(57)【要約】  磁気中心を見つけて植付け可能な調節可能弁（２０）の設定を示すためのセンタリングツール及び組み合わされたセンタリング−表示ツール（５０）を提供する。センタリングツール及び組み合わされたセンタリング−表示ツールは、磁気カプセルが調節可能弁の磁石の上でセンタリングされた時、空洞（７０）内でツールに配置されたターゲット（８１）へ移動可能な磁気カプセル（８０）を含む。【選択図】図３
2016512723.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調節可能弁の中心を見つけるためのセンタリングツールであって、前記ツールは、
空洞を含むハウジングと、
ツール磁石を備え、前記空洞内に配置される磁気カプセルと、
ターゲットとを備え、
前記磁気カプセルは、前記ツール磁石が調節可能弁の磁石と磁気的に整列する時、前記空洞内を滑動し且つ前記ターゲット内でセンタリングするように構成されている、
センタリングツール。
【請求項２】
前記ハウジングは上壁を含み、前記磁気カプセルは前記上壁を通して可視である、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項３】
前記ハウジングは円形のディスク形状を備える、請求項２に記載のセンタリングツール。
【請求項４】
前記ツール磁石は２つの磁石を備える、請求項３に記載のセンタリングツール。
【請求項５】
前記２つのツール磁石のそれぞれは、前記磁気カプセルの軸に対する垂直の極性を備える、請求項４に記載のセンタリングツール。
【請求項６】
前記磁気カプセルはディスク形状の磁気カプセルハウジングを備える、請求項５に記載のセンタリングツール。
【請求項７】
前記ターゲットは、前記磁気カプセルハウジングの周囲より大きい周囲を有する円を有する、請求項６に記載のセンタリングツール。
【請求項８】
更に前記空洞に含まれる流体を備える、請求項７に記載のセンタリングツール。
【請求項９】
前記磁気カプセルは磁気カプセルハウジングを備える、請求項８に記載のセンタリングツール。
【請求項１０】
前記磁気カプセルハウジングは矢印形状を備える、請求項９に記載のセンタリングツール。
【請求項１１】
前記磁石はハルバッハアレイを備える、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１２】
更に前記ツール磁石の上部に配置された金属片を備え、前記金属片は前記ツール磁石の厚さより薄い厚さを備える、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１３】
前記磁気カプセルは前記空洞の床に沿って滑動するように構成される、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１４】
前記センタリングツールは位置決めツールの管内に嵌められるように構成されている、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１５】
前記センタリングツールは外端に沿ってタブを備え、前記タブは前記位置決めツールの凹部の内径上の溝と相互接続するように構成される、請求項１３に記載のセンタリングツール。
【請求項１６】
前記磁気カプセルはポインタを備え、
前記磁気カプセルは、前記ポインタが弁設定値を指し示すために回転するように磁気カプセルの軸の周りを回転するように構成されている、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１７】
前記ハウジングは前記弁設定値を含む指標を備える、請求項１６に記載のセンタリングツール。
【請求項１８】
前記ハウジングは上壁を含み、前記磁気カプセルは前記上壁を通して可視である、請求項１６に記載のセンタリングツール。
【請求項１９】
前記ターゲットは前記磁気カプセルの形状とほぼ類似する形状を備え、前記ターゲットの外周は前記磁気カプセルの外周より大きい、請求項１７に記載のセンタリングツール。
【請求項２０】
更に前記空洞内に含まれる流体を備える、請求項１７のセンタリングツール。
【請求項２１】
磁性中心を見つけて植え付けられた調節可能弁の設定を示すためのシステムであって、前記システムは、
管を備える位置決めツールと、
組み合わされたセンタリング−表示ツールを備え、前記組み合わされたセンタリング−表示ツールは、
空洞及び弁設定値を備える指標を備えるハウジングと、
ツール磁石及びポインタを備える磁気カプセルであって、前記磁気カプセルは前記空洞内に配置される、前記磁気カプセルと、
前記空洞内に配置されるターゲットとを備え、
前記磁気カプセルは、前記ツール磁石が前記調節可能弁磁石の前記磁性中心と磁気的に整列する時、前記ターゲット内に前記磁気カプセル自身をセンタリングさせるために前記空洞内を移動するように構成され、
前記磁気カプセルは、前記ポインタが回転して前記指標の弁設定値を指し示すように磁気カプセルの軸の回りを回転するように構成され、
前記組み合わされたセンタリング−表示ツールは、前記位置決めツールが前記植え付けられた調節可能弁の近くにある時、前記位置決めツールの前記管内に配置されるよう構成される、システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]本開示は、例えば調節可能弁を含む流量制御装置等の植付け可能な医療機器に関し、また調節可能弁の場所及び設定を決定するためのツールに関する。より詳細には、本開示は磁気中心を見つけ、且つ植付け可能な調節可能弁の設定を示すためのツールに関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]一般に、流量制御装置は脳室からの脳脊髄液（ＣＳＦ）の流れを制御し、流体の脳室への逆流を防ぐための一方向の制御弁を含む。幼児、子供及び成人に影響を与え得る水頭症の神経の状態は、例えばＣＳＦ等の流体の脳室又は脳の空洞への望ましくない蓄積に起因し、その蓄積が脳に過度の圧力と、幼児に対して頭蓋骨を変形させる力を発揮し得る。水頭症の治療はしばしば、１つ以上のカテーテル、及び流量制御装置又は分流弁として通常記載され得る弁を含むドレナージ又は分流システムを利用してＣＳＦを脳室から排出することを伴う。分流弁又は流量制御装置は様々な構成を有し得、且つ流体が弁を通って流れを開始させて脳から排出される閾値の圧力レベルに装置の弁機構が設定され得る点で調節可能であり得る。分流弁は様々な圧力設定に皮下に植付け可能及び経皮的に調節可能であり得る。流量制御装置の例は、例えば「植付け可能な調節可能流量制御弁」という題名の米国特許第５６３７０８３号、及び「不注意な設定変更への高められた耐性、及び改良された付属工具結合を有する流量制御装置、ロータ及び磁石」という題名の米国特許出願第１３／８０４８７５号に開示され、それらのそれぞれの内容全体が参照により本明細書に援用される。
