(57)【要約】患者、例えば、本明細書中に記載される障害を有する患者を評価するかまたは処置する方法が提供され、その方法は、ａ）必要に応じて患者サンプルを取得する工程；ｂ）対照基準と比較したときの２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルの変化について、そのサンプルの評価を取得する工程および／またはそのサンプルを評価する工程を含む。この方法は、有効量の、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を（例えば、前記サンプルの前記評価に応答性の）前記患者に投与する工程をさらに含んでもよい。【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者、例えば、本明細書中に記載される障害を有する患者を評価するかまたは処置する方法であって、該方法は、
ａ）必要に応じて患者サンプルを取得する工程；
ｂ）対照基準と比較したときの２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルの変化について、該サンプルの評価を取得する工程および／または該サンプルを評価する工程
を含む、方法。
【請求項２】
有効量の、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を（例えば、前記サンプルの前記評価に応答性の）前記患者に投与する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
有効量の、ＮＭＤＡＲのアンタゴニストまたはＮＭＤＡＲの負のアロステリックモジュレーター（ＮＡＭ）を（例えば、前記サンプルの前記評価に応答性の）前記患者に投与する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
有効量の、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物（例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物））を（例えば、前記サンプルの前記評価に応答性の）前記患者に投与する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
有効量の、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物（例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物））を（例えば、前記サンプルの前記評価に応答性の）前記患者に投与する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記方法が、前記患者を処置する工程をさらに含み、該患者は、記憶障害について処置されるか、または学習を改善するために処置される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記方法が、前記患者を薬物の過量服用について処置する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２０１３年３月１３日に出願された米国仮特許出願第６１／７８０，６７１号に対する米国特許法第１１９条（ｅ）項の下での優先権を主張する。この出願は、本明細書中に参考として援用される。
【背景技術】
【０００２】
発明の背景
脳の興奮性は、昏睡から痙攣に及ぶ連続である動物の覚醒レベルとして定義され、様々な神経伝達物質によって制御される。一般に、神経伝達物質は、ニューロン膜を越えたイオンのコンダクタンスの制御に関与する。静止時、ニューロン膜は、およそ−７０ｍＶの電位（または膜電圧）を有し、細胞内部は、細胞外部に対して負である。その電位（電圧）は、ニューロン半透膜を越えたイオン（Ｋ＋、Ｎａ＋、Ｃｌ−、有機アニオン）バランスの結果である。神経伝達物質は、前シナプス小胞に貯蔵され、ニューロン性活動電位の結果として放出される。シナプス間隙に放出されると、アセチルコリンなどの興奮性化学伝達物質は、膜の脱分極（−７０ｍＶから−５０ｍＶへの電位の変化）を引き起こす。この作用は、アセチルコリンによって刺激されてＮａ＋イオンの膜透過性を高めるシナプス後ニコチンレセプターによって媒介される。膜電位の低下は、シナプス後活動電位を発生させる確率を高め、それは、ニューロンの興奮性を上昇させる。
【０００３】
ＮＭＤＡレセプターは、ＣＮＳにおいて高度に発現され、興奮性シナプス伝達に関わる。これらのレセプターの活性化は、いくつかの状況ではシナプス可塑性に寄与し、他の状況では興奮毒性に関与する。これらのレセプターは、神経伝達物質であるグルタミン酸塩およびグリシンの結合の後にＣａ２＋を通すリガンド開口型（ｌｉｇａｎｄ−ｇａｔｅｄ）イオンチャネルであり、興奮性神経伝達および正常なＣＮＳ機能に不可欠である。ＮＭＤＡレセプターは、ＮＲ１、ＮＲ２および／またはＮＲ３サブユニットを含むヘテロマー複合体であり、外因性および内因性リガンドに対して異なる認識部位を有する。これらの認識部位は、グリシンならびにグルタミン酸塩アゴニストおよびモジュレーターに対する結合部位を含む。正のモジュレーターは、向知性薬としての臨床使用の可能性、およびグルタミン酸作動性伝達が低下しているかまたは不完全である精神障害の処置における臨床使用の可能性を有する治療薬として有用であり得る（例えば、Ｈｏｒａｋら、Ｊ．ｏｆ  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ，２００４，２４（４６），１０３１８−１０３２５を参照のこと）。対照的に、負のモジュレーターは、グルタミン酸作動性伝達が病的に増加している精神障害（例えば、処置抵抗性うつ病）の処置における臨床使用の可能性を有する治療薬（ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ  ａｇｅｎｓｔ）として有用であり得る。
【０００４】
硫酸プレグレノロン（ＰＳ）などの神経刺激性ステロイドは、いくつかのタイプの神経伝達物質レセプター（例えば、ＧＡＢＡＡレセプター、グリシンレセプター、ＡＭＰＡレセプター、カイニン酸レセプターおよびＮＭＤＡレセプター）に対して直接的な調節作用を発揮すると示されている。ＮＭＤＡレセプターは、ＰＳによって正に調節される；しかしながら、調節の程度は、例えば、レセプターのサブユニット組成に応じて、かなり異なる。
ＰＳに加えて、他のいくつかの３β−ヒドロキシステロイドが、ＮＭＤＡレセプターを増強すると示されている（例えば、Ｐａｕｌら、Ｊ．Ｐｈａｒｍ．ａｎｄ  Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．１９９４，２７１，６７７−６８２；Ｍａｄａｕら、Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｎｏ．６１３．２／Ｂ８７．２００９  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ  Ｍｅｅｔｉｎｇ  Ｐｌａｎｎｅｒ．Ｃｈｉｃａｇｏ，ＩＬ：Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｆｏｒ  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ，２００９；Ｃｏｎｎｉｃｋら、Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｎｏ．６１３．１／Ｂ８６．２００９  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ  Ｍｅｅｔｉｎｇ  Ｐｌａｎｎｅｒ．Ｃｈｉｃａｇｏ，ＩＬ：Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｆｏｒ  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ，２００９；Ｐａｕｌら、Ｊ．Ｎｅｕｒｏｓｃｉ．２０１３，３３，１７２９０−１７３００を参照のこと）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Ｈｏｒａｋら、Ｊ．ｏｆ  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ，２００４，２４（４６），１０３１８−１０３２５
【非特許文献２】Ｐａｕｌら、Ｊ．Ｐｈａｒｍ．ａｎｄ  Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．１９９４，２７１，６７７−６８２
【非特許文献３】Ｍａｄａｕら、Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｎｏ．６１３．２／Ｂ８７．２００９  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ  Ｍｅｅｔｉｎｇ  Ｐｌａｎｎｅｒ．Ｃｈｉｃａｇｏ，ＩＬ：Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｆｏｒ  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ，２００９
【非特許文献４】Ｃｏｎｎｉｃｋら、Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｎｏ．６１３．１／Ｂ８６．２００９  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ  Ｍｅｅｔｉｎｇ  Ｐｌａｎｎｅｒ．Ｃｈｉｃａｇｏ，ＩＬ：Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｆｏｒ  Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ，２００９
【非特許文献５】Ｐａｕｌら、Ｊ．Ｎｅｕｒｏｓｃｉ．２０１３，３３，１７２９０−１７３００
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
発明の要旨
