(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線が照射された液媒体を基板に供給するための装置であって、
横長のチャンバ、前記チャンバに開口する少なくとも１つの入口開口、および前記入口開口に対向して前記チャンバの長さにわたって延びるスリット状の少なくとも１つの出口開口を有するハウジングと、
前記チャンバ内をその長手方向に延び、かつ少なくとも一部が紫外線を通すチューブ要素と、
前記チューブ要素内に配置された少なくとも１つの紫外線源と、を備え、
前記チューブ要素は、前記チューブ要素と前記チャンバの壁との間に流れ空間が形成されるように前記チャンバ内に配置されており、前記流れ空間は、前記チャンバの長手方向中心面に関して対称であり、前記長手方向中心面は、前記出口開口をその中央において切断しており、前記チューブ要素は前記ハウジングに形成されている前記スリット状の出口開口内に延びて、長手方向に延びる２つの出口スリットを前記チューブ要素と前記ハウジングとの間に形成しており、
前記紫外線源は、前記流れ空間の方向に、かつ前記ハウジングから前記出口開口を通って紫外線を放射することで、液体中にラジカルを生成し、前記ラジカルを前記基板の表面に導くように配置されており、
前記紫外線の強度が前記チャンバの前記長手方向中心面に向かって増加するように、前記チューブ要素を通って前記出口開口から出る前記紫外線を調整するための手段をさらに備えており、
前記チューブ要素は、円形の断面を有しており、
前記手段は、前記紫外線の強度が前記チャンバの前記長手方向中心面に向かって連続的に増加するように、前記チューブ要素から出る前記紫外線の強度を変化させる少なくとも１つの光学要素を備えており、
前記少なくとも１つの光学要素は、少なくとも１つの鏡要素を備えており、
前記鏡要素は、前記基板とは反対側の前記少なくとも１つの紫外線源の側、および／または前記紫外線源に隣接して配置されており、前記出口開口に向かって紫外線を反射させる、装置。
【請求項２】
前記鏡要素は、前記チャンバの前記長手方向中心面に関して対称である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記鏡要素は、前記少なくとも１つの紫外線源の少なくとも一部を囲んでいる、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの紫外線源は、前記チャンバの前記長手方向中心面上に配置され、かつ前記チューブ要素の横方向中心面の下方に配置されており、前記横方向中心面は、前記チャンバの前記長手方向中心面に対して垂直に延びて前記チューブ要素をその中央で切断しており、すなわち、前記チューブ要素は、前記出口開口に向かってずれている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記鏡要素の少なくとも一部は、前記チューブ要素の前記横方向中心面の直下に配置されている、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記手段は、少なくとも３つからなる複数の紫外線源を備えており、
前記複数の紫外線源は、前記チューブ要素内に位置しており、互いに隣接し、かつ前記出口開口の内部または前記チャンバの外側に位置する前記チューブ要素の一部に隣接しており、
隣接する前記複数の紫外線源は、異なる放射強度で紫外線を放射する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
紫外線が照射された液媒体を基板に供給するための装置であって、
横長のチャンバ、前記チャンバに開口する少なくとも１つの入口開口、および前記入口開口に対向して前記チャンバの長さにわたって延びるスリット状の少なくとも１つの出口開口を有するハウジングと、
前記チャンバ内をその長手方向に延び、かつ少なくとも一部が紫外線を通すチューブ要素と、
前記チューブ要素内に配置された少なくとも１つの紫外線源と、を備え、
前記チューブ要素は、前記チューブ要素と前記チャンバの壁との間に流れ空間が形成されるように前記チャンバ内に配置されており、前記流れ空間は、前記チャンバの長手方向中心面に関して対称であり、前記長手方向中心面は、前記出口開口をその中央において切断しており、前記チューブ要素は前記ハウジングに形成されている前記スリット状の出口開口内に延びて、長手方向に延びる２つの出口スリットを前記チューブ要素と前記ハウジングとの間に形成しており、
前記紫外線源は、前記流れ空間の方向に、かつ前記ハウジングから前記出口開口を通って紫外線を放射することで、液体中にラジカルを生成し、前記ラジカルを前記基板の表面に導くように配置されており、
前記紫外線の強度が前記チャンバの前記長手方向中心面に向かって増加するように、前記チューブ要素を通って前記出口開口から出る前記紫外線を調整するための手段をさらに備えており、
前記手段は、少なくとも３つからなる複数の紫外線源を備えており、
前記複数の紫外線源は、前記チューブ要素内に位置しており、互いに隣接し、かつ前記出口開口の内部または前記チャンバの外側に位置する前記チューブ要素の一部に隣接しており、
隣接する前記複数の紫外線源は、異なる放射強度で紫外線を放射する、装置。
【請求項８】
前記流れ空間の方向において、前記複数の紫外線源からの紫外線を実質的に遮断する、前記チューブ要素内の少なくとも１つの分離要素をさらに備えている、請求項６または７に記載の装置。
【請求項９】
前記装置は、少なくとも前記流れ空間内に紫外線を放射するように前記チューブ要素内に配置された少なくとも１つの第１の紫外線源と、
前記出口開口のみを通じて紫外線を放射するように配置された少なくとも１つの第２の紫外線源と、を備えている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理するために、紫外線が照射された液媒体を基板に供給するための装置に関するものであり、液体は装置の領域内で基板の一部の領域に局所的に供給され、紫外線は液体中に導入される。
【背景技術】
【０００２】
半導体技術では、例えば、フォトマスクの製造中および使用中の両方で、異なる処理ステップ、特に、洗浄ステップをフォトマスクに適用しなければならないことが知られている。例えば、少なくとも、液膜を局所的に基板上に形成し、かつ紫外線をこの液膜に導入する湿式洗浄をフォトマスクに適用することが知られている。製造中の半導体ウェハのための対応する洗浄ステップも知られている。この場合、洗浄を促進するラジカルを液膜内に生成させるために、液体および紫外線は、紫外線の大部分が液膜に吸収されるように調和される。特に、例えば、希釈された過酸化水素水またはオゾン水Ｏ３−Ｈ２Ｏ中で、ヒドロキシルラジカルを生成することが知られている。このようなヒドロキシルラジカルは、基板表面上に金属層が存在していてもその金属層を損傷させることなく、基板表面から有機材料を選択的に溶解させる。液体に導入された紫外線の一部は、通常は吸収されず、基板自体に衝突する。基板表面でのラジカルの濃度はもちろん、基板に衝突する紫外線の強度も、レジスト剥離などの特定のプロセス結果の達成に実質的に寄与する。
【０００３】
