(57)【要約】１つ又は複数の基板の格納部は、格納される容積エリアを画定する筐体を有し、筐体に含まれるブロック又はプレートゲッタユニットは、一連の溝又は他の繰り返しの表面構造パターンによってプレート又はブロックに形成される増大した表面積によって提供される改善された性能を有する。上記パターンはブロック又はプレートに増大した表面積を提供し、これにより格納される容積領域への活性要素の暴露が増大する。一実施形態のブロック又はプレートの一側面の構造は、反対の側面に鏡像表面又は相補的な表面を有する。上記構造によりブロック又はプレートの剛性が保たれ、重量が最小限にされ、露出した表面積が最大限にされる。筐体は特定のポケットを有したり、ブロック又はプレートゲッタの従来の基板スロットを用いたりし得る。プレート又はブロックゲッタは、ウェハ容器又は他の基板容器における従来のスロット又は専用のポケット内に嵌まるように構成される。
2016536800.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板容器であって、
内部を画定し、基板を保持する構造を含み、前記基板は浮遊する汚染物質の影響を受けやすい、格納部と、
ポリマー及びモレキュラーシーブ材料を含むゲッタであって、２つの対向する主面のそれぞれに複数の溝の繰り返しパターンを有する表面を有し、該表面が表面積の増大を提供する、前記ゲッタと、
を備える、基板容器。
【請求項２】
複数の前記溝は互いに平行であり、各溝は２つの対向する前記主面によって画定される厚さの少なくとも４０％を延びる、請求項１に記載の基板容器。
【請求項３】
前記基板容器は、レチクル、ウェハ及び平面パネルのうちの１つを収容するように構成されている、請求項１又は２に記載の基板容器。
【請求項４】
前記レチクル、前記ウェハ及び前記平面パネルのうちの１つと組み合わせた、請求項３に記載の基板容器。
【請求項５】
前記ゲッタはプレート形状を有し、複数の前記溝は格子構造によって画定される凹部とともに該格子構造の一部であり、前記格子構造は対向する前記主面によって画定される厚さの少なくとも５０％を延びる、請求項１又は２に記載の基板容器。
【請求項６】
前記ゲッタは長さｌ、幅ｗ及び厚さｔを有するブロック形状を有し、前記ゲッタは、（２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ））の少なくとも１．５倍の表面積を有する、請求項１に記載の基板容器。
【請求項７】
前記ゲッタは、（２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ））の少なくとも２．０倍の表面積を有する、請求項６に記載の基板容器。
【請求項８】
前記ゲッタは、直径ｒ及び厚さｔを有する円形のプレート形状を有し、前記ゲッタは、（２πｒ２＋（ｔ２πｒ））の少なくとも１．５倍の表面積を有する、請求項１に記載の基板容器。
【請求項９】
前記ゲッタは、直径ｒ及び厚さｔを有する円形のプレート形状を有し、前記ゲッタは、（２πｒ２＋（ｔ２πｒ））の少なくとも２．０倍の表面積を有する、請求項１に記載の基板容器。
【請求項１０】
前記容器は第１の容器であるとともに、第２の容器を更に備え、それにより二重格納基板容器を提供し、該二重格納基板容器は、レチクルを保持するように構成されている、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項１１】
前記第２の容器は前記第１の容器内に包囲され、前記ゲッタは前記第２の容器の外側に位置決めされて固定される、請求項１０に記載の基板容器。
【請求項１２】
前記ゲッタは前記容器のゲッタポケット内に位置決めされ、２つの主側面のそれぞれが容器壁から離間した状態で前記ゲッタポケット内に固定される、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項１３】
前記容器はポリカーボネートを含む、請求項１に記載の基板容器。
【請求項１４】
前記容器は、実質的にポリカーボネートから形成される容器壁を有する、請求項１０に記載の基板容器。
【請求項１５】
前記ゲッタはポリプロピレンから構成される、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項１６】
前記基板容器は面積を有するフットプリントを有し、前記ゲッタのフットプリントの面積は、前記基板容器の前記フットプリントの前記面積の少なくとも３０％である、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項１７】
前記基板容器は面積を有するフットプリントを有し、前記ゲッタのフットプリントの面積は、前記基板容器の前記フットプリントの前記面積の少なくとも５０％である、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項１８】
