(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
混合物であって、
第一の化合物と、第二の化合物と、を含有し、
前記第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される第一の環構造及び下記一般式（１２）で表される第二の環構造の少なくともいずれかを含み、
前記第二の化合物は、下記一般式（２１）で表される化合物又は下記一般式（２２）で表される化合物であり、
前記混合物中、前記第一の化合物及び前記第二の化合物の合計質量ＭＴと、前記第二の化合物の質量Ｍ２とが、下記数式（数１Ａ）の関係を満たす、
混合物。
０．１≦（Ｍ２／ＭＴ）×１００≦２０．０…（数１Ａ）
【化１】
0006831950.tif 000218
（前記一般式（１１）で表される第一の環構造は、前記第一の化合物の分子中で、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環及び置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環の少なくともいずれかの環構造と縮合し、
＝Ｘ１０で表される構造は、下記一般式（１１ａ）、（１１ｂ）、（１１ｃ）、（１１ｄ）、（１１ｅ）、（１１ｆ）、（１１ｇ）、（１１ｈ）、（１１ｉ）、（１１ｊ）、（１１ｋ）又は（１１ｍ）で表される。）
【化２】
0006831950.tif 000219
【化３】
0006831950.tif 000220
（前記一般式（１１ａ）、（１１ｂ）、（１１ｃ）、（１１ｄ）、（１１ｅ）、（１１ｆ）、（１１ｇ）、（１１ｈ）、（１１ｉ）、（１１ｊ）、（１１ｋ）又は（１１ｍ）中、Ｒ１１〜Ｒ１４並びにＲ１１１〜Ｒ１２０は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
（前記一般式（１２）において、Ｘ１〜Ｘ５は、それぞれ独立に、
窒素原子、
Ｒ１５と結合する炭素原子、又は
前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合する炭素原子であり、
Ｘ１〜Ｘ５の内、少なくとも１つは、前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合する炭素原子であり、
Ｒ１５は、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の炭素数２〜５０のアルケニル基、
置換もしくは無置換の炭素数７〜５０のアラルキル基、
カルボキシ基、
置換もしくは無置換のエステル基、
置換もしくは無置換のカルバモイル基、
ニトロ基、及び
置換もしくは無置換のシロキサニル基からなる群から選択され、
Ｒ１５が複数存在する場合、複数のＲ１５は互いに同一であるか、又は異なる。）
【化４】
0006831950.tif 000221
（前記一般式（２１）及び一般式（２２）において、
ＬＡ１、ＬＢ１、ＬＣ１、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２は、１、２、３又は４であり、
ｎ２が１の場合、ＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、互いに同一であるか、又は異なり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、
互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ａ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、又は
−Ｓｉ（Ｒ’９０１）（Ｒ’９０２）（Ｒ’９０３）であり、
Ｒ’９０１、Ｒ’９０２及びＲ’９０３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基であり、
Ｒ’９０１が複数存在する場合、複数のＲ’９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ’９０２が複数存在する場合、複数のＲ’９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ’９０３が複数存在する場合、複数のＲ’９０３は、互いに同一であるか、又は異なる。）
（前記第一の化合物及び前記第二の化合物中、Ｒ９０１〜Ｒ９０７は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
Ｒ９０１が複数ある場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０２が複数ある場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０３が複数ある場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０４が複数ある場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０５が複数ある場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０６が複数ある場合、複数のＲ９０６は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０７が複数ある場合、複数のＲ９０７は、互いに同一であるか、又は異なる。）
【請求項２】
請求項１に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環及び置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環から選ばれる第三の環構造に、下記一般式（１３）で表される構造が２つ又は３つ縮合して形成される縮合化合物である、
混合物。
【化５】
0006831950.tif 000222
（前記一般式（１３）において、
ａは、前記第三の環構造に縮合する環構造であり、前記一般式（１１）で表され、
Ｘ１１及びＸ１２は、それぞれ独立に、Ｃ（Ｒ１６）又は窒素原子であり、複数のＲ１６は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【請求項３】
請求項２に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１４）又は一般式（１５）で表される化合物である、
混合物。
【化６】
0006831950.tif 000223
（前記一般式（１４）及び（１５）において、
Ａｒ１は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環であり、
ａ１、ａ２及びａ３は、それぞれ独立に、前記一般式（１１）で表される環構造であり、
Ｘ１３〜Ｘ１８は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＸ１１及びＸ１２と同義であり、
Ｒ１４１〜Ｒ１４６は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８と同義である。）
【請求項４】
請求項３に記載の混合物において、
前記一般式（１４）及び一般式（１５）中のＡｒ１は、
置換もしくは無置換のベンゼン環、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数６の複素環である、
混合物。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１４Ａ）又は一般式（１５Ａ）で表される、
混合物。
【化７】
0006831950.tif 000224
（前記一般式（１４Ａ）及び一般式（１５Ａ）において、
ａ１、ａ２及びａ３は、それぞれ独立に、前記一般式（１１）で表される環構造であり、
Ｘ１３〜Ｘ１８は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＸ１１及びＸ１２と同義であり、
Ｒ１４１〜Ｒ１４６は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８と同義であり、
前記一般式（１４Ａ）において、
Ｚ１１およびＺ１２は、それぞれ独立に、ＣＨ又は窒素原子である。）
【請求項６】
請求項２から請求項５のいずれか一項に記載の混合物において、
前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８の少なくとも１つは、
フッ素原子、
フルオロアルキル基、
フルオロアルコキシ基、又は
シアノ基である、
混合物。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の混合物において、
前記一般式（１１）で表される第一の環構造は、下記一般式（１１Ａ）で表される環構造である、
混合物。
【化８】
0006831950.tif 000225
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１４５）〜（１４８）のいずれかで表される化合物である、
混合物。
【化９】
0006831950.tif 000226
（前記一般式（１４５）〜（１４８）において、Ａｒ１４１、Ａｒ１４３及びＡｒ１４４は、それぞれ独立に、
フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及びシアノ基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する環形成炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、又は
フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及びシアノ基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する環形成原子数５〜３０の複素環基である。）
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１４５１）で表される化合物である、
混合物。
【化１０】
0006831950.tif 000227
（前記一般式（１４５１）中のＲ１４５１〜Ｒ１４６０は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基であり、
Ｒ１４５１〜Ｒ１４６０中の１つ以上が、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基である。）
【請求項１０】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１４６１）で表される化合物である、
混合物。
【化１１】
0006831950.tif 000228
（前記一般式（１４６１）中のＲ１４６１〜Ｒ１４７０は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基であり、
Ｒ１４６１〜Ｒ１４７０中の１つ以上が、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基である。）
【請求項１１】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１４１）〜（１４４）並びに一般式（１５１）のいずれかで表される化合物である、
混合物。
【化１２】
0006831950.tif 000229
【化１３】
0006831950.tif 000230
（前記一般式（１４１）〜（１４４）並びに一般式（１５１）において、Ｒ１４１、Ｒ１４３、Ｒ１４４及びＲ１４６は、それぞれ独立に、
フッ素原子、
フルオロアルキル基、
フルオロアルコキシ基、又は
シアノ基である。）
【請求項１２】
請求項１１に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、前記一般式（１４３）で表される化合物である、
混合物。
【請求項１３】
請求項２に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１６）又は一般式（１７）で表される化合物である、
混合物。
【化１４】
0006831950.tif 000231
（前記一般式（１６）及び一般式（１７）において、
Ｘ１３〜Ｘ１６は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＸ１１及びＸ１２と同義であり、
Ｒ１４１〜Ｒ１４４は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８と同義であり、
ａ１及びａ２は、それぞれ独立に、前記一般式（１１）で表される環構造であり、
ｂ１は、下記一般式（１７１）で表される環構造である。）
【化１５】
0006831950.tif 000232
（前記一般式（１７１）において、Ｘ１９は、硫黄原子又は酸素原子である。）
【請求項１４】
請求項１３に記載の混合物において、
Ｒ１４１〜Ｒ１４４の少なくとも１つは、
フッ素原子、
フルオロアルキル基、
フルオロアルコキシ基、
シアノ基、
フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及びシアノ基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する環形成炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、又は
フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及びシアノ基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する環形成原子数５〜３０の複素環基である、
混合物。
【請求項１５】
請求項１３又は請求項１４に記載の混合物において、
前記一般式（１１）で表される第一の環構造は、下記一般式（１１Ａ）で表される環構造である、
混合物。
【化１６】
0006831950.tif 000233
【請求項１６】
請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載の混合物において、
前記一般式（１２）で表される第二の環構造は、下記一般式（１２１）又は下記一般式（１２２）で表される環構造である、
混合物。
【化１７】
0006831950.tif 000234
（前記一般式（１２１）における、Ｘ１及びＸ４は、それぞれ独立に、窒素原子又はＲ１２１と結合する炭素原子であり、
前記一般式（１２１）におけるＲ１２１並びに前記一般式（１２２）におけるＲ１２２〜Ｒ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、複数のＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
前記一般式（１２１）及び一般式（１２２）における＊は、それぞれ独立に、前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合位置を示す。）
【請求項１７】
請求項１６に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１２１Ａ）で表される化合物である、
混合物。
【化１８】
0006831950.tif 000235
（前記一般式（１２１Ａ）において、
Ａｒ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環であり、
Ｘ１及びＸ４は、それぞれ独立に、窒素原子又はＲ１２１と結合する炭素原子であり、Ｒ１２１は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、複数のＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
【請求項１８】
請求項１７に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１２１Ｂ）で表される化合物である、
混合物。
【化１９】
0006831950.tif 000236
（前記一般式（１２１Ｂ）において、
Ｘ１及びＸ４は、それぞれ独立に、窒素原子又はＲ１２１と結合する炭素原子であり、複数のＸ１は、互いに同一であるか、又は異なり、複数のＸ４は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ１２１は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、複数のＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
【請求項１９】
請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載の混合物において、
前記一般式（１２）で表される第二の環構造は、下記一般式（１２２Ｂ）で表される基として前記第一の化合物に含まれる、
混合物。
【化２０】
0006831950.tif 000237
（前記一般式（１２２Ｂ）において、Ｒ１２２〜Ｒ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、
前記一般式（１２２Ｂ）における＊は、前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合位置を示す。）
【請求項２０】
請求項１９に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１２２Ｃ）で表される化合物である、
混合物。
【化２１】
0006831950.tif 000238
（前記一般式（１２２Ｃ）において、Ｒ１２２〜Ｒ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、
Ａｌｐ１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜６の脂肪族環である。）
【請求項２１】
請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載の混合物において、
第一の化合物は、下記一般式（１２２Ｅ）で表される化合物である、
混合物。
【化２２】
0006831950.tif 000239
（前記一般式（１２２Ｅ）中、
ｎｘは、１、２、３又は４であり、
＝Ｘ１、＝Ｘ２及び＝Ｘ３で表される構造は、それぞれ独立に、下記一般式（Ｅ１）、一般式（Ｅ２）、一般式（Ｅ３）又は一般式（Ｅ４）で表される。）
【化２３】
0006831950.tif 000240
（前記一般式（Ｅ１）、一般式（Ｅ２）、一般式（Ｅ３）及び一般式（Ｅ４）中、
Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、オキソおよびジシアノメチリデンから選ばれ、
Ｒ１２２５は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基であり、
Ｒ１２２６は、置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
Ｒ１２２１〜Ｒ１２２４は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【請求項２２】
請求項２０又は請求項２１に記載の混合物において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１２２Ｄ）で表される化合物である、
混合物。
【化２４】
0006831950.tif 000241
（前記一般式（１２２Ｄ）において、Ｒ１２２〜Ｒ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、
複数のＲ１２２は、互いに同一であるか、又は異なり、
複数のＲ１２３は、互いに同一であるか、又は異なり、
複数のＲ１２４は、互いに同一であるか、又は異なり、
複数のＲ１２５は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ａｌｐ１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜６の脂肪族環である。）
【請求項２３】
請求項１から請求項２２のいずれか一項に記載の混合物において、
Ａ１、Ｂ１及びＣ１の内、少なくとも１つは、下記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）で表される基からなる群から選択される基であり、
Ａ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２の内、少なくとも１つは、下記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）で表される基からなる群から選択される基である、
混合物。
【化２５】
0006831950.tif 000242
（前記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）において、
Ｘ２１は、ＮＲ２１、ＣＲ２２Ｒ２３、酸素原子又は硫黄原子であり、
Ｘ２１が複数ある場合、複数のＸ２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｘ２１がＣＲ２２Ｒ２３である場合、Ｒ２２とＲ２３とからなる組が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
Ｒ２１、並びに前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ２２及びＲ２３は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
Ｒ２１１〜Ｒ２１８のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、
又は互いに結合せず
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ２１１〜Ｒ２１８は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
前記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）における＊は、それぞれ独立に、ＬＡ１、ＬＢ１、ＬＣ１、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２、ＬＤ２又はＬＥ２との結合位置である。）
【請求項２４】
請求項２３に記載の混合物において、
Ｒ２１１〜Ｒ２１８のうち隣接する２つ以上からなる組は、互いに結合せず、
Ｒ２１１〜Ｒ２１８は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜３０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の複素環基である、
混合物。
【請求項２５】
請求項２３又は請求項２４に記載の混合物において、
Ｒ２１１〜Ｒ２１８は、水素原子である、
混合物。
【請求項２６】
請求項１から請求項２５のいずれか一項に記載の混合物において、
前記第二の化合物は、下記一般式（２１１）で表される化合物である、
混合物。
【化２６】
0006831950.tif 000243
（前記一般式（２１１）において、
ＬＡ１、ＬＢ１及びＬＣ１は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
Ａ１及びＢ１は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、又は
−Ｓｉ（Ｒ’９０１）（Ｒ’９０２）（Ｒ’９０３）であり、
Ｒ’９０１、Ｒ’９０２及びＲ’９０３は、前記一般式（２１）におけるＲ’９０１、Ｒ’９０２及びＲ’９０３と同義であり、
Ｒ２１１１〜Ｒ２１１５のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、
又は互いに結合せず
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ２１１１〜Ｒ２１１５は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【請求項２７】
請求項１から請求項２６のいずれか一項に記載の混合物において、
Ａ１及びＢ１は、それぞれ独立に、前記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）で表される基からなる群から選択される基である、
混合物。
【請求項２８】
請求項１から請求項２７のいずれか一項に記載の混合物において、
ＬＡ１、ＬＢ１及びＬＣ１は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の２価の複素環基である、
混合物。
【請求項２９】
請求項１から請求項２５のいずれか一項に記載の混合物において、
前記一般式（２２）中の下記一般式（２２Ａ）で表される第一のアミノ基と、下記一般式（２２Ｂ）で表される第二のアミノ基とが、互いに異なる基である、
混合物。
【化２７】
0006831950.tif 000244
（前記一般式（２２Ａ）及び（２２Ｂ）において、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、前記一般式（２２）におけるＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２と同義であり、
Ａ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２は、それぞれ独立に、前記一般式（２２）におけるＡ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２と同義であり、
＊は、それぞれ、ＬＥ２との結合位置である。）
【請求項３０】
請求項１から請求項２５のいずれか一項に記載の混合物において、
前記第二の化合物は、下記一般式（２２１）で表される化合物である、
混合物。
【化２８】
0006831950.tif 000245
（前記一般式（２２１）において、
ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、前記一般式（２２）におけるＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２と同義であり、
ＬＥ２は、前記一般式（２２）におけるＬＥ２と同義であり、
ｎ２は、１、２、３又は４であり、
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ２２１１〜Ｒ２２３０は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【請求項３１】
請求項３０に記載の混合物において、
ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の２価の複素環基であり、
ＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の２価の複素環基である、
混合物。
【請求項３２】
請求項３０又は請求項３１に記載の混合物において、
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０のうち隣接する２つ以上からなる組が、互いに結合せず、
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜３０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の複素環基である、
混合物。
【請求項３３】
請求項３０から請求項３２のいずれか一項に記載の混合物において、
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０は、水素原子である、
混合物。
【請求項３４】
請求項３０から請求項３３のいずれか一項に記載の混合物において、
前記一般式（２２１）中の下記一般式（２２１Ａ）で表される第一のアミノ基と、下記一般式（２２１Ｂ）で表される第二のアミノ基とが、互いに異なる基である、
混合物。
【化２９】
0006831950.tif 000246
（前記一般式（２２１Ａ）及び（２２１Ｂ）において、
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０は、それぞれ独立に、前記一般式（２２１）におけるＲ２２１１〜Ｒ２２３０と同義であり、
ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、前記一般式（２２）におけるＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２と同義であり、
＊は、それぞれ、ＬＥ２との結合位置である。）
【請求項３５】
請求項１から請求項３４のいずれか一項に記載の混合物において、
前記第二の化合物は、分子中に置換もしくは無置換のビフェニル基を１つ以上有する、
混合物。
【請求項３６】
請求項１から請求項３５のいずれか一項に記載の混合物において、
下記式（２２１０）で表される化合物及び式（２２１１）で表される化合物を含まない、
混合物。
【化３０】
0006831950.tif 000247
【請求項３７】
請求項１から請求項３６のいずれか一項に記載の混合物において、
前記混合物中、前記第一の化合物及び前記第二の化合物の合計質量ＭＴと、前記第二の化合物の質量Ｍ２とが、下記数式（数１Ｂ）の関係を満たす、
混合物。
０．１≦（Ｍ２／ＭＴ）×１００≦１０．０…（数１Ｂ）
【請求項３８】
陽極と、陰極と、第一の化合物及び第二の化合物を含有する有機層と、を有し、
前記第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される第一の環構造及び下記一般式（１２）で表される第二の環構造の少なくともいずれかを含み、
前記第二の化合物は、下記一般式（２１）で表される化合物又は下記一般式（２２）で表される化合物であり、
前記有機層中、前記第一の化合物及び前記第二の化合物の合計質量ＷＴと、前記第二の化合物の質量Ｗ２とが、下記数式（数２Ａ）の関係を満たす、
有機エレクトロルミネッセンス素子。
０．１≦（Ｗ２／ＷＴ）×１００≦２０．０…（数２Ａ）
【化３１】
0006831950.tif 000248
（前記一般式（１１）で表される第一の環構造は、前記第一の化合物の分子中で、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環及び置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環の少なくともいずれかの環構造と縮合し、
＝Ｘ１０で表される構造は、下記式（１１ａ）、（１１ｂ）、（１１ｃ）、（１１ｄ）、（１１ｅ）、（１１ｆ）、（１１ｇ）、（１１ｈ）、（１１ｉ）、（１１ｊ）、（１１ｋ）又は（１１ｍ）で表される。）
【化３２】
0006831950.tif 000249
【化３３】
0006831950.tif 000250
