(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
0006919733.tif 000009
（式中、
Ｒ１は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又はＳＲ（式中、Ｒは、水素原子又は炭化水素基である。）であり、
Ｒ２及びＲ３は、水素原子であり、
Ｘは、酸素原子であり、
Ｒ４及びＲ５は、フッ素原子であり、
Ｒ６は、Ｃ１−６アルキル基、ハロアルキル基、又はアリール基である。）
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化２】
0006919733.tif 000010
（式中、Ｒ２〜Ｒ５は、前記と同意義である。）
で表される化合物を、
式（３）：
Ｍ(Ｒ１)ｎ  （３）
（式中、Ｍは、カチオンであり、ｎは、Ｍの価数に対応する整数であり、Ｒ１は、前記と同意義である。）
で表される化合物、及び式（４）：
Ｒ６−Ｘ−Ｈ  （４）
（式中、Ｒ６及びＸは、前記と同意義である。）
で表される化合物と反応する工程Ａ、
前記反応により得られる混合物から式（５）：
ＭＦｎ  （５）
（式中、Ｍ及びｎは、前記と同意義である。）
で表される化合物をろ過により分離する工程Ｂ、並びに
前記ろ過により得られるろ液に対して分液処理を行う工程Ｃ
を含む、製造方法。
【請求項２】
前記ろ過が、４５℃以上で行われる、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記ろ過が、ろ材及びろ過助剤を用いて行われる、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記ろ過助剤が、珪藻土、ろ過砂、パーライト、及びセルロースからなる群より選択される少なくとも一種である、請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記ろ過助剤の平均粒子径が、０．５〜２００μｍの範囲内である、請求項３又は４に記載の製造方法。
【請求項６】
Ｒ１が、臭素原子又はヨウ素原子である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項７】
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基又はハロアルキル基である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項８】
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基又はハロＣ１−６アルキル基である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項９】
Ｍが、金属である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１０】
Ｍが、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１１】
Ｍが、アルカリ金属である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１２】
式（１）：
【化３】
0006919733.tif 000011
（式中、
Ｒ１は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又はＳＲ（式中、Ｒは、水素原子又は炭化水素基である。）であり、
Ｒ２及びＲ３は、水素原子であり、
Ｘは、酸素原子であり、
Ｒ４及びＲ５は、フッ素原子であり、
Ｒ６は、Ｃ１−６アルキル基、ハロアルキル基、又はアリール基である。）
で表される化合物、及び式（５）：
ＭＦｎ  （５）
（式中、Ｍは、アルカリ金属であり、ｎは、Ｍの価数に対応する整数である。）
で表される化合物を含有する組成物であって、
フッ素イオンの含有濃度が、０ｍｇ／Ｌを超えて１０４ｍｇ／Ｌ未満である、組成物。
【請求項１３】
Ｒ１が、臭素原子又はヨウ素原子である、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基又はハロアルキル基である、請求項１２又は１３に記載の組成物。
【請求項１５】
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基又はハロＣ１−６アルキル基である、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
Ｍが、金属である、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１７】
Ｍが、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である、請求項１２〜１６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１８】
Ｍが、アルカリ金属である、請求項１２〜１７のいずれか一項に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、プロピオン酸誘導体の製造方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
２，２−ジフルオロプロピオン酸エステル等のプロピオン酸誘導体は、医薬、農薬等の原料として有用な化合物である。２、２−ジフルオロプロピオン酸エステルの製造方法として、アルカリ金属ハロゲン化物の存在下、２，２，３，３−テトラフルオロオキセタンをアルコール類又はフェノール類と反応させる方法が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６１−１３０２５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の方法では、反応後に、(a)溶媒を留去、(b)水を添加、(c)有機溶媒を添加して分液を行っている。しかし、反応液中にアルカリ金属フッ化物が多く含まれているため、分液が困難であり、生産性に劣るという問題がある。
【０００５】
本開示は、上記の問題を解決し、生産性に優れたプロピオン酸誘導体の製造方法等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、次の態様を包含する。
項１．
式（１）：
【化１】
0006919733.tif 000002
（式中、
Ｒ１は、ハロゲン原子又はＳＲ（式中、Ｒは、水素原子又は炭化水素基である。）であり、
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は有機基であるか、又は
