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【手続補正書】
【提出日】平成30年3月1日(2018.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲノム中の単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）糖タンパク質Ｄ−コード遺伝子が欠失した組換えＨＳＶ−２、又はそのビリオン。
【請求項２】
その脂質二重層上に表面糖タンパク質をさらに含み、これが単純ヘルペスウィルス−１（ＨＳＶ−１）糖タンパク質Ｄである、請求項１に記載の組換えＨＳＶ−２。
【請求項３】
その脂質二重層上に非ＨＳＶ−２ウィルス表面糖タンパク質をさらに含む、請求項１に記載の組換えＨＳＶ−２。
【請求項４】
その脂質二重層上に細菌又は寄生体の表面糖タンパク質をさらに含み、前記寄生体は、哺乳類の寄生体である、請求項１に記載の組換えＨＳＶ−２。
【請求項５】
前記ＨＳＶ−２糖タンパク質Ｄ−コード遺伝子は、ＨＳＶ−２  ＵS６遺伝子である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組換えＨＳＶ−２。
【請求項６】
前記表面糖タンパク質は、前記組換えＨＳＶ−２の前記ゲノム中に挿入されたトランスジーンによってコードされる、請求項２〜５のいずれか一項に記載の組換えＨＳＶ−２。
【請求項７】
前記表面糖タンパク質は、脂質二重層上に存在するが、これは、細胞を、ＨＳＶ−２糖タンパク質Ｄ−コード遺伝子が欠失した組換えＨＳＶ−２で感染させて、前記細胞がトランスフェクトされて、その細胞膜上に前記表面糖タンパク質を発現し、脂質二重層上に存在する前記表面糖タンパク質を含む前記組換えＨＳＶ−２が、前記細胞から産生されることによるものである、請求項２〜５のいずれか一項に記載の組換えＨＳＶ−２。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の、組換え単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）又はビニロンを含む、対象において免疫応答を誘発するためのワクチン又は医薬組成物。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の、組換え単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）又はビニロンを含む、対象においてＨＳＶ−２感染若しくはＨＳＶ−１感染を処置する、または対象においてＨＳＶ−２感染によって引き起こされる疾患を処置するためのワクチン又は医薬組成物。
【請求項１０】
ＨＳＶ−２感染によって引き起こされる前記疾患は、性器潰瘍を含む、請求項９に記載の、ワクチン又は医薬組成物。
【請求項１１】
対象にＨＳＶ−２のワクチン接種をするための、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組換え単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）又はビニロンを含むワクチン。
【請求項１２】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の、組換え単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）又はビニロンを含む、対象において抗原性標的に対する抗体依存性細胞媒介性細胞傷害（ＡＤＣＣ）を誘導するための、ワクチン又は医薬組成物であって、ゲノム中の単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）糖タンパク質Ｄ−コード遺伝子が欠失している単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）が、脂質二重層上に異質抗原を含む、ワクチン又は医薬組成物。
【請求項１３】
ゲノム中の単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）糖タンパク質Ｄ−コード遺伝子が欠失しており、かつ脂質二重層上に非ＨＳＶ−２表面糖タンパク質を含む組換えＨＳＶ−２のビリオンを生産する方法であって、前記非ＨＳＶ−２表面糖タンパク質をコードする異種核酸を含む細胞を、ゲノム中の単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）糖タンパク質Ｄ−コード遺伝子が欠失した組換えＨＳＶ−２で、前記組換え単純ヘルペスウィルス−２（ＨＳＶ−２）の複製を可能にする条件下で感染させることと、前記細胞によって産生された、脂質二重層上に非ＨＳＶ−２表面糖タンパク質を含む組換えＨＳＶ−２ビリオンを回収することとを含む方法。
【請求項１４】
前記細胞は、その細胞膜上に前記非ＨＳＶ−２表面糖タンパク質を発現する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記細胞は、その細胞膜上にＨＳＶ−１表面糖タンパク質Ｄを発現する、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月14日(2018.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
不完全に精製されたスクロースを含むｇｔｆ反応溶液（実施例２〜１２）は、白色の精製されたスクロースを含むｇｔｆ反応溶液（実施例１）と同一のレベルで、又は更にはより良好に実施し得ることを、表２のデータは概して示している。ほとんどの場合、不完全に精製されたスクロースを含む反応は、白色の精製されたスクロースを含む反応の速度とほぼ同等又は完全に同等である反応速度を有した。また、不完全に精製されたスクロースを含むいくつかの反応は、白色の精製されたスクロースを使用して観察されるものより大きいＤＰＷ及び／又は収率を有するグルカンを生成した（例えば、実施例２〜６）。
従って、複数の異なる種類の不完全に精製されたスクロースを使用して、ポリアルファ−１，３−グルカンを酵素的に生成することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
以上、本発明を要約すると下記のとおりである。
１．水と、スクロースと、少なくとも５０％のアルファ−１，３グリコシド結合及び少なくとも１００の重量平均重合度（ＤＰｗ）を有する不溶性ポリアルファ−１，３−グルカンを合成するグルコシルトランスフェラーゼ酵素とを含む反応溶液であって、前記スクロースは、精製されていないか、又は部分的に精製され、前記反応溶液によるポリアルファ−１，３−グルカンの収率は、前記反応溶液において生成物に変換されたスクロースの重量の少なくとも７％である、反応溶液。
２．前記スクロースは甜菜に由来し、且つ、結晶化されていない、上記１に記載の反応溶液。
３．前記スクロースはサトウキビに由来し、且つ、（ｉ）結晶化されていないか、又は（ｉｉ）３つ以下の結晶化工程を使用して結晶化されている、上記１に記載の反応溶液。
４．前記スクロースは、１５０を超えるＩＣＵＭＳＡ値を有する、上記１に記載の反応溶液。
