(57)【要約】  自己較正圧力センサシステムは、気体または液体の圧力を測定してもよい。前記システムは、圧力センサ、基準センサ、およびドリフト補償システムを含んでもよい。前記圧力センサは、一方の側が前記気体または液体に露出され、他方の側が密閉チャンバの壁を形成する、圧力検知可撓隔膜を含んでもよい。前記基準センサは、その両側が同一の密閉チャンバ内にある、または同一の密閉チャンバに露出された基準可撓隔膜を含んでもよい。前記ドリフト補償システムは、前記気体または液体の前記圧力を表す情報を、前記圧力センサからの信号に基づいて生成するとともに、前記基準センサからのこの信号の変化に基づいてこの信号中のドリフトを補償してもよい。前記圧力検知可撓隔膜および前記基準可撓隔膜は、単一連続工程において単一層の材料を堆積または成長することによって、実質的に同時に製造してもよい。
2016514844.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体または液体の圧力を計測する自己較正圧力センサシステムであって、
一方の側が前記気体または液体に露出され、他方の側が密閉チャンバの壁を形成するように配置された圧力検知可撓隔膜を含む圧力センサと、
その両側がともに前記密閉チャンバ内にあるか、または露出された基準可撓隔膜を含む基準センサと、
前記圧力センサから、および前記基準センサから、信号を受信し、
前記圧力センサからの信号に基づいて、前記気体または液体の前記圧力を表す情報を生成し、
前記基準センサからの信号の変化に基づいて、前記圧力センサからの信号中のドリフトを補償するドリフト補償システムと、
を備える自己較正圧力センサシステム。
【請求項２】
前記圧力センサは、前記圧力検知可撓隔膜から離間されるとともに、前記液体または気体の圧力の関数として変化する静電容量を有するコンデンサーを前記圧力検知可撓隔膜で形成する、圧力電極を含み、
前記圧力センサは、１〜１０００μｍの間の特徴的な平面の大きさと、０.１〜２０μｍの間の特徴的な共形の層厚さと、一層以上のシリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、または金属とを有し、
前記圧力電極と前記圧力検知隔膜との間の空間は、前記気体または液体に露出されない、請求項１に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項３】
前記圧力電極は、その両方が前記気体または液体から隔離された２つの側を有する、請求項２に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項４】
前記圧力電極は、前記密閉チャンバ内にある、請求項３に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項５】
前記基準センサは、前記基準可撓隔膜から離間されるとともに、前記液体または気体の圧力の変化に反応して変化しない静電容量を有するコンデンサーを前記基準可撓隔膜で形成する、基準電極を含み、
前記基準センサは、１〜１０００μｍの間の特徴的な平面の大きさと、０.１〜２０μｍの間の特徴的な共形の層厚さと、一層以上のシリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、または金属とを有し、
前記基準電極と前記基準可撓隔膜との間の空間は、前記気体または液体に露出されない、請求項２に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項６】
前記基準電極は、その両方が前記気体または液体から隔離された２つの側を有する、請求項５に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項７】
前記基準電極は、前記密閉チャンバ内にある、請求項６に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項８】
可撓隔膜は２つとも実質的に平坦であるとともに、単一結晶材料からなる、請求項１に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項９】
