(57)【要約】  構成要素は、複数の光不活性層を含んでいる交互配置された積層型フィルム構造体を備える。層が１つ置きに逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料でドープされているか、または隣接した不活性層の間にＲＳＡ材料が配置されている。いくつかの実施形態では、交番する不活性層が異なる屈折率を有する。データ記憶デバイスおよび製造方法も開示される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
交互配置された、第１の屈折率を有する複数の光不活性層（１２）と前記第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する複数の光不活性層（１４）とを備える積層型フィルムの構造体と、
逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を含む複数の層（２０）であって、それぞれが、前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）のうちの１つと前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）のうちの１つの間に配置されている複数の層と
を備える構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２】
前記ＲＳＡ材料が、金属フタロシアニン、サブフタロシアニン、ポルフィリン、および白金エチニルベースの染料のうち少なくとも１つを含む請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項３】
前記ＲＳＡ材料を含む前記複数の層（２０）が、結合剤または担体をさらに含む請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項４】
第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）のそれぞれが第１の厚さを有し、第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）のそれぞれが第２の厚さを有し、前記第１の厚さが前記第２の厚さとは異なるものである請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項５】
第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）のそれぞれが第１の厚さを有し、第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）のそれぞれが同一の厚さを有する請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項６】
前記複数の光不活性層（１２、１４）のそれぞれの厚さが約２０ｎｍから約５００ｎｍの範囲内にある請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項７】
前記複数の光不活性層（１２、１４）の数が３から５０の範囲内にある請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項８】
前記ＲＳＡ材料が、約３００ｎｍから約８００ｎｍの範囲の波長を有する光に対して感応するものである請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項９】
前記ＲＳＡ材料が、約３８０ｎｍから約４２０ｎｍの範囲の波長を有する光に対して感応するものである請求項８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項１０】
前記複数の光不活性層（１２、１４）が、ポリ（アルキル基のメタクリレート）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール、ポリ（アルキル基のアクリレート）、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ（ビニリデン塩化物）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニリデンフッ化物−コ−トリフルオロエチレン）、ポリ（ビニルピロリドン）、スチレン−アクリロニトリル、およびそれらの組合せのうち１つを含む請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項１１】
成形しやすい非フォトポリマープラスチック基板およびサーボ層を備える基板層と、
前記基板層に隣接する請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）と
を備えるデータ記憶デバイス（１００）。
【請求項１２】
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）が、第１の屈折率ｎ1を有する第１の構成要素と、前記第１の屈折率ｎ1とは異なる第２の屈折率ｎ2を有する第２の構成要素とを備える請求項１１記載のデータ記憶デバイス（１００）。
【請求項１３】
障壁コーティング、反射防止コーティング、および抗かき傷コーティングのうち１つを備えるコーティングを、前記データ記憶デバイス（１００）の前面および背面のうち少なくとも１つの上にさらに備える請求項１１記載のデータ記憶デバイス（１００）。
【請求項１４】
形状が、円板、正方形、および長方形のうちの１つである請求項１１記載のデータ記憶デバイス（１００）。
【請求項１５】
第１の屈折率を有する複数の光不活性層（１２）を用意するステップと、
前記第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する複数の光不活性層（１４）を用意するステップと、
前記第１の屈折率を有する前記光不活性層（１２）および前記第２の屈折率を有する前記光不活性層（１４）のうち少なくとも１つに逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を付着するステップと、
前記第１の屈折率を有する前記光不活性層（１２）を、前記第２の屈折率を有する前記光不活性層（１４）に接着し、その結果、前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）と前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）が交互配置され、それによって、前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）と前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）の間にＲＳＡ材料が配置されている構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）が形成されるステップとを含む製造方法。
【請求項１６】