Ｒ２及びＲ３は、β位の炭素原子と一緒になって、環を形成していてもよく、
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子であり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基であるか、又は
Ｒ４及びＲ５は、α位の炭素原子と一緒になって、環を形成していてもよく、
Ｒ６は、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基である。）
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化２】
0006919733.tif 000003
（式中、Ｒ２〜Ｒ５は、前記と同意義である。）
で表される化合物を、
式（３）：
Ｍ(Ｒ１)ｎ  （３）
（式中、Ｍは、カチオンであり、ｎは、Ｍの価数に対応する整数であり、Ｒ１は、前記と同意義である。）
で表される化合物、及び式（４）：
Ｒ６−Ｘ−Ｈ  （４）
（式中、Ｒ６及びＸは、前記と同意義である。）
で表される化合物と反応する工程Ａ、並びに
前記反応により得られる混合物から式（５）：
ＭＦｎ  （５）
（式中、Ｍ及びｎは、前記と同意義である。）
で表される化合物をろ過により分離する工程Ｂ
を含む、製造方法。
項２．
前記ろ過が、４５℃以上で行われる、項１に記載の製造方法。
項３．
前記ろ過が、ろ材及びろ過助剤を用いて行われる、項１又は２に記載の製造方法。
項４．
前記ろ過助剤が、珪藻土、ろ過砂、パーライト、及びセルロースからなる群より選択される少なくとも一種である、項３に記載の製造方法。
項５．
前記ろ過助剤の平均粒子径が、０．５〜２００μｍの範囲内である、項３又は４に記載の製造方法。
項６．
前記ろ過により得られるろ液に対して分液処理を行う工程Ｃを更に含む、項１〜５のいずれか一項に記載の製造方法。
項７．
Ｒ１が、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である、項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法。
項８．
Ｒ１が、臭素原子又はヨウ素原子である、項１〜７のいずれか一項に記載の製造方法。項９．
Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はハロアルキル基である、項１〜８のいずれか一項に記載の製造方法。
項１０．
Ｒ２及びＲ３が、水素原子である、項１〜９のいずれか一項に記載の製造方法。
項１１．
Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はハロアルキル基である、項１〜１０のいずれか一項に記載の製造方法。
項１２．
Ｒ４及びＲ５が、ハロゲン原子である、項１〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
項１３．
Ｒ４及びＲ５が、フッ素原子である、項１〜１２のいずれか一項に記載の製造方法。
項１４．
Ｒ６が、アルキル基又はハロアルキル基である、項１〜１３のいずれか一項に記載の製造方法。
項１５．
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基又はハロＣ１−６アルキル基である、項１〜１４のいずれか一項に記載の製造方法。
項１６．
Ｘが、酸素原子である、項１〜１５のいずれか一項に記載の製造方法。
項１７．
Ｍが、金属である、項１〜１６のいずれか一項に記載の製造方法。
項１８．
Ｍが、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である、項１〜１７のいずれか一項に記載の製造方法。
項１９．
Ｍが、アルカリ金属である、項１〜１８のいずれか一項に記載の製造方法。
項２０．
式（１）：
【化３】
0006919733.tif 000004
（式中、
Ｒ１は、ハロゲン原子又はＳＲ（式中、Ｒは、水素原子又は炭化水素基である。）であり、
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は有機基であるか、又は
Ｒ２及びＲ３は、β位の炭素原子と一緒になって、環を形成していてもよく、
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子であり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基であるか、又は
Ｒ４及びＲ５は、α位の炭素原子と一緒になって、環を形成していてもよく、
Ｒ６は、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基である。）
で表される化合物、及び式（５）：
ＭＦｎ  （５）
（式中、Ｍは、アルカリ金属であり、ｎは、Ｍの価数に対応する整数である。）
で表される化合物を含有する組成物であって、
フッ素イオンの含有濃度が、０ｍｇ／Ｌを超えて１０００ｍｇ／Ｌ以下である、組成物。項２１．
Ｒ１が、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である、項２０に記載の組成物。
項２２．
Ｒ１が、臭素原子又はヨウ素原子である、項２０又は２１に記載の組成物。
項２３．
Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はハロアルキル基である、項２０〜２２のいずれか一項に記載の組成物。
項２４．
Ｒ２及びＲ３が、水素原子である、項２０〜２３のいずれか一項に記載の組成物。
項２５．
Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はハロアルキル基である、項２０〜２４のいずれか一項に記載の組成物。
項２６．
Ｒ４及びＲ５が、ハロゲン原子である、項２０〜２５のいずれか一項に記載の組成物。
項２７．
Ｒ４及びＲ５が、フッ素原子である、項２０〜２６のいずれか一項に記載の組成物。
項２８．
Ｒ６が、アルキル基又はハロアルキル基である、項２０〜２７のいずれか一項に記載の組成物。
項２９．
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基又はハロＣ１−６アルキル基である、項２０〜２８のいずれか一項に記載の組成物。
項３０．
Ｘが、酸素原子である、項２０〜２９のいずれか一項に記載の組成物。
項３１．
Ｍが、金属である、項２０〜３０のいずれか一項に記載の組成物。
項３２．
Ｍが、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である、項２０〜３１のいずれか一項に記載の組成物。
