(57)【要約】  固体表面の表面疎水性を高めるパルスレーザ加工方法が開示され、固体表面はレーザ加工の間は透明な媒体で覆われ、レーザビームは被覆媒体を通じて入射し、固体表面を照射する。２つの効果が同時に得られる。１つは、レーザ照射下における直接のレーザ誘起テクスチャの形成である。他方は、レーザ走査線に沿ったレーザ除去材料の堆積である。両方の効果はナノメートルスケールで表面粗さを導入し、両方は表面疎水性を高め、レーザ照射固体及び被覆媒体の両方の表面に超疎水性をもたらす。ビームの走査線の間隔は単一の走査線の幅より何倍も大きくすることができるので、この方法は、毎分平方インチの高い加工速度を提供し、大面積の加工を可能にする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体を含む工作物に超疎水性表面を作成するパルスレーザ加工の方法であって、
前記工作物にパルスレーザビームを照射して前記工作物から材料の一部を除去する工程を含み、前記照射する工程は、
レーザ波長において透明であり、前記パルスレーザビームの光源と前記工作物との間に配置された被覆媒体を通じて前記パルスレーザビームを伝送し、前記被覆媒体は前記工作物に隣接して配置された工程と、
前記工作物に対して前記パルスレーザビームを走査し、及び焦点を合わせる工程とを含み、
前記工作物から除去された材料は、前記工作物の上に工作物堆積物を形成し、前記被覆媒体の上に媒体堆積物を形成し、材料が除去された前記工作物の一部及び前記工作物堆積物の一部は前記工作物において超疎水性特性を集団的に誘起し、前記媒体堆積物の一部は前記被覆媒体において超疎水性特性を集団的に誘起する方法。
【請求項２】
前記パルスレーザビームの光源は、約１００フェムト秒から数百ピコ秒までの範囲のパルス持続時間を有するパルスを生成する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記パルスレーザビームの光源は、約１００ｎＪから１ｍＪまでの範囲のパルスエネルギーを有するパルスを生成する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記パルスレーザビームの光源は、約１ｋＨｚから１０ＭＨｚまでの繰り返し率を有するパルスを生成する請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記パルスレーザビームの光源は、ＭＨｚ範囲の繰り返し率でパルスを生成する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記被覆媒体は、前記工作物の固体表面に直接に、前記固体表面に接触して設置される請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記被覆媒体は、前記工作物から約０．１マイクロメートルから１ｍｍまでの距離内に設置される請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記被覆媒体は、ガラス、石英、プラスチックを含む請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記工作物は、金属を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記金属は、ステンレス鋼、アルミニウム、又は銅を含む請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記工作物は、疎水性材料を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記疎水性材料は、炭化水素ポリマー、熱可塑性ポリマー、フルオロカーボン又はエラストマーを含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記走査し、及び焦点を合わせる工程は、非走査領域の走査領域に対する比率を最大で約１０までに生成する請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
超疎水性特性は、非走査の工作物の位置に誘起される請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記走査し、及び焦点を合わせる工程は、約０．０１から１ミリメートルまでの範囲に間隔を有する走査線を形成する請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
超疎水性特性は、走査線の間の前記間隔における非走査の工作物の位置に誘起される請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