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）の一部分の上に、集束された記録レーザビームを照射することによって、その部分の構成要素を変化させるステップをさらに含む請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）の上に、集束された読取りレーザビームを照射するステップと、
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）から反射された光を受け取るステップとをさらに含む請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
交互配置された、複数の第１の光不活性層（１２）と複数の第２の光不活性層（１４）とを備える積層型フィルムの構造体であって、前記複数の第２の層が逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料でさらにドープされている積層型フィルムの構造体を備える構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項１９】
前記複数の第２の層がブロックコポリマー材料を含む請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２０】
前記複数の第１の層がブロックコポリマー材料を含む請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２１】
前記複数の第１の層と前記複数の第２の層の厚さが同一である請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２２】
前記複数の第１の層が第１の厚さを有し、前記複数の第２の層が前記第１の厚さとは異なる第２の厚さを有する請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２３】
前記ＲＳＡ材料が、約３００ｎｍから約８００ｎｍの範囲の波長を有する光に対して感応するものである請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２４】
前記ＲＳＡ材料が、約３８０ｎｍから約４２０ｎｍの範囲の波長を有する光に対して感応するものである請求項２３記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２５】
前記ＲＳＡ材料が、金属フタロシアニン、サブフタロシアニン、ポルフィリン、および白金エチニルベースの染料のうち少なくとも１つを含む請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２６】
前記複数の光不活性層（１２、１４）が、ポリ（アルキル基のメタクリレート）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール、ポリ（アルキル基のアクリレート）、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ（ビニリデン塩化物）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニリデンフッ化物−コ−トリフルオロエチレン）、ポリ（ビニルピロリドン）、スチレン−アクリロニトリル、およびそれらの組合せのうち１つを含む請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２７】
前記複数の第１の光不活性層（１２）と前記複数の第２の光不活性層（１４）が同一の屈折率を有する請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２８】
前記複数の第１の光不活性層（１２）が第１の屈折率を有し、前記複数の第２の光不活性層（１４）が、前記第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２９】
成形しやすい非フォトポリマープラスチック基板およびサーボ層を備える基板層と、
前記基板層に隣接する請求項１８記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）と
を備えるデータ記憶デバイス（１００）。
【請求項３０】
第１の屈折率を有する複数の光不活性層（１２）を用意するステップと、
ドープされた逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料をさらに含み、第２の屈折率を有する複数の光不活性層（１４）を用意するステップと、
前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）を、前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）に接着し、その結果、前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）と前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）が交互配置され、それによって、前記第１の屈折率を有する前記光不活性層（１２）との間に、前記ドープされたＲＳＡ材料を積んだ層が配置されている積層型構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）が形成されるステップとを含む製造方法。
【請求項３１】
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）の一部分の上に、集束された記録レーザビームを照射することによって、その部分の構成要素を変化させるステップをさらに含む請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）の上に、集束された読取りレーザビームを照射するステップと、
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）から反射された光を受け取るステップとをさらに含む請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
前記第１の屈折率が前記第２の屈折率とは異なるものである請求項３０記載の方法。
【請求項３４】
前記第１の屈折率が前記第２の屈折率と同一のものである請求項３０記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、積層型フィルムの構成要素と、構成要素を採用するデバイスと、同デバイスおよび／または構成要素を製作する方法とに関し、詳細には、本発明の態様を組み込んだデバイスの実施形態、デバイスにホログラムを記録する方法、および／またはデバイスでホログラムを読み取る方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
マイクロホログラフィックデータ記憶装置は、単一ディスクにおける多数のデータ層を可能にして、大きなデータ容量を実現する。データ層のそれぞれにおいて、マイクロホログラムの有無によってデジタルデータの「０」または「１」が表される。マイクロホログラムは、読取りビームで照光されると局所的反射器として機能する。マイクロホログラムの有無が、記憶された情報を提供する「ハイ」または「ロー」の反射された信号をもたらす。
【０００３】
