(57)【要約】  誘電体層（２１１）上に形成された電気めっきシードを使用して、銅を電気めっきすることによって、太陽電池の金属コンタクトが形成される。電気めっきシードは、誘電体層内のコンタクトホールを介して太陽電池の拡散領域に接続するアルミニウム層を含む。アルミニウム層上にニッケル層が形成され、ニッケル層とアルミニウム層のスタックが、電気めっきシード（２１２）を形成する。銅は、支持電解質（２１３）として硫酸の代わりにメタンスルホン酸を含む銅めっき槽内で電気めっきされる。
2016523458.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽電池を製造する方法であって、
誘電体層上にアルミニウム層を形成して前記誘電体層内のコンタクトホールを介して前記太陽電池の拡散領域に接続する工程と、
電気めっきシードを形成する工程と、
前記太陽電池の前記拡散領域に接続する金属コンタクトを形成する工程と
を含み、
前記電気めっきシードを形成する工程が、前記アルミニウム層上にニッケル層を形成する工程を含み、
前記金属コンタクトを形成する工程が、前記太陽電池の裏面に銅層を電気めっきする工程を含み、前記銅層は、硫酸を含まないメタンスルホン酸を含む銅めっき槽内で電気めっきされる、方法。
【請求項２】
前記ニッケル層が、前記アルミニウム層上にめっきされる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アルミニウム層を形成する工程が、酸化ケイ素を含む前記誘電体層上に前記アルミニウム層を形成する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記アルミニウム層を形成する工程が、前記誘電体層上に前記アルミニウム層を印刷する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記アルミニウム層を印刷する工程が、前記誘電体層上に前記アルミニウム層をスクリーン印刷する工程を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記誘電体層上に前記アルミニウム層を形成する工程が、前記アルミニウム層を前記誘電体層上に形成して前記太陽電池の基板内に形成された拡散領域に接続する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記アルミニウム層を前記誘電体層上に形成する工程が、単結晶シリコンを含む太陽電池基板内上に形成された前記誘電体層上に前記アルミニウム層を形成する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
太陽電池を製造する方法であって、
太陽電池基板上に誘電体層を形成する工程と、
前記太陽電池の拡散領域を露出させるべく、前記誘電体層を通るコンタクトホールを形成する工程と、
前記拡散領域に接続させるべく、前記誘電体層上と前記コンタクトホール内にアルミニウム層を形成する工程と、
メタンスルホン酸を含む銅電気めっき槽内で、電気めっきシードとして前記アルミニウム層を使用して銅層を電気めっきする工程とを含む、方法。
【請求項９】
前記銅層を電気めっきする工程が、硫酸を含まない電気めっき槽内で前記銅層を電気めっきする工程を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記アルミニウム層上にニッケル層を形成する工程を更に含み、前記銅層は、前記ニッケル層上に電気めっきされる、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記ニッケル層を形成する工程が、前記アルミニウム層上に前記ニッケル層をめっきする工程を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記アルミニウム層を形成する工程が、前記誘電体層上に前記アルミニウム層を印刷する工程を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記アルミニウム層を形成する工程が、前記誘電体層上に前記アルミニウム層をスクリーン印刷する工程を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記アルミニウム層を形成する工程が、前記太陽電池基板内に形成された前記拡散領域を接続させるべく、前記アルミニウム層を形成する工程を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
