(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニトロフェノール化合物又はその塩を含有し、ラテックス産生植物のタッピング箇所に付着されて用いられる、ラテックス産生植物用付着処理剤。
【請求項２】
ラテックスを増産させるか、又は、タッピングパネルドライネスを緩和させる、請求項１に記載のラテックス産生植物用付着処理剤。
【請求項３】
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基を有する化合物又はその塩である、請求項１又は２に記載のラテックス産生植物用付着処理剤。
【請求項４】
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（１）：
【化１】
0006856842.tif 000025
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ｘは１〜５の整数を示す。
ｙは０〜４の整数を示す。
ｙが２〜４の整数の場合、２〜４個のＲ基は、それぞれ同一又は異なっていてもよい。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、請求項１〜３の何れか一項に記載のラテックス産生植物用付着処理剤。
【請求項５】
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（２）：
【化２】
0006856842.tif 000026
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基のうち、少なくとも１個の基は、ニトロ基を示す。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、請求項１〜４の何れか一項に記載のラテックス産生植物用付着処理剤。
【請求項６】
ニトロフェノール化合物又はその塩を、ラテックス産生植物のタッピング箇所に付着させる工程を有することを特徴とするラテックス産生植物への付着処理方法。
【請求項７】
ラテックスを増産させるか、又は、タッピングパネルドライネスを緩和させるための、請求項６に記載の付着処理方法。
【請求項８】
ラテックス産生植物のタッピング箇所に付着処理するための、ニトロフェノール化合物又はその塩の使用方法。
【請求項９】
ラテックスを増産させるため、又はタッピングパネルドライネスを緩和させるために、ニトロフェノール化合物又はその塩を、ラテックス産生植物のタッピング箇所に付着させる、ニトロフェノール化合物又はその塩の使用方法。
【請求項１０】
さらに、植物ホルモン又はその誘導体を含有する、請求項１〜５の何れか一項に記載のラテックス産生植物用付着処理剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラテックス産生植物用処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ラテックスを産生する植物は幾つか知られており、例えば、ゴムノキ等が挙げられる。天然ゴムは、主にゴムノキの乳管（ｌａｔｉｃｉｆｅｒ）と呼ばれる細胞内で生産されるラテックスという乳液中に存在し、これを加工することにより製造される。乳管は、ゴムノキの樹皮内の形成層の外側に年に数層発達する。ラテックスの採取は、一般的に、ゴムノキのタッピングパネル(Ｔａｐｐｉｎｇ  Ｐａｎｅｌ)と呼ばれる幹にナイフ等を用いて溝状に傷をつけて（タッピング）、切断された乳管から流出するラテックスを回収することにより行われている。【０００３】
現在、天然ゴムは、ゴム製品の主原料として、幅広い用途において、大量に用いられている。したがって、ラテックスをより大量に効率的に得る方法が求められている。【０００４】
例えば、特許文献１には、植物ホルモン又はその誘導体であるジャスモン酸又はその誘導体を有効成分とするラテックス増産剤が開示されている。しかしながら、このジャスモン酸は、ペンテニル基とカルボキシメチル基とを有するシクロペンタノン化合物であるが、多段階の合成工程を経て製造される高額な化合物である。【０００５】
また、現在、多くのゴム農園では、天然ゴムの生産量を増やすために、植物ホルモンであるエチレンを発生する剤（エテホン）をパラゴムノキの幹に塗布することが行われている（特許文献２）。【０００６】
しかしながら、近年、これら植物ホルモン又はエチレン発生剤の過剰な塗布によって、タッピングパネルドライネス（Ｔａｐｐｉｎｇ ｐａｎｅｌ  ｄｒｙｎｅｓｓ（ＴＰＤ））と呼ばれる症状が現れ、ラテックスの量が減少するという問題が生じている。【０００７】
以上のことから、より簡便な製造方法で得られ、安価で、かつ、優れた効果を示すラテックス産生植物用処理剤の開発が切望されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１０−０９５４８０号公報
【特許文献２】特開２０１１−２４６３６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、新規なラテックス産生植物用処理剤の提供を目的とする。特に、本発明は、新規なラテックス増産剤及びタッピングパネルドライネス緩和剤の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ニトロフェノール化合物又はその塩をラテックス産生植物に処理することで、ラテックスの増産効果及びタッピングドライネス症状の緩和効果が得られることを見出した。本発明は、このような知見に基づき完成されたものである。【００１１】
すなわち、本発明は、下記のニトロフェノール化合物又はその塩を含有するラテックス産生植物用処理剤、ラテックス増産剤、タッピングパネルドライネス緩和剤等に関する。
項１．
ニトロフェノール化合物又はその塩を含有するラテックス産生植物用処理剤。
項２．
ラテックスを増産させるか、又は、タッピングパネルドライネスを緩和させる、項１に記載のラテックス産生植物用処理剤。
項３．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基を有する化合物又はその塩である、項１又は２に記載のラテックス産生植物用処理剤。
項４．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（１）：
【化１】
0006856842.tif 000002
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ｘは１〜５の整数を示す。
ｙは０〜４の整数を示す。
ｙが２〜４の整数の場合、２〜４個のＲ基は、それぞれ同一又は異なっていてもよい。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項１〜３の何れか一項に記載のラテックス産生植物用処理剤。
項５．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（２）：
【化２】
0006856842.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基のうち、少なくとも１個の基は、ニトロ基を示す。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項１〜４の何れか一項に記載のラテックス産生植物用処理剤。
項６．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、ラテックス産生植物に付着させる工程を有することを特徴とするラテックス産生植物への処理方法。
項７．
ラテックスを増産させるか、又は、タッピングパネルドライネスを緩和させるための、項６に記載の処理方法。
項８．
ラテックス産生植物に処理するための、ニトロフェノール化合物又はその塩の使用方法。
項９．
ラテックスを増産させるか、又は、タッピングパネルドライネスを緩和させるための、項８に記載の使用方法。
項１０．
ラテックスを増産させるための、又はタッピングパネルドライネスを緩和させるための、ニトロフェノール化合物又はその塩の使用方法。
項１１．
さらに、（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体を含有する、項１〜５の何れか一項に記載のラテックス産生植物用処理剤。
項１２．
ニトロフェノール化合物又はその塩を含有するラテックス増産剤。
項１３．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基を有する化合物又はその塩である、項１２に記載のラテックス増産剤。
項１４．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、一般式（１）：
【化１】
0006856842.tif 000004
【００１２】
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ｘは１〜５の整数を示す。
