(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（５）の化合物の製造方法であって、以下の工程iiiを含む方法であり、工程iiiの反応が０〜５０のアクセプター数を有する有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われ、
工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１個以上の有機溶媒である方法：
（工程iii）  金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する工程；
0006920572.tif 000112
（ここで、式（４）及び式（５）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又は
Ｒ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよい。）。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、１０〜７０ｗｔ％過酸化水素水溶液である方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒及びニオブ触媒から選ばれる方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウムである方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の方法であって、
式（４）中、
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルであり、
Ｒ３が１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【請求項９】
請求項１に記載の式（５）の化合物の製造方法であって、工程iiiの前に以下の工程iiを更に含む方法：
（工程ii）  塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程；
0006920572.tif 000113
（ここで、式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記で定義した通りであり、
Ｘ１は脱離基であり、
式（３）中、
Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りであり、
Ｘ２は酸を形成する原子又は原子団であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、工程iiの塩基が、アルカリ金属水酸化物類である方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウムである方法。
【請求項１２】
請求項９から１１のいずれか１項に記載の方法であって、
式（２）中、
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルであり、
Ｒ３が１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｘ１が塩素原子又は臭素原子であり、
式（３）中、
Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｘ２が塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ又はそれらの２個以上の混合物であり、式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【請求項１３】
請求項９から１１のいずれか１項に記載の方法であって、
式（２）中、
Ｒ１がメチルであり、
Ｒ２がトリフルオロメチルであり、
Ｒ３がジフルオロメチルであり、
Ｘ１が塩素原子であり、
式（３）中、
Ｒ４及びＲ５がメチルであり、
Ｘ２が塩素原子、臭素原子又はそれらの混合物であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【請求項１４】
請求項９から１３のいずれかに記載の方法であって、工程iiの前に以下の工程iを更に含む、方法：
（工程i）  式（１）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式（２）の化合物を製造する工程；
0006920572.tif 000114
（ここで、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、請求項１で定義した通りであり、
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、請求項１で定義した通りであり、Ｘ１はハロゲン原子である。）。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素化剤である方法。
【請求項１６】
請求項１４に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩化チオニルである方法。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載の方法であって、
式（１）中、
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルであり、
Ｒ３が１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記で定義した通りであり、
Ｘ１が塩素原子である、方法。
【請求項１８】
請求項１５又は１６に記載の方法であって、
式（１）中、
Ｒ１がメチルであり、
Ｒ２がトリフルオロメチルであり、
Ｒ３がジフルオロメチルであり、
式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記で定義した通りであり、
Ｘ１が塩素原子である、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、除草剤として有用なスルホン誘導体、すなわち下記式（５）の化合物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【化１】
0006920572.tif 000002
【０００３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、本明細書中に記載の通りである。）
【背景技術】
【０００４】
上記式（５）のスルホン誘導体は、WO2002/062770A1（特許文献１）に開示されているように、除草活性を有することが知られている。その中でも、ピロキサスルホン（Pyroxasulfone）は優れた除草剤としてよく知られている。
【０００５】
式（５）の化合物の製造方法としては、スルフィド誘導体、すなわち式（４）の化合物の酸化による方法が知られており、これを以下に示す。
【０００６】
【化２】
0006920572.tif 000003
【０００７】
下図に示すように、WO2004/013106A1（特許文献２）参考例３には、３−(５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（４−ａ）（ＩＳＦＰ）を、ｍ−クロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）により酸化して３−(５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメタンスルホニル)−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（５−ａ）（Pyroxasulfone）を製造する方法が記載されている。
【０００８】
【化３】
0006920572.tif 000004
【０００９】
また、WO2004/013106A1（特許文献２）及び特表2008-544966（US2007/015805A1に相当）（特許文献９）には、式（４−ａ）の化合物の製造方法が記載されている。しかしながら、WO2004/013106A1（特許文献２）及び特表2008-544966（US2007/015805A1）（特許文献９）に記載の方法には、収率が悪い、出発物質の調製が効率的ではないなど、複数の課題があった。
【００１０】
一方で、式（４−ａ）の化合物の調製は、WO2005/095352A1（特許文献３）及びWO2005/105755A1（特許文献４）にも開示されており、これらを以下に示す。
【００１１】
【化４】
0006920572.tif 000005
【００１２】
WO2005/095352A1（特許文献３）とWO2005/105755A1（特許文献４）に記載の方法は、WO2004/013106A1（特許文献２）及び特表2008-544966（US2007/015805A1）（特許文献９）に記載の式（４−ａ）の化合物の調製における問題を解決した、優れた方法である。一方、中間体（上図中のＩＳＨＰ）の感作性のために特殊な製造装置（密閉系の装置）を必要とするため、この方法には未だ改善の余地がある。
【００１３】
さらなる問題として、式（４）の化合物から式（５）の化合物を製造する方法において、WO2004/013106A1（特許文献２）に記載のｍ−クロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）は工業的な用途としては高価であり、且つ取り扱い及び廃棄物に問題を有する。従って、WO2004/013106A1（特許文献２）に記載の製造方法は工業的な規模での製造には実用的でない。
【００１４】
また、式（４）の化合物（スルフィド誘導体：Ｓ誘導体）から式（５）の化合物（スルホン誘導体：ＳＯ２誘導体）を製造する方法において、酸化反応の中間体であるスルホキシド誘導体（ＳＯ誘導体）、すなわち下記式（６）： 
【００１５】
【化５】
0006920572.tif 000006
【００１６】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、本明細書中に記載の通りである。）
の化合物で反応が停止してしまう可能性がある。従って、式（６）の化合物が副生成物として生成物中に残存することがある。除草剤などの製品中に混入した式（６）の化合物は、品質の低下及び作物に対する薬害の可能性につながる。しかし、式（６）の化合物の物理的性質及び化学的性質は、式（５）の化合物のそれらと極めて似ているから、式（６）の化合物を分離して式（５）の化合物を精製することが困難である。従って、式（４）の化合物から式（５）の化合物を製造する方法においては、酸化反応が十分に進行し、生成物中に式（６）の化合物が実質的に残存しない製造方法が求められている。
【００１７】
特許文献７（特表２０１３−５１２２０１）（JP2013-512201A）は、特許文献１０（US2012/264947A1）に対応する。
【００１８】
特許文献９（特表２００８−５４４９９６）（JP2008-544996A）は、特許文献１１（US2007/015805A1）に対応する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１９】
【特許文献１】国際公開第２００２／０６２７７０号
【特許文献２】国際公開第２００４／０１３１０６号
【特許文献３】国際公開第２００５／０９５３５２号
【特許文献４】国際公開第２００５／１０５７５５号
【特許文献５】国際公開第２００７／０９４２２５号
【特許文献６】国際公開第２００６／０６８０９２号
【特許文献７】特表２０１３−５１２２０１号公報
【特許文献８】国際公開第２０１９／１３１７１５号
【特許文献９】特表２００８−５４４９９６号公報
【特許文献１０】米国特許出願公開第２０１２／２６４９４７号明細書
【特許文献１１】米国特許出願公開第２００７／０１５８０５号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
本発明の目的は、式（４）の化合物の製造方法であって、安全に且つ簡便に式（４）の化合物を製造でき、収率に優れる、新規な工業的に好ましい製造方法を提供することである。
【００２１】
本発明のさらなる目的は、式（４）の化合物から式（５）の化合物を製造する方法であって、生成物中の式（６）の化合物の割合が十分に低く、収率に優れ、工業的な規模での製造に有利な、工業的に好ましい製造方法を提供することである。
【００２２】
本発明のさらなる目的は、ピロキサスルホン（式（５−ａ）の化合物）を含有する農薬製剤であって、改善された農薬製剤を提供することである。すなわち、本発明は、水に希釈する際に継粉を生じない、ピロキサスルホンを含有する固形製剤の提供を目的とし、また、散布液がハードケーキを形成しない、ピロキサスルホンを含有する液体製剤の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明者らは、鋭意研究の結果、下記工程iiに示す通り、塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させることにより式（４）の化合物を効率よく製造できることを見出した。この知見に基づき、本発明者らは本発明を完成させた。
【００２４】
【化６】
0006920572.tif 000007
【００２５】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ１及びＸ２は、本明細書中に記載の通りである。）
【００２６】
更に、本発明者らは、式（４）の化合物から式（５）の化合物を製造する方法において、過酸化水素−タングステン触媒の反応系において過酸化水素を過剰量用いても、意外にも、完全に酸化されていない反応中間体である式（６）の化合物が生成物中に残留することを見出した（参考例参照）。一方で、水とある種の有機溶媒の混合溶媒中で金属触媒の存在下、過酸化水素との反応を行うことにより、酸化反応を十分に進行させることができることを見出した。この知見に基づき、本発明者らは式（６）の化合物が目的物に実質的に残存しない製造方法を完成させた。
【００２７】
本発明の一態様はさらに、ピロキサスルホン（式（５−ａ）の化合物）の新規な結晶とその製造方法を提供する。当該結晶は従来とは異なる特徴を有する粉末Ｘ線回折スペクトルを示し、良好な水和性及び再分散性を有する。
【００２８】
従来の、ピロキサスルホンを含有する農薬製剤は、ときとして物理化学的な不具合を示すことがあった。
【００２９】
具体的には、例えば、水和剤などの固体製剤において、散布液を調製するため製剤を水に希釈する際に、粉体が水となじむのが遅く、継粉（ｌｕｍｐｓ）が発生してしまう場合があった。均一な散布液を得ないと散布が行えないため、このようなときは継粉がほぐれるまで散布液を攪拌し続ける必要が生じ、その結果として農薬散布の作業時間が延びるため、不便である。
【００３０】
また、水性懸濁剤（ＳＣ）や油性懸濁剤（ＯＤ）のような液体製剤においても、これらの農薬製剤を散布するため水にといた希釈液は、調製後に攪拌を止めて固形分の堆積層が形成されると、攪拌を再開しても容易には再分散せず、均一な懸濁状態を回復できない場合があった。このような事態を防ぐためには、調製後の散布液は実際に散布を終えるまで攪拌を継続する必要があり、作業コスト的に不利である。
【００３１】
本発明のピロキサスルホンの結晶を用いて調製した農薬製剤は、前述の不具合が生じず、産業上有利である。
【発明の効果】
【００３２】
本発明は、式（４）の化合物の製造方法であって、安全に且つ簡便に式（４）の化合物を製造でき、収率に優れる、新規な製造方法を提供する。
【００３３】
更に、本発明は、式（４）の化合物（スルフィド誘導体：Ｓ誘導体）から式（５）の化合物（スルホン誘導体：ＳＯ２誘導体）を製造する方法であって、生成物中の式（６）の化合物（スルホキシド誘導体：ＳＯ誘導体）の割合が十分に低く、収率に優れ、工業的な規模での製造に有利な製造方法を提供する。本発明の方法で製造された式（５）の化合物は、除草剤としての品質の低下及び作物に対する薬害の原因になる可能性がある式（６）の化合物を実質的に含んでおらず、除草剤として有用である。
【００３４】
本発明の方法は、安価な原料を用いて大規模に実施可能であり、経済効率に優れ、工業的な規模での生産に適している。
【００３５】
本発明の一態様はさらに、農薬製剤の原料に適したピロキサスルホンの結晶を提供する。この結晶を用いて製剤化されたピロキサスルホンを含有する固形製剤は、水に希釈する際に継粉を生じず、実用上、便利である。また、この結晶を用いて製剤化されたピロキサスルホンを含有する液体製剤は、散布液のハードケーキ傾向が改善され、実用上、便利である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の一態様の方法で製造されたピロキサスルホンの結晶の、粉末Ｘ線回折スペクトルである。図に示された上下２つのチャートのうち、上側が透過法、下側が反射法で測定した粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図２】特許文献２に開示されている方法で製造したピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルである。図に示された上下２つのチャートのうち、上側が透過法、下側が反射法で測定した粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図３】特許文献７に開示されている方法で製造したピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルである。図に示された上下２つのチャートのうち、上側が透過法、下側が反射法で測定した粉末Ｘ線回折スペクトルである。
【図４】本発明の一態様のピロキサスルホンの結晶の検鏡写真である。
【図５】特許文献２に開示されている方法で製造したピロキサスルホンの結晶の検鏡写真である。
【図６】特許文献７に開示されている方法で製造したピロキサスルホンの結晶の検鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
一つの態様では、本発明は以下の通りである。
【００３８】
〔Ｉ−１〕  式（４）の化合物の製造方法であって、以下の工程iiを含む方法：
（工程ii）  塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程； 
【００３９】
【化７】
0006920572.tif 000008
【００４０】
（ここで、式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり、
Ｘ１は脱離基であり、
式（３）中、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又は
Ｒ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよく、
Ｘ２は酸を形成する原子又は原子団であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）。
【００４１】
〔Ｉ−２〕  〔Ｉ−１〕に記載の方法であって、工程iiの前に以下の工程iを更に含む、方法：
（工程i）  式（１）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式（２）の化合物を製造する工程； 
【００４２】
【化８】
0006920572.tif 000009
【００４３】
（ここで、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、〔Ｉ−１〕で定義した通りであり、
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、〔Ｉ−１〕で定義した通りであり、Ｘ１はハロゲン原子である。）。
【００４４】
〔Ｉ−３〕  〔Ｉ−１〕に記載の方法であって、式（２）の化合物が以下の工程iを含む方法により製造される方法：
（工程i）  式（１）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式（２）の化合物を製造する工程； 
【００４５】
【化９】
0006920572.tif 000010
【００４６】
（ここで、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、〔Ｉ−１〕で定義した通りであり、
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、〔Ｉ−１〕で定義した通りであり、Ｘ１はハロゲン原子である。）。
【００４７】
〔Ｉ−４〕  〔Ｉ−１〕に記載の方法であって、式（２）の化合物として、以下の工程iを含む方法により製造された式（２）の化合物を用いる方法：
（工程i）  式（１）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式（２）の化合物を製造する工程； 
【００４８】
【化１０】
0006920572.tif 000011
【００４９】
（ここで、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、〔Ｉ−１〕で定義した通りであり、
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、〔Ｉ−１〕で定義した通りであり、Ｘ１はハロゲン原子である。）。
【００５０】
〔Ｉ−５〕  〔Ｉ−１〕に記載の方法であって、工程iiの後に以下の工程iiiを更に含む、方法：
（工程iii）  金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する工程； 
【００５１】
【化１１】
0006920572.tif 000012
【００５２】
（ここで、式（４）及び式（５）中の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、〔Ｉ−１〕で定義した通りである。）
【００５３】
〔Ｉ−６〕  式（４）： 
【００５４】
【化１２】
0006920572.tif 000013
【００５５】
（ここで、式（４）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又は
Ｒ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよい。）。
の化合物の製造方法であって、以下の工程i及び工程iiを含む方法：
（工程i）  式（１）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式（２）の化合物を製造する工程； 
【００５６】
【化１３】
0006920572.tif 000014
【００５７】
（ここで、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記で定義した通りであり、
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記で定義した通りであり、Ｘ１はハロゲン原子である。）
（工程ii）  塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程； 
【００５８】
【化１４】
0006920572.tif 000015
【００５９】
（ここで、式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ１は上記で定義した通りであり、
式（３）中、Ｒ４及びＲ５は上記で定義した通りであり、Ｘ２は酸を形成する原子又は原子団であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）。
【００６０】
〔Ｉ−７〕  式（５）： 
【００６１】
【化１５】
0006920572.tif 000016
【００６２】
（ここで、式（５）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又は
Ｒ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよい。）。
の化合物の製造方法であって、以下の工程ii及び工程iiiを含む方法：
（工程ii）  塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程； 
【００６３】
【化１６】
0006920572.tif 000017
【００６４】
（ここで、式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記で定義した通りであり、Ｘ１は脱離基であり、
式（３）中、Ｒ４及びＲ５は上記で定義した通りであり、Ｘ２は酸を形成する原子又は原子団であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）
（工程iii）  金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する工程； 
【００６５】
【化１７】
0006920572.tif 000018
【００６６】
（ここで、式（４）及び式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）。
【００６７】
〔Ｉ−８〕  式（５）： 
【００６８】
【化１８】
0006920572.tif 000019
【００６９】
（ここで、式（５）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又は
Ｒ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよい。）。
の化合物の製造方法であって、以下の工程i、工程ii、及び工程iiiを含む方法：
（工程i）  式（１）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式（２）の化合物を製造する工程； 
【００７０】
【化１９】
0006920572.tif 000020
【００７１】
（ここで、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記で定義した通りであり、
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記で定義した通りであり、Ｘ１はハロゲン原子である。）
（工程ii）  塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程； 
【００７２】
【化２０】
0006920572.tif 000021
【００７３】
（ここで、式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記で定義した通りであり、Ｘ１はハロゲン原子であり、
式（３）中、Ｒ４及びＲ５は上記で定義した通りであり、Ｘ２は酸を形成する原子又は原子団であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）
（工程iii）  金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する工程； 
【００７４】
【化２１】
0006920572.tif 000022
【００７５】
（ここで、式（４）及び式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）。
【００７６】
〔Ｉ−９〕  式（５）の化合物の製造方法であって、以下の工程iiiを含む方法：
（工程iii）  金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する工程； 
【００７７】
【化２２】
0006920572.tif 000023
【００７８】
（ここで、式（４）及び式（５）中の、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又は
Ｒ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよい。）。
【００７９】
〔Ｉ−１０〕  〔Ｉ−９〕に記載の方法であって、式（４）の化合物が以下の工程iiを含む方法により製造される方法：
（工程ii）  塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程； 
【００８０】
【化２３】
0006920572.tif 000024
【００８１】
（ここで、式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記で定義した通りであり、Ｘ１は脱離基であり、
式（３）中、Ｒ４及びＲ５は上記で定義した通りであり、Ｘ２は酸を形成する原子又は原子団であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）
【００８２】
〔Ｉ−１１〕  〔Ｉ−９〕に記載の方法であって、式（４）の化合物として、以下の工程iiを含む方法により製造された式（４）の化合物を用いる方法：
（工程ii）  塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程； 
【００８３】
【化２４】
0006920572.tif 000025
【００８４】
（ここで、式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記で定義した通りであり、Ｘ１は脱離基であり、
式（３）中、Ｒ４及びＲ５は上記で定義した通りであり、Ｘ２は酸を形成する原子又は原子団であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。
【００８５】
〔Ｉ−１２〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−１１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素化剤である方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００８６】
〔Ｉ−１３〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−１１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩化スルホニル、ホスゲン又は塩化ベンゾイルである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００８７】
〔Ｉ−１４〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−１１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン又はオキシ塩化リンである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００８８】
〔Ｉ−１５〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−１１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩化チオニルである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００８９】
〔Ｉ−１６〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−１５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤の使用量が、式（１）の化合物１モルに対して、１．０〜２．０モルである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００９０】
〔Ｉ−１７〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−１５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤の使用量が、式（１）の化合物１モルに対して、１．０〜１．１モルである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００９１】
〔Ｉ−１８〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−１７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が、触媒の非存在下で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００９２】
〔Ｉ−１９〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−１７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が、触媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００９３】
〔Ｉ−２０〕  〔Ｉ−１９〕に記載の方法であって、触媒がアミド類である方法。
【００９４】
〔Ｉ−２１〕  〔Ｉ−１９〕に記載の方法であって、触媒がＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである方法。
【００９５】
〔Ｉ−２２〕  〔Ｉ−１９〕から〔Ｉ−２１〕のいずれか１項に記載の方法であって、触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０〜０．１モルである方法。
【００９６】
〔Ｉ−２３〕  〔Ｉ−１９〕から〔Ｉ−２１〕のいずれか１項に記載の方法であって、触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．００１〜０．１モルである方法。
【００９７】
〔Ｉ−２４〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−２３〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が、溶媒の非存在下で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００９８】
〔Ｉ−２５〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−２３〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が、溶媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【００９９】
〔Ｉ−２６〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１００】
〔Ｉ−２７〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１０１】
〔Ｉ−２８〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１０２】
〔Ｉ−２９〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１０３】
〔Ｉ−３０〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１０４】
〔Ｉ−３１〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１０５】
〔Ｉ−３２〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１０６】
〔Ｉ−３３〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１０７】
〔Ｉ−３４〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１０８】
〔Ｉ−３５〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
ジクロロメタン又はアセトニトリルである方法。
【０１０９】
〔Ｉ−３６〕  〔Ｉ−２５〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
アセトニトリルである方法。
【０１１０】
〔Ｉ−３７〕  〔Ｉ−２５〕から〔Ｉ−３６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応で使用される有機溶媒の量が、式（１）の化合物１モルに対して、０〜２リットルである方法。
【０１１１】
〔Ｉ−３８〕  〔Ｉ−２５〕から〔Ｉ−３６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応で使用される有機溶媒の量が、式（１）の化合物１モルに対して、０〜１．５リットルである方法。
【０１１２】
〔Ｉ−３９〕  〔Ｉ−２５〕から〔Ｉ−３６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応で使用される有機溶媒の量が、式（１）の化合物１モルに対して、０．４〜２リットルである方法。
【０１１３】
〔Ｉ−４０〕  〔Ｉ−２５〕から〔Ｉ−３６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応で使用される有機溶媒の量が、式（１）の化合物１モルに対して、０．６〜１．２リットルである方法。
【０１１４】
〔Ｉ−４１〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−４０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が−５℃〜８０℃で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【０１１５】
〔Ｉ−４２〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−４０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が０℃〜３０℃で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【０１１６】
〔Ｉ−４３〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−４２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が、１時間〜４８時間で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【０１１７】
〔Ｉ−４４〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−４２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が、１時間〜２４時間で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【０１１８】
〔Ｉ−４５〕  〔Ｉ−２〕から〔Ｉ−４２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iの反応が、２時間〜１２時間で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
【０１１９】
〔Ｉ−４６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの式（３）の化合物の使用量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．８〜１．５モルである方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２０】
〔Ｉ−４７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの式（３）の化合物の使用量が、式（２）の化合物１モルに対して、１．０〜１．５モルである方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２１】
〔Ｉ−４８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの式（３）の化合物の使用量が、式（２）の化合物１モルに対して、１．０〜１．１モルである方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２２】
〔Ｉ−４９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、アルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属炭酸塩類又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２３】
〔Ｉ−５０〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、アルカリ金属水化物類である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２４】
〔Ｉ−５１〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２５】
〔Ｉ−５２〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２６】
〔Ｉ−５３〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２７】
〔Ｉ−５４〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウムである方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２８】
〔Ｉ−５５〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基の使用量が、式（２）の化合物１当量に対して、１〜１０当量である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１２９】
〔Ｉ−５６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基の使用量が、式（２）の化合物１当量に対して、５〜１０当量である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１３０】
〔Ｉ−５７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基の使用量が、式（２）の化合物１当量に対して、５〜８当量である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１３１】
〔Ｉ−５８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの塩基の使用量が、式（２）の化合物１当量に対して、５〜６当量である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１３２】
〔Ｉ−５９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−５８〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が、有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０１３３】
〔Ｉ−６０〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、０〜５０のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
【０１３４】
〔Ｉ−６１〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、３〜４５のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
【０１３５】
〔Ｉ−６２〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、５〜４５のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
【０１３６】
〔Ｉ−６３〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、５〜３５のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
【０１３７】
〔Ｉ−６４〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、５〜３０のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
【０１３８】
〔Ｉ−６５〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、５〜２０のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
【０１３９】
〔Ｉ−６６〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、８〜２０のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
【０１４０】
〔Ｉ−６７〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される方法。
【０１４１】
〔Ｉ−６８〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１４２】
〔Ｉ−６９〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類、スルホン類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１４３】
〔Ｉ−７０〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１４４】
〔Ｉ−７１〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される方法。
【０１４５】
〔Ｉ−７２〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１４６】
〔Ｉ−７３〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１４７】
〔Ｉ−７４〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１４８】
〔Ｉ−７５〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される方法。
【０１４９】
〔Ｉ−７６〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１５０】
〔Ｉ−７７〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１５１】
〔Ｉ−７８〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１５２】
〔Ｉ−７９〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される方法。
【０１５３】
〔Ｉ−８０〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１５４】
〔Ｉ−８１〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１５５】
〔Ｉ−８２〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１５６】
〔Ｉ−８３〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類である方法。
【０１５７】
〔Ｉ−８４〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される方法。
【０１５８】
〔Ｉ−８５〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１５９】
〔Ｉ−８６〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１６０】
〔Ｉ−８７〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１６１】
〔Ｉ−８８〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類である方法。
【０１６２】
〔Ｉ−８９〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される方法。
【０１６３】
〔Ｉ−９０〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１６４】
〔Ｉ−９１〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される好ましくは１から５個の有機溶媒である方法。
【０１６５】
〔Ｉ−９２〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される好ましくは１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１６６】
〔Ｉ−９３〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１６７】
〔Ｉ−９４〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される方法。
【０１６８】
〔Ｉ−９５〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１６９】
〔Ｉ−９６〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１７０】
〔Ｉ−９７〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１７１】
〔Ｉ−９８〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１７２】
〔Ｉ−９９〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ４）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１７３】
〔Ｉ−１００〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ４）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１７４】
〔Ｉ−１０１〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される方法。
【０１７５】
〔Ｉ−１０２〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１７６】
〔Ｉ−１０３〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１７７】
〔Ｉ−１０４〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１７８】
〔Ｉ−１０５〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１７９】
〔Ｉ−１０６〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ４）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１８０】
〔Ｉ−１０７〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ４）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１８１】
〔Ｉ−１０８〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される方法。
【０１８２】
〔Ｉ−１０９〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０１８３】
〔Ｉ−１１０〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１又は２個の有機溶媒である方法。
【０１８４】
〔Ｉ−１１１〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１８５】
〔Ｉ−１１２〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１８６】
〔Ｉ−１１３〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１８７】
〔Ｉ−１１４〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１８８】
〔Ｉ−１１５〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１８９】
〔Ｉ−１１６〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１９０】
〔Ｉ−１１７〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１９１】
〔Ｉ−１１８〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１９２】
〔Ｉ−１１９〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１９３】
〔Ｉ−１２０〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１９４】
〔Ｉ−１２１〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個の有機溶媒である方法。
【０１９５】
〔Ｉ−１２２〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸ブチルから選択される１又は２個（好ましくは１個）の有機溶媒である方法。
【０１９６】
〔Ｉ−１２３〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
【０１９７】
〔Ｉ−１２４〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリルである方法。
【０１９８】
〔Ｉ−１２５〕  〔Ｉ−５９〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、酢酸ブチルである方法。
【０１９９】
〔Ｉ−１２６〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１２５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応の溶媒の全使用量が、式（２）の化合物１モルに対して、１〜３リットルである方法。
【０２００】
〔Ｉ−１２７〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１２５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応の溶媒の全使用量が、式（２）の化合物１モルに対して、１．５〜３．０リットルである方法。
【０２０１】
〔Ｉ−１２８〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１２５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応の溶媒の全使用量が、式（２）の化合物１モルに対して、１．５〜２．５リットルである方法。
【０２０２】
〔Ｉ−１２９〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１２５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応の溶媒の全使用量が、式（２）の化合物１モルに対して、１．７〜２．０リットルである方法。
【０２０３】
〔Ｉ−１３０〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１２９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．５〜１．５リットルである方法。
【０２０４】
〔Ｉ−１３１〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１２９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．７〜０．９リットルである方法。
【０２０５】
〔Ｉ−１３２〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１２９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．３〜２．０リットルである方法。
【０２０６】
〔Ｉ−１３３〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１２９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．６〜０．８リットルである方法。
【０２０７】
〔Ｉ−１３４〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３３〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される水溶媒の量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．５〜２．０リットルである方法。
【０２０８】
〔Ｉ−１３５〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３３〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される水溶媒の量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．５〜１．５リットルである方法。
【０２０９】
〔Ｉ−１３６〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３３〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される水溶媒の量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．７〜１．４リットルである方法。
【０２１０】
〔Ｉ−１３７〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３３〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される水溶媒の量が、式（２）の化合物１モルに対して、０．９〜１．２リットルである方法。
【０２１１】
〔Ｉ−１３８〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、９０：１０〜０：１００である方法。
【０２１２】
〔Ｉ−１３９〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、７０：３０〜３０：７０である方法。
【０２１３】
〔Ｉ−１４０〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、５０：５０〜３５：６５である方法。
【０２１４】
〔Ｉ−１４１〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、５０：５０〜４０：６０である方法。
【０２１５】
〔Ｉ−１４２〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、１０ｖｏｌ％から１００ｖｏｌ％である方法。
【０２１６】
〔Ｉ−１４３〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、３０ｖｏｌ％から７０ｖｏｌ％である方法。
【０２１７】
〔Ｉ−１４４〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、５０ｖｏｌ％から６５ｖｏｌ％である方法。
【０２１８】
〔Ｉ−１４５〕  〔Ｉ−５９〕から〔Ｉ−１３７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、５０ｖｏｌ％から６０ｖｏｌ％である方法。
【０２１９】
〔Ｉ−１４６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が−１０℃〜１００℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２０】
〔Ｉ−１４７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が−１０℃〜７０℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２１】
〔Ｉ−１４８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が−１０℃〜５０℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２２】
〔Ｉ−１４９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が０℃〜４０℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２３】
〔Ｉ−１５０〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が０℃〜３０℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２４】
〔Ｉ−１５１〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が、１時間〜４８時間で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２５】
〔Ｉ−１５２〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が、４時間〜２４時間で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２６】
〔Ｉ−１５３〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が、式（２）の化合物、式（３）の化合物及び溶媒を含む混合物に塩基を滴下する方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２７】
〔Ｉ−１５４〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が、式（３）の化合物、塩基及び溶媒を含む混合物に、式（２）の化合物を滴下する方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２８】
〔Ｉ−１５５〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が、塩基及び溶媒を含む混合物に、式（２）の化合物及び式（３）の化合物を順次滴下する方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２２９】
