(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試験管真空保持装置システムであって：
中間プレートと、１つまたはそれ以上の側壁と、底壁と、アクセス孔を含む上プレートとを含む、外側本体と；
シーラントリングを含む、試験管ホルダと；
ベースと；
外側出口を含む真空管と；
を含み、
ここで、試験管ホルダは、外側本体内においてベースに固定されており、該ベースは、中間プレートに固定されており；
真空管は、第１の端部で試験管ホルダに連結されており、外側出口は、真空ポンプに連結されるように構成され、該真空ポンプは、試験管がアクセス孔に挿入され試験管ホルダ上に配置されているとき、真空力を試験管ホルダに加えるように構成され、
アクセス孔は、試験管ホルダのシーラントリングより大きな直径を有する、
前記試験管真空保持装置システム。
【請求項２】
シーラントリングは、Ｏリングを含む、請求項１に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項３】
シーラントリングは、球面封止部を含む、請求項１に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項４】
シーラントリングは、円錐形封止部を含む、請求項１に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項５】
アクセス域と円形域とを含む保持装置プレート；
をさらに含み、
ここで、該保持装置プレートは、さらに、試験管ホルダを円形域内に配置し真空管をアクセス域内に配置することで試験管ホルダを固定するように構成され；
保持装置プレートは、ベースの上かつ上プレートの下の位置で外側本体に取り付けられる、
請求項１に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項６】
真空ポンプは、外側本体の内部に収容される、請求項１に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項７】
真空ポンプは、外側本体の外部に収容される、請求項１に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項８】
複数試験管真空保持装置システムであって：
中間プレートと、１つまたはそれ以上の側壁と、底壁と、第１のアクセス孔、第２のアクセス孔、第１の真空出口および第２の真空出口を含む上プレートとを含む、外側本体と；
試験管シーラントリングと真空チャンバとをそれぞれ含む、第１のアクセス孔の下に位置する第１のレセプタクルと、第２のアクセス孔の下に位置する第２のレセプタクルと；
第１の真空出口を第１のレセプタクルに連結する第１の真空管と；
第２の真空出口を第２のレセプタクルに連結する第２の真空管と；
真空ポンプに連結された真空ロボットアームと；
を含み、
ここで、真空が真空ロボットアームによって加えられたとき、真空ポンプは、真空力を、第１の真空出口を介して第１のレセプタクルへ、または第２の真空出口を介して第２のレセプタクルへ加えるように構成され、
アクセス孔は、レセプタクルのシーラントリングより大きな直径を有する、
前記複数試験管真空保持装置システム。
【請求項９】
第１の真空出口および第２の真空出口は、円弧上に位置する、請求項８に記載の複数試験管真空保持装置システム。
【請求項１０】
上プレートは、試験管が第１のレセプタクルまたは第２のレセプタクルに挿入されると試験管を水平方向に拘束するように構成された１つまたはそれ以上の支持フィンを含む可撓性材料をさらに含む、請求項８に記載の複数試験管真空保持装置システム。
【請求項１１】
試験管を支持フィンに押し付けるようにそれぞれ構成された、中心ポストによって保持されている１つまたはそれ以上のばねをさらに含む、請求項１０に記載の複数試験管真空保持装置システム。
【請求項１２】
シーラントリングは、Ｏリングを含む、請求項８に記載の複数試験管真空保持装置システム。
【請求項１３】
シーラントリングは、球面封止部を含む、請求項８に記載の複数試験管真空保持装置システム。
【請求項１４】
シーラントリングは、円錐形封止部を含む、請求項８に記載の複数試験管真空保持装置システム。
【請求項１５】
試験管真空保持装置システムであって：
中空ステムに取り付けられたレセプタクルと；
ばねを介してタンクに連結された中空ステムと；
を含み、
ここで、真空は、真空ポンプに連結された真空ホースを介してタンクに加えられ；
中空ステムは、スロットを含み；
試験管がレセプタクルに挿入されて下向きの力が加えられたとき、スロットは、ばねの押し下げによりタンク内へと下がり、真空は、試験管をレセプタクルに固定するように中空ステム内に伝えられる、
