Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年2月27日(2018.2.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】
前記第１パターン形成された領域の前記一つ以上の表面は、前記細長い本体の一つ以上の側面から離れていく、請求項２に記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項８】
前記第１パターン形成された領域の前記一つ以上の表面は、前記細長い本体の前記側面から別々に離れていく表面を有する、請求項２に記載の装置。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１７】
各前記プローブについて、前記第１パターン形成された領域の前記一つ以上の表面は、前記プローブの前記細長い本体の一つ以上の側面から離れていく、請求項１３に記載のプローブカードアセンブリ。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１９】
前記第１パターン形成された領域の前記一つ以上の表面は、前記細長い本体の前記側面から別々に離れていく表面を有する、請求項１３に記載のプローブカードアセンブリ。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２４】
前記第１パターン形成された領域における前記細長い本体の水平断面は、前記鉛直軸まわりの前記細長い本体の回転を与える輪郭を有し、
前記先端部は、前記第１パターン形成された領域が前記第１接触領域に支えられて動きかつ前記第２パターン形成された領域が前記第２接触領域に支えられて動くのに従って、前記横方向の移動及び前記回転を有するパターンで動く、請求項１１に記載の装置。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２９】
前記第１パターン形成された領域における前記細長い本体の水平断面は、前記鉛直軸まわりの前記細長い本体の回転を与える輪郭を有し、
前記先端部は、前記第１パターン形成された領域が前記第１接触領域に支えられて動きかつ前記第２パターン形成された領域が前記第２接触領域に支えられて動くのに従って、前記横方向の移動及び前記回転を有するパターンで動く、請求項２１に記載のプローブカードアセンブリ。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
[0040]  図４に示されるように、パターン形成された領域２２２は、プローブ２０４の細長い本体２０８の側面２２８内に延在するというよりも側面から延在する表面４０４及び４０６を備えることができる。さらには、表面４０４及び４０６は湾曲しているというよりも直線であり得る。図４に示される例においては、細長い本体２０８の側面２２８から離れていく表面４０４の角度Ａ１は、側面２２８から離れていく表面４０６の角度Ａ２よりも大きく、また表面４０４の長さは方面４０６の長さよりも長い。結果として、接触先端部２１０の動作Ｓ２（図３Ｃを参照）は、オーバートラベルＯＴ２の間は対応する接触領域２２４上に表面４０４が乗るのに従ってゆっくりとした一方向への移動となり、また対応する接触領域２２４上に表面４０６が乗るのに従って、反対方向へのより急激な移動となり得る。しかしながら、図４に図示されるパターン形成された特徴２２２の構成は、異なる動作パターンＳ２を作成するために変えられることができる。例えば、角度Ａ１は角度Ａ２よりも大きくてもよく、また表面４０４の長さは表面４０６の長さよりも短くてもよい。その他の例として、角度Ａ１及び角度Ａ２は略等しくあってよく、また表面４０４及び４０６の長さは略等しくあってよい。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
[0041]  図５は、直線の表面５０４及び５０６がプローブ２０４の細長い本体２０８の側面２２８内に延在するパターン形成領域２２２の一例を図示する。図示されるように、表面５０４は細長い本体２０８の側面２２８から角度Ａ１で離れていくことができ、また表面５０６は細長い本体２０８の側面２２８から角度Ａ２で離れていくことができる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
[0042]  図６は、オーバートラベルＯＴ２の間対応する接触領域２２４上に乗る湾曲した表面６０４及び直線の表面６０６を備えるパターン形成された領域２２２の一例を図示する。代替的に、表面６０６は湾曲された表面であってよく、またそのため表面６０４及び６０６は隣接したあるいは連結した表面であってよい。図７は、細長い本体２０８の側面２２８から別々に離れていく直列の表面を備えるパターン形成された領域２２２の一例を図示する。例えば、図７に示されるように、別々に離れていく直列の表面は、オーバートラベルＯＴ２の間対応する接触領域２２４上に乗る起伏に富む又は波形のパターン７０２を形成することができる。接触先端部２１０の対応する動作Ｓ２は、反復される往復動作であってよい。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月3日(2018.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乳化デバイスであって：
チャネル高さＣＨ及び幅ＣＷを有する流入口部分を有するチャネルであって、比ＣＷ／ＣＨは０．２超かつ５．０未満である、チャネル；
前記流入口部分と流体連通している第１段であって：
前記第１段は、踏み板長さＴ１及び段高さＳＨ１を有し；
ＳＨ１は、ＣＨよりも蹴上げ高さＲ１だけ大きく；
比ＳＨ１／ＣＨは、１．０超かつ５．０未満である、第１段；
前記第１段と流体連通している第２段であって：
前記第２段は、踏み板長さＴ２及び段高さＳＨ２を有し；
ＳＨ２は、ＳＨ１よりも蹴上げ高さＲ２だけ大きく；
比ＳＨ２／ＣＨは、１．０超かつ５．０未満である、第２段；
前記第２段と流体連通している第３段であって：
前記第３段は、段高さＳＨ３を有し；
ＳＨ３は、ＳＨ２より蹴上げ高さＲ３だけ大きく；
Ｒ３はゼロより大きい、第３段
を備える、乳化デバイス。
【請求項２】
前記比ＳＨ１／ＣＨは、１．０超かつ２．０未満である、請求項１に記載の乳化デバイス。
【請求項３】
Ｒ３は５０ミクロンより大きい、請求項１に記載の乳化デバイス。
【請求項４】
比Ｔ１／ＣＨは３．０〜４．０である、請求項１に記載の乳化デバイス。
【請求項５】
比Ｔ２／ＣＨは２．０〜４．０である、請求項１に記載の乳化デバイス。
【請求項６】
