(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ又は複数の流体ポンプと、
前記１つ又は複数の流体ポンプのうちの１つの流体ポンプの入口において又はその近傍において配設された第１圧力センサと、
前記流体ポンプの出口において又はその近傍において配設された第２圧力センサと、
プロセッサを有する制御システムであって、前記プロセッサは、前記第１圧力センサから第１信号を受け取り、前記第２圧力センサから第２信号を受け取り、前記第１信号及び前記第２信号に基づいてポンプスリップ量を導出し、且つ、前記流体ポンプを所与の出口圧力に制御することにより、ゼロフロー加圧状態を介して前記ポンプスリップ量を導出し、スリップが存在している場合には、前記所与の出口圧力を維持するように、前記流体ポンプを前進させる、ように構成された制御システムと、
を有するシステム。
【請求項２】
前記プロセッサは、オリフィス流れ分析を介して前記ポンプスリップ量を導出するように構成されている請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記プロセッサは、スリップＱを算出することにより、前記オリフィス流れ分析を実行するように構成されており、この場合に、Ｑは、
0006963091.tif 000003
であり、
ここで、ｔはサンプル時間、Ｐｆはポンプ係数、Ｆｆは流体係数、ΔＰはＰｏ−Ｐｉ、Ｐｏは流体ポンプの出口圧力、Ｐｉは流体ポンプの入口圧力、である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
第２流体ポンプを有し、前記流体ポンプはフォーム供給ガンにＡ化合物を供給するように構成されており、且つ、前記第２流体ポンプは前記フォーム供給ガンにＢ化合物を供給するように構成されている請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記流体ポンプ及び前記第２流体ポンプは、前記Ａ化合物及びＢ化合物を同一圧力において前記フォーム供給ガンに供給するように構成されている請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記流体ポンプを前記フォーム供給ガンに流体的に繋がる第１被加熱導管と、前記第２流体ポンプを前記フォーム供給ガンに流体的に繋がる第２被加熱導管と、を有する請求項４に記載のシステム。
【請求項７】
前記プロセッサは、前記Ａ化合物及び前記Ｂ化合物を同一の圧力において前記フォーム供給ガンに供給するべく、前記第１被加熱導管内、前記第２被加熱導管内、又は、前記第１及び第２被加熱導管内において、熱を制御するように構成されている請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
第１圧力センサから第１信号を受け取るステップであって、前記第１圧力センサは、１つ又は複数の流体ポンプの入口において又はその近傍において配設されている、ステップと、
第２圧力センサから第２信号を受け取るステップであって、前記第２圧力センサは、前記１つ又は複数の流体ポンプの出口において又はその近傍において配設されている、ステップと、
前記第１信号及び前記第２信号に基づいてポンプスリップ量を導出するステップと、
を有し、前記ポンプスリップ量を導出するステップは、前記流体ポンプを所与の出口圧力に制御することにより、ゼロフロー加圧状態を適用し、スリップが存在している場合には、前記所与の出口圧力を維持するように、前記流体ポンプを前進させるステップを有する方法。
【請求項９】
前記ポンプスリップ量を導出するステップは、オリフィス流れ分析を実行するステップを有する請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記オリフィス流れ分析を実行するステップは、スリップＱを算出するステップを有しており、この場合に、Ｑは、
0006963091.tif 000004
であり、
ここで、ｔはサンプル時間、Ｐｆはポンプ係数、Ｆｆは流体係数、ΔＰはＰｏ−Ｐｉ、Ｐｏは流体ポンプの出口圧力、Ｐｉは流体ポンプの入口圧力、である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
プロセッサによって実行された際に、前記プロセッサが、
第１圧力センサから第１信号を受け取り、前記第１圧力センサは、１つ又は複数の流体ポンプの入口において又はその近傍において配設されており、
第２圧力センサから第２信号を受け取り、前記第２圧力センサは、前記１つ又は複数の流体ポンプの出口において又はその近傍において配設されており、且つ、
前記第１信号及び前記第２信号に基づいてポンプスリップ量を導出する、
