(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を持つ第１基板と、
可撓性を持つ第２基板と、
前記第１基板の第１面と前記第２基板の第２面との間にある電気光学層と、
前記第１基板、前記第２基板、および前記電気光学層によって構成されている複数の画素を含む表示エリアと、
を備え、
前記第２基板は、
平面視で前記表示エリアにおける前記複数の画素の各々の画素の可視光透過部に配置されているカラーフィルタと、
平面視で前記表示エリアにおける前記複数の画素の画素間に配置されている紫外光透過性を持つ第１遮光膜と、
を有し、
前記電気光学層は、平面視で前記第１遮光膜と重なる領域に配置され、前記第１基板の前記第１面と前記第２基板の前記第２面との間を接続するポリマー壁を有する、
表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の表示装置において、
前記第２基板は、前記カラーフィルタとして、紫外光遮光性を持つ第１カラーフィルタを有する、
表示装置。
【請求項３】
請求項１記載の表示装置において、
前記第２基板は、平面視で前記画素間の領域において前記第１遮光膜と並列で配置されている紫外光遮光性を持つ第２遮光膜を有し、
前記ポリマー壁の前記表示エリア内の第１方向での長さは、前記画素間の領域における前記第１遮光膜と前記第２遮光膜とを合わせた領域の前記第１方向での長さ以内である、
表示装置。
【請求項４】
請求項２記載の表示装置において、
前記第２基板は、平面視で前記画素間の領域において前記第１遮光膜と前記第１カラーフィルタとが重畳されていない領域と重畳されている領域とを有し、
前記ポリマー壁の前記表示エリア内の第１方向での長さは、前記第１遮光膜の前記第１方向での長さ以内である、
表示装置。
【請求項５】
請求項１記載の表示装置において、
前記電気光学層は、平面視で前記第１遮光膜に重なる領域に配置され、前記第１面または前記第２面に形成された突出部を有し、
前記ポリマー壁は、前記第１面または前記第２面と前記突出部との間に形成されている、
表示装置。
【請求項６】
請求項３記載の表示装置において、
前記電気光学層は、平面視で前記第１遮光膜に重なる領域に配置され、前記第１面または前記第２面に形成された突出部を有し、
前記ポリマー壁は、前記第１面または前記第２面と前記突出部との間に形成されている、
表示装置。
【請求項７】
請求項１記載の表示装置において、
前記電気光学層は、平面視で前記第１遮光膜に重なる領域に配置され、前記第１面または前記第２面に接続されている突出部を有し、
前記ポリマー壁は、前記第１面または前記第２面と前記突出部との間、および前記突出部の側面に接して形成されている、
表示装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の表示装置において、
前記電気光学層は、モノマー添加液晶を含む液晶層であり、
前記第１遮光膜は、前記モノマー添加液晶のモノマー吸収波長における規格化透過率が、前記カラーフィルタの規格化透過率よりも大きい、
表示装置。
【請求項９】
請求項１記載の表示装置において、
前記第２基板は、平面視で前記画素間の領域に配置されている格子状遮光膜を有し、
前記格子状遮光膜は、前記表示エリア内の第１方向に延在するように配置されている紫外光遮光性を持つ第２遮光膜と、前記第１方向に交差する第２方向に延在するように配置されている前記第１遮光膜と、を有する、
表示装置。
【請求項１０】
請求項１記載の表示装置において、
前記第２基板は、前記画素間の領域に配置されている格子状遮光膜を有し、
前記格子状遮光膜は、前記画素間の領域のうちの特定の領域に配置されている前記第１遮光膜と、前記特定の領域以外の領域に配置されている紫外光遮光性を持つ第２遮光膜と、を有する、
表示装置。
【請求項１１】
請求項５，６，７のいずれか一項に記載の表示装置において、
前記突出部を形成する材料に、光ラジカル重合開始剤が添加されている、
表示装置。
【請求項１２】
請求項５，６，７のいずれか一項に記載の表示装置において、
前記突出部と前記ポリマー壁の間に、光ラジカル重合開始剤が配置されている、
表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の技術に関し、特に、可撓性表示装置の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等の表示装置として、画像が表示される表示エリアの面において、撓み、湾曲、折り曲げ等が可能な可撓性を持つ表示装置が開発されている。そのような可撓性表示装置では、表示エリアの面に撓みや曲げが生じた際に、面内の各位置での厚さ方向の間隔（セルギャップ等）がなるべく変動しないように維持することが重要である。【０００３】
表示エリアの面内の各位置での厚さ方向の間隔の変動を抑制してなるべく一定に維持するための技術的手段の１つとして、液晶層等の電気光学層にポリマー壁を形成する技術が挙げられる。ポリマー壁は、厚さ方向の上下の部材間、例えば配向膜間を、物理的に接続する。これにより、表示エリアの面に撓みを持つ状態でも、ポリマー壁によって、厚さ方向の上下の部材間の間隔が維持され、面内の各液晶セルのセルギャップの変動が軽減される。【０００４】
可撓性液晶表示装置の場合、ポリマー壁の形成には、液晶中にモノマーが添加された材料（モノマー添加液晶と記載する）を用いる。製造方法としては、基板貼り合わせ・液晶層形成工程で上側の基板と下側の基板との間の液晶層および液晶セルが形成された後に、液晶層の液晶セルにポリマー壁が形成される工程（ポリマー壁形成工程と記載する）を有する。その工程では、上側の基板の上から、ポリマー壁形成パターンに対応した遮光マスクを介して、液晶層に対し、紫外光（ＵＶ光と記載する）が照射される。ＵＶ光が照射されたモノマー添加液晶のモノマーは、反応（重合）によってポリマーに変化する。これにより、液晶層内にポリマー壁が形成される。【０００５】
上記表示装置およびポリマー壁に係わる先行技術例としては、特開２０１７−１５７８７号公報（特許文献１）が挙げられる。特許文献１では、液晶表示装置として、表示パネルの変形に伴う表示品位の低下を防ぐ旨や以下の旨が記載されている。その液晶表示装置は、第１基板と、ブラックマトリクス（遮光膜に相当する）を含む第２基板と、液晶層とを含む。ブラックマトリクスは、平面視で、データ線またはゲート線と重なる位置に、開口部を有する。液晶層は、平面視で、その開口部と重なる壁として、第１基板および第２基板に接する壁が形成されている。なお、その開口部は、壁形成用の開口であり、液晶セルおよび画素の開口部とは異なる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１７−１５７８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来技術例の可撓性液晶表示装置におけるポリマー壁形成工程では、遮光マスクを介して照射されるＵＶ光が、上側の基板である対向基板に形成されている部材に照射され、その部材を透過した成分のＵＶ光が、液晶層のモノマー添加液晶に照射される。その部材として、黒色の遮光膜（いわゆる黒膜またはブラックマトリクス）や、各色のカラーフィルタ等が挙げられる。その際、部材の光学特性として、従来型の遮光膜は、ＵＶ光を概ね透過せず、また、従来型のカラーフィルタは、ＵＶ光を概ね透過する。そのため、表示エリアの面において、遮光膜が配置されている領域（非開口部とも記載する）では、遮光膜の下側に配置されているモノマー添加液晶にＵＶ光が殆ど照射されない。よって、遮光膜の下方にはポリマー壁が形成できない。【０００８】
したがって、ポリマー壁を形成したい場合、表示エリアの面において、遮光膜が配置されていない領域（開口部とも記載する）内に形成することになる。しかしながら、開口部内にポリマー壁が形成される場合、液晶セルおよび画素の開口率等の光学特性に影響を及ぼすので、あまり望ましくない。開口率を高くしたい場合には、遮光膜の下方にポリマー壁を形成したい。従来の可撓性表示装置の構造および製造方法では、上記のような制約等から、遮光膜の下方にポリマー壁を形成することは難しい。【０００９】
本発明の目的は、可撓性表示装置の技術に関して、表示エリアにおけるポリマー壁の形成によって、厚さ方向の部材間の接続性の確保およびセルギャップ変動軽減と共に、開口率向上等の好適な光学特性を実現できる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のうち代表的な実施の形態は、表示装置であって、以下に示す構成を有することを特徴とする。一実施の形態の表示装置は、可撓性を持つ第１基板と、可撓性を持つ第２基板と、前記第１基板の第１面と前記第２基板の第２面との間にある可撓性を持つ電気光学層と、前記第１基板、前記第２基板、および前記電気光学層によって構成され、行列状に配置されている複数の画素を含む表示エリアと、を備え、前記第２基板は、平面視で前表示エリアにおける前記複数の画素の各々の画素の可視光透過部に配置されているカラーフィルタと、平面視で前記表示エリアにおける前記複数の画素の画素間に配置されている紫外光透過性を持つ第１遮光膜と、を有し、前記電気光学層は、平面視で前記第１遮光膜と重なる領域に配置され前記第１基板の前記第１面と前記第２基板の前記第２面との間を接続するポリマー壁を有する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のうち代表的な実施の形態によれば、可撓性表示装置の技術に関して、表示エリアにおけるポリマー壁の形成によって、厚さ方向の部材間の接続性の確保およびセルギャップ変動軽減と共に、開口率向上等の好適な光学特性を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態１の表示装置における、表示エリアを平面視した場合の平面概略構成を示す図である。
【図２】実施の形態１の表示装置で、Ｙ方向のＡ−Ａ断面でみた場合の断面概略構成を示す図である。
【図３】実施の形態１の表示装置で、撓みを持つ状態の概略断面を示す図である。
【図４】実施の形態１で、画素および回路等の構成を示す図である。
【図５】実施の形態１の表示装置で、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図６】実施の形態１で、表示エリアの画素を平面視した場合の平面構成例を示す図である。
【図７】実施の形態１の表示装置の製造方法のフローを示す図である。
【図８】実施の形態１の表示装置で、より詳しい断面構成例を示す図である。
【図９】実施の形態１での第１遮光膜、および実施の形態２での第１カラーフィルタに関する光学特性を示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態２の表示装置における、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図１１】実施の形態２の表示装置で、より詳しい断面構成例を示す図である。
【図１２】本発明の実施の形態３の表示装置における、第１方式の構成に関する、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図１３】実施の形態３の表示装置で、第２方式の構成に関する、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図１４】本発明の実施の形態４の表示装置における、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図１５】本発明の実施の形態５の表示装置における、第１方式の構成に関する、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図１６】実施の形態５の表示装置で、第２方式の構成に関する、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図１７】実施の形態５の表示装置で、第３方式の構成に関する、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図１８】実施の形態５の表示装置で、第４方式の構成に関する、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【図１９】本発明の実施の形態６の表示装置における、表示エリアの平面構成を示す図である。
