(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
グラフィックアートプレートアセンブリと使用されるように動作するグラフィックアートアセンブリであって、
前記グラフィックアートアセンブリは、
アセンブリ支持機構面、及び各々が突出位置にある時に前記アセンブリ支持機構面を通って延びる複数の変位式リフト要素を含むリフト機構と、
グラフィックアート支持アセンブリであって、前記グラフィックアート支持アセンブリ、及び前記グラフィックアートプレートアセンブリが印刷機内で使用される前に、前記リフト機構上で前記グラフィックアートプレートアセンブリを支持するように動作するグラフィックアート支持アセンブリと、を備え、
前記グラフィックアート支持アセンブリは、前記グラフィックアートプレートアセンブリを着脱可能に支持するように動作するグラフィックアート磁気支持構造体を含み、
前記磁気支持構造体は、支持プレート、前記支持プレートに対して固定される磁石、及び位置合わせ要素を含み、
前記支持プレートは、対向する第１および第２プレート面を有し、前記第２プレート面は、前記グラフィックアートプレートアッセンブリを係合するよう構成され、
前記磁石は、前記グラフィックアートプレートアセンブリを前記支持プレートの前記第２プレート面と係合した状態で着脱可能に固定するように動作し、
前記位置合わせ要素は、前記グラフィックアートプレートアセンブリと係合して前記グラフィックアートプレートアセンブリを前記支持プレートに対して位置決めするように構成され、
前記支持プレートは、前記第1および第２プレート面の間を連続的に延び、それぞれのリフト要素を着脱可能に受けるように配置された、複数のリフト開口部を有し、
前記グラフィックアート支持アセンブリは、前記グラフィックアート支持アッセンブリが前記印刷機内で使用される前に、前記第１プレート面が前記アセンブリ支持機構面を係合し、前記複数のリフト要素のそれぞれがそれぞれの前記複数のリフト開口部と位置合わせされて、前記リフト機構に着脱可能に装着され、
前記複数のリフト要素のそれぞれは、それぞれの前記複数のリフト開口部を通って前記第1プレート面を超えて変位し、前記第２プレート面を超えてそれぞれの前記リフト要素が前記リフト開口部を通って完全に突出して、前記グラフィックアートプレートアセンブリの少なくとも一部を前記支持プレートから離して位置させる前記突出位置へ、また前記突出位置から変位可能である、グラフィックアートアセンブリ。
【請求項２】
前記リフト機構は、動力を供給されるリニアモータを含み、
前記リニアモータは、前記複数のリフト要素の１つを定義する摺動式ピストンを含む、請求項１に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項３】
前記リフト機構は、前記複数のリフト要素を定義する複数の摺動式ピストンを含み、
前記複数のリフト要素は、前記第２プレート面に沿って間隔を置いて配置されるとともに前記第２プレート面に対して外側に向けて延び、協働して前記グラフィックアートプレートアセンブリを前記支持プレートから離して位置させる、請求項１に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項４】
前記複数のリフト要素のそれぞれは、前記突出位置と、前記リフト要素が前記第２プレート面から下方に離れて位置する格納位置との間で変位可能である、請求項３に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項５】
前記複数のリフト開口部は、前記第２プレート面に沿って間隔を置いて配置される、請求項１に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項６】
前記磁気支持構造体は、複数の磁石を含み、
前記第２プレート面は、横方向に広がり、
前記複数の磁石は、横方向に間隔を置いて配置される、請求項１に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項７】
前記支持プレートは、前記第２プレート面に沿って間隔を置いて配置される複数の磁石凹部を有し、
前記複数の磁石凹部は、少なくとも部分的に対応する磁石を収容する、請求項６に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項８】
前記複数の磁石はそれぞれ、前記第２プレート面で覆われない露出磁石面を有する、請求項７に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項９】
前記第２プレート面及び前記露出磁石面は略平坦であり、
前記グラフィックアート磁気支持構造体が前記グラフィックアートプレートアセンブリを支持する際に、前記第２プレート面と前記露出磁石面は、共に前記グラフィックアートプレートアセンブリに係合する、請求項８に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項１０】
前記複数の磁石凹部のそれぞれは、前記複数の磁石のそれぞれを収容し、
前記支持プレートの各凹部は、ねじが切られて、前記複数の磁石のそれぞれと着脱可能に螺合する、請求項８に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項１１】
前記磁気支持構造体は、複数の位置合わせ要素を含み、
前記複数の位置合わせ要素は、前記第２プレート面に沿って間隔を置いて配置される、請求項１に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項１２】
前記複数の位置合わせ要素のそれぞれは、前記第２プレート面から横方向に遠ざかって広がる位置合わせピンを含み、
前記位置合わせピンは、前記グラフィックアートプレートアセンブリに受けられるように構成される、請求項１１に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項１３】
前記支持プレートは、前記第２プレート面に沿って間隔を置いて配置された複数の位置合わせ凹部を有し、
前記複数の位置合わせ凹部は、対応する位置合わせ要素を部分的に受ける、請求項１１に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項１４】
前記複数の位置合わせ要素はそれぞれ、前記第２プレート面に対して横方向に広がる露出位置合わせ面を有し、
前記第２プレート面及び前記露出位置合わせ面は、前記グラフィックアート磁気支持構造体が前記グラフィックアートプレートアセンブリを支持する際に、共に前記グラフィックアートプレートアセンブリに係合する、請求項１３に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項１５】
前記複数の位置合わせ凹部のそれぞれは、前記位置合わせ要素のそれぞれを部分的に受け、
前記支持プレートの各凹部は、ねじが切られて、前記複数の位置合わせ要素のそれぞれと着脱可能に螺合する、請求項１４に記載のグラフィックアートアセンブリ。
【請求項１６】
アセンブリ支持機構面、及び突各々が出位置にある時に前記アセンブリ支持機構面を通って延びる複数の変位式リフト要素を含むリフト機構と、
グラフィックアートプレートアセンブリと、
グラフィックアート支持アセンブリであって、前記グラフィックアート支持アセンブリ、及び前記グラフィックアートプレートアセンブリが印刷機内で使用される前に、前記リフト機構上で前記グラフィックアートプレートアセンブリを支持するグラフィックアート支持アセンブリと、を備えるグラフィックアートシステムであって、
前記グラフィックアート支持アセンブリは、前記グラフィックアートプレートアセンブリを着脱可能に支持するグラフィックアート支持構造体を含み、
前記支持構造体は、支持プレート及び位置合わせ要素を含み、
前記支持プレートは、対向する第１および第２プレート面を有し、
前記位置合わせ要素は、前記グラフィックアートプレートアセンブリと係合して前記グラフィックアートプレートアセンブリを前記支持プレートに対して位置決めするように構成され、
前記支持プレートは、前記第1および第２プレート面の間を連続的に延び、それぞれのリフト要素を着脱可能に受けるように配置された、複数のリフト開口部を有し、
前記グラフィックアートプレートアセンブリは、着脱可能且つ磁気的に前記支持プレートの前記第２プレートに固定され、
前記グラフィックアート支持アセンブリは、前記グラフィックアート支持アッセンブリが前記印刷機内で使用される前に、前記第１プレート面が前記アセンブリ支持機構面を係合し、前記複数のリフト要素のそれぞれがそれぞれの前記複数のリフト開口部と位置合わせされて、前記リフト機構に着脱可能に装着され、
前記複数のリフト要素のそれぞれは、それぞれの前記複数のリフト開口部を通って前記第1プレート面を超えて変位し、前記第２プレート面を超えてそれぞれの前記リフト要素が前記リフト開口部を通って完全に突出して、前記グラフィックアートプレートアセンブリの少なくとも一部を前記支持プレートから離して位置させる前記突出位置へ、また前記突出位置から変位可能である、グラフィックアートシステム。
【請求項１７】
前記支持構造体は、磁石を含み、
前記グラフィックアートプレートアセンブリは、少なくとも一部が強磁性である、請求項１６に記載のグラフィックアートシステム。
【請求項１８】
前記磁石を含む複数の磁石をさらに備える、請求項１７に記載のグラフィックアートシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
本出願は、２０１７年４月１４日に出願され、発明の名称を「ＭＡＧＮＥＴＩＣ  ＣＨＡＳＥ  ＡＮＤ  ＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＲＴＳ  ＤＩＥ  ＰＬＡＴＥ  ＡＳＳＥＭＢＬＹ（磁気チェース及びグラフィックアートダイプレートアセンブリ）」とする米国仮特許出願第６２／４８５，６８０号の利益を主張し、その全体を参照により本明細書に援用する。
【背景技術】
【０００２】
１．分野
【０００３】
本願は一般に、磁気支持構造体を備えたグラフィックアートアセンブリに関する。特に、本発明の実施形態は、リフト機構を用いて着脱可能に分離するように構成された磁気チェース、及びダイプレートアセンブリを備えたグラフィックアートダイアセンブリに関する。本発明の他の実施形態は、リフト機構を用いて着脱可能に分離するように構成された、磁気圧盤、及びカウンタープレートアセンブリを備えたグラフィックアートカウンターアセンブリに関する。
【０００４】
２．先行技術についての考察
【０００５】
グラフィックアートプレス機においては、通常、基板のエンボス加工、デボス加工、及び／又は箔押しにはグラフィックアートダイアセンブリ、及びグラフィックアートカウンターアセンブリが使用される。従来のプレスシステムは、カウンターアセンブリが備える一連のカウンターと位置合わせして固定される一連のダイを備えたダイアセンブリを含んでいる。先行技術のシステムにおいて、各ダイは個別にチェース上に配置され、ダイ装着工程には多大な取付け時間が含まれる。
【０００６】
複数のダイを同一プレート上で位置合わせして固定する、別の既知のシステムが開発されている。このようなダイアセンブリはその後チェースに装着され、（同一プレート上に支持された）各ダイは一度にチェースに装着される。この工程は、個別にダイを装着するよりも時間がかからない。しかしながら、従来のチェース及びダイアセンブリは不適切に重い。また、同一プレート上のダイと共に使用される先行技術のチェースの一部は、過剰に複雑である。
【発明の概要】
【０００７】
ここに開示される主題の本質を示すために、概要を以下に示す。以下には本発明の特定の態様が記載されるが、概要は本発明の範囲を限定するものではない。
【０００８】
本発明の実施形態は、上述した先行技術のグラフィックアートシステムの問題及び制限に悩まされることのないグラフィックアートアセンブリを提供する。
【０００９】
本発明の第１の態様は、印刷機においてグラフィックアートプレートアセンブリと使用されるように動作するグラフィックアート支持アセンブリに関する。グラフィックアート支持アセンブリとグラフィックアートプレートアセンブリは、変位式リフト要素を含むリフト機構と着脱可能に結合するように構成される。グラフィックアート支持アセンブリは、グラフィックアートプレートアセンブリを着脱可能に支持するように動作するグラフィックアート磁気支持構造体を広く含む。磁気支持構造体は、支持プレート、そのプレートに対して固定される磁石、及び位置合わせ要素を含む。磁石は、グラフィックアートプレートアセンブリを支持プレートと係合した状態で着脱可能に固定するように動作する。位置合わせ要素は、グラフィックアートプレートアセンブリと係合してグラフィックアートプレートアセンブリを支持プレートに対して位置決めするように構成される。支持プレートは、リフト要素を着脱可能に受けるように配置されたリフト開口部を有する。グラフィックアート支持アセンブリは、リフト要素がリフト開口部と位置合わせされるようにリフト機構に装着されるように動作し、リフト要素は、グラフィックアートプレートアセンブリの少なくとも一部を支持プレートから離して位置させるようにリフト開口部を通って変位可能である。
