(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１パルス光列を出射するレーザ発振部と、
前記第１パルス光列に対して、分波、複数の光路での伝播、及び合波を実施することで、複数の第２パルス光列を含む第３パルス光列を生成する第１光生成部と、
前記第３パルス光列において、前記複数の第２パルス光列から少なくとも１つの第２パルス光列を選択することで、前記少なくとも１つの第２パルス光列を含む第４パルス光列を生成する第２光生成部と、
前記第２光生成部を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記第３パルス光列において、前記複数の第２パルス光列から前記少なくとも１つの第２パルス光列を選択するための制御信号を前記第２光生成部に送信する、レーザ加工用光源。
【請求項２】
前記レーザ発振部は、前記第１パルス光列に対応する周波数を有する電気信号を前記制御部に送信し、
前記制御部は、前記電気信号に基づいて前記制御信号を生成する、請求項１に記載のレーザ加工用光源。
【請求項３】
前記第２光生成部は、
前記第４パルス光列を生成する光切出部と、
前記第４パルス光列に対して前記光切出部と共に光共振器を構成する利得媒質と、
前記利得媒質に励起光を照射する励起光源と、を有する再生増幅器である、請求項１又は２に記載のレーザ加工用光源。
【請求項４】
前記複数の第２パルス光列のそれぞれは、シングルパルス光列及びダブルパルス光列である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のレーザ加工用光源。
【請求項５】
前記第１光生成部は、
前記第１パルス光列を２つのパルス光列に分波する第１分波部と、
光路長が互いに異なっており、前記２つのパルス光列のそれぞれを伝播させる第１光路及び第２光路と、
前記２つのパルス光列を合波することで、前記第３パルス光列を生成する第１合波部と、を有し、
前記第１光路は、
前記第１分波部によって分波された前記２つのパルス光列の一方を２つのサブパルス光列に分波する第２分波部と、
光路長が互いに異なっており、前記２つのサブパルス光列のそれぞれを伝播させる第３光路及び第４光路と、
前記２つのサブパルス光列を合波する第２合波部と、を有し、
前記第１合波部は、前記第１分波部によって分波された前記２つのパルス光列の他方、及び前記第２合波部によって合波されたパルス光列を合波することで、前記第３パルス光列を生成する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のレーザ加工用光源。
【請求項６】
前記第１分波部、前記第１合波部、前記第２分波部及び前記第２合波部のそれぞれは、カプラであり、
前記第１光生成部は、光路上において互いに隣り合う前記カプラを接続する光ファイバを更に有する、請求項５に記載のレーザ加工用光源。
【請求項７】
前記第１光生成部及び前記第２光生成部は、前記第３パルス光列が伝播する空間を介して配置されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載のレーザ加工用光源。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のレーザ加工用光源と、
被加工物を支持する支持部と、
前記レーザ加工用光源から出射されたパルス光列を前記被加工物に照射する照射部と、を備える、レーザ加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ加工用光源及びレーザ加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数のダブルパルス光からなるダブルパルス光列を被加工物に照射するレーザ加工装置として、複数のシングルパルス光からなる１つのパルス光列を２つのパルス光列に分波し、分波した２つのパルス光列のそれぞれを、光路長が互いに異なる光路で伝播させ、当該２つのパルス光列を合波することで、ダブルパス光列を生成するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。なお、シングルパルス光とは、１つのパルスからなる１パルスの光であり、ダブルパルス光とは、例えば数ｐｓ〜２０ｎｓにまで時間的に近接した２つのパルスからなる１パルスの光である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−２２１６８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述したようなレーザ加工装置では、被加工物に照射されるパルス光列が１種類のパルス光列（例えば、ダブルパルス光列）に制限される場合がある。様々な用途に応じて被加工物を加工するためには、複数の種類のパルス光列を被加工物に選択的に照射することができれば便利である。
【０００５】
そこで、本発明は、複数の種類のパルス光列を選択的に出射することが可能なレーザ加工用光源及びレーザ加工装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のレーザ加工用光源は、第１パルス光列を出射するレーザ発振部と、第１パルス光列に対して、分波、複数の光路での伝播、及び合波を実施することで、複数の第２パルス光列を含む第３パルス光列を生成する第１光生成部と、第３パルス光列において、複数の第２パルス光列から少なくとも１つの第２パルス光列を選択することで、少なくとも１つの第２パルス光列を含む第４パルス光列を生成する第２光生成部と、第２光生成部を制御する制御部と、を備え、制御部は、第３パルス光列において、複数の第２パルス光列から少なくとも１つの第２パルス光列を選択するための制御信号を第２光生成部に送信する。
【０００７】
このレーザ加工用光源では、複数の第２パルス光列を含む第３パルス光列が生成され、第３パルス光列において、複数の第２パルス光列から少なくとも１つの第２パルス光列が選択されることで、少なくとも１つの第２パルス光列を含む第４パルス光列が生成される。よって、このレーザ加工用光源によれば、複数の種類のパルス光列を選択的に出射することが可能となる。
【０００８】
本発明のレーザ加工用光源では、レーザ発振部は、第１パルス光列に対応する周波数を有する電気信号を制御部に送信し、制御部は、電気信号に基づいて制御信号を生成してもよい。この構成によれば、第３パルス光列において、複数の第２パルス光列から少なくとも１つの第２パルス光列を選択する第２光生成部の制御を正確且つ容易に行うことができる。
