(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面を有するベース部材と、
前記ベース部材の前記主面上に搭載された半導体素子と、
前記ベース部材を囲む側壁を有するケースとを備え、
前記側壁において前記ベース部材側の内周面には支持部が形成され、さらに、
前記ベース部材の前記主面に対して垂直な方向から見て、前記半導体素子と重なる位置に配置され、電子部品が搭載された配線基板を備え、
前記支持部の少なくとも一部は、前記配線基板の前記半導体素子側に位置する面において、前記配線基板の外周端より内側に位置する接触領域に接触し、前記接触領域より内側には、前記配線基板と電気的に接続する内部接続端子が配置され、さらに、
前記ケースの内部に配置され、前記半導体素子と前記配線基板とを封止する封止部材と、
前記配線基板において、前記接触領域より前記外周端側の領域に接続されるとともに、前記封止部材の表面から突出する端部を含む端子部材とを備え、
前記支持部の少なくとも一部は、前記配線基板において前記端子部材が接続された領域に面する凹形状部を含む、半導体装置。
【請求項２】
主面を有するベース部材と、
前記ベース部材の前記主面上に搭載された半導体素子と、
前記ベース部材を囲む側壁を有するケースとを備え、
前記側壁において前記ベース部材側の内周面には支持部が形成され、さらに、
前記ベース部材の前記主面に対して垂直な方向から見て、前記半導体素子と重なる位置に配置され、電子部品が搭載された配線基板を備え、
前記支持部の少なくとも一部は、前記配線基板の前記半導体素子側に位置する面において、前記配線基板の外周端より内側に位置する接触領域に接触し、さらに、
前記ケースの内部に配置され、前記半導体素子と前記配線基板とを封止する封止部材と、
前記配線基板において、前記接触領域より前記外周端側の領域に接続されるとともに、前記封止部材の表面から突出する端部を含む端子部材とを備え、
前記支持部の少なくとも一部は、前記配線基板において前記端子部材が接続された領域に面する凹形状部を含む、半導体装置。
【請求項３】
前記封止部材の水蒸気透過度より、前記配線基板および前記ケースを構成する材料の水蒸気透過度は小さい、請求項１または請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記ベース部材は、前記半導体素子が接続される導体層を含み、
前記配線基板において前記電子部品が搭載された面のサイズは、前記導体層のサイズより大きい、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記配線基板には封止部材注入口が形成され、
前記ベース部材の前記主面に対して垂直な前記方向から見て、前記封止部材注入口は、前記ケースと重なる位置に形成されている、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記配線基板には封止部材注入口が形成され、
前記ベース部材の前記主面に対して垂直な前記方向から見て、前記封止部材注入口は、前記半導体素子と重ならない位置に形成されている、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記配線基板は、第１基板と、第２基板とを含み、
前記ベース部材の前記主面に対して垂直な前記方向から見て、前記第１基板の一部と前記第２基板の一部とは重なっている、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項８】
前記配線基板は、第１基板と、第２基板とを含み、
前記ベース部材の前記主面に対して垂直な前記方向から見て、前記第１基板と前記第２基板とは間隔を隔てて配置されており、
前記方向から見て、前記半導体素子は、前記第１基板と前記第２基板との間の隙間と重ならない位置に配置され、
前記方向から見た、前記隙間と前記半導体素子との間の距離は、前記方向における前記封止部材の厚みより大きい、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項９】
前記ベース部材は放熱層を含み、
前記放熱層を構成する材料は金属である、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項１０】
前記ベース部材に接続された放熱層を備える、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の半導体装置を有し、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、
前記主変換回路を制御する制御信号を前記主変換回路に出力する制御回路と、
を備えた電力変換装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、半導体装置および電力変換装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電力変換装置に用いられる半導体装置として、半導体素子上に配線基板が積層配置され、当該半導体素子と配線基板とが封止部材によって封止された半導体装置が知られている（たとえば、特開２００９−８１３２８号公報参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−８１３２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述した従来の半導体装置では、配線基板と外部とを接続するためのリード端子などの端子部材が、配線基板から封止部材の外側にまで延びるように配置されている。この場合、端子部材と封止部材との界面に沿って外部環境から水分が半導体装置の内部に侵入する可能性がある。このように半導体装置の内部に水分が侵入すると、当該水分によって半導体素子の劣化または破損が発生し、半導体装置の信頼性が低下する恐れがある。【０００５】
本開示は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、信頼性の高い半導体装置および電力変換装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示に従った半導体装置は、ベース部材と、半導体素子と、ケースと、配線基板と、封止部材と、端子部材とを備える。ベース部材は主面を有する。半導体素子は、ベース部材の主面上に搭載される。ケースは、ベース部材を囲む側壁を有する。側壁においてベース部材側の内周面には支持部が形成される。配線基板は、ベース部材の主面に対して垂直な方向から見て、半導体素子と重なる位置に配置される。配線基板には電子部品が搭載される。支持部の少なくとも一部は、配線基板の半導体素子側に位置する面において、配線基板の外周端より内側に位置する接触領域に接触する。封止部材は、ケースの内部に配置される。封止部材は、半導体素子と配線基板とを封止する。端子部材は、配線基板において、接触領域より外周端側の領域に接続される。端子部材は、封止部材の表面から突出する端部を含む。【０００７】
本開示に従った電力変換装置は、主変換回路と制御回路とを備える。主変換回路は、上記半導体装置を有し、入力される電力を変換して出力する。制御回路は、主変換回路を制御する制御信号を主変換回路に出力する。
