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【手続補正書】
【提出日】平成30年6月26日(2018.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃｕ含有層内のフィーチャを異方性エッチングする方法であって、：
Ｃｕ含有層及び前記Ｃｕ含有層の上に形成されたパターン化エッチングマスクを有する基板を提供するステップであって、それにより、露出したＣｕ含有層は、前記パターン化エッチングマスクを介して処理に曝される、ステップと；
前記露出したＣｕ含有層の第１の表面を不動態化するステップと；
前記Ｃｕ含有層の第２の表面の不動態化を抑制するステップと；
前記Ｃｕ含有層の前記第２の表面の上でＣｕ化合物を形成するステップと；
前記Ｃｕ含有層内のフィーチャを異方性エッチングするため、前記Ｃｕ含有層の前記第２の表面から前記Ｃｕ化合物を除去するステップと；
を含む、方法。
【請求項２】
前記不動態化するステップは、前記Ｃｕ含有層の第１の表面の上に不動態化層を堆積するステップ、又は前記Ｃｕ含有層の第１の表面の上にＣｕ化合物を成長させるステップ、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記の不動態化層を堆積するステップは、前記Ｃｕ含有層の第１の表面の上に炭化水素又はフルオロカーボンを堆積するステップを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記成長させるステップは、前記Ｃｕ含有層の第１の表面の上にＣｕフッ化物を成長させるステップを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記不動態化を抑制するステップは、前記Ｃｕ含有層の第２の表面から不動態化材料を除去するため、前記Ｃｕ含有層の前記第２の表面を反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）すること、又はイオンアシストエッチングすることの少なくとも一方を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記Ｃｕ化合物を形成するステップは、前記Ｃｕ含有層の前記第２の表面に、Ｏ２ニュートラル及びＯイオンの少なくとも１つを供給することにより、前記Ｃｕ含有層の前記第２の表面の上でＣｕｘＯを形成するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記Ｃｕ化合物を除去するステップは、前記Ｃｕ含有層内のフィーチャを異方性エッチングするため、前記第２の表面から前記Ｃｕ化合物の、異方性自発エッチング（ＳＡＥ）及び反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）の少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
基板の上のＣｕ含有層をエッチングする方法であって、：
プラズマ源と基板ホルダとを有するプラズマ処理チャンバ内に基板をロードするステップであって、前記基板は、Ｃｕ含有層とその上に形成されたパターン化エッチングマスクとを有する、ステップと；
前記プラズマ処理チャンバ内に不動態化ガスを導入するステップであって、前記不動態化ガスは、前記Ｃｕ含有層の露出した表面の上に不動態化層を形成する、ステップと；
前記プラズマ処理チャンバ内に反応性ガスを導入するステップであって、前記反応性ガスは、前記Ｃｕ含有層中に形成されたフィーチャの露出した表面の上に第１のＣｕ含有化合物を形成する、ステップと；
前記プラズマ処理チャンバ内に還元性ガスを導入するステップであって、前記還元性ガスは、揮発性のＣｕ含有化合物を形成するため、前記第２のＣｕ含有化合物と反応する、ステップと；
前記プラズマ源に、ＤＣ、ＲＦ、又はマイクロ波電力の少なくとも１つを適用することにより、前記プラズマ処理チャンバ内でプラズマを付勢するステップと；
前記基板ホルダにＲＦバイアスを印加するステップと；
前記Ｃｕ含有層内にパターンを形成するため、前記プラズマ処理チャンバから前記揮発性のＣｕ含有化合物をポンピングするステップと；
を含む、方法。
【請求項９】
前記還元性ガスは酸を含むか、又はＣＨ３ＣＯＯＨを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記反応性ガスはＯ２を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記反応性ガスは、不活性ガスをさらに含むか、又はＨｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、及びＸｅの少なくとも１つを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記不動態化ガスは、フッ素含有ガス、炭化水素ガス、フルオロカーボンガス、及びハイドロフルオロカーボンガスの少なくとも１つを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記不動態化層は、前記Ｃｕ含有層内に形成されたフィーチャの、底面上の側壁上に優先的に形成される、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記不動態化ガス、反応性ガス、及び還元性ガスは、前記プラズマ処理チャンバ内に、単一ステッププロセスで同時に導入されるか、又は前記プラズマ処理チャンバ内に、マルチステッププロセスで順次に導入される、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
前記プラズマ源及び基板ホルダは、前記プラズマ処理チャンバの反対側の両端に配置され、
前記不動態化ガス及び反応性ガスは、前記プラズマ源に直接(proximate)導入され、及び
前記還元性ガスは前記基板ホルダに直接(proximate)導入される、
請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
チャンバ洗浄の方法であって、：
プラズマ源と基板ホルダとを有するプラズマ処理チャンバを提供するステップであって、前記プラズマ処理チャンバの内部表面は、その上に堆積されたＣｕ含有層を有する、ステップと；
前記プラズマ処理チャンバ内に反応性ガスを導入するステップであって、前記反応性ガスは、前記内部表面上の前記Ｃｕ含有層中に第１のＣｕ含有化合物を形成する、ステップと；
前記プラズマ処理チャンバ内に還元性ガスを導入するステップであって、前記還元性ガスは、揮発性のＣｕ含有化合物を形成するため、前記第１のＣｕ含有化合物と反応する、ステップと；
前記プラズマ源に、ＤＣ、ＲＦ、又はマイクロ波電力の少なくとも１つを適用することにより、前記プラズマ処理チャンバ内でプラズマを付勢するステップと；
前記内部表面から前記Ｃｕ含有層を除去するため、前記プラズマ処理チャンバから前記揮発性のＣｕ含有化合物をポンピングするステップと；
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月30日(2018.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤレスネットワークにおいて電力ヘッドルームを報告するための方法であって、