マイクロホログラムの光学式記録は、重なり合う焦点領域を有するディスクの両面からの、２つの反対方向に伝搬する集束したコヒーレントなレーザビームを必要とする。焦点領域における２つのビームの干渉によって誘起される材料の局所的変化が屈折率変調パターンをもたらし、これがマイクロホログラムである。これら２つのビームの優れた位置合わせには、一般に、動的記録の間に５軸のサーボシステムが必要とされる。それに加えて、ディスクの深さを通じてすべての層で記録するには、適切に収差補正された光学システムが必要とされ、これは高開口数では非常に難度が高い。したがって、光学部品とサーボシステムの両方が、記録および／または読取りに単一の集束したビームしか用いない従来の光ドライブシステムで必要とされるものよりも、はるかにより複雑かつ高価なものになる。
【０００４】
「プリフォーマット」の概念は、この問題を克服するために提案されたものである。（たとえば米国特許第７，３８８，６９５号を参照されたい）。この方式では、ブランクディスクが、光ドライブで使用される前にマイクロホログラムの層で「プリフォーマットされている」。この「プリフォーマット」のステップは、ディスク製造のステップのうちの１つである。次いで、プリフォーマットされたディスクは、光ドライブの中で記録および読取りのために使用される。記録は、単一の集束されたレーザビームを用いて、マイクロホログラムを消去するかまたは変化させることによって行われる。「プリフォーマットする」ためのシステムは、高品質で高価な両面マイクロホログラム記録システムである。
【０００５】
したがって、既存の光学式データ記憶装置の構造、製造方法、記録方法、および／または読取り方法を改善するための機会が継続している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第２０１１／１０３２１１  Ａ１号
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、データ記憶デバイスを光学的にプリフォーマットする必要性を解消することにより、前述の欠点のうちの少なくともいくつかを克服するものである。より具体的には、本発明は、１つまたは複数の閾値材料を用いる代わりに、市販のポリマーおよび逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）染料の使用しか必要としない、積層型フィルムの構成要素、デバイスならびに製造方法、記録方法、および／または読取り方法を提供することを対象とするものである。
【０００８】
したがって、本発明の一態様によれば、構成要素が備える積層型フィルムの構造体は、第１の屈折率を有する複数の光不活性層と、第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する複数の光不活性層とが交互配置されたものと、逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を含む複数の層であって、それぞれが、第１の屈折率を有する複数の光不活性層のうちの１つと第２の屈折率を有する複数の光不活性層のうちの１つの間に配置されている複数の層とを備える。
【０００９】
本発明の別の態様によれば、製造方法は、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を用意するステップと、第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する複数の光不活性層を用意するステップと、第１の屈折率を有する光不活性層および第２の屈折率を有する光不活性層のうち少なくとも１つに逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を付着するステップと、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を、第２の屈折率を有する複数の光不活性層に接着し、その結果、第１の屈折率を有する複数の光不活性層と第２の屈折率を有する複数の光不活性層が交互配置され、それによって、第１の屈折率を有する光不活性層と第２の屈折率を有する光不活性層の間にＲＳＡ材料が配置されている構成要素が形成されるステップとを含む。
【００１０】
本発明の別の態様によれば、構成要素は、交互配置された、複数の第１の光不活性層と複数の第２の光不活性層と備える積層型フィルムの構造体であって、複数の第２の層が逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料でさらにドープされている積層型フィルムの構造体を備える。
【００１１】
本発明の別の態様によれば、製造方法は、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を用意するステップと、ドープされた逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料をさらに含み、第２の屈折率を有する複数の光不活性層を用意するステップと、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を、第２の屈折率を有する複数の光不活性層に接着し、その結果、第１の屈折率を有する複数の光不活性層と第２の屈折率を有する複数の光不活性層が交互配置され、それによって、第１の屈折率を有する光不活性層との間に、ドープされたＲＳＡ材料を積んだ層が配置されている積層型構成要素が形成されるステップとを含む。
【００１２】
本発明の様々な他の特徴および利点が、以下の詳細な説明および図面から明らかになるであろう。
【００１３】
本発明の、これらおよび他の特徴、態様、および利点は、添付図面を参照しながら以下の詳細な説明を解読すれば一層よく理解されるはずであり、各図面を通じて、同じ符号は同じ部品を表す。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態による積層型フィルムの構成要素の一部分の断面の正面図である。
【図２−３】本発明の一実施形態による図１の積層型フィルムの構成要素の一部分の断面の、記録中の様子および読取り中の様子をそれぞれ示す正面図である。
【図４−５】本発明の別の実施形態による積層型フィルムの構成要素の一部分の断面の、記録中の様子および読取り中の様子をそれぞれ示す正面図である。
【図６−７】本発明の別の実施形態による積層型フィルムの構成要素の一部分の断面の、記録中の様子および読取り中の様子をそれぞれ示す正面図である。
【図８−９】本発明の別の実施形態による積層型フィルムの構成要素の一部分の断面の、記録中の様子および読取り中の様子をそれぞれ示す正面図である。
【図１０】本発明の一実施形態による構成要素を使用するデータ記憶デバイスの一部分の断面の正面図である。
【図１１】本発明の一実施形態による構成要素の製造方法を採用するシステムの概略図である。
【図１２】本発明の一実施形態による構成要素の製造方法を採用するシステムの概略図である。
【図１３】本発明の一実施形態による構成要素の製造方法を示す流れ図である。
【図１４】本発明の別の実施形態による構成要素の製造方法を示す流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
