(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロードポートシステムであって、
キャリアドア外面を有するキャリアドアを含む基板キャリアを受け入れるように適合されたドッキングトレイと、
前記ドッキングトレイに隣接し、前記キャリアドアに結合して前記キャリアドアを開くように適合され、前記基板キャリアが前記ドッキングトレイに受け入れられる間に前記キャリアドア外面に対向するドアオープナー外面を有するドアオープナーであって、
パージガス入口ポート、
少なくとも１つの排気出口ポート、
前記ドアオープナー外面から突出して前記ドアオープナーの周囲に沿って延びるリッジ壁であって、前記パージガス入口ポート及び前記少なくとも１つの排気出口ポートが前記リッジ壁の内側に配置され、前記リッジ壁が前記パージガス入口ポート及び前記少なくとも１つの排気出口ポートに近接した複数の開口部を含み、前記リッジ壁が前記キャリアドア外面に接している間に周囲チャネルを画成し、前記周囲チャネルが前記リッジ壁の外側の前記ドアオープナーの全周囲に沿って延び且つ前記開口部につながる、リッジ壁、及び
前記パージガス入口ポートから前記リッジ壁の前記開口部の少なくとも１つにパージガスを導くように配置された誘導構造
を含む、ドアオープナーと、
を含む、ロードポートシステム。
【請求項２】
前記誘導構造が三日月形である、請求項１に記載のロードポートシステム。
【請求項３】
前記誘導構造、前記パージガス入口ポート、前記少なくとも１つの排気出口ポート、及び前記リッジ壁の前記開口部が、前記周囲チャネルを通る流れを生み出すように位置決めされ、寸法化される、請求項１に記載のロードポートシステム。
【請求項４】
前記ドアオープナーが３つの排気出口ポートを備えている、請求項１に記載のロードポートシステム。
【請求項５】
前記パージガス入口ポート及び前記３つの排気出口ポートが、それぞれ、前記ドアオープナーの異なる角にある、請求項４に記載のロードポートシステム。
【請求項６】
前記パージガス入口ポート及び前記排気出口ポートが、前記ドアオープナーの対角線方向に対向する角に配置される、請求項１に記載のロードポートシステム。
【請求項７】
ロードポートドアオープナーであって、
ドアオープナー外面から突出して前記ロードポートドアオープナーの周囲に沿って延びるリッジ壁であって、前記リッジ壁が、ドッキングされた基板キャリアと協働して周囲チャネル及び間隙の両方を画成し、前記周囲チャネル及び前記間隙が前記リッジ壁の両側に画成された、リッジ壁、及び
前記間隙に位置するパージガス入口ポート、
前記間隙に位置する少なくとも１つの排気出口ポートであって、前記パージガス入口ポート及び前記少なくとも１つの排気出口ポートが前記リッジ壁の内側に配置された、少なくとも１つの排気出口ポート、
前記リッジ壁にある複数の開口部であって、前記複数の開口部が、前記パージガス入口ポート及び前記少なくとも１つの排気出口ポートに近接し、前記周囲チャネルを前記間隙に結合し、前記周囲チャネルが前記リッジ壁の外側の全周囲に沿って延びて前記複数の開口部につながる、複数の開口部、及び
前記パージガス入口ポートから前記リッジ壁の前記開口部の少なくとも１つにパージガスを導くように配置された誘導構造
を含む、ロードポートドアオープナー。
【請求項８】
前記誘導構造が三日月形である、請求項７に記載のロードポートドアオープナー。
【請求項９】
前記誘導構造、前記パージガス入口ポート、前記少なくとも１つの排気出口ポート、及び前記リッジ壁の前記開口部が、前記周囲チャネルを通る流れを生み出すように位置決めされ、寸法化される、請求項７に記載のロードポートドアオープナー。
【請求項１０】
前記ロードポートドアオープナーが３つの排気出口ポートを含む、請求項７に記載のロードポートドアオープナー。
