【手続補正書】
【提出日】平成29年12月22日(2017.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６２】
他の実施形態は、以下の特許請求の範囲内に示される。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  式ＶＩＩＩの化合物
【化１】
2017502956.tif 000001
を、水素源及び遷移金属触媒と組み合わせて、
式Ｉの化合物
【化２】
2017502956.tif 000002
、またはその薬学的に許容される塩を形成することを含む、プロセスであって、式中、
Ｒ1及びＲ2が、各々独立して、
（ｉ）水素、
（ｉｉ）置換または非置換Ｃ1−Ｃ6アルキル、
（ｉｉｉ）置換または非置換アラルキル、
（ｉｖ）置換または非置換シクロアルキルアルキル、
（ｖ）置換または非置換Ｃ2−Ｃ6アルケニル、
（ｖｉ）アミノ保護基、であるか、
あるいは、Ｒ1及びＲ2が一緒になって、３、４、５、６、７、または８員の置換または非置換ヘテロシクリル環を形成し、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、及びＲ7が、各々独立して、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボキシレート、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基であり、アルキル、アリール、またはアラルキル基の各々が、置換または非置換であり、
Ｒ5が、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、アラルキル、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、もしくは−Ｃ（Ｏ）−アラルキル基から選択され、アルキル、アリール、またはアラルキル基の各々が、置換または非置換であり、
Ｒ8が、
【化３】
2017502956.tif 000003
、
【化４】
2017502956.tif 000004
、または
【化５】
2017502956.tif 000005
であり、
式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、及びＲ21が、各々独立して、Ｈ、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボキシレート、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基から選択され、アルキル、アリール、またはアラルキル基の各々が、置換または非置換であり、Ｒ55及びＲ56が、各々独立して、Ｈ、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボキシレート、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基から選択され、アルキル、アリール、またはアラルキル基の各々が、置換または非置換であり、
Ｒ9が、ＯＲ′またはＮＲ′Ｒ′′であり、
各出現におけるＲ′が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、もしくはヘテロシクリルアルキル基であり、
Ｒ′′が、水素、または置換もしくは非置換アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、もしくはヘテロシクリルアルキル基であり、
ｎが、１、２、３、４、または５であり、
ｍが、１、２、３、４、または５であり、
各出現におけるＸ1が、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性である、アミノ保護基であり、
各出現におけるＸ2が、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性である、アミノ保護基であり、
Ｘ3が、Ｘ1またはＲ2であり、
各出現におけるＸ4が、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性である、アミノ保護基であり、
Ｚ1及びＺ2が、各々独立して、水素、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2、または置換もしくは非置換アルキル、アリール、もしくはアラルキル基であり、
Ｚ5及びＺ6は、各々独立して、水素、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2、または置換もしくは非置換アルキル、アリール、もしくはアラルキル基であり、
式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、及びＸ4のうちの少なくとも１つが、酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性である、アミノ保護基である、前記プロセス。
２．  前記式ＶＩＩＩの化合物が、式ＶＩの化合物
【化６】
2017502956.tif 000006
を、式ＶＩＩの化合物
【化７】
2017502956.tif 000007
と、前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含むプロセスによって形成される、上記１に記載の前記プロセス。
３．  式ＶＩの化合物を形成することが、
式ＩＩＩの化合物
【化８】
2017502956.tif 000008
を、式ＩＶの化合物
【化９】
2017502956.tif 000009
と、式Ｖの化合物
【化１０】
2017502956.tif 000010
を形成するための条件下で組み合わせることと、
前記式Ｖの化合物
【化１１】
2017502956.tif 000011
を、開裂酸と組み合わせて、式ＶＩの化合物
【化１２】
2017502956.tif 000012
を生成することと、を含み、
式中、
Ｙ1が、酸媒介性除去に感受性であるアミノ保護基である、上記２に記載の前記プロセス。
４．  Ｙ1が、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル（Ｂｏｃ）であり、各出現におけるＸ1が、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、各出現におけるＸ2が、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、各出現におけるＸ4が、独立して、水素、ニトロ、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルである、上記１〜３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
５．  Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6が、各々、水素であり、
Ｒ3及びＲ7が、メチルであり、
Ｒ8が、
【化１３】
2017502956.tif 000013
であり、式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14が、全て水素であり、
Ｚ1及びＺ5が、水素であり、
Ｚ2が、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6が、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、式中、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つが、Ｈではなく、
