Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月1日(2017.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ｒ）−レチクリンまたは（Ｒ）−レチクリン前駆体を調製するための方法であって、
（ａ）作動可能に連結される成分として、ＣＹＰ４５０ポリペプチドをコードする第１の核酸配列と、細胞における第１の核酸配列の発現を制御する第１の核酸配列とを含む第１のキメラ核酸配列を準備するステップと、
（ｂ）作動可能に連結される成分として、ＡＫＲポリペプチドをコードする第２の核酸配列と、細胞における第２の核酸配列の発現を制御する第２の核酸配列とを含む第２のキメラ核酸配列を準備するステップと、
（ｃ）前記第１および第２のキメラ核酸配列を宿主細胞に導入し、前記宿主細胞を増殖させて、（Ｒ）−レチクリンまたは前記（Ｒ）−レチクリン前駆体を産生させるステップと
を含む方法。
【請求項２】
（Ｒ）−レチクリンまたは（Ｒ）−レチクリン前駆体を調製するための方法であって、
（ａ）作動可能に連結される成分として、
（ｉ）ＣＹＰ４５０ポリペプチドをコードする第１の核酸配列と、
（ｉｉ）ＡＫＲポリペプチドをコードする第２の核酸配列と、
（ｉｉｉ）宿主細胞における発現を制御することができる１つまたは複数の核酸配列と
を含むキメラ核酸配列を準備するステップと、
（ｂ）前記キメラ核酸配列を宿主細胞に導入し、前記宿主細胞を増殖させて、（Ｒ）−レチクリンまたは前記（Ｒ）−レチクリン前駆体を産生させるステップと
を含む方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、前記Ｒ−レチクリン前駆体が、化学式：
2017500024.tif 000001
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４はそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基、またはメトキシ基であり；
Ｒ５は、水素原子またはメチル基である］
を有するが、（Ｒ）−レチクリンが前記式から除外されることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法において、前記第１および第２の核酸配列が、ＣＹＰ４５０およびＡＫＲを含む融合ポリペプチドを産生させるために作動可能に連結されることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法において、ＣＹＰ４５０をコードする前記核酸配列が、配列番号１１６〜配列番号２１８；配列番号３２４；または配列番号３３７から選択され、かつＡＫＲをコードする前記核酸配列が、配列番号１〜配列番号５８；配列番号３２６；配列番号３２８；または配列番号３３９から選択されることを特徴とする方法。
【請求項６】
（Ｒ）−レチクリンまたは（Ｒ）−レチクリン前駆体を製造するための単離された組成物であって、ベンジルイソキノリン誘導体を酸化して酸化ベンジルイソキノリン誘導体を形成させることができる第１のポリペプチドと、前記酸化ベンジルイソキノリン誘導体を還元して（Ｒ）−レチクリンまたは（Ｒ）−レチクリン前駆体を形成させることができる第２のポリペプチドとを含み、
前記ベンジルイソキノリン誘導体は、化学式：
2017500024.tif 000002
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４はそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基、またはメトキシ基を表し；
Ｒ５は、水素原子またはメチル基を表す］
を有し、かつ前記Ｒ−レチクリン前駆体は、化学式：
2017500024.tif 000003
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４はそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基、またはメトキシ基を表し；
Ｒ５は、水素原子またはメチル基を表す］
を有するが、（Ｒ）−レチクリンが前記式から除外される組成物。
【請求項７】
請求項６に記載の組成物において、前記第１のポリペプチドがシトクロムＰ４５０であり、かつ前記第２のポリペプチドがアルド・ケト還元酵素であることを特徴とする組成物。
【請求項８】
請求項６または７に記載の組成物において、前記第１のポリペプチドが、配列番号２１９〜配列番号３２１；配列番号３２５；または配列番号３３８から選択されるポリペプチドであり、かつ前記第２のポリペプチドが、配列番号５９〜配列番号１１５；配列番号３２７；配列番号３２９；配列番号３３０；または配列番号３４０から選択されるポリペプチドであることを特徴とする組成物。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか一項に記載の組成物において、前記第１および第２のポリペプチドが融合ポリペプチドを含むことを特徴とする組成物。
【請求項１０】
作動可能に連結される成分として、
（ｉ）宿主細胞における発現を制御することができる核酸配列と、
（ｉｉ）ＣＹＰ４５０およびＡＫＲをコードする核酸配列と
を含む組換え発現ベクターであって、宿主細胞における発現に適している組換え発現ベクター。
【請求項１１】
請求項１０に記載の組換え発現ベクターにおいて、ＣＹＰ４５０をコードする前記核酸配列が、配列番号１１６〜配列番号２１８；配列番号３２４；または配列番号３３７から選択される核酸配列であり、かつＡＫＲをコードする前記核酸配列が、配列番号１〜配列番号５８；配列番号３２６；配列番号３２８；または配列番号３３９から選択される核酸配列であることを特徴とする組換え発現ベクター。
【請求項１２】
植物の外で（Ｒ）−レチクリンを製造する方法であって、
（ａ）（Ｓ）−レチクリンを準備するステップと、
（ｂ）（Ｓ）−レチクリンの（Ｒ）−レチクリンへの変換を可能にする条件下で、（Ｓ）−レチクリンを（Ｒ）−レチクリンに変換することができる１またはそれ以上の酵素と（Ｓ）−レチクリンを接触させるステップと
を含む方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法において、前記１またはそれ以上の酵素が第１および第２のポリペプチドを含み、前記第１のポリペプチドが、（Ｓ）−レチクリンを酸化して１，２−デヒドロレチクリンを形成させることができ、前記第２のポリペプチドが、１，２−デヒドロレチクリンを還元して（Ｒ）−レチクリンを形成させることができることを特徴とする方法。
【請求項１４】
ａ）（Ｓ）−レチクリンを１，２−デヒドロレチクリンへと酸化することができるポリペプチド；および／または
ｂ）１，２−デヒドロレチクリンを（Ｒ）−レチクリンへと還元することができるポリペプチド
を発現するキメラ核酸を含む微生物。
【請求項１５】
請求項１４に記載の微生物において、配列番号１１６〜配列番号２１８；配列番号３２４；または配列番号３３７のうちのいずれか１つと実質的に同一の核酸配列によってコードされる、（Ｓ）−レチクリンを１，２−デヒドロレチクリンへと酸化することができるポリペプチドを含むことを特徴とする微生物。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の微生物において、配列番号１〜配列番号５８；配列番号３２６；配列番号３２８；または配列番号３３９のうちのいずれか１つと実質的に同一の核酸配列によってコードされる、（Ｒ）−レチクリンを１，２−デヒドロレチクリンへと還元することができるポリペプチドを含むことを特徴とする微生物。
