【手続補正書】
【提出日】平成30年6月26日(2018.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス流を制御するためのデバイス（１）であって、
制御された方法で、前記デバイス（１）を通るガス流を抑制又は許可するように構成されるガス流調節インターフェース（２）と、
調節インターフェース制御手段（３、４）と、
を備え、
前記調節インターフェース（２）は、複数のナノホール（２０）を含み、各々の前記ナノホールは、サブミクロンのサイズを有し、制御された方法で、開放されるか又は閉鎖されるのに適しており、
前記制御手段（３、４）は、
前記ナノホールを開放するか又は閉鎖するのに適した作動手段（３）と、
制御された方法で、個々に又は集合的に、前記ナノホール（２０）を開放するか又は閉鎖するために、前記作動手段を起動させるように構成される、電子処理手段（４）と、
を備える、デバイス（１）。
【請求項２】
各々の前記ナノホール（２０）は、開放されている時、大気圧以上の状態でさえ、分子又は支配的な分子領域でガスマイクロ流を許可するように、そして、閉鎖されている時、前記ガスマイクロ流を抑制するように構成され、そのため、前記調節インターフェース（２）を通過する全体の前記ガス流は、開放された前記ナノホール（２０）を通過する、分子又は支配的な分子領域でのマイクロ流の総和である、請求項１に記載のデバイス（１）。
【請求項３】
前記デバイス（１）は、集積化デバイス（１）である、請求項１又は２に記載のデバイス（１）。
【請求項４】
前記調節インターフェース（２）と前記制御手段（３、４）は、前記集積化デバイス（１）の１つの小型チップ（１０）に含まれる、請求項３に記載のデバイス。
【請求項５】
前記処理手段（４）は、前記作動手段（３）を制御するように構成され、そのため、各々のナノホール（２０）は、個々にそして他の前記ナノホール（２０）に関して独立した方法で、開放されるか又は閉鎖され得る、請求項１から４のいずれか一項に記載のデバイス（１）。
【請求項６】
各々のナノホール（２０）は、規定された形状と、確定的に測定可能なコンダクタンスを有し、
各々のナノホール（２０）は、１０ｎｍから１００ｎｍの範囲に含まれる直径を有する、請求項１から５のいずれか一項に記載のデバイス（１）。
【請求項７】
前記調節インターフェース（２）は、１以上の流れ制御ウィンドウを含み、各々のウィンドウは前記ナノホール（２０）が得られる膜（２１）を含み、前記ナノホール（２０）は、行と列の２次元配列に従って配置され、前記ナノホール（２０）の数は１００オーダーである、請求項１から６のいずれか一項に記載のデバイス（１）。
【請求項８】
前記作動手段（３）は、前記ナノホール（２０）のコンダクタンスを最大又は最小にするために、複数の小型ナノホール開閉要素（３０）を含み、各々の前記要素（３０）は、対応するナノホール（２０）をそれぞれ開放するか又は閉鎖するのに適している、請求項１から７のいずれか一項に記載のデバイス（１）。
【請求項９】
各々の小型開閉要素（３０）は、前記ナノホールに関する軸方向の動きによって、対応する前記ナノホール（２０）を閉鎖するか又は開放するように、電気機械的に作動可能なプラグ（３１）を含み、
前記プラグ（３１）は、
前記閉鎖の動きにおいて、前記プラグ（３１）が位置している、前記調節インターフェース（２）の面上の、前記ナノホール（２０）の出口を完全にふさぐために、前記ナノホール（２０）よりも大きなサイズを有する、ベース（３１０）と、
前記閉鎖の動きにおいて、前記ナノホール（２０）に入り込むのに適している、前記ベース（３１０）と一体的なチップ（３１１）と、
を含むか又は、
各々の小型開閉要素（３０）は、
対応する前記ナノホール（２０）の直径と概ね等しい直径を有するシリンダー（３２）であって、前記ナノホールに関する軸方向の動きによって、対応する前記ナノホール（２０）に差し込まれるか又は対応する前記ナノホール（２０）から引き抜かれるように、電磁気的に作動することができる前記シリンダー（３２）と、
複数のソレノイド（３２０）であって、各々のソレノイド（３２０）は、対応するナノホール（２０）と対応するシリンダー（３２）に同軸上に関連付けられている、複数のソレノイド（３２０）と、
を含み、
各々のシリンダー（３２）は、前記ソレノイド（３２０）によって発生した磁場に対して感度がよいように、そして、前記磁場の作用として動くように、強磁性又は常磁性材料で作られる部品を含むか又は、
各々の開閉要素（３０）は、振動する先端に、前記ナノホール（２０）に差し込まれるか又は前記ナノホール（２０）から引き抜かれるのに適した、概ね円錐のマイクロチップ（３３０）を有する、マイクロカンチレバー（３３）を含み、前記マイクロカンチレバー（３３）は、前記マイクロチップ（３３０）が前記ナノホール（２０）に入ってそれを閉鎖する閉鎖位置と、前記マイクロチップ（３３０）が前記ナノホール（２０）を抜け出てそれを開放する開放位置との間で振動するように、電気機械的に作動することができるか又は、
