【手続補正書】
【提出日】平成30年4月27日(2018.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物
【化１】
2017514846.tif 000001
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、
【化２】
2017514846.tif 000002
無機塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（Ｖ）の化合物を式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ１は、脱離基であり、前記無機塩基は、酸と反応または接触したときに水を形成しない、ことと、
【化３】
2017514846.tif 000003
塩基の存在下で、第２の有機溶媒中、約１１０℃〜約１５０℃の範囲の温度で、不活性雰囲気下で、式（ＶＩＩ）の化合物を脱メチル化剤と反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることと、
を含む、プロセス。
【請求項２】
請求項１に記載のプロセスにおいて、
前記式（ＶＩＩ）の化合物は、単離されない、プロセス。
【請求項３】
式（Ｉ）の化合物
【化４】
2017514846.tif 000004
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、
【化５】
2017514846.tif 000005
無水のＫ２ＨＰＯ４の存在下で、ＤＭＦ中、約６０℃の温度で、式（Ｖ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ１は臭素であり、前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、前記無水のＫ２ＨＰＯ４は、約２．４〜約３モル当量の範囲の量で存在する、ことと、
【化６】
2017514846.tif 000006
ＮａＯｔＢｕの存在下で、ＤＭＦ中、約１３１℃の温度で、不活性雰囲気下で、式（ＶＩＩ）の化合物を、ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンと反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることであって、前記ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンは、約３．１モル当量の量で存在し、前記ＮａＯｔＢｕは、約３．１モル当量の量で存在する、ことと、
を含む、プロセス。
【請求項４】
式（ＶＩＩ）の化合物
【化７】
2017514846.tif 000007
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、
【化８】
2017514846.tif 000008
無機塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（Ｖ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ１は脱離基であり、前記無機塩基は、酸と反応または接触したときに水を形成しない、こと、
を含む、プロセス。
【請求項５】
請求項４に記載のプロセスにおいて、
Ｌ１は臭素であり、
前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、
前記無機塩基は、無水のＫ２ＨＰＯ４であり、
前記無水のＫ２ＨＰＯ４は、約２．４〜約３モル当量の範囲の量で存在し、
前記第１の有機溶媒は、ＤＭＦであり、
前記式（Ｖ）の化合物は、約６０℃の温度で、前記式（ＶＩ）の化合物と反応させられる、プロセス。
【請求項６】
請求項４に記載のプロセスにおいて、
【化９】
2017514846.tif 000009
塩基の存在下で、第２の有機溶媒中、約１１０℃〜約１５０℃の範囲の温度で、不活性雰囲気下で、前記式（ＶＩＩ）の化合物を脱メチル化剤と反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることをさらに含む、プロセス。
【請求項７】
式（Ｉ）の化合物
【化１０】
2017514846.tif 000010
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、
【化１１】
2017514846.tif 000011
無機塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（Ｖ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ１は脱離基であり、前記無機塩基は、酸と反応または接触したときに水を形成しない、ことと、
【化１２】
2017514846.tif 000012
前記式（ＶＩＩ）の化合物を反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることと、
を含む、プロセス。
【請求項８】
式（ＩＩ）の化合物
【化１３】
2017514846.tif 000013
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスであって、
式中、Ｒ１は、‐ＣＨ２‐（シクロプロピル）、‐ＣＨ２‐（シクロブチル）、および‐ＣＨ２‐ＣＨ＝ＣＨ２からなる群から選択される、プロセスにおいて、
【化１４】
2017514846.tif 000014
無機塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（ＩＸ）の化合物を式（Ｘ）の化合物と反応させて、式（ＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ２は、脱離基であり、前記無機塩基は、酸と反応または接触したときに水を形成しない、こと、
を含む、プロセス。
【請求項９】
請求項８に記載のプロセスにおいて、
前記式（Ｘ）の化合物は、約１．１〜約２．５モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
【請求項１０】
請求項８に記載のプロセスにおいて、
前記式（Ｘ）の化合物は、約１．２５〜約１．７５モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
【請求項１１】
請求項８に記載のプロセスにおいて、
前記無機塩基は、選択的に、前記式（ＩＸ）の化合物上で遊離フェノールをプロトン化しない塩基である、プロセス。
【請求項１２】
請求項８に記載のプロセスにおいて、
前記式（ＩＸ）の化合物は、プロモーターの存在下で前記式（Ｘ）の化合物と反応させられる、プロセス。
【請求項１３】
請求項１２に記載のプロセスにおいて、
前記プロモーターは、ＮａＩであり、
前記ＮａＩは、約５モル％〜約１０モル％の範囲の量で存在する、プロセス。
【請求項１４】
請求項８に記載のプロセスにおいて、
Ｒ１は、‐ＣＨ２‐（シクロプロピル）、‐ＣＨ２‐（シクロブチル）、または‐ＣＨ２‐ＣＨ＝ＣＨ２である、プロセス。
【請求項１５】
式（ＩＩ）の化合物
【化１５】
2017514846.tif 000015
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスであって、
