(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
伝送路（２７）を介して被試験対象物（Ｗ）に試験用信号として送出するパルスパターンに対し、エンファシス付加対象ビットごとに前記伝送路での信号の減衰を補償するためのエンファシスを付加するエンファシス波形成形部（２３、２３Ａ）と、
前記エンファシス付加後の前記パルスパターンの測定結果に基づき、前記信号の減衰がないときの前記パルスパターンの波形との相関を指標とするコスト関数と、確率的勾配降下法と、を用いて、前記エンファシス付加対象ビットにそれぞれ対応する前記エンファシスの各タップのパラメータの値を自動で算出し、該算出した前記各タップのパラメータの値に基づいて前記エンファシスのレベルを調整するエンファシス調整制御部（７ｃ、７ｃ１）と、を有し、
前記エンファシス調整制御部は、
前記各タップのパラメータごとに現在の値を一定のステップ幅（Δｈ）で上下それぞれの値に移動させたときの前記パルスパターンの測定結果に基づき、前記各タップのパラメータごとに、前記上の値と前記下の値の間（２×Δｈ）を移動したときの前記コスト関数の傾きをそれぞれ算出する傾き算出処理を行う傾き算出部（７ｄ１、７ｅ１）と、
前記各タップのパラメータごとに、前記傾き算出部で算出した前記コスト関数の傾きから該コスト関数の傾きに学習率を乗算した値を減算することにより前記現在の値をそれぞれ更新する更新処理を行う更新処理部（７ｄ２、７ｅ２）と、
前記パルスパターンの測定、前記傾き算出処理及び前記更新処理を複数回繰り返し実行させ、前記パルスパターンの測定結果が、設定された前記コスト関数に追従するように、前記各タップのパラメータを追い込む追い込み処理部（７ｄ３、７ｅ３）と、
を有することを特徴とするエンファシス付加装置。
【請求項２】
前記エンファシス波形成形部は、前記パルスパターンの出力端子に、前記パルスパターンを測定するオシロスコープ（８）が接続され、
前記エンファシス調整制御部は、前記傾き算出処理に係る前記パルスパターンの測定結果を前記オシロスコープから取得することを特徴とする請求項１に記載のエンファシス付加装置。
【請求項３】
前記エンファシス波形成形部は、前記パルスパターンを順次１ビットずつ遅延させて出力するｎ段の遅延回路（２４ａ、２４ｂ、２４ｃ）と、前記パルスパターンの前記各遅延回路で遅延されないビット、及び前記各遅延回路で遅延された各ビットを、前記各タップのパラメータの値にそれぞれ対応する利得で増幅して出力する（ｎ＋１）段の可変利得増幅器（２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄ）と、前記各可変利得増幅器の出力を加算し、前記エンファシス付加後の前記パルスパターンとして出力する加算器（２６）と、を有することを特徴とする請求項１または２に記載のエンファシス付加装置。
【請求項４】
前記コスト関数は、前記信号の減衰がないときの前記パルスパターンのアイパターン（Ｅｐ）におけるアイアンプリチュード（Eye Amplitude）とアイハイト（Eye Hight）により定義される関数であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のエンファシス付加装置。
【請求項５】
前記コスト関数は、前記信号の減衰がないときの前記パルスパターンのアイパターンにおけるアイ開口部（Ｅｐ１、Ｅｐ１１、Ｅｐ１２、Ｅｐ１３）の面積によって定義される関数であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のエンファシス付加装置。
【請求項６】
前記コスト関数は、前記信号の減衰がないときの前記パルスパターンの波形と、前記パルスパターンの測定波形との複数の補正ポイントごとの差分（Ａｄ）を合計した値が最小となるように定義された関数であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のエンファシス付加装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のエンファシス付加装置（２３、２３Ａ、７ｃ、７ｃ１）と、前記エンファシス波形成形部に入力する前記パルスパターンを発生するパターン発生部（２１、２１ａ、２１ｂ）と、を有するＰＰＧモジュール（２、２Ａ）と、
前記エンファシスが付加された前記パルスパターンを受信した前記被試験対象物が被測定信号として送出するパルスパターンを受信し、該受信したパルスパターンの復号結果に基づいて当該パルスパターンのビットエラーを測定するビットエラー測定部（３４、３４Ａ）を有するＥＤモジュール（３）と、を備えることを特徴とする誤り率測定装置。
【請求項８】
伝送路（２７）を介して被試験対象物（Ｗ）に試験用信号として送出するパルスパターンに対し、エンファシス付加対象ビットごとに前記伝送路での信号の減衰を補償するためのエンファシスを付加するエンファシス付加方法であって、
前記パルスパターンの前記信号の減衰がないときの波形との相関を指標とするコスト関数を設定するステップ（Ｓ１）と、
前記エンファシス付加後の前記パルスパターンを測定する測定ステップ（Ｓ３）と、
前記測定ステップによる前記パルスパターンの測定結果に基づき、前記コスト関数と、確率的勾配降下法と、を用いて、前記エンファシス付加対象ビットにそれぞれ対応する前記エンファシスの各タップのパラメータの値を自動で算出し、該算出した前記各タップのパラメータの値に基づいて前記エンファシスのレベルを調整するエンファシス調整制御ステップ（Ｓ４、Ｓ５）と、を含み、
前記エンファシス調整制御ステップは、
前記各タップのパラメータごとに現在の値を一定のステップ幅（Δｈ）で上下それぞれの値に移動させたときの前記パルスパターンの測定結果に基づき、前記各タップのパラメータごとに、前記上の値と前記下の値の間（２×Δｈ）を移動したときの前記コスト関数の傾きをそれぞれ算出する傾き算出ステップ（Ｓ１３）と、
前記各タップのパラメータごとに、前記傾き算出ステップで算出した前記コスト関数の傾きから該コスト関数の傾きに学習率を乗算した値を減算することにより前記現在の値をそれぞれ更新する更新ステップ（Ｓ１４）と、
前記測定ステップ、前記傾き算出ステップ及び前記更新ステップを複数回繰り返し実行させ、前記パルスパターンの測定結果が、設定された前記コスト関数に追従するように、前記各タップのパラメータを追い込む追い込みステップ（Ｓ４、Ｓ１３〜Ｓ１６）と、
を含むことを特徴とするエンファシス付加方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被試験対象物に試験用信号として入力するパルスパターンにエンファシスを付加するエンファシス付加装置、エンファシス付加方法及び誤り率測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
被試験対象物の波形品質の劣化を試験する場合には、例えば図１９に示すような測定系が一般的に用いられる。この測定系では、被試験対象物５１の入力側に信号発生装置５０を接続し、被試験対象物５１の出力側に誤り率測定装置５２を接続した状態で、信号発生装置５０から所定パターンの試験用信号を被試験対象物５１に入力し、この試験用信号の入力に伴って被試験対象物５１から出力される信号を誤り率測定装置５２で受信する。そして、誤り率測定装置５２において、受信信号と被試験対象物５１に入力した試験用信号とを比較し、ビット誤り率を測定したり、アイパターンを測定して被試験対象物５１の各種試験を行っている。
【０００３】
上述した性能試験においては、被試験対象物５１側での試験用信号（パルスパターン）の受信品質改善のために、両者を接続する伝送路（ケーブル）における信号の減衰を補うためのエンファシス（emphasis）を付加することも知られている。
【０００４】
周知のように、エンファシスの各タップの重みは、理論上、ＦＩＲフィルタの係数と同じである。このため、図１９の上段部分にその流れを示す各タップの重み調整処理においては、上段左側部分の特性図中、伝送路の理想的なロスカーブＣ１の逆特性Ｃ２となるＦＩＲフィルタの係数を計算すれば、各タップの重み（同図上段中央部分参照）が求められることになる。その後は、同図上段右側部分に示すように、求めた各タップの重みから所定の間隔（ｔ１＋ｔ２）に相当する部分をタップ数に合わせて間引く処理を行い、エンファシスの各タップの係数を調整するようにしている。
【０００５】
このようなタップの重み調整方法を採用した従来のエンファシス付加装置としては、波形の繰り返し周期内で予め決められた箇所のタップにカーソルが配置されているプリエンファシス波形イメージを含む設定画面を表示し、操作部で何れかのカーソルをドラッグして上下方向に移動することでそのカーソルのタップの振幅量を予め決められた可変可能範囲で可変可能にするものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−６０６３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した方法で各タップの重みを求める方法では、被試験対象物５１が誤り率測定装置５２に出力する信号について最適なアイ（Ｅｙｅ）開口を得ることができない場合があった。その要因としては次の３つが考えられている。
【０００８】
１つ目の要因としては、伝送路のロスの誤差が挙げられる。図１９の上段左側部分の特性図に示す理想的とされる伝送路のロスカーブＣ１は、現実には、同図に符号Ｃ３で示すようにうねりを生じたロスカーブとなる。この現実のロスカーブＣ３でのうねりによって伝送路のロスの誤差がもたらされると、最適なアイ開口を得ることが困難になる。そもそも、このような誤差は全て測定できるわけでもない。
【０００９】
２つ目の要因としては、図１９の上段右側部分に示す間引き処理による情報の欠落が挙げられる。同図に示す間引き対象の区間を形成する間隔ｔ１、ｔ２は無限に小さくすることができないため、誤差が生じることになる。さらに３つ目の要因としては、伝送路特性以外の要因、例えば、他の信号ラインからの不要な信号の混入、いわゆるクロストークの発生などが挙げられる。
【００１０】
上述した３つの要因を含む種々要因を勘案して、従来一般的なエンファシス付加処理においては、最適なアイ開口となるように、カット＆トライで各タップの重みを調整するようにしていた。この調整のための作業は煩雑であり、しかも、調整者によっては調整結果に差異／ばらつきが発生しまい、最適なアイ開口に追い込むことは非常に困難であった。
【００１１】
本発明は、このような従来の課題を解決するためになされたものであって、煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができるエンファシス付加装置、エンファシス付加方法及び誤り率測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明の請求項１に係るエンファシス付加装置は、伝送路（２７）を介して被試験対象物（Ｗ）に試験用信号として送出するパルスパターンに対し、エンファシス付加対象ビットごとに前記伝送路での信号の減衰を補償するためのエンファシスを付加するエンファシス波形成形部（２３、２３Ａ）と、前記エンファシス付加後の前記パルスパターンの測定結果に基づき、前記信号の減衰がないときの前記パルスパターンの波形との相関を指標とするコスト関数と、確率的勾配降下法と、を用いて、前記エンファシス付加対象ビットにそれぞれ対応する前記エンファシスの各タップのパラメータの値を自動で算出し、該算出した前記各タップのパラメータの値に基づいて前記エンファシスのレベルを調整するエンファシス調整制御部（７ｃ、７ｃ１）と、を有し、前記エンファシス調整制御部は、前記各タップのパラメータごとに現在の値を一定のステップ幅（Δｈ）で上下それぞれの値に移動させたときの前記パルスパターンの測定結果に基づき、前記各タップのパラメータごとに、前記上の値と前記下の値の間（２×Δｈ）を移動したときの前記コスト関数の傾きをそれぞれ算出する傾き算出処理を行う傾き算出部（７ｄ１、７ｅ１）と、前記各タップのパラメータごとに、前記傾き算出部で算出した前記コスト関数の傾きから該コスト関数の傾きに学習率を乗算した値を減算することにより前記現在の値をそれぞれ更新する更新処理を行う更新処理部（７ｄ２、７ｅ２）と、前記パルスパターンの測定、前記傾き算出処理及び前記更新処理を複数回繰り返し実行させ、前記パルスパターンの測定結果が、設定された前記コスト関数に追従するように、前記各タップのパラメータを追い込む追い込み処理部（７ｄ３、７ｅ３）と、を有する構成である。
【００１３】
この構成により、本発明の請求項１に係るエンファシス付加装置では、エンファシスの各タップのパラメータの値を算出し、該各タップのパラメータの値に基づいてエンファシスのレベルの調整を自動で行うことができ、各タップの重み調整のための煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができる。
【００１５】
また、本発明の請求項１に係るエンファシス付加装置では、傾き算出処理、更新処理、及び追い込み処理のアルゴリズムとして、パルスパターンの測定データをランダムに取り出す確率的勾配降下法を適用しているため、コンピュータによる当該アルゴリズムに基づく各処理の実施中、各タップの重み調整のため手動による作業介入の余地はなく、各タップのパラメータの設定についても人為的操作による差異、バラつきが生じることはなくなる。
