(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｘａ又はＸａ’の以下の構造のうちの１つを有する無臭チオール化合物であって、
【化１】
0006884227.tif 000038
式中、Ｒ１ａが、直鎖アルキル、分枝アルキル、シクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル若しくはアルケニル基、又は二量体構造を形成するＸａの別の部分に連結するリンカー基Ｌであり、
Ｌが、直鎖アルキル、分枝アルキル、又はシクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、又はアルケニル基であり、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、及びＲ１ｅが、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アシル、又は複素環部分から選択され、
式中、Ｗ及びＺが、同じであるか又は異なっており、水素又は以下の構造によって表されるＴ基であり、
【化２】
0006884227.tif 000039
式中、Ｗ及びＺのうちの１つのみが、水素であり、
式中、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、チオアルキル、又はアミノアルキルから選択され、
式中、ｍ及びｎが、独立して、０〜５の範囲の整数であり、
式中、Ｘが、ＣＨ又はＮから選択され、
式中、Ｙが、ＳＲであり、
Ｒが、Ｈ、又はイソチオウロニウム、チオアセチル、チオテトラヒドロピラニル、−Ｃ（ＮＨ2）＝ＮＨ2+Ａ-、別のメルカプトラジカル（Ｘａ）若しくは（Ｘａ’）に連結してジスルフィド構造を形成するメルカプトラジカル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される保護チオール基を含み、
式中、Ａ-が、ブロミド、クロリド、ヨージド、スルファート、メタンスルホナート、カルボナート、ホスファート、アセタート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、無臭チオール化合物（だだし、３−｛３−（１−メチルピリジニウム  アイオダイド）｝プロパンチオール、下記式：
【化３】
0006884227.tif 000040
のＳ−（１−メチルピリジニウム−３−メチル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウロニウムジヨージド、および下記式：
【化４】
0006884227.tif 000041
のメタンスルホナートを除く）。
【請求項２】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、ｍ＋ｎが、２以上である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、ｍ＋ｎが、２以上であり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ2）＝ＮＨ2+Ａ-であり、
式中、Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項４】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、前記無臭チオールが、分子構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、ｍが１であり、ｎが２であり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ2）＝ＮＨ2+Ａ-であり、
式中、Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項５】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、ｍ及びｎの両方が、２であり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ2）＝ＮＨ2+Ａ-であり、
式中、Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項６】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１である、請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１であり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
前記無臭チオールが、構造Ｘａ’によって表され、
式中、Ｗ、Ｒ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、Ｌが、−（ＣＨ2）4−であり、
Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
前記無臭チオールが、構造Ｘａ’によって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、Ｌが、−（ＣＨ2）4−であり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ2）＝ＮＨ2+Ａ-であり、
式中、Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１に記載の化合物。
【請求項１０】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、ｍ及びｎの両方が、１であり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１である、請求項１に記載の化合物。
【請求項１２】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１であり、
式中、Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１に記載の化合物。
【請求項１３】
前記無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、両方のＷが、水素又はＴ基であり、
式中、Ｚが、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１であり、
式中、Ｒが、水素又は−Ｃ（ＮＨ2）＝ＮＨ2+Ａ-であり、
式中、Ａ-が、Ｂｒ-である、請求項１に記載の化合物。
【請求項１４】
１％〜２０％の、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物、３−｛３−（１−メチルピリジニウム  アイオダイド）｝プロパンチオール、下記式：
【化５】
0006884227.tif 000042
のＳ−（１−メチルピリジニウム−３−メチル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウロニウムジヨージド、または、下記式：
【化６】
0006884227.tif 000043
のメタンスルホナートを含む、パーマネントスタイリング組成物又は脱毛剤組成物。
【請求項１５】
パーマネントスタイリング又は除毛のための、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物、３−｛３−（１−メチルピリジニウム  アイオダイド）｝プロパンチオール、下記式：
【化７】
0006884227.tif 000044
のＳ−（１−メチルピリジニウム−３−メチル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウロニウムジヨージド、または、下記式：
【化８】
0006884227.tif 000045
のメタンスルホナートの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
無臭チオールの部類、具体的には、分子中に（ａ）ピリジン第四級アンモニウム塩及び（ｂ）脂肪族チオール官能基又は保護された脂肪族チオール官能基を有する化合物である無臭チオールの設計及び合成が、本明細書に記載される。
【背景技術】
【０００２】
還元剤又は還元体は、他の物質を還元させることによって化学反応に関与する物質である。この化学変換の間、還元剤は、還元物質に電子を与えることによって酸化される。還元剤を利用する様々なプロセスが存在する。これらは、パーマネント成形、ウェービング、及びストレート化、並びに望ましくない毛髪の除去を伴う脱毛などの整髪処理を含み得る。また、羊毛は、伸長、弾性を改善し、その染色プロセスを促進するために、還元剤で時折処理される。
【０００３】
チオグリコール酸アンモニウム（パーマ塩）、又はチオグリコール酸ナトリウムの適用による、ケラチン繊維、特にヒトの毛髪のパーマネント成形及び／又は湾曲の変化が知られている。消費者に所望のウェーブした又はストレートにした毛髪を提供するために、パーマ塩のアルカリ性溶液は、多くの場合、プロセスの第１工程として利用される。チオグリコレート還元剤は、毛幹に入り、毛髪タンパク質の−Ｓ−Ｓ−ジスルフィド結合を低減させる。この工程は、毛髪繊維が元の形状から弛緩するのを可能にする。毛髪をその所望の新たなウェーブパターンに設定するか、又はストレートにした後、過酸化水素を含有する配合物、酸化剤を適用して、ジスルフィド結合を再形成し、残りの未反応チオグリコレートを酸化させる。
【０００４】
パーマネントウェービング及びストレート化製品は、典型的に、弛緩成分（例えば、還元剤のアルカリ溶液）及び酸化成分（例えば、過酸化水素溶液）を含有するキットの形態で販売されている。使用中、まず弛緩成分を毛髪に適用して、ケラチンタンパク質中のジスルフィド結合を破壊することによって、ウェーブパターンを作り出すか、又は毛髪をストレートにするかのいずれかである。パーマ塩が化学反応を起こすまで一定期間待機した後、毛髪をすすぐ。次いで、酸化クリーム又はゲルを適用して、ジスルフィド結合の良好な部分を再形成し、それによって新しい湾曲又は新たにストレートにされた毛髪を固定する。
【０００５】
