【手続補正書】
【提出日】平成29年12月22日(2017.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７１】
他の実施形態は、以下の特許請求の範囲内に記載される。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．  式ＶＩＩＩの化合物
2017512762.tif 000001
を水素源及び遷移金属触媒と組み合わせて、式ＩＩの化合物
2017512762.tif 000002
、またはその薬学的に許容される塩を形成することを含むプロセスであって、
式中、Ｒ22及びＲ23は、各々独立して、
（ｉ）水素、
（ｉｉ）置換もしくは非置換のＣ1−Ｃ6アルキル、
（ｉｉｉ）置換もしくは非置換のアラルキル、
（ｉｖ）置換もしくは非置換のシクロアルキルアルキル、
（ｖ）置換もしくは非置換のＣ2−Ｃ6アルケニル、
（ｖｉ）アミノ保護基であるか、
またはＲ22及びＲ23が一緒になって、３、４、５、６、７、もしくは８員の置換もしくは非置換のヘテロシクリル環を形成し、
Ｒ24及びＲ25は、各々独立して、
2017512762.tif 000003
式中、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、及びＲ38は、各々独立して、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボン酸塩、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基であり、各アルキル、アリール、またはアラルキル基は、置換または非置換であり、Ｒ57及びＲ58は、各々独立して、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボン酸塩、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基であり、各アルキル、アリール、またはアラルキル基は、置換または非置換であり、
Ｒ26は、ＯＲ39またはＮＲ39Ｒ40であり、
Ｒ39は、各出現において、独立して、水素、または置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、もしくはヘテロシクリルアルキル基であり、
Ｒ40は、水素、または置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、もしくはヘテロシクリルアルキル基であり、
ｐは、１、２、３、４、または５であり、
ｑは、１、２、３、４、または５であり、
Ｘ1は、各出現において、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性のアミノ保護基であり、
Ｘ2は、各出現において、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性のアミノ保護基であり、
Ｘ3は、Ｘ1またはＲ23であり、
Ｘ4は、各出現において、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性のアミノ保護基であり、
Ｚ3及びＺ4は、各々独立して、水素、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2、または置換もしくは非置換のアルキル、アリール、もしくはアラルキル基であり、
Ｚ5及びＺ6は、各々独立して、水素、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2、または置換もしくは非置換のアルキル、アリール、もしくはアラルキル基であり、
Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、及びＸ4のうちの少なくとも１つは、酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性のアミノ保護基である、プロセス。
２．  前記式ＶＩＩＩの化合物の形成は、式ＶＩの化合物
2017512762.tif 000004
を式ＶＩＩの化合物
2017512762.tif 000005
と式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含む、上記１に記載のプロセス。
３．  前記式ＶＩの化合物の形成は、式Ｖの化合物
2017512762.tif 000006
を、開裂するための酸と組み合わせて式ＶＩの化合物を生成することを含み、式中、Ｙ1は、酸媒介性除去に感受性のアミノ保護基である、上記２に記載のプロセス。
４．  前記式Ｖの化合物の形成は、式ＩＩＩの化合物
2017512762.tif 000007
を式ＩＶの化合物
2017512762.tif 000008
と式Ｖの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含む、上記３に記載のプロセス。
５．  Ｙ1は、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル（Ｂｏｃ）であり、Ｘ1は、各出現において、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、Ｘ2は、各出現において、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、Ｘ4は、各出現において、独立して、水素、ニトロ、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルである、上記１〜４のいずれか一項に記載のプロセス。
６．  Ｒ24及びＲ25は、各々
2017512762.tif 000009
であり、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であるが、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つはＨではなく、
ｐは４であり、
ｑは３である、上記１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
７．  Ｒ24及びＲ25は、各々
2017512762.tif 000010
であり、
Ｘ2はＨではなく、
Ｘ4はＨではなく、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｐは４であり
ｑは３である、上記１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
８．  Ｒ24は
2017512762.tif 000011
であり、
Ｒ25は
2017512762.tif 000012
であり、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であるが、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つはＨではなく、
