【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年4月3日(2018.4.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装飾コーティングで被覆されたプラスチック基板であって、装飾コーティングがスペクトル制御システム及び応力制御システムを含み、スペクトル制御システムが複数層であり、任意で保護層を含み、応力制御システムがスペクトル制御システムと基板との間の少なくとも単一層であり、
スペクトル制御システムの複数層が、透明層と交互の吸収層であり、スペクトル制御システムの光学的厚さは、装飾コーティングが所望の光学効果を達成するように選択され、
応力制御システムの少なくとも一つの層は、任意の保護層無しで測定されるときに、装飾コーティングの全体の残留応力が圧縮性である量の圧縮応力を有し、
応力制御システムのための材料が、ＳｉＯｘ，ＳｉＯｘＮｙ，ＣｒＮｘ，ＮｂＯｘ，ＴａＯｘ，ＺｒＯｘを含む材料の群から選択され、ｘ及びｙの両方が０．１と２．０との間であり、
ハードコーティングが、装飾コーティングと基板との間に含まれ、
吸収層が、４００ｎｍから１０００ｎｍのスペクトル領域において１より大きい測定された光学的吸光係数を有する材料、又は材料のブレンド、を含む層である、プラスチック基板。
【請求項２】
吸収層材料は、屈折率及び吸光係数の合計が２より大きく、吸光係数自身が１より大きい、屈折率を有する、金属、メタロイド、金属合金、又はそれらの混合物である、請求項１に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項３】
吸収層のための、金属、メタロイド、又は金属合金が、クロム、アルミニウム、チタン、ニッケル、モリブデン、ジルコニウム、タングステン、シリコン、ニオブ、タンタル、バナジウム、コバルト、マンガン、銀、亜鉛、インジウム、ゲルマニウム、スズ及びそれらの混合物、並びに、それらの酸化物、窒化物、ホウ化物、フッ化物又は炭化物、並びにそれらの混合物を含む群から選択される、請求項２に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項４】
透明層は、４００ｎｍから１０００ｎｍのスペクトル領域において１未満の測定された光学的吸光係数を有する、材料、又は材料のブレンド、を含む層である、請求項１から３の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項５】
透明層材料は、屈折率及び吸光係数の合計が３未満であり、吸光係数自身が１未満である、屈折率を有する、金属、メタロイド、金属合金、又はそれらの混合物である、請求項４に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項６】
透明層のための、金属、メタロイド、又は金属合金が、ホウ素、シリコン、ゲルマニウム、アンチモン、テルル、ポロニウム、ニオブ、ジルコニウム、マグネシウム、スズ、タンタル、アルミニウム、クロム、チタン及びそれらの混合物、並びに、それらの酸化物、窒化物、ホウ化物、フッ化物、炭化物、並びにそれらの混合物を含む、金属、メタロイド、及び金属合金の群から選択される、請求項５に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項７】
スペクトル制御システムが、異なる屈折率の材料の交互層で構成された干渉システムである、請求項１から６の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項８】
スペクトル制御システムが、スペクトル制御システムの最外層である保護層を含む、請求項１から７の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項９】
保護層が、プラズマ重合ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、蒸着若しくは液体移動技術を介して堆積されたフルオロポリマー系コーティング、又は液体ハードコーティングである、請求項８に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１０】
応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−６ＭＰａ未満である、圧縮応力の量を有する、請求項１から９の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１１】
応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−６３ＭＰａ未満である、圧縮応力の量を有する、請求項１から９の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１２】
応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−７６ＭＰａ未満である、圧縮応力の量を有する、請求項１から９の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１３】
応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−１１２ＭＰａ未満である、圧縮応力の量を有する、請求項１から９の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１４】
