(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象物が載置されるステージと、
前記ステージを移動させる移動機構と、
前記ステージ上の前記塗布対象物に向けて塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドと、
前記ステージに設けられ、前記塗布ヘッドを拭くワイピング部材及び前記ワイピング部材を洗浄する洗浄液を貯留する洗浄槽を有する清掃装置と、
前記ステージの移動に応じて移動可能に前記洗浄槽に接続され、前記洗浄槽に前記洗浄液を供給するための供給管と、
前記ステージの移動に応じて移動可能に前記洗浄槽に接続され、前記洗浄槽から前記洗浄液を排出するための排出管と、
を備えることを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項２】
前記排出管は、前記洗浄槽に垂れ下がるように設けられており、  前記ステージの移動方向に沿って延伸し、前記排出管から排出された前記洗浄液を受け取る受け部材を備えることを特徴とする請求項１記載の液滴塗布装置。
【請求項３】
前記洗浄槽内の前記洗浄液を攪拌する攪拌機構を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の液滴塗布装置。
【請求項４】
前記攪拌機構は、
前記排出管と前記供給管とを接続する連結管と、
前記洗浄槽内の前記洗浄液を前記排出管、前記連結管及び前記供給管を介して循環させる循環部と、
を具備していることを特徴とする請求項３記載の液滴塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布対象物に液滴を吐出して塗布する液滴塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液滴塗布装置は、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置、電子放出表示装置及びプラズマ表示装置等の表示装置や半導体装置等を製造する場合、例えば、カラーフィルタを形成する場合、あるいは、ガラス基板や半導体ウェハ等の基板に配向膜やレジスト等の機能性薄膜を形成する場合等に用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この液滴塗布装置は、基板等の塗布対象物に向けてインク等の塗布液を複数の吐出孔（ノズル）からそれぞれ液滴として吐出（噴射）する塗布ヘッドを備えている。液滴塗布装置は、ステージ上の塗布対象物と塗布ヘッドとを相対移動させながら、その塗布ヘッドにより塗布対象物の塗布面に複数の液滴を順次着弾させ、所定の塗布パターンを塗布する。
【０００４】
このような液滴塗布装置には、塗布ヘッドを清掃するクリーニングユニット（清掃装置）が設けられている。クリーニングユニットは、移動するステージの端部に配置されており、ステージと共に移動する（例えば、特許文献１参照）。このクリーニングユニットは、塗布ヘッドの吐出面を拭くワイピングブレードやそのワイピングブレードを洗浄する洗浄液を貯留する洗浄槽等を備えている。
【０００５】
洗浄槽内の洗浄液は、時間と共に劣化し、また、ワイピングブレードより拭き取られた塗布液と混合するため、定期的に交換する必要がある。この交換回数は１日に２〜３回程度であり、その交換に要する交換時間は約３０分程度である。洗浄液の交換周期を延ばすと、塗布膜のムラや塗布ヘッドの吐出不良等が発生してしまう。通常、洗浄槽から洗浄液を排出しその洗浄槽に洗浄液を供給する場合には、ステージが所定の洗浄液供給位置に待機し、その状態で洗浄液が洗浄槽の上部開口から供給される。
【特許文献１】特開２００６−２７２７９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、洗浄槽に対する洗浄液の供給中、ステージは所定の洗浄液供給位置に待機している必要があるため、移動するステージ上の塗布対象物に対して液滴を塗布する塗布動作を行うことができない。したがって、洗浄液の交換のために塗布動作を中断しなければならず、生産性が低下してしまう。
