(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂と、銀、金、白金およびパラジウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を含有する有機金属化合物と、光重合開始剤またはキノンジアジド化合物と、白色顔料および／または黒色顔料と、溶媒とを含有する樹脂組成物。
【請求項２】
さらに、リン原子を有する配位性化合物を含有する請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項３】
前記樹脂が、ポリシロキサン、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体および（メタ）アクリルポリマから選ばれた樹脂である請求項１または２記載の樹脂組成物。
【請求項４】
前記樹脂が、ポリシロキサンである請求項１〜３のいずれか記載の樹脂組成物。
【請求項５】
白色顔料を含有し、前記白色顔料が、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウムおよびこれらの複合化合物から選ばれた顔料である請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項６】
黒色顔料を含有し、前記黒色顔料が、窒化チタン、窒化ジルコニウム、カーボンブラック、および赤色顔料と青色顔料との重量比２０／８０〜８０／２０の混合顔料から選ばれた顔料である請求項１または５記載の樹脂組成物。
【請求項７】
さらに、光塩基発生剤を含有する請求項１〜６のいずれか記載の樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７いずれか記載の樹脂組成物を硬化させてなる遮光膜。
【請求項９】
下地基板上に請求項１〜７いずれか記載の樹脂組成物を塗布し、乾燥して乾燥膜を得る製膜工程、得られた乾燥膜をパターン露光する露光工程、露光後の乾燥膜における現像液に可溶な部分を溶解除去する現像工程および現像後の乾燥膜を加熱することにより硬化させる加熱工程を有する遮光膜の製造方法であって、前記加熱工程において、現像後の乾燥膜を１２０℃以上２５０℃以下の温度で加熱することにより、膜厚１０μｍあたりのＯＤ値を０．３以上上昇させる、遮光膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物と、樹脂組成物から形成される遮光膜、遮光膜の製造方法、およびパターン形成された隔壁を有する隔壁付き基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置の１種である液晶表示装置は、一般的に、ＬＥＤ等の白色光源と、赤色、緑色および青色を選択的に通過させるカラーフィルターを用いて、カラー表示を行っている。しかしながら、このようなカラーフィルターを用いたカラー表示は、光利用効率が悪く、かつ、色再現性に課題があった。【０００３】
そこで、光利用効率を高くしたカラー表示装置として、波長変換用蛍光体からなる波長変換部と、偏光分離手段と偏光変換手段を備えたカラー表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。例えば、青色光源と、液晶素子と、青色光により励起されて赤色の蛍光を発する蛍光体、青色光により励起されて緑色の蛍光を発する蛍光体、および青色光を散乱させる光散乱層を有する波長変換部とを含むカラー表示装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
しかし、特許文献１、２に記載されるような色変換蛍光体を含むカラーフィルターは、蛍光があらゆる方向に発生することから、光の取り出し効率が低く、輝度が不十分である。特に、４Ｋ、８Ｋと言われる高精細表示装置においては、画素サイズが小さくなるため、輝度の課題が顕著となることから、より高い輝度が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１３１６８３号公報
【特許文献２】特開２００９−２４４３８３号公報
【特許文献３】特開２０００−３４７３９４号公報
【特許文献４】特開２００６−２５９４２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表示装置の輝度を向上させるためには、色変換蛍光体を隔てる隔壁の反射率を高くすることが有効である。また、隣接画素間において光の混色が発生しないためには、隔壁の遮光性を高くする必要がある。以上から、高い反射率と遮光性を両立した隔壁材料が求められている。【０００６】
発明者らは、高い反射率と遮光性を両立した隔壁を形成するために、まず、高反射率の白色隔壁材料に黒色顔料を添加した材料を使用する方法を検討した。しかし、この方法では、露光時に白色顔料と黒色顔料によって光が吸収され、膜の底部まで光が届かず、パターン加工性が悪いという課題が明らかになった。【０００７】
一方、特許文献３、４に記載されているように、特定の金属化合物を添加することで、パターン形成後の焼成によって黒色化する技術が提案されている。しかしながら、これらの黒色化技術は、４００℃以上の焼成が必要であり、２５０℃以下の加熱では遮光性が向上しないという課題があった。【０００８】
そこで、本発明は、２５０℃以下の加熱条件においても、高い反射率と遮光性を両立した隔壁を形成可能である樹脂組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、樹脂と、銀、金、白金およびパラジウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を含有する有機金属化合物と、光重合開始剤またはキノンジアジド化合物と、白色顔料および／または黒色顔料と、溶媒とを含有する樹脂組成物である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の樹脂組成物は、製膜後にパターン露光する工程時には光を通すが、露光した膜を１２０℃以上２５０℃以下の温度で加熱した後に遮光性が上がるため、２５０℃以下の加熱条件においても、高い反射率と高い遮光性を有する微細厚膜隔壁パターンの形成が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】パターン形成された隔壁を有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図２】パターン形成された隔壁と色変換発光材料を含有する画素を有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図３】低屈折率層を有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図４】低屈折率層および無機保護層Ｉを有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図５】低屈折率層および無機保護層ＩＩを有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図６】カラーフィルターを有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図７】カラーフィルターと、無機保護層ＩＩＩおよび／または黄色有機保護層を有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図８】カラーフィルターと、無機保護層ＩＶおよび／または黄色有機保護層を有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図９】遮光隔壁を有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図である。
【図１０】実施例において混色評価に用いた表示装置の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明に係る樹脂組成物、樹脂組成物から形成される遮光膜、遮光膜の製造方法、および隔壁付き基板の好適な実施の形態を具体的に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、目的や用途に応じて種々に変更して実施することができる。
【００１３】
本発明の樹脂組成物は、色変換蛍光体を隔てる隔壁を形成するための材料として好適に用いることができる。本発明の樹脂組成物は、樹脂と、銀、金、白金およびパラジウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を含有する有機金属化合物（以下、「有機金属化合物」と記載する場合がある）と、光重合開始剤またはキノンジアジド化合物と、溶媒とを含有することが好ましい。
【００１４】
樹脂は、隔壁のクラック耐性および耐光性を向上させる機能を有する。樹脂組成物の固形分中に占める樹脂の含有量は、熱処理における隔壁のクラック耐性を向上させる観点から、１０重量％以上が好ましく、２０重量％以上がより好ましい。一方、耐光性を向上させる観点から、樹脂組成物の固形分中に占める樹脂の含有量は、６０重量％以下が好ましく、５０重量％以下がより好ましい。ここで、固形分とは、樹脂組成物に含まれる成分のうち、溶媒等の揮発性の成分を除いた全成分のことを意味する。固形分の量は、樹脂組成物を加熱して揮発性の成分を蒸発させた残分を計ることにより求めることができる。
【００１５】
樹脂としては、例えば、ポリシロキサン、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体、（メタ）アクリルポリマなどが挙げられる。ここで、（メタ）アクリルポリマとは、メタクリル酸エステルおよび／またはアクリル酸エステルの重合体を意味する。これらを２種以上含有してもよい。これらの中でも、透明性、耐熱性および耐光性に優れることから、ポリシロキサンが好ましい。
【００１６】
ポリシロキサンは、オルガノシランの加水分解・脱水縮合物である。本発明の樹脂組成物がネガ型感光性を有する場合、ポリシロキサンは、少なくとも下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。さらに他の繰り返し単位を含んでもよい。一般式（２）で表される２官能アルコキシシラン化合物由来の繰り返し単位を含むことにより、加熱によるポリシロキサンの過剰な熱重合（縮合）を抑制し、隔壁のクラック耐性を向上させることができる。ポリシロキサンにおける全繰り返し単位中、一般式（２）で表される繰り返し単位を１０〜８０モル％含有することが好ましい。一般式（２）で表される繰り返し単位を１０モル％以上含むことにより、クラック耐性をより向上させることができる。一般式（２）で表される繰り返し単位の含有量は、１５モル％以上がより好ましく、２０モル％以上がさらに好ましい。一方、一般式（２）で表される繰り返し単位を８０モル％以下含むことにより、重合時にポリシロキサンの分子量を十分に高め、塗布性を向上させることができる。一般式（２）で表される繰り返し単位の含有量は、７０モル％以下がより好ましい。
【００１７】
【化１】
0006908116.tif 000002
【００１８】
上記一般式（２）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ同じでも異なってもよく、炭素数１〜２０の１価の有機基を表す。Ｒ１およびＲ２は、重合時のポリシロキサンの分子量調整を容易にする観点から、炭素数１〜６のアルキル基および炭素数６〜１２のアリール基から選ばれた基が好ましい。ただし、アルキル基およびアリール基は、その水素の少なくとも一部がラジカル重合性基により置換されていてもよい。この場合、ネガ型感光性樹脂組成物の硬化物中においては、ラジカル重合性基はラジカル重合されていてもよい。
【００１９】
本発明の樹脂組成物がネガ型感光性を有する場合、ポリシロキサンは、さらに、下記一般式（３）で表される繰り返し単位および下記一般式（４）で表される繰り返し単位から選ばれた繰り返し単位を含むことが好ましい。一般式（３）または一般式（４）で表される、フッ素含有アルコキシシラン化合物由来の繰り返し単位を含むことにより、ポリシロキサンの屈折率を低減し、後述する白色顔料を含有する場合に、白色顔料との屈折率差を拡大して界面反射をより向上させ、反射率をより向上させることができる。一般式（３）で表される繰り返し単位および一般式（４）で表される繰り返し単位から選ばれた繰り返し単位をポリシロキサン中に合計２０〜８０モル％含有することがより好ましい。一般式（３）で表される繰り返し単位と一般式（４）で表される繰り返し単位を合計２０モル％以上含むことにより、後述する白色顔料を含有する場合に、ポリシロキサンと白色顔料の界面反射をより向上させ、反射率をより向上させることができる。一般式（３）で表される繰り返し単位と一般式（４）で表される繰り返し単位の合計含有量は、４０モル％以上がより好ましい。一方、一般式（３）で表される繰り返し単位と一般式（４）で表される繰り返し単位を合計８０モル％以下含むことにより、ポリシロキサンの過度な疎水化を抑制し、組成物中の他の成分との相溶性を向上させ、解像度を向上させることができる。一般式（３）で表される繰り返し単位と一般式（４）で表される繰り返し単位の合計含有量は、７０モル％以下がより好ましい。さらに他の繰り返し単位を含んでもよい。
【００２０】
【化２】
0006908116.tif 000003
【００２１】
上記一般式（３）および（４）中、Ｒ３は、水素の全部または一部がフッ素で置換された、炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアリールアルキル基を表す。Ｒ４は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−ＣＯ−、−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−を表す。Ｒ５は、炭素数１〜２０の１価の有機基を表す。Ｒ３は、ポリシロキサンの屈折率をより低減させる観点から、水素の全部または一部がフッ素で置換された炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。なお、ネガ型感光性樹脂組成物の光硬化物中においては、アルケニル基はラジカル重合されていてもよい。
【００２２】
上記一般式（２）〜（４）で表される繰り返し単位は、それぞれ下記一般式（５）〜（７）で表されるアルコキシシラン化合物に由来する。すなわち、前記一般式（２）〜（４）で表される繰り返し単位を含むポリシロキサンは、下記一般式（５）〜（７）で表されるアルコキシシラン化合物を含むアルコキシシラン化合物を加水分解および重縮合することによって得ることができる。さらに他のアルコキシシラン化合物を用いてもよい。
【００２３】
【化３】
0006908116.tif 000004
【００２４】
上記一般式（５）〜（７）中、Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ一般式（２）〜（４）における、Ｒ１〜Ｒ５と同じ基を表す。Ｒ６は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜２０の１価の有機基を表し、炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。
【００２５】
一般式（５）で表されるアルコキシシラン化合物としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、エチルメチルジメトキシシラン、エチルメチルジメトキシシラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、スチリルメチルジメトキシシラン、スチリルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３−ジメチルメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−ジメチルエトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−ジメチルメトキシシリルプロピオン酸、３−ジメチルエトキシシリルプロピオン酸、３−ジメチルメトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３−ジメチルエトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、５−ジメチルメトキシシリル吉草酸、５−ジメチルエトキシシリル吉草酸、３−ジメチルメトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３−ジメチルエトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３−ジメチルメトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３−ジメチルエトキシシリルプロピルフタル酸無水物、４−ジメチルメトキシシリル酪酸、４−ジメチルエトキシシリル酪酸等が挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【００２６】
一般式（６）で表されるアルコキシシラン化合物としては、例えば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロペンチルトリメトキシシラン、パーフルオロペンチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【００２７】
一般式（７）で表されるアルコキシシラン化合物としては、ビス（トリフルオロメチル）ジメトキシシラン、ビス（トリフルオロプロピル）ジメトキシシラン、ビス（トリフルオロプロピル）ジエトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【００２８】
その他のアルコキシシラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどの３官能アルコキシシラン化合物；テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、シリケート５１（テトラエトキシシランオリゴマー）などの４官能アルコキシシラン化合物；トリメチルメトキシシラン、トリフェニルメトキシシランなどの単官能アルコキシシラン化合物；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−エチル−３−｛［３−（トリメトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタン、３−エチル−３−｛［３−（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタンなどのエポキシ基またはオキセタン基含有アルコキシシラン化合物：フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、１−ナフチルトリメトキシシラン、２−ナフチルトリメトキシシラン、２−ナフチルトリメトキシシラン、２−ナフチルトリメトキシシラン、トリルトリメトキシシラン、トリルトリエトキシシラン、１−フェニルエチルトリメトキシシラン、１−フェニルエチルトリエトキシシラン、２−フェニルエチルトリメトキシシラン、２−フェニルエチルトリエトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３−トリエトキシシリルプロピルフタル酸無水物などの芳香環含有アルコキシシラン化合物；スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシランなどのラジカル重合性基含有アルコキシシラン化合物；３−トリメトキシシリルプロピオン酸、３−トリエトキシシリルプロピオン酸、４−トリメトキシシリル酪酸、４−トリエトキシシリル酪酸、５−トリメトキシシリル吉草酸、５−トリエトキシシリル吉草酸、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリエトキシシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリメトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３−トリエトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３−トリメトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３−トリエトキシシリルプロピルフタル酸無水物などのカルボキシル基含有アルコキシシラン化合物等が挙げられる���
【００２９】
ポリシロキサンの原料となるアルコキシシラン化合物中における、一般式（５）で表されるアルコキシシラン化合物の含有量は、ポリシロキサンの全繰り返し単位中の一般式（２）で表される繰り返し単位の含有量を前述の範囲にする観点から、１０モル％以上が好ましく、１５モル％以上がより好ましく、２０モル％以上がさらに好ましい。一方、一般式（５）で表されるアルコキシシラン化合物の含有量は、同様の観点から、８０モル％以下が好ましく、７０モル％以下がより好ましい。また、一般式（６）および一般式（７）で表されるアルコキシシラン化合物の合計含有量についても、一般式（３）および一般式（４）で表される繰り返し単位の合計含有量を前述の範囲にする観点から、２０モル％以上が好ましく、４０モル％以上がより好ましい。一方で、一般式（６）および一般式（７）で表されるアルコキシシラン化合物の合計含有量は、同様の観点から、８０モル％以下が好ましく、７０モル％以下がより好ましい。
