(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線源と検出部との間に配置され、前記Ｘ線源から照射されるＸ線により自己像を形成するための第１格子と、前記第１格子の自己像と干渉させるための第２格子と、を含むとともに、前記検出部で検出された前記Ｘ線の検出信号に基づいて、吸収像、位相微分像および暗視野像のうちの少なくとも１つを含む位相コントラスト画像を生成するＸ線位相イメージング装置に用いられる格子の調整方法において、
前記第１格子と前記第２格子との間に配置された調整用光源から、前記調整用光源の近傍に前記調整用光源との相対位置が固定されるように配置された開口部を介して、前記第１格子または前記第２格子のいずれか一方に向かって調整用光を照射する工程と、
前記第１格子または前記第２格子のいずれか一方により反射された第１反射調整用光と、前記第１反射調整用光が前記第１格子または前記第２格子のいずれか他方により反射された第２反射調整用光とが、ともに前記開口部を通過するように、前記Ｘ線源と前記検出部とを結ぶ前記Ｘ線の照射軸方向と直交する面内方向のうちの第１方向回りの第１回転方向、および、前記面内方向のうちの前記第１方向と直交する第２方向回りの第２回転方向のうちの少なくとも一方における、前記第１格子と前記第２格子との位置ずれを調整する工程と、を備える、格子の調整方法。
【請求項２】
前記調整用光は、レーザ光を含む、請求項１に記載の格子の調整方法。
【請求項３】
前記調整用光は、可視光を含む、請求項１に記載の格子の調整方法。
【請求項４】
前記開口部は、スリットを含み、
前記スリットは、前記第１回転方向における前記位置ずれを調整する工程が行われる場合には、前記第１方向に延びるように配置され、前記第２回転方向における前記位置ずれを調整する工程が行われる場合には、前記第２方向に延びるように配置される、請求項１に記載の格子の調整方法。
【請求項５】
前記調整用光を照射する工程は、前記第１回転方向における前記位置ずれを調整する工程が行われる場合には、前記スリットが形成された部材の光入射面に対して前記第１方向に傾斜した方向に前記調整用光を照射する工程を含み、前記第２回転方向における前記位置ずれを調整する工程が行われる場合には、前記スリットが形成された部材の光入射面に対して前記第２方向に傾斜した方向に前記調整用光を照射する工程を含む、請求項４に記載の格子の調整方法。
【請求項６】
前記位置ずれを調整する工程は、
前記第１反射調整用光が、前記開口部を通過するように、前記第１格子または前記第２格子のいずれか一方と、前記開口部との位置ずれを調整する工程と、
前記第１反射調整用光が前記開口部を通過するように前記位置ずれを調整する工程を行った後に、前記第２反射調整用光が、前記開口部を通過するように、前記第１格子または前記第２格子のいずれか他方と、前記第１格子または前記第２格子のいずれか一方との位置ずれを調整する工程と、を含む、請求項１に記載の格子の調整方法。
【請求項７】
前記位置ずれを調整する工程は、
前記第１反射調整用光と前記第２反射調整用光とが、ともに前記開口部を通過するように、前記第２回転方向における、前記第１格子と前記第２格子との位置ずれを調整する工程と、
前記第２回転方向における前記第１格子と前記第２格子との位置ずれを調整する工程を行った後に、前記調整用光源および前記開口部を前記照射軸方向回りに略９０度回転した状態で、前記第１反射調整用光と前記第２反射調整用光とが、ともに前記開口部を通過するように、前記第１回転方向における、前記第１格子と前記第２格子との位置ずれを調整する工程と、を含む、請求項１に記載の格子の調整方法。
【請求項８】
前記調整用光を照射する工程および前記位置ずれを調整する工程において、前記開口部は、前記照射軸方向における、前記第１格子と前記第２格子との間の中央部に配置されている、請求項１に記載の格子の調整方法。
【請求項９】
前記位置ずれを調整する工程は、前記調整用光が反射される面に格子パターンが形成されている場合、前記格子パターンにより回折されることにより生成された複数の前記第１反射調整用光において、最も強度の高い前記第１反射調整用光を用いて前記位置ずれを調整する工程を含むとともに、前記第１反射調整用光が反射される面に格子パターンが形成されている場合、前記格子パターンにより回折されることにより生成された複数の前記第２反射調整用光において、最も強度の高い前記第２反射調整用光を用いて前記位置ずれを調整する工程を含む、請求項１に記載の格子の調整方法。
【請求項１０】
前記位置ずれを調整する工程は、前記第１反射調整用光と、前記第２反射調整用光と、前記第２反射調整用光が前記第１格子および前記第２格子により多重反射された第３反射調整用光とに基づいて、前記位置ずれを調整する工程をさらに含む、請求項１に記載の格子の調整方法。
【請求項１１】
前記開口部の幅は、前記調整用光のスポット径以上となるように設定されている、請求項１に記載の格子の調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、格子の調整方法に関し、特に、吸収像、位相微分像および暗視野像のうちの少なくとも１つを含む位相コントラスト画像を生成するＸ線位相イメージング装置に用いられる格子の調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、吸収像、位相微分像および暗視野像のうちの少なくとも１つを含む位相コントラスト画像を生成するＸ線位相イメージング装置に用いられる格子の調整方法が知られている。このようなＸ線位相イメージング装置は、たとえば、国際公開第２０１８／０１６３６９号に開示されている。【０００３】
国際公開第２０１８／０１６３６９号には、Ｘ線源と、Ｘ線源からＸ線が照射されて、自己像を形成するための第１格子と、第１格子を通過したＸ線が照射される第２格子と、第２格子を通過したＸ線を検出する検出部と、を備えたＸ線位相イメージング装置が開示されている。国際公開第２０１８／０１６３６９号のＸ線位相イメージング装置では、検出部で検出されたＸ線の強度信号に基づいて、吸収像、位相微分像および暗視野像を含む位相コントラスト画像が生成される。【０００４】
国際公開第２０１８／０１６３６９号のＸ線位相イメージング装置では、第１格子または第２格子の位置を調整する調整機構と、検出部により検出されたモアレ縞に基づいて、調整機構により第１格子の位置ずれまたは第２格子の位置ずれを調整する制御部と、を備えている。これにより、国際公開第２０１８／０１６３６９号のＸ線位相イメージング装置では、意図しないモアレ縞が発生した場合に、意図しないモアレ縞をなくすように第１格子の位置ずれまたは第２格子の位置ずれ（第１格子と第２格子と位置ずれ）を調整することによって、意図しないモアレ縞に起因した撮像画像の画質の低下を抑制している。なお、国際公開第２０１８／０１６３６９号のＸ線位相イメージング装置では、以下の４つの方向における第１格子の位置ずれまたは第２格子の位置ずれを調整するように構成されている。４つの方向とは、Ｘ線の照射軸方向、Ｘ線の照射軸方向回りの回転方向、Ｘ線の照射軸方向と直交する面内方向のうちの、第１直交方向（第１方向）回りの回転方向（第１回転方向）、および、面内方向のうちの第１直交方向と直交する第２直交方向（第２方向）回りの回転方向（第２回転方向）である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１８／０１６３６９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、国際公開第２０１８／０１６３６９号には記載されていないが、国際公開第２０１８／０１６３６９号のような従来のＸ線位相イメージング装置では、４つの方向のうち、第１回転方向および第２回転方向における格子（第１格子または第２格子）の位置ずれは、意図しないモアレ縞の発生に対して、比較的影響が少ないことが知られている。したがって、第１回転方向および第２回転方向における格子の位置ずれ（Ｘ線の照射軸方向と直交する面内方向における第１格子と第２格子との平行度）を、たとえば、装置の出荷前に一度だけ調整して固定すれば、調整後に第１回転方向および第２回転方向において格子が多少位置ずれしても意図しないモアレ縞が発生しにくい。この場合、装置の使用時には、意図しないモアレ縞の発生を抑制するための第１回転方向および第２回転方向における格子の位置ずれの調整を省略することが可能であると考えられる。【０００７】