【０００９】
本発明のレーザ加工用光源では、第２光生成部は、第４パルス光列を生成する光切出部と、第４パルス光列に対して光切出部と共に光共振器を構成する利得媒質と、利得媒質に励起光を照射する励起光源と、を有する再生増幅器であってもよい。この構成によれば、第４パルス光列の生成及び増幅を効率良く行うことができる。
【００１０】
本発明のレーザ加工用光源では、複数の第２パルス光列のそれぞれは、シングルパルス光列及びダブルパルス光列であってもよい。この構成によれば、第３パルス光列において、例えば、複数の第２パルス光列からシングルパルス光列又はダブルパルス光列を選択することで、シングルパルス光列又はダブルパルス光列を含む第４パルス光列を生成することができる。
【００１１】
本発明のレーザ加工用光源では、第１光生成部は、第１パルス光列を２つのパルス光列に分波する第１分波部と、光路長が互いに異なっており、２つのパルス光列のそれぞれを伝播させる第１光路及び第２光路と、２つのパルス光列を合波することで、第３パルス光列を生成する第１合波部と、を有し、第１光路は、第１分波部によって分波された２つのパルス光列の一方を２つのサブパルス光列に分波する第２分波部と、光路長が互いに異なっており、２つのサブパルス光列のそれぞれを伝播させる第３光路及び第４光路と、２つのサブパルス光列を合波する第２合波部と、を有し、第１合波部は、第１分波部によって分波された２つのパルス光列の他方、及び第２合波部によって合波されたパルス光列を合波することで、第３パルス光列を生成してもよい。この構成によれば、第３パルス光列の生成を容易に行うことができる。
【００１２】
本発明のレーザ加工用光源では、第１分波部、第１合波部、第２分波部及び第２合波部のそれぞれは、カプラであり、第１光生成部は、光路上において互いに隣り合うカプラを接続する光ファイバを更に有してもよい。この構成によれば、第３パルス光列の生成をより容易に行うことができる。
【００１３】
本発明のレーザ加工用光源では、第１光生成部及び第２光生成部は、第３パルス光列が伝播する空間を介して配置されていてもよい。この構成によれば、第２光生成部とは独立して第１光生成部を容易に着脱することができる。
【００１４】
本発明のレーザ加工装置は、上記のレーザ加工用光源と、被加工物を支持する支持部と、レーザ加工用光源から出射されたパルス光列を被加工物に照射する照射部と、を備える。
【００１５】
このレーザ加工装置によれば、複数の種類のパルス光列を被加工物に選択的に照射することが可能となる。これにより、様々な用途に応じて被加工物を適切に加工することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、複数の種類のパルス光列を選択的に出射することが可能なレーザ加工用光源及びレーザ加工装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１実施形態のレーザ加工装置の構成図である。
【図２】図１に示されるレーザ加工用光源の構成図である。
【図３】図２に示される第１光生成部の構成図である。
【図４】第２実施形態の第１光生成部の構成図である。
【図５】変形例の第１光生成部の構成図である。
【図６】変形例の第１光生成部の構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１９】
［第１実施形態］
図１に示されるように、レーザ加工装置１は、レーザ加工用光源２と、照射光学系（照射部）３と、支持部４と、加工位置制御部５と、を備えている。レーザ加工装置１は、パルス発振されたレーザ光であるパルス光列を金属等の被加工物Ｐの表面に照射することで当該表面にプラズマを生成し、プラズマ圧力によって生じた衝撃波で被加工物Ｐの表面を所定の加工深さに塑性変形させる装置である。
【００２０】
レーザ加工用光源２は、パルス光列を出射する。照射光学系３は、レーザ加工用光源２から出射されたパルス光列を被加工物Ｐに照射する。照射光学系３は、パルス光列の照射・非照射を切り換えるシャッター、被測定位置にパルス光列を集光するレンズ、及びミラー等を有している。
【００２１】
支持部４は、被加工物Ｐを支持する。加工位置制御部５は、被加工物Ｐに対するパルス光列の照射位置を制御する。加工位置制御部５は、照射光学系３及び支持部４の少なくとも一方を移動させることで、被加工物Ｐの加工位置にパルス光列の照射位置を合わせる。
【００２２】
図２に示されるように、レーザ加工用光源２は、レーザ発振部２１と、第１光生成部２２と、第２光生成部２３と、制御部２４と、ユーザインタフェース２５と、を有している。レーザ発振部２１は、例えばモードロックファイバレーザ発振器である。レーザ発振部２１は、パルス光列（第１パルス光列）Ｌ１に基づいて電気信号Ｅを出力する。パルス光列とは、所定の時間間隔（パルス間隔）で並んだ複数のパルス光を含むレーザ光である。レーザ発振部２１は、電気信号Ｅを制御部２４に送信する。電気信号Ｅは、パルス光列Ｌ１に対応する周波数を有している。一例として、電気信号Ｅの周波数は、パルス光列Ｌ１の周波数と同じである。
【００２３】
第１光生成部２２は、パルス光列Ｌ１に対して、分波、複数の光路での伝播、及び合波を実施することで、複数のパルス光列（第２パルス光列）Ｌ２を含むパルス光列（第３パルス光列）Ｌ３を生成する。本実施形態では、パルス光列Ｌ３は、パルス光列Ｌ２として、パルス光列Ｌ２１及びパルス光列Ｌ２２を含んでいる。つまり、複数のパルス光列Ｌ２のそれぞれは、パルス光列Ｌ２１又はパルス光列Ｌ２２である。
【００２４】
第２光生成部２３及び第１光生成部２２は、パルス光列Ｌ３が伝播する空間を介して配置されている。第２光生成部２３は、再生増幅器である。具体的には、第２光生成部２３は、１対のミラー２３１，２３２と、光切出部２３３と、利得媒質２３４と、励起光源２３５と、を有している。光切出部２３３及び利得媒質２３４は、並設された状態で、１対のミラー２３１，２３２によって挟まれており、パルス光列に対して光共振器を構成している。
【００２５】