ｙは０〜４の整数を示す。
ｙが２〜４の整数の場合、２〜４個のＲ基は、それぞれ同一又は異なっていてもよい。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項１２又は１３に記載のラテックス増産剤。
項１５．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、
下記一般式（２）：
【化２】
0006856842.tif 000005
【００１３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基のうち、少なくとも１個の基は、ニトロ基を示す。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項１２〜１４の何れか一項に記載のラテックス増産剤。
項１６．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、ラテックス産生植物に付着させる工程を有することを特徴とするラテックス増産方法。
項１７．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基を有する化合物又はその塩である、項１６に記載のラテックス増産方法。
項１８．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（１）：
【化３】
0006856842.tif 000006
【００１４】
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ｘは１〜５の整数を示す。
ｙは０〜４の整数を示す。
ｙが２〜４の整数の場合、２〜４個のＲ基は、それぞれ同一又は異なっていてもよい。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項１６又は１７に記載のラテックス増産方法。
項１９．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（２）：
【化４】
0006856842.tif 000007
【００１５】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基のうち、少なくとも１個の基は、ニトロ基を示す。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項１６〜１８の何れか一項に記載のラテックス増産方法。
項２０．
前記ラテックス産生植物が、パラゴムノキ（Ｈｅｖｅａ  ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）であることを特徴とする項１６〜１９の何れか一項に記載のラテックス増産方法。
項２１．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、タッピングパネルに付着させることを特徴とするラテックス増産方法。
項２２．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、植物又はその根圏に処理することを含む、ラテックス増産方法。
項２３．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、施用することを含む、ラテックス増産方法。
項２４．
ラテックスを増産させるための、ニトロフェノール化合物又はその塩の使用方法。
項２５．
項１２〜１５の何れか一項に記載のラテックス増産剤を、植物又はその根圏に処理する方法。
項２６．
ニトロフェノール化合物又はその塩を含有するタッピングパネルドライネス緩和剤。
項２７．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基を有する化合物又はその塩である、項２６に記載のタッピングパネルドライネス緩和剤。
項２８．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（１）：
【化５】
0006856842.tif 000008
【００１６】
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ｘは１〜５の整数を示す。
ｙは０〜４の整数を示す。
ｙが２〜４の整数の場合、２〜４個のＲ基は、それぞれ同一又は異なっていてもよい。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項２６又は２７に記載のタッピングパネルドライネス緩和剤。
項２９．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（２）：
【化６】
0006856842.tif 000009
【００１７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基のうち、少なくとも１個の基は、ニトロ基を示す。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項２６〜２８の何れか一項に記載のタッピングパネルドライネス緩和剤。
項３０．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、ラテックス産生植物に付着させる工程を有することを特徴とするタッピングパネルドライネス緩和方法。
項３１．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基を有する化合物又はその塩である、項３０に記載のタッピングパネルドライネス緩和方法。
項３２．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（１）：
【化７】
0006856842.tif 000010
【００１８】
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ｘは１〜５の整数を示す。
ｙは０〜４の整数を示す。
ｙが２〜４の整数の場合、２〜４個のＲ基は、それぞれ同一又は異なっていてもよい。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項３０又は３１に記載のタッピングパネルドライネス緩和方法。
項３３．
前記ニトロフェノール化合物又はその塩が、下記一般式（２）：
【化８】
0006856842.tif 000011
【００１９】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基のうち、少なくとも１個の基は、ニトロ基を示す。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩である、項３０〜３２の何れか一項に記載のタッピングパネルドライネス緩和方法。
項３４．
前記ラテックス産生植物が、パラゴムノキ（Ｈｅｖｅａ  ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）であることを特徴とする項３０〜３３の何れか一項に記載のタッピングパネルドライネス緩和方法。
項３５．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、タッピングパネルに付着させることを特徴とするタッピングパネルドライネス緩和方法。
項３６．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、植物又はその根圏に処理することを含む、タッピングパネルドライネス緩和方法。
項３７．
ニトロフェノール化合物又はその塩を、施用することを含む、タッピングパネルドライネス緩和方法。
項３８．
タッピングパネルドライネスを緩和させるための、ニトロフェノール化合物又はその塩の使用方法。
項３９．
項２６〜２９の何れか一項に記載のタッピングパネルドライネス緩和剤を、植物又はその根圏に処理する方法。
項４０．
（Ａ）ニトロフェノール化合物又はその塩及び（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体を含有する、相乗的ラテックス増産剤組成物。
項４１．
（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体が、オーキシン類、ジベレリン類、サイトカイニン類、アブシジン酸、エチレン、エテホン、ブラシノステロイド類、フロリゲン、サリチル酸、ジャスモン酸類からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、項４０に記載の相乗的ラテックス増産剤組成物。
項４２．
（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体が、エテホンである、項４０又は４１に記載の相乗的ラテックス増産剤組成物。
項４３．
