【手続補正書】
【提出日】平成29年11月27日(2017.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層体（１０）、特に、セキュリティエレメントを製造するための方法であって、
前記方法は以下のステップａ）〜ｃ）を備え、
ステップａ）基板に部分第１層（１１）または部分第１層システムを製造し、前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムは、第１部分エリア（１１１）に存在し、第２部分エリア（１１２）に存在しない、
ステップｂ）部分第２層（１２）または部分第２層システムを製造し、前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、第３部分エリア（１２１）に存在し、第４部分エリア（１２２）に存在しない、前記第３部分エリア（１２１）は、前記第１部分エリア（１１１）および前記第２部分エリア（１１２）と重なり合い、
ステップｃ）マスクとして前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムを用いて前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムを構造化することを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記ステップｃ）における前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムの前記構造化は、エッチングにより行われることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、
前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、エッチングレジストであり、または、少なくともエッチングレジストを備え、
前記エッチングレジストは好ましくはラッカーであり、前記ラッカーは、特に、バインダー、顔料、特に、有色または無色顔料および／または特別効果顔料、薄膜システム、コレステリック液晶、染料、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備えることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップｃ）における前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムの前記構造化は、リフトオフにより行われることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法において、
前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、溶媒、特に、水に溶けるウォッシュコートであり、または、少なくともそのようなウォッシュコートを備え、
前記ウォッシュコートは、特にバインダーおよびフィラーを備えるラッカーであることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップｃ）における前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムの前記構造化は、マスク露光により行われることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法において、
前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、保護ラッカーである、または、少なくとも保護ラッカーを備えることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載の方法において、
前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムは、フォトレジストである、または、少なくともフォトレジストを備え、前記保護ラッカーは、溶媒、特に、水に溶ける特にウォッシュコートとして作られ、
前記保護ラッカーおよび／または前記フォトレジストは、特に、バインダー、顔料、特に、有色または無色顔料および／または特別効果顔料、薄膜システム、コレステリック液晶染料、および／または、金属または非金属ナノ粒子を備えることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップａ）および／または前記ステップｂ）において、前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムおよび／または前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、まず、全面または少なくとも表面の大部分のエリアに製造され、その後、構造化され、
前記ステップａ）または前記ステップｂ）における前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムおよび／または前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムの構造化は、エッチング、リフトオフ、または、マスク露光により行われ、
好ましくは、前記ステップｂ）における前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムの前記構造化の間に、前記ステップｃ）に応じた前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムの前記構造化が同時に行われることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法において、
前記ステップａ）および／または前記ステップｂ）において、前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムおよび／または前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、構造化形式で製造されることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法において、
前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムおよび／または前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、少なくとも１つのモチーフ、パターン、シンボル、イメージ、ロゴ、または、英数字、特に、数字および／または文字の形式で塗布されることを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法において、
前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムおよび／または前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、一次元または二次元ラインおよび／またはドットグリッド形式で塗布され、
前記ラインおよび／または前記ドットグリッドは、３００μｍ未満、好ましくは２５μｍ〜２００μｍ未満、好ましくは５０μｍ〜２００μｍ未満のグリッド間隔を有することを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法において、
前記基板は回折面レリーフを備える複製層を備えること、または、前記基板は複製層として設計されており、
前記複製層に組み込まれた前記回折面レリーフは、光学可変エレメント、特に、ホログラム、Ｋｉｎｅｇｒａｍ（登録商標）またはＴｒｕｓｔｓｅａｌ（登録商標）、好ましくは正弦回折格子、非対称レリーフ構造、ブレーズド構造、好ましくは等方性または異方性マット構造、または、光回折および／または光反射および／または光フォーカスマクロまたはナノ構造、バイナリまたは連続フレンネルレンズ、マイクロプリズム構造、または、これらの構造の組み合わせを形成することを特徴とする方法。
【請求項１４】
特に、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法によって得られる多層体（１０）、特に、セキュリティエレメントであって、
前記多層体は、基板、部分第１層（１１）または部分第１層システム、並びに、部分第２層（１２）または部分第２層システムを備え、
前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムは、マスクとして前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムと正確に一致した状態で前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムを用いて構造化され、
前記部分第１層（１１）または前記部分第１層システムは、第１部分エリア（１１１）に存在し、第２部分エリア（１１２）に存在しない、
前記部分第２層（１２）または前記部分第２層システムは、第３部分エリア（１２１）に存在し、第４部分エリア（１２２）に存在しない、
前記第３部分エリア（１２１）は、前記第１部分エリア（１１１）および前記第２部分エリア（１１２）と重なり合うことを特徴とする多層体。
【請求項１５】
請求項１４に記載の多層体（１０）を備えるセキュリティドキュメント、特に、紙幣、証券、身分証明書、パスポート、またはクレジットカード。