(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス製品を調製するためのＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＳｎＯ２、および、所望によりＢａＯからなる組成物であって、
１００重量部のＳｉＯ２に対して、Ａｌ２Ｏ３の含有量が２０〜３５重量部であり、Ｂ２Ｏ３の含有量が１０〜２２重量部であり、ＣａＯの含有量が４〜１７重量部であり、ＭｇＯの含有量が０〜１０重量部であり、ＳｒＯの含有量が０．８〜１．５重量部であり、ＳｎＯ２含有量が０．１〜０．８重量部であり、およびＢａＯの含有量が０〜４重量部であり、ならびに
前記組成物は、以下の経験式（Ｉ）：
Ｍ＝０．１３×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）＋０．４２×ｗｔ（ＣａＯ）＋０．５５×ｗｔ（ＭｇＯ）＋０．７５×ｗｔ（ＳｒＯ）−０．０５×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）      式（Ｉ）
（式中、ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＢ２Ｏ３の重量部を示し、
ｗｔ（ＣａＯ）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＣａＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＭｇＯ）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＭｇＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＳｒＯ）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＳｒＯの重量部を示し、および
ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＡｌ２Ｏ３の重量部を示す）
によって計算されるＭ値が１〜３である、組成物。
【請求項２】
Ａｌ２Ｏ３の含有量、Ｂ２Ｏ３の含有量、ＣａＯの含有量、ＭｇＯの含有量およびＳｒＯの含有量の１つ以上が、独立して以下のように規定される：、
Ａｌ２Ｏ３の含有量が２５〜３０重量部であるか、
Ｂ２Ｏ３の含有量が１５〜１８重量部であるか、
ＣａＯの含有量が１０〜１４重量部であるか、
ＭｇＯの含有量が１〜５重量部、好ましくは１．８〜３重量部であるか、または
ＳｒＯの含有量が１．１〜１．５重量部である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ＳｎＯ２の含有量およびＢａＯの含有量の１つ以上が、独立して以下のように規定される：
ＳｎＯ２の含有量が０．２〜０．７重量部であるか、または
ＢａＯの含有量が０．５〜３重量部である、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物から製造されるガラス製品。
【請求項５】
ガラス基材であり、前記ガラス基材は、以下の経験式（ＩＩ）：
Ｋ＝１．５×（Ｘ／Ｙ）−１．８×Ｄ＋０．２２×Ｈ＋１．８×Ｎ      式（ＩＩ）
（式中、Ｘ／Ｙは、１．０２〜１．２４の値を有する前記ガラス基材の長さ−幅比を示し、Ｄは前記ガラス基材の厚みをミリメートル（ｍｍ）で示した数値を示し、Ｈは前記ガラス基材の厚さ範囲をマイクロメートル（μｍ）で示した数値を示し、およびＮは前記ガラス基材のキログラム（Ｋｇ）あたりの数で表した固体介在物および気体介在物の合計数を示す値を示す）
によって計算されるＫ値が７．０以下である、請求項４に記載のガラス製品。
【請求項６】
前記Ｋ値が６．５以下、好ましくは６．０以下、最も好ましくは５．５以下である、請求項５に記載のガラス製品。
【請求項７】
前記ガラス製品が、
１）融解を含むプロセスによって、原材料の形態の成分を、融解した透明なガラスに調製するステップ；
２）前記融解した透明なガラスを均一にするステップ；および
３）均一にした融解した透明なガラスを冷却し、成型するステップ
を含む方法によって製造され、
ステップ１）およびステップ２）のいずれかまたは両方が超音波処理を含む、請求項５または６に記載のガラス製品。
【請求項８】
前記超音波処理中に１つ以上のロッドが融解したガラスに挿入される、請求項７に記載のガラス製品。
【請求項９】
前記超音波処理が５０〜６０Ｗ／Ｌの平均音響エネルギー密度を有する超音波を使用して実施され、および／または前記超音波処理が２５〜４０ｋＨｚの超音波周波数を有する超音波を使用して実施される、請求項７または８に記載のガラス製品。
【請求項１０】
前記超音波処理が１０００〜１５００℃、好ましくは１１００〜１４００℃、より好ましくは１２００〜１３００℃の温度で実施される、請求項７〜９のいずれか一項に記載のガラス製品。
【請求項１１】
前記超音波処理の継続時間が、独立して、３〜６０分、好ましくは５〜５０分、より好ましくは１０〜４０分、最も好ましくは１５〜３０分である、請求項７〜１０のいずれか一項に記載のガラス製品。
【請求項１２】
複数の超音波処理を使用し、各超音波処理の間の時間間隔が、独立して、１〜２０分、好ましくは２〜１５分、さらに好ましくは５〜１０分である、請求項７〜１０のいずれか一項に記載のガラス製品。
【請求項１３】
前記ロッドが、円柱ならびに／または角柱（例えば、三角柱、四角柱、五角柱、六角柱および／もしくは八角柱）であり、好ましくは、前記円柱の直径もしくは呼び径または前記角柱の外接円の直径もしくは呼び径が、１０〜３０ミリメートルである、請求項８に記載のガラス製品。
【請求項１４】
前記ロッドが前記融解したガラスに不純物を与えない不活材料から作製されており、好ましくは、前記ロッドがＰｔおよび／またはＲｈを含む材料から作製されている、請求項８に記載のガラス製品。
【請求項１５】
複数の前記ロッドの間隔が、独立して、１０〜５０ｍｍであり、好ましくは、複数の前記ロッドがアレイ状に配置される、請求項８に記載のガラス製品。
【請求項１６】
ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＳｎＯ２、および、所望によりＢａＯからなるガラス製品であって、