【発明の効果】
【０００８】
上記によれば、信頼性の高い半導体装置および電力変換装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施の形態１に係る半導体装置の平面模式図である。
【図２】図１の線分ＩＩ−ＩＩにおける断面模式図である。
【図３】図１の線分ＩＩＩ−ＩＩＩにおける断面模式図である。
【図４】実施の形態１に係る半導体装置の変形例を示す平面模式図である。
【図５】実施の形態２に係る半導体装置の平面模式図である。
【図６】図５に示した半導体装置における封止部材注入口と絶縁部材との位置関係を示す平面模式図である。
【図７】図５の線分ＶＩＩ−ＶＩＩにおける断面模式図である。
【図８】実施の形態３に係る半導体装置の平面模式図である。
【図９】図８に示した半導体装置における封止部材注入口と半導体素子との位置関係を示す平面模式図である。
【図１０】実施の形態４に係る半導体装置の平面模式図である。
【図１１】図１０の線分ＸＩ−ＸＩにおける断面模式図である。
【図１２】実施の形態４に係る半導体装置の第１変形例を示す断面模式図である。
【図１３】実施の形態４に係る半導体装置の第２変形例を示す平面模式図である。
【図１４】実施の形態５に係る半導体装置の平面模式図である。
【図１５】図１４の線分ＸＶ−ＸＶにおける断面模式図である。
【図１６】図１４の線分ＸＶＩ−ＸＶＩにおける断面模式図である。
【図１７】実施の形態６に係る電力変換装置を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本開示の実施の形態を説明する。なお、同一の構成には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。また、以下の図は模式的なものであり、図示された構成要素の正確な大きさを反映していない場合がある。
【００１１】
実施の形態１．
＜半導体装置の構成＞
図１は、実施の形態１に係る半導体装置の平面模式図である。図２は、図１の線分ＩＩ−ＩＩにおける断面模式図である。図３は、図１の線分ＩＩＩ−ＩＩＩにおける断面模式図である。図１から図３に示す半導体装置は、ベース部材３と、半導体素子４と、ケース６と、配線基板１１と、封止部材１４と、端子部材９とを主に備える。
【００１２】
ベース部材３は、放熱層１と、絶縁層２５と、導電体層２４とを含む。たとえばアルミニウムまたは銅などからなる放熱層１上に、絶縁層２５が積層配置されている。絶縁層２５上に、上部電極としての導電体層２４が配置されている。導電体層２４の上部表面がベース部材３の主面３ａを構成する。絶縁層２５は放熱層１の上部表面を覆うように形成されている。なお、絶縁層２５は放熱層１と導電体層２４との間を絶縁できればよく、放熱層１の上部表面の一部のみに形成されていてもよい。導電体層２４は絶縁層２５の上部表面の一部を覆うように形成されている。ベース部材３の平面形状は四角形状である。なお、ベース部材３の平面形状は四角形状以外の多角形状であってもよく、円形状であってもよい。
【００１３】
絶縁層２５の材料は特に限定されないが、微粒子およびフィラーの少なくとも１つが分散された樹脂材料であってもよい。微粒子およびフィラーの少なくとも１つは、例えば、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）、二酸化珪素（ＳｉＯ2）、窒化ホウ素（ＢＮ）、ダイヤモンド（Ｃ）、炭化珪素（ＳｉＣ）または酸化ホウ素（Ｂ2Ｏ3）のような無機セラミックス材料で形成されてもよい。上記微粒子およびフィラーの少なくとも１つは、シリコーン樹脂またはアクリル樹脂のような樹脂材料で形成されてもよい。微粒子およびフィラーの少なくとも１つが分散された樹脂材料は、電気的絶縁性を有する。微粒子およびフィラーの少なくとも１つが分散される樹脂材料は、特に限定されないが、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂またはアクリル樹脂であってもよい。
【００１４】
半導体素子４は、ベース部材３の導電体層２４の上部表面である主面３ａ上に搭載される。ベース部材３の主面３ａ上には複数の半導体素子４が搭載されている。半導体素子４は、絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ（ＩＧＢＴ）または金属酸化物半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）のようなパワー半導体素子であってもよいし、還流ダイオードのようなダイオードであってもよい。半導体素子４を構成する材料は、シリコン（Ｓｉ）であってもよいし、炭化珪素（ＳｉＣ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）もしくはダイヤモンドなどのワイドバンドギャップ半導体材料であってもよい。半導体装置の使用される用途に応じて、必要な個数の半導体素子４が導電体層２４に固定される。複数の半導体素子４において、同じ種類の半導体素子４が含まれていてもよいし、異なる種類の半導体素子４が含まれていてもよい。複数の半導体素子４を構成する材料について、当該材料が半導体素子４ごとに異なっていてもよいし、同じであってもよい。
【００１５】
半導体素子４は導電体層２４とはんだなどからなる接合材２によって接合される。接合材２としては、上述したはんだ以外に任意の導電性材料を用いることができるが、たとえば銀または銀合金を用いてもよい。
【００１６】
ケース６は、ベース部材３の外周を囲むように配置される。ケース６はベース部材３の外周部に接続されている。ケース６はベース部材３を囲み、ベース部材３の主面３ａと交差する方向に伸びる側壁６１を有する。側壁６１においてベース部材３と接続された下側と反対側に位置する上側には、開口部が形成されている。開口部のサイズはベース部材３のサイズより大きくてもよい。開口部の平面形状はベース部材３の平面形状と同じであってもよい。側壁６１の下側では、ケース６の一部がベース部材３の外周部を覆うように、ベース部材３と接続されている。具体的には、ケース６の一部がベース部材３の絶縁層２５の外周部と接続されている。また、ケース６の一部はベース部材３の絶縁層２５および放熱層１の外周端面と接続されている。ケース６とベース部材３とは接着剤などによって固定されていてもよいが、ネジなど他の手段によって固定されていてもよい。
【００１７】
側壁６１においてベース部材３側の内周面６１ａには支持部１５が形成される。ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向において、支持部１５は半導体素子４と間隔を隔てて配置されている。図１から図３に示した半導体装置では、側壁６１のうち対向する１組の側壁にそれぞれ支持部１５が形成されている。支持部１５は半導体素子４を少なくとも２方向から囲むように形成されることが好ましい。好ましくは、支持部１５は半導体素子４を３方向から囲むように形成される。より好ましくは、支持部１５は半導体素子４の周囲を全方向から囲むように形成される。ケース６を構成する材料は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、またはポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂のような電気的絶縁性を有する樹脂を用いてもよい。