【０００３】
[0003]調節可能弁は、１つ又は複数の外部ツールが選択的に及び非侵襲的に植付け可能な弁の設定を決定し、且つ設定を望ましい圧力に調節することを可能にする磁性部品を含み得る。ツールの組は通常、植え付けられた弁の配向及び位置の触覚決定を可能にする位置決めツールと、調節可能弁の現在の設定を決定し新たな設定が植え付けられた後に弁の新たな設定を確認するための表示ツールと、弁の設定を変えるための調節ツールとを含む。ツールは、結合時に弁の設定が決定可能であり、且つ弁磁石が故意に操作可能でありよって皮下に植え付けられた装置を除去せずに弁の圧力設定を調節するように、調節可能弁の磁石と外部で（即ち、患者の外部で）結合するように設計されている。よって表示及び調節ツールは、磁石結合が組織を通して（例えば患者の頭皮）さえも弁磁石の位置を決定又は調節するのに十分強い場合にツールの調節可能弁への磁石結合に頼る。位置決め、表示及び調節ツールの例は、例えば発明者がバートランド他、「植付け可能な調節可能流量制御弁を調節するツール」という題名の米国特許出願第２００２／００２２７９３（以下、「’７９３号出願」という）、及び発明者モスコウィッツ他、「磁気遮蔽を有するコンパスに基づく表示器」という題名の米国特許第６８８３２４１号に示され、それらのそれぞれの内容全体が参照により本明細書に援用される。
【０００４】
[0004]位置決めツール、表示ツール及び調節ツールは互いに併用して使用され得る。例えば、位置決めツールと併用して弁の位置の触覚決定がなされた後、表示ツール及び／又は調節ツールは位置決めツールにより決定された場所に配置され得る。言い換えると、表示及び／又は調節ツールの位置は位置決めツール位置に基づき（ｂａｓｅｄ  ｏｆｆ  ｏｆ）得る又はそれに「合わせ（ｋｅｙ）」得る。位置決めツールにより決定されるような調節可能弁の位置は、１つ又は複数の弁磁石が磁化されたツール要素又は磁石と一列に並ぶ及び／又は結合するように、表示ツール及び／又は調節ツールが植え付けられた弁の磁性部品の十分近くに配置されることを可能にする。しかし、植え付けられた弁の磁石の引きが十分に強くなく（１つ又は複数の植え付けられた弁磁石とツールとの間の距離が増加する等）、不正確な装置設定の決定又は表示につながる場合、表示ツールの磁化された要素は地球の磁場と整合する傾向にある。
【０００５】
[0005]加えて、弁の内部の磁性要素が外部場と整列する傾向にあるため、調節可能弁の磁性部品自体が強い近隣の磁場による移動又は不注意な設定調節の影響を受けやすい。よって調節可能弁は、例えば磁気共鳴映像法（ＭＲＩ）手順に遭遇した時等の強い外部磁場に存在する場合意図せずに調節され得る。よって、いくつかの流量制御装置は不注意な設定変更に対する高められた耐性を提供する特徴を含む。例えば、強い近隣の磁場に抵抗するように設計された機械的「停止部」又は磁気構成は、例えば上記に言及した米国特許出願第１３／８０４８７５号に開示された装置に組み込まれ得る。場合によっては、これらの種類の弁の故意の調節は、調節ツールを弁磁石に正確に整列させずに達成するのがより困難になり得る。
【０００６】
[0006]ツールを植え付けられた弁と正確に磁気的に整列させる又は結合させるため（例えば、ツールに対する地球の磁場の効果を避けるため、又は弁設定表示及び調節の目的でツールを弁に十分に結合することを確実にするため）、弁磁石の磁気中心を見つけ、それによりツールを弁磁石の磁気中心と磁気的に整列させて配置することが望ましい。外部ツールを弁の磁気中心と整列させることは、植え付けられた弁と外部ツールとの間の距離が増加した場合及び／又は植え付けられた弁が不注意の設定変更に対する高められた耐性を有するよう設計された場合でも、弁の設定の正確な又はより正確な読み出しを可能にし、且つ弁の故意の調節を実行可能にするツールの弁への結合を提供し得る。
【０００７】
[0007]’７９３号公報は調節可能弁を使用して有用であり得、及び本開示のセンタリングツール及びセンタリング−表示ツール５０、１５０、２５０（図３、６及び７）と併せて使用され得るツールの例を記載する。’７９３号公報は中央開口及びスロットを有する管を備える位置決めツールを記載する。管の指標は、位置決めツールが弁と整列する時、例えば２０の弁の設定を視覚的に表示するためのものである。位置決めツールはまた中央本体並びに流量方向表示器の内側に延伸する突出部を含む。表示器ツールは表示器中央本体と、磁気化されたポインタを有するコンパスと、異なる弁設定に対応する調節可能弁の可能性のある位置を表示する指標と、位置決めツールの突出部と相互作用するための頂部とを含み得る。
【０００８】
[0008]’７９３号公開に更に記載されるように、位置決め中央開口は、位置決めツールを植え付けられた弁に予測可能な方法で配向及び整列可能とし、医者に開口を通して植え付けられた弁を触診することを可能にする。使用時、植え付けられた弁の配向が位置決めツールにより確立された後、表示器中央本体は位置決めツールの管内に配置される。表示ツール及び位置決めツールは整列特徴を含み得る。例えば、表示器中央本体が管内に配置される時、表示ツールの頂部は表示ツールを位置決めツールに正確に配向するために位置決めツールのスロットと整列及び相互作用する。他の表示ツール及び位置決めツールの整列特徴も企図される。何れにせよ、表示ツールを位置決めツールに配置することは表示ツールのポインタを弁２０の磁石１２０と相互作用及びそれ自身に整列させることを可能にする。これにより、ポインタが弁２０の磁石１２０の位置を示す標識の点を指し示させる。上述の通り、磁石１２０の位置は弁の設定を示す。