別様に定義されなければ、本明細書で用いられる技術用語および科学用語は、現在開示されている主題について当業者によって一般に理解されるものと同じ意味を有する。本明細書で用いられる場合、用語「第１の」、「第２の」などは、何らかの順序、数量、または重要性を示すのではなく、ある要素を別の要素から区別するために用いられている。「１つの（ａ）」、「１つの（ａｎ）」、および「その（ｔｈｅ）」という用語は、数量の制限を示すのではなく、参照された項目の少なくとも１つの存在を示すものであり、また、「前部」、「後部」、「底部」、および／または「頂部」という用語は、特に断りのない限り説明の便宜のみのために用いられ、何らかの位置または空間的方向に限定されるわけではない。
【００１６】
範囲が開示される場合、同一の構成要素または特性を対象とするすべての範囲の端点は包括的であって、独立して結合可能である（たとえば「約２５重量％まで」の範囲は、「約５重量％から約２５重量％」の範囲の端点およびすべての中間値を含む、といった具合である）。量と関連して用いられる修飾の「約」は、提示された値を含み、文脈によって規定された意味を有する（たとえば特定の量の測定に関連した誤差の度合いを含む）。したがって、「約」という用語によって修飾された値は、必ずしも指定された正確な値のみに限定されるわけではない。
【００１７】
本明細書で用いられる「非線形の感光剤」という用語は、光強度に依拠する感度、すなわち、より高い（記録）強度においてより高くなり、より低い（読取り）強度においてより低くなる感度を有する材料を指す。
【００１８】
本明細書で用いられる場合、「感度」という用語は、レーザ光でフィルムのスポットを照射するのに用いられたフルエンスの量に対して得られる屈折率変化の量と定義される。一般に、線形材料および／または線形感光剤の感度は、様々な強度に対して変化しない。
【００１９】
本明細書で用いられる場合、「フルエンス」という用語は、ビーム断面の単位面積を通過した光ビームのエネルギー量（たとえばジュール／ｃｍ2で測定される）を意味し、「強度」という用語は、たとえば単位時間にビーム断面の単位面積を通過するエネルギー量（たとえばワット／ｃｍ2で測定される）といった、光学的放射フラックス密度を意味する。
【００２０】
本明細書で、屈折率の変化に関して用いられる場合、「変化なし」という用語は、ある期間にわたって屈折率の変化が約０．０５％未満の材料または材料の組合せを含むことを意味する。
【００２１】
本明細書で用いられる場合、「接している」という用語は、２つ以上の要素が互いに物理的に接触しているか、またはそれらの要素の間に１つまたは複数の間隙層があり得ることを意味する。すなわち、２つ以上の要素が、単一の構造物をもたらすように何らかのやり方で接合されていることになる。
【００２２】
本明細書で用いられる場合、「高強度」という用語は、約５０ｍＷ／ｃｍ2から約５００ｍＷ／ｃｍ2の範囲の光を含む。本明細書で用いられる場合、「低強度」という用語は、０．１ｍＷ／ｃｍ2から約３０ｍＷ／ｃｍ2の範囲の光を含む。
【００２３】
図を参照して、図１は、本発明の一実施形態による積層型フィルムの構造体すなわち構造体１０の断面の正面図を表す。本発明の態様は、市販のポリマーおよび１つまたは複数の逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料の使用法を提供するものである。すなわち、本発明の態様は、閾値材料が不要になるものである。構造体１０は、第１の屈折率を有する複数の光不活性層１２を備える。構造体１０は、第２の屈折率を有する複数の光不活性層１４をさらに備える。層１２の第１の屈折率と層１４の第２の屈折率は異なるものである。示されるように、第１の屈折率を有する複数の光不活性層１２と第２の屈折率を有する複数の光不活性層１４は、構造体１０の内部で、交互配置されるかまたは交番するように構成されている。
【００２４】
示されるように、第１の屈折率を有する複数の光不活性層１２と第２の屈折率を有する複数の光不活性層１４の間には、逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を含む層２０がある。層、すなわちＲＳＡ層２０は、第１の屈折率有する複数の光不活性層１２および／または第２の屈折率を有する複数の光不活性層１４の上に配置されてよい。いずれにしても、最終的な構造体１０が備える層構造では、最終的に、第１の屈折率を有する複数の光不活性層１２と第２の屈折率を有する複数の光不活性層１４の間にＲＳＡ層２０が配置される。
【００２５】
ＲＳＡ層２０向けに様々な適切なＲＳＡ材料が用いられ得る。特定の実施形態では、用いられるＲＳＡ材料は、約３００ｎｍから約８００ｎｍの範囲の波長を有する光に対して感応する。別の特定の実施形態では、用いられるＲＳＡ材料は、約３８０ｎｍから約４２０ｎｍの範囲の波長を有する光に対して感応する。
【００２６】
適切なＲＳＡ染料には、限定されることなく、たとえばＩｒｇａｐｈｏｒ  Ｕｌｔｒａｇｒｅｅｎ  Ｍｘ（Ｃｉｂａから市販されている）、銅フタロシアニン、鉛フタロシアニン、亜鉛フタロシアニン、インジウムフタロシアニン、インジウムテトラ−ブチルフタロシアニン、ガリウムフタロシアニン、コバルトフタロシアニン、白金フタロシアニン、ニッケルフタロシアニン、テトラ−４−スルフォネートフェニルポルフィリネート−銅（ＩＩ）またはテトラ−４−スルフォネートフェニルポルフィリネート−亜鉛（ＩＩ）など、金属フタロシアニン染料などの光化学的にも熱的にも安定した染料が含まれる。これらの様々な「緑色の」ＲＳＡ染料を励起するための公知の適切なレーザには、緑色レーザ（たとえば５３２ｎｍ）が含まれる。これらの様々な緑色のＲＳＡ染料は、現在は米国特許第７，３８８，６９５号として発行されている米国特許出願第１１／３７６，５４５号に開示されており、本明細書の教示と直接的に矛盾しない限り、すべての目的のために、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
【００２７】
他の適切なＲＳＡ染料には、たとえば４０５ｎｍの波長で入射する化学線と衝突すると光励起され得る「青色の」ＲＳＡ染料が含まれる。いくつかの適切なＲＳＡ染料が、米国特許第８，１８２，９６７号（代理人整理番号２３６６３９−１）および米国特許出願第１２／５５１，４５５号（代理人整理番号２３６５４０−１）に開示されており、本明細書の教示と直接的に矛盾しない限り、すべての目的のために、それらの全体が参照によって本明細書に組み込まれる。これら青色のＲＳＡ染料は、一般に、サブフタロシアニンおよび白金エチニルベースの染料を含む。具体例には、それだけではないが、３、５−ジブロモフェノキシサブフタロシアニネート］ホウ素（ＩＩＩ）、３−ヨードフェノキシサブフタロシアニネート］ホウ素（ＩＩＩ）、トランス−ビス（トリブチルホスフィン）ビス（４−エチニルビフェニル）白金（ＰＰＥ）、トランス−ビス（トリブチルホスフィン）ビス（４−エチニル−１−（２−フェニルエチニル）ベンゼン）白金（ＰＥ２）が含まれる。
【００２８】
ＲＳＡ層２０として用いられるさらなる適切なＲＳＡ染料には、ポルフィリンの化合物のクラスなどが含まれる。
【００２９】