そこで、第１回転方向および第２回転方向における格子の位置ずれを、検出部により検出されたモアレ縞に基づいて調整する場合のようにモアレ縞を取得するための撮像を行うことなく、装置の出荷前に一度だけ調整するための簡易な方法が望まれている。【０００８】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、Ｘ線位相イメージング装置において、Ｘ線の照射軸方向と直交する面内方向における平行度を簡易に調整することが可能な格子の調整方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、この発明の一の局面における格子の調整方法は、Ｘ線源と検出部との間に配置され、Ｘ線源から照射されるＸ線により自己像を形成するための第１格子と、第１格子の自己像と干渉させるための第２格子と、を含むとともに、検出部で検出されたＸ線の検出信号に基づいて、吸収像、位相微分像および暗視野像のうちの少なくとも１つを含む位相コントラスト画像を生成するＸ線位相イメージング装置に用いられる格子の調整方法において、第１格子と第２格子との間に配置された調整用光源から、調整用光源の近傍に調整用光源との相対位置が固定されるように配置された開口部を介して、第１格子または第２格子のいずれか一方に向かって調整用光を照射する工程と、第１格子または第２格子のいずれか一方により反射された第１反射調整用光と、第１反射調整用光が第１格子または第２格子のいずれか他方により反射された第２反射調整用光とが、ともに開口部を通過するように、Ｘ線源と検出部とを結ぶＸ線の照射軸方向と直交する面内方向のうちの第１方向回りの第１回転方向、および、面内方向のうちの第１方向と直交する第２方向回りの第２回転方向のうちの少なくとも一方における、第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程と、を備える。【００１０】
この発明の一の局面による格子の調整方法では、上記のように、第１格子または第２格子のいずれか一方により反射された第１反射調整用光と、第１反射調整用光が第１格子または第２格子のいずれか他方により反射された第２反射調整用光とが、ともに開口部を通過するように、第１回転方向（Ｘ線の照射軸方向と直交する面内方向のうちの第１方向回りの回転方向）および第２回転方向（上記面内方向のうちの第１方向と直交する第２方向回りの回転方向）における、第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程を備える。ここで、第１方向から見て、第１反射調整用光と第２反射調整用光とが、ともに開口部を通過する状態となった場合、第１方向から見て、第１格子と第２格子とが略平行となる（すなわち、第１回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれが抑制される）。また、第２方向から見て、第１反射調整用光と第２反射調整用光とが、ともに開口部を通過する状態となった場合、第２方向から見て、第１格子と第２格子とが略平行となる（すなわち、第２回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれが抑制される）。したがって、第１反射調整用光および第２反射調整用光が、ともに開口部を通過する状態となるように、第１回転方向および第２回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整することにより、第１回転方向および第２回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを抑制することができる。その結果、光が開口部を通過した状態と通過しない状態とは、目視や比較的簡素な構成の光検出器によって容易に判別することができるので、Ｘ線の照射軸方向と直交する面内方向における平行度を簡易に調整することができる。また、光が開口部を通過したか否かにより格子の位置ずれを調整するので、格子を水準器や角度計を使用して調整する必要がないとともに、モアレ縞を取得するための撮像を行う必要がない。【００１１】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、調整用光は、レーザ光を含む。ここで、レーザ光は、高い指向性を有する（ほとんど広がらずに直線的に進む）ので、第１格子と第２格子とが位置ずれしている場合には、第１反射調整用光または第２反射調整用光は開口部を通過しない。すなわち、指向性の低い光では、第１格子と第２格子とが位置ずれしている場合でも開口部を通過してしまう場合がある。したがって、上記のようにレーザ光を用いれば、第１格子と第２格子とが位置ずれしている場合に開口部を通過してしまうのを抑制することができるので、精度よく、第１格子と第２格子との位置ずれを調整することができる。【００１２】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、調整用光は、可視光を含む。このように構成すれば、第１反射調整用光および第２反射調整用光の位置を目視によって観察しながら、第１格子と第２格子との位置ずれを調整することができる。その結果、可視光以外の波長帯域の光を用いる場合のように可視光以外の波長帯域の光を検出するための光検出器等を用いることなく、Ｘ線の照射軸方向と直交する面内方向における平行度をより簡易に調整することができる。【００１３】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、開口部は、スリットを含み、スリットは、第１回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合には、第１方向に延びるように配置され、第２回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合には、第２方向に延びるように配置される。ここで、第１回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程が行われる場合には、第１反射調整用光と第２反射調整用光とが互いに干渉しないように、第１反射調整用光と第２反射調整用光とが、互いに第１方向にずれた状態で、ともに開口部を通過させるように位置ずれを調整する必要がある。また、第２回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程が行われる場合には、第１反射調整用光と第２反射調整用光とが互いに干渉しないように、第１反射調整用光と第２反射調整用光とが、互いに第２方向にずれた状態で、ともに開口部を通過させるように位置ずれを調整する必要がある。したがって、上記のように構成すれば、第１回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合には、第１反射調整用光および第２反射調整用光が、互いに第１方向にずれた状態で、ともに、第１方向に延びるように配置されたスリットを通過する状態となるように、第１回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整することができる。また、第２回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合には、第１反射調整用光および第２反射調整用光が、互いに第２方向にずれた状態で、ともに、第２方向に延びるように配置されたスリットを通過する状態となるように、第２回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整することができる。【００１４】
