(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンであって、粒子径分布が１００ミクロン〜２０００ミクロンであり、粒子径が１８０ミクロン以上の部分が少なくとも全体の９０％以上であり、
前記ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの安息角が２５〜３９°であり、
ＴＧＡの熱重量分析により、乾燥減量が１％以下である、
ことを特徴とするペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン。
【請求項２】
請求項１に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法であって、
９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン溶液を、芳香族炭化水素溶媒で結晶化して、結晶中の残留溶媒の量が１０％〜３０％となるように遠心分離するステップ１と、
ステップ１で結晶化して得られた９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン結晶体を、穴径１ｍｍ〜２ｍｍの造粒機により造粒するステップ２と、
ステップ２で得られた９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを、真空オーブンで乾燥させ、ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを得るステップ３と、を含み、
前記ステップ１の結晶化で使用される前記芳香族炭化水素溶媒は１種類であり、９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの合成では、結晶化と同じ１種類の溶媒を使用し、
前記真空オーブンの真空度が１３３〜４０００Ｐａ、乾燥温度が６０〜１２０℃、乾燥時間が１８〜４０時間である、
ことを特徴とするペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法。
【請求項３】
前記芳香族炭化水素溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、又はメシチレンである、
ことを特徴とする請求項２に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法。
【請求項４】
前記芳香族炭化水素溶媒は、トルエンである、
ことを特徴とする請求項２に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法。
【請求項５】
前記造粒機は、振動造粒機である、
ことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの特性及びその製造方法に関し、化学工業の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
近年、原料樹脂として、９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの人気が高まっている。９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを原料として製造された樹脂は、耐熱性、透明性、高屈折率、優れた成形流動性などの利点を有する。例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などは、カメラ、携帯電話のレンズ、車載カメラ、ドローンレンズなどの光学材料として使用されている。
【０００３】
９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンは、主に粉末状の形状であり、流動性が悪いため、産業的使用に不利である。例えば、ホッパー、材料貯蔵室などから排出されることが困難であり、「ブリッジ」を生成しやすく、輸送性が低いため、管路での流動が妨げられ、粉末が壁に付着して、完全に排出されない恐れがあるなどの欠点を有する。
【０００４】
従って、産業的使用に有利であり、流動性及び輸送性が良好なペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを開発することが求められる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記問題に対して、流動性及び輸送性が良好で、工業的生産に有利であるペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を実現するために、本発明の技術案は、以下のとおりである。
【０００７】
ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンであって、粒子径分布が１００ミクロン〜２０００ミクロンであり、粒子径が１８０ミクロン以上の部分が少なくとも、全体の９０％以上である。
【０００８】
ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの安息角が２５〜３９°である。
【０００９】
さらに、前記ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンＴＧＡの熱重量分析により、乾燥減量が１％以下である。
【００１０】
前記ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法であって、
９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン溶液を、芳香族炭化水素溶媒で結晶化して、結晶中の残留溶媒の量が１０％〜３０％となるように遠心分離するステップ１と、