前記（Ａ）ニトロフェノール化合物又はその塩が、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基を有する化合物又はその塩である、項４０〜４２の何れか一項に記載の相乗的ラテックス増産剤組成物。
項４４．
（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体の配合割合が、（Ａ）ニトロフェノール化合物１００質量部に対して、１０〜１００００００質量部である、項４０〜４３の何れか一項に記載の相乗的ラテックス増産剤組成物。
項４５．
項４０〜４４の何れか一項に記載の相乗的ラテックス増産剤組成物を、ラテックス産生植物に付着させる工程を有することを特徴とするラテックス増産方法。
項４６．
（Ａ）ニトロフェノール化合物又はその塩及び（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体を含有する、相乗的タッピングパネルドライネス緩和剤組成物。
項４７．
（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体が、オーキシン類、ジベレリン類、サイトカイニン類、アブシジン酸、エチレン、エテホン、ブラシノステロイド類、フロリゲン、サリチル酸、ジャスモン酸類からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、項４６に記載の相乗的タッピングパネルドライネス緩和剤組成物。
項４８．
（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体が、エテホンである、項４６又は４７に記載の相乗的タッピングパネルドライネス緩和剤組成物。
項４９．
前記（Ａ）ニトロフェノール化合物又はその塩が、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基を有する化合物又はその塩である、項４６〜４８の何れか一項に記載の相乗的タッピングパネルドライネス緩和剤組成物。
項５０．
（Ｂ）植物ホルモン又はその誘導体の配合割合が、（Ａ）ニトロフェノール化合物１００質量部に対して、１０〜１００００００質量部である、項４６〜４９の何れか一項に記載の相乗的ラテックス増産剤組成物又は相乗的タッピングパネルドライネス緩和剤組成物。
項５１．
項４６〜５０の何れか一項に記載の相乗的タッピングパネルドライネス緩和剤組成物を、ラテックス産生植物に付着させる工程を有することを特徴とするタッピングパネルドライネス緩和方法。
項５２．
ニトロフェノール化合物を含有するラテックス増産活性増強剤。
項５３．
ニトロフェノール化合物を含有するタッピングパネルドライネス緩和活性増強剤。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、ニトロフェノール化合物又はその塩をラテックス産生植物に処理することで、ラテックスを増産及びタッピングパネルドライネスを緩和させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明のラテックス産生植物用処理剤（ニトロフェノール化合物水溶液）をタッピング箇所に塗布することで試験期間中のラテックス溶出量の体積合計が対照区と比較して増加した結果を示した図である。
【図２】図２は、本発明のラテックス産生植物用処理剤（ニトロフェノール化合物水溶液）をタッピング箇所に塗布した株より得られたラテックスを乾燥した後、質量を計測し、試験期間中の質量合計が対照区と比較して増加した結果を示した図である。
【図３】図３は、本発明のラテックス産生植物用処理剤（ニトロフェノール化合物水溶液）をタッピング箇所に塗布した株が対照区と比較してタッピングパネルドライネス症状が緩和された結果を示した図である。
【図４】図４は、本発明のラテックス産生植物用処理剤（ニトロフェノール化合物水溶液）とエテホンとをタッピング箇所に塗布することによって、ラテックス溶出量が増加した結果を示した図である。
【図５】図５は、本発明のラテックス産生植物用処理剤（ニトロフェノール化合物水溶液）とエテホンとをタッピング箇所に塗布することによって、ラテックス乾燥質量が増加した結果を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
１．ラテックス産生植物用処理剤
本発明のラテックス産生植物用処理剤（単に、「ラテックス産生植物用処理剤」ということもある。）は、ニトロフェノール化合物又はその塩を含有する。また、本発明のラテックス産生植物用処理剤は、下記に示すラテックス増量剤、タッピングパネルドライネス緩和剤、天然ゴム処理剤等と言い換えることもできる。
【００２３】
１−１．ラテックス増産剤
本発明のラテックス増産剤（単に、「ラテックス増産剤」ということもある。）は、ニトロフェノール化合物又はその塩を含有する。また、本発明のラテックス増産剤は、ラテックス増量剤、ラテックス量増加剤、ラテックス増収剤、ラテックス量促進剤等と言い換えることもできる。
【００２４】
１−２．タッピングパネルドライネス緩和剤
本発明のタッピングパネルドライネス緩和剤（単に、「ＴＰＤ緩和剤」ということもある。）は、ニトロフェノール化合物又はその塩を含有する。また、本発明のタッピングパネルドライネス緩和剤は、タッピングパネルドライネス症状を緩和させる剤という意味だけでなく、タッピングパネルドライネス抑制剤、タッピングパネルドライネス予防剤、タッピングパネルドライネス治療剤等と言い換えることもできる。
【００２５】
ニトロフェノール化合物又はその塩
本明細書において、ニトロフェノール化合物は、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基（ＯＨ基）を有する化合物をいう。該ニトロフェノール化合物には、ニトロ基を１つ有しているフェノール化合物、及びニトロ基を２つ以上有しているフェノール化合物が含まれる。さらに、これらのフェノール化合物には、水酸基を１つ有するものと、水酸基を２つ以上有するものが存在する。本発明で使用するニトロフェノール化合物は、１つ以上のニトロ基及び１つ以上の水酸基（ＯＨ基）を有する芳香環化合物である。よって、本明細書におけるニトロフェノール化合物には、１つのニトロ基及び１つの水酸基を有する芳香環化合物、１つのニトロ基及び２つ以上の水酸基を有する芳香環化合物、２つ以上のニトロ基及び１つの水酸基を有する芳香環化合物、及び２つ以上のニトロ基及び２つ以上の水酸基を有する芳香環化合物のいずれもが含まれる。
前記ニトロフェノール化合物を構成する芳香環としては、特に限定はなく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。
【００２６】
該ニトロフェノール化合物には、さらに、上記ニトロ基及び水酸基以外の置換基を有していてもよい。
置換基としては、特に限定はなく、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルキニルオキシ基等が挙げられる。
【００２７】
本明細書におけるニトロフェノール化合物は、塩を形成していてもよい。すなわち、本発明のラテックス産生植物用処理剤は、ニトロフェノール化合物だけでなく、ニトロフェノール化合物の塩であってもよい。
【００２８】
本明細書における塩としては、特に限定はなく、例えば、アルカリ金属塩（ナトリウム塩、カリウム塩等）、アルカリ土類金属塩（カルシウム塩、マグネシウム塩等）、アンモニウム塩（アンモニア；モルホリン、ピペリジン、ピロリジン、低級モノ、ジ又はトリアルキルアミン、低級モノ、ジ又はトリヒドロキシアルキルアミン等の有機アミン等との塩）、オキソニウム塩等が挙げられる。好ましいニトロフェノール化合物の塩は、農芸化学的に許容される塩であり、より好ましくはアルカリ金属塩である。
【００２９】
なお、本明細書において、一般式（１）、（１ａ）、（２）、（２ａ）、（２ｂ）及び（２ｃ）には、ＯＨ基（水酸基）が記載されており、一般式（１）、（１ａ）、（２）、（２ａ）、（２ｂ）及び（２ｃ）で表される化合物の塩を、前記一般式中の「ＯＨ」を「ＯＭ」に代えた構造式で表すこともできる。ここで、前記Ｍは、ナトリウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオン；カルシウムイオン等のアルカリ土類金属イオン；マグネシウムイオン等の第２族元素イオン；アンモニウムイオン等の無機カチオン；エチルアミニウムイオン等の有機アンモニウムイオン；トリメチルオキソニウムイオン等のオキソニウムイオン等の有機カチオン等を示す。
【００３０】
前記ニトロフェノール化合物の中で、水酸基を１つ有しているフェノール化合物が好ましい。また、前記ニトロフェノール化合物を構成する芳香環は、ベンゼン環であることが好ましい。
【００３１】
前記ニトロフェノール化合物のうち、芳香環がベンゼン環であるニトロフェノール化合物としては、例えば、下記一般式（１）：
【化９】
0006856842.tif 000012
【００３２】
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ｘは１〜５の整数を示す。
