(57)【要約】気体の流れからアンモニアを除去する方法は、次の各工程を含むことができる：第一のｐＨを有するモリブデン酸の一次スラリー組成物を供給する工程；第二のｐＨを有するモリブデン酸の二次スラリー組成物を供給する工程、このとき、その第二のｐＨは第一のｐＨよりも数値が小さい；気体の流れの存在下で一次スラリー組成物を霧化することにより部分的に処理された気体の流れを生成し、気体の流れの中の多量のアンモニアを一次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それによりさらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物を形成する工程；および、部分的に処理された気体の流れの存在下で二次スラリー組成物を霧化することにより処理済みの気体の流れを生成し、部分的に処理された気体の流れの中の追加の量のアンモニアを二次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それによりさらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物を形成する工程。【選択図】図１
2016525440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体の流れからアンモニアを除去する方法であって、次の各工程：
第一のｐＨを有するモリブデン酸を含む一次スラリー組成物を供給すること；
第二のｐＨを有するモリブデン酸を含む二次スラリー組成物を供給すること、このとき、その第二のｐＨは第一のｐＨよりも数値が小さい；
気体の流れの存在下で一次スラリー組成物を霧化することにより部分的に処理された気体の流れを生成し、気体の流れの中の多量のアンモニアを一次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それによりさらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物を形成すること；および、
部分的に処理された気体の流れの存在下で二次スラリー組成物を霧化することにより処理済みの気体の流れを生成し、部分的に処理された気体の流れの中の追加の量のアンモニアを二次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それによりさらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物を形成すること；
を含む、前記方法。
【請求項２】
一次スラリー組成物の比重は二次スラリー組成物の比重よりも小さい、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
一次スラリー組成物は約１．２から約１．３までの範囲の比重を有する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
二次スラリー組成物は約１．３から約１．４までの範囲の比重を有する、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物を一次スラリー組成物と混合することにより、混合した一次スラリー組成物を形成すること、および
さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物を二次スラリー組成物と混合することにより、混合した二次スラリー組成物を形成すること、
をさらに含む、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
混合した一次スラリー組成物の一部を取り出し、そしてそれを多量の混合した二次スラリー組成物と置き換えることをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
混合した一次スラリー組成物の取り出した部分からアンモニアを回収することをさらに含む、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
混合した一次スラリー組成物の取り出した部分はモリブデン酸アンモニウムを含み、そして、混合した一次スラリーの取り出した部分からアンモニアを回収することは、混合した一次スラリー組成物からモリブデン酸アンモニウムを分離するためにろ過することを含む、請求項５から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物は二モリブデン酸アンモニウム（ＡＤＭ）を含む、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物は七モリブデン酸アンモニウム（ＡＨＭ）を含む、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
気体の流れの存在下で一次スラリー組成物を霧化することは、含有するアンモニアの少なくとも約５０容量％が気体の流れから除去されるように実施される、請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
部分的に処理された気体の流れの存在下で二次スラリー組成物を霧化することは、含有するアンモニアの少なくとも約７５容量％が気体の流れから除去されるように実施される、請求項１から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
気体の流れは約２容量％のアンモニアを含む、請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
気体の流れの存在下で一次スラリー組成物を霧化することは、部分的に処理された気体の流れが約０．２容量％のアンモニアを含むように実施される、請求項１から１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
部分的に処理された気体の流れの存在下で二次スラリー組成物を霧化することは、処理済みの気体の流れが容量で１００万部当り約３００部（ｐｐｍｖ）のアンモニアを含むように実施される、請求項１から１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
第一のｐＨは少なくとも約７である、請求項１から１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
第二のｐＨは少なくとも約６である、請求項１から１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
第一のｐＨは約７から約９．５までの範囲である、請求項１から１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
第一のｐＨは約８から約８．８までの範囲である、請求項１から１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
第二のｐＨは約６から約６．８までの範囲である、請求項１から１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
気体の流れからアンモニアを除去する方法であって、次の各工程：
あるｐＨのレベルを有するモリブデン酸を含む一次スラリー組成物を供給すること；
あるｐＨのレベルを有するモリブデン酸を含む二次スラリー組成物を供給すること、このとき、二次スラリー組成物のｐＨのレベルは一次スラリー組成物のｐＨのレベルよりも数値が小さい；
気体の流れの存在下で一次スラリー組成物を霧化することにより部分的に処理された気体の流れを生成し、気体の流れの中の多量のアンモニアを一次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それにより主として二モリブデン酸アンモニウムを形成すること；および、
部分的に処理された気体の流れの存在下で二次スラリー組成物を霧化することにより処理済みの気体の流れを生成し、部分的に処理された気体の流れの中の追加の量のアンモニアを二次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それにより主として七モリブデン酸アンモニウムを形成すること；
を含む、前記方法。
【請求項２２】
一次スラリー組成物の比重は二次スラリー組成物の比重よりも小さい、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
一次スラリー組成物の比重は約１．３以下であり、そして二次スラリー組成物の比重は約１．４以下である、請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】
一次スラリー組成物のｐＨのレベルは少なくとも約７であり、そして二次スラリー組成物のｐＨのレベルは少なくとも約６である、請求項２１から２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
一次スラリー組成物のｐＨのレベルは約７から約９．５までの範囲であり、そして二次スラリー組成物のｐＨのレベルは約６から約６．８までの範囲である、請求項２１から２４のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
次の各要素：
気体の入口、気体の出口、およびスラリーの噴霧器を有する一次スクラバー、この一次スクラバーの気体の入口は中にアンモニアを含む気体の流れと操作上つながっている；
前記一次スクラバーのスラリー噴霧器に操作上連結された一次スラリー供給システム、この一次スラリー供給システムは、あるｐＨのレベルを有するモリブデン酸を含む一次スラリー組成物をスラリー噴霧器に供給する；
気体の入口、気体の出口、およびスラリーの噴霧器を有する二次スクラバー、この二次スクラバーの気体の入口は前記一次スクラバーの気体の出口に操作上連結されている；および
二次スクラバーのスラリー噴霧器に操作上連結された二次スラリー供給システム、この二次スラリー供給システムは、あるｐＨのレベルを有するモリブデン酸を含む二次スラリー組成物をスラリー噴霧器に供給し、二次スラリー組成物のｐＨのレベルは一次スラリー組成物のｐＨのレベルよりも小さい；
を有する、気体の流れからアンモニアを除去するための装置であって、
一次スクラバーの中で一次スラリー組成物を霧化し、霧化した一次スラリー組成物は気体の流れの中に含まれる多量のアンモニアを吸収することによって部分的に処理された気体の流れが生成し、その部分的に処理された気体の流れは気体の出口を介して前記一次スクラバーから出て、そして気体の入口を介して前記二次スクラバーの中に入り、二次スクラバーの中で二次スラリー組成物を霧化し、霧化した二次スラリーは部分的に処理された気体の流れの中に含まれる追加の量のアンモニアを吸収することによって処理済みの気体の流れが生成し、その処理済みの気体の流れは気体の出口を介して前記二次スクラバーから出る、前記装置。
