(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１凹部又は凸部からなる第１レリーフ構造が設けられた第１原版であって、前記複数の第１凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．５乃至３．２の範囲内にあり、空間周波数が２０００ｍ−１以上である第１原版に、熱可塑性樹脂層の一方の主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部又は全体を第１レーザビームの照射によって加熱して、前記主面の第１領域に前記第１レリーフ構造の一部又は全体を転写することと、
その後、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４未満であり、空間周波数が２０００ｍｍ−１未満である複数の第２凹部又は凸部からなる第２レリーフ構造が設けられた第２原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第２レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第１領域の一部と重なり合った部分を有する第２領域に、前記第２レリーフ構造の一部を転写することと、
その後、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に、又は、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に設けられたレリーフ構造が直接若しくは間接的に転写された主面を有する他の層の前記主面に、厚さが２０乃至１００ｎｍの範囲内にある金属層を形成することと、
前記金属層上にエッチングマスクを形成することと、
前記金属層のうち前記第１レリーフ構造の一部に対応した部分を、前記エッチングマスクを用いたエッチングによって選択的に除去することと
を含み、
前記エッチングマスクの形成は、
前記金属層上に感光性樹脂層を形成し、前記金属層を間に挟んで前記感光性樹脂層を露光し、その後、前記感光性樹脂層を現像処理に供して、前記第１凹部又は凸部に相当する凹部又は凸部の位置で開口した層を得ること、又は、
前記金属層と比較してエッチングされ難い無機化合物からなる層を、前記第１レリーフ構造の一部に対応した位置で不連続層となり、前記第２レリーフ構造の前記一部に対応した位置で連続層となるように、気相堆積法により前記金属層上へ形成すること
を含んだ転写箔の製造方法。
【請求項２】
前記第２レーザビームの照射は、前記第２領域のうち前記第１領域の前記一部と重なり合った前記部分が、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有するように行う請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記第２レーザビームの照射は、前記第２領域が、前記主面のうち前記第１領域と前記第２領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第１レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記第２領域に前記第２レリーフ構造の前記一部を転写した後であって、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に又は前記他の層の前記主面に前記金属層を形成する前に、前記複数の第２凹部又は凸部と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい複数の第３凹部又は凸部からなる第３レリーフ構造が設けられた第３原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第３レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第２領域の一部と重なり合った部分を有する第３領域に、前記第３レリーフ構造の一部を転写することを更に含んだ請求項１乃至３の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記第３レーザビームの照射は、前記第３領域のうち前記第２領域の前記一部と重なり合った前記部分が、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有するように行う請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記第３レーザビームの照射は、前記第３領域が、前記主面のうち前記第２領域と前記第３領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第２レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う請求項４又は５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記複数の第３凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４以上である請求項４乃至６の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記複数の第３凹部又は凸部は、前記複数の第２凹部又は凸部と比較して空間周波数がより大きい請求項４乃至７の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記複数の第３凹部又は凸部は空間周波数が２０００ｍｍ−１以上である請求項４乃至７の何れか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写箔に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、商品等の物品が真正品であることを証明する目的で、偽造や複製が困難なホログラムを上記物品において使用することがある。
例えば、顔画像等の個人情報を表す画像を表示する印刷層上に、透明なホログラムを貼り付けることで、個人情報を改竄から保護することがある。また、ＩＤ（identification）カード及びクレジットカードなどの各種カードや紙幣などの有価証券の不正な複製を牽制する目的で、それらにおいてホログラムを使用することもある。
【０００３】
これらのホログラムは、一般には、レリーフ型の回折構造を表面に有する、樹脂製のレリーフ構造形成層上に、アルミニウムなどからなる反射層を設けた構造を有している。このようなホログラムとしては、アルミニウムなどからなる反射層を部分的に除去する、所謂、ディメタライズ加工を施したものも知られている。
【０００４】
ディメタライズ加工には、反射層のうち、回折光を射出させるべき部分のみを残し、他の部分を精度よく除去することが求められる場合がある。このような精度の高いディメタライズ加工を達成し得る方法として、例えば、特許文献１に記載された方法が知られている。
【０００５】