【００３０】
ポリシロキサンの重量平均分子量（Ｍｗ）は、塗布性の観点から、１，０００以上が好ましく、２，０００以上がより好ましい。一方、現像性の観点から、ポリシロキサンのＭｗは、５０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。ここで、本発明におけるポリシロキサンのＭｗとは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算値を言う。
【００３１】
ポリシロキサンは、前述のオルガノシラン化合物を加水分解した後、該加水分解物を溶媒の存在下または無溶媒で脱水縮合反応させることによって得ることができる。
【００３２】
加水分解における各種条件は、反応スケール、反応容器の大きさ、形状などを考慮して、目的とする用途に適した物性に合わせて設定することができる。各種条件としては、例えば、酸濃度、反応温度、反応時間などが挙げられる。
【００３３】
加水分解反応には、塩酸、酢酸、蟻酸、硝酸、蓚酸、塩酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、多価カルボン酸やその無水物、イオン交換樹脂などの酸触媒を用いることができる。これらの中でも、蟻酸、酢酸およびリン酸から選ばれた酸を含む酸性水溶液が好ましい。
【００３４】
加水分解反応に酸触媒を用いる場合、酸触媒の添加量は、加水分解をより速やかに進行させる観点から、加水分解反応に使用される全アルコキシシラン化合物１００重量部に対して、０．０５重量部以上が好ましく、０．１重量部以上がより好ましい。一方、加水分解反応の進行を適度に調整する観点から、酸触媒の添加量は、全アルコキシシラン化合物１００重量部に対して、２０重量部以下が好ましく、１０重量部以下がより好ましい。ここで、全アルコキシシラン化合物量とは、アルコキシシラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含む量のことを言う。以下同じとする。
【００３５】
加水分解反応は、溶媒中で行うことができる。溶媒は、樹脂組成物の安定性、濡れ性、揮発性などを考慮して、適宜選択することができる。
【００３６】
加水分解反応によって溶媒が生成する場合には、無溶媒で加水分解を行うことも可能である。樹脂組成物に用いる場合には、加水分解反応終了後に、さらに溶媒を添加することにより、樹脂組成物を適切な濃度に調整することも好ましい。また、加水分解後に加熱および／または減圧下により生成アルコール等の全量あるいは一部を留出、除去し、その後好適な溶媒を添加することも可能である。
【００３７】
加水分解反応に溶媒を使用する場合、溶媒の添加量は、ゲルの生成を抑制する観点から、全アルコキシシラン化合物１００重量部に対して、５０重量部以上が好ましく、８０重量部以上がより好ましい。一方、溶媒の添加量は、加水分解をより速やかに進行させる観点から、全アルコキシシラン化合物１００重量部に対して、５００重量部以下が好ましく、２００重量部以下がより好ましい。
【００３８】
また、加水分解反応に用いる水としては、イオン交換水が好ましい。水の量は任意に設定することができるが、全アルコキシシラン化合物１モルに対して、１．０〜４．０モルが好ましい。
【００３９】
脱水縮合反応の方法としては、例えば、オルガノシラン化合物の加水分解反応により得られたシラノール化合物溶液をそのまま加熱する方法などが挙げられる。加熱温度は、５０℃以上、溶媒の沸点以下が好ましく、加熱時間は、１〜１００時間が好ましい。また、ポリシロキサンの重合度を高めるために、再加熱または塩基触媒の添加を行ってもよい。また、目的に応じて、脱水縮合反応後に、生成アルコールなどの適量を加熱および／または減圧下にて留出、除去し、その後好適な溶媒を添加してもよい。
【００４０】
樹脂組成物の保存安定性の観点から、加水分解、脱水縮合後のシロキサン樹脂溶液には前記触媒が含まれないことが好ましく、必要に応じて触媒の除去を行うことができる。触媒除去方法としては、操作の簡便さと除去性の観点から、水洗浄、イオン交換樹脂による処理などが好ましい。水洗浄とは、ポリシロキサン溶液を適当な疎水性溶媒で希釈し、水で数回洗浄した後、得られた有機層をエバポレーター等で濃縮する方法である。イオン交換樹脂による処理とは、ポリシロキサン溶液を適当なイオン交換樹脂に接触させる方法である。
【００４１】
有機金属化合物は、後述の隔壁（Ａ−１）のパターン形成に際し、露光工程および／または加熱工程において、分解・凝集することにより黒色粒子または黄色粒子となり、後述の隔壁（Ａ−１）のＯＤ値を向上させる機能を有する。露光前にはＯＤ値が低く、パターン形成後にＯＤ値が上昇することから、露光工程においては露光した光を底部まで十分に透過させて、光硬化または光分解させることができる。例えば、ネガ型感光性を有する樹脂組成物の場合、ＯＤ値の高い隔壁（Ａ−１）を形成するために、予め黒色顔料を多量に含有する樹脂組成物を用いてパターン形成すると、底部における光硬化が不十分となりやすい。その結果、得られた隔壁（Ａ−１）の形状が逆テーパー型になりやすい傾向にある。前述の有機金属化合物を含有する本発明の樹脂組成物を用いてパターン形成すると、底部まで十分に光硬化することから、テーパー角度を容易に後述の好ましい範囲にすることができる。
【００４２】
有機金属化合物としては、例えば、ネオデカン酸銀、オクチル酸銀、サリチル酸銀などの銀を含有する有機金属化合物；クロロ（トリフェニルホスフィン）金、テトラクロロ金酸四水和物などの金を含有する有機金属化合物；ビス（アセチルアセトナト）白金、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）白金、ジクロロビス（ベンゾニトリル）白金などの白金を含有する有機金属化合物；ビス（アセチルアセトナト）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジベンジリデンアセトンパラジウムなどのパラジウムを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００４３】
これらのうち、ネオデカン酸銀、オクチル酸銀、サリチル酸銀などの銀を含有する有機金属化合物を含有すると、露光工程において分解・凝集することにより黒色化し、その後の加熱工程において、さらに分解・凝集することにより黄色化する。
【００４４】
一方、ビス（アセチルアセトナト）白金、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）白金、ジクロロビス（ベンゾニトリル）白金などの白金を含有する有機金属化合物；ビス（アセチルアセトナト）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジベンジリデンアセトンパラジウムなどのパラジウムから選ばれた有機金属化合物を含有すると、露光工程および／または加熱工程において、分解・凝集することにより黒色化する。
【００４５】
これらの中でも、ＯＤ値をより向上させる観点から、ビス（アセチルアセトナト）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウムおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムから選ばれた有機金属化合物が好ましい。
【００４６】
本発明の樹脂組成物において、固形分中に占める有機金属化合物の含有量は、０．２〜５重量％が好ましい。有機金属化合物の含有量を０．２重量％以上とすることにより、得られる隔壁のＯＤ値をより向上させることができる。有機金属化合物の含有量は、１．５重量％以上がより好ましい。一方、有機金属化合物の含有量を５重量％以下とすることにより、反射率をより向上させることができる。
【００４７】
本発明の樹脂組成物は、後述の隔壁（Ａ−１）のパターン形成に用いられる場合、ネガ型またはポジ型の感光性を有することが好ましい。ネガ型感光性を付与する場合は、光重合開始剤を含有することが好ましく、高精細なパターン形状の隔壁を形成することができる。ネガ型感光性樹脂組成物は、さらに、光重合性化合物を含有することが好ましい。一方、ポジ型感光性を付与する場合はキノンジアジド化合物を含有することが好ましい。
【００４８】
光重合開始剤は、光（紫外線、電子線を含む）の照射によって分解および／または反応し、ラジカルを発生させるものであればどのようなものでもよい。例えば、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１などのα−アミノアルキルフェノン化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−（２，４，４−トリメチルペンチル）−フォスフィンオキサイドなどのアシルホスフィンオキサイド化合物；１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、１−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（Ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニルプロパントリオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）などのオキシムエステル化合物；ベンジルジメチルケタールなどのベンジルケタール化合物；２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトンなどのα−ヒドロキシケトン化合物；ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、アルキル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物；２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、４−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ベンザルアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェノンなどのアセトフェノン化合物；２−フェニル−２−オキシ酢酸メチルなどの芳香族ケトエステル化合物；４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（２−エチル）ヘキシル、４−ジエチルアミノ安息香酸エチル、２−ベンゾイル安息香酸メチルなどの安息香酸エステル化合物などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００４９】
本発明の樹脂組成物中における光重合開始剤の含有量は、ラジカル硬化を効果的に進める観点から、固形分中、０．０１重量％以上が好ましく、１重量％以上がより好ましい。一方、残留した光重合開始剤の溶出等を抑制し、黄変をより向上させる観点から、光重合開始剤の含有量は、固形分中、２０重量％以下が好ましく、１０重量％以下がより好ましい。
【００５０】
本発明における光重合性化合物とは、分子中に２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物をいう。ラジカル重合性のしやすさを考えると、光重合性化合物は、（メタ）アクリル基を有することが好ましい。
【００５１】
光重合性化合物としては、例えば、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、１，１０−デカンジオールジメタクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、テトラペンタエリスリトールノナアクリレート、テトラペンタエリスリトールデカアクリレート、ペンタペンタエリスリトールウンデカアクリレート、ペンタペンタエリスリトールドデカアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、テトラペンタエリスリトールノナメタクリレート、テトラペンタエリスリトールデカメタクリレート、ペンタペンタエリスリトールウンデカメタクリレート、ペンタペンタエリスリトールドデカメタクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレートなどが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００５２】
本発明の樹脂組成物中における光重合性化合物の含有量は、ラジカル硬化を効果的に進める観点から、固形分中、１重量％以上が好ましい。一方、ラジカルの過剰反応を抑制し解像度を向上させる観点から、光重合性化合物の含有量は、固形分中、４０重量％以下が好ましい。
【００５３】
キノンジアジド化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物にナフトキノンジアジドのスルホン酸がエステルで結合した化合物が好ましい。ここで用いられるフェノール性水酸基を有する化合物としては、例えば、ＢＩｓ−Ｚ、ＴｅｋＰ−４ＨＢＰＡ（テトラキスＰ−ＤＯ−ＢＰＡ）、ＴｒＩｓＰ−ＨＡＰ、ＴｒＩｓＰ−ＰＡ、ＢＩｓＲＳ−２Ｐ、ＢＩｓＲＳ−３Ｐ（以上、商品名、本州化学工業（株）製）、ＢＩＲ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＴＢＰ、ＢＩＲ−ＢＩＰＣ−Ｆ（以上、商品名、旭有機材工業（株）製）、４，４’−スルホニルジフェノール、ＢＰＦＬ（商品名、ＪＦＥケミカル（株）製）などが挙げられる。キノンジアジド化合物としては、これらフェノール性水酸基を有する化合物に、４−ナフトキノンジアジドスルホン酸または５−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル結合で導入したものが好ましく、例えば、ＴＨＰ−１７、ＴＤＦ−５１７（商品名、東洋合成工業（株）製）、ＳＢＦ−５２５（商品名、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製）などが挙げられる。
【００５４】
本発明の樹脂組成物中におけるキノンジアジド化合物の含有量は、感度を向上させる観点から、固形分中、０．５重量％以上が好ましく、１重量％以上がより好ましい。一方、キノンジアジド化合物の含有量は、解像度を向上させる観点から、固形分中、２５重量％以下が好ましく、２０重量％以下がより好ましい。
【００５５】
溶媒は、樹脂組成物の粘度を塗布に適した範囲に調整し、隔壁の均一性を向上させる機能を有する。溶媒としては、大気圧下の沸点が１５０℃を超えて２５０℃以下の溶媒と、１５０℃以下の溶媒を組み合わせることが好ましい。
【００５６】
溶媒としては、例えば、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのエーテル類；メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノンなどのケトン類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；エチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのアセテート類；トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの芳香族あるいは脂肪族炭化水素、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。これらを２種以上含有してもよい。これらの中でも、塗布性の観点から、大気圧下の沸点が１５０℃を超えて２５０℃以下の溶媒としてジアセトンアルコールと、１５０℃以下の溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを組み合わせることが好ましい。
【００５７】
溶媒の含有量は、塗布方法などに応じて任意に設定することができる。例えば、スピンコーティングにより膜形成を行う場合には、溶媒の含有量は、樹脂組成物中、５０重量％以上、９５重量％以下とすることが一般的である。
【００５８】
本発明の樹脂組成物は、さらに、リン原子を有する配位性化合物（以下、「配位性化合物」と記載する場合がある）を含有することが好ましい。配位性化合物は、樹脂組成物中の有機金属化合物に配位し、有機金属化合物の溶媒への溶解性を向上させて有機金属化合物の分解を促進し、得られる隔壁のＯＤ値をより向上させることができる。配位性化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ−ｔ−ブチルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、テトラフルオロホウ酸トリ−ｔ−ブチルホスフィン、トリ（２−フリル）ホスフィン、トリス（１−アダマンチル）ホスフィン、トリス（ジエチルアミノ）ホスフィン、トリス（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（Ｏ−トリル）ホスフィンなどが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。本発明の樹脂組成物中における配位性化合物の含有量は、有機金属化合物に対して０．５〜３．０モル当量が好ましい。
【００５９】
本発明の樹脂組成物は、さらに、白色顔料および／または黒色顔料を含有することが好ましい。白色顔料は、隔壁の反射率をより向上させる機能を有する。黒色顔料は、ＯＤ値を調整する機能を有する。
【００６０】
白色顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、これらの複合化合物などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。これらの中でも、反射率が高く工業的利用が容易な二酸化チタンが好ましい。
【００６１】
二酸化チタンの結晶構造は、アナターゼ型、ルチル型およびブルッカイト型に分類される。これらの中でも、光触媒活性が低いことから、ルチル型酸化チタンが好ましい。
【００６２】
白色顔料には、表面処理が施されていてもよい。Ａｌ、ＳｉおよびＺｒから選ばれた金属による表面処理が好ましく、形成した隔壁の耐光性および耐熱性を向上させることができる。
【００６３】
白色顔料のメジアン径は、隔壁の反射率をより向上させる観点から、１００〜５００ｎｍが好ましい。ここで、白色顔料のメジアン径は、粒度分布測定装置（Ｎ４−ＰＬＵＳ；ベックマン・コールター（株）製）などを用いてレーザー回折法により測定された粒度分布から算出することができる。
【００６４】
白色顔料として好ましく用いられる二酸化チタン顔料としては、例えば、Ｒ９６０；デュポン（株）製（ルチル型、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３処理、平均一次粒子径２１０ｎｍ）、ＣＲ−９７；石原産業（株）製（ルチル型、Ａｌ２Ｏ３／ＺｒＯ２処理、平均一次粒子径２５０ｎｍ）、ＪＲ−３０１；テイカ（株）製（ルチル型、Ａｌ２Ｏ３処理、平均一次粒子径３００ｎｍ）、ＪＲ−４０５；テイカ（株）製（ルチル型、Ａｌ２Ｏ３処理、平均一次粒子径２１０ｎｍ）、ＪＲ−６００Ａ；テイカ（株）（ルチル型、Ａｌ２Ｏ３処理、平均一次粒子径２５０ｎｍ）、ＪＲ−６０３；テイカ（株）（ルチル型、Ａｌ２Ｏ３／ＺｒＯ２処理、平均一次粒子径２８０ｎｍ）等が挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００６５】
樹脂組成物における白色顔料の含有量は、反射率をより向上させる観点から、固形分中の２０重量％以上が好ましく、３０重量％以上がより好ましい。一方、隔壁の表面平滑性を向上させる観点から、白色顔料の含有量は、固形分中の６０重量％以下が好ましく、５５重量％以下がより好ましい。
【００６６】
黒色顔料としては、例えば、黒色有機顔料、混色有機顔料、黒色無機顔料等が挙げられる。
【００６７】
黒色有機顔料としては、例えば、カーボンブラック、ペリレンブラック、アニリンブラック、ベンゾフラノン系顔料などが挙げられる。これらは、樹脂で被覆されていてもよい。
【００６８】
混色有機顔料としては、例えば、赤、青、緑、紫、黄色、マゼンダおよびシアン等から選ばれた２種以上の顔料を混合して疑似黒色化したものが挙げられる。これらの中でも、適度に高いＯＤ値とパターン加工性を両立する観点から、赤色顔料と青色顔料との混合顔料が好ましい。混合顔料における赤色顔料と青色顔料の重量比は、２０／８０〜８０／２０が好ましく、３０／７０〜７０／３０がより好ましい。代表的な顔料の具体例をカラーインデックス（ＣＩ）ナンバーで示すと、次のようなものが挙げられる。赤色顔料としては、例えば、ピグメントレッド（以下ＰＲと略す）９、ＰＲ４８、ＰＲ９７、ＰＲ１２２、ＰＲ１２３、ＰＲ１４４、ＰＲ１４９、ＰＲ１６６、ＰＲ１６８、ＰＲ１７７、ＰＲ１７９、ＰＲ１８０、ＰＲ１９２、ＰＲ２０９、ＰＲ２１５、ＰＲ２１６、ＰＲ２１７、ＰＲ２２０、ＰＲ２２３、ＰＲ２２４、ＰＲ２２６、ＰＲ２２７、ＰＲ２２８、ＰＲ２４０、ＰＲ２５４などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。青色顔料としては、例えば、ピグメントブルー（以下ＰＢと略す）１５、ＰＢ１５：３、ＰＢ１５：４、ＰＢ１５：６、ＰＢ２２、ＰＢ６０、ＰＢ６４などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００６９】
