(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
含フッ素シラン化合物および金属化合物を含む表面処理剤であって、
該金属化合物に含まれる金属原子は、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｔｉ及びＶから選択される１種またはそれ以上の金属原子であり、
前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
【化１】
0006927373.tif 000023
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
式（１）および式（２）中、ＲＳｉβおよびＲＳｉγ中、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子は２つ以上存在する。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物である、表面処理剤。
【請求項２】
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６パーフルオロアルキレン基である、
請求項１に記載の表面処理剤。
【請求項３】
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中、ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲＦａが水素原子または塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅおよびｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
【請求項４】
ＲＦａは、フッ素原子である、請求項３に記載の表面処理剤。
【請求項５】
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］、
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−    （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項６】
ＲＳｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：
【化２】
0006927373.tif 000024
［式中：
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ１１ｎ１Ｒ１２３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または−Ｘ１１−ＳｉＲ１１ｎ１Ｒ１２３−ｎ１であり；
Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１〜６のアルキレン基または炭素数１〜６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１−ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１であり； 
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１’−ＳｉＲ２１’ｐ１’Ｒ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’であり； 
Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”−ＳｉＲ２２”ｑ１”Ｒ２３”ｒ１”であり； 
Ｒ２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ２−ＣＲ３１ｐ２Ｒ３２ｑ２Ｒ３３ｒ２であり； 
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり； 
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ２’−ＣＲ３２’ｑ２’Ｒ３３’ｒ２’であり； 
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２であり；
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり； 
Ｒ３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２であり；
Ｒ３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり； 
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。］
で表される基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項７】
α、β、およびγは、１である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項８】
ＸＡは、それぞれ独立して、３価の有機基であり、
αは１かつβは２であるか、αは２かつβは１であり、
γは２である、
請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項９】
前記式（Ｓ１）で表される基は、下記式（Ｓ１−ｂ）：
【化３】
0006927373.tif 000025
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｘ１１、ｎ１およびｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］
で表される基である、請求項６〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１０】
アルコールをさらに含有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１１】
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１２】
さらに溶媒を含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１３】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１４】
真空蒸着用である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項１６】
基材と、該基材上に、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項１７】
基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品であって、
前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、
Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｔｉ及びＶから選択される１種またはそれ以上の金属原子を含み、
前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
【化４】
0006927373.tif 000026
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
式（１）および式（２）中、ＲＳｉβおよびＲＳｉγ中、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子は２つ以上存在する。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物である、
物品。
【請求項１８】
前記金属原子は、表面処理層中に、炭素、酸素、フッ素、ケイ素および金属原子の合計量に対して、０．０３〜３ａｔ％含まれる、請求項１７に記載の物品。
【請求項１９】
前記金属原子は、Ｔａである、請求項１７または１８に記載の物品。
【請求項２０】
前記基材は、ガラス基材である、請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の物品。
【請求項２１】
光学部材である、請求項１６〜２０のいずれか１項に記載の物品。
【請求項２２】
基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品の製造方法であって、
前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｔｉ及びＶから選択される１種またはそれ以上の金属原子を含み、
前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
【化５】
0006927373.tif 000027
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
式（１）および式（２）中、ＲＳｉβおよびＲＳｉγ中、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子は２つ以上存在する。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物であり、
前記基材上に、前記含フッ素シラン化合物および前記金属原子を含む金属化合物を含む表面処理剤を用いて、前記含フッ素シラン化合物および前記金属原子を含む金属化合物を蒸着させて、表面処理層を形成すること
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、表面処理剤および該表面処理剤で形成された層を有する物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、衛生用品、建築資材など種々多様な基材に施されている（特許文献１および２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−２１８６３９号公報
【特許文献２】特開２０１７−０８２１９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１または特許文献２に記載の含フッ素シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高い摩擦耐久性や耐薬品性を有する表面処理層が求められている。
【０００５】
本開示は、摩擦耐久性、耐薬品性がより高い表面処理層を有する物品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、以下の態様を含む。
［１］  含フッ素シラン化合物および金属化合物を含む表面処理剤であって、該金属化合物に含まれる金属原子は、周期表の３族〜１１族の遷移金属原子、および１２〜１５族の典型金属原子から選択される１種またはそれ以上の金属原子である、表面処理剤。
［２］  前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
【化１】
0006927373.tif 000002
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物である、上記［１］に記載の表面処理剤。
［３］  Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６パーフルオロアルキレン基である、
上記［２］に記載の表面処理剤。
［４］  ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中、ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［２］または［３］に記載の表面処理剤。
［５］  ＲＦａは、フッ素原子である、上記［４］に記載の表面処理剤。
［６］  ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］、
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−    （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［２］〜［５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［７］  ＲＳｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：
【化２】
0006927373.tif 000003
［式中：
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ１１ｎ１Ｒ１２３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または−Ｘ１１−ＳｉＲ１１ｎ１Ｒ１２３−ｎ１であり；
Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１〜６のアルキレン基または炭素数１〜６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１−ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１であり； 
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１’−ＳｉＲ２１’ｐ１’Ｒ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’であり； 
Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”−ＳｉＲ２２”ｑ１”Ｒ２３”ｒ１”であり； 
Ｒ２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ２−ＣＲ３１ｐ２Ｒ３２ｑ２Ｒ３３ｒ２であり； 
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり； 
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ２’−ＣＲ３２’ｑ２’Ｒ３３’ｒ２’であり； 