前記試験管真空保持装置システム。
【請求項１６】
電力を真空ポンプへ供給するように構成された電源
をさらに含む、請求項１５に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項１７】
レセプタクルは、Ｏリングをさらに含む、請求項１５に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項１８】
レセプタクルは、球面封止部をさらに含む、請求項１５に記載の試験管真空保持装置システム。
【請求項１９】
レセプタクルは、円錐形封止部をさらに含む、請求項１５に記載の試験管真空保持装置システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
分野
本願は、参照によってその全体を本明細書に組み入れられる、２０１７年９月２９日出願の米国仮特許出願第６２／５６５，９３０号に対する優先権を請求する。
【０００２】
本発明は、一般に、部分真空を用いて試験管をホルダ内に保持するシステムおよび方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
プラスチックの試験管は、型から取り出すことができるように抜き勾配付きで（若干円錐形に）設計しなければならない。保持ばねは、試験管を試験管キャリア上の定位置に保つように横圧力を加える。ばねが錐面を押すので、いくらかの力が常に上向きに及ぼされる。試験管は、何らかの理由でキャリアが振動すると、上向きに動く傾向があり、それによって、潜在的に、キャリアから放出されて試験管の破損または中に含まれる試料を失うことさえある。従来技術は、（ａ）振動の原因の排除、（ｂ）試験管表面に対するばねのわずかな「粘着性」、および（ｃ）管を定位置に保つための重力による下方へのわずかな引き寄せ、に依拠している。しかし、これらの方法は、常に効果的であるわけではない。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
実施形態は、試験管真空保持装置システムであって、中間（ｍｉｄｌｉｎｅ）プレートと、１つまたはそれ以上の側壁と、底壁と、アクセス孔を含む上プレートとを含む、外側本体と；シーラントリングを含む、試験管ホルダと；ベースと；外側出口を含む真空管と；を含み、ここで、試験管ホルダは、外側本体内においてベースに固定されており、ベースは、中間プレートに固定されており；真空管は、第１の端部で試験管ホルダに連結されており、外側出口は、真空ポンプに連結されるように構成され、真空ポンプは、試験管がアクセス孔に挿入され試験管ホルダ上に配置されているとき、真空力を試験管ホルダに加えるように構成される、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【０００５】
実施形態は、さらに、アクセス孔が試験管ホルダのシーラントリングより大きな直径を有する、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【０００６】
実施形態は、さらに、シーラントリングがＯリングを含む、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【０００７】
実施形態は、さらに、シーラントリングが球面封止部を含む、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【０００８】
実施形態は、さらに、シーラントリングが円錐形封止部を含む、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【０００９】
実施形態は、さらに、アクセス域と円形域とを含む保持装置プレートをさらに含む試験管真空保持装置システムであって；ここで、保持装置プレートは、さらに、試験管ホルダを円形域内に配置し真空管をアクセス域内に配置することで試験管ホルダを固定するように構成され；保持装置プレートは、ベースの上かつ上プレートの下の位置で外側本体に取り付けられる、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１０】
実施形態は、さらに、真空ポンプが外側本体の内部に収容される、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１１】
実施形態は、さらに、真空ポンプが外側本体の外部に収容される、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１２】