患者、例えば、本明細書中に記載される障害を有する患者を評価するかまたは処置する方法が、とりわけ本明細書中に記載され、その方法は、ａ）必要に応じて患者サンプルを取得する工程；ｂ）対照基準と比較したときの２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルの変化についてサンプルの評価を取得する工程および／またはそのサンプルを評価する工程を含む。ある特定の実施形態において、その方法は、有効量の、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ａｌｌｏｓｔｅｒｉｃ  ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）（ＰＡＭ）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を患者に投与する工程をさらに含む。ある特定の実施形態において、その方法は、有効量の、ＮＭＤＡＲのアンタゴニストもしくはＮＭＤＡＲの負のアロステリックモジュレーター（ｎｅｇａｔｉｖｅ  ａｌｌｏｓｔｅｒｉｃ  ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）（ＮＡＭ）または式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を患者に投与する工程をさらに含む。いくつかの実施形態において、その方法は、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）を被験体に投与する工程をさらに含む。いくつかの実施形態において、その方法は、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）を患者に投与する工程をさらに含む。
【０００７】
ある特定の実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロール、構造的に関係するステロールもしくはステロイドまたはオキシステロールは、天然に存在する化合物（例えば、被験体の脳に天然に存在する化合物）、例えば、天然に存在するステロールまたはステロイドである。いくつかの実施形態において、上記方法は、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールを被験体に投与する工程を含む。いくつかの実施形態において、上記方法は、式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を被験体に投与する工程を含む。ある特定の実施形態において、上記方法は、有効量の、ＮＭＤＡＲのアンタゴニストもしくはＮＭＤＡＲの負のアロステリックモジュレーター（ＮＡＭ）または式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を患者に投与する工程を含む。いくつかの実施形態において、上記方法は、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）を被験体に投与する工程を含む。いくつかの実施形態において、上記方法は、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）を患者に投与する工程をさらに含む。
【０００８】
いくつかの実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールは、対照基準と比較され、ここで、その対照基準は、患者から予め取得された基準である。いくつかの実施形態において、対照基準は、患者サンプルに関連しない外部対照基準（例えば、ユニバーサル基準または処置および／もしくは診断のガイドラインからの基準）である。いくつかの実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルが、基準と比べて低下しているとき、上記方法は、その患者が、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物による処置に対する好適な候補であることを示唆する。ある特定の実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルが、対照基準と比べて上昇しているとき、上記方法は、その患者が、ＮＭＤＡＲのアンタゴニスト、ＮＭＤＡＲの負のアロステリックモジュレーター（ＮＡＭ）または２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性もしくは内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）による処置に対する好適な候補であることを示唆する。ある特定の実施形態において、上記方法は、有効量の、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を患者に投与する工程をさらに含む。ある特定の実施形態において、上記方法は、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物による患者の処置を控える工程をさらに含む。ある特定の実施形態において、上記方法は、有効量の、ＮＭＤＡＲのアンタゴニストもしくはＮＭＤＡＲの負のアロステリックモジュレーター（ＮＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性もしくは内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）または式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を患者に投与する工程をさらに含む。
【０００９】
いくつかの実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルが、対照基準と比べて上昇しているかまたは対照基準と比べて低下しているとき、患者は、２４（ｓ）ヒドロキシコレステロールの合成または代謝に関わる生合成酵素における変異または多型についてさらに評価される。いくつかの実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルが、対照基準と比べて上昇しているかまたは対照基準と比べて低下しているとき、患者は、２４（ｓ）ヒドロキシコレステロールの合成または代謝に関わる生合成酵素に変異または多型を有すると判定される。
【００１０】
ある特定の実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルは、被験体における２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたはそのフラグメントもしくは代謝産物のレベルの評価によって計測される。ある特定の実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルは、クロマトグラフィー（例えば、ＨＰＬＣ）法、分光学的（例えば、ＭＳ）方法または核磁気共鳴（ＮＭＲ）法によって計測される。
【００１１】
ある特定の実施形態において、患者サンプルは、体液サンプル、例えば、血液サンプルである。ある特定の実施形態において、患者サンプルは、生検材料、例えば、脳生検材料、単離検体または外科検体である。ある特定の実施形態において、患者サンプルは、治療を施す前に取得される。ある特定の実施形態において、第１の治療は、患者の評価の前、および／あるいは２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物の投与の前に施される。ある特定の実施形態において、患者サンプルは、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物の投与以外の治療を施した後に取得される。ある特定の実施形態において、第１の治療は、患者の評価の前、および／あるいはＮＭＤＡＲのアンタゴニストもしくはＮＭＤＡＲの負のアロステリックモジュレーター（ＮＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性もしくは内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）または式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物の投与の前に施される。ある特定の実施形態において、患者サンプルは、ＮＭＤＡＲのアンタゴニストもしくはＮＭＤＡＲの負のアロステリックモジュレーター（ＮＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性もしくは内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物の投与以外の治療を施した後に取得される。
【００１２】
１つの態様において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールと相互作用できる複数の作用物質を備えるキットまたは製品も本明細書中に記載される。ある特定の実施形態において、その作用物質は、ＮＭＤＡＲまたはＮＭＤＡである。いくつかの実施形態において、作用物質は、放射性標識または蛍光標識などの標識である／これらを含む。いくつかの実施形態において、その作用物質は、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールと相互作用するプローブである。
【００１３】
ある特定の実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールは、患者サンプル、例えば、血液、血漿、血清、脳脊髄液、循環および間質液レベルまたは外科検体から得られる。
【００１４】
ある特定の実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルに対する値が、測定される。ある特定の実施形態において、その値は、対照基準、例えば、患者サンプルの２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルと比較される。
【００１５】
１つの態様において、被験体サンプル中の、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールと相互作用できる作用物質（例えば、プローブ、ＮＭＤＡまたはＮＭＤＡＲ）を含む２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルをアッセイする方法も本明細書中に記載され；ここで、その方法は、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルをアッセイする工程を含む。
