【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年2月16日(2018.2.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
ＥＵＶ放射線１０は、２つのファセットミラー１３、１４上に、ミラー面の法線に対して測定して２５°よりも小さいか又はそれに等しい角度で入射する。従って、ＥＵＶ放射線１０は、法線入射作動範囲で２つのファセットミラー１３、１４上に入射する。かすめ入射による入射も可能である。瞳ファセットミラー１４は、投影光学ユニット７の瞳平面を構成する照明光学ユニット４の平面、又は投影光学ユニット７の瞳平面に対して光学的に共役な照明光学ユニット４の平面に配置される。瞳ファセットミラー１４と、ＥＵＶ放射線１０に対するビーム経路の順番で表記したミラー１６、１７、及び１８を有する伝達光学ユニット１５の形態にある結像光学アセンブリとを用いて、視野ファセットミラー１３の視野ファセットが、物体視野５内に互いに重ね合わされる方式で結像される。伝達光学ユニット１５の最後のミラー１８はかすめ入射ミラーである。伝達光学ユニット１５と瞳ファセットミラー１４とを併せて、視野ファセットミラー１３から物体視野５に向けてＥＵＶ放射線１０を伝達するための逐次光学ユニットとも呼ぶ。照明光１０は、放射線源３から物体視野５に向けて複数の照明チャネルを通して導かれる。これらの照明チャネルの各々には、視野ファセットミラー１３の視野ファセット１３ａと、視野ファセットの下流に配置された瞳ファセットミラー１４の瞳ファセット１４ａとが割り当てられる。視野ファセットミラー１３及び瞳ファセットミラー１４の個々のミラーは、アクチュエータ系によって傾斜可能にすることができ、それによる照明チャネルの構成変化に従って視野ファセット１３ａに対する瞳ファセット１４ａの割り当て変更を達成することができる。物体視野５にわたる照明光１０の照明角度の分布において異なる様々な照明設定がもたらされる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７４】
中間焦点面１２の下流には、使用放射線１０、すなわち、ＥＵＶ放射線ビームを導くための光学アセンブリの例として多ミラーアレイ又はマイクロミラーアレイ（ＭＭＡ）の形態にある視野ファセットミラー２１が配置される。以下の本文では、多ミラーアレイ又はマイクロミラーアレイ（ＭＭＡ）を単にミラーアレイ２２とも呼ぶ。視野ファセットミラー２１は、マイクロ電気機械系（ＭＥＭＳ）として具現化される。視野ファセットミラー２１は、行列状の方式でアレイ内に行と列とで配置された多数の個々のミラーを有する。以下の本文では、個々のミラーをミラー要素２３とも呼ぶ。ミラー要素２３は、下記で説明するように、アクチュエータ系によって傾斜可能であるように設計される。全体的に、視野ファセットミラー２１は、約１００  ０００個のミラー要素２３を有する。ミラー要素２３のサイズに基づいて、視野ファセットミラー２１は、例えば、１０００個、５０００個、７０００個、又は他に数十万個、例えば、５００  ０００個のミラー要素２３を有することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９８】
ミラーアレイ２２の全体区域は、１ｍｍ×１ｍｍから５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲、特に１０ｍｍ×１０ｍｍから２５ｍｍ×２５ｍｍの範囲に収まる。原理的に、他の寸法も可能である。原理的に、この区域は、正方形形態から外れることができる。ミラーアレイ２２の全体反射面にわたるこのアレイ２２の全体区域の突出部を側オーバーヘッド又は横オーバーヘッドとも呼ぶ。横オーバーヘッドの同じ方向の全体広がりに対する比は、最大で０．１、特に最大で０．０５、特に最大で０．０３、特に最大で０．０２、特に最大で０．０１である。従って、横突出部は、ミラーアレイ２２の全体反射面の全体広がりよりも少なくとも１桁小さい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０１】
担持構造４３は、片側に開いた切れ目４４を有する。切れ目４４は、更に別の機能構成物を受け入れるために片側に開いた受け入れ空間を形成する。担持構造４３のミラーアレイ２２とは反対の側では、切れ目４４は、面法線４１の方向に担持構造のベース４５によって境界が定められる。横方向、すなわち、面法線４１に対して垂直な方向には、切れ目４４は、担持構造４３は、担持構造４３の縁部領域４６によって境界が定められる。縁部領域４６は、面法線４１に対して垂直な方向に幅ｂCを有する。この場合に、０．５×ｂ≦ｂC≦２×ｂが成り立つ。特に、担持構造４３の縁部領域４６は、基板３０の縁部領域４２と同じ幅ｂ＝ｂCに調節することができる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０４】
ＡＳＩＣ５２への信号線４７は、担持構造４３の後側４９から担持構造４３を通ってミラーアレイ２２の後側４８に延び、そこからミラーアレイ２２の後側４８に沿って延び、フリップチップ接点５３を通してＡＳＩＣ５２に延びている。従って、一体化又は局所ドライバ電子回路への信号線は、ミラーアレイ２２の後側４８上で導かれる。ミラー要素２３のうちの１つの変位を制御するためのＡＳＩＣ５２上に発生された制御電圧は、ミラーアレイ２２の後側４８への更に別のフリップチップ接点５３を通して対応する電極５４にもたらされる。従って、ＡＳＩＣ５２のうちの１つの全ての電気接点は、ＡＳＩＣ５２の同じ側にある。特に、この接点は、ＡＳＩＣ５２のミラーアレイ２２に対面する側に置かれる。それによって原理的には同じく可能である両側接点及び貫通接点が回避される。
信号線４７のそのような配置の更に別の利点は、全ての信号線４７をミラーアレイ２２の後側４８で単一金属層内に設けることができるということにある。これは生成工程の簡素化につながり、従って、生成コストの低減をもたらす。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１７３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１７３】
