【手続補正書】
【提出日】平成30年2月27日(2018.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ放電とオゾンを用いて流水システム中の水を処理する処理システムであって、
マルクスラダー回路に組み込まれた複数のキャパシタ、レジスタ及びスパークギャップ電極と、スパークギャップ電極の支持構造と、ハウジングと、を有する高電圧発生器と、
水システムを流れる水の少なくとも一部を処理される水として受けることができるように構成された入口と、プラズマ放電と選択的にオゾンとで処理された後、水の前記一部を水システムに戻すことができるように構成された出口と、リアクタ本体と、を有する反応チャンバーと；
前記入口の上流又は前記反応チャンバーの内部に配置され、１又は２種以上のガスのバブルを、処理される水に加えるためのガス注入システムと；
少なくとも一部分が反応チャンバーに配置され、高電圧パルスが高電圧発生器によって生成されるとリアクタ本体内の水の中でプラズマ放電を発生させることができるように構成された高電圧電極及び接地電極と、
反応チャンバー内に配備され、高電圧電極及び接地電極をリアクタ本体内に収容するよう構成された電極マウントアッセンブリと、
高電圧発生器の中で生成されたオゾンガスを、ハウジングからガス注入システムへ移送させることができるよう構成された任意の導管と、を具え、
高電圧発生器から高電圧パルスが送られている間、高電圧電極の少なくとも一部が、リアクタ本体内の水と接触するよう構成された、処理システム。
【請求項２】
電極マウントアッセンブリは、高電圧電極を受けることができるよう構成された第１の中央ハブと、反応チャンバーの内壁と嵌合するよう構成された第１の外側リムと、前記第１の外側リムに向けて前記中央ハブから外方に延びる複数のスポークとを含む高電圧取付ベースと、
接地電極を受けることができるよう構成された第２の中央ハブと、反応チャンバーの内壁と嵌合するよう構成された第２の外側リムと、前記第２のハブと前記第２の外側リムとの間に配備され実質的に閉じられた本体とを含む接地取付ベースと、を具える、請求項１の処理システム。
【請求項３】
接地電極取付ベースの実質的に閉じられた本体はじょうご形状又はドーム形状を有する、請求項２の処理システム。
【請求項４】
高電圧取付ベース及び接地取付ベースは、高電圧電極を、接地電極から約１〜１０ｍｍの固定ギャップ距離を保持できるように構成されている、請求項２の処理システム。
【請求項５】
接地電極は、略円筒形の導電性チューブを含み、前記チューブの側壁に複数の孔が開設され、前記チューブが、第２のハブから高電圧取付ベースの方へ延びている、請求項４の処理システム。
【請求項６】
高電圧電極は、少なくとも一部分が接地電極チューブ内にて前記接地電極チューブと略同心に配備されたロッドを含み、前記ギャップ距離が、ロッドの外表面と接地電極チューブの内表面との間の径方向距離である、請求項５の処理システム。
【請求項７】
ロッドの約４〜３０ｍｍが、接地電極チューブの内部に配備される、請求項６の処理システム。
【請求項８】
前記チューブの外表面は、誘電性バリア材料でコートされる、請求項５の処理システム。
【請求項９】
スパークギャップ電極の支持構造は、
中央部が開口した略矩形形状の上側支持アームと、
中央部が開口した略矩形形状の下側支持アームと、
上側支持アームを下側支持アームに所定間隔を存して接続する１又は２以上の垂直支持アームと、
複数の離間してなる柱状体対であって、各柱状体対が、下側支持アームの第１の側部から垂直方向に延びる第１の柱状体と、前記第１の側部と実質的に反対側の下側支持アームの第２の側部から垂直方向に延びる第２の柱状体とを含む柱状体対とを具える、請求項１の処理システム。
【請求項１０】
上側支持アーム、下側支持アーム及び垂直システムは、開口した略Ｕ字形状のフレームを形成する、請求項９の処理システム。
【請求項１１】
支持構造の寸法は、幅約２インチ×高さ２インチ乃至幅３インチ×高さ３インチである、請求項９の処理システム。
【請求項１２】
支持構造は、複数の電極マウントをさらに含み、各マウントが、離間してなる柱状体対のうちの第１の各柱状体及び第２の各柱状体から内向きに延在し、
各電極マウントがスパークギャップ電極の１つに取り付けられ、離間する各柱状体間に複数の電極対を形成し、
各電極対におけるスパークギャップ電極間のギャップ距離は約１５ｍｍ〜４０ｍｍである、請求項９の処理システム。
【請求項１３】
スパークギャップ電極は、ギャップ距離を選択的に調節するために、電極マウントに沿って横方向に移動するように構成される、請求項１２の処理システム。
【請求項１４】
電極マウントは、スパークギャップ電極上のネジと螺合するように構成されたネジ部を含み、スパークギャップ電極が回転されることで、電極マウントに沿って横方向の移動が達成される、請求項１３の処理システム。
【請求項１５】
電極マウントは、ギャップ距離を選択的に調節するために、柱状体に関して横方向に移動するように構成される、請求項１２の処理システム。
【請求項１６】
ハウジング内にオイル槽をさらに具える、請求項１の処理システム。
【請求項１７】
