(57)【要約】  太陽電池のテクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を保護して、太陽電池の寿命及び効率を改善する方法が、開示されている。一実施形態において、方法の一例は、正常運転の間に太陽に面する前面と、前面の反対側に裏面と、シリコン基板とを有する太陽電池を準備する工程を含んでいる。ここで、シリコン基板は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を備える。本方法は、太陽電池の前面を、受け媒体の上面に位置付けて、受け媒体上に太陽電池を載置する工程を含んでいる。この場合、接触印刷プロセス又は転写の間、受け媒体の上面は、太陽電池の前面の、低濃度ドープ拡散領域及びテクスチャ領域への損傷を防止する。一実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有し、受け媒体は、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料で構成される。
2016512396.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽電池の上に第１のエッチレジストを形成する方法であって、前記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、前記前面の反対側に裏面とを有し、前記方法は、
前記太陽電池の前記前面を、受け媒体の上面に位置付けて、前記受け媒体上に前記太陽電池を載置する工程であって、前記太陽電池は、前記前面に、テクスチャ領域と低濃度ドープ拡散領域とを含む、前記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、前記太陽電池の前記裏面に前記第１のエッチレジストを堆積させる工程であって、前記受け媒体の前記上面は、前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、前記第１のエッチレジストを堆積させる工程と、
前記受け媒体から前記太陽電池を取り除く工程と、
前記第１のエッチレジストを硬化させる工程と、を含む、方法。
【請求項２】
前記低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１７〜１０１９ｃｍ−３の範囲のドーピング濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記低濃度ドープ拡散領域は、前記シリコン基板の中へ１マイクロメートル未満で伸展する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記受け媒体は、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料で構成される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記受け媒体の前記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後の印刷中に、前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記受け媒体の前記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後、一定の平坦度を維持する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記受け媒体は、アクリル、アルミニウム、陽極酸化アルミニウム、硬質の陽極酸化アルミニウム、ガラス及び強化ガラスから成る群から選択される材料で構成される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第１のエッチレジストを堆積させる工程は、前記第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
太陽電池の上にめっきレジストを形成する方法であって、前記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、前記前面の反対側に裏面とを有し、前記方法は、
前記太陽電池の前記前面を、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料を備える受け媒体の上面に位置付けて、前記受け媒体上に前記太陽電池を載置する工程であって、前記太陽電池は、前記前面に、テクスチャ領域と、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する低濃度ドープ拡散領域を含む、前記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、前記太陽電池の前記裏面に前記めっきレジストを堆積させる工程であって、前記受け媒体の前記上面は、前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、前記めっきレジストを堆積させる工程と、
前記受け媒体から前記太陽電池を取り除く工程と、
前記めっきレジストを光硬化させる工程と、を含む、方法。
【請求項１１】
前記受け媒体は、アクリル、アルミニウム、陽極酸化アルミニウム、硬質の陽極酸化アルミニウム、ガラス及び強化ガラスから成る群から選択される材料で構成される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１のエッチレジストを堆積させる工程は、前記第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記受け媒体の前記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後の印刷中に、前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記受け媒体の前記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後、一定の平坦度を維持する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
太陽電池の上に第１のエッチレジストを形成する方法であって、前記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、前記前面の反対側に裏面とを有し、前記方法は、
前記太陽電池の前記前面に第１の保護層を形成する工程であって、前記太陽電池は、前記前面に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を含み、第１の保護層を形成する工程と、
前記太陽電池の前記前面を受け媒体の上面に位置付けて、前記受け媒体上に前記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、前記太陽電池の前記裏面に前記第１のエッチレジストを堆積させる工程であって、前記第１の保護層は、前記印刷プロセスの間、前記太陽電池の前記前面上の、前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、前記第１のエッチレジストを堆積させる工程と、
前記受け媒体から前記太陽電池を取り除く工程と、
前記第１のエッチレジストを硬化させる工程と、を含む、方法。
【請求項１６】
前記第１のエッチレジストはめっきレジストである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１のエッチレジストを堆積させる工程は、前記第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１のエッチレジストを硬化させる工程は、熱硬化及び光硬化から成る群から選択される方法を実行する工程を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１の保護層を形成する工程は、
第１のエッチレジストを形成する前に、前記太陽電池の前記前面に第２のエッチレジストを堆積させる工程と、