少なくとも第１のセルによってサービスされる第１の接続を確立することと、
少なくとも第２のセルによってサービスされる第２の接続を確立することと、
前記第１のセル内の前記第１のセルの第１のアップリンクサブフレーム内で第１の電力ヘッドルームを報告することを決定することと、
を備え、
前記第２のセルの第２のサブフレームのタイプがアップリンクサブフレームでないとき、前記第２のセルの前記第２のサブフレームに関する第２の電力ヘッドルームに関する報告構成を決定すること
によって特徴付けられる、方法。
【請求項２】
前記第１の接続および前記第２の接続が同期し、前記第２のサブフレームが、前記第１の電力ヘッドルームを報告することを決定するための前記第１のアップリンクサブフレームと同時に発生する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２のサブフレームの前記タイプがダウンリンクサブフレームまたは特殊サブフレームのうちの１つである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のセルまたは前記第２のセルのうちの少なくとも１つによってシグナリングされるサブフレーム構成に少なくとも部分的に基づいて、前記第２のサブフレームの前記タイプを決定することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第２の電力ヘッドルームに関する前記報告構成を決定することが、前記アップリンクサブフレームでないとしての前記第２のサブフレームの前記タイプに少なくとも部分的に基づいて、前記第２の電力ヘッドルームを仮想電力ヘッドルームとして報告することを決定することを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第２の電力ヘッドルームに関する前記報告構成を決定することが、前記第２のセルに関する前記第２の電力ヘッドルームの報告を省略することを決定することを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
半静的サブフレーム構成または動的サブフレーム構成に少なくとも部分的に基づいて前記第２のサブフレームの前記タイプを決定することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第２の電力ヘッドルームに関する前記報告構成を決定することが、前記第２のサブフレームが、前記半静的サブフレーム構成または前記動的サブフレーム構成に従って非アップリンクサブフレームとして表示されるとき、前記第２の電力ヘッドルームを仮想電力ヘッドルームとして報告することを決定することを備える、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第２の電力ヘッドルームを報告することを決定することが、前記第２のサブフレームが、前記第２のセルからのシステム情報内でシグナリングされるサブフレーム構成に従って前記アップリンクサブフレームとして表示されることを決定することに少なくとも部分的に基づく、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の電力ヘッドルームに関する前記報告構成を決定することが、前記第１のアップリンクサブフレームの前に発生し、前記第１のアップリンクサブフレームに重複する前記第２のセルの前記第２のサブフレームの前記タイプを決定することに少なくとも部分的に基づき、ここにおいて、前記第１のセルおよび前記第２のセルが非同期タイミングを利用する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の電力ヘッドルームに基づいて前記第２の電力ヘッドルームに関する前記報告構成に関する１つまたは複数のパラメータを表示する構成を前記第１のセルから受信することをさらに備え、ここにおいて、前記報告構成を決定することが、前記構成に少なくとも部分的に基づく、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１のセルに関する前記第１の電力ヘッドルームを報告することと、
前記第１の電力ヘッドルームを報告する際に、前記第２の電力ヘッドルームが前記第１の電力ヘッドルームを前記報告することに含まれるかどうかを表示することと
をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
ワイヤレスネットワークにおいて電力ヘッドルームを報告するための装置であって、
少なくとも第１のセルによってサービスされる第１の接続を確立するための手段と、
少なくとも第２のセルによってサービスされる第２の接続を確立するための手段と、
前記第１のセル内の前記第１のセルの第１のアップリンクサブフレーム内で第１の電力ヘッドルームを報告することを決定するための手段と、
を備え、
前記第２のセルの第２のサブフレームのタイプがアップリンクサブフレームでないとき、前記第２のセルの前記第２のサブフレームに関する第２の電力ヘッドルームに関する報告構成を決定するための手段
によって特徴付けられる、装置。
【請求項１４】
前記第１の接続を確立するための前記手段および前記第２の接続を確立するための前記手段は、通信構成要素であり、前記第１の電力ヘッドルームを報告することを決定するための前記手段および前記報告構成を決定するための前記手段は、電力ヘッドルーム報告構成要素である、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
ワイヤレスネットワークにおいて電力ヘッドルームを報告するためのコンピュータ実行可能コードを備えた非一時的コンピュータ可読記憶媒体であって、前記コードが、
請求項１ないし１２のいずれか一項に記載の方法を実行するためのコード
を備える、非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月19日(2018.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板に複数のバイアを作製するための方法において、前記方法が、
複数の孔を有する前記ガラス基板の第１の面をキャリアの第１の面に接合層によって接合する工程、前記接合層は前記ガラス基板の前記第１の面と前記キャリアの前記第１の面の間の厚さｔを有し、前記複数の孔の内の少なくともいくつかに延び込んで、前記ガラス基板の前記第１の面からの高さｈを有する接着剤プラグを形成する、
前記ガラス基板の前記複数の孔を通して前記接合層を深さｄまでエッチングする工程、前記深さｄは前記厚さｔと前記高さｈの和以下である、及び
前記複数の孔を、前記複数のバイアを形成するため、材料で埋め込む工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記接合層をエッチングする工程がウエットエッチングプロセスを利用する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記接合層をエッチングする工程がドライエッチングプロセスを利用する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記材料が前記接合層に長さｌで延び込む導電材料であり、前記ｌは前記深さｄと前記高さｈの間の差に等しい、及び