ｎが、４であり、
ｍが、３である、上記１〜３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
６．  Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6が、各々、水素であり、
Ｒ3及びＲ7が、メチルであり、
Ｒ8が、
【化１４】
2017502956.tif 000014
であり、式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14が、全て水素であり、
Ｘ2が、Ｈではなく、
Ｘ4が、Ｈではなく、
Ｚ1及びＺ5が、水素であり、
Ｚ2が、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6が、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｎが、４であり、
ｍが、３である、上記１〜３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
７．  前記水素源が、水素ガス、ギ酸、ギ酸塩、ジイミド、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含み、
前記遷移金属触媒が、Ｃｏ、Ｉｒ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｗ、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、上記１に記載の前記プロセス。
８．  前記遷移金属触媒が、担体材料を更に含む、上記７に記載の前記プロセス。
９．  前記担体材料が、炭素、炭酸塩、シリカ、ケイ素、ケイ酸塩、アルミナ、粘土、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含む、上記８に記載の前記プロセス。
１０．  前記遷移金属触媒が、Ｐｄ炭素、またはＰｄケイ素を含む、上記９に記載の前記プロセス。
１１．  溶媒を更に含む、上記７〜１０のいずれか一項に記載の前記プロセス。
１２．  前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオレタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含む、上記１１に記載の前記プロセス。
１３．  前記溶媒が、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＦ、Ｈ2ＳＯ4、Ｈ3ＰＯ4、ＨＣｌＯ4、ギ酸、酢酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ラウリン酸、ステアリン酸、デオキシコール酸、グルタミン酸、グルクロン酸、ボロン酸、スルフィン酸、スルファミン酸、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を更に含む、上記１２に記載の前記プロセス。
１４．  前記式ＶＩＩＩの化合物、前記水素源、及び前記遷移金属触媒の組み合わせが、約−２０℃〜約１５０℃の温度に供される、上記１〜１３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
１５．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、カップリング剤を含み、前記カップリング剤が、（７−アザベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＡＯＰ）、Ｏ−ベンゾトリアゾル−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（ベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）ジピペリジノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＢＯＰ）、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、ブロモトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＣＴＵ）、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＣＴＵ）、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスファート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムテトラフルオロボラート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムクロリド、クロロジピロリジノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、クロロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロホスファート（ＣＯＭＵ）、ジピロリジノ（Ｎ−スクシンイミジルオキシ）カルベニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡＴ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＡＴＵ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾル−１−イル）ウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＢＴＵ）、１−［（ジメチルアミノ）（モルホリノ）メチレン］−１Ｈ−［１，２，３］トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＤＭＡ）、Ｏ−（���−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｓ−（１−オキシド−２−ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルチウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（２−オキソ−１（２Ｈ）ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミドメチオジド（ＥＤＣ−ＭｅＩ）、プロパンホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメチル−ｐ−トルエンスルホン酸塩、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１，１′−カルボニルジ（１，２，４−トリアゾール）、ビス（４−ニトロフェニル）カーボネート、クロロギ酸４−ニトロフェニル、ジ（Ｎ−スクシンイミジル）カーボネート、１−（２−メシチレンスルホニル）−３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、上記２に記載の前記プロセス。
１６．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、カップリング剤を含み、前記カップリング剤が、ＤＣＣ、ＥＤＣ、ＨＡＴＵ、ＨＢＴＵ、ＨＣＴＵ、Ｔ３Ｐ、ＨＯＢＴ、ＴＢＴＵ、ＴＣＴＵ、ＰｙＡＯＰ、ＢＯＰ、ＰｙＢＯＰ、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、上記２に記載の前記プロセス。