【請求項１７】
請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の微生物において、前記微生物が酵母であることを特徴とする微生物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月12日(2017.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
喫煙物品であって、
向かい合った前面および後面を持つ可燃性熱源と、
前記可燃性熱源の前記前面から前記後面まで延びる１つ以上の気流チャネルと、
前記可燃性熱源の前記後面の下流のエアロゾル形成基体と、
前記可燃性熱源の前記後面と前記エアロゾル形成基体との間に位置するサーモスタット式バイメタル弁とを備え、
前記サーモスタット式バイメタル弁は、前記サーモスタット式バイメタル弁が閾値温度を超える温度に加熱された時に、前記弁が前記１つ以上の気流チャネルと前記エアロゾル形成基体との間の流体連通を実質的に阻止または抑制する第一の位置から、前記１つ以上の気流チャネルと前記エアロゾル形成基体との間が流体連通する第二の位置に変形するように配置される、前記喫煙物品。
【請求項２】
前記第一の位置から前記第二の位置にスナップ作用で変形するように、前記サーモスタット式バイメタル弁に予め応力がかけられる、請求項１に記載の喫煙物品。
【請求項３】
曲率１００〜５００ミクロンで予め成形することにより、前記サーモスタット式バイメタル弁に予め応力がかけられる、請求項２に記載の喫煙物品。
【請求項４】
前記熱源の後面が凹面であり、かつ前記サーモスタット式バイメタル弁が前記第一の位置で凹面および前記第二の位置で凸面である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の喫煙物品。
【請求項５】
前記サーモスタット式バイメタル弁が前記熱源の後面に隣接する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の喫煙物品。
【請求項６】
前記サーモスタット式バイメタル弁が、前記エアロゾル形成基体と前記１つ以上の気流チャネルのうち少なくとも一つとの間の流体連通を許容するために、１つ以上の中実部分および１つ以上の開口部を持つ第一のサーモスタット式バイメタルシートを備えた、請求項１〜５のいずれか１項に記載の喫煙物品。
【請求項７】
前記１つ以上の中実部分が、前記サーモスタット式バイメタル弁が前記第一の位置にある時には前記１つ以上の気流チャネルのすべてを遮断し、また前記サーモスタット式バイメタル弁が前記第二の位置にある時には前記１つ以上の気流チャネルのうち少なくとも一つの遮断を解除するように配置された、請求項６に記載の喫煙物品。
【請求項８】
前記サーモスタット式バイメタル弁が、前記第一のサーモスタット式バイメタルシートに隣接した第二のサーモスタット式バイメタルシートを備え、前記第二のサーモスタット式バイメタルシートが、前記エアロゾル形成基体と前記１つ以上の気流チャネルのうち少なくとも一つとの間の流体連通を許容するための１つ以上の中実部分および１つ以上の開口部を持つ、請求項６または請求項７に記載の喫煙物品。
【請求項９】
前記第一および第二のサーモスタット式バイメタルシートの一方または両方の前記１つ以上の中実部分が、前記弁が前記第一の位置にある時には他方のシートの１つ以上の開口部を遮断し、また前記弁が前記第二の位置にある時には前記他方のシートの１つ以上の開口部のうち少なくとも一つの遮断を解除するように配置された、請求項８に記載の喫煙物品。
【請求項１０】
前記第一のサーモスタット式バイメタルシートおよび前記第二のサーモスタット式バイメタルシートがその周辺の少なくとも一部分に沿って一緒に付着している、請求項８または９に記載の喫煙物品。
【請求項１１】
前記第二のサーモスタット式バイメタルシートが前記第一のサーモスタット式バイメタルシートの上流に位置する、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の喫煙物品。
【請求項１２】
前記第一のサーモスタット式バイメタルシートが少なくとも４つの周辺開口部を含み、前記第二のサーモスタット式バイメタルシートが前記熱源の中央の気流チャネルと整列された中央の穴を含む、請求項１１に記載の喫煙物品。
【請求項１３】
前記サーモスタット式バイメタル弁が実質的に円形の断面を持つ、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の喫煙物品。
【請求項１４】
前記エアロゾル形成基体がたばこベースの材料および少なくとも一つのエアロゾル形成体を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の喫煙物品。
【請求項１５】
前記可燃性熱源が可燃性炭素質熱源である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の喫煙物品。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月7日(2017.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｂ）配列番号６７に記載される前記核酸配列と；
（ｃ）配列番号６９に記載される核酸配列と；
（ｄ）配列番号７１に記載される核酸配列と；
（ｅ）配列番号７３に記載される核酸配列と；
（ｆ）配列番号７５に記載される核酸配列と；
（ｇ）配列番号７７に記載される核酸配列と；
（ｊ）配列番号６５に記載される核酸配列と
からなる群から選択される核酸配列の全長にわたって少なくとも約９５％の同一性を有する前記核酸配列を含む合成抗体をコードする核酸分子。
【請求項２】
前記核酸配列が、
（ｂ）配列番号６７に記載される前記核酸配列と；
（ｃ）配列番号６９に記載される前記核酸配列と；
（ｄ）配列番号７１に記載される前記核酸配列と；
（ｅ）配列番号７３に記載される前記核酸配列と；
（ｆ）配列番号７５に記載される前記核酸配列と；
（ｇ）配列番号７７に記載される前記核酸配列と；
（ｊ）配列番号６５に記載される前記核酸配列と
からなる群から選択される、請求項１に記載の核酸分子。
【請求項３】
（ｂ）配列番号６８に記載されるアミノ酸配列と；
（ｃ）配列番号７０に記載されるアミノ酸配列と；
（ｄ）配列番号７２に記載されるアミノ酸配列と；
（ｅ）配列番号７４に記載されるアミノ酸配列と；
（ｆ）配列番号７６に記載されるアミノ酸配列と；
（ｇ）配列番号７８に記載されるアミノ酸配列と；
（ｊ）配列番号６６に記載されるアミノ酸配列と
からなる群から選択されるアミノ酸配列の全長にわたって少なくとも約９５％の同一性を有する前記アミノ酸配列を含む合成抗体をコードする核酸分子。
【請求項４】
前記核酸が、
（ｂ）配列番号６８に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｃ）配列番号７０に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｄ）配列番号７２に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｅ）配列番号７４に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｆ）配列番号７６に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｇ）配列番号７８に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｊ）配列番号６６に記載される前記アミノ酸配列と