【００１８】
配線基板１１は、ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見て、半導体素子４と重なる位置に配置される。つまり、配線基板１１は、ベース部材３の上であって、半導体素子４と間隔を隔てて配置されている。配線基板１１には電子部品１０が搭載される。配線基板１１の半導体素子４側に位置する面１１ａおよび当該面１１ａと反対側に位置する上面にはそれぞれ電子部品１０が配置されている。また、配線基板１１には上面から面１１ａに達するスルーホール１２が形成されている。配線基板１１には当該スルーホール１２が複数個形成されている。スルーホール１２の直径はたとえば１ｍｍ以下である。この場合、スルーホール１２の内部が封止部材１４によって充填されていない場合であっても、配線基板１１が水分などの半導体素子４への到達を抑制する効果に大きな影響はない。配線基板１１の面１１ａはベース部材３の主面３ａと並行になるように、配線基板１１は支持部１５によって支持されている。配線基板１１において電子部品１０が搭載された面１１ｃのサイズは、導電体層２４のサイズより大きくてもよい。
【００１９】
配線基板１１には端子部材９が接続されている。端子部材９の根元部は配線基板１１の外周部に接続されている。端子部材９はケース６の側壁６１に近い位置に配置されることが好ましい。端子部材９の端部９ａは封止部材１４の上部表面から突出するように配置されている。配線基板１１には内部接続端子８が接続されている。内部接続端子８は、図１および図３に示すように端子部材９よりケース６の側壁６１から離れた内側において、配線基板１１と接続されている。内部接続端子８と配線基板１１とは、たとえばはんだなどの接合材によって電気的に接続される。また、端子部材９と配線基板１１ともはんだなどの接合材によって電気的に接続される。内部接続端子８と配線基板１１との接続部、および端子部材９と配線基板１１との接続部を、それぞれ樹脂で覆うことで、上記接合材を保護してもよい。内部接続端子８において配線基板１１と接続された上方端部と反対側の下方端部は、ケース６に固定されている。内部接続端子８の下方端部は、ケース６においてベース部材３の外周部を覆う部分に固定されている。
【００２０】
配線基板１１の面１１ａの外周部が支持部１５と接触することで、配線基板１１はケース６に支持されている。支持部１５の上側の表面である支持面１５ｃは、配線基板１１の面１１ａの外周部に接触している。配線基板１１において端子部材９が接続された領域下に配置される支持部１５は、端子部材９および配線基板１１の外周部から離れて側壁６１の内周面６１ａから伸びる延在部と、当該延在部の先端から配線基板１１側に伸びる接触部とを含む。接触部の上端面は支持面１５ｃである。支持面１５ｃは配線基板１１の面１１ａに接触している。支持部１５の支持面１５ｃが接触する配線基板１１の領域は接触領域１１ａａである。つまり、支持部１５の少なくとも一部は、配線基板１１の半導体素子４側に位置する面１１ａにおいて、配線基板１１の外周端１１ｂより内側に位置する接触領域１１ａａに接触する。言い換えれば、端子部材９は、配線基板１１において、接触領域１１ａａより外周端１１ｂ側の領域に接続される。この結果、端子部材９は支持部１５によって受け止められた状態となる。端子部材９の真下に位置する支持部１５の断面形状は、図３に示すようにＬ字状であってもよい。
【００２１】
端子部材９下に位置する支持部１５には、端子部材９が接続された配線基板１１の領域に面する凹形状部１５ｂが形成されている。この結果、端子部材９が接続された配線基板１１の外周部が、支持部１５によって半導体素子４側の領域から区画されている。
【００２２】
支持部１５は、配線基板１１の外周部のなるべく多くの部分と接触していることが好ましい。たとえば、支持部１５はケース６の側壁６１の内周面６１ａの全周に形成されていてもよい。支持部１５は、図１に示すように、少なくとも対向する２つの側壁６１に形成されていることが好ましい。
【００２３】
なお、図３では端子部材９の下部が配線基板１１を貫通しているが、当該端子部材９が配線基板１１を貫通せずに配線基板１１と接続されている場合、端子部材９の真下に支持部１５が配置されていればよい。たとえば、端子部材９の真下に位置する領域で支持部１５が配線基板１１の面１１ａと接触していてもよい。端子部材９が配線基板１１を貫通しているが、当該配線基板１１の面１１ａからの端子部材９の突出量が相対的に小さい場合、たとえば支持部１５の支持面１５ｃに凹部を形成しておき、当該凹部に端子部材９の端部を受け入れてもよい。図３に示した半導体装置におけるケース６は、配線基板１１と端子部材９との配置に応じて左右非対称な形状の支持部１５を含んでいるが、支持部１５の形状を図３における左右対称な形状としてもよい。
【００２４】
半導体素子４の１つは導電ワイヤ５によって内部接続端子８と電気的に接続されている。また、ケース６には外部接続端子７が埋設されている。外部接続端子７の下部はベース部材３と重なる領域においてケース６の表面に露出している。外部接続端子７の上部はケース６の側壁６１の頂面から突出している。半導体素子４が固定された導電体層２４と外部接続端子７の下部とが導電ワイヤ５によって接続されている。半導体素子４は導電ワイヤ５によって外部接続端子７と電気的に接続されている。導電ワイヤ５の材料は、特に限定されないが、銅またはアルミニウムなどの金属材料を用いることができる。
【００２５】
封止部材１４は、ケース６の内部に配置される。封止部材１４は、ベース部材３の導電体層２４と、半導体素子４と、配線基板１１と、電子部品１０と、内部接続端子８と、導電ワイヤ５とを封止する。封止部材１４は電気絶縁性を有し、封止した上記部材間を絶縁する。封止部材１４の厚みＴ１は、半導体素子４および配線基板１１に実装された電子部品１０の両方を埋設した状態とすることができる十分な大きさとなっている。
【００２６】
上記半導体装置において、封止部材１４の水蒸気透過度より、配線基板１１およびケース６を構成する材料の水蒸気透過度は小さくなっていてもよい。この場合、配線基板１１およびケース６によって半導体素子４が配置された領域が囲まれることになるため、半導体素子４へ水分などが到達する可能性を低減できる。支持部１５と配線基板１１との接触部がシール部となるため、支持部１５は当該領域を少なくとも２方向から囲むように配置されることが好ましい。なお、水蒸気透過度は、たとえばＪＩＳ規格Ｋ７１２６−１に規定された感湿センサ法により測定される。
【００２７】
封止部材１４の材料としては、エポキシ樹脂を用いることが好ましいが、これに限定されるものではなく、例えば、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂またはアクリル樹脂のような絶縁性樹脂を用いてもよい。封止部材１４を構成する材料は、封止部材１４の強度及び熱伝導性を向上させる微粒子またはフィラーが分散された絶縁性樹脂材料であってもよい。封止部材１４の強度及び熱伝導性を向上させる微粒子またはフィラーは、例えば、二酸化珪素（ＳｉＯ2）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）、ダイヤモンド（Ｃ）、炭化珪素（ＳｉＣ）または酸化ホウ素（Ｂ2Ｏ3）のような無機セラミックス材料で形成されてもよい。