前記基板容器は面積を有するフットプリントを有し、前記ゲッタのフットプリントの面積は、前記基板容器の前記フットプリントの前記面積の少なくとも７０％である、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項１９】
前記ゲッタは、中実、均質及び単一である、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項２０】
前記基板は表面積を有する主面を有し、前記ゲッタは、前記基板の前記表面積の少なくとも５０％の表面積の主面を有する、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項２１】
前記ゲッタは、ポリマー、チャネリング剤及び乾燥剤を含む、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項２２】
前記乾燥剤は有極性であり、前記チャネリング剤は有極性である、請求項２１に記載の基板容器。
【請求項２３】
前記ゲッタはポリマー、チャネリング剤及びＶＯＣ吸収材を含む、請求項１、６、７、８、及び９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項２４】
前記吸収材は活性炭である、請求項２３に記載の基板容器。
【請求項２５】
基板容器のゲッタを提供する方法であって、
ポリマー、チャネリング剤及び吸収材を組み合わせて融解したフォームにすることと、
前記融解したフォームを、繰り返しの表面構造を有する改善されたゲッタに成形し、ゲッタ材料の体積に対する表面積の比を高めることと、
を含む、方法。
【請求項２６】
基板容器のゲッタを提供する方法であって、
ポリマー、チャネリング剤及び吸収材を組み合わせて融解したフォームにすることと、
前記融解したフォームをゲッタブロックに成形することと、
繰り返しの表面構造を前記ブロックの２つの主面に機械加工し、それによりゲッタ材料の体積に対して増大された表面積を提供し、改善されたゲッタを提供することと、
を含む、方法。
【請求項２７】
前記改善されたゲッタを前記基板容器内に据え付けることを更に含む、請求項２５又は２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記ゲッタを前記基板容器のポケット内に据え付けることを更に含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記吸収材の乾燥剤を選択するステップを更に含む、請求項２５又は２６に記載の方法。
【請求項３０】
前記改善されたゲッタをプレート形態に形成することを更に含む、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
基板容器であって、
内部を画定し、基板を保持する構造を含み、前記基板は浮遊する汚染物質の影響を受けやすい、格納部と、
ポリマー及びモレキュラーシーブ材料を含むゲッタであって、主面にわたって凹部又は孔の繰り返しパターンを有する表面を有し、それにより表面積の増大を提供し、中実、均質かつ単一である前記ゲッタと、
を備える、基板容器。
【請求項３２】
前記凹部又は前記孔の繰り返しパターンは、２つの主面にあり、該２つの対向する主面によって画定される厚さの少なくとも４０％を延びる、請求項３１に記載の基板容器。
【請求項３３】
前記基板容器は、レチクル及びウェハのうちの一方を収容するように構成されている、請求項３１又は３２に記載の基板容器。
【請求項３４】
前記レチクル、前記ウェハ及び平面パネルのうちの１つと組み合わせた、請求項３３に記載の基板容器。
【請求項３５】
前記ゲッタはプレート形状を有し、複数の溝は格子構造によって画定される凹部とともに該格子構造の一部であり、前記格子構造は対向する前記主面によって画定される厚さの少なくとも５０％を延びる、請求項３１又は３２に記載の基板容器。
【請求項３６】
前記ゲッタは、長さｌ、幅ｗ及び厚さｔを有するブロック形状を有し、前記ゲッタは、（２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ））の少なくとも１．５倍の表面積を有する、請求項１に記載の基板容器。
【請求項３７】
前記ゲッタは、（２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ））の少なくとも２．０倍の表面積を有する、請求項３６に記載の基板容器。
【請求項３８】
前記ゲッタは、直径ｒ及び厚さｔを有する円形のプレート形状を有し、前記ゲッタは、（２πｒ２＋（ｔ２πｒ））の少なくとも１．５倍の表面積を有する、請求項３１に記載の基板容器。
【請求項３９】
前記ゲッタは、直径ｒ及び厚さｔを有する円形のプレート形状を有し、前記ゲッタは、（２πｒ２＋（ｔ２πｒ））の少なくとも２．０倍の表面積を有する、請求項３１に記載の基板容器。
【請求項４０】
