(57)【要約】  本発明は、少なくとも１つのエッジと、上記エッジの少なくとも１部分から延びるドロス凸条を有する研磨品である。上記エッジは、研磨品の周辺部、または上記研磨品の部分に形成された開口部を規定することが可能である。上記ドロス凸条は、少なくとも１０１μｍで、かつ、約５００μｍを超えない幅寸法を有することが可能である。上記ドロス凸条は、また、少なくとも約１μｍで、かつ、約５０μｍを超えない高さ寸法を有することが可能である。上記エッジおよび上記ドロス凸条は、レーザーによって形成されることが可能である。【選択図】  図１
2016522098.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッジを有する第１の面と、
前記第１の面上に形成されたドロス凸条であって、少なくとも約１０１μｍで、かつ、約５００μｍを超えない平均幅まで、前記エッジの少なくとも１部分から延びる前記ドロス凸条と
を有する、研磨品。
【請求項２】
前記エッジは、開口部を規定する、請求項１に記載の研磨品。
【請求項３】
前記ドロス凸条の前記平均幅は、前記エッジと、前記エッジから前記ドロス凸条が垂直に延びる方向に測定された前記ドロス凸条の外周との間の平均距離として規定される、請求項１に記載の研磨品。
【請求項４】
前記ドロス凸条は、改鋳材料を含む、請求項１に記載の研磨品。
【請求項５】
前記ドロス凸条は、さらに、前記エッジから前記ドロス凸条が垂直に延びる方向に規定された前記ドロス凸条の断面から見た前記第１の面から測定された前記ドロス凸条上の平均最高地点によって規定された高さを含む、請求項１に記載の研磨品。
【請求項６】
前記ドロス凸条の前記高さは、約５０μｍを超えず、かつ、少なくとも約１μｍである、請求項５に記載の研磨品。
【請求項７】
前記ドロス凸条は、式ｈｄｒ／ｗｄｒである、約０．４９５を超えない、ドロス凸条幅（ｗｄｒ）に対する高さ（ｈｄｒ）の比を有する、請求項５に記載の研磨品。
【請求項８】
前記第１の面は、基材に保持された研磨層を有し、前記研磨層は、研磨粒子を含む、請求項１に記載の研磨品。
【請求項９】
前記研磨粒子は、約３０μｍを超えないＤ５０を有する、請求項８に記載の研磨品。
【請求項１０】
前記研磨層は、メークコート、サイズコート、スーパーサイズコートまたはそれらの組み合わせを含む、請求項８に記載の研磨品。
【請求項１１】
第１の面と、前記第１の面から間隙を介した第２の面とを有する研磨品を提供することと、
前記第１の面上にエッジを形成することと、
前記第１の面上のドロス凸条であって、少なくとも約１０１μｍで、かつ、約５００μｍを超えない平均幅まで、前記エッジの少なくとも１部分から延びる前記ドロス凸条を形成することと
を有する研磨品を形成する方法。
【請求項１２】
前記ドロス凸条を形成することは、レーザーで前記ドロス凸条を形成することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記レーザーは、少なくとも約１０００ワットの最大平均出力を有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記ドロス凸条を形成することは、前記第１の面より先に前記第２の面に衝突するよう前記レーザーを向けることを有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記研磨品の前記第１の面上に前記ドロス凸条を形成することは、前記研磨品の前記第２の面から前記研磨品の前記第１の面まで延びる開口部を形成することを含む、請求項１１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
以下は、研磨品に向けたものであり、特に、研磨品の表面のエッジ上に形成されたドロス凸条（ｄｒｏｓｓ  ｒｉｄｇｅ）を有する研磨品に向けたものである。
【背景技術】
【０００２】
研磨品は、加工品表面の研磨および仕上げに用いられている。用途は、材木や金属等の加工品から、眼科用レンズ、光ファイバーおよびコンピューターのリードライトヘッドの精密研磨まで高度な原料除去を有する研磨品の使用に適している。一般に、研磨品は、一体的（例えば、結合研磨材もしくは砥石車）または基材に対して（例えば、被覆研磨品）のいずれかで結合した複数の研磨粒子を含む。被覆研磨品に関しては、基材に結合した研磨粒子の典型的には１つの層または時には複数の層が存在する。研磨粒子は、「メーク」コート（ｍａｋｅ  ｃｏａｔ）および「サイズ」コート（ｓｉｚｅ  ｃｏａｔ）とともに、または、スラリーコート（ｓｌｕｒｒｙ  ｃｏａｔ）として基材に結合することができる。さらに、スーパーサイズコート（ｓｕｐｅｒｓｉｚｅ  ｃｏａｔ）は、研磨粒子の寿命の延長を助けるために、メークコートまたはサイズコートに塗布することができる。
【０００３】
研磨品の様々な構成は、例えば、円盤、無端ベルト、研磨スポンジなどとして知られている。研磨品の構成は、その品の使用目的に影響するだろう。例えば、いくつかの研磨品は、研磨表面からのちりや削りくずを取り除くために、使用中に吸引源と接続するように構成される。
【０００４】
通常のすべての被覆研磨品に関しては、研磨粒子の露出した先端は、使用中加工品を磨耗する。研磨品の寿命を延ばすよう、新しい研磨粒子表面は絶え間なく晒されている。ある時間が経つと、研磨粒子は研磨表面に残った鋭さがもはや十分でなくなり、このとき、被覆研磨材は磨耗したと考えられ、典型としてはその後廃棄される。
【０００５】
被覆研磨品の穿孔または切断にレーザーを用いる被覆研磨品の製造および工程は既知であるが、改良被覆研磨品や改良レーザーカッティング法を用いる研磨品などの形成方法については、本技術分野においていまだ要望されている。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
本開示は、添付の図面を参照することにより、より理解されることが可能であり、その多数の特徴および利点が当業者に対して明らかになった。
【図１】図１は、ある実施形態による研磨品の概略断面側面図である。
【図２】図２は、ある実施形態による研磨品の概略断面側面図である。
【図３】図３は、ある実施形態による研磨品の概略断面側面図である。
【図４】図４は、ある実施形態による研磨品の概略断面側面図である。
【図５】図５は、ある実施の形態による研磨品の部分の平面上面図の画像である。
【図６】図６は、ある実施の形態による研磨品の部分の平面上面図の画像である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
下記は、研磨品を形成するために適することが可能な工程に向けられたものであり、それは様々な用途において有用となることが可能である。さらに、下記は、例えば、材木や金属等の加工品から眼科用レンズ、光ファイバー及びコンピューターのリードライトヘッドの精密研磨まで高い原料除去を含むある用途において有用であることが可能な被覆研磨品を含む研磨品の記載を含む。
【０００８】
特に、下記は、研磨品表面上にエッジを有する研磨品を形成するための工程に向けられたものである。エッジを形成することは、エッジの少なくとも１部分から延びるスパッタ凸条（ｓｐａｔｔｅｒ  ｒｉｄｇｅ）またはドロス凸条（ｄｒｏｓｓ  ｒｉｄｇｅ）を形成することを含むことが可能である。本明細書で用いる場合、スパッタ凸条は、研磨品上または内に形成された切れこみの作用エッジ（すなわち、入射エッジ）上の再凝固金属の残渣として規定される。本明細書で用いる場合、ドロス凸条は、研磨品上または内に形成された切れこみの貫通−エッジ（すなわち、出射エッジ）上の再凝固金属の残渣として規定される。
【０００９】