ｐは４であり
ｑは３である、上記１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
９．  Ｒ24は
2017512762.tif 000013
であり、
Ｒ25は
2017512762.tif 000014
であり、
Ｘ2はＨではなく、
Ｘ4はＨではなく、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｐは４であり、
ｑは３である、上記１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
１０．  前記水素源は、水素ガス、ギ酸、ギ酸塩、ジイミド、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含み、
前記遷移金属触媒は、Ｃｏ、Ｉｒ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｗ、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、上記１に記載のプロセス。
１１．  前記遷移金属触媒は、支持材料を含む、上記１０に記載のプロセス。
１２．  前記支持材料は、炭素、炭酸塩、シリカ、ケイ素、ケイ酸塩、アルミナ、粘土、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含む、上記１１に記載のプロセス。
１３．  前記遷移金属触媒は、炭素上のＰｄまたはケイ素上のＰｄを含む、上記１２に記載のプロセス。
１４．  溶媒をさらに含む、上記１０〜１３のいずれか一項に記載のプロセス。
１５．  前記溶媒は、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含む、上記１４に記載のプロセス。
１６．  前記溶媒は、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＦ、Ｈ2ＳＯ4、Ｈ3ＰＯ4、ＨＣｌＯ4、ギ酸、酢酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ラウリン酸、ステアリン酸、デオキシコール酸、グルタミン酸、グルクロン酸、ボロン酸、スルフィン酸、スルファミン酸、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物をさらに含む、上記１５に記載のプロセス。
１７．  前記式ＶＩＩＩの化合物、前記水素源、及び前記遷移金属触媒の前記組み合わせは、約−２０℃〜約１５０℃の温度に供される、上記１〜１６のいずれか一項に記載のプロセス。
１８．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、カップリング剤を含み、前記カップリング剤は、（７−アザベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＡＯＰ）、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）ジピペリジノカルベニウムヘキサフルオロホスフェート、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、ブロモトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＣＴＵ）、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＣＴＵ）、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムテトラフルオロボラート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムクロリド、クロロジピロリジノカルベニウムヘキサフルオロホスフェート、クロロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＯＭＵ）、ジピロリジノ（Ｎ−スクシンイミジルオキシ）カルベニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡＴ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）、１−［（ジメチルアミノ）（モルホリノ）メチレン］−１Ｈ−［１，２，３］トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（Ｈ���ＭＡ）、Ｏ−（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｓ−（１−オキシド−２−ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルチウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（２−オキソ−１（２Ｈ）ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミドメチオジド（ＥＤＣ−ＭｅＩ）、プロパンホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメチル−ｐ−トルエンスルホネート、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１，１′−カルボニルジ（１，２，４−トリアゾール）、ビス（４−ニトロフェニル）カーボネート、４−ニトロフェニルクロロホルメート、ジ（Ｎ−スクシンイミジル）カーボネート、１−（２−メシチレンスルホニル）−３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、上記２に記載のプロセス。
１９．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、カップリング剤を含み、前記カップリング剤は、ＤＣＣ、ＥＤＣ、ＨＡＴＵ、ＨＢＴＵ、ＨＣＴＵ、Ｔ３Ｐ、ＨＯＢＴ、ＴＢＴＵ、ＴＣＴＵ、ＰｙＡＯＰ、ＢＯＰ、ＰｙＢＯＰ、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、上記２に記載のプロセス。
２０．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、ＥＤＣ及びＨＯＢＴ、ＥＤＣ−ＨＣｌ及びＨＯＢＴ、ＢＯＰ及びＨＯＢＴ、またはＨＡＴＵ及びＨＯＡＴを含む、上記２に記載のプロセス。
２１．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、溶媒をさらに含む、上記１８〜２０のいずれか一項に記載のプロセス。
２２．  前記溶媒は、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含む、上記２１に記載のプロセス。
