(57)【要約】【要約書】  移動する長繊維材料９における周期構造を識別するための方法において、前記繊維材料９が、その長手方向９１に沿って配置され且つ互いに等間隔に離間された複数の個別検出位置４３．１〜４３．９で同時に走査される。前記複数の検出位置４３．１〜４３．９で検出された複数の走査信号が、１つの合成信号に加算される。前記繊維材料９の周期構造が、前記合成信号の経時変化に基づいて推測される。等間隔で不連続なそれぞれ複数の検出位置４３．１〜４３．９から成る複数のグループ場合は、前記繊維材料（９）の構造の空間スペクトルが、実質的に計算の労力なし取得され得る。
2016500439.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動する長繊維材料（９）における周期構造を識別するための方法において、
前記繊維材料（９）が、その長手方向（９１）に沿って配置され且つ互いに等間隔に離間された複数の個別検出位置（４３．１〜４３．９）で同時に走査され、
前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）で検出された複数の走査信号が、１つの合成信号に加算され、
前記繊維材料（９）の周期構造が、前記合成信号の経時変化に基づいて推測されることを特徴とする方法。
【請求項２】
それぞれ複数の個別検出位置（４３．１〜４３．９）から成る複数のグループが提供され、各グループ内の前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）は等間隔であり、当該等間隔は、当該異なるグループごとに異なり、
各グループ内では、当該検出された複数の走査信号が、１つの合成信号に加算され、
前記繊維材料（９）の構造中の複数の周期成分が、当該個々の合成信号の経時変化に基づいて互いに比較されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
当該複数の経時変化に対応する高さ（Ｓ＊）の値が、当該複数のグループに対して１つのグラフに自動的に表示される請求項２に記載の方法。
【請求項４】
各値が、当該対応するグループの等間隔（Ｐ１〜Ｐ１０）によって及び／又は実質的に当該等間隔の逆数に相当する１つの空間周波数によって前記グラフ内に表示される請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記グループの数は、２〜５０、特に５〜２０である請求項２〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記検出位置（４３．１〜４３．９）の数は、５〜５００、特に２０〜２００である請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
全ての検出位置（４３．１〜４３．９）が、等間隔の１つのラスタ上に存在する請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記ラスタの等間隔（ａ）は、０．１ｍｍ〜１０ｍｍである請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）の走査が、光学式に実行される請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記合成信号は、前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）で検出された複数の光成分の複数の光強度の合計である請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記複数の光強度は、複数の光導波路（４１．１〜４１．７）を結合することによって合計される請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
優勢な１つの時間周波数（ｆ）が、前記合成信号において決定され、速度（ｖ）が、当該時間周波数（ｆ）と前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）の等間隔（Ｐ）との積として算定されることによって、前記繊維材料（９）の前記速度（ｖ）が算定される請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
移動する長繊維材料（９）における周期構造を識別するための設備（１）において、
基板（２）が設けられていて、
前記基板（２）は、前記繊維材料（９）の長手方向（９１）に沿って配置され且つ互いに等間隔に離間された、前記繊維材料（９）を同時に光学走査するための複数の個別検出位置（４３．１〜４３．９）と、前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）で検出された複数の光成分を結合し、当該結合された複数の光成分を、光を前記光導波路構造体（４）から出射させるために構成されている出射インターフェース（５１）へ伝播させるための、前記基板（２）上に組み込まれた光導波路構造体（４）とを有する当該設備（１）。
【請求項１４】
前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）で検出された複数の光成分の複数の光強度の合計が、当該結合時に生成され、こうして生成された合成信号が、前記出射インターフェース（５１）へ伝播されるように、前記光導波路構造体（４）が構成されている請求項１３に記載の設備（１）。
【請求項１５】
前記光導波路構造体（４）は、少なくとも２つの枝部分を有する少なくとも１つの分岐部を持つ請求項１３又は１４に記載の設備（１）。
【請求項１６】
前記光導波路構造体（４）は、光を前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）へ伝播させるための少なくとも１つの光導波路（４１．１，４１．３，４１．５，４１．７）を有する請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項１７】
前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）は、それぞれ少なくとも１つの集束レンズ（４４）を有する請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項１８】
前記出射インターフェース（５１）は、前記光導波路構造体を光接続部品（６１）に接続するために構成されている請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項１９】
前記出射インターフェース（５１）が、前記基板（２）の縁部に取り付けられている請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項２０】
それぞれ複数の個別検出位置（４３．１〜４３．９）から成る複数のグループが、前記基板（２）上に配置されていて、当該複数の検出位置（４３．１〜４３．９）は、各グループ内で等間隔に存在し、当該等間隔は、当該異なるグループごとに異なり、