前記第２のエッチレジストを硬化して前記太陽電池の前記前面に第１の保護層を形成する工程と、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記第１の保護層を形成する工程は、前記太陽電池の前記前面上に１００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する窒化ケイ素（ＳｉＮ）を堆積させる工程を含む、請求項１５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書に記載する主題の複数の実施形態は、一般に太陽電池の製造に関する。より詳細には、主題の複数の実施形態は、太陽電池へのエッチレジストの堆積及び製造技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池は、太陽放射を電気エネルギーに変換するための周知のデバイスである。太陽電池は、半導体プロセス技術を使用して半導体ウェハ上に製作することができる。太陽電池は、Ｐ型及びＮ型拡散領域を含む。太陽電池に日射が当たると電子及び正孔が生成され、これらの電子及び正孔が拡散領域に移動することにより、拡散領域間に電位差が生じる。裏面コンタクト型太陽電池においては、拡散領域及びこれらの拡散領域に結合した金属コンタクトフィンガーが、共に太陽電池の裏面にある。このコンタクトフィンガーによって、外部電気回路は太陽電池に結合され、太陽電池から電力供給されることが可能となる。
【０００３】
寿命は、太陽電池の電力を生成する性能に直接関係するため、太陽電池の重要な特性である。したがって、製作プロセスを改善し、製造コストを削減し、そして太陽電池の効率を増加する技術が、概して望ましい。
【発明の概要】
【０００４】
製作プロセスを改善し、製造コストを削減し、そして太陽電池の効率を増加する技術が、本明細書に記載されている。かかる技術は、太陽電池の構造を破損することなく太陽電池を製作するための方法を含んでいる。ここで、１または複数の実施形態は、太陽電池への損傷を防止し、改善された太陽電池の寿命、及び、増大された太陽電池の効率を可能にする。
【０００５】
一つの例では、太陽電池上に第１のエッチレジストを形成するための方法が、開示されている。本方法は、正常運転の間に太陽に面する前面、及び前面の反対側に裏面を有する太陽電池を準備する工程を含んでいる。本方法は、太陽電池の前面を、受け媒体（receiving medium）の上面に位置付けて、受け媒体上に太陽電池を載置する工程を含む。ここで、太陽電池は、前面側に、低濃度ドープ拡散領域及びテクスチャ領域（texturized region）を備えている。本方法は、接触印刷方式を用いて、太陽電池の裏面に第１のエッチレジストを堆積する工程を含む。ここで、印刷プロセスの間、受け媒体の上面は、低濃度ドープ拡散領域への損傷、及び、太陽電池の前面側のテクスチャ領域への損傷を防止する。本方法はまた、受け媒体から太陽電池を取り除き、第１のエッチレジストを硬化する工程を含む。一実施形態では、第１のエッチレジストは、通常、太陽電池の製作又は製造で使用されるめっきレジストである。別の実施形態では、第１のエッチレジストを形成する工程は、第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む。更に別の実施形態では、非接触印刷方式（インクジェット式印刷など）は、印刷プロセスの間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止するために用いる。更に別の実施形態では、第１の保護層は、第１のエッチレジストを堆積する前に、太陽電池の前面上に堆積することができる。ここで、第１の保護層は、受け媒体の代わりに、印刷の間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を損傷から保護する。
【０００６】
別の例では、第１の位置から第２の位置へ太陽電池を転写するための方法が開示されている。本方法は、正常運転の間に太陽に面する前面、及び前面の反対側に裏面、及び、シリコン基板を有する太陽電池を準備する工程を含んでいる。ここで、シリコン基板は、太陽電池の前面側に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を備えている。本方法は、接触転写ツールを用いて、第１の位置上の太陽電池をピックする工程を含んでいる。この場合、接触転写ツールの下面は、太陽電池の前面と接触している。本方法は更に、第２の位置上に太陽電池を載置する工程を含んでいる。この場合、接触転写ツールの下面は、ピックアンドプレイス動作の間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ領域への損傷を防止する。一実施形態では、第１の位置から第２の位置への転写プロセスの間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止するために、非接触転写方式が用いられる。別の実施形態では、第１の保護層が、転写プロセスの前に、太陽電池の前面の上に堆積される。この場合、第１の保護層は、受け媒体の代わりに、転写の間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を損傷から保護する。
【０００７】
更に別の例では、太陽電池を製造するための方法が開示されている。本方法は、正常運転の間に太陽に面する前面、前面の反対側に裏面、及びシリコン基板を有する太陽電池を準備する工程を含んでいる。本方法は、太陽電池のシリコン基板上にドープ領域を形成する工程、及びシリコン基板上のテクスチャ領域をエッチングする工程を含む。低濃度ドープ拡散領域は、シリコン基板上に形成され、テクスチャ領域と同じ側に形成される。本方法は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域の上に第１の保護層を形成する工程を含む。この場合、第１の保護層は、製造の間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。第１の保護層を形成する前に、誘電体層を、テクスチャ領域、低濃度ドープ拡散領域及びドープ領域の上に堆積させる。複数のコンタクト開口が、誘電体層を通して形成される。更に、本方法はまた、第１の金属グリッド及び第２の金属グリッドを形成することを含む。この第１の金属グリッドは、コンタクト開口を通してドープ領域に電気的に接続し、そして、第２の金属グリッドは、第１の金属グリッドに電気的に接続されている。一実施形態では、第１の保護層はエッチレジストで構成されている。
【０００８】
更に別の例では、太陽電池を製造する方法が開示される。本方法は、正常運転の間に太陽に面する前面、前面の反対側に裏面、及び、シリコン基板を有する太陽電池を準備する工程を含んでいる。本方法は、太陽電池のシリコン基板上にドープ領域を形成する工程、及び、シリコン基板上のテクスチャ領域をエッチングする工程を含む。低濃度ドープ拡散領域は、シリコン基板上に形成され、テクスチャ領域と同じ側に形成される。本方法は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域の上に第１の誘電体層を堆積させる工程を含む。この場合、第１の誘電体層は、製造の間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。本方法はまた、ドープ領域の上に第２の誘電体層を堆積する工程を含む。複数のコンタクト開口が、第２の誘電体層を通して形成される。更に、本方法はまた、第１の金属グリッド及び第２の金属グリッドを形成する工程を含む。この第１の金属グリッドは、コンタクト開口を通してドープ領域に電気的に接続し、そして、第２の金属グリッドは、第１の金属グリッドに電気的に接続されている。一実施形態では、第１の誘電体層は、太陽電池の前面上に１００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する窒化ケイ素（ＳｉＮ）で構成される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本主題のより完全な理解は、詳細な説明、及び特許請求の範囲を、以下の図面と併せて考察し、参照することによって導き出すことができ、図面全体を通して同様の参照番号は類似の要素を指す。
【００１０】
【図１】接触力を受けている太陽電池の断面図である。
【００１１】
【図２】図１の太陽電池の局所的な再結合の高い領域の断面図である。
【００１２】
【図３】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられる太陽電池の断面図である。
【図４】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられる太陽電池の断面図である。