５．前記反応溶液の相対反応速度は、水と、白色の精製されたスクロースと、前記グルコシルトランスフェラーゼ酵素とを含む反応溶液の反応速度に対して少なくとも０．８であ
る、上記１に記載の反応溶液。
６．前記反応溶液によって生成された前記ポリアルファ−１，３−グルカンは、９３未満のＬ＊値を有する、上記１に記載の反応溶液。
７．前記グルコシルトランスフェラーゼ酵素は、配列番号４、配列番号８、配列番号１０、配列番号１２、配列番号１４、配列番号２０、配列番号２６、配列番号２８、配列番号３０、又は配列番号３４と少なくとも９０％相同性であるアミノ酸配列を含む、上記１に記載の反応溶液。
８．（ａ）少なくとも水、スクロース、及びグルコシルトランスフェラーゼ酵素を接触させる工程であって、前記スクロースは、精製されていないか、又は部分的に精製され、これにより、少なくとも５０％のアルファ−１，３グリコシド結合及び少なくとも１００の重量平均重合度（ＤＰｗ）を有するポリアルファ−１，３−グルカンが生成される、工程と、
ｂ）任意選択的に、工程（ａ）で生成された前記ポリアルファ−１，３−グルカンを単離する工程と
を含む、不溶性ポリアルファ−１，３−グルカンを生成する方法であって、ポリアルファ−１，３−グルカンの収率は、工程（ａ）において生成物に変換されたスクロースの重量の少なくとも７％である、方法。
９．前記スクロースは甜菜に由来し、且つ、結晶化されていない、上記８に記載の方法。１０．前記スクロースはサトウキビに由来し、且つ、（ｉ）結晶化されていないか、又は（ｉｉ）３つ以下の結晶化工程を使用して結晶化されている、上記８に記載の方法。
１１．前記スクロースは、１５０を超えるＩＣＵＭＳＡ値を有する、上記８に記載の方法。
１２．工程（ａ）でポリアルファ−１，３−グルカンを生成する相対反応速度は、白色の精製されたスクロースが、前記精製されていないか、又は部分的に精製されたスクロースの代わりに使用される場合、工程（ａ）の反応速度に対して少なくとも０．８である、上記８に記載の方法。
１３．工程（ｂ）で単離された前記ポリアルファ−１，３−グルカンは、９３未満のＬ＊値を有する、上記８に記載の方法。
１４．前記グルコシルトランスフェラーゼ酵素は、配列番号４、配列番号８、配列番号１０、配列番号１２、配列番号１４、配列番号２０、配列番号２６、配列番号２８、配列番号３０、又は配列番号３４と少なくとも９０％相同性であるアミノ酸配列を含む、上記８に記載の方法。
１５．前記ポリアルファ−１，３−グルカンは、９３未満のＬ＊値を有する、上記８に記載の方法によって生成される単離されたポリアルファ−１，３−グルカン。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水と、スクロースと、少なくとも５０％のアルファ−１，３グリコシド結合及び少なくとも１００の重量平均重合度（ＤＰｗ）を有する不溶性ポリアルファ−１，３−グルカンを合成するグルコシルトランスフェラーゼ酵素とを含む反応溶液であって、前記スクロースは、精製されていないか、又は部分的に精製され、前記反応溶液によるポリアルファ−１，３−グルカンの収率は、前記反応溶液において生成物に変換されたスクロースの重量の少なくとも７％である、反応溶液。
【請求項２】
（ａ）少なくとも水、スクロース、及びグルコシルトランスフェラーゼ酵素を接触させる工程であって、前記スクロースは、精製されていないか、又は部分的に精製され、これ
により、少なくとも５０％のアルファ−１，３グリコシド結合及び少なくとも１００の重量平均重合度（ＤＰｗ）を有するポリアルファ−１，３−グルカンが生成される、工程と、
ｂ）任意選択的に、工程（ａ）で生成された前記ポリアルファ−１，３−グルカンを単離する工程と
を含む、不溶性ポリアルファ−１，３−グルカンを生成する方法であって、ポリアルファ−１，３−グルカンの収率は、工程（ａ）において生成物に変換されたスクロースの重量の少なくとも７％である、方法。
【請求項３】
前記ポリアルファ−１，３−グルカンは、９３未満のＬ＊値を有する、請求項２に記載の方法によって生成される単離されたポリアルファ−１，３−グルカン。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月7日(2018.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＳＴＡＴ５、好ましくはＳＴＡＴ５Ｂ、に特異的に結合する核酸アプタマーであって、配列番号１、配列番号２もしくは配列番号５７の配列、またはその断片、あるいは配列番号１、配列番号２もしくは配列番号５７と少なくとも７０％の配列同一性を有する変異体、を含むことを特徴とする核酸アプタマー。
【請求項２】
さらなる安定化基および／またはベクトル化のためのさらなる基をさらに含む、請求項１に記載のＳＴＡＴ５に特異的に結合する核酸アプタマー。
【請求項３】
少なくとも１つの請求項１から２の何れかに記載のアプタマーと、医薬的に許容可能な賦形剤と、を含む医薬組成物。
【請求項４】
少なくとも１つの請求項１から２の何れかに記載のアプタマーを含む、薬剤。
【請求項５】
癌、好ましくは白血病、の処置において使用するための、請求項１から２の何れかに記載の核酸アプタマー、請求項３に記載の医薬組成物または請求項４に記載の薬剤。
【請求項６】
抗癌剤、抗血管新生薬、抗転移薬、抗白血病薬、葉酸代謝拮抗薬、代謝拮抗薬、アルキル化剤、挿入剤、紡錘体に作用する物質、チロシンキナーゼ阻害剤、分化剤またはそれらの混合物から選択される別の活性物質と組み合わせて使用するための、請求項１から２の何れかに記載の核酸アプタマー、請求項３に記載の医薬組成物または請求項４に記載の薬剤。
【請求項７】
癌、好ましくは白血病、の処置において使用するための、抗癌剤、抗血管新生薬、抗転移薬、抗白血病薬、葉酸代謝拮抗薬、代謝拮抗薬、アルキル化剤、挿入剤、紡錘体に作用する物質、チロシンキナーゼ阻害剤、分化剤またはそれらの混合物から選択される別の活性物質と組み合わせた、請求項１から２の何れかに記載の核酸アプタマー。
【請求項８】
癌、好ましくは白血病、の処置において使用するための、抗癌剤、抗血管新生薬、抗転移薬、抗白血病薬、葉酸代謝拮抗薬、代謝拮抗薬、アルキル化剤、挿入剤、紡錘体に作用する物質、チロシンキナーゼ阻害剤、分化剤またはそれらの混合物から選択される別の活性物質と組み合わせた、請求項３に記載の医薬組成物または請求項４に記載の薬剤。
【請求項９】
生体試料においてＳＴＡＴ５を検出するための方法であって、
ａ．請求項１から２の何れかに記載のアプタマーを、対象から前もって採取された前記試料と接触させることと；
ｂ．前記試料に結合した前記アプタマーの量を決定することと、
を含む方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年4月23日(2018.4.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
各所望のパワーレベルＳｄ＿ｉを示すパワーレベルデータは、以下のベクトルにより与えられていてもよい。
【数７】
2017510227.tif 000001

【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
