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【手続補正書】
【提出日】平成30年6月29日(2018.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アニリンおよび、好ましくは、ホルムアルデヒド水溶液、ガス状ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサンおよびこれらの混合物からなる群から選択されるメチレン基供給剤の縮合生成物の転位による、ジフェニルメタンシリーズのジアミンおよびポリアミンの製造方法であって、当該縮合生成物を、
Ａ）アルカリ処理が、ＢＥＡゼオライトの場合、孔指向剤の存在下で、かつＢＥＡゼオライト以外のゼオライトの場合、孔指向剤の存在下または不在下で実施される、アルカリ処理、
または
Ｂ）酸処理が、キレート機能を有する有機酸で達成される、任意の先行アルカリ処理または後続酸処理無しの酸処理
を受けた、プロトン形態に部分的または全体的にイオン交換された、少なくとも１つの固体ゼオライト触媒の存在下で反応する、方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの固体ゼオライト触媒Ａ）が、
（ｉ）孔指向剤の存在下または不在下でアルカリ処理された、ＢＥＡゼオライト以外のゼオライト、
（ｉｉ）孔指向剤の存在下で、アルカリ処理されたＢＥＡゼオライト、
（ｉｉｉ）第一ステップにおいて酸処理され、かつ第二ステップでアルカリ処理されたゼオライト、
（ｉｖ）第一ステップにおいてアルカリ処理され、かつ第二ステップで酸処理されたゼオライト、
（ｖ）第一ステップにおいて酸処理され、第二ステップでアルカリ処理され、かつ第三ステップで酸処理されたゼオライト、
および
（ｖｉ）これらの混合物
からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｂ）に用いられる前記キレート機能を有する有機酸が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）、クエン酸、シュウ酸およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記孔指向剤が、４つのＲｉ置換基が同一または異なっていてもよく、かつ有機置換基または水素であってもよい、一般式＋ＮＲｉ４を有する、アルキルアンモニウムカチオンを含んでなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月3日(2018.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮空気源、及び、口径を有する磁気応答性の球状銃弾の複数の弾で使用するエアガンであって、前記エアガンは、
ハンドグリップを備え、圧縮空気源は前記ハンドグリップの第１の端部に空気圧で連結され、前記ハンドグリップは前記ハンドグリップの前記第１の端部から前記ハンドグリップの第２の端部までを通る第１の通路を有し、
前記ハンドグリップの前記第２の端部が空気供給ラインの第１の端部に空気圧で連結され、前記空気供給ラインは、前記空気供給ラインの前記第１の端部から、前記空気供給ラインの第２の端部までを通る第２の通路を有し、
前記空気供給ラインの前記第２の端部がチャンバーに空気圧で連結され、前記チャンバーは、そこに空気圧で連結された銃身の銃尾を有し、
前記銃身は銃口を有し、
前記銃身、前記チャンバー、ならびに、前記第１及び前記第２の通路は、前記圧縮空気源からの空気が前記銃口に向かって流れて前記銃口から流出するように、連続する空気流管を形成し、
前記銃身の前記銃尾、前記チャンバー及び前記空気供給ラインの前記第２の端部は磁気的に応答しない材料であり、
前記チャンバーは、前記チャンバー内に配置された磁石をさらに有し、前記磁石の磁気的影響域が前記チャンバ内に磁力を発生させ、前記チャンバーは、前記チャンバーの上側に開口部を有し、前記チャンバーは、そこに重力式フィード機構をさらに有し、前記重力式フィード機構は前記開口部上側に配置され、
前記重力式フィード機構、前記開口部、前記銃身及び前記チャンバーは、前記口径よりも大きな内径をそれぞれ有し、
尾栓、撃針、コイル及びリーフスプリングのいずれも使用することなく、複数の弾のうち第１の弾を前記チャンバーに送るように、前記磁石の磁気的影響が前記磁気応答性の球状銃弾に及び、
前記磁石は、前記空気圧が前記チャンバーから前記銃身に前記第１の弾を送り出し、そして前記銃口から前記第１の弾を放出するまで、前記磁石は前記チャンバーの所定位置に前記第１の弾を保持するように作用することを特徴とするエアガン。
【請求項２】
前記ハンドグリップは、トリガーをさらに備え、前記トリガーは、前記第１の通路内のバルブ機構に取り付けられ、前記バルブ機構及び前記トリガーは、前記圧縮空気源からの空気が前記第１の通路を通って流れる第１の開位置、及び、前記圧縮空気源からの空気が前記第１の通路を通って流れない第２の閉位置を有し、前記トリガーは、静止時に前記第２の閉位置に付勢され、
それによって、前記トリガーが引かれたときに前記バルブ機構が開放され、圧縮空気が前記銃を通って前記圧縮空気源から前記銃口に流れることが可能になることを特徴とする請求項１に記載のエアガン。
【請求項３】
前記重力式フィード機構は、磁気応答性の球状銃弾の複数の弾を保持する容器をさらに備え、それによって、前記第１の弾が前記チャンバーから空気圧によって発射されるとき、磁気応答性の球状銃弾の複数の弾のうちの第２の弾が前記重力式フィード機構を離れ、前記第２の弾が前記磁石によって前記チャンバー内に牽引され、前記空気圧が前記チャンバーから前記銃身に前記第２の弾を送り出し、そして前記銃口から前記第２の弾を放出するまで、前記磁石は前記チャンバーの所定位置に前記第２の弾を保持するように作用することを特徴とする請求項２に記載のエアガン。
【請求項４】
前記容器は、フィード管、ホッパー、マガジンから成る群から選択される１つの部材、及びそれらの組み合わせをさらに備えることを特徴とする請求項３に記載のエアガン。
【請求項５】
前記容器は前記フィード管を備え、前記フィード管は水平位置よりも上の第１の角度で前記チャンバーに進入し、前記第１の角度は０°から９０°の範囲であることを特徴とする請求項４に記載のエアガン。
【請求項６】
前記磁石は前記チャンバーの下方に配置されることを特徴とする請求項５に記載のエアガン。
【請求項７】
前記磁石は、鉄磁石、レアアース磁石、電磁石から成る群から選択された１つの部材、及びそれらの組み合わせであることを特徴とする請求項６に記載のエアガン。
【請求項８】
フレームをさらに備え、前記フレームは、前記銃身、前記チャンバー及び前記空気供給ラインを支持する第１のフレーム部材を有し、前記第１のフレーム部材が前記ハンドグリップに固定されていることを特徴とする請求項７に記載のエアガン。