この場合、好ましくは、調整用光を照射する工程は、第１回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリットが形成された部材の光入射面に対して第１方向に傾斜した方向に調整用光を照射する工程を含み、第２回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリットが形成された部材の光入射面に対して第２方向に傾斜した方向に調整用光を照射する工程を含む。このように構成すれば、第１回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリットが形成された部材の光入射面に対して、第１方向に傾斜した方向に調整用光を照射するので、第１反射調整用光と第２反射調整用光とを、互いに第１方向にずれた状態で、スリットが形成された部材に入射させることができる。その結果、第１回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合に、第１反射調整用光および第２反射調整用光が、確実に、互いに第１方向にずれた状態で、ともに、第１方向に延びるように配置されたスリットを通過する状態にすることができる。また、第２回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリットが形成された部材の光入射面に対して、第２方向に傾斜した方向に調整用光を照射するので、第１反射調整用光と第２反射調整用光とを、確実に、互いに第２方向にずれた状態で、スリットが形成された部材に入射させることができる。その結果、第２回転方向における位置ずれを調整する工程が行われる場合に、第１反射調整用光および第２反射調整用光が、確実に、互いに第２方向にずれた状態で、ともに、第２方向に延びるように配置されたスリットを通過する状態にすることができる。【００１５】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光が、開口部を通過するように、第１格子または第２格子のいずれか一方と、開口部との位置ずれを調整する工程と、第１反射調整用光が開口部を通過するように位置ずれを調整する工程を行った後に、第２反射調整用光が、開口部を通過するように、第１格子または第２格子のいずれか他方と、第１格子または第２格子のいずれか一方との位置ずれを調整する工程と、を含む。このように構成すれば、第１格子または第２格子のいずれか一方と、開口部との位置ずれを調整する工程を行うことによって、第１反射調整用光が、開口部を通過する状態にした後に、第１格子または第２格子のいずれか他方と、第１格子または第２格子のいずれか一方との位置ずれを調整する工程を行うことによって、確実に、第１反射調整用光および第２反射調整用光が、ともに開口部を通過する状態にすることができる。【００１６】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光と第２反射調整用光とが、ともに開口部を通過するように、第２回転方向における、第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程と、第２回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程を行った後に、調整用光源および開口部を照射軸方向回りに略９０度回転した状態で、第１反射調整用光と第２反射調整用光とが、ともに開口部を通過するように、第１回転方向における、第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程と、を含む。このように構成すれば、第１回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程と、第２回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程とを、調整用光源および開口部の向きを略第１方向と略第２方向との間で変更するだけで行うことができる。その結果、共通の調整用光源および開口部によって、第１回転方向および第２回転方向の両方における位置ずれを調整することができるので、位置ずれを調整するための構成を簡略化することができる。【００１７】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、調整用光を照射する工程および位置ずれを調整する工程において、開口部は、照射軸方向における、第１格子と第２格子との間の中央部に配置されている。ここで、開口部と格子（第１格子または第２格子）との距離が比較的近い場合、第１格子と第２格子とが位置ずれしていても、反射された光（第１反射調整用光または第２反射調整用光）が開口部を通過してしまう場合がある。したがって、上記のように構成すれば、第１反射調整用光と開口部との距離および第２反射調整用光と開口部との距離が比較的大きくなるので、第１格子と第２格子とが位置ずれしていた場合に、反射された光（第１反射調整用光または第２反射調整用光）が開口部を通過してしまうことに起因して第１格子と第２格子との位置ずれを適切に調整できなくなるのを抑制することができる。【００１８】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、位置ずれを調整する工程は、調整用光が反射される面に格子パターンが形成されている場合、格子パターンにより回折されることにより生成された複数の第１反射調整用光において、最も強度の高い第１反射調整用光を用いて位置ずれを調整する工程を含むとともに、第１反射調整用光が反射される面に格子パターンが形成されている場合、格子パターンにより回折されることにより生成された複数の第２反射調整用光において、最も強度の高い第２反射調整用光を用いて位置ずれを調整する工程を含む。このように構成すれば、調整用光が反射される面および第１反射調整用光が反射される面に形成された格子パターンにより、それぞれ、複数の第１反射調整用光および第２反射調整用光が生成された場合でも、最も強度（鮮明度）の高い第１反射調整用光および第２反射調整用光を用いることにより、第１格子と第２格子との位置ずれを容易に調整することができる。【００１９】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光と、第２反射調整用光と、第２反射調整用光が第１格子および第２格子により多重反射された第３反射調整用光とに基づいて、位置ずれを調整する工程をさらに含む。このように構成すれば、多重反射された第３反射調整用光が開口部を通過するように位置ずれを調整することができるので、第１反射調整用光および第２反射調整用光のみに基づいて位置ずれを調整する場合と比較して、第１格子と第２格子との位置ずれをより精密に調整することができる。【００２０】
上記一の局面による格子の調整方法において、好ましくは、開口部の幅は、調整用光のスポット径以上となるように設定されている。このように構成すれば、調整用光源から照射された調整用光が、開口部が形成された部材の開口部以外の部分に遮られるのを抑制することができる。その結果、第１反射調整用光および第２反射調整用光の強度が小さくなる（暗くなる）のが抑制されるので、第１反射調整用光および第２反射調整用光が開口部を通過した否かを容易に判別することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、上記のように、Ｘ線位相イメージング装置において、Ｘ線の照射軸方向と直交する面内方向における平行度を簡易に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態による格子の調整方法が用いられるＸ線位相イメージング装置の全体構成を示した図である。
【図２】本発明の一実施形態による格子の調整方法が用いられるＸ線位相イメージング装置の格子位置調整機構を説明するための図である。
【図３】本発明の一実施形態による格子の調整方法を説明するための図である。
【図４】本発明の一実施形態による格子の調整方法の手順を説明するための図である。
【図５】調整用光源のスポット径とスリットの幅との関係を説明するための図である。
【図６】第２回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程におけるスリットの向き、および、第１回転方向における第１格子と第２格子との位置ずれを調整する工程におけるスリットの向きを説明するための図である。
【図７】本発明の一実施形態の第１変形例による格子の調整方法の手順を説明するための図である。
【図８】本発明の一実施形態の第２変形例による開口部を説明するための図である。
【図９】本発明の一実施形態の第３変形例による格子の調整方法を説明するための図である。
【図１０】本発明の一実施形態の第４変形例による格子の調整方法を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２４】
まず、図１および図２を参照して、本発明の一実施形態による格子Ｇの調整方法が用いられるＸ線位相イメージング装置１００の構成について説明する。
【００２５】
図１に示すように、Ｘ線位相イメージング装置１００は、Ｘ線管１１と、検出部１２と、第１格子Ｇ１と、第２格子Ｇ２と、第３格子Ｇ３と、を含む複数の格子Ｇと、処理ユニット１３と、格子位置調整機構１４と、を備えている。なお、Ｘ線管１１は、特許請求の範囲の「Ｘ線源」の一例である。
【００２６】
