(57)【要約】  シロキサン化合物および光酸発生剤を含む低屈折層コーティング用組成物を提供する。また、前記低屈折層コーティング用組成物を用いて形成された低屈折層を含む透明導電性フィルムを提供する。
2016504426.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シロキサン化合物および光酸発生剤を含む
低屈折層コーティング用組成物。
【請求項２】
前記シロキサン化合物は、式１から形成されたシロキサン重合体を含む請求項１に記載の
低屈折層コーティング用組成物。
［式１］
（Ｒ１）ｎ−Ｓｉ−（Ｏ−Ｒ２）４−ｎ
前記Ｒ１は、炭素数１〜１８のアルキル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基またはアクリル基、前記Ｒ２は、炭素数１〜６を有するアルキル基またはアセトキシ基で、前記ｎは０＜ｎ＜４の整数である。
【請求項３】
前記シロキサン重合体の分子量は、５００〜５０，０００である請求項２に記載の
低屈折層コーティング用組成物。
【請求項４】
前記シロキサン化合物は、総１００重量％に対して５重量％〜１００重量％を含む請求項１に記載の
低屈折層コーティング用組成物。
【請求項５】
前記シロキサン化合物は、ゾル―ゲル反応で形成された請求項１に記載の
低屈折層コーティング用組成物。
【請求項６】
前記光酸発生剤は、３００ｎｍ〜４００ｎｍ波長のＵＶ光照射に活性がある請求項１に記載の
低屈折層コーティング用組成物。
【請求項７】
前記光酸発生剤は、イオン性光酸発生剤、非イオン性光酸発生剤および高分子系光酸発生剤から選ばれたいずれかである請求項１に記載の
低屈折層コーティング用組成物。
【請求項８】
前記光酸発生剤は、総１００重量％に対して１重量％〜３０重量％を含む請求項１に記載の
低屈折層コーティング用組成物。
【請求項９】
請求項１に記載の低屈折層コーティング用組成物を用いて形成された低屈折層を含む
透明導電性フィルム。
【請求項１０】
前記透明導電性フィルムは、透明基材、前記高屈折層、低屈折層および導電層の積層構造である請求項９に記載の
透明導電性フィルム。
【請求項１１】
前記低屈折層の屈折率は、１．４〜１．５である請求項９に記載の
透明導電性フィルム。
【請求項１２】
前記低屈折層の厚さは、５ｎｍ〜１００ｎｍである請求項９に記載の
透明導電性フィルム。
【請求項１３】
前記高屈折層の厚さは、２０ｎｍ〜１５０ｎｍである請求項１０に記載の
透明導電性フィルム。
【請求項１４】
前記透明基材は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリビニルクロライド（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）およびこれらの組合せからなる群から選ばれたいずれかを含む単一または積層フィルムである請求項１０に記載の
透明伝導性フィルム。
【請求項１５】
前記導電層は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）またはＦＴＯ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ―ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を含む請求項１０に記載の
透明伝導性フィルム。
【請求項１６】
前記透明基材の一面または両面にハードコーティング層をさらに含む請求項１０に記載の
透明伝導性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
低屈折層コーティング用組成物およびそれを含む透明導電性フィルムを提供する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルには、位置検出の方法によって、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式等がある。抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電性フィルムと透明導電体層が付着したガラスがスペーサーを介して対向配置されており、透明導電性フィルムに電流を流して透明導電体層が付着したガラスにおける電圧を計測する構造になっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、基材上に透明導電層を有することを基本的構成とし、稼動部分がないことが特徴であり、高耐久性、高透過率を有するため、車載用途等に適用されている。
【０００３】
前記タッチパネルが適用される静電容量方式の透明導電性フィルムは導電層を含み、前記導電層はパターニング工程を経る。通常の場合、減光剤を透明導電層上部にコーティングし、現像工程を経て導電層をエッチングしてパターニングを行う方式が主に用いられているが、パターニング工程中の生産速度および生産効率等の確保のための透明導電性フィルムに関する研究が続けられている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の一具現例は、シロキサン化合物および光酸発生剤を含む低屈折用コーティング用組成物を提供する。
【０００５】
