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【手続補正書】
【提出日】平成30年4月11日(2018.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウムを含有する雲母含量が豊富な鉱物からリチウムを回収する方法であって、
リチウムを含有する雲母含量が豊富な鉱物を１つ以上含む鉱石を少なくとも１つの前処理工程に付すことと、
前記前処理された鉱石を酸浸出工程に付すことで浸出スラリーを生産し、次に浸出スラリーを固液分離工程に付して、当該分離工程により浸出残渣および貴浸出溶液を生産することと、
前記貴浸出溶液を一連の処理工程に供することで１つ以上の不純物金属を取り除くことと、
リチウム含有塩の生成物としてリチウムを回収することとを含む、方法。
【請求項２】
前記リチウム含有塩はＬｉ２ＣＯ３である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記雲母含量の豊富な鉱物は、レピドライトおよび／またはチンワルダイトを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記前処理工程が、濃縮工程および粉砕工程のいずれか１つまたは両方を含み、前記粉砕工程が、以下の粒子サイズを有する生成物を生成させることを含んでいてもよい、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法：
ａ．Ｐ８０が１５０ミクロン未満；または
ｂ．Ｐ８０が７５ミクロン未満。
【請求項５】
濃硫酸が浸出工程中に添加され、かつ前記浸出工程は沸点に近い温度にて大気条件下で実行される、請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記浸出残渣がシリカを含有する、請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記浸出工程はＨ２ＳＯ４過剰な状態で実行されて、遊離酸濃度が約５０ｇ／ＬのＨ２ＳＯ４より高くなる、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
総硫酸塩濃度が、浸出温度における前記溶液の飽和限界に近くなる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記浸出工程の保持時間が約６〜１８時間の間であり、約１２時間の保持時間で約９０％を超える金属抽出が達成されてもよい、請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
選択的結晶化を利用して、蒸発による冷却、または蒸発によらない冷却によって、貴浸出溶液から１価のミョウバン塩の混合物を沈殿させる、請求項１から９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
ミョウバンを結晶化させた後に、１価のミョウバン塩が、濾過またはデカンテーションによって、前記溶液から分離されて濾液を形成し、形成された濾液は、貴浸出溶液に含まれるリチウムの約９５％より多くを含み、かつリチウム含有濾液に存在する不純物を、低ｐＨ不純物除去工程にて塩基を添加することで沈殿させて除去することによりミョウバン石を沈殿させ、次いでフッ化物沈澱を生じさせる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
低ｐＨ不純物除去工程が、９０℃を超える温度、およびｐＨ２〜３の範囲で行われる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記低ｐＨ不純物除去工程で生じた濾液を高ｐＨ不純物除去工程に付し、塩基の添加によって、マンガンまたはマグネシウムのいずれかを含む不純物卑金属を沈殿させ、かつ１価の炭酸塩を添加することで、カルシウムを前記高ｐＨ不純物除去工程の濾過生成物から沈殿させる、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記１価のミョウバン塩の混合物を水に再溶解し、選択的沈殿に付してＡｌ（ＯＨ）３を沈殿させ、かつＡｌ（ＯＨ）３の沈殿物を、濾過またはデカンテーションによって分離させて、その結果生じる濾液に１価のカチオン塩が含まれる、請求項１０から１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記１価のカチオン塩は、さらに処理されることでギ酸塩を供するルビジウムおよびセシウム硫酸塩を含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
リチウム含有雲母を豊富に含む鉱物からフッ化物も回収する方法であって、
ａ）前記浸出溶液から１価のミョウバン塩を分離することで生じる濾液から、フッ化アルミニウムおよび硫酸アルミニウムの複塩であるカーデマイトを選択的に結晶化することと、
ｂ）濾過またはデカンテーションによって、前記液体からカーデマイトを分離することという付加的な方法の工程を含む、請求項１から１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記酸浸出残渣からケイ酸塩生成物もまた回収する、請求項６に記載の方法であって、
以下のさらなる方法の工程
（ｉ）水酸化ナトリウム溶液でシリカ含有浸出残渣を浸出し、浸出スラリーを生成することと、
（ｉｉ）前記浸出スラリーを濾過および洗浄することで、非晶質シリカを枯渇させた浸出残渣およびケイ酸ナトリウムを含有する浸出溶液を生成することと、
を含む方法。
【請求項１８】
非晶質シリカの抽出が７０〜９５％の範囲である、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月5日(2018.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低窒素で実質的に窒化物を含まないクロム又はクロム及びニオブ含有ニッケル基合金を製造するための工程であって、
ａ）溶融状態で多量の窒素を溶解しない元素又は元素の化合物を真空誘導炉のなかの耐火るつぼに装入して、そのなかで該元素又は化合物を減圧下で溶融し、
ｂ）制御されたやり方で、炭素に基づいた不均質な気泡核を生成し、それにより、前記溶融物から、少なくとも一部の窒素及び酸素を除去し、
ｃ）気泡形成が停止したのち、クロム又はクロム含有母合金を前記溶融物に添加し、該クロム又はクロム含有合金は、
ｉ）クロム化合物及び金属還元剤を含むテルミット混合物を、テルミット反応に耐え得る真空容器のなかに収容して、真空脱気し、
ｉｉ）該容器のなかで、前記テルミット混合物に点火して、前記クロム化合物を還元し、
ｉｉｉ）前記反応生成物を凝固し、
ｉｖ）前記反応生成物を冷却する
ことにより調製し、前記点火することと、前記凝固することと、前記冷却することとを、１バール未満の圧力下で行い、
ｄ）添加した該クロム又はクロム含有母合金を溶融して、前記溶融物全体に分布させ、
ｅ）得られた前記組み合わせ溶融物を、ある温度及び周囲圧力にして、出湯できるようにし、
ｆ）得られた前記溶融物を、直接又は間接に金属製鋳型に出湯して、減圧下で前記溶融物を凝固し冷却する
ことを備える、工程。
【請求項２】
請求項１記載の工程において、
前記クロム又はクロム含有合金に対してあらかじめ行う前記工程で用いる前記還元剤は、アルミニウムである、工程。
【請求項３】
請求項１又は２記載の工程において、
前記クロム又はクロム含有合金に対してあらかじめ行う前記工程で用いる前記テルミット混合物は、少なくとも一つのエネルギー・ブースターを、更に含む、工程。
【請求項４】
請求項１乃至３いずれか記載の工程において、