〔Ｉ−１５６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの反応が、塩基及び溶媒を含む混合物に、式（３）の化合物を滴下した後、式（２）の化合物を滴下する方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
【０２３０】
〔Ｉ−１５７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、１０〜７０ｗｔ％過酸化水素水溶液である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３１】
〔Ｉ−１５８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、２５〜６５ｗｔ％過酸化水素水溶液である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３２】
〔Ｉ−１５９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、２〜８モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３３】
〔Ｉ−１６０〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、２〜６モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３４】
〔Ｉ−１６１〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、２〜５モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３５】
〔Ｉ−１６２〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、２〜４モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３６】
〔Ｉ−１６３〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、２〜３モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３７】
〔Ｉ−１６４〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３８】
〔Ｉ−１６５〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２３９】
〔Ｉ−１６６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４０】
〔Ｉ−１６７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウムである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４１】
〔Ｉ−１６８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４２】
〔Ｉ−１６９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒及びモリブデン触媒から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４３】
〔Ｉ−１７０〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒又はモリブデン触媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４４】
〔Ｉ−１７１〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４５】
〔Ｉ−１７２〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム及びモリブデン酸アンモニウムから選ばれるである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４６】
〔Ｉ−１７３〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物及びモリブデン酸アンモニウム四水和物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４７】
〔Ｉ−１７４〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム又はモリブデン酸アンモニウムである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４８】
〔Ｉ−１７５〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物又はモリブデン酸アンモニウム四水和物である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２４９】
〔Ｉ−１７６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒及びニオブ触媒から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５０】
〔Ｉ−１７７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５１】
〔Ｉ−１７８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム、モリブデン酸アンモニウム、ニオブ酸ナトリウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５２】
〔Ｉ−１７９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒、ニオブ触媒、タンタル触媒、チタン触媒及びジルコニウム触媒から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５３】
〔Ｉ−１８０〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
ジルコニウム酸、ジルコニウム酸塩、酸化ジルコニウム、炭化ジルコニウム、塩化ジルコニウム及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５４】
〔Ｉ−１８１〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン（ＶＩ）、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン（ＶＩ）、炭化モリブデン、塩化モリブデン（Ｖ）、硫化モリブデン（ＩＶ）、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ（Ｖ）、ニオブ（Ｖ）ペンタエトキシド及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル（Ｖ）、タンタル（Ｖ）ペンタエトキシド及びそれらの混合物、
チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシド及びそれらの混合物、
二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム（Ｉ）、塩化ジルコニウム（ＩＶ）、塩化酸化ジルコニウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５５】
〔Ｉ−１８２〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５６】
〔Ｉ−１８３〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５７】
〔Ｉ−１８４〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５８】
〔Ｉ−１８５〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、金属触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０.００１〜０．１モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２５９】
〔Ｉ−１８６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、金属触媒使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０.０１〜０．１モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６０】
〔Ｉ−１８７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、金属触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０.０３〜０．０５モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６１】
〔Ｉ−１８８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、酸触媒の非存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６２】
〔Ｉ−１８９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、酸触媒の存在下又は非存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６３】
〔Ｉ−１９０〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１５６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、酸触媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６４】
〔Ｉ−１９１〕  〔Ｉ−１８９〕又は〔Ｉ−１９０〕に記載の方法であって、酸触媒が塩酸、硫酸、リン酸、リン酸メチル、リン酸エチル又はリン酸フェニル、である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６５】
〔Ｉ−１９２〕  〔Ｉ−１８９〕又は〔Ｉ−１９０〕に記載の方法であって、酸触媒が塩酸、硫酸、リン酸又はリン酸フェニルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６６】
〔Ｉ−１９３〕  〔Ｉ−１８９〕又は〔Ｉ−１９０〕に記載の方法であって、酸触媒が硫酸又はリン酸フェニルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６７】
〔Ｉ−１９４〕  〔Ｉ−１８９〕又は〔Ｉ−１９０〕に記載の方法であって、酸触媒がリン酸フェニルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６８】
〔Ｉ−１９５〕  〔Ｉ−１８９〕又は〔Ｉ−１９０〕に記載の方法であって、酸触媒が硫酸である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２６９】
〔Ｉ−１９６〕  〔Ｉ−１８８〕から〔Ｉ−１９０〕のいずれか１項に記載の方法であって、酸触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０（ゼロ）〜０．２モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７０】
〔Ｉ−１９７〕  〔Ｉ−１８８〕から〔Ｉ−１９０〕のいずれか１項に記載の方法であって、酸触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０（ゼロ）〜０．１モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７１】
〔Ｉ−１９８〕  〔Ｉ−１８９〕又は〔Ｉ−１９０〕に記載の方法であって、酸触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．００１〜０．１モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７２】
〔Ｉ−１９９〕  〔Ｉ−１８９〕又は〔Ｉ−１９０〕に記載の方法であって、酸触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．００５〜０．０５モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７３】
〔Ｉ−２００〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１９９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、相間移動触媒の非存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７４】
〔Ｉ−２０１〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１９９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、相間移動触媒の存在下又は非存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７５】
〔Ｉ−２０２〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−１９９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、相間移動触媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７６】
〔Ｉ−２０３〕  〔Ｉ−２０２〕に記載の方法であって、相間移動触媒が、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド又は硫酸水素テトラブチルアンモニウムである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７７】
〔Ｉ−２０４〕  〔Ｉ−２０２〕に記載の方法であって、相間移動触媒が、硫酸水素テトラブチルアンモニウムである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７８】
〔Ｉ−２０５〕  〔Ｉ−２００〕から〔Ｉ−２０４〕のいずれか１項に記載の方法であって、相間移動触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０（ゼロ）〜０．１モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２７９】
〔Ｉ−２０６〕  〔Ｉ−２０１〕から〔Ｉ−２０４〕のいずれか１項に記載の方法であって、相間移動触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．００１〜０．１モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８０】
〔Ｉ−２０７〕  〔Ｉ−２０１〕から〔Ｉ−２０４〕のいずれか１項に記載の方法であって、相間移動触媒の使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．００５〜０．０５モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８１】
〔Ｉ−２０８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−２０７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８２】
〔Ｉ−２０９〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、０〜５０のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８３】
〔Ｉ−２１０〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、３〜４５のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８４】
〔Ｉ−２１１〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、５〜４５のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８５】
〔Ｉ−２１２〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、５〜３５のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８６】
〔Ｉ−２１３〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、５〜３０のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８７】
〔Ｉ−２１４〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、５〜２０のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８８】
〔Ｉ−２１５〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、８〜２０のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２８９】
〔Ｉ−２１６〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９０】
〔Ｉ−２１７〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９１】
〔Ｉ−２１８〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類、スルホン類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９２】
〔Ｉ−２１９〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９３】
〔Ｉ−２２０〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９４】
〔Ｉ−２２１〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９５】
〔Ｉ−２２２〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９６】
〔Ｉ−２２３〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９７】
〔Ｉ−２２４〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９８】
〔Ｉ−２２５〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０２９９】
〔Ｉ−２２６〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３００】
〔Ｉ−２２７〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０１】
〔Ｉ−２２８〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０２】
〔Ｉ−２２９〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０３】
〔Ｉ−２３０〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０４】
〔Ｉ−２３１〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０５】
〔Ｉ−２３２〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０６】
〔Ｉ−２３３〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される１又は２個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０７】
〔Ｉ−２３４〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される１個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０８】
〔Ｉ−２３５〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３０９】
〔Ｉ−２３６〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１０】
〔Ｉ−２３７〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１１】
〔Ｉ−２３８〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される好ましくは１から５個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１２】
〔Ｉ−２３９〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される好ましくは１又は２個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１３】
〔Ｉ−２４０〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される１個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１４】
〔Ｉ−２４１〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１５】
〔Ｉ−２４２〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１６】
〔Ｉ−２４３〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１又は２個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１７】
〔Ｉ−２４４〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１８】
〔Ｉ−２４５〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３１９】
〔Ｉ−２４６〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ４）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２０】
〔Ｉ−２４７〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ４）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２１】
〔Ｉ−２４８〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２２】
〔Ｉ−２４９〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２３】
〔Ｉ−２５０〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１又は２個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２４】
〔Ｉ−２５１〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２５】
〔Ｉ−２５２〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ６）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２６】
〔Ｉ−２５３〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ１−Ｃ４）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２７】
〔Ｉ−２５４〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ４）アルコール、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２８】
〔Ｉ−２５５〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３２９】
〔Ｉ−２５６〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３０】
〔Ｉ−２５７〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１又は２個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３１】
〔Ｉ−２５８〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートから選択される１個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３２】
〔Ｉ−２５９〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３３】
〔Ｉ−２５９〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３４】
〔Ｉ−２６０〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３５】
〔Ｉ−２６１〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３６】
〔Ｉ−２６２〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３７】
〔Ｉ−２６３〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３８】
〔Ｉ−２６４〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３３９】
〔Ｉ−２６５〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒（好ましくは、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒）である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４０】
〔Ｉ−２６６〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４１】
〔Ｉ−２６７〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４２】
〔Ｉ−２６８〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４３】
〔Ｉ−２６９〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸ブチルから選択される１又は２個（好ましくは１個）の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４４】
〔Ｉ−２７０〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４５】
〔Ｉ−２７１〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４６】
〔Ｉ−２７２〕  〔Ｉ−２０８〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、酢酸ブチルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４７】
〔Ｉ−２７３〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２７２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．３〜３リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４８】
〔Ｉ−２７４〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２７２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．５〜３リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３４９】
〔Ｉ−２７５〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２７２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．５〜２リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５０】
〔Ｉ−２７６〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２７２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．７〜１．８リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５１】
〔Ｉ−２７７〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２７６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．３〜２リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５２】
〔Ｉ−２７９〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２７６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．４〜１．５リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５３】
〔Ｉ−２８０〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２７６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．４〜１．３リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５４】
〔Ｉ−２８１〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２７６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．５〜１．３リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５５】
〔Ｉ−２８２〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．０５〜１リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５６】
〔Ｉ−２８３〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．１〜１リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５７】
〔Ｉ−２８４〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．１〜０．８リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５８】
〔Ｉ−２８５〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．２〜０．５リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３５９】
〔Ｉ−２８６〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．１〜０．３リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６０】
〔Ｉ−２８７〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で９０：１０〜５０：５０である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６１】
〔Ｉ−２８８〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で８５：１５〜５５：４５である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６２】
〔Ｉ−２８９〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で８０：２０〜６０：４０である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６３】
〔Ｉ−２９０〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で７５：２５〜６０：４０である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６４】
〔Ｉ−２９１〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、１０ｖｏｌ％から５０ｖｏｌ％である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６５】
〔Ｉ−２９２〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、１５ｖｏｌ％から４５ｖｏｌ％である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６６】
〔Ｉ−２９３〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、２０ｖｏｌ％から４０ｖｏｌ％である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６７】
〔Ｉ−２９４〕  〔Ｉ−２０８〕から〔Ｉ−２８６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、２５ｖｏｌ％から４０ｖｏｌ％である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６８】
〔Ｉ−２９５〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−２９４〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法：
（工程iii-1）  式（４）の化合物、有機溶媒、水溶媒及び金属触媒を仕込む；
（工程iii-2）  そこに過酸化水素を加えることにより、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３６９】
〔Ｉ−２９６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−２９４〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法：
（工程iii-1）  式（４）の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む；（工程iii-2）  そこに過酸化水素を加えることにより、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除き、タングステン触媒を含まない方法を除く。
【０３７０】
〔Ｉ−２９７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−２９４〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法：
（工程iii-1）  式（４）の化合物、有機溶媒、水溶媒及びモリブデン触媒を仕込む；
（工程iii-2）  そこに過酸化水素を加えることにより、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除き、モリブデン触媒を含まない方法を除く。
【０３７１】
〔Ｉ−２９８〕  〔Ｉ−２９５〕から〔Ｉ−２９７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０〜０．５リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３７２】
〔Ｉ−２９９〕  〔Ｉ−２９５〕から〔Ｉ−２９７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．０５〜０．５リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３７３】
〔Ｉ−３００〕  〔Ｉ−２９５〕から〔Ｉ−２９７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．０５〜０．４リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３７４】
〔Ｉ−３０１〕  〔Ｉ−２９５〕から〔Ｉ−２９７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．０８〜０．２リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３７５】
〔Ｉ−３０２〕  〔Ｉ−２９５〕から〔Ｉ−２９７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．１〜０．３リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３７６】
〔Ｉ−３０３〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３０２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が５０℃〜１５０℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３７７】
〔Ｉ−３０４〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３０２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が５０℃〜９０℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３７８】
〔Ｉ−３０５〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３０２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が６０℃〜１２０℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３７９】
〔Ｉ−３０６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３０２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が６０℃〜１００℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３８０】
〔Ｉ−３０７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３０２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が６０℃〜９０℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３８１】
〔Ｉ−３０８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３０２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が７０℃〜９０℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３８２】
〔Ｉ−３０９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３０２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が７５℃〜９０℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３８３】
〔Ｉ−３１０〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３０２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が７５℃〜８０℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３８４】
〔Ｉ−３１１〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、３時間〜４８時間で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３８５】
〔Ｉ−３１２〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、４時間〜２４時間で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
【０３８６】
〔Ｉ−３１３〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルであり、及び
Ｒ３が１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルである方法。
【０３８７】
〔Ｉ−３１４〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｒ１がメチルであり、
Ｒ２がトリフルオロメチルであり、及び
Ｒ３がジフルオロメチルである方法。
【０３８８】
〔Ｉ−３１５〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルである方法。
【０３８９】
〔Ｉ−３１６〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｒ４及びＲ５がメチルである方法。
【０３９０】
〔Ｉ−３１７〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、Ｘ１が塩素原子又は臭素原子である方法。
【０３９１】
〔Ｉ−３１８〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｘ１が塩素原子である方法。
【０３９２】
〔Ｉ−３１９〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｘ２が塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ又はそれらの２個以上（好ましくは２個又は３個、より好ましくは２個）の混合物である方法。
【０３９３】
〔Ｉ−３２０〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｘ２がハロゲン原子である方法。
【０３９４】
〔Ｉ−３２１〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｘ２が塩素原子、臭素原子又はそれらの混合物である方法。
【０３９５】
〔Ｉ−３２２〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｘ２が塩素原子である方法。
【０３９６】
〔Ｉ−３２３〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法であって、
Ｘ２が臭素原子である方法。
【０３９７】
〔Ｉ−３２４〕  〔Ｉ−１〕から〔Ｉ−３１２〕のいずれか１項に記載の方法により製造される、式（５）の化合物の農薬としての使用。
【０３９８】
別の態様では、本発明は以下の通りである。
【０３９９】
〔ＩＩ−１〕  式（４）の化合物の製造方法であって、以下の工程iiを含む方法：
（工程ii）  塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程； 
【０４００】
【化２５】
0006920572.tif 000026
【０４０１】
（ここで、式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり、
Ｘ１は脱離基であり、
式（３）中、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又は
Ｒ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよく、
Ｘ２は酸を形成する原子又は原子団であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである。）。
【０４０２】
〔ＩＩ−２〕  〔ＩＩ−１〕に記載の方法であって、工程iiの塩基が、アルカリ金属水酸化物類である方法。
【０４０３】
〔ＩＩ−３〕  〔ＩＩ−１〕に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウムである方法。
【０４０４】
〔ＩＩ−４〕  〔ＩＩ−１〕から〔ＩＩ−３〕のいずれか１項に記載の方法であって、式（２）中、
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルであり、
Ｒ３が１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｘ１が塩素原子又は臭素原子であり、
式（３）中、
Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｘ２が塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ又はそれらの２個以上の混合物であり、式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【０４０５】
〔ＩＩ−５〕  〔ＩＩ−１〕から〔ＩＩ−３〕のいずれか１項に記載の方法であって、式（２）中、
Ｒ１がメチルであり、
Ｒ２がトリフルオロメチルであり、
Ｒ３がジフルオロメチルであり、
Ｘ１が塩素原子であり、
式（３）中、
Ｒ４及びＲ５がメチルであり、
Ｘ２が塩素原子、臭素原子又はそれらの混合物であり、
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【０４０６】
〔ＩＩ−６〕  〔ＩＩ−１〕から〔ＩＩ−５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの前に以下の工程iを更に含む、方法：
（工程i）  式（１）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式（２）の化合物を製造する工程； 
【０４０７】
【化２６】
0006920572.tif 000027
【０４０８】
（ここで、式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、〔ＩＩ−１〕で定義した通りであり、
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、〔ＩＩ−１〕で定義した通りであり、Ｘ１はハロゲン原子である。）。
【０４０９】
〔ＩＩ−７〕  〔ＩＩ−６〕に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素化剤である方法。
【０４１０】
〔ＩＩ−８〕  〔ＩＩ−６〕に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩化チオニルである方法。
【０４１１】
〔ＩＩ−９〕  〔ＩＩ−７〕又は〔ＩＩ−８〕に記載の方法であって、
式（１）中、
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルであり、
Ｒ３が１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記で定義した通りであり、
Ｘ１が塩素原子である、方法。
【０４１２】
〔ＩＩ−１０〕  〔ＩＩ−７〕又は〔ＩＩ−８〕に記載の方法であって、
式（１）中、
Ｒ１がメチルであり、
Ｒ２がトリフルオロメチルであり、
Ｒ３がジフルオロメチルであり、
式（２）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記で定義した通りであり、
Ｘ１が塩素原子である、方法。
【０４１３】
〔ＩＩ−１１〕  〔ＩＩ−１〕から〔ＩＩ−１０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiの後に以下の工程iiiを更に含む、方法：
（工程iii）  金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する工程； 
【０４１４】
【化２７】
0006920572.tif 000028
【０４１５】
（ここで、式（４）及び式（５）中の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、〔ＩＩ−１〕で定義した通りである。）
〔ＩＩ−１２〕  式（５）：
【化２８】
0006920572.tif 000029
の化合物の製造方法であって、以下の工程を含む製造方法；
（工程ii）  〔ＩＩ−１〕から〔ＩＩ−１０〕のいずれか１項に記載の方法により式（４）の化合物を製造する： 
【０４１６】
【化２９】
0006920572.tif 000030
（工程iii）  金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する：
【化３０】
0006920572.tif 000031
（ここで、式（４）及び式（５）中の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、〔ＩＩ−１〕で定義した通りである。）。
【０４１７】
〔ＩＩ−１３〕  式（５）：
【化３１】
0006920572.tif 000032
の化合物を、式（４）： 
【０４１８】
【化３２】
0006920572.tif 000033
の化合物を用いて製造する方法であって、
式（４）の化合物を〔ＩＩ−１〕から〔ＩＩ−１０〕のいずれか１項に記載の方法により製造することを特徴とする、製造方法。
（ここで、式（４）及び式（５）中の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、〔ＩＩ−１〕で定義した通りである。）
【０４１９】
〔ＩＩ−１４〕  式（５）：
【化３３】
0006920572.tif 000034
の化合物を、式（４）： 
【０４２０】
【化３４】
0006920572.tif 000035
の化合物を用いて製造する方法であって、
式（４）の化合物として、〔ＩＩ−１〕から〔ＩＩ−１０〕のいずれか１項に記載の方法により製造された式（４）の化合物を用いることを特徴とする、製造方法。
（ここで、式（４）及び式（５）中の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、〔ＩＩ−１〕で定義した通りである。）
【０４２１】
〔ＩＩ−１５〕  〔ＩＩ−１１〕又は〔ＩＩ−１２〕に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、１０〜７０ｗｔ％過酸化水素水溶液である方法。
【０４２２】
〔ＩＩ−１６〕  〔ＩＩ−１１〕、〔ＩＩ−１２〕又は〔ＩＩ−１５〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒、ニオブ触媒、タンタル触媒、チタン触媒又はジルコニウム触媒である方法。
【０４２３】
〔ＩＩ−１７〕  〔ＩＩ−１１〕、〔ＩＩ−１２〕又は〔ＩＩ−１５〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒又はニオブ触媒である方法。
【０４２４】
〔ＩＩ−１８〕  〔ＩＩ−１１〕、〔ＩＩ−１２〕又は〔ＩＩ−１５〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法。
【０４２５】
〔ＩＩ−１９〕  〔ＩＩ−１１〕、〔ＩＩ−１２〕又は〔ＩＩ−１５〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法。
【０４２６】
〔ＩＩ−２０〕  〔ＩＩ−１１〕、〔ＩＩ−１２〕又は〔ＩＩ−１５〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物、モリブデン酸アンモニウム四水和物、ニオブ酸ナトリウム、タンタル酸リチウム、チタンアセチルアセトネート、塩化酸化ジルコニウムである方法。
【０４２７】
〔ＩＩ−２１〕  〔ＩＩ−１１〕、〔ＩＩ−１２〕又は〔ＩＩ−１５〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物、モリブデン酸アンモニウム四水和物又はニオブ酸ナトリウムである方法。
【０４２８】
〔ＩＩ−２２〕  〔ＩＩ−１１〕、〔ＩＩ−１２〕又は〔ＩＩ−１５〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物又はモリブデン酸アンモニウム四水和物である方法。
【０４２９】
〔ＩＩ−２３〕  〔ＩＩ−１１〕、〔ＩＩ−１２〕、〔ＩＩ−１５〕から〔ＩＩ−２２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法。
【０４３０】
〔ＩＩ−２４〕  〔ＩＩ−２３〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０４３１】
〔ＩＩ−２５〕  〔ＩＩ−２３〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０４３２】
〔ＩＩ−２６〕  〔ＩＩ−２３〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０４３３】
〔ＩＩ−２７〕  〔ＩＩ−２３〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０４３４】
〔ＩＩ−２８〕  〔ＩＩ−２３〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
【０４３５】
〔ＩＩ−２９〕  〔ＩＩ−１１〕から〔ＩＩ−２６〕のいずれか１項に記載の方法であって、
式（４）中、
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルであり、
Ｒ３が１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【０４３６】
〔ＩＩ−３０〕  〔ＩＩ−１１〕から〔ＩＩ−２６〕のいずれか１項に記載の方法であって、
式（４）中、
Ｒ１がメチルであり、
Ｒ２がトリフルオロメチルであり、
Ｒ３がジフルオロメチルであり、
Ｒ４及びＲ５がメチルであり、
式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【０４３７】
〔ＩＩ−３１〕  式（５）の化合物の製造方法であって、以下の工程iiiを含む方法であり、工程iiiの反応が０〜５０のアクセプター数を有する有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法：
（工程iii）  金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する工程； 
【０４３８】
【化３５】
0006920572.tif 000036
【０４３９】
（ここで、式（４）及び式（５）中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり、
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又は
Ｒ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよい。）。
【０４４０】
〔ＩＩ−３２〕  〔ＩＩ−３１〕に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、１０〜７０ｗｔ％過酸化水素水溶液である方法。
【０４４１】
〔ＩＩ−３３〕  〔ＩＩ−３１〕又は〔ＩＩ−３２〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒又はニオブ触媒、タンタル触媒、チタン触媒、ジルコニウム触媒である方法。
【０４４２】
〔ＩＩ−３４〕  〔ＩＩ−３１〕又は〔ＩＩ−３２〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒又はニオブ触媒である方法。
【０４４３】
〔ＩＩ−３５〕  〔ＩＩ−３１〕又は〔ＩＩ−３２〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法。
【０４４４】
〔ＩＩ−３６〕  〔ＩＩ−３１〕又は〔ＩＩ−３２〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法。
【０４４５】
〔ＩＩ−３７〕  〔ＩＩ−３１〕又は〔ＩＩ−３２〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物、モリブデン酸アンモニウム四水和物、ニオブ酸ナトリウム、タンタル酸リチウム、チタンアセチルアセトネート又は塩化酸化ジルコニウムである方法。
【０４４６】
〔ＩＩ−３８〕  〔ＩＩ−３１〕又は〔ＩＩ−３２〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物、モリブデン酸アンモニウム四水和物又はニオブ酸ナトリウムである方法。
【０４４７】
〔ＩＩ−３９〕  〔ＩＩ−３１〕又は〔ＩＩ−３２〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物又はモリブデン酸アンモニウム四水和物である方法。
【０４４８】
〔ＩＩ−４０〕  〔ＩＩ−３１〕又は〔ＩＩ−３２〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物である方法。
【０４４９】
〔ＩＩ−４１〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０４５０】
〔ＩＩ−４２〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０４５１】
〔ＩＩ−４３〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０４５２】
〔ＩＩ−４４〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上の有機溶媒である方法。
【０４５３】
〔ＩＩ−４５〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
【０４５４】
〔ＩＩ−４６〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、
式（４）中、
Ｒ１が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルであり、
Ｒ３が１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【０４５５】
〔ＩＩ−４７〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４５〕のいずれか１項に記載の方法であって、
式（４）中、
Ｒ１がメチルであり、
Ｒ２がトリフルオロメチルであり、
Ｒ３がジフルオロメチルであり、
Ｒ４及びＲ５がメチルであり、
式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記で定義した通りである方法。
【０４５６】
〔ＩＩ−４８〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．３〜３リットルである方法。
【０４５７】
〔ＩＩ−４９〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．５〜２リットルである方法。
【０４５８】
〔ＩＩ−５０〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕、〔ＩＩ−４８〕、〔ＩＩ−４９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．３〜２リットルである方法。
【０４５９】
〔ＩＩ−５１〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕、〔ＩＩ−４８〕、〔ＩＩ−４９〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．４〜１．５リットルである方法。
【０４６０】
〔ＩＩ−５２〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕、〔ＩＩ−４８〕から〔ＩＩ−５１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．１〜１リットルである方法。
【０４６１】
〔ＩＩ−５３〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕、〔ＩＩ−４８〕から〔ＩＩ−５１〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．１〜０．３リットルである方法。
【０４６２】
〔ＩＩ−５４〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕、〔ＩＩ−４８〕から〔ＩＩ−５３〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で９０：１０〜５０：５０である方法。
【０４６３】
〔ＩＩ−５５〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕、〔ＩＩ−４８〕から〔ＩＩ−５３〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で８０：２０〜６０：４０である方法。