ステップ１で結晶化して得られた９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン結晶体を、穴径１ｍｍ〜２ｍｍの造粒機により造粒するステップ２と、
ステップ２で得られた９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを、真空オーブンで乾燥させ、ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを得るステップ３と、を含む。
【００１１】
さらに、前記芳香族炭化水素溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びメシチレンを含む。トルエンが好ましい。
【００１２】
さらに、前記真空オーブンの真空度が１３３〜４０００Ｐａ、乾燥温度が６０〜１２０℃、乾燥時間が１８〜４０時間である。
【００１３】
さらに、前記造粒機は、振動造粒機である。
【発明の効果】
【００１４】
従来技術に対して、本発明は、以下の有益な効果を有する。
【００１５】
本発明のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンは、流動性が大幅に改善され、排出及び輸送が容易になり、壁に付着せずに完全に排出させることができ、工業的生産により適する。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下の実施例にて具体的に説明する。ただし、本特許は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００１７】
（実施例１）
撹拌器、冷却管、滴下装置を内蔵した３０００Ｌの反応釜を用意した。反応釜に７５０キログラムのトルエン、１５０キログラムの９−フルオレノン、５４０キログラムのオルトフェニルフェノキシエタノール、１０キログラムの３−メルカプトプロピオン酸を加えた。６０分間内で、２８０キログラムの９５％硫酸を滴下した。反応温度を５０℃に維持して、５時間反応させた。
【００１８】
反応終了後、反応液に１５００Ｌのトルエン、５００Ｌの水を加え、ｐＨが７になるまで複数回水洗し、次に−５℃に冷却して、遠心分離機で遠心分離した。湿った結晶体（約２０％トルエン含有）を、ふるいのメッシュが１〜２ミリメートルの振動造粒機で造粒し、次に、真空オーブンで乾燥させた。１３００Ｐａの真空条件、６０〜１２０℃で２６時間乾燥させ、安息角が３２．３°であり、粒子径分布が表１に示される通りであり、ＴＧＡ乾燥減量が０．２３％であるペレット状製品を得た（粒子径分析方法：ふるい分け法、粒度標準ふるい、標準ＧＢ／ＴＴ２１０．３−２００４参照）。
【００１９】
表１
【表１】
0006905293.tif 000002
【００２０】
（実施例２）
撹拌器、冷却管、滴下装置を内蔵した３０００Ｌの反応釜を用意した。反応釜に７５０キログラムのキシレン、１５０キログラムの９−フルオレノン、５４０キログラムのオルトフェニルフェノキシエタノール、１０キログラムの３−メルカプトプロピオン酸を加えた。６０分間内で、２８０キログラムの９５％硫酸を滴下した。反応温度を５０℃に維持して、５時間反応させた。
【００２１】
反応終了後、反応液に１５００Ｌのキシレン、５００Ｌの水を加え、ｐＨが７になるまで複数回水洗し、次に−５℃に冷却して、遠心分離機で遠心分離した。湿った結晶体（約２０％キシレン含有）を、ふるいのメッシュが１〜２ミリメートルの振動造粒機で造粒し、次に、真空オーブンで乾燥させた。１３００Ｐａの真空条件、６０〜１２０℃で３２時間乾燥させ、安息角が３４．８°であり、粒子径分布が表２に示されるとおりであり、ＴＧＡ乾燥減量が０．２１％であるペレット状製品を得た（粒子径分析方法：ふるい分け法、粒度標準ふるい、標準ＧＢ／ＴＴ２１０．３−２００４参照）。
【００２２】
表２
【表２】
0006905293.tif 000003
【００２３】
（比較例１）
撹拌器、冷却管、滴下装置を内蔵した３０００Ｌの反応釜を用意した。反応釜に７５０キログラムのトルエン、１５０キログラムの９−フルオレノン、５４０キログラムのオルトフェニルフェノキシエタノール、１０キログラムの３−メルカプトプロピオン酸を加えた。６０分間内で、２８０キログラムの９５％硫酸を滴下した。反応温度を５０℃に維持して、５時間反応させた。
【００２４】
反応終了後、反応液に１５００Ｌのトルエン、５００Ｌの水を加え、ｐＨが７になるまで複数回水洗し、次に−５℃に冷却して、結晶を遠心分離機で取り出した。湿った結晶体（約２０％トルエン含有）を、造粒機で処理せずに真空オーブンに入れて乾燥させた。１３００Ｐａの真空条件、６０〜８０℃で１０時間乾燥させ、ペレット状ではなく粉末状の製品を得た。その安息角が４１度であり、粒子径分布が表３に示されるとおりであり、乾燥減量が２．５％であった（粒子径分析方法：マルバーンゼータサイザー２０００、標準ＧＢ／Ｔ１９０７７−２０１６参照）。
【００２５】
表３
【表３】
0006905293.tif 000004
【００２６】
（比較例２）
撹拌器、冷却管、滴下装置を内蔵した３０００Ｌの反応釜を用意した。反応釜に７５０キログラムのトルエン、１５０キログラムの９−フルオレノン、５４０キログラムのオルトフェニルフェノキシエタノール、１０キログラムの３−メルカプトプロピオン酸を加えた。６０分間内で、２８０キログラムの９５％硫酸を滴下した。反応温度を５０℃に維持して、５時間反応させた。
【００２７】