【０００９】
[0009]’７９３号出願は更に、調節中央本体内に定位置に固定されている磁石、窪み及び矢印を有する調節ツールを記載する。調節中央本体は位置決めツールの突出部と相互作用するように構成された一連の窪みを含み得る。窪みは弁２０の場所及び設定に対応する調節中央本体の周囲に間隔をあけて配置され得る。使用時、調節ツールは指標の圧力レベル設定と整合した矢印を有する位置決めツールの上に配置され、弁の圧力レベル設定は上述のように表示ツール又は例えばＸ線又は蛍光透視法等の他の方法により事前に決定される。整列を維持しながら、調節ツールは調節中央本体が管に入るまで位置決めツールに向かって低下する。表示ツールが弁設定を決定するために使用された場合、表示ツールは調節ツールを位置決めツール内に配置する前に除去される。位置決めツールの突出部は現在の弁設定と対応する調節中央本体の窪みと相互作用する。この位置において、調節ツール磁石は弁磁石と結合し調節ツールは矢印が指標に示される望ましい弁設定を指し示すよう回転する。
【００１０】
[0010]調節可能弁の設定を位置決め、表示及び調節するための装置の他の例は発明者バートランド他、「電子弁リーダー」という題名の米国特許第７３３４５８２号、発明者バートランド他、「植付け可能な医療機器と使用するための表示ツール」という題名の米国特許８０１５９７７号、及び発明者バートランド他、「植付け可能な医療機器、電子弁表示器及び位置決め装置を含むシステム」という題名の米国特許８２５７２９６号に記載されており、それらの内容全体が参照により本明細書に援用されている。
【００１１】
[0011]発明者モーロー他、「調節可能弁の設定を機械的に位置決め及び読み出す装置」という題名の米国特許第７９２１５７１号は、ピボットに取り付けられた針及びピンを含む３次元の旋回コンパスを記載する調節可能磁石弁の設定を機械的に読み出すための装置を提案する。
【発明の概要】
【００１２】
[0012]本開示による装置は、空洞、及び磁気カプセルがツール磁石を有する場合に空洞内に配置される磁気カプセルを含むハウジングを有するセンタリングツールを含む。ツール磁石が調節可能弁の磁石と磁気的に整列する時、磁気カプセルはツールのターゲット内でセンタリングされるために空洞内で移動するように構成される。
【００１３】
[0013]ある実施形態では、組み合わされたセンタリング−表示ツールは、空洞、及び調節可能弁設定値を有するハウジングの指標を含むハウジングと、ツール磁石及びポインタを含む空洞内に配置された磁気カプセルと、ターゲットとを含む。ツール磁石が調節可能弁磁石の磁気中心と磁気的に整列し、カプセルの軸の周りを回転して、その結果ポインタが回転し指標の弁設定値を指し示す時、磁気カプセルは空洞内を移動して磁気カプセル自体をターゲット内でセンタリングするように構成される。
【００１４】
[0014]いくつかの実施形態では、システムはセンタリングツール又は組み合わされたセンタリング−表示ツールを受取るための管を有する位置決めツールを含み、センタリングツール又は組み合わされたセンタリングツールはハウジング及び空洞、空洞内に配置された磁気カプセル、及びセンタリングツール又はセンタリング−表示ツールに設けられたターゲットを含み、磁気カプセルは、ツール磁石が調節可能弁磁石の磁性中心に磁気的に整列する時に空洞内を移動して磁気カプセル自体をターゲット内でセンタリングするように構成され、また磁気カプセルは空洞内で回転するように構成される。ツールが磁気カプセル又はその一部に指標及びポインタを含む場合、ツール磁石が弁磁石に整列する時、磁気カプセルの回転はポインタを回転させ指標の弁設定値を指し示すことを可能にし得る。位置決めツールが植え付けられた調節可能弁の近くにある時、センタリングツール又は組み合わされたセンタリング−表示ツールは位置決めツールの管内に位置するように構成される。
【００１５】
[0015]上記のことを含むいくつかの実施形態では、磁気カプセルはハウジングの壁を通して可視であり、円形又はディスク形状を含む様々な形状を有する磁気カプセルハウジングを含み得る。ツール磁石は１つ又は複数の磁石を含み得、各磁石は垂直又は水平の極性を有し得る。本開示のツール磁石はまた、磁場をツール磁石の側に強化するための１つ又は複数の金属片又はハルバッハアレイを含み得る。ターゲットは磁気カプセル又は磁気カプセルハウジングの周囲とほぼ同じサイズ又はそれより僅かに大きい周囲を有し得る。流体が空洞内に配置されてもよく、磁気カプセルは流体内を移動してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】[0016]加減流量制御弁の斜視図である。
【図２】[0017]図１の弁の側面断面図である。
【図３】[0018]センタリングツールの斜視図である。
【図３Ａ】[0019]図３のセンタリングツールの側面断面図である。
【図３Ｂ】[0020]センタリングツール内の位置に磁気カプセルを有する、図３のセンタリングツールの斜視図である。
【図４】[0021]一実施形態による磁気カプセルの上面図である。
【図４Ａ】[0022]図４の磁気カプセルの側面断面図である。
【図５Ａ】[0023]図５Ａは磁石構成の例示である。
【図５Ｂ】図５Ｂは磁石構成の例示である。
【図５Ｃ】図５Ｃは磁石構成の例示である。
【図５Ｄ】図５Ｄは磁石構成の例示である。
【図５Ｅ】図５Ｅは磁石構成の例示である。
【図５Ｆ】図５Ｆは磁石構成の例示である。
【図６】[0024]組み合わされたセンタリング−表示ツールの斜視図である。
【図６Ａ】[0025]図６の組み合わされたセンタリング−表示ツールの側面断面図である。
【図７】[0026]組み合わされたセンタリング−表示ツールの斜視図である。
【図７Ａ】[0027]図７の組み合わされたセンタリング−表示ツールの側面断面図である。
