Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月10日(2018.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結合液を収容するように構成された貯液槽と、
所定の周波数で駆動され、この駆動が前記結合液へ伝播するように構成されたトランスデューサと、
位相変調すべき駆動信号を前記トランスデューサへ供給するように構成された信号発生ユニットと、
を備えた音波混合装置。
【請求項２】
搬送部から前記貯液槽へ入れられる反応容器をさらに備える、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項３】
前記貯液槽が環状凹部を含む、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項４】
前記信号発生ユニットは、ほぼ前記トランスデューサの共振周波数で駆動されるように構成される、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項５】
前記信号発生ユニットは、１つ以上の発振器を含む、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項６】
前記信号発生ユニットは、第１の位相角と第２の位相角との間で前記位相変調すべき駆動信号の位相を変調し、前記第２の位相角は前記第１の位相角とは異なる、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項７】
前記信号発生ユニットは、２００ｋＨｚと４ＭＨｚとの間で動作可能な発振器を含む、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項８】
前記信号発生ユニットは、０度と１８０度との間で前記位相変調すべき駆動信号の位相を調節するように構成される、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項９】
前記信号発生ユニットは、変調信号を発生するように構成された波形発生器を有する位相変調回路を含む、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項１０】
前記位相変調回路は、アナログマルチプレクサを含む、請求項９に記載の音波混合装置。
【請求項１１】
前記信号発生ユニットは、ローパスフィルタを含む、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項１２】
混合する成分が患者検体と試薬である、請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項１３】
分析装置に組み込まれた請求項１に記載の音波混合装置。
【請求項１４】
成分を混合する方法であって、
混合する成分を入れた反応容器を準備し、
トランスデューサに駆動信号を供給して設定周波数の振動を生成することによって前記反応容器内に定常波を生成し、
前記駆動信号を位相変調して前記定常波を変動させ、前記成分の混合を促進する、ことを含む方法。
【請求項１５】
結合液を収容した貯液槽に、搬送部から前記反応容器を入れることを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記駆動信号が２００ｋＨｚと４ＭＨｚとの間である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記位相変調は、第１の位相角と第２の位相角との間で変調することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の位相角と第２の位相角との間の変調は、１Ｈｚ〜５０Ｈｚの変調周波数で繰り返し行われる、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記混合する成分が患者検体と試薬である、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
結合液を収容するように構成された環状貯液槽と、
所定の周波数で駆動され、この駆動が前記結合液に伝播するように構成されたトランスデューサと、
混合する成分の入った反応容器を前記結合液に入れるように構成された搬送部と、
位相変調すべき駆動信号を前記トランスデューサへ供給し、変動する定常波を前記反応容器の少なくとも１つにおいて前記混合する成分に生成するように構成された信号発生ユニットと、
を備えた分析装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月22日(2018.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、引張応力に対して十分な耐性を有する安定した接続を形成するために、表面圧力によってフィルム層１４，１６を２つのフレーム体２４，２６にクランプする必要がない、という利点を提供する。フレーム体の相互押圧には、ガス気密性の接続を形成するために要する力のみしか必要としない。保持プロファイル２０と保持溝２２との間の係合により、形態の嵌合による接続が形成され、各フィルム層１４，１６の間に、十分な引張応力耐性を有する、ガス気密性の封止状態が形成される。
なお本発明は、実施の態様として以下の内容を含む。
〔態様１〕
リークの有無が検査される被検体を収納するフィルムチャンバ（１２）であって、
少なくとも２つのフィルム層（１４，１６）と、
各々が封止面を備える、少なくとも２つのフレーム体（２４，２６）とを備え、
該封止面は、相対する２つのフレーム体（２４，２６）が互いに重なりあって、気密性を保ち、フィルムチャンバ（１２）を気密封止するものである、フィルムチャンバ（１２）において、
前記２つのフィルム層（１４，１６）がすくなとも１つの保持プロファイル（２０）を壁部に有し、
前記２つのフレーム体（２４，２６）は、前記保持プロファイル（２０）を収容する少なくとも一つの保持溝を前記封止面に備え、
実質的に、形態の嵌合による接続によって、前記２つのフィルム層（１４，１６）が前記２つのフレーム体（２４，２６）の間に保持されることを特徴とする、
フィルムチャンバ。
〔態様２〕
態様１に記載のフィルムチャンバ（１２）において、各フィルム層（１４，１６）は（例えば成型により）一体化された部分として、あるいは接着または溶接により接合された別部材として、前記保持プロファイル（２０）を備えることを特徴とするフィルムチャンバ。
〔態様３〕
態様１または２のいずれか一態様に記載のフィルムチャンバ（１２）において、前記保持プロファイル（２０）および前記保持溝（２２）が互いに相補的な形状をとるように設計され、前記保持溝（２２）がアンダーカット状に設計されていることを特徴とするフィルムチャンバ。
〔態様４〕
態様１〜３のいずれか一態様に記載のフィルムチャンバ（１２）において、各前記保持プロファイル（２０）のエッジ部分には、断面形状において、返しが形成されていることを特徴とするフィルムチャンバ。
〔態様５〕
態様１〜４のいずれか一態様に記載のフィルムチャンバ（１２）において、各前記フレーム体（２４，２６）には、保持プロファイル（２０）の前記保持溝（２２）からの偶発的滑り出しを防止する、ガス送通体（３２）が設置されていることを特徴とするフィルムチャンバ。
〔態様６〕
態様１〜５のいずれか一態様に記載のフィルムチャンバ（１２）において、気密封止部材（３０）が前記２つのフレーム体（２４，２６）の前記封止面（２８）間に設けられることを特徴とするフィルムチャンバ。