スペクトルスロットについて、それぞれの所望のパワーレベルを示す提供されたパワーレベルデータＳｄを用いることにより、制御ユニットＣＴＲＬは、以下のように、減衰値Ｓ＿ｅｑを導出することができる。
【数１１】
2017510227.tif 000002

これは、以下による。
【数１２】
2017510227.tif 000003
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
次にステップにおいて、新しいパワーレベルＰ＿Ｂは、以下のように設定される。
【数１５】
2017510227.tif 000004
ここで、ベクトルＰ＿Ｂは、ベクトルＰ＿Ａの線形結合ではないように、１つまたは複数のパワーレベルＰＢ＿ｉが変えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月2日(2018.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一側に形成された第１収容部を含むハウジング；
前記ハウジングの内部に配置されるステータ；
前記ハウジングの内部に配置されるロータ；
前記ロータと共に回転する回転軸；
前記ハウジングの一側に結合されるホルダ；および
前記第１収容部と前記ホルダに固定されて前記ロータの回転を支持するベアリングを含み、
前記ロータは、コア部と前記ベアリングによって支持される回転支持部を含むロータコアおよび前記コア部の外面に配置されるロータマグネットを含むモータ。
【請求項２】
前記回転支持部の外径は、前記コア部の外径よりも小さい、請求項１に記載のモータ。
【請求項３】
前記第１収容部は、前記ベアリングの一端を固定する第１突出受部および内周面に形成された第１ねじ山を含む、請求項１に記載のモータ。
【請求項４】
前記ホルダは、前記ベアリングが収容される第２収容部、前記ベアリングの他端を固定する第２突出受部、および前記ハウジングの一側に固定される結合部を含む、請求項３に記載のモータ。
【請求項５】
前記第１突出受部の厚さは、前記第２突出受部の厚さよりも小さい、請求項４に記載のモータ。
【請求項６】
前記回転軸の回転によって直線運動する運動部材を含む、請求項１に記載のモータ。
【請求項７】
前記第１収容部と前記ホルダとの間に配置されるシーリング部材を含む、請求項１に記載のモータ。
【請求項８】
前記第１収容部は、外周面に形成された第２ねじ山を含み、
前記ホルダは、前記第２ねじ山と結合される結合部を含む、請求項１に記載のモータ。
【請求項９】
前記第１収容部と前記ホルダとの間に配置されたシーリング部材を含む、請求項８に記載のモータ。
【請求項１０】
一側に形成された第１収容部を含むハウジング；
前記ハウジングの内部に配置されるステータ；
前記ハウジングの内部に配置されるロータ；
前記ロータと共に回転する回転軸；
前記第１収容部と前記ステータとの間に配置されるホルダ；および
前記第１収容部と前記ホルダに固定されて前記ロータの回転を支持するベアリングを含み、
前記ロータは、コア部と前記ベアリングによって支持される回転支持部を含むロータコアおよび前記コア部の外面に配置されるロータマグネットを含む、モータ。
【請求項１１】
前記回転支持部の外径は、前記コア部の外径よりも小さい、請求項１０に記載のモータ。
【請求項１２】
前記第１収容部は、前記ベアリングの他端を固定する第１突出受部および内周面に形成された第３ねじ山を含む、請求項１０に記載のモータ。
【請求項１３】
前記ホルダは、前記ベアリングが収容される第２収容部、前記ベアリングの一端を固定する第２突出受部、および前記ハウジングの内側に固定される結合部を含む、請求項１２に記載のモータ。
【請求項１４】
前記ホルダは、前記ステータと向かい合う領域に形成された溝を含む、請求項１２に記載のモータ。
【請求項１５】
前記回転軸の回転によって直線運動する運動部材を含む、請求項１０に記載のモータ。
【請求項１６】
前記ベアリングは、第１支持リングと第２支持リング、および前記第１支持リングと前記第２支持リングとの間に配置されるベアリングボールを含み、
前記第１支持リングと前記第２支持リングは、半径方向に延びて前記ベアリングボールが配置される支持溝を含み、前記支持溝の中央部は前記ベアリングボールと所定間隔離隔する、請求項１５に記載のモータ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月7日(2017.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）少なくとも１種の潜在性アルキルボランを含み、該潜在性アルキルボランに対する脱錯化剤を実質的に含まない組成物を、
ＤＩＮ  ５３４５７に準拠して求められる弾性率が１０００ＭＰａ以下の、非極性のゴム状材料又はゴムである、不飽和ユニットを有する材料
を含む基板（１）に塗布することと、
ｂ）ラジカル硬化性物質を前記潜在性アルキルボランにて前処理された前記基板（１）に塗布することと、
ｃ）前記ラジカル硬化性物質を硬化して、複合構造体を形成することと、
を含む、基板を処理する方法。
【請求項２】
前記ラジカル硬化性物質が塗料、コーティング剤、シーリング材、接着剤又は充填化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程ｂ）と工程ｃ）との間に、前記ラジカル硬化性物質が２つの基板間に配されるように前記基板（１）を基板（２）に接触させることと、前記ラジカル硬化性物質が接着剤形態であることとを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
不飽和ユニットを有する前記材料が、ＥＰＤＭ、ＮＢＲ、ＳＢＲ又はそれらの混合物に基づく材料であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記基板（１）が不飽和ユニットを有する前記材料のみからなることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記ラジカル硬化性物質がアクリレート系物質、好ましくはアクリレート接着剤であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
少なくとも１種の潜在性アルキルボランを含む前記組成物のｐＨが約７以上であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
少なくとも１種の潜在性アルキルボランを含む前記組成物が、溶媒、好ましくはヘキサン、ヘプタン、キシレン、酢酸エチル若しくはそれらの混合物から選択される溶媒を更に含み、及び／又は少なくとも１種のラジカル硬化性モノマー、好ましくはアクリレートを含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記組成物中の前記少なくとも１種の潜在性アルキルボランの濃度が約２．５ｗｔ％〜３０ｗｔ％、好ましくは約２．５ｗｔ％〜２０ｗｔ％であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記基板に塗布する前記潜在性アルキルボランを、脱錯化剤、好ましくは有機酸若しくは無機酸、イソシアネート又はルイス酸から選択される脱錯化剤に接触させることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記潜在性アルキルボランが、アルキル基が同一であるか又は異なり、炭素数１〜６、好ましくは１〜４であるトリアルキルボラン−アミン錯体の形態にて存在することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記トリアルキルボラン−アミン錯体におけるアミンが少なくとも１つの第一級アミノ基を有するアルキレンジアミンの形態であり、アルキレン基の炭素数が好ましくは２〜６、より好ましくは２〜４であることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法により得られうる複合構造体。