ようにする命令を有し、前記プロセッサが前記ポンプスリップ量を導出するようにする前記命令は、前記プロセッサが、前記流体ポンプを所与の出口圧力に制御することにより、ゼロフロー加圧状態を適用し、スリップが存在している場合には、前記所与の出口圧力を維持するように、前記流体ポンプを前進させるようにする命令を有する、有体の、一時的ではない、コンピュータ可読媒体。
【請求項１２】
前記プロセッサが、前記ポンプスリップ量を導出するようにする前記命令は、前記プロセッサがオリフィス流れ分析を実行するようにする命令を有する請求項１１に記載の媒体。
【請求項１３】
前記プロセッサが前記オリフィス流れ分析を実行するようにする前記命令は、前記プロセッサがスリップＱを算出するようにする命令を有しており、Ｑは、
0006963091.tif 000005
であり、
ここで、ｔはサンプル時間、Ｐｆはポンプ係数、Ｆｆは流体係数、ΔＰはＰｏ−Ｐｉ、Ｐｏは流体ポンプの出口圧力、Ｐｉは流体ポンプの入口圧力、である、請求項１２に記載の媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願に対する相互参照）
本出願は、２０１７年７月２１日付けで出願された「ＳＹＳＴＥＭ  ＡＮＤ  ＭＥＴ−
ＨＯＤ  ＦＯＲ  ＰＵＭＰ  ＳＬＩＰ  ＳＥＮＳＩＮＧ」という名称の米国特許仮出願第６２／５３５，５３５号明細書の優先権及び利益を主張するものであり、この特許文献の内容は、引用により、そのすべてが、あらゆる目的のために本明細書に包含される。
【背景技術】
【０００２】
遠心ポンプなどの流体ポンプは、回転エネルギーを流体を搬送するのに適した流体力学的エネルギーに変換するべく使用されうる羽根車システムを含みうる。流体は、回転軸に沿って又はその近傍においてポンプ羽根車に進入することができると共に、次いで、ポンプ羽根車によって加速されることにより、ディフューザ又は渦室（ケーシング）に半径方向を外向きに流入することができ、そこから、流体は、離脱することができる。容積式ポンプなどの、その他のタイプの流体ポンプも、同様に、機械的エネルギーを流体力学的エネルギーに変換することができる。流体ポンプは、その理論的体積変位に対する容量の低減を経験する場合がある。容量の低減は、しばしば、「スリップ」又は「スリップファクター」と呼称されている。スリップファクターの検出及び計測を改善することが有用であろう。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
以下、出願当初に特許請求された発明とその範囲において釣り合いがとれた特定の実施形態について概説する。これらの実施形態は、特許請求されている本発明の範囲を限定することを意図したものではなく、むしろ、これらの実施形態は、本発明の可能な形態の簡潔な概要を提供することのみを意図している。実際に、本発明は、以下において記述されている実施形態に類似しうる又はこれらとは異なりうる様々な形態を包含しうる。
【０００４】
第１の実施形態においては、システムは、流体ポンプと、流体ポンプの入口において又はその近傍において配設された第１圧力センサと、を含む。システムは、流体ポンプの出口において又はその近傍において配設された第２圧力センサと、制御システムと、を更に含む。制御システムは、第１圧力センサから第１信号を受け取るように構成されたプロセッサを含む。プロセッサは、第２圧力センサから第２信号を受け取ると共に第１信号及び第２信号に基づいてポンプスリップ量を導出するように更に構成されている。
【０００５】
第２実施形態においては、方法は、第１圧力センサから第１信号を受け取るステップを含み、この場合に、第１圧力センサは、流体ポンプの入口において又はその近傍において配設されている。方法は、第２圧力センサから第２信号を受け取るステップを更に含み、この場合に、第２圧力センサは、流体ポンプの出口において又はその近傍において配設されている。これに加えて、方法は、第１信号及び第２信号に基づいてポンプスリップ量を導出するステップをも含む。
【０００６】
第３実施形態においては、有体の、一時的ではない、コンピュータ可読媒体は、プロセッサによって実行された際に、プロセッサが、第１圧力センサから第１信号を受け取るようにする命令を含み、この場合に、第１圧力センサは、流体ポンプの入口において又はその近傍において配設されている。命令は、プロセッサによって実行された際に、プロセッサが、第２圧力センサから第２信号を受け取るように更にしており、この場合に、第２圧力センサは、流体ポンプの出口において又はその近傍において配設されている。これに加えて、命令は、プロセッサによって実行された際に、プロセッサが、第１信号及び第２信号に基づいてポンプスリップ量を導出するようにしている。