からなる群から選択される前記アミノ酸配列を有するタンパク質をコードする、請求項３に記載の核酸分子。
【請求項５】
前記核酸配列が、軽鎖ポリペプチド、重鎖ポリペプチド、軽鎖ポリペプチド及び重鎖ポリペプチドの両方、またはその断片をコードする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の核酸分子。
【請求項６】
前記核酸配列が軽鎖ポリペプチド及び重鎖ポリペプチドをコードする場合、前記核酸配列が、プロテアーゼ切断部位もコードする、請求項５に記載の核酸分子。
【請求項７】
前記プロテアーゼ切断部位が、前記軽鎖ポリペプチドと前記重鎖ポリペプチドとの間に位置し、前記プロテアーゼ切断部位が、フリン切断部位及び２Ａペプチド配列を含む、請求項６に記載の核酸分子。
【請求項８】
前記核酸分子が、免疫グロブリン（Ｉｇ）シグナルペプチドをさらにコードする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の核酸分子。
【請求項９】
前記Ｉｇシグナルペプチドが、ＩｇＥシグナルペプチドを含む、請求項８に記載の核酸分子。
【請求項１０】
前記核酸分子が、発現ベクターを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の核酸分子。
【請求項１１】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の核酸分子を含む組成物。
【請求項１２】
薬学的に許容しうる賦形剤をさらに含む、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の核酸分子を必要とする対象における疾患を予防するための、当該核酸分子を含む組成物であって、当該対象に投与される、組成物。
【請求項１４】
前記疾患が、チクングニヤウイルス（ＣＨＩＫＶ）またはデングウイルス（ＤＥＮＶ）
による感染である、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記疾患がＣＨＩＫＶによる感染である場合、前記核酸配列が、
（ｃ）配列番号６５に記載される前記核酸配列と
からなる群から選択される、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記疾患がＤＥＮＶによる感染である場合、前記核酸配列が、
（ｂ）配列番号６７に記載される前記核酸配列と；
（ｃ）配列番号６９に記載される前記核酸配列と；
（ｄ）配列番号７１に記載される前記核酸配列と；
（ｅ）配列番号７３に記載される前記核酸配列と；
（ｆ）配列番号７５に記載される前記核酸配列と；
（ｇ）配列番号７７に記載される前記核酸配列と
からなる群から選択される、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１７】
前記疾患がＣＨＩＫＶによる感染である場合、前記アミノ酸配列が、
（ｃ）配列番号６６に記載される前記アミノ酸配列と
からなる群から選択される、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１８】
前記疾患がＤＥＮＶによる感染である場合、前記アミノ酸配列が、
（ｂ）配列番号６８に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｃ）配列番号７０に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｄ）配列番号７２に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｅ）配列番号７４に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｆ）配列番号７６に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｇ）配列番号７８に記載される前記アミノ酸配列と
からなる群から選択される、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１９】
投与することが、電気穿孔及び注射の少なくとも１つを含む、請求項１３に記載の組成物。
【請求項２０】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の核酸分子を必要とする対象における疾患を治療するための、当該核酸分子を含む組成物であって、当該対象に投与される、組成物。
【請求項２１】
前記疾患が、チクングニヤウイルス（ＣＨＩＫＶ）またはデングウイルス（ＤＥＮＶ）
による感染である、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
前記疾患がＣＨＩＫＶによる感染である場合、前記核酸配列が、
（ｃ）配列番号６５に記載される前記核酸配列と
からなる群から選択される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】
前記疾患がＤＥＮＶによる感染である場合、前記核酸配列が、
（ｂ）配列番号６７に記載される前記核酸配列と；
（ｃ）配列番号６９に記載される前記核酸配列と；
（ｄ）配列番号７１に記載される前記核酸配列と；
（ｅ）配列番号７３に記載される前記核酸配列と；
（ｆ）配列番号７５に記載される前記核酸配列と；
（ｇ）配列番号７７に記載される前記核酸配列と
からなる群から選択される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２４】
前記疾患がＣＨＩＫＶによる感染である場合、前記アミノ酸配列が、
（ｃ）配列番号６６に記載される前記アミノ酸配列と
からなる群から選択される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２５】
前記疾患がＤＥＮＶによる感染である場合、前記アミノ酸配列が、
（ｂ）配列番号６８に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｃ）配列番号７０に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｄ）配列番号７２に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｅ）配列番号７４に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｆ）配列番号７６に記載される前記アミノ酸配列と；
（ｇ）配列番号７８に記載される前記アミノ酸配列と
からなる群から選択される、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２６】
投与することが、電気穿孔及び注射の少なくとも１つを含む、請求項２０に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月20日(2017.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外科手術ツールにおいて、
第１先端部と、
第２先端部と、
を備え、
前記外科手術ツールは、前記第１先端部及び前記第２先端部が鉗子として動作する第１形態を有し、
前記外科手術ツールは、前記第１先端部及び前記第２先端部がはさみとして動作する第２形態を有し、
前記第１先端部及び前記第２先端部の回転により前記外科手術ツールを前記第１形態と前記第２形態との間で転換させる、外科手術ツール。