【請求項１４】
潜在性アルキルボランを含む組成物の、不飽和ユニットを含有する基板の処理のための下塗り剤としての使用であって、
前記基板が、ＤＩＮ  ５３４５７に準拠して求められる弾性率が好ましくは１０００ＭＰａ以下の、非極性のゴム状材料又はゴムを含むものである、使用。
【請求項１５】
潜在性アルキルボランを含む組成物の、不飽和ユニットを含有する基板、好ましくはＥＰＤＭ膜の接着結合のため、又はＥＰＤＭコンベアベルトの修復若しくはスプライシングのための下塗り剤としての使用であって、
前記基板が、ＤＩＮ  ５３４５７に準拠して求められる弾性率が好ましくは１０００ＭＰａ以下の、非極性のゴム状材料又はゴムを含むものである、使用。
【請求項１６】
ＤＩＮ  ５３４５７に準拠して求められる弾性率が好ましくは１０００ＭＰａ以下の、非極性のゴム状材料又はゴム
を含む、材料で作られたものであって、かつ
表面に不飽和ユニットを有する
補強部材を有する弾性ベルト、好ましくはＥＰＤＭベルト
をスプライシングする方法であって、
ａ）前記ベルトの補強部材を少なくとも一部露出させることと、
ｂ）少なくとも１種の潜在性アルキルボランを含み、該潜在性アルキルボランに対する脱錯化剤を実質的に含んでいない組成物を前記補強部材、及び任意に前記ベルトの縁に塗布することと、
ｃ）接着剤を前記潜在性アルキルボランにて前処理された領域に塗布することと、
ｄ）前記接着剤を硬化して、複合構造体を形成することと、
を含む、方法。
【請求項１７】
露出された補強部材の領域において、前記ベルトの露出された補強部材の領域に亘って広がる弾性ベルト材料のシート状の部材が設けられ、工程ｂ）において前記組成物をこれらの部材に塗布し、工程ｃ）において前記部材を塗布された接着剤と接触させ、サンドイッチ構造体を形成し、該サンドイッチ構造体を工程ｄ）において硬化することを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
請求項１６又は１７に記載の方法により得られうる弾性ベルト。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月26日(2018.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブから成る重ね合わせたプライの間に流体を案内することにより、前記流体で前記ウェブを膨張させるように作動可能なインフレーション機構と、
前記プライを一緒にシールして、その中に前記流体を封入するシーリング機構と、
前記シールされたプライを前記シーリング機構の下流で一緒に維持するように作動可能である第１の面を有する保持領域と、前記シールされたプライが前記保持領域から出るのに応動して、前記シールされたプライを前記第１のポストシール制御要素から解放するように作動可能な材料解放要素とを含む第１のポストシール制御要素と、
を備えるウェブインフレーション装置。
【請求項２】
前記保持領域は、前記シールされたプライを一緒に圧縮する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記シーリング機構は、前記プライを加熱して前記シールを形成する加熱要素を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記保持領域は、前記シールを冷却して、前記シールされたプライ間のシールを改善するように作動可能な領域を形成する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記材料は、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）である、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記冷却領域に沿って前記ウェブを接触させて、前記シールされたプライを前記第１のポストシール制御要素に押し付けて、前記シールされたプライの第１の部分のための第１の接点を形成する対向面を備える第２のポストシール制御要素をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記材料解放構造は、前記第１の面に隣接し、および前記シールされたプライが前記第１のポストシール制御要素と前記第２のポストシール制御要素との間で圧縮される際に、前記プライが前記第１の接点に隣接して湾曲させられるように配置された第２の面を含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記第１のポストシール制御要素の前記第１の面は連続湾曲面である、請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記第２のポストシール制御要素の対向面は連続湾曲面である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記解放構造の前記第２の面は、前記解放構造の前記第１の面に隣接して配置された固定リッジである、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記解放構造の前記第２の面は、前記解放構造の第１の面から突出するリッジである、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１のポストシール制御要素はローラである、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第２のポストシール制御要素は、第２の回転可能なシリンダである、請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
前記第１の面から突出する前記リッジは、ローラの周りに延びていて、前記リッジが、前記ウェブに接触するように作動可能に配置された状態で前記第１のポストシール要素を形成する環状リッジである、請求項１１に記載の装置。
【請求項１５】
前記第１の面は、前記ウェブの第１の部分に対して横方向に配置された前記ウェブの第２の部分が、前記シールされたプライの第１の部分と比較して異なる平面上にあるか、または異なるシリンダ径である第２の接点に押し付けられるように、前記第２の面に対して配置される、請求項１１に記載の装置。
【請求項１６】
前記リッジは、前記ローラの側部に配置され、前記膨張されたフレキシブル構造は、前記ポストシール要素から横方向に延びている、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記環状リッジは、前記シールされたプライが膨張される位置に沿って、前記シールされたプライに接触し、