通常、そのような湿式処理では、紫外線を液体に導入する用途にも使用される液体用の供給ユニットは、液体が基板を掃引するように、基板を横切って移動する。供給ユニットが移動し続けて、紫外線を照射された直後の領域がもはや紫外線の照射を受けないとき、ラジカルは急速に崩壊するため、ラジカルによる処理は、主に、供給ユニットの下方で実行される。したがって、基板表面の処理は、供給ユニットの直下の小さな処理領域内で行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】独国特許出願公開第１０２００９０５８９６２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この目的に適した装置は、例えば、本件出願と同じ出願人の独国特許出願公開第１０２００９０５８９６２号明細書から知ることができる。特に、本件出願は、請求項１のプリアンブルに記載の装置を示す。既知の設計では、高濃度のラジカルは、供給ユニットの出口開口の下方の長手方向中央領域に形成されるが、その濃度は、出口開口を横切る方向に急速に減少する。
【０００６】
湿式処理に次いで、紫外線がＯ２などの乾燥ガス、または乾燥ガスと蒸気の混合物、例えば、Ｎ２＋Ｈ２Ｏに導入される乾式処理も知られている。これらの乾燥ガスまたは混合物は、基板に向けられる。乾式処理中に起こる光分解反応は、実質的に、湿式処理中に起こる反応とは異なり、実質的にそれほど複雑ではなく、湿式処理よりも早く進行する。したがって、異なる処理法で使用される技術は、簡単に交換することができない場合がある。
【０００７】
上記出願による装置を考慮して、本件出願は、例えば、レジスト剥離などの処理を、装置の処理領域にわたって均一化することを目的とする。本発明は、上述した独国特許出願公開第１０２００９０５８９６２号明細書の装置とは、請求項１の特徴部分の追加的な特徴によって区別される。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
特に、紫外線が照射された液媒体を基板に供給するための装置が提供され、装置は、横長のチャンバ、前記チャンバに開口する少なくとも１つの入口開口、および前記入口開口に対向して前記チャンバの長さにわたって延びるスリット状の少なくとも１つの出口開口を有するハウジングと、前記チャンバ内をその長手方向に延び、かつ少なくとも一部が紫外線を通すチューブ要素と、前記チューブ要素内に配置された少なくとも１つの紫外線源と、を備え、前記チューブ要素は、前記チューブ要素と前記チャンバの壁との間に流れ空間が形成されるように前記チャンバ内に配置されており、前記流れ空間は、前記チャンバの長手方向中心面に関して対称であり、前記長手方向中心面は、前記出口開口をその中央において切断しており、前記チューブ要素は前記ハウジングに形成されている前記スリット状の出口開口内に延びて、長手方向に延びる２つの出口スリットを前記チューブ要素と前記ハウジングとの間に形成しており、前記紫外線源は、前記流れ空間の方向に、かつ前記ハウジングから前記出口開口を通って紫外線を放射することで、液体中にラジカルを生成し、前記ラジカルを前記基板の表面に導くように配置されている。この装置は、前記紫外線の強度が前記チャンバの前記長手方向中心面に向かって増加するように、前記チューブ要素を通って前記出口開口から出る前記紫外線を調整するための手段に特徴がある。このような装置は、紫外線の強度を増加させる手段により、長手方向中心面に向かうラジカルの減少を、少なくとも部分的に補うことができ、それにより、出口開口の幅にわたって、ラッカーまたはレジスト剥離などのプロセス反応の均一性を増加させる。
【０００９】
一実施形態では、前記チューブ要素は、円形の断面を有しており、前記手段は、前記強度が増加、特に、前記チャンバの前記長手方向中心面に向かって前記強度が連続的に増加するように、前記出口開口および前記チューブ要素を通って出る紫外線の強度を変化させるように配置された少なくとも１つの光学要素を備えている。結果として、特に簡単な態様で、基板上の液体の良好な分配および紫外線の所望の分配を達成することができる。前記少なくとも１つの光学要素は、少なくとも１つの鏡要素を備えており、前記鏡要素は、前記基板とは反対側の前記少なくとも１つの紫外線源の側、および／または前記紫外線源に隣接して配置されており、前記出口開口に向かって紫外線を反射させることで、上述した強度の分配が達成される。好ましくは、前記鏡要素は、前記チャンバの前記長手方向中心面に関して対称である。好ましい実施形態では、前記鏡要素は、紫外線源の放射が主に前記出口開口に向けられるように、前記少なくとも１つの紫外線源の少なくとも一部を囲んでいる。
【００１０】
装置の単純な構造および所望の強度分布のために、前記少なくとも１つの紫外線源は、好ましくは、前記チャンバの前記長手方向中心面上に配置され、かつ前記チューブ要素の横方向中心面の下方に配置されており、前記横方向中心面は、前記チャンバの前記長手方向中心面に対して垂直に延びて前記チューブ要素をその中央で切断している。したがって、前記チューブ要素は、前記出口開口に向かってずれている。
【００１１】
一実施形態では、前記チューブ要素の下部から前記ハウジングの外部に放射線を力強く導くために、前記鏡要素の少なくとも一部は、前記チューブ要素の前記横方向中心面の直下に配置されている。
【００１２】
装置のさらなる実施形態では、前記少なくとも１つの光学要素は、少なくとも３つからなる複数の紫外線源を備えており、前記複数の紫外線源は、前記チューブ要素内に位置しており、互いに隣接し、かつ前記出口開口の内部または前記チャンバの外側に位置する前記チューブ要素の一部に隣接しており、隣接する前記複数の紫外線源は、異なる放射強度で紫外線を放射することで、前記紫外線の強度を前記チャンバの前記長手方向中心面に向かって増加させる。この実施形態では、前記流れ空間の方向において、前記複数の紫外線源からの紫外線を実質的に遮断する少なくとも１つの分離要素、特に反射体が、前記チューブ要素内に設けられてもよい。ここで、この用語は、基本的に、複数の紫外線源の紫外線の少なくとも９０％が流れ空間の方向において遮断されることを意味する。
【００１３】
一実施形態では、装置は、主に、前記流れ空間内に紫外線を放射するように前記チューブ要素内に配置された第１の紫外線源と、主に、前記出口開口を通じて紫外線を放射するように配置された、少なくとも１つの第２の紫外線源と、を備えている。ここで、「主に」とは、各紫外線源から生じ、かつ、チューブ要素を出る紫外線の強度の少なくとも８０％をいう。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
以下、本発明について、図面を参照して、より詳細に説明する。
【図１】図１は、紫外線が照射された液媒体を基板上に供給するための本発明に係る装置を有する基板処理装置の概略上面図を示す。
【図２】図２は、図１のII-II線に沿った、本発明に係る装置の概略断面図を示す。
【図３】図３は、図４のIII-III線に沿った概略断面図を示し、図２と似ているが、代替的な実施形態を示す。
【図４】図４は、図３のIV-IV線に沿った、図３に示される本発明の代替的な実施形態のハウジングの概略的な長手方向断面図を示す。
【図５】図５は、図４のハウジングの概略斜視図を示す。
【図６】図６は、図４のハウジングの概略上面図を示す。
【図７】図７は、クランプブラケットの概略正面図を示す。