本明細書の実施形態によれば、エッジおよび結果として生じるスパッタ凸条またはドロス凸条の形成に、レーザーの使用を含むことができる。本明細書の実施形態によれば、使用に適すると考えられるレーザーの種類は、波長可変、固定波長、パルス、連続発振（ＣＷ）、またはそれらの組み合わせであるレーザーを含むことが可能である。ある例では、適したレーザーは、気体レーザー（例えば、ヘリウム−ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、キセノンイオンレーザー、窒素レーザー、炭酸ガスレーザー、一酸化炭素レーザー、エキシマーレーザーなど）、化学レーザー（フッ化水素、フッ化重水素、酸素・ヨウ素化学、すべての気相ヨウ素レーザーなど）、色素レーザー、金属蒸気レーザー（ヘリウム−カドミウム、ヘリウム−水銀、ヘリウム−セレン、ヘリウム−銀、ストロンチウム蒸気、ネオン−銅、銅蒸気、金蒸気など）、固体レーザー（例えば、ルビー、Ｎｄ／ＹＡＧ、ＮｄＣｒ：ＹＡＧ、ＥｒＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｎｄ：ＹＶＯ４、Ｎｄ：ＹＣＯＢ、チタン：サファイア、Ｔｍ：ＹＡＧ、Ｙｂ：ＹＡＧなど）、半導体レーザー（半導体レーザーダイオード、ＧａＮ、ＩｎＧａＮ、ＡｌＧａＩｎＰ、鉛塩、垂直キャビティ面発光、量子カスケード、ハイブリッドシリコンなど）およびそれらの組み合わせを含むことが可能である。ある例では、適したレーザーは、ウォーターパルスレーザーおよびファイバーレーザー、自由電子レーザーならびにガスダイナミックレーザーを含む。ある実施形態では、適したレーザーは、パルス赤外線レーザーまたは超高速パルスレーザーを含むことが可能である。
【００１０】
アルゴンイオンレーザー、一酸化炭素レーザーおよび金属イオンレーザーは、ヘリウム−銀（ＨｅＡｇ）２２４ｎｍ、ネオン−銅（ＮｅＣｕ）２４８ｎｍのレーザー等の深紫外波長を発生する気体レーザーである。これらのレーザーは、３ＧＨｚ（０．５ピコメートル）未満の線幅のとりわけ狭い発振を有する。
【００１１】
化学レーザーは化学反応によって動き、連続稼動で高出力を達成することが可能である。例えば、フッ化水素レーザー（２７００−２９００ｎｍ）およびフッ化重水素レーザー（３８００ｎｍ）では、反応は、三フッ化窒素中におけるエチレンの焼生成物と水素または重水素ガスとを組み合わせることである。
【００１２】
エキシマーレーザーは、高い最高出力を有するパルス短波長レーザーの可能性を提供する光スペクトルの紫外部におけるレーザー技術を代表する。エキシマーレーザーの主な例は、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）レーザーである。
【００１３】
固体レーザーおよび色素レーザーは、光スペクトルの赤外から紫外部分に及ぶことが可能であるレーザー技術を代表し、高い最高出力および高い連続出力もまた提供する。この種のレーザーの一例は、Ｎｄ：ＹＶＯ４またはネオジム添加イットリウムバナデートレーザーおよびそのより短波長の調波である。
【００１４】
特定の実施形態では、本明細書に記載の研磨品を形成するためのレーザーは、赤外線または炭酸ガス（すなわち、ＣＯ２）レーザーである。
【００１５】
本明細書の実施形態によれば、レーザーは切断、穿通、穿孔、または研磨品を完成した研磨品にする際の他の補助のために有用であることが可能である。レーザーは、ガス切断、融解切断、アブレーション（除去）（すなわち、気化であって、研磨品の材料部分についての蒸発または昇華のいずれかによる）、またはそれらの組み合わせの工程で動作することが可能である。いくつかの例においては、研磨品のエッジを形成するためのレーザーの使用は、レーザーによって作られたエッジと隣接する研磨品の表面上に形成されるエッジを、結果として硬化させ、隆起させ、および／または鋭くすることが可能である。ある例では、研磨品を形成するためのレーザーの使用は、レーザーにより生成される研磨品のエッジ上で融解し、再凝固する残留物の小片であるスパッタ凸条またはドロス凸条を形成することが可能である。
【００１６】
ある例では、レーザーは、約９から約１２マイクロメートルの間で稼動することを選択する主な波長を有する長波長赤外線（ＬＷＩＲ）光のビームを生成することが可能である。ある実施形態では、レーザーは、約１１マイクロメートルを超えない、約１０．６マイクロメートルを超えない、約１０．４マイクロメートルを超えない、約１０．２マイクロメートルを超えない、約１０マイクロメートルを超えない、約９．８マイクロメートルを超えない、約９．７マイクロメートルを超えない、約９．６マイクロメートルを超えない、または約９．４マイクロメートル超えないと同等である等、約１２マイクロメートルを超えない波長を生成することが可能である。ある実施形態では、レーザーは、少なくとも約９．２マイクロメートル、少なくとも約９．３マイクロメートル、少なくとも約９．４マイクロメートル、少なくとも約９．５マイクロメートル、少なくとも約９．６マイクロメートル、少なくとも約９．７マイクロメートル、少なくとも約９．８マイクロメートル、少なくとも約９．９マイクロメートル、少なくとも約１０マイクロメートル、少なくとも約１０．２マイクロメートル、少なくとも約１０．４マイクロメートル、または少なくとも約１０．５マイクロメートルと同等である等、少なくとも約９マイクロメートルの波長を生成することが可能である。ある特定の実施形態では、レーザーは約９．２マイクロメートルから約１０．６マイクロメートルの波長を生成することが可能である。ある特定の実施形態では、レーザーは、約１０．６マイクロメートルの波長を生成することが可能である。他の特定の実施形態では、レーザーは、約９．２マイクロメートルの波長を生成することが可能である。レーザーが、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内の波長を生成するよう選択することが可能であることがわかるだろう。
【００１７】
ある実施形態では、本明細書に記載の研磨品を形成するために適したレーザーは、特定の平均出力を含むことが可能である。例えば、適したレーザーは、少なくとも約１２５０Ｗ、少なくとも約１５００Ｗ、少なくとも約１７５０Ｗ、少なくとも約２０００Ｗ、または少なくとも約２２５０Ｗと同等であるなどのように、少なくとも約１０００Ｗの平均出力を含むことが可能である。さらに、他の実施形態では、適したレーザーは、約２２５０Ｗを超えない、約２０００Ｗを超えない、約１７５０Ｗを超えない、約１５００Ｗを超えない、または約１２５０Ｗを超えないと同等である等、約２５００Ｗを超えない平均出力を含むことが可能である。レーザーは、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内の平均出力を含むことが可能であることがわかるだろう。
【００１８】
ある実施形態では、切断する基質に向けられるレーザービームの断面（すなわち、スポットサイズ）が、典型としてはある面積をもった特定のサイズを有することが可能である。例えば、レーザービームは、平均ビーム強度の少なくとも半分の強度を有する点のすべての部分の合計が、０．３平方ミリメートル（ｍｍ２）以下、約０．１ｍｍ２未満、または、約０．０１ｍｍ２未満と同等の面積を有するようなある点（レーザービームが研磨品に接触する場所）に焦点をおくことが可能である。ある実施形態では、レーザートレース速度（すなわち、ビームが基質を横断してスキャンする際の速度）が、少なくとも約２０ｍｍ／秒等、少なくとも約１０ｍｍ／秒であることが可能である。
【００１９】
被覆研磨品の材料のレーザーアブレーションは、レーザービームの単一トレース（すなわち、単一パス）または複数多重トレース（すなわち、同一空間上の複数パス）を用いて達成することが可能である。あるいは、複数レーザービームは、同時にまたは順次に用いられることが可能である。複数レーザービームが用いられる場合は、それらは同一または異なる波長を有することが可能である。ある実施形態では、被覆研磨品の個々の構成要素は、各構成要素（例えば、基材、研磨層、またはそれらの組み合わせ）の吸収帯にあわせたそれぞれのレーザービームであるレーザービームを用いて順次除去されることが可能である。他の実施形態では、研磨品の個々の構成要素は、研磨品の個別の構成要素（例えば、基材、研磨層、またはそれらの組み合わせ）の吸収帯にあわせた複数レーザービームを用いて同時に除去されることが可能である。
【００２０】
例えば、研磨品の複数層のような追加の構成要素がある場合には、追加のレーザーもまた用いることが可能である。これは必要なことではないが、複数レーザービームを用いる場合、典型的には、それらのトレースが最大の利益を達成するように重ねられるべきである。
【００２１】
