(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
離型性基材フィルム、薄膜層、マスキングフィルム、がこの順に積層された積層体であって、下記式（１）、（２）、及び（３）を満たすことを特徴とする薄膜層転写用積層体。
０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．７        （１）
Ｘ：離型性基材フィルムと薄膜層との剥離強度
Ｙ：薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度
１．０≦Ｓｋｕ≦４０                    （２）
Ｓｋｕ：離型性基材フィルムの離型面のクルトシス
０．５ｎｍ≦Ｓｑ≦２０ｎｍ                  （３）
Ｓｑ：離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さ
【請求項２】
下記式（４）を満たす、請求項１に記載の薄膜層転写用積層体。
−１．０≦Ｓｓｋ≦２．０        （４）
Ｓｓｋ：離型性基材フィルムの離型面のスキューネス
【請求項３】
前記離型性基材フィルムの離型面のＳｋｕが３．０超２０以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項４】
前記離型性基材フィルムの離型面のＳｑが１．０ｎｍ以上７ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項５】
前記離型性基材フィルムの離型面の算術平均粗さ（Ｓａ）が０．５ｎｍ以上５ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項６】
前記離型性基材フィルムの離型面の界面の展開面積（Ｓｄｒ）が０．０００１％以上０．０００７％以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項７】
前記離型性基材フィルムの離型面の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が７（１／ｍｍ）以上７０（１／ｍｍ）以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項８】
前記離型性基材フィルムの裏面の算術平均粗さ（Ｓａ）が１．５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項９】
前記離型性基材フィルムの裏面の二乗平均平方根粗さ（Ｓｑ）が２．０ｎｍ以上４５ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１０】
前記離型性基材フィルムの裏面のＳｋｕが７以上１７０以下であり、かつ、（裏面のＳｋｕ）／（離型面のＳｋｕ）が１．５以上２０以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１１】
前記離型性基材フィルムの裏面のＳｓｋが１以上１０以下であり、かつ（裏面のＳｓｋ）／（離型面のＳｓｋ）の絶対値が２以上１５以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１２】
Ｙ／Ｘが０．０５以上０．３５以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１３】
下記式（５）を満たす請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
０．００５Ｎ／２５ｍｍ≦Ｙ≦２．０Ｎ／２５ｍｍ    （５）
【請求項１４】
前記剥離強度Ｙが０．０３Ｎ／２５ｍｍ以上０．５Ｎ／２５ｍｍ以下である請求項１３に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１５】
前記剥離強度Ｘが０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上０．８Ｎ／２５ｍｍ以下である請求項１３に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１６】
前記薄膜層の厚みが０．０１μｍ以上４．５μｍ以下である請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１７】
前記薄膜層は、液晶化合物が配向された層を含む請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１８】
前記離型性基材フィルムの基材フィルム原反を構成する樹脂がポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロースのいずれかである請求項１又は２に記載の薄膜層転写用積層体。
【請求項１９】
前記離型性基材フィルムの基材フィルム原反が３０００ｎｍ〜３００００ｎｍのレタデーションを有し、前記基材フィルム原反を構成する樹脂がポリエチレンテレフタレートである請求項１８に記載の薄膜層転写用積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜層を転写するための積層体に関する。更に詳しくは、円偏光板などの偏光板や位相差板の製造や、液晶化合物からなる偏光層を有する偏光板の製造において用いられる、液晶化合物が配向された層を含む薄膜層を転写する際に好適に用いられる積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
離型性基材上に薄膜層を設け、この薄膜層を対象物に転写する技術は古くから知られている。この転写法は、従来からの絵柄の転写だけでなく、近年では、光学分野、電気電子分野などにおいて、位相差層、偏光層、紫外線や赤外線などの吸収層や反射層、電磁波シールド層、電極層、反射防止層、屈折率調整層など様々な機能を有する薄膜層が転写により対象物に設けられる方法が採用されてきている。【０００３】
例えば、画像表示装置においては、従来、外来光の反射を低減するために、画像表示パネルの視聴者側のパネル面に円偏光板を配置している。この円偏光板は、直線偏光板とλ／４等の位相差フィルムとの積層体により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続くλ／４等の位相差フィルムにより円偏光に変換する。円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面で反射する際に偏光面の回転方向が逆転し、この反射光は、逆に、λ／４等の位相差フィルムにより、直線偏光板で遮光される方向の直線偏光に変換され、その後直線偏光板により遮光されるため、外部への出射が抑えられる。このように、円偏光板は、偏光板にλ／４等の位相差フィルムを貼り合わせたものが用いられている。【０００４】
位相差フィルムとしては、環状オレフィン（特許文献１）、ポリカーボネート（特許文献２）、トリアセチルセルロースの延伸フィルム（特許文献３）などの単体の位相差フィルムが用いられている。また、位相差フィルムとしては、透明フィルム上に液晶化合物からなる位相差層を有する積層体の位相差フィルムが用いられている（特許文献４、５）。上記において液晶化合物からなる位相差層（液晶化合物層）を設ける際には、液晶化合物を転写してもよいことが記載されている。【０００５】
また、液晶化合物からなる位相差層を透明フィルムに転写することにより位相差フィルムを作製する方法は特許文献６等で知られている。このような転写法により、λ／４等の液晶化合物からなる位相差層を透明フィルム上に設け、λ／４位相差フィルムとする方法も知られている（特許文献７、８）。【０００６】
これらの転写法では、転写用の離型性基材フィルム（以後単に基材フィルムという場合がある）上に液晶化合物を配向させた位相差層を設けた転写用積層体を作製し、この転写用積層体の位相差層を対象となるフィルム等に貼り合わせて転写する。【０００７】
通常、転写用積層体は長尺物のロールとして作製されるが、ロールとして巻き取る際に、位相層の保護のためにマスキングフィルムを位相差層に貼り合わせて巻き取る場合があった（特許文献９）。転写用積層体のロールを用いて対象物に位相差層を転写する際には、マスキングフィルムを剥離して、接着剤等で対象物と位相差層を貼り合わせる。転写用積層体の基材フィルムは、剥がされることなく積層されたまま、一旦、ロールとして巻き取られる場合もあるが、画像表示セルに貼り合わせる時など、最終的な製品になる前に剥離される。【０００８】
しかしながら、これらの工程により基材フィルムに位相差層を設けた場合、ピンホールが生じる等の欠点が問題となっていた。特に、基材フィルムに位相差層を設けた直後には欠点がなくても、最終的な製品とした場合には欠点が生じる場合があり、改善が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１２−５６３２２号公報
【特許文献２】特開２００４−１４４９４３号公報
【特許文献３】特開２００４−４６１６６号公報
【特許文献４】特開２００６−２４３６５３号公報
【特許文献５】特開２００１−４８３７号公報
【特許文献６】特開平４−５７０１７号公報
【特許文献７】特開２０１４−０７１３８１号公報
【特許文献８】特開２０１７−１４６６１６号公報
【特許文献９】特開２０１６−２２４１２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、薄膜層を転写するための転写用積層体であって、ピンホールや転写不良などの欠点の発生が抑制された転写物を形成することができる転写用積層体を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、かかる目的を達成するために、透明樹脂フィルムを転写用の基材フィルムとして使用して製造された位相差層積層偏光板（円偏光板）にピンホールなどの欠点が発生する原因について検討した。その結果、基材フィルム上に液晶化合物層を設けた時にはピンホールなどの欠点はなくても、マスキングフィルムを貼り合わせた転写用積層体をロール状態で保存し、このロールから転写用積層体を巻き出して対象物に転写する工程でマスキングフィルムを剥離する際や、基材フィルムを剥離する際にピンホールが発生することを見出した。さらにこのピンホールは、基材フィルムと液晶化合物層との剥離力と液晶化合物層とマスキングフィルムとの剥離力との関係を適正に保つこと、さらには基材フィルムの離型面の粗さを特定の範囲とすることで抑制できることを見出し、本発明の完成に至った。本発明の薄膜層転写用積層体は、以下の点に要旨を有する。【００１２】
離型性基材フィルム、薄膜層、マスキングフィルム、がこの順に積層された積層体であって、下記式（１）、（２）、及び（３）を満たすことを特徴とする。
０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．７        （１）
Ｘ：離型性基材フィルムと薄膜層との剥離強度
Ｙ：薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度
Ｓｋｕ≦４０                    （２）
Ｓｋｕ：離型性基材フィルムの離型面のクルトシス
Ｓｑ≦２０ｎｍ                  （３）
Ｓｑ：離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さ【００１３】
本発明の薄膜層転写用積層体は、さらに下記式（４）を満たすことが好ましい。
−１．０≦Ｓｓｋ≦２．０        （４）
Ｓｓｋ：離型性基材フィルムの離型面のスキューネス【００１４】
本発明の薄膜層転写用積層体は、さらに下記式（５）を満たすことが好ましい。
０．００５Ｎ／２５ｍｍ≦Ｙ≦２．０Ｎ／２５ｍｍ    （５）【００１５】
上記薄膜層は液晶化合物が配向された層を含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の薄膜層を転写するための薄膜層転写用積層体は取り扱い性に優れ、特にロールツーロールで対象物に容易に薄膜層を転写することができる。さらに、本発明の薄膜層転写用積層体を用いることで、ピンホールや転写不良などの欠点の発生が抑制された転写物を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（離型性基材フィルム）