【請求項１１】
前記パージガス入口ポート及び前記３つの排気出口ポートが、それぞれ、前記ロードポートドアオープナーの異なる角にある、請求項１０に記載のロードポートドアオープナー。
【請求項１２】
前記パージガス入口ポート及び前記排気出口ポートが、前記ロードポートドアオープナーの対角線方向に対向する角に配置される、請求項７に記載のロードポートドアオープナー。
【請求項１３】
請求項７から１２のいずれか一項に記載のロードポートドアオープナーと基板キャリアドアとの間の容積をパージする方法であって、
パージガス入口ポート、少なくとも１つの排気出口ポート、及びドッキングされた基板キャリアと協働して周囲チャネルを画成するリッジ壁を有するドアオープナーを備えたロードポートを提供することであって、前記リッジ壁が前記パージガス入口ポート及び前記少なくとも１つの排気出口ポートに近接した複数の開口部を有する、提供すること；
基板キャリアを前記ドアオープナーにドッキングし、前記周囲チャネルを含むその間の容積に空気を閉じ込めること；
前記パージガス入口ポートを介して前記容積内にパージガスを注入すること；
前記パージガス入口ポートに近接した前記リッジ壁の開口部を介して、前記パージガスを前記周囲チャネルに導くこと；及び
前記少なくとも１つの排気出口ポートを介して前記容積から前記空気及び前記パージガスを排出すること、
を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
本出願は、すべての目的でその全体が参照により本願に援用される、２０１７年２月６日出願の「ＳＹＳＴＥＭＳ，  ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ，  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＦＯＲ  Ａ  ＬＯＡＤ  ＰＯＲＴ  ＤＯＯＲ  ＯＰＥＮＥＲ」と題された米国特許出願第１５／４２６，０３７号（代理人整理番号２４６９６／ＵＳＡ）に基づく優先権を主張する。
【０００２】
本出願は、電子デバイス製造システムに関し、より具体的には、ロードポートドアオープナーのためのシステム、装置、及び方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
ファクトリインターフェース（ＦＩ）と称されることもある装置フロントエンドモジュール（ＥＦＥＭ）は、キャリアから処理ツールへと基板を移動するための非反応性環境を提供する。これは、実用的な程度にＥＦＥＭの内部容積を密封し、該内部容積を基板材料と非反応性の窒素などのガスで満たすことによって達成される。非反応性ガスは、ＥＦＥＭから酸素などの反応性ガスを押し出す。基板キャリアをドッキングするためのロードポートが、ＥＦＥＭの前面に取り付けられている。ロードポートは、該ロードポートにドッキングされた基板キャリアからドアを取り外すためのドアオープナーを備えている。ドアオープナーとキャリアドアとの間に閉じ込められた空気は、ＥＦＥＭに浸透し、基板を汚染する可能性がある。しかしながら、従来技術の方法及び装置を使用して、閉じ込められた空気を適切にパージすることは困難であり、時間がかかり、及び／又は高価でありうる。よって、閉じ込められた空気のパージを促進するロードポートドアオープナーのためのシステム、装置、及び方法が必要とされている。
【発明の概要】
【０００４】
幾つかの実施態様では、基板キャリアドアとキャリアドアオープナーとの間に閉じ込められた空気をパージするように動作可能な、改善されたロードポートが提供される。実施態様は、キャリアドアを含む基板キャリアを受け入れるように適合されたドッキングトレイ；ドッキングトレイに隣接し、キャリアドアに結合して該キャリアドアを開くように適合されたドアオープナーであって、パージガス入口ポートを含む、ドアオープナー；少なくとも１つの排気出口ポート、及びドッキングされた基板キャリアと協働して周囲チャネルを画成するリッジ壁を含み、ここで、リッジ壁はポートに近接した開口部を含み、ドアオープナーは、入口ポートからリッジ壁の開口部の少なくとも１つまでパージガスを導くように配置されたダイバータ構造をさらに含む。
