(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、エチレン性不飽和二重結合を含む重合性基を有する液晶性化合物および光重合開始剤を含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、
前記液晶性組成物層を硬化し、下記式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程と、
偏光子と、前記半硬化層とを、紫外線硬化型接着剤を用いて貼合し、前記偏光子と前記紫外線硬化型接着剤と前記半硬化層と前記基材とがこの順で積層された積層体を作製する貼合工程と、
前記積層体を硬化し、前記偏光子と、前記半硬化層が更に硬化されてなる光学異方性層と、を有する偏光板を作製する本硬化工程とを有する、偏光板の製造方法。
１．５≦Ｓａ／Ｓｂ≦５．０                    式（１）
０．０３≦（Ｐ１−Ｐ２）／Ｐ３≦０．２        式（２）
前記式（１）中、Ｓａは、半硬化層に含まれるエチレン性不飽和二重結合をＢｒ染色した後、半硬化層の前記基材と反対側の表面から、半硬化層の膜厚の１／４の距離までの領域における、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される、Ｂｒイオンに由来する二次イオン強度の積分値を表す。
前記式（１）中、Ｓｂは、半硬化層に含まれるエチレン性不飽和二重結合をＢｒ染色した後、半硬化層の前記基材側の表面から、半硬化層の膜厚の３／４の距離までの領域における、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される、Ｂｒイオンに由来する二次イオン強度の積分値を表す。
前記式（２）中、Ｐ１は、赤外吸収スペクトルにおける波数８２０〜８００ｃｍ−１の範囲にある吸収極大ピークにおける吸光度を表し、Ｐ２は、波数８４０〜８００ｃｍ−１の範囲にある最小吸光度を表し、Ｐ３は、波数１８００〜１６５０ｃｍ−１の範囲にある吸収極大ピークにおける吸光度を表す。
【請求項２】
前記本硬化工程の後に、前記積層体から前記基材を剥離する剥離工程を有する、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
【請求項３】
基材と、半硬化層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
基材上に、重合性基を有する液晶性化合物と、ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤と、オキシムエステル系光重合開始剤とを含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、
前記液晶性組成物層を硬化し、下記式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程とを有する、光学フィルムの製造方法。
１．５≦Ｓａ／Ｓｂ≦５．０                    式（１）
０．０３≦（Ｐ１−Ｐ２）／Ｐ３≦０．２        式（２）
前記式（１）中、Ｓａは、半硬化層に含まれるエチレン性不飽和二重結合をＢｒ染色した後、半硬化層の前記基材と反対側の表面から、半硬化層の膜厚の１／４の距離までの領域における、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される、Ｂｒイオンに由来する二次イオン強度の積分値を表す。
前記式（１）中、Ｓｂは、半硬化層に含まれるエチレン性不飽和二重結合をＢｒ染色した後、半硬化層の前記基材側の表面から、半硬化層の膜厚の３／４の距離までの領域における、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される、Ｂｒイオンに由来する二次イオン強度の積分値を表す。
前記式（２）中、Ｐ１は、赤外吸収スペクトルにおける波数８２０〜８００ｃｍ−１の範囲にある吸収極大ピークにおける吸光度を表し、Ｐ２は、波数８４０〜８００ｃｍ−１の範囲にある最小吸光度を表し、Ｐ３は、波数１８００〜１６５０ｃｍ−１の範囲にある吸収極大ピークにおける吸光度を表す。
【請求項４】
基材と、半硬化層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
基材上に、重合性基を有する液晶性化合物と、光重合開始剤と、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体とを含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、
前記液晶性組成物層を硬化し、下記式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程とを有する、光学フィルムの製造方法。
１．５≦Ｓａ／Ｓｂ≦５．０                    式（１）
０．０３≦（Ｐ１−Ｐ２）／Ｐ３≦０．２        式（２）
前記式（１）中、Ｓａは、半硬化層に含まれるエチレン性不飽和二重結合をＢｒ染色した後、半硬化層の前記基材と反対側の表面から、半硬化層の膜厚の１／４の距離までの領域における、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される、Ｂｒイオンに由来する二次イオン強度の積分値を表す。
前記式（１）中、Ｓｂは、半硬化層に含まれるエチレン性不飽和二重結合をＢｒ染色した後、半硬化層の前記基材側の表面から、半硬化層の膜厚の３／４の距離までの領域における、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される、Ｂｒイオンに由来する二次イオン強度の積分値を表す。
前記式（２）中、Ｐ１は、赤外吸収スペクトルにおける波数８２０〜８００ｃｍ−１の範囲にある吸収極大ピークにおける吸光度を表し、Ｐ２は、波数８４０〜８００ｃｍ−１の範囲にある最小吸光度を表し、Ｐ３は、波数１８００〜１６５０ｃｍ−１の範囲にある吸収極大ピークにおける吸光度を表す。
【化１】
0006944587.tif 000025
前記式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｌ１は、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、２価の脂肪族鎖状基、および、２価の脂肪族環状基からなる群から選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表し、Ｒ２は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜２０のアルキル基、または、−Ｓｉ（Ｒａ２１）（Ｒａ２２）Ｏ−を含む基を表す。Ｒａ２１およびＲａ２２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
前記式（Ｂ）中、Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｌ２は、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、２価の脂肪族鎖状基、および、２価の脂肪族環状基からなる群から選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表し、Ｒ４は、下記式（Ｂ−１）または（Ｂ−２）で表される基を表す。＊は、Ｌ２との結合位置を表す。
【化２】
0006944587.tif 000026
【請求項５】
前記重合性液晶組成物が、等方相の低温側にネマチック相およびスメクチック相をこの順に示し、前記半硬化層が、前記重合性液晶組成物をスメクチック相で固定化した層である、請求項３または４に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
重合性基を有する液晶性化合物と、光重合開始剤と、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体とを含有する重合性液晶組成物。
【化３】
0006944587.tif 000027
前記式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｌ１は、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、２価の脂肪族鎖状基、および、２価の脂肪族環状基からなる群から選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表し、Ｒ２は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜２０のアルキル基、または、−Ｓｉ（Ｒａ２１）（Ｒａ２２）Ｏ−を含む基を表す。Ｒａ２１およびＲａ２２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
前記式（Ｂ）中、Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｌ２は、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、２価の脂肪族鎖状基、および、２価の脂肪族環状基からなる群から選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表し、Ｒ４は、下記式（Ｂ−１）または（Ｂ−２）で表される基を表す。＊は、Ｌ２との結合位置を表す。