黒色無機顔料としては、例えば、グラファイト；チタン、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀、金、白金、パラジウム等の金属の微粒子；金属酸化物；金属複合酸化物；金属硫化物；金属窒化物；金属酸窒化物；金属炭化物などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００７０】
以上の黒色顔料の中でも、高い遮光性を有することから、窒化チタン、窒化ジルコニウム、カーボンブラック、および赤色顔料と青色顔料との重量比２０／８０〜８０／２０の混合顔料から選ばれた顔料が好ましい。さらに、隔壁（Ａ−１）のテーパー角度を後述の好ましい範囲に調整しやすい観点から、窒化チタン、窒化ジルコニウム、および赤色顔料と青色顔料との重量比２０／８０〜８０／２０の混合顔料から選ばれた顔料がより好ましい。
【００７１】
樹脂組成物における黒色顔料の含有量は、反射率およびＯＤを前述の範囲に調整して隣接画素における光の混色をより抑制する観点から、固形分中の０．０１重量％以上が好ましく、０．０５重量％以上がより好ましい。一方、反射率およびＯＤを前述の範囲に調整する観点から、黒色顔料の含有量は、固形分中の５重量％以下が好ましく、３重量％以下がより好ましい。
【００７２】
本発明の樹脂組成物は、さらに、光塩基発生剤を含有することが好ましい。光塩基発生剤を含有することにより、露光工程において塩基を発生して、樹脂組成物中の有機金属化合物の分解・凝集を促進することから、有機金属化合物をより効率よく黒色粒子または黄色粒子に変換し、得られる隔壁のＯＤ値をより向上させることができる。
【００７３】
光塩基発生剤は、光（紫外線、電子線を含む）の照射によって分解および／または反応し、塩基を発生させるものであればどのようなものでもよい。例えば、２−（９−オキソキサンテン−２−イル）プロピオン酸１，５，７−トリアザシクロ［４，４，０］デカ−５−エン、Ｎ−シクロヘキシルカルバミン酸１−（アントラキノン−２−イル）エチル、Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバミン酸９−アントリルメチル、Ｎ−シクロヘキシルカルバミン酸９−アントリルメチル、１−カルボン酸９−アントリルメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバミン酸９−アントリルメチル、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバミン酸１−（アントラキノン−２−イル）エチル、プロピオン酸シクロヘキシルアンモニウム２−（３−ベンゾイルフェニル）、ブチルトリフェニルボロン酸１，２−ジシクロヘキシルー４，４，５，５、−テトラメチルビグアニジニウム、２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオン酸１，２−ジイソプロピル−３−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］グアニジニウム、（２−ニトロフェニル）メチル４−ヒドロキシピペリジン−１−カルボン酸、２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオン酸グアニジニウムなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【００７４】
本発明の樹脂組成物中における光塩基発生剤の含有量は、ＯＤ値をより向上させる観点から、固形分中の０．５重量％以上が好ましい。一方、光塩基発生剤の含有量は、解像度を向上させる観点から、固形分中の２．０重量％以下が好ましい。
【００７５】
本発明の樹脂組成物は、撥液化合物を含有してもよい。撥液化合物とは、樹脂組成物に水や有機溶媒をはじく性質（撥液性能）を付与する化合物である。このような性質を有する化合物であれば特に限定されないが、具体的には、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましく用いられる。撥液化合物を含有することにより、隔壁（Ａ−１）形成後に、隔壁の頂部に撥液性能を付与することができる。それにより、例えば、後述する（Ｂ）色変換発光材料を含有する画素を形成する際に、それぞれの画素に、組成の異なる色変換発光材料を、容易に塗り分けることができる。
【００７６】
撥液化合物としては、例えば、１，１，２，２−テトラフロロオクチル（１，１，２，２−テトラフロロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフロロドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロデカン、Ｎ−［３−（パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル］−Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）、モノパーフルオロアルキルエチルリン酸エステルなどの末端、主鎖および／または側鎖にフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物などが挙げられる。また、市販の撥液化合物としては、“メガファック”（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１８３、Ｆ４４４、Ｆ４７７（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、エフトップＥＦ３０１、３０３、３５２（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（住友スリーエム（株）製））、“アサヒガード”（登録商標）ＡＧ７１０、“サーフロン”（登録商標）Ｓ−３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０２、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０５、ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（裕商（株）製）、ＮＢＸ−１５、ＦＴＸ−２１８、ＤＦＸ−１８（（株）ネオス製）などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。これらの中でも、反応性が高く、樹脂と強固な結合を形成することができることから、光重合性基を有するものがより好ましい。フッ素原子および光重合性基を有する撥液化合物としては、例えば、“メガファック”（登録商標）ＲＳ−７６−Ｅ、ＲＳ−５６、ＲＳ−７２−ｋ、ＲＳ−７５、ＲＳ−７６−Ｅ、ＲＳ−７６−ＮＳ、ＲＳ−７６、ＲＳ−９０（以上、商品名、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。なお、この場合、ネガ型感光性樹脂組成物の光硬化物からなる隔壁（Ａ−１）中においては、光重合性基は光重合されていてもよい。
【００７７】
隔壁の撥液性能を向上させ、インクジェット塗布性を向上させる観点から、樹脂組成物における撥液化合物の含有量は、固形分中の０．０１重量％以上が好ましく、０．１重量％以上がより好ましい。一方、樹脂や白色顔料との相溶性を向上させる観点から、撥液化合物の含有量は、固形分中の１０重量％以下が好ましく、５重量％以下がより好ましい。
【００７８】
また、本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、紫外線吸収剤、重合禁止剤、界面活性剤、密着性改良剤などを含有してもよい。
【００７９】
本発明の樹脂組成物中に紫外線吸収剤を含有することにより、耐光性を向上させ、解像度をより向上させることができる。紫外線吸収剤としては、透明性および非着色性の観点から、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチルフェノール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系化合物；２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物；２−（４，６−ジフェニル−１，３，５トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノールなどのトリアジン系化合物などが好ましく用いられる。
【００８０】
本発明の樹脂組成物中に重合禁止剤を含有することにより、解像度をより向上させることができる。重合禁止剤としては、例えば、ジ−ｔ−ブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、ハイドロキノン、４−メトキシフェノール、１，４−ベンゾキノン、ｔ−ブチルカテコールが挙げられる。また、市販の重合禁止剤としては、“ＩＲＧＡＮＯＸ”（登録商標）１０１０、１０３５、１０７６、１０９８、１１３５、１３３０、１７２６、１４２５、１５２０、２４５、２５９、３１１４、５６５、２９５（以上、商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００８１】
本発明の樹脂組成物中に界面活性剤を含有することにより、塗布時のフロー性を向上させることができる。界面活性剤としては、例えば、“メガファック”（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１８３、Ｆ４４５、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７７（以上、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）、ＮＢＸ−１５、ＦＴＸ−２１８（以上、商品名、（株）ネオス製）などのフッ素系界面活性剤；“ＢＹＫ”（登録商標）−３３３、３０１、３３１、３４５、３０７（以上、商品名、ビックケミー・ジャパン（株）製）などのシリコーン系界面活性剤；ポリアルキレンオキシド系界面活性剤；ポリ（メタ）アクリレート系界面活性剤などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００８２】
本発明の樹脂組成物中に密着性改良剤を含有することにより、下地基板との密着性が向上し、信頼性の高い隔壁を得ることができる。密着性改良剤としては、例えば、脂環式エポキシ化合物や、シランカップリング剤などが挙げられる。これらの中でも、脂環式エポキシ化合物は、耐熱性が高いことから、加熱後の色変化をより抑制することができる。
【００８３】
脂環式エポキシ化合物としては、例えば、３’，４’−エポキシシクロヘキシメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物、ε−カプロラクトン変性３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、ブタンテトラカルボン酸テトラ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）修飾ε−カプロラクトン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＥジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡビス（プロピレングリコールグリシジルエーテル）エーテル、水添ビスフェノールＡビス（エチレングリコールグリシジルエーテル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル等が挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【００８４】
本発明の樹脂組成物中における密着性改良剤の含有量は、下地基板との密着性をより向上させる観点から、固形分中の０．１重量％以上が好ましく、１重量％以上がより好ましい。一方、密着性改良剤の含有量は、加熱による色変化をより抑制する観点から、固形分中の２０重量％以下が好ましく、１０重量％以下がより好ましい。
【００８５】
本発明の樹脂組成物は、例えば、前述の樹脂、有機金属化合物、光重合開始剤またはキノンジアジド化合物、溶媒および必要に応じてその他成分を混合することにより製造することができる。
【００８６】
次に、本発明の遮光膜について説明する。本発明の遮光膜は、前述の本発明の樹脂組成物を硬化して得られる。本発明の遮光膜は、後述の隔壁（Ａ−１）の他、カバー基材用加飾パターンなどのＯＧＳタイプのタッチパネルにおける遮光パターンとして好適に用いることができる。遮光膜の膜厚は、１０μｍ以上が好ましい。
【００８７】
次に、本発明の遮光膜の製造方法について、例を挙げて説明する。本発明の遮光膜の製造方法は、下地基板上に本発明の樹脂組成物を塗布し、乾燥して乾燥膜を得る製膜工程、得られた乾燥膜をパターン露光する露光工程、露光後の乾燥膜における現像液に可溶な部分を溶解除去する現像工程および現像後の乾燥膜を加熱することにより硬化させる加熱工程を有することが好ましい。
【００８８】
本発明の遮光膜の製造方法は、前記加熱工程において、現像後の膜を１２０℃以上２５０℃以下の温度で加熱することにより、膜厚１０μｍあたりのＯＤ値を０．３以上上昇させることを特徴とする。加熱工程時の加熱温度は、ＯＤ値をより向上する観点から、１５０℃以上が好ましく、１８０℃以上がより好ましい。加熱工程時の加熱温度は、加熱する膜のクラック発生を抑制する観点から、２５０℃以下が好ましく、２４０℃以下がより好ましい。加熱時間は１５分間〜２時間が好ましい。本発明の樹脂組成物から形成される膜は、露光時にはＯＤ値が低く、かつ、パターン形成後にＯＤ値が上昇することから、露光工程においては底部まで十分に光硬化させて、後述の好ましいテーパー角度を有する隔壁を得ることができる。加えて、パターン形成後の、ＯＤ値が高いことから高い反射率と遮光性を両立した隔壁を得ることができる。
【００８９】
前記製膜工程における樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、スリットコート法、スピンコート法などが挙げられる。乾燥装置としては、例えば、熱風オーブンやホットプレートなどが挙げられる。乾燥時間は８０〜１２０℃が好ましく、乾燥時間は１〜１５分間が好ましい。
【００９０】
露光工程は、露光により乾燥膜の必要な部分を光硬化させて、または、乾燥膜の不要な部分を光分解させて、乾燥膜の任意の部分を、現像液に可溶とする工程である。露光工程においては、所定の開口部を有するフォトマスクを介して露光してもよいし、フォトマスクを用いずに、レーザー光等を用いて任意のパターンを直接描画してもよい。
【００９１】
露光装置としては、例えば、プロキシミティ露光機が挙げられる。露光工程において照射する活性光線としては、例えば、近赤外線、可視光線、紫外線が挙げられ、紫外線が好ましい。また、その光源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが挙げられ、超高圧水銀灯が好ましい。
【００９２】
露光条件は露光する乾燥膜の厚さにより適宜選択することができる。一般的に、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて、１〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光することが好ましい。
【００９３】
現像工程は、露光後の乾燥膜における現像液に可溶な部分を現像液で溶解除去して、現像液に不溶な部分のみが残存した、任意のパターン形状にパターン形成された乾燥膜（以下、加熱前パターンと呼ぶ）を得る工程である。パターン形状としては、例えば格子状、ストライプ状などの形状が挙げられる。
【００９４】
現像方法としては、例えば、浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが挙げられる。
【００９５】
現像液としては、露光後の乾燥膜における不要な部分を溶解することが可能な溶媒を適宜選択することができ、水を主成分とする水溶液が好ましい。例えば、樹脂組成物がカルボキシル基を有するポリマーを含有する場合、現像液としては、アルカリ水溶液が好ましい。アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カルシウム等の無機アルカリ水溶液；テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等の有機アルカリ水溶液などが挙げられる。これらの中でも、解像度を向上させる観点から、水酸化カリウム水溶液または水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液が好ましい。アルカリ水溶液の濃度は、現像性を向上させる観点から、０．０５重量％以上が好ましく、０．１重量％以上がより好ましい。一方、アルカリ水溶液の濃度は、加熱前パターンの剥離や腐食を抑制する観点から、５重量％以下が好ましく、１重量％以下がより好ましい。現像温度は、工程管理を容易にするため、２０〜５０℃が好ましい。
【００９６】
加熱工程は、現像工程で形成された加熱前パターンを加熱硬化させる工程である。加熱装置としては、例えば、ホットプレート、オーブン等が挙げられる。好ましい加熱温度および加熱時間は先述の通りである。
【００９７】
次に、本発明の隔壁付き基板について説明する。本発明の隔壁付き基板は、下地基板上に（Ａ−１）パターン形成された隔壁（以下、「隔壁（Ａ−１）」と記載する場合がある）を有する。下地基板は、隔壁付き基板における支持体としての機能を有する。隔壁は、後述する色変換発光材料を含有する画素を有する場合、隣接する画素間における光の混色を抑制する機能を有する。
【００９８】
本発明の隔壁付き基板において、隔壁（Ａ−１）は、波長５５０ｎｍにおける厚み１０μｍあたりの反射率が２０％〜６０％、厚み１０μｍあたりのＯＤ値が１．０〜３．０であることを特徴とする。反射率を２０％以上、ＯＤ値を３．０以下とすることにより、（Ａ−１）隔壁側面における反射を利用して表示装置の輝度を向上させることができる。一方、反射率を６０％以下、ＯＤ値を１．０以上とすることにより、隔壁（Ａ−１）を透過する光を抑制して隣接画素間における光の混色を抑制することができる。
【００９９】
図１に、パターン形成された隔壁を有する本発明の隔壁付き基板の一態様の断面図を示す。下地基板１上に、パターン形成された隔壁２を有する。
【０１００】
＜下地基板＞
下地基板としては、例えば、ガラス板、樹脂板、樹脂フイルムなどが挙げられる。ガラス板の材質としては、無アルカリガラスが好ましい。樹脂板および樹脂フイルムの材質としては、ポリエステル、（メタ）アクリルポリマ、透明ポリイミド、ポリエーテルスルフォン等が好ましい。ガラス板および樹脂板の厚みは、１ｍｍ以下が好ましく、０．８ｍｍ以下が好ましい。樹脂フイルムの厚みは、１００μｍ以下が好ましい。
【０１０１】
＜隔壁（Ａ−１）＞
隔壁（Ａ−１）は、波長５５０ｎｍにおける厚み１０μｍあたりの反射率が２０〜６０％、ＯＤ値が１．０〜３．０であることを特徴とする。ここで、隔壁（Ａ−１）の厚みとは、隔壁（Ａ−１）の下地基板と垂直な方向（高さ方向）の長さを指す。図１に示す隔壁付き基板の場合、隔壁２の厚みは符号Ｈで表される。なお、隔壁（Ａ−１）の下地基板と水平な方向の長さは、隔壁（Ａ−１）の幅とする。図１に示す隔壁付き基板の場合、隔壁２の幅は符号Ｌで表される。
【０１０２】
本発明においては、隔壁側面における反射率が表示装置の輝度向上に、隔壁の遮光性が混色抑制に、それぞれ寄与すると考えられる。一方で、厚みあたりの反射率およびＯＤ値は、厚み方向、幅方向によらず同じであると考えられるため、本発明においては、隔壁の厚みあたりの反射率およびＯＤ値に着目する。なお、後述するとおり、隔壁（Ａ−１）の厚みは０．５〜５０μｍが好ましく、幅は５〜４０μｍが好ましい。そこで、本発明においては、隔壁（Ａ−１）の厚みの代表値として１０μｍを選択し、厚み１０μｍあたりの反射率およびＯＤ値に着目した。
【０１０３】
厚み１０μｍあたりの反射率が２０％未満であると、隔壁側面における反射が小さくなり、表示装置の輝度が不十分となる。厚み１０μｍあたりの反射率は、３０％以上が好ましく、３５％以上がより好ましい。反射率が高いほど、隔壁側面における反射が大きくなるため、表示装置の輝度を向上できるが、反射率が６０％を超えると、隣接画素間において光の混色が発生する。厚み１０μｍあたりの反射率は、４４％以下がより好ましい。
【０１０４】
また、厚み１０μｍあたりのＯＤ値が１．０未満であると、隣接画素間において光の混色が発生する。厚み１０μｍあたりのＯＤ値は、１．５以上が好ましく、２．０以上がより好ましい。一方、厚み１０μｍあたりのＯＤ値が３．０を超えると、隔壁側面における反射が小さくなり、表示装置の輝度が不十分となる。厚み１０μｍあたりのＯＤ値は、２．５以下がより好ましい。