ｙは０〜４の整数を示す。
ｙが２〜４の整数の場合、２〜４個のＲ基は、それぞれ同一又は異なっていてもよい。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩等が挙げられる。
【００３３】
上記一般式（１）で表されるニトロフェノール化合物には、ニトロ基を１つ有している（ｘ＝１）フェノール化合物（モノ−ニトロフェノール類）、及びニトロ基を２つ以上有している（ｘ≧２）フェノール化合物（マルチ−ニトロフェノール類）が含まれる。さらに、ニトロ基を１つ有しているフェノール化合物（モノ−ニトロフェノール類）には、１つのニトロ基（ｘ＝１）及び１つの水酸基を有するベンゼン（モノ−ニトロフェノール）、１つのニトロ基（ｘ＝１）及び２つ以上の水酸基を有する（Ｒ＝ＯＨ及びｙ≧１）ベンゼン（モノ−ニトロポリフェノール）が含まれる。また、ニトロ基を２つ以上有しているフェノール化合物（マルチ−ニトロフェノール類）には、２つ以上のニトロ基（ｘ≧２）及び１つの水酸基を有するベンゼン（マルチ−ニトロフェノール）、及び２つ以上のニトロ基（ｘ≧２）及び２つ以上の水酸基を有する（Ｒ＝ＯＨ及びｙ≧１）ベンゼン（マルチニトロポリフェノール）を含まれる。これらの中で、ニトロ基を１つ有しているフェノール化合物が好ましい。
【００３４】
上記ニトロフェノール化合物としては、下記一般式（１ａ）：
【化１０】
0006856842.tif 000013
【００３５】
（式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ｙは０〜４の整数を示す。
ｙが２〜４の整数の場合、２〜４個のＲ基は、それぞれ同一又は異なっていてもよい。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩が好ましい。
【００３６】
上記ニトロフェノール化合物は、下記一般式（２）：
【化１１】
0006856842.tif 000014
【００３７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基のうち、少なくとも１個の基は、ニトロ基を示す。）
で表されるニトロフェノール化合物又はその塩で記載することもできる。
【００３８】
中でも、より好ましいニトロフェノール化合物又はその塩は、下記一般式（２ａ）：
【化１２】
0006856842.tif 000015
【００３９】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。）で表される２−ニトロフェノール化合物又はその塩；
下記一般式（２ｂ）：
【化１３】
0006856842.tif 000016
【００４０】
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。）で表される３−ニトロフェノール化合物又はその塩；及び
下記一般式（２ｃ）：
【化１４】
0006856842.tif 000017
【００４１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５基は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、Ｃ２〜６アルケニル基、Ｃ２〜６ハロアルケニル基、Ｃ２〜６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基、Ｃ２〜６アルキニル基、Ｃ２〜６ハロアルキニル基、Ｃ２〜６アルキニルオキシ基、又はＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基を示す。）で表される４−ニトロフェノール化合物又はその塩である。
【００４２】
本明細書における各基について以下説明する。
【００４３】
ハロゲン原子としては、特に限定はなく、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００４４】
Ｃ１〜６アルキル基としては、特に限定はなく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。なお、本明細書において、「ｎ−」とはノルマルを、「ｓ−」とはセカンダリーを、「ｔ−」とはターシャリーを示す。
【００４５】
Ｃ１〜６ハロアルキル基としては、特に限定はなく、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル、１−フルオロプロピル基、２−クロロプロピル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、１−フルオロブチル基、１−クロロブチル基、４−フルオロブチル基等の１〜９個、好ましくは１〜５個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。
【００４６】
Ｃ１〜６アルコキシ基としては、特に限定はなく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基が挙げられる。
【００４７】
Ｃ１〜６ハロアルコキシ基としては、特に限定はなく、例えば、フルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ブロモメトキシ基、ヨードメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、１−フルオロエトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２−クロロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ、１−フルオロプロポキシ基、２−クロロプロポキシ基、３−フルオロプロポキシ基、３−クロロプロポキシ基、１−フルオロブトキシ基、１−クロロブトキシ基、４−フルオロブトキシ基等の１〜９個、好ましくは１〜５個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基が挙げられる。
【００４８】
Ｃ２〜６アルケニル基としては、特に限定はなく、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、１，３−ブタジエニル基等の炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基が挙げられる。
【００４９】
Ｃ２〜６ハロアルケニル基としては、特に限定はなく、例えば、任意の位置に少なくとも１つの二重結合を有する炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基であって、１〜１３個、好ましくは１〜７個のハロゲン原子で置換されたアルケニル基が挙げられる。このようなＣ２〜６ハロアルケニル基として、例えば、２，２−ジクロロビニル基、２，２−ジブロモビニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−アリル基、３，３−ジクロロ−２−アリル基、４−クロロ−２−ブテニル基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基、４，４，４−トリクロロ−３−ブテニル基、５−クロロ−３−ペンテニル基、６−フルオロ−２−ヘキセニル基等が挙げられる。
【００５０】
Ｃ２〜６アルケニルオキシ基としては、特に限定はなく、例えば、ビニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、１−ブテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、１，３−ブタジエニルオキシ基等の炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルケニルオキシ基が挙げられる。
【００５１】
Ｃ２〜６ハロアルケニルオキシ基としては、特に限定はなく、例えば、任意の位置に少なくとも１つの二重結合を有する炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基であって、１〜１３個、好ましくは１〜７個のハロゲン原子で置換されたアルケニル基が挙げられる。このようなＣ２〜６ハロアルケニルオキシ基として、例えば、２，２−ジクロロビニルオキシ基、２，２−ジブロモビニルオキシ基、３−クロロ−２−プロペニルオキシ基、３，３−ジフルオロ−２−アリルオキシ基、３，３−ジクロロ−２−アリルオキシ基、４−クロロ−２−ブテニルオキシ基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニルオキシ基、４，４，４−トリクロロ−３−ブテニルオキシ基、５−クロロ−３−ペンテニルオキシ基、６−フルオロ−２−ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。
【００５２】
