(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材の表面に設けられ、深さ方向が前記基材の厚さ方向に一致する、凹部と、を含み、
前記凹部は、
前記凹部の内面の第一領域に第一凹凸模様を含み、
前記第一領域とは異なる前記内面の第二領域に前記第一凹凸模様とは異なる第二凹凸模様を含む、化粧シート。
【請求項２】
前記内面は、複数の面を含み、
前記第一凹凸模様は、前記複数の面のうちの第一面の前記第一領域に設けられ、
前記第二凹凸模様は、前記第一面の前記第二領域に設けられる、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項３】
前記内面は、第一面と、前記第一面とは異なる第二面と、を含み、
前記第一凹凸模様は、前記第一面の前記第一領域に設けられ、
前記第二凹凸模様は、前記第二面の前記第二領域に設けられる、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項４】
前記第一面は、前記凹部の底面である、請求項２又は請求項３に記載の化粧シート。
【請求項５】
前記第一面は、前記凹部の壁面である、請求項２又は請求項３に記載の化粧シート。
【請求項６】
前記第一面は、前記凹部の第一壁面であり、
前記第二面は、前記凹部の第二壁面である、請求項３に記載の化粧シート。
【請求項７】
基材の表面に、深さ方向が前記基材の厚さ方向に一致する凹部を形成する、エンボス工程を含み、
前記エンボス工程では、
前記凹部の内面の第一領域は、第一凹凸模様を含む状態へと形成され、
前記第一領域とは異なる前記内面の第二領域は、前記第一凹凸模様とは異なる第二凹凸模様を含む状態へと形成される、エンボス加工方法。
【請求項８】
深さ方向が基材の厚さ方向に一致する状態で前記基材の表面に形成される凹部に対応し、前記基材の表面に接する、型部を含み、
前記型部は、
第一凹凸模様が設けられる前記凹部の内面の第一領域に対応する前記型部の外面の第三領域に前記第一凹凸模様に対応する第一凹凸部を含み、
前記第一凹凸模様とは異なる第二凹凸模様が設けられる前記第一領域とは異なる前記内面の第二領域に対応する前記第三領域とは異なる前記型部の外面の第四領域に前記第二凹凸模様に対応する第二凹凸部を含む、エンボス加工型。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧シートと、化粧シートを製造するエンボス加工方法と、化粧シート製造用のエンボス加工型に関する。
【背景技術】
【０００２】
化粧シートに関する技術が提案されている。例えば、特許文献１には、車輌の座席用表皮材が開示されている。座席用表皮材は、凹凸模様を有する。座席用表皮材は、次のように製造される。即ち、座席用表皮材の製造方法では、積層シートがエンボスロールとヒートロールの間を押圧された状態で通過する。積層シートは、表地とクッション層となる基材を積層一体化して形成され、又は表地と繊維質基材を積層一体化して形成される。エンボスロールは、１００〜２５０℃に温度設定される。ヒートロールは、１００〜２５０℃に温度設定される。加工スピードは、０．３〜１０ｍ／分とされる。この製造方法は、カレンダーロールをヒートロールと反対側にエンボスロールに接するように配置して行うことも可能である。積層シートは、エンボスロールに１／２周接する。【０００３】
特許文献２には、座席用表皮材が開示されている。座席用表皮材は、長尺材の表面にエンボス模様を付与することにより形成される。製造方法は、長尺材を押圧する工程を備える。この工程では、長尺材は、エンボスロールとフラットロールの間を通過する。エンボスロールには、ベース面から突出する複数の型押部が設けられる。型押部は、長側面及び短側面を備える。長側面及び短側面は、エンボスロールのベース面から垂直に形成される。型押部では、ベース面から最も高い部分は、ベース面と略平行な平面状の頂面として形成される。長側面及び頂面は、連なる。短側面と頂面の間には、５つの段差が形成される。５つの段差は、同一形状で同一の大きさに形成される。各段差は、底面と、立面で構成される。底面は、ベース面に略平行な面である。立面は、ベース面に略垂直な面である。複数の型押部は、次の状態で配置される。前述の状態は、隣り合う２つの型押部の段差同士が向かい合う状態である。更に、前述の状態は、隣り合う２つの型押部の長側面同士が向かい合う状態である。ベース面と長尺材の表地の間には、約１ｍｍのクリアランスが形成される。ベース面は、長尺材の表地の表面に接触しない。座席用表皮材の表地側には、型押部の加熱及び押圧により凹部が形成される。２つの型押部の段差が向かい合った部分で押圧された長尺材の表面は、緩やかな傾斜面が隣り合う形状となる。２つの型押部の長側面が向かい合った部分で押圧された長尺材の表面は、垂直に近い急な傾斜面となる。座席用表皮材では、見る方向により表面光沢が変化する。型押部の段差による微細な段差は、緩やかな傾斜面に形成された横方向の細線として視認される。【０００４】
特許文献３には、座席用シート材が開示されている。座席用シート材は、表皮材単体又は表皮材を含む積層体である。座席用シート材は、表皮材の表面側に凹凸形状を有する。凹凸形状は、熱プレス成形によって形成される。凹部は、底面に微細な凹凸を有する。これにより、凹部の底面は、光沢のない、つや消し状となる。このような凹部の底面は、熱プレス成形型による熱プレスにより形成される。熱プレス成形型には、微細な凹凸が型押し部の表面に付けられる。熱プレス成形型では、微細な凹凸は、サンドブラスト法により付けられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２７６２８５号公報
【特許文献２】特許第５９１３７５５号公報
【特許文献３】特開２００５−２６１５８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
化粧シートでは、基材の表面に凹部が設けられる。化粧シートは、各種の製品の表地として利用される。他の事業者による競合製品との差別化が必要となることがある。この場合、例えば、意匠性の点で、公知の化粧シートとは異なる化粧シートが求められる。そこで、発明者は、凹部を含む化粧シートを対象として、次のような技術について検討した。前述の技術は、化粧シートの表面を２以上の異なる方向から一見した場合、化粧シートの看者が同一の凹部を異なる凹部であると錯覚するような技術である。その際、発明者は、基材の表面に凹部を形成する製造方法として、エンボス加工の採用を考慮した。【０００７】
本発明は、所定の製品の表地となる新たな化粧シートと、化粧シートを製造するエンボス加工方法と、化粧シート製造用のエンボス加工型を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一側面は、基材と、前記基材の表面に設けられ、深さ方向が前記基材の厚さ方向に一致する、凹部と、を含み、前記凹部は、前記凹部の内面の第一領域に第一凹凸模様を含み、前記第一領域とは異なる前記内面の第二領域に前記第一凹凸模様とは異なる第二凹凸模様を含む、化粧シートである。【０００９】
