【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年3月8日(2018.3.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
本発明は、ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のための偏向光学ユニットに関する。本発明は、ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のためのビーム成形光学ユニット及びビーム案内（誘導）光学ユニットに関する。これに加えて、本発明は、ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系及びＥＵＶリソグラフィのための投影露光装置に関する。最後に、本発明は、構造化構成要素を生成する方法、及び本方法に従って生成された構造化構成要素に関する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、シンクロトロン放射線ベースの光源のＥＵＶ光を可能な最大程度まで損失がなくかつ柔軟に案内（誘導）することが提供されるようなＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のための偏向光学ユニット、ビーム成形光学ユニット、ビーム案内（誘導）光学ユニット、並びにＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系を開発することである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
下記では、位置関係の例示を容易にするために直交ｘｙｚ座標系を使用する。通常これらの例示では、ｘ座標は、ｙ座標と共にＥＵＶ照明結像光３のビーム断面を張る。相応にｚ方向は、通常、照明結像光３のビーム方向に延びている。例えば、図２及び図１２では、ｘ方向は、投影露光装置１のシステムが収まる構成面と垂直に延びている。図４から図１１の座標系は、このｘ方向に対してｚ軸の周りに９０°だけ回転される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９１】
出力結合ミラー３１i（ｉ＝１，２，．．．）は、それぞれの最近接出力結合ミラー３１iが、ＥＵＶ集合出力ビーム７の辺縁断面部分を反射し、それによってこの断面部分をこの出力結合ミラー３１ｉのそばを通過する残りのＥＵＶ集合出力ビーム７から脱結合するように、ＥＵＶ集合出力ビーム７のビーム経路にＥＵＶ集合出力ビーム７のビーム方向に縦列偏差方式で配置される。縁部からのこの出力結合は、ＥＵＶ集合出力ビーム７のそれにも関わらず残っている最後の断面部分が脱結合されるまで、その後の出力結合ミラー３１i+1，．．．によって繰り返される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０７】
より詳細な光学データを下記の表から達成することができる。この場合に、最初の列は、それぞれのミラーＤ１からＤ４の曲率半径を表し、第２の列は、それぞれのミラーＤ１からＤ３とそれぞれのその後のミラーＤ２からＤ４との間の距離を表している。この距離は、対応する反射の間でＥＵＶ個別出力ビーム９i内の中心光線が進む距離に関するものである。この表及びその後の表に使用する単位は、別途記載しない限り各場合にｍｍである。この場合のＥＵＶ個別出力ビーム９iは、偏向光学ユニット１３内に１０ｍｍの半直径ｄin／２を用いて入射する。
【表１】
2016537681.tif 000001
図１４に関する表
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のための偏向光学ユニット（１３；３５；３６；３７，３８；３９；４０）であって、
複数の偏向ミラー（Ｄ１からＤ４；Ｄ１からＤ５，Ｄ１からＤ６；Ｄ１からＤ８）を含み、その上にＥＵＶ放射線（３）が、かすめ入射で共通偏向入射平面（ｘｚ）に入射し、  ７０°よりも大きい偏向効果を前記偏向入射平面（ｘｚ）に共同で有する少なくとも４つのかすめ入射のための偏向ミラー（Ｄ１からＤ４）が設けられ、
前記偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、凸円柱ミラーとして具現化され、及び／又は該偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、凹円柱ミラーとして具現化される、
ことを特徴とする偏向光学ユニット（１３；３５；３６；３７，３８；３９；４０）。
【請求項２】
前記偏向ミラー（Ｄ１；Ｄ１からＤ８；Ｄ１からＤ４）のうちの少なくとも１つが、従動様式で変位可能であるように具現化されることを特徴とする請求項１に記載の偏向光学ユニット。
【請求項３】
前記偏向ミラー（Ｄ１からＤ８）のうちの少なくとも１つが、従動様式で可変である曲率半径を用いて具現化されることを特徴とする請求項１及び請求項２のいずれか１項に記載の偏向光学ユニット。
【請求項４】
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のためのビーム成形光学ユニット（６）であって、
ミラー（２７i，２８i）の少なくとも２つの群（２７，２８）を含み、その上にＥＵＶ放射線（３）が、かすめ入射で入射し、
各ミラー群（２７，２８）が、共通群入射平面（ｙｚ，ｘｚ）を有し、
