(57)【要約】  本発明は、フィルム厚さが０．１から２００μｍであり、厚さ精度が表面積２００ｃｍ２上で測定され±５％である薄いシリコーンフィルムの連続製造方法に関する。本発明は、さらに本方法に従って製造されるシリコーンフィルム、およびその使用に関する。
2016500382.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムの厚さが０．１から２００μｍおよび面積が２００ｃｍ２上で測定された厚さ精度±５％を有する薄いシリコーンフィルムの連続製造のための方法であって、
ｉ）架橋性の溶媒含有または無溶媒シリコーン組成物（Ｘ）が、スロットダイのギャップから移動キャリアに塗布され、
ｉｉ）続いて溶媒が、存在する場合、キャリアフィルム上に形成されるシリコーン層から除去され、シリコーン層が架橋され、
ｉｉｉ）架橋後に、得られたシリコーンフィルムをキャリアから引き離すことができる
ことを特徴とし、ただし
以下の条件、
−ステップｉ）のスロットダイは、キャリアに対して１０°から９０°の角度であること、
−キャリアの進行速度は、０．１から１０００ｍ／分であること、
−ＤＩＮ５３０１９に従って測定されるシリコーン組成物（Ｘ）の動的粘度は、１００ｍＰａ・ｓから１００Ｐａ・ｓであること、
−キャリアの表面は、製造されるフィルム厚さの５％より大きいくぼみまたは隆起を含有しないこと、
−フィルム厚さの１／３より大きな粒子は、用いられる前に架橋性シリコーン組成物（Ｘ）から除去されること
を有する方法。
【請求項２】
フィルムの厚さが０．１から２００μｍおよび面積が２００ｃｍ２上で測定された厚さ精度±５％を有する、請求項１に記載の方法によって製造されるシリコーンフィルム。
【請求項３】
アクチュエーター、センサーまたは発電機の誘電体電気活性ポリマー（ＥＡＰ）としての請求項２に記載のシリコーンフィルムの使用。
【請求項４】
医療または食品分野のバリアフィルム、絶縁テープ、保護フィルム、梱包材料、創傷接触材料用のキャリアフィルム、衣料の機能層、物質分離層または気体分離層、調理フィルム、展示用途フィルム、エアーバッグまたはワインコルクとしての請求項２に記載のシリコーンフィルムの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム厚さが０．１から２００μｍであり、厚さ精度が面積２００ｃｍ２上で測定されて、±５％である薄いシリコーンフィルムの連続製造方法、さらに本方法によって製造されるシリコーンフィルム、およびこの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＰ００９７３１３Ａ１には、フィルムの厚さが１から５００μｍである薄いシリコーンエラストマーフィルムの製造について記載されている。製品では、フィルムはコート紙に貼られる。これは、薄いフィルムを製造するためにローラーコーティング、エアードクターまたはリバースロールコーティング、ワイヤー巻きバーコーティングまたはスプレーコーティングというコーティング技法を用いて実施される。この技法ではシリコーンフィルムの厚さ精度が不十分となり、したがって有用性がかなり限定されている。
【０００３】
ＤＥ２４０８６５９には薄く傷のないシリコーンフィルムを製造するための方法が記載されており、この方法では溶媒が添加されている、遠心分離したシリコーン材料をキャストすることによってシリコーンフィルムが製造される。しかし、費用がかかり不便な方法は、連続工程の工業製造には適さない。さらに、記載されたキャスティング工程によって達成された厚さ精度は、また不十分である。
【０００４】
ＥＰ１６６１６８６Ａ２には、シリコーン層の押出または共有押出が記載されている。厚さ精度の点で、押出工程は約２００μｍ以下の層厚さには適さず、このことはこの技術の重大な欠点となる。押出中のキャリア材料の使用を通じて、さらに、キャリアの厚さの変動がシリコーンフィルムに移される。
【０００５】
薄いシリコーンフィルムを製造するための連続方法がＤＥ２０４５５５８に記載されている。この方法の主要な欠点は、一方では、ドクターブレードコーティングが高い溶媒容量（理想的には６０ｗｔ％が記載された）を必要とし、他方では、層厚さの精度が、押出方法と類似して、用いられるキャリアの精度に依存していることである。
【０００６】
従来技術が示すとおり、厚さが約２００μｍから数ｍｍの範囲のシリコーンフィルムは押出方法または成形方法によって製造することができる。ここにそれぞれの方法の種々の欠点を示す。不連続成形方法の場合では、層厚さの減少は自動離型時に問題を伴い、さらに、フィルムの平方メートル当たりの製造コストは連続運転工程の場合より高い。ＨＴＶゴムの押出方法は厚さの比較的大きなばらつき、プラント設計およびスロット膨張のためにさらに実現性が限定されること、層厚さを２００μｍ以下に減少させることという欠点がある。
【０００７】
絶対的な層厚さに加えて、製造されるウェブ全体で層厚さの均一性が例えば、誘電体または膜などのフィルムの用途にとって決定的な要素である。１から約２５０μｍの厚さを有するきわめて均一なフィルムの要求は、フィルムが誘電体として用いられる特に誘電体電気活性ポリマー（略してＥＡＰ）の開発にある。アクチュエーター、センサーまたは発電機への電気活性ポリマーの適用は、電気エネルギーの力学的エネルギーへの変換または力学的エネルギーの電気エネルギーへの変換に基づいている。フィルムの片面または両面に導電性コーティングを塗布した後、例えば電圧の印加（アクチュエーター原理）によって、系全体の変形が生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】欧州特許出願公開００９７３１３号明細書
【特許文献２】独国特許発明第２４０８６５９号明細書
【特許文献３】欧州特許出願公開１６６１６８６号明細書
【特許文献４】独国特許発明第２０４５５５８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
目的は、したがって、きわめて薄くきわめて均一の層厚さを有し、さらに高表面品質および高長期耐荷重性を有する薄いシリコーンフィルムを製造するための連続方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
驚くべきことに、この目的はフィルムの厚さ０．１から２００μｍおよび面積２００ｃｍ２上で測定された厚さ精度±５％を有する薄いシリコーンフィルムの連続製造のための本発明の方法であって、
ｉ）架橋性の溶媒含有または無溶媒シリコーン組成物（Ｘ）が、スロットダイのギャップから移動キャリアに塗布され、
ｉｉ）続いて溶媒が、存在する場合、キャリアフィルム上に形成されるシリコーン層から除去され、シリコーン層が架橋され、
ｉｉｉ）架橋後に、得られたシリコーンフィルムをキャリアから引き離すことができる、
ことを特徴とし、ただし
以下の条件、
−  ステップｉ）のスロットダイは、キャリアに対して１０°から９０°の角度であること、
−  キャリアの進行速度は、０．１から１０００ｍ／分であること、
−  ＤＩＮ５３０１９に従って測定されるシリコーン組成物（Ｘ）の動的粘度は、１００ｍＰａ・ｓから１００Ｐａ・ｓであること
を有する方法によって達成される。
【００１１】
以下明細書の種々の箇所に開示された本発明の個々の特徴の好ましい実施形態は、これらの好ましい実施形態のこれらの特徴の組み合わせも特に好ましいと理解すべきである。
【００１２】
本発明の方法は可能な限り粒子なしで実施される。粒子なしとは、フィルム製造の全体工程中、可能であれば混合によって組み入れられた活性または不活性充填剤の形態、または外からの粒子の形態のどちらでも、望ましい層厚さの約１／３より大きいことが含まれる、粒子が可能な限り少ないことを確実にするように注意を払わなければならないことを意味する。例えば、厚さ２４μｍの本発明のシリコーンフィルムでは、好ましくは直径８μｍを超える粒子がない。シリコーン組成物（Ｘ）からの存在するすべての粒子の除去は、原則として現状技術で公知の全技法によって実施することができる。かかる技法の例は、濾し器（ワイヤーネット、ワイヤーブレード）、きわめて幅広い材料（金属、プラスチック、セラミックス等）のいずれかで作製されたキャンドルフィルター、活性炭、酸化金属等などの濾過助剤ありまたはなしの例えば、磁気濾過、フィルタープレスによる加圧濾過、逆流フィルター、吸込フィルター等などの濾過技法で濾すことである。さらにシリコーン組成物（Ｘ）から粒子の除去の例は遠心分離であり、定まったまたは可能な全方法をバッチ工程または連続で実施することができる。
【００１３】
シリコーン組成物（Ｘ）からシリコーンフィルムを製造するための方法は好ましくは５μｍより大きな粒子がないクリーンルーム条件下で実施される。製造装置の設計では、これは非架橋シリコーン組成物（Ｘ）が、存在する全粒子の除去に続いて、クラスＩＳＯ５（ＩＳＯ１４６６−１）以上のクリーンルーム、好ましくはクラスＩＳＯ４以上のクリーンルームでのみ保存され処理加工されることを意味する。
【００１４】
