【手続補正書】
【提出日】平成30年9月26日(2018.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセス流体の漏出を防止するための回転端面シールアセンブリであって、
環状の嵌合リングシール面を有する嵌合リングと、
環状の主リングシール面を有する軸方向に移動可能な主リング及び該主リングを前記嵌合リングに向かって付勢する付勢要素であって、前記嵌合リングは前記主リングに対して相対的に回転可能であり、前記嵌合リングシール面及び前記主リングシール面が、向い合せのシール関係で配置され、前記嵌合リングシール面及び前記主リングシール面のうちの１つの半径方向内側と半径方向外側周辺縁部との間にシール界面を画定する、主リング及び付勢要素と、
前記半径方向内側及び半径方向外側周辺縁部のうちの１つから、円周方向に離間配置された間隔で、半径方向内向きに延在する複数のハイドロパッド凹部と、
前記ハイドロパッド凹部の少なくともいくつかの間で同じ周辺縁部から半径方向内向きに延在する複数の半径方向の供給溝であって、複数のハイドロパッド凹部と複数の半径方向の供給溝はそれぞれが軸方向深さを有し、前記嵌合リングが前記主リングに対して回転したとき、前記複数のハイドロパッド凹部と前記複数の半径方向の供給溝とは、シール面に十分な前記プロセス流体を引き込んで、該シール面において液体潤滑膜を保持する、複数の半径方向の供給溝と、
を備える、回転端面シールアセンブリ。
【請求項２】
前記供給溝が、前記ハイドロパッド凹部の半径方向内向きの範囲よりも長い半径方向の距離だけ半径方向内向きに延在する、請求項１に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項３】
前記供給溝の前記半径方向内向きの範囲が、前記ハイドロパッド凹部の前記半径方向内向きの範囲の１１０〜２００パーセントである、請求項２に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項４】
前記複数のハイドロパッド凹部の各々が、半径方向内側の終端を含む、請求項１に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項５】
各前記ハイドロパッド凹部の前記半径方向内側の終端が、円形縁部によって画定される、請求項４に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項６】
前記複数の供給溝の各々が、一対の平行な側壁を含み、また、半円形の終端壁において終端する、請求項５に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項７】
各一対の平行な側壁が、各一対の隣接するハイドロパッド凹部の間の中間で、半径方向の線に対して平行である、請求項６に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項８】
前記複数のハイドロパッド凹部の各々が、前記シール面の中へ約１．０ｍｍの軸方向深さを有する、請求項１に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項９】
前記複数の供給溝の各々が、前記シール面の中へ約１．０ｍｍの軸方向深さを有する、請求項８に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１０】
前記複数のハイドロパッド凹部が、前記シール界面の外周縁の周りに等間隔に離間配置される、請求項１に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１１】
各々の供給溝が、隣接するハイドロパッド凹部の中間に配置される、請求項１０に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１２】
各々の供給溝が、前記ハイドロパッド凹部の半径方向内向きの範囲よりも長い半径方向の距離だけ半径方向内向きに延在する、請求項１１に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１３】
前記複数のハイドロパッド凹部の各々が、半径方向内側の終端を含み、前記半径方向内側の終端が、円形縁部によって画定される、請求項１２に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１４】
前記複数の供給溝の各々が、一対の平行な側壁を含み、また、半円形の終端壁において終端し、前記一対の側壁が、各一対の隣接するハイドロパッド凹部の間の中間で、半径方向の線に対して平行である、請求項１３に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１５】
各々の供給溝が、隣接する一対のハイドロパッド凹部の間に配置される、請求項１に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１６】
前記複数のハイドロパッド凹部の各々が、半径方向内側の終端を含み、前記半径方向内側の終端が、円形縁部によって画定される、請求項１５に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１７】
前記複数の供給溝の各々が、一対の平行な側壁を含み、また、半円形の終端壁において終端し、前記一対の側壁が、各一対の隣接するハイドロパッド凹部の間の中間で、半径方向の線に対して平行である、請求項１６に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１８】
前記複数のハイドロパッド凹部が、前記シール界面の外周縁の周りに等間隔に円周方向に離間配置される、請求項１５に記載の回転端面シールアセンブリ。
【請求項１９】
筐体と該筐体の中に配置される回転可能なシャフトとの間に設置するための、高温高圧において流体をシールする回転端面シール配設であって、
前記シャフトに回転可能に固定される嵌合リングであって、環状の嵌合リングシール面を含む、嵌合リングと、
前記筐体内に保持される軸方向に移動可能な主リングであって、前記主リングが環状の主リングシール面を含み、前記嵌合リングシール面及び前記主リングシール面が、向い合せのシール関係で配置され、前記嵌合リングシール面及び前記主リングシール面のうちの１つの半径方向外側及び半径方向内側周辺縁部の間にシール界面を画定する、軸方向に移動可能な主リングと、
前記主リングを前記嵌合リングに向かって付勢する付勢要素と、
円周方向に離間配置された間隔で、前記シール配設の圧力側から前記シール界面に半径方向内向きに形成される複数のハイドロパッド凹部と、
前記ハイドロパッド凹部の少なくともいくつかの間で、前記シール配設の前記圧力側から同じシール面に半径方向内側に形成される複数の半径方向の供給溝あって、複数のハイドロパッド凹部と複数の半径方向の供給溝はそれぞれが軸方向深さを有し、前記嵌合リングが前記主リングに対して回転したとき、前記複数のハイドロパッド凹部と前記複数の半径方向の供給溝とは、シール面に十分な前記プロセス流体を引き込んで、該シール面において液体潤滑膜を保持する、複数の半径方向の供給溝と、
を備える、回転端面シール配設。
【請求項２０】
チャンバから周囲へプロセス流体の漏出を防止するための接触する回転端面シールアセンブリであって、
環状の嵌合リングシール面を有する嵌合リングと、
環状の主リングシール面を有する軸方向に移動可能な主リング及び該主リングを前記嵌合リングに向かって付勢する付勢要素であって、前記嵌合リングは前記主リングに対して相対的に回転可能であり、前記嵌合リングシール面及び前記主リングシール面が向い合せのシール関係で配置され、前記嵌合リングシール面及び前記主リングシール面のうちの１つの半径方向外側周辺縁部と半径方向内側周辺縁部との間にシール界面を画定する、主リング及び付勢要素と、
前記半径方向内側周辺縁部及び前記半径方向外側周辺縁部のうちの１つから、円周方向に離間配置された間隔で、半径方向内向きに延在する複数のハイドロパッド凹部であって、個々のハイドロパッド凹部は、該ハイドロパッド凹部のシール面上で、円の弓形部分によって規定され、個々のハイドロパッド凹部の前記円は、前記シール面の前記半径方向外側周辺縁部の外側に中心点を有し、前記ハイドロパッド凹部の前記円の前記中心点と前記ハイドロパッド凹部の半径方向内向きの範囲との間で示される線に対して対称である、複数のハイドロパッド凹部と、
前記ハイドロパッド凹部の少なくともいくつかの間で同じ周辺縁部から半径方向内向きに延在する複数の半径方向の供給溝であって、複数のハイドロパッド凹部と複数の半径方向の供給溝はそれぞれが軸方向深さを有し、前記嵌合リングが前記主リングに対して回転したとき、前記複数のハイドロパッド凹部と前記複数の半径方向の供給溝とは、シール面に十分な前記プロセス流体を引き込んで、該シール面において液体潤滑膜を保持する、複数の半径方向の供給溝と、
を備える、回転端面シールアセンブリ。