【図５】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられる太陽電池の断面図である。
【図６】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられる太陽電池の断面図である。
【図７】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられる太陽電池の断面図である。
【図８】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられる太陽電池の断面図である。
【図９】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられる太陽電池の断面図である。
【００１３】
【図１０】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられるいくつかの太陽電池の間で、太陽電池の寿命を比較し、その試験結果を図示したものである。
【００１４】
【図１１】太陽電池のテクスチャ領域を保護する提示された方法に従って用いられるいくつかの太陽電池の間で、太陽電池の効率を比較し、その試験結果を図示したものである。
【００１５】
【図１２】太陽電池上に第１のエッチレジストを形成する提示された方法のフローチャート図である。
【図１３】太陽電池上に第１のエッチレジストを形成する提示された方法のフローチャート図である。
【００１６】
【図１４】第１の位置から第２の位置へ太陽電池を転写する提示された方法のフローチャート図である。
【図１５】第１の位置から第２の位置へ太陽電池を転写する提示された方法のフローチャート図である。
【００１７】
【図１６】太陽電池を製造する提示された方法のフローチャート図である。
【図１７】太陽電池を製造する提示された方法のフローチャート図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下の発明を実施するための形態は、本質的には、単なる実例に過ぎず、本主題の複数の実施形態、あるいは、かかる実施形態の応用及び用途を限定することを意図するものではない。本明細書で使用する場合、「例示の」という語は、「例、事例、または実例として機能すること」を意味する。本明細書で例示として記載する任意の実施態様は、必ずしも他の実施態様よりも好ましい又は有利であると解釈すべきではない。更には、前述の技術分野、背景技術、発明の概要、若しくは以下の発明を実施するための形態で提示される、明示又は示唆されるいずれの理論によっても、拘束されることを意図するものではない。
【００１９】
加えて、本方法及びその実施形態の完全な理解を提供するために、具体的なプロセスフロー作業等の数多くの具体的な詳細が説明される。これらの特定の詳細なしに、提案された方法の実施形態を実践することができることが、当業者には明らかとなるであろう。他の事例では、本方法及びその実施形態を不必要に不明瞭にしないように、リソグラフィ技法及びエッチング技法などの周知の製作技法は、詳細に記載されていない。更に、図に示された様々な実施形態は、例示的な表示であって、必ずしも原寸に比例して描写されたものではないことを理解されたい。
【００２０】
太陽電池は、製作の間、構造損傷を受けやすい可能性があることはよく知られている。かかる構造損傷は、接触力及び機械的ストレスから起こり得る。したがって、構造損傷のこれらのモードは、亀裂、引っかき傷、欠け傷、混入などの（これらに限定はされないが）数種類の損傷をもたらす恐れがある。これらは、太陽電池の電流の生成能力を低減するか、又は、光起電機能を全く阻止する可能性がある。したがって、太陽電池の製造者が、太陽電池を転写するときに、かかる言及した損傷モードからの歩留まり低下を最小限にし、そして、太陽電池の生産を最大化するような特別な予防措置をとるのは、重要なことである。１つの例では、損傷のモードは、太陽電池に接触力を印加する恐れがある太陽電池の製造プロセス又は転写方法から生じる可能性がある。図１は、かかる接触力を受けている太陽電池を示す。
【００２１】
図１は、かかる接触力を受けている太陽電池を例示する。太陽電池１００は、テクスチャ領域１２０及び拡散領域１２２を有するシリコン基板１１０を含むことができる。太陽電池の製造では、スクリーン印刷は、以降のエッチング、洗浄に関するマスク形成、及び金属コンタクト形成の更なる準備において用いる共通プロセスである。スクリーン印刷には、エッチレジストを押して、スクリーンを通して太陽電池の上にマスクを形成するためのスキージの使用が必要となる。この場合、スキージは、太陽電池１００をスクリーン印刷機の受け媒体１５０に押しつける。１つの例では、接触力１４０は、スクリーン印刷の間、スキージによって、太陽電池に及ぼされる力である可能性があるが、それに限定はされない。この例では、発明者は、非平面の、粗い又は平坦でない表面で構成される受け媒体は、太陽電池のテクスチャ化された面に好ましくない恐れがあることを発見した。より具体的には、平坦でない表面は、上昇した表面（raised surfaces）１５６及び下降した表面（lowered surfaces）１５８を有し得る。この場合、上昇した表面１５６は、接触力１４０に起因する反力１４１を、太陽電池１００のテクスチャ領域１２０に対して集中させる領域を提供する可能性がある。反力１４１は、次に、テクスチャ領域１２０の局所的領域及びドープ領域１２２に損傷を与える可能性があり、これによって、太陽電池１００のシリコン基板１１０の中に、局所的な再結合の高い領域１３０などの欠陥をもたらす。結局、局所的な再結合の高い領域１３０は、寿命の不足及び太陽電池の効率損失をもたらす恐れがある。
【００２２】
図２は、図１の太陽電池の局所的な再結合の高い領域の断面図を例示する。局所的な再結合の高い領域１３０は、シリコン基板１１０の拡散領域１２２の中で、切断点などの転位１３２を含む可能性がある。局所的な再結合の高い領域１３０はまた、テクスチャ領域１２０の端に沿って、欠け傷１３４を含む可能性がある。擦過もまた、テクスチャ領域１２０及び図２の受け媒体１５０との間で起こる可能性があり、これによって、太陽電池１００に対して、受け媒体１５０からこすりとられた異物の混入１３６を許す恐れがある。
【００２３】
したがって、スクリーン印刷は、太陽電池のテクスチャ領域及び拡散領域への損傷を誘発して、寿命劣化及び太陽電池の効率損失をもたらす可能性があることが、提示される。同様に、太陽電池の転写に伴うような、損傷の他のモードが知られている。ここで、転写は、自動又は手動の、太陽電池を第１の位置から第２の位置へ転写する（太陽電池の製作又は製造工程の間、その前、その後、及びその中間の時点で）のに用いられる任意の方法を含むことができる。例えば、太陽電池が転写の間、受け媒体上で不適切に固定されると、テクスチャ領域に対する側方の損傷又は引っかき傷もまた、起こる可能性がある。別の例では、転写の間、太陽電池を固定する真空パッド又はグリッパから及ぼされる過大な圧力は、上述したように、テクスチャ領域及びドープ領域の損傷をもたらす恐れがある。一実施形態に従って、改善された太陽電池の寿命及び効率性能を示す試験結果を含めて、上述の問題に対する複数の解決策を以下に記載する。更に、受け媒体は、チャック、パレット、ジグ、移動ビーム、取付台又はコンベヤなどの、多数の異なる解釈を有することができることもまた、理解されなければならない。ここで、受け媒体は、記載したものには限定されず、製作、製造、転写及び移送の間に、太陽電池を固定するために通常使用される任意の他の手段を含むことができる。受け媒体の平坦度に関する一般的な測定は、受け媒体面に沿って少なくとも３点をとることによって測定されることに注意することは重要である。この３点は、参照又は零点としての第１の点、及び平坦度を判定するための次の２者の測定点である。零点に関する２つの残りの点の間の平坦度が、特定の限界値より大きい場合には（通常マイクロメートルで測定）、続いて、特定の面は非平面であると判定することができる。
【００２４】