可撓隔膜は２つとも大きさ、形状、厚さ、および材料組成が実質的に同一である、請求項１に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項１０】
前記圧力センサおよび前記基準センサは、大きさ、形状、厚さ、および材料組成が実質的に同一である、請求項９に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項１１】
前記圧力センサが設置される環境の変化を検知し、前記気体または液体の前記圧力の変化は検知しないように位置する環境センサをさらに備える、請求項１に記載の自己較正圧力センサシステム。
【請求項１２】
気体または液体の圧力を計測する自己較正圧力センサシステムの製造方法であって、
一方の側が前記気体または液体に露出されるように配置された圧力検知可撓隔膜を含む圧力センサを製造する工程と、
どの側も前記気体または液体に露出されない基準可撓隔膜を含む基準センサを製造する工程とを備え、
前記圧力検知可撓隔膜および前記基準可撓隔膜は、単一連続工程において単一層の材料を堆積または成長させることによって、実質的に同時に製造される方法。
【請求項１３】
前記単一層の材料は単一結晶材料であることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記圧力センサおよび前記基準センサを製造する工程は、１〜１０００μｍの間の平面の大きさと、０.１〜２０μｍの間の特徴的な共形の層厚さと、一層以上のシリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、または金属とを製造する工程を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記圧力検知可撓隔膜の他方の側は、密閉チャンバの壁を形成し、前記基準可撓隔膜の両側は、前記密閉チャンバ内にある、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
可撓隔膜は２つとも実質的に平坦であるとともに単一結晶材料からなる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
可撓隔膜は２つとも、大きさ、形状、および厚さが実質的に同一である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
前記圧力センサおよび前記基準センサは、大きさ、形状、厚さ、および材料組成が実質的に同一である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１９】
前記圧力センサが設置される環境の変化を検知し、前記気体または液体の圧力の変化は検知しないように位置する環境センサを製造する工程をさらに備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
前記圧力センサは、前記圧力検知可撓隔膜から離間されるとともに、前記液体または気体の圧力の関数として変化する静電容量を有するコンデンサーを前記圧力検知可撓隔膜で形成する、電極を含み、
前記基準センサは、前記基準可撓隔膜から離間されるとともに、前記液体または気体の圧力の関数として変化しない静電容量を有するコンデンサーを前記基準可撓隔膜で形成する、電極を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項２１】
前記圧力センサおよび前記基準センサの電極は、単一連続工程において単一層の材料を堆積または成長させることによって、実質的に同時に製造され、
前記圧力センサ内の電極と前記圧力検知可撓隔膜との間の空間、および前記基準センサ内の電極と前記基準可撓隔膜との間の空間は、単一連続工程において単一層の材料を堆積または成長させることによって、実質的に同時に製造される、請求項２０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、気体または液体の圧力を検知する圧力センサ、およびマイクロ電子機械システム(MEMS)技術に関するものである。
【０００２】
（関連出願の相互参照）