この方法では、複製層の第１領域に、大きな深さ幅比、例えば０．３を超える深さ幅比を有する回折性の凹凸構造を設ける。なお、複製層の第２領域には、大きな深さ幅比を有する凹凸構造は設けない。次に、第１及び第２領域に対して、第１層を均一な表面密度で適用する。第１層は、第１領域と第２領域との表面構造の相違に起因して、第１領域に対応した部分と第２領域に対応した部分とで厚さや透過率などが異なる。この相違を利用して、第１領域をエッチングによって選択的に除去する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００８−５３０６００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の凹凸構造は、例えば、レーザビーム又は電子ビームで、凹凸構造に対応したパターンを樹脂層に描画することにより得られる。しかしながら、大きな深さ幅比を有する凹凸構造を形成するための描画条件は、小さな深さ幅比を有する凹凸構造を形成するための描画条件とは異なる。そのため、それら凹凸構造を同時に形成することは難しく、それ故、高い生産性を達成することは困難である。また、凹凸構造に対応したパターンを描画する方法では、描画ミスをした場合にリカバリができないため、高い歩留まりを達成することが難しい。
【０００８】
そこで、本発明は、凹部の深さと幅との比又は凸部の高さと幅との比が異なる複数のレリーフ構造を、高い生産性及び高い歩留まりで形成可能とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面によると、複数の第１凹部又は凸部からなる第１レリーフ構造が設けられた第１原版であって、前記複数の第１凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．５乃至３．２の範囲内にあり、空間周波数が２０００ｍ−１以上である第１原版に、熱可塑性樹脂層の一方の主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部又は全体を第１レーザビームの照射によって加熱して、前記主面の第１領域に前記第１レリーフ構造の一部又は全体を転写することと、その後、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４未満であり、空間周波数が２０００ｍｍ−１未満である複数の第２凹部又は凸部からなる第２レリーフ構造が設けられた第２原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第２レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第１領域の一部と重なり合った部分を有する第２領域に、前記第２レリーフ構造の一部を転写することと、その後、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に、又は、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に設けられたレリーフ構造が直接若しくは間接的に転写された主面を有する他の層の前記主面に、厚さが２０乃至１００ｎｍの範囲内にある金属層を形成することと、前記金属層上にエッチングマスクを形成することと、前記金属層のうち前記第１レリーフ構造の一部に対応した部分を、前記エッチングマスクを用いたエッチングによって選択的に除去することとを含み、前記エッチングマスクの形成は、前記金属層上に感光性樹脂層を形成し、前記金属層を間に挟んで前記感光性樹脂層を露光し、その後、前記感光性樹脂層を現像処理に供して、前記第１凹部又は凸部に相当する凹部又は凸部の位置で開口した層を得ること、又は、前記金属層と比較してエッチングされ難い無機化合物からなる層を、前記第１レリーフ構造の一部に対応した位置で不連続層となり、前記第２レリーフ構造の前記一部に対応した位置で連続層となるように、気相堆積法により前記金属層上へ形成することを含んだ転写箔の製造方法が提供される。
【００１０】
この方法では、複数の第１凹部又は凸部からなる第１レリーフ構造が設けられた第１原版と、複数の第１凹部又は凸部と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより小さい複数の第２凹部又は凸部からなる第２レリーフ構造が設けられた第２原版とを、予め準備しておく。そして、第１レリーフ構造の一部又は全体と、第２レリーフ構造の一部とを、熱可塑性樹脂層の主面へ転写する。これらの転写は、同じ条件下で行うことができる。また、これら転写では、第１レリーフ構造や第２レリーフ構造を形成するための電子ビーム又はレーザビーム照射と比較して、より大きなビーム径でレーザビーム照射を行うことができる。それ故、この方法によると、高い生産性を達成できる。
【００１１】
また、この方法では、第１及び第２原版を予め用意しておくため、描画ミスは発生し得ない。それ故、この方法によると、高い歩留まりを達成できる。
【００１２】
更に、この方法では、第２領域が、第１領域の一部と重なり合った部分を有するように、第２レリーフ構造の一部を熱可塑性樹脂層の主面へ転写する。それ故、第１レリーフ構造の一部が転写された領域と、第２レリーフ構造の一部が転写された領域とを、それらの間に隙間を生じることなしに隣接させることができる。即ち、高い位置精度を達成可能である。
【００１３】
そして、この方法では、第１レリーフ構造の一部又は全体を転写した後に、第２レリーフ構造の一部を転写する。或る領域に対して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより小さい第２凹部又は凸部を転写した後、その領域に対して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい第１凹部又は凸部を転写すると、第２凹部又は凸部は、第１凹部又は凸部によって完全には上書きされないことがある。これは、複数の第１凹部又は凸部は空間周波数が大きい場合に、特に顕著である。或る領域に対して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい第１凹部又は凸部を転写した後、その領域に対して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより小さい第２凹部又は凸部を転写すると、第１凹部又は凸部は、第２凹部又は凸部によってほぼ完全に上書きされる。従って、この方法によると、金属層の一部を選択的に除去してなる金属パターンの輪郭を、設計に近い形状にすることが容易である。
【００１４】
本発明の他の側面によると、前記第２レーザビームの照射は、前記第２領域のうち前記第１領域の前記一部と重なり合った前記部分が、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有するように行う上記側面に係る製造方法が提供される。
【００１５】
第１領域が０°より大きく且つ１８０°よりも小さい角部を有している場合、この角部は、第１レーザビームのビームスポットの丸い形状に対応して丸い形状を有する。第２レーザビームの照射を上記のように行うと、先の角部を角張らせることができる。従って、この方法によると、金属パターンの輪郭を、設計により近い形状にすることが容易である。
【００１６】
本発明の更に他の側面によると、前記第２レーザビームの照射は、前記第２領域が、前記主面のうち前記第１領域と前記第２領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第１レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う上記側面の何れかに係る製造方法が提供される。