【図８】図８ａおよび図８ｂは、本発明に係る装置の出口スリットの領域における、クランプブラケットの効果を説明する概略水平断面図を示す。
【図９】図９ａ乃至図９ｃは、上述したタイプの装置の放射部の異なる構成の概略断面図を示す。
【図１０】図１０ａ乃至図１０ｃは、放射部の代替的な実施形態の概略断面図を示す。
【図１１】図１１は、放射部のさらなる代替的な構成の概略断面図を示す。
【図１２】図１２は、放射部のさらなる構成の、図１１に似た概略断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
上または下、左または右など、以下の説明で使用される方向の言及は、図面中の説明についての言及であり、本件出願を制限するものとして解釈されるべきではないが、これらは、好ましい配置であってもよい。以下の説明では、「孔」という用語は、長手方向に延びるブラインドまたは貫通孔として理解されるべきであり、これは、その製造方法から独立しており、すなわち、ドリル工程またはボーリング工程によって製造される必要はないが、任意の適切な方法で製造可能である。
【００１６】
図１は、基板２、特に、チップ製造用のマスクまたは半導体ウェハの紫外線強化湿式処理のための装置１の概略上面図を示しており、基板は以下のいずれかであってもよい。半導体ウェハの製造用のフォトマスク、半導体ウェハ、特に、Ｓｉウェハ、Ｇｅウェハ、ＧａＡｓウェハ、ＩｎＰウェハ、フラットパネル基板、および多層セラミック基板。図２は、図１のII-II線に沿った装置１の概略断面図を示す。装置１は、実質的に、基板ホルダ４および供給ユニット６を備えている。基板ホルダ４および供給ユニット６は、適切な手段により過圧または負圧が発生可能な、図示しない圧力室内に収容されてもよい。
【００１７】
湿式処理では、液体、例えば、希釈された過酸化水素水またはオゾン水Ｏ３Ｈ２Ｏ、またはその他の、特に、水を含む液体が基板に供給されることに留意すべきである。液体に紫外線を照射することにより、複雑な反応が起こり、仮に、液体として水だけを使用した場合であっても、例えば、Ｈ２Ｏ、Ｈ●、ＨＯ●、ｅ−ａｑ、ＨＯ２●、Ｏ２●−、Ｈ２、Ｏ２、Ｈ２Ｏ２、Ｈ２Ｏ−、Ｈ３Ｏ＋、ＨＯ−、Ｏ３●−およびＨＯ３●などの１４の異なる種が生成される。液体中のこのような反応は、紫外線が照射されたガスで起こる反応よりもはるかに複雑であり、かつラジカルの寿命よりもかなり短い。したがって、湿式処理装置は、ガスを使用する処理装置と直ちに比較することはできない。この反応は、波長に依存し、１つまたは別の種に向かう反応の方向は、波長の選択によって影響を受ける場合がある。
【００１８】
基板ホルダ４は、図１に示されるように、長方形の基板２を受け入れるための平らな矩形状のプレートとして示されている。しかしながら、基板容器４は、異なる形状をとることができ、処理されるべき基板２の形状に適合可能である。基板ホルダ４は、供給ユニット６を経由して基板２に供給可能な液媒体のための、少なくとも１つのドレイン（図示しない）を有する。
【００１９】
供給ユニット６は、主要部８と、両矢印Ａ，Ｂで示されるように、主要部８を移動可能に支持するサポート部１０と、を備えている。特に、サポート部材１０は、一端が主要部８に接続され、他端が図示しない駆動ユニットに接続されたサポートアーム１２を有する。両矢印Ａ，Ｂに示されるように、駆動ユニットは、例えば、サポートアーム１０および主要部８の旋回運動および直線運動のうちの少なくとも１つを実行してもよい。結果として、主要部８は、基板の部分領域または基板の表面全体の処理を可能とするために、基板ホルダ４に収容された基板２の上方で所望の態様で移動可能である。加えて、主要部８と基板ホルダ４上に受けられた基板２の表面との間の距離を調整することができるように、サポートアーム１０を昇降移動させることも可能である。
【００２０】
さらに、基板２と主要部８との間の相対移動ができるように、代替的または追加的に、基板ホルダ４の移動機構を設けることが可能である。
【００２１】
主要部８は、実質的には、ハウジング１４、媒体ポート１６、および放射部１８から構成される。ハウジング１４は、ＴＦＭ、改変ＰＴＦＥなどの適切なプラスチックで構成された横長の直方体形状の本体２０を有する。ハウジングは、同様に、他の適切な材料から構成されてもよい。材料は、温度と、使用される媒体に対して耐性があるものが選択されるべきである。本体２０の全長にわたって長手方向に延びるチャンバ２２は、本体内に形成されている。チャンバ２２の長手方向における境界を定めるために、本体２０の長手方向の端部には、図示しないカバー要素が取り付けられてもよい。以下で、より詳細に説明するように、本体２０およびチャンバ２２は、基板２の全幅にわたって液媒体を供給することができるように、基板２の幅寸法を超える長さを有する。しかしながら、本体２０またはチャンバ２２は、より小さな寸法を有することも可能である。チャンバの内壁２３は、特に、紫外線に対して高い反射率を有するように形成されることができ、その一方で、赤外線は実質的に吸収される。
【００２２】
チャンバ２２は、実質的に円形の断面を有する一方で、チャンバ２２は、本体２０の下面または底部に向かって開口しており、これによって本体２０は下方を向いた（基板２を向いた）開口２１を形成する。結果として、チャンバ２２の内壁２３の断面は、半円よりも大きな部分円のみである。この部分円は、好ましくは、２５０°〜３００°、特に、２７０°〜２９０°の角度範囲にわたって延びている。
【００２３】
チャンバ２２の上部領域では、ポート１６に連通する少なくとも１つの供給ライン２４が本体２０内に設けられており、供給ライン２４は、開口２１の真向かいに配置されている。以下により詳細に説明するように、供給ライン２４は、液媒体をチャンバ２２に導くことができるように、チャンバ２２に連通している。
【００２４】
図１の平面図では３つのポート１６が示されており、各ポートは、それぞれの供給ライン２４を介して、チャンバ２２に連通可能である。しかしながら、より多数または少数のポートを設けることもできる。ポート１６を介して、単一の液媒体をチャンバ２２に導くことができ、または、いくつかの媒体をチャンバ２２に導くことができ、これらを同時にまたは連続的に導入することができる。特に、異なる媒体源をポート１６に接続することが可能であり、これを介して、例えば、インサイチュ混合物を生成するために、異なる媒体をそれぞれのポート１６に同時に導くことができる。特に、液体は、媒体として考慮されるが、例えば、ポート１６および供給ライン２４内の液体と混合された気体は、チャンバ２２に導入される前に供給されてもよい。
【００２５】
放射部１８は、チューブ要素３０および少なくとも１つの紫外線源３２から形成された物体である。チューブ要素３０は、横長の形状を有しており、かつ、チャンバ２２の全長にわたって延びており、本体２０の端部で、図示しないカバー部材を通って（またはカバー部材の中に）延びてもよい。チューブ要素３０は、実質的に紫外線を通す材料から構成されており、円形の断面を有している。円形の断面を有するチューブ要素３０の中心点は、チャンバ２２の内壁２３によって形成される部分円の中心点に対して、開口２１の方向にずれて配置されている。図２に示すように、チューブ要素３０は、その一部が開口２１を通ってハウジング１４の外に突出している。
