(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式ＡＦ〜ＣＦ及びＥＦで構成される群から選択される、アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物。
【化１】
0006918987.tif 000124
（前記式ＡＦにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、又は−ＳＯ２−であり、
前記式ＡＦ〜ＣＦ及びＥＦにおいて、多数のＰのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃであり、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、前記アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖状であり、ｍは３〜１０の整数であり、残りのＰは水素又は−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２のアルケニル基であり、ここで、ｌは１〜８の整数であり、
多数のＱのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、ここで、Ｒ１はＣ１〜Ｃ２０の直鎖状又は分岐鎖状脂肪族炭化水素基であり、多数のＱのうち残りは水素である。
【請求項２】
下記式ＡＳ〜ＣＳ及びＥＳで構成される群から選択される一種の出発物質１−１と、下記式１のアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は下記式２の酸無水物を塩基及
び任意の溶媒の存在下で−２０℃〜１００℃で１時間〜１２０時間の間反応させることにより、下記式ＡＭ〜ＣＭ及びＥＭで構成される群から選択される一種の中間生成物１−２が得られるエステル化段階であって、前記出発物質１−１と、前記式１のアシル化合物又は前記式２の酸無水物は、前記出発物質１−１のヒドロキシ基１当量に対して、アシル基又は酸無水物のカルボニル基が０．０１〜１当量になるように反応させるエステル化段階、及び
前記式ＡＭ〜ＣＭ及びＥＭで構成される群から選択される一種の中間生成物１−２と、下記式３のアルコキシシランを白金触媒及び任意の溶媒の存在下で−２０℃〜１２０℃で１時間〜７２時間の間反応させて、請求項１に記載の式ＡＦ〜ＣＦ及びＥＦで構成される群から選択される一種の化合物が得られるアルコキシシリル化段階であって、前記中間生成物１−２のアルケニル基１当量に対して、前記式３のアルコキシシランが０．１当量〜５当量になるように反応させるアルコキシシリル化段階を含む、アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物の製造方法。
［出発物質１−１］
【化２】
0006918987.tif 000125
（前記式ＡＳ〜ＣＳ及びＥＳにおいて、Ｋのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、ｌは１〜８の整数であり、残りのＫは水素であり、
前記式ＡＳにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、又は−ＳＯ２−である。）
［式１］
Ｒ１−ＣＯ−Ｘ
［式２］
（Ｒ１−ＣＯ）２Ｏ
（前記式１において、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩのようなハロゲンであり、
前記式１及び２において、Ｒ１は炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状脂肪族炭化水素基である。）
［中間生成物１−２］
【化３】
0006918987.tif 000126
前記式ＡＭ〜ＣＭ及びＥＭにおいて、Ｋのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、ｌは１〜８の整数であり、残りのＫは水素であり、Ｑのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、Ｒ１は炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状脂肪族炭化水素基であり、残りのＱは水素であり、
前記式ＡＭにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、又は−ＳＯ２−である。）
［式３］
ＨＳｉＲａＲｂＲｃ
（前記式３において、Ｒａ〜Ｒｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基であり、残りはＣ１−Ｃ１０のアルキル基であり、前記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状である。）
【請求項３】
請求項１に記載の前記式ＡＦ〜ＣＦ及びＥＦで構成される群から選択される、アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を含むエポキシ組成物。
【請求項４】
前記エポキシ組成物は、請求項１に記載の式ＡＦ〜ＣＦ及びＥＦで構成される群から選択されるアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物、エポキシ化合物、硬化剤、及び充填剤を含む、請求項３に記載のエポキシ組成物。
【請求項５】
請求項３に記載のエポキシ組成物を含む、基板、フィルム、積層板、プリプレグ、プリント配線板、又はパッケージ材料電気電子材料。
【請求項６】
請求項３に記載のエポキシ組成物を含む、接着剤。
【請求項７】
請求項３に記載のエポキシ組成物を含む、塗料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エポキシ組成物の硬化時に、熱膨張特性が減少することなく、優れた低吸湿性及び／又は低誘電特性を示す、アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する新しい化合物、その製造方法、それを含む組成物及び用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体及び電気電子材料分野において、基板、又はパッケージングなどに多様に用いられるエポキシ材料には、空気中の水分を吸収する吸湿性がある。エポキシ材料に吸収された水分は、はんだ付け（ｓｏｌｄｅｒｉｎｇ）工程のような高温に露出すると急激に気化する。尚、気化時の体積膨張により応力（ｓｔｒｅｓｓ）が誘発される。これは、パッケージクラックや内部剥離の原因となるだけでなく、漏れ（ｌｅａｋ）電流を増大させるとともに、電極を腐食させ、結果として、部品の信頼性が低下する。
【０００３】
また、エポキシ材料は、半導体及び電気電子材料分野においてともに用いられるセラミック材料及び金属材料に比べて熱膨張係数値が遥かに大きい。したがって、エポキシ材料が無機材料又は金属材料とともに用いられる場合、工程及び／又は使用温度の変化時に、エポキシ材料と無機材料又は金属材料の熱膨張係数の差（ＣＴＥ−ｍｉｓｍａｔｃｈ）により、クラックの生成や、基板の反りの発生、剥離（ｐｅｅｌｉｎｇ−ｏｆｆ）、基板割れなどという製品不良が発生する。結果として、エポキシ材料の高い熱膨張特性は、部品の寸法安定性及び高温信頼性を低下させる要因となる。
【０００４】
したがって、エポキシ材料の低吸湿性及び低熱膨張特性は、半導体パッケージング及び電気電子材料分野における部品の信頼性を決定する重要な要因である。従来、エポキシ材料の低吸湿性を向上させるための方法として、エポキシ化合物に疎水性基を導入したり、又は架橋密度を減少させたりする方法が用いられてきた。しかし、架橋密度を減少させると、耐熱特性が低下するため、低吸湿性及び低熱膨張特性を両立させることが難しいという問題があった。尚、低吸湿性の向上のために活性エステル基が導入された硬化剤が用いられてきた。しかし、活性エステル基が導入された硬化剤を用いる場合でも、熱膨張特性が悪化するため、低吸湿性及び低熱膨張特性を両立させることが難しいという問題があった。これに関連し、「Ｎｅｔｗｏｒｋ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ａｎｄ  Ｇｌａｓｓ  Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｅｐｏｘｙ  Ｒｅｓｉｎｓ  Ｃｕｒｅｄ  ｗｉｔｈ  Ａｃｔｉｖｅ  Ｅｓｔｅｒ」（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ，Ｖｏｌ．４０（１９９３）６１３−６１９）には、活性エステル基で硬化させる場合に低熱膨張特性が劣化すると記載されている。さらに、最近の先端電子機器分野、例えば、プリント印刷基板の分野では、高周波環境での高速伝送が要求されるため、低誘電特性の材料が必要となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、エポキシ組成物の硬化時に、熱膨張特性を低下させることなく、向上した低吸湿性及び／又は低誘電特性を示す、アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を提供することである。
【０００６】
また、本発明の他の目的は、エポキシ組成物の硬化時に、低熱膨張特性を低下させることなく、向上した低吸湿性及び／又は低誘電特性を示す、アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物の製造方法を提供することである。
【０００７】
さらに、本発明の目的は、低熱膨張特性を低下させることなく、向上した低吸湿性及び／又は低誘電特性を示す、アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を含む組成物及びその用途を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一見地によると、下記式ＡＦ〜ＬＦで構成される群から選択されるアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物が提供される。
【化１】
0006918987.tif 000002
（上記式ＡＦにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、
【化２】
0006918987.tif 000003
であり、
上記式ＦＦにおいて、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
上記式ＧＦにおいて、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１−Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＦにおいて、Ｓは
【化３】
0006918987.tif 000004
であり、
上記式ＬＦにおいて、ｔは
【化４】
0006918987.tif 000005
であり、
上記式ＩＦ〜ＬＦにおいて、ｎは１以上の整数であり、
上記式ＡＦ〜ＥＦにおいて、多数のＰのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃであり、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、ｍは３〜１０の整数であり、残りのＰは水素又は−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２のアルケニル基であり、ここで、１は１〜８の整数であり、
多数のＱのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、ここで、Ｒ１はＣ１〜Ｃ２０の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素基であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、多数のＱのうち残りは水素であってもよく、
上記式ＦＦ〜ＬＦにおいて、多数のＲのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃ又は−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃであり、ここで、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、ｍは３〜１０の整数であり、多数のＲのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、Ｒ１はＣ１〜Ｃ２０の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素基であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、多数のＲのうち残りはそれぞれ、水素又
は−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２のアルケニル基であり、ここで、１は１〜８の整数である。）
【０００９】
本発明の他の見地によると、下記式ＡＳ〜ＥＳの出発物質１−１と、下記式１のアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は下記式２の酸無水物との反応により、下記式ＡＭ〜ＥＭの中間生成物１−２が得られるエステル化段階と、上記式ＡＭ〜ＥＭの中間生成物１−２と、下記式３のアルコキシシランとの反応により、上記式ＡＦ〜ＥＦで表される化合物が得られるアルコキシシリル化段階と、を含むアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物の製造方法が提供される。
【化５】
0006918987.tif 000006
（上記式ＡＳ〜ＥＳにおいて、Ｋのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、１は１〜８の整数であり、残りは水素であり、
上記式ＡＳにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、
【化６】
0006918987.tif 000007
である。）
［式１］
Ｒ１−ＣＯ−Ｘ
［式２］
（Ｒ１−ＣＯ）２Ｏ
（上記式１において、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩのようなハロゲン、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＨ３、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＦ３、又は−Ｏ−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ３であり、
上記式１及び式２において、Ｒ１は炭素数１〜２０の脂肪族、芳香族又は脂環族炭化水素基であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。）
【化７】
0006918987.tif 000008
上記式ＡＭ〜ＥＭにおいて、Ｋのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、ｌは１〜８の整数であり、残りは水素であり、Ｑのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、Ｒ１は炭素数１〜２０の脂肪族、芳香族又は脂環族炭化水素であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、残りのＱは水素であり、
上記式ＡＭにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、
【化８】
0006918987.tif 000009
である。） 
［式３］
ＨＳｉＲａＲｂＲｃ
（上記式３において、Ｒａ〜Ｒｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基であり、残りはＣ１−Ｃ１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状である。）
【００１０】
本発明の追加の他の見地によると、下記式ＦＳ〜ＬＳの出発物質２−１と、下記式１のアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は下記式２の酸無水物との反応により、下記式ＦＭ〜ＬＭの中間生成物２−２が得られるエステル化段階と、上記式ＦＭ〜ＬＭの中間生成物２−２と、下記式４のアルコキシシランとの反応により、多数のＲのうち少なくとも１つは−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃ（ここで、ｍ、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃは上記で定義されたとおりである）であり、多数のＲのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１（ここで、Ｒ１は上記で定義されたとおりである）であり、多数のＲのうち残りのＲは水素である、上記式ＦＦ〜ＬＦで表される化合物が得られるアルコキシシリル化段階と、を含むアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物の製造方法が提供される。
【化９】
0006918987.tif 000010
（上記式ＦＳにおいて、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、上記式ＧＳにおいて、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１−Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＳにおいて、Ｓは