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２であり；
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり； 
Ｒ３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２であり；
Ｒ３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり； 
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。］
で表される基である、上記［２］〜［６］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［８］  α、β、およびγは、１である、上記［２］〜［７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［９］  ＸＡは、それぞれ独立して、３価の有機基であり、
αは１かつβは２であるか、αは２かつβは１であり、
γは２である、
上記［２］〜［７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１０］  前記式（Ｓ１）で表される基は、下記式（Ｓ１−ｂ）：
【化３】
0006927373.tif 000004
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｘ１１、ｎ１およびｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］
で表される基である、上記［７］〜［９］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１１］  アルコールをさらに含有する、上記［１］〜［１０］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１２］  含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、上記［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１３］  さらに溶媒を含む、上記［１］〜［１２］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１４］  防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、上記［１］〜［１３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］  真空蒸着用である、上記［１］〜［１４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１６］  上記［１］〜［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１７］  基材と、該基材上に、上記［１］〜［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１８］  基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品であって、前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、周期表の３族〜１１族の遷移金属原子、および１２〜１５族の典型金属原子から選択される１種またはそれ以上の金属原子を含む、物品。
［１９］  前記金属原子は、表面処理層中に、炭素、酸素、フッ素、ケイ素および金属原子の合計量に対して、０．０３〜３ａｔ％含まれる、上記［１８］に記載の物品。
［２０］  前記金属原子は、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｔｉ、およびＶから選択される１種またはそれ以上の金属原子である、上記［１８］または［１９］に記載の物品。
［２１］  前記金属原子は、Ｔａである、上記［１８］〜［２０］のいずれか１つに記載の物品。
［２２］  前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
【化４】
0006927373.tif 000005
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物である、上記［１８］〜［２１］のいずれか１つに記載の物品。
［２３］  前記基材は、ガラス基材である、上記［１７］〜［２２］のいずれか１つに記載の物品。
［２４］  光学部材である、上記［１７］〜［２３］のいずれか１つに記載の物品。
［２５］  基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品の製造方法であって、
前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、周期表の３族〜１１族の遷移金属原子、および１２〜１５族の典型金属原子から選択される１種またはそれ以上の金属原子を含み、
前記基材上に、前記含フッ素シラン化合物および前記属原子を含む金属化合物を含む表面処理剤を用いて、前記含フッ素シラン化合物および前記金属原子を含む金属化合物を蒸着させて、表面処理層を形成すること
を含む方法。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、より良好な摩擦耐久性および耐薬品性を有する表面処理層を有する物品を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【０００９】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ１−２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。
【００１０】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００１１】
本開示の表面処理剤は、含フッ素シラン化合物および金属化合物を含む。
【００１２】
本開示の表面処理剤は、含フッ素シラン化合物に加え、金属化合物をさらに含むことにより、耐摩擦性および耐薬品性が向上した表面処理層を与えることができる。
【００１３】
（含フッ素シラン化合物）
上記含フッ素シラン化合物は、フッ素を含み、防汚性を有する表面処理層を形成することができる化合物である。
【００１４】
一の態様において、上記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
【化５】
0006927373.tif 000006
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物である。
【００１５】
上記式（１）において、ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−である。
【００１６】
上記式（２）において、ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−である。
【００１７】
上記式において、Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基である。
【００１８】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基における「Ｃ１−１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−３アルキル基である。
【００１９】
上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−１６パーフルオロアルキル基である。
【００２０】
上記Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ１−３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００２１】
上記式において、Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基である。
【００２２】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基における「Ｃ１−６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３アルキレン基である。
【００２３】
上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−３パーフルオロアルキレン基である。
【００２４】
上記Ｃ１−６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−である。
【００２５】
上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。
【００２６】
上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
【００２７】
上記式（１）および（２）において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。
【００２８】
ＲＦは、好ましくは、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲＦａが水素原子または塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅおよびｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。
【００２９】
ＲＦａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。ただし、すべてのＲＦａが水素原子または塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅおよびｆの少なくとも１つは、１以上である。
【００３０】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０〜１００の整数であってもよい。
【００３１】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。
【００３２】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよい。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよい。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ３Ｆ６）−（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよい。
【００３３】
一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。
【００３４】
一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。
【００３５】
一の態様において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）〜（ｆ５）のいずれかで表される基である。
−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−      （ｆ１）
［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］；
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−  （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
−（Ｒ６−Ｒ７）ｇ−      （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］；
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−      （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【００３６】
上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００、さらに好ましくは１５〜５０、例えば２５〜３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−または−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ−で表される基であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−で表される基である。
【００３７】
上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−で表される基であってもよい。
【００３８】
上記式（ｆ３）において、Ｒ６は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ３）において、Ｒ７は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｇ−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｇ−である。
【００３９】
上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【００４０】
上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【００４１】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ１）で表される基である。
【００４２】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ２）で表される基である。
【００４３】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ３）で表される基である。