前記容器は第１の容器であるとともに、第２の容器を更に備え、それにより二重格納基板容器を提供し、該二重格納基板容器は、レチクルを保持するように構成されている、請求項３１、３６、３７、３８、及び３９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項４１】
前記第２の容器は前記第１の容器内に包囲され、前記ゲッタは前記第２の容器の外側に位置決めされて固定される、請求項４０に記載の基板容器。
【請求項４２】
前記ゲッタは前記容器のゲッタポケット内に位置決めされ、２つの主側面のそれぞれが容器壁から離間した状態で前記ゲッタポケット内に固定される、請求項３１、３６、３７、３８、及び３９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項４３】
前記容器はポリカーボネートを含む、請求項３１に記載の基板容器。
【請求項４４】
前記容器は、実質的にポリカーボネートから形成される容器壁を有する、請求項４０に記載の基板容器。
【請求項４５】
前記ゲッタはポリプロピレンから構成される、請求項３１、３６、３７、３８、及び３９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項４６】
前記基板容器は面積を有するフットプリントを有し、前記ゲッタのフットプリントの面積は、前記基板容器の前記フットプリントの前記面積の少なくとも３０％である、請求項３１、３６、３７、３８、及び３９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項４７】
前記基板容器は面積を有するフットプリントを有し、前記ゲッタのフットプリントの面積は、前記基板容器の前記フットプリントの前記面積の少なくとも５０％である、請求項３１、３６、３７、３８、及び３９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項４８】
前記基板容器は面積を有するフットプリントを有し、前記ゲッタのフットプリントの面積は、前記基板容器の前記フットプリントの前記面積の少なくとも７０％である、請求項３１、３６、３７、３８、及び３９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項４９】
前記ゲッタは中実な単一の材料から形成され、該ゲッタにわたって均質である、請求項３１、３６、３７、３８、及び３９のいずれか一項に記載の基板容器。
【請求項５０】
正面開口ウェハ容器であって、
ウェハを受け入れる正面開口部を有する容器部分と、
前記正面開口部を密閉するドアと、
前記容器部分に位置決めされるプレートとして構成されるゲッタと、
を備え、前記ゲッタは吸収材が内部に保持される単一のポリマーマトリックスから形成され、
前記ゲッタは繰り返しの凹状構造が横切って延びる面を有する、正面開口ウェハ容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハ容器及びレチクルポッド等の基板容器に関連する湿気及び汚染物質の制御に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体加工において用いられるウェハ及びレチクル等の基板は、湿気、揮発性有機物成分（ＶＯＣ）及び粒子を含む汚染物質に対してかなり脆弱である。湿気の存在は、レチクル及びウェハの双方におけるヘイズ成長の進行に非常に大きく寄与する可能性がある。湿気を含む汚染物質を制御する非常に効果的な手段は、基板が保管又は固定されるスペースを断続的又は周期的にパージすることによる。通常これは、本願の権利者であるインテグリス・インコーポレーテッド（Ｅｎｔｅｇｒｉｓ）が製造するような閉ポリマー容器である。基板の出荷中に、パージを使用することは実用的ではなく、ゲッタ等の他の手段を使用して湿気及びＶＯＣを許容可能なレベルに保つ場合がある。そのようなゲッタは、粒状の乾燥剤又は剛性プレートの形態である場合があり、例えばウェハ容器内の剛性プレートを示す、参照により本明細書に援用される特許文献１を参照されたい。そのような剛性の吸収性プレート又はディスクもメモリディスクの出荷用の容器において既知であり、参照により本明細書に援用される特許文献２を参照されたい。
【０００３】
ＶＯＣの吸収に特に適しているそのような乾燥剤は、モレキュラーシーブとも称され、成形されたプレート又はブロックにおいて利用可能である。参照により本明細書に援用される特許文献３及び特許文献４を参照されたい。そのようなモレキュラーシーブ材料から形成される従来のプレートは、両面が平面的であり、周縁を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第５，３４６，５１８号明細書
【特許文献２】米国特許第４，７２１，２０７号明細書
【特許文献３】国際公開第２０１２／１１６０４１号
【特許文献４】米国特許第５，９１１，９３７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