【０００５】
他の幾つかの実施態様では、ロードポートドアオープナーが提供される。ロードポートドアオープナーは、パージガス入口ポート；少なくとも１つの排気出口ポート、及びドッキングされた基板キャリアと協働して周囲チャネルを画成するリッジ壁を含み、ここで、リッジ壁はポートに近接した開口部を含み、ドアオープナーは、入口ポートからリッジ壁の開口部の少なくとも１つまでパージガスを導くように配置されたダイバータ構造をさらに含む。
【０００６】
さらに他の実施態様では、ロードポートドアオープナーと基板キャリアドアとの間の容積から空気をパージする方法が提供される。本方法は、パージガス入口ポート、少なくとも１つの排気出口ポート、及びドッキングされた基板キャリアと協働して周囲チャネルを画成するリッジ壁を有するドアオープナーを備えたロードポートを提供することであって、リッジ壁がポートに近接した開口部を有する、提供すること；基板キャリアをドアオープナーにドッキングし、周囲チャネルを含むその間の容積に空気を閉じ込めること；パージガス入口ポートを介して容積内にパージガスを注入すること；パージガス入口ポートに近接したリッジ壁の開口部を介してパージガスを周囲チャネル内に導くこと；及び、少なくとも１つの排気出口ポートを介して容積の外に空気及びパージガスを排出すること、を含む。
【０００７】
実施態様のさらに他の特徴、態様、及び利点は、多くの例示的な実施態様及び実行形態を示すことにより、以下の詳細説明、添付の特許請求の範囲、及び添付の図面から、より十分に明らかになるであろう。実施態様はまた、他のさまざまな応用も可能でありえ、その幾つかの詳細は、開示された実施態様の範囲からすべて逸脱することなく、さまざまな点で修正することができる。したがって、図面及び説明は、本質的に例示的であると見なされるべきであり、限定的であると見なされるべきではない。図面は、必ずしも縮尺どおりには描かれていない。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】幾つかの実施態様による、電子デバイス処理システムの例を示すブロック図。
【図２】幾つかの実施態様による、例示的なロードポートを示す正面等角図。
【図３】幾つかの実施態様による、例示的な基板キャリアを示す等角図。
【図４】幾つかの実施態様による、ロードポートドアオープナーの断面部分に対する例示的な基板キャリアドアを示す等角図。
【図５】幾つかの実施態様による、基板キャリアドアとロードポートのドアオープナーとの間のインターフェースを示す断面図。
【図６】幾つかの実施態様による、ロードポートドアオープナーの一部の詳細を示す平面図。
【図７】幾つかの実施態様による、ロードポートドアオープナーの一部の詳細を示す等角図。
【図８】幾つかの実施態様による、基板キャリアドアとロードポートドアオープナーとの間のガス流の詳細を示す平面ワイヤーフレーム図。
【図９】幾つかの実施態様による、基板キャリアドアとロードポートドアオープナーとの間のガス流の詳細を示す等角ワイヤーフレーム図。
【図１０】幾つかの実施態様による、例示的な方法を示すフローチャート。
【図１１】本明細書に開示される実施態様に対する、従来技術のシステム及び方法の時間とパージガス消費における相対的な違いを示すグラフ。
【図１２】本明細書に開示される実施態様に対する、従来技術のシステム及び方法の時間とパージガス消費における相対的な違いを示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