【請求項９】
磁気応答性の球状銃弾の複数の弾は、スチール製ボールベアリング、銃弾、ＢＢ弾からなる群から選択された１つの部材、及び、それらの組み合わせをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のエアガン。
【請求項１０】
前記口径は０．１７２インチ（４．３７ｍｍ）であることを特徴とする請求項１に記載のエアガン。
【請求項１１】
前記銃身の内径は０．１８７インチ（４．７５ｍｍ）であることを特徴とする請求項１１に記載のエアガン。
【請求項１２】
前記圧縮空気源は９５ｐｓｉから１２０ｐｓｉ（６５５ＫＰａから８２７ＫＰａ）の圧縮空気を提供することを特徴とする請求項１に記載のエアガン。
【請求項１３】
前記口径が９．６ｍｍ、８ｍｍ及び５．５ｍｍからなる群から選択される１つの部材であることを特徴とする請求項１に記載のエアガン。
【請求項１４】
前記容器は前記第１及び第２の弾をスタガード配置で保持していることを特徴とする請求項５に記載のエアガン。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月26日(2018.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケイ素、アルミニウムまたはそれらの組合せと、
水素と、
酸素、窒素、炭素、ホウ素およびフッ素のいずれか１種以上と
を含んでなるコーティング材料において、
５０ｎｍ以上のインデント深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｔｅｓｔによって測定した場合、１７ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
３．５ｅＶ以上の光学バンドギャップを示すことを特徴とする、コーティング材料。
【請求項２】
前記ケイ素、アルミニウムまたはそれらの組合せが３５原子％以上の量で存在し、
前記水素が、１原子％〜３０原子％の範囲の量で存在することを特徴とする、請求項１に記載のコーティング材料。
【請求項３】
３０原子％以上の量の窒素および１５原子％〜２８原子％の範囲の量の水素をさらに含んでなることを特徴とする、請求項１または２のいずれか一項に記載のコーティング材料。
【請求項４】
６３２ｎｍの波長において１．８〜２．１の範囲の屈折率をさらに示すことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のコーティング材料。
【請求項５】
０．８以上の窒素の量（原子％）対ケイ素の量（原子％）の組成比、ならびに
０．２未満の炭素（原子％）、酸素（原子％）およびフッ素（原子％）の合計量対アニオンの量（原子％）の組成比
をさらに含んでなることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のコーティング材料。
【請求項６】
７．５原子％までのゼロではない量の酸素、
１０原子％までのゼロではない量の炭素、および
５原子％までのゼロではない量のフッ素
のいずれか１つ以上をさらに含んでなることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のコーティング材料。
【請求項７】
６３２ｎｍの波長において０．２以下の吸光係数をさらに示すことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のコーティング材料。
【請求項８】
主要表面を有する基板と、
請求項１〜７のいずれか一項に記載のコーティングと
を含んでなる物品において、
前記物品または前記コーティング構造が、３．５ｅＶ以上の光学バンドギャップを示し、
前記物品が、５０ｎｍ以上のインデント深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｔｅｓｔによって前記コーティングされた表面上で測定した場合、１７ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
前記物品が、４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の光学波長域において８５％以上の平均透過率を示すことを特徴とする、物品。
【請求項９】
前記コーティングされた表面において測定した場合、基準点から２未満の基準点色シフトを示す、国際照明委員会の光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品透過率色座標、ならびに
前記表面において測定した場合、基準点から５未満の基準点色シフトを示す、国際照明委員会の光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品反射率色座標
の１つ以上を示し、
前記基準点が色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）および前記基板の反射率色座標の少なくとも１つを含んでなり、
前記基準点が色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）である場合、前記基準点色シフトは、√（（ａ＊物品）２＋（ｂ＊物品）２）によって定義され、
前記基準点が色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）である場合、前記基準点色シフトは、√（（ａ＊物品＋２）２＋（ｂ＊物品＋２）２）によって定義され、かつ
前記基準点が前記基板の色座標である場合、前記基準点色シフトは、√（（ａ＊物品−ａ＊基板）２＋（ｂ＊物品−ｂ＊基板）２）によって定義されることを特徴とする、請求項８に記載の物品。
【請求項１０】
Ａシリーズ光源、Ｂシリーズ光源、Ｃシリーズ光源、Ｄシリーズ光源およびＦシリーズ光源からなる群から選択される国際照明委員会の光源下、参照入射照明角度を参照して、２０度以上の入射照明角度において５以下の角度色シフトを示し、角度色シフトが、次の等式：√（（ａ＊２−ａ＊１）２＋（ｂ＊２−ｂ＊１）２）（式中、ａ＊１およびｂ＊１は、参照入射照明角度において見た場合の物品の座標を表し、ａ＊２およびｂ＊２は、入射照明角度において見た場合の物品の座標を表す）を使用して計算され、かつ前記参照入射照明角度が６度であることを特徴とする、請求項８または請求項９に記載の物品。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年4月18日(2018.4.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