【００１７】
この方法によると、金属パターンに、第１レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを形成することができる。
【００１８】
第１レーザビームのビーム径は、例えば、１００μｍ以上である。上記スリットの幅は、例えば、５乃至１００μｍの範囲内にある。
【００２０】
複数の第１凹部又は凸部の深さと幅との比又は高さと幅との比が大きいほど、金属層のうち第１レリーフ構造の一部に対応した部分を、エッチングによって除去することがより容易になる。複数の第２凹部又は凸部の深さと幅との比又は高さと幅との比が小さいほど、金属層のうち第２レリーフ構造の一部に対応した部分が、エッチングによって除去されるのをより容易に防止できる。
【００２１】
複数の第２凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が、０．１乃至０．３の範囲内にあることが好ましい。
【００２４】
複数の第１凹部又は凸部の空間周波数が、複数の第２凹部又は凸部の空間周波数と比較してより小さい場合、第１凹部又は凸部の深さ又は高さと、第２凹部又は凸部の深さ又は高さとの比を大きくしなければならない。
【００２５】
第１凹部又は凸部の空間周波数は、２０００乃至３３３３ｍ−１の範囲内にあることが好ましい。また、第１凹部又は凸部の深さ又は高さは、１００乃至４００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００２６】
第２レリーフ構造が、第２凹部又は凸部が規則的に配列した回折構造（ホログラム）である場合、第２凹部又は凸部の空間周波数は、６２５乃至１６６７ｍ−１の範囲内にあることが好ましい。また、第２レリーフ構造が、第２凹部又は凸部が規則的に配列した回折構造（ホログラム）である場合、第２凹部又は凸部の深さ又は高さは、５０乃至２００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００２７】
第２レリーフ構造が、第２凹部又は凸部が不規則に配置された光散乱構造である場合、第２凹部又は凸部の平均中心間距離、即ち平均ピッチは、１００乃至１０００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、第２レリーフ構造が光散乱構造である場合、第２凹部又は凸部の平均深さ又は平均高さは、１００乃至１０００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００２８】
本発明の更に他の側面によると、前記第２領域に前記第２レリーフ構造の前記一部を転写した後であって、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に又は前記他の層の前記主面に前記金属層を形成する前に、前記複数の第２凹部又は凸部と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい複数の第３凹部又は凸部からなる第３レリーフ構造が設けられた第３原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第３レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第２領域の一部と重なり合った部分を有する第３領域に、前記第３レリーフ構造の一部を転写することを更に含んだ上記側面の何れかに係る製造方法が提供される。
【００２９】
第３レリーフ構造の一部を転写することにより、例えば、金属パターンの形状を微修正することができる。なお、第３レリーフ構造は、第１レリーフ構造と同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００３０】
本発明の更に他の側面によると、前記第３レーザビームの照射は、前記第３領域のうち前記第２領域の前記一部と重なり合った前記部分が、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有するように行う上記側面に係る製造方法が提供される。
【００３１】
第２領域が０°より大きく且つ１８０°よりも小さい角部を有している場合、この角部は、第２レーザビームのビームスポットの丸い形状に対応して丸い形状を有する。第３レーザビームの照射を上記のように行うと、先の角部を角張らせることができる。従って、この方法によると、金属パターンの輪郭を、設計により近い形状にすることが容易である。
【００３２】
本発明の更に他の側面によると、前記第３レーザビームの照射は、前記第３領域が、前記主面のうち前記第２領域と前記第３領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第２レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う上記側面の何れかに係る製造方法が提供される。
【００３３】
この方法によると、第２レーザビームのビーム径よりも小さな幅の帯状部を有し、この帯状部に第２レリーフ構造の一部が設けられた金属パターンを得ることができる。
【００３４】
第２レーザビームのビーム径は、例えば、１００μｍ以上である。上記帯状部の幅は、例えば、５乃至１００μｍの範囲内にある。
【００３５】
本発明の更に他の側面によると、前記複数の第３凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４以上である上記側面の何れかに係る製造方法が提供される。
【００３６】
複数の第１凹部又は凸部の深さと幅との比又は高さと幅との比が大きいほど、金属層のうち第１レリーフ構造の一部に対応した部分を、エッチングによって除去することがより容易になる。同様に、複数の第３凹部又は凸部の深さと幅との比又は高さと幅との比が大きいほど、金属層のうち第３レリーフ構造の一部に対応した部分を、エッチングによって除去することがより容易になる。他方、複数の第２凹部又は凸部の深さと幅との比又は高さと幅との比が小さいほど、金属層のうち第２レリーフ構造の一部に対応した部分が、エッチングによって除去されるのをより容易に防止できる。
【００３７】
複数の第２凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が、０．１乃至０．３の範囲内にあることがより好ましい。複数の第３凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が、０．４以上であることが好ましく、０．５乃至３．２の範囲内にあることがより好ましい。
【００３８】
本発明の更に他の側面によると、前記複数の第３凹部又は凸部は、前記複数の第２凹部又は凸部と比較して空間周波数がより大きい上記側面の何れかに係る製造方法が提供される。
【００３９】
本発明の更に他の側面によると、前記複数の第３凹部又は凸部は空間周波数が２０００ｍｍ−１以上である上記側面の何れかに係る製造方法が提供される。
【００４０】
複数の第１凹部又は凸部の空間周波数や複数の第３凹部又は凸部の空間周波数が、複数の第２凹部又は凸部の空間周波数と比較してより小さい場合、第１凹部又は凸部の深さ又は高さと、第２凹部又は凸部の深さ又は高さとの比や、第３凹部又は凸部の深さ又は高さと、第２凹部又は凸部の深さ又は高さとの比を大きくしなければならない。