【０００７】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、洗浄液の交換に起因する生産性の低下を防止することができる液滴塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施の形態に係る特徴は、液滴塗布装置において、塗布対象物が載置されるステージと、ステージを移動させる移動機構と、ステージ上の塗布対象物に向けて塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドと、ステージに設けられ、塗布ヘッドを拭くワイピング部材及びワイピング部材を洗浄する洗浄液を貯留する洗浄槽を有する清掃装置と、ステージの移動に応じて移動可能に洗浄槽に接続され、洗浄槽に洗浄液を供給するための供給管と、ステージの移動に応じて移動可能に洗浄槽に接続され、洗浄槽から洗浄液を排出するための排出管とを備えることである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、洗浄液の交換に起因する生産性の低下を防止することができる液滴塗布装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態について図１乃至図５を参照して説明する。
【００１１】
図１乃至図３に示すように、本発明の第１の実施の形態に係る液滴塗布装置１は、塗布対象物としての基板Ｋが水平状態（図中、Ｘ軸方向とそれに直交するＹ軸方向に沿う状態）で載置されるステージ２と、そのステージ２を保持してＹ軸方向に移動させるＹ軸移動機構３と、ステージ２上の基板Ｋに向けてインク等の塗布液を液滴として吐出する複数の塗布ヘッド４と、それらの塗布ヘッド４を支持する支持部材５と、各塗布ヘッド４を清掃するクリーニングユニット（清掃装置）６と、Ｙ軸移動機構３及び支持部材５を支持する架台７と、各部を制御する制御部８とを備えている。
【００１２】
ステージ２は、Ｙ軸移動機構３上に積層され、Ｙ軸方向に移動可能に設けられている。このステージ２はＹ軸移動機構３によりＹ軸方向に移動する。なお、ステージ２には、基板Ｋが自重により載置されるが、これに限るものではなく、例えば、その基板Ｋを保持するため、静電チャックや吸着チャック等の機構を設けるようにしてもよく、また、基板Ｋを支持する出没可能な複数の支持ピン等を設けるようにしてもよい。
【００１３】
Ｙ軸移動機構３は、ステージ２をＹ軸方向に案内して移動させる移動機構である。このＹ軸移動機構３は制御部８に電気的に接続されており、その駆動が制御部８により制御される。なお、Ｙ軸移動機構３としては、例えば、リニアモータを駆動源とするリニアモータ移動機構やモータを駆動源とする送りネジ移動機構等を用いる。
【００１４】
各塗布ヘッド４は、支持部材５に例えば直線状又は千鳥状に配設されている。これらの塗布ヘッド４は、インク等の塗布液を複数の吐出孔（ノズル）からそれぞれ液滴として吐出するヘッドである。塗布ヘッド４は、液滴を吐出するための各吐出孔にそれぞれ対応する複数の圧電素子（図示せず）を内蔵している。各吐出孔は、所定のピッチ（間隔）で直線状に並べて塗布ヘッド４の吐出面に形成されている。例えば、吐出孔の数は数十個から数百個程度であり、吐出孔の直径は数μｍから数十μｍ程度であり、さらに、吐出孔のピッチは数十μｍから数百μｍ程度である。
【００１５】
これらの塗布ヘッド４は制御部８に電気的に接続されており、その駆動が制御部８により制御される。塗布ヘッド４は、各圧電素子に対する駆動電圧の印加に応じて各吐出孔から液滴を吐出する。ここで、塗布液は、その塗布液を収容する液体タンク（図示せず）から供給される。この塗布液は、基板Ｋ上に残留物として残留する溶質と、その溶質を溶解（分散）させる溶媒とにより構成された溶液である。なお、基板Ｋ上に配向膜やレジスト等の機能性薄膜を形成する場合には、塗布液として例えばポリイミド（ＰＩ）溶液を用いる。
【００１６】