【化４】
0006944587.tif 000028
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板の製造方法、光学フィルムの製造方法および重合性液晶組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光板は、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）および有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）などの部材として用いられ、その表示性能において重要な役割を果たしている。
また、一般的な偏光板は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂にヨウ素錯体などの二色性色素を吸着配向させた偏光膜（偏光子）の片面または両面に、光学フィルムを貼合させた構成を有している。
そして、このような光学フィルムとしては、従来から、透明支持体上に配向膜を介して液晶性化合物を塗布し、その配向状態を固定した位相差層（光学異方性層）を有するフィルムが広く検討されており、また、このような光学フィルムを偏光子と貼合する際には、光学フィルムの透明支持体側を偏光子に貼合させる構成が一般的であった（例えば、特許文献１など参照）。【０００３】
近年、偏光板の更なる薄型化、および、広視野角化などの観点から、光学フィルムの位相差層（光学異方性層）側を偏光子に貼合する構成が提案されており、また、位相差層（光学異方性層）を偏光子に接着した後に、透明支持体を剥離する方法も提案されている（例えば、特許文献２など参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２４９１０８号公報
【特許文献２】特開２０１２−２２０５５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献２に記載された偏光素子（偏光板）について検討したところ、液晶層（光学異方性層）の偏光子側の表面に形成している有機ケイ素化合物層を省いた場合には、使用する接着剤によっては、接着剤が液晶層に浸透することにより液晶層の配向状態が変化し、その結果、画像表示装置に適用した際に表示性能が低下し、光学安定性が劣ることが分かった。また、使用する接着剤によっては、偏光子と液晶層との密着性が不十分となることが分かった。【０００６】
そこで、本発明は、偏光子と光学異方性層との密着性が良好となり、画像表示装置に適用した際に光学安定性に優れる偏光板の製造方法、ならびに、光学フィルムの製造方法および重合性液晶組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、所定の硬化プロファイルを満たす半硬化層を偏光子との貼合に用い、貼合後に再度硬化して光学異方性層とすることにより、偏光子と光学異方性層との密着性が良好となり、画像表示装置に適用した際に光学安定性に優れる偏光板が製造できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【０００８】
［１］  基材上に、エチレン性不飽和二重結合を含む重合性基を有する液晶性化合物および光重合開始剤を含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、
液晶性組成物層を硬化し、後述する式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程と、
偏光子と、半硬化層とを、紫外線硬化型接着剤を用いて貼合し、偏光子と紫外線硬化型接着剤と半硬化層と基材とがこの順で積層された積層体を作製する貼合工程と、
積層体を硬化し、偏光子と、半硬化層が更に硬化されてなる光学異方性層と、を有する偏光板を作製する本硬化工程とを有する、偏光板の製造方法。【０００９】
［２］  本硬化工程の後に、積層体から基材を剥離する剥離工程を有する、［１］に記載の偏光板の製造方法。【００１０】
［３］  基材と、半硬化層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
基材上に、重合性基を有する液晶性化合物と、ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤と、オキシムエステル系光重合開始剤とを含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、
液晶性組成物層を硬化し、後述する式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程とを有する、光学フィルムの製造方法。【００１１】
［４］  基材と、半硬化層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
基材上に、重合性基を有する液晶性化合物と、光重合開始剤と、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体とを含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、
液晶性組成物層を硬化し、後述する式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程とを有する、光学フィルムの製造方法。【００１２】
［５］  重合性液晶組成物が、等方相の低温側にネマチック相およびスメクチック相をこの順に示し、半硬化層が、重合性液晶組成物をスメクチック相で固定化した層である、［３］または［４］に記載の光学フィルムの製造方法。【００１３】
［６］  重合性基を有する液晶性化合物と、ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤と、オキシムエステル系光重合開始剤とを含有する重合性液晶組成物。【００１４】
［７］  重合性基を有する液晶性化合物と、光重合開始剤と、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体とを含有する重合性液晶組成物。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、偏光子と光学異方性層との密着性が良好となり、画像表示装置に適用した際に光学安定性に優れる偏光板の製造方法、ならびに、光学フィルムの製造方法および重合性液晶組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行および直交とは、厳密な意味での平行および直交を意味するのではなく、それぞれ、平行または直交から±５°の範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートのいずれかを意味する表記であり、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルのいずれかを意味する表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルのいずれかを意味する表記である。
また、本明細書において、液晶組成物および液晶性化合物は、硬化等により、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。
【００１７】
《レターデーション》
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄが算出される。
【００１８】
［偏光板の製造方法］
本発明の偏光板の製造方法は、基材上に、エチレン性不飽和二重結合を含む重合性基を有する液晶性化合物および光重合開始剤を含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、
液晶性組成物層を硬化し、下記式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程と、
偏光子と、半硬化層とを、紫外線硬化型接着剤を用いて貼合し、偏光子と紫外線硬化型接着剤と半硬化層と基材とがこの順で積層された積層体を作製する貼合工程と、
積層体を硬化し、偏光子と、半硬化層が更に硬化されてなる光学異方性層と、を有する偏光板を作製する本硬化工程と、を有する。
１．５≦Ｓａ／Ｓｂ≦５．０                    式（１）
０．０３≦（Ｐ１−Ｐ２）／Ｐ３≦０．２        式（２）
上記式（１）中、Ｓａは、半硬化層に含まれるエチレン性不飽和二重結合をＢｒ染色した後、半硬化層の基材と反対側の表面から、半硬化層の膜厚の１／４の距離までの領域における、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される、Ｂｒイオンに由来する二次イオン強度の積分値を表す。
上記式（１）中、Ｓｂは、半硬化層に含まれるエチレン性不飽和二重結合をＢｒ染色した後、半硬化層の基材側の表面から、半硬化層の膜厚の３／４の距離までの領域における、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される、Ｂｒイオンに由来する二次イオン強度の積分値を表す。
上記式（２）中、Ｐ１は、赤外吸収スペクトルにおける波数８２０〜８００ｃｍ−１の範囲にある吸収極大ピークにおける吸光度を表し、Ｐ２は、波数８４０〜８００ｃｍ−１の範囲にある最小吸光度を表し、Ｐ３は、波数１８００〜１６５０ｃｍ−１の範囲にある吸収極大ピークにおける吸光度を表す。