【０１０５】
隔壁（Ａ−１）の波長５５０ｎｍにおける厚み１０μｍあたりの反射率は、厚み１０μｍの隔壁（Ａ−１）について、上面から分光測色計（例えば、コニカミノルタ（株）製ＣＭ−２６００ｄ）を用いて、ＳＣＩモードにより測定することができる。ただし、測定に十分な面積を確保できない場合や、厚み１０μｍの測定サンプルが採取できない場合において、隔壁（Ａ−１）の組成が既知である場合には、隔壁（Ａ−１）と同組成の厚み１０μｍのベタ膜を作製し、隔壁（Ａ−１）にかえてベタ膜について同様に反射率を測定することにより、厚み１０μｍあたりの反射率を求めてもよい。例えば、隔壁（Ａ−１）を形成した材料を用いて、厚みを１０μｍとし、パターン形成しないこと以外は隔壁（Ａ−１）の形成と同じ加工条件によりベタ膜を作製し、得られたベタ膜について、上面から、同様に反射率を測定してもよい。
【０１０６】
隔壁（Ａ−１）の厚み１０μｍあたりのＯＤ値は、厚み１０μｍの隔壁（Ａ−１）について、上面から光学濃度計（例えば、Ｘ−ｒｉｔｅ社製３６１Ｔ（ｖｉｓｕａｌ））を用いて入射光および透過光の強度を測定し、下記式（１）により算出することができる。ただし、測定に十分な面積を確保できない場合や、厚み１０μｍの測定サンプルが採取できない場合において、隔壁（Ａ−１）の組成が既知である場合には、反射率の測定と同様に、隔壁（Ａ−１）と同組成の厚み１０μｍのベタ膜を作製し、隔壁（Ａ−１）にかえてベタ膜について同様にＯＤ値を測定することにより、厚み１０μｍあたりのＯＤ値を求めてもよい。
ＯＤ値  ＝  ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）  ・・・  （１）
Ｉ０  ：  入射光強度
Ｉ  ：  透過光強度。
【０１０７】
なお、反射率およびＯＤ値を上記範囲にするための手段としては、例えば、隔壁（Ａ−１）を後述する好ましい組成とすることなどが挙げられる。
【０１０８】
隔壁（Ａ−１）のテーパー角度は、４５°〜１１０°が好ましい。隔壁（Ａ−１）のテーパー角度とは、隔壁断面の側辺と底辺とがなす角度を指す。図１に示す隔壁付き基板の場合、隔壁２のテーパー角度は符号θで表される。テーパー角度を４５°以上とすることにより、隔壁（Ａ−１）の上部と底部の幅の差が小さくなり、隔壁（Ａ−１）の幅を後述する好ましい範囲に容易に形成することができる。テーパー角度は、７０°以上がより好ましい。一方、テーパー角度を１１０°以下とすることにより、後述する（Ｂ）色変換発光材料を含有する画素を、インクジェット塗布により形成する際に、インクの決壊を抑制し、インクジェット塗布性を向上させることができる。ここで、インクの決壊とは、インクが隔壁を乗り越えて隣の画素部分に混入する現象のことを言う。テーパー角度は、９５°以下がより好ましい。隔壁（Ａ−１）のテーパー角度は、隔壁（Ａ−１）の任意の断面を、光学顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ（例えば、（株）日立製作所製Ｓ−４８００））を用いて、加速電圧３．０ｋＶ、倍率２，５００倍で観察し、隔壁（Ａ−１）の断面の側辺と底辺とがなす角度を測定することにより求めることができる。
【０１０９】
なお、隔壁（Ａ−１）のテーパー角度を上記範囲にするための手段としては、例えば、隔壁（Ａ−１）を後述する好ましい組成とすること、前述の本発明の樹脂組成物を用いて形成することなどが挙げられる。
【０１１０】
隔壁（Ａ−１）の厚みは、隔壁付き基板が後述する（Ｂ）色変換発光材料を含有する画素を有する場合には、その画素の厚みよりも大きいことが好ましい。具体的には、隔壁（Ａ−１）の厚みは、０．５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましい。一方、画素底部における発光をより効率良く取り出す観点から、隔壁（Ａ−１）の厚みは、５０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。また、隔壁（Ａ−１）の幅は、隔壁側面における光反射を利用し輝度をより向上させ、光漏れによる隣接画素における光の混色をより抑制するために十分なものであることが好ましい。具体的には、隔壁の幅は、５μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がより好ましい。一方、画素の発光領域を多く確保して輝度をより向上させる観点から、隔壁（Ａ−１）の幅は、５０μｍ以下が好ましく、４０μｍ以下がより好ましい。
【０１１１】
隔壁（Ａ−１）は、画像表示装置の画面サイズに応じた所定画素数分の繰り返しパターンを有している。画像表示装置の画素数としては、例えば、横に４０００個、縦に２０００個が挙げられる。画素数は、表示される画像の解像度（きめ細かさ）に影響する。そのため、要求される画像の解像度と画像表示装置の画面サイズに応じた数の画素を形成する必要があり、それに併せて、隔壁のパターン形成寸法を決定することが好ましい。
【０１１２】
隔壁（Ａ−１）は、樹脂と、白色顔料と、酸化パラジウム、酸化白金、酸化金、酸化銀、パラジウム、白金、金および銀からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属酸化物または金属からなる粒子（以下、「金属酸化物粒子または金属粒子」と記載する場合がある）とを含有することが好ましい。樹脂は、隔壁のクラック耐性および耐光性を向上させる機能を有する。白色顔料は、隔壁の反射率をより向上させる機能を有する。金属酸化物粒子または金属粒子は、ＯＤ値を調整し、隣接画素における光の混色を抑制する機能を有する。
【０１１３】
樹脂と白色顔料は、樹脂組成物を構成する材料として先に説明した通りである。隔壁（Ａ−１）中の樹脂の含有量は、熱処理における隔壁のクラック耐性を向上させる観点から、１０重量％以上が好ましく、２０重量％以上がより好ましい。一方、耐光性を向上させる観点から、隔壁（Ａ−１）中の樹脂の含有量は、６０重量％以下が好ましく、５０重量％以下がより好ましい。
【０１１４】
隔壁（Ａ−１）中の白色顔料の含有量は、反射率をより向上させる観点から、２０重量％以上が好ましく、３０重量％以上がより好ましい。一方、隔壁の表面平滑性を向上させる観点から、隔壁（Ａ−１）中の白色顔料の含有量は、６０重量％以下が好ましく、５５重量％以下がより好ましい。
【０１１５】
金属酸化物粒子または金属粒子は、先述した樹脂組成物中の有機金属化合物が露光工程および／または加熱工程において、分解・凝集することにより発生した黒色粒子または黄色粒子を指す。隔壁（Ａ−１）中の金属酸化物粒子または金属粒子の含有量は、反射率およびＯＤを前述の範囲に調整して隣接画素における光の混色をより抑制する観点から、０．２重量％以上が好ましく、０．５重量％以上がより好ましい。一方、反射率およびＯＤを前述の範囲に調整する観点から、隔壁（Ａ−１）中の金属酸化物粒子または金属粒子の含有量は、５重量％以下が好ましく、３重量％以下がより好ましい。
【０１１６】
隔壁（Ａ−１）は、さらに撥液化合物を含有することが好ましい。撥液化合物を含有することにより、隔壁（Ａ−１）に撥液性能を付与することができ、例えば、後述する（Ｂ）色変換発光材料を含有する画素を形成する際に、それぞれの画素に、組成の異なる色変換発光材料を、容易に塗り分けることができる。撥液化合物は、樹脂組成物を構成する材料として先述した通りである。
【０１１７】
隔壁の撥液性能を向上させ、インクジェット塗布性を向上させる観点から、隔壁（Ａ−１）中の撥液化合物の含有量は、０．０１重量％以上が好ましく、０．１重量％以上がより好ましい。一方、樹脂や白色顔料との相溶性を向上させる観点から、隔壁（Ａ−１）中の撥液化合物の含有量は、１０重量％以下が好ましく、５重量％以下がより好ましい。
【０１１８】
隔壁（Ａ−１）の、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する表面接触角は、インクジェット塗布性を向上させ、色変換発光材料の塗り分けを容易にする観点から、１０°以上が好ましく、２０°以上がより好ましく、４０°以上がさらに好ましい。一方、隔壁と下地基板との密着性を向上させる観点から、隔壁（Ａ−１）の表面接触角は、７０°以下が好ましく、６０°以下がより好ましい。ここで、隔壁（Ａ−１）の表面接触角は、隔壁上部に対して、ＪＩＳ  Ｒ３２５７（制定年月日＝１９９９／０４／２０）に規定される基板ガラス表面のぬれ性試験方法に準拠して測定することができる。なお、隔壁（Ａ−１）の表面接触角を前記範囲にする方法としては、例えば、前述の撥液化合物を用いる方法などが挙げられる。
【０１１９】
下地基板上に隔壁（Ａ−１）をパターン形成する方法としては、パターン形状の調整が容易であることから、感光性ペースト法が好ましい。感光性ペースト法により隔壁をパターン形成する方法としては、例えば、下地基板上に、前述の樹脂組成物を塗布し、乾燥して乾燥膜を得る塗布工程、得られた乾燥膜を、所望のパターン形状に応じてパターン露光する露光工程、露光後の乾燥膜における現像液に可溶な部分を溶解除去する現像工程および現像後の隔壁を硬化させる加熱工程を有する方法が好ましい。樹脂組成物は、ポジ型またはネガ型の感光性を持たせることが好ましい。パターン露光は、所定の開口部を有するフォトマスクを介して露光してもよいし、フォトマスクを用いずに、レーザー光等を用いて任意のパターンを直接描画してもよい。なお、隔壁付き基板が後述する遮光隔壁（Ａ−２）を有する場合は、遮光隔壁（Ａ−２）上に、同様にして隔壁（Ａ−１）をパターン形成することができる。各工程については、遮光膜の製造方法として先に説明した通りである。
【０１２０】
＜遮光隔壁（Ａ−２）＞
本発明の隔壁付き基板は、前記下地基板と（Ａ−１）パターン形成された隔壁との間に、さらに、さらに、（Ａ−２）厚み１．０μｍあたりのＯＤ値が０．５以上である、パターン形成された隔壁（以下、「遮光隔壁（Ａ−２）」と記載する場合がある）を有することが好ましい。遮光隔壁（Ａ−２）を有することにより、遮光性を向上させて表示装置におけるバックライトの光漏れを抑制し、高コントラストで鮮明な画像を得ることができる。
【０１２１】
図６に、遮光隔壁を有する本発明の隔壁付き基板の一態様を示す断面図を示す。下地基板１上に、パターン形成された隔壁２および遮光隔壁７を有し、隔壁２および遮光隔壁７によって隔てられた領域に画素３が配列されている。
【０１２２】
遮光隔壁（Ａ−２）は、厚み１．０μｍあたりのＯＤ値が０．５以上である。ここで、遮光隔壁（Ａ−２）の厚みは、後述するとおり、０．５〜１０μｍが好ましい。そこで、本発明においては、隔壁（Ａ−２）の厚みの代表値として１．０μｍを選択し、厚み１．０μｍあたりのＯＤ値に着目した。厚み１．０μｍあたりのＯＤ値を０．５以上とすることにより、遮光性をより向上させ、より高コントラストで鮮明な画像を得ることができる。厚み１．０μｍあたりのＯＤ値は、１．０以上がより好ましい。一方、厚み１．０μｍあたりのＯＤ値は４．０以下が好ましく、パターン加工性を向上させることができる。厚み１．０μｍあたりのＯＤ値は、３．０以下がより好ましい。遮光隔壁（Ａ−２）のＯＤ値は、前述の隔壁（Ａ−１）のＯＤ値と同様に測定することができる。なお、ＯＤ値を上記範囲にするための手段としては、例えば、遮光隔壁（Ａ−２）を後述する好ましい組成とすることなどが挙げられる。
【０１２３】
遮光隔壁（Ａ−２）の厚みは、遮光性を向上させる観点から、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。一方、平坦性を向上させる観点から、遮光隔壁（Ａ−２）の厚みは、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましい。また、遮光隔壁（Ａ−２）の幅は、前述の隔壁（Ａ−１）と同程度が好ましい。
【０１２４】
遮光隔壁（Ａ−２）は、樹脂および黒色顔料を含有することが好ましい。樹脂は、隔壁のクラック耐性および耐光性を向上させる機能を有する。黒色顔料は、入射した光を吸収し、射出光を低減する機能を有する。
【０１２５】
樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、（メタ）アクリルポリマ、ポリウレタン、ポリエステル、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシロキサンなどが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。これらの中でも、耐熱性および溶媒耐性に優れることから、ポリイミドが好ましい。
【０１２６】
黒色顔料としては、前述の樹脂組成物中における黒色顔料として例示したものや、酸化パラジウム、酸化白金、酸化金、酸化銀などが挙げられる。高い遮光性を有することから、窒化チタン、窒化ジルコニウム、カーボンブラック、酸化パラジウム、酸化白金、酸化金および酸化銀から選ばれた黒色顔料が好ましい。
【０１２７】
下地基板上に遮光隔壁（Ａ−２）をパターン形成する方法としては、例えば、特開２０１５−１６５４号公報に記載の感光性材料を用いて、前述の隔壁（Ａ−１）と同様に感光性ペースト法によりパターン形成する方法が好ましい。
【０１２８】
本発明の隔壁付き基板は、さらに、前記隔壁（Ａ−１）によって隔てられて配列した（Ｂ）色変換発光材料を含有する画素（以下、「画素（Ｂ）」と記載する場合がある）を有することが好ましい。画素（Ｂ）は、入射光の波長領域の少なくとも一部を変換して、入射光とは異なる波長領域の出射光を放出することにより、カラー表示を可能にする機能を有する。
【０１２９】
図２に、パターン形成された隔壁（Ａ−１）と色変換発光材料を含有する画素（Ｂ）を有する本発明の隔壁付き基板の一態様の断面図を示す。下地基板１上に、パターン形成された隔壁２を有し、隔壁２によって隔てられた領域に画素３が配列されている。
【０１３０】
色変換材料は、無機蛍光体および有機蛍光体から選ばれた蛍光体を含有することが好ましい。
【０１３１】
本発明の隔壁付き基板は、例えば、青色光を発光するバックライトとＴＦＴ上に形成された液晶と画素（Ｂ）を組み合わせて、表示装置として用いることができる。この場合、赤色画素に対応する領域には、青色の励起光により励起されて赤色の蛍光を発する赤色用蛍光体を含有することが好ましい。同様に、緑色画素に対応する領域には、青色の励起光により励起されて緑色の蛍光を発する緑色用蛍光体を含有することが好ましい。青色画素に対応する領域には、蛍光体を含有しないことが好ましい。
【０１３２】
基板上に白色の隔壁によって分離された、各画素に対応した青色ＬＥＤを多数並べた青色マイクロＬＥＤをバックライトとして用いる方式の表示装置にも、本発明の隔壁付き基板を用いることができる。各画素のＯＮ／ＯＦＦは、青色マイクロＬＥＤのＯＮ／ＯＦＦによって可能となり、液晶は必要ない。本発明の隔壁付き基板は、各画素を分離する隔壁と、バックライトにおいて青色マイクロＬＥＤを分離する隔壁のいずれにも用いることができる。
【０１３３】
無機蛍光体としては、青色の励起光により緑色や赤色などの各色を発光するもの、すなわち、波長４００〜５００ｎｍの励起光により励起され、発光スペクトルが５００〜７００ｎｍの領域にピークを有するものが好ましい。かかる無機蛍光体としては、例えば、ＹＡＧ系蛍光体、ＴＡＧ系蛍光体、サイアロン系蛍光体、Ｍｎ４＋付活フッ化物錯体蛍光体、量子ドットと称される無機半導体等が挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。これらの中でも、量子ドットが好ましい。量子ドットは他の蛍光体に比較して平均粒子径が小さいことから、（Ｂ）画素の表面を平滑化して表面における光散乱を抑制することができるため、光の取り出し効率をより向上させ、輝度をより向上させることができる。
【０１３４】
量子ドットとしては、例えば、ＩＩ−ＩＶ族、ＩＩＩ−Ｖ族、ＩＶ−ＶＩ族、ＩＶ族の半導体などからなる粒子が挙げられる。これらの無機半導体としては、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｂ、Ｃ（ダイアモンドを含む）、Ｐ、ＢＮ、ＢＰ、ＢＡｓ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＳｅＺｎ、ＣｄＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＢｅＳ、ＢｅＳｅ、ＢｅＴｅ、ＭｇＳ、ＭｇＳｅ、ＧｅＳ、ＧｅＳｅ、ＧｅＴｅ、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＯ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、ＣｕＦ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、Ｓｉ３Ｎ４、Ｇｅ３Ｎ４、Ａｌ２Ｏ３などが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【０１３５】
量子ドットは、ｐ型ドーパントまたはｎ型ドーパントを含有してもよい。また、量子ドットは、コアシェル構造を有してもよい。コアシェル構造においては、シェルの周囲に目的に応じて任意の適切な機能層（単一層または複数層）が形成されていてもよく、シェル表面に表面処理および／または化学修飾がなされていてもよい。
【０１３６】
量子ドットの形状としては、例えば、球状、柱状、燐片状、板状、不定形等が挙げられる。量子ドットの平均粒子径は、所望の発光波長に応じて任意に選択することができ、１〜３０ｎｍが好ましい。量子ドットの平均粒子径が１〜１０ｎｍであれば、青色、緑色および赤色のそれぞれにおいて、発光スペクトルにおけるピークをよりシャープにすることができる。量子ドットの平均粒子径は２ｎｍ以上が好ましく、８ｎｍ以下が好ましい。例えば、量子ドットの平均粒子径が約２ｎｍの場合には青色光を、約３ｎｍの場合には緑色光を、約６ｎｍの場合には赤色光を発光する。量子ドットの平均粒子径は、動的光散乱法により測定することができる。平均粒子径の測定装置としては、ダイナミック光散乱光度計ＤＬＳ−８０００（大塚電子（株）製）などが挙げられる。
【０１３７】
有機蛍光体としては、青色の励起光により緑色や赤色などの各色を発光するものが好ましい。赤色の蛍光を発する蛍光体として、下記構造式（８）で表される基本骨格を有するピロメテン誘導体、緑色の蛍光を発する蛍光体として、下記構造式（９）で表される基本骨格を有するピロメテン誘導体などが挙げられる。その他には、置換基の選択により赤色または緑色の蛍光を発するペリレン系誘導体、ポルフィリン系誘導体、オキサジン系誘導体、ピラジン系誘導体などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。これらの中でも、量子収率が高いことから、ピロメテン誘導体が好ましい。ピロメテン誘導体は、例えば、特開２０１１−２４１１６０号公報に記載の方法により得ることができる。
【０１３８】
【化４】
0006908116.tif 000005
【０１３９】
有機蛍光体は溶媒に可溶なため、所望の厚みの画素（Ｂ）を容易に形成することができる。
【０１４０】
画素（Ｂ）の厚みは、色特性を向上させる観点から、０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。一方、画素（Ｂ）の厚みは、表示装置の薄型化や曲面加工性の観点から、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。
【０１４１】
各画素（Ｂ）の大きさは、２０〜２００μｍ程度が一般的である。
【０１４２】
画素（Ｂ）は、隔壁（Ａ−１）によって隔てられて配列していることが好ましい。画素と画素の間に隔壁を設けることにより、発光した光の拡散や混色をより抑制することができる。
【０１４３】
画素（Ｂ）の形成方法としては、例えば、色変換発光材料を含有する塗液（以下、色変換発光材料塗液）を、隔壁（Ａ−１）によって隔てられた空間に充填する方法が挙げられる。色変換発光材料塗液は、さらに樹脂や溶媒を含有してもよい。
【０１４４】
色変換発光材料塗液の充填方法としては、各画素に種類の異なる色変換発光材料を容易に塗り分ける観点から、インクジェット塗布法などが好ましい。
【０１４５】
得られた塗布膜を減圧乾燥および／または加熱乾燥してもよい。減圧乾燥する場合、乾燥溶媒が減圧チャンバー内壁に再凝縮することを防ぐために、減圧乾燥温度は、８０℃以下が好ましい。減圧乾燥の圧力は、塗布膜に含まれる溶媒の蒸気圧以下が好ましく、１〜１０００Ｐａが好ましい。減圧乾燥時間は、１０〜６００秒間が好ましい。加熱乾燥する場合、加熱乾燥装置としては、例えば、オーブンやホットプレートなどが挙げられる。加熱乾燥温度は、６０〜２００℃が好ましい。加熱乾燥時間は、１〜６０分間が好ましい。
【０１４６】
本発明の隔壁付き基板は、画素（Ｂ）上に、さらに、（Ｃ）波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．３５である低屈折率層（以下、「低屈折率層（Ｃ）」と記載する場合がある）を有することが好ましい。低屈折率層（Ｃ）を有することにより、光の取り出し効率をより向上させ、表示装置の輝度をより向上させることができる。
【０１４７】
図３に、低屈折率層を有する本発明の隔壁付き基板の一態様の断面図を示す。下地基板１上に、パターン形成された隔壁２および画素３を有し、これらの上に、さらに低屈折率層４を有する。