【０４６４】
〔ＩＩ−５６〕  〔ＩＩ−２３〕から〔ＩＩ−３０〕、〔ＩＩ−４８〕から〔ＩＩ−５５〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法：
（工程iii-1）  式（４）の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む；（工程iii-2）  そこに過酸化水素を加えることにより、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させる。
【０４６５】
〔ＩＩ−５７〕  〔ＩＩ−５６〕に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．０５〜０．４リットルである方法。
【０４６６】
〔ＩＩ−５８〕  〔ＩＩ−５６〕に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．０８〜０．２リットルである方法。
【０４６７】
〔ＩＩ−５９〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．３〜３リットルである方法。
【０４６８】
〔ＩＩ−６０〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．５〜２リットルである方法。
【０４６９】
〔ＩＩ−６１〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕、〔ＩＩ−５９〕、〔ＩＩ−６０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．３〜２リットルである方法。
【０４７０】
〔ＩＩ−６２〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕、〔ＩＩ−５９〕、〔ＩＩ−６０〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．４〜１．５リットルである方法。
【０４７１】
〔ＩＩ−６３〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕、〔ＩＩ−５９〕から〔ＩＩ−６２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．１〜１リットルである方法。
【０４７２】
〔ＩＩ−６４〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕、〔ＩＩ−５９〕から〔ＩＩ−６２〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．１〜０．３リットルである方法。
【０４７３】
〔ＩＩ−６５〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕、〔ＩＩ−５９〕から〔ＩＩ−６４〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で９０：１０〜５０：５０である方法。
【０４７４】
〔ＩＩ−６６〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕、〔ＩＩ−５９〕から〔ＩＩ−６４〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で８０：２０〜６０：４０である方法。
【０４７５】
〔ＩＩ−６７〕  〔ＩＩ−３１〕から〔ＩＩ−４７〕、〔ＩＩ−５９〕から〔ＩＩ−６６〕のいずれか１項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法：
（工程iii-1）  式（４）の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む；（工程iii-2）  そこに過酸化水素を加えることにより、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させる。
【０４７６】
〔ＩＩ−６８〕  〔ＩＩ−６７〕に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．０５〜０．４リットルである方法。
【０４７７】
〔ＩＩ−６９〕  〔ＩＩ−６７〕に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式（４）の化合物１モルに対して、０．０８〜０．２リットルである方法。
【０４７８】
別の態様では、本発明は以下の通りである。
【０４７９】
〔ＩＩＩ−１〕ピロキサスルホンの結晶であって、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θにピークを有するスペクトルを示し、前記３つのピークのうち、１９．９−２０．０°のピーク高さが最大であることを特徴とする、結晶。
【０４８０】
〔ＩＩＩ−２〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕に記載の結晶。
【０４８１】
〔ＩＩＩ−３〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に４．９−５．０°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕または〔ＩＩＩ−２〕に記載の結晶。
〔ＩＩＩ−４〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に２０．３−２０．４°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−３〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４８２】
〔ＩＩＩ−５〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に２１．８−２１．９°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−４〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４８３】
〔ＩＩＩ−６〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に２２．３−２２．４°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−５〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４８４】
〔ＩＩＩ−７〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に２５．４−２５．５°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−６〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４８５】
〔ＩＩＩ−８〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に２６．６−２６．７°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−７〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４８６】
〔ＩＩＩ−９〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に２６．９−２７．０°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−８〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４８７】
〔ＩＩＩ−１０〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に２７．１−２７．２°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−９〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４８８】
〔ＩＩＩ−１１〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に３５．５−３５．６°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−１０〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４８９】
〔ＩＩＩ−１２〕前記粉末Ｘ線回折測定において、更に１４．３−１４．４°、２０．８−２０．９°、２６．２−２６．３°、２８．３−２８．４°、３２．４−３２．５°、３５．３−３５．４°、３６．１−３６．２°、３８．０−３８．１°および３８．６−３８．７°の回折角２θにもピークを有するスペクトルを示す、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−１１〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４９０】
〔ＩＩＩ−１３〕前記粉末Ｘ線回折測定において、１９．９−２０．０°のピーク高さと１７．７−１７．８°のピーク高さの比率が１：０．０２−０．９５である、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−１２〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４９１】
〔ＩＩＩ−１４〕前記粉末Ｘ線回折測定において、１９．９−２０．０°のピーク高さと１７．７−１７．８°のピーク高さの比率が１：０．１−０．８５である、〔ＩＩＩ−１３〕に記載の結晶。
【０４９２】
〔ＩＩＩ−１５〕前記粉末Ｘ線回折測定において、１９．９−２０．０°のピーク高さと１７．７−１７．８°のピーク高さの比率が１：０．３−０．７５である、〔ＩＩＩ−１４〕に記載の結晶。
【０４９３】
〔ＩＩＩ−１６〕前記粉末Ｘ線回折測定において、１９．９−２０．０°のピーク高さと１８．０−１８．１°のピーク高さの比率が１：０．０２−０．９５である、〔ＩＩＩ−１３〕から〔ＩＩＩ−１５〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４９４】
〔ＩＩＩ−１７〕前記粉末Ｘ線回折測定において、１９．９−２０．０°のピーク高さと１８．０−１８．１°のピーク高さの比率が１：０．０４−０．８である、〔ＩＩＩ−１６〕に記載の結晶。
【０４９５】
〔ＩＩＩ−１８〕前記粉末Ｘ線回折測定において、１９．９−２０．０°のピーク高さと１８．０−１８．１°のピーク高さの比率が１：０．０７−０．６である、〔ＩＩＩ−１７〕に記載の結晶。
【０４９６】
〔ＩＩＩ−１９〕ニトリル類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アミド類、ジハロゲン化脂肪族炭化水素類の群から選ばれる１種の有機溶剤を主成分として含む液体を溶媒とするピロキサスルホンの溶液から、前記有機溶剤を留去し、ピロキサスルホンを析出させることにより得たものである、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−１８〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０４９７】
〔ＩＩＩ−２０〕前記有機溶剤がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトン、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドおよびＣ１−Ｃ４ジハロアルカンの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−１９〕に記載の結晶。
【０４９８】
〔ＩＩＩ−２１〕前記有機溶剤がアセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタンの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−２０〕に記載の結晶。
【０４９９】
〔ＩＩＩ−２２〕前記溶媒がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル／Ｃ１−Ｃ４アルコール混合溶媒、含水Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトン、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドおよびＣ１−Ｃ４ジハロアルカン／Ｃ１−Ｃ４アルコール混合溶媒の群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−１９〕に記載の結晶。
【０５００】
〔ＩＩＩ−２３〕前記溶媒がアセトニトリル／メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン／エタノール混合溶媒の群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−２２〕に記載の結晶。
【０５０１】
〔ＩＩＩ−２４〕ニトリル類、ケトン類およびカルボン酸エステル類の群から選ばれる１種の有機溶剤を主成分として含む液体を溶媒とするピロキサスルホンの溶液に、エーテル類、カルボン酸エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素誘導体類、脂肪族炭化水素類、アルコール類および水の群から選ばれるピロキサスルホンの貧溶媒を添加して、ピロキサスルホンを析出させることにより得たものである、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−１８〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０５０２】
〔ＩＩＩ−２５〕前記有機溶剤がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトンおよびＣ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレートの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−２４〕に記載の結晶。
【０５０３】
〔ＩＩＩ−２６〕前記有機溶剤がアセトニトリル、アセトンおよび酢酸エチルの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−２５〕に記載の結晶。
【０５０４】
〔ＩＩＩ−２７〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がＣ１−Ｃ４アルコールである、〔ＩＩＩ−２４〕から〔ＩＩＩ−２６〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０５０５】
〔ＩＩＩ−２８〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がエタノールおよびイソプロパノールの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−２７〕に記載の結晶。
【０５０６】
〔ＩＩＩ−２９〕前記ピロキサスルホンの溶液が前記有機溶剤を主成分として含む液体中、金属触媒の存在下で３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールを過酸化水素と反応させることによりピロキサスルホンを生成させた反応溶液である、〔ＩＩＩ−１９〕から〔ＩＩＩ−２８〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０５０７】
〔ＩＩＩ−３０〕外観が短柱状または柱状である、〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−２９〕のいずれか一項に記載の結晶。
【０５０８】
〔ＩＩＩ−３１〕〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−３０〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶と、界面活性剤を含む、農薬組成物。
【０５０９】
〔ＩＩＩ−３２〕更に水または油性分散媒を含み、剤型が水性懸濁剤または油性懸濁剤である、〔ＩＩＩ−３１〕に記載の農薬組成物。
【０５１０】
〔ＩＩＩ−３３〕更に固体担体を含み、剤型が水和剤または顆粒水和剤である、〔ＩＩＩ−３１〕に記載の農薬組成物。
【０５１１】
〔ＩＩＩ−３４〕〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−３０〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を用いて製造された、ピロキサスルホンの結晶と界面活性剤を含む、農薬組成物。
【０５１２】
〔ＩＩＩ−３５〕更に水または油性分散媒を含み、剤型が水性懸濁剤または油性懸濁剤である、〔ＩＩＩ−３４〕に記載の農薬組成物。
【０５１３】
〔ＩＩＩ−３６〕更に固体担体を含み、剤型が水和剤または顆粒水和剤である、〔ＩＩＩ−３４〕に記載の農薬組成物。
【０５１４】
〔ＩＩＩ−３７〕ニトリル類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アミド類、ジハロゲン化脂肪族炭化水素類の群から選ばれる１種の有機溶剤を主成分として含む液体を溶媒とするピロキサスルホンの溶液から、前記有機溶剤を留去し、ピロキサスルホンを析出させる、ピロキサスルホンの結晶の製造方法。
【０５１５】
〔ＩＩＩ−３８〕前記有機溶剤がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトン、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドおよびＣ１−Ｃ４ジハロアルカンの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−３７〕に記載の製造方法。
【０５１６】
〔ＩＩＩ−３９〕前記有機溶剤がアセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタンの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−３８〕に記載の製造方法。
【０５１７】
〔ＩＩＩ−４０〕前記溶媒がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル／Ｃ１−Ｃ４アルコール混合溶媒、含水Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトン、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドおよびＣ１−Ｃ４ジハロアルカン／Ｃ１−Ｃ４アルコール混合溶媒の群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−３７〕に記載の製造方法。
【０５１８】
〔ＩＩＩ−４１〕前記溶媒がアセトニトリル／メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン／エタノール混合溶媒の群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４０〕に記載の製造方法。
【０５１９】
〔ＩＩＩ−４２〕ニトリル類、ケトン類およびカルボン酸エステル類の群から選ばれる１種の有機溶剤を主成分として含む液体を溶媒とするピロキサスルホンの溶液に、エーテル類、カルボン酸エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素誘導体類、脂肪族炭化水素類、アルコール類および水の群から選ばれるピロキサスルホンの貧溶媒を添加して、ピロキサスルホンを析出させる、ピロキサスルホンの結晶の製造方法。
【０５２０】
〔ＩＩＩ−４３〕前記有機溶剤がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトンおよびＣ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレートの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４２〕に記載の製造方法。
【０５２１】
〔ＩＩＩ−４４〕前記有機溶剤がアセトニトリル、アセトンおよび酢酸エチルの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４３〕に記載の製造方法。
【０５２２】
〔ＩＩＩ−４５〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がＣ１−Ｃ４アルコールである、〔ＩＩＩ−４２〕から〔ＩＩＩ−４４〕のいずれか一項に記載の製造方法。
【０５２３】
〔ＩＩＩ−４６〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がエタノールおよびイソプロパノールの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４５〕に記載の製造方法。
【０５２４】
〔ＩＩＩ−４７〕ニトリル類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アミド類、ジハロゲン化脂肪族炭化水素類の群から選ばれる１種の有機溶剤を主成分として含む液体中で、金属触媒の存在下、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールを過酸化水素と反応させることによりピロキサスルホンを生成させ、得られたピロキサスルホンの反応溶液から、前記有機溶剤を留去し、ピロキサスルホンを析出させる、ピロキサスルホンの結晶の製造方法。
【０５２５】
〔ＩＩＩ−４８〕〔Ｉ−１〕に記載の工程(iii)によりピロキサスルホンを製造する工程をさらに含む、〔ＩＩＩ−４７〕に記載の製造方法。
【０５２６】
〔ＩＩＩ−４９〕前記有機溶剤がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトン、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドおよびＣ１−Ｃ４ジハロアルカンの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４７〕または〔ＩＩＩ−４８〕に記載の製造方法。
【０５２７】
〔ＩＩＩ−５０〕前記有機溶剤がアセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタンの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４９〕に記載の製造方法。
【０５２８】
〔ＩＩＩ−５１〕前記有機溶剤がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレートおよびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４７〕または〔ＩＩＩ−４８〕に記載の製造方法。
【０５２９】
〔ＩＩＩ−５２〕前記有機溶剤がアセトニトリル、酢酸エチルおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−５１〕に記載の製造方法。
【０５３０】
〔ＩＩＩ−５３〕前記液体がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル／Ｃ１−Ｃ４アルコール混合溶媒、含水Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトン、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドおよびＣ１−Ｃ４ジハロアルカン／Ｃ１−Ｃ４アルコール混合溶媒の群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４７〕または〔ＩＩＩ−４８〕に記載の製造方法。
【０５３１】
〔ＩＩＩ−５４〕前記液体がアセトニトリル／メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン／エタノール混合溶媒の群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−５３〕に記載の製造方法。
【０５３２】
〔ＩＩＩ−５５〕前記液体がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル／Ｃ１−Ｃ４アルコール混合溶媒、含水Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレートおよびＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−４７〕または〔ＩＩＩ−４８〕に記載の製造方法。
【０５３３】
〔ＩＩＩ−５６〕前記液体がアセトニトリル／メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸エチルおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−５５〕に記載の製造方法。
【０５３４】
〔ＩＩＩ−５７〕ニトリル類、ケトン類およびカルボン酸エステル類の群から選ばれる１種の有機溶剤を主成分として含む液体中で、金属触媒の存在下、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールを過酸化水素と反応させることによりピロキサスルホンを生成させ、得られたピロキサスルホンの溶液にエーテル類、カルボン酸エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素誘導体類、脂肪族炭化水素類、アルコール類および水の群から選ばれるピロキサスルホンの貧溶媒を添加して、ピロキサスルホンを析出させる、ピロキサスルホンの結晶の製造方法。
【０５３５】
〔ＩＩＩ−５８〕〔Ｉ−１〕に記載の工程(iii)によりピロキサスルホンを製造する工程をさらに含む、〔ＩＩＩ−５７〕に記載の製造方法。
【０５３６】
〔ＩＩＩ−５９〕前記有機溶剤がＣ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトンおよびＣ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレートの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−５７〕または〔ＩＩＩ−５８〕に記載の製造方法。
【０５３７】
〔ＩＩＩ−６０〕前記有機溶剤がアセトニトリル、アセトンおよび酢酸エチルの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−５９〕に記載の製造方法。
【０５３８】
〔ＩＩＩ−６１〕前記有機溶剤がＣ２−Ｃ５アルカンニトリルおよびＣ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレートの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−５７〕または〔ＩＩＩ−５８〕に記載の製造方法。
【０５３９】
〔ＩＩＩ−６２〕前記有機溶剤がアセトニトリルおよび酢酸エチルの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−６１〕に記載の製造方法。
【０５４０】
〔ＩＩＩ−６３〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がＣ１−Ｃ４アルコールである、〔ＩＩＩ−５７〕から〔ＩＩＩ−６２〕のいずれか一項に記載の製造方法。
【０５４１】
〔ＩＩＩ−６４〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がエタノールおよびイソプロパノールの群から選ばれる１種である、〔ＩＩＩ−６３〕に記載の製造方法。
【０５４２】
〔ＩＩＩ−６５〕〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−３０〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と固体担体を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が水和剤である農薬組成物の製造方法。
【０５４３】
〔ＩＩＩ−６６〕〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−３０〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と固体担体を含む原料全体を均一化しつつ更に若干量の水を添加して練る混錬工程と、前記工程で得た混錬物を造粒する工程と、前記工程で得た造粒物を乾燥する工程を含む、剤型が顆粒水和剤である農薬組成物の製造方法。
【０５４４】
〔ＩＩＩ−６７〕〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−３０〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と水を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が水性懸濁剤である農薬組成物の製造方法。
【０５４５】
〔ＩＩＩ−６８〕〔ＩＩＩ−１〕から〔ＩＩＩ−３０〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と油性分散媒を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が油性懸濁剤である農薬組成物の製造方法。
【０５４６】
〔ＩＩＩ−６９〕〔ＩＩＩ−３７〕から〔ＩＩＩ−６４〕のいずれか一項に記載の製造方法により得たピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と固体担体を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が水和剤である農薬組成物の製造方法。
【０５４７】
〔ＩＩＩ−７０〕〔ＩＩＩ−３７〕から〔ＩＩＩ−６４〕のいずれか一項に記載の製造方法により得たピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と固体担体を含む原料全体を均一化しつつ更に若干量の水を添加して練る混錬工程と、前記工程で得た混錬物を造粒する工程と、前記工程で得た造粒物を乾燥する工程を含む、剤型が顆粒水和剤である農薬組成物の製造方法。
【０５４８】
〔ＩＩＩ−７１〕〔ＩＩＩ−３７〕から〔ＩＩＩ−６４〕のいずれか一項に記載の製造方法により得たピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と水を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が水性懸濁剤である農薬組成物の製造方法。
【０５４９】
〔ＩＩＩ−７２〕〔ＩＩＩ−３７〕から〔ＩＩＩ−６４〕のいずれか一項に記載の製造方法により得たピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と油性分散媒を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が油性懸濁剤である農薬組成物の製造方法。
【０５５０】
本明細書に記載された記号及び用語について説明する。
【０５５１】
本明細書中、以下の略語及び接頭語が使用されることがあり、それらの意味は以下の通りである。
Ｍｅ：メチル
Ｅｔ：エチル
Ｐｒ、ｎ−Ｐｒ及びＰｒ−ｎ：プロピル（すなわち、ノルマルプロピル）
ｉ−Ｐｒ及びＰｒ−ｉ：イソプロピル
Ｂｕ、ｎ−Ｂｕ及びＢｕ−ｎ：ブチル（すなわち、ノルマルブチル）
ｓ−Ｂｕ及びＢｕ−ｓ：ｓｅｃ−ブチル（すなわち、セカンダリーブチル）
ｉ−Ｂｕ及びＢｕ−ｉ：イソブチル
ｔ−Ｂｕ及びＢｕ−ｔ：ｔｅｒｔ−ブチル（すなわち、ターシャリーブチル）
Ｐｈ：フェニル
ｎ−：ノルマル
ｓ−及びｓｅｃ−：セカンダリー
ｉ−及びｉｓｏ−：イソ
ｔ−及びｔｅｒｔ−：ターシャリー
ｃ−及びｃｙｃ−：シクロ
ｏ−：オルソ
ｍ−：メタ
ｐ−：パラ
【０５５２】
用語「ニトロ」は置換基「−ＮＯ２」を意味する。
用語「シアノ」または「ニトリル」は置換基「−ＣＮ」を意味する。
用語「ヒドロキシ」は置換基「−ＯＨ」を意味する。
用語「アミノ」は置換基「−ＮＨ２」を意味する。
【０５５３】
(Ｃａ−Ｃｂ)は、炭素原子数がａ〜ｂ個であることを意味する。例えば、「（Ｃ１−Ｃ４）アルキル」の「（Ｃ１−Ｃ４）」は、アルキルの炭素原子数が１〜４であることを意味し、「（Ｃ２−Ｃ５）」は、アルキルの炭素原子数が２〜５であることを意味する。炭素原子数を意味する「(Ｃａ−Ｃｂ)」は括弧なしで「Ｃａ−Ｃｂ」と表記する場合がある。従って、例えば、「Ｃ１−Ｃ４アルキル」の「Ｃ１−Ｃ４」は、アルキルの炭素原子数が１〜４であることを意味する。
【０５５４】
本明細書中、「アルキル」のような一般的用語は、ブチル及びｔｅｒｔ−ブチルのような直鎖及び分岐鎖の両方を含むと解釈する。一方で、例えば、具体的用語「ブチル」は、直鎖の「ノルマルブチル」を意味し、分岐鎖の「ｔｅｒｔ−ブチル」を意味しない。そして「ｔｅｒｔ−ブチル」のような分岐鎖異性体は、意図した場合に具体的に言及される。
【０５５５】
ハロゲン原子の例は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子を含む。
【０５５６】
（Ｃ１−Ｃ６）アルキルは、１〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する。（Ｃ１−Ｃ６）アルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等を含むが、これらに限定されない。
【０５５７】
（Ｃ１−Ｃ４）アルキルは、１〜４個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する。（Ｃ１−Ｃ４）アルキルの例は、上記の（Ｃ１−Ｃ６）アルキルの例のうちの適切な例を含む。
【０５５８】
（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキルは、３〜６個の炭素原子を有するシクロアルキルを意味する。（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキルの例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルである。
【０５５９】
（Ｃ２−Ｃ６）アルケニルは、２〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルケニルを意味する。（Ｃ２−Ｃ６）アルケニルの例は、ビニル、１−プロペニル、イソプロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、１−ペンテニル、１−ヘキセニル等を含むが、これらに限定されない。
【０５６０】
（Ｃ２−Ｃ６）アルキニルは、２〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキニルを意味する。（Ｃ２−Ｃ６）アルキニルの例は、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、１−メチル−２−プロピニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、１−ヘキシニル等を含むが、これらに限定されない。
【０５６１】
（Ｃ６−Ｃ１０）アリールの例は、フェニル、１−ナフチル、及び２−ナフチルである。
【０５６２】
（Ｃ１−Ｃ６）ハロアルキルは、同一又は異なる１〜１３個のハロゲン原子により置換されている、炭素原子数が１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する（ここで、ハロゲン原子は上記の定義と同じ意味を有する。）。（Ｃ１−Ｃ６）ハロアルキルの例は、フルオロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル、２−フルオロエチル、１−クロロエチル、２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、３−フルオロプロピル、３−クロロプロピル、２−クロロ−１−メチルエチル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル、ヘプタフルオロプロピル、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル、４−フルオロブチル、４−クロロブチル、２，２，３，３，４，４，４−へプタフルオロブチル、ノナフルオロブチル、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル、２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジ（トリフルオロメチル）エチル、ウンデカフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシル等を含むが、これらに限定されるものではない。
【０５６３】
（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルは、全ての水素原子がフッ素原子により置換されている、１〜４個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する。  （Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキルの例は、トリフルオロメチル（すなわち、−ＣＦ３）、ペンタフルオロエチル（すなわち、−ＣＦ２ＣＦ３）、ヘプタフルオロプロピル（すなわち、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル（すなわち、−ＣＦ（ＣＦ３）２）、ノナフルオロブチル、（すなわち、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、１，２，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−１−トリフルオロメチルプロピル（すなわち、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ３）、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル（すなわち、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）２）及び２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジ（トリフルオロメチル）エチル（すなわち、−Ｃ（ＣＦ３）３）である。
【０５６４】
（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシは、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル−Ｏ−を意味する（ここで、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシの例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等を含むが、これらに限定されない。
【０５６５】
（Ｃ１−Ｃ６）アルコールは、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル−ＯＨを意味する（ここで、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。（Ｃ１−Ｃ６）アルコールの例は、メタノール、エタノール、プロパノール（すなわち、１−プロパノール）、２−プロパノール、ブタノール（すなわち、１−ブタノール）、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ペンタノール（すなわち、１−ペンタノール）、ｓｅｃ−アミルアルコール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソアミルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、ヘキサノール（すなわち、１−ヘキサノール）、シクロヘキサノール等を含むが、これらに限定されない。エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール等の１〜６個の炭素原子を有するポリオール類（例えば、ジオール類、トリオール類）は、（Ｃ１−Ｃ６）アルコールの等価体である。
【０５６６】
（Ｃ１−Ｃ４）アルコールは、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル−ＯＨを意味する（ここで、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。（Ｃ１−Ｃ４）アルコールの例は、メタノール、エタノール、プロパノール（すなわち、１−プロパノール）、２−プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を含むが、これらに限定されない。エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール等の１〜４個の炭素原子を有するポリオール類（例えば、ジオール類、トリオール類）は、（Ｃ１−Ｃ４）アルコールの等価体である。
【０５６７】
（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリルは、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル−ＣＮを意味する（ここで、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル部分は１〜４個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する。（Ｃ１−Ｃ４）アルキルの例は、上記の（Ｃ１−Ｃ６）アルキルの例のうちの適切な例を含む。）。（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリルの例は、アセトニトリル、プロピオニトリル等を含むが、これらに限定されない。本明細書中、（Ｃ２−Ｃ５）アルカンニトリルは、Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリルとも表記する。Ｃ２アルカンニトリルはアセトニトリルである。言い換えれば、アセトニトリルはIUPAC命名法に基づきエタンニトリルであり、２個の炭素原子を有するＣ２アルカンニトリルである。同様に、プロピオニトリルはＣ３アルカンニトリルである。
【０５６８】
（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートの例は、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ブチル及びその異性体等、好ましくは酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体等を含むが、これらに限定されない。本明細書中、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）カルボキシレートは、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレートとも表記する。
【０５６９】
Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドの例は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド等、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを含むが、これらに限定されない。本明細書中、Ｎ，Ｎ−ジ（（Ｃ１−Ｃ４）アルキル）（Ｃ１−Ｃ４）アルカンアミドは、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドとも表記する。Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１アルキル）Ｃ１アルカンアミドはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１アルキル）Ｃ２アルカンアミドはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドである。
【０５７０】
（Ｃ１−Ｃ４）カルボン酸は、（Ｃ０−Ｃ３）アルキル−ＣＯＯＨ、すなわち、（Ｃ０−Ｃ３）アルキル−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨを意味する（ここで、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。（Ｃ１−Ｃ４）カルボン酸の例は、酢酸、プロピオン酸等、好ましくは酢酸を含むが、これらに限定されない。本明細書中、（Ｃ１−Ｃ４）カルボン酸は、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸とも表記する。
【０５７１】
（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）アルキルケトンの例は、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等を含むが、これらに限定されない。本明細書中、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル（Ｃ１−Ｃ４）アルキルケトンは、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトンとも表記する。
【０５７２】
（Ｃ１−Ｃ４）ジハロアルカンの例は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等を含むが、これらに限定されない。本明細書中、（Ｃ１−Ｃ４）ジハロアルカンは、Ｃ１−Ｃ４ジハロアルカンとも表記する。
【０５７３】
環式の炭化水素基は、環を構成する原子が全て炭素原子である、単環式又は多環式の環式基を意味する。一つの態様では、環式の炭化水素基の例は、芳香族又は非芳香族の、単環式、二環式又は三環式の３〜１４員（好ましくは５〜１４員、より好ましくは５〜１０員）の環式の炭化水素基を含むが、これらに限定されない。別の態様では、環式の炭化水素基の例は、芳香族又は非芳香族の、単環式又は二環式（好ましくは単環式）の４〜８員（好ましくは５〜６員）の環式の炭化水素基を含むが、これらに限定されない。環式の炭化水素基の例は、シクロアルキル、アリール等を含むが、これらに限定されない。シクロアルキルの例は、上記の（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキルの例を含む。アリールは、上記で定義した通りの環式の炭化水素基のうち、芳香族の環式基である。アリールの例は、上記の（Ｃ６−Ｃ１０）アリールの例を含む。上記で定義又は例示した通りの環式の炭化水素基は、可能であれば、非縮合環式（例えば、単環式又はスピロ環式）及び縮合環式の環式基を包含してもよい。上記で定義又は例示した通りの環式の炭化水素基は、可能であれば、不飽和、部分飽和又は飽和のいずれでもよい。上記で定義又は例示した通りの環式の炭化水素基は炭素環基とも言う。炭素環は、上記で定義又は例示した通りの環式の炭化水素基に相当する環である。炭素環の例は、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペンテン、シクロヘキセン等を含むが、これらに限定されない。
【０５７４】
本明細書中、用語「１以上の置換基により置換されていてもよい」における「置換基」については、それらが化学的に許容され、本発明の効果を示す限りは、特に制限はない。
【０５７５】
本明細書中、「１以上の置換基により置換されていてもよい」との用語における「１以上の置換基」の例は、置換基群（ａ）から独立して選択される１以上の置換基（好ましくは１〜３個の置換基）を含むが、これらに限定されない。
【０５７６】
置換基群（ａ）は、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、（Ｃ１−Ｃ６）ハロアルキル、（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル、（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ、フェニル及びフェノキシからなる群である。
【０５７７】
加えて、置換基群（ａ）から独立して選択される１以上の置換基（好ましくは１〜３個の置換基）は、それぞれ独立して、置換基群（ｂ）から独立して選択される１以上の置換基（好ましくは１〜３個の置換基）により置換されていてもよい。ここで、置換基群（ｂ）は置換基群（ａ）と同じである。
【０５７８】
「１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル」の例は、（Ｃ１−Ｃ６）ハロアルキル、（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキル、１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルを含むが、これらに限定されない。
【０５７９】
１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキルの例は、フルオロメチル（すなわち、−ＣＨ２Ｆ）、ジフルオロメチル（すなわち、−ＣＨＦ２）、トリフルオロメチル（すなわち、−ＣＦ３）、２−フルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、３−フルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル、ヘプタフルオロプロピル、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル、４−フルオロブチル、２，２，３，３，４，４，４−へプタフルオロブチル、ノナフルオロブチル、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル、２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジ（トリフルオロメチル）エチルを含むが、これらに限定されない。
【０５８０】
本明細書中、置換基（例えば、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ１及びＸ２等）に言及するときの用語「本明細書中に記載の通り」及び類似の用語は、本明細書中の置換基の全ての定義並びにもしあれば全ての例、好ましい例、より好ましい例、更に好ましい例及び特に好ましい例等を参照することにより取り込む。
【０５８１】
（アクセプター数）
本明細書中、アクセプター数（acceptor number）に関しては、例えば、以下の文献を参照することができる。
Christian Reichardt, "Solvents and Solvent Effects in Organic Chemistry", 3rd, updated and enlarged edition, WILEY-VCH, 2003, p. 25-26
【０５８２】
３１Ｐ−ＮＭＲ化学シフト値を利用したアクセプター数の定義は、上記文献に記載されており、これは参照により本発明に組み込まれる。
【０５８３】
指定されたアクセプター数を有する溶媒の例は、上記文献に記載されており、これらは参照により本発明に組み込まれるが、これらに限定されるものではない。代表的な溶媒のアクセプター数は以下の通りである：
ヘキサン：０．０、酢酸エチル：９．３、アセトニトリル：１８.９、ブタノール：３２．２、エタノール：３７．１、酢酸：５２．９、水：５４．８。
【０５８４】
本明細書中、非限定的な用語「含む（comprise(s)/comprising）」は、限定的な語句「からなる（consist(s) of/consisting of）」にそれぞれ任意に置き換えることができる。
【０５８５】
そうでないと明示しない限り、本明細書において用いられる全ての技術的および科学的用語は、本開示が属する当業者に通常理解されるものと同じ意味を有する。
【０５８６】
別段に示されない限り、本明細書で使用される量、大きさ、濃度、反応条件などの特徴を表す数字は、用語「約」によって修飾されると理解される。いくつかの態様では、開示された数値は、報告された有効数字の桁数と、通常の丸め手法を適用して解釈される。いくつかの態様では、開示された数値は、それぞれの試験測定方法に見られる標準偏差から必然的に生じる誤差を含むと解釈される。
【０５８７】
（工程i）
工程（i）について説明する。
【０５８８】
工程iは、式（２）中のＸ１がハロゲン原子の場合の式（２）の化合物の製造方法の一つである。
【０５８９】
工程iは、式（１）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式（２）の化合物を製造する工程である、ただし、式（２）中のＸ１はハロゲン原子である； 
【０５９０】
【化３６】
0006920572.tif 000037
（ここで、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は本明細書中に記載の通りであり、Ｘ１はハロゲン原子である。）
【０５９１】
工程iの反応はヒドロキシ基のハロゲン化反応である。
【０５９２】
（工程iの原料：式（１）の化合物）
工程iの原料として、式（１）の化合物を用いる。
式（１）の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。例えば、式（１）の化合物の調製は、下記に示すように、WO2007/094225A1（特許文献５）、実施例１に記載されているか、又は類似の方法で行うことができる。
【０５９３】
【化３７】
0006920572.tif 000038
【０５９４】
WO2007/094225A1（特許文献５）を下記に要約する。例えば、WO2007/094225A1（特許文献５）は、下図のように式（１−ａ）の化合物がアセト酢酸エステル誘導体から製造されたことを開示する。
【０５９５】
【化３８】
0006920572.tif 000039
【０５９６】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールである。
【０５９７】
収率、入手性、価格、生成物の有用性等の観点から、式（１）中のＲ１の好ましい例は、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、より好ましくは（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、更に好ましくは（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、特に好ましくはメチルを含む。
【０５９８】
上記と同様の観点から、式（１）中のＲ２の好ましい例は、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、より好ましくは（Ｃ１−Ｃ６）ハロアルキル、更に好ましくは（Ｃ１−Ｃ４）パーフルオロアルキル、特に好ましくはトリフルオロメチルを含む。
【０５９９】
上記と同様の観点から、式（１）中のＲ３の好ましい例は、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、より好ましくは（Ｃ１−Ｃ６）ハロアルキル、更に好ましくは１〜９個のフッ素原子により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、特に好ましくはジフルオロメチルを含む。
【０６００】
式（１）の化合物の特に好ましい具体的な例は下記の通りである： 
【０６０１】
【化３９】
0006920572.tif 000040
【０６０２】
（工程iの生成物：式（２）の化合物）
【０６０３】
工程iの生成物は、原料として用いた式（１）の化合物に対応する式（２）の化合物である。
【０６０４】
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、式（１）で定義した通りである。式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は、それぞれ上記した式（１）中のそれらと同じである。
【０６０５】
工程iにおいては、式（２）中、Ｘ１はハロゲン原子である。収率、入手性、価格等の観点から、式（２）中のＸ１の更に好ましい例は、塩素原子及び臭素原子、特に好ましくは塩素原子を含む。
【０６０６】
式（２）の化合物の具体的な例は、以下を含むが、これらに限定されない； 
【０６０７】
【化４０】
0006920572.tif 000041
【０６０８】
式（２）の化合物の特に好ましい具体的な例は下記の通りである： 
【０６０９】
【化４１】
0006920572.tif 000042
【０６１０】
（工程iのハロゲン化剤）
反応が進行する限りは、ハロゲン化剤はいずれのハロゲン化剤でもよい。ハロゲン化剤の例は、塩素化剤及び臭素化剤等、好ましくは塩素化剤を含むが、これらに限定されない。
【０６１１】
ハロゲン化剤の具体的な例は、以下を含むが、これらに限定されない：塩素（Ｃｌ２）、塩化水素（例えば、塩化水素ガス、３０％〜３５％塩酸）、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩化オキサリル、臭素（Ｂｒ２）、臭化水素（例えば、４８％臭化水素酸）、臭化チオニル、三臭化リン、オキシ臭化リン等、ホスゲン、塩化ベンゾイル等。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、ハロゲン化剤の好ましい具体的な例は、塩素、塩化水素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、臭素、臭化水素、三臭化リン、更に好ましくは塩素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、更により好ましくは塩化チオニル、塩化スルフリル、更に好ましくは塩化チオニルを含む。
【０６１２】
工程iのハロゲン化剤は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iのハロゲン化剤の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。
工程iのハロゲン化剤の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iのハロゲン化剤の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iのハロゲン化剤の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iのハロゲン化剤の使用量は、例えば、式（１）の化合物（原料）１モルに対して、１．０〜３．０モル、好ましくは１．０〜２．０モル、より好ましくは１．０〜１．５モル、更に好ましくは１．０〜１．１モルである。
【０６１３】
（工程iの触媒：アミド類等）
工程iの反応は、触媒の存在下または非存在下で行うことができる。工程iの反応において触媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。しかしながら、触媒の非存在下で反応が十分に進行することは、本明細書中の実施例から明らかである。工程iで触媒を用いるときは、反応が進行する限りは、いずれの触媒を用いてもよい。工程iの触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、ウレア類（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素等）等。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの触媒の好ましい例は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、より好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を含む。
【０６１４】
工程iの触媒は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iの触媒の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。工程iの触媒の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iの触媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iでは触媒を用いなくてもよい。工程iで触媒を用いるときは、工程iの触媒の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iの触媒の使用量は、例えば、式（１）の化合物（原料）１モルに対して、０（ゼロ）〜０．１モル、好ましくは０（ゼロ）〜０．０５モルである。別の態様では、工程iの触媒の使用量は、例えば、式（１）の化合物（原料）１モルに対して、０．００１〜０．１モル、好ましくは０．０１〜０．０５モルある。
【０６１５】
（工程iの反応溶媒）
工程iの反応は、溶媒の非存在下又は存在下で行うことができる。工程iの反応で溶媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。工程iの反応で溶媒を使用する場合は、反応が進行する限りは、溶媒はいずれの溶媒でもよい。工程iの反応の溶媒は当業者が適切に選択することができる。工程iの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：芳香族炭化水素誘導体類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等）、ハロゲン化脂肪族炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン（ＥＤＣ）等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）等）、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。芳香族炭化水素誘導体類の中では、ハロゲン化芳香族炭化水素類（例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等）が好ましい。
【０６１６】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、好ましくは、工程iの反応は、溶媒の非存在下又は以下から選択される溶媒の存在下で行われる：芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。より好ましくは、工程iの反応は、溶媒の非存在下又は以下から選択される溶媒の存在下で行われる：クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。更に好ましくは、工程iの反応は、溶媒の非存在下又は以下から選択される溶媒の存在下で行われる：ジクロロメタン及びアセトニトリル。更に好ましくは、工程iの反応は、溶媒の非存在下又は溶媒としてのアセトニトリルの存在下で行われる。特に好ましくは、工程iの反応は、溶媒としてのアセトニトリルの存在下で行われる。