半導体製造における湿気、ＶＯＣ及びＡＭＣ（Ａｉｒｂｏｒｎｅ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｏｎｔａｍｉｎａｎｔ：分子状汚染物質）の重大な有害な影響に起因して、それらの制御における何らかの漸進的な改良が重要であり、価値がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
１つ又は複数の基板の格納部は、格納される容積エリアを画定する筐体を有し、筐体に含まれるブロック又はプレートゲッタユニットは、一連の溝又は他の繰り返しの表面構造パターンによってプレート又はブロックに形成される増大した表面積によって提供される改善された性能を有する。上記パターンはブロック又はプレートに増大した表面積を提供し、これにより格納される容積エリアへの活性要素の暴露が増大する。一実施形態のブロック又はプレートの一側面の構造は、反対の側面に鏡像表面又は相補的な表面を有する。上記構造によりブロック又はプレートの剛性が保たれ、重量が最小限にされ、露出した表面積が最大限にされる。筐体は特定のポケットを有したり、ブロック又はプレートゲッタの従来の基板スロットを用いたりし得る。プレート又はブロックゲッタは、ウェハ容器又は他の基板容器における従来のスロット又は専用のポケット内に嵌まるように構成される。
【０００７】
本発明の実施形態では、露出される表面積が増大したゲッタ材料のプレートが、容器に入れたウェハの出荷中又はウェハのない容器の出荷中にウェハ出荷用容器のウェハスロットに挿入され、容器によって提供される格納部内の湿気を最小限に抑える。このように湿気を最小限に抑えることは、容器内の双方の格納部内の雰囲気において可能であり、容器の壁によって吸収される湿気を最小限に抑えるためにも効果的である。実施形態では、プレートは起伏している。
【０００８】
本発明の一実施形態では、特定の形状の内部キャビティを有するレチクルポッドが、ポリマーマトリックスにおいてモレキュラーシーブ又は吸収材、及び増大した表面積を有するポリマーのプレートを受け入れて保持し、プレートはキャビティに対応する形状を有するとともにキャビティ内に保持される。実施形態では、プレートはその両側面の繰り返しパターンに対応して起伏している。
【０００９】
本発明の実施形態では、モレキュラーシーブ材料を内部に有するポリマーから形成されるゲッタ材料がペレット化され、射出成形又は押出成形されて、プレート又はブロックの２つの側面に繰り返しの表面構造を有するゲッタプレート又はブロックが形成される。実施形態では、プレート又はブロックは、長さ、幅及び厚さにそれぞれ相当する、第１の比較的大きい寸法、第２の比較的大きい寸法及び第３の小さい寸法を有し、第１の比較的大きい寸法及び第２の比較的大きい寸法のうちの一方は、小さい寸法の少なくとも１０倍である。実施形態では、プレート又はブロックは、長さ、幅及び厚さにそれぞれ相当する、第１の比較的大きい寸法、第２の比較的大きい寸法及び第３の小さい寸法を有し、第１の比較的大きい寸法及び第２の比較的大きい寸法は、小さい寸法の少なくとも１５倍である。本発明の実施形態では、比較的大きい第１の側の面及び比較的大きい第２の側の面にある溝は、第１の側の面と第２の側の面との間におけるアイテムの厚さの少なくとも４０％の深さを有する。
【００１０】
実施形態では、ゲッタは長さｌ、幅ｗ及び厚さｔを有するとともに格子構造を有し、その表面積は、２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ）よりも、少なくとも５０％大きい。実施形態では、２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ）よりも、少なくとも１００％大きい。換言すると、２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ）の少なくとも２００％である。一実施形態では、ゲッタは、同じ寸法の矩形の直方体の２倍の露出される表面積を提供する。
【００１１】
実施形態では、ゲッタはプリフォームから形成され、プリフォームは、長さｌ、幅ｗ及び厚さｔ、並びに２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ）又は丸みを帯びた角部に起因した僅かに少ない外側表面積を有する概ね矩形の直方体である。実施形態では、プリフォームの表面積は、２（ｌ×ｗ）＋２（ｌ×ｔ）＋２（ｗ×ｔ）の２０％以内である。この場合ゲッタは、外側表面積を、ゲッタプリフォームの表面積の少なくとも５０％増大させるように形成される構造を有する。実施形態では、ゲッタに形成される構造は、表面積を少なくとも８０％増大させる。実施形態では、ゲッタに形成される構造は、表面積を少なくとも１００％増大させる（すなわち２倍にする）。実施形態では、ゲッタに形成される構造は、表面積を少なくとも１５０％増大させる。実施形態では、ゲッタに形成される構造は、表面積を、元の表面積の少なくとも２００％増大させる。付加的な構造は、プリフォームを機械加工すること又は他の態様でプリフォームから材料を除去することによって形成する。