Ｃ２〜６アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等の炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキニル基が挙げられる。
【００５３】
Ｃ２〜６ハロアルキニル基としては、特に限定はなく、例えば、任意の位置に少なくとも１つの三重結合を有する炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキニル基であって、１〜１３個、好ましくは１〜７個のハロゲン原子で置換されたアルキニル基が挙げられる。このようなＣ２〜６ハロアルキニル基として、例えば、３，３，３−トリフルオロプロピニル基、３，３−ジフルオロプロピニル基、３，３，３−トリフルオロブチニル基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブチニル基、３，３−ジフルオロ−ブチニル基等が挙げられる。
【００５４】
Ｃ２〜６アルキニルオキシ基としては、特に限定はなく、例えば、エチニルオキシ基、１−プロピニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、１−ブチニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基等の炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキニルオキシ基が挙げられる。
【００５５】
Ｃ２〜６ハロアルキニルオキシ基としては、特に限定はなく、例えば、任意の位置に少なくとも１つの三重結合を有する炭素数２〜６の直鎖状又は分岐鎖状アルキニルオキシ基であって、１〜１３個、好ましくは１〜７個のハロゲン原子で置換されたアルキニルオキシ基が挙げられる。このようなＣ２〜６ハロアルキニルオキシ基として、例えば、３，３，３−トリフルオロプロピニルオキシ基、３，３−ジフルオロプロピニルオキシ基、３，３，３−トリフルオロブチニルオキシ基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブチニルオキシ基、３，３−ジフルオロ−ブチニルオキシ基等が挙げられる。
【００５６】
上記一般式（１）及び（１ａ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子又はメトキシ基がより好ましい。
【００５７】
上記一般式（１）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、ｘは、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましく、１が特に好ましい。
【００５８】
上記一般式（１）及び（１ａ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、ｙは、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましく、１が特に好ましい。
【００５９】
上記一般式（２）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基がより好ましい。
【００６０】
上記一般式（２）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基がより好ましい。
【００６１】
上記一般式（２）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基がより好ましい。
【００６２】
上記一般式（２）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基がより好ましい。
【００６３】
上記一般式（２）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基がより好ましい。
【００６４】
上記一般式（２）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩のうち、好ましい化合物としては、
Ｒ１が、ニトロ基、
Ｒ２が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、
Ｒ３が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、
Ｒ４が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、及び
Ｒ５が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基で表されるニトロフェノール化合物又はその塩；
Ｒ１が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、
Ｒ２が、ニトロ基、
Ｒ３が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、
Ｒ４が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、及び
Ｒ５が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基で表されるニトロフェノール化合物又はその塩；並びに
Ｒ１が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、
Ｒ２が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、
Ｒ３が、ニトロ基、
Ｒ４が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基、及び
Ｒ５が、水素原子、ニトロ基、又はメトキシ基で表されるニトロフェノール化合物又はその塩が挙げられる。
【００６５】
上記一般式（２）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩のうち、より好ましい化合物としては、
Ｒ１が、ニトロ基、
Ｒ２が、水素原子、又はメトキシ基、
Ｒ３が、水素原子、又はメトキシ基、
Ｒ４が、水素原子、又はメトキシ基、及び
Ｒ５が、水素原子、又はメトキシ基で表されるニトロフェノール化合物又はその塩；
Ｒ１が、水素原子、又はメトキシ基、
Ｒ２が、ニトロ基、
Ｒ３が、水素原子、又はメトキシ基、
Ｒ４が、水素原子、又はメトキシ基、及び
Ｒ５が、水素原子、又はメトキシ基で表されるニトロフェノール化合物又はその塩；並びに
Ｒ１が、水素原子、又はメトキシ基、
Ｒ２が、水素原子、又はメトキシ基、
Ｒ３が、ニトロ基、
Ｒ４が、水素原子、又はメトキシ基、及び
Ｒ５が、水素原子、又はメトキシ基で表されるニトロフェノール化合物又はその塩が挙げられる。
【００６６】
上記一般式（２ａ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００６７】
上記一般式（２ａ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００６８】
上記一般式（２ａ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００６９】
上記一般式（２ａ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７０】
上記一般式（２ａ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、同一又は異なって、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７１】
上記一般式（２ｂ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７２】
上記一般式（２ｂ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７３】
上記一般式（２ｂ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７４】
上記一般式（２ｂ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７５】
上記一般式（２ｂ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、同一又は異なって、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７６】
上記一般式（２ｃ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７７】
上記一般式（２ｃ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７８】
上記一般式（２ｃ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００７９】
