(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光アイソレータに使用可能なファラデー回転子であって、
非磁性ガーネット基板と、
前記非磁性ガーネット基板の一方の片面上に形成されるビスマス置換型希土類鉄ガーネットからなる磁性ガーネット膜と、
前記磁性ガーネット膜の表面に接着され且つ前記非磁性ガーネット基板よりも熱伝導率の良い第１の放熱基板と、
前記非磁性ガーネット基板の他方の片面に接着され且つ当該非磁性ガーネット基板よりも熱伝導率の良い第２の放熱基板と、
を備え、
前記非磁性ガーネット基板は前記第２の放熱基板よりも薄く選定されている
ことを特徴とするファラデー回転子。
【請求項２】
請求項１に記載のファラデー回転子において、
光の入射側から前記第１の放熱基板、前記磁性ガーネット膜、前記非磁性ガーネット基板及び前記第２の放熱基板の順に配置されていることを特徴とするファラデー回転子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のファラデー回転子において、
前記第１の放熱基板の放熱作用は、前記第２の放熱基板の放熱作用よりも高く設定されていることを特徴とするファラデー回転子。
【請求項４】
非磁性ガーネット基板と、前記非磁性ガーネット基板の一方の片面上に形成されるビスマス置換型希土類鉄ガーネットからなる磁性ガーネット膜と、前記磁性ガーネット膜の表面に接着され且つ前記非磁性ガーネット基板よりも熱伝導率の良い第１の放熱基板と、前記非磁性ガーネット基板の他方の片面に接着され且つ当該非磁性ガーネット基板よりも熱伝導率の良い第２の放熱基板と、を備え、前記非磁性ガーネット基板は前記第２の放熱基板よりも薄く選定されているファラデー回転子を製造するに際し、
前記非磁性ガーネット基板の片面に前記磁性ガーネット膜を育成する育成工程と、
前記育成工程にて育成された前記磁性ガーネット膜と前記非磁性ガーネット基板とを研削、研磨して夫々予め決められた厚みに加工する加工工程と、
前記加工工程にて加工された前記磁性ガーネット膜の表面及び前記非磁性ガーネット基板の他の片面に光学用接着剤を用いて前記第１の放熱基板、前記第２の放熱基板を貼り付ける貼付工程と、
を備えたことを特徴とするファラデー回転子の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載のファラデー回転子の製造方法において、
前記貼付工程は、前記加工工程にて加工された前記磁性ガーネット膜及び前記非磁性ガーネット基板を挟み、その両側に前記第１の放熱基板及び前記第２の放熱基板を同時に貼り付けることを特徴とするファラデー回転子の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至３のいずれかに記載のファラデー回転子と、
前記ファラデー回転子の光入射側に配置され、無偏光状態の光が複数の偏光に分かれる第１の複屈折結晶と、
前記ファラデー回転子の光出射側に配置される第２の複屈折結晶と、
前記ファラデー回転子の周囲に配置される磁石と、
を備えたことを特徴とする光アイソレータ。
【請求項７】
請求項６に記載の光アイソレータにおいて、
前記ファラデー回転子は複数枚配置されていることを特徴とする光アイソレータ。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の光アイソレータにおいて、
前記ファラデー回転子、前記第１の複屈折結晶、前記第２の複屈折結晶及び前記磁石を保持する熱伝導性を有する外側ホルダを有し、前記ファラデー回転子の第１の放熱基板及び前記第２の放熱基板の少なくとも一部は前記外側ホルダに直接若しくは熱伝導性部材を介して接触配置されていることを特徴とする光アイソレータ。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれかに記載の光アイソレータと、
前記光アイソレータに対して光を入射する又は前記光アイソレータから出射された光を受け入れる光学部品と、
を備えたことを特徴とする光伝送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光アイソレータに使用可能なファラデー回転子に係り、特に、光通信や加工用に使用される高出力レーザの反射戻り光対策に適した光アイソレータに有効なファラデー回転子及びその製造方法並びに光アイソレータ、光伝送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁性ガーネット単結晶はファラデー効果を有しており、光通信や加工用レーザの戻り光対策に利用される光アイソレータの中心材料である。近年、この種の磁性ガーネット単結晶として、液相エピタキシャル法（ＬＰＥ法）により非磁性ガーネット基板上に育成されたビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶膜が主流になっている。ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶膜は、希土類鉄ガーネット単結晶中における希土類元素の一部がビスマスで置換されたもので、厚さ数百μｍ程度を有する結晶膜である。尚、ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶膜の育成にＬＰＥ法が採用されている理由は、ＬＰＥ法が量産性に優れるため高品質の結晶膜を低価格で製造できるからである。
そして、上記非磁性ガーネット基板上に育成されたビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶膜（以下、ＲＩＧ膜と称する）は、研削と研磨工程によりＲＩＧ膜のファラデー回転角が４５度となるよう加工され、光アイソレータのファラデー回転子用材料として提供されている。
【０００３】
ところで、光アイソレータは、従前は出力５Ｗ程度のレーザを適用対象としていたが、近年、出力１０Ｗ以上のハイパワーレーザを対象とするものも多くなってきている。