実施形態は、さらに、複数試験管真空保持装置システムであって、中間プレートと、１つまたはそれ以上の側壁と、底壁と、第１のアクセス孔、第２のアクセス孔、第１の真空出口および第２の真空出口を含む上プレートとを含む、外側本体と；試験管シーラントリングと真空チャンバとをそれぞれ含む、第１のアクセス孔の下に位置する第１のレセプタクルと、第２のアクセス孔の下に位置する第２のレセプタクルと；第１の真空出口を第１のレセプタクルに連結する第１の真空管と；第２の真空出口を第２のレセプタクルに連結する第２の真空管と；真空ポンプに連結された真空ロボットアームと；を含み、ここで、真空が真空ロボットアームによって加えられたとき、真空ポンプは、真空力を、第１の真空出口を介して第１のレセプタクルへ、または第２の真空出口を介して第２のレセプタクルへ加えるように構成される、複数試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１３】
実施形態は、さらに、第１の真空出口および第２の真空出口が円弧上に位置する、複数試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１４】
実施形態は、さらに、上プレートが、試験管が第１のレセプタクルまたは第２のレセプタクルに挿入されると試験管を水平方向に拘束するように構成された１つまたはそれ以上の支持フィンを含む可撓性材料をさらに含む、複数試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１５】
実施形態は、さらに、試験管を支持フィンに押し付けるようにそれぞれ構成された、中心ポストによって保持されている１つまたはそれ以上のばねをさらに含む、複数試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１６】
実施形態は、さらに、アクセス孔が、レセプタクルのシーラントリングより大きな直径を有する、複数試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１７】
実施形態は、さらに、シーラントリングがＯリングを含む、複数試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１８】
実施形態は、さらに、シーラントリングが球面封止部を含む、複数試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００１９】
実施形態は、さらに、シーラントリングが円錐形封止部を含む、複数試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００２０】
実施形態は、さらに、試験管真空保持装置システムであって、中空ステムに取り付けられたレセプタクルと；ばねを介してタンクに連結された中空ステムと；を含み、ここで、真空は、真空ポンプに連結された真空ホースを介してタンクに加えられ；中空ステムは、スロットを含み；試験管がレセプタクルに挿入されて下向きの力が加えられたとき、スロットは、ばねの押し下げによりタンク内へと下がり、真空は、試験管をレセプタクルに固定するように中空ステム内に伝えられる、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００２１】
実施形態は、さらに、電力を真空ポンプへ供給するように構成された電源をさらに含む、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００２２】
実施形態は、さらに、レセプタクルがＯリングをさらに含む、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００２３】
実施形態は、さらに、レセプタクルが球面封止部をさらに含む、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００２４】
実施形態は、さらに、レセプタクルが円錐形封止部をさらに含む、試験管真空保持装置システムを提供することができる。
【００２５】
本発明の追加の構成および利点は、添付の図面を参照して次に続く例示的な実施形態の詳細な説明から明らかになるであろう。
【００２６】
本発明の上記その他の態様は、添付の図面とあわせて以下の詳細な説明を読めば最もよく理解される。本発明を例示する目的で、図面には、現時点で好ましい実施形態が示されているが、開示の特定の手段に本発明が限定されないと理解されよう。図面に含まれるものは以下の図である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムの図である。
【図２】本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムの斜視図である。
【図３】本明細書に記載の実施形態による、分離した保持装置プレートの上面等角図である。