【図８】[0028]ツール及び調節可能弁の側面図である。
【図９Ａ】[0029]一実施例によるツールを使用する方法のステップを示す側面断面図である。
【図９Ｂ】[0030]一実施例によるツールを使用する方法のステップを示す側面断面図である。
【図９Ｃ】[0031]一実施例によるツールを使用する方法のステップを示す側面断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
[0032]本発明は、例えば位置決めツール、表示ツール又は調節ツール等の他のツールと協働して又は連動して使用され得るセンタリングツール及び組み合わされたセンタリング−表示ツール（例えば、５０、１５０、２５０、図３、６及び７）を提供する。本明細書に開示されたセンタリングツール及び組み合わされたセンタリング−表示ツールはまた、以下に更に説明されるように、個別に、又は位置決め、表示ツール又は調節ツールと対になった関係で使用され得る。加えて、本明細書に記載されるツールは、不注意な設定変更に対する耐性を提供するように設計された特徴を含むか含まない様々な植付け可能な磁気的調節可能弁を含むが、これに制限されない、様々な医療機器を使用して有用であり得る。
【００１８】
[0033]図１は、本開示のセンタリングツール及びセンタリング−表示ツール（５０、１５０、２５０、図３、６、７）を使用して有用であり得る、又はそれらのツールと連動して使用され得る流量制御装置２０の一例を記載する。流量制御装置２０は患者の頭皮を通して圧力下でＣＳＦを含む脳室へ挿入され得るカテーテル（図示せず）に流動的に連結するように構成された入口コネクタ２２と、ＣＳＦを患者の体の別の場所へ向ける役割を果たす遠位のカテーテルに流動的に連結するように構成された出口コネクタ２４を含む。図２は２−２部分に沿った図１の流量制御装置の断面図、及び装置２０の上に位置する外部ツール１４０を記載する。流量制御装置２０は流体貯蔵所６０、弁機構３８、及びロータアセンブリ１００を含む。ロータアセンブリ１００は１つ又は複数の弁磁石１２０を含み、例えば磁石ツール１４０に遭遇した時、適用された磁場に応じて回転するように構成されている。
【００１９】
[0034]米国特許出願第１３／８０４８７５号にも記載されるように、ロータ磁石１２０は平行に又は垂直に整列された極性を有する単一の磁石又は２重の磁石を含み得る。ロータアセンブリ１００はカートリッジアセンブリ４０内に設けられ得、例えばスプライン又はタブ（図示せず）等のカートリッジアセンブリ４０の一部の要素と相互作用する例えば溝又は切り欠き（図示せず）等の要素を含み得る。ロータアセンブリ１００とカートリッジアセンブリ４０の特定の磁石配向又は相互作用要素を含むことにより、ロータアセンブリ１００は望ましくない回転に対する高められた耐性を有し得、よって弁２０は、例えば植え付けられた弁を有する患者が強い磁場の存在下にいる時（例えばＭＲＩ装置）等、不注意の圧力設定変更に対し高められた耐性を有し得る。
【００２０】
[0035]上述の通り、弁設定を決定する及び／又は弁設定を調節する前に弁磁石１２０の中央を見つけることが好ましい。また上述の通り、弁２０の磁気中心を見つけることは外部ツール１４０を弁により容易に、正確又は厳密に整列させ及び結合する役割をし得る。残りの図面は装置（例えば調節可能弁）を使用して有用である及び／又は様々な位置決め、表示ツール又は調節ツールを使用して有用であるセンタリング及びセンタリング−表示ツールとツール要素の実施形態を記載する。
【００２１】
[0036]図３及び図３Ａはセンタリングツール５０を記載する。センタリングツール５０は円形のディスク形状を有する図３、図３Ａに記載されたハウジング又は容器６０を含む。しかし、ハウジング６０は、円形、球形、多角形や他の形状を含む様々な他の形状及び構成を含み得る。それでもなお、ハウジング６０はハウジング底面壁６２、側壁６４、上壁６６及び空洞７０を含む。空洞７０は空洞床７２と、空洞側壁７４と、空洞上部即ち天井７６により画定される。空洞７０は、油や例えば鉱油等の他の液体（図示せず）、又は例えばコンパス油として有用であり得る何れかの流体等の他の流体等の物質で満たされ得る。濃厚な流体が磁気カプセル８０に浮力を提供するため、又は磁気カプセル８０が中立的に浮力を有することができる。ように使用され得る。例えば、パーフルオロクロロカーボンが使用されてもよい。他の流体も企図される。
【００２２】
[0037]空洞７０内に設けられるのは磁気カプセル８０とターゲット８１である。一般的な用語において、磁気カプセル８０（また８０’、８０’’、図３、４、６及び７、以下全体として磁気カプセル８０と呼ばれる）は空洞７０内を移動（即ち、滑動）するように構成され、センタリングツール５０のターゲット８１が弁磁石（即ち、弁２０の弁磁石１２０）の上にセンタリングされる時、ターゲット８１内で磁気カプセル自体がセンタリングされる。磁気カプセル８０は、磁気カプセル８０が空洞７０の如何なる部分にも連結され又は取り付けられないように空洞７０内を自由に移動する（例えば、以下に説明するように横方向又は回転する方法で）ように構成される。よって磁気カプセル８０は空洞７０内で自由に滑動し得る。センタリングツール５０の使用及び動作は以下に更に詳しく説明する。磁気カプセル８０は様々な構成で構築され得、例えば１つ以上のツール磁石８４を封入又は収納するためのカプセルハウジング８２を含み得る。代わりに、カプセル８０はハウジング８２無しで（即ち、ツール磁石８４がハウジング８２を含まない）構築され得る。更なる代替の実施形態において、ハウジング８２は磁石８４の一部のみ又はその周囲に設けられ得、例えば磁石８４の底部、上部、側部又はそれらの組合せのみに設けられ得る。磁気カプセル８０は、様々な球形、円筒形、多角形、又は例えば図４に記載されるような矢印形状を含む他の形状を含んでもよい。カプセル８０の構成又は形状は１つ又は複数のツール磁石８４の形状（即ち、磁石構成により画定され得る）により画定され得、又は１つ又は複数のツール磁石８４が封入、包囲、又はそうでなければその中に設けられるハウジング８２の形状により画定され得る。よって、例えば、磁石構成９１、９３、９５、９７の形態（図５Ａから図５Ｅ）自体がカプセル８０の形状を画定し得る。又は、カプセル８０は例えば磁気カプセル８０、８０’、及び８０’’（図３、４、６及び７）のようなハウジング８２の形態を取り得る。