本願は、「共通の密閉チャンバを共有する圧力センサおよび基準センサ付き自己較正圧力センサシステム」と題し、代理人整理番号０８６４００−０２０４（ＭＫＳ−２３１ＵＳ）で、２０１３年１２月９日に出願した米国特許出願第１４／１０１，１７７号、および「オートゼロイング圧力センサ」と題し、代理人整理番号０８６４００−０１７１（ＭＫＳ−２３１ＰＲ）で、２０１３年４月４日に出願した米国仮特許出願第６１／８０８，４４３号に基づくとともに、これらの出願に優先権を主張する。これらの出願の各々の内容全てをここに参照して援用する。
【背景技術】
【０００３】
圧力センサを用いて、気体または液体の圧力を検知することができる。
【０００４】
使用前には、既知の圧力に対して圧力センサを較正しうる。それにもかかわらず、経年及び環境条件によって引き起こされうる圧力センサの特性の変化によって、圧力センサの精度が劣化することがある。圧力センサは繰り返し再較正する必要があるので、コストが嵩み、圧力センサをその圧力検知機能の実行から一時的に取外す必要も生じうる。
【０００５】
較正を支援するために、基準センサを備ることもできる。基準センサは、気体または液体の圧力の変化に不感応であってもよいという点を除き、圧力センサと同一環境に露出することができる。そしてドリフト補償システムによって、基準センサの変化を用いて、圧力センサのドリフトを補償することも可能である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ドリフト補償の精度は、圧力センサと基準センサとの間の不均衡によって低下しうる。基準センサを追加すると、製造コスト、および圧力センサシステムのサイズを増大させることにもなりうる。
【０００７】
自己較正圧力センサシステムは、気体または液体の圧力を測定してもよい。前記システムは、圧力センサ、基準センサ、およびドリフト補償システムを含んでもよい。前記圧力センサは、一方の側が前記気体または液体に露出され、他方の側が密閉チャンバの壁を形成する、圧力検知可撓隔膜を含んでもよい。前記基準センサは、その両側が同一の密閉チャンバ内にある、または同一の密閉チャンバに露出された基準可撓隔膜を含んでもよい。前記ドリフト補償システムは、前記気体または液体の前記圧力を表す情報を、前記圧力センサからの信号に基づいて、生成するとともに、前記基準センサからのこの信号の変化に基づいて、この信号中のドリフトを補償してもよい。
【０００８】
前記圧力センサは、前記圧力検知可撓隔膜から離間されるとともに、前記液体または気体の圧力の関数として変化する静電容量を有するコンデンサーを前記圧力検知可撓隔膜で形成する、圧力電極を含んでもよい。
【０００９】
前記圧力センサは、１〜１０００μｍの間の特徴的な平面の大きさと、０.１〜２０μｍの間の特徴的な共形の層厚さと、一層以上のシリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、または金属とを有してもよい。
【００１０】
前記圧力電極と前記圧力検知隔膜間との空間は、前記気体または液体に露出されなくてもよい。
【００１１】
前記圧力電極は、その両方が前記気体または液体から隔離された２つの側を有してもよい。
【００１２】
前記圧力電極は前記密閉チャンバ内にあってもよい。
【００１３】
前記基準センサは前記基準可撓隔膜から離間されるとともに、前記液体または気体の前記圧力の変化に反応して変化しない静電容量を有するコンデンサーを前記基準可撓隔膜で形成する基準電極を含んでもよい。
【００１４】
前記基準センサは、１〜１０００μｍの間の特徴的な平面の大きさと、０.１〜２０μｍの間の特徴的な共形の層厚さと、一層以上のシリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、または金属とを有してもよい。
【００１５】
前記基準電極および前記基準可撓隔膜間の空間は、前記気体または液体に露出されなくてもよい。
【００１６】
前記基準電極は、その両方が前記気体または液体から隔離された２つの側を有してもよい。
【００１７】
前記基準電極は前記密閉チャンバ内にあってもよい。
【００１８】
可撓隔膜は２つとも実質的に平坦であるとともに、単一結晶材料よりなってもよい。
【００１９】
可撓隔膜は２つとも大きさ、形状、厚さ、および材料組成が実質的に同一であってもよい。
【００２０】
前記圧力センサおよび前記基準センサは、大きさ、形状、厚さ、および材料組成が実質的に同一であってもよい。
【００２１】