図３は、上述の問題に対する次の提案された解決策で使用する太陽電池を例示する。太陽電池２００は、正常運転の間に太陽に面する前面２０２、及び前面２０２の反対側に裏面２０４を有する。太陽電池２００はまた、シリコン基板２１０を含んでいる。幾つかの実施形態では、シリコン基板２１０を洗浄、研磨、平坦化及び／又は薄膜化するか、又は別の方法で処理する。別の実施形態では、シリコン基板２１０は、ポリシリコン又は多結晶質シリコンで構成されている。更に別の実施形態では、シリコン基板２１０は第１及び第２のドープ領域を含む。一実施形態では、第１及び第２のドープ領域は、代わりに、第１及び第２のドープポリシリコン領域である。別の実施形態では、トレンチ領域が、第１及び第２のドープポリシリコン領域の双方を分離する。更に別の実施形態では、トレンチ領域はテクスチャ化されている。更に別の実施形態では、トンネル酸化物層は、第１及び第２のドープポリシリコン領域の双方をシリコン基板から分離する。一実施形態では、第１及び第２のドープ領域、又は、第１及び第２のドープポリシリコン領域は、熱プロセスによって形成される。この場合、各々の領域は、ドーピング物質を含むことができるが、ホウ素などのＰ型ドーパント、又は、燐などのＮ型ドーパントに限定されない。第１及び第２のドープ領域の双方は、それぞれ、熱プロセスによって、又は従来のドーピングプロセス（本明細書に記載又は列挙された任意の他の形成、成膜又は成長プロセスの動作を用いるような）によって、形成されるように記載されている。しかし、それぞれの層又は物質は、任意の適切なプロセスを用いて形成される。例えば、化学気相成長（ＣＶＤ）プロセス、減圧ＣＶＤ（ＬＰＣＶＤ）、常圧ＣＶＤ（ＡＰＣＶＤ）、プラズマＣＶＤ（ＰＥＣＶＤ）、熱成長、スパッタリングだけでなく任意の他の所望の技術を、形成が説明された箇所で使用することができる。本方法は、太陽放射の収集を増大するために、太陽電池２００の前面２０２上のテクスチャ領域２２０を太陽電池２００に設ける工程を更に含む。テクスチャ領域２２０は、入射光を散乱させ、太陽電池２００の表面で反射して戻る光量を減少させるための規則的な又は不規則な形状表面を有する領域である。太陽電池２００はまた、前面２０２の上に、低濃度ドープ拡散領域２２２を含む。一実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１７〜１×１０１９ｃｍ−３の範囲のドーピング濃度を有する。別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する。更に別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、シリコン基板の中へ１マイクロメートル未満（の深さ）で伸展する。更に別の実施形態では、太陽電池の低濃度ドープ拡散領域は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で構成される。一実施形態では、第１の誘電体層２６６は、テクスチャ領域２２０の上に堆積される。別の実施形態では、第１の誘電体層２６６は、窒化ケイ素（ＳｉＮ）で構成される。更に別の実施形態では、第１の誘電体層は、太陽電池２００の前面２０２の上に配置された反射防止層（ＡＲＣ）である。
【００２５】
発明者は、図３に記載された太陽電池２００（前面２０２にテクスチャ領域２２０及び低濃度ドープ拡散領域２２２を有する太陽電池など）が、損傷、特に図１及び図２で述べた接触損傷を非常に受けやすい可能性があることを発見した。この場合、テクスチャ領域及び低濃度ドープ領域は、太陽電池の裏面にも、存在する可能性があることに留意すべきである。したがって、複数の上述の問題への解決策を、以下に提案する。更に、これら複数の解決策は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ領域を有するいかなる太陽電池にも適用できる。この場合、本解決策は、太陽電池上のそれら領域の位置に関係なく、テクスチャ領域及び低濃度ドープ領域への損傷を防止する方法を提供する。
【００２６】
図４及び図５を参照すると、図３の太陽電池上に第１のエッチレジストを形成する方法を示している。本方法は、図３の太陽電池２００を準備する工程、及び、太陽電池２００の前面２０２上に第１の保護層２６０を形成する工程を含む。図５に示すように、太陽電池２００は、その後、太陽電池２００の前面２０２を、受け媒体２５０の上面２５２の上に配置した状態で、受け媒体２５０の上に載置される。受け媒体２５０は、上面２５２、下面２５４及び平坦でない表面を有することができる。ここで、この平坦でない表面は上昇した表面２５６及び下降した表面２５８を有する。一実施形態では、受け媒体２５０の上面２５２は、５０マイクロメートルより大きい平坦度を有する。
【００２７】
図６は、図４及び図５の太陽電池の裏面に第１のエッチレジストを形成する連続した方法を例示する。本方法は、接触印刷方式を用いて、太陽電池２００の裏面２０４に第１のエッチレジスト２４６を堆積させる工程を含む。接触印刷の間、スクリーン印刷機のスキージ２４４からなどの下向きの力２４０が、太陽電池２００を、受け媒体２５０に押しつける。受け媒体２５０の上昇した表面２５６は、接触力２４０に起因する反力２４１を、太陽電池２００に対して集中させる領域を提供する。図１と対照的に、第１の保護層２６０は、接触力２４０及び反力２４１からのテクスチャ領域２２０、低濃度ドープ拡散領域２２２に対する損傷を防止し、更に、図１及び図２で示される局所的な再結合の高い領域１３０の形成を防止する。第１の保護層２６０はまた、太陽電池２００の前面２０２に対する機械的損傷及び応力（亀裂、引っかき傷、欠け傷、混入又はいかなる他の損傷ももたらし得る）から保護する。これらは、太陽電池２００の電流の生成能力を低減するか、又は、光起電機能を全く阻止する可能性がある。本方法はまた、その後、受け媒体２５０から太陽電池２００を取り除く工程、及び、第１のエッチレジスト２４６を硬化する工程を含む。一実施形態では、第１の保護層２６０を形成する工程は、第１のエッチレジスト２４６を形成する前に、太陽電池２００の前面に第２のエッチレジストを堆積させる工程を含む。第２のエッチレジストは硬化されて、太陽電池２００の前面２０２上に第１の保護層２６０を形成する。別の実施形態では、第１のエッチレジスト２４６及び第２のエッチレジストは、通常、太陽電池の製作で使用される任意のエッチレジストで構成される。
【００２８】
図７を参照すると、図４〜図６の第１の保護層を形成するための実施形態が示されている。一実施形態では、第１の保護層を形成する工程は、代わりに、厚い窒化膜２６８を堆積させる工程を含む。別の実施形態では、厚い窒化膜２６８は、図３の第１の誘電体層２６６にとって代わる。更に別の実施形態では、第１の保護層を形成する工程は、代わりに、厚い窒化膜２６８を堆積させる工程を含む。この窒化膜は、太陽電池の前面上で１００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する窒化ケイ素（ＳｉＮ）で構成される。更に別の実施形態では、厚い窒化膜２６８を堆積させる工程は、太陽電池２００の前面２０２に、反射防止層（ＡＲＣ）を堆積させる工程を含んでいる。
【００２９】
図８及び図９は、図３の太陽電池上に第１のエッチレジストを形成するための別の方法を例示する。本方法は、太陽電池２００の前面２０２が、図８で示すように、受け媒体２７０の上面２７２に配置された状態で、図３の太陽電池２００を受け媒体２７０の上に載置する工程を含む。一実施形態では、受け媒体２７０は、平面であるか又は平坦でない領域がなく、上面２７２及び下面２７４で構成される。図９に示すように、本方法はまた、接触印刷方式を用いて、太陽電池２００の裏面２０４に第１のエッチレジスト２４６を堆積させる工程を含む。印刷の間、スクリーン印刷機のスキージ２４４からなどの、接触印刷方式による接触力２４０は、太陽電池２００を受け媒体２７０の上面２７２に押しつける。ここで、受け媒体２７０は、太陽電池２００のテクスチャ領域２２０及び低濃度ドープ拡散領域２２２への損傷を防止する。一実施形態では、受け媒体は、反力２４２がテクスチャ領域２２０上に一様に分散することを可能にし、これによって、太陽電池２００のテクスチャ領域２２０への損傷を防止する。一実施形態では、受け媒体２７０は、５０マイクロメートル以下の平坦度を有する。一実施形態では、本方法はまた、受け媒体２７０から太陽電池２００を取り除く工程及び第１のエッチレジスト２４６を硬化する工程を含む。別の実施形態では、受け媒体２７０は、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料から製造される。別の実施形態では、１〜５０，０００回の間で使用した後の印刷中に、受け媒体２７０の上面２７２は、テクスチャ領域２２０への損傷を防止する。更に別の実施形態では、受け媒体の上面２７２は、１〜５０，０００回の間で使用した後、一定の平坦度を維持する。更に別の実施形態では、受け媒体２７０は、アルミニウム、陽極酸化アルミニウム、硬質の陽極酸化アルミニウム、ガラス及び強化ガラスから成る群から選択される材料で構成される。一実施形態では、受け媒体２７０は、チャック、パレット、ジグ、移動ビーム、取付台又はコンベヤである。一実施形態では、受け媒体２７０は、スクリーン印刷機のスキージ２４４に対して、平らな面を維持する。別の実施形態では、スキージ２４４と受け媒体２７０との間の平坦度の差異は、５５マイクロメートル未満である。