【００１６】
本発明の請求項２に係るエンファシス付加装置では、前記エンファシス波形成形部は、前記パルスパターンの出力端子に、前記パルスパターンを測定するオシロスコープ（８）が接続され、前記エンファシス調整制御部は、前記傾き算出処理に係る前記パルスパターンの測定結果を前記オシロスコープから取得する構成としてもよい。
【００１７】
この構成により、本発明の請求項２に係るエンファシス付加装置では、エンファシス波形成形部にオシロスコープを接続したことにより、オシロスコープのような測定機能を内部に設ける必要がなく、簡単な構成で、各タップのパラメータの値を適切に自動調整することが可能になる。
【００１８】
本発明の請求項３に係るエンファシス付加装置では、前記エンファシス波形成形部は、前記パルスパターンを順次１ビットずつ遅延させて出力するｎ段の遅延回路（２４ａ、２４ｂ、２４ｃ）と、前記パルスパターンの前記各遅延回路で遅延されないビット、及び前記各遅延回路で遅延された各ビットを、前記各タップのパラメータの値にそれぞれ対応する利得で増幅して出力する（ｎ＋１）段の可変利得増幅器（２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄ）と、前記各可変利得増幅器の出力を加算し、前記エンファシス付加後の前記パルスパターンとして出力する加算器（２６）と、を有する構成とすることもできる。
【００１９】
この構成により、本発明の請求項３に係るエンファシス付加装置では、エンファシス波形成形部はＦＩＲフィルタ（有限インパルス応答フィルタ，非巡回型フィルタ） 等のフィルタ構造を適用可能であり、簡略で、かつ確率的勾配降下法に基づく各タップのパラメータの追い込み処理にマッチしたエンファシス付加装置の構成を実現できる。
【００２０】
本発明の請求項４に係るエンファシス付加装置では、前記コスト関数は、前記信号の減衰がないときの前記パルスパターンのアイパターン（Ｅｐ）におけるアイアンプリチュード（Eye Amplitude）とアイハイト（Eye Hight）により定義される関数である構成としてもよい。
【００２１】
この構成により、本発明の請求項４に係るエンファシス付加装置では、エンファシス付加後のパルスパターンのアイパターンにおけるアイアンプリチュードとアイハイトの関係が、伝送路での信号の減衰がない理想とするパルスパターンの同関係に近くなるように各タップのパラメータの値を自動調整することができ、エンファシス波形調整後のパルスパターンを用いて伝送路での信号の減衰の影響が排除された正確な測定が行えるようになる。
【００２２】
本発明の請求項５に係るエンファシス付加装置では、前記コスト関数は、前記信号の減衰がないときの前記パルスパターンのアイパターンにおけるアイ開口部（Ｅｐ１、Ｅｐ１１、Ｅｐ１２、Ｅｐ１３）の面積によって定義される関数であってもよい。
【００２３】
この構成により、本発明の請求項５に係るエンファシス付加装置では、エンファシス調整後のパルスパターンのアイパターンにおけるアイ開口部の面積が、伝送路での信号の減衰がない理想とするパルスパターンのアイパターンにおけるアイ開口部の面積に近くなるように各タップのパラメータの値を自動調整することができ、エンファシス波形調整後のパルスパターンを用いて伝送路での信号の減衰の影響が排除された正確な測定が行えるようになる。
【００２４】
本発明の請求項６に係るエンファシス付加装置では、前記コスト関数は、前記信号の減衰がないときの前記パルスパターンの波形と、前記パルスパターンの測定波形との複数の補正ポイントごとの差分（Ａｄ）を合計した値が最小となるように定義された関数であってもよい。
【００２５】
この構成により、本発明の請求項６に係るエンファシス付加装置では、エンファシス調整後のパルスパターンの波形が、伝送路での信号の減衰がない理想とするパルスパターンの波形に近くなるように各タップのパラメータの値を自動調整することができ、エンファシス波形調整後のパルスパターンを用いる誤り率測定処理での上述した信号の減衰の影響を排除することができる。
【００２６】
また、上記課題を解決するために、本発明の請求項７に係る誤り率測定装置は、請求項１ないし６のいずれか１項に記載のエンファシス付加装置（２３、２３Ａ、７ｃ、７ｃ１）と、前記エンファシス波形成形部に入力する前記パルスパターンを発生するパターン発生部（２１、２１ａ、２１ｂ）と、を有するＰＰＧモジュール（２、２Ａ）と、前記エンファシスが付加された前記パルスパターンを受信した前記被試験対象物が被測定信号として送出するパルスパターンを受信し、該受信したパルスパターンの復号結果に基づいて当該パルスパターンのビットエラーを測定するビットエラー測定部（３４、３４Ａ）を有するＥＤモジュール（３）と、を備える構成を有している。
【００２７】
この構成により、本発明の請求項７に係る誤り率測定装置では、ＰＰＧモジュールにエンファシスを設定する際に、各タップの重み調整のための煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができる。
【００２８】
また、上記課題を解決するために、本発明の請求項８に係るエンファシス付加方法は、伝送路（２７）を介して被試験対象物（Ｗ）に試験用信号として送出するパルスパターンに対し、エンファシス付加対象ビットごとに前記伝送路での信号の減衰を補償するためのエンファシスを付加するエンファシス付加方法であって、前記パルスパターンの前記信号の減衰がないときの波形との相関を指標とするコスト関数を設定するステップ（Ｓ１）と、前記エンファシス付加後の前記パルスパターンを測定する測定ステップ（Ｓ３）と、前記測定ステップによる前記パルスパターンの測定結果に基づき、前記コスト関数と、確率的勾配降下法と、を用いて、前記エンファシス付加対象ビットにそれぞれ対応する前記エンファシスの各タップのパラメータの値を自動で算出し、該算出した前記各タップのパラメータの値に基づいて前記エンファシスのレベルを調整するエンファシス調整制御ステップ（Ｓ４、Ｓ５）と、を含み、前記エンファシス調整制御ステップは、前記各タップのパラメータごとに現在の値を一定のステップ幅（Δｈ）で上下それぞれの値に移動させたときの前記パルスパターンの測定結果に基づき、前記各タップのパラメータごとに、前記上の値と前記下の値の間（２×Δｈ）を移動したときの前記コスト関数の傾きをそれぞれ算出する傾き算出ステップ（Ｓ１３）と、前記各タップのパラメータごとに、前記傾き算出ステップで算出した前記コスト関数の傾きから該コスト関数の傾きに学習率を乗算した値を減算することにより前記現在の値をそれぞれ更新する更新ステップ（Ｓ１４）と、前記測定ステップ、前記傾き算出ステップ及び前記更新ステップを複数回繰り返し実行させ、前記パルスパターンの測定結果が、設定された前記コスト関数に追従するように、前記各タップのパラメータを追い込む追い込みステップ（Ｓ４、Ｓ１３〜Ｓ１６）と、を含む構成である。
【００２９】
この構成により、本発明の請求項９に係るエンファシス付加方法では、エンファシスの各タップのパラメータの値を算出し、該各タップのパラメータの値に基づいてエンファシスのレベルの調整を自動で行うことができ、本方法をエンファシス付加装置に適用することで、各タップの重みを調整するための煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができるようになる。
【００３１】
また、本発明の請求項８に係るエンファシス付加方法では、傾き算出処理、更新処理、及び追い込み処理のアルゴリズムとして、パルスパターンの測定データをランダムに取り出す確率的勾配降下法を適用しているため、本方法をエンファシス付加装置に適用することで、コンピュータによる当該アルゴリズムに基づく各処理の実施中、各タップの重み調整のため手動のよる作業介入の余地はなく、各タップのパラメータの設定についても人為的操作による差異、バラつきが生じることはなくなる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明は、煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができるエンファシス付加装置、エンファシス付加方法及び誤り率測定装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る誤り率測定装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る誤り率測定装置のエンファシス波形成形部の概略構成を示す回路図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る誤り率測定装置におけるエンファシス調整制御機能を含む制御部の機能構成を示すブロック図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る誤り率測定装置におけるＰＰＧモジュールの動作信号の波形を示す図であり、（ａ）は基準クロックの波形を示し、（ｂ）はテスト信号として出力される擬似ランダム信号のパルスパターンを示している。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る誤り率測定装置のＰＰＧモジュールの信号発生動作に係る信号波形図であり、（ａ）はエンファシス付加対象のパルスパターンを示し、（ｂ）はエンファシス付加後のパルスパターンを示し、（ｃ）は（ｂ）に示すパルスパターンの伝送路経由の受信波形を示し、（ｄ）はエンファシスが付加されていないパルスパターンの伝送路経由の受信波形を示している。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る誤り率測定装置のＰＰＧモジュールが出力するＮＲＺ信号のアイパターンの測定例を示す模式図であり、（ａ）はエンファシス調整制御が適用されたときの例を示し、（ｂ）は当該制御がなされなかったときの例を示している。
【図７】オシロスコープを含む測定系を用いたパルスパターンの測定結果に基づくエンファシス調整制御動作を示すフローチャートである。
【図８】図７のステップＳ４での追い込み処理の詳細動作を示すフローチャートである。
【図９】図７におけるエンファシス調整制御に用いる測定系のシステム構成図である。
【図１０】図８における追い込み処理に適用される確率的勾配降下法に基づくコスト関数の傾き算出方法を説明するための二次元座標系を示す図であり、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、それぞれ、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３のコスト関数の傾きを算出する場合の例を示している。
【図１１】本発明の第１の実施形態の変形例に係るコスト関数の波形とエンファシス付加対象のパルスパターンの測定波形を並べて示すタイミングチャートである。
【図１２】本発明の第２の実施形態に係る誤り率測定装置の構成を示すブロック図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係る誤り率測定装置で扱うＰＡＭ４信号のアイパターンの構成例を示す模式図である。
【図１４】本発明の第２の実施形態に係る誤り率測定装置のＰＰＧモジュールが出力するＰＡＭ４信号のアイパターンの測定例を示す模式図である。
【図１５】本発明の第２の実施形態に係る誤り率測定装置のエンファシス波形成形部の概略構成を示す回路図である。
【図１６】本発明の第２の実施形態に係る誤り率測定装置におけるエンファシス調整制御機能を含む制御部の機能構成を示すブロック図である。
【図１７】本発明の第２の実施形態に係る誤り率測定装置のＰＰＧモジュールが発生するＰＡＭ４信号とＢＥＲ測定時の閾値電圧の関係を示す模式図である。
【図１８】本発明の第２の実施形態に係る誤り率測定装置のＥＤモジュールにおけるＰＡＭ４信号のデコード処理での信号形態を示す模式図である。
【図１９】試験対象物の波形品質の劣化を試験する場合の一般的な測定系の構成及びエンファシス付加処理の概略を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本発明に係るエンファシス付加装置、エンファシス付加方法及び誤り率測定装置の実施形態について添付図面を用いて詳細に説明する。
【００３５】
本発明に係るエンファシス付加装置、及びエンファシス付加方法は、例えば、既知パターン（矩形波）の試験用信号（テスト信号）を伝送路経由で被試験対象物に送出し、このテスト信号が入力された被試験対象物が送信する信号を被測定信号として受信し、該被測定信号のビット誤り率（ＢＥＲ：Bit Error Rate）を被試験対象物に入力したテスト信号とのビット比較によって測定する誤り率測定装置（図１、図１２参照）、及びこれに含まれるパターン発生部としてのＰＰＧ（Pulse Pattern Generator）モジュールに適用可能である。
【００３６】