この化粧シートによれば、第一領域及び第二領域での光の反射を異なる状態とすることができる。化粧シートの表面を２以上の異なる方向から一見した場合、化粧シートの看者を、同一の凹部を異なる凹部であると錯覚させることができる。【００１０】
化粧シートでは、前記内面は、複数の面を含み、前記第一凹凸模様は、前記複数の面のうちの第一面の前記第一領域に設けられ、前記第二凹凸模様は、前記第一面の前記第二領域に設けられる、ようにしてもよい。また、前記内面は、第一面と、前記第一面とは異なる第二面と、を含み、前記第一凹凸模様は、前記第一面の前記第一領域に設けられ、前記第二凹凸模様は、前記第二面の前記第二領域に設けられる、ようにしてもよい。化粧シートでは、前記第一面は、前記凹部の底面である、ようにしてもよい。また、前記第一面は、前記凹部の壁面である、ようにしてもよい。更に、前記第一面は、前記凹部の第一壁面であり、前記第二面は、前記凹部の第二壁面である、ようにしてもよい。
【００１１】
上述の各構成によれば、各種の錯覚作用に対応することができる。化粧シートのデザインバリエーションを豊富化することができる。【００１２】
本発明の他の側面は、基材の表面に、深さ方向が前記基材の厚さ方向に一致する凹部を形成する、エンボス工程を含み、前記エンボス工程では、前記凹部の内面の第一領域は、第一凹凸模様を含む状態へと形成され、前記第一領域とは異なる前記内面の第二領域は、前記第一凹凸模様とは異なる第二凹凸模様を含む状態へと形成される、エンボス加工方法である。【００１３】
本発明の更に他の側面は、深さ方向が基材の厚さ方向に一致する状態で前記基材の表面に形成される凹部に対応し、前記基材の表面に接する、型部を含み、前記型部は、第一凹凸模様が設けられる前記凹部の内面の第一領域に対応する前記型部の外面の第三領域に前記第一凹凸模様に対応する第一凹凸部を含み、前記第一凹凸模様とは異なる第二凹凸模様が設けられる前記第一領域とは異なる前記内面の第二領域に対応する前記第三領域とは異なる前記型部の外面の第四領域に前記第二凹凸模様に対応する第二凹凸部を含む、エンボス加工型である。【００１４】
上述のエンボス加工方法及びエンボス加工型によれば、上述した化粧シートを製造することができる。エンボス加工方法及びエンボス加工型は、上述した化粧シートを特定する事項のうち、上記では未特定の事項に対応するエンボス加工方法及びエンボス加工型として特定することもできる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、所定の製品の表地となる新たな化粧シートと、化粧シートを製造するエンボス加工方法と、化粧シート製造用のエンボス加工型を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】化粧シートの概略構成の一例を示す斜視図である。
【図２】凹部の内面の拡大斜視図である。凹部の内面は、図１の化粧シートの凹部の内面に対応する。
【図３】基材の概略構成の一例を示す斜視図である。図１の化粧シートのエンボス加工前を示す。
【図４】化粧シートの概略構成の一例を示す平面図である。図１の化粧シートの表面を示す。
【図５】凹部の概略構成を示す側面断面図である。上段の切断位置は、図４のI−I線に対応する。下段の切断位置は、図４のII−II線及びIII−III線に対応する。
【図６】エンボス加工装置の概略構成の一例を示す側面図である。エンボス加工型及びエンボス受型は、ロール形状を有する。エンボス加工型がエンボス受型に対して押圧された状態を示す。基材及び化粧シートと、エンボス受型の弾性部のうち、エンボス加工型の型部が食い込んだ部分を切断面とする。基材及び化粧シートは、エンボス加工装置に対応する部分を示す。
【図７】エンボス加工型の概略構成の一例を示す部分斜視図である。エンボス加工型の型部を示す。
【図８】エンボス加工装置の概略構成の他の例を示す側面図である。エンボス加工型及びエンボス受型は、平板状の形状を有する。エンボス加工型がエンボス受型に対して配置方向の第五側に移動した状態を示す。基材及び化粧シートは、エンボス加工装置に対応する部分を示す。
【図９】型部の拡大側面図である。型部は、図８のエンボス加工型の型部に対応する。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明を実施するための実施形態について、図面を用いて説明する。本発明は、以下に記載の構成に限定されるものではなく、同一の技術的思想において種々の構成を採用することができる。例えば、以下に示す構成の一部は、省略し又は他の構成等に置換してもよい。他の構成を含むようにしてもよい。実施形態の各図は、所定の構成を模式的に示したものである。従って、実施形態の各図は、他の図との対応、又は図中の構成を特定する後述の数値との対応が正確ではない場合もある。実施形態の各図で、ハッチングは、切断面を示す。
【００１８】
＜化粧シート＞
化粧シート１０について、図１〜５を参照して説明する。化粧シート１０は、基材２０と、凹部３０を含む（図１参照）。凹部３０は、基材２０の表面に設けられる。実施形態では、化粧シート１０及び基材２０は、長尺のシート材とする。また、化粧シート１０は、複数の凹部３０を含むこととする。複数の凹部３０は、エンボス加工装置５０により基材２０の表面に形成される。エンボス加工装置５０は、エンボス加工方法を実施する。エンボス加工装置５０及びエンボス加工方法については、後述する。基材２０の長手方向は、化粧シート１０の長手方向となり、基材２０の短手方向は、化粧シート１０の短手方向となる。実施形態では、化粧シート１０及び基材２０の長手方向を「長手方向」といい、化粧シート１０及び基材２０の短手方向を「短手方向」という（図１，３参照）。長手方向及び短手方向は、互いに直交する。長手方向の一方側を「第一側」といい、長手方向の他方側を「第二側」という。短手方向の一方側を「第三側」といい、短手方向の他方側を「第四側」という。
【００１９】
基材２０としては、各種のシート材が採用される。例えば、厚さの異なる各種のシート材が基材２０として採用される。基材２０は、２層以上の積層体である。この場合、化粧シート１０も、基材２０と同数の積層体となる。実施形態では、基材２０は、３層の積層体であり、第一シート２２と、第二シート２４と、第三シート２６を含む（図３参照）。基材２０は、クッション性を有する。この場合、化粧シート１０も、３層の積層体となり（図１参照）、クッション性を有する。但し、基材２０は、２層又は４層以上の積層体としてもよい。基材２０を２層の積層体とする場合、基材２０は、第一シート２２及び第二シート２４を含む積層体としてもよい。この他、基材２０は、積層体ではない単一層のシート材としてもよい。基材２０を単一層のシート材とする場合、基材２０は、第一シート２２として採用可能なシート材としてもよい。また、基材２０は、クッション性を有する厚手のシート材としてもよい。