前記作動手段（３）は、前記調節インターフェース（２）の全ての前記ナノホール（２０）を同時に開閉するように構成される、複合的な開閉振動をする平面要素（３５）を含み、
１つの前記小型ナノホール開閉要素（３０）は前記平面要素（３５）の片方の面で、前記ナノホール（２０）の配列に対応する配列で配置され、そのため、各々の小型開閉要素（３０）は、前記平面要素（３５）の対応する動きにおいて、同時に、対応する前記ナノホール（２０）に差し込まれるか又は対応する前記ナノホール（２０）から引き抜かれる、
請求項８に記載のデバイス（１）。
【請求項１０】
前記作動手段（３）は、前記調節インターフェース（２）の片方の面に配置され、前記面に対応する各々のナノホール（２０）の前記開口部を開閉するように構成されるか、又は、前記調節インターフェース（２０）の両方の面に配置され、前記調節インターフェース（２）の両方の面に対応する各々のナノホール（２０）の両方の開口部を開閉するように構成され、
前記小型開閉要素（３０）は、さらに、閉鎖とそれに続く開放の、各々の動作事象において、又は、特定の非閉鎖の開閉事象において、起こりうる閉鎖に関する各々のナノホール（２０）を掃除してきれいにするように構成される、請求項８又は９に記載のデバイス（１）。
【請求項１１】
前記電子処理手段（４）は、
電子信号を送ることによって前記作動手段（３）を制御するために、前記作動手段（３）に電子的に動作的に接続される、プロセッサー（４０）と、
複数のナノホールに関する開閉制御信号を受信するために、前記プロセッサー（４０）に動作的に接続される、バッファと、
前記開閉制御信号を連続して受信するために、前記バッファに動作的に接続され、そして、複数のナノホールに関する、対応する開閉駆動信号を連続的に発生させるように構成される駆動要素（４１）と、
前記開閉駆動信号を連続して受信するために、前記駆動要素（４１）に動作的に接続され、そして、各々の開閉駆動信号を、前記複数のナノホールの、対応するナノホール（２０）に向けるように構成される、マルチプレクサー（４２）と、
を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載のデバイス（１）。
【請求項１２】
前記制御手段（３、４）は、開閉ナノホール（２０）の前記パターンを決定することによって、開閉ナノホールの数と位置によって、又は、前記ナノホール（２）の前記開放時間と閉鎖時間の間の関係又は前記動作サイクルを決定することによって、前記ナノホール（２０）を通過する、前記マイクロ流に対応する精密さと細かさで、前記調節インターフェース（２）を通過する前記ガス流を制御するように構成される、請求項１から１１のいずれか一項に記載のデバイス（１）。
【請求項１３】
封止補助を含み、前記調節インターフェース（２）を組み入れ、異なる圧力を有する環境に直面するのに適した、前記補助の２つの反対側の前記面との間で可能な唯一の前記流れが、前記調節インターフェースを通した制御された前記流れであるように構成され、さらに、前記封止補助に関して反対の面で、対応する圧力値を測定し、測定された前記圧力値を前記処理手段（４）に提供するように構成される、２つの対応する小型圧力センサー（５０）を含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載のデバイス（１）。
【請求項１４】
第１圧力（Ｐ１）下の第１環境（Ａ１）と、前記第１圧力（Ｐ１）よりも低い第２圧力（Ｐ２）下の第２環境（Ａ２）との間のガスサンプリングのためのシステム（１００）であって、
ガス流を制御するための少なくとも１つの、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のデバイス（１）と、
対応する少なくとも１つの前記デバイス（１）を収納するのに適しており、そのため、前記第１（Ａ１）と前記第２（Ａ２）環境の間の流体のやりとりが、ガス流（Ｆ）を通してのみ、つまり、ガス流を制御するための少なくとも１つの前記デバイス（１）の前記調節インターフェース（２）を通してのみ起こりうる、前記第１環境（Ａ１）と第２環境（Ａ２）の間の、少なくとも１つの分離構造（１０１）と、
前記第２環境で望まれる一定の圧力（Ｐ２）を保つために、前記第２環境（Ａ２）からガスを排出するように構成される、ポンプ手段（１０２）と、
より低い圧力下（Ｐ２）であるが、前記第１環境（Ａ１）に存在する、前記ガスの濃度と同一濃度を、前記第２環境（Ａ２）で再生するために、ガス流を制御するための少なくとも１つの前記デバイス（１）の前記制御手段（３、４）と、前記ポンプ手段（１０２）に、動作的に接続され、ガス流を制御するための少なくとも１つの前記デバイス（１）と前記ポンプ手段（１０２）を制御するように構成される、システム制御手段（１０３）と、
を備える、ガスサンプリングのためのシステム（１００）。
【請求項１５】