項３３．
Ｍが、アルカリ金属である、項２０〜３２のいずれか一項に記載の組成物。
【０００７】
また、本開示は、２，２−ジフルオロ−３−ヨード−プロピオン酸エチル（ＩＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯＥｔ）も包含する。
【発明の効果】
【０００８】
本開示によれば、生産性に優れたプロピオン酸誘導体の製造方法等が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、ＩＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯＥｔの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。
【図２】図２は、ＩＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯＥｔの１９Ｆ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本開示の前記概要は、本開示の各々の開示された実施形態または全ての実装を記述することを意図するものではない。
本開示の後記説明は、実例の実施形態をより具体的に例示する。
本開示のいくつかの箇所では、例示を通してガイダンスが提供され、及びこの例示は、様々な組み合わせにおいて使用できる。
それぞれの場合において、例示の群は、非排他的な、及び代表的な群として機能できる。
本明細書で引用した全ての刊行物、特許及び特許出願はそのまま引用により本明細書に組み入れられる。
【００１１】
＜用語＞
本明細書中の記号及び略号は、特に限定のない限り、本明細書の文脈に沿い、本開示が属する技術分野において通常用いられる意味に理解できる。
本明細書中、語句「含有する」は、語句「から本質的になる」、及び語句「からなる」を包含することを意図して用いられる。
特に限定されない限り、本明細書中に記載されている工程、処理、又は操作は、室温で実施され得る。
本明細書中、室温は、１０〜４０℃の範囲内の温度を意味することができる。
本明細書中、表記「Ｃｎ−ｍ」（ここで、ｎ、及びｍは、それぞれ、数である。）は、当業者が通常理解する通り、炭素数がｎ以上、且つｍ以下であることを表す。
【００１２】
本明細書中、特に断りのない限り、「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
【００１３】
本明細書中、「有機基」とは、有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
当該「有機基」としては、例えば、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
アルデヒド基、
ＱＯ−、
ＱＳ−、
ＱＣＯ−、
ＱＳＯ２−、
ＱＯＣＯ−、及び
ＱＯＳＯ２−
（これらの式中、Ｑは、独立して、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である）
が挙げられる。
【００１４】
「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、及びアルキルチオ基が挙げられる。なお、２個以上の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。置換基の数は、例えば、１個〜置換可能な最大数の範囲内から選択することができ、１個、２個、３個、又は４個であることができる。
【００１５】
本明細書中、特に断りのない限り、「炭化水素基」としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル基、アリール基、及びアラルキル基が挙げられる。
【００１６】
本明細書中、特に断りのない限り、「アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、プロピル（ｎ−プロピル、イソプロピル）、ブチル（ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル）、ペンチル、及びヘキシル等の、直鎖又は分岐鎖状のＣ１−２０アルキル基が挙げられる。
【００１７】
本明細書中、特に断りのない限り、「ハロアルキル基」とは、１個以上のハロゲン原子が置換されていてもよいアルキル基をいう。ハロアルキル基としては、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル（パーフルオロメチル）、２−フルオロエチル、２，２−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、１，１，２，２−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル（パーフルオロエチル）、及びこれらにおいてフッ素原子の一部又は全部が他のハロゲン原子に置換した基等の、直鎖又は分岐鎖状のハロＣ１−２０アルキル基が挙げられる。
【００１８】
本明細書中、特に断りのない限り、「アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ（ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ）、ブトキシ（ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ）、ペンチルオキシ、及びヘキシルオキシ等の、直鎖状又は分岐鎖状のＣ１−２０アルコキシ基が挙げられる。
【００１９】
本明細書中、特に断りのない限り、「アルキルチオ基」としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ（ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ）、ブチルチオ（ｎ−ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ）、ペンチルチオ、及びヘキシルチオ等の、直鎖状又は分岐鎖状のＣ１−２０アルキルチオ基が挙げられる。
【００２０】
本明細書中、特に断りのない限り、「アルケニル基」としては、例えば、ビニル、１−プロペン−１−イル、２−プロペン−１−イル、イソプロペニル、２−ブテン−１−イル、４−ペンテン−１−イル、及び５−ヘキセン−１−イル等の、直鎖状又は分岐鎖状のＣ２−２０アルケニル基が挙げられる。
【００２１】
本明細書中、特に断りのない限り、「アルキニル基」としては、例えば、エチニル、１−プロピン−１−イル、２−プロピン−１−イル、４−ペンチン−１−イル、及び５−ヘキシン−１−イル等の、直鎖状又は分岐鎖状のＣ２−２０アルキニル基が挙げられる。