１７．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、ＥＤＣ及びＨＯＢＴ、ＥＤＣ−ＨＣｌ及びＨＯＢＴ、ＢＯＰ及びＨＯＢＴ、またはＨＡＴＵ及びＨＯＡＴを含む、上記２に記載の前記プロセス。
１８．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、溶媒を更に含む、上記１５〜１７のいずれか一項に記載の前記プロセス。
１９．  前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオレタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含む、上記１８に記載の前記プロセス。
２０．  前記溶媒が、ジメチルホルムアミド、ＣＨ2Ｃｌ2、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、エタノール、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含む、上記１８に記載の前記プロセス。
２１．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、塩基を更に含む、上記１５〜１７のいずれか一項に記載の前記プロセス。
２２．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、約−４０℃〜約１５０℃の温度で起こる、上記１５〜１７のいずれか一項に記載の前記プロセス。
２３．  前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件が、カップリング剤を含み、前記カップリング剤が、（７−アザベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＡＯＰ）、Ｏ−ベンゾトリアゾル−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（ベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）ジピペリジノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＢＯＰ）、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、ブロモトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＣＴＵ）、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＣＴＵ）、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスファート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムテトラフルオロボラート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムクロリド、クロロジピロリジノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、クロロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロホスファート（ＣＯＭＵ）、ジピロリジノ（Ｎ−スクシンイミジルオキシ）カルベニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡＴ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＡＴＵ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾル−１−イル）ウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＢＴＵ）、１−［（ジメチルアミノ）（モルホリノ）メチレン］−１Ｈ−［１，２，３］トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＤＭＡ）、Ｏ−（５−ノ���ボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｓ−（１−オキシド−２−ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルチウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（２−オキソ−１（２Ｈ）ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミドメチオジド（ＥＤＣ−ＭｅＩ）、プロパンホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメチル−ｐ−トルエンスルホン酸塩、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１，１′−カルボニルジ（１，２，４−トリアゾール）、ビス（４−ニトロフェニル）カーボネート、クロロギ酸４−ニトロフェニル、ジ（Ｎ−スクシンイミジル）カーボネート、１−（２−メシチレンスルホニル）−３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、上記３に記載の前記プロセス。
２４．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、カップリング剤を含み、前記カップリング剤が、ＤＣＣ、ＥＤＣ、ＨＡＴＵ、ＨＢＴＵ、ＨＣＴＵ、Ｔ３Ｐ、ＨＯＢＴ、ＴＢＴＵ、ＴＣＴＵ、ＰｙＡＯＰ、ＢＯＰ、ＰｙＢＯＰ、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、上記３に記載の前記プロセス。
２５．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、ＥＤＣ及びＨＯＢＴ、ＥＤＣ−ＨＣｌ及びＨＯＢＴ、ＢＯＰ及びＨＯＢＴ、またはＨＡＴＵ及びＨＯＡＴを含む、上記３に記載の前記プロセス。
２６．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、溶媒を更に含む、上記２３〜２５のいずれか一項に記載の前記プロセス。
２７．  前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含む、上記２６に記載の前記プロセス。
２８．  前記溶媒が、ジメチルホルムアミド、ＣＨ2Ｃｌ2、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、エタノール、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含む、上記２６に記載の前記プロセス。
２９．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、塩基を更に含む、上記２３〜２５のいずれか一項に記載の前記プロセス。
３０．  式ＶＩの化合物を生成するために使用される前記開裂酸が、ハロゲン酸、カルボン酸、ホスホン酸、リン酸、スルフィン酸、スルホン酸、硫酸、スルファミン酸、ホウ酸、ボロン酸、酸性樹脂、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、上記３に記載の前記プロセス。