【請求項２７】
前記一次スラリー供給システムは抜き取り口を有し、この抜き取り口により前記一次スラリー供給システムから多量の一次スラリー組成物を取り出す、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記二次スラリー供給システムは前記一次スラリー供給システムに操作上連結された補給口を有し、この補給口により前記二次スラリー供給システムから多量の二次スラリー組成物を取り出し、そして前記一次スラリー供給システムに入れる、請求項２６または２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記一次スラリー供給システムと作動上連関している一次ｐＨ制御システム、この一次ｐＨ制御システムは前記一次スラリー組成物のｐＨのレベルを制御する；および
前記二次スラリー供給システムと作動上連関している二次ｐＨ制御システム、この二次ｐＨ制御システムは前記二次スラリー組成物のｐＨのレベルを制御する； 
をさらに有する、請求項２６から２８のいずれかに記載の装置。
【請求項３０】
前記一次ｐＨ制御システムは一次スラリー組成物を少なくとも約７のｐＨのレベルで維持し、そして前記二次ｐＨ制御システムは二次スラリー組成物を少なくとも約６のｐＨのレベルで維持する、請求項２６から２９のいずれかに記載の装置。
【請求項３１】
前記一次スラリー供給システムと作動上連関している一次比重制御システム、この一次比重制御システムは前記一次スラリー組成物の比重を制御する；および
前記二次スラリー供給システムと作動上連関している二次比重制御システム、この二次比重制御システムは前記二次スラリー組成物の比重を制御する； 
をさらに有する、請求項２６から３０のいずれかに記載の装置。
【請求項３２】
前記一次比重制御システムは一次スラリー組成物を約１．３以下の比重で維持し、そして前記二次比重制御システムは二次スラリー組成物を約１．４以下の比重で維持する、請求項２６から３１のいずれかに記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して言えば気体の洗浄システムに関し、より具体的には気体の流れの中に含まれるアンモニアを回収するためのシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
気体の洗浄システム（スクラビングシステム）は当分野で周知であり、様々なタイプの加工処理からの未処理の気体状排出物の中に含まれる広範囲の化合物を除去するために用いられる。一つの特定の用途として、気体の洗浄システムは気体の流れからアンモニア（ＮＨ３）を除去するために開発されたものであり、これは典型的には、気体の流れを様々なタイプの充填層、噴霧室および噴射水と接触させることによって行われる。アンモニアはアルカリ性であるため、気体の流れからアンモニアを除去するか、または洗い落とすために、多くのタイプのアンモニア洗浄システムにおいて酸性溶液（典型的には硫酸）を用いる。
【０００３】
そのようなアンモニアスクラバー（アンモニア除去システム）は公知であり、広範囲の用途において用いられるが、材料の処理の問題、詰まり、およびろ過要件のために、特定の用途においては実施することが困難である場合がある。従って、気体の流れからアンモニアを除去するための改善されたシステムと方法が絶えず探求されている。
【発明の概要】
【０００４】
気体の流れからアンモニアを除去する方法の一つの態様は、次の各工程を含むことができる：第一のｐＨを有するモリブデン酸の一次スラリー組成物を供給する工程；第二のｐＨを有するモリブデン酸の二次スラリー組成物を供給する工程、このとき、その第二のｐＨは第一のｐＨよりも数値が小さい；気体の流れの存在下で一次スラリー組成物を霧化することにより部分的に処理された気体の流れを生成し、気体の流れの中の多量のアンモニアを一次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それによりさらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物を形成する工程；および、部分的に処理された気体の流れの存在下で二次スラリー組成物を霧化することにより処理済みの気体の流れを生成し、部分的に処理された気体の流れの中の追加の量のアンモニアを二次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それによりさらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物を形成する工程。
【０００５】
気体の流れからアンモニアを除去する別の方法は、次の各工程を含むことができる：あるｐＨのレベルを有するモリブデン酸の一次スラリー組成物を供給する工程；あるｐＨのレベルを有するモリブデン酸を含む二次スラリー組成物を供給する工程、このとき、二次スラリー組成物のｐＨのレベルは一次スラリー組成物のｐＨのレベルよりも数値が小さい；気体の流れの存在下で一次スラリー組成物を霧化することにより部分的に処理された気体の流れを生成し、気体の流れの中の多量のアンモニアを一次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それにより主として二モリブデン酸アンモニウムを形成する工程；および、部分的に処理された気体の流れの存在下で二次スラリー組成物を霧化することにより処理済みの気体の流れを生成し、部分的に処理された気体の流れの中の追加の量のアンモニアを二次スラリー組成物の中のモリブデン酸と化合させ、それにより主として七モリブデン酸アンモニウムを形成する工程。
【０００６】
また、気体の流れからアンモニアを除去するための装置も開示され、この装置は、気体の入口、気体の出口、およびスラリーの噴霧器を有する一次スクラバーを含み、一次スクラバーの気体の入口は中にアンモニアを含む気体の流れと操作上つながっている。一次スクラバーのスラリー噴霧器に操作上連結された一次スラリー供給システムが、あるｐＨのレベルを有するモリブデン酸の一次スラリー組成物をスラリー噴霧器に供給する。二次スクラバーは気体の入口、気体の出口、およびスラリーの噴霧器を有し、二次スクラバーの気体の入口は一次スクラバーの気体の出口に操作上連結されている。二次スクラバーのスラリー噴霧器に操作上連結された二次スラリー供給システムが、あるｐＨのレベルを有するモリブデン酸の二次スラリー組成物をスラリー噴霧器に供給し、二次スラリー組成物のｐＨのレベルは一次スラリー組成物のｐＨのレベルよりも小さい。操作において、装置は一次スクラバーの中で一次スラリー組成物を霧化し、霧化した一次スラリー組成物は気体の流れの中に含まれる多量のアンモニアを吸収することによって部分的に処理された気体の流れが生成し、その部分的に処理された気体の流れは気体の出口を介して一次スクラバーから出て、そして気体の入口を介して二次スクラバーの中に入り、装置は二次スクラバーの中で二次スラリー組成物を霧化し、霧化した二次スラリーは部分的に処理された気体の流れの中に含まれる追加の量のアンモニアを吸収することによって処理済みの気体の流れが生成し、その処理済みの気体の流れは気体の出口を介して前記二次スクラバーから出る。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本発明の例証的であってそして現在のところ好ましい典型的な態様を図面に示す。
【図１】図１は本発明の一つの態様に従うアンモニア回収システムを概略的に表すものである。
【図２】図２はアンモニア回収システムの第二の態様を概略的に表すものである。
【図３】図３はアンモニア回収システムの第三の態様を概略的に表すものである。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の教示に従うアンモニア回収システム１０の一つの態様が図１に概略的に示されていて、これは少なくとも二つのスクラバー、すなわち、第一または一次のスクラバー１２と二次スクラバー１４を有することができる。あるいは、他の態様においては三つ以上のスクラバーを用いてもよい。一次および二次スクラバー１２および１４は、それぞれの一次および二次スラリー供給システム１６および１８と作動上連関していてもよい。第一または一次のスラリー供給システム１６は、一次スクラバー１２の中に設けられたスラリー噴霧器２０に作動上連結させることができる。同様に、二次スラリー供給システム１８は、二次スクラバー１４の中に設けられたスラリー噴霧器２２に作動上連結させることができる。一次および二次スラリー供給システム１６および１８は、スラリー噴霧器２０および２２の各々に一次および二次のスラリー組成物２４および２６の各々を供給する。後にもっと詳しく説明するが、一次および二次スラリー組成物２４および２６は両者ともモリブデン酸を含みうるが、しかし異なるｐＨと比重のレベルを有する。概して言えば、第一または一次のスラリー組成物２４のｐＨは、二次スラリー組成物２６のｐＨよりも数値が大きいだろう。逆に、一次スラリー組成物２４の比重は、二次スラリー組成物２６の比重よりも小さいだろう。
【０００９】
気体の流れ３０の中に含まれるアンモニア（ＮＨ３）を除去するために、方法２８に従ってシステム１０を操作することができる。簡単に言えば、方法２８は、一次スクラバー１２の中に設けられた噴霧器２０に第一または一次のスラリー組成物２４を供給することを含むことができる。すでに述べたように、一次スラリー組成物２４は、一般に約７よりも大きくなるように、好ましくは約７〜約９．５の範囲に、より好ましくは約８〜約８．８の範囲になるように制御されるｐＨを有するモリブデン酸を含みうる。一次スラリー組成物２４の比重は約１．３以下になるように、好ましくは約１．２〜約１．３の範囲になるように制御される。
【００１０】
一次スラリー組成物２４は、気体の入口３２を通して一次スクラバー１２の中に供給することができる気体の流れ３０の存在下で霧化される。霧化した一次スラリー組成物２４は気体の流れ３０の中に含まれる多量のアンモニアを吸収し、それにより部分的に処理された気体の流れ３４と、さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物３６が形成する。図示しているように、部分的に処理された気体の流れ３４は気体の出口３８を通して一次スクラバー１２から出て、一方、さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物３６は一次スラリー供給システム１６に戻すことができる。