特定の実施形態では、単一のレーザーが用いられ、単一トレースまたは複数トレースが作られる。他の実施形態では、複数レーザーが用いられ、各レーザーは、単一トレースまたは複数トレースのいずれかを行う。
【００２２】
レーザーアブレーションは、被覆研磨品の完全な穿通を行わないようなときに実行することが可能である。ある例では、レーザーアブレーションは、研磨品を完全に通す穿通を行うように、研磨品上で実行されることが可能である。さらに、レーザーアブレーションは、どの方向からでも、例えば、「前」面（すなわち、研磨面）から「裏」面（すなわち、非研磨面）または反対の面へ行うことが可能である。ある実施形態では、レーザーを、前または上方側または表面（すなわち、研磨品の第１の面）へ衝突または穿通させる前に、裏面（すなわち、研磨品の第２の面）に衝突させるまたは穿通させるように、研磨品の裏面からレーザーアブレーションを行うことが可能である。ある例では、レーザーは、研磨品を通って延びる（すなわち、研磨品の第２の面から研磨品の第１の面へ）少なくとも１つの開口部を形成することが可能である。
【００２３】
ある実施形態によれば、本明細書に記載の研磨品を形成するための方法は、第１の面と第１の面から間隙を介した第２の面とを有する研磨品を提供することを含む第１のステップから開始されることが可能である。図１は、ある実施形態による研磨品１００の概略断面側面図である。図示するように、第１の面１０１は、研磨品の上面となり得るものであり、原料除去磨き、研磨、磨耗などを行うために加工品に接触することを目的とした表面として規定される。本明細書に記載するように、第１の面１０１は、研磨層（すなわち、メークコート内に分散する研磨粒子たる「研磨スラリー」またはメークコート表面上に分散する研磨粒子を有するメークコート）、サイズコート、スーパーサイズコートまたはそれらの組み合わせであることが可能である。ある特定の例では、第１の面は、スーパーサイズコートを含む。
【００２４】
図１にも図示しているように、研磨品１００の第２の面１０８は、研磨品１００の第１の面１０１から間隙を介することが可能である。さらに、第２の面１０８は、実質的に、第１の面１０１に対して平行とすることが可能である。本明細書に記載するように、第２の面は、本明細書に記載される基材と、接着剤と、連結系などを含むことが可能である。
【００２５】
ある実施形態によれば、研磨品を形成する方法は、第１の面１０１より先に第２の面１０８に衝突するように研磨品１００に向かってレーザー１５０を向けることを含むことが可能である。ここではレーザービームと称して用いるレーザー１５０を、レーザー１５０が研磨品１００の前面（または第１の面１０１）に衝突または別の穿通を行う前に、それが第２の面１０８に衝突または別の穿通を行うように、裏面（または第２の面１０８）または研磨品１００に向けることが可能である。手短に図２を参照すると、レーザー２５０を、レーザー２５０が研磨品２００の前面（または第１の面２０１）に衝突または別の穿通を行う前に、それが第２の面２０８に衝突または別の穿通を行うように、裏面（または第２の面２０８）または研磨品２００に向けることが可能である。本明細書で論じるように、および認識されるように、レーザー２５０は面２０９および２１０等の面を形成することが可能な焦点ビームを含むことが可能であり、それは、円錐状開口部２０６のようにある円錐状の先細りを規定することが可能である。
【００２６】
ある実施形態によれば、研磨品形成の方法は、研磨品の第１の面にエッジを形成することを含むことが可能である。例えば、図１に図示するように、エッジ１０２は、研磨品１００の第１の面１０１上に形成されることが可能である。ある実施形態では、エッジ１０２は、研磨品１００の周辺部１０７の少なくとも１部分を規定することが可能である。周辺部１０７は、研磨品１００の外周を規定することが可能であることがわかるだろう。ある実施形態によれば、研磨品形成の方法は、本明細書に記載するように、周辺部１０７および／または開口部１０６のエッジ１０２の少なくとも１部分から延びる１つ以上のドロス凸条１０３を含むことが可能である。
【００２７】
形成工程の完了後、研磨品が形成される。研磨品はある特徴を有することが可能であり、それは、本明細書に記載した実施形態によってより詳細に記載されている。
【００２８】
例えば、本明細書に記載の実施形態による図１に戻って参照すると、エッジ１０２は、研磨品１００の少なくとも１部分に形成された開口部１０６を規定することが可能である。ある例では、研磨品１００は、複数の開口部１０６を含むことが可能である。ある実施形態によれば、存在する開口部の数および構成は、研磨品となる品および研磨品の大きさによるものであってよい。研磨品に配置される開口部は約５００を超えないものとすることが可能であって、約４００を超えない開口部、約３００を超えない開口部、約２００を超えない開口部、約１００を超えない開口部、約５０を超えない開口部、または約４０を超えないものと同等の開口部のようにすることが可能である。ある実施形態では、少なくとも約５０の開口部、少なくとも約１０の開口部、少なくとも約２００の開口部、少なくとも約３００の開口部、少なくとも約４００の開口部、または少なくとも約５００と同等の開口部等、研磨品に配置される開口部が少なくとも約４０であることが可能である。複数の開口部１０６の数は、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内とすることが可能であることがわかるだろう。
【００２９】
ある実施形態によれば、研磨品は、円盤であることが可能であり、複数の開口部の形状は円を含むことが可能である。しかしながら、本明細書に記載の実施形態の範囲内で、他の形状の研磨品および／または開口部が検討される。例えば、研磨品は、円盤、円、楕円、長方形、２次元の多角形形状、無端ベルトまたはそれらの組み合わせの周辺部のエッジによって規定される形状を含むことが可能である。
【００３０】
ある実施形態によれば、１つ以上の開口部を定めるエッジは、円、長方形、楕円、曲線、２次元の多角形状形またはそれらの組み合わせの形状を含むことが可能である。
【００３１】
１つ以上の開口部は、研磨品内部のいかなる位置もとることが可能で、それらは、研磨品の上面（すなわち、第１の面）の空いた場所のある特定の割合を占有することができる。ある例では、１つ以上の開口部は、例えば、少なくとも約１０％、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、少なくとも約５０％、または少なくとも約６０％と同等である等、研磨品の上面の空いた場所の少なくとも約１％を占有することが可能である。ある実施形態では、１つ以上の開口部は、約６０％を超えない、約５０％を超えない、約４０％を超えない、約３０％を超えない、約２０％を超えない、約１０％を超えない、または約１％を超えないと同等である等、研磨品の上面の空いた場所の７０％を越えずに占有することが可能である。１つ以上の開口部は、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内である第１の面の割合を占有することが可能であることがわかるだろう。
【００３２】
開口部の個々の開きは、ある特定の大きさを有することが可能である。例えば、１つ以上の開口部の開きの大きさは、少なくとも約５ｍｍ、少なくとも約１０ｍｍ、少なくとも約２０ｍｍ、または少なくとも約３０ｍｍと同等である等、少なくとも約１ｍｍとすることが可能である。実施形態においては、１つ以上の開口部の開きの大きさは、約２０ｍｍを超えない、約１０ｍｍを超えない、約５ｍｍを超えない、または約１ｍｍを超えないと同等である等、約３０ｍｍを超えないものとすることが可能である。１つ以上の開口部の開きの大きさは、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内であることが可能であることがわかるだろう。
【００３３】
