(57)【要約】真空チャンバ内で被コーティング物の表面に薄膜を蒸着する蒸着装置において、蒸着装置は、前記薄膜を形成するための物質を供給する蒸着源；前記蒸着源に冷却水、電源、及び、工程ガスのうち少なくともいずれか一つ以上を供給する供給ユニット；及び、真空チャンバ内で蒸着源を移動させる移動ユニットを含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内で被コーティング物の表面に薄膜を蒸着する蒸着装置において、
前記薄膜を形成するための物質を供給する蒸着源；
前記蒸着源に冷却水、電源、及び、工程ガスのうち少なくともいずれか一つ以上を供給する供給ユニット；及び
前記真空チャンバ内で前記蒸着源を移動させる移動ユニットを含む蒸着装置。
【請求項２】
前記移動ユニットは、経路に沿って前記蒸着源を移動させる第１移動部を含む、請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記経路は、前記蒸着源と前記被コーティング物との間の距離が一定に維持されるように、前記被コーティング物の表面と平行に形成される請求項２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記移動ユニットは、前記蒸着源と連結される連結部材を含み、
前記第１移動部は、
前記連結部材を前記経路に沿って移動させる第１リニアモーション部、及び、前記第１リニアモーション部に動力を供給する第１動力部を含む請求項２に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記移動ユニットは、前記蒸着源と前記被コーティング物との間の距離を調節する第２移動部を含む請求項４に記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記第２移動部は、
前記連結部材を移動させて前記距離を調節する第２リニアモーション部、及び、前記第２リニアモーション部に動力を供給する第２動力部を含む請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記移動ユニットは、
前記被コーティング物の表面と平行に一軸を回転軸として前記蒸着源を回転させる回転ユニットを含む請求項２に記載の蒸着装置。
【請求項８】
前記回転軸は、前記経路に対して直交する請求項７に記載の蒸着装置。
【請求項９】
前記蒸着源は、前記回転軸の周りに沿って配置される複数個のカソードを含む請求項７に記載の蒸着装置。
【請求項１０】
前記複数個のカソードのそれぞれは、互いに異なる物質を供給する請求項９に記載の蒸着装置。
【請求項１１】
前記蒸着源は、前記複数個のカソードのうち前記被コーティング物に向けて物質を供給するカソードのみが外部に露出するように、前記回転軸の周りに沿ってシャッタを備える請求項９に記載の蒸着装置。
【請求項１２】
前記蒸着源は、円状のカソードからなる請求項７に記載の蒸着装置。
【請求項１３】
前記供給ユニットは、前記真空チャンバ内に備えられ、
前記蒸着源から前記供給ユニットが隔離するように、前記蒸着源と前記供給ユニットとの間に介在するパーティクルシールドをさらに含む請求項４に記載の蒸着装置。
【請求項１４】
前記パーティクルシールドには、
前記連結部材が移動可能なようにスロットが形成されている請求項１３に記載の蒸着装置。
【請求項１５】
前記パーティクルシールドは、
前記スロットを介して前記供給ユニットに前記物質が入り込まないようにするか、前記被コーティング物の表面にパーティクルが入り込まないように前記スロットの周辺において突出する補助シールドを含む請求項１４に記載の蒸着装置。
【請求項１６】
前記補助シールドは、前記スロット上へ曲がる「┐」状を有する請求項１５に記載の蒸着装置。
【請求項１７】
前記連結部材は、補助シールドに対応して折曲形成される折曲部を含む請求項１６に記載の蒸着装置。
【請求項１８】
前記被コーティング物の表面へのパーティクルの影響を最小化するために、前記蒸着源及び前記被コーティング物は下向き傾斜を有するように傾いて配置される請求項１に記載の蒸着装置。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、蒸着源移動型蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置及び有機発光表示装置の製造の際、透明電極、金属電極、絶縁膜などは物理的蒸気蒸着法（ＰＶＤ）またはプラズマ化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ、Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方法のような化学的気相蒸着法（ＣＶＤ）により形成される。