離型性基材フィルムの基材フィルム原反を構成する樹脂としては、転写用基材としての強度を保てるものであれば特に制限されないが、中でもポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロースが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロースが特に好ましい。なお、本発明の説明において、離型性基材フィルムとは、フィルム製膜工程で得られた基材フィルム原反に、必要により付与されるコート層などの後加工付与される層も含むもので、液晶化合物転写用積層体の製造に供される形態のものを指し、基材フィルム原反とは、フィルム製膜工程で得られた状態のものを指す。
【００１８】
基材フィルム原反は、構成としては単層でも共押出による複数層であってもよい。複数層の場合は、一方面のみが離型面である［離型面側層（Ａ）］／［裏面側層（Ｂ）］の構成、両面が離型面でありその中間に別の中間層（Ｃ）を有する［離型面側層（Ａ）］／［中間層（Ｃ）］／［離型面側層（Ａ）］の構成、及び一方面のみが離型面であり離型面と裏面側層との間に中間層（Ｃ）を有する［離型面側層（Ａ）］／［中間層（Ｃ）］／［裏面側層（Ｂ）］の構成などが挙げられる。
【００１９】
なお、本発明において、基材フィルム原反の「離型面側層」とは、基材フィルム原反を構成する樹脂の各層のうち、離型面が存在する側の層を意味する。ここで、フィルムが単一の層である場合も離型面側層と呼ぶ場合がある。この場合、後述する裏面側層と離型面側層が同一層となる。また、離型面側層を単に表層という場合がある。
【００２０】
基材フィルム原反は延伸フィルムであっても未延伸フィルムであってもよい。延伸する場合は、一軸延伸、弱二軸延伸（二軸方向に延伸しているが一方の方向が弱いもの）、二軸延伸、いずれでもかまわないが、幅方向に広い範囲で配向方向を一定にできるという面で一軸延伸か弱二軸延伸が好ましい。弱二軸延伸の場合は主配向方向を後段の延伸方向にすることが好ましい。一軸延伸の場合、延伸方向はフィルム製造の流れ方向（長手方向）であっても、これに直交する方向（横方向）であってもよい。
【００２１】
二軸延伸の場合は同時二軸延伸であっても逐次二軸延伸であってもよい。長手方向の延伸は速度差の異なるロール群による延伸が好ましく、横方向の延伸はテンター延伸が好ましい。特に基材フィルム原反がポリエチレンテレフタレートである場合は延伸フィルムであることが好ましい。
【００２２】
基材フィルム原反は製膜時に易接着コートや離型コート、帯電防止コートなどが行われたものであってもよい。
【００２３】
離型性基材フィルムは工業的にはフィルムを巻回したロールで供給される。ロール幅の下限は好ましくは３０ｃｍであり、より好ましくは５０ｃｍであり、さらに好ましくは７０ｃｍであり、特に好ましくは９０ｃｍであり、最も好ましくは１００ｃｍである。ロール幅の上限は好ましくは５０００ｃｍであり、より好ましくは４０００ｃｍであり、さらに好ましくは３０００ｃｍであり、よりさらに好ましくは５００ｃｍであり、特に好ましくは４００ｃｍであり、最も好ましくは３００ｃｍである。
【００２４】
ロール長さの下限は好ましくは１００ｍであり、より好ましくは５００ｍであり、さらに好ましくは１０００ｍである。ロール長さの上限は好ましくは１０００００ｍであり、より好ましくは５００００ｍであり、さらに好ましくは３００００ｍである。
【００２５】
離型性基材フィルムの厚みの下限は好ましくは３μｍであり、より好ましくは５μｍであり、さらに好ましくは８μｍであり、特に好ましくは１０μｍであり、最も好ましくは１２μｍである。厚みの上限は好ましくは１５０μｍであり、より好ましくは１００μｍであり、さらに好ましくは８０μｍであり、特に好ましくは７０μｍであり、最も好ましくは６０μｍである。上記範囲にすることで、取り扱い性に優れ、コストなど経済的にも優位となる。
【００２６】
（離型面粗さ）
離型性基材フィルムの離型面は平滑であることが好ましい。なお、本発明において、離型性基材フィルムの「離型面」とは、離型性基材フィルムの表面のうち、転写する薄膜層（例えば液晶化合物層）が設けられることを意図される表面を意味する。後述するオリゴマーブロックコート層、平坦化コート層や離型層等が設けられている場合、この上に薄膜層を設けるのであれば、これらオリゴマーブロックコート層、平坦化層や離型層等の表面、すなわち薄膜層と接する面が、離型性基材フィルムの「離型面」である。
【００２７】
なお、本発明の各粗さのパラメーターは、実施例に記載の通り、ＩＳＯ  ２５１７８に準じ、非接触表面形状計測システム（菱化システム社製、ＶｅｒｔＳｃａｎ  Ｒ５５０Ｈ−Ｍ１００）を用いて、下記の条件で測定したものである。
（測定条件）
測定モード：ＷＡＶＥモード
対物レンズ：５０倍
０．５×Ｔｕｂｅレンズ
測定面積：１８７μｍ×１３９μｍ
（解析条件）    
面補正：４次補正    
補間処理：完全補間
ＩＳＯパラメーター処理：  Ｓ−Ｆｉｌｔｅｒ １μｍ指定
【００２８】
本発明の薄膜層転写用積層体は、下記式（２）を満たす。
Ｓｋｕ≦４０                    （２）
ここで、Ｓｋｕは離型性基材フィルムの離型面のクルトシスである。粗さパラメーターの一つであるクルトシスは、高さ分布の尖り度を示す指標であり、値が大きいほど尖っていることを示し、鋭いピークや谷がある場合に数値が大きくなる。なお、高さ分布が正規分布であるときクルトシスの値は３となる。本発明の離型性基材フィルムの離型面のクルトシス（Ｓｋｕ）の上限は４０である。Ｓｋｕの上限はより好ましくは３０、さらに好ましくは２０、特に好ましくは１５、最も好ましくは１２である。Ｓｋｕの下限は特に定めるものではないが、１．０が好ましく、より好ましくは２．０であり、さらに好ましくは３．０であり、Ｓｋｕは３．０超であることが特に好ましく、４．０以上、４．５以上、或いは５．０以上であることも許容される。
【００２９】
薄膜層転写用積層体を用いて対象物となるフィルムに薄膜層を転写する際には、マスキングフィルムを剥離し、最終的な製品となる前には離型性基材フィルムを剥離するが、離型性基材フィルムの離型面のＳｋｕを上記範囲にすることで、なめらかな剥離ができるようになり、マスキングフィルムや基材フィルムの凸部分に液晶化合物層が残ったり、この部分をきっかけに筋状の液晶化合物層が転写されなかった領域が発生したりするような転写不良を効果的に抑制することができる。また、Ｓｋｕが３．０超、４．０以上、４．５以上、或いは５．０以上であれば、離型基材フィルムの離型面の凹凸がある程度の尖り度を有しているため、離型基材フィルムが薄膜層に貼り付くことを抑制してなめらかな剥離を行うことができる。
【００３０】
本発明の薄膜層転写用積層体は下記式（３）を満たす。
Ｓｑ≦２０ｎｍ                  （３）
ここでＳｑは、離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さである。離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さ（Ｓｑ）の上限は２０ｎｍであり、好ましくは１５ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ、さらに好ましくは７ｎｍ、最も好ましくは５ｎｍである。Ｓｑの下限は特に定めるものではないが、０．５ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは０．８ｎｍ以上、特に好ましくは１．０ｎｍ以上である。Ｓｑを上記範囲とすることで、離型性基材フィルムに薄膜層を設けたときに薄膜層自体に欠点が生じる、転写時に転写不良が生じる、といった問題を抑制することができる。
【００３１】
本発明の薄膜層転写用積層体は下記式（４）を満たすことが好ましい。
−１．０≦Ｓｓｋ≦２．０        （４）
ここで、Ｓｓｋは離型性基材フィルムの離型面のスキューネスである。粗さパラメーターの一つであるスキューネスは、高さ分布の対称性を示す指標であり、値が０のとき高さ分布が上下対象であることを示し、値が正のときは山が多い表面、値が負のときは谷が多い表面であることを示している。離型性基材フィルムの離型面のスキューネス（Ｓｓｋ）の下限は好ましくは−１．０であり、よりこのましくは−０．７であり、さらに好ましくは−０．５であり、特に好ましくは−０．３である。上記とすることで、離型性基材フィルムの巻き取りを安定して行うことができる。離型性基材フィルムの離型面のＳｓｋの上限は好ましくは２．０であり、より好ましくは１．７であり、さらに好ましくは１．５であり、特に好ましくは１．３であり、最も好ましくは０．６である。上記範囲とすることで転写不良をより抑制することができる。また離型基材フィルムの表面を谷よりも山がある程度多い表面とすることができるため、離型基材フィルムが薄膜層に貼り付くことを抑制してなめらかな剥離を行うことができる。
【００３２】
離型性基材フィルムの離型面の算術平均粗さ（Ｓａ）の上限は好ましくは１５ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍであり、特に好ましくは４ｎｍであり、最も好ましくは３ｎｍである。離型性基材フィルムの離型面のＳａの下限は好ましくは０．２ｎｍであり、より好ましくは０．４ｎｍであり、さらに好ましくは０．５ｎｍである。離型性基材フィルムの離型面のＳａを上記範囲とすることで、離型性基材フィルムに薄膜層を設けた時に薄膜層自体に欠点が生る、転写時に転写不良が生じる、といった問題を抑制することができる。
【００３３】
離型性基材フィルムの離型面の界面の展開面積（Ｓｄｒ）の上限は好ましくは０．００１５％であり、より好ましくは０．００１％であり、さらに好ましくは０．０００７％である。上記以下にすることで離型性基材フィルムに薄膜層を設けた時に薄膜層自体に欠点が生じる、転写時に転写不良が生じる、といった問題を抑制することができる。界面の展開面積（Ｓｄｒ）の下限は好ましくは０．０００１％である。Ｓｄｒは上部から見た面積に対して、実際の界面の面積がどの程度大きくなっているかを示す指標であり、小さな凹凸が多い場合、凹凸の傾斜が急な場合に大きくなる傾向である。Ｓｄｒが小さいほど、転写時の引っかかりを少なくすることができ、転写不良を抑制することができるのではないかと考えられる。
【００３４】
離型性基材フィルムの離型面の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）の下限は好ましくは１（１／ｍｍ）であり、より好ましくは３（１／ｍｍ）であり、さらに好ましくは５（１／ｍｍ）であり、特に好ましくは７（１／ｍｍ）であり、最も好ましくは８（１／ｍｍ）である。上記以上にすることでとすることができる。離型性基材フィルムの離型面の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）の上限は好ましくは１００（１／ｍｍ）であり、より好ましくは８０（１／ｍｍ）であり、さらに好ましくは７０（１／ｍｍ）であり、特に好ましくは６０（１／ｍｍ）であり、最も好ましくは５０（１／ｍｍ）である。Ｓｐｃは突起の頂点の曲率を表す指標であり、値が大きいほど頂点が尖っており、値が小さい方が頂点が滑らかであることを示す。離型性基材フィルムの離型面の粗さの頂点が滑らかである方が、転写時の引っかかりを少なくすることができ、転写不良を抑制することができるのではないかと考えられる。なお、Ｓｐｃの算出の際、用いるソフトウエアにより負の値となることがあるが、上記の範囲は絶対値として当てはめればよい。
【００３５】
離型性基材フィルムの離型面の粗さを上記範囲にするためには、以下の方法が挙げられる。
（ａ）基材フィルム原反の離型面側層が粒子や異物を含まないものとする。
（ｂ）基材フィルム原反の離型面側層が粒子を含む場合は粒径の小さな粒子とする。
（ｃ）基材フィルム原反の離型面側層が粒子や異物を含む場合は平坦化コートを設ける。
【００３６】
また、上記以外に原料や製造工程を以下のようにクリーンにすることも重要である。
（ｄ）重合時に異物、特に触媒由来の異物が生成しにくい条件を選択する。
（ｅ）重合時の粒子スラリーにフィルターをかける。チップ化前にフィルターをかける。