【化１０】
0006918987.tif 000011
であり、
上記式ＬＳにおいて、ｔは
【化１１】
0006918987.tif 000012
であり、
上記式ＩＳ〜ＬＳにおいて、ｎは１以上の整数である。）
［式１］
Ｒ１−ＣＯ−Ｘ
［式２］
（Ｒ１−ＣＯ）２Ｏ
（上記式１において、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩのようなハロゲン、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＨ３、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＦ３、又は−Ｏ−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ３であり、
上記式１及び式２において、Ｒ１は炭素数１〜２０の脂肪族、芳香族又は脂環族炭化水素基であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。）
【化１２】
0006918987.tif 000013
（上記式ＦＭにおいて、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
上記式ＧＭにおいて、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基又はＣ１〜Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＭにおいて、Ｓは
【化１３】
0006918987.tif 000014
であり、
上記式ＬＭにおいて、ｔは
【化１４】
0006918987.tif 000015
であり、
上記式ＩＭ〜ＬＭにおいて、ｎは１以上の整数であり、
上記式ＦＭ〜ＬＭにおいて、Ｌのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、Ｒ１は炭素数１〜２０の脂肪族、芳香族、又は脂環族炭化水素基であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、残りのＬは水素である。）
［式４］
ＯＣＮ−（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲａＲｂＲｃ
（上記式４において、Ｒａ〜Ｒｃのうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、ｍは３〜１０の整数である。）
【００１１】
さらに、本発明によると、下記式ＦＳ〜ＬＳの出発物質３−１と、下記式５のアルケニル化合物との反応により、下記式ＦＭ１〜ＬＭ１の中間生成物３−２（１）を得るアルケニル化段階と、上記式ＦＭ１〜ＬＭ１の中間生成物３−２（１）と、下記式１のアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は下記式２の酸無水物とを反応させて下記式ＦＭ２〜ＬＭ２の中間生成物３−２（２）を得るエステル化段階と、上記式ＦＭ２〜ＬＭ２の中間生成物３−２（２）と、下記式３のアルコキシシランとの反応により、多数のＲのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃ（ここで、ｍ、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃは上記で定義されたとおりである）であり、多数のＲのうち少なくとも１つは−ＣＯ−Ｒ１（ここで、Ｒ１は上記で定義されたとおりである）であり、多数のＲのうち残りはそれぞれ、独立して、水素又は−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２（ここで、１は上記で定義されたとおりである）のアルケニル基である、上記式ＦＦ〜ＩＦで表される化合物が得られるアルコキシシリル化段階と、を含むアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物の製造方法が提供される。
【化１５】
0006918987.tif 000016
［出発物質３−１］
（上記式ＦＳにおいて、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、上記式ＧＳにおいて、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＳにおいて、Ｓは
【化１６】
0006918987.tif 000017
であり、
上記式ＬＳにおいて、ｔは
【化１７】
0006918987.tif 000018
であり、
上記式ＩＳ〜ＬＳにおいて、ｎは１以上の整数である。）
［式５］
Ｘ−（ＣＨ２）ｌ−ＣＨ＝ＣＨ２
（上記式５において、１は１〜８の整数であり、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩのようなハロゲン、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＨ３、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＦ３、又は−Ｏ−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ３である。）
【化１８】
0006918987.tif 000019
（上記式ＦＭ１において、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ
ｌｉｎｋａｇｅ）であり、上記式ＧＭ１において、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＭ１において、Ｓは
【化１９】
0006918987.tif 000020
であり、
上記式ＬＭ１において、ｔは
【化２０】
0006918987.tif 000021
であり、
上記式ＩＭ１〜ＬＭ１において、ｎは１以上の整数であり、
上記式ＦＭ１〜ＬＭ１のＭのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、１は１〜８の整数であり、残りのＭは水素であることができる。）
［式１］
Ｒ１−ＣＯ−Ｘ
［式２］
（Ｒ１−ＣＯ）２Ｏ
（上記式１において、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩのようなハロゲン、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＨ３、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＦ３、又は−Ｏ−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ３であり、
上記式１及び式２において、Ｒ１は炭素数１〜２０の脂肪族、芳香族又は脂環族炭化水素基であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。）
【化２１】
0006918987.tif 000022
（上記式ＦＭ２において、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ
ｌｉｎｋａｇｅ）であり、上記式ＧＭ２において、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＭ２において、Ｓは
【化２２】
0006918987.tif 000023
であり、
上記式ＬＭ２において、ｔは
【化２３】
0006918987.tif 000024
であり、
上記式ＩＭ２〜ＬＭ２において、ｎは１以上の整数であり、
上記式ＦＭ２〜ＬＭ２において、多数のＮのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、１は１〜８の整数であり、少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、Ｒ１は炭素数１〜２０の脂肪族、芳香族又は脂環族炭化水素基であってもよく、残りのＮは水素であってもよい。）
［式３］
ＨＳｉＲａＲｂＲｃ
（上記式３において、Ｒａ〜Ｒｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基であり、残りはＣ１−Ｃ１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状である。）
【００１２】
さらに、本発明によると、上記式ＡＦ〜ＬＦで構成される群から選択されるアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を含むエポキシ組成物が提供される。
【００１３】
上記エポキシ組成物は、エポキシ化合物、硬化剤、及び充填剤を含むことができる。
【００１４】
また、上記エポキシ組成物を含む電気電子材料が提供され、上記電気電子材料は、基板、フィルム、積層板、プリプレグ、プリント配線板、又はパッケージ材料であることができる。
【００１５】
さらに、上記エポキシ組成物を含む接着剤及び塗料が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】合成例８の化合物を含む物性例１８及び１９と、合成例８の化合物を含まない比較物性例２のＣＴＥ値の変化を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
１．アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物
本発明によると、エポキシ組成物に配合して用いる場合には、低熱膨張特性を維持又は向上するだけでなく、低吸水性及び／又は低誘電特性が向上するアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物が提供される。
【００１８】
本発明によるアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物は、下記式ＡＦ〜ＬＦで表される化合物であることができる。
【化２４】
0006918987.tif 000025
上記式ＡＦにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、
【化２５】
0006918987.tif 000026
であり、
上記式ＦＦにおいて、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
上記式ＧＦにおいて、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１−Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＦにおいて、Ｓは
【化２６】
0006918987.tif 000027
であり、
上記式ＬＦにおいて、ｔは
【化２７】
0006918987.tif 000028
であり、
上記式ＩＦ〜ＬＦにおいて、ｎは１以上の整数であり、好ましくは１〜１００の整数である。
上記式ＡＦ〜ＥＦにおいて、多数のＰのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃであり、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。ｍは３〜１０、好ましくは３〜６の整数であり、残りのＰは水素又は−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２のアルケニル基であり、ここで、１は１〜８、好ましくは１〜４の整数である。
上記式ＡＦ〜ＥＦにおいて、多数のＱのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、ここで、Ｒ１はＣ１〜Ｃ２０の脂肪族、脂環族、又は芳香族炭化水素基であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、好ましくはＣ１〜Ｃ１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、Ｃ５〜Ｃ２０の置換又は非置換脂環族炭化水素基、Ｃ５〜Ｃ２０の置換又は非置換芳香族炭化水素基、例えば、置換又は非置換フェニル、又はナフタレンであってもよい。上記脂環族又は芳香族炭化水素基が置換される場合には、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基で置換されることができる。多数のＱのうち残りは水素であることができる。
上記式ＦＦ〜ＬＦにおいて、多数のＲのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃ又は−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃであり、ここで、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、ｍは３〜１０、好ましくは３〜６の整数であり、多数のＲのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、Ｒ１は上記で定義されたとおりである。多数のＲのうち残りはそれぞれ、独立して、水素又は−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２−のアルケニル基であり、ここで、１は１〜８、好ましくは１〜４の整数である。
【００１９】
また、上記Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃはすべて炭素数１〜６のアルコキシ基であってもよい。
【００２０】
少なくとも１つの−（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃ又は−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃであるアルコキシシリル基、及び少なくとも１つの−ＣＯＲ１である活性エス
テル基を有する上記式ＡＦ〜ＬＦは、優れた低吸湿性及び／又は低誘電特性を示すにもかかわらず、低熱膨張特性が低下しない特性を示す。一方、意図する低吸湿性及び／又は低誘電特性ならびに低熱膨張特性に応じて、上記式ＡＦ〜ＬＦの化合物のアルコキシシリル基及び活性エステル基の数を調整することができる。一例として、上記式ＡＦ〜ＦＦ及びＨＦの化合物は、１又は２個のアルコキシシリル基及び１又は２個の活性エステル基を有することができる。ＧＦの化合物は、１個のアルコキシシリル基及び１個の活性エステル基、１個のアルコキシシリル基及び２個の活性エステル基、又は２個のアルコキシシリル基及び１個の活性エステル基を有することもできる。ＩＦ〜ＬＦの化合物は、繰り返し単位ｎの数に応じて、多数のアルコキシシリル基及び活性エステル基を有することができ、例えば、１〜５個のアルコキシシリル基及び１〜５個の活性エステル基を有することができる。
【００２１】
２．アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物の製造方法
本発明によると、上記本発明のアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物の製造方法が提供される。具体的には、上記式ＡＦ〜ＥＦの化合物は下記（製造方法１）の方法により、上記式ＦＦ〜ＬＦの化合物は下記（製造方法２）又は（製造方法３）の方法により製造することができる。
【００２２】
（１）製造方法１
上記式ＡＦ〜ＥＦの化合物は、出発物質１−１のエステル化段階（第１−１段階）及びアルコキシシリル化段階（第１−２段階）で製造されることができる。
【００２３】
第１−１段階であるエステル化段階では、出発物質１−１と、下記式１のアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は下記式２の酸無水物との反応により出発物質１−１のヒドロキシ基がエステル化して中間生成物１−２を形成する。
【００２４】
出発物質１−１は、下記式ＡＳ〜ＥＳで表される化合物であることができる。
【化２８】
0006918987.tif 000029
上記式ＡＳ〜ＥＳにおいて、Ｋのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、１は１〜８、好ましくは１〜４の整数であり、残りは水素であり、
上記式ＡＳにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、
【化２９】
0006918987.tif 000030
である。
［式１］
Ｒ１−ＣＯ−Ｘ
［式２］
（Ｒ１−ＣＯ）２Ｏ
上記式１において、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩのようなハロゲン、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＨ３、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＦ３、又は−Ｏ−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ３である。
上記式１及び式２において、Ｒ１はＣ１〜Ｃ２０の脂肪族、脂環族、又は芳香族炭化水素基であってもよく、上記脂肪族炭化水素基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、好ましくはＣ１〜Ｃ１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、Ｃ５〜Ｃ２０の置換又は非置換脂環族炭化水素基、Ｃ５〜Ｃ２０の置換又は非置換芳香族炭化水素基、例えば、置換又は非置換フェニル、又はナフタレンであってもよい。上記脂環族又は芳香族炭化水素基が置換される場合には、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基で置換されることができる。 