支持部材５は、各塗布ヘッド４を支持する門型のコラムである。この支持部材５は、その延伸部がＸ軸方向に沿うように位置付けられ、その脚部が架台７の上面に固定されて架台７上に設けられている。なお、各塗布ヘッド４は延伸部の前面（図３中）に設けられている。
【００１７】
クリーニングユニット６は、ステージ２の端部である側面に固定部材９により固定されて設けられている。このとき、クリーニングユニット６はその固定部材９上にユニット移動機構１０を介して載置されている。なお、固定部材９上には、各塗布ヘッド４のダミー吐出用の受皿等が設けられてもよい。固定部材９は、クリーニングユニット６をステージ２の側面に固定して取り付けるための部材である。この固定部材９としては、例えば、断面Ｌ字形状の部材を用いることが可能である。ユニット移動機構１０は、ワイプ動作時にクリーニングユニット６をＹ軸方向及びＺ軸方向に移動させる機構である。このユニット移動機構１０は制御部８に電気的に接続されており、その駆動が制御部８により制御される。
【００１８】
このクリーニングユニット６は、ワイピングブレード等の複数のワイピング部材６ａと、それらのワイピング部材６ａを洗浄する洗浄液（クリーニング液）を貯留する洗浄槽６ｂとを備えている（図４参照）。この洗浄槽６ｂには、洗浄液の液量を検出する検出センサＳが設けられている。各ワイピング部材６ａは複数の取付部材６ｃにそれぞれ固定されて設けられており、さらに、それらの取付部材６ｃは回転軸６ｄにそれぞれ固定されて設けられている。取付部材６ｃはワイピング部材６ａを回転軸６ｄに取り付けるための部材である。回転軸６ｄは、洗浄槽６ｂ内に回転可能にＸ軸方向に沿って設けられ、その回転に伴って各ワイピング部材６ａが周回可能な位置に配置されている。この回転軸６ｄはモータ等の駆動源により回転し、その回転は制御部８により制御される。回転軸６ｄが回転すると、ワイピング部材６ａも同じ方向に回動する。なお、ワイピング部材６ａとしては、例えば、弾性ブレードや多孔質部材等を用いることが可能である。
【００１９】
洗浄槽６ｂは、ステージ２の移動方向（基板Ｋの搬送方向）であるＹ軸方向に直交するＸ軸方向に長く、上方が開口する箱形状に形成されている。この洗浄槽６ｂは架台７のＸ軸方向の端部より突出するように配設されている。洗浄槽６ｂには、洗浄液が流入する供給口Ａ１及び洗浄液が流出する排出口Ａ２が設けられている。供給口Ａ１は洗浄液を洗浄槽６ｂ内に供給するための開口部であり、排出口Ａ２は洗浄槽６ｂ内の洗浄液を排出するための開口部である。供給口Ａ１は洗浄槽６ｂの一端に設けられており、排出口Ａ２はその他端に設けられている。特に、供給口Ａ１は洗浄槽６ｂの側壁に設けられており、排出口Ａ２は架台７から突出する部分の洗浄槽６ｂの底面に設けられている。洗浄槽６ｂの底面は、供給口Ａ１側から排出口Ａ２側に向かって徐々に低くなるように傾斜している。このような洗浄槽６ｂ内には、塗布液を溶解する溶媒としての洗浄液が一定の液面レベルで貯留されている。
【００２０】
クリーニングユニット６は、清掃動作として、塗布ヘッド４の吐出面に付着した塗布液（吐出液）を除去するワイプ動作を行い、その後、ワイピング部材６ａを洗浄する洗浄動作を行う。ワイプ動作では、各塗布ヘッド４の吐出面にそれぞれ対向する各ワイピング部材６ａがユニット移動機構１０によりＺ軸方向に移動し、それらのワイピング部材６ａが各塗布ヘッド４の吐出面に接触する。その状態で、各ワイピング部材６ａはユニット移動機構１０によりＹ軸方向に移動し、各塗布ヘッド４の吐出面を拭く（ワイプする）。これにより、各塗布ヘッド４に付着した塗布液は除去され、その塗布液は対応するワイピング部材６ａに付着する。
【００２１】
その後、洗浄動作では、回転軸６ｄが１８０°回転させられ、各ワイピング部材６ａが待機位置（図４参照）から洗浄位置（図５参照）に移動し、所定時間（例えば、数秒間）停止する。これにより、各ワイピング部材６ａは洗浄槽６ｂ内の洗浄液に所定時間浸され、それらのワイピング部材６ａに付着した塗布液が溶解して取り除かれる。この溶解工程においては、塗布ヘッド４に付着した塗布液の溶解を促進させるため、回転軸６ｄを一定角度揺動させるようにしてもよい。その後、回転軸６ｄが９０°回転させられ、各ワイピング部材６ａが乾燥位置に移動し、所定時間停止する。これにより、各ワイピング部材６ａから洗浄液が流れ落ち、各ワイピング部材６ａは乾燥する。所定時間経過後、回転軸６ｄが再度９０°回転させられ、各ワイピング部材６ａが元の待機位置に戻る。
