(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子デバイスと、前記電子デバイスの一方の面に装着された透明基材を含む電子デバイス積層体の前記透明基材を洗浄する洗浄テーブルであって、
前記透明基材を表面として前記電子デバイス積層体が載置される載置面を有し、
前記載置面に形成され、前記電子デバイス積層体の外周端辺の裏面側外周縁部と対向する位置に形成される溝と、
前記溝の外周を構成し、前記電子デバイス積層体の外周端辺まで延びる外周壁と、
前記溝と連通し、前記溝にパージガスを送給するガス送給手段と、
を有し、
前記外周壁は、前記電子デバイス積層体の前記裏面側外周縁部との間に隙間を存して配置され、
前記ガス送給手段から前記溝に送給された前記パージガスは、前記電子デバイス積層体の前記裏面側外周縁部に吹き付けられて、前記電子デバイス積層体の外周端辺と前記外周壁との間の前記隙間から吹き出される、
電子デバイス積層体の透明基材の洗浄テーブル。
【請求項２】
前記溝は、前記電子デバイス積層体の外周端辺よりも内側の裏面側外周縁部と対向する位置に形成される、請求項１に記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄テーブル。
【請求項３】
前記溝は、前記載置面を一周する、
請求項１又は請求項２に記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄テーブル。
【請求項４】
前記溝は、前記電子デバイス積層体の角部と対向する位置に外向きに延出した延出凹部を有する、
請求項１乃至請求項３の何れかに記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄テーブル。
【請求項５】
前記外周壁は、前記電子デバイス積層体の前記裏面側外周縁部に対して接近離間可能であり、前記隙間の高さ調整が行なわれる、
請求項１乃至請求項４の何れかに記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄テーブル。
【請求項６】
前記載置面に開設された１又は複数の吸着孔と、
前記吸着孔からサクションガスを吸引するガス吸引手段と、
をさらに有する、
請求項１乃至請求項５の何れかに記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄テーブル。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６の何れかに記載の洗浄テーブルと、
前記洗浄テーブルに載置された前記電子デバイス積層体の前記透明基材に洗浄液を吹き付ける吹付手段と、
を具える電子デバイス積層体の透明基材の洗浄装置。
【請求項８】
前記吹付手段に加えて研磨装置を具えており、前記研磨装置は、前記吹付手段により洗浄液を吹き付ながら前記透明基材の研磨を行ない、又は、一旦前記吹付手段により洗浄液を吹き付けた後、前記研磨装置によって前記透明基材の研磨を行ない、再度前記洗浄液を吹き付ける、
請求項７に記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄装置。
【請求項９】
電子デバイスと、前記電子デバイスの一方の面に装着された透明基材を含む電子デバイス積層体の前記透明基材を洗浄する洗浄方法であって、
前記電子デバイス積層体を、載置面と前記載置面の外周に溝が形成された洗浄テーブルに、前記透明基材が表面となるように載置し、
前記溝から、パージガスを前記電子デバイス積層体の外周端辺の裏面側外周縁部に吹き付け、前記電子デバイス積層体の前記外周端辺から吹き出しつつ、
前記透明基材に洗浄液を吹き付けて洗浄する、
電子デバイス積層体の透明基材の洗浄方法。
【請求項１０】
前記溝は、前記電子デバイス積層体の外周端辺よりも内側の裏面側外周縁部に形成され、前記パージガスを前記電子デバイス積層体の前記外周端辺から吹き出す、
請求項９に記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄方法。
【請求項１１】
洗浄中、前記電子デバイス積層体を前記裏面側外周縁部よりも内側で前記洗浄テーブルに吸着する、
請求項９又は請求項１０に記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄方法。
【請求項１２】
前記透明基材に前記洗浄液を吹き付けて洗浄する工程は、前記洗浄液を吹き付ながら前記透明基材の研磨を行ない、又は、一旦前記洗浄液を吹き付けた後、前記透明基材の研磨を行ない、再度前記洗浄液を吹き付ける工程である、