第１の屈折率を有する複数の光不活性層１２および第２の屈折率を有する複数の光不活性層１４は、任意の適切な光不活性の材料もしくほぼ光不活性の材料またはそれらの組合せを含んでよい。層１２、１４に適する材料の例には、それだけではないが、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール、ポリ（アルキルアクリレート）、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ（ビニリデン塩化物）、ポリ（酢酸ビニル）、それらの組合せなどのポリ（アルキルメタクリレート）が含まれる。層１２、１４に適する材料の他の例には、ポリ（ビニリデンフッ化物−コ−トリフルオロエチレン）≡ＰＶＤＦ、ポリ（ビニルピロリドン）≡ＰＶＰ、またはスチレン−アクリロニトリル≡ＳＡＮの様々な組成物が含まれる。
【００３０】
図１は構造体１０の特定の実施形態を示しているが、本発明から逸脱することなく他の構成が利用可能であることに留意されたい。たとえば、図１に示されるように、ＲＳＡ層２０は、層１２と層１４の間の境界面に配置されるのに加えて、層１４と層１２の間の境界面にさらに配置されてよい（図１には示されていない）。単に説明のために、第１の屈折率を有する層１２に「Ａ」を割り当て、第２の屈折率を有する層１４に「Ｂ」を割り当て、ＲＳＡ層２０に「Ｃ」を割り当てることができる。そのため、本発明の態様下では、層１２、１４およびＲＳＡ層２０の組合せまたは順序の様々な可能な実施形態には、Ａ−Ｃ−Ｂ−Ｃ−Ａ−Ｃ−Ｂ−Ｃ−Ａ、または別の実施形態ではＡ−Ｃ−Ｂ−Ａ−Ｃ−Ｂ−Ａ−Ｃ−Ｂ−Ａ、またはＢ−Ｃ−Ａ−Ｂ−Ｃ−Ａ−Ｂ−Ｃ−Ａ−Ｂ、またはＡ−Ｂ−Ａ−Ｃ−Ｂ−Ａ−Ｂ−Ｃ−Ａ−Ｂ−Ａ−Ｃなどが含まれる。
【００３１】
特定の実施形態では、第１の屈折率を有する複数の光不活性層１２の厚さと第２の屈折率を有する複数の光不活性層１４の厚さは同一でよい。他の実施形態では、第１の屈折率を有する複数の光不活性層１２の厚さと第２の屈折率を有する複数の光不活性層１４の厚さは異なってよい。複数の光不活性層１２、１４のそれぞれの厚さは、たとえば約２０ｎｍから約５００ｎｍの範囲にあってよい。ＲＳＡ材料の層２０は、一般的には、他の複数の光不活性層１２、１４の厚さと比較して無視できるものである。ＲＳＡ材料の層２０の厚さは、たとえば約５ｎｍ未満でよい。
【００３２】
さらに、図１には、第１の屈折率を有する光不活性層１２が５、第２の屈折率を有する光不活性層１４が４の数で示されているが、本発明の意図から逸脱することなく他の数が有効である。たとえば、第１の屈折率を有する光不活性層１２および第２の屈折率を有する光不活性層１４は、構造体１０において交互配置された、たとえば２から約５０までの間の実質的に任意の数の層でよい。
【００３３】
戻って図１を参照すると、構造体１０の周期としてＰが示され、式１で定義される。
【００３４】
Ｐ＝λ／２ｎ          式１
ｎは構造体１０のｎeffectiveである。層１２は、第１の屈折率ｎ1および厚さｄ1を有する。同様に、層１４は、第２の屈折率ｎ2および厚さｄ2を有する。このようにして、構造体１０の構成要素（たとえば１２、１４）は、式２を満たすように構成される。
【００３５】
ｎ1ｄ1＋ｎ2ｄ2＝λ／２          式２
このようにして、積層型構造体１０の配置は周期的である。採用された特定の材料およびそれぞれの屈折率に依拠して、材料の異なる厚さが是認される。
【００３６】
図２および図３を参照すると、それぞれ記録ビームと読取りビームを受けている図１の実施形態の連続した断面の正面図が示されている。図２では、構成要素１０は、集束された記録ビーム３００が３０５で構成要素１０の一部分に当るようにレーザビーム３００を受ける。集束された記録レーザビーム３００を照射した結果として、それによって、構成要素１０の一部分４０５が図３に示されるように変化する。その結果、図３に概略的に示されるように、ＲＳＡ材料２０の一部分２２が変化する。用いられている１つまたは複数のＲＳＡ材料に依拠して、変化バージョン２２に対して１つまたは複数のＲＳＡ材料２０の適切な変化をもたらす適切な集束された記録ビーム３００が選択される。ＲＳＡ材料上に記録ビーム３００を照射すると、ＲＳＡ材料を加熱して歪ませ、それによって界面効果の混乱をもたらす。図３に示されるように、集束された読取りレーザビーム４００が構成要素１０に照射されてよい。図示のように、集束された記録ビーム３００（図２）を受けた部分４０５に、集束された読取りレーザビーム４００が照射されているかどうかということに依拠して、構成要素１０から反射される光が各様に応答することになる。図３の左の部分に示されるように、変化した部分４０５上に読取りビーム４００が照射されることにより、反射光４１０が散乱し、検出器に戻される有効な信号はない（すなわちデジタル「０」）。対象的に、図３の右の部分では、記録ビーム３００による変化のない構成要素１０の部分上に読取りビーム４００が照射されるために、反射光４２０の散乱はわずかであるか、またはまったくなく、検出器は反射された信号を受け取る（すなわちデジタル「１」）。
【００３７】
図４を参照すると、本発明の一実施形態による積層型フィルムの構造体すなわち構造体１１０の断面の正面図が示されている。構造体１１０は、第１の屈折率を有する複数の光不活性層２４を備える。構造体１１０は、第２の屈折率を有する複数の光不活性層３０をさらに備える。層２４の第１の屈折率と層３０の第２の屈折率は異なるものである。示されるように、第１の屈折率を有する複数の光不活性層２４と第２の屈折率を有する複数の光不活性層３０は、構造体１１０の内部で、交互配置されるかまたは交番するように構成されている。
【００３８】
示されるように、第２の屈折率を有する複数の光不活性層３０は、逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料でドープされている。ドーパントとして用いるのに適切なＲＳＡ材料は、本明細書の他の個所で論じる。同様に、層２４、３０に適する材料は、層１２、１４に関して他の個所で論じる。
【００３９】
図４に示されるように、構成要素１１０は、集束された記録ビーム３００が３０５で構成要素１１０の一部分に当るようにレーザビーム３００を受ける。集束された記録レーザビーム３００を照射した結果として、それによって、構成要素１１０の一部分４０５が、図５に示されるように変化する。その結果、図５に概略的に示されるように、ドープされた第２の層３０の一部分３２が変化する。層３０にドープされている１つまたは複数のＲＳＡ材料に依拠して、変化バージョン２２に対して第２の層３０の１つまたは複数の材料の適切な変化をもたらす適切な集束された記録ビーム３００が選択される。ＲＳＡ材料上に記録ビーム３００を照射すると、ＲＳＡ材料を加熱して歪ませ、それによって界面効果の混乱をもたらす。図５に示されるように、集束された読取りレーザビーム４００が構成要素１１０に照射されてよい。図示のように、集束された記録ビーム３００（図４）を受けた部分４０５に、集束された読取りレーザビーム４００が照射されているかどうかということに依拠して、構成要素１０から反射される光が各様に応答することになる。図５の左の部分に示されるように、変化した部分４０５上に読取りビーム４００が照射されることにより、反射光４１０が散乱する。対照的に、図５の右の部分では、記録ビーム３００による変化のない構成要素１１０の部分上に読取りビーム４００が照射されるために、反射光４２０の散乱はわずかであるか、またはまったくない。
【００４０】