前記自己較正圧力センサシステムは、前記圧力センサが設置される環境の変化を検知し、前記気体または液体の圧力の変化は検知しないように位置する環境センサを含んでもよい。
【００２２】
気体または液体の圧力を計測する自己較正圧力センサシステムの製造方法は、一方の側が前記気体または液体に露出されるように配置された圧力検知可撓隔膜を含む圧力センサを製造する工程と、どの側も前記気体または液体に露出されない基準可撓隔膜を含む基準センサを製造する工程とを備えてもよい。前記圧力検知可撓隔膜および前記基準可撓隔膜は、単一連続工程において単一層の材料を堆積または成長させることによって、実質的に同時に製造されてもよい。
【００２３】
前記単一層の材料は単一結晶材料であってもよい。
【００２４】
前記圧力センサおよび前記基準センサの前記電極は、単一連続工程において単一層の材料を堆積または成長させることによって、実質的に同時に製造されてもよい。
【００２５】
前記圧力センサ内の電極と前記圧力検知可撓隔膜との間の空間、および前記基準センサ内の電極と前記基準可撓隔膜との間の空間は、単一連続工程において単一層の材料を堆積または成長させることによって、実質的に同時に製造されてもよい。
【００２６】
これらは、他の部品、工程、特徴、目的、利益、および利点同様に、以下の実施形態の詳細な説明、添付の図面、および請求項の検討から明確になるだろう。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】図１は、マイクロ電子機械システム（ＭＥＭＳ）堆積、パターニング、およびエッチング技術を用いて、両方が同時に製造されうる圧力センサおよびマッチング基準センサの一例を示す。
【図２Ａ】図２Ａは、マイクロ電子機械システム（ＭＥＭＳ）堆積、パターニング、およびエッチング技術を用いて、両方が同時に製造されうる圧力センサおよびマッチング基準センサの一例の上面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、マイクロ電子機械システム（ＭＥＭＳ）堆積、パターニング、およびエッチング技術を用いて、両方が同時に製造されうる圧力センサおよびマッチング基準センサの一例における外キャップを外した状態の同上面図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、マイクロ電子機械システム（ＭＥＭＳ）堆積、パターニング、およびエッチング技術を用いて、両方が同時に製造されうる圧力センサおよびマッチング基準センサの一例の底面図である。
【図２Ｄ】図２Ｄは、マイクロ電子機械システム（ＭＥＭＳ）堆積、パターニング、およびエッチング技術を用いて、両方が同時に製造されうる圧力センサおよびマッチング基準センサの一例における最下層を外した状態の同底面図である。
【図２Ｅ】図２Ｅは、マイクロ電子機械システム（ＭＥＭＳ）堆積、パターニング、およびエッチング技術を用いて、両方が同時に製造されうる圧力センサおよびマッチング基準センサの一例における、共有された密閉チャンバの一部分を示す断面図である。
【図３】図３は、自己較正圧力センサシステムの一例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
ここから実施形態を説明する。これに加えて、またはこれに換えて、他の実施形態を用いてもよい。スペースを節約するため、またはより効果的な説明のために、明白または不要な詳細を省略することがある。実施形態の中には、追加の部品または工程とともに、および／または、説明されている部品または工程が全てない状態で、実施してもよいものがある。
【００２９】
図面は説明的な実施形態のものである。これらは必ずしも全ての実施形態を説明するものではない。これに加えて、またはこれに替えて他の実施形態を用いてもよい。明白または不要な詳細は、スペースの節約のため、またはより効果的な説明のために省略してもよい。実施形態の中には、追加の部品または工程とともに、および／または、説明されている部品または工程が全てない状態で、実施してもよいものがある。異なる図面中に同一の数字が見られる場合は、同一または同様の部品または工程を意味する。
【００３０】
