【手続補正書】
【提出日】平成30年6月4日(2018.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造化光パターンを生成するためのシステムであって、前記システムは、
光を生成するレーザアレイであって、同レーザアレイが少なくとも２つのレーザのサブセットにグループ化される複数のレーザを含み、前記少なくとも２つのレーザのサブセットの各々が独立して切り替え可能であるレーザアレイと、
複数のセルを含む光学素子であって、前記複数のセルの各々が、前記レーザアレイの対応するレーザからの光を受承するように、同レーザアレイの対応するサブセットに位置合わせされており、かつ各セルは、局所領域に投影される構造化光パターンの対応する部分を形成するために、同セルを通過する受承された光に変調を個々に、かつ動的に適用し、前記構造化光パターンは、第１の部分と前記第１の部分とは異なる変調を有する第２の部分とを少なくとも含み、前記第１の部分は前記複数のセルの第１のセルによって部分的に生成され、前記第２の部分は前記複数のセルの第２のセルによって部分的に生成され、かつ前記構造化光パターンの前記第１の部分は関心領域に投影される光学素子と、
前記局所領域内の関心領域を決定するために、同局所領域の１つまたは複数の画像を分析するように構成されているコントローラと、
を含むシステム。
【請求項２】
前記変調が、回折変調、屈折変調、回折変調と屈折変調との組み合わせと、からなる群より選択される１つの要素である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも２つのサブセットのうちの前記レーザアレイのサブセットおよびその対応するセルは、単一の成形素子から構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記複数のセルのうちの１つのセルの幅は、１ｍｍ以下である、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記複数のセルの１つまたは複数は、少なくとも１つの捕捉フレームを受承し、かつ分析することに基づいて前記構造化光パターンに対する変更を動的に提供するように制御可能であり、前記フレームは、二次元レイアウト内に複数の画素を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記動的制御は、前記構造化光パターンの第１の部分に増大した解像度を備えた構造化光パターンを適用するように構成可能であり、かつ前記局所領域の第２の部分に低減した解像度を備えた構造化光パターンを適用するように構成可能である、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記構造化光パターンの変更が、光学素子に関連する複数のセルのうちの少なくとも１つのセルにおける変更を含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
前記構造化光パターンの変更が、光学素子に関連する複数のセルのうちの少なくとも１つのセルにおける変更を含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項９】
前記構造化光パターンの変更が、複数のセルのうちの少なくとも１つのセルにおける変更を含む、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記複数のセルは、前記生成された構造化光パターンの位置及び形状に関してさらに制御可能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
構造化光パターンを生成するためのシステムであって、前記システムは、
光を生成するレーザアレイであって、同レーザアレイが少なくとも２つのレーザのサブセットにグループ化される複数のレーザを含み、前記少なくとも２つのレーザのサブセットの各々が独立して切り替え可能であるレーザアレイと、
複数のセルを含む光学素子であって、前記複数のセルの各々が、前記レーザアレイの対応するレーザからの光を受承するように、同レーザアレイの対応するサブセットに位置合わせされており、かつ各セルは、局所領域に投影される構造化光パターンの対応する部分を形成するために、同セルを通過する受承された光に変調を個々に、かつ動的に適用し、前記構造化光パターンは、第１の部分と前記第１の部分とは異なる変調を有する第２の部分とを少なくとも含み、前記第１の部分は前記複数のセルの第１のセルによって部分的に生成され、前記第２の部分は前記複数のセルの第２のセルによって部分的に生成され、かつ前記構造化光パターンの前記第１の部分は関心領域に投影される光学素子と、
前記局所領域の１つまたは複数の画像を捕捉するように構成されているイメージャであって、前記１つまたは複数の画像は前記構造化光パターンの少なくとも一部を含む、イメージャと、
前記局所領域内の関心領域を決定するために、同局所領域の１つまたは複数の画像を分析し、前記１つまたは複数の画像を使用して、三次元空間における１つまたは複数の対象についての深度情報を決定するように構成されているコントローラと、
を含む、システム。
【請求項１２】
前記変調が、回折変調、屈折変調、回折変調と屈折変調との組み合わせと、からなる群より選択される１つの要素である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記少なくとも２つのサブセットのうちの前記レーザアレイのサブセットおよびその対応するセルは、単一の成形素子から構成されている、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記複数のセルのうちの１つのセルの幅は、１ｍｍ以下である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記複数のセルの１つまたは複数は、少なくとも１つの捕捉フレームを受承し、かつ分析することに基づいて前記構造化光パターンに対する変更を動的に提供するように制御可能であり、前記フレームは、二次元レイアウト内に複数の画素を含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記動的制御は、前記構造化光パターンの第１の部分に増大した解像度を備えた構造化光パターンを適用するように構成可能であり、かつ前記局所領域の第２の部分に低減した解像度を備えた構造化光パターンを適用するように構成可能である、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記複数のセルは、前記生成された構造化光パターンの位置及び形状に関してさらに制御可能である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１８】
構造化光パターンを生成するためのシステムであって、前記システムは、
光を生成するレーザアレイであって、同レーザアレイが少なくとも２つのレーザのサブセットにグループ化される複数のレーザを含み、前記少なくとも２つのレーザのサブセットの各々が独立して切り替え可能であるレーザアレイと、
複数のセルを含む光学素子であって、前記複数のセルの各々が、前記レーザアレイの対応するレーザからの光を受承するように、同レーザアレイの対応するサブセットに位置合わせされており、かつ各セルは、局所領域に投影される構造化光パターンの対応する部分を形成するために、同セルを通過する受承された光に変調を個々に、かつ動的に適用し、前記構造化光パターンは、第１の部分と前記第１の部分とは異なる変調を有する第２の部分とを少なくとも含み、前記第１の部分は前記複数のセルの第１のセルによって部分的に生成され、前記第２の部分は前記複数のセルの第２のセルによって部分的に生成され、かつ前記構造化光パターンの前記第１の部分は関心領域に投影される光学素子と、
前記局所領域の１つまたは複数の画像を捕捉するように構成されているイメージャであって、前記１つまたは複数の画像は前記構造化光パターンの少なくとも一部を含む、イメージャと、
前記局所領域内の関心領域を決定するために、同局所領域の１つまたは複数の画像を分析し、前記１つまたは複数の捕捉されたフレームに基づいて１つのまたは複数のレーザの変調を変更するように構成されているコントローラと、を含む、システム。