(57)【要約】本発明は、軟Ｘ線を発生させるための高電圧を発生させる高電圧発生部と、前記高電圧によって前記軟Ｘ線を発生させて外部へ出射する軟Ｘ線発生部と、前記高電圧発生部と前記軟Ｘ線発生部とを連結し、前記高電圧を前記高電圧発生部から前記軟Ｘ線発生部へ伝達する可撓性連結部と、前記軟Ｘ線発生部に設置され、所定の設置対象に固定される固定部とを含んでなる、真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置を提供する。
2016539455.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟Ｘ線を発生させるための高電圧を発生させる高電圧発生部と、
前記高電圧を介して前記軟Ｘ線を発生させて外部へ出射する軟Ｘ線発生部と、
前記高電圧発生部と前記軟Ｘ線発生部とを連結し、前記高電圧を前記軟Ｘ線発生部へ伝達する可撓性連結部と、
前記軟Ｘ線発生部に設置され、所定の設置対象に固定される固定部とを含んでなることを特徴とする、真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項２】
前記設置対象は、真空雰囲気を形成する真空チャンバーであり、
前記軟Ｘ線発生部は、前記真空チャンバーを貫通して前記真空チャンバーの内部空間に晒され、
前記固定部は、前記軟Ｘ線発生部を前記真空チャンバーの外壁に固定することを特徴とする、請求項１に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項３】
前記固定部は、
前記軟Ｘ線発生部の外周に、前記軟Ｘ線発生部を中心に一定の直径を持つように突設される固定部材と、
前記固定部材に所定の間隔で設けられる多数の固定孔、及び該固定孔及び前記真空チャンバーの外壁に締結されて固定される多数の締結部材を有する締結手段とを備えることを特徴とする、請求項２に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項４】
前記固定部材と前記真空チャンバーの外壁との間には、前記真空チャンバー内の真空を維持するためのシリコーンガスケットがさらに設置されることを特徴とする、請求項３に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項５】
前記軟Ｘ線発生部の端部は、前記真空チャンバーの内側壁を基準に、前記真空チャンバーの内部空間へ突出するように設置されることを特徴とする、請求項３に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項６】
前記軟Ｘ線発生部の端部は、前記真空チャンバーの内側壁と実質的に同一の面上に位置するように配置されることを特徴とする、請求項３に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項７】
前記真空チャンバーには、前記軟Ｘ線発生部が貫通して挿入される貫通孔が設けられ、
前記貫通孔の内周には、前記軟Ｘ線発生部の外周に密着し、前記真空チャンバーの真空を維持するためのシリコーン材質の気密部材がさらに設置されることを特徴とする、請求項３に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項８】
前記軟Ｘ線発生部は、円筒状をし、前記貫通孔に螺合されて固定されることを特徴とする、請求項７に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項９】
前記軟Ｘ線発生部と前記貫通孔とは少なくとも一つの段差部を形成しながら密着固定されることを特徴とする、請求項７に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項１０】
前記軟Ｘ線発生部の端部は、前記真空チャンバーの内部空間に晒される状態で水平回転可能に設けられ、
前記軟Ｘ線発生部は、外部からの制御信号を受信して前記軟Ｘ線発生部の端部の回転位置を調節するように前記軟Ｘ線発生部の端部を回転させる回転機をさらに備えることを特徴とする、請求項２に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【請求項１１】
前記除電装置は除電制御ユニットをさらに備え、