このような誤り率測定装置、及びＰＰＧモジュールについては、被試験対象物に入力するテスト信号として、ＮＲＺ（Non Return to Zero）信号を扱うもの（図１参照）の他、例えば、ＰＡＭ（パルス振幅変調：Pulse-Amplitude Modulation）信号を扱うもの（図１２参照）であってもよい。
【００３７】
本発明に係るエンファシス付加装置、エンファシス付加方法は、例えば、誤り率測定装置のＰＰＧモジュールにより生成されて伝送路へ送出前のパルスパターンを入力し、該パルスパターンに対し、所定ビット数のエンファシス付加対象ビットごとに上記伝送路での信号の減衰を補償するためのエンファシスを付加することを前提とし、特に、エンファシスの各タップのパラメータの値を自動で算出して調整するエンファシス調整制御機能を有するものである。このエンファシス調整制御機能については、後で詳述するように、エンファシスの付加対象となるパルスパターンの理想とする波形、つまり、上記信号の減衰がないときの波形との相関を指標とするコスト関数を設定し、そのコスト関数と確率的勾配降下法を用いて、エンファシスの各タップのパラメータの値を、パルスパターンの測定波形がコスト関数に追従するように追い込む処理を行うことで実現している。
【００３８】
（第１の実施形態）
【００３９】
まず、本発明の第１の実施形態に係る誤り率測定装置１の構成について説明する。図１に示すように、本実施形態に係る誤り率測定装置１は、ＰＰＧモジュール２、ＥＤ(Error Detector)モジュール３、操作部４、記憶部５、表示部６、制御部７を備えている。
【００４０】
ＰＰＧモジュール２は、被試験対象物（以下、被試験デバイスＷ）にテスト信号として例えばＮＲＺ信号を送信するものであり、図１に示すように、パターン発生部２１、エンファシス波形成形部２３を含んで構成される。ＰＰＧモジュール２は、テスト信号を例えばケーブルで構成された伝送路２７へ出力するためのデータ出力端子（Data Out）と、外部機器から信号を入力するための外部入力端子（Ext In）を有している。
【００４１】
パターン発生部２１は、予めユーザにより設定された測定パターンに基づくパルスパターン信号を発生する。パターン発生部２１は、例えば、所定周期の基準クロック（図４（ａ）参照）に同期して、矩形波である擬似ランダム信号（図４（ｂ）参照）を発生し、該擬似ランダム信号をエンファシス波形成形部２３に出力する。この擬似ランダム信号は、例えば、基準クロックの１クロックに対応する部分が１ビットに相当している。
【００４２】
エンファシス波形成形部２３は、パターン発生部２１が発生する擬似ランダム信号（パルスパターン：（図５（ａ）参照）を入力し、伝送路２７での信号の減衰を補償するためのエンファシスを付加した波形に成形する処理を行う。
【００４３】
エンファシス波形成形部２３は、例えば、図２に示すように、パターン発生部２１から入力するパルスパターンを順次１ビットずつ遅延させて出力するｎ段（この例では、３段）の遅延回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃと、入力パルスパターン、及び遅延回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃの各出力をそれぞれ取込み、増幅して出力するｎ＋１個（この例では、４個）の可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄと、可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄの出力を加算する加算器２６と、を有している。エンファシス波形成形部２３としては、例えば、周知のＦＩＲ（Finite Impulse Response）フィルタを用いることができる。
【００４４】
エンファシス波形成形部２３において、遅延回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃは、例えば、Ｄ端子及びＣＫ端子の２つの入力端子と、１つの出力端子（Ｑ端子）を有するＤフリップフロップで構成され、それぞれ、ＣＫ端子に入力するクロックが１になったときに、Ｄ端子に入力された値と同一の値がＱ端子から出力されるようになっている。
【００４５】
可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄは、パルスパターン、及び遅延回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃの各出力をそれぞれ増幅して加算器２６に出力するものであり、それぞれの利得（ゲイン）を可変できる構成となっている。可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄのゲインは、エンファシス調整制御部７ｃが制御対象とする各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（図２参照）の値に相当する。
【００４６】
ＥＤモジュール３は、パターン発生部２１で生成され、エンファシス波形成形部２３で波形成形されたパルスパターン（テスト信号）が入力された被試験デバイスＷが送出するＮＲＺ信号を被測定信号として受信してＢＥＲ測定を行うものであり、Ａ／Ｄ変換部３０、ビットエラー測定部３４を含んで構成される。ＥＤモジュール３は、被測定信号を入力するデータ入力端子（Data In）を有している。
【００４７】
Ａ／Ｄ変換部３０は、被試験デバイスＷから受信されてデータ入力端子より入力された被測定信号を所定のサンプリング周期でＡＤ値（１０進数）に変換し、該ＡＤ値をビットエラー測定部３４に入力する。
【００４８】
ビットエラー測定部３４は、既知のパルスパターンを参照信号（参照パターンデータ）として保持し、Ａ／Ｄ変換部３０から入力されるＡＤ値と参照信号とをシンボルごとに比較することにより、被測定信号のレベルが参照信号のレベルと相違するビットエラーを測定する。
【００４９】
操作部４は、例えば操作ノブ、各種キー、スイッチ、ボタンや表示部６の表示画面上のソフトキーなどで構成される。操作部４は、ＥＤモジュール３の指定、測定パターンの選択、測定時間の設定、ＢＥＲ測定の開始・終了の指示などＢＥＲ測定に関わる各種設定を行う際にユーザにより操作される。
【００５０】
記憶部５は、パターン情報記憶部５ａを有する。操作部４にて設定される測定パターンのパルスパターン信号を発生するため、パターン情報記憶部５ａには、パターン発生部２１が発生するパターン信号のパターンファイルを測定パターンと対応付けして記憶されている。また、記憶部５は、制御部７に備わるパターン発生制御、エンファシス調整制御、被試験デバイスＷから受信されたパルスパターンの信号測定、ＢＥＲ測定、表示制御などの各種制御機能を実行するための処理プログラム、ＢＥＲ測定に関する各種設定値、測定結果なども記憶する。
【００５１】
表示部６は、例えば液晶表示器などで構成され、ＢＥＲ測定に関わる設定画面や、エンファシス調整制御や信号測定に係るＵＩ画面、ＢＥＲ測定結果などを表示する。
【００５２】
制御部７は、ＰＰＧモジュール２、ＥＤモジュール３、操作部４、記憶部５、表示部６を統括制御するものであり、例えば、図３に示すように、パターン発生制御部７ａ、エンファシス調整制御部７ｃ、測定機能部７ｆ、ビットエラー測定制御部７ｇ、表示制御部７ｈを有している。
【００５３】
パターン発生制御部７ａは、操作部４での所定の設定操作に基づいて測定パターンの選択、測定時間の設定、ＢＥＲ測定の開始・終了の指示などＢＥＲ測定に関わる各種設定を行うパターン設定部７ｂを含み、該パターン設定部７ｂでの設定に基づいてパターン発生部２１でパルスパターンを発生させる制御を行う。
【００５４】
エンファシス調整制御部７ｃは、パターン発生部２１が発生したパルスパターンにエンファシスを付加するための動作が実行されるようにエンファシス波形成形部２３を制御する。
【００５５】
エンファシス調整制御部７ｃは、傾き算出部７ｄ１、更新処理部７ｄ２、追い込み処理部７ｄ３を備えている。傾き算出部７ｄ１は、エンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとに現在の値を一定のステップ幅（Δｈ）で上下それぞれの値に移動させたときのパルスパターンの測定結果に基づき、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとに、上の値と下の値の間（２×Δｈ）を移動したときのコスト関数の傾きをそれぞれ算出する傾き算出処理を行う。
【００５６】
更新処理部７ｄ２は、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとに、傾き算出部７１ｄで算出したコスト関数の傾きから該コスト関数の傾きに学習率を乗算した値を減算することにより現在の値をそれぞれ更新する更新処理を行う。
【００５７】
追い込み処理部７ｄ３は、エンファシス付加のパルスパターンの測定、上述の傾き算出処理及び更新処理を複数回繰り返し実行させ、パルスパターンの測定結果が、設定されたコスト関数に追従するように、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３を追い込む追い込み処理を行う。
【００５８】
測定機能部７ｆは、エンファシス波形成形部２３が出力したパルスパターンを入力し、該パルスパターンの測定を行う。測定機能部７ｆは、例えば、後述するオシロスコープ８に準じた信号の測定機能を有する。測定機能部７ｆでの被測定信号の測定結果は、例えば、エンファシス調整制御部７ｃの傾き算出部７ｄ１による傾き算出処理のために参照することができるようになっている。
【００５９】
ビットエラー測定制御部７ｇは、Ａ／Ｄ変換部３０から入力されるＡＤ値と参照信号とのシンボルごとの比較結果に基づいてビットエラーを測定するための動作が実行されるようにビットエラー測定部３４を制御する。
【００６０】
表示制御部７ｈは、各種情報を表示部６に表示する表示制御を行う。本実施形態において、表示制御部７ｈは、例えば、パターン設定部７ｂでの測定パターンの選択、測定時間の設定に用いる設定画面、ＢＥＲ測定に関わる設定画面、エンファシス調整制御や信号測定に係るＵＩ画面等を表示部６に表示させるように制御する。
【００６１】
なお、誤り率測定装置１の記憶部５には、パターン情報記憶部５ａが設けられ、パターン発生部２１が発生するパターン信号のパターンファイルと測定パターンとが対応付けられて記憶されている。
【００６２】
次に、誤り率測定装置１の動作について説明する。誤り率測定装置１では、ＢＥＲ測定を行う場合、ＰＰＧモジュール２から被試験デバイスＷに対し伝送路２７を介して既知パターンのテスト信号（ＮＲＺ信号）を送出する。次いで、このテスト信号が入力された被試験デバイスＷが送信する信号（ＮＲＺ信号）をＥＤモジュール３が被測定信号として受信する。その後、ＥＤモジュール３は、被測定信号をＡ／Ｄ変換処理してビットエラー測定部３４に入力し、該ビットエラー測定部３４がＡ／Ｄ変換後の被測定信号のビット誤り率（ＢＥＲ）を、被試験デバイスＷに入力したテスト信号とのビット比較によって測定する。
【００６３】
このＢＥＲ測定に係る処理動作は周知であるため、以下においては、その詳しい説明は割愛し、本実施形態に係る誤り率測定装置１が特徴とするところのエンファシス調整制御機能に係る動作を主体に説明する。
【００６４】
誤り率測定装置１は、エンファシス調整制御機能として、エンファシス調整制御部７ｃ、及びエンファシス波形成形部２３を有している。エンファシス調整制御部７ｃ、及びエンファシス波形成形部２３は、エンファシス付加装置１０を構成する。
【００６５】
まず、エンファシス付加装置１０におけるエンファシス付加動作について説明する。エンファシス付加装置１０において、エンファシス波形成形部２３は、パターン発生部２１から入力される擬似ランダム信号（パルスパターン：（図５（ａ）参照）を、エンファシス調整制御部７ｃの制御下で、遅延回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃによって順次１ビットずつ遅延させて出力させる一方で、遅延されていないビット、及び各遅延回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃでそれぞれ遅延されたビットを可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄに入力する。可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄは、それぞれの入力を、設定されているゲインで増幅して加算器２６に出力する。さらに加算器２６は、可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄで増幅されたパルスパターンを基準クロックの周期で加算（合成）し、ＰＰＧモジュール２のデータ出力端子（Data Out）より伝送路２７へと出力する。
【００６６】