【図４】本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムの切断図である。
【図５Ａ】本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムの封止機構の実施形態の図である。
【図５Ｂ】本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムの封止機構の実施形態の図である。
【図５Ｃ】本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムの封止機構の実施形態の図である。
【図６Ａ】一代替実施形態による試験管真空保持装置システムの斜視図である。
【図６Ｂ】一代替実施形態による試験管真空保持装置システムの斜視図である。
【図７Ａ】本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムに使用される試験管の様々な実施形態の図である。
【図７Ｂ】本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムに使用される試験管の様々な実施形態の図である。
【図８Ａ】本明細書に記載の実施形態による複数試験管真空保持装置システムの図である。
【図８Ｂ】本明細書に記載の実施形態による複数試験管真空保持装置システムの図である。
【図８Ｃ】本明細書に記載の実施形態による複数試験管真空保持装置システムの図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下の開示には、真空または部分真空を用いて試験管をホルダに保持するシステムおよび方法を対象とするいくつかの実施形態による本発明が記載されている。基本的には、試験管の底面は、真空引きされ真空封止が生み出される孔付きのガスケットまたはホルダの上に配置される。部分真空が生み出され、それが試験管をキャリアに能動的に保持する。このようにして、管を垂直に保持する受動的な摩擦または重力への任意の依存の必要がなく、それによって、試験管の滑りおよび破損またはそれらの内容物の喪失が少なくなる。一実施形態では、真空チャンバは、様々な管径を支持するために、水平方向に動くことができる。
【００２９】
本発明の利点としては、試験管の受動的な保持ではなく能動的な保持が挙げられ、それが、試験管の内容物の喪失または垂直方向の変位を引き起こす恐れのある振動による危険を大幅に低減させることができる。振動に対する感度の低下は、試験管の移動の間の振動をなくす必要性を低減させる。加えて、円形の真空封止部は、様々な丸底試験管径に適合し、使用の汎用性を可能にする。あるいは、真空チャンバへの平底試験管の固定も可能であり、それは、典型的には固定についての従来の保持方法だけに依拠する。本発明は、真空保持装置システムが上下逆さまたは微小重力環境にあるときでも管を保持することができる。可能な適用例としては、空いている管の乾燥の促進、単一トラックを使用した機器内での管の様々なレベルへの移動（あるトラック／キャリアから管を抜き取り、それを別のトラック／キャリアに配置するという追加の複雑さをなくすことができる）、封止済みの管の動きおよび微小重力または無重力環境におけるシステムの自由度の向上が挙げられる。
【００３０】
部分真空は、ばね摩擦または重力だけに依存せずに、試験管を垂直方向に能動的に保持することができる。それによって、移動中の振動をなくす必要性が低減され、放出による試料の喪失の危険の低減により信頼性が向上し、試験管が垂直方向に変位することによる処理の遅延の危険が低減することで信頼性が向上し、より大きなトラック接続公差によりコストが減少し、厳密性の低いトラック組み立て手順によりコストが減少し、結局、それらすべてが、無比かつ信頼性の向上した解決策につながり得る。
【００３１】
代替実施形態は、ばねを含むことができ、ばねは、試験管のリップ（頂部）を圧迫し、能動的な保持装置として働くことができ；または、頂部を圧迫する代わりに、ばねと管との間の摩擦を増大させることができるばね表面処理またはカバーを含んでもよい。管の抜き取り／配置動作の間、この追加の摩擦は、管の抜き取りまたは配置のために、ばね圧力が減少されるか、追加の圧力が加えられるかのどちらかを必要とすることができる。追加的な代替実施形態は、キャリアの動きを遅くすることでトラックの位置ずれ（ｍｉｓａｌｉｇｎｍｅｎｔ）による振動を減衰させることを含むことができる。加えて、トラックの位置ずれによる振動は、厳密な製造公差および注意深い組み立てにより修正することができる。
【００３２】