【図２０】実施の形態６の表示装置で、Ｘ方向の断面構成を示す図である。
【図２１】他の実施の形態の表示装置における、表示エリアのＸ方向の断面構成を示す図である。
【図２２】実施の形態に対する比較例の表示装置における、表示エリアのＸ方向の断面構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、図面において同一部には原則として同一符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、図面では、説明をより明確にするため、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、図面では、わかりやすくするため、断面ハッチングを一部省略する場合がある。なお、説明上、方向として、Ｘ方向（第１方向）、Ｙ方向（第２方向）、Ｚ方向を用いる。Ｘ方向およびＹ方向は、表示装置の表示エリアを構成する直交または交差する２つの方向である。Ｚ方向は、表示エリアに対する垂直方向であり、表示装置の厚さ方向である。Ｘ方向は表示エリアの横方向（画面内水平方向）に対応し、Ｙ方向は表示エリアの縦方向（画面内垂直方向）に対応する。なお、説明上、平面視とは、Ｚ方向で表示エリアに対応するＸ−Ｙ平面をみる場合を指す。
【００１４】
（比較例）
課題等について補足説明する。図２２は、実施の形態に対する比較例の表示装置における、断面概略構成として、ポリマー壁形成工程における状態を示す。図２２では、表示装置の表示エリアにおけるＸ−Ｚ平面の断面で、隣接する３つの液晶セルおよび画素の部分を示す。Ｚ方向で下側（Ｚ２）から順に、第１基板ＳＢ１、液晶層ＬＱ、第２基板ＳＢ２が配置されている。液晶層ＬＱには、モノマー添加液晶ＭＬが含まれている。第２基板ＳＢ２には、第２遮光膜ＢＭ２や第２カラーフィルタＣＦ２が形成されている。第２遮光膜ＢＭ２は、従来型のＵＶ光遮光性の黒色の遮光膜である。第２カラーフィルタＣＦ２は、従来型のＵＶ光透過性のカラーフィルタである。第２カラーフィルタＣＦ２は、赤（Ｒ）色のカラーフィルタＣＦ２ｒ、緑（Ｇ）色のカラーフィルタＣＦ２ｇ、青（Ｂ）色のカラーフィルタＣＦ２ｂを有する。
【００１５】
画素間の非開口部Ｐ２には、第２遮光膜ＢＭ２が配置されている。第２遮光膜ＢＭ２は、ＵＶ光を概ね透過しない特性（ＵＶ光遮光性と記載する）を持つ。第２カラーフィルタＣＦ２は、ＵＶ光を概ね透過する特性（ＵＶ光透過性と記載する）を持つ。そのため、前述のように、第２遮光膜ＢＭ２の下方にはポリマー壁ＰＷを形成できない。図２２の構成例では、Ｘ方向で第２遮光膜ＢＭ２の隣の、開口部Ｐ１内に出た領域に、ポリマー壁ＰＷが形成されている。ポリマー壁ＰＷは、第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１と第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２とを接続している。
【００１６】
開口部Ｐ１は、画素の可視光透過部である第１領域である。非開口部Ｐ２は、画素間の可視光遮光部である第２領域である。開口部Ｐ１は、表示エリアで例えば行列状に配置されている。非開口部Ｐ２は、表示エリアで例えば格子状に配置されている。非開口部Ｐ２の第２遮光膜ＢＭ２は、格子状遮光膜である。
【００１７】
遮光マスクＭＳＫは、ポリマー壁形成工程で用いるマスクである。遮光マスクＭＳＫは、ポリマー壁ＰＷを形成する領域に対応する開口部Ｐ１の一部の領域では、ＵＶ光透過性を持つ開口となっており、非開口部Ｐ２を含む他の領域では、ＵＶ光遮光性を持つ領域となっている。ポリマー壁形成工程では、Ｚ方向で上側（Ｚ１）から下側（Ｚ２）へ向けて、表示エリアの全面に対し、ＵＶ光ＵＬが照射される。ＵＶ光ＵＬの一部の例を矢印のＵＶ光ＵＬ１で示す。
【００１８】
図２２の状態では、表示装置の上面側で、第２基板ＳＢ２の上側の面Ｓｆ２１に対し、所定の距離Ｇ１で離間した位置に、遮光マスクＭＳＫが配置されている。距離Ｇ１は、なるべく短い距離とされる。第２基板ＳＢ２の厚さを距離Ｇ２とする。距離Ｇ１と距離Ｇ２とを合わせた距離を距離Ｇ３とする。遮光マスクＭＳＫは、液晶層ＬＱの上面（第２基板ＳＢ２の下側の面Ｓｆ２２）から距離Ｇ３の位置に配置されている。すなわち、Ｚ方向でＵＶ光ＵＬをモノマー添加液晶ＭＬに照射する際には、距離Ｇ３が存在する。距離Ｇ３に応じて、ＵＶ光ＵＬの反射や屈折等が生じると考えられる。距離Ｇ３が長いほど、製造工程でのポリマー壁ＰＷの形成の難度が高くなり、製造工程の負荷が高い。言い換えると、距離Ｇ３が短いほど、製造工程でのポリマー壁ＰＷの形成を容易にし、加工精度を高くできる。
【００１９】
図２２では、Ｘ方向で、開口部Ｐ１、非開口部Ｐ２、第２遮光膜ＢＭ２の幅Ｋ１、ポリマー壁ＰＷの幅Ｋ２、ポリマー壁ＰＷによって狭められた場合の開口部Ｐ１の幅Ｋ３を示している。幅Ｋ１等は、Ｘ方向での長さである。ポリマー壁ＰＷは、画素における液晶素子で制御された透過光に対しては概ね遮光性を有し、画素の透過率を低下させる。
【００２０】
製造工程で、照射されたＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、遮光マスクＭＳＫの一部の領域であ
る幅Ｋ２に対応する領域を透過して、第２遮光膜ＢＭ２の隣の第２カラーフィルタＣＦ２の一部分に照射される。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、その一部分を透過し、液晶層ＬＱのモノマー添加液晶ＭＬに照射される。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）がモノマー添加液晶ＭＬのモノマーに吸収され、反応（重合）によってモノマーからポリマーに変化する。これにより、その一部分の領域に、ポリマー壁ＰＷが形成される。液晶セルおよび画素の第２カラーフィルタＣＦ２に対応する領域においては、幅Ｋ２を持つポリマー壁ＰＷが存在する。よって、画素内の開口部Ｐ１の幅としては概ね幅Ｋ３となる。すなわち、このようなポリマー壁ＰＷを設ける場合、設けない場合に比べて、液晶セルおよび画素の開口率が低下してしまう。
【００２１】
また、比較例では、ポリマー壁ＰＷを形成する領域の位置が、第２遮光膜ＢＭ２の隣の開口部Ｐ１内の一部の領域の位置であるため、製造工程での遮光マスクＭＳＫの位置合わせが難しい。その結果、ポリマー壁ＰＷの加工精度が低下してしまう。
【００２２】
（実施の形態１）
図１〜図９を用いて、本発明の実施の形態１の表示装置について説明する。前述の課題等を踏まえ、実施の形態１の表示装置では、遮光膜の下方にポリマー壁が形成される構造等を工夫した。実施の形態１の表示装置としては、電気光学層の一種として液晶層を有する液晶表示装置の場合を示す。
【００２３】
［表示装置（１）］
図１は、実施の形態１の表示装置１における表示エリアＤＡを平面視した場合のＸ−Ｙ平面における平面概略構成を示す。この表示装置１は、表示エリアＤＡにおける可撓性を持つ液晶表示装置である。この表示装置１は、例えば携帯情報端末装置に適用される場合の液晶表示パネルに相当するが、他の種類の装置にも同様に適用可能である。なお、Ｘ方向として、図示の左側をＸ１、右側をＸ２として示す。Ｙ方向として、図示の上側をＹ１、下側をＹ２として示す。
【００２４】
図１で、表示装置１のうち、表示面側から見て、カバー部材ＣＶＭを有する。カバー部材ＣＶＭは、後述（図２）のように表示装置本体を保護する部材である。なお、変形例として、カバー部材ＣＶＭが無い形態も可能である。表示装置本体およびカバー部材ＣＶＭの上面側の平面において、矩形の表示エリアＤＡと、非表示エリアＮＤＡとを有する。平面視で、表示エリアＤＡと非表示エリアＮＤＡとの境界を破線で示している。表示エリアＤＡは、表示面に対応する、画像信号に基づいて画像が表示可能なエリアであり、行列状に複数の画素が配列されている。非表示エリアＮＤＡは、表示エリアＤＡの外側のエリア
であり、額縁領域に対応する。
【００２５】
なお、図１の表示装置１の構成例では、表示エリアＤＡを含む主要な基板部分に対し、フレキシブルプリント回路基板等の可撓性基板は接続されていないが、さらに、そのような可撓性基板が接続されている構成としてもよい。また、表示エリアＤＡを縦長の矩形としたが、このような形状に限らず可能である。
【００２６】
［表示装置（２）］
図２は、表示装置１における断面の概略構成を示す。図２は、図１のＡ−Ａ線に対応するＹ−Ｚ平面の断面で、表示エリアＤＡに撓みが無い状態を示す。なお、Ｚ方向として、図示の上側をＺ１、下側をＺ２として示す。Ｙ方向として、図示の左側をＹ１、右側をＹ２として示す。表示装置１は、Ｚ方向で下側（Ｚ２）から順に、バックライトユニットＢＬ、光学素子層ＯＤ１、第１基板ＳＢ１、液晶層ＬＱ、第２基板ＳＢ２、光学素子層ＯＤ２、カバー部材ＣＶＭを有し、それらが相互に接続されている。Ｚ方向で、第１基板ＳＢ１と第２基板ＳＢ２とが対向して、それらの間に液晶層ＬＱを介するように接続されている。第１基板ＳＢ１、第２基板ＳＢ２、および液晶層ＬＱ等によって、図１の表示エリアＤＡが構成されている。なお、表示装置１の筐体等については図示を省略している。
【００２７】
第１基板ＳＢ１は、スイッチング素子や導体パターンである電極等が配列されているアレイ基板である。第２基板ＳＢ２は、第１基板ＳＢ１に対向するように表示面側に配置され、カラーフィルタや黒膜等が配列されている対向基板である。液晶層ＬＱは、液晶素子を含み、電圧印加に応じて電界状態が制御されることで、液晶素子を透過する光の変調が行われる層である。表示エリアＤＡは、液晶層ＬＱと重畳する領域に設けられている。
【００２８】
第１基板ＳＢ１と第２基板ＳＢ２との間には、液晶層ＬＱ、配線層ＷＲ、接着材ＢＮＤ、異方導電膜ＡＣＦ等を有する。また、例えば第１基板ＳＢ１にはＩＣチップＩＣＴ等を有する。液晶層ＬＱの外周には、接着材ＢＮＤおよび異方導電膜ＡＣＦによるシール領域を有する。接着材ＢＮＤは、第１基板ＳＢ１と第２基板ＳＢ２とを接着し、内側に液晶層ＬＱを封止している。
【００２９】
第２基板ＳＢ２は、Ｚ方向の上側（Ｚ１）に向く面Ｓｆ２１（詳しくは光学素子層ＯＤ２に接続される面）と、下側（Ｚ２）に向く面Ｓｆ２２（詳しくは液晶層ＬＱに接続される面。第２面とも記載する）と、を有する。第１基板ＳＢ１は、Ｚ方向の上側（Ｚ１）に向く面Ｓｆ１１（詳しくは液晶層ＬＱに接続される面。第１面とも記載する）と、下側（Ｚ２）に向く面Ｓｆ１２（詳しくは光学素子層ＯＤ１に接続される面）と、を有する。Ｚ方向で、液晶層ＬＱの上面は、面Ｓｆ２２と接続されており、液晶層ＬＱの下面は、面Ｓｆ１１と接続されている。
【００３０】
第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１上で、液晶層ＬＱの一部には、配線層ＷＲが設けられている。配線層ＷＲは、後述の走査線等の電極に接続される引き出し配線を含む。配線層ＷＲの一方端は電極群に接続され、他方端はＩＣチップＩＣＴ等の回路に接続されている。配線層ＷＲの配線は、非表示エリアＮＤＡの一部、例えば図１のＹ方向の下側（Ｙ２）の辺部に集約して配置されている。接着材ＢＮＤの外側には、異方導電膜ＡＣＦを有する。異方導電膜ＡＣＦは、導電粒子を含有する絶縁膜であり、第１基板ＳＢ１の配線と第２基板ＳＢ２の配線とを電気的に接続し、第１基板ＳＢ１の一部と第２基板ＳＢ２の一部とを物理的に接続している。
【００３１】
バックライトユニットＢＬは、発光し、Ｚ方向の上側（Ｚ１）へ光を供給する光源部である。バックライトユニットＢＬからの発光は、Ｚ方向で、第１基板ＳＢ１、液晶層ＬＱ、第２基板ＳＢ２等を経由して、液晶セルで変調された光が、画素の可視光として、上面側に透過される。
【００３２】
光学素子層ＯＤ１は、第１基板ＳＢ１とバックライトユニットＢＬとの間、第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１２に配置されている。光学素子層ＯＤ２は、第２基板ＳＢ２とカバー部材ＣＶＭとの間、第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２１に配置されている。光学素子層ＯＤ１および