ＣＨは１０ミクロン〜５０ミクロンである、請求項１に記載の乳化デバイス。
【請求項７】
複数の流入口部分であって、前記第１の複数の流入口部分の各前記流入口部分は、高さＣＨ及び幅ＣＷを有し、比ＣＷ／ＣＨは０．２超かつ５．０未満である、複数の流入口部分；
複数の第１段であって、前記複数の第１段の各前記第１段は：
前記複数の流入口部分のうちの１つの流入口部分と流体連通しており；
長さＴ１及び高さＳＨ１を有し、ＳＨ１は、ＣＨよりも蹴上げ高さＲ１だけ大きく、比ＳＨ１／ＣＨは１．０超かつ５．０未満である、複数の第１段；
複数の第２段であって、前記複数の第２段の各前記第２段は：
前記複数の第１段のうちの１つの第１段と流体連通しており；
前記第３段と流体連通しており；
長さＴ２及び高さＳＨ２を有し、ＳＨ２は、ＳＨ１よりも蹴上げ高さＲ２だけ大きく、比ＳＨ２／ＣＨは１．０超かつ５．０未満である、複数の第２段
を更に備える、請求項１に記載の乳化デバイス。
【請求項８】
前記複数の流入口部分は、１０〜１００個の前記流入口部分を備える、請求項７に記載の乳化デバイス。
【請求項９】
エマルジョンを形成する方法であって、
前記方法は：
請求項１に記載の乳化デバイスを得るステップであって、第１段、第２段及び第３段は、略静止している第１の流体を内包する、ステップ；並びに
第２の流体を、流入口部分に、そして前記第１段、前記第２段及び前記第３段を通して導入するステップ
を含み、
前記第２の流体の部分的な液滴は、前記第１段において形成され；
前記第２の流体の完全な液滴は、前記第２段において形成され；
前記第２の流体の前記完全な液滴は、前記第２段から前記第３段へと向けられる、方法。
【請求項１０】
前記第２の流体は、関心対象の分析物およびアッセイ試薬を含有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の流体は疎水性液体であり、
前記第２の流体は親水性液体である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の流体は親水性液体であり、
前記第２の流体は疎水性液体である、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の流体又は前記第２の流体は、乳化剤を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記乳化剤は、非イオン性界面活性剤またはブロッキングタンパク室を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第２の流体の前記完全な液滴は、前記第２段において、１秒に１〜３０個の完全な液滴という速度で形成される、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記第２の流体の前記完全な液滴は、４０〜３００ミクロンの平均直径を有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の流体と前記第２の流体との間で形成される前記エマルジョンは、２〜１０％の単分散性を有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１８】
エマルジョンを形成する方法であって、
前記方法は：
請求項７に記載の乳化デバイスを得るステップであって、複数の第１段、複数の第２段及び複数の第３段は、略静止している第１の流体を内包する、ステップ；並びに
第２の流体を、複数の流入口部分に、そして前記複数の第１段、前記複数の第２段及び前記複数の第３段を通して導入するステップ
を含み、
前記第２の流体の部分的な液滴は、前記複数の第１段のそれぞれにおいて形成され；
前記第２の流体の完全な液滴は、前記複数の第１段と前記複数の第２段との間の遷移中に形成され；
前記第２の流体の前記完全な液滴は、前記複数の第２段から前記第３段へと向けられる、方法。
【請求項１９】
１分に少なくとも１００００個の前記完全な液滴が、前記複数の第２段から前記第３段へと向けられる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記液滴は、１０％未満の平均分散を有する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記第３段における前記液滴の平均液滴直径は、４０〜３００ミクロンである、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
複数の第１段であって、前記複数の第１段の各前記第１段は：
前記複数の流入口部分のうちのそれぞれと流体連通しており；
長さＴ１及び高さＳＨ１を有し、ＳＨ１は、ＣＨよりも蹴上げ高さＲ１だけ大きく、比ＳＨ１／ＣＨは１．０超かつ５．０未満である、複数の第１段、
を更に備える、請求項７に記載の乳化デバイス。
【請求項２３】
複数の第２段であって、前記複数の第２段の各前記第２段は：
前記複数の第１段のうちの１つの第１段と流体連通しており；
前記第３段と流体連通しており；
長さＴ２及び高さＳＨ２を有し、ＳＨ２は、ＳＨ１よりも蹴上げ高さＲ２だけ大きく、比ＳＨ２／ＣＨは１．０超かつ５．０未満である、複数の第２段
を更に備える、請求項２２に記載の乳化デバイス。
【請求項２４】
単一の連続した第１段であって、前記単一の連続した第１段の各前記第１段は：
前記複数の流入口部分のうちのそれぞれと流体連通しており；
長さＴ１及び高さＳＨ１を有し、ＳＨ１は、ＣＨよりも蹴上げ高さＲ１だけ大きく、比ＳＨ１／ＣＨは１．０超かつ５．０未満である、複数の第１段、
を更に備える、請求項７に記載の乳化デバイス。
【請求項２５】
単一の連続した第２段であって、前記単一の連続した第２段の各前記第２段は：
前記複数の第１段のうちの１つの第１段と流体連通しており；
前記第３段と流体連通しており；
長さＴ２及び高さＳＨ２を有し、ＳＨ２は、ＳＨ１よりも蹴上げ高さＲ２だけ大きく、比ＳＨ２／ＣＨは１．０超かつ５．０未満である、複数の第２段
を更に備える、請求項２４に記載の乳化デバイス。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年7月19日(2018.7.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
