(57)【要約】  フェノールとアニリンとをカップリングするための電気化学的方法であって、ここで、基材の酸化電位の差が１０ｍＶ〜４５０ｍＶの範囲にあり、かつ高い方の酸化電位を有する基材を過剰量で添加する。本方法を用いて、ヒドロキシ−及びアミノ官能基を有するビアリールを電気化学的に製造することができ、かつ金属試薬を使用した多段階の合成を省くことができた。【特許請求の範囲】
【請求項１】
フェノールをアニリンとカップリングするための電気化学的方法であって、
以下の工程段階：
ａ'）溶媒又は溶媒混合物並びに電導度塩を反応容器中に入れる工程、
ｂ'）酸化電位ＥOx１を有するフェノールを前記反応容器中に添加する工程、
ｃ'）酸化電位ＥOx２を有するアニリンを前記反応容器中に添加する工程、ここで、
ＥOx２＞ＥOx１かつＥOx２−ＥOx１＝ΔＥであり、
前記アニリンをフェノールに対して過剰量で加え、かつ前記溶媒又は溶媒混合物は、ΔＥが１０ｍＶ〜４５０ｍＶの範囲にあるように選択し、
ｄ'）２つの電極を反応溶液中に入れる工程、
ｅ'）前記電極に電圧をかける工程、
ｆ'）前記フェノールとアニリンとをカップリングする工程
を含む方法。
【請求項２】
前記アニリンを前記フェノールに対して少なくとも２倍の量で用いる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記フェノール対前記アニリンの比が１：２〜１：４の範囲にある、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
フェノールをアニリンとカップリングするための電気化学的方法であって、
以下の工程段階：
ａ''）溶媒又は溶媒混合物並びに電導度塩を反応容器中に入れる工程、
ｂ''）酸化電位ＥOx１を有するアニリンを前記反応容器中に添加する工程、
ｃ''）酸化電位ＥOx２を有するフェノールを前記反応容器中に添加する工程、ここで、
ＥOx２＞ＥOx１かつＥOx２−ＥOx１＝ΔＥであり、
前記フェノールを前記アニリンに対して過剰量で加え、かつ前記溶媒又は溶媒混合物は、ΔＥが１０ｍＶ〜４５０ｍＶの範囲にあるように選択し、
ｄ''）２つの電極を反応溶液中に入れる工程、
ｅ''）前記電極に電圧をかける工程、
ｆ''）前記フェノールとアニリンとをカップリングする工程
を含む方法。
【請求項５】
前記フェノールを前記アニリンに対して少なくとも２倍の量で用いる、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記アニリン対前記フェノールの比が、１：２〜１：４の範囲にある、請求項４又は５記載の方法。
【請求項７】
前記溶媒又は溶媒混合物を、ΔＥが２０ｍＶ〜４００ｍＶの範囲にあるように選択する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記反応溶液が有機酸化剤を含まない、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
前記フェノール及び前記アニリンを、Ｉａ、Ｉｂ、ＩＩａ、ＩＩｂ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＶａ、ＩＶｂ、Ｖａ、Ｖｂ：
【化１】
2016517467.tif 000017
［式中、置換基Ｒ1〜Ｒ50は、互いに無関係に、水素、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、ハロゲン基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アシル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アロイル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アロイル−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアロイル基、（Ｃ1〜Ｃ14）−ジアルキルホスホリル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−ジアリールホスホリル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−アルキルスルホニル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキルスルホニル基、（Ｃ4〜Ｃ12）−アリールスルホニル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル−（Ｃ4〜Ｃ12）−アリールスルホニル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロアリールスルホニル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基の群から選択され、ここで、前記のアルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、任意に一置換又は多置換されている］から選択し、この場合、以下の組合せ：
アニリン    Ｉａ  ＩＩａ  ＩＩＩａ  ＩＶａ  Ｖａ
フェノール  Ｉｂ  ＩＩｂ  ＩＩＩｂ  ＩＶｂ  Ｖｂ
が可能である、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フェノールとアニリンとをカップリングするための電気化学的方法に関する。
【０００２】
アニリン及びフェノールとの用語は、この出願中では総称として用い、それゆえ置換されたアミノアリール並びに置換されたヒドロキシアリールを包含する。
【０００３】
