【手続補正書】
【提出日】平成30年5月10日(2018.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ多孔性基材と、前記基材の第１の表面上に被覆されてその上に実質的に非多孔性のフィルムを形成する空気不透過性選択性層と、を含む水蒸気輸送膜であって、前記選択性層がスルホン化ポリエーテルエーテルケトン（ｓＰＥＥＫ）とセルロースアセテート（ＣＡ）とを約７：３〜約２：３の範囲内のｓＰＥＥＫ：ＣＡ（ｗｔ．：ｗｔ．）比で含み、前記ＣＡのアセチル含有率が約２０％〜約６２％の範囲内であり、前記ｓＰＥＥＫのスルホン化度が約２３％〜約１００％の範囲内であり、かつ前記選択性層が約５ミクロン未満の厚さを有する、水蒸気輸送膜。
【請求項２】
前記ｓＰＥＥＫがカチオン形のｓＰＥＥＫを含む、請求項１に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項３】
前記ｓＰＥＥＫの約８０％〜約１００％がカチオン形である、請求項２に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項４】
前記カチオン形がナトリウムイオン形である、請求項２または３に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項５】
前記ｓＰＥＥＫのスルホン化度が６０％±１０％〜７０％±１０％である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項６】
前記基材上の選択性層のコーティング荷重が約０．５ｇ／ｍ２〜約２．５ｇ／ｍ２の範囲内である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項７】
前記選択性層の厚さが約０．７５ミクロン〜約１．２５ミクロンである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項８】
前記選択性層が、前記選択性層を破壊することなく前記膜のプリーツ加工を可能にするのに十分な程度に可撓性である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項９】
前記膜の水蒸気パーミアンスが約２５℃〜約５０℃の範囲内の温度で少なくとも９，０００ＧＰＵである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１０】
前記膜を通過する酢酸クロスオーバーが約２５℃および約５０％の相対湿度で約１％未満である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１１】
酢酸に対する水蒸気の膜選択率が約２５℃および約５０％の相対湿度で約５０超である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１２】
前記膜が揮発性有機化合物（ＶＯＣ）および他のガスよりも水蒸気に対して透過性である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１３】
前記基材がポリオレフィンである、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１４】
前記ポリオレフィンが乾式処理されておりかつ一軸延伸または二軸延伸されている、請求項１３に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１５】
前記基材の多孔度が約３０体積％超である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１６】
前記基材の多孔度が約３０体積％〜約８０体積％の範囲内である、請求項１５に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１７】
前記基材が約５ミクロン〜約４０ミクロンの厚さを有する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１８】
前記基材の平均細孔サイズが約０．０１ミクロン〜約０．１ミクロンの範囲内である、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜。
【請求項１９】
水蒸気輸送膜の作製方法であって、
スルホン化ポリエーテルエーテルケトン（ｓＰＥＥＫ）とセルロースアセテート（ＣＡ）とを含むコーティング溶液または分散液をマイクロ多孔性基材の第１の表面に塗布する工程と、前記コーティング溶液または分散液を乾燥させて前記基材の第１の表面上に実質的に非多孔性のフィルムとして空気不透過性選択性層を形成する工程と、
を含み、
前記コーティング溶液または分散液が約７：３〜約２：３の範囲内のｓＰＥＥＫ：ＣＡ（ｗｔ．：ｗｔ．）比を含み、前記ＣＡのアセチル含有率が約２０％〜約６２％であり、前記ｓＰＥＥＫのスルホン化度が約２３％〜約１００％の範囲内であり、かつ
前記選択性層が約５ミクロン未満の厚さを有する、方法。
【請求項２０】
前記ｓＰＥＥＫのスルホン酸基プロトンをカチオンと交換する工程をさらに含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
ｓＰＥＥＫのスルホン酸基プロトンの約８０％〜約１００％がカチオンと交換される、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記カチオンがナトリウムイオンである、請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記ｓＰＥＥＫのスルホン化度が６０％±１０％〜７０％±１０％である、請求項１９〜２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
前記コーティング溶液または分散液の固体含有率が約２．５重量％〜約１０重量％の範囲内である、請求項１９〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記コーティング溶液または分散液がアセトン／水、アセトン／水／エタノール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ＴＨＦ／水、Ｎメチル２ピロリドン（ＮＭＰ）、ＮＭＰ／水、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ＤＭＦ／水、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、またはＤＭＳＯ／水をさらに含む、請求項１９〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
前記基材上の選択性層のコーティング荷重が約０．５ｇ／ｍ２〜約２．５ｇ／ｍ２の範囲内である、請求項１９〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記選択性層の厚さが約０．７５ミクロン〜約１．２５ミクロンである、請求項１９〜２６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８】
前記膜の水蒸気パーミアンスが約２５℃〜約５０℃の範囲内の温度で少なくとも９，０００ＧＰＵである、請求項１９〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
前記膜を通過する酢酸クロスオーバーが約２５℃および約５０％の相対湿度で約１％未満である、請求項１９〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
酢酸に対する水蒸気の膜選択率が約２５℃および約５０％の相対湿度で約５０超である、請求項１９〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記膜が揮発性有機化合物（ＶＯＣ）および他のガスよりも水蒸気に対して透過性である、請求項１９〜３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
前記基材がポリオレフィンである、請求項１９〜３１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３３】
前記ポリオレフィンが乾式処理されておりかつ一軸延伸または二軸延伸されている、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記基材の多孔度が約３０体積％超である、請求項１９〜３３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
前記基材の多孔度が約３０体積％〜約８０体積％の範囲内である、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記基材が約５ミクロン〜約４０ミクロンの厚さを有する、請求項１９〜３５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７】
前記基材の平均細孔サイズが約０．０１ミクロン〜約０．１ミクロンの範囲内である、請求項１９〜３６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８】
プリーツ膜カートリッジを含むエネルギー回収換気（ＥＲＶ）コアであって、前記膜カートリッジが、近接膜層間にガスフロー経路を有して請求項１〜１８のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜の交互層を含む、エネルギー回収換気（ＥＲＶ）コア。
【請求項３９】
ＥＲＶコアを含むエネルギー回収換気（ＥＲＶ）システムであって、前記ＥＲＶコアがプリーツ膜カートリッジを含み、前記膜カートリッジが、近接膜層間にガスフロー経路を有して請求項１〜１８のいずれか一項に記載の水蒸気輸送膜の交互層を含む、エネルギー回収換気（ＥＲＶ）システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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