基板（例えばシリコンウエハ）処理技術がより小さい特徴寸法でより高い解像度へと向上するにつれて、粒子、水分、及び反応性ガス（例えば酸素（Ｏ２））による汚染がより問題となる。電子デバイス製造システムの装置フロントエンドモジュール（ＥＦＥＭ）（ファクトリインターフェース（Ｆｉ）と称されることもある）は、窒素（Ｎ２）などの非反応性ガスを使用して、他のすべてのガス（例えばＯ２）、水分、及び他の粒子を強制的に押し出すことによって基板の汚染を防ぐ、基板の比較的不活性な（すなわち非反応性の）環境を作り出すことを目的としている。
【００１０】
ＥＦＥＭは、基板キャリア（例えば、フロントオープンユニファイドポッド（ＦＯＵＰ））内部からシステムの残りの部分への基板の送達を促進するロードポート（ＬＰ）とインターフェースする。しかしながら、基板キャリアとＥＦＥＭのＬＰインターフェースとから空気（例えばＯ２を含む）をパージする従来技術の方法では、ある特定の閉じ込められた空気の体積をパージ又はＮ２で置換することができない。その後、このパージされていない空気の体積は、非反応性環境を汚染し、結果的に、Ｏ２のＰＰＭ濃度を許容レベルにまで下げ戻すために、比較的大量のＮ２流と時間を使用する必要が生じる。高純度のＮ２は高価であり、複数のＬＰと高いスループットレベルとを有するＥＦＥＭを用いると、Ｏ２は従来技術のシステムに比較的迅速に導入され、比較的高いパージ速度で、したがって比較的高いコストで、処理されることとなる。
【００１１】
さらには、消耗品の過度の使用によって従来技術の方法のコストが比較的高くなるだけでなく、従来技術の方法を使用すると、基板汚染及びダウンタイムのリスクが著しく増加する。本明細書に開示される実施態様は、より高い純度（例えば、より高い非反応性レベル）のＥＦＥＭを可能にしつつ、これらの閉じ込められた空気の体積を、簡単かつ費用効果の高い方式で除去するシステム、方法、及び装置を提供する。
【００１２】
実施態様は、（１）基板キャリアドアのエッジと基板キャリアの外壁との間の周囲チャネルの閉じ込められた空気、及び、（２）基板キャリアドアとＬＰドアオープナーとの間の閉じ込められた空気の体積をパージするシステム、方法、及び装置を提供する。実施態様によれば、窒素ガスは、ＬＰドアオープナーのパージガス入口ポートを通して注入され、ＬＰドアオープナーの３つの排気ガス出口ポートを通して排出される。ポートは、ＬＰドアオープナーの角に位置している。さまざまなリッジ壁及び他の構造に起因して、キャリアドアと従来技術のＬＰドアオープナーとの間の接触面は、閉じ込められた空気を除去するためにパージされる容積全体にわたって効果的な流れを生じさせることができない、高いガス流抵抗の領域を作り出す。ＬＰドアオープナーの角に入口ポートと出口ポートとを配置し、基板キャリアドアの周囲のチャネルに出入りする開口部を作り出すことにより、実施態様は、キャリアドアとＬＰドアオープナーとの間の容積内の空気とともに、周囲チャネル内に閉じ込められた空気をパージすることを可能にする。
【００１３】
幾つかの実施態様では、チャネルに出入りする開口部は、ＬＰドアオープナーの接触面上のリッジ壁の選択された部分を除去することによって形成され、Ｎ２流が周囲チャネルに流入、周囲チャネルを通過、及び周囲チャネルから流出することが可能になる。パージガス入口ポートの近くと、入口ポートの対角線方向に対向する角に位置した３つの排気ガス出口ポートの１つの近くのリッジ壁のセクションが、除去される。さらには、Ｎ２流は、ダイバータ構造の使用を通じて、入口ポートに近接したリッジ壁の開口部に向かって部分的に導かれる。ダイバータ構造は、注入口ポートを部分的に取り囲み、パージされる領域にＮ２を押し込む高圧の領域を作り出す。
【００１４】
