(57)【要約】  基体の下面を湿式処理する装置の使用。本発明は、下面に流体湿潤を施すことによって扁平な基体を湿式処理する装置であって、湿潤ステーションとロール搬送システムを有し、湿潤ステーションが、搬送方向に処理ローラを介して移動される被処理基体に下面の流体湿潤を施すために、湿潤ローラを備え、該ロール搬送システムが、搬送ロール上に載置された被処理基体を搬送方向に沿って搬送するために、該湿潤ローラを含む、搬送方向で互いに前後に間隔を置いて配置された複数の搬送ロールを備える、装置に関する。さらに、本発明は、上記の基体湿式処理装置の使用に関する。本発明によれば、湿潤ローラが、所定の高さレベルで配置され、該高さレベルが、該湿潤ローラに供給側で隣接するロール搬送システム区分によって定義された高さレベルよりも、規定の高さオフセットだけ高く位置する。例えば、シリコンウエハーの下面のエッジアイソレーションが使用される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下面に流体湿潤を施すことによって扁平な基体（Ｓ１，Ｓ２）を湿式処理する装置であって、少なくとも１つの湿潤ステーション（ＢA，ＢB）と、ロール搬送システムとを有し、
該湿潤ステーション（ＢA，ＢB）が、搬送方向（ＴＲ）に処理ローラを介して移動される被処理基体に下面の流体湿潤を施すために、少なくとも１つの湿潤ローラ（ＷA，ＷB）を備え、
該ロール搬送システムが、搬送ロール上に載置された被処理基体（Ｓ１，Ｓ２）を搬送方向に沿って搬送するために、該少なくとも１つの湿潤ローラを含む、搬送方向で互いに前後に間隔を置いて配置された複数の搬送ロール（Ｔ１〜Ｔ７，ＷA，ＷB）を備えている、装置において、
該湿潤ローラ（ＷA，ＷB）が所定の高さレベル（Ｈｍ，Ｈｏ）で配置されており、該高さレベル（Ｈｍ，Ｈｏ）が、該湿潤ローラに供給側で隣接するロール搬送システム区分によって定義された高さレベル（Ｈｕ，Ｈｍ）よりも、規定の高さオフセット（ΔＨA，ΔＨB）だけ高く位置していることを特徴とする、下面の流体処理によって扁平な基体（Ｓ１，Ｓ２）を湿式処理する装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの湿潤ステーションが、搬送方向で互いに前後に配置された複数の湿潤ステーション（ＢA，ＢB）又は湿潤ローラを有し、該湿潤ステーション（ＢA，ＢB）又は湿潤ローラの間に、それぞれ１つ又は２つ以上の、前記ロール搬送システムの搬送ロール（Ｔ３，Ｔ４，Ｔ５）が配置されており、該湿潤ローラのうちの少なくとも２つがそれぞれ所定の高さレベル（Ｈｍ，Ｈｏ）で配置されており、該高さレベル（Ｈｍ，Ｈｏ）が、該湿潤ローラに供給側で隣接するロール搬送システム区分によって定義された高さレベル（Ｈｕ，Ｈｍ）よりも、規定の程度（ΔＨA，ΔＨB）だけ高く位置していることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
連続する少なくとも２つの湿潤ローラ（Ｗ２，Ｗ３）が同じ高さレベルで配置されており、該高さレベルが、前記ロール搬送システムの中間区分の高さレベルと同一であることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
最も手前の湿潤ローラから最後の湿潤ローラまで（Ｂ１〜Ｂ１２）の処理行程の入口側の半部内で、該処理行程の出口側の半部内よりも多くの高さオフセット付き湿潤ローラが配置されていることを特徴とする、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
連続するそれぞれ２つの高さオフセット付き湿潤ローラの間の間隔が、搬送方向における被処理基体の長さよりも大きいことを特徴とする、請求項２〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記湿潤ローラの高さオフセットが０．１ｍｍ〜１．５ｍｍであり、且つ／又は扁平な基体の厚さよりも大きいことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