光学素子層ＯＤ２は、それぞれ、少なくとも偏光板を含み、必要に応じて位相差板等を含んでもよい。
【００３３】
図３には、表示エリアＤＡにおける撓みを持つ状態の例を、図１のＢ−Ｂ線に対応するＸ−Ｚ平面の断面で簡易的に示す。第１基板ＳＢ１、第２基板ＳＢ２、および液晶層ＬＱ等は、それぞれ可撓性を有する。この状態の例では、表示エリアＤＡのＸ方向の中心付近の位置ｘ１を中心に、Ｚ方向の下側（Ｚ２）へ撓んでいる。これにより、表示エリアＤＡは曲面の状態となっている。液晶層ＬＱにおけるＺ方向の厚さ、間隔に対応するセルギャップＳＧを示す。セルギャップＳＧの例として、中心付近の位置ｘ１でのセルギャップＳＧ１、表示エリアＤＡの外周付近の位置ｘ３でのセルギャップＳＧ３、それらの間の位置ｘ２でのセルギャップＳＧ２を示す。表示装置１では、表示エリアＤＡに撓みがある状態でも、これらのセルギャップＳＧの大きさが一定になるように維持される。
【００３４】
なお、変形例の表示装置１として、非表示エリアＮＤＡにおける第１基板ＳＢ１または第２基板ＳＢ２の少なくとも一方の一部分が、Ｚ方向の下側（Ｚ２）でバックライトユニットＢＬ等の背面側に回り込むように撓みや折り曲げを持つ状態となっている形態としてもよい。
【００３５】
［表示装置（３）］
図４は、表示装置１における画素および駆動回路等に関する等価回路の構成を示す。表示エリアＤＡにおいて、液晶セルに対応付けられる画素４００が、行列状に配置されている。図４では１つの画素４００を示す。画素４００は、走査線ＧＬと信号線ＳＬとが交差する部分に形成されている。画素４００は、スイッチング素子としてのトランジスタ４０１、液晶素子４０４、画素電極ＰＥ、カラーフィルタＣＦ等を有する。
【００３６】
画素４００は、走査線ＧＬ、信号線（ソース線）ＳＬ、共通電極ＣＥ等を通じて、各回路に接続されている。各回路として、走査駆動回路ＧＤ、表示駆動回路ＳＤ、共通駆動回路ＣＤ等を有する。走査駆動回路ＧＤ、表示駆動回路ＳＤ、共通駆動回路ＣＤ等の各回路は、制御回路ＣＮＴと接続されている。制御回路ＣＮＴは、各回路の駆動制御等を行う。制御回路ＣＮＴは、例えば外部から入力される信号に基づいて画像信号を生成し、画像信号に基づいて駆動制御のための信号を生成する。各回路は、例えば図２のＩＣチップＩＣＴ等で実装されている。
【００３７】
トランジスタ４０１は、例えば薄膜トランジスタで構成され、ゲート端子ＧＮに走査線ＧＬが接続され、ソース端子ＳＮに信号線ＳＬが接続され、ドレイン端子ＤＮに画素電極ＰＥが接続されている。
【００３８】
走査線ＧＬは、ゲート線であり、複数の走査線ＧＬが所定間隔で並列にＸ方向に延在している。複数の走査線ＧＬが走査駆動回路ＧＤに接続されている。走査駆動回路ＧＤは、走査線ＧＬに走査信号（ゲート信号）ＧＳを供給する。走査信号ＧＳは、画素を選択するための信号である。信号線ＳＬは、ソース線であり、複数の信号線ＳＬが所定間隔で並列にＹ方向に延在している。複数の信号線ＳＬが表示駆動回路ＳＤに接続されている。表示駆動回路ＳＤは、信号線ＳＬに表示信号（ソース信号）ＳＳを供給する。表示信号ＳＳは、画素の階調を制御するための信号である。
【００３９】
各画素の画素電極ＰＥおよび液晶素子４０４は、共通電極ＣＥと接続されている。共通電極ＣＥは共通駆動回路ＣＤに接続されている。共通駆動回路ＣＤは、共通電極ＣＥに共通電圧を供給する。共通電極ＣＥは、表示エリアＤＡで、単一のベタ層として構成される場合もあるし、複数本の電極で構成される場合もある。
【００４０】
画素電極ＰＥは、所定の形状を持つ可視光透過性電極である。画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間には、液晶層ＬＱの液晶素子４０４および保持容量４０３を有する。トランジスタ４０１のオン状態では、画素電極ＰＥに、表示信号ＳＳに応じた電圧が印加される。画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間の電位差に応じて、液晶素子４０４を駆動するための電界が形成され、可視光の変調が制御される。
【００４１】
画素４００の開口部には、画素電極ＰＥ等の他に、赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）のいずれかの色のカラーフィルタＣＦが設けられている。画素４００の走査線ＧＬ、信号線ＳＬ、およびトランジスタ４０１等の部材は、Ｚ方向で上側（Ｚ１）から後述の遮光膜によって重畳されて覆い隠される。すなわち、画素４００間の非開口部には、遮光膜、トランジスタ４０１等の部材が配置されている。
【００４２】
［断面構成（１）−ポリマー壁形成工程］
図５は、表示装置１の表示エリアＤＡにおける、図１のＢ−Ｂ線に対応するＸ−Ｚ平面の断面でみた場合の構成として、ＵＶ光照射によるポリマー壁形成工程における状態を示す。実施の形態１の表示装置１では、平面視で画素間の非開口部Ｐ２に、ＵＶ光透過性遮光膜である第１遮光膜ＢＭ１を用いたことを特徴とし、これにより、第１遮光膜ＢＭ１の下方に、ポリマー壁ＰＷが形成される。ＵＶ光透過性遮光膜としては、例えば特開２０１４−５６２２２号公報に開示された材料を用いることができる。
【００４３】
ポリマー壁ＰＷは、硬化されると第１基板ＳＢ１および第２基板ＳＢ２に固着される。これにより、ポリマー壁ＰＷによって上下の基板間の間隔を確保し、基板間隔が狭まったり広がったりするような外圧に対して、セルギャップ変動を軽減できる。それと共に、比較例（図２２）のように画素の開口部内にポリマー壁ＰＷが形成されている構造に比べて、液晶セルおよび画素における開口率を確保または向上できる。この表示装置１では、表示エリアＤＡにおいて撓みや曲げが加えられた場合でも、液晶層ＬＱの各位置のセルギャップＳＧを一定に維持できる。
【００４４】
図５で、Ｚ方向で下側（Ｚ２）から順に、第１基板ＳＢ１、液晶層ＬＱ、第２基板ＳＢ２を有する。比較例と同様に、ポリマー壁形成工程では、Ｚ方向で、第２基板ＳＢ２の上側の面Ｓｆ２１から所定の距離Ｇ１で離間した位置に、遮光マスクＭＳＫが配置される。
【００４５】
開口部Ｐ１は、画素の可視光透過部である第１領域である。非開口部Ｐ２は、画素間の可視光遮光部である第２領域である。開口部Ｐ１は、表示エリアＤＡで例えば行列状に配置されている。非開口部Ｐ２は、表示エリアＤＡで例えば格子状に配置されている。
【００４６】
ポリマー壁ＰＷは、表示エリアＤＡ内で、Ｚ方向の上下の部材間（より詳しくは後述の図８のように配向膜間）を物理的に接続する部材である。ポリマー壁ＰＷは、所定の弾性を有する。ポリマー壁ＰＷは、上下の部材間を接続するようにＺ方向に立つ部分である。上下の部材とは、より詳しくは、第１基板ＳＢ１のうちＺ方向で最も上側（Ｚ１）にある部材（図８の第１配向膜ＡＬ１）の面Ｓｆ１１と、第２基板ＳＢ２のうちＺ方向で最も下側（Ｚ２）にある部材（図８の第２配向膜ＡＬ２）の面Ｓｆ２２とを指す。なお、ポリマー壁ＰＷの壁の形状としては、表示エリアＤＡ内で壁が延在する方向については特に限定せず、ある特定の方向（例えばＹ方向）に延在する形状でもよいし、特定の方向に延在せずに特定の領域のみでＺ方向に立つ柱形状等でもよい。
【００４７】
上記ポリマー壁ＰＷを含む構造によって、表示エリアＤＡに撓み等が生じる場合でも、上下の部材間におけるＺ方向の距離（セルギャップＳＧ）の変動が抑制される。表示エリアＤＡの面内の各位置で、その距離が殆ど一定になるように維持される。
【００４８】
第２基板ＳＢ２における所定の層５０１には、第１遮光膜ＢＭ１および第２カラーフィルタＣＦ２等が配置されている。Ｘ方向で、非開口部Ｐ２および第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ４、開口部Ｐ１および第２カラーフィルタＣＦ２の幅Ｋ５を示す。幅Ｋ４等は、Ｘ方向の長さである。カラーフィルタＣＦである第２カラーフィルタＣＦ２として、Ｘ方向で、Ｒ色のカラーフィルタＣＦ２ｒ、Ｇ色のカラーフィルタＣＦ２ｇ、Ｂ色のカラーフィルタＣＦ２ｂが周期的に配列されている。Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の画素の光のセットによって、１つの色が表現される。カラーフィルタＣＦの種類としては、これらの３色に限定されない。
【００４９】
Ｘ方向で、画素の開口部Ｐ１、画素間の非開口部Ｐ２を示す。第２基板ＳＢ２で、開口部Ｐ１に対応する領域には、第２カラーフィルタＣＦ２等が配置されている。第２カラーフィルタＣＦ２は、比較例と同様に、従来型のＵＶ光透過性のカラーフィルタである。そのため、遮光マスクＭＳＫでは、その第２カラーフィルタＣＦ２に対応する領域が、ＵＶ光遮光性領域とされている。
【００５０】
第２基板ＳＢ２で、非開口部Ｐ２に対応する領域には、第１遮光膜ＢＭ１等が配置されている。そのため、遮光マスクＭＳＫでは、その第１遮光膜ＢＭ１に対応する領域が、ＵＶ光透過性領域である開口とされている。ＵＶ光ＵＬの一部の例を矢印のＵＶ光ＵＬ１で示す。
【００５１】
ポリマー壁形成工程では、第２基板ＳＢ２の上側の遮光マスクＭＳＫの上側からＺ方向で下側（Ｚ２）へ向けて、全面的にＵＶ光ＵＬが照射される。ＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、遮光マスクＭＳＫの非開口部Ｐ２に対応する領域を透過し、第１遮光膜ＢＭ１に照射される。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、第１遮光膜ＢＭ１を透過し、第１遮光膜ＢＭ１の下方にある液晶層ＬＱに照射される。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）がモノマー添加液晶ＭＬのモノマーに吸収される反応（重合）によって、そのモノマーがポリマーに変化する。これにより、平面視で非開口部Ｐ２の第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域に、ポリマー壁ＰＷが形成される。第１遮光膜ＢＭ１の領域で、Ｚ方向の下方（Ｚ２）へＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が照射されるので、第１遮光膜ＢＭ１の下方の領域で主にポリマーが成長する。これにより、第１遮光膜ＢＭ１の下方の領域に限定的にポリマー壁ＰＷを形成できる。液晶層ＬＱにおける開口部Ｐ１に対応する領域にはポリマー壁ＰＷが形成されていない。これにより、実施の形態１の表示装置１では、前述の比較例の構造に比べ、液晶セルおよび画素における開口率を高くできる。各画素間にポリマー壁ＰＷを有することで、Ｚ方向の上下の部材間の接続性が確保され、各画素のセルギャップＳＧが一定に維持される。また、工程でのＵＶ光ＵＬの照射条件（照射光量や照射時間等）を制御することで、ポリマー壁ＰＷのＸ方向の幅Ｋ４等を、ある程度制御可能である。
【００５２】
実施の形態１の表示装置１に対応した製造方法では、工程での遮光マスクＭＳＫの位置合わせの精度についても、比較例の製造方法の場合よりも高めることができる。実施の形態１では、遮光マスクＭＳＫの位置合わせを含む、距離Ｇ１での配置の際には、遮光マスクＭＳＫのＵＶ光透過領域である開口の位置を、第１遮光膜ＢＭ１の位置に合わせるように制御すればよい。そのため、比較例の場合よりも、位置合わせが容易であり、その結果、ポリマー壁ＰＷの加工精度を高めることができる。
【００５３】
第１遮光膜ＢＭ１および後述（図６）の第２遮光膜ＢＭ２等の遮光膜（黒膜）は、画素における光漏れや混色を抑制する。従来型の第２遮光膜ＢＭ２は、黒色樹脂、可視光反射性が低い金属等で構成される。
【００５４】
なお、図５では、最終形状としてのポリマー壁ＰＷの幅が第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ４と同じである場合を示すが、これに限らず、ポリマー壁ＰＷの幅が第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ４よりも小さい構造でもよい。
【００５５】
［平面構成（１）−遮光膜およびカラーフィルタ］
図６は、図５の構造に対応した、表示装置１における表示エリアＤＡのＲ，Ｇ，Ｂの画素を平面視した場合のＸ−Ｙ平面の平面構成を示す。図６では、特に、遮光膜およびカラーフィルタの配置構成例を示す。図６で、左側（Ｘ１）から、赤（Ｒ）色の画素、緑（Ｇ）色の画素、青（Ｂ）色の画素を有する。各画素に対応する開口部Ｐ１を、破線枠の開口部６００として示す。画素の開口部６００には第２カラーフィルタＣＦ２｛ＣＦ２ｒ，ＣＦ２ｇ，ＣＦ２ｂ｝が配置されている。