これまでのところ、保護されていないフェノール−及びアニリン誘導体の直接クロスカップリングは、古典的な有機的手法に限られており、かつ非常に数少ない例のみが知られている。この場合、主に超化学量論量の無機酸化剤、例えばＣｕ（ＩＩ）（Ｍ．Ｓｍｒｃｉｎａ，Ｍ．Ｌｏｒｅｎｃ，Ｖ．Ｈａｎｕｓ，Ｐ．Ｋｏｃｏｖｓｋｙ，Ｓｙｎｌｅｔｔ，１９９１，４，２３１，Ｍ．Ｓｍｒｃｉｎａ，Ｓ．Ｖｙｓｋｏｃｉｌ，Ｂ．Ｍａｃａ，Ｍ．Ｐｏｌａｓｅｋ，Ｔ．Ａ．Ｃｌａｘｔｏｎ，Ａ．Ｐ．Ａｂｂｏｔｔ，Ｐ．Ｋｏｃｏｖｓｋｙ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９４，５９，２１５６，Ｍ．Ｓｍｒｃｉｎａ，Ｍ．Ｌｏｒｅｎｃ，Ｖ．Ｈａｎｕｓ，Ｐ．Ｓｅｄｍｅｒａ，Ｐ．Ｋｏｃｏｖｓｋｙ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９２，５７，１９１，Ｍ．Ｓｍｒｃｉｎａ，Ｊ．Ｐｏｌａｋｏｖａ，Ｓ．Ｖｙｓｋｏｃｉｌ，Ｐ．Ｋｏｃｏｖｓｋｙ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９３，５８，４５３４を参照されたい）又はＦｅ（ＩＩＩ）（Ｋ，Ｄｉｎｇ，Ｑ．Ｘｕ，Ｙ．Ｗａｎｇ，Ｊ．Ｌｉｕ，Ｚ．Ｙｕ，Ｂ．Ｄｕ，Ｙ．Ｗｕ，Ｈ．Ｋｏｓｈｉｍａ，Ｔ．Ｍａｔｓｕｕｒａ，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９７，７，６９３，Ｓ．Ｖｙｓｋｏｃｉｌ，Ｍ．Ｓｍｒｃｉｎａ，Ｍ．Ｌｏｒｅｎｃ，Ｐ．Ｋｏｃｏｖｓｋｙ，Ｖ．Ｈａｎｕｓ，Ｍ．Ｐｏｌａｓｅｋ，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９８，５，５８５を参照されたい）が利用されていた。
【０００４】
まれに、クロスカップリングは、Ｓ．−Ｗ．Ｈｏｎ，Ｃ．−Ｈ．Ｌｉ，Ｊ．−Ｈ．Ｋｕｏ，Ｎ．Ｂ．Ｂａｒｈａｔｅ，Ｙ．−Ｈ．Ｌｉｕ，Ｙ．Ｗａｎｇ，Ｃ．−Ｔ．Ｃｈｅｎ，Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００１，３，８６９に記載されているように、バナジウム触媒を使用した、酸化剤としての酸素によって成功する。
【０００５】
他の合成経路は、遷移金属触媒による酸化的クロスカップリングからのアミノ基の保護又はこれらの官能基をビアリール基本骨格中に後で導入することを含む（Ｒ．Ａ．Ｓｉｎｇｅｒ，Ｓ．Ｌ．Ｂｕｃｈｗａｌｄ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９９，４０，１０９５，Ｋ．Ｋｏｅｒｂｅｒ，Ｗ．Ｔａｎｇ，Ｘ．Ｈｕ，Ｘ．Ｚｈａｎｇ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，２００２，４３，７１６３，Ｅ．Ｐ．Ｓｔｕｄｅｎｔｓｏｖ，Ｏ．Ｖ．Ｐｉｓｋｕｎｏｖａ，Ａ．Ｎ．Ｓｋｖｏｒｔｓｏｖ，Ｎ．Ｋ．Ｓｋｖｏｒｔｓｏｖ，Ｒｕｓｓ．Ｊ．Ｇｅｎ．Ｃｈｅｍ．２００９，７９，９６２，Ｄ．Ｓａｅｌｉｎｇｅｒ，Ｒ．Ｂｒｕｅｃｋｎｅｒ，Ｓｙｎｌｅｔｔ，２００９，１，１０９を参照されたい）。
【０００６】
フェノール−アニリン−クロスカップリングのための上述の方法の大きな欠点は、乾燥溶媒及び空気遮断の必要性が頻繁にあることである。さらに、大量の、一部には有毒の酸化剤がしばしば使用される。たいていの場合、反応中に毒性の副生成物が生じ、これらは所望の生成物から手間をかけて分離され、かつ高い費用をともなって廃棄されなければならない。ますます不足してくる原料（例えば遷移金属触媒クロスカップリングの場合におけるホウ素及び臭素）及び環境保護との関連性の高まりによって、かかる変換のためのコストは上昇する。なかでも、多段階シーケンスが利用される場合には、様々な溶媒の交換が必要である。
【０００７】
異なる分子の電気化学的カップリングの場合に生じる問題は、一般に反応体が異なる酸化電位ＥOxを有することである。その結果、低い方の酸化電位を有する分子は、高い方の酸化電位を有する分子より、電子（ｅ-）をアノードに、かつＨ+イオンを例えば溶媒に放出する傾向が強くなる。酸化電位ＥOxは、ネルンストの式により計算することができる：
【数１】
2016517467.tif 000002
【０００８】
ＥOx：酸化反応の電極電位（＝酸化電位）
Ｅ0：標準電極電位
ｎ：移動した電子数
［Ｏｘ］：酸化体の濃度
［Ｒｅｄ］：還元体の濃度
【０００９】
上記の文献中で挙げられる方法を２つの異なる基材に適用すると、低い方の酸化電位を有する分子のラジカルが主に形成し、それからこれらは互いに反応し合う結果となる。つまり、明らかに多数を占める主生成物として、２つの同じ基材から形成されている生成物が得られることになる。
この問題は、同じ分子のカップリングの場合には起きない。
【００１０】
本発明の課題は、アニリンとフェノールとを互いにカップリングすることができ、かつ金属試薬を使用した多段階の合成を省くことができる電気化学的方法を提供することであった。
【００１１】
この課題は、本発明による方法によって解決される。
【００１２】
フェノールをアニリンとカップリングするための電気化学的方法であって、
以下の工程段階：
ａ'）溶媒又は溶媒混合物並びに電導度塩を反応容器中に入れる工程、
ｂ'）酸化電位ＥOx１を有するフェノールを前記反応容器中に添加する工程、
ｃ'）酸化電位ＥOx２を有するアニリンを前記反応容器中に添加する工程、ここで、
ＥOx２＞ＥOx１かつＥOx２−ＥOx１＝ΔＥであり、
アニリンをフェノールに対して過剰量で加え、かつ溶媒又は溶媒混合物を、ΔＥが１０ｍＶ〜４５０ｍＶの範囲にあるように選択し、
ｄ'）２つの電極を反応溶液中に入れる工程、
ｅ'）電極に電圧をかける工程、
ｆ'）フェノールとアニリンとをカップリングする工程
を含む方法。
【００１３】
ここで、工程段階ａ）〜ｃ）は、任意の順序で行ってよい。
【００１４】
フェノールをアニリンとカップリングするための電気化学的方法であって、
以下の工程段階：
ａ''）溶媒又は溶媒混合物並びに電導度塩を反応容器中に入れる工程、
ｂ''）酸化電位ＥOx１を有するアニリンを反応容器中に添加する工程、
ｃ''）酸化電位ＥOx２を有するフェノールを反応容器中に添加する工程、ここで、
ＥOx２＞ＥOx１かつＥOx２−ＥOx１＝ΔＥであり、
フェノールをアニリンに対して過剰量で加え、かつ溶媒又は溶媒混合物を、ΔＥが１０ｍＶ〜４５０ｍＶの範囲にあるように選択し、
ｄ''）２つの電極を反応溶液中に入れる工程、
ｅ''）電極に電圧をかける工程、
ｆ''）フェノールとアニリンとをカップリングする工程
を含む方法。
【００１５】
ここで、工程段階ａ）〜ｃ）は、任意の順序で行ってよい。
【００１６】
電気化学的処理によってフェノールをアニリンとカップリングし、かつ相応の生成物を製造するが、その際、有機酸化剤を添加したり、湿気を遮断して作業したり、又は嫌気性での反応操作を遵守する必要はない。Ｃ，Ｃ−カップリングのこの直接法によって、既存の多段階の古典的な有機合成経路に代わる低コストかつ環境に易しい可能性が開かれる。
【００１７】
一般式（Ｉ）〜（Ｖ）に従った化合物は、この記載した方法により製造されることができる：
【化１】
2016517467.tif 000003