動作において、Ｎ２が低圧の排気出口ポートに向かうにつれて、Ｎ２は基板キャリアドアの周囲を流れ、空気／酸素をパージする。実施態様は、ポートサイズとリッジ壁の開口部とのバランス、並びに、ポート位置、リッジ壁開口部位置、及びダイバータ構造位置と幾何学形状を提供することにより、最小量のパージガスを使用して、閉じ込められたガスのパージを最短時間で最適化する。この体積の閉じ込められた空気を除去することにより、超高純度のＮ２環境用途のためのＯ２のＰＰＭ濃度ターゲットを、効率的かつ高い費用対効果で達成できる。「超高純度Ｎ２環境」を構成するものは、使用する基板キャリアのサイズ及び形状と併せて、オペレータ及びＥＦＥＭ環境の容積に応じて決まることに留意されたい。例えば、超高純度は、一部の用途では約１ＰＰＭから約３ＰＰＭのＯ２とすることができ、他の用途では１ＰＰＭ未満でありうる。パージされていない空気がＥＦＥＭのＮ２非反応性環境に入ることを許容する従来技術の代替案は、Ｏ２濃度を増加させ、環境を汚染する。このＯ２は比較的大量のＮ２で希釈されるため、次式によってほぼ定義される時間量を要し、
Ｔパージ＝（Ｖ／Ｑ）＊ｌｎ（Ｃ初期／Ｃ最終）
式中、ＶはＥＦＥＭの容積を表し、Ｑは汚染を取り除くＮ２パージ速度を表し、Ｃ初期は初期のＯ２のＰＰＭ濃度を表し、Ｃ最終は結果的に得られるターゲットＯ２ＰＰＭ濃度を表す。この関係から、比較的少量のＮ２を使用して（Ｏ２がＥＦＥＭに入る前に）、閉じ込められた空気の体積をパージすることの利点は明らかである。上式から、はるかに大きいＥＦＥＭの容積で希釈された後、同じ体積のＯ２を取り除くために、比較的大量のＮ２流及び時間が消費されるであろう。
【００１５】
図１を参照すると、幾つかの実施態様による例示的な電子デバイス処理システム１００のブロック図が示されている。システム１００は、ＥＦＥＭ１０４に結合した基板処理ツール１０２を含む。ＥＦＥＭ１０４は、ロードポート１０８のバックプレーン１０６に結合している。ロードポート１０８のドッキングトレイ１１０は、ロードポート１０８のドアオープナー１１４によって開くことができる基板キャリア１１２を支持するように適合されている。図２は、基板キャリアが存在しないロードポート１０８の等角図を示している。ドアオープナー１１４の接触面は、ドッキングトレイ１１０に面しており、バックプレーン１０６によって囲まれていることがわかる。図３は、図２のドアオープナー１１４にドッキングされるように適合されたキャリアドア３０２を含む基板キャリア１１２の等角図を示している。図４は、ロードポートドアオープナー１１４の（線Ａ―Ａに沿った）断面部分に対して位置決めされた基板キャリアドア３０２（基板キャリア１１２の残りの部分なし）の等角内面図を示している。図５は、図４の線Ａ―Ａに沿った、基板キャリアドア３０２とドアオープナー１１４との間のインターフェースの一部の拡大した詳細断面図である。基板キャリア１１２がロードポート１０８にドッキングされたときに空気（Ｏ２を含む）を閉じ込めるキャリアドア３０２とドアオープナー１１４との間の（１）周囲チャネル５０２及び（２）間隙５０８などの容積に留意されたい。ドアオープナー１１４のリッジ壁５０４は、キャリアドア３０２の表面に接触し、キャリアドア３０２、リッジ壁５０４、及び基板キャリア１１２の外壁５０６によって画成される容積（すなわち、周囲チャネル５０２）を形成する。間隙５０８は、ドアオープナー１１４の主表面、キャリアドア３０２の主表面によって画成される容積であり、そのエッジがリッジ壁５０４によって取り囲まれている。
【００１６】