キャリアとして用いられるキャリア材料はシリコーンフィルムの製造に関して役割が小さい。表面の隆起または俯角はシリコーン組成物（Ｘ）によって直接付けられるため、表面品質がきわめて重要である。この理由のため、用いられるキャリア材料は好ましくはこれらの表面が特に平滑であり、製造されるフィルム厚さの俯角または隆起が５％、好ましくは３％より大きくないものである。キャリア材料の例は以下のとおりであり、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルクロリド、ポリスチレン、セロハン、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート）、フッ素含有ポリマー（ポリテトラフルオロエチレン）、金属ストリップまたは金属箔（連続ストリップとしてまたは図示されたフィードロールを通じて、全金属が可能、表面コーティングありまたはなし）である。用いられるキャリア材料の厚さは同様に役割がきわめて小さい。ポリマーキャリアまたは金属箔の好ましい厚さは１０μｍから２００μｍであり、金属ストリップの好ましい厚さは２００μｍから２ｍｍである。好ましいキャリア材料は金属箔、金属ストリップ、ならびにポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、およびさらにポリテトラフルオロエチレンのポリマーフィルムである。
【００１５】
シリコーンフィルムの製造のキャリアの進行速度は通常０．１から１０００ｍ／分、好ましくは０．５から５００ｍ／分、さらに好ましくは１から２５０ｍ／分である。本発明の方法では数センチメートルから数メートルのウェブ幅、好ましい幅１０ｃｍから４ｍ、さらに好ましくは２０ｃｍから３ｍを達成することができる。
【００１６】
スロットダイの使用の結果として、製造されるシリコーン層の厚さは、供給ポンプにより設定される材料の流量、ウェブ速度および用いられる架橋性シリコーン組成物（Ｘ）の密度にのみ依存する。ＤＩＮ５３０１９に従って測定されたシリコーン組成物（Ｘ）の動的粘度は１００ｍＰａ・ｓから１００Ｐａ・ｓ、好ましくは２００ｍＰａ・ｓから７５Ｐａ・ｓ、さらに好ましくは３００ｍＰａ・ｓから５０Ｐａ・ｓである。スロットダイは当業者に知られている。
【００１７】
本発明の方法の多くの実施形態が図１から図４を用いて例示的な形態で、以下に記載されている。しかし、これらの実施形態は、本発明の方法の設計形態の排他的なものとして考えてはならない。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】シリコーンフィルムの製造ラインを示す。本発明の方法の単純な実例の役割を果たす。示された配置の場合では、シリコーンフィルムは、非架橋シリコーン組成物（Ｘ）がフィード速度およびキャリアの速度が望ましい層厚さになるように適合されて、ステップｉ）のスロットダイギャップを通じて運搬されることによって製造される。キャリアに対してのスロットダイの位置決めは、選択的に上から垂直（位置Ａ）、水平（位置Ｂ）または下から（位置Ｃ）で実施してよい。スロットダイとキャリア材料の角度は９０°であるが、以下に記載されたとおりの他の角度とすることができる。ステップｉｉ）で役割を果たすエレメント１から３を図示する。エレメントの数は単に実施例として理解されなければならず、これらの数は制限されない。溶媒を含有しないシリコーン組成物（Ｘ）が用いられる場合、単一エレメント（例えば、熱気、ＩＲ照射またはＵＶ照射にとって）の使用がステップｉｉ）の架橋を生じさせ、シリコーンフィルムを形成するのに十分であり得る。溶媒を含むシリコーン組成物（Ｘ）の場合では、シリコーンフィルムを与えるための溶媒の除去および架橋のステップが少なくとも２つのエレメント、エレメント１およびエレメント２を必要とする工程ステップｉｉ）で分離されると有利である。しかし、さらに複数のエレメントを組み合わせてステップｉｉ）で用いてよい。エレメント１は溶媒をベントする役割を果たし、エレメント２は架橋のために役割を果たし、エレメント３は後処理のために役割を果たす。シリコーンフィルムは硬化されると収集される、またはキャリアとともに巻き上げられる。シリコーン組成物（Ｘ）のウェブ速度および開始温度に応じて、エレメント１から３のベント、架橋および後処理工程の長さを変えてよい。
【図２】製造はキャリアの前処理という追加工程ステップｉａ）とともに図１と同じ方法で実施される。これはキャリアの浸漬処理である。浸漬処理後、キャリアは過剰の前処理物質を除去するために絞りロールおよび艶出ロールを通過する。
【図３】製造は、架橋後シリコーンフィルムを与えるステップｉｉｉ）に第２のキャリア、キャリア２の使用という追加工程ステップとともに、図２と同じ方法で実施される。ここで、キャリア２はシリコーンフィルムの表面に被着され、わずかにずらして（同時に実施することもできるけれども）、シリコーンフィルムはキャリア１から引き離され、キャリア２とともに収集される。
【図４】製造は、図２と同じ方法で実施されるが、シリコーンフィルムがステップｉｉｉ）と同様にステップｉｉ）の製造直後、キャリアから引き離され、単独で収集されるということが異なる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
１つの単純な実施形態において、本発明のシリコーンフィルムは図１に従った製造ラインで製造される。
【００２０】
スロットダイのヘッドのギャップ開口は通常製造される層と同じ幅の範囲にあり、さらに明白な差の可能性がある（さらに以下の実施例から明白であるように）。キャリアからスロットダイの間隔はフィルムの望ましい層厚さをいくらか上回る。厚さ５０μｍのシリコーンフィルムでは例えば、スロットダイおよびキャリアの間隔は５５μｍから５００μｍで変えてよい。５０μｍフィルムの場合では、間隔は好ましくは５５μｍから３５０μｍ、さらに好ましくは５５μｍから２００μｍである。
【００２１】
シリコーン組成物（Ｘ）として原則として現状技術で公知のシリコーンのすべてを使用することができる。付加架橋、過酸化物架橋、縮合架橋または放射線架橋用の組成物を用いることができる。過酸化物架橋用または付加架橋用組成物が好ましい。特に好ましいのは付加架橋用組成物である。
【００２２】
本発明に従い用いられる付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）は従来技術で知られており、最も単純には
（Ａ）脂肪族炭素−炭素多重結合を有する基を有する少なくとも１つの線状化合物、
（Ｂ）Ｓｉ水素原子結合を有する少なくとも１つの線状オルガノポリシロキサン
または（Ａ）および（Ｂ）の代わりに
（Ｃ）脂肪族炭素−炭素多重結合を有するＳｉＣ結合基を有し、Ｓｉ水素原子結合を有する少なくとも１つの線状オルガノポリシロキサン、および
（Ｄ）少なくとも１つのヒドロシリル化触媒
を含む。
【００２３】
付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）は一成分シリコーン組成物または二成分シリコーン組成物のいずれでもよい。
【００２４】
２つの成分シリコーン組成物の場合では、本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）の２つの成分は、一般的に１つの成分が脂肪族多重結合を有するシロキサン、Ｓｉ水素結合を有するシロキサン、および触媒を同時に含まない、言い換えると本質的に成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｄ）、または（Ｃ）および（Ｄ）を同時に含まないという条件で、任意の望ましい組み合わせで成分のすべてを含むことができる。
【００２５】
本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）に用いられる化合物（Ａ）および（Ｂ）および、（Ｃ）は、それぞれ、知られるとおり、架橋することができるように選択される。したがって例えば、化合物（Ａ）が少なくとも２つの脂肪族不飽和基を有し、（Ｂ）が少なくとも３つのＳｉ水素原子結合を有し、または化合物（Ａ）が少なくとも３つの脂肪族不飽和基を有し、シロキサン（Ｂ）が少なくとも２つのＳｉ水素原子結合を有し、またはその代わりにシロキサン（Ｃ）が化合物（Ａ）および（Ｂ）の代わりに用いられ、このシロキサン（Ｃ）が前記記載の割合で脂肪族不飽和基およびＳｉ水素原子結合を有する。さらに（Ａ）ならびに（Ｂ）ならびに前記記載の割合で脂肪族不飽和基およびＳｉ水素原子結合を有する（Ｃ）の混合物とすることができる。
【００２６】
本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）は（Ａ）の通常３０−９５ｗｔ％、好ましくは３０−８０ｗｔ％、さらに好ましくは４０−７０ｗｔ％を含有する。本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）は（Ｂ）の通常０．１−６０ｗｔ％、好ましくは０．５−５０ｗｔ％、さらに好ましくは１−３０ｗｔ％を含有する。本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）が成分（Ｃ）を含む場合、配合物に存在する（Ｃ）の通常３０−９５ｗｔ％、好ましくは３０−８０ｗｔ％、さらに好ましくは４０−７０ｗｔ％存在する。
【００２７】
本発明に従い用いられる化合物（Ａ）は好ましくは少なくとも２つの脂肪族不飽和基を有するケイ素非含有有機化合物、さらに好ましくは少なくとも２つの脂肪族不飽和基を有する有機ケイ素化合物、またはその代わりにこれらの混合物を含むことができる。