［式中、置換基Ｒ1〜Ｒ50は、互いに無関係に、水素、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、ハロゲン基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アシル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アロイル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アロイル−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアロイル基、（Ｃ1〜Ｃ14）−ジアルキルホスホリル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−ジアリールホスホリル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−アルキルスルホニル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキルスルホニル基、（Ｃ4〜Ｃ12）−アリールスルホニル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル−（Ｃ4〜Ｃ12）−アリールスルホニル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロアリールスルホニル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基の群から選択され、ここで、前記のアルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、任意に一置換又は多置換されている］。
【００１８】
アルキル基は、非分枝状又は分枝状の脂肪族基を表す。
【００１９】
アリール基は、好ましくは１４個までの炭素原子を有する芳香族（炭化水素）基、例えばフェニル（Ｃ6Ｈ5）基、ナフチル（Ｃ10Ｈ7）基、アントリル（Ｃ14Ｈ9）基、好ましくはフェニル基を表す。
【００２０】
シクロアルキル基は、もっぱら炭素原子のみを環中に有する飽和環式炭化水素基を表す。
【００２１】
ヘテロアルキル基は、Ｎ、Ｏ、Ｓ及び置換されたＮから成る群から選択されるヘテロ原子１〜４個、有利には１個又は２個を有していてよい非分枝状又は分枝状の脂肪族基を表す。
【００２２】
ヘテロアリール基は、１〜４個、有利には１個又は２個の炭素原子が、Ｎ、Ｏ、Ｓ及び置換されたＮから成る群から選択されるヘテロ原子によって置き換えられていてよいアリール基を表し、その際、ヘテロアリール基は、より大きな縮合した環構造の一部であってもよい。
【００２３】
ヘテロシクロアルキル基は、Ｎ、Ｏ、Ｓ及び置換されたＮから成る群から選択されるヘテロ原子１〜４個、有利には１個又は２個を有していてよい飽和環式炭化水素基を表す。
【００２４】
縮合環構造の一部であってよいヘテロアリール基は、有利には、縮合した５員環又は６員環、例えばベンゾフラン、イソベンゾフラン、インドール、イソインドール、ベンゾチオフェン、ベンゾ［ｃ］チオフェン、ベンゾイミダゾール、プリン、インダゾール、ベンゾオキサゾール、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、アクリジンが形成されている系を意味する。
【００２５】
上述の置換されたＮは、一置換されていてよく、アルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、一置換又は多置換、特に有利には一置換、二置換又は三置換されていてよく、水素、（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ14）−ヘテロアルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、ＣＦ3基、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）基、（Ｃ1〜Ｃ10）−ハロアルキル基、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ14）−アルコキシ基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリールオキシ基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリールオキシ基、Ｎ（（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル)2基、Ｎ（（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール)2基、Ｎ（（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル）（（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール）基から成る群から選択される基によって置換されていてよく、ここで、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヘテロアルキル、ヘテロアリール基及びヘテロシクロアルキル基は、前述の意味を有する。
【００２６】
１つの実施形態においては、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ43、Ｒ44は、−Ｈ及び／又はＰ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ ａｎｄ  Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ，４ｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｗｉｌｅｙ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，２００７，ｐ．６９６−９２６の“Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”に記載されるアミノ官能基の保護基から選択される。
【００２７】