支持構造は、スパークギャップ電極の下に配備された下側支持アームを具え、前記下側支持アームはオイル槽に浸漬されている、請求項１６の処理システム。
【請求項１８】
キャパシタは、少なくとも一部分がオイル槽に浸漬されている、請求項１６の処理システム。
【請求項１９】
支持構造の表面はオイルでコートされる、請求項１の処理システム。
【請求項２０】
高電圧発生器の中で生成されたオゾンを導管の中に引き出して、ガス注入システムに送給するためのベンチュリ又は真空ポンプをさらに具える、請求項１の処理システム。
【請求項２１】
高電圧発生器を通して空気を送給するための空気ポンプをさらに具える、請求項１の処理システム。
【請求項２２】
流水の流れを処理する方法であって、
複数のキャパシタ、レジスタ、及び開放支持構造によって支持されたスパークギャップスイッチを含むマルクスラダー回路を用いて、高電圧パルス及びオゾンを発生させることと、
高電圧電極が接地電極の近傍に配備され、前記高電圧電極及び前記接地電極は両方とも、少なくとも一部分が前記流水の流れの水の中に配置されており、前記高電圧電極に、高電圧パルスを供給することと、
前記両電極の近傍の水中にプラズマ放電を発生させることと、
（ａ）１気圧よりも低い圧力で、マルクスラダー回路を作動させるステップ、（ｂ） 支持構造の少なくとも一部をオイルと接触させて、支持構造上の金属堆積物を減少させるステップ、又は（ｃ）オゾンを次の水の流れに供給するステップ、のうちの少なくとも１つのステップを行うことと、を含む方法。
【請求項２３】
支持構造を定期的に清浄化してオイルを除去し、新たなオイルを供給して、支持構造の少なくとも一部と接触させるステップをさらに含む、請求項２２の方法。
【請求項２４】
各スパークギャップスイッチは、ギャップ距離によって分離された一対の電極を含み、開放支持構造は、複数のスパークギャップスイッチを支持するように構成され、ギャップ距離は約１５ｍｍ〜４０ｍｍである、請求項２２の方法。
【請求項２５】
オゾン又は１又は２種以上の他のガスのバブルを、プラズマ放電が起こる領域の流水流れ又はプラズマ放電が起こる領域の上流に加えることをさらに含む、請求項２２の方法。
【請求項２６】
流水流れの導電性を測定するすること、及び前記導電性が所定の閾値を超えるときは１又は２以上の動作パラメータを調節することをさらに含み、
前記１又は２以上の動作パラメータは、
（１）高電圧電極と接地電極を互いに接近する方向に移動させるステップ、
（２）高電圧電極に供給された高電圧パルスの電圧を増加させるステップ、
（３）流水の流れにバブルを加える速度を上昇させるステップ、又は、
（４）プラズマ放電で処理するための流水流れシステムから水の少なくとも一部分を受けることができ、処理後に、前記水の少なくとも一部分を流水流れシステムに戻すよう構成された入口を有する反応チャンバーの中でプラズマが生成され、流水の圧力を反応チャンバーの出口で低下させるステップ、
の１又は２以上のステップによって調節される、請求項２５の方法。
【請求項２７】
高電圧柱状体の電圧を、ギャップ距離を増加又は減少させることによって調節することをさらに含む、請求項２４の方法。
【請求項２８】
開放支持構造は、フレームと、前記フレームによって支持された複数の柱状体と、前記柱状体によって支持された複数の電極マウントとを含み、各電極マウントは、スパークギャップ電極の１つを支持する、請求項２７の方法。
【請求項２９】
流水の流れの導電性を周期的に測定すること、及び、導電性が所定の閾値を超えると、１又は２以上の動作パラメータを調節することをさらに含み、
前記１又は２以上の動作パラメータが、（１）高電圧電極と接地電極とを互いに接近する方向に移動させるステップ、（２）高電圧電極に供給された高電圧パルスの電圧を増加させるステップ、（３）流水の流れにバブルを加える速度を上昇させるステップ、又は、（４）プラズマ放電で処理するための流水流れシステムから水の少なくとも一部分を受けることができ、処理後に、前記水の少なくとも一部分を流水流れシステムに戻すよう構成された入口を有する反応チャンバーの中でプラズマが生成され、流水の圧力を反応チャンバーの出口で低下させるステップ、の１又は２以上のステップによって調節される、請求項２２方法。
【請求項３０】
流水システム中の水を処理する処理システムは、循環水システムであって、前記循環水システムにおける水の導電性レベルは、前記水が循環すると上昇し、ガス注入システムは、供給を開始するか、又は、リアクタ本体に供給されたガスの量を増加させて、導電性レベルが上昇すると前記水中でプラズマ放電を発生させるよう構成される、請求項１の処理システム。
【請求項３１】
マルクスラダーはハウジングの中に収容され、前記ハウジングを通じて、空気を送り込むか、又は吸引することをさらに含む、請求項２２の方法。
【請求項３２】
流水システムは、冷却塔又はボイラーシステムを通って流れる水の少なくとも一部分である、請求項２２の方法。
【請求項３３】
流水システムの導電性を測定することと、
バブルを加えるステップを開始するか又は前記導電性が所定の閾値を超えるときはバブルの量を増加することと、をさらに含む、請求項２３の方法。