光切出部２３３は、第１光生成部２２から出射されたパルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２から少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を選択する。これにより、光切出部２３３は、少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を含むパルス光列（第４パルス光列）Ｌ４を生成する。具体的には、パルス光列Ｌ３は、ミラー２３１を透過して光切出部２３３に入力される。光切出部２３３は、制御信号Ｃに基づいて、パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２からパルス光列Ｌ２１又はパルス光列Ｌ２２を選択する。
【００２６】
光切出部２３３は、制御部２４から制御信号Ｃ１が送信された場合に、パルス光列Ｌ３に含まれるパルス光列Ｌ２１を通過させつつ、パルス光列Ｌ３に含まれるパルス光列Ｌ２２を遮断することで、パルス光列Ｌ２１のみを含むパルス光列Ｌ４を生成する。また、光切出部２３３は、制御部２４から制御信号Ｃ２が送信された場合に、パルス光列Ｌ３に含まれるパルス光列Ｌ２１を遮断しつつ、パルス光列Ｌ３に含まれるパルス光列Ｌ２２を通過させることで、パルス光列Ｌ２２のみを含むパルス光列Ｌ４を生成する。光切出部２３３によって生成されたパルス光列Ｌ４は、再生増幅器である第２光生成部２３内において増幅され、増幅されたパルス光列Ｌ４Ａは、第２光生成部２３から出射される。
【００２７】
利得媒質２３４は、光共振器の共振光路上に配置され、励起光源２３５から励起エネルギの供給を受けて、光を増幅させる。利得媒質２３４は、Ｙｂ：ＹＡＧ等を含んでいる。励起光源２３５は、励起光を励起エネルギとして利得媒質２３４に照射する。
【００２８】
再生増幅器について、より詳細に説明する。光切出部２３３は、それぞれが光共振器の光路上に配置された電気光学素子（図示省略）、λ／４波長板（図示省略）、及び偏光ビームスプリッタ（図示省略）等を有している。電気光学素子は、例えばポッケルスセルであり、電気光学効果によって光の偏光状態を制御する。λ／４波長板は、光の偏光成分間に９０°の位相差を与える。偏光ビームスプリッタは、光をそれらの偏光状態に応じて選択的に反射又は透過する。
【００２９】
パルス光列Ｌ４は、偏光ビームスプリッタによって反射されて、光共振器内に取り込まれる。パルス光列Ｌ４は、光共振器内において、λ／４波長板及び電気光学素子を通過し、ミラー２３１によって反射された後、再び偏光ビームスプリッタに戻る。パルス光列Ｌ４が偏光ビームスプリッタによって反射されてから再び偏光ビームスプリッタに戻るまでの間に、電気光学素子に駆動電圧が印加される。これにより、光共振器のＱ値が瞬時に高まり、パルス光列Ｌ４が光共振器内で共振する。パルス光列Ｌ４は、共振しながら利得媒質２３４のエネルギを吸収し、徐々に増幅してピークパワーが高められる。パルス光列Ｌ４が光共振器内に閉じ込まれてから所定の時間が経過した後、電気光学素子への印加電圧に変化が与えられる。これにより、増幅されたパルス光列Ｌ４Ａは、その偏光状態が変化して光共振器の外部へ取り出され、レーザ加工用光源２の外部へ出射される。
【００３０】
制御部２４は、レーザ加工用光源２の各部の動作を制御する。制御部２４は、処理部及び記憶部等を有している。処理部は、プロセッサ、メモリ、ストレージ及び通信デバイス等を含むコンピュータ装置として構成されている。処理部では、プロセッサが、メモリ等に読み込まれたソフトウェア（プログラム）を実行し、メモリ及びストレージにおけるデータの読み出し及び書き込み、並びに、通信デバイスによる通信を制御する。記憶部は、例えばハードディスク等であり、各種データを記憶する。
【００３１】
制御部２４は、第２光生成部２３を制御する。具体的には、制御部２４は、レーザ発振部２１からの電気信号Ｅを受信する。制御部２４は、電気信号Ｅに基づいて制御信号Ｃを生成する。制御信号Ｃは、パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２から少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を選択するための信号である。本実施形態では、制御信号Ｃは、パルス光列Ｌ２１を選択するための制御信号Ｃ１、又はパルス光列Ｌ２２を選択するための制御信号Ｃ２である。制御信号Ｃ１及び制御信号Ｃ２のそれぞれは、電気信号Ｅと同じ周波数を有するパルス信号である。制御部２４は、制御信号Ｃ１又は制御信号Ｃ２を光切出部２３３に送信する。
【００３２】
制御信号Ｃ１は、レーザ発振部２１から光切出部２３３までの光路のうちパルス光列Ｌ２１が生成される光路の光路長に基づいて生成される。光切出部２３３に制御信号Ｃ１が送信された場合、光切出部２３３に入力されたパルス光列Ｌ３からパルス光列Ｌ２１が切り出される。制御信号Ｃ２は、レーザ発振部２１から光切出部２３３までの光路のうちパルス光列Ｌ２２が生成される光路の光路長に基づいて生成される。光切出部２３３に制御信号Ｃ２が送信された場合、光切出部２３３に入力されたパルス光列Ｌ３からパルス光列Ｌ２２が切り出される。なお、制御信号Ｃ２は、制御信号Ｃ１に対して時間差ΔＣだけ遅延している。
【００３３】
ユーザインタフェース２５は、例えばオペレータから各種データの入力を受け付ける入力受付部を有している。オペレータは、例えばパルス光列Ｌ２１又はパルス光列Ｌ２２を選択するためのデータをユーザインタフェース２５に入力することができる。ユーザインタフェース２５は、当該データを制御部２４に送信する。
【００３４】
第１光生成部２２について、より詳細に説明する。図３に示されるように、第１光生成部２２は、複数のカプラ７１，７２，７３，７４と、複数の光ファイバＦ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４，Ｆ５，Ｆ６と、を有している。複数の光ファイバＦ２，Ｆ３，Ｆ４，Ｆ５，Ｆ６は、光路上において互いに隣り合うカプラを接続している。
【００３５】
カプラ７１（第１分波部）の一方の入力端は、光ファイバＦ１によってレーザ発振部２１と接続されている。カプラ７１の他方の入力端は、終端処理が施されている。カプラ７１の一方の出力端は、光ファイバＦ２によってカプラ７２（第２分波部）の一方の入力端と接続されている。カプラ７１の他方の出力端は、光ファイバＦ３によってカプラ７４（第１合波部）の他方の入力端と接続されている。カプラ７２の他方の入力端は、終端処理が施されている。カプラ７２の一方の出力端は、光ファイバＦ４によってカプラ７３（第２合波部）の一方の入力端と接続されている。カプラ７２の他方の出力端は、光ファイバＦ５によってカプラ７３の他方の入力端と接続されている。カプラ７３の一方の出力端は、光ファイバＦ６によってカプラ７４の一方の入力端と接続されている。カプラ７３の他方の出力端は、終端処理が施されている。カプラ７４の一方の出力端は、開放されている。つまり、カプラ７４の一方の出力端には、光ファイバが接続されていない。カプラ７４の他方の出力端は、終端処理が施されている。