１つの実施形態においては、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49、Ｒ50は、水素、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、ハロゲン基から成る群から選択され、ここで、上述のアルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、任意に一置換又は多置換されている。
【００２８】
１つの実施形態においては、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ43、Ｒ44は、−Ｈ、（Ｃ1〜Ｃ12）−アシル基から選択される。
【００２９】
１つの実施形態においては、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49、Ｒ50は、水素、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、ハロゲン基から成る群から選択され、ここで、上述のアルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、任意に一置換又は多置換されている。
【００３０】
方法は、異なる炭素（とりわけ、ガラス状炭素、ホウ素ドープダイヤモンド、グラファイト、炭素繊維、ナノチューブ）電極、金属酸化物電極及び金属電極で実施してよい。その際、１〜５０ｍＡ／ｃｍ2の範囲の電流密度を印加する。
【００３１】
ビアリールの加工及び回収は非常に簡単であり、かつ反応の終了後に、一般によく用いられる分離法に従って行う。まず初めに電解質溶液を蒸留し、かつ個々の化合物を異なるフラクションとして別々に取得する。更なる精製を、例えば結晶化、蒸留、昇華又はクロマトグラフィーによって行ってよい。
【００３２】
電気分解は、当業者に知られている慣用の電解セル中で実施する。適した電解セルは、当業者に知られている。
【００３３】
本発明の１つの側面は、反応の収率を、２つの基材の酸化電位の差（ΔＥ）により制御することができる点にある。
【００３４】
本発明による方法を用いて、冒頭で挙げた課題が解決される。
反応操作を効率的なものにするために、２つの反応条件が必要とされる：
−  高い方の酸化電位を有する基材を過剰量で添加しなければならないこと、及び
−  ２つの酸化電位の差（ΔＥ）は、ある一定の範囲になければならないこと。
【００３５】
本発明による方法のために、フェノール及びアニリンの酸化電位の絶対値を知っている必要は必ずしもない。２つの酸化電位の互いの差が知られていれば十分である。
【００３６】
本発明の更なる１つの側面は、２つの酸化電位の差（ΔＥ）を、使用される溶媒若しくは溶媒混合物により影響を及ぼすことができることである。
【００３７】
例えば、２つの酸化電位の差（ΔＥ）は、溶媒／溶媒混合物の適した選択によって所望の範囲にずらすことができる。
【００３８】
基本溶媒として１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）から出発した場合、極端に小さいΔＥは、例えばアルコールの添加によって高められることができる。それに対して、極端に大きいΔＥは、水の添加によって下げられることができる。
【００３９】
進行する反応シーケンスを、以下に図解して示す：
2016517467.tif 000004
【００４０】
上述の溶媒中でフェノール成分Ａの選択的な酸化が可能となり、これは形成されたラジカル種の高い反応性によって成分Ｂにより求核攻撃されることができる。この場合、２つの基材の第一の酸化電位が、反応を成功させるのに重要であると考えられる。プロトン性添加剤、例えばＭｅＯＨ又は水を電解質に目的に応じて添加することによって、まさにこれらの酸化電位をずらすことが可能になる。そうして、この反応の収率及び選択率を制御することが可能である。
【００４１】
本発明による方法によって、ヒドロキシル官能基及びアミノ官能基を有するビアリールを初めて電気化学的に製造することができ、かつ金属試薬を使用した多段階の合成を省くことができた。
【００４２】
アニリンが高い方の酸化電位を有する場合、本方法の１つの変形例においては、アニリンをフェノールに対して少なくとも２倍の量で用いる。
【００４３】
アニリンが高い方の酸化電位を有する場合、本方法の１つの変形例においては、フェノール対アニリンの比は１：２〜１：４の範囲にある。
【００４４】
フェノールが高い方の酸化電位を有する場合、本方法の１つの変形例においては、フェノールをアニリンに対して少なくとも２倍の量で用いる。
【００４５】
フェノールが高い方の酸化電位を有する場合、本方法の１つの変形例においては、アニリン対フェノールの比は１：２〜１：４の範囲にある。
【００４６】
本方法の１つの変形例においては、電導度塩は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、テトラ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アンモニウム塩、１，３−ジ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）イミダゾリウム塩又はテトラ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）ホスホニウム塩の群から選択される。
【００４７】
本方法の１つの変形例においては、電導度塩の対イオンは、硫酸イオン、硫酸水素イオン、アルキル硫酸イオン、アリール硫酸イオン、アルキルスルホン酸イオン、アリールスルホン酸イオン、ハロゲン化物イオン、リン酸イオン、炭酸イオン、アルキルリン酸イオン、アルキル炭酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロケイ酸イオン、フッ化物イオン及び過塩素酸イオンの群から選択される。
【００４８】
本方法の１つの変形例においては、電導度塩は、テトラ（Ｃ1〜Ｃ6−アルキル）アンモニウム塩から選択され、かつ対イオンは、硫酸イオン、アルキル硫酸イオン又はアリール硫酸イオンから選択される。
【００４９】
本方法の１つの変形例においては、反応溶液はフッ素化化合物を含まない。
【００５０】
本方法の１つの変形例においては、反応溶液は遷移金属を含まない。
【００５１】
本方法の１つの変形例においては、反応溶液は有機酸化剤を含まない。
【００５２】
本方法の１つの変形例においては、フェノール及びアニリンは、Ｉａ、Ｉｂ、ＩＩａ、ＩＩｂ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＶａ、ＩＶｂ、Ｖａ、Ｖｂ：
