(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アームと、
前記アームに連結されたエンドエフェクターと、
前記アームを上昇させて前記エンドエフェクターに基板を受け取らせる駆動部と、
前記駆動部の出力を制御して前記アームの上昇速度を設定する制御部と、を備え、
前記エンドエフェクターと前記アームとの高さの差が位置差分であり、
前記エンドエフェクターが前記基板に当たるときから前記エンドエフェクターが前記基板を受け取り終わるまでの期間が過渡期間であり、
前記制御部は、前記位置差分の加速度、および、加加速度のいずれか一方の振幅を前記過渡期間前よりも前記過渡期間で小さくする前記上昇速度の上限値を、前記過渡期間における上昇速度の上限値とする
基板搬送装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記過渡期間における前記振幅を前記過渡期間前よりも小さくするように、前記過渡期間における上昇速度を前記過渡期間前から低める
請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記位置差分の加速度、および、加加速度のいずれか一方の振幅が前記過渡期間よりも前記過渡期間後で大きくなるように、前記上限値以下のなかから、前記過渡期間における上昇速度を設定する
請求項１または２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記過渡期間後での前記振幅を前記過渡期間よりも大きくするように、前記過渡期間後での上昇速度を前記過渡期間後から高める
請求項１から３のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記振幅を検出する第１振幅検出部を備え、
前記制御部は、互いに異なる前記上昇速度で前記エンドエフェクターの上昇を繰り返し、前記第１振幅検出部の検出結果が前記過渡期間で小さくなる上昇速度を前記上限値とする教示処理を行う
請求項１から４のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記振幅を検出する第２振幅検出部を備え、
前記制御部は、互いに異なる前記上昇速度で前記エンドエフェクターの上昇を繰り返し、前記第２振幅検出部の検出結果が前記過渡期間よりも前記過渡期間後で大きくなる前記上限値以下の上昇速度を前記過渡期間における上昇速度とする教示処理を行う
請求項１から５のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
エンドエフェクターに連結されたアームの上昇速度を設定すること、および、
設定された上昇速度で前記アームを上昇させることによって前記エンドエフェクターを基板に向けて上昇させて、前記エンドエフェクターに前記基板を受け取らせること、を含み、
前記エンドエフェクターと前記アームとの高さの差が位置差分であり、
前記エンドエフェクターが前記基板に当たるときから前記エンドエフェクターが前記基板を受け取り終わるまでの期間が過渡期間であり、
前記上昇速度を設定することでは、前記位置差分の加速度、および、加加速度のいずれか一方の振幅を前記過渡期間前よりも前記過渡期間で小さくする前記上昇速度の上限値を、前記過渡期間における上昇速度の上限値とする
基板搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置、および、基板搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子や発光素子などの各種のデバイスを製造する装置は、素子を形成するための基板を搬送する基板搬送装置を搭載する。基板搬送装置は、アームに支持されたエンドエフェクターを備える。エンドエフェクターは、アームの上昇と共に上昇して、載置台などに載置された基板を載置台から受け取る。エンドエフェクターは、アームの下降と共に下降して、エンドエフェクターに載置された基板を載置台に受け渡す。基板搬送装置は、基板の載置状態を光学的に検出する検出部を備える。アームの駆動を制御する制御部は、検出部の検出した結果に基づいて、後続の処理を実行する（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１１９０７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