ケイ素ウエハー又はプリント基板に湿式化学的な下面エッチング又は下面洗浄処理を施すための、請求項１〜６のいずれか１項に記載の装置の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、下面に流体湿潤を施すことによって扁平な基体を湿式処理する装置であって、この装置は少なくとも１つの湿潤ステーション、並びにロール搬送システムを有し、湿潤ステーションは、搬送方向に処理ローラを介して移動される被処理基体に下面の流体湿潤を施すために、少なくとも１つの湿潤ローラを備え、ロール搬送システムは、搬送ロール上に載置された被処理基体を搬送方向に沿って搬送するために、少なくとも１つの湿潤ローラを含む、搬送方向で互いに前後に間隔を置いて配置された複数の搬送ロールを備えているものに関する。さらに本発明は、上記の基体湿式処理装置の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
このような種類の装置は、例えば本出願人によって提供され、本出願人の以前の独国特許出願に記載されているように公知である（例えば、特許文献１参照。）。このような装置によって、基体を連続法で処理することができ、これらの装置は、搬送方向で互いに前後に間隔を置いて配置された、それぞれ１つ又は２つ以上の湿潤ローラを備えた複数の湿潤ステーションを含んでいる。ロール搬送システムが、下面を湿潤されるべき基体を１つの湿潤ステーションから次の湿潤ステーションへ、そしてそれぞれの湿潤ステーションを超えて水平方向に搬送するのに役立つ。このためにロール搬送システムは、水平搬送方向で互いに前後に間隔を置いて配置された複数の搬送ロールを有している。これらの搬送ロール上に基体は載置され、これらの搬送ロールには湿潤ローラも所属している。全ての湿潤ステーションの湿潤ローラを含む搬送ロールの上面は、このような従来の装置の場合、均一な高さレベルに位置しているので、基体は常に１つの水平方向平面内に水平に位置した状態で、それぞれの湿潤ステーションを超え、そして１つの湿潤ステーションから次の湿潤ステーションへ移動される。湿潤ローラは周面の下側が処理流体浴内に潜り、これらの回転する周面が処理流体を基体下面へ向かって上方に供給する。
【０００３】
ある特許文献に開示された、下面に流体湿潤を施すことにより扁平な基体を湿式処理する別の装置の場合（例えば、特許文献２及び３参照。）、これらの装置は、基体の水平搬送方向で互いに前後に配置された湿潤ローラを有し、これらの湿潤ローラには、共通の湿潤流体浴が対応配置されている。ここでもまた、全ての湿潤ローラは、所属の連続ロール搬送システムの、湿潤流体浴の外部に配置された搬送ロールと同様に、全体的に同じ高さレベルに位置するので、被処理基体は１つの水平方向平面内で湿潤流体浴へ、そして湿潤ローラを超えて、すなわち回転する湿潤ローラ上に載置された状態で搬送される。
【０００４】
ある特許文献には、例えば化学浴内でプリント基板を処理する装置において使用し得るロール搬送システムが開示されている（例えば、特許文献４参照。）。ここに示されたロール搬送システムは、当該搬送ロールを支承するための特定の配置を有している。このような支承装置は、それぞれの搬送ロールのためのＵ字形切欠きを備えた一対の側方の長手方向支持体を有している。切欠き内には、特別な挿入体が嵌め込まれる。挿入体の内側の仕切り壁はロール支承体として機能する。
【０００５】
冒頭で述べたタイプの基体湿式処理装置は、例えば、扁平な基体の下面、及び大抵の場合には側方エッジ、すなわち長手方向エッジ及び／又は横方向エッジをもエッチングするために使用される。このために基体は、湿潤流体として適宜のエッチング溶液を備えた湿潤ステーションによって下面及び場合によっては縁部側を湿潤される。例えば、ソーラーセルを製造するのに役立つシリコンウエハーをこのようにエッチングすることができる。ここで観察されるのは、多くの場合エッチングが不均質になり、特に搬送方向で見て後方のウエハー領域内でエッチング除去が強くなることである。エッチングプロセスがソーラーセルウエハーのエッジアイソレーションのために役立つ場合、このことは前方エッジと比較して後方エッジのエッジアイソレーションが強くなることを意味する。均一なエッチング結果を得るために、例えば処理区間の半分まで来た後、ウエハーをその鉛直方向軸線を中心として１８０°だけ回転させ、ウエハーの前方エッジと後方エッジとを取り換え、このようなウエハー位置で残りのエッチングプロセスを続けることが考えられる。しかしながらこれには相応の回転ステーションが必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】独国特許出願第１０２０１１０８１９８１号
【特許文献２】独国特許出願公開第１０２００５０６２５２７号
【特許文献３】独国特許出願公開第１０２００５０６２５２８号