前記誘電体層を形成する工程が、単結晶シリコンを含む前記太陽電池基板上に前記誘電体層を形成する工程を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
太陽電池を製造する方法であって、
前記太陽電池の誘電体層上にアルミニウム層を形成する工程と、
メタンスルホン酸を含む支持電解質を有する銅めっき槽内で、電気めっきシードとして前記アルミニウム層を使用して銅層を電気めっきする工程とを含む、方法。
【請求項１７】
前記銅層を電気めっきする工程が、硫酸を含まない前記銅めっき槽内で、前記銅層を電気めっきする工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記アルミニウム層を形成する工程が、前記誘電体層上に前記アルミニウム層を印刷する工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記電気めっきシードを形成するべく、前記アルミニウム層上にニッケル層を形成する工程を更に含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記銅層を電気めっきする工程が、前記太陽電池の拡散領域に接続するべく、前記銅層を電気めっきする工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書に説明された主題の複数の実施形態は、一般に、太陽電池に関する。より詳細には、主題の複数の実施形態は、太陽電池の製造プロセス及び構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池は、太陽放射を電気エネルギーに変換するための周知の装置である。太陽電池は、通常動作中に太陽に向けられ太陽放射を集光する前面と、前面の反対側の裏面とを有する。太陽電池に当たる太陽放射は電荷を生成し、この電荷を利用して、負荷などの外部電気回路に電力供給することができる。外部電気回路は、金属コンタクトによって太陽電池の拡散領域に電気的に接続され得る。
【発明の概要】
【０００３】
一実施形態では、太陽電池の金属コンタクトは、誘電体層上に形成された電気めっきシードを使用して銅を電気めっきすることによって形成される。電気めっきシードは、誘電体層内のコンタクトホールを介して太陽電池の拡散領域に接続するアルミニウム層を含む。アルミニウム層上にニッケル層が形成され、ニッケル層とアルミニウム層のスタックが、電気めっきシードを形成する。銅は、支持電解質として硫酸の代わりにメタンスルホン酸を含む銅めっき槽内で電気めっきされる。
【０００４】
本開示の以上その他の特徴は、添付の図面及び特許請求の範囲を含む本開示の全体を読むことで当業者に容易に明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０００５】
詳細な説明と特許請求の範囲を以下の図と共に参照することによって、内容をより完全に理解することができ、図面では、類似の参照番号が図面全体にわたって類似の要素を示す。
【０００６】
【図１】アルミニウム電気めっきシードが硫酸に暴露されている状態のアルミニウム電気めっきシードの顕微鏡写真を示す。
【図２】アルミニウム電気めっきシードが硫酸に暴露されている状態のアルミニウム電気めっきシードの顕微鏡写真を示す。
【図３】アルミニウム電気めっきシードが硫酸に暴露されている状態のアルミニウム電気めっきシードの顕微鏡写真を示す。
【０００７】
【図４】本開示の一実施形態による太陽電池の製造を概略的に示す断面図を示す。