前記位置では、膨張した形状により、前記シールされたプライが、前記膨張されていないフィルムと比較してある程度の剛性を有するように膨張され、
前記剛性により、前記環状リッジは、前記シールされたプライを前記第１のポストシール要素からバンプオフさせて、前記第１および第２のポストシール要素から外すことを可能にする、請求項１４に記載の装置。
【請求項１８】
前記環状リッジと、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）で形成された前記材料は、協働して作用して、前記シールされたプライを前記第１および第２のポストシール要素からバンプオフするのに必要な力を低減する、請求項１４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月28日(2018.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作業表面、及び前記作業表面と反対側の第２表面を有する研磨層を備える研磨パッドであって、
前記作業表面は、ランド領域、並びに複数の正確に成形された細孔、及び複数の正確に成形された突起部の少なくとも一方を含み、
前記ランド領域の厚さは約５ｍｍよりも小さく、前記研磨層はポリマーを含み、
前記研磨層は、前記複数の正確に成形された突起部の表面、前記複数の正確に成形された細孔の表面、及び前記ランド領域の表面の少なくとも１つの上に、複数のナノメートルサイズのトポグラフィ特徴部を含む、研磨パッド。
【請求項２】
作業表面、及び前記作業表面と反対側の第２表面を有する研磨層を備える研磨パッドであって、
前記作業表面は、ランド領域、並びに複数の正確に成形された細孔、及び複数の正確に成形された突起部の少なくとも一方を含み、
前記ランド領域の厚さは約５ｍｍよりも小さく、前記研磨層はポリマーを含み、
前記作業表面は、二次表面層、及びバルク層を含み、前記二次表面層の後退接触角及び前進接触角の少なくとも一方が、前記バルク層の対応する後退接触角、又は前進接触角よりも少なくとも約２０°小さい、研磨パッド。
【請求項３】
作業表面、及び前記作業表面と反対側の第２表面を有する研磨層を備える研磨パッドであって、
前記作業表面は、ランド領域、並びに複数の正確に成形された細孔、及び複数の正確に成形された突起部の少なくとも一方を含み、
前記ランド領域の厚さは約５ｍｍよりも小さく、前記研磨層はポリマーを含み、
前記作業表面は、二次表面層及びバルク層を含み、前記作業表面の後退接触角は、約５０°未満である、研磨パッド。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月12日(2018.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気カテーテルのためのコネクタアセンブリであって、
第１の端部と、第２の端部と、前記第１の端部と前記第２の端部との間に設けられかつ前記第１の端部および前記第２の端部において開口するルーメンとを有し、前記第１の端部がカテーテルへ接続するように構成され、前記第２の端部が空気管理システムと連通するレセプタクルに接続するように構成されたコネクタ本体と、                                                                          
前記コネクタ本体の前記第２の端部に配置された疎水性のキャップ部材であって、前記コネクタ本体の前記ルーメンへのアパチャ開口部を有する、疎水性のキャップ部材と、
前記第２の端部の近隣において前記ルーメン内に配置されたフィルタ部材と、
を含む、コネクタアセンブリ。
【請求項２】
前記フィルタ部材は管状形状である、請求項１に記載のコネクタアセンブリ。
【請求項３】
前記フィルタ部材は、前記疎水性のキャップに隣接して配置される、請求項１に記載のコネクタアセンブリ。
【請求項４】
前記フィルタ部材は、液体に晒されたときに色が変わる物質を含む、請求項１に記載のコネクタアセンブリ。
【請求項５】
前記コネクタ本体は、少なくとも一部が透過性の材料によって構成される、請求項４に記載のコネクタアセンブリ。
【請求項６】
前記コネクタ本体の前記第１の端部は、カテーテルへの接続のための有刺形状の構成を含む、請求項１に記載のコネクタアセンブリ。
【請求項７】
前記レセプタクルは、前記コネクタ本体の前記第１の端部と噛み合うような形状にされた雌コネクタアセンブリであり、前記雌コネクタは、前記コネクタ本体の前記雌コネクタへの接続時に空気を通気させるように構成された１つ以上の空気路を含む、請求項１に記載のコネクタアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月6日(2018.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも白金と少なくとも１種の希土類とを含む少なくとも１種の白金化合物を含むナノ粒子であって、前記希土類が前記白金の表面で酸化物として存在する、ナノ粒子。
【請求項２】
前記白金化合物が、以下の式（Ｉ）、
Ｐｔ−ＭxＯy（式中、ｘが存在する希土類原子Ｍの数であり、ｙが存在する酸素原子の数である）を有する、請求項１に記載のナノ粒子。
【請求項３】
触媒ナノ粒子は担持されている、請求項１又は２に記載のナノ粒子。
【請求項４】
前記希土類の元素が、イットリウム、ガドリニウム、サマリウム、セリウム、ユウロピウム、プラセオジム、スカンジウム、テルビウム、イッテルビウム、ツリウム、又は任意のそれらの混合物である、請求項１又は２に記載のナノ粒子。
【請求項５】
前記希土類の元素がイットリウム又はガドリニウムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載のナノ粒子。
【請求項６】
前記ナノ粒子の比活性度が１２０μＡ．ｃｍ-2Pt以上である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のナノ粒子。
【請求項７】
前記ナノ粒子の質量活性度が８０ｍＡ．ｍｇ-1Pt以上である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のナノ粒子。
【請求項８】
前記ナノ粒子の平均サイズが０．１ｎｍと１０ｎｍの間に含まれる、請求項１〜７のいずれか１項に記載のナノ粒子。
【請求項９】
（ｉ）白金と少なくとも１種の希土類とを含むナノ粒子の前駆体を、一酸化炭素（ＣＯ）と接触させる工程、
（ｉｉ）熱処理によって得られた生産物をカルボニル化する工程、
（ｉｉｉ）任意選択で、担体を加える工程、及び
（ｉｖ）十分な温度で熱処理を行い、少なくとも形成したナノ粒子の表面で、希土類酸化物を形成する工程
を含む、熱処理工程を含むナノ粒子を調製するための方法。
【請求項１０】
ａ．不活性雰囲気の下、Ｐｔ塩、希土類塩、酢酸塩及び溶媒を撹拌して混合する工程、
ｂ．一酸化炭素を含む雰囲気下で、予め得られた混合物を加熱する工程、
ｃ．一酸化炭素を含有する雰囲気を不活性雰囲気、例えば窒素に置き換えて、任意選択で、ナノ粒子の担体を加える工程、
ｄ．溶媒を蒸発させて、ナノ粒子の粉末を得る工程、
