【手続補正書】
【提出日】平成30年3月8日(2018.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また、鉄含有促進剤としては、鉄含有活性化剤（例えば、鉄ラジカル生成化合物）または例えば、米国特許第7,029,508号および第7,077,880号明細書中に開示されたような、コロイド状シリカ粒子の表面に結合された（例えば、被覆されたまたは結合された）鉄含有触媒を挙げることができる。例えば、鉄含有促進剤は、コロイド状シリカ粒子の表面上のシラノール基と結合されていることができる。１つの態様では、鉄含有促進剤は、ホウ素含有安定剤および鉄含有触媒を含むことができる。そのような態様では、安定剤および触媒は、コロイド状シリカ粒子上の利用可能な表面サイトの実質的にいずれかのパーセント、例えば、利用可能な表面サイトの１％超、５０％超、または８０％超、を占めることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水系の液体キャリア；
該液体キャリアに分散された第１のシリカ研磨剤、該第１のシリカ研磨剤は、少なくとも１０ｍＶの永久的な正の電荷を有するコロイド状シリカ研磨剤である；ならびに、
該液体キャリアに分散された第２のシリカ研磨剤、該第２のシリカ研磨剤は、中性の電荷または非永久的な正の電荷を有している、
を含んでなる化学機械研磨組成物。
【請求項２】
前記第１のシリカ研磨剤が、少なくとも２０ｍＶの永久的な正の電荷を有する、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記第１のシリカ研磨剤が、アミノシラン化合物を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
前記アミノシラン化合物が、プロピル基含有アミノシランである、請求項３記載の組成物。
【請求項５】
前記アミノシラン化合物が、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリアルコキシシラン、ジエチルアミノメチルトリアルコキシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−アミノプロピル)トリアルコキシシラン）、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノプロピルトリアルコキシシラン、アミノプロピルトリアルコキシシラン、（２−Ｎ−ベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピルトリアルコキシシラン）、トリアルコキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロリド、Ｎ−（トリアルコキシシリルエチル）ベンジル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロリド、（ビス（メチルジアルコキシシリルプロピル）−Ｎ−メチルアミン、ビス（トリアルコキシシリルプロピル）尿素、ビス（３−（トリアルコキシシリル）プロピル）−エチレンジアミン、ビス（トリアルコキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリアルコキシシリルプロピル）アミンおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項３記載の組成物。
【請求項６】
前記第２のシリカ研磨剤が、１０ｍＶ未満の非永久的な正の電荷を有する、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
（ａ）前記第１のシリカ研磨剤が、アミノシラン化合物を含み、かつ、
（ｂ）前記第２のシリカ研磨剤が、化学式Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｎ＋Ｘ−を有するアンモニウム塩または化学式Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋Ｘ−を有するホスホニウム塩と接触しており、ここでＮは窒素を表し、Ｐはリンを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立してＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、そしてＸはアニオンを表す、
請求項１記載の組成物。
【請求項８】
前記第２のシリカ研磨剤の平均粒子径が、前記第１のシリカ研磨剤の平均粒子径に対して少なくとも２０ナノメートル異なっている、請求項１記載の組成物。
【請求項９】
前記第２のシリカ研磨剤の前記の平均粒子径が、前記第１のシリカ研磨剤の前記平均粒子径よりも少なくとも２０ナノメートル大きい、請求項８記載の組成物。
【請求項１０】