【００２２】
本明細書中、特に断りのない限り、「シクロアルキル基」としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びシクロヘプチル等の、Ｃ３−１０シクロアルキル基が挙げられる。
【００２３】
本明細書中、特に断りのない限り、「シクロアルケニル基」としては、例えば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、及びシクロヘプテニル等の、Ｃ３−１０シクロアルケニル基が挙げられる。
【００２４】
本明細書中、特に断りのない限り、「シクロアルカジエニル基」としては、例えば、シクロブタジエニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキサジエニル、シクロヘプタジエニル、シクロオクタジエニル、シクロノナジエニル、及びシクロデカジエニル等の、Ｃ４−１０シクロアルカジエニル基が挙げられる。
【００２５】
本明細書中、特に断りのない限り、「アリール基」は、単環性、２環性、３環性、又は４環性であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「アリール基」は、Ｃ６−１８アリール基であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「アリール基」としては、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−ビフェニル、３−ビフェニル、４−ビフェニル、及び２−アンスリルが挙げられる。
本明細書中、特に断りのない限り、「ハロアリール基」とは、１個以上のハロゲン原子が置換されていてもよいアリール基をいう。
【００２６】
本明細書中、特に断りのない限り、「アラルキル基」としては、例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、２，２−ジフェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、２−ビフェニルメチル、３−ビフェニルメチル、及び４−ビフェニルメチルが挙げられる。  本明細書中、特に断りのない限り、「ハロアラルキル基」とは、１個以上のハロゲン原子が置換されていてもよいアラルキル基をいう。
【００２７】
本明細書中、「非芳香族複素環基」とは、非芳香族複素環から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
本明細書中、特に断りのない限り、「非芳香族複素環基」は、単環性、２環性、３環性、又は４環性であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「非芳香族複素環基」は、飽和、又は不飽和であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「非芳香族複素環基」は、例えば、５〜１８員の非芳香族複素環基であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「非芳香族複素環基」は、例えば、環構成原子として、炭素原子に加えて酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する非芳香族複素環基であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「非芳香族複素環基」としては、例えば、テトラヒドロフリル、オキサゾリジニル、イミダゾリニル（例：１−イミダゾリニル、２−イミダゾリニル、４−イミダゾリニル）、アジリジニル（例：１−アジリジニル、２−アジリジニル）、ピロリジニル（例：１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル）、ピペリジニル（例：１−ピペリジニル、２−ピペリジニル、３−ピペリジニル）、アゼパニル（例：１−アゼパニル、２−アゼパニル、３−アゼパニル、４−アゼパニル）、アゾカニル（例：１−アゾカニル、２−アゾカニル、３−アゾカニル、４−アゾカニル）、ピペラジニル（例：１，４−ピペラジン−１−イル、１，４−ピペラジン−２−イル）、ジアゼピニル（例：１，４−ジアゼピン−１−イル、１，４−ジアゼピン−２−イル、１，４−ジアゼピン−５−イル、１，４−ジアゼピン−６−イル）、ジアゾカニル（例：１，４−ジアゾカン−１−イル、１，４−ジアゾカン−２−イル、１，４−ジアゾカン−５−イル、１，４−ジアゾカン−６−イル、１，５−ジアゾカン−１−イル、１，５−ジアゾカン−２−イル、１，５−ジアゾカン−３−イル）、テトラヒドロピラニル（例：テトラヒドロフラン−４−イル）、モルホリニル（例：４−モルホリニル）、チオモルホリニル（例：４−チオモルホリニル）、２−オキサゾリジニル、ジヒドロフリル、ジヒドロピラニル、及びジヒドロキノリル等が挙げられる。
【００２８】
本明細書中、特に断りのない限り、「ヘテロアリール基」は、単環性、２環性、３環性、又は４環性であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「ヘテロアリール基」は、例えば、５〜１８員のヘテロアリール基であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「ヘテロアリール基」は、例えば、環構成原子として、炭素原子に加えて酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有するヘテロアリール基であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「ヘテロアリール基」は、「単環性ヘテロアリール基」、及び「芳香族縮合複素環基」を包含する。