【図５】本開示の一実施形態による太陽電池の製造を概略的に示す断面図を示す。
【図６】本開示の一実施形態による太陽電池の製造を概略的に示す断面図を示す。
【図７】本開示の一実施形態による太陽電池の製造を概略的に示す断面図を示す。
【０００８】
【図８】本開示の実施形態による太陽電池の金属構造を形成する方法のフローチャートを示す。
【０００９】
【図９】アルミニウム電気めっきシードが硫酸の代わりにメタンスルホン酸に暴露された状態のアルミニウム電気めっきシードの顕微鏡写真を示す。
【図１０】アルミニウム電気めっきシードが硫酸の代わりにメタンスルホン酸に暴露された状態のアルミニウム電気めっきシードの顕微鏡写真を示す。
【図１１】アルミニウム電気めっきシードが硫酸の代わりにメタンスルホン酸に暴露された状態のアルミニウム電気めっきシードの顕微鏡写真を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本開示では、実施形態の完全な理解を提供するために、材料、プロセス工程及び構造の例などの多数の具体的な詳細が提供される。しかしながら、当業者は、本開示がこれらの具体的な詳細のうちの１つ以上がなくても実施できることを理解するであろう。他の例では、本開示の態様を不明瞭にすることを避けるため、周知の詳細は図示又は説明していない。
【００１１】
太陽電池は、他のエネルギー源に対して商業的に存続できるためには、比較的低コストかつ高生産率で製造されなければならない。太陽電池の製造コストを削減する１つの方法は、銅金属コンタクトの電気めっきシードとして印刷されたアルミニウムを使用することである。しかしながら、アルミニウムは、銅電気めっき工程で典型的に使用される高酸性銅めっき槽に暴露されたときに接着問題を有することがある。
【００１２】
接着問題は、図１〜図３に、アルミニウムの顕微鏡写真の形で示されている。印刷アルミニウムは、２００ｇ／Ｌの硫酸に晒され、これは、いくつかの工業用銅めっき槽の硫酸含量である。図１は、アルミニウムの平面図であり、図２と図３は、アルミニウムの断面図である。図１〜図３から分かるように、アルミニウム（矢印１０３を参照）が著しく侵食されており、一方、アルミニウムと共に電気めっきシードを形成するニッケル（矢印１０１を参照）とペースト状結合剤（矢印１０２を参照）は、影響を受けていない。この結果は、以下のようなアルミニウムと硫酸の反応によって説明され得る。  ２Ａｌ（固体）＋３Ｈ２ＳＯ４（水溶液）→２Ａｌ３（水溶液）＋３ＳＯ４２−（水溶液）＋３Ｈ２（気体）  この際、ΔＧ（ｒｘｎ）＝−９７１．０ｋＪ／ｍｏｌ
【００１３】
電気めっきシード内のアルミニウムは、前述の化学反応が起こる前に貫通されなければならないことがある薄くて稠密な酸化アルミニウム層を有する。酸化アルミニウムの硫酸との反応は、次の式で与えられる。  Ａｌ２Ｏ３＋３Ｈ２ＳＯ４→Ａｌ２（ＳＯ４）３＋３Ｈ２Ｏ  この際、ΔＧ（ｒｘｎ）＝−１００．５ｋＪ／ｍｏｌ
【００１４】
アルミニウム及び酸化アルミニウム反応の負のΔＧ（ｒｘｎ）、すなわち負のギブス自由エネルギーは、アルミニウム及び酸化アルミニウムが硫酸に晒されたときに腐食が起こることを示す。
【００１５】
図４〜図７は、一実施形態による太陽電池２００の製造を概略的に示す断面図を示す。図４〜図７は、実施形態の特徴をより明瞭に示すために一律の縮尺で描かれていない。
【００１６】
図４を参照すると、太陽電池２００は、太陽電池基板２０１と拡散領域２０２を含む。基板２０１は、例えばＮ型シリコンウェハなどの単結晶シリコンを含んでもよい。説明を分かり易くするために、１つのタイプの拡散領域２０２だけが示されている。太陽電池が、典型的には、複数のＰ型拡散領域と複数のＮ型拡散領域を含むことを理解されるであろう。一実施形態では、図４に示されたように、拡散領域２０２は、基板２０１内に形成される。別の実施形態（図示せず）では、拡散領域２０２は、基板２０１の外部にある。例えば、拡散領域２０２は、基板２０１の裏面に形成されたドープポリシリコンを含む。その例では、ポリシリコンと基板２０１との間に薄い誘電体層（例えば、熱酸化物）が形成されることがある。
