(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体であって、
第１表面、及び前記第１表面とは反対側の第２表面、並びに、前記第１表面及び前記第２表面に開口する複数の貫通孔を有する基板と、
複数の第１開口を有し、前記第１表面に配置された第１部材と、
それぞれが前記基板の厚さ方向において前記複数の第１開口のそれぞれに対応する複数の第２開口を有し、前記第２表面に配置された第２部材と、
前記第１部材と前記第２部材との間に配置され、前記第１部材及び前記第２部材の少なくとも一方と前記基板とを接着する接着部材と、
前記第２表面のうち前記複数の第２開口のそれぞれに対応する領域、前記第２部材における前記基板とは反対側の表面、及び前記複数の第２開口のそれぞれの内面に、一体で設けられた導電層と、を備え、
前記複数の貫通孔は、
前記複数の第１開口のそれぞれと前記複数の第２開口のそれぞれとの間に位置する複数の第１貫通孔と、
前記第１部材と前記第２部材との間に位置する複数の第２貫通孔と、を含み、
前記複数の第２開口のそれぞれは、前記複数の第１貫通孔を介して、前記複数の第１開口のそれぞれと連通しており、
前記第１部材は、前記基板が配置された第３表面、及び前記基板の外側において前記第３表面と同じ側を向いた第４表面を有し、
前記第２表面に設けられた前記導電層における前記基板とは反対側の表面と前記第４表面との距離は、前記基板の厚さよりも小さい、試料支持体。
【請求項２】
前記第４表面は、前記厚さ方向から見た場合に、前記基板を囲むように延在している、請求項１に記載の試料支持体。
【請求項３】
前記接着部材は、前記複数の第２貫通孔内に配置されている、請求項１又は２に記載の試料支持体。
【請求項４】
前記接着部材は、前記複数の第１開口のそれぞれの間において、前記第１部材と前記基板とを接着していると共に、前記複数の第２開口のそれぞれの間において、前記第２部材と前記基板とを接着している、請求項３に記載の試料支持体。
【請求項５】
前記第１部材及び前記第２部材のそれぞれは、金属材料によって形成されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の試料支持体。
【請求項６】
前記接着部材は、導電性を有している、請求項１〜５のいずれか一項に記載の試料支持体。
【請求項７】
前記接着部材は、光硬化性材料によって形成されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の試料支持体。
【請求項８】
前記接着部材は、アクリル系材料又はエポキシ系材料によって形成されている、請求項７に記載の試料支持体。
【請求項９】
前記第１部材を前記基板とは反対側から見た場合に前記複数の第１開口のそれぞれを示す複数の第１標識、及び、前記第２部材を前記基板とは反対側から見た場合に前記複数の第２開口のそれぞれを示す複数の第２標識の少なくとも一方を更に備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載の試料支持体。
【請求項１０】
前記複数の第２開口のそれぞれの外縁は、前記厚さ方向から見た場合に、前記複数の第１開口のそれぞれの外縁の内側に位置している、請求項１〜９のいずれか一項に記載の試料支持体。
【請求項１１】
前記第２部材の厚さは、前記第１部材の厚さよりも小さい、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の試料支持体。
【請求項１２】
試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体であって、
第１表面、及び前記第１表面とは反対側の第２表面、並びに、前記第１表面及び前記第２表面に開口する複数の貫通孔を有する基板と、
複数の第１開口を有し、前記第１表面に配置された第１部材と、
それぞれが前記基板の厚さ方向において前記複数の第１開口のそれぞれに対応する複数の第２開口を有し、前記第２表面に配置された第２部材と、
前記第１部材と前記第２部材との間に配置され、前記第１部材及び前記第２部材の少なくとも一方と前記基板とを接着する接着部材と、
前記第２表面のうち前記複数の第２開口のそれぞれに対応する領域、前記第２部材における前記基板とは反対側の表面、及び前記複数の第２開口のそれぞれの内面に、一体で設けられた導電層と、を備え、
前記複数の貫通孔は、
前記複数の第１開口のそれぞれと前記複数の第２開口のそれぞれとの間に位置する複数の第１貫通孔と、
前記第１部材と前記第２部材との間に位置する複数の第２貫通孔と、を含み、
前記複数の第２開口のそれぞれは、前記複数の第１貫通孔を介して、前記複数の第１開口のそれぞれと連通しており、
前記接着部材は、前記複数の第２貫通孔内に配置されている、試料支持体。
【請求項１３】
前記接着部材は、前記複数の第１開口のそれぞれの間において、前記第１部材と前記基板とを接着していると共に、前記複数の第２開口のそれぞれの間において、前記第２部材と前記基板とを接着している、請求項１２に記載の試料支持体。
【請求項１４】
試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体であって、
第１表面、及び前記第１表面とは反対側の第２表面、並びに、前記第１表面及び前記第２表面に開口する複数の貫通孔を有する基板と、
複数の第１開口を有し、前記第１表面に配置された第１部材と、
それぞれが前記基板の厚さ方向において前記複数の第１開口のそれぞれに対応する複数の第２開口を有し、前記第２表面に配置された第２部材と、
前記第１部材と前記第２部材との間に配置され、前記第１部材及び前記第２部材の少なくとも一方と前記基板とを接着する接着部材と、
前記第２表面のうち前記複数の第２開口のそれぞれに対応する領域、前記第２部材における前記基板とは反対側の表面、及び前記複数の第２開口のそれぞれの内面に、一体で設けられた導電層と、を備え、
前記複数の貫通孔は、
前記複数の第１開口のそれぞれと前記複数の第２開口のそれぞれとの間に位置する複数の第１貫通孔と、
前記第１部材と前記第２部材との間に位置する複数の第２貫通孔と、を含み、
前記複数の第２開口のそれぞれは、前記複数の第１貫通孔を介して、前記複数の第１開口のそれぞれと連通しており、
前記接着部材は、光硬化性材料によって形成されている、試料支持体。
【請求項１５】
前記接着部材は、アクリル系材料又はエポキシ系材料によって形成されている、請求項１４に記載の試料支持体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料支持体に関する。
【背景技術】
【０００２】