【００２５】
上記中間生成物１−２は、下記式ＡＭ〜ＥＭで表される化合物であることができる。
【化３０】
0006918987.tif 000031
上記式ＡＭ〜ＥＭにおいて、Ｋのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、１は１〜８、好ましくは１〜４の整数であり、残りは水素であることができる。また、Ｑのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、Ｒ１は上記で定義されたとおりであり、残りは水素であることができる。
上記式ＡＭにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、
【化３１】
0006918987.tif 000032
である。
【００２６】
上記反応物は、化学量論的当量比で反応するものであって、これを考慮して、出発物質１−１とアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は酸無水物を当量比で反応させることにより所望の中間生成物１−２が得られる。例えば、出発物質１−１とアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は酸無水物は、上記出発物質１−１のヒドロキシ基１当量に対して、アシル基（ａｃｙｌ  ｇｒｏｕｐ）又は酸無水物のカルボニル基０．０１〜１当量になるように反応させて中間生成物１−２を得ることができる。
【００２７】
上記エステル化段階における反応は、塩基及び任意の溶媒の存在下で行うことができる。使用可能な塩基の例として、これに限定されるものではないが、例えば、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＫＨＣＯ３、ＮａＨＣＯ３、ＮａＨ、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンを挙げることができる。これらの塩基は、単独で、あるいは２種類以上がともに用いられることができる。塩基は、上記出発物質１−１のヒドロキシ基１当量に対して０．１当量〜５当量で用いることが反応効率の面からよい。
【００２８】
溶媒は、必要に応じて任意に用いることができる。別の溶媒がなくても、反応温度で反応物の粘度が反応の進行に適する場合には溶媒を用いなくてもよい。すなわち、反応物の混合及び撹拌が溶媒なしでスムーズに進行することができる程度に反応物の粘度が低くなると別の溶媒を必要としない。これは、当業者が容易に判断することができるものである。溶媒を用いる場合、可能な溶媒としては、反応物を十分に溶解することができ、反応に如何なる悪影響を及ぼすことなく、反応後に容易に除去されることができるものであれば、如何なる有機溶媒を用いてもよい。これに特に限定されるものではないが、例えば、アセトニトリル、ＴＨＦ（ｔｅｔｒａ  ｈｙｄｒｏ  ｆｕｒａｎ）、ＭＥＫ（ｍｅｔｈｙｌ
ｅｔｈｙｌ  ｋｅｔｏｎｅ）、ＤＭＦ（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）、ＤＭＳＯ（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｕｌｆｏｘｉｄｅ）、塩化メチレン（ＭＣ）、及びトルエンなどが用いられることができる。これらの溶媒は、単独で、あるいは２つ以上がともに用いられることができる。溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、反応物が十分に溶解され、反応に好ましくない影響を及ぼさない範囲で適量及び／又は適切な濃度で用いられることができる。尚、この技術分野における技術者は、これを考慮して適宜選択することができる。
【００２９】
エステル化段階における反応の反応温度及び反応時間は、反応物の種類に応じて異なり得るが、例えば、−２０℃〜１００℃で１時間〜１２０時間の間反応させることにより、上記反応を完了させることができる。ここで、反応効率の面から、上記温度及び時間の範囲で反応させることが好ましい。
【００３０】
第１−２段階であるアルコキシシリル化段階では、エステル化した上記中間生成物１−２とアルコキシシランとの反応により、本発明によるアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物、具体的には、上記式ＡＦ〜ＥＦで表される化合物が得られる。
【００３１】
アルコキシシリル化段階の反応において、中間生成物１−２と下記式３のアルコキシシランは、中間生成物１−２のアルケニル基とアルコキシシランが化学量論に基づいて当量
比で反応する。したがって、これを考慮し、上記中間生成物１−２のアルケニル基１当量に対して、下記式３のアルコキシシランが０．１当量〜５当量になるように、中間生成物１−２と下記式３のアルコキシシランとを反応させる。
［式３］
ＨＳｉＲａＲｂＲｃ
上記式３において、Ｒａ〜Ｒｃのうち少なくとも１つはＣ１−Ｃ５のアルコキシ基、残りはＣ１−Ｃ１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。
【００３２】
第１−２段階における反応の反応温度及び反応時間は、反応物に応じて異なるが、例えば、−２０℃〜１２０℃で１時間〜７２時間の間反応させることで、アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物が得られる。ここで、反応効率の面から、上記温度及び時間反応させることが好ましい。
【００３３】
上記アルコキシシリル化段階は、白金触媒の存在下で行われる。上記アルコキシシリル化反応で用いられることができる白金触媒としては、これに限定されるものではないが、例えば、ＰｔＯ２又はＨ２ＰｔＣｌ６（Ｃｈｌｏｒｏｐｌａｔｉｎｉｃ  ａｃｉｄ）の白金触媒を用いることができる。白金触媒は、中間生成物１−２のアルケニル基１当量に対して、１×１０−４〜１×１０−２当量で用いることが反応効率の面から好ましい。
【００３４】
上記アルコキシシリル化段階の反応において、溶媒は、必要に応じて任意に用いることができる。例えば、上記アルコキシシリル化段階の反応において、別の溶媒がなくても反応温度で反応物の粘度が反応の進行に適する場合には、溶媒を使用しなくてもよい。すなわち、反応物の混合及び撹拌が溶媒なしでスムーズに進行することができる程度に反応物の粘度が低くなると、別の溶媒を必要としない。これは当業者が容易に判断することができる。溶媒を用いる場合、可能な溶媒としては、反応物を十分に溶解することができ、反応に如何なる悪影響を及ぼすことなく、反応後に容易に除去されることができるものであれば、如何なる非プロトン性溶媒（ａｐｒｏｔｉｃ  ｓｏｌｖｅｎｔ）を用いてもよい。これに限定されるものではないが、例えば、トルエン、アセトニトリル、ＴＨＦ（ｔｅｔｒａ  ｈｙｄｒｏ  ｆｕｒａｎ）、ＭＥＫ（ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｙｌ  ｋｅｔｏｎｅ）、ＤＭＦ（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）、ＤＭＳＯ（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｕｌｆｏｘｉｄｅ）、塩化メチレン（ＭＣ）などが用いられることができる。これらの溶媒は、単独で、あるいは２つ以上がともに用いられることができる。溶媒の使用量は、特に限定されず、反応物が十分に溶解され、反応に好ましくない影響を及ぼさない範囲で適量及び／又は適切な濃度で用いられることができる。尚、この技術分野の技術者は、これを考慮して適宜選択することができる。
【００３５】
（２）製造方法２
上記式ＦＦ〜ＬＦの化合物は、エステル化段階（第２−１段階）及びアルコキシシリル化段階（第２−２段階）を含む（製造方法２）の方法で製造されることができる。
【００３６】
第２−１段階であるエステル化段階では、出発物質２−１と、上記式１のアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は上記式２の酸無水物との反応により出発物質２−１のヒドロキシ基がエステル化した中間生成物２−２が得られる。
【００３７】
上記出発物質２−１は、下記式ＦＳ〜ＬＳで表されることができる。
【化３２】
0006918987.tif 000033
上記式ＦＳにおいて、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
上記式ＧＳにおいて、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＳにおいて、Ｓは
【化３３】
0006918987.tif 000034
であり、
上記式ＬＳにおいて、ｔは
【化３４】
0006918987.tif 000035
であり、
上記式ＩＳ〜ＬＳにおいて、ｎは１以上の整数であり、好ましくは１〜１００の整数である。
【００３８】
第２−１段階であるエステル化段階は、出発物質として上記出発物質２−１が用いられたことを除いては、上記（製造方法１）の第１−１段階であるエステル化段階と同一である。
【００３９】
中間生成物２−２は、下記式ＦＭ〜ＬＭで表されることができる。 
【化３５】
0006918987.tif 000036
上記式ＦＭにおいて、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
上記式ＧＭにおいて、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＭにおいて、Ｓは
【化３６】
0006918987.tif 000037
であり、
上記式ＬＭにおいて、ｔは
【化３７】
0006918987.tif 000038
であり、
上記式ＩＭ〜ＬＭにおいて、ｎは１以上の整数、好ましくは１〜１００の整数であることができる。
上記式ＦＭ〜ＬＭにおいて、Ｌのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、ここで、Ｒ１は上記で定義されたとおりであり、残りのＬは水素であることができる。
【００４０】
第２−２段階であるアルコキシシリル化段階では、上記中間生成物２−２と下記式４のイソシアネート系シランカップリング剤との反応により、本発明のアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物、具体的には、多数のＲのうち少なくとも１つは−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃ（ここで、ｍ、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃは上記で定義されたとおりである）であり、多数のＲのうち少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、ここで、Ｒ１は上記で定義されたとおりであり、多数のＲのうち残りのＲは水素であることができる、上記式ＦＦ〜ＩＦで表される化合物が得られる。
［式４］
ＯＣＮ−（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲａＲｂＲｃ
上記式４において、Ｒａ〜Ｒｃのうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、ｍは３〜１０の整数、好ましくは３〜６の整数である。
【００４１】
上記アルコキシシリル化段階において、上記中間生成物２−２と上記式４のイソシアネート系アルコキシシランは化学量論に基づいて当量比で反応するため、これを考慮し、例えば、上記中間生成物２−２のヒドロキシ基１当量に対して、上記式４のイソシアネート系アルコキシシランが０．０１当量〜１当量になるように反応させることができる。上記アルコキシシリル化段階は、−２０℃〜１２０℃で１時間〜７２時間の間反応させることにより行うことができる。ここで、反応効率の面から、上記温度及び時間反応させることが好ましい。
【００４２】
上記アルコキシシリル化段階における反応は、必要に応じて、塩基の存在下で行うことができる。この場合、別の塩基を用いなくても反応の進行が、反応速度が多少遅くなる可能性がある。塩基を用いる場合には反応速度をより速くすることができる。使用可能な塩基の例として、これに限定されるものではないが、例えば、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、
ＫＨＣＯ３、ＮａＨＣＯ３、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどを挙げることができる。これらの塩基は、単独で、あるいは２つ以上がともに用いられることができる。塩基を用いる場合、塩基は、上記出発物質２−２のヒドロキシ基１当量に対して０．１当量〜５当量で用いることが反応効率の面からよい。
【００４３】
上記アルコキシシリル化段階における溶媒は、必要に応じて任意に用いることができる。例えば、上記アルコキシシリル化段階における反応に関連し、別の溶媒がなくても、反応温度で反応物の粘度が反応の進行に適する場合には溶媒を用いなくてもよい。すなわち、反応物の混合及び撹拌が溶媒なしでスムーズに進行することができる程度に反応物の粘度が低くなると別の溶媒を必要としない。これは、当業者が容易に判断することができるものである。溶媒を用いる場合、可能な溶媒としては、反応物を十分に溶解することができ、反応に如何なる悪影響を及ぼすことなく、反応後に容易に除去されることができるものであれば、如何なる非プロトン性溶媒（ａｐｒｏｔｉｃ  ｓｏｌｖｅｎｔ）を用いてもよい。これに限定されるものではないが、例えば、トルエン、アセトニトリル、ＴＨＦ（ｔｅｔｒａ  ｈｙｄｒｏ  ｆｕｒａｎ）、ＭＥＫ（ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｙｌ  ｋｅｔｏｎｅ）、ＤＭＦ（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）、ＤＭＳＯ（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｕｌｆｏｘｉｄｅ）、塩化メチレン（ＭＣ）などが用いられることができる。これらの溶媒は、単独で、あるいは２つ以上がともに用いられることができる。溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、反応物が十分に溶解され、反応に好ましくない影響を及ぼさない範囲で適量を用いることができ、この技術分野における技術者は、これを考慮して適宜選択することができる。
【００４４】
（３）製造方法３
上記式ＦＦ〜ＬＦの化合物は、出発物質３−１のアルケニル化段階（第３−１段階）、エステル化段階（第３−２段階）、及びアルコキシシリル化段階（第３−３段階）を含む（製造方法３）の方法で製造されることができる。
【００４５】
上記第３−１段階である出発物質３−１のアルケニル化段階の反応は、出発物質３−１と下記式５のアルケニル化合物とを反応させることで行う。出発物質３−１と下記式５のアルケニル化合物は化学量論的当量比で反応する。したがって、これを考慮し、例えば、出発物質３−１及びアルケニル化合物は、上記アルケニル化合物が出発物質３−１のヒドロキシ基１当量に対して、アルケニル基０．０１〜１当量未満になるように反応させることができる。
【００４６】
上記出発物質３−１は、上記出発物質２−１と同一であり、具体的には、上記式ＦＳ〜ＩＳで表される化合物であることができる。
【００４７】
［式５］
Ｘ−（ＣＨ２）ｌ−ＣＨ＝ＣＨ２
上記式５において、１は１〜８の整数であり、好ましくは１〜４の整数であり、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩのようなハロゲン、Ｏ−ＳＯ２−ＣＨ３、−Ｏ−ＳＯ２−ＣＦ３、又は−Ｏ−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ３である。
【００４８】
上記アルケニル化段階における反応の反応温度及び反応時間は、反応物の種類に応じて異なるが、例えば、−２０℃〜１００℃で１時間〜１２０時の間反応させることにより中間生成物３−２（１）が得られる。上記中間生成物３−２（１）は、下記式ＦＭ１〜ＬＭ１で表されることができる。
【００４９】
【化３８】
0006918987.tif 000039
上記式ＦＭ１において、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ
ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
上記式ＧＭ１において、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１−Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＭ１において、Ｓは
【化３９】
0006918987.tif 000040
であり、
上記式ＬＭ１において、ｔは
【化４０】
0006918987.tif 000041
であり、
上記式ＩＭ１〜ＬＭ１において、ｎは１以上の整数、好ましくは１〜１００の整数であることができる。
上記式ＦＭ１〜ＬＭ１において、Ｍのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、１は１〜８の整数、好ましくは１〜４の整数であり、残りのＭは水素であることができる。
【００５０】
上記アルケニル化段階は、塩基及び任意の溶媒の存在下で行うことができる。使用可能な塩基の例として、これに限定されるものではないが、例えば、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＫＨＣＯ３、ＮａＨＣＯ３、ＮａＨ、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンを挙げることができる。これらの塩基は、単独で、あるいは２つ以上がともに用いられることができる。塩基は、上記出発物質３−１のヒドロキシ基１当量に対して０．１当量〜５当量で用いることが反応効率の面からよい。