（ｆ）チップ化冷却水をクリーンなものにする。チップ搬送、製膜機投入までの環境をクリーンにする。
（ｇ）製膜時、溶融樹脂にフィルターをかけ、凝集粒子や異物を除去する。
（ｈ）コート剤にフィルターをかけ、異物を除去する。
（ｉ）製膜、コート、乾燥時にクリーン環境下で行う。
【００３７】
表層は平滑化のためには実質的に粒子を含まないことが好ましい。実質的に粒子を含まないとは、粒子含有量が５０ｐｐｍ未満であり、好ましくは３０ｐｐｍ未満であることを意味する。
【００３８】
表面の滑り性を上げるため、表層は粒子を含んでいてもよい。粒子を含む場合、表層粒子含有量の下限は好ましくは１０ｐｐｍであり、より好ましくは５０ｐｐｍであり、さらに好ましくは１００ｐｐｍである。また、表層粒子含有量の上限は好ましくは２００００ｐｐｍであり、より好ましくは１００００ｐｐｍであり、さらに好ましくは８０００ｐｐｍであり、特に好ましくは６０００ｐｐｍである。上記を越えると、表層の粗さを好ましい範囲内にできないことがある。
【００３９】
表層粒子径の下限は好ましくは０．００５μｍであり、より好ましくは０．０１μｍであり、さらに好ましくは０．０２μｍである。また、表層粒子径の上限は好ましくは１μｍであり、より好ましくは０．５μｍであり、さらに好ましくは０．３μｍであり、特に好ましくは０．１μｍである。上記を越えると、表層の粗さを好ましい範囲内にできないことがあり、平滑化コートを行っても離型面の粗さが好ましい範囲内にできないことがある。
【００４０】
表層が粒子を含まない場合や粒径の小さな粒子とした場合であっても、その下層が粒子を含む場合は、下層の粒子の影響により離型面層の粗さが高くなる場合がある。このような場合は、表層の厚みを厚くする、粒子を含まない下層（中間層）を設ける等の方法をとることが好ましい。
【００４１】
表層厚みの下限は好ましくは０．１μｍであり、より好ましくは０．５μｍであり、さらに好ましくは１μｍであり、特に好ましくは３μｍであり、最も好ましくは５μｍである。また、表層厚みの上限は離型性基材フィルムの全厚みに対して、好ましくは９７％、より好ましくは９５％、さらに好ましくは９０％である。
【００４２】
粒子を含まない中間層は実質的に粒子を含まないという意味で、粒子の含有量は５０ｐｐｍ未満であり、３０ｐｐｍ未満であることが好ましい。中間層の厚みの下限は離型性基材フィルムの全厚みに対して、好ましくは１０％、より好ましくは２０％、さらに好ましくは３０％である。上限は好ましくは９５％、より好ましくは９０％である。
【００４３】
基材フィルム原反の表層の粗さが高い場合、平坦化コートを設けてもよい。平坦化コートに用いられる樹脂としては、ポリエステル、アクリル、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリアミドなど一般にコート剤の樹脂として用いられるものが挙げられる。メラミン、イソシアネート、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物などの架橋剤を用いることも好ましい。これらは有機溶剤や水に溶解または分散させたコート剤として塗工されて乾燥される。またはアクリルの場合は無溶剤で塗工され、放射線で硬化させてもよい。平坦化コートはオリゴマーブロックコートであってもよい。離型層をコートで設ける場合は離型層自体を厚くしてもよい。
【００４４】
表面平坦化コート層の厚みの下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．１μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍであり、特に好ましくは０．３μｍである。上記未満であると平坦化の効果が不十分となることがある。また、表面平坦化コート層の厚みの上限は好ましくは１０μｍであり、より好ましくは７μｍであり、さらに好ましくは５μｍであり、特に好ましくは３μｍである。上記を越えてもそれ以上の平坦化効果が得られないことがある。
【００４５】
平坦化コートは製膜過程中にインラインコートで設けても良く、別途オフラインで設けてもよい。
【００４６】
基材フィルム原反の表層やその上のコート層に比較的大きな粒子や異物を含む場合、Ｓａ、Ｓｑなどは小さくてもＳｋｕやＳｓｋが前述の好ましい範囲を満足しないことがある。その場合、上記の指針を参考にして範囲内にすることができる。
【００４７】
上記では主に基材フィルム原反が延伸フィルムの場合を説明したが、トリアセチルセルロースなどを溶剤に溶解したドープを金属ベルト等に展開して溶剤を乾燥させる流延法によって製膜される未延伸フィルムの場合でも、粒子を添加することで、溶剤の除去に伴い粒子による凹凸が上面（金属ベルトの反対面）に生じるので、粗さを調節することができる。この場合、金属ベルトの表面粗さを小さくして金属ベルト面を離型面とすることが好ましい。流延法による場合であっても、上記（ａ）〜（ｉ）は好ましい方法である。この場合（ｅ）、（ｇ）の方法では、原料樹脂製造時にフィルターをかける、ドープにフィルターをかけ凝集粒子や異物を除去する、となる。
【００４８】
また、ドープに粒子が含まれる場合、溶剤含有量が多い状態で金属ベルトから剥離すると粒子による凹凸が金属ベルト面にも出る場合があるため、溶剤含有量が少ない状態まで乾燥後、金属ベルトから剥離することも好ましい。これらの剥離のタイミングで粗さを調整することもできる。また、溶剤を若干量含んだ状態でテンター内で延伸乾燥させる場合は、延伸倍率等で粗さを調整することもできる。また、粒子を含まない場合では金属ベルトの粗さを調節して、金属ベルト面を裏面としてもよい。また、粗さの異なるロール間を通しながら乾燥すると共に粗さを表面に転写させてもよい。
【００４９】
ＣＯＰなどの溶融樹脂をキャストして製膜される未延伸フィルムの場合でも、粒子を添加することで、粗さを調節することができる。無機粒子など熱膨張係数がフィルム樹脂と異なる粒子を用いることで、冷却時に起こる熱収縮で添加粒子による凹凸を表面に形成することができる。この場合、溶融樹脂をシート状に押し出す冷却ロールの表面粗さを小さくすることで離型面とすることが好ましい。また、冷却ロールを粗くして粗さを転写し、裏面としてもよい。フィルム樹脂のＴｇ以上の温度で粗さの異なるロール間を通して粗さを転写させてもよい。また、未延伸フィルムの場合であっても、上記（ａ）〜（ｉ）は好ましい方法である。
【００５０】
（裏面側粗さ）
離型性基材フィルムの離型面とは反対側の面（裏面）の算術平均粗さ（Ｓａ）の下限は好ましくは１．０ｎｍであり、より好ましくは１．３ｎｍであり、さらに好ましくは１．５ｎｍである。また、裏面のＳａの上限は好ましくは５０ｎｍであり、より好ましくは４０ｎｍであり、さらに好ましくは３０ｎｍである。
【００５１】
離型性基材フィルムの裏面の二乗平均平方根粗さ（Ｓｑ）の下限は、好ましくは１．３ｎｍであり、より好ましくは１．５ｎｍであり、さらに好ましくは１．８ｎｍであり、特に好ましくは２．０ｎｍである。また、裏面のＳｑの上限は好ましくは７０ｎｍであり、より好ましくは６０ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍであり、特に好ましくは４５ｎｍである。
【００５２】
離型性基材フィルムの裏面のＳａ、Ｓｑを上記範囲とすることで、離型性基材フィルムの巻き取りを容易にし、かつ、巻き取った状態で保存した場合でも巻きずれやブロッキングが起こりにくく、さらには、裏面の凹凸が表面に転写した場合であっても、表面の粗さの状態を適正な範囲に保つことができる。
【００５３】
離型性基材フィルムの裏面のＳｋｕは離型面のＳｋｕより大きいことが好ましい。具体的には、（裏面のＳｋｕ）／（離型面のＳｋｕ）の下限は１．２が好ましく、より好ましくは１．４、さらに好ましくは１．５である。（裏面のＳｋｕ）／（離型面のＳｋｕ）の上限は４０が好ましく、より好ましくは３０、さらに好ましくは２５、特に好ましくは２０である。
【００５４】
離型性基材フィルムの裏面のＳｋｕの上限は好ましくは２００であり、より好ましくは１７０である。裏面のＳｋｕの下限は好ましくは３であり、より好ましくは５であり、さらに好ましくは７である。
【００５５】
離型性基材フィルムの裏面のＳｓｋは離型面のＳｓｋより大きいことが好ましい。具体的には、（裏面のＳｓｋ）／（離型面のＳｓｋ）の絶対値の下限は１．２が好ましく、さらに好ましくは１．５、さらに好ましくは１．８、特に好ましくは２である。（裏面のＳｓｋ）／（離型面のＳｓｋ）の上限は２０が好ましく、より好ましくは１７、さらに好ましくは１５である。
【００５６】
離型性基材フィルムの裏面のＳｓｋの下限は好ましくは−３であり、より好ましくは−１であるが、０を越えていることが安定した巻き取りのためには好ましく、さらには１以上であることが好ましい。離型性基材フィルムの裏面のＳｓｋの上限は好ましくは２０であり、より好ましくは１５であり、さらに好ましくは１２であり、特に好ましくは１０である。
【００５７】
離型性基材フィルムの離型面の各粗さパラメータを前述の好ましい範囲とし、裏面のＳａ、Ｓｑを前述の好ましい範囲内とした場合であっても、離型面や裏面のＳａ、Ｓｑが下限値に近い場合は、巻き取り性や保存性が低下する場合がある。裏面と離型面のＳｋｕやＳｓｋのいずれか、好ましくは両方を上記とすることで、薄膜層のピンホール等を防ぎながら、巻き取りの際の過剰な空気の巻き込みを抑制して良好な巻き取り性や保存性を確保することができる。
【００５８】
裏面の粗さを上記範囲とするためには、例えば以下の方法が挙げられる。
・基材フィルム原反の裏面側層（裏面層）を特定の粒子を含むものにする。
・基材フィルム原反の中間層に粒子を含むものを用い、裏面層側（裏面層）に粒子を含まないものとして厚みを薄くする。
・基材フィルム原反の裏面側層（裏面層）の粗さが大きい場合は平坦化コートを設ける。
・基材フィルム原反の裏面側層（裏面層）が粒子を含まない場合や粗さが小さい場合は易滑コート（粒子含有コート）を設ける。
【００５９】
裏面層粒子径の下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．０５μｍであり、さらに好ましくは０．１μｍである。上記未満であると滑り性が悪くなり、巻き取り不良が起こる場合がある。また、裏面層粒子径の上限は好ましくは５μｍであり、より好ましくは３μｍであり、さらに好ましくは２μｍである。上記を越えると裏面が粗くなりすぎることがある。
【００６０】
裏面層が粒子を含む場合、裏面層粒子含有量の下限は好ましくは５０ｐｐｍであり、より好ましくは１００ｐｐｍである。上記未満であると粒子を添加することによる滑り性の効果が得られないことがある。また、裏面層粒子含有量の上限は好ましくは１００００ｐｐｍであり、より好ましくは７０００ｐｐｍであり、さらに好ましくは５０００ｐｐｍである。上記を越えると裏面が粗くなりすぎることがある。
【００６１】
裏面層厚みの下限は好ましくは０．１μｍであり、より好ましくは０．５μｍであり、さらに好ましくは１μｍであり、特に好ましくは３μｍであり、最も好ましくは５μｍである。また、裏面層厚みの上限は離型性基材フィルムの全厚みに対して、好ましくは９５％、より好ましくは９０％、さらに好ましくは８５％である。
【００６２】
中間層に粒子を含ませ、裏面層は粒子を含まずに薄くすることで裏面の粗さを制御することも好ましい。このような形態を取ることで、粒子の脱落を防ぎながら裏面の粗さを確保することができる。
【００６３】
中間層の粒子の粒径や添加量としては、裏面層の粒子と同様である。この場合の裏面層の厚みの下限は好ましくは０．５μｍであり、より好ましくは１μｍであり、さらに好ましくは２μｍである。厚みの上限は好ましくは３０μｍであり、より好ましくは２５μｍであり、さらに好ましくは２０μｍである。
【００６４】
基材フィルム原反の裏面が粗い場合、平坦化コートを設けることも好ましい。平坦化コートは表面の平坦化コートで挙げたものを同様に用いることができる。
【００６５】
裏面平坦化コート層の厚みの下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．０３μｍであり、さらに好ましくは０．０５μｍである。上記未満であると平坦化の効果が小さくなることがある。また、裏面平坦化コート層の厚みの上限は好ましくは１０μｍであり、より好ましくは５μｍであり、さらに好ましくは３μｍである。上記を超えても平坦化の効果が飽和してしまう。