いくつかの実施形態では、開口部は、所定の分布で配置することが可能である。第１の不連続領域の所定の分布は、目的をもって選択された基板上の所定の位置の組み合わせによって規定されることが可能であるとわかるだろう。所定の分布は、所定の位置が２次元の配列を規定することが可能であるようなパターンを有することが可能である。配列は、第１の不連続領域の単位によって規定される短距離オーダーであることが可能である。配列は、一体に連結した規則正しく、反復する単位を含む長距離オーダーを有するパターンであってもよく、その配置は対称的および／または予測可能である。配列は、数式で予測可能であるようなオーダーを有することが可能である。２次元の配列は、多角形、楕円、装飾的な印、製品印、またはその他のデザインの形状に形成されることが可能であるとわかるだろう。所定の分布は、制御されたもの、不均一分布、制御された均一分布、およびそれらの組み合わせを含むこともまた可能である。ある特定の例では、所定の分布は、放射状パターン、螺旋状パターン、葉序状パターン、非対称パターン、自己回避ランダム分布、自己回避ランダム分布およびそれらの組み合わせを含むことが可能である。所定の分布は、部分的に、本質的に、または完全に非対称であることが可能である。本明細書で用いる場合、「葉序状パターン」とは、葉序に関するパターンを意味する。葉序は、多くの種類の植物における葉、花、薄片、小花および種子等の外側の器官が持つ配列である。多くの葉序状パターンは、弧状、螺旋状、渦巻き状を有する顕著なパターンが自然に生じる現象によって特徴付けられている。ひまわりの頭部における種のパターンは、この現象の一例である。ある特定の実施形態では、複数の第１の不連続領域は、行、列、円、四角形、長方形、またはそれらのどのような組み合わせでも配列することが可能である。
【００３４】
ある実施形態によれば、ドロス凸条１０３は、第１の面１０１に形成されることが可能である。ドロス凸条１０３は、エッジ１０２の少なくとも１部分から延びるよう形成されるためであることが可能である。従って、ドロス凸条１０３は、周辺部１０７および／または開口部１０６のエッジ１０２の少なくとも１部分から延ばすことが可能であると理解されるだろう。特に、ドロス凸条１０３は、エッジ１０２の少なくとも１部分から平均幅１０４まで延ばすことが可能である。ドロス凸条１０３の平均幅１０４は、測定される即席のドロス凸条１０３をエッジ１０２から垂直に延びる方向に延びる、測定される即席のドロス凸条１０３のエッジ１０２と外周１１３との間の平均距離として規定されることが可能である。ある例では、ドロス凸条１０３の平均幅１０４は、少なくとも約１１０μｍ、少なくとも約１２０μｍ、少なくとも約１３０μｍ、少なくとも約１４０μｍ、少なくとも約１５０μｍ、少なくとも約２００μｍ、少なくとも約２５０μｍ、少なくとも約３００μｍ、少なくとも約３５０μｍ、少なくとも約４００μｍ、または少なくとも約４５０μｍと同等である等、少なくとも約１０１μｍであることが可能である。さらに、ある実施形態では、ドロス凸条１０３は、例えば、約４５０μｍを超えない、約４００μｍを超えない、約３５０μｍを超えない、約３００μｍを超えない、約２５０μｍを超えない、約２００μｍを超えない、約１５０μｍを超えない、約１４０μｍを超えない、約１３０μｍを超えない、約１２０μｍを超えない、または約１１０μｍを超えないと同等である等、約５００μｍを超えない平均幅１０４を含むことが可能である。平均幅は、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内であることが可能であることがわかるだろう。
【００３５】
ある実施形態によれば、ドロス凸条１０３は、測定される即席のドロス凸条１０３をエッジ１０２から垂直に延びる方向で規定されたドロス凸条１０３の断面から見た第１の面１０１から測定したドロス凸条１０３上の平均最高地点によって規定される、ある特定の高さを含むことが可能である。ある例では、ドロス凸条１０３は、約４０μｍを超えない、約３０μｍを超えない、約２０μｍを超えない、約１０μｍを超えない、または約５μｍを超えないと同等である等、約５０μｍを超えない、ある特定の高さを含むことが可能である。ある実施形態では、ドロス凸条１０３は、少なくとも約５μｍ、少なくとも約１０μｍ、少なくとも約２０μｍ、少なくとも約３０μｍ、または少なくとも約４０μｍと同等である等、少なくとも約１μｍの高さを含むことが可能である。ドロス凸条の高さは、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内であることが可能であることがわかるだろう。
【００３６】
ある実施形態によれば、ドロス凸条１０３は、式ｈｄｒ／ｗｄｒに基づいて約０．４９５を超えないような凸条幅（ｗｄｒ）に対する高さ（ｈｄｒ）の比を含むことが可能であって、例えば、約０．４５を超えない、約０．４０を超えない、約０．３５を超えない、約０．３０を超えない、約０．２５を超えない、約０．２０を超えない、約０．１５を超えない、約０．１０を超えない、または約０．０５を超えないと同等である等がある。ある実施形態では、ドロス凸条１０３は、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．１０、少なくとも約０．１５、少なくとも約０．２０、少なくとも約０．２５、少なくとも約０．３０、少なくとも約０．３５、少なくとも約０．４０、および少なくとも約０．４５である等、少なくとも約０．０１となる、凸条幅（ｗｄｒ）に対する高さ（ｈｄｒ）の比を含むことが可能である。ドロス凸条の凸条幅（ｗｄｒ）に対する高さ（ｈｄｒ）の比は、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内であることが可能であることがわかるだろう。
【００３７】
ある実施形態によれば、研磨品を形成するために用いるレーザーの強度（Ｗ）は、ドロス凸条の幅に影響を及ぼすことが可能である。いくつかの実施形態では、レーザー強度は、例えば、少なくとも約５００Ｗ、少なくとも約７５０Ｗ、少なくとも約１０００Ｗ、少なくとも約１２５０Ｗ、少なくとも約１５００Ｗ、少なくとも約１７５０Ｗ、または少なくとも約２０００Ｗと同等、または少なくとも約２２５０Ｗと同等である等、少なくとも約３００Ｗであることが可能である。他の限定しない実施形態では、レーザー強度は、約２２５０Ｗを超えない、約２０００Ｗを超えない、約１７５０Ｗを超えない、約１５００Ｗを超えない、約１２５０Ｗを超えない、約１０００Ｗを超えない、約７５０Ｗを超えない、または約５００Ｗを超えないと同等である等、約２５００Ｗを超えないものとすることが可能である。レーザー強度は、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内であることが可能であることがわかるだろう。
【００３８】
ある実施形態によれば、レーザーのレーザーヘッドスピード（ｉｎ／ｓ）は、ドロス凸条の幅に影響を及ぼすことが可能である。いくつかの実施形態では、レーザーヘッドスピード（ｉｎ／ｓ）は、少なくとも約２、少なくとも約３、少なくとも約５、少なくとも約８、少なくとも約１０  少なくとも約１５、少なくとも約２０、少なくとも約２５、少なくとも約３０、少なくとも約３５、少なくとも約４０、少なくとも約４５、少なくとも約５０  少なくとも約５５、少なくとも約６０、少なくとも約６５、少なくとも約７０、少なくとも約７５、少なくとも約８０、少なくとも約８５、少なくとも約９０、少なくとも約１００、少なくとも約１５０、少なくとも約２００、少なくとも約２５０、水路において約３００、少なくとも約３５０、少なくとも約４００、少なくとも約４５０、または少なくとも約５００と同等である等、少なくとも約１とすることが可能である。他の限定しない実施形態では、レーザーヘッドスピード（ｉｎ／ｓ）は、約４５０を超えない、約４００を超えない、約３５０を超えない、約３００を超えない、約２５０を超えない、約２００を超えない、約１５０を超えない、約１１０を超えない、約１００を超えない、約９５を超えない、約９０を超えない、約８５を超えない、約８０を超えない、約７５を超えない、約７０を超えない、約６５を超えない、約６０を超えない、約５５を超えない、約５０を超えない、約４５を超えない、約４０を超えない、約３５を超えない、約３０を超えない、約２５を超えない、約２０を超えない、約１５を超えない、約１０を超えない、約８を超えない、約５を超えない、約３を超えない、約２を超えない、または約１を超えないと同等である等、約５００を超えないものとすることが可能である。レーザーヘッドスピードは、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内であることが可能であることがわかるだろう。