図６〜図９をまとめて参照して、本発明の他の積層型構成要素２１０、３１０が図示されている。図６に示されるように、構成要素２１０が備える積層型フィルムの構造体は、複数の第２の光不活性層１３０と交互配置された複数の第１の光不活性層１２４を備える。複数の第２の光不活性層１３０はブロックコポリマーを含んでよい。一実施形態では、複数の第１の光不活性層１２４もブロックコポリマーを含んでよい。複数の第２の光不活性層１３０は、逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料でさらにドープされている。適切なＲＳＡ材料は、本明細書の他の個所で論じる。同様に、層１２４、１３０に適する材料は、層１２、１４、２４、３０に関して他の個所で論じる。
【００４１】
一実施形態では、複数の第２の光不活性層１３０を備えるポリスチレン（ＰＳ）基材を通じて、ナノサイズのポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）結晶が均一に分散していてよい。粒子は、光の散乱を防止するように十分に小さい（たとえば２５ｎｍ未満の）ものであり得る。しかしながら、結晶相では、粒子によってＰＥＯ／ＰＳボリュームの屈折率が増加する。ＲＳＡ染料は、焦点においてエネルギーを吸収すると、熱を急速に放散して、その領域の結晶を融解する。次いで、ＰＳのアモルファスＰＥＯがその領域の屈折率を低下させる。その結果、屈折率を変化させる特有の縞（すなわちホログラム）が生成される。このようにして、複数の第２の光不活性層１３０に用いられるＲＳＡ染料がブロックコポリマーの内部で熱的ヒータとして働き、その結果、ブロックコポリマーに相転移が起こる。
【００４２】
図６に示されるように、集束された記録レーザビーム３００が、構造体２１０の部分３０５に照射される。用いられる特定の実施形態と、層１２４、１３０の相対的反射率と、用いられる特定のＲＳＡ材料とに依拠して、ドープ層１３０上にビーム３００を照射すると、層１３０の屈折率が変化して、層１２４、１３０の屈折率が同一または似たものになり、それによって、読み取るとき、照射光は、構成要素２１０の透明領域４０５を通り抜けて（図７を参照されたい）検出器には戻らない。屈折率が変化した部分３０５はホログラム４０５を備える。
【００４３】
図７を参照すると、ホログラム４０５が記録されている構成要素２１０に対して、集束された読取りレーザビーム４００が照射されてよい。図示のように、集束された記録ビーム３００（図６）を受けたホログラム部分４０５に、集束された読取りレーザビーム４００が照射されているかどうかということに依拠して、構成要素２１０からの照射光が各様に応答することになる。図７の右の部分に示されるように、記録ビーム３００によって変化した構成要素２１０の部分上に読取りビーム４００が照射されるために、照射光４３０の散乱はわずかであるか、またはまったくない。これらの部分４０５の構成要素２１０の透過性のために、光ビーム４００は構成要素２１０を通り抜け、反射されない。
【００４４】
図８に示されるように、構成要素３１０が備える積層型フィルムの構造体は、複数の第２の光不活性層２３０と交互配置された複数の第１の光不活性層２２４を備える。複数の第２の光不活性層２３０はブロックコポリマーを含んでよい。一実施形態では、複数の第１の光不活性層２２４もブロックコポリマーを含んでよい。複数の第２の光不活性層２３０は、逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料でさらにドープされている。適切なＲＳＡ材料は、本明細書の他の個所で論じる。同様に、層２２４、２３０に適する材料は、層１２、１４、２４、３０、１２４、１３０に関して他の個所で論じる。
【００４５】
一実施形態では、複数の第２の光不活性層２３０を備えるポリスチレン（ＰＳ）基材を通じて、ナノサイズのポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）結晶が均一に分散していてよい。粒子は、光の散乱を防止するように十分に小さい（たとえば２５ｎｍ未満の）ものであり得る。しかしながら、結晶相では、粒子によってＰＥＯ／ＰＳボリュームの屈折率が増加する。ＲＳＡ染料は、焦点においてエネルギーを吸収すると、熱を急速に放散して、その領域の結晶を融解する。次いで、ＰＳのアモルファスＰＥＯがその領域の屈折率を低下させる。その結果、屈折率を変化させる特有の縞（すなわちホログラム）が生成される。このようにして、複数の第２の光不活性層２３０に用いられるＲＳＡ染料がブロックコポリマーの内部で熱的ヒータとして働き、その結果、ブロックコポリマーに相転移が起こる。
【００４６】
図８に示されるように、集束された記録レーザビーム３００が、構造体３１０の部分３０５に照射される。用いられる特定の実施形態と、層２２４、２３０の相対的反射率と、用いられる特定のＲＳＡ材料とに依拠して、層２２４、２３０の屈折率は、同一または類似である。ドープ層２３０上にビーム３００を照射すると、層２３０の屈折率が変化して、層２２４と層２３０の屈折率が互いに異なるものになり、それによって、読み取るとき、照射光４００は、反射されて構成要素４２０の領域４０５の検出器へそのまま戻る（図９を参照されたい）。屈折率が変化した部分３０５はホログラム４０５を備える。この実施形態では、部分３０５の加熱はそれほど厳しいものではなく、以前に論じたほどの境界面の変形はない。したがって、光の散乱はなく、またはわずかであるが、反射率は変化する。
【００４７】
図９を参照すると、ホログラム４０５が記録されている構成要素３１０に対して、集束された読取りレーザビーム４００が照射されてよい。図示のように、集束された記録ビーム３００（図８）を受けたホログラム部分４０５に、集束された読取りレーザビーム４００が照射されているかどうかということに依拠して、構成要素３１０からの照射光が各様に応答することになる。図９に示されるように、記録ビーム３００によって変化した構成要素３１０の部分上に読取りビーム４００が照射されるために、反射光４２０の散乱はわずかであるか、またはまったくない。構成要素３１０の他の領域が透過性である（すなわちホログラム４０５ではない）ために、光線４００は構成要素３１０を通り抜け得て反射されない。
【００４８】
図１０を参照すると、本発明の一実施形態によるデータ記憶デバイスの一部分、およびデータ記憶デバイスの構成要素の断面の正面図が示されている。データ記憶デバイスは１００として表されており、データ記憶デバイスの構成要素１０、１１０、２１０、３１０および他の要素を含む。
【００４９】
データ記憶デバイス１００が備える基板層４４には、データ記憶デバイスの構成要素１０、１１０、２１０、３１０が隣接している。構成要素１０、１１０、２１０、３１０は、データ記憶デバイスの第２の面に隣接して示されているように、第２の基板層５０であり得る。第２の基板層５０にはサーボ層４６がさらに含まれ得る。
【００５０】
データ記憶デバイス１００は、その片面または両面に、適切な障壁コーティング４２をさらに含み得る。障壁コーティング４２には、現在公知の、または後に開発される、任意の適切な材料が用いられてよい。さらに、データ記憶デバイス１００は、１つまたは複数の抗かき傷コーティングおよび反射防止コーティングを含み得る。抗かき傷コーティングおよび／または反射防止コーティングは、データ記憶デバイス１００の両面に配置されてよいが、読取り動作および／または書込み動作はデータ記憶デバイス１００の上部面で行われるので、一般的には、これらのコーティングが付着されるのはデータ記憶デバイス１００の上部面のみである。
