【手続補正書】
【提出日】平成30年1月24日(2018.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素含有オレフィンを調製するための方法であって、約１５０℃〜２５０℃の温度で、担体に担持されている銅及びパラジウムを含む触媒の存在下で、式Ｅ−及びＺ−ＣＦ3ＣＣｌ＝ＣＣｌＣＦ3を有するクロロフルオロアルケンを水素と接触させて、式Ｅ−若しくはＺ−ＣＦ3ＣＨ＝ＣＣｌＣＦ3を有するフッ素含有オレフィン又はその混合物を含む生成物混合物を生成することを含み、Ｚ−ＣＦ3ＣＣｌ＝ＣＣｌＣＦ3の変換率がＥ−異性体の変換率の少なくとも８０％であり、ＣＦ3ＣＨ＝ＣＣｌＣＦ3の２つの異性体に対する選択率が少なくとも８５％である、方法。
【請求項２】
クロロフルオロカーボンをカップリングするための方法であって、
炭化ケイ素担体に担持されているルテニウムを含む触媒の存在下で、１，１，１−トリクロロ−２，２，２−トリフルオロエタンを水素と接触させて、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２，３−ジクロロ−２−ブテン及び塩化水素を含む生成物混合物を生成することと、前記１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２，３−ジクロロ−２−ブテンを回収することと、を含む、方法。
【請求項３】
Ｅ−又はＺ−ＨＦＯ−１３３６ｍｚｚを調製するための方法であって、
ヘキサフルオロ−２−ブチンの三重結合を水素化するのに十分な温度で、金属触媒の存在下で、反応器内において、１：０．０２５〜１：１．１の比（ヘキサフルオロ−２−ブチンのモル比）でヘキサフルオロ−２−ブチンを水素と接触させて、ＨＦＯ−１３３６ｍｚｚ及び未反応ヘキサフルオロ−２−ブチンを含む生成物流を生成することを含み、
前記触媒が、１００〜５０００ｐｐｍの濃度で、Ａｇ又はランタニド毒と共に酸化アルミニウム、炭化ケイ素、又はケイ酸チタン上に分散されている金属触媒であり、反応物質の生成物に対する循環比が１〜９である、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
明確にするために別個の実施形態の文脈において本明細書に記述されている特定の特徴は、単一の実施形態の中で組み合わせて提供されてもよいことが理解されるべきである。逆に、簡潔にするために単一の実施形態の文脈において記述されている様々な特徴も、別個に提供されてよく、また任意の下位組み合わせで提供されてもよい。更に、範囲で記述されている値に対する言及は、その範囲内のあらゆる値を含む。
以下、本明細書に記載の主な発明について列記する。
（１）  シス−１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンを調製するための方法であって、
ａ）ルテニウムを含む触媒の存在下で１，１，１−トリフルオロトリクロロエタンを水素と接触させて、１３１６ｍｘｘを含む生成物混合物を生成することと、
ｂ）前記１３１６ｍｘｘをＺ−及びＥ−異性体の混合物として回収することと、
ｃ）炭素担持銅、炭素担持ニッケル、炭素担持銅−ニッケル、及び炭素担持銅−パラジウムからなる群から選択される触媒の存在下で前記１３１６ｍｘｘを水素と接触させて、Ｅ−又はＺ−ＣＦＣ−１３２６ｍｘｚを含む第２の生成物混合物を生成することと、
ｄ）前記第２の生成物混合物を分離工程に供してＥ−又はＺ−１３２６ｍｘｚを提供することと、を含む、方法。
（２）  ４〜１２個の炭素原子のアルキル基を有する四級アルキルアンモニウム塩及びその混合物の存在下で、前記Ｅ−又はＺ−１３２６ｍｘｚをアルカリ金属水酸化物の水溶液と更に接触させ、少なくとも前記Ｚ−１３２６ｍｘｚを変換してヘキサフルオロ−２−ブチンを含む混合物を生成し、前記ヘキサフルオロ−２−ブチンを回収する、（１）に記載の方法。
（３）  少なくとも８個の炭素の、少なくとも１個のアルキル基を含む四級アルキルアンモニウム塩の存在下で、前記Ｅ−又はＺ−１３２６ｍｘｚをアルカリ金属水酸化物の水溶液と更に接触させ、少なくとも前記Ｅ−１３２６ｍｘｚを変換してヘキサフルオロ−２−ブチンを含む混合物を生成し、前記ヘキサフルオロ−２−ブチンを回収する、（１）に記載の方法。
（４）  前記アルカリ金属水酸化物が、アルカリ金属ハロゲン化物を更に含む、（２）又は（３）に記載の方法。
（５）  第１の接触工程用の前記触媒が、フッ化カルシウムに担持されているルテニウム又は炭化ケイ素に担持されているルテニウムである、（１）に記載の方法。