【００２６】
したがって、チューブ要素３０とチャンバ２２の内壁２３との間には、流れ空間が形成される。この流れ空間は、出口開口２１および供給ライン２４の中心を横切る、チャンバ２２の長手方向中心面C（図３のIV-IV線参照）に関して対称である。図２の断面図に示されるように、流れ空間は、右左の分岐路を形成する。各分岐路は、その下端に、チューブ要素３０と、開口２１の領域内の内壁２３の各端部との間に形成された出口スリット３７を有している。供給ライン２４から始まり、各出口スリット３７に向かって延びる、流れ空間の各分岐路は、テーパー状の流れ断面を有する。特に、各分岐路の流れ空間の流れ断面は、各出口スリット３７の方向に、連続的に漸減する。少なくとも１つの供給ライン２４に隣接する領域と出口スリット３７との流れ空間の流れ断面の比は、１０：１から４０：１の範囲であり、好ましくは、１５：１から２５：１の範囲である。したがって、出口スリット３７の方向に流れる媒体は、著しく加速される。媒体のそれぞれの加速は、一方では、流れの均一化をもたらし、他方では、出口スリット３７での高流速をもたらす。高流速は、開口２１の下方で液媒体の実質的に連続したカーテンの形成を促進し、カーテンは、その下に配置された基板２上に液膜を形成するために使用可能である。
【００２７】
図２では、ポート１６から供給ライン２４およびチャンバ２２を経由してハウジング１４から流出する液媒体の流れを示す流れ矢印が示される。
【００２８】
紫外線源３２は、図示の構成では、チューブ要素３０内の中央に配置された棒状のランプである。棒状のランプ３２は、同様に、チャンバ２２の全長にわたって延びており、チャンバ２２の全長にわたって紫外線の均一な分布を可能とする。紫外線源３２は、主に、所望のスペクトル範囲の紫外線を放射し、放射された紫外線は、チャンバ２２の流れ空間内に放出されるとともに、開口２１を通ってハウジング１４の外部に放出される。以下により詳細に説明されるように、紫外線は、特定の目的のために、具体的に選択されてもよい。紫外線は、流れ空間内に放出される紫外線が開口２１の外に放出される紫外線と異なるように、制御可能である。
【００２９】
このような筒状の紫外線源の代わりに、または追加的に、後述の実施形態で部分的に示されるように、他の紫外線源が設けられてもよい。特に、チューブ要素３０内に複数の紫外線源３２を設けることができる。例えば、ガス放電ランプのみならず、所望のスペクトル範囲（少なくとも紫外線領域でも）で放射するＬＥＤまたは他の適切な光源も、紫外線源３２として使用可能である。
【００３０】
チューブ要素３０と紫外線源３２との間に形成される空間４０には、冷却媒体、特に、要素の過熱を防止するための気体冷却媒体を供給することができる。この場合、冷却媒体としては、紫外線を実質的に吸収しないものが選択されるべきである。
【００３１】
供給ユニット６のさらなる実施形態、特に、図１に記載の装置で使用可能な、代わりの主要部１０８について、図３乃至図８を参照して説明する。主要部１０８は、実質的に、ハウジング１１４、媒体ガイド１１６、および放射部１１８を有している。
【００３２】
ハウジング１１４は、同様に、適切な材料（ＴＦＭなど）からなる横長の直方体形状の本体１２０を有しており、この本体１２０は、本体１２０の全長にわたって長手方向に延びるチャンバ１２２を有する。本体１２０の長手方向の端部には、チャンバ１２２の長手方向における境界を定めるためのカバー要素（図示しない）が取り付けられてもよい。カバー要素は、例えば、取り外し可能な接続を提供するねじによって取り付けられてもよい。しかしながら、好ましく取り外し可能な、カバー要素を接続する他の方法が代わりに使用されてもよい。チャンバ１２２は、同様に、液媒体を供給すべき基板２の幅寸法を超える長さを有してもよい。
【００３３】
同様に、チャンバ１２２は、本体１２０の下面または底部１２４で開口する実質的に円形の断面を有しており、これにより下向きの開口１２１を形成している。チャンバ１２２の内壁１２３は、同様に、部分円を有するが、これは、半円よりも大きい。開口１２１の開口角度は、好ましくは、６０°から１２０°の範囲であり、特に、７０°から９０°の範囲である。
【００３４】
本体１２０の底部１２４は、本体１２０の側壁１２８に向かって、上向きに傾斜したスロープを形成するように構成される。スロープと開口１２１との間には、開口１２１に直接隣接する、実質的に平坦な領域が形成され、本体１２０は丸い縁１２６を有する。この丸い縁は、底部１２４の実質的に平坦な部分をチャンバ１２２の円形の内壁１２３に接続し、その頂点で、本体１２０の実際の開口１２１を形成する。
【００３５】
本体１２０の底部１２４と側壁１２８との間の移行領域には、複数の斜めの凹部（例えば、図示のように、各側に５つ）が設けられている。これらの凹部１３０のそれぞれの領域において、本体１２０は、チャンバ１２２への貫通孔１３２を有する。貫通孔１３２は、階段状であり、凹部１３０に面する、より広い領域と、チャンバ１２２に面する、より狭い領域と、を有する。凹部１３０に面する、より広い領域では、貫通孔１３２には、雌ねじが設けられる。各貫通孔１３２は、貫通孔１３２の段形状に対応する段形状を有する調整要素１３４を受け入れる役割を果たす。調整要素１３４は、ヘッド部１３６と、調整部１３８と、を有する。ヘッド部１３６は、チャンバ１２２内に突出可能なように、貫通孔１３２の狭い領域を通過する大きさである。調整部１３８は、貫通孔１３２のより広い領域の雌ねじと螺合可能な、その内部にねじ込まれる雄ねじを有する。この場合、調整部１３８の螺合の深さは、調整要素１３４のヘッド部１３６がどの程度チャンバ１２２内に突出するのかを決定する。調整要素１３４は、温度、および使用される媒体に対して耐性がある適切な材料から構成されており、ある程度の弾性を有してもよい。特に、ＰＦＡ材料（ポリフルオロアルコキシルポリマー材料：polyfluoroalkoxyl  polymer  material）が適していることが確認されている。しかしながら、他の材料、特に、他のプラスチック材料が使用されてもよい。
【００３６】
本体１２０の上側１４０は、本体１２０の長手方向に対して横切る方向に延びる複数の凹部１４２を有し、これらは、本体１２０の長手方向に凹部１３０と一直線上に配列されている。各凹部１４２の領域には、さらに、凹部１４４およびねじ孔１４６が設けられている。ねじ孔１４６は、ねじを受け入れる機能を有し、ねじを介してカバープレート１４７を取り付けて、凹部１４２を埋めることができる。
【００３７】
凹部１４４は、凹部１４２の底部で本体１２０の長手方向に対して横切る方向に延びる第１断面を有する。凹部１４４は、さらに、側壁１２８と平行な方向に、各側壁１２８に直接隣接して本体１２０内に延びる断面を有する。したがって、図３で最もよく分かるように、凹部１４４は、実質的に、Ｕ字形状を形成する。
【００３８】
凹部１４４は、図３で最もよく分かるように、クランプ要素１５０を受け入れるように機能する。図７は、未装着で弛緩状態のクランプ部材１５０の斜視図を示す。クランプ要素１５０は、実質的に、Ｕ字形状を有しており、Ｕ字形状のクランプ部材１５０の脚１５２は（弛緩状態では）、クランプ部材１５０のベース部１５４から、互いに接触することなく、互いに向かって延びている。言い換えれば、脚１５２の自由端の間の距離は、ベース部１５４での脚の間の距離よりも小さい。したがって、クランプ要素１５０の脚１５２がＵ字形状の凹部１４４に挿入されると、これらは離れる方向に僅かに曲がらなければならず、脚に隣接する本体１２０の部分に内向きのバイアスをかける。特に、内向きのバイアスは、調整要素１３４の領域に加えられる。