（前記一般式（１１ａ）、（１１ｂ）、（１１ｃ）、（１１ｄ）、（１１ｅ）、（１１ｆ）、（１１ｇ）、（１１ｈ）、（１１ｉ）、（１１ｊ）、（１１ｋ）又は（１１ｍ）中、Ｒ１１〜Ｒ１４並びにＲ１１１〜Ｒ１２０は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
（前記一般式（１２）において、Ｘ１〜Ｘ５は、それぞれ独立に、
窒素原子、
Ｒ１５と結合する炭素原子、又は
前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合する炭素原子であり、
Ｘ１〜Ｘ５の内、少なくとも１つは、前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合する炭素原子であり、
Ｒ１５は、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の炭素数２〜５０のアルケニル基、
置換もしくは無置換の炭素数７〜５０のアラルキル基、
カルボキシ基、
置換もしくは無置換のエステル基、
置換もしくは無置換のカルバモイル基、
ニトロ基、
及び
置換もしくは無置換のシロキサニル基からなる群から選択され、
Ｒ１５が複数存在する場合、複数のＲ１５は互いに同一であるか、又は異なる。）
【化３４】
0006831950.tif 000251
（前記一般式（２１）及び一般式（２２）において、
ＬＡ１、ＬＢ１、ＬＣ１、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２は、１、２、３又は４であり、
ｎ２が１の場合、ＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、互いに同一であるか、又は異なり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、
互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ａ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、又は
−Ｓｉ（Ｒ’９０１）（Ｒ’９０２）（Ｒ’９０３）であり、
Ｒ’９０１、Ｒ’９０２及びＲ’９０３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基であり、
Ｒ’９０１が複数存在する場合、複数のＲ’９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ’９０２が複数存在する場合、複数のＲ’９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ’９０３が複数存在する場合、複数のＲ’９０３は、互いに同一であるか、又は異なる。）
（前記第一の化合物及び前記第二の化合物中、Ｒ９０１〜Ｒ９０７は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
Ｒ９０１が複数ある場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０２が複数ある場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０３が複数ある場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０４が複数ある場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０５が複数ある場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０６が複数ある場合、複数のＲ９０６は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０７が複数ある場合、複数のＲ９０７は、互いに同一であるか、又は異なる。）
【請求項３９】
請求項３８に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記有機層は、前記第一の化合物及び前記第二の化合物を含有する第一の有機層と、発光層と、を含み、
前記発光層は、前記第一の有機層と前記陰極との間に配置され、
前記発光層は、前記第一の有機層と前記陽極との間に配置されていない、
有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４０】
請求項３９に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記有機層は、前記陽極と前記発光層との間に配置された、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくともいずれかを含み、
前記正孔注入層又は前記正孔輸送層が、前記第一の化合物及び前記第二の化合物を含有する、
有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４１】
請求項３８から請求項４０のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記第一の化合物は、下記一般式（１４１）又は一般式（１４５１）で表される化合物であり、
前記第二の化合物は、前記一般式（２２）で表される化合物である、
有機エレクトロルミネッセンス素子。
【化３５】
0006831950.tif 000252
（前記一般式（１４１）において、Ｒ１４１及びＲ１４４は、それぞれ独立に、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基であり、
前記一般式（１４５１）において、Ｒ１４５１〜Ｒ１４６０は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基であり、
Ｒ１４５１〜Ｒ１４６０中の１つ以上が、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基である。）
【請求項４２】
請求項３８から請求項４１のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記有機層中、前記第一の化合物及び前記第二の化合物の合計質量ＷＴと、前記第二の化合物の質量Ｗ２とが、下記数式（数２Ｂ）の関係を満たす、
有機エレクトロルミネッセンス素子。
０．１≦（Ｗ２／ＷＴ）×１００≦１０．０…（数２Ｂ）
【請求項４３】
請求項３８から請求項４２のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を搭載した電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、混合物、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という場合がある。）に電圧を印加すると、陽極から正孔が発光層に注入され、また陰極から電子が発光層に注入される。そして、発光層において、注入された正孔と電子とが再結合し、励起子が形成される。このとき、電子スピンの統計則により、一重項励起子が２５％の割合で生成し及び三重項励起子が７５％の割合で生成する。
有機ＥＬ素子は、携帯電話及びテレビ等のフルカラーディスプレイへ応用されている。有機ＥＬ素子の性能向上を図るため、有機ＥＬ素子に用いる化合物について様々な検討がなされている（例えば、特許文献１参照）。有機ＥＬ素子の性能としては、例えば、輝度、発光波長、色度、発光効率、駆動電圧及び寿命が挙げられる。【０００３】
特許文献１〜６に記載の有機ＥＬ素子のように、発光層以外の有機層を含む有機ＥＬ素子が広く知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−６５２４８号公報
【特許文献２】国際公開第２０１３／０５１２３４号
【特許文献３】特許第６１２６７６０号公報
【特許文献４】特許第５５０７０５７号号公報
【特許文献５】国際公開第２０１８／２２１８７１号
【特許文献６】中国特許出願公開第１０９９２８８９４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
例えば、特許文献１には、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入性電極を蒸着法にて成膜する方法が記載されている。このように、有機ＥＬ素子における有機層の成膜方法としては、蒸着法及びスパッタリング法等の乾式成膜法が使用されている。
特許文献１では、正孔注入層を成膜する際に、シアノ基を複数有する縮合化合物を使用している。
ところで、特許文献１に記載の縮合化合物を用いて、乾式成膜法で正孔注入層を成膜するときに、成膜対象の基板等の支持体だけでなく、成膜装置内に嵩高い付着膜が形成される場合がある。このように、有機層を構成する有機化合物の種類によっては、成膜装置内に嵩高い付着膜が形成される場合がある。嵩高い付着膜が成膜装置内に形成されると、気化した有機材料が基板等の支持体へ向かう経路が狭くなったり、塞がれたりして、所望の領域に有機化合物を選択的に付着させ難くなる。
そのため、成膜装置内に嵩高い付着膜が形成された場合には成膜を停止して、付着膜を除去する必要があり、有機ＥＬ素子の生産効率が低下する。【０００６】
本発明は、有機ＥＬ素子の有機層を乾式成膜法で形成する際に、嵩高い付着膜の形成を抑制できる混合物を提供することを目的とする。
また、本発明は、当該混合物を用いて成膜した有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子、並びに当該有機エレクトロルミネッセンス素子を搭載した電子機器を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様に係る混合物は、第一の化合物と、第二の化合物と、を含有し、前記第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される第一の環構造及び下記一般式（１２）で表される第二の環構造の少なくともいずれかを含み、前記第二の化合物は、下記一般式（２１）で表される化合物又は下記一般式（２２）で表される化合物であり、前記混合物中、前記第一の化合物及び前記第二の化合物の合計質量ＭＴと、前記第二の化合物の質量Ｍ２とが、下記数式（数１）の関係を満たす。
０．１≦（Ｍ２／ＭＴ）×１００…（数１）【０００８】
【化１】
0006831950.tif 000002
【０００９】
（前記一般式（１１）で表される第一の環構造は、前記第一の化合物の分子中で、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環及び置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環の少なくともいずれかの環構造と縮合し、
＝Ｘ１０で表される構造は、下記一般式（１１ａ）、（１１ｂ）、（１１ｃ）、（１１ｄ）、（１１ｅ）、（１１ｆ）、（１１ｇ）、（１１ｈ）、（１１ｉ）、（１１ｊ）、（１１ｋ）又は（１１ｍ）で表される。）【００１０】
【化２】
0006831950.tif 000003
【００１１】
【化３】
0006831950.tif 000004
【００１２】
（前記一般式（１１ａ）、（１１ｂ）、（１１ｃ）、（１１ｄ）、（１１ｅ）、（１１ｆ）、（１１ｇ）、（１１ｈ）、（１１ｉ）、（１１ｊ）、（１１ｋ）又は（１１ｍ）中、Ｒ１１〜Ｒ１４並びにＲ１１１〜Ｒ１２０は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）【００１３】
（前記一般式（１２）において、Ｘ１〜Ｘ５は、それぞれ独立に、
窒素原子、
Ｒ１５と結合する炭素原子、又は
前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合する炭素原子であり、
Ｘ１〜Ｘ５の内、少なくとも１つは、前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合する炭素原子であり、
Ｒ１５は、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の炭素数２〜５０のアルケニル基、
置換もしくは無置換の炭素数７〜５０のアラルキル基、
カルボキシ基、
置換もしくは無置換のエステル基、
置換もしくは無置換のカルバモイル基、
ニトロ基、及び
置換もしくは無置換のシロキサニル基からなる群から選択され、
Ｒ１５が複数存在する場合、複数のＲ１５は互いに同一であるか、又は異なる。）【００１４】
【化４】
0006831950.tif 000005
【００１５】
（前記一般式（２１）及び一般式（２２）において、
ＬＡ１、ＬＢ１、ＬＣ１、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２は、１、２、３又は４であり、
ｎ２が１の場合、ＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、互いに同一であるか、又は異なり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、
互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ａ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、又は
−Ｓｉ（Ｒ’９０１）（Ｒ’９０２）（Ｒ’９０３）であり、
Ｒ’９０１、Ｒ’９０２及びＲ’９０３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基であり、
Ｒ’９０１が複数存在する場合、複数のＲ’９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ’９０２が複数存在する場合、複数のＲ’９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ’９０３が複数存在する場合、複数のＲ’９０３は、互いに同一であるか、又は異なる。）【００１６】
（前記第一の化合物及び前記第二の化合物中、Ｒ９０１〜Ｒ９０７は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
Ｒ９０１が複数ある場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０２が複数ある場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０３が複数ある場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０４が複数ある場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０５が複数ある場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０６が複数ある場合、複数のＲ９０６は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０７が複数ある場合、複数のＲ９０７は、互いに同一であるか、又は異なる。）【００１７】
本発明の一態様に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、陽極と、陰極と、第一の化合物及び第二の化合物を含有する有機層と、を有し、前記第一の化合物は、前記一般式（１１）で表される第一の環構造及び前記一般式（１２）で表される第二の環構造の少なくともいずれかを含み、前記第二の化合物は、前記一般式（２１）で表される化合物又は前記一般式（２２）で表される化合物であり、前記有機層中、前記第一の化合物及び前記第二の化合物の合計質量ＷＴと、前記第二の化合物の質量Ｗ２とが、下記数式（数２）の関係を満たす。
０．１≦（Ｗ２／ＷＴ）×１００…（数２）【００１８】
本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る有機エレクトロルミネッセンス素子を搭載した電子機器が提供される。【００１９】
本発明の一態様によれば、有機ＥＬ素子の有機層を乾式成膜法で形成する際に、嵩高い付着膜の形成を抑制できる混合物を提供できる。
また、本発明の一態様によれば、当該混合物を用いて成膜した有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子、並びに当該有機エレクトロルミネッセンス素子を搭載した電子機器を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の一例の概略構成を示す図である。
【図２Ａ】実施例１に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図２Ｂ】比較例１に係る有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図３Ａ】実施例２に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図３Ｂ】実施例３に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図４】実施例７に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図５】実施例８に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図６】実施例９に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図７】実施例１０に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図８】実施例１１に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図９】実施例１２に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図１０】実施例１３に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図１１Ａ】比較例３に係る有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図１１Ｂ】比較例４に係る有機層の断面ＳＥＭ像である。
【図１２】比較例５に係る有機層の断面ＳＥＭ像である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
［定義］
本明細書において、水素原子とは、中性子数が異なる同位体、即ち、軽水素（protium）、重水素（deuterium）、及び三重水素（tritium）を包含する。
【００２２】
本明細書において、環形成炭素数とは、原子が環状に結合した構造の化合物（例えば、単環化合物、縮合環化合物、架橋化合物、炭素環化合物、及び複素環化合物）の当該環自体を構成する原子のうちの炭素原子の数を表す。当該環が置換基によって置換される場合、置換基に含まれる炭素は環形成炭素数には含まない。以下で記される「環形成炭素数」については、特筆しない限り同様とする。例えば、ベンゼン環は環形成炭素数が６であり、ナフタレン環は環形成炭素数が１０であり、ピリジン環は環形成炭素数５であり、フラン環は環形成炭素数４である。また、例えば、９，９−ジフェニルフルオレニル基の環形成炭素数は１３であり、９，９’−スピロビフルオレニル基の環形成炭素数は２５である。
また、ベンゼン環に置換基として、例えば、アルキル基が置換している場合、当該アルキル基の炭素数は、ベンゼン環の環形成炭素数に含めない。そのため、アルキル基が置換しているベンゼン環の環形成炭素数は、６である。また、ナフタレン環に置換基として、例えば、アルキル基が置換している場合、当該アルキル基の炭素数は、ナフタレン環の環形成炭素数に含めない。そのため、アルキル基が置換しているナフタレン環の環形成炭素数は、１０である。
【００２３】
本明細書において、環形成原子数とは、原子が環状に結合した構造（例えば、単環、縮合環、及び環集合）の化合物（例えば、単環化合物、縮合環化合物、架橋化合物、炭素環化合物、及び複素環化合物）の当該環自体を構成する原子の数を表す。環を構成しない原子（例えば、環を構成する原子の結合手を終端する水素原子）や、当該環が置換基によって置換される場合の置換基に含まれる原子は環形成原子数には含まない。以下で記される「環形成原子数」については、特筆しない限り同様とする。例えば、ピリジン環の環形成原子数は６であり、キナゾリン環の環形成原子数は１０であり、フラン環の環形成原子数は５である。例えば、ピリジン環に結合している水素原子、又は置換基を構成する原子の数は、ピリジン環形成原子数の数に含めない。そのため、水素原子、又は置換基が結合しているピリジン環の環形成原子数は、６である。また、例えば、キナゾリン環の炭素原子に結合している水素原子、又は置換基を構成する原子については、キナゾリン環の環形成原子数の数に含めない。そのため、水素原子、又は置換基が結合しているキナゾリン環の環形成原子数は、１０である。
【００２４】
本明細書において、「置換もしくは無置換の炭素数ＸＸ〜ＹＹのＺＺ基」という表現における「炭素数ＸＸ〜ＹＹ」は、ＺＺ基が無置換である場合の炭素数を表し、置換されている場合の置換基の炭素数を含めない。ここで、「ＹＹ」は、「ＸＸ」よりも大きく、「ＸＸ」は、１以上の整数を意味し、「ＹＹ」は、２以上の整数を意味する。
【００２５】
本明細書において、「置換もしくは無置換の原子数ＸＸ〜ＹＹのＺＺ基」という表現における「原子数ＸＸ〜ＹＹ」は、ＺＺ基が無置換である場合の原子数を表し、置換されている場合の置換基の原子数を含めない。ここで、「ＹＹ」は、「ＸＸ」よりも大きく、「ＸＸ」は、１以上の整数を意味し、「ＹＹ」は、２以上の整数を意味する。
【００２６】
本明細書において、「置換もしくは無置換のＺＺ基」という場合における「無置換」とは、ＺＺ基における水素原子が置換基と置き換わっていないことを意味する。
また、本明細書において、「置換もしくは無置換のＺＺ基」という場合における「置換」とは、ＺＺ基における１つ以上の水素原子が、置換基と置き換わっていることを意味する。「ＡＡ基で置換されたＢＢ基」という場合における「置換」も同様に、ＢＢ基における１つ以上の水素原子が、ＡＡ基と置き換わっていることを意味する。
【００２７】
・「本明細書に記載の置換基」
以下、本明細書に記載の置換基について説明する。
本明細書に記載の「無置換のアリール基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、６〜５０であり、好ましくは６〜３０、より好ましくは６〜１８である。
本明細書に記載の「無置換の複素環基」の環形成原子数は、本明細書に別途記載のない限り、５〜５０であり、好ましくは５〜３０、より好ましくは５〜１８である。
本明細書に記載の「無置換のアルキル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１〜５０であり、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜６である。
本明細書に記載の「無置換のアルケニル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、２〜５０であり、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜６である。
本明細書に記載の「無置換のアルキニル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、２〜５０であり、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜６である。
本明細書に記載の「無置換のシクロアルキル基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、３〜５０であり、好ましくは３〜２０、より好ましくは３〜６である。
本明細書に記載の「無置換のアリーレン基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、６〜５０であり、好ましくは６〜３０、より好ましくは６〜１８である。
本明細書に記載の「無置換の２価の複素環基」の環形成原子数は、本明細書に別途記載のない限り、５〜５０であり、好ましくは５〜３０、より好ましくは５〜１８である。
本明細書に記載の「無置換のアルキレン基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１〜５０であり、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜６である。
【００２８】
・「置換もしくは無置換のアリール基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」の具体例（具体例群Ｇ１）としては、以下の無置換のアリール基（具体例群Ｇ１Ａ）及び置換のアリール基（具体例群Ｇ１Ｂ）等が挙げられる。（ここで、無置換のアリール基とは「置換もしくは無置換のアリール基」が「無置換のアリール基」である場合を指し、置換のアリール基とは「置換もしくは無置換のアリール基」が「置換のアリール基」である場合を指す。）以下、単に「アリール基」という場合は、「無置換のアリール基」と「置換のアリール基」の両方を含む。
「置換のアリール基」は、「無置換のアリール基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のアリール基」としては、例えば、下記具体例群Ｇ１Ａの「無置換のアリール基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基、及び下記具体例群Ｇ１Ｂの置換のアリール基の例等が挙げられる。尚、ここに列挙した「無置換のアリール基」の例、及び「置換のアリール基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換のアリール基」には、「置換のアリール基」におけるアリール基自体の炭素原子に結合する水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び「置換のアリール基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
【００２９】
・無置換のアリール基（具体例群Ｇ１Ａ）：
フェニル基、
ｐ−ビフェニル基、
ｍ−ビフェニル基、
ｏ−ビフェニル基、
ｐ−ターフェニル−４−イル基、
ｐ−ターフェニル−３−イル基、
ｐ−ターフェニル−２−イル基、
ｍ−ターフェニル−４−イル基、
ｍ−ターフェニル−３−イル基、
ｍ−ターフェニル−２−イル基、
ｏ−ターフェニル−４−イル基、
ｏ−ターフェニル−３−イル基、
ｏ−ターフェニル−２−イル基、
１−ナフチル基、
２−ナフチル基、
アントリル基、
ベンゾアントリル基、
フェナントリル基、
ベンゾフェナントリル基、
フェナレニル基、
ピレニル基、
クリセニル基、
ベンゾクリセニル基、
トリフェニレニル基、
ベンゾトリフェニレニル基、
テトラセニル基、
ペンタセニル基、
フルオレニル基、
９，９’−スピロビフルオレニル基、
ベンゾフルオレニル基、
ジベンゾフルオレニル基、
フルオランテニル基、
ベンゾフルオランテニル基、
ペリレニル基、及び
下記一般式（ＴＥＭＰ−１）〜（ＴＥＭＰ−１５）で表される環構造から誘導される１価のアリール基。
【００３０】
【化５】
0006831950.tif 000006
【００３１】
【化６】
0006831950.tif 000007
【００３２】
前記一般式（ＴＥＭＰ−１）〜（ＴＥＭＰ−１５）で表される環構造から誘導される１価のアリール基とは、前記一般式（ＴＥＭＰ−１）〜（ＴＥＭＰ−１５）で表される環構造から１つの水素原子を除いて得られる基を意味する。
【００３３】
・置換のアリール基（具体例群Ｇ１Ｂ）：
ｏ−トリル基、
ｍ−トリル基、
ｐ−トリル基、
パラ−キシリル基、
メタ−キシリル基、
オルト−キシリル基、
パラ−イソプロピルフェニル基、
メタ−イソプロピルフェニル基、
オルト−イソプロピルフェニル基、
パラ−ｔ−ブチルフェニル基、
メタ−ｔ−ブチルフェニル基、
オルト−ｔ−ブチルフェニル基、
３，４，５−トリメチルフェニル基、
９，９−ジメチルフルオレニル基、
９，９−ジフェニルフルオレニル基
９，９−ジ（４−メチルフェニル）フルオレニル基、
９，９−ジ（４−イソプロピルフェニル）フルオレニル基、
９，９−ジ（４−ｔ−ブチルフェニル）フルオレニル基、
シアノフェニル基、
トリフェニルシリルフェニル基、
トリメチルシリルフェニル基、
フェニルナフチル基、
ナフチルフェニル基、及び
前記一般式（ＴＥＭＰ−１）〜（ＴＥＭＰ−１５）で表される環構造から誘導される１価の基の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基。
【００３４】
・「置換もしくは無置換の複素環基」
本明細書に記載の「複素環基」は、環形成原子にヘテロ原子を少なくとも１つ含む環状の基である。ヘテロ原子の具体例としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子、及びホウ素原子が挙げられる。
本明細書に記載の「複素環基」は、単環の基であるか、又は縮合環の基である。
本明細書に記載の「複素環基」は、芳香族複素環基であるか、又は非芳香族複素環基である。
本明細書に記載の「置換もしくは無置換の複素環基」の具体例（具体例群Ｇ２）としては、以下の無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ）、及び置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ）等が挙げられる。（ここで、無置換の複素環基とは「置換もしくは無置換の複素環基」が「無置換の複素環基」である場合を指し、置換の複素環基とは「置換もしくは無置換の複素環基」が「置換の複素環基」である場合を指す。）以下、単に「複素環基」という場合は、「無置換の複素環基」と「置換の複素環基」の両方を含む。
「置換の複素環基」は、「無置換の複素環基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換の複素環基」の具体例は、下記具体例群Ｇ２Ａの「無置換の複素環基」の水素原子が置き換わった基、及び下記具体例群Ｇ２Ｂの置換の複素環基の例等が挙げられる。尚、ここに列挙した「無置換の複素環基」の例や「置換の複素環基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換の複素環基」には、「置換の複素環基」における複素環基自体の炭素原子に結合する水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び「置換の複素環基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
【００３５】
具体例群Ｇ２Ａは、例えば、以下の窒素原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ１）、酸素原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ２）、硫黄原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ３）、及び下記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ４）を含む。