試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体として、第１表面、及び第１表面とは反対側の第２表面、並びに、第１表面及び第２表面に開口する複数の貫通孔を有する基板と、基板の第１表面と接着されたベースと、基板の第２表面に設けられた導電層と、を備える試料支持体であって、ベースに複数の開口が形成されたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。このような試料支持体では、基板において複数の開口に対応する複数の領域のそれぞれを測定領域として用いることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第６５３９８０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したような試料支持体を製造する場合においては、基板の第１表面とベースとを接着する際に、硬化前の接着部材が基板の貫通孔を介して基板の第２表面に至ると、基板の第２表面に導電層を設ける際に、導電層及び接着部材からアウトガスが発生し、当該アウトガスに起因する混合層が基板に堆積するおそれがある。当該混合層が基板に堆積していると、質量分析において当該混合層に起因するノイズが発生するおそれがある。
【０００５】
そこで、本発明は、高精度な質量分析を可能にする試料支持体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の試料支持体は、試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体であって、第１表面、及び第１表面とは反対側の第２表面、並びに、第１表面及び第２表面に開口する複数の貫通孔を有する基板と、複数の第１開口を有し、第１表面に配置された第１部材と、それぞれが基板の厚さ方向において複数の第１開口のそれぞれに対応する複数の第２開口を有し、第２表面に配置された第２部材と、第１部材と第２部材との間に配置され、第１部材及び第２部材の少なくとも一方と基板とを接着する接着部材と、第２表面のうち複数の第２開口のそれぞれに対応する領域、第２部材における基板とは反対側の表面、及び複数の第２開口のそれぞれの内面に、一体で設けられた導電層と、を備え、複数の貫通孔は、複数の第１開口のそれぞれと複数の第２開口のそれぞれとの間に位置する複数の第１貫通孔と、第１部材と第２部材との間に位置する複数の第２貫通孔と、を含み、複数の第２開口のそれぞれは、複数の第１貫通孔を介して、複数の第１開口のそれぞれと連通している。
【０００７】
この試料支持体では、第２部材が有する複数の第２開口のそれぞれが、基板が有する複数の第１貫通孔を介して、第１部材が有する複数の第１開口のそれぞれと連通している。これにより、基板において複数の第２開口に対応する複数の領域のそれぞれを測定領域として用いることができる。ここで、試料支持体を製造する場合においては、接着部材を用いて基板、第１部材及び第２部材をユニット化し、その後に、第２部材側から導電層を設けることができる。これにより、第２部材側から導電層を設ける際には、接着部材が第１部材と第２部材との間に配置されているため、導電層及び接着部材からアウトガスが発生し難くなり、その結果、当該アウトガスに起因する混合層が基板に堆積するのを抑制することができる。よって、この試料支持体によれば、高精度な質量分析が可能となる。
【０００８】
本発明の試料支持体では、接着部材は、複数の第２貫通孔内に配置されていてもよい。この構成によれば、基板において複数の第２開口に対応する複数の領域のそれぞれを測定領域として用いた場合に、複数の測定領域のそれぞれが接着部材によって隔離されることになる。そのため、複数の測定領域のそれぞれに試料を配置した場合に、隣り合う測定領域間での試料の移動が抑制される。したがって、測定領域ごとに高精度な質量分析が可能となる。
【０００９】
本発明の試料支持体では、接着部材は、複数の第１開口のそれぞれの間において、第１部材と基板とを接着していると共に、複数の第２開口のそれぞれの間において、第２部材と基板とを接着していてもよい。この構成によれば、上述したように、基板において複数の第２開口に対応する複数の領域のそれぞれを測定領域として用いた場合に、隣り合う測定領域間での試料の移動が、より確実に抑制される。したがって、測定領域ごとに、より高精度な質量分析が可能となる。
【００１０】
本発明の試料支持体では、第１部材及び第２部材のそれぞれは、金属材料によって形成されていてもよい。この構成によれば、基板の第２表面のうち複数の第２開口のそれぞれに対応する領域に設けられた導電層に対して、安定的に電圧を印加することができる。
【００１１】
本発明の試料支持体では、接着部材は、導電性を有していてもよい。この構成によれば、基板の第２表面のうち複数の第２開口のそれぞれに対応する領域に設けられた導電層に対して、安定的に電圧を印加することができる。
【００１２】
本発明の試料支持体では、接着部材は、光硬化性材料によって形成されていてもよい。例えば、接着部材は、アクリル系材料又はエポキシ系材料によって形成されていてもよい。この構成によれば、接着部材を硬化させるために加熱処理を実施する必要がない。そのため、基板の材料との熱膨張率の差が大きい材料が第１部材及び第２部材の少なくとも一方に用いられたとしても、加熱処理に起因する撓みの発生を回避することができる。
【００１３】
本発明の試料支持体は、第１部材を基板とは反対側から見た場合に複数の第１開口のそれぞれを示す複数の第１標識、及び、第２部材を基板とは反対側から見た場合に複数の第２開口のそれぞれを示す複数の第２標識の少なくとも一方を更に備えてもよい。この構成によれば、基板において複数の第２開口に対応する複数の領域のそれぞれを測定領域として用いた場合に、複数の第１開口のそれぞれ及び複数の第２開口のそれぞれの少なくとも一方を認識することで、複数の測定領域のそれぞれを容易に認識することができる。
【００１４】
本発明の試料支持体では、第１部材は、基板が配置された第３表面、及び基板の外側において第３表面と同じ側を向いた第４表面を有し、第２表面に設けられた導電層における基板とは反対側の表面と第４表面との距離は、基板の厚さよりも小さくてもよい。この構成によれば、質量分析装置においてレーザ光等のエネルギー線の焦点と同一平面上に位置する基準面を有するアダプタを用いて、質量分析装置に試料支持体を装着する場合に、アダプタの基準面及び第１部材の第４表面が同一平面上に位置するように、アダプタに第１部材を保持させることで、導電層の表面にエネルギー線の焦点を基板の厚さ未満のレベルで合わせることができる。そのため、質量分析装置においてエネルギー線の焦点の高精度な位置合わせが可能となる。
【００１５】
本発明の試料支持体では、第４表面は、厚さ方向から見た場合に、基板を囲むように延在していてもよい。この構成によれば、第１部材の強度、延いては試料支持体の強度を向上させることができる。また、上述したようなアダプタに第１部材を容易に且つ確実に保持させることができる。
【００１６】