エンドエフェクターの移動速度を高めることは、搬送に要する時間を短縮できる一方で、搬送途中での基板の位置を不安定にしてしまう。反対に、エンドエフェクターの移動速度を低めることは、搬送途中での基板の位置を安定させられる一方で、搬送に要する時間の長期化を招来させてしまう。そのため、上述した基板搬送装置では、好適な基板の位置精度と、好適な基板の搬送効率とを実現するうえで、より適切な搬送速度で基板を搬送することが望まれている。特に、エンドエフェクターが基板に当たるときからエンドエフェクターが基板を受け取り終わるまでの期間は、基板を支持する構造が載置台からエンドエフェクターに変わる過渡期間である。こうした過渡期間では、エンドエフェクターと基板とが恰も一体となって移動するときと比べて、エンドエフェクターと基板との相対位置のずれが生じやすく、より適切な搬送速度を得ることが強く望まれている。
本発明の目的は、搬送効率の低下を抑制しつつ、基板の位置精度を向上可能にした基板搬送装置、および、基板搬送方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するための基板搬送装置は、アームと、前記アームに連結されたエンドエフェクターと、前記アームを上昇させて前記エンドエフェクターに基板を受け取らせる駆動部と、前記駆動部の出力を制御して前記アームの上昇速度を設定する制御部と、を備え、前記エンドエフェクターと前記アームとの高さの差が位置差分であり、前記エンドエフェクターが前記基板に当たるときから前記エンドエフェクターが前記基板を受け取り終わるまでの期間が過渡期間であり、前記制御部は、前記位置差分の加速度、および、加加速度のいずれか一方の振幅を前記過渡期間前よりも前記過渡期間で小さくする前記上昇速度の上限値を、前記過渡期間における上昇速度の上限値とする。
【０００６】
上記課題を解決する基板搬送方法は、エンドエフェクターに連結されたアームの上昇速度を設定すること、および、設定された上昇速度で前記アームを上昇させることによって前記エンドエフェクターを基板に向けて上昇させて、前記エンドエフェクターに前記基板を受け取らせること、を含み、前記エンドエフェクターと前記アームとの高さの差が位置差分であり、前記エンドエフェクターが前記基板に当たるときから前記エンドエフェクターが前記基板を受け取り終わるまでの期間が過渡期間であり、前記上昇速度を設定することでは、前記位置差分の加速度、および、加加速度のいずれか一方の振幅を前記過渡期間前よりも前記過渡期間で小さくする前記上昇速度の上限値を、前記過渡期間における上昇速度の上限値とする。
【０００７】
上昇するエンドエフェクターは、エンドエフェクターとアームとを含む構造体のなかで、固有の微振動を続ける。そして、上昇するエンドエフェクターが基板に当たるとき、基板の重さがエンドエフェクターに作用し、エンドエフェクターの剛性やアームの剛性に応じて、エンドエフェクターやアームが反る。この際、エンドエフェクターの上昇速度が高すぎると、エンドエフェクターなどの反りが大きくなったり、基板の跳ね上がりが大きくなったりして、エンドエフェクターと基板とが大きく離れる。結果として、エンドエフェクターと基板とが複数回にわたり強く当接することを繰り返してしまう。こうした複数回にわたるエンドエフェクターと基板との当接は、基板の位置精度を大きく低下させる要因となる。
【０００８】