本発明によれば、加熱領域１１とクエンチング槽１２の間に移行領域１５が存在し、この移行領域は、加熱領域１５とクエンチング槽１２の間に間隔を提供するために設けられている。特に、これにより、クエンチング槽１２のクエンチング液１３が、直火１０で熱くならないことが回避されるべきである。移行領域１５は、保護チャンバ１７によって構成され、この保護チャンバは、保護媒体１６で洗浄されるので、針布ワイヤ１の接点は、直火１０からの退出後でクエンチング槽１２への入口まで酸素と接触しない。これにより、スケール形成が回避され、付加的に、入口開口１８からの保護媒体１６の流出によって、酸素が針布ワイヤ１に到達することが回避される。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月15日(2018.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．００２〜０．２ｍ3／ｍ2．分＠５０ｇｓｍの標準化されたフラジール通気度、９〜２０ｍ2／ｇｍのＢＥＴ表面積、および１５０〜２５０ｃｍ＠５０ｇｓｍの標準化された水頭を有するプレキシフィラメント状ウェブを含むシート。
【請求項２】
請求項１に記載のシートから製造される熱により固化されたシート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
比較例のいずれも、表２の選択された比較基準に関して性能の独自の組合せを示す、本発明の実施例の水頭性能を達成しなかった。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．０．００２〜０．２ｍ3／ｍ2．分＠５０ｇｓｍの標準化されたフラジール通気度、および１５０〜２５０ｃｍ＠５０ｇｓｍの標準化された水頭を有するプレキシフィラメント状構造物を含むシート。
２．本質的にポリエチレンからなる、上記１に記載のシート。
３．前記プレキシフィラメント状構造物が少なくとも９ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有する、上記１に記載のシート。
４．前記プレキシフィラメント状構造物が０．０９ｍ3／ｍ2．分＠５０ｇｓｍ以下の標準化されたフラジール通気度を有する、上記１に記載のシート。
５．前記プレキシフィラメント状構造物が０．００７５ｍ3／ｍ2．分＠５０ｇｓｍ以上のフラジール通気度を有する、上記１に記載のシート。
６．前記プレキシフィラメント状構造物が１６５〜２０８センチメートル＠５０ｇｓｍの標準化された水頭を有する、上記１に記載のシート。
７．前記プレキシフィラメント状構造物が９〜２５ｍ2／ｇｍのＢＥＴ表面積を有する、上記６に記載のシート。
８．前記プレキシフィラメント状構造物が９〜２０ｍ2／ｇｍのＢＥＴ表面積を有する、上記６に記載のシート。
９．前記プレキシフィラメント状構造物が３０グラム／平方メートル以上の基本重量を有する、上記１に記載のシート。
１０．少なくとも１つのシートが上記１に記載のシートである２つ以上の複数のシートを含む複数層構造物。
１１．前記プレキシフィラメント状構造物が少なくとも９ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有する、上記１０に記載の複数層構造物。
１２．上記１に記載のシートから製造される熱により固化されたシート。
１３．少なくとも１つのシートが上記１２に記載のシートである２つ以上の複数のシートを含む複数層構造物。
１４．０．００２〜０．２ｍ3／ｍ2．分＠５０ｇｓｍの標準化されたフラジール通気度、９〜２０ｍ2／ｇｍのＢＥＴ表面積、および１５０〜２５０ｃｍ＠５０ｇｓｍの標準化された水頭を有するプレキシフィラメント状ウェブを含むシート。
１５．上記１４に記載のシートから製造される熱により固化されたシート。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月18日(2018.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心開口を取り囲む環状体と、
前記環状体内に配置された冷却剤チャネルと、
前記中心開口内でプロセスツールを支持しやすくするための１つまたは複数の特徴と、
前記環状体内に配置され、前記冷却剤チャネルに流体的に結合された入口および出口と、
前記環状体をバイアス電源に結合するための端子を有する前記環状体に結合された電力接続と
を備える冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項２】
前記プロセスツールを支持しやすくするための前記１つまたは複数の特徴が、前記環状体の内径に沿って配置された半径方向内方に延びる棚を備える、請求項１に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項３】
前記環状体にプロセスツールを結合しやすくするように前記棚を通って配置された複数の貫通孔
をさらに備える、請求項２に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項４】
前記冷却式プロセスツールアダプタに対するプロセスツールの位置合わせを容易にするための１つまたは複数のアライメントピン
をさらに備える、請求項２に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項５】
前記１つまたは複数のアライメントピンが３つのアライメントピンである、請求項４に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項６】
前記環状体が、実質上平面の上面と、実質上平面の下面とをさらに備える、請求項１から５までのいずれか１項に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項７】
前記実質上平面の上面に沿って配置された環状溝と、
前記実質上平面の下面に沿って配置された環状溝と
をさらに備える、請求項６に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項８】
前記冷却剤チャネルが、
前記環状体の外径に沿って配置されたチャネルと、
前記冷却剤チャネルを密封するように前記チャネルを覆って配置されたキャップとを備える、請求項１から５までのいずれか１項に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項９】
前記冷却式プロセスツールアダプタが設置されるプロセスチャンバに対する前記冷却式プロセスツールアダプタの中心合わせおよび配向を容易にするための複数の配向特徴をさらに備える、
請求項１から５までのいずれか１項に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項１０】
前記複数の配向特徴が、
前記冷却式プロセスツールアダプタの上に配置された部品と前記冷却式プロセスツールアダプタを位置合わせするための上部アライメント特徴と、