本発明の試料支持体では、複数の第２開口のそれぞれの外縁は、厚さ方向から見た場合に、複数の第１開口のそれぞれの外縁の内側に位置していてもよい。基板において、厚さ方向から見た場合に第１開口と第２開口とが重複する領域を測定領域として用いた場合に、例えば第２開口の外縁が第１開口の外縁の外側に位置していると、第２部材を基板とは反対側から見た場合に、第２開口の外縁によって画定された領域には、測定領域だけではなく他の領域も含まれることになる。そのため、測定領域の範囲を把握するのが難しくなるおそれがある。ここで、第２開口の外縁が第１開口の外縁の内側に位置している構成によれば、第２部材を基板とは反対側から見た場合に、第２開口の外縁によって画定された領域が測定領域となるため、第２開口の外縁を把握することで、測定領域の範囲を容易に把握することができる。
【００１７】
本発明の試料支持体では、第２部材の厚さは、第１部材の厚さよりも小さくてもよい。この構成によれば、例えば質量分析装置においてレーザ光等のエネルギー線の焦点と同一平面上に位置する基準面を有するアダプタを用いて、質量分析装置に試料支持体を装着する場合において、アダプタに第１部材を保持させたときに、アダプタの基準面よりも第２部材が突出していたとしても、試料支持体が質量分析装置と干渉するのを抑制することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、高精度な質量分析を可能にする試料支持体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】一実施形態の試料支持体の平面図である。
【図２】図１に示されるII−II線に沿っての断面図である。
【図３】図２に示される試料支持体の部分拡大図である。
【図４】図１に示される基板の表面のＳＥＭ画像を示す図である。
【図５】一実施形態の試料支持体及びアダプタの平面図である。
【図６】図５に示されるVI−VI線に沿っての断面図である。
【図７】一実施形態の質量分析方法を示す図である。
【図８】第１実施例及び第１比較例のそれぞれの質量分析方法によって得られたマススペクトルを示す図である。
【図９】第２比較例及び第２実施例、並びに、第３比較例及び第３実施例のそれぞれの質量分析方法によって得られたマススペクトルを示す図である。
【図１０】変形例の試料支持体の断面図である。
【図１１】変形例の試料支持体の断面図である。
【図１２】変形例の試料支持体、及びアダプタの一部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２１】
［試料支持体の構成］
図１〜図３に示される試料支持体１は、試料の成分をイオン化するために用いられる。試料支持体１は、基板２と、ベース（第１部材）３と、カバー（第２部材）４と、接着部材５と、導電層６と、を備えている。基板２は、表面（第１表面）２ａ、及び表面２ａとは反対側の表面（第２表面）２ｂを有している。基板２には、表面２ａ及び表面２ｂに開口する複数の貫通孔２ｃが形成されている。各貫通孔２ｃは、基板２の厚さ方向Ｄ（以下、単に「方向Ｄ」という）に沿って延在している。方向Ｄは、表面２ａ及び表面２ｂが向かい合う方向である。
【００２２】
基板２は、例えば、絶縁性材料によって長方形板状に形成されている。方向Ｄから見た場合における基板２の一辺の長さは、例えば数ｃｍ程度であり、基板２の厚さは、例えば１〜５０μｍである。方向Ｄから見た場合における各貫通孔２ｃの形状は、例えば略円形であり、各貫通孔２ｃの幅は、例えば１〜７００ｎｍである。基板２には、それぞれが略一定の幅を有する複数の貫通孔２ｃが一様に（均一な分布で）形成されている。測定領域Ｒ（後述する）における貫通孔２ｃの開口率（方向Ｄから見た場合に測定領域Ｒに対して全ての貫通孔２ｃが占める割合）は、実用上は１０〜８０％であり、特に２０〜４０％であることが好ましい。なお、複数の貫通孔２ｃにおいては、各貫通孔２ｃの幅が不揃いであってもよいし、部分的に貫通孔２ｃ同士が繋がっていてもよい。
【００２３】
貫通孔２ｃの幅は、以下のようにして取得される値である。まず、基板２の表面２ａ及び表面２ｂのそれぞれの画像を取得する。図４は、基板２の表面２ａのＳＥＭ画像を示す図である。当該ＳＥＭ画像において、黒色の部分は貫通孔２ｃであり、白色の部分は貫通孔２ｃ間の隔壁部である。続いて、取得した表面２ａの画像に対して例えば二値化処理を施すことで、測定領域Ｒ内の複数の開口（貫通孔２ｃの表面２ａ側の開口）に対応する複数の画素群を抽出し、１画素当たりの大きさに基づいて、当該開口の平均面積を有する円の直径を取得する。同様に、取得した表面２ｂの画像に対して例えば二値化処理を施すことで、測定領域Ｒ内の複数の開口（貫通孔２ｃの表面２ｂ側の開口）に対応する複数の画素群を抽出し、１画素当たりの大きさに基づいて、当該開口の平均面積を有する円の直径を取得する。そして、表面２ａについて取得した円の直径と表面２ｂについて取得した円の直径との平均値を貫通孔２ｃの幅として取得する。
【００２４】
図４に示される基板２は、Ａｌ（アルミニウム）を陽極酸化することにより形成されたアルミナポーラス皮膜である。具体的には、Ａｌ基板に対して陽極酸化処理を施し、酸化された表面部分をＡｌ基板から剥離することにより、基板２を得ることができる。なお、基板２は、Ｔａ（タンタル）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｔｉ（チタン）、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｗ（タングステン）、Ｂｉ（ビスマス）、Ｓｂ（アンチモン）等のＡｌ以外のバルブ金属を陽極酸化することにより形成されてもよいし、Ｓｉ（シリコン）を陽極酸化することにより形成されてもよい。
【００２５】
図１及び図２に示されるように、ベース３は、長方形板状を呈している。ベース３は、表面３ａ、及び表面３ａとは反対側の表面（第３表面）３ｂを有している。方向Ｄから見た場合におけるベース３の一辺の長さは、例えば数ｃｍ程度である。方向Ｄから見た場合に、ベース３の外縁は、基板２の外縁の外側に位置している。ベース３の厚さ（表面３ａと表面３ｂとの距離）は、例えば１ｍｍ程度である。
【００２６】
ベース３には、２次元状（例えば、５行１４列等のマトリックス状）に配列された複数の開口（第１開口）３ｃが形成されている。複数の開口３ｃのそれぞれは、ベース３の隔壁部３１によって画定されている。方向Ｄから見た場合における各開口３ｃの形状は、例えば円形であり、その場合における各開口３ｃの直径は、例えば数ｍｍ〜数十ｍｍ程度である。各開口３ｃの直径は、例えば３ｍｍ程度である。
【００２７】
ベース３は、本体部３３と、突出部３４と、を含んでいる。本体部３３と突出部３４とは、一体で形成されている。複数の開口３ｃは、本体部３３に形成されている。突出部３４は、本体部３３の周縁において表面３ｂから突出している。突出部３４は、方向Ｄから見た場合に、矩形環状を呈している。つまり、ベース３には、表面３ｂ及び突出部３４によって画定された凹部が形成されている。突出部３４は、方向Ｄから見た場合に、複数の開口３ｃを囲むように延在している。突出部３４は、表面３ｂと同じ側を向いている表面（第４表面）３ｄを含んでいる。表面３ｄは、方向Ｄから見た場合に、複数の開口３ｃを囲むように延在している。