【００２２】
このようなクリーニングユニット６には、洗浄槽６ｂに供給する洗浄液を貯留する洗浄液供給タンク１１が供給管Ｐ１を介して接続されており、さらに、洗浄槽６ｂから排出された洗浄液を回収する廃液回収タンク１２が２つの排出管Ｐ２、Ｐ３及び受け部材１３を介して接続されている。なお、洗浄液供給タンク１１内は加圧されており、その圧により洗浄液は洗浄液供給タンク１１から洗浄槽６ｂに供給管Ｐ１を介して供給される。
【００２３】
供給管Ｐ１は、洗浄液供給タンク１１から洗浄槽６ｂに洗浄液を供給するための管である。この供給管Ｐ１は、ステージ２の移動に応じて移動可能に洗浄槽６ｂの供給口Ａ１に接続されている。すなわち、供給管Ｐ１は柔軟性を有するようにフレキシブルに形成されており、その供給管Ｐ１の長さはステージ２の移動に対応可能な長さに設定されている。この供給管Ｐ１がキャタピラ方式やドラム方式等のケーブルベア（登録商標）Ｃを通って洗浄槽６ｂの供給口Ａ１に接続されている。これにより、ステージ２の位置に関係することなく、洗浄液供給タンク１１から洗浄槽６ｂに洗浄液を供給することができる。このような供給管Ｐ１の経路途中には、供給管Ｐ１を開閉するバルブ（開閉弁）Ｂ１が設けられている。このバルブＢ１は制御部８に電気的に接続されており、その駆動は制御部８により制御される。
【００２４】
排出管Ｐ２は、洗浄槽６ｂから受け部材１３に洗浄液を排出するための管である。この排出管Ｐ２は、ステージ２の移動に応じて移動可能に洗浄槽６ｂの排出口Ａ２に接続されている。すなわち、排出管Ｐ２は洗浄槽６ｂに垂れ下がるように洗浄槽６ｂの排出口Ａ２に接続されている。このような排出管Ｐ２の経路途中には、排出管Ｐ２を開閉するバルブ（開閉弁）Ｂ２が設けられている。このバルブＢ２は制御部８に電気的に接続されており、その駆動は制御部８により制御される。また、排出管Ｐ３は受け部材１３から廃液回収タンク１２に洗浄液を回収するための管であり、受け部材１３の排出口Ａ３に接続されている。なお、供給管Ｐ１及び排出管Ｐ２、Ｐ３としては、例えば、パイプやチューブ等を用いることが可能である。
【００２５】
受け部材１３は、ステージ２の移動方向（基板Ｋの搬送方向）であるＹ軸方向に沿って延伸し、排出管Ｐ２から排出された洗浄液を受け取る受け皿（トレー）である。すなわち、受け部材１３は、例えばＹ軸方向に長く上方が開口する箱形状（例えば、雨樋状）に形成されている。この受け部材１３は、洗浄槽６ｂの排出口Ａ２、すなわち排出管Ｐ２の下方に位置付けられ、Ｙ軸方向に沿わせて架台７の側面に設けられている。受け部材１３の底面には、洗浄液が流出する排出口Ａ３が設けられている。特に、排出口Ａ３は洗浄槽６ｂ側の反対側に配設されている。この排出口Ａ３は、洗浄槽６ｂから排出管Ｐ２を介して排出された受け部材１３内の洗浄液を排出するための開口部である。なお、受け部材１３の底面は、洗浄槽６ｂ側から排出口Ａ３側に向かって徐々に低くなるように傾斜している。また、受け部材１３の長さは、ステージ２の移動により排出管Ｐ２が移動する範囲をカバーできる長さに設定されている。これにより、ステージ２の位置に関係することなく、洗浄槽６ｂから排出された洗浄液を廃液回収タンク１２に回収することができる。
【００２６】
制御部８は、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータと、塗布に関する塗布情報や各種のプログラム等を記憶する記憶部と（いずれも図示せず）を備えている。この制御部８は架台７内に設けられている（図１参照）。塗布情報は、ドットパターン等の所定の塗布パターン、塗布ヘッド４の吐出周波数及び基板Ｋの移動速度に関する情報等を含んでいる。このような制御部８は、塗布動作を行う場合、塗布情報に基づいてＹ軸移動機構３及び各塗布ヘッド４を制御する。また、制御部８は、清掃動作を行う場合、クリーニングユニット６を制御し、さらに、交換動作を行う場合、検出センサＳによる洗浄槽６ｂの洗浄液量に基づいて各バルブＢ１、Ｂ２を制御する。ここで、塗布動作は基板Ｋに液滴を塗布する動作であり、清掃動作はワイプ動作及び洗浄動作であり、交換動作は洗浄槽６ｂ内の洗浄液を交換する動作である。
