【手続補正書】
【提出日】平成30年6月18日(2018.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハ検査中に集光アパーチャ内に位置付けられる光学要素の構成を決定するように構成されるシステムにおいて、
ウェハへと誘導される光を発生するように構成された光源と、
集光瞳面に位置付けられた光学要素であって、集光アパーチャの集合を含み、光学要素は異なる構成を有し、異なる構成の少なくとも１つは集合内の１つの集光アパーチャだけを含み、異なる構成の少なくとも別の１つは集合内の集光アパーチャの２つを含んでいる光学要素と、
ウェハから光学要素を通過した光を検出し、それによって異なる構成に関する異なる画像を生成するように構成された検出器と、
コンピュータサブシステムであって、
異なる画像の２つ又はそれ以上から１つ又は複数の追加の画像を構成し、１つ又は複数の追加の画像の何れか１つを生成するために使用される２つ又はそれ以上の異なる画像は、集合内の１つの集光アパーチャに関して生成された異なる画像だけを含んでいるわけではなく、
異なる画像と１つ又は複数の追加の画像の１つ又は複数の特性を測定し、
異なる画像と１つ又は複数の追加の画像の１つ又は複数の特性を比較し、
比較ステップの結果に基づいて、ウェハの検査のための光学要素の異なる、又は追加の構成の１つを選択する
ように構成されたコンピュータサブシステムと、
を含むことを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、
集光アパーチャは３つ又はそれ以上のスロットを含み、３つ又はそれ以上のスロットの各々は、第一の次元において集光瞳面の全体にわたって延び、集光アパーチャの集合は、第一の次元に垂直な第二の次元において集光瞳面の全体にわたって延びることを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムにおいて、
集光アパーチャは、スロットの２つ又はそれ以上の集合を含み、２つ又はそれ以上の集合の各々の中のスロットは、第一の次元において集光瞳面の全体にわたって延び、スロットの２つ又はそれ以上の集合の各々は、第一の次元に垂直な第二の次元において集光瞳面の全体にわたって延びることを特徴とするシステム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光源により発生された光はインコヒーレント光であることを特徴とするシステム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光源により発生された光はコヒーレント光であることを特徴とするシステム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記選択するステップは、異なる、又は追加の構成のうち、ウェハ上での関心対象の欠陥の検出を最大化するための１つ又は複数の特性の最善の数値を得た１つを選択するステップを含むことを特徴とするシステム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記選択するステップは、異なる、又は追加の構成のうち、ウェハ上のニュイサンス欠陥の検出を最小化するための１つ又は複数の特性の最善の数値を得た１つを選択するステップを含むことを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムにおいて、
集光アパーチャは、光学要素の１つ又は複数の部分を集光瞳面の外に移動させることによって、光学要素内に作ることのできる開口であることを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムにおいて、
集光アパーチャは、光学要素の１つ又は複数の部分を集光瞳面の中へと移動させることによって、光学要素内に作ることのできる光遮断領域であることを特徴とするシステム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムにおいて、
集光アパーチャの集合は、集光アパーチャの規則的アレイを含むことを特徴とするシステム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムにおいて、
ウェハ上の欠陥の所定の位置に関して異なる画像がさらに生成されることを特徴とするシステム。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムにおいて、
システムの光源、検出器、及び他の何れかの光学要素に関する所定のパラメータで異なる画像がさらに生成されることを特徴とするシステム。
【請求項１３】