〔態様７〕
態様１〜６のいずれか一態様に記載のフィルムチャンバ（１２）において、前記封止部材（３０）は、少なくとも２つのシールリップを備え、該シールリップは、
前記２つフレーム体（２４，２６）の一方のフレーム体のシール保持溝（３１）に保持されることを特徴とするフィルムチャンバ。
〔態様８〕
態様１〜７のいずれか一態様に記載のフィルムチャンバ（１２）において、通気チャネル（３６）が、前記二つのフレーム体（２４，２６）の一方において、前記２つのシールリップ間に設けられることを特徴とするフィルムチャンバ。
〔態様９〕
態様６〜８のいずれか一態様に記載のフィルムチャンバ（１２）において、フィルムチャンバ排気用の通気チャネル（３８）が、前記少なくとも２つのフレーム体（２４，２６）の一方において、前記封止部材（３０）と前記保持プロファイル（２０）との間に設けられることを特徴とするフィルムチャンバ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月14日(2018.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（a）カテプシンS阻害剤が投与されている動物の組織試料を準備するか、または、インビトロでカテプシンS阻害剤と接触させた動物の組織試料を準備する工程であって、該組織試料が白血球を含む、工程、
（b）工程（a）の組織試料の白血球におけるli p10ペプチドレベルを、フローサイトメトリーにより測定する工程、および
（c）白血球におけるli p10ペプチドレベルをカテプシンS阻害剤用量に関連づける工程であって、カテプシンS阻害剤が白血球におけるli p10ペプチドのレベルの増大をもたらす、工程
を含む、動物の組織試料においてカテプシンS阻害剤活性をモニタリングするための方法。
【請求項２】
（a）非ヒト動物を試験化合物と接触させる工程、
（b）白血球を含む工程（a）の動物の組織試料を準備する工程、
（c）工程（b）の組織試料の白血球におけるli p10ペプチドレベルを、フローサイトメトリーにより測定する工程
を含み、
無処置の動物の組織試料中の白血球におけるli p10ペプチドのレベルと比較した、工程（a）の試料中の白血球におけるli p10ペプチドのレベルの増大が、カテプシンS阻害剤を示す、
カテプシンS阻害剤の特定のための方法。
【請求項３】
前記組織試料が血液である、請求項1または2記載の方法。
【請求項４】
白血球が、抗原提示細胞（APC）、好ましくはB細胞、単球、マクロファージ、および樹状細胞である、請求項1〜3のいずれか一項記載の方法。
【請求項５】
APCが、B細胞および単球から選択される、請求項4記載の方法。
【請求項６】
動物がヒトである、請求項1および3〜5のいずれか一項記載の方法。
【請求項７】
非ヒト動物が、げっ歯類、好ましくはラットまたはマウスである、請求項2〜6のいずれか一項記載の方法。
【請求項８】
白血球が、フローサイトメトリーによりli p10ペプチドを測定するために透過処理される、請求項1〜7のいずれか一項記載の方法。
【請求項９】
li p10に対する抗体が、白血球におけるli p10を測定するためにフローサイトメトリーにおいて使用される、請求項1〜8のいずれか一項記載の方法。
【請求項１０】
SEQ ID NO：4のアミノ酸配列を含むCDR1、SEQ ID NO：5のアミノ酸配列を含むCDR2、SEQ ID NO：6のアミノ酸配列を含むCDR3配列を含む、VHドメイン、および、
SEQ ID NO：7のアミノ酸配列を含むCDR1、SEQ ID NO：8のアミノ酸配列を含むCDR2、SEQ ID NO：9のアミノ酸配列を含むCDR3配列を含む、VLドメイン
を含む、抗li p10抗体。
【請求項１１】
VHドメインがSEQ ID NO：10のアミノ酸配列を含み、VLドメインがSEQ ID NO：11のアミノ酸配列を含む、請求項10記載の抗li p10抗体。
【請求項１２】
請求項10または11記載の抗体を使用する、請求項9記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
国際公開公報第2010/121918号は、本発明の方法において試験することができるカテプシンS阻害剤を開示している。
[本発明1001]
（a）カテプシンS阻害剤が投与されている動物の組織試料を準備するか、または、インビトロでカテプシンS阻害剤と接触させた動物の組織試料を準備する工程であって、該組織試料が白血球を含む、工程、
（b）工程（a）の組織試料の白血球におけるli p10ペプチドレベルを、フローサイトメトリーにより測定する工程、および
（c）白血球におけるli p10ペプチドレベルをカテプシンS阻害剤用量に関連づける工程であって、カテプシンS阻害剤が白血球におけるli p10ペプチドのレベルの増大をもたらす、工程
を含む、動物の組織試料においてカテプシンS阻害剤活性をモニタリングするための方法。
[本発明1002]
（a）非ヒト動物を試験化合物と接触させる工程、
（b）白血球を含む工程（a）の動物の組織試料を準備する工程、
（c）工程（b）の組織試料の白血球におけるli p10ペプチドレベルを、フローサイトメトリーにより測定する工程
を含み、
無処置の動物の組織試料中の白血球におけるli p10ペプチドのレベルと比較した、工程（a）の試料中の白血球におけるli p10ペプチドのレベルの増大が、カテプシンS阻害剤を示す、
カテプシンS阻害剤の特定のための方法。
[本発明1003]
前記組織試料が血液である、本発明1001または1002の方法。
[本発明1004]
白血球が、抗原提示細胞（APC）、好ましくはB細胞、単球、マクロファージ、および樹状細胞である、本発明1001〜1003のいずれかの方法。
[本発明1005]
APCが、B細胞および単球から選択される、本発明1004の方法。
[本発明1006]
動物がヒトである、本発明1001および1003〜1005のいずれかの方法。
[本発明1007]
非ヒト動物が、げっ歯類、好ましくはラットまたはマウスである、本発明1002〜1006のいずれかの方法。
[本発明1008]
白血球が、フローサイトメトリーによりli p10ペプチドを測定するために透過処理される、本発明1001〜1007のいずれかの方法。
[本発明1009]
li p10に対する抗体が、白血球におけるli p10を測定するためにフローサイトメトリーにおいて使用される、本発明1001〜1008のいずれかの方法。
[本発明1010]
本発明1011または1012の抗体を使用する、本発明1009の方法。
[本発明1011]
SEQ ID NO：4のアミノ酸配列を含むCDR1、SEQ ID NO：5のアミノ酸配列を含むCDR2、SEQ ID NO：6のアミノ酸配列を含むCDR3配列を含む、VHドメイン、および、
SEQ ID NO：7のアミノ酸配列を含むCDR1、SEQ ID NO：8のアミノ酸配列を含むCDR2、SEQ ID NO：9のアミノ酸配列を含むCDR3配列を含む、VLドメイン
を含む、抗li p10抗体。
[本発明1012]
VHドメインがSEQ ID NO：10のアミノ酸配列を含み、VLドメインがSEQ ID NO：11のアミノ酸配列を含む、本発明1009の抗li p10抗体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月2日(2018.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）セルロースを準備する工程、
（ｂ）前記セルロースを過酸化物と混合し、それによって反応混合物を製造する工程、並びに