【００２８】
＜半導体装置の製造方法＞
図１から図３に示した半導体装置の製造方法を説明する。
【００２９】
まず、半導体装置を構成する部材を準備する工程（Ｓ１０）を実施する。この工程（Ｓ１０）では、ベース部材３、半導体素子４、ケース６、電子部品１０が実装された配線基板１１、封止部材１４など半導体装置を構成する部材が準備される。
【００３０】
次に、ベース部材３に半導体素子４を接合する工程（Ｓ２０）を実施する。この工程（Ｓ２０）では、ベース部材３上へ接合材２としてのはんだおよび半導体素子４を配置する。その後、リフロー加熱によってはんだを溶融させた後凝固させることにより、半導体素子４をベース部材３に接合する。
【００３１】
次に、ケース６をベース部材３に接合する工程（Ｓ３０）を実施する。この工程（Ｓ３０）では、半導体素子４がはんだ付けされたベース部材３の外周部に接着剤（図示せず）を均一に塗布する。当該接着剤を塗布した部分にケース６を接触させ、ケース６とベース部材３とを接着する。ここで、ケース６は図１および図３に示すように外部接続端子７および内部接続端子８を含む。外部接続端子７は、ケース６の中を通って、半導体装置の外部に引き出されている。内部接続端子８は、図３に示すようにケース６の下部から上方に向けて（側壁６１に沿って）延びるように配置されている。
【００３２】
次に、回路を形成する工程（Ｓ４０）を実施する。この工程（Ｓ４０）では、半導体素子４、ベース部材３の導電体層２４、外部接続端子７、内部接続端子８等を、導電ワイヤ５を用いて電気的に接続することで、回路を形成する。
【００３３】
次に、配線基板１１を配置する工程（Ｓ５０）を実施する。この工程（Ｓ５０）では、ケース６の側壁６１に形成された支持部１５の支持面１５ｃと配線基板１１の下側の面１１ａの外周部とが接触するように、配線基板１１をケース６の内部に配置する。配線基板１１と内部接続端子８の先端部とが接合可能な位置に、配線基板１１は配置されている。このとき、支持面１５ｃと配線基板１１との接触面積はできるだけ広い方が好ましい。配線基板１１の外周部の全周において支持面１５ｃと接触することが好ましい。なお、少なくとも図１および図３に示すように配線基板１１の外周部における対向する２つの辺において、支持面１５ｃと配線基板１１とが接触することが好ましい。
【００３４】
次に、はんだ付け工程（Ｓ６０）を実施する。この工程（Ｓ６０）では、外部接続用の端子部材９の下部を配線基板１１と接合する位置に配置する。そして、配線基板１１と内部接続端子８とをはんだ付けすることで電気的に接続する。また、配線基板１１と端子部材９とをはんだ付けすることで電気的に接続する。
【００３５】
次に、封止工程（Ｓ７０）を実施する。この工程（Ｓ７０）では、配線基板１１が支持部１５により支持されていない箇所から、配線基板１１下の領域に封止部材１４としての封止樹脂を注入する。さらに、配線基板１１の電子部品１０をすべて埋め込むように封止部材１４をケース６の内部に注入する。この結果、封止部材１４は、はんだなどの接合材２と、導電体層２４と、半導体素子４と、導電ワイヤ５と、内部接続端子８と、電子部品１０と、配線基板１１と、ケース６の側壁６１の内周面６１ａに形成された支持部１５と、当該支持部１５と配線基板１１との接続部とを埋め込むように配置されている。この結果、図１から図３に示す半導体装置を得ることができる。
【００３６】
＜作用効果＞
本開示に従った半導体装置は、ベース部材３と、半導体素子４と、ケース６と、配線基板１１と、封止部材１４と、端子部材９とを備える。ベース部材３は主面３ａを有する。半導体素子４は、ベース部材３の主面３ａ上に搭載される。ケース６は、ベース部材３を囲む側壁６１を有する。側壁６１においてベース部材３側の内周面６１ａには支持部１５が形成される。配線基板１１は、ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見て、半導体素子４と重なる位置に配置される。配線基板１１には電子部品１０が搭載される。支持部１５の少なくとも一部は、配線基板１１の半導体素子４側に位置する面１１ａにおいて、配線基板１１の外周端１１ｂより内側に位置する接触領域１１ａａに接触する。封止部材１４は、ケース６の内部に配置される。封止部材１４は、半導体素子４と配線基板１１とを封止する。端子部材９は、配線基板１１において、接触領域１１ａａより外周端１１ｂ側の領域に接続される。端子部材９は、封止部材１４の表面から突出する端部９ａを含む。
【００３７】
このようにすれば、半導体素子４上では封止部材１４に封止された配線基板１１が配置されるため、当該配線基板１１が存在しない場合よりも、封止部材１４の表面から半導体素子４まで、外部から水分や硫黄ガスなどの物質が侵入する経路長を長くすることができる。また、配線基板１１において支持部１５が接触する接触領域１１ａａより外周側に端子部材９が接続されているので、半導体素子４の近くから封止部材１４の外部まで端子部材９が伸びているような場合より、端子部材９と封止部材１４との接触界面を介して外部から水分などの物質が半導体素子４に到達する可能性を低減できる。
【００３８】
ここで、当該端子部材９と封止部材１４との接触界面を介して、外部から水分などの物質が配線基板１１の外周部に到達する場合を考える。この場合、当該外周部と半導体素子４との間では、支持部１５が配線基板１１の接触領域１１ａａと接触しているので、配線基板１１および支持部１５と封止部材１４との接触界面が形成される。当該接触界面は配線基板１１の外周部に到達した水分などの物質をトラップし、結果的に半導体素子４に水分などの物質が到達する可能性を低減できる。この結果、半導体装置の信頼性を向上させることができる。
【００３９】
上記半導体装置において、封止部材１４の水蒸気透過度より、配線基板１１およびケース６を構成する材料の水蒸気透過度は小さくてもよい。
【００４０】
この場合、相対的に水蒸気透過度の小さい配線基板１１が封止部材１４の内部において半導体素子４上に埋設された状態となっているので、封止部材１４の上部表面から半導体素子４に向けて外部から水が浸入する場合に当該配線基板１１が当該水の浸入を阻止する部材、あるいは水の侵入経路長を長くする部材として作用する。このため、半導体素子４への水などの物質が到達する可能性を低減できる。
【００４１】
上記半導体装置において、ベース部材３は、半導体素子４が接続される導電体層２４を含んでいてもよい。配線基板１１において電子部品１０が搭載された面１１ｃのサイズは、導電体層２４のサイズより大きくてもよい。
【００４２】
この場合、封止部材１４中に配置された配線基板１１により、封止部材１４の上部表面から水などの物質の侵入経路長を十分に長くすることができる。
【００４３】
上記半導体装置において、支持部１５の少なくとも一部は、配線基板１１において端子部材９が接続された領域に面する凹形状部１５ｂを含んでもよい。この場合、支持部１５の凹形状部１５ｂにより配線基板１１において端子部材９が接続された領域を囲むようなシール部を形成できる。このため、端子部材９と封止部材１４との接合界面を介して水などの物質が半導体素子４側に侵入することを上記シール部によって抑制できる。
【００４４】