【００１０】
本発明の第２の態様は、グラフィックアートプレートアセンブリと使用されるように動作するグラフィックアートアセンブリに関する。グラフィックアートアセンブリは、リフト機構及びグラフィックアート支持アセンブリを広く含む。リフト機構は変位式リフト要素を含む。支持アセンブリは、リフト機構上で、及び印刷機内でグラフィックアートプレートアセンブリを支持するように動作する。支持アセンブリは、プレートアセンブリを着脱可能に支持するように動作するグラフィックアート磁気支持構造体を含む。磁気支持構造体は、支持プレート、そのプレートに対して固定される磁石、及び位置合わせ要素を含む。磁石は、グラフィックアートプレートアセンブリを支持プレートと係合した状態で着脱可能に固定するように動作する。位置合わせ要素は、グラフィックアートプレートアセンブリと係合してグラフィックアートプレートアセンブリを支持プレートに対して位置決めするように構成される。支持プレートは、リフト要素を着脱可能に受けるように配置されたリフト開口部を有する。グラフィックアート支持アセンブリは、リフト要素がリフト開口部と位置合わせされるようにリフト機構に着脱可能に装着される。リフト要素は、リフト要素がリフト開口部を通って完全に突出して、グラフィックアートプレートアセンブリの少なくとも一部を支持プレートから離して位置させる突出位置へ、またその突出位置から変位可能である。
【００１１】
本発明の第３の態様は、リフト機構、グラフィックアートプレートアセンブリ、及びグラフィックアート支持アセンブリを広く含むグラフィックアートシステムに関する。リフト機構は変位式リフト要素を含む。支持アセンブリは、リフト機構上で、及び印刷機内でグラフィックアートプレートアセンブリを支持する。支持アセンブリは、グラフィックアートプレートアセンブリを着脱可能に支持するグラフィックアート支持構造体を含む。支持構造体は、支持プレート及び位置合わせ要素を含む。位置合わせ要素は、グラフィックアートプレートアセンブリと係合してグラフィックアートプレートアセンブリを支持プレートに対して位置決めするように構成される。支持プレートは、リフト要素を着脱可能に受けるように配置されたリフト開口部を有する。プレートアセンブリは、着脱可能且つ磁気的に支持プレートに固定される。支持アセンブリは、リフト要素がリフト開口部と位置合わせされるようにリフト機構に着脱可能に装着される。リフト要素は、リフト要素がリフト開口部を通って完全に突出して、グラフィックアートプレートアセンブリの少なくとも一部を支持プレートから離して位置させる突出位置へ、またその突出位置から変位可能である。
【００１２】
上述の発明の概要は複数の概念の選択肢を簡潔に述べるものであり、詳細な説明においてさらに詳しく説明する。上述の発明の概要は、請求される主題の主要な特徴または必須の特徴を特定することを意図したものではなく、また、請求される主題範囲の限定に用いることを意図したものでもない。本発明の他の態様や利点は、以下に説明する各実施形態の詳細な説明、及び、添付図面から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
本発明の好ましい実施形態を、添付図面を参照して以下に詳しく説明する。
【００１４】
【図１】本発明の第１の好ましい実施形態に従って構成された、グラフィックアートダイアセンブリ及びグラフィックアート対向物アセンブリを含む印刷機の概略図である。
【００１５】
【図２】ダイプレートアセンブリから分解されたチェースアセンブリを示し、さらにグラフィックアートダイアセンブリの下に配置されたリフト機構を示す、図１のグラフィックアートダイアセンブリの上部分解斜視図である。
【００１６】
【図３】図２と同様のグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構を反対側から見た下部分解斜視図である。
【００１７】
【図４】チェースアセンブリに装着されたダイプレートアセンブリと、クランプでリフト機構に着脱可能に固定されたチェースアセンブリとを示し、さらにダイプレートアセンブリの４つのダイ及びダイ支持プレートを示し、ダイのうちの１つはダイ支持プレートから分解した状態で示す、図２及び図３に示すグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構の上部斜視図である。
【００１８】
【図５】チェースアセンブリの上部に間隔を置いて位置するダイプレートアセンブリを示す、図２〜図４に示すグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構の上部斜視図である。
【００１９】
【図６】リフト機構の、特にフレーム、シリンダ、及びピストンを示し、ピストンは格納位置にある、図２〜図５に示すリフト機構の部分斜視図である。
【００２０】
【図７】チェースアセンブリに位置合わせして装着されたダイプレートアセンブリを示す、図４に示すグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構の上面図である。
【００２１】
【図７ａ】チェースアセンブリの磁気プラグ及び位置合わせプラグを拡大して示し、位置合わせプラグはダイ支持プレートに形成された位置合わせスロットに挿入され、ピストンのうちの１つはダイ支持プレートに形成されたリフトスロットに位置合わせされている、図７と同様のグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構の部分拡大上面図である。
【００２２】
【図８】チェースアセンブリのリフト孔に位置合わせされたリフト機構の格納されたピストンを示す、図７のグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構の８−８線部分断面図である。
【００２３】
【図９】ピストンがリフト孔を通って突出してダイプレートアセンブリをチェースアセンブリから離れた位置に配置させる突出位置に変位したピストンを示し、ピストンのうちの１つはダイ支持プレートに形成された対応リフトスロットに受けられている、図８と同様のグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構の部分断面図である。
【００２４】
【図１０】ダイプレートアセンブリに磁気係合したチェースアセンブリの磁気プラグを示す、図７のグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構の１０−１０線部分断面図である。
【００２５】
【図１１】ピストンが突出位置に変位してダイプレートアセンブリがチェースアセンブリから離れた状態を示す、図１０と同様のグラフィックアートダイアセンブリ及び機構の部分断面図である。
【００２６】
【図１２】ダイプレートアセンブリの位置合わせスロットに位置合わせされたチェースアセンブリの位置合わせプラグを示す、図７ａのグラフィックアートダイアセンブリ及びリフト機構の１２−１２線部分断面図である。
【００２７】
【図１３】対向物プレートアセンブリから分解された圧盤アセンブリと、グラフィックアートダイアセンブリの下に配置されたリフト機構を示す、図１に示すグラフィックアート対向物アセンブリの上部分解斜視図である。
【００２８】
【図１４】図１３と同様のグラフィックアート対向物アセンブリ及びリフト機構を反対側から見た下部分解斜視図である。
【００２９】
【図１５】圧盤アセンブリに装着された対向物プレートアセンブリと、リフト機構に配置された圧盤アセンブリとを示し、さらに、対向物プレートアセンブリの４つの対向物及び対向物支持プレートを示し、対向物のうちの１つ及びその下に位置するテープは対向物支持プレートから分解した状態で示す、図１３及び図１４に示すグラフィックアート対向物アセンブリ及びリフト機構の上部斜視図である。
【００３０】
【図１６】圧盤アセンブリの上部に間隔を置いて位置する対向物プレートアセンブリを示す、図１３〜図１５に示すグラフィックアート対向物アセンブリ及びリフト機構の上部斜視図である。
【００３１】
【図１７】圧盤アセンブリに位置合わせして装着された対向物プレートアセンブリを示す、図１３〜図１５に示すグラフィックアート対向物アセンブリ及びリフト機構の上面図である。
【００３２】
【図１７ａ】圧盤アセンブリの磁気プラグ及び位置合わせプラグを拡大して示し、位置合わせプラグは対向物支持プレートに形成された位置合わせスロットに挿入され、ピストンのうちの１つは対向物支持プレートに形成されたリフトスロットに位置合わせされている、図７と同様のグラフィックアート対向物アセンブリ及びリフト機構の部分拡大上面図である。
【００３３】
【図１８】圧盤アセンブリのリフト孔に位置合わせされたリフト機構の格納されたピストンを示す、図１７のグラフィックアート対向物アセンブリ及びリフト機構の１８−１８線部分断面図である。
【００３４】
【図１９】対向物プレートアセンブリに磁気係合したチェースアセンブリの磁気プラグを示す、図１７のグラフィックアート対向物アセンブリ及びリフト機構の１９−１９線部分断面図である。
【００３５】
【図２０】対向物プレートアセンブリの位置合わせスロットに位置合わせされた圧盤アセンブリの位置合わせプラグを示す、図１７ａのグラフィックアート対向物アセンブリ及びリフト機構の２０−２０線部分断面図である。
【００３６】
【図２１】印刷機がチェースアセンブリ及びダイプレートアセンブリを備えたグラフィックアートダイアセンブリを含み、チェースアセンブリはダイプレートアセンブリから分解され、マニホルドがグラフィックアートダイアセンブリの下に配置されている、本発明の第２の好ましい実施形態に従って構成された印刷機とマニホルドの部分斜視図である。
【００３７】
【図２２】図２１と同様のグラフィックアートダイアセンブリ及びマニホルドを反対側から見た下部分解斜視図である。
【００３８】
【図２３】チェースアセンブリに装着されたダイプレートアセンブリ、及びマニホルド上に配置されたチェースアセンブリを示す、図２１及び図２２に示すグラフィックアートダイアセンブリ及びマニホルドの上部斜視図である。
【００３９】
【図２４】図２１〜図２３に示すグラフィックアートダイアセンブリ及びマニホルドの上面図である。
【００４０】
【図２５】格納位置にあるマニホルドのリフトピンを示す、図２４のグラフィックアートダイアセンブリ及びマニホルドの２５−２５線部分断面図である。
【００４１】
【図２６】突出位置にあるリフトピンがダイプレートアセンブリをチェースアセンブリから離れるように移動させた状態を示す、図２５と同様のグラフィックアートダイアセンブリ及びマニホルドの部分断面図である。
【００４２】
【図２７】チェースの対応孔に装着されて裏当てプレートでそこに保持されるチェースアセンブリの磁気プラグを示す、図２４のグラフィックアートダイアセンブリ及びマニホルドの２７−２７線部分断面図である。
【００４３】
【図２８】チェースの対応孔に装着されて裏当てプレートでそこに保持されるチェースアセンブリの位置合わせプラグを、位置合わせプラグがダイプレートアセンブリに形成されたスロットに受けられた状態で示す、図２４のグラフィックアートダイアセンブリ及びマニホルドの２８−２８線部分断面図である。
【００４４】
【図２９】チェースの対応孔に装着された磁気プラグ及び位置合わせプラグを示す、図２１〜図２８に示すチェースアセンブリの上面図である。
【００４５】
【図３０】印刷機ハウジング及び印刷機ハウジングに取り付けられた支持アームを示し、さらに支持アームに支持されたグラフィックアートダイアセンブリを示す、図１の印刷機の概略側面図である。
【００４６】
【図３１】支持アームに取り付けられて支持アーム間のグラフィックアートダイアセンブリを支持するマニホルドを示し、マニホルドは、ユーザの手が印刷機に容易に届くようにするために収納位置へと回動可能であることを示す、図３０の印刷機の概略正面図である。
【００４７】
【図３２】マニホルド及びグラフィックアートダイアセンブリを支持するのに用いられる自立型テーブルの概略斜視図である。
【００４８】
図面は、本発明を、ここに開示及び記載される特定の実施形態に限定するものではない。図面は図示される部品や構造体について必ずしも正確な寸法や公差を提供するものではないが、純粋に模式化されたものを含まないこれらの図面は、ここに図示される構造体の部品間の関係性に関しては原寸に比例している。
【発明を実施するための形態】
【００４９】
平台印刷機２０（図１に概略的に示す）は、被印刷体に熱箔押し、エンボス加工、又はデボス加工（又はそれらの組み合わせ）を行うのに使用される。さらに詳細に後述するように、グラフィックアートダイアセンブリ２２及びグラフィックアート対向物アセンブリ２４は、印刷機２０の一部としての使用に向けて迅速且つ効率的に取付けられるように構成される。グラフィックアートダイアセンブリ２２及びグラフィックアート対向物アセンブリ２４の構造によって、取付け中に、横方向に沿ったダイ位置の緻密な調節が可能となる。
【００５０】