１００重量部のＳｉＯ２に対して、Ａｌ２Ｏ３の含有量が２０〜３５重量部であり、Ｂ２Ｏ３の含有量が１０〜２２重量部であり、ＣａＯの含有量が４〜１７重量部であり、ＭｇＯの含有量が０〜１０重量部であり、ＳｒＯの含有量が０．８〜１．５重量部であり、ＳｎＯ２含有量が０．１〜０．８重量部であり、およびＢａＯの含有量が０〜４重量部であり、ならびに
前記ガラス製品は、以下の経験式（Ｉ）：
Ｍ＝０．１３×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）＋０．４２×ｗｔ（ＣａＯ）＋０．５５×ｗｔ（ＭｇＯ）＋０．７５×ｗｔ（ＳｒＯ）−０．０５×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）      式（Ｉ）
（式中、ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＢ２Ｏ３の重量部を示し、
ｗｔ（ＣａＯ）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＣａＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＭｇＯ）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＭｇＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＳｒＯ）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＳｒＯの重量部を示し、および
ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）は、１００重量部のＳｉＯ２に対するＡｌ２Ｏ３の重量部を示す）
によって計算されるＭ値が１〜３である、ガラス製品。
【請求項１７】
Ａｌ２Ｏ３の含有量、Ｂ２Ｏ３の含有量、ＣａＯの含有量、ＭｇＯの含有量およびＳｒＯの含有量の１つ以上が、独立して以下のように規定される：
Ａｌ２Ｏ３の含有量が２５〜３０重量部であるか、
Ｂ２Ｏ３の含有量が１５〜１８重量部であるか、
ＣａＯの含有量が１０〜１４重量部であるか、
ＭｇＯの含有量が１〜５重量部、好ましくは１．８〜３重量部であるか、または
ＳｒＯの含有量が１．１〜１．５重量部である、請求項１６に記載のガラス製品。
【請求項１８】
ＳｎＯ２の含有量およびＢａＯの含有量の１つ以上が、独立して以下のように規定される：
ＳｎＯ２の含有量が０．２〜０．７重量部であるか、または
ＢａＯの含有量が０．５〜３重量部である、請求項１６または１７に記載のガラス製品。
【請求項１９】
ガラス基材であり、前記ガラス基材は、以下の経験式（ＩＩ）：
Ｋ＝１．５×（Ｘ／Ｙ）−１．８×Ｄ＋０．２２×Ｈ＋１．８×Ｎ      式（ＩＩ）
（式中、Ｘ／Ｙは、前記ガラス基材の長さ−幅比を示し、１．０２〜１．２４の値であり、Ｄは前記ガラス基材の厚みをミリメートル（ｍｍ）で示した数値を示し、Ｈは前記ガラス基材の厚さ範囲をマイクロメートル（μｍ）で示した数値を示し、ならびにＮは前記ガラス基材のキログラム（Ｋｇ）あたりの数で表した固体介在物および気体介在物の合計数を示す値を示す）
によって計算されるＫ値が７．０以下である、請求項１６〜１８のいずれか１項に記載のガラス製品。
【請求項２０】
前記Ｋ値が６．５以下、好ましくは６．０以下、最も好ましくは５．５以下である、請求項１９に記載のガラス製品。
【請求項２１】
前記ガラス製品が、
１）融解を含むプロセスによって、原料の形態の成分を、融解した透明なガラスに調製するステップ；
２）前記融解した透明なガラスを均一にするステップ；および
３）均一にした融解した透明なガラスを冷却し、成型するステップ
を含む方法によって製造され、
ステップ１）およびステップ２）のいずれかまたは両方が１つ以上の超音波処理を含む、請求項１９または２０に記載のガラス製品。
【請求項２２】
前記超音波処理中に１つ以上のロッドが融解したガラスに挿入される、請求項２１に記載のガラス製品。
【請求項２３】
前記超音波処理が５０〜６０Ｗ／Ｌの平均音響エネルギー密度を有する超音波を使用して実施され、および／または前記超音波処理が２５〜４０ｋＨｚの超音波周波数を有する超音波を使用して実施される、請求項２１または２２に記載のガラス製品。
【請求項２４】
前記超音波処理が１０００〜１５００℃、好ましくは１１００〜１４００℃、より好ましくは１２００〜１３００℃の温度で実施される、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載のガラス製品。
【請求項２５】
前記超音波処理の継続時間が、独立して、３〜６０分、好ましくは５〜５０分、より好ましくは１０〜４０分、最も好ましくは１５〜３０分である、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載のガラス製品。
【請求項２６】
複数の超音波処理を使用し、各超音波処理の間の時間間隔が、独立して、１〜２０分、好ましくは２〜１５分、さらに好ましくは５〜１０分である、請求項２１〜２５のいずれか一項に記載のガラス製品。
【請求項２７】
前記ロッドが、円柱ならびに／または角柱（例えば、三角柱、四角柱、五角柱、六角柱および／もしくは八角柱）であり、好ましくは、前記円柱の直径もしくは呼び径または前記角柱の外接円の直径もしくは呼び径が、１０〜３０ミリメートルである、請求項２２に記載のガラス製品。
【請求項２８】
前記ロッドが前記融解したガラスに不純物を与えない不活材料から作製されており、好ましくは、前記ロッドがＰｔおよび／またはＲｈを含む材料から作製されている、請求項２２に記載のガラス製品。
【請求項２９】
複数の前記ロッドの間隔が、独立して、１０〜５０ｍｍであり、好ましくは、複数の前記ロッドがアレイ状に配置される、請求項２２に記載のガラス製品。
【請求項３０】
請求項４〜２９のいずれか一項に記載の前記ガラス製品を含むディスプレイデバイス。
【請求項３１】
ディスプレイスクリーン、テレビ、タッチスクリーン、フラットパネルディスプレイ等のフラットパネルディスプレイデバイス、ポータブルディスプレイデバイス、および携帯電話等のコミュニケーションデバイスである、請求項３０に記載のディスプレイデバイス。