上記半導体装置において、ベース部材３は、放熱層１を含んでもよい。放熱層１を構成する材料は金属であってもよい。たとえば、上記半導体装置において、ベース部材３は、導電体層２４と放熱層１とを含んでもよい。導電体層２４には半導体素子４が接続されている。放熱層１は、絶縁層２５を介して導電体層２４と接続される。放熱層１を構成する材料は金属であってもよい。
【００４５】
この場合、ベース部材３が放熱層１を含むことで、ベース部材３に対して別部材として放熱層を接続する場合より、半導体装置の構成を簡略化できる。
【００４６】
上記半導体装置では、配線基板１１の外周部の少なくとも２方向において、支持部１５が配線基板１１に接触していてもよい。この場合、当該支持部１５と配線基板１１との接触部がシール部として作用し、封止部材１４の上部表面から半導体素子４に水などの物質が侵入する可能性を低減できる。
【００４７】
また、図１および図３に示すように、支持部１５の先端側に位置する支持面端部１５ｃａより内側では、封止部材１４の上部表面に電子部品１０などの部品は露出していないことが好ましい。この場合、支持面端部１５ｃａより内側では封止部材１４の上部表面において電子部品１０と封止部材１４との接続界面が露出していない。したがって、水蒸気及び硫黄ガスのような雰囲気ガスが当該接続界面を介して半導体装置の内部に侵入するといった問題の発生を抑制できる。また、配線基板１１を封止部材１４の内部であって半導体素子４の上方に配置することで、封止部材１４の上部表面から半導体素子４まで形成され得るガスの侵入経路長を長くすることができる。この結果、特別な追加の部材を要することなく、半導体素子４に水分等が到達して不良が発生するといった可能性を低減でき、信頼性の高い半導体装置が得られる。
【００４８】
＜変形例の構成および作用効果＞
図４は、実施の形態１に係る半導体装置の変形例を示す平面模式図である。図４は図１に対応する。図４に示した半導体装置は、基本的には図１から図３に示した半導体装置と同様の構成を備えるが、支持部１５の構成が図１から図３に示した半導体装置と異なっている。具体的には、図４に示した半導体装置では、支持部１５の一部が欠けている切欠き部１５ａが形成されている。切欠き部１５ａから半導体素子４までの距離Ｌ１は、好ましくは封止部材１４の厚みＴ１より大きい。
【００４９】
このような構成によっても、図１から図３に示した半導体装置と同様の効果を得ることができる。また、半導体装置の製造方法において封止部材１４をケース６内部に供給するとき、切欠き部１５ａを介して配線基板１１と半導体素子４との間の領域に封止部材１４を供給できる。また、切欠き部１５ａから半導体素子４までの平面視（ベース部材３の主面３ａに垂直な方向から見た場合）での距離Ｌ１は、封止部材１４の厚みＴ１（図１参照）より大きくなっているので、切欠き部１５ａが形成されたことにより半導体素子４に対し封止部材１４の上部表面から水などの物質が侵入する可能性が増大することを抑制できる。
【００５０】
実施の形態２．
＜半導体装置の構成＞
図５は、実施の形態２に係る半導体装置の平面模式図である。図６は、図５に示した半導体装置における封止部材注入口と絶縁部材との位置関係を示す平面模式図である。図６は、図５において配線基板１１下に位置するベース部材３と半導体素子４と導電ワイヤ５との配置を模式的に示している。図７は、図５の線分ＶＩＩ−ＶＩＩにおける断面模式図である。図５は図１に対応し、図７は図３に対応する。
【００５１】
図５から図７に示した半導体装置は、基本的には図１から図３に示した半導体装置と同様の構成を備えるが、配線基板１１に封止部材注入口１３が形成されている点、および支持部１５の構成が、図１から図３に示した半導体装置と異なっている。なお、ここでは、配線基板１１において裏面である面１１ａから上面まで貫通した穴であって、電子部品を挿入せず、かつ直径が１ｍｍ以上の穴を封止部材注入口１３とする。図５および図６に示す平面視（ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見た場合）において、封止部材注入口１３はケース６と重なる位置に形成されている。より具体的には、配線基板１１における封止部材注入口１３は、ケース６においてベース部材３の外周部上に延在している部分の上部表面であるケース表面６ａと重なる位置に形成されている。つまり、平面視において封止部材注入口１３はベース部材３の導電体層２４と重ならない位置に配置されている。
【００５２】
封止部材注入口１３は導電体層２４から最も遠い箇所に存在することが理想的ではあるが、図６に示す平面視において、少なくとも封止部材注入口１３と導電体層２４との間の距離Ｌ２が、封止部材１４の厚みＴ１（図１参照）以上であることが好ましい。このように、導電体層２４上に封止部材注入口１３がなく、かつ導電体層２４から少なくとも封止部材１４の厚みＴ１以上離れた箇所に封止部材注入口１３が設置されることで、封止部材１４の上部表面から半導体素子４に水蒸気または硫黄ガスのようなガスが到達することを抑制できる。
【００５３】
上述した半導体装置では、配線基板１１において封止部材注入口１３が形成されているので、当該封止部材注入口１３から配線基板１１の下側に封止部材１４を注入できる。したがって、支持部１５が配線基板１１の外周全体と接触するように、配線基板１１の全周を囲むように形成されている。つまり、ケース６の側壁における内周面を周回するように、平面視において環状に支持部１５が形成されている。
【００５４】
＜半導体装置の製造方法＞
図５から図７に示した半導体装置の製造方法は、基本的には図１から図３示した半導体装置の製造方法と同様であるが、配線基板１１の構成および封止工程（Ｓ７０）の内容が図１から図３に示した半導体装置の製造方法と異なっている。具体的には、準備する工程（Ｓ１０）において準備される配線基板１１には、封止部材注入口１３が形成されている。配線基板１１の端部に封止部材注入口１３が形成されていてもよい。その後、図１から図３に示した半導体装置の製造方法における工程（Ｓ２０）から工程（Ｓ６０）を実施する。そして、封止工程（Ｓ７０）において、封止部材注入口１３を介して配線基板１１の下側に封止部材としての樹脂材料などを注入する。このようにして、図５から図７に示した半導体装置を得ることができる。
【００５５】
＜作用効果＞
上記半導体装置において、配線基板１１には封止部材注入口１３が形成されてもよい。ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見て、封止部材注入口１３は、ケース６と重なる位置に形成されていてもよい。
【００５６】
この場合、図１から図３に示した半導体装置と同様の効果に加えて、封止部材注入口１３を介して配線基板１１の下側に封止部材１４を容易に注入できる。また、ベース部材３を構成する導電体層２４と封止部材注入口１３との間の距離Ｌ２を封止部材１４の厚みＴ１より大きくしておくことで、封止部材注入口１３を介して封止部材１４の上部表面から導電体層２４および半導体素子４にまで水分やガスなどの物質が到達する事を抑制できる。
【００５７】
実施の形態３．
＜半導体装置の構成＞