【００２８】
ケイ素非含有有機化合物（Ａ）の例は、１、３、５−トリビニルシクロヘキサン、２、３−ジメチル−１、３−ブタジエン、７−メチル−３−メチレン−１、６−オクタジエン、２−メチル−１、３−ブタジエン、１、５−ヘキサジエン、１、７−オクタジエン、４、７−メチレン−４、７、８、９−テトラハイドロインデン、メチルシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２、５−ジエン、１、３−ジイソプロペニルベンゼン、ビニル基を含有するポリブタジエン、１、４−ジビニルシクロヘキサン、１、３、５−トリアリルベンゼン、１、３、５−トリビニルベンゼン、１、２、４−トリビニルシクロヘキサン、１、３、５−トリイソプロペニルベンゼン、１、４−ジビニルベンゼン、３−メチルヘプタ−１、５−ジエン、３−フェニルヘキサ−１、５−ジエン、３−ビニルヘキサ−１、５−ジエンおよび４、５−ジメチル−４、５−ジエチルオクタ−１、７−ジエン、Ｎ、Ｎ’−メチレンビス¬アクリルアミド、１、１、１−トリス（ヒドロキシメチル）プロパントリアクリレート、１、１、１−トリス（ヒドロキシメチル）プロパントリメタアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジアリルエーテル、ジアリルアミン、ジアリルカーボネート、Ｎ、Ｎ’−ジアリル尿素、トリアリルアミン、トリス（２−メチルアリル）アミン、２、４、６−トリアリルオキシ−１、３、５−トリアジン、トリアリル−ｓ−トリアジン−２、４、６（１Ｈ、３Ｈ、５Ｈ）−トリオン、ジアリルマロネート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ポリ（プロピレングリコール）メタアクリレートである。
【００２９】
成分（Ａ）として、本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）は好ましくは少なくとも１つの脂肪族不飽和有機ケイ素化合物を含み、この場合現在まで付加架橋用組成物に用いられる脂肪族不飽和有機ケイ素化合物のすべて例えば、尿素セグメントを有するシリコーンブロックコポリマー、アミドセグメントおよび／またはイミドセグメントおよび／またはエステルアミドセグメントおよび／またはポリスチレンセグメントおよび／またはシルアリーレンセグメントおよび／またはカルボランセグメントを有するシリコーンブロックコポリマー、ならびにエーテル基を有するシリコーングラフトコポリマーなどを用いることができる。
【００３０】
脂肪族炭素−炭素多重結合を有するＳｉＣ結合基を有する用いられる有機ケイ素化合物（Ａ）は好ましくは一般式（Ｉ）の単位を含む線状または分岐オルガノポリシロキサンであり、
Ｒ４ａＲ５ｂＳｉＯ（４−ａ−ｂ）／２（Ｉ）
式中、
Ｒ４はそれぞれの場合において独立して、同一でありまたは異なり、脂肪族炭素−炭素多重結合を含まない有機基または無機基であり、
Ｒ５はそれぞれの場合において独立して、同一でありまたは異なり、一価の、置換または非置換の、少なくとも１つの脂肪族炭素−炭素多重結合を有するＳｉＣ炭化水素基結合であり、
ａは０、１、２または３であり、
ｂは０、１または２であり、
但し、ａ＋ｂの合計は３以下であり、１分子当たり少なくとも２つのＲ５基が存在する。
【００３１】
Ｒ４基は一価または多価の基を含むことができ、この場合、二価、三価および四価の基などの多価の基は例えば、２、３または４つなどの２つの以上の例えば、式（Ｉ）のシロキシ単位を互いに結合する。
【００３２】
さらにＲ４の例は、一価の基−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、ＯＲ６、−ＣＮ、−ＳＣＮ、−ＮＣＯ、および酸素原子または−Ｃ（Ｏ）−基が介在してもよい、ＳｉＣ結合した置換または非置換炭化水素基およびさらに式（Ｉ）に従い両側にＳｉ結合した二価の基である。Ｒ４基がＳｉＣ結合、置換炭化水素基を含む場合、好ましい置換基はハロゲン原子、リン含有基、シアノ基、−ＯＲ６、−ＮＲ６−、−ＮＲ６２、−ＮＲ６−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ６２、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ６２、−Ｃ（Ｏ）Ｒ６、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ６、−ＳＯ２−Ｐｈおよび−Ｃ６Ｆ５である。この場合にはＲ６は、それぞれの場合において独立して、同一でありまたは異なり、水素原子または１から２０炭素原子を有する一価の炭化水素基を示し、Ｐｈはフェニル基である。
【００３３】
Ｒ４基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル基などのアルキル基、ｎ−ヘキシル基などのヘキシル基、ｎ−ヘプチル基などのヘプチル基、ｎ−オクチル基などのオクチル基および２、２、４−トリメチルペンチル基などのイソオクチル基、ｎ−ノニル基などのノニル基、ｎ−デシル基などのデシル基、ｎ−ドデシル基などのドデシル基およびｎ−オクタデシル基などのオクタデシル基、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどのシクロアルキル基およびメチルシクロヘキシル基、フェニル、ナフチル、アントリルおよびフェナントリル基などのアリール基、ｏ−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル基およびエチルフェニル基などのアルカリール基およびベンジル基、α−およびβ−フェニルエチル基などのアラルキル基である。
【００３４】
置換Ｒ４基の例は、３、３、３−トリフルオロ−ｎ−プロピル基、２、２、２、２’、２‘、２‘−ヘキサフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基などのハロアルキル基、ｏ−、ｍ−およびｐ−クロロフェニル基、−（ＣＨ２）−Ｎ（Ｒ６）Ｃ（Ｏ）ＮＲ６２、−（ＣＨ２）Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＮＲ６２、−（ＣＨ２）Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ６、−（ＣＨ２）Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＯＲ６、−（ＣＨ２）Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＮＲ６２、−（ＣＨ２）−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ＰＣ（Ｏ）ＣＨ３、−（ＣＨ２）−Ｏ−ＣＯ−Ｒ６、−（ＣＨ２）−ＮＲ６−（ＣＨ２）Ｐ−ＮＲ６２、−（ＣＨ２）Ｏ−Ｏ−（ＣＨ２）ＰＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ、−（ＣＨ２）Ｏ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ＰＯＲ６、−（ＣＨ２）Ｏ−ＳＯ２−Ｐｈおよび−（ＣＨ２）Ｏ−Ｏ−Ｃ６Ｆ５などのハロアリール基であり、したがって、Ｒ６およびＰｈは前記記載の定義に一致し、ｏおよびｐは同一または異なる０から１０の整数である。
【００３５】
式（Ｉ）に従い両側にＳｉ結合した二価の基としてのＲ４の例は、Ｒ４基のために記載の前記一価の例から水素原子の置換を通じて実施される付加結合によって誘導される基であり、かかる基の例は−（ＣＨ２）−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−Ｃ６Ｈ４−、−ＣＨ（Ｐｈ）−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−（ＣＨ２）Ｏ−Ｃ６Ｈ４−（ＣＨ２）Ｏ−、−（ＣＨ２）Ｏ−Ｃ６Ｈ４−Ｃ６Ｈ４−（ＣＨ２）Ｏ−、−（ＣＨ２Ｏ）Ｐ、（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）Ｏ、−（ＣＨ２）Ｏ−ＯＸ−Ｃ６Ｈ４−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−ＯＸ−（ＣＨ２）Ｏ−であり、Ｘは０または１であり、Ｐｈ、ｏおよびｐは前記記載の定義のとおりである。
【００３６】
好ましくはＲ４基は１から１８個の炭素原子を有し、脂肪族炭素−炭素多重結合を含まない、一価の、ＳｉＣ結合され、場合によって置換された炭化水素基、さらに好ましくは１から６個の炭素原子を有し、脂肪族炭素−炭素多重結合を含まない、一価の、ＳｉＣ結合した炭化水素基を含み、さらに特にメチルまたはフェニル基である。
【００３７】
Ｒ５基はＳｉＨ官能性化合物による付加反応（ヒドロシリル化）に適する任意の望ましい基を含んでよい。
【００３８】
Ｒ５基がＳｉＣ結合した置換炭化水素基を含む場合、好ましい置換基はハロゲン原子、シアノ基および−ＯＲ６であり、Ｒ６は前記記載の定義のとおりである。
【００３９】
