(57)【要約】【課題】薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）において、負バイアス温度ストレスに対する安定性を改善する。【解決手段】第１のエネルギーレベルの伝導帯を有する金属酸化物半導体１８のチャネルと、前記金属酸化物半導体１８のチャネルの少なくとも一部をカバーしているパッシベーション材料２０の層とを有し、前記パッシベーション材料２０は、第２のエネルギーレベルの伝導帯を有し、前記第２のエネルギーレベルは、前記第１のエネルギーレベルと等しいか、もしくは０．５ｅＶ未満だけ前記第１のエネルギーレベルより高い、金属酸化物薄膜トランジスタ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のエネルギーレベルの伝導帯を有する金属酸化物半導体のチャネルと、
前記金属酸化物半導体のチャネルの少なくとも一部を覆っているパッシベーション材料の層とを含み、前記パッシベーション材料は、第２のエネルギーレベルの伝導帯を有し、前記第２のエネルギーは、前記第１のエネルギーレベルと等しいか、もしくは０．５ｅＶ未満だけ前記第１のエネルギーレベルより高い、金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項２】
前記パッシベーション材料がＴａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｗ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＭｇＯから選ばれる１種またはそれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項３】
前記パッシベーション層が、前記金属酸化物の１種と一部の絶縁化合物との混合酸化物によって形成される、請求項２に記載の金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項４】
前記パッシベーション材料が、実質的に前記金属酸化物半導体より絶縁性が高いかまたは電気伝導度の小さな材料であり、１０−１０Ｓ／ｃｍ未満の導電率を有する、請求項１に記載の金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項５】
前記パッシベーション層の電気伝導度に対するチャンネル層の電気伝導度の比率が相対的に一定であり、それによってトランジスタの電流スイッチング比率は比較的一定に保たれる、請求項４に記載の金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項６】
基板と、
前記基板によって支持されるゲートと、
前記ゲートの少なくとも一部を覆っているゲート誘電体の層と、
前記ゲート誘電体の層の上側に配置され、第１のエネルギーレベルの伝導帯を有する金属酸化物半導体のチャンネルと、
前記金属酸化物半導体のチャネル上の、前記ゲートの両側の位置に配置された金属ソース／ドレイン接合と、
前記ソース／ドレイン接合間の、前記金属酸化物半導体のチャネルの少なくとも一部を覆っているパッシベーション材料の層とを備え、
前記パッシベーション材料は、第２のエネルギーレベルの伝導帯を有し、前記第２のエネルギーレベルは、前記第１のエネルギーレベルと等しいかもしくは前記第１のエネルギーレベルより０．５ｅＶ未満だけ高くなっている、金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項７】
前記パッシベーション材料が、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｗ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＭｇＯから選ばれる１種またはそれらの組み合わせを含む、請求項６に記載の金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項８】
前記パッシベーション層が、前記挙げられた金属酸化物の少なくとも１種と、一部の絶縁化合物との混合酸化物により形成される、請求項７に記載の金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項９】
前記パッシベーション材料が、前記金属酸化物半導体よりも基本的により絶縁性が高いか、もしくはより電気伝導度が小さく、かつ１０−１０Ｓ／ｃｍ未満の導電率を有する、請求項７に記載の金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項１０】
前記パッシベーション層の電気伝導度に対するチャンネル層の電気伝導度の比は相対的に一定であり、このためトランジスタの電流スイッチング比率は相対的に一定に保たれる、請求項９に記載の金属酸化物薄膜トランジスタ。