図８は、実施の形態３に係る半導体装置の平面模式図である。図９は、図８に示した半導体装置における封止部材注入口と半導体素子との位置関係を示す平面模式図である。図８は図５に対応し、図９は図６に対応する。図８および図９に示した半導体装置は、基本的には図５から図７に示した半導体装置と同様の構成を備えるが、配線基板１１における封止部材注入口１３に位置が異なっている。具体的には、配線基板１１の中央部に封止部材注入口１３が形成されている。図８および図９に示す平面視（ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見た場合）において、封止部材注入口１３は半導体素子４と重ならない領域に配置されている。
【００５８】
封止部材注入口１３は半導体素子４から最も遠い箇所に存在することが理想的ではあるが、図９に示す平面視において、少なくとも封止部材注入口１３と半導体素子４との間の距離Ｌ３が、封止部材１４の厚みＴ１（図１参照）以上であることが好ましい。このように、半導体素子４上に封止部材注入口１３がなく、かつ半導体素子４から少なくとも封止部材１４の厚みＴ１以上離れた箇所に封止部材注入口１３が設置されることで、封止部材１４の上部表面から封止部材注入口１３を介して半導体素子４に水蒸気または硫黄ガスのようなガスが到達することを抑制できる。
【００５９】
＜半導体装置の製造方法＞
図８および図９に示した半導体装置の製造方法は、基本的には図１から図３示した半導体装置の製造方法と同様であるが、配線基板１１の構成および封止工程（Ｓ７０）の内容が図１から図３に示した半導体装置の製造方法と異なっている。具体的には、準備する工程（Ｓ１０）において準備される配線基板１１の中央部には、封止部材注入口１３が形成されている。その後、図１から図３に示した半導体装置の製造方法における工程（Ｓ２０）から工程（Ｓ６０）を実施する。そして、封止工程（Ｓ７０）において、封止部材注入口１３を介して配線基板１１の下側に封止部材としての樹脂材料などを注入する。このようにして、図８および図９に示した半導体装置を得ることができる。
【００６０】
＜作用効果＞
上記半導体装置において、配線基板１１には封止部材注入口１３が形成されてもよい。ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見て、封止部材注入口１３は、半導体素子４と重ならない位置に形成されていてもよい。
【００６１】
この場合、図１から図３に示した半導体装置と同様の効果に加えて、封止部材注入口１３を介して配線基板１１の下側に封止部材１４を容易に注入できる。また、半導体素子４と封止部材注入口１３との間の距離Ｌ３を封止部材１４の厚みＴ１より大きくしておくことで、封止部材注入口１３を介して封止部材１４の上部表面から半導体素子４にまで水分やガスなどの物質が到達する事を抑制できる。
【００６２】
実施の形態４．
＜半導体装置の構成＞
図１０は、実施の形態４に係る半導体装置の平面模式図である。図１１は、図１０の線分ＸＩ−ＸＩにおける断面模式図である。図１０は図１に対応し、図１１は図３に対応する。図１０および図１１に示した半導体装置は、基本的には図１から図３に示した半導体装置と同様の構成を備えるが、配線基板１１の構成および支持部１５，３０ａ，３０ｂの構成が図１から図３に示した半導体装置と異なっている。すなわち、図１０および図１１に示した半導体装置では、配線基板１１が第１基板２０と第２基板２１との２枚の基板によって構成されている。配線基板１１を複数枚の基板により構成する場合、当該基板の枚数を３枚以上としてもよい。
【００６３】
ケース６の側壁には、支持部１５と、当該支持部１５の側壁表面からの突出方向と交差する方向に突出する追加の支持部３０ａ、３０ｂが形成されている。第１基板２０は図１０の左側の支持部１５と追加の支持部３０ａとにより支持される。第１基板２０に接触する支持部１５と追加の支持部３０ａとは、ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向における高さが実質的に同じになっている。
【００６４】
第２基板２１は、図１０の右側の支持部１５と追加の支持部３０ｂとにより支持される。第２基板２１に接触する支持部１５と追加の支持部３０ｂとは、ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向における高さが実質的に同じになっている。
【００６５】
ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向において、追加の支持部３０ａは追加の支持部３０ｂよりベース部材３から離れた位置に配置される。図１１から分かるように、第１基板２０の端部２０ａは第２基板２１上に距離Ｌ４を隔てて配置される。ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見て、第１基板２０の一部と第２基板２１の一部とは重なっている。距離Ｌ４は、図１０に示す平面視（ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見た場合）での第１基板２０と第２基板２１との重なり部分の幅より小さいことが好ましい。
【００６６】
第１基板２０と第２基板２１との平面形状はそれぞれ四角形状である。ベース部材３の主面３ａに沿った方向であって第１基板２０から第２基板２１に向かう方向を第１方向、当該第１方向と垂直であってかつ主面３ａに沿った方向を第２方向とした場合、第１基板２０では、第１方向での幅は第２方向での幅より小さくてもよいし、大きくてもよい。第２基板２１では、第１方向での幅は第２方向での幅より小さくてもよいし大きくてもよい。
【００６７】
＜半導体装置の製造方法＞
図１０および図１１に示した半導体装置の製造方法は、基本的には図１から図３示した半導体装置の製造方法と同様であるが、配線基板１１の構成およびケース６の構成と、配線基板１１を配置する工程（Ｓ５０）の内容が図１から図３に示した半導体装置の製造方法と異なっている。具体的には、準備する工程（Ｓ１０）において準備される配線基板１１が第１基板２０と第２基板２１という２枚の基板である。また、ケース６の側壁には支持部１５に加えて追加の支持部３０ａ、３０ｂが形成されている。その後、図１から図３に示した半導体装置の製造方法における工程（Ｓ２０）から工程（Ｓ４０）を実施する。そして、配線基板１１を配置する工程（Ｓ５０）において、まず第２基板２１の外周部が支持部１５と追加の支持部３０ｂとに接触するように、ケース６内部に第２基板２１を配置する。次に、第１基板２０の外周部が支持部１５と追加の支持部３０ａとに接触するように、ケース６内部に第１基板２０を配置する。このとき、第１基板２０の端部２０ａ側の一部が第２基板２１上に重なるように配置される。第１基板２０と第２基板２１とは接触せず、距離Ｌ４を隔てて配置される。その後、図１から図３に示した半導体装置の製造方法における工程（Ｓ６０）および工程（Ｓ７０）を実施することで、図１０および図１１に示した半導体装置を得ることができる。
【００６８】
＜作用効果＞
上記半導体装置において、配線基板１１は、第１基板２０と、第２基板２１とを含んでいてもよい。ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見て、第１基板２０の一部と第２基板２１の一部とは重なっていてもよい。互いに重なっている領域における第１基板２０と第２基板２１との間の距離Ｌ４は、図１０に示す平面視（ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見た場合）での第１基板２０と第２基板２１との重なり部分の幅より小さいことが好ましい。