前記ミラー群（２７，２８）の前記群入射平面（ｙｚ，ｘｚ）は、互いに異なっている、
ことを特徴とするビーム成形光学ユニット（６）。
【請求項５】
前記ミラー群のうちの一方（２８）の全てのミラー（２８1，２８2）が、更に別のミラー群（２７）の最初のミラー（２７1）の下流、かつ該更に別のミラー群（２７）の最後のミラー（２７2；２７3）の上流のビーム経路に配置されることを特徴とする請求項４に記載のビーム成形光学ユニット。
【請求項６】
前記ミラー群（２７，２８）のうちの一方の全てのミラー（２７i，２８i）上への前記ＥＵＶ放射線の入射の角度（α）が、同一の大きさのものであることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のビーム成形光学ユニット。
【請求項７】
前記ミラー群（２７，２８）のうちの一方の少なくとも２つのミラー（２７1，２７2；２８1，２８2；２７1，２７2，２７3）上への前記ＥＵＶ放射線（３）の入射の異なる角度（α，β；α，β，γ）を特徴とする請求項４又は請求項５に記載のビーム成形光学ユニット。
【請求項８】
入射の異なる角度（α，β；α，β，γ）で前記ミラー群（２７）の前記群入射平面（ｘｚ）の上に投影されると、発生されたＥＵＶ集合出力ビーム（７）が、ビーム成形光学ユニット（３０）に入射するＥＵＶ生ビーム（４）と同じ方向（ｚ）に進むことを特徴とする請求項４から請求項７のいずれか１項に記載のビーム成形光学ユニット。
【請求項９】
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系のためのビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）であって、
それぞれのＥＵＶ個別出力ビーム（９i）をビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）の中間フォーカス（４２）内に伝達するフォーカスアセンブリ（１４；４１；４５；４６；４９；５２；５５）を含む、
ことを特徴とするビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）。
【請求項１０】
前記フォーカスアセンブリ（１４；４１；４５，４６；４９；５２；５５）は、少なくとも２つのミラー（４７，４８；５０；５１；５３，５４）、すなわち
一方で少なくとも１つの楕円面ミラー（４７；５０；５４）と、
他方で少なくとも１つの放物面ミラー（５３）又は少なくとも１つの双曲面ミラー（４８；５１）と、
を含むことを特徴とする請求項９に記載のビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）。
【請求項１１】
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明系であって、
シンクロトロン放射線ベースの光源（２）のＥＵＶ生ビーム（４）からＥＵＶ集合出力ビーム（７）を発生させるためのビーム成形光学ユニット（６）を含み、
前記ＥＵＶ集合出力ビーム（７）から複数のＥＵＶ個別出力ビーム（９i）を発生させるための出力結合光学ユニット（８）を含み、
各場合に、前記それぞれのＥＵＶ個別出力ビーム（９i）をリソグラフィマスク（１２）を配置可能である物体視野（１１）に向けて案内（誘導）するためのビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）を含む、
ことを特徴とする照明系。
【請求項１２】
前記ビーム成形光学ユニット（６）は、
2016537681.tif 000002
のアスペクト比寄与を有する前記ＥＵＶ集合出力ビーム（７）を発生させるように具現化され、
前記出力結合光学ユニット（８）及び／又は前記ビーム案内（誘導）光学ユニット（１０）は、各場合に１：１のアスペクト比寄与を有する個数Ｎの前記ＥＵＶ個別出力ビーム（９1，９N）を続いて発生させるように具現化される、
ことを特徴とする請求項１１に記載の照明系。
【請求項１３】
ＥＵＶ光源（２）を含むことを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載の照明系。
【請求項１４】
ＥＵＶリソグラフィのための投影露光装置（１）であって、
請求項１１から請求項１３のいずれか１項に記載の照明系を含み、
光学系の照明光（３）が入射することになるレチクル（１２）を物体視野（１１）に装着するためのレチクルホルダ（２０）を含み、
照明視野（１１）を像平面（２３）内の像視野（２２）の中に結像するための投影光学ユニット（１９）を含み、
投影露光中に前記物体視野（１１）に配置されたレチクル構造が前記像視野（２２）に配置されたウェーハセクションの上に結像されるようにウェーハ（２４）を前記像平面（２３）に装着するためのウェーハホルダ（２５）を含む、
ことを特徴とする投影露光装置（１）。
【請求項１５】
構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル（１２）及びウェーハ（２４）を与える段階と、
請求項１３に記載の投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（１２）上の構造を前記ウェーハ（２４）の感光層の上に投影する段階と、
微細構造又はナノ構造を前記ウェーハ（２４）上に生成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法に従って生成された構造化構成要素。