前記光導波路構造体（４）が、各グループ内で検出されたそれぞれの光成分を結合し、当該結合された個々の光成分を出射インターフェース（５１）へ伝播させるために構成されている請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項２１】
前記グループの数は、２〜５０、特に５〜２０である請求項２０に記載の設備（１）。
【請求項２２】
前記検出位置（４３．１〜４３．９）の数は、５〜５００、特に２０〜２００である請求項１３〜２１のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項２３】
全ての検出位置（４３．１〜４３．９）が、等間隔の１つのラスタ上に存在する請求項１３〜２２のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項２４】
前記ラスタの等間隔（ａ）は、０．１ｍｍ〜１０ｍｍである請求項２３に記載の設備（１）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、繊維材料検査の分野に関する。本発明は、独立請求項の上位概念に記載の移動する長繊維材料における周期構造を検出するための方法及び設備に関する。本発明は、例えば、繊維の試験施設内のヤーン検査装置で使用され得るか又は紡糸機若しくは糸巻取機上のヤーンクリアラで使用され得る。
【背景技術】
【０００２】
繊維材料を検査するための多くの様々な方法及び設備が公知である。様々なセンサ原理が、繊維の試験施設内で使用される。本発明は、例えば国際公開第２００４／０４４５７９号パンフレットから公知である光センサ原理を利用する。繊維材料が、１つの光源によって照射され、当該繊維材料と相互作用する光が、複数の光検出器によって検出される。当該検出された光は、繊維材料の直径及び／又はこの繊維材料の反射率又は色のような光学特性に対する目安である。
【０００３】
従来の技術による幾つかの設備は、繊維材料の横断面寸法を当該繊維材料の投影に基づいて測定するために光電センサアレイを使用する。当該センサアレイ自体は、多くの場合にＣＭＯＳ技術又はＣＣＤ技術で構成されていて、市場で入手可能である。このような光学式の繊維測定設備の例は、中国特許出願公開第６４３０６０号明細書、欧州特許第０９７１２０４号明細書及び国際公開第９９／３６７４６号パンフレットに開示されている。
【０００４】
移動する繊維材料の欠陥を検出するための方法及び設備が、国際公開第８９／０１１４７号明細書から公知である。長方形が、当該繊維材料上に照射され、アナモルフィック画像によってラインセンサ又はマトリックスセンサ上に投影される。この場合、当該繊維材料の移動方向の特定の領域から来る光が、光学式に積分される。この繊維材料中の欠陥が、当該積分信号において突出し、したがってより良好に検出され得る。
【０００５】
ヤーン（糸）の周期的な欠陥を検出するため、一般に、ヤーンセンサの時間に依存する出力信号が、フーリエ変換によって時間周波数空間に変換される。当該時間周波数空間内で大きい振幅によって表示された周波数は、ヤーンの周期欠陥を示す一方で、その他の周波数の振幅は、ヤーンの非周期的な不均一性に対する目安である。当該フーリエ変換を使用する方法に関する例は、米国特許第２９５０４３５号明細書、米国特許第５５９２８４９号明細書及び欧州特許出願公開第２０９０５３８号明細書に記載されている。当該フーリエ変換の計算は、その計算をアナログ式に実行するか又はデジタル式に実行するかに関係なく面倒である。
【０００６】
欧州特許出願公開第１５５３０３７号明細書は、進行するヤーンの速度を測定するための設備を開示する。この設備は、ヤーンの走行方向に等間隔に配置された複数の受光器を有する。当該ヤーンが、走行中に照射される。その結果、当該ヤーンの影が、これらの受光器上に投影される。経時変化する信号が、当該ヤーン中に固有に存在する、突出する繊維（毛羽）のような不規則性によって、これらの受光器内に時間的に変化する信号が発生する。当該個々の受光器の信号が、１つの合成信号に加算される。当該ヤーンの速度が、この合成信号中で優勢な時間周波数とこれらの受光器の等間隔との乗算から得られる。
【０００７】
走行する撚糸の単糸要素の長手方向の不均一性を測定するための方法が、欧州特許第３６２８６５４号明細書に記載されている。当該撚糸構造が、その移動方向に対して直角に光学式に走査される。当該走査信号は、周波数分析される。当該撚糸を構成する全ての単糸が、同じ長さを有するときは、当該走査信号は、特定の１つの基本周波数を有するただ１つの周波数成分を含む。反対に、複数の単糸が、異なる長さであるときは、当該基本周波数の副高調波も、当該走査信号中に生じる。
【０００８】
光導波路構造体と電気伝導路構造体とを有する回路基板が、例えば米国特許出願公開第２０１０／０２０９８５４号明細書から一般に公知である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開第２００４／０４４５７９号パンフレット
【特許文献２】中国特許出願公開第６４３０６０号明細書
【特許文献３】欧州特許第０９７１２０４号明細書
【特許文献４】国際公開第９９／３６７４６号パンフレット
【特許文献５】国際公開第８９／０１１４７号明細書
【特許文献６】米国特許第２９５０４３５号明細書
【特許文献７】米国特許第５５９２８４９号明細書
【特許文献８】欧州特許出願公開第２０９０５３８号明細書
【特許文献９】欧州特許出願公開第１５５３０３７号明細書
【特許文献１０】欧州特許第３６２８６５４号明細書
【特許文献１１】米国特許出願公開第２０１０／０２０９８５４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の課題は、周期構造が従来の技術よりも簡単に且つ迅速に検出可能である、移動する長繊維材料における周期構造を検出するための方法及び設備を提供することにある。可能であれば、当該周期構造は、定量化可能でなければならない。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この課題及びその他の課題は、独立請求項に記載されている本発明の方法及び本発明の設備によって解決される。好適な実施の形態は、従属請求項に記載されている。
【００１２】
本発明の理論的背景は、線形システムのためのシステム理論である。本発明は、繊維材料を、その長手方向に沿って等間隔に配置された複数の個別検出位置で走査し、これらの検出位置の１つの合成信号（合計信号）からこの繊維材料の周期構造を推測するという技術思想に基づく。異なる等間隔を有する複数の検出位置から成るこのような複数のグループが提供される場合、当該繊維材料の構造の空間スペクトルが、複数の合成信号から取得され得る。換言すると、繊維材料の構造のフーリエ変換が、本発明によって実質的に計算の労力なしに実行され得る。
【００１３】