本明細書中、特に断りのない限り、「単環性へテロアリール基」としては、例えば、ピロリル（例：１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル）、フリル（例：２−フリル、３−フリル）、チエニル（例：２−チエニル、３−チエニル）、ピラゾリル（例：１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル）、イミダゾリル（例：１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、イソオキサゾリル（例：３−イソオキサゾリル、４−イソオキサゾリル、５−イソオキサゾリル）、オキサゾリル（例：２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル）、イソチアゾリル（例：３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル）、チアゾリル（例：２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル）、トリアゾリル（例：１，２，３−トリアゾール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−４−イル）、オキサジアゾリル（例：１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル）、チアジアゾリル（例：１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，２，４−５−イル）、テトラゾリル、ピリジル（例：２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、ピリダジニル（例：３−ピリダジニル、４−ピリダジニル）、ピリミジニル（例：２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル）、及びピラジニル等が挙げられる。
本明細書中、特に断りのない限り、「芳香族縮合複素環基」としては、例えば、イソインドリル（例：１−イソインドリル、２−イソインドリル、３−イソインドリル、４−イソインドリル、５−イソインドリル、６−イソインドリル、７−イソインドリル）、インドリル（例：１−インドリル、２−インドリル、３−インドリル、４−インドリル、５−インドリル、６−インドリル、７−インドリル）、ベンゾ［ｂ］フラニル（例：２−ベンゾ［ｂ］フラニル、３−ベンゾ［ｂ］フラニル、４−ベンゾ［ｂ］フラニル、５−ベンゾ［ｂ］フラニル、６−ベンゾ［ｂ］フラニル、７−ベンゾ［ｂ］フラニル）、ベンゾ［ｃ］フラニル（例：１−ベンゾ［ｃ］フラニル、４−ベンゾ［ｃ］フラニル、５−ベンゾ［ｃ］フラニル）、ベンゾ［ｂ］チエニル、（例：２−ベンゾ［ｂ］チエニル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−ベンゾ［ｂ］チエニル、５−ベンゾ［ｂ］チエニル、６−ベンゾ［ｂ］チエニル、７−ベンゾ［ｂ］チエニル）、ベンゾ［ｃ］チエニル（例：１−ベンゾ［ｃ］チエニル、４−ベンゾ［ｃ］チエニル、５−ベンゾ［ｃ］チエニル）、インダゾリル（例：１−インダゾリル、２−インダゾリル、３−インダゾリル、４−インダゾリル、５−インダゾリル、６−インダゾリル、７−インダゾリル）、ベンゾイミダゾリル（例：１−ベンゾイミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、４−ベンゾイミダゾリル、５−ベンゾイミダゾリル）、１，２−ベンゾイソオキサゾリル（例：１，２−ベンゾイソオキサゾール−３−イル、１，２−ベンゾイソオキサゾール−４−イル、１，２−ベンゾイソオキサゾール−５−イル、１，２−ベンゾイソオキサゾール−６−イル、１，２−ベンゾイソオキサゾール−７−イル）、ベンゾオキサゾリル（例：２−ベンゾオキサゾリル、４−ベンゾオキサゾリル、５−ベンゾオキサゾリル、６−ベンゾオキサゾリル、７−ベンゾオキサゾリル）、１，２−ベンゾイソチアゾリル（例：１，２−ベンゾイソチアゾール−３−イル、１，２−ベンゾイソチアゾール−４−イル、１，２−ベンゾイソチアゾール−５−イル、１，２−ベンゾイソチアゾール−６−イル、１，２−ベンゾイソチアゾール−７−イル）、ベンゾチアゾリル（例：２−ベンゾチアゾリル、４−ベンゾチアゾリル、５−ベンゾチアゾリル、６−ベンゾチアゾリル、７−ベンゾチアゾリル）、イソキノリル（例：１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリル、５−イソキノリル）、キノリル（例：２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、５−キノリル、８−キノリル）、シンノリニル（例：３−シンノリニル、４−シンノリニル、５−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル、８−シンノリニル）、フタラジニル（例：１−フタラジニル、４−フタラジニル、５−フタラジニル、６−フタラジニル、７−フタラジニル、８−フタラジニル）、キナゾリニル（例：２−キナゾリニル、４−キナゾリニル、５−キナゾリニル、６−キナゾリニル、７−キナゾリニル、８−キナゾリニル）、キノキサリニル（例：２−キノキサリニル、３−キノキサリニル、５−キノキサリニル、６−キノキサリニル、７−キノキサリニル、８−キノキサリニル）、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジル（例：ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−２−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−３−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−４−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−５−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−６−イル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン−７−イル）、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジル（例：イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−２−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−５−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−６−イル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−７−イル、及びイミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−８−イル）等が挙げられる。
【００２９】
＜式（１）で表される化合物の製造方法＞
一実施態様において、式（１）：
【化４】
0006919733.tif 000005
（式中、
Ｒ１は、ハロゲン原子又はＳＲ（式中、Ｒは、水素原子又は炭化水素基である。）であり、