セルロースと過酸化物を含む前記反応混合物を、セルロースがカルボキシル化ナノ結晶セルロースに加水分解及び酸化されるまで（ｃ）加熱及び／またはＵＶ照射に（ｃ’）曝露する工程、
を含む、ナノ結晶の形態の官能化ナノ結晶セルロースの製造方法であって、
工程（ｃ）及び／または（ｃ’）の結果、カルボキシル化ナノ結晶セルロースが前記官能化ナノ結晶セルロースとして製造される、製造方法。
【請求項２】
前記過酸化物が過酸化水素、有機過酸化物、またはこれらの混合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記過酸化物が約１０〜約４０％の濃度で前記反応混合物中に存在する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記反応混合物が工程（ｃ）において還流以下の温度及び還流を含む温度で加熱される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記反応混合物が、工程（ｃ’）において約２００〜約３５０ｎｍの範囲のＵＶ照射に曝露される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記反応混合物が、工程（ｃ’）において約２６０〜約２８０ｎｍの範囲のＵＶ照射に曝露される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記反応混合物が工程（ｃ’）の最中に１５〜３０℃の範囲の温度である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
工程（ｃ）が行われ工程（ｃ’）が行われないか、
工程（ｃ’）が行われ工程（ｃ）が行われないか、
工程（ｃ）と工程（ｃ’）が連続的に行われるか、
工程（ｃ）と工程（ｃ’）の少なくとも一部が同時に行われるか、
工程（ｃ）と工程（ｃ’）の全てが同時に行われる、
請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記官能化ナノ結晶セルロースの塩を形成する工程（ｄ）を更に含み、その結果更に官能化されたナノ結晶セルロースとしてナノ結晶セルロースカルボン酸塩が製造される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
（ｅ’）前記ナノ結晶セルロースカルボン酸塩の水性懸濁液を準備することと、
（ｅ’’）前記懸濁液を水溶性のカチオン性高分子電解質と混合して反応混合物を形成することと、
（ｅ’’’）前記反応混合物を超音波処理することによって、更に官能化されたナノ結晶セルロースとしての、正の表面電荷を有するナノ結晶セルロースカルボン酸塩の水性懸濁液を製造することと、
により、前記ナノ結晶カルボン酸塩セルロースの表面に正電荷を付与する工程（ｅ）を更に含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記官能化ナノ結晶セルロースを噴霧乾燥する工程（ｇ）を更に含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法によって製造される、官能化ナノ結晶セルロース。
【請求項１３】
カルボキシル化ナノ結晶セルロースである、請求項１２に記載の官能化ナノ結晶セルロース。
【請求項１４】
ナノ結晶セルロースカルボン酸塩である、請求項１２に記載の官能化ナノ結晶セルロース。
【請求項１５】
ナノ結晶セルロースカルボン酸ナトリウムである、請求項１４に記載の官能化ナノ結晶セルロース。
【請求項１６】
負の表面電荷を有する、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の官能化ナノ結晶セルロース。
【請求項１７】
正の表面電荷を有する、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の官能化ナノ結晶セルロース。
【請求項１８】
幅が約２ｎｍ〜約２０ｎｍであり長さが約８０ｎｍ〜約２５０ｎｍであるセルロースナノ結晶の形態である、請求項１２〜１７のいずれか１項に記載の官能化ナノ結晶セルロース。
【請求項１９】
球状粒子の形態に凝集した、請求項１２〜１８のいずれか１項に記載の官能化ナノ結晶セルロース。
【請求項２０】
カチオン性高分子電解質の層によって被覆されたナノ結晶セルロースカルボン酸塩である、請求項１２〜１９のいずれか一項に記載の官能化ナノ結晶セルロース。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月6日(2018.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）溶融加工可能な樹脂と、
ｂ）二酸化チタン粒子と、
ｃ）フィラーと、
を含み、
二酸化チタン１重量部に対して１６重量部のフィラーを含む、組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の組成物を含む層。
【請求項３】
前記層が、０．０１インチ（０．０２５４センチメートル）以上である、請求項２に記載の層。
【請求項４】
ａ）溶融加工可能な樹脂と、
ｂ）二酸化チタン粒子と、
ｃ）フィラーと、
を含む組成物であって、
二酸化チタン１重量部に対して３〜１１重量部のフィラーを含み、前記フィラーが前記組成物の１６重量パーセント超である、組成物。
【請求項５】
請求項４に記載の組成物を含む層。
【請求項６】
前記層が、０．０１インチ（０．０２５４センチメートル）以上である、請求項５に記載の層。
【請求項７】
前記組成物が、薄肉カートンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
光酸化に対して感受性である実体を保護する方法であって、
ａ）溶融加工可能な樹脂、二酸化チタン粒子、及びフィラーを含むパッケージを提供する工程であって、前記パッケージが、６０〜１００の不透過性を有する二酸化チタンの１重量部に対して３〜１６重量部のフィラーを含む工程と、
ｂ）光酸化に対して感受性である実体を前記パッケージで覆う工程と、
を含み、
前記パッケージが、４０超のＬＰＦ値及び０．０１インチ（０．０２５４センチメートル）以上の厚さを有する、方法。
【請求項９】
前記溶融加工可能な樹脂が、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメチルアクリレート、アクリロニトリルブタジエンスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセタール、及びこれらのブレンドからなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶融加工可能な樹脂が、ポリプロピレンである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ポリプロピレンが、低密度ポリプロピレンである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記フィラーが、ＢａＳＯ4、タルク、雲母粉末、リトポン、ＣａＣＯ3、ＣａＳＯ4、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記二酸化チタン粒子は、２０〜５００マイクロメートルの範囲内のサイズを有する、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記二酸化チタン粒子が、１２５〜２５０マイクロメートルの範囲内のサイズを有する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記フィラーは、２０〜１０００マイクロメートルの粒度範囲を有する、請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月4日(2018.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＤＩＮ  ５３４９３にしたがって測定して、少なくとも０．４３Ｎ／ｍｍ2の伸張応力を有する超高分子量ポリエチレンを製造するための連続方法において、エチレンの重合が、水素と、チーグラー・ナッタ触媒系との存在下で行われ、該触媒系が、