【００３９】
上述した媒体ガイド１１６は、本体１２０に一体的に形成されており、以下でより詳細に説明される。媒体ガイド１１６は、基本的に、供給要素１６０と、媒体分配流路１６２と、入口流路１６４と、に分割される。
【００４０】
図示された実施形態では、本体１２０の長手方向に隙間を空けて配置された４つの供給要素１６０が設けられている。供給要素１６０は、均一な間隔で配置されていない。むしろ、中間の供給要素１６０の間の距離は、それぞれの外側の供給要素１６０までの距離よりも小さい。供給要素１６０は、それぞれ、本体１２０の上面１４０上に形成されている。供給要素１６０は、それぞれ、上面１４０から上方に延びる円錐台部分１６６を実質的に有する。円錐台部分１６６の上方には、外部供給ラインへの接続に適合した環状ポート１６８が設けられている。円錐台部分１６６内には、鉛直方向に延びる貫通孔１７０が形成されている。貫通孔は、供給要素１６０の円錐台部分１６６を完全に貫通して、以下でより詳細に説明する媒体分配流路１６２内に延びている。
【００４１】
媒体分配流路１６２は、本体１２０を横切る方向において中心に位置する長手方向孔１７４によって形成される。長手方向孔１７４は、本体１２０を完全に貫通して延びており、上面１４０とチャンバ１２２との間に配置される。端部の領域において、長手方向孔１７４は、図示しない適切なエンドキャップによって閉じることが可能な拡大断面１７６を有する。実際の媒体分配流路１６２は、長手方向孔１７４の中央、つまり長手方向孔１７４の閉じられていない部分によってのみ形成される。当然、当業者が理解するように、長手方向孔１７４は、本体１２０の一端に向かってのみ開くことも可能であり、適切な方法で閉じられることが可能な端部にのみ、拡大断面１７６を有している。
【００４２】
特に図４から分かるように、媒体分配流路１６２を形成する長手方向孔１７４は、４つの位置で孔１７０と連通している。供給要素１６０を介して導入された任意の媒体は、様々な位置で媒体分配流路１６２に導入可能であり、その後、媒体分配流路１６２内で本体１２０の長手方向に分配される。
【００４３】
媒体分配流路１６２とチャンバ１２２との間に位置する壁部材１７７には、媒体分配流路１６２とチャンバ１２２とを連通させて、入口流路１６４を形成する複数の貫通孔が形成される。図示された実施形態では、１２個の入口流路１６４が設けられている。入口流路１６４は、孔１７０に対して本体１２０の長手方向にずれて配置される。当然、異なる数の入口流路１６４が設けられてもよい。入口流路１６４は、好ましくは、本体１２０の長手方向に等間隔に配置され、３／１００ｍｍから１２／１００ｍｍの範囲、特に、４／１００ｍｍから１０／１００ｍｍの範囲の密度が、現在のところ、チャンバ１２２内の媒体の均一な流れを促進するために好ましい。
【００４４】
チャンバ１２２に面する壁部材１７７の側面には、スペーサ１７９（図３参照）を受ける機能をそれぞれ有する、２つのブラインド孔１７８（図４参照）が設けられている。スペーサ１７９は、温度および使用される媒体に対して耐久性があり、ある程度の弾性を有する適切な材料から構成されている。特に、調整要素１３４の場合のように、ここでもＰＦＡが同様に使用可能である。スペーサ１７９は、それぞれ、複数のブラインド孔１７８の１つに収容されるべき脚（図示しない）と、図３から明らかな、円錐台の主要部と、を有する。
【００４５】
本実施形態の放射部１１８について、より詳細に説明する。放射部１１８は、チューブ要素１８０と、少なくとも１つの紫外線源１８２と、を有する。これらは、第１の実施形態に係る、チューブ要素３０および少なくとも１つの紫外線源３２と実質的に同じ構造を有する。チューブ要素１８０は、円形の断面を有する横長の形状を有しており、紫外線を実質的に通す材料から構成されている。チューブ要素１８０は、チャンバ１２２の全長にわたって延びるように、チャンバ１２２内に収容されており、円形の断面を有するチューブ要素１８０の中心は、チャンバ１２２の内壁１２３の部分円の中心に対して、開口１２１に向かってずれて配置されている。円形のチューブ要素１８０も、同様に、その一部が開口１２１を通ってハウジング１４の外に突出している。同様に、チューブ要素１８０とチャンバ１２２の内壁１２３との間には、流れ空間１８４が形成されている。この流れ空間１８４は、開口１２１および供給要素１６０の中心を横切る、チャンバ１２２の長手方向中心面Ｃに関して対称である。流れ空間１８４は、図３の断面図から明らかなように、右左の分岐路を形成する。各分岐路は、その下端に出口スリット１８６を有する。入口流路１６４から始まって各出口スリット１８６まで延びる、流れチャンバの分岐路のそれぞれは、テーパー状の流れ断面を有する。分岐路の断面は、第１の実施形態と同様に漸減する。
【００４６】
図３から明らかなように、チューブ要素１８０は、各調整要素１３４のヘッド１３６の上に載置されており、チューブ要素１８０の上側でスペーサ１７９に接触する。したがって、調整要素１３４およびスペーサ１７９は、３点接触を提供し、チャンバ１２２内のチューブ要素１８０の正確な位置を定める。明らかなように、出口スリット１８６の幅は、調整要素１３４によって、ある程度、調整可能である。調整要素１３４の各ヘッド１３６は、ヘッドの周りの媒体の流れに実質的に影響を及ぼさない点支持を形成するので、実質的に連続した（切れ目のない）媒体カーテンを出口スリット１８６の領域に形成することができる。紫外線源１３２は、第１の実施形態と同様の態様で、チューブ要素１８０内に配置されてもよい。
【００４７】
図２に示す主要部８の実施形態と図３乃至図７に示す主要部１０８の第２の実施形態との主な相違点は、媒体ガイドの領域である。第１の実施形態では、媒体は、供給ライン２４を介してチャンバ１２２内に直接導入されるが、第２の実施形態では、媒体は、供給要素１６０を介して媒体分配流路１６２に導入され、その後、入口流路１６４を通ってチャンバ１２２内に導入される。結果として、本体１２０の長手方向において、液媒体のより均一な分配が達成される。チャンバ１２２の領域では、より均一な流れが流れ空間１８４に形成される。特に、流れ空間１８４のテーパー断面との組み合わせでは、出口スリット１８６での均一な流れを達成することができ、均一な液体カーテンを形成する。
【００４８】
他の相違点は、ブラケット１５０、調整要素１３４、およびスペーサ１７９の使用であるが、これらは、第１の実施形態でも、対応する態様で使用可能である。クランプ１５０は、図８ａおよび図８ｂを参照してより詳細に説明するように、チャンバ１２２の領域において、内向きのバイアスを付与するように機能する。液媒体が媒体ガイド１１６を通じてチャンバ１２２に導入されると、チャンバの内壁１２３には、外向きの圧力が作用する。特に、本体１２０が小さな断面を有する、チャンバ１２２の最も広い領域では、各圧力が本体１２０の変形をもたらし、出口スリット１８６の幅が増大する可能性がある。端部では、カバー部材（図示しない）がそれぞれの変形を防ぐので、これは、特に、本体１２０の長手方向における中間領域に当てはまる。