【００３９】
ある実施形態によれば、研磨品の周辺部または１つ以上の開口部を定めるエッジは、第１の面と第２の面との間に接する第３の面を部分的に規定することが可能である。図２は、ある実施形態による研磨品２００の概略断面側面図である。図示するように、第３の面２０９および２１０は、第１の２０１面および第２の面２０８と交わる。ある例では、第３の面２０９および２１０は、通常図１に示すように、実質的に普通（垂直）の角度で、第１の２０１面および／または第２の面２０８と交わることが可能である。他の例では、第３の面２０９および２１０は、普通でない（垂直でない）角度で、第１の２０１面および／または第２の面２０８と交わることが可能である。ある特定の例では、第３の面２１０は、開口部２０６を、明らかには円錐状開口部２０６を部分的に規定することが可能である。より特定する例では、円錐状開口部２０６は、第１の面２０１上に配置された第１のエッジ２１１と第２の面２０８上に配置された第２のエッジ２１２とを含むことが可能であって、このとき第２のエッジ２１２は、第１のエッジ２１１の直径よりも大きい直径を含む。
【００４０】
本明細書に記載の実施形態による研磨品は、複数の配置された層を含むことが可能である。図３は、ある実施形態による研磨品３００の概略断面側面図である。図示するように、研磨品３００は、基材３１０の第１の主要面３１５に保持された研磨層３１４を含むことが可能である。基材３１０は、第１の主要面３１５から間隙を介した第２の主要面３２５を含むことが可能である。ある態様では、複数層の基材を用いることが可能である。例えば、複数層の基材は、１以上の既知の基材材料の積層であることが可能であって、通常、層を一体的に保持する接着剤が用いられる。他の実施形態では、基材は、基材を封着することおよび／または基材の物理的性質を改変することのために１以上の処理を含むことが可能である。
【００４１】
ある実施形態によれば、基材３１０の第１の主要面３１５は、その上に研磨層３１４が配置される面となることが可能である。さらに、基材３１０の第１の主要面３１５は、その上にメークコート３１６、サイズコート３１７、スーパーサイズコート３１９、またはそれらの組み合わせが配置される面となることが可能であるとわかるだろう。
【００４２】
ある実施形態によれば、基材３１０の第２の主要面３２５は、研磨品３００の使用を促進することができるようにするため、ツールや装置へ完成した研磨品３００を保持することを可能にするための連結系を含むことが可能である。ある特定の例では、基材３１０の第２の主要面３２５は、サポートパッド、バックアップパッド、面ファスナ連結系、噛み合い連結系、ねじ突起、またはそれらの組み合わせを含むことが可能である。連結系を保持することは、例えば、感圧性の接着剤３６０、はく離ライナー３７０、耐滑性または摩擦性コーティング、またはそれらの組み合わせの使用を含むことが可能であると理解されるだろう。
【００４３】
ある実施形態によれば、基材３１０は、フレキシブルまたは剛性であることが可能である。基材３１０は、被覆研磨材の製造の際に基材として従来使用されるものを含む様々な材料をいくらでも使用して作ることが可能である。例となるフレキシブルな基材は、ポリオレフィンフィルム（例えば、二軸延伸ポリプロピレンを含むポリプロピレン）、ポリエステルフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレート）、ポリアミドフィルムまたはセルロースエステルフィルム等の高分子フィルム（例えば、下塗りされたフィルム）や、金属箔や、網や、泡（例えば、天然スポンジ材料またはポリウレタンフォーム）や、布（例えば、ポリエステル、ナイロン、シルク、綿、ポリ綿またはレーヨンを含む繊維またはヤムより作られる布）や、紙や、硫化紙や、硫化ゴムや、硫化ファイバーや、不織布材料や、それらの組み合わせや、それらの処理品を含む。布基材は、織物またはステッチボンドであってもよい。ある特定の例では、基材は、紙、高分子フィルム、布、綿、ポリ綿、レーヨン、ポリエステル、ポリナイロン、硫化ゴム、硫化ファイバー、金属箔、有機材料、合成材料、ナイロン、パラアラミド材料、およびそれらの組み合わせで構成される群から選択される。他の例では、基材は、ポリプロピレンフィルムまたはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを含む。
【００４４】
ある態様では、基材３１０は、複数の層を含むことが可能である。例えば、複数層の基材は、１つ以上の既知の基材材料の積層であることが可能であって、通常、層を一体的に保持する接着剤が用いられる。他の実施形態では、基材は、基材を封着することおよび／または基材３１０の物理的性質を改変することのために１以上の処理を含むことが可能である。基材３１０は、任意に、飽和剤、プレサイズ（前塗布）層またはバックサイズ（後塗布）層の少なくとも１つを有してよい。これらの層の目的は、典型的に、基材を封着することまたは基材内の糸もしくは繊維を保護することである。基材が布材料である場合は、典型として、これらの層のうち少なくとも１つが用いられる。プレサイズ層またはバックサイズ層の付加は、基材の前面または裏面のいずれか上において、さらに「より滑らかな」面をもたらすだろう。本技術分野において既知である他の任意の層もまた用いることが可能である（例えば、結着層である。米国特許第５，７００，３０２号（Ｓｔｏｅｔｚｅｌ  ｅｔ  ａｌ．）を参照のこと。その開示は、引用することにより組み入れられる。）
【００４５】
帯電防止材料は、布の処理材料の中に含んでもよい。帯電防止材料の追加は、木材または木材類似の材料を研磨する際に、静電気を蓄積する被覆研磨品の傾向を減少させることが可能である。基材および基材処理の帯電防止に関するさらなる詳細は、例えば、米国特許第５，１０８，４６３号（Ｂｕｃｈａｎａｎ  ｅｔ  ａｌ．）、第５，１３７，５４２号（Ｂｕｃｈａｎａｎ  ｅｔ  ａｌ．）、第５，３２８，７１６号（Ｂｕｃｈａｎａｎ）、および第５，５６０，７５３号（Ｂｕｃｈａｎａｎ  ｅｔ  ａｌ．）で得ることが可能であり、その開示は、引用することにより本明細書に組み入れられる。
【００４６】
基材は、例えば、米国特許第５，４１７，７２６号（Ｓｔｏｕｔ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているように、繊維状の熱可塑性強化プラスチックであっても、また、例えば、米国特許第５，５７３，６１９号（Ｂｅｎｅｄｉｃｔ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているように無端継ぎなしベルトであってもよく、その開示は、引用することにより本明細書に組み入れられる。同様に、基材は、例えば、米国特許第５，５０５，７４７号（Ｃｈｅｓｌｅｙ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているように、それらから出るフック状の軸を備えた高分子基質であってもよく、その開示は、引用することにより本明細書に組み入れられる。同様に、基材は、例えば、米国特許第５，５６５，０１１号（Ｆｏｌｌｅｔｔ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているように、ループ状の織物であってもよく、その開示は、引用することにより本明細書に組み入れられる。
【００４７】
ある実施形態によれば、メークコート３１６は、その中に埋め込まれた研磨粒子３１８を含むことが可能であり、メークコート３１６および研磨粒子３１８を覆うことが可能なサイズコート３１７をさらに含むことが可能である。ある特定の例では、スーパーサイズコート３１９は、サイズコート３１７を覆うことが可能である。いくつかの例では、ドロス凸条３３０ａは、研磨品３００の周辺部を定めるエッジ３３２の少なくとも１部分に直接隣接して配置されることが可能である。さらに他の例では、ドロス凸条３３０ｂは、開口部１３４を定めるエッジ１３４の少なくとも１部分に直接隣接して配置されることが可能である。