【００１６】
ある特定の実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールは、患者サンプル、例えば、血液、血漿、血清、脳脊髄液、循環および間質液レベルまたは外科検体から得られる。
【００１７】
ある特定の実施形態において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルに対する値が、測定される。ある特定の実施形態において、その値は、対照基準、例えば、患者サンプルの２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルと比較される。
【００１８】
１つの態様において、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールおよび２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールと相互作用できる作用物質（例えば、プローブ、ＮＭＤＡまたはＮＭＤＡＲ）を含む反応混合物も本明細書中に記載される。
【００１９】
１つの態様において、反応混合物を作製する方法も本明細書中に記載され、その方法は、
２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールを、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールと相互作用できる作用物質（例えば、プローブ、ＮＭＤＡまたはＮＭＤＡＲ）と混和する工程
を含む。
【００２０】
本明細書中に記載される新規化合物は、潜在的なＮＭＤＡレセプターモジュレーター（例えば、正のアロステリックモジュレーター（すなわち、ＰＡＭ）または負のアロステリックモジュレーター（すなわち、ＮＡＭ））ならびに２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性を増加させるかまたは減少させるがゆえに広範囲のＣＮＳ関連症状（精神分裂病、うつ病、双極性障害（例えば、Ｉおよび／またはＩＩ）、統合失調感情障害、気分障害、不安障害、人格障害、精神病、強迫性障害、外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）、自閉症圏障害（ＡＳＤ）、気分変調（軽症うつ病）、社会不安障害、強迫性障害（ＯＣＤ）、疼痛（例えば、有痛性症候群または障害）、睡眠障害、記憶障害（例えば、記憶機能障害）、痴呆、アルツハイマー病、発作性障害（例えば、癲癇）、外傷性脳損傷、脳卒中、嗜癖障害（例えば、オピエート類、コカインおよび／またはアルコールに対する嗜癖）、自閉症、ハンチントン病、不眠、パーキンソン病、離脱症候群または耳鳴を含むがこれらに限定されない）の予防および／または処置にとって有用な化合物である。これらの化合物は、改善されたインビボ効力、薬物動態学的（ＰＫ）特性、経口バイオアベイラビリティ、製剤化適性（ｆｏｒｍｕｌａｔａｂｉｌｉｔｙ）、安定性および／または安全性を示すと予想される。いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される化合物は、学習を改善するために使用され得る。いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される化合物は、過量服用、例えば、薬物の過量服用（例えば、ケタミンまたはＰＣＰの過量服用）を処置するために使用され得る。
【００２１】
本明細書中に記載される方法、例えば、評価および処置の方法は、本明細書中に記載される化合物とともに使用され得る。本明細書中に記載される例示的な化合物としては、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）が挙げられる。いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される化合物は、ＮＭＤＡＲの負のアロステリックモジュレーター（ＮＡＭ）である。本明細書中に記載される化合物は、天然に存在するおよび天然に存在しないステロイドおよびステロール（例えば、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロール（ｈｙｄｒｘｃｈｏｌｅｓｔｅｒｏｌ））も含む。いくつかの実施形態において、その化合物は、オキシステロールである。いくつかの実施形態において、その化合物は、式（Ｉ）の化合物に示されているように、Ｃ−１７β側アルキル側鎖（ｓｉｄｅ  ａｌｋｙｌ  ｓｉｄｅ  ｃｈａｉｎ）を有し、ステロイド骨格の様々な位置に随意の置換を有する３−βヒドロキシルステロイドである。いくつかの実施形態において、上記方法は、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）または２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性もしくは内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）とともに使用される。
【００２２】
いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される方法、例えば、本明細書中に記載される評価または処置の方法において使用される化合物は、式（Ｉ）に記載の化合物：
【化１】
2016514967.tif 000002
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせであり；
式中：
Ｚは、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）または（ｖ）の基であり：
【化２】
2016514967.tif 000003
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ、ＲＺ４、ＲＺ５、ＲＺ６、ｎ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１４、Ｒ１７、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２３ａ、Ｒ２３ｂおよびＲ２４は、本明細書中で定義されるとおりであり；Ｃ３位における基−ＸＲ３ｂは、アルファまたはベータである。
【００２３】
例えば、ある特定の実施形態において、式（Ｉ）化合物は、式（Ｉ−ｗ）の化合物：
【化３】
2016514967.tif 000004
またはその薬学的に許容され得る塩であり；
式中：
Ｚは、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）または（ｖ）の基であり：
【化４】
2016514967.tif 000005
Ｌ１およびＬ２は、結合、置換または非置換Ｃ１−Ｃ６アルキレン、置換または非置換Ｃ２−Ｃ６アルケニレン、置換または非置換Ｃ２−Ｃ６アルキニレン、置換または非置換ヘテロＣ１−Ｃ６アルキレン、置換または非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルケニレンおよび置換または非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルキニレンからなる群より選択され；
Ｌ３は、置換もしくは非置換Ｃ１−Ｃ６アルキレン、置換もしくは非置換Ｃ２−Ｃ６アルケニレン、置換もしくは非置換Ｃ２−Ｃ６アルキニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ１−Ｃ６アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルケニレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルキニレンであり；
Ｘ１およびＸ２の各実例は、独立して、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−であり；
Ｒ１は、水素または置換もしくは非置換アルキルであり；
Ｒ３ｂは、水素であり；
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニルであり；
Ｒ２、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂの各実例は、独立して、水素または−ＯＲＢ１であり、ここで、ＲＢ１は、水素または置換もしくは非置換アルキルであるか、あるいはＲ１１ａおよびＲ１１ｂは、一体となって、オキソ（＝Ｏ）基を形成し；
Ｒ６ａおよびＲ６ｂの各々は、独立して、水素、ハロまたは置換もしくは非置換アルキルであり、
【化５】
2016514967.tif 000006
は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂのうちの一方は存在せず、単結合が存在する場合、Ｃ５における水素は、アルファ位またはベータ位であり；
Ｒ１９およびＲ２０の各実例は、独立して、水素または−ＣＨ３であり；
Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの各実例は、独立して、水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換アルキルであるか、あるいはＲ２３ａおよびＲ２３ｂは、共に接続して、置換または非置換Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルを形成し；
Ｒ２４は、水素または置換もしくは非置換アルキルであり；
Ｙは、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲＺ５−であり；
ＲＺ４は、独立して、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、−ＯＲＺ５、−ＳＲＺ５または−Ｎ（ＲＺ５）２であり；
ＲＺ５の各実例は、独立して、水素または置換もしくは非置換アルキルであり；
ＲＺ６の各実例は、独立して、水素または置換もしくは非置換アルキルであるか、あるいは２つのＲＺ６基は、接続して、Ｃ３−６炭素環を形成し；