Ｉ．（ａ）炭化水素溶液であって、
（１）有機酸素含有マグネシウム化合物、および
（２）有機酸素含有チタン化合物、
を含む炭化水素溶液と、
（ｂ）式ＭｅＲnＸ3-nを有する金属化合物（式中、Ｘはハロゲンであり、Ｍｅは、メンデレーエフの化学元素の周期表のＩＩＩ族の金属であり、Ｒは、１〜１０の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり、０≦ｎ≦３）および式ＲmＳｉＣｌ4-mのケイ素化合物（式中、０≦ｍ≦２、Ｒは、１〜１０の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルである）を含む混合物と、
の（ａ）からのチタンに対する（ｂ）からの金属のモル比が１未満である反応によって得られる固体反応生成物、
ＩＩ．式ＡｌＲ3を有する有機アルミニウム化合物（式中、Ｒは、１〜１０の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルである）、および
ＩＩＩ．１，２−ジアルコキシ炭化水素化合物の群より選択される電子供与体、
を含み、
前記重合はスラリー法によって行われ、そのスラリー重合の液相中の水素対エチレン比が少なくとも０．１ミリモル水素／モルエチレンである、方法。
【請求項２】
前記触媒系は、
Ｉ．（ａ）炭化水素溶液であって、
（１）有機酸素含有マグネシウム化合物、および
（２）有機酸素含有チタン化合物、
を含む炭化水素溶液と、
（ｂ）式ＭｅＲnＸ3-nを有する金属化合物（式中、Ｘはハロゲンであり、Ｍｅは、メンデレーエフの化学元素の周期表のＩＩＩ族の金属であり、Ｒは、１〜１０の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり、０≦ｎ≦３）および式ＲmＳｉＣｌ4-mのケイ素化合物（式中、０≦ｍ≦２、Ｒは、１〜１０の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルである）を含む混合物と、
の（ａ）からのチタンに対する（ｂ）からの金属のモル比が１未満である反応によって得られる固体反応生成物であり、
（ｃ）前記得られた固体反応生成物の、式ＡｌＲnＣｌ3-nを有するアルミニウム化合物（式中、Ｒは、１〜１０の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり、０≦ｎ≦３）による後処理により得られる反応生成物を、
ＩＩ．式ＡｌＲ3を有する有機アルミニウム化合物（式中、Ｒは、１〜１０の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルである）、および
ＩＩＩ．１，２−ジアルコキシ炭化水素化合物の群より選択される電子供与体、
と組み合わせて含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記電子供与体が、式（Ｉ）：
【化１】
2017529443.tif 000001
により表される１，２−ジアルコキシ炭化水素化合物であり、
式中、Ｃ1−Ｃ2は、ｓｐ3および／またはｓｐ2混成形態にある２つの炭素原子からなる接続基であり、
置換基ＲおよびＲ’は、１〜１０の炭素原子を有する炭化水素基であり、同じであっても異なってもよく、および任意選択で、Ｏ、Ｎ、またはＳｉを含有する他の基で置換されていてもよい、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記電子供与体が、１，２−ジメトキシベンゼン、１，２，４−トリメトキシベンゼン、１，２−ジエトキシベンゼン、２，３−ジメトキシトルエン、１−アリル−３，４−ジメトキシベンゼン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジメトキシシクロヘキサン、１，２−ジメトキシプロパン、１，２−ジメトキシブタンおよび／または２，３−ジメトキシブタンの群から選択される、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記電子供与体が１−アリル−３，４−ジメトキシベンゼンまたは１，２−ジメトキシベンゼンである、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記重合の温度が２０℃から１００℃に及ぶ、請求項１から５いずれか１項記載の方法。
【請求項７】
請求項１から６いずれか１項記載の方法により得られる超高分子量ポリエチレンを使用して調製された物品。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月2日(2018.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、水分散性ポリマーバインダー及び十分量のアルコールの液体混合物を含み、アルコールの量は少なくとも１０ｗｔ％であり、
該混合物を外壁上に塗布した後に少なくとも前記バインダーがバリア膜を形成する、建築物の外壁上にバリア膜を形成するためのコーティング組成物。
【請求項２】
前記液体混合物の少なくとも１６ｗｔ％が水である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記液体混合物の１６ｗｔ％〜３５ｗｔ％が水である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記液体混合物の１０ｗｔ％〜２２ｗｔ％がアルコールである、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記液体混合物が、１０ｗｔ％〜１２ｗｔ％の範囲内でアルコールを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記液体混合物が、１４．５ｗｔ％〜２４ｗｔ％の範囲内で水を含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記バインダーが、酢酸ビニルアクリルコポリマーを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
水の量がアルコールの量より多い、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
１．３ｗｔ％〜１．７ｗｔ％の量で存在する増粘剤をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
混合物が、充填材を２５ｗｔ％〜４５ｗｔ％含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
混合物が、充填材を２４ｗｔ％〜３２ｗｔ％含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
請求項１に記載の組成物が充填された、容器。