【０１４８】
表示装置において、バックライトの光の反射を適度に抑えて画素（Ｂ）に効率よく光を入射させる観点から、低屈折率層（Ｃ）の屈折率は、１．２０以上が好ましく、１．２３以上がより好ましい。一方、輝度を向上させる観点から、低屈折率層（Ｃ）の屈折率は、１．３５以下が好ましく、１．３０以下がより好ましい。ここで、低屈折率層（Ｃ）の屈折率は、プリズムカプラーを用いて、大気圧下、２０℃の条件で、硬化膜面に対し垂直方向から波長５５０ｎｍの光を照射して測定することができる。
【０１４９】
低屈折率層（Ｃ）は、ポリシロキサンおよび中空構造を有しないシリカ粒子を含有することが好ましい。ポリシロキサンは、シリカ粒子などの無機粒子との相溶性が高く、透明な層を形成することができるバインダーとして機能する。また、シリカ粒子を含有することにより、低屈折率層（Ｃ）の中に微小な空隙を効率よく形成して屈折率を低減することができ、屈折率を前述の範囲に容易に調整することができる。さらに、中空構造を有しないシリカ粒子を用いることにより、硬化収縮時のクラックを生じやすい中空構造を有しないため、クラックを抑制することができる。なお、低屈折率層（Ｃ）において、ポリシロキサンと中空構造を有しないシリカ粒子は、それぞれ独立して含有されていてもよいし、ポリシロキサンと中空構造を有しないシリカ粒子とが結合した状態で含有されていてもよい。低屈折率層（Ｃ）の均一性の観点から、ポリシロキサンと中空構造を有しないシリカ粒子とが結合した状態で含有されていることが好ましい。
【０１５０】
低屈折率層（Ｃ）に含まれるポリシロキサンは、フッ素を含有することが好ましい。フッ素を含有することにより、低屈折率層（Ｃ）の屈折率を１．２０〜１．３５に容易に調整することができる。フッ素含有ポリシロキサンは、少なくとも下記一般式（１０）で表されるフッ素含有アルコキシシラン化合物を含む複数のアルコキシシラン化合物を加水分解および重縮合することにより得ることができる。さらに他のアルコキシシラン化合物を用いてもよい。
【０１５１】
【化５】
0006908116.tif 000006
【０１５２】
上記一般式（１０）中、Ｒ７はフッ素数３〜１７のフルオロアルキル基を表す。Ｒ６は、一般式（５）〜（７）におけるＲ６と同じ基を表す。ｍは１または２を表す。４−ｍ個のＲ６およびｍ個のＲ７は、それぞれ同じでも異なってもよい。
【０１５３】
一般式（１０）で表されるフッ素含有アルコキシシラン化合物としては、例えば、トリフルオロエチルトリメトキシシラン、トリフルオロエチルトリエトキシシラン、トリフルオロエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリイソプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロエチルメチルジメトキシシラン、トリフルオロエチルメチルジエトキシシラン、トリフルオロエチルメチルジイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジイソプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルメチルジメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルメチルジエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルメチルジイソプロポキシシラン、トリフルオロエチルエチルジメトキシシラン、トリフルオロエチルエチルジエトキシシラン、トリフルオロエチルエチルジイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルエチルジイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルエチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルエチルジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルエチルジイソプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルエチルジエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルエチルジメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルエチルジイソプロポキシシランなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【０１５４】
低屈折率層（Ｃ）におけるポリシロキサンの含有量は、クラックを抑制する観点から、４重量％以上が好ましい。一方、ポリシロキサンの含有量は、シリカ粒子間のネットワークによるチキソ性を確保し、低屈折率層（Ｃ）中に適度に空気層を保ち、屈折率をより低減する観点から、３２重量％以下が好ましい。
【０１５５】
低屈折率層（Ｃ）における中空構造を有しないシリカ粒子としては、例えば、日産化学工業（株）製“スノーテックス”（登録商標）や“オルガノシリカゾル”（登録商標）シリーズ（イソプロピルアルコール分散液、エチレングリコール分散液、メチルエチルケトン分散液、ジメチルアセトアミド分散液、メチルイソブチルケトン分散液、プロピレングリコールモノメチルアセテート分散液、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散液、メタノール分散液、酢酸エチル分散液、酢酸ブチル分散液、キシレン−ｎ−ブタノール分散液、トルエン分散液など。品番ＰＧＭ−ＳＴ、ＰＭＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰなど）が挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【０１５６】
低屈折率層（Ｃ）中における中空構造を有しないシリカ粒子の含有量は、シリカ粒子間のネットワークによるチキソ性を確保し、低屈折率層（Ｃ）中に適度に空気層を保ち、屈折率をより低減する観点から、６８重量％以上が好ましい。一方、中空構造を有しないシリカ粒子の含有量は、クラックを抑制する観点から、９６重量％以下が好ましい。
【０１５７】
低屈折率層（Ｃ）の厚みは、画素（Ｂ）の段差をカバーして欠陥の発生を抑制する観点から、０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましい。一方、低屈折率層（Ｃ）の厚みは、低屈折率層（Ｃ）のクラックの原因となるストレスを低減する観点から、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましい。
【０１５８】
低屈折率層（Ｃ）の形成方法としては、形成方法が容易であることから、塗布法が好ましい。例えば、ポリシロキサンとシリカ粒子を含有する低屈折率用樹脂組成物を画素（Ｂ）上に塗布し、乾燥した後、加熱することにより、低屈折率層（Ｃ）を形成することができる。
【０１５９】
また、本発明の隔壁付き基板は、前記低屈折率層（Ｃ）上に、さらに、厚み５０〜１，０００ｎｍの無機保護層Ｉを有することが好ましい。無機保護層Ｉを有することにより、大気中の水分が低屈折率層（Ｃ）に到達しにくくなるため、低屈折率層（Ｃ）の屈折率変動を抑制し、輝度劣化を抑制することができる。
【０１６０】
図４に、低屈折率層および無機保護層Ｉを有する本発明の隔壁付き基板の一態様の断面図を示す。下地基板１上に、パターン形成された隔壁２および画素３を有し、これらの上に、さらに低屈折率層４および無機保護層Ｉ５を有する。
【０１６１】
また、本発明の隔壁付き基板は、前記画素（Ｂ）と前記低屈折率層（Ｃ）の間に、さらに、厚み５０〜１，０００ｎｍの無機保護層ＩＩを有することが好ましい。無機保護層ＩＩを有することにより、画素（Ｂ）から、低屈折率層に、画素（Ｂ）を形成する原料が移動しにくくなるため、低屈折率層（Ｃ）の屈折率変動を抑制し、輝度劣化を抑制することができる。
【０１６２】
図５に、低屈折率層および無機保護層ＩＩを有する本発明の隔壁付き基板の一態様の断面図を示す。下地基板１上に、パターン形成された隔壁２および画素３を有し、これらの上に、さらに無機保護層ＩＩ６および低屈折率層４を有する。
【０１６３】
また、本発明の隔壁付き基板は、下地基板と前記画素（Ｂ）の間に、さらに、厚み１〜５μｍのカラーフィルター（以下、「カラーフィルター」と記載する場合がある）を有することが好ましい。カラーフィルターは、特定波長域の可視光を透過させて透過光を所望の色相とする機能を有する。カラーフィルターを有することにより、表示装置の色純度を向上させることができる。カラーフィルターの厚みを１μｍ以上とすることにより、色純度をより向上させることができる。一方、カラーフィルターの厚みを５μｍ以下とすることにより、輝度をより向上させることができる。
【０１６４】
図６に、カラーフィルターを有する本発明の隔壁付き基板の一態様の断面図を示す。下地基板１上に、パターン形成された隔壁２およびカラーフィルター７を有し、カラーフィルター７上に画素３を有する。
【０１６５】
カラーフィルターとしては、例えば、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに用いられる、フォトレジストに顔料を分散させた顔料分散型材料を用いたカラーフィルターなどが挙げられる。より具体的には、４００ｎｍ〜５５０ｎｍの波長を選択的に透過する青色カラーフィルター、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長を選択的に透過する緑色カラーフィルター、５００ｎｍ以上の波長を選択的に透過する黄色カラーフィルター、６００ｎｍ以上の波長を選択的に透過する赤色カラーフィルターなどが挙げられる。また、カラーフィルターは、色変換発光材料を含有する画素（Ｂ）から離隔して積層されていてもよいし、一体化して積層されていてもよい。
【０１６６】
また、本発明の隔壁付き基板は、カラーフィルターと前記画素（Ｂ）の間に、さらに厚み５０〜１，０００ｎｍの無機保護層ＩＩＩおよび／または黄色有機保護層を有することが好ましい。無機保護層ＩＩＩを有することにより、カラーフィルターから、色変換発光材料を含有する画素（Ｂ）に、カラーフィルターの形成原料が到達しにくくなるため、色変換発光材料を含有する画素（Ｂ）の輝度劣化を抑制することができる。また、黄色有機保護層を有することにより、色変換発光材料を含有する画素（Ｂ）によって変換しきれなかった青色漏れ光をカットし、色再現性を向上させることができる。
【０１６７】
図７に、カラーフィルターおよび無機保護層ＩＩＩおよび／または黄色有機保護層を有する本発明の隔壁付き基板の一態様の断面図を示す。下地基板１上に、パターン形成された隔壁２およびカラーフィルター７を有し、これらの上に、無機保護層ＩＩＩおよび／または黄色有機保護層８を有し、無機保護層ＩＩＩおよび／または黄色有機保護層８で覆われた隔壁２で隔てられて配列した画素３を有する。
【０１６８】
また、本発明の隔壁付き基板は、前記下地基板上に、さらに厚み５０〜１，０００ｎｍの無機保護層ＩＶおよび／または黄色有機保護層を有することが好ましい。無機保護層ＩＶおよび／または黄色有機保護層が屈折率調整層として作用し、画素（Ｂ）から出る光をより効率的に取り出し、表示装置の輝度をより向上させることができる。また、黄色有機保護層は、色変換発光材料を含有する画素（Ｂ）によって変換しきれなかった青色漏れ光をカットし、色再現性を向上させることができる。無機保護層ＩＶおよび／または黄色有機保護層は、下地基板と隔壁（Ａ）および画素（Ｂ）との間に設けられることがより好ましい。
【０１６９】
図８に、無機保護層ＩＶおよび／または黄色有機保護層を有する本発明の隔壁付き基板の一態様の断面図を示す。下地基板１上に、無機保護層ＩＶおよび／または黄色有機保護層９を有し、これらの上にパターン形成された隔壁２およびカラーフィルター７を有し、これらの上に、パターン形成された隔壁２および画素３を有する。
【０１７０】
無機保護層Ｉ〜ＩＶを構成する材料としては、例えば、酸化ケイ素、酸化インジウムスズ、酸化ガリウム亜鉛などの金属酸化物；窒化ケイ素などの金属窒化物；フッ化マグネシウムなどのフッ化物等が挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。これらの中でも、水蒸気透過性が低く、透過性が高いことから、窒化ケイ素または酸化ケイ素がより好ましい。
【０１７１】
無機保護層Ｉ〜ＩＶの厚みは、水蒸気等の物質透過を充分に抑制する観点から、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。一方、透過率の低下を抑制する観点から、無機保護層Ｉ〜ＩＶの厚みは、８００ｎｍ以下が好ましく、５００ｎｍ以下がより好ましい。
【０１７２】
無機保護層Ｉ〜ＩＶの厚みは、クロスセクションポリッシャー等の研磨装置を用いて、下地基板に対して垂直な断面を露出させ、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡を用いて断面を拡大観察することにより測定することができる。
【０１７３】
無機保護層Ｉ〜ＩＶの形成方法としては、例えば、スパッタ法などが挙げられる。無機保護層は、無色透明または黄色透明であることが好ましい。
【０１７４】
黄色有機保護層は、例えば、有機金属化合物として、銀を含有する有機金属化合物を含有する本発明の樹脂組成物をパターン加工して得られる。銀を含有する有機金属化合物は、先述の通り、パターン形成に際し、加熱工程において分解・凝集することにより黄色粒子となり、保護層を黄色化する機能を有する。銀を含有する有機金属化合物としては、例えば、ネオデカン酸銀、オクチル酸銀、サリチル酸銀などが挙げられる。これらの中でも、より黄色化する観点から、ネオデカン酸銀が好ましい。黄色有機保護層用樹脂組成物において、銀を含有する有機金属化合物の含有量は、固形分中の０．２〜５重量％が好ましい。銀を含有する有機金属化合物の含有量を０．２重量％以上とすることにより、より黄色化することができる。銀を含有する有機金属化合物の含有量は、固形分中の１．５重量％以上がより好ましい。一方、銀を含有する有機金属化合物の含有量を固形分中の５重量％以下とすることにより、透過率をより向上させることができる。
【０１７５】
黄色有機保護層を形成する樹脂組成物は、黄色顔料を含有してもよい。黄色顔料としては、例えば、ピグメントイエロー（以下ＰＹと略す）ＰＹ１２、ＰＹ１３、ＰＹ１７、ＰＹ２０、ＰＹ２４、ＰＹ８３、ＰＹ８６、ＰＹ９３、ＰＹ９５、ＰＹ１０９、ＰＹ１１０、ＰＹ１１７、ＰＹ１２５、ＰＹ１２９、ＰＹ１３７、ＰＹ１３８、ＰＹ１３９、ＰＹ１４７、ＰＹ１４８、ＰＹ１５０、ＰＹ１５３、ＰＹ１５４、ＰＹ１６６、ＰＹ１６８、ＰＹ１８５などが挙げられる。中でも、青色光を選択的に遮光する観点から、ＰＹ１３９、ＰＹ１４７、ＰＹ１４８およびＰＹ１５０から選ばれた黄色顔料が好ましい。
黄色有機保護層をパターン形成する方法としては、前述の隔壁（Ａ−１）と同様に感光性ペースト法によりパターン形成する方法が好ましい。
【０１７６】
図７のように、カラーフィルター７上に黄色有機保護層８を形成する場合、黄色有機保護層８は、カラーフィルターの各画素を平坦化するオーバーコート層としての役割を持たせてもよい。
【０１７７】
黄色有機保護層の厚みは、青色漏れ光を充分に遮光する観点から、１００ｎｍ以上が好ましく、５００ｎｍ以上がより好ましい。一方、光取り出し効率の低下を抑制する観点から、黄色有機保護層の厚みは、３０００ｎｍ以下が好ましく、２０００ｎｍ以下がより好ましい。
【０１７８】
次に、本発明の表示装置について説明する。本発明の表示装置は、前記隔壁付き基板と、発光光源とを有する。発光光源としては、液晶セル、有機ＥＬセル、ミニＬＥＤセルおよびマイクロＬＥＤセルから選ばれた発光光源が好ましい。発光特性に優れることから、発光光源としては、有機ＥＬセルがより好ましい。ここで、ミニＬＥＤセルとは、縦横の長さが１００μｍ〜１０ｍｍ程度であるＬＥＤを多数並べたセルのことを指す。マイクロＬＥＤセルとは、縦横の長さが１００μｍ未満であるＬＥＤを多数並べたセルのことを指す。
【０１７９】
本発明の表示装置の製造方法について、本発明の隔壁付き基板と有機ＥＬセルを有する表示装置の一例を挙げて説明する。ガラス基板上に、感光性ポリイミド樹脂を塗布し、フォトリソグラフィー法を用いて、開口部を有する絶縁膜を形成する。その上に、アルミニウムをスパッタした後、フォトリソグラフィー法によりアルミニウムのパターニングを行い、絶縁膜の無い開口部にアルミニウムからなる背面電極層を形成する。続いて、その上に、電子輸送層としてトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（以下、Ａｌｑ３と略す）を真空蒸着法により成膜した後、発光層としてＡｌｑ３にジシアノメチレンピラン、キナクリドンおよび４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルをドーピングした白色発光層を形成する。次に、正孔輸送層としてＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（α−ナフチル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンを真空蒸着法にて成膜する。最後に、透明電極としてＩＴＯをスパッタリングにて成膜し、白色発光層を有する有機ＥＬセルを作製する。前述の隔壁付き基板と、このようにして得られた有機ＥＬセルを対向させて封止剤により貼り合せることにより、表示装置を作製することができる。
【実施例】
【０１８０】
以下に実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの範囲に限定されない。なお、用いた化合物のうち略語を使用しているものについて、名称を以下に示す。
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＤＡＡ：ジアセトンアルコール
ＢＨＴ：ジブチルヒドロキシトルエン。【０１８１】
合成例１〜４におけるポリシロキサン溶液の固形分濃度は、以下の方法により求めた。アルミカップにポリシロキサン溶液を１．５ｇ秤取し、ホットプレートを用いて２５０℃で３０分間加熱して液分を蒸発させた。加熱後のアルミカップに残った固形分の重量を秤量して、加熱前の重量に対する割合からポリシロキサン溶液の固形分濃度を求めた。【０１８２】
合成例１〜４におけるポリシロキサンの重量平均分子量は、以下の方法により求めた。ＧＰＣ分析装置（ＨＬＣ−８２２０；東ソー（株）製）を用い、移動相としてテトラヒドロフランを用いて、「ＪＩＳ  Ｋ７２５２−３（制定年月日＝２００８／０３／２０）」に基づきＧＰＣ分析を行い、ポリスチレン換算の重量平均分子量を測定した。【０１８３】
合成例１〜４におけるポリシロキサン中の各繰り返し単位の含有比率は、以下の方法により求めた。ポリシロキサン溶液を直径１０ｍｍの“テフロン”（登録商標）製ＮＭＲサンプル管に注入して２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行い、オルガノシランに由来するＳｉ全体の積分値に対する、特定のオルガノシランに由来するＳｉの積分値の割合から各繰り返し単位の含有比率を算出した。２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定条件を以下に示す。
装置：核磁気共鳴装置（ＪＮＭ−ＧＸ２７０；日本電子（株）製）
測定法：ゲーテッドデカップリング法
測定核周波数：５３．６６９３ＭＨｚ（２９Ｓｉ核）
スペクトル幅：２００００Ｈｚ
パルス幅：１２μｓ（４５°パルス）
パルス繰り返し時間：３０．０秒
溶媒：アセトン−ｄ６
基準物質：テトラメチルシラン
測定温度：２３℃
試料回転数：０．０Ｈｚ。【０１８４】
合成例１  ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液
１０００ｍｌの三口フラスコに、トリフルオロプロピルトリメトキシシランを１４７．３２ｇ（０．６７５ｍｏｌ）、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを４０．６６ｇ（０．１７５ｍｏｌ）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物を２６．２３ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランを１２．３２ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ＢＨＴを０．８０８ｇ、およびＰＧＭＥＡを１７１．６２ｇ仕込み、室温で撹拌しながら水５２．６５ｇにリン酸２．２６５ｇ（仕込みモノマーに対して１．０重量％）を溶かしたリン酸水溶液を３０分間かけて添加した。その後、フラスコを７０℃のオイルバスに浸けて９０分間撹拌した後、オイルバスを３０分間かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液温度（内温）が１００℃に到達し、そこから２時間加熱撹拌し（内温は１００〜１１０℃）、ポリシロキサン溶液を得た。なお、昇温および加熱撹拌中、窒素９５体積％、酸素５体積％の混合気体を０．０５リットル／分流した。反応中に副生成物であるメタノールおよび水が合計１３１．３５ｇ留出した。得られたポリシロキサン溶液に、固形分濃度が４０重量％となるようにＰＧＭＥＡを追加し、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液を得た。なお、得られたポリシロキサン（ＰＳＬ−１）の重量平均分子量は４，０００であった。また、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）における、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、および３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランに由来する各繰り返し単位のモル比は、それぞれ６７．５ｍｏｌ％、１７．５ｍｏｌ％、１０ｍｏｌ％および５ｍｏｌ％であった。【０１８５】