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は有機基であるか、又は
Ｒ２及びＲ３は、β位の炭素原子と一緒になって、環を形成していてもよく、
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子であり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基であるか、又は
Ｒ４及びＲ５は、α位の炭素原子と一緒になって、環を形成していてもよく、
Ｒ６は、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基である。）
で表される化合物の製造方法は、式（２）：
【化５】
0006919733.tif 000006
（式中、Ｒ２〜Ｒ５は、前記と同意義である。）
で表される化合物を、
式（３）：
Ｍ(Ｒ１)ｎ  （３）
（式中、Ｍは、カチオンであり、ｎは、Ｍの価数に対応する整数であり、Ｒ１は、前記と同意義である。）
で表される化合物、及び式（４）：
Ｒ６−Ｘ−Ｈ  （４）
（式中、Ｒ６及びＸは、前記と同意義である。）
で表される化合物と反応する工程Ａ、並びに
前記反応により得られる混合物から式（５）：
ＭＦｎ  （５）
（式中、Ｍ及びｎは、前記と同意義である。）
で表される化合物をろ過により分離する工程Ｂ
を含む。
【００３０】
式（１）で表される化合物
Ｒ１は、
好ましくは、ハロゲン原子、メルカプト基、又はアルキルチオ基であり、
より好ましくは、ハロゲン原子であり、
更に好ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、
より更に好ましくは、臭素原子又はヨウ素原子であり、
特に好ましくは、ヨウ素原子である。
【００３１】
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はハロアルキル基であることが好ましく、
水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、又はハロＣ１−４アルキル基であることがより好ましく、
水素原子又はハロゲン原子であることが更に好ましく、
水素原子又はフッ素原子であることがより更に好ましく、
水素原子であることが特に好ましい。
【００３２】
Ｒ２及びＲ３がβ位の炭素原子と一緒になって形成される環は、特に制限されず、例えば、１個以上の置換基を有していてもよい、５員〜８員の脂肪族環又は複素環（例：含窒素複素環、含酸素複素環、含硫黄複素環）であることができる。
【００３３】
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はハロアルキル基であることが好ましく、
水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−４アルキル基、又はハロＣ１−４アルキル基であることがより好ましく、
ハロゲン原子であることが更に好ましく、
フッ素原子であることが特に好ましい。
【００３４】
Ｒ４及びＲ５がα位の炭素原子と一緒になって形成される環は、特に制限されず、例えば、１個以上の置換基を有していてもよい、５員〜８員の脂肪族環又は複素環（例：含窒素複素環、含酸素複素環、含硫黄複素環）であることができる。
【００３５】
Ｒ６は、
好ましくは、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基であり、
より好ましくは、アルキル基、ハロアルキル基、アリール基、ハロアリール基、アラルキル基、又はハロアラルキル基であり、
更に好ましくは、アルキル基又はハロアルキル基であり、
特に好ましくは、Ｃ１−６アルキル基又はハロＣ１−６アルキル基である。
【００３６】
Ｘは、好ましくは、酸素原子である。
【００３７】
工程Ａ
式（２）のＲ２〜Ｒ５は、それぞれ、式（１）のＲ２〜Ｒ５に対応する基であることができる。
式（２）で表される化合物としては、例えば、２，２−ジフルオロオキセタン類が挙げられ、その典型例としては、２，２，３，３−テトラフルオロオキセタンが挙げられる。式（２）で表される化合物は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３８】
式（３）のＲ１は、式（１）のＲ１に対応する基であることができる。
式（３）のＭで表されるカチオンとしては、Ｒ１のカウンターイオンである限り特に限定されず、例えば、水素、金属、アンモニウム等が挙げられる。
前記金属の具体例は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属を包含することができる。
アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。
アルカリ土類金属としては、例えば、マグネシウム、カルシウム等が挙げられる。
前記アンモニウムの具体例は、第１級〜第４級アンモニウムを包含することができる。  第１級アンモニウムとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン（ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン）、ブチルアミン等のＣ１−６アルキルアミン、アニリン等が挙げられる。
第２級アンモニウムとしては、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、エチルメチルアミン、ジプロピルアミン等のジＣ１−６アルキルアミン、ピロリジン、イミダゾール、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる。
第３級アンモニウムとしては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン等のトリＣ１−６アルキルアミン、ピリジン、キノリン等が挙げられる。
第４級アンモニウムとしては、例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム等のテトラＣ１−６アルキルアンモニウム等が挙げられる。
Ｍは、好ましくは金属であり、より好ましくはアルカリ金属又はアルカリ土類金属であり、更に好ましくはアルカリ金属である。
ｎは、Ｍの価数に応じて適宜選択することができ、例えば、１又は２である。
式（３）で表される化合物としては、例えば、ＮａＩ、ＫＩ、ＣｓＩ、ＭｇＩ２、ＣａＩ２、ＮａＢｒ、ＫＢｒ、ＣｓＢｒ、ＭｇＢｒ２、ＣａＢｒ２、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、ＣｓＣｌ、ＭｇＣｌ２、ＣａＣｌ２等が挙げられる。