【請求項１１】
温度安定度が改善された金属酸化物薄膜トランジスタを製作する方法であって、必ずしも順番に従って実施されるわけではない次の各工程を含む方法。
・基板を用意し、ゲートを形成し、前記ゲートの少なくとも一部をゲート誘電体の層で覆う工程、
・前記ゲート誘電体上であって前記ゲートの両側に第１のエネルギーレベルの伝導帯を有する金属酸化物半導体層を堆積する工程、
・金属酸化物半導体層上に、ソースおよびドレイン接合を前記ゲートの両側に隔離させて配置して、前記ゲートと基本的に整合配列した前記金属酸化物半導体層の中の前記ソースおよびドレイン接合間のチャネル領域を定める工程、ならびに
・第１のエネルギーレベルと等しいか、もしくは第１のエネルギーレベルより０．５ｅＶ未満だけ高い第２のエネルギーレベルの伝導帯を有するパッシベーション材料の層を前記金属酸化物半導体のチャネル領域に配置する工程。
【請求項１２】
前記パッシベーション材料の層を配置する工程において、真空成膜法を用いる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記真空成膜法によりパッシベーション材料の層を配置する工程は、熱成膜法、スパッタリング成膜法、ＣＶＤ法、および噴霧熱分解法から選ばれる１つを用いる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記パッシベーション材料の層を配置する工程は、リソグラフィプロセスの１つを用いてパターニングする工程を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記パッシベーション材料の層を配置する工程は、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｗ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＭｇＯの中から選ばれる１種またはそれらの組み合わせをパッシベーション材料として選択する工程を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
混合酸化物の形態で前記パッシベーション材料の層を配置する工程は、前記金属酸化物の少なくとも１種および前記一部の絶縁化合物からなる混合酸化物を用いる、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記パッシベーション材料の層を配置する工程は、基本的に前記金属酸化物半導体より絶縁性の高いあるいは導電率の小さなパッシベーション材料を選択する工程を含み、当該材料は１０−１０Ｓ／ｃｍ未満の導電率を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記金属酸化物半導体層を堆積させる工程および前記パッシベーション材料の層を配置する工程は、前記金属酸化物半導体の導電率と前記パッシベーション材料の導電率との比率が相対的に一定のままである、前記金属酸化物と前記パッシベーション材料とを選択して、それによってトランジスタの電流スイッチング比率を相対的に一定に保つ、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記パッシベーション材料の層を配置する工程は、ソースおよびドレイン接合を隔離させて配置するステップの前、またはソースおよびドレイン接合を隔離させて配置するステップの後のいずれかにおいて実施される、請求項１１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）における金属酸化物半導体フィルムに関し、より詳しくは、負バイアス温度ストレスに対する安定性に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
アクティブチャンネル層として金属酸化物半導体の層を備えた薄膜トランジスタ（ＭＯＴＦＴ）は、その高いキャリア移動度と、次世代ディスプレイおよび薄膜電子工学に向けたその高い可能性のため、大きな注目を浴びている。
【０００３】
しかしながら、解決されないままになっている当面の課題の一つとして、この種のトランジスタの暗環境および照明下における電流−電圧特性の動作安定性がある。これらの課題は、関連した高移動度を有するデバイスにおいて、より深刻である。広帯域イオン性半導体と狭帯域共有結合性半導体との違いに基づき、ＭＯＴＦＴの不安定性のメカニズムは、ａ−ＳｉのＴＦＴで観察されるそれと、基本的に異なる。
【０００４】
負バイアス温度ストレスの下にある金属酸化物ＴＦＴにとって、金属酸化物は、電子および水の存在下で還元され（すなわち酸素を失い）、閾値電圧（Ｖｔｈ）が負の側にシフトする。
【０００５】
ｅ−＋ＭＯ＋Ｈ２Ｏ  →  Ｍ＋＋２ＯＨ−
Ｍ＋酸素の損失  Ｖｔｈ  →  負にシフト