【００５６】
遮光膜は、平面視で、非開口部Ｐ２に対応して、格子状に配置されている黒膜（格子状遮光膜）であり、Ｘ方向に延在する遮光膜部である横黒膜と、Ｙ方向に延在する遮光膜部である縦黒膜とを有する。なお、前述の非表示エリアＮＤＡにも遮光膜が配置されている。
【００５７】
図６の構成例では、格子状遮光膜のうち、第１遮光膜ＢＭ１が、縦黒膜として配置されており、第２遮光膜ＢＭ２（従来型ＵＶ遮光性遮光膜）が、横黒膜として配置されている。すなわち、第１遮光膜ＢＭ１は、非開口部Ｐ２に対応する領域に、Ｙ方向に延在するストライプ状で配置されている。第２遮光膜ＢＭ２は、非開口部Ｐ２に対応する領域に、Ｘ方向に延在するストライプ状で配置されている。第１遮光膜ＢＭ１および第２遮光膜ＢＭ２は、それぞれ所定の幅で形成されている。第１遮光膜ＢＭ１は、前述の信号線ＳＬ等を覆い隠す領域に配置されている。第２遮光膜ＢＭ２は、前述の走査線ＧＬや、トランジスタ４０１等の回路領域６０１を覆い隠す領域に配置されている。
【００５８】
平面視で第１遮光膜ＢＭ１のＺ方向の下側には、破線枠で示すポリマー壁ＰＷが形成されている。上記表示エリアＤＡの平面構成例では、第１遮光膜ＢＭ１と第２遮光膜ＢＭ２との２種類の遮光膜を併用し、特に縦方向のストライプ状に第１遮光膜ＢＭ１およびポリマー壁ＰＷが形成されている。
【００５９】
上記平面構成に関して、変形例として以下も可能である。まず、第１遮光膜ＢＭ１のみを使用し、非開口部Ｐ２に格子状に第１遮光膜ＢＭ１が配置され、対応して格子状にポリマー壁ＰＷが形成されている構造としてもよい。他の変形例として、縦黒膜として第２遮光膜ＢＭ２が配置され、横黒膜として第１遮光膜ＢＭ１が配置され、対応して横方向のストライプ状にポリマー壁ＰＷが形成されている構造としてもよい。
【００６０】
また、図５および図６の構成例では、すべての画素間に対応させて第１遮光膜ＢＭ１お
よびポリマー壁ＰＷが設けられているが、これに限らず可能である。変形例として、例え
ばＸ方向で一定間隔等、一部の画素に対応させて、第１遮光膜ＢＭ１およびポリマー壁Ｐ
Ｗを設ける構造としてもよい。表示エリアＤＡでの必要な接続性能に応じて、第１遮光膜
ＢＭ１およびポリマー壁ＰＷの配置の位置や密度等を設計すればよい。
【００６１】
図６の平面構成例では、縦黒膜を第１遮光膜ＢＭ１とすることで、Ｘ方向の画素間の領域（Ｘ方向でのカラーフィルタＣＦ間の領域、または格子状遮光膜の交差部分の領域の少なくとも一方）に、ポリマー壁ＰＷを形成できる。また、これにより、Ｘ方向で隣接する画素間での漏れ電界等の影響を軽減することができる。なお、後述するが、表示エリアＤＡ内の液晶層ＬＱで、非開口部Ｐ２の任意の箇所には、公知のスペーサ等の部品がさらに配置されていてもよい。例えば、格子状遮光膜の交差部分の下方の位置にスペーサが配置されていてもよい。
【００６２】
［製造方法（１）］
図７は、表示装置１の製造方法のフローを示す。図７のフローはステップＳ１〜Ｓ４を有する。ステップＳ１は第１基板製造工程であり、第１基板ＳＢ１であるアレイ基板を製造する工程である。この工程は、走査線やトランジスタ等を形成する工程を含む。また、この工程は、第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１に配向膜（図８の第１配向膜ＡＬ１）を形成する工程を含む。ステップＳ２は第２基板製造工程であり、第２基板ＳＢ２である対向基板を製造する工程である。この工程は、第１遮光膜ＢＭ１等の遮光膜を形成する工程Ｓ２１や、第２カラーフィルタＣＦ２等のカラーフィルタを形成する工程Ｓ２２を含む。また、この工程は、第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２に配向膜（図８の第２配向膜ＡＬ２）を形成する工程を含む。
【００６３】
ステップＳ１およびステップＳ２の後のステップＳ３は、基板貼り合わせ・液晶層形成工程であり、第１基板ＳＢ１（特に面Ｓｆ１１）と第２基板ＳＢ２（特に面Ｓｆ２２）とを貼り合わせて、それらの間に液晶層ＬＱを形成する工程である。貼り合わせの際には、非表示エリアＮＤＡに対応する額縁領域において、接着材ＢＮＤ等で接着が行われる。なお、この工程で第１配向膜ＡＬ１および第２配向膜ＡＬ２を形成してもよい。
【００６４】
ステップＳ４はポリマー壁形成工程である。この工程は、図５のようにＺ方向で第２基板ＳＢ２の上側から遮光マスクＭＳＫを介して第１遮光膜ＢＭ１等に対してＵＶ光ＵＬを照射する工程（ＵＶ光照射工程）Ｓ４１を含む。この工程では、ＵＶ光ＵＬの照射の条件として、所定の照射光量や照射時間等が制御される。図５のように、照射されたＵＶ光ＵＬが、第１遮光膜ＢＭ１を透過し、第１遮光膜ＢＭ１の下方にあるモノマー添加液晶ＭＬと反応することで、ポリマー壁ＰＷが形成される。
【００６５】
実施の形態１における製造方法は、表示装置１の製造方法であって、Ｚ方向で第２基板ＳＢ２の上側から遮光マスクＭＳＫを介してＵＶ光ＵＬを照射して、第２基板ＳＢ２の第１遮光膜ＢＭ１を透過したＵＶ光ＵＬが液晶層ＬＱのモノマー添加液晶ＭＬに反応することで、平面視で第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域に配置されるポリマー壁ＰＷを形成する工程を有する。
【００６６】
［断面構成例（１）］
図８は、実施の形態１の表示装置１における、図５よりも詳しい断面構成例を示す。図８では、表示エリアＤＡのＸ−Ｚ平面の断面の概略構成を示す。なお、図８では、説明上、各部材を同時に説明するために、異なる位置の各断面を１つに統合した断面として示す。図８で、Ｚ方向で下側（Ｚ２）から順に、第１基板ＳＢ１、液晶層ＬＱ、第２基板ＳＢ２を示す。第１基板ＳＢ１は、Ｚ方向で下側（Ｚ２）から順に、基板ＢＢ１、走査線ＧＬ、絶縁膜、信号線ＳＬ、絶縁膜、共通電極ＣＥ、絶縁膜、画素電極ＰＥ、絶縁膜、および第１配向膜ＡＬ１を有する。
【００６７】
基板ＢＢ１は、第１基板ＳＢ１を構成するベースとなる基板であり、可撓性および光透過性を持つ絶縁性基板である。基板ＢＢ２は、第２基板ＳＢ２を構成するベースとなる基板であり、可撓性および光透過性を持つ絶縁性基板である。走査線ＧＬ、信号線ＳＬ等は、例えば金属配線等の導体パターンで構成される。信号線ＳＬは、第１遮光膜ＢＭ１（図６の縦黒膜）によって重畳されている。走査線ＧＬは、第２遮光膜ＢＭ２（図６の横黒膜）によって重畳されている。画素電極ＰＥは、１つの画素で２つ１組の電極が並列配置される場合を示す。画素電極ＰＥは、ＩＴＯ（Indium tin oxide）等の可視光透過性導電材料で構成される。各種の電極等の間には絶縁膜が設けられている。
【００６８】
液晶層ＬＱは、モノマー添加液晶ＭＬおよびポリマー壁ＰＷを含む層８００で構成される。この層８００は、第１基板ＳＢ１の第１配向膜ＡＬ１と、第２基板ＳＢ２の第２配向膜ＡＬ２とで挟まれる層である。第１配向膜ＡＬ１および第２配向膜ＡＬ２は、層８００に接しており、モノマー添加液晶ＭＬの液晶分子が所定の初期配向特性を持つように配向制御する機能を有する。各配向膜は、例えばポリイミド樹脂等の有機絶縁膜で構成される。ポリマー壁ＰＷは、Ｚ方向で下側（Ｚ２）の部材である第１配向膜ＡＬ１と上側（Ｚ１）の部材である第２配向膜ＡＬ２とを物理的に接続している。ポリマー壁ＰＷは、平面視で、第１遮光膜ＢＭ１の下方の、第２カラーフィルタＣＦ２等を介した位置の領域に形成されている。
【００６９】
第２基板ＳＢ２は、Ｚ方向で上側（Ｚ１）から順に、基板ＢＢ２、遮光膜層８０１、カラーフィルタ層８０２、絶縁層８０３、および第２配向膜ＡＬ２を有する。遮光膜層８０１では、図６のようにＹ方向に延在する第１遮光膜ＢＭ１とＸ方向に延在する第２遮光膜ＢＭ２とが格子状に形成されている。前述のように非開口部Ｐ２に対応させて第１遮光膜ＢＭ１およびポリマー壁ＰＷが配置されている。なお、黒膜の交差部分にもポリマー壁ＰＷを設ける場合、その交差部分には第１遮光膜ＢＭ１のみが配置される。カラーフィルタ層８０２では、第２カラーフィルタＣＦ２として、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色のカラーフィルタＣＦ２｛ＣＦ２ｒ，ＣＦ２ｇ，ＣＦ２ｂ｝がＸ方向に周期的に配置されている。絶縁層８０３は、カラーフィルタＣＦ等の拡散を防止する保護膜として機能する。
【００７０】
図８の構成例では、第１遮光膜ＢＭ１の下に、第２カラーフィルタＣＦ２の一部が重なるように配置されている。第２カラーフィルタＣＦ２は、従来型のＵＶ光透過性であるため、このようにＺ方向で第１遮光膜ＢＭ１に重なるように配置されていてもよい。
【００７１】
前述の工程で、ＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、遮光マスクＭＳＫ、第１遮光膜ＢＭ１、および第２カラーフィルタＣＦ２等を透過して、モノマー添加液晶ＭＬに照射される。これにより、第１遮光膜ＢＭ１の下方における、第１配向膜ＡＬ１と第２配向膜ＡＬ２との間の領域に、ポリマー壁ＰＷが形成される。
【００７２】
上記表示装置１の断面構成例に限らず可能である。遮光膜およびカラーフィルタは、それぞれ、基本的には同じ１層で構成されてもよいし、異なる２層以上の層で構成されてもよい。例えば、第１遮光膜ＢＭ１と第２遮光膜ＢＭ２とが異なる２層で構成されてもよい。例えば、遮光膜とカラーフィルタとが同じ層に形成されてもよい。３色のカラーフィルタや２種の遮光膜が、絶縁部材を介して分離されて形成されてもよい。
【００７３】
なお、可撓性を持つ基板の構成材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリカルボナート、あるいはポリエステル等のポリマーを含む樹脂材料が挙げられる。
【００７４】
［光学特性−第１遮光膜］
図９は、実施の形態１で使用する第１遮光膜ＢＭ１、および後述の実施の形態２で使用する第１カラーフィルタＣＦ１に関する、ＵＶ光に関する光学特性を示す。図９のグラフで、横軸が光の波長（単位［ｎｍ］）、縦軸が規格化透過率（単位［％］）を示す。第１遮光膜ＢＭ１の特性を太い実線で示す。赤（Ｒ）色のカラーフィルタＣＦ１ｒの特性を細い実線で示す。緑（Ｇ）色のカラーフィルタＣＦ１ｇの特性を破線で示す。青（Ｂ）色のカラーフィルタＣＦ１ｂの特性を一点鎖線で示す。なお、規格化透過率は、遮光膜（第１遮光膜ＢＭ１）および各色のカラーフィルタにおいて透過率のピーク値が揃うように規格化した透過率である。
【００７５】
ＵＶ光の波長範囲は、一般的に４００ｎｍ以下程度の範囲である。ポリマー壁形成工程で用いるＵＶ光の波長（すなわちモノマー吸収波長）を、３６５ｎｍ以下の波長範囲内の波長、例えば３６５ｎｍとする。図９のグラフでは、そのモノマー吸収波長＝３６５ｎｍの位置を縦破線で示す。
【００７６】
第１遮光膜ＢＭ１は、前提として、黒膜として機能するために、可視光（赤色光、緑色光、青色光）に関する十分な遮光性を有する。第１遮光膜ＢＭ１は、例えばＵＶ光遮光性を持つレジスト部材を用いて構成される。図９のグラフでは、第１遮光膜ＢＭ１の透過率
は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色に対応する波長領域（例えば６５０ｎｍ付近、５５０ｎｍ付近、４５０ｎｍ付近）では、０％に近い特性となっている。
【００７７】
モノマー吸収波長（３６５ｎｍ）における第１遮光膜ＢＭ１の規格化透過率をＴ１で示す。実施の形態１の表示装置１において、第１遮光膜ＢＭ１として使用するＵＶ光透過性遮光膜の特性としては、モノマー吸収波長（３６５ｎｍ）での規格化透過率が、カラーフィルタＣＦ（従来型の第２カラーフィルタＣＦ２）の規格化透過率（特に第２カラーフィルタＣＦ２のうち最も透過率が高い部材、例えば青色のカラーフィルタＣＦ２ｂの透過率）よりも高いものとする。特に、第１遮光膜ＢＭ１のモノマー吸収波長（３６５ｎｍ）での規格化透過率Ｔ１が、青色のカラーフィルタＣＦ２ｂの規格化透過率に対して、１０倍以上の差を持つ特性とすると、好適である。理想的には、第１遮光膜ＢＭ１のモノマー吸収波長（３６５ｎｍ）での規格化透過率Ｔ１が１００％であると良いが、これに限らず、上記条件を満たす特性であれば、相応の効果が得られる。第１遮光膜ＢＭ１のＵＶ光透過性に応じて、ポリマー壁形成工程でのＵＶ光の照射の条件が調整される。