【請求項３２】
ディスプレイデバイスの製造における請求項４〜２９のいずれか一項に記載のガラス製品の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概してガラスを調製するための組成物、ガラス製品およびその使用に関する。とりわけ、本発明は、ガラス基材製品、特にディスプレイデバイスに使用するためのガラス基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
多くのディスプレイデバイス（例えば、ディスプレイスクリーン、テレビ、タッチスクリーン、フラットパネルディスプレイ等のフラットパネルディスプレイデバイス、ポータブルディスプレイデバイス、携帯電話等のコミュニケーションデバイス等）は、ガラス基材を備えている。
【０００３】
ガラス基材を製造する方法として、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法、再絞り加工法、フロート法等（米国特許第３，３３８，６９６号、米国特許第３，６８２，６０９号等を参照のこと）が挙げられる。これらの方法は、概して、融解を含むプロセスによって、ガラス原料を、融解した透明なガラスに調製するステップ；融解したガラスを均一にするステップ；および均一にした融解したガラスをガラス基材に成型するステップを含む。概して、少量の固体介在物（例えば、ＳｉＯ２粒子、珪質結晶、ウォラストナイト等）および気体介在物（例えば、ＣＯ２、Ｏ２、Ｎ２、Ｈ２Ｏ、ＳＯ２、ＣＯ等）がガラス基材中に存在し得る。さらに、ガラス基材は、ある程度の厚さ範囲（thickness range）および反り（warpage）を有し得る。ガラス基材（特にディスプレイデバイスに使用されるガラス基材について）については、固体介在物、気体介在物、厚さ範囲および反りは、全て望ましくないファクターである。
【０００４】
これらの望ましくないファクターを減らすまたはなくすために、当業者は、一般的に、ガラス成型プロセスの条件および操作パラメータを調整し、制御するステップを含む方法を使用する。例えば、ＣＮ１８７８７３１Ａは、実質的に介在物（inclusion）およびストライプを減少させたガラスの形成方法を開示している。ＪＰ２００４−９１３０７およびＪＰＨ１１−３４９３３５は、清澄剤を添加し攪拌し泡形成するなどの手段によって、脱泡する方法を開示している。ＣＮ１０１４３７７６４Ａはまた、ガラスの表面上に残っている泡を取り除く方法を開示している。ＣＮ１０５２１７９３５Ａは、ガラス板が反ることを防ぐ装置および方法を開示している。ＣＮ１０３３５９９１３Ａは、ガラス基材の反りおよび変形を減少させる方法を開示している。
【発明の概要】
【０００５】
しかしながら、前述の方法によって製造したガラス基材は、以前として満足のいくものではない。さらに、様々なディスプレイデバイスについて、ガラス基材の品質に関するますます高い要求がなされている。
【０００６】
したがって、低含有量の固体介在物および気体介在物、小さい厚さ範囲および／または少ない反りといった、改善された特性を有するガラス基材が、今もなお継続して必要とされている。
【０００７】
本発明の発明者らは、ガラスを調製するための組成物中および／またはガラス中の成分の種類および含有量を制御して特定のマッチング関係を満たすという手段によって、得られるガラス基材中の固体介在物および気体介在物の含有量を顕著に少なくすることができるだけでなく、厚さ範囲および反りを顕著に小さくすることができることを発見した。
【０００８】
いくつかの態様では、本発明は、ガラス製品を調製するためのＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯおよびＳｒＯを含む組成物であって、
約１００重量部のＳｉＯ２に対して、Ａｌ２Ｏ３の含有量が約２０〜約３５重量部であり、Ｂ２Ｏ３の含有量が約１０〜約２２重量部であり、ＣａＯの含有量が約４〜約１７重量部であり、ＭｇＯの含有量が約０〜約１０重量部であり、ＳｒＯの含有量が約０．８〜約１４重量部であり、
前記組成物は、以下の経験式（Ｉ）：
Ｍ＝０．１３×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）＋０．４２×ｗｔ（ＣａＯ）＋０．５５×ｗｔ（ＭｇＯ）＋０．７５×ｗｔ（ＳｒＯ）−０．０５×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）      式（Ｉ）
（式中、ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＢ２Ｏ３の重量部を示し、
ｗｔ（ＣａＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＣａＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＭｇＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＭｇＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＳｒＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＳｒＯの重量部を示し、および
ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＡｌ２Ｏ３の重量部を示す）
によって計算されるＭ値が約１〜約１０である、組成物に関する。
【０００９】
いくつかの態様では、本発明は、本発明の組成物から製造されるガラス製品、好ましくはガラス基材も提供する。
【００１０】
他の態様では、本発明は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯおよびＳｒＯを含むガラス製品であって、
約１００重量部のＳｉＯ２に対して、Ａｌ２Ｏ３の含有量が約２０〜約３５重量部であり、Ｂ２Ｏ３の含有量が約１０〜約２２重量部であり、ＣａＯの含有量が約４〜約１７重量部であり、ＭｇＯの含有量が約０〜約１０重量部であり、およびＳｒＯの含有量が約０．８〜約１４重量部であり、ならびに