前記除電制御ユニットは、前記真空チャンバーの内部空間における静電気レベルを測定する測定器と、前記測定した静電気レベルに応じて、予め設定された軟Ｘ線発生量をなすように前記高電圧発生部の駆動を制御する制御器とを備えることを特徴とする、請求項２に記載の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置に係り、特に、真空チャンバーの内部で工程進行中に発生する静電気を効率よく除去することができる、真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、メモリ素子、ＴＦＴなどの平板素子、及びＩＣなどの高集積回路は、所定の工程が行われる複数の反応室（またはプロセスチャンバー（ｐｒｏｃｅｓｓ  ｃｈａｍｂｅｒ））を経て製造される。
【０００３】
上述した半導体素子を製造する反応室はほとんど真空状態を維持しているが、例えば、ドライエッチング工程を行う石英ボートの反応室はエッチングされるウエハーが挿入されると真空状態になる。
【０００４】
ところが、上述したようなメモリ素子、ＴＦＴなどの平板素子、及びＩＣなどの高集積回路は、製造のために多段階の製造工程を経るが、各工程のための反応室への搬送時には所定の搬送チャンバー（ｔｒａｎｓｆｅｒ  ｃｈａｍｂｅｒ）を経る。この際、この搬送チャンバー内には相当量の帯電した静電気が存在する。
【０００５】
特に、前記チャンバーを介して製造される製造物が各反応室から搬送チャンバーへ搬送されるとき、相当量の帯電した静電気が存在する。
【０００６】
したがって、各反応室同士の間に位置する搬送チャンバー内の帯電した静電気を適切に除電しなければ、搬送中に製造物が悪影響を受けるようになる。
【０００７】
つまり、フラットパネルディスプレー製造物の場合、各反応室での静電気が除去されないことによりタッチができない動作不良だけでなく、画面の非正常駆動やライン性不良、画面揺れなどの様々な誤作動の発生、及びグラス破損といった問題点が生じる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、除電のための軟Ｘ線を真空チャンバーの内部に提供することができる真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、軟Ｘ線を提供するための軟Ｘ線発生部を真空チャンバー内に着脱可能に設置することができる真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置を提供することにある。
【００１０】
本発明の別の目的は、真空チャンバーの内部に直接組み込まれていない状態で軟Ｘ線の提供位置を可変的に調節することができる真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
一態様において、本発明は、軟Ｘ線を発生させるための高電圧を発生させる高電圧発生部と、前記軟Ｘ線を発生させて外部へ出射する軟Ｘ線発生部と、前記高電圧発生部と前記軟Ｘ線発生部とを連結し、前記高電圧を前記高電圧発生部から前記軟Ｘ線発生部へ伝達する可撓性連結部と、前記軟Ｘ線発生部に設置され、所定の設置対象に固定される固定部とを含んでなる、除電装置を提供する。
【００１２】
前記設置対象は、真空雰囲気を形成する真空チャンバーであることが好ましい。
【００１３】
前記軟Ｘ線発生部は前記真空チャンバーを貫通して前記真空チャンバーの内部空間に晒され、前記固定部は前記軟Ｘ線発生部を前記真空チャンバーの外壁に固定することが好ましい。
【００１４】
前記固定部は、前記軟Ｘ線発生部の外周に、前記軟Ｘ線発生部を中心に一定の直径を持つように突設される固定部材と、前記固定部材に所定の間隔で設けられる多数の固定孔、及び前記固定孔及び前記真空チャンバーの外壁に締結されて固定される多数の締結部材を有する締結手段とを備えることが好ましい。
【００１５】
前記固定部材と前記真空チャンバーの外壁との間には、真空チャンバー内の真空を維持するためのシリコーンガスケットがさらに設置されることが好ましい。
【００１６】
前記軟Ｘ線発生部の端部は、前記真空チャンバーの内側壁を基準に、前記真空チャンバーの内部空間へ突出するように設置されることが好ましい。
【００１７】
