【手続補正書】
【提出日】平成30年4月26日(2018.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって：
１以上の銅ナノ粒子及び銅イオンから銅を含むシリカゲルマトリックスを持つ銅／シリカナノ複合物；及び
ポリマー
を含み、水溶性であり、表面に膜を形成できることを特徴とする、組成物。
【請求項２】
ポリマーに対する銅／シリカナノ複合物の比率は約０．１：１乃至３：１である、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記組成物は可視光に対して透明又は半透明である、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記組成物は殺菌特徴を有し、且つ、ポリマーではなく銅／シリカナノ複合物を含む別の組成物よりも低い植物毒性を有する、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記銅は、約１マイクログラム（μｇ）／ｍＬ乃至２０ミリグラム（ｍｇ）／ｍＬの銅／シリカ−ポリマーナノ複合物である、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
銅ナノ粒子の直径が約５乃至２０ｎｍである、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記ポリマーは、ポリ（乳酸−グリコール酸共重合体）（ＰＬＧＡ）である、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記ポリマーは、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、デンプン、第四級アンモニウム化合物を含むポリマー、又はその組み合わせである、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
組成物の作成方法であって、該方法は：
シリカ前駆物質化合物、銅前駆物質化合物、及び水を混合する工程；
ｐＨを約７未満に調整し、それをある期間の間保持する工程；
１以上の銅ナノ粒子及び銅イオンから銅を含むシリカゲルマトリックスを持つ銅／シリカナノ複合物を形成する工程；
約１２乃至３６時間、酸性ｐＨを持つ間にポリマーを前記混合物と混合する工程；
ｐＨを約４乃至１０に上昇させる工程；及び
組成物を形成する工程
を含むことを特徴とし、
該組成物は水溶性であり、表面に膜を形成できることを特徴とする、方法。
【請求項１０】
銅前駆物質化合物に対するシリカ前駆物質化合物の重量比は、約０．１：１乃至３：１である、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ポリマーに対する銅／シリカナノ複合物の比率は約０．１：１乃至３：１である、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
銅ナノ粒子前駆物質化合物は、水酸化銅、塩化第二銅、塩化第一銅、酸化第二銅、酸化第一銅、硫酸銅、硝酸銅、及びそれらの組み合わせから選択される、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
シラン前駆物質化合物は、アルキルシラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸又はケイ酸のような中間物を生成することができるシラン前駆物質、及びそれらの組み合わせから成る群から選択される、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記ポリマーは、ポリ（乳酸−グリコール酸共重合体）（ＰＬＧＡ）である、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記ポリマーは、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、デンプン、第四級アンモニウム化合物を含むポリマー、又はその組み合わせである、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
表面に組成物を配置する工程であって、該組成物は、１以上の銅ナノ粒子及び銅イオンから銅を含むシリカゲルマトリックスを持つ銅／シリカナノ複合物、並びに、ポリマーを有する、工程；及び
かなりの割合の微生物の実質的な部分を死滅させるか、又は、構造の表面上にある又は構造の表面に接触する微生物の成長を阻害、或いは実質的に阻害する工程
を含むことを特徴とし、
該組成物は水溶性であり、表面に膜を形成できることを特徴とする、方法。
【請求項１７】
前記微生物は細菌である、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記微生物は、Ｅ．ｃｏｌｉ、Ｂ．ｓｕｂｔｉｌｉｓ、Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ  ｓｐ、Ｃａｎｄｉｄａｔｕｓ  Ｌｉｂｅｒｉｂａｃｔｅｒ  ｓｐｐ、及びＳ．  ａｕｒｅｕｓから成る群から選択される、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記構造は植物又は木である、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
配置する工程は、組成物の膜を形成することを含む、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
配置する工程は、均一な植物表面被覆率を形成すること含む、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
配置する工程は、実質的に均一な植物表面被覆率を形成することを含む、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２３】