化学的脱毛は、典型的に、還元剤及び高ｐＨを有する組成物を使用して行われる。チオグリコレート還元剤は、典型的に、ジスルフィド結合を破壊するために使用される。脱毛剤組成物は、典型的に、ゲル、ムース、クリーム、ローション、又は剥離可能フィルムとして販売されている。組成物は、典型的に、望ましくない毛髪を除去する必要がある皮膚に直接適用される。一定期間、典型的に、１〜１０分後、組成物は、身体表面から拭き取ることによって除去される。次に、皮膚をすすいでプロセスを完了する。同じ技術をシェービングクリームに使用して、顔の毛を柔らかくするのを助けることができ、その後のシェービングがより容易にかつより滑らかになる。
【０００６】
Ａｒｎｏｌｄ  Ｆ．Ｗｉｌｌａｔｔが、１９３８年にチオグリコレートを使用するコールドパーマを最初に発明してから、それ以外は非常に有効な処理に関連する不快な臭気を低減又は排除するために、パーマ産業によって多くの試みがなされてきた。芳香剤によるマスキングは、典型的に、チオグリコレート及び誘導体を含有する組成物の全てについて試みられている。しかしながら、不快なチオグリコレート臭気は、特に処理後、完全にマスキングすることができない。チオグリコレートを変性して、その不快な臭気を低減させることも試みられている。より高い分子量を有するチオールは、一般的に揮発性が低いため、嗅覚細胞にあまり到達しない。しかしながら、より大きな分子を毛髪に浸透させて効力を保つことはより困難である。より高い分子量のチオールの場合、水性シャーシ中により極性の低い成分を配合することも困難である。この極性問題に対処する方法の１つは、より水溶性にするために、分子に極性官能基を含めることである。しかしながら、高極性の有害作用の１つは、毛髪繊維への材料の浸透がより低いことである。より低い浸透性により、チオールの効率が低減する。
【０００７】
脂肪族第四級アンモニウムカチオンを担持するチオールもまた、硫黄の悪臭を最小限にするために検討されている。これらは、酸性及び中性条件下で安定である。しかしながら、高ｐＨでの使用条件下では、これらのチオールは分解して第三級アミン及び環式スルフィドを生成するが、これは無臭技術の目的を損なう。
【０００８】
チオグリコレートを置き換えるためにチオールアルコール官能基を有しない架橋試薬を使用することも試みられている。ブラジリアンパーマが最大１０重量％のホルムアルデヒドを使用して、カールした毛髪を弛緩させるという事実は、パーマ及びストレート化業界がチオグリコレート塩の刺激性悪臭からそれ自体を解離させようと必死であることを強調している。しかしながら、このような処理のスタイリング効果は、還元−酸化プロセスが達成されるにつれて耐久性がなくなる。加えて、使用される材料に関する毒性が懸念される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、所望の髪型を作り出すためにチオグリコレートを使用すること、並びに臭気を含む望ましくない使用中の経験を伴わない脱毛剤組成物のための解決策が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
１．以下の構造：
【００１１】
【化１】
0006884227.tif 000002
Ｘａ’を含む、無臭チオール化合物であって、
式中、Ｒ１ａが、直鎖アルキル、分枝アルキル、シクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル若しくはアルケニル基、又は二量体構造を形成するＸａの別の部分に連結するリンカー基Ｌであり、
Ｌが、直鎖アルキル、分枝アルキル、又はシクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、又はアルケニル基であり、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、及びＲ１ｅが、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アシル、又は複素環部分から選択され、
式中、Ｗ及びＺが、同じであるか又は異なっており、水素又は以下の構造によって表されるＴ基であり、
【００１２】
【化２】
0006884227.tif 000003
式中、Ｗ及びＺのうちの１つのみが、水素を含み、
式中、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、チオアルキル、又はアミノアルキルから選択され、
式中、ｍ及びｎが、独立して、０〜５の範囲の整数であり、
式中、Ｘが、ＣＨ又はＮから選択され、
式中、Ｙが、ＳＲであり、
Ｒが、Ｈ、又はイソチオウロニウム、チオアセチル、チオテトラヒドロピラニル、−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−、別のメルカプトラジカル（Ｘａ）若しくは（Ｘａ’）に連結してジスルフィド構造を形成するメルカプトラジカル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される保護チオール基を含み、
式中、Ａ−が、ブロミド、クロリド、ヨージド、スルファート、メタンスルホナート、カルボナート、ホスファート、アセタート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本明細書は、本発明を具体的に示しかつ明確に特許請求する特許請求の範囲で完結するが、本発明は以下の説明によってより深く理解されると考えられる。
【００１４】
全ての百分率、部及び比率は、特に指定されない限り、本発明の組成物の総重量を基準とする。このような重量は全て、列記した成分に関する限り、活性レベルに基づくものであり、したがって特に断らない限り、市販材料に含まれる場合がある溶媒又は副生成物を含まない。処理中に２種以上の組成物が用いられるとき、典型的なパーマ／ストレート化製品の成分を混合する場合と同様に、考慮すべき総重量は、特に指示がない限り、毛髪に同時に適用される全ての組成物の総重量（すなわち「頭上に」ある重量）である。用語「重量百分率」は、本明細書では「重量％」として表示されてもよい。
【００１５】
本明細書で使用するとき、用語「アルキル」は、飽和直鎖又は分枝炭素鎖を指す。特に指定のない限り、アルキル基は、１〜３０個の炭素原子、又は好ましくは１〜１２個の炭素原子、又はより好ましくは１〜６個の炭素原子を有することができる。アルキル基はまた、炭素骨格内に１個以上のヘテロ原子を含有してもよい。例としては、酸素、窒素、硫黄、及びこれらの組み合わせが挙げられる。アルキル基は、好ましくは、１〜４個のヘテロ原子を含有してもよい。アルキル基は、直鎖アルキル又は分枝鎖アルキルを含んでもよい。
【００１６】
用語「アルキル」は、「非置換アルキル」及び「置換アルキル」の両方を含み、その後者は、炭化水素骨格の１つ以上の炭素上の水素を置換する１つ以上の置換基を有するアルキル部分を指す。このような置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシル、カルボニル（カルボキシル、アルコキシカルボニル、ホルミル、又はアシルなど）、チオカルボニル（チオエステル、チオアセテート、又はチオホルメートなど）、アルコキシル、ホスホリル、ホスファート、ホスホナート、ホスフィネート、アミノ、アミド、アミジン、イミン、シアノ、ニトロ、アジド、スルフヒドリル、アルキルチオ、サルフェート、スルホネート、スルファモイル、スルホンアミド、スルホニル、ヘテロシクリル、アラルキル、又は芳香族若しくは複素芳香族部分を挙げることができるが、これらに限定されない。
【００１７】
本明細書で使用するとき、用語「アルケニル」は、２〜３０個の炭素原子を含有し、１つ以上の二重結合を有するアルキルである。アルケニル基はまた、炭素骨格内に１個以上のヘテロ原子を含有してもよい。例としては、酸素、窒素、硫黄、及びこれらの組み合わせが挙げられる。アルケニル基は、好ましくは、１〜４個のヘテロ原子を含有してもよい。アルケニル基としては、直鎖アルケニル若しくは分枝鎖アルケニル、又はシクロアルケニル基を挙げることができる。用語「アルケニル」は、「非置換アルケニル」及び「置換アルケニル」の両方を含み、その後者は、炭化水素骨格の１つ以上の炭素上の水素を置換する１つ以上の置換基を有するアルケニル部分を指す。このような置換基は、用語「アルキル」の定義において上記に記載されたものであってもよい。
【００１８】
本明細書で使用するとき、用語「アルキニル」は、２〜３０個の炭素原子を含有し、１つ以上の三重結合を有するアルキルである。アルキニル基はまた、炭素骨格内に１個以上のヘテロ原子を含有してもよい。例としては、酸素、窒素、硫黄、及びこれらの組み合わせが挙げられる。アルケニル基は、好ましくは、１〜４個のヘテロ原子を含有してもよい。アルキニル基としては、直鎖アルキニル若しくは分枝鎖アルキニル、又はシクロアルキニル基を挙げることができる。用語「アルキニル」は、「非置換アルキニル」及び「置換アルキニル」の両方を含み、その後者は、炭化水素骨格の１つ以上の炭素上の水素を置換する１つ以上の置換基を有するアルキニル部分を指す。このような置換基は、用語「アルキル」の定義において上記に記載されたものであってもよい。
【００１９】
本明細書で使用するとき、用語「シクロアルキル」は、「アルキル」の環式バージョンを表す。用語「シクロアルキル」はまた、その二環式、三環式、及び多環式バージョンを含むことを意味する。特に明記しない限り、シクロアルキル基は、３〜１２個の炭素原子を有し得る。類推によって、本明細書で使用するとき、用語「シクロアルケニル」は、「アルケニル」の環式バージョンを表す。本明細書で使用するとき、用語「シクロアルキニル」は、「アルキニル」の環式バージョンを表す。
【００２０】
本明細書で使用するとき、用語「ヘテロシクリル」は、３〜１０環原子、又は好ましくは５〜６環原子を含有する、炭素及びそれぞれが酸素、硫黄、及びＮ（Ｙ）（Ｙは不在であるか、又は水素、酸素、（Ｃ１〜４）アルキル、フェニル、若しくはベンジルである）から選択される１〜４個のヘテロ原子を含有する、また任意に１つ以上の二重又は三重結合を含有する、並びに任意に１つ以上の置換基で置換された単環式又は二環式環の環炭素又は窒素を介して結合した環式ラジカルを指す。複素環の例としては、ベンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、デカヒドロキノリニル、２Ｈ，６Ｈ−１，５，２−ジチアジニル、ジヒドロフロ［２，３−ｂ］テトラヒドロフラン、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、モルホリニル、オクタヒドロイソキノリニル、オキサゾリジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピペリドニル、４−ピペリドニル、ピラニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピロリジニル、ピロリニル、２Ｈ−ピロリル、キヌクリジニル、及びテトラヒドロフラニルが挙げられるが、これらに限定されない。