Ｘ線位相イメージング装置１００では、Ｘ線管１１と、第３格子Ｇ３と、第１格子Ｇ１と、第２格子Ｇ２と、検出部１２とが、Ｘ線管１１と検出部１２とを結ぶＸ線の照射軸方向（光軸方向、Ｚ方向）に、この順に並んで配置されている。本明細書では、Ｘ線管１１から検出部１２に向かう方向をＺ２方向、その逆方向をＺ１方向とする。また、Ｚ方向と直交する面内方向のうちの複数の格子Ｇそれぞれの格子が延びる方向をＸ方向とする。また、Ｚ方向と直交する面内方向のうちの複数の格子Ｇそれぞれの格子ピッチ（後述する）の方向（Ｚ方向およびＸ方向と直交する方向）をＹ方向とする。なお、Ｘ方向およびＹ方向は、それぞれ、特許請求の範囲の「第１方向」および「第２方向」の一例である。
【００２７】
Ｘ線管１１は、高電圧が印加されることにより、Ｘ線を発生させることが可能なＸ線発生装置である。Ｘ線管１１は、発生させたＸ線をＺ２方向に照射するように構成されている。
【００２８】
検出部１２は、Ｘ線管１１から照射されたＸ線を検出するとともに、検出されたＸ線を電気信号に変換する。検出部１２は、たとえば、ＦＰＤ（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）である。検出部１２は、複数の変換素子（図示せず）と複数の変換素子上に配置された画素電極（図示せず）とにより構成されている。複数の変換素子および画素電極は、所定の周期（画素ピッチ）で、Ｘ方向およびＹ方向に並んで配置されている。検出部１２で変換された検出信号（電気信号）は、処理ユニット１３が備える画像処理部１３ｂ（後述する）に送られる。
【００２９】
第１格子Ｇ１は、Ｙ方向に所定の周期（格子ピッチ）ｄ１で配列される格子パターン（複数のスリットＧ１ａおよびＸ線位相変化部Ｇ１ｂ）を有している。第１格子Ｇ１では、格子パターンは、第１格子Ｇ１のＸ線管１１側（Ｚ１側）に設けられている。各スリットＧ１ａおよびＸ線位相変化部Ｇ１ｂは、Ｘ方向に直線状に延びるように形成されている。第１格子Ｇ１は、いわゆる位相格子である。第１格子Ｇ１は、Ｘ線管１１と第２格子Ｇ２との間に配置されており、Ｘ線管１１から照射されたＸ線により（タルボ効果によって）自己像を形成するために設けられている。なお、タルボ効果は、可干渉性を有するＸ線が、スリットＧ１ａが形成された第１格子Ｇ１を通過すると、第１格子Ｇ１から所定の距離（タルボ距離）離れた位置に、第１格子Ｇ１の像（自己像）が形成されることを意味する。
【００３０】
第２格子Ｇ２は、Ｙ方向に所定の周期（格子ピッチ）ｄ２で配列される格子パターン（複数のＸ線透過部Ｇ２ａおよびＸ線吸収部Ｇ２ｂ）を有している。第２格子Ｇ２では、格子パターンは、第２格子Ｇ２のＸ線管１１側（Ｚ１側）に設けられている。各Ｘ線透過部Ｇ２ａおよびＸ線吸収部Ｇ２ｂは、それぞれ、Ｘ方向に直線状に延びるように形成されている。第２格子Ｇ２は、いわゆる、吸収格子である。第２格子Ｇ２は、第１格子Ｇ１と検出部１２との間に配置されており、第１格子Ｇ１により形成された自己像に干渉するように構成されている。第２格子Ｇ２は、自己像と第２格子Ｇ２とを干渉させるために、第１格子Ｇ１からタルボ距離だけ離れた位置に配置されている。すなわち、Ｘ線位相イメージング装置１００では、自己像と第２格子Ｇ２とが干渉することにより生成された干渉縞（モアレ縞）が、Ｘ線として検出部１２で検出される。
【００３１】
第３格子Ｇ３は、所定の周期（ピッチ）ｄ３で配列される複数のスリットＧ３ａおよびＸ線吸収部Ｇ３ｂを有している。各スリットＧ３ａおよびＸ線吸収部Ｇ３ｂは、それぞれ、Ｘ方向に直線状に延びるように形成されている。第３格子Ｇ３は、Ｘ線管１１と第１格子Ｇ１との間に配置されており、Ｘ線管１１からＸ線が照射される。第３格子Ｇ３は、各スリットＧ３ａを通過したＸ線を、各スリットＧ３ａの位置に対応する線光源とするように構成されている。すなわち、第３格子Ｇ３は、Ｘ線管１１から照射されたＸ線の可干渉性を高めるために設けられている。
【００３２】
処理ユニット１３は、制御部１３ａと、画像処理部１３ｂと、を備えている。
【００３３】
制御部１３ａは、格子位置調整機構１４の動作を制御するように構成されている。制御部１３ａは、たとえば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）およびＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などを含む。
【００３４】
画像処理部１３ｂは、検出部１２から送られた検出信号に基づいて、位相コントラスト画像等の画像を生成するように構成されている。画像処理部１３ｂは、たとえば、ＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）や画像処理用に構成されたＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ−Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｇａｔｅ  Ａｒｒａｙ）などのプロセッサを含む。
【００３５】
位相コントラスト画像は、吸収像、位相微分像および暗視野像の少なくとも１つを含む。吸収像は、Ｘ線の吸収度合の差に基づいて画像化したＸ線画像である。位相微分像は、Ｘ線の位相のずれに基づいて画像化したＸ線画像である。暗視野像は、物体の小角散乱に基づくＶｉｓｉｂｉｌｉｔｙの変化によって得られる、Ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ像のことである。また、暗視野像は、小角散乱像とも呼ばれる。「Ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ」とは、鮮明度のことである。
【００３６】
格子位置調整機構１４は、第１格子Ｇ１および第２格子Ｇ２にそれぞれ設けられている。図２に示すように、格子位置調整機構１４は、格子Ｇを、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、Ｚ方向回りの回転方向Ｒｚ、Ｘ方向回りの回転方向Ｒｘ、および、Ｙ方向回りの回転方向Ｒｙに移動可能に構成されている。格子位置調整機構１４は、Ｘ方向直動機構１４ａと、Ｚ方向直動機構１４ｂと、Ｙ方向直動機構１４ｃと、直動機構接続部１４ｄと、ステージ支持部駆動部１４ｅと、ステージ支持部１４ｆと、ステージ駆動部１４ｇと、ステージ１４ｈと、を含む。なお、回転方向Ｒｘおよび回転方向Ｒｙは、それぞれ、特許請求の範囲の「第１回転方向」および「第２回転方向」の一例である。
【００３７】
Ｘ方向直動機構１４ａ、Ｚ方向直動機構１４ｂおよびＹ方向直動機構１４ｃは、それぞれ、Ｘ方向、Ｚ方向およびＹ方向に移動可能に構成されている。Ｘ方向直動機構１４ａ、Ｚ方向直動機構１４ｂおよびＹ方向直動機構１４ｃは、たとえば、ステッピングモータなどを含む。格子位置調整機構１４は、Ｘ方向直動機構１４ａ、Ｚ方向直動機構１４ｂおよびＹ方向直動機構１４ｃの動作により、それぞれ、格子Ｇを、Ｘ方向、Ｚ方向およびＹ方向に移動させるように構成されている。
【００３８】
ステージ支持部１４ｆは、格子Ｇを載置（または保持）させるためのステージ１４ｈをＺ２方向から支持している。ステージ駆動部１４ｇは、ステージ１４ｈをＸ方向に往復移動させるように構成されている。ステージ１４ｈは、底部がステージ支持部１４ｆに向けて凸曲面状に形成されており、Ｘ方向に往復移動されることにより、回転方向Ｒｙに回動するように構成されている。また、ステージ支持部駆動部１４ｅは、ステージ支持部１４ｆをＹ方向に往復移動させるように構成されている。また、直動機構接続部１４ｄは、回転方向Ｒｚに回動可能にＸ方向直動機構１４ａに設けられている。また、ステージ支持部１４ｆは底部が直動機構接続部１４ｄに向けて凸曲面状に形成されており、Ｙ方向に往復移動されることにより、回転方向Ｒｘに回動するように構成されている。なお、格子位置調整機構１４は、たとえば、チャック機構やハンド機構等の格子Ｇを保持するための機構を有していてもよい。
【００３９】
（第１格子と第２格子との位置ずれの調整方法）
次に、図３〜図６を参照しながら、格子Ｇの調整方法（第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれの調整方法）について説明する。
【００４０】
図３に示すように、本実施形態では、格子Ｇの調整方法は、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との間に配置された調整用光源２１から、調整用光源２１の近傍に調整用光源２１との相対位置が固定されるように配置されたスリット２２ａを介して、第２格子Ｇ２に向かって調整用光Ｌを照射する工程を備える。また、格子Ｇの調整方法は、第２格子Ｇ２により反射された第１反射調整用光Ｌ１と、第１反射調整用光Ｌ１が第１格子Ｇ１により反射された第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、回転方向Ｒｘおよび回転方向Ｒｙにおける、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程を備える。なお、スリット２２ａは、特許請求の範囲の「開口部」の一例である。