【００４１】
第１凹部又は凸部の空間周波数は、２０００乃至３３３３ｍ−１の範囲内にあることが好ましい。また、第１凹部又は凸部の深さ又は高さは、１００乃至４００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００４２】
第２レリーフ構造が、第１凹部又は凸部が規則的に配列した回折構造（ホログラム）である場合、第２凹部又は凸部の空間周波数は、６２５乃至１６６７ｍ−１の範囲内にあることが好ましい。また、第２レリーフ構造が、第２凹部又は凸部が規則的に配列した回折構造（ホログラム）である場合、第２凹部又は凸部の深さ又は高さは、５０乃至２００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００４３】
第２レリーフ構造が、第２凹部又は凸部が不規則に配置された光散乱構造である場合、第２凹部又は凸部の平均中心間距離、即ち平均ピッチは、１００乃至１０００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、第２レリーフ構造が光散乱構造である場合、第２凹部又は凸部の平均深さ又は平均高さは、１００乃至１０００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００４４】
第３凹部又は凸部の空間周波数は、２０００乃至３３３３ｍ−１の範囲内にあることが好ましい。また、第３凹部又は凸部の深さ又は高さは、１００乃至４００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。
【００４５】
第１レリーフ構造は、複数の第１凹部又は凸部が、互いに交差する２つの方向へ規則的に配列したものであってもよい。或いは、第１レリーフ構造は、複数の第１凹部又は凸部が、不規則に配置されたものであってもよい。或いは、第１レリーフ構造は、一方向に延びた形状を各々が有している複数の第１凹部又は凸部が、それらの幅方向に一定の間隔で又は不規則な間隔で配列したものであってもよい。
【００４６】
第２レリーフ構造が、第２凹部又は凸部が規則的に配列した回折構造（ホログラム）である場合、第２凹部又は凸部は、互いに交差する２つの方向へ規則的に配列していてもよい。或いは、この場合、第２凹部又は凸部は、一方向に延びた形状を各々が有し、それらの幅方向へ一定の間隔で配列していてもよい。
【００４７】
第２レリーフ構造が、第２凹部又は凸部が不規則に配置された光散乱構造である場合、第２レリーフ構造は、等方的に光を散乱するものであってもよく、異方的に光を散乱するものであってもよい。後者の場合、例えば、一方向に延びた形状を各々が有している複数の第２凹部又は凸部を、それらの幅方向に不規則な間隔で配列する。
【００４８】
第３レリーフ構造は、複数の第３凹部又は凸部が、互いに交差する２つの方向へ規則的に配列したものであってもよい。或いは、第３レリーフ構造は、一方向に延びた形状を各々が有している複数の第３凹部又は凸部が、それらの幅方向に配列したものであってもよい。或いは、第３レリーフ構造は、複数の第３凹部又は凸部が、不規則に配置されたものであってもよい。
【００４９】
本発明の更に他の側面によると、前記主面に前記レリーフ構造が設けられた前記熱可塑性樹脂層を用いて、表面に前記レリーフ構造を有する複製版を形成することと、前記複製版の前記表面に設けられた前記レリーフ構造を、前記他の層の前記主面へ転写することとを更に含んだ上記側面の何れかに係る製造方法が提供される。
【００５０】
熱可塑性樹脂層の主面に金属層を形成する方法は、オンデマンドでの転写箔の製造に適している。他方、複製版を形成する方法は、転写箔の大量製造に適している。
【００５１】
なお、複製版は、例えば、表面にレリーフ構造を有する樹脂層を作成し、その表面にニッケルなどの金属からなるめっき膜を形成することにより得られる。第１乃至第３原版も、レリーフ構造が異なること以外は、複製版と同様の構造を有し得る。
【００５２】
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂から成る。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース樹脂又はビニル樹脂を使用する。
【００５３】
金属層をパターニングしてなる金属パターンは、反射層として用いられる。金属層は、単体金属又は合金からなる。単体金属としては、例えば、アルミニウム、銀、又は金を使用することができる。合金としては、例えば、アルミニウム、銀、及び金の１以上を含んだ合金を使用することができる。金属層は、例えば、真空蒸着法及びスパッタリング法などの気相堆積法により形成することができる。金属層の厚さは、２０乃至１００ｎｍの範囲内とすることができる。
【００５４】
熱可塑性樹脂層の上記主面に金属層を形成する場合、この熱可塑性樹脂がレリーフ構造形成層である。或いは、上記他の層の主面に金属層を形成する場合、この他の層がレリーフ構造形成層である。
【００５５】
上記他の層がレリーフ構造形成層である場合、その材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は紫外線若しくは電子線硬化性樹脂を使用する。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース樹脂又はビニル樹脂を使用する。熱硬化性樹脂としては、例えば、反応性水酸基を有するアクリルポリオール若しくはポリエステルポリオールにポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン樹脂又はフェノール樹脂を使用する。紫外線又は電子線硬化性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂を使用できる。アクリル樹脂としては、例えば、エポキシアクリル、エポキシメタクリル、ウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレートを使用する。
【００５６】
上記他の層がレリーフ構造形成層である場合、レリーフ構造形成層は、例えば、以下の方法より形成することができる。例えば、熱可塑性樹脂からなる層に、レリーフ構造が設けられた複製版を、熱を印加しながら押し当て、その後、先の層から複製版を取り除く。或いは、紫外線硬化性樹脂からなる塗膜を形成し、これに複製版を押し当てながら紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その後、塗膜から複製版を取り除く。或いは、熱硬化性樹脂からなる塗膜を形成し、これに複製版を押し当てながら加熱して熱硬化性樹脂を硬化させ、その後、塗膜から複製版を取り除く。レリーフ構造形成層の厚さは、例えば、１乃至２５μｍの範囲内とすることができる。
【００５７】
金属層のうち第１レリーフ構造の一部に対応した部分のエッチングによる選択的な除去は、金属層上にエッチングマスクを形成することにより行う。
【００５８】
エッチングマスクは、例えば、先ず、金属層上に感光性樹脂層を形成し、次いで、金属層を間に挟んで感光性樹脂層を露光し、その後、感光性樹脂層を現像処理に供することにより得られる。金属層は、例えば、第１レリーフ構造の一部に対応した部分と、第２レリーフ構造の一部に対応した部分とでは、透過率が異なる。従って、上記の露光及び現像により、エッチングマスクを得ることができる。