【００２８】
ベース３は、基板２の表面２ａに配置されている。具体的には、基板２は、突出部３４が基板２の外側に位置するように、ベース３の凹部内に配置されている。基板２は、表面２ａがベース３の表面３ｂに対向するように、表面３ｂに配置されている。突出部３４は、方向Ｄから見た場合に、基板２を囲むように延在している。表面３ｄは、方向Ｄから見た場合に、基板２を囲むように延在している。
【００２９】
ベース３は、導電性を有している。ベース３は、金属材料によって形成されている。ベース３は、例えば、基板２の材料と熱膨張率が同等の材料、又は基板２の材料よりも熱膨張率が低い材料（基板２の材料がアルミナである場合には、例えば、鉄ニッケル合金（４２アロイ）、モリブデン、コバール、チタン等）によって形成されている。本実施形態では、ベース３の材料は、鉄ニッケル合金である。
【００３０】
試料支持体１は、ベース３を基板２とは反対側から見た場合に複数の開口３ｃのそれぞれを示す複数の標識（第１標識）３２を備えている。複数の標識３２は、ベース３の表面３ａ（ベース３における基板２とは反対側の表面）に設けられている。複数の標識３２のそれぞれは、複数の開口３ｃと一対一で対応するように設けられている。複数の標識３２のそれぞれは、方向Ｄから見た場合に、複数の開口３ｃのそれぞれの隣に設けられている。複数の標識３２のそれぞれは、例えば数字である。複数の標識３２のそれぞれは、測定者の目視によって認識できる程度の幅を有している。複数の標識３２のそれぞれは、例えば表面３ａを凹凸させることによって形成されている。複数の標識３２のそれぞれは、例えば打刻又はレーザを用いた刻印によって設けられている。
【００３１】
カバー４は、長方形板状を呈している。カバー４は、表面４ａ、及び表面４ａとは反対側の表面４ｂを有している。方向Ｄから見た場合におけるカバー４の一辺の長さは、例えば数ｃｍ程度である。方向Ｄから見た場合に、カバー４の外縁は、基板２の外縁の外側に位置している。カバー４の厚さは、ベース３の厚さよりも小さい。カバー４の厚さは、例えば０．２ｍｍ程度である。
【００３２】
カバー４には、２次元状（例えば、５行１４列等のマトリックス状）に配列された複数の開口（第２開口）４ｃが形成されている。複数の開口４ｃのそれぞれは、カバー４の隔壁部４１によって画定されている。方向Ｄから見た場合における各開口４ｃの形状は、例えば円形であり、その場合における各開口４ｃの直径は、例えば数ｍｍ〜数十ｍｍ程度である。各開口４ｃの直径は、各開口３ｃの直径よりも小さい。各開口４ｃの直径は、例えば２．５ｍｍ程度である。
【００３３】
カバー４は、基板２の表面２ｂに配置されている。具体的には、カバー４は、カバー４の表面４ａが基板２の表面２ｂに対向するように配置されている。カバー４の複数の開口４ｃのそれぞれは、方向Ｄにおいてベース３の複数の開口３ｃのそれぞれに対応している。具体的には、複数の開口４ｃのそれぞれと複数の開口３ｃのそれぞれは、方向Ｄにおいて一対一で対向している。複数の開口４ｃのそれぞれの中心線と複数の開口３ｃのそれぞれの中心線とは、互いに重なっている。方向Ｄから見た場合に、複数の開口４ｃのそれぞれの外縁は、複数の開口３ｃのそれぞれの外縁の内側に位置している。基板２のうち、方向Ｄから見た場合における複数の開口４ｃのそれぞれと複数の開口３ｃのそれぞれとの重複する領域に対応する部分のそれぞれは、試料をイオン化するための測定領域Ｒとして機能する。本実施形態では、基板２のうち複数の開口４ｃに対応する部分のそれぞれが、測定領域Ｒとして機能する。方向Ｄから見た場合に、複数の測定領域Ｒのそれぞれは、複数の開口４ｃのそれぞれの外縁によって画定されている。
【００３４】
カバー４は、導電性を有している。カバー４は、金属材料によって形成されている。カバー４は、例えば、基板２の材料と熱膨張率が同等の材料、又は基板２の材料よりも熱膨張率が低い材料（基板２の材料がアルミナである場合には、例えば、鉄ニッケル合金（４２アロイ）、モリブデン、コバール、チタン等）によって形成されている。本実施形態では、カバー４の材料は、鉄ニッケル合金である。
【００３５】
なお、基板２の材料と熱膨張率が同等の材料、又は基板２の材料よりも熱膨張率が低い材料をベース３及びカバー４の少なくとも一方に用いることで、接着・焼成後に基板２が撓むのを抑制することができ、質量分析において基板２と試料との十分な密着及び感度の向上を実現することができる。試料支持体１の製造時に、導電層６が形成された試料支持体１を焼成することで、導電層６の結晶性を向上させることができ、質量分析に一層適した試料支持体１を得ることができる。
【００３６】
試料支持体１は、カバー４を基板２とは反対側から見た場合に複数の開口４ｃのそれぞれを示す複数の標識（第２標識）４２を備えている。複数の標識４２は、カバー４の表面４ｂ（カバー４における基板２とは反対側の表面）に設けられている。複数の標識４２のそれぞれは、複数の開口４ｃと一対一で対応するように設けられている。複数の標識４２のそれぞれは、方向Ｄから見た場合に、複数の開口４ｃのそれぞれの隣に設けられている。複数の標識４２のそれぞれは、例えば数字である。複数の標識４２のそれぞれは、複数の標識３２と一対一で対応するように設けられている。具体的には、互いに対応する開口４ｃ及び開口３ｃのそれぞれの隣には、互いに対応する標識４２及び標識３２が設けられている。互いに対応する標識４２及び標識３２のそれぞれは、同じ数字である。複数の標識４２のそれぞれは、測定者の目視によって認識できる程度の幅を有している。複数の標識４２のそれぞれは、例えば表面４ｂを凹凸させることによって形成されている。複数の標識４２のそれぞれは、例えば打刻又はレーザを用いた刻印によって設けられている。
【００３７】
図３に示されるように、基板２の複数の貫通孔２ｃは、複数の第１貫通孔２ｄと、複数の第２貫通孔２ｅと、を含んでいる。複数の第１貫通孔２ｄは、複数の開口３ｃのそれぞれと複数の開口４ｃのそれぞれとの間に位置している。つまり、基板２の測定領域Ｒは、複数の第１貫通孔２ｄを含んでいる。複数の第２貫通孔２ｅは、ベース３とカバー４との間に位置している。複数の第２貫通孔２ｅは、ベース３の隔壁部３１とカバー４の隔壁部４１との間に位置している。互いに対応する複数の開口３ｃのそれぞれと複数の開口４ｃのそれぞれとは、複数の第１貫通孔２ｄを介して互いに連通している。
【００３８】