【００２７】
次に、前述の液滴塗布装置１が行う塗布動作、清掃動作及び交換動作について説明する。なお、液滴塗布装置１の制御部８が各種のプログラムに基づいて塗布処理、清掃処理及び交換処理を実行する。
【００２８】
塗布動作では、制御部８は、塗布情報に基づいてＹ軸移動機構３を制御し、各塗布ヘッド４を基板Ｋの塗布面にそれぞれ対向する塗布開始位置に移動させる。その後、制御部８は、塗布情報に基づいて、Ｙ軸移動機構３及び各塗布ヘッド４を制御し、ステージ２をＹ軸方向に移動させながら各塗布ヘッド４に塗布液を吐出させ、ステージ２上の基板Ｋの塗布面に各液滴を塗布する。このとき、各塗布ヘッド４は、Ｙ軸方向に移動するステージ２上の基板Ｋの塗布面に向けて液滴を吐出し、Ｘ軸方向に並ぶドット列をＹ軸方向に順次塗布する。これにより、配向膜等の機能性薄膜が基板Ｋの塗布面上に形成される。なお、各塗布ヘッド４は基板Ｋの移動方向に直交するＸ軸方向に基板Ｋの幅全体を網羅するように並べて設けられているので、基板Ｋの塗布面全体に一度で機能性薄膜を形成することが可能である。
【００２９】
清掃動作では、制御部８は、クリーニングユニット６を制御し、各塗布ヘッド４の吐出面を拭くワイプ動作を行い、その後、各ワイピング部材６ａを洗浄する洗浄動作を行う。ワイプ動作は塗布動作の停止中に実行され、洗浄動作は塗布動作の実行中や塗布動作の停止中等に実行される。
【００３０】
まず、ワイプ動作では、制御部８は、Ｙ軸移動機構３を制御し、各塗布ヘッド４がクリーニングユニット６の各ワイピング部材６ａに対向する位置までステージ２を移動させる。このとき、各ワイピング部材６ａは、それぞれが上方を向く状態である所定の待機位置に待機している。その後、制御部８は、ユニット移動機構１０を制御し、各ワイピング部材６ａが対応する塗布ヘッド４に接触する位置までクリーニングユニット６をＺ軸方向に移動させ、その状態で、各ワイピング部材６ａをＹ軸方向に移動させる。これにより、各塗布ヘッド４の吐出面は拭かれ、各吐出面に付着した塗布液（吐出液）は除去される。このとき、塗布液は各ワイピング部材６ａに付着する。その後、制御部８は、ユニット移動機構１０を制御し、各ワイピング部材６ａが対応する塗布ヘッド４から離反する元の待機位置までクリーニングユニット６をＺ軸方向に移動させる。これにより、各ワイピング部材６ａは元の待機位置に戻る。
【００３１】
次いで、洗浄動作では、制御部８は、各ワイピング部材６ａが待機位置に待機している状態で、回転軸６ｄの駆動源であるモータを制御し、回転軸６ｄを１８０°回転させ、その位置で所定時間（例えば、数秒間）停止させる。各ワイピング部材６ａは待機位置（図４参照）から洗浄槽６ｂ内の洗浄液に浸水する洗浄位置（図５参照）に移動し、その状態が所定時間維持される。これにより、各ワイピング部材６ａは洗浄槽６ｂ内の洗浄液に所定時間浸され、各ワイピング部材６ａに付着した塗布液（吐出液）は洗浄液により溶解されて各ワイピング部材６ａから取り除かれる。所定時間経過後、制御部８は、回転軸６ｄの駆動源であるモータを制御し、回転軸６ｄをさらに９０°回転させ、その位置で所定時間停止させる。各ワイピング部材６ａは乾燥位置に移動し、その状態が所定時間維持される。これにより、各ワイピング部材６ａから洗浄液が流れ落ち、各ワイピング部材６ａは乾燥する。所定時間経過後、制御部８は、回転軸６ｄの駆動源であるモータを制御し、回転軸６ｄを再度９０°回転させる。これにより、各ワイピング部材６ａは元の待機位置に戻る。
【００３２】
このようにしてワイピング部材６ａに付着した塗布液は洗浄液により溶解され、ワイピング部材６ａから除去される。これにより、洗浄後のワイピング部材６ａには、塗布液が残留しないので、ワイピング部材６ａがワイプ動作（拭き取り動作）時に塗布ヘッド４の吐出面に塗布液を付着させてしまうことを防止することができる。したがって、ワイピング部材６ａの拭き取り性能の低下が防止され、塗布ヘッド４の液滴吐出を安定させることができる。