前記ガラス製品は、以下の経験式（Ｉ）：
Ｍ＝０．１３×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）＋０．４２×ｗｔ（ＣａＯ）＋０．５５×ｗｔ（ＭｇＯ）＋０．７５×ｗｔ（ＳｒＯ）−０．０５×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）      式（Ｉ）
（式中、ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＢ２Ｏ３の重量部を示し、
ｗｔ（ＣａＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＣａＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＭｇＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＭｇＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＳｒＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＳｒＯの重量部を示し、および
ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＡｌ２Ｏ３の重量部を示す）
によって計算されるＭ値が約１〜約１０である、ガラス製品に関する。好ましくは、ガラス製品はガラス基材である。
【００１１】
いくつかの好ましい態様では、本発明のガラス基材は、以下の経験式（ＩＩ）
Ｋ＝１．５×（Ｘ／Ｙ）−１．８×Ｄ＋０．２２×Ｈ＋１．８×Ｎ      式（ＩＩ）
（式中、Ｘ／Ｙは、１．０２〜１．２４の値を有する前記ガラス基材の長さ−幅比を示し、Ｄは前記ガラス基材の厚みをミリメートル（ｍｍ）で示した数値を示し、Ｈは前記ガラス基材の厚さ範囲をマイクロメートル（μｍ）で示した数値を示し、ならびにＮは前記ガラス基材のキログラム（Ｋｇ）あたりの数で表した固体介在物および気体介在物の合計数を示す値を示す）
によって計算されるＫ値が約７．０以下である。
【００１２】
当該技術分野では、ガラス基材の厚み（Ｄ）は、通常、０．２〜０．７ｍｍである。ガラス基材の厚さ範囲（Ｈ）は、好ましくは２２μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下、さらに好ましくは１８μｍ以下である。ガラス基材中の固体介在物および気体介在物の合計数は、好ましくは０．５／Ｋｇ以下、より好ましくは０．４／Ｋｇ以下、さらに好ましくは０．３／Ｋｇ以下である。
【００１３】
さらに他の態様では、本発明のガラス製品は、
１）融解を含むプロセスによって、原料の形態の成分を、融解した透明なガラスに調製するステップ；
２）融解した透明なガラスを均一にするステップ；および
３）均一にした融解した透明なガラスを冷却し、成型するステップ
を含む方法によって製造され、
ステップ１）およびステップ２）のいずれかまたは両方は、超音波処理を含む。さらなる実施形態において、超音波処理中に１つ以上のロッドを融解したガラスに挿入する。
【００１４】
さらに他の態様では、本発明は、本明細書に記載のガラス製品（特にガラス基材）を含むディスプレイデバイスを提供する。
【００１５】
本発明は、ディスプレイデバイスを製造するためのガラス製品（特にガラス基材）の使用をさらに提供する。
【００１６】
当該調製プロセスにおいて、本発明に記載の経験式（Ｉ）によって計算されるＭ値が約１〜約１０、好ましくは約３〜約８、さらに好ましくは約５〜約７である組成物およびガラス製品（特にガラス基材）は、固体介在物および気体介在物の含有量が少なく、厚さ範囲が小さく、反りが少ない。超音波処理、好ましくは、プロセスの間に１つ以上のロッドを融解したガラスに挿入することを伴う超音波処理によって、得られるガラス基材中の固体介在物および気体介在物の含有量を顕著に少なくすることができるだけでなく、厚さ範囲および反りも顕著に小さくすることができる。本発明に記載の経験式（ＩＩ）によって計算されるＫ値が約７．０以下、好ましくは約６．５以下、さらに好ましくは約６．０以下、最も好ましくは約５．５以下であるガラス製品（特にガラス基材）は、例えば、塗膜の欠陥の減少、ディスプレイ効果の改善、および破壊靭性（fracture toughness）の増加といった、より良い特性を有する。したがって、本発明のガラス製品（特にガラス基材）を含むディスプレイデバイスは、例えばより良好な収率といった、より良い特性を有する。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
発明の詳細な説明
本発明者らは、ガラス製品中の様々な成分の種類と含有量の両方がガラス基材の固体介在物および気体介在物の含有量、厚さ範囲ならびに反りに影響し得ることを見い出した。
【００１８】
特に、当該調製プロセスにおいて、本発明に記載の経験式（Ｉ）によって計算されるＭ値が約１〜約１０、好ましくは、約３〜約８、さらに好ましくは約５〜約７であるガラス製品は、固体介在物および気体介在物の含有量が少なく、厚さ範囲が小さく、反りが少ないことが分かる。Ｍ値は、ガラス製造プロセスにおける様々なプロセスパラメータおよび／またはその他の任意成分の存在による影響を受けない。調製プロセスが、様々なプロセスパラメータおよび／またはその他の任意成分を使用するガラス製造プロセスと同じであることが確保されるという前提の下で、前記Ｍ値を有するガラス製品は、固体介在物および気体介在物の含有量が少なく、厚さ範囲が小さく、反りが少ない。
【００１９】
好ましくは、本発明のガラス製品はガラス基材である。
【００２０】
さらに、本発明に記載の経験式（ＩＩ）によって計算されるＫ値が約７．０以下であるガラス製品（特にガラス基材）は、例えば、塗膜の欠陥の減少、ディスプレイ効果の改善、および破壊靭性の増加といったより良い特性を有する。
【００２１】