【００１１】
重要なこととして、一次スクラバー１２におけるアンモニアの吸収工程は、完了する前に終了させる、すなわち、アンモニアの全て（または実質的に全て）が気体の流れ３０から除去される前に終了させる。本発明の一つの態様において、気体の流れ３０からアンモニアの約５０〜６０容量％が除去されたときに吸収工程を終了させる。これも重要なことであるが、一次スクラバー１２の中で行われる吸収工程はＡＤＭ吸収モードで操作され、これにおいては、気体の流れ３０からのアンモニアは一次スラリー組成物２４の中のモリブデン酸と化合して、主として二モリブデン酸アンモニウム (ＮＨ４)２Ｍｏ２Ｏ７ すなわち「ＡＤＭ」が形成する。
【００１２】
次いで、第一または一次のスクラバー１２からの部分的に処理された気体の流れ３４は、例えば二次スクラバー１４に設けられた気体の入口４０を通して、二次スクラバー１４へ送られる。二次スラリー供給システム１８は、二次スクラバー１４におけるスラリー噴霧器２２へ二次スラリー組成物２６を供給する。一次スラリー組成物２４の場合と同様に、二次スラリー組成物２６はモリブデン酸を含むだろう。二次スラリー組成物２６のｐＨは、一般に約６よりも大きくなるように、より好ましくは約６〜６．８の範囲になるように制御される。二次スラリー組成物２６の比重は約１．４以下になるように、好ましくは約１．３〜約１．４の範囲になるように制御される。霧化した二次スラリー組成物２６は部分的に処理された気体の流れ３４の中に残っている追加の量のアンモニアを吸収し、それにより完全に処理された気体の流れ４２と、さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物４４が形成する。完全に処理された気体の流れ４２は気体の出口４６を通して二次スクラバー１４から出て、そして大気中へ排出することができる。さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物４４は二次スラリー供給システム１８に戻すことができる。
【００１３】
一次スクラバー１２における吸収工程とは異なって、二次スクラバー１４における吸収工程はＡＨＭ吸収モードで操作され、これにおいては、部分的に処理された気体の流れ３４からのアンモニアは二次スラリー組成物２６の中のモリブデン酸と化合して、二モリブデン酸アンモニウムではなく、主として七モリブデン酸アンモニウム (ＮＨ４)６Ｍｏ７Ｏ２４ すなわち「ＡＨＭ」が形成する。後にもっと詳しく説明するが、一次および二次のスクラバー１２および１４における異なる吸収モードは一次および二次のスラリー組成物２４および２６の異なるｐＨレベルによるものであり、このことが顕著な操作上および効率上の利点をもたらす。
【００１４】
一つの態様において、一次スラリー供給システム１６に抜き取り口４８を設けてもよく、それにより一次スラリー供給システム１６から多量の一次スラリー組成物２４を取り出すか、または抜き取ることが可能になる。取り出した一次スラリー組成物２４を、供給液５４としてアンモニア回収システム５２へ送る前に、無水アンモニア４６とさらに合体させてもよい。アンモニア回収システム５２は、供給液５４の中に含まれる捕捉したアンモニアを取り出す。二次スラリー供給システム１８には、一次スラリー供給システム１６に操作上連結している補給口５６を設けてもよい。補給口５６は多量の二次スラリー組成物２６を一次スラリー供給システム１６に加えることを可能にし、それにより一次スラリー供給システム１６の抜き取り口４８から取り出される一次スラリー組成物２４の補給を行う。
【００１５】
本発明のシステムと方法の重要な利点は、他のタイプのアンモニア回収システムにおける材料の処理、詰まり、および流れの要件を伴わずに、気体の流れの中に含まれるアンモニアを回収するための高度に有効な手段を提供することである。例えば、スクラバー１２および１４を二つの異なるアンモニア吸収モードで選択的に操作する、すなわち、一次スクラバー１２におけるＡＤＭ吸収モードおよび二次スクラバー１４におけるＡＨＭ吸収モードで選択的に操作することによって、本発明においては、材料の処理、詰まり、およびろ過の問題を起こすことのある一次および二次のスラリー組成物の過剰な沈殿物の形成が避けられる。例えば、七モリブデン酸アンモニウム（ＡＨＭ）は二モリブデン酸アンモニウムよりも水中での溶解度が高い。従って、二次スラリー組成物２６は、多くの沈殿物を形成することなく、部分的に処理された気体の流れ３４の中に残っている含有アンモニアを吸収することができる。ＡＤＭはＡＨＭよりも水中での溶解度が低いけれども、一次スラリー組成物２４の比重が低いことにより、一次スラリー組成物における過剰な固体（すなわち、沈殿物）の蓄積につながる問題が改善される。
【００１６】
一次スクラバー１２においてＡＤＭ吸収モードを用いることと関連するさらに別の利点は、ＡＨＭよりもＡＤＭを優先的に形成するということが、ＡＨＭの形成により吸収しうる量と比較しておよそ二倍の量のアンモニアを一次スラリー組成物２４が原子ベースで吸収しうることを意味する、ということである。別の言い方をすれば、気体の流れ３０の中に含まれるアンモニアの量が高い場合、ＡＤＭ吸収モードは一次スクラバー１２において用いるのに特に適している、ということである。同様に、アンモニアの蒸気圧を低く保つとともに二次スラリー組成物２６における過剰な固体の形成を避けるためには、二次スクラバー１４においてＡＨＭ吸収モードを用いるのが適している。
【００１７】
本発明に係るアンモニア回収のシステムと方法の様々な態様ならびにそれらのより重要な特質と利点の幾つかを簡単に説明したが、アンモニアを回収するシステムと方法の様々な好ましい態様を、これから詳細に説明する。しかし、その説明を進める前に、以下の記述と特許請求の範囲の工程のいずれも、特に示さない限り、試剤の量、試剤を添加する順序、反応条件、およびその他の数値を含めた何らかの特定の操作上のパラメーターに制限されるものとみなすべきでない、ということに留意すべきである。さらに、環境上の因子、製造規模の要件、その他同種類のものを考慮しつつ、機械的手順による予備的な試行を用いることによって、特定の反応パラメーターおよびその他の操作上の因子を所定の状態に最適化することができる、ということに留意すべきである。本明細書で提示される検討は、最適な結果を提供するために設計された一つ以上の好ましい態様を含むが、それらが限定的または制限的なものとみなされるべきではない。
【００１８】
ここで再び図１を参照すると、アンモニア回収システム１０の一つの態様が示されていて、これは化学処理プラントによって製造される気体の流れ３０の中に含まれるアンモニアを回収するために用いることができるものとして、ここで説明される。図１に示す特定の態様において、化学処理プラントからの気体の流れ３０は、か焼器（焼成器）の排出流れ５８とタンクの排出流れ６０を合体させたものである。か焼器の排出流れ５８はか焼プロセスによって生成され、典型的には空気、水蒸気、アンモニアおよび少量の二酸化炭素の混合物を含む。か焼器の排出流れ５８は約１４０℃から約１５０℃まで（約２８５〜３００°Ｆ）の範囲の温度で供給される。タンクの排出流れ６０は製造において用いられる混合用タンクによって生成され、通常は空気、水蒸気およびアンモニアの混合物を含む。タンクの排出流れ６０は約２７℃から約３２℃まで（約８０〜９０°Ｆ）の範囲の温度で供給される。生じる気体の流れ３０、すなわち、か焼器の排出流れ５８とタンクの排出流れ６０を合体させて生じる流れは、概ね、空気、水蒸気、アンモニアおよび二酸化炭素の混合物を含み、約９６℃（約２０５°Ｆ）の温度を有するだろう。気体の流れ３０の中のアンモニアの量は約０．５容量％から約５容量％までの範囲であり、約２容量％から約３容量％までの範囲のアンモニア濃度が典型的であろう。捕集されて合体された後、気体の流れ３０は一次スクラバー１２の気体の入口３２の中に供給される。
【００１９】
上述したように、本発明の特定の態様においては二つのスクラバー、例えば、連続した配置で接続される一次スクラバー１２と二次スクラバー１４を用いることができる。しかし、他の態様においては、広範囲の因子に応じて、追加のスクラバー（すなわち、三基以上のスクラバー）を連続または並列のいずれかの配置で用いてもよく、このことは当業者であれば本明細書で提示される教示を良く理解した後には自明のものとなるだろう。従って、本発明は二つのスクラバーだけを用いる態様に限定されるものとみなすべきではない。
【００２０】
一次スクラバー１２は、実質的に図１に示すように配置される、スラリー噴霧器２０、気体の入口３２、および気体の出口３８を有する概ね垂直方向の細長いチャンバ（室）を有することができる。一次スクラバー１２には、さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー３６を捕集するのに適した捕集溜め６２も設けることができる。所望により、捕集溜め６２には、さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物３６の中の固形分の沈降を防いで完全な分散を確実にするために攪拌機（図示せず）を設けてもよい。
【００２１】
二次スクラバー１４は一次スクラバー１２と同様のものとすることができ、これもまた、スラリー噴霧器２２、気体の入口４０、および気体の出口４６を有する概ね垂直方向の細長いチャンバを有することができる。二次スクラバー１４の気体の入口４０は一次スクラバー１２の気体の出口３８に接続することができ、これにより一次スクラバー１２からの部分的に処理された気体の流れ３４を二次スクラバー１４の中へ供給することができる。二次スクラバー１４からの気体の出口４６は、適当な送風システム６４と排気筒６６を通して大気へ通気することができる。二次スクラバー１４には、さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー４４を捕集するための捕集溜め６８も設けることができる。捕集溜め６８には、さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物４４の中の固形分の沈降を防いで完全な分散を確実にするために攪拌機（図示せず）を設けてもよい。
【００２２】
一次および二次スクラバー１２および１４は、それぞれの一次および二次スラリー供給システム１６および１８と作動上連関していてもよい。前に簡単に説明したが、一次スラリー供給システム１６は、一次スクラバー１２のスラリー噴霧器２０に一次スラリー組成物２４を供給する。同様に、二次スラリー供給システム１８は、二次スクラバー１４のスラリー噴霧器２２に二次スラリー組成物２６を供給する。加えて、図１で最も良くわかるように、一次および二次スラリー供給システム１６および１８は、一次および二次スクラバー１２および１４の各々から、さらに濃縮した一次および二次のアンモニア化スラリー組成物３６および４４を受け入れるように構成することができる。