上記ハイパワーレーザ用の場合、ファラデー回転角が４５度に加工されたＲＩＧ膜両面に放熱用サファイア（Sapphire）を貼り付けた構造（Sapphire／ＲＩＧ／Sapphire：以下、放熱用基板としてのSapphireを「Ｓ」と表記する）の光アイソレータでは、レーザ光が導入された際のＲＩＧ膜で発生する熱量が大きいため、放熱用サファイアにより十分な放熱を行うことが困難となり温度が上昇する。そして、温度上昇に起因してＲＩＧ膜の光透過率が低くなるため、挿入損失（insertion loss：以下、「ＩＬ」と略称する）が増加してしまい性能が悪化する。ＰＩＯＩ（Polarization Independent Optical Isolator：偏光無依存型光アイソレータ）の部品中において、熱源となるものは光を吸収するＲＩＧ膜のみである。
【０００４】
そこで、このような温度上昇を防止するため、ファラデー回転角が２２．５度に加工されたＲＩＧ膜を２枚用い、あるいは、ファラデー回転角が１５度に加工されたＲＩＧ膜を３枚用いると共に、これらＲＩＧ膜間にもサファイア等の放熱用基板を挿入して放熱性を高める（すなわち、ファラデー回転角が２２．５度の場合にはＳ／ＲＩＧ／Ｓ／ＲＩＧ／Ｓ、ファラデー回転角が１５度の場合にはＳ／ＲＩＧ／Ｓ／ＲＩＧ／Ｓ／ＲＩＧ／Ｓ）ことにより、上記挿入損失（ＩＬ）を増加させない手法が既に開発されている。
但し、複数のＲＩＧ膜を用いる方法は、ＲＩＧ膜が薄くなることに起因して加工時におけるＲＩＧ膜の反りや厚みムラが生ずる懸念がある。
このような懸念を解消する方法としては特許文献１に記載のものが既に提案されている。特許文献１には、複数の放熱用基板と複数のＲＩＧ膜とからなり、一方面のみに反射防止膜を形成したＲＩＧ膜を、少なくとも一方面に反射防止膜を形成した放熱用基板に、反射防止膜を対向させて接着した後に、複数のＲＩＧ膜のファラデー回転角の合計が４５°となるように、ＲＩＧ膜の反射防止膜が形成されていない面を研磨することにより、放熱用基板とＲＩＧ膜とが交互に並んだファラデー回転子を作製する方法が開示されている。
このように、予めＲＩＧ膜を放熱用基板に接着させた後、ＲＩＧ膜を所望の厚さに研磨することによってＲＩＧ膜の反りや厚みムラを改善することは可能である。
【０００５】
また、特許文献２には、非磁性ガーネット基板（育成基板）上にＲＩＧ膜を育成し、ＲＩＧ膜を研削、研磨して平面状に加工する第一工程と、平面状に加工されたＲＩＧ膜に光学用接着剤を用いて第一放熱用基板を貼り付けかつ該接着剤を硬化させることなく育成基板を研削して除去し、露出したＲＩＧ膜を研削、研磨して所望のファラデー回転角に設定する第二工程と、育成基板が除去された側のＲＩＧ膜に接着剤を用いて第二放熱用基板を貼り付ける第三工程と、ＲＩＧ膜の両面側に第一放熱用基板と第二放熱用基板を貼り付けた後、接着剤を硬化させる第四工程を具備することを特徴とするファラデー回転子の製造方法が開示されている。
【０００６】
更に、特許文献３には、ファラデー回転子として、ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶の光入出射面の少なくとも一方の面に、ＧａＰからなる放熱基板を接合させてなる態様、あるいは、非磁性ガーネット基板の両面にビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶を有し、該ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶の光入出射面表面にＧａＰからなる放熱基板を接合させてなる態様が開示されている。
更にまた、特許文献４には、液相エピタキシャル法でビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜を作製する際、非磁性ガーネット基板を使用するが、その基板を残したままにするファラデー回転子が開示されている。
また、特許文献５には、筒状の永久磁石の内部に磁気光学結晶膜を透明なガーネット基板で挾んだ状態で装着して４５度ファラデー回転子とし、該ファラデー回転子を第１の偏光子と第２の偏光子の間に配置し、ガーネット基板と磁気光学結晶膜の外周部２箇所をスポット的に永久磁石の内部に半田付けする光アイソレータが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２９２７９９号公報（発明を実施するための最良の形態，図１）
【特許文献２】特開２０１５−１６１７２９号公報（発明を実施するための形態，図３）
【特許文献３】特開２０１０−１３４０６６号公報（発明を実施するための最良の形態，図１）
【特許文献４】特開２０００−０６６１６０号公報（実施例，図１）
【特許文献５】特開平７−２８１１２９号公報（実施例，図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１で提案された方法は、エピタキシャル成長用基板上にＲＩＧ膜を育成し、エピタキシャル成長用基板を削り落として薄いＲＩＧ膜を単体の状態にし、かつ、薄いＲＩＧ膜に対接着剤用反射防止膜を形成した後、対接着剤用反射防止膜が設けられたサファイア等の放熱用基板に上記薄いＲＩＧ膜を接着させる手法が採られているため、エピタキシャル成長用基板の削り落としやその後のハンドリング時において薄いＲＩＧ膜にクラックが生じたり、ＲＩＧ膜が割れたりして、収率を低下させる懸念がある。
また、特許文献２に提案された方法では、非磁性ガーネット膜にＲＩＧ膜を育成後、平面状に加工を行った後、第一放熱用基板を貼り付け、磁性ガーネット基板が除去された側のＲＩＧ膜を所望のファラデー回転角になるよう、平面状に加工する工程があり、ファラデー回転子の製造工程に日数を要し、生産性が悪い。また、磁性ガーネット基板を研削して除去する時、ＲＩＧ膜に第一放熱用基板（例えばサファイア基板を使用）は貼り付けているため、研削時、研削粉等で第一放熱用基板としてのサファイア基板の表面を傷つける懸念もあり、ファラデー回転子の品質を低下させる虞れがある。
