(57)【要約】  履物のための中敷システム（１０）は、インソール機構（１４）と、ミッドソール機構（１１）とを備え、インソール機構は、ミッドソール機構の上に位置決めされ、ミッドソール機構の下には、アウトソール機構（１５）が位置決めされる。インソール機構は、中敷インソール（１）と、かかとパッド（２）と、前足パッド（３）とを備える。中敷インソールは、人の足の裏に対応するように解剖学的に形作られたパッドを備え、かかとパッドは、中敷インソールの後足部に位置決めされ、前足パッドは、中敷インソールの前足部に位置決めされる。アウトソール機構は、ミッドソール機構のナチュラルゲイトライン溝を露出させるための開口（１５Ａ）を備える。
2016512131.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
履物のための中敷システム（１０）であって、
インソール機構（１４）と、
ミッドソール機構（１１）とを備え、前記インソール機構は、前記ミッドソール機構の上に位置決めされ、
前記インソール機構（１４）は、中敷インソール（１）と、かかとパッド（２）と、前足パッド（３）とを備え、
前記中敷インソール（１）は、人の足の裏に対応するように解剖学的に形作られ、前足部と、中足部と、後足部とを備え、
前記かかとパッドは、前記中敷インソールの前記後足部に位置決めされ、前記前足パッドは、前記中敷インソールの前記前足部に位置決めされる、中敷システム。
【請求項２】
前記かかとパッドは、人の足の踵骨の自然形状をしている、請求項１に記載の中敷システム。
【請求項３】
前記前足パッドは、可撓性の細長い土台を備え、前記可撓性の細長い土台は、前足の内側の輪郭に沿って延在する内側端縁と、実質的に第１趾および第１中足骨の外側縁と第２趾および第２中足骨の内側縁との間の区域に長手方向に延在する外側端縁とを有する、請求項２に記載の中敷システム。
【請求項４】
前記前足パッドは、前記前足パッドにリフトサポート（４）を含む、請求項１に記載の中敷システム。
【請求項５】
前記リフトサポートは、前記人の足の第１中足骨の自然形状をしている、請求項４に記載の中敷システム。
【請求項６】
前記足のナチュラルゲイトラインの方に内向きに前記足を位置合わせするガイドとして位置決めされたゲイトラインサポート（５）をさらに備える、請求項１に記載の中敷システム。
【請求項７】
前記ミッドソール機構は、人の足の裏に対応するように解剖学的に形作られた可撓性の細長いパッドを備え、前記ミッドソール機構は、前記足の前記ナチュラルゲイトラインに対応する弓形の溝（６）を含む裏面を有する、請求項６に記載の中敷システム。
【請求項８】
前記ミッドソール機構の下に位置決めされたアウトソール機構（１５）をさらに備え、前記アウトソール機構は、前記ミッドソール機構の前記ナチュラルゲイトライン溝を露出させるための開口（１５Ａ）を備える、請求項７に記載の中敷システム。
【請求項９】
前記前足パッドの少なくとも一部は、前記中敷インソールの前記前足部における開口を介して露出される、請求項１に記載の中敷システム。
【請求項１０】
前記前足パッドおよび前記かかとパッドは、前記中敷インソールに一体化される、請求項１に記載の中敷。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、２０１３年３月１５日に出願された米国仮特許出願番号第６１／８００，７１９号の優先権の利益を主張し、米国仮特許出願番号第６１／８００，７１９号は、全文が引用によって本明細書に援用される。
【０００２】
発明の分野
本発明は、一般に履物に関し、特に履物のための中敷システムに関する。
【背景技術】
【０００３】
背景
立っている人または歩行している人は、能動的な体位、中立体位および安定した体位を実現する上で問題を抱えていることが多く、その結果、生体力学的問題が生じる。従来の履物は、当該履物を着用している人に対して自然かつ中立な姿勢の矯正を行うことに効果がない。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
概要
一実施例では、履物のための中敷システムは、インソール機構と、ミッドソール機構とを備え、インソール機構は、ミッドソール機構の上に位置決めされ、ミッドソール機構の下には、アウトソール機構が位置決めされる。インソール機構は、中敷インソールと、かかとパッドと、前足パッドとを備える。中敷インソールは、人の足の裏に対応するように解剖学的に形作られたパッドを備え、かかとパッドは、中敷インソールの後足部に位置決めされ、前足パッドは、中敷インソールの前足部に位置決めされる。アウトソール機構は、ミッドソール機構のナチュラルゲイトライン（gait line）溝を露出させるための開口を備える。
【０００５】