【００３６】
第１光生成部２２においては、カプラ７２，７３及び光ファイバＦ２，Ｆ４，Ｆ５，Ｆ６によって第１光路が構成されており、光ファイバＦ３によって第２光路が構成されている。更に、光ファイバＦ４によって第３光路が構成されており、光ファイバＦ５によって第４光路が構成されている。第１光路の光路長と第２光路の光路長とは、互いに異なっている。第２光路の光路長は、第１光路の光路長よりも大きい。第３光路の光路長と第４光路の光路長とは、互いに異なっている。第４光路の光路長は、第３光路の光路長よりも大きい。
【００３７】
カプラ７１は、パルス光列Ｌ１を２つのパルス光列に分波する。第１光路及び第２光路は、当該２つのパルス光列のそれぞれを伝播させる。カプラ７４は、第１光路及び第２光路を伝播した当該２つのパルス光列を合波することで、パルス光列Ｌ３を生成する。カプラ７２は、カプラ７１によって分波された２つのパルス光列の一方を２つのサブパルス光列に分波する。第３光路及び第４光路は、当該２つのサブパルス光列のそれぞれを伝播させる。カプラ７３は、第３光路及び第４光路を伝播した当該２つのサブパルス光列を合波する。カプラ７４は、カプラ７１によって分波された２つのパルス光列の他方、及びカプラ７３によって合波されたパルス光列を合波することで、パルス光列Ｌ３を生成する。
【００３８】
具体的には、レーザ発振部２１から出射されたパルス光列Ｌ１は、光ファイバＦ１を伝播してカプラ７１に入射する。パルス光列Ｌ１は、カプラ７１によってパルス光列Ｌ２１及びパルス光列Ｌ２３に分波される。パルス光列Ｌ２１は、光ファイバＦ３を伝播してカプラ７４に入射する。パルス光列Ｌ２３は、光ファイバＦ２を伝播してカプラ７２に入射する。パルス光列Ｌ２３は、カプラ７２によってパルス光列（サブパルス光列）Ｌ２４及びパルス光列（サブパルス光列）Ｌ２５に分波される。パルス光列Ｌ２４は、光ファイバＦ４を伝播してカプラ７３に入射する。パルス光列Ｌ２５は、光ファイバＦ５を伝播してカプラ７３に入射する。パルス光列Ｌ２４及びパルス光列Ｌ２５は、カプラ７３によってパルス光列Ｌ２２に合波される。パルス光列Ｌ２２は、光ファイバＦ６を伝播してカプラ７４に入射する。パルス光列Ｌ２２及びパルス光列Ｌ２１は、カプラ７４によって合波される。これにより、２つのパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ３が生成される。
【００３９】
上述したように、第４光路の光路長（すなわち、光ファイバＦ５の光路長）は、第３光路の光路長（すなわち、光ファイバＦ４の光路長）よりも大きい。そのため、第４光路から出射されたパルス光列Ｌ２５の位相は、第３光路から出射されたパルス光列Ｌ２４の位相に対して遅れることになる。したがって、カプラ７３によって合波されたパルス光列Ｌ２２においては、１パルスの光が、時間差τ１で並んだ２つのパルスからなるダブルパルス光となる。時間差τ１は、第３光路と第４光路との光路差を光速で除することによって得られる値であり、例えば数百ｐｓ程度である。このように、パルス光列Ｌ２２は、複数のダブルパルス光によって構成されたダブルパルス光列である。なお、ダブルパルス光とは、例えば数ｐｓ〜２０ｎｓにまで時間的に近接した２つのパルスからなる１パルスの光である。
【００４０】
また、第２光路の光路長（すなわち、光ファイバＦ３の光路長）は、第１光路の光路長（すなわち、カプラ７２，７３及び光ファイバＦ２，Ｆ４，Ｆ６によって構成された光路の光路長、並びに、カプラ７２，７３及び光ファイバＦ２，Ｆ５，Ｆ６によって構成された光路の光路長）よりも大きい。そのため、第２光路から出射されたパルス光列Ｌ２１の位相は、第１光路から出射されたパルス光列Ｌ２２の位相に対して遅れることになる。したがって、カプラ７４によって合波されたパルス光列Ｌ３においては、パルス光列Ｌ２１に含まれる複数のシングルパルス光、及びパルス光列Ｌ２２に含まれる複数のダブルパルス光が、時間差τ２で交互に並ぶことになる。時間差τ２は、第１光路と第２光路との光路差を光速で除することによって得られる値であり、例えば１２．５ｎｓ程度である。時間差τ２は、時間差ΔＣと同じである。なお、シングルパルス光とは、１つのパルスからなる１パルスの光である。
【００４１】
各パルス光列の周波数及びパワー（１つのパルス光のパワー）の一例について説明する。４０ＭＨｚの周波数及び１００ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ１は、カプラ７１によって、４０ＭＨｚの周波数及び８０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２３と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２１とに分波される。４０ＭＨｚの周波数及び８０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２３は、カプラ７２によって、４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２４と、４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２５とに分波される。
【００４２】
４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２４と、４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２５とは、カプラ７３によって、４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２２に合波される。４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２２と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２１とは、カプラ７４によって、８０ＭＨｚの周波数及び３０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３に合波される。なお、再生増幅器である第２光生成部２３内において増幅されて第２光生成部２３から出射されるパルス光列Ｌ４Ａ（図２参照）は、２０〜５００ｋＨｚの周波数及び４〜２０Ｗのパワーを有する。