一方、上述したような、エンドエフェクターなどの反りが大きくなったり、基板の跳ね上がりが大きくなったりしないような上昇速度でエンドエフェクターが基板に当たるとき、基板の重さがエンドエフェクターに作用して、エンドエフェクターでの微振動が一旦収束する。すなわち、エンドエフェクターでの微振動が、アームでの微振動と比べて一旦収束する。こうしたエンドエフェクターでの微振動の抑制は、エンドエフェクターとアームとの高さの差である位置差分の加速度、あるいは、加加速度の抑制として現れる。
【０００９】
この点、上記各構成によれば、エンドエフェクターと基板とが当接してからエンドエフェクターが基板を受け取るまでの期間を過渡期間として、過渡期間における位置差分の加速度、および、加加速度のいずれか一方の振幅が過渡期間前よりも小さくなるように、上昇速度の上限値が定められる。そのため、エンドエフェクターなどの反りが大きくなったり、基板の跳ね上がりが大きくなったりすることが過渡期間では抑えられる。ひいては、エンドエフェクターなどの反りが大きくなったり、基板の跳ね上がりが大きくなったりすることに起因して基板の位置精度が低下してしまうことが抑えられる。
【００１０】
結果として、過渡期間における上昇速度を上限値以下の範囲のなかで高めることで基板の搬送効率が低下することを抑えつつ、過渡期間における上昇速度を上限値以下に制限することで基板の位置精度を向上することが可能となる。
【００１１】
上記基板搬送装置において、前記制御部は、前記過渡期間における前記振幅を前記過渡期間前よりも小さくするように、前記過渡期間における上昇速度を前記過渡期間前から低めてもよい。
【００１２】
上記基板搬送装置によれば、過渡期間における上昇速度を上限値以下に制限しつつも、過渡期間前の上昇速度を過渡期間よりも高めることが可能となる。そのため、搬送効率の低下を抑えることについて、より実効性を高めることが可能ともなる。
【００１３】
上記基板搬送装置において、前記制御部は、前記位置差分の加速度、および、加加速度のいずれか一方の振幅が前記過渡期間よりも前記過渡期間後で大きくなるように、前記上限値以下のなかから、前記過渡期間における上昇速度を設定してもよい。
【００１４】
アームによるエンドエフェクターの上昇は、エンドエフェクターを上下方向に微振動させる。エンドエフェクターと基板との当接によって一旦収束した微振動は、エンドエフェクターに対して基板が静止するときに、エンドエフェクタと基板とを振動子とする微振動として再び生じはじめる。すなわち、エンドエフェクターと基板とが恰も一体となって、エンドエフェクターが再び微振動をはじめる。
【００１５】
ここで、上記基板搬送装置によれば、位置差分の加速度、および、加加速度のいずれか一方の振幅が、過渡期間よりも過渡期間後で大きくなるように、過渡期間における上昇速度が設定される。そのため、エンドエフェクターに対して基板が静止しないような上昇速度で基板の受け取りが行われることが抑えられる。ひいては、受け取られた基板がエンドエフェクターに対して静止しにくいことに起因して基板の位置精度が低下することが抑えられる。結果として、基板の位置精度を向上させる実効性をさらに高めることが可能となる。
【００１６】
上記基板搬送装置において、前記制御部は、前記過渡期間後での前記振幅を前記過渡期間よりも大きくするように、前記過渡期間後での上昇速度を前記過渡期間後から高めてもよい。
【００１７】
上記基板搬送装置によれば、過渡期間における上昇速度を上限値以下に制限しつつも、過渡期間後の上昇速度を過渡期間中の上昇速度よりも高めることが可能となる。そのため、搬送効率の低下を抑えることについて、より実効性を高めることが可能ともなる。
【００１８】
上記基板搬送装置において、前記振幅を検出する第１振幅検出部を備え、前記制御部は、互いに異なる前記上昇速度で前記エンドエフェクターの上昇を繰り返し、前記第１振幅検出部の検出結果が前記過渡期間で小さくなる上昇速度を前記上限値とする教示処理を行ってもよい。
【００１９】
上記基板搬送装置によれば、第１振幅検出部の検出結果に基づいて上昇速度の上限値が定められるため、基板搬送装置の個体差に起因した微振動などのばらつきを上限値に反映させることが可能となる。そのため、上昇速度の上限値を備えることによる位置精度の向上の実効性をさらに高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】基板搬送装置の一実施形態における装置構成を示す構成図。