【００１２】
実施形態では、繰り返しの凹状構造は、高分子ゲッタ材料のシートを、真空成形又はヒートプレスによって最終的な形状に成形することによって形成される。また、構造化したシート材料の押出は、同じ全体寸法のプレートにわたって大きく増大した表面積を提供することができる。
【００１３】
本発明の実施形態の特徴及び利点は、表面積が増大したゲッタが依然として剛性であり、粒状の乾燥剤、層状のゲッタ等の従来のゲッタに比して粒子が脱落しないことである。
本発明の実施形態の特徴及び利点は、表面積が増大したゲッタが、容易に取り扱われ、基板ホルダのポケット又はスロットに固定され、溝を有しないか又は非常にランダム化された表面を有する従来のゲッタに勝る改善された性能を提供することである。
【００１４】
一実施形態では、基板キャリア用の格子状プレートが提供される。本発明の実施形態では、複数の格子状プレートを重ねて拡張又は増大した積み上げ機能を提供する。
本発明の実施形態の特徴及び利点は、ゲッタの非常に構造化された側面が増大した表面積を提供することである。構造は、繰り返しの溝、格子構造、孔又は他の構造であってもよい。
【００１５】
本発明の特徴及び利点は、構造的剛性及び改善された性能を有する簡便なゲッタを提供しながらも、分子状汚染物質（ＡＭＣ）、揮発性有機汚染物質（ＶＯＣ）及び粒子からの基板容器内の保護を提供することである。
【００１６】
本発明の特徴及び利点は、付加的なコストを最小限に抑えて利用可能な材料を用いて半導体加工の状況において改善された性能が提供されることである。
本発明の実施形態の特徴及び利点は、ゲッタ容積エリアに対する表面積のより高い比に起因して、基板容器に提供されるゲッタが一層有効であることである。
【００１７】
本発明の実施形態の特徴及び利点は、ゲッタがポリマーとチャネリング剤と乾燥剤等の吸収材とを組み合わせることによって形成されることである。有効性、容量及び耐用年数は、容積エリアに対する表面積、チャネリング剤の相対的な量及び選択、吸収材の選択及び量等の種々のパラメータを調整することによって制御され得る。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】ウェハスロット内のディスクに平行な溝を有するゲッタプレートを有する正面開口ウェハキャリアの斜視図である。
【図２】内側ポッド、外側ポッド、及び、外側ポッドによって提供される格納部内に位置決めされる溝を有するゲッタプレートを有する、二重格納基板容器の斜視図である。
【図３】仮想線によって示されるように内部に位置決めされる溝を有するゲッタを有するクラムシェルマスク容器の斜視図である。
【図４】両面に溝を有する、図３のマスク容器の側面断面図である。
【図５Ａ】本明細書における実施形態に従ってプリフォームとして用いられ得るゲッタプレートの従来技術の斜視図である。
【図５Ｂ】図５Ａのプリフォームから形成することができる、両面に溝を有するゲッタプレートの斜視図である。
【図６】図５のゲッタプレートの上面図であり、底面図もこれと同じ図である。
【図７】図６のゲッタプレートの側面図である。
【図８】両面に溝を有するゲッタプレートの斜視図である。
【図９】図８の溝を有するゲッタプレートの側面図である。
【図１０】図８のゲッタプレートの端面図であり、反対側の端面図もこれと同じである。
【図１１】代替的な溝構造の輪郭形状である。
【図１２】代替的な溝構造の輪郭形状である。
【図１３】代替的な溝構造の輪郭形状である。
【図１４】両面において双方向に起伏するスロットを有するゲッタプレートの斜視図である。
【図１５】図１４のゲッタプレートの上面図であり、底面図もこれと同じ図である。
【図１６】図１４のゲッタプレートの側面図であり、各側面図もこれと同じ図である。
【図１７】両面まで延びるゲッタプレート穴の斜視図である。
【図１８】図１７のゲッタプレートの上面図であり、底面図もこれと同じ図である。
【図１９】図１７のゲッタプレートの側面図であり、反対側の側面図もこれと同じ図である。
【図２０】図１７のゲッタプレートの端面図であり、反対側の端から見た図もこれと同じ図である。
【図２１】両面に溝を有するゲッタプレートの斜視図である。
【図２２】両面において双方向に起伏するスロットを有するゲッタプレートの斜視図である。
【図２３】両面まで延びるゲッタプレート穴の斜視図である。
【図２４Ａ】本明細書における実施形態に従ってプリフォームとして用いられ得るゲッタプレートの従来技術の斜視図である。
【図２４Ｂ】図２４Ａのプリフォームから形成することができる両面において双方向に起伏するスロットを有する、ゲッタプレートの斜視図である。
【図２５Ａ】従来技術のシート形状の高分子ゲッタ材料の図である。
【図２５Ｂ】本明細書における発明とともに用いるのに好適な表面が増大されたゲッタであり、図２５Ａのシート材料から形成するか、又は押出成形することができるゲッタの図である。