【請求項１３】
基材の温度が０℃以下の間に、請求項１に記載の組成物を基材上に塗布する工程を含み、硬化に続いて塗膜が基材上に形成する、基材上に塗膜を形成する方法。
【請求項１４】
混合物を基材上に塗布する工程が、前記混合物を基材上にローラー塗り又は吹付けすることを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
アルコールを少なくとも８２ｗｔ％含む第１の混合物を用意する工程；
水分散性ポリマーバインダー及び水を含む液体組成物を用意する工程；
前記第１の混合物と前記液体組成物とを混合して、少なくとも１０ｗｔ％の量のアルコールを有する第２の混合物を形成する工程；並びに
前記第２の混合物を基材上に塗布する工程
を含む、建築物の外壁の基材に膜組成物を適用する方法。
【請求項１６】
前記第２の混合物が水を１４．５ｗｔ％〜２４ｗｔ％含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
混合する工程が、アルコールを１０ｗｔ％〜２２ｗｔ％有する第２の混合物を形成することを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
混合する工程が、アルコールを少なくとも１０ｗｔ％〜１２ｗｔ％有する第２の混合物を形成することを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
塗布する工程が前記第２の混合物を吹付けすることを含み、基材が垂直な外壁である、請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
塗布する工程が、前記第２の混合物を基材上に−１５℃〜−１２℃の周囲温度で塗布することを含む、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月18日(2018.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
欧州特許出願公開第１１７４５２８Ａ２号に記載されるような解決策は、優れた結果を呈するが、現在まで、このような相分離は、残念ながら、アーク放電イオンプレーティングによってのみ実現されることが知られている。液滴は、反応性アーク放電コーティング方法の既知の問題である。それらは、コーティング層を比較的粗くさせる。これは、通常の大きさの工具にとっては、小さな問題である。しかし、２ミリメートル以下の直径を持つエンドミルなどの小さな工具にとっては、表面粗さは、工具を使用中に損傷することをもたらし得る。別の欠点は、物質送達ターゲットにおけるＳｉ含有量に比べて、メッキアーク放電イオンで製造された層において、Ｓｉ含有量が低いことである。高いＳｉ含有量を有する安定なターゲットを製造することが非常に困難であるため、層内のＳｉの可能な濃度は、１５ａｔ％未満である。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月3日(2018.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
自動車部品であって：  
（Ａ）ホモポリマーポリプロピレンを含む第1のポリマー組成；
（Ｂ）不飽和モノマーでグラフト化されたポリプロピレンポリマーを含む第２のポリマー組成；
（Ｃ）第１のエラストマーエチレン・コポリマーを含む第３のポリマー組成；および
（Ｄ）サイジング組成で結合された炭素繊維を含む炭素繊維組成、
を含む自動車部品。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月7日(2018.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）のオリゴマーを製造する方法において、
１，４−ブタンジオール（ＢＤＯ）、テレフタル酸および触媒を混ぜ合わせて、混合物を形成する工程、
前記混合物を１６０℃〜１８０℃の温度に加熱する工程、
前記混合物の温度を１６０℃〜１８０℃から、２２０℃〜２６５℃に上昇させる工程、
目視検査に基づいて透明点に達するまで、前記温度を２２０℃〜２６０℃に維持する工程、および
得られたＰＢＴオリゴマーにおいて所望の固有粘度（ＩＶ）およびカルボキシル末端基濃度（ＣＥＧ）を達成するのに十分な時間に亘り、２２０℃〜２６５℃で、圧力を５０〜７６０ｍｍＨｇ（約６．６５〜１０１ｋＰａ）に調節する工程、
を有してなる方法。
【請求項２】
前記テレフタル酸が精製テレフタル酸（ＰＴＡ）である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記触媒がチタン酸テトライソプロピル（ＴＰＴ）である、請求項２記載の方法。
【請求項４】
ＴＰＴの存在下で、ＢＤＯとＰＴＡが６：１〜２：１のモル比で混ぜ合わされる、請求項３記載の方法。
【請求項５】
ＴＰＴの存在下で、ＢＤＯとＰＴＡが、４．２５：１〜２．９５：１のモル比で混ぜ合わされる、請求項４記載の方法。
【請求項６】
０．１１〜０．２０ｄｌ／ｇのＩＶおよび７０ミリモル／ｋｇと２５０ミリモル／ｋｇの間のＣＥＧを達成するために、３：１のＢＤＯ対ＰＴＡ比が用いられる、請求項３記載の方法。
【請求項７】
０．２５〜０．４３ｄｌ／ｇのＩＶおよび２０ミリモル／ｋｇ未満のＣＥＧを達成するために、３：１〜４：１のＢＤＯ対ＰＴＡ比が用いられる、請求項３記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
望ましい固有粘度およびカルボキシル末端基濃度を有するポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）のオリゴマーを製造する方法が開示されている。このＰＢＴオリゴマーは、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）樹脂を製造する連続法に使用される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
連続法において、０．１０ｄｌ／ｇと０．２０ｄｌ／ｇの間の固有粘度（ＩＶ）および８０ミリモル／ｋｇと２２０ミリモル／ｋｇの間のカルボキシル末端基濃度（ＣＥＧ）を有する固体ＰＢＴオリゴマーを、２２０℃と２５０℃の間の温度および１０００ミリバール（１００ｋＰａ）の圧力で加熱することより、溶融物に転化した。流量は５０ｋｇ／ｈｒと１１１ｋｇ／ｈｒの間の範囲にあり、工程体積は、約１５Ｌと６２Ｌの間で変動する。この溶融槽内の滞留時間は、大流量での０．６１８時間と、低流量での１．３６時間との間である。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月22日(2018.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーベース材料と、熱可塑性材料を有する微粒子充填材料と、を含有するポリマー発泡体層を含み、
前記ポリマー発泡体層は、実験の項に記載する試験方法に従って１２０℃にて測定したとき、２，０００Ｐａ・ｓ〜８０，０００Ｐａ・ｓの複素粘度を有する、
平坦でない表面を備える基材への結合に適した、感圧性接着剤アセンブリ。
【請求項２】
平坦でない表面を備えた基材に感圧性接着剤アセンブリを適用する方法であって、
ａ）請求項１に記載のポリマー発泡体層を、前記熱可塑性材料の溶融温度を上回る温度での加熱工程に供し、それによって、前記熱可塑性材料を前記ポリマー発泡体層内で溶融させる工程と、
ｂ）工程ａ）で得られた加熱されたポリマー発泡体層を、前記基材の平坦でない表面に接触させる工程と、