２３．  前記溶媒は、ジメチルホルムアミド、ＣＨ2Ｃｌ2、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、エタノール、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含む、上記２１に記載のプロセス。
２４．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、塩基をさらに含む、上記１８〜２０のいずれか一項に記載のプロセス。
２５．  前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、約−４０℃〜約１５０℃の温度で生じる、上記１８〜２０のいずれか一項に記載のプロセス。
２６．  式ＶＩの化合物を生成するために使用される前記開裂するための酸は、ハロゲン酸、カルボン酸、ホスホン酸、リン酸、スルフィン酸、スルホン酸、硫酸、スルファミン酸、ホウ酸、ボロン酸、酸性樹脂、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、上記３に記載のプロセス。
２７．  式ＶＩの化合物を生成するために使用される前記開裂するための酸は、フッ化水素酸、塩酸（ＨＣｌ）、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、酢酸（ＡｃＯＨ）、フルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）、クロロ酢酸、安息香酸、リン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、硫酸、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、上記３に記載のプロセス。
２８．  前記開裂するための酸との組み合わせは、約−４０℃〜約１５０℃の温度で行われる、上記３に記載のプロセス。
２９．  前記開裂するための酸との組み合わせは、プロトン性溶媒、極性非プロトン性溶媒、またはそれら２つの混合物をさらに含む、上記３に記載のプロセス。
３０．  前記開裂するための酸との組み合わせは、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物をさらに含む、上記３に記載のプロセス。
３１．  前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件は、カップリング剤を含み、前記カップリング剤は、（７−アザベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＡＯＰ）、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）ジピペリジノカルベニウムヘキサフルオロホスフェート、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、ブロモトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＣＴＵ）、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＣＴＵ）、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムテトラフルオロボラート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムクロリド、クロロジピロリジノカルベニウムヘキサフルオロホスフェート、クロロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＯＭＵ）、ジピロリジノ（Ｎ−スクシンイミジルオキシ）カルベニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡＴ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）、１−［（ジメチルアミノ）（モルホリノ）メチレン］−１Ｈ−［１，２，３］トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（ＨＤ���Ａ）、Ｏ−（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｓ−（１−オキシド−２−ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルチウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（２−オキソ−１（２Ｈ）ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミドメチオジド（ＥＤＣ−ＭｅＩ）、プロパンホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメチル−ｐ−トルエンスルホネート、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１，１′−カルボニルジ（１，２，４−トリアゾール）、ビス（４−ニトロフェニル）カーボネート、４−ニトロフェニルクロロホルメート、ジ（Ｎ−スクシンイミジル）カーボネート、１−（２−メシチレンスルホニル）−３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、上記４に記載のプロセス。
３２．  前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件は、カップリング剤を含み、前記カップリング剤は、ＤＣＣ、ＥＤＣ、ＨＡＴＵ、ＨＢＴＵ、ＨＣＴＵ、Ｔ３Ｐ、ＨＯＢＴ、ＴＢＴＵ、ＴＣＴＵ、ＰｙＡＯＰ、ＢＯＰ、ＰｙＢＯＰ、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、上記４に記載のプロセス。
３３．  前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件は、ＥＤＣ及びＨＯＢＴ、ＥＤＣ−ＨＣｌ及びＨＯＢＴ、ＢＯＰ及びＨＯＢＴ、またはＨＡＴＵ及びＨＯＡＴを含む、上記４に記載のプロセス。
３４．  前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件は、溶媒をさらに含む、上記３１〜３３のいずれか一項に記載のプロセス。
３５．  前記溶媒は、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含む、上記３４に記載のプロセス。
３６．  前記溶媒は、ジメチルホルムアミド、ＣＨ2Ｃｌ2、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、エタノール、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含む、上記３４に記載のプロセス。