【図２６】２つの対向する主面に格子構造を有する、本明細書における発明の実施形態によるゲッタプレートの図である。
【図２７】円形のフォームを貫通する複数の孔を有する、本明細書における発明の実施形態によるゲッタプレートの図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１〜図４を参照すると、ゲッタ２４が加えられた種々の基板容器２０が示されている。基板は、本明細書において用いられる場合、集積回路、太陽電池パネル、平面パネル、又は他の半導体デバイスに加工されるウェハ又はこれから加工されるウェハであってもよい。また基板は、リソグラフィで用いるレチクル、及びハードドライブ等のメモリディスクにおいて用いるディスクを含む。後述するようにゲッタは増大した表面積を有する。図１はＦＯＵＰ（ｆｒｏｎｔ  ｏｐｅｎｉｎｇ  ｕｎｉｆｉｅｄ  ｐｏｄ：正面開口統一ポッド）として一般的に既知の正面開口ウェハ容器２６であり、ウェハ容器２６は正面ドアの中央の垂直凹部２８及び容器部分３２のスロット３０に位置決めされるゲッタ２４を有する。異なる実施形態では、表面積が増大した付加的なゲッタをＦＯＵＰ、ウェハスロット又は他のエリアに位置決めしてもよい。
【００２０】
図２は、外側ポッド３６及び内側ポッド３８を有する二重格納レチクルポッド３４を示す。そのようなポッドは極端紫外線（ＥＵＶ）フォトリソグラフィにおいて用いられ、参照により本明細書に援用される米国特許第８，２３１，００５号明細書に記載されている。格子状構造又は起伏構造を有するゲッタ２４を外側ポッド格納部に入れ、汚染物質を最小限に抑えることができ、この構造は内側ポッド内のゲッタのスペースが最小限であるか又はスペースがなく、ゲッタ２４には特に好適である。特徴部４０がゲッタを外側ポッドの下側ドア４２に固定してもよい。実施形態では、ゲッタ又は付加的なゲッタを内側ポッド内にも固定してもよい。
【００２１】
図３は、カバー４８の上部４６に固定される、表面積が増大したゲッタ２４を有するマスク容器４５を示している。キャッチ５０又は他の特徴部がゲッタをカバー内に固定してもよい。そのような特徴部は、ゲッタと壁との間に隙間を提供することができ、壁に面するゲッタ表面の構造を動作可能にすることを可能にする。
【００２２】
図５〜図２６は、本明細書における発明によるゲッタの種々の構造を示している。概して、プレート又はブロック状のフォームは、そのフォームの表面積を大幅に増やす成形又は機械加工又は押出成形によって形成される溝を有する。そのフォームは成形又は機械加工又は押出成形されたポリマー片であってもよく、このポリマー片は乾燥剤又はモレキュラーシーブ材料を保持するポリマーマトリックスを有する。ゼオライト等のモレキュラーシーブ材料が好適である。表面積が増大していない構造の中実なブロックフォームは、例えばＡＧＭコンテナコントロールズ社（ＡＧＭ  Ｃｏｎｔａｉｎｅｒ  Ｃｏｎｔｒｏｌｓ、アリゾナ州８５７１７ツーソン）から入手可能である。フォトマスク容器又はレチクルポッドの本明細書中のゲッタ及びシーブ材料、並びに種々のモレキュラーシーブ材料を示す米国特許第７，５３１，２７５号明細書も参照されたい。当該特許は参照により本明細書に援用される。また、モレキュラーシーブ材料及びポリマーマトリックスは、米国特許出願公開第２００８／０２９５６９１号明細書、同第２００９／１５２７６３号明細書、国際出願番号ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０６１４１４号（国際公開第２００８／１５０５８６号）、米国特許出願公開第２００６／０１０５１５８号明細書、米国特許第５，９１１，９３７号明細書に開示されており、これらは全て参照により本明細書に援用される。
【００２３】
実施形態では、ゲッタはポリマーのベース、チャネリング剤及び乾燥剤を含んでいてもよい。これらの実施形態では、ポリマーは好ましくは熱可塑性ポリマーである。チャネリング剤はポリマーにおいて可溶性ではない化合物であり、乾燥剤はモレキュラーシーブ又はシリカゲルであってもよい。例えばその全体が本明細書に援用される米国特許第５，９１１，９３７号明細書を参照されたい。熱可塑性ポリマーは融解され、冷却時に再び凝固することができるという点で有利である。熱可塑性物質はしたがって、射出成形又はブロー成形における使用に優れており、一方でそれらの融解状態にあるときに他のポリマーを加えることでコポリマーを生成することができ、これによりポリマーの多用途性を高める。乾燥剤及びチャネリング剤を含む他の化合物を融解ポリマーに混合し得る。実施形態では、チャネリング剤はエチレンビニルアルコール（ＥＶＯＨ）及びポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ）である。
【００２４】