ｃ）前記ポリマー発泡体層を、前記基材上で、前記熱可塑性材料の溶融温度を下回る温度で冷却する工程と、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月28日(2018.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのワックス、並びに、界面活性剤、水溶性ポリマー材料、湿潤剤、またはこれらの混合物の少なくとも１つ、を含むブロッキング防止組成物であって、前記少なくとも１つのワックスは、前記ブロッキング防止組成物が粘弾性固体の表面に適用された場合に前記粘弾性固体のブロッキングを低減するのに有効である量で使用される、ブロッキング防止組成物。
【請求項２】
水性エマルジョン又は分散体の形態である、請求項１に記載のブロッキング防止組成物。
【請求項３】
前記少なくとも１つのワックスが、前記エマルジョン又は分散体の総重量に対して、前記水性エマルジョン又は分散体の２０重量％から５０重量％を含む、請求項２に記載のブロッキング防止組成物。
【請求項４】
前記界面活性剤が、前記ブロッキング防止組成物の総重量に対して０．５から１０．０重量％で存在する、請求項１に記載のブロッキング防止組成物。
【請求項５】
前記水溶性ポリマー材料が、前記ブロッキング防止組成物の総重量に対して０．２から５．０重量％で存在する、請求項１に記載のブロッキング防止組成物。
【請求項６】
前記湿潤剤が、前記ブロッキング防止組成物の全重量に対して０．０５から０．５０重量％で存在する、請求項１に記載のブロッキング防止組成物。
【請求項７】
前記少なくとも１つのワックスが、１０００から１５０００ダルトンの重量平均分子量を有する、請求項１に記載のブロッキング防止組成物。
【請求項８】
前記ワックスが、ポリエチレンホモポリマー、酸化ポリエチレンホモポリマー、エチレン‐酢酸ビニルコポリマー、エチレン‐アクリル酸コポリマー、無水マレイン酸グラフトポリエチレン、無水マレイン酸グラフトポリプロピレン、及びこれらの混合物から成る群より選択される、請求項１に記載のブロッキング防止組成物。
【請求項９】
粘弾性固体のブロッキングを低減する方法であって、
ａ）粘弾性固体の表面を、製造後に、少なくとも１つのワックス、並びに、界面活性剤、水溶性ポリマー材料、湿潤剤、またはこれらの混合物の少なくとも１つ、を含むブロッキング防止組成物で処理する工程、及び
ｂ）処理された粘弾性固体を乾燥する工程、
を含み、それによって、前記ブロッキング防止組成物成分で被覆された粘弾性固体が提供される、方法。
【請求項１０】
前記ワックスが、ポリエチレンホモポリマー、酸化ポリエチレンホモポリマー、エチレン‐酢酸ビニルコポリマー、エチレン‐アクリル酸コポリマー、無水マレイン酸グラフトポリエチレン、無水マレイン酸グラフトポリプロピレン、及びこれらの混合物から成る群より選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記粘弾性固体が、ホットメルト接着剤、ホットメルト感圧接着剤、ホットメルト塗料、及び熱可塑性エラストマーから成る群より選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記ブロッキング防止組成物が、水性エマルジョンまたは分散体の形態である、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
請求項９に記載の方法の製品であるブロッキングに対して耐性を有する被覆粘弾性固体であって、前記粘弾性固体の表面は、ワックス又はワックスの混合物、並びに、
ａ．界面活性剤、
ｂ．水溶性ポリマー材料、及び
ｃ．湿潤剤、
のうちの１つ以上を含むブロッキング防止組成物によって被覆されており、前記被覆粘弾性固体の溶融状態は、対応する非被覆粘弾性固体の熱的及び物理的安定性を維持している、被覆粘弾性固体。
【請求項１４】
前記界面活性剤が、総重量に対して０．００２から０．２５重量％で存在する、請求項１３に記載の被覆粘弾性固体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月14日(2018.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも 900MPa の降伏強度と、少なくとも 40MPa・m0.5 の破壊靭性と、2mm 以下の最大固有欠陥サイズとを有する単一片のスチールでできている回転対称質量体を備え、
前記回転対称質量体は、
第２の軸に沿う最大厚みよりも大きな直径を、第１の軸に沿って有し、
前記最大厚みは１０〜１４インチであり、
前記第２の軸の周りを回転するように構成される、フライホイールロータ。
【請求項２】
前記回転対称質量体の中心軸を通る穴を有さない、請求項１に記載のフライホイールロータ。
【請求項３】
前記回転対称質量体の少なくとも一部は、前記回転対称質量体の外面から４インチを超えて離れている、請求項１に記載のフライホイールロータ。
【請求項４】
破壊靭性が 150MPa・m0.5 以上 200MPa・m0.5 以下の範囲内である、請求項１に記載のフライホイールロータ。
【請求項５】
前記回転対称質量体から突出した複数のジャーナルをさらに備え、
各ジャーナルは、シャフトに物理的に連結される形状を有する、請求項１に記載のフライホイールロータ。
【請求項６】
前記フライホイールロータは、２〜５トンの範囲内の質量体を有する、請求項１に記載のフライホイールロータ。
【請求項７】
前記質量体は、３６〜７２インチの範囲内の外径を有する、請求項１に記載のフライホイールロータ。
【請求項８】
前記回転対称質量体は、
無心焼き入れされた、焼き戻し 300M スチールで形成され、
真空アーク溶解（VAR: vacuum-arc-remelted）プロセス、電子スラグ溶解（ESR: electro-slag-remelting）プロセス、及び真空誘導溶解（VIM: vacuum induction melting）プロセスのいずれか一つを用いて形成される、請求項１に記載のフライホイールロータ。
【請求項９】
前記回転対称質量体は、フィッシュテール形状を備える、請求項１に記載のフライホイールロータ。
【請求項１０】
無心焼き入れされた、焼き戻し 300M スチールの単一片で作られた回転対称質量体を有し、
前記回転対称質量体は、
真空アーク溶解（VAR: vacuum-arc-remelted）プロセス、電子スラグ溶解（ESR: electro-slag-remelting）プロセス、及び真空誘導溶解（VIM: vacuum induction melting）プロセスのいずれか一つを用いて形成され、
第２の軸に沿う最大厚みよりも大きな直径を、第１の軸に沿って有し、
前記最大厚みは１０〜１４インチであり、
前記第２の軸の周りを回転するように構成され、
前記回転対称質量体から突出した複数のジャーナルを備え、
各前記ジャーナルは、シャフトと物理的に連結する形状を有する、フライホイールロータ。
【請求項１１】
少なくとも 900MPa の降伏強度を有する、請求項１０に記載のフライホイールロータ。
【請求項１２】
少なくとも 40MPa・m0.5 の破壊靭性を有する、請求項１０に記載のフライホイールロータ。
【請求項１３】
2mm 以下の最大固有欠陥サイズを有する、請求項１０に記載のフライホイールロータ。
【請求項１４】
前記回転対称質量体の中心軸を通る穴を含まない請求項１０に記載のフライホイールロータ。
【請求項１５】
前記回転対称質量体の少なくとも一部は、前記質量体の外面から４インチを超えて離れている、請求項１０に記載のフライホイールロータ。
