【手続補正書】
【提出日】平成29年12月13日(2017.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転陽極アセンブリであって、当該回転陽極アセンブリは：
ボアを有する陽極ディスクと；
回転シャフトと；
陽極ディスク支持体と；を備えており、
前記陽極ディスクは、前記陽極ディスク支持体を介して前記回転シャフトの回転軸線に同心状に装着され、
前記陽極ディスク支持体は、前記回転シャフトにおいて前記回転軸線と同心状に設けられた、第１の円形の軸線方向支持面を含む第１の支持体を有し、
前記陽極ディスク支持体は、クランプ軸線方向に第１の支持面に対して前記陽極ディスクを付勢するために前記回転シャフトに少なくとも一時的に装着された、第２の軸線方向支持面を含む第２の支持体を有し、
第１の支持体は、半径方向に可撓性を有する支持体として設けられており、
Ｘ線発生中の前記陽極ディスクを加熱する際であって、前記陽極ディスクが熱膨張する際に、前記半径方向に可撓性を有する支持体は、半径方向に屈曲し、それによって、第１の軸線方向支持面が、半径方向の熱膨張に少なくとも部分的に追従し、
第１の支持体は、前記半径方向よりも前記軸線方向の力に対してより大きな抵抗を有しており、
第１の支持体は、支持体ベースによって前記回転シャフトに接続されており、前記支持体ベースには、前記軸線方向にベースの高さが設けられており、前記ベースの高さは、第１の支持体の前記半径方向の幅の少なくとも２倍であり、
軸線方向の断面において、第１の支持体には、半径方向の幅と軸線方向の高さとが設けられており、該軸線方向の高さは、前記半径方向の幅の少なくとも２倍である、
回転陽極アセンブリ。
【請求項２】
第１の支持面は、前記回転シャフトに設けられており、
第１の軸線方向支持面によって前記陽極ディスクの熱膨張が補償され、それによって、前記熱膨張中に、第１の支持面の第１の接触領域と前記陽極ディスクの第２の接触領域とが、前記回転軸線に関して共に移動し、その接触が維持される、
請求項１に記載の回転陽極アセンブリ。
【請求項３】
第１の支持体は、前記回転シャフトの肩部から軸線方向に突設されており、
少なくとも周方向のラジアルギャップが、前記陽極ディスクの前記ボアを貫通して延びるシャフト端部に設けられる、
請求項１に記載の回転陽極アセンブリ。
【請求項４】
前記肩部は、前記回転シャフトの外径の階段状凹部によって形成される、
請求項３に記載の回転陽極アセンブリ。
【請求項５】
第１の支持体には、前記陽極ディスクの前記ボアを貫通して延びるシャフト端部までの距離が設けられており、該距離は、前記軸線方向の高さよりも大きい、
請求項１に記載の回転陽極アセンブリ。
【請求項６】
第１の支持体は、前記回転シャフトの肩部から軸線方向に突出する軸線方向の円形のカラーを含み、該カラーと前記回転シャフトとの間に逃げ溝が設けられる、
請求項１に記載の回転陽極アセンブリ。
【請求項７】
第１の支持体は、複数の半径方向に可撓性を有する支持要素を含み、該支持要素によって、複数の第１の軸線方向支持面部分が提供される、
請求項１に記載の回転陽極アセンブリ。
【請求項８】
前記回転シャフトを介した熱伝導のために、前記半径方向に可撓性を有する支持体と前記回転シャフトとの間に熱伝達要素が設けられる、
請求項７に記載の回転陽極アセンブリ。
【請求項９】
第２の支持体は、第２の円形の軸線方向支持面を含み、
第２の支持体は、半径方向に可撓性を有する支持体として設けられており、
Ｘ線発生中の前記陽極ディスクを加熱する際であって、前記陽極ディスクが熱膨張する際に、第２の支持体の半径方向に可撓性を有する支持体は、半径方向に曲がり、それによって、第２の軸線方向支持面は、半径方向の熱膨張に少なくとも部分的に追従する、
請求項８に記載の回転陽極アセンブリ。
【請求項１０】
Ｘ線管であって、当該Ｘ線管は：
Ｘ線用真空ハウジングと；
陽極と；
陰極と；
