(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビナフチル結晶の溶融吸熱ピークは１１９〜１２３℃であり、
前記ビナフチル結晶の回折角２θ値及び相対強度(％)は、４.７±０.２０(１１), ９.４±０.２０(１００), ９.９±０.２０(１６), １０.７±０.２０(２２), １１.２±０.２０(１１)，１２.５±０.２０(１７)，１４.４±０.２０(２６)，１５.０±０.２０(１６)，１６.１±０.２０(３７)，１６.５±０.２０(２３)，１６.９±０.２０(１６)，１８.３±０.２０(９６), １９.１±０.２０(９２), ２０.２±０.２０(８０), ２０.４±０.２０(７５)，２０.６±０.２０(８０), ２１.６±０.２０(２４)，２２.４±０.２０(６４)，２３.３±０.２０(２９)，２３.７±０.２０(４５)，２４.７±０.２０(７７)，２５.５±０.２０(４０)， ２８.０±０.２０(２５)，２９.５±０.２０(１３)，３０.２±０.２０(１４)，３２.５±０.２０(１６)及び３４.０±０.２０(１６) である時にピークを有する、
ことを特徴とする(±)−２, ２’−ビス−（２−ヒドロキシエトキシ）−１,１’−ビナフチル結晶。
【請求項２】
請求項１に記載のビナフチル結晶を、調製する方法であって、
(±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）と炭酸ビニレンを原料として、溶媒、触媒及び反応促進剤の中で反応して生成物(±)−２, ２’−ビス−（２−ヒドロキシエトキシ）−１,１’−ビナフチルを得て、前記生成物をオーブンの中で真空研磨して乾燥し、前記オーブン内に撹拌装置が設けられ、乾燥温度が８５℃〜１００℃であり、乾燥時間が１８〜３６ｈである、
ことを特徴とするビナフチル結晶の調製方法。
【請求項３】
前記撹拌装置は螺旋撹拌装置である、
ことを特徴とする請求項２に記載の調製方法。
【請求項４】
前記乾燥温度は９０℃〜９５℃である、
ことを特徴とする請求項２に記載の調製方法。
【請求項５】
前記乾燥時間は２４〜３０ｈである、
ことを特徴とする請求項２に記載の調製方法。
【請求項６】
前記オーブンはステンレスオーブンである、
ことを特徴とする請求項２に記載の調製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光電材料技術分野に関し、具体的には光電材料モノマー（±）−２,２’−ビス−（２−ヒドロキシエトキシ）−１,１’−ビナフチル結晶及び調製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
(±)−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチルは、光電子材料の重要なモノマーであり、これを原料として合成したポリエステルやポリカーボネートなどの樹脂は、屈折率が高く、熱安定性が高く、透明性に優れているなどの優れた性質を有している。そのため、近年、光学レンズや光学フイルムなどの光電材料における重要な用途が広く注目されている。
【０００３】
【化１】
0006905281.tif 000002
【０００４】
(±)−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチルの合成方法は、非特許文献で報告されており、一般的にはクロルエタノールをヒドロキシエチル化試薬とし、水酸化ナトリウム又は炭酸ナトリウム等の塩基の存在下で、エタノール等の溶媒で（±）−１,１'−ビ−（２−ナフトール）を反応させて得られ、該方法は反応時間が長く、収率が低く、融点が低く、純度が高くないなどの欠点あり、同時に用いられるクロルエタノールは毒性が大きい。
【０００５】
非特許文献において調製された(±)−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチルの融点はそれぞれ以下のとおりである。１００〜１０２℃(非特許文献１)、１０５〜１０６℃(非特許文献２)、１０８℃(非特許文献３)、１１２〜１１４℃(非特許文献４)、１１２〜１１３℃ (非特許文献５,特許文献１,特許文献２)。
【０００６】
