Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月23日(2018.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミン（２）を、前記アミン（２）の第一級アミノ基に対して化学量論的に過剰なホスゲン（１）と反応させて、それに相当するイソシアネート（４）をもたらす、気相ホスゲン化プラント（１００）の運転方法であって、前記気相ホスゲン化プラント（１００）は、少なくとも
（ｉ）  ホスゲン（１）に加えて不活性物質（３）を含んでもよい気体ホスゲン流（１０）を供給する装置１０００と、
（ｉｉ）  アミン（２）に加えて不活性物質（３）を含んでもよい気体アミン流（２０）を供給する装置２０００と、
（ｉｉｉ）  前記流れ（１０）と（２０）を混合する混合ゾーン（３１００）であって、前記装置１０００および前記装置２０００に装置（１１００、２１００）のそれぞれによって接続される混合ゾーン（３１００）と、
（ｉｖ）  先に混合された前記流れ（１０）および（２０）のさらなる変換のために前記混合ゾーン（３１００）の下流に配置される反応ゾーン（３２００）と、
（ｖ）  反応を終わらせるために前記反応ゾーン（３２００）の下流に配置される反応停止ゾーン（４０００）と、
必要に応じて、
（ｖｉ）  未変換ホスゲン（１“）の回収およびリサイクルのための装置（５１００）と、純粋な形態で調製されたイソシアネートを得るための装置（５２００）とを含んでなる処理部分（５０００）と、
を含んでなるものであり、
前記気相ホスゲン化プラント（１００）は、次のステップ：
（Ｉ）  前記装置２１００、前記混合ゾーン（３１００）、前記反応ゾーン（３２００）、および前記反応停止ゾーン（４０００）を通して気体不活性ガス流（３０）を維持しながら、前記アミンの質量流量Ｍ’（２）をゼロに低減し；
（ＩＩ）  前記気相ホスゲン化プラント（１００）の通常運転において、Ｍ’（２）がゼロになる瞬間から計算して、前記装置１０００よりの流出から前記反応停止ゾーン（４０００）よりの流出までのホスゲン（１）の滞留時間の少なくとも１０倍、好ましくは滞留時間の少なくとも３０倍、より好ましくは滞留時間の少なくとも６０倍、最も好ましくは滞留時間の少なくとも９０倍に相当する時間が経過した後にのみ、前記装置１１００、前記混合ゾーン（３１００）、前記反応ゾーン（３２００）、および前記反応停止ゾーン（４０００）を通して気体不活性ガス流（３０）を維持しながら、前記装置１０００を出るホスゲンの質量流量Ｍ’（１）をゼロに低減し；
（ＩＩＩ）  前記装置１０００を出るホスゲンの前記質量流量Ｍ’（１）がゼロになる瞬間から計算して、前記混合ゾーン（３１００）への流入から前記反応停止ゾーン（４０００）よりの流出までの前記不活性ガス流（３０）の滞留時間の少なくとも３倍、好ましくは１００倍、より好ましくは２００倍、最も好ましくは３５０倍に相当する時間の間、少なくとも（Ｉ）からの前記不活性ガス流（３０）、好ましくは（Ｉ）および（ＩＩ）からの前記不活性ガス流（３０）を維持する、
ステップを運用することによって停止される
ことを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記気相ホスゲン化プラント（１００）は、前記処理部分（５０００）を含み、前記気相ホスゲン化プラント（１００）の通常運転において、前記ホスゲンガス流（１０）における前記ホスゲン（１）は、新しいホスゲン（１’）と前記装置５１００で回収されたリサイクルホスゲン（１”）との混合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アミン質量流量Ｍ’（２）がゼロに低減された後、
（ＩＩ．ａ）  まず、新しいホスゲン（１’）の供給を停止し、次いで、
（ＩＩ．ｂ）  前記気相ホスゲン化プラント（１００）の通常運転において、Ｍ’（２）がゼロになる瞬間から計算して、前記装置１０００よりの流出から前記反応停止ゾーン（４０００）よりの流出までのホスゲン（１）の滞留時間の少なくとも１０倍、好ましくは滞留時間の少なくとも３０倍、より好ましくは滞留時間の少なくとも６０倍、最も好ましくは滞留時間の少なくとも９０倍に相当する時間が経過した後にのみ、前記装置１０００を出るホスゲンの前記質量流量Ｍ’（１）がゼロとなるようにリサイクルホスゲン（１”）の供給もまた停止し、
それとともに、前記装置１１００、前記混合ゾーン（３１００）、前記反応ゾーン（３２００）、および前記反応停止ゾーン（４０００）を通して、気体不活性ガス流（３０）を（ＩＩ．ａ）および（ＩＩ．ｂ）の間維持する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
通常運転中の前記気相ホスゲン化プラント（１００）の運転において、流れ２０における前記アミン（２）の第一級アミノ基に対して化学量論的過剰で、理論の少なくとも１５０％のホスゲン（１）が流れ１０において存在するように、流れ１０と２０の組成および質量流量を互いに対して適合させる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ステップ（Ｉ）において、前記アミン質量流量Ｍ’（２）を、連続的または段階的、好ましくは連続的にゼロに低減させる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ステップ（ＩＩ．ａ）において、新しいホスゲン（１’）の供給を、連続的または段階的、好ましくは連続的にゼロに低減させる、請求項２〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記反応ゾーン（３２００）から流出する気体工程生成物を不活性溶剤に接触させることによって、前記イソシアネート（４）の沸点より低く、前記アミン（２）に相当する塩化カルバモイルの分解温度より高い温度で、前記反応停止ゾーン（４０００）を運転する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記装置１０００を出るホスゲンの前記質量流量Ｍ’（１）がゼロになった後に、前記反応停止ゾーン（４０００）を非運転状態にする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ステップ（Ｉ）における前記不活性ガス流（３０）を前記装置２０００または前記装置２１００に導入し、ステップ（ＩＩ）における前記不活性ガス流（３０）を前記装置１０００または前記装置１１００に導入する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
室温および標準圧力で好ましくは液体であり、前記装置２０００に導入される不活性物質（３）を加熱することによって、ステップ（Ｉ）における前記不活性ガス流（３０）を得、室温および標準圧力で好ましくは液体であり、前記装置１０００に導入される不活性物質（３）を加熱することによって、ステップ（ＩＩ）における前記不活性ガス流（３０）を得る、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記アミン（２）は、イソホロンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ビス（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、トリレンジアミン、およびジフェニルメタンジアミンからなる群より選択される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月11日(2017.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個体のアルツハイマー病を処置するために使用されるための、個体における全身的免疫抑制のレベルの低下を引き起こす活性な薬剤を含む医薬組成物であって、該活性な薬剤は、抗ＰＤ−１抗体、抗ＰＤ−Ｌ１抗体、抗ＴＩＭ−３／ガレクチン９、またはこれらの組み合わせであって、