【００４８】
ある実施形態によれば、メークコート３１６またはサイズコート３１７は、１以上の結着剤を含んでもよい。メークコート３１６またはサイズコート３１７の結着剤は、単一ポリマーまたは混合ポリマーで形成してもよい。例えば、結着剤は、エポキシ、アクリルポリマー、またはそれらの組み合わせより形成してもよい。また、結着剤は、ナノサイズ充填材またはナノサイズ充填材およびミクロンサイズ充填材との組み合わせ等の充填材を含んでもよい。ある特定の実施形態では、結着剤は、コロイド状結着剤であって、ここで結着剤を形成するために硬化される配合物は、粒子状充填材を含有するコロイド懸濁系である。代わりに、または、さらに、結着剤は、サブミクロン粒子の充填材を含有するナノ複合結着剤であってもよい。
【００４９】
結着剤は、普通、高分子基質を含有し、存在する場合には、それは、基材または準拠するコートに対して研磨粒子を結合する。典型としては、結着剤は、硬化した結着剤配合物の形状をなす。一つの例示的な実施形態では、結着剤配合物は、ポリマー成分および分散相を含む。
【００５０】
結着剤配合物は、ポリマーの調製のための１以上の反応構成成分またはポリマー構成成分を含んでよい。ポリマー構成成分は、単量体分子、高分子、またはそれらの組み合わせを含んでよい。結着剤組成物は、さらに、溶媒、可塑剤、連鎖移動剤、触媒、安定剤、分散剤、硬化剤、反応介在物質および分散の流動性を誘導する試薬よりなる群から選択される構成成分を含んでもよい。
【００５１】
ポリマー構成成分は、熱可塑性または熱硬化性を生じることが可能である。例として、ポリマー構成成分は、ポリウレタン、ポリウレア、重合エポキシ、ポリエステル、ポリイミド、ポリシロキサン（シリコーン）、重合アルキド、スチレンブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、ポリブタジエン、または、一般的な熱硬化性ポリマー生成のための反応性樹脂を形成するためのモノマーおよび樹脂を含んでもよい。他の例は、アクリレートまたはメタクリレートポリマーの構成成分を含む。前駆体ポリマー構成成分は、典型として、硬化性有機材料（すなわち、熱または他のエネルギー源、例えば、電子ビーム、紫外光、可視光等に晒されることで、または、化学触媒、水分、もしくはポリマーに硬化や重合を引き起こす他の試薬を付加した上で時間の経過とともに、重合もしくは架橋結合可能であるポリマー単量体または材料）である。前駆体ポリマー構成成分の例は、アルキル化尿素ホルムアルデヒドポリマー、メラミンホルムアルデヒドポリマーならびにアルキル化ベンゾグアナミンホルムアルデヒドポリマー等のアミノポリマーもしくはアミノ樹脂ポリマーや、アクリレートならびにメタクリレートポリマー、アルキルアクリレート、アクリル化エポキシ、アクリル化ウレタン、アクリル化ポリエステル、アクリル化ポリエーテル、ビニルエーテル、アクリル化油もしくはアクリル化シリコーンを含むアクリレートポリマーや、ウレタンアルキドポリマー等のアルキドポリマーや、ポリエステルポリマーや、反応性ウレタンポリマーや、レゾールならびにノボラックポリマー等のフェノール性ポリマーや、フェノール性／ラテックスポリマーや、ビスフェノールエポキシポリマー等のエポキシポリマーや、イソシアネートや、イソシアヌレートや、アルキルアルコキシシランポリマーを含むポリシロキサンポリマーや、または反応性ビニルポリマーの形成のための反応性構成成分を含む。結着剤配合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーまたはそれらの組み合わせを含んでよい。ある特定の実施形態では、結着剤配合物は、硬化の際に架橋結合するであろう少なくとも2種類のポリマーのモノマーを含む。例えば、結着剤配合物は、硬化の際にエポキシ／アクリルポリマーを形成するエポキシ組成物およびアクリル組成物を含んでもよい。
【００５２】
被覆研磨品は、サイズコート３１７を覆うスーパーサイズコート３１９を含むことが可能である。スーパーサイズコート３１９は、ポリマー結着剤構成またはサイズコート構成と同じであるまたは異なるものであることが可能である。スーパーサイズコート３１９は、スーパーサイズコートとして用いることが可能な、本技術分野において既知である従来のいかなる構成をも含むことが可能である。一実施形態では、スーパーサイズコート３１９は、サイズコート構成を覆う従来において既知の構成よりなる。他の実施形態では、スーパーサイズコート３１９は、サイズコート構成または研磨層のポリマー結着剤構成の少なくとも１つと同じ材料を有する。ある特定の実施形態では、スーパーサイズコートは、研磨層のポリマー結着剤構成またはサイズコートの構成に１以上の研磨助剤を加えたものと同じ構成を有する。
【００５３】
適した研磨助剤は、例えばナトリウム氷晶石ならびにテトラフルオロホウ酸カリウムであるハロゲン塩等の無機系や、またはラウリル硫酸ナトリウム等の有機系、またはポリ塩化ビニル等の塩素化ワックス、またはステアリン酸亜鉛もしくはステアリン酸カルシウム等の脂肪酸の金属塩とすることが可能である。ある実施形態では、研磨助剤は、環境的に持続可能な材料であることが可能である。
【００５４】
ある特定の実施形態は、１ミクロンから８０ミクロンの範囲の粒子サイズをもつ氷晶石およびテトラフルオロホウ酸カリウムを含み、もっとも特徴的には、５ミクロンから３０ミクロンである。スーパーサイズコートは、非光沢および非塗布特性を提供するために研磨粒子を覆うように適用されるポリマー層とすることが可能である。ある実施形態では、ドロス凸条３３０ａおよびドロス凸条３３０ｂは、メークコート３１６、サイズコート３１７、スーパーサイズコート３１９、改鋳材料、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛およびそれらの組み合わせからの材料を含むことが可能である。周辺部または被覆研磨３００の１つ以上の開口部を定めるエッジの形成に用いるレーザーアブレーション工程のために、ドロス凸条３３０ａおよびドロス凸条３３０ｂは被覆研磨品３００のいずれの層またはいずれの部分からでも改鋳（例えば、融解し、再凝固した）材料を含むことが可能であると理解されるだろう。
【００５５】
ある実施形態では、研磨粒子３１８は、基材３１０に保持された結着剤の全体にわたって分散されることが可能である。そのような被覆研磨品は、研磨表面に付与された所望の局所分布を有することが可能である。例えば、研磨層３１４は、基材３１０に保持される成形された研磨構成よりなることが可能であって、少なくともいくつかの実施形態では、正確に成形される。構造化された研磨品は、このカテゴリーに入る。
【００５６】
ある実施形態によれば、被覆研磨品３００は、特定のグリットサイズを有することが可能である。いくつかの実施形態では、研磨品３００は、少なくとも約Ｐ２００、少なくとも約Ｐ３００、少なくとも約Ｐ４００、少なくとも約Ｐ５００、少なくとも約Ｐ６００、少なくとも約Ｐ７００、少なくとも約Ｐ８００、少なくとも約Ｐ９００、少なくとも約Ｐ１０００、少なくとも約Ｐ１１００、少なくとも約Ｐ１２００、少なくとも約Ｐ１３００、少なくとも約Ｐ１４００、または少なくとも約Ｐ１５００と同等である等、少なくとも約Ｐ１００であるグリットサイズを有することが可能である。他の限定しない実施形態では、研磨品３００は、約Ｐ１４００を超えない、約Ｐ１３００を超えない、約Ｐ１２００を超えない、約Ｐ１１００を超えない、約Ｐ１０００を超えない、約Ｐ９００を超えない、約Ｐ８００を超えない、約Ｐ７００を超えない、約Ｐ６００を超えない、約Ｐ５００を超えない、約Ｐ４００を超えない、または約Ｐ３００を超えないと同等である等、約Ｐ１５００を超えないグリットサイズを有することが可能である。グリットサイズは、先の上限および下限の任意の組み合わせよりなる範囲内であることが可能であることがわかるだろう。
【００５７】