前記真空脱気した後、前記点火する前に、前記真空容器のなかの前記圧力を、非窒素気体の導入により約２００ミリバールまで上げる、工程。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれか記載の工程において、
前記反応生成物を冷却することは、前記反応生成物を、１バール未満の圧力下で冷却して、周囲温度にすることを含む、工程。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれか記載の工程において、
該元素又は化合物を溶融することは、該元素又は化合物を、０．１ミリバールより低い減圧下で溶融することを含む、工程。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれか記載の工程において、
添加される前記クロム又は前記クロム含有母合金は、窒素含有量が５ｐｐｍ未満である、工程。
【請求項８】
請求項１乃至６いずれか記載の工程において、
添加される前記クロム又は前記クロム含有母合金は、窒素含有量が１０ｐｐｍ未満である、工程。
【請求項９】
請求項１乃至８いずれか記載の工程は、更に、
前記真空脱気した後、前記点火する前に、前記容器に不活性ガスを再充填して、１００から２００ミリバールの間の圧力にする
ことを備える、工程。
【請求項１０】
請求項１乃至９いずれか記載の工程において、
前記点火することと、前記凝固することとを、２００ミリバールまでの圧力下で行う、工程。
【請求項１１】
請求項１乃至９いずれか記載の工程において、
前記点火することと、前記凝固することとを、２００ミリバールの圧力下で行う、工程。
【請求項１２】
請求項１乃至９いずれか記載の工程において、
前記点火することと、前記凝固することとを、１００から２００ミリバールの間の圧力下で行う、工程。
【請求項１３】
請求項１乃至１２いずれか記載の工程において、
添加した該クロム又はクロム含有母合金を溶融することと、前記溶融物全体に分布させることとは、添加した該クロム又はクロム含有母合金を、減圧下で溶融し分布させることを含む、工程。
【請求項１４】
請求項１乃至１３いずれか記載の工程において、
前記テルミット混合物を真空脱気することは、前記テルミット混合物を真空脱気して、１ミリバール未満の初期圧力にすることを含む、工程。
【請求項１５】
請求項１乃至１４いずれか記載の工程において、
製造される前記クロム又はクロム及びニオブ含有ニッケル基合金は、５ｐｐｍ未満の窒素を含有する、工程。
【請求項１６】
請求項１乃至１４いずれか記載の工程において、
製造される前記クロム又はクロム及びニオブ含有ニッケル基合金は、１０ｐｐｍ未満の窒素を含有する、工程。
【請求項１７】
請求項１乃至１６いずれか記載の工程において、
制御されたやり方で黒鉛を注入することにより、炭素に基づいた不均質な前記気泡核を、得られた前記溶融物に生成する、工程。
【請求項１８】
請求項１乃至１７いずれか記載の工程において、
得られた前記合金を、真空アーク再溶融炉のなかで再溶融し、均質化させ、その後、所望の形状に鍛造する、工程。
【請求項１９】
請求項１乃至１８いずれか記載の工程において、
炭素微粒子、棒、管又は円筒の形状の炭素、及び、それらの組み合わせからなる群から選択された部材形状の炭素を、制御されたやり方で挿入することにより、炭素に基づいた前記気泡核を生成する、工程。
【請求項２０】
請求項１乃至１９いずれか記載の工程において、
前記テルミット混合物は、ニッケル、鉄、コバルト、ホウ素、炭素、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステン、レニウム、銅、及びこれらの混合物からなる群から選択された元素を、これらの金属の形態で、又は金属熱還元可能なこれらの化合物として、更に含有する、工程。
【請求項２１】
請求項１乃至２０いずれかの工程によって製造され、窒素を１０ｐｐｍ未満含有する、
低窒素で実質的に窒化物を含まないクロム又はクロム及びニオブ含有ニッケル基合金。
【請求項２２】
請求項１乃至２０いずれかの工程によって製造され、窒素を５ｐｐｍ以下含有する、
低窒素で実質的に窒化物を含まないクロム又はクロム及びニオブ含有ニッケル基合金。
【請求項２３】
請求項１乃至２０いずれかの工程によって製造され、実質的に検出可能な窒素を含有しない、
低窒素で実質的に窒化物を含まないクロム又はクロム及びニオブ含有ニッケル基合金。
【請求項２４】
請求項１乃至２０いずれか記載の工程によって製造され、窒素を１０ｐｐｍ未満含有する、合金７１８。
【請求項２５】
請求項１乃至２０いずれか記載の工程によって製造され、窒素を５ｐｐｍ未満含有する、合金７１８。
【請求項２６】
請求項１乃至２０いずれか記載の工程によって製造され、実質的に検出可能な窒素を含有しない、合金７１８。
【請求項２７】
ニッケル、鉄、コバルト、ホウ素、炭素、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステン、レニウム、銅、及びこれらの混合物からなる群から選択される一以上の元素を更に含有し、窒素含有量が１０ｐｐｍ未満であり、請求項１乃至２０いずれかの工程により調製された、クロム含有合金。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月5日(2018.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬＮＧ、油又はガス等の炭化水素を貯蔵及び積み込み又は積み下ろしするための浅瀬の海底ターミナル（４０）であって、浮揚性の取り外し可能なモジュール（２０）、及び、海底（１９）によって支持されることが意図される取り外し可能な海底基礎構造（１０）を備えており、前記浮揚性の取り外し可能なモジュール（２０）は、前記海底基礎構造（１０）に解放可能に固定されることで港湾ターミナルを形成し、前記海底基礎構造（１０）は、浮き装置が設けられるベース構造（１１）、該ベース構造（１１）から上に延びるとともに該ベース構造（１１）の外周の少なくとも一部に沿って配置される上方に延びる壁構造（１２）を備えており、前記ベース構造には、前記浮揚性の取り外し可能なモジュール（２０）を前記海底基礎構造（１０）において結合するとともに該海底基礎構造（１０）によって支持することを可能にする、前記壁構造（１２）の開口部（１８）も設けられており、
前記ベース構造（１１）には、前記浮揚性の取り外し可能なモジュールを支持するように構成されている、垂直な前記壁構造（１２）から横方向に延びる水中ビーム又はベーススラブ構造（３５）が設けられており、該水中ビーム又はスラブ構造（３５）には、海底土壌内に押し込まれる杭を受け入れるように構成されている、前記水中ビーム又はスラブ構造（３５）を通って延びるスリーブ又はダクトが設けられていることを特徴とする、浅瀬の海底ターミナル（４０）。
【請求項２】
前記杭のヘッドは、海水面（３７）の下で終端することが意図される、請求項１に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項３】
前記杭のヘッドは、前記水中ビーム又はスラブ構造（３５）の上側面と面一である、請求項１に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項４】
前記スリーブ又はダクトは、垂直線と角度αを形成し、杭を、杭打ちされたときに傾斜位置に固定する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項５】
前記ベース構造（１１）の下面は、前記海底土壌（１９）との荷重支承接点を有さず、前記海底ターミナルの可変の動作上の環境の荷重は前記杭によって受け取られる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項６】