【図２】昇降速度および高さ位置の推移を示すグラフ。
【図３】教示処理でのアームおよびエンドエフェクターの位置推移を示すグラフ。
【図４】教示処理での位置差分の推移を示すグラフ。
【図５】教示処理での位置差分の加加速度推移の一例を示すグラフ。
【図６】教示処理での位置差分の加加速度推移の他の例を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図１から図６を参照して、基板搬送装置、および、基板搬送方法の一実施形態を説明する。
【００２２】
図１が示すように、基板搬送装置は、アーム１１、エンドエフェクター１２、エフェクターセンサー１３Ｅ、アームセンサー１３Ａ、駆動部２０、および、制御装置３０を備える。
【００２３】
アーム１１は、アーム１１を搭載した本体に対して昇降自在、かつ、水平方向に旋回、伸縮自在に支持される。エンドエフェクター１２は、搬送対象物である基板Ｓを載置可能に構成されている。基板Ｓは、例えば、ステージやフープなどの載置部に載置される。基板搬送装置は、アーム１１を下降させることによって、エンドエフェクター１２から載置部に基板Ｓを受け渡す。また、基板搬送装置は、アーム１１を上昇させることによって、載置部からエンドエフェクター１２に基板Ｓを受け取らせる。
【００２４】
エフェクターセンサー１３Ｅは、エンドエフェクター１２の高さ位置を光学的に検出する。エフェクターセンサー１３Ｅは、検出されたエンドエフェクター１２の高さ位置を制御装置３０に入力する。アームセンサー１３Ａは、アーム１１の高さ位置を光学的に検出する。アームセンサー１３Ａは、検出されたアームの高さ位置を制御装置３０に入力する。
【００２５】
制御装置３０は、駆動部２０の出力制御を通じて、アーム１１の昇降や旋回、伸縮を制御する。制御装置３０は、予め記憶している教示データに基づいてアーム１１の動作を制御する。駆動部２０は、制御装置３０の指示に従って、アーム１１に昇降や旋回、伸縮を行わせて、載置部に載置されている基板Ｓをエンドエフェクター１２に受け取らせたり、エンドエフェクター１２に載置されている基板Ｓを載置部に受け渡したりする。
【００２６】
制御装置３０は、制御部３１、記憶部３２、搬送処理部３３、および、教示処理部３４を備える。制御部３１は、例えば、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭなどのコンピュータに用いられるハードウェア要素、および、ソフトウェアによって構成される。制御部３１は、各種の処理を全てソフトウェアで処理するものに限らない。例えば、制御部３１は、各種の処理のうちの少なくとも一部の処理を実行する専用のハードウェアである特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）を備えてもよい。制御部３１は、ＡＳＩＣなどの１つ以上の専用のハードウェア回路、コンピュータプログラムであるソフトウェアに従って動作する１つ以上のプロセッサであるマイクロコンピュータ、あるいは、これらの組み合わせ、を含む回路として構成してもよい。
【００２７】
記憶部３２は、搬送プログラム、および、教示データを含む各種データを記憶する。制御部３１は、記憶部３２が記憶する搬送プログラム、および、データを読み出し、搬送プログラムを実行することによって、搬送処理や教示処理などの各種処理を、搬送処理部３３や教示処理部３４に実行させる。
【００２８】
搬送処理部３３は、教示データに基づいて、昇降動作や旋回、伸縮動作をアーム１１に実行させるための駆動信号を生成して、生成された駆動信号を駆動部２０に出力する。昇降動作に用いられる教示データは、アーム１１の高さ位置と、アーム１１の上昇速度とを対応付ける。
【００２９】