後述するように、リフト機構２６はダイアセンブリ２２及び対向物アセンブリ２４と協働して、ダイ取付け工程及び対向物取付け工程を容易なものとする（図２〜図４及び図１３〜図１５を参照）。また、詳細に後述するように、ダイアセンブリ２２及び対向物アセンブリ２４は、印刷機２０の対応磁気支持構造体で支持可能なグラフィックアートプレートアセンブリの別々の実施形態を含む。好ましくは、印刷機２０はグラフィックアートダイアセンブリ２２、グラフィックアート対向物アセンブリ２４、及び往復式支持構造体３０を含む。
【００５１】
図示の印刷機２０は、本発明の範囲から逸脱することのない範囲で、枚葉印刷機とウエブ印刷機のいずれかから成り得る。グラフィックアート対向物アセンブリ２４は、グラフィックアートダイアセンブリ２２に対して往復運動するように、支持構造体３０に装着される（図１を参照）。本発明の原則に従って、アセンブリ２２及び２４は、箔押し、エンボス加工、デボス加工、又はそれらの組み合わせを提供するように様々に構成され得る。対向物アセンブリ２４はさらに詳細に後述する。
グラフィックアートダイアセンブリ
【００５２】
図２〜１２を参照すると、グラフィックアートダイアセンブリ２２はグラフィックアート対向物アセンブリ２４と係合するように構成されて、箔押し、エンボス加工、デボス加工、又はそれらの組み合わせを提供する。好ましくは、グラフィックアートダイアセンブリ２２はチェースアセンブリ３４及びダイプレートアセンブリ３６を含む。ダイプレートアセンブリ３６は、磁気支持構造体で支持されるグラフィックアートプレートアセンブリの一つの好ましい実施形態から成る（この支持構造体は好ましくはチェースアセンブリ３４の形態である）。
【００５３】
好ましくは、ダイプレートアセンブリ３６はダイ支持プレート３８及びグラフィックアートダイ４０を含む（図２及び図４を参照）。ダイ支持プレート３８は、チェース係合面４２、ダイ受け面４４、外周縁部４６、位置合わせスロット４８ａ、及びリフトスロット４８ｂを有する（図７、図７ａ、図８及び図１２を参照）。位置合わせスロット４８ａ及びリフトスロット４８ｂは、縁部４６の内側で間隔を置いて配置される。ダイ支持プレート３８は、面４４上でダイ４０を着脱可能に支持するように構成される。
【００５４】
図示の実施形態には４つのダイ４０が含まれる。図示はしないが、ダイ支持プレート３８は、互いに対して定まった関係性で、代替の数、例えば４つ未満（例えば１つ）のダイ又は４つより多いダイを支持し得ることも理解されよう。代替のダイ支持プレートの一つの好ましい実施形態は、２００６年８月２９日に発行され、発明の名称を「ＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＲＴＳ  ＤＩＥ  ＡＮＤ  ＳＵＰＰＯＲＴ  ＰＬＡＴＥ  ＡＳＳＥＭＢＬＹ（グラフィックアートダイ及び支持プレートアセンブリ）」とする米国特許第７，０９６，７０９号公報に開示され、その全体を参照により本明細書に援用する。
【００５５】
ダイ支持プレート３８とチェースアセンブリ３４を磁気係合させるため、ダイ支持プレート３８は強磁性であることが好ましい。更に好ましくは、ダイ支持プレート３８は、全体が炭素鋼等の強磁性材料から形成される。代替の実施形態において、ダイ支持プレート３８は、非強磁性材料と、チェースアセンブリ３４と磁気係合するための少なくとも何らかの強磁性材料とを含み得る。炭素鋼がダイ支持プレートの好ましい材料ではあるが、ダイ支持プレートはその代わり又はそれに加えて、本発明の原則から逸脱することのない範囲で１つ以上の代替材料（例えばステンレス鋼又はアルミニウム）を含んでいてもよい。
【００５６】
好ましくは、ダイプレートアセンブリ３６はさらに、ダイ支持プレート３８に溶接されるとともに面４４から突出する複数のねじ付きスタッド５０を含む（図４を参照）。ダイプレートアセンブリ３６はさらに、スタッド５０に取外し可能に螺合される複数のねじ付きナット５２を含む（図４及び図７ａを参照）。スタッド５０及びナット５２は、グラフィックアートダイ４０をダイ支持プレート３８上に固定するのに用いられる。本発明の原則に従って、代替のダイ支持プレートが提供されてもよい。代替のダイ支持プレート構造体の特徴は、上記援用された米国特許第７，０９６，７０９号に開示される。
【００５７】
図４及び図７を参照すると、各グラフィックアートダイ４０は彫刻グラフィックアートダイから成ることが好ましいが、本発明の原則はグラフィックアートダイ４０が抜き型から成る場合にも適用できる。ここで使用される「彫刻」という語は、フォトエッチング、手作業での彫刻、又は機械加工（例えば、従来のフライス加工やレーザ加工）によるダイ彫刻を意味する。
【００５８】
好ましくは、各グラフィックアートダイ４０は、機械加工縁部５４、深座ぐり穴５６、及び彫刻面５８を有する。縁部５４は、好ましくは略垂直の端面から成るように機械加工される。しかしながら、（例えば縁部にトグル装置が係合されるように構成される場合、）縁部５４は斜切縁から成っていてもよい。
【００５９】
好ましくは、各彫刻面５８はグラフィックアートダイ４０を彫刻して形成され、彫刻面５８がイメージしるし６０を画定する。グラフィックアートダイ４０はまた、彫刻面５８を囲む略平坦な背景面６２を有する。
【００６０】
上述したように、上記援用された米国特許第７，０９６，７０９号に開示されるような様々な従来の彫刻技術を使用して彫刻面５８を形成することができる。しかしながら、面５８が代替的にしるし６０を供するように構成される場合も、本発明の原則は適用できる。図示の面５８はデボス加工用のものだが、グラフィックアートダイ４０は代替的に箔押し、エンボス加工、型抜き、又はそれらの組み合わせ用の特徴を有していてもよい。
【００６１】
深座ぐり穴５６はスタッド５０を受けるように構成され、ナット５２は背景面６２を超えて穴５６の外に突出しないように座ぐりに収容される。好ましくは、穴５６はしるし６０の近辺に、そこから間隔を置いて配置される。穴５６としるし６０との相対的な位置決め及び位置合わせを提供するグラフィックアートダイ４０の製造方法の更なる特徴は、上記援用された米国特許第７，０９６，７０９号に開示される。図示される穴５６は円形の輪郭形状を有するが、１つ以上のダイは、締め具を受ける代替的な形状の穴を有していてもよいことが理解されよう。例えば、代替の実施形態において、ダイは（例えば、支持プレートに対するダイの調節が簡便に行えるように）略正方形の輪郭形状の穴を有することができる。このような代替のダイ実施形態の更なる詳細は、２０１８年８月２４日に出願され、発明の名称を「ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤ  ＦＯＲ  ＡＤＪＵＳＴＩＮＧ  ＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＲＴＳ  ＤＩＥ  ＰＬＡＴＥ  ＯＮ  ＣＡＲＲＩＥＲ（グラフィックアートダイプレートをキャリヤ上で調節する装置及び方法）」とする米国仮特許出願第６２／５４９，７７６号に開示される。
【００６２】
各グラフィックアートダイ４０は非鉄金属から形成されることが好ましく、更に好ましくは黄銅合金から形成される。しかしながら、グラフィックアートダイ４０の全体又は一部が鋼鉄、マグネシウム、亜鉛、ポリマー、銅合金、又は、繊維ガラス等の複合材料から形成される場合も、本発明の範囲内に含まれる。
【００６３】
繰り返すが、スタッド５０及びナット５２は、グラフィックアートダイ４０をダイ支持プレート３８上に固定するのに用いられる。スタッド５０及びナット５２は、ダイ支持プレート３８に対するダイ４０の横方向の位置決めの緻密な調節を可能とするために、穴５６よりも小さく形成される。複数のダイが同一のダイ支持プレートに装着される場合、ダイは、ダイの横方向の位置を互いに対して調節可能とさせるスタッド及びナットで固定されることが好ましい。
【００６４】
再度図２〜図１２を参照するが、チェースアセンブリ３４は、グラフィックアートプレートアセンブリを支持する磁気支持構造体の一つの好ましい実施形態である。図示の実施形態において、好ましくは、チェースアセンブリ３４はダイプレートアセンブリ３６を着脱可能に支持する。詳細に後述するように、ダイプレートアセンブリ３６はチェースアセンブリ３４に磁気的に固定されることが好ましい。好ましくは、チェースアセンブリ３４はチェース６４、位置合わせインサート６６、磁気プラグ６８、及び位置合わせプラグ７０を含む（図２、図３及び図１０〜図１２を参照）。
【００６５】
チェース６４は一体型であり、両側のチェース面７２、７４、及び間隔を置いて配列されたリフト孔７６ａ及びねじ付き孔７６ｂを有する（図７ａ、図８及び図１０を参照）。リフト孔７６ａのうちのいくつかは、対応スロット４８ｂと位置が合うように構成される（図７ａを参照）。リフト孔７６ａはまた、後述するが、リフト機構のピストンを挿抜可能に受けるように構成される。
【００６６】
チェース６４はまた、磁石凹部７８及び位置合わせ凹部８０を有する（図７ａ及び図１０〜図１２を参照）。磁石凹部７８は、ねじ付き部７８ａ及び環状段部７８ｂを備えた対応壁部で画成される（図１２を参照）。
【００６７】
しかしながら、磁石凹部は、本発明の範囲から逸脱することのない範囲で代替の構成及び／又は配置で形成することもできる。例えば、代替の磁石凹部は（面７２と面７４の間を連続的に延びる）貫通孔から成っていてもよい。
【００６８】
位置合わせ凹部８０は、ねじ付き部８０ａを備えた対応壁部で画成される（図１２を参照）。図示の各位置合わせ凹部８０は、好ましくは、（両面７２及び７４と交差するように）チェース６４を貫通する貫通孔から成る。しかしながら、位置合わせ凹部は代替の形状及び／又は配置で設けることもできる。一つの代替の実施形態において、位置合わせ凹部は磁石凹部７８と同一又は類似の形状を有していてもよい。後述するが、凹部７８及び８０はプラグ６８及び７０をそれぞれ着脱可能に受ける。
【００６９】
本発明のいくつかの態様について、チェース６４はチェース上に１つ以上のダイを装着する代替の特徴を用いる又は含むことができる。例えばねじ付き孔７６ｂは、（例えば、細い巻き取り紙用チェースでは慣習となっているように、）ねじ付き締め具を受けて、１つ以上のダイをねじ付き締め具で直接チェースに取り付けるように構成される。図示はしないが、孔７６ｂは、対応締め具と螺合するためにめねじを有している。
【００７０】
印刷機には、従来型のハニカムチェースに見られる開口部が形成されていない、代替のチェースを備えたものもある。このような印刷機では、新たなチェースには所望の数と配置の穴及び／又はねじ付き取付け穴を設けることができる。あるいは、既存のチェースを、所望の数と配置の穴及び／又はねじ付き取付け穴を供するように改良することもできる。
【００７１】
チェース６４はアルミニウムから成ることが好ましいが、本発明の原則から逸脱することのない範囲で、代替材料（例えば、ステンレス鋼、炭素鋼、合成樹脂等）で形成することもできる。チェース６４が強磁性材料や非強磁性材料から形成可能であることも理解されよう。強磁性チェース構成は、チェースアセンブリ３４の使用の妨げになるものではない（例えば、強磁性チェースは、孔７６に対する磁気プラグ６８の抜き差しの妨げになるものではない）。
【００７２】
位置合わせインサート６６はそれぞれ、スロット６６ａを有する一体型プレートから成ることが好ましい（図３、図１０及び図１１を参照）。スロット６６ａは、後述するように、リフト機構２６のスタッドを受けるように形成される。インサート６６は、チェース面７４に形成されるポケット内に、締め具（図示せず）で着脱可能に固定される。
【００７３】
図５、図７ａ及び図１２を参照すると、磁気プラグ６８は、ダイプレートアセンブリ３６をチェースアセンブリ３４と係合した状態で磁気的に着脱可能に保持するように機能する。各磁気プラグ６８は好ましくは、本体８４、及び本体８４に固定された永久磁石８６を含む（図１２を参照）。磁石８６は露出磁石面８６ａを有する。
【００７４】
図示の本体８４は、外縁ねじ山８８及びフランジ９０を有する（図１２を参照）。本体８４はまた、上面８４ａ、磁石８６を受ける受け部８４ｂ、及びレンチ（図示せず）に係合される穴８４ｃ（図７ａを参照）を有する。図示の磁気プラグ６８は、対応凹部７８へのねじ込み及び取外しが可能となる大きさ及び形状で形成される。
【００７５】
磁気プラグ６８が凹部７８内に配置されると、フランジ９０が段部８０ｂに当たり、磁気プラグ６８の凹部７８内部への移動を制限するように機能する。また、代替的に１つ以上の磁気プラグをチェースに固定することも本発明の範囲内となる。例えば、いくつかの代替の実施形態において、１つ以上の磁気プラグをチェースの開口部に圧入又は接着してもよい。
【００７６】
図示の磁石面８６ａとチェース面７２は、互いに略同一平面上にあることが好ましい。このように、面７２と面８６ａとで平坦で連続的な面を成して、ダイプレートアセンブリ３６と係合する。しかしながら、いくつかの代替の実施形態において、磁石面８６ａはチェース面７２からずれて位置し得る。例えば、本発明のいくつかの態様によれば、磁界が必ずチェース本体を通ってダイプレートアセンブリ３６を所定位置に固定するように、磁石はチェース面７２より低く位置してチェース本体の一部で覆われていてもよい。
【００７７】