前記ベース構造（１１）はジャケットフレーム構造である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項７】
前記壁構造（１２）は、前記ベース構造（１１）の一体部分であり、海底基礎構造（１０）ユニットを形成する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項８】
前記海底基礎構造（１０）はバラストで安定させる手段を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項９】
前記壁構造（１２）の少なくとも一部が水面の上に延びる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項１０】
前記海底基礎構造（１０）は、前記壁構造（１２）の上部から該壁構造（１２）の底部を通って延びる壁構造（１２）の杭打ち手段も有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項１１】
前記浮揚性の取り外し可能なモジュール（２０）を導入するための前記壁構造（１２）の開口部（１８）は、閉止機構によって閉止可能であり、前記ベース構造（１１）の外周において閉止された壁構造（１２）を形成する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項１２】
前記ダクト又はスリーブには下側端にシール装置が設けられ、グラウトが下方に逃げることを防止する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項１３】
前記ダクト又はスリーブの内側面には、前記杭が内側のダクト又はスリーブの壁に直接接触することを防止するように構成されているスペーサが設けられ、それによって、グラウトを充填するための環状部を確立する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項１４】
前記ダクト又はスリーブの内側面には、前記杭が内側のダクト又はスリーブの壁に直接接触することを防止するように構成されているスペーサが上側端及び下側端に設けられ、それによって、グラウトを充填するための環状部を確立する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項１５】
前記ダクト又はスリーブの内側面には、複数のせん断提供装置が設けられ、前記ダクト又はスリーブの内側壁面と前記杭の外側壁面との間に適切なせん断及び付着をもたらす、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項１６】
前記ベース構造（１１）は、前記浮揚性の取り外し可能なモジュール（２０）と同じ数の隔壁に分割され、該隔壁の垂直壁が構造ビームを形成することで、前記浮揚性の取り外し可能なモジュール（２０）の垂直力が前記ベース構造（１１）の構造ビームに直接的に伝達される、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【請求項１７】
前記浮揚性の取り外し可能なモジュール（２０）は、機械的なロック装置によって、又は、せん断力プレートを前記海底基礎構造（１０）に溶接することによって、前記ベース構造（１１）にロックされる、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の海底ターミナル（４０）。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月16日(2018.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式：Ａ／１０．Ｔの半芳香族コポリアミドを調製する工業的方法であって、
Ａが、ラクタムまたはＣ９からＣ１２アミノ酸の重縮合から得られる単位を示し、
１０．Ｔが、１，１０−デカンジアミンとテレフタル酸との重縮合から得られる単位を示し、
少なくとも１つの直鎖のＣ１からＣ７脂肪酸の存在下でのコモノマー、即ち、アミノ酸またはラクタム、１，１０−デカンジアミンおよびテレフタル酸の重縮合工程を含み、反応器内での発泡の程度が、重縮合中に、直鎖のＣ１からＣ７脂肪酸がなくても観察される程度と比較して実質的に低下していることを特徴とする該方法。
【請求項２】
重縮合工程が、消泡剤の不存在下で実施される、請求項１に記載の工業的調製方法。
【請求項３】
発泡の程度が、直鎖のＣ１からＣ７脂肪酸がなくても観察される程度と比較して、少なくとも１０％低下する請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
重縮合工程が、同じ反応器内の単一工程で２００から３００℃の温度で、３０バールまで上昇し、徐々に大気圧以下の圧力まで低下された圧力において実施され、重合を完了させる、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
重縮合工程が３つの工程で実施され、以下の工程：
ａ．  プレポリマーを得るために、コモノマーを前記少なくとも１つの脂肪酸の存在下で２００℃から３００℃の温度で加熱することによる濃縮器における予備重合の第１の工程；
ｂ．  プレポリマーを濃縮器から２２０から２８０℃の温度で１０から２０バールの圧力で重合器に移送する第２の工程；
ｃ．  ２００から３００℃の温度で、３０バールまで上昇し、次いで大気圧以下の圧力まで低下された圧力において加熱することにより重合させ、重合を完了させて前記コポリアミドを得る第３の工程
を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
発泡の程度の低下が、少なくとも第１の工程の間、濃縮器において起きる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
直鎖脂肪酸が、プロパン酸および酢酸から選択される、請求項１から６のいずれか一項に記載の工業的調製方法。
【請求項８】
半芳香族コポリアミドが、１１／１０．Ｔである、請求項１から７のいずれか一項に記載の工業的調製方法。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に定義された方法を介して得ることができる半芳香族コポリアミド。
【請求項１０】
コポリアミドが、１１／１０．Ｔである、請求項９に記載の半芳香族コポリアミド。
【請求項１１】
直鎖のＣ１からＣ７脂肪酸がなくても観察される程度と比較して、請求項１から８のいずれか一項に定義された半芳香族コポリアミドのコモノマーの重縮合工程中に、反応器内の発泡の程度を実質的に低下させるための連鎖制限剤としての直鎖のＣ１からＣ７脂肪酸の使用。
【請求項１２】
重縮合工程が、消泡剤の不存在下で実施される、請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】
発泡の程度が、直鎖のＣ１からＣ７脂肪酸がなくても観察される程度と比較して、少なくとも１０％低下する、請求項１１または１２に記載の使用。
【請求項１４】
直鎖脂肪酸が、酢酸である、請求項１１から１３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１５】
半芳香族コポリアミドが、１１／１０．Ｔである、請求項１１から１４のいずれか一項に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月1日(2018.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス貯蔵内部容積を画定する容器コンテナ、並びに、前記容器コンテナに固定されたバルブヘッド調整器アセンブリであって、前記容器コンテナの前記内部容積内に配置された単一のガス圧力調整器、及びガス流制御バルブを含むバルブヘッドを備えた、バルブヘッド調整アセンブリを備え、前記単一の調整器が少なくとも０．５ＭＰａの設定点圧力を有するように構成され、前記容器コンテナの前記内部容積が少なくとも５Ｌである、ガス貯蔵分配容器。