レーザビーム走査速度は、約０．００１メートル／秒から１０ｍ／秒の間で可変である請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記工作物は、プレコート層をさらに含み、前記プレコート層は前記照射する前に前記工作物の表面に形成された請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記プレコート層は、疎水性材料を含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記疎水性材料は、ワックス、炭化水素ポリマー、熱可塑性ポリマー、フルオロカーボン又はエラストマーを含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
アフターコート層は、前記工作物の表面に前記照射した後に適用される請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記アフターコート層は、疎水性材料を含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記疎水性材料は、ワックス、炭化水素ポリマー、熱可塑性ポリマー、フルオロカーボン又はエラストマーを含む請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記走査は、前記工作物の予め選択された領域で実施される請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
前記予め選択された領域は、規則的なパターンを形成する請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記予め選択された領域は、前記パルスレーザ加工の結果、超疎水性挙動を示し、予め選択された領域に隣接する少なくとも１つの非選択の領域は低い濡れ抵抗を示す請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
前記超疎水性特性の表面は、少なくとも約１５０度の液体−固体接触角を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
前記照射する工程は、前記工作物堆積物及び前記媒体堆積物を作成し、前記工作物に表面テクスチャをさらに形成し、前記表面テクスチャはレーザ誘起の表面ミクロンスケール又はナノスケール構造を有することを特徴とし、前記堆積物及び前記構造は前記工作物の表面の粗さを増加させる請求項１に記載の方法。
【請求項２９】
前記工作物堆積物及び前記媒体堆積物は、ナノ粒子を含む請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
請求項１に記載の超疎水性表面を作成するパルスレーザ加工方法を実施するように構成された超短パルスレーザ光源及びビームスキャナを含むレーザを基礎とするシステム。
【請求項３１】
請求項１に記載の方法に従って製造された超疎水性特性を有する表面を含む製品。
【請求項３２】
前記製品が、金属を含む請求項３１に記載の製品。
【請求項３３】
前記金属は、ステンレス鋼、アルミニウム又は銅を含む請求項３２に記載の製品。
【請求項３４】
請求項１に記載のレーザ加工の方法で形成された被覆表面の部分を有する媒体。
【請求項３５】
前記媒体はレーザ波長で透明であり、前記レーザ加工の間に被覆媒体として構成された請求項３４に記載の媒体。
【請求項３６】
前記被覆表面の部分は、超疎水性特性を示す請求項３４に記載の媒体。
【請求項３７】
前記媒体は、ガラス、石英、サファイア及びプラスチックを含む請求項３４に記載の媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［０００１］本発明は、パルスレーザで固体表面を加工して表面の物理的及び化学的特性を変化させることに関し、詳しくは、加工された表面が超疎水性特性を示すような表面テクスチャ及び表面被覆を作成することに関する。
【背景技術】
【０００２】
［０００２］以下の出版物は、特に、超疎水性表面、表面テクスチャリング、表面の被覆、及び／又はレーザを基礎とするパターン生成の形成に関する。
【０００３】
［０００３］公開特許出願
ブーシャン他、米国特許出願公開第２００６／００７８７２４号明細書
シェン他、米国特許出願公開第２００６／００７９０６２号明細書
グプタ他、米国特許出願公開第２０１０／０１４３７４４号明細書
リウ他、米国特許出願公開第２０１０／０２２７１３３号明細書
アリア、米国特許出願公開第２０１１／０２５０３７６号明細書
カトウ他、米国特許出願公開第２０１２／０１２１８５８号明細書
［０００４］他の参考文献１−１８：
【０００４】
【表１−１】
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【０００５】
【表１−２】
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【発明の概要】
【０００６】
［０００５］１つの態様において、本発明は、超疎水性表面を作成する高速レーザ加工方法を提供する。
【０００７】