磁気プラグ６８は複数個配置されて、ダイプレートアセンブリ３６をチェースアセンブリ３４と係合した状態で確実に保持することが好ましい。例えば、アセンブリ３４とアセンブリ３６間の磁気結合は、グラフィックアートダイアセンブリ２２が（チェースアセンブリ３４の下のダイプレートアセンブリ３６と共に）反転しても、ダイプレートアセンブリ３６がチェースアセンブリ３４に対して保持され続けるのに十分な結合である。しかしながら、チェースアセンブリ３４が代替の数の磁気プラグ６８を含む場合にも、本発明の原則は適用できる（例えば、チェースアセンブリ３４はより少ない数のプラグ６８を用いることもできる）。あるいは、１つ以上の磁気プラグ６８がチェース６４の凹部７８に配置されてもよい。個数と配置は、磁気プラグの強度やダイプレートアセンブリ３６の重さ等によって変わり得る。
【００７８】
好ましくは、永久磁石８６は、通常の熱箔押し温度（華氏１３０度〜４００度程度の範囲）に消磁されることなく耐え得る高温サマリウムコバルト材で形成される。しかしながら、代替の高温希土類磁石材料から成る磁石８６も本発明の範囲内となる。本体８４は低炭素鋼材から成ることが好ましいが、本発明の範囲から逸脱することのない範囲で、代替材料（例えば、ステンレス鋼、アルミニウム、合成樹脂等）を含んでいてもよい。各磁石８６は接着材（図示せず）で本体８４に接着されるのが好ましいが、磁石８６と本体８４は代替的に互いに固定されてもよい。更に代替の実施形態において、１つ以上の磁石がチェース本体に直接固定されて、対応本体がすべて省略されてもよい。
【００７９】
図示の実施形態は磁石８６を備えたチェース６４を提供するものだが、本発明のある態様では、チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６を着脱可能に磁気で相互結合するための代替手段が想定される。例えば、いくつかの代替の実施形態においては、ダイプレートアセンブリに磁石が設けられ、チェースアセンブリの少なくとも一部が強磁性材料から形成され得る。本発明のある態様では、両方のアセンブリが磁石を有していてもよい。この代替案において、各アセンブリの磁石は、他方のアセンブリの強磁性部やインサートと対応付けられてもよい。
【００８０】
図７ａ及び図１２を参照すると、位置合わせプラグ７０は、ダイプレートアセンブリ３６をチェースアセンブリ３４上で位置決めして、アセンブリ３４とアセンブリ３６の相対的な横方向移動を制限するように機能する。各位置合わせプラグ７０はピンから成るとともにねじ付き本体９２及び頂部９４を有し、頂部９４は段部９６を有する（図１２を参照）。位置合わせプラグ７０は、１つの凹部８０にねじ込めるような大きさ及び形状で形成される。
【００８１】
位置合わせプラグ７０が対応凹部８０内に配置されると、段部９６が面７２に当たり、位置合わせプラグ７０が凹部８０内にさらにねじ込まれることを制限するように機能する（図１２を参照）。また、代替的に１つ以上の位置合わせプラグをチェースに固定することも本発明の範囲内となる。例えば、いくつかの代替の実施形態において、１つ以上の位置合わせプラグをチェースの開口部に圧入又は接着してもよい。
【００８２】
図示のチェースアセンブリ３４は、ダイ支持プレート３８の４つのスロット４８と整合してそこに挿入されるように構成された４つの位置合わせプラグ７０を含む。特に、位置合わせプラグ７０の頂部９４はスロット４８ｂに取外し可能に受けられて、それによりダイプレートアセンブリ３６はチェースアセンブリ３４のチェース面７２との係合状態への移行及び解消が可能となる（図７ａを参照）。チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６が係合すると、スロット４８と位置合わせプラグ７０が協働して、ダイプレートアセンブリ３６がチェースアセンブリ３４のチェース面７２に沿って横方向にスライド移動するのを制限する。
【００８３】
しかしながら、チェースアセンブリ３４が代替の数の位置合わせプラグ７０を含む場合も、本発明の原則は適用できる。さらに、代替的に、１つ以上の位置合わせプラグ７０がチェース６４の凹部８０に配置されてもよい。図示のプラグ６８、７０は、チェース６４内にぴったりと嵌る大きさで形成されて、そこで横方向に移動しない（即ち、各プラグ６８、７０が対応凹部の軸線に対して横方向に移動しない）ことが好ましい。少なくともいくつかの用途において、代替的に、プラグ６８、７０を凹部に固定してもよい。
【００８４】
アセンブリ３４とアセンブリ３６間の磁気結合と同様に、本発明のある態様では、スロット４８とプラグ７０の向きを逆にすることが想定される。例えば、チェースアセンブリ３４には代替的にスロットが設けられるとともに、プレートアセンブリ３６がそのチェーススロットに挿入される補完プラグ（又はピン）を含み、チェース位置合わせ要素がプラグではなくスロットから成るようにしてもよい。さらに、各アセンブリにプラグとスロットの両方が設けられ、他方のアセンブリの補完スロット及び補完プラグと協働するようにしてもよい。
【００８５】
上述したように、リフト孔７６ａのうちのいくつかは、対応リフトスロット４８ｂに合った大きさ及び位置に形成されることが好ましい。また、位置合わせされた孔７６ａとスロット４８ｂは、後述するように、リフト機構２６のピストンとも位置合わせされてピストンを受けることが好ましい（図８及び図９を参照）。
【００８６】
グラフィックアートダイアセンブリ２２は図示のチェースアセンブリ３４を含むことが好ましいが、（次の実施形態に示すように）代替のチェースを使用して１つ以上のダイを支持してもよい。他の代替のチェース構造体は、上記援用された米国特許第７，０９６，７０９号に開示される。
【００８７】
熱箔押し及びエンボス／デボス加工の作業において、チェースアセンブリ３４は好ましくは華氏１３０度〜４００度程度の範囲の温度に加熱される。好ましくは、チェースアセンブリ３４のチェース面７２、７４は略平坦で、且つ互いに平行であることが好ましい。
【００８８】
チェース６４における磁気プラグ６８の好ましい配置は図２及び図５に示し、チェース６４における位置合わせプラグ７０の好ましい配置は図５及び図７に示す。繰り返すが、磁気プラグ６８及び／又は位置合わせプラグ７０が代替的な配置でチェース６４内に設けられた場合でも、本発明の原則は等しく適用できる。
【００８９】
また、代替の数の磁気プラグ６８及び／又は位置合わせプラグ７０がチェース６４に固定されていてもよい。例えば、チェースアセンブリは、（例えば各プラグが高い磁気力を有する場合、）より少ない数の磁気プラグを有していてもよい。
【００９０】
チェースアセンブリ３４及びダイプレートアセンブリ３６は、チェース６４の面７２に沿って間隔を置いて配置された磁気プラグ６８を用いて磁気的に相互結合されることが好ましい。しかしながら、上述したように、１つ以上のダイは従来型のトグルクランプ（図示せず）でチェースアセンブリ３４に固定されてもよい。トグルクランプは、通常の方法で、チェース６４の対応孔７６内に着脱可能に固定されて、１つ以上のダイ及び／又は１つ以上のダイを支持するダイ支持プレートと機械的に係合することができる。また、上述したように、ねじ付き締め具を使用して（例えば、締め具を孔７６ｂにねじ込むことによって）１つ以上のダイを直接チェースに固定してもよい。
【００９１】
繰り返すが、ダイプレートアセンブリ３６は、チェースアセンブリ３４のチェース面７２との係合状態への移行及び解消が可能なように構成される。好ましくは、チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６が係合すると、位置合わせスロット４８と位置合わせプラグ７０が協働して、ダイプレートアセンブリ３６がチェースアセンブリ３４のチェース面７２に沿って横方向にスライド移動するのを制限する。磁気プラグ６８は、ダイプレートアセンブリ３６をチェースアセンブリ３４と係合した状態で着脱可能に保持するように機能する。
【００９２】
図４、図５及び図８〜図１１を参照すると、ダイプレートアセンブリ３６とチェースアセンブリ３４との相対的変位は、好ましくはリフト機構２６によって制御される。後述するように、リフト機構２６のピストンは加圧空気によって選択的に駆動され、ダイプレートアセンブリ３６をチェースアセンブリ３４から離れる方向に変位させるように構成される（図９及び図１１を参照）。
【００９３】
チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６は、互いに対して固定されると、一体となって印刷機２０で使用される薄型グラフィックアートダイアセンブリ２２を提供する。つまり、チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６は一体となって、この組合せが適切に印刷機２０に取付け及び取外しできるようなコンパクトな最大アセンブリ高さ寸法を有する。チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６を印刷機に同時に取付けるか順々に取付けるかにかかわらず、この利点は該当する。
リフト機構
【００９４】
図２から図６、図８及び図９を参照すると、図示のリフト機構２６は、ダイアセンブリ２２と対向物アセンブリ２４のそれぞれとの使用に向けて構成される。特に、ダイアセンブリ２２と対向物アセンブリ２４は、リフト機構２６との使用に向けて構成された類似の磁気支持構造体及びグラフィックアートプレートアセンブリを含む。リフト機構２６は、好ましくはフレーム１０４、ピストン１０６ａ、１０６ｂ、及びクランプ１０８を含む。リフト機構は更に、フレーム１０４の概ね内側に、蓋部１１０、ばね１１２、シリンダ１１４、流体ライン１１６ａ、１１６ｂを含む（図６、図８及び図９を参照）。
【００９５】
クランプ１０８はフレーム１０４に取り付けられて、選択的にチェース６４と係合する。クランプ１０８は、チェースアセンブリ３４がリフト機構２６のフレーム１０４上に装着される、またそこから取り外されるのをクランプ１０８が妨げない解除位置（図２を参照）と、チェースアセンブリ３４がリフト機構２６のフレーム１０４に固定される締付位置（図４及び図７を参照）との間で、通常の方法で変位可能である。
【００９６】
蓋部１１０とシリンダ１１４は、ピストン１０６を摺動可能に受けるチャンバ１１８を共に形成する（図８及び図９を参照）。また、チャンバ１１８は流体ライン１１６ａと流体連通して、圧縮空気がチャンバ１１８へと、またはチャンバから運ばれる。図示の実施形態において、流体ライン１１６ａは、互い同士に且つ流体ライン１１６ｂと流体連通している。流体ライン１１６ｂは、加圧空気を流体ライン１１６ａに供給するのに用いられる。
【００９７】
フレーム１０８は、チェースアセンブリ３４を着脱可能に受けて支持する略平坦な上面１２０を有する。リフト機構２６はまた、フレーム１０８に固定され且つ上面１２０から離れる方向に突出する位置合わせスタッド１２２を含む（図２、図１０及び図１１を参照）。後述するように、上面１２０とスタッド１２２は協働してチェースアセンブリ３４を定置するように構成される。
【００９８】
リフト機構２６は炭素鋼を含むことが好ましい。しかしながら、リフト機構２６の少なくとも一部が代替材料（例えば、ステンレス鋼、アルミニウム、合成樹脂等）から形成されている場合も、本発明の範囲内となる。リフト機構２６の部品の一部がアルミニウム製の場合、リフト機構２６は上面１２０となる炭素鋼板を含むことが好ましい。リフト機構２６は、強磁性材料、非強磁性材料、又はその組み合わせから形成することができる。リフト機構２６は通常チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６間の磁気結合を妨げないことがわかっている。
【００９９】
ピストン１０６ａ、１０６ｂはそれぞれ、ピストン端部１２４及び反対側のリフト端部１２６を有する（図８及び図９を参照）。ピストン端部１２４はリフト面１２４ａ及び格納面１２４ｂを有する（図８及び図９を参照）。各ピストン１０６ａにおいて、リフト端部１２６は略平坦な端面を有する。各ピストン１０６ｂにおいて、リフト端部１２６は末端ピン部１２６ａ、及び末端ピン部１２６ａを囲む段部１２６ｂを有する。代替の実施形態において、ピストンは本発明の範囲から逸脱することのない範囲で代替的に構成及び／又は配置することもできる。例えば、ピストン１０６ｂには末端ピン部や段部がなくてもよい。
【０１００】
ピストン端部１２４は摺動可能にチャンバ１１８に収容され、シリンダ１１４の側壁１３０と係合する（図８及び図９を参照）。ピストン１０６は、格納位置（図８を参照）と突出位置（図９を参照）との間を、チャンバ１１８に対して軸方向に摺動するように動作する。ピストンは好ましいリフト要素から成るが、リフト機構が１つ以上の代替のリフト要素を含む場合も本発明の範囲内となる。例えば、リフト機構は、格納位置と突出位置の間で回動する１つ以上の回動レバーを有していてもよい。
【０１０１】
格納位置では、各ピストン１０６は一部が対応チャンバ１１８に収容されることが好ましい。しかしながら、本発明のいくつかの態様においては、格納位置でピストン１０６の全体がチャンバ１１８に収容されてもよい。
【０１０２】