図２及び図３に示されるように、接着部材５は、ベース３とカバー４との間に配置されている。接着部材５は、複数の開口３ｃのそれぞれの間において、ベース３と基板２とを接着していると共に、複数の開口４ｃのそれぞれの間において、カバー４と基板２とを接着している。接着部材５は、複数の第２貫通孔２ｅ内、ベース３の隔壁部３１と基板２との間、カバー４の隔壁部４１と基板２との間、及び、基板２の側面とベース３の突出部３４との間に、一体で（一続きに）配置されている。接着部材５は、方向Ｄから見た場合に、カバー４によってカバーされている。接着部材５は、方向Ｄから見た場合に、カバー４の隔壁部４１と重複している。接着部材５は、複数の開口４ｃのそれぞれに露出していない。
【００３９】
接着部材５は、導電性を有している。接着部材５は、導電性接着剤によって形成されてもよいし、金属ペーストを塗布することによって形成されてもよい。接着部材５は、ＵＶ硬化性材料（光硬化性材料）によって形成されている。接着部材５は、アクリル系材料又はエポキシ系材料によって形成されている。接着部材５の材料としては、放出ガスの少ない接着材料（例えば、真空用接着剤等）が用いられることが好ましい。
【００４０】
導電層６は、基板２の表面２ｂのうちカバー４の複数の開口４ｃのそれぞれに対応する領域（すなわち、基板２の表面２ｂのうち複数の測定領域Ｒのそれぞれに対応する領域）、複数の開口４ｃのそれぞれの内面、及びカバー４の表面４ｂに、一体で（一続きに）設けられている。導電層６は、各測定領域Ｒにおいて、基板２の表面２ｂのうち複数の貫通孔２ｃが形成されていない領域を覆っている。導電層６は、カバー４の表面４ｂにおいて、標識４２を覆っている。しかし、標識４２は、表面４ｂを凹凸させることによって形成されているため、導電層６によって覆われていても、目視による認識が妨げられない。
【００４１】
各測定領域Ｒにおいて基板２の表面２ｂに設けられた導電層６における基板２とは反対側の表面６ａ及び突出部３４の表面３ｄは、同一平面（方向Ｄに垂直な同一平面）上に位置している。つまり、方向Ｄにおける表面６ａと表面３ｄとの距離は、本実施形態では０であり、基板２の厚さよりも小さい。
【００４２】
導電層６は、導電性材料によって形成されている。ただし、導電層６の材料としては、以下に述べる理由により、試料との親和性（反応性）が低く且つ導電性が高い金属が用いられることが好ましい。例えば、タンパク質等の試料と親和性が高いＣｕ（銅）等の金属によって導電層６が形成されていると、試料のイオン化の過程において、試料分子にＣｕ原子が付着した状態で試料がイオン化された結果、イオン化された試料がＣｕ付加分子として検出されるため、検出結果がずれるおそれがある。したがって、導電層６の材料としては、試料との親和性が低い金属が用いられることが好ましい。
【００４３】
一方、導電性の高い金属ほど一定の電圧を容易に且つ安定して印加し易くなる。そのため、導電性が高い金属によって導電層６が形成されていると、測定領域Ｒにおいて基板２の表面２ｂに均一に電圧を印加することが可能となる。また、導電層６の材料としては、基板２に照射されたレーザ光のエネルギーを、導電層６を介して試料に効率的に伝えることが可能な金属であることが好ましい。例えば、ＭＡＬＤＩ（Matrix-Assisted  Laser  Desorption/Ionization）等で使用される標準的なレーザ光（例えば波長が３５５ｎｍ程度の三倍高調波Ｎｄ、ＹＡＧレーザ又は波長が３３７ｎｍ程度の窒素レーザ等）が照射される場合には、導電層６の材料としては、紫外域における吸収性の高いＡｌ、Ａｕ（金）又はＰｔ（白金）等であることが好ましい。
【００４４】
以上の観点から、導電層６の材料としては、例えば、Ａｕ、Ｐｔ等が用いられることが好ましい。導電層６は、例えば、メッキ法、原子層堆積法（ＡＬＤ：Atomic  Layer  Deposition）、蒸着法、スパッタ法等によって、厚さ１ｎｍ〜３５０ｎｍ程度に形成される。なお、導電層６の材料としては、例えば、Ｃｒ（クロム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｔｉ（チタン）等が用いられてもよい。
【００４５】
［アダプタの構成］
図５及び図６に示されるアダプタ１０は、上述した試料支持体１を質量分析装置に装着するために用いられる。アダプタ１０は、保持部１１を備えている。保持部１１は、本体部材１２と、複数のストッパ１３と、複数組のワッシャ１４及びボルト１５と、を有している。本体部材１２は、例えば、金属材料によって矩形枠状に形成されている。複数のストッパ１３は、本体部材１２の内側に突出するように本体部材１２に設けられている。複数組のワッシャ１４及びボルト１５は、本体部材１２の一方の表面１２ａに対して着脱可能である。複数組のワッシャ１４及びボルト１５が本体部材１２の表面１２ａに固定されている状態で、各ワッシャ１４の一部は、方向Ｄにおいて、所定距離を介して各ストッパ１３と向かい合っている。保持部１１は、質量分析装置においてレーザ光の焦点と同一平面（レーザ光の光軸に平行な同一平面）上に位置する基準面１１ａを有している。本実施形態では、当該基準面１１ａは、本体部材１２の表面１２ａである。方向Ｄにおけるベース３の表面３ａと表面３ｄとの間の距離は、各ワッシャ１４の一部と各ストッパ１３との間の所定距離と略等しくてもよい。
【００４６】
試料支持体１は、複数のストッパ１３上に配置され、その状態で、複数組のワッシャ１４及びボルト１５が本体部材１２の表面１２ａに固定されることで、保持部１１によって保持される。試料支持体１が保持部１１によって保持された状態では、保持部１１の基準面１１ａ及びベース３の表面３ｄが同一平面（方向Ｄ及びレーザ光の光軸に平行な同一平面）上に位置する。つまり、保持部１１は、保持部１１の基準面１１ａ及びベース３の表面３ｄが同一平面上に位置するようにベース３を保持する。
【００４７】
［イオン化法及び質量分析方法］
上述した試料支持体１及びアダプタ１０を用いたイオン化法及び質量分析方法について、図７を参照して説明する。まず、試料支持体１を用意する。続いて、試料支持体１の各測定領域Ｒに試料Ｓを配置する。本実施形態では、例えば、試料Ｓを含む溶液を基板２の表面２ｂ側から各測定領域Ｒに滴下する。これにより、各測定領域Ｒにおいて、複数の貫通孔２ｃに余分な溶液がしみ込み、試料Ｓの成分Ｓ１が導電層６上に適切に保持される。続いて、アダプタ１０を用いて、各測定領域Ｒに試料Ｓが配置された試料支持体１を質量分析装置１００に装着する。
【００４８】
続いて、質量分析装置１００の電圧印加部１０１を動作させて、アダプタ１０を介して試料支持体１の導電層６に電圧を印加しつつ、質量分析装置１００のレーザ光照射部１０２を動作させて、各測定領域Ｒに対してレーザ光（エネルギー線）Ｌを照射する。これにより、試料Ｓの成分Ｓ１をイオン化する。このとき、レーザ光Ｌの焦点Ｐ及び保持部１１の基準面１１ａが同一平面上に位置し、且つ保持部１１の基準面１１ａ及びベース３の表面３ｄが同一平面上に位置し、且つベース３の表面３ｄ及び導電層６の表面６ａが同一平面上に位置するため、試料Ｓの成分Ｓ１が保持された導電層６の表面６ａにレーザ光Ｌの焦点Ｐが位置することになる。以上の工程が、試料支持体１及びアダプタ１０を用いたイオン化法（本実施形態では、レーザ脱離イオン化法）に相当する。