本発明の他の具現例は、前記低屈折用コーティング用組成物で形成された低屈折層を含む透明導電性フィルムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一具現例では、シロキサン化合物および光酸発生剤を含む低屈折層コーティング用組成物を提供する。
【０００７】
前記シロキサン化合物は、式１から形成されたシロキサン重合体を含んでもよい。
［式１］
（Ｒ１）ｎ−Ｓｉ−（Ｏ−Ｒ２）４−ｎ
前記Ｒ１は、炭素数１ないし１８のアルキル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基またはアクリル基、前記Ｒ２は、炭素数１ないし６を有するアルキル基またはアセトキシ基で、前記ｎは０＜ｎ＜４の整数である。
【０００８】
前記シロキサン重合体の分子量は、約５００ないし約５０，０００でもよい。
【０００９】
前記シロキサン化合物は、合計１００重量％に対して、約５重量％ないし約１００重量％を含んでもよい。
【００１０】
前記シロキサン化合物は、ゾル―ゲル反応で形成してもよい。
【００１１】
前記光酸発生剤は、約３００ｎｍないし約４００ｎｍ波長のＵＶ光照射に活性があり得る。
【００１２】
前記光酸発生剤は、イオン性光酸発生剤、非イオン性光酸発生剤および高分子系光酸発生剤から選ばれたいずれかでもよい。
【００１３】
前記光酸発生剤は、合計１００重量％に対して、約１重量％ないし約３０重量％を含んでもよい。
【００１４】
本発明の他の具現例では、前記低屈折層コーティング用組成物を用いて形成された低屈折層を含む透明導電性フィルムを提供する。
【００１５】
前記透明導電性フィルムは、透明基材、前記高屈折層、低屈折層および導電層の積層構造でもよい。
【００１６】
前記低屈折層の屈折率は、約１．４ないし約１．５でもよい。
【００１７】
前記低屈折層の厚さは、約５ｎｍないし約１００ｎｍでもよい。
【００１８】
前記高屈折層の厚さは、約２０ｎｍないし約１５０ｎｍでもよい。
【００１９】
前記透明基材は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリビニルクロライド（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）およびこれらの組合せからなる群から選ばれたいずれかを含む単一または積層フィルムでもよい。
【００２０】
前記導電層は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）またはＦＴＯ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ―ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を含んでもよい。
【００２１】
前記透明基材の一面または両面にハードコーティング層をさらに含んでもよい。
【発明の効果】
【００２２】
前記低屈折層コーティング用組成物を使用することにより、静電容量方式透明導電性フィルムで必須的な工程である透明導電層パターニング工程を効率良く改善することができる。
【００２３】
改善された透明導電層のパターニング工程で簡単且つ短時間で透明導電性フィルムをより効率良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施例にかかる透明伝導性フィルムの断面を概略的に示したものである。
【図２】本発明の他の一実施例にかかる透明伝導性フィルムの断面を概略的に示したものである。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の具現例を詳しく説明する。但し、これは例として提示するものであり、これによって本発明が制限されるのではなく、本発明は後述の請求項の範疇によって定義されるだけである。
【００２６】
本発明を明確に説明するために、説明と関係ない部分は省略し、明細書全体を通じて同一または類似する構成要素については同じ参照符号を付ける。
【００２７】
図面において、複数の層および領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。そして、図面において、説明の便宜のために、一部の層および領域の厚さを誇張して示した。
【００２８】
以下において、基材の「上部（又は下部）」または基材の「上（又は下）」に任意の構成が形成されるとは、任意の構成が前記基材の上面（又は下面）に接して形成されることを意味するだけでなく、前記基材と基材上に（又は下に）形成された任意の構成の間に別の構成を含まないことに限定するのではない。
【００２９】
低屈折層コーティング用組成物
【００３０】
本発明の一具現例において、シロキサン化合物および光酸発生剤を含む低屈折層コーティング用組成物を提供する。
【００３１】
静電容量方式の透明導電性フィルムをタッチパネルに適用する際、導電層はパターニング工程を経る。通常の場合、前記透明導電層のパターニング工程において、減光剤を透明導電層上部にコーティングし、現象工程を経て透明導電層をエッチングして行う方式が主に用いられていたが、これは工程数が多く、工程数が多いことによって生産速度が遅くなりパターニングされた透明導電層を効率良く製造するには困難があった。
【００３２】