【００３６】
具体例群Ｇ２Ｂは、例えば、以下の窒素原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ１）、酸素原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ２）、硫黄原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ３）、及び下記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基（具体例群Ｇ２Ｂ４）を含む。
【００３７】
・窒素原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ１）：
ピロリル基、
イミダゾリル基、
ピラゾリル基、
トリアゾリル基、
テトラゾリル基、
オキサゾリル基、
イソオキサゾリル基、
オキサジアゾリル基、
チアゾリル基、
イソチアゾリル基、
チアジアゾリル基、
ピリジル基、
ピリダジニル基、
ピリミジニル基、
ピラジニル基、
トリアジニル基、
インドリル基、
イソインドリル基、
インドリジニル基、
キノリジニル基、
キノリル基、
イソキノリル基、
シンノリル基、
フタラジニル基、
キナゾリニル基、
キノキサリニル基、
ベンゾイミダゾリル基、
インダゾリル基、
フェナントロリニル基、
フェナントリジニル基、
アクリジニル基、
フェナジニル基、
カルバゾリル基、
ベンゾカルバゾリル基、
モルホリノ基、
フェノキサジニル基、
フェノチアジニル基、
アザカルバゾリル基、及びジアザカルバゾリル基。
【００３８】
・酸素原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ２）：
フリル基、
オキサゾリル基、
イソオキサゾリル基、
オキサジアゾリル基、
キサンテニル基、
ベンゾフラニル基、
イソベンゾフラニル基、
ジベンゾフラニル基、
ナフトベンゾフラニル基、
ベンゾオキサゾリル基、
ベンゾイソキサゾリル基、
フェノキサジニル基、
モルホリノ基、
ジナフトフラニル基、
アザジベンゾフラニル基、
ジアザジベンゾフラニル基、
アザナフトベンゾフラニル基、及び
ジアザナフトベンゾフラニル基。
【００３９】
・硫黄原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ３）：
チエニル基、
チアゾリル基、
イソチアゾリル基、
チアジアゾリル基、
ベンゾチオフェニル基、
イソベンゾチオフェニル基、
ジベンゾチオフェニル基、
ナフトベンゾチオフェニル基、
ベンゾチアゾリル基、
ベンゾイソチアゾリル基、
フェノチアジニル基、
ジナフトチオフェニル基、
アザジベンゾチオフェニル基、
ジアザジベンゾチオフェニル基、
アザナフトベンゾチオフェニル基、及び
ジアザナフトベンゾチオフェニル基。
【００４０】
・下記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ４）：
【００４１】
【化７】
0006831950.tif 000008
【００４２】
【化８】
0006831950.tif 000009
【００４３】
前記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）において、ＸＡ及びＹＡは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ、又はＣＨ２である。ただし、ＸＡ及びＹＡのうち少なくとも１つは、酸素原子、硫黄原子、又はＮＨである。
前記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ４）は、前記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造から１つの水素原子を除いて得られる基を意味する。前記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）において、ＸＡ及びＹＡの少なくともいずれかがＮＨ、又はＣＨ２である場合、前記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基には、これらＮＨ、又はＣＨ２から１つの水素原子を除いて得られる基が含まれる。
【００４４】
・窒素原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ１）：
（９−フェニル）カルバゾリル基、
（９−ビフェニリル）カルバゾリル基、
（９−フェニル）フェニルカルバゾリル基、
（９−ナフチル）カルバゾリル基、
ジフェニルカルバゾール−９−イル基、
フェニルカルバゾール−９−イル基、
メチルベンゾイミダゾリル基、
エチルベンゾイミダゾリル基、
フェニルトリアジニル基、
ビフェニリルトリアジニル基、
ジフェニルトリアジニル基、
フェニルキナゾリニル基、及び
ビフェニリルキナゾリニル基。
【００４５】
・酸素原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ２）：
フェニルジベンゾフラニル基、
メチルジベンゾフラニル基、
ｔ−ブチルジベンゾフラニル基、及び
スピロ［９Ｈ−キサンテン−９，９’−［９Ｈ］フルオレン］の１価の残基。
【００４６】
・硫黄原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ３）：
フェニルジベンゾチオフェニル基、
メチルジベンゾチオフェニル基、
ｔ−ブチルジベンゾチオフェニル基、及び
スピロ［９Ｈ−チオキサンテン−９，９’−［９Ｈ］フルオレン］の１価の残基。
【００４７】
・前記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基（具体例群Ｇ２Ｂ４）：
【００４８】
前記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基とは、これら前記一般式（ＴＥＭＰ−１６）〜（ＴＥＭＰ−３３）で表される環構造の骨格の炭素原子に結合した１つ以上の水素原子が置換基と置き換わっている場合、あるいは、ＸＡ及びＹＡの少なくともいずれかがＮＨ、又はＣＨ２であり、これらＮＨ、又はＣＨ２における１つ以上の水素原子が、置換基と置き換わっている場合を意味する。
【００４９】
・「置換もしくは無置換のアルキル基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」の具体例（具体例群Ｇ３）としては、以下の無置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ａ）及び置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ｂ）が挙げられる。（ここで、無置換のアルキル基とは「置換もしくは無置換のアルキル基」が「無置換のアルキル基」である場合を指し、置換のアルキル基とは「置換もしくは無置換のアルキル基」が「置換のアルキル基」である場合を指す。）以下、単に「アルキル基」という場合は、「無置換のアルキル基」と「置換のアルキル基」の両方を含む。
「置換のアルキル基」は、「無置換のアルキル基」における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のアルキル基」の具体例としては、下記の「無置換のアルキル基」（具体例群Ｇ３Ａ）における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基、及び置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ｂ）の例等が挙げられる。本明細書において、「無置換のアルキル基」におけるアルキル基は、鎖状のアルキル基を意味する。そのため、「無置換のアルキル基」は、直鎖である「無置換のアルキル基」、及び分岐状である「無置換のアルキル基」が含まれる。尚、ここに列挙した「無置換のアルキル基」の例や「置換のアルキル基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換のアルキル基」には、「置換のアルキル基」におけるアルキル基自体の水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び「置換のアルキル基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
【００５０】
・無置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ａ）：
メチル基、
エチル基、
ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、
イソブチル基、
ｓ−ブチル基、及び
ｔ−ブチル基。
【００５１】
・置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ｂ）：
ヘプタフルオロプロピル基（異性体を含む）、
ペンタフルオロエチル基、
２，２，２−トリフルオロエチル基、及び
トリフルオロメチル基。
【００５２】
・「置換もしくは無置換のアルケニル基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルケニル基」の具体例（具体例群Ｇ４）としては、以下の無置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ａ）、及び置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ｂ）等が挙げられる。（ここで、無置換のアルケニル基とは「置換もしくは無置換のアルケニル基」が「無置換のアルケニル基」である場合を指し、「置換のアルケニル基」とは「置換もしくは無置換のアルケニル基」が「置換のアルケニル基」である場合を指す。）以下、単に「アルケニル基」という場合は、「無置換のアルケニル基」と「置換のアルケニル基」の両方を含む。
「置換のアルケニル基」は、「無置換のアルケニル基」における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のアルケニル基」の具体例としては、下記の「無置換のアルケニル基」（具体例群Ｇ４Ａ）が置換基を有する基、及び置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ｂ）の例等が挙げられる。尚、ここに列挙した「無置換のアルケニル基」の例や「置換のアルケニル基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換のアルケニル基」には、「置換のアルケニル基」におけるアルケニル基自体の水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び「置換のアルケニル基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
【００５３】
・無置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ａ）：
ビニル基、
アリル基、
１−ブテニル基、
２−ブテニル基、及び
３−ブテニル基。
【００５４】
・置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ｂ）：
１，３−ブタンジエニル基、
１−メチルビニル基、
１−メチルアリル基、
１，１−ジメチルアリル基、
２−メチルアリル基、及び
１，２−ジメチルアリル基。
【００５５】
・「置換もしくは無置換のアルキニル基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルキニル基」の具体例（具体例群Ｇ５）としては、以下の無置換のアルキニル基（具体例群Ｇ５Ａ）等が挙げられる。（ここで、無置換のアルキニル基とは、「置換もしくは無置換のアルキニル基」が「無置換のアルキニル基」である場合を指す。）以下、単に「アルキニル基」という場合は、「無置換のアルキニル基」と「置換のアルキニル基」の両方を含む。
「置換のアルキニル基」は、「無置換のアルキニル基」における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のアルキニル基」の具体例としては、下記の「無置換のアルキニル基」（具体例群Ｇ５Ａ）における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基等が挙げられる。
【００５６】
・無置換のアルキニル基（具体例群Ｇ５Ａ）：
エチニル基
【００５７】
・「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」の具体例（具体例群Ｇ６）としては、以下の無置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ａ）、及び置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ｂ）等が挙げられる。（ここで、無置換のシクロアルキル基とは「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」が「無置換のシクロアルキル基」である場合を指し、置換のシクロアルキル基とは「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」が「置換のシクロアルキル基」である場合を指す。）以下、単に「シクロアルキル基」という場合は、「無置換のシクロアルキル基」と「置換のシクロアルキル基」の両方を含む。
「置換のシクロアルキル基」は、「無置換のシクロアルキル基」における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のシクロアルキル基」の具体例としては、下記の「無置換のシクロアルキル基」（具体例群Ｇ６Ａ）における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基、及び置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ｂ）の例等が挙げられる。尚、ここに列挙した「無置換のシクロアルキル基」の例や「置換のシクロアルキル基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換のシクロアルキル基」には、「置換のシクロアルキル基」におけるシクロアルキル基自体の炭素原子に結合する１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基、及び「置換のシクロアルキル基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
【００５８】
・無置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ａ）：
シクロプロピル基、
シクロブチル基、
シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、
１−アダマンチル基、
２−アダマンチル基、
１−ノルボルニル基、及び
２−ノルボルニル基。
【００５９】
・置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ｂ）：
４−メチルシクロヘキシル基。
【００６０】
・「−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基」
本明細書に記載の−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基の具体例（具体例群Ｇ７）としては、
−Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ１）（Ｇ１）、
−Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ２）（Ｇ２）、
−Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ１）（Ｇ２）、
−Ｓｉ（Ｇ２）（Ｇ２）（Ｇ２）、
−Ｓｉ（Ｇ３）（Ｇ３）（Ｇ３）、及び
−Ｓｉ（Ｇ６）（Ｇ６）（Ｇ６）
が挙げられる。
ここで、
Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」である。
Ｇ２は、具体例群Ｇ２に記載の「複素環基」である。
Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」である。
Ｇ６は、具体例群Ｇ６に記載の「シクロアルキル基」である。
−Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ１）（Ｇ１）における複数のＧ１は、互いに同一であるか、又は異なる。
−Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ２）（Ｇ２）における複数のＧ２は、互いに同一であるか、又は異なる。
−Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ１）（Ｇ２）における複数のＧ１は、互いに同一であるか、又は異なる。
−Ｓｉ（Ｇ２）（Ｇ２）（Ｇ２）における複数のＧ２は、互いに同一であるか、又は異なる。
−Ｓｉ（Ｇ３）（Ｇ３）（Ｇ３）における複数のＧ３は、互いに同一であるか、又は異なる。
−Ｓｉ（Ｇ６）（Ｇ６）（Ｇ６）における複数のＧ６は、互いに同一であるか、又は異なる。
【００６１】
・「−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基」
本明細書に記載の−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基の具体例（具体例群Ｇ８）としては、
−Ｏ（Ｇ１）、
−Ｏ（Ｇ２）、
−Ｏ（Ｇ３）、及び
−Ｏ（Ｇ６）
が挙げられる。
ここで、
Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」である。
Ｇ２は、具体例群Ｇ２に記載の「複素環基」である。
Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」である。
Ｇ６は、具体例群Ｇ６に記載の「シクロアルキル基」である。
【００６２】
・「−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基」
本明細書に記載の−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基の具体例（具体例群Ｇ９）としては、
−Ｓ（Ｇ１）、
−Ｓ（Ｇ２）、
−Ｓ（Ｇ３）、及び
−Ｓ（Ｇ６）
が挙げられる。
ここで、
Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」である。
Ｇ２は、具体例群Ｇ２に記載の「複素環基」である。
Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」である。
Ｇ６は、具体例群Ｇ６に記載の「シクロアルキル基」である。
【００６３】
・「−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基」
本明細書に記載の−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基の具体例（具体例群Ｇ１０）としては、
−Ｎ（Ｇ１）（Ｇ１）、
−Ｎ（Ｇ２）（Ｇ２）、
−Ｎ（Ｇ１）（Ｇ２）、
−Ｎ（Ｇ３）（Ｇ３）、及び
−Ｎ（Ｇ６）（Ｇ６）
が挙げられる。
ここで、
Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」である。
Ｇ２は、具体例群Ｇ２に記載の「複素環基」である。
Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」である。
Ｇ６は、具体例群Ｇ６に記載の「シクロアルキル基」である。
−Ｎ（Ｇ１）（Ｇ１）における複数のＧ１は、互いに同一であるか、又は異なる。
−Ｎ（Ｇ２）（Ｇ２）における複数のＧ２は、互いに同一であるか、又は異なる。
−Ｎ（Ｇ３）（Ｇ３）における複数のＧ３は、互いに同一であるか、又は異なる。
−Ｎ（Ｇ６）（Ｇ６）における複数のＧ６は、互いに同一であるか、又は異なる
【００６４】
・「ハロゲン原子」
本明細書に記載の「ハロゲン原子」の具体例（具体例群Ｇ１１）としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられる。
【００６５】
・「置換もしくは無置換のフルオロアルキル基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のフルオロアルキル基」は、「置換もしくは無置換のアルキル基」における少なくとも１つの水素原子がフッ素原子と置き換わった基を意味し、「置換もしくは無置換のアルキル基」における全ての水素原子がフッ素原子で置き換わった基（パーフルオロ基）も含む。「無置換のフルオロアルキル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１〜５０であり、好ましくは１〜３０であり、より好ましくは１〜１８である。「置換のフルオロアルキル基」は、「フルオロアルキル基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。尚、本明細書に記載の「置換のフルオロアルキル基」には、「置換のフルオロアルキル基」におけるアルキル鎖の炭素原子に結合する１つ以上の水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び「置換のフルオロアルキル基」における置換基の１つ以上の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。「無置換のフルオロアルキル基」の具体例としては、前記「アルキル基」（具体例群Ｇ３）における１つ以上の水素原子がフッ素原子と置き換わった基の例等が挙げられる。
【００６６】
・「置換もしくは無置換のハロアルキル基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のハロアルキル基」は、「置換もしくは無置換のアルキル基」における少なくとも１つの水素原子がハロゲン原子と置き換わった基を意味し、「置換もしくは無置換のアルキル基」における全ての水素原子がハロゲン原子で置き換わった基も含む。「無置換のハロアルキル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１〜５０であり、好ましくは１〜３０であり、より好ましくは１〜１８である。「置換のハロアルキル基」は、「ハロアルキル基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。尚、本明細書に記載の「置換のハロアルキル基」には、「置換のハロアルキル基」におけるアルキル鎖の炭素原子に結合する１つ以上の水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び「置換のハロアルキル基」における置換基の１つ以上の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。「無置換のハロアルキル基」の具体例としては、前記「アルキル基」（具体例群Ｇ３）における１つ以上の水素原子がハロゲン原子と置き換わった基の例等が挙げられる。ハロアルキル基をハロゲン化アルキル基と称する場合がある。
【００６７】
・「アルコキシ基」
本明細書に記載の「アルコキシ基」の具体例としては、−Ｏ（Ｇ３）で表される基であり、ここで、Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」である。「無置換のアルコキシ基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１〜５０であり、好ましくは１〜３０であり、より好ましくは１〜１８である。
【００６８】
・「アルキルチオ基」
本明細書に記載の「アルキルチオ基」の具体例としては、−Ｓ（Ｇ３）で表される基であり、ここで、Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」である。「無置換のアルキルチオ基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１〜５０であり、好ましくは１〜３０であり、より好ましくは１〜１８である。
【００６９】
・「アリールオキシ基」
本明細書に記載の「アリールオキシ基」の具体例としては、−Ｏ（Ｇ１）で表される基であり、ここで、Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」である。「無置換のアリールオキシ基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、６〜５０であり、好ましくは６〜３０であり、より好ましくは６〜１８である。
【００７０】
・「アリールチオ基」
本明細書に記載の「アリールチオ基」の具体例としては、−Ｓ（Ｇ１）で表される基であり、ここで、Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」である。「無置換のアリールチオ基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、６〜５０であり、好ましくは６〜３０であり、より好ましくは６〜１８である。
【００７１】
・「トリアルキルシリル基」
本明細書に記載の「トリアルキルシリル基」の具体例としては、−Ｓｉ（Ｇ３）（Ｇ３）（Ｇ３）で表される基であり、ここで、Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」である。−Ｓｉ（Ｇ３）（Ｇ３）（Ｇ３）における複数のＧ３は、互いに同一であるか、又は異なる。「トリアルキルシリル基」の各アルキル基の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１〜５０であり、好ましくは１〜２０であり、より好ましくは１〜６である。
【００７２】
・「アラルキル基」
本明細書に記載の「アラルキル基」の具体例としては、−（Ｇ３）−（Ｇ１）で表される基であり、ここで、Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」であり、Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」である。従って、「アラルキル基」は、「アルキル基」の水素原子が置換基としての「アリール基」と置き換わった基であり、「置換のアルキル基」の一態様である。「無置換のアラルキル基」は、「無置換のアリール基」が置換した「無置換のアルキル基」であり、「無置換のアラルキル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、７〜５０であり、好ましくは７〜３０であり、より好ましくは７〜１８である。
「アラルキル基」の具体例としては、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルイソプロピル基、２−フェニルイソプロピル基、フェニル−ｔ−ブチル基、α−ナフチルメチル基、１−α−ナフチルエチル基、２−α−ナフチルエチル基、１−α−ナフチルイソプロピル基、２−α−ナフチルイソプロピル基、β−ナフチルメチル基、１−β−ナフチルエチル基、２−β−ナフチルエチル基、１−β−ナフチルイソプロピル基、及び２−β−ナフチルイソプロピル基等が挙げられる。
【００７３】
本明細書に記載の置換もしくは無置換のアリール基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくはフェニル基、ｐ−ビフェニル基、ｍ−ビフェニル基、ｏ−ビフェニル基、ｐ−ターフェニル−４−イル基、ｐ−ターフェニル−３−イル基、ｐ−ターフェニル−２−イル基、ｍ−ターフェニル−４−イル基、ｍ−ターフェニル−３−イル基、ｍ−ターフェニル−２−イル基、ｏ−ターフェニル−４−イル基、ｏ−ターフェニル−３−イル基、ｏ−ターフェニル−２−イル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、クリセニル基、トリフェニレニル基、フルオレニル基、９，９’−スピロビフルオレニル基、９，９−ジメチルフルオレニル基、及び９，９−ジフェニルフルオレニル基等である。
【００７４】
本明細書に記載の置換もしくは無置換の複素環基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくはピリジル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、キノリル基、イソキノリル基、キナゾリニル基、ベンゾイミダゾリル基、フェナントロリニル基、カルバゾリル基（１−カルバゾリル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、又は９−カルバゾリル基）、ベンゾカルバゾリル基、アザカルバゾリル基、ジアザカルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ナフトベンゾフラニル基、アザジベンゾフラニル基、ジアザジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、ナフトベンゾチオフェニル基、アザジベンゾチオフェニル基、ジアザジベンゾチオフェニル基、（９−フェニル）カルバゾリル基（（９−フェニル）カルバゾール−１−イル基、（９−フェニル）カルバゾール−２−イル基、（９−フェニル）カルバゾール−３−イル基、又は（９−フェニル）カルバゾール−４−イル基）、（９−ビフェニリル）カルバゾリル基、（９−フェニル）フェニルカルバゾリル基、ジフェニルカルバゾール−９−イル基、フェニルカルバゾール−９−イル基、フェニルトリアジニル基、ビフェニリルトリアジニル基、ジフェニルトリアジニル基、フェニルジベンゾフラニル基、及びフェニルジベンゾチオフェニル基等である。
【００７５】
本明細書において、カルバゾリル基は、本明細書に別途記載のない限り、具体的には以下のいずれかの基である。
【００７６】
【化９】
0006831950.tif 000010
【００７７】
本明細書において、（９−フェニル）カルバゾリル基は、本明細書に別途記載のない限り、具体的には以下のいずれかの基である。
【００７８】
【化１０】
0006831950.tif 000011
【００７９】
前記一般式（ＴＥＭＰ−Ｃｚ１）〜（ＴＥＭＰ−Ｃｚ９）中、＊は、結合位置を表す。
【００８０】
本明細書において、ジベンゾフラニル基、及びジベンゾチオフェニル基は、本明細書に別途記載のない限り、具体的には以下のいずれかの基である。
【００８１】
【化１１】
0006831950.tif 000012
【００８２】
前記一般式（ＴＥＭＰ−３４）〜（ＴＥＭＰ−４１）中、＊は、結合位置を表す。
【００８３】