少なくとも２回の治療過程であって、ただし、それぞれの治療過程が順に、該個体に該医薬組成物が投与される処置期、その後での該個体に該医薬組成物が投与されない非処置期を含む投薬計画によって投与するための医薬組成物。
【請求項２】
前記処置期間が、前記医薬組成物を前記個体に投与することを含み、前記処置期が、少なくとも前記レベルが参照基準よりも低くなるまでは維持され、前記投与することが前記非処置期の期間中は休止され、かつ、前記非処置期が、前記レベルが前記参照基準よりも低い限りは維持される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記参照基準が、
（ａ）前記投与する前における前記個体から得られる最も最近の血液サンプルにおいて測定される調節性Ｔ細胞または骨髄由来サプレッサー細胞の全身的存在または活性のレベル；あるいは
（ｂ）アルツハイマー病に苦しむ個体の集団に特徴的である調節性Ｔ細胞または骨髄由来サプレッサー細胞の全身的存在または活性のレベル
から選択される、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記参照基準が、前記投与する前における前記個体から得られる最も最近の血液サンプルにおいて測定される調節性Ｔ細胞の全身的存在または活性のレベルである、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記処置期が、前記医薬組成物を前記個体に投与することを含み、かつ、前記処置期が、少なくともＩＦＮγ産生白血球の全身的存在またはレベルが参照基準を超えて増大するまでは維持され、そして、前記投与することが前記非処置期の期間中は休止され、かつ、前記非処置期が、前記レベルが前記参照基準を超えている限りは維持され、
ただし、前記参照基準が、
（ａ）前記投与する前における前記個体から得られる直近の血液サンプルにおいて測定されるＩＦＮγ産生白血球の全身的存在または活性のレベル；あるいは
（ｂ）アルツハイマー病に苦しむ個体の集団に特徴的であるＩＦＮγ産生白血球の全身的存在または活性のレベル
から選択される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬組成物であって、前記処置期の該医薬組成物の繰り返し投与が、２日、３日、４日、５日、または６日に１回、１週間に１回、２週間に１回、３週間に１回、または４週間に１回なされる、医薬組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の医薬組成物であって、前記処置期が、１〜４週間の間の長さ、または３日〜４週間の間の長さである、医薬組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の医薬組成物であって、前記非処置期が、処置期の繰り返し投与の間の期間よりも長い、医薬組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の医薬組成物であって、前記非処置期が１週間〜６ヶ月の間での長さ、または２週間〜６ヵ月の間での長さ、あるいは３週間〜６ヵ月の間での長さである、医薬組成物。
【請求項１０】
前記調節性Ｔ細胞が、ＣＤ２５、ＣＤ１２７、ＧＩＴＲ、ＣＴＬＡ−４またはＰＤ−１のうちの１つまたは複数を発現するＦｏｘＰ３＋細胞、あるいは、ＣＤ２５、ＣＤ１２７、ＧＩＴＲ、ＣＴＬＡ−４またはＰＤ−１の表面分子のうちの１つまたは複数を発現するＦｏｘＰ３−細胞から選択されるＣＤ４＋細胞である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記調節性Ｔ細胞がＣＤ４＋ＣＤ２５＋ＦｏｘＰ３＋細胞またはＣＤ４＋ＣＤ２５＋ＦｏｘＰ３−細胞である、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記活性な薬剤が、抗ＰＤ−Ｌ１抗体である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記薬剤が、ＰＤ−１に対して特異的である抗体である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記薬剤が、抗ＴＩＭ−３／ガレクチン９である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記アルツハイマー病の処置が、認知機能の改善をもたらす、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記認知機能が、学習、記憶、心象の創造、思考、認識、推論、空間的能力、発話技能および言語技能、言語習得、及び／または判断注意のための能力である、請求項１５記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月22日(2018.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
【図１】ＧＯ及びｒＧＯ膜を透過する水の透過度を示すグラフである。（Ａ）は、厚さ５００ｎｍのＧＯ及び、異なるｒＧＯ膜で水密囲繞された容器の質量損失を示している。挿入図は、ＨＩ酸−還元されたＧＯの光学写真を示している。（Ｂ）は、ＧＯ及び、異なる方法で還元されたＧＯ膜の水透過度を示すグラフである（矢印（→）は、実験の測定限界を示している）星印は、４０ｎｍの金属化されたＰＥＴの水蒸気透過度である。
【図２】ＰＥＴで被覆されたｒＧＯ膜を透過する水及び気体の透過度を示すグラフである。（Ａ）は、露出されたままの厚さ１２μｍのＰＥＴ、及び３０ｎｍ厚のＨＩ−還元されたＧＯで被覆されたＰＥＴのＨｅ−漏出測定結果を示すグラフである。星印は、５０ｎｍ厚のアスコルビン酸で還元されたＧＯ被覆を透過するＨｅの透過度を示している。下方の挿入図は、光学的透明度が３５％以下で、３０ｎｍ厚のｒＧＯで被覆されたＰＥＴの光学写真である。１００ｎｍ厚のｒＧＯで被覆したＰＥＴの光学的透明度は７％で、２００ｎｍ厚のｒＧＯは、完全に不透明である。（Ｂ）は、ＨＩ−ｒＧＯで被覆したＰＥＴと、露出されたＰＥＴの、Ｈｅ、Ｈ２、及びＨ２Ｏに対する透過度の比較表である（矢印（→）は、実験の測定限界を示している）。菱印は、金属化した４０ｎｍ厚のＰＥＴの水蒸気透過度である。
【図３】ＨＩ−ｒＧＯの塩バリヤー性能を示すグラフである。（Ａ）は、ＨＩ酸による還元前、還元後の、１ＭのＮａＣｌとして供給された側からの、１μ厚のＧＯ膜からのＣｌ−イオンの透過を示している。図３のＡの上方の挿入図は、ＧＯ／ｒＧＯ層を除去した後、５００ｎｍ厚のＧＯ及びｒＧＯで被覆した２９０ｎｍ厚の支持体（１ｃｍ×１ｃｍ）ＳｉＯ２上にＨＦ酸を適下した影響を示す光学写真である。ＧＯ―被覆されたサンプルの中央の白い部分は、ＨＦ酸によるＳｉＯ２の腐食による。図３のＡの下方の挿入図は、ＨＩ−ｒＧＯ被覆された合わせガラス（１μ厚）のペトリ皿の光学写真である。（Ｂ）は、熱還元したＨＩ酸、及びアスコルビン酸で還元したＧＯ膜のＸ線回折写真である。