【０６１７】
工程iの反応の溶媒の使用量は、反応系の撹拌が十分にできる限りは、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iの反応の溶媒の使用量は、例えば、式（１）の化合物（原料）１モルに対して、０（ゼロ）〜３Ｌ（リットル）、好ましくは０（ゼロ）〜２Ｌ、より好ましくは０（ゼロ）〜１．５Ｌ、更に好ましくは０（ゼロ）〜１Ｌ、更に好ましくは０（ゼロ）〜０．８Ｌである。更に別の態様では、反応の溶媒の使用量は、例えば、式（１）の化合物（原料）１モルに対して、０．３〜３Ｌ（リットル）、好ましくは０．４〜２Ｌ、より好ましくは０．５〜１．５Ｌ、更に好ましくは０．６〜１．２Ｌである。２種以上の溶媒の組み合わせを用いるときは、２種以上の溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。
【０６１８】
（工程iの反応温度）
工程iの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの反応温度は、例えば、−１０℃（マイナス１０℃）〜１００℃、好ましくは−５℃（マイナス５℃）〜８０℃、より好ましくは０℃（ゼロ℃）〜５０℃、更に好ましくは０℃（ゼロ℃）〜４０℃、更に好ましくは０℃（ゼロ℃）〜３０℃である。
【０６１９】
（工程iの反応時間）
工程iの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの反応時間は、例えば、０．５時間〜４８時間、好ましくは１時間〜２４時間、より好ましくは１時間〜１２時間、更に好ましくは２時間〜１２時間である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
【０６２０】
（工程iの後処理；単離及び／又は精製）
工程iの生成物である式（２）の化合物、とりわけ化合物（２−ａ）は、工程iiの原料として使用することができる。工程iで得られる一般式（２）の化合物は、単離及び／又は精製して次工程に用いてもよく、または単離することなく次工程に用いてもよい。後処理（単離及び／又は精製）を行うか否かは、目的と状況に応じて、当業者が適切に決定できる。
【０６２１】
工程iにおいては、反応終了後、不活性ガス（例えば、窒素）によるパージ、バブリング及び／又は減圧により、ガス、揮発性成分、低沸点成分を除去してもよい。例えば、酸性成分を除去してもよい。
【０６２２】
工程iの目的物である式（２）の化合物、とりわけ化合物（２−ａ）は、可能であれば、当業者に知られた方法（例えば、可能であれば、蒸留、抽出、洗浄、再結晶を含む結晶化、結晶洗浄及び／又はその他の操作）及びそれらの改良された方法、及びそれらの任意の組み合わせにより、反応混合物から単離し精製することができる。
【０６２３】
可能であれば、有機溶媒に溶解又は懸濁させた生成物を水、温水、アルカリ性水溶液（例えば、５％〜飽和炭酸水素ナトリウム水溶液）又は酸性水溶液（例えば、５〜３５％塩酸又は５〜３５％硫酸）により洗浄してもよい。これらの洗浄操作は組み合わせてもよい。
【０６２４】
再結晶を含む生成物の結晶化及び結晶の洗浄を行うときは、後述の工程iiiにおける説明を参照することができる。
【０６２５】
上記のいずれの操作においても、目的と状況に応じて、温度は当業者が適切に調整することができる。
【０６２６】
後処理のいずれの操作及び次工程に生成物を使用する操作において、溶媒の量は、それらの添加及び除去により、当業者が適切に調整することができる。更には、場合により、溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。例えば、反応に用いた溶媒の回収とリサイクルを行ってもよく、後処理（単離及び／又は精製）において使用した溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。
【０６２７】
上記の操作の全て又は一部を適切に組み合わせることにより、後処理（単離及び／又は精製）を行うことができる。場合により、目的に合わせて、上記の操作を繰り返してもよい。加えて、上記のいずれの操作の組み合わせ及びそれらの順番を当業者が適切に選択することができる。
【０６２８】
（工程ii）
工程iiについて説明する。
【０６２９】
工程iiは、塩基の存在下で、式（２）の化合物を式（３）の化合物と反応させて、式（４）の化合物を製造する工程である； 
【０６３０】
【化４２】
0006920572.tif 000043
【０６３１】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ１及びＸ２は、本明細書中に記載の通りである。）
【０６３２】
工程iiの反応は縮合反応である。
【０６３３】
（工程iiの原料：式（２）の化合物）
工程iiの原料として、式（２）の化合物を用いる。式（２）の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。例えば、式（２）の化合物の調製は、WO2004/013106A1（特許文献２）、実施例１３及び１４に記載されており、これらを以下に示す。
【０６３４】
【化４３】
0006920572.tif 000044
【０６３５】
【化４４】
0006920572.tif 000045
【０６３６】
しかしながら、式（２）の化合物が本発明の方法より製造されることが好ましい。すなわち、式（２）中のＸ１がハロゲン原子のとき、式（２）の化合物は、好ましくは本明細書に記載の工程iを含む方法により製造される。
【０６３７】
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記で定義した通りである。式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は上記の通りである。
【０６３８】
式（２）中のＸ１は脱離基である。式（２）におけるＸ１は、工程iiの反応において脱離基として機能する限りは、いずれの原子または原子団でもよい。
【０６３９】
収率、入手性、価格等の観点から、式（２）中のＸ１の好ましい例は、ハロゲン原子、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルスルホニルオキシ、（Ｃ１−Ｃ４）ハロアルキルスルホニルオキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル又はハロゲン原子を有していてもよいベンゼンスルホニルオキシ、より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ、更に好ましくは塩素原子及び臭素原子、特に好ましくは塩素原子を含む。
【０６４０】
式（２）の化合物の具体的な例、及び特に好ましい具体的な例は、上記の通りである。
【０６４１】
（工程iiの原料：式（３）の化合物）
工程iiの原料として、式（３）の化合物を用いる。
【０６４２】
式（３）の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。例えば、式（３）の化合物の調製は、WO2006/068092A1（特許文献６）、特表2013-512201（JP2013-512201A）（特許文献７）及びWO2019/131715A1（特許文献８）に記載されているか、又は類似の方法で行うことができる。特表2013-512201（JP2013-512201A）、段落0004（US2012/264947A1、段落0007）（特許文献７）は、特開2008-001597（JP2008-001597A）及びWO2006/038657A1を引用して、WO2006/068092A1（特許文献６）に記載の方法で使用される原料の製造方法を開示する。これらを下図に要約して示す。
【０６４３】
【化４５】
0006920572.tif 000046
【０６４４】
式（３）中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ３−Ｃ６）シクロアルキル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル；１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ；又は１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ６−Ｃ１０）アリールであり；又はＲ４及びＲ５は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、４〜１２員の炭素環を形成し、ここで形成された環は１以上の置換基により置換されていてもよい。
【０６４５】
収率、入手性、価格、生成物の有用性等の観点から、式（３）中のＲ4及びＲ５の好ましい例は、それぞれ独立して、１以上の置換基により置換されていてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、より好ましくは（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、更に好ましくは（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、特に好ましくはメチルを含む。
【０６４６】
式（３）中のＸ２は酸を形成する原子又は原子団である。従って、ＨＸ２は酸である。
【０６４７】
収率、入手性、価格、生成物の有用性等の観点から、式（２）中のＸ１の好ましい例は、
ハロゲン原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、リン酸二水素基、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルスルホニルオキシ、（Ｃ１−Ｃ４）ハロアルキルスルホニルオキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル又はハロゲン原子を有していてもよいベンゼンスルホニルオキシ及びそれらの２個以上（好ましくは２個又は３個、より好ましくは２個）の混合物、より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、リン酸二水素基、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ及びそれらの２個以上（好ましくは２個又は３個、より好ましくは２個）の混合物、更に好ましくは塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ及びそれらの２個以上（好ましくは２個又は３個、より好ましくは２個）の混合物、特に好ましくは塩素原子、臭素原子及びそれらの混合物を含む。
【０６４８】
式（３）の化合物の特に好ましい具体的な例は、下記の化合物及びそれらの混合物である。
【０６４９】
【化４６】
0006920572.tif 000047
【０６５０】
加えて、「Ｘ２Ｈ」が硫酸又はリン酸のような多価の酸である場合は、「酸部分のＸ２」と「下記式（３−１）の（４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル）チオカルボキサミジン部分」の比率は、多価の酸の可能な全ての価数に相当する比率になり得ることが本発明の範囲内である。
【０６５１】
【化４７】
0006920572.tif 000048
【０６５２】
言い換えれば、例えば、下記式（３−ｃ）の化合物は式（３）の化合物の均等物である。
【０６５３】
【化４８】
0006920572.tif 000049
【０６５４】
工程iiの反応において、式（３）の化合物中のイソチオウロニウム基は、対応するチオール基及び／又はその塩（例えば、一般的に、−Ｓ−Ｎａ＋又は−Ｓ−Ｋ＋）、及び／又はその類縁体を生成していると推定された。式（３）の化合物に対応する、チオール基及び／又はその塩、及び／又はその類縁体を有する化合物は、式（３）の化合物の均等物であり、それら均等物を用いる方法は、添付の特許請求の範囲により定義される本発明の範囲内に入る。
【０６５５】
（工程iiの原料：式（３）の化合物の使用量）
工程iiの式（３）の化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iiの式（３）の化合物の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの式（３）の化合物の使用量は、例えば、式（２）の化合物（原料）１モルに対して、０．５〜２．０モル以上、好ましくは０．８〜１．５モル、より好ましくは１．０〜１．５モル、更に好ましくは１．０〜１．１モルである。
【０６５６】
（工程iiの生成物：式（４）の化合物）
【０６５７】
工程iiの生成物は、原料として用いた式（２）の化合物及び式（３）の化合物に対応する式（４）の化合物である。
【０６５８】
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、式（１）で定義した通りである。式（４）中、Ｒ4及びＲ５は、式（３）で定義した通りである。式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4及びＲ5の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は、それぞれ上記した式（１）及び式（３）中のそれらと同じである。
【０６５９】
式（４）の化合物の特に好ましい具体的な例は下記の通りである： 
【０６６０】
【化４９】
0006920572.tif 000050
【０６６１】
（工程iiの塩基）
工程iiの反応は、塩基の存在下で行われる。反応が進行する限りは、塩基はいずれの塩基でもよい。工程iiの塩基の例は、以下を含むが、これらに限定されない：
アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ土類金属水酸化物（例えば、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等）、アルカリ土類金属炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等）、アルカリ金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ土類金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素カルシウム等）、
リン酸塩（例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸カルシウム等）、
リン酸水素塩（例えば、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素カルシウム等）等、アミン類（例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）−ピリジン（ＤＭＡＰ）等）、アンモニア等及びそれらの混合物。
【０６６２】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの塩基の好ましい例は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩及びそれらの混合物、より好ましくは、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びそれらの混合物、更に好ましくは、アルカリ金属水酸化物を含む。
【０６６３】
上記と同様の観点から、工程iiの塩基の好ましい具体的な例は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム及びそれらの混合物、より好ましくは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム及びそれらの混合物、更に好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム及びそれらの混合物、更に好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及びそれらの混合物、特に好ましくは水酸化ナトリウムを含む。
【０６６４】
工程iiの塩基は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iiの塩基の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。工程iiの塩基の形態の例は、塩基のみの固体及び任意の濃度の水溶液等を含む。塩基の形態の具体的な例は、フレーク、ペレット、ビーズ、パウダー及び１０〜５０％水溶液、好ましくは２０〜５０％水溶液（例えば、２５％水酸化ナトリウム水溶液及び４８％水酸化ナトリウム水溶液、好ましくは４８％水酸化ナトリウム水溶液）等を含むが、これらに限定されない。工程iiの塩基の形態は、当業者が適切に選択することができる。
【０６６５】
工程iiの塩基の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iiの塩基の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの塩基の使用量は、一つの態様では、例えば、式（２）の化合物（原料）１当量に対して、５〜１０当量、好ましくは５〜８当量、より好ましくは５〜７当量、更に好ましくは５〜６当量である。別の態様では、例えば、式（２）の化合物（原料）１当量に対して、１〜１５当量、好ましくは１〜１０当量、より好ましくは２〜９当量、更に好ましくは４〜８当量、更に好ましくは５〜６当量である。
【０６６６】
（工程iiの反応溶媒）
反応の円滑な進行等の観点から、工程iiの反応は溶媒の存在下で行うことが好ましい。
工程iiの反応の溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。
【０６６７】
一つの態様では、工程iiの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：０（ゼロ）〜５０（好ましくは３〜４５、より好ましくは５〜４５、更に好ましくは５〜３５、更に好ましくは５〜３０、更に好ましくは５〜２０、更に好ましくは８〜２０）のアクセプター数を有する有機溶媒、水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。
【０６６８】
別の態様では、工程iiの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：
芳香族炭化水素誘導体類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等）、ハロゲン化脂肪族炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン（ＥＤＣ）等）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール（ｔｅｒｔ−ブタノールはｔｅｒｔ−ブチルアルコールとも言う）、ペンタノール、ｓｅｃ−アミルアルコール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソアミルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、カルボン酸エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、ウレア類（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。「２−プロパノール」は「イソプロピルアルコール」又は「イソプロパノール」とも言う。
【０６６９】
しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの反応の溶媒の好ましい例は、以下を含む：芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６７０】
工程iiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類、スルホン類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０６７１】
工程iiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０６７２】
工程iiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０６７３】
工程iiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０６７４】
工程iiの反応の溶媒の更に好ましい例は、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０６７５】
一つの態様では、工程iiの反応の溶媒の特に好ましい例は、ニトリル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０６７６】
別の態様では、工程iiの反応の溶媒の特に好ましい例は、カルボン酸エステル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０６７７】
上記と同様の観点から、工程iiの反応の溶媒の好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ペンタノール、ｓｅｃ−アミルアルコール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソアミルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体（本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６７８】
上記と同様の観点から、工程iiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体（本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６７９】
上記と同様の観点から、工程iiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体（本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６８０】
工程iiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６８１】
工程iiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６８２】
工程iiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６８３】
工程iiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、アセトニトリル、酢酸ブチルから選択される１又は２個（好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６８４】
一つの態様では、工程iiの反応の溶媒の特に好ましい具体的な例は、アセトニトリル溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６８５】
別の態様では、工程iiの反応の溶媒の特に好ましい具体的な例は、酢酸ブチル溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０６８６】
いずれの場合も、反応が進行する限りは、溶媒は単層でもよく、２層に分離してもよい。
【０６８７】
工程iiの反応の溶媒の使用量について説明する。「反応の溶媒の全使用量」は、反応に使用した全ての有機溶媒の量と水溶媒の量の合計である。反応後の後処理（例えば、単離、精製等）に使用した有機溶媒及び水溶媒は含まない。反応に使用した「有機溶媒」は、原料溶液中及び反応剤溶液中の有機溶媒を含む。反応に使用した「水溶媒」は、原料溶液中及び反応剤溶液中の水（例えば、４８％水酸化ナトリウム水溶液中の水）を含む。
【０６８８】
工程iiの反応の溶媒の全使用量は、反応系の撹拌が十分にできる限りは、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iiの反応の溶媒の全使用量は、例えば、式（２）の化合物（原料）１モルに対して、０．１〜１０Ｌ（リットル）、好ましくは、０．５〜５Ｌ、より好ましくは１〜５Ｌ、更に好ましくは１〜３Ｌ、更に好ましくは１〜２Ｌである。別の態様では、工程iiの反応の溶媒の全使用量は、例えば、式（２）の化合物（原料）１モルに対して、１．５〜３．０Ｌ（リットル）、好ましくは、１．５〜２．５Ｌ、より好ましくは１．５〜２．０Ｌである。更に別の態様では、工程iiの反応の溶媒の全使用量は、例えば、式（２）の化合物（原料）１モルに対して、１．７〜３．０Ｌ（リットル）、好ましくは、１．７〜２．５Ｌ、より好ましくは１．７〜２．０Ｌである。
【０６８９】
上記と同様の観点から、一つの態様では、工程iiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式（２）の化合物（原料）１モルに対して、０（ゼロ）〜５Ｌ（リットル）、好ましくは０．４〜２．０Ｌ、より好ましくは０．５〜１．５Ｌ、更に好ましくは０．６〜１．０Ｌ、更に好ましくは０．７〜０．９Ｌである。別の態様では、工程iiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式（２）の化合物（原料）１モルに対して、０．１〜５Ｌ（リットル）、好ましくは、０．３〜２．０Ｌ、より好ましくは０．４〜１．５Ｌ、更に好ましくは０．５〜１．０Ｌ、更に好ましくは０．６〜０．８Ｌである。
【０６９０】
上記と同様の観点から、工程iiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式（２）の化合物（原料）１モルに対して、０．１〜５Ｌ（リットル）、好ましくは０．５〜２．０Ｌ、より好ましくは０．５〜１．５Ｌ、更に好ましくは０．７〜１．４Ｌ、更に好ましくは０．９〜１．２Ｌである。
【０６９１】
２種以上の有機溶媒の組み合わせを用いるときは、２種以上の有機溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。
【０６９２】
有機溶媒と水溶媒の組み合わせを用いるときは、有機溶媒と水溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、有機溶媒と水溶媒の比率は、例えば、体積比で９０：１０〜０：１００、好ましくは体積比で９０：１０〜１０：９０、より好ましくは体積比で７０：３０〜３０：７０、更に好ましくは体積比で５０：５０〜３５：６５、更に好ましくは体積比で５０：５０〜４０：６０である。
【０６９３】
言い換えれば、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量は、例えば、全溶媒の量（１００ｖｏｌ％）に対して、１０ｖｏｌ％から１００ｖｏｌ％、好ましくは１０ｖｏｌ％から９０ｖｏｌ％、より好ましくは３０ｖｏｌ％から７０ｖｏｌ％、更に好ましくは５０ｖｏｌ％から６５ｖｏｌ％、更に好ましくは５０ｖｏｌ％から６０ｖｏｌ％である。
【０６９４】
（工程iiの反応温度）
工程iiの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの反応温度は、例えば、−１０(マイナス１０)℃〜１００℃、好ましくは−１０℃〜７０℃、より好ましくは−１０℃〜５０℃、更に好ましくは０（ゼロ）℃〜４０℃、更に好ましくは０℃〜３０℃、更に好ましくは０℃〜２５℃である。
【０６９５】
（工程iiの反応時間）
工程iiの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iiの反応時間は、例えば４時間〜４８時間、好ましくは４時間〜２４時間、より好ましくは４時間〜１８時間、更に好ましくは４時間〜１２時間である。別の態様では、工程iiの反応時間は、例えば、１時間〜４８時間、好ましくは１時間〜２４時間、より好ましくは３時間〜１８時間、更に好ましくは３時間〜１２時間、である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
【０６９６】
（工程iiの仕込み方法）
式（２）の化合物、式（３）の化合物、塩基、溶媒等を仕込む順番は、特に制限されない。反応が進行する限りは、それらの添加順序は、いずれの順序でもよい。例えば、反応容器に、式（２）の化合物、式（３）の化合物及び溶媒を含む混合物に塩基を滴下してもよい。他の例としては、反応容器に、式（３）の化合物、塩基及び溶媒を加えた後に、式（２）の化合物を滴下してもよい。更に他の例としては、反応容器に、塩基及び溶媒を加えた後に、式（２）の化合物及び式（３）の化合物を順次滴下してもよい。
【０６９７】
（工程iiの後処理；単離及び／又は精製）
工程iiの生成物である式（４）の化合物、とりわけ化合物（４−ａ）は、工程iiiの原料として使用することができる。工程iiで得られる一般式（４）の化合物は、単離及び／又は精製して次工程に用いてもよく、または単離することなく次工程に用いてもよい。後処理（単離及び／又は精製）を行うか否かは、目的と状況に応じて、当業者が適切に決定できる。
【０６９８】
工程iiの目的物である式（４）の化合物、とりわけ化合物（４−ａ）は、当業者に知られた方法（例えば、抽出、洗浄、再結晶を含む結晶化、結晶洗浄及び／又はその他の操作）及びそれらの改良された方法、及びそれらの任意の組み合わせにより、反応混合物から単離し精製することができる。
【０６９９】
後処理工程（単離及び/又は精製）では、以下の操作が行われてもよいが、これらに限定されない：後処理では、有機層と水層の分離を含む、抽出操作と洗浄操作が行われてもよい。混合物を有機層と水層に分離する場合、混合物が熱いまま、分離してもよい。例えば、有機層と水層を分離するとき、熱い混合物を用いてもよく、混合物を加熱してもよい。熱濾過を含む濾過操作により、不純物を除去してもよい。
【０７００】
洗浄操作においては、可能であれば、有機溶媒に溶解又は懸濁させた生成物を水、温水、アルカリ性水溶液（例えば、５％〜飽和炭酸水素ナトリウム水溶液又は１〜１０％水酸化ナトリウム水溶液）又は酸性水溶液（例えば、５〜３５％塩酸又は５〜３５％硫酸）により洗浄してもよい。これらの洗浄操作は組み合わせてもよい。
【０７０１】
再結晶を含む生成物の結晶化及び結晶の洗浄を行うときは、後述の工程iiiにおける説明を参照することができる。
【０７０２】
上記のいずれの操作においても、目的と状況に応じて、温度は当業者が適切に調整することができる。
【０７０３】
後処理のいずれの操作及び次工程に生成物を使用する操作において、溶媒の量は、それらの添加及び除去により、当業者が適切に調整することができる。更には、場合により、溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。例えば、反応に用いた溶媒の回収とリサイクルを行ってもよく、後処理（単離及び／又は精製）において使用した溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。
【０７０４】
上記の操作の全て又は一部を適切に組み合わせることにより、後処理（単離及び／又は精製）を行うことができる。場合により、目的に合わせて、上記の操作を繰り返してもよい。加えて、上記のいずれの操作の組み合わせ及びそれらの順番を当業者が適切に選択することができる。
【０７０５】
（工程iii）
工程iiiについて説明する。
【０７０６】
工程iiiの反応は金属触媒の存在化で、酸化反応により、式（４）の化合物から式（５）の化合物を製造する工程である。
【０７０７】
工程iiiの酸化反応の例としては、過酸化水素、次亜塩素酸塩、過酸化物、過マンガン酸塩、二酸化マンガン、クロム酸等の酸化剤を用いる方法や、ジョーンズ酸化、オゾン酸化、スワン酸化等のジメチルスルホキシド酸化、オキソン酸化等が挙げられる。過酸化水素の代わりに、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸塩、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキシ一硫酸カリウム（オキソン（登録商標））等を用いて工程iiiの反応を実施することは、本発明の均等物であり、本発明の範囲内である。
【０７０８】
工程iiiは、好ましくは、金属触媒の存在下で、式（４）の化合物を過酸化水素と反応させて、式（５）の化合物を製造する工程である； 
【０７０９】
【化５０】
0006920572.tif 000051
【０７１０】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、本明細書中に記載の通りである。）
【０７１１】
（工程iiiの原料：式（４）の化合物）
工程iiiの原料として、式（４）の化合物を用いる。式（４）の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。前述の通り、例えば、式（４）の化合物の調製は、WO2004/013106A1（特許文献２）、参考例１−１、１−２及び１−３、並びにWO2005/105755A1（特許文献３）、実施例３〜５及びWO2005/095352A1（特許文献４）、実施例１〜５に記載されている。加えて、式（４）の化合物の調製は、類似の方法で行うことができる。しかしながら、式（４）の化合物が本発明の方法より製造されることが好ましい。すなわち、式（４）の化合物は、好ましくは本明細書に記載の工程iiを含む方法により製造される。
【０７１２】
式（４）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、式（１）で定義した通りである。式（４）中、Ｒ4及びＲ５は、式（３）で定義した通りである。式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4及びＲ5の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は、それぞれ上記した式（１）及び式（３）中のそれらと同じである。  式（４）の化合物の特に好ましい具体的な例は上記の通りである。
【０７１３】
（工程iiiの生成物：式（５）の化合物）
【０７１４】
工程iiiの生成物は、原料として用いた式（４）の化合物に対応する式（５）の化合物である。
【０７１５】
式（５）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、式（１）で定義した通りである。式（５）中、Ｒ4及びＲ５は、式（３）で定義した通りである。式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ4及びＲ５の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は、それぞれ上記した式（１）及び式（３）中のそれらと同じである。
【０７１６】
【化５１】
0006920572.tif 000052
式（４）を酸化し式（６）を得た後、式（５）まで酸化しても良い。
【０７１７】
式（５）の化合物の特に好ましい具体的な例は下記の通りである： 
【０７１８】
【化５２】
0006920572.tif 000053
【０７１９】
先述のように、式（４）の化合物（Ｓ誘導体）から式（５）の化合物（ＳＯ２誘導体）を製造する方法においては、酸化反応が十分に進行し、生成物中の式（６）の化合物（ＳＯ誘導体）の割合が十分に低いことが望まれる。例えば、工程iiiの反応後の反応混合物中、式（６）の化合物（ＳＯ誘導体）の比率が、１０％以下であることが好ましく、５％以下がより好ましく、３％以下がより好ましく、２％以下がより好ましく、１％以下が更に好ましい。
【０７２０】
（工程iiiの酸化剤：過酸化水素）
工程iiiの反応では、酸化剤として前記した次亜塩素酸塩、過酸化物、過マンガン酸塩、二酸化マンガン、クロム酸等を用いることができる。好ましくは、過酸化水素を用いる。
【０７２１】
工程iiiの過酸化水素の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。工程iiiの過酸化水素の形態は、当業者が適切に選択することができる。しかしながら、安全性、危険性、経済効率等を考慮して、過酸化水素の形態の好ましい例は、１０〜７０ｗｔ％過酸化水素水溶液、より好ましくは２５〜６５ｗｔ％過酸化水素水溶液、更に好ましくは３０〜６５ｗｔ％過酸化水素水溶液、特に好ましくは３０〜６０ｗｔ％過酸化水素水溶液を含む。過酸化水素の形態の具体的な例は、３０ｗｔ％過酸化水素水溶液、３５ｗｔ％過酸化水素水溶液、５０ｗｔ％過酸化水素水溶液、６０ｗｔ％過酸化水素水溶液等を含むが、これらに限定されない。
【０７２２】
工程iiiの過酸化水素の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iiiの過酸化水素の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率、安全性、危険性等の観点から、工程iiiの過酸化水素の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、２モル以上、好ましくは２〜８モル、より好ましくは２〜６モル、更に好ましくは２〜５モル、更に好ましくは２〜４モル、更に好ましくは２〜３モル、更に好ましくは２．３〜３モルである。
【０７２３】
（工程iiiの触媒：金属触媒）
工程iiiの反応は、金属触媒の存在下で行われる。反応が進行する限りは、金属触媒はいずれの金属触媒でもよい。工程iiiの金属触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：
タングステン触媒（例えば、タングステン酸、タングステン酸塩（例えば、タングステン酸ナトリウム（タングステン酸ナトリウム二水和物及びタングステン酸ナトリウム十水和物を含む）、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム）、金属タングステン、酸化タングステン（例えば、酸化タングステン（ＶＩ）、酸化タングステン（ＶＩ）は三酸化タングステンとも言う）、炭化タングステン、塩化タングステン（例えば、塩化タングステン（ＶＩ）、塩化タングステン（ＶＩ）は六塩化タングステンとも言う）、臭化タングステン（例えば、臭化タングステン（Ｖ））、硫化タングステン（例えば、硫化タングステン（ＩＶ）、硫化タングステン（ＩＶ）は二硫化タングステンとも言う）、リンタングステン酸及びその塩（例えば、リンタングステン酸、リンタングステン酸ナトリウム、リンタングステン酸アンモニウム等）、ケイタングステン酸及びその塩（例えば、ケイタングステン酸、ケイタングステン酸ナトリウム等）等、及びそれらの混合物）、
モリブデン触媒（例えば、モリブデン酸、モリブデン酸塩、（例えば、モリブデン酸ナトリウム（モリブデン酸ナトリウム二水和物を含む）、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム（モリブデン酸アンモニウム四水和物を含む））、金属モリブデン、酸化モリブデン（例えば、酸化モリブデン（ＶＩ）、酸化モリブデン（ＶＩ）は三酸化モリブデンとも言う）、塩化モリブデン（塩化モリブデン（Ｖ）、塩化モリブデン（Ｖ）は五塩化モリブデンとも言う）、硫化モリブデン（例えば、硫化モリブデン（ＩＶ）、硫化モリブデン（ＩＶ）は二硫化モリブデンとも言う）、リンモリブデン酸及びその塩（例えば、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム等）、ケイモリブデン酸及びその塩（例えば、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム等）、ビス（２，４−ペンタンジオナト)モリブデン（ＶＩ）ジオキシド等、及びそれらの混合物）、
鉄触媒（例えば、鉄（Ｉ）アセチルアセトネート、塩化鉄（Ｉ）、硝酸鉄（Ｉ）等、及びそれらの混合物）、
マンガン触媒（例えば、過マンガン酸カリウム、酸化マンガン（ＩＩ）、塩化マンガン（ＩＩ）等、及びそれらの混合物）、
バナジウム触媒（例えば、バナジルアセチルアセトナート、酸化バナジウム（Ｖ）、オキシ三塩化バナジウム（Ｖ）、バナジウム（Ｖ）オキシトリエトキシド、バナジウム（Ｖ）オキシトリイソプロポキシド等、及びそれらの混合物）、
ニオブ触媒（例えば、炭化ニオブ、塩化ニオブ（Ｖ）、ニオブ（Ｖ）ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物）、
タンタル触媒（例えば、炭化タンタル（ＴａＣ）、塩化タンタル（Ｖ）（ＴａＣｌ５）、タンタル（Ｖ）ペンタエトキシド（Ｔａ（ＯＥｔ）５）等、及びそれらの混合物）、
チタン触媒（例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物）、
ジルコニウム触媒（例えば、二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム（Ｉ）、塩化ジルコニウム（ＩＶ）、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物）、
銅触媒（例えば、酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）等、及びそれらの混合物）、
タリウム触媒（例えば、硝酸タリウム（Ｉ）、酢酸タリウム（Ｉ）、トリフルオロ酢酸タリウム（Ｉ）等、及びそれらの混合物）。
【０７２４】
本明細書中、水和物の形態になり得る酸とその塩は、その水和物の形態であってもよく、いずれの形態も本発明の範囲内である。
従って、例えば、「タングステン酸ナトリウム」は「タングステン酸ナトリウム二水和物」及び「タングステン酸ナトリウム十水和物」を包含する。
本明細書中、ポリ酸の形態になり得る酸とその塩（例えば、タングステン酸及びその塩等）は、ポリ酸の形態であってもよく、いずれの形態も本発明の範囲内である。
「ビス（２，４−ペンタンジオナト）モリブデン（ＶＩ）ジオキシド」は、「ＭｏＯ２（ａｃａｃ）２」、「モリブデン（ＶＩ）ジオキシアセチルアセトナート」又は「ビス（アセチルアセトナト）酸化モリブデン（ＶＩ）」とも言う。
「鉄（Ｉ）アセチルアセトネート」は、「Ｆｅ（ａｃａｃ）３」又は「トリス（２，４−ペンタンジオナト）鉄（Ｉ）」とも言う。
「バナジルアセチルアセトネート」は、「ＶＯ（ａｃａｃ）２」、「ビス（２，４−ペンタンジオナト）バナジウム（ＩＶ）オキシド」、「バナジウム（ＩＶ）オキシアセチルアセトネート」又は「バナジウム（ＩＶ）ビス(アセチルアセトナト)オキシド」とも言う。
「オキシ三塩化バナジウム（Ｖ）」は「ＶＯＣｌ３」、「三塩化酸化バナジウム（Ｖ）」又は「三塩化バナジル」とも言う。
「バナジウム（Ｖ）オキシトリエトキシド」は「ＶＯ（ＯＥｔ）３」、「バナジウム（Ｖ）トリエトキシドオキシド」又は「トリエトキシバナジウム（Ｖ）オキシド」とも言う。
「バナジウム（Ｖ）オキシトリイソプロポキシド」は「ＶＯ（ＯＰｒ−ｉ）３」、「バナジウム（Ｖ）トリイソプロポキシドオキシド」又は「トリイソプロポキシバナジウム（Ｖ）オキシド」
とも言う。
チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシドは、チタン（ＩＶ）イソプロポキシド又はテトライソプロポキシチタン（ＩＶ））とも言う。
【０７２５】
工程iiiの金属触媒の金属は好ましくは遷移金属である。具体的には、３族元素（Ｓｃ、Ｙなど）、４族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ）、５族元素（Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ）、６族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ）、７族元素（Ｍｎ、Ｔｃ、Ｒｅ）、８族元素（Ｆｅ、Ｒｕ、Ｏｓ）、９族元素（Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ）、１０族元素（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ）、１１族元素（Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ）が挙げられる。
【０７２６】
工程iiiの金属触媒の遷移金属は、好ましくは周期表４族、５族及び６族の金属である。
【０７２７】
工程iiiの金属触媒の遷移金属は、好ましくは５族及び６族である。
【０７２８】
工程iiiの金属触媒の遷移金属は、７族、８族及び９族より５族及び６族が好ましい。
【０７２９】
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒、モリブデン触媒、ニオブ触媒、タンタル触媒、チタン触媒及びジルコニウム触媒である。
【０７３０】
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒、モリブデン触媒、ニオブ触媒及びタンタル触媒である。
【０７３１】
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒、モリブデン触媒及びニオブ触媒である。
【０７３２】
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒及びモリブデン触媒である。
【０７３３】
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒である。
【０７３４】
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、モリブデン触媒である。
【０７３５】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのタングステン触媒の好ましい例は、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸、ケイタングステン酸及びその塩、並びにそれらの混合物、
より好ましくはタングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、及びそれらの混合物、
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン（ＶＩ）、炭化タングステン、及びそれらの混合物
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸ナトリウム、金属タングステン、炭化タングステン、及びそれらの混合物
更に好ましくはタングステン酸及びタングステン酸ナトリウム、特に好ましくはタングステン酸ナトリウムを含む。
【０７３６】
工程iiiの金属触媒（とりわけ、タングステン触媒）は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iiiの金属触媒（とりわけ、タングステン触媒）の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。その形態は、当業者が適切に選択することができる。金属触媒（とりわけ、タングステン触媒）の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。その使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、その使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０.００１〜０．１モル、好ましくは０.０１〜０．１モル、より好ましくは０.０１〜０．０５モル、更に好ましくは０.０３〜０．０５モルである。
【０７３７】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのモリブデン触媒の好ましい例は、モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、酸化モリブデン、炭化モリブデン、塩化モリブデン、硫化モリブデン、臭化モリブデン、リンモリブデン酸、ケイモリブデン酸及びその塩、並びにそれらの混合物、
より好ましくは、モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
更に好ましくは、モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン（ＶＩ）、炭化モリブデン、塩化モリブデン（Ｖ）、硫化モリブデン（ＩＶ）、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
更に好ましくはモリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン（ＶＩ）、塩化モリブデン（Ｖ）、及びそれらの混合物
更に好ましくは、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
特に好ましくは、モリブデン酸アンモニウムを含む。
【０７３８】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのニオブ触媒の好ましい例は、ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ、窒化ニオブ、ケイ化ニオブ、ホウ化ニオブ、並びにそれらの混合物、
より好ましくは、ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
更に好ましくは、ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ（Ｖ）、ニオブ（Ｖ）ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
更に好ましくは、ニオブ酸ナトリウム及びニオブ酸カリウム、特に好ましくはニオブ酸ナトリウムである。
【０７３９】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのタンタル触媒の好ましい例は、タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル、窒化タンタル、ケイ化タンタル、ホウ化タンタル、並びにそれらの混合物、
より好ましくは、タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
更に好ましくは、タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル（Ｖ）、タンタル（Ｖ）ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物、更に好ましくは、タンタル酸リチウム及びタンタル酸カリウム、特に好ましくは、タンタル酸リチウムである。
【０７４０】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのチタン触媒の好ましい例は、チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン、窒化チタン、並びにそれらの混合物、
より好ましくは、チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
更に好ましくは、チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物、特に好ましくは、チタンアセチルアセトネートである。
【０７４１】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのジルコニウム触媒のより好ましくは、ジルコニウム酸、ジルコニウム酸塩、酸化ジルコニウム、炭化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、並びにそれらの混合物、
更に好ましくは、二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム（Ｉ）、塩化ジルコニウム（IV）、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物、特に好ましくは、塩化酸化ジルコニウムである。
【０７４２】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒のより好ましくは、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
ジルコニウム酸、ジルコニウム酸塩、酸化ジルコニウム、炭化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、並びにそれらの混合物である。
【０７４３】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒のより好ましくは、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物である。
【０７４４】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒のより好ましくは、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物である。
【０７４５】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒のより好ましくは、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物である。
【０７４６】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン（ＶＩ）、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン（ＶＩ）、炭化モリブデン、塩化モリブデン（Ｖ）、硫化モリブデン（ＩＶ）、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ（Ｖ）、ニオブ（Ｖ）ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル（Ｖ）、タンタル（Ｖ）ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物、
チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物、
二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム（Ｉ）、塩化ジルコニウム（IV）、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物である。
【０７４７】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン（ＶＩ）、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン（ＶＩ）、炭化モリブデン、塩化モリブデン（Ｖ）、硫化モリブデン（ＩＶ）、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ（Ｖ）、ニオブ（Ｖ）ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル（Ｖ）、タンタル（Ｖ）ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物である。
【０７４８】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン（ＶＩ）、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン（ＶＩ）、炭化モリブデン、塩化モリブデン（Ｖ）、硫化モリブデン（ＩＶ）、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ（Ｖ）、ニオブ（Ｖ）ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物である。
【０７４９】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン（ＶＩ）、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン（ＶＩ）、炭化モリブデン、塩化モリブデン（Ｖ）、硫化モリブデン（ＩＶ）、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物である。
【０７５０】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムである。
【０７５１】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムである。
【０７５２】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムである。
【０７５３】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムである。
【０７５４】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムである。
【０７５５】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムである。
【０７５６】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の特に好ましくは、タングステン酸ナトリウム、モリブデン酸アンモニウム、ニオブ酸ナトリウムである。
【０７５７】
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の特に好ましくは、タングステン酸ナトリウム及びモリブデン酸アンモニウムである。
【０７５８】
（工程iiiの酸触媒）
【０７５９】
工程iiiの反応は、酸触媒の存在下で行ってもよい。酸触媒は用いなくてもよい。酸触媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。工程iiiの酸触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸、リン酸メチル、リン酸エチル又はリン酸フェニル、好ましくは硫酸、リン酸又はリン酸フェニル、より好ましくは硫酸又はリン酸フェニル、更に好ましくはリン酸フェニル。
【０７６０】
工程iiiの酸触媒は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iiiの酸触媒の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。酸触媒の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iiiの酸触媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。酸触媒の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、酸触媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０（ゼロ）〜０．１モル、好ましくは０（ゼロ）〜０．０５モルである。別の態様では、酸触媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．００１〜０．１モル、好ましくは０．００５〜０．１モル、より好ましくは０．００５〜０．０５モル、更に好ましくは０．０１〜０．０５モルである。
【０７６１】
（工程iiiの相間移動触媒）
【０７６２】
工程iiiの反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。相間移動触媒は用いなくてもよい。相間移動触媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。工程iiiの相間移動触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：四級アンモニウム塩（例えば、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムブロミド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムクロリド（ベンジルドデシルジメチルアンモニウムクロリド）、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムブロミド（ベンジルドデシルジメチルアンモニウムブロミド）、ミリスチルトリメチルアンモニウムクロリド（テトラデシルトリメチルアンモニウムクロリド）、ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド（テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド）、ベンジルジメチルステアリルアンモニウムクロリド（ベンジルオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド）、ベンジルジメチルステアリルアンモニウムブロミド（ベンジルオクタデシルジメチルアンモニウムブロミド）等）、四級ホスホニウム塩（テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラオクチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等）、クラウンエーテル（例えば、１２−クラウン−４、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６等）等。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの相間移動触媒の好ましい例は、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド及び硫酸水素テトラブチルアンモニウム、より好ましくは硫酸水素テトラブチルアンモニウムを含む。硫酸水素テトラブチルアンモニウムはＴＢＡＨＳと略記してもよい。
【０７６３】
工程iiiの相間移動触媒は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iiiの相間移動触媒の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。相間移動触媒の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iiiの相間移動触媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。相間移動触媒の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、相間移動触媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０（ゼロ）〜０．１モル、好ましくは０（ゼロ）〜０．０５モルである。別の態様では、相間移動触媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．００１〜０．１モル、好ましくは０．００５〜０．０５モル、より好ましくは０．０１〜０．０５モルである。
【０７６４】
例えば、工程iiiの溶媒として水とブタノール等のアルコール系溶媒を用いるときは、反応を酸触媒と相間移動触媒の存在下で行うことが好ましい。しかしながら、水とある種の有機溶媒の混合溶媒中では、酸触媒と相間移動触媒の非存在下で反応が十分に進行する。
【０７６５】
（工程iiiの反応溶媒）
反応の円滑な進行等の観点から、工程iiiの反応は溶媒の存在下で行うことが好ましい。工程iiiの反応の溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。
【０７６６】