【化２】
2016517467.tif 000005
［式中、置換基Ｒ1〜Ｒ50は、互いに無関係に、水素、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、ハロゲン基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アシル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アロイル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アロイル−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアロイル基、（Ｃ1〜Ｃ14）−ジアルキルホスホリル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−ジアリールホスホリル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−アルキルスルホニル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキルスルホニル基、（Ｃ4〜Ｃ12）−アリールスルホニル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル−（Ｃ4〜Ｃ12）−アリールスルホニル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロアリールスルホニル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基の群から選択され、ここで、前記のアルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、任意に一置換又は多置換されている］から選択される。
【００５３】
アルキル基は、非分枝状又は分枝状の脂肪族基を表す。
【００５４】
アリール基は、好ましくは１４個までの炭素原子を有する芳香族（炭化水素）基、例えばフェニル（Ｃ6Ｈ5）基、ナフチル（Ｃ10Ｈ7）基、アントリル（Ｃ14Ｈ9）基、好ましくはフェニル基を表す。
【００５５】
シクロアルキル基は、もっぱら炭素原子のみを環中に有する飽和環式炭化水素基を表す。
【００５６】
ヘテロアルキル基は、Ｎ、Ｏ、Ｓ及び置換されたＮから成る群から選択されるヘテロ原子１〜４個、有利には１個又は２個を有していてよい非分枝状又は分枝状の脂肪族基を表す。
【００５７】
ヘテロアリール基は、１〜４個、有利には１個又は２個の炭素原子が、Ｎ、Ｏ、Ｓ及び置換されたＮから成る群から選択されるヘテロ原子によって置き換えられていてよいアリール基を表し、その際、ヘテロアリール基は、より大きな縮合した環構造の一部であってもよい。
【００５８】
ヘテロシクロアルキル基は、Ｎ、Ｏ、Ｓ及び置換されたＮから成る群から選択されるヘテロ原子１〜４個、有利には１個又は２個を有していてよい飽和環式炭化水素基を表す。
【００５９】
縮合環構造の一部であってよいヘテロアリール基は、有利には、縮合した５員環又は６員環、例えばベンゾフラン、イソベンゾフラン、インドール、イソインドール、ベンゾチオフェン、ベンゾ［ｃ］チオフェン、ベンゾイミダゾール、プリン、インダゾール、ベンゾオキサゾール、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、アクリジンが形成されている系を意味する。
【００６０】
上述の置換されたＮは、一置換されていてよく、アルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、一置換又は多置換、特に有利には一置換、二置換又は三置換されていてよく、水素、（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ14）−ヘテロアルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、ＣＦ3基、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）基、（Ｃ1〜Ｃ10）−ハロアルキル基、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ14）−アルコキシ基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリールオキシ基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリールオキシ基、Ｎ（（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル)2基、Ｎ（（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール)2基、Ｎ（（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル）（（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール）基から成る群から選択される基によって置換されていてよく、ここで、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヘテロアルキル、ヘテロアリール基及びヘテロシクロアルキル基は、前述の意味を有する。
【００６１】
１つの実施形態においては、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ43、Ｒ44は、−Ｈ及び／又はＰ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ ａｎｄ  Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ，４ｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｗｉｌｅｙ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，２００７，ｐ．６９６−９２６の“Ｇｒｅｅｎｅ’ｓ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”に記載されるアミノ官能基の保護基から選択される。
【００６２】