ｅ．二水素（ｄｉｈｙｄｒｏｇｅｎ）の存在下で、不活性ガスを含む雰囲気下において、８０℃と６００℃の間に含まれる温度でナノ粒子の粉末を熱処理する工程、並びに
ｆ．処理した触媒粉末を洗浄してナノ粒子を得る工程
を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
工程ｄの前に、不活性雰囲気下かつ室温で、工程ｃで得られた混合物中に担体を投入することをさらに含む、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記担体が炭素担体である、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
（ｖ）白金を含む少なくとも１種のナノ粒子の前駆体を、酢酸塩及び一酸化炭素（ＣＯ）と接触させる工程、
（ｖｉ）熱処理で得られた生産物をカルボニル化する工程、
（ｖｉｉ）少なくとも１種の配位高分子（ＭＯＦ）と、少なくとも１種の希土類と、任意選択で担体とを含むナノ粒子の前駆体を追加する工程、並びに
（ｖｉｉｉ）十分な温度で熱処理を行い、少なくとも形成したナノ粒子の表面で希土類酸化物を形成する工程
を含む、ナノ粒子を調製するための方法。
【請求項１４】
ｇ．不活性雰囲気の下、Ｐｔ塩、酢酸ナトリウム及び溶媒を撹拌して混合する工程、
ｈ．一酸化炭素を含有する雰囲気下で、予め得られた混合物を加熱する工程、
ｉ．一酸化炭素を含有する雰囲気を不活性雰囲気に置き換える工程、
ｊ．少なくとも１種の希土類と、２−アミノテレフタレート、１，３，５−ベンゼントリカルボキシレート、５−アミノイソフタレート、４，４’−オキシビス（安息香酸）、１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボキシレート、又は４，４’−ビフェニルジカルボキシレートの中から選択される少なくとも１種の配位子とを含むＭＯＦ化合物を追加する工程、
ｋ．溶媒を蒸発させて、ナノ粒子の粉末を得る工程、
ｌ．不活性ガスの雰囲気下において、１００℃と１０００℃の間に含まれる温度でナノ粒子の粉末を熱処理する工程、並びに
ｍ．処理した触媒粉末を洗浄してナノ粒子を得る工程
を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
工程ｊで投入した前記ＭＯＦ化合物の量が、前記ＭＯＦ化合物と共に工程ｊで投入した前記炭素の質量に対して、１０ｍａｓｓ％と２０ｍａｓｓ％の間に含まれる、請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
工程ｊにおいて、不活性雰囲気下かつ室温で、工程ｉで得られた混合物中に担体を投入することをさらに含む、請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記担体がカーボンナノチューブからなる、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法及び／又は請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の方法によって得ることができるナノ粒子。
【請求項１９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のナノ粒子、又は、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法及び／若しくは請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の方法によって得ることができるナノ粒子を含むインク。
【請求項２０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のナノ粒子、又は、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法及び／若しくは請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の方法によって得ることができるナノ粒子を含む、水素燃料電池の正極（カソード）。
【請求項２１】
請求項１９に記載のインクにより、前記ナノ粒子が表面上に堆積される、請求項２０に記載の正極。
【請求項２２】
酸性媒体中における二酸素（ｄｉｏｘｙｇｅｎ）の還元反応（ＲＲＯ）のための触媒としての、請求項１〜５のいずれか１項に記載のナノ粒子、又は請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法及び／若しくは請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の方法を用いて得ることができるナノ粒子の使用、又は請求項１９に記載のインクの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月9日(2018.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリックス物質（１）および触媒物質（２）を含むフィッシャートロプッシュ反応を行うための触媒であって、当該触媒は、水素および一酸化炭素を含む合成ガスが流れることのできる階段形状チャンネルを含む、前記触媒。
【請求項２】
階段形状チャンネルが、触媒中を流れる流体が、一段上／一段下を移動するような階段形状である、請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
流体が一方のチャンネルから隣接するチャンネルへ流れることができるように前記チャンネルが互いに接続している、請求項１または２に記載の触媒。
【請求項４】
触媒の開放容積が、反応器容積に関して、６０％を超える、好ましくは、７０％を超える、より好ましくは、８０％を超える、請求項１〜３のいずれかに記載の触媒。
【請求項５】
触媒の比表面積が１０００〜５０００ｍ２／ｍ３である、請求項１〜４のいずれかに記載の触媒。
【請求項６】
触媒物質がチャンネル壁上の層として存在し、好ましくは、その層の厚さが約１〜３００μｍ、より好ましくは、約５〜２００μｍ、そして最も好ましくは、１０〜１００μｍである、請求項１〜５のいずれかに記載の触媒。
【請求項７】
触媒物質が触媒支持物質を含み、当該触媒支持物質は耐火性酸化物、金属、またはその混合物からなる群から選択される、請求項１〜６のいずれかに記載の触媒。
【請求項８】
触媒物質が、コバルト、鉄、ルテニウム及びその混合物から選択され、好ましくは、コバルトである触媒活性成分を含む、請求項１〜７のいずれかに記載の触媒。
【請求項９】
触媒物質がプロモーターを含み、好ましくは、プロモーターがジルコニウム、マンガン、バナジウム、レニウム、白金、パラジウム、およびその混合物からなる群から選択され、好ましくは、マンガン、バナジウムおよびその混合物から選択される、請求項１〜８のいずれかに記載の触媒。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の触媒の製造方法であって、該触媒はその中を流す反応流体のためのチャンネルを有し、該チャンネルは壁を有し、該壁は触媒物質を含み、前記方法は、
（ｉ）粉末またはペーストを与えることによりマトリックス物質の層を形成し；