高温ソルダの一般的な利用は、ダイ結合のためである。１つの例示的プロセスにおいては、組立部品は高温ソルダを使用してシリコンダイをリードフレーム上にはんだ付けすることで形成される。その後、封入状態あるいは非封入状態であるシリコンダイ／リードフレーム組立部品は、はんだ付けによるか、または機械的な固定によってＰＷＢに取り付けられる。そのボード（ＰＷＢ）は、ボード上にその他の電子デバイスを表装（表面搭載）するため、さらに２〜３のリフロー（再流し込み）プロセスに曝露することもできる。更なるはんだ付けプロセス中に、シリコンダイとリードフレームとの間の内部結合は良好に維持されなければならない。これには高温ソルダが機能不全を一切発生させずに複数のリフローに抵抗することを要件とする。従って当該産業で使用されるソルダリフロープロフィール（はんだ再流し込み特性）と両立させるためには、高温ソルダのための主要な必要条件には、（ｉ）２６０℃程度以上の溶解温度（融点）（典型的なソルダリフロープロフィールに従う）、（ｉｉ）良好な熱疲労抵抗、（ｉｉｉ）高い熱伝導性／電気伝導性、および（ｉｖ）低コストが含まれる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に従って実施されるリフローソルダプロセスを図示する。
【図２】図２は、Ｃｕクーポン（切取り試片）と４２アロイクーポン上の９０重量％Ｂｉ１０．０２Ａｇ３．７４Ｓｎ＋１０重量％フラックスからなる例示的ソルダペーストのウェッティング性能を示す。
【図３】図３は、Ｃｕクーポンと４２アロイクーポン上の８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｂｉ４２Ｓｎ＋１０重量％フラックスからなる例示的混成合金粉末ソルダペーストのウェッティング性能を示す。
【図４】図４は、Ｃｕクーポンと４２アロイクーポン上の８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｂｉ５２Ｉｎ４８Ｓｎ＋１０重量％フラックスからなる例示的混成合金粉末ソルダペーストのウェッティング性能を示す。
【図５】図５は、８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｓｎ１５Ｓｂ＋１０重量％フラックスからなる混成合金粉末ソルダペーストのＤＳＣチャートである。
【図６】図６は、８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｓｎ３．５Ａｇ＋１０重量％フラックスからなる混成合金粉末ソルダペーストのＤＳＣチャートである。
【図７】図７は、８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｂｉ４２Ｓｎ＋１０重量％フラックスからなる混成合金粉末ソルダペーストのＤＳＣチャートである。
【図８ａ】図８ａと図８ｂは、ＣｕクーポンとＮｉクーポン上の混成合金粉末ソルダペースト製の結合部の断面画像である。この混成合金粉末ソルダペーストは８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｓｎ３．５Ａｇ＋１０重量％フラックスからなる。
【図８ｂ】図８ａと図８ｂは、ＣｕクーポンとＮｉクーポン上の混成合金粉末ソルダペースト製の結合部の断面画像である。この混成合金粉末ソルダペーストは８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｓｎ３．５Ａｇ＋１０重量％フラックスからなる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
混成ソルダペーストの使用から得られるソルダ結合部は、１つのソルダ合金を含んだソルダペーストの使用の大きな改善を示し、その単一ソルダ合金が第１合金と第２合金の元素で構成される場合であっても改善される。図２は、それぞれＣｕ基材２００と４２アロイ基材２０５の上の８６．２４重量％Ｂｉ１０．０２Ａｇ３．７４Ｓｎ＋１０重量％フラックスからなるソルダペーストを使用して形成されたソルダバンプ２０１と２０７を図示する。これらの結果が示すように、大きな脱ウェッティング２０２と２０６が１つ（単一）のソルダ合金の使用で発生する。一方、図３は、それぞれＣｕ基材２１０と４２アロイ基材２１５の上の８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｂｉ４２Ｓｎ＋１０重量％フラックスからなる混成ソルダペーストを使用して形成されたソルダバンプ２１１と２１６を図示する。これらの結果が示すように、混成ソルダペーストの使用はほとんど、または全く視認できる脱ウェッティングを示さない。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
表１、表２および表３によって説明したそれぞれのペーストが準備され、３穴ステンレス鋼ステンシルを使用してクーポン上に印刷された。Ｃｕ、Ｎｉ、４２アロイおよびアルミナのクーポンが使用された。それぞれのペーストがそれぞれのクーポンに印刷された。穴は１／４インチ（約０．６３５ｃｍ）径であった。印刷されたクーポンは混成合金粉末ソルダペースト用に設計されているプロフィールを備えたリフローオーブンを介してリフローされた。リフローは、３８０℃、４００℃および４２０℃の３域リフローオーブン内で、Ｎ２雰囲気下、ベルト速度１３インチ（約３３ｃｍ）／分で実施された。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
ＣｕとＮｉのクーポン上のウェッティング性能は視覚的に検査された。混成ソルダ合金の全てが、単独ＢｉＡｇソルダペーストと比較して改善されたウェッティング性能を示した。図３と図４は典型的な結果を表わす写真である。図３は、８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｂｉ４２Ｓｎ＋１０重量％フラックスからなる混成合金粉末ソルダの１例のウェッティング性能を示す。左側の画像はＣｕクーポン上でリフローしたペーストを示し、右側の画像は４２アロイクーポン上でリフローしたペーストを示す。図４は、８４重量％Ｂｉ１１Ａｇ＋６重量％Ｂｉ５２Ｉｎ４８Ｓｎ＋１０重量％フラックスからなる混成合金粉末ソルダペーストの１例のウェッティング性能を示す。左側の画像はＣｕクーポン４００上でリフローしたペースト４０１を示し、右側の画像は、４２アロイＣｕクーポン４０５上でリフローしたペースト４０２を示す。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７８】
図２中の「Ｄｅｗｅｔｔｉｎｇ」とは、脱ウェッティング（または、非濡れ）。
図２，３，４中の「Ａｌｌｏｙ  ４２」は、４２アロイ。
図８ａ，８ｂの「Ｓｏｌｄｅｒ」は、ソルダ（はんだ）。
「Ｂｉ−ｒｉｃｈ  ｐｈａｓｅ」は、Ｂｉリッチ相。