（６）  担体に担持されているパラジウムの触媒、並びにランタン、セリウム、及び銀からなる群から選択される少なくとも１つの元素の存在下で、前記ヘキサフルオロ−２−ブチンを水素と接触させて、Ｚ−１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブチンを生成することを更に含む、（２）又は（３）に記載の方法。
（７）  フッ素含有オレフィンを調製するための方法であって、約１５０℃〜２５０℃の温度で、担体に担持されている銅及びパラジウムを含む触媒の存在下で、式Ｅ−及びＺ−ＣＦ3ＣＣｌ＝ＣＣｌＣＦ3を有するクロロフルオロアルケンを水素と接触させて、式Ｅ−若しくはＺ−ＣＦ3ＣＨ＝ＣＣｌＣＦ3を有するフッ素含有オレフィン又はその混合物を含む生成物混合物を生成することを含み、Ｚ−ＣＦ3ＣＣｌ＝ＣＣｌＣＦ3の変換率がＥ−異性体の変換率の少なくとも８０％であり、ＣＦ3ＣＨ＝ＣＣｌＣＦ3の２つの異性体に対する選択率が少なくとも８５％である、方法。
（８）  前記担体が炭素である、（７）に記載の方法。
（９）  前記方法が１７５℃〜２５０℃の温度で実施される、（７）に記載の方法。
（１０）  水素のＥ−又はＺ−ＣＦ3ＣＣｌ＝ＣＣｌＣＦ3に対する比が、１：１〜８：１である、（７）に記載の方法。
（１１）  水素のＥ−又はＺ−ＣＦ3ＣＣｌ＝ＣＣｌＣＦ3に対する比が、１：１〜２：１である、（７）に記載の方法。
（１２）  Ｅ−又はＺ−ＣＦ3ＣＨ＝ＣＣｌＣＦ3の生成についての選択率が、少なくとも９０％である、（７）に記載の方法。
（１３）  Ｅ−又はＺ−ＣＦ3ＣＨ＝ＣＣｌＣＦ3の生成についての選択率が、少なくとも９５％である、（７）に記載の方法。
（１４）  クロロフルオロカーボンをカップリングするための方法であって、
炭化ケイ素担体に担持されているルテニウムを含む触媒の存在下で、１，１，１−トリクロロ−２，２，２−トリフルオロエタンを水素と接触させて、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２，３−ジクロロ−２−ブテン及び塩化水素を含む生成物混合物を生成することと、前記１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２，３−ジクロロ−２−ブテンを回収することと、を含む、方法。
（１５）  前記生成物混合物が、１００重量部当たり４重量部未満のＣ２副生成物を含む、（１４）に記載の方法。
（１６）  前記Ｃ２副生成物が、２，２−ジクロロ−１，１，１−トリフルオロエタン、２−クロロ−１，１，１−トリフルオロエタン、及び１，１，１−トリフルオロエタンのうちの少なくとも１つである、（１５）に記載の方法。
（１７）  前記セラミック担体に担持されている前記ルテニウムの分散が、３ｍ2／ｇ未満である、（１５）に記載の方法。
（１８）  前記ルテニウムが、０．５重量％〜３重量％の負荷量で炭化ケイ素担体上に存在する、（１４）に記載の方法。
（１９）  生成される前記塩化水素が、１重量％未満のフッ化水素を含む、（１４）に記載の方法。
（２０）  前記反応が、１５０℃〜１９０℃の温度で実施される、（１４）に記載の方法。
（２１）  Ｅ−又はＺ−ＨＦＯ−１３３６ｍｚｚを調製するための方法であって、
ヘキサフルオロ−２−ブチンの三重結合を水素化するのに十分な温度で、金属触媒の存在下で、反応器内において、１：０．０２５〜１：１．１の比（ヘキサフルオロ−２−ブチンのモル比）でヘキサフルオロ−２−ブチンを水素と接触させて、ＨＦＯ−１３３６ｍｚｚ及び未反応ヘキサフルオロ−２−ブチンを含む生成物流を生成することを含み、
前記触媒が、１００〜５０００ｐｐｍの濃度で、Ａｇ又はランタニド毒と共に酸化アルミニウム、炭化ケイ素、又はケイ酸チタン上に分散されている金属触媒であり、反応物質の生成物に対する循環比が１〜９である、方法。
（２２）  前記ランタニド毒が、セリウム、ランタン、又はネオジムである、（２１）に記載の方法。
（２３）  前記ランタニド毒が、５０〜１０００ｐｐｍの濃度である、（２１）に記載の方法。
（２４）  前記金属触媒が、Ｐｄ又はＰｔである、（２１）に記載の方法。
（２５）  前記金属触媒が、１００〜４９００ｐｐｍの濃度である、（２１）に記載の方法。
（２６）  前記金属触媒が、１００〜３０００ｐｐｍの濃度である、（２１）に記載の方法。
（２７）  前記生成物流から前記ヘキサフルオロ−２−ブチンの少なくとも一部を分離する工程を更に含む、（２１）に記載の方法。
（２８）  前記ヘキサフルオロ−２−ブチンを前記反応器に循環させる工程を更に含む、（２７）に記載の方法。