応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−３６０ＭＰａより大きい、圧縮応力の量を有する、請求項１から１３の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１５】
応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−３００ＭＰａより大きい、圧縮応力の量を有する、請求項１から１３の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１６】
応力制御システムの少なくとも一つの層は、装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、−２５０ＭＰａより大きい、圧縮応力の量を有する、請求項１から１３の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１７】
応力制御システムが、堆積されたときに、高レベルの圧縮応力を生成する材料の単一層である、請求項１から１６の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１８】
応力制御システムが、基板上に堆積された圧縮性の又はわずかに伸張性の層、及び、堆積されたときに高レベルの圧縮応力を生成する、その上に堆積された高度に圧縮性の層を含む多層システムである、請求項１から１６の何れか一項に記載の被覆プラスチック基板。
【請求項１９】
装飾コーティングが、被覆基板に所望の光学効果を提供し、装飾コーティングがスペクトル制御システム及び応力制御システムを含み、スペクトル制御システムが複数層であり、任意で保護層を含み、応力制御システムが少なくとも単一層であり、スペクトル制御システムの複数層が、透明層と交互の吸収層である、プラスチック基板へ装飾コーティングを適用するための方法であって、
ａ．所望の光学効果を決定する段階と；
ｂ．スペクトル制御システムに関する必要な光学的厚さを参照して、所望の光学効果を提供することになる適切なスペクトル制御システムを決定する段階と；
ｃ．装飾コーティングの全体の残留応力が、任意の保護層無しで測定されるときに、圧縮性である、圧縮応力の量を有する適切な応力制御システムを決定する段階と；
ｄ．プラスチック基板上に適切な応力制御システムをコーティングする段階と；
ｅ．応力制御システム上に適切なスペクトル制御システムをコーティングする段階と；
それによって、所望の色を備える被覆プラスチック基板を形成する段階と、を含み、
応力制御システムのための材料が、ＳｉＯｘ，ＳｉＯｘＮｙ，ＣｒＮｘ，ＮｂＯｘ，ＴａＯｘ，ＺｒＯｘを含む材料の群から選択され、ｘ及びｙの両方が０．１と２．０との間であり、
ハードコーティングが、装飾コーティングと基板との間に含まれ、
吸収層が、４００ｎｍから１０００ｎｍのスペクトル領域において１より大きい測定された光学的吸光係数を有する材料、又は材料のブレンド、を含む層である、方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
スペクトル制御システムの吸収層に関して、及び上述のように、これらは、４００から１０００ｎｍのスペクトル領域において１超の測定された光学的吸光係数の金属を有する、材料、又は材料のブレンドを含む層である。好ましくは、これらの材料は、１超の吸光係数を維持しつつ、屈折率及び吸光係数の合計が２超であるような屈折率を有する、金属、メタロイド、金属合金、又はそれらの組み合わせである。スペクトル制御システムの透明層に関して、及び再び上述のように、これらは、４００から１０００ｎｍのスペクトル領域における１未満の測定された光学的吸光係数の金属を有する、材料、又は材料のブレンドを含む層である。好ましくは、これらの材料は、１未満の吸光係数を維持しつつ、屈折率及び吸光係数の合計が３未満であるような屈折率を有する、金属、メタロイド、金属合金（又はそれらの混合物）である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
これを考慮して、吸収層のための適切な材料が、以下の金属、メタロイド及び金属合金の群から選択され得る：クロム，アルミニウム，チタン，ニッケル，モリブデン，ジルコニウム，タングステン，シリコン，ニオブ、タンタル、バナジウム、コバルト、マンガン、銀、亜鉛、インジウム、ゲルマニウム、スズ及びそれらの混合物；並びに、それらの酸化物、窒化物、ホウ化物、フッ化物又は炭化物、並びにそれらの混合物。最も好ましくは、少なくとも一つの層は、クロム、又はクロム混合物、例えば、Ｃｒ−Ｚｒ，Ｃｒ−Ｎｉ若しくはＣｒ−Ｍｏ、又はそれらの炭化物若しくは窒化物、例えばＣｒ−Ｎである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
透明層のための適切な材料は、以下の金属、メタロイド及び金属合金の群から選択され得る：ホウ素、シリコン、ゲルマニウム、アンチモン、テルル、ポロニウム、ニオブ、ジルコニウム、マグネシウム、スズ、タンタル、アルミニウム、クロム、チタン及びそれらの混合物；並びに、それらの酸化物、窒化物、ホウ化物、フッ化物、炭化物、並びにそれらの混合物。最も好ましくは、少なくとも一つの層は、ＳｉＯ２等の酸化物から形成される。