【００４１】
詳細には、スリット２２ａは、回転方向Ｒｘにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、Ｘ方向に延びるように配置される。そして、調整用光Ｌを照射する工程は、回転方向Ｒｘにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２の光入射面２２ｂに対してＸ方向に傾斜した方向に調整用光Ｌを照射する工程を含む。また、スリット２２ａは、回転方向Ｒｙにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、Ｙ方向に延びるように配置される。そして、調整用光Ｌを照射する工程は、回転方向Ｒｙにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリット２２ａが形成された部材の光入射面２２ｂに対してＹ方向に傾斜した方向に調整用光Ｌを照射する工程を含む。なお、遮蔽部材２２は、特許請求の範囲の「スリットが形成された部材」の一例である。
【００４２】
また、図４に示すように、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光Ｌ１が、スリット２２ａを通過するように、第２格子Ｇ２とスリット２２ａとの位置ずれを調整する工程を含む。また、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光Ｌ１がスリット２２ａを通過するように位置ずれを調整する工程を行った後に、第２反射調整用光Ｌ２が、スリット２２ａを通過するように、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程を含む。
【００４３】
また、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、回転方向Ｒｙにおける、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程を含む。また、図６に示すように、位置ずれを調整する工程は、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程を行った後に、調整用光源２１およびスリット２２ａをＺ方向回りに略９０度回転した状態で、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、回転方向Ｒｘにおける、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程を含む。
【００４４】
具体的には、図３に示すように、まず、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との間に、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整するための調整ユニット２０が配置される。調整ユニット２０は、調整用光源２１と、遮蔽部材２２と、を備えている。調整用光源２１は、調整用光Ｌを照射することが可能に構成されている。調整用光Ｌは、レーザ光、かつ、可視光である。たとえば、調整用光源２１は、レーザポインタである。また、レーザ径は、たとえば、５ｍｍ以下である。遮蔽部材２２は、中央部にスリット２２ａが形成されている。図６に示すように、スリット２２ａの幅Ｗ２は、調整用光Ｌのスポット径Ｗ１以上となるように設定されている。遮蔽部材２２は、たとえば、不透明な板により構成されている。
【００４５】
図３に示すように、調整ユニット２０では、調整用光源２１から照射された調整用光Ｌがスリット２２ａを通過するように、調整用光源２１と遮蔽部材２２との相対位置が固定されている。また、調整用光Ｌが光入射面２２ｂに対して傾斜角度αで傾斜して入射するように、調整用光源２１と遮蔽部材２２との相対位置が固定されている。なお、本実施形態では、調整ユニット２０（調整用光源２１およびスリット２２ａ）は、調整用光Ｌを照射する工程、および、位置ずれを調整する工程において、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との間の中央部に配置される。
【００４６】
回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程において、まず、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２の光入射面２２ｂがＺ方向を向くように調整ユニット２０が配置される。すなわち、スリット２２ａが略Ｙ方向に延びるように調整ユニット２０が配置される。この状態で、調整用光源２１により照射された調整用光Ｌは、Ｘ方向から見て、光入射面２２ｂと直交する方向（Ｚ方向）に対して傾斜角度αで傾斜した方向に進む。なお、図３の例では、調整用光源２１から照射された調整用光Ｌ（Ｌ０）がＺ方向に対してＺ１側に傾斜角度αで傾斜した方向に照射された例を示している。
【００４７】
回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程において、調整用光Ｌ０は、Ｚ２側に照射される。すなわち、調整用光Ｌ０は、Ｘ方向から見て、第２格子Ｇ２のＸ線管１１側（Ｚ１側）の面Ｇ２ｃ（図１参照）にＺ方向に対してＺ２側に傾斜した方向に入射するので、第２格子Ｇ２により反射された第１反射調整用光Ｌ１は、Ｚ方向に対してＺ１側に傾斜した方向に反射される。そして、第１反射調整用光Ｌ１は、Ｘ方向から見て、第１格子Ｇ１の検出部１２側（Ｚ２側）の面Ｇ１ｄ（図１参照）にＺ方向に対してＺ１側に傾斜した方向に入射するので、第１格子Ｇ１により反射された第２反射調整用光Ｌ２は、Ｚ方向に対してＺ２側に傾斜した方向に反射される。なお、図３では、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれが抑制されて、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２が、スリット２２ａを通過する状態を示している。
【００４８】
ここで、Ｘ線位相イメージング装置１００では、第１格子Ｇ１の検出部１２側（Ｚ２側）の面Ｇ１ｄ、および、第２格子Ｇ２のＸ線管１１側（Ｚ１側）の面Ｇ２ｃは、レーザ光を反射しやすい材質により構成されている。なお、この面Ｇ１ｄおよび面Ｇ２ｃがレーザ光を反射しにくい材質で構成されている場合には、Ａｌなどを予め薄く蒸着しておけばよい。
【００４９】
また、上述したように、Ｘ線位相イメージング装置１００では、第２格子Ｇ２のＸ線管１１側（Ｚ１側）に、格子パターンが形成されている。すなわち、第１反射調整用光Ｌ１が反射される第２格子Ｇ２のＸ線管１１側（Ｚ１側）の面Ｇ２ｃに格子パターンが形成されている。格子パターンが形成された面Ｇ２ｃに光が入射すると、光が格子パターンにより回折され複数の光が生成される。なお、第２格子Ｇ２の検出部１２側（Ｚ２側）には、格子パターンが形成されていないので、第２反射調整用光Ｌ２には、格子パターンによる光の回折は生じない。
【００５０】
そこで、本実施形態では、位置ずれを調整する工程は、第２格子Ｇ２により回折されることにより生成された複数の第１反射調整用光Ｌ１において、最も強度の高い第１反射調整用光Ｌ１を用いて位置ずれを調整する工程を含む。最も強度の高い第１反射調整用光Ｌ１とは、調整用光Ｌ０の入射角と等しい反射角を有する第１反射調整用光Ｌ１（いわゆる、０次回折光）である。なお、図面では、第１反射調整用光Ｌ１のうち０次回折光のみを示している。
【００５１】
図４（Ａ）に示すように、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれの調整前において、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２とは、Ｙ方向から見て、非平行の状態となっている。また、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との間に配置した遮蔽部材２２と、第１格子Ｇ１および第２格子Ｇ２とは、Ｙ方向から見て、非平行の状態となっている。すなわち、調整用光Ｌ０は、Ｙ方向から見て、第２格子Ｇ２のＸ線管１１側（Ｚ１側）の面Ｇ２ｃ（図１参照）と直交する方向に対して傾斜して入射するので、第１反射調整用光Ｌ１は、調整用光Ｌ０が入射した方向とは異なる方向に反射される。したがって、第１反射調整用光Ｌ１は、スリット２２ａを通過せずに、遮蔽部材２２のスリット２２ａが形成されていない部分に遮られる。