図１は、マイクロ電子機械システム（ＭＥＭＳ）堆積、パターニング、およびエッチング技術を用いて、両方が同時に製造されうる圧力センサ１０１およびマッチング基準センサ１０３の一例を示す。より具体的には、圧力センサ１０１およびマッチング基準センサ１０３の対応部品の各々を、同時に、一層ずつ形成することができる。各層は、堆積および／または成長してもよいし、シリコン、二酸化ケイ素、シリコン硝酸塩、または金属のような材料から形成してもよい。堆積後、各層の除去すべき部分を区分するために、各層をパターニングしてもよく、その後、エッチング工程を用いてこれらの部分を除去してもよい。その結果、図１に示すような、圧力センサ１０１および基準セン１０３の両方を、１〜１０００μｍの平面の大きさ、および０．１〜２０μｍの特徴的な共形の層厚さの構造とすることができる。
【００３１】
基板層１０５を、シリコン、ガラス、またはサファイアより形成してもよい。他の層１０７および１０９をこれに続け、これに層１１１を続けてもよい。層１１１は、圧力センサ１０１の一部を形成しうる実質的に平坦な圧力検知可撓隔膜１１３として機能し、基準センサ１０３の一部を形成しうる実質的に平坦な基準可撓隔膜１１５として機能する、連続堆積工程中では同一の層である。層１１１は、単一結晶材料のようなものであれば、どんな材料で形成してもよい。
【００３２】
絶縁層１１７に続けて、連続堆積工程中では同一の層である、圧力センサ１０１の一部となりうる電極１２１と、基準センサ１０３の一部となりうる電極１２３とを形成するために、電導的にドープしたポリシリコン層１１９のような導電性層を堆積、パターニング、およびエッチングすることができる。電極１２１および１２３は、それぞれ隔膜１１３および１１５から離間することができる。また電極１２１および１２３は、それぞれの隔膜と連動して、静電容量がそれぞれの隔膜の変化の関数として変化するコンデンサーを形成しうる。この構成では、隔膜を形成する層は、金属またはドープしたＳｉ導体で形成することができる。電極は、共有された密閉チャンバ１２９内にあってもよく、共有された密閉チャンバ１２９の壁を形成してもよい。
【００３３】
他の実施例では、電極ではなく、各隔膜上に載置された一つ以上のひずみゲージを備えることにしうる。これらの他の実施例では、隔膜の変化を、ひずみゲージからの信号の変化によって検知することができる。
【００３４】
電極１２１および１２３を保護しうるキャップ１２５を形成するために、一つ以上の追加の層を、堆積、パターニング、およびエッチングしてもよい。
【００３５】
圧力センサ１０１および／または基準センサ１０３内に、多様なエッチングされた層が多様なチャンバを共同して形成してもよい。
【００３６】
例えば、圧力が測定される気体または液体が通過するであろう吸気チャンバ１２７を、多様なエッチングされた層が共同して形成してもよい。圧力センサ１０１の隔膜１１３の一方の側が、吸気チャンバ１２７の壁を形成して、圧力が測定される気体または液体に露出されてもよい。隔膜１１３の他方の側が、密閉チャンバ１２９の壁を形成してもよい。
【００３７】
同様に、多様な層が共同して、基準センサ１０３内に基準チャンバ１３１を形成してもよく、基準センサ１０３の一方の側が、基準可撓隔膜１１５の一方の側を含んでもよい。基準チャンバ１３１は、基準チャンバ１３１内の、酸素、窒素、水素、一酸化炭素のような不純物を吸収するタイプの材料を含みうるゲッター１３３を備えることができる。例えば、ゲッター１３３は、ジルコニウム合金、タンタル合金、コロンビウム合金、トリウム合金、チタン合金、マグネシウム合金、および／またはバリウム合金より形成され、または、これらの合金を含むとしうる。基準可撓隔膜１１５の他方の側が、共有された密閉チャンバ１２９の別の壁を形成してもよい。基準可撓隔膜１１５は、気体が通過しうる開口１３５を有することができ、これによって基準可撓隔膜１１５の両側および圧力検知可撓隔膜１１３の一方の側が全部露出されて、これら全部が、共有された密閉チャンバ１２９を共有することができる。基準チャンバ１３１と共有された密閉チャンバ１２９との間に、追加の、または異なる気体流路があってもよい。
【００３８】