【００１９】
上記式（１）および（２）に示す硬化プロファイルを詳述する。
まず、上記式（１）は、エチレン性不飽和二重結合の残存量が厚み方向に分布があることを示す指標である。なお、上記式（１）には含まれない範囲であるが、Ｓａ／Ｓｂが１．０の場合は、硬化が厚み方向に均一に進行していることを示す。
次に、上記式（２）は、層全体に残存しているエチレン性不飽和二重結合の量を表す指標であり、層全体がある程度硬化していることを示す規定である。具体的には、上記式（２）中のＰ１は、残存するエチレン性不飽和二重結合に由来する吸収極大ピークにおける吸光度を表し、Ｐ２は、ベースラインとしての最小吸光度を表し、Ｐ３は、Ｐ１とＰ２の吸光度の差を規格化するためのアセチル基に由来する吸収極大ピークにおける吸光度を表す。
【００２０】
ここで、上記式（１）中のＳａおよびＳｂは、上述した通り、飛行時間型二次イオン質量分析法（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）により測定することができるが、具体的には、以下に示す測定条件のＴＯＦ−ＳＩＭＳにより測定することができる。
＜ＴＯＦ−ＳＩＭＳの測定条件＞
本発明におけるＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定は、以下に示すように測定する。
（１）測定対象となる、液晶性組成物層を半硬化させた層を、ウルトラミクロトームにて厚み方向に斜め切削し、断面を露出させた。その後、斜め切削したサンプルをＢｒ染色する。なお、Ｂｒ染色は、二重結合にＢｒを付加させるため、サンプルを０．３％臭素水で気相修飾して行う。
（２）Ｂｒ染色後、露出した断面を以下の装置および条件で測定する。
・装置：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ ４（ＩＯＮ−ＴＯＦ社製）
・一次イオン：Ｂｉ３＋ 一次イオン銃（２５ｋＶ，０．２ｐＡ）
・帯電補正：２０ｅＶの低速電子銃の併用
・測定領域：３００ｍｍ × ３００ｍｍ
・ラスター：２５６ × ２５６ｐｉｘｅｌｓ
・積算回数：１６回
【００２１】
本発明においては、上述した通り、上記式（１）および（２）に示す硬化プロファイルを満たす半硬化層を偏光子との貼合に用い、貼合後に再度硬化して光学異方性層とすることにより、偏光子と光学異方性層との密着性が良好となり、画像表示装置に適用した際に光学安定性に優れる偏光板が製造できる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、本発明者らは、上記式（１）および（２）に示す硬化プロファイルを満たす半硬化層を用いると、偏光子との貼合に用いる紫外線硬化型接着剤が、半硬化層の基材と反対側の表面から半硬化層の膜厚の１／４の距離までの領域に適度に浸透し、かつ、半硬化層の基材側の表面から半硬化層の膜厚の３／４の距離までの領域には浸透し難くなるため、偏光子との密着性と、画像表示装置に適用した際の光学安定性とを両立できると推察している。
以下、本発明の偏光板の製造方法が有する各工程および各工程で用いる部材等について詳細に説明する。
【００２２】
〔層形成工程〕
本発明の偏光板の製造方法が有する層形成工程は、基材上に、エチレン性不飽和二重結合を含む重合性基を有する液晶性化合物および光重合開始剤を含有する重合性液晶組成物（以下、「特定重合性液晶組成物」とも略す。）からなる液晶性組成物層を形成する工程である。
【００２３】
＜基材＞
基材は、特定重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を支持するための基材であれば特に限定されない。
【００２４】
このような基材は、膜厚が５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７５μｍであることがより好ましく、１５〜５５μｍであることが更に好ましい。
膜厚が５μｍ以上であると、十分な機械強度を確保しやすく、カール、シワ、座屈等の故障が生じにくいため、好ましい。
また、膜厚が１００μｍ以下であると、基材と後述する半硬化層との複層フィルムを、例えば、長尺のロール形態で保管する場合に、複層フィルムにかかる面圧を適正な範囲に調整しやすく、接着の故障が生じにくいため、好ましい。
【００２５】
基材の表面エネルギーは、特に限定されないが、特定重合性液晶組成物の表面エネルギーと、基材の液晶性組成物層を設ける側の表面エネルギーとの関係性を調整することによって、液晶性組成物層と基材との間の接着力を調整することができる。
表面エネルギー差を小さくすれば、接着力が上昇する傾向があり、表面エネルギー差を大きくすれば、接着力が低下する傾向があり、適宜設定することができる。
【００２６】
また、基材の表面凹凸は、特に限定されないが、後述する半硬化層の表面エネルギー、硬度、表面凹凸と、基材の液晶性組成物層を設ける側とは反対側の表面の表面エネルギー、硬度との関係性に応じて、例えば、基材と後述する半硬化層との複層フィルムを長尺のロール形態で保管する場合の接着故障を防ぐ目的で、調整することができる。
表面凹凸を大きくすれば、接着故障を抑制する傾向にあり、表面凹凸を小さくすれば、機能性膜の表面凹凸が減少し、機能性膜のヘイズが小さくなる傾向にあり、適宜設定することができる。また、ロール形態での接着故障防止や基材の搬送性付与のために、基材の液晶性組成物層を設ける側とは反対側に、保護フィルムを設けておくこともできる。
【００２７】
このような基材としては、公知の材料やフィルムを適宜使用することができる。
具体的な材料として、ポリエステル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、セルロース系ポリマー、ポリアミド系ポリマー等を挙げることができる。
とりわけ、ポリエステル系ポリマー、オレフィン系ポリマーが基材フィルムの材料として好ましく、ポリエステル系ポリマーがより好ましく、ポリエステル系ポリマーの中でも特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。
また、基材の表面性を調整する目的で、適宜、表面処理を行うことができる。表面エネルギーを低下させるには、例えば、コロナ処理、常温プラズマ処理、鹸化処理等、を行うことができ、表面エネルギーを上昇させるには、シリコーン処理、フッ素処理、オレフィン処理等を行うことができる。
【００２８】
また、基材の表面には、後述する半硬化層との接着性を制御するため、適宜離型剤等を予め塗布しておいてもよい。後述する半硬化層は、偏光子と貼合させた後、基材を剥離して用いることができる。なお、基材に後述する半硬化層が積層された状態で、適宜基材フィルムごと延伸して、光学特性や力学物性を調整することができる。
【００２９】
＜液晶性組成物層＞
液晶性組成物層は、特定重合性液晶組成物からなる層である。
【００３０】
（液晶性化合物）
特定重合性液晶組成物が含有する液晶性化合物は、エチレン性不飽和二重結合を含む重合性基を有する液晶性化合物である。
このような重合性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。
【００３１】
液晶性化合物は、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物であることが好ましく、得られる偏光板を画像表示装置に使用した際に表示性能が向上する理由から、棒状液晶性化合物であることがより好ましい。
棒状液晶性化合物については、例えば、特開２００９−２１７２５６号公報の［００４５］〜［００６６］段落に記載されたものが挙げられ、これらの内容は本明細書に取り込まれる。
また、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００６−３０１６１４号公報の［００２５］〜［０１５３］段落、特開２００７−１０８７３２号公報の［００２０］〜［０１２２］段落、特開２０１０−２４４０３８号公報の［００１２］〜［０１０８］段落に記載されたものが挙げられ、これらの内容は本明細書に取り込まれる。
【００３２】
液晶性化合物は、後述する光学異方性層の光学特性の調整の観点から、垂直配向した状態で固定化されていることが好ましい。
例えば、棒状液晶性化合物を垂直配向状態で固定化した層は、正のＣ−プレートとして機能することができる。また、ディスコティック液晶性化合物を垂直配向状態で固定化した層は、負のＡ−プレートとして機能することができる。
なお、本発明において、垂直配向とは、棒状液晶性化合物であれば、層の法線方向と液晶分子の長軸方向（ダイレクタ）とが平行となる配向状態をいい、ディスクティック液晶性化合物であれば、層の法線方向と液晶分子の円盤面とが平行となる配向状態をいう。なお、層の法線方向と、液晶分子の長軸方向または液晶分子の円盤面とは、平行から±５°の範囲であればよく、±３°以内であることがより好ましく、±２°以内であることがさらに好ましく、±１°以内であることが最も好ましい。
【００３３】
本発明においては、特定重合性液晶組成物は、偏光子との密着性と、画像表示装置に適用した際の光学安定性とを更に高いレベルで両立できる理由から、スメクチック相を示すことが好ましく、等方相の低温側にネマチック相およびスメクチック相をこの順に示すことがより好ましい。なお、後述する半硬化層は、特定重合性液晶組成物をスメクチック相で固定化した層であることが好ましい。