図１は、本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムを示している。試験管真空保持装置システム１００は、外側本体１０１を有することができる。外側本体１０１は、矩形の角柱またはその他の形状であってよく、その上面に少なくとも１つのアクセス孔１０９を含む。試験管真空保持装置システム１００の内部は、真空システムを含むことができる。真空システムは、試験管が嵌ることができる円形開口部とすることができる試験管ホルダ１０２を含むことができる。試験管ホルダ１０２は、その内部と実質的に同じ直径を有することができるシーラントリング１１０を有することができる。試験管ホルダ１０２は、ベース１０３の上に位置することができる。試験管ホルダ１０２は、取り付け済みの真空管１０４を有することができ、そこで真空引きを行うことができる。真空管１０４は、可撓性部分１０５を有することができる。可撓性部分１０５は、真空管１０４を安定して保持するために使用され、標準より大きいまたは小さい直径の試験管が試験管真空保持装置システム１００で使用される場合にあり得るように、試験管ホルダがシフトされた場合でもせん断されない。真空管１０４は、真空ポンプとの連結のための外側出口１０７を有するために、屈曲セクション１０６を有することができる。一実施形態では、外側出口１０７は、外側本体１０１の上面部分と同じ高さまたは若干高くてもよい。
【００３３】
一実施形態では、アクセス孔１０９は、試験管真空保持装置システム１００が様々な直径の試験管に使用されるために、試験管ホルダ１０２より大きな直径を有することができる。一実施形態では、アクセス孔１０９は、円形、または試験管ホルダ１０２の所望の範囲の水平方向の動きに適応するのに必要な任意の形状とすることができる。異なるサイズの試験管を受け入れるとき、試験管ホルダ１０２およびベース１０３は、試験管真空保持装置システム１００の本体内で動くことができる。１つまたはそれ以上のばねは、試験管および／または試験管ホルダの動きを制限し、使用後に構成要素をそれらの元の位置に戻すことに使用される。試験管ホルダ１０２およびベース１０３が動くと、真空管１０４の可撓性部分１０５が、真空管１０４が試験管ホルダ１０２としっかりと連結した状態になることを確実にするように必要に応じて伸縮することができる。試験管ホルダ１０２に対する追加の安定性をもたらすため、保持装置プレート１０８は、試験管真空保持装置システムの本体１０１の中間域のあたりに固定される。保持装置プレート１０８は、試験管ホルダ１０２とベース１０３の垂直方向の変位を防止することができる。
【００３４】
図２は、本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムの斜視図であり、図３は、分離した保持装置プレートの上面等角図である。この図面では、試験管真空保持装置システムの本体１０１全体に対して保持装置プレート１０８およびベース１０３（図３には示されない）の形状および位置をより良く示すために、試験管ホルダおよび真空管は示されていない。一実施形態では、保持装置プレート１０８は、真空管１０４、可撓性部分１０５および屈曲セクション１０６のための空間を提供するアクセス域２０１を有することができる。加えて、保持装置プレート１０８は、試験管ホルダを入れることができるように使用される円形域２０２を有することができる。一実施形態では、様々な直径の試験管を用いる場合に試験管ホルダの動きを容易にするため、円形域２０２は、試験管ホルダより直径が大きく、かつ、アクセス孔１０９と直径が等しいまたはそれより大きくてよい。保持装置プレート１０８は、試験管真空保持装置システムの本体１０１の中間部あたりに、ベース１０３の上に配置される。
【００３５】
図４は、本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムの切断図である。この図面では、試験管真空保持装置システムの外側本体の側壁は取り外されている。図示のように、試験管真空保持装置システムの外側本体は、試験管真空保持装置システムの内部機構にアクセスするために必要に応じて取り外すことができる上プレート４０２を有することができる。試験管真空保持装置システムは、試験管真空保持装置システムの側部の範囲を定めることができる１つまたはそれ以上の側壁４０１と、底壁４０５とを有することができる。試験管真空保持装置システムは、試験管ホルダ１０２、ベース１０３および真空管１０４からなる装置の垂直配置を可能にすることができる中間支持プレート４０３を有することができる。この図面から、保持プレート１０８の位置は、ベース１０３の上に示され、ベース１０３は、中間支持プレート４０３の上に取り付けられる。この図面から、保持プレート１０８は、試験管ホルダ１０２および真空管１０４からなる装置を含む真空機構の眺めを部分的に見えなくすることができる。
【００３６】