３７．  前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件は、塩基をさらに含む、上記３１〜３６のいずれか一項に記載のプロセス。
３８．  Ｙ1はｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル（Ｂｏｃ）であり、Ｘ1は、各出現において、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、Ｘ2は、各出現において、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、Ｘ4は、各出現において、独立して、水素、ニトロ、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルである、上記６〜３７のいずれか一項に記載のプロセス。
３９．  Ｒ24及びＲ25は、各々
2017512762.tif 000015
であり、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であるが、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つはＨではなく、
ｐは４であり、
ｑは３である、上記１０〜３８のいずれか一項に記載のプロセス。
４０．  Ｒ24及びＲ25は、各々
2017512762.tif 000016
であり、
Ｘ2はＨではなく、
Ｘ4はＨではなく、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｐは４であり、
ｑは３である、上記１０〜３８のいずれか一項に記載のプロセス。
４１．  Ｒ24は
2017512762.tif 000017
であり、
Ｒ25は
2017512762.tif 000018
であり、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であるが、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つはＨではなく、
ｐは４であり、
ｑは３である、上記１０〜３８のいずれか一項に記載のプロセス。
４２．  Ｒ24は
2017512762.tif 000019
であり、
Ｒ25は
2017512762.tif 000020
であり、
Ｘ2はＨではなく、
Ｘ4はＨではなく、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｐは４であり
ｑは３である、上記１０〜３８のいずれか一項に記載のプロセス。
４３．  Ｒ26はＮＨ2である、上記１〜４２のいずれか一項に記載のプロセス。
４４．  前記式ＶＩＩの化合物、前記式Ｘの化合物、または両方は、式ＸＩＩ
2017512762.tif 000021
の化合物から生成され、
式中、
Ｒ41は、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、アラルキル、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、もしくは−Ｃ（Ｏ）−アラルキルであり、各アルキル、アリール、またはアラルキル基は、置換または非置換である、上記１〜４３のいずれか一項に記載のプロセス。
４５．  前記式ＸＩＩの化合物を形成することは、式ＸＶＩの化合物
2017512762.tif 000022
を、式ＸＩＩの化合物に変換することを含み、
式中、Ｒ50及びＲ51は、各々独立して、水素、または置換もしくは非置換のＣ1−Ｃ6アルキル、アリール、もしくはシクロアルキル基である、上記４４に記載のプロセス。
４６．  Ｒ28及びＲ30は、各々メチルである、上記４５に記載のプロセス。
４７．  Ｒ50及びＲ51は、各々メチルである、上記４５または４６に記載のプロセス。
４８．  Ｒ27及びＲ31は、各々水素である、上記４５〜４７のいずれか一項に記載のプロセス。
４９．  前記式ＸＶＩの化合物を前記式ＸＩＩの化合物に変換することは、
前記式ＸＶＩの化合物を、Ｙ1−Ｌｖ、有機塩基、及び適切な溶媒と組み合わせて生成物を生成することと、
前記生成物をエステル加水分解条件に供することと、を含み、
Ｌｖは、ハロゲン、−Ｏ−Ｙ1、または−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｃｌである、上記４５〜４８のいずれか一項に記載のプロセス。
５０．  Ｙ1はＢｏｃであり、Ｙ1−ＬｖはＢｏｃ2Ｏである、上記４９に記載のプロセス。
５１．  前記エステル加水分解条件は、アルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を含む、上記４９または５０に記載のプロセス。
５２．  前記エステル加水分解条件は、ＮａＯＨの水溶液を含む、上記４９〜５１のいずれか一項に記載のプロセス。
５３．  前記式ＸＶＩの化合物は、式ＸＶの化合物
2017512762.tif 000023
を前記式ＸＶＩの化合物を形成するための条件下で変換することによって調製される、上記４５〜５２のいずれか一項に記載のプロセス。
５４．  条件は、水素源、遷移金属源、キラルリガンド、及び適切な溶媒を含む、上記５３に記載のプロセス。
５５．  条件は、Ｈ2、Ｒｈ（Ｉ）（ＣＯＤ）2ＢＦ4、（Ｓ）−ＭｅＢｏＰｈｏｓ、及びＴＨＦを含む、上記５３に記載のプロセス。
５６．  前記式ＸＶの化合物を形成することは、式ＸＩＩＩの化合物
2017512762.tif 000024
を式ＸＩＶの化合物またはその塩
2017512762.tif 000025
と式ＸＶの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含む、上記５３〜５５のいずれか一項に記載のプロセス。
５７．  前記式ＸＶの化合物を形成するための前記条件は、ワンポット合成を含む、上記５６に記載のプロセス。
５８．  前記ワンポット合成は、
（ａ）前記式ＸＩＩＩの化合物及び前記式ＸＩＶの化合物を（Ｒ51ＣＯ）2Ｏと有機塩基の存在下で組み合わせて混合物を形成することと、
（ｂ）遷移金属源及びＰＲ523を（ａ）の前記混合物に加えることと、を含み、
各Ｒ52は、独立して、置換もしくは非置換のＣ1−Ｃ6アルキル基、非置換のフェニル、または１〜５個の置換もしくは非置換のＣ1−Ｃ6アルキル基で置換されたフェニルである、上記５７に記載のプロセス。
５９．  前記有機塩基はＥｔ3Ｎである、上記５８に記載のプロセス。
６０．  ＰＲ523はＰ（ｔｏｌｙｌ）3である、上記５８または５９に記載のプロセス。
６１．  前記遷移金属源は、Ｐｄ（ＯＡｃ）2である、上記５８〜６０のいずれか一項に記載のプロセス。
６２．  Ｒ27、Ｒ31、Ｒ50、及びＲ51は、各々メチルであり、Ｒ28及びＲ30は、各々水素である、上記５８〜６１のいずれか一項に記載のプロセス。