【請求項２】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記外科手術ツールは、前記第１先端部及び前記第２先端部が互いに寄せ合わされ接触した中間形態を有する、外科手術ツール。
【請求項３】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部は、第１ハンドルに連結している、外科手術ツール。
【請求項４】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部は、第１ハンドルに連結しており、前記第２先端部は、第２ハンドルに連結している、外科手術ツール。
【請求項５】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部及び前記第２先端部が前記第１形態においてバイポーラ鉗子として動作する、外科手術ツール。
【請求項６】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記外科手術ツールは電気を伝達または伝導するように構成されている、外科手術ツール。
【請求項７】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部又は前記第２先端部を回転させる機構を備える、外科手術ツール。
【請求項８】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部又は前記第２先端部は、電気エネルギーを伝えるように構成されている、外科手術ツール。
【請求項９】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部及び前記第２先端部は、電気エネルギーを伝えるように構成されている、外科手術ツール。
【請求項１０】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部と前記第２先端部とを互いに近接して保持するように構成された機構を備える、外科手術ツール。
【請求項１１】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部及び前記第２先端部のうちの少なくとも１つの移動を選択的に許容するように構成された機構を備える、外科手術ツール。
【請求項１２】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、前記第１先端部及び前記第２先端部を選択的に連結する機構を備える、外科手術ツール。
【請求項１３】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、少なくとも一方向において、前記第１先端部及び前記第２先端部のうちの少なくとも１つの移動を許容するように構成された機構を備える、外科手術ツール。
【請求項１４】
請求項１記載の外科手術ツールにおいて、少なくとも一方向において、前記第１先端部及び前記第２先端部のうちの少なくとも１つの移動を阻止するように構成された機構を備える、外科手術ツール。
【請求項１５】
外科手術ツールを使用する方法において、
互いに連結する第１先端部及び第２先端部を準備する準備ステップであって、前記第１先端部及び前記第２先端部は鉗子として使用する構成とする、該準備ステップと、
前記第１先端部及び前記第２先端部を回転させることにより前記第１先端部及び前記第２先端部をはさみとして使用するよう再構成する回転ステップと、
を有する、方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の方法において、前記第１先端部又は前記第２先端部内の電極に電流を流すステップを含む、方法。
【請求項１７】
請求項１６記載の方法において、前記第１先端部及び前記第２先端部を鉗子として使用する構成において前記電極に電流を流すステップを含む、方法。
【請求項１８】
請求項１５記載の方法において、前記第１先端部及び前記第２先端部により電気エネルギーを印加するステップを含む、方法。
【請求項１９】
請求項１５記載の方法において、前記第１先端部及び前記第２先端部を互いに近接または接触させ、前記第１先端部及び前記第２先端部を回転させるステップを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月5日(2017.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂コーティングされた裏材に、パターン化研磨層を製造するための方法であって、
複数の空洞を備えた分配表面を有する製造ツールを準備する工程であって、各空洞が、前記分配表面に対して垂直な空洞長手方向軸と、前記空洞長手方向軸に沿った深さＤとを有する、工程と、
粒子長手方向軸に沿った長さＬが、前記粒子長手方向軸に垂直な横断軸に沿った幅Ｗよりも長い、細長い研磨粒子を選択する工程であって、前記複数の空洞の前記深さＤが０．５Ｌ〜２Ｌである、工程と、
前記複数の空洞の数よりも多い前記細長い研磨粒子が提供されるように、過剰量の前記細長い研磨粒子を前記分配表面に供給する工程と、
前記分配表面の前記複数の空洞の大半を、前記粒子長手方向軸が前記空洞長手方向に平行になるように個々の空洞に配置された細長い研磨粒子で充填する工程と、
前記充填する工程の後に、空洞内に配置されていない、前記過剰量の細長い研磨粒子の残りの部分を、前記分配表面から除去する工程と、
前記樹脂層が前記分配表面に面するように、前記樹脂コーティングされた裏材を前記分配表面と位置合わせする工程と、
前記複数の空洞内の前記細長い研磨粒子を、前記樹脂コーティングされた裏材に移動させ、前記細長い研磨粒子を前記樹脂層に付着させる工程と、
前記製造ツールを除去して、前記樹脂コーティングされた裏材上の前記パターン化研磨層を露出させる工程と、
を含む、方法。
【請求項２】
前記深さＤが１．１Ｌ〜１．５Ｌであり、前記複数の空洞内に配置された前記細長い研磨粒子が、前記分配表面の下で前記製造ツール内に収容される、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０８】
特許証のための上記の出願における引用文献、特許、又は特許出願はいずれも、一貫し
た形でそれらの全容又はその特定の一部を本明細書に参照により援用するものである。組
み込まれた参照文献の部分と本出願の部分との間に不一致又は矛盾がある場合は、前述の
説明の情報が優先されるものとする。特許請求される開示を当業者が実施することを可能
ならしめるために示される前述の説明は、特許請求の範囲及びその全ての均等物によって
規定される本開示の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。
本開示は、以下の態様を含む。
［１］
樹脂コーティングされた裏材に、パターン化研磨層を製造するための方法であって、
複数の空洞を備えた分配表面を有する製造ツールを準備する工程であって、各空洞が、前記分配表面に対して垂直な空洞長手方向軸と、前記空洞長手方向軸に沿った深さＤとを有する、工程と、
粒子長手方向軸に沿った長さＬが、前記粒子長手方向軸に垂直な横断軸に沿った幅Ｗよりも長い、細長い研磨粒子を選択する工程であって、前記複数の空洞の前記深さＤが０．５Ｌ〜２Ｌである、工程と、
前記複数の空洞の数よりも多い前記細長い研磨粒子が提供されるように、過剰量の前記細長い研磨粒子を前記分配表面に供給する工程と、
前記分配表面の前記複数の空洞の大半を、前記粒子長手方向軸が前記空洞長手方向に平行になるように個々の空洞に配置された細長い研磨粒子で充填する工程と、
前記充填する工程の後に、空洞内に配置されていない、前記過剰量の細長い研磨粒子の残りの部分を、前記分配表面から除去する工程と、