ここで、ある実施形態による研磨品の概略断面側面図である図４を参照。被覆研磨品４００（構造化研磨品）は、基材４１０の第１の主要面４１５に保持された成形された研磨構成４２０よりなる研磨層４１４を有することが可能である。成形された研磨構成４２０は、結着剤４５０に分散された研磨粒子４１８よりなる。任意のスーパーサイズコート４１９は、研磨層４１４を覆うことが可能である。ドロス凸条４３０ａは、周辺部のエッジ４３２に隣接して配置されることが可能であり、ドロス凸条４３０ｂは、開口部（穿孔）４３４に隣接して配置されることが可能である。任意の感圧性の接着層４６０は、第１の主要層４１５の反対側である基材４１０の第２の主要面４２５上に配置されることが可能である。任意のはく離ライナー４７０は、任意の感圧性の接着層４６０上に配置されることが可能である。
【００５８】
図５は、ある実施形態によってレーザーで形成された幅（ｗｄｒ）を含むドロス凸条５０２を有する研磨品の部分の平面上面図の画像である。図６はある実施形態によってレーザーで形成された幅（ｗｄｒ）を含むドロス凸条６０２を有する研磨品の部分の平面上面図の画像である。
実施例
【００５９】
３つの研磨品のサンプルが、研磨品のサンプル内にドロス凸条を作るためにレーザーで加工された。強度１０００Ｗのレーザーが、３つの研磨品サンプルに向けられた。それぞれＰ６００のグリットサイズを有する。それぞれヘッドスピード１００  ｉｎ／ｓ、５００  ｉｎ／ｓおよび１５  ｉｎ／ｓで、レーザーを研磨品サンプル１、２および３に衝突させた。レーザー加工により形成されたドロス凸条の結果的な幅は、以下に表１で示している。特に、レーザー強度１０００Ｗおよびレーザーヘッドスピード１５  ｉｎ／ｓの組み合わせが、平均幅１２１μｍを有するドロス凸条を与えた。
【００６０】
【表１】
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【００６１】
本明細書で用いる場合、用語“ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ”、“ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ”、“ｉｎｃｌｕｄｅｓ”、“ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ”、“ｈａｓ”、“ｈａｖｉｎｇ”またはそれらのどのような他のバリエーションであっても、他を除外しない含有を包含することが意図される。例えば、特徴の列挙を含む工程、方法、品、または装置は、それらの特徴だけに必ずしも限定されるものではないだけでなく、そのような工程、方法、品もしくは装置に対してはっきりと列挙されていない、または固有でない他の特徴を含むことが可能である。本明細書で用いる場合、フレーズ“ｃｏｎｓｉｓｔｓ  ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ  ｏｆ”または“ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ  ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ  ｏｆ”は、フレーズが述べる主題が、実質的に主題の特性に影響するその他の構成要素を含まないという意味である。
【００６２】
さらに、それと反対に明白に示す場合でなければ、“ｏｒ（または）”は他を除外しないｏｒに関するものであって、他を除外するｏｒに関するものではない。例えば、状態Ａまたは（ｏｒ）Ｂは、以下のうちのいずれかひとつにより満たされる。すなわち、Ａは真であり（または存在し）Ｂは偽である（または存在しない）、Ａは偽であり（または存在せず）Ｂは真である（または存在する）、およびＡもＢもいずれも真である（または存在する）。
【００６３】
“ａ”または“ａｎ”の使用は、本明細書で述べられる要素および構成要素を記載するために使用される。これは単に、便宜上および発明の範囲について一般的な意味を与えるためになされる。別を意味していることがはっきりしている場合でなければ、この記載は、１または少なくとも１を含むように読まれるべきであって、単数はまた複数も含み、あるいはその逆もある。
【００６４】
さらに、範囲で明言された値への言及は、その範囲内のそれぞれのおよびすべての値を含む。用語“ａｂｏｕｔ”または“ａｐｐｒｏｘｉｍａｔｅｌｙ”は、数値範囲を述べている場合等、数値に対して先行する場合には、正確な値もまた包含されることが意図されている。例えば、“ａｂｏｕｔ  ２５（約２５）”で開始する数値範囲は、正確に２５で開始する範囲を含むこともまた意図している。
【００６５】
本明細書で用いる場合、フレーズ“ａｖｅｒａｇｅ  ｐａｒｔｉｃｌｅ  ｄｉａｍｅｔｅｒ（平均粒径）”は、平均値、平均、または本技術分野においては一般的にＤ５０とも呼ばれる中央粒径への言及であることが可能である。
【００６６】
別に規定されている場合でなければ、本明細書で用いられるすべての技術的および科学的用語は、本発明が属する技術分野の通常の知識を有する当業者によって一般に理解されるものと同様な意味を有する。材料、方法、および実施例は、単に例示であって、限定することを目的としているものではない。本明細書に記載されていない範囲について、特定の材料および工程の実行に関する多くの詳細は、従来のものであって、シンチレーションおよび照射検出技術の範囲の教科書および他の情報源で得ることが可能である。
【００６７】
前述では、特定の実施形態およびある構成要素のつながりへの言及を例示した。結合するものである、またはつながるものであるような構成成分への言及は、本明細書で論じた方法を実行することでわかるであろう１つ以上の介在する構成要素を通して、前記構成要素間の直接的つながりまたは間接的つながりのいずれかを開示することを意図している、ということがわかるだろう。そのように、上述の主題は、例示として考えられるものであって限定するものではなく、添付の請求項は、変更、拡張、および他の実施形態などのようなものすべてを包含することが意図され、それは本発明の真の範囲内に分類される。さらに、一般的な記載または実施例において上述した作業のすべてが要求されるわけではなく、特定の作業の一部を要求しないことが可能であり、および、１以上のさらなる作業を上述の作業に加えて実行することが可能である。さらにまた、列挙されている作業の順は、それらが実行される順であるとは限らない。
【００６８】
請求項の範囲または意味を説明または限定するために用いられるものではないという了解のもとで、開示が提出される。さらに、上述において、明確にするために、個々の構成の実施形態において本明細書に記載されたある特徴は、単一の実施形態においてコンビネーションで提供されることもまた可能である。反対に、簡潔さのために、単一の構成の実施形態に記載された様々な特徴は、個々にまたはいかなるサブコンビネーションで提供されることもまた可能である。さらに、発明の主題は、いずれかの開示した実施形態のすべての特徴未満のものを対象にすることが可能である。
【００６９】
利益、他の利点、および問題点の解決は、特定の実施形態に関して上述されている。しかしながら、どのような利益、利点、またはより顕著なことが発生することもしくはより顕著になることへの解決を引き起こすことが可能なそうした利益、利点、問題点の解決およびいかなる特徴は、請求項のいずれかまたはすべてにおける批判的、要求的、または本質的特徴として解釈されるものではない。
【００７０】
従って、法によって許容される最大限の範囲に関しては、本発明の範囲は、以下の請求項およびそれらと同等のものについての許容できる最も広い解釈によって決定されるところまでであって、前述の詳細な説明によって制限または限定されるものではない。
【００７１】
項１  エッジを有する第１の面と、上記第１の面上に形成されたドロス凸条であって、少なくとも約１０１μｍで、かつ、約５００μｍを超えない平均幅まで、上記エッジの少なくとも１部分から延びる上記ドロス凸条とを有する、研磨品。
【００７２】
項２  上記エッジは開口部を規定するものであり、上記エッジは上記研磨品の周辺部を規定する、項１に記載の研磨品。
【００７３】
項３  エッジを有する第１の面を有し、上記エッジは開口部を規定するものであって、上記第１の面上に形成されたドロス凸条と、少なくとも約１０１μｍで、かつ、約５００μｍを超えない平均幅まで、上記開口部の上記エッジの少なくとも１部分から延びる上記ドロス凸条とを有する、研磨品。
【００７４】