なおさらなる実施形態において、製造方法の、１）融解した透明なガラスを形成するステップ、および／または２）融解した透明なガラスを均一にするステップに、超音波処理を導入することによって、得られた融解したガラス中の成分がより均一に分散し、結果として、成形したガラス基材中の固体介在物および気体介在物の数がさらに少なくなり、厚さ範囲および反りがさらに小さくなる。超音波処理は１回以上実施することができる。複数の超音波処理を実施する場合、各超音波処理の間の時間間隔は、泡の浮上および吸収が可能になる時間であるべきである。
【００２２】
なおさらなる実施形態において、超音波処理中に１つ以上のロッドを融解したガラスに挿入する。ロッドがない場合と比べて、超音波処理中にロッドを融解したガラスに挿入することで、融解ガラスの保持容器中により多くの微小循環空間が形成されやすくなり、それにより固体介在物および／または気体介在物のそれぞれの衝突確率が増加する。超音波処理中にロッドを融解したガラスに挿入することで、融解したガラス中の固体介在物および／または気体介在物の大きさが減少しやすくなり、融解したガラスの外へ固体介在物および／または気体介在物が上方に向かって浮上するという利点もある。したがって、超音波処理中にロッドを融解したガラスに挿入することで、ガラス製品中の固体介在物および気体介在物の数が減少しやすくなる。
【００２３】
いくつかの態様では、本発明は、ガラス製品を調製するためのＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯおよびＳｒＯを含む組成物であって、
約１００重量部のＳｉＯ２に対して、Ａｌ２Ｏ３の含有量が約２０〜約３５重量部であり、Ｂ２Ｏ３の含有量が約１０〜約２２重量部であり、ＣａＯの含有量が約４〜約１７重量部であり、ＭｇＯの含有量が約０〜約１０重量部であり、およびＳｒＯの含有量が約０．８〜約１４重量部であり、ならびに
前記組成物は、以下の経験式（Ｉ）:
Ｍ＝０．１３×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）＋０．４２×ｗｔ（ＣａＯ）＋０．５５×ｗｔ（ＭｇＯ）＋０．７５×ｗｔ（ＳｒＯ）−０．０５×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）      式（Ｉ）
（式中、ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＢ２Ｏ３の重量部を示し、
ｗｔ（ＣａＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＣａＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＭｇＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＭｇＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＳｒＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＳｒＯの重量部を示し、および
ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＡｌ２Ｏ３の重量部を示す）
によって計算されるＭ値が約１〜約１０である、組成物に関する。
【００２４】
いくつかの態様では、本発明は、本発明の組成物から製造されるガラス製品、好ましくはガラス基材も提供する。
【００２５】
他の態様では、本発明は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯおよびＳｒＯを含むガラス製品であって、
約１００重量部のＳｉＯ２に対して、Ａｌ２Ｏ３の含有量が約２０〜約３５重量部であり、Ｂ２Ｏ３の含有量が約１０〜約２２重量部であり、ＣａＯの含有量が約４〜約１７重量部であり、ＭｇＯの含有量が約０〜約１０重量部であり、およびＳｒＯの含有量が約０．８〜約１４重量部であり、ならびに
前記ガラス製品は、以下の経験式（Ｉ）：
Ｍ＝０．１３×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）×ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）＋０．４２×ｗｔ（ＣａＯ）＋０．５５×ｗｔ（ＭｇＯ）＋０．７５×ｗｔ（ＳｒＯ）−０．０５×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）×ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）      式（Ｉ）
（式中、ｗｔ（Ｂ２Ｏ３）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＢ２Ｏ３の重量部を示し、
ｗｔ（ＣａＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＣａＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＭｇＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＭｇＯの重量部を示し、
ｗｔ（ＳｒＯ）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＳｒＯの重量部を示し、および
ｗｔ（Ａｌ２Ｏ３）は、約１００重量部のＳｉＯ２に対するＡｌ２Ｏ３の重量部を示す）
によって計算されるＭ値が約１〜約１０である、ガラス製品に関する。好ましくは、ガラス製品はガラス基材である。
【００２６】
いくつかの好ましい態様では、本発明のガラス基材は、以下の経験式（ＩＩ）：
Ｋ＝１．５×（Ｘ／Ｙ）−１．８×Ｄ＋０．２２×Ｈ＋１．８×Ｎ      式（ＩＩ）
（式中、Ｘ／Ｙは、１．０２〜１．２４の値を有する前記ガラス基材の長さ−幅比を示し、Ｄは前記ガラス基材の厚みをミリメートル（ｍｍ）で示した数値を示し、Ｈは前記ガラス基材の厚さ範囲をマイクロメートル（μｍ）で示した数値を示し、ならびにＮは前記ガラス基材のキログラム（Ｋｇ）あたりの数で表した固体介在物および気体介在物の合計数を示す値を示す）
によって計算されるＫ値が約７．０以下である。
【００２７】