【００３４】
（光重合開始剤）
特定重合性液晶組成物が含有する光重合開始剤としては、例えば、「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８に記載された例が挙げられる。また、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
【００３５】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ＢＡＳＦ社製（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、「イルガキュアＯＸＥ０１」、「イルガキュアＯＸＥ０２」等、日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」等、サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等が挙げられる。
【００３６】
本発明においては、後述する半硬化工程において、後述する式（１）および（２）に示す硬化プロファイルを満たす半硬化層の形成が容易となる理由から、光重合開始剤として、ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤と、オキシムエステル系光重合開始剤とを併用することが好ましい。
ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤としては、具体的には、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。
オキシムエステル系光重合開始剤としては、具体的には、例えば、１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。
【００３７】
（共重合体）
特定重合性液晶組成物は、後述する半硬化工程において、後述する式（１）および（２）に示す硬化プロファイルを満たす半硬化層の形成が容易となる理由から、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体を含有していることが好ましい。
半硬化層の形成が容易となる理由は詳細には明らかではないが、本発明者らは、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａを有することにより、液晶性組成物層の基材と反対側の表面（空気界面）に、共重合体が偏在し、また、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有することにより、液晶性組成物層の基材は反対側の表面の重合率制御が可能になるためであると推測している。
【化１】
0006944587.tif 000002
【００３８】
上記式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｌ１は、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、２価の脂肪族鎖状基、および、２価の脂肪族環状基からなる群から選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表し、Ｒ２は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜２０のアルキル基、または、−Ｓｉ（Ｒａ２１）（Ｒａ２２）Ｏ−を含む基を表す。Ｒａ２１およびＲａ２２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
上記式（Ｂ）中、Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｌ２は、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、２価の脂肪族鎖状基、および、２価の脂肪族環状基からなる群から選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表し、Ｒ４は、下記式（Ｂ−１）または（Ｂ−２）で表される基を表す。＊は、Ｌ２との結合位置を表す。
【化２】
0006944587.tif 000003
【００３９】
上記式（Ａ）中のＲ１および上記式（Ｂ）中のＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表すが、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
【００４０】
上記式（Ａ）中のＬ１および上記式（Ｂ）中のＬ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、２価の脂肪族鎖状基、および、２価の脂肪族環状基からなる群から選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表す。なお、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−は、Ｒ１（またはＲ３）側の炭素原子とＣ＝Ｏが結合し、Ｒ２（またはＲ４）とＯが結合することを表し、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−は、Ｒ１（またはＲ３）側の炭素原子とＯが結合し、Ｒ２（またはＲ４）とＣ＝Ｏが結合することを表す。
Ｌ１またはＬ２が示す２価の脂肪族鎖状基としては、炭素数１〜２０のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基がより好ましい。
Ｌ１またはＬ２が示す２価の脂肪族環状基としては、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基が好ましく、炭素数３〜１５のシクロアルキレン基がより好ましい。
Ｌ１またはＬ２としては、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、または−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−が好ましく、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−がより好ましい。
【００４１】
上記式（Ａ）中、Ｒ２が示す、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜２０のアルキル基（フルオロアルキル基）としては、炭素数１〜１８のフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数２〜１５のフルオロアルキル基であることがより好ましい。また、フルオロアルキル基中のフッ素原子数は、１〜２５であることが好ましく、３〜２１であることがより好ましく、５〜２１であることが最も好ましい。
また、上記式（Ａ）中、Ｒ２が示す、−Ｓｉ（Ｒａ２１）（Ｒａ２２）Ｏ−を含む基としては、シロキサン結合を含む繰り返し単位（ポリシロキサン構造）が挙げられる。
【００４２】
本発明においては、原料入手の観点から、上記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａが、下記式（Ａ１）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
【化３】
0006944587.tif 000004
【００４３】
上記式（Ａ１）中、Ｒ１０は、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表す。ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜２０の整数を表し、ｍ＋ｎは、４〜２０の整数を表す。
【００４４】
このような繰り返し単位Ａを構成するモノマーとしては、具体的には、例えば、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ、１Ｈ、７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、４−（パーフルオロペンチルオキシ）ベンジルアクリレートなどが挙げられる。
【００４５】
上記共重合体としては、具体的には、例えば、下記の共重合体が例示される。
【化４】
0006944587.tif 000005
0006944587.tif 000006
【００４６】
上記共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜５０００００が好ましく、２０００〜５００００がより好ましい。
ここで、共重合体の重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ）測定によるポリスチレン換算値として定義される。高分子化合物の重量平均分子量は、例えば、ＧＰＣ装置としてＥｃｏＳＥＣ ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（東ソー社製）を３本用い、溶離液としてＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）を用い、流速０．５０ｍｌ／ｍｉｎ、かつ、温度４０℃の測定条件で測定し、ポリスチレン換算値として算出することができる。
【００４７】