【０００３】
既存の物理的蒸気蒸着装置または化学的気相蒸着装置の場合、蒸着源は固定されており、被コーティング物が移動または回転する方式を用いる。これは、蒸着源が冷却水、電源、工程ガスなどを供給する種々の装置と連結されるため、固定した形態を取るしかなかった。
【０００４】
しかし、固定された蒸着源が含まれた蒸着装置により撓んだ形態を有する被コーティング物に薄膜を蒸着する場合、被コーティング物の表面と蒸着源との間の距離が被コーティング物の位置に応じて変わるので、均一な薄膜を形成し難いという不都合があった。さらに、被コーティング物の移動によりパーティクルが発生するという不都合があった。
【０００５】
従って、如何なる形態の被コーティング物にも均一な薄膜を形成することができ、パーティクルの発生を最小化できる蒸着装置が必要となった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本願は、様々な形態を有する被コーティング物に均一な薄膜を形成することができ、被コーティング物の移動によるパーティクルの発生を最小化できる蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の技術的課題を達成するための技術的手段として、本願の第１側面による蒸着装置は、薄膜を形成するための物質を供給する蒸着源；前記蒸着源に冷却水、電源、及び工程ガスのうち少なくともいずれか一つ以上を供給する供給ユニット；及び、真空チャンバ内で前記蒸着源を移動させる移動ユニットを含む。
【０００８】
本願の一具現例によれば、前記供給ユニットは、前記真空チャンバ内に備えられ、蒸着装置は、前記蒸着源から前記供給ユニットが隔離するように、前記蒸着源と前記供給ユニットとの間に介在するパーティクルシールドを含む。
【発明の効果】
【０００９】
前述した本願の課題解決手段によれば、被コーティング物を固定し、蒸着源を移動させて被コーティング物の表面と蒸着源との間の距離を調節することで、より均一な薄膜を形成することができ、被コーティング物の移動によるパーティクルの発生を最小化することができる。
【００１０】
また、パーティクルシールドにより真空チャンバの内部で蒸着源から供給ユニットを隔離させることで、残余の蒸着物質が供給ユニットに入り込んでパーティクルが発生することと、被コーティング物にパーティクルが入り込んで被コーティング物の表面が汚染することを最大限防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本願の一実施例に係る蒸着装置の概念図である。
【図２】本願の一実施例に係る蒸着装置の側面の概略的な断面図である。
【図３】移動ユニットの他の実施例を説明するための概念図である。
【図４】移動ユニットの他の実施例を説明するための概念図である。
【図５】蒸着源が複数個のカソードを含む場合を説明するための図面である。
【図６】図５の複数個のカソードを含む蒸着源の様々な実施例を示す図面である。
【図７】蒸着源が円状のカソードからなる場合を説明するための図面である。
【図８】蒸着源がＰＥＣＶＤ蒸着源である場合を説明するための図面である。
【図９】移動ユニット及び回転ユニットによる蒸着源の様々な移動経路を示すための図面である。
【図１０】シャッタを備える蒸着源を示す図面である。
【図１１】図２の蒸着装置が蒸着源及び被コーティング物が下向き傾斜を有するように傾いて配置された場合を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下では、添付した図面を参照して、本願が属する技術分野で通常の知識を持った者が容易に実施することができるように本願の実施例を詳しく説明する。しかし、本願は、様々な異なった形態で具現でき、ここで説明する実施例に限らない。そして、図面で本願を明確に説明するために、説明と関係ない部分は省略し、明細書全体を通じて類似した部分については、類似した図面符号を付けた。
【００１３】
本願の明細書全体において、ある部材が他の部材「上に」位置しているというと、これは、ある部材が他の部材に隣接している場合だけでなく、二つの部材の間に別の部材が存在する場合も含む。
【００１４】