図２が示すように、教示データは、アーム１１の高さ位置が上昇前の基準位置Ｈ０であるときから所定の加速度で上昇速度を第１速度ＶＤ１まで高めるための制御パラメーターを含む。また、教示データは、アーム１１の高さ位置が第１対象位置Ｈ１に到達するときに上昇速度を第２速度ＶＤ２まで低めるためのデータを含む。また、教示データは、アーム１１の高さ位置が第２対象位置Ｈ２に到達するときに上昇速度を第２速度ＶＤ２から第１速度ＶＤ１に向けて高めるための制御パラメーターを含む。
【００３０】
第１対象位置Ｈ１は、エンドエフェクター１２が基板Ｓに当たるときのアーム１１の高さ位置である。第２対象位置Ｈ２は、第１対象位置Ｈ１よりも高い位置であって、エンドエフェクター１２が基板Ｓを受け取り終わるときのアーム１１の高さ位置である。第２対象位置Ｈ２は、例えば、エンドエフェクター１２での振動が変わるときのアーム１１の高さ位置である。すなわち、第２対象位置Ｈ２は、例えば、エンドエフェクター１２のみを振動子とする振動から、エンドエフェクター１２と基板Ｓとを振動子とする振動に変わるときのアーム１１の高さ位置である。
【００３１】
搬送処理部３３は、教示データに基づいて駆動部２０を駆動し、アーム１１の位置が第１対象位置Ｈ１に到達するときに、アーム１１の上昇速度を第１速度ＶＤ１から第２速度ＶＤ２に下げる。すなわち、搬送処理部３３は、アーム１１を第１速度ＶＤ１で上昇させることによってエンドエフェクター１２を基板Ｓに向けて上昇させながら、エンドエフェクター１２が基板Ｓに当たるときに、上昇速度を第１速度ＶＤ１よりも低い第２速度ＶＤ２に変える。
【００３２】
搬送処理部３３は、教示データに基づいて駆動部２０を駆動し、アーム１１の位置が第２対象位置Ｈ２に到達するときに、上昇速度を第２速度ＶＤ２から第１速度ＶＤ１に切り替え、速度を高める。例えば、搬送処理部３３は、上昇速度を第２速度ＶＤ２に変えてから、エンドエフェクター１２での振動が変わるときに、上昇速度を第２速度ＶＤ２から第１速度ＶＤ１に切り替え、速度を高める。
【００３３】
教示処理部３４は、エンドエフェクター１２が基板Ｓに当たるときのアーム１１の高さ位置を第１対象位置Ｈ１とする教示を行う。教示処理部３４は、例えば、エンドエフェクター１２での振動が変わるときのアーム１１の高さ位置を第２対象位置Ｈ２とする教示を行う。さらに、教示処理部３４は、第２速度ＶＤ２の上限値を定めるための教示処理を実行する。教示処理は、第１対象位置Ｈ１から第２対象位置Ｈ２までアーム１１が上昇するときのアーム１１の上昇速度の上限値、すなわち、第２速度ＶＤ２の上限値を教示する処理である。アーム１１が第１対象位置Ｈ１から第２対象位置Ｈ２まで移動する期間は、過渡期間の一例である。
【００３４】
教示処理部３４は、教示処理において、エンドエフェクター１２の高さ位置を検出するエフェクターセンサー１３Ｅと、アーム１１の高さ位置を検出するアームセンサー１３Ａとを用いる。エンドエフェクター１２の高さ位置と、アーム１１の高さ位置との差は、位置差分である。教示処理部３４は、エフェクターセンサー１３Ｅの検出値と、アームセンサー１３Ａの検出値とを用いて、位置差分を算出する。エフェクターセンサー１３Ｅとアームセンサー１３Ａは、第１振幅検出部、および、第２振幅検出部の一例である。
【００３５】
教示処理部３４は、教示処理において、エンドエフェクター１２を基板Ｓに向けて上昇させることを、複数の上昇速度で実行する。教示処理部３４は、各上昇速度において、位置差分の加加速度における振幅を、過渡期間Ｔｔの前、過渡期間Ｔｔ、および、過渡期間Ｔｔの後の各期間について算出する。
【００３６】
図３は、教示処理部３４が実行する教示処理でのアーム１１の高さ位置とエンドエフェクター１２の高さ位置との推移の例を示す。