前記樹脂層が前記分配表面に面するように、前記樹脂コーティングされた裏材を前記分配表面と位置合わせする工程と、
前記複数の空洞内の前記細長い研磨粒子を、前記樹脂コーティングされた裏材に移動させ、前記細長い研磨粒子を前記樹脂層に付着させる工程と、
前記製造ツールを除去して、前記樹脂コーティングされた裏材上の前記パターン化研磨層を露出させる工程と、
を含む、方法。
［２］
前記深さＤが１．１Ｌ〜１．５Ｌであり、前記複数の空洞内に配置された前記細長い研磨粒子が、前記分配表面の下で前記製造ツール内に収容される、［１］に記載の方法。
［３］
前記供給する工程の後、前記細長い研磨粒子を前記複数の空洞内へと導くために、充填支援部材により、前記細長い研磨粒子を前記分配表面上で動かす工程を含む、［１］又は［２］に記載の方法。
［４］
前記充填する工程中に重力を利用して前記細長い研磨粒子を前記複数の空洞に滑り込ませることが可能なように前記分配表面が配置され、前記分配表面が前記移動させる工程中に反転されて、重力により前記細長い研磨粒子を前記複数の空洞から滑り出させることが可能になる、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の方法。
［５］
前記移動させる工程が、前記細長い研磨粒子を接触部材で押し付けて、前記空洞長手方向軸に沿って前記細長い研磨粒子を外方向に動かす工程を含む、［１］〜［４］のいずれか一項に記載の方法。
［６］
前記移動させる工程が、空気を前記複数の空洞内に吹き付けて、前記空洞長手方向軸に沿って前記細長い研磨粒子を外方向に動かす工程を含む、［１］〜［５］のいずれか一項に記載の方法。
［７］
前記移動させる工程が、前記製造ツールを振動させる工程を含む、［１］〜［６］のいずれか一項に記載の方法。
［８］
前記分配表面から前記空洞長手方向軸に沿って動くときに、前記複数の空洞が内向きにテーパー形状である、［１］〜［７］のいずれか一項に記載の方法。
［９］
前記複数の空洞が、前記空洞長手方向軸を包囲する空洞外周を有し、前記細長い研磨粒子が、前記粒子長手方向軸を包囲する研磨粒子外周を有し、前記空洞外周の形状が、前記研磨粒子外周の形状に一致する、［１］〜［８］のいずれか一項に記載の方法。
［１０］
前記細長い研磨粒子が正三角形を含み、前記粒子長手方向軸に沿った前記細長い研磨粒子の幅が、名目上同じである、［１］〜［９］のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月22日(2017.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融ガラスからガラスリボンを形成するように構成される形成デバイスを含んでなるガラス形成装置において、モナザイト（ＲＥＰＯ４）を含む耐火性材料を含んでなることを特徴とする、ガラス形成装置。
【請求項２】
前記形成デバイスが、前記耐火性材料を含んでなることを特徴とする、請求項１に記載のガラス形成装置。
【請求項３】
前記耐火性材料が、前記形成デバイスの外部層を構成することを特徴とする、請求項２に記載のガラス形成装置。 
【請求項４】
材料を前記溶融ガラスへと溶融させるように構成される溶融炉をさらに含んでなり、前記溶融炉の格納壁が前記耐火性材料を含んでなることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項５】
前記耐火性材料が、前記溶融炉の格納領域を少なくとも部分的に画定する前記格納壁の内部層を構成することを特徴とする、請求項４に記載のガラス形成装置。
【請求項６】
前記耐火性材料が、少なくとも５０体積パーセントのモナザイト（ＲＥＰＯ４）を含んでなることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項７】
前記耐火性材料が、ジルコン（ＺｒＳｉＯ４）をさらに含んでなることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項８】
前記耐火性材料が、ゼノタイム型材料をさらに含んでなることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項９】
ＲＥが、少なくとも７０モルパーセントのＬａと、Ｎｄ、ＰｒおよびＹからなる群から選択される少なくとも１種の追加的な元素とを含んでなることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項１０】
ＲＥが、少なくとも４０モルパーセントのＬａを含んでなることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項１１】
０．９５≦ＲＥ／Ｐ≦１．０５であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項１２】
前記モナザイトの平均粒度が５マイクロメートルより大きく、かつ２００マイクロメートル未満であることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項１３】
前記耐火性材料が、式：クリープ速度＝０．５×１０２０×ｅ（−８９，１２０／Ｔ）（式中、Ｔは温度（Ｋ）であり、かつＴ≧１４５３Ｋであり、かつクリープ速度は、１，０００ｐｓｉ（６８９４．７６ｋＰａ）の屈曲において測定される場合に１／時間の単位である）によって記載される速度未満のクリープ速度を有することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のガラス形成装置。
【請求項１４】
ガラス形成装置でガラスリボンを形成する方法において、
モナザイト（ＲＥＰＯ４）を含んでなる耐火性材料を含んでなる耐火性部材によって、溶融ガラスを担持するステップと、
前記溶融ガラスから前記ガラスリボンを形成するステップと
を有してなることを特徴とする、方法。
【請求項１５】
前記耐火性材料が、少なくとも５０体積パーセントのモナザイト（ＲＥＰＯ４）を含んでなることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月22日(2017.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく、本開示の予測可能な修正及び変更が当業者には自明であろう。本発明は、例証を目的として本出願に記載された実施形態だけに限定されるべきではない。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１２］に記載する。
［項目１］
ポリマー多層フィルムの製造方法であって、
少なくとも第１及び第２のポリマー層をニップに押し出してポリマー多層フィルムを提供する工程であって、前記ニップが、前記ポリマー多層フィルムの第１の主表面を介して押痕を付与する構造化表面を有する第１のロールを含み、前記第１の層が、第１の融点を有する第１のポリマーを含み、前記第２の層が、第２の融点を有する第２のポリマーを含み、前記第１及び第２の融点間の絶対差が少なくとも２０℃であり、前記ポリマー多層フィルムの前記第１の主表面が前記第１の層の主表面であり、かつ前記ポリマー多層フィルムの前記第２の主表面が前記第２の層の主表面である、工程と、
前記押痕を有する第１の主表面を冷却ロールに通すと同時に、前記ポリマー多層フィルムの、概ね対向する第２の主表面に熱源を適用する工程であって、前記熱源からの熱の適用が開口部の形成をもたらして、概ね対向する第１及び第２の主表面と、前記第１及び第２の主表面間に延在する開口部の列と、少なくとも第１及び第２の層と、を有するポリマー多層フィルムを提供し、前記第１の層が前記第１のポリマーを含み、前記第２の層が前記第２のポリマーを含み、前記ポリマー多層フィルムの前記第１の主表面が前記第１の層の主表面であり、前記ポリマー多層フィルムの前記第２の主表面が前記第２の層の主表面である、工程と、