３１．  式ＶＩの化合物を生成するために使用される前記開裂酸が、フッ化水素酸、塩酸（ＨＣｌ）、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、酢酸（ＡｃＯＨ）、フルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）、クロロ酢酸、安息香酸、リン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、硫酸、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、上記３に記載の前記プロセス。
３２．  前記開裂酸と組み合わせることが、約−４０℃〜約１５０℃の温度で起こる、上記３に記載の前記プロセス。
３３．  前記開裂酸が、プロトン性溶媒、極性非プロトン性溶媒、またはこれら２つの混合物を更に含む、上記３に記載の前記プロセス。
３４．  前記開裂酸が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオレタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を更に含む、上記３に記載の前記プロセス。
３５．  Ｙ1が、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル（Ｂｏｃ）であり、各出現におけるＸ1が、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、各出現におけるＸ2が、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、各出現におけるＸ4が、独立して、水素、ニトロ、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルである、上記５〜３４のいずれか一項に記載の前記プロセス。
３６．  Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6が、各々、水素であり、
Ｒ3及びＲ7が、メチルであり、
Ｒ8が、
【化１５】
2017502956.tif 000015
であり、式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14が、全て水素であり、
Ｚ1及びＺ5が、水素であり、
Ｚ2が、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6が、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、式中、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つが、Ｈではなく、
ｎが、４であり、
ｍが、３である、上記７〜３５のいずれか一項に記載の前記プロセス。
３７．  Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6が、各々、水素であり、
Ｒ3及びＲ7が、メチルであり、
Ｒ8が、
【化１６】
2017502956.tif 000016
であり、式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14が、全て水素であり、
Ｘ2が、Ｈではなく、
Ｘ4が、Ｈではなく、
Ｚ1及びＺ5が、水素であり、
Ｚ2が、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6が、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｎが、４であり、
ｍが、３である、上記７〜３５のいずれか一項に記載の前記プロセス。
３８．  前記式ＩＩＩの化合物を形成することが、式ＸＶの化合物
【化１７】
2017502956.tif 000017
を、式ＩＩＩの化合物に変換することを含み、
式中、Ｒ50及びＲ51が、各々独立して、水素、または置換もしくは非置換Ｃ1−Ｃ6アルキル、アリール、もしくはシクロアルキル基である、上記３〜３７のいずれか一項に記載の前記プロセス。
３９．  Ｒ3及びＲ7が、メチルである、上記３８に記載の前記プロセス。
４０．  Ｒ50及びＲ51が、メチルである、上記３８または３９に記載の前記プロセス。
４１．  Ｒ4及びＲ6が、各々、水素である、上記３８〜４０のいずれか一項に記載の前記プロセス。
４２．  前記式ＸＶの化合物を前記式ＩＩＩの化合物に変換することが、
前記式ＸＶの化合物を、Ｙ1−Ｌｖ、有機塩基、及び適切な溶媒と組み合わせて、生成物を生成することと、
前記生成物を、エステル加水分解条件に供することと、を含み、
式中、Ｌｖが、ハロゲン、−Ｏ−Ｙ1、または−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｃｌである、上記３８〜４１のいずれか一項に記載の前記プロセス。
４３．  Ｙ1が、Ｂｏｃであり、Ｙ1−Ｌｖが、Ｂｏｃ2Ｏである、上記４２に記載の前記プロセス。
４４．  前記エステル加水分解条件が、アルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を含む、上記４２または４３に記載の前記プロセス。
４５．  前記エステル加水分解条件が、ＮａＯＨの水溶液を含む、上記４２〜４４のいずれか一項に記載の前記プロセス。
４６．  前記式ＸＶの化合物が、式ＸＩＶの化合物
【化１８】
2017502956.tif 000018
を、前記式ＸＶの化合物を形成するための条件下で変換することによって調製される、上記４２〜４５のいずれか一項に記載の前記プロセス。
４７．  条件が、水素源、遷移金属源、キラルリガンド、及び適切な溶媒を含む、上記４６に記載の前記プロセス。
４８．  条件が、Ｈ2、Ｒｈ（Ｉ）（ＣＯＤ）2ＢＦ4、（Ｓ）−ＭｅＢｏＰｈｏｓ、及びＴＨＦを含む、上記４６または４７に記載の前記プロセス。
４９．  前記式ＸＩＶの化合物を形成することが、式ＸＩＩの化合物
【化１９】
2017502956.tif 000019
を、式ＸＩＩＩの化合物またはその塩と、
【化２０】
2017502956.tif 000020
前記式ＸＩＶの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含む、上記４６〜４８のいずれか一項に記載の前記プロセス。
５０．  前記式ＸＩＶの化合物を形成するための前記条件が、ワンポット合成を含む、上記４９に記載の前記プロセス。
５１．  前記ワンポット合成が、
（ａ）前記式ＸＩＩの化合物及び前記式ＸＩＩＩの化合物を、（Ｒ51ＣＯ）2Ｏと、有機塩基の存在下で組み合わせて、混合物を形成することと、
（ｂ）遷移金属源及びＰＲ523を、前記（ａ）の混合物に添加することと、を含み、
式中、各Ｒ52が、独立して、置換または非置換Ｃ1−Ｃ6アルキル基、非置換フェニル、または１〜５個の置換または非置換Ｃ1−Ｃ6アルキル基で置換されたフェニルである、上記５０に記載の前記プロセス。
５２．  前記有機塩基が、Ｅｔ3Ｎである、上記５１に記載の前記プロセス。
５３．  ＰＲ523が、Ｐ（トリル）3である、上記５１または５２に記載の前記プロセス。
５４．  前記遷移金属源が、Ｐｄ（ＯＡｃ）2である、上記５１〜５３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
５５．  Ｒ3、Ｒ7、Ｒ50、及びＲ51が、各々、メチルであり、Ｒ4及びＲ6が、各々、水素である、上記５１〜５４のいずれか一項に記載の前記プロセス。