下付き文字ｎは、０または１であるが；
但し、以下の化合物は、明確に除外される：
【化６】
2016514967.tif 000007
いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される方法において使用される化合物は、
【化７】
2016514967.tif 000008
である。
【００２４】
ある特定の実施形態において、Ｚは、以下の式の基である：
【化８】
2016514967.tif 000009
【００２５】
ある特定の実施形態において、Ｌ３は、以下の式の基であり：
【化９】
2016514967.tif 000010
式中、ｐは、１、２または３であり；ＲＺ７およびＲＺ８の各実例は、独立して、水素、ハロ、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキルまたは−ＯＲＺ５である。
【００２６】
ある特定の実施形態において、Ｌ３は、以下の式の基であり：
【化１０】
2016514967.tif 000011
式中、ｗは、０もしくは１であり、かつｐは、１、２もしくは３であるか、またはｗは、１であり、かつｐは、０、１、２もしくは３であり；ＲＺ７およびＲＺ８の各実例は、独立して、水素、ハロ、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキルまたは−ＯＲＺ５である。
【００２７】
ある特定の実施形態において、Ｌ３は、以下の式の基である：
【化１１】
2016514967.tif 000012
【００２８】
ある特定の実施形態において、Ｌ３は、以下の式の基である：
【化１２】
2016514967.tif 000013
【００２９】
ある特定の実施形態において、Ｌ３は、以下の式の基である：
【化１３】
2016514967.tif 000014
【００３０】
ある特定の実施形態において、Ｚは、式
【化１４】
2016514967.tif 000015
である。
【００３１】
ある特定の実施形態において、基
【化１５】
2016514967.tif 000016
は、以下の式である：
【化１６】
2016514967.tif 000017
【化１７】
2016514967.tif 000018
【００３２】
ある特定の実施形態において、Ｚは、式
【化１８】
2016514967.tif 000019
である。
【００３３】
ある特定の実施形態において、Ｙは、−Ｏ−であり、Ｌ３は、アルキレン基またはヘテロアルキレン基である。
【００３４】
ある特定の実施形態において、基
【化１９】
2016514967.tif 000020
は、以下の式である：
【化２０】
2016514967.tif 000021
【００３５】
ある特定の実施形態において、Ｚは、式
【化２１】
2016514967.tif 000022
である。
【００３６】
ある特定の実施形態において、Ｙは、−Ｏ−であり、Ｌ３は、アルキレンまたはヘテロアルキレンである。
【００３７】
ある特定の実施形態において、基
【化２２】
2016514967.tif 000023
は、以下の式である：
【化２３】
2016514967.tif 000024
【００３８】
ある特定の実施形態において、基−Ｘ１Ｒ３ｂは、ベータ位に存在し、Ｒ３ａは、アルファ位に存在する。ある特定の実施形態において、−Ｘ１Ｒ３ｂは、−ＯＨである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロゲンまたは置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１であり、Ｒ１１ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂは、一体となって、オキソ基を形成する。ある特定の実施形態において、
【化２４】
2016514967.tif 000025
は、単結合を表し、Ｃ５における水素は、アルファ位に存在する。ある特定の実施形態において、
【化２５】
2016514967.tif 000026
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、−ＣＨ３である。
【００３９】
別の態様において、本発明の化合物および薬学的に許容され得るキャリアを含む薬学的組成物が提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、有効量で提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、治療有効量で提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、予防有効量で提供される。
【００４０】
ある特定の態様において、本発明の化合物は、ＮＭＤＡレセプターの負のアロステリックモジュレーター（ＮＡＭ）として提供されるがゆえに、精神分裂病、うつ病、双極性障害（ＩおよびＩＩ）、統合失調感情障害、気分障害、不安障害、人格障害、精神病、強迫性障害、外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）、自閉症圏障害（ＡＳＤ）、気分変調（軽症うつ病）、社会不安障害、強迫性障害（ＯＣＤ）、すべての疼痛症候群および障害、睡眠障害、記憶障害および痴呆（アルツハイマー病、癲癇および任意の発作性障害を含む）、外傷性脳損傷（ＴＢＩ）、脳卒中、嗜癖障害（オピエート類およびコカインおよびアルコールを含む）、自閉症、ハンチントン病、不眠、パーキンソン病、離脱症候群または耳鳴を含むがこれらに限定されない広範囲のＣＮＳ症状の予防および／または処置に有用である。例えば、１つの態様において、ＮＭＤＡレセプターの調節の方法が提供され、その方法は、有効量の本発明の化合物を、それを必要とする被験体に投与する工程を含む。別の態様において、ＣＮＳ活性を調節する方法が提供され、その方法は、有効量の本発明の化合物を、それを必要とする被験体に投与する工程を含む。なおも別の態様において、脳の興奮性を調節する方法が提供され、その方法は、有効量の本発明の化合物を、それを必要とする被験体に投与する工程を含む。
【００４１】
他の目的および利点は、次の詳細な説明、実施例および請求項を考慮に入れることによって、当業者には明らかになるだろう。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
定義
化学的定義
0  具体的な官能基および化学用語の定義を下記でより詳細に説明する。化学元素は、元素周期表、ＣＡＳバージョン、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ，７５ｔｈ  Ｅｄ．，内表紙に従って特定され、具体的な官能基は、一般に、その中に記載されているとおりに定義される。さらに、有機化学の一般原理、ならびに具体的な官能性部分および反応性は、Ｔｈｏｍａｓ  Ｓｏｒｒｅｌｌ，Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  Ｂｏｏｋｓ，Ｓａｕｓａｌｉｔｏ，１９９９；Ｓｍｉｔｈ  ａｎｄ  Ｍａｒｃｈ，Ｍａｒｃｈ’ｓ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，５ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，２００１；Ｌａｒｏｃｋ，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ，ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９８９；およびＣａｒｒｕｔｈｅｒｓ，Ｓｏｍｅ  Ｍｏｄｅｒｎ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，３ｒｄ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ  Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  Ｐｒｅｓｓ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，１９８７に記載されている。
【００４３】
本明細書に記載される化合物は、１つまたはそれを超える不斉中心を含み得、ゆえに、様々な異性形態、例えば、鏡像異性体および／またはジアステレオマーとして存在し得る。例えば、本明細書中に記載される化合物は、個々の鏡像異性体、ジアステレオマーもしくは幾何異性体の形態であり得るか、またはラセミ混合物および１つまたはそれを超える立体異性体に濃縮された混合物をはじめとした立体異性体の混合物の形態であり得る。異性体は、キラル高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）ならびにキラル塩の形成および結晶化を含む当業者に公知の方法によって混合物から単離され得るか；または好ましい異性体が、不斉合成によって調製され得る。例えば、Ｊａｃｑｕｅｓら、Ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒｓ，Ｒａｃｅｍａｔｅｓ  ａｎｄ  Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｓ（Ｗｉｌｅｙ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９８１）；Ｗｉｌｅｎら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  ３３：２７２５（１９７７）；Ｅｌｉｅｌ，Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｃａｒｂｏｎ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ（ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ，ＮＹ，１９６２）；およびＷｉｌｅｎ，Ｔａｂｌｅｓ  ｏｆ  Ｒｅｓｏｌｖｉｎｇ  Ａｇｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｓ  ｐ．２６８（Ｅ．Ｌ．Ｅｌｉｅｌ，Ｅｄ．，Ｕｎｉｖ．ｏｆ  Ｎｏｔｒｅ  Ｄａｍｅ  Ｐｒｅｓｓ，Ｎｏｔｒｅ  Ｄａｍｅ，ＩＮ  １９７２）を参照のこと。本発明は、他の異性体を実質的に含まない個々の異性体として、あるいは、様々な異性体の混合物として、本明細書中に記載される化合物をさらに包含する。