【００２３】
一つの態様において、一次スラリー供給システム１６は多量の一次スラリー組成物２４を収容する大きさにした一次タンク７０を有することができる。一次タンク７０には、一次スラリー組成物２４の中での固形分の完全な分散を確実にするために一つ以上の攪拌システム７２を設けてもよい。一次スラリー組成物２４をスラリー噴霧器２０へ送るために、一次タンク７０と一次スクラバー１２におけるスラリー噴霧器２０との間に接続されるポンプシステム７４を用いることができる。一次タンク７０には高さ制御システム７６を設けてもよく、これは、弁７８と組み合わせて一次タンク７０の中の一次スラリー組成物２４を所望の高さに維持する。
【００２４】
すでに述べたように、一次スラリー供給システム１６に抜き取り口４８を設けてもよく、これにより一次スラリー供給システム１６から多量の一次スラリー組成物２４を取り出すことを可能にする。一つの態様において、取り出したスラリー組成物２４を、以後の処理とアンモニアの除去のためにサージタンク８０へ送ってもよい。これについては後にもっと詳しく説明する。
【００２５】
一次スラリー供給システム１６には、一次スラリー組成物２４のｐＨを制御するためのｐＨ制御システム８２を設けることもできる。ｐＨ制御システム８２は、ポンプ７４とスラリー噴霧器２０を結合するラインに設けられるｐＨ検知器８４を含むことができる。ｐＨ検知器８４は噴霧器２０に供給される一次スラリー組成物２４のｐＨを検知する。抜き取り口４８に弁８６を配置することができ、必要に応じてこれを開閉して多量の一次スラリー組成物２４の抜き取りまたは取り出しを行うことによって、一次スラリー組成物２４のｐＨを制御する。これのやり方については後にさらに詳しく説明する。
【００２６】
一次スラリー供給システム１６は選択的にサージタンク８８を有していてもよい。サージタンク８８はポンプ９０を介して一次タンク７０に接続することができ、そして一次タンク７０に補充する量の一次スラリー組成物２４を供給するために用いることができる。一つの態様において、サージタンク８８は、一次スラリー供給源９２からの一次スラリー組成物２４の供給物を受け入れるように構成することができる。サージタンク８８はまた、図１に示しているように、二次スラリー供給システム１８から補給口５６を介して多量の二次スラリー組成物２６を受け入れるように構成することができる。サージタンク８８には、一次スラリー組成物２４の中で固形分の完全な分散を確実に行うために攪拌システム９４を設けてもよい。
【００２７】
二次スラリー供給システム１８は一次スラリー供給システム１６と同様のものにすることができ、多量の二次スラリー組成物２６を収容する大きさにした二次タンク９６を有することができる。二次タンク９６には、二次スラリー組成物２６の中での固形分の完全な分散を確実にするために攪拌機９８を設けてもよい。二次タンク９６と二次スクラバー１４におけるスラリー噴霧器２２との間にポンプ１１を接続することができる。ポンプ１１は二次スラリー組成物２６を二次スクラバー１４へ送り、そこでスラリー組成物はスラリー噴霧器２２によって霧化される。二次タンク９６には高さ制御システム１３を設けてもよく、これは、弁１５と組み合わせて二次タンク９６の中の二次スラリー組成物２６を所望の高さに維持するために用いることができる。
【００２８】
二次スラリー供給システム１８には補給口５６を設けてもよく、この補給口は二次スラリー供給システム１８から多量の二次スラリー組成物２６を取り出し、そして一次スラリー供給システム１６へ供給することを可能にする。ここで示して説明している特定の態様においては、取り出したスラリー組成物２６をサージタンク８８へ送ってもよい。
【００２９】
二次スラリー供給システム１８には、二次スラリー組成物２６のｐＨを制御するためのｐＨ制御システム１７を設けることもできる。ｐＨ制御システム１７は、ポンプ１１とスラリー噴霧器２２を結合するラインに設けられるｐＨ検知器１９を含むことができる。検知器１９は二次スクラバー１４の噴霧器２２に供給される二次スラリー組成物２６のｐＨを検知する。二次スラリー組成物２６のｐＨを制御するために、補給口５６に配置される弁２１を必要に応じて開閉することによって多量の二次スラリー組成物２６の抜き取りまたは取り出しを行うことができる。
【００３０】
二次スラリー供給システム１８は選択的にサージタンク２３を有していてもよい。サージタンク２３はポンプ２５を介して二次タンク９６に接続することができ、そして二次タンク９６に補充する量の二次スラリー組成物２６を供給するために用いることができる。一つの態様において、サージタンク２３は、二次スラリー供給源２７からの二次スラリー組成物２６の供給物を受け入れるように構成することができる。サージタンク２３はまた、多量の水（例えば、脱イオン水）２９を受け入れるように構成することができ、その水は各々のスラリー２４および２６の比重および／またはｐＨを制御するために用いることができる。サージタンク２３には、二次スラリー組成物２６の中で固形分の完全な分散を確実に行うために攪拌機３１を設けてもよい。
【００３１】
前述したように、一次スラリー供給システム１６から抜き取られる多量の一次スラリー組成物２４は、ポンプ３３を介してアンモニア回収システム５２へ送られる前に、保持および／または追加の処理を行うためにサージタンク８０へ送ってもよい。例として、一つの態様において、アンモニア回収システム５２は、モリブデン酸（ＭｏＯ３）が最初に溶解するときに沈降するかもしれない全ての不純物を（ろ過することによって）除去するための一つ以上のフィルターおよび／または粒子分離システムを有していてもよい。モリブデン酸アンモニウムの溶液からＡＤＭが結晶化され、そして残ったその溶液の幾分かは過剰な水および結晶化の間に捕集されるアンモニアとともに、スクラバーにおいて引き続いて使用するための追加の量のＭｏＯ３を溶解させるために用いられる。サージタンク８０に攪拌機３５を設けることができ、また無水アンモニア４６の供給手段に接続してもよい。スラリー２４の中で追加のモリブデン酸アンモニウムを形成するために、必要に応じて無水アンモニア４６を添加してもよく、それにより以後のアンモニア回収処理を改善させる。
【００３２】
システム１０は、気体の流れ３０の中に含まれるアンモニアを除去するために方法２８に従って操作することができる。最初のこととして、一次および二次のスラリー組成物２４および２６が一次および二次のスラリー供給システム１６および１８のそれぞれに供給される。ここで示して説明している特定の態様においては、一次スラリー組成物２４は化学プラントから一次スラリー供給源９２を介して供給することができる。スラリー供給源９２からの一次スラリー組成物２４は、三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）を水と混合することによって形成される。得られるモリブデン酸は完全に酸性であり、約２．２〜２．３の範囲のｐＨを有するだろう。この混合物に、ｐＨを所望のレベルまで増大させるためにアンモニア（ＮＨ３）を添加してもよい。所望の比重にするために、十分な水も加えてもよい。操業開始時に、すなわち、一次スラリー供給システム１６が一次スラリー組成物２４を収容する前に、一次スラリー供給源９２は、一次スラリー組成物２４に所望のｐＨと比重のレベルが与えられるように操作されるだろう。その後、すでに説明したように、一次スラリー供給システム１６の中の一次スラリー２４は一次スクラバー１２からのさらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー３６ならびに補給量の二次スラリー２６と混合されるであろうから、一次スラリー供給源９２は、一次スラリー組成物２４にわずかに異なるｐＨと比重のレベルが与えられるように操作することができる。
【００３３】
例として、図１に示す特定の態様において、操業開始時に、一次スラリー供給源９２は、一次スラリー２４に約７よりも大きなｐＨ、好ましくは約７〜約９．５の範囲のｐＨ、より好ましくは約８〜約８．８の範囲のｐＨが与えられるように操作されるだろう。同様に、一次スラリー供給源９２からの一次スラリー組成物２４の比重は約１．３以下の比重、好ましくは約１．２〜約１．３の範囲であろう。
【００３４】
その後、平衡に達するのに十分な時間にわたってシステム１０が操業されたならば、一次スラリー供給源９２は、わずかに異なるｐＨと比重のレベルで追加の量のスラリーを供給するように操作することができる。例として、一つの態様において、一次スラリー供給源９２は、約６のｐＨと約１．４の比重のスラリーを供給するように操作することができる。そして、他のスラリーの流れと混合されたときに、すなわち、さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー３６ならびに補給量の二次スラリー２６と混合されたときに、一次スクラバー１２に供給される一次スラリー組成物２４は、定常状態の操業についてここで特定する範囲内のｐＨと比重のレベルを有するだろう。
【００３５】
同様のやり方で、最初の量の二次スラリー組成物２６を供給することができる。例えば、図１に示す特定の態様において、二次スラリー組成物２６は、やはり化学プラントから二次スラリー供給源２７を介して供給することができる。二次スラリー供給源２７からの二次スラリー組成物２６もまた、三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）を水と混合することによって形成することができ、またｐＨを所望のレベルまで増大させるためにアンモニアを添加してもよい。所望の比重にするために、（例えば、脱イオン水の供給源２９からの）十分な水を加えてもよい。しかし、一次スラリー供給源９２からの一次スラリー組成物２４の場合とは違って、二次スラリー供給源２７は、定常状態の操業を行う間に必要な比重とｐＨのレベルで二次スラリー組成物２６を供給するように操作することができる。従って、典型的には、異なるｐＨおよび／または比重のレベルで最初のスラリーの量を供給する必要はないだろう。従って、一つの態様において、二次スラリー供給源２７によって供給される二次スラリー組成物２６は少なくとも約６のｐＨを有し、好ましくは約６〜約６．８の範囲のｐＨを有するだろう。二次スラリー２６の比重は約１．４以下、好ましくは約１．３〜約１．４の範囲とすべきである。例として、操業を行う間、二次スラリー供給源２７は約６のｐＨと約１．３の比重を有するスラリーを供給するだろう。
【００３６】