上記の複数の検出位置は、繊維材料が直接に走査される複数の位置である。高いＳＮ比及び高い空間分解能を達成するため、これらの検出位置は、当該繊維材料又は当該繊維材料に設けられている経路に可能な限り近接している。当該繊維材料と１つの検出位置との間の距離は、０．１ｍｍ〜数ミリメートルである。複数の構成要素が、これらの検出位置に取り付けられている。これらの構成要素は、当該繊維材料に関する情報を有する物理信号を記録するように構成されている。当該物理信号は、例えば電磁場によって伝送され得る。好適な実施の形態では、複数の光導波路の複数の端部が、これらの検出位置に存在する。別の実施の形態では、複数の測定電極が、これらの検出位置に存在する。
【００１４】
本発明の構成に非常に適した技術は、基板上に組み込まれた光導波路構造体である。第一に、この光導波路構造体は、走査領域内の多数の個別検出位置の密な直線配置を可能にする。これらの検出位置の最小の等間隔は、最大でも、繊維材料中で検出すべき最小の空間周期と同じ大きさでなければならず、当該走査領域の長さは、最小でも、最大の検出空間周期と同じ大きさでなければならない。数センチメートルの長さにわたるサブミリメートルの範囲内の等間隔が、組み込まれた光導波路構造体によって可能である。したがって、ヤーンのような通常の繊維材料において想定される空間周期の対象となる範囲がカバーされている。第二に、複数の光導波路分岐部が、当該組み込まれた光導波路構造体によって構成され得る。複数の検出位置で検出された光成分が、これらの光導波路分岐部によって結合され得る。その結果、１つの光学合成信号が、当該結合後に発生する。本明細書では、「光学合成信号」又は「光成分の加算」のような用語は、個々の光強度の合計又は加算を意味する。
【００１５】
したがって、移動する長繊維材料における周期構造を検出するための本発明の方法では、繊維材料が、その長手方向に沿って配置され且つ互いに等間隔に離間された複数の不連続の検出位置で同時に走査され、当該複数の検出位置で検出された複数の走査信号が、１つの合成信号に加算され、当該繊維材料の周期構造が、この合成信号の経時変化に基づいて推測される。
【００１６】
好適な実施の形態では、それぞれ複数の不連続な検出位置から成る複数のグループが提供される。この場合、各グループ内の複数の検出位置は等間隔であり、当該等間隔は、当該異なるグループごとに異なる。各グループ内では、当該検出された複数の走査信号が、１つの合成信号に加算され、当該繊維材料の構造中の複数の周期成分が、当該個々の合成信号の経時変化に基づいて互いに比較される。この場合、当該複数の経時変化に対応する大きさの値を、当該複数のグループに対して１つのグラフに自動的に表示することが有益である。特に、各値が、対応するグループの等間隔によって及び／又は実質的に当該等間隔の逆数に相当する空間周波数によって当該グラフ内に表示される。当該グループの数は、例えば２〜５０、特に５〜２０である。
【００１７】
上記の検出位置の数は、例えば５〜５００、特に２０〜２００である。
【００１８】
全ての検出位置は、等間隔の１つのラスタ上に存在することができる。このラスタの等間隔は、例えば０．１ｍｍ〜１０ｍｍである。
【００１９】
好適な実施の形態では、複数の検出位置の走査が、光学式に実行される。この場合、当該合成信号が、これらの検出位置で検出された複数の光成分の複数の光強度の合計でもよい。これらの光強度は、複数の光導波路を一緒にすることによって合計され得る。
【００２０】
優勢な時間周波数が、合成信号において決定され、速度が、当該時間周波数と当該複数の検出位置の等間隔との積として計算される。
【００２１】
移動する長繊維材料における周期構造を検出するための本発明の設備は、当該繊維材料の長手方向に沿って配置され且つ互いに等間隔に離間されて、当該繊維材料を同時に光学走査するための複数の個別検出位置を有する基板を持つ。これらの検出位置で検出された光成分を結合し、当該結合された光成分を出射インターフェースへ伝播させるための光導波路構造体が、この基板上に組み込まれている。この出射インターフェースは、光をこの光導波路構造体から出射させるために構成されている。
【００２２】
この明細書では、基板上に組み込まれた光導波路構造体とは、基板内又は基板上にモノリシックに収容された光導波路構造体を意味する。当該光導波路構造体は、−基板上に事後的に取り付けられた独立した個別の光導波路とは違って−例えばフォトリソグラフィー及び／又はドーピングのような技術によって基板上に最初から製造されてある。当該組み込まれた光導波路構造体は、その基板に分離不可能に結合されている。当該光導波路構造体は、異なる屈折率を有する複数の光透過性誘電体層を有する。特に、より高い屈折率を有するコア層が、より低い屈折率を有する下層と上層との間に埋め込まれている。その結果、光波が、このコア層中を伝播され得る。当該光導波路構造体は、光が一方向に伝播させるストリップ状光導波路でもよく、及び／又は光が二方向に伝播し得る扁平の薄膜光導波路でもよい。当該光導波路のほかに、当該光導波路構造体は、レンズ、ビームスプリッター、反射器、フィルタ、増幅器、光源及び／又は受光器のようなその他の受動的及び／又は能動的な光集積回路部品を有し得る。
【００２３】
特に、複数の検出位置で検出された光成分の光強度の合計が、当該結合時に生成され、こうして生成された合成信号が、出射インターフェースへ伝播されるように、上記の光導波路構造体が形成されている。
【００２４】
上記の光導波路構造体は、少なくとも２つの枝部分を有する少なくとも１つの分岐部を持つ。さらに、この光導波路構造体は、光を複数の検出位置へ伝播させるための少なくとも１つの光導波路を有し得る。
【００２５】
特に、これらの検出位置は、それぞれ少なくとも１つの集束レンズを有する。
【００２６】
上記の出射インターフェースは、光導波路構造体を光接続部品に接続するために構成され得る。この出射インターフェースが、基板の縁部に取り付けられていると有益である。
【００２７】
好適な実施の形態では、それぞれ複数の個別検出位置から成る複数のグループが、基板上に配置されている。これらの検出位置は、各グループ内で等間隔に存在する。この場合、当該等間隔は、当該異なるグループごとに異なる。上記の光導波路構造体が、各グループ内で検出されたそれぞれの光成分を結合し、当該結合された個々の光成分を出射インターフェースへ伝播させるために構成されている。当該グループの数は、例えば２〜５０、特に５〜２０である。
【００２８】
本明細書では、「光」又は「照射する」のような用語は、可視光に対して使用されるだけではなくて、隣接するスペクトル帯域の紫外線（ＵＶ）と赤外線（ＩＲ）とから成る電磁放射線に対しても使用される。
【００２９】
以下に、本発明を概略的な図面に基づいて詳しく説明する。当該説明を光学式の走査の好適な例に基づいて行う。しかしながら、本発明の方法では、別の走査原理も使用され得る。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の設備の異なる２つの実施の形態を概略的に示す上面図である。
【図２】本発明の設備の異なる２つの実施の形態を概略的に示す上面図である。
【図３】本発明の設備の別の実施の形態の検出用光導波路の配置を概略的に示す上面図である。