【００４４】
値の範囲を列挙するとき、それは、その範囲内の各値および部分範囲を包含すると意図される。例えば、「Ｃ１−６アルキル」は、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ１−６、Ｃ１−５、Ｃ１−４、Ｃ１−３、Ｃ１−２、Ｃ２−６、Ｃ２−５、Ｃ２−４、Ｃ２−３、Ｃ３−６、Ｃ３−５、Ｃ３−４、Ｃ４−６、Ｃ４−５およびＣ５−６アルキルを包含すると意図される。
【００４５】
以下の用語は、下記にそれらとともに提示される意味を有すると意図されており、本発明の説明および意図される範囲の理解に有用である。化合物、そのような化合物を含む薬学的組成物ならびにそのような化合物および組成物を使用する方法を含み得る本発明を説明する際、以下の用語は、存在する場合、別段示されない限り、以下の意味を有する。本明細書中に記載されるとき、下記に定義される部分のいずれもが、種々の置換基で置換され得ること、およびそれぞれの定義が、下記に示されるようなそれらの範囲内にそのような置換部分を含むと意図されることも理解されるべきである。別段述べられない限り、用語「置換される」は、下記に示されるように定義されるべきである。用語「基」および「ラジカル」は、本明細書中で使用されるとき、相互交換可能であると考えられ得ることが、さらに理解されるべきである。冠詞「ａ」および「ａｎ」は、１つの、または１つより多い（すなわち、少なくとも１つの）、その冠詞の文法上の目的語を指すために本明細書中で使用され得る。例として、「アナログ（ａｎ  ａｎａｌｏｇｕｅ）」は、１つのアナログまたは１つより多いアナログを意味する。
【００４６】
「アルキル」とは、１〜２０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素基のラジカル（「Ｃ１−２０アルキル」）のことを指す。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜１２個の炭素原子を有する（「Ｃ１−１２アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜１０個の炭素原子を有する（「Ｃ１−１０アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ１−９アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ１−８アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ１−７アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜６個の炭素原子を有する（本明細書中で「低級アルキル」とも称される「Ｃ１−６アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ１−５アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ１−４アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ１−３アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１〜２個の炭素原子を有する（「Ｃ１−２アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１つの炭素原子を有する（「Ｃ１アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２−６アルキル」）。Ｃ１−６アルキル基の例としては、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）およびｎ−ヘキシル（Ｃ６）が挙げられる。アルキル基のさらなる例としては、ｎ−ヘプチル（Ｃ７）、ｎ−オクチル（Ｃ８）などが挙げられる。別段特定されない限り、アルキル基の各実例は、独立して、必要に応じて置換され、すなわち、非置換である（「非置換アルキル」）か、または１つもしくはそれを超える置換基；例えば、１〜５個の置換基、１〜３個の置換基もしくは１つの置換基で置換される（「置換アルキル」）。ある特定の実施形態において、アルキル基は、非置換Ｃ１−１０アルキル（例えば、−ＣＨ３）である。ある特定の実施形態において、アルキル基は、置換Ｃ１−１０アルキルである。通常のアルキルの省略形としては、Ｍｅ（−ＣＨ３）、Ｅｔ（−ＣＨ２ＣＨ３）、ｉＰｒ（−ＣＨ（ＣＨ３）２）、ｎＰｒ（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｎ−Ｂｕ（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）またはｉ−Ｂｕ（−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）が挙げられる。
【００４７】
本明細書中で使用されるとき、「アルキレン」、「アルケニレン」および「アルキニレン」とは、それぞれアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基の二価のラジカルのことを指す。炭素の範囲または数が、特定の「アルキレン」、「アルケニレン」および「アルキニレン」基に対して提供されるとき、その範囲または数は、直鎖状の二価の炭素鎖における炭素の範囲または数のことを指すと理解される。「アルキレン」、「アルケニレン」および「アルキニレン」基は、本明細書中に記載されるような１つまたはそれを超える置換基で置換され得るか、または非置換であり得る。
【００４８】
「アルキレン」とは、二価のラジカルを提供するように２つの水素が除去されたアルキル基のことを指し、それは、置換または非置換であり得る。非置換アルキレン基としては、メチレン（−ＣＨ２−）、エチレン（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロピレン（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ブチレン（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ペンチレン（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ヘキシレン（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）などが挙げられるがこれらに限定されない。例示的な置換アルキレン基、例えば、１つまたはそれを超えるアルキル（メチル）基で置換されたアルキレン基としては、置換メチレン（−ＣＨ（ＣＨ３）−、（−Ｃ（ＣＨ３）２−）、置換エチレン（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−）、置換プロピレン（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−）などが挙げられるがこれらに限定されない。
【００４９】
「アルケニル」とは、２〜２０個の炭素原子、１つまたはそれを超える炭素−炭素二重結合（例えば、１、２、３または４つの二重結合）を有し、三重結合を有しない直鎖または分枝鎖の炭化水素基のラジカル（「Ｃ２−２０アルケニル」）のことを指す。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２〜１０個の炭素原子を有する（「Ｃ２−１０アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ２−９アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ２−８アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ２−７アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２−６アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ２−５アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ２−４アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ２−３アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルケニル」）。１つまたはそれを超える炭素−炭素二重結合は、内部に存在し得るか（例えば、２−ブテニル）または末端に存在し得る（例えば、１−ブテニル）。Ｃ２−４アルケニル基の例としては、エテニル（Ｃ２）、１−プロペニル（Ｃ３）、２−プロペニル（Ｃ３）、１−ブテニル（Ｃ４）、２−ブテニル（Ｃ４）、ブタジエニル（Ｃ４）などが挙げられる。Ｃ２−６アルケニル基の例としては、上述のＣ２−４アルケニル基、ならびにペンテニル（Ｃ５）、ペンタジエニル（Ｃ５）、ヘキセニル（Ｃ６）などが挙げられる。アルケニルのさらなる例としては、ヘプテニル（Ｃ７）、オクテニル（Ｃ８）、オクタトリエニル（Ｃ８）などが挙げられる。別段特定されない限り、アルケニル基の各実例は、独立して、必要に応じて置換され、すなわち、非置換である（「非置換アルケニル」）かまたは１つもしくはそれを超える置換基、例えば、１〜５個の置換基、１〜３個の置換基もしくは１つの置換基で置換される（「置換アルケニル」）。ある特定の実施形態において、アルケニル基は、非置換Ｃ２−１０アルケニルである。ある特定の実施形態において、アルケニル基は、置換Ｃ２−１０アルケニルである。
【００５０】
「アルケニレン」とは、二価のラジカルを提供するように２つの水素が除去されたアルケニル基のことを指し、それは、置換または非置換であり得る。例示的な非置換の二価のアルケニレン基としては、エテニレン（−ＣＨ＝ＣＨ−）およびプロペニレン（例えば、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−）が挙げられるがこれらに限定されない。例示的な置換アルケニレン基、例えば、１つまたはそれを超えるアルキル（メチル）基で置換されたアルケニレン基としては、置換エチレン（−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）−）、置換プロピレン（例えば、−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ＝ＣＨＣ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ３）２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）−）などが挙げられるがこれらに限定されない。