本願の明細書全体において、ある部分がある構成要素を「含む」というと、これは、特に反対する記載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。本願の明細書全体で使用される程度の用語「約」、「実質的に」などは、言及された意味に固有の製造及び物質許容誤差が提示される時、その数値でまたはその数値に近接した意味として使用され、本願の理解を助けるために、正確であるか絶対的な数値が言及された開示内容を非良心的な侵害者が不当に利用することを防止するために使用される。本願の明細書全体で使用される程度の用語「〜（する）ステップ」または「〜のステップ」は、「〜のためのステップ」を意味しない。
【００１５】
本願の明細書全体において、マーカッシュ形式の表現に含まれた「これらの組合」の用語は、マーカッシュ形式の表現に記載された構成要素からなる群より選択される一つ以上の混合または組合を意味するものであり、前記構成要素からなる群より選択される一つ以上を含むことを意味する。
【００１６】
因みに、本願の実施例に関する説明のうち方向や位置に関する用語（上向き、下向き、上下方向、左側、右側、左右方向など）は、図面に示されている各構成の配置状態を基準にして設定している。例えば、図１において、上の方が上側、下の方が下側、左の方が左側、右の方が右側などになる。但し、本願の実施例の様々な実際の適用においては、上側と下側、左側と右側が逆になるなど、様々な方向に配置されることができる。
【００１７】
以下、添付した図面を参照して本願を詳しく説明する。
【００１８】
先ず、本願の一実施例に係る蒸着装置（以下、「本蒸着装置」という）について説明する。
【００１９】
本蒸着装置（１０００）は、蒸着源（３０）を含む。
【００２０】
蒸着源（３０）は、薄膜を形成するための物質を供給する。この時、蒸着源（３０）が供給する物質には金属、セラミックス、高分子物質が含まれる。
【００２１】
また、蒸着源（３０）は、スパッタリング、Ｅビーム（Ｅ−Ｂｅａｍ）などの物理的気相蒸着装置に含まれてもよく、ＰＥＣＶＤ、ＭＯＣＶＤ、ＬＰＣＶＤなどの化学的気相蒸着装置に含まれてもよい。
【００２２】
蒸着源（３０）は、様々な形態に配置されることができる。例えば、図１に示されるように、蒸着源（３０）及び被コーティング物（２００）が左右方向に配置される場合には、物質が供給ユニット（５０）に入り込んで発生するパーティクルから被コーティング物（２００）の表面が汚染することを防ぐことができる。
【００２３】
他の例として、図２に示されるように、蒸着源（３０）及び被コーティング物（２００）が上下方向に配置される場合には、物質が供給ユニット（５０）に入り込むことを防止することができ、被コーティング物（２００）の表面を汚染させるパーティクルの生成を遮断することができる。
【００２４】
蒸着源（３０）及び被コーティング物（２００）は、下向き傾斜を有するように傾いて配置されてもよい。これは、被コーティング物（２００）の表面へのパーティクルの影響を最小化するためである。
【００２５】
図１１に示されるように、蒸着源（３０）及び被コーティング物（２００）が上下方向に配置されるが、被コーティング物（２００）の表面が重力方向を多少眺める形態に傾いて備えられる場合、物質が供給ユニット（５０）に入り込むことと、供給ユニット（５０）から発生したパーティクルが被コーティング物（２００）の表面に入り込むことを効果的に防ぐことができ、被コーティング物（２００）の表面が汚染することを最小化することができる。
【００２６】
本蒸着装置（１０００）は、供給ユニット（５０）を含む。
【００２７】
供給ユニット（５０）は、蒸着源（３０）に冷却水、電源、及び工程ガスのうち少なくともいずれか一つ以上を供給する。
【００２８】
供給ユニット（５０）は、真空チャンバ（１００）内に備えられてもよい。
【００２９】
この時、供給ユニット（５０）は、冷却水、電源、及び工程ガスが真空チャンバ（１００）の内部に漏れるか放電することを防止できるように備えられることが好ましい。
【００３０】
より具体的に、供給ユニット（５０）のうち冷却水を供給する部分の場合、真空チャンバの内部の特殊性により発生する既存の水圧との圧力差及び材質の低い緻密性によって冷却水を漏らす危険がある。従って、供給ユニット（５０）は、緻密な材質を用い、連結部位において漏れのないようにすることが好ましい。
【００３１】
また、供給ユニット（５０）のうち電源を供給する部分の場合、真空領域で発生する絶縁破壊を防ぐために、一定の絶縁等級以上の被覆が形成された電線を用い、特に、連結部位において絶縁破壊が起こらないように処理することが好ましい。
【００３２】
本蒸着装置（１０００）は、移動ユニット（１０）を含む。
【００３３】
移動ユニット（１０）は、真空チャンバ（１００）内で蒸着源（３０）を移動させる。
【００３４】