【００２０】
実施形態では、化粧シート１０及び基材２０の厚さ方向を「厚さ方向」という（図１，３参照）。厚さ方向は、化粧シート１０及び基材２０で第一シート２２、第二シート２４及び第三シート２６が積層される方向に一致する。厚さ方向の一方側を「表側」といい、厚さ方向の他方側を「裏側」という。基材２０では、厚さ方向の表側は、第一シート２２が設けられる側となり、厚さ方向の裏側は、第三シート２６が設けられる側となる。基材２０、第一シート２２、第二シート２４及び第三シート２６の各シート材では、表面は、厚さ方向の表側となる面であり、裏面は、厚さ方向の裏側となる面である（図３参照）。エンボス加工により、基材２０の表面は、化粧シート１０の表面となり、基材２０の裏面は、化粧シート１０の裏面となる（図１参照）。即ち、化粧シート１０の状態では、化粧シート１０の表面及び基材２０の表面は、同じ面を意味する。同様に、化粧シート１０の状態では、化粧シート１０の裏面及び基材２０の裏面は、同じ面を意味する。例えば、化粧シート１０が車両用の内装品の表地となる場合、化粧シート１０の表面は、前述の内装品の表面となる。車両のユーザは、内装品の表面として、化粧シート１０の表面を視認する。
【００２１】
基材２０の厚さは、諸条件を考慮して適宜決定される。但し、基材２０の厚さは、０．３〜１９ｍｍの範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の厚さは、１．３〜１９ｍｍの範囲の所定値とするとよい。これにより、基材２０の表面に明瞭な凹部３０を形成することができる。基材２０の長手方向及び短手方向の各寸法は、諸条件を考慮して適宜決定される。基材２０は、第二シート２４の表面に第一シート２２を貼り合わせ、第二シート２４の裏面に第三シート２６を貼り合わせて形成される（図３参照）。第二シート２４と第一シート２２の貼り合わせ及び第二シート２４と第三シート２６の貼り合わせには、公知の工法が採用される。例えば、前述の貼り合わせは、接着剤を介して行われる。この他、前述の貼り合わせは、フレームラミネートによって行われる。前述の２つの工法を比較した場合、発明者は、基材２０の製造時の工程負荷及び基材２０の軽量化の点で、フレームラミネートが好ましいと考える。フレームラミネートは、既に実用化された技術である。従って、フレームラミネートに関する説明は、省略する。
【００２２】
第一シート２２としては、各種のシート材が採用される。例えば、第一シート２２としては、繊維質シート材が採用される。繊維質シート材としては、織物、編物、不織布又は天然皮革が例示される。天然皮革は、床革を含む。また、第一シート２２としては、次のようなシート材が採用される。前述のシート材は、繊維質シート材に合成樹脂を含浸又は積層させたシート材である。このようなシート材としては、人工皮革、合成皮革又はポリ塩化ビニルレザーが例示される。更に、第一シート２２としては、樹脂フィルムが採用される。この他、第一シート２２としては、前述のシート材のうちの一部又は全部のシート材の複合材が採用される。第一シート２２の厚さは、０．３〜５ｍｍの範囲の所定値とするとよい。好ましくは、第一シート２２の厚さは、０．５〜３ｍｍの範囲の所定値とするとよい。但し、第一シート２２の厚さは、前述の範囲とは異なる値としてもよい。第一シート２２の厚さは、諸条件を考慮して適宜決定される。
【００２３】
第一シート２２では、繊維質シート材は、天然繊維又は合成繊維を素材としたシート材としてもよい。但し、繊維質シート材は、エンボス加工における加工性の点で、合成繊維を素材としたシート材とするとよい。好ましくは、繊維質シート材は、熱可塑性樹脂製の繊維を素材としたシート材とするとよい。熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル樹脂又はポリ塩化ビニリデンが例示される。ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン又はポリプロピレンが例示される。ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートが例示される。ポリアミド系樹脂としては、ナイロン６又はナイロン６６が例示される。繊維質シート材は、前述の複数の樹脂を含む群から選ばれる１種又は２種以上の熱可塑性樹脂製の繊維を素材として形成してもよい。
【００２４】
第一シート２２が繊維質シート材に合成樹脂を含浸又は積層させたシート材であるとする。この場合、含浸又は積層される樹脂としては、公知の合成樹脂が採用される。前述の合成樹脂としては、ポリウレタン樹脂又は塩化ビニル樹脂が例示される。繊維質シート材は、公知の染料又は顔料により着色されていてもよい。染料又は顔料は、諸条件を考慮して適宜選択される。
【００２５】
第二シート２４は、クッション性を有する。これに伴い、基材２０は、クッション性を有する。第二シート２４としては、クッション性を有する各種のシート材が採用される。このようなシート材としては、合成樹脂発泡体が例示される。合成樹脂発泡体としては、軟質ウレタンフォームが例示される。第二シート２４の厚さは、１〜１４ｍｍの範囲の所定値とするとよい。好ましくは、第二シート２４の厚さは、１〜１０ｍｍの範囲の所定値とするとよい。
【００２６】
第三シート２６としては、各種のシート材が採用される。例えば、第三シート２６としては、織物、編物又は不織布が採用される。第三シート２６では、シート材の目付は、諸条件を考慮して適宜決定される。例えば、第三シート２６が織物又は編物である場合、織物又は編物の目付は、１０〜８０ｇ／ｍ２の範囲の所定値とするとよい。第三シート２６が不織布である場合、不織布の目付は、１０〜４０ｇ／ｍ２の範囲の所定値とするとよい。第三シート２６は、第一シート２２と同様、エンボス加工における加工性の点で、熱可塑性樹脂製の繊維を素材としたシート材とするとよい。前述の熱可塑性樹脂としては、第一シート２２に関連して上述した樹脂が例示される。
【００２７】
化粧シート１０では、複数の凹部３０は、長手方向に所定の間隔Ｗで繰り返して配置される（図１，４参照）。これに伴い、化粧シート１０では、表面が凹凸状となる。但し、このような複数の凹部３０の配置は、例示である。複数の凹部３０の配置は、諸条件を考慮して適宜決定される。化粧シートでは、凹部３０は、少なくとも１個設けられていればよい。
【００２８】