【００４３】
以上説明したように、レーザ加工用光源２では、複数のパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ３が生成される。パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２からパルス光列Ｌ２１又はパルス光列Ｌ２２が選択される。これにより、パルス光列Ｌ２１又はパルス光列Ｌ２２を含むパルス光列Ｌ４が生成される。よって、レーザ加工用光源２によれば、複数の種類のパルス光列を選択的に出射することが可能となる。
【００４４】
数百ｐｓ程度の時間差を有するダブルパルス光列、及びシングルパルス光列の両方を、同一のレーザ加工用光源によって出射することが求められる場合がある。そこで、本発明者らは、上述したようなレーザ加工用光源２を見出した。すなわち、レーザ加工用光源２によれば、ハードウェハを変更することなく、制御信号Ｃの変更のみによってダブルパルス光列とシングルパルス光列とを切り替えで出射可能であり、且つ産業用の高信頼、高安定及び高効率な装置を提供することができる。なお、ダブルパルス光列の出力時においても、シングルパルス光列の出力時の光特性（平均出力、エネルギ安定性、ビームパターン）を維持することが確認された。また、レーザ加工用光源２によれば、例えば照射光学系３等の既存の加工光学系を生かしたまま、レーザ加工用光源２の入れ替えのみでダブルパルス光列を使用した加工を実施することが可能となる。
【００４５】
また、レーザ加工用光源２では、レーザ発振部２１は、パルス光列Ｌ１に対応する周波数を有する電気信号Ｅを制御部２４に送信している。制御部２４は、電気信号Ｅに基づいて制御信号Ｃを生成している。この構成によれば、パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２からパルス光列Ｌ２１又はパルス光列Ｌ２２を選択する第２光生成部２３の制御を正確且つ容易に行うことができる。
【００４６】
また、レーザ加工用光源２では、第２光生成部２３は、パルス光列Ｌ４を生成する光切出部２３３と、パルス光列Ｌ４に対して光切出部２３３と共に光共振器を構成する利得媒質２３４と、利得媒質２３４に励起光を照射する励起光源２３５と、を有する再生増幅器である。この構成によれば、パルス光列Ｌ４の生成及び増幅を効率良く行うことができる。
【００４７】
また、レーザ加工用光源２では、複数のパルス光列Ｌ２のそれぞれは、シングルパルス光列（パルス光列Ｌ２１）及びダブルパルス光列（パルス光列Ｌ２２）である。この構成によれば、パルス光列Ｌ３において、例えば、複数のパルス光列Ｌ２からシングルパルス光列又はダブルパルス光列を選択することで、シングルパルス光列又はダブルパルス光列を含むパルス光列Ｌ４を生成することができる。
【００４８】
また、レーザ加工用光源２では、第１光生成部２２は、カプラ７１と、第１光路及び第２光路と、カプラ７４と、を有している。カプラ７１は、パルス光列Ｌ１を２つのパルス光列Ｌ２１，Ｌ２３に分波している。第１光路及び第２光路は、光路長が互いに異なっており、２つのパルス光列Ｌ２１，Ｌ２３のそれぞれを伝播させている。カプラ７４は、２つのパルス光列Ｌ２１，Ｌ２２を合波することで、パルス光列Ｌ３を生成している。第１光路は、カプラ７４と、第３光路及び第４光路と、カプラ７３と、を有している。カプラ７４は、カプラ７１によって分波されたパルス光列Ｌ２３を２つのパルス光列Ｌ２４，Ｌ２５に分波している。第３光路及び第４光路は、光路長が互いに異なっており、２つのパルス光列Ｌ２４，Ｌ２５のそれぞれを伝播させている。カプラ７３は、２つのパルス光列Ｌ２４，Ｌ２５を合波している。第１合波部は、第１分波部によって分波された２つのパルス光列の他方、及び第２合波部によって合波されたパルス光列を合波することで、第３パルス光列を生成してもよい。この構成によれば、パルス光列Ｌ３の生成を容易に行うことができる。
【００４９】
また、レーザ加工用光源２では、第１分波部、第１合波部、第２分波部及び第２合波部のそれぞれは、カプラ７１，７２，７３，７４である。第１光生成部２２は、光路上において互いに隣り合うカプラを接続する光ファイバＦ２，Ｆ３，Ｆ４，Ｆ５，Ｆ６を有している。この構成によれば、パルス光列Ｌ３の生成をより容易に行うことができる。
【００５０】
すなわち、第１光生成部２２が、広く使用されているファイバ光学部品で構成されているため、アクティブな制御や特別な光学素子が不要となる。その結果、安価で高信頼且つ高安定な構造を実現可能となる。また、第１光生成部が例えば偏光ビームスプリッタ等によって構成されている場合に比べて、光特性を向上させることができる。すなわち。ダブルパルス光列であるパルス光列Ｌ２２の偏光方向が互いに一致しているため、例えば偏光状態を調整することによる光の利用効率の低下等を抑制することができる。また、レーザ発振部２１から被加工物Ｐまでの距離が長くなるのが抑制されるため、装置の長期的な安定性の低下が抑制される。また、定期的なアライメントの調整が不要となる。また、パルス光列Ｌ２２は、互いに完全に一致した光路を伝播するため、複数の光を集光点において完全に一致させるのが不要となる。
【００５１】
また、レーザ加工用光源２では、第１光生成部２２及び第２光生成部２３は、パルス光列Ｌ３が伝播する空間を介して配置されている。この構成によれば、第２光生成部２３とは独立して第１光生成部２２を容易に着脱することができる。
【００５２】
レーザ加工装置１によれば、複数の種類のパルス光列Ｌ４を被加工物Ｐに選択的に照射することが可能となる。これにより、様々な用途に応じて被加工物Ｐを適切に加工することができる。
【００５３】
［第２実施形態］
図４に示されるように、第２実施形態のレーザ加工用光源は、第１光生成部２２に代えて第１光生成部２２Ａを備えている点で、第１実施形態のレーザ加工用光源と主に相違している。第１光生成部２２Ａは、複数のカプラ８１〜８８と、複数の光ファイバＦ１１〜Ｆ２２と、を有している。複数の光ファイバＦ１２〜Ｆ２２は、光路上において互いに隣り合うカプラを接続する。
【００５４】