ＴＦＴが照明下で多くの電子およびホールが発生しているときに、この問題は特に深刻である。
【０００６】
負バイアス温度ストレスを減らす１つの対策は水の存在を制限することであり、それは今日では、主にＴＦＴの周辺に良好なパッシベーションを持たせることによって達成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第７，９７７，１５１号明細書
【特許文献２】米国特許第８，１２９，７２０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、水に対する完全なバリア（パッシベーション）を提供することは困難であり、高コストとなる。さらにまた、金属酸化物半導体チャンネル層により吸収され得るいかなる短波長の光も、当該チャンネル層の中に光学的に誘起される電子を減少させるために遮断されなければならない。また、アクティブマトリックス表示装置のアプリケーションにおいて、光がチャンネル層にまで達しないように光を完全に遮断することも、困難である。若干のわずかな光は、散乱および導波によって金属酸化物層の中に入射する。ＴＦＴに入る水分量およびＴＦＴに入射する光量を小さくすることを考慮する一方、これらの効果はＴＦＴの全寿命を通じて発生していると理解しなければならない。
【０００９】
従って、金属酸化物に入射する迷光に基づく負バイアス温度ストレスの下でのＶｔｈシフトから受ける影響を減らす追加的な方法を考慮することが望ましい。
【００１０】
そこで、前述したおよび他の、従来技術にみられる欠点を改善することが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の前記の目的を達成するために、第１のエネルギーレベルの伝導帯を有する金属酸化物半導体のチャネルと、前記金属酸化物半導体のチャネルの少なくとも一部を覆っているパッシベーション材料の層とを含み、前記パッシベーション材料は、第２のエネルギーレベルの伝導帯を有し、前記第２のエネルギーは、前記第１のエネルギーレベルと等しいか、もしくは０．５ｅＶ未満だけ前記第１のエネルギーレベルより高い、金属酸化物薄膜トランジスタが提供される。
【００１２】
本発明の前記の目的は、温度安定度が改善された金属酸化物薄膜トランジスタを製作する方法であって、以下の各工程を含む方法によっても達成される。すなわち、基板を用意し、ゲートを形成し、前記ゲートの少なくとも一部をゲート誘電体の層で覆う工程、前記ゲート誘電体上であって前記ゲートの両側に第１のエネルギーレベルの伝導帯を有する金属酸化物半導体層を堆積する工程、金属酸化物半導体層上に、ソースおよびドレイン接合を前記ゲートの両側に隔離させて配置して、前記ゲートと基本的に整合配列した前記金属酸化物半導体層の中の前記ソースおよびドレイン接合間のチャネル領域を定める工程、ならびに第１のエネルギーレベルと等しいか、もしくは第１のエネルギーレベルより０．５ｅＶ未満だけ高い第２のエネルギーレベルの伝導帯を有するパッシベーション材料の層を前記金属酸化物半導体のチャネル領域に配置する工程を含む方法である。
【００１３】
本発明の前述したおよび更なる目的および利点は、図面に関連してなされる本発明の好ましい実施例についての以下の詳細な説明から、当業者にとって明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】パッシベーション層およびオーミックなソース−ドレイン接合を有する典型的なＭＯＴＦＴを示す簡略化されたレイヤー図である、
【図２】図１のＭＯＴＦＴに負バイアスをかけたときに現れる概略エネルギーバンド図である。
【図３】本発明に最適化されたパッシベーション層を有するＭＯＴＦＴにおいて、負バイアスの下で現れる概略エネルギーバンド図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１を参照して、パッシベーション層およびオーミックなソース−ドレイン接合を有する典型的なＭＯＴＦＴ１０の簡略化されたレイヤー図が示される。
【００１６】
この具体例において、ＭＯＴＦＴ１０は、底面にゲートおよび上側にソース／ドレインを有する金属酸化物ＴＦＴである。本発明は、多数のＭＯＴＦＴのうちのいずれにもあてはめることができ、そして、図示されたＭＯＴＦＴ１０は単に説明の便宜上示されたものであることが理解されよう。
【００１７】
ＭＯＴＦＴ１０は、適当なパッシベーション・コーティングを有する典型的なガラスまたはプラスチックシートの基板１２を含む。ある応用において基板１２上に、番号１３で示すように、付加的なパッシベーション層および／またはバッファ層を追加してもよい。本明細書の開示において例えばパッシベーション層、バッファ層などの全ての例は、「基板」という用語に含まれるものとする。
【００１８】