５６．  前記式ＸＩＶの化合物を形成することが、式Ａの化合物
【化２１】
2017502956.tif 000021
を、式Ｂの化合物またはその塩と、
【化２２】
2017502956.tif 000022
前記式ＸＩＶの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含み、
式中、各出現におけるＲ’’’が、独立して、置換または非置換アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、またはヘテロシクリルアルキル基である、上記４６〜４８のいずれか一項に記載の前記プロセス。
５７．  前記式ＸＩＶの化合物を形成するための前記条件が、ワンポット合成を含む、上記５６に記載の前記プロセス。
５８．  前記ワンポット合成が、前記式Ａの化合物を前記式Ｂの化合物と組み合わせるときに、塩基を更に組み合わせることを含む、上記５７に記載の前記プロセス。
５９．  前記塩基が、有機塩基である、上記５８に記載の前記プロセス。
６０．  前記塩基が、トリエチルアミン（Ｅｔ3Ｎ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデス−７−エン（ＤＢＵ）、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含む、有機塩基である、上記５８または５９に記載の前記プロセス。
６１．  前記塩基が、ＤＢＵ、ＤＩＰＥＡ、またはこれら２つの混合物である、上記５８〜６０のいずれか一項に記載の前記プロセス。
６２．  Ｒ’’’が、メチルである、上記５６〜６１のいずれか一項に記載の前記プロセス。
６３．  Ｒ50及びＲ51が、各々、メチルである、上記５６〜６２のいずれか一項に記載の前記プロセス。
６４．  Ｒ3及びＲ7が、各々、メチルである、上記５６〜６３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
６５．  Ｒ4及びＲ6が、各々、水素である、上記５６〜６４のいずれか一項に記載の前記プロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式ＶＩＩＩの化合物
【化１】
2017502956.tif 000023
を、水素源及び遷移金属触媒と組み合わせて、
式Ｉの化合物
【化２】
2017502956.tif 000024
、またはその薬学的に許容される塩を形成することを含む、プロセスであって、式中、
Ｒ1及びＲ2が、各々独立して、
（ｉ）水素、
（ｉｉ）置換または非置換Ｃ1−Ｃ6アルキル、
（ｉｉｉ）置換または非置換アラルキル、
（ｉｖ）置換または非置換シクロアルキルアルキル、
（ｖ）置換または非置換Ｃ2−Ｃ6アルケニル、
（ｖｉ）アミノ保護基、であるか、
あるいは、Ｒ1及びＲ2が一緒になって、３、４、５、６、７、または８員の置換または非置換ヘテロシクリル環を形成し、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、及びＲ7が、各々独立して、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボキシレート、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基であり、アルキル、アリール、またはアラルキル基の各々が、置換または非置換であり、
Ｒ5が、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、アラルキル、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、もしくは−Ｃ（Ｏ）−アラルキル基から選択され、アルキル、アリール、またはアラルキル基の各々が、置換または非置換であり、
Ｒ8が、
【化３】
2017502956.tif 000025
、
【化４】
2017502956.tif 000026
、または
【化５】
2017502956.tif 000027
であり、
式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、及びＲ21が、各々独立して、Ｈ、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボキシレート、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基から選択され、アルキル、アリール、またはアラルキル基の各々が、置換または非置換であり、Ｒ55及びＲ56が、各々独立して、Ｈ、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボキシレート、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基から選択され、アルキル、アリール、またはアラルキル基の各々が、置換または非置換であり、
Ｒ9が、ＯＲ′またはＮＲ′Ｒ′′であり、
各出現におけるＲ′が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、もしくはヘテロシクリルアルキル基であり、
Ｒ′′が、水素、または置換もしくは非置換アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、もしくはヘテロシクリルアルキル基であり、
ｎが、１、２、３、４、または５であり、
ｍが、１、２、３、４、または５であり、
各出現におけるＸ1が、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性である、アミノ保護基であり、
各出現におけるＸ2が、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性である、アミノ保護基であり、
Ｘ3が、Ｘ1またはＲ2であり、
各出現におけるＸ4が、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性である、アミノ保護基であり、
Ｚ1及びＺ2が、各々独立して、水素、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2、または置換もしくは非置換アルキル、アリール、もしくはアラルキル基であり、
Ｚ5及びＺ6は、各々独立して、水素、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2、または置換もしくは非置換アルキル、アリール、もしくはアラルキル基であり、
式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、及びＸ4のうちの少なくとも１つが、酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性である、アミノ保護基である、前記プロセス。
【請求項２】
前記式ＶＩＩＩの化合物が、式ＶＩの化合物
【化６】
2017502956.tif 000028
を、式ＶＩＩの化合物
【化７】
2017502956.tif 000029
と、前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含むプロセスによって形成される、請求項１に記載の前記プロセス。
【請求項３】
式ＶＩの化合物を形成することが、
式ＩＩＩの化合物
【化８】
2017502956.tif 000030
を、式ＩＶの化合物
【化９】
2017502956.tif 000031
と、式Ｖの化合物