式（３）で表される化合物は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３９】
式（３）で表される化合物の使用量の下限は、式（２）で表される化合物１モルに対して、例えば０．１モル、好ましくは０．５モル、更に好ましくは０．９モルであることができる。
式（３）で表される化合物の使用量の上限は、式（２）で表される化合物１モルに対して、例えば１０モル、好ましくは５モル、更に好ましくは３モルであることができる。
式（３）で表される化合物の使用量は、式（２）で表される化合物１モルに対して、例えば０．１〜１０モル、好ましくは０．５〜５モル、更に好ましくは０．９〜３モルの範囲内であることができる。
【００４０】
式（４）のＲ６及びＸは、それぞれ、式（１）のＲ６及びＸに対応する基であることができる。
式（４）で表される化合物の具体例は、アルコール類、フェノール類、及びチオール類を包含することができる。アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール（ｎ−プロパノール、イソプロパノール）、ブタノール等のＣ１−６アルカノール等が挙げられる。フェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、ナフトール等が挙げられる。メルカプタン（チオール）類としては、例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン（ｎ−プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカプタン）、ブチルメルカプタン等のＣ１−６アルキルメルカプタン等が挙げられる。
式（４）で表される化合物は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４１】
式（４）で表される化合物の使用量の下限は、式（２）で表される化合物１モルに対して、例えば０．１モル、好ましくは０．５モル、更に好ましくは０．９モルであることができる。
式（４）で表される化合物の使用量の上限は、式（２）で表される化合物１モルに対して、例えば１０モル、好ましくは５モル、更に好ましくは３モルであることができる。
式（４）で表される化合物の使用量は、式（２）で表される化合物１モルに対して、例えば０．１〜１０モル、好ましくは０．５〜５モル、更に好ましくは０．９〜３モルの範囲内であることができる。
【００４２】
工程Ａの反応において、式（４）で表される化合物を溶媒として用いてもよく、式（４）で表される化合物以外の成分を溶媒として用いてもよい。式（４）で表される化合物を溶媒として用いる場合は、式（２）で表される化合物１モルに対して、好ましくは１０モル以上であることができる。
式（４）で表される化合物以外の成分としては、例えば、脂肪族炭化水素（例：ヘキサン）、芳香族炭化水素（例：トルエン、キシレン）、ハロゲン化炭化水素（例：ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム）、エーテル（例：ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）、ケトン（例：アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル（例：アセトニトリル）、エステル（例：酢酸エチル）、アミド（例：ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAｃ)）が挙げられる。
式（４）で表される化合物以外の成分は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４３】
工程Ａの反応において、反応温度及び反応時間は、反応が進行する限り特に制限されない。
【００４４】
反応温度の下限は、例えば−７０℃、好ましくは−２０℃、更に好ましくは０℃であることができる。
反応温度の上限は、例えば１５０℃、好ましくは１００℃、更に好ましくは８０℃であることができる。
反応温度は、例えば、−７０〜１５０℃、好ましくは−２０〜１００℃、更に好ましくは０〜８０℃の範囲内であることができる。
反応時間の下限は、例えば０．５時間、好ましくは１時間、更に好ましくは１．５時間であることができる。
反応時間の上限は、例えば１２時間、好ましくは１０時間、更に好ましくは５時間であることができる。
反応時間は、例えば、０．５〜１２時間、好ましくは１〜１０時間、更に好ましくは１．５〜５時間の範囲内であること
ができる。
【００４５】
工程Ｂ
工程Ｂは、工程Ａの反応混合物から式（５）で表される化合物を高度に除去することができる。
【００４６】
式（５）のＭ及びｎは、それぞれ、式（３）のＭ及びｎに対応することができる。
式（５）で表される化合物としては、例えば、ＮａＦ、ＫＦ、ＣｓＦ、ＣａＦ２等が挙げられる。
式（５）で表される化合物は、水及び／又は有機溶媒への溶解度が低い化合物であることができる。２０℃における前記溶解度は、例えば１００ｇ／Ｌ以下、好ましくは８０ｇ／Ｌ以下、更に好ましくは５０ｇ／Ｌ以下であることができる。
【００４７】
ろ過の方法は、特に制限されないが、通常、ろ材を用いて実施することができ、ろ材及びろ過助剤を用いて実施することが好ましい。ろ材及びろ過助剤を用いる方法は、例えば、プレコート（ろ材にろ過助剤の層を形成したものを用いてろ過する方法）であってもよく、ボディーフィード（工程Ａの反応混合物にろ過助剤を添加してろ過する方法）であってもよい。
【００４８】
ろ材としては、例えば、紙、金属（例：ステンレス）、ポリマー（例：セルロース、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド）、ガラス、セラミックス、布等で構成される。
【００４９】
ろ材は、多孔質であることが好ましく、例えば、多孔質膜又は多孔質フィルターであることが好ましい。
【００５０】
ろ材の平均孔径は、特に制限されないが、例えば０．０１〜２０μｍ、好ましくは０．０１〜１５μｍ、更に好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲内であることができる。
【００５１】
ろ過助剤としては、例えば、珪藻土（例：セライト（商標））、ろ過砂（例：マンガン砂、マンガンゼオライト、活性炭、アンスラサイト、セラミックサンド）、パーライト、及びセルロース等が挙げられる。ろ過助剤は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。ろ過助剤としては、珪藻土が好ましい。
【００５２】
ろ過助剤の平均粒子径は、例えば０．５〜２００μｍ、好ましくは１〜１５０μｍ、更に好ましくは１〜１００μｍの範囲内であることができる。