カプラ８１の一方の入力端は、光ファイバＦ１１によってレーザ発振部２１と接続されている。カプラ８１の他方の入力端は、終端処理が施されている。カプラ８１の一方の出力端は、光ファイバＦ１２によってカプラ８２の一方の入力端と接続されている。カプラ８１の他方の出力端は、光ファイバＦ１３によってカプラ８６の他方の入力端と接続されている。カプラ８２の他方の入力端は、終端処理が施されている。カプラ８２の一方の出力端は、光ファイバＦ１４によってカプラ８３の一方の入力端と接続されている。カプラ８２の他方の出力端は、光ファイバＦ１５によってカプラ８７の一方の入力端と接続されている。
【００５５】
カプラ８３の他方の入力端は、終端処理が施されている。カプラ８３の一方の出力端は、光ファイバＦ１６によってカプラ８４の一方の入力端と接続されている。カプラ８３の他方の出力端は、光ファイバＦ１７によってカプラ８４の他方の入力端と接続されている。カプラ８４の一方の出力端は、光ファイバＦ１８によってカプラ８５の一方の入力端と接続されている。カプラ８４の他方の出力端は、終端処理が施されている。
【００５６】
カプラ８７の他方の入力端は、終端処理が施されている。カプラ８７の一方の出力端は、光ファイバ２０によってカプラ８８の一方の入力端と接続されている。カプラ８７の他方の出力端は、光ファイバＦ２１によってカプラ８８の他方の入力端と接続されている。カプラ８８の一方の出力端は、光ファイバＦ２２によってカプラ８５の他方の入力端と接続されている。カプラ８８の他方の出力端は、終端処理が施されている。
【００５７】
カプラ８５の一方の出力端は、光ファイバＦ１９によってカプラ８６の一方の入力端と接続されている。カプラ８５の他方の出力端は、終端処理が施されている。カプラ８６の一方の出力端は、開放されている。つまり、カプラ８６の一方の出力端には、光ファイバが接続されていない。カプラ８６の他方の出力端は、終端処理が施されている。
【００５８】
第１光生成部２２Ａにおいては、カプラ８２，８３，８４，８５及び光ファイバＦ１２，Ｆ１４，Ｆ１６，Ｆ１７，Ｆ１８，Ｆ１９によって第１光路が構成されており、光ファイバＦ１３によって第２光路が構成されている。また、光ファイバＦ１６によって第３光路が構成されており、光ファイバＦ１７によって第４光路が構成されている。また、カプラ８７，８８及び光ファイバＦ１５，Ｆ２０，Ｆ２１，Ｆ２２によって第５光路が構成されており、カプラ８３，８４及び光ファイバＦ１４，Ｆ１６，Ｆ１７，Ｆ１８によって第８光路が構成されている。また、光ファイバＦ２０によって第６光路が構成されており、光ファイバＦ２１によって第７光路が構成されている。
【００５９】
第１光路の光路長と第２光路の光路長とは、互いに異なっている。第２光路の光路長は、第１光路の光路長よりも大きい。第３光路の光路長と第４光路の光路長とは、互いに異なっている。第４光路の光路長は、第３光路の光路長よりも大きい。第５光路の光路長と第８光路の光路長とは、互いに異なっている。第５光路の光路長は、第８光路の光路長よりも大きい。第６光路の光路長と第７光路の光路長とは、互いに異なっている。第７光路の光路長は、第６光路の光路長よりも大きい。
【００６０】
レーザ発振部２１から出射されたパルス光列Ｌ１は、光ファイバＦ１１を伝播してカプラ８１に入射する。パルス光列Ｌ１は、カプラ８１によってパルス光列Ｌ３１（パルス光列Ｌ２）及びパルス光列Ｌ３４に分波される。パルス光列Ｌ３１は、光ファイバＦ１３を伝播してカプラ８６に入射する。パルス光列Ｌ３４は、光ファイバＦ１２を伝播してカプラ８２に入射する。
【００６１】
パルス光列Ｌ３４は、カプラ８２によってパルス光列Ｌ３５及びパルス光列Ｌ３６に分波される。パルス光列Ｌ３５は、光ファイバＦ１４を伝播してカプラ８３に入射する。パルス光列Ｌ３５は、カプラ８３によってパルス光列（サブパルス光列）Ｌ３７及びパルス光列（サブパルス光列）Ｌ３８に分波される。パルス光列Ｌ３７は、光ファイバＦ１６を伝播してカプラ８４に入射する。パルス光列Ｌ３８は、光ファイバＦ１７を伝播してカプラ８４に入射する。パルス光列Ｌ３７及びパルス光列Ｌ３８は、カプラ８４によってパルス光列Ｌ３２（パルス光列Ｌ２）に合波される。パルス光列Ｌ３２は、光ファイバＦ１８を伝播してカプラ８５に入射する。
【００６２】
パルス光列Ｌ３６は、光ファイバＦ１５を伝播してカプラ８７に入射する。パルス光列Ｌ３６は、カプラ８７によってパルス光列（サブパルス光列）Ｌ３９及びパルス光列（サブパルス光列）Ｌ４０に分波される。パルス光列Ｌ３９は、光ファイバＦ２０を伝播してカプラ８８に入射する。パルス光列Ｌ４０は、光ファイバＦ２１を伝播してカプラ８８に入射する。パルス光列Ｌ３９及びパルス光列Ｌ４０は、カプラ８８によってパルス光列Ｌ３３（パルス光列Ｌ２）に合波される。パルス光列Ｌ３３は、光ファイバＦ２２を伝播してカプラ８５に入射する。
【００６３】
パルス光列Ｌ３２及びパルス光列Ｌ３３は、カプラ８５によってパルス光列Ｌ３０に合波される。パルス光列Ｌ３０は、光ファイバＦ１９を伝播してカプラ８６に入射する。パルス光列３１及びパルス光列Ｌ３０は、カプラ８６によってパルス光列Ｌ３に合波される。これにより、３つのパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ３が生成される。
【００６４】
上述したように、第４光路の光路長（すなわち、光ファイバＦ１７の光路長）は、第３光路の光路長（すなわち、光ファイバＦ１６の光路長）よりも大きい。そのため、第４光路から出射されたパルス光列Ｌ３８の位相は、第３光路から出射されたパルス光列Ｌ３７の位相に対して遅れることになる。したがって、カプラ８４によって合波されたパルス光列Ｌ３２においては、１パルスの光が、時間差τ３で並んだ２つのパルスからなるダブルパルス光となる。時間差τ３は、第３光路と第４光路との光路差を光速で除することによって得られる値であり、例えば数百ｐｓ程度である。このように、パルス光列Ｌ３２は、複数のダブルパルス光によって構成されたダブルパルス光列である。
【００６５】
同様に、第７光路の光路長（すなわち、光ファイバＦ２１の光路長）は、第６光路（すなわち、光ファイバＦ２０の光路長）の光路長よりも大きい。そのため、第７光路から出射されたパルス光列Ｌ４０の位相は、第６光路から出射されたパルス光列Ｌ３９の位相に対して遅れることになる。したがって、カプラ８８によって合波されたパルス光列Ｌ３３においては、１パルスの光が、時間差τ４で並んだ２つのパルスからなるダブルパルス光となる。時間差τ４は、第６光路と第７光路との光路差を光速で除することによって得られる値であり、例えば数百ｐｓ程度である。このように、パルス光列Ｌ３３は、複数のダブルパルス光によって構成されたダブルパルス光列である。
【００６６】