物体視野５を照明する時に、すなわち、レチクル２４をウェーハ６４上に結像する時に、第１のファセットミラー６２の各ファセット６８に対して、当該ファセット６８によって反射される照明放射線１０を各場合に物体視野５に導こうと意図する上で使用する第２のファセットミラー６３上の１又は２以上のターゲットファセット７１を決定することができるようになっている。図１６から図１８では、そのようなターゲットファセット７１を塗り潰し円で例示的に描示している。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１７４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１７４】
対応するチャネル割り当てをもたらす、すなわち、個々のミラー２３又はファセット６８からターゲットファセット７１への照明放射線１０の誘導をもたらす第１のファセットミラー６２上のファセット６８の位置決めをターゲット位置とも呼ぶ。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影露光装置（１）の照明光学ユニット（４）のためのミラーアレイ（２２）であって、
１．１．第１の群の個々のミラー（２３）が、１：１００よりも高い相対精度で変位可能であり、かつ
１．２．第２の群の個々のミラー（２３）が、１００ｍｓよりも短い切り換え時間で変位可能である、
ように少なくとも２つの群に分割される多数の変位可能な個々のミラー（２３）、
を含むことを特徴とするミラーアレイ（２２）。
【請求項２】
前記２つの群は、別々であることを特徴とする請求項１に記載のミラーアレイ（２２）。
【請求項３】
前記第２の群の前記個々のミラー（２３）は、純粋なフィードフォワード制御を用いて変位されることを特徴とする請求項１から請求項２のいずれか１項に記載のミラーアレイ（２２）。
【請求項４】
前記第２の群の前記個々のミラーは、１つ又は２つの直線に沿って配置されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のミラーアレイ（２２）。
【請求項５】
前記個々のミラー（２３）の全体個数のうちの前記第２の群の該個々のミラー（２３）の比率が、０．１％から１０％の範囲に収まることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のミラーアレイ（２２）。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の多数のミラーアレイ（２２）、
を含むことを特徴とする光学構成要素。
【請求項７】
個々のミラー（２３）のグループ分けが、各ミラーアレイ（２２）上で同じであることを特徴とする請求項６に記載の光学構成要素。
【請求項８】
投影露光装置（１）のためのファセットミラー（１３，１４）であって、
請求項６及び請求項７のいずれかに記載の少なくとも１つの光学構成要素、
を含むことを特徴とするファセットミラー（１３，１４）。
【請求項９】
照明光学ユニット（４）のファセットミラー（６２）を構成する方法であって、
請求項８に記載のファセットミラー（６２）を与える段階と、
物体視野（５）を照明するための少なくとも１つの照明設定を予め決める段階と、
前記少なくとも１つの予め決められた照明設定に依存する方式でミラーアレイ（２２）の個々のミラー（２３）の位置決めを決定する段階と、
各場合に前記物体視野（５）の前記照明を補正するために各予め決められた照明設定に対して第２の群に割り当てるべき前記ミラーアレイ（２２）の前記個々のミラー（２３）の部分集合を決定する段階と、
前記ミラーアレイ（２２）の前記個々のミラー（２３）の部分集合を前記第２の群に割り当てる段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
投影露光装置（１）のための照明光学ユニット（４）であって、
請求項７及び請求項８のいずれかに記載の少なくとも１つの光学構成要素、
を含むことを特徴とする照明光学ユニット（４）。
【請求項１１】
投影露光装置（１）のための照明系（２）であって、
請求項１０に記載の照明光学ユニット（４）と、
放射線源（３）と、
を含むことを特徴とする照明系（２）。
【請求項１２】
物体視野（５）を照明する方法であって、
請求項１１に記載の照明系（２）を与える段階と、
前記物体視野（５）の予め決められた領域内の照明放射線（１０）の所期強度分布を予め決める段階と、
前記照明系（２）を用いて前記物体視野（５）を照明放射線（１０）で照明する段階と、
前記物体視野（５）の前記予め決められた領域内の前記所期強度分布からの前記照明放射線（１０）の実際の強度分布の偏差を確立する段階と、
前記偏差に依存する方式で第２の群の個々のミラー（２３）の変位位置を適応化する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
マイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）であって、
１３．１．請求項１０に記載の照明光学ユニット（４）と、
１３．２．投影光学ユニット（７）と、
を含むことを特徴とする投影露光装置（１）。
【請求項１４】
微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、
請求項１３に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
各場合に感光材料で作られた層がその上に付加されて露光される複数の視野を有する基板（６４）を与える段階と、
結像される構造を有するレチクル（２４）を与える段階と、
露光される個々の前記視野の互いからのずれに関連するデータを用いて少なくとも１つの補正プロファイルを予め決める段階と、
前記少なくとも１つの補正プロファイルに依存する方式で第２の群への個々のミラー（２３）の割り当てを決定する段階と、
前記投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（２４）の少なくとも一部を前記基板の前記感光層の領域の上に投影する段階と、
を含み、
前記第２の群の前記個々のミラー（２３）の少なくとも一部が、２つの連続視野の前記露光間で前記補正プロファイルに依存する方式で変位される、
ことを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法に従って生成された構成要素。