【００１７】
太陽電池２００は、通常動作中に太陽の方を向き太陽放射を収集する前面１２１と、前面１２１と反対側の裏面１２２とを有する。一実施形態では、太陽電池２００は、その拡散領域と拡散領域に接続された金属コンタクトが全て裏面１２２にあるため、全バックコンタクト太陽電池である。しかしながら、開示された技術が、他のタイプの太陽電池にも等しく適用され得ることに注意されたい。例えば、他の実施形態では、太陽電池２００は、裏面１２２に１つの極性の拡散領域２０２を有し、前面１２１に別の極性の別の拡散領域を有する。
【００１８】
図４を更に参照すると、誘電体層２０３が、拡散領域２０２上に形成される。誘電体層２０３は、１または複数上の絶縁材料層を含むことがある。例えば、誘電体層２０３は、約４０ｎｍの厚さに形成された窒化ケイ素又は酸化ケイ素を含む。誘電体層２０３には、太陽電池２００の拡散領域２０２と他の拡散領域を露出させる複数のコンタクトホール２０４が形成される。コンタクトホール２０４は、本開示の利点を損なうことなく、レーザアブレーション、リソグラフィ、その他のコンタクトホール形成プロセスによって形成されてもよい。
【００１９】
図５では、裏面１２２上に、拡散領域２０２への電気接続を行うアルミニウム層２０５が形成される。一実施形態では、アルミニウム層２０５は、誘電体層２０３上とコンタクトホール２０４内に印刷される。例えば、アルミニウム層２０５は、スクリーン印刷によって、約１０μｍなどの１〜５０μｍの厚さに形成され得る。次に、酸化アルミニウム層１２３が、アルミニウム層２０５の裏面に直接形成されてもよい。アルミニウム層２０５は、拡散領域２０２上に直接形成されてもよい。
【００２０】
図６では、ニッケル層２０６が、アルミニウム層２０５上に、ニッケル層２０６の表面が酸化アルミニウム層１２３のすぐ上になるように形成される。ニッケル層２０６は、無電解めっき、電解めっき又は他の付着プロセスによって形成されてもよい。ニッケル層２０６は、アルミニウム層２０５上に、０．１〜１０μｍ（例えば、約２μｍなど）の厚さに形成されてもよい。ニッケル層２０６とアルミニウム層２０５は、拡散領域２０２を接続する金属コンタクトの形成におけるような銅を電気めっきするための電気めっきシード１２４を形成する。ニッケル層２０６は、電気めっきシード１２４への電気めっき銅の接着を容易にする接着層の役割をする。
【００２１】
図７では、太陽電池２００の裏面１２２に、拡散領域２０２に電気接続するための銅層２０７が、形成される。一実施形態では、銅層２０７は、メタンスルホン酸を含むが硫酸を含まない銅電気めっき槽内の電気めっきによって形成される。より詳細には、メタンスルホン酸は、銅めっき槽の支持電解質として、硫酸に置き換えられる。例えば、槽を同じ酸性度に維持するために、銅めっき槽内の硫酸を、同量のメタンスルホン酸と置き換えてもよい。メタンスルホン酸とアルミニウムとの反応は、次の式で与えられる。  ２Ａｌ（固体）＋６ＣＨ３ＳＯ３Ｈ（水溶液）→２Ａｌ３＋（水溶液）＋６ＣＨ３ＳＯ３−（水溶液）＋３Ｈ２（気体）  この際、ΔＧ（ｒｘｎ）＝−１０３９．４ｋＪ／ｍｏｌ
【００２２】
メタンスルホン酸と酸化アルミニウムとの反応は、次の式で与えられる。  Ａｌ２Ｏ３＋３Ｈ３ＳＯ４Ｈ→Ａｌ２（ＳＯ４）３＋３ＣＨ４  この際、ΔＧ（ｒｘｎ）＝４５９．３ｋＪ／ｍｏｌ
【００２３】
メタンスルホン酸とアルミニウムとの反応は、やはり負のΔＧ（ｒｘｎ）を示すが、メタンスルホン酸と酸化アルミニウムとの反応は、正のΔＧ（ｒｘｎ）を示す。正のΔＧ（ｒｘｎ）は、メタンスルホン酸が酸化アルミニウムをあまり腐食しないことを示す。したがって、酸化アルミニウム層１２３は、アルミニウム層２０５がメタンスルホン酸によって侵食されるのを防ぐ。
【００２４】
ニッケル層２０６が、アルミニウム層２０５上にあるが、ニッケル層２０６が、多孔質であり、したがってメタンスルホン酸（又は、他のめっき槽内の硫酸）がアルミニウム層２０５に浸透して腐食させる可能性があることに注意されたい。したがって、メタンスルホン酸銅めっき槽は、電気めっきシードが接着層としてニッケルを含むときに有利なことがある。