【０００９】
更に、特許文献３〜５には、ファラデー回転子としてＲＩＧ膜を育成する非磁性ガーネット基板をそのまま残す態様が開示されているが、ハイパワーレーザ光が入射されると、ＲＩＧ膜で発生する熱量が増加しても放熱性が不十分になってしまう。特に、特許文献３には、非磁性ガーネット基板の両面にＲＩＧ膜を有し、該ＲＩＧ膜の光入出射面表面に別途放熱基板を接合させてなる態様か開示されているものの、ＲＩＧ膜と非磁性ガーネット基板との接合側からの放熱性が不十分になり易く、ファラデー回転子の挿入損失が増加する虞れがある。
【００１０】
本発明が解決しようとする技術的課題は、磁性ガーネット膜に放熱性の良い放熱部材を直接固着する態様に比べて、ファラデー回転子の偏光性能を維持しつつ、ファラデー回転子を簡単且つ安定的に製造することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の技術的特徴は、光アイソレータに使用可能なファラデー回転子であって、非磁性ガーネット基板と、前記非磁性ガーネット基板の一方の片面上に形成されるビスマス置換型希土類鉄ガーネットからなる磁性ガーネット膜と、前記磁性ガーネット膜の表面に接着され且つ前記非磁性ガーネット基板よりも熱伝導率の良い第１の放熱基板と、前記非磁性ガーネット基板の他方の片面に接着され且つ当該非磁性ガーネット基板よりも熱伝導率の良い第２の放熱基板と、を備え、前記非磁性ガーネット基板は前記第２の放熱基板よりも薄く選定されていることを特徴とするファラデー回転子である。
本発明の第２の技術的特徴は、第１の技術的特徴を備えたファラデー回転子において、光の入射側から前記第１の放熱基板、前記磁性ガーネット膜、前記非磁性ガーネット基板及び前記第２の放熱基板の順に配置されていることを特徴とするファラデー回転子である。
本発明の第３の技術的特徴は、第１又は第２の技術的特徴を備えたファラデー回転子において、前記第１の放熱基板の放熱作用は、前記第２の放熱基板の放熱作用よりも高く設定されていることを特徴とするファラデー回転子である。
【００１２】
本発明の第４の技術的特徴は、非磁性ガーネット基板と、前記非磁性ガーネット基板の一方の片面上に形成されるビスマス置換型希土類鉄ガーネットからなる磁性ガーネット膜と、前記磁性ガーネット膜の表面に接着され且つ前記非磁性ガーネット基板よりも熱伝導率の良い第１の放熱基板と、前記非磁性ガーネット基板の他方の片面に接着され且つ当該非磁性ガーネット基板よりも熱伝導率の良い第２の放熱基板と、を備え、前記非磁性ガーネット基板は前記第２の放熱基板よりも薄く選定されているファラデー回転子を製造するに際し、前記非磁性ガーネット基板の片面に前記磁性ガーネット膜を育成する育成工程と、前記育成工程にて育成された前記磁性ガーネット膜と前記非磁性ガーネット基板とを研削、研磨して夫々予め決められた厚みに加工する加工工程と、前記加工工程にて加工された前記磁性ガーネット膜の表面及び前記非磁性ガーネット基板の他の片面に光学用接着剤を用いて前記第１の放熱基板、前記第２の放熱基板を貼り付ける貼付工程と、を備えたことを特徴とするファラデー回転子の製造方法である。
本発明の第５の技術的特徴は、第４の技術的特徴を備えたファラデー回転子の製造方法において、前記貼付工程は、前記加工工程にて加工された前記磁性ガーネット膜及び前記非磁性ガーネット基板を挟み、その両側に前記第１の放熱基板及び前記第２の放熱基板を同時に貼り付けることを特徴とするファラデー回転子の製造方法である。
【００１３】
本発明の第６の技術的特徴は、第１乃至第３の技術的特徴のいずれかを備えたファラデー回転子と、前記ファラデー回転子の光入射側に配置され、無偏光状態の光が複数の偏光に分かれる第１の複屈折結晶と、前記ファラデー回転子の光出射側に配置される第２の複屈折結晶と、前記ファラデー回転子の周囲に配置される磁石と、を備えたことを特徴とする光アイソレータである。
本発明の第７の技術的特徴は、第６の技術的特徴を備えた光アイソレータにおいて、前記ファラデー回転子は複数枚配置されていることを特徴とする光アイソレータである。
本発明の第８の技術的特徴は、第６又は第７の技術的特徴を備えた光アイソレータにおいて、前記ファラデー回転子、前記第１の複屈折結晶、前記第２の複屈折結晶及び前記磁石を保持する熱伝導性を有する外側ホルダを有し、前記ファラデー回転子の第１の放熱基板及び前記第２の放熱基板の少なくとも一部は前記外側ホルダに直接若しくは熱伝導性部材を介して接触配置されていることを特徴とする光アイソレータである。
本発明の第９の技術的特徴は、第６乃至第８の技術的特徴のいずれかを備えた光アイソレータと、前記光アイソレータに対して光を入射する又は前記光アイソレータから出射された光を受け入れる光学部品と、を備えたことを特徴とする光伝送装置である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の第１の技術的特徴によれば、磁性ガーネット膜に放熱性の良い放熱部材を直接固着する態様に比べて、ファラデー回転子の偏光性能を維持しつつ、ファラデー回転子を簡単且つ安定的に製造することができることに加えて、非磁性ガーネット基板に貼り付けられた第２の放熱基板による放熱性を損なうことなく、ファラデー回転子の放熱作用を維持することができる。
本発明の第２の技術的特徴によれば、本構成を有しない態様に比べて、磁性ガーネット膜からの放熱作用を高めることができる。
本発明の第３の技術的特徴によれば、磁性ガーネット膜の発熱を直接接触した側の第１の放熱基板から効率的に放出することができる。
本発明の第４の技術的特徴によれば、磁性ガーネット膜に放熱性の良い放熱部材を直接固着する態様に比べて、ファラデー回転子の偏光性能を維持しつつ、ファラデー回転子を簡単且つ安定的に製造することに加えて、非磁性ガーネット基板に貼り付けられた第２の放熱基板による放熱性を損なうことなく、ファラデー回転子の放熱作用を維持することが可能なファラデー回転子の製造方法を提供することができる。