６３．  前記式ＸＩＶの化合物を形成することは、式Ａの化合物
2017512762.tif 000026
を式Ｂの化合物またはその塩
2017512762.tif 000027
と、前記式ＸＩＶの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含み、
式中、Ｒ’’’は、各出現において、独立して、置換または非置換のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、またはヘテロシクリルアルキル基である、上記５３〜５５のいずれか一項に記載のプロセス。
６４．  前記式ＸＩＶの化合物を形成するための前記条件は、ワンポット合成を含む、上記６３に記載のプロセス。
６５．  前記ワンポット合成は、前記式Ａの化合物を前記式Ｂの化合物と組み合わせる際に塩基をさらに組み合わせることを含む、上記６４に記載のプロセス。
６６．  前記塩基は、有機塩基である、上記６５に記載のプロセス。
６７．  前記塩基は、トリエチルアミン（Ｅｔ3Ｎ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７−エン（ＤＢＵ）、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含む有機塩基である、上記６５または６６に記載のプロセス。
６８．  前記塩基は、ＤＢＵ、ＤＩＰＥＡ、またはそれら２つの混合物を含む有機塩基である、上記６５〜６７のいずれか一項に記載のプロセス。
６９．  Ｒ’’’はメチルである、上記６３〜６８のいずれか一項に記載のプロセス。
７０．  Ｒ50及びＲ51は、各々メチルである、上記６３〜６９のいずれか一項に記載のプロセス。
７１．  Ｒ3及びＲ7は、各々メチルである、上記６３〜７０のいずれか一項に記載のプロセス。
７２．  Ｒ4及びＲ6は、各々水素である、上記６３〜７１のいずれか一項に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式ＶＩＩＩの化合物
2017512762.tif 000028
を水素源及び遷移金属触媒と組み合わせて、式ＩＩの化合物
2017512762.tif 000029
、またはその薬学的に許容される塩を形成することを含むプロセスであって、
式中、Ｒ22及びＲ23は、各々独立して、
（ｉ）水素、
（ｉｉ）置換もしくは非置換のＣ1−Ｃ6アルキル、
（ｉｉｉ）置換もしくは非置換のアラルキル、
（ｉｖ）置換もしくは非置換のシクロアルキルアルキル、
（ｖ）置換もしくは非置換のＣ2−Ｃ6アルケニル、
（ｖｉ）アミノ保護基であるか、
またはＲ22及びＲ23が一緒になって、３、４、５、６、７、もしくは８員の置換もしくは非置換のヘテロシクリル環を形成し、
Ｒ24及びＲ25は、各々独立して、
2017512762.tif 000030
式中、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、及びＲ38は、各々独立して、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボン酸塩、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基であり、各アルキル、アリール、またはアラルキル基は、置換または非置換であり、Ｒ57及びＲ58は、各々独立して、水素、またはＣ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、アミノ、Ｃ1−Ｃ4アルキルアミノ、Ｃ1−Ｃ4ジアルキルアミノ、シアノ、−Ｃ（Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アリール、−Ｃ（Ｏ）−アラルキル、カルボン酸塩、エステル、アミド、ニトロ、ヒドロキシル、ハロゲン、もしくはペルハロアルキル基であり、各アルキル、アリール、またはアラルキル基は、置換または非置換であり、
Ｒ26は、ＯＲ39またはＮＲ39Ｒ40であり、
Ｒ39は、各出現において、独立して、水素、または置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、もしくはヘテロシクリルアルキル基であり、
Ｒ40は、水素、または置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヘテロシクリル、もしくはヘテロシクリルアルキル基であり、
ｐは、１、２、３、４、または５であり、
ｑは、１、２、３、４、または５であり、
Ｘ1は、各出現において、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性のアミノ保護基であり、
Ｘ2は、各出現において、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性のアミノ保護基であり、
Ｘ3は、Ｘ1またはＲ23であり、
Ｘ4は、各出現において、独立して、水素、または酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性のアミノ保護基であり、
Ｚ3及びＺ4は、各々独立して、水素、−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2、または置換もしくは非置換のアルキル、アリール、もしくはアラルキル基であり、
Ｚ5及びＺ6は、各々独立して、水素、−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2、または置換もしくは非置換のアルキル、アリール、もしくはアラルキル基であり、
Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、及びＸ4のうちの少なくとも１つは、酸媒介性除去に抵抗性であり、かつ水素媒介性除去に感受性のアミノ保護基である、プロセス。
【請求項２】
前記式ＶＩＩＩの化合物の形成は、式ＶＩの化合物
2017512762.tif 000031
を式ＶＩＩの化合物
2017512762.tif 000032
と式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記式ＶＩの化合物の形成は、式Ｖの化合物
2017512762.tif 000033
を、開裂するための酸と組み合わせて式ＶＩの化合物を生成することを含み、式中、Ｙ1は、酸媒介性除去に感受性のアミノ保護基である、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記式Ｖの化合物の形成は、式ＩＩＩの化合物
2017512762.tif 000034
を式ＩＶの化合物
2017512762.tif 000035
と式Ｖの化合物を形成するための条件下で組み合わせることを含む、請求項３に記載のプロセス。
【請求項５】