そこで、透明導電性フィルムが含む低屈折層を、シロキサン化合物および光酸発生剤を含む低屈折層コーティング用組成物を使用して製造することにより、光酸発生剤にＵＶ照射した時に酸が発生し、発生した酸が前記低屈折層上部に蒸着される導電層に影響を及ぼすため前記導電層のエッチング時に導電層のパターニング工程を効率良く改善できるようになる。また、改善された導電層のパターニング工程により比較的短い時間内に透明導電性フィルムをより経済的に製造することができる。
【００３３】
前記シロキサン化合物は、式１から形成されたシロキサン重合体を含んでもよい。前記式１は、（Ｒ１）ｎ−Ｓｉ−（Ｏ−Ｒ２）４−ｎで、前記Ｒ１は炭素数１ないし１８を有するアルキル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基またはアクリル基、前記Ｒ２は炭素数１ないし６を有するアルキル基またはアセトキシ基で、前記ｎは０＜ｎ＜４の整数である。
【００３４】
前記シロキサン重合体の分子量は、約５００ないし約５０，０００でもよい。前記分子量は、重量平均分子量であり、分子量分布がある高分子化合物の分子量を重量分率で平均して得られる平均分子量を指す。前記シロキサン重合体は、式１から形成されるものであり、前記シロキサン重合体が前記分子量の範囲を保つことにより、低屈折層コーティング用組成物のコーティング時に優れたコーティング性を有し、硬化時に前記組成物の硬化密度増大の効果を容易に具現することができる。
【００３５】
前記シロキサン化合物は、式１から形成されたシロキサン重合体を指すが、前記式１は、テトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、テトラメトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣＨ３）４）、トリエトキシ（エチル）シラン（Ｃ２Ｈ５Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３）、トリメトキシ（メチル）シラン（ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、トリアセトキシ（メチル）シラン（ＣＨ３ＣＯ２）３ＳｉＣＨ３）、トリアセトキシ（ビニル）シラン（ＣＨ３ＣＯ２）３ＳｉＣＨ＝ＣＨ２）、トリス（２―メトキシエトキシ）（ビニル）シラン（ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＣＨ＝ＣＨ２）、トリメトキシ（オクチル）シラン（ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３）、トリメトキシ［２―（７―オキサビシクロ［４．１．０］ヘプト（ｈｅｐｔ）―３―イル）エチル］シラン（Ｃ１１Ｈ２２Ｏ４Ｓｉ）、トリメトキシ（プロピル）シラン（ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、トリメトキシ（オキシル）シラン（ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、トリメトキシ（オクタデシル）シラン（ＣＨ３（ＣＨ２）１７Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、イソブチル（トリメトキシ）シラン（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、トリエトキシ（イソブチル）シラン（（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３）、トリメトキシ（７―オクテン―１―イル）シラン（Ｈ２Ｃ＝ＣＨ（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、トリメトキシ（２―フェニルエチル）シラン（Ｃ６Ｈ５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、ジメトキシ―メチル（３，３，３―トリフルオロプロピル）シラン（Ｃ６Ｈ１３Ｆ３Ｏ２Ｓｉ）、ジメトキシ（ジメチル）シラン（Ｃ２Ｈ６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ６）２）、トリエトキシ（１―フェニルエテニル）シラン（（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣ（ＣＨ２）Ｃ６Ｈ５）、トリエトキシ［４―（トリフルオロメチル）フェニル］シラン（ＣＦ３Ｃ６Ｈ４Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）２）、トリエトキシ（４―メトキシフェニル）シラン（（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣ６Ｈ４ＯＣＨ３）、３―（トリメトキシシリル）プロピルメタアクリレート（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯ２（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、（３―グリシドキシ）メチルジエトキシシラン（Ｃ１１Ｈ２４Ｏ４Ｓｉ）、３―（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネート（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）３ＮＣＯ）、イソブチルトリエトキシシラン（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３）およびこれらの組合せからなる群から選ばれたいずれかでもよい。