【０００７】
本発明のこれらの及びその他の特徴、態様、及び利点については、同一の符号が図面のすべてを通じて同一の部分を表している添付図面を参照し、以下の詳細な説明が参照された際に、更に十分に理解することができよう。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１はスプレー塗布システムの一実施形態のブロック図である。
【図２】図２は図１のスプレー塗布システムに含まれ得る流体システムの一実施形態のブロック図である。
【図３】図３はスリップの導出及び／又はスリップに基づいた制御のためのプロセスの一実施形態のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の１つ又は複数の特定の実施形態について説明することとする。これらの実施形態の簡潔な説明の提供を目的として、本明細書においては、実際の実装形態のすべての特徴についての説明が行われない場合がある。任意のこのような実際の実装形態の開発においては、任意のエンジニアリング又は設計プロジェクトにおけると同様に、実装ごとに変化しうる、システムに関係した、且つ、ビジネスに関係した、制約の順守などの、開発者の特定の目的を実現するべく、多数の実装固有の決定を下さなければならないを理解されたい。更には、このような開発努力は、複雑になりうると共に、時間を所要する場合もあるが、本開示の利益を有する当業者にとっては、設計、組立、及び製造の日常的な作業となるであろうことについても理解されたい。
【００１０】
本発明の様々な実施形態の要素について紹介する際に、「１つの（ａ）」、「１つの（ａｎ）」、「その（ｔｈｅ）」、及び「前記（ｓａｉｄ）」という冠詞は、それらの要素の１つ又は複数が存在していることを意味することを意図している。「有する（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、及び「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語は、包含的となることを意図しており、従って、列挙されている要素以外にも、更なる要素が存在しうることを意味している。
【００１１】
本開示の実施形態は、流体ポンプ内のスリップ又はスリップファクターを検出しうるシステム及び方法を対象している。設計及び／又は損耗特性に起因して、流体ポンプは、その理論的体積変位に対する容量の低減を経験する場合がある。この低減は、しばしば、「スリップ」又は「スリップファクター」と呼称されている。スリップは、ポンプの相対的に高圧の部分からポンプの相対的に低圧の部分に漏洩する流体によって引き起こされうる。
【００１２】
例えば、１０％のスリップファクターは、ポンプ流量が、その理論容量の９０％に過ぎないことを通知することになろう。スリップは、一般に、容積式ポンプとの比較において、遠心ポンプにおいて極めて大きくなっている。スリップは、ポンプの速度、形状、可動部品と固定部品の間の内部クリアランス、及び流体のプロパティ（例えば、粘度、密度、潤滑性、温度）の関数である。本明細書において記述されている技法は、（例えば、流量計を介した）直接的に測定器具を使用することとは対照的に、（例えば、圧力センサを介して）スリップを間接的に検出及び計測することができる。従って、本明細書において記述されている技法は、相対的に費用効率に優れた方式により、相対的に非侵襲的な計測を提供することができると共に、これに加えて、例えば、スリップ量の冗長性を提供するべく、直接的な計測と共に使用することができる。
【００１３】
本明細書において記述されているポンプスリップ又はポンプスリップファクターの計測を適用しうるシステムについて説明することが有用であろう。従って、且つ、次に図１を参照すれば、この図は、１つ又は複数の液体ポンプ１２、１４を含みうる、スプレー塗布システム１０の一実施形態を示すブロック図である。スプレー塗布システム１０は、スプレーフォーム絶縁を塗布する際に使用される化学物質などの、様々な化学物質を混合及び供給するのに適しうる。図示の実施形態においては、化学的な化合物Ａ及びＢをタンク１６及び１８内においてそれぞれ保存することができる。タンク１６及び１８は、導管又はホース２０及び２２を介してポンプ１２及び１４に流体的に繋がることができる。スプレー塗布システム１０の図示の実施形態は、混合及び噴霧のために使用される２つの化合物を示しているが、その他の実施形態は、単一の化合物又は３つ、４つ、５つ、６つ、７つ、８つ、又はこれ超の数の化合物を使用しうることを理解されたい。
【００１４】