【図４ａ】検出位置を配置するために可能な実施の形態を概略的に示す。
【図４ｂ】検出位置を配置するために可能な実施の形態を概略的に示す。
【図５ａ】繊維材料を概略的に示す側面図である。
【図５ｂ】異なる繊維材料を概略的に示す側面図である。
【図６ａ】受光器の出力信号の可能な経時変化を示す。
【図６ｂ】受光器の出力信号の可能な経時変化を示す。
【図６ｃ】整流後の図６（ｂ）の出力信号を示す。
【図７】繊維材料の、本発明にしたがって得られた空間スペクトルを示す。
【図８】光導波路の端部、検査すべき繊維材料、及び両者の間に延在する光束を概略的に示す上面図である。
【図９】本発明の設備の別の実施の形態を概略的に示す透視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
図１は、本発明の設備１の第１の実施の形態を示す。この設備１は、この設備１を通過するか又はこの設備１の近くを通り抜ける長繊維材料９、例えばヤーンを検査するために使用される。この繊維材料９の移動方向が、この繊維材料９の長手軸に一致し、図１には矢印１によって示されている。この設備１は、基板２を有する。繊維材料９を光学走査するための走査領域３が、この基板２上に設けられている。この基板２は、ガラス、合成樹脂、半導体材料又はエポキシ樹脂で含浸されたガラス繊維マットのような一般に公知の材料から構成される。当該基板は、特に平坦で且つ硬い、すなわち殆ど変形しない。当該繊維材料９の長手軸及び移動方向９１は、基板２の平面内であるが、この基板２の外側に存在する。当該走査領域３は、長方形の基板２の片面の一部と一致し、直線状であり且つ繊維材料９の長手軸９１に対して平行に配置されている。
【００３２】
上記の走査領域３内には、繊維材料９の又はその通路のすぐ近くに、繊維材料９の長手方向９１に沿って等間隔に配置された不連続の複数の検出位置４３．１〜４３．５が、当該繊維材料９を光学検査するために配置されている。繊維材料と相互作用する、例えばこの繊維材料で反射又は散乱される光が、各検出位置４３．１〜４３．５で同時に検出される。これらの検出位置の数は、例えば５個〜５００個、特に２０個〜２００個である。
【００３３】
検出位置４３．１〜４３．５で検出された光成分を集光し、当該集光された光成分を出射インターフェース５１へ伝播させるための光導波路構造体４が、基板２上に組み込まれている。図１の実施の形態では、当該光導波路構造体４は、９つのストリップ型光導波路４１．１〜４１．５，４２．１〜４２．４を有する。当該光導波路構造体４は、例えば、使用される光の波長に対して十分に透過性であるポリマーから製作され得る。当該光導波路構造体４は、特にフォトリソグラフィー工程によって基板２上に形成される。個々の光導波路４１．１〜４１．５，４２．１〜４２．４の横断面寸法（幅及び高さ）は、例えば、５μｍ〜５００μｍ、特に約５０μｍにできる。当該光導波路構造体４は、基板２の最も外側の層上に存在してもよく、又は内層の上に存在する層によって覆われている当該内層を形成してもよい。後者の場合には、当該内層の上に存在する層が、その光導波路構造体４を機械的な損傷、汚れ及び望まない光学的な影響から保護する。これらの光導波路４１．１〜４１．５，４２．１〜４２．４は、シングルモードの光導波路又はマルチモードの光導波路として構成され得る。
【００３４】
図１の光導波路構造体４は、光導波路４１．１〜４１．５，４２．１〜４２．４の複数の交差点を有する。一方の光導波路から他方の光導波路へのクロストークが、これらの交差点で回避される点が考慮されなければならない。光集積回路の分野の専門家は、この条件が良好に満たされているように、当該光導波路構造体４を構成することができる。これは、特に、それぞれの交差角度が、約９０°の近くにあるか又は少なくともあまり鋭角でない場合である。さらに、図１の光導波路構造体４は、複数の分岐部、例えばＹ形分岐部を有する。当該分岐部は、一般に公知の分岐部品として構成され得る。図１の例のように、１つの分岐部が、２つに分岐してもよく、又はより多く分岐してもよい。光導波路自体、交差点及び分岐部のほかに、当該光導波路構造体４は、その他の光集積回路部品を有してもよい。当該光集積回路部品は、受動部品及び／又は能動部品でもよい。このような光集積回路部品としては、例えば、レンズ、ビームスプリッター、反射器、フィルタ、増幅器、光源及び受光器がある。さらに、光源及び／又は受光器のような光学素子が、独立したディスクリート部品として基板２上に装着され得る。
【００３５】
可能な限り高い集光効率を保証するため、集束レンズのような集光素子４４が、走査領域３内の光導波路４１．１〜４１．５，４２．１〜４２．４の出入口に特に直線上に位置しているように取り付けられ得る。周知のように、薄い１つの光導波路の端部から出射する光が、大きい開口角度で放射される。それ故に、これとは反対に、同じく大きい開口角度を成す光も、当該光導波路内に入射される。検査すべき繊維材料９が、多くの場合に１ｍｍ未満の小さい直径を有するので、対策なしでは、提供される光のうちの極一部だけが照射され、同様に当該光のうちの極一部だけが、１つの光導波路内に新たに入射されるであろう。集束レンズ４４が、このような光損失を回避するために使用される。当該集束レンズ４４の機能及びその構造を図８に基づいて詳しく説明する。
【００３６】
９つの光導波路４１．１〜４１．５，４２．１〜４２．４のうちの、以下で「照射用光導波路」４１．１〜４２．４と記される４つの光導波路が、繊維材料９に照射するために使用される。このため、当該４つの光導波路は、光を送信モジュール６２から受け取り、当該光を走査領域３内に伝播する。当該光は、この走査領域３内のこれらの照射用光導波路４２．１〜４２．４から出射し、その少なくとも一部が、繊維材料９上に照射される。当該送信モジュール６２が、第２電線７２の端部に取り付けられ得る。この送信モジュール６２からこれらの照射用光導波路４２．１〜４２．４への当該光伝送は、基板２の縁部に取り付けられている入射インターフェース５２で実行される。この入射インターフェース５１は、例えばプラグインコネクタとして構成され得る。当該送信モジュール６２が、例えば、一列に並んで配置された複数の光源６４．１，６４．２を有する。これらの光源６４は、例えばダイオードレーザとして又は発光ダイオードとして構成され得る。これらの光源６４．１，６４．２からこれらの照射用光導波路４２．１〜４２．４内への当該光の入射は、これらの照射用光導波路端部を直接に照射することによって又は集束レンズ４４のような光学素子によって実行され得る。後者の場合には、上記の走査領域３に対する出入口に取り付けられているのと同様な複数のレンズが使用され得る。しかしながら、照射用光導波路４２．１〜４２．４から出射する光が、繊維材料９上の１つの小さい点上に集光されているのではなくて、繊維材料９のより長い区間を照射することが有益である。入射インターフェース５２に接続された照射用光導波路４２．１〜４２．４内への光の効果的な入射を保証するためには、これらの光源６４．１，６４．２が、これらの照射用光導波路の端部に対して可能な限り正確に且つ安定に位置決めされることが重要である。このため、送信モジュール６２を基板２に対して位置決めするための機械式位置決め手段５３が、入射インターフェース５２に取り付けられている。当該位置決め手段５３は、例えば、プラグインコネクタ内部の正確な位置決めに寄与する適切なガイドとして構成され得る。当該位置決め手段５３は、その他の構成要素と同様に、図１に専ら概略的に示されている。