【００２１】
本明細書で使用するとき、用語「ハロゲン」は、フッ素、クロリン、ブロミン、及びヨードを表す。
【００２２】
本明細書で使用するとき、用語「アリール」は、６個の炭素原子を含有する芳香族単環式環、１０個の炭素原子を含有する芳香族二環式環系、又は１４個の炭素原子を含有する芳香族三環式環系を指す。例は、フェニル、ナフチル、フェノキサチニル、ピペロニル、又はアントラセニル、好ましくはフェニルである。
【００２３】
本明細書で使用するとき、用語「ヘテロアリール」は、３〜１０員の芳香環、好ましくは５又は６員の芳香環を指し、環中の炭素原子のうちの１つ以上は、同じ又は異なるヘテロ原子のうちの１，２，３、若しくは４つ（５員環の場合）又は１、２、３、４、若しくは５つ（６員環の場合）で置換されており、これによってヘテロ原子は、その酸素、窒素、硫黄、及びこれらの混合物からなる群から選択される。ヘテロアリール基の例としては、ピロール、フラン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、及びピリジンに基づく基が挙げられる。ヘテロアリール基の例としては、ベンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフラニル、ベンゾチオフェニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサゾリニル、ベンズチアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾテトラゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾイミダゾリニル、カルバゾリル、４ａＨ−カルバゾリル、クロマニル、クロメニル、シンノリニル、フラニル、フラザニル、イミダゾリル、１Ｈ−インダゾリル、インドレニル、インドリニル、インドリジニル、インドリル、３Ｈ−インドリル、イサチノイル、イソベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、イソクロマニル、イソインダゾリル、イソインドリニル、イソインドリル、イソキノリニル、イソチアゾリル、イソキサゾリル、メチレンジオキシフェニル、ナフチリジニル、オキサジアゾリル、１，２，３−オキサジアゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、オキサゾリル、オキシンドリル、ピリミジニル、フェナントリジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、フェノチアジニル、フェノキサジニル、フタラジニル、プテリジニル、プリニル、ピラジニル、ピラゾリル、ピリダジニル、ピリドオキサゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ピロリル、キナゾリニル、キノリニル、４Ｈ−キノリジニル、キノキサリニル、テトラヒドロイソキノリニル、テトラヒドロキノリニル、テトラゾリル、６Ｈ−１，２，５−チアジアジニル、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、チアントレニル、チアゾリル、及びチエニルを挙げることもできるが、これらに限定されない。
【００２４】
本明細書で使用するとき、用語「アシル」は、通常、カルボン酸から誘導されるアルカノイル基を指す。したがって、式ＲＣ（Ｏ）−を有し、式中、Ｒは、単結合を有するＣ（Ｏ）基に結合しているアルキル基を表す。
【００２５】
本明細書で使用するとき、用語「カルボン酸」は、−ＣＯＯＨ基を指す。特に明記しない限り、用語「カルボン酸」は、遊離酸及びカルボン酸塩の両方を包含する。
【００２６】
本明細書で使用するとき、用語「置換された」は、本明細書に記載の化合物の全ての許容可能な置換基を指す。最も広義の意味では、許容可能な置換基としては、有機化合物の非環式及び環式、分枝状及び非分枝状、炭素環式及び複素環式、芳香族及び非芳香族置換基が挙げられる。例示的な置換基としては、限定するものではないが、ハロゲン、ヒドロキシル若しくはアルコキシ基、又は任意の数の炭素原子、好ましくはＣ１〜１４炭素原子を含有する任意の他の有機基が挙げられ、任意に、直鎖、分枝、若しくは環式構造形式の酸素、硫黄、又は窒素基などの１つ以上のヘテロ原子を含む。窒素などのヘテロ原子は、ヘテロ原子の原子価を満たす水素置換基及び／又は本明細書に記載の有機化合物の任意の許容可能な置換基を有してもよい。用語「置換された」は、そのような置換が置換原子及び置換基の許容される原子価に従うこと、並びに置換が安定した化合物、すなわち、再構成、環化、脱離などによって自然に形質転換されない化合物をもたらすという暗黙の条件を含むことが理解される。
【００２７】
本明細書で使用するとき、処理される「毛髪」という用語は、「生きている」、すなわち、生体上にあるものであってもよく、又は、「生きていない」、すなわち、かつら、ヘアピース、若しくは他の非生体のケラチン繊維の集合体であってもよい。哺乳類、特にヒトの毛髪が好ましい。しかしながら、羊毛、毛皮、及び他のケラチン含有繊維は、本発明による組成物に適した基材である。
【００２８】
毛髪のパーマネントウェービング又はストレート化組成物は、１つ以上のカチオン性チオールを含むことができる。
【００２９】
本発明者らは、驚くべきことに、（ａ）ピリジン第四級アンモニウム塩及び（ｂ）脂肪族チオール官能基又は保護された脂肪族チオール官能基を、その分子中に有するチオールの使用により、不快な臭気を有することなく、毛髪タンパク質のＳ−Ｓ結合の低減を達成することを見出した。
【００３０】
本明細書に開示されるジスルフィド化合物は、保護されたチオールとして知覚され得る。これは、別の還元剤とジスルフィド化合物との間の化学反応により、パーマネント毛髪スタイリング又は脱毛処理での実際の使用前に、保護されていない無臭チオールに容易に変換することができるからである。
【００３１】
無臭チオールは、以下に詳細に記載される。無臭チオールは、以下の化学構造によって表され得る化合物を含有する群から選択される化学部類の還元剤であり、
【００３２】
【化３】
0006884227.tif 000004
式中、Ｒ１ａは、直鎖アルキル、分枝アルキル、若しくはシクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル若しくはアルケニル基、又はＸａの別の部分に連結するリンカー基Ｌであり、Ｘａ’のように２つのピリジニウム単位からなる二量体構造を作製し、
式中、Ｌは、直鎖アルキル、分枝アルキル、又はシクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、又はアルケニル基であり、
Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、及びＲ１ｅは、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アシル、又は複素環部分であり、
式中、Ｗ及びＺは、同じであるか又は異なっており、水素又はＴ基であり、
【００３３】
【化４】
0006884227.tif 000005
式中、Ｗ及びＺのうちの１つのみが水素であり得、Ｔ基が、Ｘを介してピリジニウム環に結合され、
式中、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋは、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、チオアルキル、又はアミノアルキルであり、
式中、ｍ及びｎが、独立して、０〜５の範囲の整数であり、
式中、Ｘは、ＣＨ又はＮであり、ＸがＣＨである場合、ｍ＋ｎは０以上であり得、Ｘが窒素原子である場合、ｍ＋ｎは１以上及び／又は２以上であり、
式中、ＹはＲであり、Ｒは、Ｈあるいは（１）イソチオウロニウム基、（２）チオアセチル、（３）チオテトラヒドロピラニル、又は（４）別のメルカプトラジカル（Ｘａ）若しくは（Ｘａ’）に連結してジスルフィド構造を形成するメルカプトラジカルなどの、容易に脱保護される保護されたチオール基であり得、
式中、Ａ−は、非反応性、非酸化還元性、化粧用として許容可能なアニオンであり、ブロミド、クロリド、ヨージド、スルファート、メタンスルホナート、カルボナート、ホスファート、アセタート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され得る。
【００３４】
Ｉ．無臭チオール
本明細書では、本明細書に定義される化合物による無臭チオール還元剤を誘導するための一般的な方法が記載される。本明細書ではまた、本明細書に定義される化合物による少なくとも１つの無臭チオールを含むケラチン繊維の再形成のための方法及び組成物も記載される。また本明細書では、このような還元剤を含む組成物をケラチン繊維に一定期間適用し、続いて酸化剤を適用して毛髪を成形し、所望の髪型を作り出すことを含む方法も記載される。また本明細書では、望ましくない毛髪を身体表面から除去するのに十分な期間、このような還元剤を含む組成物を身体表面に適用することを含む方法も記載される。
【００３５】
多くの潜在的かつ実際に互変異性化合物が関与することが理解される。本発明が特定の構造に言及するときには、妥当な追加の互変異性構造全てが更に包含されることを理解すべきである。当該技術分野では、互変異性構造は、ただ１つの構造によって表されることが多く、本明細書における開示は、この一般的慣習に従う。
【００３６】
還元剤の典型的な分子構造は、無臭チオールを含む。これらの無臭チオールは、その分子中に（ａ）ピリジン第四級アンモニウム塩、及び（ｂ）脂肪族チオール官能基又は保護された脂肪族チオール官能基を有する化合物であり得る。これらの化合物は、従来使用されているチオグリコレートとは対照的に、芳香族第四級アンモニウム塩がその分子中に存在すると、極めて低い揮発性を付与するため、悪臭を有しない。低い揮発性は、空気中のこのような化合物の非常に低い濃度に寄与し、結果として、化合物は、処理中及び処理後に嗅覚細胞によって検出されない。還元剤は、典型的なパーマネントウェービング、ストレート化、及び脱毛用途に使用するための有効な還元剤である。
【００３７】