【図４】１２ｎｍ厚のＰＥＴ上の３０ｎｍ厚のＨＩ−ｒＧＯの場合のＰＥＴに対する光学的透過度を示す。挿入図は、ＰＥＴとｒＧＯ被覆の間の境界付近のＡＦＭ像を示す。ブルーのカーブは、グレーの線に沿った高さのプロファイルである。
【図５】アスコルビン酸−ｒＧＯで被覆した、及び被覆していないブロック（長さ：〜２０ｃｍ）を水が透過した写真である。グラファイト被覆が無いブロックは、水を急速に吸収するが、アスコルビン酸−ｒＧＯで被覆したブロックの場合は、水は、その表面に数時間滞留することができる。
【図６】ＰＶＡ−ＧＯ複合フィルムは、ＧＯラミネートと同じようなバリヤー性能を示すが、機械強度は優れている。ａは、水又は他の液体を充填し、ＨＩにより還元する前後のＰＶＡ−ＧＯの１μｍ厚のフィルムで密封した容器の質量損失を示している。測定は、グロ−ブボックス内、室温で実施した。グリーンのカーブは、ＨＩで還元した後の水の透過を示している。他のカーブは、還元していないＰＶＡ−ＧＯの水の透過を示している。ｂは、ＨＩで還元したＰＶＡ−ＰＶＡ−ＧＯ膜のＸ線回折写真である。
【図７】アスコルビン酸による還元で得られた膜のバリヤー性能に対する還元条件の効果を示すグラフである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
機械的変形及び摩耗が、バリヤー性能に及ぼす影響
バリヤーフィルムの機械的強度は、実用性の観点から、重要である。ｒＧＯフィルムの機械的安定性を定性的に評価するために、異なる方向に１ｍｍ以下の半径で複数回（＞１０）折り畳んだ前後の、ＰＥＴの表面のＨＩ−ｒＧＯのＨｅ試験を行なった。本発明を、同じように変形させた産業−標準フィルム（ＰＥＴ表面にＡｌを被覆したもの）と比較した。複数回折り畳んだ前後の４０ｎｍ厚のＡｌ及び２００ｎｍ厚のＨＩ―ｒＧＯを透過するＨｅの透過度を測定した（ただし、４０ｎｍのＡｌ及び２００ｎｍのＨＩ−ｒＧＯの両者共、１２μｍＰＥＴ上へ積層したものである）。ＡＬフィルムは、２〜３回の折りたたみで、Ｈｅ透過度が増加した。一方、同じ厚さのＨＩ−ｒＧＯは、検知可能な変化を示さなかった。唯一、厚さ≧２００ｎｍのＨＩ−ｒＧＯフィルムだけが、増加したＨｅの漏洩を示した。この場合、得た透過度は、本発明の検知限界の＞１００倍以上であったが、依然として、アルミ化された標準的なＰＥＴを透過するガス透過度より、変形前であっても、かなり低いままであった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
より厚いｒＧＯフィルムを、複数回折り畳んだ後の、ガス透過度の増加は、薄いコーティングと比較して、ＰＥＴに対する蜜着力が弱いことに起因すると考えられる。この考えを支持するために、ＰＥＴを被覆する薄いｒＧＯ及び厚いｒＧＯの両者に簡単な引掻硬度試験を行なった。その結果、ＰＥＴを被覆する薄いｒＧＯコーティング（＜５０ｎｍ）は、ＰＴＦＥ又は木製の棒による引掻きに対して安定であったが、厚いフィルムには、引掻き傷が発生した。ｒＧＯを、他の薄いＰＥＴ又はポリマーフィルムでカプセル化することにより、ガスバリヤーとして使用されている標準的なＡｌフィルムと同じように、傷つき易さ、蜜着力、及び機械的強度が顕著に改良されているものと確信する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
本発明のバリヤーフィルムの透過性能に対する機械的歪みの影響を評価するために、ＰＥＴ膜の全体に差圧を導入して、等方性の歪みを与えた。本発明のＰＥＴフィルムが破断する前に与えることができた最大圧は、約４バール（ｂａｒｓ）であった。従って、バリヤーフィルムに負荷される圧力は、２バール（ｂａｒｓ）と限定した。膜を、この圧力下で３０分間維持し、圧力開放後透過性能実験を行った。Ａｌ及びＨＩ−ｒＧＯで被覆したＰＥＴ、及びＡｌ及びＨＩ−ｒＧＯで被覆していないＰＥＴに対する歪みの影響を比較した。それぞれ歪みを与える前後の被覆していないＰＥＴ、４０ｎｍ厚のＡｌを被覆したＰＥＴ、および＜５０ｎｍ厚のｒＧＯを被覆したＰＥＴを透過するＨｅ透過度を測定した。被覆していないＰＥＴは、高いＨｅ透過性を示したが、歪みを与える前後で、殆ど変化しなかった。産業−標準のアルミ化したＰＥＴは、歪みを与えた後、Ｈｅに対して１０倍以上の透過度を示した。これは、被覆していないＰＥＴに近い透過度である。このことは、この歪み試験が、ガスバリヤーとしてのＡｌフィルムを十分破壊したことを示している。ＰＥＴをＨＩ−ｒＧＯで被覆し歪みを与えたＰＥＴの場合、Ｈｅの透過性が１０倍増加していることを観察したが、歪みを与える前のアルミ化されたＰＥＴシートに比べて、透過度は非常に低いままであった。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月12日(2018.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炎症性貧血の処置に使用するためのパリカルシトールであって、投与されるパリカルシトールの用量は５−１０μｇ／週の間で含まれる、ことを特徴とするパリカルシトール。
【請求項２】
投与されるパリカルシトールの用量は１μｇ／日である、ことを特徴とする請求項１に記載のパリカルシトール。
【請求項３】
投与されるパリカルシトールの用量は週に２回で５μｇである、ことを特徴とする請求項１に記載のパリカルシトール。
【請求項４】
エポエチンアルファ、エポエチンベータ、エポエチンデルタ；エポエチンゼータ、Ｄａｒｂｅｐｏｅｔｉｎアルファ、及び／又はＣＥＲＡの何れかの中から選択される少なくとも１つの化合物と組み合わせて使用される、請求項１乃至３の何れか１つに記載のパリカルシトール。
【請求項５】
内因性エリスロポイエチンの合成の増加の誘発に使用されるパリカルシトールであって、投与されるパリカルシトールの用量は５−１０μｇ／週の間で含まれる、ことを特徴とするパリカルシトール。
【請求項６】
エポエチンアルファ、エポエチンベータ、エポエチンデルタ；エポエチンゼータ、Ｄａｒｂｅｐｏｅｔｉｎアルファ、及び／又はＣＥＲＡの中から選択される少なくとも１つの化合物と組み合わせられるパリカルシトール、及び薬学的に許容可能なビヒクル又は賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項７】
エポエチンベータ及び／又はＣＥＲＡの中から選択される化合物と組み合わせられるパリカルシトール、及び薬学的に許容可能なビヒクル又は賦形剤を含む、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
炎症性貧血の処置に使用され；
投与されるパリカルシトールの用量は５−１０μｇ／週の間で含まれる
ことを特徴とする請求項６又は７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
パリカルシトールの用量は１μｇ／日である、ことを特徴とする請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
パリカルシトールの用量は週に２回で５μｇである、ことを特徴とする請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