請求項９乃至請求項１１の何れかに記載の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬディスプレイパネルなどの電子デバイスに透明基材を積層してなる電子デバイス積層体の透明基材を洗浄するための洗浄テーブル、洗浄装置及び洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）、液晶パネル（ＬＣＤ）などの電子デバイスは、発光層を正孔輸送層と電子輸送層で挟持すると共に、これらをさらに電極で挟み、導電性基板上に配置して構成される。導電性基板はフレキシブル基板であるから、電子デバイスを製造する際には、硬くて平坦性の高いガラスやプラスチック等からなる透明基材に電子デバイスを積層した電子デバイス積層体の形態としている。そして、透明基材を後工程にて、ＬＬＯ（レーザーリフトオフ）等により電子デバイス積層体から剥離してＯＬＥＤパネルなどの電子デバイスが作製される。
【０００３】
ＬＬＯでは、透明基材にレーザーを照射して、透明基材の剥離を行なっている。このとき、透明基材上に異物があるとレーザーが遮られてしまい、透明基材を上手く剥離できない。そこで、透明基材の表面に存在する異物を除去するための洗浄や研磨が必要になる。特許文献１は、段落００６０で透明基材の洗浄方法を列挙しているが、具体的な洗浄方法を開示していない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第６４９２１４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
透明基材を効率良く洗浄するには、高圧の水噴射による水洗浄が好適である。しかしながら、電子デバイス側が水に濡れると性能低下してしまうため、電子デバイス側を濡らすことなく洗浄することが求められる。
【０００６】
本発明は、電子デバイス側を濡らすことなく透明基材を水洗浄するための電子デバイス積層体の洗浄テーブル、洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄テーブルは、
電子デバイスと、前記電子デバイスの一方の面に装着された透明基材を含む電子デバイス積層体の前記透明基材を洗浄する洗浄テーブルであって、
前記電子デバイス積層体が、前記透明基材を表面として載置される載置面を有し、
前記載置面の外周に形成され、前記電子デバイス積層体の外周端辺の裏面側外周縁部と対向する位置に形成される溝と、
前記溝の外周を構成し、前記電子デバイス積層体の外周端辺まで延びる外周壁と、
前記溝と連通し、前記溝にパージガスを送給するガス送給手段と、
を有し、
前記外周壁は、前記電子デバイス積層体の前記裏面側外周縁部との間に隙間を存して配置され、
前記ガス送給手段から前記溝に送給された前記パージガスは、前記電子デバイス積層体の前記裏面側外周縁部に吹き付けられて、前記電子デバイス積層体の外周端辺と前記外周壁との間の前記隙間から吹き出される。
【０００８】
前記溝は、前記電子デバイス積層体の外周端辺よりも内側の裏面側外周縁部と対向する位置に形成することが望ましい。
【０００９】
前記溝は、前記載置面を一周する構成とすることができる。
【００１０】
前記溝は、前記電子デバイス積層体の角部と対向する位置に外向きに延出した延出凹部を有することが望ましい。
【００１１】
前記外周壁は、前記電子デバイス積層体の前記裏面側外周縁部に対して接近離間可能であり、前記隙間の高さ調整が行なわれる構成とすることが望ましい。
【００１２】
前記載置面に開設された１又は複数の吸着孔と、
前記吸着孔からサクションガスを吸引するガス吸引手段と、
をさらに有する構成とすることができる。
【００１３】
また、本発明の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄装置は、
上記記載の洗浄テーブルと、
前記洗浄テーブルに載置された前記電子デバイス積層体の前記透明基材に洗浄液を吹き付ける吹付手段と、
を具える。
【００１４】
前記吹付手段に加えて研磨装置を具えており、前記研磨装置は、前記吹付手段により洗浄液を吹き付ながら前記透明基材の研磨を行ない、又は、一旦前記吹付手段により洗浄液を吹き付けた後、前記研磨装置によって前記透明基材の研磨を行ない、再度前記洗浄液を吹き付ける構成とすることができる。
【００１５】
また、本発明の電子デバイス積層体の透明基材の洗浄方法は、
電子デバイスと、前記電子デバイスの一方の面に装着された透明基材を含む電子デバイス積層体の前記透明基材を洗浄する洗浄方法であって、
前記電子デバイス積層体を、載置面と前記載置面の外周に溝が形成された洗浄テーブルに、前記透明基材が表面となるように載置し、