当該技術分野では、ガラス基材の厚み（Ｄ）は、通常、０．２〜０．７ｍｍである。ガラス基材の厚さ範囲（Ｈ）は、好ましくは２２μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下、さらに好ましくは１８μｍ以下である。ガラス基材中の固体介在物および気体介在物の合計数は、好ましくは０．５／Ｋｇ以下、より好ましくは０．４／Ｋｇ以下、さらに好ましくは０．３／Ｋｇ以下である。
【００２８】
さらに他の態様では、本発明のガラス製品は、
１）融解を含むプロセスによって、原料の形態の成分を、融解した透明なガラスに調製するステップ；
２）融解した透明なガラスを均一にするステップ；および
３）均一にした融解した透明なガラスを冷却し、成型するステップ
を含む方法によって製造され、
ステップ１）およびステップ２）のいずれかまたは両方は、超音波処理を含む。さらなる実施形態において、超音波処理中に１つ以上のロッドを融解したガラスに挿入する。
【００２９】
いくつかの実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、Ａｌ２Ｏ３の含有量は約２５〜約３０重量部である。いくつかの実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、Ｂ２Ｏ３の含有量は約１５〜約１８重量部である。いくつかの実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、ＣａＯの含有量は約１０〜約１４重量部である。いくつかの実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、ＭｇＯの含有量は約１〜約５重量部であり、好ましくは約１．８〜約３重量部である。いくつかの実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、ＳｒＯの含有量は約１．１〜約１．５重量部である。
【００３０】
いくつかの実施形態において、本発明に係るガラス製品を調製するための組成物および／またはガラス製品は、さらにＳｎＯ２を含む。さらなる実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、ＳｎＯ２の含有量は約０．１〜約０．８重量部である。さらなる好ましい実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、ＳｎＯ２の含有量は約０．２〜約０．７重量部である。
【００３１】
いくつかの実施形態において、本発明に係るガラス製品を調製するための組成物および／またはガラス製品は、さらにＢａＯを含む。さらなる実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、ＢａＯの含有量は約０〜約４重量部である。さらなる好ましい実施形態において、約１００重量部のＳｉＯ２に対して、ＢａＯの含有量は約０．５〜約３重量部である。
【００３２】
いくつかの実施形態において、本発明に記載のＭ値は、好ましくは約３〜約８、より好ましくは約５〜約７である。
【００３３】
いくつかの実施形態において、本発明に記載のＫ値は、好ましくは６．５以下、より好ましくは約６．０以下、最も好ましくは約５．５以下である。
【００３４】
いくつかの実施形態において、超音波処理は、約５０〜約６０Ｗ／Ｌの平均音響エネルギー密度を有する超音波を使用して実施する。いくつかの実施形態において、超音波処理は、約２５〜約４０ｋＨｚの超音波周波数を有する超音波を使用して実施する。
【００３５】
いくつかの実施形態において、超音波処理は、約１０００〜約１５００℃、好ましくは約１１００〜約１４００℃、より好ましくは約１２００〜約１３００℃の温度で実施する。
【００３６】
いくつかの実施形態において、各超音波処理の継続時間は、独立して、約３〜約６０分、好ましくは約５〜約５０分、より好ましくは約１０〜約４０分、最も好ましくは約１５〜約３０分である。
【００３７】
複数の超音波処理を使用する場合、各超音波処理の間の時間間隔は、独立して、１〜２０分、好ましくは２〜１５分、さらに好ましくは５〜１０分である。
【００３８】
いくつかの実施形態において、ロッドは円柱ならびに／または角柱（例えば、三角柱、四角柱、五角柱、六角柱および／もしくは八角柱）である。いくつかの実施形態において、ロッドの直径または呼び径は、約１０〜約３０ミリメートルである。さらなる実施形態において、円柱の直径もしくは呼び径または角柱の外接円の直径もしくは呼び径は、約１０〜約３０ミリメートルである。
【００３９】
いくつかの実施形態において、ロッドは、融解したガラスに不純物を与えない不活材料から作製されている。さらなる実施形態において、ロッドはＰｔおよび／またはＲｈを含む材料から作製されている。
【００４０】
複数のロッドを使用する場合、各ロッドの間隔は特に限定しない。各ロッドの間隔は、等しくても等しくなくてもよい。例えば、各ロッドの間隔は、独立して、約１０〜約５０ｍｍである。いくつかの実施形態において、複数のロッドはアレイ状に配置される。
【００４１】
本明細書に記載の固体介在物は粒子状固形物を含む。本明細書に記載の気体介在物は気泡を含む。
【００４２】
本明細書に記載の「厚さ範囲」（thickness range）という用語は、特定の元来のシートサイズ（例えば１１００×１２５０ｍｍ）における、マイクロメートル（μｍ）で示した最大厚み値と最小厚み値との差を指す。当該技術分野では、ガラス基材の厚み（Ｄ）は、概して、０．２〜０．７ｍｍである。
【００４３】
本明細書に記載の「反り」（warpage）という用語は、
１）大理石の水平な台を備えた反り測定装置を準備し、台の上には仮想の基準水平面があり；
２）大理石の水平な台上に複数の固定位置を選択し、固定位置における大理石の水平な台からの仮想の基準水平面の高さを測定し、その高さをＨ１として記録し；
３）大理石の水平な台上にガラス基材のシート全体を置き、固定位置における仮想の基準水平面からガラス基材の上面の高さを測定し、その高さをＨ２として記録し；
４）Ｈ１をＨ２に加えて、固定位置における実際の高さを得て；および
５）固定位置における実際の高さの最大値から最小値を引いて（すなわち範囲）、ミリメートル（ｍｍ）で示した反りを得る、
反り試験手順に従って測定される反り程度を指し、
ここで仮想の基準水平面は、大理石の水平な台を修正するために提供され、Ｈ２はＨ１より大きいものであるべきである。