【特許文献４】独国特許出願公開第１０１２８３８６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の根底を成す技術的な課題は、冒頭で述べたタイプの基体湿式処理装置であって、例えばエッチングプロセスの場合に、エッチングされる基体の前方エッジ領域及び後方エッジ領域において比較的均一にエッチング除去が行われるように、比較的均一な下面流体湿潤を僅かな手間で達成し得る基体湿式処理装置を提供することである。本発明の別の目的は、このような装置の有利な使用を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明はこのような課題を、請求項１の特徴を有する基体湿式処理装置、及び請求項７の特徴を有する使用を提供することによって解決する。本発明の有利な別の構成はサブクレームに記載されている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明による装置の場合、少なくとも１つの湿潤ローラが所定の高さレベルで配置されており、この高さレベルが、湿潤ローラに供給側で隣接するロール搬送システム区分によって定義された高さレベルよりも、規定の高さオフセットだけ高く位置している。その結果、被処理基体は湿潤ローラに、湿潤ローラの高さよりも低い高さレベルで到達し、従って被処理基体の前方エッジは湿潤ローラに衝突しもしくはぶつかり、これにより被処理基体は次いでこの湿潤ローラによってその高さレベルに持ち上げられ、基体下面が湿潤ローラ上に載置された状態で湿潤ローラからさらに先へ搬送される。
【００１０】
このように流体湿潤を前方基体領域内で、具体的には基体前方エッジで、予期せぬほど大規模に改善し得ることが試験によって明らかになった。これにより、上記ウエハーエッジアイソレーションにおいて観察されるような、処理済基体の前方エッジ領域内のより弱い湿潤と後方エッジ領域内のより強い湿潤との間の上記不均一性を完全に、又は少なくとも部分的に補償することができる。ソーラーセルウエハーの上記の下面湿式エッチングの場合、このことは、この装置を本発明に基づいて使用することによって、ウエハーを極めて均質にエッチングし得ることを意味する。この装置の本発明に基づく使用は、エッチングプロセスの第１部実施後にウエハーを回転させるための回転ステーションを上述のように導入することなしに、湿式化学的な下面エッチングを施されたシリコンウエハーの前方エッジと後方エッジとの特に均一なエッジアイソレーションを可能にする。さらに別の有利な使用は、例えばプリント基板の下面エッチング、及びウエハー又はプリント基板の下面洗浄処理にある。
【００１１】
別の構成では、本発明による装置は、搬送方向で互いに前後に配置された複数の湿潤ステーション又は湿潤ローラを有し、湿潤ステーション又は湿潤ローラの間に、それぞれ１つ又は２つ以上の、ロール搬送システムの搬送ロールが配置されている。少なくとも２つの湿潤ローラは、供給側で隣接するロール搬送システム区分に対して前記高さオフセットを有している。このように高さオフセットで達成される基体前方領域の湿潤の強化は相前後して複数回行うことができる。
【００１２】
複数の湿潤ローラを備えたこのような装置の別の構成では、連続する少なくとも２つの湿潤ローラと、１つ又は２つ以上の搬送ロールを備えたロール搬送システムの中間区分とが同じ高さレベルにある。従って、こうして構成された装置は、基体前方エッジ湿潤の強化のために湿潤ローラの高さオフセットを有する１つ又は２つ以上のプロセス区分と、湿潤ローラが供給側で隣接するロール搬送システム区分と同じ高さレベルに従来のタイプで位置している１つ又は２つ以上のプロセス区分とを組み合わせている。高さオフセットを有する湿潤ローラと高さオフセットなしの湿潤ローラとを基体搬送方向に任意の所望の順序でこのような装置内に配置することにより、基体に対してそれぞれ所望の湿潤効果もしくは処理効果を達成することができる。
【００１３】
さらなる構成の場合、このような装置において、最も手前の湿潤ステーションから最後の湿潤ステーションまでの処理行程の入口側の半部内では、処理行程の出口側の半部内よりも多くの、高さオフセット付き湿潤ローラを備えた湿潤ステーションが配置されている。試験が示すところによれば、このことは例えばソーラーセルウエハーの下面エッチング処理もしくはエッジアイソレーションのために、有利なエッチングもしくはエッジアイソレーションの結果をもたらすことができる。
【００１４】