［０００６］少なくとも１つの実施形態は、固体に超疎水性の表面を作成するパルスレーザ加工方法を提供する。工作物の表面は、透明な被覆媒体によって被覆されている。パルスレーザビームは、被覆媒体を通り、工作物の表面を照射する。この方法は、レーザ誘起の表面粗面化及び工作物の表面のナノ粒子被覆という二重の効果を同時に提供することができ、さらに被覆媒体の表面に堆積物／被覆を提供することができる。また、この方法は、レーザ走査線密度の要件を有意に低減し、線間隔を線幅よりはるかに広く、例えば少なくとも約１０倍とすることで、スループットを大幅に向上させることができる。
【０００８】
［０００７］少なくとも１つの実施形態では、レーザ加工の前に、工作物の表面は、非極性ポリマーのような一般に入手可能な疎水性材料の薄層で被覆される。したがって、このような前加工ステップによって、レーザ加工される固体工作物は、プレコートされた表面を含む。プレコートされた工作物のレーザ加工は、上述した実施形態と同様に実施され、例えば、透明な媒体でポリマー表面を覆い、被覆媒体を通じて工作物にレーザの焦点を合わせる。このように、二重の効果が得られ、ポリマーのレーザ粗面化と、プレコートされた工作物及び透明な被覆媒体の両方の表面に疎水性のプレコートした材料からなるナノ粒子の被覆を形成することとを含んでいる。
【０００９】
［０００８］少なくとも１つの実施形態では、被覆媒体は、非極性ポリマーのような基礎の疎水性の固体からレーザ照射によって除去された疎水性材料で選択的に被覆され、超疎水性領域の配列が被覆媒体上に作成されるようにし、被覆媒体はガラスのような本来は親水性材料であり得る。
【００１０】
［０００９］いずれか又はすべての実施形態では、少なくとも数百キロヘルツ、より好ましくはＭＨｚの範囲、例えば１ＭＨｚら約１０ＭＨｚの範囲の高いパルス繰り返し率を利用することによって、毎分数平方インチの光速のレーザ加工速度を達成することができる。いくつかの実施形態では、最大で数百ＭＨｚの繰り返し率を達成することができる。この方法は、周囲条件で行うことができ、毒性又は腐食性の化学薬品を必要とせず、ユーザ設計のパターンを可能にするように汎用的である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】［００１０］図１は、水固体接触角を模式的に示し、（ａ）平坦な親水性表面上の水、（ｂ）平坦な疎水性表面上の水、（ｃ）ウィンケル（Ｗｅｎｋｅｌ）モデルのような粗い疎水性表面上の水、（ｄ）キャシー・バクスター（Ｃａｓｓｉｅ  ａｎｄ  Ｂａｘｔｅｒ）モデルのような粗い疎水表面上の水である。
【図２】［００１１］図２は、本発明の実施形態に係るレーザ加工装置を模式的に示す図である。
【図３】［００１２］図３は、本発明に係る方法およびシステムで加工されたステンレス鋼試料の光学像を示し、（ａ）様々なレーザ走査線間隔及び走査速度で加工され、異なるグレースケールを示すパッチのマトリックスであり、（ｂ）試料に噴霧された水であり、水滴はマークされていない線とその交点に留まるが、これは水滴が超疎水性になったレーザ加工されたパッチから弾かれたためであることに留意されたく、（ｃ）超疎水性試料上に留まる水滴の光シャドウグラフである。
【図４】［００１３］図４は、レーザ加工された試料の走査型電子顕微鏡画像であり、（ａ）６０μｍの線間隔を有する２つのレーザ走査線であり、レーザ走査線の幅は約１２μｍであり、レーザ走査線に伴う約２０μｍ幅の堆積物のグレーの帯があることに留意されたく、（ｂ）レーザ走査線の拡大像であり、（ｃ）レーザ走査線の端部のさらなる拡大像であり、端部における粒子堆積物を示し、（ｄ）堆積物がナノ粒子であることを明らかにする高解像度像である。
【図５】［００１４］図５は、アブレーション間のレーザ焦点の近くの工作物および被覆媒体の一部を模式的に示す図であり、被覆媒体による閉じ込めのため横に膨張するレーザープラズマ（プルーム）を用い、堆積物は被覆媒体および工作物表面の両方において走査線に沿って残っている。
【図６】［００１５］図６は、本実施形態に係るレーザ加工によって作成された表面形態を示す図であり、Ｗ＝レーザ走査線幅、Ｄ＝堆積幅、Ｓ＝レーザ走査線間隔である。
【図７】［００１６］図７は、被覆媒体として使用されるガラス上にレーザで作成された堆積物の走査電子顕微鏡画像を示し（ａ）低倍率画像であり、（ｂ）堆積物の線を示す高倍率画像であり、被覆されたガラスの画像において暗い縞はレーザ走査線であり、明るい粒状の縞が堆積物であることに留意されたい。
【図８】［００１７］図８は、本発明の実施形態を示し、プレコート層は、好ましくは疎水性材料を含み、レーザ加工の前に工作物の表面に適用される。したがって、前加工工程の結果、レーザ加工される固体の工作物は、プレコートされた表面を含んでいる。レーザ加工後、プレコートされた表面は、プレコート層の材料を含むナノ粒子の堆積物で覆われる。
【図９】［００１８］図９は、図８に関して説明した方法によって、アルミニウム板の表面にプレコート層として適用されたポリマー（ポリエチレン）のレーザ加工表面の走査型電子顕微鏡画像を示し、（ａ）低倍率画像であり、（ｂ）高倍率画像であり、レーザ走査線に沿って粒子の堆積を示している。