前記溝から、パージガスを前記電子デバイス積層体の外周端辺の裏面側外周縁部に吹き付け、前記電子デバイス積層体の前記外周端辺から吹き出しつつ、
前記透明基材に洗浄液を吹き付けて洗浄する。
【００１６】
前記溝は、前記電子デバイス積層体の外周端辺よりも内側の裏面側外周縁部と対向する位置に形成され、前記パージガスを前記電子デバイス積層体の前記外周端辺から吹き出すことで、より洗浄液残りなどが無く効果的に洗浄できる。
【００１７】
上記洗浄方法は、洗浄中、前記電子デバイス積層体を前記裏面側外周縁部よりも内側で前記洗浄テーブルに吸着することが望ましい。
【００１８】
前記透明基材に前記洗浄液を吹き付けて洗浄する工程は、前記洗浄液を吹き付ながら前記透明基材の研磨を行ない、又は、一旦前記洗浄液を吹き付けた後、前記透明基材の研磨を行ない、再度前記洗浄液を吹き付ける工程とすることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の洗浄テーブルによれば、電子デバイス積層体を載置面に載置し、透明基材に洗浄液を吹き付けることで透明基材の洗浄を好適に行なうことができる。このとき、電子デバイス積層体の外周端辺からパージガスを吹き出すことで、透明基材に吹き付けられた洗浄液は吹き飛ばされ、透明基材の裏面側にある電子デバイスに付着したり回り込んだりすることはなく、電子デバイスの水濡れを防止できる。また、載置面に形成された吸着孔からサクションガスを吸引して電子デバイス積層体を吸着させることで、電子デバイス積層体がパージガスによって載置面から浮いたり、位置ずれしたりすることはない。
【００２０】
本発明の電子デバイス積層体の洗浄装置及び洗浄方法によれば、電子デバイスの水濡れを防止しつつ、透明基材を洗浄液で洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る洗浄テーブルに電子デバイス積層体を載置した状態を示す斜視図である。
【図２】図２は、電子デバイス積層体を載置した洗浄テーブルの外周縁部近傍の断面図である。
【図３】図３は、洗浄テーブルの角部近傍の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の一実施形態に係る洗浄テーブル１０について、図面を参照しながら説明を行なう。
【００２３】
図１は本発明の洗浄テーブル１０に電子デバイス積層体５０を載置した斜視図、図２は外周縁部近傍の断面図、図３は洗浄テーブル１０の角部近傍の平面図である。
【００２４】
図１及び図２に示すように、本発明の洗浄テーブル１０は、電子デバイス積層体５０を上面に載置する台である。電子デバイス積層体５０は、前掲のとおり、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）、液晶パネル（ＬＣＤ）などの電子デバイス５１であり、たとえばフレキシブル基板に形成される。そして、可撓性を有する電子デバイス５１は、製造の過程での撓み変形を防止し、取扱いを容易にするために硬くて平坦性の高いガラス（キャリアガラス）やプラスチック等からなる透明基材５２に配置される。
【００２５】
洗浄テーブル１０は、電子デバイス積層体５０を透明基材５２が表面となるように載置して使用される。たとえば、洗浄装置（図示せず）では、図２示すように、洗浄テーブル１０は、ジェットノズルの如き吹付手段（同じく図示せず）から吹き出された洗浄液４０の直下を自走又はベルトコンベア等に載せられて移動し、上方から洗浄液４０が吹き付けられて、透明基材５２の表面が洗浄される。洗浄液はたとえば純水、洗剤、有機溶剤（アルコールやアセトンを含む）に界面活性剤等を加えたものを例示できる。
【００２６】
本発明の洗浄テーブル１０は、電子デバイス積層体５０を載置し、周面からパージガス２５を吹き出すことで電子デバイス積層体５０の外周端辺を滴下する洗浄液を吹き飛ばすものである。電子デバイス積層体５０について、図２に示すように外周端辺（端面）を符号５３で示し、また、電子デバイス積層体５０の裏面側であって、外周端辺５３の一定幅を有する領域を裏面側外周縁部５４と称する。
【００２７】
洗浄テーブル１０について詳述すると、図１に示すように、洗浄テーブル１０は、電子デバイス積層体５０の形状と略同一とすることができる。洗浄テーブル１０は、一実施形態として、電子デバイス積層体５０よりもやや小さい載置面１１と、載置面１１の外周に形成された溝２０、及び、溝２０を構成する外周壁２２を有し、外周壁２２の外形が電子デバイス積層体５０の外形と略一致するようにしている。たとえば、図２に示すように、洗浄テーブル１０は、載置面１１を第１基体１２とし、第１基体１２の外周に溝構成体１３を配置し、第１基体１２の下方に第２基体１４を配置した構成とすることができる。なお、洗浄テーブル１０の構成はこれに限らず、一体物、或いは、図示以外の基体等から構成することもできる。