を含む、ポリマー多層フィルムの製造方法。
［項目２］
前記第１の融点が前記第２の融点よりも高い、項目１に記載の方法。
［項目３］
前記第２の融点が前記第１の融点よりも高い、項目１に記載の方法。
［項目４］
前記第１のポリマーが第１のビカー温度を有し、前記第２のポリマーが第２のビカー温度を有し、前記第１及び第２のビカー温度が異なる、項目１〜３のいずれか一項に記載の方法。
［項目５］
前記第１及び第２のガラスビカー温度が少なくとも２０℃異なる、項目４に記載の方法。
［項目６］
前記第１及び第２のガラスビカー温度が少なくとも３０℃異なる、項目４に記載の方法。
［項目７］
前記第１及び第２の融点温度の絶対差が少なくとも５０℃である、項目１〜６のいずれか一項に記載の方法。
［項目８］
前記ポリマー多層フィルムの厚さが５０マイクロメートル超である、項目１〜７のいずれか一項に記載の方法。
［項目９］
前記ポリマー多層フィルムが少なくとも３０開口部／ｃｍ２を有する、項目１〜８のいずれか一項に記載の方法。
［項目１０］
前記開口部の直径が２５マイクロメートル超である、項目１〜９のいずれか一項に記載の方法。
［項目１１］
前記開口部を有する前記ポリマー多層フィルムの少なくとも前記第１及び第２の層を分離する工程を更に含む、項目１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
［項目１２］
前記第１のポリマーが、ポリエチレンテレフタレート、コポリエステル、エチレンビニルアルコール、ポリアミド６、ポリアミド６６、線形低密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート又はポリプロピレンのうちの少なくとも１つであり、前記第２のポリマーが、エチレンアクリル酸、エチレンブチルアクリレート、エチレンビニルアセテート、エチレンメチルアクリレート、プロピレン系共重合体又はエチレン系共重合体のうちの少なくとも１つである、項目１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー多層フィルムの製造方法であって、
少なくとも第１及び第２のポリマー層をニップに押し出して第１及び第２の主表面を有するポリマー多層フィルムを提供する工程であって、前記ニップが、前記ポリマー多層フィルムの前記第１の主表面を介して押痕を付与する構造化表面を有する第１のロールを含み、前記第１の層が、第１の融点を有する第１のポリマーを含み、前記第２の層が、第２の融点を有する第２のポリマーを含み、前記第１及び第２の融点間の絶対差が少なくとも２０℃であり、前記ポリマー多層フィルムの前記第１の主表面が前記第１の層の主表面であり、かつ前記ポリマー多層フィルムの前記第２の主表面が前記第２の層の主表面である、工程と、
前記押痕を有する第１の主表面を冷却ロールに通すと同時に、前記ポリマー多層フィルムの、概ね反対側にある第２の主表面に熱源を適用する工程であって、前記熱源からの熱の適用が開口部の形成をもたらして、概ね両側にある第１及び第２の主表面と、前記第１及び第２の主表面間に延在する開口部の列と、少なくとも第１及び第２の層と、を有するポリマー多層フィルムを提供し、前記第１の層が前記第１のポリマーを含み、前記第２の層が前記第２のポリマーを含み、前記ポリマー多層フィルムの前記第１の主表面が前記第１の層の主表面であり、前記ポリマー多層フィルムの前記第２の主表面が前記第２の層の主表面である、工程と、
を含む、ポリマー多層フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記第１の融点が前記第２の融点よりも高く、又は、前記第２の融点が前記第１の融点よりも高い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ポリマー多層フィルムが少なくとも３０開口部／ｃｍ２を有する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記開口部を有する前記ポリマー多層フィルムの少なくとも前記第１及び第２のポリマー層を分離する工程を更に含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のポリマーが、ポリエチレンテレフタレート、コポリエステル、エチレンビニルアルコール、ポリアミド６、ポリアミド６６、線形低密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート又はポリプロピレンのうちの少なくとも１つであり、前記第２のポリマーが、エチレンアクリル酸、エチレンブチルアクリレート、エチレンビニルアセテート、エチレンメチルアクリレート、プロピレン系共重合体又はエチレン系共重合体のうちの少なくとも１つである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年12月1日(2017.12.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
そのうえ、そのような反応は表面のざらつきを生じ、鋳造品表面に望ましくないかなりの粗さを生じる恐れがある。例えば、表面粗さの評価について業界でよく知られている表面粗さ値Ｒａを用いると、ステンレス鋼合金及び／又はチタン合金を用いる鋳造品は、良好な作業条件のもとで一般に約１００〜２００の間のＲａ値を示す。こうした有害な影響があると、鋳型の充填温度が下げられることになる。しかし、溶融金属の加熱が不十分だと鋳造材料が速く冷めすぎて、鋳造鋳型への充填が不完全なものとなる可能性がある。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６６】
一実施形態では、上記大粒径の粒子は粒子内部に空間もしくは空気の空洞を有する中空粒子であり、かかる粒子は完全なる、充填された、高密度の粒子ではない。この空間／空洞の度合いはさまざまであり、中空粒子には、粒子体積の２０％以上が空気である粒子が含まれる。一例において、中空粒子は、粒子体積の約５％〜約７５％が空き空間もしくは空気で形成された粒子である。別の例において、中空粒子は、粒子体積の約１０％〜約８０％が空き空間もしくは空気で形成された粒子である。さらに別の例において、中空粒子は、粒子体積の約２０％〜約７０％が空き空間もしくは空気で形成された粒子である。別の例において、中空粒子は、粒子体積の約３０％〜約６０％が空き空間もしくは空気で形成された粒子である。別の例において、中空粒子は、粒子体積の約４０％〜約５０％が空き空間もしくは空気で形成された粒子である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９１】
炭化ケイ素含有内在性フェースコートの使用は、外来型フェースコートの使用より高い効果がある。チタン合金の鋳造に用いられる外来型フェースコートは、一般にイットリアベースのフェースコートか、又はジルコニアベースのフェースコートである。特に、鋳造に用いられる鋳型の外来型フェースコートは、鋳型の処理（消失性模型の除去や焼成、等）及び鋳造中に縮退、亀裂及びスポーリングが生じることがある。鋳型に溶融金属を充填するときに、外来型フェースコートから剥がれ落ちたフェースコートのかけらが鋳造物に混入する恐れがあり、その場合、セラミックフェースコートが最終的な部品の介在物になる。介在物が存在すると、鋳造物から製造される構成部品の機械的性能が劣化する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３９】