一つの態様では、工程iiiの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：０（ゼロ）〜５０（好ましくは３〜４５、より好ましくは５〜４５、更に好ましくは５〜３５、更に好ましくは５〜３０、更に好ましくは５〜２０、更に好ましくは８〜２０）のアクセプター数を有する有機溶媒、水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。
【０７６７】
別の態様では、工程iiiの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：芳香族炭化水素誘導体類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等）、ハロゲン化脂肪族炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン（ＥＤＣ）等）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール（ｔｅｒｔ−ブタノールはｔｅｒｔ−ブチルアルコールとも言う）、ペンタノール、ｓｅｃ−アミルアルコール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソアミルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、カルボン酸エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等（（本発明において、「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体であり、「酢酸ペンチルの異性体」は「酢酸ペンチル」の等価体である。）））、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、ウレア類（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、
水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。「２−プロパノール」は「イソプロピルアルコール」又は「イソプロパノール」とも言う。
【０７６８】
しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの反応の溶媒の好ましい例は、以下を含む：芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７６９】
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類、スルホン類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０７７０】
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０７７１】
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０７７２】
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０７７３】
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい例は、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０７７４】
一つの態様では、工程iiiの反応の溶媒の特に好ましい例は、ニトリル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０７７５】
別の態様では、工程iiiの反応の溶媒の特に好ましい例は、カルボン酸エステル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０７７６】
上記と同様の観点から、工程iiiの反応の溶媒の好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ペンタノール、ｓｅｃ−アミルアルコール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソアミルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体（本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７７７】
上記と同様の観点から、工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体（本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７７８】
上記と同様の観点から、工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体（本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７７９】
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、１，４−ジオキサン、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、スルホランから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７８０】
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７８１】
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７８２】
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７８３】
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アセトニトリルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７８４】
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される１個以上（好ましくは１又は２個、より好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７８５】
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、アセトニトリル、酢酸ブチルから選択される１又は２個（好ましくは１個）の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７８６】
一つの態様では、工程iiiの反応の溶媒の特に好ましい具体的な例は、アセトニトリル溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
【０７８７】
別の態様では、工程iiiの反応の溶媒の特に好ましい具体的な例は、酢酸ブチル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
【０７８８】
いずれの場合も、反応が進行する限りは、溶媒は単層でもよく、２層に分離してもよい。
【０７８９】
工程iiiの反応の溶媒の使用量について説明する。「反応の溶媒の全使用量」は、反応に使用した全ての有機溶媒の量と水溶媒の量の合計である。反応後の後処理（例えば、単離、精製等）に使用した有機溶媒及び水溶媒は含まない。反応に使用した「有機溶媒」は、原料溶液中及び反応剤溶液中の有機溶媒を含む。反応に使用した「水溶媒」は、原料溶液中及び反応剤溶液中の水（例えば、過酸化水素水溶液中の水）を含む。
【０７９０】
工程iiiの反応の溶媒の全使用量は、反応系の撹拌が十分にできる限りは、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの反応の溶媒の全使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．１〜１０Ｌ（リットル）、好ましくは０．３〜５Ｌ、好ましくは、０．３〜３Ｌ、より好ましくは０．５〜３Ｌ、更に好ましくは０．５〜２Ｌ、更に好ましくは０．７〜１．８Ｌである。
【０７９１】
上記と同様の観点から、一つの態様では、工程iiiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．１〜１０Ｌ（リットル）、好ましくは、０．２〜５Ｌ、より好ましくは０．３〜２Ｌ、更に好ましくは０．３〜１Ｌである。
【０７９２】
別の態様では、工程iiiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．４〜５Ｌ、好ましくは、０．４〜２Ｌ、より好ましくは０．４〜１．５Ｌ、更に好ましくは０．４〜１．３Ｌである。更にの態様では、工程iiiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．５〜５Ｌ（リットル）、好ましくは、０．５〜２Ｌ、より好ましくは０．５〜１．５Ｌ、更に好ましくは０．５〜１．３Ｌである。
【０７９３】
上記と同様の観点から、一つの態様では、工程iiiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．０１〜２Ｌ（リットル）、好ましくは、０．０５〜１Ｌ、より好ましくは０．１〜１Ｌ、更に好ましくは０．２〜１Ｌである。
【０７９４】
別の態様では、工程iiiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．０５〜０．８Ｌ（リットル）、好ましくは、０．１〜０．８Ｌ、より好ましくは０．２〜０．８Ｌ、更に好ましくは０．３〜０．８Ｌである。更に別の態様では、工程iiiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．０５〜０．５Ｌ（リットル）、好ましくは、０．１〜０．５Ｌ、より好ましくは０．２〜０．５Ｌ、更に好ましくは０．３〜０．５Ｌである。更に別の態様では、工程iiiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式（４）の化合物（原料）１モルに対して、０．１〜０．３Ｌ（リットル）、好ましくは０．２〜０．３Ｌである。
【０７９５】
２種以上の有機溶媒の組み合わせを用いるときは、２種以上の有機溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。
【０７９６】
有機溶媒と水溶媒の組み合わせを用いるときは、有機溶媒と水溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、有機溶媒と水溶媒の比率は、例えば、体積比で９０：１０〜１０：９０、好ましくは体積比で９０：１０〜５０：５０、より好ましくは体積比で８５：１５〜５５：４５、更に好ましくは体積比で８０：２０〜６０：４０、更に好ましくは体積比で７５：２５〜６０：４０である。
【０７９７】
言い換えれば、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量は、例えば、全溶媒の量（１００ｖｏｌ％）に対して、１０ｖｏｌ％から９０ｖｏｌ％、好ましくは１０ｖｏｌ％から５０ｖｏｌ％、より好ましくは１５ｖｏｌ％から４５ｖｏｌ％、更に好ましくは２０ｖｏｌ％から４０ｖｏｌ％、更に好ましくは２５ｖｏｌ％から４０ｖｏｌ％である。
【０７９８】
（工程iiiの前添加水（Pre-added water））
「前添加水」とは、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内にあらかじめ溶媒として加えた水を意味する。安全性、反応の円滑な開始、安定した反応等の観点から、後述の観点から、一つの態様では、前添加水の使用量は、式（４）の化合物１モルに対して、例えば、０（ゼロ）〜１Ｌ（リットル）、好ましくは０．０１〜１Ｌ、より好ましくは０．０５〜１Ｌ、更に好ましくは０．０８〜１Ｌ、更に好ましくは０．１〜１Ｌである。別の態様では、前添加水の使用量は、式（４）の化合物１モルに対して、例えば、０（ゼロ）〜０．５Ｌ（リットル）、好ましくは０．０１〜０．５Ｌ、より好ましくは０．０５〜０．５Ｌ、更に好ましくは０．０８〜０．５Ｌ、更に好ましくは０．１〜０．５Ｌである。更に別の態様では、前添加水の使用量は、式（４）の化合物１モルに対して、例えば、０（ゼロ）〜０．４Ｌ（リットル）、好ましくは０．０１〜０．４Ｌ、より好ましくは０．０５〜０．４Ｌ、更に好ましくは０．０８〜０．２Ｌ、更に好ましくは０．１〜０．２Ｌである。更に別の態様では、前添加水の使用量は、式（４）の化合物１モルに対して、例えば、０（ゼロ）〜０．３Ｌ（リットル）、好ましくは０．０１〜０．３Ｌ、より好ましくは０．０５〜０．３Ｌ、更に好ましくは０．０８〜０．３Ｌ、更に好ましくは０．１〜０．３Ｌである。
【０７９９】
（工程iiiの反応温度）
工程iiiの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iiiの反応温度は、例えば、０（ゼロ）℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜１００℃、より好ましくは５０℃〜９０℃、好ましくは６０℃〜９０℃、更に好ましくは７０℃〜９０℃、更に好ましくは７５℃〜９０℃、更に好ましくは７５℃〜８０℃である。同様の観点から、別の態様では、工程iiiの反応温度は、例えば、５０℃〜１５０℃、５０℃〜１２０℃、５０℃〜１００℃、好ましくは６０℃〜１５０℃、６０℃〜１２０℃、６０℃〜１００℃である。
【０８００】
（工程iiiの反応時間）
工程iiiの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの反応時間は、例えば、１時間〜４８時間、好ましくは３時間〜４８時間、より好ましくは３時間〜２４時間、より好ましくは４時間〜２４時間、更に好ましくは４時間〜１２時間、更に好ましくは４時間〜８時間である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
【０８０１】
（工程iiiの仕込み方法）
原料、酸化剤、触媒、溶媒等を仕込む順番は、特に制限されない。反応が進行する限りは、それらの添加順序は、いずれの順序でもよい。しかしながら、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内にあらかじめ溶媒としての水と触媒を加えた場合に、反応を円滑に開始できること及び反応の初期段階が安定することが見出された。これは、より安全で工業的に好ましい方法が見出されたことを意味する。従って、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内に溶媒としての水を加えることが好ましい。すなわち、前述の「前添加水（pre-added water）」を用いることが好ましい。
【０８０２】
（工程iiiの後処理；単離及び精製）
工程iiiの目的物である式（５）の化合物、とりわけピロキサスルホン（５−ａ）は、当業者に知られた方法（例えば、抽出、洗浄、再結晶を含む結晶化、結晶洗浄及び／又はその他の操作）及びそれらの改良された方法、及びそれらの任意の組み合わせにより、反応混合物から単離し精製することができる。
【０８０３】
工程iiiにおいては、実施例に示すように、反応後、反応混合物を還元剤（例えば、亜硫酸ナトリウム水溶液）で処理することにより、未反応の過酸化水素等の過酸化物を分解することが好ましい。
【０８０４】
後処理工程（単離及び／又は精製）では、以下の操作が行われてもよいが、これらに限定されない：後処理では、有機層と水層の分離を含む、抽出操作及び／又は洗浄操作が行われてもよい。混合物を有機層と水層に分離する場合、混合物が熱いまま、分離してもよい。例えば、有機層と水層を分離するとき、熱い混合物を用いてもよく、混合物を加熱してもよい。熱濾過を含む濾過操作により、不純物を除去してもよい。
【０８０５】
後処理では、再結晶を含む目的物の結晶化及び結晶の洗浄を行ってもよい。再結晶を含む目的物の結晶化は当業者に知られた常法で行ってもよい。例えば、目的物の良溶媒の溶液に、貧溶媒を加えてもよい。他の例としては、目的物の飽和溶液を冷却してもよい。
【０８０６】
更に他の例としては、目的物の有機溶媒の溶液（反応混合物を含む）から、溶媒を除去してもよい。この場合、使用できる有機溶媒の例は、後記する水混和性有機溶媒の例、好ましい例、より好ましい例、更に好ましい例を含む。系内に予め水を加えた後、有機溶媒を除去してもよい。この場合、有機溶媒を水との共沸により除去してもよい。有機溶媒の除去は、加熱下、減圧下及び常圧下で行ってもよい。更に他の例としては、目的物の水混和性有機溶媒の溶液に水を加えてもよい。水混和性有機溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン）、ケトン類（例えば、アセトン）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）、及びそれらの組み合わせ、好ましくはメタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、アセトニトリル、アセトン及びそれらの組み合わせ、より好ましくはエタノール、２−プロパノール、ブタノール、アセトニトリル、及びそれらの組み合わせ。「水混和性有機溶媒」は「水溶性有機溶媒」と同じ意味である。「２−プロパノール」は「イソプロピルアルコール」又は「イソプロパノール」とも言う。
【０８０７】
上記のいずれの場合も、種晶を用いてもよい。
【０８０８】
結晶洗浄操作は、濾取した結晶を溶媒で洗浄してもよい。結晶の懸濁液（スラリー）を撹拌した後、濾過してもよい。いずれの場合も、使用できる溶媒の例は、前記した水混和性有機溶媒の例、好ましい例、より好ましい例、更に好ましい例、及び水を含む。
【０８０９】
上記のいずれの場合も（再結晶を含む結晶化操作、結晶洗浄操等）、水混和性有機溶媒等の溶媒の量及び水の量は、その目的が達せられる限りは、いずれの割合でもよい。水混和性有機溶媒と水の組み合わせを用いるときは、それらの割合は、その目的が達せられる限りは、いずれの割合でもよい。２種以上の水混和性有機溶媒等の溶媒の組み合わせを用いるときは、それらの割合は、その目的が達せられる限りは、いずれの割合でもよい。それらの量と割合は、目的と状況に応じて、当業者が適切に調整することができる。
【０８１０】
上記のいずれの操作においても（抽出操作、洗浄操作、再結晶を含む結晶化操作、結晶洗浄操作等）、温度は当業者が適切に調整することができる。しかしながら、収率、純度、経済効率等の観点から、例えば、温度は０℃（ゼロ℃）〜１００℃、好ましくは５℃〜９０℃、より好ましくは１０℃〜８０℃である。これらの温度の範囲で、加熱及び冷却を行えばよい。
【０８１１】
上記のいずれの操作においても（抽出操作、洗浄操作、再結晶を含む結晶化操作、結晶洗浄操作等）、有機溶媒（水混和性有機溶媒を含む）及び／又は水の量は、それらの添加及び除去により、当業者が適切に調整することができる。更には、場合により、溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。例えば、反応に用いた溶媒の回収とリサイクルを行ってもよく、後処理（単離及び／又は精製）において使用した溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。
【０８１２】
上記の操作の全て又は一部を適切に組み合わせることにより、後処理（単離及び／又は精製）を行うことができる。場合により、単離及び／又は精製などの目的に合わせて、上記の操作を繰り返してもよい。加えて、上記のいずれの操作の組み合わせ及びそれらの順番を当業者が適切に選択することができる。
【０８１３】
（ピロキサスルホンの結晶）
本発明の一態様は、ピロキサスルホンの新規な結晶及びその製造方法を含む。
以下、ピロキサスルホンの結晶化の工程について説明する。
【０８１４】
本発明のピロキサスルホンの結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による測定で得られる粉末Ｘ線回折スペクトルに認められる特徴的なパターンにより特定される。
【０８１５】
本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトル例を図１に示す。また、特許文献２および１０に開示されている方法で製造したピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルを図２および図３に示す。それぞれの図に示された上下２つのチャートのうち、上側が透過法、下側が反射法で測定した粉末Ｘ線回折スペクトルである。本発明においては、透過法で測定した粉末Ｘ線回折スペクトルを議論の対象とする。
【０８１６】
本発明のピロキサスルホンの結晶と、公知の方法で製造されたピロキサスルホンの結晶について、透過法で測定した粉末Ｘ線回折スペクトルを比較すると、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークが認められる点では共通するが、ピーク高さの序列は異なる。具体的には、公知の方法で製造されたピロキサスルホンの結晶では１７．７−１７．８°のピークにおけるピーク高さが最大であるのに対し、本発明のピロキサスルホンの結晶では１９．９−２０．０°ピークにおけるピーク高さが最大となる。なお、本明細書中において、幅をもって指定したピーク位置の範囲内に複数本のピークが存在する場合は、そのうち最も高いピークを当該位置のピークと認定する。
【０８１７】
驚くべきことに、前記ピロキサスルホンの結晶におけるピーク強度の序列の相違が、かかる結晶を用いて調製した農薬製剤の物理化学性を左右するのである。この点についての詳細は、後記する農薬製剤の項に譲る。
【０８１８】
一つの態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大である。
【０８１９】
本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルにおける１９．９−２０．０°のピーク高さと１７．７−１７．８°のピーク高さの比率は、特に限定されないが、通常１：０．０１−０．９９、好ましくは１：０．０２−０．９５、より好ましくは１：０．１−０．８５、更に好ましくは１：０．３−０．７５、格別好ましくは１：０．４−０．６５の範囲を含む。
【０８２０】
本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルにおける１９．９−２０．０°のピーク高さと１８．０−１８．１°のピーク高さの比率は、特に限定されないが、通常１：０．０１−０．９９、好ましくは１：０．０２−０．９５、より好ましくは１：０．０４−０．８、更に好ましくは１：０．０７−０．６、格別好ましくは１：０．１−０．５の範囲を含む。
【０８２１】
別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８２２】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも４．９−５．０°、９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８２３】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．３−２０．４°、２０．６−２０．７°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８２４】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°、２１．８−２１．９°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８２５】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°、２２．３−２２．４°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８２６】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°、２５．４−２５．５°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８２７】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°、２６．６−２６．７°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８２８】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°、２６．９−２７．０°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８２９】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°、２７．１−２７．２°および３０．１−３０．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３０】
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、少なくとも１７．７−１７．８°、１８．０−１８．１°および１９．９−２０．０°の範囲の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９−２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも９．９−１０．０°、２０．６−２０．７°、３０．１−３０．３°および３５．５−３５．６°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３１】
上記いずれの態様においても、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、その他に、１１．２−１１．４°、１４．３−１４．４°、１４．９−１５．１°、１７．１−１７．３°、１９．６−１９．７°、２０．１−２０．２°、２０．８−２０．９°、２２．０−２２．１°、２２．５−２２．６°、２２．７−２２．８°、２３．１−２３．３°、２４．３−２４．５°、２５．１−２５．２°、２６．２−２６．３°、２６．９−２７．０°、２７．１−２７．２°、２７．３−２７．４°、２７．７−２７．９°、２８．３−２８．４°、２８．５−２８．６°、２９．７−２９．８°、３０．４−３０．５°、３１．５°−３１．６°、３２．１−３２．３°、３２．４−３２．５°、３２．８−３３．０°、３３．３−３３．４°、３４．５−３４．７°、３４．８−３４．９°、３５．３−３５．４°、３６．１−３６．２°、３６．３−３６．４°、３６．６−３６．７°、３７．２−３７．３°、３８．０−３８．１°および３８．６−３８．７°の回折角２θのうち１または２以上のピークを有してよい。
【０８３２】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．８°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、５．０°、９．９°、１１．３°、１４．４°、１５．０°、１９．７°、２０．２°、２０．４°、２０．６°、２０．８°、２１．８°、２２．１°、２２．３°、２２．８°、２３．２°、２４．４°、２５．１°、２５．４°、２６．３°、２６．６°、２７．０°、２７．１°、２８．３°、２８．５°、２９．７°、３０．１°、３０．３°、３０．６°、３１．６°、３２．５°、３２．９°、３４．６°、３５．４°、３５．５°、３６．１°、３６．７°、３７．２°、３８．０°および３８．７°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３３】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、９．９°、１４．４°、２０．４°、２０．６°、２０．８°、２１．８°、２２．４°、２２．５°、２５．５°、２６．３°、２６．６°、２７．０°、２７．１°、２８．４°、３０．１°、３０．３°、３２．４°、３４．７°、３５．３°、３６．１°、３６．４°、３８．０°および３８．７°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３４】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．８°、１８．１°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、５．０°、９．９°、１７．２°、２０．６°、２１．８°、２２．４°、２３．２°、２５．２°、２５．５°、２６．３°、２６．７°、２６．９°、２７．１°、２９．８°、３０．１°、３０．２°、３４．７°、３４．８°および３６．２°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３５】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、９．９°、２０．３°、２０．６°、２０．７°、２１．８°、２２．４°、２５．４°、２７．０°、２７．１°、３０．１°、３０．４°、３１．５°、３２．４°、３３．３°、３５．５°、３６．１°、３６．２°および３６．３°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３６】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．８°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、５．０°、９．９°、２０．４°、２０．６°、２０．８、２１．８°、２２．４°、２２．８°、２５．４°、２６．６°、２７．０°、２７．１°、２８．５°、２９．８°、３０．３°、３１．６°、３４．７°および３５．６°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３７】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、４．９°、５．０°、９．９°、１９．６°、２０．２°、２０．４°、２０．６°、２１．８°、２２．４°、２２．７°、２３．２°、２５．１°、２５．４°、２６．６°、２７．０°、２７．１°、２８．５°、３０．１°、３１．５°、３４．６°、３４．８°、３５．５°および３６．１°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３８】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、４．９°、９．９°、１４．４°、２０．４°、２０．６°、２１．８°、２２．３°、２２．８°、２４．４°、２５．１°、２５．４°、２６．３°、２６．６°、２７．１°、２８．５°、２９．７°、３０．２°、３１．６°、３２．４°、３３．３°、３４．６°、３４．７°、３５．６°、３６．１°、３６．３°、３６．４°および３６．７°の回折角２θにもピークを有する。
【０８３９】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、５．０°、９．９°、２０．６°、２０．７°、２２．３°、２６．３°、２６．６°、２６．７°、２７．０°、２７．１°、３０．１°、３０．２°、３１．５°、３４．７°、３４．８°、３５．３°、３５．４°、３６．１°および３６．２°の回折角２θにもピークを有する。
【０８４０】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．８°、１８．０°および２０．０°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、４．９°、５．０°、９．９°、１４．４°、１５．０°、１９．７°、２０．２°、２０．３°、２０．６°、２０．８°、２１．８°、２２．０°、２２．３°、２２．７°、２３．２°、２４．４°、２５．１°、２５．５°、２６．６°、２７．０°、２７．３°、２８．５°、２９．７°、３０．２°、３０．３°、３１．５°、３２．４°、３２．９°、３３．４°、３４．７°、３５．６°、３６．１°、３６．７°、３８．１°および３８．７°の回折角２θにもピークを有する。
【０８４１】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、５．０°、９．９°、１４．４°、１９．６°、２０．４°、２０．６°、２０．７°、２１．８°、２２．３°、２２．４°、２２．８°、２３．２°、２５．１°、２５．４°、２６．６°、２７．０°、２８．５°、３０．１°、３０．３°、３１．５°、３２．２°、３４．６°および３５．６°の回折角２θにもピークを有する。
【０８４２】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、５．０°、９．９°、１４．４°、２０．４°、２０．６°、２０．８°、２１．８°、２２．３°、２２．８°、２３．２°、２５．１°、２５．５°、２６．３°、２６．６°、２７．０°、２７．１°、２８．５°、２９．８°、３０．１°、３２．４°、３４．６°、３４．７°、３５．５°、３６．１°、３８．１°および３８．６°の回折角２θにもピークを有する。
【０８４３】
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末Ｘ線回折スペクトルは、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、５．０°、９．９°、１４．４°、１５．０°、２０．３°、２０．６°、２０．８°、２１．８°、２２．０°、２２．４°、２２．８°、２３．２°、２４．４°、２５．１°、２５．５°、２６．２°、２６．６°、２７．１°、２７．８°、２８．５°、２９．８°、３０．３°、３１．５°、３２．４°、３４．５°、３５．６°、３７．２°および３８．１°の回折角２θにもピークを有する。
【０８４４】
一つの態様として、本発明のピロキサスルホンの結晶を得る方法は、濃縮法、貧溶媒添加法、蒸気拡散法（シッティングドロップ法、ハンギングドロップ法、サンドイッチドロップ法を含む）、バッチ法（オイルバッチ法を含む）、透析法、液々拡散法（カウンターディフュージョン法）、冷却法、圧力法、溶融急冷法（メルトクエンチ法）、温度サイクリング法、スラリー攪拌法、超音波法などの公知の晶析技術を含む。一つの好ましい態様として、本発明のピロキサスルホンの結晶を得る方法は、濃縮法、すなわち有機溶剤を主成分とする溶媒とピロキサスルホンを溶質として含み構成されるピロキサスルホンの溶液から有機溶剤を留去してピロキサスルホンを析出させる方法を含む。別の好ましい態様として、本発明のピロキサスルホンの結晶を得る方法は、貧溶媒添加法、すなわち有機溶剤を主成分とする溶媒とピロキサスルホンを溶質として含み構成されるピロキサスルホンの溶液にピロキサスルホンの貧溶媒を添加してピロキサスルホンを析出させる方法を含む。
【０８４５】
留去とは、溶媒を構成する有機溶剤の一部または全部を、揮発または沸騰させることにより蒸発させて、溶液から除去することを言う。ピロキサスルホンの溶液を構成する有機溶剤を留去すると、溶液が濃縮され、過飽和状態となり、溶媒に対して過剰となったピロキサスルホンが結晶として析出する。留去は常圧で実施してもよいし、所望により減圧または加圧して実施してもよい。また、留去は室温で実施してもよいし、所望により系を加熱または冷却して実施してもよい。
【０８４６】
また、貧溶媒とは、溶質を溶解する能力が低い溶媒を言う。ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒に貧溶媒を添加すると、貧溶媒の量が増すにしたがってピロキサスルホンの溶解度が低下し、過飽和状態となり、溶媒に対して過剰となったピロキサスルホンが結晶として析出する。貧溶媒の添加は室温で実施してもよいし、所望により系を加熱または冷却して実施してもよい。
【０８４７】
上記いずれの態様においても、本発明のピロキサスルホンの結晶を得る方法には、あらゆる有機溶剤が任意に使用できるということはできず、有機溶剤の選択は極めて重要となる。有機溶剤の選択を誤ると、所望の粉末Ｘ線回折スペクトルに認められる特徴的なパターンを有するピロキサスルホンの結晶は、得ることができない。
【０８４８】
有機溶剤を留去して本発明のピロキサスルホンを析出させる態様において、使用できる有機溶剤としては、少なくとも以下を含む：芳香族炭化水素誘導体類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等）、ハロゲン化脂肪族炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、テトラクロロエチレン等）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、カルボン酸類（蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等）、カルボン酸エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）等）、ケトン類（例えば、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、ウレア類（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素等）、スルホキシド類（例えば、ジエチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。特に、ニトリル類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アミド類およびジハロゲン化脂肪族炭化水素類。
【０８４９】
上記のうち、好ましい有機溶剤としては、以下を含む：Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４アルキルケトン、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミド、Ｃ１−Ｃ４ジハロアルカン。特に、アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン。
【０８５０】
上記の態様において、ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒は、更に水を含む含水溶媒であってもよい。ただし、含水溶媒におけるピロキサスルホンの溶解度を十分に高いものとする観点から、有機溶剤を主成分として含むことが好ましい。なお、本明細書中において、ある成分を主成分として含むとは、議論の対象とする組成物を構成する各成分の容量の総和のうち該成分の容量が３分の１以上を占めることを意味する。
【０８５１】
上記のうち、好ましい溶媒としては、以下を含む：Ｃ１−Ｃ４アルコール／Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリル混合溶媒、含水Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリル、Ｃ１−Ｃ４カルボン酸、Ｃ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）Ｃ１−Ｃ４アルカンアミドおよびＣ１−Ｃ４ジハロアルカン／Ｃ１−Ｃ４アルコール混合溶媒。特に、アセトニトリル／メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン／エタノール混合溶媒。
【０８５２】
一方、上記のうち、一種単独で使用することを避けるべき有機溶剤としては、以下を含む：クロロホルム、ジメチルスルホキシド、１，４−ジオキサン、２−メチルテトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、トリフルオロエタノールおよび二硫化炭素。ただし、これらの有機溶剤を他の有機溶剤と組み合わせて使用する態様や、これらの有機溶剤と水を含む含水溶媒の態様までも排除するものではない。
【０８５３】
貧溶媒を添加して本発明のピロキサスルホンを析出させる態様において、使用できる有機溶剤としては、少なくとも以下を含む：芳香族炭化水素誘導体類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等）、ハロゲン化脂肪族炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、テトラクロロエチレン等）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、カルボン酸類（蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等）、カルボン酸エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、ウレア類（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。特に、ニトリル類、ケトン類およびカルボン酸エステル類。
【０８５４】
上記のうち、好ましい有機溶剤としては、以下を含む：Ｃ２−Ｃ５アルカンニトリルおよびＣ１−Ｃ４アルキルＣ１−Ｃ４カルボキシレート。特に、アセトニトリル、アセトンおよび酢酸エチル。
【０８５５】
上記の態様において、ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒は、更に水を含む含水溶媒であってもよい。ただし、含水溶媒におけるピロキサスルホンの溶解度を十分に高いものとする観点から、有機溶剤を主成分として含むことが好ましい。
【０８５６】
上記の態様において、用いられる貧溶媒は、２０℃におけるピロキサスルホンの溶解度が５０ｇ／Ｌ以下である溶媒を言い、少なくとも以下を含む：エーテル類（ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、アニソール、２−メチルテトラヒドロフラン等）、カルボン酸エステル類（酢酸イソプロピル等）、ケトン類（メチルイソブチルケトン等）、脂肪族炭化水素類（シクロヘキサン、ヘプタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等）、芳香族炭化水素誘導体類（トルエン、キシレン等）および水。特に、アルコール類。
【０８５７】
上記の貧溶媒は、ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒と相溶するものを用いることが好ましい。また、Ｃ１−Ｃ４アルコール類が好ましく、エタノールまたはイソプロパノールが更に好ましく、エタノールが格別好ましい。
【０８５８】
ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒と貧溶媒の組み合わせのうち、特に好ましいものとしては、以下を含む：アセトニトリルとエタノール、アセトンとエタノール、酢酸エチルとエタノール。
【０８５９】
上記のいずれの場合も、本発明のピロキサスルホンの結晶を得るにあたり、種晶を用いてもよい。
【０８６０】
一つの態様において、ピロキサスルホンの溶液は、ピロキサスルホンを合成する反応に用いた反応溶液であってもよい。ピロキサスルホンを合成する方法は特に限定されないが、公知の方法に従って合成することができる。ピロキサスルホンを合成する方法は、好ましくは前記工程(iii)を含む方法である。
【０８６１】
本発明のピロキサスルホンの結晶において、通常、結晶の形状は柱状または短柱状である。ここで、結晶の形状が柱状または短柱状であるとは、観察対象の結晶の正投影図に内接する長方形を仮想したときに、該長方形の短辺と長辺の長さの比が１：１−１：１０、好ましくは１：１−１：５であるような結晶であることを言う。また、結晶の形状が針状であるとは、前記長方形の長辺の長さが短辺の長さの１０倍を超えるような結晶であることを言う。ピロキサスルホンの結晶の形状は、光学顕微鏡や電子顕微鏡などの手段を用いて観察することができ、その観察方法は特に限定されない。本発明のピロキサスルホンの結晶は、その１０個を無作為に観察したとき、８個以上の結晶の形状が柱状または短柱状であることが好ましい。
【０８６２】
一つの態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶は嵩比重がおよそ１．０ｇ／ｍLの柱状結晶である。一方で特許文献２および１０に開示されている方法で得られる針状結晶の嵩比重はおよそ０．５ｇ／ｍLである。
柱状結晶は嵩比重が大きく、輸送時や製造現場での保管スペースや、使用する各種機器の容量、取り扱いの観点から、針状結晶と比べ有利である。さらに、針状結晶では結晶析出時にスケーリングが観察され、回収率が低くなる傾向がある。
【０８６３】
本発明のピロキサスルホンの結晶の検鏡写真を図４に示す。また、特許文献２および１０に開示されている方法で製造したピロキサスルホンの結晶の検鏡写真を図５および図６に示す。
【０８６４】
本発明のピロキサスルホンの結晶は、除草活性成分として単独で使用することも可能であるが、需要者である農業従事者の安全性、利便性等の観点から、各種の農薬助剤と調合した農薬組成物すなわち農薬製剤に加工して使用することが好ましい。
【０８６５】
本発明のピロキサスルホンの結晶は、公知慣用の製剤技術により多様な剤型の農薬製剤に加工することができ、そのようにした農薬製剤（以下、本発明の農薬製剤と言うことがある）もまた本発明に包含される。
【０８６６】
本発明の農薬製剤の剤型の例は、以下を含むが、これらに限定されない：粉剤、粒剤などの、在り姿のまま農耕地等に散布する製剤の態様；水和剤、顆粒水和剤、水性懸濁剤または油性懸濁剤などの、散布用水にといて懸濁液を調製し、該懸濁液を農耕地等に散布する製剤の態様；乳剤、ＥＷ剤などの、散布用水にといて乳液を調製し、該乳液を農耕地等に散布する製剤の態様。
【０８６７】
前記剤型の好ましい例は、水和剤、顆粒水和剤、水性懸濁剤または油性懸濁剤などの、散布用水にといて懸濁液を調製し、該懸濁液を農耕地等に散布する製剤の態様を含む。
【０８６８】
一つの態様では、前記剤型のより好ましい具体的な例は、水和剤、顆粒水和剤などの固体製剤を含む。
【０８６９】
前記固体製剤の更に好ましい具体的な例は、水和剤を含む。
【０８７０】
別の態様では、前記剤型のより好ましい具体的な例は、水性懸濁剤または油性懸濁剤などの液体製剤を含む。
【０８７１】
前記液体製剤の更に好ましい具体的な例は、水性懸濁剤を含む。
【０８７２】
水和剤は、農薬活性成分（本発明においてはピロキサスルホンの結晶）と、農薬助剤として界面活性剤および固体担体を含む粉状の固体製剤である。水和剤の製造方法は、特に限定されない。
【０８７３】
顆粒水和剤は、農薬活性成分（本発明においてはピロキサスルホンの結晶）と、農薬助剤として界面活性剤および固体担体を含む粒状の固体製剤である。顆粒水和剤の製造方法は、特に限定されない。
【０８７４】
水性懸濁剤は、農薬活性成分（本発明においてはピロキサスルホンの結晶）と、農薬助剤として界面活性剤および水を含む水性の液体製剤である。水性懸濁剤の製造方法は、特に限定されない。
【０８７５】
油性懸濁剤は、農薬活性成分（本発明においてはピロキサスルホンの結晶）と、農薬助剤として界面活性剤および油性分散媒を含む油性の液体製剤である。油性分散媒としては、農薬活性成分の貧溶媒であるものが好ましく用いられる。油性懸濁剤の製造方法は、特に限定されない。
【０８７６】
前記界面活性剤の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。界面活性剤は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。界面活性剤の例は、以下を含むが、これらに限定されない：ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンヒマシ油、ポリオキシアルキレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシアルキレンアリールフェニルエーテル、ソルビタンモノアルキルカルボキシレート、アセチレンアルコール及びアセチレンジオール並びにそれらのアルキレンオキシド付加物などのノニオン性界面活性剤；テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン、アルキルピリミジニウム塩などのカチオン性界面活性剤；アルキルアリールスルホン酸塩及びその縮合物、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルコハク酸塩、アリールスルホン酸塩及びその縮合物、アルキル硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリール硫酸エステル塩、アルキルアリールリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシアルキレンアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシアルキレンアリールエーテルリン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテルリン酸塩などのアニオン性界面活性剤；アルキルベタイン、アルキルアミンオキシド、アルキルイミダゾリニウムベタイン、アミノ酸、レシチンなどの両性界面活性剤；ポリエーテル変性シリコーンなどのシリコーン系界面活性剤；ペルフルオロアルキルスルホン酸、ペルフルオロアルキルカルボン酸、フッ素テロマーアルコールなどのフッ素系界面活性剤。
【０８７７】
前記固体担体の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。固体担体は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。固体担体の例は、以下を含むが、これらに限定されない：ベントナイト、タルク、クレー、カオリン、珪藻土、無晶形二酸化ケイ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの鉱物質微粉；グルコース、砂糖、乳糖などの糖類、カルボキシメチルセルロース及びその塩類、澱粉、デキストリン及びその誘導体、微結晶セルロース、尿素などの有機物；硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム及び塩化カリウムのような水溶性無機塩類。
【０８７８】
前記油性分散媒の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。油性分散媒は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。油性分散媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない：鯨油、タラ肝油、麝香油、ミンク油などの動物油；大豆油、菜種油、トウモロコシ油、コーン油、ヒマワリ油、綿実油、亜麻仁油、ココナツ油、パーム油、アザミ油、ウオルナッツ油、アラキス油、オリーブ油、パパヤ油、椿油、ヤシ油、ごま油、米ぬか油、落花生油、亜麻仁油、きり油、ひまわり油、ひまし油などの植物油；オレイン酸メチル、菜種油メチルエステル、又は菜種油エチルエステルなどの脂肪酸エステル類；パラフィン、オレフィン、アルキルベンゼン（例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン等）、アルキルナフタレン（例えば、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン等）、ケロシン、フェニルキシリルエタンなどの鉱物油。
【０８７９】
上記の他、本発明の農薬製剤には、所望により、澱粉、アルギン酸、グリセリン、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブテン、ポリビニルアルコール、アラビアガム、流動パラフィン、エチルセルロース、ポリビニルアセテート、増粘性多糖類（例えば、キサンタンガム、アラビアガム、グアーガム）等の結合剤；ステアリン酸カルシウム、タルク、シリカ等の滑沢剤；比較的低分子量の水溶性物質（例えば、尿素、食塩）、水溶性多価アルコール（例えば、プロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン）などの凍結防止剤；ブリリアントブルーＦＣＦ、シアニングリーンＧ、エリオグリーンＧなどの着色剤；ソルビン酸、ソルビン酸カリウム、パラクロロメタキシレノ−ル、パラオキシ安息香酸ブチル、デヒドロ酢酸ナトリウム、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ブロモ−２−プロパン−１，３−ジオール、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンなどの防腐剤；無機酸（例えば、塩酸、硫酸、リン酸）、有機酸（例えば、クエン酸、フタル酸、コハク酸）、有機金属塩（例えば、クエン酸ナトリウム、フタル酸水素カリウム）、無機金属塩（例えば、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸ナトリウム）、水酸化物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、有機アミン類（例えば、トリエタノールアミン）などのｐＨ調整剤；シリコーン系消泡剤（例えば、ジメチルポリシロキサン、ポリフェニルシロキサン）、脂肪酸（例えば、ミリスチン酸）、脂肪酸金属塩（例えば、ステアリン酸ナトリウム）などの消泡剤等の農薬助剤を含有させてもよい。また、液体製剤である本発明の農薬製剤には、所望により、増粘剤を含有させてもよい。増粘剤としては、特に限定されないが、例えば、前掲のうち、固体担体、結合剤として記載した材料が使用できる。本発明の農薬製剤にこれらの農薬助剤を使用する場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。
【０８８０】
また、本発明の農薬製剤には、所望により、毒性軽減剤を含有させてもよい。毒性軽減剤を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。毒性軽減剤は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。毒性軽減剤の例は、以下を含むが、これらに限定されない：ベノキサコル（ｂｅｎｏｘａｃｏｒ）、フリラゾール（ｆｕｒｉｌａｚｏｌｅ）、ジクロルミド（ｄｉｃｈｌｏｒｍｉｄ）、ジシクロノン（ｄｉｃｙｃｌｏｎｏｎｅ）、ＤＫＡ−２４（Ｎ１，Ｎ２−ジアリル−Ｎ２−ジクロロアセチルグリシンアミド）、ＡＤ−６７（４−ジクロロアセチル−１−オキサ−４−アザスピロ［４．５］デカン）、ＰＰＧ−１２９２（２，２−ジクロロ−Ｎ−（１，３−ジオキサン−２−イルメチル）−Ｎ−（２−プロペニル）アセトアミド）、Ｒ−２９１４８（３−ジクロロアセチル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン）、クロキントセット−メキシル（ｃｌｏｑｕｉｎｔｃｅｔ−ｍｅｘｙｌ）、ナフタル酸無水物（１，８−Ｎａｐｈｔｈａｌｉｃ  Ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）、メフェンピル−ジエチル（ｍｅｆｅｎｐｙｒ−ｄｉｅｔｈｙｌ）、メフェンピル（ｍｅｆｅｎｐｙｒ）、メフェンピルエチル（ｍｅｆｅｎｐｙｒ−ｅｔｈｙｌ）、フェンクロラゾール−エチル（ｆｅｎｃｈｌｏｒａｚｏｌｅ−Ｏ−ｅｔｈｙｌ）、フェンクロリム（ｆｅｎｃｌｏｒｉｍ）、ＭＧ−１９１（２−ジクロロメチル−２−メチル−１，３−ジオキサン）、シオメトリニル（ｃｙｏｍｅｔｒｉｎｉｌ）、フルラゾール（ｆｌｕｒａｚｏｌｅ）、フルキソフェニム（ｆｌｕｘｏｆｅｎｉｍ）、イソキサジフェン（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ）、イソキサジフェン−エチル（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、ＭＯＮ４６６０（コード番号）、オキサベトリニル（ｏｘａｂｅｔｒｉｎｉｌ）、シプロスルファミド（ｃｙｐｒｏｓｕｌｆａｍｉｄｅ）、低級アルキル置換安息香酸、ＴＩ−３５（コード番号）又はＮ−（２−メトキシベンゾイル）−４−［（メチルアミノカルボニル）アミノ］ベンゼンスルホンアミド（化学名、ＣＡＳ登録番号：１２９５３１−１２−０）。
【０８８１】