本発明の第５の技術的特徴によれば、第１の放熱基板、第２の放熱基板を個別に貼り付ける場合に比べて、貼付工程を簡単且つ短縮することができる。
本発明の第６の技術的特徴によれば、磁性ガーネット膜に放熱性の良い放熱部材を直接固着する態様に比べて、ファラデー回転子の偏光性能を維持しつつ、ファラデー回転子を簡単且つ安定的に製造することに加えて、非磁性ガーネット基板に貼り付けられた第２の放熱基板による放熱性を損なうことなく、ファラデー回転子の放熱作用を維持することが可能な光アイソレータを提供することができる。
本発明の第７の技術的特徴によれば、一つのファラデー回転子を用いる態様に比べて、ファラデー回転子からの発熱を分散することができ、ファラデー回転子に対する放熱作用を安定させることができる。
本発明の第８の技術的特徴によれば、ファラデー回転子からの発熱を効果的に放熱させることができる。
本発明の第９の技術的特徴によれば、磁性ガーネット膜に放熱性の良い放熱部材を直接固着する態様に比べて、ファラデー回転子の偏光性能を維持しつつ、ファラデー回転子を簡単且つ安定的に製造することに加えて、非磁性ガーネット基板に貼り付けられた第２の放熱基板による放熱性を損なうことなく、ファラデー回転子の放熱作用を維持することが可能な光アイソレータを含む光伝送装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】（ａ）は本発明が適用されたファラデー回転子を含む光アイソレータ、光伝送装置の実施の形態の概要を示す説明図、（ｂ）は（ａ）に示すファラデー回転子の製造方法を示す説明図である。
【図２】実施の形態１に係る光アイソレータの全体構成を示す説明図である。
【図３】（ａ）は図２に示す光アイソレータで使用されるファラデー回転子の基本的構成を示す説明図、（ｂ）は（ａ）中Ｂに示す領域の拡大説明図、（ｃ）は（ａ）中Ｃに示す領域の拡大説明図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）はファラデー回転子の製造方法の一例を示す説明図である。
【図５】（ａ）は比較の形態１に係るファラデー回転子の構成例を示す説明図、（ｂ）は比較の形態２に係るファラデー回転子の構成例を示す説明図である。
【図６】（ａ）〜（ｇ）は比較の形態１に係るファラデー回転子の製造方法の一例を示す説明図である。
【図７】実施の形態２に係る光アイソレータの全体構成を示す説明図である。
【図８】実施例１、比較例１及び比較例２に係る光アイソレータの性能について、入射平均パワーと光透過率との関係を示す説明図である。
【図９】実施例２及び比較例３に係る光アイソレータについて、入射平均パワーと光透過率との関係を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
◎実施の形態の概要
図１（ａ）は本発明が適用されたファラデー回転子を用いた光アイソレータが組み込まれた光伝送装置の実施の形態の概要を示す。
同図において、光伝送装置１０は、光アイソレータ６と、光アイソレータ６に対して光Ｂｍを入射する光学部品１１と、を備えたものである。
ここで、光アイソレータ６は、図１（ａ）に示すように、ファラデー回転子１と、ファラデー回転子１の光入射側に配置され、無偏光状態の光が複数の偏光に分かれる第１の複屈折結晶７と、ファラデー回転子１の光出射側に配置される第２の複屈折結晶８と、ファラデー回転子１の周囲に配置される磁石９と、を備えている。尚、光アイソレータ６としては例えば１／４波長板などの他の要素を含んでもよい。また、光学部品１１としては、レーザ等の入射用のものに限られるものではなく、光アイソレータ６から出射された光を受け入れる受光用の光学部品も広く含み、この種の光伝送装置１０の代表例としては光レセプタクル等が挙げられる。
【００１７】
本実施の形態において、ファラデー回転子１は、非磁性ガーネット基板２と、非磁性ガーネット基板２の一方の片面上に形成されるビスマス置換型希土類鉄ガーネットからなる磁性ガーネット膜３と、磁性ガーネット膜３の表面に接着され且つ非磁性ガーネット基板２よりも熱伝導率の良い第１の放熱基板４と、非磁性ガーネット基板２の他方の片面に接着され且つ当該非磁性ガーネット基板２よりも熱伝導率の良い第２の放熱基板５と、を備え、非磁性ガーネット基板２は第２の放熱基板５よりも薄く選定されているものである。
【００１８】
このような技術的手段において、非磁性ガーネット基板２としては、ＧＧＧ結晶、ＳＧＧＧ結晶、ＧＳＧＧ結晶等が用いられる。
本例は、液相エピタキシャル法（ＬＰＥ法）を用いる上で、磁性ガーネット膜３の育成工程で育成用に用いられる非磁性ガーネット基板２を放熱部材の一部としてそのまま利用する態様である。
また、第１の放熱基板４、第２の放熱基板５としては、少なくとも非磁性ガーネット基板２よりも熱伝導性が良い材料であればよく、同一の放熱材料を用いてもよいし、異なる放熱材料を用いてもよい。代表的には高熱伝導材であるサファイア基板が好ましい。
本例は、非磁性ガーネット基板２付きのファラデー回転子１であるため、磁性ガーネット膜３の両側に直接放熱用部材（サファイア基板）を固着した態様に比べて、光挿入損失が大きくなるが、ファラデー回転子１の偏光性能としては、後述する実施例で示すように、２０Ｗまで支障がないことが確認された。
【００１９】
次に、ファラデー回転子１の好ましい態様について説明する。
ファラデー回転子１の好ましい態様としては、図１（ａ）に示すように、光Ｂｍの入射側から第１の放熱基板４、磁性ガーネット膜３、非磁性ガーネット基板２及び第２の放熱基板５の順に配置されている態様が挙げられる。本例は、磁性ガーネット膜３が発熱源であるため、磁性ガーネット膜３の入射側が一番高熱になることに着目し、入射側の第１の放熱基板４に磁性ガーネット膜３を直接貼り付ける態様を採用することで、放熱性を高めるようにしたものである。