システムの光源、検出、及び他の何れかの光学要素のうちの少なくとも１つの異なるパラメータで異なる画像がさらに生成され、それによって異なる構成と異なるパラメータに関する異なる画像が生成され、前記選択するステップは、前記比較するステップの結果に基づいて、光学要素の異なる、又は追加の構成のうちの１つと、ウェハの検査のための異なるパラメータの１つ又は複数との１つの組合せを選択するステップを含むことを特徴とするシステム。
【請求項１４】
請求項１に記載のシステムにおいて、
異なる構成は、集合内の集光アパーチャの考え得る組合せをさらに含むことを特徴とするシステム。
【請求項１５】
請求項１に記載のシステムにおいて、
コンピュータサブシステムはさらに、異なる画像に基づいてウェハから異なる方向に散乱した光間の位相シフトを測定し、測定された位相シフトに基づいて、ウェハの検査中にシステムで使用するための位相コントラストフィルタの１つ又は複数のパラメータを決定するように構成されることを特徴とするシステム。
【請求項１６】
請求項１に記載のシステムにおいて、
システムはさらに、正方形のアパーチャを集光瞳面でステップ式に移動させることによって、光学要素に異なる構成を持たせるように構成されることを特徴とするシステム。
【請求項１７】
請求項１に記載のシステムにおいて、
発生され、ウェハへと誘導される光の経路内に位置付けられた照明アパーチャをさらに含み、照明アパーチャに関する異なるパラメータで異なる画像がさらに生成されることを特徴とするシステム。
【請求項１８】
請求項１７に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成が、照明アパーチャの異なるパラメータに基づいて決定され、それによって照明アパーチャの異なるパラメータでのウェハの照明によるウェハからの鏡面反射光が遮断されるようにすることを特徴とするシステム。
【請求項１９】
請求項１８に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成が、照明アパーチャの異なるパラメータに基づいて決定され、それによって照明アパーチャの異なるパラメータでのウェハの照明によるウェハからの光の回折次数が遮断されるようにすることを特徴とするシステム。
【請求項２０】
請求項１８に記載のシステムにおいて、
照明アパーチャが照明アパーチャの異なるパラメータの１つの集合を有し、異なる画像が光学要素の異なる構成でさらに生成されることを特徴とするシステム。
【請求項２１】
請求項１に記載のシステムにおいて、
生成され、ウェハへと誘導される光の経路内に位置付けられた照明アパーチャをさらに含み、正方形のアパーチャの開口を照明瞳面でステップ式に移動させることによって、照明アパーチャの異なるパラメータで異なる画像がさらに生成されることを特徴とするシステム。
【請求項２２】
請求項２１に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成は、正方形のアパーチャの開口を照明瞳面でステップ式に移動させることに基づいて、１つの光遮断要素を集光瞳面でステップ式に移動させ、それにより照明アパーチャの異なるパラメータでのウェハの照明によるウェハからの鏡面反射を遮断することによって作られることを特徴とするシステム。
【請求項２３】
請求項２２に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成は、正方形のアパーチャの開口を照明瞳面でステップ式に移動させることに基づいて、１つ又は複数の追加の光遮断要素を集光瞳面に設置し、それにより照明アパーチャの異なるパラメータでのウェハの照明によるウェハからの光の回折次数を遮断することによって作られることを特徴とするシステム。
【請求項２４】
請求項２２に記載のシステムにおいて、
照明アパーチャは、照明アパーチャの異なるパラメータの１つの集合を有し、１つ又は複数の追加の光遮断要素を集光瞳面でステップ式に移動させることによって、光学要素の異なる構成で異なる画像がさらに生成されることを特徴とするシステム。
【請求項２５】
請求項１に記載のシステムにおいて、
集光アパーチャの集合は、個別のアパーチャの標準的集合を含むことを特徴とするシステム。
【請求項２６】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成は、光学要素がウェハ検査中にフーリエフィルタ処理を行う場合に、デカルト座標系で決定されることを特徴とするシステム。
【請求項２７】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成は、コンピュータサブシステムがさらに、異なる画像内で欠陥散乱をマッピングするように構成されている場合に、極座標系で決定されることを特徴とするシステム。