また、本発明の農薬製剤には、所望により、本発明のピロキサスルホンの結晶とは別に、追加の除草活性成分を含有させてもよい。追加の除草活性成分を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。追加の除草活性成分は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。追加の除草活性成分の例は、以下を含むが、これらに限定されない：アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、アクロニフェン（ａｃｌｏｎｉｆｅｎ）、アクロレイン（ａｃｒｏｌｅｉｎ）、アザフェニジン（ａｚａｆｅｎｉｄｉｎ）、アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ）（ナトリウムなどとの塩を含む）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アシュラム（ａｓｕｌａｍ）、アセトクロ−ル（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）、アミドスルフロン（ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌｅ）、アミノシクロピラクロル（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）、アミノピラリド（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ）、アミプロホス・メチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、アメトリン（ａｍｅｔｒｙｎ）、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、アロキシジム（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ）、イソウロン（ｉｓｏｕｒｏｎ）、イソキサクロルトール（ｉｓｏｘａｃｈｌｏｒｔｏｌｅ）、イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）、イソプロツロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、イプフェンカルバゾン（ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマザピク（ｉｍａｚａｐｉｃ）（アミンなどとの塩を含む）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）（イソプロピルアミンなどの塩を含む）、イマザメタベンズ・メチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、インダジフラム（ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、エグリナジン・エチル（ｅｇｌｉｎａｚｉｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、エタメトスルフロン・メチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、エタルフルラリン（ｅｔｈａｌｆｌｕｒａｌｉｎ）、エチジムロン（ｅｔｈｉｄｉｍｕｒｏｎ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エトキシフェン・エチル（ｅｔｈｏｘｙｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、エトフメセート（ｅｔｈｏｆｕｍｅｓａｔｅ）、エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、エンドタール二ナトリウム塩（ｅｎｄｏｔｈａｌ−ｄｉｓｏｄｉｕｍ）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、オリザリン（ｏｒｙｚａｌｉｎ）、オルトスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、オルベンカルブ（ｏｒｂｅｎｃａｒｂ）、オレイン酸���ｏｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、カルフェントラゾン・エチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、カルブチレート（ｋａｒｂｕｔｉｌａｔｅ）、カルベタミド（ｃａｒｂｅｔａｍｉｄｅ）、キザロホップ（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、キザロホップ・Ｐ・エチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−Ｐ−ｅｔｈｙｌ）、キザロホップ・Ｐ・テフリル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−Ｐ−ｔｅｆｕｒｙｌ）、キノクラミン（ｑｕｉｎｏｃｌａｍｉｎｅ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、クラシホス（ｃｌａｃｙｆｏｓ）、グリホサート（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）（ナトリウム、カリウム、アンモニウム、アミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミンまたはトリメシウムなどの塩を含む）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）（アミンまたはナトリウムなどの塩を含む）、グルホシネート・Ｐ・ナトリウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、クレトジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、クロジナホップ・プロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、クロメトキシフェン（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、クロランスラム・メチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロランベン（ｃｈｌｏｒａｍｂｅｎ）、クロリダゾン（ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、クロリムロン・エチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、クロルタル・ジメチル（ｃｈｌｏｒｔｈａｌ−ｄｉｍｅｔｈｙｌ）、クロルチアミド（ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）、クロルフタリム（ｃｈｌｏｒｐｈｔｈａｌｉｍ）、クロルフルレノール・メチル（ｃｈｌｏｒｆｌｕｒｅｎｏｌ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロルプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、クロルブロムロン（ｃｈｌｏｒｂｒｏｍｕｒｏｎ）、クロロクスロン（ｃｈｌｏｒｏｘｕｒｏｎ）、クロロトルロン（ｃｈｌｏｒｏｔｏｌｕｒｏｎ）、ケトスピラドックス（ｋｅｔｏｓｐｉｒａｄｏｘ）（ナトリウム、カルシウムまたはアンモニアなどの塩を含む）、サフルフェナシル（ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）、サルメンチン（ｓａｒｍｅｎｔｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、シアナミド（ｃｙａｎａｍｉｄｅ）、ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、ジエタチル・エチル（ｄｉｅｔｈａｔｙｌ−ｅｔｈｙｌ）、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）（アミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、ジグリコールアミン、ナトリウムまたはリチウムなどの塩を含む）、シクロエート（ｃｙｃｌｏａｔｅ）、シクロキシジム（ｃｙｃｌｏｘｙｄｉｍ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、シクロピラニル（ｃｙｃｌｏｐｙｒａｎｉｌ）、シクロピリモレート（ｃｙｃｌｏｐｙｒｉｍｏｒａｔｅ）、ジクロベニル（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｉｌ）、ジクロホップ・Ｐ・メチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−Ｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジクロホップ・メチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−��ｅｔｈｙｌ）、ジクロルプロップ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ）、ジクロルプロップ−Ｐ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、シデュロン（ｓｉｄｕｒｏｎ）、ジニトラミン（ｄｉｎｉｔｒａｍｉｎｅ）、シニドン・エチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ジノゼブ（ｄｉｎｏｓｅｂ）、ジノテルブ（ｄｉｎｏｔｅｒｂ）、シハロホップ・ブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジフェナミド（ｄｉｐｈｅｎａｍｉｄ）、ジフェンゾコート（ｄｉｆｅｎｚｏｑｕａｔ）、ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ジフルフェンゾピル（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、ジメタクロール（ｄｉｍｅｔｈａｃｈｌｏｒ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、ジメテナミド・Ｐ（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ−Ｐ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、ジメフロン（ｄｉｍｅｆｕｒｏｎ）、シンメチリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、スエップ（ｓｗｅｐ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、スルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、スルホサート（ｓｕｌｆｏｓａｔｅ）、スルホスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホメツロン・メチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、タキストミン・Ａ（ｔｈａｘｔｏｍｉｎ  Ａ）、ダラポン（ｄａｌａｐｏｎ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、チアフェナシル（ｔｉａｆｅｎａｃｉｌ）、チエンカルバゾン（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）（ナトリウム塩、メチルエステルなどを含む）、チオカルバジル（ｔｉｏｃａｒｂａｚｉｌ）、チオベンカルブ（ｔｈｉｏｂｅｎｃａｒｂ）、チジアジミン（ｔｈｉｄｉａｚｉｍｉｎ）、チフェンスルフロン・メチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、デスメディファム（ｄｅｓｍｅｄｉｐｈａｍ）、デスメトリン（ｄｅｓｍｅｔｒｙｎｅ）、テトフルピロリメット（ｔｅｔｆｌｕｐｙｒｏｌｉｍｅｔ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、テブタム（ｔｅｂｕｔａｍ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、テフリルトリオン（ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎｅ）、テムボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、テルブチラジン（ｔｅｒｂｕｔｈｙｌａｚｉｎｅ）、テルブトリン（ｔｅｒｂｕｔｒｙｎ）、テルブメトン（ｔｅｒｂｕｍｅｔｏｎ）、トプラメゾン（ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリアファモン（ｔｒｉａｆａｍｏｎｅ）、トリアレート（ｔｒｉ−ａｌｌａｔｅ）、トリエタジン（ｔｒｉｅｔａｚｉｎｅ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、トリクロピル−ブトティル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、トリフルジムオキサジン（ｔｒｉｆｌｕｄｉｍｏｘａｚｉｎ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフルスルフロン・メチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、トリフロキシスルフロンナトリウム塩（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、トリベニュロン・メチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トルピラレート（ｔｏｌｐｙｒａｌａｔｅ）、ナプタラム（ｎａｐｔａｌａｍ）（ナトリウムなどとの塩を含む）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）、ナプロパミド（ｎａｐｒｏｐａｍｉｄｅ）、ナプロパミド−Ｍ（ｎａｐｒｏｐａｍｉｄｅ−Ｍ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ネブロン（ｎｅｂｕｒｏｎ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、バーナレート（ｖｅｒｎｏｌａｔｅ）、パラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、ハルキシフェン−ベンジル（ｈａｌａｕｘｉｆｅｎ−ｂｅｎｚｙｌ）、ハルキシフェン−メチル（ｈａｌａｕｘｉｆｅｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ハロキシホップ（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ）、ハロキシホップ・Ｐ（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−Ｐ）、ハロキシホップ−エトティル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｅｔｏｔｙｌ）、ハロサフェン（ｈａｌｏｓａｆｅｎ）、ハロスルフロン・メチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ビクスロゾン（ｂｉｘｌｏｚｏｎｅ）、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、ピコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ビシクロピロン（ｂｉｃｙｃｌｏｐｙｒｏｎｅ）、ビスピリバック・ナトリウム塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピノキサデン（ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、ピラクロニル（ｐｙｒａｃｌｏｎｉｌ）、ピラスルホトール（ｐｙｒａｓｕｌｆｏｔｏｌｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、ピラゾスルフロン・エチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、ピラゾリネート（ｐｙｒａｚｏｌｙｎａｔｅ）、ビラナホス（ｂｉｌａｎａｆｏｓ）、ピラフルフェン・エチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、ピリダフォル（ｐｙｒｉｄａｆｏｌ）、ピリチオバック・ナトリウム塩（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ
）、ピリミスルファン（ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）、ピリミノバック・メチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピロクススラム（ｐｙｒｏｘｓｕｌａｍ）、フェニソファム（ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）、フェニュロン（ｆｅｎｕｒｏｎ）、フェノキサスルホン（ｆｅｎｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、フェノキサプロップ（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ）（メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む）、フェノキサプロップ・Ｐ（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−Ｐ）（メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む）、フェンキノトリオン（ｆｅｎｑｕｉｎｏｔｒｉｏｎｅ）、フェンチアプロップ・エチル（ｆｅｎｔｈｉａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、ブテナクロール（ｂｕｔｅｎａｃｈｌｏｒ）、ブトラリン（ｂｕｔｒａｌｉｎ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラムプロップ（ｆｌａｍｐｒｏｐ）（メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む）、フラムプロップ・Ｍ（ｆｌａｍｐｒｏｐ−Ｍ）（メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む）、プリミスルフロン・メチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、フルアジホップ・ブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、フルアジホップ・Ｐ・ブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−Ｐ−ｂｕｔｙｌ）、フルアゾレート（ｆｌｕａｚｏｌａｔｅ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、フルオログリコフェン・エチル（ｆｌｕｏｒｏｇｌｙｃｏｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、フルカルバゾン・ナトリウム塩（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、フルクロラリン（ｆｌｕｃｈｌｏｒａｌｉｎ）、フルセトスルフロン（ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルチアセット・メチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、フルピルスルフロン・メチル・ナトリウム塩（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、フルフェンピル・エチル（ｆｌｕｆｅｎｐｙｒ−ｅｔｈｙｌ）、フルプロパネート（ｆｌｕｐｒｏｐａｎａｔｅ）、フルポキサム（ｆｌｕｐｏｘａｍｅ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、フルミクロラック・ペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルメツラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、フルリドン（ｆｌｕｒｉｄｏｎｅ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、フルロクロリドン（ｆｌｕｒｏｃｈｌｏｒｉｄｏｎｅ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、プロカルバゾン・ナトリウム塩（ｐｒｏｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロジアミン（ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プロスルホカルブ（ｐｒｏｓｕｌｆｏｃａｒｂ）、プロパキザホップ（ｐｒｏｐａｑｕｉｚａｆｏｐ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、プロピザミド（ｐｒｏｐｙｚａｍｉｄｅ）、プロピソクロール（ｐｒｏｐｉｓｏｃｈｌｏｒ）、プロピリスルフロン（ｐｒｏｐｙｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プロファム（ｐｒｏｐｈａｍ）、プロフルアゾール（ｐｒｏｆｌｕａｚｏｌ）、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩（ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロホキシジム（ｐｒｏｆｏｘｙｄｉｍ）、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、ブロムピラゾン（ｂｒｏｍｐｙｒａｚｏｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、プロメトン（ｐｒｏｍｅｔｏｎ）、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）（酪酸、オクタン酸またはヘプタン酸などのエステル体を含む）、ブロモフェノキシム（ｂｒｏｍｏｆｅｎｏｘｉｍ）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、フロルピラキシフェン（ｆｌｏｒｐｙｒａｕｘｉｆｅｎ）、ヘキサジノン（ｈｅｘａｚｉｎｏｎｅ）、ペトキサミド（ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）、ベナゾリン（ｂｅｎａｚｏｌｉｎ）、ペノキススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）、ヘプタマロキシログルカン（ｈｅｐｔａｍａｌｏｘｙｌｏｇｌｕｃａｎ）、ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、ベフルブタミド−Ｍ（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ−Ｍ）、ペブレート（ｐｅｂｕｌａｔｅ）、ペラルゴン酸（ｐｅｌａｒｇｏｎｉｃ−ａｃｉｄ）、ベンカルバゾン（ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、ペンジメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ）、ベンスルフロン・メチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎｅ）、ペンタノクロール（ｐｅｎｔａｎｏｃｈｌｏｒ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、ベンフルラリン（ｂｅｎｆｌｕｒａｌｉｎ）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、ホサミン（ｆｏｓａｍｉｎｅ）、ホメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、ホラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）（ナトリウム、カリウム、イソプロピルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミンなどの塩を含む）、メコプロップ・Ｐ・カリウム塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、メソスフロン・メチル（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メタゾスルフロン（ｍｅｔａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、メタミトロン（ｍｅｔａｍｉｔｒｏｎ）、メタミホップ（ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）、ＤＳＭＡ（メタンアルソン酸二ナトリウム）、メチオゾリン（ｍｅｔｈｉｏｚｏｌｉｎ）、メチルダイムロン（ｍｅｔｈｙｌｄｙｍｕｒｏｎ）、メトキスロン（ｍｅｔｏｘｕｒｏｎ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、メトスルフロン・メチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、メトブロムロン（ｍｅｔｏｂｒｏｍｕｒｏｎ）、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚｕｒｏｎ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、モノスルフロン（ｍｏｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）（メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む）、モノリニュロン（ｍｏｎｏｌｉｎｕｒｏｎ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ヨードスルフロン（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム塩（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｌｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、ヨーフェンスルフロン（ｉｏｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨーフェンスルフロン・ナトリウム塩（ｉｏｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、ランコトリオン（ｌａｎｃｏｔｒｉｏｎｅ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、レナシル（ｌｅｎａｃｉｌ）、ＴＣＡ（２，２，２−トリクロロ酢酸）（ナトリウム、カルシウム又はアンモニアなどの塩を含む）、２，３，６−ＴＢＡ（２，３，６−トリクロロ安息香酸）、２，４，５−Ｔ（２，４，５−トリクロロフェノキシ酢酸）、２，４−Ｄ（２，４−ジクロロフェノキシ酢酸）（アミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、イソプロピルアミン、ナトリウム又はリチウムなどの塩を含む）、ＡＣＮ（２−アミノ−３−クロロ−１，４−ナフトキノン）、ＭＣＰＡ（２−メチル−４−クロロフェノキシ酢酸）、ＭＣＰＢ（２−メチル−４−クロロフェノキシ酪酸）（ナトリウム塩、エチルエステルなどを含む）、２，４−ＤＢ（４−（２，４−ジクロロフェノキシ）酪酸）、ＤＮＯＣ（４，６−ジニトロ−Ｏ−クレゾール）（アミン又はナトリウムなどの塩を含む）、ＡＥ−Ｆ‐１５０９４４（コード番号）、ＨＷ−０２（コード番号）、ＩＲ−６３９６（コード番号）、ＭＣＰＡ・チオエチル（ＭＣＰＡ−ｔｈｉｏｅｔｈｙｌ）、ＳＹＰ−２９８（コード番号）、ＳＹＰ−３００（コード番号）、ＥＰＴＣ（Ｓ−エチルジプロピルチオカーバメート）、Ｓ−メトラクロール（Ｓ−ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、Ｓ−９７５０（コード番号）、ＭＳＭＡ（ＭＳＭＡ）。
【０８８２】
また、本発明の農薬製剤には、所望により、本発明のピロキサスルホンの結晶に加えて、害虫防除活性成分を含有させてもよい。害虫防除活性成分を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。害虫防除活性成分は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。害虫防除活性成分の例は、以下を含むが、これらに限定されない：アクリナトリン（ａｃｒｉｎａｔｈｒｉｎ）、アザジラクチン（ａｚａｄｉｒａｃｈｔｉｎ）、アザメチホス（ａｚａｍｅｔｈｉｐｈｏｓ）、アジンホス・エチル（ａｚｉｎｐｈｏｓ−ｅｔｈｙｌ）、アジンホス・メチル（ａｚｉｎｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、アセキノシル（ａｃｅｑｕｉｎｏｃｙｌ）、アセタミプリド（ａｃｅｔａｍｉｐｒｉｄ）、アセトプロール（ａｃｅｔｏｐｒｏｌｅ）、アセフェート（ａｃｅｐｈａｔｅ）、アゾシクロチン（ａｚｏｃｙｃｌｏｔｉｎ）、アバメクチン（ａｂａｍｅｃｔｉｎ）、アフィドピロペン（ａｆｉｄｏｐｙｒｏｐｅｎ）、アフォキソレイナー（ａｆｏｘｏｌａｎｅｒ）、アミドフルメット（ａｍｉｄｏｆｌｕｍｅｔ）、アミトラズ（ａｍｉｔｒａｚ）、アラニカルブ（ａｌａｎｙｃａｒｂ）、アルジカルブ（ａｌｄｉｃａｒｂ）、アルドキシカルブ（ａｌｄｏｘｙｃａｒｂ）、アレスリン（ａｌｌｅｔｈｒｉｎ）［ｄ−ｃｉｓ−ｔｒａｎｓ−体、ｄ−ｔｒａｎｓ−体を含む］、イサゾホス（ｉｓａｚｏｐｈｏｓ）、イサミドホス（ｉｓａｍｉｄｏｆｏｓ）、イソカルボホス（ｉｓｏｃａｒｂｏｐｈｏｓ）、イソキサチオン（ｉｓｏｘａｔｈｉｏｎ）、イソシクロセラム（ｉｓｏｃｙｃｌｏｓｅｒａｍ）、イソフェンホス・メチル（ｉｓｏｆｅｎｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、イソプロカルブ（ｉｓｏｐｒｏｃａｒｂ）、イベルメクチン（ｉｖｅｒｍｅｃｔｉｎ）、イミシアホス（ｉｍｉｃｙａｆｏｓ）、イミダクロプリド（ｉｍｉｄａｃｌｏｐｒｉｄ）、イミプロトリン（ｉｍｉｐｒｏｔｈｒｉｎ）、インドキサカルブ（ｉｎｄｏｘａｃａｒｂ）、エスフェンバレレート（ｅｓｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、エチオフェンカルブ（ｅｔｈｉｏｆｅｎｃａｒｂ）、エチオン（ｅｔｈｉｏｎ）、エチプロール（ｅｔｈｉｐｒｏｌｅ）、エチレンジブロミド（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｄｉｂｒｏｍｉｄｅ）、エトキサゾール（ｅｔｏｘａｚｏｌｅ）、エトフェンプロックス（ｅｔｏｆｅｎｐｒｏｘ）、エトプロホス（ｅｔｈｏｐｒｏｐｈｏｓ）、エトリムホス（ｅｔｒｉｍｆｏｓ）、エマメクチンベンゾエート（ｅｍａｍｅｃｔｉｎ  ｂｅｎｚｏａｔｅ）、エンドスルファン（ｅｎｄｏｓｕｌｆａｎ）、エンペントリン（ｅｍｐｅｎｔｈｒｉｎ）、オキサゾスルフィル（ｏｘａｚｏｓｕｌｆｙｌ）、オキサミル（ｏｘａｍｙｌ）、オキシジメトン・メチル（ｏｘｙｄｅｍｅｔｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、オキシデプロホス（ｏｘｙｄｅｐｒｏｆｏｓ）、オメトエート（ｏｍｅｔｈｏａｔｅ）、カズサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）、カッパ−テフルトリン（ｋａｐｐａ−ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、カッパ−ビフェントリン（ｋａｐｐａ−ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、カデスリン（ｋａｄｅｔｈｒｉｎ）、カランジン（ｋａｒａｎｊｉｎ）、カルタップ（ｃａｒｔａｐ）、カルバリル（ｃａｒｂａｒｙｌ）、カルボスルファン（ｃａｒｂｏｓｕｌｆａｎ）、カルボフラン（ｃａｒｂｏｆｕｒａｎ）、ガンマ−ＢＨＣ（ｇａｍｍａ−ＢＨＣ）、キシリルカルブ（ｘｙｌｙｌｃａｒｂ）、キナルホス（ｑｕｉｎａｌｐｈｏｓ）、キノプレン（ｋｉｎｏｐｒｅｎｅ）、キノメチオネート（ｃｈｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔ）、クマホス（ｃｏｕｍａｐｈｏｓ）、クリオライト（ｃｒｙｏｌｉｔｅ）、クロチアニジン（ｃｌｏｔｈｉａｎｉｄｉｎ）、クロフェンテジン（ｃｌｏｆｅｎｔｅｚｉｎｅ）、クロマフェノジド（ｃｈｒｏｍａｆｅｎｏｚｉｄｅ）、クロラントラニリプロール（ｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、クロルエトキシホス（ｃｈｌｏｒｅｔｈｏｘｙｆｏｓ）、クロルデン（ｃｈｌｏｒｄａｎｅ）、クロルピクリン（ｃｈｌｏｒｏｐｉｃｒｉｎ）、クロルピリホス（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ）、クロルピリホス・メチル（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロルフェナピル（ｃｈｌｏｒｆｅｎａｐｙｒ）、クロルフェンビンホス（ｃｈｌｏｒｆｅｎｖｉｎｐｈｏｓ）、クロルフルアズロン（ｃｈｌｏｒｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、クロルメホス（ｃｈｌｏｒｍｅｐｈｏｓ）、クロロプラレスリン（ｃｈｌｏｒｏｐｒａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、シアノホス（ｃｙａｎｏｐｈｏｓ）、ジアフェンチウロン（ｄｉａｆｅｎｔｈｉｕｒｏｎ）、ジアミダホス（ｄｉａｍｉｄａｆｏｓ）、シアントラニリプロール（ｃｙａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、ジエノクロル（ｄｉｅｎｏｃｈｌｏｒ）、シエノピラフェン（ｃｙｅｎｏｐｙｒａｆｅｎ）、ジオキサベンゾホス（ｄｉｏｘａｂｅｎｚｏｆｏｓ）、ジオフェノラン（ｄｉｏｆｅｎｏｌａｎ）、シクラニリプロール（ｃｙｃｌａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、ジクロトホス（ｄｉｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、ジクロフェンチオン（ｄｉｃｈｌｏｆｅｎｔｈｉｏｎ）、シクロプロトリン（ｃｙｃｌｏｐｒｏｔｈｒｉｎ）、ジクロルボス（ｄｉｃｈｌｏｒｖｏｓ）、ジクロロメゾチアズ（ｄｉｃｌｏｒｏｍｅｚｏｔｉａｚ）、１，３−ジクロロプロペン（１，３−ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ）、ジコホル（ｄｉｃｏｆｏｌ）、ジシクラニル（ｄｉｃｙｃｌａｎｉｌ）、ジスルホトン（ｄｉｓｕｌｆｏｔｏｎ）、ジノテフラン（ｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、ジノブトン（ｄｉｎｏｂｕｔｏｎ）、シハロジアミド（ｃｙｈａｌｏｄｉａｍｉｄｅ）、シハロトリン（ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）［ｇａｍｍａ−体，ｌａｍｂｄａ−体を含む］、シフェノトリン（ｃｙｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）［（１Ｒ）−ｔｒａｎｓ−体を含む］、シフルトリン（ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）［ｂｅｔａ−体を含む］、ジフルベンズロン（ｄｉｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、シフルメトフェン（ｃｙｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）、ジフロビダジン（ｄｉｆｌｏｖｉｄａｚｉｎ）、シヘキサチン（ｃｙｈｅｘａｔｉｎ）、シペルメトリン（ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）［ａｌｐｈａ−体，ｂｅｔａ−体，ｔｈｅｔａ−体，ｚｅｔａ−体を含む］、ジムプロピリダッツ（ｄｉｍｐｒｏｐｙｒｉｄａｚ）、ジメチルビンホス（ｄｉｍｅｔｈｙｌｖｉｎｐｈｏｓ）、ジメフルスリン（ｄｉｍｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ジメトエート（ｄｉｍｅｔｈｏａｔｅ）、シラフルオフェン（ｓｉｌａｆｌｕｏｆｅｎ）、シロマジン（ｃｙｒｏｍａｚｉｎｅ）、スピネトラム（ｓｐｉｎｅｔｏｒａｍ）、スピノサド（ｓｐｉｎｏｓａｄ）、スピロジクロフェン（ｓｐｉｒｏｄｉｃｌｏｆｅｎ）、スピロテトラマト（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、スピロピジオン（ｓｐｉｒｏｐｉｄｉｏｎ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、スルコフロン・ナトリウム塩（ｓｕｌｃｏｆｕｒｏｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、スルフルラミド（ｓｕｌｆｌｕｒａｍｉｄ）、スルホキサフロル（ｓｕｌｆｏｘａｆｌｏｒ）、スルホテップ（ｓｕｌｆｏｔｅｐ）、ダイアジノン（ｄｉａｚｉｎｏｎ）、チアクロプリド（ｔｈｉａｃｌｏｐｒｉｄ）、チアメトキサム（ｔｈｉａｍｅｔｈｏｘａｍ）、チオキサザフェン（ｔｉｏｘａｚａｆｅｎ）、チオジカルブ（ｔｈｉｏｄｉｃａｒｂ）、チオシクラム（ｔｈｉｏｃｙｃｌａｍ）、チオスルタップ（ｔｈｉｏｓｕｌｔａｐ）、チオナジン（ｔｈｉｏｎａｚｉｎ）、チオファノックス（ｔｈｉｏｆａｎｏｘ）、チオメトン（ｔｈｉｏｍｅｔｏｎ）、チクロピラゾフロル（ｔｙｃｌｏｐｙｒａｚｏｆｌｏｒ）、テトラクロラントラニリプロール（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、テトラクロルビンホス（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｖｉｎｐｈｏｓ）、テトラジホン（ｔｅｔｒａｄｉｆｏｎ）、テトラニリプロール（ｔｅｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、テトラメチルフルスリン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｆｌｕｔｈｒｉｎ）、テトラメトリン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、テブピリムホス（ｔｅｂｕｐｉｒｉｍｆｏｓ）、テブフェノジド（ｔｅｂｕｆｅｎｏｚｉｄｅ）、テブフェンピラド（ｔｅｂｕｆｅｎｐｙｒａｄ）、テフルトリン（ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、テフルベンズロン（ｔｅｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、デメトン・Ｓ・メチル（ｄｅｍｅｔｏｎ−Ｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、テメホス（ｔｅｍｅｐｈｏｓ）、デルタメトリン（ｄｅｌｔａｍｅｔｈｒｉｎ）、テルブホス（ｔｅｒｂｕｆｏｓ）、トラロメトリン（ｔｒａｌｏｍｅｔｈｒｉｎ）、トランスフルトリン（ｔｒａｎｓｆｌｕｔｈｒｉｎ）、トリアザメート（ｔｒｉａｚａｍａｔｅ）、トリアゾホス（ｔｒｉａｚｏｐｈｏｓ）、トリクロルホン（ｔｒｉｃｈｌｏｒｆｏｎ）、トリフルムロン（ｔｒｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、トリフルメゾピリム（ｔｒｉｆｌｕｍｅｚｏｐｙｒｉｍ）、トリメタカルブ（ｔｒｉｍｅｔｈａｃａｒｂ）、トルフェンピラド（ｔｏｌｆｅｎｐｙｒａｄ）、ナレッド（ｎａｌｅｄ）、ニテンピラム（ｎｉｔｅｎｐｙｒａｍ）、ノバルロン（ｎｏｖａｌｕｒｏｎ）、ノビフルムロン（ｎｏｖｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、バーティシリウム  レカニ（Ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｉｕｍ  ｌｅｃａｎｉｉ）、ハイドロプレン（ｈｙｄｒｏｐｒｅｎｅ）、パスツーリアペネトランス胞子（Ｐａｓｔｅｕｒｉａｐｅｎｅｔｒａｎｓ）、バミドチオン（ｖａｍｉｄｏｔｈｉｏｎ）、パラチオン（ｐａｒａｔｈｉｏｎ）、パラチオン・メチル（ｐａｒａｔｈｉｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、ハロフェノジド（ｈａｌｏｆｅｎｏｚｉｄｅ）、ビオアレスリン（ｂｉｏａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ビオアレスリンＳ−シクロペンテニル（ｂｉｏａｌｌｅｔｈｒｉｎ  Ｓ−ｃｙｃｌｏｐｅｎｔｅｎｙｌ）、ビオレスメトリン（ｂｉｏｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、ビストリフルロン（ｂｉｓｔｒｉｆｌｕｒｏｎ）、ヒドラメチルノン（ｈｙｄｒａｍｅｔｈｙｌｎｏｎ）、ビフェナゼート（ｂｉｆｅｎａｚａｔｅ）、ビフェントリン（ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、ピフルブミド（ｐｙｆｌｕｂｕｍｉｄｅ）、ピペロニルブトキシド（ｐｉｐｅｒｏｎｙｌ  ｂｕｔｏｘｉｄｅ）、ピメトロジン（ｐｙｍｅｔｒｏｚｉｎｅ）、ピラクロホス（ｐｙｒａｃｌｏｆｏｓ）、ピラフルプロール（ｐｙｒａｆｌｕｐｒｏｌｅ）、ピリダフェンチオン（ｐｙｒｉｄａｐｈｅｎｔｈｉｏｎ）、ピリダベン（ｐｙｒｉｄａｂｅｎ）、ピリダリル（ｐｙｒｉｄａｌｙｌ）、ピリフルキナゾン（ｐｙｒｉｆｌｕｑｕｉｎａｚｏｎ）、ピリプロール（ｐｙｒｉｐｒｏｌｅ）、ピリプロキシフェン（ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎ）、ピリミカルブ（ｐｉｒｉｍｉｃａｒｂ）、ピリミジフェン（ｐｙｒｉｍｉｄｉｆｅｎ）、ピリミノストロビン（ｐｙｒｉｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリミホス・メチル（ｐｉｒｉｍｉｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピレトリン（ｐｙｒｅｔｈｒｉｎｅ）、ファムフル（ｆａｍｐｈｕｒ）、フィプロニル（ｆｉｐｒｏｎｉｌ）、フェナザキン（ｆｅｎａｚａｑｕｉｎ）、フェナミホス（ｆｅｎａｍｉｐｈｏｓ）、フェニトロチオン（ｆｅｎｉｔｒｏｔｈｉｏｎ）、フェノキシカルブ（ｆｅｎｏｘｙｃａｒｂ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フェノトリン（ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）［（１Ｒ）−ｔｒａｎｓ−体を含む］、フェノブカルブ（ｆｅｎｏｂｕｃａｒｂ）、フェンチオン（ｆｅｎｔｈｉｏｎ）、フェントエート（ｐｈｅｎｔｈｏａｔｅ）、フェンバレレート（ｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、フェンピロキシメート（ｆｅｎｐｙｒｏｘｉｍａｔｅ）、フェンブタンチン・オキシド（ｆｅｎｂｕｔａｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）、フェンプロパトリン（ｆｅｎｐｒｏｐａｔｈｒｉｎ）、フォノホス（ｆｏｎｏｆｏｓ）、フッ化スルフリル（ｓｕｌｆｕｒｙｌ  ｆｌｕｏｒｉｄｅ）、ブトカルボキシム（ｂｕｔｏｃａｒｂｏｘｉｍ）、ブトキシカルボキシム（ｂｕｔｏｘｙｃａｒｂｏｘｉｍ）、ブプロフェジン（ｂｕｐｒｏｆｅｚｉｎ）、フラチオカルブ（ｆｕｒａｔｈｉｏｃａｒｂ）、プラレトリン（ｐｒａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、フルアクリピリム（ｆｌｕａｃｒｙｐｙｒｉｍ）、フルアザインドリジン（ｆｌｕａｚａｉｎｄｏｌｉｚｉｎｅ）、フルアズロン（ｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、フルエンスルホン（ｆｌｕｅｎｓｕ
ｌｆｏｎｅ）、フルオロ酢酸ナトリウム塩（ｓｏｄｉｕｍ  ｆｌｕｏｒｏａｃｅｔａｔｅ）、フルキサメタミド（ｆｌｕｘａｍｅｔａｍｉｄｅ）、フルシクロクスロン（ｆｌｕｃｙｃｌｏｘｕｒｏｎ）、フルシトリネート（ｆｌｕｃｙｔｈｒｉｎａｔｅ）、フルスルファミド（ｆｌｕｓｕｌｆａｍｉｄｅ）、フルバリネート（ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）［ｔａｕ−体を含む］、フルピラジフロン（ｆｌｕｐｙｒａｄｉｆｕｒｏｎｅ）、フルピラゾホス（ｆｌｕｐｙｒａｚｏｆｏｓ）、フルピリミン（ｆｌｕｐｙｒｉｍｉｎ）、フルフィプロール（ｆｌｕｆｉｐｒｏｌｅ）、フルフェネリム（ｆｌｕｆｅｎｅｒｉｍ）、フルフェノキシストロビン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、フルフェノクスロン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、フルヘキサフォン（ｆｌｕｈｅｘａｆｏｎ）、フルベンジアミド（ｆｌｕｂｅｎｄｉａｍｉｄｅ）、フルメトリン（ｆｌｕｍｅｔｈｒｉｎ）、フルララナル（ｆｌｕｒａｌａｎｅｒ）、プロチオホス（ｐｒｏｔｈｉｏｆｏｓ）、プロトリフェンブト（ｐｒｏｔｒｉｆｅｎｂｕｔｅ）、フロニカミド（ｆｌｏｎｉｃａｍｉｄ）、プロパホス（ｐｒｏｐａｐｈｏｓ）、プロパルギット（ｐｒｏｐａｒｇｉｔｅ）、プロフェノホス（ｐｒｏｆｅｎｏｆｏｓ）、ブロフラニリド（ｂｒｏｆｌａｎｉｌｉｄｅ）、ブロフルスリネート（ｂｒｏｆｌｕｔｈｒｉｎａｔｅ）、プロフルトリン（ｐｒｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、プロペタムホス（ｐｒｏｐｅｔａｍｐｈｏｓ）、プロポキスル（ｐｒｏｐｏｘｕｒ）、フロメトキン（ｆｌｏｍｅｔｏｑｕｉｎ）、ブロモプロピレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、ヘキサチアゾクス（ｈｅｘｙｔｈｉａｚｏｘ）、ヘキサフルムロン（ｈｅｘａｆｌｕｍｕｒｏｎ）、ペキロマイセス・テヌイペス（Ｐａｅｃｉｌｏｍｙｃｅｓ  ｔｅｎｕｉｐｅｓ）、ペキロマイセス・フモソロセウス（Ｐａｅｃｉｌｏｍｙｃｅｓ  ｆｕｍｏｓｏｒｏｃｅｕｓ）、ヘプタフルスリン（ｈｅｐｔａｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ヘプテノホス（ｈｅｐｔｅｎｏｐｈｏｓ）、ペルメトリン（ｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ベンクロチアズ（ｂｅｎｃｌｏｔｈｉａｚ）、ベンズピリモキサン（ｂｅｎｚｐｙｒｉｍｏｘａｎ）、ベンスルタップ（ｂｅｎｓｕｌｔａｐ）、ベンゾキシメート（ｂｅｎｚｏｘｉｍａｔｅ）、ベンダイオカルブ（ｂｅｎｄｉｏｃａｒｂ）、ベンフラカルブ（ｂｅｎｆｕｒａｃａｒｂ）、ボーベリア・テネーラ（Ｂｅａｕｖｅｒｉａ  ｔｅｎｅｌｌａ）、ボーベリア・バッシアーナ（Ｂｅａｕｖｅｒｉａ  ｂａｓｓｉａｎａ）、ボーベリア・ブロンニアティ（Ｂｅａｕｖｅｒｉａ  ｂｒｏｎｇｎｉａｒｔｉｉ）、ホキシム（ｐｈｏｘｉｍ）、ホサロン（ｐｈｏｓａｌｏｎｅ）、ホスチアゼート（ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、ホスチエタン（ｆｏｓｔｈｉｅｔａｎ）、ホスファミドン（ｐｈｏｓｐｈａｍｉｄｏｎ）、ホスメット（ｐｈｏｓｍｅｔ）、ポリナクチン複合体（ｐｏｌｙｎａｃｔｉｎｓ）、ホルメタネート（ｆｏｒｍｅｔａｎａｔｅ）、ホレート（ｐｈｏｒａｔｅ）、マラチオン（ｍａｌａｔｈｉｏｎ）、ミルベメクチン（ｍｉｌｂｅｍｅｃｔｉｎ）、メカルバム（ｍｅｃａｒｂａｍ）、メスルフェンホス（ｍｅｓｕｌｆｅｎｆｏｓ）、メソプレン（ｍｅｔｈｏｐｒｅｎｅ）、メソミル（ｍｅｔｈｏｍｙｌ）、メタフルミゾン（ｍｅｔａｆｌｕｍｉｚｏｎｅ）、メタミドホス（ｍｅｔｈａｍｉｄｏｐｈｏｓ）、メタム（ｍｅｔｈａｍ）、メチオカルブ（ｍｅｔｈｉｏｃａｒｂ）、メチダチオン（ｍｅｔｈｉｄａｔｈｉｏｎ）、メチルイソチオシアネート（ｍｅｔｈｙｌ  ｉｓｏｔｈｉｏｃｙａｎａｔｅ）、メチルブロマイド（ｍｅｔｈｙｌ  ｂｒｏｍｉｄｅ）、メトキシクロル（ｍｅｔｈｏｘｙｃｈｌｏｒ）、メトキシフェノジド（ｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎｏｚｉｄｅ）、メトトリン（ｍｅｔｈｏｔｈｒｉｎ）、メトフルトリン（ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、イプシロン−メトフルトリン（ｅｐｓｉｌｏｎ−ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、メトルカルブ（ｍｅｔｏｌｃａｒｂ）、メビンホス（ｍｅｖｉｎｐｈｏｓ）、メペルフルスリン（ｍｅｐｅｒｆｌｕｔｈｒｉｎ）、モナクロスポリウム・フィマトパガム（Ｍｏｎａｃｒｏｓｐｏｒｉｕｍ  ｐｈｙｍａｔｏｐｈａｇｕｍ）、モノクロトホス（ｍｏｎｏｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、モムフルオロスリン（ｍｏｍｆｌｕｏｒｏｔｈｒｉｎ）、イプシロン−モムフルオロスリン（ｅｐｓｉｌｏｎ−ｍｏｍｆｌｕｏｒｏｔｈｒｉｎ）、リトルアＡ（ｌｉｔｌｕｒｅ−Ａ）、リトルアＢ（ｌｉｔｌｕｒｅ−Ｂ）、リン化アルミニウム（ａｌｕｍｉｎｉｕｍ  ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、リン化亜鉛（ｚｉｎｃ  ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、リン化水素（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、ルフェヌロン（ｌｕｆｅｎｕｒｏｎ）、レスカルレ（ｒｅｓｃａｌｕｒｅ）、レスメトリン（ｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、レピメクチン（ｌｅｐｉｍｅｃｔｉｎ）、ロテノン（ｒｏｔｅｎｏｎｅ）、酸化フェンブタスズ（ｆｅｎｂｕｔａｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）、石灰窒素（ｃａｌｃｉｕｍ  ｃｙａｎｉｄｅ）、硫酸ニコチン（ｎｉｃｏｔｉｎｅｓｕｌｆａｔｅ）、（Ｚ）−１１−テトラデセニル＝アセタート、（Ｚ）−１１−ヘキサデセナール、（Ｚ）−１１−ヘキサデセニル＝アセタート、（Ｚ）−９，１２−テトラデカジエニル＝アセタート、（Ｚ）−９−テトラデセン−１−オール、（Ｚ，Ｅ）−９，１１−テトラデカジエニル＝アセタート、（Ｚ，Ｅ）−９，１２−テトラデカジエニル＝アセタート、バシルス・ポピリエ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｏｐｉｌｌｉａｅ）、バシルス・ズブチリス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｕｂｔｉｌｌｉｓ）、バシルス・スフェリカス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｐｈａｅｒｉｃｕｓ）、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・アイザワイ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ  ｓｕｂｓｐ．  Ａｉｚａｗａｉ）、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・イスラエレンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ  ｓｕｂｓｐ．  Ｉｓｒａｅｌｅｎｓｉｓ）、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・クルスターキ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ  ｓｕｂｓｐ．  Ｋｕｒｓｔａｋｉ）、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・テネブリオニス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ  ｓｕｂｓｐ．  Ｔｅｎｅｂｒｉｏｎｉｓ）、Ｂｔタンパク質  （Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆａ、Ｃｒｙ２Ａｂ、ｍＣｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ａｂ、Ｃｒｙ３Ｂｂ、Ｃｒｙ３４／３５Ａｂ１）、ＣＬ９００１６７（コード番号）、ＤＣＩＰ（ビス−（２��クロロ−１−メチルエチル）エーテル）、ＤＤＴ（１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（４−クロロフェニル）エタン）、ＤＥＰ（ジメチル−２，２，２−トリクロロ−１−ヒドロキシエチルホスホネート）、ＤＮＯＣ（４，６−ジニトロ−ｏ−クレゾール）、ＤＳＰ（Ｏ，Ｏ−ジエチル−Ｏ−［４−（ジメチルスルファモイル）フェニル］−ホスホロチオネート）、ＥＰＮ（Ｏ−エチル−Ｏ−４−（ニトロフェニル）フェニルホスホノチオエート）、核多角体病ウイルス包埋体、ＮＡ−８５（コード番号）、ＮＡ−８９（コード番号）、ＮＣ−５１５（コード番号）、ＲＵ１５５２５（コード番号）、ＸＭＣ、Ｚ−１３−イコセン−１０−オン、ＺＸＩ８９０１（コード番号）、２−クロロ−４−フルオロ−５−［（５−トリフルオロメチルチオ）ペンチルオキシ］フェニル２，２，２−トリフルオロエチル  スルホキシド（化学名、ＣＡＳ登録番号：１４７２０５０−０４−６）、２，４−ジクロロ−５−｛２−［４−（トリフルオロメチル）フェニル］エトキシ｝フェニル  ２，２，２−トリフルオロエチル  スルホキシド（化学名、ＣＡＳ登録番号：１４７２０５２−１１−１）、２，４−ジメチル−５−［６−（トリフルオロメチルチオ）へキシルオキシ］フェニル−２，２，２−トリフルオロエチル  スルホキシド（化学名、ＣＡＳ登録番号：１４７２０５０−３４−２）、２−｛２−フルオロ−４−メチル−５−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェノキシ｝−５−（トリフルオロメチル）ピリジン（化学名、ＣＡＳ登録番号：１４４８７５８−６２−０）、３−クロロ−２−｛２−フルオロ−４−メチル−５−［（２，２，２−トリフルオロエチル）スルフィニル］フェノキシ｝−５−（トリフルオロメチル）ピリジン（化学名、ＣＡＳ登録番号：１４４８７６１−２８−１）、４−フルオロ−２−メチル−５−（５，５−ジメチルヘキシルオキシ）フェニル  ２，２，２−トリフルオロエチル  スルホキシド（化学名、ＣＡＳ登録番号：１４７２０４７−７１−４）、ＮＩ−３０（コード番号）。
【０８８３】
また、本発明の農薬製剤には、所望により、本発明のピロキサスルホンの結晶に加えて、病害防除活性成分を含有させてもよい。病害防除活性成分を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。病害防除活性成分は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。病害防除活性成分の例は、以下を含むが、これらに限定されない：アザコナゾール（ａｚａｃｏｎａｚｏｌｅ）、アシベンゾラル・Ｓ・メチル（ａｃｉｂｅｎｚｏｌａｒ−Ｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、アニラジン（ａｎｉｌａｚｉｎｅ）、アミスルブロム（ａｍｉｓｕｌｂｒｏｍ）、アミノピリフェン（ａｍｉｎｏｐｙｒｉｆｅｎ）、アメトクトラジン（ａｍｅｔｏｃｔｒａｄｉｎ）、アルジモルフ（ａｌｄｉｍｏｒｐｈ）、イソチアニル（ｉｓｏｔｉａｎｉｌ）、イソピラザム（ｉｓｏｐｙｒａｚａｍ）、イソフェタミド（ｉｓｏｆｅｔａｍｉｄ）、イソフルシプラム（ｉｓｏｆｌｕｃｙｐｒａｍ）、イソプロチオラン（ｉｓｏｐｒｏｔｈｉｏｌａｎｅ）、イプコナゾール（ｉｐｃｏｎａｚｏｌｅ）、イプフルフェノキン（ｉｐｆｌｕｆｅｎｏｑｕｉｎ）、イプフェントリフルコナゾール（ｉｐｆｅｎｔｒｉｆｌｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、イプロジオン（ｉｐｒｏｄｉｏｎｅ）、イプロバリカルブ（ｉｐｒｏｖａｌｉｃａｒｂ）、イプロベンホス（ｉｐｒｏｂｅｎｆｏｓ）、イマザリル（ｉｍａｚａｌｉｌ）、イミノクタジン・アルベシル酸塩（ｉｍｉｎｏｃｔａｄｉｎｅ−ｔｒｉａｌｂｅｓｉｌａｔｅ）、イミノクタジン酢酸塩（ｉｍｉｎｏｃｔａｄｉｎｅ−ｔｒｉａｃｅｔａｔｅ）、イミベンコナゾール（ｉｍｉｂｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、インピルフルキサム（ｉｎｐｙｒｆｌｕｘａｍ）、インプリマチンＡ（ｉｍｐｒｉｍａｔｉｎ  Ａ）、インプリマチンＢ（ｉｍｐｒｉｍａｔｉｎ  Ｂ）、エジフェンホス（ｅｄｉｆｅｎｐｈｏｓ）、エタコナゾ−ル（ｅｔａｃｏｎａｚｏｌｅ）、エタボキサム（ｅｔｈａｂｏｘａｍ）、エチリモル（ｅｔｈｉｒｉｍｏｌ）、エトキシキン（ｅｔｈｏｘｙｑｕｉｎ）、エトリジアゾール（ｅｔｒｉｄｉａｚｏｌｅ）、エネストロブリン（ｅｎｅｓｔｒｏｂｕｒｉｎ）、エノキサストロビン（ｅｎｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、エポキシコナゾール（ｅｐｏｘｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、オーガニックオイル（ｏｒｇａｎｉｃ  ｏｉｌｓ）、オキサジキシル（ｏｘａｄｉｘｙｌ）、オキサジニラゾール（ｏｘａｚｉｎｙｌａｚｏｌｅ）、オキサチアピプロリン（ｏｘａｔｈｉａｐｉｐｒｏｌｉｎ）、オキシカルボキシン（ｏｘｙｃａｒｂｏｘｉｎ）、オキシキノリン銅（ｏｘｉｎｅ−ｃｏｐｐｅｒ）、オキシテトラサイクリン（ｏｘｙｔｅｔｒａｃｙｃｌｉｎｅ）、オキスポコナゾールフマル酸塩（ｏｘｐｏｃｏｎａｚｏｌｅ−ｆｕｍａｒａｔｅ）、オキソリニック酸（ｏｘｏｌｉｎｉｃ  ａｃｉｄ）、オクタン酸銅（ｃｏｐｐｅｒ  ｄｉｏｃｔａｎｏａｔｅ）、オクチリノン（ｏｃｔｈｉｌｉｎｏｎｅ）、オフラセ（ｏｆｕｒａｃｅ）、オリサストロビン（ｏｒｙｓａｓｔｒｏｂｉｎ）、オルソフェニルフェノール（ｏ−ｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｏｌ）、カスガマイシン（ｋａｓｕｇａｍｙｃｉｎ）、カプタホール（ｃａｐｔａｆｏｌ）、カルプロパミド（ｃａｒｐｒｏｐａｍｉｄ）、カルベンダジム（ｃａｒｂｅｎｄａｚｉｍ）、カルボキシン（ｃａｒｂｏｘｉｎ）、カルボネ（ｃａｒｖｏｎｅ）、キノキシフェン（ｑｕｉｎｏｘｙｆｅｎ）、キノフメリン（ｑｕｉｎｏｆｕｍｅｌｉｎ）、 キノメチオネート（ｃｈｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔ）、キャプタン（ｃａｐｔａｎ）、キンコナゾール（ｑｕｉｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、キントゼン（ｑｕｉｎｔｏｚｅｎｅ）、グアザチン（ｇｕａｚａｔｉｎｅ）、クフラネブ（ｃｕｆｒａｎｅｂ）、クモキシストロビン（ｃｏｕｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、クレソキシム・メチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロジラコン（ｃｌｏｚｙｌａｃｏｎ）、クロゾリネート（ｃｈｌｏｚｏｌｉｎａｔｅ）、クロロタロニル（ｃｈｌｏｒｏｔｈａｌｏｎｉｌ）、クロロネブ（ｃｈｌｏｒｏｎｅｂ）、シアゾファミド（ｃｙａｚｏｆａｍｉｄ）、ジエトフェンカルブ（ｄｉｅｔｈｏｆｅｎｃａｒｂ）、ジクロシメット（ｄｉｃｌｏｃｙｍｅｔ）、ジクロフルアニド（ｄｉｃｈｌｏｆｌｕａｎｉｄ）、ジクロベンチアゾクス（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｔｈｉａｚｏｘ）、ジクロメジン（ｄｉｃｌｏｍｅｚｉｎｅ）、ジクロラン（ｄｉｃｌｏｒａｎ）、ジクロロフェン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎ）、ジチアノン（ｄｉｔｈｉａｎｏｎ）、ジニコナゾール（ｄｉｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ジニコナゾール・Ｍ（ｄｉｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ−Ｍ）、ジネブ（ｚｉｎｅｂ）、ジノカップ（ｄｉｎｏｃａｐ）、ジピメチトロン（ｄｉｐｙｍｅｔｉｔｒｏｎｅ）、ジフェニルアミン（ｄｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）、ジフェノコナゾール（ｄｉｆｅｎｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、シフルフェナミド（ｃｙｆｌｕｆｅｎａｍｉｄ）、ジフルメトリム（ｄｉｆｌｕｍｅｔｏｒｉｍ）、シプロコナゾール（ｃｙｐｒｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、シプロジニル（ｃｙｐｒｏｄｉｎｉｌ）、シメコナゾール（ｓｉｍｅｃｏｎａｚｏｌｅ）、ジメチリモル（ｄｉｍｅｔｈｉｒｉｍｏｌ）、ジメチルジスルフィド（ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｄｉｓｕｌｆｉｄｅ）、ジメトモルフ（ｄｉｍｅｔｈｏｍｏｒｐｈ）、シモキサニル（ｃｙｍｏｘａｎｉｌ）、ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ジラム（ｚｉｒａｍ）、シルチオファム（ｓｉｌｔｈｉｏｆａｍ）、ストレプトマイシン（ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｉｎ）、スピロキサミン（ｓｐｉｒｏｘａｍｉｎｅ）、セダキサン（ｓｅｄａｘａｎｅ）、ゾキサミド（ｚｏｘａｍｉｄｅ）、ダゾメット（ｄａｚｏｍｅｔ）、チアジニル（ｔｉａｄｉｎｉｌ）、チアベンダゾール（ｔｈｉａｂｅｎｄａｚｏｌｅ）、チウラム（ｔｈｉｒａｍ）、チオファネート（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ）、チオファネート・メチル（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、チフルザミド（ｔｈｉｆｌｕｚａｍｉｄｅ）、テクナゼン（ｔｅｃｎａｚｅｎｅ）、テクロフタラム（ｔｅｃｌｏｆｔａｌａｍ）、テトラコナゾール（ｔｅｔｒａｃｏｎａｚｏｌｅ）、デバカルブ（ｄｅｂａｃａｒｂ）、テブコナゾール（ｔｅｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、テブフロキン（ｔｅｂｕｆｌｏｑｕｉｎ）、テルビナフィン（ｔｅｒｂｉｎａｆｉｎｅ）、ドジン（ｄｏｄｉｎｅ）、ドデモルフ（ｄｏｄｅｍｏｒｐｈ）、トリアジメノール（ｔｒｉａｄｉｍｅｎｏｌ）、トリアジメホン（ｔｒｉａｄｉｍｅｆｏｎ）、トリアゾキシド（ｔｒｉａｚｏｘｉｄｅ）、トリクラミド（ｔｒｉｃｈｌａｍｉｄｅ）、トリクロピリカルブ（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒｉｃａｒｂ）、トリシクラゾール（ｔｒｉｃｙｃｌａｚｏｌｅ）、トリチコナゾール（ｔｒｉｔｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリデモルフ（ｔｒｉｄｅｍｏｒｐｈ）、トリフルミゾール（ｔｒｉｆｌｕｍｉｚｏｌｅ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリホリン（ｔｒｉｆｏｒｉｎｅ）、トリルフルアニド（ｔｏｌｙｌｆｌｕａｎｉｄ）、トルクロホス・メチル（ｔｏｌｃｌｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、トルニファニド（ｔｏｌｎｉｆａｎｉｄｅ）、トルプロカルブ（ｔｏｌｐｒｏｃａｒｂ）、ナーバム（ｎａｂａｍ）、ナタマイシン（ｎａｔａｍｙｃｉｎ）、ナフティフィン（ｎａｆｔｉｆｉｎｅ）、ニトラピリン（ｎｉｔｒａｐｙｒｉｎ）、ニトロタル・イソプロピル（ｎｉｔｒｏｔｈａｌ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、ヌアリモル（ｎｕａｒｉｍｏｌ）、ノニルフェノールスルホン酸銅（ｃｏｐｐｅｒ  ｎｏｎｙｌ  ｐｈｅｎｏｌ  ｓｕｌｐｈｏｎａｔｅ）、バチルス・ズブチリス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｕｂｔｉｌｉｓ）（ｓｔｒａｉｎ：ＱＳＴ  ７１３）、バリダマイシン（ｖａｌｉｄａｍｙｃｉｎ）、バリフェナレート（ｖａｌｉｆｅｎａｌａｔｅ）、ピカルブトラゾックス（ｐｉｃａｒｂｕｔｒａｚｏｘ）、ビキサフェン（ｂｉｘａｆｅｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピジフルメトフェン（ｐｙｄｉｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）、ビテルタノール（ｂｉｔｅｒｔａｎｏｌ）、ビナパクリル（ｂｉｎａｐａｃｒｙｌ）、ビフェニル（ｂｉｐｈｅｎｙｌ）、ピペラリン（ｐｉｐｅｒａｌｉｎ）、ヒメキサゾール（ｈｙｍｅｘａｚｏｌ）、ピラオキシストロビン（ｐｙｒａｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラジフルミド（ｐｙｒａｚｉｆｌｕｍｉｄ）、ピラゾホス（ｐｙｒａｚｏｐｈｏｓ）、ピラプロポイン（ｐｙｒａｐｒｏｐｏｙｎｅ）、ピラメトストロビン（ｐｙｒａｍｅｔｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリオフェノン（ｐｙｒｉｏｆｅｎｏｎｅ）、ピリソキサゾール（ｐｙｒｉｓｏｘａｚｏｌｅ）、ピリダクロメチル（ｐｙｒｉｄａｃｈｌｏｍｅｔｙｌ）、ピリフェノックス（ｐｙｒｉｆｅｎｏｘ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、ピリメタニル（ｐｙｒｉｍｅｔｈａｎｉｌ）、ピロキロン（ｐｙｒｏｑｕｉｌｏｎ）、ビンクロゾリン（ｖｉｎｃｌｏｚｏｌｉｎ）、ファーバム（ｆｅｒｂａｍ）、ファモキサドン（ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）、フェナジンオキシド（ｐｈｅｎａｚｉｎｅ  ｏｘｉｄｅ）、フェナミドン（ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）、フェナミンストロビン（ｆｅｎａｍｉｎｓｔｒｏｂｉｎ）、フェナリモル（ｆｅｎａｒｉｍｏｌ）、フェノキサニル（ｆｅｎｏｘａｎｉｌ）、フェリムゾン（ｆｅｒｉｍｚｏｎｅ）、フェンピクロニル（ｆｅｎｐｉｃｌｏｎｉｌ）、フェンピコキサミド（ｆｅｎｐｉｃｏｘａｍｉｄ）、フェンピラザミン（ｆｅｎｐｙｒａｚａｍｉｎｅ）、フェンブコナゾール（ｆｅｎｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、フェンフラム（ｆｅｎｆｕｒａｍ）、フェンプロピジン（ｆｅｎｐｒｏｐｉｄｉｎ）、フェンプロピモルフ（ｆｅｎｐｒｏｐｉｍｏｒｐｈ）、フェンヘキサミド（ｆｅｎｈｅｘａｍｉｄ）、フォルペット（ｆｏｌｐｅｔ）、フサライド（ｐｈｔｈａｌｉｄｅ）、ブピリメート（ｂｕｐｉｒｉｍａｔｅ）、フベリダゾール（ｆｕｂｅｒｉｄａｚｏｌｅ）、ブラストサイジン−Ｓ（ｂｌａｓｔｉｃｉｄｉｎ−Ｓ）、フラメトピル（ｆｕｒａｍｅｔｐｙｒ）、フララキシル（ｆｕｒａｌａｘｙｌ）、フランカルボン酸（ｆｕｒａｎｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、フルアジナム（ｆｌｕａｚｉｎａｍ）、フルインダピル（ｆｌｕｉｎｄａｐｙｒ）、フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサピプロリン（ｆｌｕｏｘａｐｉｐｒｏｌｉｎ）、フルオピコリド（ｆｌｕｏｐｉｃｏｌｉｄｅ）、フルオピモミド（ｆｌｕｏｐｉｍｏｍｉｄｅ）、フルオピラム（ｆｌｕｏｐｙｒａｍ）、フルオルイミド（ｆｌｕｏｒｏｉｍｉｄｅ）、フルキサピロキサド（ｆｌｕｘａｐｙｒｏｘａｄ）、フルキンコナゾール（ｆｌｕｑｕｉｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルコナゾール（ｆｕｒｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルコナゾール・シス（ｆｕｒｃｏｎａｚｏｌｅ−ｃｉｓ）、フルジオキソニル（ｆｌｕｄｉｏｘｏｎｉｌ）、フルシラゾール（ｆｌｕｓｉｌａｚｏｌｅ）、フルスルファミド（ｆｌｕｓｕｌｆａｍｉｄｅ）、フルチアニル（ｆｌｕｔｉａｎｉｌ）、フルトラニル（ｆｌｕｔｏｌａｎｉｌ）、フルトリアホール（ｆｌｕｔｒｉａｆｏｌ）、フルフェノキシストロビン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、フルメトベル（ｆｌｕｍｅｔｏｖｅｒ）、フルモルフ（ｆｌｕｍｏｒｐｈ）、プロキナジド（ｐｒｏｑｕｉｎａｚｉｄ）、プロクロラズ（ｐｒｏｃｈｌｏｒａｚ）、プロシミドン（ｐｒｏｃｙｍｉｄｏｎｅ）、プロチオカルブ（ｐｒｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、プロチオコナゾール（ｐｒｏｔｈｉｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、ブロノポール（ｂｒｏｎｏｐｏｌ）、プロパモカルブ塩酸塩（ｐｒｏｐａｍｏｃａｒｂ−ｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｄｅ）、プロピコナゾール（ｐｒｏｐｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、プロピネブ（ｐｒｏｐｉｎｅｂ）、プロベナゾール（ｐｒｏｂｅｎａｚｏｌｅ）、ブロムコナゾール（ｂｒｏｍｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、フロメトキン（ｆｌｏｍｅｔｏｑｕｉｎ）、フロリルピコキサミド（ｆｌｏｒｙｌｐｉｃｏｘａｍｉｄ）、ヘキサコナゾール（ｈｅｘａｃｏｎａｚｏｌｅ）、ベナ