特定重合性液晶組成物が上記共重合体の含有する場合の含有量は、偏光子との密着性と、画像表示装置に適用した際の光学安定性とを更に高いレベルで両立できる理由から、特定重合性液晶組成物の全固形分に対して０．１〜５．０質量部であることが好ましい。
【００４８】
（接着改良剤）
特定重合性液晶組成物は、偏光子との密着性がより良好となる理由から、下記式（Ｉ）で表される接着改良剤を含有していることが好ましい。
式（Ｉ）  （Ｚ）ｎ−Ｌ１００−（Ｑ）ｍ
ここで、式（Ｉ）中、Ｚは、重合性基を有する置換基を表し、ｎは、０〜４の整数を表し、ｎが２〜４の整数である場合、２以上のＺは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｑは、少なくとも１つのホウ素原子を含有する置換基を表し、ｍは、１または２を表し、ｍが２の場合、２つのＱは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｌ１００は、ｎ＋ｍ価の連結基を表す。ただし、ｎが０を表し、かつ、ｍが１を表す場合は、Ｌ１００は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。
【００４９】
上記式（Ｉ）中、Ｚが表す重合性基を有する置換基としては、例えば、（メタ）アクリレート基、スチリル基、ビニルケトン基、ブタジエン基、ビニルエーテル基、オキシラニル基、アジリジニル基およびオキセタン基等を含む置換基が挙げられる。
これらのうち、（メタ）アクリレート基、スチリル基、オキシラニル基もしくはオキセタン基を含む置換基が好ましく、（メタ）アクリレート基またはスチリル基を含む置換基がより好ましい。
【００５０】
特に、（メタ）アクリレート基を含む置換基としては、下記一般式（Ｖ）で表されるエチレン性不飽和二重結合を有する基であることが好ましい。
【００５１】
【化５】
0006944587.tif 000007
【００５２】
上記一般式（Ｖ）中、Ｒ３は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。
また、上記一般式（Ｖ）中、Ｌ１は、単結合、または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる二価の連結基であり、単結合、−ＣＯ−ＮＨ−または−ＣＯＯ−が好ましく、単結合または−ＣＯ−ＮＨ−が特に好ましい。
【００５３】
上記式（Ｉ）中、ｎは、０〜４の整数を表し、０または１を表すことが好ましく、１を表すことがより好ましい。
また、ｍは、１または２を表し、１を表すことが好ましい。
また、Ｌ１００としては、例えば、二価の連結基として、単結合、または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリール基、および、それらの組み合わせから選ばれる二価の連結基が挙げられる。
これらのうち、置換もしくは無置換のアリーレン基がより好ましい。
また、Ｌ１００が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基については、下記一般式（ＶＩ）中のＲ１およびＲ２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
また、これらの基が有する置換基としては、例えば、特開２０１３−０５４２０１号公報の［００４６］段落に記載された置換基などが挙げられる。
【００５４】
上記式（Ｉ）中、Ｑは、少なくとも１つのホウ素原子を含有する置換基であり、ポリマーフィルムに吸着して結合することができる基であることが好ましい。
例えば、ポリマーフィルムが、表面処理等により表面にヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する場合は、ポリマーフィルムのヒドロキシル基またはカルボキシル基と結合できる基が好ましい。
なお、「ポリマーフィルムに吸着して結合することができる基」とは、ポリマーフィルムを構成している材料が有する構造と相互作用して、ポリマーフィルムに化学吸着可能な基を意味する。
【００５５】
少なくとも１つのホウ素原子を含有する置換基としては、下記一般式（ＶＩ）で表される置換基などが挙げられる。
【００５６】
【化６】
0006944587.tif 000008
【００５７】
上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。
また、上記一般式（ＶＩ）中のＲ１およびＲ２は、Ｒ１およびＲ２が連結してアルキレン基、アリール基、またはこれらの組み合わせからなる連結基を構成していてもよい。
【００５８】
上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ表す置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基には、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基が含まれる。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−アダマンチル基、２−ノルボルニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−シクロペンテニル基、１−シクロヘキセニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、１−オクチニル基等が挙げられる。
アリール基の具体例としては、１個から４個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と不飽和五員環とが縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としてはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。
【００５９】
また、上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ表す置換もしくは無置換のヘテロアリール基の例には、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環上の水素原子を１個除し、ヘテロアリール基としたものが含まれる。
窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環の具体例としては、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、カルバゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、チアナフテン、ジベンゾチオフェン、インダゾールベンズイミダゾール、アントラニル、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、プリン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、アクリジン、イソキノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキザリン、ナフチリジン、フェナントロリン、プテリジン等が挙げられる。
【００６０】
上記一般式（ＶＩ）中のＲ1およびＲ2として好ましくは水素原子である。
【００６１】
また、上記一般式（ＶＩ）中のＲ１およびＲ２、ならびに、上記式（Ｉ）中のＬ１００は、可能な場合はさらに１個以上の置換基によって置換されていてもよい。これらの炭化水素基は任意の置換基によって１個以上置換されていてもよい。置換基としては水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができる。
【００６２】
上記式（Ｉ）で表される化合物の分子量としては、１２０〜１２００が好ましく、１８０〜８００がより好ましい。
【００６３】
上記式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、特開２００７−２１９１９３号公報の段落［００３５］〜［００４０］に記載の具体例に例示されている化合物の他に以下の化合物が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。もちろん、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。
【００６４】
【化７】
0006944587.tif 000009
【００６５】
【化８】
0006944587.tif 000010
【００６６】
【化９】
0006944587.tif 000011
【００６７】
特定重合性液晶組成物が上記式（Ｉ）で表される接着改良剤を含有する場合の含有量は、上記液晶性化合物の質量（２種以上の液晶性化合物を併用する場合は合計質量）に対して０．５％〜７質量％であることが好ましく、１〜５質量％であることがより好ましく、３〜５質量％であることが更に好ましい。
【００６８】
（その他の添加剤）
特定重合性液晶組成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、他の添加剤を配合してもよい。