炎症性貧血の処置のための薬の製造における、請求項６又は７に記載の医薬組成物の使用であって；投与されるパリカルシトールの用量は５−１０μｇ／週の間で含まれる、使用。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月26日(2018.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の細胞を含む組織サンプルのイメージング方法であって：
（ｉ）組織サンプル中の少なくとも４つの異なる標的分子を異なる標識原子で標識し、標識された組織サンプルをもたらすステップ；
（ｉｉ）該標識された組織サンプルの複数種の細胞に異なる複数の既知の位置で細胞内レベルの分解能でのレーザアブレーションを行い、複数のプルームを形成するステップ；および
（ｉｉｉ）プルームに誘導結合プラズマ質量分析を行い、それによって該プルーム中の標識原子の検出が該組織サンプルの画像の構築を可能にするステップ；
を含む、方法。
【請求項２】
前記画像が２μｍ未満の分解能を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記画像が細胞内レベルの分解能を有し、前記組織サンプルのレーザアブレーションが少なくとも１０Ｈｚの周波数で行われる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記レーザアブレーションが０．２〜２μｍの範囲内のレーザスポットサイズを用いる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記レーザアブレーションが１００ｍｓ以下のウォッシュアウト時間を有するアブレーションセルにおいて行われる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記レーザアブレーションが（ｉ）３０ｍｓ以下のウォッシュアウト時間を有するアブレーションセルにおいて（ｉｉ）少なくとも２０Ｈｚの周波数で行われる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記レーザが２〜５Ｊ／ｃｍ２のフルエンスを有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記レーザがエキシマレーザまたはエキサイプレックスレーザである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
異なる原子質量を有する少なくとも２０個（例えば、少なくとも３０個、または少なくとも５０個）の異なる標識原子が用いられる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記標識原子が標識前の前記組織サンプルには実質的に存在しない、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記標識原子がランタニドのような遷移金属である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記標識原子が８０〜２５０の範囲内の原子質量を有する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記質量分析のステップが飛行時間検出を用いる、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記標的分子が金属コンジュゲート抗体および／または金属コンジュゲート核酸プローブで標識されている、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも１つの細胞内標的および少なくとも１つの細胞表面標的が標識される、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記組織サンプルが、腫瘍に由来するか、または腫瘍細胞を含有する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記組織サンプルが切片である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記レーザアブレーションがラスタ走査により行われる、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
前記ラスタ走査が前記レーザスポットサイズと実質的に同じステップサイズを有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記組織サンプル中の個別の細胞が区画されている、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記標的分子が定量化される、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記組織サンプルがレーザアブレーション前に顕微鏡観察により分析される、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
組織サンプルを異なる原子質量を有する４つ以上の遷移金属（例えば、希土類金属）での標識する方法。
【請求項２４】
組織サンプルのイメージングの代わりに、接着性細胞の単層をイメージングするため、または固体表面上に固定化した細胞をイメージングするための、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月29日(2018.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材；
複数の活性粒子；及び
前記活性粒子に化学的に結合した材料；
を含む活性粒子結合システムであって、
前記基材が、複数のポリマー鎖を含む予め膨潤した基材を含み、
前記活性粒子に化学的に結合した前記材料が、前記基材中に拡散されており、前記複数のポリマー鎖の少なくとも一部に微視的な絡み合いにより付着している、
活性粒子結合システム。
【請求項２】
さらに、前記基材中に存在する前記複数のポリマー鎖内に自由容積を含む、請求項１に記載の活性粒子結合システム。
【請求項３】
前記複数のポリマー鎖間の容積が、前記基材が膨潤状態から非膨潤状態に移る際に減少する、請求項２に記載の活性粒子結合システム。
【請求項４】
前記活性粒子に化学的に結合した前記材料が、前記予め膨潤した基材と混和性である、請求項１に記載の活性粒子結合システム。
【請求項５】
染色プロセス中に、前記予め膨潤した基材が、前記複数の活性粒子及び前記材料のうちの少なくとも１つに付着した、請求項１に記載の活性粒子結合システム。
【請求項６】
１又は２個以上の活性粒子に材料を化学的に結合させる工程；
繊維を膨潤させる工程；
前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合した材料を、膨潤した前記繊維中に拡散させる工程；
膨潤した前記繊維の容積を非膨潤基材に減少させる工程；及び
前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合した前記材料を前記繊維に機能的にカップリングさせて、非膨潤基材及び１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合した前記材料を有する繊維を形成する工程；
を含む方法であって、
前記非膨潤基材が複数のポリマー鎖を含み、
前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合した前記材料が、前記非膨潤基材中に拡散されており、前記複数のポリマー鎖の少なくとも一部に微視的な絡み合いにより付着している、