【００５１】
上記アルケニル化段階の反応における溶媒は、必要に応じて任意に用いることができる。例えば、アルケニル化段階の反応において、別の溶媒がなくても、反応温度で反応物の粘度が反応の進行に適する場合には溶媒を用いなくてもよい。すなわち、反応物の混合及び撹拌が溶媒なしでスムーズに進行することができる程度に反応物の粘度が低くなると別の溶媒を必要としない。これは、当業者が容易に判断することができるものである。溶媒を用いる場合、可能な溶媒としては、反応物を十分に溶解することができ、反応に如何なる悪影響を及ぼすことなく、反応後に容易に除去されることができるものであれば、如何なる有機溶媒を用いてもよい。これに特に限定されるものではないが、例えば、アセトニトリル、ＴＨＦ（ｔｅｔｒａ  ｈｙｄｒｏ  ｆｕｒａｎ）、ＭＥＫ（ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｙｌ  ｋｅｔｏｎｅ）、ＤＭＦ（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）、ＤＭＳＯ（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｕｌｆｏｘｉｄｅ）、塩化メチレン（ＭＣ）、Ｈ２Ｏ、アルコール類、及びトルエンなどが用いられることができる。これらの溶媒は、単独で、あるいは２つ以上がともに用いられることができる。溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、反応物が十分に溶解され、反応に好ましくない影響を及ぼさない範囲で適量及び／又は適切な濃度で用いられることができ、この技術分野における技術者は、これを考慮して適宜選択することができる。
【００５２】
第３−２段階のエステル化段階及び第３−３段階のアルコキシシリル化段階は、製造方法１の第１−１段階のエステル化段階及び第１−２段階のアルコキシシリル化段階とそれぞれ同一である。
【００５３】
具体的には、第３−２段階であるエステル化段階では、第３−１段階で得られた中間生成物３−２（１）と、上記式１のアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は式２の酸無水物との反応により、中間生成物３−２（１）をエステル化して中間生成物３−２（２）を得る。第３−２段階は、中間生成物３−２（１）と、上記式１のアシル化合物（ａｃｙｌ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）又は式２の酸無水物とを反応させること以外には、上記第１−１段階であるエステル化段階の反応と同一である。第３−２段階で得られる中間生成物３−２（２）は、下記式ＦＭ２〜ＬＭ２で表される化合物であることができる。
【００５４】
【化４１】
0006918987.tif 000042
上記式ＦＭ２において、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ
ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
上記式ＧＭ２において、ｒは、水素、ヒドロキシ基、Ｃ１−Ｃ１０のアルキル基又はＣ１−Ｃ１０の芳香族基、好ましくはＣ６−Ｃ１０の芳香族基であり、
上記式ＩＭ２において、Ｓは
【化４２】
0006918987.tif 000043
であり、
上記式ＬＭ２において、ｔは
【化４３】
0006918987.tif 000044
であり、
上記式ＩＭ２〜ＬＭ２において、ｎは１以上の整数、好ましくは１〜１００の整数であることができる。
上記式ＦＭ２〜ＬＭ２のＮのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２であり、ここで、１は１〜８の整数、好ましくは１〜４の整数であり、少なくとも１つは−ＣＯＲ１であり、ここで、Ｒ１は上記で定義されたとおりであり、残りのＮは水素であることができる。
【００５５】
第３−３段階であるアルコキシシリル化段階は、上記中間生成物３−２（２）と、上記式３のアルコキシシランとを反応させること以外には、上記第１−２段階であるアルコキシシリル化段階の反応と同一である。上記第３−３段階であるアルコキシシリル化段階の反応により、本発明のアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物、具体的には、多数のＲのうち少なくとも１つは−（ＣＨ２）ｍＳｉＲａＲｂＲｃ（ｍ、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃは上記で定義されたとおりである）であり、多数のＲのうち少なくとも１つは−ＣＯ−Ｒ１であり、ここで、Ｒ１は上記で定義されたとおりであり、多数のＲのうち残りはそれぞれ、独立して、水素又は−（ＣＨ２）ｌＣＨＣＨ２（ここで、ｌは上記で定義されたとおりである）のアルケニル基であることができる、上記式ＦＦ〜ＩＦで表される化合物が得られる。
【００５６】
３．アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を含む組成物
本発明によると、上記アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を含む組成物が提供される。本発明の上記アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物は、エポキシ組成物の物性、具体的には、低吸湿性及び/又は低誘電特性を改善させるために配合されるものであって、従来の技術分野において知られている如何なるエポキシ組成物に配合されてもよく、本発明のアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物が配合されることができるエポキシ組成物は特に限定されるものではない。
【００５７】
例えば、上記アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物は、エポキシ化合物、硬化剤及び充填剤を含むエポキシ組成物への添加剤として用いることができる。
【００５８】
上記アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を含むエポキシ組成物における上記エポキシ化合物は、この技術分野において一般に知られている如何なるエポキシ化合物であってもよい。これに限定されるものではないが、上記エポキシ化合物の例として、グリシジルエーテル系、グリシジル系、グリシジルアミン系、及びグリシジルエステル系エポキシ化合物で構成される群から選択される少なくとも１種であることができる。また、例えば、上記エポキシ化合物は、ビスフェノール系、ビフェニル系、ナフタレン系、ベンゼン系、チオジフェノール系、フルオレン系、アントラセン系、イソシアヌレート系、トリフェニルメタン系、１，１，２，２−テトラフェニルエタン系、テトラフェニルメタン系、４，４’−ジアミノジフェニルメタン系、アミノフェノール系、脂環族系、脂肪族系、及びノボラック系エポキシ化合物で構成される群から選択される少なくとも１種であることができる。上記エポキシ化合物は、少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するものであってもよく、又はアルコキシシリル基を有さないものであってもよい。さらに、上記少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、例えば、ビスフェノール系、ビフェニル系、ナフタレン系、ベンゼン系、チオジフェノール系、フルオレン系、アントラセン系、イソシアヌレート系、トリフェニルメタン系、１，１，２，２
−テトラフェニルエタン系、テトラフェニルメタン系、４，４’−ジアミノジフェニルメタン系、アミノフェノール系、脂環族系、脂肪族系、及びノボラック系で構成される群から選択されるコア構造を有することができる。より具体的には、上記少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、例えば、本出願人の韓国特許出願第２０１２−００９３３２０号公報、第２０１３−００２７３０８号公報、第２０１３−００３５５４６号公報、第２０１３−００７８３４７号公報、第２０１３−０１１１４７３号公報、第２０１４−００２１８８４号公報、及び／又は第２０１４−０１７５９３７号公報に記載されたものであってもよい。
【００５９】
上記韓国特許出願第２０１２−００９３３２０号公報のうち少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、例えば、下記式Ａ’〜Ｋ’で構成される群から選択されるコアに、少なくとも１つの下記式Ｓ１の置換基及び２つの下記式Ｓ２のエポキシ基を含むアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物であることができる。
【化４４】
0006918987.tif 000045
（上記式Ｄ’において、Ｙは、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−又は−ＳＯ２−である。）
［式Ｓ１］
−ＣＲｂＲｃ−ＣＨＲａ−ＣＨ２−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
（上記式Ｓ１において、上記Ｒａ、Ｒｂ、及びＲＣはそれぞれ、独立して、Ｈ又は炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜６のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。）
【化４５】
0006918987.tif 000046
【００６０】
上記韓国特許出願第２０１３−００２７３０８号公報のうち少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、例えば、下記式ＡＩ〜ＨＩで構成される群から選択されるアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物であることができる。
【化４６】
0006918987.tif 000047
（上記式ＡＩ又は式ＢＩの置換基ａ〜ｃのうち１又は２は下記式Ｓ１であり、１または２は下記式Ｓ２又は式Ｓ３であり、残りは水素又は−（ＣＨ２）Ｚ−２ＣＨ＝ＣＨ２（式中ｚは３〜１０の整数である）であってもよく、
上記式ＣＩ〜ＨＩの置換基ａ〜ｄのうち１〜３は下記式Ｓ１であり、１〜３は下記式Ｓ２又は式Ｓ３であり、残りは水素又は−（ＣＨ２）Ｚ−２ＣＨ＝ＣＨ２（式中ｚは３〜１０の整数である）であってもよく、
上記式ＢＩは、酸素のメタ位置で直鎖状又は分岐鎖状のＣ１−Ｃ１０のアルキル基で置換されることができ、
上記式ＣＩにおいて、Ｘは、単一結合、−ＣＨ２−又は
【化４７】
0006918987.tif 000048
（ＲｂはＨもしくはＣ１−Ｃ３のアルキル基である）であり、
上記式ＥＩにおいて、Ｙは、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、
−Ｓ−又は−ＳＯ２−であり、
上記式ＦＩにおいて、ＲａはＨもしくはＣ１−Ｃ３のアルキル基である。）
【化４８】
0006918987.tif 000049
［式Ｓ２］
−（ＣＨ２）ｚ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
［式Ｓ３］
−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｚ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
（上記式Ｓ２及び式Ｓ３において、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖状であり、ｚは３〜１０の整数である。）
【００６１】
上記韓国特許出願第２０１３−００３５５４６号公報のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、下記式１のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物であることができる。
【化４９】
0006918987.tif 000050
（上記式１において、上記コアユニットＣは下記式２−１〜２−５の構造からそれぞれ独立して選択され、上記式１に存在する多数のコアユニットＣにおける、それぞれのコアユニットＣは互いに同一であってもよく、又は異なってもよく、
【化５０】
0006918987.tif 000051
上記式２−１において、Ｘは、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−又は−ＳＯ２−であり、
上記式２−３において、Ｙは、Ｈ及びＣ１〜Ｃ５のアルキル基で構成される群からそれぞれ独立して選択され、
ｎは１〜１０の整数であり、ｎが１である場合、Ｒは下記式３ａ又は式３ｂの構造であり、ｎが２以上である場合、多数のＲのうち少なくとも１つは下記式３ａ又は式３ｂの構造であり、残りは水素であり、上記式１のエポキシ化合物のうちコアユニットはすべて、Ｘが−Ｃ（ＣＨ３）２−であり、Ｒが下記式３ｂである、上記式２−１のエポキシ化合物は除外される。
［式３ａ］
−（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲａＲｂＲｃ
［式３ｂ］
−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲａＲｂＲｃ
（上記式３ａ及び式３ｂにおいて、Ｒａ〜Ｒｃのうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、ｍは３〜１０の整数である。）
【００６２】
上記韓国特許出願第２０１３−００７８３４７号公報のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、下記式Ｉ−１〜Ｉ−４で構成される群から選択される少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するノボラック系エポキシ化合物であることができる。
【化５１】
0006918987.tif 000052
（上記式Ｉ−１において、Ｚは、下記式１Ａ〜１Ｆで構成される群のうち１つである。
【化５２】
0006918987.tif 000053
【化５３】
0006918987.tif 000054
（式において、ｘは
【化５４】
0006918987.tif 000055
であり、
【化５５】
0006918987.tif 000056
におけるＲはＣ１−Ｃ１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である。）
（上記式Ｉ−１〜Ｉ−４において、多数のＡのうち少なくとも２つは下記式Ａ２の構造であり、少なくとも１つは下記式Ａ３又は式Ａ４であり、少なくとも１つがＡ３である場合、残りのＡは下記式Ｂ３又は水素であり、少なくとも１つがＡ４である場合、残りのＡは水素であり、
上記式Ｉ−１において、Ｚが１Ａ〜１Ｅである場合、ｎは２以上の整数であり、
Ｚが１Ｆである場合、ｎは１以上の整数であり、
上記式Ｉ−２及び式Ｉ−３において、ｎは１以上の整数であり、
上記式Ｉ−４において、ｘが
【化５６】
0006918987.tif 000057
である場合、ｎは２以上の整数であり、
ｘが
【化５７】
0006918987.tif 000058
である場合、ｎは１以上の整数であり、
上記式Ｉ−４において、ｐは１又は２である。）
【化５８】
0006918987.tif 000059
［式Ａ３］
−（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
［式Ａ４］
−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
（上記式Ａ３及び式Ａ４において、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０アルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であり、ｍは３〜１０の整数である。）
［式Ｂ３］
−（ＣＨ２）ｌ−ＣＨ＝ＣＨ２
（式中、１は１〜８の整数である。）
【００６３】
上記韓国特許出願第２０１３−０１１１４７３号公報のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、下記式Ａ’〜Ｎ’で構成される群から選択される１種のコアに、（１）下記式Ｓ１１〜Ｓ１６で構成される群から独立して選択されるか、（２）下記式Ｓ２１〜Ｓ２６で構成される群から独立して選択されるか、（３）下記式Ｓ１１〜Ｓ１６、及び下記式Ｓ３１〜Ｓ３８で構成される群から独立して選択されるか、又は（４）下記式Ｓ２１〜Ｓ２６、及び下記式Ｓ３１〜Ｓ３８で構成される群から独立して選択される、少なくとも１つのアルコキシシリル基と、下記式Ｓ５１〜Ｓ５８で構成される群から独立して選択される少なくとも２つのエポキシ基と、を有する、アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物であることができる。
【化５９】
0006918987.tif 000060
（上記式Ａ’において、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
上記式Ｄ’において、−ｒ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２
−、−ＳＯ２−、又は−Ｓ−であり、
上記式Ｋ’において、ｓは
【化６０】
0006918987.tif 000061
であり、
上記式Ｎ’において、ｔは
【化６１】
0006918987.tif 000062
であり、
上記式Ｋ’〜Ｎ’において、ｎは１以上の整数である。）
【化６２】
0006918987.tif 000063