【００５１】
「アルキニル」とは、２〜２０個の炭素原子、１つまたはそれを超える炭素−炭素三重結合（例えば、１、２、３または４つの三重結合）および必要に応じて１つまたはそれを超える二重結合（例えば、１、２、３または４つの二重結合）を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素基のラジカル（「Ｃ２−２０アルキニル」）のことを指す。１つまたはそれを超える三重結合および１つまたはそれを超える二重結合を有するアルキニル基は、「エン−イエン」基とも称される。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２〜１０個の炭素原子を有する（「Ｃ２−１０アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ２−９アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ２−８アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ２−７アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２−６アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ２−５アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ２−４アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ２−３アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルキニル」）。１つまたはそれを超える炭素−炭素三重結合は、内部に存在し得るか（例えば、２−ブチニル）または末端に存在し得る（例えば、１−ブチニル）。Ｃ２−４アルキニル基の例としては、エチニル（Ｃ２）、１−プロピニル（Ｃ３）、２−プロピニル（Ｃ３）、１−ブチニル（Ｃ４）、２−ブチニル（Ｃ４）などが挙げられるがこれらに限定されない。Ｃ２−６アルケニル基の例としては、上述のＣ２−４アルキニル基、ならびにペンチニル（Ｃ５）、ヘキシニル（Ｃ６）などが挙げられる。アルキニルのさらなる例としては、ヘプチニル（Ｃ７）、オクチニル（Ｃ８）などが挙げられる。別段特定されない限り、アルキニル基の各実例は、独立して、必要に応じて置換され、すなわち、非置換である（「非置換アルキニル」）か、または１つもしくはそれを超える置換基；例えば、１〜５個の置換基、１〜３個の置換基もしくは１つの置換基で置換される（「置換アルキニル」）。ある特定の実施形態において、アルキニル基は、非置換Ｃ２−１０アルキニルである。ある特定の実施形態において、アルキニル基は、置換Ｃ２−１０アルキニルである。
【００５２】
「アルキニレン」とは、二価のラジカルを提供するように２つの水素が除去された直鎖のアルキニル基のことを指し、それは、置換または非置換であり得る。例示的な二価のアルキニレン基としては、置換または非置換エチニレン、置換または非置換プロピニレンなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【００５３】
用語「ヘテロアルキル」は、本明細書中で使用されるとき、親鎖の中に１つまたはそれを超える（例えば、１、２、３または４つの）ヘテロ原子（例えば、酸素、硫黄、窒素、ホウ素、ケイ素、リン）をさらに含む本明細書中で定義されるようなアルキル基のことを指し、ここで、その１つもしくはそれを超えるヘテロ原子は、親炭素鎖の中の隣接する炭素原子間に挿入されており、かつ／または１つもしくはそれを超えるヘテロ原子は、炭素原子と親分子との間、すなわち、接着点の間に挿入されている。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基とは、１〜１０個の炭素原子および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１−１０アルキル」）のことを指す。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１〜９個の炭素原子および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１−９アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１〜８個の炭素原子および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１−８アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１〜７個の炭素原子および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１−７アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１〜６個の炭素原子および１、２または３個のヘテロ原子を有する基（「ヘテロＣ１−６アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１〜５個の炭素原子および１または２個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１−５アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１〜４個の炭素原子および１または２個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１−４アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１〜３個の炭素原子および１つのヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１−３アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１〜２個の炭素原子および１つのヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１−２アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１つの炭素原子および１つのヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、２〜６個の炭素原子および１または２個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ２−６アルキル」）である。別段特定されない限り、ヘテロアルキル基の各実例は、独立して、非置換である（「非置換ヘテロアルキル」）か、または１つもしくはそれを超える置換基で置換される（「置換ヘテロアルキル」）。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基は、非置換ヘテロＣ１−１０アルキルである。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基は、置換ヘテロＣ１−１０アルキルである。
【００５４】
用語「ヘテロアルケニル」は、本明細書中で使用されるとき、１つまたはそれを超える（例えば、１、２、３または４つの）ヘテロ原子（例えば、酸素、硫黄、窒素、ホウ素、ケイ素、リン）をさらに含む本明細書中で定義されるようなアルケニル基のことを指し、ここで、その１つもしくはそれを超えるヘテロ原子は、親炭素鎖の中の隣接する炭素原子間に挿入されており、かつ／または１つもしくはそれを超えるヘテロ原子は、炭素原子と親分子との間、すなわち、接着点の間に挿入されている。ある特定の実施形態において、ヘテロアルケニル基とは、２〜１０個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する基（「ヘテロＣ２−１０アルケニル」）のことを指す。いくつかの実施形態において、ヘテロアルケニル基は、２〜９個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−９アルケニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルケニル基は、２〜８個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−８アルケニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルケニル基は、２〜７個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−７アルケニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルケニル基は、２〜６個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１、２または３個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−６アルケニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルケニル基は、２〜５個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−５アルケニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルケニル基は、２〜４個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−４アルケニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルケニル基は、２〜３個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１つのヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−３アルケニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルケニル基は、２〜６個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合および１または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−６アルケニル」）。別段特定されない限り、ヘテロアルケニル基の各実例は、独立して、非置換である（「非置換ヘテロアルケニル」）か、または１つもしくはそれを超える置換基で置換される（「置換ヘテロアルケニル」）。ある特定の実施形態において、ヘテロアルケニル基は、非置換ヘテロＣ２−１０アルケニルである。ある特定の実施形態において、ヘテロアルケニル基は、置換ヘテロＣ２−１０アルケニルである。