【００３３】
交換動作では、制御部８は、バルブＢ１及びバルブＢ２を制御し、供給管Ｐ１及び排出管Ｐ２を開状態にする。これにより、洗浄液供給タンク１１内の洗浄液は供給管Ｐ１を介して洗浄槽６ｂに供給され、洗浄槽６ｂ内の洗浄液は排出管Ｐ２を介して受け部材１３に排出される。この排出管Ｐ２から排出された洗浄液は受け部材１３を流れ、その受け部材１３から排出管Ｐ３を介して廃液回収タンク１２に流れ込む。なお、洗浄液供給タンク１１内は加圧されており、その圧により洗浄液は洗浄液供給タンク１１から洗浄槽６ｂに供給されるが、これに限るものではなく、例えば供給用の送液ポンプ等を設けるようにしてもよい。その後、制御部８は、検出センサＳによる洗浄槽６ｂの洗浄液量の検出結果に応じて、バルブＢ１及びバルブＢ２を制御し、供給管Ｐ１及び排出管Ｐ２を閉状態にする。このとき、各バルブＢ１、Ｂ２は洗浄槽６ｂ内の洗浄液量が所定量になるように制御される。
【００３４】
この交換動作は塗布動作の実行中や塗布動作の停止中等に実行される。すなわち、ステージ２の移動中にも、移動する洗浄槽６ｂから洗浄液を排出することが可能であり、移動する洗浄槽６ｂに洗浄液を供給することが可能である。これにより、従来のように洗浄液の交換時にステージ２を洗浄液供給位置に待機させておく必要がなくなり、他の動作、特に塗布動作を中断することなく、所望のタイミングで洗浄液の交換動作を行うことが可能になるので、洗浄槽６ｂ内の洗浄液の交換のために塗布動作を中断して生産性が低下してしまうことを防止することができる。
【００３５】
以上説明したように、本発明の第１の実施の形態によれば、洗浄槽６ｂに洗浄液を供給するための供給管Ｐ１をステージ２の移動に応じて移動可能に洗浄槽６ｂに接続し、さらに、洗浄槽６ｂから洗浄液を排出するための排出管Ｐ２をステージ２の移動に応じて移動可能に洗浄槽６ｂに接続することによって、従来のようにステージ２を洗浄液供給位置に待機させることなく、ステージ２の移動中も洗浄槽６ｂ内の洗浄液を交換することが可能になる。これにより、塗布動作を中断することなく、洗浄槽６ｂ内の洗浄液を交換することが可能になるので、その洗浄液の交換に起因する生産性の低下を防止することができる。
【００３６】
また、排出管Ｐ２を洗浄槽６ｂに垂れ下がるように設け、さらに、ステージ２の移動方向に沿って延伸し、排出管Ｐ２から排出された洗浄液を受け取る受け部材１３を設けることによって、洗浄槽６ｂと廃液回収タンク１２とを排出管Ｐ２で直接接続した場合に比べ、ステージ２の移動に伴って排出管Ｐ２が変形することがなくなり、ステージ２の移動に伴う排出管Ｐ２の劣化を防止することが可能になるので、排出管Ｐ２の劣化に起因する洗浄液漏れ等の不具合の発生を防止することができる。
【００３７】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態について図６を参照して説明する。
【００３８】
本発明の第２の実施の形態は第１の実施の形態の変形例である。したがって、特に、第１の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第２の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同じ部分の説明を省略する。
【００３９】
本発明の第２の実施の形態に係る液滴塗布装置１には、図６に示すように、洗浄槽６ｂ内に貯留した洗浄液を攪拌する攪拌機構１４が設けられている。この攪拌機構１４は、供給管Ｐ１と排出管Ｐ２とを接続する連結管Ｐ４と、洗浄槽６ｂ内の洗浄液を排出管Ｐ２、連結管Ｐ４及び供給管Ｐ１を介して循環させる循環部１４ａとを備えている。
【００４０】