【００３０】
図３の太陽電池上に、第１のエッチレジストを形成する、更に別の方法が開示されている。本方法は、インクジェット式印刷などの非接触印刷方式を用いて、図３の太陽電池の裏面に第１のエッチレジストを堆積させる工程を含む。インクジェット式印刷は、スクリーン印刷と同様に、以降のエッチング、洗浄に関するマスク形成、及び金属コンタクト形成の更なる準備において用いるプロセスである。上述のように、スクリーン印刷には、太陽電池上にエッチレジストを堆積させる接触力が必要となる。スクリーン印刷と対照的に、インクジェット式印刷は、太陽電池に接触することなしに、エッチレジストを堆積させる。したがって、マスク形成プロセスの間、太陽電池に対して、損傷は引き起こされない。発明者は、インクジェット式印刷などの非接触印刷方式を使用することは、マスク形成プロセスの間、太陽電池のテクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する手段を提供することを発見した。太陽電池のテクスチャ領域への損傷を防止するために、任意の非接触印刷方式を、スクリーン印刷などの接触印刷と対照的に用いることができることに留意すべきである。
【００３１】
図１０を参照すると、上記で提案した異なる解決策を用いて製造されたいくつかの太陽電池を比較する、正規化された太陽電池寿命の試験結果が、示されている。試験結果は、非接触印刷、陽極酸化アルミニウムチャックを用いた接触印刷、新しいアクリルチャックを用いた接触印刷、及び、古いアクリルチャックを用いた接触印刷、を用いて製造された図３の太陽電池に関する、正規化された太陽電池の寿命結果を含む。古いアクリルチャックは、５０，０００回を超えて使用され、新しいチャックは、１〜５０，０００回の範囲の中で使用されたものである。この試験に関して、インクジェット式印刷は、非接触印刷用に使用され、スクリーン印刷は接触印刷用に使用された。更に、寿命試験結果は正規化されているので、１より低いか、又は、よりはるかに小さい結果は、改善された太陽電池性能を意味する。非接触印刷プロセスを用いて製造された太陽電池は、改善された寿命を示すと認めることができる。同じ所見は、陽極酸化アルミニウムチャックによる接触印刷方式を使用した場合について、認めることができる。同様に、同じ所見は、新しいアクリルチャックによる接触印刷方式を使用した場合について、認めることができる。古いアクリルチャックによる接触印刷方式を使用した場合については、注目すべき寿命劣化が存在する。５未満のモース硬度を有するチャックは、簡単に劣化するものと、発明者は仮定する。この場合、連続した使用の間に、古いアクリルチャックの面は、より粗く及びより平坦ではなくなる。上述のように、粗い又は平坦でないチャックは、太陽電池のテクスチャ領域に損傷を与える可能性があり、デバイスの故障をもたらす。この試験では、古いアクリルチャックは、およそ５０，０００回を超えて使用されたものである。したがって、本結果は発明者の仮説を確認するものである。この場合、接触型プロセス又は転写の間に、チャックなどの受け媒体を用いることは、太陽電池のテクスチャ領域を劣化させる可能性があるので、より高い太陽電池寿命をもたらし、したがって、光起電性能を劣化させる恐れがある。
【００３２】
図１１は、上記で提案した異なる解決策を用いて製造されたいくつかの太陽電池を比較する、正規化された太陽電池効率の試験結果を例示する。試験結果は、非接触印刷、陽極酸化アルミニウムチャックを用いた接触印刷、新しいアクリルチャックを用いた接触印刷、及び、古いアクリルチャックを用いた接触印刷、を用いて製造された太陽電池に関する、正規化された太陽電池効率の試験結果を含む。上述のように、インクジェット式印刷は、非接触印刷用に使用され、スクリーン印刷は接触印刷用に使用された。太陽電池効率の試験結果は正規化されているので、より高いか、又は、はるかに１に近い結果は、改善された太陽電池性能を意味する。このデータは、陽極酸化アルミニウム及び新しいアクリルチャックを使用する接触印刷プロセスは、非接触印刷プロセスに匹敵し、改善された太陽電池の効率性が認められることを示す。５未満のモース硬度を有するチャックは、簡単に劣化するものと、発明者は仮定する。ここで、連続した使用とともに、古いアクリルチャックの面は、より粗く及びより平坦ではなくなる。この試験では、古いアクリルチャックは、およそ５０，０００回を超えて使用されたものである。したがって、本結果は発明者の仮説を確認するものである。この場合、接触型プロセス又は転写の間に、古いアクリルチャックなどの粗いか又は平坦でない受け媒体を用いることは、太陽電池のテクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を劣化させる可能性があるので、より低い太陽電池効率をもたらし、したがって、光起電性能を劣化させる恐れがある。発明者はまた、ガラス及び強化ガラスベースのチャックに関する同様な結果を見い出した。この場合、ガラスベースのチャックは、反復する使用に対して、陽極酸化アルミニウムと同様に、更に堅牢である。しかも、透明であるという特性を有し、透明なチャックは、マシンビジョン検査の用途に使用することができる。
【００３３】
図１２を参照すると、太陽電池の上に第１のエッチレジストを形成する方法の、実施形態のフローチャートが、示されている。上述のように、第１の動作３０１は、正常運転の間に太陽に面する前面、前面の反対側に裏面、太陽電池の前面に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を有する太陽電池を準備する工程を含むことができる。第２の動作３０２は、太陽電池の前面に第１の保護層を形成する工程を含むことができる。第３の動作３０３は、太陽電池の前面を受け媒体の上面に位置付けて、受け媒体上に太陽電池を載置する工程を含むことができる。第４の動作は、接触印刷方式を用いて、太陽電池の裏面に第１のエッチレジストを堆積させる工程を含むことができる。この場合、第１の保護層は、印刷プロセスの間、太陽電池前面のテクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。第５の動作３０５は、受け媒体から太陽電池を取り除く工程を含むことができる。最後の動作は、第１のエッチレジストを硬化させる工程を含むことができる。一実施形態では、第１のエッチレジストは、めっきレジストである。別の実施形態では、第１のエッチレジストを堆積させる工程は、第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む。更に別の実施形態では、第１のエッチレジストを硬化させる工程は、熱硬化及び光硬化から成るグループから選択される方法を実行する工程を含む。更に別の実施形態では、第１の保護層を形成する工程は、第１のエッチレジストを形成する前に、太陽電池の前面に第２のエッチレジストを堆積させる工程、及び、第２のエッチレジストを硬化して太陽電池の前面に第１の保護層を形成する工程を更に含む。別の実施形態では、第１の保護層を形成する工程は、太陽電池の前面上に１００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する窒化ケイ素（ＳｉＮ）を堆積させる工程を含む。更に別の実施形態では、太陽電池上に第１のエッチレジストを形成する方法は、任意の適用可能な太陽電池製作の印刷、マスキング又は適用可能なプロセスに使用される。これらのプロセスは、その後、本明細書に明確に述べるように、太陽電池に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を提供する。
【００３４】