【００４４】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ４）で表される基である。
【００４５】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ５）で表される基である。
【００４６】
上記ＲＦにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【００４７】
一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２〜０．９５であり、より好ましくは０．２〜０．９である。
【００４８】
一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０〜２．０である。
【００４９】
上記フルオロポリエーテル基含有化合物において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。本明細書において、ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【００５０】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。
【００５１】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。
【００５２】
上記式（１）および（２）において、ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。
【００５３】
ここに、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）などが挙げられる。
【００５４】
好ましい態様において、ＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。
【００５５】
好ましい態様において、ＲＳｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：
【化６】
0006927373.tif 000007
で表される基である。
【００５６】
上記式中、Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。
【００５７】
Ｒ１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【００５８】
Ｒ１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【００５９】
上記式中、Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【００６０】
Ｒ１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００６１】
上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ１１ｎ１Ｒ１２３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ＲＳｉが式（Ｓ１）または（Ｓ２）で表される基である場合、式（１）および式（２）の末端のＲＳｉ部分（以下、単に式（１）および式（２）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１〜３である（ＳｉＲ１１ｎ１Ｒ１２３−ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）および式（２）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。
【００６２】
ｎ１は、（ＳｉＲ１１ｎ１Ｒ１２３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。
【００６３】
上記式中、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは−Ｒ２８−Ｏｘ−Ｒ２９−（式中、Ｒ２８およびＲ２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合またはＣ１−２０アルキレン基であり、ｘは０または１である。）である。かかるＣ１−２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ１−２０アルキレン基は、好ましくはＣ１−１０アルキレン基、より好ましくはＣ１−６アルキレン基、さらに好ましくはＣ１−３アルキレン基である。
【００６４】
一の態様において、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｃ１−６アルキレン−Ｏ−Ｃ１−６アルキレン−または−Ｏ−Ｃ１−６アルキレン−である。
【００６５】
好ましい態様において、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または直鎖のＣ１−６アルキレン基であり、好ましくは単結合または直鎖のＣ１−３アルキレン基、より好ましくは単結合または直鎖のＣ１−２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ１−２アルキレン基である。
【００６６】
上記式中、Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基である。かかるＣ１−２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。
【００６７】
好ましい態様において、Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または直鎖のＣ１−６アルキル基であり、好ましくは水素原子または直鎖のＣ１−３アルキル基、好ましくは水素原子またはメチル基である。
【００６８】
上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。
【００６９】
好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数、好ましくは２〜６の整数である。
【００７０】
上記式中、Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または−Ｘ１１−ＳｉＲ１１ｎ１Ｒ１２３−ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ１４は、水素原子である。
【００７１】
上記式中、Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１〜６のアルキレン基または炭素数１〜６のアルキレンオキシ基である。
【００７２】
一の態様において、Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１〜６のアルキレン基または炭素数１〜６のアルキレンオキシ基である。
【００７３】
好ましい態様において、Ｒ１５は、単結合である。
【００７４】
一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１−ａ）である。
【化７】
0006927373.tif 000008
［式中、
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｘ１１、およびｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
ｔ１およびｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１〜１０の整数、より好ましくは２〜１０の整数、例えば１〜５の整数または２〜５の整数であり；
ｔ１およびｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【００７５】
好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１−ｂ）である。
【化８】
0006927373.tif 000009
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｘ１１、ｎ１およびｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］
【００７６】
上記式中、Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１−ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１である。
【００７７】
上記Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１）に結合する。
【００７８】
好ましい態様において、Ｚ１は、２価の有機基である。
【００７９】
好ましい態様において、Ｚ１は、Ｚ１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ１−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【００８０】
上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ１−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ２−（式中、ｚ１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ２）ｚ３−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４−（式中、ｚ３は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【００８１】
好ましい態様において、Ｚ１は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ３−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４−である。Ｚ１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【００８２】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１は、Ｃ１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ１は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【００８３】
上記Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１’−ＳｉＲ２１’ｐ１’Ｒ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’である。
【００８４】
上記Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２１’ｐ１’Ｒ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’）に結合する。
【００８５】
好ましい態様において、Ｚ１’は、２価の有機基である。
【００８６】
好ましい態様において、Ｚ１’は、Ｚ１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ１’−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【００８７】
上記Ｚ１’は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ１’−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ２’−（式中、ｚ１’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ２）ｚ３’−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４’−（式中、ｚ３’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【００８８】
好ましい態様において、Ｚ１’は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ３’−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４’−である。Ｚ１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【００８９】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１’は、Ｃ１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１’は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ１’は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【００９０】
上記Ｒ２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”−ＳｉＲ２２”ｑ１”Ｒ２３”ｒ１”である。
【００９１】
上記Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２２”ｑ１”Ｒ２３”ｒ１”）に結合する。
【００９２】
好ましい態様において、Ｚ１”は、２価の有機基である。
【００９３】
好ましい態様において、Ｚ１”は、Ｚ１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ１”−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【００９４】
上記Ｚ１”は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ１”−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ２”−（式中、ｚ１”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ２）ｚ３”−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４”−（式中、ｚ３”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【００９５】