そのうえ、そのような反応は表面のざらつきを生じ、鋳造品表面に望ましくないかなりの粗さを生じる恐れがある。例えば、表面粗さの評価について業界でよく知られている表面粗さ値Ｒａを用いると、ステンレス鋼合金及び／又はチタン合金を用いる鋳造品は、良好な作業条件のもとで一般に約１００〜２００の間のＲａ値を示す。こうした有害な影響があることから、鋳型の充填温度が下げられることになる。しかし、溶融金属の加熱が不十分だと鋳造材料が速く冷めすぎて、鋳造鋳型への充填が不完全なものとなる可能性がある。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月22日(2017.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メタデータを生成するための装置であって、
複数のオブジェクトを示すデジタル画像のシーケンスを与えるための手段と、
前記複数のオブジェクトの中から少なくとも１つのオブジェクトを選択するための手段と、
前記シーケンスの各デジタル画像について、位置空間中の前記少なくとも１つの選択されたオブジェクトの位置を決定するための手段と、ここにおいて、前記位置空間は、前記デジタル画像または前記デジタル画像のピクセル座標空間によって示される物理空間であり、
複数のコードブックから第１のコードブックを選択するための手段と、前記第１のコードブックは、前記位置空間を分割する複数の別個の領域を定義し、ここにおいて、前記複数の別個の領域は等しくないサイズの領域を含み、
前記シーケンスの各デジタル画像について、それぞれのデジタル画像中の前記少なくとも１つの選択されたオブジェクトの前記位置を表すために、前記それぞれのデジタル画像中の前記少なくとも１つの選択されたオブジェクトの前記決定された位置を含む、前記複数の別個の領域のうちの１つの領域を識別するメタデータを生成するための手段と、
を備える、装置。
【請求項２】
前記選択された少なくとも１つのオブジェクトの指示を与えるための手段を備え、および／または
前記位置空間を前記複数の別個の領域へと分割するための手段を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記位置空間は地面であり、前記位置を決定するための前記手段は、前記少なくとも１つのデジタル画像のピクセル座標空間中の位置を前記地面へと投影するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第１のコードブックは、前記少なくとも１つのデジタル画像の受信よりも前に選択され、前記複数のコードブックの各コードブックは別個の領域の異なるセットを定義する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記装置は、
前記生成されたメタデータをビデオストリームのフレームと関連付けるための手段と、
前記位置空間中の前記選択された少なくとも１つのオブジェクトの第２の位置を決定するための手段と、
前記決定された第２の位置に基づいて、前記複数の別個の領域のうちの、前記第１の領域とは異なる第２の領域を識別する第２のメタデータを生成するための手段と、
前記第２のメタデータを前記ビデオストリームの第２のフレームと関連付けるための手段と、
を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つのデジタル画像は、ビデオストリームの少なくとも１つのフレームであり、前記装置は、前記ビデオストリーム内で、前記選択された少なくとも１つのオブジェクトのうちの少なくとも１つをトラッキングするための手段を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記複数の別個の領域の各領域は重複しない、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
選択するための前記手段は、前記複数のコードブックのうちの第２のコードブックを選択し、前記第２のコードブックに基づいて前記第１の領域を第２の複数の別個の領域へと分割するようにさらに構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
選択するための前記手段は、前記決定された位置に基づいて、前記コードブックを選択するように構成され、および／または、前記コードブックは、量子化コードブックを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
メタデータを生成する方法であって、
複数のオブジェクトを示すデジタル画像のシーケンスを与えることと、
前記複数のオブジェクトの中から少なくとも１つのオブジェクトを選択することと、
前記シーケンスの各デジタル画像について、位置空間中の前記選択された少なくとも１つのオブジェクトの位置を決定することと、ここにおいて、前記位置空間は、前記デジタル画像または前記デジタル画像のピクセル座標空間によって示された物理空間であり、
複数のコードブックから第１のコードブックを選択することと、前記第１のコードブックは、前記位置空間を分割する複数の別個の領域を定義し、ここにおいて、前記複数の別個の領域は等しくないサイズの領域を含み、
前記シーケンスの各デジタル画像について、それぞれのデジタル画像中の前記少なくとも１つの選択されたオブジェクトの前記位置を表すために、前記それぞれのデジタル画像中の前記少なくとも１つの選択されたオブジェクトの前記決定された位置を含む、前記複数の別個の領域のうちの１つの領域を識別するメタデータを、少なくとも１つのプロセッサによって、生成することと、
を備える、メタデータを生成する方法。
【請求項１１】
前記選択された少なくとも１つのオブジェクトの指示を、ユーザインターフェースを介して与えることをさらに備える、請求項１０に記載のメタデータを生成する方法。
【請求項１２】
前記位置空間は地面であり、前記位置を決定することは、前記少なくとも１つのデジタル画像のピクセル座標空間中の位置を前記地面へと投影することを備え、投影することは、好ましくは、少なくとも１つの方向センサからの情報に基づく、請求項１０に記載のメタデータを生成する方法。
【請求項１３】
メタデータを生成することは、前記複数の別個の領域への前記位置空間の分割を示す、量子化コードブックへのインデックスを選択することを備える、
請求項１０に記載のメタデータを生成する方法。
【請求項１４】
前記方法は、前記生成されたメタデータを、前記複数の別個の領域のうちの特定の領域を指定する探索要求と比較した結果に基づいて、記憶装置から前記少なくとも１つのデジタル画像を検索することを備える、請求項１０に記載のメタデータを生成する方法。
【請求項１５】
プロセッサによって実行されると、前記プロセッサに、請求項１０〜１４のいずれか一項の方法を行わせる命令を記憶するコンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月22日(2017.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプル・マウント（２３）に装着されたサンプル（２０）を画像化するための光学構成（１０）であって、
−  照明（４０）を作り出すための照明対物レンズ（３０）と、
−  前記サンプル（２０）からの放射（６０）を画像化するための検出対物レンズ（５０）と、
−  前記照明対物レンズ（３０）の後焦点面（３４）にある、平行移動可能な照明ビーム発生器（３６、７０、９０）と
を備え、
それによって、前記照明対物レンズ（３０）が、前記サンプル・マウント（２３）のまわりの前記検出対物レンズ（５０）に対して鈍角で前記サンプル・マウント（２３）のまわりに配列される、光学構成（１０）。