別の構成では、複数の湿潤ローラを備えた本発明による装置において、それぞれ２つの連続する高さオフセット付き湿潤ローラ間の間隔は、搬送方向における被処理基体の長さよりも大きい。このことは、被処理基体が先行の高さオフセット付き湿潤ローラを、次の高さオフセット付き湿潤ローラに達する前に完全に通過することを保証する。このことは、基体が後側で先行の湿潤ローラ上にまだ載置されているときに、次の高さオフセット付き湿潤ローラによって基体の前方側が持ち上げられるのを回避する。さらにこれにより、基体が、後ろの高さオフセット付き湿潤ローラに達したときに、先行の高さオフセット付き湿潤ローラによってもたらされた、前方に向かって上方に傾斜した非水平位置にまだあるという状況が回避される。このような傾斜位置では、基体の前方エッジは次の高さオフセット付き湿潤ローラにおそらくは全く衝突することがない。
【００１５】
本発明の別の構成では、供給側で隣接するロール搬送システム区分に対する湿潤ローラの高さオフセットは、０．１ｍｍ〜１．５ｍｍである。その代わりに、又はこれに加えて、このような高さオフセットは、扁平な被処理基体の厚さよりも大きい。試験が示すところによれば、湿潤ローラの高さオフセットをこのように量的に選択することによって、特にソーラーセルウエハーもしくはシリコンウエハーの下面エッチングの事例に対しても、極めて良好な均一な湿潤もしくは処理結果をもたらす。
【００１６】
本発明の有利な実施例が図面に示されており、これらを以下に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、複数の湿潤ステーションを備えた基体湿潤処理装置の一部を概略的に示す長手方向断面図である。
【図２】図２は、図１の装置部分を概略的に示す側面図である。
【図３】図３は、複数の湿潤ステーションを備えた別の基体湿式処理装置を概略的に示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１及び２には、複数の湿潤ステーション（ＢA，ＢB）を使用した下面流体湿潤によって扁平な基体Ｓ１，Ｓ２に湿式処理を施すための装置の、ここで重要な部分が示されている。被処理基体Ｓ１，Ｓ２を連続法において水平搬送方向ＴＲで種々のプロセスステーションへ順次移動させるのに、ロール搬送システムが役立つ。これらのプロセスステーションには、図示の両湿潤ステーションＢA，ＢBが属する。必要に応じて、通常通り湿潤ステーションＢA，ＢBの前及び／又は後に、基体Ｓ１，Ｓ２に対してさらなる処理工程を実施するための別のプロセスステーションが設けられていてよい。基体Ｓ１，Ｓ２はソーラーセル製造のためのシリコンウエハーであってよく、或いはこのような連続設備内で従来のタイプで処理される別の扁平な基体、例えば流体処理、一例としてはエッチング処理又は洗浄処理を施されるようになっているプリント基板及びこれに類するものであってよい。
【００１９】
ロール搬送システムは、搬送方向ＴＲで互いに前後に間隔を置いて配置された複数の搬送ロールＴ１，Ｔ２，．．．，Ｔ７，ＷA，ＷBを有している。これらの搬送ロールを用いて、搬送ロール上に載置された基体Ｓ１，Ｓ２を搬送方向ＴＲに移動させることができる。このために、搬送ロールＴ１〜Ｔ７，ＷA，ＷBは、搬送方向ＴＲに対して横方向に延びる、水平な長手方向軸線を有して配置されており、両側ではそれぞれ１つのロール長手方向支持体内で支承されている。これらのロール長手方向支持体のうち、図１及び２では、一方のロール長手方向支持体１を内側からもしくは外側から認識することができる。それぞれのロール長手方向支持体１はその上面からＵ字形の切り込みもしくは切欠きＬ１，．．．，Ｌ７を備えている。これらの切り込みもしくは切欠き内には各１つの軸受け挿入体が嵌め込まれている。軸受け挿入体は、それぞれの搬送ロールＬ１〜Ｔ７のための軸受けを支持する。このような搬送ロール支承は例えば上記独国特許出願公開第１０１２８３８６号に基づいてそれ自体公知であり、さらなる詳細に関してはこの文献を参照することができる。
【００２０】
