請求項４７】
前記結晶性の化合物Ｉ−１の水和物は、Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約２７．５°、２０．６°、および９．７°の１つまたはより多くのピークを有することによって特徴付けられる、請求項４６に記載のプロセス。
【請求項４８】
結晶性の化合物Ｉ−１の無水物遊離塩基を適切な条件下で処理して、結晶性の化合物Ｉ−１酒石酸を提供する工程をさらに含む、請求項４４に記載のプロセス。
【請求項４９】
前記結晶性の化合物Ｉ−１酒石酸は、Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約７．１°、１８．３°、および１３．２°の１つまたはより多くのピークを有することによって特徴付けられる、請求項４８に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のなお別の局面は、式Ｉ−１：
【化３】
2017522276.tif 000014
の化合物の固体形態を提供する。
本発明の他の局面は、本明細書中に記載される。
一実施形態において、例えば、以下の項目が提供される。
（項目１）
式Ｉ−Ａ：
【化２９】
2017522276.tif 000015
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体であって、式Ｉ−Ａにおいて：
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７の各々は独立して、水素またはジュウテリウムであり；ただし、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７のうちの少なくとも１つはジュウテリウムであり；
Ｘ１、Ｘ２、およびＸ４の各々は独立して、１２Ｃまたは１３Ｃから選択され；そして
Ｘ３  は独立して、−１２Ｃ（Ｏ）−または−１３Ｃ（Ｏ）−から選択される、
化合物またはその薬学的に受容可能な塩もしくは誘導体。
（項目２）
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４は独立して、ジュウテリウムまたは水素から選択され；
そしてＹ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムである、項目１に記載の化合物。
（項目３）
Ｙ１およびＹ２は独立して、ジュウテリウムまたは水素から選択され；そしてＹ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムである、項目１に記載の化合物。
（項目４）
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は独立して、ジュウテリウムまたは水素から選択され；そしてＹ３およびＹ４はジュウテリウムである、項目１に記載の化合物。
（項目５）
Ｙ１、Ｙ３、およびＹ４は独立して、ジュウテリウムまたは水素から選択され；そしてＹ２、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムである、項目１に記載の化合物。
（項目６）
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；そしてＸ４は１３Ｃである、項目１に記載の化合物。
（項目７）
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；そしてＸ１およびＸ４は１３Ｃである、項目１に記載の化合物。
（項目８）
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；そしてＸ３は−１３Ｃ（Ｏ）−である、項目１に記載の化合物。
（項目９）
Ｙ１、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；Ｙ２はジュウテリウムであり；そしてＸ４は１３Ｃである、項目１に記載の化合物。
（項目１０）
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４は水素であり；Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムであり；そしてＸ１は１３Ｃである、項目１に記載の化合物。
（項目１１）
Ｙ１、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；Ｙ２はジュウテリウムであり；そしてＸ１は１３Ｃである、項目１に記載の化合物。
（項目１２）
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７は水素であり；Ｙ４はジュウテリウムであり；そしてＸ１は１３Ｃである、項目１に記載の化合物。
（項目１３）
Ｙ１は水素であり；  Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、およびＹ７はジュウテリウムであり；Ｘ２は１３Ｃであり；そしてＸ３は−１３Ｃ（Ｏ）−である、項目１に記載の化合物。
（項目１４）
式Ｉ−１：
【化３０】
2017522276.tif 000016
の化合物を調製するためのプロセスであって、式６ｂ：
【化３１】
2017522276.tif 000017
の化合物を、式１１：
【化３２】
2017522276.tif 000018
の化合物と、適切な条件下で反応させて、アミド結合を形成する工程を包含する、プロセス。
（項目１５）
式１１：
【化３３】
2017522276.tif 000019
の化合物を調製する工程であって、式９：
【化３４】
2017522276.tif 000020
の化合物を、式１０：
【化３５】
2017522276.tif 000021
の化合物と、適切な金属触媒クロスカップリング条件下で反応させて、保護されたアミン基を含む付加体を形成すること；および
得られた付加体を適切な脱保護条件に供すること
による、工程をさらに包含する、項目１４に記載のプロセス。
（項目１６）
式９：
【化３６】
2017522276.tif 000022
の化合物を、式８：
【化３７】
2017522276.tif 000023
の化合物を適切なハロゲン化条件下で反応させることによって調製する工程をさらに包含する、項目１５に記載のプロセス。
（項目１７）
式８：
【化３８】
2017522276.tif 000024
の化合物を、式７：
【化３９】
2017522276.tif 000025
の化合物を適切な条件下で反応させて保護されたアミン基を生成することによって調製する工程をさらに包含する、項目１６に記載のプロセス。
（項目１８）
式Ｉ−１：
【化４０】
2017522276.tif 000026
の化合物の固体形態であって、該形態は、化合物Ｉ−１の無水物遊離塩基、化合物Ｉ−１の水和物、または化合物Ｉ−１酒石酸からなる群より選択される、固体形態。
（項目１９）
前記形態は、結晶性の化合物Ｉ−１の無水物遊離塩基である、項目１８に記載の固体形態。
（項目２０）
Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約９．９°、１２．８°、１５．４°、１７．０°、２３．１°、２７．８°、２９．０°、および３０．１°の１つまたはより多くのピークによって特徴付けられる、項目１９に記載の固体形態。
（項目２１）
図１ａに示されるものと実質的に同じＸ線粉末回折パターンを有すると特徴付けられる、項目１９に記載の固体形態。
（項目２２）
前記形態は、結晶性の化合物Ｉ−１の水和物である、項目１８に記載の固体形態。
（項目２３）
前記結晶性の化合物Ｉ−１の水和物は、１：３の、化合物Ｉ−１対水の比を有する、項目２２に記載の固体形態。
（項目２４）
約４０℃〜約１００℃の温度範囲で約１２．６％からの減量によって特徴付けられる、項目２２に記載の固体形態。
（項目２５）
Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約２７．５°、２０．６°、および９．７°の１つまたはより多くのピークによって特徴付けられる、項目２２に記載の固体形態。
（項目２６）
図１ｂに示されるものと実質的に同じＸ線粉末回折パターンを有すると特徴付けられる、項目２２に記載の固体形態。
（項目２７）
前記形態は、結晶性の化合物Ｉ−１酒石酸である、項目１８に記載の固体形態。
（項目２８）
前記結晶性の化合物Ｉ−１酒石酸は、１：１の、化合物Ｉ−１対酒石酸を有する、項目２７に記載の固体形態。
（項目２９）
Ｃｕ  Ｋα放射線を使用して得られるＸ線粉末回折パターンにおいて、２θ±０．２で表される、約７．１°、１８．３°、および１３．２°の１つまたはより多くのピークによって特徴付けられる、項目２７に記載の固体形態。
（項目３０）
図１ｃに示されるものと実質的に同じＸ線粉末回折パターンを有すると特徴付けられる、項目２７に記載の固体形態。