第５光路の光路長（すなわち、カプラ８７，８８及び光ファイバＦ１５，Ｆ２０，Ｆ２２によって構成された光路の光路長、並びに、カプラ８７，８８及び光ファイバＦ１５，Ｆ２１，Ｆ２２によって構成された光路の光路長）は、第８光路の光路長（すなわち、カプラ８３，８４及び光ファイバＦ１４，Ｆ１６，Ｆ１８によって構成された光路の光路長、並びに、カプラ８３，８４及び光ファイバＦ１４，Ｆ１７，Ｆ１８によって構成された光路の光路長）よりも大きい。そのため、第５光路から出射されたパルス光列Ｌ３３の位相は、第８光路から出射されたパルス光列Ｌ３２の位相に対して遅れることになる。したがって、カプラ８５によって合波されたパルス光列Ｌ３０においては、パルス光列Ｌ３２に含まれる複数のダブルパルス光、及びパルス光列Ｌ３３に含まれる複数のダブルパルス光が時間差τ５で交互に並ぶことになる。時間差τ５は、第５光路と第８光路との光路差を光速で除することによって得られる値であり、例えば８．３ｎｓ程度である。
【００６７】
同様に、第２光路の光路長（すなわち、光ファイバＦ１３によって構成された光路の光路長）は、第１光路の光路長（すなわち、カプラ８２，８３，８４，８５及び光ファイバＦ１２，Ｆ１４，Ｆ１６，Ｆ１８，Ｆ１９によって構成された光路の光路長、並びに、カプラ８２，８３，８４，８５及び光ファイバＦ１２，Ｆ１４，Ｆ１７，Ｆ１８，Ｆ１９によって構成された光路の光路長）よりも大きい。そのため、第２光路から出射されたパルス光列Ｌ３１の位相は、第１光路から出射されたパルス光列Ｌ３０の位相に対して遅れることになる。したがって、カプラ８６によって合波されたパルス光列Ｌ３においては、パルス光列Ｌ３１に含まれる複数のダブルパルス光、及びパルス光列Ｌ３０に含まれる複数のダブルパルス光が時間差τ６で交互に並ぶことになる。時間差τ６は、第１光路と第２光路との光路差を光速で除することによって得られる値であり、例えば８．３ｎｓ程度である。
【００６８】
各パルス光列の周波数及びパワー（１つのパルス光のパワー）の一例について説明する。４０ＭＨｚの周波数及び１００ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ１は、カプラ８１によって、４０ＭＨｚの周波数及び８０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３４と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３１とに分波される。４０ＭＨｚの周波数及び８０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３４は、カプラ８２によって、４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３５と、４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３６とに分波される。
【００６９】
４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３５は、カプラ８３によって、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３７と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３８とに分波される。４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３７と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３８とは、カプラ８４によって、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３２に合波される。
【００７０】
４０ＭＨｚの周波数及び４０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３６は、カプラ８７によって、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３９と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ４０とに分波される。４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３９と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ４０とは、カプラ８８によって、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３３に合波される。
【００７１】
４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３２と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３３とは、カプラ８５によって、８０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３０に合波される。８０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３０と、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３１とは、カプラ８６によって、１２０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ３に合波される。
【００７２】
［変形例］
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。
【００７３】
図５に示されるように、第１実施形態のレーザ加工用光源は、第１光生成部２２に代えて第１光生成部２２Ｂを備えていてもよい。第１光生成部２２Ｂは、カプラ７２に代えてカプラ７２Ｂを有している点で、第１光生成部２２と主に相違している。カプラ７２Ｂの分岐比は、カプラ７２の分岐比と異なる。一例として、４０ＭＨｚの周波数及び８０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２３は、カプラ７２Ｂによって、４０ＭＨｚの周波数及び６０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２４Ｂと、４０ＭＨｚの周波数及び２０ｍＷのパワーを有するパルス光列Ｌ２５Ｂとに分波されてもよい。この場合、カプラ７３によって合波されたパルス光列Ｌ２２Ｂにおいては、１パルスの光が、パワーが互いに異なる２つのパルスからなるダブルパルス光となる。