圧力検知可撓隔膜１１３への変化は、測定される気体または液体の圧力の対応する変化と、圧力検知可撓隔膜１１３の経年変化、および／または、測定される気体または液体の圧力の変化以外の、温度、湿度、および／または大気圧の変化のような周囲の環境の変化との両方によって引き起こされうる。一方、基準可撓隔膜１１５への変化は、基準可撓隔膜１１５の経年変化、および／または周囲の環境の変化によってのみ、引き起こされうる。このように、基準可撓隔膜１１５への変化は、経年／環境変化によって引き起こされる可撓隔膜１１３への変化と同一であるとすることができる。よって、可撓隔膜１１５への変化の測定が、同一の経年／環境変化によって同じように引き起こされている圧力検知可撓隔膜１１３への変化を表す指標を果たしうる。
【００３９】
隔膜１１３および１１５のような、圧力センサ１０１および基準センサ１０３の対応部品は、それぞれ、大きさ、形状、厚さ、および／または材料組成を実質的に同一にすることができる、このようにすることで、経年／環境変化に起因する基準可撓隔膜１１５への変化と、経年／環境変化に起因する圧力検知可撓隔膜１１３への変化とが実質的に同一になることが、より確実になるだろう。
【００４０】
図２Ａ〜２Ｄは、マイクロ電子機械システム（ＭＥＭＳ）堆積、パターニング、およびエッチング技術を用いて、両方が同時に製造されてもよい圧力センサ２０３およびマッチング基準センサ２０１の一例の多様な斜視図を示す。
【００４１】
図２Ａは、これらのセンサの上面図である。基準センサ２０１との電気的接続は、電気的接続点２０５を通じてなされうる。圧力センサ２０３との電気的接続は、電気的接続点２０７を通じてなされうる。圧力センサ２０３およびマッチング基準センサ２０１は、構成が同一であってもよいし、異なっていてもよく、図１に示すとともに上述した圧力センサ１０１および基準センサ１０３と同一の工程で作成されてもよいし、異なる工程で作成されてもよい。センサに外キャップ２０９を被せてもよい。
【００４２】
図２Ｂは、図２Ａのセンサのと同一だが、外キャップ２０９を外した状態の同上面図である。
【００４３】
図２Ｃは、センサの底面図である。図１に示した吸気チャンバ１２７と同一またはこれとは異なる吸気チャンバ２１１を、圧力センサ２０３に設けてもよい。吸気チャンバ２１１は、最下層２１２を貫通してもよく、圧力が測定される気体または液体に露出されてもよい。
【００４４】
図２Ｄは、図２Ｃと同一だが、最下層２１２が除去された底面図である。図に示すように、図１の基準チャンバ１３１と同一、またはこれとは異なる基準チャンバ２１３があってもよい。図１の可撓基準隔膜１１５と同一、またはこれとは異なってもよい基準可撓隔膜２１７、および図１の可撓性圧力検知隔膜１１３と同一、またはこれとは異なってもよい可撓性圧力検知隔膜２１９もあってよい。可撓性基準隔膜２１７は、開口２２１および２２３のような、貫通する一つ以上の開口があってもよく、これらの開口の一つは、図１の開口１３５と同一、またはこれとは異なってもよい。
【００４５】
図２Ｅは、これらのセンサの断面図であり、共有された密閉チャンバ２２５の一部分を示す。共有された密閉チャンバ２２５は、図１の共有された密閉チャンバ１２９と同一であってよく、また異なってもよい。
【００４６】
図３は、自己較正圧力センサシステム３０１の一例である。図示のように、自己較正圧力センサシステム３０１は、圧力センサ３０３、基準センサ３０５、環境センサ３０７、ドリフト補償システム３０９、および表示装置３１１を備えることができる。
【００４７】
圧力センサ３０３および基準センサ３０５は、図１の圧力センサ１０１および基準センサ１０３と同一であってもよいし、異なってもよい。または、圧力センサ３０３および基準センサ３０５は、図２Ａ〜２Ｄの圧力センサ２０３および基準センサ２０１と同一であってもよいし、異なってもよい。
【００４８】
環境センサ３０７は、圧力センサが設置される環境の温度、湿度、および/または圧力のような環境の変化、または内部応力の変化を検知するように構成することができる。しかし、環境センサ３０７を、測定する気体または液体の圧力の変化に、不感応であるように構成することができる。
【００４９】