本明細書に記載の置換もしくは無置換のアルキル基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、及びｔ−ブチル基等である。
【００８４】
・「置換もしくは無置換のアリーレン基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアリーレン基」は、別途記載のない限り、上記「アリール基」から誘導される２価の基である。「置換もしくは無置換のアリーレン基」の具体例（具体例群Ｇ１２）としては、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」から誘導される２価の基等が挙げられる。
【００８５】
・「置換もしくは無置換の２価の複素環基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換の２価の複素環基」は、別途記載のない限り、上記「複素環基」から誘導される２価の基である。「置換もしくは無置換の２価の複素環基」の具体例（具体例群Ｇ１３）としては、具体例群Ｇ２に記載の「複素環基」から誘導される２価の基等が挙げられる。
【００８６】
・「置換もしくは無置換のアルキレン基」
本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルキレン基」は、別途記載のない限り、上記「アルキル基」から誘導される２価の基である。「置換もしくは無置換のアルキレン基」の具体例（具体例群Ｇ１４）としては、具体例群Ｇ３に記載の「アルキル基」から誘導される２価の基等が挙げられる。
【００８７】
本明細書に記載の置換もしくは無置換のアリーレン基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは下記一般式（ＴＥＭＰ−４２）〜（ＴＥＭＰ−６７）のいずれかの基である。
【００８８】
【化１２】
0006831950.tif 000013
【００８９】
【化１３】
0006831950.tif 000014
【００９０】
前記一般式（ＴＥＭＰ−４２）〜（ＴＥＭＰ−５２）中、Ｑ１〜Ｑ１０は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
前記一般式（ＴＥＭＰ−４２）〜（ＴＥＭＰ−５２）中、＊は、結合位置を表す。
【００９１】
【化１４】
0006831950.tif 000015
【００９２】
前記一般式（ＴＥＭＰ−５３）〜（ＴＥＭＰ−６２）中、Ｑ１〜Ｑ１０は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
式Ｑ９及びＱ１０は、単結合を介して互いに結合して環を形成してもよい。
前記一般式（ＴＥＭＰ−５３）〜（ＴＥＭＰ−６２）中、＊は、結合位置を表す。
【００９３】
【化１５】
0006831950.tif 000016
【００９４】
前記一般式（ＴＥＭＰ−６３）〜（ＴＥＭＰ−６８）中、Ｑ１〜Ｑ８は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
前記一般式（ＴＥＭＰ−６３）〜（ＴＥＭＰ−６８）中、＊は、結合位置を表す。
【００９５】
本明細書に記載の置換もしくは無置換の２価の複素環基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは下記一般式（ＴＥＭＰ−６９）〜（ＴＥＭＰ−１０２）のいずれかの基である。
【００９６】
【化１６】
0006831950.tif 000017
【００９７】
【化１７】
0006831950.tif 000018
【００９８】
【化１８】
0006831950.tif 000019
【００９９】
前記一般式（ＴＥＭＰ−６９）〜（ＴＥＭＰ−８２）中、Ｑ１〜Ｑ９は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
【０１００】
【化１９】
0006831950.tif 000020
【０１０１】
【化２０】
0006831950.tif 000021
【０１０２】
【化２１】
0006831950.tif 000022
【０１０３】
【化２２】
0006831950.tif 000023
【０１０４】
前記一般式（ＴＥＭＰ−８３）〜（ＴＥＭＰ−１０２）中、Ｑ１〜Ｑ８は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
【０１０５】
以上が、「本明細書に記載の置換基」についての説明である。
【０１０６】
・「結合して環を形成する場合」
本明細書において、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は互いに結合せず」という場合は、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成する」場合と、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成する」場合と、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合しない」場合と、を意味する。
本明細書における、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成する」場合、及び「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成する」場合（以下、これらの場合をまとめて「結合して環を形成する場合」と称する場合がある。）について、以下、説明する。母骨格がアントラセン環である下記一般式（ＴＥＭＰ−１０３）で表されるアントラセン化合物の場合を例として説明する。
【０１０７】
【化２３】
0006831950.tif 000024
【０１０８】
例えば、Ｒ９２１〜Ｒ９３０のうちの「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、環を形成する」場合において、１組となる隣接する２つからなる組とは、Ｒ９２１とＲ９２２との組、Ｒ９２２とＲ９２３との組、Ｒ９２３とＲ９２４との組、Ｒ９２４とＲ９３０との組、Ｒ９３０とＲ９２５との組、Ｒ９２５とＲ９２６との組、Ｒ９２６とＲ９２７との組、Ｒ９２７とＲ９２８との組、Ｒ９２８とＲ９２９との組、並びにＲ９２９とＲ９２１との組である。
【０１０９】
上記「１組以上」とは、上記隣接する２つ以上からなる組の２組以上が同時に環を形成してもよいことを意味する。例えば、Ｒ９２１とＲ９２２とが互いに結合して環ＱＡを形成し、同時にＲ９２５とＲ９２６とが互いに結合して環ＱＢを形成した場合は、前記一般式（ＴＥＭＰ−１０３）で表されるアントラセン化合物は、下記一般式（ＴＥＭＰ−１０４）で表される。
【０１１０】
【化２４】
0006831950.tif 000025
【０１１１】
「隣接する２つ以上からなる組」が環を形成する場合とは、前述の例のように隣接する「２つ」からなる組が結合する場合だけではなく、隣接する「３つ以上」からなる組が結合する場合も含む。例えば、Ｒ９２１とＲ９２２とが互いに結合して環ＱＡを形成し、かつ、Ｒ９２２とＲ９２３とが互いに結合して環ＱＣを形成し、互いに隣接する３つ（Ｒ９２１、Ｒ９２２及びＲ９２３）からなる組が互いに結合して環を形成して、アントラセン母骨格に縮合する場合を意味し、この場合、前記一般式（ＴＥＭＰ−１０３）で表されるアントラセン化合物は、下記一般式（ＴＥＭＰ−１０５）で表される。下記一般式（ＴＥＭＰ−１０５）において、環ＱＡ及び環ＱＣは、Ｒ９２２を共有する。
【０１１２】
【化２５】
0006831950.tif 000026
【０１１３】
形成される「単環」、又は「縮合環」は、形成された環のみの構造として、飽和の環であっても不飽和の環であってもよい。「隣接する２つからなる組の１組」が「単環」、又は「縮合環」を形成する場合であっても、当該「単環」、又は「縮合環」は、飽和の環、又は不飽和の環を形成することができる。例えば、前記一般式（ＴＥＭＰ−１０４）において形成された環ＱＡ及び環ＱＢは、それぞれ、「単環」又は「縮合環」である。また、
前記一般式（ＴＥＭＰ−１０５）において形成された環ＱＡ、及び環ＱＣは、「縮合環」である。前記一般式（ＴＥＭＰ−１０５）の環ＱＡと環ＱＣとは、環ＱＡと環ＱＣとが縮合することによって縮合環となっている。前記一般式（ＴＭＥＰ−１０４）の環ＱＡがベンゼン環であれば、環ＱＡは、単環である。前記一般式（ＴＭＥＰ−１０４）の環ＱＡがナフタレン環であれば、環ＱＡは、縮合環である。
【０１１４】
「不飽和の環」とは、芳香族炭化水素環、又は芳香族複素環を意味する。「飽和の環」とは、脂肪族炭化水素環、又は非芳香族複素環を意味する。
芳香族炭化水素環の具体例としては、具体例群Ｇ１において具体例として挙げられた基の結合手の末端に水素原子が結合した構造が挙げられる。
芳香族複素環の具体例としては、具体例群Ｇ２において具体例として挙げられた芳香族複素環基の結合手の末端に水素原子が結合した構造が挙げられる。
脂肪族炭化水素環の具体例としては、具体例群Ｇ６において具体例として挙げられた基の結合手の末端に水素原子が結合した構造が挙げられる。
「環を形成する」とは、母骨格の複数の原子のみ、あるいは母骨格の複数の原子とさらに１以上の任意の元素で環を形成することを意味する。例えば、前記一般式（ＴＥＭＰ−１０４）に示す、Ｒ９２１とＲ９２２とが互いに結合して形成された環ＱＡは、Ｒ９２１が結合するアントラセン骨格の炭素原子と、Ｒ９２２が結合するアントラセン骨格の炭素原子と、１以上の任意の元素とで形成する環を意味する。具体例としては、Ｒ９２１とＲ９２２とで環ＱＡを形成する場合において、Ｒ９２１が結合するアントラセン骨格の炭素原子と、Ｒ９２２とが結合するアントラセン骨格の炭素原子と、４つの炭素原子とで不飽和の環を形成する場合、Ｒ９２１とＲ９２２とで形成する環は、ベンゼン環である。
【０１１５】
ここで、「任意の元素」は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは、炭素元素、窒素元素、酸素元素、及び硫黄元素からなる群から選択される少なくとも１種の元素である。任意の元素において（例えば、炭素元素、又は窒素元素の場合）、環を形成しない結合手は、水素原子等で終端されてもよいし、後述する「任意の置換基」で置換されてもよい。炭素元素以外の任意の元素を含む場合、形成される環は複素環である。
飽和の環、又は不飽和の環を構成する「１以上の任意の元素」は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは２個以上１５個以下であり、より好ましくは３個以上１２個以下であり、さらに好ましくは３個以上５個以下である。
本明細書に別途記載のない限り、「飽和の環」、及び「不飽和の環」のうち、好ましくは「不飽和の環」である。
本明細書に別途記載のない限り、「不飽和の環」は、好ましくはベンゼン環である。
「隣接する２つ以上からなる組の１組以上」が、「互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成する」場合、又は「互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成する」場合、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは、隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、母骨格の複数の原子と、１個以上１５個以下の炭素元素、窒素元素、酸素元素、及び硫黄元素からなる群から選択される少なくとも１種の元素とからなる置換もしくは無置換の「不飽和の環」を形成する。
【０１１６】
上記の「単環」、又は「縮合環」が置換基を有する場合の置換基は、上述した「本明細書に記載の置換基」の項で説明した置換基である。
上記の「飽和の環」、又は「不飽和の環」が置換基を有する場合の置換基は、上述した「本明細書に記載の置換基」の項で説明した置換基である。
【０１１７】
本明細書における一実施形態においては、前記「置換もしくは無置換の」という場合の置換基（本明細書において、「任意の置換基」と呼ぶことがある。）は、例えば、
無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
無置換の炭素数２〜５０のアルケニル基、
無置換の炭素数２〜５０のアルキニル基、
無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
−Ｓ−（Ｒ９０５）、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、及び
無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基
からなる群から選択される基等であり、
ここで、
Ｒ９０１〜Ｒ９０７は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。
Ｒ９０１が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０２が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０３が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０３は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０４が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０４は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０５が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０５は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０６が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０６は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０７が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０７は、互いに同一であるか又は異なる。
【０１１８】
一実施形態においては、前記「置換もしくは無置換の」という場合の置換基は、
炭素数１〜５０のアルキル基、
環形成炭素数６〜５０のアリール基、及び
環形成原子数５〜５０の複素環基
からなる群から選択される基である。
【０１１９】
一実施形態においては、前記「置換もしくは無置換の」という場合の置換基は、
炭素数１〜１８のアルキル基、
環形成炭素数６〜１８のアリール基、及び
環形成原子数５〜１８の複素環基
からなる群から選択される基である。
【０１２０】
上記任意の置換基の各基の具体例は、上述した「本明細書に記載の置換基」の項で説明した置換基の具体例である。
【０１２１】
本明細書において別途記載のない限り、隣接する任意の置換基同士で、「飽和の環」、又は「不飽和の環」を形成してもよく、好ましくは、置換もしくは無置換の飽和の５員環、置換もしくは無置換の飽和の６員環、置換もしくは無置換の不飽和の５員環、又は置換もしくは無置換の不飽和の６員環を形成し、より好ましくは、ベンゼン環を形成する。
本明細書において別途記載のない限り、任意の置換基は、さらに置換基を有してもよい。任意の置換基がさらに有する置換基としては、上記任意の置換基と同様である。
以上が、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成する」場合、及び「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成する」場合（「結合して環を形成する場合」）についての説明である。
【０１２２】
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前に記載される数値を下限値とし、「〜」の後に記載される数値を上限値として含む範囲を意味する。
【０１２３】
〔第一実施形態〕
〔混合物〕
本実施形態に係る混合物は、第一の化合物と、第二の化合物と、を含有する。
本実施形態に係る混合物中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＭＴと、前記第二の化合物の質量Ｍ２とが、下記数式（数１）の関係を満たす。
０．１≦（Ｍ２／ＭＴ）×１００…（数１）
本実施形態に係る混合物中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＭＴは、第一の化合物の質量Ｍ１と第二の化合物の質量Ｍ２との和である。
【０１２４】
本実施形態に係る混合物中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＭＴと、前記第二の化合物の質量Ｍ２とが、下記数式（数１Ａ）の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦（Ｍ２／ＭＴ）×１００≦２０．０…（数１Ａ）
【０１２５】
本実施形態に係る混合物中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＭＴと、前記第二の化合物の質量Ｍ２とが、下記数式（数１Ｂ）の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦（Ｍ２／ＭＴ）×１００≦１０．０…（数１Ｂ）
【０１２６】
本実施形態に係る混合物中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＭＴと、前記第二の化合物の質量Ｍ２とが、下記数式（数１Ｃ）の関係を満たすことが好ましい。
０．５≦（Ｍ２／ＭＴ）×１００≦１０．０…（数１Ｃ）
【０１２７】
本実施形態に係る混合物は、数式（数１）の関係を満たすように第一の化合物及び第二の化合物を含有することにより、閉塞現象が抑制されることを見出した。
本実施形態に係る第一の化合物を真空蒸着法等の乾式成膜法で成膜していると、経時に伴い、蒸着速度の低下又は蒸着速度の変動が生じ易い傾向にあった。これは、本実施形態に係る第一の化合物は、真空蒸着等の成膜中に防着板及び坩堝端などに付着して結晶成長し易く、結晶成長して形成された第一の化合物の嵩高い膜が蒸着源からの気化ビームを閉塞するためと考えられる。
そこで、本発明者らが鋭意検討した結果、第一の化合物に第二の化合物を適量混合することにより、閉塞現象が抑制されることを見出した。第二の化合物を、適量、第一の化合物に混合することにより、第一の化合物単体を成膜する際に起こり易い結晶成長が抑制され、嵩高い付着物の発生を抑えることができたと考えられる。第二の化合物が高い非晶質性の化合物であれば、第一の化合物に少量の第二の化合物を混合することで、嵩高い付着物の発生を抑制できると考えられる。
【０１２８】
本実施形態に係る混合物によれば、有機ＥＬ素子の有機層を乾式成膜法で形成する際に、嵩高い付着膜の形成を抑制できる。
【０１２９】
（第一の化合物）
第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される第一の環構造及び下記一般式（１２）で表される第二の環構造の少なくともいずれかを含む。
なお、本実施形態に係る混合物は、１種の第一の化合物を含有していてもよいし、複数種の第一の化合物を含有していてもよい。
【０１３０】
【化２６】
0006831950.tif 000027
【０１３１】
（前記一般式（１１）で表される第一の環構造は、前記第一の化合物の分子中で、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環及び置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環の少なくともいずれかの環構造と縮合し、
＝Ｘ１０で表される構造は、下記式（１１ａ）、（１１ｂ）、（１１ｃ）、（１１ｄ）、（１１ｅ）、（１１ｆ）、（１１ｇ）、（１１ｈ）、（１１ｉ）、（１１ｊ）、（１１ｋ）又は（１１ｍ）で表される。）
【０１３２】
【化２７】
0006831950.tif 000028
【０１３３】
【化２８】
0006831950.tif 000029
【０１３４】
（前記一般式（１１ａ）、（１１ｂ）、（１１ｃ）、（１１ｄ）、（１１ｅ）、（１１ｆ）、（１１ｇ）、（１１ｈ）、（１１ｉ）、（１１ｊ）、（１１ｋ）又は（１１ｍ）中、
Ｒ１１〜Ｒ１４並びにＲ１１１〜Ｒ１２０は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０１３５】
本実施形態に係る第一の化合物及び第二の化合物中、Ｒ９０１〜Ｒ９０７は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
Ｒ９０１が複数ある場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０２が複数ある場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０３が複数ある場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０４が複数ある場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０５が複数ある場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０６が複数ある場合、複数のＲ９０６は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ９０７が複数ある場合、複数のＲ９０７は、互いに同一であるか、又は異なる。
【０１３６】
（前記一般式（１２）において、Ｘ１〜Ｘ５は、それぞれ独立に、
窒素原子、
Ｒ１５と結合する炭素原子、又は
前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合する炭素原子であり、
Ｘ１〜Ｘ５の内、少なくとも１つは、前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合する炭素原子であり、
Ｒ１５は、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の炭素数２〜５０のアルケニル基、
置換もしくは無置換の炭素数７〜５０のアラルキル基、
カルボキシ基、
置換もしくは無置換のエステル基、
置換もしくは無置換のカルバモイル基、
ニトロ基、及び
置換もしくは無置換のシロキサニル基からなる群から選択され、
Ｒ１５が複数存在する場合、複数のＲ１５は互いに同一であるか、又は異なる。）
【０１３７】
本明細書におけるエステル基は、アルキルエステル基及びアリールエステル基からなる群から選択される少なくともいずれかの基である。
本明細書におけるアルキルエステル基は、例えば、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＥで表される。ＲＥは、例えば、置換もしくは無置換の炭素数１〜５０（好ましくは炭素数１〜１０）のアルキル基である。
本明細書におけるアリールエステル基は、例えば、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡｒで表される。ＲＡｒは、例えば、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリール基である。
【０１３８】
本明細書におけるシロキサニル基は、エーテル結合を介したケイ素化合物基であり、例えば、トリメチルシロキサニル基である。
【０１３９】
本明細書におけるカルバモイル基は、−ＣＯＮＨ２で表される。
本明細書における置換のカルバモイル基は、例えば、−ＣＯＮＨ−ＡｒＣ、又は−ＣＯＮＨ−ＲＣで表される。ＡｒＣは、例えば、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０（好ましくは環形成炭素数６〜１０）のアリール基及び環形成原子数５〜５０（好ましくは環形成原子数５〜１４）の複素環基からなる群から選択される少なくともいずれかの基である。ＡｒＣは、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基と置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０複素環基とが結合した基であってもよい。
ＲＣは、例えば、置換もしくは無置換の炭素数１〜５０（好ましくは炭素数１〜６）のアルキル基である。
【０１４０】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環及び置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環から選ばれる第三の環構造に、下記一般式（１３）で表される構造が２つ又は３つ縮合して形成される縮合化合物であることが好ましい。
【０１４１】
【化２９】
0006831950.tif 000030
【０１４２】
（前記一般式（１３）において、
ａは、前記第三の環構造に縮合する環構造であり、前記一般式（１１）で表され、
Ｘ１１及びＸ１２は、それぞれ独立に、Ｃ（Ｒ１６）又は窒素原子であり、複数のＲ１６は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｓ−（Ｒ９０５）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０１４３】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１４）又は一般式（１５）で表される化合物であることが好ましい。
【０１４４】
【化３０】
0006831950.tif 000031
【０１４５】
（前記一般式（１４）及び（１５）において、
Ａｒ１は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環であり、
ａ１、ａ２及びａ３は、それぞれ独立に、前記一般式（１１）で表される環構造であり、
Ｘ１３〜Ｘ１８は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＸ１１及びＸ１２と同義であり、
Ｒ１４１〜Ｒ１４６は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８と同義である。）
【０１４６】
本実施形態に係る混合物において、前記一般式（１４）及び一般式（１５）中のＡｒ１は、置換もしくは無置換のベンゼン環、又は置換もしくは無置換の環形成原子数６の複素環であることが好ましい。
【０１４７】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１４Ａ）又は一般式（１５Ａ）で表されることが好ましい。
【０１４８】
【化３１】
0006831950.tif 000032
【０１４９】
（前記一般式（１４Ａ）及び一般式（１５Ａ）において、
ａ１、ａ２及びａ３は、それぞれ独立に、前記一般式（１１）で表される環構造であり、
Ｘ１３〜Ｘ１８は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＸ１１及びＸ１２と同義であり、
Ｒ１４１〜Ｒ１４６は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８と同義であり、
前記一般式（１４Ａ）において、
Ｚ１１およびＺ１２は、それぞれ独立に、ＣＨ又は窒素原子である。）
【０１５０】
本実施形態に係る混合物において、前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８の少なくとも１つは、
フッ素原子、
フルオロアルキル基、
フルオロアルコキシ基、又は
シアノ基であることが好ましい。
【０１５１】
前記一般式（１１）において、＝Ｘ１０で表される構造は、前記一般式（１１ａ）で表されることが好ましい。
すなわち、本実施形態に係る混合物において、前記一般式（１１）で表される第一の環構造は、下記一般式（１１Ａ）で表される環構造であることが好ましい。
【０１５２】
【化３２】
0006831950.tif 000033
【０１５３】
前記一般式（１１ａ）で表されるジシアノメチレン基は、電子吸引性が強く、分子対称性が低いため、分子内の双極子モーメントが増大する。その結果、前記一般式（１１Ａ）で表される環構造を有する化合物は、電子アフィニティが大きく、正孔注入層の材料として好適に用いることができる。
【０１５４】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１４１）〜（１４４）並びに一般式（１５１）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
【０１５５】
【化３３】
0006831950.tif 000034
【０１５６】
【化３４】
0006831950.tif 000035
【０１５７】
（前記一般式（１４１）〜（１４４）並びに一般式（１５１）において、Ｒ１４１、Ｒ１４３、Ｒ１４４及びＲ１４６は、それぞれ独立に、
フッ素原子、
フルオロアルキル基、
フルオロアルコキシ基、又は
シアノ基である。）
【０１５８】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、前記一般式（１４３）で表される化合物であることも好ましい。
【０１５９】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１４５）〜（１４８）並びに一般式（１５２）のいずれかで表される化合物であることも好ましい。
【０１６０】
【化３５】
0006831950.tif 000036
【０１６１】
【化３６】
0006831950.tif 000037
【０１６２】
（前記一般式（１４５）〜（１４８）並びに一般式（１５２）において、Ａｒ１４１、Ａｒ１４３、Ａｒ１４４及びＡｒ１４６は、それぞれ独立に、
フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及びシアノ基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する環形成炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、又は
フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及びシアノ基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する環形成原子数５〜３０の複素環基である。）
【０１６３】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１４５１）、（１４６１）、（１４７１）及び（１４８１）のいずれかで表される化合物であることも好ましい。
【０１６４】
【化３７】
0006831950.tif 000038
【０１６５】
（前記一般式（１４５１）中のＲ１４５１〜Ｒ１４６０、
前記一般式（１４６１）中のＲ１４６１〜Ｒ１４７０、
前記一般式（１４７１）中のＲ１４７１〜Ｒ１４８０、並びに