合成例２  ポリシロキサン（ＰＳＬ−２）溶液
１０００ｍｌの三口フラスコに、ジフェニルジメトキシシランを１１６．０７ｇ（０．４７５ｍｏｌ）、ジメチルジメトキシシラン（０．２０ｍｏｌ）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを４３．４６ｇ（０．１７５ｍｏｌ）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物を２６．２３ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランを１２．３２ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ＢＨＴを０．８４３ｇ、およびＰＧＭＥＡを１７６．２６ｇ仕込み、室温で撹拌しながら水４３．６５ｇにリン酸２．２２１ｇ（仕込みモノマーに対して１．０重量％）を溶かしたリン酸水溶液を３０分間かけて添加した。その後、合成例１と同様にしてポリシロキサン溶液を得た。反応中に副生成物であるメタノールおよび水が合計１３６．９０ｇ留出した。得られたポリシロキサン溶液に、固形分濃度が４０重量％となるようにＰＧＭＥＡを追加し、ポリシロキサン（ＰＳＬ−２）溶液を得た。なお、得られたポリシロキサン（ＰＳＬ−２）の重量平均分子量は２，８００であった。また、ポリシロキサン（ＰＳＬ−２）における、ジフェニルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物および３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランに由来する各繰り返し単位のモル比は、それぞれ４７．５ｍｏｌ％、２０ｍｏｌ％、１７．５ｍｏｌ％、１０ｍｏｌ％および５ｍｏｌ％であった。【０１８６】
合成例３  ポリシロキサン（ＰＳＬ−３）溶液
１０００ｍｌの三口フラスコに、トリフルオロプロピルトリメトキシシランを１４７．３２ｇ（０．６７５ｍｏｌ）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシシランを４３．４６ｇ（０．１７５ｍｏｌ）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物を２６．２３ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランを１２．３２ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ＢＨＴを０．８１０ｇ、およびＰＧＭＥＡを１７２．５９ｇ仕込み、室温で撹拌しながら水５４．４５ｇにリン酸２．２９３ｇ（仕込みモノマーに対して１．０重量％）を溶かしたリン酸水溶液を３０分間かけて添加した。その後、合成例１と同様にしてポリシロキサン溶液を得た。反応中に副生成物であるメタノールおよび水が合計１４０．０５ｇ留出した。得られたポリシロキサン溶液に、固形分濃度が４０重量％となるようにＰＧＭＥＡを追加し、ポリシロキサン（ＰＳＬ−３）溶液を得た。なお、得られたポリシロキサン（ＰＳＬ−３）の重量平均分子量は４，１００であった。また、ポリシロキサン（ＰＳＬ−３）における、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物および３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランに由来する各繰り返し単位のモル比は、それぞれ６７．５ｍｏｌ％、１７．５ｍｏｌ％、１０ｍｏｌ％および５ｍｏｌ％であった。【０１８７】
合成例４  ポリシロキサン（ＰＳＬ−４）溶液
１０００ｍｌの三口フラスコに、メチルトリメトキシシランを３４．０５ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシランを９９．１５ｇ（０．５００ｍｏｌ）、テトラエトキシシランを３１．２５ｇ（０．１５０ｍｏｌ）、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランを２４．６４ｇ（０．１００ｍｏｌ）、およびＰＧＭＥＡを１７４．９５ｇ仕込み、室温で撹拌しながら水５６．７０ｇにリン酸０．９４５ｇ（仕込みモノマーに対して０．５０重量％）を溶かしたリン酸水溶液を３０分間かけて添加した。その後、合成例１と同様にしてポリシロキサン溶液を得た。反応中に副生成物であるメタノールおよび水が合計１２９．１５ｇ留出した。得られたポリシロキサン溶液に、固形分濃度が４０重量％となるようにＰＧＭＥＡを追加し、ポリシロキサン（ＰＳＬ−４）溶液を得た。なお、得られたポリシロキサン（ＰＳＬ−４）の重量平均分子量は４，２００であった。また、ポリシロキサン（ＰＳＬ−４）における、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、および３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランに由来する各繰り返し単位のモル比は、それぞれ２５ｍｏｌ％、５０ｍｏｌ％、１５ｍｏｌ％および１０ｍｏｌ％であった。【０１８８】
合成例１〜４の組成をまとめて表１に示す。【０１８９】
【表１】
0006908116.tif 000007
【０１９０】
合成例５  緑色有機蛍光体
３，５−ジブロモベンズアルデヒド（３．０ｇ）、４−ｔ−ブチルフェニルボロン酸（５．３ｇ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．４ｇ）、および炭酸カリウム（２．０ｇ）をフラスコに入れ、窒素置換した。ここに脱気したトルエン（３０ｍＬ）および脱気した水（１０ｍＬ）を加え、４時間還流した。反応溶液を室温まで冷却し、分液した後に、有機層を飽和食塩水で洗浄した。この有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去した。得られた反応生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、３，５−ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ベンズアルデヒド（３．５ｇ）の白色固体を得た。次に、３，５−ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ベンズアルデヒド（１．５ｇ）と２，４−ジメチルピロール（０．７ｇ）をフラスコに入れ、脱水ジクロロメタン（２００ｍＬ）およびトリフルオロ酢酸（１滴）を加えて、窒素雰囲気下、４時間撹拌した。この反応混合物に２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（０．８５ｇ）の脱水ジクロロメタン溶液を加え、さらに１時間撹拌した。反応終了後、三弗化ホウ素ジエチルエーテル錯体（７．０ｍＬ）およびジイソプロピルエチルアミン（７．０ｍＬ）を加えて、４時間撹拌した後、さらに水（１００ｍＬ）を加えて撹拌し、有機層を分液した。この有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去した。得られた反応生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、緑色粉末０．４ｇを得た（収率１７％）。得られた緑色粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた緑色粉末が、下記構造式で表される［Ｇ−１］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３（ｄ＝ｐｐｍ））：７．９５（ｓ，１Ｈ）、７．６３−７．４８（ｍ，１０Ｈ）、６．００（ｓ，２Ｈ）、２．５８（ｓ，６Ｈ）、１．５０（ｓ，６Ｈ）、１．３７（ｓ，１８Ｈ）。【０１９１】
【化６】
0006908116.tif 000008
【０１９２】
合成例６  赤色有機蛍光体
４−（４−ｔ−ブチルフェニル）−２−（４−メトキシフェニル）ピロール３００ｍｇ、２−メトキシベンゾイルクロリド２０１ｍｇおよびトルエン１０ｍｌの混合溶液を、窒素気流下、１２０℃で６時間加熱した。室温に冷却後、溶媒をエバポレートした。得られた残留物をエタノール２０ｍｌで洗浄し、真空乾燥することにより、２−（２−メトキシベンゾイル）−３−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−（４−メトキシフェニル）ピロール２６０ｍｇを得た。次に、２−（２−メトキシベンゾイル）−３−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−（４−メトキシフェニル）ピロール２６０ｍｇ、４−（４−ｔ−ブチルフェニル）−２−（４−メトキシフェニル）ピロール１８０ｍｇ、メタンスルホン酸無水物２０６ｍｇおよび脱気したトルエン１０ｍｌの混合溶液を、窒素気流下、１２５℃で７時間加熱した。この反応混合物を室温に冷却後、水２０ｍｌを注入し、ジクロロメタン３０ｍｌで抽出した。有機層を水２０ｍｌで２回洗浄した後、エバポレートし、真空乾燥することにより、残留物としてピロメテン体を得た。次に、得られたピロメテン体とトルエン１０ｍｌの混合溶液に、窒素気流下、ジイソプロピルエチルアミン３０５ｍｇおよび三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体６７０ｍｇを加え、室温で３時間撹拌した。この反応混合物に水２０ｍｌを注入し、ジクロロメタン３０ｍｌで抽出した。有機層を水２０ｍｌで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、真空乾燥した後、赤紫色粉末０．２７ｇを得た（収率７０％）。得られた赤紫色粉末の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果は次の通りであり、上記で得られた赤紫色粉末が、下記構造式で表される［Ｒ−１］であることが確認された。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３（ｄ＝ｐｐｍ））：１．１９（ｓ，１８Ｈ），３．４２（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，６Ｈ），５．７２（ｄ，１Ｈ），６．２０（ｔ，１Ｈ），６．４２−６．９７（ｍ，１６Ｈ），７．８９（ｄ，４Ｈ）。【０１９３】
【化７】
0006908116.tif 000009
【０１９４】
合成例７  シリカ粒子含有ポリシロキサン溶液（ＬＳ−１）
５００ｍｌの三口フラスコに、メチルトリメトキシシランを０．０５ｇ（０．４ｍｍｏｌ）、トリフルオロプロピルトリメトキシシランを０．６６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物を０．１０ｇ（０．４ｍｍｏｌ）、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを７．９７ｇ（３４ｍｍｏｌ）、および１５．６重量％のシリカ粒子のイソプロピルアルコール分散液（ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ：日産化学工業（株）製）を２２４．３７ｇ入れ、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル１６３．９３ｇを加えた。室温で撹拌しながら、水４．０９ｇにリン酸０．０８８ｇを溶かしたリン酸水溶液を３分間かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて６０分間撹拌した後、オイルバスを３０分間かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこからさらに２時間加熱撹拌することにより（内温は１００〜１１０℃）、シリカ粒子含有ポリシロキサン溶液（ＬＳ−１）を得た。なお、昇温および加熱撹拌中、窒素を０．０５ｌ（リットル）／分流した。反応中に副生成物であるメタノールおよび水が合計１９４．０１ｇ留出した。得られたシリカ粒子含有ポリシロキサン溶液（ＬＳ−１）の固形分濃度は２４．３重量％、固形分中のポリシロキサンとシリカ粒子の含有量は、それぞれ１５重量％および８５重量％であった。得られたシリカ粒子含有ポリシロキサン（ＬＳ−１）におけるポリシロキサンの、メチルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、およびγ−アクリロキシプロピルトリメトキシシランに由来する各繰り返し単位のモル比は、それぞれ１．０ｍｏｌ％、８．０ｍｏｌ％、１．０ｍｏｌ％および９０．０ｍｏｌ％であった。【０１９５】
実施例１  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１）
白色顔料として、二酸化チタン顔料（Ｒ−９６０；ＢＡＳＦジャパン（株）製（以下「Ｒ−９６０」））５．００ｇに、樹脂として、合成例１により得られたポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液５．００ｇを混合し、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し、顔料分散液（ＭＷ−１）を得た。また、有機金属化合物として、ビス（アセチルアセトナト）パラジウムを１．００ｇと、リン原子を有する配位性化合物として、トリフェニルホスフィンを０．８６１ｇ（有機金属化合物に対して等モル量）をＤＡＡ８．１３９ｇに溶解して、有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）を得た。【０１９６】
次に、前記顔料分散液（ＭＷ−１）９．９８ｇ、前記有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）１．８６ｇ、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液０．９８ｇ、光重合開始剤として、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（О−アセチルオキシム）（“イルガキュア”（登録商標）ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦジャパン（株）製（以下「ＯＸＥ−０２」））０．０５０ｇ、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（“イルガキュア”８１９、ＢＡＳＦジャパン（株）製（以下「ＩＣ−８１９」））０．４００ｇ、光塩基発生剤として、２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオン酸１，２−ジイソプロピル−３−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］グアニジニウム（ＷＰＢＧ−２６６（商品名）、富士フイルム和光純薬（株）製（以下「ＷＰＢＧ−２６６」））０．１００ｇ、光重合性化合物として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標）ＤＰＨＡ、新日本薬業（株）製（以下「ＤＰＨＡ」））１．２０ｇ、撥液化合物として、光重合性フッ素含有化合物（“メガファック”（登録商標）ＲＳ−７６−Ｅ、ＤＩＣ（株）製（以下「ＲＳ−７６−Ｅ」））の４０重量％ＰＧＭＥＡ希釈溶液１．００ｇ、３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（“セロキサイド”（登録商標）２０２１Ｐ、ダイセル（株）製（以下「セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ」））０．１００ｇ、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］（“イルガノックス”（登録商標）１０１０、ＢＡＳＦジャパン（株）製（以下「ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０」））０．０３０ｇ、およびアクリル系界面活性剤（“ＢＹＫ”（登録商標）３５２、ビックケミージャパン（株）製（以下「ＢＹＫ−３５２」））のＰＧＭＥＡ１０重量％希釈溶液０．１００ｇ（濃度５００ｐｐｍに相当）を、溶媒ＰＧＭＥＡ４．２０ｇに溶解させ、撹拌した。得られた混合物を、５．０μｍのフィルターでろ過し、隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１）を得た。【０１９７】
実施例２〜３  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−２）〜（Ｐ−３）
ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の代わりに、それぞれ前記ポリシロキサン（ＰＳＬ−２）または（ＰＳＬ−３）溶液を使用した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−２）および（Ｐ−３）を得た。【０１９８】
実施例４  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−４）
ＲＳ−７６−Ｅの４０重量％ＰＧＭＥＡ希釈溶液の代わりに、“メガファック”（登録商標）Ｆ４７７（大日本インキ化学工業（株）製）４０重量％ＰＧＭＥＡ希釈溶液を用いた以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−４）を得た。【０１９９】
実施例５  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−５）
白色顔料として、Ｒ−９６０を５．００ｇ、樹脂としてポリシロキサン（ＰＳＬ−４）溶液を５．００ｇ混合し、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し、顔料分散液（ＭＷ−４）を得た。前記顔料分散液（ＭＷ−４）を９．９８ｇ、前記有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）を１．８６ｇ、前記ポリシロキサン（ＰＳＬ−４）溶液を１．１６ｇ、光塩基発生剤としてＷＰＢＧ−２６６を０．１０ｇ、撥液化合物としてＦ４７７の４０重量％ＰＧＭＥＡ希釈溶液を１．００ｇ、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐを０．１００ｇ、キノンジアジド化合物としてＴＨＰ−１７（商品名、東洋合成工業（株）製）を１．６０ｇ、界面活性剤ＢＹＫ−３５２のＰＧＭＥＡ１０重量％希釈溶液を０．１００ｇ、およびＰＧＭＥＡを４．１０ｇ混合し、撹拌した。得られた混合物を、５．０μｍのフィルターでろ過し、隔壁用樹脂組成物（Ｐ−５）を得た。【０２００】
実施例６  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−６）
有機金属化合物として、ビス（アセチルアセトナト）パラジウムの代わりにネオデカン酸銀を用いた以外は、前記有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）と同様にして、有機金属化合物溶液（ＯＭ−２）を調製した。有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の代わりに、有機金属化合物溶液（ＯＭ−２）を用いた以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−６）を得た。【０２０１】
実施例７  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−７）
有機金属化合物として、ビス（アセチルアセトナト）パラジウムの代わりにクロロトリフェニルホスフィン金を用いた以外は、前記有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）と同様にして、有機金属化合物溶液（ＯＭ−３）を調製した。有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の代わりに、有機金属化合物溶液（ＯＭ−３）を用いた以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−７）を得た。【０２０２】