【００２８】
洗浄テーブル１０は、載置面１１の外周、すなわち、電子デバイス積層体５０の裏面側外周縁部５４と対向する位置に溝２０が形成される。溝２０は、電子デバイス積層体５０の裏面側外周縁部５４の内側と対向する位置に形成することが好適である。当該溝２０には、１又は複数箇所からブロワーなどのガス送給手段２４により圧縮したパージガス２５（たとえば空気：図２中矢印で示す）が送給される。溝２０とガス送給手段２４は配管等により適宜接続される。溝２０は、電子デバイス積層体５０の裏面側外周縁部５４に沿って一周するよう形成することが望ましい。また、溝２０の四隅部分、すなわち、電子デバイス積層体５０の角部と対向する位置には、図３に示すように、溝２０を外向きに延出した延出凹部２１を有する形状とすることが望ましい。
【００２９】
溝２０の外周壁２２は、その頂面と電子デバイス積層体５０の裏面側外周縁部５４との間に、図２に示すように、パージガス２５が吹き出す隙間２３が形成されている。図示の実施形態では、溝２０は、内周壁を第１基体１２の外周面とし、第１基体１２の外周を囲む断面略Ｌ字状の枠体からなる溝構成体１３の底部分が溝底、また、垂直部分が溝２０の外周壁２２を構成する。そして、望ましい実施形態として、溝２０の外周壁２２、すなわち溝構成体１３は図２の矢印２６に示すように上下に高さ調整可能な構成とする。後述するとおり、隙間２３から吹き出すパージガス量やパージガス圧を調整するためである。溝構成体１３の高さ調整はたとえばボルト締付量の調整や、バネとスペーサーを用いて行なうことができる。なお、溝構成体１３は、長尺の杆体となるため、樹脂ではなくアルミ製やステンレス鋼製とすることが好適である。
【００３０】
また、洗浄テーブル１０の載置面１１には、図２に示すように、電子デバイス積層体５０よりもやや小さく形成される。載置面１１には、図２及び図３に示すように、１又は複数の吸着孔３０が開設されている。これら吸着孔３０は図２に示すように、ポンプなどのガス吸引手段３２に配管等を介して連繋される。そして、サクションガス３３によって載置面１１上の電子デバイス積層体５０は吸引され、載置面１１に吸着固定される。図示の実施形態では、吸着孔３０は、第１基体１２に略垂直に貫通開設されており、第２基体１４の上面に凹設された連通溝３１によってガス吸引手段３２と接続されている。載置面１１を構成する第１基体１２は、電子デバイス積層体５０の傷付き等を防止するため、樹脂製とすることが好適である。
【００３１】
然して、上記構成の洗浄テーブル１０は、載置面１１に図１に示すように、電子デバイス積層体５０を電子デバイス５１が下面、透明基材５２が上面となるように配置する。電子デバイス積層体５０は、図２に示すように、裏面側外周縁部５４が溝２０及び溝２０の外周壁２２と対向し、内周側が吸着孔３０と対向するよう載置される。
【００３２】
この状態で、ガス送給手段２４からパージガス２５を送給すると共に、ガス吸引手段３２からサクションガス３３の吸引を行なう。ガス送給手段２４から送給されたパージガス２５は、図２に示すように、溝２０から溝２０の外周壁２２と電子デバイス積層体５０の裏面側外周縁部５４との間に形成された隙間２３から吹き出される。なお、溝２０の四隅部分は、屈曲しているためパージガス２５の吹出量が減少してしまうことがあるが、図３に示すように、溝２０を外向きに延出した延出凹部２１を有する形状とすることで、四隅部分からのパージガス２５aを増やして、吹出量の一定化を図ることができる。
【００３３】
パージガス圧によって電子デバイス積層体５０は洗浄テーブル１０から浮き上がり、位置ずれ等することがある。これに対し、本実施形態では、載置面１１に吸着孔３０を開設し、ガス吸引手段３２により吸着孔３０から吸引されるサクションガス圧により、電子デバイス積層体５０を載置面１１に吸着しているから、電子デバイス積層体５０の浮き上がりや位置ずれを防止できる。
【００３４】
この状態で、洗浄装置の吹付手段から図２に矢印４０で示すように洗浄液を透明基材５２に吹き付ける。洗浄液４０は高圧噴射により吹付手段から吹き出されることが好適である。これにより、透明基材５２に付着した異物は除去される。異物の原因は、たとえば付着した糊（グルー）、樹脂、その他、搬送時のローラーの跡である。洗浄液４０の水圧や水量は付着した異物に応じて増減できる。また、洗浄装置には、吹付手段に加えて研磨装置（ブラシまたは、研磨材入りパッドなどを回転して押し付ける装置）を追加することで透明基材５２を研磨し、異物をより効果的に除去することもできる。研磨は、吹付手段により洗浄液４０を吹き付ながら透明基材５２を研磨、或いは、一旦洗浄液４０を吹き付けた後、透明基材５２の研磨を行ない、再度洗浄液４０を吹き付ける等により行なうことができる。