上記一般式（２ｃ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００８０】
上記一般式（２ｃ）で表されるニトロフェノール化合物又はその塩において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ１〜６アルコキシ基であるのが好ましく、同一又は異なって、水素原子、又はメトキシ基がより好ましい。
【００８１】
上記ニトロフェノール化合物又はその塩の中でも、４−ニトロフェノール、４−ニトロフェノールナトリウム塩、３−ニトロフェノール、３−ニトロフェノールナトリウム塩、２−ニトロフェノール、２−ニトロフェノールナトリウム塩等のニトロフェノール化合物又はその塩；５−ニトログアヤコール、５−ニトログアヤコールナトリウム塩、４−ニトログアヤコール、４−ニトログアヤコールナトリウム塩等のグアヤコール（別名：グアイアコール）化合物又はその塩が特に好ましい。
【００８２】
本発明のラテックス産生植物用処理剤には、１種又は２種以上の上記ニトロフェノール化合物又はその塩を配合することができる。
【００８３】
これら１種又は２種以上のニトロフェノール化合物又はその塩としては、公知の製造方法によって製造した化合物、又は市販品を用いることができる。公知の製造方法としては、例えば、特開平１０−６７７１６に記載の製造方法等が挙げられる。また、市販品としては、例えば、４−ニトロフェノール又はその塩（０．００３〜３％）、２−ニトロフェノール又はその塩（０．００２〜２％）、及び５−ニトログアヤコール又はその塩（０．００１〜１％）を含有する水溶液等の２種又は３種のニトロフェノール化合物又はその塩を含むニトロフェノール組成物を用いることもできる。
【００８４】
本発明のラテックス産生植物用処理剤の処理において、ニトロフェノール化合物又はその塩の濃度は、通常、１〜３０００００ｍｇ／Ｌ、好ましくは１０〜３００００ｍｇ／Ｌ、より好ましくは１００〜３０００ｍｇ／Ｌである。また、本発明のラテックス産生植物用処理剤の処理において、２種以上のニトロフェノール化合物又はその塩を含む場合、それぞれの濃度及び比率は、適宜設定することができる。
【００８５】
その他の成分
本発明のラテックス産生植物用処理剤には、他の成分を加えず、ニトロフェノール化合物又はその塩のみを含むものでもよいが、通常は、固体担体、液体担体、又はガス状担体（噴射剤）を混合することができる。
【００８６】
また、必要に応じて、本発明のラテックス産生植物用処理剤には、界面活性剤、その他の製剤用補助剤を添加して、通常の製剤化方法に従い、油剤、乳剤、水和剤、フロアブル剤、粒剤、粉剤、エアゾール、煙霧剤等に製剤して使用することができる。
【００８７】
さらに、本発明のラテックス産生植物用処理剤を用いた製剤は、他のラテックス産生植物用処理剤、他のラテックス増産剤、他のＴＰＤ緩和剤、殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、矮化剤、微生物農薬、植物生長調節剤、共力剤、土壌改良剤、肥料等を混合して、又は混合せずに用いることもできる。
【００８８】
他のラテックス産生植物用処理剤、他のラテックス増産剤又は他のＴＰＤ緩和剤としては、植物ホルモン又はその誘導体であれば特に限定はない。ここでいう植物ホルモン又はその誘導体には、植物ホルモン様物質、エチレン発生剤等の意味も含んでいる。
【００８９】
植物ホルモン又はその誘導体としては、例えば、オーキシン類、ジベレリン類、サイトカイニン類、ブラシノステロイド類、アブシジン酸、エチレン、エテホン、サリチル酸、ジャスモン酸類、フロリゲン等が挙げられる。
【００９０】
オーキシン類としては、例えば、インドール−３−酢酸、インドール−３−酪酸等のインドール酢酸；ナフタレン酢酸；ナフトキシ酢酸等が挙げられる。
【００９１】
ジベレリン類としては、例えば、ジベレリンＡ１、ジベレリンＡ３等が挙げられる。
【００９２】
サイトカイニン類としては、例えば、ゼアチン、カイネチン、チジアズロン、ベンジルアデニン類等が挙げられる。
【００９３】
ブラシノステロイド類としては、例えば、ブラシノリド等が挙げられる。
【００９４】
ジャスモン酸類としては、例えば、エピジャスモン酸、ジャスモン酸メチル等が挙げられる。
【００９５】
これらの製剤中のニトロフェノール化合物又はその塩の含有量は、通常、０．０００３〜９５質量％、好ましくは０．００３〜５０質量％、より好ましくは０．０３〜５質量％である。
【００９６】
これらの製剤中の他のラテックス産生植物用処理剤（植物ホルモン又はその誘導体）の含有量は、通常、０．０１〜９５質量％、好ましくは０．１〜５０質量％、より好ましくは１〜５質量％である。
【００９７】
すなわち、本発明は、さらに、ニトロフェノール化合物及び植物ホルモン又はその誘導体を含有するラテックス産生植物用処理剤（ここで、「ニトロフェノール化合物及び植物ホルモン又はその誘導体を含有するラテックス産生植物用処理剤」は、「ニトロフェノール化合物及び植物ホルモン又はその誘導体を含有するラテックス産生植物用処理剤組成物」、「本発明のラテックス産生植物用処理剤組成物」等と言い換えることができる。）、ニトロフェノール化合物及び植物ホルモン又はその誘導体を含有する相乗的ラテックス増産剤組成物、並びに、ニトロフェノール化合物及び植物ホルモン又はその誘導体を含有する相乗的ＴＰＤ緩和剤組成物を包含する。
【００９８】
本発明のニトロフェノール化合物及び植物ホルモン又はその誘導体を含有するラテックス産生植物用処理剤は、ラテックスを相乗的に増産させるか、又は、ＴＰＤを相乗的に緩和させることができる。また、本発明の相乗的ラテックス増産剤組成物は、低薬量でラテックスを増産させることができる。また、本発明の相乗的ＴＰＤ緩和剤組成物は、低薬量でＴＰＤを緩和させることができる。
【００９９】
本発明のニトロフェノール化合物及び植物ホルモン又はその誘導体を含有するラテックス産生植物用処理剤、又は本発明の相乗的ラテックス増産剤組成物は、既存の植物ホルモン又はその誘導体に対して効果が得られないラテックス産生植物であっても、同様に優れたラテックス増産効果を発現する。また、本発明のニトロフェノール化合物及び植物ホルモン又はその誘導体を含有するラテックス産生植物用処理剤、又は本発明の相乗的ＴＰＤ緩和剤組成物は、既存の植物ホルモン又はその誘導体に対して効果が得られないラテックス産生植物であっても、同様に優れたＴＰＤ緩和効果を発現する。
なお、相乗的ラテックス増産剤組成物とは、相乗的なラテックス増産効果（相乗効果）を有するラテックス増産剤組成物を意味する。また、相乗的ＴＰＤ緩和剤組成物とは、相乗的なＴＰＤ緩和効果（相乗効果）を有するＴＰＤ緩和剤組成物を意味する。
【０１００】
前記ラテックス産生植物用処理剤組成物、相乗的ラテックス増産剤組成物、又は相乗的ＴＰＤ緩和剤組成物において、植物ホルモン又はその誘導体は、前記一般式（１）のニトロフェノール化合物１００質量部に対して、通常１０〜１００００００質量部、好ましくは１００〜１０００００質量部、より好ましくは１０００〜１００００質量部配合する。
【０１０１】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、粘土類（カオリンクレー、珪藻土、合成含水酸化珪素、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等）、タルク類、セラミック、その他の無機鉱物（セライト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等）、化学肥料（硫安（硫酸アンモニウム）、燐安（リン酸アンモニウム）、硝安（硝酸アンモニウム）、尿素、塩安（塩化アンモニウム）等）等の微粉末あるいは粒状物等が挙げられる。
【０１０２】
液体担体としては、例えば、水、アルコール類（メタノール、エタノール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、エーテル類（ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等）、酸アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等）、ジメチルスルホキシド、大豆油、綿実油等の植物油等が挙げられる。
【０１０３】
ガス状担体としては、例えば、ブタンガス、ＬＰＧ（液化石油ガス）、ジメチルエーテル、炭酸ガス等が挙げられる。
【０１０４】
界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
【０１０５】
製剤用補助剤としては、例えば、固着剤、分散剤、安定剤等が挙げられる。
【０１０６】
固着剤及び／又は分散剤としては、例えば、カゼイン、ゼラチン、多糖類（でんぷん粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）が挙げられる。
【０１０７】