前記陽極を支持するための軸受装置と；を備えており、
前記陽極及び前記陰極は、前記Ｘ線用真空ハウジングの内部に配置され、
前記陽極は、請求項１に記載の回転陽極アセンブリとして設けられ、
前記軸受装置は、前記Ｘ線用真空ハウジングの内部に配置され、前記回転シャフトを支持し、
前記軸受装置は、少なくとも１つの螺旋溝軸受を含む、
Ｘ線管。
【請求項１１】
前記回転シャフトには、中空のボアが設けられており、
固定シャフトが、ボアの内部に設けられ、前記回転シャフトを支持し、
前記回転シャフトは、前記固定シャフトによって、少なくとも１つの螺旋溝軸受で支持される、
請求項１０に記載のＸ線管。
【請求項１２】
Ｘ線撮像システムであって、当該Ｘ線撮像システムは：
Ｘ線源及びＸ線検出器を含むＸ線取得装置と；
対象物支持体と；を備えており、
前記対象物支持体は、前記Ｘ線源によって供給されるＸ線を対象物に照射するために、前記Ｘ線源と前記Ｘ線検出器との間に配置されており、
前記Ｘ線源は、請求項１０に記載のＸ線管を含む、
Ｘ線撮像システム。
【請求項１３】
回転陽極ディスクを装着するための方法であって、当該方法は：
ａ）陽極ディスク支持体の第１の支持体を、回転シャフトにおいて、該回転シャフトの回転軸線に対して垂直に設けるステップであって、第１の支持体は、前記回転シャフトにおいて、前記回転軸線の周りに同心状に設けられた第１の軸線方向支持面を含む、設けるステップと；
ｂ）陽極ディスクを設けるステップと；
ｃ）前記陽極ディスク支持体の第２の支持体を設けるステップであって、第２の支持体は、第２の軸線方向支持面を含む、設けるステップと；
ｄ）クランプ軸線方向に第１の支持体に対して前記陽極ディスクを付勢するために、第２の支持体を前記回転シャフトに少なくとも一時的に装着するステップと；を含み、
第１の支持体は、半径方向に可撓性を有する支持体として設けられており、
Ｘ線発生中の前記陽極ディスクを加熱する際に、前記半径方向に可撓性を有する支持体は、半径方向に屈曲し、それによって、第１の軸線方向支持面は、前記陽極ディスクの半径方向の熱膨張に少なくとも部分的に追従し、
第１の支持体は、前記半径方向よりも前記軸線方向の力に対してより大きな抵抗を有しており、
第１の支持体は、支持体ベースによって前記回転シャフトに接続されており、前記支持体ベースには、前記軸線方向にベースの高さが設けられており、前記ベースの高さは、第１の支持体の前記半径方向の幅の少なくとも２倍であり、
軸線方向の断面において、第１の支持体には、半径方向の幅と軸線方向の高さとが設けられており、該軸線方向の高さは、前記半径方向の幅の少なくとも２倍である、
方法。
【請求項１４】
陽極ディスクを回転シャフトに装着するためのＸ線管における支持体の使用であって：
前記支持体は、回転シャフトにおいて、回転軸線の周りに同心状に設けられた、第１の軸線方向支持面を含む第１の支持体を有し、
第２の軸線方向支持面を含む第２の支持体が設けられており、第２の支持体は、クランプ軸線方向に第１の支持体に対して陽極ディスクを付勢するために、前記回転シャフトに少なくとも一時的に装着され、
第１の支持体は、半径方向に可撓性を有する支持体として設けられており、Ｘ線発生中の前記陽極ディスクを加熱する際に、前記半径方向に可撓性を有する支持体は、半径方向に屈曲し、それによって、第１の軸線方向支持面は、前記陽極ディスクの半径方向の熱膨張に少なくとも部分的に追従し、
第１の支持体は、前記半径方向よりも前記軸線方向の力に対してより大きな抵抗を有しており、
第１の支持体は、支持体ベースによって前記回転シャフトに接続されており、前記支持体ベースには、前記軸線方向にベースの高さが設けられており、前記ベースの高さは、第１の支持体の前記半径方向の幅の少なくとも２倍であり、
軸線方向の断面において、第１の支持体には、半径方向の幅と軸線方向の高さとが設けられており、該軸線方向の高さは、前記半径方向の幅の少なくとも２倍である、
使用。