【００２３】
[0038]ツール磁石８４も同様にいくつかの異なる磁石構成を含み得る。本開示により企図される磁石構成のいくつかの非制限的な例が図５Ａから図５Ｆに記載される。図５Ａは正方形の形状を有し、極性の方向が垂直の磁気軸Ａに垂直である場合に水平の磁極性ＰＨを有する単一の磁石９１を含む磁石の一実施例を記載する。代替として、単一の磁石９１は例えば円形（例えば図４に示すような磁石８４）、球形、多角形や他の形状等の他の形状を含み得る。図５Ｂは磁石の別の実施形態の上面図である。磁石９３は互いに隣接する２つの磁石Ｍ１、Ｍ２を含む。図５Ｃは磁石９３の側面図である。図５Ｂ及び図５Ｃの磁石Ｍ１、Ｍ２は円形のディスクとして説明されるが、他に図５Ａを参照して説明されるように（例えば球形、正方形等）いくつかの他の形状も含んでいてもよい。磁石９３は図５Ａの磁石９１に関して上記に説明したように水平の極性を含み得るか、又は磁石Ｍ１及びＭ２は、それらの磁石の極性が垂直の磁気軸Ａに平行であるように垂直の極性Ｐｖ（図５Ｃ）を含み得る。例えば、米国特許出願第１３／８０４８７５号に説明されているように、垂直の極性のある磁石を装置に含むことは、不必要に磁場と整列する傾向を減らす装置を提供し得る。よって、磁石８４（図３、６及び７）が垂直の極性を有する時、磁石８４（並びにしたがって磁気カプセル８０）が外部の磁場（例えばＭＲＩ装置により又は地球の磁場により生成される等）と整列する傾向が減少される。
【００２４】
[0039]図５Ｄは水平に並んだ極性ＰＨを有する３つの磁石Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３を含む磁石９５を記載する磁石の別の実施形態の上面図である。磁石Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３は球形又はボール形状の磁石として記載されるが、図５Ａ及び図５Ｂを参照して説明されるように、磁石Ｍ１からＭ３は同様に他の形又は幾何学的形状を含んでいてもよい。
【００２５】
[0040]図５Ｅは垂直の極性Ｐｖ及び磁石９９の上部「Ｔ」に配置された小片又は要素９８を有する２つの磁石Ｍ１、Ｍ２を含む磁石９９を記載する磁石の別の実施例の側面図を示す。磁石９１、９３及び９５と同様に、磁石９７の磁石Ｍ１及びＭ２は代替的に平行な極性を含んでいてもよいし、上記に記載した様々な形状の何れかを含んでいてもよい。小片９８は厚さ「ｔｐ」を有し、金属を含んでいてもよいし、例えば鋼鉄を含んでいてもよい。小片９８は２つの間の磁気引力を経由して磁石Ｍ１、Ｍ２に取り付けられてもよい。小片９８は例えば鉄や鉄鋼等の強磁性材料から構築されていてもよく、小片９８の厚さ「ｔｐ」は磁石９９の厚さ「ｔｍ」より小さくてもよく、いくつかの実施形態では薄い金属磁石を含んでいてもよい。小片９８を磁石９７の上部に設けることは磁石９７の上部「Ｔ」の磁場を効果的に弱くし得、一方磁石９７の底部「Ｂ」に向かう磁場を強化する。この磁石９７の底部での磁場の強化はツール１４０が植え付けられた弁２０の弁磁石１２０により良く結合可能とする。別の磁石構成が図５Ｆに示される。磁石９９は矢印Ａ１、Ａ２、Ａ３により磁石毎に示される磁化を有する磁石Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３を含むハルハッバアレイを含む。ハルハッバアレイは、例えば図５Ｆに二点鎖線で示したような、ハルハッバアレイで知られるパターンで隣接する磁石に対して回転する各磁石の磁化を使用する追加の磁石を含み得る。ハルハッバアレイと共に如何なる数の磁石が利用されてもよいことが理解されるべきである。知られているように、ハルバッハアレイは、アレイの磁石の空間的に回転する磁化のパターンを経由してアレイの一方の側で磁場を増加させ、他方の側で磁場をゼロ近くに相殺させる。よって、ハルバッハアレイとして構成された磁石９９を設けることはアレイの下の磁場を強化させ、磁石９９並びにそれによって磁気カプセル８０の弁磁石１２０へのより強い結合を生成する役割をする。
【００２６】
[0041]図３を参照すると、ハウジング８２は金属又はポリマー、又はそれらの組合せ及び特に非磁性体を含む様々な適切な材料を含み得る。いくつかの実施形態では、ハウジング材料は透明で、透き通った又はシースルーであり、よって磁気カプセル８０は、例えば図３、４、６及び７に記載されるように、ハウジング８２を通して（及びいくつかの実施形態では、特に、ハウジングの上壁６６を通して）可視になる。加えて、ハウジング８２の一方の１つ又は複数の部分は１つの材料で構築され得、ハウジング８２の別の１つ又は複数の部分は別の又は異なる材料で構築され得る。それにも拘らず、ハウジング８２の材料は磁気カプセル８０の空洞７０内での容易な移動を可能にするように設計され得る。よって、ハウジング８２は磁気カプセル８０と空洞壁７２、７４及び７６との間の摩擦を減らすよう設計された材料で構築され得る。例えば、ハウジング８２はＰＴＦＥ、アセタール又は別の材料で構築され得る。
【００２７】