安定剤としては、例えば、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
【０１０８】
本発明のラテックス増産剤及びＴＰＤ緩和剤、並びにこれらを用いる製剤は、そのままで、或いは水等で希釈して用いることができる。
【０１０９】
これらの施用量、及び施用濃度は、いずれも製剤の種類、施用時期、施用場所、施用方法、害虫の種類、被害程度等の状況によって異なり、上記の範囲に限定されることなく増加させたり、減少させたりすることができる。
【０１１０】
ここまで本発明のラテックス増産剤及びＴＰＤ緩和剤にニトロフェノール化合物又はその塩を含有させ、それを使用することを説明したが、ニトロフェノール化合物又はその塩と、その他の成分とを別個に含有する組成物を調製しておき、施用の際にこれら２種以上の成分を順次又は同時に、好ましくは同時に使用してもよい。この場合、ニトロフェノール化合物又はその塩、及びその他の成分は、上記と同様の割合で併用するのがよい。
【０１１１】
２．ラテックス産生植物への処理方法、ラテックス増産方法及びＴＰＤ緩和方法
本発明のラテックス産生植物への処理方法、ラテックス増産方法及びＴＰＤ緩和方法は、ニトロフェノール化合物又はその塩をラテックス産生植物に付着させる工程を有することを特徴としている。
【０１１２】
本発明のラテックス産生植物への処理方法、ラテックス増産方法及びＴＰＤ緩和方法は、以下（１）〜（５）の実施形態が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（１）ラテックス産生植物に対して、ニトロフェノール化合物又はその塩を、施用する方法；
（２）ニトロフェノール化合物又はその塩を、植物又はその根圏に処理する方法（ここで、植物には、植物の地上部及び植物の根部（地下部）が含まれている。根圏とは、植物の根の分泌物と土壌微生物とによって影響されている土壌空間を意味している。）；
（３）ニトロフェノール化合物又はその塩を、葉、幹及び／又は茎に塗布する方法；
（４）ニトロフェノール化合物又はその塩を、葉、幹及び／又は茎に噴霧する方法；
（５）ニトロフェノール化合物又はその塩を、タッピングパネルに付着させる方法。
【０１１３】
上記（１）〜（５）の実施形態は、いずれか１つの実施形態を継続して実施してもよいし、途中で他の実施形態に変更することもできる。
【０１１４】
本発明のラテックス産生植物用処理剤、ラテックス増産剤及びＴＰＤ緩和剤を使用できるラテックス産生植物としては、特に限定はなく、例えば、パラゴムノキ（Ｈｅｖｅａ  ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）等のＨｅｖｅａ属；
ノゲシ（Ｓｏｎｃｈｕｓ  ｏｌｅｒａｃｅｕｓ）、オニノゲシ（Ｓｏｎｃｈｕｓ  ａｓｐｅｒ）、ハチジョウナ（Ｓｏｎｃｈｕｓ  ｂｒａｃｈｙｏｔｕｓ）等のＳｏｎｃｈｕｓ属；
セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ  ａｌｔｉｓｓｉｍａ）、アキノキリンソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ  ｖｉｒｇａｕｒｅａ  ｖａｒ．  ａｓｉａｔｉｃａ）、ミヤマアキノキリンソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ  ｖｉｒｇａｕｒｅａ  ｓｕｂｓｐ．  ｌｅｉｏｃａｒｐａ）、キリガミネアキノキリンソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ  ｖｉｒｇａｕｒｅａ  ｓｕｂｓｐ．  ｌｅｉｏｃａｒｐａ  ｆ．  ｐａｌｕｄｏｓａ）、オオアキノキリンソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ  ｖｉｒｇａｕｒｅａ  ｓｕｂｓｐ．  ｇｉｇａｎｔｅａ）、オオアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ  ｇｉｇａｎｔｅａ  Ａｉｔ．  ｖａｒ．  ｌｅｉｏｐｈｙｌｌａ  Ｆｅｒｎａｌｄ）等のＳｏｌｉｄａｇｏ属；
ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ａｎｎｕｕｓ）、シロタエヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ａｒｇｏｐｈｙｌｌｕｓ）、ヘリアンサス・アトロルベンス（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ａｔｒｏｒｕｂｅｎｓ）、ヒメヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ｄｅｂｉｌｉｓ）、コヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ｄｅｃａｐｅｔａｌｕｓ）、ジャイアントサンフラワー（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ｇｉｇａｎｔｅｕｓ）等のＨｅｌｉａｎｔｈｕｓ属；
エゾタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ  ｖｅｎｕｓｔｕｍ  Ｈ．Ｋｏｉｄｚ）、シナノタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ  ｈｏｎｄｏｅｎｓｅ  Ｎａｋａｉ）、カントウタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ  ｐｌａｔｙｃａｒｐｕｍ  Ｄａｈｌｓｔ.）、カンサイタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ  ｊａｐｏｎｉｃｕｍ  Ｋｏｉｄｚ.）、セイヨウタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ  ｏｆｆｉｃｉｎａｌｅ  Ｗｅｂｅｒ）、ロシアンタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ  ｋｏｋ−ｓａｇｈｙｚ）等のＴａｒａｘａｃｕｍ属；
イチジク（Ｆｉｃｕｓ  ｃａｒｉｃａ）、インドゴムノキ（Ｆｉｃｕｓ  ｅｌａｓｔｉｃａ）、オオイタビ（Ｆｉｃｕｓ  ｐｕｍｉｌａ）、イヌビワ（Ｆｉｃｕｓ  ｅｒｅｃｔａ）、ホソバムクイヌビワ（Ｆｉｃｕｓ  ａｍｐｅｌａｓ  Ｂｕｒｍ．ｆ．）、コウトウイヌビワ（Ｆｉｃｕｓ  ｂｅｎｇｕｅｔｅｎｓｉｓ）、ムクイヌビワ（Ｆｉｃｕｓ  ｉｒｉｓａｎａ）、ガジュマル（Ｆｉｃｕｓ  ｍｉｃｒｏｃａｒｐａ）、オオバイヌビワ（Ｆｉｃｕｓ  ｓｅｐｔｉｃａ）、ベンガルボダイジュ（Ｆｉｃｕｓ  ｂｅｎｇｈａｌｅｎｓｉｓ）等のＦｉｃｕｓ属；
グアユール（Ｐａｒｔｈｅｎｉｕｍ  ａｒｇｅｎｔａｔｕｍ）、アメリカブクリョウサイ（Ｐａｒｔｈｅｎｉｕｍ  ｈｙｓｔｅｒｏｐｈｏｒｕｓ）等のＰａｒｔｈｅｎｉｕｍ属；
トゲシチャ（Ｌａｃｔｕｃａ  ｓｅｒｒｉｏｌａ）等のＬｅｃｔｕｃａ属等が挙げられる。
【０１１５】
なかでも、好ましいラテックス産生植物は、Ｈｅｖｅａ属、Ｓｏｎｃｈｕｓ属、Ｔａｒａｘａｃｕｍ属、及びＰａｒｈｅｎｉｕｍ属からなる群より選択される少なくとも１種の属に属する植物であり、より好ましくは、パラゴムノキ、ノゲシ、グアユール、及びロシアンタンポポからなる群より選択される少なくとも１種である。
【０１１６】
本発明のラテックス産生植物への処理方法、ラテックス増産方法及びＴＰＤ緩和方法において、前記ラテックス増産剤及びＴＰＤ緩和剤をラテックス産生植物に付着させる方法としては、ラテックス増産剤及びＴＰＤ緩和剤を幹に直接付着させることができる方法であれば、特に限定はなく、例えば、有効成分を水溶性媒体（例えば、水、エタノール等のアルコール等）に希釈させたラテックス増産剤を、刷毛等を用いて直接幹等に塗布してもよく、スプレー等を用いて噴霧又は散布してもよい。例えば、ゴムノキの場合、ゴムノキの幹にナイフ等を用いて溝状に傷をつけた（タッピング）後、その傷つけられた箇所に刷毛等で塗布することができる。
【０１１７】
また、植物へのラテックス産生植物用処理剤、ラテックス増産剤及びＴＰＤ緩和剤の付着量は、乳管形成促進効果が得られる量であれば、特に限定されるものではなく、ラテックス増産剤及びＴＰＤ緩和剤の有効成分の種類又は濃度、付着方法、植物の樹齢又は種類等を考慮して適宜決定することができる。
【実施例】
【０１１８】
以下、製剤例及び試験例により、本発明を具体的に説明するが、本発明の技術的範囲はこれらの例示に限定されるものではない。【０１１９】
（製剤例１）
製剤Ａ：ニトロフェノール化合物水溶液原液
下記試験には、ニトロフェノール化合物水溶液原液として、ＡＴＯＮＩＫ  ６Ｌ（旭化学工業株式会社製）を用いた。なお、本原液中には、４−ニトロフェノールナトリウム塩が０．３質量部、２−ニトロフェノールナトリウム塩が０．２質量部、５−ニトログアイアコールナトリウム塩が０．１質量部、及び水が９９．４質量部含有されている。これを以下「製剤Ａ」という。【０１２０】