前記一般式（１４８１）中のＲ１４８１〜Ｒ１４９０は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基であり、
Ｒ１４５１〜Ｒ１４６０中の１つ以上が、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基であり、
Ｒ１４６１〜Ｒ１４７０中の１つ以上が、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基であり、
Ｒ１４７１〜Ｒ１４８０中の１つ以上が、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基であり、
Ｒ１４８１〜Ｒ１４９０中の１つ以上が、フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、又はシアノ基である。）
【０１６６】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、前記一般式（１４５１）で表される化合物であることも好ましい。
【０１６７】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、前記一般式（１４６１）で表される化合物であることも好ましい。
【０１６８】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１６）又は一般式（１７）で表される化合物であることも好ましい。
【０１６９】
【化３８】
0006831950.tif 000039
【０１７０】
（前記一般式（１６）及び一般式（１７）において、
Ｘ１３〜Ｘ１６は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＸ１１及びＸ１２と同義であり、
Ｒ１４１〜Ｒ１４４は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８と同義であり、
ａ１及びａ２は、それぞれ独立に、前記一般式（１１）で表される環構造であり、
ｂ１は、下記一般式（１７１）で表される環構造である。）
【０１７１】
【化３９】
0006831950.tif 000040
【０１７２】
（前記一般式（１７１）において、Ｘ１９は、硫黄原子又は酸素原子である。）
【０１７３】
本実施形態に係る混合物において、前記一般式（１６）及び一般式（１７）中のａ１及びａ２は、前記一般式（１１Ａ）で表される環構造であることが好ましい。
【０１７４】
前記一般式（１６）で表される化合物は、下記一般式（１６１）で表されることが好ましい。
前記一般式（１７）で表される化合物は、下記一般式（１７１）で表されることが好ましい。
【０１７５】
【化４０】
0006831950.tif 000041
【０１７６】
（前記一般式（１６１）及び一般式（１７１）において、
Ｘ１３〜Ｘ１６は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＸ１１及びＸ１２と同義であり、
Ｒ１４１〜Ｒ１４４は、それぞれ独立に、前記一般式（１３）におけるＲ１７及びＲ１８と同義であり、
Ｘ１９は、硫黄原子又は酸素原子である。）
【０１７７】
本実施形態に係る混合物において、前記一般式（１６）、一般式（１６１）、一般式（１７）及び一般式（１７１）中のＲ１４１〜Ｒ１４４の少なくとも１つは、
フッ素原子、
フルオロアルキル基、
フルオロアルコキシ基、
シアノ基、
フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及びシアノ基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する環形成炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、又は
フッ素原子、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基及びシアノ基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する環形成原子数５〜３０の複素環基であることが好ましい。
【０１７８】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物中、２つ又は３つの前記一般式（１３）で表される構造は、互いに同一の構造であることが好ましい。
【０１７９】
前記一般式（１２）で表される第二の環構造は、下記一般式（１２１）又は下記一般式（１２２）で表される環構造であることが好ましい。
【０１８０】
【化４１】
0006831950.tif 000042
【０１８１】
（前記一般式（１２１）における、Ｘ１及びＸ４は、それぞれ独立に、窒素原子又はＲ１２１と結合する炭素原子であり、
前記一般式（１２１）におけるＲ１２１並びに前記一般式（１２２）におけるＲ１２２〜Ｒ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、複数のＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
前記一般式（１２１）及び一般式（１２２）における＊は、それぞれ独立に、前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合位置を示す。）
【０１８２】
本実施形態に係る混合物において、前記第一の化合物は、下記一般式（１２１Ａ）で表される化合物であることも好ましい。
【０１８３】
【化４２】
0006831950.tif 000043
【０１８４】
（前記一般式（１２１Ａ）において、
Ａｒ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０の芳香族炭化水素環、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環であり、
Ｘ１及びＸ４は、それぞれ独立に、窒素原子又はＲ１２１と結合する炭素原子であり、Ｒ１２１は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、複数のＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
【０１８５】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１２１Ｂ）で表される化合物であることも好ましい。
【０１８６】
【化４３】
0006831950.tif 000044
【０１８７】
（前記一般式（１２１Ｂ）において、
Ｘ１及びＸ４は、それぞれ独立に、窒素原子又はＲ１２１と結合する炭素原子であり、複数のＸ１は、互いに同一であるか、又は異なり、複数のＸ４は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ１２１は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、複数のＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
【０１８８】
前記一般式（１２）で表される第二の環構造は、下記一般式（１２２Ｂ）で表される基として前記第一の化合物に含まれることも好ましい。
【０１８９】
【化４４】
0006831950.tif 000045
【０１９０】
（前記一般式（１２２Ｂ）において、Ｒ１２２〜Ｒ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、前記一般式（１２２Ｂ）における＊は、前記第一の化合物の分子中の他の原子と結合位置を示す。）
【０１９１】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１２２Ｃ）で表される化合物であることも好ましい。
【０１９２】
【化４５】
0006831950.tif 000046
【０１９３】
（前記一般式（１２２Ｃ）において、Ｒ１２２〜Ｒ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、Ａｌｐ１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜６の脂肪族環である。）
【０１９４】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１２２Ｄ）で表される化合物であることも好ましい。
【０１９５】
【化４６】
0006831950.tif 000047
【０１９６】
（前記一般式（１２２Ｄ）において、Ｒ１２２〜Ｒ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１２）におけるＲ１５と同義であり、
複数のＲ１２２は、互いに同一であるか、又は異なり、
複数のＲ１２３は、互いに同一であるか、又は異なり、
複数のＲ１２４は、互いに同一であるか、又は異なり、
複数のＲ１２５は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ａｌｐ１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜６の脂肪族環である。）
【０１９７】
本実施形態に係る混合物において、第一の化合物は、下記一般式（１２２Ｅ）で表される化合物であることも好ましい。
【０１９８】
【化４７】
0006831950.tif 000048
【０１９９】
（前記一般式（１２２Ｅ）中、
ｎｘは、１、２、３又は４であり、
＝Ｘ１、＝Ｘ２及び＝Ｘ３で表される構造は、それぞれ独立に、下記一般式（Ｅ１）、一般式（Ｅ２）、一般式（Ｅ３）又は一般式（Ｅ４）で表される。）
【０２００】
【化４８】
0006831950.tif 000049
【０２０１】
（前記一般式（Ｅ１）、一般式（Ｅ２）、一般式（Ｅ３）及び一般式（Ｅ４）中、
＝Ｘ４及び＝Ｘ５は、それぞれ独立して、オキソ（＝Ｏ）およびジシアノメチリデン（＝Ｃ（ＣＮ）２）から選ばれ、
Ｒ１２２５は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基であり、
Ｒ１２２６は、置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
Ｒ１２２１〜Ｒ１２２４は、それぞれ独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０２０２】
ｎｘが１のとき、前記一般式（１２２Ｅ）は、下記一般式（１２２１Ｅ）で表され、ｎｘが２のとき、前記一般式（１２２Ｅ）は、下記一般式（１２２２Ｅ）で表され、ｎｘが３のとき、前記一般式（１２２Ｅ）は、下記一般式（１２２３Ｅ）で表され、ｎｘが４のとき、前記一般式（１２２Ｅ）は、下記一般式（１２２４Ｅ）で表される。
【０２０３】
【化４９】
0006831950.tif 000050
【０２０４】
（前記一般式（１２２１Ｅ）、一般式（１２２２Ｅ）、一般式（１２２３Ｅ）及び一般式（１２２４Ｅ）中、
＝Ｘ１、＝Ｘ２及び＝Ｘ３で表される構造は、それぞれ独立に、前記一般式（Ｅ１）、一般式（Ｅ２）、一般式（Ｅ３）又は一般式（Ｅ４）で表され、
複数の＝Ｘ２で表される構造は、互いに同一であるか又は異なる。）
【０２０５】
＝Ｘ１、＝Ｘ２及び＝Ｘ３は、前記一般式（Ｅ３）で表される構造であることが好ましい。
【０２０６】
前記一般式（Ｅ３）で表される構造は、前記一般式（１１ｋ）で表される構造であることが好ましい。
【０２０７】
前記一般式（１１ｋ）中、Ｒ１１１〜Ｒ１１５は、それぞれ独立に、ハロゲン原子又はシアノ基であることが好ましい。
前記一般式（１１ｋ）中、Ｒ１１１〜Ｒ１１５のうち４つが、それぞれ独立に、ハロゲン原子であり、Ｒ１１１〜Ｒ１１５のうち１つが、シアノ基であることが好ましい。
前記一般式（１１ｋ）中、Ｒ１１１、Ｒ１１２，Ｒ１１４及びＲ１１５が、ハロゲン原子であり、Ｒ１１３がシアノ基であることが好ましい。
前記一般式（１１ｋ）のＲ１１１〜Ｒ１１５中、ハロゲン原子は、フッ素原子であることが好ましい。
【０２０８】
・第一の化合物の製造方法
本実施形態に係る第一の化合物は、公知の方法により製造でき、又は当該方法に倣い、目的物に合わせた既知の代替反応及び原料を用いることで、製造できる。
【０２０９】
・第一の化合物の具体例
本実施形態に係る第一の化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。ただし、本発明は、これら具体例に限定されない。
【０２１０】
【化５０】
0006831950.tif 000051
【０２１１】
【化５１】
0006831950.tif 000052
【０２１２】
【化５２】
0006831950.tif 000053
【０２１３】
【化５３】
0006831950.tif 000054
【０２１４】
【化５４】
0006831950.tif 000055
【０２１５】
【化５５】
0006831950.tif 000056
【０２１６】
【化５６】
0006831950.tif 000057
【０２１７】
【化５７】
0006831950.tif 000058
【０２１８】
【化５８】
0006831950.tif 000059
【０２１９】
【化５９】
0006831950.tif 000060
【０２２０】
【化６０】
0006831950.tif 000061
【０２２１】
【化６１】
0006831950.tif 000062
【０２２２】
【化６２】
0006831950.tif 000063
【０２２３】
【化６３】
0006831950.tif 000064
【０２２４】
【化６４】
0006831950.tif 000065
【０２２５】
【化６５】
0006831950.tif 000066
【０２２６】
【化６６】
0006831950.tif 000067
【０２２７】
【化６７】
0006831950.tif 000068
【０２２８】
【化６８】
0006831950.tif 000069
【０２２９】
【化６９】
0006831950.tif 000070
【０２３０】
【化７０】
0006831950.tif 000071
【０２３１】
【化７１】
0006831950.tif 000072
【０２３２】
【化７２】
0006831950.tif 000073
【０２３３】
【化７３】
0006831950.tif 000074
【０２３４】
【化７４】
0006831950.tif 000075
【０２３５】
【化７５】
0006831950.tif 000076
【０２３６】
【化７６】
0006831950.tif 000077
【０２３７】
【化７７】
0006831950.tif 000078
【０２３８】
【化７８】
0006831950.tif 000079
【０２３９】
【化７９】
0006831950.tif 000080
【０２４０】
【化８０】
0006831950.tif 000081
【０２４１】
【化８１】
0006831950.tif 000082
【０２４２】
【化８２】
0006831950.tif 000083
【０２４３】
【化８３】
0006831950.tif 000084
【０２４４】
【化８４】
0006831950.tif 000085
【０２４５】
【化８５】
0006831950.tif 000086
【０２４６】
【化８６】
0006831950.tif 000087
【０２４７】
【化８７】
0006831950.tif 000088
【０２４８】
【化８８】
0006831950.tif 000089
【０２４９】
【化８９】
0006831950.tif 000090
【０２５０】
【化９０】
0006831950.tif 000091
【０２５１】
【化９１】
0006831950.tif 000092
【０２５２】
【化９２】
0006831950.tif 000093
【０２５３】
【化９３】
0006831950.tif 000094
【０２５４】
【化９４】
0006831950.tif 000095
【０２５５】
【化９５】
0006831950.tif 000096
【０２５６】
【化９６】
0006831950.tif 000097
【０２５７】
（第二の化合物）
第二の化合物は、下記一般式（２１）で表される化合物又は下記一般式（２２）で表される化合物である。なお、本実施形態に係る混合物は、１種の第二の化合物を含有していてもよいし、複数種の第二の化合物を含有していてもよい。
【０２５８】
【化９７】
0006831950.tif 000098
【０２５９】
（前記一般式（２１）及び一般式（２２）において、
ＬＡ１、ＬＢ１、ＬＣ１、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２は、１、２、３又は４であり、
ｎ２が１の場合、ＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、互いに同一であるか、又は異なり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、
互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ａ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、又は
−Ｓｉ（Ｒ’９０１）（Ｒ’９０２）（Ｒ’９０３）であり、
Ｒ’９０１、Ｒ’９０２及びＲ’９０３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基であり、
Ｒ’９０１が複数存在する場合、複数のＲ’９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ’９０２が複数存在する場合、複数のＲ’９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ’９０３が複数存在する場合、複数のＲ’９０３は、互いに同一であるか、又は異なる。）
【０２６０】
本実施形態に係る混合物において、前記一般式（２２）中の下記一般式（２２Ａ）で表される第一のアミノ基と、下記一般式（２２Ｂ）で表される第二のアミノ基とが、互いに異なる基であることも好ましい。
【０２６１】
【化９８】
0006831950.tif 000099
【０２６２】
（前記一般式（２２Ａ）及び（２２Ｂ）において、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、前記一般式（２２）におけるＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２と同義であり、
Ａ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２は、それぞれ独立に、前記一般式（２２）におけるＡ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２と同義であり、
＊は、それぞれ、ＬＥ２との結合位置である。）
【０２６３】
本実施形態に係る第二の化合物において、Ａ１、Ｂ１及びＣ１の内、少なくとも１つは、下記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）で表される基からなる群から選択される基であることが好ましい。
また、本実施形態に係る第二の化合物において、Ａ２、Ｂ２、Ｃ２及びＤ２の内、少なくとも１つは、下記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）で表される基からなる群から選択される基であることも好ましい。
【０２６４】
【化９９】
0006831950.tif 000100
【０２６５】
（前記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）において、
Ｘ２１は、ＮＲ２１、ＣＲ２２Ｒ２３、酸素原子又は硫黄原子であり、
Ｘ２１が複数ある場合、複数のＸ２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｘ２１がＣＲ２２Ｒ２３である場合、Ｒ２２とＲ２３とからなる組が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
Ｒ２１、並びに前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ２２及びＲ２３は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
Ｒ２１１〜Ｒ２１８のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、
又は互いに結合せず
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ２１１〜Ｒ２１８は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
前記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）における＊は、それぞれ独立に、ＬＡ１、ＬＢ１、ＬＣ１、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２、ＬＤ２又はＬＥ２との結合位置である。）
【０２６６】
本実施形態に係る第二の化合物において、
Ｒ２１１〜Ｒ２１８のうち隣接する２つ以上からなる組は、互いに結合せず、
Ｒ２１１〜Ｒ２１８は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜３０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の複素環基であることが好ましく、Ｒ２１１〜Ｒ２１８は、水素原子であることがより好ましい。
【０２６７】
前記第二の化合物は、下記一般式（２１１）で表される化合物であることが好ましい。
【０２６８】
【化１００】
0006831950.tif 000101
【０２６９】
（前記一般式（２１１）において、
ＬＡ１、ＬＢ１及びＬＣ１は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
Ａ１及びＢ１は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基、又は
−Ｓｉ（Ｒ’９０１）（Ｒ’９０２）（Ｒ’９０３）であり、
Ｒ’９０１、Ｒ’９０２及びＲ’９０３は、前記一般式（２１）におけるＲ’９０１、Ｒ’９０２及びＲ’９０３と同義であり、
Ｒ２１１１〜Ｒ２１１５のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、
又は互いに結合せず
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ２１１１〜Ｒ２１１５は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０２７０】
本実施形態に係る第二の化合物において、Ａ１及びＢ１は、それぞれ独立に、前記一般式（２１ａ）、一般式（２１ｂ）、一般式（２１ｃ）及び一般式（２１ｄ）で表される基からなる群から選択される基であることが好ましい。
【０２７１】
本実施形態に係る第二の化合物において、
ＬＡ１、ＬＢ１及びＬＣ１は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の２価の複素環基であることが好ましい。
【０２７２】
本実施形態に係る第二の化合物は、下記一般式（２２１）で表される化合物であることも好ましい。
【０２７３】
【化１０１】
0006831950.tif 000102
【０２７４】
（前記一般式（２２１）において、
ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２、ＬＤ２及びＬＥ２は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の２価の複素環基であり、
ｎ２は、１、２、３又は４であり、
ｎ２が２、３又は４の場合、複数のＬＥ２は、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、
又は互いに結合せず
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ２２１１〜Ｒ２２３０は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
−Ｏ−（Ｒ９０４）で表される基、
−Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０２７５】
本実施形態に係る混合物において、前記一般式（２２１）中の下記一般式（２２１Ａ）で表される第一のアミノ基と、下記一般式（２２１Ｂ）で表される第二のアミノ基とが、互いに異なる基であることも好ましい。
【０２７６】
【化１０２】
0006831950.tif 000103
【０２７７】
（前記一般式（２２１Ａ）及び（２２１Ｂ）において、
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０は、それぞれ独立に、前記一般式（２２１）におけるＲ２２１１〜Ｒ２２３０と同義であり、
ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、前記一般式（２２）におけるＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２と同義であり、
＊は、それぞれ、ＬＥ２との結合位置である。）
【０２７８】
本実施形態に係る混合物において、第二の化合物は、分子中に置換もしくは無置換のビフェニル基を１つ以上有することも好ましい。
【０２７９】
本実施形態に係る混合物は、下記式（２２１０）で表される化合物及び式（２２１１）で表される化合物を含まないことも好ましい。
【０２８０】
【化１０３】
0006831950.tif 000104
【０２８１】
本実施形態に係る第二の化合物において、
ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、
単結合、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の２価の複素環基であることが好ましい。
本実施形態に係る第二の化合物において、ＬＥ２は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリーレン基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の２価の複素環基であることが好ましい。
【０２８２】
本実施形態に係る第二の化合物において、
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０のうち隣接する２つ以上からなる組が、互いに結合せず
Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜３０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜３０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜３０の複素環基であることが好ましく、Ｒ２２１１〜Ｒ２２３０は、水素原子であることがより好ましい。
【０２８３】
一実施形態においては、前記一般式（２１）で表される化合物が、下記一般式（２１２）で表される化合物である。
【０２８４】
【化１０４】
0006831950.tif 000105
【０２８５】
（前記一般式（２１２）において、
ＬＣ１、Ａ１、Ｂ１及びＣ１は、それぞれ、前記一般式（２１）で定義したとおりであり、
ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立に、０、１、２、３又は４であり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲは、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲのうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲは、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０２８６】
一実施形態においては、前記一般式（２１）又は一般式（２１２）におけるＡ１、Ｂ１及びＣ１のうち２つが、下記一般式（Ｙ）で表される基であり、前記２つの一般式（Ｙ）で表される基は、互いに同一であるか、又は異なる。
【０２８７】
【化１０５】
0006831950.tif 000106
【０２８８】
（前記一般式（Ｙ）において、
Ｘは、ＮＲ５１、ＣＲ５２Ｒ５３、酸素原子、又は硫黄原子であり、
ＸがＣＲ５２Ｒ５３である場合、Ｒ５２とＲ５３とからなる組が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
Ｒ５１、並びに前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ５２及びＲ５３は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
ｎ３は、０、１、２、３又は４であり、
ｎ４は、０、１、２又は３であり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲは、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲのうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲは、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
＊は、それぞれ独立に、ＬＡ１、ＬＢ１又はＬＣ１との結合位置である。）
【０２８９】
一実施形態においては、前記一般式（２１）で表される化合物が、下記一般式（２１３）、一般式（２１４）、一般式（２１５）又は一般式（２１６）で表される化合物である。
【０２９０】
【化１０６】
0006831950.tif 000107
【０２９１】
（前記一般式（２１３）〜（２１６）において、
ＬＡ１、ＬＢ１及びＬＣ１は、それぞれ、前記一般式（２１）で定義したとおりであり、
ＣＡ１は、前記一般式（Ｙ）又は下記一般式（ＹＡ）で表される基であり、
ＡＡ１及びＢＡ１は、それぞれ独立に、下記一般式（ＹＢ）で表される基であり、
ＡＢ及びＢＢは、それぞれ独立に、前記一般式（Ｙ）で表される基である。）
【０２９２】
【化１０７】
0006831950.tif 000108
【０２９３】
（前記一般式（ＹＡ）及び一般式（ＹＢ）において、
ｎ３は、０、１、２、３又は４であり、
ｎ４は、０、１、２又は３であり、
ｎ５は、０、１、２、３又は４であり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲは、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲのうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲは、それぞれ独立に、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。