次に図６及び図７を参照すると、実施態様によるロードポート１０８の例示的なドアオープナー１１４の詳細な平面図及び等角図がそれぞれ描かれている。ドアオープナー１１４は、基板キャリアドア３０２と接触して示されている。ドアオープナー１１４は、パージガス入口ポート６０２と、各ポートがドアオープナー１１４の異なる角に配置された３つの排気ガス出口ポート６０４、６０６、６０８とを含む。ドアオープナー１１４の周囲には、３つの開口部６１４、６１６、６１８を含むリッジ壁５０４が備わっている。周囲チャネル５０２内の空気及びドアオープナー１１４の主要面とキャリアドア３０２との間の空気を効果的にパージする強化された流れを促進するために、開口部は、図示されるように対角線方向に対向する角に配置される。パージガス入口ポート６０２に近接したダイバータ構造６２０は、三日月形又は円弧形の形状を有してよく、ガスが周囲チャネル５０２内に押し込まれるように、リッジ壁５０４の開口部６１４の方向に流れを導くように配置されうる。他の形状を使用することもできる。ダイバータ構造６２０は、キャリアドア固定機構６２２、６２４、及びキャリアドアラッチキー位置６２６、６２８など、ドアオープナー１１４上の他の構造の周りの流れを改善するのにも役立つ。
【００１７】
図８及び図９は、それぞれ、図６及び図７に対応するワイヤーフレーム図であり、ポート６０２、６０４、６０６、６０８及びリッジ壁開口部６１４、６１６、６１８の配置によって生成される例示的な流量パターンを示している。多数の矢印８０２はガス流を表している。ダイバータ構造６２０の効果は、パージガス入口ポート６０２からリッジ壁開口部６１４を通って周囲チャネル５０２への流れによって示されている。ガスは、高圧によって周囲チャネル５０２に押し込まれ、ドアオープナー１１４の反対側の角にある排気ガス出口ポート６０６からの低圧によって周囲チャネル５０２から引き出される。
【００１８】
幾つかの実施態様では、ドアオープナー１１４とキャリアドア３０２との間のパージされる全容積は、約０．１Ｌから約０．２Ｌの範囲である。パージガス（例えばＮ２）がパージガス入口ポート６０２を介して容積内に注入される速度は、約１．０ＬＰＭから約１０．０ＬＰＭの範囲である。排気ガス出口ポート６０４、６０６、６０８のそれぞれから流出する速度は、約０．１ＬＰＭから約１０．０ＬＰＭの範囲である。幾つかの実施態様では、１３枚から２５枚の基板を保持することができる基板キャリアを収容するように設計されたロードポートの容積をパージするのにかかる時間は、約５秒から約１．５分の範囲である。幾つかの実施態様では、パージガス入口ポート６０２の直径は、約０．１２５インチから約０．５インチの範囲である。幾つかの実施態様では、リッジ壁の開口部のサイズは、約０．１５インチから約２．０インチの範囲である。幾つかの実施態様では、周囲チャネルの幅及び深さは、約０．１インチから約１．５インチの範囲である。他の速度、サイズ、寸法、時間、及び値もまた可能である。
【００１９】
次に図１０を参照すると、ロードポートドアオープナーと基板キャリアドアとの間の容積をパージする例示的な方法１０００を示すフローチャートが示されている。パージガス入口ポート、少なくとも１つの排気出口ポート、ダイバータ構造、及びドッキングされた基板キャリアと協働して周囲チャネルを画成するリッジ壁を有するドアオープナーを含むロードポートが提供されており、ここで、リッジ壁は、ポートに近接した開口部を含む（１００２）。基板キャリアをドアオープナーにドッキングし、周囲チャネルを含むその間の容積に空気を閉じ込める（１００４）。その後、パージガス（例えばＮ２）を、容積内にパージガス入口ポートを介して注入する（１００６）。パージガスを、ダイバータ構造によって、パージガス入口ポートに近接したリッジ壁の開口部を介して周囲チャネルへと導く（１００８）。空気及びパージガスを、少なくとも１つの排気出口ポートを介して容積から排出する（１０１０）。
【００２０】