本発明のこれらのおよび他の特徴、局面および利点は、以下の説明、添付の特許請求の範囲および添付の図面を参照して理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１Ａ】本明細書に開示されている中敷システムの実施例の分解図である。
【図１Ｂ】実施例に係る、第１中足骨リフトサポートを含む図１Ａの中敷システムの前足パッドを示す。
【図１Ｃ】実施例に係る、ゲイトラインサポートが位置決めされた図１Ａの中敷システムのミッドソールの上面図である。
【図２Ａ】本明細書に開示されている中敷システムの別の実施例の分解図である。
【図２Ｂ】実施例に係る、第１中足骨リフトサポートを含む図２Ａの中敷システムの前足パッドを示す。
【図２Ｃ】実施例に係る、ゲイトラインサポートが位置決めされた図２Ａの中敷システムのミッドソールの上面図である。
【図２Ｄ】実施例に係る、図１Ａおよび図２Ｂの中敷システムのアウトソールに一体化されたゲイトラインサポートの上面図である。
【図３Ａ】実施例に係る、任意のカバーと任意のパッド層とをさらに含む図１Ａの中敷システムの別の例を示す。
【図３Ｂ】実施例に係る、任意のカバーと任意のパッド層とをさらに含む図２Ａの中敷システムの別の例を示す。
【図３Ｃ】実施例に係る、第１中足骨リフトサポートを含む前足パッド上に配置された中敷インソールを示す。
【図３Ｄ−１】人の足の靱帯および腱を示す。
【図３Ｄ−２】人の足の靱帯および腱を示す。
【図３Ｄ−３】実施例に係る、図３Ｄ−１および図３Ｄ−２と関連付けた中敷システムの中敷インソールと前足パッドとかかとパッド２との間の関係を示す。
【図４】実施例に係る足パッドシステムにおけるゲイトラインサポートの配置を示す。
【図５Ａ】実施例に係る、足と関連付けた図１Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図５Ｂ】実施例に係る、足と関連付けた図１Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図５Ｃ】実施例に係る、足と関連付けた図１Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図５Ｄ】実施例に係る、足と関連付けた図１Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図５Ｅ】実施例に係る、足と関連付けた図１Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図６Ａ】実施例に係る、足と関連付けた図２Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図６Ｂ】実施例に係る、足と関連付けた図２Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図６Ｃ】実施例に係る、足と関連付けた図２Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図６Ｄ】実施例に係る、足と関連付けた図２Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図６Ｅ】実施例に係る、足と関連付けた図２Ａの中敷システムにおける前足パッドおよびかかとパッドの配置を示す。
【図７Ａ】実施例に係る中敷システムのアウトソールの底面図である。
【図７Ｂ】実施例に係る組立てられた中敷システムの側面図である。
【図７Ｃ】実施例に係る図７Ａの中敷システムの断面図である。
【図８Ａ】実施例に係る、人の足と関連付けた中敷システムにおけるゲイトラインサポートパッドの配置を示す。
【図８Ｂ】実施例に係る、人の足と関連付けた中敷システムにおけるゲイトラインサポートパッドの配置を示す。
【図８Ｃ】実施例に係る、人の足と関連付けた中敷システムにおけるゲイトラインサポートパッドの配置を示す。
【図８Ｄ】実施例に係る、人の足と関連付けた中敷システムにおけるゲイトラインサポートパッドの配置を示す。
【図９】一実施例に係る中敷システムを組み込む履物の側面図である。
【図１０】一実施例に係る、人の足の裏に重ね合わせられた中敷システムのナチュラルゲイトライン溝を示す。
【図１１Ａ】立っている人の足位置を示す。
【図１１Ｂ】立っている人の足位置を示す。
【図１１Ｃ】立っている人の足位置を示す。
【図１１Ｄ】立っている人の正しい姿勢を示す。
【図１１Ｅ】一実施例に係る、正しい姿勢をもたらすために中敷システムによって人の足に与えられる側圧および内側圧を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
発明の詳細な説明