【００５１】
その結果、最終的に、本発明のデータ記憶デバイス１００はマイクロホログラフィックデータ記憶デバイスとして機能するように構成され得る。一実施形態では、マイクロホログラフィックデータ記憶デバイスはディスクを備えてよい。適切なディスクは、それだけではないが、約１．２ｍｍまたは約１００μｍの合計の厚さを有するディスク（すなわち「フレキシブルディスク」）などの標準的なディスクサイズを含み得る。しかしながら、ディスクは、約１００μｍから約１．２ｍｍの範囲の、たとえば１００μｍ、４００μｍ、６００μｍ、または１２００μｍなどといった任意の合計の厚さに構築されてよい。
【００５２】
基板層４４、５０は、成形しやすい非フォトポリマープラスチック基板を含んでよい。基板層４４、５０向けのポリマー基材用に適するポリマーの特定の例には、それだけではないが、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール、ポリ（アルキルアクリレート）、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ（ビニリデン塩化物）、ポリ（酢酸ビニル）、それらの組合せなどのポリ（アルキルメタクリレート）が含まれる。基板層５０がさらに含み得るサーボ層４６は、溝または溝層と、溝層上の２色性の層とを備える。
【００５３】
適切な基板層４４、５０、サーボ層４６、溝層、２色性の層の例は、同一出願人による「Ｄｉｓｃ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  Ｆｏｒ  Ｂｉｔ−Ｗｉｓｅ  Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｓｔｏｒａｇｅ」という名称の米国特許出願第１２／９６６，１４４号（代理人整理番号２２８３６５−３）である米国特許出願公開第２０１１／００８０８２３号と、「Ｄｉｓｃ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  Ｆｏｒ  Ｂｉｔ−Ｗｉｓｅ  Ｓｔｏｒａｇｅ」という名称の米国特許出願第１２／３４６，３７８号（代理人整理番号２２８３６５−１）である米国特許第８，１９４，５２０号とに論じられているが、これらに列挙された材料に限定されるわけではない。両方の文献の全体が、参照によってここで組み込まれる。
【００５４】
次に図１１および図１２を参照すると、本発明の実施形態によるデータ記憶デバイスの構成要素１０、１１０、２１０、３１０を製造する方法を採用する様々なシステムの概略図が示されている。さらに、図１３および図１４は、図１１および図１２の２つのシステムに採用され得る構成要素を製造する方法を示す流れ図を示す。図１１および図１２は、それぞれシステム５００、６００の部分を示すものである。システム５００、６００は、複数のローラー５５２と、他の公知の要素（図示せず）と、論じられたようなデータ記憶デバイスの構成要素１０、１１０、２１０、３１０の少なくとも層１２、１４、２４、３０、１２４、１３０、２２４、２３０の部分を構築する接着装置６１０とを採用してよい。熱プレス、熱間圧延積層装置６１０（たとえば図１２を参照されたい）、光学的硬化剤などを含む任意の適切な接着装置６１０が使用されてよい。
【００５５】
この方法は、数百から数千の層を実現することができる層増殖共押出成形技法を用いることを含んでよい。この処理は、一般に、一連のダイを通過する２つの個別のポリマーの共押出成形を含み、これらのダイによって、流れが垂直に分割され、水平に広げられて、次のダイへ水平に入って行く。したがって、初期の２つの層が、個々の厚さが１０ｎｍ未満の、最多で２０４８層の、２n+1の層に増殖する（Y. Jin, H. Tai, A. Hiltner, E. Baer, James S. Shirk, Journal of Applied Polymer Science, Vol. 103, 1834-1841 (2007)を参照されたい）。この技法は、本発明の態様で必要とされるものに類似の層厚さおよび間隔を有する、すべてのポリマー溶融処理の分散型ブラッグ反射レーザを作るのに用いられている。（Y. Jin, H. Tai, A. Hiltner, E. Baer, James S. Shirk, Journal of Applied Polymer Science, Vol. 103, 1834-1841 (2007)を参照されたい）。したがって、構成要素１０、１１０、２１０、３１０（たとえば層１２、１４）は、データ記憶デバイス１００を製作するために別個に積み重ねられ得る層１２、１４を備えるデータ記憶デバイス１００を作り出すために、（たとえば複数の層１２、１４、２４、３０、１２４、１３０、２２４、２３０を製作する）単一パスで製作され、処理の最後で他の層に接着され得る。他の実施形態では、増殖共押出成形技法は３層共押出成形も含み、全体のスタック１０、１１０、２１０、３１０が単一パスで製作されて、後にデータ記憶デバイス１００を製作するのに使用され得る。
【００５６】
図１３に７００として示される方法は、７１０において、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を用意するステップを含み得る。同様に、７１２で、第１の屈折率と異なる第２の屈折率を有する複数の光不活性層が用意される。７１４で、光不活性層のうち少なくとも１つにＲＳＡ材料が付着される。次いで、７１６で、第１の屈折率を有する複数の光不活性層が、第２の屈折率を有する複数の光不活性層に接着され、これらの層のうち少なくとも１つの上にＲＳＡ材料が付着され、それによって、交互配置された構成要素１０、１１０、２１０、３１０が形成される。
【００５７】
図１４には、図１２のシステムで用いられ得る、構成要素１１０、２１０、３１０の別の製造方法を示す流れ図が８００として示されている。システム６００に採用され得るロールツーロールシステムは、ローラー５５２と、構成要素１１０、２１０、３１０をもたらすのに適切な複数の他の要素（図示せず）とを含む。
【００５８】
方法８００は、８１０において複数の第１の光不活性層を用意するステップを含む。８１２で、ＲＳＡ材料でさらにドープされた複数の第２の光不活性層が用意される。８１４で、複数の第１の層と複数の第２の層（ＲＳＡを有する）が互いに接着され、それによって、交互配置された構造体を形成する。
【００５９】
他の実施形態では、構成要素１０、１１０、２１０、３１０および／またはそれらのデータ記憶デバイス１００は、シートを形成するように、様々な１つもしくは複数のフィルムローラードラムおよび／または１つもしくは複数の熱プレスの組合せによって処理されてよい。加えて、一実施形態では、複数の層１２、１４および複数の他の構成要素は、図１２に示されたロールツーロールシステム６００によって移送されかつ整列される。接着は、接着装置５３０、６１０または類似の装置によって行われてよい。
【００６０】