好ましくはＲ５基はビニル、アリル、メタアリル、１−プロペニル、５−ヘキセニル、エチニル、ブタジエニル、ヘキサジエニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、ビニルシクロヘキシルエチル、ジビニルシクロヘキシルエチル、ノルボルネニル、ビニルフェニルおよびスチリル基などの２から１６個の炭素原子を有するアルケニルおよびアルキニル基を含み、ビニル、アリルおよびヘキセニル基が使用には特に好ましい。
【００４０】
成分（Ａ）の分子量は広い範囲内、例えば１０２から１０６ｇ／ｍｏｌで変えてよい。したがって例えば、成分（Ａ）は１、２−ジビニルテトラメチルジシロキサンなどの比較的低分子量の、アルケニル官能性オリゴシロキサンを含んでよいが、さらに例えば分子量が１０５ｇ／ｍｏｌ（ＮＭＲで決定される平均数値）であり、鎖中または末端Ｓｉビニル基結合を有する高重合体ポリジメチルシロキサンであり得る。成分（Ａ）を形成している分子構造はさらに固定されておらず、特に、比較的高分子量のシロキサン、言い換えるとオリゴマーまたはポリマーシロキサンの構造は、線状、環状、分岐、またはその代わりに樹脂性、網状であり得る。線状および環状ポリシロキサンは、好ましくは式Ｒ４３ＳｉＯ１／２、Ｒ５Ｒ４２ＳｉＯ１／２、Ｒ５Ｒ４ＳｉＯ１／２およびＲ４２ＳｉＯ２／２の単位からなり、Ｒ４およびＲ５は前記記載の定義のとおりである。分岐および網状ポリシロキサンは、さらに三官能性および／または四官能性単位を含み、好ましくは式Ｒ４ＳｉＯ３／２、Ｒ５ＳｉＯ３／２およびＳｉＯ４／２の単位である。成分（Ａ）の基準を満たす種々のシロキサンの混合物をさらに用いることができると認識される。
【００４１】
成分（Ａ）として特に好ましいのは、粘度が０．０１から５０００００Ｐａ・ｓ、さらに好ましくは０．１から１０００００Ｐａ・ｓ、それぞれの場合２５℃で、であるビニル官能性、実質的に線状ポリジオルガノシロキサンの使用である。
【００４２】
有機ケイ素化合物（Ｂ）としては、さらに現在まで付加架橋性組成物に用いられた水素官能性有機ケイ素化合物のすべてを使用することができる。
【００４３】
Ｓｉ水素原子結合を有する用いられるオルガノポリシロキサン（Ｂ）は好ましくは一般式（ＩＩＩ）の単位からなる線状、環状または分岐オルガノポリシロキサンであり、
Ｒ４ｃＨｄＳｉＯ（４−ｃ−ｄ）／２  （ＩＩＩ）
式中、
Ｒ４は、前記記載の定義のとおりであり、
ｃは０、１、２または３であり、
ｄは０、１または２であり、
但し、ｃ＋ｄの合計は３以下であり、１分子当たり少なくとも２つのＳｉ水素原子結合が存在する。
【００４４】
本発明に従い用いられるオルガノポリシロキサン（Ｂ）は好ましくは、オルガノポリシロキサン（Ｂ）の総重量に基づき０．０４から１．７重量パーセント（ｗｔ％）の範囲でＳｉ水素結合を含有する。
【００４５】
成分（Ｂ）の分子量は同様に広い範囲内、例えば１０２から１０６ｇ／ｍｏｌで変えることができる。したがって成分（Ｂ）は例えば、テトラメチルジシロキサンなどの比較的低分子量のＳｉＨ官能性オリゴシロキサンを含むことができる、または選択的にＳｉＨ基を有するシリコーン樹脂または鎖中または末端にＳｉＨ基を有する高重合体ポリジメチルシロキサンを含むことができる。
【００４６】
成分（Ｂ）を形成している分子構造はさらに固定されておらず、特に、比較的高分子量のＳｉＨ含有シロキサン、言い換えるとオリゴマーまたはポリマーの構造は、線状、環状、分岐、またはその代わりに樹脂状、網状とすることができる。線状および環状ポリシロキサン（Ｂ）は、好ましくは式Ｒ４３ＳｉＯ１／２、ＨＲ４２ＳｉＯ１／２、ＨＲ４ＳｉＯ２／２およびＲ４２ＳｉＯ２／２の単位からなり、Ｒ４は前記記載の定義のとおりである。分岐および網状ポリシロキサンはさらに三官能性および／または四官能性単位を含み、好ましくは式Ｒ４ＳｉＯ３／２、ＨＳｉＯ３／２およびＳｉＯ４／２の単位であり、Ｒ４は前記記載の定義のとおりである。
【００４７】
成分（Ｂ）の基準を満たす種々のシロキサンの混合物をさらに用いることができると認識される。テトラキス（ジメチルシロキシ）シランおよびテトラメチルシクロテトラシロキサンなどの低分子量、ＳｉＨ官能性化合物の使用、さらに２５℃での粘度が１０から２００００ｍＰａ・ｓである、ポリ（水素−メチル）シロキサンおよびポリ（ジメチル水素メチル）シロキサンなどのさらに高い分子量のＳｉＨ含有シロキサン、またはいくつかのメチル基が３、３、３−トリフルオロプロピルまたはフェニル基によって置換された同様のＳｉＨ含有化合物の使用が特に好ましい。
【００４８】
本発明の架橋性シリコーン組成物（Ｘ）の成分（Ｂ）の量は、好ましくは（Ａ）からの脂肪族不飽和基に対するＳｉＨ基のモル比が０．１から２０、さらに好ましくは０．３から２．０となるようにする。
【００４９】
本発明に従い用いられる成分（Ａ）および（Ｂ）は市販品であり、および／または化学で一般的な方法によって調製することができる。
【００５０】
成分（Ａ）および（Ｂ）の代わりに、本発明のシリコーン組成物は脂肪族炭素−炭素多重結合およびＳｉ水素原子結合を同時に有するオルガノポリシロキサン（Ｃ）を含むことができる。本発明のシリコーン組成物はまた３つの成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）すべてを含むことができる。
【００５１】
シロキサン（Ｃ）が用いられる場合、関係するものは好ましくは一般式（ＩＶ）、（Ｖ）および（ＶＩ）の単位からなり、
Ｒ４ｆＳｉＯ４／２  （ＩＶ）
Ｒ４ｇＲ５ＳｉＯ３−ｇ／２  （Ｖ）
Ｒ４ｈＨＳｉＯ３−ｈ／２  （ＶＩ）
式中、
Ｒ４およびＲ５は前記記載の定義のとおりであり、
ｆは０、１、２または３であり、
ｇは０、１または２であり、
ｈは０、１または２であり、
但し、１分子当たり少なくとも２つのＲ５基および少なくとも２つのＳｉ水素原子結合が存在する。
【００５２】
オルガノポリシロキサン（Ｃ）の例は、ＭＰ樹脂として知られる、ＳｉＯ４／２、Ｒ４３ＳｉＯ１／２、Ｒ４２Ｒ５ＳｉＯ１／２およびＲ４２ＨＳｉＯ１／２単位を含むものであり、これらの樹脂はさらにＲ４ＳｉＯ３／２およびＲ４２ＳｉＯ単位、ならびにさらに実質的にＲ４２Ｒ５ＳｉＯ１／２、Ｒ４２ＳｉＯおよびＲ４ＨＳｉＯ単位からなる線状オルガノポリシロキサンを含有することができ、Ｒ４およびＲ５は前記記載の定義にあう。
【００５３】
オルガノポリシロキサン（Ｃ）は、それぞれの場合において２５℃で、好ましくは平均粘度０．０１から５０００００Ｐａ・ｓ、さらに好ましくは０．１から１０００００Ｐａ・ｓを有する。オルガノポリシロキサン（Ｃ）は化学で一般的な技法によって調製することができる。
【００５４】
ヒドロシリル化触媒（Ｄ）としては現状技術で公知の触媒のすべてを使用することができる。成分（Ｄ）は、例えば白金、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、オスミウム、もしくはイリジウムなどの白金族金属、またはオルガノ金属化合物、またはこれらの組み合わせとすることができる。成分（Ｄ）の例はヘキサクロリド白金（ＩＶ）酸、白金ジクロリド、白金アセチルアセトネートなどの化合物およびマトリックスにまたはコア／シェル状構造に封入された前記化合物の錯体である。低分子量のオルガノポリシロキサンを有する白金錯体は白金による１、３−ジエテニル−１、１、３、３−テトラメチルジシロキサン錯体を含む。他の例は白金−ホスファイト錯体または白金−ホスフィン錯体である。光硬化またはＵＶ−硬化組成物には例えば、シクロペンタジエニルトリメチル白金（ＩＶ）、シクロオクタジエニルジメチル白金（ＩＩ）の誘導体などのアルキル白金錯体、またはビスアセチルアセトネート白金（ＩＩ）などのジケトネート錯体を例えば、光による付加反応を開始するために用いることができる。これらの化合物は樹脂マトリックスに封入させることができる。
【００５５】
暴露して成分（Ａ）および（Ｂ）および（Ｃ）のヒドロシリル化反応に触媒作用を及ぼすための成分（Ｄ）の濃度は本明細書に記載された方法に必要とされる熱を発生させるために十分なものとする。成分（Ｄ）の量は成分の総重量に応じて白金族金属の０．１から１０００百万分率（ｐｐｍ）、０．５から１００ｐｐｍまたは１から２５ｐｐｍとすることができる。白金族金属の成分が１ｐｐｍ以下である場合、硬化速度は低くすることができる。白金族金属の１００ｐｐｍを超える使用は非経済的であり、またはシリコーン組成物（Ｘ）の貯蔵安定性を低下させる。
【００５６】
付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）は場合によってさらに現在まで付加架橋性組成物の製造に用いられてきた添加剤のすべてを含むことができる。本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）の成分として用いられることができる、補強充填剤（Ｆ）の例は、少なくとも５０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面面積を有するフュームドまたは沈殿性シリカ、さらにカーボンブラックおよび活性炭などのファーネスブラックおよびアセチレンブラックであり、少なくとも５０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面面積を有するフュームドおよび沈殿性シリカが好ましい。記載のシリカ充填剤は親水性特性を有することができ、または知られる方法によって疎水性にすることができる。本発明の架橋性シリコーン組成物（Ｘ）の活性補強充填剤の量は０から７０ｗｔ％、好ましくは０から５０ｗｔ％の範囲以内である。