連結管Ｐ４は、ステージ２の移動に応じて移動可能に供給管Ｐ１及び排出管Ｐ２に接続されている。すなわち、連結管Ｐ４は柔軟性を有するようにフレキシブルに形成されており、その連結管Ｐ４の長さはステージ２の移動に対応可能な長さに設定されている。循環部１４ａは架台７内に設けられ、連結管Ｐ４の経路途中に配置されている。循環部１４ａとしては、例えば送液ポンプを用いることが可能である。また、その循環部１４ａを挟むように２つのバルブ（開閉弁）Ｂ３、Ｂ４が連結管Ｐ４の経路途中に設けられている。これらのバルブＢ３、Ｂ４は、洗浄液の交換経路と洗浄液の循環経路とを切り替えるために用いられる。循環部１４ａ及び各バルブＢ３、Ｂ４は制御部８に電気的に接続されており、その駆動は制御部８により制御される。
【００４１】
次に、前述の液滴塗布装置１が行う循環動作について説明する。なお、液滴塗布装置１の制御部８が各種のプログラムに基づいて循環処理を実行する。ここで、循環動作は洗浄槽６ｂ内の洗浄液を循環させる動作である。
【００４２】
循環動作では、制御部８は、バルブＢ３及びバルブＢ４を制御し、連結管Ｐ４を開状態にする。なお、通常、バルブＢ１及びバルブＢ２は交換動作時以外、閉状態である。次いで、制御部８は、循環部１４ａを制御し、連結管Ｐ４内の洗浄液を流動させ、洗浄槽６ｂ内の洗浄液を排出管Ｐ２、連結管Ｐ４及び供給管Ｐ１を介して所定時間循環させる。これにより、洗浄槽６ｂ内の洗浄液は攪拌される。所定時間経過後、制御部８は、バルブＢ３及びバルブＢ４を制御し、連結管Ｐ４を閉状態にする。
【００４３】
この循環動作は塗布動作の実行中や塗布動作の停止中（清掃動作中も含む）等、交換動作以外に実行される。なお、洗浄槽６ｂ内の洗浄液には、ワイピング部材６ａの洗浄により塗布液が混ざり（溶け込み）、洗浄槽６ｂ内の場所によって洗浄液の濃度バラツキが生じてしまう。このため、洗浄槽６ｂ内の洗浄液を排出管Ｐ２、連結管Ｐ４及び供給管Ｐ１を介して循環させることによって、洗浄槽６ｂ内の洗浄液は攪拌されるので、洗浄液の濃度の均一化を図ることができる。その結果、ワイピング部材６ａの洗浄具合が洗浄槽６ｂ内の場所によって異なることを防止することができる。
【００４４】
以上説明したように、本発明の第２の実施の形態によれば、洗浄槽６ｂ内の洗浄液を攪拌する攪拌機構１４を設けることによって、洗浄槽６ｂ内の洗浄液が攪拌されるので、洗浄槽６ｂ内の洗浄液の濃度を均一にすることができる。その結果、ワイピング部材６ａの洗浄具合が洗浄槽６ｂ内の場所によって異なることを防止することができる。
【００４５】
また、攪拌機構１４は、供給管Ｐ１と排出管Ｐ２とを接続する連結管Ｐ４と、洗浄槽６ｂ内の洗浄液を排出管Ｐ２、連結管Ｐ４及び供給管Ｐ１を介して循環させる循環部１４ａとを具備していることから、洗浄槽６ｂ内の洗浄液が排出管Ｐ２、連結管Ｐ４及び供給管Ｐ１を介して循環し、洗浄槽６ｂ内の洗浄液は攪拌されるので、確実に洗浄槽６ｂ内の洗浄液の濃度を均一にすることができる。また、簡略な構成により攪拌機構１４を構築することが可能になるので、洗浄槽６ｂ内の洗浄液攪拌のために複雑な機構を必要とせず、容易に攪拌機構１４を設けることができる。
【００４６】
（他の実施の形態）
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
【００４７】
例えば、前述の実施の形態においては、基板Ｋの移動方向に直交するＸ軸方向に基板Ｋの幅全体を網羅するように複数の塗布ヘッド４を並べて用いているが、これに限るものではなく、一つの塗布ヘッド４を用いるようにしてもよく、あるいはＸ軸方向に基板Ｋの幅全体より短く複数の塗布ヘッド４を並べて用いるようにしてもよい。これらの場合には、基板Ｋの塗布面全体に複数回に分けて塗布液を塗布する制御を行う。
【００４８】
また、前述の実施の形態においては、ケーブルベアＣを通して供給管Ｐ１を洗浄槽６ｂの供給口Ａ１に接続しているが、これに限るものではなく、ケーブルベアＣを用いなくてもよく、あるいは、供給管Ｐ１をカバーするような他のカバー部材等を設けるようにしてもよい。
【００４９】
さらに、前述の実施の形態においては、受け部材１３及び排出管Ｐ３を設けているが、これに限るものではなく、例えば、受け部材１３及び排出管Ｐ３を設けずに、排出管Ｐ２により洗浄槽６ｂと廃液回収タンク１２とを直接接続するようにしてもよい。この場合には、排出管Ｐ２の長さは、ステージ２の移動に対応可能な長さに設定されている。また、その排出管Ｐ２は供給管Ｐ１と同じようにケーブルベアを通して洗浄槽６ｂの排出口Ａ２に接続されてもよい。