この方法の他の態様は、それだけではないが、１つまたは複数の基板層に対して構成要素１０、１１０、２１０、３１０をさらに接着するステップを含んでよく、基板層は、非フォトポリマープラスチック基板およびサーボ層を備え、それによってデータ記憶デバイスを画定する。デバイスは、適切なデータ記憶ディスクを画定するように、所定のサイズおよび形状にさらにカットされてよい。障壁コーティング、反射防止コーティング、および抗かき傷コーティングを含む追加の１つまたは複数のコーティングが、ディスクの片面または両面に付着されてよい。障壁コーティングは、一般にディスクの両面に付着され、反射防止コーティングおよび抗かき傷コーティングは、ディスクの片面（読書き面）にしか付着されない。
【００６１】
別の実施形態では、これら複数の構成要素１０、１１０、２１０、３１０は、図１１〜図１４に表されたシステムおよび方法に関して論じたものと類似の手段（たとえばロールツーロールシステム）によって移送され、かつ整列されてよい。整列した複数の単位ホログラムおよびスペーサフィルム構造体、または構成要素は、互いに接着されてよく、それによって構成要素を形成する。この方法の他のフィルム処理ステップは、表面洗浄、コーティング以前の処置、保護マスキングフィルムの追加／除去などを含み得る。
【００６２】
コーティング装置５２０は、それだけではないが、スロットダイコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、グラビアコーティングなどを含む任意の適切なＲＳＡ材料２０を付着するのに適した任意の装置でよい。同様に、硬化装置５３０による硬化は、それだけではないが、加熱、紫外線硬化などを含む任意適切な手段によるものでよい。構築された他のデータ記憶デバイスと同様に、この方法の他のステップには、たとえば、１つまたは複数の基板層に積層型フィルムの構造体を接着するステップ、デバイスを所定のサイズおよび形状にカットするステップ、および／または本明細書で論じたような様々なコーティングを付着するステップが含まれ得る。
【００６３】
さらに、本明細書で図示され、かつ説明された実施形態は、光学式のデータ記憶および回復の分野で用いられ得るが、本発明の態様がそのように限定されるわけではない。これらの構成要素、前記構成要素を組み込んだデバイス、および製造方法は、他の技術分野と、それだけではないが、再プログラム可能なブラッグ反射器などの他の非線形の光学的用途を含んでいる他の技術的試みとに使用されてよい。
【００６４】
したがって、本発明の一実施形態によれば、構成要素が備える積層型フィルムの構造体は、第１の屈折率を有する複数の光不活性層と、第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する複数の光不活性層とが交互配置されたものと、逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を含む複数の層であって、それぞれが、第１の屈折率を有する複数の光不活性層のうちの１つと第２の屈折率を有する複数の光不活性層のうちの１つの間に配置されている複数の層とを備える。
【００６５】
本発明の別の態様によれば、製造方法は、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を用意するステップと、第１の屈折率が第２の屈折率とは異なる複数の光不活性層を用意するステップと、第１の屈折率を有する光不活性層および第２の屈折率を有する光不活性層のうち少なくとも１つに逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を付着するステップと、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を、第２の屈折率を有する複数の光不活性層に接着し、その結果、第１の屈折率を有する複数の光不活性層と第２の屈折率を有する複数の光不活性層が交互配置され、それによって、第１の屈折率を有する光不活性層と第２の屈折率を有する光不活性層の間にＲＳＡ材料が配置されている構成要素が形成されるステップとを含む。
【００６６】
本発明の別の実施形態によれば、構成要素は、交互配置された、複数の第１の光不活性層と複数の第２の光不活性層とを備える積層型フィルムの構造体であって、複数の第２の層が逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料でさらにドープされている積層型フィルムの構造体を備える。
【００６７】
本発明の別の実施形態によれば、製造方法は、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を用意するステップと、ドープされた逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料をさらに含み、第２の屈折率を有する複数の光不活性層を用意するステップと、第１の屈折率を有する複数の光不活性層を、第２の屈折率を有する複数の光不活性層に接着し、その結果、第１の屈折率を有する複数の光不活性層と第２の屈折率を有する複数の光不活性層が交互配置され、それによって、第１の屈折率を有する光不活性層との間に、ドープされたＲＳＡ材料を積んだ層が配置されている積層型構成要素が形成されるステップとを含む。
【００６８】
本発明の、特定の特徴のみが本明細書に示され、かつ／または説明されてきたが、当業者なら多くの修正形態および変更形態を思いつくことができるであろう。個々の実施形態が論じられているが、本発明には、それらの実施形態のすべての、あらゆる組合せが含まれる。添付の特許請求の範囲は、そのような修正形態および変更形態のすべてが、本発明の意図の範囲内に入る対象として含まれるように意図されていることを理解されたい。
【符号の説明】
【００６９】
１０  構造体
１２  光不活性層
１４  光不活性層
１６
２０  逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）層
２２  変化バージョン
２４  光不活性層
２６
３０  光不活性層
３２  層３０の一部分
４０
４２  障壁コーティング
４４  基板層
４６  サーボ層
５０  基板層
１００  データ記憶デバイス
１１０  構造体
１２４  光不活性層
１３０  光不活性層
２１０  構造体
２２４  光不活性層
２３０  光不活性層
３００  記録レーザビーム
３０５  記録レーザビームが当る部分
３１０  構造体
４００  読取りレーザビーム
４０５  ホログラム
４１０  反射光
４２０  反射光
４３０  照射光
５００  システム
５２０  コーティング装置
５３０  接着装置
５５２  ローラー
６００  システム
６１０  接着装置
【図１】
2016506589.tif 000003
【図２−３】
2016506589.tif 000004
【図４−５】
2016506589.tif 000005
【図６−７】
2016506589.tif 000006
【図８−９】
2016506589.tif 000007
【図１０】
2016506589.tif 000008
【図１１】
2016506589.tif 000009
【図１２】
2016506589.tif 000010
【図１３】
2016506589.tif 000011
【図１４】
2016506589.tif 000012
【国際調査報告】
2016506589.tif 000013
2016506589.tif 000014