【００４４】
いくつかの実施形態において、得られたガラス基材の反りは、本発明に規定されるガラス成分を使用することによって、約０．０５ｍｍ以下であり得る。いくつかの実施形態において、得られたガラス基材の反りは、超音波処理を含む調製方法を使用することによって、約０．０４ｍｍ以下であり得る。いくつかの実施形態において、得られたガラス基材の反りは、超音波処理およびロッドの挿入を含む調製方法を使用することによって、約０．０３ｍｍ以下、好ましくは０．０２ｍｍであり得る。
【００４５】
「ガラス基材」および「ガラス板」という用語は、本明細書では互換可能に使用する。
【００４６】
いくつかの実施形態において、本発明の方法は、粒子サイズを制御する、粒子形状を制御する、耐火性の不純物および／または薄層帯電を減少させる、当該技術分野で公知の方法を、所望によりさらに使用してもよい。
【００４７】
いくつかの実施形態において、本発明のガラス製品を調製するための方法は、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法、再絞り加工法、またはステップ１）〜３）を含むフロート法である。
【００４８】
いくつかの実施形態において、本発明のガラス基材中の固体介在物および気体介在物の合計数は、約０．２５／ガラスＫｇ以下、好ましくは約０．２２／ガラスＫｇ以下、さらに好ましくは約０．１８／ガラスＫｇ以下である。
【００４９】
いくつかの実施形態において、本発明のガラス基材中の気体介在物の合計数は、約０．２３／ガラスＫｇ以下、好ましくは約０．２１／ガラスＫｇ以下、より好ましくは約０．２０／ガラスＫｇ以下、さらに好ましくは約０．１８／ガラスＫｇ以下、より一層好ましくは約０．１６／ガラスＫｇ以下である。
【００５０】
いくつかの実施形態において、本発明のガラス基材中の固体介在物の合計数は、約０．０２／ガラスＫｇ以下、好ましくは約０．０１／ガラスＫｇ以下である。
【００５１】
本明細書で使用する数値に関する「約」という用語は、数値のプラスまたはマイナス１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下を意味し、最も好ましくは数値そのものを指す。例えば、約１００重量部のＳｉＯ２は、１００±１０重量部、好ましくは１００±５重量部、より好ましくは１００±２重量部、さらに好ましくは１００±１重量部、最も好ましくは１００重量部のＳｉＯ２である。
【００５２】
本発明において、Ｘ／Ｙで示されるガラス基材の長さ−幅比は、ガラス基材の幅に対する長さの比を指す。本発明に記載の長さ−幅比の値を有しないガラス基材については、初めに、本明細書に記載の長さ−幅比の値を有するガラス基材に切り分けてもよく、その後、Ｋ値を計算してもよい。
【００５３】
ガラス基材の長さ、幅、厚みおよび厚さ範囲、ガラスのＫｇあたりの固体介在物および泡の数、ならびにガラス基材の反りは、当該技術分野で通常使用する測定方法によって測定する。例えば、長さおよび幅は、マイクロメーターおよび／またはカリパスによって測定し、厚みは、マイクロメーターおよび／または画像測定装置によって測定し、固体介在物および／または気体介在物の数は、表面検査機または手動のサンプリング等の方法によって測定し、反りは、隙間ゲージまたは反り測定装置（レーザ測距等）によって測定する。
【００５４】
本発明は、本明細書に記載のガラス製品（特にガラス基材）を含むディスプレイデバイスも提供する。好ましくは、ディスプレイデバイスは、ディスプレイスクリーン、テレビ、タッチスクリーン、フラットパネルディスプレイ等のフラットパネルディスプレイデバイス、ポータブルディスプレイデバイス、および携帯電話等のコミュニケーションデバイスである。
【００５５】
本発明は、ディスプレイデバイスを製造するためのガラス製品（特にガラス基材）の使用をさらに提供する。
【００５６】
当該調製プロセスにおいて、本発明に記載の経験式（Ｉ）によって計算されるＭ値が約１〜約１０、好ましくは、約３〜約８、さらに好ましくは約５〜約７である組成物およびガラス製品（特にガラス基材）は、固体介在物および気体介在物の含有量が少なく、厚さ範囲が小さく、反りが少ない。本発明に記載の経験式（ＩＩ）によって計算されるＫ値が約７．０以下、好ましくは約６．５以下、さらに好ましくは約６．０以下、最も好ましくは約５．５以下であるガラス製品（特にガラス基材）は、例えば、塗膜の欠陥の減少、ディスプレイ効果の改善、および破壊靭性の増加といった、より良い特性を有する。したがって、本発明のガラス製品（特にガラス基材）を含むディスプレイデバイスは、例えばより良好な収率といった、より良い特性を有する。
【実施例】
【００５７】
本発明の有益な効果を以下の実施例によって説明する。当業者は、これらの実施例が単なる例示に過ぎず、限定するものではないことを認識するであろう。これらの実施例は、いかなる場合も本発明の範囲を限定することを意図していない。以下の実施例に記載の実験的方法は、他に断りがない限り通常の方法であり、試薬および材料は、他に断りがない限り市販されている。
【００５８】
ガラス製品の調製の一般的方法
１）原材料の形態の所定量の成分を混合して、混合物を得た。混合物を約１４００〜約１６００℃の間の温度に加熱して、融解した透明なガラスを得た。その後、（行う場合は）超音波処理を行い、（挿入する場合は）アレイ状に配置したロッドを融解したガラスに超音波処理中に挿入した。融解したガラスを２０分間放置した。
【００５９】
２）融解した透明なガラスを攪拌することで均一にした。その後、（行う場合は）超音波処理を行い、（挿入する場合は）アレイ状に配置したロッドを融解したガラスに超音波処理中に挿入した。融解したガラスを２０分間放置した。
【００６０】
３）均一にした融解した透明なガラスをオーバーフローダウンドロー法によってガラス基材に調製した。その後、ガラス基材をアニールし、所望の大きさに切り分けた。
【００６１】
得られたガラス基材の固体介在物および気体介在物の数、厚さ範囲および反りを測定した。
【００６２】
実施例に記載の成分ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＳｎＯ２およびＢａＯは全て市販されている。実施例に記載の固体介在物および気体介在物の数は、Ｓｃｈｅｎｃｋ表面検査機で測定した。実施例に記載の厚さ範囲は、ＳＷＴ測定装置で測定した。実施例に記載の反りは、ＥＸＣＥＬ反り測定装置で測定した。