【図１０】［００１９］図１０は、市松模様のレーザマーキングパターンを示し、線で満たされたパッチのみがレーザビームによって走査され、空白のパッチは加工されないままに留まる。
【図１１】［００２０］図１１は、図８に関して説明した実施形態のように、ポリエチレンのプレコートで覆われてレーザで加工され、図１０に示したような市松模様のマーキングパターンを使用したアルミニウム板を示す図である。
【図１２】［００２１］図１２は、選択的に被覆された超疎水性領域が形成されたガラス上の水滴の（ａ）光学像および（ｂ）模式図を示し、液滴は、親水性のパッチ上にのみ留まり、周囲の超疎水性パッチによって閉じ込められている。
【図１３】［００２２］図１３は、アフターコート層を模式的に示し、好ましくは疎水性材料を含み、レーザ加工後の工作物の表面に適用される。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［００２３］一般的に様々な参考文献で定義され、当技術分野で既知のように、表面は、水が９０°未満の浅い接触角の平坦な水滴を形成するときに親水性と称され、水が９０°より大きい急峻な接触角のより球形の水滴を形成するときに疎水性と称され、これらは、図１（ａ）および図１（ｂ）にそれぞれ示されている通りである。接触角が１５０°よりも大きいときには、表面は一般に超疎水性とみなされる。しかし、カトウ（Ｋａｔｏ）他（２０１２／０１２１８５８、［０００２］−［０００３］）が指摘したように、超疎水性の表面の科学的な定義は確立されておらず、この用語は濡らすのが非常に困難な１５０°以上の水接触角を呈する表面を指している。本明細書で議論されるように、約１２０から１５０度の水接触角は高疎水性表面と称され、通常の疎水性表面は約９０から１２０度の水接触角を示している。アリア（Ａｒｉａ）ら（２０１１／０２５０３７６、［０００３］）は、超疎水性の表面を濡らすことが極めて困難であると指摘している。それは、典型的には、１５０度よりも高い静的接触角および１０度未満の接触角ヒステリシスを有している。したがって、本明細書で使用されるように、超疎水性の表面又は超疎水性特性を示す表面は、柔軟な用語であり、閾値としての１５０度の正確な接触角によって制約されることはない。例えば、接触角は、１５０度の角度について異なる結果をもたらす異なる手法で測定することができる。また、超疎水性特性は、やや浅い角度で示されてもよく、例えば１５０度付近にあるがシャドウグラフ又は他の器具の測定誤差の範囲内の角度であり、又は例えば約１２０度よりいくらか大きい角度である。超疎水性表面の１つの態様は、表面の強力な撥水特性である。当技術分野で知られている超疎水性状態のさらなる議論は、例えばワング（Ｗａｎｇ）他にも見出すことができる［参考文献１８］。
【００１３】
［００２４］表面の濡れ性の制御は、多くの用途で望まれている。例えば、超疎水性表面は、自己洗浄、凍結防止、氷結防止であることができ、優れたトライボロジー特性も示す。生物学的および医薬検査の分野も、検査する液体を収容するように画定された親水性領域の規則的な配列を有することができる低コストのサンプルプレート（しばしばガラススライド）の恩恵を受けることになる。一つの手法は、親水性媒体上に超疎水性パターンを形成し、周囲が超疎水性である親水性領域が平面の液体容器の機能を果たすことができるようにするものである。
【００１４】
［００２５］自然は、蓮の葉と蝶の羽のような超疎水性表面の多くの例を提供してきた。セルフクリーニング効果は、蓮と蝶が高湿度の生活環境の中で生き残ることを手助けしている。そのような表面を詳細に検査すると、ナノメートルからマイクロメートルスケール間の寸法を有する凹凸の高い密度を明らかになる。
ウェンケルは１９３６年に、このような疎水性は表面粗さの結果であることを説明し、図１（ｃ）に示すように、大きな液体固体接触面積は急峻な液体固体接触角と釣り合ったものである。１９４４年、キャシーとバクスターは粗い表面による空気トラッピングの役割をさらに検討し、超疎水性の現象を説明したモデルを提供した。図１（ｄ）に示すように、凹凸又は突起の高い密度を有する粗面は、谷に空気をトラップすることができ、固液接触面積を効果的に減少させ、（定義によって１８０°の接触角を有する）気液接触面積を増加させる。式１は、キャシー・バクスターモデルにおける粗面上の有効接触角θを表現している。
【００１５】
【数１】
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【００１６】
θＳ−Ｌは理想的な平坦な表面上の液体の接触角であり、ｆｓは粗面上の総接触面積における固液接触面積の割合である。負値のｃｏｓθＳ−Ｌを与えることによって、最初に適度に疎水性の平坦な表面に対応し、係数ｆＳをさらに低減することによって、ｃｏｓθの値はほぼ−１に到達することができる。このことは、逆に、１８０°に近い非常に高い接触角θ、したがって超疎水性をもたらす。表面ぬれ性の原理は、例えば、上記参考文献１において、詳細に検討されている。
【００１７】