【００３５】
透明基材５２に吹き付けられた洗浄液４０は、透明基材５２の外周に向けて移動し、電子デバイス積層体５０の外周端辺５３に滴下する。本発明では、洗浄テーブル１０は、電子デバイス積層体５０の裏面側から外周に向けてパージガス２５を吹き出す構成としているから、滴下した洗浄液４０は電子デバイス５１に到達せず、また、電子デバイス５１側に回り込むことなく吹き飛ばすことができる（図２中、符号４０a）。故に、電子デバイス５１を水濡れすることなく、透明基材５２を洗浄液で洗浄することができる。
【００３６】
上記したとおり、洗浄液４０の水圧や水量は、付着した異物に応じて増減される。また、洗浄すべき電子デバイス積層体５０の面積によっても使用される水量等は増減される。これに対し、ガス送給手段２４から送給されるパージガス圧及びパージガス量を増減させることで、好適に洗浄液４０を吹き飛ばすことができる。一方で、パージガス２５が吹き出される溝２０の外周壁２２と電子デバイス積層体５０の裏面側外周縁部５４との間の隙間２３を調整することで、吹き出すパージガス圧やパージガス量の調整を行なうことができる。たとえば、ガス送給手段２４から送給されるパージガス圧やパージガス量では調整しきれない微調整を、隙間２３の高さ調整することで制御することが望ましい。
【００３７】
洗浄後は、電子デバイス積層体５０は、洗浄テーブル１０に載せたまま、或いは、洗浄テーブル１０から移送して、電子デバイス積層体５０の水切り、乾燥やＬＬＯ等の後工程に移ればよい。
【００３８】
本発明によれば、洗浄液４０は洗浄テーブル１０から吹き出されるパージガス２５により電子デバイス５１の水濡れを防止できる。故に、透明基材５２を洗浄液４０により洗浄でき、透明基材５２の異物を効果的に除去できるから、後工程のＬＬＯ等により透明基材５２を剥離する際に、異物によってレーザーが遮られてしまうことを防止でき、製品精度向上を達成できる。
【００３９】
上記説明は、本発明を説明するためのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或いは範囲を限縮するように解すべきではない。また、本発明の各部構成は、上記実施例に限らず、特許請求の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能であることは勿論である。
【００４０】
一実施形態として、溝２０の幅及び深さは３〜１０ｍｍ、外周壁２２の厚さは５〜３０ｍｍ、隙間２３は０．０１〜５ｍｍである。また、吸着孔３０の直径は０．１〜１ｍｍ、ピッチは１０〜３０ｍｍである。これらは、電子デバイス積層体５０の面積や洗浄液４０の水圧、水量により適宜調整される。なお、吸着孔３０は、パージガス２５の影響を受ける外周側の直径を大きくし、吸着力を高める構成とすることができる。また、電子デバイス５１の表示面となる部分を小径、非表示面となる部分をこれより大きい径とすることで、吸着孔３０のサクションガス３３により表示面に不具合が生じることを低減しつつ、所期の吸着力を具備できる。
【符号の説明】
【００４１】
１０  洗浄テーブル
１１  載置面
２０  溝
２３  隙間
２４  ガス送給手段
２５  パージガス
３０  吸着孔
３２  ガス吸引手段
３３  サクションガス
４０  洗浄液
５０  電子デバイス積層体
５２  透明基材
【要約】
【課題】電子デバイス側を濡らすことなく透明基材を洗浄するための電子デバイス積層体の洗浄テーブルを提供する。
【解決手段】本発明の洗浄テーブル１０は、電子デバイス積層体５０の透明基材５２を洗浄する洗浄テーブルであって、前記電子デバイス積層体が、前記透明基材を表面として載置される載置面１１を有し、前記載置面に形成され、前記電子デバイス積層体の外周端辺５３の裏面側外周縁部５４と対向する位置に形成される溝２０と、前記溝の外周を構成し、前記電子デバイス積層体の外周端辺まで延びる外周壁２２と、前記溝と連通し、前記溝にパージガスを送給するガス送給手段２４と、を有し、前記外周壁は、前記電子デバイス積層体の前記裏面側外周縁部との間に隙間２３を存して配置され、前記ガス送給手段から前記溝に送給された前記パージガスは、前記電子デバイス積層体の外周端辺と前記外周壁との間の前記隙間から吹き出される。
【選択図】図２【図１】
0006986781.tif 000002
【図２】
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【図３】
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