このエンファシス波形成形部２３の動作において、可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄからの出力される信号は、それぞれ、１クロック分時間がずれて加算器２６に入力されることになる。この１クロックは、パターン発生部２１から入力されてくる一連のパルスパターンのパルス列の１ビットに対応する時間となっている。これにより、エンファシス波形成形部２３では、パターン発生部２１からのパルスパターンの入力に対して、例えば、図５（ｂ）に示すように、所定のビット数のエンファシス付加対象ビット（この例では、４ビット）ごとに、伝送路２７での信号の減衰を補償するための振幅値を、各ビットのエンファシスとして付加して出力することが可能となる。
【００６７】
ここで付加されるエンファシスのレベル（振幅値）は、可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄの各ゲインに対応する値である。図２に示すエンファシス波形成形部２３の構成において、符号Ａ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３は、可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄのゲイン、すなわち、エンファシスの各タップのパラメータをそれぞれ示している。パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３に隣接してかっこ書きで示す数値は、エンファシス調整制御を行う際のそれぞれの初期値を示している。エンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３は、例えば、図５（ｂ）に示すように、Pre1、Pre2、メインタップ、Post1と称することもある。
【００６８】
上述した各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値に対応する振幅値を有するエンファシスがエンファシス付加対象ビットごとに付加されたパルスパターン（図５（ｂ）参照）によれば、その後、伝送路２７での伝送中に信号の減衰を生じて被試験デバイスＷに受信されたとしても、例えば、図５（ｃ）に示すように、立ち上がりのビットと立ち下がりのビットともに矩形の波形を維持した波形となる。
【００６９】
これに対し、エンファシスが付加されない場合は、パターン発生部２１からの入力時点で一連のパルスパターンが図５（ａ）に示すような矩形波であったとしても、このパルスパターンが伝送路２７での伝送中に信号の減衰が生じ、例えば、図５（ｄ）に示すように、立ち上がビット及び立下りビットがそれぞれ正しい矩形波に対して鈍った波形のパルスパターンとして被試験デバイスＷに受信されることとなる。このような波形を有するパルスパターンに基づくＥＤモジュール３での正確なＢＥＲ測定は期待できない。同様に、例えば、図５（ｂ）に示すエンファシスの付加レベル（振幅値）が適正なレベルでない場合にも正確なＢＥＲ測定結果が得られないことになる。
【００７０】
図６は、ＰＰＧモジュール２から出力されるパルスパターン（ＮＲＺ信号）の測定波形、いわゆるアイパターンＥｐの例を示している。図６において、（ａ）は、エンファシス波形成形部２３でのエンファシス付加処理によって、例えば、図５（ｂ）に示すような波形成形が施されたパルスパターンのアイパターンＥｐの例を示し、（ｂ）は、エンファシス付加処理が行われなかったパルスパターンのアイパターンＥｐの例を示している。
【００７１】
図６（ｂ）に示すように、エンファシス付加処理が行われなかったパルスパターンのアイパターンＥｐは、アイ開口部Ｅｐ１の領域が狭く、アイ開口部Ｅｐ１を取り囲む各信号の測定結果も太い線となって現れている。これは、当該パルスパターンが、伝送路２７の伝送中に信号の減衰が生じ、例えば、図５（ｄ）に示すような鈍った波形となったことを反映しているものと認められる。
【００７２】
これに対し、エンファシス付加処理が行われたパルスパターンのアイパターンＥｐは、図６（ａ）に示すように、エンファシス付加処理が行われなかったパルスパターンに比べてアイ開口部Ｅｐ１の領域が広く、アイ開口部Ｅｐ１を取り囲む各信号の測定結果も比較的細い線となって現れている。これは、当該パルスパターンＥｐが、伝送路２７の伝送中の信号の減衰に対して、例えば、図５（ｃ）に示す矩形波形が維持された結果を反映したものと認められる。
【００７３】
図６に示すアイパターンＥｐの形状からも分かるように、誤り率測定装置１のＰＰＧモジュール２が出力するパルスパターンのアイパターンＥｐは、伝送路２７での信号の減衰が小さいほど、アイ開口部Ｅｐ１の領域が広く、しかもアイ開口部Ｅｐ１を取り囲む各信号が細い線となって現れる。
【００７４】
このため、ＰＰＧモジュール２が出力するパルスパターンに対するエンファシス付加処理においては、アイ開口部Ｅｐ１の領域ができるだけ広く、アイ開口部Ｅｐ１を取り囲む各信号ができるだけ細い線となって現れるアイパターンＥｐとすることが望まれる。つまり、エンファシス付加後のパルスパターンは、理想的には、図６に示すアイパターンＥｐにおいて、アイハイト（Eye Hight）とアイアンプリチュード（Eye Amplitude）が一致するような状態にアイ開口部Ｅｐ１が開き、かつ、アイ開口部Ｅｐ１を取り囲む各信号がそれぞれ１本の線として現れる波形であることが理解できる。
【００７５】
そこで、この誤り率測定装置１では、上述した理想とするアイパターン（波形）を目指してエンファシスの付加レベルを調整制御すべく、確率的勾配降下法の概念を取り入れ、エンファシスの付加対象となるパルスパターンの理想とする波形をコスト関数として設定し、該コスト関数と確率的勾配降下法を用いて、パルスパターンの測定波形がコスト関数に追従するようにエンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値を追い込む処理を行うようにしている。
【００７６】
図７は、本実施形態に係る誤り率測定装置１におけるエンファシス調整制御手順を示すフローチャートであり、特に、ＰＰＧモジュール２から送出するパルスパターンを測定する測定系を用いてエンファシスを自動調整する場合の例を示している。図８は、図７のステップＳ４での追い込み処理の詳細動作を示すフローチャートである。
【００７７】
ここではまず、測定系の構成について説明する。測定系は、例えば、図９に示すように、誤り率測定装置１にオシロスコープ８、及びシンセサイザ９を接続した構成を有する。オシロスコープ８、及びシンセサイザ９は、それぞれ、周知の信号測定機能、基準クロック生成機能を有する既存機器が用いられる。オシロスコープ８は、データ入力端子（Data IN）が、誤り率測定装置１のＰＰＧモジュール２のデータ出力端子（Data Out）に接続されている。シンセサイザ９は、その基準クロック出力端子（Ck Out）が、ＰＰＧモジュール２の外部入力端子（Ext In）、及びオシロスコープ８の外部入力端子（Ext In）に接続されている。
【００７８】
この測定系では、シンセサイザ９から出力される基準クロック（図４（ａ）参照）が誤り率測定装置１のＰＰＧモジュール２、及びオシロスコープ８にそれぞれ入力される。誤り率測定装置１において、ＰＰＧモジュール２では、パターン発生部２１が、シンセサイザ９から入力する基準クロックに同期して測定対象のパルスパターン（図４（ｂ）参照）を出力する。オシロスコープ８は、シンセサイザ９から入力する基準クロックに同期して、パターン発生部２１が出力したパルスパターンの測定を行う。なお、オシロスコープ８には、図示しないＰＣ（パーソナルコンピュータ）が接続されており、該ＰＣ（以下、制御ＰＣという）が、オシロスコープ８によるエンファシス付加後のパルスパターンの測定結果に基づき、コスト関数と、確率的勾配降下法と、を用いて、エンファシス付加対象ビットにそれぞれ対応するエンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値を算出するための演算を行うようになっている。
【００７９】
上述した構成を有する測定系を用いてエンファシスの調整を行う場合、図７に示すフローチャートに沿ってエンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値を自動設定するために必要な設定を行う。具体的にはまず、誤り率測定装置１においてコスト関数を設定する（ステップＳ１）。本実施形態では、コスト関数として、例えば、図６に示すアイパターンＥｐの要素であるアイアンプリチュードとアイハイトに基づいて、例えば、下式（１）を満たすコスト関数（Cost）を設定する。このコスト関数（Cost）は、アイアンプリチュードとアイハイトが等しい、エンファシス付加後のパルスパターンに対応する理想的な波形（アイパターンＥｐ）に相当する。
Cost＝１／（Eye Amplitude÷Eye Hight）  ・・・・  （１）
【００８０】
次いで、この測定系では、ＰＰＧモジュール２、オシロスコープ８、シンセサイザ９を対象にエンファシス調整制御動作を実行するために必要な設定を行う（ステップＳ２）。ここで、ＰＰＧモジュール２については、例えば、ビットレート、及び測定パターンを設定する。ビットレートとしては、例えば、６４／６０／５６．１／５３．１／４０／３２／２８．１／２６．６／１６Gbaud(bps)等の値を設定可能である。また、測定パターンとしては、例えば、ＰＲＢＳ２１５-１，ＰＯＳ等のパターンを設定する。オシロスコープ８には、例えば、測定回数を設定する。シンセサイザ９には基準クロックの設定を行う。基準クロックは、例えば、８ＧＨｚ〜１６８ＧＨｚまでの周波数と、振幅（例えば、６ｄＢｍ）を設定する。
【００８１】
次に、この測定系では、ステップＳ２での設定に基づきＰＰＧモジュール２、及びオシロスコープ８を駆動する。具体的に、この測定系では、エンファシス波形成形部２３で波形成形され、ＰＰＧモジュール２の外部出力端子から出力されたパルスパターンを、オシロスコープ８にその入力端子から入力し、当該パルスパターンをオシロスコープ８によって測定する（ステップＳ３）。
【００８２】
引き続き、この測定系では、エンファシス付加後のパルスパターンのオシロスコープ８で測定した波形がコスト関数（Cost）に追従するように、エンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値を追い込む処理を行う（ステップＳ４）。具体的には、コスト関数（Cost）が設定値「１」に追従するように、エンファシス波形成形部２３の可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄのゲイン（パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３）を追い込む処理を行う。
【００８３】
ここで、ステップＳ４における追い込み処理について、図８に示すフローチャートを参照して説明する。この追い込み処理においては、エンファシス付加後のパルスパターンの測定が不可欠である。このパルスパターンの測定は、誤り率測定装置１の測定機能部１においても可能ではあるが、ここでは特に、オシロスコープ８で測定するものとして説明する。
【００８４】
ステップＳ４での追い込み処理においてはまず、追い込みの対象である各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値の初期値を設定する（ステップＳ１１）。具体的には、エンファシス波形成形部２３の可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄのゲインの値を、例えば、Ａ０＝０、Ａ１＝０、Ａ２＝１、Ａ３＝０（図２、図５（ｂ）参照）に設定する。各タップのパラメータとしては、Ａ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３に代えてPre1／Pre2／Post1（図５（ｂ）参照）を用い、これらの初期値を、それぞれ、例えば、Pre1=0、Pre2=0、Post1=0という値に設定する処理方法としてもよい。これら各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値は、例えば、オシロスコープ８に接続されている制御ＰＣから誤り率測定装置１に対して遠隔制御により設定することができる。各パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の設定（後述の移動の設定も同じ）は、例えば、制御ＰＣから、誤り率測定装置１にパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３に対応して設けられるレジスタのアドレスを、設定しようとする値に対応して書き換えることで実行することができる。
【００８５】
次に、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値の追い込み回数ｎを設定する（ステップＳ１２）。追い込み回数ｎは、エンファシス付加対象のパルスパターンのアイパターンをコスト関数（Cost）に充分に近づけ得るような回数が必要であり、例えば、ｎ＝５０に設定してもよい。追い込み回数の設定も、例えば、制御ＰＣにより行うことができる。
【００８６】
引き続き、制御ＰＣでは、エンファシス付加後のパルスパターンのオシロスコープ８での測定結果（ステップＳ３参照）を取り込み、この測定結果に基づいて、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３のコスト関数の傾きＳを算出する処理を実行する（ステップＳ１３）。