［００２６］実際には、式１を満たす表面粗さを生成する多数の表面加工方法がある。その手法は、例えば物理的エッチング又はリソグラフィによる材料除去、又は例えば表面被覆による材料付加のいずれかによる２つのカテゴリーに分けることができる。材料除去の手法の例は、プラズマエッチング［参考文献２、３］、マイクロマシニング［参考文献。４］、およびプレデザインに従い通常の凹凸を生成することができるリソグラフィ［参考文献５−７］を含んでいる。材料付加の手法では、例はコロイド粒子［参考文献８−１０］とナノチューブ［参考文献１１］で表面を被覆コートすることを含んでいる。表面パターン化と被覆の組み合わせは、米国特許出願公開第２００６／００７８７２４号明細書で教示され、凹凸のプレデザインの配列が最初に表面上に生成され、例えばフッ化炭素のような一般的に入手可能な疎水性材料の層が超疎水性を達成するために続いて適用される。この手法の戦略は、式１の低いｆＳ係数と式１の負のθＳ−Ｌを別途に満たすことであり、プレデザインの粗さと一般に入手可能な疎水性材料によるその後の被覆とのそれぞれによる。
【００１８】
［００２７］レーザ材料加工の分野では、固体表面のパルスレーザアブレーションは波長より小さい長さスケールを有する波状の周期的な表面パターンを作り出すことができ、同じスケールの粗さを有する表面をもたらすことが知られている。この現象は、入射レーザビームと表面散乱波との間の干渉の結果として説明されてきた［参考文献１２］。ピコ秒からフェムト秒の領域の短いパルス持続時間は、発熱が少なく、この効果を得るために好ましい。また、この効果は、（焦点の面積にわたって平均されたパルスエネルギーとして定義される）レーザフルエンスが、わずかにアブレーション閾値を超える場合により顕著である。化学エッチングガスと組み合わせることによって、このようなレーザ表面テクスチャリング技術は、非常に低い光反射を有する（したがって、名前ブラックシリコンを与える）シリコンの非常に粗い面を作成してきたが、この面は超疎水性でもある［参考文献１３］。この方法は、マズール他の米国特許出願公開第２００６／００７９０６２号明細書にも教示されている。レーザ表面テクスチャリングおよびその結果の超疎水性は、周囲の空気中でも達成することができ、［参考文献１４−１６］に示され、グプタ他の米国特許第２０１０／０１４３７４４号明細書に教示されている。
【００１９】
［００２８］レーザ誘起表面粗化の上記例の全てにおいて、固体表面は、超疎水性を生成するために、レーザ走査によって完全に覆われていた。レーザ走査による表面の完全な被覆は、線間隔が（焦点サイズに等しい）線幅に等しいかより小さくなるような非常に高い走査線密度を必要とし、加工速度は非常に低くなる。また、上記方法のいくつかでは、レーザが形成した凹凸はミクロンスケールの大きい円錐形の柱であり［参考文献１３、１５］、作成のためのレーザ照射に長時間露光が必要であり、加工をさらに遅くする。参考文献１６は、レーザ照射時間を制限することによって生成された非常に浅い表面リップル上のレーザ誘起の超疎水性の興味深い場合を示しているが、その表面は、超疎水性を開始させるためにレーザ加工後に少なくとも数日にわたって周囲空気又はＣＯ２ガスに暴露する必要がある。
【００２０】
［００２９］米国特許出願公開第２０１０／０２２７１３３号（‘１３３）は、本発明の譲受人に譲渡されている。‘１３３公報は、透明媒体へのレーザ印刷の方法を教示し、例えばガラススライドのような媒体は、ターゲットに隣接し、又は接触して設置されている。入射レーザビームは、媒体を通じて伝送され、ターゲットをアブレーションし、アブレーションされた材料は媒体上に堆積される。
【００２１】
［００３０］上記‘１３３の方法で実験中に、驚くべきことに、ターゲットの工作物と透明被覆媒体との両方がレーザ印刷加工後に超疎水性になったことが発見された。追加の実験が保証し、以下の実施例及び具体例で例示するようなさらなる結果が得られた。
【００２２】
［００３１］上述したように、図１は固体表面の水接触角の４つの例示的なシナリオを模式的に示し、式１は水接触角θと、粗面上の総接触面積の固液接触面積の割合として定義される係数ｆＳとの関係をまとめている。
【００２３】
［００３２］図２は、例示的なレーザ加工装置を示している。レーザビーム２０１は、レーザ２０４によって生成される。入射ビームは被覆する透明媒体２０２を通過し、好ましくは、工作物２０３の表面に焦点が合わせられる。レーザーパルスの持続時間は、好ましくは、約１００フェムト秒（ｆｓ）から１ナノ秒（ｎｓ）までの範囲にある。工作物２０３の材料は、金属（ステンレス鋼、アルミニウム、銅等）、金属合金、半導体、プラスチック、および／又は他の適切な材料を含むことができる。いくつかの実施形態において、工作物は、被覆するか、そうでなければ、レーザ加工の前に修正することができ、以下で説明する。被覆媒体２０２は、レーザ波長に対して透明である材料を含むことができ、ガラス、石英、プラスチック等を含む。被覆媒体２０２は、工作物２０３の上に直接に配置することができ、工作物の表面の本来の粗さに依存して約０．１−１０μｍの範囲にある自然のギャップを残している。あるいは、被覆媒体と工作物との間のギャップは、スペーサを用いて調整することができる。被覆媒体は入射レーザ光について効果的な光学窓として機能し、後述するように、レーザの相互作用に影響を及ぼすためにも使用される。上部の被覆媒体２０２の構成は必須の制限ではなく、幾何学的な配置は特定のレーザ加工用途の要件に基づいて変更することができ、例えば、いくつかの実施形態においては水平ではなく垂直方向のレーザビーム入射での幾何学的配置を利用することができる。一般に、被覆媒体は、工作物に対して隣接して近接し、例えば、工作物の表面と約０．１マイクロメートルから１ｍｍまでの距離内に配置され、又は工作物に直接に接触する。
