【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年1月23日(2018.1.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
【図１】本発明に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの模式的な網状構造を示す図である。図中、曲線はポリイミド分子の鎖セグメントを表し、点はトリアミン架橋剤を表す。
【図２】本発明に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの架橋ポイント間の鎖セグメント構造を示す図である。
【図３】実際例１に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドのＩＲスペクトルを示す図である。
【図４】実際例１に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの損失係数に関するグラフである。
【図５】実際例１に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの貯蔵弾性率に関するグラフである。
【図６】実際例１に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドのＴＧＡグラフである。
【図７】実際例１に基づき調製され、ホットステージ上に配置されたフラットパネル形態の迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの画像を示す図であり、一時的な形状を形成するように高温で曲げられ、室温で固定化された。
【図８】２１０℃のホットステージ上で１秒経過させた後の、実際例１に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの形状回復に関する画像を示す図である。
【図９】２１０℃のホットステージ上で２秒経過させた後の、実際例１に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの形状回復に関する画像を示す図である。
【図１０】２１０℃のホットステージ上で３秒経過させた後の、実際例１に基づき調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの元の形状への回復に関する画像を示す図である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
実施例３８：
本実施例は、実施例４〜３７のうちの１つとほぼ同一であったが、但し、ステップＩＶにおいて、１７５〜１８０℃の温度で５８０〜６００分間、加熱を実施した。
本発明の有用な効果は、以下の実際例によって実証された。
実際例１：
迅速反応性、高性能、熱硬化性形状記憶ポリイミドの製造方法を、以下のステップに従って実施した：
１．ジアミン溶液を調製するステップ
３ｍｍｏＬの１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーを秤取し、それをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶媒を含有する１６ｍＬの三口フラスコに投入し、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーが完全に溶解するまで、フラスコ内の内容物を乾燥窒素の保護下にて室温で撹拌して、ジアミン溶液を得、
ステップ１に記載の１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーの純度は９８％であり、
ステップ１に記載のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドは、商業的に入手可能であったが、分析純度を有し、水を除去した後、真空蒸留処理することによって得られ；
２．無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を調製するステップ
ビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーを、ステップ１で得られたジアミン溶液に４回添加し、生成物を２００ｒ／分の速度で室温にて１６時間撹拌して、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を得、
１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーに対するステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの量の比は１：０．９７であり、ステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの純度は９７％であり；
３．粘稠性ゾル−ゲルを調製するステップ
トリ（４−アミノフェニル）アミンを、ステップ２で得られた無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸に添加し、生成物を２６０ｒ／分の速度で室温にて５時間撹拌して、ゾル−ゲルを得、次に、得られた粘稠性ゾル−ゲルを真空オーブン中、４０℃で０．５時間乾燥させて、粘稠性ゾル−ゲルを得、
ステップ３に記載のトリ（４−アミノフェニル）アミンの純度は、９８％超であり、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸中のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーに対するステップ３に記載するトリ（４−アミノフェニル）アミンの量の比は０．０２：１であり；
４．熱硬化性形状記憶ポリイミドを調製するステップ
ステップ３で得られた粘稠性ゾル−ゲルを基材上に流し込み、生成物を１℃／分の加熱速度で室温から７０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を１℃／分の加熱速度で１２０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を１℃／分の加熱速度で１７０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を１℃／分の加熱速度で２２０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を１℃／分の加熱速度で２７０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を１℃／分の冷却速度で室温まで冷却し；
次に基材を蒸留水に入れて基材から固体フィルムを剥離させ、その後、得られた固体フィルムを、蒸留水を用いて３回すすぎ、固体フィルムを１２０℃の温度条件で６００分間加熱して、最後に、熱硬化性、形状記憶ポリイミドを得た。
本実際例で調製された熱硬化性、形状記憶ポリイミドのＴｇは１９０℃であり、これは、その形状記憶効果を高温用途に用いることができることを保証し；一般的に使用される形状記憶ポリイミドのＴｇ（ほとんどが１２０℃未満）と比べたとき、そのＴｇ値は少なくとも７０℃高くなった。