【化１０】
2017502956.tif 000032
を形成するための条件下で組み合わせることと、
前記式Ｖの化合物
【化１１】
2017502956.tif 000033
を、開裂酸と組み合わせて、式ＶＩの化合物
【化１２】
2017502956.tif 000034
を生成することと、を含み、
式中、
Ｙ1が、酸媒介性除去に感受性であるアミノ保護基である、請求項２に記載の前記プロセス。
【請求項４】
Ｙ1が、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル（Ｂｏｃ）であり、各出現におけるＸ1が、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、各出現におけるＸ2が、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、各出現におけるＸ4が、独立して、水素、ニトロ、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
【請求項５】
Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6が、各々、水素であり、
Ｒ3及びＲ7が、メチルであり、
Ｒ8が、
【化１３】
2017502956.tif 000035
であり、式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14が、全て水素であり、
Ｚ1及びＺ5が、水素であり、
Ｚ2が、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6が、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、式中、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つが、Ｈではなく、
ｎが、４であり、
ｍが、３である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
【請求項６】
Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6が、各々、水素であり、
Ｒ3及びＲ7が、メチルであり、
Ｒ8が、
【化１４】
2017502956.tif 000036
であり、式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14が、全て水素であり、
Ｘ2が、Ｈではなく、
Ｘ4が、Ｈではなく、
Ｚ1及びＺ5が、水素であり、
Ｚ2が、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6が、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｎが、４であり、
ｍが、３である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の前記プロセス。
【請求項７】
前記水素源が、水素ガス、ギ酸、ギ酸塩、ジイミド、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含み、
前記遷移金属触媒が、Ｃｏ、Ｉｒ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｗ、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、請求項１に記載の前記プロセス。
【請求項８】
前記遷移金属触媒が、担体材料を更に含み、前記担体材料が、炭素、炭酸塩、シリカ、ケイ素、ケイ酸塩、アルミナ、粘土、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含んでもよい、請求項７に記載の前記プロセス。
【請求項９】
前記遷移金属触媒が、Ｐｄ炭素、またはＰｄケイ素を含む、請求項８に記載の前記プロセス。
【請求項１０】
溶媒を更に含み、前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオレタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含んでもよい、請求項７に記載の前記プロセス。
【請求項１１】
前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、カップリング剤を含み、前記カップリング剤が、（７−アザベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＡＯＰ）、Ｏ−ベンゾトリアゾル−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（ベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）ジピペリジノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＢＯＰ）、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、ブロモトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＣＴＵ）、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＣＴＵ）、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスファート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムテトラフルオロボラート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムクロリド、クロロジピロリジノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、クロロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロホスファート（ＣＯＭＵ）、ジピロリジノ（Ｎ−スクシンイミジルオキシ）カルベニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡＴ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＡＴＵ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾル−１−イル）ウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＢＴＵ）、１−［（ジメチルアミノ）（モルホリノ）メチレン］−１Ｈ−［１，２，３］トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＤＭＡ）、Ｏ−（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｓ−（１−オキシド−２−ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルチウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（２−オキソ−１（２Ｈ）ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミドメチオジド（ＥＤＣ−ＭｅＩ）、プロパンホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメチル−ｐ−トルエンスルホン酸塩、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１，１′−カルボニルジ（１，２，４−トリアゾール）、ビス（４−ニトロフェニル）カーボネート、クロロギ酸４−ニトロフェニル、ジ（Ｎ−スクシンイミジル）カーボネート、１−（２−メシチレンスルホニル）−３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、請求項２に記載の前記プロセス。