【００５３】
ろ過温度（ろ過に供する反応混合物の内温）は特に制限されない。ろ過効率の点から、ろ過は室温以上で行うことが好ましい。
ろ過温度の下限は、好ましくは４５℃、より好ましくは５０℃、５５℃、６０℃、又は６５℃であることができる。
ろ過温度の上限は、好ましくは９０℃、より好ましくは８５℃、更に好ましくは８０℃であることができる。
ろ過温度は、好ましくは４５℃以上、より好ましくは４５〜９０℃の範囲内であることができる。
【００５４】
ろ過は、大気圧下、加圧下、又は減圧下で行うことができ、例えば、−２〜２ＭＰａ、好ましくは−１〜１ＭＰａの範囲内で行うことができる。
【００５５】
工程Ｃ
式（１）で表される化合物の製造方法は、前記ろ過により得られるろ液に対して分液処理を行う工程Ｃを更に含むことが好ましい。工程Ｂと工程Ｃを組み合わせることにより、式（５）で表される化合物をより一層除去することができる。
【００５６】
分液処理は、通常、ろ液に水及び有機溶媒を添加する工程、水相及び有機相に分離する工程、及び有機相を回収する工程を含む。
【００５７】
分液処理に用いられる有機溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素（例：ヘキサン）、芳香族炭化水素（例：トルエン、キシレン）、ハロゲン化炭化水素（例：ジクロロメタン、ジクロロエタン）、エーテル（例：ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）、ケトン（例：メチルエチルケトン）、エステル（例：酢酸エチル）等が挙げられる。
有機溶媒は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶媒としては、エーテルが好ましい。
【００５８】
式（１）で表される化合物の製造方法は、他の任意の工程を更に含むことができる。他の任意の工程としては、例えば、蒸留、濃縮、洗浄、これら２種以上の組合せ等が挙げられる。
【００５９】
＜式（１）で表される化合物及び式（５）で表される化合物を含有する組成物＞
一実施態様において、組成物は、式（１）で表される化合物及び式（５）で表される化合物を含有する組成物であって、フッ素イオンの含有濃度が、０ｍｇ／Ｌを超えて１０００ｍｇ／Ｌ以下である、組成物である。
【００６０】
フッ素イオンの含有濃度の上限は、好ましくは９００ｍｇ／Ｌ、８００ｍｇ／Ｌ、７００ｍｇ／Ｌ、６００ｍｇ／Ｌ、５００ｍｇ／Ｌ、４００ｍｇ／Ｌ、３００ｍｇ／Ｌ、２００ｍｇ／Ｌ、又は１５０ｍｇ／Ｌであることができる。
フッ素イオンの含有濃度の下限は、通常、検出限界又は０．００１ｍｇ／Ｌであることができる。
フッ素イオンの含有濃度は、例えば、０．００１〜１０００ｍｇ／Ｌの範囲内であることができる。
【００６１】
当該組成物は、式（４）で表される化合物を更に含有することができる。
当該組成物中の式（４）で表される化合物の含有率の下限は、例えば、検出限界又は０．０１質量％であることができる。
当該組成物中の式（４）で表される化合物の含有率の上限は、例えば、５質量％、好ましくは３質量％であることができる。
当該組成物中の式（４）で表される化合物の含有率は、例えば、５質量％以下、又は０．０１〜５質量％の範囲内であることができる。
【実施例】
【００６２】
以下、実施例によって本開示の一実施態様を更に詳細に説明するが、本開示はこれに限定されるものではない。
【００６３】
［実施例１］
氷冷下、ヨウ化ナトリウム（６９．３ｇ、０．４６２mol）のエタノール（６０ｇ）懸濁液に、テトラフルオロオキセタン（７５wt%のクロロホルム溶液、８０ｇ、０．４６２mol）のエタノール（１８．８ｇ）溶液を１時間かけて滴下した。滴下後、５０℃に昇温した後、２時間加熱撹拌した。得られた反応混合物（内温５０℃）を、ろ材（紙製、平均孔径4.0μｍ）とろ過助剤（セライト（商標）、平均粒子径12〜20μｍ）を用いてろ過し、エタノールを留去することにより、ＩＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯＥｔ（収率 90.8%）を得た。
ＩＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯＥｔの１Ｈ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲのスペクトルを、それぞれ、図１及び図２に示す。
【００６４】
［比較例１］
ろ過に代えて、反応混合物に水及びジエチルエーテルを加えて分液処理を行った以外は、実施例１と同様に操作し、ＩＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯＥｔを得た。
【００６５】
［実施例２］
ろ過後、ろ液に水及びジエチルエーテルを加えて分液処理を行った以外は、実施例１と同様に操作し、ＩＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯＥｔを得た。
【００６６】
実施例１、比較例１、及び実施例２の生成物中のＦイオン含有濃度を以下の方法により測定した。
１．試料１ｇをポリ容器中に秤量した。
２．ＫＯＨ １ｇをポリ容器中に秤量し、これに蒸留水を加えて１００ｇとした。
３．１のポリ容器に、２で調製した１％ＫＯＨ水溶液を５ｇ加えた。
４．３のポリ容器の蓋を閉め混合して静置し、上澄みを、フィルター（孔径０．４５μｍ）を装着したディスポシリンジに入れてろ過した。
５．４で得られたろ液を１ｇ抜き取り、そこに蒸留水５ｍＬを加え撹拌後、上層４ｍＬを抜き出して別の遠沈管に移し、ＴＩＳＡＢ(Total Ionic Strength Adjustment Buffer)(メルク社製）を４ｍＬ加えて撹拌及びＦイオンメーターにて測定を行った。
【００６７】
Ｆイオン濃度の測定結果を以下の表に示す。
【表１】
0006919733.tif 000007
【００６８】
［実施例３］
実施例１のエタノールをメタノールへ代えた以外は同様の操作を行い、ＩＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯМｅ（収率 81.5%）を得た。
【００６９】
［実施例４］  実施例１のヨウ化ナトリウムを臭化ナトリウムへ代えた以外は同様の操作を行い、ＢｒＣＨ２ＣＦ２ＣＯＯＥｔ（収率 61.1%）を得た。
【００７０】
［実施例５〜８］
実施例１で得られた反応混合物１００ｇを、表２に示す条件でろ過したところ、ろ過に要した時間は表２の通りであった。
【００７１】
【表２】
0006919733.tif 000008
【図１】
0006919733.tif 000012
【図２】
0006919733.tif 000013