前記冷却式プロセスツールアダプタの下に配置された部品と前記冷却式プロセスツールアダプタを位置合わせするための下部アライメント特徴とをさらに備える、請求項９に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項１１】
前記複数の配向特徴が、２つの直径方向に対向する配向特徴である、請求項９に記載の冷却式プロセスツールアダプタ。
【請求項１２】
プロセスチャンバであって、
前記プロセスチャンバの内部体積を部分的に画定する接地アダプタおよびリッドアセンブリを含む本体と、
前記環状体の前記中心開口が前記プロセスチャンバの前記内部体積に面する、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の冷却式プロセスツールアダプタと、
前記冷却式プロセスツールアダプタと前記リッドアセンブリとの間に配置された絶縁体リングと、
前記冷却式プロセスツールアダプタと前記接地アダプタとの間に配置された絶縁体リングと備えるプロセスチャンバ。
【請求項１３】
前記冷却式プロセスツールアダプタの前記入口および前記出口を密閉し、冷却剤源に結合するための供給入口を有する冷却剤コネクタハウジング、または
前記接地アダプタ内に配置された冷却剤チャネル
の少なくとも１つをさらに備える、請求項１２に記載のプロセスチャンバ。
【請求項１４】
前記接地アダプタ内に配置された冷却剤チャネルをさらに備え、前記接地アダプタの前記冷却剤チャネルおよび前記冷却式プロセスツールアダプタの前記冷却剤チャネルが、直列に流体的に結合される、請求項１２に記載のプロセスチャンバ。
【請求項１５】
前記プロセスチャンバの前記本体が接地され、
前記冷却式プロセスツールアダプタに結合されたバイアス電源と、
前記冷却式プロセスツールアダプタに結合されたプロセスツールとをさらに備え、前記プロセスツールが、前記冷却式プロセスツールアダプタを介して前記バイアス電源に結合される、請求項１２から１４までのいずれか１項に記載のプロセスチャンバ。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月17日(2018.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部容積及び入口チューブを備えるサンプリング容器と；
前記サンプル容器の前記内部容積を増大させて、前記内部容積内に負圧を作り出してサンプリングされるガスを前記内部容積内に引き込むことが可能な膨張機構と；
前記入口チューブに接続された自動タイマーバルブであって、
軸を回転させることが可能な回転機構を有する回転デバイスであって、前記軸が回転軸を有する、回転デバイスと；
前記軸に相互交換可能に接続された、置換可能な第１回転部品及び置換可能な第２回転部品であって、前記置換可能な第１回転部品が、前記回転軸から所定距離にある少なくとも１つの第１サンプリング孔を備え、前記置換可能な第２回転部品が、前記回転軸から所定距離にある少なくとも１つの少なくとも１つの第２サンプリング孔を備える、置換可能な第１回転部品及び置換可能な第２回転部品と；
を備える、自動タイマーバルブと；
を備える、ガスをサンプリングするためのサンプリングシステムであって、
前記入口チューブが、前記軸に相互交換可能に接続された、前記置換可能な第１回転部品又は前記置換可能な第２回転部品のいずれかの表面と接触するスライドシールと、開口部と、を有する少なくとも１つのシーリングデバイスを備え、
前記入口チューブが、前記入口チューブが前記開口部と整列することができるように、前記回転軸から、前記孔と同じ距離に位置づけられ、
前記置換可能な第１回転部品が、前記回転デバイスが前記軸を回転させ始めるとともに前記シーリングデバイスが前記置換可能な第１回転部品とシーリング接触する初期遅延期間と、前記第１サンプリング孔又は前記第２サンプリング孔が前記開口部と整列させられて前記サンプル容器の前記内部容積とサンプリングされる環境との間の流体連通を提供するサンプリング期間と、前記サンプリング期間の後の終了期間であって、前記シーリングデバイスが前記置換可能な第１回転部品又は前記置換可能な第２回転部品とシーリング接触する、終了期間と、を備え、前記第１サンプリング孔が前記第２サンプリング孔と長さが異なることを特徴とするサンプリングシステム。
【請求項２】
前記サンプリング容器が、少なくとも１つの可撓性壁部を備えていることを特徴とする請求項１に記載のサンプリングシステム。
【請求項３】
前記シーリングデバイスが、Ｏリング、ガスケット、ポリテトラフルオロエチレン又はゴム製ベローズのうちの１つを備えていることを特徴とする請求項１に記載のサンプリングシステム。
【請求項４】
前記膨張システムが、形状記憶部品、バネ、空気圧式システム、液圧式システム及び加重システムの少なくとも１つを備えていることを特徴とする請求項１に記載のサンプリングシステム。
【請求項５】
前記自動タイマーバルブが、電気モータを備えていることを特徴とする請求項１に記載のサンプリングシステム。
【請求項６】
前記回転部品がプレートであることを特徴とする請求項１に記載のサンプリングシステム。
【請求項７】
前記回転デバイスが、バネ動作式モータ又は重量動作式モータのうちの一方を備えていることを特徴とする請求項１に記載のサンプリングシステム。
【請求項８】
前記プレートの少なくとも１つの表面が、前記孔が前記入口チューブと整列させられていないときにサンプリングすることを防止するために、前記入口チューブをシールすることを特徴とする請求項６に記載のサンプリングシステム。
【請求項９】
前記回転デバイスが、１時間ごとに１回から１分間ごとに１０回の範囲のレートで前記プレートを回転させることを特徴とする請求項６に記載のサンプリングシステム。
【請求項１０】
前記回転デバイスが、３０分間ごとに１回から１分間ごとに２回の範囲のレートで前記プレートを回転させることを特徴とする請求項６に記載のサンプリングシステム。
【請求項１１】
前記回転デバイスが、約１５分間ごとに１回、前記回転プレートを回転させることを特徴とする請求項１０に記載のサンプリングシステム。
【請求項１２】
前記孔が、初期位置から最終位置までの前記プレートの回転ごとに１回のサンプリングを可能にするために、前記入口チューブと整列することを特徴とする請求項１１に記載のサンプリングシステム。
【請求項１３】
前記プレートが、長孔を形成していることを特徴とする請求項６に記載のサンプリングシステム。
【請求項１４】
前記入口チューブが、前記回転プレートとシールを形成することが可能な材料から構築されていることを特徴とする請求項１に記載のサンプリングシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