【００２４】
［００３３］ビームの走査はビームスキャナ２０５を用いて達成され、ビームスキャナ２０５は垂直方向にビーム走査する２つの振動ミラー２０６及び２０７を含むことがある。ビームはレンズ２０８によって焦点が合わせられ、レンズ２０８は好ましくはｆ−θレンズであり、走査フィールドの平坦性を維持するようにする。走査速度（また、マーキング速度としても知られている）及び線間隔（ピッチとしても知られている）のようなパラメータは、コントローラ２０９によって制御されている。いくつかの実施形態において、例えばＸＹガルバノメータに基づくようなプログラマブル走査システムが、線走査以外に幾何学的な走査パターンを生成してもよい。例えば、円形又は楕円形のパターンを生成してもよい。
【００２５】
［００３４］本出願の譲受人であるＩＭＲＡアメリカは、チャープパルス増幅（ＦＣＰＡ）を利用するいくつかのファイバを基礎にするレーザシステムを開示し、供給している。このシステムは、０．１ＭＨｚから１ＭＨｚを超えるまでの範囲の高い繰返し率、５００フェムト秒から数ピコ秒までの範囲の超短パルス持続時間、及び１Ｗから１０Ｗを超えるまでの範囲の高い平均電力を提供することができる。この種類のＦＣＰＡシステムは、特に、高い繰り返し率で動作するとき、様々な好ましい実施形態で使用するのに適している。他の高繰り返しパルスレーザ装置は、様々な実施形態で使用することができ、ファイバおよび／又はバルク固体レーザを含んでもよい。様々な好ましい実施形態において使用可能なパルス幅は、１０ｆｓから１ｎｓまで、１００ｆｓ−１００ｐｓ、又は１ｐｓ未満の範囲にあってもよい。最小パルスエネルギーは約１００ｎＪ、最大エネルギーは最大約１ミリジュールまで、又は約１００ｎＪから１００μＪの範囲にあってもよい。調整可能な出力パルス繰返し率は、１ＫＨｚから１０ＭＨｚまで、より好ましくは、少なくとも数百（３００）ＫＨｚから１０ＭＨｚまでの範囲にあってもよい。動作中には、レーザビーム径は約５−６ｍｍであってもよい。ビームは、強い収束のためにより大きな寸法に拡張することができる。（走査線幅を決定する）、焦点サイズは、１０−６０μｍの範囲にあってもよい。いくつかの実施形態では、スループットを増加させるためにスポットサイズは増加させることができ、例えば、約６０μｍから最大で数百μｍ、又は約６０−３００μｍの範囲にあり、超疎水性性能を達成する。多くの可能性が存在するが、特定のアプリケーションの要件に依存する。
【００２６】
［００３５］図３（ａ）は、本発明の方法で加工したステンレス鋼板の画像である。それぞれが８×８ｍｍ２のパッチの６×６のテストマトリックスは６０μｍから２００μｍまで変化する線間隔で形成され、マーキング速度は１０ｍｍ／ｓ−１００ｍｍ／ｓで変化する。各パッチは、約１０−２０秒の加工時間を必要とする。
【００２７】
［００３６］図３（ｂ）は、加工されたサンプルに噴霧された水を示している。水を噴霧している間、水滴はレーザ加工のパッチから素早く転がっていき、レーザによって加工されなかった格子の交点にのみ残り、これによってレーザ加工パッチの超疎水性を実証した。
【００２８】
［００３７］図３（ｃ）は、サンプルの上に留まる水滴を示す光学シャドウグラフである。この例では、１５０°よりも大きい大きな接触角が光学シャドウグラフから測定された。超疎水性は、最大で３００μｍまでのレーザ走査線の間隔と最大で２ｍ／ｓ秒までの走査速度（マーク速度とも呼ばれる）とで達成されることができることも観察された。このような加工速度は、超疎水性表面を生成するために使用されていた従来のシステムよりはるかに上である。いくつかの実施形態では、レーザビームの走査速度は約０．００１ｍ／ｓから１０ｍ／ｓまでの間で変化させ、走査線間隔は約０．０１−１ｍｍの範囲にあるようにすることができる。
【００２９】
［００３８］驚くべきことに、水が走査線間の未加工領域とまだ接触していると考え、走査線上で非常に小さく接触していると仮定すると、係数ｆＳは間隔（Ｓ）に対する線幅（Ｗ）の比の補数で決定され、ｆＳ＝１−Ｗ／Ｓによって与えられる通りである。このようなｆＳは。０．５から０．９の範囲にあり、観察された超疎水性を説明する式１には大きすぎる。
【００３０】