方法。
【請求項７】
前記１又は２個以上の活性粒子に材料を化学的に結合させる工程が、
前記繊維を膨潤させる前に前記１又は２個以上の活性粒子に前記材料を化学的に結合させること；及び
前記繊維の膨潤中に前記１又は２個以上の活性粒子に前記材料を化学的に結合させること；
のうちの一方を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記繊維を膨潤させる工程が、前記繊維を染色するための超臨界ＣＯ２プロセス中に起こる、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記繊維を膨潤させる工程が、前記繊維を染色するための分散プロセス中に起こる、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合された前記材料が、１又は２個以上の長鎖基を含み、
前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合された前記材料を前記膨潤した繊維中に拡散させる工程が、前記膨潤した繊維中への拡散のための前記１又は２個以上の活性粒子及び前記１又は２個以上の長鎖基を前記１又は２個以上の活性粒子及び前記１又は２個以上の長鎖基のサイズにより自動的に選択することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記膨潤した繊維中への拡散のための前記１又は２個以上の長鎖基を前記１又は２個以上の長鎖基のサイズにより自動的に選択することが、前記膨潤した繊維中の１又は２つ以上の領域にフィットするのに適合したサイズの前記１又は２個以上の活性粒子を受容することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記膨潤した繊維中の前記１又は２つ以上の領域が、前記１又は２個以上の活性粒子及び前記１又は２個以上の長鎖基を受容するのに適合する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記膨潤した繊維の容積を減少させる工程が、複数の繊維粒子間の空間を減少させることを含み、
前記繊維がポリエステルを含み、
前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合した前記材料が、セルロース、ポリエーテル、変性ポリアクリル、末端官能性アミン基、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリアクリル、ポリプロピレン、ポリウレタン（脂肪族及び芳香族）、アラミド及びポリアミドのうちの１又は２以上に関連する少なくとも１つの末端官能性長鎖基を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１４】
前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合した前記材料が、ポリエーテルに関連する少なくとも１つの末端官能性長鎖基を含み、
さらに、
前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合した前記材料を使用して前記ポリエーテルを前記繊維に付着させる工程、
を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記１又は２個以上の活性粒子が第１の活性粒子及び第２の活性粒子を含み、
前記第１の活性粒子が、前記繊維中への前記１又は２個以上の活性粒子に化学的に結合した前記材料の拡散を経て前記繊維にカップリングした活性粒子を含み、
前記第２の活性粒子が、前記繊維中への前記第２の活性粒子の拡散を経て前記繊維にカップリングした活性粒子を含み、
前記第１の活性粒子が、周囲環境に曝される第１の表面領域を含み、
前記第２の活性粒子が、前記周囲環境に曝される第２の表面領域を含み、
前記第１の表面領域が前記第２の表面領域よりも大きい、請求項６に記載の方法。
【請求項１６】
１又は２以上の繊維を含む繊維材料であって、前記１又は２以上の繊維が、
基材を有する繊維、
複数の活性粒子、
前記複数の活性粒子に化学的に結合した材料、
を含み、
前記基材が、複数のポリマー鎖を含む予め膨潤した基材を含み、
前記複数の活性粒子に化学的に結合した前記材料が、前記基材中に拡散されており、前記複数のポリマー鎖の少なくとも一部に微視的な絡み合いにより付着している、繊維材料。
【請求項１７】
前記複数の活性粒子及び前記複数の活性粒子に化学的に結合した前記材料のうちの少なくとも１つが繊維材料染色プロセス中の前記基材の膨潤の際の拡散を経て前記基材にカップリングされており、
前記複数の活性粒子に化学的に結合した前記材料が反応性基を含む、請求項１６に記載の繊維材料。
【請求項１８】
前記染色プロセスが超臨界ＣＯ２染色プロセスを含み、前記繊維がポリマー材料を含む、請求項１７に記載の繊維材料。
【請求項１９】
前記反応性基が、セルロース、ポリエーテル、変性ポリアクリル、末端官能性アミン基、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリアクリル、ポリプロピレン、ポリウレタン（脂肪族及び芳香族）、アラミド及びポリアミドのうちの１又は２以上に関連する末端官能性長鎖基のうちの少なくとも１つを含む、請求項１７に記載の繊維材料。
【請求項２０】
前記末端官能性アミン基が複数の長鎖基を含み；
前記長鎖基の少なくとも１つが前記複数の活性粒子に化学的に結合しており；及び
前記基材中への前記長鎖基の少なくとも１つの拡散が起こる、請求項１９に記載の繊維材料。
【請求項２１】
前記活性粒子が前記基材にカップリングされている、請求項１６に記載の繊維材料。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月9日(2018.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の成分及び第２の成分を含む多成分繊維であって、前記第１の成分の少なくとも一部は不透明かつ微多孔性であり、前記第２の成分は前記第１の成分とは異なる、多成分繊維。
【請求項２】
前記第１の成分は、不透明かつ微多孔性の前記部分よりも多孔率が低いシースルー領域を更に含む、請求項１に記載の多成分繊維。
【請求項３】
不透明かつ微多孔性の領域及び多孔率が低いシースルー領域を備える、繊維。
【請求項４】
前記第１の成分又は前記繊維はβ核剤を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の多成分繊維又は繊維。
【請求項５】
複数の繊維を含む繊維ウェブであって、
前記複数の繊維の第１の部分が不透明かつ微多孔性である少なくとも１つの第１の領域と、
前記複数の繊維の第２の部分が、前記第１の部分よりも多孔率が低いシースルー領域を形成する少なくとも１つの第２の領域と
を備える、繊維ウェブ。
【請求項６】
前記繊維ウェブは、第１の層及び第２の層を含む積層体の第１の層であり、前記第２の層の一部は、前記複数の繊維の前記第２の部分を介して見える、請求項５に記載の繊維ウェブ。
【請求項７】
トップシート、バックシート、前記トップシートと前記バックシートとの間にある吸収性成分を含むシャーシを備える個人用衛生物品であって、請求項５又は６に記載の繊維ウェブを含む、個人用衛生物品。
【請求項８】