【請求項２】
前記単一の調整器の前記設定点圧力が、０．５ＭＰａから１．５ＭＰａまでの範囲内に含まれる、請求項１に記載のガス貯蔵分配容器。
【請求項３】
前記容器コンテナの前記内部容積が、４０Ｌから２２０Ｌまでの範囲内に含まれる、請求項１に記載のガス貯蔵分配容器。
【請求項４】
前記容器コンテナの前記内部容積内に、４ＭＰａから１４ＭＰａまでの範囲内に含まれる圧力のガスを収容している、請求項１に記載のガス貯蔵分配容器。
【請求項５】
前記ガスが、アルシン、ホスフィン、三フッ化窒素、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、ジボラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、ジシラン、シラン、ゲルマン、有機金属ガス状試薬、セレン化水素、テルル化水素、スチビン、クロロシラン、トリシラン、メタン、硫化水素、水素、フッ化水素、ジボロン四フッ化物、塩化水素、塩素、フッ素化炭化水素、ハロゲン化シラン、ＳｉＦ４、ハロゲン化ジシラン、Ｓｉ２Ｆ６、ＧｅＦ４、ＰＦ３、ＰＦ５、ＡｓＦ３、ＡｓＦ５、Ｈｅ、Ｎ２、Ｏ２、Ｆ２、Ｘｅ、Ａｒ、Ｋｒ、ＣＯ、ＣＯ２、ＣＦ４、ＣＨＦ３、ＣＨ２Ｆ２、ＣＨ３Ｆ、ＮＦ３、ＣＯＦ２、以上のうちの２以上の混合物、及び同位体が濃縮されたそれらの変異物、から成る群から選択されたガスを含む、請求項４に記載のガス貯蔵分配容器。
【請求項６】
前記ガス貯蔵分配容器が配置されるガスキャビネットと組み合わされる、請求項１に記載のガス貯蔵分配容器。
【請求項７】
（ｉ）前記ガス貯蔵分配容器が配置されるガスボックス、及び（ｉｉ）前記ガスボックスに対して昇圧された電圧で動作するように構成された処理ツールであって、前記ガスボックス内に配置される前記ガス貯蔵分配容器からのガスを受容するように配置された、処理ツールと組み合わされる、請求項１に記載のガス貯蔵分配容器。
【請求項８】
前記ガス貯蔵分配容器からのガスを受容する浮遊帯結晶化装置と動作可能に連結される、請求項１に記載のガス貯蔵分配容器。
【請求項９】
フラットパネルディスプレイ製品の製造のためにガスを供給するように動作可能に配置された、請求項１に記載のガス貯蔵分配容器を備えた、フラットパネルディスプレイ製造処理システム。
【請求項１０】
ガス利用処理設備内での使用のために、請求項１に記載のガス貯蔵分配容器内にパッケージされたガスを供給することを含む、ガス利用処理設備の作動を向上させる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月18日(2018.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チェックバルブであって、
いずれもそれと流体連通状態の第１のポートおよび第２のポートを有する内部キャビティを画定すると共に、第１の弾性Ｖリングシールによって画定される第１のシートと、第２のシートと、を有するハウジングと、
前記第１の弾性Ｖリングシールの半径方向内側に配置された第２の弾性Ｖリングシールと、
前記内部キャビティ内のチェックバルブプレートであって、前記チェックバルブプレートは、圧力差に応答して、ハウジングの内部キャビティ内で、前記第１のシートに当接する閉位置と前記第２のシートに当接する開位置との間で並進移動可能であるチェックバルブプレートと、を備え、
前記第１の弾性Ｖリングシールは、前記内部キャビティと前記第１のポートとの間の流体連通のために、前記ハウジングによって画定される開口を取り囲むように配置される、チェックバルブ。
【請求項２】
前記第１の弾性Ｖリングシールは、前記ハウジングによって画定された環状チャネルに対する締まり嵌めを有する本体と、前記内部キャビティ内への前記弾性Ｖリングシールを通る流れから離れると共にそれに対して直交する方向に開口する、断面で見て略Ｖ字形ボイドを画定する方向に前記本体から延びるリップと、を含む、請求項１に記載のチェックバルブ。
【請求項３】
前記第１の弾性Ｖリングシールは、前記チェックバルブプレートの主面と、この主面の外周近傍で係合するように前記ハウジング内に配置される、請求項１に記載のチェックバルブ。
【請求項４】
前記チェックバルブプレートは連続プレートである、請求項１に記載のチェックバルブ。
【請求項５】
前記ハウジングは、前記閉位置と開位置との間でそれが並進移動するとき前記チェックバルブプレートを案内するよう配置された前記内部キャビティ内へと延びる一つ以上のアライメント部材をさらに備える、請求項１に記載のチェックバルブ。
【請求項６】
前記ハウジングは略中央アライメント部材を有し、前記チェックバルブプレートはそれを貫通するボアを有し、前記略中央アライメント部材は前記チェックバルブプレートの前記ボアに収容される、請求項５に記載のチェックバルブ。
【請求項７】
前記第２の弾性Ｖリングシールの本体およびリップによって形成された略Ｖ字形ボイドの開口が前記略中央アライメント部材に面する状態で、前記第２の弾性Ｖリングシールは、前記略中央アライメント部材の周囲であってかつその近傍に配置される、請求項６に記載のチェックバルブ。
【請求項８】
前記第２のシートは、前記内部キャビティ内へと延びる、複数の半径方向に離間したフィンガーである、請求項１に記載のチェックバルブ。
【請求項９】
前記チェックバルブプレートは剛性材料からなる、請求項１に記載のチェックバルブ。
【請求項１０】
チェックバルブであって、
いずれもそれと流体連通状態の第１のポートおよび第２のポートを有する内部キャビティを画定し、前記内部キャビティ内に配置された複数のアライメント部材を有し、第１の弾性Ｖリングシールによって画定される第１のシートおよび第２のシートを有するハウジングと、
前記内部キャビティ内のチェックバルブプレートであって、前記チェックバルブプレートは、圧力差に応答して、ハウジングの内部キャビティ内で、前記第１のシートに当接する閉位置と前記第２のシートに当接する開位置との間で並進移動可能であるチェックバルブプレートと、を備え、
前記第１の弾性Ｖリングシールは、前記内部キャビティと前記第１のポートとの間の流体連通のために、前記ハウジングによって画定される開口を取り囲むように配置され、
前記チェックバルブプレートはコグ付き周縁を有し、各コグは前記複数のアライメント部材の連続するアライメント部材間に存在する、チェックバルブ。
【請求項１１】
前記複数のアライメント部材は前記内部キャビティの内壁から内側に突出し、かつ、前記チェックバルブプレートは均一な外径を有する、請求項１０に記載のチェックバルブ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月16日(2018.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
シリンジの公称容積は、１ｍｌから１５０ｍｌ、好ましくは２ｍｌから１２５ｍｌ、より好ましくは３ｍｌから１００ｍｌ、より好ましくは４ｍｌから７５ｍｌ、または５ｍｌから５０ｍｌの範囲の場合がある。好ましくは、シリンジの公称容積は、１ｍｌ、２ｍｌ、２．２５ｍｌ、２．５ｍｌ、３ｍｌ、４ｍｌ、５ｍｌ、１０ｍｌ、１５ｍｌ、２０ｍｌ、３０ｍｌ、４０ｍｌ、５０ｍｌ、７５ｍｌ、１００ｍｌ、１２５ｍｌ、または１５０ｍｌである。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月29日(2018.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粘膜付着性製剤であって、