【００８７】
図１０は、ステップＳ１１ないしＳ１６の追い込み処理（図７におけるステップＳ４）に適用される確率的勾配降下法に基づくコスト関数の傾き算出方法を説明するための二次元座標系を示している。図１０において、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、それぞれ、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３それぞれのコスト関数の傾きを算出する場合の例を示している。図１０における（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の各図において、縦軸がコストを示し、横軸が各パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値を示している。横軸上の「０」は当該パラメータを上下それぞれの値に移動させる際の基準値（現在値）であり、その両側の「−０．０１」、又は「＋０．０１」は、現在値からの移動ステップ幅（Δｈ）を示している。この例では、上下に移動する移動ステップ幅の総合幅を０．０２（０．０１×２）としているが、移動ステップ幅はこの値に限るものではない。
【００８８】
制御ＰＣは、ステップＳ１３でのコスト関数の傾き算出処理において、図１０（ａ）ないし（ｄ）に示すように、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとに現在の値（現在値）を中心に一定のステップ幅（Δｈ）で上下それぞれの値に移動させ、総移動ステップ幅区間を移送させた時の各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３のコスト関数の傾きＳ０、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３をそれぞれ算出する。
【００８９】
具体的に、図１０（ａ）では、パラメータＡ０について、現在値（初期値＝０）から上にΔｈ＝０．０１動かした値のときのコスト関数の値ｅ１から、下にΔｈ＝０．０１動かした値のときのコスト関数の値ｅ２を除算し、該除算結果をこのときの移動ステップの総合幅＝０．０２（０．０１×２）で除算する演算により傾きＳ０を算出する例を示している。
【００９０】
同様に、図１０（ｂ）、（ｄ）では、パラメータＡ１、Ａ３について、現在値（初期値＝０）から上にΔｈ＝０．０１動かした値のときのコスト関数の値ｅ１から、下にΔｈ＝０．０１動かした値のときのコスト関数の値ｅ２を除算し、該除算値を移動ステップの総合幅＝０．０２（０．０１×２）で除算することにより傾きＳ１、Ｓ３を算出する例を示している。
【００９１】
また、図１０（ｃ）では、パラメータＡ２について、現在値（初期値＝１）から上にΔｈ＝０．０１動かした値のときのコスト関数の値ｅ１から、下にΔｈ＝０．０１動かした値のときのコスト関数の値ｅ２を除算し、その値を移動ステップの総合幅＝０．０２（０．０１×２）で除算することにより傾きＳ２を算出する例を示している。
【００９２】
ステップＳ１３における各パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３のコスト関数の傾きＳの計算式は、下式（２）で表わすことができる。
Ｓ＝Cost(P＋Δh)−Cost(P−Δh)／(2×Δh)      ・・・  （２）
ここで、Ｐは、各パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（若しくは、Pre1、Pre2、Post1）の現在値である。また、移動ステップ幅Δhは、図１０に示すような０．０１の値に限らず、例えば、０．０５とする設定であってもよい。
【００９３】
また、ステップＳ１４における各パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３のコスト関数の傾きの算出方法によれば、１つのパラメータのコスト関数の傾きＳを算出するためには、それ以前に（図７のステップＳ１３で）、パルスパターンを最低限２回測定する必要がある。このため、追い込み回数を例えば５０回に設定し、４つのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３のコスト関数の傾きを算出する場合には、４００（＝２×４×５０）回の測定は必要となる。
【００９４】
図１０（ａ）、（ｃ）によれば、パラメータＡ０、Ａ２のコスト関数の傾きＳ０、Ｓ２から、目標とするコスト関数の真値、すなわち、コスト関数が設定値「１」となるパラメータＡ０、Ａ２の値は、それぞれ矢印で示す方向（本座標系の右側方向）に存在することが分かる。逆に、図１０（ｂ）、（ｄ）によれば、パラメータＡ１、Ａ３のコスト関数の傾きＳ１、Ｓ３から、目標とするコスト関数の真値がそれぞれ矢印で示す方向（本座標系の左側方向）に存在することが推測できる。このことから、コスト関数の真値に辿り着くためには、各パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の基準値を、その都度算出されたコスト関数の傾きＳ０、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３に対応する方向にそれぞれ移動させながら、コスト関数の傾き算出処理をさらに続行すればよいことが理解できる。
【００９５】
図８における追い込み処理において、制御ＰＣは、ステップＳ１３で各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３のコスト関数の傾きＳ０、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３を算出するごとに、当該各パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の現在値を、そのとき算出されたコスト関数の傾きＳ０、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３に対応する方向にそれぞれ移動させる処理、すなわち、パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の更新処理を実施する（ステップＳ１４）。
【００９６】
具体的に、ステップＳ１４においては、ステップＳ１３でのコスト関数の傾き算出処理により算出された各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとのコスト関数の傾きＳ０、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３にそれぞれ学習率ｋを乗算した値を、当該各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとの現在値から減算して基準値をそれぞれ更新する処理を行う。ここで学習率ｋは、１より小さい値であればよく、望ましくは、集束時間が長くならないように、例えば、０．５等の値が好ましい。
【００９７】
さらに図８における追い込み処理において、制御ＰＣは、ステップＳ１４での各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の更新処理の後、追い込み回数ｎを＋１インクリメントし（ステップＳ１５）、次いで、追い込み回数ｎが設定回数に達したか否かをチェックする（ステップＳ１６）。
【００９８】
ここで、追い込み回数ｎが設定回数（例えば、５０回）に達していない場合（ステップＳ１６でＮＯ）、制御ＰＣは、ステップＳ１３ないしＳ１６の処理を繰り返し実施する。そして、この間、追い込み回数ｎが設定回数に達したと判定されると（ステップＳ１６でＹＥＳ）、図８における一連のパラメータ追い込み処理を終了し（ステップＳ１８）、図７におけるステップＳ５へ移行する。
【００９９】
なお、ステップ１６で追い込み回数が設定回数ｎに達したときに、エンファシス付加後のパルスパターンのアイパターンがコスト関数に一致するとは限らないが、上述した確率的勾配降下法で各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３を追い込んでいく処理によって、エンファシスの付加レベルの調整を、ユーザの熟練度に依存せずにしかも自動で行えるという得難いメリットが期待できる。
【０１００】
ステップＳ５に移行すると、図９に示す測定系では、誤り率測定装置１において、上記ステップＳ４（図８のステップＳ１１ないしＳ１６参照）の追い込み処理によって追い込んだ各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の値に基づいてエンファシスを付加するエンファシス調整制御を行い、一連の処理を終了する。
【０１０１】
具体的にステップ５では、エンファシス付加調整部７ｃ１がエンファシス波形成形部２３を制御し、エンファシス付加対象として入力するパルスパターンの各ビットを、可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄによって、ステップＳ４の追い込み処理により自動設定されたゲイン（パラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３）でそれぞれ増幅し、各増幅出力を加算器２６で加算してエンファシス調整後のパルスパターンとして出力させる。
【０１０２】
上述したように、図９に示す測定系及び制御ＰＣを用いたエンファシス調整制御（図７、図８参照）においては、図８におけるステップＳ１１、Ｓ１２、Ｓ１３及びＳ１４の処理を制御ＰＣが実行し、これらの処理に必要なパルスパターンの測定（図７のステップＳ３）をオシロスコープ８で行っている。
【０１０３】
このため、図７、図８に示すエンファシス調整制御機能は、制御ＰＣの処理機能、及びオシロスコープ８の測定機能を誤り率測定装置１側にも設けることで、誤り率測定装置１単独でも実現可能である。誤り率測定装置１において、制御部７を構成するエンファシス調整制御部７ｃ（図３参照）は、制御ＰＣの処理機能を有するものであり、測定機能部７ｆはオシロスコープ８に準じた測定機能を有するものである。
【０１０４】
すなわち、このエンファシス調整制御部７ｃにおいて、傾き算出部７ｄ１は、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとに現在値から一定のステップ幅Δｈで上下の値に移動させ、総移動ステップ幅（２×Δｈ）区間における各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３のコスト関数の傾きをそれぞれ算出する傾き算出処理を行う機能部である。
【０１０５】
また、更新処理部７ｄ２は、傾き算出処理により算出された各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとのコスト関数の傾きに対して学習率ｋを乗算した値を各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとの現在値から減算して現在値をそれぞれ更新する更新処理を行う機能部である。
【０１０６】
また、追い込み処理部７ｄ３は、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３ごとに上記更新処理により更新された現在値から一定のステップ幅Δｈで上下の値に移動させつつ、傾き算出処理及び更新処理を繰り返して実施し、パルスパターンの測定波形がコスト関数に追従するように各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３を追い込む追い込み処理を行う機能部である。
【０１０７】
また、この誤り率測定装置１において、測定機能部７ｆは、オシロスコープ８の全測定機能を有する必要はなく、エンファシス調整制御に対応可能な測定機能を有する構成であればよい。
【０１０８】
（変形例）
本実施形態の上述した構成においては、エンファシスのパラメータを最適化するための確率的勾配降下法のアルゴリズムで用いるコスト関数を、アイパターンにおけるアイアンプリチュードとアイハイトとで定義した例（上記式（１）参照）を挙げているが、本発明に係るエンファシス波形成形処理で用いるコスト関数はこれに限られるものではない。
【０１０９】
要は、本発明のエンファシス波形成形処理におけるパラメータの追い込み処理に係るコスト関数が、最終的に目指すべき波形を実現し得るもの、つまり、理想とする波形との相関関係を有する種々のパラメータを指標とするものであればよい。
【０１１０】
本発明のエンファシス波形成形に係るコスト関数の変形例として、アイアンプリチュードとアイハイトに着目した上記実施形態に係るコスト関数に関連し、例えば、ＰＰＧモジュール２が発生するパルスパターンのアイパターンＥｐ（図６参照）について、アイ開口部Ｅｐ１の面積の値をコスト関数とする方法が挙げられる。この場合、アイ開口部Ｅｐ１の幅（時間長）と高さ（振幅レベル）を測定し、その測定値に基づき、例えば、幅に高さを乗じた値をアイ開口部Ｅｐ１の面積としてもよい。