【００６６】
基材フィルム原反の裏面側を粒子を含まないものとし、裏面に粒子を含有する易滑コート層を設けてもよい。また、基材フィルム原反の裏面の粗さが小さい場合には、易滑コート層を設けてもよい。
【００６７】
裏面易滑コート層の粒子径の下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．０５μｍである。上記未満であると易滑性が得られないことがある。また、裏面易滑コート層の粒子径の上限は好ましくは５μｍであり、より好ましくは３μｍであり、さらに好ましくは２μｍであり、特に好ましくは１μｍである。上記を越えると裏面の粗さが高すぎることがある。
【００６８】
裏面易滑コート層の粒子含有量の下限は好ましくは０．１質量％であり、より好ましくは０．５質量％であり、さらに好ましくは１質量％であり、特に好ましくは１．５質量％であり、最も好ましくは２質量％である。上記未満であると易滑性が得られないことがある。また、裏面易滑コート層の粒子含有量の上限は好ましくは２０質量％であり、より好ましくは１５質量％であり、さらに好ましくは１０質量％である。上記を越えると裏面の粗さが高すぎることがある。
【００６９】
裏面易滑コート層の厚みの下限は好ましくは０．０１μｍであり、より好ましくは０．０３μｍであり、さらに好ましくは０．０５μｍである。また、裏面易滑コート層の厚みの上限は好ましくは１０μｍであり、より好ましくは５μｍであり、さらに好ましくは３μｍであり、特に好ましくは２μｍであり、最も好ましくは１μｍである。
【００７０】
上記では本発明の離型性基材フィルムが延伸フィルムの場合を説明したが、トリアセチルセルロースなどを溶剤に溶解したドープを金属ベルト等に展開して溶剤を乾燥させる流延法によって製膜される未延伸フィルムの場合でも、粒子を添加することで、溶剤の除去に伴い粒子による凹凸が上面（金属ベルトの反対面）に生じるので、粗さを調節することができる。この場合、金属ベルトの表面粗さを小さくして金属ベルト面を離型面とすることが好ましい。また、ドープに粒子が含まれる場合、溶剤含有量が多い状態で金属ベルトから剥離すると粒子による凹凸が金属ベルト面にも出る場合があるため、溶剤含有量が少ない状態まで乾燥後、金属ベルトから剥離することも好ましい。これらの剥離のタイミングで粗さを調整することもできる。また、溶剤を若干量含んだ状態でテンター内で延伸乾燥させる場合は、延伸倍率等で粗さを調整することもできる。また、粒子を含まない場合では金属ベルトの粗さを調節して、金属ベルト面を裏面としてもよい。また、粗さの異なるロール間を通しながら乾燥すると共に粗さを表面に転写させてもよい。
【００７１】
また、ＣＯＰなどの溶融樹脂をキャストして製膜される未延伸フィルムの場合でも、粒子を添加することで、粗さを調節することができる。無機粒子など熱膨張係数がフィルム樹脂と異なる粒子を用いることで、冷却時に起こる熱収縮で添加粒子による凹凸を表面に形成することができる。この場合、溶融樹脂をシート状に押し出す冷却ロールの表面粗さを小さくすることで離型面とすることが好ましい。また、冷却ロールを粗くして粗さを転写し、裏面としてもよい。フィルム樹脂のＴｇ以上の温度で粗さの異なるロール間を通して粗さを転写させてもよい。なお、これらの未延伸フィルムでも、延伸フィルムと同様に、平滑コートや粒子を含有する易滑コートにより粗さを調整することもできる。
【００７２】
（薄膜層）
次に、薄膜層について説明する。薄膜層は、液晶化合物が配向された層を含むことが好ましい。また、薄膜層は、位相差層、偏光層、紫外線や赤外線などの吸収層や反射層、電磁波シールド層、電極層、反射防止層、屈折率調整層などであってもよい。これらの薄膜層は単層で合っても複数の層であってもよい。
【００７３】
薄膜層の厚みの下限は、０．００１μｍが好ましく、より好ましくは０．００５μｍ、さらに好ましくは０．０１μである。厚みの上限は２０μｍが好ましく、より好ましくは１０μｍ、さらに好ましくは７μｍ、特に好ましくは５μｍ、最も好ましくは４．５μｍである。なお、薄膜層が複数の場合は総厚みが上記範囲であることが好ましい。
【００７４】
（液晶化合物層）
次に、本発明で好適な薄膜層である液晶化合物層について説明する。液晶化合物層は位相差層や偏光層として用いられ、この場合、液晶化合物層は離型性基材フィルム上に塗工し配向させる必要がある。配向させる方法としては、液晶化合物層の下層（離型面）にラビング処理等を行い配向制御機能を付与する方法や、液晶化合物を塗布後に偏光紫外線等を照射して直接液晶化合物を配向させる方法がある。
【００７５】
（配向制御層）
また、離型性基材フィルムに配向制御層を設け、この配向制御層上に液晶化合物層を設ける方法も好ましい。配向制御層としては、液晶化合物層を所望の配向状態にすることができるものであれば、どのような配向制御層でもよいが、樹脂の塗工膜をラビング処理したラビング処理配向制御層や、偏光の光照射により分子を配向させて配向機能を生じさせる光配向制御層が好適な例として挙げられる。
【００７６】
（ラビング処理配向制御層）
ラビング処理により形成される配向制御層に用いられるポリマー材料としては、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などが好ましく用いられる。
【００７７】
以下、ラビング処理配向制御層の形成方法を説明する。まず、上記のポリマー材料を含むラビング処理配向制御層形成用塗料を離型性基材フィルムの離型面上に塗布したのち、加熱乾燥等を行ない、ラビング処理前の配向制御層を得る。ラビング配向制御層形成用塗料は架橋剤を有していてもよい。
【００７８】
ラビング処理配向制御層形成用塗料の溶剤としては、ポリマー材料を溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としては、水、アルコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、エーテル系溶剤などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。
【００７９】
ラビング処理配向制御層の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、さらには０．０５〜５μｍ、特には０．１μｍ〜１μｍであることが好ましい。
【００８０】
ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に擦ることにより実施することができる。一般的には、ナイロン、ポリエステル、アクリルなどの繊維の起毛布のラビングローラーを用い、配向制御層表面をラビング処理する。離型性基材フィルムの走行方向に対して斜めの方向に配向する配向制御層を設けるためには配向制御層のラビング方向もそれに合った角度にする必要がある。角度の調整は、ラビングローラーと離型性基材フィルムとの角度調整、離型性基材フィルムの搬送速度とローラーの回転数の調整で合わせることができる。
【００８１】
（光配向制御層）
光配向制御層とは、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗料（光配向制御層形成用塗料）を離型性基材フィルムの離型面に塗布し、偏光、好ましくは偏光紫外線を照射することによって配向規制力を付与した配向膜のことをいう。光反応性基とは、光照射により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れ、偏光膜のスメクチック液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合であると好ましく、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｃ＝Ｏ結合からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
【００８２】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。
【００８３】
中でも、光二量化反応を起こしうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。さらにいえば、光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。主鎖の構造としては、ポリイミド、ポリアミド、（メタ）アクリル、ポリエステル、等が挙げられる。
【００８４】
照射する偏光の角度を調整することにより、光配向制御層の配向規制力の方向を任意に調整することができる。
【００８５】
なお、転写時には配向制御層は液晶化合物層と共に剥離して転写されることが好ましい。また、配向制御層と液晶化合物層を合わせた総称として液晶化合物層と呼ぶ場合がある。
【００８６】
（液晶化合物層）
液晶化合物層は、液晶化合物が配向されたものであれば特に制限はない。具体的な例としては、液晶化合物と二色性色素を含む偏光膜（偏光子）、棒状やディスコティック液晶化合物を含む位相差層、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶構造の円偏光反射層などが挙げられる。
【００８７】
（偏光膜）
偏光膜は一方向のみの偏光を通過させる機能を有し、二色性色素を含む。
【００８８】
（二色性色素）
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。
【００８９】
二色性色素は、３００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素は、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素は、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせてもよいが、色調を調整（無彩色）にするため、２種以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上を組み合わせることがより好ましい。特に、３種類以上のアゾ化合物を組み合わせることが好ましい。
【００９０】
好ましいアゾ化合物としては、特開２００７−１２６６２８号公報、特開２０１０−１６８５７０号公報、特開２０１３−１０１３２８号公報、特開２０１３−２１０６２４号公報に記載の色素が挙げられる。
【００９１】
二色性色素はアクリルなどのポリマーの側鎖に導入された二色性色素ポリマーであることも好ましい。これら二色性色素ポリマーとしては特開２０１６−４０５５号公報で挙げられるポリマー、特開２０１４−２０６６８２号公報の［化６］〜［化１２］の化合物が重合されたポリマーが例示できる。
【００９２】
偏光膜中の二色性色素の含有量は、二色性色素の配向を良好にする観点から、偏光膜中、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１．０〜１５質量％がさらに好ましく、２．０〜１０質量％が特に好ましい。
【００９３】
偏光膜には、膜強度や偏光度、膜均質性の向上のため、さらに重合性液晶化合物が含まれていることが好ましい。なお、ここで重合性液晶化合物は膜として重合後のものも含まれる。
【００９４】
（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性を示す化合物は、サーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、また、サーモトロピック液晶における、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
【００９５】
重合性液晶化合物は、より高い偏光特性が得られるという点でスメクチック液晶化合物が好ましく、高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。重合性液晶化合物が形成する液晶相が高次スメクチック相であると、配向秩序度のより高い偏光膜を製造することができる。
【００９６】