前記軟Ｘ線発生部の端部は、前記真空チャンバーの内側壁と実質的に同一の面上に位置するように配置されることが好ましい。
【００１８】
前記真空チャンバーには、前記軟Ｘ線発生部が貫通して挿入される貫通孔が設けられる。
【００１９】
前記貫通孔の内周には、前記軟Ｘ線発生部の外周に密着し、前記真空チャンバーの真空を維持するためのシリコーン材質の気密部材がさらに設置されることが好ましい。
【００２０】
前記軟Ｘ線発生部は、円筒状をし、前記貫通孔に螺合されて固定されることが好ましい。
【００２１】
前記軟Ｘ線発生部と前記貫通孔とは、少なくとも一つの段差部を形成しながら密着固定されることが好ましい。
【００２２】
前記軟Ｘ線発生部の端部は、前記真空チャンバーの内部空間に晒される状態で水平に回転できる。
【００２３】
前記軟Ｘ線発生部は、外部からの制御信号を受信して前記軟Ｘ線発生部の端部の回転位置を調節するように前記軟Ｘ線発生部の端部を回転させる回転機をさらに備えることが好ましい。
【００２４】
前記除電装置は除電制御ユニットをさらに備えることができる。
【００２５】
前記除電制御ユニットは、前記真空チャンバーの内部空間における静電気レベルを測定する測定器と、前記測定した静電気レベルに応じて、予め設定された軟Ｘ線発生量をなすように前記高電圧発生部の駆動を制御する制御器とを備えることが好ましい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は、除電のための軟Ｘ線を真空チャンバーの内部に提供することができるという効果を持つ。
【００２７】
また、本発明は、軟Ｘ線を提供するための軟Ｘ線発生部を真空チャンバーに着脱可能に設置することができるという効果を持つ。
【００２８】
また、本発明は、真空チャンバーの内部に直接組み込まれていない状態で軟Ｘ線の提供位置を可変的に調節することができるという効果を持つ。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置の高電圧発生部を示す図である。
【図３】本発明の除電装置の高電圧発生部を示す分解斜視図である。
【図４】図３の除電装置の高電圧発生部を示す断面図である。
【図５】除電装置が真空チャンバーに設置される他の例を示す断面図である。
【図６】軟Ｘ線発生部本体と貫通孔との他の結合例を示す断面図である。
【図７】軟Ｘ線発生部本体の端部が回転可能に構成される例を示す図である。
【図８】除電制御ユニットを有する除電装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、添付図面を参照して本発明の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置を説明する。
【００３１】
図１は本発明の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置を示す斜視図、図２は本発明の真空チャンバー用軟Ｘ線除電装置の高電圧発生部を示す図である。
【００３２】
本発明の除電装置２００は真空チャンバーに着脱可能に設置される。
【００３３】
図１及び図２を参照すると、本発明の除電装置は、大きく、高電圧発生部１００、軟Ｘ線発生部２００、可撓性連結部２３０及び固定部４００から構成される。
【００３４】
前記高電圧発生部１００は軟Ｘ線発生のための高電圧を発生させる。
【００３５】
図３を参照すると、前記高電圧発生部１００は、電源部（図示せず）が組み込まれるケース１１１を有する。
【００３６】
図１を参照すると、前記可撓性連結部３００は、一定の長さを有し、フレキシブルな材質からなるチューブ状に形成され、軟Ｘ線の外部漏洩を防止するためのシリコーン層（図示せず）がさらに形成できる。
【００３７】
前記可撓性連結部３００の一端は放射口１１３ａに締結できる。前記締結方式は、ナット締結方式であり、Ｘ線の漏洩を防止するための気密リング（図示せず）がさらに設置できる。 
【００３８】
前記可撓性連結部３００の他端は前記軟Ｘ線発生部２００に連結され、可撓性連結部３００は高電圧発生部１００から発生した高電圧を軟Ｘ線発生部２２０へ伝達する役割を果たす。
【００３９】
前記軟Ｘ線発生部２００は、軟Ｘ線発生部本体２１０と、前記軟Ｘ線発生部本体２１０の内部に設置され、軟Ｘ線を外部へ出射させるための軟Ｘ線発生部側Ｘ線管２２０と、前記軟Ｘ線発生部側Ｘ線管２２０を取り囲んでＸ線の漏洩を防止するシリコーンモールディング２３０と、前記軟Ｘ線発生部本体２１０の終端に締結されるヘッドキャップ２４０とから構成される。