【０１１１】
また、本発明のエンファシス波形成形に係るコスト関数の他の変形例として、例えば、ＰＰＧモジュール２から出力されるパルスパターンの理想とする波形と、その時間軸上に所定時間間隔で設定された振幅補正ポイントでのＰＰＧモジュール２から実際に出力されるパルスパターンの波形との差分の合計値を用いる方法が挙げられる。
【０１１２】
図１１は、他の変形例に係るコスト関数とパルスパターンの測定波形の関係を示すタイミングチャートである。図１１において、コスト関数とされるパルスパターンの波形（理想とする波形）を点線で示し、そのパルスパターンのオシロスコープ８（図９参照）による測定波形を実線で示している。また、図１１において、Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、・・・は、所定の時間間隔で区切られた振幅補正ポイントを示している。
【０１１３】
ＰＰＧモジュール２が発生したパルスパターンのオシロスコープ８での測定波形については、図１１に示すように、各振幅補正ポイントＰ１、Ｐ２、Ｐ３、・・・において、コスト関数とされる波形に対する差分Ａｄ（Ａｄ１、Ａｄ２、Ａｄ３、・・・）を有することがある。
【０１１４】
この場合、例えば、各振幅補正ポイントＰ１、Ｐ２、Ｐ３、・・・での差分Ａｄ１、Ａｄ２、Ａｄ３、・・・の総計を振幅補正ポイント数で除算した値が最小（例えば、「０（零）」）となるようにエンファシスの各パラメータを最適化する方法が考えられる。この方法においても、例えば、オシロスコープ８の制御機能部によるエンファシスの各パラメータの最適化処理のアルゴリズムとして確率的勾配降下法を採用することができる。
【０１１５】
（第２の実施形態）
【０１１６】
本発明の第２の実施形態に係る誤り率測定装置１Ａは、図１２に示すように、ＰＰＧモジュール２Ａ、ＥＤモジュール３Ａ、操作部４Ａ、記憶部５Ａ、表示部６Ａ、制御部７Ａの各機能部を備えて構成されている。
【０１１７】
誤り率測定装置１Ａは、被試験デバイスＷに対するテスト信号として振幅をシンボルごとに４以上のレベルに分けたパルス振幅変調（Pulse-Amplitude Modulation）方式による多値ＰＡＭ信号を扱うものである。ＰＡＭ信号を扱う伝送方式としては、例えば、ＰＡＭ４信号を伝送するＰＡＭ４方式や、ＰＡＭ８信号を伝送するＰＡＭ８方式等が知られている。このうち、ＰＡＭ４方式は、情報信号の振幅をパルス信号の系列で符号化したパルス振幅変調（ＰＡＭ）信号として、論理「０」及び「１」から構成されるビット列を、４つの電圧レベル又は光電力のパルス信号として変調して伝送する方式である。
【０１１８】
本実施形態では、誤り率測定装置１Ａがエンファシス付加対象のパルスパターンとしてＰＡＭ４信号を扱うものとして説明する。誤り率測定装置１Ａが扱うＰＡＭ４信号は、振幅がシンボルごとに４種類に分けられ、例えば、図１３、図１４に示すように、４つの異なる振幅レベルＬ０、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３を有し、全体の振幅電圧範囲がベースライン（Ｌ０：０レベル）から低電圧範囲Ｈ１、中電圧範囲Ｈ２、高電圧範囲Ｈ３に分けられ、ベースライン（Ｌ０：０レベル）に対する振幅レベルの大きさが異なるＵｐｐｅｒ信号（高レベル信号）、Ｍｉｄｄｌｅ信号（中レベル信号）、Ｌｏｗｅｒ信号（低レベル信号）による３つのアイパターン開口部（Ｕｐｐｅｒ  Ｅｙｅ、Ｍｉｄｄｌｅ  Ｅｙｅ、Ｌｏｗｅｒ  Ｅｙｅ）Ｅｐ１１、ＥＰ１２、Ｅｐ１３が連続した振幅範囲の信号からなる。
【０１１９】
ＰＡＭ４伝送方式を採用した誤り率測定装置１Ａ（図１２参照）において、ＰＰＧモジュール２Ａ、ＥＤモジュール３Ａ、操作部４Ａ、記憶部５Ａ、表示部６Ａ、制御部７Ａは、第１の実施形態に係る誤り率測定装置１のＰＰＧモジュール２、ＥＤモジュール３、操作部４、記憶部５、表示部６、制御部７にそれぞれ対応する機能部である。誤り率測定装置１Ａの各機能部は、ＰＡＭ４信号を扱い得る点でＮＲＺ信号を扱う第１の実施形態に係る誤り率測定装置１（図１参照）の対応各機能部と異なるが、そのうち、特に、ＰＰＧモジュール２Ａ、ＥＤモジュール３Ａ及び制御部７Ａの構成が誤り率測定装置１の対応各部の構成と異なっている。
【０１２０】
このため以下では、操作部４Ａ、記憶部５Ａ、表示部６Ａについての詳しい説明は割愛し、ＰＰＧモジュール２Ａ、ＥＤモジュール３Ａ及び制御部７Ａの構成及び動作を主体に説明する。
【０１２１】
図１２に示す誤り率測定装置１の構成において、ＰＰＧモジュール２Ａは、被試験デバイスＷにテスト信号としてのＰＡＭ４信号を送信するものであり、第１パターン発生部２１ａ、第２パターン発生部２１ｂ、パターン合成出力部２２、エンファシス波形成形部２３Ａを含んで構成される。
【０１２２】
第１パターン発生部２１ａと第２パターン発生部２１ｂは、ユーザにより設定された測定パターンに基づくＰＡＭ４信号を生成するためのパターン信号を発生する。第１及び第２パターン発生部２１ａ、２１ｂが発生する具体的なパターン信号としては、例えばＰＲＢＳ７（パターン長：２7 −１）、ＰＲＢＳ９（パターン長：２9 −１）、ＰＲＢＳ１０（パターン長：２10−１）、ＰＲＢＳ１１（パターン長：２11−１）、ＰＲＢＳ１５（パターン長：２15−１）、ＰＲＢＳ２０（パターン長：２20−１）等の各種疑似ランダムパターンや、ＰＲＢＳ１３Ｑ、ＰＲＱＳ１０、ＳＳＰＲ等のＰＡＭを評価するための評価用パターンがある。
【０１２３】
パターン合成出力部２２は、第１パターン発生部２１ａが発生するパターン信号と第２パターン発生部２１ｂが発生するパターン信号とを合成し、被試験デバイスＷに送信されるテスト信号として、操作部４Ａでのユーザ操作により設定された測定パターンに基づくＰＡＭ４信号を出力する。具体的には、例えば、図１７に示すように、第１パターン発生部２１ａは、最上位ビット列信号（Most Significant Bit：ＭＳＢ）を含むＰＰＧ１に相当するパターン信号を発生し、第２パターン発生部２１ｂは、最下位ビット列信号（Least Significant Bit：ＬＳＢ）を含むＰＰＧ２に相当するパターン信号を発生する。そして、パターン合成出力部２２は、これら２つのパターン信号を合成し、測定パターンに基づくＰＡＭ４信号を出力する。
【０１２４】
エンファシス波形成形部２３Ａは、パターン合成出力部２２が出力するＰＡＭ４信号を入力してエンファシスを付加する処理を行うものであり、図１５に示すように、第１の実施形態に係る誤り率測定装置１のエンファシス波形成形部２３（図２参照）と同様、ＦＩＲフィルタを採用した構成を有している。図１５に示したエンファシス波形成形部２３Ａの構成において、エンファシスの各タップに相当する可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄの利得は、それぞれ、符号Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１で表わされている。エンファシス波形成形部２３Ａにおいても、第１の実施形態と同様、エンファシスのタップ数を４つとしているが、タップ数は４つに限られるものではない。エンファシス波形成形部２３Ａは、後述のエンファシス調整制御部７ｃ１とともにエンファシス付加装置１０Ａを構成する。
【０１２５】
ＥＤモジュール３Ａは、ＰＰＧモジュール２Ａからのテスト信号が入力された被試験デバイスＷが送出するＰＡＭ４信号を被測定信号として受信してＢＥＲ測定を行うものであり、ＰＡＭデコーダ３１Ａ、ビットエラー測定部３４Ａを含んで構成される。
【０１２６】
ＰＡＭデコーダ３１Ａは、０／１判定回路３２及びデコード回路３３を有している。ＰＡＭデコーダ３１Ａは、ＰＡＭ４信号を被測定信号として０／１判定回路３２に入力し、デコード回路３３が、０／１判定回路３２の判定結果に基づいて被測定信号のレベルをシンボルごとに検出することにより当該被測定信号を２値信号にデコードするものである。具体的に、ＰＡＭデコーダ３１Ａでは、例えば、図１８に示すように、被測定信号であるＰＡＭ４信号を取り込みつつ、該ＰＡＭ４信号からＭＳＢ及びＬＳＢを復元するデコード処理を行う。
【０１２７】
ビットエラー測定部３４Ａは、既知のパルスパターンを参照信号として保持し、ＰＡＭデコーダ３１Ａによりデコードされた２値信号と参照信号とをシンボルごとに比較することにより、被測定信号のレベルが参照信号のレベルと相違するビットエラーを測定するものである。
【０１２８】
制御部７Ａは、ＰＰＧモジュール２Ａ、ＥＤモジュール３Ａ、操作部４Ａ、記憶部５Ａ、表示部６Ａを統括制御するものであり、例えば、図１６に示すように、パターン発生制御部７ａ１、エンファシス調整制御部７ｃ１、測定機能部７ｆ１、ビットエラー測定制御部７ｇ１、表示制御部７ｈ１を有している。これら各機能部は、ＰＡＭ４信号を扱い得る点以外は第１の実施形態に係る誤り率測定装置１の制御部７におけるパターン発生制御部７ａ、エンファシス調整制御部７ｃ、測定機能部７ｆ、ビットエラー測定制御部７ｇ、表示制御部７ｈと同等の構成を有する。特に、エンファシス調整制御部７ｃ１は、誤り率測定装置１の制御部７が有する傾き算出部７ｄ１、更新処理部７ｄ２、追い込み処理部７ｄ３に代えて、ＰＡＭ４信号を対象に傾き算出処理、更新処理、追い込み処理を実施する、傾き算出部７ｅ１、更新処理部７ｅ２、追い込み処理部７ｅ３を有している。
【０１２９】
エンファシス調整制御部７ｃ１は、傾き算出部７ｅ１、更新処理部７ｅ２、追い込み処理部７ｅ３を統括的に制御し、ＰＰＧモジュール２Ａからテスト信号として出力されるＰＡＭ４信号（パルスパターン）が理想とするアイパターン（波形）となるようにエンファシス波形成形部２３Ａにおけるエンファシスの付加レベルを調整する制御を行う。その際、エンファシス調整制御部７ｃ１は、エンファシスの付加対象となるＰＡＭ４信号の理想とする波形（パルスパターン）をコスト関数として設定し、該コスト関数と確率的勾配降下法を用いて、パルスパターンの測定波形がコスト関数に追従するようにエンファシスの各タップのパラメータの値を追い込む処理を実施する。
【０１３０】
ここで、ＰＡＭ４信号をエンファシス付加対象とする場合における上記コスト関数としては、例えば、図１４に示すＰＡＭ４信号のアイパターンＥｐにおいて、アッパーアイのアイ開口部Ｅｐ１１、ミドルアイのアイ開口部Ｅｐ１２、ロウワーアイのアイ開口部Ｅｐ１３が、それぞれの振幅値（アイアンプリチュード）が、アッパーアイ、ミドルアイ、ロウワーアイそれぞれの振幅値（アイハイト）に一致するように開かれている波形を設定することができる。
【０１３１】
なお、誤り率測定装置１ＡがＰＡＭ４信号を扱うことに関連して、記憶部５Ａには、高電圧範囲Ｈ３の閾値電圧Ｖｔｈ１、中電圧範囲Ｈ２の閾値電圧Ｖｔｈ２、低電圧範囲Ｈ１の閾値電圧Ｖｔｈ３等の各種パラメータが記憶されている。パターン情報記憶部５ａ１には、第１及び第２パターン発生部２１ａ、２１ｂが発生するパターン信号のパターンファイルと測定パターンとが対応付けられて記憶されている。さらに記憶部５Ａは、制御部７Ａの各機能部を実現するための各処理プログラムを記憶している。制御部７Ａは、それぞれの処理プログラムを実行することにより上記各機能部を実現している。
【０１３２】
次に、誤り率測定装置１Ａの動作について説明する。まず、ＢＥＲ測定動作について説明する。ここでは、ＰＰＧモジュール２Ａから被試験デバイスＷに既知パターンを有するテスト信号（ＰＡＭ４信号）を入力し、このテスト信号の入力に対して被試験デバイスＷが送出するＰＡＭ４信号をＥＤモジュール３Ａで被測定信号として受信してＢＥＲ測定を行う場合について述べる。
【０１３３】
ＢＥＲ測定を行う場合、ユーザは、測定を行う測定パターン、測定時間等の各種パラメータを例えば設定画面上で設定する。この設定の完了後、ＢＥＲ測定を開始するため、ユーザが設定画面上で測定開始の操作を行うと、制御部７Ａでは、ユーザにより設定された測定パターンに対応付けされたパターンファイルを、パターン設定部７ｂ１により、記憶部５Ａのパターン情報記憶部５ａ１から読み出してＰＰＧモジュール２Ａにパターン発生指示を出力する。
【０１３４】
ＰＰＧモジュール２Ａは、制御部７Ａからパターン発生指示が入力されると、上記測定パターンに基づくＰＡＭ信号を生成するためのパターン信号を発生する。その際、ＰＰＧモジュール２Ａは、例えば、図１７（ａ）に示すように、第１パターン発生部２１ａがＭＳＢに相当するパルスパターン（ＰＰＧ１）を発生するとともに、第２パターン発生部２１ｂがＬＳＢに相当するパルスパターン（ＰＰＧ２）を発生する。
【０１３５】
図１７（ａ）においては、特に、ＰＰＧ１として００２２２０２０・・・という値のＭＳＢに相当するパルスパターンを発生し、ＰＰＧ２として０１０１００１１・・・という値のＬＳＢに相当するパルスパターンを発生する例を挙げている。
【０１３６】
ＰＰＧモジュール２Ａにおいて、パターン合成出力部２２は、第１パターン発生部２１ａから発生されたＭＳＢと第２パターン発生部２１ｂから発生されたＬＳＢと合成してＰＡＭ４信号を生成する。図１７（ａ）の例においては、ＭＳＢとＬＳＢを合成して時系列方向に一つずつ順に０１２３２０３１・・・という値を有するＰＡＭ４信号を生成する。ここで時系列方向の１つずつの数字の区切りは、シンボルに相当する。
【０１３７】