本実際例の迅速反応性、熱硬化性形状記憶ポリイミドの赤外線スペクトルを図３に示した。図３から、本実際例で調製された熱硬化性形状記憶ポリイミドの１７８０ｃｍ−１での吸収ピークが、イミドカルボニル基（νａｓＣ＝Ｏ）の非対称伸縮吸収ピークであったが、１７２２ｃｍ−１での吸収ピークは、イミドカルボニル基（νｓＣ＝Ｏ）の特性対称伸縮振動ピークであり、１３８０ｃｍ−１でのピークは、Ｃ−Ｎ結合（νＣ−Ｎ）の伸縮振動吸収ピークであり、１１１５ｃｍ−１でのピークは、イミド環（νＣ−Ｏ）の曲げ振動吸収ピークであったことを確認できる。これらの特性吸収ピークは、本発明で調製された熱硬化性形状記憶ポリイミドが、高度にイミド化されたポリイミドであったことを示した。
本実際例の迅速反応性、熱硬化性形状記憶ポリイミドの損失係数を図４に示したが、図４から分かるように、そのＴｇは約１９０℃であったことが確認された。
本実際例の迅速反応性、熱硬化性形状記憶ポリイミドの貯蔵弾性率の結果を図５に示した。図５から分かるように、本実際例で調製された熱硬化性形状記憶ポリイミドは、３０℃の室温のとき、ガラス状態で２．２２ＧＰａの貯蔵弾性率を有し、２１０℃（Ｔｇ＋２０℃）の高温では、ゴム状態で約５．３６ＭＰａの貯蔵弾性率を有し、貯蔵弾性率は、２つのプラットフォーム間で急激に減少するが、これは材料のガラス転移プロセスに対応し、この弾性率の劇的な変化は、ポリマーが形状記憶特性を有するために必要な条件であった。転移プロセス中、１６０℃（Ｔｇ−３０℃）のとき、その対応する貯蔵弾性率は１７２３ＭＰａであり、調製されたＳＭＰが構造材料として用いられたとき、上記材料のより高い適用温度範囲における引張り応力変化は、既知のＳＭＰ材料の引張り応力変化と比較して小さいことが確実であり、構造部品のサイズ及び形状の安定性を保証した。
迅速反応性、熱硬化性形状記憶ポリイミドの熱重量分析スペクトルを図６に示したが、図６から分かるように、本実際例で調製された熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、５％質量損失する熱分解温度は４８７℃であり、８００℃のとき５２．１％が分解残存し、熱硬化性形状記憶ポリイミドは、熱安定性に優れていることを示している。
図７は、実際例１に基づき調製され、ホットステージ上に配置されたフラットパネル形態の元の迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの画像を示した図であり、一時的な形状を形成するように高温で曲げられ、室温で固定化された。
図８は、２１０℃のホットステージ上で１秒経過させた後の、本実際例で調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの形状回復の画像を示した図である。
図９は、２１０℃のホットステージ上で２秒経過させた後の、本発明の実際例１で調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの形状回復の画像を示した図である。
図１０は、２１０℃のホットステージ上で３秒経過させた後の、本実際例で調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドの元の形状への回復の画像を示した図である。
図７〜図１０から分かるように、本実際例で調製された迅速反応性、熱硬化性、形状記憶ポリイミドは、極めて高速な形状回復速度及び優れた形状記憶効果を備えていた。
実際例２：
迅速反応性、高性能、熱硬化性形状記憶ポリイミドの製造方法を、以下のステップに従って実施した：
１．ジアミン溶液を調製するステップ
４ｍｍｏＬの１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーを秤取し、それをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶媒を含有する１６ｍＬの三口フラスコに投入し、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーが完全に溶解するまで、フラスコ内の内容物を乾燥窒素の保護下にて室温で撹拌して、ジアミン溶液を得、
ステップ１に記載の１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーの純度は９８％であり、
ステップ１に記載のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドは、商業的に入手可能であったが、分析純度を有し、水を除去した後、真空蒸留処理することによって得られ；
２．無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を調製するステップ
ビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーを、ステップ１で得られたジアミン溶液に４〜６回添加し、生成物を２５０ｒ／分の速度で室温にて１８時間撹拌して、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を得、
１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーに対するステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの量の比は１：０．９４であり、ステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの純度は９７％であり；
３．粘稠性ゾル−ゲルを調製するステップ
トリ（４−アミノフェニル）アミンを、ステップ２で得られた無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸に添加し、生成物を３００ｒ／分の速度で室温にて６時間撹拌して、ゾル−ゲルを得、次に、得られた粘稠性ゾル−ゲルを真空オーブン中、５５℃で１時間乾燥させて、粘稠性ゾル−ゲルを得、
ステップ３に記載のトリ（４−アミノフェニル）アミンの純度は、９８％超であり、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸中のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーに対するトリ（４−アミノフェニル）アミンの量の比は０．０４：１であり；
４．熱硬化性形状記憶ポリイミドを調製するステップ
ステップ３で得られた粘稠性ゾル−ゲルを基材上に流し込み、生成物を２℃／分の加熱速度で室温から９０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を２℃／分の加熱速度で１４０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を２℃／分の加熱速度で１９０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を３℃／分の加熱速度で２５０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を３℃／分の加熱速度で２９０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を３℃／分の冷却速度で室温まで冷却し；
次に基材を蒸留水に入れて基材から固体フィルムを剥離させ、その後、得られた固体フィルムを、蒸留水を用いて５回すすぎ、固体フィルムを１８０℃の温度条件で４００分間加熱して、最後に、熱硬化性、形状記憶ポリイミドを得た。