【００３７】
上記の９つの光導波路４１．１〜４１．５，４２．１〜４２．４のうちの残りの５つの光導波路は、繊維材料９から反射した光を検出するために使用され、それ故に以下では、「検出用光導波路」４１．１〜４１．５と記される。これらの検出用光導波路４１．１〜４１．５は、検出位置４３．１〜４３．５から来た光を第１電線７１の端部に取り付けられ得る受信モジュール６１へ誘導する。これらの検出用光導波路４１．１〜４１．５からこの受信モジュール６１への当該光伝送は、基板２の縁部に取り付けられている出射インターフェース５１で実行される。同様に、この出射インターフェース５１は、対応する位置決め手段５３を有するプラグインコネクタとして構成され得る。当該受信モジュール６１が、例えば、一列に並んで配置された複数の受光器６３．１，６３．２を有する。これらの受光器６３．１，６３．２のうちの各々が、一群の検出用光導波路４１．１〜４１．５に付設されている。当該受光器列は、例えばＣＣＤアレイとして構成され得る。並んでいる複数の受信素子が統合されてもよい。このとき、これらの受信素子は、１つの「統合された受光器」を構成する。入射インターフェース５２に対して言及したことは、当該光の出射並びに当該出射インターフェース５１の位置決め及び構成に対しても同様に成立する。
【００３８】
上記の光導波路構造体４内の複数の分岐部が、ただ１つの光源６４．１から放射された光を分割し、複数の照射用光導波路４１．２，４１．２に供給するためと、複数の検出用光導波路４１．１〜４１．５によって伝播された光を一緒にし、ただ１つの受光器６３．１に供給するためとに使用される。特に、複数の走査信号を加算する後者の機能は、本発明にとって重要である。すなわち、それぞれ複数の個別検出位置４３．１〜４３．５から成る複数のグループが、その結果として構成され得る。この場合、当該複数の検出位置４３．１〜４３．５が、各グループ内で等間隔になっていて、当該異なる複数のグループの等間隔は異なっている。各グループ内では、検出された複数の走査信号が、１つの合成信号に加算され、その繊維材料９の構造中の複数の周期成分が、当該個々の合成信号の経時変化に基づいて互いに比較される。図１の実施の形態では、全ての検出位置４３．１〜４３．５が、第１グループを構成する。この第１グループのこれらの検出位置４３．１〜４３．５で検出された光成分が、これらの検出用光導波路４１．１〜４１．５内で１つの合成信号に加算され、第１受光器６３．１に供給される。これに対して、１つ置きの検出位置４３．１，４３．３，４３．５で検出される光が、第２受光器６３．２に供給され、１つ置きの検出用光導波路４１．１，４１．３，４１．５によって伝播され、その後に加算される。最後に言及した検出位置４３．１，４３．３，４３．５は、第２グループを構成する。この第２グループの等間隔は、第１グループの等間隔の２倍である。
【００３９】
上記の受信モジュール６１及び送信モジュール６２は、第１電線７１又は第２電線７２を介して電子装置７０に接続されている。この電子装置７０は、一方ではこの送信モジュール６２を制御する。この電子装置７０は、他方ではこの受信モジュール６１の信号を受信し、当該信号自体を評価するか又は場合によっては前処理後に当該信号を（図示されなかった）評価装置に転送する。
【００４０】
上記の出射インターフェース５１及び入射インターフェース５２を光学式に且つ機械式に正確に規定すること、すなわち準標準化することが好ましい。この場合には、比較的高価な光電子部品を有する受信モジュール６１及び送信モジュール６２が、変更なしに様々な基板２に対して使用され得る。これとは反対に、比較的安価な基板２に組み込まれた光導波路構造体４を有する当該基板２が、必要に応じて交換され得る。例えば、別の光導波路構造体４が、−特に走査領域３で−使用されるときに、又は、基板２が、摩耗によって損傷しているか若しくは別の理由で欠陥があるときに、基板２の交換が要求され得る。
【００４１】
本発明の設備１は、例えば米国特許第５７６８９３８号明細書から公知であるように、特にハウジング内に収納されている。このようなハウジングは、見やすさの理由から添付図面に示されていない。
【００４２】
図２は、本発明の設備１の第２の実施の形態を示す。走査領域３に面した２つの光導波路の端部が、照射と検出との双方のために使用されるという点で、この第２の実施の形態は、図１の第１の実施の形態に比べて簡略化されている。照射光が、繊維材料９の可能な限り長い区間を照射し、検出光が、繊維材料９の可能な限り短い区間から来るように双方を妥協させて、対応する複数の集束レンズ４４が構成される必要がある。光源６４から出射された光の大部分が、走査領域３内へ放射され、この走査領域３によって受信された光の大部分が、受光器６３．１，６３．２に供給されるように、上記の複数の分岐部が構成されている。光集積回路の分野の当業者は、当該発明の知識を用いてこのような分岐部を製造することができる。さらに、入射インターフェースと出射インターフェースとの双方として使用されるただ１つの光インターフェース５５だけが存在する。したがって、２つの受光器６３．１，６３．２と１つの光源６４との双方が、対応する送受信モジュール内に存在する。
【００４３】
図３は、本発明の設備１の第３の実施の形態を示す。この場合、見やすさの理由から、幾つかの重要な光学素子、すなわち集束レンズ４４を有する検出位置４３．１〜４３．７、光導波路構造体４の検出用光導波路４１．１〜４１．７及び出射インターフェース５１の受光器６３．１〜６３．３だけが示されている。照射用光導波路、基板、送信モジュール及び受信モジュール等のようなその他の素子は、図１及び２中の素子と同様に構成され得るか又は異なる素子でも構成され得る。図３の実施の形態は、例えば３つの受光器６３．１〜６３．３を有する。以下の機能が実現されるように、複数の分岐部を有する光導波路構造体４が構成されている。
・全ての検出位置４３．１〜４３．７で検出された光成分の総和が、第１受光器６３．１に供給される。これらの検出位置４３．１〜４３．７は、第１グループを構成する。
・１つ置きの検出位置４３．１，４３．３，４３．５，４３．７で検出された光成分の総和が、第２受光器６３．２に供給される。これらの検出位置４３．１，４３．３，４３．５，４３．７は、第２グループを構成する。
・２つ置きの検出位置４３．１，４３．４，４３．７で検出された光成分の総和が、第３受光器６３．３に供給される。これらの検出位置４３．１，４３．４，４３．７は、第３グループを構成する。７つだけの検出位置４３．１〜４３．７と３つだけの受光器６３．１〜６３．３との個数は、小さく且つ図３では分かりやすさだけの理由から選択されてある。実際には、より多い個数の検出位置とより多い個数の受光器とが選択され、当該光導波路構造体４がこれに応じて構成される。当該検出位置の個数は、例えば５〜５００、特に２０〜２００であり、当該受光器の個数は、例えば２〜５０、特に５〜２０である。