【００２５】
一実施形態では、銅層２０７の電気めっきに使用されるメタンスルホン酸銅めっき槽は、メタンスルホン酸（ＭＳＡ）、Ｃｕ−ＭＳＡ、及び塩酸、並びに促進剤、抑制剤、レベラー、光沢剤及び結晶微細化剤などの通常の市販めっき有機添加物を含む。メタンスルホン酸銅めっき槽のｐＨは、約−０．６でよいが、一般に、１未満のｐＨを有してもよい。そのようなメタンスルホン酸銅めっき槽は、例えばＯＭ  Ｇｒｏｕｐ，Ｉｎｃ．から市販されている。また、メタンスルホン酸を含み硫酸を含まない他の適切な銅めっき槽が、本開示の利点を損なうことなく使用され得る。
【００２６】
一実施形態では、銅層２０７は、電気めっきシード１２４を使用して、１０〜８０μｍ（約３５μｍなど）の厚さに電気めっきされる。例えば、銅層２０７は、２５℃で約４Ａ／ｄｍ２（アンペア／平方デシメートル）（４０ＡＳＦ（アンペア／平方フィート））の電流による電気めっきプロセスで、図６のサンプルをメタンスルホン酸銅めっき槽に浸漬することによって形成されてもよいが、例えば８０℃で２０Ａ／ｄｍ２（２００ＡＳＦ）と同じ高さの電流によるプロセスでもよい。
【００２７】
一実施形態では、銅層２０７は、拡散領域２０２に電気的に接続し、太陽電池２００の金属コンタクトとして機能する。理解されるように、銅層２０７が、太陽電池２００の詳細に依存する様々な形状を有するように、適切なマスクでパターン化又は電気めっきされてもよい。例えば、拡散領域２０２がＰ型拡散領域であるとき、銅層２０７は、Ｎ型拡散領域に電気的に接続する別の銅金属コンタクトフィンガと互い違いにされた正の金属コンタクトフィンガとして構成されてもよい。
【００２８】
図８は、一実施形態による太陽電池の金属構造を形成する方法のフローチャートを示す。図８の例では、製造される太陽電池の裏面にアルミニウム層が形成される（工程２１１）。アルミニウム層は、例えば、スクリーン印刷によって形成されてもよい。一実施形態では、アルミニウム層は、誘電体層上と、拡散領域に電気的に接続する誘電体層を介して形成されたコンタクトホール内にスクリーン印刷される。アルミニウム層は、アルミニウム層の裏面に面する表面上に酸化アルミニウム層を有する。
【００２９】
その後、アルミニウム層上にニッケル層が形成される（工程２１２）。一実施形態では、ニッケル層とアルミニウム層が、その後銅層を電気めっきするための電気めっきシードを形成する。
【００３０】
太陽電池の金属コンタクトは、硫酸を含まないメタンスルホン酸を含む銅めっき槽内で銅を電気めっきすることによって形成される（工程２１３）。当業者によって理解されるように、「硫酸を含まない（no sulfuric acid or without sulfuric acid）」は、銅めっき槽が、硫酸を全く含まないか酸化アルミニウムと反応し腐食するのにほとんど達しない量硫酸を含むことを意味する。銅は、太陽電池の拡散領域に電気的に接続されるように、電気めっきシード上に電気めっきされる。
【００３１】
本明細書で説明された技術は、太陽電池の層の接着の改善を容易にすることできる。そのような接着の改善は、図９〜図１１に示されたように、電気めっきシードの低い腐食性によって示され得る。
【００３２】
図９〜図１１は、図９〜図１１の硫酸が同量のメタンスルホン酸と置き換えられた点を除いて図１〜図３のものと類似のアルミニウム電気めっきシードの顕微鏡写真を示す。図９は、ニッケル被覆アルミニウムの平面図であり、図１０と図１１は、アルミニウムの断面図である。図９〜図１１から分かるように、電気めっきシードを形成するアルミニウム（矢印１１３を参照）、ニッケル（矢印１１１を参照）及び結合剤（矢印１１２を参照）は、メタンスルホン酸によって腐食されていない。
【００３３】
太陽電池の金属構造を形成する方法及び構造が開示された。本開示の特定の実施形態を提供したが、これらの実施形態は説明のためのものであり、限定でないことは理解されよう。本開示を読む当業者には多くの更なる実施形態が明らかになるであろう。
【図１】