Ｒ５３は、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
＊は、それぞれ独立に、ＬＡ１、ＬＢ１、ＬＣ１又は前記一般式（２１４）〜（２１６）中のアミノ基の窒素原子との結合位置である。）
【０２９４】
一実施形態においては、前記一般式（２１）で表される化合物が、下記一般式（２１７）又は一般式（２１８）で表される化合物である。
【０２９５】
【化１０８】
0006831950.tif 000109
【０２９６】
（前記一般式（２１７）及び一般式（２１８）において、
ＬＡ１、ＬＢ１、Ａ１及びＢ１は、それぞれ、前記一般式（２１）で定義したとおりであり、
ＬＣ１１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜１２のアリーレン基であり、
Ｘは、ＮＲ５１、ＣＲ５２Ｒ５３、酸素原子、又は硫黄原子であり、
ＸがＣＲ５２Ｒ５３である場合、Ｒ５２とＲ５３とからなる組が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
Ｒ５１、並びに前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ５２及びＲ５３は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
ｎ３は、０、１、２、３又は４であり、
ｎ４は、０、１、２又は３であり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲは、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲのうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲは、それぞれ独立に、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０２９７】
一実施形態においては、前記式（２１）で表される化合物が、下記一般式（２１９）又は一般式（２２０）で表される化合物である。
【０２９８】
【化１０９】
0006831950.tif 000110
【０２９９】
（前記一般式（２１９）及び前記一般式（２２０）において、
ＬＡ１、ＬＢ１、Ａ１及びＢ１は、それぞれ、前記一般式（２１）で定義したとおりであり、
ＬＣ１１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜１２のアリーレン基であり、
ｎ３は、０、１、２、３又は４であり、
ｎ５は、０、１、２、３又は４であり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲは、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲのうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲは、それぞれ独立に、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０３００】
一実施形態においては、前記一般式（２１）で表される化合物が、下記一般式（２２１）又は一般式（２２２）で表される化合物である。
【０３０１】
【化１１０】
0006831950.tif 000111
【０３０２】
（前記一般式（２２１）及び一般式（２２２）において、
ＬＡ１、ＬＢ１、ＬＣ１、Ａ１及びＢ１は、それぞれ、前記一般式（２１）で定義したとおりであり、
Ｘは、ＮＲ５１、ＣＲ５２Ｒ５３、酸素原子、又は硫黄原子であり、
ＸがＣＲ５２Ｒ５３である場合、Ｒ５２とＲ５３とからなる組が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
Ｒ５１、並びに前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ５２及びＲ５３は、それぞれ独立に、
水素原子、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
ｎ３は、０、１、２、３又は４であり、
ｎ４は、０、１、２又は３であり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲは、互いに同一であるか、又は異なり、
Ｒが複数存在する場合、複数のＲのうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
互いに結合せず、
前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲは、それぞれ独立に、
シアノ基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素数１〜５０のハロゲン化アルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３〜５０のシクロアルキル基、
−Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
−Ｏ−（Ｒ９０４）、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基である。）
【０３０３】
一実施形態においては、前記一般式（２１）で表される化合物が、下記一般式（２２３）で表される化合物である。
【０３０４】
【化１１１】
0006831950.tif 000112
【０３０５】
（前記一般式（２２３）において、
ＬＡ１、ＬＢ１、Ａ１、Ｂ１及びＣ１は、それぞれ、前記一般式（２１）で定義したとおりであり、
Ｃ１は、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜５０のアリール基、
置換もしくは無置換の環形成原子数５〜５０の複素環基であり、
ｎは、０、１又は２であり、
ｎが２の場合、２つのＣ１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
【０３０６】
一実施形態においては、前記一般式（２１）で表される化合物が、下記一般式（２２４）で表される化合物である。
【０３０７】
【化１１２】
0006831950.tif 000113
【０３０８】
（前記一般式（２２４）において、ＬＡ１、ＬＢ１、Ａ１及びＢ１は、それぞれ、前記一般式（２１）で定義したとおりである。）
【０３０９】
一実施形態においては、前記一般式（２１）で表される化合物が、下記一般式（２２５）で表される化合物である。
【０３１０】
【化１１３】
0006831950.tif 000114
【０３１１】
（前記一般式（２２５）において、ＬＡ１、ＬＢ１、Ａ１及びＢ１は、それぞれ、前記一般式（２１）で定義したとおりである。）
【０３１２】
一実施形態においては、ＬＡ１、ＬＢ１及びＬＣ１が、それぞれ独立に、下記一般式（Ｌ１）又は一般式（Ｌ２）で表される芳香族炭化水素環基である。
【０３１３】
【化１１４】
0006831950.tif 000115
【０３１４】
（前記一般式（Ｌ１）及び（Ｌ２）において、２つの＊のうち一方が前記一般式（２１）におけるアミノ基の窒素原子と結合する結合手であり、かつ、２つの＊のうち他方が前記一般式（２１）におけるＡ１、Ｂ１及びＣ１のいずれかと結合する結合手である。）
【０３１５】
一実施形態においては、ＬＡ１、ＬＢ１及びＬＣ１が、それぞれ独立に、単結合、又は置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜１２のアリーレン基である。
【０３１６】
一実施形態においては、ＬＡ２、ＬＢ２、ＬＣ２及びＬＤ２は、それぞれ独立に、単結合、又は置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜１２のアリーレン基である。
【０３１７】
一実施形態においては、ＬＣ１が単結合である。
【０３１８】
一実施形態においては、ＬＣ１１が単結合である。
【０３１９】
一実施形態においては、ＬＣ１がフェニレン基である。
【０３２０】
一実施形態においては、Ａ１及びＡ２が、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜１２のアリール基である。
【０３２１】
一実施形態においては、Ａ１及びＡ２が、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のビフェニル基、又は置換もしくは無置換のナフチル基である。
【０３２２】
一実施形態においては、Ａ１及びＡ２が、無置換のフェニル基、無置換のビフェニル基、又は無置換のナフチル基である。
【０３２３】
一実施形態においては、Ｂ１及びＢ２が、置換もしくは無置換の環形成炭素数６〜１２のアリール基である。
【０３２４】
一実施形態においては、Ｂ１及びＢ２が、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のビフェニル基、又は置換もしくは無置換のナフチル基である。
【０３２５】
一実施形態においては、Ｂ１及びＢ２が、無置換のフェニル基、無置換のビフェニル基、又は無置換のナフチル基である。
【０３２６】
・第二の化合物の製造方法
本実施形態に係る第二の化合物は、公知の方法により製造でき、又は当該方法に倣い、目的物に合わせた既知の代替反応及び原料を用いることで、製造できる。
【０３２７】
・第二の化合物の具体例
本実施形態に係る第二の化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。ただし、本発明は、これら具体例に限定されない。
【０３２８】
【化１１５】
0006831950.tif 000116
【０３２９】
【化１１６】
0006831950.tif 000117
【０３３０】
【化１１７】
0006831950.tif 000118
【０３３１】
【化１１８】
0006831950.tif 000119
【０３３２】
【化１１９】
0006831950.tif 000120
【０３３３】
【化１２０】
0006831950.tif 000121
【０３３４】
【化１２１】
0006831950.tif 000122
【０３３５】
【化１２２】
0006831950.tif 000123
【０３３６】
【化１２３】
0006831950.tif 000124
【０３３７】
【化１２４】
0006831950.tif 000125
【０３３８】
【化１２５】
0006831950.tif 000126
【０３３９】
【化１２６】
0006831950.tif 000127
【０３４０】
【化１２７】
0006831950.tif 000128
【０３４１】
【化１２８】
0006831950.tif 000129
【０３４２】
【化１２９】
0006831950.tif 000130
【０３４３】
【化１３０】
0006831950.tif 000131
【０３４４】
【化１３１】
0006831950.tif 000132
【０３４５】
【化１３２】
0006831950.tif 000133
【０３４６】
【化１３３】
0006831950.tif 000134
【０３４７】
【化１３４】
0006831950.tif 000135
【０３４８】
【化１３５】
0006831950.tif 000136
【０３４９】
【化１３６】
0006831950.tif 000137
【０３５０】
【化１３７】
0006831950.tif 000138
【０３５１】
【化１３８】
0006831950.tif 000139
【０３５２】
【化１３９】
0006831950.tif 000140
【０３５３】
【化１４０】
0006831950.tif 000141
【０３５４】
【化１４１】
0006831950.tif 000142
【０３５５】
【化１４２】
0006831950.tif 000143
【０３５６】
【化１４３】
0006831950.tif 000144
【０３５７】
【化１４４】
0006831950.tif 000145
【０３５８】
【化１４５】
0006831950.tif 000146
【０３５９】
【化１４６】
0006831950.tif 000147
【０３６０】
【化１４７】
0006831950.tif 000148
【０３６１】
【化１４８】
0006831950.tif 000149
【０３６２】
【化１４９】
0006831950.tif 000150
【０３６３】
【化１５０】
0006831950.tif 000151
【０３６４】
【化１５１】
0006831950.tif 000152
【０３６５】
【化１５２】
0006831950.tif 000153
【０３６６】
【化１５３】
0006831950.tif 000154
【０３６７】
【化１５４】
0006831950.tif 000155
【０３６８】
【化１５５】
0006831950.tif 000156
【０３６９】
【化１５６】
0006831950.tif 000157
【０３７０】
【化１５７】
0006831950.tif 000158
【０３７１】
【化１５８】
0006831950.tif 000159
【０３７２】
【化１５９】
0006831950.tif 000160
【０３７３】
【化１６０】
0006831950.tif 000161
【０３７４】
【化１６１】
0006831950.tif 000162
【０３７５】
【化１６２】
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【０３７６】
【化１６３】
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【０３７７】
【化１６４】
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【０３７８】
【化１６５】
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【０３７９】
【化１６６】
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【０３８０】
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【０３９０】
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【０３９１】
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【０３９３】
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【０３９９】
【化１８６】
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【０４００】
【化１８７】
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【０４０１】
【化１８８】
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【０４０２】
【化１８９】
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【０４０３】
【化１９０】
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【０４０４】
【化１９１】
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【０４０５】
【化１９２】
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【０４０６】
【化１９３】
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【０４０７】
【化１９４】
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【０４０８】
【化１９５】
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【０４０９】
【化１９６】
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【０４１０】
【化１９７】
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【０４１１】
【化１９８】
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【０４１２】
〔第二実施形態〕
（有機エレクトロルミネッセンス素子）
本発明の第二実施形態に係る有機ＥＬ素子について説明する。
本実施形態に係る有機ＥＬ素子は、陽極および陰極の両電極間に有機層を備える。この有機層は、有機化合物で構成される層を少なくとも一つ含む。あるいは、この有機層は、有機化合物で構成される複数の層が積層されてなる。有機層は、無機化合物をさらに含んでいてもよい。
【０４１３】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、有機層は、第一の化合物及び第二の化合物を含有する。本実施形態に係る有機ＥＬ素子は、有機層として第一の有機層を有する。第一の有機層が、第一実施形態に係る第一の化合物及び第二の化合物を含むことが好ましい。
【０４１４】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、第一の化合物は、前記一般式（１４１）又は一般式（１４５１）で表される化合物であり、第二の化合物は、前記一般式（２２）で表される化合物であることも好ましい。
【０４１５】
本実施形態において、第一の有機層中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＷＴと、前記第二の化合物の質量Ｗ２とが、下記数式（数２）の関係を満たす。
０．１≦（Ｗ２／ＷＴ）×１００…（数２）
【０４１６】
本実施形態において、第一の有機層中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＷＴと、前記第二の化合物の質量Ｗ２とが、下記数式（数２Ａ）の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦（Ｗ２／ＷＴ）×１００≦２０．０…（数２Ａ）
【０４１７】
本実施形態において、第一の有機層中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＷＴと、前記第二の化合物の質量Ｗ２とが、下記数式（数２Ｂ）の関係を満たすことがさらに好ましい。
０．１≦（Ｗ２／ＷＴ）×１００≦１０．０…（数２Ｂ）
【０４１８】
本実施形態において、第一の有機層中、第一の化合物及び第二の化合物の合計質量ＷＴと、前記第二の化合物の質量Ｗ２とが、下記数式（数２Ｃ）の関係を満たすことがよりさらに好ましい。
０．５≦（Ｗ２／ＷＴ）×１００≦１０．０…（数２Ｃ）
【０４１９】
本実施形態の有機ＥＬ素子において、有機層のうち少なくとも一層は、発光層である。有機層は、例えば、一つの発光層で構成されていてもよいし、有機ＥＬ素子に採用され得る層を含んでいてもよい。有機ＥＬ素子に採用され得る層としては、特に限定されないが、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層及び障壁層からなる群から選択される少なくともいずれかの層が挙げられる。
【０４２０】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、有機層は、第一の化合物及び第二の化合物を含有する第一の有機層と、発光層と、を含むことが好ましい。
発光層は、第一の有機層と陰極との間に配置されていることが好ましい。
発光層は、第一の有機層と陽極との間に配置されていないことが好ましい。
【０４２１】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、有機層は、陽極と前記発光層との間に配置された、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくともいずれかを含むことが好ましい。
正孔注入層又は正孔輸送層が、第一の化合物及び第二の化合物を含有することが好ましい。
【０４２２】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子は、第一の有機層が、正孔注入層であることが好ましい。本実施形態に係る有機ＥＬ素子は、陽極と陰極との間に含まれる発光層と、発光層と陽極との間に含まれる正孔注入層と、を有する。正孔注入層が第一実施形態に係る第一の化合物及び第二の化合物を含む場合であっても、正孔注入層以外の有機層が第一実施形態に係る第一の化合物及び第二の化合物の少なくともいずれかを含有してもよい。
【０４２３】
図１に、本実施形態に係る有機ＥＬ素子の一例の概略構成を示す。
有機ＥＬ素子１は、透光性の基板２と、陽極３と、陰極４と、陽極３と陰極４との間に配置された有機層１０と、を含む。有機層１０は、陽極３側から順に、正孔注入層６、正孔輸送層７、発光層５、電子輸送層８、および電子注入層９が、この順番で積層されて構成される。
本発明は、図１に示す有機ＥＬ素子の構成に限定されない。
【０４２４】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成についてさらに説明する。以下、符号の記載は省略することがある。
【０４２５】
（基板）
基板は、有機ＥＬ素子の支持体として用いられる。基板としては、例えば、ガラス、石英及びプラスチック等を用いることができる。また、可撓性基板を用いてもよい。可撓性基板とは、折り曲げることができる（フレキシブル）基板のことであり、例えば、プラスチック基板等が挙げられる。プラスチック基板を形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリイミド及びポリエチレンナフタレート等が挙げられる。また、無機蒸着フィルムを用いることもできる。
【０４２６】
（陽極）
基板上に形成される陽極には、仕事関数の大きい（具体的には４．０ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることが好ましい。具体的には、例えば、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、珪素もしくは酸化珪素を含有した酸化インジウム−酸化スズ、酸化インジウム−酸化亜鉛、酸化タングステン、および酸化亜鉛を含有した酸化インジウム、グラフェン等が挙げられる。この他、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、チタン（Ｔｉ）、または金属材料の窒化物（例えば、窒化チタン）等が挙げられる。
【０４２７】
これらの材料は、通常、スパッタリング法により成膜される。例えば、酸化インジウム−酸化亜鉛は、酸化インジウムに対し１質量％以上１０質量％以下の酸化亜鉛を加えたターゲットを用いることにより、スパッタリング法で形成することができる。また、例えば、酸化タングステン、および酸化亜鉛を含有した酸化インジウムは、酸化インジウムに対し酸化タングステンを０．５質量％以上５質量％以下、酸化亜鉛を０．１質量％以上１質量％以下含有したターゲットを用いることにより、スパッタリング法で形成することができる。その他、真空蒸着法、塗布法、インクジェット法、スピンコート法などにより作製してもよい。
【０４２８】
陽極上に形成されるＥＬ層のうち、陽極に接して形成される正孔注入層は、陽極の仕事関数に関係なく正孔（ホール）注入が容易である複合材料を用いて形成されるため、電極材料として可能な材料（例えば、金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物、その他、元素周期表の第１族または第２族に属する元素も含む）を用いることができる。
【０４２９】
仕事関数の小さい材料である、元素周期表の第１族または第２族に属する元素、すなわちリチウム（Ｌｉ）やセシウム（Ｃｓ）等のアルカリ金属、およびマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金（例えば、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、イッテルビウム（Ｙｂ）等の希土類金属およびこれらを含む合金等を用いることもできる。なお、アルカリ金属、アルカリ土類金属、およびこれらを含む合金を用いて陽極を形成する場合には、真空蒸着法やスパッタリング法を用いることができる。さらに、銀ペーストなどを用いる場合には、塗布法やインクジェット法などを用いることができる。
【０４３０】
（陰極）
陰極には、仕事関数の小さい（具体的には３．８ｅＶ以下）金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることが好ましい。このような陰極材料の具体例としては、元素周期表の第１族または第２族に属する元素、すなわちリチウム（Ｌｉ）やセシウム（Ｃｓ）等のアルカリ金属、およびマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金（例えば、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、イッテルビウム（Ｙｂ）等の希土類金属およびこれらを含む合金等が挙げられる。
【０４３１】
なお、アルカリ金属、アルカリ土類金属、これらを含む合金を用いて陰極を形成する場合には、真空蒸着法やスパッタリング法を用いることができる。また、銀ペーストなどを用いる場合には、塗布法やインクジェット法などを用いることができる。
【０４３２】
なお、電子注入層を設けることにより、仕事関数の大小に関わらず、Ａｌ、Ａｇ、ＩＴＯ、グラフェン、珪素もしくは酸化珪素を含有した酸化インジウム−酸化スズ等様々な導電性材料を用いて陰極を形成することができる。これらの導電性材料は、スパッタリング法やインクジェット法、スピンコート法等を用いて成膜することができる。
【０４３３】
（正孔注入層）
本実施形態に係る有機ＥＬ素子は、複数の正孔注入層を有していてもよい。本実施形態の有機ＥＬ素子においては、少なくとも１つの正孔注入層が、第一の化合物及び第二の化合物を含み、前記数式（数２）、（数２Ａ）、（数２Ｂ）又は（数２Ｃ）の関係を満たせばよく、他の正孔注入層は、正孔注入性の高い物質を含む層であればよい。正孔注入性の高い物質としては、モリブデン酸化物、チタン酸化物、バナジウム酸化物、レニウム酸化物、ルテニウム酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、銀酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物等を用いることができる。
なお、有機ＥＬ素子中の正孔注入層が複数の化合物を含む場合、それらの化合物の定量は、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を用いて行うことができる。
正孔注入層に含まれる複数の化合物それぞれについて、単体の膜におけるＴＯＦ−ＳＩＭＳの分子イオンのシグナル強度を測定し、有機ＥＬ素子中の正孔注入層をスパッタリングガンにより露出させＴＯＦ−ＳＩＭＳにおける分子イオンのシグナル強度と比較することで、質量比を算出することができる。
【０４３４】
また、正孔注入性の高い物質としては、低分子の有機化合物である４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン（略称：ＴＤＡＴＡ）、４，４’，４’’−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン（略称：ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’−ビス［Ｎ−（４−ジフェニルアミノフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＤＰＡＢ）、４，４’−ビス（Ｎ−｛４−［Ｎ’−（３−メチルフェニル）−Ｎ’−フェニルアミノ］フェニル｝−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニル（略称：ＤＮＴＰＤ）、１，３，５−トリス［Ｎ−（４−ジフェニルアミノフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］ベンゼン（略称：ＤＰＡ３Ｂ）、３−［Ｎ−（９−フェニルカルバゾール−３−イル）−Ｎ−フェニルアミノ］−９−フェニルカルバゾール（略称：ＰＣｚＰＣＡ１）、３，６−ビス［Ｎ−（９−フェニルカルバゾール−３−イル）−Ｎ−フェニルアミノ］−９−フェニルカルバゾール（略称：ＰＣｚＰＣＡ２）、３−［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−（９−フェニルカルバゾール−３−イル）アミノ］−９−フェニルカルバゾール（略称：ＰＣｚＰＣＮ１）等の芳香族アミン化合物等やジピラジノ［２，３−ｆ：２０，３０−ｈ］キノキサリン−２，３，６，７，１０，１１−ヘキサカルボニトリル（ＨＡＴ−ＣＮ）も挙げられる。
【０４３５】
また、正孔注入性の高い物質としては、高分子化合物（オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等）を用いることもできる。例えば、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（略称：ＰＶＫ）、ポリ（４−ビニルトリフェニルアミン）（略称：ＰＶＴＰＡ）、ポリ［Ｎ−（４−｛Ｎ’−［４−（４−ジフェニルアミノ）フェニル］フェニル−Ｎ’−フェニルアミノ｝フェニル）メタクリルアミド］（略称：ＰＴＰＤＭＡ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニル）ベンジジン］（略称：Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）などの高分子化合物が挙げられる。また、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＡｎｉ／ＰＳＳ）等の酸を添加した高分子化合物を用いることもできる。
【０４３６】
（正孔輸送層）
正孔輸送層は、正孔輸送性の高い物質を含む層である。正孔輸送層には、芳香族アミン化合物、カルバゾール誘導体、アントラセン誘導体等を使用する事ができる。具体的には、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＮＰＢ）やＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（略称：ＴＰＤ）、４−フェニル−４’−（９−フェニルフルオレン−９−イル）トリフェニルアミン（略称：ＢＡＦＬＰ）、４，４’−ビス［Ｎ−（９，９−ジメチルフルオレン−２−イル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＤＦＬＤＰＢｉ）、４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン（略称：ＴＤＡＴＡ）、４，４’，４’’−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン（略称：ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’−ビス［Ｎ−（スピロ−９，９’−ビフルオレン−２−イル）−Ｎ―フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＢＳＰＢ）などの芳香族アミン化合物等を用いることができる。ここに述べた物質は、主に１０−６ｃｍ２／（Ｖ・ｓ）以上の正孔移動度を有する物質である。