また、非磁性ガーネット基板２の好ましい態様としては、第２の放熱基板５よりも薄く選定されている態様が挙げられる。非磁性ガーネット基板２の厚みは、磁性ガーネット膜３を研削時やハンドリング時にクラックや割れが発生するのを防止することが可能な範囲でできるだけ薄い寸法に選定することが好ましい。例えばＧＳＧＧ基板では０．１〜０．４ｍｍ程度である。
【００２０】
また、ファラデー回転子１の製造方法の代表的態様について説明する。
非磁性ガーネット基板２と、非磁性ガーネット基板２の一方の片面上に形成されるビスマス置換型希土類鉄ガーネットからなる磁性ガーネット膜３と、磁性ガーネット膜３の表面に接着され且つ非磁性ガーネット基板２よりも熱伝導率の良い第１の放熱基板４と、非磁性ガーネット基板２の他方の片面に接着され且つ当該非磁性ガーネット基板２よりも熱伝導率の良い第２の放熱基板５と、を備え、非磁性ガーネット基板２は第２の放熱基板５よりも薄く選定されているファラデー回転子１を製造するに際し、図１（ｂ）に示すように、非磁性ガーネット基板２の片面に磁性ガーネット膜３を育成する育成工程と、育成工程にて育成された磁性ガーネット膜３と非磁性ガーネット基板２とを研削、研磨して夫々予め決められた厚みに加工する加工工程と、加工工程にて加工された磁性ガーネット膜３の表面及び非磁性ガーネット基板２の他の片面に光学用接着剤を用いて第１の放熱基板４、第２の放熱基板５を貼り付ける貼付工程と、を備えたものが挙げられる。
【００２１】
本例によれば、非磁性ガーネット基板２上に育成されたＲＩＧ膜（磁性ガーネット膜に相当）を放熱用基板に貼り付け、かつ、非磁性ガーネット基板２を除去する工程を削除することが可能になり、研削時の研削粉などによる放熱用基板の損傷を防止することが可能である。
また、本例において、貼付工程は、第１の放熱基板４、第２の放熱基板５を個別に貼り付けるようにしてもよいが、貼付工程を簡略化するという観点からすれば、加工工程にて加工された磁性ガーネット膜３及び非磁性ガーネット基板２を挟み、その両側に第１の放熱基板４及び第２の放熱基板５を同時に貼り付けることが好ましい。
【００２２】
また、光アイソレータ６としては、ファラデー回転子１は１枚構成に限られず、複数枚構成を採用することが好ましい。本例は、複数のファラデー回転子１を用い、ファラデー回転子１からの発熱を分散させる態様であり、複数のファラデー回転子１を使用する場合には、夫々の磁性ガーネット膜３の厚みを調整し、ファラデー回転角を分担して全体で所定の角度（例えば４５度）にすればよい。
また、ファラデー回転子１の放熱性を確保する上で好ましい態様としては、ファラデー回転子１、第１の複屈折結晶７、第２の複屈折結晶８及び磁石９を保持する熱伝導性を有する外側ホルダ（図１では図示せず）を有し、ファラデー回転子１の第１の放熱基板４及び第２の放熱基板５の少なくとも一部は外側ホルダに直接若しくは熱伝導性部材（図１では図示せず）を介して接触配置されている態様が挙げられる。本例は、一若しくは複数のファラデー回転子１からの発熱を放熱するために、外側ホルダに向けて放熱用の熱伝導路を確保する態様である。
【００２３】
以下、添付図面に基づいて本発明をより詳細に説明する。
◎実施の形態１
図２は実施の形態１に係る光アイソレータ６の全体構成を示す。本例では、光アイソレータ６は、出力が５Ｗ〜２０Ｗの高出力レーザ等に対して適用可能なものを対象としている。
−光アイソレータの構成例−
同図において、光アイソレータ６は、高出力レーザからの光Ｂｍの通過方向に複数枚（本例では２枚）配置されるファラデー回転子１（本例では１ａ，１ｂ）と、ファラデー回転子１の光入射側に配置され、無偏光状態の光Ｂｍが複数の偏光に分かれる断面楔状の複屈折結晶からなる第１の偏光子１７（第１の複屈折結晶７に相当）と、ファラデー回転子１の光出射側に配置される断面楔状の複屈折結晶からなる第２の偏光子１８（第２の複屈折結晶８に相当）と、ファラデー回転子１の周囲に配置される筒状磁石１９（磁石９に相当）と、を備えたものである。
本例において、光アイソレータ６は、ファラデー回転子１、第１の偏光子１７、第２の偏光子１８及び筒状磁石１９を保持する熱伝導性を有する外側ホルダ２０を有している。
【００２４】
ここで、外側ホルダ２０は、筒状のホルダ本体２１の光入射側端部に鍔部２２を有しており、ホルダ本体２１の鍔部２２及び外周部に接触して筒状磁石１９が設置されている。また、ホルダ本体２１の内周部のうち、第１の偏光子１７とファラデー回転子１ａとの間には透孔２３ａを有する保持壁２３が一体的に設けられ、この保持壁２３に第１の偏光子１７が保持されると共に、ファラデー回転子１ａの光入射が接触配置されている。更に、ファラデー回転子１ａ，１ｂ間、及び、ファラデー回転子１ｂと第２の偏光子１８との間には夫々透孔２４ａ，２５ａを有する熱伝導性保持板２４，２５が設けられており、熱伝導性保持板２４にはファラデー回転子１ａの光出射側及びファラデー回転子１ｂの光入射側が接触配置され、また、熱伝導性保持板２５には第２の偏光子１８が保持されると共に、ファラデー回転子１ｂの光出射側が接触配置されている。
【００２５】
−ファラデー回転子の構成例−
本例において、ファラデー回転子１（１ａ，１ｂ）は、図３（ａ）に示すように、高出力レーザからの光Ｂｍの入射側より、第１の放熱基板４（本例ではサファイア基板）、磁性ガーネット膜（ＲＩＧ膜に相当）３、非磁性ガーネット基板２、第２の放熱基板（本例ではサファイア基板）５で構成される。
非磁性ガーネットは、例えば、ガドリニウム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）結晶、ＣａＭｇＺｒ置換型ガドリニウム・ガリウム・ガーネット（ＳＧＧＧ）、ガドリニウム・スカンジウム・ガリウム・ガーネット（ＧＳＧＧ）結晶等を用いることができる。特にガドリニウム・スカンジウム・ガリウム・ガーネット（ＧＳＧＧ）結晶が好ましい。
【００２６】