以下の説明は、システムの開示した実施例の一般的原理を説明する目的でなされており、本明細書に開示した概念を限定するよう意図したものではない。さらに、本明細書に記載されている特定の特徴は、さまざまなあり得る組み合わせおよび変形例の各々における他の記載されている特徴と組み合わせて使用されてもよい。本明細書において別途具体的に定義しない限り、全ての用語には、明細書から示唆される意味、ならびに当業者によって理解されるおよび／または辞書、論文などに定義されている意味を含む最も広いあり得る解釈が与えられるであろう。
【０００８】
中立姿勢方向付けを行う履物のための中敷システムの実施例が、本明細書に開示されている。当該中敷システムは、着用者が立っているまたは歩行している間に着用者のために中立姿勢を実現することを可能にする。
【０００９】
一実施例では、中敷システムは、アクティブインソール機構と、ナチュラルゲイトライン機構とを備えている。中敷システムは、上記インソール機構と上記ナチュラルゲイトライン機構との動的な組み合わせを利用して、足を中立姿勢矯正位置に位置決めするよう機能する。
【００１０】
ゲイトとは、人が歩行または走行するパターン（すなわち個人的な一歩一歩の「サイクル」）である。一実施例では、このような「サイクル」を調査して変化および起こり得る異常を検出するためのプロセスとして、ゲイト分析が利用される。サイクルは、コンピュータ化されたゲイト分析セッション中に取り込まれ、記録され、観察される。立って歩き始めるためのゲイトライン（好ましくは最も理想的なゲイトライン）を開発する際に分析が使用される。
【００１１】
中敷システムの実施例では、足における体重分散および運動経路が丈夫な骨格構造および結合組織と連携されて、バランスのとれた筋肉相互作用をもたらすようにゲイトが改善される（好ましくは最適化される）。
【００１２】
一実施例では、中敷システムは、ミッドソール機構と、アウトソール機構とをさらに備え、ミッドソール機構は、アウトソール機構と一体化されてもよく、インソール機構は、取外し可能であってもよい。ミッドソール機構およびアウトソール機構は、ナチュラルゲイトライン機構を実現するための特徴を含んでいる。
【００１３】
図１Ａ〜図１Ｃは、一実施例における中敷システムを示す。図１Ａは、履物（例えば靴）の少なくとも一部を備える中敷システム１０の実施例の分解図を示す。一実施例では、中敷システム１０は、ミッドソール機構１１とアクティブインソール（中敷）機構１４とアウトソール機構１５とを含む本質的に層状の構成を備えている。アクティブコアインソール機構１４は、足を中立姿勢矯正位置に位置決めする。
【００１４】
中敷システム１０は、インソール機構１４と、ミッドソール機構１１（図１Ｃ）およびアウトソール機構１５の協働によって実現されるナチュラルゲイトライン機構１２との動的な組み合わせを利用して機能する。
【００１５】
一実施例では、ナチュラルゲイトライン機構１２は、アウトソール１５によって露出されるナチュラルゲイトライン溝６（図７Ａ）をミッドソール１１に備えている。図１０は、アウトソール１５の足と関連付けたナチュラルゲイトライン６の図を示し、圧力マップが、網掛け領域によって示されている（網掛けが暗くなるほど圧力が大きいことを示している）。別の実施例では、ナチュラルゲイトライン機構１２は、図４に示されるように、ミッドソール１１上に選択的に配置されたアクティブゲイトラインサポート５をさらに含んでいる。一実施例では、図２Ｄにおけるアウトソール１５の実施例の上面図に示されるように、ゲイトラインサポート５は、アウトソール１５に一体化されてもよい。
【００１６】
中敷システム１０は、アクティブコアの安定性を提供し、足の下のトリガポイントを緩和し、立っているまたは歩行している間の安定性のための第１中足骨（第１ビーム）サポートを支える。中敷システム１０の実施例は、快適さ、安定性、滑り止めを向上させるための成形材料、またはＥＳＤ（静電放電）材料を含んでいる。成形材料の例は、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）であるが、いくつかの他の材料（例えばポリウレタン、発泡ポリマー発泡体）が中敷システム１０で使用されてもよい。
【００１７】
インソール機構１４は、中敷インソール１と、アクティブコアかかとパッド２と、第１中足骨リフトサポート４を含むアクティブコア前足パッド３とを備えている。図１Ｂは、第１中足骨リフトサポート４を含む前足パッド３を示す。図１Ｃは、ゲイトラインサポート５が位置決めされ、第１中足骨リフトサポート４を含む前足パッド３が配置されたミッドソール１１の上面図を示す。
【００１８】
図２Ａ〜図２Ｃは、中敷システム１０における前足パッド３の別の実施例を示し、第１中足骨リフトサポート４は、中敷システムの前部前足領域に前足パッド３の本質的に弓形の（湾曲した）延長部を備えている。具体的には、図２Ａは、中敷システムの分解図を示し、図２Ｂは、図２Ａの中敷システムの前足パッド３を示し、図２Ｃは、ゲイトラインサポート５が位置決めされ、第１中足骨リフトサポート４を含む前足パッド３が配置された図２Ａの中敷システムのミッドソール１１の上面図を示す。