複数の凹部３０は、同一形状の凹部である。凹部３０は、厚さ方向に基材２０を貫通せず、短手方向に基材２０を横断する（図１，４参照）。凹部３０は、基材２０を短手方向から側面視した形状が次のような台形状となる。前述の台形状は、厚さ方向の表側が長辺となり、厚さ方向の裏側が短辺となる形状である（図５参照）。実施形態では、凹部３０の内面Ｅを形成する３個の面を「底面Ｅ０」、「第一壁面Ｅ１」及び「第二壁面Ｅ２」という。化粧シート１０では、底面Ｅ０は、基材２０の表面に沿った面である（図５参照）。第一壁面Ｅ１は、次のような面である（図４，５参照）。即ち、第一壁面Ｅ１は、長手方向の第二側で底面Ｅ０と繋がる。また、第一壁面Ｅ１は、基材２０の表面に対して傾斜角θ１で傾斜する。更に、第一壁面Ｅ１は、長手方向の第一側で基材２０の表面と繋がる。第二壁面Ｅ２は、次のような面である（図４，５参照）。即ち、第二壁面Ｅ２は、長手方向の第一側で底面Ｅ０と繋がる。また、第二壁面Ｅ２は、基材２０の表面に対して傾斜角θ２で傾斜する。更に、第二壁面Ｅ２は、長手方向の第二側で基材２０の表面と繋がる。傾斜角θ１，θ２は、同一角度である（図５参照）。実施形態では、底面Ｅ０、第一壁面Ｅ１及び第二壁面Ｅ２を区別しない場合、又はこれらを総称する場合、「内面Ｅ」という。
【００２９】
但し、複数の凹部３０は、異なる形状の凹部としてもよい。また、上述した凹部３０の形状は、例示である。化粧シート１０では、凹部３０は、上述した形状とは異なる形状の凹部としてもよい。例えば、凹部３０は、短手方向に基材２０を横断しない凹部としてもよい。凹部３０は、傾斜角θ１，θ２が異なる凹部としてもよい。また、凹部３０は、壁面が環状となる凹部としてもよい。この場合、凹部３０は、底面及び開口端が円形状、楕円形状、多角形状、星形状及び花形状の何れかである凹部としてもよい。凹部３０は、底面及び開口端が同一形状又は異なる形状の凹部としてもよい。異なる形状は、相似形を含む。更に、凹部３０は、厚さ方向の表側から凹部３０を正視した状態で、底面の中心及び開口端の中心がずれた凹部としてもよい。この他、凹部３０は、底面が基材２０の表面に沿わない凹部としてもよい。
【００３０】
内面Ｅは、４種類の凹凸模様Ｆを含む（図２，４参照）。実施形態では、４種類の凹凸模様Ｆを「凹凸模様Ｆ１」、「凹凸模様Ｆ２」、「凹凸模様Ｆ３」及び「凹凸模様Ｆ４」という。凹凸模様Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４は、それぞれ異なる凹凸模様Ｆである。凹凸模様Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４を区別しない場合、又はこれらを総称する場合、「凹凸模様Ｆ」という。凹凸模様Ｆ１は、底面Ｅ０の領域Ｇ１に設けられる（図２，４参照）。領域Ｇ１は、底面Ｅ０の短手方向の中央領域である。この中央領域は、底面Ｅ０の短手方向の中心位置を含む。凹凸模様Ｆ２は、底面Ｅ０の領域Ｇ２，Ｇ３に設けられる（図２，４参照）。領域Ｇ２，Ｇ３は、底面Ｅ０のうち、領域Ｇ１の短手方向の第三側及び第四側となる領域である。実施形態では、領域Ｇ２は，領域Ｇ１の短手方向の第三側となり、領域Ｇ３は、領域Ｇ１の短手方向の第四側となる。凹凸模様Ｆ３は、第一壁面Ｅ１の全領域に設けられる（図２，４参照）。凹凸模様Ｆ４は、第二壁面Ｅ２の全領域に設けられる（図２，４参照）。
【００３１】
但し、上述した内面Ｅ及び凹凸模様Ｆの対応に関し、次の第一点及び第二点は、例示である。第一点は、複数種類の凹凸模様Ｆが設けられる内面Ｅの領域である。第二点は、内面Ｅに対する複数種類の凹凸模様Ｆの配置である。第一点及び第二点は、諸条件を考慮して適宜決定される。底面Ｅ０では、凹凸模様Ｆは、１種類としてもよい。第一壁面Ｅ１では、凹凸模様Ｆは、複数種類としてもよい。第二壁面Ｅ２では、凹凸模様Ｆは、複数種類としてもよい。
【００３２】
凹凸模様Ｆ１は、次の第一部分列を長手方向に所定の間隔で２列設けた凹凸模様Ｆである（図２，４及び図５上段参照）。第一部分列は、四角錐状の凹状部分を短手方向に所定の間隔で１４個配列して形成される（図２，４参照）。凹凸模様Ｆ２は、次の第二部分列を長手方向に所定の間隔で４列設けた凹凸模様Ｆである（図２，４及び図５下段参照）。第二部分列は、四角錐状の凹状部分を短手方向に所定の間隔で６個配列して形成される（図２，４参照）。凹凸模様Ｆ１，Ｆ２で厚さ方向の表側となる凹状部分の開口端の面積及び凹凸の高低差を比較すると、凹凸模様Ｆ１は、共に凹凸模様Ｆ２より大きくなる（図２，４，５参照）。凹凸模様Ｆ３は、２本の第一溝を含む凹凸模様Ｆである（図２，４，５参照）。２本の第一溝は、短手方向に第一壁面Ｅ１を横断する互いに平行な溝である。第一溝は、基材２０を短手方向から側面視した形状が矩形状となる凹状部分である（図５参照）。凹凸模様Ｆ４は、２本の第二溝を含む凹凸模様Ｆである（図２，４，５参照）。２本の第二溝は、短手方向に第二壁面Ｅ２を横断する互いに平行な溝である。第二溝は、基材２０を短手方向から側面視した形状が三角状となる凹状部分である（図５参照）。
【００３３】
但し、上述したような凹凸模様Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４は、例示である。凹凸模様Ｆとしては、各種の凹凸模様が採用される。凹凸模様Ｆの態様は、諸条件を考慮して適宜決定される。例えば、凹凸模様Ｆでは、複数の凹状部分は、規則的に配置してもよく（一例として「凹凸模様Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４」参照）、又は複数の凹状部分は、不規則に配置してもよい（不図示）。また、凹凸模様Ｆでは、凹状部分は、特定の形状としてもよく（一例として「凹凸模様Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４」参照）、又は不規則な形状としてもよい。
【００３４】
＜エンボス加工装置＞
エンボス加工装置５０について、図６，７を参照して説明する。エンボス加工装置５０は、化粧シート１０を製造する加工装置である。エンボス加工装置５０は、供給装置９５から繰り出された長尺の基材２０を搬送し、基材２０にエンボス加工を行う（図６参照）。エンボス加工装置５０では、エンボス加工は、連続的に行われる。基材２０は、エンボス加工装置５０でエンボス加工が施された後、化粧シート１０として、回収装置９６に回収される。
【００３５】
図６では、次の各部の図示は、簡略化されている。前述の各部は、基材２０及び化粧シート１０と、供給装置９５と、回収装置９６である。基材２０及び化粧シート１０は、供給装置９５から回収装置９６まで連続した長尺のシート材の態様を有する。供給装置９５としては、公知のエンボス加工装置に設けられる供給装置を採用できる。回収装置９６としては、公知のエンボス加工装置に設けられる回収装置を採用できる。従って、供給装置９５及び回収装置９６に関する説明は、省略する。実施形態では、基材２０及び化粧シート１０が供給装置９５から回収装置９６に向けて搬送される方向を「搬送方向」という。搬送方向は、長手方向に沿った方向となる。
【００３６】
エンボス加工装置５０は、エンボス加工型６０と、エンボス受型８０と、加熱部９０を備える。エンボス加工型６０は、ロール形状を有する。この場合、エンボス加工型６０は、エンボスロールと称されることもある。エンボス受型８０は、ロール形状を有する。この場合、エンボス受型８０は、受けロール又はバックアップロールと称されることもある。
【００３７】