使用条件下で無臭チオールを使用することに関連する更なる利益が存在する。毛髪の付着／浸透は、使用条件下でアニオン性であるチオグリコール酸（ＴＧＡ）及びその塩と比較して大幅に向上させることができる。したがって、無臭チオールの低減効率が増大する。しかしながら、生きた皮膚細胞への浸透は、細胞膜、脂質二重層として低減され、ある特定のカチオン及びアニオンのみが、イオンチャネルを通過して、ほとんどの他の塩を放出し続けるのを可能にする。これにより、皮膚刺激性がより少ない処理をもたらすことができる。
【００３８】
チオールを脂肪族第四級アンモニウムカチオンに連結しようとする以前の試みは、高ｐＨで無臭技術を送達することができないが、これは、チオールを毛髪タンパク質ジスルフィド結合を効率的に破壊するのに十分な求核性にするためのチオールの脱プロトン化に必要である。このような脂肪族第四級アンモニウム塩は、酸性及び中性条件下で安定かつ無臭であり得る。しかしながら、高ｐＨでは、以下の化合物（ＩＩＩ）を脱プロトン化して不安定な中間体（ＩＶ）を生じさせることができるが、これは分解反応を経て第三級アミン（Ｖ）及び環式スルフィド（ＶＩ）を産生することができ、両方が不快な臭気を有し得る。劣化の変換率は、嗅覚細胞が臭気を拾う前は高くなくてもよい。
【００３９】
【化５】
0006884227.tif 000006
【００４０】
上記の場合と同様に、芳香族カチオンに結合した全てのチオールが安定であるとは限らない。化合物（ＶＩＩ）は、酸性及び中性条件下で安定であり得る。しかしながら、塩基性条件下では、中間体（ＶＩＩＩ）を介して分解反応を受けて、（ＩＸ）チランを提供することができるが、これは無臭技術のために不適切な候補となり得る。
【００４１】
【化６】
0006884227.tif 000007
【００４２】
本明細書に記載される無臭チオール還元剤は、高いｐＨ安定性及び検出不可能なレベルの臭気に関して、以前のアプローチとは異なる。無臭チオールは、その分子中に、高ｐＨで極めて安定した化合物に寄与する芳香族第四級アンモニウム塩を有する。これらはまた、ケラチン繊維中でジスルフィド結合を破壊するのにも効率的である。この部類の化合物のいくつかのメンバーは、チオグリコレート塩よりも３倍効率的である。したがって、これらの場合、パーマにおける実質的に等しい性能は、典型的に使用されるアンモニウムチオグリコレート塩と比較して、活性成分の１／３モル濃度で達成することができる。加えて、本明細書に開示される還元剤は、有機塩であるため、高い水溶性を有し、これにより水性シャーシに配合することが容易になる。最後に、本明細書に開示される還元剤は、製剤中、及び毛髪への適用の間に悪臭を含まないものとして臭気試験に合格することができる。
【００４３】
無臭チオールのサブクラスの例は、以下の構造によって表され、
【００４４】
【化７】
0006884227.tif 000008
式中、Ａ−は、化粧用として許容可能な対イオンであり、式中、Ｒ１ａは、直鎖アルキル、分枝アルキル、又はシクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル又はアルケニル基であり、式中、Ｗは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アシル、又は複素環部分であり、ＺはＴ基であり、
【００４５】
【化８】
0006884227.tif 000009
式中、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋは、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、チオアルキル、又はアミノアルキルであり、式中、ｍ及びｎは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、式中、Ｘは、ＣＨ又はＮであり、ＸがＣＨである場合、ｍ＋ｎは０以上であり、Ｘが窒素原子である場合、ｍ＋ｎは２以上であり得、式中、Ｙは、ＳＨあるいは（１）イソチオウロニウム基、（２）チオアセチル、（３）チオテトラヒドロピラニル、又は（４）別のメルカプトラジカル（Ｘａ）若しくは（Ｘａ’）に連結してジスルフィド構造を形成するメルカプトラジカルなどの、容易に脱保護される保護チオール基である。
【００４６】
無臭チオールのこのサブクラス内の化合物の例は、以下のとおりである。
【００４７】
【化９】
0006884227.tif 000010
【００４８】
無臭チオールのサブクラスの別の例は、以下の構造によって表され、
【００４９】
【化１０】
0006884227.tif 000011
式中、Ｒ１ａは、直鎖、分枝、若しくはシクロアルキル基、又はＸｉの別の部分に連結するリンカー基Ｌであり、ピリジニウム窒素を介して接合された２つのピリジニウム単位からなる二量体構造を作製し、
Ｒは、水素、アセチル、テトラヒドロピラニル、又は別のメルカプトラジカル（Ｘｉ）に連結してジスルフィドを形成するメルカプトラジカル、又は基
【００５０】
【化１１】
0006884227.tif 000012
であり、式中、Ａ−は、化粧用として許容可能な対イオンであり、
【００５１】
無臭チオールのこのサブクラス内の化合物の例は、以下のとおりである。
【００５２】
【化１２】
0006884227.tif 000013
【００５３】
無臭チオールのサブクラスの別の例は、構造（Ｘｂ）によって表され、
【００５４】
【化１３】
0006884227.tif 000014
式中、Ｒ１ａは、直鎖、分枝、又はシクロアルキルであり、
Ｒは、水素、アセチル、テトラヒドロピラニル、又は別のメルカプトラジカル（Ｘｂ）に連結してジスルフィドを形成するメルカプトラジカル、又は基
【００５５】
【化１４】
0006884227.tif 000015
であり、式中、Ａ−は、化粧用として許容可能な対イオンであり、
ｍ及びｎは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、ｍ＋ｎは、２以上である。
【００５６】
無臭チオールのサブクラスの別の例は、構造（Ｘ）によって表され、
【００５７】
【化１５】
0006884227.tif 000016
式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、及びＲ１ｅは水素であり、
式中、Ａ−は、化粧用として許容可能な対イオンであり、
Ｗ及びＺの両方は、Ｔ基であり、
【００５８】
【化１６】
0006884227.tif 000017
式中、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋは、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、チオアルキル、又はアミノアルキルであり、
ｍ及びｎは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、
Ｘは、ＣＨ又はＮである。ＸがＣＨである場合、ｍ＋ｎは、０以上であり、Ｘが窒素原子である場合、ｍ＋ｎは２以上であり、
式中、Ｙは、ＳＨ又は（１）イソチオウロニウム基、（２）チオアセチル、（３）チオテトラヒドロピラニル、若しくは（４）別のメルカプトラジカル（Ｘ）に接続してジスルフィド構造を形成するメルカプトラジカルなどの、容易に脱保護される保護チオール基である。
【００５９】
無臭チオールのサブクラスの別の例は、構造（Ｘｎ）によって表され、
【００６０】
【化１７】
0006884227.tif 000018
式中、Ｒ１ａは、直鎖、分枝、又はシクロアルキルであり、
Ｒは、水素、アセチル、テトラヒドロピラニル、又は別のメルカプトラジカル（Ｘｎ）に接続してジスルフィドを形成するメルカプトラジカル、又は基
【００６１】
【化１８】
0006884227.tif 000019
であり、式中、Ａ−は、化粧用として許容可能な対イオンであり、
ｍ及びｎは、独立して、それぞれが１〜５の範囲の整数である。
【００６２】
無臭チオールのこのサブクラス内の化合物の例は、以下のとおりである。
【００６３】
【化１９】
0006884227.tif 000020
【００６４】
無臭チオールのサブクラスの別の例は、構造（Ｘｑ）によって表され、
【００６５】
【化２０】
0006884227.tif 000021
式中、Ｒ１ａは、直鎖、分枝、又はシクロアルキルであり、
Ｒは、水素、アセチル、テトラヒドロピラニル、又は別のメルカプトラジカル（Ｘｑ）に接続してジスルフィドを形成するメルカプトラジカル、又は基
【００６６】
【化２１】
0006884227.tif 000022
であり、式中、Ａ−は、化粧用として許容可能な対イオンであり、
ｍ及びｎは、独立して、０〜５の範囲の整数である。
【００６７】
無臭チオールのこのサブクラス内の化合物の例は、以下のとおりである。
【００６８】
【化２２】
0006884227.tif 000023
【００６９】
チオールの保護基
本明細書に記載される無臭チオールは、保護基で官能化されたチオールを含み得る。保護基は、目的の官能基（この場合はチオール）と反応した化学部分である。このような保護は、官能基がある特定の条件下で不安定又は反応性である場合に遭遇する。典型的には、保護された官能基を単純な変換で脱保護して、それを再度反応させて、所望の機能を行うことができるようにする。チオールの保護基の非限定例としては、アセチル基、テトラヒドロピラニル基、ｐ−メチルベンジル基、メトキシメチル基、又は−（＝ＮＨ２＋）ＮＨ２基を挙げることができる。一般的に使用される保護基としては、トリメチルアセトアミドメチル、アセトアミドメチル基、及びその他を挙げることができる。化合物はまた、保護されたチオールとして知覚され得るジスルフィド化合物であり得る。これは、これらの化合物が、別の還元剤とジスルフィド化合物との間の化学反応により、パーマネント毛髪スタイリング又は脱毛処理での実際の使用前に、保護されていない無臭チオールに容易に変換することができるからである。
【００７０】
対イオン
無臭チオールは、恒久的な第四級アンモニウム塩を含むことができる。したがって、この部類の化合物の各メンバーは、対イオン（Ａ−）として少なくとも１つのアニオンを含み得る。非反応性及び非酸化還元である、すなわちそれ自体が酸化還元反応に関与しない任意の化粧用として許容可能な対イオン。このようなアニオンの非限定的な典型例としては、ブロミド、クロリド、ヨージド、スルファート、メタンスルホナート、カルボナート、ホスファート、及びアセタートを挙げることができる。
【実施例】
【００７１】
無臭チオールの例の調製方法