他の添加剤としては、例えば、垂直配向剤が挙げられる。垂直配向剤としては、ピリジニウム化合物やオニウム化合物を使用することが好ましく、これら化合物を含有させることで、液晶性化合物のポリマーフィルム界面における垂直配向を促進する垂直配向剤として作用するとともに、液晶性化合物の配向状態を固定した液晶層とポリマーフィルムとの界面の密着性改善にも寄与する。ピリジニウム化合物については、例えば、特開２００７−０９３８６４号公報の［００３０］〜［００５２］、オニウム化合物については、例えば、特開２０１２−２０８３９７号公報の［００２７］〜［００５８］に記載があり、これらの内容は本明細書に取り込まれる。
また、液晶性化合物の配向状態を固定した液晶層は、必要に応じて、空気界面側の配向を制御する空気界面側配向制御剤（例えば、フルオロ脂肪族基を有する繰り返し単位を含む共重合体）を含有していてもよい。
また、液晶組成物は、非液晶性の重合性モノマーを含有していてもよい。重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。具体的には、重合性の反応性官能基数が２以上の多官能モノマー、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル［例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート］、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート］、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼン及びその誘導体（例えば１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えばジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えばメチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【００６９】
（溶剤）
特定重合性液晶組成物は、溶剤を含有することができる。
溶剤としては、塗布、乾燥において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、などの観点で適宜選択することができる。
【００７０】
このような溶剤としては、具体的には、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセトン、メチルアルコールおよびエチルアルコールのうち、少なくとも１種類を用いることが好ましい。
【００７１】
このような溶剤を用いる場合、特定重合性液晶組成物の固形分の濃度が５〜８０質量％の範囲となるように溶剤を用いることが好ましく、固形分の濃度が１０〜７５質量％の範囲となるように溶剤を用いることがより好ましく、固形分の濃度が１５〜７０質量％の範囲となるように溶剤を用いることが更に好ましい。
【００７２】
＜液晶性組成物層の形成方法＞
特定重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層の形成方法は特に限定されず、例えば、上述した基材上に、特定重合性液晶組成物をコーティングする方法、特定重合性液晶組成物を溶液製膜する方法などが挙げられ、中でも、コーティングする方法が好ましい。
【００７３】
コーティングする方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（特開２００３−１６４７８８号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
【００７４】
本発明においては、液晶性組成物層を２層以上積層することもできる。なお、２層以上積層した場合、偏光子と貼合する側の半硬化層が、後述する式（１）および（２）を満たしている必要がある。
なお、液晶性組成物層を２層以上積層する場合は、必要に応じて、層間に易接着層を設けること、コロナ処理やプラズマ処理等の表面処理を施すこともできる。
【００７５】
〔半硬化工程〕
本発明の偏光板の製造方法が有する半硬化工程は、上記層形成工程で形成した液晶性組成物層を硬化し、下記式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する工程である。
なお、下記式（１）中のＳａおよびＳｂ、ならびに、下記式（２）中のＰ１、Ｐ２およびＰ３は、上述した通りである。
１．５≦Ｓａ／Ｓｂ≦５．０                    式（１）
０．０３≦（Ｐ１−Ｐ２）／Ｐ３≦０．２        式（２）
【００７６】
本発明においては、偏光子との密着性と、画像表示装置に適用した際の光学安定性とを更に高いレベルで両立できる理由から、半硬化工程が、下記式（１−１）および（２−２）を満たす半硬化層を形成する工程であることが好ましい。
１．６≦Ｓａ／Ｓｂ≦４．０                    式（１−１）
０．０５≦（Ｐ１−Ｐ２）／Ｐ３≦０．１        式（２−１）
【００７７】
半硬化工程は、紫外線による照射と、照射の前、照射と同時または照射後の熱処理とを組み合わせて、液晶性組成物層の硬化を行うことが有効である。
【００７８】
紫外線による照射と組み合わせて行う熱処理は、半硬化層を損なうものでなければ特に制限はないが、４０〜１５０℃であることが好ましく、４０〜１１０℃であることがより好ましい。
また、熱処理に要する時間は、使用成分の分子量、その他成分との相互作用、粘度などにより異なるが、１５秒〜１時間であることが好ましく、２０秒〜３０分であることがより好ましく、３０秒〜５分であることが更に好ましい。
【００７９】
紫外線による照射方法は特に限定されず、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して硬化するのが好ましい。
特に、偏光子との密着性と、画像表示装置に適用した際の光学安定性とを更に高いレベルで両立できる理由から、積算の照射量としては、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【００８０】
本発明においては、上記式（１）および（２）に示す硬化プロファイルを満たす半硬化層の形成が容易となる理由から、酸素濃度を２０００ｐｐｍ以上の雰囲気下で紫外線を照射することが好ましい。
【００８１】
〔貼合工程〕
本発明の偏光板の製造方法が有する貼合工程は、偏光子と、上記半硬化工程で形成した半硬化層とを、紫外線硬化型接着剤を用いて貼合し、偏光子と紫外線硬化型接着剤と半硬化層と基材とがこの順で積層された積層体を作製する工程である。
【００８２】
＜偏光子＞
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー。特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。
【００８３】
本発明においては、偏光子の厚みは特に限定されないが、１μｍ〜５０μｍであるのが好ましく、２μｍ〜３０μｍであるのがより好ましく、３μｍ〜２０μｍであるのが更に好ましい。
【００８４】
＜紫外線硬化型接着剤＞
紫外線硬化型接着剤としては、その硬化の様式により分類すると、ラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合型接着剤、カチオン重合性化合物を含有するカチオン重合型接着剤などが挙げられ、接着剤成分の化学種により分類すると、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤などが挙げられる。
【００８５】
上記ラジカル重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリロイル基やビニル基等の不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物が挙げられ、具体的には、単官能ラジカル重合性化合物、分子内に２個以上の重合性基を有する多官能ラジカル重合性化合物、水酸基を有する（メタ）アクリレート、アクリルアミド、アクリロイルモルフォリン等が挙げられる。これらの化合物は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
上記カチオン重合性化合物としては、例えば、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物が挙げられる。エポキシ化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、例えば、特開２００４−２４５９２５号公報に詳細に説明されている化合物を用いることができる。
また、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物を組み合わせて用いることもできる。
【００８６】
このような紫外線硬化型接着剤としては、公知のものを用いることができ、例えば、特開２０１７−１３４４１３号公報、特開２０１５−４０２８３号公報、特開２０１５−１８７７４４号公報、特開２０１５−１１０９４号公報などに記載の紫外線硬化型接着剤を用いることができる。
【００８７】
偏光子と半硬化層との貼合時における紫外線硬化型接着剤の厚みは特に限定されず、０．０１〜３０μｍ程度であることが好ましく、０．０１〜１０μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることが更に好ましい。
【００８８】