（ｉｉ）予め定めたパターンにしたがって、前記層中の粉末またはペーストを結合または溶融し；
（ｉｉｉ）層上に（ｉ）および（ｉｉ）層を繰り返し、一定構造を形成し、ここで、各続く層は、水素および一酸化炭素を含む合成ガスを流すことのできる階段形状チャンネルを含む一定構造を形成する先行層に結合または融合し、粉末またはペーストとして工程（ｉ）で触媒活性物質が与えられるか、あるいは工程（ｉｉｉ）で前記構造を得た後、触媒を得る構造に触媒活性物質を含むスラリーを塗布することにより触媒活性物質が与えられる、前記触媒の製造方法。
【請求項１１】
工程（ｉ）で得られる各層は開口部を含み、工程（ｉ）で得られる各層の開口部は、工程（ｉｉｉ）で得られる触媒の１以上のチャンネルを共に形成する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
工程（ｉ）で、開口部を触媒物質（２）と接するように触媒物質（２）を与え、好ましくは、触媒物質（２）が、開口部とマトリックス物質（１）との間にのみ存在するように与える、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
工程（ｉｉｉ）で、触媒のチャンネルが階段形状を有するように工程（ｉ）および（ｉｉ）を繰り返す、請求項１０〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記方法は少なくとも３段階にさらに分けることができ、
段階Ｉでは、前記工程（ｉ）および（ｉｉ）を数回繰り返し、第一方向（Ｉ）の階段形状の開口を有する第一層（Ａ）を得；
段階ＩＩでは、工程（ｉ）および（ｉｉ）を数回繰り返し、第二方向（ＩＩ）の階段形状の開口を有する第二層（Ｂ）（第一層上に）を得；
段階ＩＩＩでは、少なくとも一回、段階ＩおよびＩＩを繰り返し、構造を形成し；
ここで、第一方向および第二方向は交差し、好ましくは、該第一方向および第二方向は実質的に互いに垂直である、請求項１０〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
請求項１〜１０のいずれかに記載の触媒を含む反応器管であって、一以上の触媒が反応器管にぴったり合うか、または前記反応器管は積層床を形成するいくつかの触媒を含む、反応器管。
【請求項１６】
炭化水素の製造方法であって、好ましくは、フィッシャートロプッシュ反応を用い、反応流体、好ましくは、水素および一酸化炭素を含む気体を、請求項１〜８のいずれかに記載の触媒に与えることを含み、好ましくは、前記反応流体を請求項１５に記載の反応器管に与える、前記炭化水素の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月19日(2018.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不純物が含有された有機素材の原料を昇華させる昇華段階と；
前記有機素材の原料の昇華気体と、前記昇華気体を横切って流動するイオン性液体とを接触させて前記イオン性液体中に前記昇華気体を捕集する捕集段階と；
前記イオン性液体に溶解された前記昇華気体の有機素材で過飽和された溶液から再結晶化した有機素材を生成する再結晶化段階；を含むイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項２】
前記捕集段階で、前記イオン性液体は、前記昇華気体の飛散経路を横切って配置された多数のブレードの表面に沿って流動することを特徴とする、請求項１に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項３】
前記再結晶化段階では、前記イオン性液体に前記昇華気体が溶解して生成した混合液を前記多数のブレードの表面に沿って再循環させる再循環段階をさらに含むことを特徴とする、請求項２に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項４】
前記多数のブレードは、垂直軸を中心に等角度で配置され、前記イオン性液体が前記ブレードの表面に沿って下方に流動することを特徴とする、請求項２に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項５】
前記多数のブレードは、水平軸を中心に等角度で配置され、回転しながら前記イオン性液体を流動させることを特徴とする、請求項２に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項６】
前記捕集段階で、前記イオン性液体は、前記昇華気体の飛散経路を横切って落下流動することを特徴とする、請求項１に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項７】
前記再結晶化段階では、前記イオン性液体に前記昇華気体が溶解して生成した混合液を、前記昇華気体の飛散経路を横切って再循環させる再循環段階をさらに含むことを特徴とする、請求項６に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項８】
前記再循環段階では、前記再結晶化した有機素材を分離して回収し、前記混合液を循環させることを特徴とする、請求項３または７に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項９】
前記捕集段階で、前記イオン性液体は、前記昇華気体の飛散経路を横切って配置された一つ以上の回転ロールの表面に塗布されて流動することを特徴とする、請求項１に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項１０】
前記回転ロールの表面からドクターブレードを用いて、前記イオン性液体に前記昇華気体が溶解して生成した混合液を剥がす段階をさらに含むことを特徴とする、請求項９に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製方法。
【請求項１１】
不純物が含有された有機素材の原料を昇華させる昇華部と、
前記昇華部と連通するように配置され、前記有機素材の原料の昇華気体と、前記昇華気体を横切って流動するイオン性液体とを接触させて前記イオン性液体中に前記昇華気体を捕集する捕集部とを含み、
前記捕集部で前記イオン性液体に捕集された前記昇華気体の有機素材が前記イオン性液体に溶解されて、前記イオン性液体中に再結晶化された有機素材が生成されることを特徴とする、イオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項１２】
前記捕集部は、
前記昇華部と連通するように連結されたハウジングと、
前記昇華気体の飛散経路を横切って前記ハウジング内に配置された多数のブレードと、
前記多数のブレードの表面に沿って流動するように前記イオン性液体を供給するイオン性液体供給手段と、
前記イオン性液体に前記昇華気体が溶解して生成した混合液、および前記再結晶化した有機素材を貯蔵する貯蔵手段とを含むことを特徴とする、請求項１１に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項１３】