【請求項１６】
前記フライホイールロータは、２〜５トンの範囲内の質量体を有する、請求項１０に記載のフライホイールロータ。
【請求項１７】
前記回転対称質量体は、４８〜７２インチの範囲内の直径を有する、請求項１０に記載のフライホイールロータ。
【請求項１８】
前記回転対称質量体は、フィッシュテール形状を備える、請求項１０に記載のフライホイールロータ。
【請求項１９】
300M スチールの単一の質量体を形成するために複数の要素を合金にするステップと、
真空アーク溶解（VAR: vacuum-arc-remelting）プロセス、電子スラグ溶解（ESR: electro-slag-remelting）プロセス、及び真空誘導溶解（VIM: vacuum induction melting）プロセスのいずれか一つを使用して前記質量体を精製するステップと、
前記質量体内の粒子サイズ及び方向を揃えるために、複数ステップの鋳造プロセスを実施するステップと、
前記質量体を無心焼き入れするために前記質量体を加熱及び急冷するステップと、
前記質量体を焼き戻すステップと、
前記質量体を加工するステップと、を備え、
前記質量体は、
第２の軸に沿う最大厚みよりも大きな直径を、第１の軸に沿って有し、
前記最大厚みは１０〜１４インチであり、
前記第２の軸の周りを回転するように構成される、フライホイールロータの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年9月20日(2018.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光デバイスと反射基板とを含む発光構造体であって：
前記発光デバイスが、
発光表面を有する発光素子と；
前記発光表面に対向する反射表面を有する反射体と；
前記反射表面を前記発光表面から分離するスペーサ素子であり、当該発光デバイスから放出される光の少なくとも半分が、前記反射体に向かう前記発光表面の法線から90度以上の角度に放出されるように、前記反射表面と前記発光表面との間の分離距離をもたらす厚さを有するスペーサ素子と、
を有し、
前記反射基板の上に前記発光素子が位置づけられ、前記反射基板が前記反射体よりも少なくとも５倍大きい、
発光構造体。
【請求項２】
請求項１に記載の発光構造体であり、前記反射表面が実質的に拡散反射性である、発光構造体。
【請求項３】
請求項１に記載の発光構造体であり、さらに、前記発光素子と前記反射体との間に位置される波長変換層を含む発光構造体。
【請求項４】
請求項１に記載の発光構造体であり、前記分離距離が少なくとも500μｍである、発光構造体。
【請求項５】
請求項１に記載の発光構造体であり、前記スペーサ素子の外壁が、前記スペーサ素子からの光取出を容易にするように粗面化されている、発光構造体。
【請求項６】
請求項１に記載の発光構造体であり、前記反射基板が前記反射体の少なくとも１桁大きい、発光構造体。
【請求項７】
請求項１に記載の発光構造体であり、前記反射基板が実質的に拡散反射性である、発光構造体。
【請求項８】
請求項１に記載の発光構造体であり、前記反射基板が実質的に鏡面反射性である領域を含む、発光構造体。
【請求項９】
請求項８に記載の発光構造体であり、さらに、前記反射基板と当該発光デバイスとの間の鏡面反射ブロックを含む、発光構造体。
【請求項１０】
請求項１に記載の発光構造体であり、前記スペーサ素子の少なくとも１つの側壁が反射性である、発光構造体。
【請求項１１】
請求項１に記載の発光構造体であり、
前記反射基板が、
前記発光デバイスの下方の絶縁領域又は露出領域を除く鏡面反射表面と、
前記発光デバイスの周縁の周りの絶縁領域又は露出領域を覆う非導電性反射材料と、
を含む、
発光構造体。
【請求項１２】
請求項１に記載の発光構造体であり、
前記反射基板が、
鏡面反射領域と、
円形鏡面反射領域内の、前記発光デバイスの下方の絶縁領域又は露出領域と、
前記発光デバイスの周縁の周りの絶縁領域又は露出領域を覆う拡散反射材料と、
前記円形鏡面反射領域の周りの拡散反射領域と、
を含む、
発光構造体。
【請求項１３】
請求項１２に記載の発光構造体であり、前記鏡面反射領域が円形又は楕円形である、発光構造体。
【請求項１４】
請求項１２に記載の発光構造体であり、前記鏡面反射領域が、一定幅のストリップ、又は前記反射基板の中心から離れるにつれて幅が増大するストリップを含む、発光構造体。
【請求項１５】
請求項１に記載の発光構造体であり、前記反射体が、前記発光素子の真上にある拡散反射領域と、前記発光素子の長さを越える鏡面反射領域とを含む、発光構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月29日(2018.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信機に対する信号電力損失を決定する方法であって、
構造物内に位置する固定受信機において測定された場合に、１つまたは複数の測定送信機からの複数の測定信号の各々の測定された受信電力レベルを取得するステップであって、前記１つまたは複数の測定送信機は、測定信号の送信に基づいた前記受信機に対して既知の位置にあり、前記複数の測定信号は、前記構造物の少なくとも一部分を通過する、前記取得するステップと、
前記受信機で受信された複数の測定信号の各々に関して、前記受信機に対する測定送信機の既知の位置に少なくとも部分的に基づいて、前記受信機に対する入射方向を決定するステップと、
前記複数の測定信号の各々の測定された受信機電力レベルおよび自由空間における受信機に対する対応する既知の信号電力レベルに少なくとも部分的に基づいて、前記複数の測定信号の各々の信号損失値を計算するステップと、
複数の信号損失値と、前記受信機に対する複数の測定信号の各々の対応する入射方向に少なくとも基づいて、前記受信機の信号損失プロファイルを生成するステップと、
前記複数の測定信号に関して計算された信号損失値を外挿して、前記受信機で収集された送信機の送信周波数に対する推定信号損失を決定するステップと、を備え、
前記送信機は、前記複数の測定信号の周波数とは異なる周波数を利用する、方法。
【請求項２】
前記複数の測定信号のうちの少なくとも２つが、前記受信機に対して異なる入射方向を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記信号損失プロファイルが、対応する前記受信機に対する入射方向における信号損失値の少なくとも２次元表現を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記信号損失プロファイルは、前記受信機に対して規定された領域を有する複数のピクセルを含み、
各ピクセルは、前記信号損失値に対応するピクセル内の入射方向に関連付けられた関連統計的信号損失値を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記関連統計的信号損失値は、
所与のピクセルに対して、該ピクセル内の入射方向で受信される少なくとも１つの測定信号に基づいて統計的に導出された測定値を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記統計的に導出された測定値は、
前記ピクセル内の入射方向に対する各信号損失値の平均信号損失値を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記統計的に導出された測定値は、