【００４９】
続いて、試料Ｓの成分Ｓ１がイオン化されることで放出された試料イオンＳ２（イオン化された成分Ｓ１）を質量分析装置１００のイオン検出部１０３において検出する。具体的には、放出された試料イオンＳ２が、電圧が印加された導電層６とグランド電極（図示省略）との間に生じる電位差によって、試料支持体１とイオン検出部１０３との間に設けられた当該グランド電極に向かって加速しながら移動し、イオン検出部１０３によって検出される。本実施形態では、質量分析装置１００は、飛行時間型質量分析方法（ＴＯＦ−ＭＳ：Time-of-Flight  Mass  Spectrometry）を利用する走査型質量分析装置である。以上の工程が、試料支持体１及びアダプタ１０を用いた質量分析方法に相当する。
【００５０】
なお、図１及び図５〜図７においては、導電層６の図示が省略されている。また、図１、図２及び図５〜図７においては、複数の貫通孔２ｃの図示が省略されている。また、図１、図２及び図５においては、一部の開口３ｃ及び一部開口４ｃの図示が省略されている。つまり、図１、図２及び図５においては、開口３ｃ及び開口４ｃの数が実際よりも少なく示されている。また、図３においては、一部の第１貫通孔２ｄ及び一部の第２貫通孔２ｅの図示が省略されている。つまり、図３においては、第１貫通孔２ｄ及び第２貫通孔２ｅの数が実際よりも少なく示されている。
【００５１】
［作用及び効果］
以上説明したように、試料支持体１では、カバー４が有する複数の開口４ｃのそれぞれが、基板２が有する複数の第１貫通孔２ｄを介して、ベース３が有する複数の開口３ｃのそれぞれと連通している。これにより、基板２において複数の開口４ｃに対応する複数の領域のそれぞれを測定領域Ｒとして用いることができる。ここで、試料支持体１を製造する場合においては、接着部材５を用いて基板２、ベース３及びカバー４をユニット化し、その後に、カバー４側から導電層６を設けることができる。これにより、カバー４側から導電層６を設ける際には、接着部材５がベース３とカバー４との間に配置されているため、導電層６及び接着部材５からアウトガスが発生し難くなり、その結果、当該アウトガスに起因する混合層が基板２に堆積するのを抑制することができる。よって、試料支持体１によれば、高精度な質量分析が可能となる。
【００５２】
図８の（ａ）及び（ｂ）は、第１実施例の質量分析方法によって得られたマススペクトルを示す図である。図８の（ｃ）及び（ｄ）は、第１比較例の質量分析方法によって得られたマススペクトルを示す図である。第１実施例の質量分析方法では、試料支持体１が用いられている。第１比較例の質量分析方法で用いられた試料支持体は、カバー４を備えていない点で、試料支持体１と主に相違している。図８に示されるように、第１実施例では、第１比較例に比べ、検出された信号におけるノイズが少ない。
【００５３】
図９の（ａ）は、第２比較例の質量分析方法によって得られたマススペクトルを示す図である。図９の（ｂ）は、第２実施例の質量分析方法によって得られたマススペクトルを示す図である。図９の（ｃ）は、第３比較例の質量分析方法によって得られたマススペクトルを示す図である。図９の（ｄ）は、第３実施例の質量分析方法によって得られたマススペクトルを示す図である。第２実施例及び第３実施例のそれぞれの質量分析方法では、試料支持体１が用いられている。第２比較例及び第３比較例のそれぞれの質量分析方法で用いられた試料支持体は、カバー４を備えていない点で、試料支持体１と主に相違している。図９の（ａ）及び（ｂ）に示されるように、第２実施例では、第２比較例に比べ、検出された信号におけるノイズが少ない。図９の（ｃ）及び（ｄ）に示されるように、第３実施例では、第３比較例に比べ、検出された信号におけるノイズが少ない。
【００５４】
また、試料支持体１では、接着部材５が、複数の第２貫通孔３ｅ内に配置されている。この構成によれば、基板２において複数の開口４ｃに対応する複数の領域のそれぞれを測定領域Ｒとして用いた場合に、複数の測定領域Ｒのそれぞれが接着部材５によって隔離されることになる。そのため、複数の測定領域Ｒのそれぞれに試料Ｓを配置した場合に、隣り合う測定領域Ｒ間での試料Ｓの移動が抑制される。したがって、測定領域Ｒごとに高精度な質量分析が可能となる。
【００５５】
また、試料支持体１では、接着部材５が、複数の開口３ｃのそれぞれの間において、ベース３と基板２とを接着していると共に、複数の開口４ｃのそれぞれの間において、カバー４と基板２とを接着している。この構成によれば、上述したように、基板２において複数の開口４ｃに対応する複数の領域のそれぞれを測定領域Ｒとして用いた場合に、隣り合う測定領域Ｒ間での試料Ｓの移動が、より確実に抑制される。したがって、測定領域Ｒごとに、より高精度な質量分析が可能となる。
【００５６】
また、試料支持体１では、ベース３及びカバー４のそれぞれが、金属材料によって形成されている。この構成によれば、基板２の表面２ｂのうち複数の開口４ｃのそれぞれに対応する領域に設けられた導電層６に対して、安定的に電圧を印加することができる。
【００５７】
また、試料支持体１では、接着部材５が、導電性を有している。この構成によれば、基板２の表面２ｂのうち複数の開口４ｃのそれぞれに対応する領域に設けられた導電層６に対して、安定的に電圧を印加することができる。
【００５８】
また、試料支持体１では、接着部材５が、ＵＶ硬化性材料によって形成されている。接着部材５は、アクリル系材料又はエポキシ系材料によって形成されている。この構成によれば、接着部材５を硬化させるために加熱処理を実施する必要がない。そのため、基板２の材料との熱膨張率の差が大きい材料がベース３及びカバー４の少なくとも一方に用いられたとしても、加熱処理に起因する撓みの発生を回避することができる。
【００５９】
また、試料支持体１は、ベース３を基板２とは反対側から見た場合に複数の開口３ｃのそれぞれを示す複数の標識３２、及び、カバー４を基板２とは反対側から見た場合に複数の開口４ｃのそれぞれを示す複数の標識４２を備えている。この構成によれば、基板２において複数の開口４ｃに対応する複数の領域のそれぞれを測定領域Ｒとして用いた場合に、複数の開口３ｃのそれぞれ及び複数の開口４ｃのそれぞれを認識することで、複数の測定領域Ｒのそれぞれを容易に認識することができる。試料Ｓを含む溶液の種類によって、当該溶液が基板２の表面２ａ側から測定領域Ｒに滴下される場合がある。すなわち、基板２の方が導電層６よりも溶液に対する親和性が高い場合には、溶液が基板２の表面２ａ側から滴下されるのが好ましい。これにより、溶液が基板２の表面２ｂ側から滴下される場合よりもスムーズに溶液を第１貫通孔２ｄ内に流入させることができる。本実施形態では、試料支持体１が、複数の開口３ｃのそれぞれを示す複数の標識３２、及び複数の開口４ｃのそれぞれを示す複数の標識４２の両方を備えているため、溶液を基板２の表面２ａ側から滴下する際には、標識３２によって開口３ｃを認識することで測定領域Ｒを認識し、その後、レーザ光Ｌを照射する際には、標識４２によって開口４ｃを認識することで測定領域Ｒを認識することができる。