好ましい態様において、Ｚ１”は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ３”−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４”−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ４”−である。Ｚ１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【００９６】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１”は、Ｃ１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１”は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ１”は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【００９７】
上記Ｒ２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。
【００９８】
上記Ｒ２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【００９９】
上記Ｒ２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【０１００】
上記Ｒ２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【０１０１】
上記Ｒ２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１０２】
上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ２２”ｑ１”Ｒ２３”ｒ１”）単位において、３である。
【０１０３】
上記ｑ１”は、（ＳｉＲ２２”ｑ１”Ｒ２３”ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。
【０１０４】
上記Ｒ２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。
【０１０５】
Ｒ２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【０１０６】
Ｒ２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【０１０７】
上記Ｒ２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【０１０８】
Ｒ２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１０９】
上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ２１’ｐ１’Ｒ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’）単位において、３である。
【０１１０】
一の態様において、ｐ１’は、０である。
【０１１１】
一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ２１’ｐ１’Ｒ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。
【０１１２】
一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ２１’ｐ１’Ｒ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。
【０１１３】
一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ２１’ｐ１’Ｒ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。
【０１１４】
上記Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。
【０１１５】
Ｒ２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【０１１６】
Ｒ２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【０１１７】
上記Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【０１１８】
Ｒ２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１１９】
上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１）単位において、３である。
【０１２０】
一の態様において、ｐ１は、０である。
【０１２１】
一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。
【０１２２】
一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。
【０１２３】
一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ２１ｐ１Ｒ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。
【０１２４】
上記式中、Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。
【０１２５】
上記Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【０１２６】
上記Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【０１２７】
上記式中、Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【０１２８】
上記Ｒｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１２９】
上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲａ１ｋ１Ｒｂ１ｌ１Ｒｃ１ｍ１）単位において、３である。
【０１３０】
一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲａ１ｋ１Ｒｂ１ｌ１Ｒｃ１ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。
【０１３１】
上記式（１）および（２）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１）および式（２）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。
【０１３２】
好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、−Ｚ１−ＳｉＲ２２ｑ１Ｒ２３ｒ１（式中、ｑ１は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０〜２の整数である。）、−Ｚ１’−ＳｉＲ２２’ｑ１’Ｒ２３’ｒ１’（式中、ｑ１’は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０〜２の整数である。）、または−Ｚ１”−ＳｉＲ２２”ｑ１”Ｒ２３”ｒ１”（式中、ｑ１”は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０〜２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ１、Ｚ１’、Ｚ１”、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２２”、およびＲ２３”は、上記と同意義である。
【０１３３】
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ２１’において、ｑ１”は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
【０１３４】
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
【０１３５】
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
【０１３６】
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２または３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２または３、好ましくは３である。
【０１３７】
Ｒｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ２−ＣＲ３１ｐ２Ｒ３２ｑ２Ｒ３３ｒ２である。
【０１３８】
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ２として記載する構造は、右側が（ＣＲ３１ｐ２Ｒ３２ｑ２Ｒ３３ｒ２）に結合する。
【０１３９】
好ましい態様において、Ｚ２は、２価の有機基である。
【０１４０】
上記Ｚ２は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ６−（式中、ｚ５は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ２）ｚ７−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８−（式中、ｚ７は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【０１４１】
好ましい態様において、Ｚ２は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８−である。Ｚ２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【０１４２】
別の好ましい態様において、上記Ｚ２は、Ｃ１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ２は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ２は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【０１４３】
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ２’−ＣＲ３２’ｑ２’Ｒ３３’ｒ２’である。
【０１４４】
Ｚ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ３２’ｑ２’Ｒ３３’ｒ２’）に結合する。
【０１４５】
上記Ｚ２’は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ５’−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ６’−（式中、ｚ５’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ２）ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８’−（式中、ｚ７’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【０１４６】
好ましい態様において、Ｚ２’は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８’−である。Ｚ２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【０１４７】
別の好ましい態様において、上記Ｚ２’は、Ｃ１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ２’は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ２’は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【０１４８】
上記Ｒ３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２である。
【０１４９】
上記Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２）に結合する。
【０１５０】
一の態様において、Ｚ３は酸素原子である。
【０１５１】
一の態様において、Ｚ３は２価の有機基である。
【０１５２】
上記Ｚ３は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ５”−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ６”−（式中、ｚ５”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ２）ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”−（式中、ｚ７”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【０１５３】
好ましい態様において、Ｚ３は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”−である。Ｚ３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【０１５４】