１つの実施形態においては、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49、Ｒ50は、水素、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ14）−ヘテロアリール−（Ｃ1〜Ｃ14）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−ヘテロシクロアルキル−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、ハロゲン基から成る群から選択され、ここで、上述のアルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、任意に一置換又は多置換されている。
【００６３】
１つの実施形態においては、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ43、Ｒ44は、−Ｈ及び／又は（Ｃ1〜Ｃ12）−アシル基から選択される。
【００６４】
１つの実施形態においては、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ40、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49、Ｒ50は、水素、ヒドロキシル基、（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ12）−ヘテロアルキル基、Ｏ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、Ｏ−（Ｃ3〜Ｃ12）−シクロアルキル基、Ｓ−（Ｃ1〜Ｃ12）−アルキル基、Ｓ−（Ｃ4〜Ｃ14）−アリール基、ハロゲン基から成る群から選択され、ここで、上述のアルキル基、ヘテロアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、任意に一置換又は多置換されている。
【００６５】
この場合、以下の組合せ：
アニリン    Ｉａ  ＩＩａ  ＩＩＩａ  ＩＶａ  Ｖａ
フェノール  Ｉｂ  ＩＩｂ  ＩＩＩｂ  ＩＶｂ  Ｖｂ
が可能である、
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】カップリング反応を実施することができる反応装置を示す図
【図２】カップリング反応をより大規模に実施することができる反応装置を示す図
【図３】セル構造を概略的に示す図
【図４】ＨＦＩＰ溶媒に添加したメタノール（ＭｅＯＨ）の割合に依存した酸化電位の変化を示す図
【図５】ＨＦＩＰ溶媒に添加したメタノール（ＭｅＯＨ）の割合に依存した酸化電位の変化を示す図
【図６】ＨＦＩＰ溶媒に添加したメタノール（ＭｅＯＨ）の割合に依存した酸化電位の変化を示す図
【図７】ＨＦＩＰ溶媒に添加したメタノール（ＭｅＯＨ）の割合に依存した酸化電位の変化を示す図
【図８】ＨＦＩＰ溶媒に添加したメタノール（ＭｅＯＨ）の割合に依存した酸化電位の変化を示す図
【図９】ＨＦＩＰ溶媒に添加したメタノール（ＭｅＯＨ）の割合に依存した酸化電位の変化を示す図
【図１０】ＨＦＩＰ溶媒に添加したメタノール（ＭｅＯＨ）の割合に依存した酸化電位の変化を示す図
【００６７】
以下では、本発明を、実施例及び図面に基づき詳細に説明する。
【００６８】
【表１】
2016517467.tif 000006
【００６９】
電気分解パラメーター：ｎ（成分１）＝５ｍｍｏｌ、ｎ（成分１）＝１５ｍｍｏｌ、電導度塩：ＭＴＢＳ、ｃ（ＭＴＢＳ）＝０．０９Ｍ、Ｖ（溶媒）＝３３ｍＬ、溶媒：ＨＦＩＰ。
電極材料：ガラス状炭素、ｊ＝２．８ｍＡ／ｃｍ2、Ｔ＝５０℃、Ｑ＝２Ｆ*ｎ（成分１）。
電気分解は定電流条件下で行う。
a：ｎ（成分１）に対する単離収率；
b：ＧＣにより測定。ＡＢ：クロスカップリング生成物、ＢＢ：ホモカップリング生成物。
【００７０】
一般的作業手順
サイクリックボルタンメトリー（ＣＶ）
μＡｕｔｏｌａｂ  ｔｙｐｅ  ＩＩＩのポテンシオスタットが組み込まれたＶＡ−スタンド  Ｍｅｔｒｏｈｍ  ６６３  ＶＡを使用した（Ｍｅｔｒｏｈｍ  ＡＧ、ヘリザウ在、スイス国）。ＷＥ：ガラス状炭素電極、直径２ｍｍ；ＡＥ：ガラス状炭素棒；ＲＥ：飽和ＬｉＣｌ／ＥｔＯＨ中でのＡｇ／ＡｇＣｌ。溶媒：ＨＦＩＰ＋０〜２５％（ｖ／ｖ）ＭｅＯＨ。酸化基準：ｊ＝０．１ｍＡ／ｃｍ2、ｖ＝５０ｍＶ／ｓ、Ｔ＝２０℃。測定中に混合。ｃ（アニリン誘導体）＝１５１ｍＭ、電導度塩：［Ｅｔ3ＮＭｅ］［Ｏ3ＳＯＭｅ］（ＭＴＥＳ），ｃ（ＭＴＥＳ）＝０．０９Ｍ。
【００７１】
クロマトグラフィー
“フラッシュクロマトグラフィー”による分取液体クロマトグラフィー分離を、１．６ｂａｒの最大圧によりＭａｃｈｅｒｅｙ−Ｎａｇｅｌ  ＧｍｂＨ  ＆  Ｃｏ社製（デューレン在）のシリカゲル  ６０Ｍ（０．０４０〜０．０６３ｍｍ）を用いて実施した。圧力をかけない分離は、Ｍｅｒｃｋ  ＫＧａＡ社製（ダルムシュタット在）のシリカゲル  Ｇｅｄｕｒａｎ  Ｓｉ６０（０．０６３〜０．２００ｍｍ）を用いて実施した。溶離剤として使用した溶媒（酢酸エチルエステル（テクニカルグレード），シクロヘキサン（テクニカルグレード））は、前もって回転蒸発器で蒸留精製した。
薄膜クロマトグラフィー（ＴＬＣ）のために、Ｍｅｒｃｋ  ＫＧａＡ社製（ダルムシュタット在）のＰＬＣ−既製プレート  シリカゲル  ６０  Ｆ２５４を使用した。Ｒｆ値は、使用した展開剤混合物の関数として示す。ＴＬＣプレートの染色のために、セリウム−リンモリブデン酸溶液を液浸試薬として使用した。セリウム−リンモリブデン酸試薬：リンモリブデン酸５．６ｇ、硫酸セリウム（ＩＶ）四水和物２．２ｇ及び濃硫酸１３．３ｇ（水２００ｍＬについて）。
【００７２】
ガスクロマトグラフィー（ＧＣ／ＧＣＭＳ）
