【手続補正書】
【提出日】平成30年3月14日(2018.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
懸濁重合反応に用いる２次沈殿防止剤であって、
該２次沈殿防止剤は、
（i）エステル含有モノマー（群）が、モノマー当たり１つの重合性炭素−炭素二重結合及びエステル基を含む、少なくとも１つのエステル含有モノマーの残留物、並びに
（ii）スルホネート、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含む該モノマー（群）が、モノマー当たり１つの重合性炭素−炭素二重結合及びスルホネート、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含む、スルホネート、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含む少なくとも１つのモノマーの１以上の残留物を含み、該ポリマーは、前記エステル基の一部がアルコール性基を形成するように、任意で部分的に加水分解されており、該ポリマーの前記加水分解度は５ｍｏｌ％以下である、２次沈殿防止剤。
【請求項２】
乳化重合によりつくられ、または前記エマルションポリマーから誘導される、前記請求項１に記載の２次沈殿防止剤。
【請求項３】
種の存在下で乳化重合により形成される、請求項２に記載の２次沈殿防止剤。
【請求項４】
該種はシードポリマーを含む、請求項３に記載の２次沈殿防止剤。
【請求項５】
分散媒体、または溶液中の重合または塊状重合によりつくられる、請求項１に記載の２次沈殿防止剤。
【請求項６】
１以上のエステル含有モノマーの残留物を含む、前記請求項１〜５のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項７】
該エステル含有モノマーはエステル基に結合した重合性のＣ＝Ｃ基を含み、該重合性のＣ＝Ｃ基と該エステル基の間に結合基がない、前記請求項１〜６のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項８】
該エステル基はＣ＝Ｃ基と隣接した−Ｏ−部分が配置されている、請求項７に記載の２次沈殿防止剤。
【請求項９】
該エステル基はＣ＝Ｃ基と隣接したＣ＝Ｏ部分が配置されている、請求項７に記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１０】
該エステル含有モノマーのＣ＝Ｃが、１、２または３か所で置換されている、前記請求項１〜９のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１１】
該エステル含有モノマーは、ビニルアセテート、ビニルベンゾエート、ビニル４−ｔ−ブチルベンゾエート、ビニルクロロホルメート、ビニルシンナメート、ビニルデカノエート、ビニルネオノナノエート、ビニルネオデカノエート、ビニルピバレート、ビニルプロピオネート、ビニルステアレート、ビニルトリフルオロアセテート、ビニルバレレート、メチルビニルアセテート、プロペニルアセテート、メチルプロペニルアセテート、エチルプロペニルアセテート、ブテニルアセテート、メチルブテニルアセテート、ビニルプロパノエート、プロペニルプロパノエート、ビニルブチレート、ビニルヘキサノエート、ビニルヘプタノエート、ビニルオクタノエート、ビニル２−プロピルヘプタノエート、ビニルノナノエート、ビニルネオノナノエート、またはビニルトリフルオロアセテート、を含む、前記請求項１〜１０のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１２】
スルホネート、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含む１以上のモノマーの残留物を含む、前記請求項１〜１１のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１３】
スルホネート、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含む２次沈殿防止剤は、該重合性のＣ＝Ｃ基と該スルホネート、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基の間の結合を含む、前記請求項１〜１２のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１４】
スルホネート、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含む２次沈殿防止剤は、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、２−メチル−２−プロペン−１−スルホン酸ナトリウム塩及び２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩、３−スルホプロピル（メタ）アクリレート、１−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロピルスルホン酸ナトリウム、アクリル酸またはメタアクリル酸の直線状または枝分かれＣ１−Ｃ１０−アルキルスルホンアミド或いは２〜１０の炭素原子を有するω−アルケン−１−スルホン酸を含む、前記請求項１〜１３のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１５】
スルホネ−ト、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含むモノマ−の残留物を最大５ｍｏｌ％まで含む、前記請求項１〜１４のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１６】
スルホネ−ト、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含むモノマ−の残留物を最大３ｍｏｌ％まで含む、前記請求項１〜１５のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１７】
スルホネ−ト、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含むモノマ−の残留物を０．１〜１．５ｍｏｌ％含む、前記請求項１〜１６のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１８】
該少なくとも１つのエステル含有モノマ−の残留物、及びスルホネ−ト、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含む該少なくとも１つのモノマ−の残留物を少なくとも９０重量％含み、任意で該エステル残留物の一部は最大６０ｍｏｌ％までの加水分解度を備えるために加水分解され、該ポリマ−の残りは該少なくとも１つのエステル含有モノマ−の残留物、及びスルホネ−ト、スルホン酸、スルホン酸エステル、スルホンアミド、またはスルホニルハライド基を含む該少なくとも１つのモノマ−の残留物ではない他の残留物である、前記請求項１〜１７のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項１９】
加水分解度が実質的にゼロである、前記請求項１〜１８のいずれかに記載の２次沈殿防止剤。
【請求項２０】
ビニル化合物の懸濁重合のための２次沈殿防止剤組成物であって、前記請求項１〜１９のいずれかに記載の２次沈殿防止剤の溶液またはエマルションを含む組成物。
【請求項２１】
懸濁重合反応組成物であって、
それは１以上のモノマ−が分散された液滴でポリマ−化される連続相であって、１以上の１次沈殿防止剤で、少なくとも１つの２次沈殿防止剤である、前記請求項１〜１９のいずれかに記載の懸濁重合反応組成物。
【請求項２２】
ポリマ−化される１以上のモノマ−が、重合性ビニル(Ｃ＝Ｃ)基を含むモノマ−と、１以上のコモノマ−を含んでいる、請求項２１記載の反応組成物。
【請求項２３】
該１次沈殿防止剤は、約７０〜９０ｍｏｌ％の加水分解度を有する１以上のポリ酢酸ビニルを含む、請求項２１または請求項２２に記載の反応組成物。
【請求項２４】
該１次沈殿防止剤は、１以上のセルロ−ス系ポリマ−を含む、請求項２３に記載の反応組成物。
【請求項２５】
該反応組成物は、ラジカル付加重合に適している、前記請求項２１〜２４のいずれかに記載の反応組成物。
【請求項２６】
ポリマ−化される該１以上のモノマ−１００重量部、連続相８５〜１３０重量部、１次沈殿防止剤０．０４〜０．２２重量部、前記２次沈殿防止剤０．００１〜０．２０重量部、及び開始剤０．０３〜０．１５重量部を含む、前記請求項２１〜２５のいずれかに記載の反応組成物。
【請求項２７】
該組成物に用いられる該１次沈殿防止剤の重量が、前記２次沈殿防止剤の重量の少なくとも０．５倍、及び任意で少なくとも５．０倍である、前記請求項２１〜２６のいずれかに記載の反応組成物。
【請求項２８】
ポリマ−化される該１以上のモノマ−の重量に対し、該組成物は該２次沈殿防止剤１００〜８００ｐｐｍを含む、前記請求項２１〜２７のいずれかに記載の反応組成物。
【請求項２９】
懸濁重合を用いたポリマ−の製造方法であって、該方法は：
前記請求項１〜１９のいずれかに記載の２次沈殿防止剤の存在下で１以上のモノマ−を重合することを含む、懸濁重合を用いたポリマ−の製造方法。
【請求項３０】
前記請求項２１〜２８のいずれかに記載の反応組成物を形成することを含む、請求項２９に記載の方法。