説明を進める前に、一次スラリー組成物２４について許容される比重のレベルは温度と関連する、ということに留意すべきである。スラリーの温度が高いほど、スラリー組成物の中での過度の沈殿による問題を伴わずに用いられる比重のレベルは高くなるだろう。逆に、スラリーの温度が低いほど、スラリーの中での過度の沈殿による問題を避けるためには、より低い比重のレベルが必要になるだろう。ここで用いられる比重のレベルは、約５４℃から約６６℃まで（およそ１３０〜１５０°Ｆ）の範囲の温度を有する一次スラリー組成物２４について適している。
【００３７】
十分な量の一次および二次のスラリー組成物２４および２６が供給されたならば、システム１０は気体の流れ３０からのアンモニアの除去を開始する用意ができる。前述したように、ここで示して説明している特定の態様においては、気体の流れ３０は、か焼器の排出流れ５８とタンクの排出流れ６０を合体させたものである。か焼器の排出流れ５８はか焼プロセスによって生成され、空気、水蒸気、アンモニアおよび少量の二酸化炭素の混合物を含む。か焼器の排出流れ５８は典型的に、約１４０℃から約１５０℃まで（約２８５〜３００°Ｆ）の範囲の温度を有するだろう。タンクの排出流れ６０は製造において用いられる混合用タンクによって生成され、空気、水蒸気およびアンモニアの混合物を含む。タンクの排出流れ６０は通常、約２７℃から約３２℃まで（約８０〜９０°Ｆ）の範囲の温度を有するだろう。
【００３８】
生じる気体の流れ３０、すなわち、か焼器の排出流れ５８とタンクの排出流れ６０を合体させて生じる流れは、概ね、空気、水蒸気、アンモニアおよび二酸化炭素の混合物を含み、約９６℃（約２０５°Ｆ）の温度を有するだろう。気体の流れ３０の中のアンモニアの量は約０．５容量％から約５容量％の範囲であり、約２容量％から約３容量％の範囲のアンモニア濃度が典型的であろう。捕集されて合体された後、気体の流れ３０は一次スクラバー１２の気体の入口３２の中に供給される。
【００３９】
一次スクラバー１２の中で、気体の流れ３０はスラリー噴霧器２０から放出される一次スラリー組成物２４と接触するだろう。一つの態様において、ポンプ７４は、スラリー２４が約０．６９バールの差圧（約１０ポンド/平方インチの差圧（ｐｓｉｄ））で放出されるのに十分な流量と圧力で一次スラリー２４を供給し、この圧力は特定のスラリー噴霧器２０を用いて一次スラリー２４の良好な霧化を行うのに十分なものである。霧化した一次スラリー２４が気体の流れ３０と接触すると、気体の流れ３０の中のアンモニアは一次スラリー２４の中のモリブデン酸と化合するだろう。すでに述べたように、一次スラリー組成物の特定の高いｐＨレベルにおいて（すなわち、少なくとも約７のｐＨにおいて）、アンモニアはモリブデン酸と化合して、主として二モリブデン酸アンモニウム (ＮＨ４)２Ｍｏ２Ｏ７ すなわちＡＤＭが形成される。他のモリブデン酸アンモニウムも形成されるかもしれないが、しかしそれらの量はずっと少ない。生じた、さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー３６は、一次スクラバー１２の溜め６２の中に溜まり、それはすぐに一次スラリー供給システム１６の一次タンク７０へ戻されるだろう。
【００４０】
一次スクラバー１２におけるアンモニアの吸収工程は、完了する前に終了する、すなわち、アンモニアの全て（または実質的に全て）が気体の流れ３０から除去される前に終了する。吸収工程は、気体の流れ３０から約５０容量％ないし約６０容量％のアンモニアが除去された時点で終了させてもよい。従って、気体の流れ３０が約２容量％のアンモニアを含む態様においては、生じる部分的に処理された気体の流れ３４は約０．２容量％のアンモニアを含むだろう。
【００４１】
一次スクラバー１２からの部分的に処理された気体の流れ３４は、次に、二次スクラバー１４へ送られる。二次スラリー供給システム１８は、二次スクラバー１４の中のスラリー噴霧器２２へ二次スラリー組成物２６を供給する。一つの態様において、ポンプ１１は、スラリー２６が約０．６９バールの差圧（約１０ポンド/平方インチの差圧（ｐｓｉｄ））で噴霧器２２から放出されるのに十分な流量と圧力で二次スラリー２６を供給し、この圧力は関係する特定のスラリー噴霧器２２を用いて二次スラリー組成物２６の良好な霧化を行うのに十分なものである。
【００４２】
一次スラリー組成物２４と同様に、二次スラリー組成物２６はモリブデン酸を含む。しかし、二次スラリー組成物２６のｐＨは概ね約６よりも大きくなるように制御され、より好ましくは約６〜６．８の範囲に制御される。二次スラリー組成物２６の比重は、約５４℃から約６６℃まで（約１３０〜１５０°Ｆ）の範囲の二次スラリーの温度において約１．４以下になるように制御され、好ましくは約１．３〜約１．４の範囲に制御される。二次スラリー組成物２６の中での過剰な沈殿による問題を避けるために、比較的高い二次スラリーの温度は高い比重のレベルを用いることを可能にし、一方、比較的低い二次スラリーの温度は低い比重のレベルを一般に必要とするだろう。
【００４３】
霧化した二次スラリー組成物２６は部分的に処理された気体の流れ３４の中に残っている追加の量のアンモニアを吸収し、それにより完全に処理された気体の流れ４２と、さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物４４が形成する。完全に処理された気体の流れ４２は気体の出口４６を通して二次スクラバー１４から出て、それはすぐに送風システム６４と排気筒６６を通して大気へ排出することができる。さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物４４は二次スラリー供給システム１８へ戻すことができる。
【００４４】
二次スクラバー１４における吸収工程はＡＨＭ吸収モードで操作され、これにおいては、部分的に処理された気体の流れ３４からのアンモニアは二次スラリー組成物２６の中のモリブデン酸と化合して、二モリブデン酸アンモニウムではなく、主として七モリブデン酸アンモニウム (ＮＨ４)６Ｍｏ７Ｏ２４ すなわち「ＡＨＭ」が形成する。他のタイプのアンモニア化モリブデン酸も形成されるかもしれないが、しかしＡＨＭよりもずっと少ない。
【００４５】
一つの態様において、二次スクラバー１４は、部分的に処理された気体の流れ３４の中に含まれるアンモニアの約７５容量％ないし約８０容量％を除去する。従って、気体の流れ３０が約２容量％のアンモニアを含む態様においては、部分的に処理された気体の流れ３４は約０．２容量％のアンモニアを含み、一方、完全に処理された気体の流れ４２は容量で１００万部当りわずかに約３００部（ｐｐｍｖ）のアンモニアを含むだろう。
【００４６】
前に簡単に説明したように、一次および二次のスラリー供給システム１６および１８は相互に連絡されていて、二次スラリー供給システム１８は、抜き取り口４８から取り出される一次スラリーに対する補給を行うために（例えば、補給口５６を介して）一次スラリー供給システム１６へスラリーを供給する。この構成はｐＨと比重の制御を改善し、また一次および二次のスラリー供給源９２および２７についてのスラリーの供送要件を少なくする。
【００４７】
より具体的には、気体の流れ３０からのアンモニアが一次スクラバー１２の中で吸収されるにつれて、一次スクラバー１２からのさらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー３６が戻ることにより、一次スラリー組成物２４のｐＨと比重は次第に増大する。ｐＨが増大すると、ｐＨ制御システム８２によって弁８６が開放されて一次スラリー組成物２４の幾分かが取り出され（または抜き取られ）、それはサージタンク８０へ送られ、続いてタンクの中に収容されたアンモニアの回収が行われるだろう。取り出された一次スラリー２４の補給または交換に必要なスラリーは、サージタンク８８を介して二次スラリー供給システム１８から来るだろう。追加の量の補給スラリーは一次スラリー供給源９２からも得ることができる。いずれにしても、補充のスラリー組成物のｐＨは一次スラリー組成物２４のｐＨよりも低いであろうから、補充のスラリー組成物を加えることによって一次スラリー組成物２４のｐＨは望ましいレベルに維持されるだろう。
【００４８】
前に述べたように、一次スラリー供給システム１６には高さ制御システム７６も設けることができる。高さ制御システム７６は、弁７８を開けて追加の量のスラリー２４をサージタンク８８から一次タンク７０の中へ送り込むことによって、タンク７０の中のスラリーの高さを制御するために用いることができる。この点について、高さ制御システム７６はｐＨ制御システム８２と共に機能することによって比重制御システムとして作動して、一次スラリー組成物２４の比重を制御するために操作することもできる。より具体的には、高いｐＨまたは高いタンクの高さの状態が弁８６を開放させ、それによりタンク７０の中のスラリー２４の高さが低下するだろう。比重が高くなると、（例えば、水の供給源２９および／またはスラリー供給源９２および２７を介しての）システムへの補給用の水またはアンモニア水の添加が誘導されるだろう。タンク７０の中のスラリーの高さが低いと、サージタンク８８からの追加のスラリーの添加が誘導されるだろう。
【００４９】
二次スラリー供給システム１８は一次スラリー供給システム１６に類似しているが、しかし、追加のスラリーおよび／または水がサージタンク２３を介してスラリーおよび水の供給源２７および２９によって供給される点で異なっている。部分的に処理された気体の流れ３４からのアンモニアが二次スクラバー１４の中で吸収されるにつれて、二次スクラバー１４からのさらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー４４が戻ることにより、二次スラリー組成物２６のｐＨと比重は次第に増大するだろう。ｐＨが増大すると、ｐＨ制御システム１７によって弁２１が開放されて二次スラリー組成物２６の幾分かが取り出され、それはサージタンク８８を介して一次スラリー供給システム１６へ送られるだろう。取り出された二次スラリー２６の補給または交換に必要なスラリーは、サージタンク２３を介して二次スラリー供給源２７から来るだろう。補充のスラリーのｐＨは（この時点ではさらに濃縮した）二次スラリー組成物２６のｐＨよりも低いであろうから、補充のスラリーを加えることによって二次スラリー組成物２６のｐＨは望ましいレベルに維持されるだろう。
【００５０】