それぞれの湿潤ステーションＢA，ＢBは処理流体浴と、図示の例では個別の湿潤ローラＷA，ＷBとを有している。これらの湿潤ローラは、ここでは詳細には図示しない従来のタイプで、処理流体浴の上方に配置されて、湿潤ローラの周面の下側部分が浴内に潜るようになっている。湿潤ローラＷA，ＷBは、湿潤機能のない残りの搬送ロールＴ１〜Ｔ７と一緒にロール搬送システムの搬送ロールに所属し、そして搬送ロールＴ１〜Ｔ７と同様に、搬送方向ＴＲに対して横方向に延びる、水平な長手方向軸線を有するように配置されており、端部側ではやはりそれぞれのロール長手方向支持体１内で支承されている。このために、ロール長手方向支持体１は切欠きＬA，ＬB内に適宜の軸受け挿入体を有している。非湿潤用の搬送ロールＴ１〜Ｔ７も湿潤ローラＷA，ＷBも所属の駆動手段によって従来のタイプで回転させられる。搬送ロールＴ１〜Ｔ７の回転は搬送方向ＴＲに基体を搬送させ、加えて湿潤ローラＷA，ＷBの回転は、浴からの処理流体を湿潤ローラＷA，ＷBの周面で上方に向かって連行し、湿潤ローラを超えて移動する基体Ｓ１，Ｓ２の下面を湿潤するのに役立つ。湿潤ローラＷA，ＷBの上面は基体下面と接触し、例えばこの基体下面に沿って転動する。このような湿潤ステーションは例えば出願人の相応の製品の形態で当業者にそれ自体公知であり、出願人の以前の上記独国特許出願第１０２０１１０８１９８１号に記載されている。さらなる詳細に関してはこの文献を参照することができる。
【００２１】
図１及び２に示された装置の場合、湿潤ローラＷA，ＷBは、それぞれ供給側で隣接するロール搬送システム区分に対して上方に向かって高さオフセットを有する状態で配置されていることが特徴的である。具体的に言えば、図示の第１の湿潤ステーションの手前に位置する、最も手前に示された搬送ロールＴ１，Ｔ２を有するロール搬送システム区分は高さレベルＨuにある。この高さレベルＨuは湿潤ローラＷAの高さレベルＨｍに対して高さオフセットΔＨAだけ低いレベルにある。すなわちＨｍ＝Ｈｕ＋ΔＨAである。高さレベルという概念は、それぞれ搬送ロールＴ１〜Ｔ７もしくは湿潤ローラＷA，ＷBの上面レベルを意味し、すなわち、搬送ロールＴ１〜Ｔ７もしくは湿潤ローラＷA，ＷBの、その回転する周面／外套面の最高点におけるレベルを意味する。従ってこのような高さレベルはそれぞれ、ロールＴ１〜Ｔ７もしくはローラＷA，ＷB上に載置された基体Ｓ１，Ｓ２の下面の高さレベルに相当する。
【００２２】
両湿潤ステーションＢA，ＢBの間に３つの搬送ロールＴ３，Ｔ４，Ｔ５を有する中間ロール搬送システム区分は、その手前に位置する湿潤ステーションＢAの湿潤ローラＷAと同じ高さレベルに位置している。すなわち搬送ロールＴ３，Ｔ４，及びＴ５は湿潤ローラＷAと同じ上面レベルＨｍを有している。これに対して、このような中間ロール搬送システム区分に続く第２湿潤ステーションＢBの湿潤ローラＷBは規定可能な高さオフセットΔＨBを上方に向かって有する。すなわち湿潤ローラＷBの上面レベルは高さＨＯ＝Ｈｍ＋ΔＨBにある。搬送方向ＴＲで見て第２湿潤ステーションＢBに続いて設けられた、搬送ロールＴ６及びＴ７を有する第３ロール搬送システム区分は、その手前に位置する湿潤ローラＷBと同じ高さレベルＨｏを有している。
【００２３】
それぞれの湿潤ローラＷA，ＷBが、そのすぐ手前に位置する、すなわち供給側で隣接するロール搬送システム区分に対して本発明による高さオフセットΔＨA，ΔＨBを有する結果、当該湿潤ローラＷA，ＷBへ移動してくる基体Ｓ１，Ｓ２の前方エッジ領域Ｖが、回転する湿潤ローラＷA，ＷBにぶつかりもしくは衝突し、次いで基体Ｓ１，Ｓ２はこの湿潤ローラによって、高められたレベルへ連行される。図１及び２が示す状況の場合、後側の基体Ｓ１の前方エッジ領域Ｖは第１湿潤ローラＷAにちょうど衝突したところであり、これに対して、前側の基体Ｓ２の前方エッジ領域Ｖは第２湿潤ローラＷBによって既にそのより高いレベルＨｏへ持ち上げられている。
【００２４】
言うまでもなく、それぞれの湿潤ローラＷA，ＷBの、供給側で隣接するロール搬送システム区分に対する高さオフセットΔＨA，ΔＨBは、湿潤ローラＷA，ＷBの半径よりも常に小さく、有利には著しく小さく選択されているので、案内されてくる基体は上側近くのローラ周面領域内で湿潤ローラＷA，ＷBに衝突し、そして基体を湿潤ローラによって問題なく連行して持ち上げることができる。湿潤ローラＷA，ＷBにおける基体前方エッジの衝突点は円形のローラ断面の中心点から測定して鉛直面に対して６０°未満、好ましくは４５°未満の角度を成していると有利である。このようになっていると、ローラ高さオフセットΔＨA，ΔＨBは、湿潤ローラ半径よりも充分に小さいままである。有利な実現形では、それぞれの高さオフセットΔＨA，ΔＨBは０．１ｍｍ〜１．５ｍｍである。両方の値ΔＨA及びΔＨBは同じもの又は異なるものを選択することができる。高さオフセットΔＨA，ΔＨBはさらに、例えばこれが基体の厚さよりも大きくなるように、扁平な被処理基体Ｓ１，Ｓ２の厚さに調和されていてよい。高さオフセットを明確に認識できるようにするために、高さオフセットは図１及び２において誇張してノンスケールで図示されている。