（上記式Ｓ１１〜Ｓ１６において、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。）
【化６３】
0006918987.tif 000064
（上記式Ｓ２１〜Ｓ２６において、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５のア
ルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。）
【化６４】
0006918987.tif 000065
（上記式Ｓ３１〜Ｓ３８において、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。）
【化６５】
0006918987.tif 000066
（但し、上記式Ｓ５６〜Ｓ５８において、上記Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルコキシ基及びアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。）
【００６４】
上記韓国特許出願第２０１４−００２１８８４号公報のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、下記式ＡＦ〜ＮＦで構成される群から選択される化合物で表される、アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物であることができる。
【化６６】
0006918987.tif 000067
（上記式ＤＦにおいて、−ｐ−は、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、
【化６７】
0006918987.tif 000068
であり、
（上記式ＥＦにおいて、−ｑ−は、−ＣＨ２−であるか、又は直接結合（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｉｎｋａｇｅ）であり、
（上記式ＨＦにおいて、Ｒは、水素、ヒドロキシ基、アルキル基（Ｃ１〜Ｃ１０）又は芳香族であり、
上記式ＫＦにおいて、Ｓは
【化６８】
0006918987.tif 000069
であり、
上記式ＮＦにおいて、ｔは
【化６９】
0006918987.tif 000070
であり、
上記式ＫＦ〜ＮＦにおいて、ｎは１以上の整数であり、
上記式ＡＦ、ＢＦ、ＤＦ〜ＩＦ、及びＫＦ〜ＮＦの多数のＭのうち少なくとも２つは下記式Ｓ４１〜Ｓ４５で構成される群から選択されるエポキシ基であり、少なくとも１つは下記式Ｓ１１〜Ｓ１５で構成される群から独立して選択されるＳ１置換基又は下記式Ｓ２１〜Ｓ２５で構成される群から独立して選択されるＳ２置換基であるアルコキシシリル基であり、残りは水素、又は下記式Ｓ３１〜Ｓ３５で構成される群から選択される下記式Ｓ３の置換基であり、上記式ＣＦ及びＪＦの多数のＭのうち少なくとも２つは下記式Ｓ４２のエポキシ基であり、残りの１つは下記式Ｓ１２又は下記式Ｓ２２のアルコキシシリル基である。
【化７０】
0006918987.tif 000071
（但し、上記式Ｓ１１〜Ｓ１５において、上記Ｘ１は、ＯＲ４、ＯＨ、ＮＲ４Ｒ５、ＳＲ４、又はＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３であり、Ｘ１’はＣＯＮＨ（ＣＨ２）３ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３である。また、上記Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基である。但し、Ｒ４又はＲ５は炭素数１〜２０の間のアルキル基、アリール基、又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基であってもよく、Ｎ、Ｏ、Ｐ又はＳを含むヘテロ化合物を含むことができる。）
【化７１】
0006918987.tif 000072
（但し、上記式Ｓ２１〜Ｓ２５において、上記Ｘ２は、ＯＲ４、ＯＨ、ＮＲ４Ｒ５、ＳＲ４、又はＯ（ＣＨ２）ｎＣＨ２ＣＨ２ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３であり、Ｘ２’は（ＣＨ２）ｎＣＨ２ＣＨ２ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３である。また、上記Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基である。但し、Ｒ４又はＲ５は、炭素数１〜２０の間のアルキル基、アリール基、又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基であってもよく、Ｎ、Ｏ、Ｐ又はＳを含むヘテロ化合物を含むことができる。）
【化７２】
0006918987.tif 000073
（上記Ｘ３は、ＯＲ４、ＯＨ、ＮＲ４Ｒ５、ＳＲ４、ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３又はＯ（ＣＨ２）ｎＣＨ２ＣＨ２ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３であり、Ｘ３’はＨ、ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３又は（ＣＨ２）ｎＣＨ２ＣＨ２ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３である。また、上記Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基である。但し、Ｒ４又はＲ５は、炭素数１〜２０の間のアルキル基、アリール基、又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基であってもよく、Ｎ、Ｏ、Ｐ又はＳを含むヘテロ化合物を含むことができる。）
【化７３】
0006918987.tif 000074
（但し、上記式Ｓ３１〜Ｓ３５において、上記Ｘは、ＯＲ４、ＯＨ、ＮＲ４Ｒ５、又はＳＲ４である。また、Ｒ４又はＲ５は、炭素数１〜２０の間のアルキル基、アリール基、又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基であってもよく、Ｎ、Ｏ、Ｐ又はＳを含むヘテロ化合物を含むことができる。）
【００６５】
上記韓国特許出願第２０１４−０１７５９３７号公報のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物は、コアに、ｉ）下記式Ｅ１及び式Ｅ２のエポキシ基から選択される少なくとも２つのエポキシ基；ｉｉ）下記式Ａ１〜式Ａ５で構成される群から選択される少なくとも１つのアルコキシシリル基；ｉｉｉ）下記式Ａ６〜Ａ１０で構成される群から選択される少なくとも１つの非反応性シリル基、アルケニル基、又はこれらの組み合わせを有するエポキシ化合物であることができる。
【化７４】
0006918987.tif 000075
［式Ａ１］
−ＣＲｂＲｃ−ＣＨＲａ−ＣＨ２−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
［式Ａ２］
−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ＋２−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
［式Ａ３］
−Ｏ−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
［式Ａ４］
−（ＣＨ２）ｍ＋２−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
［式Ａ５］
−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
（上記式Ａ１において、上記Ｒａ、Ｒｂ、及びＲＣはそれぞれ、独立して、Ｈ又は炭素数１〜６のアルキル基であり、上記式Ａ１〜式Ａ５において、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜６のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０のアルキル基であり、上記アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、環状又は非環状であってもよく、Ｎ、Ｏ、Ｓ、又はＰのヘテロ原子を有してもよく、もしくは有さなくてもよく、ｍは１〜１０の整数である。）
［式Ａ６］
−ＣＲｂＲｃ−ＣＨＲａ−ＣＨ２−ＳｉＲ４Ｒ５Ｒ６
［式Ａ７］
−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ＋２−ＳｉＲ４Ｒ５Ｒ６
［式Ａ８］
−Ｏ−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲ４Ｒ５Ｒ６
［式Ａ９］
−（ＣＨ２）ｍ＋２−ＳｉＲ４Ｒ５Ｒ６
［式Ａ１０］
−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲ４Ｒ５Ｒ６
（上記式Ａ６において、上記Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃはそれぞれ、独立して、Ｈ又は炭素数１〜６のアルキル基であり、上記式Ａ６〜Ａ１０において、Ｒ４〜Ｒ６は炭素数１〜２０の脂肪族、脂環族、又は芳香族の非反応性基であり、上記非反応性基は直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、環状又は非環状であってもよく、Ｎ、Ｏ、Ｓ、又はＰのヘテロ原子を有してもよく、もしくは有さなくてもよく、ｍは１〜１０の整数である。）
【００６６】
上記エポキシ化合物としては、少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、及びアルコキシシリル基を有さないエポキシ化合物がそれぞれ、単独で用いられるか、又はこれらがともに用いられることができる。
【００６７】
上記硬化剤も、この技術分野において知られている如何なる硬化剤であってもよく、特に限定されるものではないが、例えば、ポリフェノール、アミン、酸無水物硬化剤などが用いられることができる。
【００６８】
より具体的には、これに限定されるものではないが、フェノール硬化剤の例としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールＡノボラック樹脂、キシレンノボラック樹脂、トリフェニルノボラック樹脂、ビフェニルノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック樹脂、ナフタレンノボラック樹脂などが挙げられる。上記フェノール硬化剤は、少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するものであってもよく、又はアルコキシシリル基を有さないものであってもよい。
【００６９】
上記フェノール硬化剤としては、少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するフェノール硬化剤、及びアルコキシシリル基を有さないフェノール硬化剤がそれぞれ、単独で用いられるか、又はこれらがともに用いられることができる。上記少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するフェノール硬化剤は、例えば、本出願人の韓国特許出願第２０１５−０００２６７５号公報に記載されたものであってもよい。
【００７０】
上記韓国特許出願第２０１５−０００２６７５号の硬化剤は、下記式Ｉ−１〜Ｉ−４で構成される群から選択される少なくとも１つのアルコキシシリル基を有するノボラック硬化剤である。
【化７５】
0006918987.tif 000076
（上記式Ｉ−１において、Ｚは、下記式１Ａ〜１Ｆで構成される群の一つである。
【化７６】
0006918987.tif 000077
【化７７】
0006918987.tif 000078
（上記式Ｉ−４において、ｐは１又は２であり、
ｘは
【化７８】
0006918987.tif 000079
であり、
【化７９】
0006918987.tif 000080
におけるＲはＣ１−Ｃ１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である。）
（上記式Ｉ−１〜Ｉ−４において、少なくとも１つのＡは下記式Ａ２又は式Ａ３であり、少なくとも１つのＡがＡ２である場合、残りのＡは下記式Ｂ２又は水素であり、少なくとも１つのＡがＡ３である場合、残りのＡは水素であり、ｎは１以上の整数である。）
［式Ａ２］
−（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
［式Ａ３］
−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｍ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３
（上記式Ａ２及び式Ａ３において、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも１つは炭素数１〜５の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基であり、残りは炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であり、ｍは３〜１０の整数である。）
［式Ｂ２］
−（ＣＨ２）ｌ−ＣＨ＝ＣＨ２
（式中、１は１〜８の整数である。）
【００７１】
これに限定されるものではないが、アミン硬化剤としては、脂肪族アミン、脂環族アミン、芳香族アミン、その他のアミン、及び変性ポリアミンを用いることができ、２つ以上の１次アミン基を含むアミン化合物を用いることができる。上記アミン硬化剤の具体的な例としては、４，４’−ジメチルアニリン（ジアミノジフェニルメタン）（４，４’−Ｄｉｍｅｔｈｙｌａｎｉｌｉｎｅ（ｄｉａｍｉｎｏ  ｄｉｐｈｅｎｙｌ  ｍｅｔｈａｎｅ、ＤＡＭ又はＤＤＭ）、ジアミノジフェニルスルホン（ｄｉａｍｉｎｏ  ｄｉｐｈｅｎｙｌ
ｓｕｌｆｏｎｅ、ＤＤＳ）、ｍ−フェニレンジアミン（ｍ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ  ｄｉａｍｉｎｅ）で構成される群から選択される１種以上の芳香族アミン、ジエチレントリアミン（ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｒｉａｍｉｎｅ、ＤＥＴＡ）、ジエチレンテトラアミン（ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｔｒａｍｉｎｅ）、トリエチレンテトラアミン（ｔｒｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｔｒａｍｉｎｅ、ＴＥＴＡ）、ｍ−キシレンジアミン（ｍ−ｘｙｌｅｎｅ  ｄｉａｍｉｎｅ、ＭＸＤＡ）、メタンジアミン（ｍｅｔｈａｎｅ  ｄｉａｍｉｎｅ、ＭＤＡ）、Ｎ，Ｎ’−ジエチレンジアミン（Ｎ，Ｎ’−ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅ、Ｎ，Ｎ’−ＤＥＤＡ）、テトラエチレンペンタアミン（ｔｅｔｒａｅｔｈｙｌｅｎｅｐｅｎｔａａｍｉｎｅ、ＴＥＰＡ）、及びヘキサメチレンジアミン（ｈｅｘａｍｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅ）で構成される群から選択される少なくとも１種以上の脂肪族アミン、イソホロンジアミン（ｉｓｏｐｈｏｒｏｎｅ  ｄｉａｍｉｎｅ、ＩＰＤＩ）、Ｎ−アミノエチルピペラジン（Ｎ−ａｍｉｎｏｅｔｈｙｌ  ｐｉｐｅｒａｚｉｎｅ、ＡＥＰ）、ビス（４−アミノ３−メチルシクロヘキシル）メタン（Ｂｉｓ（４−ａｍｉｎｏ
３−ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈａｎｅ、Ｌａｒｏｍｉｎｃ  ２６０
）で構成される群から選択される１種以上の脂環族アミン、ジシアンジアミド（ＤＩＣＹ）などのようなその他のアミン、ポリアミド系、エポキシド系などの変性アミンを挙げることができる。
【００７２】
これに限定されるものではないが、酸無水物硬化剤の例としては、ドデセニルこはく酸無水物（ｄｏｄｅｃｅｎｙｌ  ｓｕｃｃｉｎｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ、ＤＤＳＡ）、ポリアゼライン酸ポリ無水物（ｐｏｌｙ  ａｚｅｌａｉｃ  ｐｏｌｙ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）などのような脂肪族酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物（ｈｅｘａｈｙｄｒｏｐｈｔｈａｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ、ＨＨＰＡ）、メチルテトラヒドロフタル酸無水物（ｍｅｔｈｙｌ  ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｐｈｔｈａｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ、ＭｅＴＨＰＡ）、メチルナジック酸無水物（ｍｅｔｈｙｌｎａｄｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ、ＭＮＡ）などのような脂環族酸無水物、トリメリット酸無水物（ｔｒｉｍｅｌｌｉｔｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ、ＴＭＡ）、ピロメリット酸二無水物（ｐｙｒｏｍｅｌｌｉｔｉｃ  ａｃｉｄ  ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ、ＰＭＤＡ）、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅｔｅｔｒａｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ  ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ、ＢＴＤＡ）などのような芳香族酸無水物、テトラブロモフタル酸無水物（ｔｅｔｒａｂｒｏｍｏｐｈｔｈａｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ、ＴＢＰＡ）、クロレンディック酸無水物（ｃｈｌｏｒｅｎｄｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）などのようなハロゲン系酸無水物などを挙げることができる。