別の好ましい態様において、上記Ｚ３は、Ｃ１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ３は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ３は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【０１５５】
上記Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。
【０１５６】
Ｒ３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【０１５７】
Ｒ３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【０１５８】
上記Ｒ３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【０１５９】
上記Ｒ３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１６０】
上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１）および式（２）の末端部分において、ｎ２が１〜３である（ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）および式（２）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。
【０１６１】
ｎ２は、（ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。
【０１６２】
上記Ｒ３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【０１６３】
上記Ｒ３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基または−（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１−（Ｏ−ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、１〜６の整数、好ましくは２〜４の整数であり、ｔ１は１または０、好ましくは０であり、ｔ２は、１〜２０の整数、好ましくは２〜１０の整数、より好ましくは２〜６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１−２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１−６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。
【０１６４】
一の態様において、Ｒ３３’は、水酸基である。
【０１６５】
別の態様において、Ｒ３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基である。
【０１６６】
上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ３２’ｑ２’Ｒ３３’ｒ２’）単位において、３である。
【０１６７】
ｑ２’は、（ＣＲ３２’ｑ２’Ｒ３３’ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。
【０１６８】
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２である。かかる−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２は、上記Ｒ３２’における記載と同意義である。
【０１６９】
上記Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【０１７０】
上記Ｒ３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基または−（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１−（Ｏ−ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、１〜６の整数、好ましくは２〜４の整数であり、ｔ１は１または０、好ましくは０であり、ｔ２は、１〜２０の整数、好ましくは２〜１０の整数、より好ましくは２〜６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１−２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１−６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。
【０１７１】
一の態様において、Ｒ３３は、水酸基である。
【０１７２】
別の態様において、Ｒ３３は、１価の有機基、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基である。
【０１７３】
上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２およびｒ２の合計は、（ＣＲ３１ｐ２Ｒ３２ｑ２Ｒ３３ｒ２）単位において、３である。
【０１７４】
一の態様において、ｐ２は、０である。
【０１７５】
一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ３１ｐ２Ｒ３２ｑ２Ｒ３３ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。
【０１７６】
一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ３１ｐ２Ｒ３２ｑ２Ｒ３３ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。
【０１７７】
一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ３１ｐ２Ｒ３２ｑ２Ｒ３３ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。
【０１７８】
上記Ｒｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２である。かかる−Ｚ３−ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２は、上記Ｒ３２’における記載と同意義である。
【０１７９】
上記Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【０１８０】
上記Ｒｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基または−（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１−（Ｏ−ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、１〜６の整数、好ましくは２〜４の整数であり、ｔ１は１または０、好ましくは０であり、ｔ２は、１〜２０の整数、好ましくは２〜１０の整数、より好ましくは２〜６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１−２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１−６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。
【０１８１】
一の態様において、Ｒｆ１は、水酸基である。
【０１８２】
別の態様において、Ｒｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基である。
【０１８３】
上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２およびｍ２の合計は、（ＣＲｄ１ｋ２Ｒｅ１ｌ２Ｒｆ１ｍ２）単位において、３である。
【０１８４】
一の態様において、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１〜３、好ましくは２または３、より好ましくは３である（ＳｉＲ３４ｎ２Ｒ３５３−ｎ２）単位は、式（１）および式（２）の各末端部分において、２個以上、例えば２〜２７個、好ましくは２〜９個、より好ましくは２〜６個、さらに好ましくは２〜３個、特に好ましくは３個存在する。
【０１８５】
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ３２’において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
【０１８６】
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ３２において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
【０１８７】
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲａ１において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
【０１８８】
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２または３、好ましくは３であり、ｎ２は、２または３、好ましくは３である。
【０１８９】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。
【０１９０】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
【０１９１】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子またはＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
【０１９２】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ１）で表される基である。
【０１９３】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）で表される基である。
【０１９４】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）で表される基である。
【０１９５】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ４）で表される基である。
【０１９６】
上記式（１）および（２）において、ＸＡは、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（ＲＦ１およびＲＦ２）と基材との結合能を提供する部（ＲＳｉ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該ＸＡは、式（１）および（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。
【０１９７】
上記式（１）において、αは１〜９の整数であり、βは１〜９の整数である。これらαおよびβは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。αおよびβの和は、ＸＡの価数と同じである。例えば、ＸＡが１０価の有機基である場合、αおよびβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、またはαが１かつβが９となり得る。また、ＸＡが２価の有機基である場合、αおよびβは１である。
【０１９８】
上記式（２）において、γは１〜９の整数である。γは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、ＸＡの価数から１を引いた値である。
【０１９９】
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
【０２００】
上記ＸＡにおける２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜８価の有機基である。一の態様において、かかる２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２〜１０価の有機基は、好ましくは３〜８価の有機基、より好ましくは３〜６価の有機基である。
【０２０１】
一の態様において、ＸＡは、単結合または２価の有機基であり、αは１であり、βは１である。
【０２０２】
一の態様において、ＸＡは、単結合または２価の有機基であり、γは１である。
【０２０３】
一の態様において、ＸＡは３〜６価の有機基であり、αは１であり、βは２〜５である。
【０２０４】
一の態様において、ＸＡは３〜６価の有機基であり、γは２〜５である。
【０２０５】
一の態様において、ＸＡは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。
【０２０６】
一の態様において、ＸＡは、３価の有機基であり、γは２である。
【０２０７】
ＸＡが、単結合または２価の有機基である場合、式（１）および（２）は、下記式（１’）および（２’）で表される。
【化９】
0006927373.tif 000010
【０２０８】
一の態様において、ＸＡは単結合である。
【０２０９】
別の態様において、ＸＡは２価の有機基である。
【０２１０】
一の態様において、ＸＡとしては、例えば、単結合または下記式：
−（Ｒ５１）ｐ５−（Ｘ５１）ｑ５−
［式中：
Ｒ５１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ５−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｓ５−であり、
ｓ５は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ５１は、−（Ｘ５２）ｌ５−を表し、
Ｘ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、−ＣＯＮＲ５４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、−ＮＲ５４−および−（ＣＨ２）ｎ５−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ５は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ５は、０または１であり、