前記方法が前記複数のバイアを有する前記ガラス基板を前記接合層及び前記キャリアから剥離させる工程をさらに含み、前記複数のバイアを形成している前記導電材料の一部が前記ガラス基板の前記第１の面から突き出す、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
ガラス基板に複数のバイアを作製するための方法において、前記方法が、
複数の孔を有する前記ガラス基板の第１の面をキャリアの第１の面に接合層によって接合する工程、前記接合層は前記ガラス基板の前記第１の面と前記キャリアの前記第１の面の間の厚さｔを有する、
前記ガラス基板の前記複数の孔を通して前記接合層を、ウエットエッチングプロセスを用いて、深さｄまでエッチングする工程、
前記複数の孔を、前記ガラス基板に前記複数のバイアを形成するため、導電材料で埋め込む工程、前記導電材料は前記接合層に長さｌまで延び込み、前記長さｌは前記厚さｔより小さい、及び
前記複数のバイアを有する前記ガラス基板を前記接合層及び前記キャリアから剥離させる工程、前記導電材料は前記ガラス基板の前記第１の面から突き出す、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
前記ガラス基板が１００μｍ以下の厚さを有することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ウエットエッチングプロセスがＨＦ及びアセトンから選ばれる溶剤に前記接合層をさらす工程を含むことを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記ガラス基板が前記エッチングプロセスに対するハードマスクであるように前記ガラス基板を通して前記接合層が前記溶剤にさらされることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ガラス基板に複数のバイアを作製するための方法において、前記方法が、
複数の孔を有する前記ガラス基板の第１の面をキャリアの第１の面に接合層を用いて接合する工程、前記接合層は前記ガラス基板の前記第１の面と前記キャリアの前記第１の面の間の厚さｔを有する、
前記ガラス基板の前記複数の孔を通して前記接合層を、ドライエッチングプロセスを用いて、深さｄまでエッチングする工程、前記深さｄは前記ガラス基板の前記第１の面から前記接合層に前記エッチングが延び込んだ長さｌと前記複数の孔の内の少なくともいくつかに前記接合層が延びこむことで形成された接着剤プラグの高さｈの和に等しく、前記長さｌは前記厚さｔに等しく、前記キャリアの前記第１の面が前記ドライエッチングプロセスに対するストップ層である、
前記複数の孔を、前記ガラス基板に前記複数のバイアを形成するため、導電材料で埋め込む工程、前記導電材料は前記キャリアの前記第１の面まで前記接合層を貫通する、及び
前記複数のバイアを有する前記ガラス基板を前記接合層及び前記キャリアから剥離させる工程、前記導電材料は前記ガラス基板の前記第１の面から長さｌで延びるピラーを形成する、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記ドライエッチングプロセスがＯ２またはアルゴンを含有するガスの内の少なくとも１つから発生されるプラズマに前記接合層をさらす工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月19日(2018.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２ゲート電界効果トランジスタ（２Ｔ電界ＦＥＴ）金属−窒化物−酸化物−シリコン（ＭＮＯＳ）複数回プログラム可能（ＭＴＰ）メモリを備え、前記２Ｔ電界ＦＥＴ  ＭＮＯＳ  ＭＴＰメモリは、
基板と、
第１のワード線に結合された第１のゲート金属部分を含む、前記基板上に形成された第１のトランジスタと、
第２のワード線に結合された第２のゲート金属部分を含み、前記第１のワード線が前記第２のワード線に結合された、前記基板上に形成された第２のトランジスタと、
前記基板のウェル上に形成され、前記第１のゲート金属部分および前記第２のゲート金属部分を前記ウェルから分離するように構成された、第１及び第２の高誘電率酸化物領域と、
前記基板の前記ウェル上に形成された層間誘電体（ＩＬＤ）酸化物領域であって、前記ＩＬＤ酸化物領域の一部がフィン形に形成され、前記第１のゲート金属部分と第２のゲート金属部分との間に配置された、ＩＬＤ酸化物領域と、
金属部分を含む制御ゲートであって、前記制御ゲートの前記金属部分が、前記ＩＬＤ酸化物領域のフィン形部分に隣接して形成され、前記第１のトランジスタのワード線と前記第２のトランジスタのワード線との間に配置された、金属部分を含む制御ゲートと、
前記ＩＬＤ酸化物領域の前記フィン形部分の上に形成されたシリコン−窒化物（ＳｉＮ）キャップであって、前記制御ゲートの前記金属部分が、前記ＳｉＮキャップを通って配置された、シリコン−窒化物キャップと、を含む、装置。
【請求項２】
前記ＩＬＤ酸化物領域に対して垂直に形成され、前記第１のトランジスタの前記第１のワード線を前記第２のトランジスタの前記第２のワード線に結合する金属リングをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記２Ｔ電界ＦＥＴ  ＭＮＯＳ  ＭＴＰメモリはＰＭＯＳデバイスである、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記２Ｔ電界ＦＥＴ  ＭＮＯＳ  ＭＴＰメモリはＮＭＯＳデバイスである、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記２Ｔ電界ＦＥＴ  ＭＮＯＳ  ＭＴＰメモリが構成部分である、モバイルデバイス、基地局、端末、セットトップボックス、音楽プレーヤ、ビデオプレーヤ、エンターテインメントユニット、ナビゲーションデバイス、通信デバイス、携帯情報端末（ＰＤＡ）、固定位置データユニット、またはコンピュータのうちの少なくとも１つをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
リソグラフィデバイスに、請求項１に記載の装置の特徴を含む集積回路の少なくとも一部を作製させるように構成されたリソグラフィデバイス実行可能命令を記憶した非一時的コンピュータ可読媒体。
【請求項７】
請求項１に記載の装置をプログラムするための方法であって、
前記第１のトランジスタをバイアス処理するステップと、
前記第２のトランジスタをバイアス処理するステップと
を含み、
前記第１および第２のトランジスタの前記バイアス処理により、ホットキャリア注入に起因して、前記装置のシリコン−窒化物領域に電子が格納される、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の装置をプログラムするための方法であって、
前記第１のトランジスタをバイアス処理するステップと、
前記第２のトランジスタをバイアス処理するステップと
を含み、
前記第１および第２のトランジスタの前記バイアス処理により、ファウラー−ノルドハイムトンネリングに起因して、前記装置のシリコン−窒化物領域に電子が格納される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月17日(2018.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性ポリマー基板と、