［００３９］図４に示すように、サンプルの工作物の表面が、より詳細に検討される。全体的に、表面は、少なくとも２つの別個の特徴を有することによって特徴付けられてもよい。１つのこのような特徴は、レーザテクスチャリング加工中にレーザスポットの走査動作から生じる微細構造である。他の特徴は、レーザアブレーションによって生成され、微細構造パターンに従い分布するナノサイズの微粒子を含んでいる。図４（ａ）は、線幅１２μ及び線間隔６０μｍを有する２本の隣接する走査線を示す走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像である。約２０μｍ幅の灰色の帯は、最下部の線に伴って見られる。図４（ｂ）は、レーザ走査線のテクスチャ形態４０５の拡大図を示している。アブレーション閾値に近い（及び超える）パルスレーザアブレーションによって固体表面に平行なリップルを生成することができ、リップル方向はレーザ偏光に対して垂直であることはよく知られている。例となる図４（ｂ）のゴツゴツした形態は、ステンレス鋼の工作物表面２０３と被覆媒体２０２との間の多重反射の結果である。多重反射は、ビームの偏光を変化させ、破壊されたリップルを生じる。図４（ａ）において最下部の縁部に沿って観察された灰色の帯の詳細な形態は、図４（ｃ）、図４（ｄ）の高解像度画像に移され、灰色の帯はサイズが１０−１００ｎｍの微粒子を含むことを明らかにしている。このような微粒子は、さらに興味深い特性を示すことがある。例えば、ツァオ他［参考文献１７］によって、表面に１００ｎｍより小さい粒子が存在すると氷結防止効果が得られることが実証された。特に、ツァオの参考文献の図３から、ナノ粒子のサイズが約１００ｎｍより小さくなるに従い「氷結確率」はゼロに近づくことが見られる。本明細書で記載される様々なレーザ加工に実施形態に従い形成された表面堆積物は、このような挙動を示すことがある。
【００３１】
［００４０］基礎となる作用メカニズムを理解することは本発明の実施形態の実践に必要ではないが、これらの観察に基づいて、著者は、本発明のレーザ加工方法により形成された全体的な表面形態は、図５に示すように、空間閉じ込めレーザアブレーションの結果であると確信している。工作物２０３の表面を透明（例えば、ガラス）媒体で覆うことによって、レーザ誘起プラズマ５１０（プルームとして知られ、黒ドットにより表される）の垂直方向への膨張は閉じ込められて横向きに強制され、レーザによって除去された材料の堆積物はレーザ走査線の両側に沿って残る。図５から明らかなように。堆積物５２０（白丸）はガラス媒体２０２及び工作物２０３上に形成され、それぞれ、媒体堆積物及び工作物堆積物と称されることがある。レーザ誘起微細構造は、工作物材料が除去されたレーザ工作物相互作用領域における、又はその近くの工作物上に形成されている。したがって、レーザ加工工作物の表面は、一部はレーザ生成リップルによって覆われ、一部は堆積物で覆われ、両方が表面粗さを高めることに貢献している。ほぼ周期的なリップル、又は他の非周期的又はランダムな構造は、マイクロスケール又はナノスケールの特徴を表し、特にフェムト秒からピコ秒範囲のレーザ加工パルスによる加工に由来している。例えば、適切なパルス幅の範囲は、約１０ｆｓ−１ｎｓ、１０ｆｓ−１ｐｓ、１００ｆｓ−５０ｐｓ、又は最大で数百ｐｓまでに含まれ、好ましくは、低い熱影響ゾーン、溶融、又は表面テクスチャ又は被覆の品質を劣化させることがあり得る他の熱処理の影響で高精細表面テクスチャリングを提供する。
【００３２】
［００４１］図５及び図６に見られるように、レーザ（例えば、プルーム５１０）で工作物から除去された材料は、工作物上に工作物堆積物を形成し、被覆媒体上に媒体堆積物を形成する。材料が除去された前記工作物の一部と工作物堆積物とは、工作物に超疎水性を集合的に誘起する。媒体では、媒体堆積物の一部は前記被覆媒体において超疎水性を集合的に誘起する。
【００３３】
［００４２］図６に示すように、線間隔Ｓはレーザ走査線幅Ｗと堆積幅Ｄの２倍との和と等しいか又は大きいものであってもよく、すなわち、Ｓ≧Ｗ＋２Ｄであり、最大で毎分数平方インチまでの非常に高い加工速度を可能にし、例えば最小０．２５、０．５、１、２、又は５毎分平方インチであり、走査密度に応じて最大で毎分約１０平方インチまでである。例として、線間隔は、走査線の焦点の幅の少なくとも約３倍、５倍、又は最大で１０倍までであってもよい。上述のように、いくつかの実施形態では、直線状のラスタスキャン以外の走査パターンを生成することができ、例えば楕円形、円形、螺旋、又は他のパターンであってもよい。非走査領域面積の走査領域面積に対する比は約１０倍までであってもよい。同様に、任意の走査部分の間の間隔は、焦点ビームの幅より最大で約１０倍まで広くすることができる。
【００３４】
［００４３］図７は、被覆媒体表面上の堆積物の線の低倍率（ａ）及び高倍率（ｂ）のＳＥＭ像を示している。被覆媒体上において、堆積物はレーザ走査線に沿って積もることに留意されたい。
【００３５】
