【手続補正書】
【提出日】平成30年11月19日(2018.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波アブレーションカテーテルであって、
近位端および遠位端を有する細長い本体と、
前記細長い本体の遠位端に配置された電極アセンブリであって、前記細長い本体に沿って、互いから間隔を空けて配置された３つの電極を含む電極アセンブリと、
前記３つの電極のうち隣接する各対の間に配置された絶縁ギャップと、
前記３つの電極のうちの第１の電極に沿って配置された第１の複数の温度測定デバイスであって、先端の電極部分から絶縁された前記第１の複数の温度測定デバイスと、
前記３つの電極のうちの第２の電極に沿って配置された第２の複数の温度測定デバイスと、を含み、
前記第１の複数の温度測定デバイスおよび前記第２の複数の温度測定デバイスは、組織の温度を示す信号を提供するように構成されている、
高周波アブレーションカテーテルと、
接触検知サブシステムであって、
第１周波数を有する高周波エネルギー信号を、前記３つの電極のうちの２つの電極に印加するように構成されている信号源と、
処理デバイスであって、
前記第１周波数を有する信号が前記２つの電極に印加されている間にインピーダンス測定値を取得し、
前記インピーダンス測定値を処理し、
前記インピーダンス測定値の前記処理に基づいて、組織との接触レベルを判断するように構成されている、
処理デバイスと、を含む
接触検知サブシステムと、を含む、
システム。
【請求項２】
前記第１周波数は５ｋＨ〜１０００ｋＨｚである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記処理デバイスは、さらに、前記判断された接触レベルを示す出力を生成するように構成されている、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記処理デバイスは、さらに、前記生成された出力を前記処理デバイスと通信するディ
スプレイに表示させるように構成されている、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
組織を焼灼するのに十分なエネルギーを生成するように構成された焼灼エネルギー源を、さらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項６】
高周波アブレーションカテーテルであって、
近位端および遠位端を有する細長い本体と、
前記細長い本体の遠位端に配置された電極アセンブリであって、前記細長い本体に沿って、互いから間隔を空けて配置された３つの電極を含む電極アセンブリと、
前記３つの電極のうち隣接する各対の間に配置された絶縁ギャップと、
前記３つの電極のうちの第１の電極に沿って配置された第１の複数の温度測定デバイスであって、先端の電極部分から絶縁された前記第１の複数の温度測定デバイスと、
前記３つの電極のうちの第２の電極に沿って配置された第２の複数の温度測定デバイスと、を含み、
前記第１の複数の温度測定デバイスおよび前記第２の複数の温度測定デバイスは、組織の温度を示す信号を提供するように構成されている、
高周波アブレーションカテーテルと、
接触検知サブシステムであって、
処理デバイスであって、
前記３つの電極のうちの少なくとも２つの電極間の電気測定値を取得し、
前記電気測定値を処理し、
前記電気測定値の前記処理に基づいて、組織との接触レベルを判断するように構成されている、
処理デバイス、を含む
接触検知サブシステムと、を含む、
システム。
【請求項７】
前記電気測定値は、電圧測定値または電流測定値を含む、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記電気測定値の前記処理は、前記電気測定値に基づいてインピーダンスを計算することを含む、請求項６または７に記載のシステム。
【請求項９】
前記処理デバイスは、さらに、前記判断された接触レベルを示す出力を生成するように構成されている、請求項６〜８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記処理デバイスは、さらに、前記生成された出力が前記処理デバイスと通信するディスプレイに表示されるようにするように構成されている、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記出力は、前記接触レベルを示すテキスト情報を含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記出力は、前記接触レベルを示す定量的測定値を含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１３】
前記出力は、前記接触レベルを示す定性的評価を含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１４】
組織を焼灼するのに十分なエネルギーを生成するように構成された焼灼エネルギー源をさらに含む、請求項６〜１３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１５】
前記エネルギーは、４００ｋＨｚ〜６００ｋＨｚの周波数を有する、請求項１４に記載
のシステム。
【請求項１６】
前記処理は時間領域で行われる、請求項６〜１５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１７】