【００１９】
図３Ａは、任意のカバー１６と任意のパッド層１３とをさらに含む図１Ａの中敷システムの別の例を示す。図３Ｂは、任意のカバーパッド１６と任意のパッド層１３とをさらに含む図２Ａの中敷システムの別の例を示す。
【００２０】
図３Ｃは、第１中足骨リフトサポート４を含む前足パッド３の上に配置された中敷インソール１を示し、前足パッド３は、中敷インソール１の開口１Ａによって少なくとも部分的に露出されている。さらに、かかとパッド２が中敷インソール１の上に配置されている。
【００２１】
一実施例では、エネルギ減衰発泡（energy damping foam：ＥＤＦ）材料が利用され、ＥＤＦ材料は、主に材料硬度および密度の差によって衝撃エネルギの多くを吸収する。エネルギ減衰発泡材料は、発泡ＰＵ（ポリウレタン）、発泡ＥＶＡ、ＰＥ（ポリエチレン発泡体）などを含む発泡ポリマーなどのさまざまな化学的ポリマーから作られることができる。一実現例では、前足パッド３およびかかとパッド２は、ＥＤＦ材料でできている。一実施例では、中敷インソール１は、ＥＶＡ材料またはＰＵ（ポリウレタン）を含んでいる。
【００２２】
中敷システムの実施例は、第１中足骨（第１ビーム）サポート４を含む上記インソール機構１４を含む靴などの履物を備えている。前足区域における第１中足骨サポート４は、立っている間および歩行している間の足の安定性を提供する。また、第１中足骨サポート４は、静的および動的な局面においてアクティブコアの安定性を提供する。
【００２３】
一実現例では、中立中敷インソール１は、自然かつ中立な位置のための構造的なサポートを足に提供して、姿勢および快適さをよりよくすることを支援するために、概して人の足の裏の形状に解剖学的および生体力学的に設計された成形中敷部材を備えている。中敷インソール１は、可撓性であり、前足部１Ｂ（図３Ｃ）と、中足部１Ｃ（図３Ｃ）と、後足部１Ｄ（図３Ｃ）とを備えている。後足部は、踵骨（またはかかとの骨）をサポートするように形作られている。中足は、足のアーチをサポートするように形作られている。前足部は、足指および対応する５本の近位長骨をサポートするように形作られている。
【００２４】
ミッドソール機構１１は、概して中敷インソール１と同様の形状に、人の足の裏に対応するように解剖学的に形作られた可撓性の細長い土台（パッド）を備え、後足部と、中足部と、前足部とを有している。アウトソール機構１５は、概してミッドソール機構１１と同様の形状に、人の足の裏に対応するように解剖学的に形作られた可撓性の細長い土台を備え、後足部と、中足部と、前足部とを有している。
【００２５】
アクティブコアインソール機構１４は、上記アクティブコアかかとパッド２をさらに備え、着用者の体重が足にかかると、踵骨に対する圧力は、アクティブコアかかとパッド２に吸収される。一実現例では、アクティブコアかかとパッド２は、踵骨の自然形状に設計された成形エネルギ減衰発泡体を含んでいる。
【００２６】
一実施例では、中敷システム１０は、かかとパッド２などのインソール機構１４にアクティブコア安定材料を利用し、上記材料の中心硬度は、典型的な材料（ＥＶＡ／発泡体）よりも柔らかい。着用者のかかとは、かかとパッド２のより柔らかい材料を押し、図１１Ｅに示されるように（矢印によって示される）側圧および内側圧が与えられ、安定性が提供される。これにより、圧力センサでテストされるアクティブコアの安定性および能動的なプロネーション／サピネーション制御が提供される。
【００２７】
アクティブコアかかとパッド２の形状および角度は、圧力を緩和し、足底筋膜に快適さを付加する。また、アクティブコアかかとパッド２は、足を中立位置に配置し、オーバープロネーションおよびサピネーションの制御を支援する。これは、踵骨がアウトソール１５におけるナチュラルゲイトライン溝６の上方の柔らかい発泡体を下向きに押すことをアクティブコアかかとパッド２が可能にし、中敷インソール１の硬い発泡体がかかとパッド２の周囲に位置決めされているので、達成される。
【００２８】
したがって、足の軟組織は、最も抵抗の少ない経路を辿って、ナチュラルゲイトライン溝６の上方のかかとパッド２の柔らかい発泡体の方に下がり、足の軟組織内の骨構造を好ましいゲイトライン６の方に持っていく。この結果、かかとの外側および内側に自動的に圧力がかかり、安定性および中立位置がもたらされる。
【００２９】
アクティブコアインソール機構１４は、前足（中足骨および中足骨頭）を保護およびサポートする上記アクティブコア前足パッド３をさらに備えている。一実現例では、アクティブコア前足パッド３は、中足骨の自然形状に設計された成形エネルギ減衰発泡体を含み、前足の下の力／圧力を、本質的に水平な面において横方向に分散させ、圧力分散を向上させる。アクティブコア前足パッド３の形状は、圧力緩和を可能にし、足底筋膜に快適さを付加する。前足パッド３は、かかとパッド２と類似の材料でできていてもよい。