「ＩＭＣ」は、金属間化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月3日(2018.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１、第２、第３、及び第４の設計アンキリンリピートドメインを含む、組換え結合タンパク質であって、
前記第１の設計アンキリンリピートドメインが血管内皮増殖因子（ＶＥＧＦ−Ａ）に対する結合特異性を有し、かつ配列番号１８のアミノ酸配列に対して少なくとも９０％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、
前記第２の設計アンキリンリピートドメインが肝細胞増殖因子（ＨＧＦ）に対する結合特異性を有し、かつ配列番号２６のアミノ酸配列に対して少なくとも９０％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、並びに
前記第３及び第４の設計アンキリンリピートドメインがそれぞれ血清アルブミンに対する結合特異性を有し、かつ配列番号５０のアミノ酸配列に対して少なくとも９０％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含む、組換え結合タンパク質。
【請求項２】
前記第１の設計アンキリンリピートドメインが、配列番号１８のアミノ酸配列に対して少なくとも９５％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、
前記第２の設計アンキリンリピートドメインが、配列番号２６のアミノ酸配列に対して少なくとも９５％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、並びに
前記第３及び第４の設計アンキリンリピートドメインがそれぞれ配列番号５０のアミノ酸配列に対して少なくとも９５％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含む、請求項１に記載の結合タンパク質。
【請求項３】
前記第１の設計アンキリンリピートドメインが、配列番号１８のアミノ酸配列に対して少なくとも９８％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、
前記第２の設計アンキリンリピートドメインが、配列番号２６のアミノ酸配列に対して少なくとも９８％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、並びに
前記第３及び第４の設計アンキリンリピートドメインがそれぞれ配列番号５０のアミノ酸配列に対して少なくとも９８％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含む、請求項１に記載の結合タンパク質。
【請求項４】
第１、第２、第３、及び第４のアンキリンリピートドメインを含む、結合タンパク質であって、
前記第１のアンキリンリピートドメインがヒトＶＥＧＦ−Ａに対する結合特異性を有し、かつ配列番号１８のアミノ酸配列に対して少なくとも９０％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、
前記第２のアンキリンリピートドメインがヒトＨＧＦに対する結合特異性を有し、かつ配列番号２６のアミノ酸配列に対して少なくとも９０％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、並びに
前記第３及び第４のアンキリンリピートドメインがそれぞれヒト血清アルブミンに対する結合特異性を有し、かつ配列番号５０のアミノ酸配列に対して少なくとも９０％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含む、結合タンパク質。
【請求項５】
配列番号１３４のアミノ酸配列に対して少なくとも９０％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含む結合タンパク質であって、ＨＧＦ、ＶＥＧＦ−Ａ及び血清アルブミンに対して結合特異性を有する、結合タンパク質。
【請求項６】
請求項１又は５に記載の結合タンパク質をコードする核酸。
【請求項７】
請求項１又は５に記載の結合タンパク質並びに薬学的に許容される担体及び／若しくは賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項８】
医学的状態を治療する方法であって、該方法は治療有効量の請求項４又は５に記載の結合タンパク質を、このような治療を必要とする患者に投与する工程を含み、前記医学的状態が腫瘍性疾患、病的血管新生、及び／又は炎症性疾患である、方法。
【請求項９】
前記医学的状態が腎癌、胃癌及び／又は多発性骨髄腫である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１のアンキリンリピートドメインが、配列番号１８のアミノ酸配列に対して少なくとも９５％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、
前記第２のアンキリンリピートドメインが、配列番号２６のアミノ酸配列に対して少なくとも９５％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、並びに
前記第３及び第４のアンキリンリピートドメインがそれぞれ配列番号５０のアミノ酸配列に対して少なくとも９５％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含む、請求項４に記載の結合タンパク質。
【請求項１１】
前記第１のアンキリンリピートドメインが配列番号１８のアミノ酸配列を含み、
前記第２のアンキリンリピートドメインが配列番号２６のアミノ酸配列を含み、及び／又は
前記第３又は第４のアンキリンリピートドメインが配列番号５０のアミノ酸配列を含む、請求項４に記載の結合タンパク質。
【請求項１２】
前記結合タンパク質はＶＥＧＦ−ＡとＶＥＧＦＲ−２との間の結合相互作用を阻害するか、及び／又はＨＧＦとｃＭｅｔとの間の結合相互作用を阻害する、請求項４に記載の結合タンパク質。
【請求項１３】
前記結合タンパク質が配列番号１３４のアミノ酸配列に対して少なくとも９５％のアミノ酸配列同一性を有するアミノ酸配列を含む、請求項５に記載の結合タンパク質。
【請求項１４】
前記結合タンパク質が配列番号１３４のアミノ酸配列を含む、請求項５に記載の結合タンパク質。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月26日(2018.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体と、