【００６９】
この場合、図１から図３に示した半導体装置と同様の効果を得ることができるとともに、第１基板２０と第２基板２１との重なり部分を介して封止部材１４の上部表面から半導体素子４に水分やガスなどの物質が到達する可能性を低減できる。
【００７０】
＜変形例の構成および作用効果＞
図１２は、実施の形態４に係る半導体装置の第１変形例を示す断面模式図である。図１２は図１１に対応する。図１２に示した半導体装置は、基本的には図１０および図１１に示した半導体装置と同様の構成を備えるが、第１基板２０と第２基板２１とが互いに重なった領域で接触している点が図１０および図１１に示した半導体装置と異なっている。
【００７１】
この場合、図１０および図１１に示した半導体装置と同様の効果が得られる。図１２に示した半導体装置では、第１基板２０と第２基板２１とが接触しているので、上記重なった領域を介して封止部材１４の上部表面から半導体素子４に水分やガスなどの物質が到達する可能性を低減できる。
【００７２】
図１３は、実施の形態４に係る半導体装置の第２変形例を示す平面模式図である。図１３に示した半導体装置は、基本的には図１０および図１１に示した半導体装置と同様の構成を備えるが、第１基板２０と第２基板２１とが平面視において互いに重ならず間隔を隔てて配置されている点が、図１０および図１１に示した半導体装置と異なっている。ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見て、第１基板２０と第２基板２１とは間隔を隔てて配置されている。第１基板２０の端部２０ａと第２基板２１の端部２１ａとは間隔を隔てて対向している。上記方向から見て、半導体素子４は、第１基板２０と第２基板２１との間の隙間３１と重ならない位置に配置されている。上記方向から見た、上記隙間３１と半導体素子４との間の距離Ｌ５は、上記方向における封止部材１４の厚みＴ１（図１参照）より大きいことが好ましい。
【００７３】
上述した半導体装置の特徴的な構成を要約すれば、配線基板１１は、第１基板２０と、第２基板２１とを含んでいてもよい。ベース部材３の主面３ａに対して垂直な方向から見て、第１基板２０と第２基板２１とは間隔を隔てて配置されていてもよい。上記方向から見て、半導体素子４は、第１基板２０と第２基板２１との間の隙間３１と重ならない位置に配置されてもよい。上記方向から見た、上記隙間３１と半導体素子４との間の距離Ｌ５は、上記方向における封止部材１４の厚みＴ１より大きくてもよい。
【００７４】
この場合、隙間３１から半導体素子４までの距離Ｌ５を十分確保しているので、隙間３１を介して封止部材１４の上部表面から半導体素子４に水分またはガスなどの物質が到達する可能性を低減できる。
【００７５】
実施の形態５．
＜半導体装置の構成＞
図１４は、実施の形態５に係る半導体装置の平面模式図である。図１５は、図１４の線分ＸＶ−ＸＶにおける断面模式図である。図１６は、図１４の線分ＸＶＩ−ＸＶＩにおける断面模式図である。図１４から図１６は、それぞれ図１から図３に対応する。図１４から図１６に示した半導体装置は、基本的には図１から図３に示した半導体装置と同様の構成を備えるが、ベース部材３の構成、ベース部材３とは別部材として放熱層１を備える点、ケース６とベース部材３とが放熱層１を介して接続されている点が図１から図３に示した半導体装置と異なっている。すなわち、図１４から図１６に示した半導体装置では、ベース部材３が無機セラミックス材料からなる絶縁層と、当該絶縁層の上面および下面に接続された導電体層とから構成される。無機セラミックス材料としては、たとえばアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）、二酸化珪素（ＳｉＯ2）または窒化ホウ素（ＢＮ）などを用いることができる。ベース部材３のサイズは配線基板１１のサイズより小さい。
【００７６】
ベース部材３の下面を構成する導電体層には、はんだなどの接合材２を介して放熱層１が接続されている。放熱層１の外周部には、接着剤（図示せず）を介してケース６が接続されている。
【００７７】
＜半導体装置の製造方法＞
図１４から図１６に示した半導体装置の製造方法は、基本的には図１から図３示した半導体装置の製造方法と同様であるが、ベース部材３および放熱層１の構成およびケース６をベース部材３に接合する工程（Ｓ３０）の内容が図１から図３に示した半導体装置の製造方法と異なっている。具体的には、準備する工程（Ｓ１０）において準備されるベース部材３として、上述のような無機セラミックス材料からなる絶縁層と、２つの導電体層とが積層された積層体を準備する。また、当該ベース部材３に接合材２を介して放熱層１を接続する。
【００７８】
その後、図１から図３に示した半導体装置の製造方法における工程（Ｓ２０）を実施する。そして、工程（Ｓ３０）では、放熱層１の外周部に接着剤によりケース６を接合する。その後、図１から図３に示した半導体装置の製造方法における工程（Ｓ４０）から工程（Ｓ７０）を実施する。このようにして、図１４から図１６に示した半導体装置を得ることができる。
【００７９】
＜作用効果＞
図１４から図１６に示した半導体装置では、ベース部材３に接続された放熱層１を備えてもよい。この場合、図１から図３に示した半導体装置と同様の効果を得ることができるとともに、放熱層１とベース部材３とを別部材として準備するので、半導体装置の構成の選択について自由度を大きくすることができる。
【００８０】
実施の形態６．
本実施の形態は、上述した実施の形態１から実施の形態５に係る半導体装置を電力変換装置に適用したものである。本開示は特定の電力変換装置に限定されるものではないが、以下、実施の形態６として、三相のインバータに本開示を適用した場合について説明する。
【００８１】
図１７は、本実施の形態に係る電力変換装置を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。
【００８２】
図１７に示す電力変換システムは、電源１００、電力変換装置２００、負荷３００から構成される。電源１００は、直流電源であり、電力変換装置２００に直流電力を供給する。電源１００は種々のもので構成することが可能であり、例えば、直流系統、太陽電池、蓄電池で構成することができるし、交流系統に接続された整流回路やＡＣ／ＤＣコンバータで構成することとしてもよい。また、電源１００を、直流系統から出力される直流電力を所定の電力に変換するＤＣ／ＤＣコンバータによって構成することとしてもよい。
【００８３】
電力変換装置２００は、電源１００と負荷３００の間に接続された三相のインバータであり、電源１００から供給された直流電力を交流電力に変換し、負荷３００に交流電力を供給する。電力変換装置２００は、図１７に示すように、直流電力を交流電力に変換して出力する主変換回路２０１と、主変換回路２０１を制御する制御信号を主変換回路２０１に出力する制御回路２０３とを備えている。
【００８４】
負荷３００は、電力変換装置２００から供給された交流電力によって駆動される三相の電動機である。なお、負荷３００は特定の用途に限られるものではなく、各種電気機器に搭載された電動機であり、例えば、ハイブリッド自動車や電気自動車、鉄道車両、エレベーター、もしくは、空調機器向けの電動機として用いられる。