前記第１環境の前記圧力値（Ｐ１）から前記第２環境の前記圧力値（Ｐ２）に至るまで、次第に低下する圧力下の、前記第１環境（Ａ１）と前記第２環境（Ａ２）の間の複数の中間環境（Ａｎ、Ａｍ）を規定するために、複数のデバイス（１）と対応する複数の分離構造（１０１）を備え、２つの連続した中間環境間の前記ガス流（Ｆｎｍ）は、分子又は支配的な分子領域であり、そのため、各々の前記中間環境に存在する、前記ガスの濃度は、前記第１環境（Ａ１）に存在する、前記ガスの濃度と同一濃度である、請求項１４に記載のシステム（１００）。
【請求項１６】
第１環境（Ａ１）と第２環境（Ａ２）の間に存在する、前記圧力勾配を制御するための、システム（２００）であって、
ガス流を制御するための少なくとも１つの、請求項１３に記載のデバイス（１）と、
ガス流を制御するための少なくとも１つのデバイス（１）を収納するのに適しており、そのため、前記第１（Ａ１）と前記第２（Ａ２）環境間の流体のやりとりが、ガス流（Ｆ）によってのみ、つまり、ガス流を制御するための少なくとも１つの前記デバイス（１）の前記調節インターフェース（２）を通してのみ起こりうる、前記第１環境（Ａ１）と第２環境（Ａ２）の間の分離構造（１０１）と、
を備え、
ガス流を制御するための少なくとも１つの前記デバイス（１）の前記制御手段（３、４）は、前記第１（Ａ１）と前記第２（Ａ２）環境間で望まれる圧力勾配を得るように、前記第１（Ａ１）と前記第２（Ａ２）環境のそれぞれに関する、前記調節インターフェース（２）の２つの面で存在する前記圧力センサー（５０）によって測定される前記圧力値に基づいて、前記調節インターフェース（２）を通る前記ガス流を制御するように構成される、
前記圧力勾配を制御するためのシステム（２００）。
【請求項１７】
マイクロ流に対応する分解能で、ガス流を制御するための方法において、
対応するマイクロ流の前記通過を抑制又は許可するために、サブミクロンのサイズを有する複数のナノホール（２０）を備え、各々の前記ナノホールは開放されるか又は閉鎖されるのに適している、ガス流調節インターフェース（２）を通過するための、制御された方法での、ガス流を抑制又は許可するステップを含み、
前記抑制又は許可のステップは、各々の前記ナノホール（２０）の前記開放又は閉鎖の、個々の又は集合的な、制御を含み、そのため、前記調節インターフェースを通過する全体の前記ガス流が、開放された前記ナノホールを通過する前記マイクロ流の総和である、
ガス流を制御するための方法。
【請求項１８】
マイクロ流に対応する分解能で、ガス流を測定するための方法であって、
制御された方法での、ガス流調節インターフェース（２）を通した前記ガス流の前記通過の抑制又は許可において、対応するマイクロ流の前記通過を抑制又は許可し、開放された前記ナノホールを通過する前記マイクロ流の総和に対応する出力ガス流を発生させるために、開放され閉鎖され得る、サブミクロンのサイズを有する複数のナノホール（２０）を備え、各々の前記ナノホールは開放されるか又は閉鎖されるのに適している、前記ガス流の前記通過を抑制又は許可するステップと、
前記出力ガス流を測定するステップと、
を含む、ガス流を測定するための方法。
【請求項１９】
第１環境の圧力よりも低い圧力下の、前記第１環境（Ａ１）と第２環境（Ａ２）との間のガスをサンプリングするための方法であって、
ガス流を制御するための少なくとも１つの、請求項１から１３のいずれか一項に記載のデバイス（１）が収納される分離構造（１０１）による、前記第１環境（Ａ１）と第２環境（Ａ２）を分離するステップと、
ガス流を通してのみ、つまり、ガス流を制御するための、少なくとも１つの前記デバイス（１）の前記調節インターフェース（２）を通してのみの、前記第１（Ａ１）と前記第２（Ａ２）環境との間の流体のやりとりを許可するステップと、
前記第２環境（Ａ２）で、望まれる一定の圧力（Ｐ２）を保つための、前記第２環境（Ａ２）からのガスを排出するステップと、
前記第２環境（Ａ２）で、より低い圧力（Ｐ２）であるが、前記第１環境（Ａ１）に存在する、前記ガスの濃度と同一濃度を再生するための、前記調節インターフェース（２）を通した、前記ガス流の制御と、前記第２環境（Ａ２）からの前記ガス排出を制御するステップと、
を含む、ガスをサンプリングするための方法。
【請求項２０】
第１環境（Ａ１)と第２環境（Ａ２）の間に存在する、前記圧力勾配を制御するための方法であって、
ガス流を制御するための少なくとも１つの、請求項１３に記載のデバイス（１）が収納される、分離構造（１０１）による前記第１環境（Ａ１）と第２環境（Ａ２）を分離するステップと、
前記第１（Ａ１）と前記第２（Ａ２）環境の間で望まれる圧力勾配を得るための、前記第１と前記第２環境それぞれに関する、前記調節インターフェース（２）の２つの前記面で存在する前記圧力センサ（５０）によって測定される前記圧力値に基づく、前記調節インターフェース（２）を通した前記ガス流を制御するステップと、
を含む、前記圧力勾配を制御するための方法。