エンボス加工型６０及びエンボス受型８０は、配置方向に並んで設けられる。エンボス加工型６０は、配置方向の第五側に設けられる。エンボス受型８０は、配置方向の第六側に設けられる。実施形態では、配置方向を鉛直方向とし、搬送方向を水平方向とする。また、配置方向の第五側を鉛直方向の上側とし、配置方向の第六側を鉛直方向の下側とする。この場合、基材２０の厚さ方向（凹部３０の深さ方向）は、鉛直方向に一致する。エンボス加工型６０のシャフト６２及びエンボス受型８０のシャフト８２は、平行な状態となる。エンボス加工型６０の幅方向（図７参照）及びエンボス受型８０の幅方向は、短手方向に一致する。短手方向の第三側及び第四側に準じ、幅方向の一方側を「第三側」といい、幅方向の他方側を「第四側」という。幅方向の第三側は、短手方向の第三側に対応し、幅方向の第四側は、短手方向の第四側に対応する。配置方向は、鉛直方向とは異なる方向としてもよい。搬送方向は、水平方向とは異なる方向としてもよい。搬送方向は、配置方向に対して直交する方向とするとよい。
【００３８】
エンボス加工型６０は、シャフト６２を回転軸として、搬送方向に対応する方向に回転する。エンボス加工型６０には、駆動部からの駆動力が付与される。駆動部は、シャフト６２に取り付けられる。これに伴い、エンボス加工型６０は、前述したように回転する。図６では、駆動部の図示は、省略されている。駆動部としては、モータが例示される。図６に示す次の矢印は、エンボス加工型６０の回転方向を示す。前述の矢印は、エンボス加工型６０の内部に示す片矢の矢印である。エンボス加工型６０は、公知のエンボス加工型と同様の材料にて形成される。例えば、エンボス加工型６０は、金属製とされる。エンボス加工型６０を形成する金属としては、鋼材が例示される。
【００３９】
エンボス加工型６０は、型部７０を含む（図６，７参照）。型部７０は、凹部３０に対応する形状を有する。エンボス加工方法の実施時、型部７０は、基材２０の表面に接し、基材２０の表面を押圧する（図６参照）。これに伴い、型部７０は、基材２０の表面に凹部３０を形成する。型部７０は、４種類の凹凸部Ｋを含む（図６，７参照）。実施形態では、４種類の凹凸部Ｋを「凹凸部Ｋ１」、「凹凸部Ｋ２」、「凹凸部Ｋ３」及び「凹凸部Ｋ４」という。凹凸部Ｋ１，Ｋ２，Ｋ３，Ｋ４は、それぞれ異なる凹凸部Ｋである。凹凸部Ｋ１，Ｋ２，Ｋ３，Ｋ４を区別しない場合、又はこれらを総称する場合、「凹凸部Ｋ」という。凹凸部Ｋ１，Ｋ２，Ｋ３，Ｋ４は、型部７０の外面Ｊに設けられる（図７参照）。外面Ｊは、頂面Ｊ０と、第三壁面Ｊ１と、第四壁面Ｊ２を含む。頂面Ｊ０、第三壁面Ｊ１及び第四壁面Ｊ２は、外面Ｊを形成する。頂面Ｊ０は、型部７０の天面であり、底面Ｅ０に対応する。第三壁面Ｊ１は、領域Ｍ１を含む。第四壁面Ｊ２は、領域Ｍ２を含む。領域Ｍ１，Ｍ２については、後述する。
【００４０】
凹凸部Ｋ１は、凹凸模様Ｆ１に対応する。そのため、凹凸部Ｋ１は、凹凸模様Ｆ１に対応する凹凸状の形状を有する。化粧シート１０では、凹部３０は、底面Ｅ０の領域Ｇ１に凹凸模様Ｆ１を含む（図２，４，５参照）。従って、型部７０では、凹凸部Ｋ１は、頂面Ｊ０で領域Ｇ１に対応する領域Ｌ１に設けられる（図７参照）。領域Ｌ１は、頂面Ｊ０の幅方向の中央領域である。この中央領域は、頂面Ｊ０の幅方向の中心位置を含む。
【００４１】
凹凸部Ｋ２は、凹凸模様Ｆ２に対応する。そのため、凹凸部Ｋ２は、凹凸模様Ｆ２に対応する凹凸状の形状を有する。化粧シート１０では、凹部３０は、底面Ｅ０の領域Ｇ２，Ｇ３に凹凸模様Ｆ２を含む（図２，４，５参照）。従って、型部７０では、凹凸部Ｋ２は、頂面Ｊ０で領域Ｇ２，Ｇ３に対応する領域Ｌ２，Ｌ３に設けられる（図７参照）。領域Ｌ２，Ｌ３は、頂面Ｊ０のうち、領域Ｌ１の幅方向の第三側及び第四側となる領域である。実施形態では、領域Ｌ２は，領域Ｌ１の幅方向の第三側となり、領域Ｌ３は、領域Ｌ１の幅方向の第四側となる。
【００４２】
凹凸部Ｋ３は、凹凸模様Ｆ３に対応する。そのため、凹凸部Ｋ３は、凹凸模様Ｆ３に対応する凹凸状の形状を有する。化粧シート１０では、凹部３０は、第一壁面Ｅ１の全領域に凹凸模様Ｆ３を含む（図２，４，５参照）。従って、型部７０では、凹凸部Ｋ３は、第三壁面Ｊ１で第一壁面Ｅ１に対応する領域Ｍ１に設けられる（図７参照）。領域Ｍ１は、第三壁面Ｊ１の一部の領域である。領域Ｍ１は、第三壁面Ｊ１の幅方向の全体を含み、周方向において頂面Ｊ０と繋がる。周方向は、シャフト６２を中心とする円周方向である。周方向は、エンボス加工型６０の回転方向及びこれとは反対の方向に一致する。周方向は、長手方向に対応する。
【００４３】
凹凸部Ｋ４は、凹凸模様Ｆ４に対応する。そのため、凹凸部Ｋ４は、凹凸模様Ｆ４に対応する凹凸状の形状を有する。化粧シート１０では、凹部３０は、第二壁面Ｅ２の全領域に凹凸模様Ｆ４を含む（図２，４，５参照）。従って、型部７０では、凹凸部Ｋ４は、第四壁面Ｊ２で第二壁面Ｅ２に対応する領域Ｍ２に設けられる（図７参照）。領域Ｍ２は、第四壁面Ｊ２の一部の領域である。領域Ｍ２は、第四壁面Ｊ２の幅方向の全体を含み、周方向において頂面Ｊ０と繋がる。図７で第四壁面Ｊ２に示す２点鎖線は、次の境界を示す説明用の図示である。前述の境界は、周方向で頂面Ｊ０とは反対側となる領域Ｍ２の境界である。
【００４４】
化粧シート１０では、複数の凹部３０が長手方向に所定の間隔Ｗで繰り返される（図１，４参照）。従って、エンボス加工型６０では、複数の凹部３０の配置に対応させ、型部７０が周方向に所定の間隔で繰り返される（図６参照）。複数の型部７０の周方向の間隔は、間隔Ｗに対応する。
【００４５】
エンボス受型８０は、シャフト８２を回転軸として、搬送方向に対応する方向に回転する。エンボス受型８０の回転方向は、エンボス加工型６０の回転方向とは反対となる。エンボス受型８０は、基材２０の裏面に接する。エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０は、基材２０を挟み込む。エンボス受型８０は、基材２０の裏面に接した状態で、エンボス加工型６０の回転に従動して回転する。図６に示す次の矢印は、エンボス受型８０の回転方向を示す。前述の矢印は、エンボス受型８０の内部に示す片矢の矢印である。
【００４６】
エンボス受型８０は、樹脂製の弾性部８４を含む。弾性部８４は、本体部８６の外周面に設けられる。弾性部８４は、本体部８６の外周面で本体部８６と一体をなす。本体部８６には、シャフト８２が固定される。本体部８６は、エンボス加工型６０と同様の材料で形成される。弾性部８４では、次の面が平滑面となる。前述の面は、エンボス受型８０の外周面となる弾性部８４の外周面である。実施形態では、「平滑」は、例えば、高低のない状態、又は凹凸のない状態を意味する。従って、「平滑面」は、例えば、平滑な平面と、平滑な曲面と、平滑な傾斜面を含む。ロール形状のエンボス受型８０では、弾性部８４の外周面は、平滑な曲面となる。
【００４７】
