【手続補正書】
【提出日】平成30年6月8日(2018.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式１で表される金属化合物を含む、液体前駆体組成物：
＜化学式１＞
Ｍ（ＤＡＤ）２；
前記化学式１において、
Ｍは、ＣｏまたはＮｉであり、及び
ＤＡＤは、Ｒ１ＮＣ（Ｒ３）Ｃ（Ｒ４）ＮＲ２で表されるジアザジエン（ＤＡＤ）リガンド化合物を示し、
ここで、Ｒ１〜Ｒ４のそれぞれは、独立に、Ｈ、または直鎖状または分枝状のＣ１−５アルキル基を含み；
ここで、前記金属化合物は、前記液体前駆体組成物の９０％以上である。
【請求項２】
前記液体前駆体組成物は、１つ以上の追加成分と組み合わせられて液体ソース物質を形成する、請求項１に記載の液体前駆体組成物。
【請求項３】
前記金属化合物は、前記液体前駆体組成物の９５％以上である、請求項１に記載の液体前駆体組成物。
【請求項４】
前記金属化合物は、Ｃｏ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２またはＮｉ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２である、請求項１に記載の液体前駆体組成物。
【請求項５】
前記組成物は、１０％未満の不純物を含む、請求項１に記載の液体前駆体組成物。
【請求項６】
前記不純物の度合は、クロマトグラフィにより測定される、請求項５に記載の液体前駆体組成物。
【請求項７】
前記組成物は、前記金属化合物で本質的に構成されている、請求項１に記載の液体前駆体組成物。
【請求項８】
前記金属化合物は、Ｃｏ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２またはＮｉ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２である、請求項７に記載の液体前駆体組成物。
【請求項９】
前記金属化合物の分子量は、３３９ｇ／ｍｏｌである、請求項１に記載の液体前駆体組成物。
【請求項１０】
溶媒中にＭＸ２で表されるハロゲン化金属化合物またはＺＭＸ２で表されるハロゲン化金属錯体化合物、ジアザジエンリガンド化合物（ＤＡＤ化合物）、及びアルカリ金属を含有する混合物を反応させた後、精製により下記化学式１で表される金属化合物を含む液体前駆体組成物を収得する
ことを含む、液体前駆体組成物の製造方法：
＜化学式１＞
Ｍ（ＤＡＤ）２；
ここで、
前記Ｍは、ＣｏまたはＮｉであり、及び
前記ＤＡＤは、Ｒ１ＮＣ（Ｒ３）Ｃ（Ｒ４）ＮＲ２で表されるジアザジエン（ＤＡＤ）リガンド化合物を示し、
ここで、前記Ｒ１〜Ｒ４のそれぞれは、独立に、Ｈ；または直鎖状または分枝状のＣ１−５アルキル基を含み；
前記Ｘは、ハロゲンであり；及び
前記Ｚは、１つ以上の中性リガンドであり、
ここで、前記混合物を形成する際、（ａ）前記ＤＡＤ化合物と前記ハロゲン化金属化合物または前記ハロゲン化金属錯体化合物との組み合わせ、または（ｂ）前記アルカリ金属と前記ハロゲン化金属化合物または前記ハロゲン化金属錯体化合物との組み合わせの前に、前記ＤＡＤ化合物及びアルカリ金属は組み合わせられず、
前記金属化合物は、前記液体前駆体組成物の９０％以上である。
【請求項１１】
前記中性リガンドは、ＤＭＥ、ＴＨＦ、２−メチルオキシエチルエーテル、アンモニア、ピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，２−エチレンジアミン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、及び１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンのうち１つ以上である、請求項１０に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項１２】
前記混合物は、ＭＸ２で表される前記ハロゲン化金属化合物またはＺＭＸ２で表される前記ハロゲン化金属錯体化合物を前記ＤＡＤ化合物と混合した後、続いて前記アルカリ金属を添加することにより収得される、請求項１０に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項１３】
前記混合物は、ＭＸ２で表される前記ハロゲン化金属化合物またはＺＭＸ２で表される前記ハロゲン化金属錯体化合物を前記アルカリ金属と混合した後、続いて前記ＤＡＤ化合物を添加することにより収得される、請求項１０に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項１４】