Ｙ1は、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル（Ｂｏｃ）であり、Ｘ1は、各出現において、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、Ｘ2は、各出現において、独立して、水素、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルであり、Ｘ4は、各出現において、独立して、水素、ニトロ、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）、または２−クロロベンジルオキシカルボニルである、請求項１〜４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
Ｒ24及びＲ25は、各々
2017512762.tif 000036
であり、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であるが、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つはＨではなく、
ｐは４であり、
ｑは３である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
Ｒ24及びＲ25は、各々
2017512762.tif 000037
であり、
Ｘ2はＨではなく、
Ｘ4はＨではなく、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｐは４であり
ｑは３である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
Ｒ24は
2017512762.tif 000038
であり、
Ｒ25は
2017512762.tif 000039
であり、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であるが、Ｘ2及びＸ4のうちの少なくとも１つはＨではなく、
ｐは４であり
ｑは３である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
Ｒ24は
2017512762.tif 000040
であり、
Ｒ25は
2017512762.tif 000041
であり、
Ｘ2はＨではなく、
Ｘ4はＨではなく、
Ｚ3及びＺ5は水素であり、
Ｚ4は−Ｃ（ＮＨ）−ＮＨ2であり、
Ｚ6は−Ｃ（Ｎ−Ｘ4）−ＮＨ−Ｘ2であり、
ｐは４であり、
ｑは３である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記水素源は、水素ガス、ギ酸、ギ酸塩、ジイミド、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含み、
前記遷移金属触媒は、Ｃｏ、Ｉｒ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｗ、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記遷移金属触媒は、支持材料を含み、前記支持材料が、炭素、炭酸塩、シリカ、ケイ素、ケイ酸塩、アルミナ、粘土、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含んでもよい、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記遷移金属触媒は、炭素上のＰｄまたはケイ素上のＰｄを含む、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
溶媒をさらに含み、前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含んでもよい、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、カップリング剤を含み、前記カップリング剤は、（７−アザベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＡＯＰ）、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）ジピペリジノカルベニウムヘキサフルオロホスフェート、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、ブロモトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＣＴＵ）、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＣＴＵ）、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムテトラフルオロボラート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムクロリド、クロロジピロリジノカルベニウムヘキサフルオロホスフェート、クロロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＯＭＵ）、ジピロリジノ（Ｎ−スクシンイミジルオキシ）カルベニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡＴ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）、１−［（ジメチルアミノ）（モルホリノ）メチレン］−１Ｈ−［１，２，３］トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（ＨＤＭＡ）、Ｏ−（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｓ−（１−オキシド−２−ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルチウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（２−オキソ−１（２Ｈ）ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミドメチオジド（ＥＤＣ−ＭｅＩ）、プロパンホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメチル−ｐ−トルエンスルホネート、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１，１′−カルボニルジ（１，２，４−トリアゾール）、ビス（４−ニトロフェニル）カーボネート、４−ニトロフェニルクロロホルメート、ジ（Ｎ−スクシンイミジル）カーボネート、１−（２−メシチレンスルホニル）−３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、請求項２に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、溶媒をさらに含み、前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含んでもよい、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記式ＶＩＩＩの化合物を形成するための条件は、塩基をさらに含む、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１７】