特許文献３は、炭酸エチレンをヒドロキシエチル化試薬として使用し、水酸化ナトリウムを塩基とし、１７０℃で(±)−１,１’−ビ−（２−ナフトール）と反応して(±)−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチルを生成し、該方法は反応温度が高く、副反応が多く、生成物の色度が悪い。近年、特許文献４(ファミリー特許は特許文献５)も、炭酸ビニレンをヒドロキシエチル化試薬とし、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムを塩基とし、１１０℃のトルエン溶媒の中で（±）−１,１’−ビ−（２−ナフトール）をヒドロキシエチル化して（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチルを生成させる。該特許はまず母液を製造し、種結晶を母液に投入して結晶化を促進し、又は、例えばアセトン、メタノール、ヘキサン等の不良溶媒を加えて晶析を行い、Ａ、Ｂ、Ｃという三種類の結晶を得て、熱分析の最大溶融吸収ピークはそれぞれ１１４〜１１６℃、１０９〜１１２℃、１０６〜１０８℃である。実際、この三種類の結晶の融点は先に述べた非特許文献の融点と同じであり、該方法は一定量の重合体の副生成物を生成する可能性があり、それにより後処理の結晶過程が冗長で複雑になり、工業生産に不利である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】仏国特許出願公開第２２６４８１３号明細書
【特許文献２】米国特許第４００１２７９号明細書
【特許文献３】特開２０１１−１５３２４８号公報
【特許文献４】特許第６４８４４６５号公報
【特許文献５】中国特許出願公開第１０６１７０４６９号明細書
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ｔｕｒｋｉｓｈ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ, ３８(２), (２０１４), ｐ．３１７〜３２７
【非特許文献２】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ,６９(４９), (２０１３), ｐ．１０６６２-１０６６８
【非特許文献３】Ｏｒｇａｎｉｃ ａｎｄ Ｂｉｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ,１０(４７),(２０１２), ｐ．９３８３-９３９２
【非特許文献４】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ,３６(１７),(１９８０), ｐ．２５２１−２５２３
【非特許文献５】Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ,４２,(１９７７),ｐ．４１７３-４１８２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本出願の先行特許出願である中国特許出願第２０１７１０２７５６０８．９号明細書において、高品質の(±)−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチルを得るために、発明者らは研究や試験を繰り返して行い、反応ボトルに(±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）、炭酸エチレン、塩、又は有機塩基、反応促進剤Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとベンゼン系溶媒を加え、原料が完全に溶解するまで温度を上昇させてから６時間反応させ、反応終了後にベンゼン系溶媒を追加し、中性になるまで洗浄する。析出した固体を冷却し、得られた固体を８０〜１００℃で６〜１２時間乾燥し、得られた製品の溶融吸熱ピークは１０５〜１１６℃である。
【００１０】
本発明の第一目的は、新規な結晶形・新たな融点の（±)−２,２’−ビス−（２−ヒドロキシエトキシ）−１,１’−ビナフチル結晶を提供することであり、第二目的は、前記ビナフチル結晶の調製方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
技術的解決手段として本発明の(±)−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチル結晶の最大溶融吸熱ピークは１１９〜１２３℃である。
【００１２】
好ましくは、前記ビナフチル結晶の回折角２θ値及び相対強度(％)が４.７±０.２０(１１), ９.４±０.２０(１００), ９.９±０.２０(１６), １０.７±０.２０(２２), １１.２±０.２０(１１)，１２.５±０.２０(１７)，１４.４±０.２０(２６)，１５.０±０.２０(１６)，１６.１±０.２０(３７)，１６.５±０.２０(２３)，１６.９±０.２０(１６)，１８.３±０.２０(９６), １９.１±０.２０(９２), ２０.２±０.２０(８０), ２０.４±０.２０(７５)，２０.６±０.２０(８０), ２１.６±０.２０(２４)，２２.４±０.２０(６４)，２３.３±０.２０(２９)，２３.７±０.２０(４５)，２４.７±０.２０(７７)，２５.５±０.２０(４０)，２８.０±０.２０(２５)，２９.５±０.２０(１３)，３０.２±０.２０(１４)，３２.５±０.２０(１６)，３４.０±０.２０(１６)である時にピークを有する。
【００１３】