実施例８  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−８）
有機金属化合物として、ビス（アセチルアセトナト）パラジウムの代わりにビス（アセチルアセトナト）白金を用いた以外は、前記有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）と同様にして、有機金属化合物溶液（ＯＭ−４）を調製した。有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の代わりに、有機金属化合物溶液（ＯＭ−４）を用いた以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−８）を得た。【０２０３】
実施例９  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−９）
有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の添加量を０．９２９ｇ、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を１．４１ｇに変更し、溶媒としてＰＧＭＥＡ４．２０ｇをＰＧＭＥＡ４．７０ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−９）を得た。【０２０４】
実施例１０  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１０）
有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の添加量を０．４００ｇ、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を１．９４０ｇに変更し、溶媒としてＰＧＭＥＡ４．２０ｇをＰＧＭＥＡ６．２７ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１０）を得た。【０２０５】
実施例１１  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１１）
有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の添加量を４．５９５ｇ、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を０．０１０ｇに変更し、溶媒としてＰＧＭＥＡ４．２０ｇをＰＧＭＥＡ２．９２ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１１）を得た。【０２０６】
実施例１２  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１２）
白色顔料としてＲ−９６０を５．００ｇ、樹脂として、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液を５．００ｇ、黒色顔料として窒化チタンを０．０１ｇ混合し、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し顔料分散液（ＭＷ−２）を得た。顔料分散液（ＭＷ−１）の代わりに、顔料分散液（ＭＷ−２）を９．９９ｇ添加し、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を１．３８ｇに変更し、溶媒としてＰＧＭＥＡ４．７２ｇを用いた以外は、実施例９と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１２）を得た。【０２０７】
実施例１３  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１３）
樹脂として、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液を１０．０ｇ、黒色顔料として窒化チタンを０．１５ｇ混合し、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し、顔料分散液（ＭＷ−３）を得た。顔料分散液（ＭＷ−１）の代わりに、顔料分散液（ＭＷ−３）を９．９９ｇ添加し、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を１５．１６ｇに変更し、ＰＧＭＥＡの添加量を４．２０ｇから０．１１ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１３）を得た。【０２０８】
実施例１４  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１４）
有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の代わりに、有機金属化合物として、ビス（アセチルアセトナト）パラジウムの１０％ＤＡＡ溶液を１．８５ｇ用いて、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を１．３４ｇに変更し、溶媒としてＰＧＭＥＡ４．２０ｇをＰＧＭＥＡ３．８５ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１４）を得た。【０２０９】
実施例１５  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１５）
光塩基発生剤ＷＰＢＧ−２６６を添加せず、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を１．２１ｇに変更し、溶媒としてＰＧＭＥＡ４．２０ｇをＰＧＭＥＡ４．０７ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１５）を得た。【０２１０】
実施例１６  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１６）
撥液化合物ＲＳ−７６−Ｅの４０重量％ＰＧＭＥＡ希釈溶液を添加せず、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を２．０１ｇに変更し、溶媒としてＰＧＭＥＡ４．２０ｇをＰＧＭＥＡ４．１７ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１６）を得た。【０２１１】
比較例１  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１７）
有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の代わりに、リン原子を有する配位性化合物としてトリフェニルホスフィンを１．８６１ｇ、ＤＡＡを８．１３９ｇ用いて得た有機金属化合物溶液（ＯＭ−５）を０．８６７ｇ添加し、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液の添加量を１．４１ｇに変更し、ＰＧＭＥＡの添加量を４．２０ｇから４．７６ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１７）を得た。【０２１２】
比較例２  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１８）
白色顔料としてＲ−９６０を５．００ｇ、樹脂として、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液を５．００ｇ、および黒色顔料として窒化チタンを０．１０ｇ混合し、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し、顔料分散液（ＭＷ−４）を得た。次に、前記顔料分散液（ＭＷ−４）を１０．０２ｇ、前記ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液を１．７３ｇ、光重合開始剤としてＯＸＥ−０２を０．０５０ｇ、ＩＣ−８１９を０．４００ｇ、光塩基発生剤としてＷＰＢＧ−２６６を０．１０ｇ、光重合性化合物としてＤＰＨＡを１．２０ｇ、撥液化合物としてＲＳ−７６−Ｅの４０重量％ＰＧＭＥＡ希釈溶液を１．００ｇ、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐを０．１００ｇ、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０を０．０３０ｇ、界面活性剤としてＢＹＫ−３５２のＰＧＭＥＡ１０重量％希釈溶液を０．１００ｇ、および溶媒としてＰＧＭＥＡを５．３１ｇ混合し、撹拌した。得られた混合物を、５．０μｍのフィルターでろ過し、隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１８）を得た。【０２１３】
比較例３  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１９）
白色顔料としてＲ−９６０を５．００ｇ、樹脂として、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液を５．００ｇ、および黒色顔料として窒化ジルコニウムを０．１０ｇ混合し、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し、顔料分散液（ＭＷ−５）を得た。顔料分散液（ＭＷ−４）の代わりに、顔料分散液（ＭＷ−５）を用いた以外は、比較例２と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−１９）を得た。【０２１４】
比較例４  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−２０）
白色顔料としてＲ−９６０を５．００ｇ、樹脂として、ポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液を５．００ｇ、および黒色顔料として、赤色顔料ＰＲ２５４と青色顔料ＰＢ６４の重量比６０／４０の混合顔料を０．０５ｇ混合し、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し、顔料分散液（ＭＷ−６）を得た。顔料分散液（ＭＷ−４）の代わりに、顔料分散液（ＭＷ−６）を用いた以外は、比較例２と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−２０）を得た。【０２１５】
比較例５  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−２１）
有機金属化合物として、ビス（アセチルアセトナト）パラジウムの代わりにトリス（アセチルアセトナト）鉄を用いた以外は、前記有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）と同様にして、有機金属化合物溶液（ＯＭ−５）を調製した。有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の代わりに、有機金属化合物溶液（ＯＭ−５）を用いた以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−２１）を得た。【０２１６】
比較例６  隔壁用樹脂組成物（Ｐ−２２）
有機金属化合物として、ビス（アセチルアセトナト）パラジウムの代わりにビス（アセチルアセトナト）ニッケルを用いた以外は、前記有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）と同様にして、有機金属化合物溶液（ＯＭ−５）を調製した。有機金属化合物溶液（ＯＭ−１）の代わりに、有機金属化合物溶液（ＯＭ−６）を用いた以外は、実施例１と同様にして隔壁用樹脂組成物（Ｐ−２２）を得た。【０２１７】
実施例１〜１６および比較例１〜６の組成をまとめて表２〜３に示す。【０２１８】
【表２】
0006908116.tif 000010
【０２１９】
【表３】
0006908116.tif 000011
【０２２０】
調製例１  色変換発光材料組成物（ＣＬ−１）
緑色量子ドット材料（Ｌｕｍｉｄｏｔ  ６４０  ＣｄＳｅ／ＺｎＳ、平均粒子径６．３ｎｍ：アルドリッチ社製）の０．５重量％トルエン溶液を２０重量部、ＤＰＨＡを４５重量部、“イルガキュア”（登録商標）９０７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を５重量部、アクリル樹脂（ＳＰＣＲ−１８（商品名）、昭和電工（株）製）の３０重量％ＰＧＭＥＡ溶液を１６６重量部およびトルエンを９７重量部混合して撹拌し、均一に溶解した。得られた混合物を０．４５μｍのシリンジフィルターで濾過し、色変換発光材料組成物（ＣＬ−１）を調製した
調製例２  色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）
緑色量子ドット材料にかえて合成例５により得られた緑色蛍光体Ｇ−１を０．４重量部用い、トルエンの添加量を１１７重量部に変更した以外は、調製例１と同様にして色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）を調製した
調製例３  色変換発光材料組成物（ＣＬ−３）
緑色量子ドット材料にかえて合成例６により得られた赤色蛍光体Ｒ−１を０．４重量部用い、トルエンの添加量を１１７重量部に変更した以外は、調製例１と同様にして色変換発光材料組成物（ＣＬ−３）を調製した
調製例４  カラーフィルター形成材料（ＣＦ−１）
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５９を９０ｇ、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０を６０ｇ、高分子分散剤（“ＢＹＫ”（登録商標）−６９１９（商品名）ビックケミー社製（以下「ＢＹＫ−６９１９」））を７５ｇ、バインダー樹脂（“アデカアークルズ”（登録商標）ＷＲ３０１（商品名）（株）ＡＤＥＫＡ製）を１００ｇ、およびＰＧＭＥＡを６７５ｇ混合してスラリーを作製した。スラリーを入れたビーカーをダイノーミルとチューブでつなぎ、メディアとして直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを使用して、周速１４ｍ／ｓで８時間の分散処理を行い、ピグメントグリーン５９分散液（ＧＤ−１）を作製した。【０２２１】
ピグメントグリーン５９分散液（ＧＤ−１）５６．５４ｇ、アクリル樹脂（“サイクロマー”（登録商標）Ｐ（ＡＣＡ）Ｚ２５０（商品名）ダイセル・オルネクス（株）製（以下「Ｐ（ＡＣＡ）Ｚ２５０」））を３．１４ｇ、ＤＰＨＡを２．６４ｇ、光重合開始剤（“オプトマー”（登録商標）ＮＣＩ−８３１（商品名）（株）ＡＤＥＫＡ製（以下「ＮＣＩ−８３１」））０．３３０ｇ、界面活性剤（ＢＹＫ”（登録商標）−３３３（商品名）ビックケミー社製（以下「ＢＹＫ−３３３」））を０．０４ｇ、重合禁止剤としてＢＨＴを０．０１ｇ、および溶媒としてＰＧＭＥＡを３７．３０ｇ混合し、カラーフィルター形成材料（ＣＦ−１）を作製した。【０２２２】
調製例５  遮光隔壁用樹脂組成物
カーボンブラック（ＭＡ１００（商品名）三菱化学（株）製）１５０ｇ、高分子分散剤ＢＹＫ−６９１９を７５ｇ、Ｐ（ＡＣＡ）Ｚ２５０を１００ｇ、およびＰＧＭＥＡを６７５ｇ混合してスラリーを作製した。スラリーを入れたビーカーをダイノーミルとチューブでつなぎ、メディアとして直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを使用して、周速１４ｍ／ｓで８時間の分散処理を行い、顔料分散液（ＭＢ−１）を作製した。【０２２３】
顔料分散液（ＭＢ−１）５６．５４ｇ、Ｐ（ＡＣＡ）Ｚ２５０を３．１４ｇ、ＤＰＨＡを２．６４ｇ、ＮＣＩ−８３１を０．３３０ｇ、ＢＹＫ−３３３を０．０４ｇ、重合禁止剤としてターシャリブチルカテコール０．０１ｇ、およびＰＧＭＥＡ３７．３０ｇを混合し、遮光隔壁用樹脂組成物を作製した。【０２２４】
調製例６  低屈折率層形成材料
合成例６により得られたシリカ粒子含有ポリシロキサン溶液（ＬＳ−１）を５．３５０ｇ、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテルを１．１７０ｇ、およびＤＡＡを３．４８ｇ混合した後、０．４５μｍのシリンジフィルターで濾過し、低屈折率層形成材料を調製した。
調製例７  黄色有機保護層形成材料（ＹＬ−１）
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０を１５０ｇ、高分子分散剤（“ＢＹＫ”（登録商標）−６９１９（商品名）ビックケミー社製（以下「ＢＹＫ−６９１９」））を７５ｇ、バインダー樹脂（“アデカアークルズ”（登録商標）ＷＲ３０１（商品名）（株）ＡＤＥＫＡ製）を１００ｇ、およびＰＧＭＥＡを６７５ｇ混合してスラリーを作製した。スラリーを入れたビーカーをダイノーミルとチューブでつなぎ、メディアとして直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを使用して、周速１４ｍ／ｓで８時間の分散処理を行い、ピグメントイエロー１５０分散液（ＹＤ−１）を作製した。【０２２５】
ピグメントイエロー１５０分散液（ＹＤ−１）３．０９ｇ、樹脂としてポリシロキサン（ＰＳＬ−１）溶液を２３．５４ｇ、光重合性化合物としてＤＰＨＡを６．０２ｇ、有機金属化合物としてネオデカン酸銀を用いて調製した有機金属化合物溶液（ＯＭ−２）を６．０２ｇ、光重合開始剤としてＯＸＥ−０２を０．２０ｇ、ＩＣ−８１９を０．４０ｇ、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０を０．０６０ｇ、およびＢＹＫ−３５２のＰＧＭＥＡ１０重量％希釈溶液０．０５０ｇ（濃度５００ｐｐｍに相当）を、溶媒ＰＧＭＥＡ６１．１５ｇに溶解させ、撹拌した。得られた混合物を、５．０μｍのフィルターでろ過し、黄色有機保護層形成材料（ＹＬ−１）を得た。【０２２６】
（実施例１７〜２０、実施例２２〜２８、実施例３８〜４５、比較例７〜９）
下地基板として１０ｃｍ角の無アルカリガラス基板（ＡＧＣテクノグラス（株）製、厚み０．７ｍｍ）を用いた。その上に、表４〜５に示す隔壁用樹脂組成物をスピンコートし、ホットプレート（商品名ＳＣＷ−６３６、大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、温度９０℃で２分間乾燥し、乾燥膜を作製した。作製した乾燥膜を、パラレルライトマスクアライナー（商品名ＰＬＡ−５０１Ｆ、キヤノン（株）製）を用いて、超高圧水銀灯を光源とし、フォトマスクを介して、露光量２００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で露光した。その後、自動現像装置（滝沢産業（株）製「ＡＤ−２０００（商品名）」）を用いて、０．０４５重量％水酸化カリウム水溶液を用いて１００秒間シャワー現像し、次いで水を用いて３０秒間リンスした。さらに、オーブン（商品名ＩＨＰＳ−２２２、エスペック（株）製）を用いて、空気中、温度２３０℃で３０分間加熱し、ガラス基板上に、高さ１０μｍ、幅２０μｍの隔壁が、短辺３０μｍ、長辺１５０μｍのピッチ間隔の格子状パターンに形成された隔壁を形成した。【０２２７】
得られた隔壁付き基板の隔壁で隔てられた領域に、窒素雰囲気下、インクジェット法を用いて、表４〜５に示す色変換発光材料組成物を塗布し、１００℃で３０分間乾燥し、厚み５．０μｍの画素を形成し、図２に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２２８】
（実施例２１）
下地基板として１０ｃｍ角の無アルカリガラス基板（ＡＧＣテクノグラス（株）製、厚み０．７ｍｍ）を用いた。その上に、表４に示す隔壁用樹脂組成物をスピンコートし、ホットプレート（商品名ＳＣＷ−６３６、大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、温度９０℃で２分間乾燥し、乾燥膜を作製した。作製した乾燥膜を、パラレルライトマスクアライナー（商品名ＰＬＡ−５０１Ｆ、キヤノン（株）製）を用いて、超高圧水銀灯を光源とし、フォトマスクを介して、露光量２００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で露光した。その後、自動現像装置（滝沢産業（株）製「ＡＤ−２０００（商品名）」）を用いて、２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で９０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスした。その後、先と同様に、フォトマスクを介さずに露光量５００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で露光し、ブリーチを行った。さらに、オーブン（商品名ＩＨＰＳ−２２２、エスペック（株）製）を用いて、空気中、温度２３０℃で３０分間加熱し、ガラス基板上に、高さ１０μｍ、幅２０μｍの隔壁が、短辺３０μｍ、長辺１５０μｍのピッチ間隔の格子状パターンに形成された隔壁を形成した。【０２２９】