スプレー塗布システム１０の動作の際に、ポンプ１２、１４には、それぞれ、モーター２４、２６から機械的動力を供給することができる。モーターは、内燃機関（例えば、ディーゼルエンジン）、電気モーター、空気圧モーター、又はこれらの組合せであってよい。モーターコントローラ２７及び２９は、例えば、プロセッサ４０から、送信された信号に基づいて、モーターの起動／停止、負荷の印加、及び制御を提供するべく使用することができる。モーター２４は、モーター２６と同一のタイプであってもよく、或いは、これとは異なるタイプであってもよい。同様に、ポンプ１２も、ポンプ１４と同一のタイプであってもよく、或いは、これとは異なるタイプであってもよい。実際に、本明細書において記述されている技法は、様々なタイプであってよい複数のポンプ１２、１４及び複数のモーター２４、２６と共に使用することができる。
【００１５】
ポンプ１２、１４は、化合物Ａ、Ｂをスプレーガンシステム２８内に移動させるのに適した流体力学的な力を提供している。更に詳しくは、化合物Ａは、導管２０を通じて、且つ、次いで、加熱された導管３０を通じて、スプレーガンシステム２８内に、ポンプ１２を通過することができる。同様に、化合物Ｂも、導管２２を通じて、且つ、次いで、加熱された導管３２を通じて、スプレーガンシステム２８内に、ポンプ１４を通過することができる。加熱された導管３０、３２を加熱するべく、加熱システム３４を提供することができる。加熱システム３４は、混合及び噴霧の前に化合物Ａ及びＢを事前に加熱する、且つ、混合及び噴霧の最中に化合物Ａ及びＢを加熱する、のに適した、加熱された流体などの、熱エネルギーを提供することができる。
【００１６】
スプレーガンシステム２８は、化合物Ａ及びＢを混合するべく、混合チャンバを含みうる。スプレーフォーム絶縁の用途においては、化合物Ａは、イソシアン酸塩を含みうる一方で、化合物Ｂは、ポリオール、難燃剤、発泡剤、アミン又は金属触媒、界面活性剤、及びその他の化学物質を含みうる。混合された際に、発熱性の化学反応が発生し、且つ、フォーム３５がターゲット上に噴霧される。この結果、フォームは、化合物Ａ及びＢにおいて見出される化学物質に基づいて、様々な熱抵抗値（即ち、Ｒ値）の絶縁プロパティを提供することになる。
【００１７】
スプレー塗布システム１０の制御は、制御システム３６によって提供することができる。制御システム３６は、産業用コントローラを含んでいてもよく、且つ、従って、メモリ３８と、プロセッサ４０と、を含むことができる。プロセッサ４０は、複数のマイクロプロセッサ、１つ又は複数の「汎用」マイクロプロセッサ、１つ又は複数の特殊目的マイクロプロセッサ、１つ又は複数の用途固有の集積回路（ＡＳＩＣ：Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｉｆｉｃ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）、及び／又は、１つ又は複数の縮小命令セット（ＲＩＳＣ：Ｒｅｄｕｃｅｄ  Ｉｎｓｔｒｕｃｔｉｏｎ  Ｓｅｔ）プロセッサ、又はこれらのなんらかの組合せを含みうる。メモリ３８は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ：Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などの揮発性メモリ、並びに／或いは、ＲＯＭ、ハードドライブ、メモリカード、メモリスティック（例えば、ＵＳＢスティック）などのような不揮発性メモリを含みうる。メモリ３８は、プロセッサ４０によって実行可能である、且つ、スプレー塗布システム１０を制御するのに適した、コンピュータプログラム又は命令を含みうる。メモリ３８は、更に後述するように、プロセッサ４０によって実行可能である、且つ、ポンプ１２、１４のスリップを検出すると共にスリップを改善又は除去するべく制御動作を提供するのに適した、コンピュータプログラム又は命令を更に含むことができる。
【００１８】
制御システム３６は、１つ又は複数のセンサ４２に通信自在に結合されていてもよく、且つ、１つ又は複数のアクチュエータ４４に動作自在に結合されていてもよい。センサ４２は、圧力センサ、流量センサ、温度センサ、化学組成センサ、速度（例えば、回転速度、線形速度）センサ、電気計測センサ（例えば、電圧、電流、抵抗値、静電容量、インダクタンス）、レベル（例えば、流体レベル）センサ、リミットスイッチなどを含みうる。アクチュエータ４４は、弁、作動可能なスイッチ（例えば、ソレノイド）、保定器（ｐｏｓｉｔｉｏｎｅｒ）、加熱要素などを含みうる。
【００１９】