【００５０】
加えて、前述の実施の形態においては、塗布ヘッド４に対するワイプ動作を行う場合、ユニット移動機構１０によりクリーニングユニット６をＹ軸方向に移動させているが、これに限るものではなく、例えば、Ｙ軸移動機構３によりステージ２と共にクリーニングユニット６をＹ軸方向に移動させるようにしてもよい。
【００５１】
また、前述の実施の形態においては、一つに塗布ヘッド４に対して一つのワイピング部材６ａを設けているが、これに限るものではなく、例えば、一つの塗布ヘッド４に対して回転軸６ｄの回転方向に複数のワイピング部材６ａを並べて設けるようにしてもよい。この場合には、一つの塗布ヘッド４に対して一つのワイピング部材６ａだけを用いた場合に比べ、拭き残しの発生を抑えることが可能になるので、塗布ヘッド４に付着した塗布液（吐出液）の固着を確実に防止することができる。
【００５２】
さらに、前述の実施の形態においては、洗浄槽６ｂにセンサＳを設け、そのセンサＳによる洗浄液量に基づいてバルブＢ１やバルブＢ２等を制御しているが、これに限るものではなく、例えば、センサＳを設けずに時間によりバルブＢ１やバルブＢ２等を制御し、洗浄槽６ｂ内の洗浄液量を調整するようにしてもよい。
【００５３】
加えて、前述の第２の実施の形態においては、攪拌機構１４を連結管Ｐ４及び循環部１４ａにより構成しているが、これに限るものではなく、他の機構を用いるようにしてもよい。例えば、攪拌機構１４として連結管Ｐ４ではなく、洗浄槽６ｂに新たに二つの開口部を設け、それらの開口部を連結する循環用の管を設け、その循環用の管の経路途中に循環部１４ａを設けるようにしてもよい。
【００５４】
また、前述の第２の実施の形態においては、攪拌機構１４の一部である連結管Ｐ４だけをステージ２の移動に応じて移動可能に設けているが、これに限るものではなく、攪拌機構１４を構成する連結管Ｐ４及び循環部１４ａをステージ２の移動に応じて移動可能に、例えば攪拌機構１４が洗浄槽６ｂと一体に移動するように固定部材９上に設けるようにしてもよい。
【００５５】
最後に、前述の実施の形態においては、各種の数値を挙げているが、それらの数値は例示であり、限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る液滴塗布装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】図１に示す液滴塗布装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】図１に示す液滴塗布装置の概略構成を示す正面図である。
【図４】図１乃至図３に示す液滴塗布装置が備えるクリーニングユニットの概略構成を示す断面図である。
【図５】図４に示すクリーニングユニットが備えるワイピング部材の洗浄位置を示す断面図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係る液滴塗布装置が備えるクリーニングユニットの概略構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【００５７】
１          液滴塗布装置
２          ステージ
３          移動機構（Ｙ軸移動機構）
４          塗布ヘッド
６          清掃装置（クリーニングユニット）
６ａ        ワイピング部材
６ｂ        洗浄槽
１４        攪拌機構
１４ａ      循環部
Ｋ          塗布対象物（基板）
Ｐ１        供給管
Ｐ２        排出管
Ｐ４        連結管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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