【００５９】
或いは、エッチングマスクは、真空蒸着法やスパッタリング法などの気相堆積法により、金属層と比較してエッチングされ難い無機化合物からなる層を金属層上へ形成することにより得られる。この無機化合物層は、十分に薄ければ、例えば、第１レリーフ構造の一部に対応した位置では不連続層となり、第２レリーフ構造の一部に対応した位置では連続層となる。従って、この場合、無機化合物層は、第１レリーフ構造の一部に対応した位置ではエッチング剤が金属層へ到達するのを許容し、第２レリーフ構造の一部に対応した位置ではエッチング剤の金属層への到達を防ぐ。
【００６０】
無機化合物としては、例えば、酸化物又は窒化物を用いることができる。酸化物は、例えば、シリコン酸化物（ＳｉＯ）又はアルミナであり、窒化物は、例えば、窒化カルシウム（ＣａＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）又は窒化アルミニウム（ＡｌＮ）である。
【００６１】
転写箔は、レリーフ構造形成層と金属パターンとを含んだ転写材層と、転写材層を剥離可能に支持した支持体とを含んでいる。
【００６２】
一例によれば、転写材層は、互いに隣接した転写部及び非転写部を含んでいる。転写部は、転写材層のうち、物品へ転写される部分である。非転写部は、転写材層のうち、物品へ転写されずに残留する部分である。非転写部は、転写部と同様の層構成を有している。
【００６３】
支持体は、例えば、樹脂フィルム又はシートである。支持体は、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどの耐熱性に優れた材料からなる。支持体の転写材層を支持している主面には、例えばフッ素樹脂又はシリコーン樹脂を含んだ離型層が設けられていてもよい。支持体の厚さは、例えば、４乃至５０μｍとすることができる。
【００６４】
転写材層は、支持体と接するように位置した剥離保護層を更に含むことができる。剥離保護層は、転写部の支持体からの剥離を容易にするとともに、剥離した転写部、即ち、表示体の表面を損傷及び劣化から保護する役割を果たす。剥離保護層は、例えば、光透過性を有している。剥離保護層は、例えば樹脂からなる。剥離保護層を構成している樹脂は、例えば、紫外線硬化した樹脂、熱硬化した樹脂、又は、熱可塑性樹脂である。この樹脂には、例えば、アクリル樹脂を用いることができる。剥離保護層の厚さは、例えば、０．５乃至５μｍの範囲内とすることができる。
【００６５】
転写箔は、転写材層を被覆した接着層を更に含んでいてもよい。  
接着層は、例えば熱可塑性樹脂からなる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、及びオレフィン樹脂が挙げられる。接着層の厚さは、例えば、０．５乃至２０μｍの範囲内とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の一実施形態に係る方法により製造可能な転写箔の一例を概略的に示す平面図。
【図２】図１に示す転写箔のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図。
【図３】第１原版の一例を概略的に示す斜視図。
【図４】第２原版の一例を概略的に示す斜視図。
【図５】第１領域を概略的に示す平面図。
【図６】第２領域を概略的に示す平面図。
【図７】第１領域を拡大して示す平面図。
【図８】第２領域を拡大して示す平面図。
【図９】第１レリーフ構造の一部を転写した直後における第１領域の角部の形状の一例を概略的に示す平面図。
【図１０】第２レリーフ構造の一部を転写した後における第２領域の角部の形状の一例を概略的に示す平面図。
【図１１】第２レリーフ構造の一部を転写した後における第２領域の角部の形状の他の例を概略的に示す平面図。
【図１２】第３レリーフ構造の一部を転写した後における第３領域の角部の形状の一例を概略的に示す平面図。
【図１３】小さな幅のスリットを有する金属パターンを得るための方法における一工程を概略的に示す平面図。
【図１４】小さな幅のスリットを有する金属パターンを得るための方法における他の工程を概略的に示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００６７】
以下に、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施形態は、上記側面の何れかをより具体化したものである。なお、同様又は類似した機能を有する要素については、同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００６８】
＜転写箔＞
先ず、本発明の一実施形態に係る方法により製造可能な転写箔について説明する。
【００６９】
図１は、本発明の一実施形態に係る方法により製造可能な転写箔の一例を概略的に示す平面図である。図２は、図１に示す転写箔のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【００７０】
図１及び図２に示す転写箔１０は、支持体１１と転写材層１２と接着層１３とを含んでいる。  
支持体１１は、転写材層１２を剥離可能に支持している。支持体１１は、例えば、帯形状を有している。
【００７１】
転写材層１２は、レリーフ構造形成層１２１と、反射層１２２と、剥離保護層１２３とを含んでいる。剥離保護層１２３、レリーフ構造形成層１２１、及び反射層１２２は、この順に、支持体１１上に積層されている。レリーフ構造形成層１２１と反射層１２２との積層順は、逆であってもよい。
【００７２】
レリーフ構造形成層１２１は、光透過性を有している材料、例えば、無色透明な材料からなる。レリーフ構造形成層１２１の反射層１２２側の主面には、第１レリーフ構造の一部ＲＳ１ａと第２レリーフ構造の一部ＲＳ２ａとが、互いに隣接するように設けられている。この主面は、レリーフ構造が設けられていない領域、即ち平坦な領域を更に含んでいてもよい。なお、第１及び第２レリーフ構造については、後で詳述する。
【００７３】
反射層１２２は、パターニングされた金属層である。反射層１２２は、第１レリーフ構造の一部ＲＳ１ａの位置で開口している。また、反射層１２２は、第２レリーフ構造の一部ＲＳ２ａに対してコンフォーマルな形状を有している。
【００７４】
なお、転写材層１２のうち、反射層１２２の開口部に対応した部分は第１部分Ｐ１であり、他の部分は第２部分Ｐ２である。第２部分Ｐ２は、第１部分Ｐ１と隣接した位置に、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有している。
【００７５】
剥離保護層１２３は、光透過性を有している材料、例えば、無色透明な材料からなる。剥離保護層１２３は、省略することができる。
【００７６】
転写材層１２は、互いに隣接した転写部及び非転写部を含んでいる。  
転写部は、転写材層１２のうち、物品へ転写される部分である。転写部は、表示体として利用される部分である。非転写部は、転写材層１２のうち、物品へ転写されずに残留する部分である。ここでは、転写部は、第１部分Ｐ１と第２部分Ｐ２の一部とを含んだ部分であり、非転写部は、第２部分の残りの部分であるとする。
【００７７】