生成物混合物及び純物質のガスクロマトグラフ試験（ＧＣ）を、島津社製（日本国）のガスクロマトグラフＧＣ−２０１０を用いて行った。Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製（アメリカ合衆国）の石英毛管カラムＨＰ−５（長さ：３０ｍ；内径：０．２５ｍｍ；共有結合した固定相の膜厚：０．２５μｍ；キャリアガス：水素；インジェクター温度：２５０℃；検出器温度：３１０℃；プログラム：“ｈａｒｄ”法：１分間で５０℃の開始温度、加熱速度：１５℃／分、８分間で２９０℃の最終温度）で測定する。生成物混合物及び純物質のガスクロマトグラフマススペクトル（ＧＣＭＳ）は、島津社製（日本国）の質量検出器ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０と組み合わせたガスクロマトグラフＧＣ−２０１０を用いて記録した。Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製（アメリカ合衆国）の石英毛管カラムＨＰ−１（長さ：３０ｍ；内径：０．２５ｍｍ；共有結合した固定相の膜厚：０．２５μｍ；キャリアガス：水素；インジェクター温度：２５０℃；検出器温度：３１０℃；プログラム：“ｈａｒｄ”法：１分間で５０℃の開始温度、加熱速度：１５℃／分、８分間で２９０℃の最終温度；ＧＣＭＳ：イオン源の温度：２００℃）で測定する。
【００７３】
融点
融点を、ＨＷ５社製（マインツ在）の融点測定装置ＳＧ２０００を使って測定し、かつ校正は行っていない。
【００７４】
元素分析
元素分析を、ヨハネスグーテンベルク大学マインツの有機化学研究所の分析部において、Ｆｏｓｓ−Ｈｅｒａｅｕｓ社製（Ｈａｎａｕ在）のＶａｒｉｏ  ＥＬ  Ｃｕｂｅを用いて調製した。
【００７５】
質量分析法
すべてのエレクトロスプレーイオン化測定（ＥＳＩ＋）を、Ｗａｔｅｒｓ  Ｍｉｃｒｏｍａｓｓｅｓ社製（ミルフォード在、マサチューセッツ州）のＱＴｏｆ  Ｕｌｔｉｍａ  ３を用いて実施した。ＥＩマススペクトル並びに高解像度ＥＩスペクトルを、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｆｉｎｎｉｇａｎ社製（ブレーメン在）のＭＡＴ  ９５  ＸＬ型扇形磁場装置である装置を用いて測定した。
【００７６】
ＮＭＲ分光法
ＮＭＲ分光試験を、Ｂｒｕｃｋｅｒ，Ａｎａｋｙｔｉｓｃｈｅ  Ｍｅｓｓｔｅｃｈｎｉｋ社製（カールスルーエ在）のＡＣ  ３００又はＡＶ  ＩＩ  ４００型の多核磁気共鳴分光計を用いて実施した。溶媒としてＣＤＣｌ3を使用した。1Ｈ−及び13Ｃ−スペクトルは、Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ  Ｉｓｏｔｏｐｅｓ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製（アメリカ合衆国）のＮＭＲ  Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｄａｔａ  Ｃｈａｒｔに従った非重水素化溶媒の残留物含量に合わせて校正した。1Ｈ−及び13Ｃ−シグナルの帰属は、部分的にＨ，Ｈ−ＣＯＳＹ、Ｈ，Ｈ−ＮＯＥＳＹ、Ｈ，Ｃ−ＨＳＱＣ及びＨ，Ｃ−ＨＭＢＣスペクトルを用いて行った。化学シフトは、δ値（ｐｐｍ単位）として示す。ＮＭＲ−シグナルの多重度に関しては、以下の略称を使用した：ｓ（シングレット）、ｂｓ（ブロードシングレット）、ｄ（ダブレット）、ｔ（トリプレット）、ｑ（カルテット）、ｍ（マルチプレット）、ｄｄ（ダブレットのダブレット）、ｄｔ（トリプレットのダブレット）、ｔｑ（カルテットのトリプレット）。すべてのカップリング定数Ｊを、対象に含まれる結合の数によりヘルツ（単位）で示した。シグナル帰属の際に示した番号は、模式図に示した番号付けに相当し、これはＩＵＰＡＣ命名法に一致している必要はない。
【００７７】
ＡＡＶ１：電気化学的クロスカップリングの作業手順
そのつど過少量の成分２〜４ｍｍｏｌを、カップリングされるべき第二の成分６〜１２ｍｍｏｌと所定の量で１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）及びＭｅＯＨ中に溶解し、かつ分割されていないビーカーセル中でガラス状炭素電極と反応させる。電気分解は、定電流条件下で行う。反応を撹拌し、そして湯浴を用いて５０℃に加温する。電気分解の終了後、セルの中身をＨＦＩＰと一緒に５０ｍＬの丸底フラスコに移し、そして溶媒を減圧下で回転蒸発器により５０℃、２００〜７０ｍｂａｒにて除去する。反応しなかった反応物量は、短行程蒸留又は球管蒸留によって保持する（１００℃、１０-3ｍｂａｒ）
電極材料
アノード：ガラス状炭素
カソード：ガラス状炭素
電気分解条件：
温度［Ｔ］：５０℃
電流値［Ｉ］：２５ｍＡ
電流密度［ｊ］：２．８ｍＡ／ｃｍ2
電荷量［Ｑ］：２Ｆ（過小量の成分につき）
端子電圧［Ｕmax］：３〜５Ｖ
【００７８】
概略的なセル構造
図３には、セルの構造を概略的に再現している。ここで、このセルは、以下の構成要素を有する：
１‘‘：電極用のステンレス鋼ホルダー
２‘‘：テフロンストッパー
３‘‘：還流冷却器接続用に取り付けられた排出口を有するビーカーセル
４‘‘：ステンレス鋼クランプ
５‘‘：ガラス状炭素電極
６‘‘：磁気撹拌子
【００７９】
Ｎ−アセチル−２−アミノ−２’−ヒドロキシ−４，５−ジメトキシ−３’−（ジメチルエチル）−５’−メチルビフェニル
【化３】
2016517467.tif 000007
【００８０】
電気分解は、ガラス状炭素電極を有する分割されていないビーカーセル中でＡＡＶ１に従って実施する。このために、２−（ジメチルエチル）−４−メチルフェノール０．６２ｇ（３．７９ｍｍｏｌ、１．０当量）及びＮ−（３，４−ジメトキシフェニル）アセトアミド２．２２ｇ（１１．３６ｍｍｏｌ、３．０当量）をＨＦＩＰ２５ｍＬ中に溶解し、ＭＴＢＳ０．７７ｇを添加し、かつ電解質を電気分解セルに移す。溶媒並びに反応しなかった反応物量を、電気分解後に減圧下で除去し、粗生成物を“フラッシュクロマトグラフィー”としてシリカゲル６０を用いて４：１（ＣＨ：ＥＥ）の展開剤中で精製し、かつ生成物を無色の固体として得る。
収率：４４７ｍｇ（３３％、１．３ｍｍｏｌ）
ＧＣ（方法“ハード”、ＨＰ−５）：ｔR＝１６．１４分
Ｒf（ＣＨ：ＥＥ＝４：１）＝０．１７
ｍp＝１８２℃（ＤＣＭから再結晶化）
2016517467.tif 000008
【００８１】
２’−アミノ−４’−ブロモ−２−ヒドロキシ−３，５’−ジメトキシ−５−メチルビフェニル
【化４】
2016517467.tif 000009
【００８２】
電気分解は、ガラス状炭素電極を有する分割されていないビーカーセル中でＡＡＶ１に従って実施する。このために、４−ブロモ−３−メトキシアニリン０．４３ｇ（２．１５ｍｍｏｌ、１．０当量）及び４−メチルグアイアコール０．８９ｇ（６．４５ｍｍｏｌ、３．０当量）をＨＦＩＰ２５ｍＬ中に溶解し、ＭＴＢＳ０．７７ｇを添加し、かつ電解質を電気分解セルに移す。溶媒並びに反応しなかった反応物量を、電気分解後に減圧下で除去し、粗生成物を“フラッシュクロマトグラフィー”としてシリカゲル６０を用いて９：１（ＣＨ：ＥＥ）の展開剤中で精製し、かつ生成物を赤油として得る。