図示のように、真空管１０４は、試験管ホルダ１０２から外側に延び、試験管真空保持装置システムの本体内に横方向に進み、上プレート４０２の外側へ真空管１０４を導くことができる屈曲セクション１０６で上方に曲がることができ、そこに外側出口１０７が配置されている。一実施形態では、空きスペース４０４は、試験管真空保持装置システムの下半分内に残され、中間支持プレート４０３により範囲が定められる。一実施形態では、真空源は、外部ポンプ、または試験管真空保持装置システム内に収容される内部ポンプとすることができる。一実施形態では、空きスペース４０４は、特定の試験管システムに特有の、永久磁石などの他の構成要素を含むことができる。あるいは、空きスペース４０４は、内部電力供給装置、および／または内部真空ポンプを含むことができ、内部真空ポンプの場合、屈曲セクション１０６は、内部真空ポンプに接続するように中間支持プレート４０３の方に下に向けられる。
【００３７】
図５Ａ〜図５Ｃは、試験管真空保持装置システムの封止機構の実施形態を示している。図５Ａは、Ｏリング５０４を含むＯリングタイプの封止部５０１を表す実施形態を示している。図５Ｂは、球面封止部５０２を示している。図５Ｃは、円錐形封止部５０３を示している。各シーラント実施形態は、試験管５００の底面に対する真空引きを可能にするように、アクセスポート５０５を含むことができる。すべてのシーラント材料は、真空力が加えられたとき、その表面と試験管５００の表面との間に真空気密封止を作ることができるような弾性材料とすることができる。すべての実施形態の共通の特徴は、多様な試験管直径およびタイプを支援する円形封止部であることである。
【００３８】
図６Ａおよび図６Ｂは、一代替実施形態による試験管真空保持装置システムの斜視図である。一代替実施形態では、試験管６００は、球面、Ｏリングまたは円錐形の封止部を内部に有することができるレセプタクル６０５の使用により、試験管真空保持装置システムに固定される。レセプタクル６０５は、異なる試験管６００直径に適応するように、ｘ平面またはｙ平面の両方での方向の調節のために可撓性であってよい。レセプタクル６０５は、真空引きされる、タンク６０６内へと延びることができる中空ステム６１１の頂上に取り付けられる。ステム６１１は、力が加えられていないときにステム６１１およびレセプタクル６０５をある位置に保つために張力および抵抗をもたらすことに使用されるばね６０３を介してタンク６０６に取り付けられる。スロット６１０は、ステム６１１の、静止のときにタンク６０６内部の外にある場所に切り込まれており、したがってステム６１１およびレセプタクル６０５が静止のときは、周囲圧力が存在し真空は加えられない。下向きの圧力がレセプタクルに加えられたとき（例えば、試験管６００がレセプタクルに挿入されたとき）、その下向きの圧力がばね６０３に働き、レセプタクル６０５およびステム６１１が、スロット６１０が今度はタンク６０６内部の内側になるポイントまで下がり、そこで、真空ポンプ６０７に連結されているホース６０４を介して真空が加えられる。真空ポンプ６０７は、電池または交流電力供給装置とすることができる電源６０８に連結される。
【００３９】
真空力により、レセプタクル６０５およびステム６１１は押し下げ位置で保持される。試験管６００が置かれた（すなわち、挿入された）後、真空封止部の摩擦に加えてばね力が、レセプタクル６０５を閉位置に保ち続けることができる。試験管６００が抜き取られる（すなわち、取り出される）とき、最初の引っ張りにより、試験管６００とステム６１１の両方が上昇し、それによってスリット６１０が周囲空気に曝される。周囲空気に曝されたとき、真空がなくなり、試験管６００は、レセプタクル６０５から解放される。一実施形態では、レセプタクル６０５、ステム６１１およびタンク６０６は、清浄化のためにアクセス可能である。
【００４０】
図７Ａおよび図７Ｂは、本明細書に記載の実施形態による試験管真空保持装置システムに使用される試験管の様々な実施形態を示している。図７Ａに示されるように、小径の試験管７００は、Ｏリング７０２の使用により大径の試験管７０１とともに使用することができる。あるいは、平底試験管７０３を使用することもできるが、平底試験管７０３は、それをＯリング７０４に対して位置合わせする案内部として傾斜した縁を用いない限り、真空による固定が困難なことがある。一実施形態では、平底試験管７０３の直径は、Ｏリング７０４の直径と一致してよく、ベース７０５は平滑とすることができる。図示の試験管は、湾曲底または平底を有することができるが、円錐形試験管、および従来型でない幾何形状の試験管もさらに企図される。さらに、試験管真空保持装置システムは、これらに限定されないが、ガラス、プラスチックおよびそのコンポジットを含む材料から作られる試験管とともに機能するように設計される。
【００４１】