得られた隔壁付き基板の隔壁で隔てられた領域に、窒素雰囲気下、インクジェット法を用いて、表４〜５に示す色変換発光材料組成物を塗布し、１００℃で３０分間乾燥し、厚み５．０μｍの画素を形成し、図２に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３０】
（実施例２９）
実施例１８と同様の方法により画素を形成した後の隔壁付き基板に、低屈折率層形成材料をスピンコートし、ホットプレート（商品名ＳＣＷ−６３６、大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、温度９０℃で２分間乾燥し、乾燥膜を作製した。さらに、オーブン（商品名ＩＨＰＳ−２２２、エスペック（株）製）を用いて、空気中、温度９０℃で３０分間加熱し、低屈折率層を形成し、図３に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３１】
（実施例３０）
実施例２９により得られた低屈折率層を有する隔壁付き基板の低屈折率層上に、プラズマＣＶＤ装置（ＰＤ−２２０ＮＬ、サムコ社製）を用いて、厚み５０〜１，０００ｎｍの無機保護層Ｉに相当する、膜厚３００ｎｍの窒化ケイ素膜を形成し、図４に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３２】
（実施例３１）
実施例１８により得られた隔壁付き基板上に、プラズマＣＶＤ装置（ＰＤ−２２０ＮＬ、サムコ社製）を用いて、厚み５０〜１，０００ｎｍの無機保護層ＩＩに相当する、膜厚３００ｎｍの窒化ケイ素膜を画素上層に形成した。その後、無機保護層ＩＩ上に、調製例６により得られた低率層形成材料を用いて、実施例２９と同様の方法により厚み１．０μｍの低屈折率層を形成し、図５に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３３】
（実施例３２）
実施例１７と同様の方法により得られた、画素形成前の隔壁付き基板の隔壁で隔てられた領域に、硬化後の膜厚が２．５μｍになるように、調製例４により得られたカラーフィルター形成材料（ＣＦ−１）を塗布し、真空乾燥した。隔壁付き基板の開口部の領域に露光されるように設計したフォトマスクを介して、露光量４０ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で露光した。０．３重量％テトラメチルアンモニウム水溶液により５０秒間現像を行った後、２３０℃で３０分間加熱硬化を行い、隔壁で隔てられた領域に、厚み２．５μｍ、５０μｍ幅のカラーフィルターを形成した。その後、カラーフィルター上に、窒素雰囲気下、インクジェット法を用いて、調製例２により得られた色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）を塗布し、１００℃で３０分間乾燥し、厚み５．０μｍの画素を形成し、図６に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３４】
（実施例３３）
実施例３２と同様の方法により得られた、厚み２．５μｍ、５０μｍ幅のカラーフィルターが形成された、画素形成前の隔壁付き基板のカラーフィルター上に、プラズマＣＶＤ装置（ＰＤ−２２０ＮＬ、サムコ社製）を用いて、厚み５０〜１，０００ｎｍの無機保護層ＩＩＩに相当する、膜厚３００ｎｍの窒化ケイ素膜を形成した。さらに、無機保護層ＩＩＩ上に、窒素雰囲気下、インクジェット法を用いて、調製例２により得られた色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）を塗布し、１００℃で３０分間乾燥し、厚み５．０μｍの画素を形成し、図７に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３５】
（実施例３４）
下地基板として１０ｃｍ角の無アルカリガラス基板（ＡＧＣテクノグラス（株）製、厚み０．７ｍｍ）を用いた。その上に、プラズマＣＶＤ装置（ＰＤ−２２０ＮＬ、サムコ社製）を用いて、厚み５０〜１，０００ｎｍの無機保護層ＩＶに相当する、膜厚３００ｎｍの窒化ケイ素膜を形成した。上記基板を、１０ｃｍ角の無アルカリガラス基板の代わりに使用する以外は、実施例３１と同様の方法により、図８に示す構成の隔壁付き基板を得た。
（実施例３５）
実施例３２と同様の方法により得られた、厚み２．５μｍ、５０μｍ幅のカラーフィルターが形成された、画素形成前の隔壁付き基板のカラーフィルター上に、調製例７により得られた黄色有機保護層形成材料（ＹＬ−１）を塗布し、真空乾燥した。隔壁付き基板の開口部の領域に露光されるように設計したフォトマスクを介して、露光量４０ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で露光した。０．３重量％テトラメチルアンモニウム水溶液により５０秒間現像を行った後、２３０℃で３０分間加熱硬化を行い、厚み１．０μｍ、５０μｍ幅の黄色有機保護層を形成した。さらに、黄色有機保護層上に、窒素雰囲気下、インクジェット法を用いて、調製例２により得られた色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）を塗布し、１００℃で３０分間乾燥し、厚み５．０μｍの画素を形成し、図７に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３６】
（実施例３６）
下地基板として１０ｃｍ角の無アルカリガラス基板（ＡＧＣテクノグラス（株）製、厚み０．７ｍｍ）を用いた。その上に、調製例７により得られた黄色有機保護層形成材料（ＹＬ−１）を塗布し、真空乾燥した。乾燥膜をフォトマスクを介さずに、露光量４０ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で露光した後、０．３重量％テトラメチルアンモニウム水溶液により５０秒間現像を行い、２３０℃で３０分間加熱硬化を行うことで、厚み１．０μｍの黄色有機保護層を形成した。上記基板を、１０ｃｍ角の無アルカリガラス基板の代わりに使用する以外は、実施例３１と同様の方法により、図８に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３７】
（実施例３７）
下地基板として１０ｃｍ角の無アルカリガラス基板（ＡＧＣテクノグラス（株）製、厚み０．７ｍｍ）を用いた。その上に、調製例５により得られた遮光隔壁形成材料をスピンコートし、ホットプレート（商品名ＳＣＷ−６３６、大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、温度９０℃で２分間乾燥し、乾燥膜を作製した。作製した乾燥膜を、パラレルライトマスクアライナー（商品名ＰＬＡ−５０１Ｆ、キヤノン（株）製）を用いて、超高圧水銀灯を光源とし、フォトマスクを介して、露光量４０ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で露光した。その後、自動現像装置（滝沢産業（株）製「ＡＤ−２０００（商品名）」）を用いて、０．３重量％テトラメチルアンモニウム水溶液により５０秒間現像を行い、次いで水を用いて３０秒間リンスした。さらに、オーブン（商品名ＩＨＰＳ−２２２、エスペック（株）製）を用いて、空気中、温度２３０℃で３０分間加熱し、ガラス基板上に、高さ２．０μｍ、幅２０μｍ、厚み１．０μｍあたりのＯＤ値が２．０である隔壁が、短辺３０μｍ、長辺１５０μｍのピッチ間隔の格子状パターンに形成された遮光隔壁付き基板を得た。その後、実施例１７と同様の方法により、遮光隔壁上に、高さ１０μｍ、幅２０μｍの隔壁が、短辺３０μｍ、長辺１５０μｍのピッチ間隔の遮光隔壁と同様の格子状パターンに形成された隔壁付き基板を得た。得られた隔壁付き基板の隔壁で隔てられた領域に、窒素雰囲気下、インクジェット法を用いて、調製例２２により得られた色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）を塗布し、１００℃で３０分間乾燥し、厚み５．０μｍの画素を形成し、図９に示す構成の隔壁付き基板を得た。【０２３８】
各実施例および比較例の構成を表４〜５に示す。【０２３９】
【表４】
0006908116.tif 000012
【０２４０】
【表５】
0006908116.tif 000013
【０２４１】
各実施例および比較例における評価方法を以下に示す。【０２４２】
＜白色顔料の屈折率＞
各実施例および比較例に用いた白色顔料について、ＪＩＳ  Ｋ７１４２−２０１４（制定年月日＝２０１４／０４／２０）に規定されるプラスチックの屈折率測定方法のうち、Ｂ法（顕微鏡を用いる液浸法（ベッケ線法））によって屈折率を測定した。測定波長は５５０ｎｍとした。ただし、ＪＩＳ  Ｋ７１４２−２０１４で使用される浸液に代えて、（株）島津デバイス製造製「接触液」を使用し、浸液温度：２０℃の条件で測定した。顕微鏡として、偏光顕微鏡「オプチフォト」（（株）ニコン製）を使用した。白色顔料のサンプルを各３０個準備し、それぞれの屈折率を測定し、その平均値を屈折率とした。【０２４３】
＜ポリシロキサンおよび低屈折率層の屈折率＞
各実施例および比較例において用いた隔壁形成樹脂組成物の原料であるポリシロキサンおよび調製例２６により得られた低屈折率層形成材料を、それぞれシリコンウェハ上に、スピナーにより塗布し、ホットプレート（商品名ＳＣＷ−６３６、大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、温度９０℃で２分間乾燥した。その後、オーブン（ＩＨＰＳ−２２２；エスペック（株）製）を用いて、空気中２３０℃で３０分間加熱して、硬化膜を作製した。プリズムカプラー（ＰＣ−２０００（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ（株）製））を用いて、大気圧下、２０℃の条件で、硬化膜面に対し垂直方向から波長５５０ｎｍの光を照射して、屈折率を測定し、小数点以下第三位を四捨五入した。【０２４４】
＜解像度＞
スピンコーター（商品名１Ｈ−３６０Ｓ、ミカサ（株）製）を用いて、各実施例および比較例において用いた隔壁用樹脂組成物を、１０ｃｍ角の無アルカリガラス基板上に、加熱後の膜厚が１０μｍとなるようにスピンコートし、ホットプレート（商品名ＳＣＷ−６３６、大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、温度９０℃で２分間乾燥し、膜厚１０μｍの乾燥膜を作製した。【０２４５】
作製した乾燥膜を、パラレルライトマスクアライナー（商品名ＰＬＡ−５０１Ｆ、キヤノン（株）製）を用いて、超高圧水銀灯を光源とし、１００μｍ、８０μｍ、６０μｍ、５０μｍ、４０μｍ、３０μｍおよび２０μｍの各幅のライン＆スペースパターンを有するマスクを介して露光量２００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で、１００μｍのギャップで露光した。その後、自動現像装置（滝沢産業（株）製「ＡＤ−２０００（商品名）」）を用いて、０．０４５重量％水酸化カリウム水溶液を用いて１００秒間シャワー現像し、次いで水を用いて３０秒間リンスした。【０２４６】
倍率１００倍に調整した顕微鏡を用いて、現像後のパターンを拡大観察し、未露光部に残渣が認められないパターンのうち、最も狭い線幅を解像度とした。ただし、１００μｍ幅のパターン付近の未露光部にも残渣がある場合は「＞１００μｍ」とした。【０２４７】
＜反射率＞
各実施例および比較例において用いた隔壁形成樹脂組成物を、露光時にフォトマスクを介さずに全体を露光したこと以外は、各実施例および比較例と同条件で加工し、ガラス基板上にベタ膜を作製した。得られたベタ膜を各実施例および比較例により得られた隔壁付き基板の隔壁のモデルとして、ベタ膜を有するガラス基板について、分光測色計（商品名ＣＭ−２６００ｄ、コニカミノルタ（株）製）を用いて、ベタ膜側からＳＣＩモードで波長５５０ｎｍにおける反射率を測定した。ただし、ベタ膜にクラックが発生した場合は、亀裂などが原因で正確な値を得ることができないため、反射率の測定は実施しなかった。【０２４８】
＜クラック耐性＞
各実施例および比較例において用いた隔壁形成樹脂組成物を、加熱後の膜厚がそれぞれ５μｍ、１０μｍ、１５μｍおよび２０μｍとなるようにスピンコートした。その後の工程については、露光時にフォトマスクを介さずに全体を露光したこと以外は、各実施例および比較例と同条件で加工し、ガラス基板上にベタ膜を作製した。得られたベタ膜を各実施例および比較例により得られた隔壁付き基板の隔壁のモデルとして、ベタ膜を有するガラス基板を目視観察し、ベタ膜のクラックの有無を評価した。１つでもクラックが確認された場合には、その膜厚におけるクラック耐性はないと判断した。例えば、膜厚１５μｍではクラックがなく、膜厚２０μｍではクラックがあった場合には、耐クラック膜厚を「≧１５μｍ」と判定した。また、２０μｍでもクラックがない場合の耐クラック膜厚を「≧２０μｍ」、５μｍでもクラックがある場合の耐クラック膜厚を「＜５μｍ」と、それぞれ判定し、クラック耐性とした。【０２４９】
＜ＯＤ値＞
各実施例および比較例により得られた隔壁付き基板の隔壁のモデルとして、反射率の評価と同様に、ガラス基板上にベタ膜を作製した。得られたベタ膜を有するガラス基板について、光学濃度計（３６１Ｔ（ｖｉｓｕａｌ）；Ｘ−ｒｉｔｅ社製）を用いて入射光および透過光の強度を測定し、先述の式（１）によりＯＤ値を算出した。なお、ＯＤ値については、加熱工程前のベタ膜と、加熱工程後のＯＤ値をそれぞれ測定し、その差を含め表６〜７に記載した。【０２５０】
また、実施例３７について、遮光隔壁（Ａ−２）のモデルとして、同様にガラス基板上にベタ膜を作製した。得られたベタ膜を有するガラス基板について、光学濃度計（３６１Ｔ（ｖｉｓｕａｌ）；Ｘ−ｒｉｔｅ社製）を用いて入射光および透過光の強度を測定し、先述の式（１）により算出した。【０２５１】
＜テーパー角度＞
各実施例および比較例において、画素形成前の隔壁付き基板の任意の断面を、光学顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ（Ｓ−４８００）；（株）日立製作所製）を用いて、加速電圧３．０ｋＶで観測し、テーパー角度を測定した。【０２５２】
＜表面接触角＞
各実施例および比較例により得られた隔壁付き基板における隔壁のモデルとして、反射率の評価と同様に、ガラス基板上にベタ膜を作製した。得られたベタ膜の表面について、協和界面科学（株）製  ＤＭ−７００、マイクロシリンジ：協和界面科学（株）製  接触角計用テフロン（登録商標）コート針２２Ｇを用いて、２５℃、大気中において、ＪＩＳ  Ｒ３２５７（制定年月日＝１９９９／０４／２０）に規定される基板ガラス表面のぬれ性試験方法に準拠して、表面接触角を測定した。ただし、水の代わりにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを使用し、ベタ膜の表面とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの接触角を測定した。【０２５３】
＜インクジェット塗布性＞
各実施例および比較例により得られた、画素を形成する前の隔壁付き基板において、格子状の隔壁で囲われた画素部分に対して、ＰＧＭＥＡをインクとして、インクジェット塗布装置（ＩｎｋｊｅｔＬａｂｏ、クラスターテクノロジー（株）製）を用いて、インクジェット塗布を行った。１つの格子状パターンあたり１６０ｐＬのＰＧＭＥＡを塗布して、決壊（インクが隔壁を乗り越えて隣の画素部分に混入する現象）の有無を観察し、下記基準によりインクジェット塗布性を評価した。決壊が少ないほど撥液性能が高く、インクジェット塗布性が優れていることを示す。
Ａ：インクが画素内からあふれなかった。
Ｂ：一部分においてインクが画素内から隔壁の上面にあふれ出した。
Ｃ：全面においてインクが画素内から隔壁の上面にあふれ出した。【０２５４】
＜厚み＞
各実施例および比較例により得られた隔壁付き基板について、サーフコム触針式膜厚測定装置を用いて、画素（Ｂ）形成前後の構造体の高さを測定し、その差分を算出することにより、画素（Ｂ）の厚みを測定した。実施例２９〜３１についてはさらに低屈折率層（Ｃ）の膜厚を、実施例３２〜３６についてはさらにカラーフィルターの膜厚を、実施例３７についてはさらに遮光隔壁の厚み（高さ）を、それぞれ同様に測定した。【０２５５】
また、実施例３０〜３１および３３〜３４については、クロスセクションポリッシャー等の研磨装置を用いて、下地基板に対して垂直な断面を露出させ、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡で断面を拡大観察することにより、それぞれ無機保護層Ｉ〜ＩＶの厚みを測定した。【０２５６】
＜輝度＞
市販のＬＥＤバックライト（ピーク波長４６５ｎｍ）を搭載した面状発光装置を光源として、画素部が光源側になるように各実施例および比較例により得られた隔壁付き基板を設置した。この面状発光装置に３０ｍＡの電流を流してＬＥＤ素子を点灯させ、分光放射輝度計（ＣＳ−１０００、コニカミノルタ社製）を用いて、ＣＩＥ１９３１規格に基づく輝度（単位：ｃｄ／ｍ２）を測定し、初期輝度とした。ただし、輝度の評価は、実施例４５の初期輝度を標準の１００とする相対値により行った。【０２５７】
また、室温（２３℃）にて、ＬＥＤ素子を、４８時間点灯した後、同様に輝度を測定し、輝度の経時変化を評価した。ただし、輝度の評価は、実施例４５の初期輝度を標準の１００とする相対値により行った。【０２５８】
＜色特性＞
市販の白色反射板上に、各実施例および比較例により得られた隔壁付き基板を、画素が白色反射板側に配置されるように設置した。分光測色計（ＣＭ−２６００ｄ、コニカミノルタ社製、測定径φ８ｍｍ）を用いて、隔壁付き基板の下地基板側から光を照射し、正反射光込みのスペクトルを測定した。【０２５９】
自然界の色をほぼ再現できる色規格ＢＴ．２０２０が定める色域は、色度図に示されるスペクトル軌跡上の赤、緑および青を三原色として規定されており、赤、緑および青の波長はそれぞれ６３０ｎｍ、５３２ｎｍおよび４６７ｎｍに相当している。得られた反射スペクトルの４７０ｎｍ、５３０ｎｍおよび６３０ｎｍの３つの波長の反射率（Ｒ）から、画素の発光色について以下の基準により評価した。
Ａ：Ｒ５３０／（Ｒ６３０＋Ｒ５３０＋Ｒ４７０）≧０．５５
Ｂ：Ｒ５３０／（Ｒ６３０＋Ｒ５３０＋Ｒ４７０）＜０．５５。【０２６０】
＜表示特性＞
各実施例および比較例により得られた隔壁付き基板と有機ＥＬ素子を組み合わせて作製した表示装置の表示特性を、以下の基準に基づき評価した。
Ａ：緑表示が非常に色鮮やかであり、鮮明でコントラストに優れた表示装置である。
Ｂ：色彩にやや不自然さが見られるものの、問題のない表示装置である。【０２６１】
＜混色＞
各実施例および比較例により得られた、画素を形成する前の隔壁付き基板において、格子状の隔壁で囲われた画素部分の一部に、インクジェット法を用いて、色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）を塗布し、１００℃で３０分間乾燥し、厚み５．０μｍの画素を形成した。その後、格子状の隔壁で囲われた画素部分のうち、色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）を塗布した領域の隣の領域に、インクジェット法を用いて、色変換発光材料組成物（ＣＬ−３）を塗布し、１００℃で３０分間乾燥し、厚み５．０μｍの画素を形成した。【０２６２】
一方、格子状の隔壁で囲われた画素部分と同じ幅をもつ青色有機ＥＬセルを作製し、前述の隔壁付き基板と青色有機ＥＬセルを対向させて封止剤により貼り合せ、図１０に示す構成の表示装置を得た。【０２６３】
図１０における青色有機ＥＬセル１１のうち、色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）で形成された画素３（ＣＬ−２）の直下に貼り合わせた青色有機ＥＬセルのみを点灯させた状態で、色変換発光材料組成物（ＣＬ−３）で形成された画素３（ＣＬ−３）部分について、顕微分光光度計ＬＶｍｉｃｒｏ−Ｖ（ラムダビジョン（株）製）を用いて、波長６３０ｎｍにおける吸光強度Ａ（６３０ｎｍ）を測定した。吸光強度Ａ（６３０ｎｍ）の値が小さいほど、混色を起こしにくいことを示している。下記の判定基準により混色を判定した。
Ａ：Ａ（６３０ｎｍ）＜０．０１
Ｂ：０．０１≦Ａ（６３０ｎｍ）≦０．５
Ｃ：０．５＜Ａ（６３０ｎｍ）。【０２６４】
各実施例および比較例評価結果を表６〜７に示す。【０２６５】
【表６】
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【０２６６】
【表７】
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【符号の説明】
【０２６７】
１：下地基板
２：隔壁
３：画素
３（ＣＬ−２）：色変換発光材料組成物（ＣＬ−２）で形成された画素
３（ＣＬ−３）：色変換発光材料組成物（ＣＬ−３）で形成された画素
４：低屈折率層
５：無機保護層Ｉ
６：無機保護層ＩＩ
７：カラーフィルター
８：無機保護層ＩＩＩおよび／または黄色有機保護層
９：無機保護層ＩＶおよび／または黄色有機保護層
１０：遮光隔壁
１１：青色有機ＥＬセル
Ｈ：隔壁の厚み
Ｌ：隔壁の幅
θ：テーパー角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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