[0042]磁気カプセル８０は空洞７０内で滑動可能に移動、浮揚又はぶら下がるように構成され得、空洞床７２の真上で停止又は浮揚するように構成され得るか、又は空洞床７２と空洞上部即ち天井７６との間の任意の距離において空洞７２内でぶら下がるように構成され得る。いくつかの実施形態では磁気カプセルと床７２との間の空間は制限され、磁気カプセル８０を床７２に出来るだけ近く保つため出来るだけ小さく構成され、よって磁気カプセル８０と弁磁石１２０とのより近い関係を提供する。それにも拘わらず、磁気カプセル８０は調節可能弁（例えば図１の２０）の磁石（例えば図１の１２０）の磁気中心の上に配置された時、ターゲット８１内でセンタリングするように構成される。ターゲット８１は例えば空洞７０の床７２又は天井７６の上といったツール５０の場所におけるマーキングを含み、ターゲット８１の他の位置も企図され得る。ターゲット８１は、装置５０のおおよその中心が弁磁石１２０の上にセンタリングされる時、ツール磁石８４又は磁気カプセル８０が空洞床７２に対して横方向に、ターゲット８１の中心又はおおよその中心まで移動するように装置５０に配置される。よって、一実施形態において、カプセル８０は、カプセル８０が植え付けられた弁の弁磁石１２０の上にセンタリングされ、その地点でツール磁石８４と弁磁石１２０との間の磁気引力が磁気カプセルをターゲット８１内でセンタリングさせるまで、空洞７０の床７２に沿って又はその真上で滑動し得る。例えば、ユーザは磁気カプセル８０がターゲット８１内でほぼセンタリングされるまで装置５０を移動でき、それは装置５０が弁磁石１２０の上でほぼセンタリングされることを示す。磁気カプセル８０はまた、ツール磁石８４が弁磁石１２０と整列する時、空洞７０内の磁気カプセル軸Ａ’の周りを回転（即ち転回）し得る。このようにして、磁気カプセル８０は装置２０の設定を以下に更に記載するように示すことが可能である。
【００２８】
[0043]ターゲット８１は磁石８４又は磁気カプセル８０の形状とほぼ同じ形状を有し得る。ターゲット８１は直線又は中実の（即ち、「充填された」）形状を有し得、ツール磁石８４又は磁気カプセル８０のものと同一又は僅かに大きい外周、周囲又は境界を有し得る。ターゲット８１が磁気カプセル８０の周囲とほぼ同じ長さの外周を含む場合、ターゲット８１は原則的にカバーされるか覆い隠される。図３Ｂに見られるように、ターゲット８１が磁気カプセルの周囲より大きい外周を含む場合、磁気カプセル８０が弁磁石１２０の上にセンタリングされると、磁気カプセル８０はターゲット８１の中心へ移動する。例えば、図３Ａの磁気カプセル８０は図３Ｂに示される位置まで矢印の方向（ＡＲ）に移動する。図３Ｂにおいて、ターゲット８１の外端はセンタリングした磁気カプセル８０を囲んで見られることができ、それによりユーザにツール５０が弁磁石１２０の上にセンタリングされることを示す。同様に、ターゲット８１の周囲がツール磁石８４又は磁気カプセル８０の周囲と同じサイズ又はそれより小さい場合、ターゲット８１をカバーすることは、ユーザにツール磁石及び／又は磁気カプセル８０並びにしたがってツール５０が弁磁石１２０の上にセンタリングされる又はほぼ中化されることを示す。
【００２９】
[0044]図４及び図４Ａは磁気カプセルの別の実施形態を記載する。磁気カプセル８０’は矢印形状を含み、及びカプセル８０’内に設けられた磁石Ｍ１、Ｍ２を含む。図４Ａは図４のＢ−Ｂ線に沿った磁気カプセル８０’の断面図である。上記の通り、ターゲット８１は、磁石Ｍ１、Ｍ２が弁磁石（例えば１２０）の中心の上に位置する時、磁気カプセル８０’が磁気カプセル自体をターゲット８１の矢印（図示せず）内に配置し得るような矢印形状（図示せず）を含み得る。矢印形状は、弁磁石１２０が矢印にセンタリングツールの設定（例えば１５０、２５０）又は位置決めツール２６（図９Ａから９Ｃ）を指し示させる一方、磁気カプセル８０の回転が１つ又は複数のツール磁石８４に整列するように装置２０の設定を有利に示し得る。
【００３０】
[0045]図６及び６Ａは組み合わされたセンタリング−表示ツールの一実施形態を示す。センタリング−表示ツール１５０はセンタリングツール５０と同様であり、同じ符号が同じ特徴を表す。ツール５０と同じように、磁気カプセル８０’’が空洞１７０内に設けられ、磁気カプセル８０’’が弁磁石（例えば１２０）の上にセンタリングされる時、ターゲット１８１内にセンタリングされるように構成される。しかし、図６及び図６Ａに記載するように、磁気カプセル８０’’は更にポインタ１０４を含む。ポインタ１０４は位置決めツール（図示せず）に設けられた指標の弁設定を指し示すように構成されている。よって、センタリング−表示ツール１５０が位置決めツール（図示せず）と併用して使用される時、磁気カプセル８０’’は弁（例えば２０）の磁石（例えば１２０）と相互作用し、磁気カプセル自体を磁石に整列させる。これはポインタ１０４に、弁の磁石の位置を示し、並びにそれによって弁設定を示す位置決めツール（図示せず）の指標の点を指し示させる。言い換えると、磁気カプセル８０は、ポインタ１０４に調節可能弁２０の現在の設定を指し示させ、磁石１２０に整列するため回転又は転回しながらターゲット１８１へ軸方向に移動する。
【００３１】
[0046]図７及び図７Ａは組み合わされたセンタリング−表示ツールの別の実施形態を示す。組み合わされたセンタリング−表示ツール２５０はツール１５０（図６、６Ａ）と同様であるが、ツール２５０は指標２５９を含む。よって、使用時、磁気カプセル８０’’が弁（例えば２０）の磁石（例えば１２０）と相互作用して磁気カプセル自体を磁石と整列させ、ターゲット２８１の中心に移動又はそこをセンタリングする場合、相互作用はまた磁気カプセル８０’’を回転又は旋回させ、それはポインタ２０４に弁磁石１２０の位置を示しそれによって弁設定を示す指標２５９の点を指し示させる。
【００３２】
[0047]図８は弁磁石１２０と磁気カプセル（例えば８０、８０’、８０’’）の磁石８４との間の相互作用の例を示す。図８において、ツール磁石８４は水平極性ＰＨを含むとして示される。しかし上述の通り、ツール磁石８４の垂直の極性も同様に企図される。それにも拘わらず、図８に示すように、弁２０の上にツール（例えば５０、１５０、２５０）を配置することは磁石８４を弁磁石１２０と磁気的に整列させ、よって磁気カプセル８０．８０’、８０’’（並びにツール５０、１５０及び２５０）を弁磁石１２０と整列して配置させる。例示の簡便さのため、例えばターゲット（例えば８１）及び空洞（例えば７０）等のツール５０、１５０及び２５０の追加の特徴は示されていない。加えて、上述の通り、磁石８４は１つ以上の磁石から成り得、１つ以上の磁石の磁場の全体の効果は図８に記載された通りであり得る。
【００３３】