【００４９】
特に、図８ａに示されるように、例えば、出口スリット１８６の幅は、中央領域で実質的に増大し、当然、出口スリット１８６からの各媒体流出を変化させる。これは、媒体の均一な分布を妨げる。ブラケット１５０を使用することにより、図８ｂに示すように、これを防ぐことができる。ブラケット１５０は、特に、調整要素１３４と組み合わせて、出口スリット１８６の均一な幅を確保することができる。ブラケット１５０は、特に、調整要素１３４と組み合わせて、出口スリット１８６の一定の幅を確保するために、流れチャンバの流れ断面の変化とは無関係に、効果的である。
【００５０】
第１の実施形態の放射部１８の異なる構成について、図９乃至図１２を参照して、より詳細に説明する。しかしながら、これらの構成は、同様の方法で第２の実施形態に使用可能である。
【００５１】
図９ａは、円形の断面を有するチューブ要素３０と、チューブ要素３０の中央に配置された棒状の紫外線源３２と、を有する、図２と同様の通常の構成を示す。以下では、第１の実施形態と同じ参照番号が使用され、当然、異なる構成を第２の実施形態でも使用することができる。
【００５２】
ハウジング１４は、チャンバ２２および供給ライン２４とともに概略的にのみ示されている。このユニットの下方には、基板２が概略的に示されている。
【００５３】
異なる構成の概略図の下に、２つのグラフが示されており、上のグラフは、紫外線源３２が作動しながら、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）または純水などの液媒体が供給ライン２４を通じて基板に供給されるときの、基板２の表面上のラジカルの濃度の分布を表している。下のグラフは、ラジカルによって促進される洗浄工程での基板上のラッカー層の厚さの達成可能な変化を示しており、ここでは、静止工程制御が想定され、すなわち、ユニットは、基板を横切って移動せずに、静止している。両方の分布は、正規化された形式で示されている。
【００５４】
明らかなように、ラジカル濃度は、除去されたラッカー層に大きな影響を及ぼす。加えて、図９ａには示されないが、基板に衝突する紫外線もラッカー層の除去量に影響を与える。例えば、ラッカー層の除去量を低下させる、ラジカルの濃度低下を、基板に衝突する紫外線を増加させることによって補ってもよい。これは直線的な関係ではなく、非常に低いラジカル濃度を大量の光または紫外線で補うことはできない。したがって、補償には限界がある。ラジカル濃度は、チャンバ２２の長手方向中心面の領域で最も高く（破線参照）、外側に向かって急峻に減少する。したがって、基板２の表面上のラジカル濃度は、チャンバ２２を横切る方向において、大きく異なる。チューブ要素から出る紫外線は、実質的に均一に分布し、したがって、ラッカー層の除去量は、実質的に、ラジカル濃度に追随する。
【００５５】
図９ｂは、図９ａと同様の構成を示しているが、ここでは、オゾン水Ｏ３−Ｈ２Ｏは、紫外線源３２が作動している間、供給ライン２４を通じて基板に供給されている。ここで、ラジカル分布のグラフは、出口スリット３７の直下でラジカルの最高濃度を示しており、濃度は、長手方向中心面に向かって減少する。チューブ要素から出る紫外線は、実質的に、均一に分布しており、ラッカー層の除去量は、この場合もやはり、実質的に、ラジカル濃度に追随する。本発明者は、このような用途では、長手方向中心面に向かって光の強度を高めることで、ラッカー除去のより良い均一性（または、同様の方法で影響を受けるプロセス結果）を実現することが有益であることを理解している。
【００５６】
図９ｃは、図９ｂに示されるようなラジカル分布が存在するとき、プロセス結果の均一性を向上するのに適した代替的な構成を示す。ここでも同様に、円形の断面を有するチューブ要素３０が使用される。紫外線源３２は、この場合もやはり、上述したものと同じである。チューブ要素３０は、異なる領域で異なる透過率特性を有するように変更されている。チューブ要素３０は、チャンバ２２内にある領域において第１の透過率を有しており、チャンバ２２の外において別の第２の透過率を有している。特に、第１の領域は、例えば、紫外線に対して可能な限り高い透過率を有し、すなわち、流れチャンバ内で、紫外線源３２によって提供される紫外線のすべてを、実質的に、チャンバ２２内に導入可能である。
【００５７】
一方、チャンバの外側に位置するチューブ要素３０の領域は、紫外線の吸収または反射の増加に起因して、より低い透過率を有する。特に、チューブ要素３０は、長手方向中心面の領域で最も高い透過率を有し、透過率は、出口スリット３７に向かう方向において、徐々に減少する。結果として、基板２の表面に衝突する紫外線の放射強度は、出口スリット３７の直下の領域と比較してラジカルの濃度が低くなる長手方向中心面の近傍で最も高くなり、ここから横方向に減少するように、調整可能である。したがって、ラジカルの不均一な分布にもかかわらず、ラッカーの実質的に均一な除去を可能とする拡張領域が設けられてもよい。仮に、ラジカルの濃度低下を完全に補うことができない場合であっても、図９ｂに示される場合と実質的に同じ均一化が達成され得る。したがって、ラジカルの濃度の変化にもかかわらず、図９ｃのグラフに示されるように、実質的に均一なプロセス結果が、主要本体２０の開口２１の幅にわたって設定されてもよい。そのため、主要本体２０の開口２１の幅にわたって、実質的に均一な多量のラッカー除去が可能となる。
【００５８】
同様の効果は、チューブ要素自体の材料によって、またはチューブ要素の各領域の上または隣接する、コーティングまたは箔によって達成することができる。後者の場合、液体の汚染を回避し、かつ使用中の媒体に対するコーティングの抵抗を無視することができるようにするために、コーティングまたはフィルムを、好ましくは、チューブ要素の内側に配置する。
【００５９】
図１０ａ乃至図１０ｃには、放射部１８のさらなる構成が示されており、それぞれの場合においても同様に、チャンバ２２および供給ライン２４を有するハウジング１４は、概略的にのみ示されている。基板２もまた同様に、概略的に示されている。図９ａ乃至図９ｃに示されるグラフは、図１０では示されていない。
【００６０】
図１０ａに示す構成では、同様に、チューブ要素３０に収容される単一の紫外線源３２が設けられている。この構成では、チャンバ２２の内側にあるチューブ要素３０の部分に反射コーティングが設けられている。この反射コーティングは、例えば、チューブ要素に取り付けられた層または箔から構成可能であり、例えば、内側または外側に取り付けられてもよい。層または箔は、紫外線源３２から放出される紫外線に対して完全に反射可能であり、または、特定の波長範囲でのみ反射可能である。図１０ａでは、反射コーティングの形状は、チューブ要素の外形に沿って、わかりやすく示されている。しかしながら、この点において、形状は乖離してもよく、この場合、出口スリット３７に隣接する領域でチューブ要素３０から出る紫外線の強度が長手方向中心面Ｃの領域よりも低くなり、特に、実質的に、長手方向中心面Ｃに向かって連続的に増加するように、形状を具体的に設計すべきである。したがって、チューブ要素３０から出る紫外線の強度は、中央（長手方向中心面Ｃの近傍）で最も高く、ここから横方向に減少する。