突出位置では、各ピストン１０６はチャンバ１１８の内外に突出し、よってリフト端部１２６はチャンバ１１８から離れて位置する。図示の実施形態においては、全てのピストン１０６は突出時に同一の上面１２０から突き出ている。しかしながら、いくつかのピストン１０６は突出時に面１２０から突き出て、他のピストン１０６は突出時に反対側のフレーム底面から（即ち、フレームの反対方向に向けて）突き出る場合にも、本発明の原則は適用できる。このような代替のリフト機構においては、ダイプレートアセンブリ３６とチェースアセンブリ３４との係合を確立及び解除させるのに、リフト機構のいずれの面も使うことができる。
【０１０３】
図示のばね１１２は、好ましくは対応ピストン１０６を格納するのに使用される。好ましくは、ばね１１２はピストン１０６に装着され、チャンバ１１８内の環状空間に配置される。ばね１１２は、好ましくはピストン１０６を格納位置に付勢する。特に、ピストンが突出位置にあるとき、ピストン端部１２４と蓋部１１０は協働してばね１１２を圧縮する（図９を参照）。圧縮されたばね１１２はばね力を格納面１２４ｂに加えて、ピストン１０６を突出位置から引き込ませる（即ち、格納位置に移動させる）。
【０１０４】
ピストン１０６を格納するのに代替の機構を使用し得ることも理解されよう。例えば図示の実施形態において、格納面１２４ｂは通常、周囲気圧にさらされる。しかしながら、リフト機構２６は加圧空気（または別の加圧流体）を格納面１２４ｂに供給するように構成されてもよい。
【０１０５】
図示のリフト機構２６において、ピストン１０６は、圧縮空気源（図示せず）から供給される加圧空気を使って選択的に突出させられる。加圧空気が流体ライン１１６及びリフト面１２４ａに供給されると、好ましくは、加圧空気によってピストン１０６とシリンダ１１４間の滑り接触に伴う摩擦力を圧倒するリフト力が生成されて、ピストン１０６を突出位置に変位させる。さらに、ピストン１０６が移動し、蓋部１１０と協働してばね１１２を圧縮すると、好ましくは、リフト力がばね力も圧倒してピストン１０６を突出位置に変位させる。
【０１０６】
ピストン１０６を突出位置に移動させるのに加圧空気を用いることが好ましいが、リフト機構２６は他の加圧流体、例えば油圧油等を用いてピストン１０６を動かしてもよい。
グラフィックアートダイアセンブリとのリフト機構の使用
【０１０７】
上述したように、リフト孔７６ａのうちのいくつかは、好ましくは対応リフトスロット４８ｂと整合した位置に形成される（図８及び図９を参照）。位置合わせされたリフト孔７６ａとリフトスロット４８ｂは対応ピストン１０６ｂとも位置合わせされて、そのピストン１０６ｂのピン部１２６ａを受ける（図９を参照）。ピストン１０６ａは別の対応リフト孔７６ａと位置合わせされる。その結果、ピストン１０６ａ、１０６ｂはチェースアセンブリ３４を通ってダイプレートアセンブリ３６と係合する。
【０１０８】
繰り返すが、リフト機構２６は面１２０に固定される位置合わせスタッド１２２を含む。スタッド１２２は、インサート６６に形成されるスロット６６ａと係合するように構成される（図３、図１０及び図１１を参照）。このように、スタッド１２２とスロット６６ａは協働してチェース６４をリフト機構２６に対して位置合わせさせる。
【０１０９】
アセンブリ３４とアセンブリ３６を互いに位置合わせするのに使用した位置合わせ特徴と同様に、スロット６６ａとスタッド１２２の向きが逆であってもよい。例えば、リフト機構２６には代替的にスロットが設けられるとともに、チェースアセンブリ３４がそのリフト機構スロットに挿入される補完スタッドを含んでいてもよい（リフト機構の位置合わせ要素がスタッドではなくスロットから成っていてもよい）。さらに、リフト機構とチェースアセンブリのそれぞれにスタッドとスロットの両方が設けられ、リフト機構とチェースアセンブリの他方の補完スロット及び補完スタッドと協働するようにしてもよい。
【０１１０】
図示の実施形態において、ダイプレートアセンブリ３６をチェースアセンブリ３４から切り離すのにリフト機構２６を用いる場合、チェースアセンブリ３４がリフト機構２６に載置されることが好ましい。チェースアセンブリ３４は、好ましくはリフト機構２６のフレーム１０４にクランプ１０８で着脱可能に固定される。しかしながら、代替的に、リフト機構２６とチェースアセンブリ３４を互いに対して取付けてもよいことが理解されよう。本発明のいくつかの態様において、チェースアセンブリ３４をリフト機構２６に固定するのに、代替の締め具なしシステムが供されてもよい。
【０１１１】
チェースアセンブリ３４がリフト機構２６に載置された状態で、チェース面７４の全体がリフト機構２６と接触しているように描かれている。しかしながら、チェースアセンブリ３４がリフト機構２６上に配置された際に、チェース面７４の一部しかリフト機構２６と接触しないこともあり得る。例えば、チェース面７４及び／又は上面１２０が完全に平坦な形状ではない、あるいはチェース面７４が上面１２０より大きいという理由で、上記の状態も起こり得る。しかしながら、上面１２０とチェース面７４が互いに部分的に接触している場合でも、リフト機構２６は、（アセンブリ３４及び３６がリフト機構２６と関連している間は、）ダイプレートアセンブリ３６とチェースアセンブリ３４の相対的変位を制御するように機能することが更に好ましい。
【０１１２】
繰り返すが、リフト機構２６はダイアセンブリ２２と共に用いられて、ダイプレートアセンブリ３６を変位させてチェースアセンブリ３４から切り離す。リフト機構２６は、まず、ピストン１０６が格納された状態で、チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６をリフト機構２６に載置することで使用される（図８及び図１０を参照）。チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６は、必要に応じてリフト機構２６上で選択的に動かされて、ピストン１０６を対応リフト孔７６ａ及びスロット４８ａと位置合わせする。ピストン１０６を孔７６ａ及びスロット４８ａと位置合わせするためにリフト機構２６を動かすことも許容されるが、チェースの移動の方が好ましい。その後、加圧空気がリフト機構２６に供給されて、それによりピストン１０６が突出してダイプレートアセンブリ３６と係合する。
【０１１３】
好ましくは、加圧空気が供給されてピストン１０６が突出して、それによりダイプレートアセンブリ３６が移動してチェースアセンブリ３４から切り離されることが好ましい（図９及び図１１を参照）。つまり、ピストン１０６によってダイプレートアセンブリ３６に加えられた力が、ダイプレートアセンブリ３６とチェースアセンブリ３４を係合状態に保持する（磁気プラグ６８によって加えられた）磁気力を圧倒することが好ましい。ピストン１０６が突出すると、ダイプレートアセンブリ３６は磁気プラグ６８から十分に間隔が空くため、ユーザはダイプレートアセンブリ３６をチェースアセンブリ３４に対して（例えば、すっかり離れた状態で）自由に動かすことができる。
【０１１４】
リフト機構２６はチェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６を切り離すのに使用されるが、リフト機構２６はまた、チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６の位置合わせ及び係合を容易にするものとしても構成される。この工程は、加圧空気をリフト機構２６に供給してピストン１０６を突出位置に保持することから開始する（図９及び図１１を参照）。ピストン１０６が突出した状態では、ダイプレートアセンブリ３６はピストン１０６上にあり、ユーザがダイプレートアセンブリ３６をチェースアセンブリ３４に対して横方向に自由にスライドさせられる程度に磁気プラグ６８から離されている。このように、突出したピストン１０６によって、ダイプレートアセンブリ３６とチェースアセンブリ３４を位置合わせするためにダイプレートアセンブリ３６を容易に横方向移動できるようになる。
【０１１５】
プラグ７０の頂部９４が対応スロット４８ａと位置合わせされた状態で、リフト機構２６内部の加圧空気の圧力を低下させて、（ピストン１０６に加えられるばね力と重力によって）ピストン１０６を格納させることができる。その結果、ダイプレートアセンブリ３６は移動してチェースアセンブリ３４と係合し、磁気プラグ６８が、チェースアセンブリ３４とダイプレートアセンブリ３６を互いとの係合状態に保持する磁気力を加える。
グラフィックアート対向物アセンブリ
【０１１６】
図１３〜図２０を参照すると、グラフィックアート対向物アセンブリ２４は箔押し、エンボス加工、デボス加工、又はそれらの組み合わせを提供するように構成される。好ましくは、グラフィックアート対向物アセンブリ２４は圧盤アセンブリ１３４及び対向物プレートアセンブリ１３６を含む。対向物プレートアセンブリ１３６は、磁気支持構造体で支持可能なグラフィックアートプレートアセンブリの別の好ましい実施形態から成る（この支持構造体は好ましくは圧盤アセンブリ１３４の形態である）。
【０１１７】
好ましくは、対向物プレートアセンブリ１３６は対向物支持プレート１３８、及び支持プレート１３８に粘着テープ１４１で装着されたグラフィックアート対向物１４０を含む（図１５を参照）。対向物支持プレート１３８は、圧盤係合面１４２、対向物受け面１４４、外周縁部１４６、位置合わせスロット１４８ａ、及びリフトスロット１４８ｂを有する（図１５、図１７、図１７ａ、図１８及び図２０を参照）。スロット１４８ａ及び１４８ｂは好ましくは縁部１４６の内側で間隔を置いて形成される。スロット１４８ａ及び１４８ｂを含む対向物支持プレート１３８の特徴は、ダイ支持プレート３８の対応する特徴と同様である。
【０１１８】
対向物支持プレート１３８は、対向物１４０にテープ１４１で着脱可能に取り付けられて、対向物１４０を面１４４上で支持するように構成される。しかしながら、対向物１４０は、本発明の範囲から逸脱することのない範囲で、代替的に対向物支持プレート１３８に固定されてもよいことが理解されよう。例えば、当業者は理解するだろうが、メークレディ（ｍａｋｅ−ｒｅａｄｙ）が支持プレートに取り付けられた状態で、１つ以上の対向物をメークレディに取り付けてもよい。
【０１１９】
図１５〜図１９を参照すると、各グラフィックアート対向物１４０は好ましくは対向物面１５０を有する。各対向物１４０はその対向物面１５０が各彫刻面５８に対向するように、通常の方法で対応ダイ４０と関連付けられ、位置合わせされる。ダイの彫刻面と対向する対向物面は協働してエンボス加工、デボス加工、箔押し、型抜き、又はそれらの組み合わせを提供するように構成される。
【０１２０】
対向物面１５０は、１つのダイ４０に伴うイメージしるし６０と整合して配置されるように構成された対向物イメージしるし（図示せず）を有する。対向物面が（様々なグラフィックアート工程で各ダイと協働するために）種々のしるしを含む場合も、本発明の範囲内となる。しかしながら、対向物面はイメージしるしを有さなくてもよい（例えば全面が平坦な場合）。対向物のイメージしるしは型で成形されるのが好ましいが、代替的に彫刻及び／又は機械加工で形成されてもよい。繰り返すが、対向物およびその様々な代替の実施形態は、エンボス加工、デボス加工、箔押し、型抜き、又はそれらの組み合わせを提供可能なことが理解されよう。
【０１２１】
圧盤アセンブリ１３４は、グラフィックアートプレートアセンブリを支持する磁気支持構造体の別の好ましい実施形態である。図示の実施形態において、圧盤アセンブリ１３４は対向物プレートアセンブリ１３６を着脱可能に支持することが好ましい。詳細に後述するように、対向物プレートアセンブリ１３６は圧盤アセンブリ１３４に磁気で固定されることが好ましい。
【０１２２】
好ましくは、圧盤アセンブリ１３４は圧盤１５４、裏当てプレート１５６、磁気プラグ１５８、及び位置合わせプラグ１６０を含む（図１３、図１９及び図２０を参照）。磁気プラグ１５８及び位置合わせプラグ１６０を含むこれらの特徴は、チェースアセンブリ３４の対応する特徴と同様である。
【０１２３】
図示の圧盤１５４は一体型であり、両側の圧盤面１６２、１６４を有する（図１８〜図２０を参照）。圧盤１５４はまた、好ましくは配列されたリフト孔１６６ａ及びねじ付き孔１６６ｂを有する（図１３、図１４及び図１８を参照）。裏当てプレート１５６は、圧盤アセンブリ１３４全体の厚さを調節するために、圧盤面１６４に係合するように配置される。しかしながら、本発明のいくつかの態様において、圧盤アセンブリは裏当てプレートを有さなくてもよい。裏当てプレート１５６を圧盤に装着するために孔１６６ｂが設けられることが好ましい。孔１６６ｂは、一方の圧盤面１６２から他方の圧盤面１６４に連続的に延びるねじ付き貫通孔から成ることが好ましいが、圧盤面１６４から圧盤の途中までしか延びていない止り穴として形成されてもよい。
【０１２４】
圧盤１５４はまた、磁石凹部７８及び位置合わせ凹部８０とそれぞれ同様の、磁石凹部１６８及び位置合わせ凹部１７０を有する（図２０を参照）。磁石凹部１６８は、ねじ付き部１６８ａ及び環状段部１６８ｂを備えた対応壁部で画成される（図２０を参照）。
【０１２５】
しかしながら、磁石凹部は、本発明の範囲から逸脱することのない範囲で代替の構成及び／又は配置で形成することもできる。例えば、代替の磁石凹部は（面１６２と面１６４の間を連続的に延びる）貫通孔から成っていてもよい。