Ａ．３−（メルカプトメチル）−１−メチルピリジン−１−イウムトリフルオロアセテートの合成
【００７２】
【化２３】
0006884227.tif 000024
【００７３】
２．４３ｇの硫酸ジメチル中に２．００ｇのピリジン−３−イルメタノールを含有するシリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルを、氷水浴中で０℃に冷却する。次いで、反応混合物をスクリューキャップで密閉し、磁気撹拌しながら室温以上まで温める。温度上昇が止まり、反応混合物の温度が周囲温度まで低下した後、反応混合物を油浴中で７５℃に加熱する。反応混合物を磁気撹拌しながら７５℃で１時間維持する。得られた濃い油を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、ジクロロメタン及びメタノールを移動相として用いて精製して、４．１０ｇ（９５％収率）の３−（ヒドロキシメチル）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを濃い無色の油として提供する。
【００７４】
あらかじめ４．１０ｇの３−（ヒドロキシメチル）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを含有する５００ｍＬの丸底フラスコに、１５０ｍＬの量の水性ＨＢｒ（４８重量％）を添加する。次いで、反応混合物を磁気撹拌しながら８０℃に加熱する。液体クロマトグラフィ質量分析（ＬＣＭＳ）が、対応するブロミドへのアルコールの完全な変換を確認すると、次いで、真空を用いて過剰な水性ＨＢｒを除去する。残留赤褐色油を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、ジクロロメタン及びメタノールを移動相として用いて精製して、濃い琥珀色の油として、４．３１ｇ（８３％収率）の３−（ブロモメチル）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを提供する。
【００７５】
あらかじめ１．００ｇの３−（ブロモメチル）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを含有する１００ｍＬの蒸発フラスコに、３０ｍＬの無水ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を添加する。次いで、溶液を氷水浴中で冷却する。次いで、冷却された溶液に、０．３１ｇの量の硫化ナトリウムを添加する。次いで、反応混合物を磁気撹拌しながら徐々に室温まで温める。反応が進行するにつれて、溶液の色は暗くなる。ＨＰＬＣによって、対応するメルカプト化合物へのブロミドの変換が停止したことを確認した後、反応物を６ｍＬの１Ｎ  ＨＣｌ溶液でクエンチする。次いで、真空を用いて溶媒を除去する。残留暗褐色スラリーを、Ｃ−１８逆相カラム上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、水、及び０．１％トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）を有するアセトニトリルを移動相として用いて精製し、０．５６ｇ（６０％収率）の３−（メルカプトメチル）−１−メチルピリジン−１−イウムトリフルオロアセテートを白色固体として提供する。
【００７６】
Ｂ．３−（（２−メルカプトエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムトリフルオロアセテートの合成
【００７７】
【化２４】
0006884227.tif 000025
【００７８】
あらかじめ３．００ｇの３−フルオロピリジンを含有する、シリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルに、４．０９ｇの未希釈硫酸ジメチルを添加する。次いで、バイアルを密封し、磁気撹拌する。熱上昇が止まり、反応混合物の温度が室温まで低下した後、反応混合物を油浴上で７５℃に加熱する。反応混合物を、磁気撹拌しながら７５℃で１時間維持する。得られた濃い油を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、ジクロロメタン及びメタノールを移動相として用いて精製して、６．４１ｇ（９３％収率）の３−フルオロ−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを濃い無色の油として提供する。
【００７９】
あらかじめ１０ｍＬのＤＭＦに溶解した１．５０ｇの３−フルオロ−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを含有する、シリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルに、１．００ｇの炭酸カリウム及び０．４７ｇの２，２’−ジチオビス−エタンアミンを添加する。次いで、反応混合物を磁気撹拌しながら７５℃で３時間加熱する。超高性能液体クロマトグラフィ（ＵＰＬＣ）によって変換が完了したことが確認されると、カリウム塩を濾別し、真空を用いてＤＭＦを除去する。次いで、残留反応混合物を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、ジクロロメタン（ＤＣＭ）及びメタノールを移動相として用いて精製して、１．５５ｇ（９１％収率）の３，３’−（（ジスルファンジイルビス（エタン−２，１−ジイル））ビス（アザンジイル））ビス（１−メチルピリジン−１−イウム）メチルサルフェートを薄黄色の固体として提供する。
【００８０】
あらかじめ１０ｍＬの水に溶解し、０℃に冷却した１．００ｇの３，３’−（（ジスルファンジイルビス（エタン−２，１−ジイル））ビス（アザンジイル））ビス（１−メチルピリジン−１−イウム）メチルサルフェートを含有する、シリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルに、０．３３ｇの量のＤＬ−１，４−ジチオトレイトールを添加する。反応混合物を、氷水浴中で１時間磁気撹拌する。ＵＰＬＣによって変換が完了したことが確認されると、次いで反応混合物を、Ｃ−１８逆相カラム上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、０．１％  ＴＦＡを有するメタノール／Ｈ２Ｏを移動相として用いて精製して、０．８０ｇ（７９％収率）の３−（（２−メルカプトエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムトリフルオロアセテートを薄黄色の固体として提供する。
【００８１】
Ｃ．３−［ビス（２−メルカプトエチル）アミノ］−１−メチルピリジン−１−イウムトリフルオロアセテートの合成
【００８２】
【化２５】
0006884227.tif 000026
【００８３】
あらかじめ１０ｍＬのＤＭＦに溶解した１．５６ｇの３−フルオロ−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを含有する、シリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルに、１．５０ｇの量の炭酸カリウム及び１．００ｇの量の１，２，５−ジチアゼパン塩酸塩を添加する。次いで、反応混合物を７５℃に加熱し、磁気撹拌しながらこの温度で２時間維持する。ＵＰＬＣによって変換が完了したことが確認されると、カリウム塩を濾別し、真空を用いてＤＭＦを除去する。次いで、残留反応混合物を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、ＤＣＭ及びメタノールを移動相として用いて精製し、１．６２ｇ（８２％収率）の３−（１，２，５−ジチアゼパン−５−イル）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを薄黄色の固体として提供する。
【００８４】
あらかじめ１５ｍＬの水に溶解した１．００ｇの３−（１，２，５−ジチアゼパン−５−イル）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェート（１５ｍＬ）を含有し、０℃で冷却したシリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルに、０．６０ｇの量のＤＬ−１，４−ジチオトレイトールを添加する。反応混合物を、氷水浴中で１時間磁気撹拌する。ＵＰＬＣによって変換が完了したことが確認されると、次いで反応混合物を、Ｃ−１８逆相カラム上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、０．１％  ＴＦＡを有するメタノール／Ｈ２Ｏを移動相として用いて精製して、０．７４ｇ（７３％収率）の３−（（２−メルカプトエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムトリフルオロアセテートを薄黄色の固体として提供する。
【００８５】
Ｄ．３−（（２−（（アミノ（イミニオ）メチル）チオ）エチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムトリフルオロアセテートの合成
【００８６】
【化２６】
0006884227.tif 000027
【００８７】
あらかじめ３．００ｇの３−フルオロ−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを含有し、０℃に冷却したシリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルに、２．０５ｇの量の未希釈エタノールアミンを添加する。次いで、反応混合物を８０℃に加熱し、磁気撹拌しながらこの温度で３時間維持する。ＵＰＬＣを使用して変換が完了したことが確認されると、次いで反応混合物を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィによって、ＤＣＭ及びメタノールを移動相として用いて精製して、３．４１ｇ（９６％収率）の３−（（２−ヒドロキシエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェート（３．４１ｇ）を濃い無色の油として提供する。
【００８８】