以下の計算例は、先行技術の方法及び装置に対する開示されたシステムの実施態様の利点を例証するために提供される。３つのロードポートを有するシステムを考えると、各ポートでは、０．１３Ｌの体積の閉じ込められた空気が、ロードポートドアオープナーと基板キャリアドアとの間からパージされる。例示的なシステムは、１７００Ｌの容積を有するＥＦＥＭを含む。
ＥＦＥＭの容積：
0006928661.tif 000002
閉じ込められた空気の体積：
0006928661.tif 000003
【００２１】
閉じ込められた空気をＥＦＥＭに浸透させた後にＥＦＥＭ容積全体をパージすることによってＯ２汚染に対処する従来の方法を使用して、ＥＦＥＭ容積由来の４７．９４７ＰＰＭのＯ２を１０ＰＰＭに低下させるには、１５０ＬＰＭのＮ２を０．３時間注入でき（これは、例えば２７００ＬのＮ２である）、あるいは、１０００ＬＰＭで０．０５時間注入できる（これは３０００ＬのＮ２である）。例示的なＥＦＥＭ容積をパージするための流量と時間との関係が、図１１のグラフ１１００に示されている。完全な拡散を想定したとしても、パージ速度と時間の変動は、対数関係の影響を受ける。しかしながら、拡散は完全にはならず、よって、上記の計算とグラフ１１００は最適な事例の消費シナリオを表している。
【００２２】
次に、本明細書に開示される実施態様の方法及び装置の使用について検討する。３つの基板キャリアドア及びキャリアドアオープナーの３つのロードポートのそれぞれから０．１３Ｌの空気を除去するために、わずか５ＬＰＭのＮ２が０．００５時間、それぞれ同時に注入され、これは、それぞれのロードポートについて、わずか１．５ＬのＮ２に相当する。０．１３Ｌの閉じ込められた体積は、２０９，０００ＰＰＭのＯ２開始濃度（標準ＡＴＭ空気のＯ２濃度）のものである。例示的な閉じ込められた空気の体積をパージするための流量と時間の関係が、図１２のグラフ１２００に示されている。したがって、本実施態様の方法及び装置を使用して同じ体積の酸素を排除するために、Ｏ２がＥＦＥＭに浸透する前にパージすることにより、わずかな時間が使用され、コストは９９．９５％削減される。
【００２３】
数多くの実施態様が本開示に記載されおり、これらは例示のみを目的として提示されている。記載された実施態様は、いかなる意味でも限定的ではなく、限定的であることが意図されてもいない。開示される本発明の実施態様は、本開示から容易に明らかなように、他の数多くの実施態様に広く適用可能である。当業者は、開示された実施態様が、構造的、論理的、ソフトウェア、及び電気に関する変更などのさまざまな修正及び変更を伴って実施されうることを認識するであろう。開示される実施態様の特定の特徴は、１つ以上の特定の実施態様及び／又は図面を参照して説明されうるが、このような特徴は、別段の明示的な指定がない限り、それらが記載されている１つ以上の特定の実施態様又は図面での使用に限定されないことが理解されるべきである。
【００２４】
本開示は、全ての実施態様の正確な説明ではなく、また、すべての実施態様に存在しなければならない実施態様の特徴の羅列でもない。本開示は、幾つかの実施態様の実施可能な説明を当業者に提供する。これらの実施態様のうちの幾つかは、本出願では特許請求されないかもしれないが、それにもかかわらず、本出願の優先権の利益を主張する１つ以上の継続出願において特許請求されうる。
【００２５】
前述の説明は、単に、例示的な実施態様を開示しているにすぎない。特許請求の範囲に含まれる、先に開示された装置、システム、及び方法の修正は、当業者にとって容易に明らかになるであろう。したがって、実施態様は、それらの例に関連して開示されているが、他の実施態様もまた、添付の特許請求の範囲によって定義される、意図された精神及び範囲内に入りうることが理解されるべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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