本発明においては、偏光子と半硬化層とを紫外線硬化型接着剤で貼合するにあたり、接着強度を向上や、半硬化層表面への接着剤の濡れ性を改善する目的で、半硬化層の偏光子と貼合する面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理など）を施したり、易接着層を形成したりしてもよい。例えば、特開２００７−１２７８９３号公報、特開２００７−１２７８９３号公報等に記載されている易接着層の材料や形成法などを用いることができる。
【００８９】
〔本硬化工程〕
本発明の偏光板の製造方法が有する本硬化工程は、上記貼合工程で作製した積層体を硬化し、偏光子と、半硬化層が更に硬化されてなる光学異方性層と、を有する偏光板を作製する工程である。
【００９０】
本硬化工程は、紫外線による照射と、照射の前、照射と同時または照射後の熱処理とを組み合わせて、上記貼合工程で作製した積層体の硬化を行うことが有効である。
【００９１】
紫外線による照射と組み合わせて行う熱処理は、半硬化層を損なうものでなければ特に制限はないが、４０〜１５０℃であることが好ましく、４０〜１１０℃であることがより好ましい。
また、熱処理に要する時間は、使用成分の分子量、その他成分との相互作用、粘度などにより異なるが、１５秒〜１時間であることが好ましく、２０秒〜３０分であることがより好ましく、３０秒〜５分であることが更に好ましい。
【００９２】
紫外線による照射方法は特に限定されず、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して硬化するのが好ましい。
特に、偏光子との密着性と、画像表示装置に適用した際の光学安定性とを更に高いレベルで両立できる理由から、積算の照射量としては、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【００９３】
〔剥離工程〕
本発明の偏光板の製造方法は、作製される偏光板の薄型化を図る観点から、上記本硬化工程の後に、上記本硬化工程で作製した偏光板から、基材を剥離する剥離工程を有していてもよい。
基材を剥離する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、基材を剥離用テープに転写させる方法が採用され得る。
【００９４】
［光学フィルムの製造方法（第１態様）］
本発明の光学フィルムの製造方法（第１態様）は、基材と、半硬化層とを有する光学フィルムの製造方法である。
本発明の光学フィルムの製造方法（第１態様）は、基材上に、重合性基を有する液晶性化合物と、ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤と、オキシムエステル系光重合開始剤とを含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、液晶性組成物層を硬化し、上述した式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程とを有する。
【００９５】
ここで、本発明の光学フィルムの製造方法（第１態様）における層形成工程は、本発明の偏光板の製造方法において説明した層形成工程のうち、上述した特定重合性液晶組成物として、ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤と、オキシムエステル系光重合開始剤とを必須成分として用いた態様である。
また、本発明の光学フィルムの製造方法（第１態様）における半硬化工程は、本発明の偏光板の製造方法において説明した半硬化工程と同様の工程である。
すなわち、本発明の光学フィルムの製造方法（第１態様）は、本発明の偏光板の製造方法における層形成工程および半硬化工程の好適態様の１つである。
【００９６】
［光学フィルムの製造方法（第２態様）］
本発明の光学フィルムの製造方法（第２態様）は、基材と、半硬化層とを有する光学フィルムの製造方法である。
本発明の光学フィルムの製造方法（第２態様）は、基材上に、重合性基を有する液晶性化合物と、光重合開始剤と、上述した式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび上述した式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体とを含有する重合性液晶組成物からなる液晶性組成物層を形成する層形成工程と、液晶性組成物層を硬化し、上述した式（１）および（２）を満たす半硬化層を形成する半硬化工程とを有する。
【００９７】
ここで、本発明の光学フィルムの製造方法（第２態様）における層形成工程は、本発明の偏光板の製造方法において説明した層形成工程のうち、上述した特定重合性液晶組成物として、上述した式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび上述した式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体を必須成分として用いた態様である。
また、本発明の光学フィルムの製造方法（第２態様）における半硬化工程は、本発明の偏光板の製造方法において説明した半硬化工程と同様の工程である。
すなわち、本発明の光学フィルムの製造方法（第２態様）は、本発明の偏光板の製造方法における層形成工程および半硬化工程の好適態様の１つである。
【００９８】
本発明の光学フィルムの製造方法は、上述した第１態様および第２態様のいずれにおいても、上述した特定重合性液晶組成物が、スメクチック相を示すことが好ましく、等方相の低温側にネマチック相およびスメクチック相をこの順に示すことがより好ましい。そして、半硬化工程により形成される半硬化層は、上述した特定重合性液晶組成物をスメクチック相で固定化した層であることが好ましい。
【００９９】
［重合性液晶組成物（第１態様）］
本発明の重合性液晶組成物（第１態様）は、重合性基を有する液晶性化合物と、ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤と、オキシムエステル系光重合開始剤とを含有する重合性液晶組成物である。
ここで、本発明の重合性液晶組成物（第１態様）は、本発明の偏光板の製造方法の層形成工程で説明した特定重合性液晶組成物のうち、ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤と、オキシムエステル系光重合開始剤とを必須成分として用いた態様である。
すなわち、本発明の重合性液晶組成物（第１態様）は、本発明の偏光板の製造方法における層形成工程で用いる特定重合性液晶組成物の好適態様の１つである。
【０１００】
［重合性液晶組成物（第２態様）］
本発明の重合性液晶組成物（第２態様）は、重合性基を有する液晶性化合物と、光重合開始剤と、上述した式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび上述した式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体とを含有する重合性液晶組成物である。
ここで、本発明の重合性液晶組成物（第２態様）は、本発明の偏光板の製造方法の層形成工程で説明した特定重合性液晶組成物のうち、上述した式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａおよび上述した式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂを有する共重合体を必須成分として用いた態様である。
すなわち、本発明の重合性液晶組成物（第２態様）は、本発明の偏光板の製造方法における層形成工程で用いる特定重合性液晶組成物の好適態様の１つである。
【実施例】
【０１０１】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１０２】
［実施例１］
〔層形成工程〕
基材として、シクロレオレフィンポリマーフィルム（アートンフィルム、Ｒｅ＝１２５ｎｍ、Ｒｔｈ＝６３ｎｍ、膜厚２５μｍ、ＪＳＲ株式会社製）を用いた。
基材の片面を放電量１２５Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でコロナ処理を施し、コロナ処理を施した面に、以下の組成で調製した重合性液晶組成物を、＃３．０のワイヤーバーで塗布し、液晶性組成物層を形成した。【０１０３】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
重合性液晶組成物
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−１                          １００．０質量部
・ヒドロキシアセトフェノン系光重合開始剤
（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ社製）            ５．０質量部
・オキシムエステル系光重合開始剤
（ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）                      ２．０質量部
・モノマー（ＡＴＭＭＴ、新中村化学工業株式会社製）    ８．０質量部
・下記配向助剤Ａ−１                                  ４．５質量部
・下記配向助剤Ａ−２                                  ２．０質量部
・下記レベリング剤Ｂ−１                              ０．３質量部
・アセトン                                        ４３８．５質量部