【００５２】
そこで、図４（Ｂ）に示すように、Ｙ方向から見て、遮蔽部材２２と第２格子Ｇ２とが略平行になるように、遮蔽部材２２（調整ユニット２０）を回転方向Ｒｙにおいて角度Ｒｙ（Ｓ）だけ回転させる。これにより、Ｙ方向から見て、遮蔽部材２２と第２格子Ｇ２とが略平行な状態となるので、第１反射調整用光Ｌ１は、調整用光Ｌ０が入射した方向と略同じ方向に反射される。したがって、第１反射調整用光Ｌ１は、スリット２２ａを通過して、第１格子Ｇ１の検出部１２側（Ｚ２側）に入射する。なお、調整ユニット２０の回転は、第１反射調整用光Ｌ１がスリット２２ａを通過する状態となるように、第１反射調整用光Ｌ１を目視により観察しながら行われる。また、調整ユニット２０の回転および後述する第１格子Ｇ１の回転は、ユーザが格子位置調整機構１４を操作することにより行われる。これにより、第１反射調整用光Ｌ１がスリット２２ａを通過する状態となるように、制御部１３ａなどが自信で判断して格子位置調整機構１４を動作させる場合と異なり、制御部１３ａの負荷を低減することができる。
【００５３】
上記の工程（第１反射調整用光Ｌ１がスリット２２ａを通過する状態となるように調整ユニット２０の回転させる工程）により、遮蔽部材２２と第２格子Ｇ２とが略平行の状態となった一方、第１格子Ｇ１と、遮蔽部材２２および第２格子Ｇ２とは、Ｙ方向から見て、非平行の状態となっている。すなわち、第１反射調整用光Ｌ１は、Ｙ方向から見て、第１格子Ｇ１の検出部１２側（Ｚ２側）の面Ｇ１ｄ（図１参照）と直交する方向に対して傾斜して入射するので、第２反射調整用光Ｌ２は、第１反射調整用光Ｌ１が入射した方向とは異なる方向に反射される。したがって、第２反射調整用光Ｌ２は、スリット２２ａを通過せずに、遮蔽部材２２のスリット２２ａが形成されていない部分に遮られる。
【００５４】
そこで、図４（Ｃ）に示すように、Ｙ方向から見て、第１格子Ｇ１と遮蔽部材２２および第２格子Ｇ２とが略平行になるように、第１格子Ｇ１を回転方向Ｒｙにおいて角度Ｒｙ（Ｇ１）だけ回転させる。これにより、Ｙ方向から見て、第１格子Ｇ１と遮蔽部材２２および第２格子Ｇ２とが略平行な状態となるので、第２反射調整用光Ｌ２は、第１反射調整用光Ｌ１が入射した方向と略同じ方向に反射される。したがって、第２反射調整用光Ｌ２は、スリット２２ａを通過して、第２格子Ｇ２のＸ線管１１側（Ｚ１側）に入射する。なお、第１格子Ｇ１の回転は、第２反射調整用光Ｌ２がスリット２２ａを通過する状態となるように、第２反射調整用光Ｌ２を目視により観察しながら行われる。
【００５５】
以上の工程（第１反射調整用光Ｌ１がスリット２２ａを通過する状態となるように調整ユニット２０の回転させる工程、および、第２反射調整用光Ｌ２がスリット２２ａを通過する状態となるように第１格子Ｇ１の回転させる工程）により、Ｙ方向から見て、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過する状態となるように、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する。これにより、Ｙ方向から見て、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２とが略平行となる（すなわち、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれが抑制される）。
【００５６】
次に、図６に示すように、調整ユニット２０を、Ｚ方向回りに略９０度回転させる。この状態で、上記の回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれの調整と同様の工程を、回転方向Ｒｘに対しても行う。すなわち、Ｘ方向から見て、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過する状態となるように、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する。これにより、Ｘ方向から見て、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２とが略平行となる（すなわち、回転方向Ｒｘにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれが抑制される）。以上により、回転方向Ｒｘおよび回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれが抑制され、意図しないモアレ縞が発生するのが抑制される。
【００５７】
（実施形態の効果）
本実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【００５８】
本実施形態では、上記のように、格子Ｇの調整方法は、第２格子Ｇ２により反射された第１反射調整用光Ｌ１と、第１反射調整用光Ｌ１が第１格子Ｇ１により反射された第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、回転方向Ｒｘおよび回転方向Ｒｙにおける、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程を備える。これにより、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２が、ともにスリット２２ａを通過する状態となるように、回転方向Ｒｘおよび回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整することにより、回転方向Ｒｘおよび回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを抑制することができる。その結果、光がスリット２２ａを通過した状態と通過しない状態とは、目視によって容易に判別することができるので、Ｘ線の照射軸方向（Ｚ方向）と直交する面内方向における平行度を簡易に調整することができる。また、光がスリット２２ａを通過したか否かにより格子Ｇの位置ずれを調整するので、格子Ｇを水準器や角度計を使用して調整する必要がないとともに、モアレ縞を取得するための撮像を行う必要がない。
【００５９】
また、本実施形態では、上記のように、調整用光Ｌを、レーザ光とする。これにより、高い指向性を有するレーザ光を用いれば、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２とが位置ずれしている場合にスリット２２ａを通過してしまうのを抑制することができるので、精度よく、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整することができる。
【００６０】
また、本実施形態では、上記のように、調整用光Ｌを、可視光とする。これにより、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２の位置を目視によって観察しながら、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整することができる。その結果、可視光以外の波長帯域の光を用いる場合のように可視光以外の波長帯域の光を検出するための光検出器等を用いることなく、Ｘ線の照射軸方向（Ｚ方向）と直交する面内方向における平行度をより簡易に調整することができる。
【００６１】
また、本実施形態では、上記のように、スリット２２ａを、回転方向Ｒｘにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、Ｘ方向に延びるように配置させ、回転方向Ｒｙにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、Ｙ方向に延びるように配置させる。これにより、回転方向Ｒｘにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２が、互いにＸ方向にずれた状態で、ともに、Ｘ方向に延びるように配置されたスリット２２ａを通過する状態となるように、回転方向Ｒｘにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整することができる。また、回転方向Ｒｙにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２が、互いにＹ方向にずれた状態で、ともに、Ｙ方向に延びるように配置されたスリット２２ａを通過する状態となるように、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整することができる。