【００７８】
［効果等（１）］
上記のように、実施の形態１の表示装置１によれば、表示エリアＤＡにおける第１遮光
膜ＢＭ１の下方のポリマー壁ＰＷの形成によって、厚さ方向の部材間の接続性の確保およ
びセルギャップ変動軽減と共に、開口率向上等の好適な光学特性を実現できる。なお、前
述のように、ポリマー壁ＰＷは、第１基板ＳＢ１の第１面（面Ｓｆ１１）と第２基板ＳＢ
２の第２面（面Ｓｆ２２）との間を接続する。第１面や第２面に対応する部材は、前述の
配向膜に限らず、電極、配線、絶縁膜、他の種類の部材等のいずれの部材でもよい。
【００７９】
（実施の形態２）
図１０，図１１を用いて、実施の形態２の表示装置について説明する。実施の形態２等における基本構成は実施の形態１と同様であり、以下では、実施の形態２等における実施の形態１とは異なる構成部分について説明する。実施の形態２の表示装置では、カラーフィルタＣＦとして、従来型の第２カラーフィルタＣＦ２ではなく、ＵＶ光遮光性を持つ第１カラーフィルタＣＦ１を用いる。これにより、ポリマー壁形成工程における遮光マスクＭＳＫを不要にする、または削減する。
【００８０】
［断面構成（２）］
図１０は、実施の形態２の表示装置１における、表示エリアＤＡにおけるＸ−Ｚ平面の断面構成を示す。図１０の構成は、図５に比べて異なる構成点としては、第２基板ＳＢ２の層１００１において、非開口部Ｐ２に配置される第１遮光膜ＢＭ１と、開口部Ｐ１に配置される第１カラーフィルタＣＦ１とを有する。前述の第２カラーフィルタＣＦ２の代わりに第１カラーフィルタＣＦ１が配置されている。第１カラーフィルタＣＦ１として、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色のカラーフィルタＣＦ１ｒ，ＣＦ１ｇ，ＣＦ１ｂを有する。第１カラーフィルタＣＦ１は、光学特性として、ＵＶ光遮光性を持つ。そのため、第１カラーフィルタＣＦ１は、ポリマー壁形成工程で、ＵＶ光遮光領域として機能する。そのため、実施の形態２における製造方法では、ポリマー壁形成工程で、前述の遮光マスクＭＳＫを不要にする、または一部削減することができる。
【００８１】
ポリマー壁形成工程では、平面視で第２基板ＳＢ２の上側（Ｚ１）から下側（Ｚ２）へ向けてＵＶ光ＵＬが照射される。そのＵＶ光ＵＬは、第２基板ＳＢ２の層１００１における第１遮光膜ＢＭ１を透過し、第１カラーフィルタＣＦ１を透過しない。第１遮光膜ＢＭ１を透過したＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が、液晶層ＬＱに照射される。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）がモノマー添加液晶ＭＬのモノマーに吸収される反応（重合）によってモノマーがポリマーに変化する。これにより、平面視で第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域にポリマー壁ＰＷが形成される。ポリマー壁ＰＷの位置やＸ方向の幅Ｋ４等は、実施の形態１の場合（図５）と同様である。
【００８２】
実施の形態２における製造方法（特に図１０の断面の場合）では、前述の遮光マスクＭＳＫが不要である。そのため、ポリマー壁形成工程で、Ｚ方向でのＵＶ光ＵＬの照射の距離は、最小値として、第２基板ＳＢ２の厚さに対応する距離Ｇ２とすることができる。この距離Ｇ２は、前述の距離Ｇ３よりも短い。よって、実施の形態２における製造方法では、ポリマー壁ＰＷの形成を容易にし、加工精度を高めることができ、工程の負荷を低くすることができる。
【００８３】
［断面構成例（２）］
図１１は、実施の形態２の表示装置１における、図１０よりも詳しいＸ−Ｚ平面の断面構成例を示す。図１１の構造は、図８に比べて異なる構成点としては、第２基板ＳＢ２において、基板ＢＢ２上、Ｚ方向で上側（Ｚ１）から下側（Ｚ２）へ順に、層１１０１、層１１０２、絶縁層１１０３を有する。層１１０１では、開口部Ｐ１に対応する領域に、従来型の第２遮光膜ＢＭ２が、横黒膜（例えば図６と同様）として配置されている。層１１０２では、非開口部Ｐ２に対応する領域に、第１遮光膜ＢＭ１が、縦黒膜（例えば図６と同様）として配置されている。また、同じく層１１０２では、第１遮光膜ＢＭ１の間である、開口部Ｐ１に対応する領域に、第１カラーフィルタＣＦ１｛ＣＦ１ｒ，ＣＦ１ｇ，ＣＦ１ｂ｝が配置されている。
【００８４】
図１１の構成例では、格子状遮光膜である黒膜が、層１１０１と層１１０２との２層で構成されている。なお、黒膜の格子の交差部分でもポリマー壁ＰＷを形成する場合、その交差部分には第１遮光膜ＢＭ１のみが配置される。また、図１１の構成例では、第１遮光膜ＢＭ１のＺ方向の下には、カラーフィルタＣＦ（第１カラーフィルタＣＦ１）が重なっていない。第１カラーフィルタＣＦ１は、ＵＶ光遮光性を持つので、ポリマー壁ＰＷを形成したい領域に対応する第１遮光膜ＢＭ１の領域には重ならないように配置される。
【００８５】
図１１の構造に対応するポリマー壁形成工程では、第２基板ＳＢ２の上側から照射されたＵＶ光ＵＬが、第１遮光膜ＢＭ１の部分のみを透過する。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が液晶層ＬＱのモノマー添加液晶ＭＬと反応することで、第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域にポリマー壁ＰＷが形成される。
【００８６】
［光学特性−第１カラーフィルタ］
前述の図９で、実施の形態２で使用する、第１カラーフィルタＣＦ１であるＵＶ光遮光性カラーフィルタの特性としては、前提として各色に対応する波長範囲での充分な透過率が確保された上で、モノマー吸収波長（３６５ｎｍ）での規格化透過率が０％に近いものとする。すなわち、ＵＶ光に関する十分な遮光性を持つ特性とする。第１カラーフィルタＣＦ１は、例えばＵＶ光遮光性を持つ色レジスト部材を用いて構成される。
【００８７】
［製造方法（２）］
実施の形態２における製造方法は、第２基板ＳＢ２の上側からＵＶ光を照射して、ＵＶ光遮光性を持つ第１カラーフィルタＣＦ１を透過せずに第１遮光膜ＢＭ１を透過したＵＶ光が液晶層ＬＱのモノマー添加液晶ＭＬに反応することで、第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域に配置されるポリマー壁ＰＷを形成する工程を有する。
【００８８】
［効果等（２）］
上記のように、実施の形態２の表示装置１によれば、実施の形態１と同様の効果が得られると共に、工程での遮光マスクＭＳＫを不要にし、または削減し、工程の負荷を軽減できる。
【００８９】
実施の形態２の変形例として以下も可能である。変形例として、第１カラーフィルタＣＦ１と第２カラーフィルタＣＦ２との２種類のカラーフィルタＣＦを併用する構成としてもよい。例えば、ポリマー壁ＰＷの形成のためにＵＶ光ＵＬを透過したい領域には第２カラーフィルタＣＦ２を配置し、ＵＶ光ＵＬを透過したくない領域には第１カラーフィルタＣＦ１を配置する構成としてもよい。
【００９０】
変形例として、ポリマー壁形成工程で、遮光マスクＭＳＫと第１カラーフィルタＣＦ１とを組み合わせて使用してもよい。すなわち、一部の領域のＵＶ光遮光には遮光マスクＭＳＫで対応し、他の一部の領域のＵＶ光遮光には第１カラーフィルタＣＦ１で対応するようにしてもよい。
【００９１】
（実施の形態３）
図１２，図１３を用いて、実施の形態３の表示装置について説明する。実施の形態３の表示装置では、第１遮光膜ＢＭ１と従来型の第２遮光膜ＢＭ２とを併用する構造とする。これにより、第１遮光膜ＢＭ１の領域に対応して設けられるポリマー壁ＰＷの領域を狭めることができる。また、第１遮光膜ＢＭ１を設ける面積や量を削減することができる。
【００９２】
前述の実施の形態１の図５の構成や、実施の形態２の図１０の構成とする場合、ポリマー壁形成工程におけるＵＶ光の照射条件を適切に制御できない場合には、ポリマー壁ＰＷが、非開口部Ｐ２から開口部Ｐ１内に一部はみ出すように形成される恐れがある。その場合、そのはみ出しの分、液晶セルおよび画素における開口率が低下してしまう。実施の形態３では、第１遮光膜ＢＭ１と第２遮光膜ＢＭ２との並列の配置によって、第１遮光膜ＢＭ１の下方の領域からポリマー壁ＰＷの一部が横（Ｘ方向やＹ方向）にはみ出すように形成された場合でも、開口部Ｐ１内にはポリマー壁ＰＷが出ないようにする。これにより、開口率が確保できる。
【００９３】
［断面構成（３）］
図１２は、実施の形態３の表示装置１におけるＸ−Ｚ平面の断面構成を示す。図１２は、実施の形態３における第１方式の断面構成を示す。図１３は、実施の形態３における第２方式の断面構成を示す。図１２の第１方式で、表示装置１は、Ｚ方向で下側（Ｚ２）から順に、第１基板ＳＢ１、液晶層ＬＱ、第２基板ＳＢ２を有する。また、図１２の例では、カラーフィルタＣＦとして第２カラーフィルタＣＦ２を用いる。それに対応して、ポリマー壁形成工程では、遮光マスクＭＳＫを用いる。
【００９４】
第２基板ＳＢ２において、層１２０１を有する。層１２０１では、開口部Ｐ１に対応する領域（Ｘ方向の幅Ｋ５）には、第２カラーフィルタＣＦ２が配置されている。非開口部Ｐ２に対応する領域（Ｘ方向の幅Ｋ４）には、第１遮光膜ＢＭ１と第２遮光膜ＢＭ２とが並列に配置されている。ある画素間の非開口部Ｐ２において、Ｘ方向で中央の位置には、第１遮光膜ＢＭ１が配置されている。そして、その第１遮光膜ＢＭ１のＸ方向で左右の両側の位置には、第２遮光膜ＢＭ２が配置されている。非開口部Ｐ２のＸ方向の幅Ｋ４において、第１遮光膜ＢＭ１の領域の幅Ｋ６、第２遮光膜ＢＭ２の領域の幅Ｋ７を示す。Ｋ６＋２×Ｋ７＝Ｋ４である。
【００９５】
遮光マスクＭＳＫは、前述と同様に、第２基板ＳＢ２から所定の距離Ｇ１で離間した位置に配置されている。遮光マスクＭＳＫは、第１遮光膜ＢＭ１に対応する位置に、ＵＶ光透過領域である開口が設けられている。なお、従来型の第２遮光膜ＢＭ２はＵＶ光遮光性を持つので、遮光マスクＭＳＫにおける第２遮光膜ＢＭ２に対応する領域でも開口としてもよい。
【００９６】
ポリマー壁形成工程で、Ｚ方向の上側（Ｚ１）から照射されたＵＶ光ＵＬは、遮光マスクＭＳＫの開口を透過した成分のＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が、第１遮光膜ＢＭ１を含む層１２０１に照射される。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、第１遮光膜ＢＭ１を透過し、第２遮光膜ＢＭ２を透過しない。第１遮光膜ＢＭ１をＺ方向の下側へ透過したＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が、液晶層ＬＱのモノマー添加液晶ＭＬに照射される。これにより、Ｚ方向で第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域にポリマー壁ＰＷが形成される。図１２の状態では、ポリマー壁ＰＷの最終形状（照射条件に応じた制御結果）を示している。第２遮光膜ＢＭ２の下方に重なる領域にはポリマー壁ＰＷが形成されていない。ポリマー壁ＰＷは、非開口部Ｐ２内に留められており、開口部Ｐ１内には出ていない。そのため、開口率が確保できる。ポリマー壁ＰＷのＸ方向の幅は、非開口部Ｐ２の幅Ｋ４以内であり、特に第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ６と同じである。
【００９７】
図１３の第２方式の例では、カラーフィルタＣＦとして第１カラーフィルタＣＦ１を用いる。それに対応して、ポリマー壁形成工程では、遮光マスクＭＳＫが不要または一部削減できる。第２基板ＳＢ２において、層１３０１を有する。層１３０１では、開口部Ｐ１に対応する領域（Ｘ方向の幅Ｋ５）には、第１カラーフィルタＣＦ１が配置されている。非開口部Ｐ２に対応する領域（Ｘ方向の幅Ｋ４）には、第１遮光膜ＢＭ１と第２遮光膜ＢＭ２とが並列に配置されている。第１方式と同様に、非開口部Ｐ２において、Ｘ方向で中央の位置には、第１遮光膜ＢＭ１が配置され、その第１遮光膜ＢＭ１のＸ方向で左右の両側の位置には、第２遮光膜ＢＭ２が配置されている。
【００９８】