前記金属化合物は、前記液体前駆体組成物の９５％以上である、請求項１０に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項１５】
前記精製は、１つ以上の減圧蒸留ステップにより行われる、請求項１０に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項１６】
前記液体前駆体組成物は、１０％未満の不純物を含む、請求項１０に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項１７】
前記不純物の度合は、クロマトグラフィにより測定される、請求項１６に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項１８】
前記組成物は、前記金属化合物で本質的に構成されている、請求項１０に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項１９】
前記金属化合物は、Ｃｏ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２またはＮｉ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２である、請求項１０に記載の液体前駆体組成物の製造方法。
【請求項２０】
化学式１の金属化合物を含む液体前駆体組成物を利用して金属または金属化合物を含有する膜を蒸着することを含む、気相蒸着による膜の形成方法：
＜化学式１＞
Ｍ（ＤＡＤ）２；
前記化学式１において、
Ｍは、ＣｏまたはＮｉであり、及び
ＤＡＤは、Ｒ１ＮＣ（Ｒ３）Ｃ（Ｒ４）ＮＲ２で表されるジアザジエン（ＤＡＤ）リガンド化合物を示し、
ここで、Ｒ１〜Ｒ４のそれぞれは、独立に、Ｈ；または直鎖状または分枝状のＣ１−５アルキル基を含み、
ここで、前記金属化合物は、前記液体前駆体組成物の９０％以上である。
【請求項２１】
前記膜を蒸着することは、金属有機化学気相蒸着法または原子層蒸着法を含む、請求項２０に記載の気相蒸着による膜の形成方法。
【請求項２２】
前記金属化合物は、前記液体前駆体組成物の９５％以上である、請求項２０に記載の気相蒸着による膜の形成方法。
【請求項２３】
前記液体前駆体組成物は、１０％未満の不純物を含む、請求項２０に記載の気相蒸着による膜の形成方法。
【請求項２４】
前記液体前駆体組成物は、前記金属化合物で本質的に構成されている、請求項２０に記載の気相蒸着による膜の形成方法。
【請求項２５】
前記液体前駆体組成物は、Ｃｏ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２またはＮｉ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２で本質的に構成されている、請求項２４に記載の気相蒸着による膜の形成方法。
【請求項２６】
前記膜は、８０％を超えるＣｏまたはＮｉを含む、請求項２０に記載の気相蒸着による膜の形成方法。
【請求項２７】
前記膜を蒸着することは、前記液体前駆体組成物から気相反応物を形成することを含む、請求項２０に記載の気相蒸着による膜の形成方法。
【請求項２８】
前記気相反応物は、前記液体前駆体組成物を含む液体ソース物質から形成される、請求項２７に記載の気相蒸着による膜の形成方法。
【請求項２９】
基材を気相反応物と接触させることを含む、基材上にＣｏ含有膜またはＮｉ含有膜を形成する気相蒸着方法であって、
前記気相反応物は、少なくとも９０％のＣｏ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２または少なくとも９０％のＮｉ（ｉＰｒＮＣＨＣＨＮｉＰｒ）２を含む液体前駆体組成物から形成される、
基材上にＣｏ含有膜またはＮｉ含有膜を形成する気相蒸着方法。
【請求項３０】
前記気相反応物は、前記液体前駆体組成物を含む液体ソース物質を気化させることで形成される、請求項２９に記載の基材上にＣｏ含有膜またはＮｉ含有膜を形成する気相蒸着方法。
【請求項３１】
前記膜は、８０％を超えるＣｏを含むか、または、８０％を超えるＮｉを含む、請求項２９に記載の基材上にＣｏ含有膜またはＮｉ含有膜を形成する気相蒸着方法。
【請求項３２】
前記気相蒸着方法は、ＣＶＤ工程またはＡＬＤ工程である、請求項２９に記載の基材上にＣｏ含有膜またはＮｉ含有膜を形成する気相蒸着方法。