【００６１】
図１０ｂは、反射コーティングのさらなる構成を示しており、ここでは、上部領域において平坦であり、かつ断面においてチューブ要素の円形状に対する弦を形成する、反射コーティングの別の形状が示されている。このような形状により、特に、チューブ要素３０の上部領域（反射コーティングの上方）にさらなる紫外線源（図示しない）を設けることが可能となる。このさらなる紫外線源は、紫外線源３２とは異なるスペクトル範囲で放射してもよい。出口スリット３７の領域に向けられ、かつ基板２の方向における紫外線と比較して、この紫外線源は、流路の領域において異なる紫外線を付与することができる。ラッカーの除去などのプロセス結果の均一化（基板に局所的に衝突する紫外線と局所的なラジカル濃度との間の具体的な比率を調整する手段による）に加えて、波長選択（装置の異なる領域、特に、チャンバ２２の内側および本体の外側において、異なる主なスペクトル範囲の紫外線を放射すること）も可能である。
【００６２】
これは、例えば、２００ｎｍ未満の波長の紫外線を通過させ、かつ２００ｎｍを超える波長の紫外線を実質的に反射する、反射コーティングの選択反射特性によっても達成可能である。もちろん、これは、図１０ａに示す実施形態にも当てはまる。
【００６３】
両方の場合、すなわち、図１０ａおよび図１０ｂに示す構成において、チャンバ２２の外からチャンバ２２内に放射するように、本体２０内に追加の紫外線源を配置して、波長選択を達成することも可能である。この場合、チャンバ２２内に放射される紫外線は、例えば、主に、２００ｎｍ未満の範囲、例えば、約１８５ｎｍである。開口２１を通ってチャンバ２２から外に放射される紫外線は、特に、主に、２００ｎｍを超える範囲、例えば、約２５４ｎｍである。２００ｎｍ未満の紫外線は、主に、流路内の媒体を分解する働きをするが、２００ｎｍを超える紫外線は、主に、ラジカルを生成する働きをする。
【００６４】
放射強度の特定の空間分布に加えて、追加の波長選択は、チャンバから基板２に向かって放射される紫外線とは異なる紫外線を流れチャンバ内に放射する上記構成によって、容易に達成することができる。
【００６５】
この場合も同様に、チューブ要素３０から出る紫外線の強度が長手方向中心面Ｃの近傍で最も高く、ここから横方向に減少するように、反射コーティングまたは鏡要素を具体的に設計すべきである。
【００６６】
図１０ｃに係る実施形態も同様の効果を達成し得る。この実施形態では、放射部１８は、同様に、チューブ要素３０を有する。チューブ要素内には、第１の紫外線源３２が設けられており、これは上述したタイプのものであってもよい。第１の紫外線源の下方には、紫外線源３２から放射された紫外線を実質的に上向きに反射するための、凹状の、上向きに湾曲した鏡要素２００が設けられている。鏡要素２００の下方には、異なる複数の第２の紫外線源２１０の配列が設けられる。特に、７つの紫外線源２１０が示されている。これらの紫外線源２１０は、それぞれ、異なる強度で、少なくとも紫外線の範囲における光を放射する。特に、強度は、中央の紫外線源２１０から外側の紫外線源２１０まで連続的に減少する。すなわち、最も外側の紫外線源２１０は、最低強度で光を放射する。この構成により、この場合もやはり、チューブ要素３０から出る光の所望の強度分布は、チューブ要素３０から出る紫外線の強度が長手方向中心面Ｃの近傍で最も高くなり、かつ、ここから横方向に減少する。
【００６７】
特に、本体２０の開口２１の幅にわたって、上述した利点を有する、ラッカーの除去などの実質的に均一なプロセス結果（基板に局所的に衝突する紫外線と局所的なラジカル濃度との間の具体的な比率を調整する手段による）を得ることができる。加えて、この構成により、流れ空間内に放射される紫外線が、開口２１から放射される紫外線とは異なるスペクトル範囲を持つことができるように、特定の波長選択も可能になる。
【００６８】
例えば、第１の紫外線源は、この場合もやはり、２００ｎｍ未満の範囲、例えば、約１８５ｎｍで放射してもよく、その一方で、紫外線源２１０は、例えば、２００ｎｍを超える範囲、特に、約２５４ｎｍの紫外線を放射する。
【００６９】
図１１および図１２は、放射部１８のさらに別の構成を示している。これらの場合もやはり、チャンバ２２と開口２１を備えた本体２０および基板２は概略的に示されている。
【００７０】
図１１に示す構成の放射部１８は、この場合もやはり、実質的に紫外線を透過するチューブ要素３０を有する。チューブ要素３０内には、２つの紫外線源２２０，２２２が示されている。２つの紫外線源２２０，２２２は、チューブ要素３０内において、上下に配置される。紫外線源２２０，２２２は、異なるタイプのものであり、特に、異なるスペクトル範囲で放射する。これにより、上部紫外線源２２０は、例えば、主に、２００ｎｍ未満のスペクトル範囲、例えば、１８５ｎｍの紫外線を放射し、その一方で、下部紫外線源２２２は、主に、２００ｎｍを超えるスペクトル範囲、例えば、２５４ｎｍの紫外線を放射する。
【００７１】
紫外線源２２０，２２２の間には、両側で反射する湾曲したリフレクタ２２６が設けられている。リフレクタは、基本的に、流れ空間に放射された紫外線を、開口２１の外部に放射された紫外線から分離させる。リフレクタ２２６は、紫外線が上部紫外線源２２０および下部紫外線源２２２の両方から出口スリット３７に隣接する各流路の端部領域に放射されるように配置されている。
【００７２】
２００ｎｍ未満の紫外線は、上述したように、主に、流路内の媒体の分解を実質的に引き起こす働きをする一方で、２００ｎｍを超える紫外線は、ラジカルを生成する働きをする。流路の端部領域におけるラジカルの生成は既に望ましいため、図示された構成が有利である。リフレクタ１２６の下向き領域の曲率は、基板に局所的に衝突する紫外線と局所的なラジカル濃度との所望の比率が可能な限り広い面積にわたって達成され、かつ均一な処理を可能にするように、具体的に選択され得る。ここで、比率は、上述したように、ラジカル濃度が減少するにつれて、紫外線の強度が増加するように変化する。特に、紫外線の強度は、装置における長手方向中心面の近傍で最も高く、ここから横方向に減少する。
【００７３】
図１２に係る実施形態では、図１１と同じように、異なるスペクトル領域で放射する２つの紫外線源２２０，２２２を備えたチューブ要素３０が、同様に、設けられる。上部紫外線源２２０を省略することも可能である。この場合もやはり、チューブ要素３０内には、鏡要素２４０が設けられている。鏡要素は、図１２から明らかなように、様式化されたＭ字形状を有しており、下部の紫外線源は、Ｍ字形状の内部に配置される一方で、任意の上部の紫外線源２２０は、鏡要素の上方に配置される。特に、鏡要素は、間隙を空けた、実質的に平行な２つの第１の脚２４１を有する。第１の脚のそれぞれの上端には、内側に傾斜した第２の脚２４２が設けられている。第２の脚２４２のそれぞれの上端には、内側に延びる第３の脚２４３が設けられる。第３の脚２４３は、同じ平面内に配置され、実質的に互いに平行に、かつ第１の脚２４１に対して垂直に延びる。第３の脚のそれぞれの内側端部には、第４の脚２４４が設けられている。第４の脚２４４は、第３の脚２４３に対してある角度で内側に延び、かつ第１の脚２４１の間の中心で交わる。第１の脚と第２の脚との間、第２の脚と第３の脚との間、および第３の脚と第４の脚との間の、それぞれの角度は、９０°よりも大きい。図示するように、第２の脚、第３の脚、および第４の脚は、屋根形状を形成する。鏡要素２４０は、第１の脚が装置の長手方向中心面に対して実質的に平行であり、かつ鏡要素が装置の長手方向中心面に対して対称になるように、チューブ要素３０内に配置されている。図１２に示すように、鏡要素２４０は、第２の紫外線源２２２の紫外線の少なくとも一部が、チャンバ２２、特にチャンバ２２の各出口スリット３７に隣接する領域に到達するように配置される。さらに選択的に、さらなるリフレクタが図１２に示すような装置に設けられてもよく、これは、例えば、第１の紫外線源の上方に配置され、紫外線が供給ライン２４の領域に向かって直接放射されるのを防ぐ。特に、そのようなリフレクタは、より広い領域にわたって延び、紫外線を、特に、出口スリット３７、または出口スリット３７に隣接するチャンバ２２の領域に向けて導くことができる。