【０４３７】
正孔輸送層には、ＣＢＰ、９−［４−（Ｎ−カルバゾリル）］フェニル−１０−フェニルアントラセン（ＣｚＰＡ）、９−フェニル−３−［４−（１０−フェニル−９−アントリル）フェニル］−９Ｈ−カルバゾール（ＰＣｚＰＡ）のようなカルバゾール誘導体や、ｔ−ＢｕＤＮＡ、ＤＮＡ、ＤＰＡｎｔｈのようなアントラセン誘導体を用いても良い。ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（略称：ＰＶＫ）やポリ（４−ビニルトリフェニルアミン）（略称：ＰＶＴＰＡ）等の高分子化合物を用いることもできる。
【０４３８】
但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。なお、正孔輸送性の高い物質を含む層は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が二層以上積層したものとしてもよい。
【０４３９】
（発光層のゲスト材料）
発光層は、発光性の高い物質を含む層であり、種々の材料を用いることができる。例えば、発光性の高い物質としては、蛍光を発光する蛍光性化合物又は燐光を発光する燐光性化合物を用いることができる。蛍光性化合物は、一重項励起状態から発光可能な化合物であり、燐光性化合物は三重項励起状態から発光可能な化合物である。
ゲスト材料は、ドーパント材料、エミッター又は発光材料と称する場合もある。
【０４４０】
発光層に用いることができる青色系の蛍光発光材料として、ピレン誘導体、スチリルアミン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、フルオレン誘導体、ジアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体等が使用できる。具体的には、Ｎ，Ｎ’−ビス［４−（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）フェニル］−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルスチルベン−４，４’−ジアミン（略称：ＹＧＡ２Ｓ）、４−（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）−４’−（１０−フェニル−９−アントリル）トリフェニルアミン（略称：ＹＧＡＰＡ）、４−（１０−フェニル−９−アントリル）−４’−（９−フェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）トリフェニルアミン（略称：ＰＣＢＡＰＡ）などが挙げられる。
【０４４１】
発光層に用いることができる緑色系の蛍光発光材料として、芳香族アミン誘導体等を使用できる。具体的には、Ｎ−（９，１０−ジフェニル−２−アントリル）−Ｎ，９−ジフェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：２ＰＣＡＰＡ）、Ｎ−［９，１０−ビス（１，１’−ビフェニル−２−イル）−２−アントリル］−Ｎ，９−ジフェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：２ＰＣＡＢＰｈＡ）、Ｎ−（９，１０−ジフェニル−２−アントリル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリフェニル−１，４−フェニレンジアミン（略称：２ＤＰＡＰＡ）、Ｎ−［９，１０−ビス（１，１’−ビフェニル−２−イル）−２−アントリル］−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリフェニル−１，４−フェニレンジアミン（略称：２ＤＰＡＢＰｈＡ）、Ｎ−［９，１０−ビス（１，１’−ビフェニル−２−イル）］−Ｎ−［４−（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）フェニル］−Ｎ−フェニルアントラセン−２−アミン（略称：２ＹＧＡＢＰｈＡ）、Ｎ，Ｎ，９−トリフェニルアントラセン−９−アミン（略称：ＤＰｈＡＰｈＡ）などが挙げられる。
【０４４２】
発光層に用いることができる赤色系の蛍光発光材料として、テトラセン誘導体、ジアミン誘導体等が使用できる。具体的には、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メチルフェニル）テトラセン−５，１１−ジアミン（略称：ｐ−ｍＰｈＴＤ）、７，１４−ジフェニル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メチルフェニル）アセナフト［１，２−ａ］フルオランテン−３，１０−ジアミン（略称：ｐ−ｍＰｈＡＦＤ）などが挙げられる。
【０４４３】
発光層に用いることができる青色系の燐光発光材料として、イリジウム錯体、オスミウム錯体、白金錯体等の金属錯体が使用される。具体的には、ビス［２−（４’，６’−ジフルオロフェニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム（ＩＩＩ）テトラキス（１−ピラゾリル）ボラート（略称：ＦＩｒ６）、ビス［２−（４’，６’−ジフルオロフェニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム（ＩＩＩ）ピコリナート（略称：ＦＩｒｐｉｃ）、ビス［２−（３’，５’ビストリフルオロメチルフェニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム（ＩＩＩ）ピコリナート（略称：Ｉｒ（ＣＦ３ｐｐｙ）２（ｐｉｃ））、ビス［２−（４’，６’−ジフルオロフェニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：ＦＩｒａｃａｃ）などが挙げられる。
【０４４４】
発光層に用いることができる緑色系の燐光発光材料として、イリジウム錯体等が使用される。トリス（２−フェニルピリジナト−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（ＩＩＩ）（略称：Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、ビス（２−フェニルピリジナト−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：Ｉｒ（ｐｐｙ）２（ａｃａｃ））、ビス（１，２−ジフェニル−１Ｈ−ベンゾイミダゾラト）イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：Ｉｒ（ｐｂｉ）２（ａｃａｃ））、ビス（ベンゾ［ｈ］キノリナト）イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：Ｉｒ（ｂｚｑ）２（ａｃａｃ））などが挙げられる。
【０４４５】
発光層に用いることができる赤色系の燐光発光材料として、イリジウム錯体、白金錯体、テルビウム錯体、ユーロピウム錯体等の金属錯体が使用される。具体的には、ビス［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ３’］イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：Ｉｒ（ｂｔｐ）２（ａｃａｃ））、ビス（１−フェニルイソキノリナト−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：Ｉｒ（ｐｉｑ）２（ａｃａｃ））、（アセチルアセトナト）ビス［２，３−ビス（４−フルオロフェニル）キノキサリナト］イリジウム（ＩＩＩ）（略称：Ｉｒ（Ｆｄｐｑ）２（ａｃａｃ））、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン白金（ＩＩ）（略称：ＰｔＯＥＰ）等の有機金属錯体が挙げられる。
また、トリス（アセチルアセトナト）（モノフェナントロリン）テルビウム（ＩＩＩ）（略称：Ｔｂ（ａｃａｃ）３（Ｐｈｅｎ））、トリス（１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオナト）（モノフェナントロリン）ユーロピウム（ＩＩＩ）（略称：Ｅｕ（ＤＢＭ）３（Ｐｈｅｎ））、トリス［１−（２−テノイル）−３，３，３−トリフルオロアセトナト］（モノフェナントロリン）ユーロピウム（ＩＩＩ）（略称：Ｅｕ（ＴＴＡ）３（Ｐｈｅｎ））等の希土類金属錯体は、希土類金属イオンからの発光（異なる多重度間の電子遷移）であるため、燐光性化合物として用いることができる。
【０４４６】
（発光層のホスト材料）
発光層としては、上述した発光性の高い物質（ゲスト材料）を他の物質（ホスト材料）に分散させた構成としてもよい。ホスト材料は、マトリックス材料と称する場合もある。
発光性の高い物質を分散させるための物質としては、各種のものを用いることができ、発光性の高い物質よりも最低空軌道準位（ＬＵＭＯ準位）が高く、最高被占有軌道準位（ＨＯＭＯ準位）が低い物質を用いることが好ましい。
発光性の高い物質を分散させるための物質（ホスト材料）としては、（１）アルミニウム錯体、ベリリウム錯体、若しくは亜鉛錯体等の金属錯体、（２）オキサジアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、若しくはフェナントロリン誘導体等の複素環化合物、（３）カルバゾール誘導体、アントラセン誘導体、フェナントレン誘導体、ピレン誘導体、若しくはクリセン誘導体等の縮合芳香族化合物、（４）トリアリールアミン誘導体、若しくは縮合多環芳香族アミン誘導体等の芳香族アミン化合物が使用される。具体的には、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（ＩＩＩ）（略称：Ａｌｑ）、トリス（４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム（ＩＩＩ）（略称：Ａｌｍｑ３）、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）ベリリウム（ＩＩ）（略称：ＢｅＢｑ２）、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（４−フェニルフェノラト）アルミニウム（ＩＩＩ）（略称：ＢＡｌｑ）、ビス（８−キノリノラト）亜鉛（ＩＩ）（略称：Ｚｎｑ）、ビス［２−（２−ベンゾオキサゾリル）フェノラト］亜鉛（ＩＩ）（略称：ＺｎＰＢＯ）、ビス［２−（２−ベンゾチアゾリル）フェノラト］亜鉛（ＩＩ）（略称：ＺｎＢＴＺ）などの金属錯体、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（略称：ＰＢＤ）、１，３−ビス［５−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル］ベンゼン（略称：ＯＸＤ−７）、３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（略称：ＴＡＺ）、２，２’，２’’−（１，３，５−ベンゼントリイル）トリス（１−フェニル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール）（略称：ＴＰＢＩ）、バソフェナントロリン（略称：ＢＰｈｅｎ）、バソキュプロイン（略称：ＢＣＰ）などの複素環化合物や、９−［４−（１０−フェニル−９−アントリル）フェニル］−９Ｈ−カルバゾール（略称：ＣｚＰＡ）、３，６−ジフェニル−９−［４−（１０−フェニル−９−アントリル）フェニル］−９Ｈ−カルバゾール（略称：ＤＰＣｚＰＡ）、９，１０−ビス（３，５−ジフェニルフェニル）アントラセン（略称：ＤＰＰＡ）、９，１０−ジ（２−ナフチル）アントラセン（略称：ＤＮＡ）、２−ｔｅｒｔ−ブチル−９，１０−ジ（２−ナフチル）アントラセン（略称：ｔ−ＢｕＤＮＡ）、９，９’−ビアントリル（略称：ＢＡＮＴ）、９，９’−（スチルベン−３，３’−ジイル）ジフェナントレン（略称：ＤＰＮＳ）、９，９’−（スチルベン−４，４’−ジイル）ジフェナントレン（略称：ＤＰＮＳ２）、３，３’，３’’−（ベンゼン−１，３，５−トリイル）トリピレン（略称：ＴＰＢ３）、９，１０−ジフェニルアントラセン（略称：ＤＰＡｎｔｈ）、６，１２−ジメトキシ−５，１１−ジフェニルクリセンなどの縮合芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジフェニル−９−［４−（１０−フェニル−９−アントリル）フェニル］−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：ＣｚＡ１ＰＡ）、４−（１０−フェニル−９−アントリル）トリフェニルアミン（略称：ＤＰｈＰＡ）、Ｎ，９−ジフェニル−Ｎ−［４−（１０−フェニル−９−アントリル）フェニル］−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：ＰＣＡＰＡ）、Ｎ，９−ジフェニル−Ｎ−｛４−［４−（１０−フェニル−９−アントリル）フェニル］フェニル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：ＰＣＡＰＢＡ）、Ｎ−（９，１０−ジフェニル−２−アントリル）−Ｎ，９−ジフェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：２ＰＣＡＰＡ）、ＮＰＢ（またはα−ＮＰＤ）、ＴＰＤ、ＤＦＬＤＰＢｉ、ＢＳＰＢなどの芳香族アミン化合物などを用いることができる。また、発光性の高い物質（ゲスト材料）を分散させるための物質（ホスト材料）は複数種用いることができる。
【０４４７】
（電子輸送層）
電子輸送層は、電子輸送性の高い物質を含む層である。電子輸送層には、１）アルミニウム錯体、ベリリウム錯体、亜鉛錯体等の金属錯体、２）イミダゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、アジン誘導体、カルバゾール誘導体、フェナントロリン誘導体等の複素芳香族化合物、３）高分子化合物を使用することができる。具体的には低分子の有機化合物として、Ａｌｑ、トリス（４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム（略称：Ａｌｍｑ３）、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）ベリリウム（略称：ＢｅＢｑ２）、ＢＡｌｑ、Ｚｎｑ、ＺｎＰＢＯ、ＺｎＢＴＺなどの金属錯体等を用いることができる。また、金属錯体以外にも、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（略称：ＰＢＤ）、１，３−ビス［５−（ｐｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル］ベンゼン（略称：ＯＸＤ−７）、３−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−５−（４−ビフェニリル）−１，２，４−トリアゾール（略称：ＴＡＺ）、３−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−（４−エチルフェニル）−５−（４−ビフェニリル）−１，２，４−トリアゾール（略称：ｐ−ＥｔＴＡＺ）、バソフェナントロリン（略称：ＢＰｈｅｎ）、バソキュプロイン（略称：ＢＣＰ）、４，４’−ビス（５−メチルベンゾオキサゾール−２−イル）スチルベン（略称：ＢｚＯｓ）などの複素芳香族化合物も用いることができる。本実施態様においては、ベンゾイミダゾール化合物を好適に用いることができる。ここに述べた物質は、主に１０−６ｃｍ２／（Ｖ・ｓ）以上の電子移動度を有する物質である。なお、正孔輸送性よりも電子輸送性の高い物質であれば、上記以外の物質を電子輸送層として用いてもよい。また、電子輸送層は、単層で構成されていてもよいし、上記物質からなる層が二層以上積層されて構成されていてもよい。
【０４４８】
また、電子輸送層には、高分子化合物を用いることもできる。例えば、ポリ［（９，９−ジヘキシルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（ピリジン−３，５−ジイル）］（略称：ＰＦ−Ｐｙ）、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（２，２’−ビピリジン−６，６’−ジイル）］（略称：ＰＦ−ＢＰｙ）などを用いることができる。
【０４４９】
（電子注入層）
電子注入層は、電子注入性の高い物質を含む層である。電子注入層には、リチウム（Ｌｉ）、セシウム（Ｃｓ）、カルシウム（Ｃａ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化セシウム（ＣｓＦ）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、リチウム酸化物（ＬｉＯｘ）等のようなアルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらの化合物を用いることができる。その他、電子輸送性を有する物質にアルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらの化合物を含有させたもの、具体的にはＡｌｑ中にマグネシウム（Ｍｇ）を含有させたもの等を用いてもよい。なお、この場合には、陰極からの電子注入をより効率良く行うことができる。
【０４５０】
あるいは、電子注入層に、有機化合物と電子供与体（ドナー）とを混合してなる複合材料を用いてもよい。このような複合材料は、電子供与体によって有機化合物に電子が発生するため、電子注入性および電子輸送性に優れている。この場合、有機化合物としては、発生した電子の輸送に優れた材料であることが好ましく、具体的には、例えば上述した電子輸送層を構成する物質（金属錯体や複素芳香族化合物等）を用いることができる。電子供与体としては、有機化合物に対し電子供与性を示す物質であればよい。具体的には、アルカリ金属やアルカリ土類金属や希土類金属が好ましく、リチウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、エルビウム、イッテルビウム等が挙げられる。また、アルカリ金属酸化物やアルカリ土類金属酸化物が好ましく、リチウム酸化物、カルシウム酸化物、バリウム酸化物等が挙げられる。また、酸化マグネシウムのようなルイス塩基を用いることもできる。また、テトラチアフルバレン（略称：ＴＴＦ）等の有機化合物を用いることもできる。
【０４５１】
（層形成方法）
本実施形態の有機ＥＬ素子の各層の形成方法としては、第一の化合物及び第二の化合物を含有する第一の有機層については、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ法及びイオンプレーティング法等の乾式成膜法で形成する。
その他の層の形成方法は、上記で特に言及した以外には制限されないが、前述の乾式成膜法、又は、スピンコーティング法、ディッピング法、フローコーティング法及びインクジェット法などの湿式成膜法などの公知の方法を採用することができる。
【０４５２】
（膜厚）
本実施形態の有機ＥＬ素子の各有機層の膜厚は、上記で特に言及した場合を除いて限定されない。一般に、膜厚が薄すぎるとピンホール等の欠陥が生じやすく、膜厚が厚すぎると高い印加電圧が必要となり効率が悪くなるため、通常、有機ＥＬ素子の各有機層の膜厚は、数ｎｍから１μｍの範囲が好ましい。
第一実施形態に係る第一の化合物及び第二の化合物を含む第一の有機層の膜厚は、１ｎｍ以上、３０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上、１５ｎｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以上、１２ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【０４５３】
（電子機器）
本実施形態に係る電子機器は、本実施形態に係る有機ＥＬ素子を搭載していることが好ましい。電子機器としては、例えば、表示装置及び発光装置が挙げられる。
表示装置としては、例えば、表示部品（例えば、有機ＥＬパネルモジュール等）、テレビ、携帯電話、タブレット及びパーソナルコンピュータ等が挙げられる。発光装置としては、例えば、照明及び車両用灯具等が挙げられる。
【０４５４】
〔実施形態の変形〕
なお、本発明は、上述の実施形態に限定されず、本発明の目的を達成できる範囲での変更、改良等は、本発明に含まれる。
【０４５５】
例えば、前記実施形態に係る混合物は、第一の化合物及び第二の化合物以外の第三の化合物を含んでいてもよい。
【０４５６】
例えば、発光層は、１層に限られず、複数の発光層が積層されていてもよい。有機ＥＬ素子が複数の有機層を有する場合、少なくとも１つの有機層が、第一の化合物及び第二の化合物を含み、第二実施形態で説明した条件を満たしていればよい。
また、有機ＥＬ素子が複数の発光層を有する場合、これらの発光層が互いに隣接して設けられていてもよいし、中間層を介して複数の発光ユニットが積層された、いわゆるタンデム型の有機ＥＬ素子であってもよい。
【０４５７】
また、例えば、発光層の陽極側及び陰極側の少なくとも一方に障壁層を隣接させて設けてもよい。障壁層は、発光層に接して配置され、正孔、電子及び励起子の少なくともいずれかを阻止することが好ましい。
例えば、発光層の陰極側で接して障壁層が配置された場合、当該障壁層は、電子を輸送し、かつ正孔が当該障壁層よりも陰極側の層（例えば、電子輸送層）に到達することを阻止する。有機ＥＬ素子が、電子輸送層を含む場合は、発光層と電子輸送層との間に当該障壁層を含むことが好ましい。
また、発光層の陽極側で接して障壁層が配置された場合、当該障壁層は、正孔を輸送し、かつ電子が当該障壁層よりも陽極側の層（例えば、正孔輸送層）に到達することを阻止する。有機ＥＬ素子が、正孔輸送層を含む場合は、発光層と正孔輸送層との間に当該障壁層を含むことが好ましい。
また、励起エネルギーが発光層からその周辺層に漏れ出さないように、障壁層を発光層に隣接させて設けてもよい。発光層で生成した励起子が、当該障壁層よりも電極側の層（例えば、電子輸送層及び正孔輸送層等）に移動することを阻止する。
発光層と障壁層とは接合していることが好ましい。
【０４５８】
その他、本発明の実施における具体的な構造及び形状等は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。
【実施例】
【０４５９】
以下、本発明に係る実施例を説明する。本発明はこれらの実施例によって何ら限定されない。【０４６０】
＜化合物＞
実施例１〜３９で用いた前記第一の化合物の構造を以下に示す。【０４６１】
【化１９９】
0006831950.tif 000200
【０４６２】
【化２００】
0006831950.tif 000201
【０４６３】
実施例１〜３９で用いた前記第二の化合物の構造を以下に示す。【０４６４】
【化２０１】
0006831950.tif 000202
【０４６５】
【化２０２】
0006831950.tif 000203
【０４６６】
【化２０３】
0006831950.tif 000204
【０４６７】
実施例及び比較例に係る有機ＥＬ素子の製造に用いた、他の化合物の構造を以下に示す。【０４６８】
【化２０４】
0006831950.tif 000205
【０４６９】
【化２０５】
0006831950.tif 000206
【０４７０】
【化２０６】
0006831950.tif 000207
【０４７１】
【化２０７】
0006831950.tif 000208
【０４７２】
＜有機層の成膜及び断面ＳＥＭ観察１＞
（実施例１）
・材料の単膜成膜
実施例１に係る混合物を用いて、次のようにして有機層を成膜した。
基材として、表面をＵＶ洗浄したガラス基板を用意した。
坩堝に、第一の化合物としての化合物ＨＩ−１及び第二の化合物としての化合物ＨＴ−１を含む実施例１に係る混合物を２００ｍｇ入れた。実施例１に係る混合物中、第二の化合物の質量Ｍ２が２ｍｇであり、第一の化合物の質量Ｍ１が１９８ｍｇであり、（Ｍ２／ＭＴ）×１００＝１であり、前記数式（数１）を満たしていた。
真空蒸着装置を用いて実施例１に係る混合物を、基材の洗浄処理面側に成膜した。
成膜した有機層の断面をＳＥＭで観察した。
図２Ａには、実施例１に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４７３】
・ＳＥＭ観察
上記で作製した有機層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（型番：日立ハイテクノロジーズ製ＳＵ８２２０、観察加速電圧１ｋＶ）により観察した。【０４７４】
（実施例２）
実施例２では、混合物中の第二の化合物として、化合物ＨＴ−１に代えて化合物ＨＴ−２を用いたこと以外、実施例１と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図３Ａには、実施例２に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４７５】
（実施例３）
実施例３では、混合物中の第二の化合物として、化合物ＨＴ−１に代えて化合物ＨＴ−３を用いたこと以外、実施例１と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図３Ｂには、実施例３に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４７６】
（比較例１）
比較例１では、混合物ではなく、第一の化合物としての化合物ＨＩ−１だけを２００ｍｇ坩堝に入れたこと以外、実施例１と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図２Ｂには、比較例１に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４７７】
比較例１に係る有機層は、第一の化合物の単独材料により成膜した結果、図２Ｂの断面ＳＥＭ像が示すように、基材上に嵩高く結晶成長していた。比較例１に対して、第一の化合物（化合物ＨＩ−１）に第二の化合物（化合物ＨＴ−１、ＨＴ−２又はＨＴ−３）を少量（１質量％）混合した混合物を用いて成膜すると、図２Ａ、図３Ａ及び図３Ｂの断面ＳＥＭ像が示すように、緻密で嵩高さが抑制された有機層が成膜されたことが確認された。【０４７８】
＜有機エレクトロルミネッセンス素子の作製１＞
有機エレクトロルミネッセンス素子を以下のように作製し、評価した。【０４７９】
（実施例４）
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄を行った後、ＵＶオゾン洗浄を１分間行った。ＩＴＯの膜厚は、６５ｎｍとした。
洗浄後の透明電極ライン付き前記ガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、第一の化合物としての化合物ＨＩ−１と、第二の化合物としての化合物ＨＴ−１とを、９５質量％：５質量％の比率で含有する混合物を用いて共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。
次に、正孔注入層上に、化合物ＨＴ−１を蒸着し、膜厚３５ｎｍの正孔輸送層を形成した。
次に、この正孔輸送層上に、化合物ＨＴ−２を蒸着し、膜厚１０ｎｍの電子障壁層を形成した。
次に、この電子障壁層上に、化合物ＢＨと、化合物ＢＤと、を共蒸着し、膜厚２５ｎｍの発光層を形成した。発光層における化合物ＢＨの濃度を９６質量％とし、化合物ＢＤの濃度を４質量％とした。
次に、この発光層上に、化合物ＥＴ−１を蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔障壁層を形成した。
次に、この正孔障壁層上に、化合物ＥＴ−２を蒸着し、膜厚５ｎｍの電子輸送層を形成した。
次に、この電子輸送層上に、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を蒸着し、膜厚１ｎｍの電子注入性電極（陰極）を形成した。
そして、この電子注入性電極上に、金属アルミニウム（Ａｌ）を蒸着し、膜厚８０ｎｍの金属Ａｌ陰極を形成した。
実施例４に係る有機ＥＬ素子の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO（65）/HI-1:HT-1（10,95%:5%）/HT-1（35）/HT-2（10）/BH:BD（25,96%:4%）/ET-1（10）/ET-2（5）/LiF（1）/Al（80）
なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９５％：５％）は、正孔注入層における化合物ＨＩ−１及び化合物ＨＴ−１の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（９６％：４％）は、発光層における化合物ＢＨ及び化合物ＢＤの割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。【０４８０】
（実施例５）
実施例５の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に用いた混合物における第一の化合物（化合物ＨＩ−１）と第二の化合物（化合物ＨＴ−１）との比率を表１に示す比率に変更したこと以外、実施例４と同様にして作製した。【０４８１】
（実施例６）
実施例６の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に用いた混合物における第一の化合物（化合物ＨＩ−１）と第二の化合物（化合物ＨＴ−１）との比率を表１に示す比率に変更したこと以外、実施例４と同様にして作製した。【０４８２】
（比較例２）
比較例２の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に、混合物ではなく、第一の化合物（化合物ＨＩ−１）のみ用いたこと以外、実施例４と同様にして作製した。【０４８３】
＜有機ＥＬ素子の評価＞
実施例４〜６並びに比較例２で作製した有機ＥＬ素子について、以下の評価を行った。評価結果を表１に示す。【０４８４】
・駆動電圧
電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となるように陽極（ＩＴＯ透明電極）と陰極（金属Ａｌ陰極）との間に通電したときの電圧（単位：Ｖ）を計測した。【０４８５】
・外部量子効率ＥＱＥ