【００３０】
アクティブコアインソール機構１４は、前足パッド３から延在する上記第１中足骨リフトサポート４をさらに備え、第１中足骨リフトサポート４は、人の足の第１中足骨頭骨（すなわち第１ビーム、足の親指）の自然形状に設計された成形エネルギ減衰発泡体を含んでいる。第１中足骨リフトサポート４の形状は、さらなるサポートを行い、足の位置を安定させることを支援する。第１中足骨リフトサポート４は、前足パッド３と類似の材料でできていてもよい。
【００３１】
アクティブコアインソール機構１４は、着用者が中敷システム１０の上に立っている間に足を解剖学的に中立な位置に位置決めするように、上記ナチュラルゲイトライン機構１２とともに機能し、これは優れた姿勢に有益である。図８Ｂに示されるように、ナチュラルゲイトライン機構１２は、ミッドソール１１におけるナチュラルゲイトライン溝６と、アクティブゲイトラインサポート５とを備えている。一実施例では、溝６は、形状が弓形（例えば概して細長いＳ字型）であり、図２Ａ，図３Ａに示されるミッドソール機構１１の裏面に位置決めされ、本質的にミッドソール機構１１の正中線と位置合わせされて、前足と後足との間に延在している。
【００３２】
図５Ａ〜図５Ｅは、図１Ａの中敷システムの前足パッド３およびかかとパッド２の位置決め（形状および配置）ならびに人の足との関係を示す。
【００３３】
図５Ｃは、中敷システム１０の前足パッド３およびかかとパッド２の位置決め（形状および配置）ならびに人の足との関係を示す。図５Ａは、一体化された第１中足骨サポート４を有する前足パッド３の斜視図を示す。縦軸Ｌおよび横軸Ｔも図５Ａに示されている。一例では、前足パッド３は、横方向に細長い土台を備え、当該細長い土台は、前足の内側の輪郭に沿って延在する内側端縁３Ａと、実質的に第１趾および第１中足骨の外側縁と第２趾および第２中足骨の内側縁との間の区域に長手方向に延在する外側端縁３Ｂとを有している。外側端縁３Ｂは、内側端縁３Ａよりも長手方向に長くなっている。
【００３４】
図５Ｂ−１は、図５Ａの前足パッド３の平面図を示す。図５Ｂ−３は、本質的に長方形形状を有する、（線Ｂ−Ｂに沿った）端縁３Ａに近位の前足パッド３の断面を示す。図５Ｂ−２は、本質的に長方形形状を有する、（線Ａ−Ａに沿った）端縁３Ｂに近位の前足パッド３の断面を示し、第１中足骨サポート４のための領域は、前足パッド３の他の領域よりも厚くなっている。
【００３５】
図５Ｄ−１は、かかとパッド２の平面図を示し、図５Ｄ−２は、本質的に長方形形状を有する、（線Ｃ−Ｃに沿った）かかとパッド２の断面図を示す。図５Ｅは、中敷システム１０における前足パッド３およびかかとパッド２に対する足骨の位置の側面図を示す。
【００３６】
一実施例では、中敷インソール１は、長手方向に細長い土台（パッド）を備え、当該細長い土台は、前足パッド３を露出させるための上記開口１Ａを有している。開口１Ａは、概して前足パッド３の形状をしている。
【００３７】
図６Ａ〜図６Ｅは、図２Ａの中敷システムの前足パッド３およびかかとパッド２の位置決め（形状および配置）ならびに人の足との関係を示す。
【００３８】
図６Ｃは、中敷システム１０の前足パッド３およびかかとパッド２の位置決め（形状および配置）ならびに人の足との関係を示す。図６Ａは、一体化された第１中足骨サポート４を有する前足パッド３の斜視図を示し、第１中足骨リフトサポート４は、中敷システムの前部前足領域に前足パッド３の本質的に弓形の（湾曲した）延長部を備えている。縦軸Ｌおよび横軸Ｔも図６Ａに示されている。一例では、前足パッド３は、横方向に細長い土台を備え、当該細長い土台は、前足の内側の輪郭に沿って延在する内側端縁３Ａと、実質的に第１趾および第１中足骨の外側縁と第２趾および第２中足骨の内側縁との間の区域に長手方向に延在する外側端縁３Ｂとを有している。外側端縁３Ｂは、内側端縁３Ａよりも長手方向に長くなっている。
【００３９】
図６Ｂ−１は、図６Ａの前足パッド３の平面図を示す。図６Ｂ−３は、本質的に長方形形状を有する、（線Ｂ−Ｂに沿った）端縁３Ａに近位の前足パッド３の断面を示す。図６Ｂ−２は、本質的に長方形形状を有する、（線Ａ−Ａに沿った）端縁３Ｂに近位の前足パッド３の断面を示し、第１中足骨サポート４のための領域は、前足パッド３の他の領域よりも厚くなっている。
【００４０】
図６Ｄ−１は、かかとパッド２の平面図を示し、図６Ｄ−２は、本質的に長方形形状を有する、（線Ｃ−Ｃに沿った）かかとパッド２の断面図を示す。図６Ｅは、中敷システム１０における前足パッド３およびかかとパッド２に対する足骨の位置の側面図を示す。
【００４１】