回転部品のさらなる実施形態が、図４に示されている。回転部品１１０のこの実施形態は、１つ以上の軸が完全な回転移動をしない回転デバイス１０８で使用される。サンプリングデバイスのいくつかの実施形態では、回転部品は、完全な回転移動の一部分のみ行う。図４の回転部品１１０の実施形態では、回転部品１１０は、初期位置から最終位置までおよそ９０°の回転にわたって動く。この実施形態では、サンプリングプロセスは、Ｔ０からＴ１までの初期遅延期間と、Ｔ１からＴ２までのサンプル期間と、さらなるサンプリングが生じない、Ｔ２からＴ３までのシャットオフ期間と、を含む。各期間の長さは、孔１１２の場所、数及び長さによって、又は回転デバイスが異なる回転速度を有する図３の回転部品１００の使用によって修正されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月22日(2018.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理システムが第１の実行中に複数の位置の各々で複数のコードループを実行することと同時に、前記処理システム内の複数の位置で電圧を測定する少なくとも１つの電源モニタ（ＰＳＭ）であって、基準電圧は、前記第１の実行中に測定された電圧の統計的な組み合わせに基づいて決定される、ＰＳＭと、
前記処理システムに供給される第２の電圧を、前記基準電圧と、前記処理システムが第２の実行中に前記複数の位置の各々で前記複数のコードループを実行することと同時に前記少なくとも１つのＰＳＭによって測定された電圧の統計的な組み合わせに基づく比較電圧と、の比較に基づいて変更する較正ロジックと、を備える、
装置。
【請求項２】
前記較正ロジックは、前記比較電圧を、前記電圧の平均値、前記電圧の中央値、前記電圧の最頻値、前記電圧の最小値、及び、前記電圧の最大値のうち少なくとも１つを用いて発生させる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記較正ロジックは、前記比較電圧が前記基準電圧よりも低い場合に前記第２の電圧を上げ、前記比較電圧が前記基準電圧よりも高い場合に前記第２の電圧を下げる、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記較正ロジックは、前記処理システムにおける漏れ電流を考慮した電圧補償を決定し、前記較正ロジックは、前記電圧補償と、前記基準電圧と前記比較電圧との比較と、に基づいて前記第２の電圧を変更する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記較正ロジックは、前記処理システムが第１のコードループを実行することと同時に前記少なくとも１つのＰＳＭによって測定された第１の電圧と、前記処理システムが第２のコードループを実行することと同時に前記少なくとも１つのＰＳＭによって測定された第３の電圧と、に基づいて前記基準電圧を決定し、前記第１の電圧及び前記第３の電圧で前記処理システムに供給される電力は、第１の電源によって供給される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記第２の電圧で前記処理システムに供給される電力は、第２の電源によって供給される、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つのＰＳＭは、前記処理システムの起動に応じて前記処理システムが前記第１のコードループを実行することと同時に前記第１の電圧を測定し、前記較正ロジックは、前記処理システムの起動に応じて、前記第２の電源が供給する前記第２の電圧を変更する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記基準電圧を示す情報を記憶する少なくとも１つの記憶素子を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
処理システムが第１の実行中に複数の位置の各々で複数のコードループを実行することと同時に、前記処理システム内の複数の位置で電圧を測定することであって、基準電圧は、前記第１の実行中に測定された電圧の統計的な組み合わせに基づいて決定される、ことと、
前記処理システムに供給される第２の電圧を、前記基準電圧と、前記処理システムが第２の実行中に前記複数の位置の各々で前記複数のコードループを実行することと同時に前記少なくとも１つのＰＳＭによって測定された電圧の統計的な組み合わせに基づく比較電圧と、の比較に基づいて変更することと、を含む、
方法。
【請求項１０】
前記比較電圧は、前記電圧の平均値、前記電圧の中央値、前記電圧の最頻値、前記電圧の最小値、及び、前記電圧の最大値のうち少なくとも１つを用いて発生される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記比較電圧が前記基準電圧よりも低い場合に前記第２の電圧を上げることと、
前記比較電圧が前記基準電圧よりも高い場合に前記第２の電圧を下げることと、をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記処理システムにおける漏れ電流を考慮した電圧補償を決定することと、
前記電圧補償と、前記基準電圧と前記比較電圧との比較と、に基づいて前記第２の電圧を変更することと、をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記処理システムが第１のコードループを実行することと同時に前記少なくとも１つのＰＳＭによって測定された第１の電圧と、前記処理システムが第２のコードループを実行することと同時に前記少なくとも１つのＰＳＭによって測定された第３の電圧と、に基づいて前記基準電圧を決定することであって、前記第１の電圧及び前記第３の電圧で前記処理システムに供給される電力は、第１の電源によって供給される、こと、をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記第２の電圧で前記処理システムに供給される電力は、第２の電源によって供給される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の電圧は、前記処理システムの起動に応じて前記処理システムが前記第１のコードループを実行することと同時に測定され、
前記第２の電圧を変更することは、前記処理システムの起動に応じて、前記第２の電源が供給する前記第２の電圧を変更することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記基準電圧を示す情報を記憶することを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１７】
実行可能な命令のセットを具体化するコンピュータ可読記憶媒体であって、前記実行可能な命令のセットは、処理システムに対して、