前記可撓性基板内及び可撓性基板の表面上に位置付けられた第１の導電性特徴部と、
前記第１の導電性特徴部から所定の距離において前記可撓性基板内及び可撓性基板の表面上に位置付けられた第２の導電性特徴部であって、前記第１の導電性特徴部と前記第２の導電性特徴部との間に前記可撓性ポリマー基板の一部分が露出されるようになっている、第２の導電性特徴部と、
前記第１の導電性特徴部と前記第２の導電性特徴部との間の前記露出した可撓性ポリマーの表面上に位置付けられた、セラミック層と、
を備える、可撓性ＬＥＤアセンブリ。
【請求項２】
前記第１の導電性特徴部及び前記第２の導電性特徴部の両方に搭載されたＬＥＤを更に備え、前記可撓性ポリマー基板が、前記セラミック層によって前記ＬＥＤから放射されるＵＶ光から遮蔽されている、請求項１に記載の可撓性ＬＥＤアセンブリ。
【請求項３】
前記第２の導電性特徴部ではなく前記第１の導電性特徴部に搭載されたＬＥＤを更に備え、前記可撓性ポリマー基板が前記セラミック層によって、前記ＬＥＤから放射されるＵＶ光から遮蔽されている、請求項１に記載の可撓性ＬＥＤアセンブリ。
【請求項４】
可撓性ポリマー基板を貫通して延在するビアを備える当該可撓性ポリマー基板と、
前記可撓性基板の下面に位置付けられた第１の導電性特徴部であって、前記第１の導電性特徴部の一部分が前記ビアの下に位置付けられている、第１の導電性特徴部と、
前記可撓性ポリマー基板の上面に位置付けられたセラミック層と、
を備える、可撓性ＬＥＤアセンブリ。
【請求項５】
前記可撓性ポリマー基板内にある第２のビアと、前記可撓性基板の下面に位置付けられた第２の導電性特徴部とを更に備え、前記第２の導電性特徴部の一部分が前記第２のビアの下に位置付けられている、請求項４に記載の可撓性ＬＥＤアセンブリ。
【請求項６】
ＬＥＤアセンブリを作製する方法であって、
セラミック層を基板の表面に適用する工程であって、前記基板が、前記セラミックの適用前に、露出した上面がポリマーである第１の部分と、前記露出した上面が導電性金属である第２の部分と、を備える、工程と、
前記セラミックを前記基板の表面の前記第２の部分から除去する工程と、
前記基板の表面の前記第２の部分内の前記導電性金属を表面仕上げする工程と、
を含む、方法。
【請求項７】
前記セラミックを前記基板の表面の前記第２の部分から除去する工程が、粘着性のライナーを前記第２の部分に対応するセラミックの領域上に積層する工程と、前記粘着性のライナーを除去することによって前記セラミックを前記第２の部分から剥離する工程とを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記セラミック層がスパッタリングプロセスを使用して適用される、請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月19日(2018.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電気的配線を伴う第１の基板と、
第２の電気的配線を伴う第２の基板と、
前記第１の基板の前記第１の電気的配線に電気的に結合するように構成され、前記第２の基板の前記第２の電気的配線に電気的に結合するように構成される、内側配線と、
前記内側配線を取り囲む外側配線であって、グラウンドへの電気的接続を提供するように構成される、外側配線と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置するダイと、
前記ダイを前記第１の電気的配線に電気的に結合するように構成される複数のはんだボールと、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の空間を埋めるモールドとを備え、前記モールドが、少なくとも部分的に、前記ダイ、前記複数のはんだボール、および前記外側配線を封入する、集積デバイス。
【請求項２】
前記外側配線がプレートを備える、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項３】
前記内側配線と前記外側配線との間に誘電材料をさらに備える、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項４】
前記内側配線が、電源信号のための電気的経路を第１の方向に提供するように構成される、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項５】
前記外側配線が、グラウンド信号のための電気的経路を第２の方向に提供するように構成される、請求項４に記載の集積デバイス。
【請求項６】
前記内側配線が、少なくともメッキされた配線および／またはワイヤボンドの１つである、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項７】
少なくともインターポーザ、パッケージデバイス、および／またはパッケージオンパッケージ（ＰｏＰ）デバイスの１つを備える、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項８】
音楽プレーヤ、ビデオプレーヤ、エンターテイメントユニット、ナビゲーションデバイス、通信デバイス、モバイルデバイス、携帯電話、スマートフォン、携帯情報端末、固定位置端末、タブレットコンピュータ、および／またはラップトップコンピュータの少なくとも１つに組み込まれる、請求項１に記載の集積デバイス。
【請求項９】
集積デバイスを製造する方法であって、
第１の電気的配線を伴う第１の基板を形成するステップと、
第２の電気的配線を伴う第２の基板を形成するステップと、
複数のはんだボールをダイに結合するステップと、
前記第１の基板の前記第１の電気的配線に内側配線を電気的に結合するように構成され、前記第２の基板の前記第２の電気的配線に前記内側配線を電気的に結合するように構成される、前記内側配線を形成するステップと、
前記内側配線を取り囲むように構成され、グラウンドへの電気的接続を提供するように構成される、外側配線を形成するステップと、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の空間の中のモールドを形成し、前記ダイ、前記複数のはんだボール、および前記外側配線を少なくとも部分的に前記モールド内に封入するステップとを備える方法。
【請求項１０】
前記第１の基板の上に前記内側配線を前記形成するステップが、前記第１の基板の上に前記内側配線をメッキするステップを備える、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の基板の上に前記内側配線を前記形成するステップが、前記第１の基板の上に前記内側配線をワイヤボンディングするステップを備える、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記外側配線がプレートを備える、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記内側配線と前記外側配線との間に誘電層を形成するステップをさらに備える、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記内側配線が、電源信号のための電気的経路を第１の方向に提供するように構成される、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記外側配線が、グラウンド信号のための電気的経路を第２の方向に提供するように構成される、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月25日(2018.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造体であって：