図１７（ａ）におけるＰＡＭ４信号は、図１７（ｂ）に太い実線で示すような波形を有するものである。すなわち、このＰＡＭ４信号は、アッパーアイ（upper eye）、ミドルアイ（middle eye）、ロウワーアイ（Lower eye）の３つのアイを有するアイパターンＥｐ（合わせて図１４参照）を有するものである。また、このＰＡＭ４信号は、図１３に示す各種パラメータ（電圧範囲（Ｈ３〜Ｈ１）、閾値電圧（Ｖｔｈ１〜Ｖｔｈ３）、レベル（Ｌ３〜Ｌ０）等）の設定条件からも分かるように、シンボルごとの振幅レベルがそれぞれＬ０、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の４つのレベルに分けられたものである。
【０１３８】
ＰＰＧモジュール２Ａにおいて、パターン合成出力部２２により生成されたＰＡＭ４信号はエンファシス波形成形部２３Ａに入力される。エンファシス波形成形部２３Ａは、入力されたＰＡＭ４信号のエンファシス付加対象ビットに対してエンファシスを付加する処理を行う。ここで、エンファシス調整制御部７ｃ１は、第１の実施形態と同様、コスト関数と確率的勾配降下法を用いて、エンファシスの各タップのパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１（図１５参照）の値を自動で算出し、算出したパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１の値に基づいてパルスパターンのエンファシス付加対象ビット（図１７（ｃ）参照）の信号をそれぞれ増幅しつつエンファシスの付加量を調整するようエンファシス波形成形部２３Ａを制御する。
【０１３９】
エンファシス波形成形部２３Ａでの波形成形後のＰＡＭ４信号は、図１７（ｃ）に示すような波形となる。図１７（ｃ）に示すＰＡＭ４信号によれば、エンファシス付加対象ビット（４ビット）ごとに、エンファシス調整後のパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１に対応するエンファシスが付加されていることが分かる。エンファシス波形成形部２３Ａによる波形成形後のＰＡＭ４信号は、テスト信号として伝送路２７に出力される。
【０１４０】
ＰＰＧモジュール２Ａが発生したＰＡＭ４信号（図１７（ｃ）参照）が伝送路２７により伝送されて被試験デバイスＷにより受信されると、被試験デバイスＷは被測定信号となるＰＡＭ４信号を送出する。
【０１４１】
誤り率測定装置１において、ＥＤモジュール３Ａは、被試験デバイスＷからのＰＡＭ４信号を被測定信号として受信し、該被測定信号をＭＳＢとＬＳＢにデコードしてＢＥＲ測定を実行する。
【０１４２】
このＢＥＲ測定においてはまず、ＥＤモジュール３Ａにおいて、ＰＡＭデコーダ３１Ａは、テスト信号を受信した被試験用デバイスＷから送出されるＰＡＭ４信号を被測定信号（図１８（ａ）参照）として入力し、０／１判定回路３２及びデコード回路３３を介して、ＭＳＢとＬＳＢ（ＭＳＢ／ＬＳＢ）とに分離された形態にデコードする（図１８（ｂ）参照）。
【０１４３】
このとき、ＭＳＢパターン（ＭＳＢ Pattern）は、ミドルアイの波形と１対１に対応するものとなる。これに対して、ＬＳＢパターン（ＬＳＢ pattern）は、アッパーアイとロウワーアイの波形を合成した波形となり、アッパーアイとロウワーアイの波形と１対１に対応していないものとなる。このため、ＥＤモジュール３Ａにおいて、デコード回路３３は、アッパーアイ用のパターンを分離するためのマスクと、ロウワーアイ用のパターンを分離するためにマスクとを用い、ＬＳＢパターンからアッパーアイ用のパターンとロウワーアイ用のパターンを分離して出力するようになっている。これにより、ＰＡＭデコーダ３１Ａでは、ＰＡＭ４信号からＭＳＢパターンと、アッパーアイ用のＬＳＢパターン及びロウワーアイ用のＬＳＢパターンを分離して出力することができる。
【０１４４】
図１８（ｂ）におけるＰＡＭデコーダ３１Ａでの復調データは、ビットエラー測定部３４Ａに入力される。ビットエラー測定部３４Ａには、ＰＰＧモジュール２ＡでＰＡＭ４信号を生成するために用いられたパターンデータ（ＰＰＧ１（ＭＳＢ）、ＰＰＧ２（ＬＳＢ））が、制御部７Ａの制御により、参照信号として事前に設定（保持）されている。
【０１４５】
これにより、ビットエラー測定部３４Ａは、上述したＰＡＭ４信号のデコード処理の後、該デコード結果（復調データ）を取り込み、シンボルごとに参照信号と比較してＢＥＲ測定処理を実行する。ここでビットエラー測定部３４Ａは、ＰＡＭデコーダ３１Ａでのデコード処理により分離されたＭＳＢ／ＬＳＢの値と参照信号のＭＳＢ／ＬＳＢの値をシンボルごとに比較し、両者が不一致の場合にビットエラーと判定する。さらにビットエラー測定部３４Ａは、ＰＰＧモジュール２Ａから出力される一連のビットエラー測定に係るＰＡＭ４の総ビット数と、上述したビットエラーと判定されたビット数との比をＢＥＲとして算出する。
【０１４６】
次に、誤り率測定装置１Ａにおけるエンファシス調整制御について説明する。このエンファシス調整制御は、第１の実施形態と同様、測定系（図９参照）を用いて行うこともできるが、ここでは、誤り率測定装置１Ａで行う場合について、図７、及び図８に示すフローチャートを援用して説明する。
【０１４７】
このエンファシス調整制御を行うには、測定パターンの他、コスト関数、各タップのパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１の初期値、追い込み回数、学習率ｋなどの設定を行う必要がある。これらの設定は、例えば、操作部４Ａと表示部６Ａとが協働して提供されるＵＩを用いて行うことができる。コスト関数は、ＰＡＭ４信号について、例えば、上記（１）式で表し得るものを設定する。
【０１４８】
なお、ＰＡＭ４信号をエンファシス付加対象とする誤り率測定装置１Ａにおいて、上記（１）式を満足するコスト関数とは、例えば、図１４に示すＰＡＭ４信号のアイパターンＥｐにおいて、アッパーアイのアイ開口部Ｅｐ１１、ミドルアイのアイ開口部Ｅｐ１２、ロウワーアイのアイ開口部Ｅｐ１３のそれぞれの振幅値（アイアンプリチュード）が、アッパーアイ、ミドルアイ、ロウワーアイそれぞれの振幅値（アイハイト）に一致する態様の波形に相当する。
【０１４９】
上述した各種パラメータの設定後、エンファシス調整モードに移行し、エンファシス調整制御が開始される。エンファシス調整制御が開始されると、エンファシス調整制御部７ｃ１は、図８に示すフローチャートに従って、ステップＳ１３ないしＳ１６の処理を追い込み回数が設定した回数となるまで繰り返し実施する。
【０１５０】
エンファシス調整制御部７ｃ１は、ステップＳ１３の処理に先立って、測定機能部７ｆ１によりエンファシス付加後のパルスパターンの測定をパラメータＡ１１、Ａ２１、Ａ３１ごとにそれぞれ２回実施させるように制御する。ここで、１回目の測定は、例えば、１つ目のタップのパラメータＡ０１を上述したステップ幅（Δｈ）で上の値に移動させた状態で行い、２回目の測定は、該パラメータＡ０１をステップ幅（Δｈ）で下の値に移動させた状態で行い。この２回の測定は、引き続き他のタップのパラメータＡ１１、Ａ２１、Ａ３１についても上下の値への移動に合わせて実施される（図１０参照）。
【０１５１】
エンファシス調整制御部７ｃ１は、上述したパルスパターンの測定結果に基づき、各タップのパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１ごとに、上の値と下の値の間（２×Δｈ）を移動したときのコスト関数の傾きをそれぞれ算出する（ステップＳ１３）。
【０１５２】
次に、エンファシス調整制御部７ｃ１は、算出した各タップのパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１のコスト関数から該コスト関数に学習率ｋを乗算した値を減算することにより、各パラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１の現在値を更新する処理を行う（ステップＳ１４）。
【０１５３】
その後、エンファシス調整制御部７ｃ１は、ステップＳ１３とステップＳ１４の処理を繰り返し実施する（ステップＳ１５、Ｓ１６）。その間、追い込み回数ｎが設定回数に達すると（ステップＳ１６でＮＯ）、この処理を終了し、図７におけるステップＳ５へ移行する。
【０１５４】
ステップＳ５において、エンファシス調整制御部７ｃ１は、追い込んだ各タップのパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１の値に基づいてエンファシスを調整する制御を行う。
【０１５５】
このように、本実施形態に係る誤り率測定装置１Ａは、ＰＡＭ信号を扱うものであり、ＮＲＺ信号を扱う第１の実施形態とはエンファシス測定対象の信号種別の差異はあるものの、その特徴とするところは、第１の実施形態と同様、エンファシス付加後のパルスパターン（ＰＡＭ４信号）の測定結果に基づき、信号の減衰がないときのパルスパターンの波形との相関を指標とするコスト関数と、確率的勾配降下法と、を用いて、エンファシスの各タップのパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１の値を自動で算出し、該算出した各タップのパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１の値に基づいてエンファシスのレベルを調整する点にある。
【０１５６】
このため、本実施形態においても、エンファシス調整制御部７ｃ１及び信号測定機能（測定機能部７ｆ１、又はオシロスコープ８）によって、ＰＡＭ４信号を対象として、ユーザの手を煩わせることなくエンファシスの各タップのパラメータＡ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１の値を自動で算出し、設定することが可能となる。これにより、本実施形態においても、第１の実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
【０１５７】
また、本実施形態においても、コスト関数として「１」を設定することに限らず、例えば、各振幅補正ポイントでの理想とする波形と測定波形の差分の総計が最小になるようなコスト関数（図１１参照）や、アイパターンＥｐのアイ開口部（Ｅｐ１１、Ｅｐ１２、Ｅｐ１３）の面積に相当するコスト関数を用いるなど、第１の実施形態と同様の変形例に係るコスト関数を用いることが可能である。
【０１５８】
上述したように、第１、及び第２実施形態に係る誤り率測定装置１（１Ａ）は、伝送路２７を介して被試験デバイスＷにテスト信号として送出するパルスパターンに対し、所定数のエンファシス付加対象ビットごとに伝送路２７での信号の減衰を補償するためのエンファシスを付加するエンファシス波形成形部２３（２３Ａ）と、エンファシス付加後のパルスパターンを測定する測定機能部７ｆ（７ｆ１）によるパルスパターンの測定結果に基づき、信号の減衰がないときのパルスパターンの波形との相関を指標とするコスト関数と、確率的勾配降下法と、を用いて、エンファシス付加対象ビットにそれぞれ対応するエンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値を自動で算出し、該算出した各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）値に基づいてエンファシスのレベルを調整するエンファシス調整制御部７ｃ（７ｃ１）と、を有している。
【０１５９】
この構成により、上記実施形態（第１、及び第２の実施形態）に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）は、エンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値を算出し、該各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値に基づいてエンファシスのレベルの調整を自動で実施でき、各タップの重みを調整するための煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができる。
【０１６０】
また、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）において、エンファシス調整制御部７ｃ（７ｃ１）は、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）ごとに現在の値を一定のステップ幅（Δｈ）で上下それぞれの値に移動させたときのパルスパターンの測定結果に基づき、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）ごとに、上の値と下の値の間（２×Δｈ）を移動したときのコスト関数の傾きをそれぞれ算出する傾き算出処理を行う傾き算出部７ｄ１（７ｅ１）と、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）ごとに、傾き算出部７ｄ１（７ｅ１）により算出したコスト関数の傾きから該コスト関数の傾きに学習率を乗算した値を減算することにより現在の値をそれぞれ更新する更新処理を行う更新処理部７ｄ２（７ｅ２）と、パルスパターンの測定、傾き算出処理及び更新処理を複数回繰り返し実行させ、パルスパターンの測定結果が、設定されたコスト関数に追従するように、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）を追い込む追い込み処理部７ｄ３（７ｅ３）と、を有する構成である。