ｑ５は、０または１であり、
ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、ＸＡ（典型的にはＸＡの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、ＸＡは、これらの基により置換されていない。
【０２１１】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、−（Ｒ５１）ｐ５−（Ｘ５１）ｑ５−Ｒ５２−である。Ｒ５２は、単結合、−（ＣＨ２）ｔ５−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｔ５−である。ｔ５は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ５２（典型的にはＲ５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ５６は、これらの基により置換されていない。
【０２１２】
好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ５１−Ｘ５３−Ｒ５２−、または
−Ｘ５４−Ｒ５−
［式中、Ｒ５１およびＲ５２は、上記と同意義であり、
Ｘ５３は、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ５４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、
−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u５−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ５３）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ５３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u５−Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２−、
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）u５−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−、
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）u５−Ｎ（Ｒ５４）−、または
−ＣＯＮＲ５４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ５３）２−
（式中、Ｒ５３、Ｒ５４およびｍ５は、上記と同意義であり、
ｕ５は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。）を表し、
Ｘ５４は、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ５４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−、
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）u５−（Ｓｉ（Ｒ５４）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５４）２−、
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）u５−Ｎ（Ｒ５４）−、または
−ＣＯＮＲ５４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ５４）２−
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。
【０２１３】
より好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−
−Ｘ５４−、または
−Ｘ５４−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中、Ｘ５３、Ｘ５４、ｓ５およびｔ５は、上記と同意義である。］
である。
【０２１４】
より好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−、または
−Ｘ５４−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
【０２１５】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−、または
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｘ５３−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中、
Ｘ５３は、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ５４−であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し、
ｓ５は、１〜２０の整数であり、
ｔ５は、１〜２０の整数である。］
であり得る。
【０２１６】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−
−ＣＯＮＲ５４−（ＣＨ２）ｔ５−
［式中、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し、
ｓ５は、１〜２０の整数であり、
ｔ５は、１〜２０の整数である。］
であり得る。
【０２１７】
一の態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−、
−（ＣＨ２）ｓ５−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−（ＣＨ２）ｔ５−、
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）u５−（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−（ＣＨ２）ｔ５−、または
−（ＣＨ２）ｓ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−（ＣＨ２）u５−Ｓｉ（Ｒ５３）２−（ＣvＨ２v）−
［式中、Ｒ５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５およびｕ５は、上記と同意義であり、ｖ５は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。
【０２１８】
上記式中、−（ＣvＨ２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−であり得る。
【０２１９】
上記ＸＡは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、ＸＡは、非置換である。
【０２２０】
尚、上記ＸＡは、各式の左側がＲＦ１またはＲＦ２に結合し、右側がＲＳｉに結合する。
【０２２１】
一の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、−Ｏ−Ｃ１−６アルキレン基以外であり得る。
【０２２２】
別の態様において、ＸＡとしては、例えば下記の基が挙げられる：
【化１０】
0006927373.tif 000011
【化１１】
0006927373.tif 000012
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
【化１２】
0006927373.tif 000013
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＲＦ１またはＲＦ２に結合し、Ｅは、ＲＳｉに結合する。］
【０２２３】
上記ＸＡの具体的な例としては、例えば：
単結合、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）５−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）５−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）５−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−ＣＨ２−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）２−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）４−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）５−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
【化１３】
0006927373.tif 000014
などが挙げられる。
【０２２４】
さらに別の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、式：−（Ｒ１６）ｘ１−（ＣＦＲ１７）ｙ１−（ＣＨ２）ｚ１−で表される基である。式中、ｘ１、ｙ１およびｚ１は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ１、ｙ１およびｚ１の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【０２２５】
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ１８−（式中、Ｒ１８は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１８は、酸素原子または２価の極性基である。
【０２２６】
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ１９）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ１９−（これらの式中、Ｒ１９は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
【０２２７】
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
【０２２８】
さらに別の態様において、ＸＡの例として、下記の基が挙げられる：
【化１４】
0006927373.tif 000015
［式中、
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各ＸＡ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲＦ１またはＲＦ２に結合する以下の基：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または
【化１５】
0006927373.tif 000016
［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲＳｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。
【０２２９】
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。
【０２３０】
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
【０２３１】
好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、
【化１６】
0006927373.tif 000017
が挙げられる。
【０２３２】
この態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。
【０２３３】
さらに別の態様において、ＸＡの例として、下記の基が挙げられる：
【化１７】
0006927373.tif 000018
［式中、Ｒ２５、Ｒ２６およびＲ２７は、それぞれ独立して２〜６価の有機基であり、
Ｒ２５は、少なくとも１つのＲＦ１に結合し、Ｒ２６およびＲ２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲＳｉに結合する。］
【０２３４】
一の態様において、上記Ｒ２５は、単結合、Ｃ１−２０アルキレン基、Ｃ３−２０シクロアルキレン基、Ｃ５−２０アリーレン基、−Ｒ５７−Ｘ５８−Ｒ５９−、−Ｘ５８−Ｒ５９−、または−Ｒ５７−Ｘ５８−である。上記、Ｒ５７およびＲ５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ１−２０アルキレン基、Ｃ３−２０シクロアルキレン基、またはＣ５−２０アリーレン基である。上記Ｘ５８は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯＯ−である。
【０２３５】
一の態様において、上記Ｒ２６およびＲ２７は、それぞれ独立して、炭化水素、または炭化水素の端または主鎖中にＮ、ＯおよびＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ１−６アルキル基、−Ｒ３６−Ｒ３７−Ｒ３６−、−Ｒ３６−ＣＨＲ３８２−などが挙げられる。ここに、Ｒ３６は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ３７は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＮまたはＯである。Ｒ３８は、−Ｒ４５−Ｒ４６−Ｒ４５−、−Ｒ４６−Ｒ４５−または−Ｒ４５−Ｒ４６−である。ここに、Ｒ４５は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ４６は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＯである。