前記ポリマーは、ポリ（乳酸−グリコール酸共重合体）（ＰＬＧＡ）である、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】
前記ポリマーは、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、デンプン、第四級アンモニウム化合物を含むポリマー、又はその組み合わせである、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
他の組成物、方法、特徴、及び利点は、以下の図面及び詳細な説明を調べた後に、当業者に明白となる。全てのそのような付加的な構造、システム、方法、特徴、及び利点は、本明細書内に含まれ、本開示の範囲内にあり、且つ添付の請求項により保護されることが、意図される。
すなわち、本明細書は非限定的に以下の発明の開示を包含する：
［１］組成物であって：
１以上の銅ナノ粒子及び銅イオンから銅を含むシリカゲルマトリックスを持つ銅／シリカナノ複合物；及び
ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、デンプン、第四級アンモニウム化合物、及びそれらの組み合わせから成る群から選択されるポリマー
を含むことを特徴とする、組成物。
［２］ポリマーに対する銅／シリカナノ複合物の比率は約０．１：１乃至３：１である、ことを特徴とする［１］に記載の組成物。
［３］前記組成物は可視光に対して透明又は半透明である、ことを特徴とする［１］に記載の組成物。
［４］前記組成物は殺菌特徴を有し、且つ、ポリマーではなく銅／シリカナノ複合物を含む別の組成物よりも低い植物毒性を有する、ことを特徴とする［１］に記載の組成物。
［５］前記銅は、約１マイクログラム（μｇ）／ｍＬ乃至２０ミリグラム（ｍｇ）／ｍＬの銅／シリカ−ポリマーナノ複合物である、ことを特徴とする［１］に記載の組成物。
［６］銅ナノ粒子の直径が約５乃至２０ｎｍである、ことを特徴とする［１］に記載の組成物。
［７］前記ポリマーは、ポリ（乳酸−グリコール酸共重合体）（ＰＬＧＡ）である、ことを特徴とする［１］に記載の組成物。
［８］前記ポリマーは、ポリビニルピロリドン又はポリアクリルアミドから成る群から選択される、ことを特徴とする［１］に記載の組成物。
［９］組成物の作成方法であって、該方法は：
シリカ前駆物質化合物、銅前駆物質化合物、及び水を混合する工程；
ｐＨを約７未満に調整し、それを約１２乃至３６時間保持する工程；
１以上の銅ナノ粒子及び銅イオンから銅を含むシリカゲルマトリックスを持つ銅／シリカナノ複合物を形成する工程；
約１２乃至３６時間、酸性ｐＨを持つ間にポリマーを前記混合物と混合する工程であって、該ポリマーは、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、デンプン、第四級アンモニウム化合物、及びそれらの組み合わせから成る群から選択される、工程；
ｐＨを約４乃至１０に上昇させる工程；及び
組成物を形成する工程
を含むことを特徴とする、方法。
［１０］銅前駆物質化合物に対するシリカ前駆物質化合物の重量比は、約０．１：１乃至３：１である、ことを特徴とする［９］に記載の方法。
［１１］ポリマーに対する銅／シリカナノ複合物の比率は約０．１：１乃至３：１である、ことを特徴とする［９］に記載の方法。
［１２］銅ナノ粒子前駆物質化合物は、水酸化銅、塩化第二銅、塩化第一銅、酸化第二銅、酸化第一銅、硫酸銅、硝酸銅、及びそれらの組み合わせから選択される、ことを特徴とする［９］に記載の方法。
［１３］シラン前駆物質化合物は、アルキルシラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸又はケイ酸のような中間物を生成することができるシラン前駆物質、及びそれらの組み合わせから成る群から選択される、ことを特徴とする［９］に記載の方法。
［１４］前記ポリマーは、ポリ（乳酸−グリコール酸共重合体）（ＰＬＧＡ）である、ことを特徴とする［９］に記載の方法。
［１５］前記ポリマーは、ポリビニルピロリドン又はポリアクリルアミドから成る群から選択される、ことを特徴とする［９］に記載の方法。
［１６］表面に組成物を配置する工程であって、該組成物は、１以上の銅ナノ粒子及び銅イオンから銅を含むシリカゲルマトリックスを持つ銅／シリカナノ複合物、並びに、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、デンプン、第四級アンモニウム化合物、及びそれらの組み合わせから成る群から選択されるポリマーを有する、工程；及び
かなりの割合の微生物の実質的な部分を死滅させるか、又は、構造の表面上にある又は構造の表面に接触する微生物の成長を阻害、或いは実質的に阻害する工程
を含むことを特徴とする、方法。
［１７］前記微生物は細菌である、ことを特徴とする［１６］に記載の方法。
［１８］前記微生物は、Ｅ．ｃｏｌｉ、Ｂ．ｓｕｂｔｉｌｉｓ、Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ  ｓｐ、Ｃａｎｄｉｄａｔｕｓ  Ｌｉｂｅｒｉｂａｃｔｅｒ  ｓｐｐ、及びＳ．  ａｕｒｅｕｓから成る群から選択される、ことを特徴とする［１６］に記載の方法。
［１９］前記構造は植物又は木である、ことを特徴とする［１６］に記載の方法。
［２０］配置する工程は、組成物の膜を形成することを含む、ことを特徴とする［１６］に記載の方法。
［２１］配置する工程は、均一な植物表面被覆率を形成すること含む、ことを特徴とする［１６］に記載の方法。
［２２］配置する工程は、実質的に均一な植物表面被覆率を形成することを含む、ことを特徴とする［１６］に記載の方法。
［２３］前記ポリマーは、ポリ（乳酸−グリコール酸共重合体）（ＰＬＧＡ）である、ことを特徴とする［１６］に記載の方法。
［２４］前記ポリマーは、ポリビニルピロリドン又はポリアクリルアミドから成る群から選択される、ことを特徴とする［１６］に記載の方法。