蒸着源と被コーティング物との距離に応じて薄膜の蒸着率が変わるが、従来の蒸着装置は蒸着源が固定されており、曲面状の被コーティング物の表面に薄膜を形成しようとする場合、被コーティング物と蒸着源との距離が一定するように調節することができないので、様々な形態の被コーティング物に対して均一な薄膜を形成することができないという不都合があった。
【００３５】
これに対し、本蒸着装置（１００）は、被コーティング物（２００）を固定して蒸着源（３０）を移動させることで、被コーティング物（２００）の表面と蒸着源（３０）との間の距離を調節して一定にできるので、様々な形態の被コーティング物（２００）に対してより均一な薄膜を形成することができる。また、被コーティング物（２００）の移動によるパーティクルの発生を最小化することができる。
【００３６】
移動ユニット（１０）は、第１移動部（１１）を含む。第１移動部（１１）は経路に沿って蒸着源（３０）を移動させる。
【００３７】
この時、経路は、蒸着源（３０）と被コーティング物（２００）との間の距離が一定に維持されるように被コーティング物（２００）の表面と平行に形成されることを意味する。
【００３８】
これは、被コーティング物（２００）の表面に、全体的に一定かつ均一な薄膜を形成するためである。
【００３９】
例えば、図１を参照すると、平らな形態を有する被コーティング物（２００）の場合、第１移動部（１１）は、蒸着源（３０）を直線状に移動させることで、被コーティング物（２００）の表面と蒸着源（３０）との距離を一定に維持することができる。
【００４０】
他の例として、図３を参照すると、撓んだ形態を有する被コーティング物（２００）の場合、第１移動部（１１）は、蒸着源（３０）を被コーティング物（２００）の表面形態に対応する経路で移動させることで、被コーティング物（２００）の表面と蒸着源（３０）との距離を一定に維持することができる。
【００４１】
移動ユニット（１０）は、連結部材（１７）を含む。図１、図２及び図４を参照すると、連結部材（１７）は蒸着源（３０）と連結される。
【００４２】
第１移動部（１１）は、第１リニアモーション部（１１１）を含む。第１リニアモーション部（１１１）は、連結部材（１７）を経路に沿って移動させる。
【００４３】
図２を参照すると、第１リニアモーション部（１１１）は、連結部材（１７）が移動されるようにするブロック、及び、ブロックの経路をガイドするガイドレールからなる。但し、これに限られるものではなく、様々な形態を取り得る。
【００４４】
図１、図２及び図４を参照すると、第１リニアモーション部（１１１）は、第１支持台（１１２）によって支持される。
【００４５】
第１移動部（１１）は、第１動力部（１１３）を含む。第１動力部（１１３）は、第１リニアモーション部（１１１）に動力を供給する。
【００４６】
例えば、第１動力部（１１３）は、図１及び図４に示されるように、第１リニアモーション部（１１１）の下側に備えられてもよい。この場合、第１動力部（１１３）で生成された動力は、第１動力伝達部（１１４）により第１リニアモーション部（１１１）に伝達される。
【００４７】
他の例として、第１動力部（１１３）は、図２に示されるように、第１リニアモーション部（１１１）に含まれたブロックの側面に備えられてもよい。但し、第１動力部（１１３）の位置はこれに限られるものではなく、様々な形態で備えられ得る。
【００４８】
また、第１動力部（１１３）は、真空チャンバ（１００）の内部で用いることのできる構成でなることが好ましい。例えば、第１動力部（１１３）は、リニアモータ、ボールねじ、ラックピニオン、チェーンまたはベルトなどを含む。
【００４９】
移動ユニット（１０）は、第２移動部（１３）を含む。第２移動部（１３）は、蒸着源（３０）と被コーティング物（２００）との間の距離を調節する。
【００５０】
図４を参照すると、第２移動部（１３）は、蒸着源（３０）と被コーティング物（２００）との間の距離が一定に維持されるように蒸着源（３０）の位置を移動させることで、被コーティング物（２００）の表面に均一な厚さの薄膜が形成されるようにすることができる。
【００５１】
第２移動部（１３）は、第２リニアモーション部（１３１）を含む。第２リニアモーション部（１３１）は、連結部材（１７）を移動させて蒸着源（３０）と被コーティング物（２００）との間の距離を調節する。
【００５２】
第２リニアモーション部（１３１）は、連結部材（１７）が移動されるようにするブロック、及び、ブロックの経路をガイドするガイドレールからなる。但し、これに限られるものではなく、様々な形態を取り得る。
【００５３】
第２移動部（１３）は、第２動力部（１３３）を含む。第２動力部（１３３）は、第２リニアモーション部（１３１）に動力を供給する。
【００５４】