反応終了後、反応液に１５００Ｌのトルエンを加え１時間撹拌し、次に５００Ｌの水を加え、ｐＨが７になるまで複数回水洗し、１０００Ｌのメタノールを加えて７０℃まで昇温して２時間撹拌し、次に−５℃に冷却して、結晶を遠心分離機で取り出した。湿った結晶体（約２５％残留溶媒含有）を、真空オーブンに入れて乾燥させた。１３００Ｐａの真空条件、６０〜７０℃で１０時間乾燥させ、粉末状の製品を得た。その安息角が４５度であり、粒子径分布が表４に示されるとおりであり、乾燥減量が０．６％であった（粒子径分析方法：マルバーンゼータサイザー２０００、標準ＧＢ／Ｔ１９０７７−２０１６参照）。
【００２８】
表４
【表４】
0006905293.tif 000005
【００２９】
本発明の重要な特性は、以下の通りである。
【００３０】
１）本特許で得られるペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンは、安息角が２５〜３９°である。
【００３１】
安息角が５０°である場合、流動性が不十分である。ホッパー、材料貯蔵室などから排出されるのは困難である（中間の粉末のみが下方に排出され、キャビティ／「ブリッジ」を形成する）。従って、ホッパーや材料貯蔵室で製品を移動するとき、振動器などで改善する必要がある。また、輸送性が悪く、管路の詰まりを引き起こす恐れがあり、粉末が壁に付着して、完全に排出されない可能性がある。
【００３２】
安息角が２５〜３９°である場合、製品の流動性及び輸送性が良好で、生産効率も高い。
【００３３】
安息角が安息角測定器で測定され、測定方法がＧＢ／Ｔ１６９１３．５−１９９７である。
【００３４】
２）本特許で得られるペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンは、粒子径分布が１００ミクロン〜２０００ミクロンであり、粒子径が１８０ミクロン以上の部分が少なくとも、全体の９０％以上である。
【００３５】
３）本特許で得られるペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンについて、ＴＧＡ−Ｑ５０熱重量分析計を使用して３００℃の熱重量分析を行ったところ、乾燥減量が１％以下である。
【００３６】
［付記］
［付記１］
ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンであって、粒子径分布が１００ミクロン〜２０００ミクロンであり、粒子径が１８０ミクロン以上の部分が少なくとも全体の９０％以上である、
ことを特徴とするペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン。
【００３７】
［付記２］
前記ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンＴＧＡの熱重量分析により、乾燥減量が１％以下である、
ことを特徴とする付記１に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン。
【００３８】
［付記３］
ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンであって、ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの安息角が２５〜３９°である、
ことを特徴とするペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン。
【００３９】
［付記４］
前記ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンＴＧＡの熱重量分析により、乾燥減量が１％以下である、
ことを特徴とする付記３に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン。
【００４０】
［付記５］
付記１〜４の何れか１つに記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法であって、
９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン溶液を、芳香族炭化水素溶媒で結晶化して、結晶中の残留溶媒の量が１０％〜３０％となるように遠心分離するステップ１と、
ステップ１で結晶化して得られた９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン結晶体を、穴径１ｍｍ〜２ｍｍの造粒機により造粒するステップ２と、
ステップ２で得られた９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを、真空オーブンで乾燥させ、ペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを得るステップ３と、を含む、
ことを特徴とするペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法。
【００４１】
［付記６］
前記芳香族炭化水素溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びメシチレンを含み、トルエンが好ましい、
ことを特徴とする付記５に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法。
【００４２】
［付記７］
前記真空オーブンの真空度が１３３〜４０００Ｐａ、乾燥温度が６０〜１２０℃、乾燥時間が１８〜４０時間である、
ことを特徴とする付記５に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法。
【００４３】
［付記８］
前記造粒機は、振動造粒機である、
ことを特徴とする付記５に記載のペレット状９，９−ビス［３−フェニル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの製造方法。