【００３６】
具体的には、前記シロキサン化合物は前記式１から形成されたシロキサン重合体を含む化合物で、前記シロキサン重合体の概略的な化学式は―Ｓｉ―Ｏ―Ｓｉ―のシロキサン結合を骨格にするが、例えば、下記［式２］で表すことができる。
【化１】
2016504426.tif 000003
【００３７】
より具体的には、前記シロキサン化合物は総組成物１００重量％に対して約５重量％ないし約１００重量％を含んでもよい。前記シロキサン化合物を総１００重量％に対して前記範囲のシロキサン化合物を含むことにより、低屈折用コーティング用組成物で形成される低屈折層の屈折率を下げることができ、硬化時の反応向上と耐溶剤性および密着性が向上する効果を容易に具現することができる。
【００３８】
前記シロキサン化合物は、公知の方法によって形成でき、製造方法に限定があるのではない。例えば、前記シロキサン化合物はゾル―ゲル反応によって形成することができる。ゾル―ゲル反応は、加水分解または脱水縮合によって得られた数十、数百ｎｍのコロイド粒子が液体中に分散されたゾルの火炎加水分解で得られたシリカ微粒子等を液体に分散させたゾルにおいてコロイド粒子の凝集、凝結によってゾルの流動性が損失され多孔体のゲルを形成する反応を指す。前記シロキサン化合物は、ゾル―ゲル反応で形成でき、例えば、前記式１から形成されたシロキサン重合体を水およびエタノールと混合して反応させシリカゾルを合成し、前記の合成されたゾルに光酸発生剤を混合してゾルを液体状の網状組織に変換させて無機質網状組織のシロキサン化合物を製造できる。
【００３９】
前記光酸発生剤（Ｐｈｏｔｏａｃｉｄ  ｇｅｎｅｒａｔｏｒ：ＰＡＧ）は、ＵＶ光照射によって酸が発生する化合物で、前記光酸発生剤を含む低屈折層コーティング用組成物で低屈折層を形成し、前記低屈折層にＵＶを照射する場合は光酸発生剤によって酸が発生し、発生した酸が低屈折層上部に形成された導電層に影響を及ぼすことにより、導電層のパターニングを効率良く行えるようにできる。
【００４０】
前記光酸発生剤は、約３００ｎｍないし約４００ｎｍ波長のＵＶ光照射に活性され得る。約３００ｎｍないし約４００ｎｍ波長のＵＶ光照射によって光酸発生剤の分解が発生し、これによって酸が発生しながら導電層のエッチング、つまり、導電層のパターニングを有利にすることができる。前記範囲の波長でＵＶ光照射が行われることが最も広範囲に使用される一般的なＵＶ照射装置を活用できるという点で経済的に有利になり得る。
【００４１】
前記光酸発生剤は、イオン性光酸発生剤、非イオン性光酸発生剤および高分子系光酸発生剤から選ばれたいずれかでもよく、前記イオン性光酸発生剤としては、スルホニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物等を使用でき、前記非イオン性光酸発生剤としては、ニトロベンジルスルホネート類化合物、アゾナフトキノン類化合物等を使用できるが、これに制限されるのではない。
【００４２】
具体的には、ＢＡＳＦ社のＩｒｇａｃｕｒｅ  ＰＡＧ  １０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＰＡＧ  １２１、ＣＧＩ  ７２５、ＣＧＩ  １９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ２５０、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＰＡＧ  ２９０、ＧＳＩＤ２６―１およびこれらの組合せからなる群から選ばれた一つ以上の光酸発生剤を使用できる。
【００４３】
より具体的には、前記光酸発生剤は総重量１００％で約１重量％ないし約３０重量％を含んでもよい。前記含有含量の光酸発生剤を含むことにより、導電層へのパターン形成が容易になり得、低屈折コーティング組成物によって形成された低屈折層の物性を低下させないため微細なＵＶパターニングが可能な透明導電性フィルムを提供できる。
【００４４】
透明導電性フィルム
【００４５】
本発明の別の具現例において、シロキサン化合物および光酸発生剤を含む低屈折層コーティング用組成物を用いて形成された低屈折層を含む透明導電性フィルムを提供する。
【００４６】
図１は、本発明の一実施例にかかる透明伝導性フィルムの断面を概略的に示したものである。図１を参照すると、前記透明導電性フィルム１０は、透明基材１、ハードコーティング層２、高屈折層３、低屈折層４および導電層５の積層構造である。
【００４７】
透明基材１は、透明性と強度に優れたフィルムを含んでもよい。具体的には、前記透明基材１は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリビニルクロライド（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）およびこれらの組合せからなる群から選ばれたいずれかを含む単一または積層フィルムの形態でもよい。
【００４８】
前記高屈折層３および低屈折層４は、透明基材１と導電層５間に絶縁特性および透過度を向上させる役割をするが、このとき、低屈折層は前述の低屈折層コーティング用組成物を含んで形成されてもよい。