【００５７】
特に好ましくは架橋性の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）は充填剤（Ｅ）が表面処理されたことに特徴づけられる。表面処理は微細に分割した充填剤を疎水化するための現状技術で知られている方法によって得られる。
【００５８】
表面処理の結果として、好ましい充填剤（Ｅ）は少なくとも０．０１から最大２０ｗｔ％まで、好ましくは０．１から１０ｗｔ％、さらに好ましくは０．５から５ｗｔ％の炭素含有量を有する。特に好ましくは充填剤（Ｅ）がＳｉ結合された脂肪族不飽和基の０．０１から２ｗｔ％を有する表面処理シリカであることを特徴づけられる架橋性の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）である。これらの基は例えば、Ｓｉビニル基結合である。本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）では、成分（Ｅ）は好ましくは単一物としてまたは同様に好ましくは２つ以上の微細に分割した充填剤の混合物として用いられる。
【００５９】
本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）は、代わりに、最大７０ｗｔ％、好ましくは０．０００１から４０ｗｔ％の分率でさらなる添加剤成分を含むことができる。これらの添加剤は例えば、不活性充填剤、シロキサン（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）と異なる樹脂性ポリオルガノシロキサン、補強および非補強充填剤、殺菌剤、芳香剤、レオロジー添加剤、腐食抑制剤、酸化抑制剤、光安定剤、難燃剤および電気特性に影響を与えるための薬剤、分散助剤、溶媒、接着促進剤、顔料、染料、可塑剤、有機ポリマー、熱安定剤等とすることができる。これらは微粉砕石英、珪藻土、クレー、チョーク、リトポン、カーボンブラック、グラファイト、酸化金属、金属カーボネート、金属硫酸塩、カルボン酸金属塩、金属ダスト、グラスファイバー、ポリマーファイバーなどのファイバー、ポリマーパウダー、金属ダスト、染料、顔料等などの添加剤を含む。
【００６０】
これらの充填剤は、さらに、熱伝導性または電気伝導性でもよい。熱伝導性充填剤の例は、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、チタン酸バリウム、酸化ベリリウム、窒化ホウ素、ダイアモンド、グラファイト、酸化マグネシウム、例えば、銅、金、ニッケルまたは銀、シリコンカーバイト、タングステンカーバイト、酸化亜鉛などの粒状金属およびこれらの組み合わせである。熱伝導性充填剤は現状技術で公知であり、市販されている。例えば、ＣＢ−Ａ２０ＳおよびＡｌ−４３−ＭｅはＳｈｏｗａ−Ｄｅｎｋｏから市販されている種々の粒子径の酸化アルミニウム充填剤であり、ＡＡ−０４、ＡＡ−２およびＡＡｌ８はＳｕｍｉｔｏｍｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙから市販されている酸化アルミニウム充填剤である。銀充填剤はＡｔｔｌｅｂｏｒｏ、Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ、Ｕ．Ｓ．Ａ．のＭｅｔａｌｏｒ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  Ｕ．Ｓ．Ａ．Ｃｏｒｐ．から市販されている。窒化ホウ素充填剤はＡｄｖａｎｃｅｄ  Ｃｅｒａｍｉｃｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，Ｏｈｉｏ，Ｕ．Ｓ．Ａ．から市販されている。補強充填剤はシリカおよび例えばＫＥＶＬＡＲ−Ｋｕｒｚｆａｓｅｒ（Ｒ）などの短繊維を含む。種々の粒子径および種々の粒子径分布の充填剤の組み合わせを用いることができる。
【００６１】
付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）はさらに任意の成分を含むことができる。さらに任意の成分の例は中でも、（Ｆ）１つ以上の溶媒および（Ｇ）１つ以上の抑制剤を含む。
【００６２】
付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）はさらに場合によって溶媒（Ｆ）を含むことができる。しかし、溶媒（Ｆ）は全体として系に逆作用がないことが確かめなければならない。好適な溶媒（Ｆ）は現状技術で公知であり、市販されている。溶媒（Ｆ）は、例えば、３から２０個の炭素原子を有する有機溶媒とすることができる。溶媒（Ｆ）の例は、例えば、ノナン、デカリンおよびドデカンなどの脂肪族炭化水素、例えば、メシチレン、キシレンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素、例えば酢酸エチルおよびブチロラクトンなどのエステル、例えば、ｎ−ブチルエーテルおよびポリエチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル、例えば、メチルイソブチルケトンおよびメチルペンチルケトンなどのケトン、例えば、線状、分岐および環状ポリジメチルシロキサンなどのシリコーン油およびこれら溶媒（Ｆ）の組み合わせを含む。付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）の粒状溶媒（Ｆ）の最適な濃度は通常の実験によって容易に測定することができる。化合物の重量に応じて、溶媒（Ｆ）の量は０から９５ｗｔ％または１から９５ｗｔ％とすることができる。
【００６３】
付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）はさらに場合によって（Ｇ）抑制剤および安定剤を含むことができる。抑制剤および安定剤（Ｇ）は本発明の付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）の加工時間、開始温度および架橋速度の目標設定のための役割を果たす。これらの抑制剤および安定剤（Ｇ）は付加架橋用組成物の分野できわめてよく知られている。通常の抑制剤の例は、１−エチニル−１−シクロヘキサノール、２−メチル−３−ブチン−２−オールおよび３、５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、３−メチル−１−ドデシン−３−オールなどのアセチレンアルコール、１，３，５，７−テトラビニルテトラメチルテトラシクロシロキサンなどのポリメチルビニルシクロシロキサン、メチルビニル−ＳｉＯ１／２基および／またはジビニルテトラメチルジシロキサン、テトラビニルジメチルジシロキサンなどのＲ２ビニルＳｉＯ１／２末端基を有する、低分子量シリコーン油、トリアルキルシアヌレート、ジアリルマレアート、ジメチルマレアートおよびジエチルマレアートなどのアルキルマレアート、ジアリルフマレートおよびジエチルフマレートなどのアルキルフマレート、クメンヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドおよびピナンヒドロペルオキシドなどの有機ヒドロペルオキシド、有機過酸化物、有機スルホキシド、有機アミン、ジアミンおよびアミド、ホスファンおよびホスファイト、ニトリル、トリアゾール、ジアジリジンおよびオキシムである。これらの抑制剤添加剤（Ｇ）の活性は化学的構造に依存し、そのため濃度は個々に決定しなければならない。抑制剤および抑制剤混合物（Ｇ）は、好ましくは混合物の総重量に対して０．００００１ｗｔ％から５ｗｔ％、好ましくは０．００００５から２ｗｔ％、さらに好ましくは０．０００１から１ｗｔ％の量的分率で添加される。
【００６４】
以下の列挙は市販されているおよび本発明の方法によって薄い層の製造に好適であるシリコーン組成物（Ｘ）の例によって示される。ほとんどが付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）である。市販のシリコーン組成物（Ｘ）の粘度に応じて、溶媒（Ｆ）はより良い加工特性のために添加することができる。
【００６５】