１人又は複数のユーザーは、タッチスクリーン、ディスプレイ、キーボード、マウス、拡張現実／仮想現実システムのみならず、タブレット、スマートフォン、ノートブックなどを含みうる入力／出力（Ｉ／Ｏ）システム３８を介して、制御システム３６と連絡をとることができる。ユーザーは、望ましい圧力、流量、温度、化合物Ａと化合物Ｂの比率、アラーム閾値（例えば、タンク１６、１８内の化合物Ａ、Ｂの閾値流体レベル）などを入力することができる。次いで、ユーザーは、スプレーガンシステム２８を介して噴霧することができると共に、制御システム３６は、センサ４２を介してシステム１０状態を検知する、且つ、ユーザー入力に基づいてアクチュエータ４４を介してシステム１０の様々なパラメータを調節する、のに適した、メモリ３８内において保存されている１つ又は複数のプログラムを実行するべく、プロセッサ４０を使用することができる。次いで、Ｉ／Ｏシステム３８は、検知された状態のみならず、調節されたパラメータのいくつかを表示することができる。スプレー塗布システム１０の特定のコンポーネントは、配合システム４１内に含まれていてもよく、或いは、これとインターフェイスしていてもよい。配合システム４１は、スプレー３５を実現するべく、化合物Ａ、Ｂを「配合」又は供給することができる。この結果、１人又は複数のユーザーは、絶縁スプレーフォームなどの、特定の被覆を提供するべく、化合物Ａ及びＢなどの、スプレー化学物質を混合及び噴霧することができる。
【００２０】
上述のように、ポンプ１２、１４は、特定量のスリップを含みうる。配合システム４１が、スリップの存在下においても、スプレー３５を相対的に正確に生成するべく、モーター２４及び／又は２６の速度の増大などの、調節を提供しうるように、スリップを計測することが有益であろう。本明細書において記述されているスリップ技法は、コンテキストを提供するべく、スプレー塗布システム１０との関係において記述されているが、本明細書において記述されている技法は、一般に、ポンプ用途に適用されるものであり、従って、様々な用途において、遠心ポンプ、容積式ポンプ、又はこれらの組合せによって使用されうることを理解されたい。
【００２１】
次に図２を参照すれば、この図は、ポンプスリップの検出及び／又は制御を提供しうる流体システム１００の一実施形態のブロック図である。この図は、図１において見出されるものに類似した要素を利用していることから、同一の要素は、同一の符号によって示されている。図示の実施形態においては、流体システム１００は、モーター２４又は２６などのモーターに機械的に結合された、ポンプ１２又は１４などのポンプを含む。図示の実施形態においては、カプリング１０２が、モーター２４又は２６をポンプ１２又は１４に機械的に結合することができる。又、モーターコントローラ２７又は２９などの、モーターコントローラも、示されている。
【００２２】
動作の際に、プログラマブルロジックコントローラ（ＰＬＣ：Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）などの産業用コントローラ１０４を含みうる制御システム３８は、モーター２４又は２６を駆動し、これにより、ポンプ１２又は１４と係合するべく、コマンドをモーターコントローラ２７又は２９に発行することができる。この結果、タンク１６又は１８内において保存されている流体（例えば、化合物Ａ又は化合物Ｂ）が、導管２０又は２２を通じてポンプ１２又は１４に流入することができる。入口圧力センサ１０６（例えば、ポンプの入口において又はその近傍において配設されているセンサ４２の１つ）は、ポンプ１２又は１４の入口における又はその近傍における圧力を計測することができると共に、出口圧力センサ１０８（例えば、ポンプの出口において又はその近傍において配設されているセンサ４２の１つ）は、ポンプ１２又は１４の出口における又はその近傍における圧力を計測するこができる。この結果、制御システム３８は、流量計又はセンサを使用することなしに、センサ１０６及び１０８から受け取られた信号に基づいて、スリップを判定及び計測することができる。
【００２３】
例えば、制御システム３８は、「停止した（ｓｔａｌｌｅｄ）」状態においてポンプの漏洩レートを判定するべく、圧力センサ１０６、１０８からのデータを使用することができる。この方式によれば、流体システム１００は、（例えば、高圧出力が、閉塞される、閉鎖されるなどの）閉鎖されたシステム状態において、ポンプ１２又は１４によって加圧される。次いで、ポンプ１２又は１４は、（ピストンポンプの場合には、線形の、回転式ポンプの場合には、角度の）一定の位置において保持される。時間に伴って入口及び出口圧力の間の差を監視することにより、且つ、流体の関連するプロパティ（例えば、化合物Ａ、Ｂ）及びポンプ１２、１４の関連するプロパティ（例えば、内部容積、コンポーネントのサイズ、コンポーネントのタイプなど）を知ることにより、制御システム３８は、ポンプ１２又は１４のスリップ値を算出することができる。１つの例示用の計算は、以下の通りであり、且つ、オリフィス流れ理論から導出されたものである。