【００６０】
また、試料支持体１では、ベース３は、基板２が配置された表面３ｂ、及び基板２の外側において表面３ｂと同じ側を向いた表面３ｄを有し、導電層６の表面６ａと表面３ｄとの距離は、基板２の厚さよりも小さい。この構成によれば、質量分析装置１００においてレーザ光Ｌの焦点Ｐと同一平面上に位置する基準面１１ａを有するアダプタ１０を用いて、質量分析装置１００に試料支持体１を装着する場合に、アダプタ１０の基準面１１ａ及びベース３の表面３ｄが同一平面上に位置するように、アダプタ１０にベース３を保持させることで、導電層６の表面６ａにレーザ光Ｌの焦点Ｐを基板２の厚さ未満のレベルで合わせることができる。そのため、質量分析装置１００においてレーザ光Ｌの焦点Ｐの高精度な位置合わせが可能となる。
【００６１】
また、試料支持体１では、ベース３の突出部３４が、方向Ｄから見た場合に、基板２を囲むように延在している。この構成によれば、ベース３の強度、延いては試料支持体１の強度を向上させることができる。また、上述したようなアダプタ１０にベース３を容易に且つ確実に保持させることができる。
【００６２】
また、試料支持体１では、複数の開口４ｃのそれぞれの外縁が、方向Ｄから見た場合に、複数の開口３ｃのそれぞれの外縁の内側に位置している。基板２において、方向Ｄから見た場合に開口３ｃと開口４ｃとが重複する領域を測定領域Ｒとして用いた場合に、例えば開口４ｃの外縁が開口３ｃの外縁の外側に位置していると、カバー４を基板２とは反対側から見た場合に、開口４ｃの外縁によって画定された領域には、測定領域Ｒだけではなく他の領域も含まれることになる。そのため、測定領域Ｒの範囲を把握するのが難しくなるおそれがある。ここで、開口４ｃの外縁が開口３ｃの外縁の内側に位置している構成によれば、カバー４を基板２とは反対側から見た場合に、開口４ｃの外縁によって画定された領域が測定領域Ｒとなるため、開口４ｃの外縁を把握することで、測定領域Ｒの範囲を容易に把握することができる。
【００６３】
また、試料支持体１では、カバー４の厚さが、ベース３の厚さよりも小さい。この構成によれば、例えば質量分析装置１００においてレーザ光Ｌの焦点Ｐと同一平面上に位置する基準面１１ａを有するアダプタ１０を用いて、質量分析装置１００に試料支持体１を装着する場合において、アダプタ１０にベース３を保持させたときに、アダプタ１０の基準面１１ａよりもカバー４が突出していたとしても、試料支持体１が質量分析装置１００と干渉するのを抑制することができる。
【００６４】
［変形例］
接着部材５が、複数の開口３ｃのそれぞれの間において、ベース３と基板２とを接着していると共に、複数の開口４ｃのそれぞれの間において、カバー４と基板２とを接着している例を示したが、これに限定されない。図１０に示されるように、接着部材５は、複数の開口３ｃのそれぞれの間において、ベース３と基板２とを接着してなくてもよい。つまり、接着部材５は、複数の開口３ｃのそれぞれの間においては、ベース３の隔壁部３１と基板２との間に配置されていなくてもよい。なお、接着部材５は、複数の開口３ｃの外側（基板２の外縁部）においては、ベース３の隔壁部３１と基板２との間に配置されていてもよいし、配置されていなくてもよい。また、接着部材５は、基板２の側面とベース３の突出部３４との間には配置されていてもよいし、配置されていなくてもよい。また、図１１に示されるように、接着部材５は、複数の開口４ｃのそれぞれの間において、カバー４と基板２とを接着してなくてもよい。つまり、接着部材５は、複数の開口４ｃのそれぞれの間においては、カバー４の隔壁部４１と基板２との間に配置されていなくてもよい。なお、接着部材５は、複数の開口４ｃの外側（基板２の外縁部）においては、カバー４の隔壁部４１と基板２との間に配置されていてもよいし、配置されていなくてもよい。以上のように、接着部材５は、ベース３とカバー４との間に配置され、ベース３及びカバー４の少なくとも一方と基板２とを接着していればよい。
【００６５】
また、導電層６の表面６ａとベース３の表面３ｄと距離が基板２の厚さよりも小さければ、導電層６の表面６ａ及びベース３の表面３ｄは、方向Ｄに垂直な同一平面上に位置していなくてもよい。この場合にも、アダプタ１０の基準面１１ａ及びベース３の表面３ｄが同一平面上に位置するように、アダプタ１０にベース３を保持させることで、導電層６の表面６ａにレーザ光Ｌの焦点Ｐを基板２の厚さ未満のレベルで合わせることができる。
【００６６】
また、アダプタ１０の保持部１１は、アダプタ１０の基準面１１ａ及びベース３の表面３ｄが同一平面上に位置するように、ベース３を保持することができるものであれば、上述した構成（すなわち、本体部材１２と、複数のストッパ１３と、複数組のワッシャ１４及びボルト１５と、を有するもの）に限定されない。
【００６７】
また、ベース３の本体部３３と突出部３４とが、一体で形成されている例を示したが、図１２に示されるように、本体部３３と突出部３４とは、別体で形成されていてもよい。この場合、突出部３４は、例えば接着剤又は蒸着金属によって形成されていてもよい。
【００６８】
また、突出部３４（表面３ｄを含む）が、方向Ｄから見た場合に、基板２を囲むように延在している例を示したが、これに限定されない。ベース３は、方向Ｄから見た場合に、基板２の外縁に沿って配列された複数の突出部を有していてもよい。複数の突出部のそれぞれは、複数組のワッシャ１４及びボルト１５のそれぞれに対応している。
【００６９】
また、ベース３は、突出部３４を含んでいなくてもよい。本体部材１２の表面１２ａには、突出部３４の厚さと略等しい深さを有する凹部（ザグリ）が形成されていてもよい。この場合、試料支持体１は、複数のストッパ１３上に配置され、その状態で、複数組のワッシャ１４及びボルト１５が本体部材１２に形成された凹部の底面に固定されることで、保持部１１によって保持される。つまり、保持部１１は、本体部材１２に形成された凹部の底面及びベース３の表面３ｂが同一平面上に位置するようにベース３を保持する。この場合においても、導電層６の表面６ａにレーザ光Ｌの焦点Ｐを基板２の厚さ未満のレベルで合わせることができる。
【００７０】
また、接着部材５がＵＶ硬化性材料によって形成されている例を示したが、接着部材５は、無機バインダー等によって形成されてもよい。無機バインダーの例として、オーデック社製のセラマボンド（登録商標）、東亞合成社製のアロンセラミック（登録商標）等が挙げられる。
【００７１】
また、複数の標識３２のそれぞれが数字である例を示したが、複数の標識３２のそれぞれは、様々の標識であってもよい。複数の標識３２のそれぞれは、例えば、数字、記号、及び文字から選択される少なくとも１つであってもよい。同様に、複数の標識４２のそれぞれが数字である例を示したが、複数の標識４２のそれぞれは、様々の標識であってもよい。複数の標識４２のそれぞれは、例えば、数字、記号、及び文字から選択される少なくとも１つであってもよい。