（ｉ）粘膜付着性ポリマーを有する、水を封入可能なクラスレートホスト、または（ｉｉ）粘膜付着性ポリマー、及び水を封入可能なクラスレートホスト、のいずれかと、
７５％より低い濃度の遊離水と、
前記製剤中の前記遊離水の濃度の少なくとも２５％かつ前記製剤の少なくとも１０％の濃度のＣ４−Ｃ６糖アルコールと、
を有し、前記製剤中における前記粘膜付着性ポリマー及びクラスレートホストの量は、前記製剤が口腔粘膜に適用される場合にｉｎ  ｓｉｔｕで前記Ｃ４−Ｃ６糖アルコールを保持するのに十分な量である、製剤。
【請求項２】
請求項１記載の粘膜付着性製剤において、前記Ｃ４−Ｃ６糖アルコールはキシリトールである、粘膜付着性製剤。
【請求項３】
請求項２記載の粘膜付着性製剤において、前記クラスレートホストは前記粘膜付着性ポリマーを有する、粘膜付着性製剤。
【請求項４】
請求項３記載の粘膜付着性製剤において、前記粘膜付着性ポリマーはポリアクリレートであり、前記クラスレートホストはグリセリンと前記ポリアクリレートとを有する、粘膜付着性製剤。
【請求項５】
請求項２記載の粘膜付着性製剤において、前記キシリトールの濃度は前記製剤中の前記遊離水の濃度の少なくとも５０％である、粘膜付着性製剤。
【請求項６】
請求項２記載の粘膜付着性製剤において、前記キシリトールの濃度は前記製剤中の前記遊離水の濃度と少なくとも等しい、粘膜付着性製剤。
【請求項７】
請求項２記載の粘膜付着性製剤において、前記キシリトールの濃度は前記製剤の３５％より高い、粘膜付着性製剤。
【請求項８】
請求項２記載の粘膜付着性製剤において、前記クラスレートホストと前記キシリトールとの相対濃度ｗ／ｗ％は１：１〜１：１０である、粘膜付着性製剤。
【請求項９】
請求項１記載の粘膜付着製剤であって、糖アルコール以外にはアルコールを含まない、粘膜付着性製剤。
【請求項１０】
請求項２記載の粘膜付着性製剤において、前記キシリトールは前記粘膜付着性製剤中の全成分のうち、最も高い濃度の成分である、粘膜付着性製剤。
【請求項１１】
請求項２記載の粘膜付着性製剤であって、さらに、グリセリンを有する、粘膜付着性製剤。
【請求項１２】
請求項１１記載の粘膜付着性製剤において、前記グリセリンの濃度は前記製剤中の前記キシリトールの濃度の半分より低い、粘膜付着性製剤。
【請求項１３】
請求項１記載の粘膜付着性製剤であって、液体、または半固体である、粘膜付着性製剤。
【請求項１４】
請求項１３記載の粘膜付着性製剤において、前記粘膜付着性製剤が液体の場合、前記液体はマウスリンスまたはマウススプレーであり、前記粘膜付着性製剤が半固体の場合、前記半固体はゲルまたはペーストである、粘膜付着性製剤。
【請求項１５】
請求項４記載の粘膜付着性製剤であって、さらに、グリセリンと、前記クラスレートホストの一部であるグリセリンとを有する、粘膜付着性製剤。
【請求項１６】
請求項１５記載の粘膜付着性製剤において、前記製剤中の前記キシリトールの濃度は前記製剤中の前記遊離水の濃度の少なくとも８０％である、粘膜付着性製剤。
【請求項１７】
請求項１６記載の粘膜付着性製剤において、前記キシリトールの濃度は前記製剤の３５％より高い、粘膜付着性製剤。
【請求項１８】
口腔粘膜を湿潤させる方法であって、請求項１〜１７のいずれか記載の粘膜付着性製剤を口腔粘膜に適用する工程を有する、方法。
【請求項１９】
口腔粘膜に前記Ｃ４−Ｃ６糖アルコールを提供する方法であって、請求項１〜１７のいずれか記載の粘膜付着性製剤を口腔粘膜に適用する工程を有する、方法。
【請求項２０】
口腔粘膜に前記キシリトールを提供する方法であって、請求項２〜１７のいずれか記載の粘膜付着性製剤を口腔粘膜に適用する工程を有する、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
Ｓ．ｍｕｔａｎｓの増殖を阻害するのに十分高い濃度でキシリトールを含有する口腔ケア製品であって、キシリトールが口腔中でＳ．ｍｕｔａｎｓの増殖を阻害するのに十分な時間にわたり、口腔中また特に口腔粘膜上でキシリトールの濃度を維持する製品への顕著な需要が存在する。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
（先行技術文献）
（特許文献）
（特許文献１）  米国特許第８，６５８，１３９号明細書
（特許文献２）  米国特許出願公開第２０１４／０３０５４６１号明細書
（特許文献３）  米国特許出願公開第２０１３／０２９５０４１号明細書
（特許文献４）  米国特許第５，９００，２３０号明細書
（特許文献５）  米国特許第３，９７０，７４７号明細書
（非特許文献）
（非特許文献１）  ＡＳＨＬＡＮＤ．  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔｓ  ｆｏｒ  Ｏｒａｌ  Ｃａｒｅ．  Ｂｒｏｃｈｕｒｅ．  Ｐｇｓ．  １−１２，  ２０１３  ［ｒｅｔｒｉｅｖｅｄ  ｏｎ  １１  Ｊａｎｕａｒｙ  ２０１６］．  Ｒｅｔｒｉｅｖｅｄ  ｆｒｏｍ  ｔｈｅ  Ｉｎｔｅｒｎｅｔ  <ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ａｓｈｌａｎｄ．ｃｏｍ／Ａｓｈｌａｎｄ／Ｓｔａｔｉｃ／Ｄｏｃｕｍｅｎｔｓ／ＡＳＩ／Ｐｅｒｓｏｎａｌ％２０Ｃａｒｅ／ＰＣ−１２０５６＿Ｏｒａｌ＿Ｃａｒｅ＿Ｂｒｏｃｈｕｒｅ．ｐｄｆ>．
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月11日(2018.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
Ｖ＊−［Ｕｘ＋３−Ｕｘ＋２−Ｕｘ＋１−Ｕｘ］ｎ−Ｖ−Ｏ−Ｌ−ＮＨ２
（Ｉ）
式中、
Ｘは、１、２、３、および４から選択される整数であり、
ｎは、１、２、および３から選択される整数であり、
Ｕ１＝Ｕ５＝
【化１】
2017537941.tif 000001
Ｕ２＝Ｕ６＝
【化２】
2017537941.tif 000002
Ｕ３＝Ｕ７＝
【化３】
2017537941.tif 000003
Ｕ４＝
【化４】
2017537941.tif 000004
−Ｖ−は、結合、−ＵＸ＋３−、−ＵＸ＋３−ＵＸ＋２−、または−ＵＸ＋３−ＵＸ＋２−ＵＸ＋１−を表し、
Ｖ＊−は、Ｈ−、Ｈ−ＵＸ−、Ｈ−ＵＸ＋１−ＵＸ−、またはＨ−ＵＸ＋２−ＵＸ＋１−ＵＸ−を表し、
Ｌは、リンカーを表す、
サッカライド、一般式（Ｉ）のジアステレオマー異性体、または一般式（Ｉ）の薬学的に許容できる塩。
【請求項２】
一般式（ＩＩ）
Ｖ＊−［Ｕｘ＋３−Ｕｘ＋２−Ｕｘ＋１−Ｕｘ］ｎ−Ｏ−Ｌ−ＮＨ２      （ＩＩ）
式中、ｘ、ｎ、Ｌ、Ｕｘ、ＵＸ＋１、ＵＸ＋２、ＵＸ＋３、およびＶ＊は、請求項１に定義される意味を有する、
請求項１に記載のサッカライド。
【請求項３】
一般式（ＩＩＩ）
Ｖ＊−［Ｕｘ＋３−Ｕｘ＋２−Ｕｘ＋１−Ｕｘ］ｎ−Ｕｘ＋３−Ｏ−Ｌ−ＮＨ２      （ＩＩＩ）
式中、ｘ、ｎ、Ｌ、Ｕｘ、ＵＸ＋１、ＵＸ＋２、ＵＸ＋３、およびＶ＊は、請求項１に定義される意味を有する、
請求項１に記載のサッカライド。
【請求項４】
一般式（ＩＶ）
Ｖ＊−［Ｕｘ＋３−Ｕｘ＋２−Ｕｘ＋１−Ｕｘ］ｎ−Ｕｘ＋３−Ｕｘ＋２−Ｏ−Ｌ−ＮＨ２      （ＩＶ）
式中、ｘ、ｎ、Ｌ、Ｕｘ、ＵＸ＋１、ＵＸ＋２、ＵＸ＋３、およびＶ＊は、請求項１に定義される意味を有する、
請求項１に記載のサッカライド。
【請求項５】
一般式（Ｖ）
Ｖ＊−［Ｕｘ＋３−Ｕｘ＋２−Ｕｘ＋１−Ｕｘ］ｎ−Ｕｘ＋３−Ｕｘ＋２−Ｕｘ＋１−Ｏ−Ｌ−ＮＨ２      （Ｖ）
式中、ｘ、ｎ、Ｌ、Ｕｘ、ＵＸ＋１、ＵＸ＋２、ＵＸ＋３、およびＶ＊は、請求項１に定義される意味を有する、