弾性部８４は、公知の樹脂により形成される。但し、弾性部８４は、硬さがＤ９５以下の樹脂により形成するとよい。好ましくは、弾性部８４は、硬さがＡ９０以下の樹脂により形成するとよい。より好ましくは、弾性部８４は、硬さがＡ７０以下の樹脂により形成するとよい。前述の各値は、次に示す硬さ試験方法にて取得される硬さの平均値である。前述の硬さ試験方法は、ＪＩＳ  Ｋ６２５３−３：２０１２（加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−硬さの求め方−第３部：デュロメータ硬さ）に準拠して実施される。タイプＡ，Ｄの相違に伴う硬さ試験方法の違いは、試験機であり、試験片形状、試験環境、試験時間及び試験点数は、同じである。
［硬さ試験方法］
試験機
タイプＤ：タイプＤデュロメータ（高分子計器株式会社  デジタルゴム硬度計ＤＤ４−Ｄ型）
タイプＡ：タイプＡデュロメータ（高分子計器株式会社  デジタルゴム硬度計ＤＤ４−Ａ型）
試験片形状（横×縦×厚さ）：４０ｍｍ×６０ｍｍ×１１ｍｍ
試験環境（温度，相対湿度）：２３±２℃，５０±５％ＲＨ
測定時間：瞬間
測定点数：５点
弾性部８４を硬さがＤ９５以下の樹脂により形成することで、次のような効果を得ることができる。即ち、エンボス加工装置５０では、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、弾性部８４が変形する。この場合、弾性部８４の変形は、弾性変形である。弾性部８４の変形により、基材２０の裏面に接する弾性部８４の領域を増加させることができる。これに伴い、型部７０に合致した形状の凹部３０を化粧シート１０の表面に再現することができる。凹部３０では、内面Ｅのテカリを抑制することができる。図６では、弾性部８４の図示は、簡略化されている。図６では、弾性部８４は、前述の変形が生じた状態では、図示されていない。
【００４８】
弾性部８４を形成する樹脂としては、硬さがＤ９５以下である次の樹脂が採用される。前述の樹脂としては、ゴム、熱可塑性エラストマー又はプラスチックが例示される。発明者は、前述の各樹脂のうち、ゴムが好ましいと考える。ゴムとしては、シリコーンゴム、ニトリルゴム、クロロブレンゴム、エチレン・プロピレンゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム又は天然ゴムが例示される。発明者は、耐熱性の点で、シリコーンゴム又はフッ素ゴムが好ましいと考える。発明者は、耐久性の点で、ニトリルゴム、ウレタンゴム又は天然ゴムが好ましいと考える。発明者は、前述の各ゴムのうち、汎用性の点で、シリコーンゴムが好ましいと考える。シリコーンゴムは、前述したように耐熱性に優れた特性を有する。シリコーンゴムは、安価である。弾性部８４を形成するゴムは、前述の複数のゴムを含む群から選ばれる１種又は２種以上のゴムとしてもよい。この他、弾性部８４を形成するゴムは、純ゴムとしてもよい。但し、このゴムには、公知の添加剤を１種又は複数種含めてもよい。前述の添加剤としては、充填剤、可塑剤、加硫剤又は老化防止剤が例示される。
【００４９】
加熱部９０は、エンボス加工型６０に設けられる。加熱部９０は、エンボス加工型６０の内部に埋め込まれる。加熱部９０は、電気ヒータである。実施形態では、エンボス加工型６０に対し、４個の加熱部９０が等角度間隔で埋め込まれている。但し、加熱部９０は、電気ヒータとは異なる種類の加熱部としてもよい。加熱部９０の数は、３個以下又は５個以上としてもよい。加熱部９０の種類及び数は、諸条件を考慮して適宜決定される。エンボス加工型６０における加熱部９０の配置は、諸条件を考慮して適宜決定される。
【００５０】
加熱部９０は、エンボス加工型６０を所定の温度に加熱する。前述の温度は、基材２０の種類に応じて適宜設定される。例えば、前述の温度は、第一シート２２及び第二シート２４の一方又は両方の材質を考慮して適宜設定される。第一シート２２がポリエチレンテレフタレートであるとする。ポリエチレンテレフタレートの融点は、２６０℃である。この場合、加熱部９０は、エンボス加工型６０を６０〜２６０℃の範囲の所定値に加熱する。好ましくは、加熱部９０は、エンボス加工型６０を６０〜２２０℃の範囲の所定値に加熱する。より好ましくは、加熱部９０は、エンボス加工型６０を１３０〜２１０℃の範囲の所定値に加熱する。
【００５１】
＜エンボス加工方法＞
エンボス加工方法について、図１〜６を参照して説明する。エンボス加工方法は、エンボス加工装置５０で実施される。エンボス加工方法は、供給工程と、エンボス工程と、回収工程を含む（図６参照）。エンボス加工方法により、図３の基材２０から図１の化粧シート１０が製造される。従って、エンボス加工方法は、化粧シート１０の製造方法ともいえる。エンボス加工方法では、基材２０を搬送方向に連続的に搬送しつつ、供給工程、エンボス工程及び回収工程が順次連続的に実施される。供給工程は、連続的に実施される。エンボス工程は、連続的に実施される。回収工程は、連続的に実施される。エンボス加工装置５０では、エンボス加工方法が実施される場合、エンボス加工型６０用の駆動部は、連続的に駆動する。
【００５２】
エンボス加工方法では、基材２０を押圧することで、凹部３０が基材２０の表面に形成される（図３，１参照）。加熱部９０は、エンボス加工型６０を加熱する。エンボス加工方法は、エンボス加工型６０が所定の温度に加熱された状態で実施される。エンボス加工装置５０では、加熱部９０のような加熱部は、エンボス受型８０には設けられない。従って、エンボス加工方法では、エンボス受型８０は、直接的には加熱されない。但し、エンボス加工装置５０では、エンボス受型８０に加熱部を設けてもよい。これにより、エンボス加工方法を、エンボス受型８０が加熱部によって所定の温度に加熱された状態で実施することができる。エンボス受型８０に加熱部を設ける場合、この加熱部により加熱されるエンボス受型８０の温度は、諸条件を考慮して適宜設定される。エンボス受型８０に加熱部を設けるか否かは、諸条件を考慮して適宜決定される。
【００５３】
エンボス加工方法の実施に先立ち、エンボス加工装置５０は、次の位置が次の第一状態となるように調整される。前述の位置は、基材２０の表面に対するエンボス加工型６０の配置方向の位置である。第一状態は、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、ベース面６４が基材２０の表面に接しない状態である。ベース面６４は、エンボス加工型６０の外周面で、型部７０が設けられていない領域である。換言すれば、ベース面６４は、エンボス加工型６０の外周面で、周方向に隣り合う２個の凸状の型部７０の間の底側となる領域である。前述の底側は、ロール状であるエンボス加工型６０の径方向を基準とした場合、中心側（シャフト６２の側）となる。
【００５４】
この他、エンボス加工装置５０は、次の第二状態及び第三状態にするとよい。第二状態は、型部７０が弾性部８４に食い込むこととなる状態である（図６で配置方向の第六側に示す「型部７０」参照）。第三状態は、次の寸法が基材２０の厚さより大きくなる状態である。前述の寸法は、ベース面６４とエンボス受型８０の外周面の間の配置方向の寸法である。第二状態及び第三状態のエンボス加工装置５０でエンボス加工方法を実施することで、内面Ｅ全体の形状を明瞭にすることができる。即ち、底面Ｅ０、第一壁面Ｅ１及び第二壁面Ｅ２の形状を明瞭にすることができる。これに伴い、化粧シート１０の意匠性を向上させることができる。