【００６２】
また、本実施形態では、上記のように、調整用光Ｌを照射する工程は、回転方向Ｒｘにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２の光入射面２２ｂに対してＸ方向に傾斜した方向に調整用光Ｌを照射する工程を含み、回転方向Ｒｙにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２の光入射面２２ｂに対してＹ方向に傾斜した方向に調整用光Ｌを照射する工程を含む。これにより、回転方向Ｒｘにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２の光入射面２２ｂに対して、Ｘ方向に傾斜した方向に調整用光Ｌを照射するので、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とを、互いにＸ方向にずれた状態で、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２に入射させることができる。その結果、回転方向Ｒｘにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合に、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２が、確実に、互いにＸ方向にずれた状態で、ともに、Ｘ方向に延びるように配置されたスリット２２ａを通過する状態にすることができる。また、回転方向Ｒｙにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合には、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２の光入射面２２ｂに対して、Ｙ方向に傾斜した方向に調整用光Ｌを照射するので、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とを、確実に、互いにＹ方向にずれた状態で、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２に入射させることができる。その結果、回転方向Ｒｙにおける位置ずれを調整する工程が行われる場合に、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２が、確実に、互いにＹ方向にずれた状態で、ともに、Ｙ方向に延びるように配置されたスリット２２ａを通過する状態にすることができる。
【００６３】
また、本実施形態では、上記のように、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光Ｌ１が、スリット２２ａを通過するように、第２格子Ｇ２とスリット２２ａとの位置ずれを調整する工程と、第１反射調整用光Ｌ１がスリット２２ａを通過するように位置ずれを調整する工程を行った後に、第２反射調整用光Ｌ２が、スリット２２ａを通過するように、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程と、を含む。これにより、第２格子Ｇ２とスリット２２ａとの位置ずれを調整する工程を行うことによって、第１反射調整用光Ｌ１が、スリット２２ａを通過する状態にした後に、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程を行うことによって、確実に、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２が、ともにスリット２２ａを通過する状態にすることができる。
【００６４】
また、本実施形態では、上記のように、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、回転方向Ｒｙにおける、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程と、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程を行った後に、調整用光源２１およびスリット２２ａをＸ線の照射軸方向（Ｚ方向）回りに略９０度回転した状態で、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、回転方向Ｒｘにおける、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程と、を含む。これにより、回転方向Ｒｘにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程と、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程とを、調整用光源２１およびスリット２２ａの向きを略Ｘ方向と略Ｙ方向との間で変更するだけで行うことができる。その結果、共通の調整用光源２１およびスリット２２ａにより、回転方向Ｒｘおよび回転方向Ｒｙの両方における位置ずれを調整することができるので、位置ずれを調整するための構成を簡略化することができる。
【００６５】
また、本実施形態では、上記のように、調整用光Ｌを照射する工程および位置ずれを調整する工程において、スリット２２ａを、照射軸方向（Ｚ方向）における、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との間の中央部に配置させる。これにより、第１反射調整用光Ｌ１とスリット２２ａとの距離および第２反射調整用光Ｌ２とスリット２２ａとの距離が比較的大きくなるので、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２とが位置ずれしていた場合に、反射された光（第１反射調整用光Ｌ１または第２反射調整用光Ｌ２）がスリット２２ａを通過してしまうことに起因して第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを適切に調整できなくなるのを抑制することができる。
【００６６】
また、本実施形態では、上記のように、位置ずれを調整する工程は、第１反射調整用光Ｌ１が反射される面Ｇ２ｃに格子パターンが形成されており、格子パターンにより回折されることにより生成された複数の第１反射調整用光Ｌ１において、最も強度の高い第１反射調整用光Ｌ１を用いて位置ずれを調整する工程を含む。これにより、第１反射調整用光Ｌ１が反射される面Ｇ２ｃに形成された格子パターンにより複数の第１反射調整用光Ｌ１が生成された場合でも、最も強度（鮮明度）の高い第１反射調整用光Ｌ１を用いることにより、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを容易に調整することができる。
【００６７】
また、本実施形態では、上記のように、スリット２２ａの幅Ｗ２を、調整用光Ｌのスポット径Ｗ１以上となるように設定する。これにより、調整用光源２１から照射された調整用光Ｌが、スリット２２ａが形成された遮蔽部材２２のスリット２２ａ以外の部分に遮られるのを抑制することができる。その結果、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２の強度が小さくなる（暗くなる）のが抑制されるので、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２がスリット２２ａを通過した否かを容易に判別することができる。
【００６８】
［変形例］
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。
【００６９】
たとえば、上記実施形態では、調整用光Ｌを、レーザ光とした例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、調整用光Ｌとして、レーザ光以外の種類の光を用いるように構成してもよい。なお、指向性を有さない光を発する光源を用いる場合は、光を集光するための部材により、指向性を有さない光を、指向性を有する光に変化させて照射することが好ましい。
【００７０】
また、上記実施形態では、調整用光Ｌを、可視光とした例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、調整用光Ｌとして、可視光以外の波長帯域の光を用いるように構成してもよい。その場合、可視光以外の波長帯域の光を検出するための光検出器等を用いるように構成すればよい。この場合、光検出器の検出結果に基づいて、調整ユニット２０および第１格子Ｇ１の回転が、制御部により自動で行われるように構成してもよい。