請求項１に記載のサッカライド。
【請求項６】
ｘは、１を表し、およびＶ＊−は、Ｈ−を表す、請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載のサッカライド。
【請求項７】
ヒトおよび／または動物宿主において保護免疫応答を上昇させるのに使用するための請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のサッカライド。
【請求項８】
細菌の莢膜ポリサッカライドにおいて、次のサッカライド断片：
−３）−β−Ｄ−ＭａｎＮＡｃ−（１，３）−α−Ｌ−ＦｕｃＮＡｃ−（１，３）−α−Ｄ−ＧａｌＮＡｃ−（１，４）−α−Ｄ−Ｇａｌ−２，３（Ｓ）Ｐｙｒ−（１−；
−４）−α−Ｄ−Ｇａｌ−２，３（Ｓ）Ｐｙｒ−（１，３）−β−Ｄ−ＭａｎＮＡｃ−（１，３）−α−Ｌ―ＦｕｃＮＡｃ−（１，３）−α−Ｄ−ＧａｌＮＡｃ−（１−；
−３）−α−Ｄ−ＧａｌＮＡｃ−（１，４）−α−Ｄ−Ｇａｌ−２，３（Ｓ）Ｐｙｒ−（１，３）−β−Ｄ−ＭａｎＮＡｃ−（１，３）−α−Ｌ−ＦｕｃＮＡｃ−（１−；
−３）−α−Ｌ−ＦｕｃＮＡｃ−（１，３）−α−Ｄ−ＧａｌＮＡｃ−（１，４）−α−Ｄ−Ｇａｌ−２，３（Ｓ）Ｐｙｒ−（１，３）−β−Ｄ−ＭａｎＮＡｃ−（１−
の一つを含む、前記細菌と関連する病気の予防および／または治療において使用するための請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のサッカライド。
【請求項９】
前記細菌は、ストレプトコッカス  ニューモニアエ（Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ  ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ）血清型４である、請求項８に記載の使用のためのサッカライド。
【請求項１０】
前記細菌と関連する病気は、肺炎、髄膜炎、中耳炎、菌血症、並びに慢性気管支炎、副鼻腔炎、関節炎、および結膜炎の急性悪化を含む、請求項８又は９に記載の使用のためのサッカライド。
【請求項１１】
−Ｏ−Ｌ−ＮＨ２基の窒素原子を介して免疫原性担体に共有結合される請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載のサッカライドを含む複合体。
【請求項１２】
少なくとも一つの薬学的に許容できるアジュバントおよび／または賦形剤と共に請求項１１に記載の複合体、および／または請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載のサッカライドを含む医薬組成物。
【請求項１３】
ヒトおよび／または動物宿主において保護免疫応答を上昇させるのに使用するための請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
細菌の莢膜ポリサッカライドにおいて、次のサッカライド断片：
−３）−β−Ｄ−ＭａｎＮＡｃ−（１，３）−α−Ｌ−ＦｕｃＮＡｃ−（１，３）−α−Ｄ−ＧａｌＮＡｃ−（１，４）−α−Ｄ−Ｇａｌ−２，３（Ｓ）Ｐｙｒ−（１−；
−４）−α−Ｄ−Ｇａｌ−２，３（Ｓ）Ｐｙｒ−（１，３）−β−Ｄ−ＭａｎＮＡｃ−（１，３）−α−Ｌ―ＦｕｃＮＡｃ−（１，３）−α−Ｄ−ＧａｌＮＡｃ−（１−；
−３）−α−Ｄ−ＧａｌＮＡｃ−（１，４）−α−Ｄ−Ｇａｌ−２，３（Ｓ）Ｐｙｒ−（１，３）−β−Ｄ−ＭａｎＮＡｃ−（１，３）−α−Ｌ−ＦｕｃＮＡｃ−（１−；
−３）−α−Ｌ−ＦｕｃＮＡｃ−（１，３）−α−Ｄ−ＧａｌＮＡｃ−（１，４）−α−Ｄ−Ｇａｌ−２，３（Ｓ）Ｐｙｒ−（１，３）−β−Ｄ−ＭａｎＮＡｃ−（１−
の一つを含む、前記細菌に対する抗体の検出のための免疫学的アッセイのマーカーとして使用するための請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のサッカライド。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年8月15日(2018.8.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
好ましくは、接着剤はバリア接着剤であり、それの接着材料ベースは、（反応性樹脂が存在する場合にはその硬化後に）１００ｇ／ｍ２ｄ未満、好ましくは５０ｇ／ｍ２ｄ未満、特に１５ｇ／ｍ２ｄ未満の水蒸気浸透速度を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月2日(2018.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）または式（Ｉａ）の化合物、または、その薬学的に許容可能な塩、薬学的に許容可能な溶媒和物、あるいは薬学的に許容可能なプロドラッグであって、
【化１】
2017537937.tif 000001
【化２】
2017537937.tif 000002
式中：
Ｒ１は−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２Ｒ２、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）２、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ（Ｒ３）ＣＨ３、−アルキレン（シクロアルキル）、または、
【化３】
2017537937.tif 000003
であり、
Ｒ２はアルキルまたは−ＮＲ１３Ｒ１４であり、
Ｒ３は−ＯＨ、アルキル、または−ＮＲ１３Ｒ１４であり、
Ｒ５は、Ｈ、−ＣＮ、ハロゲン、ハロアルキル、アルキル、−ＮＲ１３Ｒ１４、−アルキレン（ＮＲ１３Ｒ１４）、および−ＳＯ２Ｒ１３であり、
Ｒ８はそれぞれ、ハロゲン、−ＯＨ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＣＮ、アルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、−アルキレン（ＮＲ１３Ｒ１４）、−アルキレン（シクロアルキル）、−アルキレン（ヘテロシクリル）、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、−ＳＲ１３、−ＳＯＲ１３、−ＳＯ２Ｒ１３、−ＳＯ２ＮＲ１３Ｒ１４、−ＮＲ１３Ｒ１４、−ＮＲ１３ＳＯ２Ｒ１４、−ＮＲ１３Ｃ（Ｏ）Ｒ１４、−ＮＲ１３Ｃ（Ｏ）ＯＲ１４、−ＮＲ１３Ｃ（Ｏ）ＮＲ１３Ｒ１４、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１４、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ１３Ｒ１４から独立して選択され、または、２つの隣接するＲ８がヘテロシクリル環を形成し、各々のＲ１３と各々のＲ１４はそれぞれ、Ｈ、アルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリルアルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリール、およびヘテロアリールから独立して選択され、または、Ｒ１３とＲ１４は一体となって、それらが結合する原子を備えた複素環を形成し、ならびに、
ｎは０、１、２、３、および４から選択される、化合物。
【請求項２】