本発明のビナフチル結晶の調製方法は、(±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）と炭酸ビニレンを原料として、溶媒、触媒及び反応促進剤の中で反応して生成物（±）−２,２’−ビス−（２−ヒドロキシエトキシ）−１,１’−ビナフチルを得て、前記生成物をオーブンの中で真空研磨して乾し、前記オーブン内に撹拌装置が設けられる。乾燥温度が８５℃〜１００℃であり、乾燥時間が１８〜３６ｈである。
【００１４】
好ましくは、前記撹拌装置は螺旋型撹拌装置である。
【００１５】
好ましくは、前記乾燥温度は９０℃〜９５℃である。
【００１６】
好ましくは、前記乾燥時間は２４〜３０ｈである。
【００１７】
好ましくは、前記オーブンはステンレスオーブンである。  
【００１８】
好ましくは、前記触媒は炭酸カリウム又は炭酸ナトリウムである。
【００１９】
好ましくは、反応促進剤はＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。
【００２０】
好ましくは、前記(±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）、炭酸ビニレン、触媒、反応促進剤のモル比は１：２.１〜３.０：０.１〜０.５：０.３〜１.０である。
【００２１】
好ましくは、前記溶媒はトルエンである。
【００２２】
好ましくは，反応温度は９０〜１３０℃であり、反応時間は６時間である。
【００２３】
本発明はＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフ）の分析により前記生成物の含有量が０．１％より小さい場合、反応を停止し、トルエン溶媒を添加して水で中性になるまで洗浄し、有機相を分離し、析出した固体を冷却し、濾過する。
【発明の効果】
【００２４】
従来技術に比べ、本発明は次のような顕著な効果を有する。
（１）本発明は新規な融点新規な結晶型の（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチル結晶を提供する。最大溶融吸熱ピークが１１９〜１２３℃であり、熱安定性が高く、溶媒残りが少なく、色度が低く、嵩密度が高く、製品の粉末が均一であり、純度が高い等の利点を有し、製品の色度が低いため、高品質のポリエステル及びポリカーボネート等の光電性材料製品の製造に非常に適する。
（２）本発明は撹拌装置が設けられた真空乾燥ボックスを採用し、生成物（±）−２,２’−ビス−（２−ヒドロキシエトキシ）−１,１’−ビナフチルは、乾燥すると同時に撹拌し、良好な旋回効果を有し、溶剤がより排出しやすく、製品中の残留溶媒がより低い。同時に、生成物は乾燥過程でプレス摩擦を受け、意外に新規な融点新規な結晶形のビナフチル結晶が得られる。また、撹拌装置が設けられた真空乾燥ボックスの密封性がよく、乾燥過程の空気の影響を大幅に低減させ、得られた製品の色がよい。
（３）本発明は調製方法が簡単で、晶析過程に種結晶を加える必要がなく、晶析過程に厳密に温度を制御する必要がなく、母液を予め調製する必要がなく、生産効率を大幅に向上させ、工業生産に有利である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施例１において調製した（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＤＳＣスペクトルである。
【図２】実施例１において調製した（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＴＧＡスペクトルである。
【図３】実施例１において調製した（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルのＸ−線粉末回折スペクトルである。
【図４】実施例２において調製した（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＤＳＣスペクトルである。
【図５】実施例２において調製した（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＴＧＡスペクトルである。
【図６】実施例３において調製した（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＤＳＣスペクトルである。
【図７】実施例３において調製した（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＴＧＡスペクトルである。
【図８】比較例１において調製した（±）-２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＤＳＣスペクトルである。
【図９】比較例１において調製した（±）-２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＴＧＡスペクトルである。
【図１０】比較例２において調製した（±）-２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＤＳＣスペクトルである。