トップシート、バックシート、前記トップシートと前記バックシートとの間にある吸収性成分を含むシャーシを備える個人用衛生物品であって、前記個人用衛生物品が繊維を含み、前記繊維の少なくとも一部が不透明かつ微多孔性である、個人用衛生物品。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月16日(2018.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デッキ、例えばテラス、を形成するために並置されるスラット（１）を取り外し可能に固定するためのシステムであって、平坦な床上に、又は、前記スラット（１）の軸に垂直に方向付けられたジョイスト若しくは床板受支持体（２０）上に列を成して配置される留め具（３）を含み、前記留め具（３）が前記スラット（１）に対する締結手段を含むシステムにおいて、
前記システムは、平坦な床に対して平行に配置された、又は、ジョイスト又は床板受タイプの各支持体（２０）につき１つの不浸透性チャネル（２）の割合で配置され、それにより前記支持体（２０）の上面を覆う複数の不浸透性チャネル（２）を含み、取り外し可能な締結手段及び位置決め手段が、前記チャネル（２）上、及び、フレキシブルな弾性材料から作られた留め具（３）上に設けられ、前記位置決め手段が、前記チャネル（２）の軸方向における遊びを許容することを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１に記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
各チャネル（２）が、２つの側部ガイドウェイ（２２、２３）であって、各留め具（３）の長手方向端近くで各留め具（３）のソールプレート（４）から突出するフックを形成する少なくとも２つのタブ（１０）と協働するように構成された２つの側部ガイドウェイ（２２、２３）を含み、前記タブは、前記ソールプレート（４）が前記チャネル（２）の上面に置かれている時に、前記ガイドウェイ（２２、２３）内に弾性的にクリップすることを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項２に記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
前記タブ（１０）は、前記ソールプレート（４）内に形成された矩形開口部（８）の縁を接続する横材（９）から延び、前記横材（９）は前記チャネル（２）の軸に沿って方向付けられていることを特徴とするシステム。
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
前記タブ（１０）は、フック（１１）を構成する突出チャネルを自由端に備える面とは反対側の面上に、フィン（１５）を含み、フィン（１５）の下部チャネルは、前記ソールプレート（４）から突出し、更には、矩形状の切り欠き（１６）を備えることを特徴とするシステム。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
前記位置決め手段は、各留め具（３）のソールプレート（４）を通過して突出する少なくとも２つのスタッド（１３）であって、前記チャネル（２）の上面に設けられた２つの位置決め孔（２４）内に挿入されるように設けられたスタッド（１３）を含み、前記スタッド（１３）は、それぞれ、前記留め具（３）の縦方向（長手方向）及び横方向の２つの正中面の一方の側に位置していることを特徴とするシステム。
【請求項６】
請求項３から請求項５のいずれか１項に記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
それぞれが、前記ソールプレートの開口部（８）の第１縁であって、一方では前記チャネル（２）の軸と平行であり、他方では前記留め具（３）の横方向正中面に近接する、前記ソールプレートの開口部（８）の第１縁に、舌（１４）によって接続される２つのスタッド（１３）が存在し、各スタッド（１３）は、前記第１縁に垂直な前記開口部（８）の第２縁の近くに置かれていることを特徴とするシステム。
【請求項７】
請求項４、請求項４を引用する請求項５、又は請求項４を引用する請求項６記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
前記チャネル（２）の上面は、前記留め具（３）が載る平坦な中央レール（１７）を含み、前記ソールプレート（４）の下面からの前記タブ（１０）及びフィン（１５）の突出部と少なくとも等しいチャネル（２）の上面からの距離に置かれたれた２つの横平面部分上に、前記留め具（３）が位置することを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
前記チャネル（２）は、横方向において、垂直支持面（２０）の一部を覆うことが可能な返しを備えることを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項７、又は、請求項７を引用する請求項８に記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
実質矩形状の断面を有する中央軸方向溝（１８）が前記中央レール（１７）の上面に形成され、前記中央軸方向溝（１８）は、その対向垂直壁に前記チャネル（２）の表面と平行に方向付けられた線状螺子切りを備えることを特徴とするシステム。
【請求項１０】
請求項５又は請求項６に記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
前記チャネル（２）の上面は、前記留め具（３）が載る平坦な中央レール（１７）を含み、
実質矩形状の断面を有する中央軸方向溝（１８）が前記中央レール（１７）の上面に形成され、
前記チャネル（２）の前記中央レール（１７）は、前記中央軸方向溝（１８）の両側に、前記スタッド（１３）の直径と少なくとも等しい幅の矩形断面を有する２つのサイド溝（１９、２１）を含み、前記サイド溝の上部開口部は、スロットによって分離された凹状リムにより部分的に閉鎖されており、前記サイド溝には、前記スタッド（１３）用の位置決め開口部（２４）が形成されていることを特徴とするシステム。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０記載の並置されるスラット（１）を固定するためのシステムであって、
前記留め具（３）は、前記中央軸方向溝（１８）に対する、前記チャネル（２）の横方向における中心に置かれた貫通開口部（１２）を備えることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月14日(2018.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽電子放射断層撮影（ＰＥＴ）イメージングにおける１つ又は複数の欠落画素を補償するためのシステムであって、
対象者の標的ボリュームを表すＰＥＴデータを受信することであって、前記ＰＥＴデータは１つ又は複数の欠落画素についてデータが欠落している、前記ＰＥＴデータを受信すること、及び
受信される前記ＰＥＴデータから前記欠落画素のＰＥＴデータを推定すること
を行う画素補償プロセッサを含む、
システムにおいて、
前記受信されるＰＥＴデータが各リスト項目における同時事象を表すリストモードデータであるか、又は
前記受信されるＰＥＴデータが同時事象から生成されるサイノグラムデータである