【００５５】
供給工程は、エンボス加工装置５０に基材２０を供給する工程である（図６参照）。即ち、供給工程では、供給装置９５から基材２０が繰り出される。供給装置９５から繰り出された基材２０は、搬送方向に搬送され、エンボス加工装置５０に到達する。
【００５６】
エンボス工程は、基材２０の表面に複数の凹部３０を形成する工程である（図６参照）。エンボス工程では、エンボス加工装置５０に到達した基材２０にエンボス加工が施される。基材２０の表面では、長手方向の所定の範囲が凹凸模様Ｆを含む内面Ｅへと形成される（図２，４参照）。即ち、エンボス工程では、次の第一態様の第二壁面Ｅ２が形成され、次の第二態様の底面Ｅ０が形成され、次の第三態様の第一壁面Ｅ１が形成される（図２，４，５参照）。第一態様は、全領域に凹凸模様Ｆ４を含む態様である。第二態様は、領域Ｇ１に凹凸模様Ｆ１を含み且つ領域Ｇ２，Ｇ３に凹凸模様Ｆ２を含む態様である。第三態様は、全領域に凹凸模様Ｆ３を含む態様である。
【００５７】
エンボス工程では、搬送方向に搬送される基材２０は、搬送途中に、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する（図６参照）。このとき、基材２０は、裏面で弾性部８４に接し、裏側からエンボス受型８０に支持される。基材２０は、表面で型部７０に接し、型部７０によって押圧される。基材２０は、加熱部９０によって加熱されたエンボス加工型６０からの熱によって加熱される。型部７０は、基材２０に食い込む。その際、凹凸部Ｋでは、最初に、凹凸部Ｋ４が基材２０に食い込み、次に、凹凸部Ｋ１及び２個の凹凸部Ｋ２が基材２０に食い込み、最後に、凹凸部Ｋ３が基材２０に食い込む。エンボス工程により、基材２０は、化粧シート１０へと形成される（図３，１参照）。エンボス工程では、基材２０は、表面がベース面６４に接触することなく、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する。
【００５８】
回収工程は、エンボス加工装置５０を通過した基材２０を回収する工程である（図６参照）。即ち、回収工程では、化粧シート１０が回収装置９６によってエンボス加工装置５０から回収される。
【００５９】
エンボス加工方法では、基材２０の搬送速度は、０．１〜１０ｍ／分の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の搬送速度は、０．３〜５ｍ／分の範囲の所定値とするとよい。基材２０の搬送速度を０．１ｍ／分以上とすることで、次のような不具合が内面Ｅに発生することを防止することができる。前述の不具合は、テカリと、変色と、破れである。このことは、化粧シート１０の裏面についても同様である。更に、基材２０の搬送速度を０．１ｍ／分以上とすることで、エンボス受型８０がエンボス加工型６０からの熱によって変形することを抑制することができる。基材２０の搬送速度を１０ｍ／分以下とすることで、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹部３０を形成することができる。
【００６０】
エンボス工程では、基材２０の押圧時間は、０．０１〜５秒の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の押圧時間は、０．１〜２秒の範囲の所定値とするとよい。基材２０の押圧時間は、型部７０の形状を考慮して適宜設定される。基材２０の押圧時間を０．０１秒以上とすることで、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹部３０を形成することができる。基材２０の押圧時間を５秒以下とすることで、次のような不具合が内面Ｅに発生することを防止することができる。前述の不具合は、テカリと、変色と、破れである。このことは、化粧シート１０の裏面についても同様である。更に、基材２０の押圧時間を５秒以下とすることで、エンボス受型８０がエンボス加工型６０からの熱によって変形することを抑制することができる。
【００６１】
エンボス工程では、基材２０の押圧力は、２００〜２０００Ｎ／ｃｍの範囲の所定値とするとよい。基材２０の押圧力を２００Ｎ／ｃｍ以上とすることで、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹部３０を形成することができる。基材２０の押圧力を２０００Ｎ／ｃｍ以下とすることで、次のような不具合が内面Ｅに発生することを防止することができる。前述の不具合は、テカリと、変色と、破れである。このことは、化粧シート１０の裏面についても同様である。更に、基材２０の押圧力を２０００Ｎ／ｃｍ以下とすることで、エンボス受型８０がエンボス加工型６０からの熱によって変形することを抑制することができる。
【００６２】
＜実施形態の効果＞
実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。
【００６３】
（１）化粧シート１０は、基材２０と、凹部３０を含む（図１，２，４，５参照）。凹部３０は、基材２０の表面に設けられる。凹部３０は、内面Ｅに凹凸模様Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４を含む。即ち、凹部３０では、凹凸模様Ｆ１が底面Ｅ０の領域Ｇ１に設けられる。また、凹凸模様Ｆ２が底面Ｅ０の領域Ｇ２，Ｇ３に設けられる。更に、凹凸模様Ｆ３が第一壁面Ｅ１の全領域に設けられる。更にまた、凹凸模様Ｆ４が第二壁面Ｅ２の全領域に設けられる。
【００６４】
そのため、領域Ｇ１及び領域Ｇ２，Ｇ３での光の反射を異なる状態とすることができる。また、領域Ｇ１及び第一壁面Ｅ１での光の反射を異なる状態とし、領域Ｇ１及び第二壁面Ｅ２での光の反射を異なる状態とすることができる。更に、領域Ｇ２，Ｇ３及び第一壁面Ｅ１での光の反射を異なる状態とし、領域Ｇ２，Ｇ３及び第二壁面Ｅ２での光の反射を異なる状態とすることができる。更にまた、第一壁面Ｅ１及び第二壁面Ｅ２での光の反射を異なる状態とすることができる。化粧シート１０の表面を２以上の異なる方向から一見した場合、化粧シート１０の看者を、同一の凹部３０を異なる凹部であると錯覚させることができる。各種の錯覚作用に対応することができる。化粧シート１０のデザインバリエーションを豊富化することができる。所定の製品の表地となる新たな化粧シート１０を得ることができる。
【００６５】