（ａ）前記第１のシリカ研磨剤の前記平均粒子径が、２０〜１１０ナノメートルの範囲であり、かつ、
（ｂ）前記第２のシリカ研磨剤の前記平均粒子径が、９０〜１８０ナノメートルの範囲である、
請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
前記第２のシリカ研磨剤が、熱分解法シリカ（pyrogenic silica）である、請求項１記載の組成物。
【請求項１２】
前記第２のシリカ研磨剤が、コロイド状シリカである、請求項１記載の組成物。
【請求項１３】
（ａ）前記第１のシリカ研磨剤が、コロイド状シリカ研磨剤粒子を含み、該コロイド状シリカ研磨剤粒子の５０％以上が、２つもしくは３つ以上が凝集された一次粒子を含み、かつ、
（ｂ）前記第２のシリカ研磨剤が、コロイド状シリカ研磨剤粒子を含み、該コロイド状シリカ研磨剤粒子の５０％以上が、２つもしくは３つ以上が凝集された一次粒子を含む、
請求項１記載の組成物。
【請求項１４】
１．５〜５の範囲のｐＨを有する、請求項１記載の組成物。
【請求項１５】
鉄含有促進剤を更に含む、請求項１記載の組成物。
【請求項１６】
前記鉄含有促進剤が、溶解性の鉄含有種を含み、かつ、前記組成物が、該溶解性の鉄含有種に結合された安定剤を更に含み、該安定剤が、酢酸、リン酸、フタル酸、クエン酸、アジピン酸、シュウ酸、マロン酸、アスパラギン酸、コハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、グルタコン酸、ムコン酸、エチレンジアミン四酢酸、プロピレンジアミン四酢酸、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１５記載の組成物。
【請求項１７】
過酸化水素酸化剤を更に含む、請求項１記載の組成物。
【請求項１８】
アミン含有化合物を含むタングステンエッチング抑制剤を更に含む、請求項１記載の組成物。
【請求項１９】
１．５〜５の範囲のｐＨを有し、かつ、
鉄含有促進剤、および、
アミン含有化合物を含むタングステンエッチング抑制剤、
を更に含む、請求項１記載の組成物。
【請求項２０】
タングステン層を含む基材を化学機械研磨する方法であって、
（ａ）該基材を、以下の（ｉ）〜（ｉｉｉ）を含む研磨組成物と接触させること、
（ｉ）水系の液体キャリア、
（ｉｉ）該液体キャリアに分散された第１のシリカ研磨剤、該第１のシリカ研磨剤は、少なくとも１０ｍＶの永久的な正の電荷を有するコロイド状シリカ研磨剤である、および、
（ｉｉｉ）該液体キャリア中に分散された第２のシリカ研磨剤、該第２のシリカ研磨剤は、中性の電荷もしくは非永久的な正の電荷を有している、
（ｂ）該研磨組成物を、該基材に対して動かすこと、ならびに、
（ｃ）該基材を削り取って、該基材から該タングステンの一部を除去し、そしてそれによって該基材を研磨すること、
を含んでなる、方法。
【請求項２１】
前記第１のシリカ研磨剤が、プロピル基含有アミノシラン化合物を含む、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
前記第２のシリカ研磨剤が、化学式Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｎ＋Ｘ−を有するアンモニウム塩または化学式Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋Ｘ−を有するホスホニウム塩と接触しており、ここでＮは窒素を表し、Ｐはリンを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、独立してＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、そしてＸはアニオンを表す、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記研磨組成物が、１．５〜５の範囲のｐＨを有し、かつ鉄含有促進剤を更に含む、請求項２０記載の方法。
【請求項２４】
前記研磨組成物が、アミン含有化合物を含むタングステンエッチング抑制剤を更に含む、請求項２０記載の方法。
【請求項２５】
（ａ）前記第１のシリカ研磨剤の平均粒子径が、２０〜１１０ナノメートルの範囲であり、
（ｂ）前記第２のシリカ研磨剤の平均粒子径が、９０〜１８０ナノメートルの範囲であり、かつ、
（ｃ）前記第２のシリカ研磨剤の平均粒子径が、前記第１のシリカ研磨剤の平均粒子径よりも少なくとも２０ナノメートル大きい、
請求項２０記載の方法。
【請求項２６】
（ａ）前記第１のシリカ研磨剤が、コロイド状シリカ研磨剤粒子を含み、該コロイド状シリカ研磨剤粒子の５０％以上が、２つもしくは３つ以上が凝集された一次粒子を含み、かつ、
（ｂ）前記第２のシリカ研磨剤が、コロイド状シリカ研磨剤粒子を含み、該コロイド状シリカ研磨剤粒子の５０％以上が、２つもしくは３つ以上が凝集された一次粒子を含む、
請求項２０記載の方法。