具体的な好ましい重合性液晶化合物としては、例えば、特開２００２−３０８８３２号公報、特開２００７−１６２０７号公報、特開２０１５−１６３５９６号公報、特表２００７−５１０９４６号公報、特開２０１３−１１４１３１号公報、ＷＯ２００５／０４５４８５号、Ｌｕｂ  ｅｔ  ａｌ．Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５，３２１−３２８（１９９６）などに記載のものが挙げられる。
【００９７】
偏光膜中の重合性液晶化合物の含有割合は、重合性液晶化合物の配向性を高くするという観点から、偏光膜中７０〜９９．５質量％が好ましく、より好ましくは７５〜９９質量％、さらに好ましくは８０〜９７質量％であり、特に好ましくは８３〜９５質量％である。
【００９８】
偏光膜は偏光膜形成用塗料を塗工して設けることができる。偏光膜形成用塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。
【００９９】
重合性非液晶化合物としては、重合性液晶化合物と共重合するものが好ましく、例えば、重合性液晶化合物が（メタ）アクリロイルオキシ基を有する場合は（メタ）クリレート類が挙げられる。（メタ）クリレート類は単官能であっても多官能であってもよい。多官能の（メタ）クリレート類を用いることで、偏光膜の強度を向上させることができる。重合性非液晶化合物を用いる場合は偏光膜中に１〜１５質量％とすることが好ましく、さらには２〜１０質量％、特には３〜７質量％にすることが好ましい。１５質量％を越えると偏光度が低下することがある。
【０１００】
架橋剤としては、重合性液晶化合物、重合性非液晶化合物の官能基と反応しうる化合物が挙げられ、イソシアネート化合物、メラミン、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物などが挙げられる。
【０１０１】
偏光膜形成用塗料を離型性基材フィルム上または配向制御層上に直接塗工後、必要により乾燥、加熱、硬化することにより、偏光膜が設けられる。
【０１０２】
偏光膜中の二色性色素および重合性液晶化合物をより強固に配向させるために、加熱処理を行うことができる。加熱温度は、重合性液晶化合物が液晶相を形成する温度範囲にすることが好ましい。
【０１０３】
偏光膜形成用塗料に重合性液晶化合物が含まれる場合は、硬化するのが好ましい。硬化方法としては、加熱及び光照射が挙げられ、光照射が好ましい。硬化により二色性色素を配向した状態で固定することができる。硬化は、重合性液晶化合物に液晶相を形成させた状態で行うのが好ましく、液晶相を示す温度で光照射して硬化してもよい。光照射における光としては、可視光、紫外光及びレーザー光が挙げられる。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。
【０１０４】
偏光膜は、偏光膜形成用塗料を配向制御層上に塗布することで、液晶化合物と色素が配向層の配向方向に添って配向し、その結果、所定方向の偏光透過軸を有することになるが、配向制御層を設けず直接離型性基材フィルムに塗工した場合は、偏光光を照射して液晶化合物と色素を硬化させることで、偏光膜を配向させることもできる。この際には、離型性基材フィルムの長手方向に対して斜め方向の偏光光を照射する。さらにその際に加熱処理することで二色性色素を強固に高分子液晶の配向方向に添って配向させることが好ましい。
【０１０５】
偏光膜の厚さは、０．１〜５μｍであることが好ましく、より好ましくは０．３〜３μｍ、さらに好ましくは０．５〜２μｍである。
【０１０６】
（位相差層）
位相差層は液晶表示装置の偏光子と液晶セルの間に光学補償のために設けられるものや、円偏光板のλ／４層、λ／２層等が代表的なものとして挙げられる。液晶化合物としては、正や負のＡプレート、正や負のＣプレート、Ｏプレートなど、目的に合わせて棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物などを使用することができる。
【０１０７】
これらの位相差層に用いられる液晶化合物としては、配向状態を固定できるという面で、二重結合などの重合性基を持つ重合性液晶化合物であることが好ましい。
【０１０８】
棒状液晶化合物の例としては、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報、及び特開平１１−５１３３６０号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。
【０１０９】
具体的な化合物としては、
ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ2）m−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ２−ＯＣＯ−Ｐｈ１−Ｏ−（ＣＨ2）n−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2
ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ2）m−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−ＮＰｈ−ＯＣＯ−Ｐｈ１−Ｏ−（ＣＨ2）n−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2
ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ2）m−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ２−ＯＣＨ3
ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ2）m−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ１−Ｐｈ１−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ5
式中、ｍ、ｎは２〜６の整数であり、
Ｐｈ１、Ｐｈ２は１，４−フェニル基（Ｐｈ２は２位がメチル基であってもよい）であり、
ＮＰｈは２，６−ナフチル基である
が挙げられる。
これらの棒状液晶化合物は、ＢＡＳＦ社からＬＣ２４２等として市販されており、それらを利用することができる。これらの棒状液晶化合物は複数種を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１０】
また、ディスコティック液晶化合物としては、ベンゼン誘導体、トルキセン誘導体、シクロヘキサン誘導体、アザクラウン系、フェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられ、特開２００１−１５５８６６号公報に様々なものが記載されており、これらが好適に用いられる。中でもディスコティック化合物としては、下記一般式（１）で表されるトリフェニレン環を有する化合物が好ましく用いられる。
【化１】
0006954502.tif 000002
式中、Ｒ1〜Ｒ6はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、又は−Ｏ−Ｘで示される基（ここで、Ｘは、Ｘはアルキル基、アシル基、アルコキシベンジル基、エポキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルキル基である）である。Ｒ1〜Ｒ6は、下記一般式（２）で表されるアクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基（ここで、ｍは４〜１０）であることが好ましい。
【化２】
0006954502.tif 000003
【０１１１】
位相差層は位相差層形成用塗料を塗工して設けることができる。位相差層形成用塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。これらは、配向制御層や液晶偏光子の部分で説明したものを用いることができる。
【０１１２】
位相差層形成用塗料を離型性基材フィルムの離型面または配向制御層上に塗工後、乾燥、加熱、硬化することにより、位相差層が設けられる。これらの条件についても、配向制御層や液晶偏光子の部分で説明した条件が好ましい条件として用いられる。
【０１１３】
（円偏光反射層）
円偏光反射層は液晶化合物をコレステリック液晶配向させたものであることが好ましい。液晶化合物としては、上記位相差層で挙げた棒状液晶化合物が好ましい例として挙げられる。
【０１１４】
円偏光反射層の液晶化合物をコレステリック液晶配向させるためには、液晶化合物にキラル剤を添加することが好ましい。キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。
【０１１５】
キラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック（第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、特開２００３−２８７６２３号公報、特開２００２−３０２４８７号公報、特開２００２−８０４７８号公報、特開２００２−８０８５１号公報、特開２０１０−１８１８５２号公報または特開２０１４−０３４５８１号公報の各公報に記載の化合物が挙げられる。キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
【０１１６】
キラル剤は重合性基を有していることが好ましい。液晶化合物と同じ重合性基を有することで、液晶化合物と共にコレステリック液晶構造を固定化することができる。キラル剤としては、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、またはビナフチル誘導体を好ましく用いることができる。イソソルビド誘導体としては、ＢＡＳＦ社製のＬＣ−７５６等の市販品を用いてもよい。キラル剤は、重合性液晶化合物の総モル量に対して０．０１モル％〜２００モル％が好ましく、１モル％〜３０モル％がより好ましい。
【０１１７】
円偏光反射層は、上記の位相差層と同様にして離型性基材フィルム上に設けることができる。
【０１１８】
離型性基材フィルムには液晶化合物層が複数設けられていてもよい。複数の位相差層や複数の円偏光反射層、偏光層と位相差層、偏光層と円偏光反射層、円偏光反射層と位相差層が設けられていてもよい。さらに、偏光子と位相差層の間、位相差層と円偏光反射層の間や位相差層の上や位相差層の間などに層間保護コート層を設け、各層の成分の移行を防ぐ場合がある。これらの層間保護コート層も位相差層や偏光層、円偏光反射層と共に離型性基材フィルム上に設けて対象物に転写してもよい。
【０１１９】
層間保護コート層としては透明樹脂の塗工層が挙げられる。透明樹脂としては、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂など特に限定するものではない。これら樹脂に架橋剤を加えて架橋構造としてもよい。また、ハードコートのようなアクリルなどの光硬化性の組成物を硬化させたものであってもよい。また、層間保護コート層を離型性基材フィルム上に設けた後、層間保護コート層をラビング処理し、その上に配向制御層を設けることなく液晶化合物層を設けてもよい。
【０１２０】
（マスキングフィルム）
本発明では、薄膜層の上（薄膜層の離型性基材フィルムに面する面とは反対の面）にはマスキングフィルムが貼り合わされている。マスキングフィルムは少なくとも基材層と粘着層からなり、薄膜層の上または層間保護コート層の上にマスキングフィルムの粘着層面が直接貼り合わされている。
【０１２１】
マスキングフィルムの基材は樹脂フィルムが好ましく、フィルムの素材としてはポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、などが挙げられる。中でも、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。これらは、フィルムの柔軟性など諸物性を調整するため、共重合されていてもよい。樹脂フィルムは未延伸フィルムであっても延伸フィルムであってもよい。延伸フィルムの場合は、一軸延伸であっても二軸延伸であってもよい。
【０１２２】