【図１１】比較例３において調製した（±）-２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＤＳＣスペクトルである。
【図１２】比較例４において調製した（±）-２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＤＳＣスペクトルである。
【図１３】比較例５において調製した（±）-２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの熱分析ＤＳＣスペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下は図面を参照して本発明の技術的解決手段をさらに説明する。
【００２７】
先行特許出願である中国特許出願第２０１７１０２７５６０８．９号明細書においては一般的な乾燥方式を採用し、８０〜１００℃で６〜１２時間乾燥し、（±）−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの溶融吸熱ピークが１０５〜１１６℃であるものが得られる。しかし、本出願は撹拌装置が設置されたオーブンを採用し、乾燥温度を制御し、特定の乾燥時間で、負圧で研磨して乾燥する技術を採用し、調製して得られた高純度の新結晶型製品の、熱分析ＤＳＣスペクトルの最大溶融吸熱ピークが１１９〜１２３℃（図１に示す）であり、すべての先行特許文献および非特許文献のいずれよりも融点が高い。図３のＸ−線粉末回折スペクトル及び表１中の回折角とピーク相対強度は先行特許文献と著しく異なるため、新しい結晶型である。
【００２８】
撹拌乾燥過程において、乾燥温度が８５℃に達しないと、最大溶融吸収ピークが１１９-１２３℃の結晶（比較例２、図１０に示す）を得ることができない。乾燥時間が１８時間未満の場合、最大溶融吸収ピークが１１９〜１２３℃の結晶が得られない（比較例４、図１２に示す）。
【００２９】
本発明の採用した分析方法は以下のとおりである。
（１）純度測定方法(ＨＰＬＣ)は、装置ＬＣ-１５Ｃ(島津製作所)であり、シリンダー型は、Ｋｒｏｍａｓｉｌ１００-５ Ｃ１８ １５０× ４.６ｍｍで、移動相はアセトニトリル/水で、流速は１ｍＬ/ｍｉｎで、検出波長は２６０ｎｍで、注入量は、２ｕｌで、ポンプモードは、二元高圧勾配である。
（２）熱分析方法は、Ｐｙｒｉｓ１熱分析計(Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｅｍｅｒ社製)で測定し、ＤＳＣ加熱範囲４５〜３００℃で、１０℃/分で、ＴＧＡ加熱範囲２５〜５００℃,１０℃/分である。
（３）Ｘ-線粉末回折スペクトルは、Ｘ' ＴＲＡ Ｘ−線回折装置（スイスＡＲＬ社製)で測定し、銅ターゲット、連続走査型で測定する。スキャン範囲(２θ)は２°〜４０°で、スキャンステップ０.０２°で、スキャン速度２.５°/分である。
（４）核磁気共鳴スペクトルは、Ｂｒｕｋｅｒ ＡＭ ５００ ＭＨｚ(Ｇｅｒｍａｎｙ)核磁気共鳴測定 (ＣＤ３ＳＯＣＤ３は溶媒であり、ＴＭＳは内部標準)である。
（５）色度分析は、Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ ｃｏｌａｒ ｍｅｔｅｒ ＴＺ６０００色度計（日本電色工業株式会社）用いて測定する。サンプル１０ｇを２０ｇのＤＭＦに入れ、攪拌して溶解した後に測定する。
（６）嵩密度（ｂｕｌｋ  ｄｅｎｓｉｔｙ）検出は、１００ｍＬのメスを取り、体積が１００ｃｍ３であるサンプル（崩した状態）を添加し、サンプルの質量は、サンプルの質量/１００が即ち嵩密度（ｇ/ｃｍ３）である。
【００３０】
（実施例１）
１０００ｍＬ四口フラスコの中に、(±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）１１４.４ｇ（０.４ｍｏｌ）、２００ｇトルエン、１６ｇ Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、７.６ｇ炭酸カリウム及び炭酸ビニレン８８ｇ（１ｍｏｌ）を加える。１００℃で６時間反応した後、ＨＰＬＣ分析を経て(±)−２,２'−ビス−(２-ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの含有量が０.１％より小さい場合、反応を停止する。トルエンを追加し、水で中性になるまで洗浄し、析出した固体を冷却し、１０００ｍＬ螺旋撹拌のオーブン中に入れ、真空条件で研磨して乾燥し、乾燥温度が９０℃であり、乾燥時間が２４時間であり、(±)−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチル１２７.２４ｇを得て、収率が８４.９３％であり、高速液体クロマトグラフ (ＨＰＬＣ)の分析純度が９９.６％であり、溶融吸熱ピークが１２０.８６℃(図１に示す)で、溶液色度が３ ＡＰＨＡで、ＹＩ値が０.５０である。ＴＧＡ熱分析２９０℃程度の損失重量が０.１％であり、溶媒残りが非常に少ないことを示す（図２に示す）。嵩密度は０.５６ｇ/ｃｍ３。１ＨＮＭＲ (ＣＤ３ＳＯＣＤ３)δは、３.８６(t,４Ｈ)，４.０３(ｔ,４Ｈ)、６.９０(ｄ,２Ｈ)、７.２３(ｄ,２Ｈ)、７.３４(ｄｄ,２Ｈ)、７.６０(ｄｄ,２Ｈ)、７.９２(ｄ,２Ｈ)、８.０６(ｄ,２Ｈ)、４.５８(ｓ,２Ｈ, Ｄ２Ｏを加え消える)。Ｃｕ-Ｋα線のＸ−粉末回折スペクトル(ＸＲＰＤ)を用いて、特徴回折角２θ(０)値及び相対強度(％)を分析する。詳しくは、図３と表１を参照する。