【請求項２８】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成は、集光瞳面内の開口の異なる位置に対応することを特徴とするシステム。
【請求項２９】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成は、集光瞳面内の開口の異なる大きさに対応することを特徴とするシステム。
【請求項３０】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成は、集光瞳面内の光遮断要素の異なる位置に対応することを特徴とするシステム。
【請求項３１】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光学要素の異なる構成は、集光瞳面内の光遮断要素の異なる大きさに対応することを特徴とするシステム。
【請求項３２】
ウェハ検査中に集光アパーチャ内に位置付けられる光学要素の構成を決定するコンピュータ実装方法を実行するための、コンピュータシステム上で実行可能なプログラム命令を記憶する非一時的コンピュータ読取可能媒体において、コンピュータ実装方法は、
あるウェハに関する異なる画像を取得するステップであって、異なる画像は、
光源から発生された光をウェハへと誘導し、
光学要素が異なる構成を有し、ウェハから光学要素を通過した光を検出し、それによって異なる構成に関する異なる画像を生成し、光学要素は集光瞳面内に位置付けられ、光学要素が集光アパーチャの集合を含み、異なる構成の少なくとも１つが集合内の１つのみの集光アパーチャを含み、異なる構成の少なくとも別の１つが集合内の集光アパーチャの２つを含むようにする
ことによって生成されるようなステップと、
異なる画像の２つ又はそれ以上から１つ又は複数の追加の画像を構成するステップであって、２つ又は複数の追加の画像の何れか１つを生成するために使用された２つ又は複数の画像は、集合内の１つの集光アパーチャに関して生成された異なる画像のみを含んでいないようなステップと、
異なる画像と１つ又は複数の追加の画像の１つ又は複数の特性を測定するステップと、
異なる画像と１つ又は複数の追加の画像の１つ又は複数の特性を比較するステップと、
ウェハの検査のための光学要素の異なる又は追加の構成のうちの１つを、前記比較するステップの結果に基づいて選択するステップと、
を含むことを特徴とする非一時的コンピュータ読取可能媒体。
【請求項３３】
ウェハ検査中に集光アパーチャ内に位置付けられる光学要素の構成を決定する方法において、
光源から発生された光をウェハへと誘導し、
光学要素が異なる構成を有し、ウェハから光学要素を通過した光を検出し、それによって異なる構成に関する異なる画像を生成し、光学要素は集光瞳面内に位置付けられ、光学要素が集光アパーチャの集合を含み、異なる構成の少なくとも１つが集合内の１つのみの集光アパーチャを含み、異なる構成の少なくとも別の１つが集合内の集光アパーチャの２つを含むようにするステップと、
異なる画像の２つ又はそれ以上から１つ又は複数の追加の画像を構成するステップであって、２つ又は複数の追加の画像の何れか１つを生成するために使用された２つ又は複数の画像は、集合内の１つの集光アパーチャに関して生成された異なる画像のみを含んでいないようなステップと、
異なる画像と１つ又は複数の追加の画像の１つ又は複数の特性を測定するステップと、
異なる画像と１つ又は複数の追加の画像の１つ又は複数の特性を比較するステップと、
ウェハの検査のための光学要素の異なる又は追加の構成のうちの１つを、前記比較するステップの結果に基づいて選択するステップと、を含み、前記構成するステップ、前記測定するステップ、前記比較するステップ、及び前記選択するステップがコンピュータシステムによって実行される
ことを特徴とする方法。
【請求項３４】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光源は、広帯域光源を含むことを特徴とするシステム。
【請求項３５】
請求項１に記載のシステムにおいて、
光源は、レーザを含むことを特徴とするシステム。
【請求項３６】
請求項１に記載のシステムにおいて、
検出される光は、散乱光を含むことを特徴とするシステム。
【請求項３７】
請求項１に記載のシステムにおいて、
検出される光は、反射光を含むことを特徴とするシステム。
【請求項３８】
請求項１に記載のシステムにおいて、
検出器はさらに、暗視野モードで光を検出するように構成されることを特徴とするシステム。
【請求項３９】
請求項１に記載のシステムにおいて、
異なる画像は、暗視野画像を含むことを特徴とするシステム。
【請求項４０】
請求項１に記載のシステムにおいて、
異なる画像は、明視野画像を含むことを特徴とするシステム。