図３が示すように、教示処理において、教示処理部３４がタイミングＴＥ０にアーム１１を上昇させると、アーム１１と共にエンドエフェクター１２が上昇しはじめる。次いで、教示処理部３４がアーム１１の上昇を続けると、エンドエフェクター１２がタイミングＴＥ１に基板Ｓに当たる。すなわち、過渡期間ＴｔがタイミングＴＥ１にはじまる。この際、基板Ｓの重さがエンドエフェクター１２に作用し、エンドエフェクター１２の剛性などに応じて、エンドエフェクター１２が反る。この作用は、図３に示すタイミングＴＥ１からタイミングＴＥ２までの区間における高さ位置に現れている。この間、エンドエフェクター１２の高さ位置は殆ど上昇せず、アーム１１の高さ位置とエンドエフェクター１２の高さ位置との間に乖離が生じる。そして、エンドエフェクター１２の反りが収まると、過渡期間ＴｔがタイミングＴＥ２に終わり、エンドエフェクター１２が再び上昇しはじめる。これは、基板Ｓの重さが全てエンドエフェクター１２に作用した結果であると言える。また、図３における上昇速度は、非常に低速であり、図３には、振幅がほぼ確認されない静的な動特性が示されている。
【００３７】
図４は、教示処理部３４が実行する教示処理での位置差分の推移の例を示す。タイミングＴＥ１以前は、当初振動波形とも表記し、タイミングＴＥ２以降は、残留振動波形とも表記する。
図４が示すように、教示処理において、教示処理部３４がタイミングＴＥ０、あるいはそれ以前にアーム１１を上昇させると、エンドエフェクター１２とアーム１１とを含む構造体のなかで、エンドエフェクター１２は、その上昇速度に応じた固有の微振動を続ける。そして、エンドエフェクター１２の微振動とアーム１１の微振動とは互いに異なるため、位置差分もまた、微振動として観察される（当初振動波形）。すなわち、過渡期間Ｔｔの前での位置差分は、微振動を続ける。
【００３８】
次いで、教示処理部３４がタイミングＴＥ１までアーム１１を上昇させると、エンドエフェクター１２が基板Ｓに当たり、基板Ｓの重さがエンドエフェクター１２に作用しはじめる。この基板Ｓの重さは、図４の位置差分において、オフセットされる表現で認識される。言い換えれば、過渡期間Ｔｔの前後での位置差分におけるオフセット量として、基板Ｓの重さに起因するエンドエフェクター１２のコンプライアンスが認識される。このオフセットが生じる際、エンドエフェクター１２の上昇速度が高すぎると、基板Ｓのイナーシャが起因となりエンドエフェクター１２の反りが大きくなったり、エンドエフェクター１２に蓄えられた弾性エネルギーが起因となり基板Ｓの跳ね上がりが大きくなったりして、エンドエフェクター１２と基板Ｓとが大きく離れる。そして、エンドエフェクター１２と基板Ｓとが複数回にわたり強く当接することを繰り返す。この当接は、主にエンドエフェクター１２に対して衝撃として入力され、また後述するような振幅として観察される。つまり、複数の上昇速度のなかで、衝撃が観察されない範囲での上限値を採用することが好ましいと言える。
【００３９】
これに対して、エンドエフェクター１２の反りが大きくなったり、基板Ｓの跳ね上がりが大きくなったりしないような上昇速度でエンドエフェクター１２が基板Ｓに当たるとき、基板Ｓの重さは衝撃とはなりえない入力としてエンドエフェクター１２に作用すると共に、エンドエフェクター１２での微振動が一旦収束する状況が観察される。この収束は、基板Ｓを介して載置部にエンドエフェクター１２が接続され、それにより、エンドエフェクター１２の先端部が自由端から固定端へと変化した結果であると言える。つまり、振動しにくいモデル構成へと変化した結果、すなわち、減衰しやすい構成へと変化した結果であると言える。
すなわち、タイミングＴＥ１からタイミングＴＥ２までの過渡期間Ｔｔでは、アーム１１の上昇速度に応じて位置差分の振動が異なる。アーム１１の上昇速度が高い場合、位置差分の振動は大きくなる一方で、アーム１１の上昇速度が低い場合、位置差分の振動が一旦収束する傾向が観察される。つまり、複数の上昇速度のなかで、収束傾向となる速度範囲の上限値を採用することが好ましいと言える。
【００４０】
次いで、教示処理部３４がタイミングＴＥ２までアーム１１を上昇させると、エンドエフェクター１２に対して基板Ｓが静止し、エンドエフェクター１２と基板Ｓとを振動子とする微振動をエンドエフェクター１２が再び生じはじめる。すなわち、エンドエフェクター１２と基板Ｓとが恰も一体となって、エンドエフェクター１２が再びその上昇速度に応じた微振動をはじめる。位置差分もまた、微振動として観察される（残留振動波形）。すなわち、過渡期間Ｔｔの後での位置差分は、微振動を続ける。なお、当初振動波形、および、残留振動波形における振幅は、搬送工程において支障が生じない範囲に収めることが必要となるため、上昇速度は、この範囲を実現できる速度とする。好ましい形態として、その範囲が実現できる上限近傍の速度を設定すればよい。