複数の発光デバイスであり、前記複数の発光デバイスの各々が、頂部表面と、前記頂部表面に対向する底部表面と、前記頂部表面及び前記底部表面を接続する少なくとも１つの側部表面とを有する、複数の発光デバイスと；
前記複数の発光デバイスの各々の前記頂部表面及び前記少なくとも１つの側部表面に直接接触し、前記複数の発光デバイスの各々を互いに機械的に接続するように配置された波長変換層であって、波長変換材料と、接着材料と、少なくとも0.2W/mKの熱伝導性を有する透明材料とを有し、前記接着材料及び前記透明材料の屈折率は１０％以下で変化し得る、波長変換層と；
を含み、
前記複数の発光デバイスが、前記波長変換層を通じてのみ、互いに接続されている、
構造体。
【請求項２】
請求項１に記載の構造体であり、
前記接着材料が、前記波長変換層の重量の１５％以下の重量を有する、
構造体。
【請求項３】
請求項１に記載の構造体であり、
前記波長変換層が、前記複数の発光デバイスの各々の前記頂部表面と前記少なくとも1つの側部表面とを覆う、
構造体。
【請求項４】
請求項１に記載の構造体であり、
前記波長変換層が、少なくとも0.5W/mKの熱伝導性を有する、
構造体。
【請求項５】
請求項１に記載の構造体であり、
前記波長変換層が、少なくとも５０重量％の透明材料を含む、
構造体。
【請求項６】
構造体であって：
頂部表面と、前記頂部表面に対向する底部表面と、前記頂部表面及び前記底部表面を接続する少なくとも１つの側部表面とを有する発光デバイスと；
前記発光デバイスの前記頂部表面及び前記少なくとも１つの側部表面に直接接触するように配置された波長変換層と；
前記波長変換層を覆う光学素子層であって、接着材料と、少なくとも0.2W/mKの熱伝導性を有する透明材料とを有し、前記接着材料及び前記透明材料の屈折率は１０％以下で変化し得る、光学素子層と；
を含む構造体。
【請求項７】
請求項６に記載の構造体であり、
前記波長変換層が、１００μｍ以下の厚さを有する、
構造体。
【請求項８】
請求項６に記載の構造体であり、
前記光学素子層及び前記発光デバイスがともに平行６面体として形状付けられている、
構造体。
【請求項９】
請求項６に記載の構造体であり、
前記光学素子層が、少なくとも５０重量％の透明材料を含む、
構造体。
【請求項１０】
請求項６に記載の構造体であり、
前記光学素子層が、少なくとも0.5W/mKの熱伝導性を有する、
構造体。
【請求項１１】
構造体であって：
互いに間隔を置いた複数の発光デバイスであり、前記複数の発光デバイスの各々が、頂部表面と、前記頂部表面に対向する底部表面と、前記頂部表面及び前記底部表面を接続する少なくとも１つの側部表面とを有する、複数の発光デバイスと；
前記複数の発光デバイスの各々の前記頂部表面及び前記少なくとも１つの側部表面に配置接着された波長変換層であって、隣接する発光デバイスの間の空間においてへこみが形成されている波長変換層と；
前記波長変換層を覆う光学素子層であって、隣接する発光デバイスの間の空間における前記波長変換層のへこみを充填し、前記複数の発光デバイスを互いに機械的に接続する光学素子層と；
を含む、
構造体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の構造体であり、
前記光学素子層が、接着材料と透明材料とを含む、
構造体。
【請求項１３】
請求項１２に記載の構造体であり、
前記接着材料が、透明材料と混合されている、
構造体。
【請求項１４】
請求項１３に記載の構造体であり、さらに、
前記光学素子層が、少なくとも５０重量％の透明材料を含む、
構造体。
【請求項１５】
請求項１２に記載の構造体であり、
前記光学素子層が、少なくとも0.5W/mKの熱伝導性を有する、
構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月7日(2018.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微生物によって生成されたオリゴ糖を含むプレバイオティクス組成物であって、前記オリゴ糖が、所定のプロバイオティクス細菌株に選択的であること、および前記所定のプロバイオティクス細菌株によって逆酵素反応により生成することができることを特徴とし、
前記所定のプロバイオティクス細胞株が、ラクトバチルス・プランタルム（Lactobacillus plantarum）を含み、前記酵素がβ−ガラクトシダーゼであり、前記オリゴ糖がガラクトオリゴ糖（ＧＯＳ）を含み、前記ＧＯＳが、β１−４結合を含む、プレバイオティクス組成物。
【請求項２】
被包されている、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
身体の胃腸管環境を通過し、その機能的特性を保持できるようにするための賦形剤または担体化合物をさらに含む、請求項１から２のいずれかに記載の組成物。
【請求項４】
飲むことのできる液体の形態であり、かつ／または固体もしくは液体食料品と混合することができる、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
薬品（medicament）として使用するための、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
栄養補助食品として使用するための、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
コレステロールの管理もしくは高コレステロールの処置に使用するための、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
メタボリック症候群の管理もしくは処置に使用するための、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
体重管理に使用するための、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
糖尿病の処置に使用するための、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年7月25日(2018.7.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
本明細書で使用される場合、「非水性架橋性組成物」という用語とは、ポリマーが連続水相中に分散されていない架橋性組成物を意味する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
本明細書で使用される場合、「ポリアルデヒド」という用語は、２つ以上のアルデヒド基もしくはこれらの水和物を含有する分子、またはこれらのアセタールもしくはヘミアセタールを意味し、分子は本明細書に記載するように機能することができ、本発明の硬化ステップ中にポリ尿素と反応して、架橋されたポリ尿素を形成することができる。アルデヒド基は、本明細書で−Ｃ（＝Ｏ）Ｈまたは−ＣＨＯと記述され得る。特定の一実施形態において、アルデヒドはジアルデヒドである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年5月18日(2018.5.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水系プライマー組成物を金属表面上に塗布して平滑で連続的表面を有する硬化性プライマー膜を形成すること