ドリフト補償システム３０９は、圧力センサ３０３、測定する気体または液体の圧力、圧力センサの経年変化、ならびに環境を表すそれぞれの信号を、基準センサ３０５、および環境センサ３０７から受信するように構成することができる。測定する気体または液体の圧力を表す情報を、圧力センサ３０３からの信号に基づいて生成するが、基準センサ３０５からの信号として表される、経年/環境変化によって引き起こされる、圧力センサ３０３の信号中のドリフトを補償し、および/または、環境センサ３０７からの信号として表される、環境の変化を補償するように、ドリフト補償システム３０９を構成することができる。ドリフト補償システム３０９を、圧力センサ３０３に大気圧以外の何も与えられない場合、基準センサ３０５および/または環境センサ３０７からの信号に基づいて、その出力をゼロに自動的に調整するように構成してもよい。これに加えて、またはこれに替えて、ゼロ点較正圧力であることが分かっている気体圧力または液体圧力が与えられる場合、ドリフト補償システム３０９が、その出力を自動的にゼロ調整するように構成してもよい。もはや気体または液体がゼロ点較正圧力にない場合、ドリフト補償システム３０９が必要な調整を継続してもよい。
【００５０】
ドリフト補償システム３０９は、一つ以上のアルゴリズムに基づいて、この補償を行ってもよい。例えば、アルゴリズムのひとつは、圧力センサ３０３からの信号から、基準センサ３０５からの信号を減算し、基準センサ３０５の経年/環境変化を自動的に補償し、それによって圧力センサ３０３の経年/環境変化が補償された、気体または液体の圧力を表す信号を生成することができる。この測定における、環境センサ３０７および/または基準センサ３０５が検知した環境の変化を、その環境の変化と圧力センサ３０３および/または基準センサ３０５によってなされた測定との既知の関係に基づいて、別のアルゴリズムがさらに補償してもよい。これらの既知の関係を、実験的に、および/またはコンピュータの使用を通じて決定してもよい。
【００５１】
ドリフト補償システム３０９は、実時間で作動し、自己較正圧力センサ３０１をその圧力検知作業から引き上げることなく、経年変化および環境の変化を補償することができる。
【００５２】
ドリフト補償システム３０９からの出力は、測定する気体または液体の圧力から経年および環境の変化を補償したものを表す表示とすることができる。この出力は、この補償された測定を表示しうる表示装置３１１へ送出することができる。これに加えて、またはこれに替えて、この出力は、測定され補償された圧力に基づいて作動および/または将来使用される情報を記憶する別のシステムへ送出することができる。
【００５３】
ドリフト補償システム３０９は、別個の、または集積した電子回路および/または汎用コンピュータによって実現してもよい。ハードウエアは、一つ以上のプロセッサ、有形メモリ（例えば、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、読取専用メモリ（ＲＯＭ）、および／またはプログラム可能型読取専用メモリ（ＰＲＯＭＳ））、有形記憶装置（例えば、ハードディスクドライブ、ＣＤ／ＤＶＤドライブ、および／またはフラッシュメモリ）、システムバス、映像処理部品、ネットワーク通信部品、入力／出力口、および／またはユーザインターフェース装置（例えば、キーボード、ポインティングデバイス、表示装置、マイクロホン、音声再現システム、および／またはタッチスクリーン）を備えてもよい。
【００５４】
ソフトウェア（例えば、一つ以上のオペレーティングシステム、装置ドライバ、アプリケーションプログラム、および／または通信プログラム）が備えられてもよい。備えられる場合、ソフトウェアはプログラム指示を含み、関連データおよびライブラリーを含んでもよい。プログラム指示は、ここに記載するドリフト補償システム３０９の一つ以上の機能を実行する一つ以上のアルゴリズムを実行するように構成されてもよい。ドリフト補償システム３０９が実行する各機能の説明は、その機能を実行するアルゴリズムの説明も構成する。ソフトウェアは、一つ以上のハードディスクドライブ、ＣＤ、ＤＶＤ、および／またはフラッシュメモリのような、一つ以上の持続性有形記憶装置上またはその内部に記憶されてもよい。ソフトウェアは、ソースコードおよび／またはオブジェクトコードの形式であってもよい。関連データは、いかなるタイプの揮発性および／または非揮発性メモリに記憶されてもよい。ソフトウェアを、持続性メモリにロードして、一つ以上のプロセッサによって実行してもよい。
【００５５】
検討してきた部品、工程、特徴、目的、利益、および利点は、単なる例として示したものである。これらと、これらに関する検討内容には、どのような形であれ、保護範囲を限定する意図はない。多くの他の実施形態も熟考される。これらは少数の、付加的な、および／または異なる部品、工程、特徴、目的、利益、および利点を有する実施形態を含む。これらは、部品および／または工程を変えて配置および／または順序づける実施形態も含む。