【００７４】
図６に示されるように、第２実施形態のレーザ加工用光源は、第１光生成部２２Ａに代えて第１光生成部２２Ｃを備えていてもよい。第１光生成部２２Ｃは、第５光路（カプラ８７，８８及び光ファイバＦ１５，Ｆ２０，Ｆ２１，Ｆ２２によって構成された光路）に代えて光ファイバＦ２３を有している点で、第１光生成部２２Ａと主に相違している。
【００７５】
カプラ８２の他方の出力端は、光ファイバＦ２３によってカプラ８５の他方の入力端と接続されている。カプラ８２から出力されたパルス光列３６は、光ファイバＦ２３を伝播してカプラ８５に入射する。パルス光列Ｌ３２及びパルス光列３６は、カプラ８５によってパルス光列Ｌ３７（パルス光列Ｌ２）に合波される。第１光生成部２２Ｃにおいては、光ファイバＦ２３によって第９光路が構成している。第９光路の光路長（すなわち、光ファイバＦ２３の光路長）は、第８光路の光路長（すなわち、カプラ８３，８４及び光ファイバＦ１４，Ｆ１６，Ｆ１８によって構成された光路の光路長、並びに、カプラ８３，８４光ファイバＦ１４，Ｆ１７，Ｆ１８によって構成された光路の光路長）と異なっている。第９光路の光路長は、第８光路の光路長よりも大きい。したがって、カプラ８５によって合波されたパルス光列Ｌ３７においては、１パルスの光が、例えば同じ時間差で並んだ３つのパルスからなるトリプルパルス光となる。
【００７６】
各実施形態において、各カプラの分岐比（分波される各パルス光列のパワーの比）及び各光ファイバの長さは、必要に応じて調整されてもよい。
【００７７】
各実施形態において、第２光生成部２３は、少なくとも光切出部２３３を有していればよい。つまり、第２光生成部２３は、再生増幅器ではなくてもよい。第２光生成部２３は、例えば、光切出部２３３と、１つの利得媒質と、１つの励起光源と、を有していてもよい。つまり、第２光生成部２３は、シングルパス増幅器であってもよい。この場合、光切出部２３３によって生成されたパルス光列Ｌ４は、１つの利得媒質を通過することで増幅される。また、第２光生成部２３は、光切出部２３３と、複数の利得媒質と、複数の励起光源と、を有していてもよい。つまり、第２光生成部２３は、ＭＯＰＡ増幅器であってもよい。この場合、光切出部２３３によって生成されたパルス光列Ｌ４は、複数の利得媒質を通過することで増幅される。
【００７８】
各実施形態において、第１光生成部２２がカプラ及び光ファイバによって構成されている例を示したが、第１光生成部２２は、例えばビームスプリッタ等の光学系によって構成されていてもよい。第１光生成部２２は、パルス光列Ｌ１に対して、分波、複数の光路での伝播、及び合波を実施することで、複数のパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ３を生成すればよい。
【００７９】
各実施形態において、第１光生成部２２が２又は３種類のパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ３を生成する例を示したが、第１光生成部２２は、ｎ（ｎは、３よりも大きい整数）種類のパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ３を生成してもよい。光切出部２３３は、パルス光列Ｌ３において、ｎ種類のパルス光列Ｌ２からｍ（ｍは、ｎ以下の整数）種類のパルス光列Ｌ２を選択することで、ｍ種類のパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ４を生成してもよい。光切出部２３３は、パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２から少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を選択することで、少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ４を生成すればよい。
【符号の説明】
【００８０】
１…レーザ加工装置、２…レーザ加工用光源、３…照射光学系（照射部）、４…支持部、２１…レーザ発振部、２２…第１光生成部、２３…第２光生成部、２４…制御部、７１…カプラ（第１分波部）、７２…カプラ（第２分波部）、７３…カプラ（第２合波部）、７４…カプラ（第１合波部）、２３３…光切出部、２３４…利得媒質、２３５…励起光源、Ｃ，Ｃ１，Ｃ２…制御信号、Ｅ…電気信号、Ｌ１…パルス光列（第１パルス光列）、Ｌ２…パルス光列（第２パルス光列）、Ｌ３…パルス光列（第３パルス光列）、Ｌ４…パルス光列（第４パルス光列）、Ｌ２１，Ｌ２３…パルス光列、Ｌ２４，Ｌ２５…パルス光列（サブパルス光列）、Ｐ…被加工物。
【要約】
【課題】複数の種類のパルス光列を選択的に出射することが可能なレーザ加工用光源及びレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工用光源２は、レーザ発振部２１と、第１光生成部２２と、第２光生成部２３と、制御部２４と、を備える。レーザ発振部２１は、パルス光列Ｌ１を出射する。第１光生成部２２は、パルス光列Ｌ１に対して、分波、複数の光路での伝播、及び合波を実施することで、複数のパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ３を生成する。第２光生成部２３は、パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２から少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を選択することで、少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ４を生成する。制御部２４は、第２光生成部２３を制御する。制御部２４は、パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２から少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を選択するための制御信号Ｃを第２光生成部２３に送信する。
【選択図】図２【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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