[0048]ツール５０、１５０、２５０の例としての使用は図９Ａから図９Ｃに例示される。図９Ａは、上述の’７９３号出願の位置決めツールと同様の植え付けられた弁２０に事前に配向され及び整列された位置付決めツール２６の管３４内にツール５０、１５０又は２５０が配置され得る第１のステップを記載する。位置決めツール２６は位置決め中央開口（図示せず）を含み得、位置決め中央開口を通して弁２０の少なくとも一部が触診される。第２のステップとして、磁気カプセル８０、８０’、８０’’が弁磁石１２０の上にセンタリングされた後、図９Ａに示すように、ツール５０、１５０、２５０が例えば図９Ｂに記載されるように位置決めツール２６から除去され得る。’７９３出願の位置決めツール、表示ツール及び調節ツールを参照して上記に記載されるように、位置決めツール２６及びツール５０、１５０、２５０は、ツール５０、１５０、２５０が位置決めツール２６と機械的に係合され得るように、例えばツール５０、１５０、２５０の外表面及び位置決めツール２６の内表面の溝、タブ、頂部又はスロット（図示せず）等の相互作用の整列特徴を含み得る。何れにせよ、センタリングツール５０又は組み合わされたセンタリング−表示ツール１５０、２５０が弁磁石１２０の中心（即ち、上述の通りツール磁石８４又はターゲット（図示せず）に移動する磁気カプセル８０、８０’、８０’’を介して）を識別した後、ツール５０、１５０、２５０は位置決めツール２６から除去され、一方位置決めツールはステップ１で識別された位置に保持される。第３のステップとして、調節ツール３０は、例えば図９Ｃに示されるように、位置決めツール２６の管３４内に配置され得る。代替として、センタリングツール５０が弁磁石１２０の中心を示すために使用された（即ち、ステップ１で組み合わされたセンタリング−表示ツールが使用されなかった）場合、ステップ３は弁設定を示すための表示ツール２８の配置を含み得、更なるステップ４（図示せず）は、例えば図９Ｃに記載されるようなツールの配置と同様に、表示ツールの除去及び調節ツール３０の配置を含み得る。言い換えると、センタリングツール５０が弁磁石１２０の磁気中心を見つけるために使用されれば、それに続く設定表示及び／又は調整ツールの使用は’７９３号出願に記載されたものと同じ方法で実行され得る。代替として、組み合わされたセンタリング−表示ツール（例えば１５０、２５０）が植え付けられた弁２０の磁気中心を見つける（即ち、磁石１２０の中心を見つける）のに利用され、且つ弁磁石１２０の中心を見つけることと併せて、ツール２５０の指標（例えば２５９、図７）又は位置決めツール２６の指標（図示せず）を指し示すことを経由して現在の弁設定も示すならば、調節ツールのみ、即ち第３のステップ（図９）が必要となるであろう。
【００３４】
[0049]本開示は特定の実施形態を参照して記載されてきたが、当業者は、形式上及び詳細の変更が、本開示の趣旨及び範囲から逸脱せずになされ得ることを理解するであろう。
【図１】
2016512723.tif 000003
【図２】
2016512723.tif 000004
【図３】
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【図３Ａ】
2016512723.tif 000006
【図３Ｂ】
2016512723.tif 000007
【図４】
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【図４Ａ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図５Ｆ】
2016512723.tif 000015
【図６】
2016512723.tif 000016
【図６Ａ】
2016512723.tif 000017
【図７】
2016512723.tif 000018
【図７Ａ】
2016512723.tif 000019
【図８】
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【図９Ａ】
2016512723.tif 000021
【図９Ｂ】
2016512723.tif 000022
【図９Ｃ】
2016512723.tif 000023
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月14日(2015.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調節可能弁の中心を見つけるためのセンタリングツールであって、前記ツールは、
空洞を含むハウジングと、
ツール磁石を備え、前記空洞内に配置され自由に移動可能な磁気カプセルと、
前記センタリングツールに配置されたターゲットとを備え、
前記磁気カプセルは、前記ツール磁石が調節可能弁の磁石と磁気的に整列する時、前記空洞内を滑動し且つ前記ターゲット内でセンタリングするように構成されている、
センタリングツール。
【請求項２】
前記ハウジングは上壁を含み、前記磁気カプセルは前記上壁を通して可視である、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項３】
前記ハウジングは円形のディスク形状を備える、請求項２に記載のセンタリングツール。
【請求項４】
前記ツール磁石は２つの磁石を備える、請求項３に記載のセンタリングツール。
【請求項５】
前記２つのツール磁石のそれぞれは、前記磁気カプセルの軸に対する垂直の極性を備える、請求項４に記載のセンタリングツール。
【請求項６】
前記磁気カプセルはディスク形状の磁気カプセルハウジングを備える、請求項５に記載のセンタリングツール。
【請求項７】
前記ターゲットは、前記磁気カプセルハウジングの周囲より大きい周囲を有する円を有する、請求項６に記載のセンタリングツール。
【請求項８】
更に前記空洞に含まれる流体を備える、請求項７に記載のセンタリングツール。
【請求項９】
前記磁気カプセルは磁気カプセルハウジングを備える、請求項８に記載のセンタリングツール。
【請求項１０】
前記磁気カプセルハウジングは矢印形状を備える、請求項９に記載のセンタリングツール。
【請求項１１】
前記磁石はハルバッハアレイを備える、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１２】