【００３１】
【表１−１】
0006905281.tif 000003
【表１−２】
0006905281.tif 000004
【００３２】
（実施例２）
３０００ｍＬ四口フラスコの中に、(±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）３４３.２ｇ（１.２ｍｏｌ）、６００ｇトルエン、４８ｇ  Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、２２.８ｇ炭酸カリウム及び炭酸ビニレン７０４ｇ（３ｍｏｌ）を加える。１００℃で６時間反応した後、ＨＰＬＣ分析を経て(±)−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチルの含有量が０.１％より小さい場合、反応を停止する。トルエンを追加し、水で中性になるまで洗浄し、析出した固体を冷却し、１０００ｍＬ螺旋撹拌のオーブン中に入れ、真空条件で研磨して乾燥し、乾燥温度が８５℃であり、乾燥時間が１８時間であり、(±)−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチル３９１.７３ｇを得て、収率が８７.１９％であり、高速液体クロマトグラフ (ＨＰＬＣ)の分析純度が９９.６％ であり、溶融吸熱ピークが１２０.６６℃（図４に示す）であり、溶液色度が４ ＡＰＨＡで、ＹＩ値が０.５７である。ＴＧＡ熱分析２９０℃程度の損失重量が０.１１％（図５に示す）であり、ＸＲＰＤ分析スペクトルは図３と一致し、嵩密度が０.５８ｇ/ｃｍ３である。
【００３３】
（実施例３）
実施例１のような合成方法により得られる（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチルは、１０００ｍＬ螺旋撹拌のオーブン中に入れ、真空条件で研磨して乾燥し、乾燥温度が１００℃で、乾燥時間が３６時間であり、 (±)−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチル１２６.３７ｇを得て、収率が８４.４４％であり、高速液体クロマトグラフ (ＨＰＬＣ)の分析純度が９９.６％ であり、溶融吸熱ピークが１２０.８７℃（図６に示す）であり、色度が５ ＡＰＨＡで、ＹＩ値が０.６６である。ＴＧＡ熱分析２９０℃程度の損失重量が０.０８％（図７に示す）であり、ＸＲＰＤ分析スペクトルは図３と一致し、嵩密度が０.５９ｇ/ｃｍ３である。
【００３４】
（比較例１）
実施例１のような合成方法により得られる（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチル１６３ｇは、真空乾燥ボックス（撹拌せず）の中で、乾燥温度が９０℃であり、乾燥時間が２４時間であり、(±)−２,２'−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１'−ビナフチル１２３.２４ｇを得て、収率が８２.２９％であり、高速液体クロマトグラフ (ＨＰＬＣ)の分析純度が９９.５％であり、最大溶融吸熱ピークが １０８.２７℃(図８に示す)であり、溶液色度が１２ ＡＰＨＡで、ＹＩ値が１.８である。ＴＧＡ熱分析２９０℃程度の損失重量が０.４５％ （図９に示す）であり、嵩密度が０.４３ｇ/ｃｍ３である。
【００３５】
（比較例２）
実施例１のような合成方法により得られる（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチル１６５ｇは、１０００ｍＬ撹拌付きのステンレスオーブン中に入れ、真空条件で研磨して乾燥し、乾燥温度が８０℃であり、乾燥時間が２４時間であり、（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチル１２２.２６ｇを得て、収率が８１.６４％であり、高速液体クロマトグラフ (ＨＰＬＣ)の分析純度が９９.４％であり、最大溶融吸熱ピークが１０８.９１℃（図１０に示す）であり、溶液色度が１６ ＡＰＨＡで、ＹＩ値が２.０であり、嵩密度が０.４５ｇ/ｃｍ３である。
【００３６】
（比較例３）