一次スラリー供給システム１６の場合と同様に、二次スラリー供給システム１８には高さ制御システム１３を設けることができる。高さ制御システム１３は、弁１５を開けて追加の量のスラリー２６をサージタンク２３から二次タンク９６の中へ送り込むことによって、タンク９６の中のスラリーの高さを制御するために用いることができる。高さ制御システム１３はｐＨ制御システム１７と共に機能することによって比重制御システムとして操作することもでき、また二次スラリー組成物２６の比重を制御するために操作することもできる。より具体的には、高いｐＨまたは高いタンクの高さの状態が弁２１を開放させ、それによりタンク９６の中のスラリー２６の高さが低下するだろう。比重が高くなると、（例えば、水の供給源２９を介しての）システムへの補給用のアンモニア水または水の添加が誘導されるだろう。タンク９６の中のスラリーの高さが低いと、サージタンク２３からの追加のスラリーの添加が誘導されるだろう。
【００５１】
一次および二次のスラリー組成物２４および２６によって捕捉されたアンモニアは、アンモニア回収システム５２によって回収することができる。一つの態様において、アンモニア回収システム５２は、取り出されるスラリーからあらゆる不純物を除去するヘッシュ（Hoesch）タイプのろ過システムで構成されていてもよい。より具体的には、一次スラリー供給システム１６から抜き取られる一次スラリー組成物２４は、ポンプ３３を介してアンモニア回収システム５２へ送る前に保持および／または追加の加工処理を行うためにサージタンク８０へ送ってもよい。サージタンク８０には攪拌機３５を設けてもよく、またタンクは無水アンモニア４６の供給物に結合させてもよい。無水アンモニア４６は、後続のフィルター回収工程によって必要な程度までスラリー中のアンモニア濃度を増大させるためにサージタンク８０の中に散布してもよい。
【００５２】
上述したように、アンモニア回収システムのその他の配置と構成が可能である。例えば、アンモニア回収システムの第二の態様１１０は、システムの全体と流線形操作を簡略化するために様々な構成要素を統合または結合したものを含んでもよい。
【００５３】
ここで主に図２を参照すると、第二の態様１１０は第一または一次のスクラバー１１２と二次スクラバー１１４を有することができて、これらのスクラバーはそれぞれの一次および二次スラリー供給システム１１６および１１８と作動上連関している。一次のスラリー供給システム１１６は、一次スクラバー１１２の中に設けられたスラリー噴霧器１２０に作動上連結させることができ、一方、二次スラリー供給システム１１８は、二次スクラバー１１４の中に設けられたスラリー噴霧器１２２に作動上連結させることができる。一次および二次スラリー供給システム１１６および１１８は、噴霧器１２０および１２２の各々に一次および二次のスラリー組成物１２４および１２６の各々を供給する。第一の態様１０についてすでに説明したように、一次および二次スラリー組成物１２４および１２６はモリブデン酸を含みうるが、しかし異なるｐＨと比重のレベルを有する。
【００５４】
第二の態様１１０も化学処理プラントによって製造される気体の流れ１３０の中に含まれるアンモニアを除去するために用いることができる。気体の流れ１３０は、か焼器（焼成器）の排出流れとタンクの排出流れを合体させたものから得ることができ、それらの流れのいずれも図２には特に示されていないが、しかし図２は図１に示すものと同じ配置を有していてもよい。すなわち、第二の態様１１０の気体の流れ１３０は、概ね、空気、水蒸気、アンモニアおよび二酸化炭素の混合物を含み、約９６℃（約２０５°Ｆ）の温度を有するだろう。気体の流れ１３０の中のアンモニアの量は約０．５容量％から約５容量％までの範囲であり、約２容量％から約３容量％までの範囲のアンモニア濃度が典型的であろう。捕集されて合体された後、気体の流れ１３０は一次スクラバー１１２の気体の入口１３２の中に供給される。
【００５５】
一次スクラバー１１２は、気体の入口１３２と気体の出口１３８を有する概ね垂直方向の細長いチャンバ（室）を有することができる。図２において最も良くわかるように、第二の態様１１０において、気体の入口１３２は概ね細長い管状の構造を有することができ、この場合、噴霧器１２０は入口１３２のほぼ末端１２１に配置される。この配置は、注入する気体の流れ１３０と一次スラリー組成物１２４の改善された一層効率的な混合を与える。図２の態様においては、第一の態様１０の捕集溜めと一次タンク（例えば、６２と７０）は結合されているか、または統合されていて、それにより一次スクラバー１１２の底の部分によって画定される一次スラリータンク１７０を形成している。一次スラリータンク１７０は一次スラリー組成物１２４を収容していて、そしてまた、一次スクラバー１１２の中で形成されるさらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー１３６を受け入れて捕集する。第二の態様１１０においては、一次スラリータンク１７０に攪拌機１７２を設けてもよく、それにより一次スラリー組成物１２４の中の固形分の沈降を防いで完全な分散を確実に行う。一次スクラバー１１２には霜取り器１４１を設けることもでき、それにより、部分的に処理された気体の流れ１３４が一次スクラバー１１２から（気体の出口１３８を介して）出る前に、その流れの中に含まれる多量の液体または蒸気を除去する。一次スクラバー１１２にはクリーニングシステム１４３を設けることもでき、これを時々操作して霜取り器１４１の上に水を噴霧することによって霜取り器の詰まりを防ぐ。
【００５６】
二次スクラバー１１４は一次スクラバー１１２と同様のものとすることができ、これもまた、気体の入口１４０と気体の出口１４６を有する概ね垂直方向の細長いチャンバを有することができる。二次スクラバー１１４の気体の入口１４０は一次スクラバー１１２の気体の出口１３８に接続することができ、これにより一次スクラバー１１２からの部分的に処理された気体の流れ１３４を二次スクラバー１１４の中へ供給することができる。一次スクラバー１１２の場合と同様に、二次スクラバー１１４の気体の入口１４０は概ね細長い管状の構造を有することができ、この場合、噴霧器１２２は入口１４０のほぼ末端１５１に配置される。この配置は、部分的に処理された気体の流れ１３４と二次スラリー組成物１２６の改善された一層効率的な混合を与える。二次スクラバー１１４からの気体の出口１４６は、適当な送風システム１６４と排気筒１６６を通して大気へ通気することができる。
【００５７】
二次スクラバー１１４も結合または統合された構造にすることができ、これにおいては、第一の態様１０の溜めと二次スラリータンク（例えば、６８と９６）は結合されていて、それにより二次スクラバー１１４の底の部分によって画定される単一の二次タンク１９６を形成している。結合した二次タンク１９６は二次スラリー組成物１２６を収容していて、そしてまた、二次スクラバー１１４の中で形成されるさらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー１４４を捕集する。二次タンク１９６に攪拌機１９８を設けることができ、それにより二次スラリー組成物１２６の中の固形分の沈降を防いで完全な分散を確実に行う。二次スクラバー１１４には一つ以上の霜取り器１４５を設けることもでき、それにより、完全に処理された気体の流れ１４２が二次スクラバー１１４から気体の出口１４６を介して出る前に、その流れの中に含まれる多量の液体または蒸気を除去する。二次スクラバー１１４にはクリーニングシステム１４７を設けることもでき、これを時々操作して霜取り器１４５の上に水を噴霧することによって霜取り器の詰まりを防ぐ。
【００５８】
上で簡単に説明したように、一次および二次のスクラバー１１２および１１４は、それぞれの一次および二次スラリー供給システム１１６および１１８と作動上連関している。一次スラリー供給システム１１６は、一次スクラバー１１２のスラリー噴霧器１２０に一次スラリー組成物１２４を供給する。同様に、二次スラリー供給システム１１８は、二次スクラバー１１４のスラリー噴霧器１２２に二次スラリー組成物１２６を供給する。
【００５９】
もっと具体的に言うと、一次スラリー供給システム１１６は、一次タンク１７０と一次スクラバー１１２の中のスラリー噴霧器１２０との間に接続されたポンプシステム１７４を含むことができる。ポンプ１７４は、良好な霧化を与えるのに十分な圧力の下で一次スラリー組成物１２４をスラリー噴霧器１２０へ送る。一次タンク１７０には高さ制御システム１７６を設けてもよく、これは、弁１７８と組み合わせて一次タンク１７０の中の一次スラリー組成物１２４を所望の高さに維持するために用いることができる。
【００６０】
一次スラリー供給システム１１６はポンプ１２５を介して試薬タンク１２３に接続することができる。試薬タンク１２３は多量の補給スラリー組成物１９９を一次および二次のタンク１７０および１９６に供給する。一つの態様において、試薬タンク１２３は、スラリー供給源１２７から補給スラリー組成物１９９の供給物を受け入れるように構成することができる。試薬タンク１２３はまた、水（例えば、脱イオン水）１２９を受け入れるように構成してもよく、この水は補給スラリー組成物１９９の比重および／またはｐＨを制御するために用いることができる。試薬タンク１２３には攪拌システム１３１を設けてもよく、それにより補給スラリー組成物１９９の中の固形分の完全な分散を確実に行う。
【００６１】
一次スラリー供給システム１１６は抜き取り口１４８を備えることもでき、これは一次スラリー供給システム１１６から多量の一次スラリー組成物１２４を取り出すことを可能にする。取り出したスラリー組成物１２４を、以後の処理とアンモニアの除去のためにアンモニア回収システム１５２へ送ることができる。これについては、後にもっと詳しく説明するだろう。
【００６２】
一次スラリー供給システム１１６には、一次スラリー組成物１２４のｐＨを制御するためのｐＨ制御システム１８２を設けることもできる。ｐＨ制御システム１８２は、ポンプ１７４とスラリー噴霧器１２０を結合するラインに設けられるｐＨ検知器１８４を含むことができる。ｐＨ検知器１８４は噴霧器１２０に供給される一次スラリー組成物１２４のｐＨを検知する。試薬タンク１２３からの供給ラインに配置される弁１８５を必要に応じて開閉することができ、それにより追加の量の補給スラリー組成物１９９を加えて一次スラリー組成物１２４のｐＨを制御する。追加の量の補給スラリー組成物１９９はスラリー組成物１２４のｐＨを減少または低下させるだろう。
【００６３】
一次スラリー供給システム１１６には、一次タンク１７０の中に収容される一次スラリー組成物１２４の密度（density）を制御するための密度制御システム１３７を設けることもできる。密度制御システム１３７は密度計（例えば、コリオリ密度計）（図示せず）を含んでいてもよく、弁１８３および１８６に作動上接続することができる。密度は、弁１８６を開けてアンモニア回収システム１５２への一次スラリー組成物１２４の流量を増大させることによって低下する。密度制御システム１３７はまた、一次タンク１７０の中へのアンモニア水１８１の流れを制御するために弁１８３を作動させることができ、それにより一次スラリー組成物１２４の密度のさらなる制御を行う。