実際例２では、得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドのＴｇは１９２℃であり、３０℃のとき、２．５２ＧＰａの貯蔵弾性率を有し、２１２℃（Ｔｇ＋２０℃）の高温では、６．０２ＭＰａの貯蔵弾性率を有し、１６２℃（Ｔｇ−３０℃）のときは、１８６０ＭＰａの貯蔵弾性率を有していた。実際例２で得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、５％質量損失する熱分解温度は４８９℃であり、８００℃のとき５２．８％が分解残存した。得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、２１０℃のホットステージ上で１８０°の折り畳みから元の形状への回復に４．０秒かかった。
実際例３：
迅速反応性、高性能、熱硬化性形状記憶ポリイミドの製造方法を、以下のステップに従って実施した：
１．ジアミン溶液を調製するステップ
５ｍｍｏＬの１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーを秤取し、それをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶媒を含有する１６ｍＬの三口フラスコに投入し、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーが完全に溶解するまで、フラスコ内の内容物を乾燥窒素の保護下にて室温で撹拌して、ジアミン溶液を得、
ステップ１に記載の１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーの純度は９８％であり、
ステップ１に記載のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドは、商業的に入手可能であったが、分析純度を有し、水を除去した後、真空蒸留処理することによって得られ；
２．無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を調製するステップ
ビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーを、ステップ１で得られたジアミン溶液に６回添加し、生成物を３００ｒ／分の速度で室温にて２０時間撹拌して、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を得、
１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーに対するステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの量の比は１：０．９２５であり、ステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの純度は９７％であり；
３．粘稠性ゾル−ゲルを調製するステップ
トリ（４−アミノフェニル）アミンを、ステップ２で得られた無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸に添加し、生成物を３５０ｒ／分の速度で室温にて７時間撹拌して、ゾル−ゲルを得、次に、得られた粘稠性ゾル−ゲルを真空オーブン中、５０℃で１時間乾燥させて、粘稠性ゾル−ゲルを得、
ステップ３に記載のトリ（４−アミノフェニル）アミンの純度は、９８％超であり、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸中のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーに対するトリ（４−アミノフェニル）アミンの量の比は０．０５：１であり；
４．熱硬化性形状記憶ポリイミドを調製するステップ
ステップ３で得られた粘稠性ゾル−ゲルを基材上に流し込み、生成物を１℃／分の加熱速度で室温から８０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を１℃／分の加熱速度で１２０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を２℃／分の加熱速度で１８０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を３℃／分の加熱速度で２５０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を２℃／分の加熱速度で２８０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を２℃／分の冷却速度で室温まで冷却し；
次に基材を蒸留水に入れて基材から固体フィルムを剥離させ、その後、得られた固体フィルムを、蒸留水を用いて４回すすぎ、固体フィルムを１６０℃の温度条件で４２０分間加熱して、最後に、熱硬化性、形状記憶ポリイミドを得た。
実際例３では、得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドのＴｇは１９４℃であり、３０℃のとき、２．８７ＧＰａの貯蔵弾性率を有し、２１４℃（Ｔｇ＋２０℃）の高温では、６．２６ＭＰａの貯蔵弾性率を有し、１６４℃（Ｔｇ−３０℃）のときは、１８９２ＭＰａの貯蔵弾性率を有していた。実際例３で得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、５％質量損失する熱分解温度は４９２℃であり、８００℃のとき５３．３％が分解残存した。得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、２１０℃のホットステージ上で１８０°の折り畳みから元の形状への回復に４．５秒かかった。
実際例４：
迅速反応性、高性能、熱硬化性形状記憶ポリイミドの製造方法を、以下のステップに従って実施した：
１．ジアミン溶液を調製するステップ
３ｍｍｏＬの１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーを秤取し、それをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶媒を含有する１６ｍＬの三口フラスコに投入し、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーが完全に溶解するまで、フラスコ内の内容物を乾燥窒素の保護下にて室温で撹拌して、ジアミン溶液を得、
ステップ１に記載の１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーの純度は９８％であり、
ステップ１に記載のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドは、商業的に入手可能であったが、分析純度を有し、水を除去した後、真空蒸留処理することによって得られ；
２．無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を調製するステップ
ビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーを、ステップ１で得られたジアミン溶液に４回添加し、生成物を２００ｒ／分の速度で室温にて１８時間撹拌して、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を得、
１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーに対するステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの量の比は１：０．９１であり、ステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの純度は９７％であり；