ＲＩＧ膜３は、非磁性ガーネット基板２上にＬＰＥ法により育成された膜である。ＲＩＧ膜３は、一般的には、非磁性ガーネット基板２を研削、研磨等で除去しＲＩＧ膜３単体にして光アイソレータ６として使用される。しかし、本例では、非磁性ガーネット基板２を所定の厚みｔ１に設定して、ＲＩＧ膜３とともにファラデー回転子１の一要素として構成される。非磁性ガーネット基板２の厚みｔ１は、ＲＩＧ膜３を研削する時やハンドリング時に、ＲＩＧ膜３が薄いと割れやクラックが発生するため、これを防止するように非磁性ガーネット基板２を除去せず所定の厚みを確保する。但し、非磁性ガーネット基板２は、第１、第２の放熱基板４，５より放熱性は落ちるため、光アイソレータ６の構成に非磁性ガーネット基板２を採用した場合、光アイソレータ６の放熱性は低下する。よって、非磁性ガーネット基板２の厚みｔ１は、ＲＩＧ膜３を研削時やハンドリング時にクラックや割れが防止できれば、できるだけ薄い方が好ましい。例えば、ＧＳＧＧＧ基板であれば、０．１ｍｍ〜０．４ｍｍである。
ＲＩＧ膜３は、非磁性ガーネット基板２を用い液相エピタキシャル法（ＬＰＥ法）により育成したビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜である。ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜は、例えば、組成式Ｎｄ０．７１Ｇｄ１．１０Ｂｉ１．１９Ｆｅ５Ｏ１２である。ＲＩＧ膜３の厚みｔ２は、ファラデー回転子１の角度に影響するため、ファラデー回転子１の枚数に応じて適宜設定するようにすればよい。本例では、ファラデー回転子１は２枚であるため、所定角度（例えば４５度）のファラデー回転角を得るには、各ファラデー回転子１(１ａ，１ｂ)のＲＩＧ膜３の回転角を２２．５度とすればよい。
【００２７】
非磁性ガーネット基板２及びＲＩＧ膜３を挟み両側には、第１、第２の放熱基板４，５が設置される。本例では、光アイソレータ６は高出力用レーザに適用可能とする用途であるため、第１、第２の放熱基板４，５は、高熱伝導性が要求され、例えば高熱導電部材であるサファイア基板が好ましい。
特に、本例では、ＲＩＧ膜３は、非磁性ガーネット基板２より光入射側に配置されており、発熱はＲＩＧ膜３より発生するため、ファラデー回転子１の光入射側が一番高くなる。ここで、非磁性ガーネット基板２は、第１，第２の放熱基板（サファイア基板）４，５より熱伝導性が劣るため、光入射側の第１の放熱基板４にＲＩＧ膜３を貼り付けることが好ましい。また、光Ｂｍは非磁性ガーネット基板２を通過することで形状がわずかに歪むため、ＲＩＧ膜３の光出射側に設置する方が品質的にもよい。
【００２８】
また、第１、第２の放熱基板４，５の厚みｔ３，ｔ４は放熱性を考慮して適宜選定して差し支えなく、同一の厚みにしてもよいし、異なる厚みに選定してもよい。また、第１の放熱基板４，第２の放熱基板５の放熱作用について、ＲＩＧ膜に直接貼り付けられた第１の放熱基板４を第２の放熱基板５よりも高く設定するようにしてもよい。この場合、放熱作用を異ならせるには、放熱基板４，５の材料を異ならせる、あるいは、同一の材料で厚みを異ならせる等適宜選定して差し支えない。
更に、第１、第２の放熱基板４，５は、図３（ａ）〜（ｃ）に示すように、ＲＩＧ膜３、非磁性ガーネット基板２に対して光学用接着剤（例えばエポキシ系接着剤）３１を介して接着されるが、対接着剤用反射防止膜３２を介在させることが好ましい。また、第１、第２の放熱基板４，５の外表面には反射光の影響をより抑制するという観点からすれば、対空気用反射防止膜（図示せず）で被覆することが好ましい。
【００２９】
−ファラデー回転子の製造方法−
次に、ファラデー回転子１の製造方法について説明する。
先ず、図４（ａ）に示すように、非磁性ガーネット基板２を用い液相エピタキシャル法（ＬＰＥ法）によりビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶からなる磁性ガーネット膜（ＲＩＧ膜に相当）３を育成する。
次いで、図４（ｂ）に示すように、育成された非磁性ガーネット基板２とＲＩＧ膜３を研削・研磨器具４０を用いて当初の厚みｔ１’，ｔ２’から所定の厚みｔ１，ｔ２に機械加工する。例えば、平面研削盤等により研削加工する。非磁性ガーネット基板の厚みｔ１は、上述したように、例えば、ＧＳＧＧＧ基板であれば、０．１ｍｍ〜０．４ｍｍである。ＲＩＧ膜３の厚みｔ２は、ファラデー回転子１の角度に影響するため、ファラデー回転子１の枚数に応じて適宜決定するようにすればよい。なお、所定の厚みに研削した研削面は、研磨加工により鏡面に仕上げるようにすればよい。
次いで、図４（ｃ）に示すように、非磁性ガーネット基板２及びＲＩＧ膜３を挟み両側に第１、第２の放熱基板４，５を同時に貼り付ける。第１、第２の放熱基板４，５は、サファイア基板が好ましい。サファイア基板について熱伝導性が高い貼り付けは、光学用接着剤（例えばエポキシ系接着剤）３１を使用して接着するのがよく、より好ましくは、対接着剤用反射防止膜３２を介在させるのがよい。本例では、第１、第２の放熱基板４，５を同時に貼り付けるため、後述する比較の形態１のように、非磁性ガーネット基板２上に育成されたＲＩＧ膜３を放熱用基板に貼り付け、かつ非磁性ガーネット基板の除去工程を削除することが可能となる。また、研削時の研削粉等による放熱用基板のキズ等の防止になる。
尚、ファラデー回転子１を製造するに際し、予め決められた大きさの非磁性ガーネット基板２，ＲＩＧ膜３を形成した後、予め決められた大きさの第１，第２の放熱基板４，５を貼り付けるようにしてもよいし、更に、小型のファラデー回転子１を製造する場合には、所定サイズの複数倍の大きさに一旦製造した後に切断する工程を経て所定サイズに製造するようにしてもよいことは勿論である。
【００３０】
◎比較の形態１
図５（ａ）は比較の形態１に係るファラデー回転子を示す。
同図において、ファラデー回転子１’は、磁性ガーネット膜としてのＲＩＧ膜３’の両側に第１、第２の放熱基板（例えばサファイア基板）４’，５’を直接貼り付けたものである。