ポリマー壁形成工程で、Ｚ方向の上側（Ｚ１）から照射されたＵＶ光ＵＬは、第１遮光膜ＢＭ１を含む層１３０１に照射される。そのＵＶ光ＵＬは、第１遮光膜ＢＭ１を透過し、第２遮光膜ＢＭ２を透過しない。第１遮光膜ＢＭ１をＺ方向の下方へ透過したＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が、液晶層ＬＱのモノマー添加液晶ＭＬに照射される。これにより、第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域にポリマー壁ＰＷが形成される。図１３の状態では、ポリマー壁ＰＷの最終形状を示している。この際、第２方式でのＵＶ光ＵＬの照射条件の場合、ポリマー壁ＰＷは、第１遮光膜ＢＭ１の下方の幅Ｋ６の領域から横（Ｘ方向およびＹ方向）に出るように成長し、第２遮光膜ＢＭ２の下方に重なる幅Ｋ７の領域内まで形成されている。形成されたポリマー壁ＰＷのＸ方向の幅Ｋ８を示す。幅Ｋ８は、非開口部Ｐ２の幅Ｋ４よりも小さい（Ｋ８＜Ｋ４）。ポリマー壁ＰＷは、開口部Ｐ１内には出ていない。そのため、開口率が確保できる。
【００９９】
［製造方法（３）］
実施の形態３における製造方法は、第２基板ＳＢ２の上側からＵＶ光ＵＬを照射して、ＵＶ光遮光性を持つ第２遮光膜ＢＭ２を透過せずに第１遮光膜ＢＭ１を透過したＵＶ光ＵＬが、液晶層ＬＱのモノマー添加液晶ＭＬに反応することで、第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域に配置されるポリマー壁ＰＷを形成する工程を有する。
【０１００】
［効果等（３）］
上記のように、実施の形態３では、２種類の遮光膜を併用することで、ポリマー壁ＰＷが非開口部Ｐ２内に留められ、開口部Ｐ１内に出ないようにでき、開口率を確保できる。ＵＶ光ＵＬの照射の制御が難しい場合には、図１３のような第２方式を適用することで、ポリマー壁ＰＷの最終形状に余裕を持たせることができる。第２方式の場合、ポリマー壁ＰＷの最終形状の幅Ｋ８として、非開口部Ｐ２の幅Ｋ４以内であればよい。言い換えると、ポリマー壁ＰＷがある程度の距離までは横に拡がって形成されても問題無い。すなわち、ポリマー壁形成工程の制御の点では、より容易に実現できる。
【０１０１】
また、実施の形態３では、２種類の遮光膜のパターンに応じて、ポリマー壁ＰＷの形成のパターンの自由度を高くできる。また、実施の形態３では、第１遮光膜ＢＭ１の面積や量を抑制したい場合に、第２遮光膜ＢＭ２との組み合わせによって、その抑制を実現できる。また、第１遮光膜ＢＭ１と第２遮光膜ＢＭ２との可視光遮光の特性が異なる場合には、それらの２種類の組み合わせの配置によって、所定の可視光遮光の特性を実現できる。例えば、第１遮光膜ＢＭ１の隣に従来型の第２遮光膜ＢＭ２を設ける構成によって、画素における光漏れを低減し、コントラスト等を改善できる効果が期待できる。
【０１０２】
実施の形態３の変形例として以下も可能である。非開口部Ｐ２における２種類の遮光膜の配置の形状は、上記図１２の構造に限らず可能である。例えば、ある画素間の非開口部Ｐ２におけるＸ方向の一方側（例えば右半分）の領域に第１遮光膜ＢＭ１、他方側（例えば左半分）の領域に第２遮光膜ＢＭ２が配置される構造等も可能である。
【０１０３】
（実施の形態４）
図１４を用いて、実施の形態４の表示装置について説明する。実施の形態４では、第１遮光膜ＢＭ１と第１カラーフィルタＣＦ１とを併用し、平面視で一部の領域では、第１遮光膜ＢＭ１に第１カラーフィルタＣＦ１が重なって配置される構造とする。これにより、その一部の領域では、ＵＶ光遮光性を持つ第１カラーフィルタＣＦ１によって、ＵＶ光遮光領域として機能する。これにより、ポリマー壁形成工程で、前述の遮光マスクＭＳＫを不要または削減できる。実施の形態４の構成は、実施の形態３の構成での第２遮光膜ＢＭ２の代わりに第１カラーフィルタＣＦ１を配置する構成と捉えることができる。
【０１０４】
［断面構成（４）］
図１４は、実施の形態４の表示装置１におけるＸ−Ｚ平面の断面構成を示す。図１４の構成は、前述の構成に比べて異なる構成点としては、第２基板ＳＢ２において、Ｚ方向で上側（Ｚ１）から順に、層１４０１、層１４０２を有する。層１４０１は、遮光膜層であり、非開口部Ｐ２に対応する領域に、第１遮光膜ＢＭ１が配置されている。層１４０２は、カラーフィルタ層であり、開口部Ｐ１に対応する領域および非開口部Ｐ２の一部の領域に、第１カラーフィルタＣＦ１が配置されている。ポリマー壁ＰＷを形成したい領域には、第１遮光膜ＢＭ１が単体で配置され、ポリマー壁ＰＷを形成したくない領域（または前述の形成の余裕のための領域）には、第１遮光膜ＢＭ１と第１カラーフィルタＣＦ１とが重畳で配置される。
【０１０５】
実施の形態４では、第１カラーフィルタＣＦ１を用いる。それに対応して、図１４の断面では遮光マスクＭＳＫは不要である。ポリマー壁形成工程で、第２基板ＳＢ２の上側から照射されたＵＶ光ＵＬは、第２基板ＳＢ２の層１４０１の第１遮光膜ＢＭ１の一部（幅Ｋ６）を透過し、層１４０２の第１カラーフィルタＣＦ１（幅Ｋ７）を透過しない。第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ４の領域のうち、幅Ｋ６で示す、第１カラーフィルタＣＦ１が重なっていない領域を有する。この領域（言い換えると、Ｘ方向の第１カラーフィルタＣＦ１間の領域）では、ＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が透過する。第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ４の領域のうち、幅Ｋ７で示す、第１カラーフィルタＣＦ１が重なっている領域を有する。この領域（言い換えると、平面視でそれらの部材が重畳している領域）では、ＵＶ光ＵＬがその第１カラーフィルタＣＦ１の部分を透過しない。そのため、第１遮光膜ＢＭ１のうちの所定の領域（幅Ｋ６）のみで透過したＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が、液晶層ＬＱに照射される。そのＵＶ光がモノマー添加液晶ＭＬと反応することで、第１遮光膜ＢＭ１のうちの所定の幅Ｋ６の領域の下方に重なる領域に、ポリマー壁ＰＷが形成される。図１４の構成例では、ポリマー壁ＰＷの形成の最終形状におけるＸ方向の幅が幅Ｋ６と同じである場合を示す。
【０１０６】
上記構成例に限らず、前述の図１３と同様に、第１カラーフィルタＣＦ１の一部の領域（幅Ｋ７）の下方に出るようにポリマー壁ＰＷが形成される構造としてもよい。
【０１０７】
［製造方法（４）］
実施の形態４における製造方法は、第２基板ＳＢ２の上側からＵＶ光ＵＬを照射して、ＵＶ光遮光性を持つ第１カラーフィルタＣＦ１の一部の領域（第１遮光膜ＢＭ１と重畳されている領域）を透過せずに第１遮光膜ＢＭ１の一部の領域（第１カラーフィルタＣＦ１と重畳されていない領域）を透過したＵＶ光ＵＬが、液晶層ＬＱのモノマー添加液晶ＭＬに反応することで、第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域に配置されるポリマー壁ＰＷを形成する工程を有する。
【０１０８】
［効果等（４）］
上記のように、実施の形態４では、実施の形態３と類似の効果、すなわちポリマー壁ＰＷを非開口部Ｐ２内に留めて開口率を確保できる効果等が実現できる。実施の形態４では、第１遮光膜ＢＭ１（言い換えるとＵＶ光透過性の可視光遮光領域）と第１カラーフィルタＣＦ１（言い換えるとＵＶ光遮光性の可視光透過領域）との組み合わせの配置パターンに応じて、所定の箇所にポリマー壁ＰＷを形成できる。
【０１０９】
（実施の形態５）
図１５〜図１８を用いて、実施の形態５の表示装置について説明する。実施の形態５の表示装置では、表示エリアＤＡの平面視で、液晶層ＬＱにおける、第１遮光膜ＢＭ１のＺ方向の下方に、突出部としてのスペーサ、およびポリマー壁ＰＷが形成される。この構成では、スペーサの付近にポリマー壁ＰＷが形成されることで、前述の形態に比べて、ポリマー壁ＰＷの体積が少なくて済む。よって、ポリマー壁形成工程でのＵＶ光の照射光量や照射時間が少なくて済み、製造フローを短縮できる。
【０１１０】
［断面構成（５）］
図１５〜図１８は、実施の形態５の表示装置１における、Ｘ−Ｚ平面の断面構成を示す。実施の形態５では、ポリマー壁ＰＷは、第１基板ＳＢ１の第１配向膜ＡＬ１のうちのＺ方向で最も上の位置となる部位の面と、第２基板ＳＢ２の第２配向膜ＡＬ２のうちのＺ方向で最も下の位置となる部位の面との間を接続する。
【０１１１】
図１５は、実施の形態５における第１方式のポリマー壁ＰＷの構成例を示す。第２基板ＳＢ２の層１５０１では、非開口部Ｐ２に対応させて第１遮光膜ＢＭ１が配置され、開口部Ｐ１に対応させて第２カラーフィルタＣＦ２が配置されている。
【０１１２】
この構成例では、液晶層ＬＱにおいて、Ｚ方向の下側（Ｚ２）の面（対応する第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１）に接続されるように、突出部として、スペーサＳＰ１が形成されている。突出部であるスペーサＳＰ１は、第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１と第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２との一方の面（例えば面Ｓｆ１１）に接続され、Ｚ方向で液晶層ＬＱ内へ突出している部分である。このスペーサＳＰ１は、公知のポストスペーサ（メインスペーサ等とも呼ばれる）として構成される。このスペーサＳＰ１は、例えば円柱形状を有するが、他の形状でもよい。このスペーサＳＰ１は、所定の弾性を有し、可視光遮光性の部材で構成されている。
【０１１３】
このスペーサＳＰ１としては、ポストスペーサに限らず、サブスペーサとしてもよいし、各種のスペーサが混在していてもよい。ポストスペーサは、そのポストスペーサの位置において液晶セルおよび画素のＺ方向の距離（セルギャップ）を他の位置であるスペーサが無い位置よりも短くする部材であり、所定の距離を確保するための部材である。サブスペーサは、メインスペーサよりも高さが低いものである。表示エリアＤＡで、スペーサＳＰ１がある位置では、このスペーサＳＰ１の厚さに対応するセルギャップが最低限維持される。例えば、Ｚ方向で上下にある第１基板ＳＢ１および第２基板ＳＢ２の少なくとも一方が内側の液晶層ＬＱへ向けて押されるようにして撓む場合でも、スペーサＳＰ１の厚さ分のセルギャップが確保される。
【０１１４】
スペーサＳＰ１は、第１基板製造工程（図７のＳ１）で形成されてもよいし、液晶層ＬＱの形成工程（Ｓ３）で形成されてもよい。より詳しくは、スペーサＳＰ１は、例えば図８でＺ方向の下側（Ｚ２）にある第１配向膜ＡＬ１に接続され、上側（Ｚ１）にある第２配向膜ＡＬ２には接続されない形状として形成されている。
【０１１５】
この構成例では、非開口部Ｐ２の幅Ｋ４を持つ第１遮光膜ＢＭ１の下側（Ｚ２）に、同じ幅Ｋ４を持つスペーサＳＰ１を有する。液晶層ＬＱのＺ方向の厚さを概略的に厚さＨ１とする。スペーサＳＰ１は、厚さＨ１よりも小さい厚さＨ２を有する。スペーサＳＰ１のＺ方向の上側（Ｚ１）の領域は、厚さＨ３を有する。Ｈ２＋Ｈ３＝Ｈ１である。
【０１１６】
また、この構成例では、カラーフィルタＣＦとして第２カラーフィルタＣＦ２を使用し、工程で遮光マスクＭＳＫを使用する場合を示す。ポリマー壁形成工程では、遮光マスクＭＳＫを通じてＵＶ光ＵＬが照射される。そのＵＶ光ＵＬは、平面視で第１遮光膜ＢＭ１の領域を透過する。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、液晶層ＬＱで、スペーサＳＰ１の上側の領域を含むスペーサＳＰ１の付近に存在するモノマー添加液晶ＭＬと反応する。これにより、スペーサＳＰ１の上側の厚さＨ３の領域を含むスペーサＳＰ１の付近に、ポリマー壁ＰＷ１が形成される。このポリマー壁ＰＷ１は、Ｚ方向の厚さＨ３を有する。このポリマー壁ＰＷ１は、少なくとも、スペーサＳＰ１の上面と、第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２（詳しくは第２配向膜ＡＬ２の面）とに接続されるように形成されている。そのため、このポリマー壁ＰＷ１は、上下の部材間の所定の接続性能を有する。ポリマー壁ＰＷ１は、非開口部Ｐ２内にあるので、開口率が確保される。なお、同様に、カラーフィルタＣＦとして第１カラーフィルタＣＦ１を使用して遮光マスクＭＳＫを削減する形態も可能である。