【００４９】
前記低屈折層４の屈折率は、約１．４ないし約１．５でもよい。前記低屈折層の形成にシロキサン化合物および光酸発生剤を含む低屈折層コーティング用組成物を用いた結果、屈折率が約１．４ないし約１．５に調節でき、透明伝導性フィルムの全体的な視認性および全光性透過率が向上し得る。
【００５０】
前記低屈折層４の厚さは、約５ｎｍないし約１００ｎｍでもよい。前記低屈折層の厚さが前記範囲を保つことにより、透過率およびパターン視認性が改善でき、高屈折層等との適切な応力が保たれて密着性が確保され、クラックおよびカールの発生が低下し得る。
【００５１】
前記高屈折層３の厚さは、約２０ｎｍないし約１５０ｎｍでもよい。前記高屈折層３の厚さを保つことにより、厚さが非常に薄く形成されるため透過率および視認性の向上効果が不十分になるおそれを避けることができ、応力によるクラック（Ｃｒａｃｋ）およびカール（Ｃｕｒｌ）の発生を低下させることができる。
【００５２】
前記導電層５は、前記低屈折層４上部に形成されるものであり、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）またはＦＴＯ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ―ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を含んでもよい。具体的には、前記導電層５の厚さは約５ｎｍないし約５０ｎｍでもよいため、前記導電層の厚さを前記範囲に保つことにより、低い面抵抗を有することができ、高い透過率および低い反射率等の優れた光学特性を確保することができる。
【００５３】
図２は、本発明の他の一実施例にかかる透明伝導性フィルムの断面を概略的に示したものであり、図２では透明基材１の下部にハードコーティング層２がさらに形成されている。ハードコーティング層２は、表面硬度を向上させる役割をし、アクリル系化合物等ハードコーティング形成のために用いられるものであれば制限なく利用できる。
【００５４】
前記ハードコーティング層２は、図１でのように透明基材１の一面だけに形成されてもよく、図２でのように透明基材１の両面に形成されてもよい。
【００５５】
以下では、本発明の具体的な実施例を提示する。但し、下記の実施例は、本発明を具体的に例示したり説明するためのものに過ぎなく、これにより本発明が制限されるのではない。
【００５６】
＜製造例＞
【００５７】
製造例１―低屈折層コーティング用組成物
【００５８】
テトラエトキシシラン（テトラ―エトキシオルソシリケート，ＴＥＯＳ）を、水、エタノールと１：２：２で混合し、硝酸０．１ｍｏｌ溶液を投入して２４時間反応させ屈折率１．４３を有するシリカゾルを合成した。前記の合成されたシリカゾルの固形分を測定し、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）で希釈して、全体固形分１０％のシロキサン化合物を製造した。
【００５９】
前記の製造されたシロキサン化合物に下記表１のような光酸発生剤を混合し、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）で希釈して全体固形分５％の低屈折層コーティング用組成物を製造した。
【００６０】
【表１】
2016504426.tif 000004
【００６１】
製造例２―ハードコーティング層コーティング用組成物
【００６２】
総固形分１００重量部に対して、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ２０重量部、紫外線硬化型アクリレート（商品名  ＨＸ―９２０ＵＶ，Ｋｙｏｅｉｓｈａ）６０重量部、シリカ微粒子１５重量部（商品名  ＸＢＡ―ＳＴ，イルサン化学）、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ―１８４  ５重量部（Ｃｉｂａ社）を混合し、希釈溶剤メチルエチルケトン（ＭＥＫ）で希釈して固形分４５％のハードコーティング層組成物（屈折率１．５２）を製造した。
【００６３】
製造例３―高屈折層コーティング用組成物
【００６４】
総固形分１００重量部に対して、紫外線硬化型アクリレート（商品名  ＨＸ―９２０ＵＶ，Ｋｙｏｅｉｓｈａ）３６重量部、高屈折ナノ粒子６０重量部（ＺｒＯ２  ナノ粒子）、光重合開始剤４重量部（商品名  Ｉｒｇａｃｕｒｅ―１８４，ＢＡＳＦ）を混合し、希釈溶剤メチルエチルケトン（ＭＥＫ）で希釈して固形分５％の高屈折層コーティング用組成物（屈折率１．６４）を製造した。
【００６５】
＜実施例および比較例＞
【００６６】
実施例１
【００６７】
製造例２のハードコーティング層組成物を、メイヤーバーを用いて１２５μｍのＰＥＴフィルム上に乾燥膜の厚さが１．５μｍになるように塗布し、１８０Ｗの高圧水銀等で３００ｍＪの紫外線を照射して硬化させてハードコーティングフィルムを作製した。前記で製作したフィルムの反対面に同様の方法で製造例２のハードコーティング層組成物を乾燥膜の厚さが１．５μｍになるように塗布し、硬化させて両面にハードコーティング層を含むフィルムを作製した。
【００６８】
その後、両面にハードコーティング層を含むフィルムの一面に製造例３で製造された高屈折層コーティング用組成物を用いて乾燥膜の厚さが５０ｎｍになるように塗布し、１８０Ｗの高圧水銀等で３００ｍＪの紫外線を照射して硬化させて高屈折層を形成した。