Ｒ１は−アルキレン（シクロアルキル）である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ１は−ＣＨ２−（シクロペンチル）である、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ１は−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）２である、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１は−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２Ｒ２であり、Ｒ２は−ＣＨ３である、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
ｎは０である、請求項１−５のいずれか１つに記載の化合物。
【請求項７】
ｎは１または２である、請求項１−５のいずれか１つに記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ８はそれぞれ、ハロゲン、−ＣＮ、アルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、およびハロアルキルから独立して選択される、請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ８はそれぞれＣｌである、請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ５はＨである、請求項１−９のいずれか１つに記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ５はＦである、請求項１−９のいずれか１つに記載の化合物。
【請求項１２】
以下の構造を有する請求項１に記載の化合物、または、その薬学的に許容可能な塩、薬学的に許容可能な溶媒和物、あるいは薬学的に許容可能なプロドラッグ。
【化４】
2017537937.tif 000004
【化５】
2017537937.tif 000005
【請求項１３】
請求項１−１２のいずれか１つに記載の化合物、あるいは、その薬学的に許容可能な塩、薬学的に許容可能な溶媒和物、または薬学的に許容可能なプロドラッグ、および、薬学的に許容可能な賦形剤を含む医薬組成物。
【請求項１４】
線維症、または線維症を特徴とする障害を処置するための薬剤の製造における、請求項１−１２の化合物、あるいは、その薬学的に許容可能な塩、薬学的に許容可能な溶媒和物、または薬学的に許容可能なプロドラッグの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月13日(2018.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光形状感知用の光ファイバと、
前記光ファイバの少なくとも一部を支持する支持要素と、
前記支持要素と関連付けられた前記光ファイバとインタラクトして、前記光ファイバの特性の変化を生じさせるインタフェース要素と、
光信号を解釈して前記光ファイバの前記特性の変化を決定し、及びそれに応じて対応するトリガ信号を生成する感知モジュールと
を含む、トリガデバイス。
【請求項２】
前記インタフェース要素は、機械的要素、柔らかい材料又は身体部分の１つを含む、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項３】
前記インタフェース要素は、前記光ファイバとインタラクトするボタン又はスライドを含む、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項４】
前記インタフェース要素及び前記光ファイバを通常状態に復帰させる付勢要素を更に含む、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項５】
前記特性の前記変化は、前記光ファイバの形状変化を含む、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項６】
前記特性の前記変化は、前記光ファイバの軸ひずみの変化を含む、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項７】
前記トリガ信号は、機器又はソフトウェア機能を起動又は停止させる、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項８】
イベントは、温度による軸ひずみの変化に応じて機器の機能を有効にすることを含む、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項９】
前記光ファイバを含む医療機器を更に含み、前記医療機器は、前記光ファイバの光形状感知によってトラッキングされる、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項１０】
前記支持要素及び前記インタフェース要素は、前記光ファイバの変化に基づいて力センサとして機能する、請求項１に記載のトリガデバイス。
【請求項１１】
光形状感知用の１つ又は複数の光ファイバと、
前記１つ又は複数の光ファイバを含む医療機器であって、光形状感知によってトラッキングされ、前記１つ又は複数の光ファイバの少なくとも一部を支持する支持デバイスを形成する、医療機器と、
前記支持デバイスにおいて前記１つ又は複数の光ファイバとインタラクトして、前記１つ又は複数の光ファイバの特性の変化を生じさせるインタフェース要素と、
光信号を解釈して前記光ファイバの前記特性の変化を決定し、所定量に達する場合に、それに応じてトリガ信号を生成する感知モジュールと
を含む、トリガシステム。
【請求項１２】
前記インタフェース要素は、機械的要素、柔らかい材料又は身体部分の１つを含む、請求項１１に記載のトリガシステム。
【請求項１３】
前記インタフェース要素は、前記光ファイバとインタラクトするボタン又はスライドを含む、請求項１１に記載のトリガシステム。
【請求項１４】
前記インタフェース要素及び前記１つ又は複数の光ファイバを通常状態に復帰させる付勢要素を更に含む、請求項１１に記載のトリガシステム。
【請求項１５】
支持デバイスにおいて光ファイバの少なくとも一部を支持するステップと、
前記光ファイバの特性の変化を生じるように、前記支持デバイスにおいて前記光ファイバとインタフェースするステップと、
光信号を解釈して前記光ファイバの前記特性の前記変化を決定するステップと、
前記特性が所定量だけ変化するとイベントをトリガするステップと
を含む、イベントをトリガする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月8日(2018.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織に薬剤を送達して対象に免疫応答を誘導するシステムであって、
薬剤キャリア本体、薬剤キャリアまたは薬剤塗布具に収納されており、前記薬剤キャリア本体が、前記組織を咬持する組織接触表面を含む、薬剤と、
超音波を輸送刺激とし、超音波シグナルを与える手段と
を含み、
組織の１つまたは複数の選択した層への前記薬剤の送達を促進するか、可能にするよう設計されており、
前記薬剤の送達が、前記対象に粘膜免疫応答を誘導する、
システム。
【請求項２】
少なくとも粘膜免疫応答を誘導する前記薬剤の送達が、粘膜の上皮層または上皮層と上皮下層の中に送達される薬剤の量を制御することによるものである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
設定する操作パラメータが、
塗布圧力、
超音波周波数、
超音波出力レベル、
超音波の波形、
超音波適用の持続時間、
超音波適用の動作周期および
超音波の方向
のうちのいずれか１つまたは複数のものを含む、請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項４】
前記薬剤を以下の組織または組織層
粘膜；
粘膜下組織；および
粘膜血管系