を含む、接着結合前に、金属表面を処理するための表面処理方法であって、前記水系プライマー組成物が：
１つ以上のエポキシ樹脂；
少なくとも１つの硬化剤；
少なくとも１つの加水分解性基を有するシラン化合物；
プロピレンカーボネート；及び
水
を含み、前記水系プライマー組成物が、１０％〜２５％の固体含有率を有し、プロピレンカーボネート量が、前記プライマー組成物の総重量に対して、１５重量％未満であり、前記プライマー組成物のｐＨが６〜８の範囲内である、表面処理方法。
【請求項２】
前記水系プライマー組成物が、スプレーにより塗布される、請求項１に記載の表面処理方法。
【請求項３】
前記硬化剤が水溶性であり、プロピレンカーボネートを用いなければ前記プライマー組成物のｐＨがより高くなる、請求項１または２に記載の表面処理方法。
【請求項４】
前記プライマー膜が、周囲温度（２１℃〜２６℃）で、３０分以下で風乾される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表面処理方法。
【請求項５】
前記水系プライマー組成物が、腐食防止化合物をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理方法。
【請求項６】
前記金属表面が、アルミニウムまたはアルミニウム合金基材の表面である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理方法。
【請求項７】
前記水系プライマー組成物の塗布前に、前記金属表面に陽極酸化またはゾル−ゲル法を施して金属酸化物コーティングを形成する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理方法。
【請求項８】
水系プライマー組成物が金属表面上に塗布された平滑で連続的表面を有する硬化性プライマー膜を有する金属表面であって、前記水系プライマー組成物が：
１つ以上のエポキシ樹脂；
少なくとも１つの硬化剤；
少なくとも１つの加水分解性基を有するシラン化合物；
プロピレンカーボネート；及び
水
を含み、前記水系プライマー組成物が、１０％〜２５％の固体含有率を有し、プロピレンカーボネート量が、前記プライマー組成物の総重量に対して、１５重量％未満であり、前記プライマー組成物のｐＨが６〜８の範囲内である、金属表面。
【請求項９】
結合方法であって、
（ａ）水系プライマー組成物が：
１つ以上のエポキシ樹脂；
少なくとも１つの硬化剤；
少なくとも１つの加水分解性基を有するシラン化合物；
プロピレンカーボネート；及び
水
を含み、前記水系プライマー組成物が、１０％〜２５％の固体含有率を有し、プロピレンカーボネート量が、前記プライマー組成物の総重量に対して、１５重量％未満であり、前記水系プライマー組成物を金属表面上に塗布して、平滑で連続的表面を有する硬化性プライマー膜を形成すること；
（ｂ）金属基材を、第２の基材に接着結合し、それによって硬化性ポリマー接着剤を、前記プライマー膜及び前記第２の基材の間に位置させること；
（ｃ）前記接着剤を硬化して、結合された構造物を形成すること
を含み、前記プライマー組成物のｐＨが６〜８の範囲内である、結合方法。
【請求項１０】
前記水系プライマー組成物が、スプレーにより、工程（ａ）で塗布される、請求項９に記載の結合方法。
【請求項１１】
前記水系プライマー組成物が、腐食防止化合物をさらに含む、請求項９または１０に記載の結合方法。
【請求項１２】
前記第２の基材が、別の金属基材である、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の表面処理。
【請求項１３】
前記第２の基材が、アルミニウムまたはアルミニウム合金から生成される、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の結合方法。
【請求項１４】
前記第２の基材が、樹脂マトリックス及び強化繊維を含む複合基材である、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の結合方法。
【請求項１５】
工程（ｂ）で、前記金属基材と接合される際に、前記複合基材が硬化されない、請求項１４に記載の結合方法。
【請求項１６】
工程（ｂ）で、前記金属基材と接合される際に、前記複合基材が、部分的または完全に硬化される、請求項１４に記載の結合方法。
【請求項１７】
６〜８の範囲内のｐＨを有し、スプレーされ得る水系プライマー組成物であって、前記プライマー組成物が：
（ｉ）２０〜６０重量％の１つ以上のエポキシ樹脂；
（ｉｉ）合計１００部のエポキシ樹脂当たり、単独または１つ以上の触媒と併用して、２〜３０部の硬化剤；
（ｉｉｉ）１００部の水当たり、０．１〜１０部の量の有機シラン；
（ｉｖ）１〜１０重量％のプロピレンカーボネート；
（ｖ）１〜７重量％の、少なくとも１つのクロム酸塩または非クロム酸塩腐食防止剤；及び
（ｖｉ）１０％〜２５％の固体分となるように、水
を含む、水系プライマー組成物。
【請求項１８】
微粒子型無機フィラー、顔料、染料、及びその組合せから選択される０．１〜２重量％の添加剤をさらに含む、請求項１７に記載の水系プライマー組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年6月22日(2018.6.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
連結部分（ｂ）は、エステル、エーテル、尿素、またはウレタンなどの官能基で置換されるかどうかを問わず、例えば飽和または不飽和、分岐環状または直線状アルキル鎖、シロキサン鎖、エステル鎖、エーテル鎖、及び伝統的なポリマー化学において使用される原子の任意の鎖などのより短いまたはより長い鎖のうちの任意の１つ以上であり得る。好ましくは、連結部分（ｂ）は、Ｃ１−Ｃ２０直鎖または分岐アルキレン、アリーレン、アルカリーレン（ａｌｋａｒｙｌｅｎｅ）、またはアリールアルキレン基、より好ましくは、Ｃ２−Ｃ１０直鎖または分岐アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、またはアリールアルキレン基であり、アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、またはアリールアルキレン基は、他の基で置換されてもよいか、または置換基としてまたは主鎖に環状基を含有してもよい。このような基の例としては、限定されないが、メチレン、エチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、１，６−ビス（エチレン）シクロヘキサン、１，６−ビスメチレンベンゼンなどが挙げられる。アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、またはアリールアルキレン基は、ヘテロ原子、特に酸素、窒素、及び硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子によって中断され得る。重合性基（ａ）を有するモノマー単位を４Ｈ部分（ｃ）に連結する連結部分（ｂ）は、少なくとも２つの官能基、例えば、ヒドロキシ、カルボキシレート、カルボキシルエステル、ハロゲン化アシル、イソシアネート、チオイソシアネート、第一級アミン、第二級アミン、またはハロゲン官能、を有する化合物から誘導される。これらの官能基は、好ましくは、末端基として存在する。本発明によると、連結部分（ｂ）が誘導される、かかる好ましい化合物は、好ましくは、イソシアネートまたはチオイソシアネート末端基、より好ましくは、イソシアネート末端基を有するものである。好適なイソシアネートの例としては、ジイソシアネートまたはジチオイソシアネート、特にジイソシアネートである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年10月3日(2018.10.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼内レンズ（３３）を受承するデバイスであって、