しかしながら、比較の形態１に係るファラデー回転子１’を製造する場合には、図６（ａ）〜（ｇ）に示す工程を経る必要がある。
つまり、図６（ａ）に示すように、液相エピタキシャル法（ＬＰＥ法）により非磁性ガーネット基板２’上にＲＩＧ膜３’を育成する。
次に、図６（ｂ）に示すように、育成されたＲＩＧ膜３’を研削、研磨して平面状に加工する。そして、ＲＩＧ膜３’を研削、研磨して平面状に加工する際、ＲＩＧ膜３’は非磁性ガーネット基板２’により保持されているため、ＲＩＧ膜３’にクラックが生じたり割れたりする現象を回避することができる。
【００３１】
次いで、図６（ｃ）（ｄ）に示すように、平面状に加工されたＲＩＧ膜３’に光学用接着剤（図示せず）を用いて第１の放熱基板４’を貼り付ける。平面状に加工された上記ＲＩＧ膜３’に第１の放熱基板４’が貼り付けられる際、ＲＩＧ膜３’は非磁性ガーネット基板２’により保持されているため、ＲＩＧ膜３’にクラックや割れを生じさせることなく第１の放熱基板４’を貼り付けることができる。尚、図６（ｃ）中、符号３２は、第１の放熱基板４’の一方面とＲＩＧ膜３’にそれぞれ設けられた対接着剤用反射防止膜を示し、符号３３は、第１の放熱基板４’の他方面に設けられた対空気用反射防止膜を示している。
【００３２】
次いで、光学用接着剤（図示せず）を硬化させることなく図６（ｅ）に示すように、非磁性ガーネット基板２’を研削して除去すると共に、非磁性ガーネット基板２’が除去されて露出したＲＩＧ膜３’を研削、研磨して所望のファラデー回転角に設定する。
更に、図６（ｅ）に示すように、非磁性ガーネット基板２’が除去された側のＲＩＧ膜３’に、図６（ｆ）に示すように、光学用接着剤を用いて第２の放熱基板５’を貼り付けた後、上記光学用接着剤を硬化させることにより図６（ｇ）に示すファラデー回転子１’を製造するものである。
尚、図６（ｆ）〜（ｇ）中、符号３２は、第２の放熱基板５’の一方面とＲＩＧ膜３’にそれぞれ設けられた対接着剤用反射防止膜を示し、符号３３は、第２の放熱基板５’の他方面に設けられた対空気用反射防止膜を示している。
【００３３】
このように、比較の形態１に係るファラデー回転子１’はＲＩＧ膜３’の発熱に対する放熱作用は良好に保たれるものの、その製造工程が複雑になり、その分、実施の形態１に比べて製造性が損なわれる懸念がある。
【００３４】
◎比較の形態２
図５（ｂ）は比較の形態２に係るファラデー回転子の要部を示す。
同図において、ファラデー回転子１”は、非磁性ガーネット基板２’の両側に第１、第２の磁性ガーネット膜としてのＲＩＧ膜３’（３ａ’，３ｂ’）を形成し、その両側に第１、第２の放熱基板（例えばサファイア基板）４’，５’を貼り付けるようにしたものである。
しかしながら、比較の形態２に係るファラデー回転子１”にあっては、第１、第２のＲＩＧ膜３’と非磁性ガーネット基板２’との間の放熱性が不十分になり易いため、ファラデー回転子１”の偏光性能が損なわれる懸念がある。
【００３５】
−光アイソレータの性能評価−
以上のように、本実施の形態では、ファラデー回転子１は、非磁性ガーネット基板２付きのＲＩＧ膜３を有し、ＲＩＧ膜３に第１の放熱基板４を直接貼り付け、かつ、非磁性ガーネット基板２に第２の放熱基板５を直接貼り付けている態様である。このため、高出力のレーザ光Ｂｍが光アイソレータ６に入射された場合には、ファラデー回転子１のＲＩＧ膜３が発熱することになるが、ＲＩＧ膜３からの熱は、第１の放熱基板４を通じて直接放熱され、更に、外側ホルダ２０に対して保持壁２３、熱伝導性保持板２４、２５を通じて伝達され、外側ホルダ２０からも放熱される。また、ＲＩＧ膜３の反対側には非磁性ガーネット基板２がそのまま残っているため、ＲＩＧ膜３からの熱の一部は非磁性ガーネット基板２に伝達された後、第２の放熱基板５を通じて放熱され、更に、第２の放熱基板５に接触配置されている外側ホルダ２０を介して放熱される。このため、比較の形態２の態様に比べて、ファラデー回転子１からの放熱性は充分に機能することになり、光アイソレータ６の偏光性能は良好に保たれる。
【００３６】
◎実施の形態２
図７は実施の形態２に係る光アイソレータの全体構成を示す。
同図において、光アイソレータ６は、実施の形態１と異なり、光Ｂｍの通過方向に複数枚（本例では３枚）配置されるファラデー回転子１（本例では１ａ，１ｂ，１ｃ）と、ファラデー回転子１の光入射側に配置され、無偏光状態の光Ｂｍが複数の偏光に分かれる断面楔状の複屈折結晶からなる第１の偏光子１７（第１の複屈折結晶７に相当）と、ファラデー回転子１の光出射側に配置される断面楔状の複屈折結晶からなる第２の偏光子１８（第２の複屈折結晶８に相当）と、ファラデー回転子１の周囲に配置される二つの筒状磁石１９ａ，１９ｂ（磁石９に相当）と、を備えたものである。
本例において、光アイソレータ６は、実施の形態１と同様に、ファラデー回転子１、第１の偏光子１７、第２の偏光子１８及び筒状磁石１９を保持する熱伝導性を有する外側ホルダ２０を有しているが、ファラデー回転子１が３枚配置されていることから、実施の形態１と若干異なり、各ファラデー回転子１（１ａ〜１ｃ）を構成するＲＩＧ膜３の回転角を１５度とし、外側ホルダ２０内には保持壁２３の他に、３枚の夫々透孔２４〜２６ａを有する熱伝導性保持板２４〜２６を設置するようにしたものである。
本実施の形態によれば、実施の形態１と略同様な作用を奏するが、ファラデー回転角を３つに分担して対応することが可能になり、実施の形態１に比べて、各ファラデー回転子１（１ａ〜１ｃ）からの放熱量を分散して放出することが可能である。
【実施例】
【００３７】
◎実施例１
実施例１は、実施の形態１に係る光アイソレータを具現化したものである。