【００７１】
また、上記実施形態では、遮蔽部材２２と第２格子Ｇ２とが略平行となるように、遮蔽部材２２（調整ユニット２０）を回転方向Ｒｙにおいて角度Ｒｙ（Ｓ）だけ回転させる例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、図７に示す第１変形例のように、遮蔽部材２２と第２格子Ｇ２とが略平行となるように、第２格子Ｇ２を回転方向Ｒｙにおいて角度Ｒｙ（Ｇ２）だけ回転させるように構成してもよい。
【００７２】
また、上記実施形態では、第１格子Ｇ１と、遮蔽部材２２および第２格子Ｇ２とが略平行な状態となるように、第１格子Ｇ１を回転方向Ｒｙにおいて角度Ｒｙ（Ｇ１）だけ回転させる例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第１格子Ｇ１と、遮蔽部材２２および第２格子Ｇ２とが略平行な状態となるように、遮蔽部材２２および第２格子Ｇ２を回転方向Ｒｙにおいて所定の角度だけ回転させるように構成してもよい。
【００７３】
また、上記実施形態では、本発明の「開口部」として１つのスリット２２ａが適用される例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、図８に示す変形例による遮蔽部材２２２のように、本発明の「開口部」として、複数の矩形状の孔部を適用してもよい。なお、図８に示す例では、遮蔽部材２２２は、複数の矩形状孔部が一列に並ぶように配置された開口部２２２ａを有する。
【００７４】
また、上記実施形態では、調整用光Ｌを照射する工程および位置ずれを調整する工程において、スリット２２ａを、Ｘ線の照射軸方向（Ｚ方向）における、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との間の中央部に配置させた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、調整用光Ｌを照射する工程および位置ずれを調整する工程において、スリット２２ａを、Ｘ線の照射軸方向（Ｚ方向）における、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との間の中央部以外に配置させるように構成してもよい。その場合、第１格子Ｇ１または第２格子Ｇ２とスリット２２ａとが著しく近接しないように、スリット２２ａを配置させるのが好ましい。また、第１反射調整用光Ｌ１が、スリット２２ａを通過するように、第２格子Ｇ２とスリット２２ａとの位置ずれを調整する工程と、第２反射調整用光Ｌ２が、スリット２２ａを通過するように、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程とで、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との間におけるスリット２２ａの位置を変更してもよい。
【００７５】
また、上記実施形態では、第１反射調整用光Ｌ１と第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整するように構成した例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、図９に示す第３変形例のように、第１反射調整用光Ｌ１と、第２反射調整用光Ｌ２と、第２反射調整用光Ｌ２が第１格子Ｇ１および第２格子Ｇ２により多重反射された第３反射調整用光Ｌ３とに基づいて、位置ずれを調整するように構成してもよい。図９では、多重反射された第３反射調整用光Ｌ３として、第２反射調整用光Ｌ２が第２格子Ｇ２により反射された第３反射調整用光Ｌ３１と、第３反射調整用光Ｌ３１が第１格子Ｇ１により反射された第３反射調整用光Ｌ３２と、を示している。これにより、多重反射された第３反射調整用光Ｌ３がスリット２２ａを通過するように位置ずれを調整することができるので、第１反射調整用光Ｌ１および第２反射調整用光Ｌ２のみに基づいて位置ずれを調整する場合と比較して、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれをより精密に調整することができる。
【００７６】
また、上記実施形態では、第２格子Ｇ２により反射された第１反射調整用光Ｌ１と、第１反射調整用光Ｌ１が第１格子Ｇ１により反射された第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、図１０に示す第４変形例のように、第１格子Ｇ１により反射された第１反射調整用光Ｌ１と、第１反射調整用光Ｌ１が第２格子Ｇ２により反射された第２反射調整用光Ｌ２とが、ともにスリット２２ａを通過するように、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整するように構成してもよい。
【００７７】
また、上記実施形態では、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整した後に、回転方向Ｒｘにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、回転方向Ｒｘにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整した後に、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整するように構成してもよい。また、回転方向Ｒｘまたは回転方向Ｒｙのいずれか１方向における第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれのみを調整するように構成してもよい。
【００７８】
また、上記実施形態では、格子Ｇの調整方法を、格子パターンが、格子ＧのＸ線管１１側（Ｚ１側）に設けられているＸ線位相イメージング装置１００に用いた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、格子Ｇの調整方法を、格子パターンが、格子Ｇの検出部１２側（Ｚ２側）に設けられているＸ線位相イメージング装置１００に用いてもよい。
【００７９】
また、上記実施形態では、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程において、スリット２２ａを、Ｙ方向に沿って延びるように配置させた例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、回転方向Ｒｙにおける第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との位置ずれを調整する工程において、スリット２２ａを、Ｙ方向に対して傾斜した方向に沿って配置させてもよい。なお、この場合、第１格子Ｇ１と第２格子Ｇ２との回転方向Ｒｘにおける位置が揃っている必要がある。
【００８０】
また、上記実施形態では、複数の格子Ｇは、Ｘ線管１１と第１格子Ｇ１との間に配置され、Ｘ線管１１から照射されたＸ線の可干渉性を高めるための第３格子Ｇ３を含むように構成した例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第３格子Ｇ３を含まないように構成してもよい。
【００８１】
また、上記実施形態では、タルボ効果による自己像を形成するために、第１格子Ｇ１を位相格子とした例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、自己像は縞模様であればよいので、位相格子の代わりに吸収格子を用いてもよい。吸収格子を用いると、距離などの光学条件により単純に縞模様が発生する領域（非干渉計）と、タルボ効果による自己像が生じる領域（干渉計）とが生じる。
【符号の説明】
【００８２】
１１  Ｘ線管（Ｘ線源）
１２  検出部
２１  調整用光源
２２  遮蔽部材（スリットが形成された部材）
２２ａ  スリット（開口部）
２２ｂ  （スリットが形成された部材の）光入射面
１００  Ｘ線位相イメージング装置
Ｇ１  第１格子
Ｇ２  第２格子
Ｇ３  第３格子
Ｌ  調整用光
Ｌ１  第１反射調整用光
Ｌ２  第２反射調整用光
Ｌ３  第３反射調整用光
Ｗ１  （調整用光の）スポット径
Ｗ２  （開口部の）幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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