【００６４】
二次スラリー供給システム１１８は一次スラリー供給システム１１６と同様のものにすることができる。二次スラリー供給システム１１８は、二次タンク１９６と二次スクラバー１１４の中のスラリー噴霧器１２２との間に接続されたポンプ１１１を含むことができる。ポンプ１１１は二次スラリー組成物１２６を二次スクラバー１１４へ送り、そこでそれはスラリー噴霧器１２２によって霧化される。二次スラリー供給システム１１８には補給口１５６を設けることもでき、この補給口により二次スラリー供給システム１１８から多量の二次スラリー組成物１２６を取り出して、一次タンク１７０を介して一次スラリー供給システム１１６へ送ることができる。二次タンク１９６には高さ制御システム１１３を設けてもよく、これは、弁１１５と組み合わせて二次タンク１９６の中の二次スラリー組成物１２６を所望の高さに維持するために用いることができる。
【００６５】
二次スラリー供給システム１１８には、二次スラリー組成物１２６のｐＨを制御するためのｐＨ制御システム１１７を設けることもできる。ｐＨ制御システム１１７は、ポンプ１１１とスラリー噴霧器１２２を結合するラインに設けられるｐＨ検知器１１９を含むことができる。検知器１１９は二次スクラバー１１４の噴霧器１２２に供給される二次スラリー組成物１２６のｐＨを検知する。試薬タンク１２３のポンプ１２５につながる弁１２１を必要に応じて開閉することができ、それにより追加の量の補給スラリー組成物１９９を加えて二次スラリー組成物１２６のｐＨを制御する。
【００６６】
二次スラリー組成物１２６の密度を密度監視システム１４９によって監視することができる。密度監視システム１４９は密度計（例えば、コリオリ密度計）（図示せず）を含んでいてもよく、二次タンク１９６の中に収容される二次スラリー組成物１２６の密度の表示値を得るために用いることができる。第二の態様１１０において、二次スラリー組成物の密度または比重は、高さ制御システム１１３によって、すなわち、追加の量の水１２９を二次タンク１９６に加えることによって、直接制御することができる。
【００６７】
前述したように、一次スラリー供給システム１１６から抜き取られる多量の一次スラリー組成物１２４をアンモニア回収システム１５２へ送ることができる。第一の態様１０の場合と同様に、第二の態様１１０のアンモニア回収システム１５２は、供給液１５４の中に含まれる全ての不純物を（ろ過することによって）除去するための一つ以上のフィルターおよび／または粒子分離システムを有していてもよい。
【００６８】
最後に、第二の態様１１０はアンモニア水１８１の供給物に接続されていてもよい。より具体的には、アンモニア水１８１の供給物は弁のシステム１８３を介してタンク１７０に接続することができる。アンモニア水１８１は、一次スラリー組成物１２４の比重および／またはｐＨのさらなる制御を行うために用いることができる。
【００６９】
アンモニア回収システムの第三の態様２１０を図３に示す。これはシステムの全体と別のやり方の流線形操作を簡略化するために様々な構成要素を統合および結合したものを含みうる。第三の態様２１０は、追加の量の補給スラリー組成物２９９を調製するための再循環タンク２２７を備えることもできる。
【００７０】
図３を参照すると（必要に応じてしばしば図１と図２も参照する）、第三の態様２１０は第一または一次のスクラバー２１２と二次スクラバー２１４を有することができる。一次および二次のスクラバー２１２および２１４は、それぞれの一次および二次スラリー供給システム２１６および２１８と作動上連関することができる。一次スラリー供給システム２１６は、一次スクラバー２１２の中に設けられたスラリー噴霧器２２０に作動上連結させることができる。二次スラリー供給システム２１８は、二次スクラバー２１４の中に設けられたスラリー噴霧器２２２に作動上連結させることができる。一次および二次スラリー供給システム２１６および２１８は、噴霧器２２０および２２２の各々に一次および二次のスラリー組成物２２４および２２６の各々を供給する。第一および第二の態様１０および１１０についてすでに説明したように、一次および二次スラリー組成物２２４および２２６はモリブデン酸を含みうるが、しかし異なるｐＨと比重のレベルを有する。
【００７１】
第三の態様２１０は化学処理プラントによって製造される気体の流れ２３０の中に含まれるアンモニアを除去するために用いることができる。気体の流れ２３０は、か焼器（焼成器）の排出流れとタンクの排出流れを合体させたものから得ることができ、それらの流れのいずれも図３には特に示されていないが、しかし図３は図１に示すものと同じ配置を有していてもよい。図１の態様の場合と同様に、第三の態様２１０の気体の流れ２３０は、先の二つの態様１０および１１０についてすでに説明した組成と温度で、概ね、空気、水蒸気、アンモニアおよび二酸化炭素の混合物を含むだろう。捕集されて合体された後、気体の流れ２３０は一次スクラバー２１２の気体の入口２３２の中に供給される。
【００７２】
一次スクラバー２１２は第二の態様１１０についての一次スクラバー１１２と実質的に同じものであってよく、気体の入口２３２と気体の出口２３８を有する概ね垂直方向の細長いチャンバ（室）を有することができる。図３において最も良くわかるように、気体の入口２３２は概ね細長い管状の構造を有することができ、この場合、噴霧器２２０は入口２３２のほぼ末端２２１に配置される。この配置は、注入する気体の流れ２３０と一次スラリー組成物２２４の改善された一層効率的な混合を与える。一次スクラバー２１２はまた、一次スクラバー２１２の底の部分によって画定される一次スラリータンク２７０を有することができる。
【００７３】
一次スラリータンク２７０は一次スラリー組成物２２４を収容していて、そしてまた、一次スクラバー２１２の中で形成されるさらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー２３６を受け入れて捕集する。一次スラリータンク２７０に攪拌機２７２を設けてもよく、それにより一次スラリー組成物２２４の中の固形分の沈降を防いで完全な分散を確実に行う。一次スクラバー２１２には霜取り器２４１を設けることもでき、それにより、部分的に処理された気体の流れ２３４が一次スクラバー２１２から気体の出口２３８を介して出る前に、その流れの中に含まれる多量の液体または蒸気を除去する。一つの態様において、一次スクラバー２１２にはクリーニングシステム２４３を設けることもでき、これを時々操作して霜取り器２４１の上に水２２９を噴霧することによって霜取り器の詰まりを防ぐ。
【００７４】
二次スクラバー２１４はまた、気体の入口２４０と気体の出口２４６を有する概ね垂直方向の細長いチャンバを有することができる。二次スクラバー２１４の気体の入口２４０は一次スクラバー２１２の気体の出口２３８に接続することができ、これにより一次スクラバー２１２からの部分的に処理された気体の流れ２３４を二次スクラバー２１４の中へ供給することができる。二次スクラバー２１４の気体の入口２４０は概ね細長い管状の構造を有することができ、この場合、噴霧器２２２は入口２４０のほぼ末端２５１に配置される。この配置は、部分的に処理された気体の流れ２３４と二次スラリー組成物２２６の改善された一層効率的な混合を与える。二次スクラバー２１４からの気体の出口２４６は、適当な送風システム２６４と排気筒２６６を通して大気へ通気することができる。
【００７５】
二次スクラバー２１４も結合または統合された構造にすることができ、これにおいては、溜めと二次スラリータンクは結合されていて、それにより二次スクラバー２１４の底の部分によって画定される単一の二次タンク２９６を形成している。結合した二次タンク２９６は二次スラリー組成物２２６を収容していて、そしてまた、二次スクラバー２１４の中で形成されるさらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー２４４を捕集する。二次タンク２９６に攪拌機２９８を設けることができ、それにより二次スラリー組成物２２６の中の固形分の沈降を防いで完全な分散を確実に行う。二次スクラバー２１４には二つの霜取り器２４５を設けることもでき、それにより、完全に処理された気体の流れ２４２が二次スクラバー２１４から気体の出口２４６を介して出る前に、その流れの中に含まれる多量の液体または蒸気を除去する。二次スクラバー２１４にはクリーニングシステム２４７を設けることもでき、これを時々操作して霜取り器２４５の上に水２２９を噴霧することによって霜取り器の詰まりを防ぐ。
【００７６】
上で簡単に説明したように、一次および二次のスクラバー２１２および２１４は、それぞれの一次および二次スラリー供給システム２１６および２１８と作動上連関している。一次スラリー供給システム２１６は、一次スクラバー２１２のスラリー噴霧器２２０に一次スラリー組成物２２４を供給する。二次スラリー供給システム２１８は、二次スクラバー２１４のスラリー噴霧器２２２に二次スラリー組成物２２６を供給する。
【００７７】
一次スラリー供給システム２１６は、一次タンク２７０と一次スクラバー２１２の中のスラリー噴霧器２２０との間に接続されたポンプシステム２７４を含むことができる。ポンプシステム２７４は、一次スラリー組成物２２４をスラリー噴霧器２２０へ送るために用いることができる。抜き取り口２４８は一次スラリー供給システム２１６から多量の一次スラリー組成物２２４を取り出すことを可能にする。取り出したスラリー組成物２２４を、以後の処理とアンモニアの除去のためにアンモニア回収システム２５２へ送ることができる。
【００７８】
先の二つの態様１０および１１０の場合と同様に、一次タンク２７０の中の一次スラリー組成物２２４を所望の高さに維持するために、一次タンク２７０には高さ制御システム２７６を設けてもよい。図３に示す態様において、高さ制御システム２７６は、必要に応じて一次タンク２７０から一次スラリー組成物２２４を抜き取るか、あるいは一次タンク２７０へ二次スラリー組成物２２６を加えるために弁２８６および２８５を開けることによって、一次タンク２７０の中の一次スラリー組成物２２４の高さを維持する。
【００７９】
一次スラリー供給システム２１６には、一次スラリー組成物２２４のｐＨを制御するためのｐＨ制御システム２８２を設けることもできる。ｐＨ制御システム２８２は第一および第二の態様１０および１１０のｐＨ制御システム８２、１８２と実質的に同じものであってよい。図３の態様において、ｐＨ制御システム２８２は、弁２８６を操作して一次タンク２７０から一次スラリー組成物２２４を抜き取ることによって一次スラリー組成物２２４のｐＨを維持する。
【００８０】