３．粘稠性ゾル−ゲルを調製するステップ
トリ（４−アミノフェニル）アミンを、ステップ２で得られた無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸に添加し、生成物を３００ｒ／分の速度で室温にて７時間撹拌して、ゾル−ゲルを得、次に、得られた粘稠性ゾル−ゲルを真空オーブン中、６０℃で２時間乾燥させて、粘稠性ゾル−ゲルを得、
ステップ３に記載のトリ（４−アミノフェニル）アミンの純度は、９８％超であり、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸中のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーに対するトリ（４−アミノフェニル）アミンの量の比は０．０６：１であり；
４．熱硬化性形状記憶ポリイミドを調製するステップ
ステップ３で得られた粘稠性ゾル−ゲルを基材上に流し込み、生成物を２℃／分の加熱速度で室温から９０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を１℃／分の加熱速度で１４０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を１℃／分の加熱速度で１９０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を３℃／分の加熱速度で２５０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を３℃／分の加熱速度で２９０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を２℃／分の冷却速度で室温まで冷却し；
次に基材を蒸留水に入れて基材から固体フィルムを剥離させ、その後、得られた固体フィルムを、蒸留水を用いて５回すすぎ、固体フィルムを１８０℃の温度条件で３６０分間加熱して、最後に、熱硬化性、形状記憶ポリイミドを得た。
実際例４では、得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドのＴｇは１９５℃であり、３０℃のとき、２．９０ＧＰａの貯蔵弾性率を有し、２１５℃（Ｔｇ＋２０℃）の高温では、６．５８ＭＰａの貯蔵弾性率を有し、１６５℃（Ｔｇ−３０℃）のときは、１９６２ＭＰａの貯蔵弾性率を有していた。実際例４で得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、５％質量損失する熱分解温度は４９５℃であり、８００℃のとき５３．９％が分解残存した。得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、２１０℃のホットステージ上で１８０°の折り畳みから元の形状への回復に５秒かかった。
実際例５：
迅速反応性、高性能、熱硬化性形状記憶ポリイミドの製造方法を、以下のステップに従って実施した：
１．ジアミン溶液を調製するステップ
４ｍｍｏＬの１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーを秤取し、それをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶媒を含有する１６ｍＬの三口フラスコに投入し、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーが完全に溶解するまで、フラスコ内の内容物を乾燥窒素の保護下にて室温で撹拌して、ジアミン溶液を得、
ステップ１に記載の１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーの純度は９８％であり、
ステップ１に記載のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドは、商業的に入手可能であったが、分析純度を有し、水を除去した後、真空蒸留処理することによって得られ；
２．無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を調製するステップ
ビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーを、ステップ１で得られたジアミン溶液に５回添加し、生成物を２５０ｒ／分の速度で室温にて１８時間撹拌して、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸を得、
１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンモノマーに対するステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの量の比は１：０．８５であり、ステップ２に記載のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーの純度は９７％であり；
３．粘稠性ゾル−ゲルを調製するステップ
トリ（４−アミノフェニル）アミンを、ステップ２で得られた無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸に添加し、生成物を３２０ｒ／分の速度で室温にて６時間撹拌して、ゾル−ゲルを得、次に、得られた粘稠性ゾル−ゲルを真空オーブン中、５０℃で２時間乾燥させて、粘稠性ゾル−ゲルを得、
ステップ３に記載のトリ（４−アミノフェニル）アミンの純度は、９８％超であり、無水物を末端基とする高分子量ポリアミド酸中のビスフェノールＡ型ジエーテル二無水物モノマーに対するトリ（４−アミノフェニル）アミンの量の比は０．１：１であり；
４．熱硬化性形状記憶ポリイミドを調製するステップ
ステップ３で得られた粘稠性ゾル−ゲルを基材上に流し込み、生成物を２℃／分の加熱速度で室温から７８０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を２℃／分の加熱速度で１３０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を２℃／分の加熱速度で１９０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を２℃／分の加熱速度で２５０℃まで加熱し、その温度に１時間保ち；次に生成物を２℃／分の加熱速度で２７０℃まで加熱し、その温度に２時間保ち；次に生成物を３℃／分の冷却速度で室温まで冷却し；
次に基材を蒸留水に入れて基材から固体フィルムを剥離させ、その後、得られた固体フィルムを、蒸留水を用いて４回すすぎ、固体フィルムを１７０℃の温度条件で４２０分間加熱して、最後に、熱硬化性、形状記憶ポリイミドを得た。
実際例５では、得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドのＴｇは１９７℃であり、３０℃のとき、２．８３ＧＰａの貯蔵弾性率を有し、２１７℃（Ｔｇ＋２０℃）の高温では、６．６２ＭＰａの貯蔵弾性率を有し、１６７℃（Ｔｇ−３０℃）のときは、１９５２ＭＰａの貯蔵弾性率を有していた。実際例５で得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、５％質量損失する熱分解温度は４９３℃であり、８００℃のとき５３．７％が分解残存した。得られた熱硬化性形状記憶ポリイミドでは、２１０℃のホットステージ上で１８０°の折り畳みから元の形状への回復に４．８秒かかった。