第１の継手（２９）によって関節式に互いに接続され、開放位置から閉鎖位置に互いに対して移動でき、前記第１の継手（２９）から離れた側に長手方向縁部（２１、２３）を備える、第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）を備え、
−前記第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）は、前記開放位置では前記眼内レンズの挿入のために使用される開放チャンバ（４６）を形成し、
−前記第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）は、前記閉鎖位置では押出路を画定して前記眼内レンズを押し出すために使用される密閉チャンバ（３９）を形成する、デバイスにおいて、
前記デバイスは：
少なくとも１つのストッパ（５９）が、前記第１及び第２のハーフシェルのうちの前記第１のハーフシェル（１３）の上に変位可能又は枢動可能に配設され、
前記ストッパが、前記開放位置では、押出方向において前記開放チャンバ（４６）を制限し、前記閉鎖位置では、前記押出路に対して側方に、前記密閉チャンバ（３９）の実質的に外側に位置決めされる
ことを特徴とする、眼内レンズ（３３）を受承するデバイス。
【請求項２】
前記ストッパは、保持要素の上に形成され、
前記保持要素は、前記開放位置では前記開放チャンバ（４６）にブリッジするか又は架け渡され、前記閉鎖位置では前記密閉チャンバ（３９）の実質的に外側に位置決めされる
ことを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記ストッパは、変位可能又は枢動可能に配設され、前記保持要素は、前記第１のハーフシェル（１３）の前記長手方向縁部（２１）上で変位可能又は枢動可能に配設されることを特徴とする、請求項２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記保持要素は、第２の継手（４７）を介して前記第１のハーフシェル（１３）と接続され、
前記第２の継手（４７）は、ヒンジとして形成される
ことを特徴とする、請求項２又は３に記載のデバイス。
【請求項５】
保持要素支持体（６３）が、係合溝（５６）と共に、前記第２のハーフシェル（１５）の前記長手方向縁部（２３）上に設けられることを特徴とする、請求項２〜４のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項６】
前記第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）を閉鎖すると、前記保持要素が閉鎖中の前記開放チャンバ（４６）から出て前記第２のハーフシェル（１５）の前記長手方向縁部（２３）上をスライドすることを特徴とする、請求項２〜５のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項７】
前記第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）の前記閉鎖位置において、前記保持要素は、前記第１及び第２のハーフシェルの前記長手方向縁部（２１、２３）の間に挟み込まれることを特徴とする、請求項２〜６のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項８】
前記閉鎖位置では、前記保持要素は前記密閉チャンバ（３９）の実質的に外側に位置することを特徴とする、請求項２〜７のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項９】
少なくとも２つの前記保持要素が存在し、
各前記保持要素は、少なくとも１つのストッパ（５９）、前記眼内レンズ（３３）の前部ハプティックのための第１のストッパと、前記眼内レンズ（３３）の後部ハプティックのための第２のストッパとを支持する
ことを特徴とする、請求項２〜８のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１０】
ウィング（２５、２７）は、両方の前記第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）上に、前記第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）の前記長手方向縁部（２１、２３）上に配設されることを特徴とする、請求項２〜９のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記閉鎖位置では、前記保持要素は、前記密閉チャンバ（３９）の実質的に外側に、かつ前記ウィング（２５、２７）の間に位置することを特徴とする、請求項１０に記載のデバイス。
【請求項１２】
クロージャ（７３）が、前記ウィング（２５、２７）上に形成されることを特徴とする、請求項１０または１１に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）のそれぞれは、スライドレールとして形成された支持体（３５、３７）を具備することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１４】
インジェクタハウジング（１）の受承開口部に挿入するためのプラグデバイス（７３）を、前記第１及び第２のハーフシェル（１３、１５）のうちの１つの上に形成することを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記デバイスは、インジェクタへの挿入のためのカートリッジとして形成されることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項１６】
カートリッジとして形成される請求項１〜１５のいずれか１項に記載のデバイスを有する、インジェクタハウジング（１）及びプランジャ（９）を有するインジェクタであって、
前記プランジャは、前記インジェクタハウジング内で長手方向に変位可能である、インジェクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月4日(2018.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機械操作設定情報を決定するシステムであって、当該システムは、