【００２５】
図１及び図２の図示の例において、搬送ロールＴ１〜Ｔ７及び湿潤ローラＷA，ＷBの高さレベルは、ロール長手方向支持体１内の所属の鉛直方向の切欠きＬ１〜Ｌ７の深さによって個々に調整される。すなわち、中間搬送ロールＴ３，Ｔ４，Ｔ５及び第１湿潤ローラＷAのための切欠きＬ３，Ｌ４，Ｌ５，ＬAは、入口側の両搬送ロールＴ１，Ｔ２のための切欠きＬ１，Ｌ２の深さよりも高さオフセットΔＨAだけ小さく選択されている。同様に、第２湿潤ローラＷB及び最後の両搬送ロールＴ６，Ｔ７も、その手前で隣接するロール搬送システム区分の搬送ロールＴ３，Ｔ４，Ｔ５のための切欠きＬ３，Ｌ４，Ｌ５よりも高さオフセットΔＨAだけ小さく選択されている。異なる深さの切欠きＬ１〜Ｌ７，ＬA，ＬB内には同様に構成された軸受け挿入体が嵌め込まれている。図２には、それぞれの高さオフセットを提供するための、軸受け挿入体に用いられる切欠きＬ１〜Ｌ７，ＬA，ＬBの異なる深さが、高さオフセットの大きさを誇張して再現した状態で、ノンスケールで示されている。別の実施態様では、全ての切欠きが同じ深さでロール長手方向支持体内に成形されている。種々異なる構成を有する軸受け挿入体、すなわちこれらの軸受け挿入体によって支承レベルが提供される、相応の高さオフセットを有する軸受け挿入体を利用することによって、搬送ロールＴ１〜Ｔ７もしくは湿潤ローラＷA，ＷBのための高さオフセットを実現する。
【００２６】
下面で湿潤されるべき基体Ｓ１，Ｓ２の前方エッジ領域Ｖを、供給側の搬送レベルに対して上方に向かって高さオフセットを施された湿潤ローラＷA，ＷBに衝突させ、もしくはぶつけるとともに、これに続いてこのような前方基体領域Ｖを、回転する湿潤ローラＷA，ＷBによって連行して持ち上げることにより、処理流体による基体Ｓ１，Ｓ２のための湿潤度を増強し、もしくは均質化することができる。基体Ｓ１，Ｓ２の前方エッジ領域Ｖが湿潤ローラＷA，ＷBと直接に接触し、所定の運動距離にわたって、つまり湿潤ローラＷA，ＷBへの衝突点から湿潤ローラＷA，ＷBの最上点、すなわち転回点に達するまで、この湿潤ローラＷA，ＷBと接触し続けることが保証される。
【００２７】
試験が示すところによれば、これにより基体下面の前方エッジ領域に対するあまりにも弱い湿潤を驚くほど良好に阻止することができる。こうして、基体下面全体にわたって比較的均質な湿潤結果を達成することができる。具体的に言えば、エッジアイソレーションを目的として湿式化学的な下面エッチングをシリコンウエハーに施すための使用事例において、前方エッジ領域Ｖ内にも、搬送方向ＴＲで見て反対側の後方エッジ領域内にも、均一のエッジアイソレーションをもたらすことができる。プロセス行程の途中で前方エッジ領域と後方エッジ領域とを取り換え、こうして前方エッジ領域及び後方エッジ領域における均一なエッジ結果のために役立つように、ウエハーを回転させるための回転ステーションを上述のように導入することは、本発明による装置の使用によって必要でなくなる。
【００２８】
上方に向いた高さオフセットを有するそれぞれの湿潤ローラを横切ると、前方エッジ領域が持ち上がることにより、処理された扁平な基体が僅かに斜め位置を成すようになることは、特にシリコンウエハーの下面湿式エッチングに際して更なる利点をもたらす。多くの場合、基体上面に流体マスク、例えば水マスクを被着することによって、下面に使用されるべきエッチング流体の影響からこの上面を保護する。高さオフセット付き湿潤ローラに達した後に基体が僅かに持ち上げられることによって、上面の流体マスクの一部がこの湿潤ローラ上に達してその場所で処理流体を望ましくなく希釈することが信頼性高く阻止される。むしろ、上面の流体マスクは基体後方エッジの方向に流れることができる。
【００２９】
図１及び２には、高さオフセット付き湿潤ローラＷA，ＷBを備えた２つの湿潤ステーションＢA，ＢBを有する装置部分が示されてはいるが、言うまでもなく、本発明は湿潤ローラの高さオフセットを備えたただ１つの湿潤ステーション、又は３つ以上のこのような湿潤ステーションを有する装置をも含む。図示の例では、各湿潤ステーションＢA，ＢBが個別の湿潤ローラＷA，ＷBを有している。言うまでもなく、本発明の別の実施態様では、それぞれの湿潤ステーションは複数の湿潤ローラを有することもできる。これらの湿潤ローラは例えば１つの共通の処理流体浴に浸される。複数の湿潤ローラのうちの全て、又は任意に選択可能な一部だけが高さオフセットを有して配置されていてよい。
【００３０】