【００７３】
一般に、硬化剤とエポキシ基との反応程度によりエポキシ複合体の硬化度を調整することができ、所望の硬化度の範囲に応じてエポキシ化合物のエポキシ基の濃度を基準に硬化剤の含有量を調整することができる。例えば、フェノール硬化剤が用いられる場合には、フェノール硬化剤とエポキシ基との当量反応ではエポキシ当量／フェノール当量比が０．５〜２．０になるように、また、例えば、０．８〜１．５になるように硬化剤の含有量を調整して用いることが好ましい。
【００７４】
フェノール硬化剤の場合を例に挙げて硬化剤の配合量について説明したが、ポリフェノール硬化剤、酸無水物硬化剤、及び本明細書に別に記載しないエポキシ化合物の硬化に用いることができる如何なる硬化剤も、所望の硬化度の範囲に応じて、エポキシ組成物のうち総エポキシ基の濃度を基準にエポキシ基と硬化剤の反応性官能基の化学反応式に基づいて化学量論量で適宜配合して用いることができる。これは、この技術分野において一般的である。
【００７５】
上記充填剤も、この技術分野において知られている如何なるものでも用いられることができ、特に限定されない。充填剤としては、無機粒子及び／又は繊維が用いられることができる。
【００７６】
無機粒子としては、従来、有機樹脂の物性を補強するために用いられるものとして知られている如何なる無機粒子を用いてもよく、これに限定されるものではないが、金属酸化物、例えば、シリカ（例えば、溶融シリカ及び結晶性シリカを含む）、ジルコニア、チタニア、アルミナ、窒化ケイ素、及び窒化アルミニウムで構成される群から選択される少なくとも１種の金属酸化物、及びシルセスキオキサンで構成される群から選択される少なくとも１種を用いることができる。上記無機粒子は、単独で、又は２種以上の混合物が用いられることができる。
【００７７】
上記無機粒子としては、これに限定されるものではないが、複合体の使用用途、具体的には、無機粒子の分散性などを考慮して、粒子サイズ０．５ｎｍ〜数十μｍ（例えば、５０μｍ〜１００μｍ）の無機粒子を用いることができる。無機粒子は、エポキシ化合物に分散するため、粒子サイズに応じた分散性の差異により、上記したサイズの無機粒子をと
もに用いることが好ましい。さらに、無機粒子の配合量を高めるために、無機粒子の粒子サイズの分布を広くして配合することが好ましい。
【００７８】
繊維としては、これに限定されるものではないが、従来の有機樹脂硬化物の物性を改善させるために用いられた一般の如何なる繊維を用いてもよい。具体的には、ガラス繊維、有機繊維、又はこれらの混合物が用いられることができる。また、本明細書で用いられる用語「ガラス繊維」とは、ガラス繊維だけでなく、ガラス繊維織物、ガラス繊維不織物などを含む意味で用いられる。これに限定されるものではないが、ガラス繊維としては、Ｅガラス繊維、Ｔガラス繊維、Ｓガラス繊維、ＮＥガラス繊維、Ｄガラス繊維、石英ガラス繊維などのガラス繊維を例に挙げることができ、例えば、Ｅ又はＴガラス繊維を例に挙げることができる。有機繊維としては、これに特に限定されるものではないが、液晶ポリエステル繊維、ポリエチレンテレフタレート繊維、全芳香族繊維、ポリベンゾオキサゾール繊維、ナイロン繊維、ポリエチレンナフタレート繊維、ポリプロピレン繊維、ポリエーテルスルホン繊維、フッ化ポリビニリデン繊維、ポリエチレンスルフィド繊維、ポリエーテルエーテルケトン繊維で構成される群から選択される少なくとも１種が単独で、又は２種以上がともに用いられることができる。
【００７９】
さらに、上記エポキシ組成物は、エポキシ組成物の物性を損傷させない範囲で、エポキシ組成物の物性調整のために一般に配合される硬化触媒、有機溶剤、離型剤、表面処理剤、難燃剤、可塑剤、抗菌剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤、安定剤、カップリング剤、粘度調整剤、希釈剤などの他の添加剤が必要に応じて配合されることができる。
【００８０】
上記した成分を含むエポキシ組成物は、例えば、以下のように組成されることができる。
【００８１】
例えば、（Ａ）エポキシ化合物、（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）充填剤、（Ｄ）任意の硬化触媒及び／又は添加剤、及び（Ｅ）上記アルコキシシリル基及び活性エステル基を含むことができる。
【００８２】
エポキシ組成物は、（Ａ）エポキシ化合物と（Ｂ）硬化剤との反応により硬化され、（Ａ）エポキシ化合物及び（Ｂ）硬化剤は、エポキシ化合物のエポキシ基と硬化剤の硬化反応基が１当量比で反応して硬化される。したがって、硬化程度及び反応性を考慮して、エポキシ組成物において、（Ｂ）硬化剤は、エポキシ化合物のエポキシ当量／硬化剤の硬化反応基の当量比が０．５〜２．０になるように、また、例えば、０．８〜１．５になるようにエポキシ組成物に含まれることができる。硬化剤の硬化反応基は、フェノール硬化剤である場合にはフェノール基、アミン硬化剤の場合にはアミン基、及び酸無水物硬化剤である場合には酸無水物基であってもよい。
【００８３】
（Ｅ）上記アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物は、（Ｂ）硬化剤の量を基準に配合される。すなわち、硬化剤：アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物が９９：１〜２０：８０の重量比になるように配合される。アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を、上記の範囲で配合することが低吸湿性の向上の面から好ましい。アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物が下限値よりも少なく配合されると、十分な低吸湿性の向上を期待することが難しく、上限値よりも過度に配合されると、硬化時におけるネットワーク構造の変化により吸湿特性が却って悪化する可能性がある。硬化剤：アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物は、好ましくは９９：１〜５０：５０の重量比、より好ましくは９７：３〜６０：４０の重量比になるように配合されることができる。
【００８４】
上記（Ｃ）充填剤は、エポキシ組成物の総固形分含有量（充填剤を含む）を基準に、総
固形分含有量１００重量部に対して、５〜９５重量部、例えば、５重量部〜９０重量部、例えば、１０重量部〜９０重量部、例えば、３０重量部〜９５重量部、例えば、３０重量部〜９０重量部、例えば、５重量部〜８５重量部、例えば、５重量部〜６０重量部、例えば、１０重量部〜８０重量部、例えば、１０重量部〜５０重量であってもよい。すなわち、総固形分含有量１００重量部に対して充填剤が５重量部であれば、充填剤を含むエポキシ組成物の固形分含有量１００ｇ当たりに充填剤の含有量が５ｇである。エポキシ組成物において、固形分とは、エポキシ組成物中の溶媒以外のすべての成分のことである。
【００８５】
すなわち、（Ｃ）充填剤は、上記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｅ）の合計含有量１００重量部を基準に、又は硬化触媒及び／又は添加剤が添加される場合には、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、及び（Ｅ）の合計量１００重量部を基準に、上記した重量部で含まれることができる。
【００８６】
充填剤は、エポキシ硬化物の熱膨張係数（ＣＴＥ）の減少、適用時に要求される適正な粘度及び用途に応じて、この技術分野における適切な量で配合されることができ、上記範囲で配合することにより、エポキシ組成物に要求される物性の発現の面から、上記範囲の量で配合されることができる。
【００８７】
例えば、上記エポキシ組成物は、溶媒中、上記成分（Ａ）〜（Ｅ）を固形分含有量が１重量％〜９５重量％になるように配合した後、溶媒を除去し、硬化させることで、必要な物品に製造することができる。上記溶媒中の固形分含有量は、必要とされる最終物品に応じて、この技術分野における技術者が適宜調整することができる。
【００８８】
上記本発明の任意の実施形態で提供されるエポキシ組成物は、半導体用及び／又は電気電子材料用として用いられることができる。具体的には、上記電子材料用として、プリプレグ、プリプレグに金属層が配置された積層板、基板、フィルム、プリント配線板、パッケージ材料などであってもよい。本発明の他の実施形態によると、本発明のアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を含む組成物で製造されたプリント配線板に半導体素子が搭載された半導体装置、及び／又は本発明のアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を含む組成物で製造された半導体パッケージ材料を含む半導体装置が提供される。
【００８９】
以下、実施例を挙げて本発明についてより詳細に説明する。
合成例１：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するビスフェノールＡの合成（製造方法１）
（１）第１段階
常温で２口フラスコに、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ（１−１）を２０ｇ、ＴＨＦを１００ｍｌ、ピリジンを５０ｇ入れて攪拌した。その後、ここに無水酢酸(acetic anhydride)を１４．６ｇ添加し、１時間攪拌した。反応終結後に、溶媒を除去し、エチルアセテートを３００ｍｌ入れ、Ｈ２Ｏとともにワークアップした。有機層にＭｇＳＯ４を入れ、残りのＨ２Ｏを除去した後、セライトフィルターでろ過して乾燥させ、エステル基：ヒドロキシ基の割合が１：１である中間生成物１−１を得た。得られた中間生成物１−１のＮＭＲデータは以下のとおりである。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．１７（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝３．２Ｈｚ）、７．０８（ｄｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、２．４Ｈｚ）、６．９７（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８Ｈｚ）、５．８６−５．７６（ｍ、２Ｈ）、５．０３−４．９８（ｍ、４Ｈ）、３．２１（ｄ、４Ｈ、Ｊ＝４．０Ｈｚ）、２．２５（ｓ、６Ｈ）、１．６３（ｓ、６Ｈ）
【００９０】
（２）第２段階
常温でフラスコに、上記中間生成物１−１を２０ｇ、ＰｔＯ２を０．２３ｇ、トリエト
キシシランを１８．４ｇ、及びトルエンを２５０ｍｌ入れて５分間、室温で攪拌した。その後、温度を８０℃にして１２時間加熱し、攪拌した後、常温に冷却し、セライトフィルターでろ過して無機物を除去した。その後、トルエンを除去及び乾燥させ、エステル基：エトキシシリル基の割合が１：１である最終生成物を得た。得られた最終生成物１−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．１８−６．９２（ｍ、６Ｈ）、３．７０（ｑ、１２Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、２．４６−２．４２（ｍ、４Ｈ）、２．２６（ｓ、６Ｈ）、１．６２（ｓ、６Ｈ）、１．５５−１．４７（ｍ、４Ｈ）、１．１３（ｔ、１８Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、０．５６−０．５２（ｍ、４Ｈ）
【００９１】
上記合成例１の合成スキームは、以下のとおりである。
【化８０】
0006918987.tif 000081
【００９２】
合成例２：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するビフェニルの合成（製造方法１）
出発物質、及び用いられた反応物の量が異なることを除いては、上記した合成例１と同様の方法で合成した。合成例２の合成スキームは、以下のとおりである。
【化８１】
0006918987.tif 000082
【００９３】
最終化合物２−２を合成するために用いられた１段階及び第２段階の反応物の量はそれぞれ下記表１及び表２に記載されたとおりである。
【００９４】
【表１】
0006918987.tif 000083
【００９５】
【表２】
0006918987.tif 000084
【００９６】
合成例２を介して得られた中間生成物２−１及び最終生成物２−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例２の１段階：中間生成物２−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ＝６．９４（ｄ、４Ｈ、Ｊ＝１０．６Ｈｚ）、６．８４（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．０３〜５．９３（ｍ、２Ｈ）、５．１２〜５．０５（ｍ、４Ｈ）、３．３５（ｄ、４Ｈ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、２．２６（ｓ、６Ｈ）
合成例２の２段階：最終生成物２−２のＮＭＲ（エステル基：アルコキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ＝６．９４（ｄ、４Ｈ、Ｊ＝１０．６Ｈｚ）、６．８４（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、３．７０（ｑ、１２Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、２．６３〜２．６０（ｍ、４Ｈ）、２．２６（ｓ、６Ｈ）、１．６７〜１．５７（ｍ、４Ｈ）、１．１３（ｔ、１８Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、０．６１〜０．５６（ｍ、４Ｈ）
【００９７】
合成例３：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するナフタレンの合成（製造方法１）
出発物質、及び用いられた反応物の種類及び量が異なることを除いては、上記した合成例１と同様の方法で合成した。合成例３の合成スキームは以下のとおりである。
【化８２】
0006918987.tif 000085
【００９８】
最終化合物３−２を合成するために用いられた１段階及び第２段階の反応物の量はそれぞれ下記表３及び表４に記載されたとおりである。
【００９９】
【表３】
0006918987.tif 000086
【０１００】
【表４】
0006918987.tif 000087
【０１０１】
合成例３を介して得られた中間生成物３−１及び最終生成物３−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例３の１段階：中間生成物３−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ＝７．６８（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．１９（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．１１〜６．０２（ｍ、２Ｈ）、５．２５〜５．１０（ｍ、４Ｈ）、３．４５（ｄ、４Ｈ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）、２．２７（ｓ、６Ｈ）
合成例３の２段階：最終生成物３−２のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ＝７．６８（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．１９（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．５Ｈｚ）、３．７０（ｑ、１２Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、２．６３〜２．５９（ｍ、４Ｈ）、２．２７（ｓ、６Ｈ）、１．６６〜１．５７（ｍ、４Ｈ）、１．１３（ｔ、１８Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、０．６０〜０．５６（ｍ、４Ｈ）
【０１０２】
合成例４：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するカルド化合物の合成（製造方法１）
出発物質、及び用いられた反応物の種類及び量が異なることを除いては、上記した合成例１と同様の方法で合成した。合成例４の合成スキームは以下のとおりである。
【化８３】
0006918987.tif 000088
【０１０３】
最終化合物４−２を合成するために用いられた１段階及び第２段階の反応物の量はそれぞれ下記表５及び表６に記載されたとおりである。
【０１０４】
【表５】
0006918987.tif 000089
【０１０５】
【表６】
0006918987.tif 000090
【０１０６】