更に前記ツール磁石の上部に配置された金属片を備え、前記金属片は前記ツール磁石の厚さより薄い厚さを備える、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１３】
前記磁気カプセルは前記空洞の床に沿って滑動するように構成される、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１４】
前記センタリングツールは位置決めツールの管内に嵌められるように構成されている、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１５】
前記センタリングツールは外端に沿ってタブを備え、前記タブは前記位置決めツールの凹部の内径上の溝と相互接続するように構成される、請求項１３に記載のセンタリングツール。
【請求項１６】
前記磁気カプセルはポインタを備え、
前記磁気カプセルは、前記ポインタが弁設定値を指し示すために回転するように磁気カプセルの軸の周りを回転するように構成されている、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項１７】
前記ハウジングは前記弁設定値を含む指標を備える、請求項１６に記載のセンタリングツール。
【請求項１８】
前記ハウジングは上壁を含み、前記磁気カプセルは前記上壁を通して可視である、請求項１６に記載のセンタリングツール。
【請求項１９】
前記ターゲットは前記磁気カプセルの形状とほぼ類似する形状を備え、前記ターゲットの外周は前記磁気カプセルの外周より大きい、請求項１７に記載のセンタリングツール。
【請求項２０】
更に前記空洞内に含まれる流体を備える、請求項１７のセンタリングツール。
【請求項２１】
磁性中心を見つけて植え付けられた調節可能弁の設定を示すためのシステムであって、前記システムは、
管を備える位置決めツールと、
組み合わされたセンタリング−表示ツールを備え、前記組み合わされたセンタリング−表示ツールは、
空洞及び弁設定値を備える指標を備えるハウジングと、
ツール磁石及びポインタを備える磁気カプセルであって、前記磁気カプセルは前記空洞内に配置され自由に移動可能な、前記磁気カプセルと、
前記空洞内に配置されるターゲットとを備え、
前記磁気カプセルは、前記ツール磁石が前記調節可能弁磁石の前記磁性中心と磁気的に整列する時、前記ターゲット内に前記磁気カプセル自身をセンタリングさせるために前記空洞内を自由に移動するように構成され、
前記磁気カプセルは、前記ポインタが回転して前記指標の弁設定値を指し示すように磁気カプセルの軸の回りを回転するように構成され、
前記組み合わされたセンタリング−表示ツールは、前記位置決めツールが前記植え付けられた調節可能弁の近くにある時、前記位置決めツールの前記管内に配置されるよう構成される、システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
[0036]図３及び図３Ａはセンタリングツール５０を記載する。センタリングツール５０は円形のディスク形状を有する図３、図３Ａに記載されたハウジング又は容器６１を含む。しかし、ハウジング６１は、円形、球形、多角形や他の形状を含む様々な他の形状及び構成を含み得る。それでもなお、ハウジング６１はハウジング底面壁６２、側壁６４、上壁６６及び空洞７０を含む。空洞７０は空洞床７２と、空洞側壁７４と、空洞上部即ち天井７６により画定される。空洞７０は、油や例えば鉱油等の他の液体（図示せず）、又は例えばコンパス油として有用であり得る何れかの流体等の他の流体等の物質で満たされ得る。濃厚な流体が磁気カプセル８０に浮力を提供するため、又は磁気カプセル８０が中立的に浮力を有することができる。ように使用され得る。例えば、パーフルオロクロロカーボンが使用されてもよい。他の流体も企図される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ａ】
2016512723.tif 000024
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月9日(2015.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調節可能弁の中心を見つけるためのセンタリングツールであって、前記ツールは、
空洞を含むハウジングと、
ツール磁石を備え、前記空洞内に配置され自由に移動可能な磁気カプセルと、
前記センタリングツールに配置された対象とを備え、
前記磁気カプセルは、前記ツール磁石が調節可能弁の磁石と磁気的に整列する時、前記空洞内を滑動し且つ前記対象内でセンタリングするように構成されている、
センタリングツール。
【請求項２】
前記ハウジングは上壁を含み、前記磁気カプセルは前記上壁を通して可視である、請求項１に記載のセンタリングツール。
【請求項３】
前記ハウジングは円形のディスク形状を備える、請求項２に記載のセンタリングツール。
【請求項４】
前記ツール磁石は２つの磁石を備える、請求項３に記載のセンタリングツール。
【請求項５】
前記２つのツール磁石のそれぞれは、前記磁気カプセルの軸に対する垂直の極性を備える、請求項４に記載のセンタリングツール。
【請求項６】
前記磁気カプセルはディスク形状の磁気カプセルハウジングを備える、請求項５に記載のセンタリングツール。
【請求項７】
前記対象は、前記磁気カプセルハウジングの周囲より大きい周囲を有する円を備える、請求項６に記載のセンタリングツール。
【請求項８】
更に前記空洞に含まれる流体を備える、請求項７に記載のセンタリングツール。
【請求項９】
前記磁気カプセルは磁気カプセルハウジングを備える、請求項８に記載のセンタリングツール。
【請求項１０】
更に前記ツール磁石の上部に配置された金属片を備え、前記金属片は前記ツール磁石の厚さより薄い厚さを備える、請求項１に記載のセンタリングツール。
【国際調査報告】
2016512723.tif 000025
2016512723.tif 000026
2016512723.tif 000027