前記イオン性液体供給手段は、前記混合液を前記貯蔵手段から前記多数のブレードの表面に沿って再循環させる再循環手段をさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項１４】
前記多数のブレードは、前記ハウジング内の垂直軸を中心に等角度で配置されることを特徴とする、請求項１３に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項１５】
前記多数のブレードは、前記ハウジング内の水平軸を中心に等角度で配置されて回転することを特徴とする、請求項１３に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項１６】
前記捕集部は、
前記昇華部に連通するハウジングと、
前記昇華気体の飛散経路を横切って落下するように前記イオン性液体を供給するイオン性液体供給手段と、
前記イオン性液体に前記昇華気体が溶解して生成した混合液、および前記再結晶化した有機素材を貯蔵する貯蔵手段とを含むことを特徴とする、請求項１１に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項１７】
前記イオン性液体供給手段は、前記混合液を前記貯蔵手段から再循環させ、前記昇華気体の飛散経路を横切って落下させる再循環手段をさらに含むことを特徴とする、請求項１６に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項１８】
前記再循環手段は、前記貯蔵手段内の前記混合液と前記再結晶化した有機素材を前記貯蔵手段の外部へ排出した後、前記再結晶化した有機素材を分離して回収し、前記混合液を再循環させる回収手段をさらに含むことを特徴とする、請求項１３または１７に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項１９】
前記捕集部は、
前記昇華部と連通するように連結されたハウジングと、
前記昇華気体の飛散経路を横切って前記ハウジング内に配置された一つ以上の回転ロールと、
前記回転ロールの下部に配置され、前記イオン性液体を前記回転ロールの表面に供給するイオン性液体貯蔵部とを含むことを特徴とする、請求項１１に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【請求項２０】
前記回転ロールの一側部には、前記イオン性液体に前記昇華気体が溶解して生成した混合液を前記回転ロールの表面から剥がすドクターブレードが設置されていることを特徴とする、請求項１９に記載のイオン性液体を用いた有機素材精製装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月27日(2018.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
６００〜９００℃の範囲の温度で５分から２時間の間、非酸化性雰囲気での鉄含有モレキュラーシーブの水熱処理又は還元性雰囲気での鉄含有モレキュラーシーブの熱処理を行うことを含む、ＳＣＲ活性モレキュラーシーブをベースとした触媒の作製方法。
【請求項２】
水熱処理又は熱処理が、６５０〜８５０℃の範囲の温度で１５分から２時間の間行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ゼオライトがＺＳＭ−５であり、水熱処理又は熱処理が約６００から約８００℃の範囲の温度で１５分から２時間の間行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ゼオライトがフェリエライトであり、水熱処理又は熱処理が約７００から約９００℃の範囲の温度で１５分から２時間の間行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ＳＣＲ活性鉄含有モレキュラーシーブであって、６００〜９００℃の範囲の温度で５分から２時間の間、蒸気含有非酸化性雰囲気での水熱処理、又は還元性雰囲気での熱処理を受けており、非酸化性雰囲気での水熱処理又は還元性雰囲気での熱処理を行わずに５００℃で２時間か焼された同等の鉄含有モレキュラーシーブより少なくとも５０％大きい、２５０℃におけるＮＨ３又は尿素を用いた窒素酸化物の選択的触媒還元を示す、ＳＣＲ活性鉄含有モレキュラーシーブ。
【請求項６】
モレキュラーシーブが、ＢＥＡ、ＭＦＩ、ＦＥＲ、ＣＨＡ、ＡＦＸ、ＡＥＩ、ＳＦＷ、ＳＡＰＯ−３４、ＳＡＰＯ−５６、ＳＡＰＯ−１８又はＳＡＶ  ＳＡＰＯ  ＳＴＡ−７である、請求項５に記載のＳＣＲ活性鉄含有モレキュラーシーブ。
【請求項７】
異性体シフト（ＣＳ）及び四極子分裂（ＱＳ）を有する３つのダブレットを含むメスバウアースペクトルを有するＳＣＲ活性鉄含有フェリエライトであって、３つのダブレットが、
（ａ）ＣＳ＝０．３５ｍｍ／秒及びＱＳ＝１．０９ｍｍ／秒；
（ｂ）ＣＳ＝０．４４ｍｍ／秒及びＱＳ＝２．１８ｍｍ／秒、及び
（ｃ）ＣＳ＝１．２ｍｍ／秒及びＱＳ＝２．０５ｍｍ／秒であり、
ＣＳ及びＱＳの値が±０．０２ｍｍ／秒である、ＳＣＲ活性鉄含有フェリエライト。
【請求項８】
非酸化性雰囲気で鉄含有モレキュラーシーブに水熱処理又は熱処理を行った後、鉄含有モレキュラーシーブが水熱処理又は熱処理温度から周囲温度まで冷却される期間の少なくとも一部の間、非酸化性雰囲気に酸素を導入することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
水熱処理又は熱処理に供される鉄含有モレキュラーシーブが粉末の形態である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
水熱処理又は熱処理に供される鉄含有モレキュラーシーブが、押出成形された担持されていない触媒又は担体上のコーティングの形態である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
鉄含有モレキュラーシーブが、モレキュラーシーブを鉄塩と接触させることにより調整される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
ＳＣＲ活性鉄含有モレキュラーシーブであって、６００〜９００℃の範囲の温度で５分から２時間の間、蒸気含有非酸化性雰囲気での水熱処理、又は還元性雰囲気での熱処理を受けており、酸素が、鉄含有モレキュラーシーブが水熱処理又は熱処理温度から周囲温度まで冷却される期間の少なくとも一部の間、非酸化性雰囲気に導入され、鉄含有モレキュラーシーブが、非酸化性雰囲気での水熱処理又は還元性雰囲気での熱処理を行わずに５００℃で２時間か焼された同等の鉄含有モレキュラーシーブより少なくとも５０％大きい、２５０℃におけるＮＨ３又は尿素を用いた窒素酸化物の選択的触媒還元を示す、ＳＣＲ活性鉄含有モレキュラーシーブ。
【請求項１３】
鉄含有フェリエライトが、６００〜９００℃の範囲の温度で５分から２時間の間、蒸気含有非酸化性雰囲気での水熱処理、又は還元性雰囲気での熱処理を受けており、非酸化性雰囲気での水熱処理又は還元性雰囲気での熱処理を行わずに５００℃で２時間か焼された同等の鉄含有モレキュラーシーブより少なくとも５０％大きい、２５０℃におけるＮＨ３又は尿素を用いた窒素酸化物の選択的触媒還元を示す、請求項７のＳＣＲ活性鉄含有フェリエライト。