合成例４を介して得られた中間生成物４−１及び最終生成物４−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例４の１段階：中間生成物４−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ＝７．７４（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、７．３６〜７．２２（ｍ、６Ｈ）、６．９６（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝２．４Ｈｚ）、６．８８（ｄｄ、２Ｈ、Ｊ＝２．４、６．０Ｈｚ）、６．６２（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、５．９７〜５．８７（ｍ、２Ｈ）、５．０９〜５．０４（ｍ、４Ｈ）、３．４８（ｄ、４Ｈ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、２．２７（ｓ、６Ｈ）
合成例４の２段階：最終生成物４−２のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ＝７．７４（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、７．３６〜７．２２（ｍ、６Ｈ）、 ６．９６（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝２．４Ｈｚ）、６．８８（ｄｄ、２Ｈ、Ｊ＝２．４、６．０Ｈｚ）、６．６２（ｄ、２Ｈ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、３．７０（ｑ、１２Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、２．６３〜２．６０（ｍ、４Ｈ）、２．２７（ｓ、６Ｈ）、１．６７〜１．５７（ｍ、４Ｈ）、１．１３（ｔ、１８Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、０．６１〜０．５６（ｍ、４Ｈ）
【０１０７】
合成例５：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するテトラフェニルメタン化合物の合成（製造方法１）
出発物質、及び用いられた反応物の種類及び量が異なることを除いては、上記した合成例１と同様の方法で合成した。合成例５の合成スキームは以下のとおりである。
【化８４】
0006918987.tif 000091
【０１０８】
最終化合物５−２を合成するために用いられた１段階及び２段階の反応物の量はそれぞれ下記表７及び表８に記載されたとおりである。
【０１０９】
【表７】
0006918987.tif 000092
【０１１０】
【表８】
0006918987.tif 000093
【０１１１】
合成例５を介して得られた中間生成物５−１及び最終生成物５−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例５の１段階：中間生成物５−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ＝７．２６−７．００（ｍ、１２Ｈ）、６．８６−６．７１（ｍ、４Ｈ）、６．０３〜５．９４（ｍ、２Ｈ）、５．１２〜５．０５（ｍ、４Ｈ）、３．３７〜３．３０（ｍ、４Ｈ）、２．２８（ｓ、６Ｈ）
合成例５の２段階：最終生成物５−２のＮＭＲ（エステル基：アルコキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ＝７．２６−７．００（ｍ、１２Ｈ）、６．８６−６．７１（ｍ、４Ｈ）、３．７０（ｑ、１２Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、２．６
３〜２．６０（ｍ、４Ｈ）、２．２８（ｓ、６Ｈ）、１．６７〜１．５７（ｍ、４Ｈ）、１．１３（ｔ、１８Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、０．６１〜０．５６（ｍ、４Ｈ）
【０１１２】
合成例６：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するフェノールノボラックの合成（製造方法２）
（１）第２−１段階
常温で２口フラスコに、フェノールノボラック６−０を２０ｇ、ＴＨＦを１００ｍｌ、ピリジンを５０ｇ、無水酢酸を９．５ｇを添加し、１時間攪拌した。反応終結後に、ＴＨＦ及びピリジンを除去し、エチルアセテートを３００ｍｌ入れ、Ｈ２Ｏとともにワークアップした。有機層にＭｇＳＯ４を入れ、残りのＨ２Ｏを除去した後、セライトフィルターでろ過し、蒸発及び乾燥させることで、エステル基：ヒドロキシ基の割合が１：１である中間生成物６−１を得た。得られた中間生成物６−１のＮＭＲデータは以下のとおりである。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．４０−９．１７（ｍ、３．５２Ｈ）７．２６−６．６３（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９７−３．７１（ｍ、１０．５６Ｈ）、２．２７−２．０８（ｍ、９．９２Ｈ）
【０１１３】
（２）第２−２段階
常温で２口フラスコに、上記第２−１段階で合成した中間生成物６−１を２０ｇ、ＴＨＦを５０ｍｌ入れて攪拌した。その後、ここに３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネート２３．１ｇを１０分間常温でゆっくり添加し、温度を５０℃にして５時間加熱及び攪拌した。反応終結後に、常温に冷却し、蒸発器を用いてＴＨＦを除去し、真空ポンプを用いて完全に乾燥させることで、エステル基：エトキシシリル基の割合が１：１である最終生成物６−２を得た。
得られた最終生成物６−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．８０−７．７１（ｍ、２．３２Ｈ）、７．２６−６．６３（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９７−３．７１（ｍ、２７．５６Ｈ）、３．０６−３．０１（ｍ、５．８５Ｈ）、２．２７−２．０８（ｍ、９．９０Ｈ）、１．５７−１．４６（ｍ、６．０６Ｈ）、１．２０−１．１０（ｍ、２７．２３Ｈ）、０．６４−０．５５（ｍ、５．８８Ｈ）
【０１１４】
上記合成例６の合成スキームは以下のとおりである。
【化８５】
0006918987.tif 000094
【０１１５】
合成例７及び合成例８：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するフェノールノボラックの合成（製造方法２）
用いられた反応物の量を除いては、上記した合成例６と同様の方法で１段階及び２段階
の反応を行って最終化合物を合成した。合成例７及び合成例８で合成した最終生成物７−２及び８−２のエステル基：アルコキシシリル基の割合はそれぞれ１０：１及び２．６３：１であり、各合成段階に用いられた反応物の量は下記表９及び表１０に記載されたとおりである。
【０１１６】
【表９】
0006918987.tif 000095
【０１１７】
【表１０】
0006918987.tif 000096
【０１１８】
合成例７を介して得られた中間生成物及び最終生成物のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例７の１段階：中間生成物のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１０：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．４０−９．１７（ｍ、０．５９Ｈ）７．２６−６．６３（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９７−３．７１（ｍ、１０．０１Ｈ）、２．２７−２．０８（ｍ、１８．０５Ｈ）
合成例７の２段階：最終生成物のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝１０：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：δ＝７．２７−６．６３（ｍ，２１．６８Ｈ）、３．９７−３．５９（ｍ、１３．１７Ｈ）、３．０５−３．０１（ｍ、１．２３Ｈ）、２．２７−１．９０（ｍ、１８．０７Ｈ）、１．５７−１．４６（ｍ、１．３４Ｈ）、１．２０−１．１０（ｍ、５．３９Ｈ）、０．６４−０．５５（ｍ、１．１９Ｈ）
【０１１９】
合成例８を介して得られた中間生成物及び最終生成物のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例８の１段階：中間生成物のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝２．６３：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．４０−９．１７（ｍ、１．９８Ｈ）７．２６−６．６３（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９７−３．７１（ｍ、１２．４１Ｈ）、２．２７−２．０８（ｍ、１４．５２Ｈ）
合成例８の２段階：最終生成物のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝２．６３：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：δ＝７．８０−７．７１（ｍ，１．３４Ｈ），７．２６−６．６３（ｍ，２１．６８Ｈ），３．９９−３．７１（ｍ，２０．１２Ｈ），３．０７−３．０１（ｍ，３．５０Ｈ）、２．２８−２．０７（ｍ、１４．１７Ｈ）、１．５７−１．４６（ｍ、３．６９Ｈ）、１．２０−１．１０（ｍ、１３．０１Ｈ）、０．６４−０．５５（ｍ、３．６１Ｈ）
【０１２０】
合成例９及び合成例１０：活性エステル基及びメトキシシリル基を有するフェノールノボラックの合成（製造方法２）
用いられた反応物の量及び３−（トリメトキシシリル）プロピルイソシアネートを用いたことを除いては、上記した合成例６と同様の方法で１段階及び２段階の反応を行って最終化合物を合成した。合成例９及び合成例１０で合成した最終生成物のエステル：メトキシシリル基の割合はそれぞれ２．８７：１及び１．３０：１であり、各合成段階で用いた反応物の量は下記表のとおりである。
【０１２１】
【表１１】
0006918987.tif 000097
【０１２２】
【表１２】
0006918987.tif 000098
【０１２３】
合成例９を介して得られた中間生成物及び最終生成物のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例９の１段階：中間生成物のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝２．８７：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．４０−９．１７（ｍ、１．５９Ｈ）７．２６−６．６３（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９７−３．７１（ｍ、９．６３Ｈ）、２．２７−２．０８（ｍ、１４．３８Ｈ）
合成例９の２段階：最終生成物のＮＭＲ（エステル基：メトキシシリル基＝２．８７：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．８１−７．７１（ｍ、１．６８Ｈ）、７．２７−６．６３（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９７−３．３５（ｍ、２５．８１Ｈ）、３．０５−３．０１（ｍ、３．４４Ｈ）、２．２７−１．９０（ｍ、１４．５０Ｈ）、１．５７−１．４６（ｍ、３．６３Ｈ）、０．６４−０．５５（ｍ、３．３７Ｈ）
【０１２４】
合成例１０を介して得られた中間生成物及び最終生成物のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例１０の１段階：中間生成物のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１．３：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．４０−９．１７（ｍ、２．２５Ｈ）７．２６−６．６３（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９７−３．７１（ｍ、９．５５Ｈ）、２．２７−２．０８（ｍ、１１．３９Ｈ）
合成例１０の２段階：最終生成物のＮＭＲ（エステル基：メトキシシリル基＝１．３：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．８０−７．７０（ｍ、１．９９Ｈ）、７．２７−６．６３（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９７−３．５９（ｍ、３６．１２Ｈ）、３．０５−３．０１（ｍ、５．２４Ｈ）、２．２７−１．９０（ｍ、１０．３６Ｈ）、１．５７−１．４６（ｍ、５．５４）、０．６４−０．５５（ｍ、５．３２Ｈ）
【０１２５】
合成例１１：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するビナフタレンの合成（製造方法２）
出発物質、及び用いられた反応物の量が異なることを除いては、上記した合成例６と同様の方法で合成した。合成例１１の合成スキームは以下のとおりである。
【化８６】
0006918987.tif 000099
【０１２６】
最終化合物１１−２を合成するために用いられた１段階及び２段階の反応物の量はそれぞれ下記表１３及び表１４に記載されたとおりである。
【０１２７】
【表１３】
0006918987.tif 000100
【０１２８】
【表１４】
0006918987.tif 000101
【０１２９】
合成例１１を介して得られた中間生成物１１−１及び最終生成物１１−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例１１の１段階：中間生成物１１−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．５０〜９．１１（ｂｒｓ、２Ｈ）、７．７８−７．６６（ｍ、４Ｈ）、７．３４−７．２５（ｍ、４Ｈ）、６．９２−６．８９（ｍ、２Ｈ）、４．７６（ｓ、２Ｈ）、２．１６（ｓ、６Ｈ）
合成例１１の２段階：最終生成物１１−２のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．７８−７．６６（ｍ、４Ｈ）、７．３４−７．２５（ｍ、４Ｈ）、６．９２−６．８９（ｍ、２Ｈ）、４．７６（ｓ、２Ｈ）、３．８４−３．７８（ｍ、１２Ｈ）、３．３６−３．２５（ｍ、４Ｈ）、２．２７（ｓ、６Ｈ）、１．７５−１．７０（ｍ、４Ｈ）、１．２２（ｔ、１８Ｈ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、０．６７−０．６０（ｍ、４Ｈ）
【０１３０】
合成例１２：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するトリフェニルメタン合成（製造方法２）
出発物質、用いられた反応物の量が異なることを除いては、上記した合成例６と同様の方法で合成した。合成例１２の合成スキームは以下のとおりである。
【化８７】
0006918987.tif 000102
【０１３１】
最終化合物１２−２を合成するために用いられた１段階及び２段階の反応物の量はそれぞれ下記表１５及び表１６に記載されたとおりである。
【０１３２】
【表１５】
0006918987.tif 000103
【０１３３】
【表１６】
0006918987.tif 000104
【０１３４】
合成例１２を介して得られた中間生成物１２−１及び最終生成物１２−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例１２の１段階：中間生成物１２−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝２：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．２７（ｂｒｓ、１Ｈ）、７．２１−７．１０（ｍ、１０Ｈ）、６．７５（ｓ、２Ｈ）、３．２８（ｓ、１Ｈ）、２．１７（ｓ、６Ｈ）
合成例１２の２段階：最終生成物１２−２のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝２：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．２１−７．１０（ｍ、１０Ｈ）、
６．７５（ｓ、２Ｈ）、３．７０（ｑ、６Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、３．２８（ｓ、１Ｈ）、２．６３〜２．６０（ｍ、２Ｈ）、２．１７（ｓ、６Ｈ）、１．６７〜１．５７（ｍ、２Ｈ）、１．１３（ｔ、９Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、０．６１〜０．５６（ｍ、２Ｈ）
【０１３５】
合成例１３：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するテトラメチルエタン化合物の合成（製造方法２）
出発物質、及び用いられた反応物の量が異なることを除いては、上記した合成例６と同様の方法で合成した。合成例１３の合成スキームは以下のとおりである。
【化８８】
0006918987.tif 000105
【０１３６】
最終化合物１３−２を合成するために用いられた１段階及び２段階の反応物の量はそれぞれ下記表１７及び表１８に記載されたとおりである。
【０１３７】