人の睡眠品質に関する情報を伝達する睡眠品質データを入力するためのデータインターフェースと、
前記人の睡眠品質を示す睡眠品質指示情報を前記入力された睡眠品質データに基づいて決定する睡眠品質評価ユニットであって、前記睡眠品質指示情報は無呼吸又は呼吸低下事象の数に基づいて決定される睡眠品質評価ユニットと、
前記人による機械の意図される操作前に、前記人による前記機械の許可された操作を示す機械操作設定情報を前記睡眠品質指示情報に基づいて決定する安全ユニットと、
を有し、
前記機械操作設定情報は、前記機械の操作に対する制限又は制約を示し、前記機械の何の機能が前記人によりアクセスすることができるか及び該機能の各々を何の程度アクセスすることができるかを定めるアクセス可能機能範囲を記述した値を含み、
前記機械操作設定情報は、前記機械の最大運転持続時間、前記機械に前記人と共に搭乗することが許容される乗客の数、前記機械の最大荷重、前記機械の休憩無しでの運転期間、前記機械の運転速度、前記機械の１以上の可動部分の最大操作速度、前記機械の運転中の前記人の最少所要休息時間、又は前記人に対する所要の休止及び／若しくは前記人の所要の監視の数及び／若しくは期間のうちの１以上を含む、
システム。
【請求項２】
前記機械と通信すると共に前記機械の操作を前記決定された機械操作設定情報に基づいて制御するための機械インターフェースを更に有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記睡眠品質データが、前記人による前記機械の意図される操作前の或る期間の間に決定されたデータを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記睡眠品質データが、脳波図、眼電図、筋電図、心電図、口及び／又は鼻気流、鼾音量、眼球運動のレベル並びに身体運動のレベルを表す１以上の信号を含んだ前記人の睡眠ポリグラムを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記睡眠品質データが、前記人の睡眠期間中の無呼吸及び呼吸低下事象についての直接的又は間接的情報を伝達するデータを含み、
前記睡眠品質評価ユニットが、前記人の無呼吸／呼吸低下指標の推定値を決定する、
請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記睡眠品質評価ユニットが前記睡眠品質指示情報をニューラルネットワーク解析に基づいて決定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記安全ユニットが前記決定された睡眠品質指示情報を閾値と比較する、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記データインターフェースは前記睡眠品質データに加えて前記人の病状の進展を示す医療履歴データを更に入力し、
前記睡眠品質評価ユニットは前記睡眠品質指示情報を前記入力された睡眠品質データ及び前記医療履歴データに基づいて決定する、
請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記睡眠品質データを少なくとも部分的に形成する少なくとも１つのセンサ信号をキャプチャするために前記データインターフェースに接続された、
前記人の動きを示すセンサ信号をキャプチャするための加速度センサ、
前記人の目の動きを示すセンサ信号をキャプチャするためのカメラセンサ、
前記人の呼吸を示すセンサ信号をキャプチャするための流量センサ、
前記人の呼吸音を示すセンサ信号をキャプチャするための音響センサ、
前記人の血中酸素飽和度を示すセンサ信号をキャプチャするための血中酸素濃度センサ、及び
前記人のバイタルサインを示すセンサ信号をキャプチャするための光電式容積脈波記録センサ、
のうちの少なくとも１つを更に有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
呼吸可能ガスの加圧流を発生する圧力発生器、
前記呼吸可能ガスの加圧流を前記人に供給するための患者インターフェース、及び
前記人の呼吸を示すセンサ信号をキャプチャするための流量センサ、
を含む圧力支援システムを更に有し、
前記流量センサが前記データインターフェースに接続され、前記センサ信号が前記睡眠品質データを少なくとも部分的に形成する、
請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記機械の操作を前記決定された機械操作設定情報に基づいて前記許可された操作に限定するインターロック装置を更に有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
請求項２に記載のシステムと通信すると共に人による前記機械の許可された操作を示す機械操作設定情報を受信するための安全システムインターフェースであって、前記機械操作設定情報が前記機械の何の機能が前記人によりアクセスすることができるか及び該機能を何の程度アクセスすることができるかを定めるアクセス可能機能範囲を記述した値を含む安全システムインターフェースと、
前記機械の操作を前記機械操作設定情報に含まれる前記値に基づいて前記許可された操作に限定するインターロック装置と、
を有する、機械。
【請求項１３】
機械操作設定情報を決定する方法であって、当該方法は、
人の睡眠品質に関する情報を伝達する睡眠品質データを入力するステップと、
前記人の睡眠品質を示す睡眠品質指示情報を前記入力された睡眠品質データに基づいて決定するステップであって、前記睡眠品質指示情報は無呼吸又は呼吸低下事象の数に基づいて決定される、ステップと、
前記人による機械の意図される操作前に、前記人による前記機械の許可された操作を示す機械操作設定情報を前記睡眠品質指示情報に基づいて決定するステップと、
を有し、
前記機械操作設定情報は、前記機械の操作に対する制限又は制約を示し、前記機械の何の機能が前記人によりアクセスすることができるか及び該機能の各々を何の程度アクセスすることができるかを定めるアクセス可能機能範囲を記述した値を含み、
前記機械操作設定情報は、前記機械の最大運転持続時間、前記機械に前記人と共に搭乗することが許容される乗客の数、前記機械の最大荷重、前記機械の休憩無しでの運転期間、前記機械の運転速度、前記機械の１以上の可動部分の最大操作速度、前記機械の運転中の前記人の最少所要休息時間、又は前記人に対する所要の休止及び／若しくは前記人の所要の監視の数及び／若しくは期間のうちの１以上を含む、
方法。
【請求項１４】
コンピュータ上で実行された場合に該コンピュータに請求項１３に記載の方法のステップを実行させるプログラムコード手段を有する、コンピュータプログラム。
【請求項１５】
前記睡眠品質指示情報は、無呼吸事象の数、呼吸低下事象の数、及び前記人が眠った時間量に基づいて決定される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記機械の前記意図される操作が始まるように、前記人の携帯デバイスからの安全コードの受信を支援する第２のデータインターフェースを更に有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記睡眠品質指示情報は、無呼吸事象の数、呼吸低下事象の数、及び前記人が眠った時間量に基づいて決定される、請求項１３に記載の方法。