第２動力部（１３３）は、真空チャンバ（１００）の内部で用いることのできる構成でなることが好ましい。例えば、第２動力部（１３３）は、リニアモータ、ボールねじ、ラックピニオン、チェーンまたはベルトなどを含む。
【００５５】
移動ユニット（１０）は、回転ユニット（１５）を含む。
【００５６】
図４を参照すると、回転ユニット（１５）は、被コーティング物（２００）の表面と平行な一軸を回転軸として蒸着源（３０）を回転させる。この時、回転軸は、蒸着源（３０）が移動する経路に対して直交する。
【００５７】
このような場合、どのような形態を有する被コーティング物（２００）に対しても、蒸着源（３０）と被コーティング物（２００）とが等距離を保ちながら維持される。従って、どのような形態を有する被コーティング物（２００）の場合でも、均一な薄膜の形成が可能である。
【００５８】
蒸着源（３０）は、回転軸の周りに沿って配置される複数個のカソード（３１）を含む。
【００５９】
本蒸着装置（１０００）は、真空チャンバ（１００）の内部で蒸着源（３０）を移動させる構造を有するため、蒸着装置（１０００）の規模は蒸着源（３０）の規模に影響を多く受ける。
【００６０】
従って、蒸着装置（１０００）の規模を最小化するために、複数個の蒸着源（３０）を含む代わりに、一つの蒸着源（３０）に複数個のカソード（３１）を含め、回転ユニット（１５）により蒸着源（３０）が回転するようにすることで、蒸着源（３０）の空間活用度を高め、蒸着装置（１０００）の規模を最小化することができる。
【００６１】
図９を参照すると、回転ユニット（１５）により蒸着源（３０）を回転させて形成しようとする薄膜の物質に応じて、被コーティング物（２００）の表面と向い合うカソード（３１）を変更することで、それぞれの物質毎にこれを供給する蒸着源（３０）を個別に備える必要がない。
【００６２】
図６を参照すると、蒸着源（３０）は、必要に応じて多様な個数のカソード（３１）を含むことができる。
【００６３】
この時、複数個のカソード（３１）のそれぞれは、互いに異なる物質を供給してもよい。
【００６４】
多種類の薄膜を形成しようとする場合、回転ユニット（１５）により蒸着源（３０）を回転させ、複数個のカソード（３１）のそれぞれが交互に物質を供給するようにすることができる。
【００６５】
この時、複数個のカソード（３１）のそれぞれは、互いに異なる物質を供給してもよく、複数個のカソード（３１）のうち一部のみが異なる物質を供給してもよい。例えば、蒸着源（３０）が４つのカソード（３１）を含む場合、４つのカソード（３１）のそれぞれが、全て異なる物質を供給してもよく、２つのカソード（３１）は同一の物質、残り２つのカソード（３１）は異なる物質を供給してもよい。
【００６６】
蒸着源（３０）は、複数個のカソード（３１）のうち被コーティング物（２００）に向けて物質を供給するカソード（３１）のみが外部に露出するように、回転軸の周りに沿ってシャッタ（３３）を備える。
【００６７】
複数個のカソード（３１）のそれぞれが、全て互いに異なる物質を供給するか、複数個のカソード（３１）のうち一部のみが互いに異なる物質を供給する場合、物質を供給する過程で物質が他のカソード（３１）に入り込んでカソード（３１）を汚染させる恐れがある。
【００６８】
従って、図１０に示されるように、本蒸着装置（１０００）は、シャッタ（３３）により、外部に露出するカソード（３１）から供給された物質が、これとは異なる物質を供給する他のカソード（３１）に入り込まないようにすることで、カソード（３１）の汚染を防止することができる。
【００６９】
このように、蒸着源（３０）は、複数個のカソード（３１）のそれぞれが回転軸の周りに沿って配置されるだけでなく、同一平面上に位置するように配置されることもできる。
【００７０】
また、蒸着源（３０）は、図７に示されるように、円状のカソード（３１）からなってもよく、図８に示されるように、ＰＥＣＶＤに使用可能なものであってもよい。
【００７１】
本蒸着装置（１０００）は、パーティクルシールド（７０）を含む。
【００７２】
パーティクルシールド（７）は、蒸着源（３０）から供給ユニット（５０）が隔離するように、蒸着源（３０）と供給ユニット（５０）との間に介在される。
【００７３】
従来の蒸着装置とは異なり、被コーティング物（２００）が固定されて蒸着源（３０）が移動する場合、蒸着源（３０）に冷却水、電源及び工程ガスを供給する供給ユニット（５０）は、真空チャンバ（１００）内に備えられる。この時、蒸着源（３０）から供給される物質のうち一部が移動ユニット（１０）や供給ユニット（５０）に入り込むと、移動ユニット（１０）または供給ユニット（５０）はパーティクルの発生ソースになり、生成されたパーティクルが被コーティング物（２００）に入り込むと、被コーティング物（２００）の表面が汚染する恐れがある。