【００５５】
用語「ヘテロアルキニル」は、本明細書中で使用されるとき、１つまたはそれを超える（例えば、１、２、３または４つの）ヘテロ原子（例えば、酸素、硫黄、窒素、ホウ素、ケイ素、リン）をさらに含む本明細書中で定義されるようなアルキニル基のことを指し、ここで、その１つもしくはそれを超えるヘテロ原子は、親炭素鎖の中の隣接する炭素原子間に挿入されており、かつ／または１つもしくはそれを超えるヘテロ原子は、炭素原子と親分子との間、すなわち、接着点の間に挿入されている。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキニル基とは、２〜１０個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する基（「ヘテロＣ２−１０アルキニル」）のことを指す。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキニル基は、２〜９個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−９アルキニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキニル基は、２〜８個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−８アルキニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキニル基は、２〜７個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１、２、３または４個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−７アルキニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキニル基は、２〜６個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１、２または３個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−６アルキニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキニル基は、２〜５個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−５アルキニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキニル基は、２〜４個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−４アルキニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキニル基は、２〜３個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１つのヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−３アルキニル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキニル基は、２〜６個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合および１または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２−６アルキニル」）。別段特定されない限り、ヘテロアルキニル基の各実例は、独立して、非置換である（「非置換ヘテロアルキニル」）か、または１つもしくはそれを超える置換基で置換される（「置換ヘテロアルキニル」）。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキニル基は、非置換ヘテロＣ２−１０アルキニルである。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキニル基は、置換ヘテロＣ２−１０アルキニルである。
【００５６】
本明細書中で使用されるとき、「アルキレン」、「アルケニレン」、「アルキニレン」、「ヘテロアルキレン」、「ヘテロアルケニレン」および「ヘテロアルキニレン」とは、それぞれアルキル、アルケニル、アルキニル基、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニルおよびヘテロアルキニル基の二価のラジカルのことを指す。炭素の範囲または数が、特定の「アルキレン」、「アルケニレン」、「アルキニレン」、「ヘテロアルキレン」、「ヘテロアルケニレン」または「ヘテロアルキニレン」基に対して提供されるとき、その範囲または数は、直鎖状の二価の炭素鎖における炭素の範囲または数のことを指すと理解される。「アルキレン」、「アルケニレン」、「アルキニレン」、「ヘテロアルキレン」、「ヘテロアルケニレン」および「ヘテロアルキニレン」基は、本明細書中に記載されるような１つもしくはそれを超える置換基で置換され得るか、または非置換であり得る。
【００５７】
「アリール」とは、芳香環系として提供される６〜１４個の環炭素原子および０個のヘテロ原子を有する単環式または多環式（例えば、二環式または三環式）の４ｎ＋２芳香環系（例えば、環状に並んだ状態で共有される６、１０または１４個のπ電子を有する）のラジカル（「Ｃ６−１４アリール」）のことを指す。いくつかの実施形態において、アリール基は、６個の環炭素原子を有する（「Ｃ６アリール」；例えば、フェニル）。いくつかの実施形態において、アリール基は、１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ１０アリール」；例えば、ナフチル、例えば、１−ナフチルおよび２−ナフチル）。いくつかの実施形態において、アリール基は、１４個の環炭素原子を有する（「Ｃ１４アリール」；例えば、アントラシル）。「アリール」は、上で定義されたようなアリール環が１つまたはそれを超えるカルボシクリル基またはヘテロシクリル基と融合した環系も含み、ここで、そのラジカルまたは接着点は、アリール環上に存在し、そのような場合、炭素原子の数は、アリール環系の中の炭素原子の数を引き続き指摘する。典型的なアリール基としては、アセアントリレン、アセナフチレン、アセフェナントリレン、アントラセン、アズレン、ベンゼン、クリセン、コロネン、フルオランテン、フルオレン、ヘキサセン、ヘキサフェン、ヘキサレン、ａｓ−インダセン、ｓ−インダセン、インダン、インデン、ナフタレン、オクタセン、オクタフェン、オクタレン、オバレン、ペンタ−２，４−ジエン、ペンタセン、ペンタレン、ペンタフェン、ペリレン、フェナレン、フェナントレン、ピセン、プレイアデン、ピレン、ピラントレン、ルビセン、トリフェニレンおよびトリナフタレンから得られる基が挙げられるがこれらに限定されない。特に、アリール基には、フェニル、ナフチル、インデニルおよびテトラヒドロナフチルが含まれる。別段特定されない限り、アリール基の各実例は、独立して、必要に応じて置換され、すなわち、非置換である（「非置換アリール」）か、または１つもしくはそれを超える置換基で置換される（「置換アリール」）。ある特定の実施形態において、アリール基は、非置換Ｃ６−１４アリールである。ある特定の実施形態において、アリール基は、置換Ｃ６−１４アリールである。
【００５８】
ある特定の実施形態において、ハロ、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ１−Ｃ８ハロアルキル、シアノ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ８アルコキシおよびアミノから選択される基のうちの１つまたはそれを超える基で置換されるアリール基。
【００５９】
代表的な置換アリールの例としては、以下
【化２６】
2016514967.tif 000027
が挙げられ、式中、Ｒ５６およびＲ５７のうちの１つは、水素であり得、Ｒ５６およびＲ５７のうちの少なくとも１つは、各々独立して、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ１−Ｃ８ハロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、アルカノイル、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ、ヘテロアリールオキシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、ヘテロアリールアミノ、ＮＲ５８ＣＯＲ５９、ＮＲ５８ＳＯＲ５９ＮＲ５８ＳＯ２Ｒ５９、ＣＯＯアルキル、ＣＯＯアリール、ＣＯＮＲ５８Ｒ５９、ＣＯＮＲ５８ＯＲ５９、ＮＲ５８Ｒ５９、ＳＯ２ＮＲ５８Ｒ５９、Ｓ−アルキル、ＳＯアルキル、ＳＯ２アルキル、Ｓアリール、ＳＯアリール、ＳＯ２アリールから選択されるか；またはＲ５６およびＲ５７は、接続して、５〜８個の原子、Ｎ、ＯもしくはＳの群から選択される１つもしくはそれを超えるヘテロ原子を必要に応じて含む環式環（飽和または不飽和）を形成し得る。Ｒ６０およびＲ６１は、独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、置換Ｃ６−Ｃ１０アリール、５〜１０員ヘテロアリールまたは置換５〜１０員ヘテロアリールである。