【０１２６】
位置合わせ凹部１７０は、ねじ付き部１７０ａを備えた対応壁部で画成される（図２０を参照）。図示の各位置合わせ凹部１７０は、好ましくは、（両側の面１６２及び１６４と交差するように）圧盤１５４を貫通する貫通孔から成る。しかしながら、位置合わせ凹部は代替の形状及び／又は配置で設けることもできる。一つの代替の実施形態において、位置合わせ凹部は磁石凹部１６８と同一又は類似の形状を有していてもよい。
【０１２７】
圧盤１５４はアルミニウム製であることが好ましいが、本発明の原則から逸脱することのない範囲で、代替材料（例えば、ステンレス鋼、炭素鋼、合成樹脂等）で形成することもできる。圧盤１５４が強磁性材料や非強磁性材料から形成可能であることも理解されよう。強磁性材料が使われる場合、圧盤１５４は圧盤１５４の使用を妨げないように構成及び設計される。
【０１２８】
図１７ａ及び図２０を参照すると、磁気プラグ１５８は、対向物プレートアセンブリ１３６を圧盤アセンブリ１３４と係合した状態で着脱可能に保持するように機能する。各磁気プラグ１５８は好ましくは、本体１７４、及び本体１７４に固定された永久磁石１７６を含む（図２０を参照）。磁石１７６は露出磁石面１７６ａを有する。
【０１２９】
図示の本体８４は、外縁ねじ山１７８及びフランジ１８０を有する（図２０を参照）。本体８４はまた、上面１７４ａ、磁石１７６を受ける受け部１７４ｂ、及びレンチ（図示せず）に係合される穴１７４ｃ（図１７ａ及び図２０を参照）を有する。磁気プラグ１５８は、対応凹部１６８へのねじ込み及び取外しが可能となる大きさ及び形状で形成される。また、代替的に１つ以上の磁気プラグを圧盤に固定することも本発明の範囲内となる。例えば、いくつかの代替の実施形態において、１つ以上の磁気プラグを圧盤の開口部に圧入又は接着してもよい。
【０１３０】
図示の実施形態は磁石１７６を備えた圧盤１５４を提供するものだが、本発明のある態様では、圧盤アセンブリ１３４と対向物プレートアセンブリ１３６を着脱可能に磁気で相互結合するための代替手段が想定される。例えば、いくつかの代替の実施形態においては、ダイプレートアセンブリに磁石が設けられ、圧盤アセンブリの少なくとも一部が強磁性材料から形成され得る。本発明のある態様では、両方のアセンブリが磁石を有していてもよい。この代替案において、各アセンブリの磁石は、他方のアセンブリの強磁性部やインサートと対応付けされていてもよい。
【０１３１】
再度図１７ａ及び図２０を参照するが、位置合わせプラグ１６０は、対向物プレートアセンブリ１３６をチェースアセンブリ１３４上に配置してそれら間の横方向移動を制限するように機能する。各位置合わせプラグ１６０はねじ付き本体１８２及び頭部１８４を有し、頭部１８４は段部１８６を有する（図２０を参照）。位置合わせプラグ１６０は、１つの凹部１７０にねじ込めるような大きさ及び形状で形成される。
【０１３２】
位置合わせプラグ１６０が対応凹部１７０内に配置されると、段部１８６が面１６２に当たり、位置合わせプラグ１６０が凹部１７０内にさらにねじ込まれることを制限するように機能する（図２０を参照）。本発明の範囲から逸脱することのない範囲で、１つ以上の位置合わせプラグが代替的に圧盤に固定されてもよい。例えば、いくつかの代替の実施形態において、１つ以上の位置合わせプラグを圧盤の開口部に圧入又は接着してもよい。
【０１３３】
図示の圧盤アセンブリ１３４は、対向物支持プレート１３８の４つの位置合わせスロット１４８ａと整合してそこに挿入されるように構成された４つの位置合わせプラグ１６０を含む。しかしながら、圧盤アセンブリ１３４が代替の数の位置合わせプラグ１６０を含む場合も、本発明の原則は適用できる。また、１つ以上の位置合わせプラグ１６０が代替的に凹部に配置されてもよい。
【０１３４】
本発明のいくつかの態様においては、スロット１４８ａとプラグ１６０の向きが逆であってもよい。例えば、圧盤アセンブリ１３４には代替的にスロットが設けられるとともに、対向物プレートアセンブリ１３６がその圧盤スロットに挿入される補完位置合わせプラグ（又はピン）を含み、圧盤位置合わせ要素がプラグではなくスロットから成るようにしてもよい。さらに、圧盤アセンブリと対向物プレートアセンブリのそれぞれにプラグとスロットの両方が設けられ、他方のアセンブリの補完スロット及び補完プラグと協働するようにしてもよい。
グラフィックアート対向物アセンブリとのリフトマニホルドの使用
【０１３５】
上述したように、リフト機構２６は、ダイアセンブリ２２と対向物アセンブリ２４の両方との使用に向けて構成されることが好ましい。ダイアセンブリ２２と対向物アセンブリ２４は、リフト機構２６によって互いから選択的に分離可能な、類似の磁気支持構造体及びグラフィックアートプレートアセンブリを含む。したがって、圧盤アセンブリ１３４と対向物プレートアセンブリ１３６の相対的変位を制御するリフト機構２６の用途は、異なる工程が採用され得るものの、チェースアセンブリ３４及びダイプレートアセンブリ３６とのリフト機構２６の使われ方と同様である。
【０１３６】
リフト孔１６６ａとリフトスロット１４８ｂは、好ましくは対応ピストン１０６ｂと位置合わせされて、ピストン１０６ｂが突出したときそのピストン１０６ｂのピン部１２６ａを受ける（図１８を参照）。ピストン１０６ａは別の対応リフト孔１６６ａと位置合わせされる。その結果、ピストン１０６ａ、１０６ｂは圧盤アセンブリ１３４を通って対向物プレートアセンブリ１３６と係合する。上述したように、ピストン１０６ｂにはピン部がなくてもよい。
【０１３７】
リフト機構２６の位置合わせスタッド１２２は、圧盤１５４に形成されるスロット１８８と係合するように構成される（図１９を参照）。このように、スタッド１２２とスロット１８８は協働して圧盤１５４をリフト機構２６に対して位置合わせさせる。図示の実施形態において、圧盤アセンブリ１３４を対向物プレートアセンブリ１３６から切り離すのにリフト機構２６を用いる場合、圧盤アセンブリ１３４は、リフト機構２６のフレーム１０４にクランプ１０８で着脱可能に固定されることが好ましい。
【０１３８】
繰り返すが、リフト機構２６は対向物アセンブリ２４と共に用いられて、対向物プレートアセンブリ１３６を変位させて圧盤アセンブリ１３４から切り離す。リフト機構２６は、まず、ピストン１０６が格納された状態で、圧盤アセンブリ１３４と対向物プレートアセンブリ１３６をリフト機構２６に載置することで使用される。圧盤アセンブリ１３４と対向物プレートアセンブリ１３６は、必要に応じてリフト機構２６上で選択的に動かされて、ピストン１０６を対応リフト孔１６６ａ及びリフトスロット１４８ｂと位置合わせする。ピストン１０６を孔１６６ａ及びスロット１４８ｂと位置合わせするためにリフト機構２６を動かすことも許容されるが、チェースの移動の方が好ましい。その後、加圧空気がリフト機構２６に供給されて、それによりピストン１０６が突出して対向物プレートアセンブリ１３６と係合する。
【０１３９】
好ましくは、加圧空気が供給されてピストン１０６が突出して、それにより対向物プレートアセンブリ１３６が移動して圧盤アセンブリ１３４から切り離されることが好ましい。ピストン１０６が突出すると、対向物プレートアセンブリ１３６は磁気プラグ１５８から十分に間隔が空くため、ユーザは対向物プレートアセンブリ１３６を圧盤アセンブリ１３４に対して（例えば、すっかり離れた状態で）自由に動かすことができる。
【０１４０】
リフト機構２６はまた、圧盤アセンブリ１３４と対向物プレートアセンブリ１３６の位置合わせ及び係合を容易にするものとしても構成される。この工程は、加圧空気をリフト機構２６に供給してピストン１０６を突出位置で保持することから始まる。ピストン１０６が突出した状態では、対向物プレートアセンブリ１３６はピストン１０６上にあり、ユーザが対向物プレートアセンブリ１３６を圧盤アセンブリ１３４に対して横方向に自由にスライドさせられる程度に磁気プラグ１５８から離されている。
【０１４１】
プラグ１６０の頂部１８４が対応スロット１４８ａと位置合わせされた状態で、リフト機構２６内部の加圧空気の圧力を低下させて、（ピストン１０６に加えられるばね力と重力によって）ピストン１０６を格納させることができる。その結果、対向物プレートアセンブリ１３６は移動して圧盤アセンブリ１３４と係合し、磁気プラグ１５８が、圧盤アセンブリ１３４と対向物プレートアセンブリ１３６を互いとの係合状態に保持する磁気力を加える。
【０１４２】
このように、ダイアセンブリ２２と対向物アセンブリ２４は両者とも、着脱可能に磁気係合するように構成される。特に、ダイプレートアセンブリ３６は好ましくは磁気でチェースアセンブリ３４に固定され、対向物プレートアセンブリ１３６は好ましくは磁気で圧盤アセンブリ１３４に固定される。しかしながら、本発明のいくつかの態様では、ダイアセンブリ２２と対向物アセンブリ２４のうちのいずれかのみが図示の磁気結合を有してもよい。例えば、チェースアセンブリと圧盤アセンブリのうちの１つは、対応するダイプレート又は対向物プレートを、少なくとも一部分で非磁気的に（例えば従来型のトグルクランプ（図示せず）を用いて）支持するのに使用されてもよい。
【０１４３】
繰り返すが、リフト機構２６は、ある特定の時にダイアセンブリ２２と対向物アセンブリ２４のうちのいずれかと選択的に使用可能である。しかしながら、リフト機構２６は、アセンブリ２２及び２４の両方と同時に使用されるように構成することもできる。本発明の代替の態様では、アセンブリ２２及び２４はそれぞれ専用のリフト機構を有していてもよい。このような代替の状況では、各リフト機構は、両方のアセンブリ２２及び２４との使用が不可となるように、異なる構成を有していてもよい。
代替の実施形態
【０１４４】
図２１〜３２を参照すると、本発明の第２の好ましい実施形態が示される。簡略化のため、以下の説明では、この代替実施形態と上記で説明した好ましい実施形態との差異に主眼を置く。
【０１４５】
代替の平台印刷機２２０（図３０及び図３１を参照）は、被印刷体に熱箔押し、エンボス加工、又はデボス加工（又はそれらの組み合わせ）を行うのに使用される。さらに詳細に後述するように、印刷機２２０用のグラフィックアートダイアセンブリ２２２は、印刷機２２０の一部としての使用に向けて迅速且つ効率的に取付けられるように構成される。グラフィックアートダイアセンブリ２２２の構造によって、取付け中に、横方向に沿ったダイ位置の緻密な調節が可能となる。後述するように、マニホルド２２４と印刷機２２０とで印刷システム２２６を提供し、ダイ取付け工程を容易なものにする（図３０及び図３１を参照）。好ましくは、印刷機２２０はグラフィックアートダイアセンブリ２２２、グラフィックアート対向物構造体２２８、及び（支持構造体３０と同様の）往復式支持構造体を含む。
【０１４６】
図示の印刷機２２０は、本発明の範囲から逸脱することのない範囲で、枚葉印刷機とウエブ印刷機のいずれかから成り得る。グラフィックアート対向物構造体２２８は、グラフィックアートダイアセンブリ２２２に対して往復運動するように支持構造体に装着される。先の実施形態と同様に、構造体２２２及び２２８は、箔押し、エンボス加工、デボス加工、又はそれらの組み合わせを提供するように様々に構成され得る。
【０１４７】
図示の印刷機２２０はさらに、ダイアセンブリ２２２を支持するように構成された一対の支持アーム２３２ａ、２３２ｂを含む（図３０及び図３１を参照）。後述するように、ダイアセンブリ２２２は、印刷機２２０に設置される前又は印刷機２２０から取り外された後に、アーム２３２ａ、２３２ｂで一時的に支持され得る。
【０１４８】
図２１〜２９を参照すると、グラフィックアートダイアセンブリ２２２は、箔押し、エンボス加工、デボス加工、又はそれらの組み合わせを提供するために、グラフィックアート対向物構造体２２８と係合するように構成される。好ましくは、グラフィックアートダイアセンブリ２２はチェースアセンブリ２３４及びダイプレートアセンブリ２３６を含む。ダイプレートアセンブリ２３６は、磁気支持構造体で支持されるグラフィックアートプレートアセンブリの他の好ましい実施形態から成る（この支持構造体は好ましくはチェースアセンブリ２３４の形態である）。
【０１４９】
好ましくは、ダイプレートアセンブリ２３６はダイ支持プレート２３８及びグラフィックアートダイ２４０を含む。ダイ支持プレート２３８は、チェース係合面２４２、ダイ受け面２４４、外周縁部２４６、及び縁部２４６の内側に間隔を置いて配置されるスロット２４８を有する（図２１及び図２２を参照）。ダイ支持プレート２３８は、ダイ２４０に着脱可能に取付けられて面２４４上でダイ２４０を支持するように構成される。
【０１５０】
ダイ支持プレート２３８とチェースアセンブリ２３４を磁気係合させるため、ダイ支持プレート２３８は強磁性であることが好ましい。更に好ましくは、ダイ支持プレート２３８は、全体が炭素鋼等の強磁性材料から形成される。代替の実施形態において、ダイ支持プレート２３８は、非強磁性材料と、チェースアセンブリ２３４と磁気係合するための少なくとも何らかの強磁性材料とを含み得る。炭素鋼がダイ支持プレートの好ましい材料ではあるが、ダイ支持プレートはその代わり又はそれに加えて、本発明の原則から逸脱することのない範囲で１つ以上の代替材料（例えばステンレス鋼又はアルミニウム）を含んでいてもよい。
【０１５１】