図８Ａ〜図８Ｃは、本明細書に記載の実施形態による複数試験管真空保持装置システムを示している。複数試験管真空保持装置システム８００は、第１のアクセス孔８０３と、第２のアクセス孔８０４とを有することができ、それぞれには、試験管の横方向の動きを許可および制限し、複数試験管真空保持装置システム８００が様々な直径の試験管に適応できることを可能にする形状のスロットが付いていてよい。孔８０３、８０４は、支持フィン８０５によって範囲が定められる。中心ポスト８１６によって保持されるばね８１５は、試験管を水平方向にしっかりと配置し、試験管を上プレート８２０に対して垂直向きの状態にさせるように、支持フィン８０５に試験管を水平方向に押し付けることができる。第１の真空出口８０１および第２の真空出口８０２は、真空力を第１のアクセス孔８０３および第２のアクセス孔８０４それぞれに供給することに使用される。第１および第２の真空出口８０１、８０２は、より大きなアセンブリにおいて真空圧を加えることに使用されるロボットアーム８０７の経路に対応することができる円弧８０６に沿って位置合わせされる。
【００４２】
図８Ｂの切断図に示されるように、第１のアクセス孔８０３（図８Ｂには示されない）は、第１のベース８１０の頂点に取り付けられる第１のレセプタクル８１３を有することができ、第２のアクセス孔８０４（図８Ｂには示されない）は、第２のベース８１１の頂点に取り付けられる第２のレセプタクル８１２を有することができる。第１の管８１４は、第１の真空出口８０１を第１のベース８１０に連結することができ、第２の管８１５は、第２の真空出口８０２を第２のベース８１１に連結することができる。複数試験管真空保持装置システムの各真空システムは、単一試験管真空保持装置システムのモデルと実質的に同じように機能することができる。
【００４３】
一実施形態において、複数試験管真空保持装置システムを用いる配置シーケンスは、試験管を保持するグリッパが第１のアクセス孔８０３へと動く間に真空ロボットアーム８０７を第１の真空出口８０１へと動かすことを含むことができる。グリッパは、試験管を第１のアクセス孔８０３内へ置き、その試験管を解放することができ、次いで、真空ロボットアーム８０７が真空を第１の真空出口８０１に加え、それによって試験管は第１のアクセス孔８０３内の定位置に固定される。試験管真空保持装置システムは、真空を加えている間、封止を検証するために圧力を監視することができる。システムは、第２の真空システムについても同様の工程を実施することができる。抜き取りシーケンスは、グリッパが第１のアクセス孔８０３へと動く間に、真空ロボットアーム８０７を第１の真空出口８０１へと動かすことを含むことができる。真空ロボットアーム８０７は、グリッパが試験管を把持しその試験管を第１のアクセス孔８０３から取り出す間、第１の真空出口８０１の真空を解放することができる。試験管真空保持装置システムは、真空を解放することができる時点での封止を検証するために圧力を監視することができる。次いで、真空ロボットアーム８０７は、第１の真空出口８０１から遠ざかることができる。
【００４４】
本明細書には様々な態様および実施形態が開示されているが、当業者には他の態様および実施形態も明らかであろう。本明細書に開示された様々な態様および実施形態は、例示を目的としたものであり、限定を意図するものではなく、真の範囲および趣旨は、以下の請求項によって示される。
【００４５】
本明細書における機能およびプロセス工程は、ユーザ命令に応答して自動的または全体的または部分的に実施することができる。自動的に実施されるアクティビティ（工程を含む）は、ユーザが直接的にアクティビティを開始することなく、１つまたはそれ以上の実行可能命令またはデバイスオペレーションに応答して実施される。
【００４６】
図面のシステムおよびプロセスは、排他的ではない。同じ目的を達成するために、本発明の原理に従って他のシステム、プロセス、およびメニューを導出することができる。本発明を、特定の実施形態を参照しながら説明してきたが、本明細書に図示および記載された実施形態および変形形態は、例示のみを目的としたものと理解されたい。現在の設計に対する変更を、本発明の範囲から逸脱することなく当業者によって実施することができる。本明細書に記載されているように、種々のシステム、サブシステム、エージェント、マネージャ、およびプロセスは、ハードウェアコンポーネント、ソフトウェアコンポーネント、および／またはこれらの組み合わせを使用して実装することができる。本明細書の請求項の要素は、合衆国法典第３５巻第１１２条６段落の規定の下で、「〜のための手段（ｍｅａｎｓ  ｆｏｒ）」を使用して要素が明示的に列挙されていると解釈されるべきではない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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