熱可塑性ポリマーとしては、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ナイロン等のポリアミド、ポリベンゾイミダゾール（ＰＢＩ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）や高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）や低密度ポリエチレンを含むポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、及びポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のアクリル樹脂が挙げられる。これらのポリマーのそれぞれは、そのガラス転移温度、結晶化度及び溶解度に関して異なる特性を有する。しかし、熱可塑性物質であることやコポリマーに容易に混合されることから、これらの特性は、それらの有用性及び用途を大幅に増大させて使用するために調整され得る。そのようなコポリマー化は、硬さ、弾性、不活性、溶解度等の特定の必要性に合うようにプラスチックを調整するのに用いられ得る。例えば、フッ素が多くの場合に熱可塑性ポリマーに加えられ、このことはフッ素原子固有の特性に起因して、化学安定性及び融点を高め、可燃性及び溶解度を低下させることにつながる。フッ素化コポリマーの非限定的な例としては、フッ素化エチレンプロピレンすなわちＦＥＰ、ペルフルオロアルコキシポリマー樹脂（ＰＦＡ）及びエチレンクロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）が挙げられる。
【００２５】
そのような商業的に使用されるコポリマーの例としては、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）が挙げられ、ＡＢＳはアクリロニトリル及びスチレンポリマーの強度及び剛性とポリブタジエンゴムの靭性とを兼ね備える。ＡＢＳを生成するコストはポリスチレンを生成するコストのおよそ２倍であるが、ＡＢＳはその硬さ、光沢、靭性、及び絶縁性に関して優れていると考えられる。スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）は、それらの耐摩耗性及び経年劣化安定性で知られている。アクリロニトリル（ＡＣＮ）及びブタジエンのコポリマーであるニトリルゴム、スチレン及びアクリロニトリルのコポリマーであるスチレンアクリロニトリル樹脂、エチレン及び酢酸ビニルのコポリマーである（ＥＶＡとしても既知である）エチレン酢酸ビニル、並びにフッ素化コポリマーは、低摩擦であり、非反応性であり、また容易に成形可能である傾向にある。
【００２６】
乾燥剤の例としては、水を含有する結晶を形成する無水塩、水との化学反応を経て新たな化合物を形成する反応性化合物が挙げられ、第３の例は内部に複数の微小毛細管を有するため環境から湿気を逃がす物理的な吸収体であり、そのような吸収体の例としては、モレキュラーシーブ、シリカゲル、粘土、及びデンプンが挙げられる。
【００２７】
チャネリング剤は、乾燥剤と連通可能でポリマーを通る通路を形成するのに用いられる。そのようなチャネリング剤の例としては、限定はされないが、エチレン−ビニルアルコール（ＥＶＯＨ）及びポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ）が挙げられる。幾つかの実施形態では、チャネリング剤及び乾燥剤は混合され、その混合物が融解ポリマーに加えられる。チャネリング剤及び乾燥剤は、冷却時に混合物中で異なる領域に分かれ、それにより硬化されたポリマーにわたってチャネルを形成し、それらのチャネルのうちの幾つかはポリマーの表面まで延び、それによりポリマーにわたってチャネルのマトリックスを形成する。これらのチャネルは次に、ポリマーマトリックス内に捕捉されている乾燥剤粒子を露出させ、乾燥剤によりポリマーのベースを通して外側区画から湿気を逃がすことを可能にする。他の実施形態では、乾燥剤及びチャネリング剤は、予め混合することなく融解ポリマーに直接的に混合される。
【００２８】
ポリマーは全体的に無極性である傾向にあり、チャネリング剤は有極性である傾向にある（ポリマー及びチャネリング剤が分かれる１つの理由）ため、多くの場合に、同様に有極性である乾燥剤を使用するのに役立つ。したがって、混合物が冷却されてチャネリング剤がポリマーから離れると、ポリマーとではなく有極性であるチャネリング剤とともに乾燥剤が離れる傾向にあり、結果としてポリマー内に捕らえられる乾燥剤ではない乾燥剤に直接的につながるチャネルが生じる。
【００２９】
実施形態では、活性炭が吸収材、特にＶＯＣ用の吸収剤であってもよい。活性炭は、基板容器において吸収性プレートとともに用いられており、米国特許第５，３４６，５１９号を参照されたい。また活性炭は、チャネリング剤とのポリマーマトリックスにおいて上記乾燥剤として用いてもよい。活性炭を他の特定の乾燥剤と組み合わせてもよい。さらに、２つ以上のチャネリング剤を使用してもよい。
【００３０】