ＷＡＣＫＥＲ  Ｃｈｅｍｉｅ  ＡＧ、Ｍｕｎｉｃｈからの材料は、ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）Ｐシリーズ（７０１０、７６００、７６１３、７１６１−１６０、７６１６−１９５、７６１８、７６１９、７６２２、７６２３、７６２４、７６２８、７６２９、７６３０、７６３３、７６３６、７６４２−２２０、７６７０、６７１、７６７６、７６８２、７６８３／１５、７６８３／２５、７６８３／４７、７６８３／５０、７６８３／５５、７６８４／６０、７６８５、７６８６、７６８７、７６８８、７７００、７７１０、７７２０、７７３１、７７４２、７７７０、７７０７ＵＳ、７９１５、…）、ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）Ｍシリーズ（４１１５、４１２５、４３７０、４４００、４４４０、４４４１、４４７０、４６００、４６０１、４６１５、４６３０、４６３５、４６４０、４６４５、４６４１、４６４３、４６４４、４６７０、４６４７、４６４８、４６７０）、ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）ＲＴシリーズ（６０１、６０２、６０４、６０７、６１５、６１７、６１９、６２０、６２２、６２３、６２４、６２５、６２６、６２７、６２８、６２９、６３０、６３３、６４６、６７０、６７２、６７５、６７８、６８５、…）、ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）ＳＯＬＡＲシリーズ（２０００、２２００、２２０２、３２１０、…）、ＬＳＲ：ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）ＬＲシリーズ（３００３／０３、３００３／０５、３００３／１０、３００３／２０、３０７０／２０、３８４４／２０、３８４６／２０、３８５６／２０、３００３／３０、３００４／３０、３００５／３０、３０４０／３０、３０４４／３０、３０６５／３０、３０７０／３０、３０７１／３０、３０７２／３０、３８４３／３０、３８４４／３０、３８４６／３０、３８５６／３０、３００３／４０、３００３／５０、３００３／６０、３００３／７０、３００３／８０、３００３／８５、３００４／４０、３００４／５０、３００４／６０、３００４／７０、３００５／４０、３００５／５０、３００５／６０、３０４０／４０、３０４０／５０、３０４０／６０、３０４３／４０、３０４３／５０、３０４３／６０、３０４３／７０、３０１５／７０、３０２３／６０、３０９２／６５、３０９４／６０、３０６５／５０、３０６６／４０、３０６６／６０、３０６６／８０、３０７０／４０、３０７０／５０、３０７０／６０、３０７１／４０、３０７１／５０、３０７１／６０、３０７２／４０、３０７４／６０、３０７６／７０、３１７０／４０、３８４１／５０、３８４２／４０、３８４２／５０、３８４２／６０、３８４２／７０、３１６２、…）、ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）ＦＬＲシリーズ（３９００／４０、３９００／６０、３９０５／４０、３９０５／６０、…）、ＨＴＶ：ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）Ｒシリーズ、ＷＡＣＫＥＲ  ＳＩＬＧＥＬ（Ｒ）シリーズ（６１０、６１１、６１２、６１３、６１６、６１９、…）、ＳＥＭＩＣＯＳＩＬ（Ｒ）シリーズ、ＰＯＷＥＲＳＩＬ（Ｒ）シリーズ、ＬＵＭＩＳＩＬ（Ｒ）シリーズ、ＧＥＮＩＯＭＥＲ（Ｒ）シリーズ、ＳＩＬＰＵＲＡＮ（Ｒ）シリーズ、ＤＥＨＥＳＩＶＥ（Ｒ）シリーズである。
【００６６】
時にはキャリアの前処理は付加的工程ステップｉａ）として有利である。
【００６７】
かかる前処理が実施される場合、例えば、キャリアの浸漬処理によりこのステップｉａ）を実施することができる。他の化学的または物理的前処理技法は同様にその例は以下、スプレー処理、クリーニング方法、脱脂方法、プラズマ処理または層の沈殿（例えば、フルオロ炭素層）とすることができる。前処理ステップｉａ）が必要または有用かどうかは用いられるキャリア材料次第である。用いられるキャリア材料へのシリコーンエラストマーの化学的または物理的過剰付着とは、フィルムを架橋後キャリアから引き離すことができないことを意味し、これはキャリアの前処理によって防止することができる。キャリアからシリコーンフィルムを引き離すために、キャリアは好ましくは剥離剤で処理され、この場合に現状技術で公知の剥離剤のすべて、以下、例えば、非イオン界面活性剤（ポリアルキレングリコールエーテル、アルキルグルコシド、脂肪アルコールプロピレート、アルキルポリグルコシド、オクチルフェノールエトキシレート、ノニルフェノールエトキシレート）、アニオン界面活性剤（アルキルカルボキシレート、アルキルベンゼンスルホネート、脂肪アルコールサルフェート）、カチオン界面活性剤（ほとんど第４級アンモニウム化合物などのテトラアルキルアンモニウムハライドまたはエステルクワット）または両性界面活性剤（ベタイン、スルホベタイン）などの洗浄剤を用いることができる。市販の界面活性剤または界面活性剤混合物のすべて、例えば、Ｓｕｒｆｙｎｏｌ（Ｒ）シリーズ、Ｄｙｎｏｌ（商標）シリーズ、ＥｎｖｉｒｏＧｅｍ（Ｒ）シリーズ、Ｌｅｕｎａｐｏｎ  Ｆシリーズ、Ｌｅｕｎａｐｏｎ  ＦＵシリーズ、Ｌｅｕｎａｐｏｎ  Ｐシリーズ、Ｍｅｔａｕｐｏｎシリーズ、Ｈａｎｓａｎｏｌ  ＡＳ  ２４０シリーズ、Ｈａｎｓａｎｏｌ  ＮＳ−２４２シリーズ、Ｈａｎｓａｎｏｌ  ＮＳ  ２４３シリーズ、Ｈａｎｓａｎｏｌ  ＮＳ  ２５２シリーズ、Ｈａｎｓａｎｏｌ  ＮＳ−２６２シリーズ、Ｈａｎｓａｎｙｌ  ＯＳシリーズ、Ｈａｎｓａｎｉｄ  ＣＦＡＤ、Ｈａｎｓａｎｏｌａｔ  ＦＡシリーズ、Ｈａｎｓａｎｏｌａｔ  ＮＰシリーズ、Ｈａｎｓａｔｅｒｉｃ  ＣＡＰＢシリーズ、Ｃｒｅｍｏｐｈｏｒ（Ｒ）シリーズ、Ｅｕｓａｐｏｎ（Ｒ）シリーズ、Ｊｏｒｄａｐｏｎ（Ｒ）シリーズ、ＡＶＡＮＥＬシリーズ、Ｌｕｔｅｎｓｉｔ（Ｒ）シリーズ、Ｌｕｔｅｎｓｏｌシリーズ、Ｐｌｕｒａｃａｒｅ（Ｒ）シリーズ、Ｐｌｕｒａｆａｃ（Ｒ）シリーズ、またはＰｌｕｒｏｎｉｃシリーズなどを前処理に、用いることができる。
【００６８】
剥離剤または種々の剥離剤および添加剤の混合物は好ましくは水性、アルコールまたは水性−アルコール混合物で用いられ、用いられる好ましいアルコール成分は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、イソプロパノール、イソブタノール等などの直鎖および分岐脂肪族アルコールである。
【００６９】
シリコーン組成物（Ｘ）をキャリアへ塗布する前に、過剰の前処理材料をキャリアから再び除去することが好ましく、これは、好ましくは絞りロールおよび／または艶出ロールおよび／または艶出板の助けで実施される。配置、径、速度または用いられる部品の数の果たす役割はきわめて小さい。さらに、少なくとも１つの艶出ロールまたは艶出板の使用、特に好ましくは絞りロールおよび艶出ロールの組み合わせの使用が好ましい。
【００７０】
ステップｉ）のスロットダイのキャリアに対する角度は１０°から９０°である。好ましい角度は３０°から９０°であり、特に好ましい角度５０°から９０°である。
【００７１】
１つの好ましい実施形態において、ステップｉ）のキャリアからスロットダイの間隔は少なくとも２μｍ、好ましくは少なくとも５μｍ、製造されるシリコーンフィルムの層厚さより大きい。
【００７２】
スロットダイが事前計測法（ビーズモード、カーテンモード、ショートカーテンモード）を示すため、スロットダイの操作モードは層厚さ計算にとって重要ではない。必要である場合、記載された速度でモードを達成するために減圧をスロットダイに掛けることができる。シリコーン組成物（Ｘ）の全体流量は、例えば、ギアポンプ、ピストンポンプ、膜ポンプ等などの好適なポンプにより、制御され、調整される。
【００７３】
ステップｉｉ）の架橋の活性化は、加熱、ＩＲ照射またはＵＶ照射により行い得る。室温加硫（すなわち、架橋）系の場合では、室温が硬化に十分であり、そのためエネルギーの追加供給の必要がない。マイクロ波活性化または超音波による活性化も可能である。
【００７４】
ＵＶ架橋系の場合では、付加架橋用シリコーン組成物（Ｘ）のヒドロシリル化反応の触媒（Ｄ）は、架橋を達成するために、光照射により活性化される。現状技術で公知の光源のすべて、例えば、ＬＥＤ、水銀灯、ドープ水銀灯、キセノン灯またはレーザーなどを用いることができる。照射される波長は好ましくは２５０から８００ｎｍであり、特に好ましくは波長は３００から５００ｎｍである。光源の配置は任意であり、光源および架橋のシリコーン組成物（Ｘ）の間隔は数ミリメートルから数センチメートルで変えることができる。
【００７５】
最も単純な場合では、ステップｉｉ）で形成されたシリコーンフィルムがキャリアと共に直接収集される。さらに、ステップｉｉｉ）のキャリアからシリコーンフィルムを引き離し、その後収集する、またはキャリアから異なるキャリアへそれを移動し、その後他のキャリアとともに収集する可能性を含む。
【００７６】
他のキャリアへ移動する必要性の理由は、例えば、キャリアの不十分な温度またはＵＶ安定性、キャリア材料間の価格差、表面特性、表面品質、厚さ、重量等とすることができる。キャリア入れ替えのステップは、他の工程ステップに影響はない。
【００７７】
その後、こうして収集されたシリコーンフィルムは直ちにさらに加工される、またはさらに使用するまで貯蔵されるかのいずれかとすることができる。キャリアが続く工程の一部としてのみシリコーンフィルムから除去される場合、その時点で（続く工程の前または後のどちらかで）役割を果たすことができる。フィルムの続く工程は現状技術で公知の方法のすべてで、例えば、望ましい用途にそれを使用することができるようにシリコーンフィルムの成形に実施することができる。これらの例は、本発明を制限することなく、ナイフ、レーザー、水または粒子ジェットまたは押し抜きなどの様々な技法で切断される。さらに、例えば、接着結合等の手段によって固定することができる。