【０２３６】
この態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。
【０２３７】
上記式（１）または式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２〜１×１０５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３２，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「平均分子量」は、数平均分子量を言い、「平均分子量」は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【０２３８】
一の態様において、本開示の表面処理剤中、含フッ素シラン化合物は、式（１）で表される化合物である。
【０２３９】
別の態様において、本開示の表面処理剤中、含フッ素シラン化合物は、式（２）で表される化合物である。
【０２４０】
別の態様において、本開示の表面処理剤中、含フッ素シラン化合物は、式（１）で表される化合物および式（２）で表される化合物である。
【０２４１】
本開示の表面処理剤中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物が、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％または１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下または５モル％以上１０モル％以下である。式（２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、より摩擦耐久性を向上させることができる。
【０２４２】
上記の式（１）または（２）で表される化合物は、例えば、上記特許文献１、特許文献２等に記載の方法により得ることができる。
【０２４３】
上記金属化合物は、金属単体、金属原子と他の原子との化合物、例えば反応性基が結合した化合物、塩、他の有機金属化合物等が挙げられる。
【０２４４】
本明細書において、金属化合物に含まれる金属原子とは、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ａｓ、Ｔｅ等の半金属も包含する。
【０２４５】
上記金属化合物に含まれる金属原子は、周期表の３族〜１１族の遷移金属原子、および１２〜１５族の典型金属原子から選択される１種またはそれ以上の金属原子である。上記金属原子は、好ましくは周期表の３族〜１１族の遷移金属原子、および１２〜１５族の典型金属原子（ただし、Ｓｉを除く）から選択される１種またはそれ以上の金属原子、より好ましくは３族〜１１族の遷移金属原子、さらに好ましくは３〜７族の遷移金属原子、さらにより好ましくは４〜６族の遷移金属原子である。表面処理剤がこのような金属原子を含むことにより、該表面処理剤から形成される表面処理層中に上記金属原子を存在せしめることができ、これにより表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性を向上させることができる。
【０２４６】
一の態様において、上記金属原子は、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ａｌ、ＴｉおよびＶから選択される１種またはそれ以上の原子である。かかる金属種を用いることにより、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をより向上させることができる。
【０２４７】
好ましい態様において、上記金属原子は、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、ＣｒまたはＶである。かかる金属種を用いることにより、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をより向上させることができる。
【０２４８】
さらに好ましい態様において、上記金属原子は、Ｔａである。金属原子としてタンタルを採用することにより、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をより向上させることができる。
【０２４９】
好ましい態様において、上記金属化合物は、Ｍ−Ｒ（式中、Ｍは、金属原子であり、Ｒは加水分解性基である。）で表される金属化合物である。金属化合物を、金属と加水分解性基とが結合した化合物とすることにより、より効率的に金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。
【０２５０】
上記加水分解性基とは、上記含フッ素シランに関する加水分解性基と同様に、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、金属原子から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、−ＯＲｍ、−ＯＣＯＲｍ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｍ２、−ＮＲｍ２、−ＮＨＲｍ、ハロゲン（これら式中、Ｒｍは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）などが挙げられる。
【０２５１】
好ましい態様において、上記加水分解性基とは、−ＯＲｍであり、好ましくはメトキシまたはエトキシである。加水分解性基としてアルコキシ基を用いることにより、より効率的に金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。
【０２５２】
一の態様において、上記加水分解性基は、上記した含フッ素シラン化合物に含まれる加水分解性基と同じであってもよい。含フッ素シラン化合物と金属化合物における加水分解性基を同じ基とすることにより、かかる加水分解性基が相互に交換された場合であっても、その影響を小さくすることができる。
【０２５３】
別の態様において、上記加水分解性基は、上記した含フッ素シラン化合物に含まれる加水分解性基と異なっていてもよい。含フッ素シラン化合物と金属化合物における加水分解性基を異なるものとすることにより、加水分解の反応性を制御することができる。
【０２５４】
一の態様において、上記加水分解性基と、上記含フッ素シラン化合物に含まれる加水分解性基は、表面処理剤中において、相互に入れ替わっていてもよい。
【０２５５】
好ましい態様において、上記金属化合物は、Ｔａ（ＯＲｍ）５であり、好ましくはＴａ（ＯＣＨ２ＣＨ３）５であり得る。
【０２５６】
上記金属化合物は、表面処理剤中、上記含フッ素シラン化合物に対して、モル比で、好ましくは０．１〜１０倍、より好ましくは０．２〜５倍、さらに好ましくは０．３〜３倍の量で含まれる。金属化合物の含有割合を上記の範囲とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をより向上させることができる。
【０２５７】
本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。
【０２５８】
上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、３−ペンタノール、オクチルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、（ＣＦ３）２ＣＨＯＨ等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。
【０２５９】
含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ６      ・・・（３）
式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０２６０】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−Ｒｆ６              ・・・（３ａ）
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ”−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ”−（ＯＣＦ２）ｄ”−Ｒｆ６              ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【０２６１】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３−Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。
【０２６２】
上記含フッ素オイルは、５００〜１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。
【０２６３】
含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０〜５０質量％、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。
【０２６４】
一の態様において、含フッ素シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、特に真空蒸着法により表面処理層を形成する場合において、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。
【０２６５】
一の態様において、含フッ素シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩擦耐久性および高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。
【０２６６】
含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０２６７】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【０２６８】
本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。
【０２６９】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０２７０】
上記アルコール類としては、例えば１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜６のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、（ＣＦ３）２ＣＨＯＨが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させ、また、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物と溶媒の相溶性を改善させる。
【０２７１】
上記アルコール類は、表面処理剤中、上記金属化合物に対して、モル比で、好ましくは０．１〜５倍、より好ましくは０．５〜３倍、さらに好ましくは０．８〜１．２倍の量で含まれる。アルコール類の含有割合を上記の範囲とすることにより、表面処理層の安定性をより向上させることができる。
【０２７２】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【０２７３】
触媒は、本開示の含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。
【０２７４】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【０２７５】
本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【０２７６】
本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。
【０２７７】
以下、本開示の物品について説明する。
【０２７８】
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。
【０２７９】
本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。
【０２８０】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｔａ３Ｏ５，Ｎｂ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【０２８１】
上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【０２８２】
一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【０２８３】
別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【０２８４】
好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
【０２８５】
本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。
【０２８６】
本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【０２８７】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【０２８８】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【０２８９】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【０２９０】
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。
【０２９１】
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【０２９２】
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【０２９３】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【０２９４】