図５〜図２６のゲッタを製造する１つの方法は、そのような中実のブロックポリマーフォームを機械加工することによる。代替的には、射出成形や押出成形も、表面積が増大した構造を提供し得る。例えば、押出成形中に与えられる軸線方向に延びる溝を有する薄いプレートの押出品は、必要に応じて矩形状に切断されたり円形状にトリミングされたりして適切な長さを有していてもよい。さらに、材料のプレート又はシートを、格子状の表面構造等の増大した表面積をプレート又はシートに与えるようにヒートプレス又は真空成形してもよい。
【００３１】
図５〜図９は、フォームの両側面の溝が互いにずらして配置される実施形態を示している。このことは、最大の表面積を与える溝の最大の深さを提供し得る。図１１〜図１３は他の構造を示しており、正弦曲線、鋸歯状又は蟻継ぎ構造等の他の構造も、起伏又は格子加工を提供する手段として意図する。
【００３２】
図５Ａ、図２４Ａ及び図２５Ａは既知のゲッタブロック、プレート又はシートを示し、これを、従来技術のフォームの改善された性能を提供する本発明の実施形態に形成してもよい。図２４Ａのプリフォーム６０を、２つの主面６８、６９のそれぞれに格子構造６６を有するゲッタ６２に機械加工してもよい。図２５Ａのプリフォーム７０を、例えば図２５Ｂの構造に真空成形してもよい。代替的には、図２５Ｂの起伏するゲッタ７４を、対応する形状を有するダイから押出成形してもよい。
【００３３】
図１４〜図１６、図２２及び図２４Ｂは、表面積を更に増大させるように双方向の溝を有する構造を示している。別の代替形態は、より厚いフォームにおいて有利であり得る穴である。溝、穴、凹凸等の種々の特徴部を組み合わせて、最適な表面積の構造を提供するとともに、ゲッタ材料の体積に対する露出される表面積を概して増大させてもよい。
【００３４】
（参照により援用される参考文献を含み、任意の添付の特許請求の範囲、要約書及び図面を含む）本明細書において開示される特徴の全てやそのように開示される任意の方法又はプロセスのステップの全ては、そのような特徴やステップのうちの少なくとも幾つかが相互に排他的である組み合わせを除いて、任意の組み合わせで組み合わせることができる。
【００３５】
別途明記されない限り、（参照により援用される参考文献、任意の添付の特許請求の範囲、要約書及び図面を含む）本明細書において開示される各特徴の代わりに、同一、均等又は同様の目的を果たす代替的な特徴に置き換えることができる。したがって、別途明記されない限り、開示される各特徴は全体的な一連の均等な特徴又は同様の特徴の一例に過ぎない。
【００３６】
本発明は、前述の実施形態（複数の場合もあり）の詳細に限定されない。本発明は、本（参照により援用される任意の参考文献、任意の添付の特許請求の範囲、要約書及び図面を含む）明細書において開示される特徴のうち、いずれか１つの新規の特徴若しくはいずれかの新規の組み合わせ、又はそのように開示される任意の方法若しくはプロセスのステップのうち、いずれか１つの新規のステップ若しくはいずれかの新規の組み合わせに及ぶ。本願の全ての項における上記の参考文献は、全ての目的でそれらの全体が参照により本明細書に援用される。
【００３７】
特定の例を本明細書において示し記載したが、当業者には、示した特定の例の代わりに同じ目的を達成するように意図した任意の構成を用い得ることが理解される。本願は、本発明の対象の適合又は変形形態を包含することを意図する。したがって、添付の特許請求の範囲及びそれらの法的な均等物、並びに以下の例示的な態様によって本発明が規定されることを意図する。本発明の上述の態様の実施形態は、その原理の説明に過ぎず、限定的であると判断されるものではない。本明細書において開示される本発明の更なる変更形態が当業者には想起され、そのような変更形態の全ては本発明の範囲内にあるものとみなされる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４Ｂ】
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【図２５Ｂ】
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【図２６】
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【図２７】
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【図５Ａ】
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【図９】
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【図２４Ａ】
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【図２５Ａ】
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【国際調査報告】
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