【００２４】
【数１】
0006963091.tif 000002
【００２５】
ここで、Ｑはサンプル時間ｔにわたるスリップ（容積）であり、Ｐｆはポンプ係数（実験的に計測されたもの）、Ｆｆは流体係数（実験的に計測されたもの）、ΔＰはＰｏ−Ｐｉ、Ｐｏは出口圧力、Ｐｉは入口圧力である。
【００２６】
Ｐｆ及びＦｆの両方は、温度又はその他の要因の関数でありうる。サンプリング時間にわたる積分は、制御システム３８の制御ソフトウェアにおける数値的な方法を介して、且つ／又は、デジタル又はアナログ回路により、評価されることになろう。スリップ（Ｑ）を判定するべく、その他の理論的な又は経験的な計算を使用することもできる。次いで、算出されたＱは、初期ΔＰ、或いは、ΔＰのその他の数値的に導出された結果（例えば、サンプリング時間にわたる平均ΔＰなど）、におけるスリップレートを判定するべく、使用することができる。
【００２７】
式１のＱ（ｔ）計算に代わる１つの代替技法は、ゼロフロー加圧状態においてポンプ１２又は１４の変位を判定するステップを伴っている。この技法においては、ポンプ１２又は１４は、既知のフローなし状態において所与の出口圧力（即ち、ΔＰ）に対して（例えば、制御システム３８を介して）制御されている。スリップが存在している場合には、制御システム３８は、設定された出口圧力レベル（即ち、ΔＰ）を維持するべく、ポンプ１２又は１４を前進させることになる。この結果、ポンプ１２又は１４の変位が考慮された、この状態におけるポンプ１２又は１４の動きを使用することにより、既知の状態（圧力、温度、流体プロパティ）におけるポンプ内のスリップＱを算出することができる。従って、流量計測などの直接的な計測を使用するニーズを伴うことなしに、ポンプスリップを計測することができる。ポンプスリップを間接的に計測することにより、本明細書において記述されている技法は、相対的に信頼性が高い、且つ、相対的に少ない費用を所要するセンサ４２を使用しうる、相対的に安定した流体システム１００を提供することができる。
【００２８】
図３は、ポンプスリップを導出するのに適しうる、プロセス２００の一実施形態のフローチャートである。プロセス２００は、メモリ３８内において保存された、且つ、プロセッサ４０によって実行可能である、コンピュータコード又は命令として実装することができる。図示の実施形態においては、プロセス２００は、圧力センサ１０６、１０８を含む、センサ４２の１つ又は複数から、データを受け取ることができる（ブロック２０２）。上述のように、圧力センサ１０６は、ポンプ入口圧力センサであってよい一方において、圧力センサ１０８は、ポンプ出口圧力センサであってよい。
【００２９】
次いで、プロセス２００は、オリフィス流れ導出を介してスリップ２０６を導出するべく（ブロック２０４）、且つ／又は、ゼロフロー加圧状態技法を介してスリップ２１０を導出するべく（ブロック２０８）、受け取られたデータを使用することができる。上述のように、スリップ量２０６は、圧力センサ１０６、１０８からのデータを使用することにより、上記の式Ｑ（ｔ）を介して導出することができる。又、上述のように、スリップ量２１０は、ポンプ１２又は１４を出口圧力（即ち、ΔＰ）によってフローなし状態に設定することにより、導出することもできる。次いで、このフローなし状態において、設定された出口圧力を維持するべく、ポンプ１２又は１４を前進させることに基づいて、スリップ量１１０を導出することができる。次いで、制御のために、スリップ量２０６及び／又はスリップ量２１０を使用することができる（ブロック２１２）。例えば、制御システム３６は、スリップ２０６、２１０に起因した課題を極小化又は除去するべく、モーター２４又は２６の速度及び／又はトルクを増大させることができる。
【００３０】
以上において記述した説明は、最良の形態を含む、本発明を開示するべく、且つ、更には、任意の装置の製造及び使用並びに任意の内蔵された方法の実行を含む、本発明を当業者が実施することを可能にするべく、例を使用している。本発明の特許可能な範囲は、請求項によって定義されており、且つ、当業者が想起するその他の例をも含みうる。このようなその他の例は、請求項の文字通りの言葉と異なってはいない構造的要素を有する場合には、或いは、請求項の文字通りの言葉とわずかな差しか有していない均等な構造的要素を含んでいる場合に、請求項の範囲に含まれるものと解釈されたい。
【図１】
0006963091.tif 000006
【図２】
0006963091.tif 000007
【図３】
0006963091.tif 000008