図１３は、太陽電池上に第１のエッチレジストを形成する別の方法のフローチャートを例示する。上述のように、第１の動作３１１は、正常運転の間に太陽に面する前面、及び前面の反対側に裏面、太陽電池の前面に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を有する太陽電池を準備する工程を含んでいる。第２の動作３１２は、太陽電池の前面を受け媒体の上面に位置付けて、受け媒体上に太陽電池を載置する工程を含むことができる。第３の動作３１３は、接触印刷方式を用いて、太陽電池の裏面に第１のエッチレジストを堆積させる工程を含むことができる。この場合、受け媒体の上面は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。第４の動作３１４は、受け媒体から太陽電池を取り除く工程を含むことができ、最後の動作３１５は、第１のエッチレジストを硬化させる工程を含むことができる。一実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する。別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１７〜１×１０１９ｃｍ−３の範囲のドーピング濃度を有する。更に別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、シリコン基板の中へ１マイクロメートル未満で伸展する。更に別の実施形態では、受け媒体は、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料で構成される。一実施形態では、１〜５０，０００回の間で使用した後の印刷中に、受け媒体の上面は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。別の実施形態では、受け媒体の上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後、一定の平坦度を維持する。更に別の実施形態では、受け媒体は、アクリル、アルミニウム、陽極酸化アルミニウム、硬質の陽極酸化アルミニウム、ガラス及び強化ガラスから成る群から選択される材料で構成される。更に別の実施形態では、第１のエッチレジストを堆積させる工程は、第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む。別の実施形態では、太陽電池上に第１のエッチレジストを形成する方法は、任意の適用可能な太陽電池製作の印刷、マスキング又は適用可能なプロセスに使用される。これらは、その後、本明細書に明確に述べるように、太陽電池に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を提供する。
【００３５】
図１４を参照すると、第１の位置から第２の位置へ太陽電池を転写するフローチャートが示されている。上述のように、第１の動作３２１は、正常運転の間に太陽に面する前面、前面の反対側に裏面、太陽電池の前面に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を有する太陽電池を準備する工程を含むことができる。第２の動作３２２は、太陽電池の前面に第１の保護層を堆積させることを含むことができる。この場合、第１の保護層は、ピックアンドプレイス動作の間、太陽電池前面の、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。第３の動作３２３は、接触転写ツールを用いて、第１の受け媒体上の第１の位置から太陽電池をピックする工程を含むことができる。この場合、接触転写ツールの下面は、太陽電池の前面と接触する。最後の動作３２４は、接触転写ツールを用いて、第２の受け媒体の第２の位置上に太陽電池を載置する工程を含むことができる。一実施形態では、第１の保護層を形成する工程は、太陽電池の前面に第２のエッチレジストを堆積させる工程、及び、第２のエッチレジストを硬化して太陽電池の前面に第１の保護層を形成する工程を含む。別の実施形態では、第２のエッチレジストは、通常、太陽電池の製作で使用される任意のエッチレジストである。更に別の実施形態では、第２のエッチレジストを堆積させる工程は、第２のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む。更に別の実施形態では、第２のエッチレジストを硬化させる工程は、第２のエッチレジストを光硬化させる工程を含む。別の実施形態では、第１の保護層を形成する工程は、太陽電池の前面に第１の誘電体層を形成する工程を含む。更に別の実施形態では、第１の誘電体層を形成する工程は、太陽電池の製造で通常用いられる反射防止層を堆積させる工程を含む。更に別の実施形態では、第１の誘電体層を形成する工程は、太陽電池の前面上に窒化ケイ素（ＳｉＮ）を堆積させる工程を含む。一実施形態では、第１の誘電体層を形成する工程は、１００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する窒化ケイ素（ＳｉＮ）を堆積させる工程を含む。別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する。更に別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１７〜１×１０１９ｃｍ−３の範囲のドーピング濃度を有する。更に別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、シリコン基板の中へ１マイクロメートル未満で伸展する。一実施形態では、第１及び第２の受け媒体は、チャック、パレット、ジグ、移動ビーム、取付台及びコンベヤから成る群から選択される受け媒体を含む。別の実施形態では、太陽電池を第１の位置から第２の位置へ転写する方法は、任意の適用可能な太陽電池製作、運搬、又は転写プロセスに使用される。これらは、その後、本明細書に明確に述べるように、太陽電池に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を提供する。
【００３６】
図１５は、第１の位置から第２の位置へ太陽電池を転写する別の方法のフローチャートを例示する。上述のように、第１の動作３３１は、正常運転の間に太陽に面する前面、前面の反対側に裏面、太陽電池の前面に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を有する太陽電池を準備する工程を含むことができる。第２の動作３３２は、接触転写ツールを用いて、第１の受け媒体上の第１の位置から太陽電池をピックする工程を含むことができる。この場合、接触転写ツールの下面は、太陽電池の前面と接触する。最後の動作３１３は、接触転写ツールを用いて、第２の受け媒体の第２の位置上に太陽電池を載置する工程を含むことができる。この場合、接触転写ツールの下面は、太陽電池の前面と接触する。この場合、接触転写ツールの下面は、ピックアンドプレイス動作の間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。一実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する。別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１７〜１×１０１９ｃｍ−３の範囲のドーピング濃度を有する。更に別の実施形態では、低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１７〜１×１０１９ｃｍ−３の範囲のドーピング濃度を有する。更に別の実施形態では、受け媒体は、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料で構成される。一実施形態では、１〜５０，０００回の間で使用した後の印刷中に、受け媒体の上面は、テクスチャ領域への損傷を防止する。別の実施形態では、受け媒体の上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後、一定の平坦度を維持する。更に別の実施形態では、受け媒体は、アクリル、アルミニウム、陽極酸化アルミニウム、硬質の陽極酸化アルミニウム、ガラス及び強化ガラスから成る群から選択される材料で構成される。更に別の実施形態では、受け媒体は、チャック、パレット、ジグ、移動ビーム、取付台及びコンベヤから成る群から選択される受け媒体を含む。一実施形態では、太陽電池を第１の位置から第２の位置へ転写する方法は、任意の適用可能な太陽電池製作、運搬、又は転写プロセスに使用される。これらは、その後、本明細書に明確に述べるように、太陽電池に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を提供する。
【００３７】