マスキングフィルムの粘着層には、ゴム系、アクリル系、ポリオレフィン系、など、従来の粘着剤を使用することができる。ゴム系では、天然ゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム等のゴム、ＳＢＳ、ＳＩＳ、ＳＥＢＳ、ＳＥＰＳなどのスチレン系ブロック共重合体エラストマーが挙げられる。アクリル系では（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルなどの共重合体を架橋したものが挙げられる。架橋剤としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、金属キレート剤、二重結合を複数含有する化合物などが挙げられる。
【０１２３】
ポリオレフィン系としてはＥＰＭやＥＰＤＭなどのエチレン−プロピレンゴムやこれらをソフトセグメントにしてポリエチレンやポリプロピレンをハードセグメントとしたもの、エチレン−プロピレンゴムとポリエチレンやポリプロピレンとのブレンド物などが挙げられる。
【０１２４】
これらの粘着剤には、タッキファイヤー、脂肪酸エステル類、脂肪酸ビスアミド類、ポリグリセリン、シリコーンオイル、シリコーン樹脂など各種の粘着力調整剤や安定剤が添加されていてもよい。
【０１２５】
粘着剤は、基材となる樹脂フィルムに塗工して設ける方法、樹脂フィルム製膜時に基材の樹脂と粘着層となる樹脂とを共押出しする方法、などが挙げられる。
【０１２６】
マスキングフィルムは、離型性基材フィルム上に薄膜層を設けた後、巻き取る前に貼り合わされ、その後ロール状に巻き取られることが好ましい。
【０１２７】
本発明は、離型性基材フィルム、薄膜層、マスキングフィルムがこの順で積層された積層体であって、離型性基材フィルムと薄膜層との剥離強度をＸ（Ｎ／２５ｍｍ）、薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度をＹ（Ｎ／２５ｍｍ）としたとき下記式（１）を満たす。
０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．７        （１）
【０１２８】
Ｙ／Ｘの下限はより好ましくは０．０２であり、さらに好ましくは０．０３であり、特に好ましくは０．０４であり、最も好ましくは０．０５である。
【０１２９】
Ｙ／Ｘの上限はより好ましくは０．６であり、さらに好ましくは０．５であり、特に好ましくは０．４であり、最も好ましくは０．３５である。
【０１３０】
Ｙ／Ｘを上記値以上にすることにより、薄膜層転写用積層体の巻き取り、巻き出し、スリット等取り扱い時にマスキングフィルムが不必要に剥離することなく、安定した取り扱いが可能となる。また、薄膜層転写用積層体を用いて対象物に薄膜層を転写する際に、離型性基材フィルムの剥離が容易で、剥離時に薄膜層にピンホールや転写不良が起こりにくくなる。
【０１３１】
また、Ｙ／Ｘを上記値以下にすることにより、薄膜層転写用積層体からマスキングフィルムを剥離する際にマスキングフィルムの剥離が容易で、剥離時に液晶化合物層にピンホールや薄膜層の剥がれが起きにくくなる。
【０１３２】
薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙは、下記式（５）を満たすことが好ましい。
０．００５Ｎ／２５ｍｍ≦Ｙ≦２．０Ｎ／２５ｍｍ    （５）
薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙの下限は０．００５Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは０．０１Ｎ／２５ｍｍであり、さらに好ましくは０．０３Ｎ／２５ｍｍであり、特に好ましくは０．０５Ｎ／２５ｍｍである。剥離強度Ｙの上限は２．０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、１．５Ｎ／２５ｍｍであることがより好ましく、さらに好ましくは１．２Ｎ／２５ｍｍであり、よりさらに好ましくは１．０Ｎ／２５ｍｍであり、特に好ましくは０．７Ｎ／２５ｍｍであり、最も好ましくは０．５Ｎ／２５ｍｍである。
【０１３３】
薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙを上記以上にすることにより、薄膜層転写用積層体の巻き取り、巻き出し、スリット等取り扱い時にマスキングフィルムが不必要に剥離することなく、安定した取り扱いが可能となる。また、薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙを上記以下にすることにより、薄膜層転写用積層体を用いて対象物に薄膜層を転写する時に、離型性基材フィルムの剥離が容易で、剥離時に薄膜層にピンホールや転写不良が起こりにくくなる。
【０１３４】
薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度Ｙは、薄膜層の組成等に合わせて、マスキングフィルムの粘着剤の組成、塗工条件などで調整することができる。
【０１３５】
薄膜層と離型性基材フィルムとの剥離強度Ｘの下限は０．０１Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは０．０３Ｎ／２５ｍｍであり、さらに好ましくは０．０５Ｎ／２５ｍｍであり、特に好ましくは０．０７Ｎ／２５ｍｍである。薄膜層と離型性基材フィルムとの剥離強度Ｘの上限は２．０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは１．５Ｎ／２５ｍｍであり、さらに好ましくは１．２Ｎ／２５ｍｍであり、特に好ましくは１．０Ｎ／２５ｍｍであり、最も好ましくは０．８Ｎ／２５ｍｍである。
【０１３６】
薄膜層と離型性基材フィルムとの剥離強度Ｘは、薄膜層の組成、これら塗工時の条件等に合わせて、離型性基材フィルムのコロナ処理などの表面処理、離型層の組成、などを変えることで調整することができる。
【０１３７】
（薄膜層の転写対象）
薄膜層の転写対象物としては特に限定されるものではないが、フィルムやシート状物であることが好ましく、樹脂フィルムやガラスフィルム、樹脂シート、ガラス板、金属板が挙げられる。中でも、樹脂フィルムが好ましい。
【０１３８】
薄膜層が液晶化合物層である場合の本発明の一実施形態においては、透明樹脂フィルムを転写対象物としたとき、偏光膜を転写して偏光板を作製する、位相差層を転写して位相差フィルムとする、位相差層と偏光子を転写して円偏光や光学補償層積層の偏光板とする、円偏光反射層と位相差層（λ／４位相差層）を転写して輝度向上フィルムとするなどの態様が挙げられる。
【０１３９】
本発明の一実施形態において、偏光板を対象として、位相差層を転写して円偏光や光学補償層積層の偏光板とする、円偏光反射層と位相差層（λ／４位相差層）を転写して輝度向上層積層偏光板とするなどの態様が挙げられる。
【０１４０】
本発明の一実施形態において、液晶表示セルを対象として、偏光層や位相差層と偏光層を転写して直接液晶表示セルに偏光層を積層する、有機ＥＬ表示セルなどを対象として、位相差層と偏光層、円偏光反射層と位相差層と偏光層を転写して反射防止用円偏光層や輝度向上層付円偏光層を積層する、など行い、画像表示パネルとする、などの態様が挙げられる。
【０１４１】
本発明の一実施形態において、画像表示装置の表面カバーシートを対象として、位相差層と偏光層、円偏光反射層と位相差層と偏光層を転写して反射防止用円偏光層や輝度向上層付円偏光層を積層する、など行い、有機ＥＬ表示装置用などの反射防止機能付きの表面カバーシートとする、などの態様が挙げられる。
【０１４２】
転写はロールツーロールで行われることが好ましいが、光学軸を合わせるためなどの理由や転写対象が画像表示セルやパネル、表面カバーシートなど非長尺物であるなどの場合は枚葉で行ってもよい。
【０１４３】
（円偏光板の製造方法）
一例として、本発明の薄膜層転写用積層体が好ましく用いられる、円偏光板の製造方法を説明する。
【０１４４】
まず、離型性基材フィルムの離型面に液晶化合物からなるλ／４位相差層を設け、マスキングフィルムを貼り合わせて薄膜層転写用積層体のロール状物を得る。その後、ロールから薄膜層転写用積層体を巻き出し、マスキングフィルムを剥離し、λ／４位相差層と直線偏光板を接着剤等で貼り合わせ、離型性基材フィルムを剥離して円偏光板を得る。
【０１４５】
λ／４位相差層の正面レタデーションは１００〜１８０ｎｍが好ましい。さらに好ましくは１２０〜１５０ｎｍである。λ／４位相差層の配向軸（遅相軸）と離型性基材フィルムの幅方向（フィルムの製膜走行方向と直交する方向）との角度は４５度とすることが好ましく、誤差も含め４３〜４７度の範囲であることが好ましい。
【０１４６】
また、λ／４位相差層はλ／４位相差層とλ／２位相差層と組み合わせた複合λ／４位相差層であってもよい。λ／２位相差層の正面レタデーションは２００〜３６０ｎｍが好ましい。さらに好ましくは２４０〜３００ｎｍである。
【０１４７】
この場合、λ／４位相差層とλ／２位相差層は、円偏光板で、合わせて位相差がλ／４となるような角度に配置されることが好ましい。具体的には、λ／２位相差層の配向軸（遅相軸）と偏光子の透過軸の角度（θ）は５〜２０度が好ましく、より好ましくは７度〜１７度であり、λ／２位相差層の配向軸（遅相軸）とλ／４位相差層の配向軸（遅相軸）との角度は、２θ＋４５度±１０度の範囲が好ましく、より好ましくは２θ＋４５度±５度の範囲であり、さらに好ましくは２θ＋４５度±３度の範囲である。広く用いられているヨウ素を吸着させたポリビニルアルコールフィルムを延伸した偏光子の場合、幅方向が透過軸であるため、離型性基材フィルムの幅方向（フィルムの製膜走行方向と直交する方向）との角度も上記範囲とすることが好ましい。
【０１４８】
複合λ／４位相差層を有する円偏光板の製造においては、離型性基材フィルムにλ／４位相差層とλ／２位相差層を設けてこれを転写してもよく、別々に離型性基材フィルムにλ／４位相差層とλ／２位相差層を設けてこれらを転写してもよい。さらに、円偏光板においては、Ｃプレート層などの位相差層が設けられる場合がある。この場合においても、位相差層すべてを離型性基材フィルムに設けて転写してもよく、別々に転写してもよい。
【０１４９】
転写対象物である直線偏光板は特に制限されるものではないが、偏光子の両面、又は片面に偏光子保護フィルムが設けられた直線偏光板が好ましい。
【０１５０】
偏光子は、ＰＶＡ系のフィルムを単独で延伸して作製した偏光子や、ポリエステルやポリプロピレンなどの未延伸基材にＰＶＡを塗工し、基材ごと延伸して作製した偏光子を偏光子保護フィルムに転写したものや、液晶化合物と二色性色素からなる偏光子を偏光子保護フィルムに塗工するか転写したもの等が挙げられ、いずれも好ましく用いられる。
【０１５１】
偏光子保護フィルムはＴＡＣ、アクリル、ＣＯＰ、ポリカーボネート、ポリエステルなど一般に知られているものが使用できる。中でもＴＡＣ、アクリル、ＣＯＰ、ポリエステルが好ましい。ポリエステルはポリエチレンテレフタレートが好ましい。ポリエステルの場合は、面内レタデーション１００ｎｍ以下、特には５０ｎｍ以下のゼロレタデーションフィルムであるか、３０００ｎｍ〜３００００ｎｍの高レタデーションポリエステルフィルムであることが好ましい。
【０１５２】
貼り付ける方法としては、接着剤、粘着剤など従来知られているものを用いることができる。接着剤としてはポリビニルアルコール系接着剤、アクリルやエポキシなどの紫外線硬化型接着剤、エポキシやイソシアネート（ウレタン）などの熱硬化型接着剤が好ましく用いられる。粘着剤は、アクリルやウレタン系、ゴム系などの粘着剤が挙げられる。また、アクリル基材レスの光学用透明粘着剤シートを用いることも好ましい。
【０１５３】
このようにして得られた円偏光板の厚みは、１２０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１００μｍ以下、さらには９０μｍ以下、特には８０μｍ以下が好ましく、最も好ましくは７０μｍ以下である。
【０１５４】
本願は、２０２０年３月２６日に出願された日本国特許出願第２０２０−５６８２３号に基づく優先権の利益を主張するものである。２０２０年３月２６日に出願された日本国特許出願第２０２０−５６８２３号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。
【実施例】
【０１５５】
（１）表面粗さ
各粗さのパラメーターはＩＳＯ  ２５１７８に準じ、非接触表面形状計測システム（菱化システム社製、ＶｅｒｔＳｃａｎ  Ｒ５５０Ｈ−Ｍ１００）を用いて、下記の条件で測定した。