非磁性ガーネット基板（Ｇｄ３（ＳｃＧａ）５Ｏ１２基板（ＧＳＧＧ基板））を用い、液相エピタキシャル法（ＬＰＥ法）により、組成式Ｎｄ０．７１Ｇｄ１．１０Ｂｉ１．１９Ｆｅ５Ｏ１２で示されるビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜（ＲＩＧ膜）を育成し、１１ｍｍ角の大きさに切断した。次に、非磁性ガーネット基板が４００μｍの厚みになるように平面研削盤にて機械加工し、非磁性ガーネット基板上により保持した状態でファラデー回転角が２２．５度のＲＩＧ膜になるようにＲＩＧ膜の厚さに研削加工した。それぞれの研削面は、研磨機等により鏡面加工した。
第１の放熱基板と第２の放熱基板として、１１ｍｍ角で且つ厚みが４００μｍのＣ面サファイア基板を適用し、非磁性ガーネット基板及びＲＩＧ膜の両表面に対接着剤用反射防止膜を設け、両面に光学用接着剤としてエポキシ系接着剤を用い、第１、第２の放熱基板であるサファイア基板を貼り付け、ファラデー回転子とした。
また、上記ファラデー回転子を用いて、偏波無依存型光アイソレータを作製した。具体的には、光軸上に沿って配置された２枚のファラデー回転子を中央にして、楔形状を有する複屈折結晶からなる第１、第２の偏光子を光軸上外側にそれぞれ配置し、各ファラデー回転子、第１、第２の偏光子を保持壁、熱伝導性保持板を介して外側ホルダに保持させると共に、各ファラデー回転子の第１，第２の放熱基板を保持壁又は熱伝導性保持板に接触させ、外側ホルダの外周部に筒状磁石を組み付けて、光アイソレータを製作した。
【００３８】
◎実施例２
実施例２は、実施の形態２に係る光アイソレータを具現化したものである。
本例の基本的構成は、実施例１と略同様であるが、実施例１と異なり、３枚のファラデー回転子の各ＲＩＧ膜の回転角が１５度になるように研削、研磨加工した。それ以外は、実施例１と同様とした。
◎比較例１
比較例１は、実施例１に係る光アイソレータのファラデー回転子に代えて、比較の形態１に係るファラデー回転子を用いるようにしたものである。
比較の形態１で用いた製法により非磁性ガーネット基板を除去したファラデー回転子を作製した。非磁性ガーネット基板上に育成されたＲＩＧ膜を放熱用基板に貼り付けた。次に、平面研削盤により非磁性ガーネット基板を除去した。その後、ＲＩＧ膜の研削した面に放熱用基板を貼り付けた。
◎比較例２
比較例２は、実施例１に係る光アイソレータのファラデー回転子に代えて、第１の放熱基板、第２の放熱基板の取り除いた態様（非磁性ガーネット基板＋ＲＩＧ膜）を用いた。
◎比較例３
比較例３は、基本的構成は比較例１と略同様であるが、比較例１と異なり、３枚のファラデー回転子の各ＲＩＧ膜の回転角が１５度になるように研削、研磨加工した。それ以外は、比較例１と同様とした。
【００３９】
−光アイソレータの性能評価−
実施例１、比較例１及び比較例２に係る光アイソレータにおいて、光アイソレータへの光の入射平均パワーと光透過率との関係を評価した。
評価結果を図８に示す。
図８によれば、実施例１では非磁性ガーネット基板付きのファラデー回転子のため、比較例１に係るファラデー回転子（非磁性ガーネット基板無しのファラデー回転子）を要したものの光挿入損失より、損失分が０Ｗ〜４Ｗまでは約４％の損失となり、５Ｗからは約５〜８％の損失であった。しかしながら、高出力帯域の光アイソレータの光挿入損失としては十分な性能が確保されていることが理解される。尚、比較例２にあっては、実施例１に比べて、光挿入損失が大きく、５Ｗ以降では損失分が増大することが理解される。
【００４０】
実施例２，比較例３に係る光アイソレータは、いずれもファラデー回転子を３枚使用した態様（３段タイプ）において、光アイソレータへの光の入射平均パワーと光透過率との関係を評価した。
評価結果を図９に示す。
同図によれば、光の入射平均パワーに対する光挿入損失の程度が把握される。この結果、比較例１に対し、実施例２は、１０Ｗ〜２０Ｗでは、５〜１０％の損失であり、２０Ｗまでは十分性能が確保されていることが確認できた。また、実施例２では、ファラデー回転子製造工程でＲＩＧ膜のクラック、割れの不具合は発生しなかった。また、製作時間は、比較例１において必要とされた工程、非磁性ガーネットを放熱用基板への貼り付け工程及び非磁性ガーネット除去工程が削除できたことにより生産性は向上した。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明に係るファラデー回転子は、非磁性ガーネット基板付きの磁性ガーネット膜を用い、これらの両側に放熱基板を貼り付ける態様を採用したので、非磁性ガーネット基板を取り除いて磁性ガーネット膜に放熱性の良い放熱部材を直接固着する態様に比べて、ファラデー回転子の偏光性能を維持しつつ、ファラデー回転子を簡単且つ安定的に製造することが可能になる。このため、安価に提供可能なファラデー回転子を複数枚使用する方式を採用することで、高出力レーザ等からの高出力光に対しても光挿入損失の少ないアイソレータ、光アイソレータを含む光伝送装置について産業上の利用可能性がある。
【符号の説明】
【００４２】
１（１ａ，１ｂ，１ｃ）    ファラデー回転子
１’，１”    ファラデー回転子
２    非磁性ガーネット基板
２’  非磁性ガーネット基板
３    磁性ガーネット膜（ＲＩＧ膜）
３’（３ａ’，３ｂ’）    磁性ガーネット膜（ＲＩＧ膜）
４    第１の放熱基板
４’  第１の放熱基板
５    第２の放熱基板
５’  第２の放熱基板
６    光アイソレータ
７    第１の複屈折結晶
８    第２の複屈折結晶
９    磁石
１０    光伝送装置
１１    光学部品
１７    第１の偏光子
１８    第２の偏光子
１９（１９ａ，１９ｂ）    筒状磁石
２０    外側ホルダ
２１    ホルダ本体
２２    鍔部
２３    保持壁
２３ａ    透孔
２４〜２６    熱伝導性保持板
２４ａ〜２６ａ    透孔
３１    光学用接着剤
３２    対接着剤用反射防止膜
３３    対空気用反射防止膜
４０    研削・研磨器具
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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