電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となるように素子に電圧を印加した時の分光放射輝度スペクトルを分光放射輝度計ＣＳ−２０００（コニカミノルタ株式会社製）で計測した。得られた分光放射輝度スペクトルから、ランバシアン放射を行ったと仮定し外部量子効率ＥＱＥ（単位：％）を算出した。【０４８６】
・寿命（ＬＴ９５）
分光放射輝度計ＣＳ−２００（コニカミノルタ株式会社製）を用いて、電流密度が５０ｍＡ／ｃｍ２となるように素子に電圧を印加し、初期輝度に対して輝度が９５％となるまでの時間（単位：ｈ）を測定した。
本明細書において、初期輝度に対して輝度が９５％となるまでの時間を「寿命（ＬＴ９５）」と示す場合がある。【０４８７】
・閉塞
閉塞については、上記＜有機層の成膜及び断面ＳＥＭ観察１＞にて、ガラス基板上に単膜を成膜した状態での測定結果に基づき、次のように判定した。
Ａ：ＳＥＭ画像にて嵩高い厚膜が観測された。
Ｂ：ＳＥＭ画像にて嵩高さが抑制された緻密な厚膜が観測された。【０４８８】
【表１】
0006831950.tif 000209
【０４８９】
実施例４〜６に係る有機ＥＬ素子によれば、第一の化合物に対して第二の化合物を添加した混合物を用いて正孔注入層を成膜した場合でも、比較例２に係る有機ＥＬ素子に比べて、有機ＥＬ素子の性能が大幅に低下しないことが分かった。実施例４及び５であれば、比較例２と同等の素子性能を発揮した。
前述の実施例１での検証結果も踏まえると、前記実施形態に係る第一の化合物及び第二の化合物を含有する混合物を用いて乾式成膜法で有機層を成膜することで、嵩高い付着膜の形成を抑制でき、製造効率の低下及び素子性能を大幅な低下を招くことなく有機ＥＬ素子を製造できることが分かった。【０４９０】
＜有機層の成膜及び断面ＳＥＭ観察２＞
（実施例７）
・材料の単膜成膜
実施例７に係る混合物を用いて、次のようにして有機層を成膜した。
基材として、表面をＵＶ洗浄したガラス基板を用意した。
坩堝に、第一の化合物としての化合物ＨＩ−２及び第二の化合物としての化合物ＨＴ−１を含む実施例７に係る混合物を２００ｍｇ入れた。実施例７に係る混合物中、第二の化合物の質量Ｍ２が６ｍｇであり、第一の化合物の質量Ｍ１が１９４ｍｇであり、（Ｍ２／ＭＴ）×１００＝３であり、前記数式（数１）を満たしていた。
真空蒸着装置を用いて実施例７に係る混合物を、基材の洗浄処理面側に成膜した。
成膜した有機層の断面をＳＥＭで観察した。
図４には、実施例７に係る混合物を用いて成膜した有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４９１】
・ＳＥＭ観察
上記で作製した有機層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（型番：日立ハイテクノロジーズ製ＳＵ８２２０、観察加速電圧１ｋＶ）により観察した。【０４９２】
（実施例８）
実施例８では、混合物中の第二の化合物として、化合物ＨＴ−１に代えて化合物ＨＴ−４を用いたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図５には、実施例８に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４９３】
（実施例９）
実施例９では、混合物中の第二の化合物として、化合物ＨＴ−１に代えて化合物ＨＴ−２を用いたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図６には、実施例９に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４９４】
（実施例１０）
実施例１０では、混合物中の第二の化合物として、化合物ＨＴ−１に代えて化合物ＨＴ−７を用いたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図７には、実施例１０に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４９５】
（実施例１１）
実施例１１では、混合物中の第二の化合物として、化合物ＨＴ−１に代えて化合物ＨＴ−８を用いたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図８には、実施例１１に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４９６】
（実施例１２）
実施例１２では、混合物中の第二の化合物として、化合物ＨＴ−１に代えて化合物ＨＴ−９を用いたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図９には、実施例１２に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４９７】
（実施例１３）
実施例１３では、混合物中の第一の化合物として、化合物ＨＩ−２に代えて化合物ＨＩ−３を用いたこと、並びに第二の化合物として、化合物ＨＴ−１に代えて化合物ＨＴ−４を用いたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図１０には、実施例１３に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４９８】
（比較例３）
比較例３では、混合物ではなく、第一の化合物としての化合物ＨＩ−２だけを２００ｍｇ坩堝に入れたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図１１Ａには、比較例３に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０４９９】
（比較例４）
比較例４では、混合物ではなく、第一の化合物としての化合物ＨＩ−４だけを２００ｍｇ坩堝に入れたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図１１Ｂには、比較例４に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０５００】
（比較例５）
比較例５では、混合物ではなく、第一の化合物としての化合物ＨＩ−３だけを２００ｍｇ坩堝に入れたこと以外、実施例７と同様にして真空蒸着装置を用いて同様の成膜条件で有機層を成膜した。
図１２には、比較例５に係る有機層の断面ＳＥＭ像が示されている。【０５０１】
比較例３〜５に係る有機層は、第一の化合物の単独材料により成膜した結果、図１１Ａ、図１１Ｂ及び図１２の断面ＳＥＭ像が示すように、基材上に嵩高く結晶成長していた。比較例３〜５に対して、第一の化合物に第二の化合物を１質量％、３質量％、５質量％又は１５質量％混合した混合物を用いて成膜すると、図４〜図１０の断面ＳＥＭ像が示すように、緻密で嵩高さが抑制された有機層が成膜されたことが確認された。【０５０２】
＜有機エレクトロルミネッセンス素子の作製２＞
有機エレクトロルミネッセンス素子を以下のように作製し、評価した。【０５０３】
（実施例１４）
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄を行った後、ＵＶオゾン洗浄を１分間行った。ＩＴＯの膜厚は、１３０ｎｍとした。
洗浄後の透明電極ライン付き前記ガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、第一の化合物としての化合物ＨＩ−２と、第二の化合物としての化合物ＨＴ−１とを、９９質量％：１質量％の比率で含有する混合物を用いて共蒸着し、膜厚３ｎｍの正孔注入層を形成した。
次に、正孔注入層上に、化合物ＨＴ−４を蒸着し、膜厚８７ｎｍの正孔輸送層を形成した。
次に、この正孔輸送層上に、化合物ＨＴ−６を蒸着し、膜厚５ｎｍの電子障壁層を形成した。
次に、この電子障壁層上に、化合物ＢＨ−２と、化合物ＢＤ−２と、を共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を形成した。発光層における化合物ＢＨ−２の濃度を９９質量％とし、化合物ＢＤ−２の濃度を１質量％とした。
次に、この発光層上に、化合物ＥＴ−３を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔障壁層を形成した。
次に、この正孔障壁層上に、化合物ＥＴ−４及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ−４の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。Ｌｉｑは、（８−キノリノラト）リチウム（（８−Ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｌａｔｏ）ｌｉｔｈｉｕｍ）の略称である。
次に、この電子輸送層上に、イッテルビウム（Ｙｂ）を蒸着し、膜厚１ｎｍの電子注入性電極（陰極）を形成した。
そして、この電子注入性電極上に、金属アルミニウム（Ａｌ）を蒸着し、膜厚８０ｎｍの金属Ａｌ陰極を形成した。
実施例１４に係る有機ＥＬ素子の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO（130）/HI-2:HT-1（3,99%:1%）/HT-4（87）/HT-6（5）/BH-2:BD-2（20,99%:1%）/ET-3（5）/ET-4:Liq（25,50%:50%）/Yb（1）/Al（80）
なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９９％：１％）は、正孔注入層における化合物ＨＩ−２及び化合物ＨＴ−１の割合（質量％）、又は発光層における化合物ＢＨ−２及び化合物ＢＤ−２の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（５０％：５０％）は、電子輸送層（ＥＴ）における化合物ＥＴ−４及び化合物Ｌｉｑの割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。【０５０４】
（実施例１５〜１６）
実施例１５〜１６の有機ＥＬ素子は、それぞれ、正孔注入層の形成に用いた混合物における第一の化合物と第二の化合物との比率を表２に示す比率に変更したこと以外、実施例１４と同様にして作製した。【０５０５】
（比較例６）
比較例６の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に、混合物ではなく、第一の化合物（化合物ＨＩ−２）のみ用いたこと以外、実施例１４と同様にして作製した。【０５０６】
＜有機ＥＬ素子の評価２＞
実施例１４〜３９並びに比較例６〜１１で作製した有機ＥＬ素子について、実施例４等と同様の方法で評価を行った。評価結果を表２〜９に示す。【０５０７】
【表２】
0006831950.tif 000210
【０５０８】
（実施例１７）
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄を行った後、ＵＶオゾン洗浄を１分間行った。ＩＴＯの膜厚は、１３０ｎｍとした。
洗浄後の透明電極ライン付き前記ガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、第一の化合物としての化合物ＨＩ−２と、第二の化合物としての化合物ＨＴ−１とを、９９質量％：１質量％の比率で含有する混合物を用いて共蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔注入層を形成した。
次に、正孔注入層上に、化合物ＨＴ−４を蒸着し、膜厚８５ｎｍの正孔輸送層を形成した。
次に、この正孔輸送層上に、化合物ＨＴ−６を蒸着し、膜厚５ｎｍの電子障壁層を形成した。
次に、この電子障壁層上に、化合物ＢＨ−２と、化合物ＢＤ−２と、を共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を形成した。発光層における化合物ＢＨ−２の濃度を９９質量％とし、化合物ＢＤ−２の濃度を１質量％とした。
次に、この発光層上に、化合物ＥＴ−３を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔障壁層を形成した。
次に、この正孔障壁層上に、化合物ＥＴ−４及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ−４の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。
次に、この電子輸送層上に、イッテルビウム（Ｙｂ）を蒸着し、膜厚１ｎｍの電子注入性電極（陰極）を形成した。
そして、この電子注入性電極上に、金属アルミニウム（Ａｌ）を蒸着し、膜厚８０ｎｍの金属Ａｌ陰極を形成した。
実施例１７に係る有機ＥＬ素子の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO（130）/HI-2:HT-1（5,99%:1%）/HT-4（85）/HT-6（5）/BH-2:BD-2（20,99%:1%）/ET-3（5）/ET-4:Liq（25,50%:50%）/Yb（1）/Al（80）【０５０９】
（実施例１８〜２０）
実施例１８〜２０の有機ＥＬ素子は、それぞれ、正孔注入層の形成に用いた混合物における第一の化合物と第二の化合物との比率を表３に示す比率に変更したこと以外、実施例１７と同様にして作製した。【０５１０】
（比較例７）
比較例７の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に、混合物ではなく、第一の化合物（化合物ＨＩ−２）のみ用いたこと以外、実施例１７と同様にして作製した。【０５１１】
【表３】
0006831950.tif 000211
【０５１２】
（実施例２１）
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄を行った後、ＵＶオゾン洗浄を１分間行った。ＩＴＯの膜厚は、１３０ｎｍとした。
洗浄後の透明電極ライン付き前記ガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、第一の化合物としての化合物ＨＩ−２と、第二の化合物としての化合物ＨＴ−１とを、９９質量％：１質量％の比率で含有する混合物を用いて共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。
次に、正孔注入層上に、化合物ＨＴ−４を蒸着し、膜厚８０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
次に、この正孔輸送層上に、化合物ＨＴ−６を蒸着し、膜厚５ｎｍの電子障壁層を形成した。
次に、この電子障壁層上に、化合物ＢＨ−２と、化合物ＢＤ−２と、を共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を形成した。発光層における化合物ＢＨ−２の濃度を９９質量％とし、化合物ＢＤ−２の濃度を１質量％とした。
次に、この発光層上に、化合物ＥＴ−３を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔障壁層を形成した。
次に、この正孔障壁層上に、化合物ＥＴ−４及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ−４の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。
次に、この電子輸送層上に、イッテルビウム（Ｙｂ）を蒸着し、膜厚１ｎｍの電子注入性電極（陰極）を形成した。
そして、この電子注入性電極上に、金属アルミニウム（Ａｌ）を蒸着し、膜厚８０ｎｍの金属Ａｌ陰極を形成した。
実施例２１に係る有機ＥＬ素子の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO（130）/HI-2:HT-1（10,99%:1%）/HT-4（80）/HT-6（5）/BH-2:BD-2（20,99%:1%）/ET-3（5）/ET-4:Liq（25,50%:50%）/Yb（1）/Al（80）【０５１３】
（実施例２２〜２４）
実施例２２〜２４の有機ＥＬ素子は、それぞれ、正孔注入層の形成に用いた混合物における第一の化合物と第二の化合物との比率を表４に示す比率に変更したこと以外、実施例２１と同様にして作製した。【０５１４】
（比較例８）
比較例８の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に、混合物ではなく、第一の化合物（化合物ＨＩ−２）のみ用いたこと以外、実施例２１と同様にして作製した。【０５１５】
【表４】
0006831950.tif 000212
【０５１６】
（実施例２５）
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄を行った後、ＵＶオゾン洗浄を１分間行った。ＩＴＯの膜厚は、１３０ｎｍとした。
洗浄後の透明電極ライン付き前記ガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、第一の化合物としての化合物ＨＩ−２と、第二の化合物としての化合物ＨＴ−１とを、９９質量％：１質量％の比率で含有する混合物を用いて共蒸着し、膜厚２０ｎｍの正孔注入層を形成した。
次に、正孔注入層上に、化合物ＨＴ−４を蒸着し、膜厚７０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
次に、この正孔輸送層上に、化合物ＨＴ−６を蒸着し、膜厚５ｎｍの電子障壁層を形成した。
次に、この電子障壁層上に、化合物ＢＨ−２と、化合物ＢＤ−２と、を共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を形成した。発光層における化合物ＢＨ−２の濃度を９９質量％とし、化合物ＢＤ−２の濃度を１質量％とした。
次に、この発光層上に、化合物ＥＴ−３を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔障壁層を形成した。
次に、この正孔障壁層上に、化合物ＥＴ−４及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ−４の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。
次に、この電子輸送層上に、イッテルビウム（Ｙｂ）を蒸着し、膜厚１ｎｍの電子注入性電極（陰極）を形成した。
そして、この電子注入性電極上に、金属アルミニウム（Ａｌ）を蒸着し、膜厚８０ｎｍの金属Ａｌ陰極を形成した。
実施例２５に係る有機ＥＬ素子の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO（130）/HI-2:HT-1（20,99%:1%）/HT-4（70）/HT-6（5）/BH-2:BD-2（20,99%:1%）/ET-3（5）/ET-4:Liq（25,50%:50%）/Yb（1）/Al（80）【０５１７】
（実施例２６〜２８）
実施例２６〜２８の有機ＥＬ素子は、それぞれ、正孔注入層の形成に用いた混合物における第一の化合物と第二の化合物との比率を表５に示す比率に変更したこと以外、実施例２５と同様にして作製した。【０５１８】
（比較例９）
比較例９の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に、混合物ではなく、第一の化合物（化合物ＨＩ−２）のみ用いたこと以外、実施例２５と同様にして作製した。【０５１９】
【表５】
0006831950.tif 000213
【０５２０】
（実施例２９）
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚の素子作製用ガラス基板の上に、銀合金層であるＡＰＣ（Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ）層（反射層）（膜厚１００ｎｍ）及びＩＴＯ膜（膜厚１０ｎｍ）をこの順にスパッタリング法により成膜した。これにより、ＡＰＣ層とＩＴＯ膜とからなる導電材料層を得た。続いて通常のリソグラフィ技術を用いて、レジストパターンをマスクに用いたエッチングにより、この導電材料層をパターニングし、下部電極（陽極）を形成した。下部電極が形成した基板をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。その後、真空蒸着法を用いて、下部電極（陽極）の上に第一の化合物としての化合物ＨＩ−２と、第二の化合物としての化合物ＨＴ−４とを、９９質量％：１質量％の比率で含有する混合物を用いて共蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔注入層を形成した。
次に、正孔注入層上に、化合物ＨＴ−４を蒸着し、膜厚１１５ｎｍの正孔輸送層を形成した。
次に、この正孔輸送層上に、化合物ＨＴ−６を蒸着し、膜厚５ｎｍの電子障壁層を形成した。
次に、この電子障壁層上に、化合物ＢＨ−２と、化合物ＢＤ−２と、を共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を形成した。発光層における化合物ＢＨ−２の濃度を９９質量％とし、化合物ＢＤ−２の濃度を１質量％とした。
次に、この発光層上に、化合物ＥＴ−５を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔障壁層を形成した。
次に、この正孔障壁層上に、化合物ＥＴ−４及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ−４の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。
次に、この電子輸送層上に、イッテルビウム（Ｙｂ）を蒸着し、膜厚１ｎｍの電子注入性電極（陰極）を形成した。
そして、この電子注入性電極上に、ＭｇとＡｇとを混合比（質量％比）が１０％：９０％となるように共蒸着し、膜厚１５ｎｍの半透過性のＭｇＡｇ合金からなる上部電極（陰極）を形成した。
実施例２９に係る有機ＥＬ素子の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
APC(100)/ITO（10）/HI-2:HT-4（5,99%:1%）/HT-4（115）/HT-6（5）/BH-2:BD-2（20,99%:1%）/ET-5（5）/ET-4:Liq（25,50%:50%）/Yb（1）/Mg:Ag（15,10%:90%）【０５２１】
（実施例３０）
実施例３０の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に用いた混合物における第一の化合物と第二の化合物との比率を表６に示す比率に変更したこと以外、実施例２９と同様にして作製した。【０５２２】
（比較例１０）
比較例１０の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に、混合物ではなく、第一の化合物（化合物ＨＩ−２）のみ用いたこと以外、実施例２９と同様にして作製した。【０５２３】
【表６】
0006831950.tif 000214
【０５２４】
（実施例３１）
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄を行った後、ＵＶオゾン洗浄を１分間行った。ＩＴＯの膜厚は、１３０ｎｍとした。
洗浄後の透明電極ライン付き前記ガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、第一の化合物としての化合物ＨＩ−２と、第二の化合物としての化合物ＨＴ−２とを、９７質量％：３質量％の比率で含有する混合物を用いて共蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔注入層を形成した。
次に、正孔注入層上に、化合物ＨＴ−４を蒸着し、膜厚８５ｎｍの正孔輸送層を形成した。
次に、この正孔輸送層上に、化合物ＨＴ−６を蒸着し、膜厚５ｎｍの電子障壁層を形成した。
次に、この電子障壁層上に、化合物ＢＨ−２と、化合物ＢＤ−２と、を共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を形成した。発光層における化合物ＢＨ−２の濃度を９９質量％とし、化合物ＢＤ−２の濃度を１質量％とした。
次に、この発光層上に、化合物ＥＴ−３を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔障壁層を形成した。
次に、この正孔障壁層上に、化合物ＥＴ−４及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ−４の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。
次に、この電子輸送層上に、イッテルビウム（Ｙｂ）を蒸着し、膜厚１ｎｍの電子注入性電極（陰極）を形成した。
そして、この電子注入性電極上に、金属アルミニウム（Ａｌ）を蒸着し、膜厚８０ｎｍの金属Ａｌ陰極を形成した。
実施例３１に係る有機ＥＬ素子の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO（130）/HI-2:HT-2（5,97%:3%）/HT-4（85）/HT-6（5）/BH-2:BD-2（20,99%:1%）/ET-3（5）/ET-4:Liq（25,50%:50%）/Yb（1）/Al（80）【０５２５】
（実施例３２〜３４）
実施例３２〜３４の有機ＥＬ素子は、それぞれ、正孔注入層の形成に用いた混合物における第二の化合物を表７に示す第二の化合物に変更したこと以外、実施例３１と同様にして作製した。【０５２６】
比較例７の有機ＥＬ素子の評価結果を比較のため表７に再掲する。【０５２７】
【表７】
0006831950.tif 000215
【０５２８】
（実施例３５）
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄を行った後、ＵＶオゾン洗浄を１分間行った。ＩＴＯの膜厚は、１３０ｎｍとした。
洗浄後の透明電極ライン付き前記ガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、第一の化合物としての化合物ＨＩ−３と、第二の化合物としての化合物ＨＴ−４とを、９７質量％：３質量％の比率で含有する混合物を用いて共蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔注入層を形成した。
次に、正孔注入層上に、化合物ＨＴ−４を蒸着し、膜厚８５ｎｍの正孔輸送層を形成した。
次に、この正孔輸送層上に、化合物ＨＴ−６を蒸着し、膜厚５ｎｍの電子障壁層を形成した。
次に、この電子障壁層上に、化合物ＢＨ−２と、化合物ＢＤ−２と、を共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を形成した。発光層における化合物ＢＨ−２の濃度を９９質量％とし、化合物ＢＤ−２の濃度を１質量％とした。
次に、この発光層上に、化合物ＥＴ−３を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔障壁層を形成した。
次に、この正孔障壁層上に、化合物ＥＴ−４及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ−４の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。
次に、この電子輸送層上に、イッテルビウム（Ｙｂ）を蒸着し、膜厚１ｎｍの電子注入性電極（陰極）を形成した。
そして、この電子注入性電極上に、金属アルミニウム（Ａｌ）を蒸着し、膜厚８０ｎｍの金属Ａｌ陰極を形成した。
実施例３５に係る有機ＥＬ素子の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO（130）/HI-3:HT-4（5,97%:3%）/HT-4（85）/HT-6（5）/BH-2:BD-2（20,99%:1%）/ET-3（5）/ET-4:Liq（25,50%:50%）/Yb（1）/Al（80）【０５２９】
（実施例３６〜３８）
実施例３６〜３８の有機ＥＬ素子は、それぞれ、正孔注入層の形成に用いた混合物における第二の化合物を表８に示す第二の化合物に変更したこと以外、実施例３５と同様にして作製した。【０５３０】
（比較例１１）
比較例１１の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に、混合物ではなく、第一の化合物（化合物ＨＩ−３）のみ用いたこと以外、実施例３５と同様にして作製した。【０５３１】
【表８】
0006831950.tif 000216
【０５３２】
（実施例３９）
実施例３９の有機ＥＬ素子は、正孔注入層の形成に用いた混合物における第二の化合物を表９に示す第二の化合物に変更したこと以外、実施例３１と同様にして作製した。【０５３３】
比較例７の有機ＥＬ素子の評価結果を比較のため表９に再掲する。【０５３４】
【表９】
0006831950.tif 000217
【０５３５】
実施例１４〜３９に係る有機ＥＬ素子によれば、第一の化合物に対して第二の化合物を添加した混合物を用いて正孔注入層を成膜した場合でも、第二の化合物を添加せずに第一の化合物単体を用いて正孔注入層を成膜した比較例に係る有機ＥＬ素子に比べて、有機ＥＬ素子の性能が大幅に低下しないことが分かった。
前述の実施例７〜１３での検証結果も踏まえると、前記実施形態に係る第一の化合物及び第二の化合物を含有する混合物を用いて乾式成膜法で有機層を成膜することで、嵩高い付着膜の形成を抑制でき、製造効率の低下及び素子性能を大幅な低下を招くことなく有機ＥＬ素子を製造できることが分かった。
【符号の説明】
【０５３６】
１…有機ＥＬ素子、２…基板、３…陽極、４…陰極、５…発光層、６…正孔注入層、７…正孔輸送層、８…電子輸送層、９…電子注入層。
【要約】
混合物であって、第一の化合物と、第二の化合物と、を含有し、前記第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される第一の環構造及び下記一般式（１２）で表される第二の環構造の少なくともいずれかを含み、前記第二の化合物は、下記一般式（２１）で表される化合物又は下記一般式（２２）で表される化合物であり、前記混合物中、前記第一の化合物及び前記第二の化合物の合計質量ＭＴと、前記第二の化合物の質量Ｍ２とが、下記数式（数１）の関係を満たす、混合物。
０．１≦（Ｍ２／ＭＴ）×１００…（数１）
0006831950.tif 000253
【図１】
0006831950.tif 000254
【図２Ａ】
0006831950.tif 000255
【図２Ｂ】
0006831950.tif 000256
【図３Ａ】
0006831950.tif 000257
【図３Ｂ】
0006831950.tif 000258
【図４】
0006831950.tif 000259
【図５】
0006831950.tif 000260
【図６】
0006831950.tif 000261
【図７】
0006831950.tif 000262
【図８】
0006831950.tif 000263
【図９】
0006831950.tif 000264
【図１０】
0006831950.tif 000265
【図１１Ａ】
0006831950.tif 000266
【図１１Ｂ】
0006831950.tif 000267
【図１２】
0006831950.tif 000268