収率：７０ｍｇ（１０％、０．２ｍｍｏｌ）
ＧＣ（方法“ハード”、ＨＰ−５）：ｔR＝１６．８２分
Ｒf（ＣＨ：ＥＥ＝４：１）＝０．２６
2016517467.tif 000010
【００８３】
Ｎ−アセチル−２−アミノ−２’−ヒドロキシ−５’−メチル−２’，４，５−トリメトキシビフェニル
【化５】
2016517467.tif 000011
【００８４】
電気分解は、ガラス状炭素電極を有する分割されていないビーカーセル中でＡＡＶ１に従って実施する。このために、４−メチルグアイアコール０．５２ｇ（３．７９ｍｍｏｌ、１．０当量）及びＮ−（３，４−ジメトキシフェニル）アセトアミド２．２２ｇ（１１．３７ｍｍｏｌ、３．０当量）をＨＦＩＰ２５ｍＬ中に溶解し、ＭＴＢＳ０．７７ｇを添加し、かつ電解質を電気分解セルに移す。溶媒並びに反応しなかった反応物量を、電気分解後に減圧下で除去し、粗生成物を“フラッシュクロマトグラフィー”としてシリカゲル６０を用いて２：３（ＣＨ：ＥＥ）＋１％のＡｃＯＨの展開剤中で精製し、かつ生成物を粘性の淡黄色油として得る。
収率：１７３ｍｇ（１４％、０．５２ｍｍｏｌ）
ＧＣ（方法“ハード”、ＨＰ−５）：ｔR＝１６．１１分
Ｒf（ＣＨ：ＥＥ＝４：１）＝０．２６
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【００８５】
Ｎ−アセチル−２−アミノ−３’−メチル−４’−（メチルエチル）−４，５’−ジメトキシジフェニルエーテル
【化６】
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【００８６】
電気分解は、ガラス状炭素電極を有する分割されていないビーカーセル中でＡＡＶ１に従って実施する。このために、３−メチル−４−（メチルエチル）フェノール０．７５ｇ（５．００ｍｍｏｌ、１．０当量）及びＮ−（３，４−ジメトキシフェニル）アセトアミド２．９３ｇ（１５．００ｍｍｏｌ、３．０当量）をＨＦＩＰ３３ｍＬ中に溶解し、ＭＴＢＳ１．０２ｇを添加し、かつ電解質を電気分解セルに移す。溶媒並びに反応しなかった反応物量を、電気分解後に減圧下で除去し、粗生成物を“フラッシュクロマトグラフィー”としてシリカゲル６０を用いて３：２（ＣＨ：ＥＥ）の展開剤中で精製し、かつ生成物を無色の固体として得る。
収率：３１３ｍｇ（１８％、０．９１ｍｍｏｌ）
ＧＣ（方法“ハード”、ＨＰ−５）：ｔR＝１６．３８分
Ｒf（ＣＨ：ＥＥ＝３：２）＝０．２６
ｍp＝１１２℃（ＣＨから再結晶化）
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【００８７】
２’−アミノ−３’−クロロ−２，４−ジヒドロキシ−５，５’−ジメチル−３−メトキシビフェニル
【化７】
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【００８８】
電気分解は、ガラス状炭素電極を有する分割されていないビーカーセル中でＡＡＶ１に従って実施する。このために、２−クロロ−３−ヒドロキシ−４−メチルアニリン０．６０ｇ（３．７９ｍｍｏｌ、１．０当量）及び４−メチルグアイアコール１．５７ｇ（１１．３６ｍｍｏｌ、３．０当量）をＨＦＩＰ２５ｍＬ中に溶解し、ＭＴＢＳ０．７７ｇを添加し、かつ電解質を電気分解セルに移す。溶媒並びに反応しなかった反応物量を、電気分解後に減圧下で除去し、粗生成物を“フラッシュクロマトグラフィー”としてシリカゲル６０を用いて４：１（ＣＨ：ＥＥ）の展開剤中で精製し、かつ生成物を暗褐色の固体として得る。
【００８９】
収率：２２１ｍｇ（２０％、０．７６ｍｍｏｌ）
ＧＣ（方法“ハード”、ＨＰ−５）：ｔR＝１５．６４分
Ｒf（ＣＨ：ＥＥ＝４：１）＝０．２３
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【００９０】
図１は、上記のカップリング反応を実施することができる反応装置を示す。装置は、ニッケルアノード（１）及びシリコン若しくは他のキャリア材料上のホウ素ドープダイヤモンド（ＢＢＤ）より成るアノード又は当業者に公知の他の電極材料（５）を含む。装置は、冷却ジャケット（３）を用いて冷却することができる。ここで、矢印は、冷却水の流出方向を指し示す。反応チャンバーは、テフロンストッパー（２）で閉じられている。反応混合物は、磁気撹拌子（７）によって混合される。アノード側では、装置は、ねじクランプ（４）及びシール（６）によって閉じられる。
【００９１】
図２は、上記のカップリング反応をより大規模に実施することができる反応装置を示す。装置は２つのガラスフランジ（５’）を含み、このフランジを介して、ホウ素ドープダイヤモンド（ＢＢＤ）でコーティングされたキャリア材料より成る電極（３’）又は当業者に公知の他の電極材料は、ねじクランプ（２’）及びシールによって押し付けられる。反応チャンバーには、ガラススリーブ（１’）を介して還流冷却器が備わっていてよい。反応混合物は、磁気撹拌子（４’）を用いて混合される。
【００９２】
図４〜１０は、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）溶媒に添加したメタノール（ＭｅＯＨ）の割合に依存した酸化電位（Ｖ）の変化をそれぞれ示す。記号における数字は、−ＮＨ2基若しくは−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨ3基に対するベンゼン環上の置換基の位置を示す：２＝オルト位、３＝メタ位、４＝パラ位。
図から明らかになることは、酸化電位がメタノールの添加によって変化し得ることである。
【符号の説明】
【００９３】
１  ニッケルアノード、  ２  テフロンストッパー、  ３  冷却ジャケット  、  ４  ねじクランプ、  ５  電極材料、  ６  シール、  ７  磁気撹拌子、  １'  ガラススリーブ、  ２’  ねじクランプ、  ３’  電極、  ４’  磁気撹拌子、  ５’  ガラスフランジ、  １‘‘  電極用のステンレス鋼ホルダー、  ２‘‘  テフロンストッパー、  ３‘‘  還流冷却器接続用に取り付けられた排出口を有するビーカーセル、  ４‘‘  ステンレス鋼クランプ、  ５‘‘  ガラス状炭素電極、  ６‘‘  磁気撹拌子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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