【請求項１２】
前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、溶媒を更に含む、請求項１１に記載の前記プロセス。
【請求項１３】
前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオレタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含む、請求項１２に記載の前記プロセス。
【請求項１４】
前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件が、カップリング剤を含み、前記カップリング剤が、（７−アザベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＡＯＰ）、Ｏ−ベンゾトリアゾル−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（ベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）ジピペリジノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＢＯＰ）、（ベンゾトリアゾル−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、ブロモトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＣＴＵ）、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾル−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＣＴＵ）、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスファート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムテトラフルオロボラート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムクロリド、クロロジピロリジノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、クロロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロホスファート（ＣＯＭＵ）、ジピロリジノ（Ｎ−スクシンイミジルオキシ）カルベニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスファート、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡＴ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＡＴＵ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾル−１−イル）ウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＢＴＵ）、１−［（ジメチルアミノ）（モルホリノ）メチレン］−１Ｈ−［１，２，３］トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イウム３−オキシドヘキサフルオロホスファート（ＨＤＭＡ）、Ｏ−（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｓ−（１−オキシド−２−ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルチウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｏ−（２−オキソ−１（２Ｈ）ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムヘキサフルオロホスファート、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミドメチオジド（ＥＤＣ−ＭｅＩ）、プロパンホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメチル−ｐ−トルエンスルホン酸塩、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１，１′−カルボニルジ（１，２，４−トリアゾール）、ビス（４−ニトロフェニル）カーボネート、クロロギ酸４−ニトロフェニル、ジ（Ｎ−スクシンイミジル）カーボネート、１−（２−メシチレンスルホニル）−３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、請求項３に記載の前記プロセス。
【請求項１５】
前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための前記条件が、溶媒を更に含み、前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物を含んでもよい、請求項１４に記載の前記プロセス。
【請求項１６】
式ＶＩの化合物を生成するために使用される前記開裂酸が、ハロゲン酸、カルボン酸、ホスホン酸、リン酸、スルフィン酸、スルホン酸、硫酸、スルファミン酸、ホウ酸、ボロン酸、酸性樹脂、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、請求項３に記載の前記プロセス。
【請求項１７】
式ＶＩの化合物を生成するために使用される前記開裂酸が、フッ化水素酸、塩酸（ＨＣｌ）、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、酢酸（ＡｃＯＨ）、フルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）、クロロ酢酸、安息香酸、リン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、硫酸、またはこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む、請求項３に記載の前記プロセス。
【請求項１８】
前記開裂酸と組み合わせることが、約−４０℃〜約１５０℃の温度で起こる、請求項３に記載の前記プロセス。
【請求項１９】
前記開裂酸との組合せにおいて、プロトン性溶媒、極性非プロトン性溶媒、またはこれら２つの混合物が更に含まれる、請求項３に記載の前記プロセス。
【請求項２０】
前記開裂酸との組合せにおいて、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオレタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはこれらの任意の２つ以上の混合物が更に含まれる、請求項３に記載の前記プロセス。