接着層１３は、転写材層１２を被覆している。接着層１３は、省略することができる。
【００７８】
＜転写箔の製造方法＞
次に、本発明の一実施形態に係る転写箔の製造方法を説明する。ここでは、一例として、上述した転写箔１０の製造方法を説明する。
【００７９】
転写箔１０の製造に当たっては、先ず、第１及び第２原版を準備する。  
図３は、第１原版の一例を概略的に示す斜視図である。図４は、第２原版の一例を概略的に示す斜視図である。
【００８０】
図３に示す第１原版２０は、第１レリーフ構造ＲＳ１が設けられた面を有している。第１レリーフ構造ＲＳ１は、複数の第１凹部又は凸部ＲＰ１からなる。
【００８１】
第１凹部又は凸部ＲＰ１は、互いに交差する２つの方向へ規則的に配列している。これら方向は、ここでは、互いに直交する方向である。第１凹部又は凸部ＲＰ１の上記２つの方向における空間周波数は、後述する第２凹部又は凸部ＲＰ２の空間周波数と比較してより大きい。
【００８２】
第１凹部又は凸部ＲＰ１の各々は、先細り形状を有している。第１凹部又は凸部ＲＰ１は、上記２つの方向の一方における寸法と、他方における寸法とが等しい。第１凹部又は凸部ＲＰ１は、後述する第２凹部又は凸部ＲＰ２と比較して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい。
【００８３】
図４に示す第２原版３０は、第２レリーフ構造ＲＳ２が設けられた面を有している。第２レリーフ構造ＲＳ２は、複数の第２凹部又は凸部ＲＰ２からなる。
【００８４】
第２凹部又は凸部ＲＰ２は、一方向に延びた形状を各々が有し、それらの幅方向へ一定の間隔で配列している。第２凹部又は凸部ＲＰ２の空間周波数は、上述した第１凹部又は凸部ＲＰ１の空間周波数と比較してより小さい。また、第２凹部又は凸部ＲＰ２は、上述した第１凹部又は凸部ＲＰ１と比較して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより小さい。
【００８５】
次に、熱可塑性樹脂層の一方の主面の第１及び第２領域に対して、それぞれ、第１原版２０を用いた転写及び第２原版３０を用いた転写を行う。
【００８６】
図５は、第１領域を概略的に示す平面図である。図６は、第２領域を概略的に示す平面図である。
【００８７】
先ず、図５に示すように、第１原版２０と熱可塑性樹脂層４０とを、第１原版２０の第１レリーフ構造ＲＳ１が設けられた面が熱可塑性樹脂層４０の一方の主面と接するように重ね合わせる。この状態で、これらを一対の圧力付与部材（図示せず）で挟む。これら圧力付与部材のうち、熱可塑性樹脂層４０と接するように設置するものは、例えば、レーザビームを透過させ得る板状体である。熱可塑性樹脂層４０をレリーフ構造形成層１２１として用いる場合は、熱可塑性樹脂層４０に代えて、支持体１１と熱可塑性樹脂層とそれらの間に介在した剥離保護層１２３とを含んだ積層体を使用する。
【００８８】
次いで、この板状体側から、熱可塑性樹脂層４０の第１領域Ｒ１へ第１レーザビームを照射する。第１レーザビームの照射には、例えば、パルスレーザを使用する。第１レーザビームの照射は、或るビームスポットと次のビームスポットとが部分的に重なり合うように行う。熱可塑性樹脂層４０のうち第１レーザビームが照射された部分は、加熱されて、可塑化する。その結果、第１領域Ｒ１に、第１レリーフ構造ＲＳ１の一部が転写される。
【００８９】
熱可塑性樹脂層４０を冷却した後、第１原版２０と熱可塑性樹脂層４０との積層構造を圧力付与部材間から解放し、第１原版２０から熱可塑性樹脂層４０を剥離する。
【００９０】
次に、図６に示すように、第２原版３０と熱可塑性樹脂層４０とを、第２原版３０の第２レリーフ構造ＲＳ２が設けられた面が、熱可塑性樹脂層４０の第１レリーフ構造ＲＳ１の一部が転写された主面と接するように重ね合わせる。この状態で、上記の圧力付与部材で挟む。
【００９１】
次いで、先の板状体側から、熱可塑性樹脂層４０の第２領域Ｒ２へ第２レーザビームを照射する。第２レーザビームの照射には、例えば、パルスレーザを使用する。第２レーザビームの照射は、或るビームスポットと次のビームスポットとが部分的に重なり合うように行う。熱可塑性樹脂層４０のうち第２レーザビームが照射された部分は、加熱されて、可塑化する。その結果、第２領域Ｒ２に、第２レリーフ構造ＲＳ２の一部が転写される。
【００９２】
第１及び第２レーザビームの照射は、より詳細には、以下に説明するように行う。  
図７は、第１領域を拡大して示す平面図である。図８は、第２領域を拡大して示す平面図である。
【００９３】
図７に示すように、第１レーザビームのビームスポットＢＳ１は、例えば、略円形である。第１領域Ｒ１への第１レーザビームの照射は、第１領域Ｒ１内で第１レーザビームの非照射部が生じないようにするべく、或るビームスポットＢＳ１と次のビームスポットＢＳ１とが部分的に重なり合うように行う。なお、図７では、簡略化のため、ビームスポットＢＳ１は、重なり合うようには描いていない。
【００９４】
また、図８に示すように、第２レーザビームのビームスポットＢＳ２も、例えば、略円形である。第２領域Ｒ２への第２レーザビームの照射は、第２領域Ｒ２内で第２レーザビームの非照射部が生じないようにするべく、或るビームスポットＢＳ２と次のビームスポットＢＳ２とが部分的に重なり合うように行う。なお、図８では、簡略化のため、ビームスポットＢＳ２は、重なり合うようには描いていない。
【００９５】
上記の通り、第２レーザビームの照射は、第２領域Ｒ２が第１領域Ｒ１の一部と重なり合った部分を有するように行う。即ち、第２レーザビームの照射は、第１領域Ｒ１以外の領域に対して行うだけでなく、第１領域Ｒ１の周縁部に対しても行う。この周縁部では、先に転写された第１レリーフ構造ＲＳ１の一部は、後から転写された第２レリーフ構造ＲＳ２の一部によって上書きされる。
【００９６】
また、ここでは、第２レーザビームの照射は、第２領域Ｒ２のうち第１領域Ｒ１の一部と重なり合った部分が、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有するように行う。
【００９７】
次いで、熱可塑性樹脂層４０を冷却する。その後、第２原版３０と熱可塑性樹脂層４０との積層構造を圧力付与部材間から解放し、第２原版３０から熱可塑性樹脂層４０を剥離する。
【００９８】
この熱可塑性樹脂層４０をレリーフ構造形成層１２１として用いる場合は、その上記主面に、気相堆積法により金属層を形成する。或いは、この熱可塑性樹脂層４０から複製版を製造し、この複製版を用いた転写により、熱可塑性樹脂層４０の上記主面に設けられたレリーフ構造に対応したレリーフ構造を一方の主面に有するレリーフ構造形成層１２１を得る。続いて、このレリーフ構造形成層１２１の先の主面に、気相堆積法により金属層を形成する。
【００９９】
次に、金属層上にエッチングマスクを形成する。  
エッチングマスクは、例えば、先ず、金属層上に感光性樹脂層を形成し、次いで、金属層を間に挟んで感光性樹脂層を露光し、その後、感光性樹脂層を現像処理に供することにより得る。或いは、エッチングマスクは、真空蒸着法やスパッタリング法などの気相堆積法により、金属層と比較してエッチングされ難い無機化合物からなる層を金属層上へ形成することにより得る。このようなエッチングマスクは、例えば、第１凹部又は凸部ＲＰ１に相当する凹部又は凸部の位置で開口している。
【０１００】