あらかじめ３．４１ｇの３−（（２−ヒドロキシエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを含有する５００ｍＬの丸底フラスコに、１５０ｍＬの量の水性ＨＢｒ（４８％溶液）を添加する。次いで、反応混合物を磁気撹拌しながら８０℃に加熱する。ＬＣＭＳが、対応するブロミドへのアルコールの完全な変換を確認すると、次いで、真空を用いて過剰な水性ＨＢｒを除去する。残留赤褐色油を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、ジクロロメタン及びメタノールを移動相として用いて精製し、３．６３ｇ（８６％収率）の３−（（２−ブロモエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを濃い琥珀色の油として提供する。
【００８９】
あらかじめ２０ｍＬの水／エタノール（ｖ／ｖ＝１／１）に溶解した１．００ｇの３−（（２−ブロモエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムメチルサルフェートを含有する、シリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルに、０．２８ｇの量のチオ尿素を添加する。次いで、反応混合物を８０℃に加熱し、磁気撹拌しながらこの温度で１時間維持する。ＵＰＬＣによって変換が完了したことが確認されると、真空を用いて溶媒を除去する。次いで、残留反応混合物を、Ｃ−１８逆相カラム上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、メタノール／０．１％  ＴＦＡを有するＨ２Ｏを移動相として用いて精製して、１．２３ｇ（９２％収率）の３−（（２−（（アミノ（イミノ）メチル）チオ）エチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムトリフルオロアセテートを薄黄色の固体として提供する。
【００９０】
Ｅ．１，１’−（ブタン−１，４−ジイル）ビス（３−（メルカプトメチル）ピリジン−１−イウム）ブロミドの合成
【００９１】
【化２７】
0006884227.tif 000028
【００９２】
あらかじめ３．００ｇのピリジン−３−イルメタノールを含有する、シリコーン隔壁を備えたシンチレーションバイアルに、２．００ｇの量の未希釈１，４−ジブロモブタンを添加する。次いで、反応混合物をスクリューキャップで密封し、油浴上で８０℃に加熱する。反応混合物を磁気撹拌しながらこの温度で一晩維持する。得られた固体を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、ジクロロメタン及びメタノールを移動相として用いて精製して、３．５８ｇ（８９％収率）の１，１’−（ブタン−１，４−ジイル）ビス（３−（ヒドロキシメチル）ピリジン−１−イウム）ブロミドを白色固体として提供する。
【００９３】
あらかじめ３．００ｇの１，１’−（ブタン−１，４−ジイル）ビス（３−（ヒドロキシメチル）ピリジン−１−イウム）ブロミドを含有する２５０ｍＬの丸底フラスコに、１００ｍＬの量の水性ＨＢｒ（４８％溶液）を添加する。次いで、反応混合物を磁気撹拌しながら８０℃に加熱する。ＬＣＭＳが、対応するブロミドへのアルコールの完全な変換を確認すると、次いで、真空を用いて過剰な水性ＨＢｒを除去する。残留赤褐色油を、シリカ上の自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、ジクロロメタン及びメタノールを移動相として用いて精製し、３．２９ｇ（８５％収率）の１，１’−（ブタン−１，４−ジイル）ビス（３−（ブロモメチル）ピリジン−１−イウム）ブロミドを濃い琥珀色の固体として提供する。
【００９４】
あらかじめ１．５０ｇの１，１’−（ブタン−１，４−ジイル）ビス（３−（ブロモメチル）ピリジン−１−イウム）ブロミドを含有する１００ｍＬの蒸発フラスコに、３０ｍＬの量の無水ＤＭＦを添加する。次いで、得られた溶液を氷水浴中で冷却する。次いで、冷却された溶液に、０．８４ｇの量の硫化ナトリウムを添加する。次いで、反応混合物を磁気撹拌しながら徐々に室温まで温める。反応が進行するにつれて、溶液の色は暗くなる。ＨＰＬＣによって、対応するメルカプト化合物へのブロミドの変換が停止したことを確認した後、反応物を１２ｍＬの１Ｎ  ＨＢｒ溶液でクエンチする。次いで、真空を用いて溶媒を除去する。残留暗褐色スラリーを、Ｃ−１８逆相カラム上で自動フラッシュカラムクロマトグラフィを使用して、水及びアセトニトリルを移動相として用いて精製して、０．７２ｇ（５８％収率）の１，１’−（ブタン−１，４−ジイル）ビス（３−（メルカプトメチル）ピリジン−１−イウム）ブロミドを白色固体として提供する。
【００９５】
毛髪を処理する方法
還元組成物
本明細書では、（ａ）毛髪を所望の形状することと、（ｂ）毛髪を所望の形状にする前及び／又は後に、還元組成物を毛髪に適用することと、（ｃ）還元組成物を毛髪からすすぐことと、（ｄ）酸化組成物を毛髪に適用することと、（ｅ）酸化組成物を毛髪から水ですすぐことと、を含む、毛髪を処理するための方法が記載される。
【００９６】
還元組成物は、還元組成物の約２重量％〜約２０重量％、あるいは約２重量％〜約１８重量％、あるいは約２．５重量％〜約１５重量％、あるいは約５重量％〜約１３重量％、あるいは約７重量％〜約１２重量％、あるいは約９重量％〜約１１重量％の無臭チオールを含み得る。還元組成物は、無臭チオールのみを含むことができる。無臭チオールは、３−（（２−メルカプトエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムヨージドであり得る。
【００９７】
還元組成物は、還元組成物の約４重量％〜約１０重量％、あるいは約５重量％〜約７重量％の緩衝系を含み得る。緩衝系は、炭酸アンモニウム及び／又は水酸化アンモニウムを含み得る。
【００９８】
好適なｐＨ調整剤及び／又は緩衝剤としては、限定するものではないが、アンモニア；アルカノールアミド（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノプロパノールアミン、ジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオールなど）；グアニジウム塩；アルカリ金属及び水酸化アンモニウム及び炭酸アンモニウム；並びにこれらの混合物が挙げられる。
【００９９】
更に、ｐＨ調整剤及び／又は緩衝剤としては、限定するものではないが、水酸化ナトリウム；炭酸アンモニウム；酸味剤（例えば、リン酸、酢酸、アスコルビン酸、クエン酸又は酒石酸、塩酸を含む、無機及び無機酸など）；及びこれらの混合物が挙げられる。
【０１００】
還元組成物は、還元組成物の約５０重量％〜約９３．５重量％、あるいは約５５重量％〜約９２．５重量％、あるいは約６０重量％〜約９２．５重量％、あるいは約６５重量％〜約９２．５重量％、あるいは約７０重量％〜約９０重量％の溶媒を含むことができる。
【０１０１】
溶媒は、水、又は水と典型的には水に十分に可溶でないと化合物を溶解するための少なくとも１つの有機溶媒との混合物から選択され得る。
【０１０２】
好適な有機溶媒としては、限定するものではないが、Ｃ１〜Ｃ４低級アルカノール（エタノール、プロパノール、イソプロパノールなど）；芳香族アルコール（ベンジルアルコール及びフェノキシエタノールなど）；ポリオール及びポリオールエーテル（例えば、カルビトール、２−ブトキシエタノール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、モノメチルエーテル、ヘキシレングリコール、グリセロール、エトキシグリコール、ブトキシジグリコール、エトキシジグリセロール、ジプロピレングリコール（dipropyleneglocol）、ポリグリセロール（polygylcerol））；プロピレンカーボネート；並びにこれらの混合物が挙げられる。
【０１０３】
溶媒はまた、水、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、グリセロール、１，２−プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、エトキシジグリコール、及びこれらの混合物からなる群から選択され得る。
【０１０４】
還元組成物は、約７〜約１１、あるいは約８〜約１０．５、あるいは約９〜約１０のｐＨを有し得る。
【０１０５】
還元組成物は、キレート剤、ラジカルスカベンジャ、増粘剤、レオロジ変性剤、塩、炭酸イオン源、コンディショニング剤、界面活性剤、香料、及びこれらの混合物からなる群から選択される１つ以上の任意成分を更に含むことができる。
【０１０６】
酸化組成物は、酸化組成物の約０．５重量％〜約１２重量％、あるいは約１重量％〜約８重量％、あるいは約１重量％〜約５重量％の酸化剤を含むことができる。
【０１０７】
酸化剤は、水溶性過酸素酸化剤から選択することができる。水溶性過酸素酸化剤としては、限定するものではないが、過酸化水素、無機アルカリ金属過酸化物（例えば、過ヨウ素酸ナトリウム及び過酸化ナトリウム）、有機過酸化物（例えば、過酸化尿素及び過酸化メラミン）、並びに無機過水和物の塩の脱色化合物（例えば、過ホウ酸、過炭酸、過リン酸、過ケイ酸、過硫酸等のアルカリ金属塩）が挙げられる。これらの無機過水和物塩は、一水和物、四水和物等として組み込まれてもよい。アルキル及びアリール過酸化物、並びに又はペルオキシダーゼ、オキシダーゼ、並びにウリカーゼ及びこれらの基質が使用されてもよい。また必要に応じて、２つ以上のそのような酸化剤の混合物を用いることもできる。酸化剤は、水溶液で提供されてもよいし、使用前に溶解される粉末として提供されてもよい。酸化剤は、過酸化水素、過炭酸塩、過硫酸塩、及びこれらの混合物からなる群から選択されてもよい。
【０１０８】