図１６を参照すると、太陽電池を製造する方法に関するフローチャートが示されている。上述のように、第１の動作３４１は、正常運転の間に太陽に面する前面、及び前面の反対側に裏面を有する太陽電池を準備する工程を含むことができる。第２の動作３４２は、太陽電池のシリコン基板上にドープ領域を形成する工程を含むことができる。第３の動作３４３は、シリコン基板上のテクスチャ領域をエッチングする工程を含むことができる。第４の動作は、シリコン基板上に低濃度ドープ拡散領域を形成する工程を含むことができる。ここで、低濃度ドープ拡散領域が、シリコン基板上のテクスチャ領域と同じ面上に形成される。第５の動作３４５は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域の上に第１の保護層を形成する工程を含む。この場合、第１の保護層は、製造の間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。第６の動作３４６は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域及びドープ領域の上に誘電体層を堆積させる工程を含む。第７の動作は、誘電体層を通して複数のコンタクト開口を形成する工程を含むことができる。最後の動作３１８は、第１の金属グリッド及び第２の金属グリッドを形成する工程を含む。この第１の金属グリッドは、コンタクト開口を通してドープ領域に電気的に接続し、そして、第２の金属グリッドは、第１の金属グリッドに電気的に接続されている。一実施形態では、第１の保護層を形成する工程は、第１のエッチレジストを形成する前に、太陽電池の前面に第２のエッチレジストを堆積させる工程、及び、第２のエッチレジストを硬化して太陽電池の前面に第１の保護層を形成する工程を更に含む。一実施形態では、第２のエッチレジストは、通常、太陽電池の製造又は製作で使用される任意の標準的なエッチレジストである。
【００３８】
図１７は、太陽電池を製造する別の方法に関するフローチャートを例示する。上述のように、第１の動作３５１は、正常運転の間に太陽に面する前面、及び前面の反対側に裏面を有する太陽電池を準備する工程を含むことができる。第２の動作３５２は、太陽電池のシリコン基板上にドープ領域を形成する工程を含むことができる。第３の動作３５３は、シリコン基板上のテクスチャ領域をエッチングする工程を含むことができる。第４の動作３５４は、シリコン基板上に低濃度ドープ拡散領域を形成する工程を含むことができる。ここで、低濃度ドープ拡散領域が、シリコン基板上のテクスチャ化された領域と同じ面上に形成される。第５の動作３５５は、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域の上に第１の誘電体層を堆積させる工程を含むことができる。この場合、第１の誘電体層は、製造の間、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する。第６の動作３５６は、ドープ領域の上に、第２の誘電体層を堆積させる工程を含むことができる。第７の動作３５７は、第２の誘電体層を通して、複数のコンタクト開口を形成する工程を含むことができる。最後の動作３５８は、第１の金属グリッド及び第２の金属グリッドを形成する工程を含むことができる。この第１の金属グリッドは、コンタクト開口を通してドープ領域に電気的に接続し、そして、第２の金属グリッドは、第１の金属グリッドに電気的に接続されている。更に別の実施形態では、第１の誘電体層を形成する工程は、太陽電池の前面上に、１００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する窒化ケイ素（ＳｉＮ）を堆積させる工程を含む。
【００３９】
少なくとも１つの例示的実施形態が、上述の発明を実施するための形態で提示されてきたが、莫大な数の変更が存在することを認識するべきである。本明細書に記載する例示的な一実施形態または複数の実施形態は、特許請求の範囲に記載される主題の範囲、適用性、又は構成を限定することを全く意図するものではないこともまた、認識するべきである。むしろ、上述の発明を実施するための形態は、当業者に、説明される一実施形態または複数の実施形態を実践するための簡便な指針を提供するものである。本特許出願が出願される時点での、周知の均等物、及び予見可能な均等物を含む、特許請求の範囲によって規定される範囲から逸脱することなく、諸要素の機能及び配置に、様々な変更が実施可能であることを理解するべきである。
【図１】
2016512396.tif 000003
【図２】
2016512396.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【手続補正書】
【提出日】平成27年10月7日(2015.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽電池の上に第１のエッチレジストを形成する方法であって、前記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、前記前面の反対側に裏面とを有し、前記方法は、
前記太陽電池の前記前面を、受け媒体の上面に位置付けて、前記受け媒体上に前記太陽電池を載置する工程であって、前記太陽電池は、前記前面側に、テクスチャ領域と低濃度ドープ拡散領域とを含む、前記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、前記太陽電池の前記裏面に前記第１のエッチレジストを堆積させる工程であって、前記受け媒体の前記上面は、前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、前記第１のエッチレジストを堆積させる工程と、
前記受け媒体から前記太陽電池を取り除く工程と、
前記第１のエッチレジストを硬化させる工程と、を含む、方法。
【請求項２】
太陽電池の上にめっきレジストを形成する方法であって、前記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、前記前面の反対側に裏面とを有し、前記方法は、
前記太陽電池の前記前面を、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料を備える受け媒体の上面に位置付けて、前記受け媒体上に前記太陽電池を載置する工程であって、前記太陽電池は、テクスチャ領域と、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する低濃度ドープ拡散領域を含む、前記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、前記太陽電池の前記裏面に前記めっきレジストを堆積させる工程であって、前記受け媒体の前記上面は、前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、前記めっきレジストを堆積させる工程と、
前記受け媒体から前記太陽電池を取り除く工程と、
前記めっきレジストを光硬化させる工程と、を含む、方法。
【請求項３】
太陽電池の上に第１のエッチレジストを形成する方法であって、前記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、前記前面の反対側に裏面とを有し、前記方法は、
前記太陽電池の前記前面に第１の保護層を形成する工程であって、前記太陽電池は、前記前面に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を含み、第１の保護層を形成する工程と、
前記太陽電池の前記前面を受け媒体の上面に位置付けて、前記受け媒体上に前記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、前記太陽電池の前記裏面に前記第１のエッチレジストを堆積させる工程であって、前記第１の保護層は、印刷プロセスの間、前記太陽電池の前記前面の前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、前記第１のエッチレジストを堆積させる工程と、
前記受け媒体から前記太陽電池を取り除く工程と、
前記第１のエッチレジストを硬化させる工程と、を含む、方法。
【請求項４】