【００７２】
また、複数の標識３２のそれぞれが、ベース３の表面３ａを凹凸させることによって形成されている例を示したが、複数の標識３２のそれぞれは、例えば、ナノプリントのような印刷による印字、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光を用いたフォトリソグラフィー、ペイントによる書き込み、又は、レーザを用いた刻印の一例である黒色（酸化）等によって形成されていてもよい。同様に、複数の標識４２のそれぞれが、カバー４の表面４ｂを凹凸させることによって形成されている例を示したが、複数の標識４２のそれぞれは、例えば、ナノプリントのような印刷による印字、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光を用いたフォトリソグラフィー、ペイントによる書き込み、又は、レーザを用いた刻印の一例である黒色（酸化）等によって形成されていてもよい。なお、複数の標識４２のそれぞれが、カバー４の表面４ｂを凹凸させることによって形成されておらず、且つ、導電層６によって覆われて視認性が阻害される場合には、導電層６は、カバー４の表面４ｂのうち、複数の標識４２が形成されている領域には、形成されていない。
【００７３】
また、複数の標識３２のそれぞれが、複数の開口３ｃと一対一で対応するように設けられ、且つ、方向Ｄから見た場合に、複数の開口３ｃのそれぞれの隣に設けられている例を示したが、複数の標識３２のそれぞれは、方向Ｄから見た場合に、複数の開口３ｃの外側において、複数の開口３ｃの行及び列に沿って並んでいてもよい。複数の標識３２は、複数の開口３ｃのそれぞれを認識するための座標系を構成していてもよい。同様に、複数の標識４２のそれぞれが、複数の開口４ｃと一対一で対応するように設けられ、且つ、方向Ｄから見た場合に、複数の開口４ｃのそれぞれの隣に設けられている例を示したが、複数の標識４２のそれぞれは、方向Ｄから見た場合に、複数の開口４ｃの外側において、複数の開口４ｃの行及び列に沿って並んでいてもよい。複数の標識４２は、複数の開口４ｃのそれぞれを認識するための座標系を構成していてもよい。
【００７４】
また、複数の標識３２のそれぞれが、ベース３の表面３ａに設けられている例を示したが、例えば、ベース３の表面３ａに導電層６が設けられている場合には、複数の標識３２のそれぞれは、表面３ａに設けられた導電層６の表面に設けられていてもよい。複数の標識４２のそれぞれが、カバー４の表面４ｂに設けられている例を示したが、複数の標識４２のそれぞれは、例えば導電層６の表面６ａ又はベース３の表面３ｄ等に設けられていてもよい。
【００７５】
また、試料Ｓを含む溶液を基板２の表面２ｂ側から各測定領域Ｒに滴下する例を示してが、溶液は、基板２の表面２ａ側から各測定領域Ｒに滴下されてもよい。上述したように、基板２の方が導電層６よりも溶液に対する親和性が高い場合には、溶液が基板２の表面２ａ側から滴下されるのが好ましい。具体的には、表面２ｂに対して表面２ａが上側に位置するように試料支持体１が支持された状態で、溶液が表面２ａ側から各測定領域Ｒに滴下される。その後、表面２ｂに対して表面２ａが上側に位置する状態が維持されることにより、溶液が重力及び毛細管現象によって複数の第１貫通孔２ｄ内に移動する。ここで、表面２ａの方が導電層６よりも溶液に対する親和性が高いため、表面２ａに対して溶液を滴下することにより、表面２ｂ（導電層６）に対して溶液を滴下する場合よりもスムーズに溶液を第１貫通孔２ｄ内に流入させることができる。続いて、試料支持体１が、表面２ａに対して表面２ｂが上側に位置するように反転させられ、表面２ａに対して表面２ｂが上側に位置する状態で、質量分析装置１００に装着される。続いて、導電層６に電圧が印加されつつ表面２ｂに対してレーザ光Ｌが照射されることにより、試料Ｓの成分Ｓ１がイオン化される。ここで、試料支持体１は、複数の開口３ｃのそれぞれを示す複数の標識３２、及び複数の開口４ｃのそれぞれを示す複数の標識４２の両方を備えている。そのため、溶液を表面２ａ側から滴下する際には、標識３２によって開口３ｃを認識することで測定領域Ｒを認識し、その後、レーザ光Ｌを表面２ｂに対して照射する際には、標識４２によって開口４ｃを認識することで測定領域Ｒを認識することができる。
【００７６】
また、試料支持体１が複数の標識３２及び複数の標識４２を備えている例を示したが、試料支持体１は、複数の標識３２及び複数の標識４２のいずれか一方を備えていなくてもよい。つまり、試料支持体１は、複数の標識３２及び複数の標識４２の少なくとも一方を備えていればよい。
【００７７】
また、導電層６は、少なくとも基板２の表面２ｂ上に設けられていれば、基板２の表面２ａ上及び各貫通孔２ｃの内面上に設けられていてもよいし、設けられていなくてもよい。
【００７８】
また、試料支持体１の用途は、レーザ光Ｌの照射による試料Ｓのイオン化に限定されない。試料支持体１は、レーザ光、イオンビーム、電子線等のエネルギー線の照射による試料Ｓのイオン化に用いることができる。上述したイオン化法及び質量分析方法では、エネルギー線の照射によって試料Ｓをイオン化することができる。
【符号の説明】
【００７９】
１…試料支持体、２…基板、２ａ…表面（第１表面）、２ｂ…表面（第２表面）、２ｃ…貫通孔、２ｄ…第１貫通孔、２ｅ…第２貫通孔、３…ベース（第１部材）、３ａ…表面、３ｂ…表面（第３表面）、３ｃ…開口（第１開口）、３ｄ…表面（第４表面）、４…カバー（第２部材）、４ａ…表面、４ｂ…表面、４ｃ…開口（第２開口）、５…接着部材、６…導電層、６ａ…表面、３２…標識（第１標識）、４２…標識（第２標識）、Ｄ…方向（厚さ方向）、Ｓ…試料、Ｓ１…成分。
【要約】
【課題】高精度な質量分析を可能にする試料支持体を提供する。
【解決手段】試料支持体は、基板２と、ベース３と、カバー４と、接着部材５と、導電層６と、を備えている。基板２は、表面２ａ、表面２ｂ及び複数の貫通孔２ｃを有している。ベース３は、複数の開口３ｃを有し、表面２ａに配置されている。カバー４は、複数の開口４ｃを有し、表面２ｂに配置されている。接着部材５は、ベース３及びカバー４の少なくとも一方と基板２とを接着している。導電層６は、表面２ｂのうち複数の開口４ｃのそれぞれに対応する領域、カバー４の表面、及び複数の開口４ｃのそれぞれの内面に、一体で設けられている。複数の貫通孔２ｃは、複数の第１貫通孔２ｄと、複数の第２貫通孔２ｅと、を含んでいる。複数の開口４ｃのそれぞれは、複数の第１貫通孔２ｄを介して、複数の開口３ｃのそれぞれと連通している。
【選択図】図３【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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