【００４４】
いずれにしても、図３は、本発明の重要な局面を示す。つまり、それぞれ複数の不連続な検出位置から成る複数のグループが提供される。当該複数の検出位置は、各グループ内で等間隔になっていて、当該等間隔は、当該異なるグループごとに異なる。当該検出された複数の走査信号が、各グループ内で１つの合成信号に加算される。繊維材料９（図１及び２参照）の構造中の複数の周期成分が、当該個々の合成信号の経時変化に基づいて互いに比較され得る。受光器６３．１〜６３．３が、複数の信号を出力する。当該繊維材料の構造の１つの空間周波数スペクトルが、これらの信号から簡単に算定され得る。ａが、繊維材料９の長手軸９１に沿ったそれぞれ２つの検出位置４３．１，４３．２の一定距離（等間隔）であるときに、空間周波数１／ａ，１／（２ａ），１／（３ａ），．．．が、図３に概略的に示されているような本発明の設備１によって算定され得る。この空間周波数列では、インターバルが、単調に減少する。このような非算術な空間周波数列は有益であり得る。何故なら、当該空間周波数列の複数の項が、ほとんど別の項の整数倍でないために、より高い高調波が、望まないアーティファクトを生じないからである。より高い項、例えば、１／（１１ａ），１／（１２ａ），１／（１３ａ），…だけが考慮されるときに、この条件が、さらに良好に満たされ、１つの等差数列が、さらに近似される。当該等間隔ａは、例えば０．１ｍｍ〜１０ｍｍである。
【００４５】
同じ複数のインターバル、すなわち１つの等差数列が、空間周波数列において望まれる場合、様々な選択肢がある。これらの選択肢のうちの２つの選択肢が、図４に示されている。これらの概略図では、対応する状況においてアクティブな検出位置４３．１〜４３．９がそれぞれ、点によって示されている。さらに、周期ａを有する１つのラスタが、これらの検出位置４３．１〜４３．９に対して記入されている。右側には、対応する複数の空間周波数が、当該異なる状況に対して示されている。このラスタの「単位セル」が、これらの検出位置４３．１〜４３．９のための等間隔の８つの位置から構成される。その結果、空間周波数１／ａ、１／（２ａ）及び１／（４ａ）が容易に検出され得る。問題は、検出すべき空間周波数３／（４ａ）である。図４（ａ）による解決手段では、３つ置きの検出位置が、加算に寄与しないことによって、このラスタ上のそれらの検出位置が放置され、近似処理が、当該空間周波数３／（４ａ）に対して実行される。当該空間周波数３／（４ａ）を正確に検出できるため、図４（ｂ）による第２の解決手段は、上記のラスタとは異なる。図４に示された当該両解決手段は、空間周波数１／ａ，３／（４ａ），１／（２ａ）及び１／（４ａ）の等差数列を生成するという課題を解決する。当該両解決手段は、それらの利点及び欠点を有する。
【００４６】
図５の長繊維材料９、例えばヤーンの概略的な側面図が、本発明をさらに良好に説明するために以下で新たに必要になる。図５（ａ）の繊維材料９が、空間周期Ｐを有する固有の周期パターンを持つ。例えば、繊維材料９の直径が、長手方向の位置と共に周期的に変化し得る。これとは反対に、図５（ｂ）の繊維材料９では、空間周期が確認できない。繊維材料９の（例えば、空間周期Ｐ又は繊維材料９のその他の構造特徴に比べて）短い区間で反射又は散乱された光を検出する場合、１つの検出位置で検出された光強度は、その繊維材料９の直径に対する目安である。繊維材料９の（例えば、空間周期Ｐ又は繊維材料９のその他の構造特徴に比べて）短い区間を透過した光を検出する場合、１つの検出位置で検出された光強度は、その繊維材料９の直径に対する反対の目安である。すなわち、当該光強度が小さいほど、直径が大きい。
【００４７】
図６（ａ）は、例えば図３に示されているような受光器６３．１の出力信号の、時間ｔに対する起こり得る経時変化を示す。繊維材料９（図５（ａ））の空間周期Ｐが、２つの検出位置４３．１，４３．２の等間隔ａと一致し、この繊維材料９の移動速度が一定であるときに、当該出力信号には、時間周期Ｔの時間周期性がある。図６（ａ）に示された出力信号は、振幅ΔＳの周期的な交流成分のほかに直流成分Ｓ０を有する。この直流成分Ｓ０は、欧州特許出願公開第１５５３０３７号明細書に開示されているように、複数の検出位置の差動配置によって除去され得る。このような差動配置のためには、繊維材料９の移動方向９１に等間隔の半分ａ／２だけ互いにずらされている当該同じ等間隔ａを有する等間隔の複数の検出位置から成る２つのグループが必要とされる。その第２グループの出力信号が、その第１グループの出力信号から減算される。したがって、図６（ｂ）に示された出力信号が得られる。この出力信号が、整流されることによって、図６（ｃ）による信号が発生する。
【００４８】
別の処理ステップでは、図６（ｃ）による信号が、上記時間周期に比べて長い積分時間にわたって積分され得る。当該積分値は、空間周期Ｐ＝ａを有する繊維材料９の起こり得る周期性に対する目安である。異なる複数の等間隔ａ（又は空間周期Ｐ）に対するこのような複数の積分の比較が、当該繊維材料９の空間スペクトルを作る（図７参照）。換言すると、本発明の方法及び本発明の設備１は、繊維材料９の構造のフーリエスペクトルを簡単に提供する。
【００４９】
図６（ａ）による出力信号の上記直流成分Ｓ０は、複数の検出位置の差動配置とは違う方法でも除去され得る、例えば、出力信号のその時の平均値の減算によって除去され得る。図６（ａ）又は６（ｂ）による信号の振幅ΔＳに対する目安である最大値の作成又は同様な操作が、上記の積分の代わりに使用されてもよい。減算、整流、積分又は最大値の作成のような上記の操作は、アナログ手段及び／又はデジタル手段によって実行され得る。つまり、当該２つの種類の手段及び対応する信号変換器は、現在において最もよく知られているものである。このような手段は、例えば、図１及び２に示された電子装置７０及び／又はこの電子装置７０に接続されている評価装置に内蔵され得る。
【００５０】
図７には、本発明の方法又は本発明の設備１から生成され得るような空間スペクトルが示されている。この場合、設備１が、１０個の受光器を有する。当該グラフの、それぞれ１つの棒８．１〜８．１０が、例えば以下の規則にしたがってこれらの受光器に割り当てられている。
・当該グラフの左側の縁部の第１の棒８．１は、存在する全ての検出位置の光が供給される受光器に割り当てられている。すなわち、この第１の棒８．１は、繊維材料中で確認可能な１番短い空間周期Ｐ１（すなわち、１番大きい空間周波数）に対応する。
・第２の棒８．２は、繊維材料中で確認可能な２番目に短い空間周期Ｐ２（すなわち、この空間周期Ｐ２の２番目に大きい空間周波数）に対応する。
・等
・第１０の棒８．１０は、繊維材料中で確認可能な最も長い空間周期Ｐ１０（すなわち、最も短い空間周波数）に対応する。
【００５１】