前記処理システムが第１の実行中に複数の位置の各々で複数のコードループを実行することと同時に、前記処理システム内の複数の位置で電圧を測定することであって、基準電圧は、前記第１の実行中に測定された電圧の統計的な組み合わせに基づいて決定される、ことと、
前記処理システムに供給される第２の電圧を、前記基準電圧と、前記処理システムが第２の実行中に前記複数の位置の各々で前記複数のコードループを実行することと同時に前記少なくとも１つのＰＳＭによって測定された電圧の統計的な組み合わせに基づく比較電圧と、の比較に基づいて変更することと、
を行わせる、
コンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１８】
前記実行可能な命令のセットは、前記処理システムに対して、
第１のコードループを実行することと同時に測定された第１の電圧と、第２のコードループを実行することと同時に測定された第３の電圧と、に基づいて前記基準電圧を決定することであって、前記第１の電圧及び前記第３の電圧で前記処理システムに供給される電力は、第１の電源によって供給される、こと、をさらに行わせる、請求項１７に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年2月20日(2018.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの電子ビーム放出器と、少なくとも１つのアノードターゲットとを備え、
少なくとも１つのアノードターゲットは、第１の選択材料を備える基板と、その複数のＸ線発生特性に対して選択される第２の材料を備える離散した複数の微細構造とを備え、
前記離散した複数の微細構造のそれぞれは、前記基板と熱的接触し、
前記離散した複数の微細構造のうち少なくとも１つは、２０ミクロンより小さい少なくとも１つの寸法をもつ、
るＸ線ソースと、
前記アノードターゲットにより生成される複数のＸ線を収集し、予め定められた複数のビーム特性をもつＸ線ビームを生成する光学トレインと、
調査される目的物を保持し、前記Ｘ線ビームが前記目的物に入射するように配置されるマウントと、
前記目的物を通過する複数のＸ線を測定する検出器と
を備える
Ｘ線吸収測定システム。
【請求項２】
前記目的物に入射する前記複数のＸ線の強度を測定する検出器を更に備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
予め定められたエネルギー及び帯域幅の前記複数のＸ線にさらされる場合、前記目的物により放出されるＸ線蛍光の強度を測定する検出器を更に備える、請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項４】
モノクロメータ及び制御システムを更に備え、
前記制御システムはモノクロメータの複数の設定と、目的物の位置及び回転とを調整するように設計される
請求項１から３の何れか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記離散した複数の微細構造のうちの前記少なくとも１つのそれぞれの横寸法は、５０ミクロンより小さい、
請求項１から４の何れか一項に記載のシステム。
【請求項６】
前記離散した複数の微細構造は、予め定められた軸に沿って直線配列で配置され、
前記光学トレインも、前記予め定められた軸に沿って位置合わせされる、請求項１から５の何れか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記第１の選択材料は、ベリリウム、ダイヤモンド、グラファイト、ケイ素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、サファイヤ、及びダイヤモンド様炭素から成る群から選択される、請求項１から６の何れか一項に記載のシステム。
【請求項８】
前記離散した複数の微細構造のサブセットは、そのＸ線発生特性のために選択される第３の材料を有する、請求項１から７の何れか一項に記載のシステム。
【請求項９】
前記離散した複数の微細構造は、予め定められた数の前記離散した複数の微細構造により生成される複数のＸ線が、前記電子ビーム放出器からの電子ビームにさらされる場合に、前記離散した複数の微細構造から選択される前記離散した微細構造のうち予め定められた１つを通過するように配置される、
請求項１から８の何れか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
複数の電子放出素子と、
それぞれの電子放出器が電子ビームを提供し、対応する複数のアノードターゲットに衝撃を与え、複数のＸ線を生成するように位置合わせされる複数のアノードターゲットであって、
前記複数のアノードターゲットは、複数のＸ線が生成される複数の位置が、予め定められた軸に沿って位置合わせされ、前記光学トレインも、前記予め定められた軸に沿って位置合わせされるように、位置合わせされる、
複数のアノードターゲットと
を備える
請求項１から９の何れか一項に記載のシステム。
【請求項１１】
前記光学トレインは、二次曲面に対応する表面をもつＸ線リフレクタを備える、請求項１から１０の何れか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記予め定められたエネルギー帯域幅は、１ｅＶより小さい、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記モノクロメータは、ケイ素、ゲルマニウム、フッ化リチウム、及びインジウムアンチモンから成る群から選択される材料を備えるチャンネルカット結晶を備える、請求項４に記載のシステム。
【請求項１４】
少なくとも１つの電子ビーム放出器と、少なくとも１つのアノードターゲットとを備え、
少なくとも１つのアノードターゲットは、第１の選択材料を備える基板と、その複数のＸ線発生特性に対して選択される第２の材料を備える、少なくとも１つのＸ線発生構造とを備える、
高輝度Ｘ線ソースと、
前記アノードターゲットにより生成される複数のＸ線を収集し、コリメートされたＸ線ビームを生成する光学トレインと、
前記コリメートされたＸ線ビームから、予め定められたエネルギー及び予め定められたエネルギー帯域幅の複数のＸ線を選択するＸ線モノクロメータと、
調査される目的物を保持し、予め定められたエネルギー及び帯域幅の前記複数のＸ線が前記目的物を通過するように配置されるマウントと、
前記目的物を通過する前記複数のＸ線を測定する検出器と
を備える
Ｘ線吸収微細構造測定システム。
【手続補正書】
【提出日】平成30年5月29日(2018.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の運搬構造から第２の運搬構造へパッケージング容器を搬送するための搬送構造であって、