【００７８】
さらに本発明の目的は、フィルムの厚さが０．１から２００μｍ、好ましくは１から１５０μｍ、さらに好ましくは２から１００μｍであり、それぞれの場合で厚さ精度が面積２００ｃｍ２上で測定され±５％であり、好ましくは厚さ精度がそれぞれの場合で±３％である、本発明の方法によって製造されるシリコーンフィルムである。
【００７９】
記載された本発明の方法によって製造されるシリコーンフィルムは、さらに、アクチュエーター、センサーまたは発電機で誘電体電気活性ポリマー（ＥＡＰ）として用いることができる、これらの降伏電圧が２５ｋＶ／ｍｍより大きく、好ましくは３０ｋＶ／ｍｍより大きく、さらに好ましくは３５ｋＶ／ｍｍより大きいという利点を有する。
【００８０】
ＥＡＰがアクチュエーターまたは発電機の一部に適用されると、特に、耐用年数のあいだに数百万振動サイクル回転する。本発明の方法によって製造されるシリコーンフィルムの１つの利点はシリコーンフィルムの粒子の均一性および欠如から得られたきわめて高長期耐荷重性である。成分の動作電圧を計画するために、前記で特定された特性は、破壊電界強度に直接影響があるため、同様に最も重要である。最大電界は同様にアクチュエーターまたは発電機の効率および性能に直接影響がある。
【００８１】
均一性とは粒状面積上の層厚さのばらつきがきわめて最少であることを意味する。本発明の方法で製造されるシリコーンフィルムの場合では、層厚さは面積２００ｃｍ２以内で最大±５％（＝厚さ精度）変化する。これは、例えば、フィルムは面積２００ｃｍ２以上で、平均層厚さ１００μｍを有し、層厚さが９５μｍ未満または１０５μｍ超である点は有しないことを意味する。または、代わりに、フィルムの平均層厚さ１００μｍであり、厚さ精度は常に±５％であり、厚さは全面積２００ｃｍ２以上で少なくとも９５であり１０５μｍを超えず、これに関係なく２００ｃｍ２面積で層厚さは測定される。
【００８２】
記載された方法はシリコーンフィルムだけでなく、さらに少なくとも１つの層が本発明のシリコーンフィルムを示す多層構造を製造するために用いることができる。
【００８３】
用途に応じて、かかる系には多くの配置または構成が考えられ、スタッキング、フォールディング、ローリング等によって達成することができる。
【００８４】
さらに特許請求される本方法によって製造されるフィルムの用途は以下のとおり、医療または食品分野のバリアフィルム、絶縁テープ、保護フィルム（キーボード、皮膚保護、口の保護、様々な材料用のガラス／引っかき傷保護）、あらゆる種類の梱包（食品、植物）、創傷接触材料用の裏地フィルム、衣類の機能層、物質分離または気体分離用の層（気体分離、海水淡水化等）、裏地フィルム、調理フィルム、展示用途フィルム、エアーバッグまたはワインコルクである。
【実施例】
【００８５】
以下に記載された実施例では、部および百分率の数字のすべては別段の記載がない限り重量による。別段の記載がない限り、以下の実施例は周囲大気の圧力以下で、言い換えるとおよそ１０００ｈＰａで、および室温で、言い換えると２５℃で、または反応剤が追加の加熱または冷却なしで室温で混合される場合に生じる温度で実施される。以下の粘度の数字のすべては温度２５℃に対応する。以下の実施例はあらゆる制限効果を有することなく本発明を説明する。
【００８６】
実施例に用いられるキャリアは三菱ポリマーフィルムＧｍｂＨ（ＨＯＳＴＡＰＨＡＮ（Ｒ））のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムであった。この種類のフィルムはさらに他の製造者、例えば、ＭＹＬＡＲ（Ｒ）  （ＤｕＰｏｎｔ  Ｔｅｉｊｉｎ  Ｆｉｌｍｓ）、ＭＥＬＩＮＥＸ（Ｒ）（ＤｕＰｏｎｔ  Ｔｅｉｊｉｎ  Ｆｉｌｍｓ）、ＳＣＯＴＣＨＰＡＫ（Ｒ）（３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ、Ｓｔ．Ｐａｕｌ、ＭＮ）から入手できる。
【００８７】
ＣＯＡＴＥＭＡ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｍａｃｈｉｎｅｒｙ  ＧｍｂＨのスロットダイが用いられ、このスロットダイの特質は製造に関する限り重要な部分はない。代わりに、他の製造者のスロットダイ（ＦＭＰ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ＧｍｂＨ、Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ  Ｈｅａｖｙ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ等）をさらに用いることができる。
【００８８】
絶対層厚さは低温切片のＳＥＭ分析によって測定され、表面品質および粗さはＬｅｉｃａ  ＤＣＭ  ３Ｄ共焦点顕微鏡によって測定される。
【００８９】
用いられる略語は以下のとおりである。
Ｅｘ．  実施例
Ｎｏ．  数
ＰＤＭＳ  ポリジメチルシロキサン
ＬＳＲ  液状シリコーンゴム
ＨＴＶ  高温加硫（架橋）
ｗｔ％  重量パーセント、ｗ／ｗ
Ｕｗ  基材またはウェブの速度
ρ  密度
ｈ  未乾燥塗膜厚
Ｂ  コーティング幅
【００９０】
実施例１から５はスロットダイの位置Ａが選択され、図１に従った方法によって実施された。実施例６（比較例、発明ではない）では、シリコーン組成物は四方バー塗布装置によって塗布された。実施例７から１０はスロットダイの位置Ａが選択され、図３に従った方法によって実施された。
【００９１】
［実施例１］（前処理なし）
ＲＴＶ−２材料ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）Ｐ７６７０Ａ／Ｂから５０μｍフィルムの製造（混合比Ａ：Ｂ＝１：１、ＩＳＯ２８１１による密度＝１．０３ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ８６８によるショアＡ硬さ＝７、ＩＳＯ３７による破断伸び＝６００％、ＩＳＯ３７による引張り強さ＝１．８Ｎ／ｍｍ２、ＩＳＯ３２１９による成分混合後粘度＝剪断１ｓ−１で１８００ｍＰａ・ｓ、ＡＳＴＭ  Ｄ６２４Ｂによる引裂き強さ＝２．１Ｎ／ｍｍ）。
ウェブ速度１ｍ／分で、層幅０．３ｍの、一定密度で、未乾燥塗膜厚５０μｍを作製するために、フィード速度は１５．４５ｍｌ／分である。
測定された層厚さ／表面粗さ：５０±１．５μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：３５ｋＶ／ｍｍ
【００９２】
［実施例２］（前処理なし）
ＲＴＶ−２材料ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）Ｐ７６８４／６０Ａ／Ｂから２０μｍフィルムの製造（混合比Ａ：Ｂ＝１：１、ＩＳＯ２８１１による密度＝１．０８ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ８６８によるショアＡ硬さ＝１２、ＩＳＯ３７による破断伸び＝６００％、ＩＳＯ３７による引張り強さ＝３Ｎ／ｍｍ２、ＩＳＯ３２１９による成分混合後粘度＝剪断１ｓ−１で１５００ｍＰａ・ｓ、ＡＳＴＭ  Ｄ６２４Ｂによる引裂き強さ＝１３Ｎ／ｍｍ）。
ウェブ速度２ｍ／分で、層幅０．３ｍの、一定密度で、未乾燥塗膜厚２０μｍを作製するために、フィード速度は３２．４ｍｌ／分である。
測定された層厚さ／表面粗さ：２０±１μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：５０ｋＶ／ｍｍ
【００９３】
［実施例３］（前処理なし）
成分の混合後または前に、溶媒分率５０ｖｏｌ％（アルカン留分、商標名ＩＳＯＰＡＲ−Ｅ）に希釈されたＲＴＶ−２材料ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）ＬＲ３００３／４０から１００μｍフィルムの製造（混合比Ａ：Ｂ＝１：１、ＩＳＯ２８１１による密度＝１．０ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ８６８によるショアＡ硬さ＝４２、ＩＳＯ３７による破断伸び＝６１０％、ＩＳＯ３７による引張り強さ＝１０Ｎ／ｍｍ２、ＡＳＴＭ  Ｄ６２４Ｂによる引裂き強さ＝３３Ｎ／ｍｍ、ＩＳＯ３２１９による粘度後成分の混合＝剪断１ｓ−１で５３００ｍＰａ・ｓ）。
【００９４】
５０％溶媒分率でのエラストマー１００μｍの層厚さ、ウェブ速度５ｍ／分でおよび層幅０．３ｍ一定密度での未乾燥塗膜厚２００μｍはフィード速度３００ｍｌ／分を必要とする。溶媒は架橋前に蒸発によって除去される。この工程の詳細な手順は製造されるフィルムに関して重要ではない。この実施例では、最初に溶媒を蒸発させおよびその後上昇した温度で材料の架橋を生じさせるために、ウェブは、３ｍ長および３つの異なる温度域の（第１のメーター＝１２０℃、第２のメーター＝１４０℃、第３のメーター＝１６５℃）乾燥オーブン中に通される。
測定された層厚さ／表面粗さ：１００±３μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：４０ｋＶ／ｍｍ
【００９５】
［実施例４］（前処理なし）
実施例３の材料は、ウェブ速度３０ｍ／分、およびそれに応じて、フィード速度１８００ｍｌ／分で給送した。