【００８５】
以下、電力変換装置２００の詳細を説明する。主変換回路２０１は、スイッチング素子と還流ダイオードを備えており（図示せず）、スイッチング素子がスイッチングすることによって、電源１００から供給される直流電力を交流電力に変換し、負荷３００に供給する。主変換回路２０１の具体的な回路構成は種々のものがあるが、本実施の形態にかかる主変換回路２０１は２レベルの三相フルブリッジ回路であり、６つのスイッチング素子とそれぞれのスイッチング素子に逆並列された６つの還流ダイオードから構成することができる。主変換回路２０１の各スイッチング素子および各還流ダイオードの少なくともいずれかは、上述した実施の形態１から実施の形態５のいずれかの半導体装置に相当する半導体装置２０２が有するスイッチング素子又は還流ダイオードである。６つのスイッチング素子は２つのスイッチング素子ごとに直列接続され上下アームを構成し、各上下アームはフルブリッジ回路の各相（Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相）を構成する。そして、各上下アームの出力端子、すなわち主変換回路２０１の３つの出力端子は、負荷３００に接続される。
【００８６】
また、主変換回路２０１は、各スイッチング素子を駆動する駆動回路（図示なし）を備えているが、駆動回路は半導体装置２０２に内蔵されていてもよいし、半導体装置２０２とは別に駆動回路を備える構成であってもよい。駆動回路は、主変換回路２０１のスイッチング素子を駆動する駆動信号を生成し、主変換回路２０１のスイッチング素子の制御電極に供給する。具体的には、後述する制御回路２０３からの制御信号に従い、スイッチング素子をオン状態にする駆動信号とスイッチング素子をオフ状態にする駆動信号とを各スイッチング素子の制御電極に出力する。スイッチング素子をオン状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以上の電圧信号（オン信号）であり、スイッチング素子をオフ状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以下の電圧信号（オフ信号）となる。
【００８７】
制御回路２０３は、負荷３００に所望の電力が供給されるよう主変換回路２０１のスイッチング素子を制御する。具体的には、負荷３００に供給すべき電力に基づいて主変換回路２０１の各スイッチング素子がオン状態となるべき時間（オン時間）を算出する。例えば、出力すべき電圧に応じてスイッチング素子のオン時間を変調するＰＷＭ制御によって主変換回路２０１を制御することができる。そして、各時点においてオン状態となるべきスイッチング素子にはオン信号を、オフ状態となるべきスイッチング素子にはオフ信号が出力されるよう、主変換回路２０１が備える駆動回路に制御指令（制御信号）を出力する。駆動回路は、この制御信号に従い、各スイッチング素子の制御電極にオン信号又はオフ信号を駆動信号として出力する。
【００８８】
本実施の形態に係る電力変換装置では、主変換回路２０１を構成する半導体装置２０２として実施の形態１から実施の形態５のいずれかに係る半導体装置を適用するため、信頼性を向上させることができる。
【００８９】
本実施の形態では、２レベルの三相インバータに本開示を適用する例を説明したが、本開示は、これに限られるものではなく、種々の電力変換装置に適用することができる。本実施の形態では、２レベルの電力変換装置としたが３レベルやマルチレベルの電力変換装置であっても構わないし、単相負荷に電力を供給する場合には単相のインバータに本開示を適用しても構わない。また、直流負荷等に電力を供給する場合にはＤＣ／ＤＣコンバータやＡＣ／ＤＣコンバータに本開示を適用することも可能である。
【００９０】
また、本開示を適用した電力変換装置は、上述した負荷が電動機の場合に限定されるものではなく、例えば、放電加工機やレーザー加工機、又は誘導加熱調理器や非接触給電システムの電源装置として用いることもでき、さらには太陽光発電システムや蓄電システム等のパワーコンディショナーとして用いることも可能である。
【００９１】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。矛盾のない限り、今回開示された実施の形態の少なくとも２つを組み合わせてもよい。本開示の基本的な範囲は、上記した説明ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることを意図される。
【符号の説明】
【００９２】
１  放熱層、２  接合材、３  ベース部材、３ａ  主面、４  半導体素子、５  導電ワイヤ、６  ケース、６ａ  ケース表面、７  外部接続端子、８  内部接続端子、９  端子部材、９ａ，２０ａ，２１ａ  端部、１０  電子部品、１１  配線基板、１１ａ，１１ｃ  面、１１ａａ  接触領域、１１ｂ  外周端、１２  スルーホール、１３  封止部材注入口、１４  封止部材、１５，３０ａ，３０ｂ  支持部、１５ａ  切欠き部、１５ｂ  凹形状部、１５ｃ  支持面、１５ｃａ  支持面端部、２０  第１基板、２１  第２基板、２４  導電体層、２５  絶縁層、３１  隙間、６１  側壁、６１ａ  内周面、１００  電源、２００  電力変換装置、２０１  主変換回路、２０２  半導体装置、２０３  制御回路、３００  負荷。
【要約】
信頼性の高い半導体装置および電力変換装置が得られる。半導体装置では、半導体素子（４）は、ベース部材（３）の主面（３ａ）上に搭載される。ケース（６）は、ベース部材（３）を囲む側壁（６１）を有する。側壁（６１）においてベース部材（３）側の内周面（６１ａ）には支持部（１５）が形成される。配線基板（１１）には電子部品（１０）が搭載される。支持部（１５）の少なくとも一部は、配線基板（１１）の半導体素子（３）側に位置する面（１１ａ）において、配線基板（１１）の外周端（１１ｂ）より内側に位置する接触領域（１１ａａ）に接触する。封止部材（１４）は、半導体素子（４）と配線基板（１１）とを封止する。端子部材（９）は、配線基板（１１）において、接触領域（１１ａａ）より外周端（１１ｂ）側の領域に接続される。端子部材（９）は、封止部材（１４）の表面から突出する端部（９ａ）を含む。【図１】
0006918270.tif 000002
【図２】
0006918270.tif 000003
【図３】
0006918270.tif 000004
【図４】
0006918270.tif 000005
【図５】
0006918270.tif 000006
【図６】
0006918270.tif 000007
【図７】
0006918270.tif 000008
【図８】
0006918270.tif 000009
【図９】
0006918270.tif 000010
【図１０】
0006918270.tif 000011
【図１１】
0006918270.tif 000012
【図１２】
0006918270.tif 000013
【図１３】
0006918270.tif 000014
【図１４】
0006918270.tif 000015
【図１５】
0006918270.tif 000016
【図１６】
0006918270.tif 000017
【図１７】
0006918270.tif 000018