【００６３】
実施例１〜７および比較例１〜５：ガラスにおける様々な成分およびそれらの含有量が関連特性に与える影響
【００６４】
【表１】
0006945648.tif 000002
【００６５】
実施例１〜７および比較例１〜５では、使用した融解温度および成分の重量部は異なっていた。本発明に規定される重量部の範囲内にある量の成分ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯおよびＳｒＯを含む実施例１〜７のガラス基材は、それぞれ、５．４９、２．５６、６．１７、７．６８、６．１０、６．１０および５．３４のＭ値を有し、実施例１および７は、ＳｎＯ２およびＢａＯを含まず、実施例２〜５はさらにＳｎＯ２を含み、実施例６はさらにＳｎＯ２およびＢａＯを含んだ。しかしながら、本発明に規定される重量部の範囲内にない量の成分ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯおよびＳｒＯを含む比較例１〜５のガラス基材は、それぞれ、−３５．３、７５．２３、７．４２、８．５８および５．８０のＭ値を有し、比較例３〜５のＭ値は、本発明に規定される範囲にあったが、ＣａＯ、ＭｇＯおよびＳｒＯの含有量は、本発明に規定される範囲内になかった。比較例１〜５のガラス基材は、より多くの固体介在物および気体介在物、ならびにより大きい厚さ範囲および反りを有した。実施例１〜７のガラス基材は、比較例１〜５より少ない固体介在物および気体介在物ならびに小さい厚さ範囲および反りを有した。
【００６６】
実施例１〜７のガラス基材について、本発明に規定される範囲内にある１．１８、１．２、１．２４、１．１６、１．１３、１．２４および１．２４の長さ−幅比をそれぞれ選択して（元来のシートの長さ−幅比が本発明に規定される１．０２〜１．２４の範囲内にない場合、シートをこの範囲の値に切断するべきである）、Ｋ値を計算した。結果を表２に示す。表２の実施例１〜７のＭ値、ガラス基材の厚みＤ（ｍｍ）、ガラス基材の厚さ範囲Ｈ（μｍ）、ならびに（ガラスのＫｇあたりの）固体介在物および気体介在物の数Ｎは、表１の対応するデータに由来する。
【００６７】
【表２】
0006945648.tif 000003
【００６８】
表２から分かるように、実施例１〜７のガラス基材のＭ値は、本発明に規定される範囲内にある。実施例１〜５のガラス基材のＫ値は、全て、７未満（それぞれ、４．５３、４．６１、４．２３、４．８４および５．１１）であり、何れも本発明に規定される範囲内にある。実施例６および７のガラス基材のＫ値は両方とも７より大きく（それぞれ、７．０１および７．１０）、本発明に規定される範囲内にない。言い換えれば、実施例１〜５のガラス基材は、Ｍ値およびＫ値が全て、本発明に規定される範囲内にあり、実施例６および７のガラス基材は、Ｍ値が本発明に規定される範囲内にあるが、Ｋ値が本発明に規定される範囲内にない。
【００６９】
実施例８〜１１：超音波処理およびロッドの存在の影響
実施例１および比較例１と同じ組成物、含有量および融解温度を使用して、超音波処理およびロッドが、ガラス基材の固体介在物および気体介在物の数、厚さ範囲および反りに与える影響を調査した。
【００７０】
実施例８および９の成分、含有量および融解温度は、実施例１のそれらと同じであり、実施例１０および１１の成分、含有量および融解温度は、比較例１のそれらと同じである。
【００７１】
【表３】
0006945648.tif 000004
【００７２】
表３から分かるように、本発明に規定される範囲内にあるＭ値を有する実施例１のガラス基材（Ｍ値が５．４９）に比べて、実施例８の超音波処理操作後に得られるガラス基材は、固体介在物および気体介在物の数、厚さ範囲および反りについて、より良い性能を有する。実施例９のアレイ状に配置されたロッドを挿入するさらなる操作の後、得られたガラス基材の固体介在物および気体介在物の数、厚さ範囲および反りは、さらに改善する。
【００７３】
同様に、本発明に規定される範囲内にないＭ値を有する比較例１のガラス基材（Ｍ値が−３５．３）に比べて、実施例１０の超音波処理操作後に得られるガラス基材は、固体介在物および気体介在物の数、厚さ範囲および反りについて、より良い性能を有する。実施例１１のアレイ状に配置されたロッドを挿入するさらなる操作の後、得られたガラス基材の固体介在物および気体介在物の数、厚さ範囲および反りは、さらに改善する。
【００７４】
破壊靭性の試験
実施例１〜７のガラス基材の破壊靭性（ＫＩＣ）値をユニバーサルテスターおよびビッカース硬さ試験機を使用して、ＡＳＴＭ  Ｅ−１８２０に準拠して、ＭＰａ・ｍ１／２で測定した。結果を表４に示す。表２のデータを、表４のＭ値およびＫ値に使用する。
【００７５】
【表４】
0006945648.tif 000005
【００７６】
表４から分かるように、実施例１〜５のガラス基材の破壊靭性値は比較的高い（それぞれ、０．９７、０．９８、０．９６、０．９１および０．８８）。しかしながら、実施例６〜７のガラス基材の破壊靭性値は比較的低い（それぞれ、０．６２および０．６５）。すなわち、実施例１〜５のガラス基材は、実施例６〜７のガラス基材より良好な破壊靭性を有する製品である。
【００７７】
前述のように、実施例１〜５のガラス基材は、Ｍ値およびＫ値が全て、本発明に規定される範囲内にあり、実施例６および７のガラス基材は、Ｍ値が本発明に規定される範囲内にあるが、Ｋ値が本発明に規定される範囲内にない。
【００７８】
したがって、本発明に記載するように、Ｍ値とＫ値の両方が本発明に規定される範囲内にあるガラス基材は、より良い性能を有する製品であり、本発明に記載するように、Ｍ値は本発明に規定される範囲内にあるが、Ｋ値は本発明に規定される範囲にないガラス基材は、比較的劣った性能を有する製品である。
【００７９】
均等物
前述の実施例は、本発明の単なる例示であり、本発明の範囲を限定するものではないと考えられるべきである。本発明の原理から逸脱することなく、前述の詳細な説明および本発明の実施例に記載の内容に対して多くの改変および変形を施すことができる。このような改変および変形は全て本出願によって包含される。