ＭＯＴＦＴ１０には、基板１２の上にゲート金属１４がパターン形成されている。さらにゲート誘電層１６がゲート金属１４の上に堆積され、金属酸化物半導体活性層１８が、ゲート誘電層１６の上に堆積され、活性層１８はゲート金属１４から絶縁される。パッシベーション層２０が活性層１８上にパターン形成され、そして、ソース／ドレイン接合２２が、活性層１８の露出した上面のパッシベーション層２０の両側に形成される。ソース・ドレイン間の空間は、２４で示されるＭＯＴＦＴ１０の伝導チャネルを定める。
【００１９】
ソース／ドレイン層を設ける前にパッシベーション層２０を堆積させてパターニングすることに代えて（図１に示すように、層２０はソース／ドレイン層作製工程の間、エッチ−ストッパーとして機能する）、Ｓ／Ｄ層を完成した後に、パッシベーション層２０を、チャネル上において処理することもできる。この種の処理手順は、ａ−ＳｉのＴＦＴの分野でバック−チャネル−エッチング構造としてよく参照される。
【００２０】
ＭＯＴＦＴ１０のより詳細な記述および製造の方法は、“Double Self-Aligned Metal Oxide TFT”と題する特許文献１およびそこから派生するいくつかの文献、例えば特許文献２において記載されている。さまざまな考えられるＭＯＴＦＴの構成が本開示の方法に適用できる。例えばボトムゲート、ボトムソース／ドレインタイプの装置、トップゲート、トップソース／ドレインタイプの装置その他であり、これらの多くは上記にあげられた特許文献において開示され説明されている。
【００２１】
ＭＯＴＦＴ１０の基板１２は通常、デバイスの基板側からのいかなる水浸透も効果的に防ぐことができることを理解すべきである。また、重金属のソース／ドレイン接合２２は、いかなる水分も、装置のそれらの領域に入るのを効果的に防止するものと理解される。水の成分は、チャネル２４の上の、ソースおよびドレイン接合２２の間のパッシベーション層（例えばパッシベーション層２０）から装置に侵入する。前述したように、パッシベーションを完璧に水密に作ることは極めて困難であり高コストであり、従って、デバイスの寿命期間において、若干の水分は入る。
【００２２】
図２も参照して、負バイアスの下での簡略なバンド図が、典型的なパッシベーションを有するＭＯＴＦＴのために例示されている。図１の例から理解されるように、金属酸化物１８はゲート誘電体１６とパッシベーション材料２０との間に挟まれている。
【００２３】
シリコンベースのＭＯＴＦＴに使用される従来のパッシベーション材料の例は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＮ、などであった。高温でまたは照明によって発生した電子は、図２に３０で示される金属酸化物−パッシベーション界面で蓄積される。温度がより高くなり、または照明がより強くなると、より多くの電子が発生し界面３０で蓄積される。チャネル材料として金属酸化物半導体を有するＴＦＴにおいて、酸化物が還元されるプロセスは、水分が最も豊富であり、そして、電子濃度が負のバイアスストレスの下で最も高い界面３０で、最も容易に発生する。この還元プロセスは、正のフィードバックプロセスでもある点に留意する必要がある。すなわち、酸素の減少は、Ｖｔｈをより負にして還元プロセスに使われる電子の数を増加させる。この正のフィードバックプロセスにより、Ｖｔｈのシフトは（１）湿度、（２） 光の照明、そして（３） 酸化物−パッシベーション界面の酸素空格子点（oxygen vacancy）に非常に影響される（sensitive）ようになる。
【００２４】
正のフィードバックループを壊す方法は、界面がまず極めて少ない酸素空格子点を有することを確認することである。しかしながら、酸素空格子点は、第Ｖｔｈにより拘束され、自由に調整することができない。
【００２５】
本発明の対策は、チャネル−パッシベーション界面のバンドアライメントの慎重な設定によって、金属酸化物チャンネル層の電子がパッシベーション材料へ移動されるようにするということである。バンドアライメントに加えて、電子および水分の存在下においてさえ還元プロセスに影響されにくいパッシベーション材料を選択することである。パッシベーション材料は、電流を切換えるために用いられないので、材料選択のためのより多くの選択肢がある。この対策は、照明下でＭＯＴＦＴに多くの電子およびホールが発生する状況で、水分子の存在下での還元プロセスを回避するために電子を金属酸化物から移動させなければならないときに、特に効果的である。
【００２６】
図３は、本発明に従って最適化されたパッシベーション層を有する番号５０で示されるＭＯＴＦＴの負バイアスの下での簡略なエネルギーバンド図である。図２から分かるように、パッシベーション材料２０の伝導帯が半導体酸化物材料１８の伝導帯より高い（すなわちエネルギー障壁が高い）ときに、金属酸化物半導体１８からパッシベーション材料２０への電子の移送は効果的でなく、電子は界面３０で蓄積する。図３のエネルギーバンド図にて示すように、パッシベーション材料５２の伝導帯のエネルギーレベルが金属酸化物５４（特に５６と称される領域を参照）の伝導帯のエネルギーレベルに近いように、最適化されたパッシベーション層５２が選択される。この開示の目的上、「近い」とは、パッシベーション材料５２の伝導帯レベルが金属酸化物５４の伝導帯レベルに等しいか、または０．５ｅＶ以内の範囲で、金属酸化物５４の伝導帯レベルより高いことを意味する。