１０００ｍＬ四口フラスコの中に、 (±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）１１４.４ｇ（０.４ｍｏｌ）、１００ｇトルエン、７.５ｇ 炭酸カリウム及び炭酸ビニレン８８ｇ（１ｍｏｌ）を加え、１００℃で１２時間反応し、 ＨＰＬＣ分析して(±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）の含有量が０.１％より小さい場合、反応を停止させる。トルエンを追加し、水で中性になるまで洗浄し、析出した固体を冷却し、トルエンを用いて再結晶を行い、固体を得て、１０００ｍＬ撹拌付きのステンレスオーブン中に入れ、真空条件で研磨して乾燥し、乾燥温度が７０℃であり、乾燥時間が２４時間であり、(±)-２,２'-ビス-(２-ヒドロキシエトキシ)-１,１'-ビナフチル１１４.８９ｇを得て、収率が７６.７２％であり、高速液体クロマトグラフ (ＨＰＬＣ)の分析純度が９９.２％であり、最大溶融吸熱ピークが１１４.９４℃（図１１に示す）であり、溶液色度が１６ ＡＰＨＡで、ＹＩ値が２.０である。嵩密度が０.４２ｇ/ｃｍ３である。
【００３７】
（比較例４）
実施例１のような合成方法により得られる（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチル１７０ｇは、１０００ｍＬ螺旋撹拌のオーブン中に入れ、真空条件で研磨して乾燥し、乾燥温度が９０℃であり、乾燥時間が１５時間であり、（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチル１２６.４６ｇを得て、収率が８４.４７％であり、高速液体クロマトグラフ (ＨＰＬＣ)の分析純度が９９.５％であり、最大溶融吸熱ピーク が１０８.５２℃であり、また、１１８.５３℃の所で溶融吸収ピークが現れる（図１２ に示す）。
【００３８】
（比較例５）
実施例１のような合成方法により得られる（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチル１６７ｇは、１０００ｍＬ撹拌のステンレスオーブン中に入れ、真空条件で研磨して乾燥し、乾燥温度が１０５℃であり、乾燥時間が２４時間であり、オーブン内で（±）−２,２’−ビス−(２−ヒドロキシエトキシ)−１,１’−ビナフチルを溶融して無色透明な液体になる。冷却後、無色透明なガラスフレーク状固体１１５.２７ｇを得て、収率が７７％であり、高速液体クロマトグラフ (ＨＰＬＣ)の分析純度が９９.５％であり、最大溶融吸熱ピークが１１３.５４℃（図１３に示す）である。
【００３９】
（付記）
（付記１）
ビナフチル結晶の最大溶融吸熱ピークは１１９〜１２３℃である、
ことを特徴とする(±)−２, ２’−ビス−（２−ヒドロキシエトキシ）−１,１’−ビナフチル結晶。
【００４０】
（付記２）
前記ビナフチル結晶の回折角２θ値及び相対強度(％)は、 ４.７±０.２０(１１), ９.４±０.２０(１００), ９.９±０.２０(１６), １０.７±０.２０(２２), １１.２±０.２０(１１)，１２.５±０.２０(１７)，１４.４±０.２０(２６)，１５.０±０.２０(１６)，１６.１±０.２０(３７)，１６.５±０.２０(２３)，１６.９±０.２０(１６)，１８.３±０.２０(９６), １９.１±０.２０(９２), ２０.２±０.２０(８０), ２０.４±０.２０(７５)，２０.６±０.２０(８０), ２１.６±０.２０(２４)，２２.４±０.２０(６４)，２３.３±０.２０(２９)，２３.７±０.２０(４５)，２４.７±０.２０(７７)， ２５.５±０.２０(４０)， ２８.０±０.２０(２５)，２９.５±０.２０(１３)，３０.２±０.２０(１４)，３２.５±０.２０(１６)及び３４.０±０.２０(１６) である時にピークを有する、
ことを特徴とする付記１に記載のビナフチル結晶。
【００４１】
（付記３）
付記１に記載のビナフチル結晶を、調製する方法であって、
(±)−１,１'−ビ−（２−ナフトール）と炭酸ビニレンを原料として、溶媒、触媒及び反応促進剤の中で反応して生成物(±)−２, ２’−ビス−（２−ヒドロキシエトキシ）−１,１’−ビナフチルを得て、前記生成物をオーブンの中で真空研磨して乾燥し、前記オーブン内に撹拌装置が設けられ、乾燥温度が８５℃〜１００℃であり、乾燥時間が１８〜３６ｈである、
ことを特徴とするビナフチル結晶の調製方法。
【００４２】
（付記４）
前記撹拌装置は螺旋撹拌装置である、
ことを特徴とする付記３に記載の調製方法。
【００４３】
（付記５）
前記乾燥温度は９０℃〜９５℃である、
ことを特徴とする付記３に記載の調製方法。
【００４４】
（付記６）
前記乾燥時間は２４〜３０ｈである、
ことを特徴とする付記３に記載の調製方法。
【００４５】
（付記７）
前記オーブンはステンレスオーブンである、
ことを特徴とする付記３に記載の調製方法。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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