［試験例  その１］
本試験は、インドネシア共和国ＳａｌａｔｉｇａにあるＧｅｔａｓゴム研究所の試験圃場にて実施した。本圃場の内、パラゴムノキ（Ｈｅｖｅａ  ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）の５種の品種（それぞれＰＢ２１７、ＰＢ２６０、ＢＰＭ１、ＢＰＭ２４、及びＲＲＩＣ１００という品種名）を定植した区画を試験区として用いた。なお、試験区におけるゴムノキの株間は縦横４ｍ間隔で、樹齢としては１０年であった。各品種の区画より処理条件毎に無作為に５株を選抜し、試験に用いた。試験は、それぞれの処理条件につき計２５株の調査株で行い、これらに対して薬剤処理及び各種調査を実施した。試験期間は、２０１８年１１月２０日より開始し、２０１９年４月１８日までとした。【０１２１】
薬剤処理の方法としては、処理直前に付着した残渣を取り除いた後、ゴムの木のタッピング箇所に対し、製剤Ａの希釈水溶液を、刷毛を用いて２ｃｍ幅で、１ｍＬ／株となるよう塗布した。この際に、製剤Ａを８倍、４倍、２．６７倍、及び２倍に水で希釈したものを用いた処理区を、それぞれ処理区Ａ、処理区Ｂ、処理区Ｃ、及び処理区Ｄとした。さらに、何も処理を行わない対照区を設けた（下記表１）。本処理は、２週間に一度の頻度で試験期間中継続して実施した。具体的には１１月２３日、１２月６日、１２月２０日、１月７日、１月２１日、及び２月４日において、合計６回の処理を行った。【０１２２】
【表１】
0006856842.tif 000018
【０１２３】
［調査１：ラテックス溶出量］
調査株については、１１月２６日から翌年３月２７日までの期間、４日間隔を目安としてタッピング及びラテックスの採取を行った。具体的には、１１月２６日、１１月３０日、１２月４日、１２月１０日、１２月１４日、１２月１９日、１２月２６日、１２月３１日、１月５日、１月１０日、１月１５日、１月１９日、１月２４日、１月２９日、２月２日、２月８日、２月１３日、２月１８日、２月２２日、２月２７日、３月４日、３月９日、３月１４日、３月１９日、３月２３日、及び３月２７日の合計２６回実施した。なお、タッピングは午前７時ごろに実施し、同日午後１時頃にラテックスの採取を行った。各試験区より試験期間中に得られた各試験区のラテックス溶出量合計（２５株合計量）及び対照区との比を下記表２及び図１に示す。【０１２４】
【表２】
0006856842.tif 000019
【０１２５】
＜結果＞
その結果、いずれの処理条件（Ａ区〜Ｄ区、実施例１〜４）においても、無処理区（対照区、比較例１）よりもラテックスの溶出量が多かった。【０１２６】
［調査２：ラテックス乾燥質量］
採取されたラテックスについては、各品種５株の合計体積を計量した後、４日間±２時間、１００〜１０５℃の条件にて乾燥を行った。そして乾燥後におけるラテックスの質量を計測し、ラテックス中に含まれる溶解成分の含有量の確認を品種（５株）毎に行い、それらの平均値を算出した。なお、これらの体積及び質量の測定は、上記のラテックス採取毎に実施した。各試験区より試験期間中に得られたラテックスの乾燥質量合計（５株相当量）及び対照区との比を下記表３及び図２に示す。【０１２７】
【表３】
0006856842.tif 000020
【０１２８】
＜結果＞
その結果、いずれの処理条件（Ａ区〜Ｄ区、実施例５〜８）においても、無処理区（対照区、比較例２）よりもラテックスの乾燥質量が多かった。【０１２９】
［調査３：タッピングパネルドライネス症状］
これらの株のタッピング箇所について、４月１８日に、タッピングパネルドライネスの症状を目視にて確認した。すなわち、タッピングパネルからラテックスが溶出する様子を観察し、タッピング箇所全体の長さに対して、ラテックスが溶出しないタッピングパネルドライネス症状を呈した箇所の長さの割合を目視にて評価し、その平均値を算出した。結果を下記表４及び図３に示す。【０１３０】
【表４】
0006856842.tif 000021
【０１３１】
＜結果＞
その結果、いずれの処理条件（Ａ区〜Ｄ区、実施例９〜１２）においても、無処理区（対照区、比較例３）よりもタッピングパネルドライネスの症状が軽微であった。すなわち、本処理によってタッピングパネルドライネス症状の緩和がもたらされたといえる。【０１３２】
［試験例  その２］
本試験は、インドネシア共和国ＳａｌａｔｉｇａにあるＧｅｔａｓゴム研究所の試験圃場にて実施した。本圃場の内、パラゴムノキ（Ｈｅｖｅａ  ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）の品種ＴＲ３７０２を定植した区画を試験区として用いた。なお、試験区におけるゴムノキの株間は縦横４ｍ間隔で、樹齢としては１１年であった。処理条件毎に無作為に３株を選抜し、これらに対して薬剤処理及び各種調査を実施した。試験期間は、２０１９年１０月１７日より開始し、２０２０年２月１日までとした。【０１３３】
薬剤処理の方法としては、製剤Ａ又はエスレル１０ＰＡ（ＢＡＹＡＲ  Ｉｎｄｏｎｅｓｉａ株式会社製、エテホンを１０％含有）を下記表５の割合で含有する水溶液を調製し、処理直前に付着した残渣を取り除いた後、それぞれの試験区のゴムノキのタッピング箇所に、調製した各水溶液を、刷毛を用いて２ｃｍ幅で塗布した。本処理は、２週間に一度の頻度で試験期間中継続して実施した。具体的には、１０月１７日、１１月４日、１１月２１日、１２月９日、１２月２６日、及び１月１３日において、合計６回の処理を行った。【０１３４】
【表５】
0006856842.tif 000022
【０１３５】
［調査３：ラテックス溶出量］
調査株については、１０月１９日から翌年２月１日までの期間、２から４日間隔を目安としてタッピング及びラテックスの採取を行った。具体的には、１０月１９日、１０月２３日、１０月２６日、１０月３０日、１１月２日、１１月６日、１１月９日、１１月１３日、１１月１６日、１１月２０日、１１月２３日、１１月２７日、１１月３０日、１２月４日、１２月７日、１２月１１日、１２月１４日、１２月１８日、１２月２１日、１２月２３日、１２月２８日、１２月３１日、１月４日、１月８日、１月１１日、１月１５日、１月１８日、１月２２日、１月２４日、１月２９日、及び２月１日の合計３１回実施した。なお、タッピングは午前６時ごろに実施し、３から４日後の午前１１時頃にラテックスの採取を行った。各試験区より試験期間中に得られた各試験区の株あたりのラテックス溶出量平均値の合計及び対照区との比を下記表６及び図４に示す。【０１３６】
【表６】
0006856842.tif 000023
【０１３７】
＜結果＞
その結果、いずれの処理条件（Ｅ区〜Ｆ区）においても、無処理区（対照区、比較例４）よりもラテックスの溶出量が多く、かつ、ニトロフェノールとエテホンとの混用を行った条件（Ｇ区、実施例１４）が最も溶出量が多く、理論上の対照区比（１００×（１．２４６ × １．６８２）＝２０９．６％）を上回る結果となった。これより、ニトロフェノールとエテホンとを組み合わせて用いることで、ラテックスの溶出量が相乗的に増加したといえる（ニトロフェノールとエテホンとの混用による相乗効果が認められた）。【０１３８】
［調査４：ラテックス乾燥質量］
採取されたラテックスについては、合計体積を計量した後、４日間±２時間、１００〜１０５℃の条件にて乾燥を行った。そして乾燥後におけるラテックスの質量を計測し、ラテックス中に含まれる溶解成分の含有量の確認を行った。なお、これらの体積及び質量の測定は、上記のラテックス採取毎に実施した。各試験区より試験期間中に得られたラテックスの乾燥質量合計及び対照区との比を下記表７及び図５に示す。【０１３９】
【表７】
0006856842.tif 000024
【０１４０】
＜結果＞
その結果、いずれの処理条件（Ｅ区〜Ｆ区）においても、無処理区（対照区、比較例４）よりもラテックスの乾燥質量が多く、かつ、ニトロフェノールとエテホンとの混用を行った条件（Ｇ区、実施例１４）が最も乾燥質量が多く、理論上の対照区比（１００×（１．３３０ × １．５３０）＝２０３．５％）を上回る結果となった。これより、ニトロフェノールとエテホンとを組み合わせて用いることで、ラテックスの乾燥質量が相乗的に増加したといえる（ニトロフェノールとエテホンとの混用による相乗効果が認められた）。
【要約】
本発明は、新規なラテックス産生植物用処理剤の提供を目的とする。
本発明は、ニトロフェノール化合物又はその塩を含有するラテックス産生植物用処理剤、ニトロフェノール化合物又はその塩を、ラテックス産生植物に付着させる工程を有することを特徴とするラテックス産生植物への処理方法、ラテックス産生植物に処理するための、ニトロフェノール化合物又はその塩の使用方法等に関する。【図１】
0006856842.tif 000027
【図２】
0006856842.tif 000028
【図３】
0006856842.tif 000029
【図４】
0006856842.tif 000030
【図５】
0006856842.tif 000031