好ましくは、ダイプレートアセンブリ２３６はさらに、ダイ支持プレート２３８に溶接されるとともに面２４４から突出する複数のねじ付きスタッド２５０を含む。ダイプレートアセンブリ２３６はさらに、スタッド２５０に取外し可能に螺合される複数のねじ付きナット２５２を含む（図２３及び図２４を参照）。スタッド２５０及びナット２５２は、グラフィックアートダイ２４０をダイ支持プレート２３８上に固定するのに用いられる。本発明の原則に従って、代替のダイ支持プレートが提供されてもよい。
【０１５２】
図２３〜図２６を参照すると、各グラフィックアートダイ２４０は彫刻グラフィックアートダイから成ることが好ましいが、本発明の原則はグラフィックアートダイ２４０が抜き型から成る場合にも適用できる。
【０１５３】
ダイ４０と同様に、グラフィックアートダイ２４０は、機械加工縁部２５４、深座ぐり穴２５６、及び彫刻面２５８を有する（図２４を参照）。好ましくは、彫刻面２５８はグラフィックアートダイ２４０を彫刻して形成され、彫刻面２５８がイメージしるし２６０を画定している。グラフィックアートダイ２４０はまた、彫刻面２５８を囲む略平坦な背景面２６２を有する。
【０１５４】
深座ぐり穴２５６はスタッド２５０を受けるように構成され、ナット２５２は背景面２６２を超えて穴２５６の外に突出しないように座ぐりに収容される。好ましくは、穴２５６はしるし２６０の近辺に、そこから間隔を置いて配置される。
【０１５５】
再度図２１〜図２９を参照すると、チェースアセンブリ２３４は、グラフィックアートプレートアセンブリを支持する磁気支持構造体の別の好ましい実施形態である。図示の実施形態において、好ましくは、チェースアセンブリ２３４はダイプレートアセンブリ２３６を着脱可能に支持する。詳細に後述するように、ダイプレートアセンブリ２３６はチェースアセンブリ２３４に磁気で固定されることが好ましい。しかしながら、本発明のいくつかの態様において、チェースアセンブリは、ダイプレートを少なくとも一部分で非磁気的に（例えば従来型のトグルクランプ（図示せず）を用いて）支持するのに使用されてもよい。好ましくは、チェースアセンブリ２３４はチェース２６４、裏当てプレート２６６、磁気プラグ２６８、及び位置合わせプラグ２７０を含む（図２１、図２２及び図２７〜図２９を参照）。
【０１５６】
図示のチェース２６４は、グラフィックアートダイ２４０を調節可能に支持する従来型のハニカムチェース構造体から成る。チェース２６４は一体型であり、両側のチェース面２７２、２７４、及び等間隔で配列された貫通孔２７６を有する（図２５〜図２９を参照）。孔２７６は、面２７２及び面２７４と交差してチェース開口部２７８、２８０を画成する（図２５〜図２７を参照）。
【０１５７】
各孔２７６は、段部２８２を有する深座ぐり穴から成る（図２５〜図２７を参照）。後述するように、穴２７６のうちのいくつかにはプラグ２６８、２７０が取外し可能に挿入される。さらに、他の孔２７６は、裏当てプレート２６６の対応開口部と整合する大きさ及び配置で形成される。
【０１５８】
本発明のいくつかの態様について、チェース２６４はチェース上に１つ以上のダイを装着する代替の特徴を含むことができる。例えば１つ以上のダイは、（例えば、細い巻き取り紙用チェースでは慣習となっているように、）ねじ付き締め具で直接チェースに取り付けられてもよい。このような代替の構成において、チェースは、ダイを直接チェースに固定するためのねじ付き締め具を受ける１つ以上のねじ付き開口部を有していてもよい。
【０１５９】
図２７及び図２９を参照すると、磁気プラグ２６８は、ダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４と係合した状態で磁気で着脱可能に保持するように機能する。各磁気プラグ２６８は、好ましくは、スリーブ２８４、及びスリーブ２８４に固定された永久磁石２８６を含む（図２７を参照）。図示のスリーブ２８４は、段部２９０を備えた外周側面２８８を有する（図２７を参照）。磁気プラグ２６８は、１つのチェース開口部２８０を通って対応孔２７６にスライド可能に受けられるような大きさと形状に形成される。
【０１６０】
磁気プラグ２６８が孔２７６内に配置されると、段部２８２と段部２９０が互いに当たり、磁気プラグ２６８のチェース開口部２７８方向への移動を制限するように機能する。
【０１６１】
好ましくは、永久磁石２８６は高温サマリウムコバルト材で形成される。スリーブ２８４は炭素鋼材から成ることが好ましいが、本発明の範囲から逸脱することのない範囲で、代替材料（例えば、ステンレス鋼、アルミニウム、合成樹脂等）を含んでいてもよい。各磁石２８６は接着材（図示せず）でスリーブ２８４に接着されるのが好ましいが、磁石２８６とスリーブ２８４は代替的に互いに固定されてもよい。
【０１６２】
図２８及び図２９を参照すると、位置合わせプラグ２７０は、ダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４上に配置してそれら間の横方向移動を制限するように機能する。各位置合わせプラグ２７０は段部２９４を備えた外周側面２９２を有し、さらに軸線位置合わせピン部２９６を含む（図２８を参照）。位置合わせプラグ２７０は、１つのチェース開口部２８０を通って対応孔２７６にスライド可能に受けられるような大きさと形状に形成される。
【０１６３】
位置合わせプラグ２７０が対応孔２７６に配置されると、段部２８２と段部２９４が互いに当たり、位置合わせプラグ２７０のチェース開口部２７８方向への移動を制限するように機能する（図２８を参照）。
【０１６４】
図示のチェースアセンブリ２３４は、ダイ支持プレート２３８の４つのスロット２４８と整合してそこに挿入されるように構成された４つの位置合わせプラグ７０を含む。特に、位置合わせプラグ２７０のピン部２９６はスロット２４８に取外し可能に受けられて、それによりダイプレートアセンブリ２３６はチェースアセンブリ２３４のチェース面２７２との係合状態への移行及び解消が可能となる。チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６が係合すると、スロット２４８と位置合わせプラグ２７０が協働して、ダイプレートアセンブリ２３６がチェースアセンブリ２３４のチェース面２７２に沿って横方向にスライド移動するのを制限する。
【０１６５】
図示のプラグ２６８、２７０のプラグ径は、孔２７６の直径に対して、孔２７６内にぴったりと嵌ってそこで横方向に移動しない（即ち、各プラグ２６８、２７０が対応孔の軸線に対して横方向に移動しない）ような大きさにされる。少なくともいくつかの用途において、プラグ２６８、２７０は圧入（又は同様の嵌め合い）で孔２７６に固定されてもよい。
【０１６６】
図２１、図２２及び図２５〜図２８を参照すると、裏当てプレート２６６は、好ましくはプラグ２６８、２７０を孔２７６の内部に固定する。図示の裏当てプレート２６６は一体型であり、両側のプレート面２９８、３００及びプレート開口部３０２を有する。チェース２６４と同様に、裏当てプレート２６６は炭素鋼を含むことが好ましいが、本発明の範囲から逸脱することのない範囲で、代替材料（例えば、ステンレス鋼、アルミニウム、合成樹脂等）で形成することもできる。また、裏当てプレート６６は強磁性材料や非強磁性材料から形成することもできる。強磁性材料が使われる場合、チェース２６４と裏当てプレート１６６はチェースアセンブリ２３４の使用を妨げないように構成及び設計される。
【０１６７】
裏当てプレート２６６はチェース面２７２にねじ３０４で着脱可能に固定されることが好ましいが、裏当てプレート２６６はチェース２６４に代替的に取り付けることもできる（図２１及び図２２を参照）。また、裏当てプレート２６６を代替的に（例えばプラグ２６８、２７０を孔２７６内に保持するように）構成できることも理解されよう。しかしながら、本発明のいくつかの態様において、チェースアセンブリは裏当てプレートを有さなくてもよい。
【０１６８】
好ましくは、裏当てプレート２６６とチェース２６４が協働してプラグ２６８、２７０を捕えてプラグが孔２７６から抜け落ちないようにする（図２７を参照）。図示の実施形態において、プラグ２６８、２７０は、孔２７６の内部でわずかなプラグ移動が許容されるように緩く装着される（好ましくは、軸方向の移動のみが許容され、径方向にはプラグが孔に挿入されるのを妨げない程度）。しかしながら、プラグ２６８、２７０が代替的にチェースアセンブリ２３４の一部として支持される場合も、本発明の範囲内となる。例えば、プラグ２６８、２７０はチェース２６４に固定されてもよい（例えばプラグ２６８、２７０はチェース２６４に接着又は溶接される）。同様に、プラグ２６８、２７０は裏当てプレート２６６に固定されてもよい（例えばプラグ２６８、２７０は裏当てプレート２６６のプレート面２９８に接着又は溶接される）。
【０１６９】
図示の実施形態は磁石２８６を備えたチェース２６４を提供するものだが、本発明のある態様では、チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６を着脱可能に磁気で相互結合するための代替手段が想定される。例えば、いくつかの代替の実施形態においては、ダイプレートアセンブリに磁石が設けられ、チェースアセンブリの少なくとも一部が強磁性材料から形成され得る。本発明のある態様では、両方のアセンブリが磁石を有していてもよい。この代替案において、各アセンブリの磁石は、他方のアセンブリの強磁性部やインサートと対応付けされていてもよい。
【０１７０】
本発明のいくつかの態様においては、スロット２４８と位置合わせプラグ２７０の向きが逆であってもよい。例えば、チェースアセンブリ２３４には代替的にスロットが設けられるとともに、ダイプレートアセンブリ２３６がそのチェーススロットに挿入される補完位置合わせプラグ（又はピン）を含み、チェース位置合わせ要素がプラグではなくスロットから成るようにしてもよい。さらに、チェースアセンブリとダイプレートアセンブリのそれぞれにプラグとスロットの両方が設けられ、他方のアセンブリの補完スロット及び補完プラグと協働するようにしてもよい。
【０１７１】
上述したように、孔２７６のうちのいくつかは、裏当てプレート２６６の対応プレート開口部３０２に整合した大きさ及び位置に形成されることが好ましい。後述するように、位置合わせされた孔２７６と開口部３０２は、好ましくはマニホルド２２４のリフトピンとも位置合わせされてリフトピンを受ける（図２６を参照）。
【０１７２】
チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６は、チェース２６４の面に沿って間隔を置いて配置された磁気プラグ２６８を用いて磁気的に相互結合されることが好ましい。しかしながら、上述したように、１つ以上のダイは従来型のトグルクランプ（図示せず）でチェースアセンブリ２３４に固定されてもよい。図示のチェース２６４は特に、トグルクランプがチェース２６４の対応孔２７６内に着脱可能に固定されて、１つ以上のダイ及び／又は１つ以上のダイを支持するダイ支持プレートと機械的に係合できるように構成されている。
【０１７３】
繰り返すが、ダイプレートアセンブリ２３６は、チェースアセンブリ２３４のチェース面２７２との係合状態への移行及び解消が可能なように構成される。好ましくは、チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６が係合すると、スロット２４８と位置合わせプラグ２７０が協働して、ダイプレートアセンブリ２３６がチェースアセンブリ２３４のチェース面２７２に沿って横方向にスライド移動するのを制限する。磁気プラグ２６８は、ダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４と係合した状態で着脱可能に保持するように機能する。
【０１７４】
図２１〜図２３及び図２６〜図２８を参照すると、ダイプレートアセンブリ２３６とチェースアセンブリ２３４の相対的変位は、好ましくはマニホルド２２４で制御される（アセンブリ２３４とアセンブリ２３６がマニホルド２２４と結合している場合）。後述するように、マニホルド２２４のリフトピン３０６は加圧空気によって選択的に駆動され、ダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ３４から離れる方向に変位させるように構成される（図２５及び図２６を参照）。
【０１７５】
チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６は、互いに対して固定されると、一体となって印刷機２２０で使用される薄型グラフィックアートダイアセンブリ２２２を提供する。つまり、チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６は一体となって、この組合せが適切に印刷機２２０に取付け及び取外しできるようなコンパクトな最大アセンブリ高さ寸法を有する。チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６を印刷機に同時に取付けるか順々に取付けるかにかかわらず、この利点は該当する。
【０１７６】