ラキシル（ｂｅｎａｌａｘｙｌ）、ベナラキシル・Ｍ（ｂｅｎａｌａｘｙｌ−Ｍ）、ベノダニル（ｂｅｎｏｄａｎｉｌ）、ベノミル（ｂｅｎｏｍｙｌ）、ペフラゾエート（ｐｅｆｕｒａｚｏａｔｅ）、ペンコナゾール（ｐｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、ペンシクロン（ｐｅｎｃｙｃｕｒｏｎ）、ベンゾビンジフルピル（ｂｅｎｚｏｖｉｎｄｉｆｌｕｐｙｒ）、ベンチアゾール（ｂｅｎｔｈｉａｚｏｌｅ）、ベンチアバリカルブイソプロピル（ｂｅｎｔｈｉａｖａｌｉｃａｒｂ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、ペンチオピラド（ｐｅｎｔｈｉｏｐｙｒａｄ）、ペンフルフェン（ｐｅｎｆｌｕｆｅｎ）、ボスカリド（ｂｏｓｃａｌｉｄ）、ホセチル（ｆｏｓｅｔｙｌ）（ａｌｍｉｎｉｕｍ，ｃａｌｃｉｕｍ，ｓｏｄｉｕｍ）、ポリオキシン（ｐｏｌｙｏｘｉｎ）、ポリカーバメート（ｐｏｌｙｃａｒｂａｍａｔｅ）、ボルドー液（Ｂｏｒｄｅａｕｘ  ｍｉｘｔｕｒｅ）、マンコゼブ（ｍａｎｃｏｚｅｂ）、マンジプロパミド（ｍａｎｄｉｐｒｏｐａｍｉｄ）、マンデストロビン（ｍａｎｄｅｓｔｒｏｂｉｎ）、マンネブ（ｍａｎｅｂ）、ミクロブタニル（ｍｙｃｌｏｂｕｔａｎｉｌ）、ミネラルオイル（ｍｉｎｅｒａｌ  ｏｉｌｓ）、ミルディオマイシン（ｍｉｌｄｉｏｍｙｃｉｎ）、メタスルホカルブ（ｍｅｔｈａｓｕｌｆｏｃａｒｂ）、メタム（ｍｅｔａｍ）、メタラキシル（ｍｅｔａｌａｘｙｌ）、メタラキシル・Ｍ（ｍｅｔａｌａｘｙｌ−Ｍ）、メチラム（ｍｅｔｉｒａｍ）、メチルテトラプロール（ｍｅｔｙｌｔｅｔｒａｐｒｏｌｅ）、メトコナゾール（ｍｅｔｃｏｎａｚｏｌｅ）、メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、メトラフェノン（ｍｅｔｒａｆｅｎｏｎｅ）、メパニピリム（ｍｅｐａｎｉｐｙｒｉｍ）、メフェントリフルコナゾール（ｍｅｆｅｎｔｒｉｆｌｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、メプチルジノカップ（ｍｅｐｔｙｌｄｉｎｏｃａｐ）、メプロニル（ｍｅｐｒｏｎｉｌ）、ヨードカルブ（ｉｏｄｏｃａｒｂ）、ラミナリン（ｌａｍｉｎａｒｉｎ）、亜リン酸および塩（ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｕｓ  ａｃｉｄ  ａｎｄ  ｓａｌｔｓ）、塩基性塩化銅（ｃｏｐｐｅｒ  ｏｘｙｃｈｌｏｒｉｄｅ）、銀（ｓｉｌｖｅｒ）、酸化第一銅（ｃｕｐｒｏｕｓ  ｏｘｉｄｅ）、水酸化第二銅（ｃｏｐｐｅｒ  ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）、炭酸水素カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、炭酸水素ナトリウム（ｓｏｄｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、硫黄（ｓｕｌｆｕｒ）、硫酸オキシキノリン（ｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎｅ  ｓｕｌｆａｔｅ）、硫酸銅（ｃｏｐｐｅｒ  ｓｕｌｆａｔｅ）、（３，４−ジクロロイソチアゾール−５−イル）メチル  ４−（ｔｅｒｔ−ブチル）安息香酸エステル（化学名、ＣＡＳ登録番号：１２３１２１４−２３−５）、ＢＡＦ−０４５（コード番号）、ＢＡＧ−０１０（コード番号）、ＵＫ−２Ａ（コード番号)、ＤＢＥＤＣ（ドデシルベンゼンスルホン酸ビスエチレンジアミン銅錯塩［ＩＩ］）、ＭＩＦ−１００２（コード番号）、ＮＦ−１８０（コード番号）、ＴＰＴＡ（酢酸トリフェニルスズ）、ＴＰＴＣ（トリフェニルチンクロライド）、ＴＰＴＨ（水酸化トリフェニルスズ）、非病原性エルビニア・カロトボーラ。
【０８８４】
また、本発明の農薬製剤には、所望により、本発明のピロキサスルホンの結晶に加えて、植物成長調節活性成分を含有させてもよい。植物成長調節活性成分を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。植物成長調節活性成分は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。植物成長調節活性成分の例は、以下を含むが、これらに限定されない：１−メチルシクロプロペン（１−ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｒｏｐｅｎｅ）、１−ナフチルアセトアミド（１−ｎａｐｈｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）、２，６−ジイソプロピルナフタレン（２，６−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）、４−ＣＰＡ（４−クロロフェノキシ酢酸）、ベンジルアミノプリン（ｂｅｎｚｙｌａｍｉｎｏｐｕｒｉｎｅ）、アンシミドール（ａｎｃｙｍｉｄｏｌ）、アビグリシン（ａｖｉｇｌｙｃｉｎｅ）、カルボネ（ｃａｒｖｏｎｅ）、クロルメコート（ｃｈｌｏｒｍｅｑｕａｔ）、クロプロップ（ｃｌｏｐｒｏｐ）、クロキシホナック（ｃｌｏｘｙｆｏｎａｃ）、クロキシホナック・カリウム塩（ｃｌｏｘｙｆｏｎａｃ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、シクラニリド（ｃｙｃｌａｎｉｌｉｄｅ）、サイトカイニン（ｃｙｔｏｋｉｎｉｎｓ）、ダミノジット（ｄａｍｉｎｏｚｉｄｅ）、ジケグラック（ｄｉｋｅｇｕｌａｃ）、ジメチピン（ｄｉｍｅｔｈｉｐｉｎ）、エテホン（ｅｔｈｅｐｈｏｎ）、エポコレオン（ｅｐｏｃｈｏｌｅｏｎｅ）、エチクロゼート（ｅｔｈｙｃｈｌｏｚａｔｅ）、フルメトラリン（ｆｌｕｍｅｔｒａｌｉｎ）、フルレノール（ｆｌｕｒｅｎｏｌ）、フルルプリミドール（ｆｌｕｒｐｒｉｍｉｄｏｌ）、プロニトリジン（ｐｒｏｎｉｔｒｉｄｉｎｅ）、ホルクロルフェニュロン（ｆｏｒｃｈｌｏｒｆｅｎｕｒｏｎ）、ジベレリン（ｇｉｂｂｅｒｅｌｌｉｎｓ）、イナベンフィド（ｉｎａｂｅｎｆｉｄｅ）、インドール酢酸（ｉｎｄｏｌｅ  ａｃｅｔｉｃ  ａｃｉｄ）、インドール酪酸（ｉｎｄｏｌｅ  ｂｕｔｙｒｉｃ  ａｃｉｄ）、マレイン酸ヒドラジド（ｍａｌｅｉｃ  ｈｙｄｒａｚｉｄｅ）、メフルイジド（ｍｅｆｌｕｉｄｉｄｅ）、メピコート・クロリド（ｍｅｐｉｑｕａｔ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、ｎ−デシルアルコール（ｎ−ｄｅｃａｎｏｌ）、パクロブトラゾール（ｐａｃｌｏｂｕｔｒａｚｏｌ）、プロヘキサジオン・カルシウム塩（ｐｒｏｈｅｘａｄｉｏｎｅ−ｃａｌｃｉｕｍ）、プロヒドロジャスモン（ｐｒｏｈｙｄｒｏｊａｓｍｏｎ）、シントフェン（ｓｉｎｔｏｆｅｎ）、チジアズロン（ｔｈｉｄｉａｚｕｒｏｎ）、トリアコンタノール（ｔｒｉａｃｏｎｔａｎｏｌ）、トリネキサパック・エチル（ｔｒｉｎｅｘａｐａｃ−ｅｔｈｙｌ）、ウニコナゾール（ｕｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ウニコナゾール−Ｐ（ｕｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ−Ｐ）、４−オキソ−４−（２−フェニルエチル）アミノ酪酸（化学名、ＣＡＳ登録番号：１０８３−５５−２）、過酸化カルシウム。
【０８８５】
剤型が水和剤である本発明の農薬製剤の好ましい態様は、農薬製剤中、１０−９０ｗｔ％の本発明のピロキサスルホンの結晶、５−２０ｗｔ％の界面活性剤および５−８５ｗｔ％の固体担体を含む。また、任意選択で、０−８０ｗｔ％の追加の除草活性成分、０−５ｗｔ％の結合剤、０−１ｗｔ％の着色剤、０−１ｗｔ％の消泡剤、０−８０％の毒性軽減剤を含む。
【０８８６】
上記の水和剤を製造する一つの態様は、本発明のピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。いずれの工程においても、公知慣用の技術および装置を用いることができる。
【０８８７】
剤型が顆粒水和剤である本発明の農薬製剤の好ましい態様は、農薬製剤中、１０−９０ｗｔ％の本発明のピロキサスルホンの結晶、５−２０ｗｔ％の界面活性剤および５−８５ｗｔ％の固体担体を含む。また、任意選択で、０−８０ｗｔ％の追加の除草活性成分、０−５ｗｔ％の結合剤、０−１ｗｔ％の着色剤、０−１ｗｔ％の消泡剤、０−８０％の毒性軽減剤を含む。
【０８８８】
上記の顆粒水和剤を製造する一つの態様は、本発明のピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、原料全体を均一化しつつ更に若干量の水を添加して練る混錬工程と、前記工程で得た混錬物を造粒する工程と、前記工程で得た造粒物を乾燥する工程を含む。いずれの工程においても、公知慣用の技術および装置を用いることができる。
【０８８９】
剤型が水性懸濁剤である本発明の農薬製剤の好ましい態様は、農薬製剤中、５−６５ｗｔ％の本発明のピロキサスルホンの結晶、５−１０ｗｔ％の界面活性剤および３０−９０ｗｔ％の水を含む。また、任意選択で、０−５０ｗｔ％の追加の除草活性成分、０−１５ｗｔ％の凍結防止剤、０−１ｗｔ％の着色剤、０−３ｗｔ％の防腐剤、０−５％のｐＨ調整剤、０−１ｗｔ％の消泡剤、０−５ｗｔ％の増粘剤、０−５０％の毒性軽減剤を含む。更に、薬効向上や比重調整などを目的として、０−２０ｗｔ％の油性分散媒を含んでもよい。
【０８９０】
上記の水性懸濁剤を製造する一つの態様は、本発明のピロキサスルホンの結晶を含むスラリーを微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。また、別の態様では、本発明のピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。いずれの工程においても、公知慣用の技術および装置を用いることができる。
【０８９１】
剤型が油性懸濁剤である本発明の農薬製剤の好ましい態様は、農薬製剤中、５−６５ｗｔ％の本発明のピロキサスルホンの結晶、５−１０ｗｔ％の界面活性剤および３０−９０ｗｔ％の油性分散媒を含む。また、任意選択で、０−５０ｗｔ％の追加の除草活性成分、０−１５ｗｔ％の凍結防止剤、０−１ｗｔ％の着色剤、０−３ｗｔ％の防腐剤、０−５％のｐＨ調整剤、０−１ｗｔ％の消泡剤、０−５ｗｔ％の増粘剤、０−５０％の毒性軽減剤を含む。
【０８９２】
上記の油性懸濁剤を製造する一つの態様は、本発明のピロキサスルホンの結晶を含むスラリーを微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。また、別の態様では、本発明のピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。いずれの工程においても、公知慣用の技術および装置を用いることができる。
【０８９３】
本発明の農薬製剤は、いくつかの優れた物理化学的性質を示す。
【０８９４】
本発明の農薬製剤における優れた物理化学的性質の一例として、散布用水にといて懸濁液を調製し、該懸濁液を農耕地等に散布する固体製剤（例えば、水和剤、顆粒水和剤）である本発明の農薬製剤は、水に投入した際に、水とのなじみが大変よい点を挙げることができる。特許文献２および１０に記載されている公知のピロキサスルホンの結晶を原料として製造された水和剤や顆粒水和剤は、水に投入した際に継粉が発生してしまうことがあり、この継粉がほぐれるまで散布液を攪拌し続ける必要があった。これに対し、本発明の農薬製剤では継粉が発生しないため、使用時に均一な懸濁液を速やかに調製できる。
【０８９５】
水和剤などの固体製剤と水とのなじみの良し悪しを定量的に評価する指標として、水和性が提案されている。これらの検定法は日本国農林水産省告示第７１号及び第７５０号（１９６０年２月３日、１９７５年７月２５日）に記載されている。
【０８９６】
水和性の測定に必要な３度硬水は、以下のようにして調製する。炭酸カルシウム０．３０７７ｇ、酸化マグネシウム０．０９２ｇを少量の希塩酸に溶かしたのち、砂浴上で蒸発乾固して塩酸を除去し、水で１Ｌに希釈する。この水を更に１０倍に希釈し、３度硬水として試験に供する。なお、前記により調製した３度硬水の硬度はドイツ硬度表記で３．００４°ｄＨであり、アメリカ硬度に換算すれば５３．４７ｐｐｍに相当する。
【０８９７】
以下、水和性の測定法を概説する。５００ｍＬ容のビーカーに２０℃の3度硬水２００ｍＬを入れ、このビーカーに、あらかじめ＃４０メッシュ標準篩（ｔｅｓｔ  ｓｉｅｖｅｓ）を通過させた試料５ｇを、水面上約１０ｃｍの位置から、薄く広がるように静かに落とす。試料を落とし終わってから試料全量が水面下に没するまでの時間Ｔを測定する。更に、ビーカー内をガラス棒でかき混ぜて懸濁状態の均一性を観察する。
【０８９８】
通常、水とのなじみが良い試料を測定した場合は、時間Ｔは短くなり、水とのなじみが悪い試料を測定した場合は、時間Ｔは長くなる。ただし、水とのなじみの悪さが凝集傾向として現れ、継粉を形成するような試料においては、継粉の表面だけが水に濡れて水面下に没してしまうため、時間Ｔは測定試料と水とのなじみの良し悪しを反映せず、短い値が測定されることがある。ビーカー内をガラス棒でかき混ぜた際に、水中で浮遊する継粉が観察される場合は、時間Ｔの値に関わらず、測定試料は水とのなじみが悪いと判断すべきである。
【０８９９】
本発明の農薬製剤における優れた物理化学的性質の別の一例として、散布用水にといて懸濁液を調製し、該懸濁液を農耕地等に散布する製剤（例えば、水和剤、顆粒水和剤、水性懸濁剤または油性懸濁剤）である本発明の農薬製剤は、使用時に水にといて調製した散布液中の固形分がハードケーキを形成しない点を挙げることができる。農薬製剤を水にといて散布液を調製する作業は、農薬を散布するための準備行為であって、調製した散布液を農薬の散布に供さないまま長時間静置することは、通常はしない。しかしながら、作業中の農業従事者に急用が生じ、または作業中に天候が急変するなどの事情により、農薬の散布を中断、延期せざるをえない状況は起こりうる。また、散布対象の圃場が広く、農薬の散布自体に長時間を要するような場合も、作業全体の後半に散布する分の散布液は、調製後散布されるまでに一定の時間を経ることになる。希釈液の組成は、ほとんどが水で構成される希薄な懸濁液であるから、粘度が低く、また、構造粘性も有さないため、攪拌を止めると、固形分は直ちに沈降し始める。特許文献２および１０に記載されている公知のピロキサスルホンの結晶を原料として製造された農薬製剤の希釈液は、固形分の堆積層が形成されると、攪拌を再開しても再分散せず、均一な懸濁状態を回復できない場合があり、このような事態を防ぐためには、調製後の散布液は実際に散布を終えるまで攪拌を継続する必要があった。これはエネルギーの浪費であり、作業者は該エネルギーのコストを負担することを強いられる。一方、本発明の農薬製剤の希釈液は、固形分の堆積層が形成されても、攪拌を再開すれば、固形分の堆積層は容易に渦流に巻き上げられて再分散するため、散布液を調製した後は攪拌を止めてもよく、農薬の散布の中断、延期や長時間に及ぶ農薬散布に、より低いコストで対応できる。
【０９００】
本発明の農薬製剤が上記したような優れた物理化学的性質を示す理由として、発明者らは確乎たる知見を持たず、理論に拘束されることを望まないが、一つの仮説として、従来知られていたピロキサスルホンの結晶が、図５および図６に示したように、互いに絡みつきやすく、凝集傾向にあるのに対し、本発明のピロキサスルオンの結晶はそのような傾向が見られないため、ハードケーキングを起こしにくく、また、界面活性剤の湿展分散作用を受けやすいという結果をもたらす可能性が考えられる。
【０９０１】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によって何ら限定されない。
【０９０２】
本明細書中、実施例、比較例及び参考例の各物性と収率の測定には、次の機器及び条件を用いた。加えて、本発明で得られた生成物は公知化合物であり、当業者に知られた常法により同定された。
【０９０３】
（ＨＰＬＣ分析：高速液体クロマトグラフィー分析）
（ＨＰＬＣ分析条件）
機器：株式会社島津製作所製LC2010シリーズ又はこれに準ずるもの
カラム：YMC-Pack, ODS-A, A-312 (150ｍｍx6.0ｍｍID, S-5μｍ, 120A)
溶離液： 
【０９０４】
【表１】
0006920572.tif 000054
【０９０５】
流速：1.0 ml/min
検出：UV 230nm
カラム温度：40℃
注入量：5 μL
【０９０６】
ＨＰＬＣ分析方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
文献（ａ）：（社）日本化学会編、「新実験化学講座９  分析化学  ＩＩ」、第８６〜１１２頁（１９７７年）、発行者  飯泉新吾、丸善株式会社
文献（ｂ）：（社）日本化学会編、「実験化学講座２０−１  分析化学」第５版、第１３０〜１５１頁（２００７年）、発行者  村田誠四郎、丸善株式会社
【０９０７】
（ＧＣ分析：ガスクロマトグラフィー分析）
（ＧＣ分析条件）
機器：GC-1700（株式会社島津製作所製）
カラム：DB-5MS（25ｍ×0.2ｍｍφ×0.33μｍ）
昇温条件：80℃（3分）→10℃/分→250℃（0分）
インジェクション温度：280℃
検出器温度：300℃
検出方法：FID
カラム流量：1 ｍL/分
内部標準物質：ジトリルエーテル
【０９０８】
ＧＣ分析方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
文献（ｃ）：（社）日本化学会編、「新実験化学講座９  分析化学  ＩＩ」、第６０〜８６頁（１９７７年）、発行者  飯泉新吾、丸善株式会社
文献（ｄ）：（社）日本化学会編、「実験化学講座２０−１  分析化学」第５版、第１２１〜１２９頁（２００７年）、発行者  村田誠四郎、丸善株式会社
【０９０９】
（ＧＣ−ＭＳ分析：ガスクロマトグラフィー質量分析）
分析装置：6890N Network GC System（Agilent Technologies製）
質量検出器：5973N MSD（Agilent Technologies製）
【０９１０】
（１Ｈ−ＮＭＲ：１Ｈ核磁気共鳴スペクトル）
機器：ＪＥＯＬ  ＪＭＮ−ＥＣＳ−３００又はＪＥＯＬ  ＪＭＮ−Ｌａｍｂｄａ−４００（ＪＥＯＬ  ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製）
溶媒：ＣＤＣｌ３及び／又はＤＭＳＯ−ｄ６
内部基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）及び当業者に知られたその他。
【０９１１】
（粉末Ｘ線回折パターン測定）
機器            ：Ｘ‘Ｐｅｒｔ  ＰＲＯ（ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社製）
Ｘ線            ：Ｃｕ−Ｋα
測定形式        ：透過法（ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  ｍｏｄｅ）
電圧            ：４５ｋＶ
電流            ：４０ｍＡ
測定範囲（２θ）：３−４０°
測定間隔（２θ）：０．０１３°
【０９１２】
（収率及び純度）
特に指定しない限り、本発明における収率は、原料化合物（出発化合物）のモル数に対する、得られた目的化合物のモル数から計算することができる。
すなわち、用語「収率」は、「モル収率」を意味する。
従って、収率は、以下の式により表される：
収率（％）＝（得られた目的化合物のｍｏｌ数）／（出発化合物のｍｏｌ数）×１００
【０９１３】
しかしながら、例えば、目的物の反応収率、不純物の収率、及び生成物の純度等の評価においては、ＨＰＬＣ面積百分率分析又はＧＣ面積百分率分析を用いてもよい。
【０９１４】
本明細書中、室温及び常温は１０℃から３０℃である。
【０９１５】
本明細書中、用語「一晩（over night）」は、８時間から１６時間を意味する。
【０９１６】
本明細書中、「熟成（age/aged/aging）」の操作は、当業者に知られた常法により、混合物が撹拌されていることを含む。
【実施例】
【０９１７】
［実施例１］
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ）の製造
【０９１８】
［実施例１−１］
（工程i）
４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（化合物２−ａ）の製造
【０９１９】
【化５３】
0006920572.tif 000055
【０９２０】
５−ジフルオロメトキシ−４−ヒドロキシメチル−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（１−ａ）（４６．７ｇ、純度：６８．６％、アセトニトリルを含む、０．１３ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）に、塩化チオニル（１７．０ｇ、０．１４ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温２０℃〜３０℃で１時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温２０℃〜３０℃で１時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を３０分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去し、酢酸エチル（７８ｍＬ、０．６Ｌ/ｍｏｌ）を加えた。得られた標題化合物（２−ａ）の酢酸エチル溶液は１３４ｇであった。
【０９２１】
（工程ii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ）の製造
【０９２２】
【化５４】
0006920572.tif 000056
【０９２３】
工程iで製造した４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ピラゾール（２−ａ）の酢酸エチル溶液（１３４ｇ、０．１３ｍｏｌスケール相当）を氷冷撹拌下、内温１０℃以下に冷却した。これに［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン臭化水素酸塩（３−ｂ）の水溶液（１３４．６ｇ、純度：２７％、０．１４ｍｏｌ相当）を加えた後、４８％水酸化ナトリウム水溶液（５４．２ｇ、０．６５ｍｏｌ、５００ｍｏｌ％）を内温が１０℃を超えないように３０分間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温１０℃以下で３０分間熟成し、内温２５℃まで加温し４時間熟成した。反応終了後、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、ＨＰＬＣ絶対検量線法により分析したところ、目的物（４−ａ）の収率は９１．６％（１２７．８ｇ、２工程を通じて）であった。
【０９２４】
［実施例１−２］及び［実施例１−３］
溶媒として酢酸エチルの代わりに酢酸イソプロピル又は酢酸ブチルを用いた以外は、実施例１−１と同様にして反応と分析を行った。結果を以下の表２に示す。実施例１−１の結果も下表に要約する。
【０９２５】
【表２】
0006920572.tif 000057
【０９２６】
表中、収率はいずれも２工程を通じての収率を意味する。
【０９２７】
［実施例１−４］
（工程i）
４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（化合物２−ａ）の製造
【０９２８】
【化５５】
0006920572.tif 000058
【０９２９】
５−ジフルオロメトキシ−４−ヒドロキシメチル−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（１−ａ）（１２３．２ｇ、純度：６９．９％、アセトニトリルを含む、０．３５ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）に、塩化チオニル（４５．８ｇ、０．３９ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温２０℃〜３０℃で１時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温２０℃〜３０℃で１時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を３０分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去し、酢酸ブチル（２８０ｍＬ、０．９Ｌ/ｍｏｌ）を加えた。得られた溶液を次工程へ使用した。
【０９３０】
（工程ii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ）の製造
【０９３１】
【化５６】
0006920572.tif 000059
【０９３２】
工程iで製造した４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ピラゾール（２−ａ）の酢酸ブチル溶液（０．３５ｍｏｌスケール相当）を氷冷攪拌下、内温１０℃以下に冷却した。これに［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン臭化水素酸塩（３−ｂ）の水溶液（３６２．４ｇ、純度：２７％、０．３９ｍｏｌ相当）を加えた後、４８％水酸化ナトリウム水溶液（１４５．８ｇ、１．８ｍｏｌ、５００ｍｏｌ％）を内温が１０℃を超えないように２時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温１０℃以下で３０分間熟成した後、内温２５℃まで加温し４時間熟成した。反応終了後、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、ＨＰＬＣ絶対検量線法により分析したところ、目的物（４−ａ）の収率は８７．４％（２８７．８ｇ、２工程を通じて）であった。
【０９３３】
［実施例１−５］
（工程i）
４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（化合物２−ａ）の製造
【０９３４】
【化５７】
0006920572.tif 000060
【０９３５】
５−ジフルオロメトキシ−４−ヒドロキシメチル−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（１−ａ）（４５．８ｇ、純度：６９．９％、アセトニトリルを含む、０．１３ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）に、塩化チオニル（１７．０ｇ、０．１４ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温２０℃〜３０℃で１時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温２０℃〜３０℃で１時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を３０分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去し、ブタノール（１３０ｍＬ、１．０Ｌ/ｍｏｌ）を加えた。得られた標題化合物（２−ａ）のブタノール溶液は１６８ｇであった。
【０９３６】
（工程ii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールの製造  
【０９３７】
【化５８】
0006920572.tif 000061
【０９３８】
工程iで製造した４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ピラゾール（２−ａ）のブタノール溶液（０．１３ｍｏｌスケール相当）を内温２０℃〜３０℃にした。これに［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン臭化水素酸塩（３−ｂ）の水溶液（１３４．６ｇ、純度：２７％、０．１４ｍｏｌ相当）を加えた後、４８％水酸化ナトリウム水溶液（５４．２ｇ、０．６５ｍｏｌ、５００ｍｏｌ％）を内温２０℃〜３０℃で３０分間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温２０℃〜３０℃で３時間熟成した。反応終了後、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、ＨＰＬＣ絶対検量線法により分析したところ、目的物（４−ａ）の収率は９１．９％（１８５．７ｇ、２工程を通じて）であった。
【０９３９】
［実施例１−６］
（工程i）
４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（化合物２−ａ）の製造
【０９４０】
【化５９】
0006920572.tif 000062
【０９４１】
５−ジフルオロメトキシ−４−ヒドロキシメチル−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（１−ａ）（３５．５ｇ、純度：６９．４％、アセトニトリルを含む、０．１０ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）に、塩化チオニル（１３．１ｇ、０．１１ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温１５℃〜２０℃で１時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温１５℃〜２０℃で１時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を３０分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去し、アセトニトリル８０ｍＬ（０．８Ｌ/ｍｏｌ）を加えた。得られた溶液をＧＣ内部標準法により分析した。その結果、標題化合物（２−ａ）の収率は９６．４％であった。
【０９４２】
（工程ii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ）の製造
【０９４３】
【化６０】
0006920572.tif 000063
【０９４４】
反応フラスコに、４８％水酸化ナトリウム水溶液（５０．０ｇ、０．６ｍｏｌ、６００ｍｏｌ％）を加え、［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン臭化水素酸塩（３−ｂ）の水溶液（１１１．８ｇ、純度：２５％、０．１１ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温１５℃〜２５℃で１時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温１５℃〜２０℃で３０分間熟成した。反応混合物に、工程iで製造した４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ピラゾール（２−ａ）のアセトニトリル溶液を内温１５℃〜２５℃で１時間かけて滴下し、混合物を室温で一晩熟成した。得られた反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、ＨＰＬＣ絶対検量線法により分析したところ、目的物（４−ａ）の収率は９４．６％（１０１．５ｇ、２工程を通じて）であった。
【０９４５】
［実施例１−７］
（工程i）
４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（化合物２−ａ）の製造
【０９４６】
【化６１】
0006920572.tif 000064
【０９４７】
５−ジフルオロメトキシ−４−ヒドロキシメチル−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（１−ａ）（３５．５ｇ、純度：６９．４％、アセトニトリルを含む、０．１０ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）に、アセトニトリル８０ｍＬ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）を加えた。塩化チオニル（１３．１ｇ、０．１１ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温１５℃〜２０℃で１時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温１５℃〜２０℃で１時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を３０分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去した。得られた溶液をＧＣ内部標準法により分析した。その結果、標題化合物（２−ａ）の収率は９７．３％であった。
【０９４８】
（工程ii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ）の製造
【０９４９】
【化６２】
0006920572.tif 000065
【０９５０】
反応フラスコに、４８％水酸化ナトリウム水溶液（５０．０ｇ、０．６ｍｏｌ、６００ｍｏｌ％）を加え、［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン臭化水素酸塩（３−ｂ）の水溶液（１１１．８ｇ、純度：２５％、０．１１ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温１５℃〜２５℃で１時間かけて滴下した。反応混合物に、工程iで製造した４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ピラゾール（２−ａ）のアセトニトリル溶液を内温１５℃〜２５℃で１時間かけて滴下し、混合物を室温で一晩熟成した。得られた反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、ＨＰＬＣ絶対検量線法により分析したところ、目的物（４−ａ）の収率は９４．６％（１０１．５ｇ、２工程を通じて）であった。
【０９５１】
［実施例１−８］
（工程i）
４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（化合物２−ａ）の製造
【０９５２】
【化６３】
0006920572.tif 000066
【０９５３】
５−ジフルオロメトキシ−４−ヒドロキシメチル−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（１−ａ）（１１６．６ｇ、純度：８４．４％、アセトニトリルを含む、０．４０ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）に溶媒としてアセトニトリル（３２０ｍｌ、０．８Ｌ/ｍｏｌ）を加えて希釈した。水冷撹拌下、塩化チオニル（５２．４ｇ、０．４４ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温が２０℃を超えないように、１時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温２５℃以下で３０分間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を３０分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去することにより、標題化合物（２−ａ）の赤褐色アセトニトリル溶液（３６６ｇ）を得た。
【０９５４】
（工程ii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ）の製造
【０９５５】
【化６４】
0006920572.tif 000067
【０９５６】
工程iで製造した４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ピラゾール（２−ａ）のアセトニトリル溶液（１８８ｇ、０．２ｍｏｌスケール相当）を氷冷撹拌下、内温１０℃以下に冷却した。これに［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン塩酸塩（３−ａ）の水溶液（１８３．３ｇ、純度：３０％、０．２２ｍｏｌ相当）を加えた後、４８％水酸化ナトリウム水溶液（８３．３ｇ、１．０ｍｏｌ、５００ｍｏｌ％）を内温が１０℃を超えないように３０分間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温１０℃以下で３０分間熟成した後、内温２５℃まで加温し４時間熟成した。得られた反応混合物を有機層と水層を分離した。得られた有機層を、ＨＰＬＣ絶対検量線法により分析したところ、目的物（４−ａ）の収率は９４．１％（１８１．８ｇ、２工程を通じて）であった。
【０９５７】
［実施例１−９］
（工程ii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ）の製造
【０９５８】
【化６５】
0006920572.tif 000068
【０９５９】
４−クロロメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ピラゾール（２−ａ）（２９．１ｇ、０．１１ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）にアセトニトリル（８８ｍＬ、０．８Ｌ/ｍｏｌ）を加えアセトニトリル溶液とした。これに４８％水酸化ナトリウム水溶液（５４．２ｇ、０．６６ｍｏｌ、６００ｍｏｌ％）を加え、内温５℃〜１０℃にした。これに［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン臭化水素酸塩（３−ｂ）の水溶液（１０３．７ｇ、０．１２ｍｏｌ、１１０ｍｏｌ％）を内温５℃〜１０℃で１時間かけて滴下した。更に、４８％水酸化ナトリウム水溶液（３．０ｇ、０．０４ｍｏｌ、３０ｍｏｌ％）を加え、室温で一晩熟成した。反応終了後、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、ＨＰＬＣ絶対検量線法により分析したところ、目的物（４−ａ）の収率は９１．９％（８８．１ｇ）であった。
【０９６０】
［実施例１−１０］
（工程ii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ）の製造
【０９６１】
【化６６】
0006920572.tif 000069
【０９６２】
［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン塩酸塩（３−a）の水溶液（２．５ｇ、０．０１２ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）にジエチルエーテル（２０ｍＬ、２．３Ｌ/ｍｏｌ）を加えジエチルエーテル溶液とした。これに１０％水酸化ナトリウム水溶液（１６．７ｇ、０．０４２ｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％）を加え、室温にした。これに４−ブロモメチル−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−ピラゾール（２−ｂ）（２．５ｇ、０．０１２ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）を加え、室温で一晩熟成した。減圧濃縮後、得られた結晶を分析したところ、目的物（４−ａ）の収率は９４％（４．０５ｇ）であった。
【０９６３】
［実施例２］
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９６４】
［実施例２−１］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９６５】
【化６７】
0006920572.tif 000070
【０９６６】
窒素気流下、反応フラスコに実施例１−３で製造した化合物（４−ａ）の酢酸ブチル溶液（８７．２ｇ、純度：４１．２％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、酢酸ブチル５１．３ｇ（０．６Ｌ／ｍｏｌ）を含む）、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（１．６ｇ、５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７０℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２７．２ｇ、２８０ｍｍｏｌ、２８０ｍｏｌ％、水１７．７ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７０℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら７時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．６％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【０９６７】
【化６８】
0006920572.tif 000071
【０９６８】
反応混合物に２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（３１．５ｇ、５０ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％）を加え、混合物を内温６０℃〜７０℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水５０ｍｌ（０．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール１３３．５ｍｌ（１．７Ｌ／ｍｏｌ）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１２．４ｍｌ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で順次洗浄した。その結果、収率９３．０％で目的物（化合物５−ａ）の結晶を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：６．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７１．９Ｈｚ）、４．６０（２Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．１１（２Ｈ，ｓ）、１．５２（６Ｈ，ｓ）
【０９６９】
［実施例２−２］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９７０】
【化６９】
0006920572.tif 000072
【０９７１】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）の酢酸ブチル溶液（９４．１ｇ、純度：３８．２％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、酢酸ブチル５８．２ｇ（０．７Ｌ／ｍｏｌ））、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（１．６ｇ、５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７０℃〜８０℃に加温した。そこに３０％過酸化水素水溶液（２８．４ｇ、２５０ｍｍｏｌ、２５０ｍｏｌ％、水１９．９ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７０℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら５時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．２％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（３１．５ｇ、５０ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％）を加え、混合物を内温６０℃〜７０℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水５０ｍｌ（０．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール１３３．５ｍｌ（１．７Ｌ／ｍｏｌ）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１２．４ｍｌ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で洗浄した。その結果、収率８９．６％で目的物（化合物５−ａ）の結晶を得た。
【０９７２】
［実施例２−３］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９７３】
【化７０】
0006920572.tif 000073
【０９７４】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）の酢酸イソプロピル溶液（１００．６ｇ、純度：３５．７％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、酢酸イソプロピル６４．７ｇ（０．７Ｌ／ｍｏｌ）を含む）、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（１．６ｇ、５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７０℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２７．２ｇ、２８０ｍｍｏｌ、２８０ｍｏｌ％、水１７．７ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７０℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら７時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で２．５％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（３１．５ｇ、５０ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％）を加え、混合物を内温６０℃〜７０℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水５０ｍｌ（０．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール１３３．５ｍｌ（１．７Ｌ／ｍｏｌ）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１２．４ｍｌ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で順次洗浄した。その結果、収率９１．８％で目的物（化合物５−ａ）の結晶を得た。
【０９７５】
［実施例２−４］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９７６】
【化７１】
0006920572.tif 000074
【０９７７】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）の酢酸エチル溶液（１０７．３ｇ、純度：３３．５％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、酢酸エチル７１．４ｇ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）を含む）、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（１．６ｇ、５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７０℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２７．２ｇ、２８０ｍｍｏｌ、２８０ｍｏｌ％、水１７．７ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７０℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら７時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で１．８％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（３１．５ｇ、５０ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％）を加え、混合物を内温６０℃〜７０℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水５０ｍｌ（０．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール１３３．５ｍｌ（１．７Ｌ／ｍｏｌ）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１２．４ｍｌ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で順次洗浄した。その結果、収率８９．１％で目的物（化合物５−ａ）の結晶を得た。
【０９７８】
［実施例２−５］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９７９】
【化７２】
0006920572.tif 000075
【０９８０】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）の酢酸ブチル溶液（９４．１ｇ、純度：３８．２％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、酢酸ブチル５８．２ｇ（０．７Ｌ／ｍｏｌ））、ブタノール５．０ｇ（０．０６Ｌ／ｍｏｌ）、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（１．６ｇ、５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７０℃〜８０℃に加温した。そこに３０％過酸化水素水溶液（２８．４ｇ、２５０ｍｍｏｌ、２５０ｍｏｌ％、水１９．９ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７０℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら５時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．２％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（３１．５ｇ、５０ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％）を加え、混合物を内温６０℃〜７０℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水５０ｍｌ（０．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール１１７．８ｍｌ（１．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１２．４ｍｌ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で洗浄した。その結果、収率９２％で目的物（化合物５−ａ）の結晶を得た。
【０９８１】
［実施例２−６］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９８２】
【化７３】
0006920572.tif 000076
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）のブタノール溶液（９９．３ｇ、純度：３６．２％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、ブタノール６３．４ｇ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）を含む）、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（１．０ｇ、３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７０℃〜８０℃に加温した。そこに３０％過酸化水素水溶液（２８．４ｇ、２５０ｍｍｏｌ、２５０ｍｏｌ％、水１９．９ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温９０℃〜９５℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温９０℃〜９５℃に保ちながら５時間熟成した。さらに、そこに３０％過酸化水素水溶液（９．０ｇ、８０ｍｍｏｌ、８０ｍｏｌ％、水６．３ｇ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を滴下し、混合物を内温９０℃〜９５℃に保ちながら２時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で２．２％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（３１．５ｇ、５０ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％）を加え、室温で結晶を濾別した。その結果、収率９１．２％で目的物（化合物５−ａ）の結晶を得た。
【０９８３】
［実施例２−７］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９８４】
【化７４】
0006920572.tif 000077
【０９８５】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）のブタノール溶液（８９．７ｇ、純度：２０．０％、５０ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％、ブタノール７１．８ｇ（１．８Ｌ／ｍｏｌ））、水５ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（０．５ｇ、１．５ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム（０．２ｇ、０．５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）、リン酸フェニル（０．１ｇ、０．５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８５℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（１４．６ｇ、１５０ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水９．５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８５℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８５℃に保ちながら５時間熟成した。さらに、そこに３５％過酸化水素水溶液（４．９ｇ、５０ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、水３．２ｇ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を滴下し、混合物を内温７５℃〜８５℃に保ちながら３時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．７％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（１２．６ｇ、１０ｍｍｏｌ、２０ｍｏｌ％）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をブタノール１０ｍｌ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）で順次洗浄した。その結果、収率９０．０％で目的物（化合物５−ａ）の結晶を得た。
【０９８６】
［実施例２−８］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９８７】
【化７５】
0006920572.tif 000078
【０９８８】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（３．０５ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、エタノール６．７ｇ（１．０Ｌ／ｍｏｌ））、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム（０．０８７ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、リン酸フェニル（０．０８３ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（４．１３ｇ、４２．５ｍｍｏｌ、５００ｍｏｌ％、水２．７ｇ（０．３Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら３時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．６％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９２．３％で目的物（５−ａ）を得た。
【０９８９】
［実施例２−９］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９９０】
【化７６】
0006920572.tif 000079
【０９９１】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（３．０５ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、ｔｅｒｔ−ブタノール６．６ｇ（１．０Ｌ／ｍｏｌ））、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム（０．０８７ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、リン酸フェニル（０．０８３ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（４．１３ｇ、４２．５ｍｍｏｌ、５００ｍｏｌ％、水２．７ｇ（０．３Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら３時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．６％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９５．０％で目的物（５−ａ）を得た。
【０９９２】
［実施例２−１０］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９９３】
【化７７】
0006920572.tif 000080
【０９９４】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（３．０５ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル６．７ｇ（１．０Ｌ／ｍｏｌ））、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム（０．０８７ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、リン酸フェニル（０．０８３ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２．４８ｇ、２５．５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水１．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら３時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．４％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９５．７％で目的物（５−ａ）を得た。
【０９９５】
［実施例２−１１］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９９６】
【化７８】
0006920572.tif 000081
【０９９７】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（３．０５ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、メタノール６．７ｇ（１．０Ｌ／ｍｏｌ））、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム（０．０８７ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、リン酸フェニル（０．０８３ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温６５℃〜７０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（４．１３ｇ、４２．５ｍｍｏｌ、５００ｍｏｌ％、水２．７ｇ（０．３Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温６５℃〜７０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温６５℃〜７０℃に保ちながら６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で１．８％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９６％で目的物（５−ａ）を得た。
【０９９８】
［実施例２−１２］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【０９９９】
【化７９】
0006920572.tif 000082
【１０００】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（３．０５ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、メタノール６．７ｇ（１．０Ｌ／ｍｏｌ））、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸（０．０８７ｇ、０．８５ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温６５℃〜７０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（４．１３ｇ、４２．５ｍｍｏｌ、５００ｍｏｌ％、水２．７ｇ（０．３Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温６５℃〜７０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温６５℃〜７０℃に保ちながら６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で１．４％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９６％で目的物（５−ａ）を得た。