一実施例では、前足パッド３およびかかとパッド２は、別々の要素というよりもむしろ、中敷インソール１に一体化されており、前足パッド３は、開口１Ａを有していない。図３Ｄ−３は、中敷インソール１と前足パッド３とかかとパッド２との間の関係を示し、これらの関係が足の靱帯および腱（図３Ｄ−１および図３Ｄ−２）にいかに影響を及ぼすかを示す。前足パッド３およびかかとパッド２は、中敷インソール１の下のミッドソール１１よりも柔らかい材料である。
【００４２】
図３Ｄ−３は、かかとパッド２と前足パッド３との間の橋渡し効果を示すために、中足領域においてかかとパッド２と前足パッド３との間に矢印Ａを示す。（下にあるミッドソール１１に対して）かかとパッド２および前足パッド３が柔らかいことにより、着用者のかかとおよび前足がかかとパッド２および前足パッド３にそれぞれ沈み込むことが可能になる一方で、ミッドソール１１は、かかとパッド２と前足パッド３との間の足領域を支える。これは、骨をナチュラルゲイトラインに移動させる際の最も抵抗の少ない経路の一部である。
【００４３】
一実施例では、中敷インソール１は、硬度が約４０±３アスカーＣ硬度であり、アクティブコアパッド（すなわちかかとパッド２および前足パッド３）は、約２５〜３０アスカーＣ硬度である。一実施例では、ミッドソール機構１１は、硬度が約４０〜５５アスカーＣ硬度であるＥＶＡ材料を含んでいる。
【００４４】
一例では、ミッドソール１１は、硬度が約４０〜５５アスカーＣ硬度であるＥＶＡ材料を含み、ナチュラルゲイトライン溝６は、アウトソール１５における同様に形作られた開口１５Ａ（図１Ａ）によって露出されるミッドソールＥＶＡにおける溝である。
【００４５】
一実施例では、アウトソール１５は、硬度が約６５〜７０ショアＡ硬度であるゴムまたはゴム状ポリマーを含んでいる。一実施例では、アクティブコアスタビライザ５がアウトソール機構１５に一体化されてもよい（図７Ｃ）。
【００４６】
一実施例では、アクティブゲイトラインサポート５は、ポリマーから成形された概して平面的な長方形構造を備えている。アクティブゲイトラインサポート５は、ミッドソール１１と中敷インソール１との間に選択的に位置決めされ、ミッドソール１１で使用される発泡体の下で密度の変化を生じさせる。ゲイトラインサポート５は、ミッドソール１１とアウトソール１５との間にも配置され得る。ミッドソール１１上のサポートパッド５（例えばサポートパッドＳ１，Ｓ２，Ｓ３）は、ナチュラルゲイトライン６の方に内向きに足を位置合わせする隆起したゴムアウトソールレール／ガイドを備えるゲイトラインサポートとして機能する。
【００４７】
図７Ａは、ミッドソール１１における溝６（例えば深さが１ｍｍ〜１０ｍｍ）を露出させるアウトソール１５の底面図を示す。図７Ｂは、中敷システム１０のプロファイルを示し、図７Ｃは、Ａ−Ａに沿った中敷システム１０の断面を示す。ゲイトライン溝６は、ナチュラルゲイトラインを提供し、この実施例では、ゲイトラインサポート５はミッドソール１１に組み込まれている。
【００４８】
アクティブゲイトラインサポート５は、ナチュラルゲイトライン溝６に戻るように足を誘導する。ナチュラルゲイトライン溝６は、ナチュラルゲイトライン６に戻るように足を誘導する、ミッドソール１１の密度を変化させるチャネルを備えている。
【００４９】
ミッドソール１１の材料よりも硬い材料をアウトソール１５に用いることにより、アウトソール材料がなく、ミッドソール１１が露出されているナチュラルゲイトライン溝６の領域では、アウトソール１５がミッドソール１１に積層されていない位置でミッドソール１１の密度は小さくなる。
【００５０】
ゲイトライン溝６は、中敷システム１０の実施例に係るミッドソール１１上へのアウトソール１５の選択的積層の一例である。ミッドソール機構１１およびアウトソール機構１５のこのような材料および配置は、体重がかかった際にさまざまな発泡体密度を有するように選択される。
【００５１】
図８Ａは、足骨に対するサポートパッド５の位置の斜視図を示す。図８Ｂは、足および足に対する中敷システム１０のサポートパッド５（Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３）の作用の底面図を、ナチュラルゲイトライン６とともに示す。サポートパッド５のうちの２つ（すなわちＳ１およびＳ２）は、本質的に前足の両側に位置決めされ、サポートパッドのうちの１つ（すなわちＳ３）は、本質的にかかとの内側に配置される。図８Ｂに示される例では、サポートパッドＳ１およびＳ３は、中敷の内側にあるのに対して、サポートパッドＳ２は、中敷の外側にあり、ナチュラルゲイトライン６を辿るように中敷の外周に位置決めされている。図８Ｄは、足および足骨に対する２つのサポートパッド（すなわちサポートパッドＳ１，Ｓ３）の相対的位置の側面図を示す。図８Ｃは、足および足骨に対する第３のサポートパッド５（すなわちサポートパッドＳ２）の相対的位置の反対側の側面図を示す。