図示のマニホルド２２４は代替のリフト機構から成り、好ましくは本体３０８、蓋部３１０、ばね３１２、及びリフトピン３０６を含む（図２５及び図２６を参照）。本体３０８は一体型であり、両側のマニホルド面３１４、３１６を有する。本体はまた、マニホルド面３１４と交差する、配列された受け部３１８を有する（図２５及び図２６を参照）。本体３０８はさらに、圧縮空気を受け部３１８へと運ぶために受け部３１８と流体連通する側方孔３２０を有する。孔３２０は本体３０８の側面と交差して、そこに流体口３２２を有する（図２３を参照）。
【０１７７】
各受け部３１８は、好ましくは１つの蓋部３１０と１つのリフトピン３０６を収容する。図示の蓋部３１０は本体３０８と螺合する。
【０１７８】
リフトピン３０６は、ピストン端部３２４及び反対側のリフト端部１２６を有する（図２５及び図２６を参照）。ピストン端部３２４はリフト面３２４ａ及び格納面３２４ｂを有する（図２５及び図２６を参照）。
【０１７９】
蓋部３１０は、リフトピン３０６とばね３１２を収容するチャンバ３２８を画成する。ピストン端部３２４は環状溝３２９を有する。ピストン端部３２４は摺動可能にチャンバ３２８に収容され、蓋部１１０の側壁３３０と係合する（図２５及び図２６を参照）。リフトピン３０６は、格納位置（図２５を参照）と突出位置（図２６を参照）との間で、受け部３１８に対して軸方向に摺動するように動作する。
【０１８０】
格納位置では、各リフトピン３０６は本体３０８の対応受け部３１８に完全に収容されることが好ましい。しかしながら、本発明のいくつかの態様においては、格納位置でリフトピン３０６の一部が受け部３１８から突出していてもよい。
【０１８１】
突出位置では、各リフトピン３０６は受け部３１８の内外に突出し、よってリフト端部３２６は受け部３１８から離れる。
【０１８２】
図示のばね３１２は、好ましくは対応ピン３０６を格納するのに使用される。好ましくは、ばね３１２はリフトピン３０６に装着され、蓋部３１０とピストン端部３２４の間の環状空間に配置される。ばね３１２は、好ましくはリフトピン３０６を格納位置に付勢する。
【０１８３】
図示のマニホルド２２４において、リフトピン３０６は、圧縮空気源（図示せず）から供給される加圧空気を使って選択的に突出させられる。加圧空気が孔３２０及びリフト面３２４ａに供給されると、好ましくは、加圧空気によってリフトピン３０６と蓋部３１０間の滑り接触に伴う摩擦力を圧倒するリフト力が生成されて、リフトピン３０６を突出位置に変位させる。さらに、リフトピン３０６が移動し、蓋部３１０と協働してばね３１２を圧縮すると、好ましくは、リフト力がばね力も圧倒してリフトピン３０６を突出位置に変位させる。
【０１８４】
上述したように、孔２７６のうちのいくつかは、好ましくは裏当てプレート２６６の対応プレート開口部３０２と整合した位置に形成される。位置合わせされた孔２７６と開口部３０２は、好ましくはマニホルド２２４のリフトピン３０６とも位置合わせされてリフトピン３０６を受ける（図２６を参照）。その結果、リフトピン３０６はチェースアセンブリ２３４を通ってダイプレートアセンブリ２３６と係合する。
【０１８５】
図示の実施形態において、ダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４から切り離すのにマニホルド２２４を用いる場合、チェースアセンブリ２３４がマニホルド２２４に載置され、主に重力で所定位置に保持されることが好ましい。チェースアセンブリ２３４がマニホルド２２４に載置された状態で、プレート面３００の全体がマニホルド２４と接触している様子が描かれている。
【０１８６】
繰り返すが、マニホルド２２４はダイアセンブリ２２２と共に用いられて、ダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４から切り離す。マニホルド２２４は、まず、リフトピン３０６が格納された状態で、チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６をマニホルド２２４に載置することで使用される（図２５を参照）。チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６は、必要に応じてマニホルド２２４上で選択的に動かされて、リフトピン３０６を対応孔２７６及び開口部３０２と位置合わせする。
【０１８７】
好ましくは、加圧空気が供給されてリフトピン３０６が突出して、それによりダイプレートアセンブリ２３６が移動してチェースアセンブリ２３４から切り離されることが好ましい。リフトピン３０６が突出すると、ダイプレートアセンブリ２３６は磁気プラグ６８から十分に間隔が空くため、ユーザはダイプレートアセンブリ２３６を、チェースアセンブリ２３４からすっかり離れた状態で自由に動かすことができる。
【０１８８】
第１の実施形態と同様に、マニホルド２２４はまた、チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６の位置合わせ及び係合を容易にするものとしても構成される。この工程は、加圧空気をマニホルド２２４に供給してリフトピン３０６を突出位置に保持することから始まる（図２６を参照）。リフトピン３０６が突出した状態では、ダイプレートアセンブリ２３６はリフトピン３０６上にあり、ユーザがダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４に対して横方向に自由にスライドさせられる程度に磁気プラグ２６８から離される。
【０１８９】
位置合わせピン部２９６が対応スロット２４８と位置合わせされた状態で、マニホルド２２４内部の加圧空気の圧力を低下させて、（リフトピン３０６に加えられるばね力と重力によって）リフトピン３０６を格納させることができる。その結果、ダイプレートアセンブリ２３６は移動してチェースアセンブリ２３４と係合し、磁気プラグ２６８が、チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６を互いとの係合状態に保持する磁気力を加える。
【０１９０】
第１の実施形態と同様に、チェースアセンブリ２３６の様々な特徴（磁気プラグ及び位置合わせプラグを含む）は対向物構造体にも組み込まれる。例えば、対向物構造体の圧盤は、チェースと同様の圧盤本体を含むように構成することができる。また、このような代替の圧盤は、チェースアセンブリ２３６と同様の磁気プラグと位置合わせプラグを含むように構成することができる。
【０１９１】
図３０及び図３１を参照すると、印刷機２２０はさらに、印刷作業中にダイアセンブリ２２２と対向物構造体２２８を収容する印刷機ハウジング３３２を含む。印刷機ハウジング３３２は、ユーザの手が、印刷機ハウジング３３２内部のダイアセンブリ２２２と対向物構造体２２８に届くようにする、印刷機開口部３３４（図３１を参照）を有する。
【０１９２】
図３０及び図３１に示す一つの好ましい実施形態において、ダイアセンブリ２２２とマニホルド２２４は支持アーム２３２ａ、２３２ｂで一時的に支持される。各支持アーム２３２ａ、２３２ｂは、好ましくは印刷機ハウジング３３２に対して片持ち梁状に支えられた剛性アーム構造体を含む。図示の実施形態において、支持アーム２３２ａ、２３２ｂは印刷機開口部３３４を通って延び、印刷機開口部３３４から横方向且つ外側に向けて突出する。図示の支持アーム２３２ａ、２３２ｂは互いから間隔を置いて配置され、横方向に、互いに略平行に延びる。
【０１９３】
印刷機２２０が、印刷機ハウジング３３２に対して代替的に構成及び／又は配置された支持アームを含む場合も、本発明の範囲内となる。例えば、代替の支持アームは、支持アーム２３２ａ、２３２ｂの位置の上方、下方、あるいは側方に配置されてもよい。また、印刷機２２０が、ダイアセンブリ２２２とマニホルド２２４を一時的に支持するのに、片持ち梁状に支えられたアーム以外の構造体を含み得ることも理解されよう。後述するように、印刷システム２２６はまた、ダイアセンブリ２２２とマニホルド２２４を受ける、印刷機２２０からは完全に分離した支持構造体を含む。
【０１９４】
図示のマニホルド２２４は、支持位置において、支持アーム２３２ａにピボット３３６で回動可能に装着され、他方の支持アーム２３２ｂに取外し可能に固定される（図３１を参照）。支持位置において、ダイアセンブリ２２２は印刷機開口部３３４に隣接したマニホルド２２４とアーム２３２ａ、２３２ｂで一時的に支持されて、それにより（例えば、印刷機２２０への設置前、又は印刷機２２０からの取外し後に）ダイアセンブリ２２２を印刷機２２０に運び込む、又はそこから運び出すのが簡便になる。
【０１９５】
マニホルド２２４は一方の支持アーム２３２ｂから切り離されて、支持位置から、マニホルド２２４が支持アーム２３２ａから垂下する収納位置に向けて、下方へと旋回することができる。マニホルド２２４は、格納されると、ユーザの手が印刷機開口部３３４を通して印刷機ハウジング３３２の内部へとさらに届きやすくなるような位置に置かれる。
【０１９６】
マニホルド２２４とダイアセンブリ２２２は、支持アーム以外の構造で印刷機開口部３３４の近くで支持され得ることが理解されよう。例えば、図示の印刷システム２２６はまた、好ましくは、印刷機２２０から分離しているとともに、マニホルド２２４とダイアセンブリ２２０を支持するように構成された自立型テーブル３３８を含む（図３２を参照）。テーブルは、テーブルフレーム３４０、及びフレーム３４０に回動可能に取り付けられた台３４２を含む。台３４２は、上向き位置（図３２を参照）と、台３４２が上向き位置から１８０度回転した反転位置（図示せず）との間で回動するように、軸３４４を中心として回動できる。ダイアセンブリ２２２とマニホルド２２４は、締付け構造（図示せず）によって着脱可能に台３４２に取り付けられる。
【０１９７】
台３４２は回動可能にフレーム３４０に取り付けられているので、ダイアセンブリ２２２とマニホルド２２４を、（例えば印刷機２２０への設置前に）選択的に反転することができる。さらに、（前述したように）リフトピンが一方のマニホルド面から突出し、他のリフトピンが反対側のマニホルド面から突出した代替のマニホルドを使用する場合、台３４２を回転させて、ダイアセンブリ２２２をマニホルドのどちら側にも便利に取り付けることができる。
【０１９８】
使用時には、マニホルド２２４は、ダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４から切り離すように動作する。チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６はマニホルド２２４上に置かれて動かされ、リフトピン３０６を対応孔２７６及び開口部３０２に位置合わせする。加圧空気がマニホルド２２４に供給されてリフトピン３０６が突出し、リフトピン３０６によってダイプレートアセンブリ２３６が動かされてチェースアセンブリ２３４から切り離される。
【０１９９】
マニホルド２２４はまた、チェースアセンブリ２３４とダイプレートアセンブリ２３６の位置合わせ及び係合を容易にするものとしても構成される。加圧空気がマニホルド２２４に供給されてリフトピン３０６が突出し、それによりダイプレートアセンブリ２３６をリフトピン３０６上に位置させることができる。必要に応じて、ユーザはダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４に対して横方向にスライドして、ダイプレートアセンブリ２３６とチェースアセンブリ２３４を位置合わせすることができる。その後、マニホルド２２４内部の加圧空気の圧力を低下させてリフトピン３０６を格納させ、ダイプレートアセンブリ２３６をチェースアセンブリ２３４としっかり係合するように動かすことができる。
【０２００】
上記は本発明の好ましい実施形態の特徴を提示するものだが、本発明の原則を踏まえて、他の好ましい実施形態もまた作成され得る。そのような他の好ましい実施形態は、例えば、上述の実施形態のうちの一つ又は複数から得た特徴を備え得る。さらに、そのような他の好ましい実施形態は、特に、上述した複数の実施形態の特徴が上記で別々の実施形態の一部として個別に示されてはいるが併用しても問題ない場合に、そのような特徴を含み得る。
【０２０１】
上述した本発明の好ましい形態は単なる例示に使用されるものであり、本発明の範囲を解釈する際に限定的な意味で用いられてはならない。当業者は、ここに記載された例示的な実施形態への明らかな変更を、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において容易に加えることができる。
【０２０２】
本発明者らは、以下の請求項に記載の本発明の文言上の範囲から実質的に逸脱しないが、その範囲外である任意の装置に関するものであるため、本発明の合理的に公正な範囲を判断および評価するために均等論に依拠するものであることをここに述べる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図７ａ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１７ａ】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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