【００７４】
この構成においても同様に、チューブ要素から出る光の所望の強度分布を達成することができ、チューブ要素から出る紫外線の強度は、装置の長手方向中心面の近傍で最も大きくなり、ここから横方向に減少する。
【００７５】
装置１の動作について、より詳細に説明する。最初に、図１および図２に示す構成が存在すると仮定する。動作は、異なる実施形態についても変わらない。
【００７６】
供給ユニット６、特に、主要部８は、基板２に隣接する位置に配置される。この位置では、開口２１から出てくる液体は基板２に乗らない。紫外線源３２のスイッチが入れられると同時に、媒体ポート１６を介して、例えば、希釈された過酸化水素水またはオゾン水Ｏ３−Ｈ２Ｏなどの液媒体がチャンバ２２内に導入される。
【００７７】
チューブ要素３０とチャンバ２２の内壁２３との間の流れ室では、液体の流れが形成され、出口スリット３７の方向に加速される。特に、液体の速度は、供給ライン２４の端部でのオーバーヘッド領域から出口スリットまで、１０：１から４０：１までの範囲の倍率、好ましくは、断面の対応する変化により、１５：１から２５：１までの範囲の倍率で加速される。
【００７８】
主要部８の下方には、主要部８の長さのかなりの部分にわたって、均一に延びる水のカーテンが形成される。紫外線源３２から放射される紫外線は、流路、すなわち、供給ライン２４および出口スリット３６の間の液体を分解し、液体内の不要な反応種を破壊する。同時に、紫外線によって液体中にラジカルが生成される。これらのメカニズムは、主に、紫外線の異なるスペクトル領域で起こる。分解のためには、２００ｎｍ未満のスペクトル範囲の紫外線が有利である一方で、ラジカル生成のためには、２００ｎｍを超える、特に、２５４ｎｍでの紫外線が望ましい。特別な措置なしに、図９乃至図１１で説明したように、流路の領域および本体２０の外側における紫外線源３２から放射された紫外線は、実質的に同じであり、一般的に、２００ｎｍよりも上および下の放射成分を含む。流路内の流れの加速に起因して、流れの均一化が達成され、液体カーテンが広い幅にわたって均一に形成される。
【００７９】
説明したように、流路内において、一方では、液体が分解され、不要な反応種が破壊され、その一方で、同時に、ラジカル、特に、ヒドロキシルラジカルが生成される。供給ユニット６の主要部８がその後に基板２の上方を移動するときに、ラジカルが基板２の表面に到達するのに十分な時間存在することができるように、これらラジカルは、特に、出口スリット３７の領域においても生成される。
【００８０】
基板２は、例えば、洗い落とさなければならない、基板２上のラッカーまたはレジストの残渣を有するフォトマスクであってもよい。そのような洗浄は、フォトマスクの全領域にわたって、またはマスクの特定の領域のみに実行可能である。供給ユニット６の主要部８を基板の上方で移動させることにより、液体カーテンは、基板２を横切って移動される。紫外線源３２は、液体内にラジカルを連続的に生成する。特に、出口スリットの領域および本体２０の開口２１の下方におけるラジカルのそれぞれの生成が重要であり、ラジカルの生成は、上述した実施形態で説明したような特定の手段によって、ここに集中されてもよい。したがって、液体は、開口２１の直下で、ラジカルで帯電されており、ラッカーまたはレジストの洗浄に特に効果的である。
【００８１】
これにより、特に、オゾン水Ｏ３−Ｈ２Ｏを使用する場合、図９ｂに示されるように、ラジカルの濃度の増加が出口スリット３７の直下で発生する場合があり、そこから横方向に減少する。ラジカルが帯電した液体に加えて、紫外線源３２の紫外線の一部も、処理されるべき基板の表面に到達し、紫外線は、表面をさらに活性化し、ラジカルによる各洗浄を促進する。これにより、開口２１の幅にわたって発生するラジカルの濃度の不均一性を補うために、基板の表面領域に局所的に衝突する紫外線の強度は、局所的なラジカル濃度に対して、所望の比率でなければならない。特に、ラジカル濃度が局所的に低い場合、処理される基板の表面に衝突する紫外線の強度は高くすべきである。特に、本発明によれば、チューブ要素３０を通って開口２１から放出される紫外線の強度は、チャンバ２２の長手方向中心面に向かって増加する。開口２１の直下でない領域では、ラジカルは急速に崩壊するため、液体のラジカルの濃度は急速に低下し、これらの領域における紫外線の低強度と相まって、ラジカルの濃度が低下すると、基板上での効果が急速に低下する。このプロセスは、開口の直下で最も効果的であり、ラジカルの濃度に対する紫外線の強度を調整することにより、プロセスは開口の幅にわたって均一化され得る。
【００８２】
基板上の液体カーテンの掃引時間は、ラジカルが帯電した液体を十分に長い時間基板上に滞留させることで、所望の洗浄性能に適合させることができる。マスクが洗浄されると、媒体の供給を停止して紫外線源のスイッチを切ることができ、または、同じような方法によって次の基板２を処理することができる。
【００８３】
本発明は、特定の実施形態に限定されることなく、本発明の好ましい実施形態を参照して、上記で詳細に説明された。特に、上記実施形態の異なる特徴は、互換性があれば、互いに自由に組み合わせたり、交換したりすることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８（ａ）】
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【図８（ｂ）】
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【図９】
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【図１０（ａ）】
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【図１０（ｂ）】
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【図１０（ｃ）】
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【図１１】
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【図１２】
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