【００４１】
図５は、教示処理部３４が実行する教示処理での位置差分の加加速度の推移であって、上昇速度が低い例であり適切な状態である例を示す。図６は、教示処理部３４が実行する教示処理での位置差分の加加速度の推移であって、上昇速度が高い例であり不適切な状態である例を示す。
【００４２】
図５が示すように、互いに異なる上昇速度のなかで、適切な上昇速度の例では、位置差分の加加速度における振幅ＰＷは、過渡期間Ｔｔの前後よりも過渡期間Ｔｔで小さくなる。この際、エンドエフェクター１２などの反りが大きくなったり、基板Ｓの跳ね上がりが大きくなったりすることが抑えられていることが観察されている。また、位置差分の加加速度における振幅ＰＷは、過渡期間Ｔｔよりも過渡期間Ｔｔの前後で大きくなる。過渡期間Ｔｔの前、あるいは、過渡期間Ｔｔの後に認めらえる振幅は、過渡期間Ｔｔでの振幅ＰＷより大きい。エンドエフェクター１２と基板Ｓとの当接によって一旦収束した微振動は、エンドエフェクター１２に対して基板Ｓが静止するときに、エンドエフェクター１２と基板Ｓとが一体の振動子として微振動の振幅の増大を再び生じはじめる。
【００４３】
一方、図６が示すように、互いに異なる上昇速度のなかで、不適切な上昇速度の例では、位置差分の加加速度における振幅ＰＷは、過渡期間Ｔｔの前よりも、あるいは、前後よりも過渡期間Ｔｔ内で大きくなる。この際、エンドエフェクター１２の反りが大きくなったり、基板Ｓの跳ね上がりが大きくなったりして、エンドエフェクター１２と基板Ｓとが大きく離れる。そして、エンドエフェクター１２と基板Ｓとが複数回にわたり強く当接することを繰り返してしまうことが観察されると言える。なお、図６が示す振幅ＰＷは、その前後の振幅から見て、衝撃的な入力があったと推察できる状況であり、かつ、図５が示す振幅ＰＷの最大値をなす一周期波形前後における振幅の減衰波形が観察できないことが特徴的である。すなわち、不明瞭な周期を示す波形が観察できず、過渡期間Ｔｔの前、あるいは、後と同様な周期を示す波形しか観察できないことが特徴的である。つまり、安定的にエンドエフェクター１２の上に基板Ｓを載置部から受け取るには、周囲に減衰波形が存在していることが望ましい。
【００４４】
教示処理部３４は、互いに異なる複数の上昇速度のなかから、加加速度における振幅ＰＷを過渡期間Ｔｔの前よりも過渡期間Ｔｔで小さくする範囲の上昇速度を抽出する。そして、教示処理部３４は、抽出された上昇速度のなかの上限値を、第２速度ＶＤ２の上限値として教示する。なお、教示処理部３４は、位置差分の加加速度における振幅ＰＷを過渡期間Ｔｔの前よりも過渡期間Ｔｔで小さくするように、抽出された上限値以下のなかから第２速度ＶＤ２を設定してもよい。これは、過渡期間Ｔｔの後における動特性が、基板Ｓの種類により変化することから、調整指標として不適切であるためである。当然だが、位置差分の加加速度における振幅ＰＷは、過渡期間Ｔｔよりも過渡期間Ｔｔの後で大きくなってもよい。また、上記の抽出、および、設定に至る一連の工程は、各別の処理とすれば、制御装置３０に教示処理部３４を含まない構成とすることもできる。
【００４５】
［作用］
搬送処理部３３は、教示データに基づいて、アーム１１とエンドエフェクター１２とを上昇させる。上昇するエンドエフェクター１２が基板Ｓに当たるとき、基板Ｓの重さがエンドエフェクター１２に作用し、エンドエフェクター１２の剛性やアーム１１の剛性に応じて、エンドエフェクター１２やアーム１１が反る。
【００４６】
この際、過渡期間Ｔｔにおける位置差分の加加速度における振幅ＰＷが過渡期間Ｔｔの前後、あるいは、前よりも小さくなるように、第２速度ＶＤ２の上限値が定められている。すなわち、エンドエフェクター１２の上昇速度が高すぎることに起因してエンドエフェクター１２と基板Ｓとが複数回にわたり当接しないように、アーム１１とエンドエフェクター１２とは上昇を続ける。