【００５２】
組立て時、サポートパッド５は、ミッドソール１１の上に配置され、前足パッド３および第１中足骨サポート４も、ミッドソール１１の上に配置され、前足パッド３は、前足パッド３の端縁３Ａおよび３Ｂに沿って位置決めされるサポートパッド５のうちの２つ（例えばサポートパッドＳ１およびＳ２）の少なくとも一部を覆う。第３のサポートパッド５（例えばサポートパッドＳ３）は、かかとパッド２の側の近位に配置される。サポートパッド５は、アウトソール１５の上に配置されてもよい。
【００５３】
次いで、中敷インソール１が、前足パッド３、第１中足骨サポート４およびサポートパッド５の上に配置され、前足パッド３は、中敷インソール１の開口１Ａを介して露出される。第１中足骨サポート４およびサポートパッド５は、中敷インソール１によって覆われる。次いで、かかとパッド２が、中敷インソール１のかかと領域の上に配置される。
【００５４】
履物に組み入れられる中敷インソール１は、前足パッド３およびかかとパッド２ならびにサポート５とともに、ヒューマンバイオメカニクスを向上させ、立ったり動いたりしている際の不快感を減少させる。かかとパッド２とミッドソール１１との関係およびかかとパッド２と前足パッド３との関係は、ミッドソール１１の上方の足に対して「橋渡し」を提供する。アウトソール１５は、（溝６により）ミッドソール１１に対する選択的な積層を有し、一例では、サポート５は、ミッドソール１１の代わりにアウトソール１５に組み込まれている。
【００５５】
密度が約３０ショアＡ硬度の発泡体は、体重がかかると変形する。中敷システムは、圧力変形および吸収を生じさせるためだけでなく、互いに特定の関係にあるさまざまな密度を用いて、標準的な力ではなく最少の抵抗によって足を所望の位置に移動させて、靴の形状に適合させるためにも、さまざまな密度の発泡体を含んでいる。
【００５６】
図１１Ａ〜図１１Ｃは、さまざまな足位置を示し、図１１Ａは、オーバーサピネーション足位置を示し、図１１Ｂは、中立足位置を示し、図１１Ｃは、オーバープロネーション足位置を示す。大多数の人によく見られるように、足が過度に回内されると、過度に回内された側は、大腿骨および下腿の内転を容易にし、歩行したり立ったりしている間に骨盤の当該側を下げることができる。
【００５７】
距骨下関節中立位置（足が回内も回外もされていない場合であって、上記の中央の図）は、足の専門家によって、最も安定した中立位置であると認識されている。上記のように、この中立位置の外側で足が動作する場合、足、脚、骨盤および背中の機能不全が起こって、負の位置（negative position）を生じさせる可能性がある。中敷システム１０は、図１１Ｂに見られるような中立足位置を促進し、その結果、図１１Ｄに示される適切な姿勢をもたらす。
【００５８】
オーバープロネーション足位置では、プロネーションが過度であり、足が過度に内向きに回る。かかとの骨とアキレス腱との間には角度があり、母指球に対して大きな圧力がかかる。アーチが低ければ、オーバープロネーションのリスクが高まる。オーバープロネーションを示す人は、膝、アキレスまたはすね、脚、骨盤、背中の疾患などの歩行不快感のリスクが高い。
【００５９】
足のプロネーションは、足が地面と接触する際に起こる通常のプロセスである。より具体的には、足首および足は、通常、立脚中期の間は６〜８度回内する。８〜１２度以上が、オーバープロネーションと呼ばれる。軽度のプロネーションは、足が４〜６度内向きに回ることによって定義され、中程度のプロネーションは、足が６〜１０度内向きに回ることによって定義され、深刻なオーバープロネーションは、足が１０〜１５度内向きに回ることによって定義されることができる。中敷インソール１４を含む中敷システム１０は、オーバープロネーションを自動的に矯正する。
【００６０】
サピネーション足位置では、プロネーションが不足している。足の外側でセトルメント（settlement）が行われる。アーチが高ければ、サピネーション（アンダープロネーション）のリスクが高い。中敷インソール１４を含む中敷システム１０は、オーバープロネーションを自動的に矯正する。
【００６１】
上記のように、身体は図１１Ｄに示されるようにバランスをとるので、最も理想的な常態のうちの１つは、プロネーションセトルメントである。足は、わずかに内向きに下がって、第１趾と第２趾との間で止まる。通常の足位置は、中立靴を意味しているわけではない。中敷システム１０は、着用者が特別な行動を取る必要なく、中立の足位置およびインソールを自動的に提供する。
【００６２】
中敷システム１０によって提供される中立位置は、足をサポートする。中敷システム１０で使用される材料／形状は、本質的に１８０度の直線の方に足首から下腿に対して中立位置を促進する。
【００６３】
正常状態のための６つの基準は、以下の通りである：