次いで、金属層をエッチングに供して、金属層のうち第１レリーフ構造ＲＳ１の一部に対応した部分を選択的に除去する。これにより、パターニングされた金属層からなる反射層１２２を得る。
【０１０１】
その後、必要に応じて、エッチングマスクを除去する。更に、接着層１３を形成する。以上のようにして、転写箔１０を得る。
【０１０２】
この方法では、第１原版２０と第２原版３０とを予め準備しておく。そして、第１原版２０から熱可塑性樹脂層４０への第１レリーフ構造ＲＳ１の一部の転写と、第２原版３０から熱可塑性樹脂層４０への第２レリーフ構造ＲＳ２の一部の転写とをこの順に行う。これらの転写は、同じ条件下で行うことができる。また、これら転写では、第１レリーフ構造ＲＳ１や第２レリーフ構造ＲＳ２を形成するための電子ビーム又はレーザビーム照射と比較して、より大きなビーム径でレーザビーム照射を行うことができる。それ故、この方法によると、高い生産性を達成できる。
【０１０３】
また、この方法では、第１原版２０及び第２原版３０を予め用意しておくため、描画ミスは発生し得ない。それ故、この方法によると、高い歩留まりを達成できる。
【０１０４】
更に、この方法では、第２領域Ｒ２が、第１領域Ｒ１の一部と重なり合った部分を有するように、第２レリーフ構造ＲＳ２の一部を熱可塑性樹脂層４０の主面へ転写する。それ故、第１レリーフ構造ＲＳ１の一部が転写された領域と、第２レリーフ構造ＲＳ２の一部が転写された領域とを、それらの間に隙間を生じることなしに隣接させることができる。即ち、高い位置精度を達成可能である。
【０１０５】
そして、この方法では、第１レリーフ構造ＲＳ１の一部又は全体を転写した後に、第２レリーフ構造ＲＳ２の一部を転写する。或る領域に対して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより小さい第２凹部又は凸部ＲＰ２を転写した後、その領域に対して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい第１凹部又は凸部ＲＰ１を転写すると、第２凹部又は凸部ＲＰ２部は、第１凹部又は凸部ＲＰ１によって完全には上書きされないことがある。或る領域に対して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい第１凹部又は凸部ＲＰ１を転写した後、その領域に対して、深さと幅との比又は高さと幅との比がより小さい第２凹部又は凸部ＲＰ２を転写すると、第１凹部又は凸部ＲＰ１は、第２凹部又は凸部ＲＰ２によって完全に上書きされる。従って、この方法によると、金属層の一部を選択的に除去してなる金属パターン、即ち反射層１２２の輪郭を、設計に近い形状にすることが容易である。
【０１０６】
また、上記の通り、この方法では、第２レーザビームの照射は、第２領域Ｒ２のうち第１領域Ｒ１の一部と重なり合った部分が、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有するように行う。
【０１０７】
図９は、第１レリーフ構造の一部を転写した直後における第１領域の角部の形状の一例を概略的に示す平面図である。図１０は、第２レリーフ構造の一部を転写した後における第２領域の角部の形状の一例を概略的に示す平面図である。
【０１０８】
第１領域Ｒ１が０°より大きく且つ１８０°よりも小さい角部を有している場合、この角部は、第１レーザビームのビームスポットＢＳ１の丸い形状に対応して、図９に示すように丸い形状を有する。第２レーザビームの照射を上記のように行うと、図１０に示すように、先の角部を角張らせることができる。従って、この方法によると、反射層１２２の輪郭を、設計により近い形状にすることができる。
【０１０９】
＜第１変形例＞
次に、第１変形例に係る転写箔の製造方法について説明する。  
第１変形例に係る転写箔の製造方法は、以下の点を除き、図１乃至図１０を参照しながら説明した転写箔の製造方法と同様である。
【０１１０】
図１１は、第２レリーフ構造の一部を転写した後における第２領域の角部の形状の他の例を概略的に示す平面図である。図１２は、第３レリーフ構造の一部を転写した後における第３領域の角部の形状の一例を概略的に示す平面図である。
【０１１１】
図１１に示すように、第２領域Ｒ２が０°より多く且つ１８０°よりも小さい角部を有している場合、図９などを参照しながら第１領域Ｒ１について説明したのと同様の理由により、この角部は、第２レーザビームのビームスポットＢＳ２の丸い形状に対応して丸い形状を有する。
【０１１２】
第１変形例に係る転写箔の製造方法では、第２凹部又は凸部ＲＰ２と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい複数の第３凹部又は凸部からなる第３レリーフ構造が設けられた第３原版を準備する。第３原版は、第１原版について説明したのと同様の構造を有し得る。第３原版としては、第１原版を使用してもよい。
【０１１３】
そして、第２領域Ｒ２に第２レリーフ構造ＲＳ２の一部を転写した後であって、金属層を形成する前に、第３レリーフ構造が設けられた第３原版に、熱可塑性樹脂層４０の主面を押し当て、この状態で熱可塑性樹脂層４０の一部を第３レーザビームの照射によって加熱する。これにより、図１２に示すように、先の主面のうち第２領域Ｒ２の一部と重なり合った部分を有する第３領域Ｒ３に、第３レリーフ構造の一部を転写する。
【０１１４】
第３レーザビームのビームスポットＢＳ３は、例えば、略円形である。第３領域Ｒ３への第３レーザビームの照射は、第３領域Ｒ３内で第３レーザビームの非照射部が生じないようにするべく、或るビームスポットＢＳ３と次のビームスポットＢＳ３とが部分的に重なり合うように行う。なお、図１２では、簡略化のため、ビームスポットＢＳ３は、重なり合うようには描いていない。
【０１１５】
第３レーザビームの照射を上記のように行うと、図１２に示すように、先の角部を角張らせることができる。従って、この方法によると、反射層１２２の輪郭を、設計により近い形状にすることができる。
【０１１６】
＜第２変形例＞
次に、第２変形例に係る転写箔の製造方法について説明する。  
第２変形例に係る転写箔の製造方法は、以下の点を除き、図１乃至図１０を参照しながら説明した転写箔の製造方法と同様である。
【０１１７】
図１３は、小さな幅のスリットを有する金属パターンを得るための方法における一工程を概略的に示す平面図である。図１４は、小さな幅のスリットを有する金属パターンを得るための方法における他の工程を概略的に示す平面図である。
【０１１８】
上記の通り、レーザビームのビーム径は、例えば、１００μｍ以上である。反射層１２２には、幅が１００μｍ以下のスリットを設けることが望ましい場合がある。
【０１１９】
第２変形例に係る転写箔の製造方法では、図１３及び図１４に示すように、第２レーザビームの照射は、第２領域Ｒ２が、熱可塑性樹脂層４０の主面のうち第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２とが部分的に重なり合った位置に、第１レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う。こうすると、第２領域Ｒ２のスリットの幅と等しい幅を有するスリットが設けられた反射層１２２が得られる。
【０１２０】
＜他の変形例＞