【００２７】
金属酸化物半導体材料の伝導帯に接近した伝導帯を有するパッシベーション材料を選択することは、図３に示したバイアス場によって、金属酸化物半導体からパッシベーション材料への電子の移動を容易にする。電子を拡散しパッシベーション層５２に電子を移すことによって、金属酸化物半導体のチャンネル層内の酸素還元にかかわる電子数が減少する。したがって、バイアス温度ストレスに対する安定性は改善され、ＭＯＴＦＴは電子が存在していても水分を介した還元プロセスの影響を受けにくくなる。
【００２８】
パッシベーション材料として採用可能な典型的な金属酸化物半導体の例は、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｗ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＭｇＯのいずれかまたはそれらの組み合わせを含む。パッシベーション層は、前述した金属酸化物の少なくとも１つと、絶縁化合物の一部（fraction of insulating compounds）との混合酸化物の形態で作製することもできる。これらの材料は、真空成膜法の１つ、例えば熱付着もしくはスパッタリング法のような物理成膜法、ＣＶＤ法、噴霧熱分解法などを用いて成膜することができる。パターニングが必要である場合（例えば図１に示される場合）、この分野の専門家に知られているリソグラフィプロセスの１つを用いて、この層はパターニングされることができる。ある特例において、混合酸化物パッシベーションフィルムは、直接フォトパターニング可能である前駆体の形で作ることができて、それから前述した最終形態に変換することができる。
【００２９】
典型的なＭＯＴＦＴにおいて現在利用できる深いバイアス条件で、電流スイッチング比率を保持するために、電気伝導度の低いチャンネル層であっても、パッシベーション材料は、チャネル層より実質的に絶縁性が高いことが望まれる。すなわち、パッシベーション材料としては、金属酸化物より実質的により絶縁性がより高く電気伝導度の小さいもの、好ましくは１０−１０Ｓ／ｃｍより小さなものを選ぶことが好ましい。パッシベーション層はチャンネル層より電気伝導度が小さいだけでなく、チャンネル層とパッシベーション層の電気伝導度の比は、相対的に一定のままでなければならない。更に、パッシベーション材料の絶縁値（insulating value）は、金属酸化物チャンネル層から電子の移動後も保持されなければならない。これは、例えば、適当な金属酸化物パッシベーション材料（前述した例を参照）を選択することによって、達成することができる。すなわちパッシベーション材料を構成する金属が可変原子価を有し、パッシベーション材料が異なる酸化／還元段階で所望の絶縁性を保持することである。１つの具体例として酸化タンタルをあげることができる。酸化タンタルは金属酸化チャンネル層から電子が移った後に、絶縁性を有するＴａ２Ｏ５が還元されて同じく絶縁性を有するＴａＯ２およびＴａ２Ｏ３になる。
【００３０】
金属酸化物半導体チャンネル層に近いエネルギーレベルを有するパッシベーション材料を選択することに加えて、前記パッシベーション材料が金属酸化物半導体チャンネル層の光学ギャップより大きい光学ギャップを有することが好ましい。
【００３１】
本発明は、迷光の入射による負バイアス温度ストレスの下でのＶｔｈのシフトに対して影響を受けにくい（reduced sensitivity）新規なおよび改良されたＭＯＴＦＴを提供する。さらに本発明は、ＭＯＴＦＴに照射される迷光による負バイアス温度ストレスの下でのＶｔｈのシフトに対して影響を受けにくい、新規なおよび改良型の方法と装置を開示する。第一義的には本発明は、最適化されたパッシベーション層を有する負バイアスの下でのＭＯＴＦＴを開示する。
【００３２】
本願明細書において、当業者は説明のために選択された実施例に対するさまざまな改変と変更を想起することができる。かかる改変と変更は、本発明の精神から逸脱しない限りにおいて本発明の範囲に含まれ、添付した請求の範囲の公正な解釈によってのみ評価される。
【００３３】
本発明は、当業者が本発明を理解しかつ実施できるように、明確かつ簡潔な用記で完全に記述された。
【図１】
2016502278.tif 000003
【図２】
2016502278.tif 000004
【図３】
2016502278.tif 000005
【国際調査報告】
2016502278.tif 000006