【０１６１】
この構成により、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）は、傾き算出処理、更新処理、及び追い込み処理のアルゴリズムとして、パルスパターンの測定データをランダムに取り出す確率的勾配降下法を適用しているため、コンピュータを用いた当該アルゴリズムに基づく各処理の実施中、各タップの重み調整のため手動作業介入の余地はなく、各タップのパラメータの設定についても人為的操作による差異、バラつきが生じることはなくなる。
【０１６２】
また、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）において、エンファシス波形成形部２３（２３Ａ）は、パルスパターンの出力端子（Data Out）に、パルスパターンを測定するオシロスコープ８が接続され、エンファシス調整制御部７ｃ（７ｃ１）は、傾き算出処理に係るパルスパターンの測定結果をオシロスコープ８から取得する構成である。
【０１６３】
この構成により、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）は、エンファシス波形成形部２３（２３Ａ）にオシロスコープ８を接続したことにより、オシロスコープ８のような測定機能を内部に設ける必要がなく、簡単な構成で、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値を適切に自動調整することが可能になる。
【０１６４】
また、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）において、エンファシス波形成形部２３（２３Ａ）は、パルスパターンを順次１ビットずつ遅延させて出力する遅延回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃと、パルスパターンの各遅延回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃで遅延されないビット、及び遅延された各ビットを、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値にそれぞれ対応するゲインで増幅して出力する可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄと、各可変利得増幅器２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄの出力を加算し、エンファシス付加後のパルスパターンとして出力する加算器２６と、を有して構成されている。
【０１６５】
この構成により、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）では、エンファシス波形成形部２３（２３Ａ）としてＦＩＲフィルタのフィルタ構造を適用可能であり、簡略で、かつ確率的勾配降下法に基づく各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の追い込み処理にマッチした構成とすることができる。
【０１６６】
また、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）において、コスト関数は、信号の減衰がないときのパルスパターンのアイパターンＥｐにおけるアイアンプリチュードとアイハイトにより定義される関数が用いられる。
【０１６７】
この構成により、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）は、エンファシス付加後のパルスパターンのアイパターンにおけるアイアンプリチュードとアイハイトの関係が、伝送路２７での信号の減衰がない理想とするパルスパターンの同関係に近くなるように各タップのパラメータの値を自動調整することができ、エンファシス波形調整後のパルスパターンを用いて伝送路２７での信号の減衰の影響が排除された正確な測定が行える。
【０１６８】
また、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）において、コスト関数は、信号の減衰がないときのパルスパターンのアイパターンにおけるアイ開口部Ｅｐ１の面積によって定義される関数が用いられる。
【０１６９】
この構成により、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）は、エンファシス調整後のパルスパターンのアイパターンにおけるアイ開口部Ｅｐ１（Ｅｐ１１、Ｅｐ１２、Ｅｐ１３）の面積が、伝送路２７での信号の減衰がない理想とするパルスパターンのアイパターンにおけるアイ開口部の面積に近くなるように各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値を自動調整することができ、エンファシス波形調整後のパルスパターンを用いて伝送路２７での信号の減衰の影響が排除された正確な測定が行えるようになる。
【０１７０】
また、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）において、コスト関数は、信号の減衰がないときのパルスパターンの波形と、パルスパターンの測定波形との複数の補正ポイントごとの差分Ａｄを合計した値が最小となるように定義された関数が用いられる。
【０１７１】
この構成により、上記実施形態に係るエンファシス付加装置１０（１０Ａ）は、エンファシス調整後のパルスパターンの波形が、伝送路２７での信号の減衰がない理想とするパルスパターンの波形に近くなるように各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値を自動調整することができ、エンファシス波形調整後のパルスパターンを用いる誤り率測定処理での上述した信号の減衰の影響を排除することができる。
【０１７２】
また、上記実施形態に係る誤り率測定装置１（１Ａ）は、前述したエンファシス付加装置１０（１０Ａ）と、エンファシス波形成形部２３（２３Ａ）に入力するパルスパターンを発生するパターン発生部２１（２１ａ、２１ｂ）と、を有するＰＰＧモジュール２（２Ａ）と、エンファシスが付加されたパルスパターンを受信した被試験デバイスＷが被測定信号として送出するパルスパターンを受信し、該受信したパルスパターンの復号結果に基づいて当該パルスパターンのＢＥＲ測定を行うビットエラー測定部３４（３４Ａ）を有するＥＤモジュール３（３Ａ）と、を備えて構成されている。
【０１７３】
この構成により、上記実施形態に係る誤り率測定装置１（１Ａ）は、ＰＰＧモジュール２（２Ａ）にエンファシスを設定する際に、各タップの重みを調整するための煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができる。
【０１７４】
また、上記実施形態に係るエンファシス付加方法は、伝送路２７を介して被試験デバイスＷにテスト信号として送出するパルスパターンに対し、所定数のエンファシス付加対象ビットごとに伝送路２７での信号の減衰を補償するためのエンファシスを付加するエンファシス付加方法であって、パルスパターンの信号の減衰がないときの波形との相関を指標とするコスト関数を設定するステップＳ１と、エンファシス付加後のパルスパターンを測定する測定ステップＳ３と、測定ステップＳ３によるパルスパターンの測定結果に基づき、コスト関数と、確率的勾配降下法と、を用いて、エンファシス付加対象ビットにそれぞれ対応するエンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値を自動で算出し、該算出した各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値に基づいてエンファシスのレベルを調整するエンファシス調整制御ステップ（ステップＳ４、Ｓ５参照）と、を含むものである。
【０１７５】
この構成により、上記実施形態に係るエンファシス付加方法は、エンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値を算出し、該各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）の値に基づいてエンファシスのレベルの調整を自動で行うことができ、本方法をエンファシス付加装置１０（１０Ａ）、及び誤り率測定装置１（１Ａ）に適用することで、各タップの重みを調整するための煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができるようになる。
【０１７６】
また、上記実施形態に係るエンファシス測定方法は、エンファシス調整制御ステップは、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）ごとに現在の値を一定のステップ幅Δｈで上下それぞれの値に移動させたときのパルスパターンの測定結果に基づき、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）ごとに、上の値と下の値の間（２×Δｈ）を移動したときのコスト関数の傾きをそれぞれ算出する傾き算出ステップＳ１３と、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）ごとに、傾き算出ステップＳ１３で算出したコスト関数の傾きから該コスト関数の傾きに学習率ｋを乗算した値を減算することにより現在の値をそれぞれ更新する更新ステップＳ１４と、測定ステップＳ３、傾き算出ステップＳ１３及び更新ステップＳ１４を複数回繰り返し実行させ、パルスパターンの測定結果が、設定されたコスト関数に追従するように、各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）を追い込む追い込みステップＳ４（ステップＳ１３〜Ｓ１６参照）と、を含むものである。
【０１７７】
この構成により、上記実施形態に係るエンファシス付加方法は、傾き算出処理、更新処理、及び追い込み処理のアルゴリズムとして、パルスパターンの測定データをランダムに取り出す確率的勾配降下法を適用しているため、本方法をエンファシス付加装置１０（１０Ａ）及び誤り率測定装置１（１Ａ）に適用することで、コンピュータによる当該アルゴリズムに基づく各処理の実施中、各タップの重み調整のため手動作業介入の余地はなく、各タップのパラメータの設定についても人為的操作による差異、バラつきが生じることはなくなる。
【０１７８】
よって、上記実施形態によれば、各タップの重みを調整するための煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータＡ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３（Ａ０１、Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１）を正確かつ迅速に設定することができるエンファシス付加装置１０（１０Ａ）、エンファシス付加方法及び誤り率測定装置１（１Ａ）を提供することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１７９】
以上のように、本発明に係るエンファシス付加装置、エンファシス付加方法及び誤り率測定装置は、煩雑な作業を必要とせず、最適なアイ開口に追い込むためのエンファシスの各タップのパラメータを正確かつ迅速に設定することができるという効果を有し、パルスパターンを有線系により被試験対象物に伝送するエンファシス付加装置、エンファシス付加方法及び誤り率測定装置全般に有用である。
【符号の説明】
【０１８０】
１、１Ａ  誤り率測定装置
２、２Ａ  ＰＰＧモジュール
３、３Ａ  ＥＤモジュール
７、７Ａ  制御部
７ｃ、７ｃ１  エンファシス調整制御部（エンファシス付加装置）
７ｄ１、７ｅ１  傾き算出部
７ｄ２、７ｅ２  更新処理部
７ｄ３、７ｅ３  追い込み処理部
８  オシロスコープ
２１  パターン発生部
２１ａ  第１パターン発生部
２１ｂ  第２パターン発生部
２２  パターン合成出力部
２３、２３Ａ  エンファシス波形成形部（エンファシス付加装置）
２４ａ、２４ｂ、２４ｃ、２４ｄ  遅延回路
２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄ  可変利得増幅器
２６  加算器
２７  伝送路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
0006893963.tif 000017
【図１７】
0006893963.tif 000018
【図１８】
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【図１９】
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