【００４０】
ここで、前記軟Ｘ線発生部本体２１０は円筒状に形成されることが好ましい。
【００４１】
図４を参照すると、本発明に係る固定部４００は固定部材４１０と締結手段４２０とから構成される。
【００４２】
前記固定部材４１０は、一定の厚さを有する円板状に形成され、前記軟Ｘ線発生部本体２１０の外周から突出する。
【００４３】
ここで、前記固定部材４１０の中心は軟Ｘ線発生部本体２１０の中心に沿うように設置される。
【００４４】
また、前記固定部材４１０は軟Ｘ線発生部本体２１０と一体に形成されることが良い。
【００４５】
しかし、図５に示すように、固定部材４１０は、正または逆方向に回転することにより、軟Ｘ線発生部本体２１０の長手方向に沿って位置が調節されるように構成されてもよい。
【００４６】
このような場合、固定部材４１０は軟Ｘ線発生部本体２１０の外周に螺合されることが好ましい。
【００４７】
前記締結手段４２０は、前記固定部材４１０に所定の間隔で設けられる多数の固定孔４２０ａと、前記固定孔４２０ａ及び前記真空チャンバーの外壁に締結されて固定される多数の締結部材４２０ｂとから構成される。
【００４８】
前記締結部材４２０ｂは締結ボルトであってもよく、これは固定孔４２０ａに螺合できる。
【００４９】
また、前記締結部材４２０ｂは、固定孔４２０ａに締結されながら、真空チャンバーの外壁を貫いて螺合できる。
【００５０】
一方、図５を参照すると、真空チャンバー１の外壁には、前記軟Ｘ線発生部本体２１０が挿入される貫通孔ｈが設けられる。
【００５１】
前記貫通孔ｈの内周は、滑らかな内壁を成してもよく、前記軟Ｘ線発生部本体２１０の外周に螺合されるように構成してもよい。
【００５２】
ここで、貫通孔ｈに挿入される軟Ｘ線発生部本体２１０の端部は、真空チャンバー１の内壁と実質的に同一の面をなす位置に配置されてもよい。
【００５３】
このような場合、図示してはいないが、前記真空チャンバー１の内壁側で貫通孔ｈを取り囲み、Ｘ線が伝達されるキャップ（図示せず）がさらに設置されてもよい。
【００５４】
この時、軟Ｘ線発生部本体２１０に形成された固定部材４１０は、一面が真空チャンバー１の外壁に密着するように配置される。
【００５５】
固定部材４１０に設けられる固定孔４２０ａの位置は、真空チャンバー１の外壁に設けられる締結孔ｈ１の位置と一致する。
【００５６】
また、多数の締結部材４２０ｂを用いて固定孔４２０ａ及び締結孔ｈ１に挿入されて締結されるようにする。
【００５７】
よって、軟Ｘ線発生部本体２１０は、真空チャンバー１の外壁に設けられる貫通孔ｈに挿入された状態でその位置が固定できる。
【００５８】
また、真空チャンバー１の外壁と固定部材４１０の一面との間には、シリコーン材質で形成されるシリコーンガスケット（図示せず）がさらに設置されてもよい。
【００５９】
このシリコーンガスケットは、前端部に位置するＸ線管２２０を保護し、Ｘ線管２２０の高圧連結部位を固定または保護することができる。
【００６０】
ここで、図５に示すように、軟Ｘ線発生部本体２１０と貫通孔ｈとが螺合される場合、シリコーン材質の気密部材（図示せず）は貫通孔ｈの内周にコーティング処理されることが良い。
【００６１】
図５を参照すると、本発明に係る軟Ｘ線発生部本体２１０の端部は、真空チャンバー１の内部空間１ａへ突出するように固定設置されてもよい。
【００６２】
このような場合、上述したように、固定部材４１０が軟Ｘ線発生部本体２１０の長手方向に沿って固定位置が可変な場合に適用可能である。
【００６３】
したがって、軟Ｘ線発生部本体２１０の端部が真空チャンバー１の内部空間１ａへ突出する長さを調節することができるため、Ｘ線を出射させるための位置を制御することができる。
【００６４】
前述した場合、固定部材４１０は軟Ｘ線発生部本体２２１に螺合される。
【００６５】
図６は軟Ｘ線発生部本体と貫通孔との間の他の結合例を示す断面図である。
【００６６】
図６を参照すると、前記軟Ｘ線発生部２００と貫通孔ｈ’とは少なくとも一つの段差部Ｓを形成することができる。
【００６７】
すなわち、段差部Ｓを形成することにより、軟Ｘ線発生部本体２１０の固定位置における遊動を防止することができ、多層に形成されることにより、真空が外部に漏れ出すことをさらに効率よく防止することができる。