式ＶＩの化合物を生成するために使用される前記開裂するための酸は、ハロゲン酸、カルボン酸、ホスホン酸、リン酸、スルフィン酸、スルホン酸、硫酸、スルファミン酸、ホウ酸、ボロン酸、酸性樹脂、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、請求項３に記載のプロセス。
【請求項１８】
式ＶＩの化合物を生成するために使用される前記開裂するための酸は、フッ化水素酸、塩酸（ＨＣｌ）、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、酢酸（ＡｃＯＨ）、フルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）、クロロ酢酸、安息香酸、リン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、硫酸、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、請求項３に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件は、カップリング剤を含み、前記カップリング剤は、（７−アザベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＡＯＰ）、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）ジピペリジノカルベニウムヘキサフルオロホスフェート、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、ブロモトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＣＴＵ）、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＣＴＵ）、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムテトラフルオロボラート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリジニウムクロリド、クロロジピロリジノカルベニウムヘキサフルオロホスフェート、クロロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、クロロトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＯＭＵ）、ジピロリジノ（Ｎ−スクシンイミジルオキシ）カルベニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−［（エトキシカルボニル）シアノメチレンアミノ］−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡＴ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−１Ｈ−１，２，３−トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジニウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）、１−［（ジメチルアミノ）（モルホリノ）メチレン］−１Ｈ−［１，２，３］トリアゾロ［４，５−ｂ］ピリジン−１−イウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（ＨＤＭＡ）、Ｏ−（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｓ−（１−オキシド−２−ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルチウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−（２−オキソ−１（２Ｈ）ピリジル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミドメチオジド（ＥＤＣ−ＭｅＩ）、プロパンホスホン酸無水物（Ｔ３Ｐ）、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメチル−ｐ−トルエンスルホネート、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１，１′−カルボニルジ（１，２，４−トリアゾール）、ビス（４−ニトロフェニル）カーボネート、４−ニトロフェニルクロロホルメート、ジ（Ｎ−スクシンイミジル）カーボネート、１−（２−メシチレンスルホニル）−３−ニトロ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、またはそれらのいずれか２つ以上の組み合わせを含む、請求項４に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記式Ｖの化合物を形成するための前記条件は、溶媒をさらに含み、前記溶媒が、メタノール（ＣＨ3ＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）、イソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）、トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）、ブタノール（ＢｕＯＨ）、塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）、クロロホルム（ＣＨＣｌ3）、ベンゾトリフルオリド（ＢＴＦ；ＰｈＣＦ3）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン（２Ｍｅ−ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）、プロプリオニトリル（ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ）、ベンゾニトリル（ＰｈＣＮ）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、水、またはそれらのいずれか２つ以上の混合物を含んでもよい、請求項１９に記載のプロセス。