2016523458.tif 000003
【図２】
2016523458.tif 000004
【図３】
2016523458.tif 000005
【図４】
2016523458.tif 000006
【図５】
2016523458.tif 000007
【図６】
2016523458.tif 000008
【図７】
2016523458.tif 000009
【図８】
2016523458.tif 000010
【図９】
2016523458.tif 000011
【図１０】
2016523458.tif 000012
【図１１】
2016523458.tif 000013
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月22日(2016.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽電池を製造する方法であって、
誘電体層上にアルミニウム層を形成して前記誘電体層内のコンタクトホールを介して前記太陽電池の拡散領域に接続する工程と、
電気めっきシードを形成する工程と、前記太陽電池の前記拡散領域に接続する金属コンタクトを形成する工程と
を含み、
前記電気めっきシードを形成する工程が、前記アルミニウム層上にニッケル層を形成する工程を含み、
前記金属コンタクトを形成する前記工程が、前記太陽電池の裏面に銅層を電気めっきする工程を含み、前記銅層は、硫酸を含まないメタンスルホン酸を含む銅めっき槽内で電気めっきされる、方法。
【請求項２】
太陽電池を製造する方法であって、
太陽電池基板上に誘電体層を形成する工程と、
前記太陽電池の拡散領域を露出させるべく、前記誘電体層にコンタクトホールを形成する工程と、
前記拡散領域に接続するべく、前記誘電体層上と前記コンタクトホール内にアルミニウム層を形成する工程と、
メタンスルホン酸を含む銅電気めっき槽内で、電気めっきシードとして前記アルミニウム層を使用して銅層を電気めっきする工程とを含む、方法。
【請求項３】
前記ニッケル層が、前記アルミニウム層上にめっきされる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記アルミニウム層を形成する工程が、酸化ケイ素を含む前記誘電体層上に前記アルミニウム層を形成する工程を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記アルミニウム層を形成する工程が、前記誘電体層上に前記アルミニウム層を印刷する工程を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記アルミニウム層を形成する工程が、前記誘電体層上に前記アルミニウム層をスクリーン印刷する工程を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記誘電体層上に前記アルミニウム層を形成する工程が、前記太陽電池の基板内に形成された拡散領域に接続するべく、前記誘電体層上に前記アルミニウム層を形成する工程を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記誘電体層上に前記アルミニウム層を形成する工程が、単結晶シリコンを含む太陽電池基板内上に形成された前記誘電体層上に前記アルミニウム層を形成する工程を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記銅層を電気めっきする工程が、硫酸を含まない前記電気めっき槽内で前記銅層を電気めっきする工程を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
太陽電池の金属構造を形成する方法及び構造が開示された。本開示の特定の実施形態を提供したが、これらの実施形態は説明のためのものであり、限定でないことは理解されよう。本開示を読む当業者には多くの更なる実施形態が明らかになるであろう。
［項目１］
太陽電池を製造する方法であって、