本明細書に用いるための潜在的な酸化剤は、過酸化水素源からその場で形成されるペルオキソ一炭酸イオン源及び炭酸水素イオン源である。更に、この系は、アンモニア又はアンモニウムイオン源と組み合わせると特に効果的であり得る。したがって、これらのペルオキソ一炭酸イオンの任意の供給源が使用されてもよい。本明細書の使用に好適な供給源としては、炭酸イオン、カルバミン酸イオン、及び炭酸水素イオンのナトリウム塩、カリウム塩、グアニジン塩、アルギニン塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩、及びアンモニウム塩、並びにこれらの混合物、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸グアニジン、炭酸水素グアニジン、炭酸リチウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、及びこれらの混合物を挙げることができる。過炭酸塩は、酸化剤として、及び炭酸イオンの供給源としての両方で使用されてもよい。炭酸イオン、カルバメートイオン、及び炭酸水素イオンの供給源としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、カルバミン酸アンモニウム、及びこれらの混合物が挙げられる。酸化組成物は、臭素酸カリウム、臭素酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム、デヒドロアスコルビン酸、過酸化水素、過酸化尿素、及びこれらの混合物からなる群から選択される。酸化剤は、過酸化水素であり得る。
【０１０９】
酸化組成物は、酸化組成物の約８０重量％〜約９７重量％、あるいは約８５重量％〜約９７重量％、あるいは約９０重量％〜約９５重量％の溶媒を含むことができる。
【０１１０】
酸化組成物は、キレート剤、ラジカルスカベンジャ、増粘剤、レオロジ変性剤、塩、炭酸イオン源、コンディショニング剤、界面活性剤、香料、及びこれらの混合物からなる群から選択される１つ以上の任意成分を更に含むことができる。
【０１１１】
この方法はまた、脱毛／除毛に使用することができる。ここで、還元組成物のｐＨは、約８〜約１２、あるいは約９〜約１１．５、あるいは約１０であり得る。
【０１１２】
毛髪を処理する方法は、まず（洗浄され、タオルで乾燥された）毛髪を複数の区画に分離することを含むことができ、次いで、これらの区画を（ストレート化のために任意に）カーラー上に巻くことができる。パーマネントウェーブに使用されるカーラーは、約５ｍｍ〜約１３ｍｍの直径を有し得る一方、ストレート化に使用されるカーラーは、１３ｍｍ超の直径を有し得る。
【０１１３】
カーラー上での圧延が終了した後、必要な量の還元組成物（約６０ｇ〜約１２０ｇであり得る）を使用して、カーラーを十分に濡らすことができる。
【０１１４】
パーマネント成形組成物が毛髪上に留まる時間の量は、約１分〜約３０分、あるいは約１５分〜約３０分であり得る。この作用時間は、熱放射器又はフードドライヤーを使用して熱を加えることによって短縮することができる。
【０１１５】
毛髪の質、ｐＨ値、成形剤の成形有効性、所望の変化レベル、並びに適用温度に依存するパーマネント成形に十分な作用時間が経過した後、次いで毛髪を水ですすぐ。所望により、ストレート化のために、毛髪を乾燥させ、次いで、平坦なアイロンなどの加熱されたデバイスで平らにして、所望の形状を達成してもよい。
【０１１６】
その後、毛髪を酸化的に後処理する（「固定」）。酸化組成物は、毛髪の厚さ及び長さに応じて、約５０ｇ〜約２００ｇ、あるいは約８０ｇ〜約１００ｇの量で使用することができる。酸化剤の濃度は、適用時間（通常は約１分〜約４０分、あるいは約５分〜約２０分）及び適用温度（２５℃〜５０℃）に応じて変化し得る。
【０１１７】
約３分〜約１５分、あるいは約５分〜約１０分の固定用組成物に必要な作用期間の後、カーラーを除去する（使用する場合）。次いで、毛髪が所望に応じて最終的に成形され、次いで乾燥される場合に有利であり得る。
【０１１８】
（実施例）
以下の実施例は、本明細書に記載される組成物を説明する。例示する組成物は、従来の配合及び混合技法により調製することできる。当業者の技術範囲内で、本明細書に記載される組成物の他の変更が、本明細書に記載される組成物の趣旨及び範囲から逸脱することなく行われ得ることが理解されよう。本明細書における全ての部、百分率（％）、及び比は、特に指定しない限り、重量基準である。特定の成分は、供給元から希釈溶液として供給され得る。明記されている量は、特に指定しない限り、活性物質の重量％を表す。
【０１１９】
【表１】
0006884227.tif 000029
１：無臭チオールは、本明細書に記載される任意の無臭チオールであってもよい。
２：Ａｓｈｌａｎｄにより供給されるＰＶＰポリマー。
３：Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓにより供給されるＰＥＧ−１５０／ステアリル／ＳＭＤＩコポリマー。
４：ＢＡＳＦにより供給される化学的構成。
【０１２０】
【表２】
0006884227.tif 000030
【０１２１】
データ
マネキンヘッド臭気及びカール専門家の評価
対照パーマ：Ｚｏｔｏｓ  Ｐｒｏｆｅｓｓｉｏｎａｌから入手可能な、チオグリコール酸アンモニウムを有するＯｍｎｉｐｅｒｍ（商標）（還元工程及び酸化工程の両方を含む）
【０１２２】
【表３】
0006884227.tif 000031
【０１２３】
【表４】
0006884227.tif 000032
【０１２４】
臭気評価：
２０余年のパーマに関する専門知識を有する公認化粧品専門医による処置及び専門家の感覚グラフに示される全ての評価は、乾燥前の濡れた状態の毛髪で行った。硫黄臭気は、試験パーマ処理で開始からゼロであった。処理中、試験パーマは、水酸化アンモニウム／カルボナート緩衝液からいくらかのアンモニア臭を有し、これは表１に「総臭気」として表される。
【０１２５】
【表５】
0006884227.tif 000033
【０１２６】
カール保持評価：
２０余年のパーマに関する専門知識を有する公認化粧品専門医による処置及び専門家の感覚グラフに示される全ての評価は、空気乾燥後に乾燥状態の毛髪で行った。写真は、ほとんどの時点でも利用可能である。
【０１２７】
【表６】
0006884227.tif 000034
【０１２８】
結論：
３−（（２−メルカプトエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムヨウ化物試験処理は、２０回の洗浄により基準の対照パーマに等しいカール保持（表２のデータ）を提供したが、対照（表１のデータ）よりも有意に少ない臭気を有していた。
【０１２９】
脱毛剤組成物
脱毛剤組成物は、２分以上皮膚に適用することができる。
【０１３０】
身体表面から毛髪を除去する方法であって、方法は、
ａ．毛髪を除去することが望ましい身体表面に組成物を適用する工程と、
ｂ．組成物を身体表面上に１〜１５分間放置する工程と、
ｃ．組成物を身体表面から除去する工程と、を含み得る。
【０１３１】
【表７】
0006884227.tif 000035
１Ｌｕｂｒｉｚｏｌより供給されるＵｌｔｒｅｚ  ２０
【０１３２】
組み合わせ：
Ａ．毛髪を処理するための方法であって、
ａ．毛  髪を所望の形状にすることと、
ｂ．毛髪を所望の形状にする前及び／又は後に、
ｉ．還元組成物の約２．５重量％〜約１５重量％のカチオン性メルカプトアミノピリジニウム化合物又はカチオン性ジメルカプトアミノピリジニウム化合物、
ｉｉ．還元組成物の約４重量％〜約１０重量％の緩衝系、及び
ｉｉｉ．還元組成物の約５０重量％〜約９３．５重量％の溶媒を含む、還元組成物を毛髪に適用することであって、
還元組成物が、約８〜約１０．５のｐＨを有する、適用することと、
ｃ．還元組成物を毛髪からすすぐことと、
ｄ．
ｉ．酸化組成物の約０．５重量％〜約１２重量％の酸化剤、及び
ｉｉ．酸化組成物の約８０重量％〜約９７重量％の溶媒を含む、酸化組成物を毛髪に適用することと、
ｅ．酸化組成物を毛髪からすすぐことと、を含む、方法。
Ｂ．還元組成物が、還元組成物の約５５重量％〜約９２．５重量％の溶媒を含む、パラグラフＡに記載の方法。
Ｃ．還元組成物が、還元組成物の約６０重量％〜約９２．５重量％の溶媒、好ましくは約７０重量％〜約９０重量％の溶媒、より好ましくは酸化組成物の約８５重量％〜約９７重量％の溶媒、最も好ましくは約９０重量％〜約９５重量％の溶媒を含む、パラグラフＡ又はＢに記載の方法。
Ｄ．酸化剤が、過酸化水素である、パラグラフＡ〜Ｃに記載の方法。
Ｅ．還元組成物が、還元組成物の約５重量％〜約１３％のカチオン性メルカプトアミノピリジニウム化合物又はカチオン性ジメルカプトアミノピリジニウム化合物を含む、パラグラフＡ〜Ｄに記載の方法。
Ｆ．還元組成物が、還元組成物の約７重量％〜約１２％重量％、好ましくは約９重量％〜約１１％のカチオン性メルカプトアミノピリジニウム化合物又はカチオン性ジメルカプトアミノピリジニウム化合物を含む、パラグラフＡ〜Ｅに記載の方法。
Ｇ．還元組成物が、カチオン性メルカプトアミノピリジニウム化合物を含む、パラグラフＡ〜Ｆに記載の方法。
Ｈ．カチオン性メルカプトアミノピリジニウム化合物が、３−（（２−メルカプトエチル）アミノ）−１−メチルピリジン−１−イウムヨウ化物である、パラグラフＡ〜Ｇに記載の方法。
Ｉ．還元組成物が、還元組成物の約５重量％〜約７重量％の緩衝系を含む、パラグラフＡ〜Ｈに記載の方法。
Ｊ．還元組成物が、約９〜約１０のｐＨを有する、パラグラフＡ〜Ｉに記載の方法。
Ｋ．緩衝系が、炭酸アンモニウム及び水酸化アンモニウムを含む、パラグラフＡ〜Ｊに記載の方法。
Ｌ．酸化組成物が、酸化組成物の約１重量％〜約７重量％の酸化剤を含む、パラグラフＡ〜Ｋに記載の方法。
Ｍ．酸化組成物が、酸化組成物の約１重量％〜約５重量％の酸化剤を含む、パラグラフＡ〜Ｌに記載の方法。
Ｎ．還元組成物が、キレート剤、ラジカルスカベンジャ、増粘剤、レオロジ変性剤、塩、炭酸イオン源、コンディショニング剤、界面活性剤、香料、及びこれらの混合物からなる群から選択される１つ以上の任意成分を更に含む、パラグラフＡ〜Ｍに記載の方法。
Ｏ．還元組成物が、キレート剤、ラジカルスカベンジャ、増粘剤、レオロジ変性剤、塩、炭酸イオン源、コンディショニング剤、界面活性剤、香料、及びこれらの混合物からなる群から選択される１つ以上の任意成分を更に含む、パラグラフＡ〜Ｎに記載の方法。
Ｐ．以下の構造を含む無臭チオール化合物であって、
【０１３３】
【化２８】
0006884227.tif 000036
Ｘａ’
式中、Ｒ１ａが、直鎖アルキル、分枝アルキル、シクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル若しくはアルケニル基、又は二量体構造を形成するＸａの別の部分に連結するリンカー基Ｌであり、
Ｌが、直鎖アルキル、分枝アルキル、又はシクロアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、又はアルケニル基であり、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、及びＲ１ｅが、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アシル、又は複素環部分から選択され、