前記搬送構造は、摩擦で前記パッケージング容器と係合するよう構成された少なくとも１つの把持部を備えており、かつ、
前記把持部は、前記パッケージング容器を固定するために前記パッケージング容器の構造上の細部と相互作用するように構成された把持要素を備え、
前記把持部は、摩擦で前記パッケージング容器と係合することによって前記パッケージング容器の一部をクランプするように構成された把持ジョーを備え、
前記把持部は、少なくとも１つのカムカーブに対して、当該カムカーブが前記把持部の垂直方向ポジションを少なくとも制御し得るように、動作可能に接続され、
前記把持部は、前記カムカーブに追従するカムフォロワの作動によって開閉するよう構成されている、
搬送構造。
【請求項２】
前記把持部は、把持ジョーを形成する２つの部分を備えており、前記２つの部分のうち少なくとも１つが、枢軸回転するように構成されていることを特徴とする請求項１または請求項１に記載の搬送構造。
【請求項３】
前記少なくとも１つの把持部は、無端コンベア上に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送構造。
【請求項４】
前記把持部は、ガイドシャフトを介して、前記カムカーブに接続されており、
前記ガイドシャフトは、前記無端コンベアに取り付けられたキャリアにスライド可能に配置されたことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の搬送構造。
【請求項５】
把持部は、前記第１の運搬構造から前記第２の運搬構造へ搬送する間に、設定された角度で前記パッケージング容器を転回するように構成されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の搬送構造。
【請求項６】
前記把持部は、前記第２の搬送構造へ引き渡す間に、前記パッケージング容器の長手方向において、前記パッケージング容器に圧縮力を付与するように構成されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の搬送構造。
【請求項７】
前記把持部は、第１のピッチで前記第１の運搬構造から前記パッケージング容器を取得するように、かつ第２のピッチで前記第２の運搬構造へ前記パッケージング容器を解放するように、構成されており、
前記第１のピッチは前記第２のピッチよりも大きいことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の搬送構造。
【請求項８】
第１の運搬構造から第２の運搬構造へパッケージング容器を搬送するための搬送構造であって、
前記搬送構造は、摩擦で前記パッケージング容器と係合するよう構成された少なくとも１つの把持部を備え、
前記把持部は、前記パッケージング容器を固定するために前記パッケージング容器の構造上の細部と相互作用するように構成された把持要素を備え、
前記把持部は、第１のピッチで前記第１の運搬構造から前記パッケージング容器を取得するように、かつ第２のピッチで前記第２の運搬構造へ前記パッケージング容器を解放するように、構成されており、
前記第１のピッチは前記第２のピッチよりも大きい、搬送構造。
【手続補正書】
【提出日】平成30年7月30日(2018.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スロットルペダル組立体であって、
第１側壁、第２側壁、上壁、底壁、前壁、及び後壁を有し、チャンバと前記チャンバに隣接するセンサ収納用キャビティとを画定する単一、一体型の筐体部であって、前記センサ収納用キャビティは、前記チャンバから前記センサ収納用キャビティを隔離する共通の壁によって前記チャンバから分離され、前記チャンバは、前記筐体部の前記前面及び底面に対して開き、互いに対向する前記第１側壁及び前記共通の壁によって部分的に画定され、前記センサ収納用キャビティは、その上部が開口して、前記第２側壁及び前記共通の壁によって部分的に画定され、前記チャンバは、前記第１側壁内の開口部と、前記第１側壁内の前記開口部と同軸である前記共通の壁内の閉鎖ボアとを備える、筐体部と；
ペダルと、ペダルアームと、前記ペダルアームの端部に設けられ、前記チャンバ内に挿入される大きさのヘッドとを備えるペダル組立体であって、前記ヘッドは、前記ヘッドを通って延びる通路を画定する、ペダル組立体と；
前記ペダル組立体から分離し、前記筐体部の前記第１側壁内の前記開口部を通って前記通路を通って延び、前記共通の壁の前記閉鎖ボアに収容される大きさに作られたペダルシャフトであって、前記ペダルシャフトは、前記ペダル組立体を前記チャンバ内に搭載して、前記ペダルシャフトによって画定されたピボット軸の周りで前記チャンバに対して前記ペダル組立体をピボット運動させ、前記ペダルシャフトと前記ヘッドはスナップ式に連結されるように構成され、前記ペダル組立体が前記頭部に対して回転可能に固定され、それにより前記ペダル組立体は工具を使用せずに前記筐体部内に取り付けられる、ペダルシャフトと；
前記ペダルシャフト上に配置された磁石であって、前記ペダルシャフトが前記筐体部内に取り付けられたときに前記磁石が前記閉鎖ボアに入るように配置され、前記ペダル組立体が前記ピボット軸の周りを回転するときに前記ピボット軸上で前記磁石が回転するように前記ピボット軸と同軸に配置された磁石と；
前記センサ収納用キャビティ内に取り付けられたホール効果センサ組立体であって、前記ホール効果センサ組立体はホールチップを有し、前記センサ収納用キャビティ及び前記ホール効果センサ組立体はそれぞれ、前記ホールチップ及び前記磁石が共通軸上に位置するように前記ホールチップが前記ピボット軸と整列するように、前記センサ収納用キャビティ内に成形され、寸法決め、位置決めされて、前記ピボット軸を中心に回転する、ホール効果センサ組立体と；
汚染物質が前記センサ収納用キャビティに入るのを防ぐために前記センサ収納用キャビティを閉じるシール材と；
を備えるスロットルペダル組立体。
【請求項２】
窪み部及び突出部のうちの一方が、前記ペダル組立体の前記ヘッドの前記通路の表面上に形成され、前記窪み部及び突出部のうちの他の一方が、前記軸の外面上に形成される、請求項１に記載のスロットルペダル組立体。
【請求項３】
前記突出部が、前記軸及び前記通路の前記表面の一方から延びる少なくとも１つのナブを備える、請求項２に記載のスロットルペダル組立体。
【請求項４】
前記窪み部が、前記ペダルアームの前記端部の端から前記ペダルアームの前記通路を介して延在する開口部によって画定される、請求項２又は請求項３に記載のスロットルペダル組立体。
【請求項５】
前記シール材が、前記ホール効果センサ組立体をカプセル化して前記センサ収納用キャビティを実質的に満たす樹脂封止体によって画定される、請求項１から請求項４の何れか一項に記載のスロットルペダル組立体。
【請求項６】