のうちのいずれか１つもしくは複数のものまで、またはそれを超えて送達することができる、請求項１〜３のいずれか1項に記載のシステム。
【請求項５】
前記薬剤キャリアまたは前記薬剤キャリア本体が、治療中の組織を咬持する組織接触表面を含み、前記組織接触表面が、少なくとも部分的に複数の突起部によって確定される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
前記薬剤キャリアが、前記薬剤を保持する１つまたは複数の薬剤リザーバを含み、前記突起部が、前記薬剤キャリアの一部を形成する１つまたは複数のリザーバと流体接続している、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
各薬剤リザーバが、前記薬剤キャリア本体内に形成された空隙を含む、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記突起部が、空隙の内側から外に向かって伸長し、前記組織接触表面で終端になっている、請求項５または６に記載のシステム。
【請求項９】
前記空隙が末端構造物によって形成されており、前記末端構造物の少なくとも一部が、前記組織接触表面で終端になっている、請求項７または８のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記薬剤キャリア本体が、
前記組織接触表面を含む組織接触層と、
少なくとも１つの他の層と
を含む積層物を含み、
少なくとも前記組織接触層の中を少なくとも１つの穴が伸長して、前記薬剤キャリア本体内のそれぞれのマイクロチャネルの少なくとも一部を画定している、請求項１〜９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１１】
マイクロチャネルによって、薬剤を１つの層から隣接する層まで輸送することが可能である、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記薬剤キャリア本体が、少なくとも一部が前記薬剤キャリア本体の中を前記組織接触表面まで伸長し組織表面への前記薬剤の輸送を可能にする１つまたは複数のマイクロチャネルを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１３】
前記マイクロチャネルが、前記薬剤キャリア本体の中を伸長して薬剤リザーバと流体接続している、請求項１２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月22日(2018.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入れ子式バルーンを製造するための方法であって、
第1のバルーン層を提供するステップと、
第2のバルーン層を提供するステップと、
入れ子式バルーンを形成するために、前記第1のバルーン層を前記第2のバルーン層に挿入するステップと、
前記入れ子式バルーンを、略華氏100度から略華氏300度までの間の温度で、ある期間の間、アニーリングするステップであって、アニーリングするステップの後に、前記第1のバルーン層が前記第2のバルーン層に対して滑るように構成される、アニーリングするステップと、
アニーリングするステップの前に、前記第1のバルーン層と前記第2のバルーン層とを吹込み成形するステップと、を含む、方法。
【請求項２】
前記第1のバルーン層はナイロンを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記第2のバルーン層はナイロンを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記温度は略華氏120度から略華氏270度までの間である、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記温度は略華氏100度から略華氏200度までの間である、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記アニーリングするステップは、前記入れ子式バルーンを略2atmから略30atmまでの間の圧力で加圧するステップを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項７】
前記アニーリングするステップは、前記入れ子式バルーンを略10atmから略25atmまでの間の圧力で加圧するステップを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項８】
略1ポンドから略5ポンドまでの間の伸長力で前記バルーンを伸長させるステップをさらに含む、請求項1の方法。
【請求項９】
前記期間は略15分間から略45分間までの間である、請求項1に記載の方法。
【請求項１０】
前記期間は略30分間から略180分間までの間である、請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
前記期間は略10分間から略90分間までの間である、請求項1に記載の方法。
【請求項１２】
前記期間は少なくとも略30分間である、請求項1に記載の方法。
【請求項１３】
前記期間は略5分間から略180分間までの間である、請求項1に記載の方法。
【請求項１４】
略40℃から略60℃までの間の温度で、略1時間から略3時間までの間の期間の間、前記アニーリングするステップの後、前記入れ子式バルーンを殺菌するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１５】
前記吹込み成形は前記アニーリングするステップの前の略48時間以内に行う、請求項1に記載の方法。
【請求項１６】
前記吹込み成形は前記アニーリングするステップの前の略24時間以内に行う、請求項1に記載の方法。
【請求項１７】
バルーンカテーテルを形成するために、前記入れ子式バルーンをカテーテルシャフトに溶接するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項１８】
前記第1のバルーン層は共押出しされたバルーン層である、請求項1に記載の方法。
【請求項１９】
前記第2のバルーン層は共押出しされたバルーン層である、請求項1に記載の方法。
【請求項２０】
前記第2のバルーン層を第3のバルーン層に挿入するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項２１】
前記第1のバルーン層と前記第2のバルーン層とは同一の材料を含む、請求項1に記載の方法。
【請求項２２】
前記第１のバルーン層と前記第2のバルーン層との間に潤滑剤が配置されている、請求項1に記載の方法。
【請求項２３】
請求項1の方法によって形成される入れ子式バルーン。
【請求項２４】
入れ子式バルーンを製造するための方法であって、
第1のバルーン層を提供するステップと、
第2のバルーン層を提供するステップと、
入れ子式バルーンを形成するために、前記第1のバルーン層を前記第2のバルーン層に挿入するステップと、
アニーリングするステップの前に、前記第1のバルーン層と前記第2のバルーン層とを吹込み成形するステップと、
前記入れ子式バルーンをアニーリングするステップであって、アニーリングするステップは、略華氏100度から略華氏300度までの間の温度を印加するステップを含み、アニーリングするステップの後に、前記第１のバルーン層および前記第２のバルーン層は、互いに対して滑るように構成される、アニーリングするステップと、を含む、方法。
【請求項２５】
前記入れ子式バルーンをアニーリングするステップは、華氏略100度から華氏略300度までの間の温度を略5分間から略180分間までの間の期間の間印加するステップを含む、請求項24に記載の方法。