［００４４］図８は変形例を示し、プレコート層８１０が、それ以外は同一の加工装置において、レーザ加工前の工作物表面に適用されている。したがって、前加工工程の結果として、レーザ加工される固体の工作物は、プレコートされた表面を含んでいる。プレコート材料は一般的に入手可能な疎水性材料（例えば、ワックス、又は非極性又は弱極性ポリマー等）とすることができ、疎水性材料を含むレーザ生成堆積物を確保するようにしている。このプレコート層は、例えば、多くの金属および酸化物のように非常に疎水性ではない工作物材料に、又は親水性材料にさえ、超疎水性を導入する。上記のように、工作物のレーザ加工は、プレコートに続いて行われる。
【００３６】
［００４５］室温における水の表面張力は７２ｍＮ／ｍである。最も一般的に利用可能な非極性又は弱極性ポリマーは、１８ｍＮ／ｍ及び５０ｍＮ／ｍの間の範囲の表面張力を有する疎水性であり、水の表面張力よりもはるかに低い。これらのポリマーは、ほとんどの炭化水素類、熱可塑性樹脂、フルオロカーボン、およびエラストマーを含んでいる。これらのポリマーは、全てプレコート層として適用することができる。被覆方法は、機械的なスピンコーティング、スプレーコーティング、ラミネーション、又は化学気相堆積のようなより複雑な化学コーティング法などを含むことができる。
【００３７】
［００４６］図９は、図８に関して説明したようなレーザ加工後のポリエチレンのプレコート層（ＰＥ）のＳＥＭ画像を示している。図９（ａ）の低倍率画像は１５０−２００μｍの線間隔を有する格子パターンを示し、図９（ｂ）の高倍率画像はレーザ走査線の一部に沿った粒子の堆積を示している。
【００３８】
［００４７］さらに加工を高速化するために、様々な幾何学的パターンを利用することができ、図１０に示した市松模様では、埋まったパッチがレーザで走査され、空白のパッチは加工されない。例えば、各単一のパッチの寸法は、レーザ加工工作物の全体的な超疎水性特性に影響を与えることなく、３×３ｍｍ２まで大きくできることを見出した。操作の縮尺を説明するために、領域９１０は、図９のＳＥＭ画像における加工領域にほぼ対応している。図１１は、図８に関連して説明した市松模様のレーザ走査パターンを使用し加工された１０×１０ｃｍ２のアルミニウム板をさらに示し、ポリマーＰＥの層は加工前のアルミニウム板上に最初に適用される。なお、図１１の加工領域は、図１０に示したものと同様の密集走査パターンが形成され、したがって例えば図３ａに示す直線のラスタ走査で得られるよりも遅いスループットである。なお、４つのレーザ加工正方形の各々は３×３ｃｍ２であり、わずか１分の加工時間、又は約４分間の総加工時間を必要とする。したがって、高いスループットが達成可能であった。
【００３９】
［００４８］被覆媒体の加工の影響については、走査領域及び空白領域の配列を有する走査パターンを使用した場合、レーザ走査パッチ（例えば、図１０の満たされたパッチ）に直接に対向する領域のみが基礎のポリマーからレーザによって除去された粒子によって覆われ、超疎水性となることが見出された。未加工の空白パッチに対向する領域面積は、被覆されていないままであり、元の水濡れ性を保つ。例えば、被覆されていないガラスは親水性のままである。図１２（ａ）は、レーザアブレーションのための基礎となる固体として疎水性ポリマー（ＰＥ）を用い、超疎水性パッチの配列（各３×３ｍｍ２）で製作された２インチガラススライドの例を示している。水滴は、超疎水性パッチによって取り囲まれた被覆されていない領域にのみ留まる。図１２（ｂ）に概略的に示すように、これは、親水性媒体に超疎水性パターンの配列を製造する簡単な方法を提供するこれは、パターンが市松模様に限定されず、例えば、規則的又は不規則的なパターン形状、周期的又は非周期的、又はこれらの組み合わせが実施できることが理解される。
【００４０】
［００４９］図１３は、レーザ加工後の工作物表面に適用したさらに他の変形例を示している。一例として、工作物表面のテクスチャは、本明細書に記載されるように、適度に疎水性の後の層の適用に続いて、好ましくはレーザ加工を使用して作成される。この層の目的は、超疎水性を誘起するか又は高めることと、保護層として機能することにすることができる。後の被覆材料はワックス又はポリマーにすることができる。
【００４１】
［００５０］本発明を要約する目的のために、本発明の特定の態様、利点及び新規な特徴が本明細書に記載されている。しかしながら、必ずしも全てのこのような利点が、特定の実施形態に従って達成されなくてもよいことが理解される。したがって、本発明は、本明細書で教示又は示唆されることがあるように、必ずしも他の利点を達成することなく、１つ以上の利点を達成するように具体化又は実施することができる。
【００４２】
［００５１］したがって、本発明は、いくつかの実施形態に記載されてきた。実施形態は、相互に排他的ではなく、一実施形態に関連して説明された要素は、所望の設計目標を達成するための適切な方法で、他の実施形態と組み合わせたり又は排除されたりしてもよいことが理解される。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【国際調査報告】
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