（測定条件）
測定モード：ＷＡＶＥモード
対物レンズ：５０倍
０．５×Ｔｕｂｅレンズ
測定面積：１８７μｍ×１３９μｍ
（解析条件）
面補正：４次補正
補間処理：完全補間
ＩＳＯパラメーター処理：Ｓ−Ｆｉｌｔｅｒ  １μｍ指定
測定は５点で行い、その平均値を求めた。【０１５６】
（２）剥離強度
（２−１）サンプルの準備
実施例、比較例で得られた離型性基材フィルム／位相差層／マスキングフィルムの積層体を幅２５ｍｍ、長さ１６０ｍｍにカットしてサンプルを作製した。サンプルの長さ方向は離型性基材フィルムの幅方向とした。また、サンプルは、マスキングフィルムを貼り合わせてから２４℃、相対湿度５０％の部屋に１週間放置した積層フィルムのロールから巻き出して、ロールの巻芯から１００ｍの位置から切り出して作製した。【０１５７】
（２−２）位相差層−マスキングフィルム間の剥離強度
サンプルの離型性基材フィルム面を、厚さ１ｍｍのサンプルと同じ幅及び長さのアクリル板に両面テープを用いて重ねて貼り付けた。サンプルの長さ方向の一方の端部約２０ｍｍの部分のマスキングフィルムを剥離し、表面マスキングフィルムの剥離部分に幅２５ｍｍ、長さ１６０ｍｍ、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを両面テープを用いて貼り付けた。表面マスキングフィルムを剥離した部分の位相差層／離型性フィルムの積層体をアクリル板ごと引っ張り試験機の下部チャックで把持し、二軸延伸ポリエステルフィルムの表面マスキングフィルムを貼り合わせた反対側の端部を上部チャックで把持して、３００ｍｍ／分の速度で１８０度剥離した際の剥離強度を測定した。試験機は島津製作所製オートグラフ（登録商標）（ＡＧ−Ｘ）を用い、測定で剥離が始まって２秒後から２５秒後までの間の平均値を求めた。サンプル５点で実施し、その平均値を剥離強度とした。測定室の温度は２４℃であった。【０１５８】
（２−３）離型性基材フィルム−位相差層間の剥離強度
上記測定後のマスキングフィルムが剥離されたサンプルの位相差層上に幅２５ｍｍのポリプロピレン基材の粘着テープ（日東電工社製  ダンプロン（登録商標）エースＮｏ．３２００）を長さ１６０ｍｍにカットしたものを正確に貼り合わせた。この際に、粘着テープの上記測定でチャックした部分に相当する箇所には、幅２５ｍｍ、長さ１６０ｍｍ、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムの端部を貼り合わせた。貼り合わせにおいてはハンドローラーを用いてで気泡が入らないよう行った。サンプルの上記測定と同じ箇所を、引っ張り試験器の下部チャックで保持し、上部チャックでは粘着テープと貼り合わせた二軸延伸ポリエステルフィルムの粘着テープと貼り合わせた反対側の端部を保持し、上記と同様の条件で測定した。【０１５９】
（３）転写作業性
転写作業性として、切断時や取り扱い時のマスキングフィルムの剥がれ、マスキングフィルムの剥離容易性、基材フィルムの剥離容易性の観点から評価した。
○：いずれも問題は無かった。
△：いずれかに若干の問題があり転写作業に注意を要した。
×：いずれかに問題があり、転写作業が困難であった。【０１６０】
（４）転写性
得られた円偏光板の表面を鏡面研磨したアルミニウム板の上に、λ／４層が下になるように置き、上から光を照射してλ／４層の転写状態を観察した。観察は肉眼およびルーペで行った。
◎：肉眼、ルーペ観察ともピンホールはほとんど見られなかった。
○：ルーペ観察では若干のピンホールが認められたが、肉眼では認められなかった。
△：ルーペ観察で比較的多くのピンホールが認められたが、肉眼では認められなかった。
×：肉眼で明らかなピンホールが認められた、又は、λ／４層が転写できていない部分が認められた。【０１６１】
（５）巻き取り性
製膜時の離型性基材フィルム、スリット時の離型性基材フィルムの巻き取り状態を観察した。さらにスリット後の離型性基材フィルムを１か月間倉庫に保管後、ロールの状態を観察した。
○：皺、蛇行やエアの巻き込みなどの問題なく巻き取ることができ、保管後も異常はなかった。
△：皺、蛇行やエアの巻き込みなどの問題なく巻き取ることができたが、保管後のロールに若干の異常（端面ずれ、部分的なゆるみ、表面のたるみなど）が見られた。
×：巻き取り時に皺、蛇行やエアの巻き込みなどの問題が認められた。【０１６２】
（原料ポリエステル樹脂の製造）
（粒子不含有ポリエステル樹脂（ＰＥＴ（Ｘ１））の製造）
エステル化反応缶を昇温し２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部及びエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１１質量部、トリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行い、ゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行い、反応の後段で酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部添加し、さらに引き続き加圧エステル化反応を行った。その後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０．０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。【０１６３】
重縮合反応終了後、９５％カット径が５μｍのナスロン製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理（孔径：１μｍ以下）を行った冷却水を用いて冷却、固化させ、ペレット状にカットし、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ（Ｘ１））を得た。ＰＥＴ（Ｘ１）の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇであり、エステル環状三量体の含有量は１．０５質量％であり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。【０１６４】
（粒子不含有ポリエステル樹脂（ＰＥＴ（Ｘ２））の製造）
三酸化アンチモンの添加量を０．０１７質量部にし、酢酸マグネシウム４水和物の添加を三酸化アンチモンの添加と同時に行ったこと、ナスロンフィルターを９５％カット径が２０μｍのものに変えたこと以外はＰＥＴ（Ｘ１）と同様にして、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ（Ｘ２））を得た。【０１６５】
（シリカ粒子含有ポリエステル樹脂（ＰＥＴ（ＸＳｉ）の製造））
ＰＥＴ（Ｘ１）の製造において、２６０℃に昇温し、リン酸トリメチルを添加した１５分後に、下記シリカ粒子のエチレングリコールスラリーを、生成ポリエステルに対して、１００００ｐｐｍとなるよう添加したこと、及び９５％カット径が２０μｍのナスロンフィルター（日本精線（株）製）で濾過処理を行ったこと以外はＰＥＴ（Ｘ１）の製造と同様にして、固有粘度が０．６３ｄｌ／ｇのシリカ粒子含有ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ（ＸＳｉ））を得た。なお、シリカ粒子のエチレングリコールスラリーは、平均粒子径が２．５μｍのシリカ粒子（富士シリシア社製）をエチレングリコール中に仕込み、さらに９５％カット径が３０μｍのビスコースレーヨン製フィルターで濾過処理を行い製造した。【０１６６】
（炭酸カルシウム粒子含有ポリエステル樹脂（ＰＥＴ（ＸＣａ）の製造））
ＰＥＴ（ＸＳｉ）の製造において、シリカ粒子のエチレングリコールスラリーの代わりに炭酸カルシウム粒子のエチレングリコールスラリーを用いた以外は同様に行ない、固有粘度が０．６３ｄｌ／ｇの炭酸カルシウム粒子含有ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ（ＸＣａ））を得た。なお、炭酸カルシウム粒子のエチレングリコールスラリーは、シリカ粒子の代わりに平均粒子径が０．６μｍの炭酸カルシウム粒子（丸尾カルシウム社製）を用いて製造した。【０１６７】
（インラインコート用塗料の製造）
（ポリウレタン樹脂の製造）
脂肪族系ポリカーボネートポリオールを構成成分とするポリウレタン樹脂Ｄ−１を次の手順で製造した。撹拌機、ジムロート冷却器、窒素導入管、シリカゲル乾燥管、及び温度計を備えた４つ口フラスコに、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート４３．７５質量部、ジメチロールブタン酸１２．８５質量部、数平均分子量２０００のポリヘキサメチレンカーボネートジオール１５３．４１質量部、ジブチルスズジラウレート０．０３質量部、及び溶剤としてアセトン８４．００質量部を投入し、窒素雰囲気下、７５℃において３時間撹拌し、反応液が所定のアミン当量に達したことを確認した。次に、この反応液を４０℃にまで降温した後、トリエチルアミン８．７７質量部を添加し、ポリウレタンプレポリマー溶液を得た。次に、高速攪拌可能なホモディスパーを備えた反応容器に、水４５０ｇを添加して、２５℃に調整して、２０００ｍｉｎ-1で攪拌混合しながら、ポリウレタンプレポリマー溶液を添加して水分散した。その後、減圧下で、アセトンおよび水の一部を除去することにより、固形分濃度３５質量％の水溶性ポリウレタン樹脂Ｄ−１を調製した。得られたポリウレタン樹脂Ｄ−１のガラス転移点温度は−３０℃であった。【０１６８】
（オキサゾリン系架橋剤の製造）
温度計、窒素ガス導入管、還流冷却器、滴下ロート、および攪拌機を備えたフラスコに水性媒体としてのイオン交換水５８質量部とイソプロパノール５８質量部との混合物、および、重合開始剤（２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）・二塩酸塩）４質量部を投入した。一方、滴下ロートに、オキサゾリン基を有する重合性不飽和単量体としての２−イソプロペニル−２−オキサゾリン１６質量部、メトキシポリエチレングリコールアクリレート（エチレングリコールの平均付加モル数・９モル、新中村化学製）３２質量部、およびメタクリル酸メチル３２質量部の混合物を投入し、窒素雰囲気下、７０℃において１時間にわたり滴下した。滴下終了後、反応溶液を９時間攪拌し、冷却することで固形分濃度４０質量％のオキサゾリン基を有する水溶性樹脂を得た。【０１６９】
（易接着層用塗布液１の調製）
下記の塗剤を混合して易接着層用塗布液を作製した。
水                                  ５５．６２質量％
イソプロパノール                    ３０．００質量％
ポリウレタン樹脂                    １１．２９質量％
オキサゾリン系架橋剤                  ２．２６質量％
粒子Ａ                                ０．７０質量％
（平均粒径４０ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
粒子Ｂ                                ０．０７質量％
（平均粒径５００ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
界面活性剤                            ０．０５質量％
（シリコーン系、固形分濃度１００質量％）【０１７０】
（易接着層用塗布液２の調製）
下記の塗剤を混合して易接着層用塗布液を作成した。
水                                  ５５．６２質量％
イソプロパノール                    ３０．００質量％
ポリウレタン樹脂                    １１．２９質量％
オキサゾリン系架橋剤                  ２．２６質量％
界面活性剤                            ０．０５質量％
（シリコーン系、固形分濃度１００質量％）【０１７１】
（フィルムＡの製造）