１つの棒８．１〜８．１０の高さＳ＊は、それぞれの受光器によって受信される光強度の振幅ΔＳに対する目安である。つまり、当該高さＳ＊は、例えば上記の積分値に対応し得る。当該複数の棒の高さが、特に複数の規格値に変換される。この場合、全ての検出位置の均一な照射時に、受信される光強度が異なる大きさになることが考慮される。
【００５２】
図７の空間スペクトルでは、最大値が、空間周期Ｐ６のときに観察することができる。このことは、検査された繊維材料９が空間周期Ｐ〜Ｐ６を有する周期パターンを持つことを意味する（図５ａ参照）。必要に応じて、当業者に知られている統計学的方法を用いて、隣接した棒８．４〜８．８の有限高さを考慮して、当該空間周期Ｐが、さらにより正確に算定される。２つ以上の異なる空間周期又は空間周波数が本発明の方法によって提供される繊維材料９もあり得る。図５（ｂ）の繊維材料９のような別の繊維材料９の場合は、当該複数の棒８．１〜８．１０が、全てほぼ同じ高さであり得る。このことは、際立った空間周期又は空間周波数が確認されなかったことを意味する。
【００５３】
図７に示されたグラフ又は同様なグラフは、合成信号から特に自動的に計算され、本発明の設備の（図示されなかった）出力装置、例えばモニター上に表示される。
【００５４】
繊維材料９の移動方向９１の速度も、本発明によって算定され得る。このため、特に、複数の検出位置から成る１つのグループの等間隔Ｐが選択される。この等間隔Ｐは、大きい振幅を有する空間スペクトル内で発生する空間周期Ｐ（図７の例では、Ｐ＝Ｐ６）に属する。複数の検出位置から成るこのグループに属する合成信号では、優勢な１つの時間周波数ｆが算定される（図６（ａ）の例では、ｆ＝１／Ｔである）。当該速度ｖは、この空間周期Ｐとこの時間周波数ｆとの積である。つまり、ｖ＝ｆ・Ｐ＝Ｐ／Ｔである。
【００５５】
最大値を空間スペクトル内で確認することができないときでも、速度測定が可能である。このとき、複数の検出位置から成る任意の１つのグループが選択される。このグループの空間スペクトルの振幅は、零に等しくない。複数の検出位置から成るこのグループに属する合成信号では、同様に、優勢な１つの時間周波数ｆが算定される。ヤーン速度ｖは、上記の式にしたがって計算される。
【００５６】
基板２上に組み込まれた光導波路４１の、走査領域３に面した端部が、図８に非常に拡大して示されている。この場合、当該光導波路４１が、照射用光導波路又は検出用光導波路であるかどうかは重要でない。何故なら、当該両状況は、時間反転によって互いに入れ替わるからである。当該光導波路の端部が、集束レンズ４４を有する。この集束レンズ４４は、当該光導波路の端部自体から製造され得るか又は当該光導波路の端部に直接に貼付され得るか又は当該光導波路の端部から離間して配置され得る。この集束レンズ４４が、光導波路４１から出射する光３１を繊維材料９上に可能な限り多く照射させるか又は繊維材料９から来る光３１を光導波路４１内へ可能な限り多く入射させるように、この集束レンズ４４は提供されて配置されている。実際には、図８にただ１つの集束レンズ４４として概略的に示されている当該レンズは、レンズ系として構成され得る。当該光学技術の分野の当業者は、本発明の知識を用いて上記の本発明の課題に適した配置を決定すること及び使用することができる。
【００５７】
図９には、本発明の設備１の第９の実施の形態が示されている。この設備１では、繊維材料９の長手軸９１が、基板２の平面に対して平行に存在するものの、この平面から離間されている。したがって、当該繊維材料９は、基板２の上方でこの繊維材料９の長手方向９１に沿って移動される。走査領域３が、基板２の平面内か又は平面の上方に存在する。照射用光導波路４２によって入射インターフェース５２から走査領域３へ伝播される光が、この走査領域３内で繊維材料９へ向けて出射される。この繊維材料９との相互作用、例えばこの繊維材料９での反射及び／又は散乱後に、この光の少なくとも一部が、検出用光導波路４１．１〜４１．３内に入射され、これらの検出用光導波路４１．１〜４１．３から出射インターフェース５１．１，５１．２へ伝播される。この実施の形態では、複数の光結合素子４５が、当該走査領域３内の光の出射及び入射のために必要になる。これらの光結合素子４５は、光を基板２の平面から出射できるか又は光を外側から基板２上に組み込まれた光導波路４１．２，４１，４内に入射できる。このような光結合素子４５は、一般に公知であり、ここで詳しく説明する必要はない。これらの光結合素子４５は、集束レンズ及びその他の光学部品をさらに備え得る。簡略化のため、図９には、送信モジュール及び受信モジュール並びに電線及び電子装置が示されていない。しかし、これらは、図１又は２に示されているものと同じか又は同様なものでもよい。
【００５８】
上記の検出位置の走査は、光学式に、電気式に及び／又はその他の物理原理に基づいて実行され得る。図示されなかった実施の形態では、上記の光導波路構造体４の代わりに又はこの光導波路構造体４のほかに、電子工学の専門分野から公知であるように、電気回路が、基板２上に組み込まれ得る。このような電気回路は、複数の電気伝導路のほかに受動電気部品及び／又は能動電気部品を有し得る。このような電気部品に対する例は、抵抗、コンデンサ、コイル、トランジスタ、フィルタ及び増幅器である。マイクロプロセッサのような複合部品も、基板２上に装着できる。この場合、当該複合部品は、特に固有のパッケージ内の集積回路として基板２上に装着される。これらの電気伝導路が、走査領域３内に通じる。この場合、複数の出入口が、特に複数の電極を有する。これらの電極は、電場、特に交番電場走査領域３内で生成及び／又は検出するために使用される。繊維材料９が、当該電場と相互作用し、当該電場に影響を与える。上記の繊維材料９の電気検査は、当該電場に対する繊維材料９の影響を検出すること、及び当該検出からこの繊維材料９の物性を推測することに基づく。繊維材料の静電容量検査が、従来の技術から周知である。光インターフェース５５及び光送受信モジュール６５（図２参照）と同様に、本発明の設備１は、電気インターフェース及び電気接続部品を装備し得る。電気工学から周知であり、市場で入手可能であるように、当該電気インターフェースは、プラグイン接続部材として構成され得る。
【００５９】
本発明の設備のここでは図示されなかった実施の形態では、光導波路構造体と電気伝導路構造体との双方が、同じ基板２上に組み込まれ得る。この場合、当該両構造体の少なくとも一部が、走査領域３内へ通じている。したがって、この実施の形態は、繊維材料９を任意の方法で光学式に若しくは電気式に検査するか又は光学式と電気式との双方の方式で検査するという可能性を提供する。
【００６０】
当然に、本発明は、上記の実施の形態に限定されない。当業者は、本発明を知ることによって本発明の対象に属するその他のバリエーションに想到できる。特に、上記の説明した実施の形態は、任意に互いに組み合わせられ得る。図において例として使用される複数の光源、受光器、光導波路、検出位置、光導波路の端部、レンズ等も、限定して解釈してはならない。
【符号の説明】
【００６１】
１          設備
２          基板
３          走査領域
３１        光束
４          光導波路構造体