（２）エンボス加工装置５０は、エンボス加工型６０と、エンボス受型８０と、加熱部９０を備える（図６参照）。エンボス加工型６０では、型部７０は、凹凸部Ｋとして、４種類の凹凸部Ｋ１，Ｋ２，Ｋ３，Ｋ４を含む（図６，７参照）。凹凸部Ｋ１は、凹凸模様Ｆ１に対応し、頂面Ｊ０の領域Ｌ１に設けられる。凹凸部Ｋ２は、凹凸模様Ｆ２に対応し、頂面Ｊ０の領域Ｌ２，Ｌ３に設けられる。凹凸部Ｋ３は、凹凸模様Ｆ３に対応し、第三壁面Ｊ１の領域Ｍ１に設けられる。凹凸部Ｋ４は、凹凸模様Ｆ４に対応し、第四壁面Ｊ２の領域Ｍ２に設けられる。エンボス加工装置５０は、エンボス加工方法を実施する。そのため、エンボス加工装置５０によって化粧シート１０を製造することができる。
【００６６】
＜変形例＞
実施形態は、次のようにすることもできる。以下に示す変形例のうちの幾つかの構成は、適宜組み合わせて採用することもできる。以下では、上記とは異なる点を説明することとし、同様の点についての説明は、適宜省略する。
【００６７】
（１）凹部３０は、底面Ｅ０に凹凸模様Ｆ１，Ｆ２を含み、第一壁面Ｅ１に凹凸模様Ｆ３を含み、第二壁面Ｅ２に凹凸模様Ｆ４を含む（図２，４，５参照）。即ち、凹部３０では、凹凸模様Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４の何れかの凹凸模様Ｆが内面Ｅの全領域に設けられる。凹部の内面の一部の領域では、凹凸模様Ｆは、省略してもよい。この場合、凹凸模様Ｆが省略された内面の領域は、平滑な状態となる。エンボス加工型では、型部は、凹部に対応する形状とされる。
【００６８】
（２）凹部３０は、底面Ｅ０を含む（図２，４，５参照）。化粧シートでは、凹部は、底面を含まない凹部としてもよい。底面を含まない凹部としては、錐状の凹部が例示される。凹部が角錐状である場合、この凹部の内面は、複数の壁面によって形成される。凹部が円錐状である場合、この凹部の内面は、１個の壁面によって形成される。この他、底面を含まない凹部としては、半球状の凹部又は基材２０を厚さ方向に貫通する凹部（貫通孔）が例示される。エンボス加工型では、型部は、凹部に対応する形状とされる。
【００６９】
（３）エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０は、ロール形状を有し、搬送方向に対応する方向に回転自在に支持される（図６参照）。エンボス加工型及びエンボス受型は、ロール形状とは異なる形状としてもよい。例えば、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０は、図８に示すように、平板状の形状としてもよい。図８では、図６との対応を明らかにするため、各部に対する符号は、上記と同様としている。図８のエンボス加工装置５０では、図６のエンボス加工装置５０と同様、配置方向は、鉛直方向となり、搬送方向は、水平方向となる。図８では、図６と同様、次の各部の図示は、簡略化されている。前述の各部は、基材２０及び化粧シート１０と、供給装置９５と、回収装置９６である。
【００７０】
図８のエンボス加工装置５０で実施されるエンボス加工方法では、エンボス加工型６０は、エンボス受型８０に対して相対的に往復移動する。この相対的な往復移動では、配置方向の第五側から第六側への移動及び配置方向の第六側から第五側への移動が繰り返される。基材２０は、エンボス加工型６０がエンボス受型８０に対して配置方向の第五側に移動した状態で、搬送方向に間欠的に搬送される。１回の搬送量は、間隔Ｗ（図１，４参照）に一致した量とされる。
【００７１】
エンボス加工型６０には、加熱部９０が設けられる。エンボス加工方法の実施時、加熱部９０は、エンボス加工型６０を加熱する。エンボス受型８０には、加熱部は、設けられない。エンボス受型８０では、次の面は、平滑な平面となる。前述の面は、エンボス受型８０の外面となる弾性部８４の外面である。弾性部８４は、本体部８６の外面に設けられる。エンボス加工型６０が配置方向の第六側に移動した状態で、基材２０は、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０によって挟み込まれる。基材２０は、裏面で弾性部８４に接し、裏側からエンボス受型８０に支持される。基材２０は、表面で型部７０に接し、型部７０によって押圧される。型部７０は、凹凸部Ｋとして、４種類の凹凸部Ｋ１，Ｋ２，Ｋ３，Ｋ４を含む（図９参照）。凹凸部Ｋ１，Ｋ２，Ｋ３，Ｋ４は、基材２０に食い込む。これに伴い、基材２０の表面には、上記同様、凹部３０が形成される。但し、図８では、凹部３０の図示は、省略されている。
【００７２】
エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、エンボス受型８０の位置を固定した状態で、エンボス加工型６０を配置方向に往復移動させるとよい（図８参照）。但し、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、これとは異なる態様としてもよい。例えば、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０をそれぞれ配置方向に往復移動させて行うようにしてもよい。エンボス加工装置では、エンボス加工型及びエンボス受型は、例えば、次のようにしてもよい。即ち、エンボス加工装置は、ロール形状のエンボス加工型６０（図６参照）と、平板状のエンボス受型８０（図８参照）を備えるようにしてもよい。
【００７３】
（４）エンボス受型８０では、弾性部８４は、本体部８６の外周面に設けられる（図６参照）。エンボス受型では、本体部８６は、省略してもよい。ロール形状のエンボス受型で本体部８６が省略される場合、シャフトは、弾性部に固定される。エンボス受型では、シャフトも、弾性部と同じ材料で形成してもよい。この他、エンボス受型では、弾性部８４は、省略してもよい。例えば、エンボス受型は、弾性部８４を含まない金属製としてもよい。
【符号の説明】
【００７４】
１０  化粧シート、  ２０  基材、  ２２  第一シート
２４  第二シート、  ２６  第三シート、  ３０  凹部
５０  エンボス加工装置、  ６０  エンボス加工型、  ６２  シャフト
６４  ベース面、  ７０  型部、  ８０  エンボス受型
８２  シャフト、  ８４  弾性部、  ８６  本体部、  ９０  加熱部
９５  供給装置、  ９６  回収装置、  Ｅ  内面、  Ｅ０  底面
Ｅ１  第一壁面、  Ｅ２  第二壁面
Ｆ，Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４  凹凸模様、  Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３  領域
Ｊ  外面、  Ｊ０  頂面、  Ｊ１  第三壁面、  Ｊ２  第四壁面
Ｋ，Ｋ１，Ｋ２，Ｋ３，Ｋ４  凹凸部、  Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３  領域
Ｍ１，Ｍ２  領域、  Ｗ  間隔、  θ１，θ２  傾斜角
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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