【００６８】
図７は軟Ｘ線発生部本体の端部が回転可能に構成された例を示す図である。
【００６９】
図７を参照すると、本発明に係る軟Ｘ線発生部本体２１０の端部は、前記真空チャンバー１の内部空間１ａに晒される状態で、水平回転可能に設置される回転体２２１ａから構成できる。
【００７０】
したがって、軟Ｘ線発生部本体２１０と回転体２１０ａとの間には、フレキシブル外側管２１０ｂが設置できる。
【００７１】
フレキシブル外側管２１０ｂには回転体２１０ａの回転を誘導するための回転段Ｈが形成される。回転段Ｈは回転機６００に連結される。
【００７２】
回転機６００は、外部からの制御信号を受信して前記軟Ｘ線発生部２００の端部の回転位置を調節するように前記回転体２１０ａを回転させることもできる。
【００７３】
これは、実質的に軟Ｘ線を出射する軟Ｘ線発生部本体の端部の方向を回転機による制御で実現するため、真空チャンバー内部空間の空間面積を考慮して面積の広い側を向くように調節することができる。
【００７４】
図８は除電制御ユニットを有する除電装置を示す図である。
【００７５】
一方、図８を参照すると、本発明の除電装置は除電制御ユニット５００をさらに有することもできる。
【００７６】
前記除電制御ユニット５００は、前記真空チャンバー１の内部空間１ａでの静電気レベルを測定する測定器５１０と、前記測定した静電気レベルに応じて、予め設定された軟Ｘ線発生量をなすように前記高電圧発生部５１０の駆動を制御する制御器５２０とから構成される。
【００７７】
測定器５１０は、真空チャンバー１の内壁側に設置されてもよく、軟Ｘ線発生部本体２１０の端部から突出するように設置されてもよい。
【００７８】
前記測定器５１０は、真空チャンバー１の内部空間１ａでの静電気レベルを測定し、これを制御器５２０へ伝送する。
【００７９】
前記制御器５２０では、静電気レベルに応じて軟Ｘ線発生量が予め設定される。
【００８０】
したがって、前記制御器５２０は、測定した静電気レベルに該当する軟Ｘ線発生量をなすように高電圧発生部１００の駆動を制御することができる。
【００８１】
以上、前述した構成及び作用を参照すると、本発明に係る実施例は、除電のための軟Ｘ線を真空チャンバーの内部に提供することができる。
【００８２】
また、本発明に係る実施例は、軟Ｘ線を提供するための軟Ｘ線発生部を真空チャンバーに着脱可能に設置することができる。
【００８３】
また、本発明に係る実施例は、真空チャンバーの内部に直接組み込まれていない状態で軟Ｘ線の提供位置を可変的に調節することもできる。
【００８４】
また、本発明に係る実施例は、真空チャンバーの内部空間における静電気を効率よく除去することにより、真空チャンバーの内部で製造されるフラットパネルディスプレーのタッチ部におけるタッチ動作不良を解決し、画面の非正常駆動、ライン性不良、画面揺れなどの様々な誤作動の発生を防止し、ガラス破損などの問題を解決することができる。
【００８５】
以上、本発明の除電装置を有するフラットパネルディスプレー製造設備に関する具体的な実施例について説明したが、本発明の範囲から逸脱しない範疇内において様々な変形実施が可能であることは自明である。
【００８６】
したがって、本発明の範囲は上述した実施例に局限されて定められてはならず、後述する特許請求の範囲だけでなく、この特許請求の範囲と均等なものによって定められるべきである。
【００８７】
つまり、前述した実施例はあらゆる面で例示的なものに過ぎず、限定的なものではない。本発明の範囲は詳細な説明ではなく、後述する特許請求の範囲によって示され、その特許請求の範囲の意味及び範囲、そしてその等価概念から導出されるすべての変更または変形形態も本発明の範囲に含まれるものと解釈されるべきである。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
本発明は、真空チャンバーの内部で発生する静電気を除去することに適用可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
2016539455.tif 000011
2016539455.tif 000012
2016539455.tif 000013
2016539455.tif 000014