前記磁石が単一の磁石を備える、請求項１から請求項５の何れか一項に記載のスロットルペダル組立体。
【請求項７】
前記ペダルシャフト及び前記ペダルヘッドを通る前記通路は、互いに対応する形状であり、前記ペダルシャフト及び前記通路の形状は、前記通路内の前記シャフトの回転を防止する、請求項１から請求項６の何れか一項に記載のスロットルペダル組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月28日(2018.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記コントローラの前記非一時的メモリは、
予行シフトが望ましくないルートの一部を判断し、
予行シフトが望ましくないルートの前記一部分内に前記自転車が存在する場合に制御方式を中断するために前記プロセッサにより実行可能な一組の命令をさらに格納する、請求項１に記載の自転車。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月8日(2018.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波媒体内にある物質が液体かどうかを判定する機器であって、前記機器は、
横方向と交差する軸方向に伝搬する音波を送出し、前記音波からのエネルギの移動によって作り出される音場内に液体のバルク運動を引き起こすための超音波画像取得システムであって、音響出力により、空間的及び時間的に変化する流速を前記液体内で引き起こす、超音波画像取得システムと、
前記超音波画像取得システムが前記物質を前記音響出力にさらすことに応答し、速度の空間的変化の指標を前記物質に関する推定値として計算し、前記空間的変化は前記横方向の空間的変化であり、前記推定値に基づいて前記判定をする音響流解析プロセッサと
を含む、機器。
【請求項２】
前記音響流解析プロセッサが前記指標を基準の大きさと比較し、前記比較の結果に基づいて前記判定を行う、請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記流速に対応する速度ベクトル、並びに大きさ及び方向に関して前記速度ベクトルの無作為性測度を計算し、前記判定が前記無作為性測度に基づく、請求項１に記載の機器。
【請求項４】
前記指標が時間的変化の指標を更に含む、請求項１に記載の機器。
【請求項５】
前記超音波画像取得システムを介した前記計算のために、
前記引き起こすための複数のプッシュパルスを放ち、前記プッシュパルスの後で複数のトラックパルスを放ち、前記トラックパルスの全てが同じ方向に放たれるわけではない、
請求項１に記載の機器。
【請求項６】
ａ）前記物質を含む身体の超音波画像内で示される低エコーの領域を検出し、規定する画像分割モジュール、及びｂ）前記領域を規定するためのユーザ入力をユーザインタフェースを介して前記機器が受けるための当該ユーザインタフェースの少なくとも１つを更に含む、請求項１に記載の機器。
【請求項７】
前記音響流解析プロセッサが前記物質を含む身体の画像を処理し、前記機器が前記画像内の血管を識別し、前記身体内の静止液体プールを識別し、前記静止液体プールを前記識別することが前記判定することを含み、前記静止液体プールを前記識別することが前記血管を前記識別することを考慮に入れる、請求項１に記載の機器。
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月22日(2018.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シェル、流入口、及び流出口を備える容器であって、前記流入口と流出口との間の前記シェル内部の空間が内容積を形成する、容器と、
前記内容積の少なくとも一部を満たし、それによって充填容積を形成する複数の充填材構造であって、前記充填容積はボイド率を有し、前記充填材構造は総表面積を提供する、複数の充填材構造と、を備え、
前記容器は、前記容器流入口と容器流出口との間に圧力損失を有し、前記圧力損失は、同じ断面積を有する非ねじれ形状の充填層の圧力損失の１．０倍未満である、充填層。
【請求項２】
前記ボイド率は、約０．８未満であり、前記圧力損失は、同じ断面積を有する非ねじれ形状の充填層の圧力損失の０．９５倍未満である、請求項１に記載の充填層。
【請求項３】
Ｌ／ＯＤのアスペクト比を定義する長さ（Ｌ）及び外径（ＯＤ）を有する外表面を有する本体であって、前記アスペクト比は、１超かつ１０未満である、本体と、前記外表面に形成される少なくとも１つの連続的なくぼみと、を備え、支持体の表面に接触する化学成分を吸収及び／または触媒するために化学的及び／または物理的に活性である、充填材構造。
【請求項４】
前記くぼみは、ＯＤの単位体長さ当たり回転角θ１だけ本体の中心軸の周囲を回転し、θ１は、約４５°〜１８０°である、請求項３に記載の充填材構造。
【請求項５】
前記本体は、内表面を形成する、前記本体を通る直径Ｄｂを有する少なくとも１つの中空孔をさらに備え、Ｄｂ≦ＯＤ−４ｍｍである、請求項３または４に記載の充填材構造。
【請求項６】
前記くぼみは、Ｄｒ未満の深さを有し、Ｄｒ＝（ＯＤ−（Ｄｂ＋２））／２である、請求項５に記載の充填材構造。
【請求項７】
前記複数の触媒支持体は、約１．０ｍｍ〜約１５．０ｍｍのＯＤを有する、請求項５に記載の複数の充填材構造を備える充填層。
【請求項８】
Ｎｆ個の辺及びＮｖ個の頂点ならびに長さＬｂの押出軸を有する幾何学的断面を備える本体であって、前記頂点は前記軸から距離Ｒｖにあり、前記押出軸は前記押出成形体の第１の面から前記押出成形体の第２の面までの経路をたどり、前記触媒支持体は触媒活性を示す、本体を備える、充填材構造。
【請求項９】
幾何学的に成形された固体であって、
湾曲した回転軸の周囲に回転面によって形成される円筒状の本体であって、前記回転面は、前記回転軸から垂直な平面内の前記回転軸から距離Ｒ１にある、円筒状の本体と、
前記円筒状の本体の周囲に螺旋状経路を形成する１つ以上のチャネルであって、前記円筒状の本体の前記回転面に山部を有し、前記円筒状の本体内に谷部を有し、前記谷部は、前記回転軸から距離Ｒ２にある、前記１つ以上のチャネルと、
前記円筒状の本体の第１の面から前記円筒状の本体の第２の面まで延在する長さＬｂと、を備え、前記成形された固体は、触媒活性を示す、幾何学的に成形された固体。
【請求項１０】
前記回転軸は、角度Ｌ０の弧にわたって変化する変動半径Ｒ０を有する、請求項９に記載の成形された固体。
【請求項１１】
前記回転軸は、一定半径Ｒ０を有し、角度Ｌ０の弧に沿って延びる、請求項９に記載の成形された固体。
【請求項１２】
前記円筒状の本体は、環状体の外側縁部に沿ったチャネル間のピッチが前記環状体の内側縁部に沿ったピッチよりも大きくなるように、前記本体の周囲に形成された１つ以上のチャネルを有する前記環状体の一部の形状を有する、請求項９に記載の成形された固体。