・ＰＧＭＥＡ                                        ４８．７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１０４】
・液晶性化合物Ｌ−１
下記液晶性化合物（ＲＡ）（ＲＢ）（ＲＣ）の８３：１５：２（質量比）の混合物
【化１０】
0006944587.tif 000012
【０１０５】
・配向助剤Ａ−１
【化１１】
0006944587.tif 000013
【０１０６】
・配向助剤Ａ−２
【化１２】
0006944587.tif 000014
【０１０７】
・レベリング剤Ｂ−１（重量平均分子量：１５０００、下記式中の数値：質量％）
【化１３】
0006944587.tif 000015
【０１０８】
〔半硬化工程〕
上記層形成工程の後、組成物の溶媒の乾燥および液晶性化合物の配向熟成のために、７０℃の温風で９０秒加熱した。
次いで、大気雰囲気で４０℃にて紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶性化合物の配向を固定化し、半硬化層を形成した。半硬化層のＲｔｈ＝−１００ｎｍであった。なお、形成した半硬化層における上記式（１）および（２）に示す硬化プロファイルは下記表１に示す通りである。【０１０９】
〔貼合工程〕
＜紫外線硬化型接着剤の調製＞
下記組成の紫外線硬化型接着剤を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
紫外線硬化型接着剤
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アロニックスＭ−２２０（東亜合成株式会社製）            ２０質量部
・４−ヒドロキシブチルアクリレート（日本化成株式会社製）  ６０質量部
・アクリル酸−２−エチルヘキシル（三菱化学株式会社製）    ２０質量部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）                １．５質量部
・ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬株式会社製）   ０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１０】
＜貼合＞
上記半硬化層の基材（シクロレオレフィンポリマー）と反対側の表面に、調製した紫外線硬化型接着剤を厚み０．５μｍになる様に塗設した。
その後、接着剤塗布面を偏光子と貼り合わせ、偏光子と紫外線硬化型接着剤と半硬化層と基材とがこの順で積層された積層体を作製した。【０１１１】
〔本硬化工程〕
上記貼合工程の後、大気雰囲気下、４０℃にて光学フィルムの基材側から紫外線を１０００ｍＪ/ｃｍ２照射した。その後、６０℃で３分間乾燥し、実施例１の偏光板を作製した。【０１１２】
［実施例２〜７および比較例１〜５］
重合性液晶組成物の組成を下記表１〜３に示す組成に変更し、半硬化工程の条件を下記表１〜３に示す条件に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、偏光板を作製した。
なお、下記表２および表３中、重合禁止剤Ｃ−１などの構造は、以下に示す通りである。【０１１３】
重合禁止剤Ｃ−１（Ｍｗ：２００００）
【化１４】
0006944587.tif 000016
【０１１４】
重合禁止剤Ｃ−２（Ｍｗ：２００００）
【化１５】
0006944587.tif 000017
【０１１５】
液晶性化合物Ｌ−２
【化１６】
0006944587.tif 000018
【０１１６】
液晶性化合物Ｌ−３
【化１７】
0006944587.tif 000019
【０１１７】
モノマーＬ−４
【化１８】
0006944587.tif 000020
【０１１８】
［実施例８］
〔偏光板の作製〕
国際公開第２０１６／００２７２２号の実施例１に記載された光配向膜形成材料を調製し、８０μｍのＴＡＣフィルム上に、バーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
上記の光配向膜上に、下記第１の液晶層の組成物をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２μｍの第１光学異方性層を作製した。【０１１９】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
第１の液晶層の組成物
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・シクロペンタノン                                  １６．２質量部
・ＭＥＫ                                            ５１．１質量部
・液晶性化合物Ｌ−２                                １３．２質量部
・液晶性化合物Ｌ−３                                １３．２質量部
・液晶性化合物Ｌ−４                                  ５．０質量部
・ポリエチレングリコール＃２００ジアクリレート        ０．５質量部
・オキシムエステル系光重合開始剤
（ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）                      ０．５質量部
・下記レベリング剤Ｐ−１                              ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２０】
・レベリング剤Ｐ−１（下記式中、質量比ａ：ｂ：ｃ＝５０：３０：２０）
【化１９】
0006944587.tif 000021
【０１２１】
第１光学異方性層の表面を放電量１２５Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でコロナ処理を行った。
その後、実施例７で用いた重合性液晶組成物を用い、実施例７と同様の方法で、層形成工程、半硬化工程および貼合工程を行い、偏光子、紫外線硬化型接着剤、半硬化層、第１光学異方性層およびＴＡＣフィルムをこの順で有する積層体を作製した。
次いで、実施例７と同様の方法で、本硬化工程を行った後、ＴＡＣフィルムを剥離し、偏光板を作製した。【０１２２】
［評価］
〔密着性〕
ＪＩＳ−Ｋ−５６００−５−６−１に記載のクロスカット法にて評価を行った。
具体的には、作製した偏光板の基材（実施例８においては第１光学異方性層）表面に１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロハンテープ（ニチバン（株）製）で密着試験を行った。新しいセロハンテープを貼ったあとに剥離し、以下の基準で判定した。結果を下記表１〜３に示す。
Ａ：碁盤目中のマスの剥離が起こらない
Ｂ：碁盤目中のマスの剥離が無いものが５０％以上１００％未満
Ｃ：碁盤目中のマスの剥離が無いものが２０％以上５０％未満
Ｄ：碁盤目中のマスの剥離が無いものが２０％未満
実用上問題が無いのはＡ、Ｂ、Ｃの基準である。Ａの基準であることが好ましい。【０１２３】
〔光学安定性〕
＜液晶表示装置の作製＞
ｉＰａｄ（登録商標、Ａｐｐｌｅ社製）の液晶セルから偏光板を剥し、ＩＰＳモードの液晶セルとして利用した。
剥がした偏光板の代わりに、上記で作製した偏光板を液晶セルに総研科学社製ＳＫ２０５７を用いて貼合し、液晶表示装置を作製した。
作製した液晶表示装置を、６５℃９０％の環境下で５００時間曝露し、表示性能を観察した。
具体的には、作製した各液晶表示装置について、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  ＸＬ８８”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、方位角０°（水平方向）から反時計方向に３５９°まで１°刻み、および極角０゜（正面方向）から８８゜までの１゜刻みの白表示における輝度（Ｙｗ）及び黒表示における輝度（Ｙｂ）を測定し、コントラスト比（Ｙｗ／Ｙｂ）を算出し、方位角４５°、極角６０°方向においてコントラスト比を下記の評価基準で評価した。結果を下記表１〜３に示す。
Ａ：コントラスト比の高い領域が特に広く、特に優れている（コントラスト比：２００以上）
Ｂ：コントラスト比の高い領域が広く、優れている（コントラスト比：１５０以上２００未満）
Ｃ：コントラスト比の高い領域が狭い（コントラスト比：１００以上１５０未満）
Ｄ：コントラスト比の高い領域が狭い（コントラスト比：１００未満）【０１２４】
【表１】
0006944587.tif 000022
【０１２５】
【表２】
0006944587.tif 000023
【０１２６】
【表３】
0006944587.tif 000024
【０１２７】
表１〜３に示す結果から、上述した式（１）および（２）に示す硬化プロファイルを満たさない硬化層を形成した場合には、偏光子と光学異方性層との密着性が劣る、または、偏光子と光学異方性層との密着性が良好であっても、画像表示装置に適用した際の光学安定性が劣ることが分かった（比較例１〜５）。
これに対し、上述した式（１）および（２）に示す硬化プロファイルを満たす半硬化層を形成した場合には、偏光子と光学異方性層との密着性が良好となり、作製した偏光板を画像表示装置に適用した際に、光学安定性が良好となることが分かった（実施例１〜８）。