【００６９】
その後、前記高屈折層に製造例１―１で製造された低屈折層コーティング用組成物を用いて乾燥膜の厚さが２０ｎｍになるように塗布し、１５０℃のオーブンで１分間硬化させ低屈折層を形成した。このとき、インジウム：スズ＝９５：５のＩＴＯターゲットを用いて低屈折層に膜厚２０ｎｍのＩＴＯ層を形成して透明導電性フィルムを作製した。
【００７０】
実施例２
【００７１】
低屈折層コーティング用組成物を、製造例１―２を適用し、低屈折層の厚さを４０ｎｍでコーティングしたこと以外は、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。
【００７２】
実施例３
【００７３】
低屈折層コーティング用組成物を、製造例１―３を適用し、低屈折層の厚さを５０ｎｍでコーティングしたこと以外は、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。
【００７４】
実施例４
【００７５】
低屈折層コーティング用組成物を、製造例１―４を適用し、低屈折層の厚さを６０ｎｍでコーティングしたこと以外は、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。
【００７６】
実施例５
【００７７】
低屈折層コーティング用組成物を、製造例１―５を適用し、低屈折層の厚さを８０ｎｍでコーティングしたこと以外は、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。
【００７８】
比較例
【００７９】
低屈折層コーティング用組成物を、製造例１―６を適用し、低屈折層の厚さを１００ｎｍでコーティングしたこと以外は、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。
【００８０】
＜実験例＞透明導電性フィルムの物理的特性
【００８１】
前記実施例および比較例の透明導電性フィルムを用いて下記物性を測定し、その結果を下記表２に記載した。
【００８２】
１）透明導電性フィルムのパターニング評価：クロム（Ｃｒ）蒸着されたガラス（ｇｌａｓｓ）に５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさの正方形パターンが描かれているフォト―マスク（ｐｈｏｔｏ―ｍａｓｋ）を前記の実施例および比較例で作製した透明導電性フィルム上に１００μｍの距離に近接させた後、３６５ｎｍの波長を有する高圧水銀ランプを使用して１,０００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶエネルギーを照射した。その後、フォト―マスク（ｐｈｏｔｏ―ｍａｓｋ）を取り除き、透明導電性フィルム導電層を蒸留水で洗うことにより、パターンが形成された透明導電性フィルムを得た。パターニングされた正方形部分を肉眼で確認してパターニングされることを確認し、パターン部の表面抵抗を測定した。
【００８３】
２）鉛筆硬度：ＪＩＳ  Ｋ  ５６００―５―４に準じて測定した。
【００８４】
３）密着性：透明導電性フィルムの表面にカッターを用いて１ｍｍ間隔で１０ｍｍ×１０ｍｍ  縦×横の将棋盤状にカットし、セロハンテープ（Ｎｉｃｈｉｂａｎ社）を用いて剥離試験を行った。同一部位をテープで３回剥離試験し、評価後、密着している数を／１００で表記した。
【００８５】
【表２】
2016504426.tif 000005
【００８６】
前記表２の測定結果から、実施例１ないし５の透明導電性フィルムは一定レベル以上の硬度および密着性を有し、パターニング評価もまた普通以上のレベルを表すことが分かった。具体的には、一定量の光酸発生剤を含む低屈折層コーティング用組成物で形成された低屈折層を含む実施例１ないし３は、正方形パターンが弱く視認され、表面抵抗測定時にパターニングされない部分は表面抵抗が約１５０Ω／□であり、その反面パターン部位は表面抵抗が測定されないことから、ＵＶによってパターニングされたことが確認された。
【００８７】
具体的には、低屈折層コーティング用組成物が光酸発生剤を実施例１ないし３に比べて過量含んだ実施例４および５は低屈折層が安定しなく導電層が剥がれてパターニングされたかが確認し難い点がありはしたが、パターニング評価時に大体普通程度のレベルを維持することを確認した。しかし、前記実施例１ないし５とは対照的に、光酸発生剤を含まない低屈折層コーティング用組成物で形成された低屈折層を含む比較例は、透明導電性フィルムの全ての表面において同様に抵抗が１５０Ω／□レベルに測定されたことから、ＵＶによるパターニングが実施されていないことが確認できた。
【図１】
2016504426.tif 000006
【図２】
2016504426.tif 000007
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年5月19日(2015.5.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８５】
【表２】
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【国際調査報告】
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