【０１１７】
この構成例では、厚さＨ１の液晶層ＬＱでスペーサが無い構成に比べて、形成されるポリマー壁ＰＷの体積を少なくできる。そのため、工程でのＵＶ光の照射時間等を低減でき、製造フローを短縮できる。
【０１１８】
図１６は、実施の形態５における第２方式のポリマー壁ＰＷの構成例を示す。第２方式は、第１方式の変形例であり、異なる構成点としては、液晶層ＬＱで、Ｚ方向の上側（Ｚ１）の領域にスペーサＳＰ２があり、下側（Ｚ２）の領域にポリマー壁ＰＷ２が形成されている。この構成例では、液晶層ＬＱにおいて、Ｚ方向の上側（Ｚ１）にある第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２に接続されるようにスペーサＳＰ２が形成されている。このスペーサＳＰ２は、例えば円柱形状を有するが、他の形状でもよい。このスペーサＳＰ２は、所定の弾性を有し、可視光遮光性の部材で構成されている。また特に、このスペーサＳＰ２は、ＵＶ光透過性を持つ。
【０１１９】
スペーサＳＰ２は、第２基板製造工程（図７のＳ２）で形成されてもよいし、液晶層ＬＱの形成工程（Ｓ３）で形成されてもよい。より詳しくは、スペーサＳＰ２は、例えば図８でＺ方向の上側（Ｚ１）にある第２配向膜ＡＬ２に接続され、下側（Ｚ２）にある第１配向膜ＡＬ１には接続されない形状として形成されている。
【０１２０】
この構成例では、非開口部Ｐ２の幅Ｋ４を持つ第１遮光膜ＢＭ１の下側（Ｚ２）に、同じ幅Ｋ４を持つスペーサＳＰ２を有する。スペーサＳＰ２は、液晶層ＬＱの厚さＨ１よりも小さい厚さＨ５を有する。スペーサＳＰ２のＺ方向の下側の領域は、厚さＨ４を有する。Ｈ４＋Ｈ５＝Ｈ１である。
【０１２１】
ポリマー壁形成工程では、遮光マスクＭＳＫを通じてＵＶ光ＵＬが照射される。そのＵＶ光ＵＬは、平面視で第１遮光膜ＢＭ１の領域を透過する。さらに、そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、液晶層ＬＱで、スペーサＳＰ２の領域を透過する。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、スペーサＳＰ２の下側の領域を含むスペーサＳＰ２の付近の領域に存在するモノマー添加液晶ＭＬと反応する。これにより、スペーサＳＰ２の下側の厚さＨ４の領域を含むスペーサＳＰ２の付近に、ポリマー壁ＰＷ２が形成される。このポリマー壁ＰＷ２は、少なくとも、スペーサＳＰ２の下面と、第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１（詳しくは第１配向膜ＡＬ１の面）とに接続されるように形成されている。そのため、このポリマー壁ＰＷ２は、上下の部材間の所定の接続性能を有する。ポリマー壁ＰＷ２は、非開口部Ｐ２内にあるので、開口率が確保される。
【０１２２】
図１７は、実施の形態５における第３方式のポリマー壁ＰＷの構成例を示す。第３方式は、第１方式と、実施の形態３の方式とを組み合わせた形態に相当する。第２基板ＳＢ２の層１７０１では、非開口部Ｐ２に対応させて第１遮光膜ＢＭ１および第２遮光膜ＢＭ２が並列で配置され、開口部Ｐ１に対応させて第１カラーフィルタＣＦ１が配置されている。Ｘ方向で、非開口部Ｐ２の中心位置の領域（幅Ｋ６）に第１遮光膜ＢＭ１が、その第１遮光膜ＢＭ１の両側の領域（幅Ｋ７）には第２遮光膜ＢＭ２が配置されている。この構成例では、カラーフィルタＣＦとして第１カラーフィルタＣＦ１を使用し、遮光マスクＭＳＫを削減する場合を示す。
【０１２３】
この構成例では、第１方式と同様に、液晶層ＬＱにおいて、Ｚ方向の下側（Ｚ２）にある第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１に接続されるようにスペーサＳＰ１（ポストスペーサ等）が形成されている。幅Ｋ４の非開口部Ｐ２の下側（Ｚ２）に、同じ幅Ｋ４を持つスペーサＳＰ１を有する。スペーサＳＰ１の幅Ｋ４は第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ６よりも大きい。
【０１２４】
ポリマー壁形成工程では、照射されたＵＶ光ＵＬは、平面視で第１遮光膜ＢＭ１の領域を透過し、第２遮光膜ＢＭ２および第１カラーフィルタＣＦ１の領域を透過しない。そのＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）は、液晶層ＬＱで、主にスペーサＳＰ１の上側の厚さＨ３の領域に存在するモノマー添加液晶ＭＬと反応する。これにより、スペーサＳＰ１の上側の厚さＨ３の領域を含むスペーサＳＰ１の付近に、ポリマー壁ＰＷ３が形成される。このポリマー壁ＰＷ３は、少なくとも、スペーサＳＰ１の上面と、第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２（詳しくは第２配向膜ＡＬ２の面）とに接続されるように形成されている。そのため、このポリマー壁ＰＷ３は、上下の部材間の所定の接続性能を有する。ポリマー壁ＰＷ３は、Ｘ方向の端が第２遮光膜ＢＭ２の幅Ｋ７以内の位置にある。ポリマー壁ＰＷ３のＸ方向の幅は、非開口部Ｐ２の幅Ｋ４以内である。ポリマー壁ＰＷ３が非開口部Ｐ２内にあるので、開口率が確保される。
【０１２５】
上記のように、第３方式の構成例では、実施の形態３と類似の効果と共に、ポリマー壁ＰＷ３の体積を低減でき、平面視でスペーサＳＰ１（幅Ｋ４）のうちの一部の領域に対して選択的にポリマー壁ＰＷ３を形成可能である。
【０１２６】
図１８は、実施の形態５における第４方式のポリマー壁ＰＷの構成例を示す。第４方式は、異なる構成点としては、平面視で、液晶層ＬＱに、非開口部Ｐ２の第１遮光膜ＢＭ１の領域の幅Ｋ４よりも狭い幅Ｋ６を持つスペーサＳＰ４が形成されている。そして、そのスペーサＳＰ４の周りに、ポリマー壁ＰＷ４が形成されている。
【０１２７】
第２基板ＳＢ２の層１８０１では、非開口部Ｐ２に対応させて第１遮光膜ＢＭ１が配置され、開口部Ｐ１に対応させて例えば第２カラーフィルタＣＦ２が配置されている。この構成例では、液晶層ＬＱにおいて、Ｚ方向の下側（Ｚ２）にある第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１と上側（Ｚ１）にある第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２との両方に接続されるようにスペーサＳＰ４が形成されている。スペーサＳＰ４は、例えば円柱形状を有し、ＵＶ光遮光性および所定の弾性を持つ部材で構成されている。スペーサＳＰ４は、液晶層ＬＱの厚さＨ１と殆ど同じ厚さを有する。より詳しくは、スペーサＳＰ４は、例えば図８で第１配向膜ＡＬ１の面と第２配向膜ＡＬ２の面とに接続されている。スペーサＳＰ４は、第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ４よりも狭い幅Ｋ６を持つ。Ｋ６＋２×Ｋ７＝Ｋ４である。
【０１２８】
ポリマー壁形成工程では、照射されたＵＶ光ＵＬは、平面視で第１遮光膜ＢＭ１を透過し、図示しない遮光マスクを介することで第２カラーフィルタＣＦ２を透過しない。そのＵＶ光ＵＬは、液晶層ＬＱで、スペーサＳＰ４以外の幅Ｋ７の領域を透過し、スペーサＳＰ４の付近に存在するモノマー添加液晶ＭＬと反応する。これにより、第１遮光膜ＢＭ１の下方で、スペーサＳＰ４の領域を除くスペーサＳＰ４の付近に、ポリマー壁ＰＷ４が形成される。このポリマー壁ＰＷ４は、例えば概略的に円筒形状を有し、Ｘ方向やＹ方向でスペーサＳＰ４の側面とポリマー壁ＰＷ４の内側面とが接続されている。このポリマー壁ＰＷ４は、第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１および第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２（詳しくは第１配向膜ＡＬ１の面および第２配向膜ＡＬ２の面）に接続されるように形成されている。そのため、このポリマー壁ＰＷ４は、上下の部材間の所定の接続性能を有する。ポリマー壁ＰＷ４は、非開口部Ｐ２内にあるので、開口率が確保される。
【０１２９】
第４方式の変形例として以下としてもよい。スペーサＳＰ４の厚さを、液晶層ＬＱの厚さＨ１よりも小さくし、液晶層ＬＱに対する上下面（面Ｓｆ１１、面Ｓｆ２２）の一方のみに接続される形状としてもよい。また、スペーサＳＰ４の特性としてＵＶ光透過性を持つものを使用してもよい。
【０１３０】
実施の形態５の各方式で、表示エリアＤＡにおける各種のスペーサの配置の位置としては、基本的には任意の位置が可能であるが、特に、開口率を確保する場合には非開口部Ｐ２内の位置とする。表示エリアＤＡでスペーサの機能によって確保したい特性に応じて、スペーサの配置の位置や密度等が設計される。
【０１３１】
［効果等（５）］
上記のように、実施の形態５では、スペーサの構成と対応させることで、ポリマー壁ＰＷをより容易に形成でき、スペーサとポリマー壁ＰＷとを組み合わせた構造で、上下の部材間の接続性能およびセルギャップ変動軽減を実現できる。
【０１３２】
（実施の形態６）
図１９，図２０を用いて、実施の形態６の表示装置について説明する。実施の形態６の表示装置では、表示エリアＤＡを平面視した場合に、特定の位置の領域のみに、第１遮光膜ＢＭ１およびポリマー壁ＰＷが限定的に形成されている。画素間の非開口部Ｐ２内の特定の位置、例えば格子状遮光膜における横黒膜または交差部分の位置に、第１遮光膜ＢＭ１が形成され、その第１遮光膜ＢＭ１の下方に重なる領域にポリマー壁ＰＷが形成されている。
【０１３３】
［平面構成（６）］
図１９は、実施の形態６の表示装置１における、表示エリアＤＡのＲ，Ｇ，Ｂの画素の付近を平面視した場合のＸ−Ｙ平面の平面構成を示す。特に、第１遮光膜ＢＭ１および第２遮光膜ＢＭ２等の配置構成例を示す。カラーフィルタＣＦとしては第２カラーフィルタＣＦ２を使用する場合を示す。本構成例では、前述の実施の形態１（図６）と同様に、格子状遮光膜として縦黒膜および横黒膜を有する。本構成例では、縦黒膜および横黒膜は、基本的に従来型の第２遮光膜ＢＭ２で構成されている。そして、Ｘ方向に延在する横黒膜である第２遮光膜ＢＭ２のうち、特定の領域、特に画素間の領域である交差部分の領域が、第１遮光膜ＢＭ１で構成されている。その交差部分の領域には、第１遮光膜ＢＭ１が配置され、第２遮光膜ＢＭ２は配置されない。この構成例では、画素間の領域として、特に、交差部分の付近で、画素のトランジスタ等の回路領域６０１に近い領域に、第１遮光膜ＢＭ１が配置されている。また、この構成例では、特に、隣接する各色の画素間の領域、すなわち、Ｒ色画素とＧ色画素との間の領域、Ｇ色画素とＢ色画素との間の領域、およびＢ色画素とＲ色画素との間の領域のそれぞれの領域に、第１遮光膜ＢＭ１が配置されている。
【０１３４】
なお、このような構成例に限らず、他の構成例としては、特定の色画素間の領域（例えばＢ色画素とＲ色画素との間の領域）のみに第１遮光膜ＢＭ１が配置される構成としてもよい。また、Ｙ方向に配列される複数本の横黒膜の領域においては、それらのすべての領域で同様に第１遮光膜ＢＭ１を設ける構成としてもよいし、所定間隔等、特定の横黒膜の領域で第１遮光膜ＢＭ１を設ける構成としてもよい。図１９の例では、Ｙ方向の上側（Ｙ１）に示すある横黒膜では第１遮光膜ＢＭ１を設け、下側（Ｙ２）に示すある横黒膜では第１遮光膜ＢＭ１を設けない場合を示している。
【０１３５】
また、図１９の構成例では、特に、第１遮光膜ＢＭ１が配置される領域は、スペーサＳＰ６が配置されている領域と対応させている。すなわち、画素間の領域、特に格子状の黒膜の交差部分に対応する領域には、液晶層ＬＱでスペーサＳＰ６が配置されている。このスペーサＳＰ６は、例えば円柱形状を有し、第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１に接続されている。このスペーサＳＰ６は、例えば可視光遮光性を有する。平面視で、そのスペーサＳＰ６の位置に対応させて、そのスペーサＳＰ６を囲む矩形の領域に、第１遮光膜ＢＭ１が配置されている。ポリマー壁ＰＷ６は、平面視で、横黒膜の外、および開口部Ｐ１内には出ないように形成されている。
【０１３６】