前記本体を通ることができ、ルーメンを含むガイドワイヤと、
前記ガイドワイヤ内の前記ルーメンを通る光学的形状感知（ＯＳＳ）システムであって、解剖学的フィーチャに対して展開される医療装置の形状、位置又は向きの少なくとも１つを測定する、当該ＯＳＳシステムと、
を有する、医療装置展開システム。
【請求項２】
前記ガイドワイヤが、前記ガイドワイヤに沿って形状データにおける位置を位置合わせするように形状テンプレートを用いて変形される、請求項１に記載の展開システム。
【請求項３】
前記展開システムが、前記本体に結合された少なくとも１つのハンドルを有し、前記少なくとも１つのハンドルは、前記ＯＳＳシステムが前記ガイドワイヤを出る取り付け位置を含む、請求項１に記載の展開システム。
【請求項４】
前記展開システムが、前記本体に結合された少なくとも１つのハンドルを有し、前記少なくとも１つのハンドルが、追加のＯＳＳシステムに対する取り付け位置を含む、請求項１に記載の展開システム。
【請求項５】
前記本体を前記ガイドワイヤにクランプするクランプ機構を有する、請求項１に記載の展開システム。
【請求項６】
前記展開システムが、前記本体上の第１の結合フィーチャ及び前記ガイドワイヤ上の第２の結合フィーチャを有し、前記第１の結合フィーチャ及び前記第２の結合フィーチャが、互いの間の相対運動を防ぐように互いに係合する、請求項１に記載の展開システム。
【請求項７】
前記本体と前記ガイドワイヤとの間の回転を測定する回転測定装置を有する、請求項１に記載の展開システム。
【請求項８】
エンドグラフトと、
前記ガイドワイヤと前記エンドグラフトとの間の位置合わせを可能にするように前記ガイドワイヤ上に配置される放射線不透過マーカと、
を有する、請求項１に記載の展開システム。
【請求項９】
前記ＯＳＳシステムを前記展開システムの制御ハンドルに取り付ける少なくとも１つのクリップ留め取り付け部を有し、前記少なくとも１つのクリップ留め取り付け部が、前記ＯＳＳシステムを取り付けるように前記展開システムに結合される接着部を含み、前記接着部が、放射線不透過フィーチャを含む、請求項１に記載の展開システム。
【請求項１０】
前記展開システムが、エンドグラフト展開システム、又は僧帽弁クリップ、弁若しくはバルーンカテーテルを含む展開システムである、請求項１に記載の展開システム。
【請求項１１】
プロセッサ及びメモリを含むワークステーションと、
メモリに記憶され、光学的形状感知データを解釈する光学的形状感知モジュールと、
管を含む展開システムと、
前記管を通ることができ、ルーメンを含むガイドワイヤと、
前記ガイドワイヤ内の前記ルーメンを通る光学的形状感知（ＯＳＳ）システムであって、エンドグラフトの配置のために血管に対する前記エンドグラフトの形状、位置又は向きの少なくとも１つを測定する当該ＯＳＳシステムと、
前記光学的形状感知データを術前又は術中画像に位置合わせする位置合わせモジュールと、
を有する、エンドグラフト展開システム。
【請求項１２】
前記ガイドワイヤが、前記ガイドワイヤに沿って形状データにおける位置を位置合わせするために形状テンプレートを用いて変形される、請求項１１に記載のエンドグラフト展開システム。
【請求項１３】
前記エンドグラフト展開システムが、前記管に結合された少なくとも１つのハンドルを有し、前記少なくとも１つのハンドルは、前記ＯＳＳシステムが前記ガイドワイヤを出る取り付け位置を含む、請求項１１に記載のエンドグラフト展開システム。
【請求項１４】
前記エンドグラフト展開システムが、前記管に結合された少なくとも１つのハンドルを有し、前記少なくとも１つのハンドルが、追加のＯＳＳシステムに対する取り付け位置を含む、請求項１１に記載のエンドグラフト展開システム。
【請求項１５】
前記管を前記ガイドワイヤにクランプするクランプ機構と、
互いの間の相対運動を防ぐように互いに係合する前記管上の第１の結合フィーチャ及び前記ガイドワイヤ上の第２の結合フィーチャと、
前記管と前記ガイドワイヤとの間の回転を測定する回転測定装置と、
前記ガイドワイヤと前記エンドグラフトとの間の位置合わせを可能にするように前記ガイドワイヤ上に配置された放射線不透過マーカと、
前記展開システムの制御ハンドルに前記ＯＳＳシステムを取り付ける少なくとも１つのクリップ留め取り付け部と、
を有し、
前記少なくとも１つのクリップ留め取り付け部が、前記ＯＳＳシステムを取り付けるように前記展開システムに結合された接着部を含み、前記接着部が、放射線不透過フィーチャを含む、
請求項１１に記載のエンドグラフト展開システム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年7月19日(2018.7.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
図示される実施形態では、アクティブスイッチング部品２８は、電子駆動回路３８によって駆動される。回路３８はフィードバック回路４０の一部をなす。このフィードバック回路４０は、異なる負荷の下、端子２６におけるＤＣ電圧出力を所望の電圧に維持可能なペースで、アクティブスイッチング部品２８へ制御パルスを供給する。フィードバック回路は、ＡＣ回路部からＤＣ回路部を電気的に絶縁する光カプラ４２を有する。駆動回路３８は、 ブリッジ整流器４４および平滑コンデンサ４６を用いて得られるＤＣ供給電圧で作動する。なお、ブリッジ整流器４４および平滑コンデンサ４６は、電源装置のＡＣ回路部にあるが、ＤＣ動作圧力を供給し、アクティブスイッチング部品２８および駆動回路３８を作動させる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
スパークギャップ構造の第三の実体的な形態が図１２に示される。この実施形態では、図示されるように、コンデンサ５８の２本のリード線９３が外方に延出し、かつ、内方に曲がって、９４のようなスパークギャップを形成する。図示されないが、第四の実体的な形態は、ＡＣ回路部およびＤＣ回路部のそれぞれの取付ポイントの間に接続されるガス放電装置を用いる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月30日(2018.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の表面上に位置し、延伸され、かつ、アレイ状に配置された複数のリブと、
前記複数のリブの少なくとも一部の間の複数のギャップと、
前記複数のリブ上に位置する共形コーティングであって、
前記共形コーティングは酸化防止材および吸湿防止材を含む、異なる材料の２つの層を有し、
前記酸化防止材は酸化アルミニウム、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、炭化ケイ素、レアアース酸化物またはそれらの組み合わせを含み、