上述した転写箔の製造方法には、更に他の変形も可能である。例えば、第３レーザビームの照射は、第３領域Ｒ３が、熱可塑性樹脂層４０の主面のうち第２領域Ｒ２と第３領域Ｒ３とが部分的に重なり合った位置に、第２レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行ってもよい。こうすると、第２レーザビームのビーム径よりも小さな幅の帯状部、より具体的には、第３領域Ｒ３のスリットの幅と等しい幅を有する帯状部を有し、この帯状部に第２レリーフ構造ＲＳ２の一部が設けられた反射層１２２が得られる。
以下に、当初の特許請求の範囲に記載していた発明を付記する。
［１］
複数の第１凹部又は凸部からなる第１レリーフ構造が設けられた第１原版に、熱可塑性樹脂層の一方の主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部又は全体を第１レーザビームの照射によって加熱して、前記主面の第１領域に前記第１レリーフ構造の一部又は全体を転写することと、
その後、前記複数の第１凹部又は凸部と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより小さい複数の第２凹部又は凸部からなる第２レリーフ構造が設けられた第２原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第２レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第１領域の一部と重なり合った部分を有する第２領域に、前記第２レリーフ構造の一部を転写することと、
その後、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に、又は、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に設けられたレリーフ構造が直接若しくは間接的に転写された主面を有する他の層の前記主面に、金属層を形成することと、
前記金属層のうち前記第１レリーフ構造の一部に対応した部分を、エッチングによって選択的に除去することと
を含んだ転写箔の製造方法。
［２］
前記第２レーザビームの照射は、前記第２領域のうち前記第１領域の前記一部と重なり合った前記部分が、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有するように行う項１に記載の製造方法。
［３］
前記第２レーザビームの照射は、前記第２領域が、前記主面のうち前記第１領域と前記第２領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第１レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う項１又は２に記載の製造方法。
［４］
前記複数の第１凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４以上であり、前記複数の第２凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４未満である項１乃至３の何れか１項に記載の製造方法。
［５］
前記複数の第１凹部又は凸部は、前記複数の第２凹部又は凸部と比較して空間周波数がより大きい項１乃至４の何れか１項に記載の製造方法。
［６］
前記複数の第１凹部又は凸部は空間周波数が２０００ｍｍ−１以上であり、前記複数の第２凹部又は凸部は空間周波数が２０００ｍｍ−１未満である項１乃至４の何れか１項に記載の製造方法。
［７］
前記第２領域に前記第２レリーフ構造の前記一部を転写した後であって、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に又は前記他の層の前記主面に前記金属層を形成する前に、前記複数の第２凹部又は凸部と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい複数の第３凹部又は凸部からなる第３レリーフ構造が設けられた第３原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第３レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第２領域の一部と重なり合った部分を有する第３領域に、前記第３レリーフ構造の一部を転写することを更に含んだ項１乃至６の何れか１項に記載の製造方法。
［８］
前記第３レーザビームの照射は、前記第３領域のうち前記第２領域の前記一部と重なり合った前記部分が、１８０°より大きく且つ３６０°よりも小さい角部を有するように行う項７に記載の製造方法。
［９］
前記第３レーザビームの照射は、前記第３領域が、前記主面のうち前記第２領域と前記第３領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第２レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う項７又は８に記載の製造方法。
［１０］
前記複数の第１凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４以上であり、前記複数の第２凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４未満であり、前記複数の第３凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が０．４以上である項７乃至９の何れか１項に記載の製造方法。
［１１］
前記複数の第１凹部又は凸部及び前記複数の第３凹部又は凸部は、前記複数の第２凹部又は凸部と比較して空間周波数がより大きい項７乃至１０の何れか１項に記載の製造方法。
［１２］
前記複数の第１凹部又は凸部及び前記複数の第３凹部又は凸部は空間周波数が２０００ｍｍ−１以上であり、前記複数の第２凹部又は凸部は空間周波数が２０００ｍｍ−１未満である項７乃至１０の何れか１項に記載の製造方法。
【符号の説明】
【０１２１】
１０…転写箔、１１…支持体、１２…転写材層、１３…接着層、２０…第１原版、３０…第２原版、４０…熱可塑性樹脂層、１２１…レリーフ構造形成層、１２２…反射層、１２３…剥離保護層、ＢＳ１…ビームスポット、ＢＳ２…ビームスポット、ＢＳ３…ビームスポット、Ｐ１…第１部分、Ｐ２…第２部分、Ｒ１…第１領域、Ｒ２…第２領域、Ｒ３…第３領域、ＲＰ１…第１凹部又は凸部、ＲＰ２…第２凹部又は凸部、ＲＳ１…第１レリーフ構造、ＲＳ１ａ…第１レリーフ構造の一部、ＲＳ２…第２レリーフ構造、ＲＳ２ａ…第２レリーフ構造の一部。
【図１】
0006915648.tif 000002
【図２】
0006915648.tif 000003
【図３】
0006915648.tif 000004
【図４】
0006915648.tif 000005
【図５】
0006915648.tif 000006
【図６】
0006915648.tif 000007
【図７】
0006915648.tif 000008
【図８】
0006915648.tif 000009
【図９】
0006915648.tif 000010
【図１０】
0006915648.tif 000011
【図１１】
0006915648.tif 000012
【図１２】
0006915648.tif 000013
【図１３】
0006915648.tif 000014
【図１４】
0006915648.tif 000015