図２０は、図１９の構成例に関するＸ方向の断面構成、特に横黒膜での断面を示す。この構成例では、第２基板ＳＢ２で、層２００１、層２００２を有する。層２００１では、格子状遮光膜における、横黒膜の領域に第２遮光膜ＢＭ２が配置され、そのうち縦黒膜との交差部分の領域（非開口部Ｐ２を含む）に第１遮光膜ＢＭ１が配置されている。この構成例では、第１遮光膜ＢＭ１のＸ方向の幅Ｋ９は、非開口部Ｐ２および縦黒膜の幅Ｋ４よりも大きい。層２００２で、開口部Ｐ１に対応する領域には、ＵＶ光透過性を持つ第２カラーフィルタＣＦ２が配置されている。スペーサＳＰ６の厚さは、液晶層ＬＱの厚さＨ１よりも小さい。スペーサＳＰ６の幅Ｋ１０は、非開口部Ｐ２の幅Ｋ４よりも大きく、第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ９よりも小さい。ポリマー壁ＰＷ６の幅は、例えば第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ９以下になるように、工程で制御される。
【０１３７】
ポリマー壁形成工程では、Ｚ方向で照射されたＵＶ光ＵＬが、平面視で第２基板ＳＢ２の第１遮光膜ＢＭ１を透過し、第２遮光膜ＢＭ２等を透過しない。そのＵＶ光ＵＬは、第１遮光膜ＢＭ１の下方の領域にある、スペーサＳＰ６以外のモノマー添加液晶ＭＬと反応する。これにより、第１遮光膜ＢＭ１の下方のスペーサＳＰ６以外の領域に、ポリマー壁ＰＷ６が形成される。この構成例では、スペーサＳＰ６の周辺にポリマー壁ＰＷ６が形成されるので、前述の形態と同様に、形成されるポリマー壁ＰＷの体積が少なくて済み、工程で必要なＵＶ光ＵＬの照射時間等を低減できる。スペーサＳＰ６の各面と接するようにポリマー壁ＰＷ６が形成されているので、ポリマー壁ＰＷ６の体積が比較的少なくても、所定の接続性能を有する。上記スペーサＳＰ６、第１遮光膜ＢＭ１、およびポリマー壁ＰＷ６を配置する特定の位置や密度等については、表示エリアＤＡでの必要な接続性能等に応じて設計すればよい。
【０１３８】
［効果等（６）］
上記のように、実施の形態６では、スペーサＳＰ６の構成と対応させることで、ポリマー壁ＰＷ６をより容易に形成でき、スペーサＳＰ６とポリマー壁ＰＷ６とを組み合わせた構造で、接続性能およびセルギャップ変動軽減を実現できる。
【０１３９】
実施の形態６の変形例として以下としてもよい。上記構成例に限らず、スペーサが無い特定の領域に限定的に第１遮光膜ＢＭ１およびポリマー壁ＰＷを設ける構成も同様に可能である。また、変形例として、第１遮光膜ＢＭ１を設ける特定の領域として、横黒膜の領域のうち、縦黒膜間の位置、例えば図１９でトランジスタ等の回路領域６０１がある位置に合わせて、スペーサＳＰ６や第１遮光膜ＢＭ１が配置される構成としてもよい。
【０１４０】
（他の実施の形態）
他の実施の形態の表示装置として以下のような変形例が挙げられる。
【０１４１】
［変形例（１）］
図２１は、変形例の表示装置１における表示エリアＤＡでのＸ−Ｚ平面の断面構成を示す。この構成例は、実施の形態５や実施の形態６の変形例に相当する。実施の形態５や実施の形態６では、液晶層ＬＱに突出部としてスペーサが形成されている。一方、この変形例では、突出部として、スペーサの代わりに、段差部が形成されている。この段差部は、例えば第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１に形成されている。第２基板ＳＢ２では前述の形態と同様に非開口部Ｐ２に対応させて第１遮光膜ＢＭ１が配置されている。開口部Ｐ１には第１カラーフィルタＣＦ１（第２カラーフィルタＣＦ２でもよい）が配置されている。
【０１４２】
図２１の構成例で、平面視で、第１基板ＳＢ１のＺ方向の上側（Ｚ１）の面Ｓｆ１１の特定の位置（対応する第１配向膜ＡＬ１の面の特定の位置）には、段差部２１０を有する。特定の位置の例として、Ｘ方向の複数の非開口部Ｐ２のうち特定の非開口部Ｐ２（例えばＢ色画素とＲ色画素との間の領域）に対応する位置である。段差部２１０では、その付近よりもＺ方向に高くなるように突出している。言い換えると、段差部２１０の上面は、液晶層ＬＱ内の他の位置の第１配向膜ＡＬ１の面よりも高い位置にある。そのため、段差部２１０の位置では、段差部２１０が無い他の位置に比べて、液晶セルにおけるＺ方向の距離（セルギャップＳＧ）が短くなる。
【０１４３】
ポリマー壁形成工程では、Ｚ方向で照射されたＵＶ光ＵＬ（ＵＬ１）が、平面視で第１遮光膜ＢＭ１を透過し、第１遮光膜ＢＭ１の下方にあるモノマー添加液晶ＭＬと反応する。これにより、第１配向膜ＡＬ１と第２配向間ＡＬ２との間で、ポリマー壁ＰＷ（ＰＷａ，ＰＷｂ）が形成される。第１遮光膜ＢＭ１の下方で、段差部２１０が無い位置では、前述と同様に、第１配向膜ＡＬ１の面と第２配向間ＡＬ２の面との間を接続するようにポリマー壁ＰＷｂ（第２種ポリマー壁）が形成される。第１遮光膜ＢＭ１の下方で、段差部２１０が有る位置では、段差部２１０の上面と第２配向間ＡＬ２の面との間を接続するようにポリマー壁ＰＷａ（第１種ポリマー壁）が形成される。この構成例では、厚さが異なる２種類のポリマー壁ＰＷ（ＰＷａ，ＰＷｂ）が形成されている。段差部２１０が有る位置のポリマー壁ＰＷａは、段差部２１０の厚さが有る分、体積が少なくて済む。よって、前述のスペーサを用いる形態と同様に、ＵＶ光ＵＬの照射時間等を低減できる。
【０１４４】
なお、図２１の構成例に限らず、段差部２１０が有る位置のみに第１遮光膜ＢＭ１およびポリマー壁ＰＷを設ける構成としてもよい。段差部２１０の形状や幅等も、図２１の構成例に限らず各種が可能である。表示エリアＤＡにおいて、任意の位置に、上記のような段差部２１０があってもよい。第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２に段差部があってもよい。また、段差部とスペーサとが混在していてもよい。段差部は、例えば各種の電極等の配置の有無やパターンに応じて形成されてもよいし、膜厚の制御によって形成されてもよい。
【０１４５】
［変形例（２）］
実施の形態１や実施の形態２に関する変形例として、図５のような非開口部Ｐ２の第１遮光膜ＢＭ１の下方に形成されるポリマー壁ＰＷの幅が、第１遮光膜ＢＭ１の幅Ｋ４よりも大きい構成でもよい。この構成では、Ｘ方向やＹ方向で、ポリマー壁ＰＷの一部が、第１遮光膜ＢＭ１の端から開口部Ｐ１内に所定の距離ではみ出すようにして形成されている。ポリマー壁ＰＷの一部が出るその所定の距離は、許容可能な所定の距離以内になるように、工程で制御される。この構成の場合、開口率が前述の形態に比べて少し下がるが、代わりにポリマー壁ＰＷの体積が増えるので、ポリマー壁ＰＷによる接続性能をより大きくできる。開口率が充分に確保される前提で、このような構成として、接続性能を優先してもよい。
【０１４６】
［変形例（３）］
実施の形態５や実施の形態６のようにスペーサとポリマー壁とを組み合わせた形態の変形例として、スペーサの形成材料に光ラジカル重合開始剤を添加する形態が考えられる。光ラジカル重合開始剤は、モノマーからポリマーへの変化を発生させ易くする効果がある。そのため、この形態では、液晶材料中のモノマーからポリマーへの変化をスペーサ付近で優先的に発生させ、ポリマーの成長をスペーサ周辺に集中させることができる。これにより、ポリマー壁の形成速度を促進することができる。言い換えると、この変形例の表示装置は、光ラジカル重合開始剤が添加された材料で構成されたスペーサ等の突出部と、その突出部の付近に形成されたポリマー壁とを備える。
【０１４７】
この形態で、光ラジカル重合開始剤は、スペーサに混ぜるだけではなく、既存のスペーサ上に塗布によって配置されてもよい。言い換えると、この形態では、突出部とポリマー壁の間に、光ラジカル重合開始剤が配置されていてもよい。 
【０１４８】
光ラジカル重合開始剤としては、以下の材料がある。この形態では、以下の材料から選択した少なくとも１つの材料を適用できる。
Acetophenone、
p-Anisil、
Benzil、
Benzoin、
Benzophenone、
2-Benzoylbenzoic Acid、
4,4'-Bis  (diethylamino)  benzophenone、
4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone、
Benzoin Methyl Ether、
Benzoin Isopropyl Ether、
Benzoin Isobutyl Ether、
Benzoin Ethyl Ether、
4-Benzoylbenzoic Acid、
2,2'-Bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole、
Methyl 2-Benzoylbenzoate、
2-(1,3-Benzodioxol-5-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine、
2-Benzyl-2-(dimethylamino)-4'-morpholinobutyrophenone、
(±)-Camphorquinone、
2-Chlorothioxanthone、
4,4'-Dichlorobenzophenone、
2,2-Diethoxyacetophenone、
2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone、
2,4-Diethylthioxanthen-9-one、
Diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine Oxide、
1,4-Dibenzoylbenzene、
2-Ethylanthraquinone、
1-Hydroxycyclohexyl Phenyl Ketone、
2-Hydroxy-2-methylpropiophenone、
2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone、
2-Isopropylthioxanthone、
Lithium Phenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphinate、
2-Methyl-4'-(methylthio)-2-morpholinopropiophenone、
2-Isonitrosopropio phenone、
2-Phenyl-2-(p-toluenesulfonyloxy) acetophenone、
Phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine Oxide。
【０１４９】
以上、本発明を実施の形態に基づいて具体的に説明したが、本発明は前述の実施の形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。前述の各実施の形態の要素（部材や工程等）の組み合わせ、追加や削除、設計変更等による構成が可能である。上記では電気光学層として液晶層を有する液晶表示装置の場合を説明したが、これに限らず、他の電気光学層を有する表示装置の場合にも同様に適用可能である。電気光学層として、電気的エネルギーの印加によって光学特性が変化する素子を含んだ層であればよい。液晶層ではない電気光学層である場合でも、ポリマー壁ＰＷとしては、第１基板ＳＢ１の面Ｓｆ１１と第２基板ＳＢ２の面Ｓｆ２２とを接続する部材であればよい。上記表示装置の電極等の構成に限らず、例えばさらにタッチ検出用の電極等を備えてもよい。上記表示装置は、自由に曲げられる電子ペーパー装置や、視認しやすいように湾曲した状態で配置される曲面表示装置等にも適用可能である。上記表示装置は、各種の電子機器に組み込まれる表示装置としても適用可能である。
【符号の説明】
【０１５０】
１…表示装置、５０１…層、ＳＢ１…第１基板、ＳＢ２…第２基板、ＬＱ…液晶層、Ｐ１…開口部、Ｐ２…非開口部、ＢＭ１…第１遮光膜、ＣＦ２…第２カラーフィルタ、ＭＬ…モノマー添加液晶、ＰＷ…ポリマー壁、ＭＳＫ…遮光マスク、ＵＬ…ＵＶ光、Ｓｆ１１，Ｓｆ１２，Ｓｆ２１，Ｓｆ２２…面。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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