【１００１】
［実施例２−１３］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１００２】
【化８０】
0006920572.tif 000083
【１００３】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）のアセトニトリル溶液（８６．２ｇ、純度：４１．７％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、アセトニトリル５０．３ｇ（０．６Ｌ／ｍｏｌを含む））、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（１．６ｇ、５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７０℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２４．３ｇ、２５０ｍｍｏｌ、２５０ｍｏｌ％、水１５．８ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７０℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら５時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．５％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（３１．５ｇ、５０ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％）を加え、混合物を内温６０℃〜７０℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水５０ｍｌ（０．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール１１７．８ｍｌ（１．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１２．４ｍｌ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で順次洗浄した。その結果、収率９５．０％で目的物（化合物５−ａ）の結晶を得た。
【１００４】
［実施例２−１４］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１００５】
【化８１】
0006920572.tif 000084
【１００６】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）のアセトニトリル溶液（８８．９ｇ、純度：４０．４％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、アセトニトリル６５ｇ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）を含む））、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（１．０ｇ、３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２２．４ｇ、２３０ｍｍｏｌ、２３０ｍｏｌ％、水１５ｇ（０．１５Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら５時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．５％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に１７％亜硫酸ナトリウム水溶液（２２．２ｇ、３０ｍｍｏｌ、３０ｍｏｌ％）を加え、混合物を内温５５℃〜６５℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水５０ｍｌ（０．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール８０ｍｌ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で順次洗浄した。その結果、収率９５．９％で目的物（５−ａ）の結晶を得た。
【１００７】
［実施例２−１５］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
アセトニトリル溶媒の使用量を１．３Ｌ／ｍｏｌに、最初に仕込む水溶媒（前添加水）の使用量を０．３Ｌ／ｍｏｌに、タングステン酸ナトリウム二水和物の使用量を５ｍｏｌ％に、３５％過酸化水素水溶液の使用量を３００ｍｍｏｌ％に、滴下温度と熟成温度を５５℃〜６５℃に、熟成時間を３時間に変更した以外は、実施例２−１４と同様に反応及び分析を行った。
熟成３時間の時点で、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は０．１％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
実施例２−１４と同様に後処理を行った。その結果、収率９２．２％で目的物（５−ａ）の結晶を得た。
【１００８】
［実施例２−１６］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
アセトニトリル溶媒の使用量を０．４５Ｌ／ｍｏｌに、最初に仕込む水溶媒（前添加水）の使用量を０．１Ｌ／ｍｏｌに、タングステン酸ナトリウム二水和物の使用量を５ｍｏｌ％に、３５％過酸化水素水溶液の使用量を３００ｍｍｏｌ％に、滴下温度と熟成温度を６０℃〜６５℃に、熟成時間を５時間に変更した以外は、実施例２−１４と同様に反応及び分析を行った。
熟成５時間の時点で、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は０．３％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。収率：９０％以上
【１００９】
［実施例２−１７］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０１０】
【化８２】
0006920572.tif 000085
【１０１１】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）のアセトニトリル溶液（１０２．６ｇ、純度：３５．０％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、アセトニトリル６５ｇ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）を含む））、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びモリブデン酸アンモニウム四水和物（１．２３ｇ、１ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２９．２ｇ、３００ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水１９ｇ（０．１９Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら２時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物に２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（２２．２ｇ、３５ｍｍｏｌ、３５ｍｏｌ％）を加え、混合物を内温５５℃〜６５℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水５０ｍｌ（０．５Ｌ／ｍｏｌ）を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール８０ｍｌ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で順次洗浄した。その結果、収率９４．７％で目的物（５−ａ）の結晶を得た。
【１０１２】
［実施例２−１８］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０１３】
【化８３】
0006920572.tif 000086
【１０１４】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（１００．１ｇ、純度：３５．０％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、２-プロパノール６２．５ｇ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）を含む））、水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びモリブデン酸アンモニウム四水和物（１．２３ｇ、１ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２９．２ｇ、３００ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水１２．８ｇ（０．１２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら５時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で残存していたため、３５％過酸化水素水溶液（１９．５ｇ、２００ｍｍｏｌ、２００ｍｏｌ％、水１９ｇ（０．１９Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら５時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で２．０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物を撹拌し室温まで冷却し、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及び水１０ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）で順次洗浄した。その結果、収率９３．２％で目的物（５−ａ）の結晶を得た。
【１０１５】
［実施例２−１９］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
溶媒をジメチルホルムアミドに、３５％過酸化水素水溶液の使用量を４００ｍｍｏｌ％に、熟成時間を８時間に、変更した以外は、実施例２−１７と同様に反応及び分析を行った。
熟成８時間の時点で、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は１．９％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物を撹拌し室温まで冷却しジメチルホルムアミドを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９５．１％で目的物（５−ａ）の結晶を得た。
【１０１６】
［実施例２−２０］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
溶媒をジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグライム）に、３５％過酸化水素水溶液滴下後の熟成時間を１時間に、変更した以外は、実施例２−１７と同様に反応及び分析を行った。
熟成１時間の時点で、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にジメチルホルムアミドを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９６．９％で目的物（５−ａ）を得た。
【１０１７】
［実施例２−２１］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
反応容器に化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びモリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３ｇ、０．０２５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、３５０ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、９９．４％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０１８】
［実施例２−２２］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
反応容器に化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、エタノール２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びモリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３ｇ、０．０２５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、３５０ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、９９．４％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０１９】
［実施例２−２３］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
反応容器に化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、N-メチルピロリドン２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びモリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３ｇ、０．０２５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、３５０ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、９８．０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０２０】
［実施例２−２４］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
反応容器に化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、スルホラン２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びモリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３ｇ、０．０２５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、３５０ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、９８．７％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０２１】
［実施例２−２５］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
反応容器に化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、ジオキサン２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びモリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３ｇ、０．０２５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、３５０ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、９９．４％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０２２】
［実施例２−２６］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０２３】
【化８４】
0006920572.tif 000087
【１０２４】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、ジメチルホルムアミド２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）、ニオブ酸ナトリウム（２０ｍｇ、０．１２５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）及び硫酸（２９ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ、１２ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．７３ｇ、７．５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水０．４７ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら４時間熟成した。３５％過酸化水素水溶液（０．３６ｇ、３．８ｍｍｏｌ、１５０ｍｏｌ％、水０．２ｇ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を滴下し、３時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で２．６％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９３．９％で目的物（５−ａ）を得た。
【１０２５】
［実施例２−２７］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０２６】
【化８５】
0006920572.tif 000088
【１０２７】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、）、ジメチルホルムアミド２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（４１ｍｇ、０．１２５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、８．７５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
この時点で、ＨＰＬＣ面積百分率（２３０ｎｍ）で分析した結果、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、０．５％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、９７．２％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％
であった。
［実施例２−２８］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０２８】
【化８６】
0006920572.tif 000089
【１０２９】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、）、２-プロパノール２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びチタンアセチルアセトネート（３３ｍｇ、０．１２５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、８．７５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
この時点で、ＨＰＬＣ面積百分率（２３０ｎｍ）で分析した結果、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、７１．７％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、６．９％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、１９．４％
であった。
【１０３０】
［実施例２−２９］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０３１】
【化８７】
0006920572.tif 000090
【１０３２】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、）、アセトニトリル２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及び塩化酸化ジルコニウム八水和物（４０ｍｇ、０．１２５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、８．７５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
この時点で、ＨＰＬＣ面積百分率（２３０ｎｍ）で分析した結果、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、５６．５％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、１１．０％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％
であった。
【１０３３】
［実施例２−３０］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０３４】
【化８８】
0006920572.tif 000091
【１０３５】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、）、２-プロパノール２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及び塩化酸化ジルコニウム八水和物（４０ｍｇ、０．１２５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．８５ｇ、８．７５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水０．５５ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
この時点で、ＨＰＬＣ面積百分率（２３０ｎｍ）で分析した結果、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、７１．６％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、１２．５％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、１．４％
であった。
【１０３６】
［実施例２−３１］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０３７】
【化８９】
0006920572.tif 000092
【１０３８】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、）、ジメチルホルムアミド２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びタンタル酸リチウム（２９ｍｇ、０．１２５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（１．４２ｇ、１４．６ｍｍｏｌ、５００ｍｏｌ％、水０．９２ｇ（０．３７Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
この時点で、ＨＰＬＣ面積百分率（２３０ｎｍ）で分析した結果、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、２９．３％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、６７．１％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％
であった。
【１０３９】
［実施例２−３２］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０４０】
【化９０】
0006920572.tif 000093
【１０４１】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、）、ジメチルホルムアミド２ｍL（０．８Ｌ／ｍｏｌ）及びタンタル酸リチウム（２９０ｍｇ、１．２５ｍｍｏｌ、５０ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．９９ｇ、１０．２ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．６４ｇ（０．３６Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
この時点で、ＨＰＬＣ面積百分率（２３０ｎｍ）で分析した結果、
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、１７．９％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、８０．４％
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物４−ａ；Ｓ誘導体）は、０％
であった。
【１０４２】
［実施例２−３３］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０４３】
【化９１】
0006920572.tif 000094
【１０４４】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（８．３４ｇ、純度：１００％、２３．２ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、エタノール２４．６ｇ（０．８Ｌ／ｍｏｌ）、水２．３ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（０．３８ｇ、１．１６ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜７８℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（１１．３ｇ、１１６ｍｍｏｌ、５００ｍｏｌ％、水１７．２ｇ（０．３Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜７８℃で滴下し、混合物を内温７５℃〜７８℃に保ちながら５時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で２．９％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、３５％過酸化水素水溶液（２．２６ｇ、２３．２ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％、水６．４ｇ（０．０６Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜７８℃で滴下し、混合物を内温７５℃〜７８℃に保ちながら１時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．６％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にジメチルホルムアミドを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９４．２％で目的物（５−ａ）を得た。
【１０４５】
［実施例２−３４］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０４６】
【化９２】
0006920572.tif 000095
【１０４７】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（１３８ｇ、純度：７８．１％、３００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、エタノール２３７ｇ（１．０Ｌ／ｍｏｌ）、水９０ｍｌ（０．３Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物（５．０ｇ、１５ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温５０℃〜６０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（８７．５ｇ、９００ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水５６．９ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温５０℃〜６０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温５０℃〜６０℃に保ちながら７時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で３．２％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０４８】
［実施例２−３５］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０４９】
【化９３】
0006920572.tif 000096
【１０５０】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（３．１ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル２．７ｇ（０．４Ｌ／ｍｏｌ）、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．２６ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸（０．０８７ｇ、０．８５ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２．４８ｇ、２５．５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水１．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．３％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。ＨＰＬＣ外部標準法により分析した結果、収率９６．４％で目的物（５−ａ）を得た。
【１０５１】
［実施例２−３６］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０５２】
【化９４】
0006920572.tif 000097
【１０５３】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）（０．９ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル０．８ｇ（０．４Ｌ／ｍｏｌ）、水０．３ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）、モリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３１ｇ、０．０３ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．９ｇ、８．８ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、この時点で０．６７％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。目的物である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ；ＳＯ２誘導体）は、この時点で９７．４％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０５４】
［比較例２−１］
（工程iii）
３−［（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールの製造
【１０５５】
【化９５】
0006920572.tif 000098
【１０５６】
窒素気流下、反応フラスコに３−［（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（２．６ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル２．７ｇ（０．４Ｌ／ｍｏｌ）、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．２６ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸（０．０８７ｇ、０．８５ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２．４８ｇ、２５．５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水１．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で４．５５％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で０．５３％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０５７】
［比較例２−２］
（工程iii）
３−［（１，３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールの製造
【１０５８】
【化９６】
0006920572.tif 000099
【１０５９】
窒素気流下、反応フラスコに３−［（１，３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（２．２ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル２．７ｇ（０．４Ｌ／ｍｏｌ）、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．２６ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸（０．０８７ｇ、０．８５ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２．４８ｇ、２５．５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水１．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（１，３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（１，３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で０．４％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０６０】
［比較例２−３］
（工程iii）
３−［（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールの製造
【１０６１】
【化９７】
0006920572.tif 000100
【１０６２】
窒素気流下、反応フラスコに３−［（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（２．８ｇ、純度：１００％、８．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル２．７ｇ（０．４Ｌ／ｍｏｌ）、水０．９ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム二水和物（０．０８４ｇ、０．２６ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）、硫酸（０．０８７ｇ、０．８５ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）を加えた。混合物を内温７５℃〜８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（２．４８ｇ、２５．５ｍｍｏｌ、３００ｍｏｌ％、水１．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を内温７５℃〜８０℃で１時間かけて滴下し、混合物を内温７５℃〜８０℃に保ちながら６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で３．３％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０６３】
［比較例２−４］
（工程iii）
３−［（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールの製造
【１０６４】
【化９８】
0006920572.tif 000101
【１０６５】
窒素気流下、反応フラスコに３−［（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（０．８ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル０．８ｇ（０．４Ｌ／ｍｏｌ）、水０．３ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）、モリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３１ｇ、０．０３ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．９ｇ、８．８ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０６６】
［比較例２−５］
（工程iii）
３−［（１，３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールの製造
【１０６７】
【化９９】
0006920572.tif 000102
【１０６８】
窒素気流下、反応フラスコに３−［（１，３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（０．６ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル０．８ｇ（０．４Ｌ／ｍｏｌ）、水０．３ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）、モリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３１ｇ、０．０３ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．９ｇ、８．８ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（１，３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で０．７％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（１，３，５−トリメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で１４．６％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０６９】
［比較例２−６］
（工程iii）
３−［（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールの製造
【１０７０】
【化１００】
0006920572.tif 000103
【１０７１】
窒素気流下、反応フラスコに３−［（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルチオ］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（０．８ｇ、純度：１００％、２．５ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、アセトニトリル０．８ｇ（０．４Ｌ／ｍｏｌ）、水０．３ｍｌ（０．１Ｌ／ｍｏｌ）、モリブデン酸アンモニウム四水和物（０．０３１ｇ、０．０３ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。混合物を８０℃に加温した。そこに３５％過酸化水素水溶液（０．９ｇ、８．８ｍｍｏｌ、３５０ｍｏｌ％、水０．６ｇ（０．２Ｌ／ｍｏｌ）を含む）を加え６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で０％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
さらに、目的物である、３−［（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で８２．７％（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）であった。
【１０７２】
上記比較例２−１から２−６では、本発明の方法を式（４）の化合物に類似の化合物に適用した。その結果、式（４）の化合物以外の類似の化合物については、反応が完結しない、反応中間体であるＳＯ誘導体が多く残る、分解する、及び／又は低収率であった。驚くべきことに、本発明の方法は式（４）の化合物においてのみ、特異的に有効であった。加えて、予期せずして、化合物（４−ａ）において、特に高い効果が得られた。
【１０７３】
［比較例２−７］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
タングステン酸ナトリウム二水和物と過酸化水素水溶液を用いる化合物（４−ａ）から化合物（５−ａ）の製造において、有機溶媒としてメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を使用した。内温７０℃〜８０℃に加温した後、過酸化水素水溶液を滴下した。熟成７時間の時点で、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）が１０％以上残存していた（ＨＰＬＣ面積百分率；２３０ｎｍ）。
【１０７４】
［参考例］
（工程iii）
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ）の製造
【１０７５】
【化１０１】
0006920572.tif 000104
【１０７６】
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）２．８ｇ（１００ｍｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）、酢酸８．４ｇ（１．０Ｌ／ｍｏｌ）及びタングステン酸ナトリウム二水和物８０ｍｇ（３ｍｍｏｌ、３ｍｏｌ％）を加えた。混合物に、３０％過酸化水素２．２ｇ（２５０ｍｍｏｌ、２５０ｍｏｌ％）を内温２６℃〜３５℃で２０分かけて滴下し、混合物を内温２６℃〜３５℃に保ちながら１６時間熟成した。
反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、熟成１６時間の時点で５．０％であった（ＨＰＬＣ面積百分率）。
反応混合物に水４ｇを添加し、１０℃で１時間熟成した後、析出した結晶を濾別した。
得られた結晶を石油エーテル２０ｍｌ及び水２０ｍｌで順次洗浄した。得られた結晶をＨＰＬＣ（面積百分率；２３０ｎｍ）により分析したところ、反応中間体である、３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルフィニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物６−ａ；ＳＯ誘導体）は、ＨＰＬＣ面積百分率５．５％であった。
【１０７７】
参考例は特表2013-512201（JP2013-512201A）（特許文献7）実施例９Ｃの再現実験である。特表2013-512201（JP2013-512201A）（特許文献7）に記載の製造方法では、過剰量の過酸化水素を加えて１６時間熟成後も、反応中間体の化合物（６−ａ）が５．０％も残存していた。また、精製した後でも、化合物（６−ａ）の比率は下がらなかった。式（５）の化合物と式（６）の化合物とを分離することによる式（５）の化合物の精製が困難であることが改めて確認された。特表2013-512201（JP2013-512201A）（特許文献７）に記載の製造方法では、反応系内に危険な有機過酸（過酢酸）が生成するという問題もある。なお、この危険性のため、この方法では加熱は避けるべきである。
【１０７８】
［参考製造例１］
［５，５−ジメチル(４，５−ジヒドロイソオキサゾロ−３−イル)］チオカルボキサミジン臭化水素酸塩水溶液の製造
【１０７９】
【化１０２】
0006920572.tif 000105
【１０８０】
WO2006/038657Aに記載の方法で得られた３−ブロモ−５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール（ＢＩＯ）の酢酸ブチル溶液（２５１．５ｇ、純度：１８％、０．２５ｍｏｌ）にチオ尿素（２０ｇ、０．２６ｍｏｌ、１０５ｍｏｌ％）を加え、内温を１５℃〜２５℃にした。これに３５％塩酸（２６ｇ、０．２５ｍｏｌ、１００ｍｏｌ％）を内温１５℃〜２５℃で３０分間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温１５℃〜２５℃で６時間熟成した。反応終了後、水（８８ｇ、０．３５Ｌ／ｍｏｌ）を加え１５分撹拌し、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水（２５ｇ、０．１Ｌ／ｍｏｌ）を加え１５分撹拌し、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた水層を合わせたところ、収率９０％相当の目的物を含む水溶液２０８．６ｇを得た。得られた目的物は原料ＢＩＯ由来の臭化水素酸塩と塩酸由来の塩酸塩を含む。
【１０８１】
［実施例３］
３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（化合物５−ａ、ピロキサスルホン）の結晶化
【１０８２】
［実施例３−１］
実施例２−１４に準じた方法でピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。また、本製法と同様に製造されたピロキサスルホンの柱状結晶の嵩比重は、１．０４ｇ／ｍLであった。
【１０８３】
実施例３−２から実施例３−１２及び比較例３−３から３−１２では、実施例２−１４に準じた方法で得たピロキサスルホンを用いた。
【１０８４】
［実施例３−２］
ピロキサスルホンを、８７ｖｏｌ％アセトニトリル含水溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でアセトニトリルと水を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０８５】
［実施例３−３］
ピロキサスルホンを、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．１°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０８６】
［実施例３−４］
ピロキサスルホンを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０８７】
［実施例３−５］
ピロキサスルホンを、酢酸エチルに溶解した。得られた溶液から、常圧下で酢酸エチルを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０８８】
［実施例３−６］
ピロキサスルホンを、メチルイソブチルケトンに溶解した。得られた溶液から、常圧下でメチルイソブチルケトンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０８９】
［実施例３−７］
ピロキサスルホンを、酢酸に溶解した。得られた溶液から、常圧下で酢酸を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０９０】
［実施例３−８］
ピロキサスルホンを、アセトニトリル１容量部とメタノール２容量部からなる混合溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でアセトニトリルとメタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０９１】
［実施例３−９］
ピロキサスルホンを、ジクロロメタン１容量部とエタノール１容量部からなる混合溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でジクロロメタンとエタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および２０．０°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、２０．０°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０９２】
［実施例３−１０］
ピロキサスルホンを、アセトンに溶解した。得られた溶液に２倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０９３】
［実施例３−１１］
ピロキサスルホンを、アセトニトリルに溶解した。得られた溶液に２倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０９４】
［実施例３−１２］
ピロキサスルホンを、酢酸エチルに溶解した。得られた溶液に２倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１９．９°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表３に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
【１０９５】
【表３−１】
0006920572.tif 000106
【１０９６】
【表３−２】
0006920572.tif 000107
【１０９７】
［実施例３−Ａ］
実施例３−１のピロキサスルホンの結晶５０質量部、ポリカルボン酸塩８質量部、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸塩５質量部、アルキルベンゼンスルホン酸塩１質量部および残部にクレーを加えて全体を１００質量部とし、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、水和剤を得た。
【１０９８】
［実施例３−Ｂ］
実施例３−１のピロキサスルホンの結晶４０質量部、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物１．６７質量部、ジオクチルスルホコハク酸塩０．８３質量部、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル２．０８質量部、プロピレングリコール８．７５質量部、キサンタンガム０．０５質量部、ジメチルポリシロキサン０．２質量部、メチルクロロイソチアゾロンとブロノポールの混合物０．０２質量部および残部に水を加えて全体を８５質量部とし、湿式粉砕機を用いて混合粉砕し、スラリーを得た。別途、キサンタンガム０．０８質量部、ベントナイト０．０８質量部および残部に水を加えて全体を１５質量部とした混合液に、前記スラリー８５質量部を加えて混合し、本発明の水性懸濁剤を得た。
【１０９９】
［比較例３−１］
７．３ｇの化合物（４−ａ）を含むクロロホルム溶液５０ｍＬに、氷冷下、純度７０％のｍ−クロロ過安息香酸１２．５ｇを加え、１時間攪拌した。混合物を外気温２０℃で１６時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水および食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下でクロロホルムを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させ、ピロキサスルホンの結晶を含む残渣を得た。得られた残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．７°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。なお、本例は、特許文献２に記載されている参考例３の再現実験である。また、本製法と同様に製造されたピロキサスルホンの針状結晶の嵩比重は、０．５３ｇ／ｍLであった。
【１１００】
［比較例３−２］
窒素気流下、反応フラスコに化合物（４−ａ）２．８ｇ、酢酸８．４ｇ及びタングステン酸ナトリウム二水和物８０ｍｇを加えた。混合物の内温を２６−３５℃に維持しつつ３０％過酸化水素２．２ｇを２０分間かけて滴下した。混合物を内温２６−３５℃に保ちながら１６時間攪拌した。反応混合物に水４ｇを添加し、１０℃で１時間攪拌し、ピロキサスルホンの結晶を析出させ、ピロキサスルホンの結晶を含む残渣を得た。得られた残渣を石油エーテル２０ｍＬ及び水２０ｍＬで順次洗浄し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．８°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。なお、本例は、特許文献７に記載されている実施例９Ｃの再現実験である。。
【１１０１】
［比較例３−３］
ピロキサスルホンを、クロロホルムに溶解した。得られた溶液から、常圧下でクロロホルムを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．７°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１０２】
［比較例３−４］
ピロキサスルホンを、ジメチルスルホキシドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でジメチルスルホキシドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．８°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１０３】
［比較例３−５］
ピロキサスルホンを、１，４−ジオキサンに溶解した。得られた溶液から、常圧下で１，４−ジオキサンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および２０．０°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１８．０°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１０４】
［比較例３−６］
ピロキサスルホンを、２−メチルテトラヒドロフランに溶解した。得られた溶液から、常圧下で２−メチルテトラヒドロフランを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および２０．０°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．８°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１０５】
［比較例３−７］
ピロキサスルホンを、Ｎ−メチルピロリドンに溶解した。得られた溶液から、常圧下でＮ−メチルピロリドンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および２０．０°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１８．０°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１０６】
［比較例３−８］
ピロキサスルホンを、テトラヒドロフランに溶解した。得られた溶液から、常圧下でテトラヒドロフランを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．８°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１０７】
［比較例３−９］
ピロキサスルホンを、トリフルオロエタノールに溶解した。得られた溶液から、常圧下でトリフルオロエタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および２０．０°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．８°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１０８】
［比較例３−１０］
ピロキサスルホンを、二硫化炭素に溶解した。得られた溶液から、常圧下で二硫化炭素を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および１９．９°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．７°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１０９】
［比較例３−１１］
ピロキサスルホンを、アセトンに溶解した。得られた溶液に２倍量の二硫化炭素を加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．７°、１８．０°および２０．０°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．７°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１１０】
［比較例３−１２］
ピロキサスルホンを、ジクロロメタンに溶解した。得られた溶液に２倍量の二硫化炭素を加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Ｃｕ−Ｋα線を用いた透過法による粉末Ｘ線回折測定において、１７．８°、１８．０°および２０．０°の回折角２θに特徴的なピークを有し、かつ、前記３つのピークのうち、１７．８°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末Ｘ線回折スペクトルを示した。該粉末Ｘ線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度２θとピーク高さを表４に示す。この結晶の形状は、針状であった。
【１１１１】
【表４−１】
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【１１１２】
【表４−２】
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【１１１３】
［比較例３−Ｘ］
比較例３−３のピロキサスルホンの結晶５０質量部、ポリカルボン酸塩４質量部、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸塩１質量部およびクレーを加えて全体を１００質量部とし、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、水和剤を得た。
【１１１４】
［比較例３−Ｙ］
比較例３−３のピロキサスルホンの結晶４０質量部、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物１．６７質量部、ジオクチルスルホコハク酸塩０．８３質量部、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル２．０８質量部、プロピレングリコール８．７５質量部、キサンタンガム０．０５質量部、ジメチルポリシロキサン０．２質量部、メチルクロロイソチアゾロンとブロノポールの混合物０．０２質量部および残部に水を加えて全体を８５質量部とし、湿式粉砕機を用いて混合粉砕し、スラリーを得た。別途、キサンタンガム０．０８質量部、ベントナイト０．０８質量部および残部に水を加えて全体を１５質量部とした混合液に、前記スラリー８５質量部を加えて混合し、水性懸濁剤を得た。
【１１１５】
［試験例３−１：水和性］
５００ｍＬ容のビーカーに２０℃の3度硬水２００ｍＬを入れた。このビーカーに、あらかじめ＃４０メッシュ標準篩を通過させた実施例３−Ａまたは比較例３−Ｘの水和剤５ｇを、水面上約１０ｃｍの位置から、薄く広がるように静かに落とした。試料を落とし終わってから試料全量が水面下に没するまでの時間を測定した。更に、ビーカー内をガラス棒でかき混ぜて懸濁状態の均一性を観察した。結果を表５に示した。
【１１１６】
【表５】
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【１１１７】
［試験例３−２：希釈液の再分散性］
実施例３−Ｂおよび比較例３−Ｙの水性懸濁剤０．５ｍＬを採り、１００ｍＬ容共栓メスシリンダーに入れ、さらに３度硬水を加えて全量を１００ｍＬとした。共栓メスシリンダーを３０ｒｐｍで３０回倒立し、２０℃恒温にて１日間静置した。その後、共栓メスシリンダーの底部を観察しながら３０ｒｐｍで倒立し、共栓メスシリンダーの底部に固着した固形物が全く認められなくなるまでに要した倒立回数を記録した。また、実施例３−Ｂおよび比較例３−Ｙの水性懸濁剤５０ｍＬを採り、５０ｍＬ容スクリュー管内に密封し、５４℃恒温にて２週間静置貯蔵したのち、同様の試験に供試した。結果を表６に示した。
【１１１８】
【表６】
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【１１１９】
本明細書に記載のすべての出版物、特許、および特許出願は、本明細書の説明に関連して使用される可能性のある、当該出版物、特許、および特許出願に記載されている方法を説明および開示する目的のために、参照により本明細書にその全体が完全に組み込まれる。本発明の開示を理解又は完了するために必要な程度まで、本明細書に記載の全ての刊行物、特許、及び特許出願が、各々が個々に組み入れられたかのように同程度まで、参照により本明細書に明示的に組み入れられる。上記および本明細書全体で論じられているすべての出版物、特許、および特許出願は、本出願の出願日前の開示のためにのみ提供されている。
【１１２０】
本明細書に記載されるのと同様または等価ないずれの方法および試薬も、本発明の方法および実施において用いることができる。従って、本発明は、前記の説明によって制約されるものではなく、しかし特許請求の範囲及びその均等物によって定義されることを意図するものである。それら均等物は添付の特許請求の範囲により定義される本発明の範囲内に入る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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