前記低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１７〜１×１０１９ｃｍ−３の範囲のドーピング濃度を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記低濃度ドープ拡散領域は、前記太陽電池のシリコン基板の中へ１マイクロメートル未満で伸展する、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記受け媒体は、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料で構成される、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記受け媒体の前記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後の印刷中に、前記テクスチャ領域及び前記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記受け媒体の前記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後、一定の平坦度を保持する、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記受け媒体は、アクリル、アルミニウム、アルマイト、硬質のアルマイト、ガラス及び強化ガラスから成る群から選択される材料で構成される、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
少なくとも１つの例示的実施形態が、上述の発明を実施するための形態で提示されてきたが、莫大な数の変更が存在することを認識するべきである。本明細書に記載する例示的な一実施形態または複数の実施形態は、特許請求の範囲に記載される主題の範囲、適用性、又は構成を限定することを全く意図するものではないこともまた、認識するべきである。むしろ、上述の発明を実施するための形態は、当業者に、説明される一実施形態または複数の実施形態を実践するための簡便な指針を提供するものである。本特許出願が出願される時点での、周知の均等物、及び予見可能な均等物を含む、特許請求の範囲によって規定される範囲から逸脱することなく、諸要素の機能及び配置に、様々な変更が実施可能であることを理解するべきである。
［項目１］
太陽電池の上に第１のエッチレジストを形成する方法であって、上記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、上記前面の反対側に裏面とを有し、上記方法は、
上記太陽電池の上記前面を、受け媒体の上面に位置付けて、上記受け媒体上に上記太陽電池を載置する工程であって、上記太陽電池は、上記前面に、テクスチャ領域と低濃度ドープ拡散領域とを含む、上記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、上記太陽電池の上記裏面に上記第１のエッチレジストを堆積させる工程であって、上記受け媒体の上記上面は、上記テクスチャ領域及び上記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、上記第１のエッチレジストを堆積させる工程と、
上記受け媒体から上記太陽電池を取り除く工程と、
上記第１のエッチレジストを硬化させる工程と、を含む、方法。
［項目２］
上記低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する、項目１に記載の方法。
［項目３］
上記低濃度ドープ拡散領域は、１×１０１７〜１０１９ｃｍ−３の範囲のドーピング濃度を有する、項目１に記載の方法。
［項目４］
上記低濃度ドープ拡散領域は、上記シリコン基板の中へ１マイクロメートル未満で伸展する、項目１に記載の方法。
［項目５］
上記受け媒体は、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料で構成される、項目１に記載の方法。
［項目６］
上記受け媒体の上記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後の印刷中に、上記テクスチャ領域及び上記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、項目１に記載の方法。
［項目７］
上記受け媒体の上記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後、一定の平坦度を維持する、項目１に記載の方法。
［項目８］
上記受け媒体は、アクリル、アルミニウム、陽極酸化アルミニウム、硬質の陽極酸化アルミニウム、ガラス及び強化ガラスから成る群から選択される材料で構成される、項目１に記載の方法。
［項目９］
上記第１のエッチレジストを堆積させる工程は、上記第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む、項目１に記載の方法。
［項目１０］
太陽電池の上にめっきレジストを形成する方法であって、上記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、上記前面の反対側に裏面とを有し、上記方法は、
上記太陽電池の上記前面を、５〜１０の範囲のモース硬度を有する材料を備える受け媒体の上面に位置付けて、上記受け媒体上に上記太陽電池を載置する工程であって、上記太陽電池は、上記前面に、テクスチャ領域と、１×１０１９ｃｍ−３未満のドーピング濃度を有する低濃度ドープ拡散領域を含む、上記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、上記太陽電池の上記裏面に上記めっきレジストを堆積させる工程であって、上記受け媒体の上記上面は、上記テクスチャ領域及び上記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、上記めっきレジストを堆積させる工程と、
上記受け媒体から上記太陽電池を取り除く工程と、
上記めっきレジストを光硬化させる工程と、を含む、方法。
［項目１１］
上記受け媒体は、アクリル、アルミニウム、陽極酸化アルミニウム、硬質の陽極酸化アルミニウム、ガラス及び強化ガラスから成る群から選択される材料で構成される、項目１０に記載の方法。
［項目１２］
上記第１のエッチレジストを堆積させる工程は、上記第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む、項目１０に記載の方法。
［項目１３］
上記受け媒体の上記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後の印刷中に、上記テクスチャ領域及び上記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、項目１０に記載の方法。
［項目１４］
上記受け媒体の上記上面は、１〜５０，０００回の間で使用した後、一定の平坦度を維持する、項目１０に記載の方法。
［項目１５］
太陽電池の上に第１のエッチレジストを形成する方法であって、上記太陽電池は、正常運転の間に太陽に面する前面と、上記前面の反対側に裏面とを有し、上記方法は、
上記太陽電池の上記前面に第１の保護層を形成する工程であって、上記太陽電池は、上記前面に、テクスチャ領域及び低濃度ドープ拡散領域を含み、第１の保護層を形成する工程と、
上記太陽電池の上記前面を受け媒体の上面に位置付けて、上記受け媒体上に上記太陽電池を載置する工程と、
接触印刷方式を用いて、上記太陽電池の上記裏面に上記第１のエッチレジストを堆積させる工程であって、上記第１の保護層は、上記印刷プロセスの間、上記太陽電池の上記前面上の、上記テクスチャ領域及び上記低濃度ドープ拡散領域への損傷を防止する、上記第１のエッチレジストを堆積させる工程と、
上記受け媒体から上記太陽電池を取り除く工程と、
上記第１のエッチレジストを硬化させる工程と、を含む、方法。
［項目１６］
上記第１のエッチレジストはめっきレジストである、項目１５に記載の方法。
［項目１７］
上記第１のエッチレジストを堆積させる工程は、上記第１のエッチレジストをスクリーン印刷する工程を含む、項目１５に記載の方法。
［項目１８］
上記第１のエッチレジストを硬化させる工程は、熱硬化及び光硬化から成る群から選択される方法を実行する工程を含む、項目１５に記載の方法。
［項目１９］
上記第１の保護層を形成する工程は、
第１のエッチレジストを形成する前に、上記太陽電池の上記前面に第２のエッチレジストを堆積させる工程と、
上記第２のエッチレジストを硬化して上記太陽電池の上記前面に第１の保護層を形成する工程と、を含む、項目１に記載の方法。
［項目２０］
上記第１の保護層を形成する工程は、上記太陽電池の上記前面上に１００〜３０００オングストロームの範囲の厚さを有する窒化ケイ素（ＳｉＮ）を堆積させる工程を含む、項目１５に記載の方法。
【国際調査報告】
2016512396.tif 000020
2016512396.tif 000021