項４  上記エッジは、円、長方形、楕円、曲線、２次元の多角形、またはそれらの組み合わせの形状を有する、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００７５】
項５  上記ドロス凸条の上記平均幅は、上記エッジと、上記エッジから上記ドロス凸条が垂直に延びる方向に測定された上記ドロス凸条の外周との間の平均距離として規定される、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００７６】
項６  上記ドロス凸条は、メーク材料、サイズ材料、スーパーサイズ材料、改鋳材料、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、またはそれらの組み合わせの材料を含む、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００７７】
項７  上記ドロス凸条は、赤外線レーザーにより形成されるものであって、上記ドロス凸条は、ＣＯ２レーザーより形成される、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００７８】
項８  上記ドロス凸条は、さらに、上記エッジから上記ドロス凸条が垂直に延びる方向に規定された上記ドロス凸条の断面から見た上記第１の面から測定された上記凸条上の平均最高地点によって規定された高さを含む、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００７９】
項９  上記ドロス凸条の上記高さは、約５０μｍを超えず、かつ、少なくとも約１μｍである、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００８０】
項１０  上記ドロス凸条は、式ｈｄｒ／ｗｄｒである、約０．４９５を超えない、凸条幅（ｗｄｒ）に対する高さ（ｈｄｒ）の比を有する、項８の研磨品。
【００８１】
項１１  基材をさらに有するものであって、上記基材は、織物材料、不織布材料、繊維材料、有機材料、合成材料、ナイロン、炭素繊維、パラアラミド材料、またはそれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、上記項のいずれかの研磨品。
【００８２】
項１２  上記基材に保持された研磨層をさらに有するものであって、上記研磨層は、研磨粒子を含む、項１１の研磨品。
【００８３】
項１３  上記研磨粒子は、約３０μｍを超えないＤ５０を有する、項１２の研磨品。
【００８４】
項１４  上記研磨品は被覆研磨品である、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００８５】
項１５  上記研磨品は、メークコート、サイズコート、スーパーサイズコート、またはそれらの組み合わせを含む、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００８６】
項１６  第１の面は、研磨層、メークコート、サイズコート、スーパーサイズコート、またはそれらの組み合わせのうちの少なくとも１つである、上記項のいずれか１つの研磨品。
【００８７】
項１７  第１の面と、上記第１の面から間隙を介した第２の面とを有する研磨品を提供することと、上記第１の面上のエッジを形成することと、上記第１の面上のドロス凸条であって、少なくとも約１０１μｍで、かつ、約５００μｍを超えない平均幅まで、上記エッジの少なくとも１部分から延びる上記ドロス凸条を形成することとを有する研磨品を形成する方法。
【００８８】
項１８  上記エッジは開口部を規定するものであって、上記エッジは、上記研磨品の周辺部を規定する、項１７の研磨品。
【００８９】
項１９  上記凸条を形成することは、レーザーで凸条を形成することを含む、項１７の方法。
【００９０】
項２０  赤外線レーザーは、少なくとも約１０００ｗの最高平均出力を有する、項１９の方法。
【００９１】
項２１  上記凸条を形成することは、上記第１の面より先に上記第２の面に衝突するよう上記研磨品に向けて上記レーザーを向けることを含む、項１９または項２０のいずれか１つの方法。
【００９２】
項２２  上記研磨品の上記第１の面上にドロス凸条を形成することは、上記研磨品の上記第２の面から上記研磨品の上記第１の面まで延びる開口部を形成することを含む、項１９または項２０のいずれか１つの方法。
【００９３】
項２３  第１の主要面と、上記第１の主要面から間隙を介した第２の主要面とを有する基材材料と、上記第１の主要面上に配置された研磨層と、上記研磨層上に配置されたサイズコートと、上記サイズコート上に配置されたスーパーサイズコートと、上記基材材料と、研磨層と、サイズコートと、スーパーサイズコートとを通って延びる少なくとも１つの開口部と、上記開口部の上記エッジの少なくとも１部分に直接隣接する被覆研磨品の部分上に配置されたドロス凸条とを有するものであって、上記ドロス凸条は、１０１μｍから５００μｍの範囲の平均幅を有する、被覆研磨品。
【００９４】
項２４  上記ドロス凸条は、上記ドロス凸条が配置されている上記第１の面の部分上に、４０μｍ未満の最大平均高さを有する、項２３の被覆研磨品。
【００９５】
項２５  上記ドロス凸条の最大平均高さ（ｈｄｒ）に対する上記ドロス凸条の平均幅（ｗｄｒ）の比は、０．４９５を超えない、項２３の被覆研磨品。
【００９６】
項２６  エッジを有する第１の面と、上記第１の面上に形成されたドロス凸条と、少なくとも約１０１μｍで、かつ、約５００μｍを超えない平均幅まで、上記エッジの少なくとも１部分から延びる上記ドロス凸条とを有する、研磨品。
【００９７】
項２７  上記エッジは、開口部を規定する、項２６の研磨品。
【００９８】
項２８  上記ドロス凸条の上記平均幅は、上記エッジと、上記エッジから上記ドロス凸条を垂直に延びる方向に測定された上記ドロス凸条の外周との間の平均距離として規定される、項２６の研磨品。
【００９９】
項２９  上記ドロス凸条は、改鋳材料を含む、項２６の研磨品。
【０１００】
項３０  上記ドロス凸条は、さらに、上記エッジから上記ドロス凸条が垂直に延びる方向に規定された上記ドロス凸条の断面から見た上記第１の面から測定された上記ドロス凸条上の平均最高地点によって規定された高さを含む項２６の研磨品。
【０１０１】
項３１  上記ドロス凸条の上記高さは、約５０μｍを超えず、かつ、少なくとも約１μｍである、項３０の研磨品。
【０１０２】
項３２  上記ドロス凸条は、式ｈｄｒ／ｗｄｒである、約０．４９５を超えない、ドロス凸条幅（ｗｄｒ）に対する高さ（ｈｄｒ）の比を有する、項３０の研磨品。
【０１０３】
項３３  上記第１の面は、基材に保持された研磨層を有し、上記研磨層は研磨粒子を含む、項２６の研磨品。
【０１０４】
項３４  上記研磨粒子は、約３０μｍを超えないＤ５０を有する、項３３の研磨品。
【０１０５】
項３５  上記研磨層は、メークコート、サイズコート、スーパーサイズコート、またはそれらの組み合わせを有する、項３３の研磨品。
【０１０６】
項３６  第１の面と、上記第１の面から間隙を介した第２の面とを有する研磨品を提供することと、上記第１の面上にエッジを形成することと、上記第１の面上のドロス凸条で、少なくとも約１０１μｍで、かつ、約５００μｍを超えない平均幅まで、上記エッジの少なくとも１部分から延びる上記ドロス凸条を形成することとを有する、研磨品を形成する方法。
【０１０７】
項３７  上記ドロス凸条を形成することは、レーザーで上記ドロス凸条を形成することを含む、項３６の方法。
【０１０８】
項３８  上記レーザーは、少なくとも約１０００ワットの最大平均出力を有する、項３７の方法。
【０１０９】
項３９  上記ドロス凸条を形成することは、上記第１の面より先に上記第２の面に衝突するように上記レーザーを向けることを有する、項３７の方法。
【０１１０】
項４０  上記研磨品の上記第１の面上に上記ドロス凸条を形成することは、上記研磨品の上記第２の面から上記研磨品の上記第１の面へ延びる開口部を形成することを含む、項３６の方法。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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