上記のように、本開示の物品は、基材上に、含フッ素シラン化合物および金属化合物を含む表面処理剤を用いて表面処理層を形成することにより製造される。従って、本開示の物品における表面処理層は、金属化合物由来の金属原子を含む。
【０２９５】
従って、本開示は、基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品であって、前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、周期表の３族〜１１族の遷移金属原子、および１２〜１５族の典型金属原子から選択される１種またはそれ以上の金属原子を含む、物品を提供する。
【０２９６】
上記物品において、上記含フッ素シラン化合物は、上記本開示の表面処理剤に含まれる含フッ素シラン化合物である。従って、当該物品に含まれる表面処理層を形成する含フッ素シラン化合物は、上記した表面処理剤に含まれる含フッ素シランと同様の態様を有する。例えば、一の態様において、上記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
【化１８】
0006927373.tif 000019
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物である。
【０２９７】
上記物品において、上記金属原子は、上記本開示の表面処理剤に含まれる金属化合物を構成する金属原子である。従って、当該物品に含まれる表面処理層に含まれる金属原子は、上記した表面処理剤に含まれる金属化合物に関する金属と同様の態様を有する。例えば、上記金属原子は、好ましくは周期表の３族〜１１族の遷移金属原子、および１２〜１５族の典型金属原子（ただし、Ｓｉを除く）から選択される１種またはそれ以上の金属原子、より好ましくは３族〜１１族の遷移金属原子、さらに好ましくは３〜７族の遷移金属原子、さらにより好ましくは４〜６族の遷移金属原子である。
【０２９８】
一の態様において、上記金属原子は、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ａｌ、ＴｉおよびＶから選択される１種またはそれ以上の原子である。
【０２９９】
好ましい態様において、上記金属原子は、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、ＣｒまたはＶである。
【０３００】
さらに好ましい態様において、上記金属原子は、Ｔａである。
【０３０１】
上記表面処理層の原子組成および構成原子の比率は、表面分析および深さ方向分析により決定することができる。分析の方法としては、Ｘ線光電子分光分析法、飛行時間型二次イオン質量分析法などを用いることができる。
【０３０２】
（表面分析）
表面処理層の原子組成および構成原子の比率を測定するためのＸ線光電子分光分析法を行う装置としては、ＸＰＳ，アルバック・ファイ社製  ＰＨＩ５０００ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩを使用することができる。ＸＰＳ分析の測定条件としては、Ｘ線源に単色化ＡｌＫα線を２５Ｗ、光電子検出面積を１４００μｍ×３００μｍ，光電子検出角を２０度、４５度、９０度、パスエネルギーを２３．５ｅＶとし、スパッタイオンにはＡｒイオンを用いることが可能である。上記装置、測定条件により、Ｃ１ｓ、Ｏ１ｓ、Ｆ１ｓ、Ｓｉ２ｐ軌道、および金属原子の適切な軌道のピーク面積を観測し、炭素、酸素、フッ素、ケイ素、および金属原子の原子比を算出することにより積層体の組成を求めることができる。金属原子の適切な軌道としては、例えば、原子番号５（Ｂ）は１ｓ軌道、原子番号１３〜１４、２１〜３１（Ａｌ〜Ｓｉ、Ｓｃ〜Ｇａ）は２ｐ軌道、原子番号３２〜３３、３９〜５２（Ｇｅ〜Ａｓ、Ｙ〜Ｔｅ）は３ｄ軌道、原子番号７２〜８３（Ｈｆ〜Ｂｉ）は４ｆ軌道が挙げられる。
【０３０３】
（深さ方向分析）
また、表面処理層の深さ方向の分析を実施することも可能である。ＸＰＳ分析の測定条件としては、Ｘ線源に単色化ＡｌＫα線を２５Ｗで用い、光電子検出面積を１４００μｍ×３００μｍ，光電子検出角を４５度、パスエネルギーを２３．５ｅＶとし、スパッタイオンにはＡｒイオンを用いることができる。Ａｒイオンによるスパッタリングによって積層体表層を１〜１００ｎｍエッチングし、それぞれのエッチング後の深さにおいて、Ｃ１ｓ、Ｏ１ｓ、Ｆ１ｓ、Ｓｉ２ｐ軌道、および金属原子の適切な軌道のピーク面積を観測し、炭素、酸素、フッ素、ケイ素、および金属原子の原子比を算出することにより積層体内部の組成を求めることができる。金属原子の適切な軌道としては、例えば、原子番号５（Ｂ）は１ｓ軌道、原子番号１３〜１４、２１〜３１（Ａｌ〜Ｓｉ、Ｓｃ〜Ｇａ）は２ｐ軌道、原子番号３２〜３３、３９〜５２（Ｇｅ〜Ａｓ、Ｙ〜Ｔｅ）は３ｄ軌道、原子番号７２〜８３（Ｈｆ〜Ｂｉ）は４ｆ軌道が挙げられる。
【０３０４】
本開示の物品に含まれる表面処理層を上記のように表面分析（光電子検出角を４５度）した場合、上記金属原子は、表面処理層中に、炭素、酸素、フッ素、ケイ素および金属原子（例えば、タンタル）の合計量に対して、好ましくは０．０３〜３．０ａｔ％、より好ましくは０．１〜１．０ａｔ％、さらに好ましくは０．１〜０．５ａｔ％、より好ましくは０．１〜０．３ａｔ％存在する。かかる割合で表面処理層に金属原子を含有させることにより、表面処理層の摩擦耐久性、耐薬品性をより確実に向上させることができる。
【０３０５】
本開示の物品に含まれる表面処理層を上記のように表面分析（光電子検出角を４５度）した場合、上記表面処理層において、金属原子に対する炭素原子の含有モル比（Ｃ／Ｍ比）は、好ましくは１０〜１，０００、より好ましくは５０〜５００であり得る。炭素原子と金属原子の比をかかる範囲とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性、耐薬品性をより確実に向上させることができる。
【０３０６】
本開示の物品に含まれる表面処理層は、不純物、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。
【０３０７】
本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩擦耐久性および耐薬品性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０３０８】
従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。
【０３０９】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【０３１０】
本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【０３１１】
また、本開示の物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０３１２】
上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１〜５０ｎｍ、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０３１３】
本開示は、さらに、
基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品であって、前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、周期表の３族〜１１族の遷移金属原子、および１２〜１５族の典型金属原子から選択される１種またはそれ以上の金属原子を含む、物品の製造方法であって、
上記基材上に、上記含フッ素シラン化合物および上記金属原子を含む金属化合物を含む表面処理剤を用いて、上記含フッ素シラン化合物および上記金属原子を含む金属化合物を蒸着させて、表面処理層を形成すること
を含む方法を提供する。
【０３１４】
以上、本開示の物品について詳述した。なお、本開示の物品および物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例】
【０３１５】
以下、本開示の物品について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。
【０３１６】
（表面処理剤の調製）
表面処理剤１〜４
下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、２０質量％になるようにＨＦＥ７２００を用いて希釈した溶液４ｇに対し、Ｔａ（ＯＣＨ２ＣＨ３）５（高純度化学研究所製）を、それぞれ、０．２１ｇ、０．１２ｇおよび０．０２５ｇを添加して、表面処理剤１〜３を調製した。また、上記化合物を、２０質量％になるようにＨＦＥ７２００を用いて希釈して、比較例の表面処理剤４を調製した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)23CF2CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０３１７】
表面処理剤５および６
上記で調製した表面処理剤１に、それぞれ、ｉｓｏ−プロパノール（東京化成工業製）を０．２１ｇ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（ダイキン工業製）を０．２１ｇ加え、表面処理剤５および６を調製した。
【０３１８】
（表面処理層の形成）
上記で調製した表面処理剤１〜６を、それぞれ厚さ０．５ｍｍ、７１．５ｍｍ×１４９．０ｍｍの化学強化、表面研磨を実施してあるゴリラガラス３（コーニング社製）上に真空蒸着した。具体的には、表面処理剤１〜６（０．０５ｇ）を、それぞれ真空蒸着装置内の抵抗加熱ボートに充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０−３Ｐａ以下に排気した。次いで、上記ゴリラガラス３上に５ｎｍの二酸化ケイ素膜を形成し、抵抗加熱ボートを昇温することで、化学強化ガラス上に成膜を行った。次に蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度１５０℃の雰囲気下で３０分静置し、その後室温まで放冷させ、基材上に表面処理層を形成し、実施例１〜５（表面処理剤１〜３、５および６）および比較例１（表面処理剤４）の表面処理層付きガラス基体を得た。
【０３１９】
＜評価＞
上記で得られた表面処理層付きガラス基体について、それぞれ、次のように水接触角の測定、アルカリ試験、および摩擦耐久性の評価を行った。
【０３２０】
（アルカリ浸漬試験）
直径１ｃｍのＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製Ｏリングを、上記実施例１および比較例１のガラス基体の表面処理層を形成した表面に設置し、８ＮのＮａＯＨ溶液を上記Ｏリング内に滴下し、表面処理層の表面をアルカリ水溶液と接触させ、アルカリ浸漬試験に付した。アルカリ浸漬試験の２０〜１２０分経過後にＮａＯＨ溶液をふき取り、純水、エタノールで洗浄したのちに、水に対する接触角を測定した。尚、水の静的接触角は、上記のアルカリ浸漬試験後のガラス基体の表面に対して、２μＬの純水の水滴を着滴させ、接触角計（協和界面化学社製：自動接触角計  ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７０１）を用いて、水に対する接触角を測定した。アルカリ浸漬試験後の水の静的接触角の測定箇所は５箇所で行った。浸漬時間と、５箇所の接触角平均値の関係を下記表１に示す。
【０３２１】
【表１】
0006927373.tif 000020
【０３２２】
（摩擦耐久性試験）
表面処理層が形成されたサンプル物品を水平配置し、下記の摩擦子を表面処理層の表面に接触（接触面は直径１ｃｍの円）させ、その上に５Ｎの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。摩擦子を、最大１０，０００回往復させ、それぞれ、往復回数（摩擦回数）１０００回毎に水の静的接触角（°）を測定した。水の静的接触角の測定値が８０°未満となった時点で試験を中止した。尚、水の静的接触角の測定は、上記のアルカリ試験と同様に実施した。結果を、下記表２に示す。
【０３２３】
・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面（直径１ｃｍ）を、下記に示す組成の人工汗に浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
人工汗の組成：
無水リン酸水素二ナトリウム：２ｇ
塩化ナトリウム：２０ｇ
８５％乳酸：２ｇ
ヒスチジン塩酸塩：５ｇ
蒸留水：１Ｋｇ
シリコーンゴム加工品：
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓ＳＲ−５１を、直径１ｃｍ、厚さ１ｃｍの円柱状に加工したもの。
【０３２４】
【表２】
0006927373.tif 000021
【０３２５】
（表面分析）
上記の処理されたガラス基体の表面処理層の表面組成を、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ，アルバック・ファイ社製  ＰＨＩ５０００ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩ）を用いて行った。ＸＰＳ分析の測定条件は、下記の通りとした。
Ｘ線源：単色化ＡｌＫα線（２５Ｗ）
光電子検出面積：１４００μｍ×３００μｍ
光電子検出角：４５度
パスエネルギー：２３．５ｅＶ
【０３２６】
実施例１および比較例１で得られた表面処理層付きガラス基体について、上記ＸＰＳにより、Ｃ１ｓ、Ｏ１ｓ、Ｆ１ｓ、Ｓｉ２ｐ、およびＴａ４ｆ軌道のピーク面積を観測し、炭素、酸素、フッ素、ケイ素、タンタルの原子比、面積比を算出することにより、表面処理防防汚層を含む処理表面の組成を求めた。結果を、ＲＡＳを用いた実施例１および２について下記表３に示す。
【０３２７】
【表３】
0006927373.tif 000022
【０３２８】
上記の分析結果から、Ｔａを含む実施例の表面処理層は、Ｔａを含まない比較例の表面処理層と比較して、アルカリ浸漬試験および摩擦耐久試験の両方において、より良好な結果となることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０３２９】
本開示の物品は、種々多様な用途、例えばタッチパネル等の光学部材として好適に利用され得る。