高さオフセットを有する、連続する各２つの湿潤ローラ間の間隔は、被処理基体の搬送方向ＴＲにおける長さよりも大きいと有利である。このことは、基体が手前の湿潤ローラを去った後、続いて設けられた高さオフセット付き湿潤ローラに達する前に、高さオフセット付き湿潤ローラ間の搬送ロール上で先ず再びその正確に水平方向の位置を成すことを保証する。
【００３１】
図３は、例えばソーラーセル用シリコンウエハーの下面湿式エッチングのために使用できるような基体湿式処理装置を概略的に示している。このために装置は、ここで重要な、図３に示されたプロセス区分内に、図１及び２に関して上述した湿式ステーションＢA，ＢBのタイプに基づく、それぞれ１つの湿潤ローラＷ１〜Ｗ１２を備えた１２個の湿潤ステーションＢ１〜Ｂ１２と、図１及び２に関して上述したロール搬送システムのタイプに基づく１つのロール搬送システムとを有している。非湿潤用の搬送ロールは図３では、見やすさのために省略されている。湿潤ローラＷ１〜Ｗ１２を含む搬送ロールは、図１及び２の装置に関して上述したのと同様に、側方のロール長手方向支持体に支承されている。これらのロール長手方向支持体のうち図３では一方のロール長手方向支持体１‘を認識することができる。具体的には、これらのロール長手方向支持体１‘は上面から鉛直方向に成形された切欠きもしくは切り込みを備えている。これらの切欠きもしくは切り込み内には、搬送ロールのための適宜の軸受け挿入体が嵌め込まれている。図１及び２の実施例に関して上述したように、ここでもロール長手方向支持体１‘内の切り込み、もしくは切り込み内に嵌め込まれた挿入体は、これらにそれぞれ支承された搬送ロールが所望の高さレベルを成すように形成されている。
【００３２】
扁平な基体に下面湿式処理もしくは湿式エッチングを施すための、図３に示された装置のプロセス部分は、互いに前後に位置する処理区分Ｐ１〜Ｐ５を有している。これらの処理区分はそれぞれ湿潤ステーションＢ１〜Ｂ１２のうちの１つ又は２つ以上を有している。それぞれの湿潤ステーションの湿潤ローラ同士は同じ高さレベルに位置しており、それぞれ先行の処理区分の湿潤ローラ高さレベルに対して持ち上げられている。図３では、種々の高さレベルは、所属の処理区分Ｐ１〜Ｐ５、及びロール搬送システムの隣接区分Ｅ，Ｚに相応する数値データによって表されている。
【００３３】
具体的には、ロール搬送システムの入口側区分Ｅに続いて、第１処理区分Ｐ１が設けられている。第１処理区分Ｐ１は第１湿潤ステーションＢ１を有している。所定のゼロ基準高さレベルに対して、入口側区分Ｅの搬送ロールは−１．２５ｍｍだけ沈め込まれた高さレベルに位置している。これに対して、直接これらの搬送ロールに続いて設けられた、第１湿潤ステーションＢ１の湿潤ローラＷ１の高さレベルは、第１処理区分Ｐ１内の後続の搬送ロールの高さレベルと同様に、０．５ｍｍだけ持ち上げられている。すなわち高さレベルは−０．７５ｍｍである。これは図１及び２の例における高さオフセットΔＨAに相当する。第１処理区分Ｐ１に続いて、第２処理区分Ｐ２が設けられている。第２処理区分Ｐ２は次の３つの湿潤ステーションＢ２，Ｂ３，Ｂ４を有し、これらの湿潤ステーションの湿潤ローラＷ２，Ｗ３，Ｗ４及びそれぞれ後続の搬送ロールの高さレベルは、第１処理区分Ｐ１の高さレベルに対してやはり０．５ｍｍだけ上方に向かってオフセットされており、すなわち−０．２５ｍｍに位置している。このように、第２処理区分Ｐ２の最も手前側の湿潤ステーションＢ２には、第１処理区分Ｐ１の搬送ロールを備えた、供給側で隣接する搬送ロール区分に対して、湿潤ローラＷ２の高さオフセットが再び存在している。これは図１及び２の例における第２湿潤ステーションＢBの高さオフセットΔＨBに相当する。
【００３４】
第２処理区分Ｐ２に続いて搬送方向ＴＲに第３処理区分Ｐ３が設けられている。第３処理区分Ｐ３は次の両方の湿潤ステーションＢ５，Ｂ６を有し、その高さレベルは、先行の処理区分Ｐ２に対してやはり０．５ｍｍだけ上方に向かってオフセットされており、すなわち＋０．２５ｍｍに位置している。このことは、手前側の湿潤ステーションＢ５の湿潤ローラＷ５の、その手前に位置する処理区分Ｐ２の搬送ロールに対する高さオフセットをもたらす。同様に、第３処理区分Ｐ３に続いて、次の３つの湿潤ステーションＢ７，Ｂ８，Ｂ９を備えた第４処理区分Ｐ４が設けられており、第４処理区分Ｐ４には、最後の３つの湿潤ステーションＢ１０，Ｂ１１，Ｂ１２を備えた第５処理区分Ｐ５が設けられている。これらの第４処理区分Ｐ４及び第５処理区分Ｐ５もそれぞれ先行の処理区分に対して上方に向かって０．５ｍｍの高さオフセットを有している。最後の処理区分Ｐ５に続いて出口側のロール搬送システム区分Ｚが設けられている。この区分では基体の搬送高さレベルは、最後の処理区分Ｐ５の持ち上げられたレベル＋１．２５ｍｍから、中間レベル＋１．０ｍｍ及び＋０．５ｍｍを介して０ｍｍのゼロ基準レベルへ、それぞれ少なくとも１つの搬送ロールから成る３つの段階に段付けされた状態で低減される。図３において出口側のロール搬送システム区分Ｚは例えば、後続の洗浄モジュールの供給区分であってよい。この供給区分内では、基体に場合によっては残留している処理流体が洗い落とされる。