誘電体層上にアルミニウム層を形成して上記誘電体層内のコンタクトホールを介して上記太陽電池の拡散領域に接続する工程と、
電気めっきシードを形成する工程と、
上記太陽電池の上記拡散領域に接続する金属コンタクトを形成する工程と
を含み、
上記電気めっきシードを形成する工程が、上記アルミニウム層上にニッケル層を形成する工程を含み、
上記金属コンタクトを形成する工程が、上記太陽電池の裏面に銅層を電気めっきする工程を含み、上記銅層は、硫酸を含まないメタンスルホン酸を含む銅めっき槽内で電気めっきされる、方法。
［項目２］
上記ニッケル層が、上記アルミニウム層上にめっきされる、項目１に記載の方法。
［項目３］
上記アルミニウム層を形成する工程が、酸化ケイ素を含む上記誘電体層上に上記アルミニウム層を形成する工程を含む、項目１に記載の方法。
［項目４］
上記アルミニウム層を形成する工程が、上記誘電体層上に上記アルミニウム層を印刷する工程を含む、項目１に記載の方法。
［項目５］
上記アルミニウム層を印刷する工程が、上記誘電体層上に上記アルミニウム層をスクリーン印刷する工程を含む、項目４に記載の方法。
［項目６］
上記誘電体層上に上記アルミニウム層を形成する工程が、上記アルミニウム層を上記誘電体層上に形成して上記太陽電池の基板内に形成された拡散領域に接続する工程を含む、項目１に記載の方法。
［項目７］
上記アルミニウム層を上記誘電体層上に形成する工程が、単結晶シリコンを含む太陽電池基板内上に形成された上記誘電体層上に上記アルミニウム層を形成する工程を含む、項目１に記載の方法。
［項目８］
太陽電池を製造する方法であって、
太陽電池基板上に誘電体層を形成する工程と、
上記太陽電池の拡散領域を露出させるべく、上記誘電体層を通るコンタクトホールを形成する工程と、
上記拡散領域に接続させるべく、上記誘電体層上と上記コンタクトホール内にアルミニウム層を形成する工程と、
メタンスルホン酸を含む銅電気めっき槽内で、電気めっきシードとして上記アルミニウム層を使用して銅層を電気めっきする工程とを含む、方法。
［項目９］
上記銅層を電気めっきする工程が、硫酸を含まない電気めっき槽内で上記銅層を電気めっきする工程を含む、項目８に記載の方法。
［項目１０］
上記アルミニウム層上にニッケル層を形成する工程を更に含み、上記銅層は、上記ニッケル層上に電気めっきされる、項目８に記載の方法。
［項目１１］
上記ニッケル層を形成する工程が、上記アルミニウム層上に上記ニッケル層をめっきする工程を含む、項目１０に記載の方法。
［項目１２］
上記アルミニウム層を形成する工程が、上記誘電体層上に上記アルミニウム層を印刷する工程を含む、項目８に記載の方法。
［項目１３］
上記アルミニウム層を形成する工程が、上記誘電体層上に上記アルミニウム層をスクリーン印刷する工程を含む、項目８に記載の方法。
［項目１４］
上記アルミニウム層を形成する工程が、上記太陽電池基板内に形成された上記拡散領域を接続させるべく、上記アルミニウム層を形成する工程を含む、項目８に記載の方法。
［項目１５］
上記誘電体層を形成する工程が、単結晶シリコンを含む上記太陽電池基板上に上記誘電体層を形成する工程を含む、項目８に記載の方法。
［項目１６］
太陽電池を製造する方法であって、
上記太陽電池の誘電体層上にアルミニウム層を形成する工程と、
メタンスルホン酸を含む支持電解質を有する銅めっき槽内で、電気めっきシードとして上記アルミニウム層を使用して銅層を電気めっきする工程とを含む、方法。
［項目１７］
上記銅層を電気めっきする工程が、硫酸を含まない上記銅めっき槽内で、上記銅層を電気めっきする工程を含む、項目１６に記載の方法。
［項目１８］
上記アルミニウム層を形成する工程が、上記誘電体層上に上記アルミニウム層を印刷する工程を含む、項目１６に記載の方法。
［項目１９］
上記電気めっきシードを形成するべく、上記アルミニウム層上にニッケル層を形成する工程を更に含む、項目１６に記載の方法。
［項目２０］
上記銅層を電気めっきする工程が、上記太陽電池の拡散領域に接続するべく、上記銅層を電気めっきする工程を含む、項目１６に記載の方法。
【国際調査報告】
2016523458.tif 000014