前記吸湿防止材は酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、前記酸化防止材である前記レアアース酸化物とは異なるレアアース酸化物またはそれらの組み合わせを含み、
前記酸化防止材は、前記吸湿防止材と前記複数のリブとの間に位置する、
ワイヤグリッドポラライザ（ＷＧＰ）。
【請求項２】
前記酸化防止材は、前記複数のリブとは別個である、請求項１に記載のＷＧＰ。
【請求項３】
前記複数のリブの外面の材料は、２５℃で１リットル当たり少なくとも０．０１５グラムの水溶性を有する、請求項１または２に記載のＷＧＰ。
【請求項４】
前記複数のリブの外面の材料は、ゲルマニウムを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載のＷＧＰ。
【請求項５】
前記酸化防止材は、酸化アルミニウムを含み、
前記吸湿防止材は、酸化ハフニウムを含む、
請求項１から４のいずれか一項に記載のＷＧＰ。
【請求項６】
前記酸化防止材は、０．１ナノメートル以上５ナノメートル未満の厚さを有し、前記吸湿防止材は、０．１ナノメートル以上５ナノメートル未満の厚さを有する、請求項１から５のいずれか一項に記載のＷＧＰ。
【請求項７】
透明基板の表面上に位置する複数のリブであって、前記複数のリブの少なくとも一部の間の複数のギャップと共に延伸された複数のリブのアレイを得る工程と、
前記複数のリブ上に共形コーティングの酸化防止材を蒸着により付着させる工程であって、
前記酸化防止材の層は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、炭化ケイ素、レアアース酸化物のうちの少なくとも１つを含む工程と、
前記複数のリブ上に共形コーティングの吸湿防止材を蒸着により付着させる工程であって、
前記吸湿防止材は酸化ハフニウム、前記酸化防止材である前記レアアース酸化物とは異なるレアアース酸化物および酸化ジルコニウムのうちの少なくとも１つを含む工程と
を備える、ワイヤグリッドポラライザ（ＷＧＰ）を製造する方法。
【請求項８】
前記酸化防止材および前記吸湿防止材を付着させた後に前記共形コーティングの疎水層を蒸着により付着させる工程であって、前記疎水層を付着させる工程は、下記化学式
（Ｒ１）ｉＰＯ（Ｒ４）ｊ（Ｒ５）ｋ
（式中、
ｉは１または２、ｊは１または２、ｋは０または１、かつ、ｉ＋ｊ＋ｋ＝３であり、
各Ｒ１は、独立して疎水基であり、
Ｒ４は、ホスホネート反応基であり、
各ホスホネート反応基は、独立して‐Ｃｌ、‐ＯＲ６、‐ＯＣＯＲ６または‐ＯＨであり、かつ
各Ｒ６は、独立してアルキル基、アリール基またはそれらの組み合わせである。）
を有する化合物に前記ＷＧＰを曝露する工程を含む付着させる工程をさらに備える、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記酸化防止材および前記吸湿防止材を付着させた後に前記共形コーティングの疎水層を蒸着により付着させる工程であって、前記疎水層を付着させる工程は、下記化学式
Ｓｉ（Ｒ１）ｄ（Ｒ２）ｅ（Ｒ３）ｇ
（式中、
ｄは１、２または３、ｅは１、２または３、ｇは０、１または２、かつ、ｄ＋ｅ＋ｇ＝４であり、
各Ｒ１は、独立して疎水基であり、
Ｒ２は、シラン反応基であり、
各シラン反応基は、独立して‐Ｃｌ、‐ＯＲ６、‐ＯＣＯＲ６、‐Ｎ（Ｒ６）２または‐ＯＨであり、
各Ｒ６は、独立してアルキル基、アリール基またはそれらの組み合わせであり、かつ
各Ｒ３は、独立して任意の化学元素または化学基である。）
を有する化合物に前記ＷＧＰを曝露する工程を含む付着させる工程をさらに備える、請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
工程の順序は、
前記複数のリブのアレイを得て、前記酸化防止材を付着させ、次に、前記吸湿防止材を付着させる工程からなる、
請求項７から９のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月2日(2018.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ディスプレイを取り囲むハウジング及び前部パネルと、
前記前部パネルの周辺の部分に沿って配置される、開ループ流体を取り込むための取込ギャップと、
前記前部パネルの周辺の部分に沿って配置される、開ループ流体を排出するための排出ギャップと、
前記電子ディスプレイの後ろに配置されるチャネルと、
開ループ流体が前記取込ギャップから前記チャネルに移動可能な第１の気体経路と、
前記開ループ流体が前記チャネルから前記排出ギャップに移動可能な第２の気体経路と、
前記開ループ流体の流れを形成するように配置されるファンと、
前記取込ギャップと前記排出ギャップとの間に配置されるバッファ・ゾーンと、
前記バッファ・ゾーン内に設けられる中央隔壁と、
を備える電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項２】
垂直的に配置され、且つ前記第１の気体経路の少なくとも一部を形成する第１の側部チャネルと、
垂直的に配置され、且つ前記第２の気体経路の少なくとも一部を形成する第２の側部チャネルと、
を更に備える請求項１に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項３】
前記第１の側部チャネル内に設けられるチャネル隔壁を
更に備える請求項２に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項４】
前記チャネル隔壁は、前記開ループ流体の垂直方向の流れを実質的に防止する、請求項３に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項５】
前記取込ギャップ及び前記排出ギャップは、前記電子ディスプレイの意図された観察者と対向する、請求項１に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項６】
電子ディスプレイと、
前記ディスプレイを取り囲むハウジングと、
前記電子ディスプレイの意図された観察者と対向するように、前記ハウジングの上に設けられる取込ギャップと、
前記電子ディスプレイの意図された前記観察者と対向するように、前記ハウジングの上に設けられる排出ギャップと、
前記電子ディスプレイの後ろに配置されるチャネルと、
垂直的に配置され、且つ前記取込ギャップと前記チャネルとの間の気体の通行を可能にする第１の側部チャネルと、