一次スラリー供給システム２１６には、一次タンク２７０の中に収容される一次スラリー組成物２２４の密度を制御するための密度制御システム２３７を設けることもできる。密度制御システム２３７は密度計（例えば、コリオリ密度計）（図示せず）を含んでいてもよい。密度制御システム２３７は弁２８３に作動上接続することもできる。密度制御システム２３７は、一次タンク２７０の中へのアンモニア水２８１の流れを制御するために弁２８３を作動させる。
【００８１】
一次スラリー供給システム２１６はポンプ２２５を介して試薬タンク２２３に接続することができる。試薬タンク２２３は多量の補給スラリー組成物２９９を一次および二次のタンク２７０および２９６に供給する。一つの態様において、試薬タンク２２３は、再循環タンク２２７から補給スラリー組成物２９９の供給物を受け入れるように構成することができる。試薬タンク２２３はまた、水（例えば、脱イオン水）２２９を受け入れるように構成してもよく、この水は補給スラリー組成物２９９の比重および／またはｐＨを制御するために用いることができる。試薬タンク２２３には攪拌システム２３１を設けてもよく、それにより補給スラリー組成物２９９の中の固形分の完全な分散を確実に行う。
【００８２】
再循環タンク２２７は多量の補給スラリー組成物２９９を調製するために用いることができ、補給スラリー組成物はポンプ２３９を介して試薬タンク２２３に供給することができる。図３に示す特定の態様において、再循環タンク２２７は水の供給物２２９、乾燥供給原料エレベーター２７１、およびアンモニア水（すなわち、水酸化アンモニウム）のスラリー２８３に接続することができる。供給原料エレベーター２７１からの適当な乾燥供給物は酸化モリブデンを含むことができる。再循環タンク２２７には攪拌機または混合機２７３を設けることもでき、これにより補給スラリー組成物２９９を形成するための様々な成分を混合するのを補助する。
【００８３】
二次スラリー供給システム２１８は一次スラリー供給システム２１６と同様のものにすることができ、二次タンク２９６とスラリー噴霧器２２２との間に接続されたポンプ２１１を含むことができる。ポンプ２１１は二次スラリー組成物２２６を二次スクラバー２１４へ送り、そこでそれはスラリー噴霧器２２２によって霧化される。二次スラリー供給システム２１８には補給口２５６を設けることができ、この補給口により二次スラリー供給システム２１８から多量の二次スラリー組成物２２６を取り出して、一次タンク２７０を介して一次スラリー供給システム２１６へ送ることができる。
【００８４】
二次スラリー供給システム２１８には高さ制御システム２１３を設けてもよく、それにより二次タンク２９６の中で二次スラリー組成物２２６を所望の高さに維持する。この第三の態様２１０において、高さ制御システム２１３は、必要に応じて二次タンク２９６から二次スラリー組成物２２６を抜き取るか、あるいは試薬タンク２２３から補給スラリー２９９を加えるために弁２８５および２９３を開けることによって、二次タンク２９６の中の二次スラリー組成物２２６の高さを維持する。
【００８５】
二次スラリー供給システム２１８には、二次スラリー組成物２２６のｐＨを制御するためのｐＨ制御システム２１７を設けることもできる。ｐＨ制御システム２１７は第一および第二の態様１０および１１０のｐＨ制御システム１７、１１７と実質的に同じものであってよい。図３に示す態様において、ｐＨ制御システム２１７は、弁２８５を操作して二次タンク２９６から二次スラリー組成物２２６を抜き取ることによって二次スラリー組成物２２６のｐＨを維持する。
【００８６】
二次スラリー組成物２２６の密度は密度制御システム２４９によって制御することができる。密度制御システム２４９は密度計（例えば、コリオリ密度計）（図示せず）を含んでいてもよく、また弁２７５に作動上接続することができる。密度制御システム２４９は、二次タンク２９６の中への水２２９の流れを制御するために弁２７５を作動させる。
【００８７】
前述したように、一次スラリー供給システム２１６から（すなわち、抜き取り口２４８を介して）抜き取られる多量の一次スラリー組成物２２４を供給液２５４としてアンモニア回収システム２５２へ送ることができる。前の二つの態様１０および１１０の場合と同様に、第三の態様２１０のアンモニア回収システム２５２は、供給液２５４の中に含まれる全ての不純物を（ろ過することによって）除去するための一つ以上のフィルターおよび／または粒子分離システムを有していてもよい。
【００８８】
本発明の好ましい態様を本明細書で示した。それらの態様には適当な変更をなしうることが予想されるが、そのようなものであっても本発明の範囲内のものであろう。従って、本発明は以下の特許請求の範囲に従ってのみ解釈されるべきである。
【符号の説明】
【００８９】
１０  アンモニア回収システム、  １１  ポンプ、  １２  一次スクラバー、  １３  高さ制御システム、  １４  二次スクラバー、  １５  弁、  １６  一次スラリー供給システム、  １７  ｐＨ制御システム、  １８  二次スラリー供給システム、  １９  ｐＨ検知器、  ２０  スラリー噴霧器、  ２１  弁、  ２２  スラリー噴霧器、  ２３  サージタンク、  ２４  一次スラリー組成物、  ２５  ポンプ、  ２６  二次スラリー組成物、  ２７  二次スラリー供給源、  ２８  システムの操作方法、  ２９  水の供給源、  ３０  気体の流れ、  ３１  攪拌機、  ３２  気体の入口、  ３３  ポンプ、  ３４  部分的に処理された気体の流れ、  ３５  攪拌機、  ３６  さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物、  ３８  気体の出口、  ４０  気体の入口、  ４２  完全に処理された気体の流れ、  ４４  さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー組成物、  ４６  気体の出口、  ４６  無水アンモニア、  ４８  抜き取り口、  ５２  アンモニア回収システム、  ５４  供給液、  ５６  補給口、  ５８  か焼器の排出流れ、  ６０  タンクの排出流れ、  ６２  捕集溜め、  ６４  送風システム、  ６６  排気筒、  ６８  捕集溜め、  ７０  一次タンク、  ７２  攪拌システム、  ７４  ポンプシステム、  ７６  高さ制御システム、  ７８  弁、  ８０  サージタンク、  ８２  ｐＨ制御システム、  ８４  ｐＨ検知器、  ８６  弁、  ８８  サージタンク、  ９２  一次スラリー供給源、  ９４  攪拌システム、  ９６  二次タンク、  ９８  攪拌機、  １１０  アンモニア回収システム、  １１１  ポンプ、  １１２  一次スクラバー、  １１３  高さ制御システム、  １１４  二次スクラバー、  １１５  弁、  １１６  一次スラリー供給システム、  １１７  ｐＨ制御システム、  １１８  二次スラリー供給システム、  １１９  ｐＨ検知器、  １２０  スラリー噴霧器、  １２１  入口の末端、  １２２  スラリー噴霧器、  １２３  試薬タンク、  １２４  一次スラリー組成物、  １２５  ポンプ、  １２６  二次スラリー組成物、  １２７  スラリー供給源、  １２９  水、  １３０  気体の流れ、  １３２  気体の入口、  １３４  部分的に処理された気体の流れ、  １３６  さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー組成物、  １３７  密度制御システム、  １３８  気体の出口、  １４０  気体の入口、  １４１  霜取り器、  １４２  完全に処理された気体の流れ、  １４３  クリーニングシステム、  １４４  二次のアンモニア化スラリー、  １４５  霜取り器、  １４６  気体の出口、  １４７  クリーニングシステム、  １４８  抜き取り口、  １４９  密度監視システム、  １５１  入口の末端、  １５２  アンモニア回収システム、  １５６  補給口、  １６４  送風システム、  １６６  排気筒、  １７０  一次スラリータンク、  １７２  攪拌機、  １７４  ポンプシステム、  １７６  高さ制御システム、  １７８  弁、  １８１  アンモニア水、  １８２  ｐＨ制御システム、  １８３  弁、  １８４  ｐＨ検知器、  １８５  弁、  １８６  弁、  １９６  二次スラリータンク、  １９８  攪拌機、  １９９  補給スラリー組成物、  ２１０  アンモニア回収システム、  ２１１  ポンプ、  ２１２  一次スクラバー、  ２１３  高さ制御システム、  ２１４  二次スクラバー、２１６  一次スラリー供給システム、  ２１７  ｐＨ制御システム、  ２１８  二次スラリー供給システム、  ２２０  スラリー噴霧器、  ２２１  入口の末端、  ２２２  スラリー噴霧器、  ２２３  試薬タンク、  ２２４  一次スラリー組成物、  ２２５  ポンプ、  ２２６  二次スラリー組成物、  ２２７  再循環タンク、  ２２９  水、  ２３０  気体の流れ、  ２３１  攪拌システム、  ２３２  気体の入口、  ２３４  部分的に処理された気体の流れ、  ２３６  さらに濃縮した一次のアンモニア化スラリー、  ２３７  密度制御システム、  ２３８  気体の出口、  ２３９  ポンプ、  ２４０  気体の入口、  ２４１  霜取り器、  ２４２  完全に処理された気体の流れ、  ２４３  クリーニングシステム、  ２４４  さらに濃縮した二次のアンモニア化スラリー、  ２４５  霜取り器、  ２４６  気体の出口、  ２４７  クリーニングシステム、  ２４８  抜き取り口、  ２４９  密度制御システム、  ２５１  入口の末端、  ２５２  アンモニア回収システム、  ２５４  供給液、  ２５６  補給口、  ２６４  送風システム、  ２６６  排気筒、  ２７０  一次スラリータンク、  ２７１  乾燥供給原料エレベーター、  ２７３  攪拌機、  ２７４  ポンプシステム、  ２７５  弁、  ２７６  高さ制御システム、  ２８１  アンモニア水、  ２８２  ｐＨ制御システム、  ２８３  弁、  ２８３  アンモニア水のスラリー、  ２８５  弁、  ２８６  弁、  ２９３  弁、  ２９６  二次タンク、  ２９８  攪拌機、  ２９９  補給スラリー組成物。
【図１】
2016525440.tif 000003
【図２】
2016525440.tif 000004
【図３】
2016525440.tif 000005
【国際調査報告】
2016525440.tif 000006
2016525440.tif 000007