【請求項２】
前記照明対物レンズ（３０）および前記検出対物レンズ（５０）が、実質的に水平な面に配置される、請求項１に記載の光学構成。
【請求項３】
前記照明対物レンズ（３０）および前記検出対物レンズ（５０）からなる面に垂直な方向に位置づけられたカメラ（８０）をさらに備える、請求項１または２に記載の光学構成（１０）。
【請求項４】
平行移動可能な照明ビーム発生器（３６、７０、９０）が、可動ミラー（７０）を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の光学構成（１０）。
【請求項５】
前記カメラと前記平行移動可能な照明ビーム発生器（３６、９０）とに接続された制御プロセッサ（９５）をさらに含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の光学構成。
【請求項６】
前記サンプル・マウント（２２）のまわりの前記照明レンズ（３０）に対してさらなる非垂直の角度で配列されたさらなる検出レンズ（５７）をさらに含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の光学構成（１０）。
【請求項７】
照明対物レンズ（３０）および検出対物レンズ（５０、５７）として交互に使用することができる複数の対物レンズ（３０、５０、５７）を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の光学構成（１０）。
【請求項８】
前記複数の対物レンズ（３０、５０、５７）のうちの３つが、前記複数の対物レンズ（３０、５０、５７）に対して互いにほぼ１２０°で配列される、請求項７に記載の光学構成（１０）。
【請求項９】
前記照明対物レンズ（３０）の中の検出器（１００）に接続された画像プロセッサ（１１０）をさらに含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の光学構成（１０）。
【請求項１０】
前記照明（４０）が、前記サンプル（２０）上に投影される１次元ラインの形態のものである、請求項１から９のいずれか一項に記載の光学構成（１０）。
【請求項１１】
照明（４０）を作り出すための照明対物レンズ（３０）と、浸漬媒体（２２）の中のサンプル（２０）からの放射（６０）を画像化するための検出対物レンズ（５０）とを備える光学構成において前記サンプル（２０）を画像化する方法であって、前記照明対物レンズ（３０）および前記検出対物レンズ（３０）が、互いに鈍角で配列され、
−  照明（４０）を生成するステップと、
−  前記照明対物レンズ（３０）の後部の中にオフセンタ方向で前記照明（４０）を誘導するステップと、
−  前記浸漬媒体（２２）からの放射をモニタするステップと、
−  前記オフセンタ方向を変更するステップと
を含む、方法。
【請求項１２】
前記浸漬媒体（２２）からの前記放射が、信号を制御プロセッサ（９５）に供給するカメラ（８０）によって画像化され、前記制御プロセッサ（９５）が、前記照明（４０）の前記誘導を制御する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記制御プロセッサ（９５）が、可動ミラー（７０）の位置を制御する、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月8日(2017.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号１または２で表示されるアミノ酸からなる、ペプチド。  
【請求項２】
前記ペプチドのＮ-またはＣ-末端はアセチル基、フルオレニルメトキシカルボニル基、ホルミル基、パルミトイル基、ミリスチル基、ステアリル基、及びポリエチレングリコール(ＰＥＧ)からなる群から選択される保護基と結合されていることを特徴とする、請求項１に記載のペプチド。  
【請求項３】
肌再生または傷治療に使用するための、配列番号１または２で表示されるアミノ酸からなるペプチドまたは、これをコーディングするポリヌクレオチドを有効成分として含む、薬学的組成物。  
【請求項４】
前記ペプチドのＮ-またはＣ-末端はアセチル基、フルオレニルメトキシカルボニル基、ホルミル基、パルミトイル基、ミリスチル基、ステアリル基、及びポリエチレングリコール(ＰＥＧ)からなる群から選択される保護基と結合されていることを特徴とする、請求項３に記載の薬学的組成物。  
【請求項５】
前記ペプチドは１乃至５００ng/ml濃度で含有されていることを特徴とする、請求項３に記載の薬学的組成物。  
【請求項６】
前記傷は創傷によるものであることを特徴とする、請求項３に記載の薬学的組成物。  
【請求項７】
前記組成物は薬学的に許容可能な担体をさらに含むことを特徴とする、請求項３に記載の薬学的組成物。  
【請求項８】
肌老化または傷改善に使用するための、配列番号１または２で表示されるアミノ酸からなるペプチドを有効成分として含む、化粧品組成物。  
【請求項９】
前記組成物は懸濁液、乳濁液、ペースト、ゲル、クリーム、ローション、パウダー、ワックスまたはスプレー形態であることを特徴とする、請求項８に記載の化粧品組成物。  
【請求項１０】
前記組成物は肌美白活性を有することを特徴とする、請求項８に記載の化粧品組成物。  
【請求項１１】
配列番号１または２で表示されるアミノ酸からなるペプチドの治療学的有効量を個体に投与する段階を含む、肌再生または傷治療方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月28日(2018.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
GPS信号を用いてタイミング同期を行う方法であって、
時刻情報を含む前記GPS信号を受信することと、
所定の基準タイミングとオフセット値とを用いて、フレーム番号を計算することとを含む、
ビークルツーエブリシング（Ｖ２Ｘ：vehicle-to-everything）通信システムにおいて使用される方法。
【請求項２】
前記GPS信号はGPS衛星から受信する信号である、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記所定の基準タイミングは、年月日時分秒のそれぞれを特定する情報を含む、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
同期信号を受信することと、
前記同期信号に従って、タイミング同期を決定することと、
をさらに含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記フレーム番号は、システムフレーム番号（SFN：System Frame Number）に対応する、
請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記同期信号は路側機（ＲＳＵ：road side unit）から送信された信号である、
請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記同期信号が、第一の同期信号により同期したデバイスから送信された信号である場合、
前記同期信号に従って、タイミング同期を決定し、
第二の同期信号の検出を監視する、
請求項４に記載の方法。
【請求項８】
決定されたタイミング同期に従い、第三の同期信号を送信すること、
をさらに含む、請求項４乃至７のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ビークルツーエブリシング（Ｖ２Ｘ：ｖｅｈｉｃｌｅ−ｔｏ−ｅｖｅｒｙｔｈｉｎｇ）通信システムにおいて使用される方法