垂直的に配置され、且つ前記チャネルと前記排出ギャップとの間の気体の通行を可能にする第２の側部チャネルと、
開ループ流体を前記取込ギャップに流入させ、前記第１の側部チャネルを介して、前記チャネルを介して、前記第２の側部チャネルを介して、前記排出ギャップから排出させるように、配置されるファンと、
前記取込ギャップと前記排出ギャップとの間に配置されるバッファ・ゾーンと、
前記バッファ・ゾーンと同じ垂直方向の高さに設けられる中央隔壁と、
を備える電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項７】
前記第１の側部チャネル内に設けられるチャネル隔壁を
更に備える請求項６に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項８】
開ループ流体用の第１の経路と循環ガス用の第２の経路とを有する熱交換器と、
前記循環ガスが前記熱交換器を強制的に通過するように、配置される循環ファンと、
を更に備える請求項６に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項９】
前記チャネルは、ＬＥＤバックライトとプレートとの間の空間によって規定される、請求項６に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項１０】
前記取込ギャップは、前記アセンブリの第１の垂直方向の半分に設けられる一方、
前記排出ギャップは、前記アセンブリの反対の垂直方向の半分に設けられる、請求項６に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項１１】
前記第１の側部チャネルからの開ループ流体を受け入れて前記電子ディスプレイの後ろのチャネルに向ける、前記電子ディスプレイの後ろのドア・キャビティを
を更に備える請求項６に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項１２】
電子ディスプレイと、
前記電子ディスプレイを取り囲むハウジング及び前部パネルと、
前記電子ディスプレイの垂直方向の中央の上に配置され、且つ前記前部パネルと前記ハウジングとの間に位置する取込ギャップと、
前記電子ディスプレイの垂直方向の中央の上に配置され、且つ前記前部パネルと前記ハウジングとの間に位置する排出ギャップと、
開ループ流体用の第１の経路と循環ガス用の第２の経路とを有する熱交換器と、
前記循環ガスが前記熱交換器を強制的に通過するように、配置される循環ファンと、
前記取込ギャップと前記排出ギャップとの間であって前記電子ディスプレイの垂直方向の中央の近くに配置される中央隔壁と、
開ループ流体の流れを前記取込ギャップに入れて、前記熱交換器を介して、前記排出ギャップから出させるように、配置されるファンと、
垂直的に配置され、且つ前記取込ギャップと前記熱交換器との間の気体の通行を可能にする第１の側部チャネルと、
垂直的に配置され、且つ前記チャネルと前熱交換器との間の気体の通行を可能にする第２の側部チャネルと、
前記第１の側部チャネル内に設けられる第１の側部のチャネル隔壁と、
前記第２の側部チャネル内に設けられる第２の側部のチャネル隔壁と、
を備える電子ディスプレイ・アセンブリ。
【請求項１３】
前記第１及び第２の側部のチャネル隔壁は、開ループ流体の垂直方向の流れを実質的に防止する、請求項１２に記載の電子ディスプレイ・アセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月1日(2018.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図２及び図３に示すように、コイラ３０は変換機２６の下流側に位置し、出口４０から荷敷きの帯を受け取る。システム２０は、出口４０からコイラ３０まで下流側へ向かうガイド通路を画定するガイド部材４２を備えてもよい。ガイド通路は下流へ向かう荷敷きの帯の移動を規定し、帯本体がコイラ３０によって受け取られ巻回されるよう導く。荷敷きの帯は変換機２６の出口４０から出て、帯の先端がコイラ３０に到達すると、帯の先端は、帯を受け取る一対のコイラフォーク４４の間を通る。帯が変換機２６から出続ける一方、コイラ３０はフォーク４４に平行な巻回軸周りにフォーク４４を回転させて、帯を巻回する。コイラフォーク４４は下流方向に対して垂直に伸び、そのため、巻回軸は下流方向と垂直となる。コイラフォーク４４は、コイラ３０の回転基部４７に固定される端部４６を有する。帯の巻回が完了する際、帯の後端が出口４０から出切るまで、フォーク４４は回転を続けてもよい。コイラ３０は、巻回が完了したコイルをコイラフォーク４４からチューブ２４の方へ又はチューブ２４の内部へ移動させるためのコイルエジェクタを備えてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図示されるシステム２０において、コイルエジェクタは、荷敷きのコイル状の帯を、コイラ３０から排出方向にあるチューブ２４内へと軸方向に移動させる可動プッシャ４８（可動押し部材）を備える。排出方向は巻回軸と平行であり、下流方向を横断する。コイラ３０が巻回軸周りに帯を巻回する間、プッシャ４８は最初、コイラフォーク４４の端部４６とコイラ３０の基部４７の近傍の巻回位置にある。コイラ３０が帯を巻回し終わった後、プッシャ４８は、コイル状の帯を排出方向にあるチューブ２４の中へと軸方向に移動させるため、巻回位置から離された移動後位置へと移動可能である。図示されている実施形態では、プッシャ４８は、円形の開口５０を有するディスク状の本体を備え、プッシャ４８が巻回位置から移動後位置へ排出方向に動く際、コイラフォーク４４は開口５０を通って延在する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
要約すれば、本発明は荷敷きのコイル状の帯を製造する荷敷き製造システム２０であって、帯状の荷敷き２９の供給部と、供給部と隣接するコイラ３０であって、帯状の荷敷き２９の帯を巻回してコイル状の形を有するコイルにするために巻回軸周りに回転可能であるコイラ３０と、巻回軸に揃えられるチューブ２４とを備える。チューブ２４は、コイラ３０からのコイルを巻回軸と平行な排出方向に受け取る内径寸法を有する。チューブ２４は少なくとも１つの荷敷きのコイル状の帯を、それがチューブ２４から取り出されるまでそのコイル状の形に保持可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2018531199.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月10日(2018.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の材料によって作られた支持構造を有する計時器（１００）の外装要素（１０）であって、