測定された層厚さ／表面粗さ：１００±４μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：４０ｋＶ／ｍｍ
【００９６】
［実施例５］（前処理なし）
以下の組成を有するシリコーンの２０μｍフィルムの製造：
平均鎖長およそ２２０を有する、ビニル末端線状ポリジメチルシロキサン４９ｗｔ％、
平均鎖長およそ２２０を有するＭｅ２Ｓｉ−Ｈ末端線状ポリジメチルシロキサン２３ｗｔ％、
ＢＥＴ表面面積１３０ｍ２／ｇを有する疎水化、フュームドシリカ２３ｗｔ％、
鎖長およそ２２０単位およびＳｉ−Ｈ含有量０．１５ｗｔ％を有する線状くし形架橋剤５ｗｔ％。
混合物はさらに以下を含む。
白金触媒（金属に基づくジビニルテトラメチルジシロキサン錯体）１０ｐｐｍ、
可使時間を設定するための１−エチニルシクロヘキサノール２５０ｐｐｍ。
【００９７】
ＩＳＯ８６８によるショアＡ硬さ＝２６、ＩＳＯ２８１１による密度＝１．０５ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ３７による破断伸び＝４９０％、ＩＳＯ３７による引張り強さ＝５．９Ｎ／ｍｍ２、ＡＳＴＭ  Ｄ６２４Ｂによる引裂き強さ＝１１．６Ｎ／ｍｍ、ＩＳＯ３２１９による粘度＝剪断１ｓ−１で６９００ｍＰａ・ｓ。
ウェブ速度１０ｍ／分でおよび層幅０．３ｍ一定密度で、未乾燥塗膜厚２０μｍを設定するためにフィード速度は６３ｍｌ／分である。
測定された層厚さ／表面粗さ：２０±０．８μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：＞７５ｋＶ／ｍｍ
【００９８】
［実施例６］（比較例、発明ではない）
ＲＴＶ−２材料ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）Ｐ７６７０Ａ／Ｂ（混合比Ａ：Ｂ＝１：１、ＩＳＯ２８１１による密度＝１．０３ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ８６８によるショアＡ硬さ＝７、ＩＳＯ３７による破断伸び＝６００％、ＩＳＯ３７による引張り強さ＝１．８Ｎ／ｍｍ２、ＩＳＯ３２１９による成分混合後粘度＝剪断１ｓ−１で１８００ｍＰａ・ｓ、ＡＳＴＭ  Ｄ６２４Ｂによる引裂き強さ＝２．１Ｎ／ｍｍ）から５０μｍフィルムの製造。
層厚さ５０μｍへの調整は用いられる四方バー塗布装置およびウェブ間の間隔を手動で合わせることによって実行される。
測定された層厚さ／表面粗さ：５０±６μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：２２ｋＶ／ｍｍ
【００９９】
［実施例７］（前処理あり）
図３の含浸槽は市販の界面活性剤混合物、Ｔａｎａ  Ｃｈｅｍｉｅ  ＧｍｂＨのＧｒｅｅｎ  Ｃａｒｅ  Ｎｏ．５の２ｗｔ％水溶液が用いられる。絞りロールの回転速度はウェブ速度と同じであり、艶出ロールの回転速度はウェブ速度の５倍である。
ＲＴＶ−２材料ＥＬＡＳＴＯＳＩＬ（Ｒ）Ｐ７６７０Ａ／Ｂ（混合比Ａ：Ｂ＝１：１、ＩＳＯ２８１１による密度＝１．０３ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ８６８によるショアＡ硬さ＝７、ＩＳＯ３７による破断伸び＝６００％、ＩＳＯ３７による引張り強さ＝１．８Ｎ／ｍｍ２、ＩＳＯ３２１９による成分混合後粘度＝剪断１ｓ−１で１８００ｍＰａ・ｓ、ＡＳＴＭ  Ｄ６２４Ｂによる引裂き強さ＝２．１Ｎ／ｍｍ）から５０μｍフィルムの製造。
ウェブ速度１ｍ／分で、層幅０．３ｍの、一定密度で、未乾燥塗膜厚５０μｍを作製するために、フィード速度は１５．４５ｍｌ／分である。
測定された層厚さ／表面粗さ：５０±１．５μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：３５ｋＶ／ｍｍ
【０１００】
［実施例８］（前処理あり）
図３の含浸槽は市販の界面活性剤混合物、Ｔａｎａ  Ｃｈｅｍｉｅ  ＧｍｂＨのＧｒｅｅｎ  Ｃａｒｅ  Ｎｏ．５の２ｗｔ％水溶液が用いられる。絞りロールの回転速度はウェブ速度と同じであり、艶出ロールの回転速度はウェブ速度の５倍である。
以下の組成物を有するシリコーンの２０μｍフィルムの製造：
平均鎖長およそ６００を有する、ビニル末端線状ポリジメチルシロキサン３５ｗｔ％、
平均鎖長およそ２２０を有する、ビニル末端線状ポリジメチルシロキサン１５ｗｔ％、
鎖長およそ２２０単位およびＳｉ−Ｈ含有量０．０１５ｗｔ％を有する、Ｍｅ２ＳｉＨ末端の線状くし形架橋剤５０ｗｔ％、
混合物はさらに以下を含む。
白金触媒（この金属に基づくジビニルテトラメチルジシロキサン錯体）１０ｐｐｍ、
可使時間を設定するための１−エチニルシクロヘキサノール２５０ｐｐｍ。
【０１０１】
ＩＳＯ８６８によるショアＡ硬さ＝２、ＩＳＯ２８１１による密度＝０．９７ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ３７による破断伸び＝３５０％、ＩＳＯ３７による引張り強さ＝１．９Ｎ／ｍｍ２、ＡＳＴＭ  Ｄ６２４Ｂによる引裂き強さ＝２．６Ｎ／ｍｍ、ＩＳＯ３２１９による粘度＝剪断１ｓ−１で３５００ｍＰａ・ｓ。
ウェブ速度１０ｍ／分でおよび層幅０．３ｍ一定密度で、未乾燥塗膜厚２０μｍを設定するためにフィード速度は６４．０２ｍｌ／分である。
測定された層厚さ／表面粗さ：２０±１μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：３５ｋＶ／ｍｍ
【０１０２】
［実施例９］（前処理あり）
図３の含浸槽は市販の界面活性剤混合物、Ｔａｎａ  Ｃｈｅｍｉｅ  ＧｍｂＨのＧｒｅｅｎ  Ｃａｒｅ  Ｎｏ．５の２ｗｔ％水溶液が用いられる。絞りロールの回転速度はウェブ速度と同じであり、艶出ロールの回転速度はウェブ速度の５倍である。
以下の組成物を有するシリコーンの０．５μｍフィルムの製造：
平均鎖長およそ２２０を有する、ビニル末端線状ポリジメチルシロキサン４９ｗｔ％、
平均鎖長およそ２２０を有するＭｅ２Ｓｉ−Ｈ−末端、線状ポリジメチルシロキサン２３ｗｔ％、
ＢＥＴ表面面積１３０ｍ２／ｇを有する疎水化、フュームドシリカ２３ｗｔ％、
鎖長およそ２２０単位およびＳｉ−Ｈ含有量０．１５ｗｔ％を有する線状くし形架橋剤５ｗｔ％、
混合物はさらに以下を含む。
白金触媒（金属に基づくジビニルテトラメチルジシロキサン錯体）１０ｐｐｍ、
可使時間を設定するための１−エチニルシクロヘキサノール２５０ｐｐｍ。
塗布前に、１ｌの混合物が３ｌの溶媒（アルカン留分、商標名Ｉｓｏｐａｒ  Ｅ）で希釈された；溶液の密度は０．９８ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ３２１９による溶液の粘度＝剪断１ｓ−１で３０ｍＰａ・ｓ。
【０１０３】
ＩＳＯ８６８によるショアＡ硬さ＝２６、ＩＳＯ２８１１によるエラストマー密度＝１．０５ｇ／ｃｍ３、ＩＳＯ３７による破断伸び＝４９０％、ＩＳＯ３７による引張り強さ＝５．９Ｎ／ｍｍ２、ＡＳＴＭ  Ｄ６２４Ｂによる引裂き強さ＝１１．６Ｎ／ｍｍ、剪断１ｓ−１でＩＳＯ３２１９による粘度＝６９００ｍＰａ・ｓ。
ウェブ速度１ｍ／分でおよび層幅０．３ｍ一定密度で、未乾燥塗膜厚２μｍを設定するためにフィード速度は０．５８８ｍｌ／分である。
測定された層厚さ／表面粗さ：０．５±０．０２μｍ
ＡＳＴＭ  Ｄ３７５５による降伏電圧：８５ｋＶ／ｍｍ
【図１】
2016500382.tif 000003
【図２】
2016500382.tif 000004
【図３】
2016500382.tif 000005
【図４】
2016500382.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月25日(2014.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムの厚さが０．１から２００μｍおよび面積が２００ｃｍ２上で測定された厚さ精度±５％を有する薄いシリコーンフィルムの連続製造のための方法であって、
ｉ）架橋性の溶媒含有または無溶媒シリコーン組成物（Ｘ）が、スロットダイのギャップから移動キャリアに塗布され、
ｉｉ）続いて溶媒が、存在する場合、キャリアフィルム上に形成されるシリコーン層から除去され、シリコーン層が架橋され、
ｉｉｉ）架橋後に、得られたシリコーンフィルムをキャリアから引き離すことができる
ことを特徴とし、ただし
以下の条件、
−ステップｉ）のスロットダイは、キャリアに対して１０°から９０°の角度であること、
−キャリアの進行速度は、０．１から１０００ｍ／分であること、
−ＤＩＮ５３０１９に従って測定されるシリコーン組成物（Ｘ）の動的粘度は、１００ｍＰａ・ｓから１００Ｐａ・ｓであること
を有する方法。
【国際調査報告】
2016500382.tif 000007
2016500382.tif 000008
2016500382.tif 000009
2016500382.tif 000010
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2016500382.tif 000012
2016500382.tif 000013
2016500382.tif 000014