【００７４】
従って、図１〜図３に示されるように、パーティクルシールド（７）により、蒸着源（３０）から供給ユニット（５０）を隔離することで、蒸着源（３０）から供給される物質が供給ユニット（５０）または移動ユニット（１０）に入り込むことと、生成されたパーティクルが被コーティング物（２００）に入り込むことを防ぎ、被コーティング物（２００）の表面が汚染することを防止することができる。
【００７５】
パーティクルシールド（７０）には、連結部材（１７）が移動可能なようにスロット（７１）が形成されている。
【００７６】
図２を参照すると、連結部材（１７）が移動される経路に沿ってスロット（７１）が形成される。この時、物質とパーティクルとがスロット（７１）を介して移動しないように、スロット（７１）は、連結部材（１７）の移動が可能な程度の最小限の大きさで形成されることが好ましい。
【００７７】
パーティクルシールド（７０）は、スロット（７１）の周辺において突出する補助シールド（７３）を含む。
【００７８】
補助シールド（７３）は、スロット（７１）を介して供給ユニット（５０）に蒸着物質が入り込まないようにすることができる。
【００７９】
また、補助シールド（７３）は、スロット（７１）を介して被コーティング物（２００）の表面にパーティクルが入り込まないようにすることができる。
【００８０】
この時、補助シールド（７３）は、スロット（７１）を介して物質とパーティクルとが移動しないようにできる限りスロット（７１）の方へ傾いて突出するが、連結部材（１７）の移動を邪魔しない程に傾いて形成されることが好ましい。
【００８１】
補助シールド（７３）は、スロット（７１）上へ曲がる「┐」状を有してもよい。
【００８２】
このような場合、連結部材（１７）は、補助シールド（７３）に対応して折曲形成される折曲部（１７１）を含む。
【００８３】
図２を参照すると、蒸着源（３０）から供給される物質と供給ユニット（５０）から生成されたパーティクルとの移動が曲がった形状を有する補助シールド（７３）と折曲部（１７１）により最大限遮断できる。従って、パーティクルの発生及び被コーティング物（２００）の表面の汚染を最小化することができる。
【００８４】
本蒸着装置（１０００）は、被コーティング物（２００）を固定して蒸着源（３０）を移動させ、被コーティング物（２００）の表面と蒸着源（３０）との間の距離を調節して一定に維持させることができるので、より均一な薄膜を形成することができ、被コーティング物（２００）の移動によるパーティクルの発生を最小化することができる。
【００８５】
また、本蒸着装置（１０００）は、パーティクルシールド（７０）により真空チャンバ（１００）の内部で蒸着源（３０）から供給ユニット（５０）を隔離させることで、残余の蒸着物質が供給ユニット（５０）に入り込んでパーティクルが発生されることと、被コーティング物（２００）にパーティクルが入り込んで被コーティング物（２００）の表面が汚染することを最大限防止することができる。
【００８６】
前述した本願の説明は例示のためのものであり、本願が属する技術分野の通常の知識を持った者は、本願の技術的思想や必須特徴を変更することなく他の具体的な形態に容易に変形が可能であるということが理解できるであろう。よって、以上で記述した実施例は、全ての面で例示的なものであり、限定的ではないことを理解しなければならない。例えば、単一型として説明されている各構成要素は分散して実施してもよく、同様に、分散して説明されている構成要素も結合された形態で実施してもよい。
【００８７】
本願の範囲は、前記詳細な説明よりは後述する特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲の意味及び範囲、並びにその均等概念から導出される全ての変更、または、変形された形態が本願の範囲に含まれるものと解釈すべきである。
【図１】
2016501314.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６（ａ）】
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【図６（ｂ）】
2016501314.tif 000009
【図６（ｃ）】
2016501314.tif 000010
【図６（ｄ）】
2016501314.tif 000011
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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