【表１７】
0006918987.tif 000106
【０１３８】
【表１８】
0006918987.tif 000107
【０１３９】
合成例１３を介して得られた中間生成物１３−１及び最終生成物１３−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例１３の１段階：中間生成物１３−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．４９〜９．１１（ｂｒｓ、２Ｈ）、７．３１−７．１１（ｍ、１２Ｈ）、６．６８−６．５５（ｍ、４Ｈ）、４．５４（ｓ、２Ｈ）、２．２６（ｓ、６Ｈ）
合成例１３の２段階：最終生成物１３−２のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．３１−７．１１（ｍ、１２Ｈ）、
６．６８−６．５５（ｍ、４Ｈ）、４．５４（ｓ、２Ｈ）、３．８３−３．７７（ｍ、１２Ｈ）、３．２５−３．２３（ｍ、４Ｈ）、１．７４−１．６６（ｍ、４Ｈ）、１．２４（ｔ、１８Ｈ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．２６（ｓ、６Ｈ）、０．７０−０．６６（ｍ、４Ｈ）
【０１４０】
合成例１４：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するクレゾールノボラック化合物の合成（製造方法２）
出発物質、及び用いられた反応物の量が異なることを除いては、上記した合成例６と同様の方法で合成した。合成例１４の合成スキームは以下のとおりである。
【化８９】
0006918987.tif 000108
【０１４１】
最終化合物１４−２を合成するために用いられた１段階及び２段階の反応物の量はそれぞれ下記表１９及び表２０に記載されたとおりである。
【０１４２】
【表１９】
0006918987.tif 000109
【０１４３】
【表２０】
0006918987.tif 000110
【０１４４】
合成例１４を介して得られた中間生成物１４−１及び最終生成物１４−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例１４の１段階：中間生成物１４−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．３２（ｂｒ．ｓ、１．８５Ｈ）、７．０２−６．８９（ｍ、１０Ｈ）、４．２４−３．３６（ｍ、６．２５Ｈ）、２．２９−２．０６（ｍ、２０．２８Ｈ）
合成例１４の２段階：最終生成物１４−２のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．７７（ｂｒ．ｓ、１．９７Ｈ）、７．０２−６．８９（ｍ、１０Ｈ）、４．２４−３．３６（ｍ、１９．２５Ｈ）、 ３．１８−３．０１（ｍ、４．５８Ｈ）、２．２９−２．０６（ｍ、１９．８８Ｈ）、１．７３−１．４０（ｍ、４．３３Ｈ）、１．２０−１．１４（ｍ、１９．９９Ｈ）、０．６４−０．５０（ｍ、４．１１Ｈ）
【０１４５】
合成例１５：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するビスフェノールＡノボラック化合物の合成（製造方法２）
出発物質、及び用いられた反応物の量が異なることを除いては、上記した合成例６と同様の方法で合成した。合成例１５の合成スキームは以下のとおりである。
【化９０】
0006918987.tif 000111
【０１４６】
最終化合物１５−２を合成するために用いられた１段階及び２段階の反応物の量はそれぞれ下記表２１及び表２２に記載されたとおりである。
【０１４７】
【表２１】
0006918987.tif 000112
【０１４８】
【表２２】
0006918987.tif 000113
【０１４９】
合成例１５を介して得られた中間生成物１５−１及び最終生成物１５−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例１５の１段階：中間生成物１５−１のＮＭＲ（エステル基：ヒドロキシ基＝１：
１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝９．３１（ｂｒ．ｓ、４．４５Ｈ）、７．７６（ｂｒ．ｓ、４．８１Ｈ）、７．２９−６．７５（ｍ、３２．１０Ｈ）、４．２２−３．７９（ｍ、１２．１２Ｈ）、２．２７〜２．０５（ｍ、１５．８２Ｈ）、１．６２−１．３９（ｍ、３５．８６Ｈ）
合成例１５の２段階：最終生成物１５−２のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．７６（ｂｒ．ｓ、４．８１Ｈ）、７．２９−６．７５（ｍ、３２．１０Ｈ）、４．２２−３．７９（ｍ、４４．１２Ｈ）、３．３６−３．２８（ｍ、１２．１２Ｈ）、２．２７〜２．０５（ｍ、１５．８２Ｈ）、１．６２−１．３９（ｍ、４５．８６Ｈ）、１．２０−１．０７（ｍ、４９．９８Ｈ）、０．６７−０．５１（ｍ、１０．０２Ｈ）
【０１５０】
合成例１６：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するフェノールノボラックの合成（製造方法３）
（１）第１段階
常温で２口フラスコに、フェノールノボラック６−０を２０ｇ、アリルブロマイドを１１．３ｇ、ＴＨＦを２００ｍｌ入れて攪拌した。その後、ここに２００ｍｌのＨ２Ｏに水酸化ナトリウム７．５ｇを溶かした溶液を１時間常温でゆっくり添加し、４時間撹拌した。反応終結後に、蒸発器を用いてＴＨＦを除去し、酢酸エチル４００ｍｌを入れ、Ｈ２Ｏとともにワークアップした。有機層にＭｇＳＯ４を入れ、残りのＨ２Ｏを除去した後、セライトフィルターでろ過し、蒸発及び乾燥させることで、アリル基：ヒドロキシ基の割合が１：１である中間生成物１６−１を得た。得られた中間生成物１６−１のＮＭＲデータは以下のとおりである。
【０１５１】
合成例１６の１段階：中間生成物１６−１のＮＭＲ（ヒドロキシ基：アリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．２６−６．８０（ｍ、２１．６８Ｈ）、６．０５−５．９１（ｍ、３．７３Ｈ）、５．３９−５．２０（ｍ、６．６５Ｈ）、４．５８−４．４９（ｍ、５．５２Ｈ）、３．９３−３．６５（ｍ、９．７１Ｈ）
【０１５２】
（１）第２段階
常温で２口フラスコに、上記第１段階で合成した中間生成物１６−１を２０ｇ、ＴＨＦを１００ｍｌ、ピリジンを５０ｇ入れて攪拌した。その後、ここに無水酢酸１０．５ｇを１０分間常温でゆっくりと添加し、１時間攪拌した。反応終結後も、蒸発器を用いてＴＨＦ及びピリジンを除去し、酢酸エチル３００ｍｌを入れ、Ｈ２Ｏとともにワークアップした。有機層にＭｇＳＯ４を入れ、残りのＨ２Ｏを除去した後、セライトフィルターでろ過し、蒸発及び乾燥させることで、エステル：アリル基の割合が１：１である中間生成物１６−２を得た。得られた中間生成物１６−２のＮＭＲデータは以下のとおりである。
【０１５３】
合成例１６の２段階：中間生成物１６−２のＮＭＲ（エステル基：アリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．２７−６．８０（ｍ、２１．６８Ｈ）、６．０５−５．９２（ｍ、３．７１Ｈ）、５．３９−５．２０（ｍ、６．６３Ｈ）、４．５７−４．４９（ｍ、５．４６Ｈ）、３．９２−３．６６（ｍ、９．６５Ｈ）、２．２５−１．９６（ｍ、９．９６Ｈ）
【０１５４】
（１）第３段階
常温でフラスコに、上記第２段階で合成した中間生成物１６−２を２０ｇ、ＰｔＯ２を０．３０ｇ、トリエトキシシランを１２．１ｇ、及びトルエンを２５０ｍｌを添加し、５分間常温で攪拌した。その後、温度を８０℃にして１２時間の間加熱及び攪拌した後、常
温に冷却してセライトフィルターでろ過して無機物を除去した。その後、蒸発及び乾燥させることで、トルエンを除去し、真空ポンプを用いて完全に乾燥させてから最終生成物１６−３を得た。得られた最終生成物１６−３のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例１６の３段階：最終生成物１６−３のＮＭＲ（エステル基：エトキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝７．２７−６．７６（ｍ、２１．６８Ｈ）、３．９２−３．７２（ｍ、４３．９０Ｈ）、２．２３−２．０９（ｍ、９．８１Ｈ）、１．７２−１．６９（ｍ、６．２５Ｈ）、１．１７−１．０４（ｍ、４０．４５Ｈ）、０．６８−０．６５（ｍ、７．４０Ｈ）
合成例１６の合成スキームは以下のとおりである。
【化９１】
0006918987.tif 000114
【０１５５】
合成例１７：活性エステル基及びエトキシシリル基を有するナフタレンノボラックの合成（製造方法３）
出発物質、用いられた反応物の種類及び量が異なることを除いては、上記した合成例１６と同様の方法で合成した。合成例１７の合成スキームは以下のとおりである。
【化９２】
0006918987.tif 000115
【０１５６】
最終化合物１７−３を合成するために用いられた１段階、２段階、及び３段階の反応物の量はそれぞれ下記表２３、表２４、及び表２５に記載されたとおりである。
【０１５７】
【表２３】
0006918987.tif 000116
【０１５８】
【表２４】
0006918987.tif 000117
【０１５９】
【表２５】
0006918987.tif 000118
【０１６０】
合成例１７を介して得られた中間生成物１７−１、１７−２及び最終生成物１７−３のＮＭＲデータは以下のとおりである。
合成例１７の１段階：中間生成物１７−１のＮＭＲ（ヒドロキシ基：アリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝８．０３−７．５１（ｍ、１１．９９Ｈ）、７．３９−６．８５（ｍ、１５．４３Ｈ）、６．０５−６．０１（ｍ、２．４８Ｈ）、５．４０−５．２０（ｍ、５．４６Ｈ）、４．５０−４．４６（ｍ、５．３９Ｈ）、４．１２−３．４３（ｍ、１４．９Ｈ）
合成例１７の２段階：中間生成物１７−２のＮＭＲ（エステル基：アリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝８．０３−７．５１（ｍ、１１．９９Ｈ）、７．３９−６．８５（ｍ、１５．４３Ｈ）、６．０５−６．０１（ｍ、２．４８Ｈ）、５．４０−５．２０（ｍ、５．４６Ｈ）、４．５０−４．４６（ｍ、５．３９Ｈ）、４．１３−３．４２（ｍ、１４．９Ｈ）、２．２９〜２．０６（ｍ、８．１４Ｈ）
合成例１７の３段階：最終生成物１７−３のＮＭＲ（エステル基：アルコキシシリル基＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）：δ＝８．０３−７．５１（ｍ、１１．９９Ｈ）、７．３９−６．８５（ｍ、１５．４３Ｈ）、４．１２−３．４０（ｍ、２９．７５Ｈ）、２．２９〜２．０６（ｍ、１４．１４Ｈ）、１．８０−１．６９（ｍ、５．０８Ｈ）、１．１８−１．０４（ｍ、２１．９９Ｈ）、０．７２−０．６１（ｍ、４．８５Ｈ）
【０１６１】
（吸湿率の評価）
下記［表２６−１］及び［表２６−２］の組成で上記合成例の化合物、エポキシ化合物、硬化剤、及び硬化触媒をメチルエチルケトンに固形分含有量が５０ｗｔ％になるように溶解した後、均一な溶液になるように混合した。その後、上記混合物を１００℃に加熱さ
れた真空オーブンに入れて溶媒を除去した後、１２０℃に予熱されたホットプレスで１２０℃で２時間、オーブンで１８０℃で２時間硬化させて吸湿率測定用試料（８ｍｍ×８ｍｍ×３ｍｍ）を製造した。
【０１６２】
尚、上記のように製造された試料を１００℃の沸騰水で４時間処理した後、 キムテックス（ｋｉｍｔｅｃｈ）タオルで水気を除去し、吸湿前後の重量を測定して吸湿率を計算した。
【０１６３】
【表２６−１】
0006918987.tif 000119
【０１６４】
【表２６−２】
0006918987.tif 000120
【０１６５】
上記［表２６−１］、［表２６−２］、及び下記［表２７−１］、［表２７−２］、［表２８］で用いられた化合物は以下のとおりである。
（１）ＮＣ３０００Ｈ：ビフェニル構造を有するエポキシ化合物（日本化薬株式会社製造）
（２）ＨＦ−１Ｍ：フェノールノボラック系硬化剤（Ｍｅｉｗａ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ、ＨＥＷ＝１０７）
（３）２ＰＺ：２−フェニルイミダゾール（アルドリッチ（Ａｌｄｒｉｃｈ）社）
【０１６６】
上記［表２６−１］及び［表２６−２］に示すように、本発明の化合物を含む実施例１〜１７の硬化物は、本発明の化合物を含まない比較例１の硬化物に比べて著しく低い吸湿率を示した。
【０１６７】
また、ＯＨ基が多いほど吸収率が大きいだけでなく、高い誘電率を示す。したがって、上記表に示す低い吸湿率の結果から、本発明による化合物のエステル基及びアルコキシシリル基により、硬化反応時に発生するヒドロキシ基が減少することが分かる。結果として、誘電率も減少することが明白である。
【０１６８】
物性評価：硬化物の製造及び熱膨張特性の評価
１．レジン硬化物の製造
下記［表２７−１］及び［表２７−２］の組成で、上記合成例の化合物、エポキシ化合物、硬化剤、及び硬化触媒をメチルエチルケトンに固形分含有量が５０ｗｔ％になるように溶解した後、均一な溶液になるように混合した。その後、上記混合物を１００℃に加熱された真空オーブンに入れて溶媒を除去し、１２０℃に予熱されたホットプレスで１２０℃で２時間、オーブンで１８０℃で２時間、そして＞２００℃で２時間硬化させて熱膨張性測定用試験片（８ｍｍ×８ｍｍ×３ｍｍ）を製造した。別の項目として記載したが、下記［表２７−１］及び［表２７−２］の組成で製造された熱膨張特性評価用試験片は、上記［表２６−１］及び［表２６−２］の組成で製造された吸湿性評価用試験片と同一のものである。
【０１６９】
２．エポキシフィラー複合体（硬化物）の製造
下記表２８の組成で、エポキシ化合物、合成例８の化合物、シリカスラリー（固形分含有量７０ｗｔ％、２−メトキシエタノール溶媒、シリカの平均サイズ１μｍ）、及びポリビニルアセタールをメチルエチルケトンに固形分含有量が４０ｗｔ％になるように溶解した。この混合液を１５００ ｒｐｍの速度で１時間混合した後、硬化剤及び硬化触媒を入れて、さらに５０分間混合した。上記混合物を１００℃に加熱された真空オーブンに入れて溶媒を除去した後、１２０℃に予熱されたホットプレスで１２０℃で２時間、１８０℃で２時間、そして＞２００℃で２時間硬化させることで、エポキシフィラー（無機粒子）複合体（５ｍｍ×５ｍｍ×５ｍｍ）を得た。
【０１７０】
３．低熱膨張物性の評価
下記［表２７−１］、［表２７−２］、及び［表２８］の物性例で得られた硬化物の温度による寸法変化を熱機械分析計（Ｔｈｅｒｍｏ−ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｚｅｒ）を用いて評価し、低熱膨張の特性を下記［表２７−１］、［表２７−２］、及び［表２８］に示した。
【０１７１】
【表２７−１】
0006918987.tif 000121
【０１７２】
【表２７−２】
0006918987.tif 000122
【０１７３】
（２）エポキシフィラー複合体の製造
下記表２８の物性例で得られた硬化物の温度による寸法変化を熱機械分析（Ｔｈｅｒｍｏ−ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｚｅｒ）を用いて評価し、ＣＴＥ値を下記表２８及び図１に示した。フィラー複合体の試験片は５×５×３（ｍｍ３）サイズに製造した。
【０１７４】
【表２８】
0006918987.tif 000123
【０１７５】
上記［表２８］及び図１に示すように、本発明による合成例８の複合体を含む物性例１８及び１９は、合成例８の化合物を含まない比較物性例２に比べて、吸湿率が著しく低いだけでなく、低いＣＴＥ値を示すことから、低熱膨張特性に優れることが分かる。
【０１７６】
一方、一般に、充填剤によって低熱膨張特性が向上する傾向がある。したがって、充填剤による低熱膨張特性の向上効果を排除し、本発明によるアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を用いることによる、低熱膨張特性の維持又は向上、及び低吸湿性の向上効果が明確に確認できるように、エポキシ樹脂硬化剤を用いることで、上記［表２６−１］、［表２６−２］、［表２７−１］、及び［表２７−２］の吸湿性及び低熱膨張特性を測定した。
【０１７７】
これとともに、［表２８］の結果から、本発明によるアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物を用いることによる、エポキシ複合体における低吸湿性の向上及び低熱膨張特性の向上を確認することができた。具体的には、［表２８］の物性例１８及び１９、［表２６−１］及び［表２７−１］の合成例８の化合物を含む実施例８及び物性例８から分かるように、エポキシレジン硬化物に比べて複合体における低吸湿性及び低熱膨張特性がさらに向上することが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１７８】
本発明によるアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物は、エポキシ組成物に配合して用いる場合には、低熱膨張特性を維持するだけでなく、低吸湿性及び／又は低誘電特性が向上するという効果を示す。
【０１７９】
具体的には、コア構造にアルコキシシリル基及び活性エステル基を有する本発明の化合物を含むエポキシ組成物は、硬化時に生成されるヒドロキシ基が活性エステル基及びアルコキシシリル基と反応して親水性基であるヒドロキシ基の形成が抑制されるだけでなく、エポキシ化合物、硬化剤、及び／又は充填剤とアルコキシシリル基の優れた界面結合の形成が可能となるため、従来の低吸湿性を達成するための場合とは異なり、低熱膨張特性が低下しない。逆に、低吸湿性、及び／又は低誘電特性を示すとともに、低熱膨張特性も維持するか、又は向上するという優れた効果を示す。
【図１】
0006918987.tif 000127