式中、Ｗ及びＺが、同じであるか又は異なっており、水素又は以下の構造によって表されるＴ基であり、
【０１３４】
【化２９】
0006884227.tif 000037
式中、Ｗ及びＺのうちの１つのみが、水素を含み、
式中、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、チオアルキル、又はアミノアルキルから選択され、
式中、ｍ及びｎが、独立して、０〜５の範囲の整数であり、
式中、Ｘが、ＣＨ又はＮから選択され、
式中、Ｙが、ＳＲであり、
Ｒが、Ｈ、又はイソチオウロニウム、チオアセチル、チオテトラヒドロピラニル、−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−、別のメルカプトラジカル（Ｘａ）若しくは（Ｘａ’）に連結してジスルフィド構造を形成するメルカプトラジカル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される保護チオール基を含み、
式中、Ａ−が、ブロミド、クロリド、ヨージド、スルファート、メタンスルホナート、カルボナート、ホスファート、アセタート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
Ｑ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、及びＲ１ｅが水素である、パラグラフＰに記載の化合物。
Ｒ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、ｍ＋ｎが、１以上、好ましくは２超である、パラグラフＰ又はＱに記載の化合物。
Ｓ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、ｍ＋ｎが、１以上、好ましくは２超であり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−であり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜Ｒに記載の化合物。
Ｔ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、無臭チオールが、分子構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、ｍが１であり、ｎが２であり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−であり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜Ｓに記載の化合物。
Ｕ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、ｍ及びｎの両方が、２であり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−であり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜Ｔに記載の化合物。
Ｖ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１である、パラグラフＰ〜Ｕに記載の化合物。
Ｗ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１であり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜Ｖに記載の化合物。
Ｘ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１であり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−であり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−である、パラグラフＰ〜Ｗに記載の化合物。
Ｙ．無臭チオールが、構造Ｘａ’によって表され、
式中、Ｗ、Ｒ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、Ｌが、−（ＣＨ２）４−であり、
Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜Ｘに記載の化合物。
Ｚ．無臭チオールが、構造Ｘａ’によって表され、
式中、Ｗ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、Ｌが、−（ＣＨ２）４−であり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−であり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜Ｙに記載の化合物。
ＡＡ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、Ｗ及びＺの両方が、Ｔ基である、パラグラフＰ〜Ｚに記載の化合物。
ＢＢ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、ｍ＋ｎが、１以上、好ましくは２以上であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基である、パラグラフＰ〜ＡＡに記載の化合物。
ＣＣ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、ｍ及びｎの両方が、１であり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜ＢＢに記載の化合物。
ＤＤ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、Ｎであり、
式中、ｍ及びｎの両方が、１であり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、Ｒが、Ｈ又は−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−であり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜ＣＣに記載の化合物。
ＥＥ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１である、パラグラフＰ〜ＤＤに記載の化合物。
ＦＦ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１であり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜ＥＥに記載の化合物。
ＧＧ．無臭チオールが、構造Ｘａによって表され、
式中、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｊ、及びＲ１ｋが、水素であり、
Ｗ基及びＺ基の両方が、Ｔ基であり、
式中、Ｘが、ＣＨであり、
式中、Ｒ１ａが、メチルであり、
式中、ｍが０であり、ｎが１であり、
式中、Ｒが、−Ｃ（ＮＨ２）＝ＮＨ２＋Ａ−であり、
式中、Ａ−が、Ｂｒ−である、パラグラフＰ〜ＦＦに記載の化合物。
ＨＨ．約０．５％〜約２０％、好ましくは、約１％〜約１５％、より好ましくは約３％〜約１２％、最も好ましくは約５％〜約１２％のパラグラフＰ〜ＧＧに記載の無臭チオールを含む、パーマネントスタイリング組成物。
ＩＩ．約１％〜約２０％、好ましくは約３％〜約１８％、より好ましくは約５％〜約１５％のパラグラフＰ〜ＨＨに記載の無臭チオールを含む、脱毛剤組成物。
ＪＪ．毛髪をパーマネント成形するために毛髪を処理する方法であって、
（ａ）毛髪を所望の形状にする工程と、
（ｂ）毛髪を所望の形状にする前及び／又は後に、パラグラフＰ〜ＩＩに従うパーマネントスタイリング組成物を毛髪に適用する工程と、
（ｃ）還元組成物を毛髪からすすぐ工程と、
（ｄ）
（ｉ）酸化組成物の約０．５重量％〜約１２重量％の酸化剤、及び
（ｉｉ）酸化組成物の約８０重量％〜約９７重量％の溶媒を含む、酸化組成物を毛髪に適用する工程と、
（ｅ）酸化組成物を毛髪からすすぐ工程と、を含む、方法。
ＫＫ．身体表面から毛髪を除去する方法であって、
（ａ）毛髪を除去することが望ましい身体表面に、パラグラフＰ〜ＩＩに従う組成物を適用する工程と、
（ｂ）組成物を、身体表面上に約１〜約１５分間、好ましくは約３〜約１０分間、より好ましくは約５〜約７分間放置する工程と、
（ｃ）組成物を、身体表面から除去する工程と、を含む、方法。
ＬＬ．除毛のための請求項１に記載の式Ｘａ又はＸａ’の以下の構造のうちの１つを有する、無臭チオール化合物の使用。
ＭＭ．毛髪をパーマネント成形するための、請求項１に記載の式Ｘａ又はＸａ’の以下の構造のうちの１つを有する、無臭チオール化合物の使用。
【０１３５】
本明細書にて開示された寸法及び値は、列挙された正確な数値に厳密に限定されるものとして理解されるべきではない。その代わりに、特に指示がない限り、このような寸法はそれぞれ、列挙された値とその値を囲む機能的に同等な範囲との両方を意味することが意図されている。例えば、「４０ｍｍ」として開示される寸法は、「約４０ｍｍ」を意味することが意図される。
【０１３６】
相互参照されるか又は関連する全ての特許又は特許出願、及び本願が優先権又はその利益を主張する任意の特許出願又は特許を含む、本明細書に引用される全ての文書は、明示的に除外されるか、又は別途制限されない限り、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。いかなる文献の引用も、本明細書中で開示又は特許請求される任意の発明に対する先行技術であるとはみなされず、あるいはそれを単独で又は他の任意の参考文献と組み合わせたときに、そのような任意の発明を教示、示唆、又は開示するとはみなされない。更に、本文書における用語の任意の意味又は定義が、参照することによって組み込まれた文書内の同じ用語の意味又は定義と矛盾する場合、本文書におけるその用語に与えられた意味又は定義が適用されるものとする。
【０１３７】
本発明の特定の実施形態を例示及び説明してきたが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく他の様々な変更及び修正を行うことができる点は当業者には明白であろう。したがって、本発明の範囲内に含まれるそのような全ての変更及び修正は、添付の特許請求の範囲にて網羅することを意図したものである。