前記処理は周波数領域で行われる、請求項６〜１５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１８】
前記ディスプレイをさらに含む、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１９】
電気測定値に少なくとも部分的に基づいて、医療器具の遠位端部分の標的領域との接触状態を判断するシステムであって、
複合電極アセンブリの電極部材の対に印加される、第１周波数および第２周波数を有する少なくとも１つの信号を生成するように構成された信号源と、
コンピュータ可読記憶媒体に格納された所定のプログラム命令の実行時に、
前記信号源が前記少なくとも１つの信号を生成し、前記電極部材の対に印加するようにし、
前記電極部材の対にわたって形成され結果として得られる波形を処理して、前記第１周波数で第１電気測定値を取得し、
前記電極部材の対にわたって形成され前記結果として得られる波形を処理して、前記複数の周波数のうちの前記第２周波数で第２電気測定値を取得し、
前記第１電気測定値に基づいて双極接触インピーダンスの大きさを求め、
前記第２電気測定値に基づいて双極接触インピーダンスの大きさおよび位相を求め、
前記第１電気測定値に基づく前記インピーダンスの大きさと、前記第１電気測定値および前記第２電気測定値に基づく前記インピーダンスの大きさの比と、前記第２電気測定値に基づく前記位相とを組み合わせる基準に基づいて、前記医療器具の前記遠位端部分と前記標的領域との間の接触状態を示す接触表示値を計算するように構成されている、
プロセッサと、を含む、
システム。
【請求項２０】
前記基準は、前記第１電気測定値に基づく前記インピーダンスの大きさと、前記第１電気測定値および前記第２電気測定値に基づく前記インピーダンスの大きさの比と、前記第２電気測定値に基づく前記位相との重み付きの組合せを含む、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記基準は条件付き判断基準を含む、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２２】
前記第１電気測定値および前記第２電気測定値は、電圧測定値および電流測定値を含み、
前記インピーダンスの大きさおよび前記インピーダンスの位相は、前記電圧測定値および前記電流測定値に基づいて計算される、請求項１９〜２１のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２３】
インピーダンス測定値は、前記電圧測定値および前記電流測定値に基づいて計算される、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記第１電気測定値および前記第２電気測定値は、直接取得されるインピーダンス測定値を含む、請求項１９に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
図２Ｂおよび図２Ｃに示すように、カテーテル（明確にするために図示せず）の内部に灌注チューブ１２０、２２０を通すことができる。いくつかの実施形態では、灌注チューブ１２０、２２０は、カテーテルの近位部分（たとえば、流体ポンプと流体連通して配置することができる場所）からシステムの遠位端まで延在することができる。たとえば、いくつかの構成では、図２Ｂおよび図２Ｃの側面図に示すように、灌注チューブ１２０、２２０は、延在し、遠位側電極１１０、２１０を通って半径方向外側に延在する１つまたは複数の流体ポート２１１と流体連通している。したがって、いくつかの実施形態では、治療システムは、開放灌注設計を含み、そこでは、生理食塩水および／または他の流体が、カテーテルを通して（たとえば、流体チューブ１２０、２２０内で）かつ電極１１０、２１０の１つまたは複数の出口ポート１１１、２１１を通って半径方向外側に選択的に送達される。こうした生理食塩水または他の流体の送達は、電極および／または治療されている組織から熱を除去するのに役立つことができる。いくつかの実施形態では、こうした開放灌注システムは、特に電極が接触する組織に沿って、標的組織の過熱を防止するのに役立つことができる。開放灌注設計はまた、図２Ａに概略的に示すシステムにも組み込まれる。たとえば、図２Ａに示すように、遠位側電極または電極部分３４は、複数の出口ポート３６を含むことができ、そこを通って、生理食塩水または他の生体適合性灌注流体が出ることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
高分解能チップ設計（たとえば、図２Ｃ）が３つ以上の電極または電極部分を含む実施形態では、さらなるフィルタリング素子（たとえば、コンデンサ）を用いて、電極または電極部分を互いに電気的に接続することができる。こうしたコンデンサまたは他のフィルタリング素子は、高分解能チップ電極の全長に沿って概して均一な加熱プロファイルをもたらすように選択することができる。本明細書においてさらに詳細に記すように、本明細書に開示する実施形態のうちの任意のものまたはその変形形態に対して、フィルタリング素子は、コンデンサ以外の何らかのものを含むことができる。たとえば、いくつかの配置では、フィルタリング素子は、ＬＣ回路（たとえば、共振回路、タンク回路、同調回路等）を含む。こうした実施形態は、ＲＦエネルギーの印加およびＥＧＭ記録の測定を同時に行うことができるように構成することができる。