前記ピクセル内の入射方向で取得された前記複数の信号損失値の標準偏差を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
各ピクセルは、前記受信機に対する方位角の範囲および仰角の範囲によって画定され、
各ピクセルは、
少なくとも約０．５度であり且つ約２０度以下の範囲の方位角と、
少なくとも約０．５度から約２０度以下の仰角の範囲と、を含む、請求項４〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記測定送信機は、ＧＮＳＳ空間飛行体を含み、
前記測定信号は、前記ＧＮＳＳ空間飛行体によってブロードキャストされたナビゲーション信号を含み、
前記ナビゲーション信号は、前記ＧＮＳＳ空間飛行体に関するエフェメリスデータを含み、
前記受信機に対する前記測定送信機の既知の位置は、前記エフェメリスデータに基づいて決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記ナビゲーション信号を使用して前記受信機の位置を特定するステップをさらに備える請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記受信機における測定信号特性の分析に少なくとも部分的に基づいて、前記測定信号が前記測定送信機からの直接波または前記測定送信機からのマルチパス波であるかどうかを判定するステップをさらに備える請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記測定信号は、定義された期間にわたって複数の測定信号を取得するための信号取得への時間拡散アプローチを用いて受信機に受信され、
前記定義された期間は、複数のコヒーレント積分区間または非コヒーレント積分区間を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記測定信号の周波数は、配置された送信機の送信周波数の周波数よりも低く、
前記測定信号に関して計算された前記信号損失値は、前記送信機の送信周波数に対する推定信号損失と同一である、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記信号損失値および関連する入射方向を、共用スペクトルコントローラに送信するステップをさらに備える請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記共用スペクトルコントローラから、共用スペクトル方式で前記受信機と並設された送信機に関連して使用するための１つまたは複数の送信パラメータの割り当てを受信するステップとをさらに備え、
前記割り当ては、前記信号損失値および関連する入射方向に少なくとも部分的に基づく、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
構造物内に配置された受信機に対する信号電力損失を決定するシステムであって、
前記構造物内に配置され、複数の測定信号を受信するように動作可能な固定受信機であって、前記複数の測定信号の各々は、前記受信機に対して既知の位置にある１つまたは複数の測定送信機からの前記受信機に対する入射方向を有し、前記複数の測定信号は、前記構造物の少なくとも一部分を通過し、前記入射方向は、測定信号の送信に基づいた前記受信機に対する前記１つまたは複数の測定送信機の既知の位置に少なくとも部分的に基づいて決定される、前記固定受信機と、
損失判定モジュールであって、
前記受信機と通信動作可能なプロセッサによって実行されると、
測定された受信電力レベルと自由空間における前記受信機に対する測定信号の既知の信号電力レベルとに基づいて、前記複数の測定信号の各々の信号損失値を計算し、
複数の信号損失値と、前記受信機に対する複数の測定信号の各々の対応する入射方向に少なくとも基づいて、前記受信機の信号損失プロファイルを生成し、
前記複数の測定信号に関して計算された信号損失値を外挿して、前記受信機で収集された送信機の送信周波数に対する推定信号損失を決定するように動作可能である前記損失判定モジュールと、を備えるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月1日(2018.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワークからパラメータを受信する手段と、
前記パラメータに基づき、データ送信のための複数のTime Resource Patternを決定する手段と、を有し、
前記複数のTime Resource Patternはビットマップに対応し、前記ビットマップの各ビットはサブフレームがデータ送信のために用いられるか否かを示す、
D2D端末の方法。
【請求項２】
Scheduling Assignmentを送信するチャネルを決定する手段をさらに有する、
請求項１に記載のD2D端末の方法。
【請求項３】
第一の期間に属する１または複数のサブフレームで前記Scheduling Assignmentを送信する手段をさらに有する、
請求項２に記載のD2D端末の方法。
【請求項４】
前記複数のTime Resource Patternは１または複数の送信タイミングと１または複数の受信タイミングとからなり、
前記送信タイミングはデータ送信のために割り当てられたサブフレームに対応し、
前記受信タイミングはデータ受信のために割り当てられたサブフレームに対応する、
請求項１乃至３の１つに記載のD2D端末の方法。
【請求項５】
前記複数のTime Resource Patternはバイナリー形式で表され、送信タイミングは１と、受信タイミングは０表される、
請求項１乃至４の１つに記載のD2D端末の方法。
【請求項６】
前記複数のTime Resource Patternの数は、Time Resource Patternの送信タイミングの数に対応する、
請求項１乃至５の１つに記載のD2D端末の方法。
【請求項７】
ネットワークからパラメータを受信する受信部と、
前記パラメータに基づき、データ送信のための複数のTime Resource Patternを決定する第一の決定部と、を有し、
前記複数のTime Resource Patternはビットマップに対応し、前記ビットマップの各ビットはサブフレームがデータ送信のために用いられるか否かを示す、
D2D端末。
【請求項８】
Scheduling Assignmentを送信するチャネルを決定する第二の決定部をさらに有する、
請求項７に記載のD2D端末。
【請求項９】
第一の期間に属する１または複数のサブフレームで前記Scheduling Assignmentを送信する送信部をさらに有する、
請求項８に記載のD2D端末。
【請求項１０】
前記複数のTime Resource Patternは１または複数の送信タイミングと１または複数の受信タイミングとからなり、
前記送信タイミングはデータ送信のために割り当てられたサブフレームに対応し、
前記受信タイミングはデータ受信のために割り当てられたサブフレームに対応する、
請求項７乃至９の１つに記載のD2D端末。
【請求項１１】
前記複数のTime Resource Patternはバイナリー形式で表され、送信タイミングは１と、受信タイミングは０表される、
請求項７乃至１０の１つに記載のD2D端末。
【請求項１２】
前記複数のTime Resource Patternの数は、Time Resource Patternの送信タイミングの数に対応する、
請求項７乃至１１の１つに記載のD2D端末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】Ｄ２Ｄ端末及びＤ２Ｄ端末の方法