４１        検出用光導波路
４２        照射用光導波路
４３        検出位置
４４        集束レンズ
４５        光結合素子
５１        出射インターフェース
５２        入射インターフェース
５３        機械式位置決め手段
５５        光インターフェース
６１        受信モジュール
６２        送信モジュール
６３        受光器
６４        光源
６５        送受信モジュール
７０        電子装置
７１，７２  電線
８          空間スペクトルの棒
９          繊維材料
９１        繊維材料の長手軸及び移動方向
【図１】
2016500439.tif 000003
【図２】
2016500439.tif 000004
【図３】
2016500439.tif 000005
【図４（ａ）】
2016500439.tif 000006
【図４（ｂ）】
2016500439.tif 000007
【図５（ａ）】
2016500439.tif 000008
【図５（ｂ）】
2016500439.tif 000009
【図６（ａ）】
2016500439.tif 000010
【図６（ｂ）】
2016500439.tif 000011
【図６（ｃ）】
2016500439.tif 000012
【図７】
2016500439.tif 000013
【図８】
2016500439.tif 000014
【図９】
2016500439.tif 000015
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月11日(2015.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動する長繊維材料（９）における周期構造を識別するための方法において、
前記繊維材料（９）が、その長手方向（９１）に沿って配置され且つ互いに等間隔に離間された複数の個別検出位置（４３．１〜４３．９）で同時に走査され、
前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）で検出された複数の走査信号が、１つの合成信号に加算され、
前記繊維材料（９）の周期構造が、前記合成信号の経時変化に基づいて推測されることを特徴とする方法。
【請求項２】
それぞれ複数の個別検出位置（４３．１〜４３．９）から成る複数のグループが提供され、各グループ内の前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）は等間隔であり、当該等間隔は、当該異なるグループごとに異なり、
各グループ内では、当該検出された複数の走査信号が、１つの合成信号に加算され、
前記繊維材料（９）の構造中の複数の周期成分が、当該個々の合成信号の経時変化に基づいて互いに比較されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
当該複数の経時変化に対応する高さ（Ｓ＊）の値が、当該複数のグループに対して１つのグラフに自動的に表示される請求項２に記載の方法。
【請求項４】
各値が、当該対応するグループの等間隔（Ｐ１〜Ｐ１０）によって及び／又は実質的に当該等間隔の逆数に相当する１つの空間周波数によって前記グラフ内に表示される請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記グループの数は、２〜５０、特に５〜２０である請求項２〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記検出位置（４３．１〜４３．９）の数は、５〜５００、特に２０〜２００である請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）の走査が、光学式に実行される請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記合成信号は、前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）で検出された複数の光成分の複数の光強度の合計である請求項７に記載の方法。
【請求項９】
優勢な１つの時間周波数（ｆ）が、前記合成信号において決定され、速度（ｖ）が、当該時間周波数（ｆ）と前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）の等間隔（Ｐ）との積として算定されることによって、前記繊維材料（９）の前記速度（ｖ）が算定される請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
移動する長繊維材料（９）における周期構造を識別するための設備（１）において、
基板（２）が設けられていて、
前記基板（２）は、前記繊維材料（９）の長手方向（９１）に沿って配置され且つ互いに等間隔に離間された、前記繊維材料（９）を同時に光学走査するための複数の個別検出位置（４３．１〜４３．９）と、前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）で検出された複数の光成分を結合し、当該結合された複数の光成分を、光を前記光導波路構造体（４）から出射させるために構成されている出射インターフェース（５１）へ伝播させるための、前記基板（２）上に組み込まれた光導波路構造体（４）とを有する当該設備（１）。
【請求項１１】
前記複数の検出位置（４３．１〜４３．９）で検出された複数の光成分の複数の光強度の合計が、当該結合時に生成され、こうして生成された合成信号が、前記出射インターフェース（５１）へ伝播されるように、前記光導波路構造体（４）が構成されている請求項１０に記載の設備（１）。
【請求項１２】
前記出射インターフェース（５１）は、前記光導波路構造体を光接続部品（６１）に接続するために構成されている請求項１０又は１１に記載の設備（１）。
【請求項１３】
それぞれ複数の個別検出位置（４３．１〜４３．９）から成る複数のグループが、前記基板（２）上に配置されていて、当該複数の検出位置（４３．１〜４３．９）は、各グループ内で等間隔に存在し、当該等間隔は、当該異なるグループごとに異なり、
前記光導波路構造体（４）が、各グループ内で検出されたそれぞれの光成分を結合し、当該結合された個々の光成分を出射インターフェース（５１）へ伝播させるために構成されている請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項１４】
全ての検出位置（４３．１〜４３．９）が、等間隔の１つのラスタ上に存在する請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の設備（１）。
【請求項１５】
前記ラスタの等間隔（ａ）は、０．１ｍｍ〜１０ｍｍである請求項１４に記載の設備（１）。
【国際調査報告】
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