【００５６】
圧力センサおよび基準センサは、同一の密閉チャンバを共有しなくてもよいこともあるが、他の一方が用いる密閉チャンバとは別に、各々が密閉チャンバを有してもよい。
【００５７】
記述されていない限り、これに続く請求項を含む本明細書に記載の、全ての測定、値、割合、位置、強さ、大きさ、および他の仕様は概略であり、正確ではない。これらは、その関連する機能と整合するとともに、その関連する当該分野での通例と整合する、合理的範囲を有するように意図されている。
【００５８】
開示中に引用した記事、特許、特許出願、および他の刊行物をすべて、ここに参照して援用する。
【００５９】
請求項中で「手段」という語句を用いる場合は、説明してきた対応構造および材料、ならびにその均等物を包含する意図であるとともに、そのように解釈されるべきである。同様に、請求項中で「工程」という語句を用いる場合は、説明してきた対応動作およびその均等物を抱合する意図であるとともに、そのように解釈されるべきである。請求項中にこれらの語句がない場合は、請求項は、これらの対応する構造、材料、または動作、またはこれらの均等物に限定されることを意図せず、またそのように解釈されるべきではないことを意味する。
【００６０】
保護範囲は、以下に続く請求項によってのみ限定される。特定の意味が記載されている場合を除き、その範囲は、本明細書とこれに続く審査経過を考慮して解釈する場合、請求項内で用いられる言語の通常の意味と同じくらい広く整合することを意図しまたそのように解釈されるとともに、すべての構造的および機能的均等物を抱合すると解釈されるべきである。
【００６１】
あるものまたは動作を他と区別するためだけならば、「第１の」および「第２の」などのような関係語を用いてもよいが、これらの間になんらかの実際の関係または順序を必要とせず、また意味するものでもない。「ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ，」、「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ，」、およびその他の変化形が、明細書または請求項中の構成要素の一覧に関して用いられる場合、一覧は他の構成要素を排除するものではなく、他の構成要素を含んでもよいことを示す意図がある。同様に、その前に「ａ」または「ａｎ」が付く構成要素にはそれ以上の制限はなく、同一タイプの付加的な構成要素の存在を排除するものではない。
【００６２】
特許法１０１条、１０２条、または１０３条の要件を満たさない主題を抱合することを意図する請求項はなく、請求項がそのような主題を抱合すると解釈すべきではない。意図せずに抱合されるそのような主題については、請求を放棄する。本段落で述べた点を除き、請求項に記載されているかどうかにかかわらず、記述または図示した内容は、部品、工程、特徴、目的、利益、利点、または均等物のいずれも、公益に対し貢献することを意図せず、またそのように貢献すると解釈されるべきでもない。
【００６３】
読む者が技術的開示の性質を直ちに確認することに役立つように、要約書を作成した。請求項の範囲または意味の解釈または限定に用いられることはないと理解すべきである。さらに、多様な実施形態における前述の詳細な説明中の多様な特徴をひとまとめにし、開示内容の無駄がないようにしている。この開示方法を、請求した実施形態が、請求項に明記されているよりも多くの特徴を要件とする必要があると解釈すべきではない。以下の請求項が反映するように、むしろ、独創的な主題は、単一の開示された実施形態の全ての特徴よりも少ない特徴の中にある。このように、各請求項は、それ自身の別個に請求される主題に基づくものとして、以下の請求項を詳細な説明に援用する。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図３】
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【国際調査報告】
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