当該外装要素は、さらに、温度変化に反応するデバイス（２００）を少なくとも１つ有し、
前記温度変化に反応するデバイス（２００）は、バインダー及び特定の温度で反応するように選ばれるサーモクロミックピグメントによって構成しているサーモクロミック層（１１）を有する少なくとも１つのサーモクロミック要素によって形成され、これによって、前記ピグメントは、前記特定の温度に到達したときに第１の色から第２の色へと遷移し、
前記サーモクロミック要素は、さらに、前記サーモクロミック層（１１）が堆積されたキャリア層（１３）と、及び紫外線に耐久性があり前記サーモクロミック層と前記キャリア層をカバーする保護層（１２）とを有する
ことを特徴とする外装要素。
【請求項２】
前記サーモクロミック層（１１）は、前記ピグメントと混合されアクリル樹脂、アクリルコポリマー及びポリウレタンのファミリーから選ばれるバインダーと、ポリカルボン酸塩タイプの分散剤と、ベンゾアートタイプの可塑剤と、グリコール又はエステルのファミリーから選ばれる溶剤とによって構成している硬質なラッカーである
ことを特徴とする請求項１に記載の外装要素。
【請求項３】
前記サーモクロミック層（１１）は、前記ピグメントと混合されるバインダーによって構成している軟質なラッカーであり、
前記バインダーは、シリコーン又はポリウレタンのファミリーから選ばれる
ことを特徴とする請求項１に記載の外装要素。
【請求項４】
前記サーモクロミック層（１１）は、アクリル樹脂、ポリウレタン又はシリコーンのファミリーから選ばれるバインダーと、ポリカルボン酸塩タイプの分散剤又は解膠剤と、スルホンアミドタイプの可塑剤かつ接着促進剤と、及びグリコール又はエステルのファミリーから選ばれる溶剤とによって構成しているインクである
ことを特徴とする請求項１に記載の外装要素。
【請求項５】
前記保護層（１２）は、サファイアガラス、ナノダイヤモンド又はグラフェンで充填されたアクリル酸ガラス、薄いナノダイヤモンド層、及びナノダイヤモンド又はグラフェンで充填されたアクリル系ラッカーからなる群から選ばれる
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の外装要素。
【請求項６】
前記保護層（１２）は、１０Ｗ・ｍ-1・Ｋ-1よりも大きい熱伝導度を有する
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の外装要素。
【請求項７】
前記キャリア層（１３）は、１００Ｗ・ｍ-1・Ｋ-1よりも大きい熱伝導度を有する
ことを特徴とする請求項２に記載の外装要素。
【請求項８】
前記キャリア層（１３）は、陽極処理されたアルミニウム、銅、金合金、銀合金、アルミニウム／炭化ケイ素の合金、薄い層状のナノダイヤモンド、薄い層状のグラファイト及びグラフェンからなる群から選ばれる材料によって作られている
ことを特徴とする請求項１に記載の外装要素。
【請求項９】
さらに、挿入体を形成するように様々な層が配置された基材（１４）を有する
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の外装要素。
【請求項１０】
さらに、前記サーモクロミック層の下に配置された中間層（１６）を少なくとも１つ有する
ことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の外装要素。
【請求項１１】
前記中間層（１６）は、発光性の層である
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の外装要素。
【請求項１２】
前記温度変化に反応するデバイス（２００）は、複数のサーモクロミック要素を装備する温度センサーであり、
各サーモクロミック要素は、そのサーモクロミック要素に固有な特定の温度に反応する
ことを特徴とする請求項１に記載の外装要素。
【請求項１３】
前記サーモクロミック要素（１０）はすべて、同じ第１の色を有する
ことを特徴とする請求項１２に記載の外装要素。
【請求項１４】
前記サーモクロミック要素（１０）はすべて、同じ第２の色を有する
ことを特徴とする請求項１２に記載の外装要素。
【請求項１５】
前記サーモクロミック要素（１０）は、それらがすべて前記第１の色から前記第２の色へと遷移したときにそれらの第２の色によってグラデーションを形成することができる
ことを特徴とする請求項１２に記載の外装要素。
【請求項１６】
少なくとも１つのサーモクロミック要素（１０）を配置することができるように少なくとも１つの凹部（１５）が形成されている
ことを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の外装要素。
【請求項１７】
裏部（１０６）と風防（１０８）によって閉じられるミドル部（１０４）によって形成されるケース（１０２）を有する着用可能な物であって、
さらに、ストラップ（１１０）を有し、
さらに、ミドル部、風防、ベゼル、表盤、ストラップ及びクラスプからなる群から選ばれる請求項１〜１６のいずれかに記載の外装要素を少なくとも１つ有する
ことを特徴とする着用可能な物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年2月2日(2018.2.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
本体３２０は、ハウジング部分３０６とハウジング部分３０４との間にあって、さらにハウジング部分３０６に隣接するシーリングリング３２６（例えば、Ｏ−リング）と複数膜部材３２８との間にあり、複数膜部材３２８は、ターゲットウィンドウ２０（図１および図２に示す）、例えば、ハーバーなどの熱処理コバルトベース合金から形成された１つの膜部材と、ニオブなどの化学的不活性物質から形成された他の膜部材とを有し、ハウジング部分３０４に隣接するディスクである。ハウジング部分３０６はまた、その中で、シーリングリング３２６および本体３２０の一部を受けるよう整形およびサイズ調整されたキャビティ３３０を備えることに留意されたい。さらに、ハウジング部分３０６は、その中で、複数膜部材３２８の一部を受けるようサイズ調整および整形されたキャビティ３３２を備える。複数膜部材３２８は、本体３２０のキャビティ３２２内に適合するよう構成されたシーリング境界３３６（例えば、Ｈｅｌｉｃｏｆｌｅｘ境界）を備えることができ、複数膜部材３２８はまた、開口３３８を介して、ハウジング部分３０４を貫通する経路と並ぶ。