【００４７】
以上、上記実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
（１）過渡期間Ｔｔにおける位置差分の加加速度における振幅ＰＷが過渡期間Ｔｔの前後、あるいは、前よりも小さくなるように、第２速度ＶＤ２が定められるため、エンドエフェクター１２などの反りが大きくなったり、基板Ｓの跳ね上がりが大きくなったりすることが、過渡期間Ｔｔでは抑えられ、かつ効果的な振動減衰が得られる。そのため、エンドエフェクター１２の反りが大きくなったり、基板Ｓの跳ね上がりが大きくなったりすることに起因して基板Ｓの位置精度が低下してしまうことが抑えられる。また、同時に跳ね上がり等の現象に伴うコンタミネーションも抑えられる。
【００４８】
（２）過渡期間Ｔｔにおける上昇速度を上限値以下の範囲のなかで高めることで基板Ｓの搬送効率が低下することを抑えつつ、過渡期間Ｔｔにおける上昇速度を上限値以下に制限することで基板Ｓの位置精度を向上することが可能となる。
【００４９】
（３）過渡期間Ｔｔにおける上昇速度を上限値以下に制限しつつも、過渡期間Ｔｔの前の上昇速度である第１速度ＶＤ１を過渡期間Ｔｔの上昇速度である第２速度ＶＤ２よりも過渡期間Ｔｔの直前まで高めることが可能となる。そのため、搬送効率の低下を抑えることについて、より実効性を高めることが可能ともなる。
【００５０】
（４）位置差分の加加速度における振幅が、過渡期間Ｔｔよりも過渡期間Ｔｔの後で大きくなるように、第２速度ＶＤ２が設定されてもよい。第２対象位置Ｈ２に到達するときに、上昇速度を第２速度ＶＤ２から第１速度ＶＤ１に切り替え、速度を高めているため、エンドエフェクター１２に対して基板Ｓが静止しないような第２速度ＶＤ２で基板Ｓの受け取りが行われることが抑えられる。これにより、受け取られた基板Ｓがエンドエフェクター１２に対して静止しにくいことに起因して基板Ｓの位置精度が低下することが抑えられる。結果として、基板Ｓの位置精度を向上させる実効性をさらに高めることが可能となる。
【００５１】
（５）第２速度ＶＤ２を上限値以下に制限しつつも、過渡期間Ｔｔの後の第１速度ＶＤ１を第２速度ＶＤ２よりも高めることが可能となる。そのため、搬送効率の低下を抑えることについて、より実効性を高めることが可能ともなる。
【００５２】
（６）エフェクターセンサー１３Ｅとアームセンサー１３Ａとに基づいて第２速度ＶＤ２の上限値が定められるため、基板搬送装置の個体差に起因した微振動などのばらつきを上限値に反映させることが可能となる。そのため、第２速度ＶＤ２の上限値を備えることによる位置精度の向上の実効性をさらに高めることが可能となる。
【００５３】
なお、上記実施形態は、以下のように変更して実施できる。
・教示処理部３４は、位置差分の加速度における振幅ＰＷが過渡期間Ｔｔの前よりも過渡期間Ｔｔで小さいことに基づいて、第２速度ＶＤ２の上限値の候補を抽出してもよい。そして、教示処理部３４は、複数の上限値の候補のなかの最大値を第２速度ＶＤ２の上限値としてもよい。
・教示処理部３４は、位置差分の加速度における振幅ＰＷが過渡期間Ｔｔよりも過渡期間Ｔｔの後で大きいこと、かつ、上限値以下の範囲のなかであることを満たす上昇速度を第２速度ＶＤ２として教示してもよい。
【符号の説明】
【００５４】
Ｈ０…基準位置、Ｈ１…第１対象位置、Ｈ２…第２対象位置、ＰＷ…振幅、Ｓ…基板、ＴＥ０，ＴＥ１，ＴＥ２…タイミング、Ｔｔ…過渡期間、ＶＤ１…第１速度、ＶＤ２…第２速度、１１…アーム、１２…エンドエフェクター、１３Ａ…アームセンサー、１３Ｅ…エフェクターセンサー、２０…駆動部、３０…制御装置、３１…制御部、３２…記憶部、３３…搬送処理部、３４…教示処理部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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