１．脚の下部３分の１の二等分が、踵骨の二等分に対して平行である
２．前足の水平面が、踵骨の二等分に対して垂直である
３．最小限の１０度の足首背屈がある
４．脚が、前頭面において地面に対して垂直でなければならない
５．脚が、矢状面において地面に対して垂直でなければならない
６．水平面回転がない。
【００６４】
中敷システム１０は、正常状態の上記基準を自動的に促進する。一実施例では、中敷システム１０は、適切な足の位置決めを可能にする靴などの履物、ならびに、ゲイトライン制御および操縦機構を含む履物を備える。図９に示されるように、中敷システム１０の実施例は、靴の中および下に組み込まれたゲイトライン制御機構および操縦機構を含む靴を備える。
【００６５】
中敷システムで使用される材料／形状は、中立位置を促進し、インソール機構１４の形状は、より低い圧力をかかとの下に与える。さらに、インソール機構１４の側部は、人の足のかかとの形状をしている。そして、インソール機構１４で利用される材料は、かかとが下向きにインソールかかとパッド２に引っ込んでいく際に足に対して横方向の圧力を与え、足を安定させて、プロネーションまたはサピネーションを矯正する。上半身の体重がかかとの骨を押し下げ、次いでかかとパッド２および前足パッド３における発泡体を圧縮する。
【００６６】
足のサイズに対してさまざまな要素サイズが使用されてもよい。本発明の実施例は、ナチュラルゲイトライン機構を利用して、本明細書に記載されているインソール、ミッドソールおよびアウトソール機構を含むサンダルなどの他の履物をさらに提供する。
【００６７】
本発明の実施例は、本発明の実施例に係る靴を着用している間の、立ったり、歩行したり、動いたりする際の人の快適さを向上させることができる靴に改善をもたらす。
【００６８】
靴／インソール技術は、どのように動くかを考えることなく確実に動き始めるためのガイドを提供する。中敷システムは、ヒューマンバイオメカニクスを向上させ、立ったり動いたりする際の不快感を減少させる。
【００６９】
上記の説明では、多くの具体的な詳細について説明している。しかし、本発明の実施例は、これらの具体的な詳細がなくても実施可能であるということが理解される。例えば、本明細書に記載されている構成要素および要素の代わりに、周知の等価の構成要素および要素が使用されてもよく、同様に、開示している特定の技術の代わりに、周知の等価の技術が使用されてもよい。他の例では、この説明の理解を曖昧にすることを回避するために、周知の構造および技術は詳細に示されていない。
【００７０】
本明細書において「実施例」、「一実施例」、「いくつかの実施例」または「他の実施例」に言及することは、当該実施例に関連付けて記載される特定の特徴、構造または特性が、少なくともいくつかの実施例に含まれるが、必ずしも全ての実施例に含まれるわけではないということを意味している。「実施例」、「一実施例」または「いくつかの実施例」のさまざまな出現は、必ずしも全てが同一の実施例を指しているわけではない。構成要素、特徴、構造または特性が「含まれていてもよい」、「含まれ得る」または「含まれることができる」と本明細書に記載されている場合、当該特定の構成要素、特徴、構造または特性は、含まれなければならないわけではない。明細書または特許請求の範囲が「ある」要素について言及する場合、それは、当該要素が１つだけあることを意味しているわけではない。明細書または特許請求の範囲が「さらなる」要素について言及する場合、それは、当該さらなる要素が２つ以上あることを排除するものではない。
【００７１】
特定の例示的な実施例が記載され、添付の図面に示されてきたが、このような実施例は、単に例示的なものであり、広義の発明を限定するものではないということが理解されるべきであり、当業者はさまざまな他の変形例を想起し得るので、本発明は、示され記載されている特定の構造および配置に限定されるものではないということが理解されるべきである。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ−１】
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【図３Ｄ−２】
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【図３Ｄ−３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１１Ｄ】
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【図１１Ｅ】
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【国際調査報告】
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