【００３５】
従って、図３の設備部分によって処理される基体に対して以下のプロセス経過がもたらされる。基体は−１．２５ｍｍの沈め込まれた高さレベルにあるロール搬送システムの入口側区分Ｅ内で、このレベルに対して０．５ｍｍだけ上方に向かって高さオフセットを有する第１湿潤ローラＷ１へ案内され、上述のようにこの湿潤ローラによって基体前方エッジ領域内で高さオフセットに基づいて増強された状態で湿潤される。基体は湿潤ローラＷ１を乗り越え、これにより基体の下面は初めて処理流体で湿潤される。続いて基体は、高さオフセット付きの第２湿潤ローラＷ２に達し、その場所で、やはり高さオフセットによって増強された前方エッジ湿潤とともに２回目の下面湿潤を施される。この後、基体は通常のように、次の両湿潤ローラＷ３及びＷ４を乗り越え、これによりその場所で、その都度従来のタイプで、湿潤ローラの高さオフセットなしに３回目及び４回目の湿潤を施される。次いで、基体は、再び高さオフセット付きの第５湿潤ローラＷ５に達する。この場所で基体は３回目の増強型前方エッジ湿潤を施される。基体は続いて、すぐに前置された搬送ロールに対して高さオフセットを有していない湿潤ローラＷ６によって、増強型前方エッジ湿潤なしにさらに１回湿潤される。その場所から、基体は再び高さオフセット付きの第７湿潤ローラＷ７へ達し、そこで４回目の増強型前方エッジ湿潤とともに湿潤を施される。これに続いて、高さオフセットなしの次の湿潤ローラＷ８及びＷ９によって２回湿潤が行われる。その後、基体は、第５処理区分Ｐ５の始端部に設けられた最後の高さオフセット付き湿潤ローラＷ１０に達し、その場所で最終回の増強型前方エッジ湿潤とともに湿潤を施される。これに続いて、湿潤ローラＷ１１及びＷ１２によって増強型前方エッジ湿潤なしの通常湿潤がさらに２回行われる。これにより、湿潤処理が終了し、基体はロール搬送システムの出口側Ｚに設けられた両方の中間段を介して、高められたレベル＋１．２５ｍｍから基準レベル０ｍｍへ達する。
【００３６】
図３及び上記実施態様から明らかなように、最初の湿潤ステーションＢ１から最後の湿潤ステーションＢ１２にまで及ぶ処理行程の、搬送方向ＴＲで見て手前側の第１半部では、出口側の第２半部内よりも多くの、高さオフセット付き湿潤ローラを備えた湿潤ステーションが設けられている。具体的に述べるならば、最初の３つの処理区分Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を有する第１半部内には、高さオフセット付き湿潤ローラＷ１，Ｗ２，Ｗ５を備えた３つの湿潤ステーションＢ１，Ｂ２，Ｂ５が設けられており、出口側の半部内には高さオフセット付き湿潤ローラＷ７，Ｗ１０を備えた２つの湿潤ステーションＢ７，Ｂ１０しか設けられていない。このことは処理時間経過中に基体前方エッジ領域の早期の増強型湿潤を促進する。この処理時間は、それぞれの基体に対して時間的に見て第１湿潤ローラＷ１への到着時から、最後の湿潤ローラＷ１２からの離脱時にまで及ぶ。言うまでもなく、高さオフセット付き湿潤ローラを有する湿潤ステーション、及び高さオフセット付き湿潤ローラを有さない湿潤ステーションの順序はそれぞれの使用事例に調和するように任意の形態で適宜に確定することができる。同じことがそれぞれの高さオフセットの程度にも当てはまる。図３の例では高さオフセットは常に０．５ｍｍであるが、しかし本発明の別の実施態様では、例えば０．１ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲の任意の他の値を有することができ、また必要な場合には、高さオフセットは処理行程に沿った種々の湿潤ステーションに対して異なる大きさに確定することもできる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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