ことを特徴とする、システム。
【請求項２】
前記画素補償プロセッサが、
近傍画素のＰＥＴデータを複製すること、及び
複製ＰＥＴデータ内の前記近傍画素の位置を前記欠落画素の位置と置き換えること
によって前記欠落画素の１つに対するに対する前記ＰＥＴデータを推定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記受信されるＰＥＴデータが各リスト項目における同時事象を表すリストモードデータであり、前記複製ＰＥＴデータは前記受信されるＰＥＴデータのリスト項目である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記画素補償プロセッサが、
前記欠落画素の近くにあり、前記受信されるＰＥＴデータ内に含まれる画素のＰＥＴデータの部分集合を確率的に選択すること、
選択されたＰＥＴデータの部分集合を複製し又は加重結合すること、及び
複製され又は加重結合されたＰＥＴデータ内の前記近傍画素の位置を前記欠落画素の位置と置き換えること
によって前記欠落画素の１つに対する前記ＰＥＴデータを推定する、請求項１乃至３の何れか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記受信されるＰＥＴデータがサイノグラムデータであり、前記画素補償プロセッサが、前記サイノグラム領域内の前記欠落画素の前記ＰＥＴデータを推定する、請求項１乃至４の何れか一項に記載のシステム。
【請求項６】
前記サイノグラム領域が飛行時間（ＴｏＦ）のディメンションを含む、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記画素補償プロセッサが、
前記欠落画素に関連する前記サイノグラム領域内の各離散位置の値を近くの位置の値から補間すること
によって前記欠落画素の１つに対する前記ＰＥＴデータを推定する、請求項１乃至６の何れか一項に記載のシステム。
【請求項８】
陽電子放射断層撮影（ＰＥＴ）イメージングにおける１つ又は複数の欠落画素を補償するための方法であって、前記方法は、
対象者の標的ボリュームを表すＰＥＴデータを受信するステップであって、前記ＰＥＴデータは１つ又は複数の欠落画素についてデータが欠落している、前記ＰＥＴデータを受信するステップと、
受信される前記ＰＥＴデータから前記欠落画素のＰＥＴデータを推定するステップと
を含む、方法において、
前記受信されるＰＥＴデータが各リスト項目における同時事象を表すリストモードデータであるか、又は
前記受信されるＰＥＴデータが同時事象から生成されるサイノグラムデータである
ことを特徴とする、方法。
【請求項９】
前記推定するステップが、
前記欠落画素の１つの近傍画素のＰＥＴデータを複製するステップと、
複製ＰＥＴデータ内の前記近傍画素の位置を前記欠落画素の位置と置き換えるステップと
を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記受信されるＰＥＴデータが各リスト項目における同時事象を表すリストモードデータであり、前記複製ＰＥＴデータは前記受信されるＰＥＴデータのリスト項目である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記推定するステップが、
前記欠落画素の１つの近くにあり、前記受信されるＰＥＴデータ内に含まれる画素のＰＥＴデータの部分集合を確率的に選択するステップと、
選択されたＰＥＴデータの部分集合を複製し又は加重結合するステップと、
複製ＰＥＴデータ内の前記近傍画素の位置を前記欠落画素の位置と置き換えるステップと
を含む、請求項８乃至１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記受信されるＰＥＴデータがサイノグラムデータであり、前記方法が、
前記サイノグラム領域内の前記欠落画素の前記ＰＥＴデータを推定するステップ
を更に含む、請求項８乃至１１の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記サイノグラム領域が飛行時間（ＴｏＦ）のディメンションを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記推定するステップが、
前記欠落画素に関連する前記サイノグラム領域内の各離散位置の値を近くの位置の値から補間するステップ
を含む、請求項８乃至１３の何れか一項に記載の方法。
【請求項１５】
請求項８乃至１４の何れか一項に記載の方法を実行するようにプログラムされていることを特徴とする、少なくとも１個のプロセッサ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月7日(2018.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液相に分散した化学種を含む試料についての分光試料構造調査のための装置であって、
前記試料を保持する試料ホルダと、
前記試料ホルダに保持された試料を照射するためのレーザ光源と、
前記試料ホルダに保持された試料中の複数のマーカー粒子の動きを検出するように配置された粒子運動検出器と、
前記レーザ光源による照射から生じる前記試料からのスペクトルを受け取るように配置されたスペクトル検出器と
を備える装置。
【請求項２】
前記スペクトル検出器及び前記粒子運動検出器の両方から前記試料中の分散した化学種の少なくとも１つの特性を抽出するための手段をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記スペクトルがラマンスペクトルであり、前記スペクトル検出器が前記試料からのラマン散乱光を受け取るように構成される、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
分散した化学種のスペクトルを前記分散した化学種の少なくとも１つのレオロジー特性に関連付ける、記憶されたコンピュータ可読モデルと、前記記憶されたコンピュータ可読モデル及び前記スペクトル検出器の出力に応じて前記試料ホルダ内の前記試料に関する少なくとも１つの予測されるレオロジー特性値を導出する予測論理回路とをさらに備える、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記コンピュータ可読モデルが多変量モデルである、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
ｉ）前記粒子運動検出器に対応するレオロジー情報抽出論理回路及び前記スペクトル検出器に対応するスペクトル情報抽出論理回路、ｉｉ）前記粒子運動検出器及び前記スペクトル検出器の両方に対応する情報抽出論理回路、ならびに、ｉｉｉ）前記粒子運動検出器及び前記スペクトル検出器の両方に対応するタンパク質特性抽出論理回路、のうち少なくとも１つをさらに備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記粒子運動検出器が、光検出器に接続された光ファイバを備える、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記試料ホルダが、前記試料に対して透過性であるが前記マーカー粒子に対して非透過性である隔壁によって分離されたマーカーのない試料体積とマーカーを有する試料体積とを含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記隔壁が、前記マーカーを有する試料体積を閉鎖された体積として画定する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記スペクトル検出器が、約０〜４００ｃｍ−１であるスペクトル特徴範囲内の周波数を検出するように動作する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記試料の所定の特性に関連したスペクトル特徴を検出するように動作するスペクトル識別論理回路をさらに備える、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記スペクトル識別論理回路が、