転写用配向フィルムの離型層側用の原料として、粒子を含有しないＰＥＴ（Ｘ１）樹脂ペレットを１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機１に供給し、反対面層（裏面層）用の原料として、ＰＥＴ（Ｘ１）樹脂ペレットと粒子を含有するポリエステル（ＰＥＴ（ＸＳｉ））樹脂ペレットを、反対面層（裏面層）の粒子含有量が表１に示す所定の値になるような割合でブレンドしたものを乾燥して押出機２に供給し、２８５℃で溶解した。この２種の溶融ポリマーを、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、２種２層合流ブロックにて積層し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを製造した。この時、離型層と裏面層の厚みが表１に示す所定の値になるように各押し出し機の吐出量を調整した。【０１７２】
この未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４．０倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２１０℃、１０秒間で熱固定処理し、さらに３．０％の緩和処理を行った。その後、１３０℃まで冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断した後にＰＥＴ（Ｘ１）面にコロナ処理を行い、０．５ｋｇ／ｍｍ2の張力でコアに巻き取り、フィルム厚み５０μｍの一軸配向ＰＥＴフィルム（幅１８００ｃｍ、長さ５０００ｍ）を得た。得られたフィルムの中央部を５０ｃｍ幅にスリットし、長さ約５００ｍのフィルムロール（フィルムＡ）を得た。ＰＥＴ（Ｘ１）面を離型面とした。【０１７３】
（フィルムＢの製造）
反対面層（裏面層）用の原料のうち、ＰＥＴ（ＸＳｉ）樹脂ペレットをＰＥＴ（ＸＣａ）に変更した以外は同様にして、フィルムロール（フィルムＢ１）を得た。また、コロナ処理の強度を上げたものをフィルムＢ２とし、さらにコロナ処理を行わなかったものをＢ３とした。【０１７４】
（フィルムＣの製造）
厚み比を変えた以外は実施例２と同様にしてフィルムロール（フィルムＣ）を得た。【０１７５】
（フィルムＤの製造）
フィルム用原料としてＰＥＴ（Ｘ１）ペレットを押出機に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを製造した。次いで、この未延伸ＰＥＴフィルムの片面に易接着層用塗布液１を乾燥後の塗布量が０．１２ｇ／ｍ2になるように塗布した後、乾燥機に導き８０℃で２０秒間乾燥した。【０１７６】
この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１３５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、その後、冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断して、塗布層の反対面にフィルムＡと同様にコロナ処理、スリットを行い、幅５０ｃｍ長さ約５００ｍのフィルムロール（フィルムＤ）を得た。コロナ処理面を離型面とした。【０１７７】
（フィルムＥの製造）
フィルム用原料としてＰＥＴ（Ｘ２）を用いた以外はフィルムＤと同様にして、フィルムロール（フィルムＥ）を得た。【０１７８】
（フィルムＦの製造）
両面に易接着層用塗布液１を塗布した以外はフィルムＤと同様にして両面にコート層を有するフィルムＦを得た。なお、コロナ処理は行わなかった。【０１７９】
（フィルムＧの製造）
片面に易接着層用塗布液１を反対面に易接着層用塗布液２を塗布した以外はフィルムＤと同様にして両面に易接着層を有するフィルムＧを得た。このフィルムの易接着層用塗布液２塗布面を離型面とした。なお、コロナ処理は行わなかった。【０１８０】
（フィルムＨの製造）
フィルム用原料として、ＰＥＴ（Ｘ１）樹脂ペレットと粒子を含有するポリエステル（ＰＥＴ（ＸＳｉ））樹脂ペレットを、粒子含有量が表１に示す所定の値になるような割合でブレンドしたものを乾燥して押出機２に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを製造した。次いで、未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１３５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に３．５倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、その後、冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断、コロナ処理を行い、フィルム厚み５０μｍの一軸配向ＰＥＴフィルム（幅１８００ｃｍ、長さ５０００ｍ）を得た。さらに、フィルムＡと同様にコロナ処理、スリットを行い、幅５０ｃｍ長さ約５００ｍのフィルムロール（フィルムＨ）を得た。なお、コロナ処理は樹脂の押出時にキャスティングドラムに接触していた面に行い、コロナ処理面を離型面とした。【０１８１】
（フィルムＩの製造）
フィルムＨの片面に、フィルムＤの方法と同様に易接着層用塗布液２を用いて片面に易接着層を有するフィルムを得た。得られたフィルムの易接着層面に、下記組成のコート剤を塗布し、加熱オーブン中で１５０℃３分間乾燥させ、平坦化コート層を有するフィルムＩを得た。平坦化層面を離型面とした。【０１８２】
（平坦化コート剤の調製）
下記の塗剤を混合して平坦化コート剤を作製した。
メラミン架橋アルキル変性アルキド樹脂（日立化成ポリマー社製：テスファイン３２２：固形分４０％）                              １０質量部
Ｐ−トルエンスルホン酸（日立化成ポリマー社製：ドライヤー９００）
０．１質量部
溶剤（トルエン／メチルエチルケトン＝１／１質量部）
２０質量部
なお、コート剤は２μｍのフィルターで濾過し、乾燥時の空気は９５％カット径が１μｍのヘパフィルターで濾過した後、さらに９９．９％カット径が０．３μｍのヘパフィルターで高精度濾過したものを使用した。さらに、コート剤のフィルムへの塗布は、クラス１，０００の環境下で行った。【０１８３】
なお、実施例において塗工・乾燥工程は同様の環境下で行った。【０１８４】
（マスキングフィルムの準備）
市販のポリプロピレンを基材とし粘着層を設けたマスキングフィルムｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔの５種類を準備した。【０１８５】
実施例１〜１２、比較例１〜４
フィルムＡ〜Ｉに下記のλ／４位相差層の作製１の方法でλ／４位相差層を設け、マスキングフィルムを積層して巻き取った。実施例、比較例の詳細および評価結果を表１に示す。【０１８６】
（λ／４位相差層の作製１）
（ラビング処理配向制御層の形成）
基材フィルムとして上記フィルムを巻き出し、離型面にコロナ処理を行った後、下記組成のラビング処理配向制御層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で５分間乾燥し、厚み２００ｎｍの膜を形成した。引き続き、得られた膜の表面をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理し、ラビング処理配向制御層を積層した転写用配向フィルムを得た。ラビングはラビングロールに対して基材フィルムを斜めに架け、基材フィルムの搬送速度とラビングロールの回転数を調節して、ラビング方向が基材フィルムの幅方向に対して４５度になるように行った。
完全ケン化型ポリビニルアルコール（重量平均分子量８００）  ２質量部
イオン交換水                                          １００質量部
界面活性剤                                            ０．５質量部【０１８７】
（配向液晶化合物配向層の成形）
引き続き、ラビング処理を施した面に、下記組成の配向液晶化合物層形成用溶液をバーコート法により塗布した。１１０℃で３分間乾燥し、紫外線を照射して硬化させ、配向液晶化合物層（λ／４層）をフィルムに形成した。配向液晶化合物層が積層されたフィルムは液晶化合物層面にマスキングフィルムを貼り合わせて巻き取った。
棒状液晶化合物（ＢＡＳＦ社製のＬＣ２４２）    ７５質量部
下記式（３）で表される化合物                  ２０質量部
【化３】
0006954502.tif 000004
トリメチロールプロパントリアクリレート          ５質量部
イルガキュア３７９                              ３質量部
界面活性剤                                  ０．１質量部
メチルエチルケトン                          ２５０質量部【０１８８】
実施例１３、比較例５
フィルムＢ２およびＢ３に下記のλ／４位相差層の作製２の方法でλ／４位相差層を設け、マスキングフィルムを積層して巻き取った。実施例、比較例の詳細および評価結果を表１に示す。【０１８９】
（λ／４位相差層の作製２）
（光処理配向制御層の形成）
基材フィルムの片面に下記組成の光配向層用塗料を、バーコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間乾燥し、厚み１５０ｎｍの膜を形成した。引き続き、偏光ＵＶ光を照射し、光配向層を積層した基材フィルムを得た。ＵＶ光の偏光方向はフィルムの長手方向に対して４５度とした。【０１９０】
（光配向層用塗料）
特開２０１３−３３２４８号公報の実施例１、実施例２、及び実施例３の記載に基づき、下記式（４）で表されるポリマーのシクロペンタノンへの５質量％溶液を製造した。
下記式（４）で表される化合物                          ５質量部    
【化４】
0006954502.tif 000005
界面活性剤                                        ０．１質量部
シクロペンタノン                                    ９５質量部【０１９１】
前述の配向液晶化合物層形成用溶液を用いて光配向層上に塗布し、λ／４位相差層の作製１と同様にして積層体を製造した。【０１９２】
（円偏光板の作製）
実施例および比較例のマスキングフィルムが積層された配向液晶化合物層積層フィルムを巻き出し、巻芯から９０〜１００ｍ付近の積層体をマスキングフィルムごと長さ６０ｃｍに切断した。さらに幅方向の両端を端部から２ｃｍの位置で切断し、配向液晶化合物層が塗布されていない部分を除去した後、マスキングフィルムを剥離した。【０１９３】
一方、縦４６ｃｍ、横６０ｃｍの偏光板（ポリビニルアルコールの延伸フィルムにヨウ素を吸着させた偏光子をトリアセチルセルロース製の厚さ６０μｍの偏光子保護フィルムとポリエチレンテレフタレート製の厚さ８０μｍの偏光子保護フィルムで挟んだもの）のトリアセチルセルロース面に紫外線硬化型接着剤を塗布後、これの接着剤面と配向液晶化合物層積層フィルムの配向液晶化合物層面を積層し、紫外線を照射して貼り合わせた。その後、基材フィルムを剥離して円偏光板を得た。転写作業性および転写性を評価した。結果を表１に示す。【０１９４】
比較例６
易接着層用塗布液１を塗布しなかった以外はフィルムＥと同様にして、塗工層のないフィルムロール（フィルムＪ）を得た。フィルムの厚み及び離型面の各粗さパラメータを表１に示す。得られたフィルムロールは、気泡の巻き込み、皺があり、離型性基材フィルムとしての使用には適さないものであった。【０１９５】
【表１】
0006954502.tif 000006
【要約】
ピンホールや転写不良などの欠点の発生が抑制された転写物を形成することができる薄膜層転写用積層体を提供する。
離型性基材フィルム、薄膜層、マスキングフィルム、がこの順に積層された積層体であって、下記式（１）、（２）、及び（３）を満たす。
０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．７  （１）（Ｘ：離型性基材フィルムと薄膜層との剥離強度、Ｙ：薄膜層とマスキングフィルムとの剥離強度）
Ｓｋｕ≦４０  （２）（Ｓｋｕ：離型性基材フィルムの離型面のクルトシス）
Ｓｑ≦２０ｎｍ  （３）（Ｓｑ：離型性基材フィルムの離型面の二乗平均平方根粗さ）