式中、Ｒ１は、‐ＣＨ２‐（シクロプロピル）、および‐ＣＨ２‐ＣＨ＝ＣＨ２からなる群から選択される、プロセスにおいて、
【化１６】
2017514846.tif 000016
無水のＫ２ＨＰＯ４の存在下で、ＤＭＦ中、約６０℃の温度で、式（ＩＸ）の化合物を式（Ｘ）の化合物と反応させて、式（ＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ１は臭素であり、前記式（Ｘ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、前記無水のＫ２ＨＰＯ４は、約２．４〜約３モル当量の範囲の量で存在する、こと、
を含む、プロセス。
【請求項１６】
請求項１５に記載のプロセスにおいて、
Ｒ１は、‐ＣＨ２‐（シクロプロピル）、‐ＣＨ２‐（シクロブチル）、または‐ＣＨ２‐ＣＨ＝ＣＨ２である、プロセス。
【請求項１７】
本明細書に記載されたような、式（Ｉ）の化合物
【化１７】
2017514846.tif 000017
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセス。
【請求項１８】
本明細書に記載されたような、式（ＩＩ）の化合物
【化１８】
2017514846.tif 000018
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、
式中、Ｒ１は、‐ＣＨ２‐（シクロプロピル）、‐ＣＨ２‐（シクロブチル）、および‐ＣＨ２‐ＣＨ＝ＣＨ２からなる群から選択される、プロセス。
【請求項１９】
本明細書に記載されたような、式（ＩＩＩ）の化合物
【化１９】
2017514846.tif 000019
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセス。
【請求項２０】
式（Ｉ）の化合物
【化２０】
2017514846.tif 000020
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、
【化２１】
2017514846.tif 000021
塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約１１０℃〜約１５０℃の範囲の温度で、不活性雰囲気下で、式（Ｖ）を脱メチル化剤と反応させて、式（ＶＩＩＩ）の対応化合物を生じることと、
【化２２】
2017514846.tif 000022
無機塩基の存在下で、第２の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、前記式（ＶＩＩＩ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ１は脱離基であり、前記無機塩基は、酸と反応または接触したときに水を形成せず、前記第２の有機溶媒は、前記第１の有機溶媒と同じである、ことと、
を含む、プロセス。
【請求項２１】
請求項１または２０に記載のプロセスにおいて、
前記脱メチル化剤は、ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンであり、
前記塩基は、アルコキシド塩基である、プロセス。
【請求項２２】
請求項２１に記載のプロセスにおいて、
前記アルコキシド塩基は、ＮａＯｔＢｕである、プロセス。
【請求項２３】
請求項１または２０に記載のプロセスにおいて、
前記脱メチル化剤は、約２．５〜約４モル当量、または約２．８〜約３．４モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
【請求項２４】
請求項１または２０に記載のプロセスにおいて、
前記塩基は、約２．５〜約４モル当量、または約２．８〜約３．４モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
【請求項２５】
請求項１、８、または２０に記載のプロセスにおいて、
前記第１の有機溶媒は、ＤＭＦである、プロセス。
【請求項２６】
請求項２０に記載のプロセスにおいて、
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物は、単離されない、プロセス。
【請求項２７】
請求項１、８、または２０に記載のプロセスにおいて、
Ｌ１は臭素である、プロセス。
【請求項２８】
請求項１または２０に記載のプロセスにおいて、
前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．１〜約２．５モル当量、または約１．２５〜約１．７５モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
【請求項２９】
請求項１、８、または２０に記載のプロセスにおいて、
前記無機塩基は、無水無機塩基である、プロセス。
【請求項３０】
請求項２９に記載のプロセスにおいて、
前記無機塩基は、無水のＫ２ＨＰＯ４である、プロセス。
【請求項３１】
請求項１、８、または２０に記載のプロセスにおいて、
前記無機塩基は、約２〜約４モル当量、または約２．２５〜約３．２５モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
【請求項３２】
請求項１または２０に記載のプロセスにおいて、
前記式（Ｖ）の化合物は、プロモーターの存在下で前記式（ＶＩ）の化合物と反応させられる、プロセス。
【請求項３３】
請求項３２に記載のプロセスにおいて、
前記プロモーターは、ＮａＩであり、
前記ＮａＩは、約５モル％〜約１０モル％の範囲の量で存在する、プロセス。
【請求項３４】
請求項２０に記載のプロセスにおいて、
前記無機塩基は、選択的に、前記式（ＶＩＩＩ）の化合物上の遊離フェノールをプロトン化しない塩基である、プロセス。
【請求項３５】
請求項１または２０に記載のプロセスにおいて、
前記式（Ｉ）の化合物をＨＣｌと反応させて、前記式（Ｉ）の化合物の対応する塩酸塩を生じることをさらに含む、プロセス。
【請求項３６】
式（Ｉ）の化合物
【化２３】
2017514846.tif 000023
またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、
【化２４】
2017514846.tif 000024
ＮａＯｔＢｕの存在下で、ＤＭＦ中、約１３１℃の温度で、不活性雰囲気下で、式（Ｖ）の化合物をｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンと反応させて、式（ＶＩＩＩ）の対応化合物を生じることであって、前記ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンは、約３．１モル当量の量で存在し、前記ＮａＯｔＢｕは、約３．１モル当量の量で存在する、ことと、
【化２５】
2017514846.tif 000025
無水のＫ２ＨＰＯ４の存在下で、ＤＭＦ中、約６０℃の温度で、前記式（ＶＩＩＩ）の化合物を式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ１は臭素であり、前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、前記無水のＫ２ＨＰＯ４は、約２．４〜約３モル当量の範囲の量で存在する、ことと、
を含む、プロセス。