溶媒−溶質相互作用に関連する少なくとも１つのスペクトル特徴を検出する、
溶質−溶質相互作用に関連する少なくとも１つのスペクトル特徴を検出する、かつ／あるいは、
前記試料中の水素結合に関連する少なくとも１つのスペクトル特徴を識別する
ように動作する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記粒子運動検出器が、前記試料におけるレーザ光源からの光の散乱を検出するように配置されているか、又は、前記装置がレーザ光源をさらに備え、前記粒子運動検出器が、前記試料における前記さらなるレーザ光源からの光の散乱を検出するように配置されている、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
前記スペクトル検出器に対応する前記分散した化学種の安定性の測定値、
前記スペクトル検出器に対応するタンパク質の安定性の測定値、及び／又は
前記スペクトル検出器に対応する品質管理測定値
を決定するための論理回路をさらに備える、請求項１１に記載の装置。
【請求項１５】
前記試料と前記スペクトル検出器との間の光路に配置された単一のスペクトル特徴バンドパスフィルタをさらに備え、前記スペクトル検出器が、前記所定の特性の１つに関する情報を含む、前記フィルタの通過帯域のエネルギーの量を測定するように動作する、請求項１１、１２、及び１４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記試料と前記スペクトル検出器との間の光路にそれぞれ配置された複数のスペクトル特徴バンドパスフィルタをさらに備え、前記スペクトル検出器が、前記所定の特性の１つに関する情報を含む、前記フィルタの各通過帯域のエネルギーの量を測定するように動作する、請求項１１、１２、１４、及び１５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１７】
液相に分散した化学種を含む試料の分光構造調査方法であって、
前記試料を提供する工程と、
前記試料にマーカー粒子を提供する工程と、
光源を用いて前記試料を照射する工程と、
前記試料中の分散した化学種から光を受け取る工程と、
受け取った光から、前記試料中の分散した化学種からのスペクトルを検出する工程と、
前記試料中のマーカー粒子の動きを検出する工程と、
前記スペクトルを検出する工程及び前記粒子の動きを検出する工程の両方から前記試料中の分散した化学種の少なくとも１つの特性を抽出する工程と
を含む方法。
【請求項１８】
前記試料を照射する工程が前記試料を励起することを含み、
前記光を受け取る工程がラマン散乱光を受け取ることを含み、
前記スペクトルがラマンスペクトルである、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年3月12日(2018.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波（ＲＦ）および直流（ＤＣ）電力を電極に結合させるためのキャパシタアセンブリであって、
ＲＦ電源からのＲＦ電力を受け取るための第１の導電性プレートであり、中心孔を含む、第１の導電性プレートと、
前記第１の導電性プレートに結合され、前記中心孔を囲む少なくとも１つのキャパシタと、
前記少なくとも１つのキャパシタを介して前記第１の導電性プレートに電気的に結合された第２の導電性プレートであり、ＤＣ電源からのＤＣ電力を受け取るための入力タップと、前記ＲＦおよびＤＣ電力を電極に結合させるための少なくとも１つの出力タップとを含む、第２の導電性プレートと
を含む、キャパシタアセンブリ。
【請求項２】
前記第１の導電性プレートが円形である、請求項１に記載のキャパシタアセンブリ。
【請求項３】
前記少なくとも１つのキャパシタが、チューブラキャパシタである、請求項１または２に記載のキャパシタアセンブリ。
【請求項４】
前記少なくとも１つのキャパシタが、前記中心孔のまわりに放射状に配設された複数のキャパシタである、請求項１または２に記載のキャパシタアセンブリ。
【請求項５】
中間導電性プレートと、
前記中間導電性プレートに結合された第２の複数のキャパシタと
をさらに含み、
前記複数のキャパシタが、前記第１の導電性プレートと前記中間導電性プレートとの間に配設され、
前記第２の複数のキャパシタが、前記中間導電性プレートと前記第２の導電性プレートとの間に配設される、請求項４に記載のキャパシタアセンブリ。
【請求項６】
前記ＲＦ電力を前記第１の導電性プレートに結合させるための第３の導電性プレート
をさらに含み、
前記第１の導電性プレートの前記中心孔は、ねじが切られて、対応してねじが切られているボルトを受け取り、それによって、前記第３の導電性プレートを前記第１の導電性プレートに結合させる、請求項１または２に記載のキャパシタアセンブリ。
【請求項７】
前記第１の導電性プレートが、前記第３の導電性プレートと前記第１の導電性プレートとの間の表面接触を増加させるためにガスケットを収容する溝を含む、請求項６に記載のキャパシタアセンブリ。
【請求項８】
前記少なくとも１つの出力タップが複数の出力タップを含む、請求項１または２に記載のキャパシタアセンブリ。
【請求項９】
前記複数の出力タップの各々が、それぞれの電極に結合される、請求項８に記載のキャパシタアセンブリ。
【請求項１０】
少なくとも１つの電極を含む基板支持体と、
前記少なくとも１つの電極に電気的に結合された少なくとも１つのキャパシタアセンブリであり、請求項１から９までのいずれかに記載の前記キャパシタアセンブリを含む、少なくとも１つのキャパシタアセンブリと
を含む基板支持アセンブリ。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの電極に結合された直流（ＤＣ）電源
をさらに含む、請求項１０に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１２】
前記ＤＣ電源が、前記第２の導電性プレートの前記入力タップを介して前記少なくとも１つの電極に結合される、請求項１１に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１３】
前記第１の導電性プレートに結合された高周波（ＲＦ）電源
をさらに含む、請求項１０に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１４】
前記キャパシタアセンブリと前記ＲＦ電源との間に配設されたＲＦマッチングネットワーク
をさらに含む、請求項１３に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１５】
前記基板支持アセンブリが静電チャックである、請求項１０から１４までのいずれかに記載の基板支持アセンブリ。