【００６０】
融合したヘテロシクリル基を有する他の代表的なアリール基としては、以下
【化２７】
2016514967.tif 000028
が挙げられ：式中、各Ｗは、Ｃ（Ｒ６６）２、ＮＲ６６、ＯおよびＳから選択され；各Ｙは、カルボニル、ＮＲ６６、ＯおよびＳから選択され；Ｒ６６は、独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリールおよび５〜１０員ヘテロアリールである。
【００６１】
「融合したアリール」とは、その環炭素のうちの２つを第２のアリール環もしくはヘテロアリール環またはカルボシクリル環もしくはヘテロシクリル環と共通して有するアリールのことを指す。
【００６２】
「アラルキル」は、本明細書中で定義されるようなアルキルおよびアリールのサブセットであり、必要に応じて置換されるアリール基によって置換された必要に応じて置換されるアルキル基のことを指す。
【００６３】
「ヘテロアリール」とは、芳香環系として提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜１０員の単環式または二環式の４ｎ＋２芳香環系（例えば、環状に並んだ状態で共有される６または１０個のπ電子を有する）のラジカルのことを指し、ここで、各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜１０員ヘテロアリール」）。１つまたはそれを超える窒素原子を含むヘテロアリール基では、接着点は、結合価が許容するとき、炭素原子または窒素原子であり得る。ヘテロアリール二環式環系は、一方または両方の環に１つまたはそれを超えるヘテロ原子を含み得る。「ヘテロアリール」には、上で定義されたようなヘテロアリール環が１つまたはそれを超えるカルボシクリル基またはヘテロシクリル基と融合された環系が含まれ、ここで、その接着点は、ヘテロアリール環上に存在し、そのような場合、環メンバーの数は、ヘテロアリール環系の環メンバーの数を引き続き指摘する。「ヘテロアリール」には、上で定義されたようなヘテロアリール環が１つまたはそれを超えるアリール基と融合した環系も含まれ、ここで、その接着点は、アリール環上またはヘテロアリール環上に存在し、そのような場合、環メンバーの数は、融合された（アリール／ヘテロアリール）環系の中の環メンバーの数を指摘する。一方の環がヘテロ原子を含まない二環式ヘテロアリール基（例えば、インドリル、キノリニル、カルバゾリルなど）、接着点は、いずれかの環、すなわち、ヘテロ原子を有する環（例えば、２−インドリル）またはヘテロ原子を含まない環（例えば、５−インドリル）上に存在し得る。
【００６４】
いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香環系として提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜１０員の芳香環系であり、ここで、各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜１０員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香環系として提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜８員の芳香環系であり、ここで、各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜８員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香環系として提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜６員の芳香環系であり、ここで、各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜６員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、５〜６員ヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１〜３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５〜６員ヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１〜２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５〜６員ヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１つの環ヘテロ原子を有する。別段特定されない限り、ヘテロアリール基の各実例は、独立して、必要に応じて置換され、すなわち、非置換である（「非置換ヘテロアリール」）か、または１つもしくはそれを超える置換基で置換される（「置換ヘテロアリール」）。ある特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、非置換５〜１４員ヘテロアリールである。ある特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、置換５〜１４員ヘテロアリールである。
【００６５】
１つのヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、ピロリル、フラニルおよびチオフェニルが挙げられるがこれらに限定されない。２個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリルおよびイソチアゾリルが挙げられるがこれらに限定されない。３個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、トリアゾリル、オキサジアゾリルおよびチアジアゾリルが挙げられるがこれらに限定されない。４個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、テトラゾリルが挙げられるがこれに限定されない。１つのヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、ピリジニルが挙げられるがこれに限定されない。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、ピリダジニル、ピリミジニルおよびピラジニルが挙げられるがこれらに限定されない。３または４個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、それぞれトリアジニルおよびテトラジニルが挙げられるがこれらに限定されない。１つのヘテロ原子を含む例示的な７員ヘテロアリール基としては、アゼピニル、オキセピニルおよびチエピニルが挙げられるがこれらに限定されない。例示的な５，６−二環式ヘテロアリール基としては、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾチオフェニル、イソベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、インドリジニルおよびプリニルが挙げられるがこれらに限定されない。例示的な６，６−二環式ヘテロアリール基としては、ナフチリジニル、プテリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、キノキサリニル、フタラジニルおよびキナゾリニルが挙げられるがこれらに限定されない。
【００６６】
代表的なヘテロアリールの例としては、以下：
【化２８】
2016514967.tif 000029
が挙げられ、式中、各Ｙは、カルボニル、Ｎ、ＮＲ６５、ＯおよびＳから選択され；Ｒ６５は、独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリールおよび５〜１０員ヘテロアリールである。
【００６７】
「ヘテロアラルキル」は、本明細書中で定義されるような、アルキルおよびヘテロアリールのサブセットであり、必要に応じて置換されるヘテロアリール基によって置換された必要に応じて置換されるアルキル基のことを指す。
【００６８】
「カルボシクリル」または「炭素環式」とは、非芳香環系に３〜１０個の環炭素原子（「Ｃ３−１０カルボシクリル」）および０個のヘテロ原子を有する非芳香族の環式の炭化水素基のラジカルのことを指す。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３〜８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３−８カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３−６カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３−６カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、５〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５−１０カルボシクリル」）。例示的なＣ３−６カルボシクリル基としては、シクロプロピル（Ｃ３）、シクロプロペニル（Ｃ３）、シクロブチル（Ｃ４）、シクロブテニル（Ｃ４）、シクロペンチル（Ｃ５）、シクロペンテニル（Ｃ５）、シクロヘキシル（Ｃ６）、シクロヘキセニル（Ｃ６）、シクロヘキサジエニル（Ｃ６）などが挙げられるがこれらに限定されない。例示的なＣ３−８カルボシクリル基としては、上述のＣ３−６カルボシクリル基、ならびにシクロヘプチル（Ｃ７）、シクロヘプテニル（Ｃ７）、シクロヘプタジエニル（Ｃ７）、シクロヘプタトリエニル（Ｃ７）、シクロオクチル（Ｃ８）、シクロオクテニル（Ｃ８）、ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（Ｃ７）、ビシクロ［２．２．２］オクタニル（Ｃ８）などが挙げられるがこれらに限定されない。例示的なＣ３−１０カルボシクリル基としては、上述のＣ３−８カルボシクリル基、ならびにシクロノニル（Ｃ９）、シクロノネニル（Ｃ９）、シクロデシル（Ｃ１０）、シクロデセニル（Ｃ１０）、オクタヒドロ−１Ｈ−インデニル（Ｃ９）、デカヒドロナフタレニル（Ｃ１０）、スピロ［４．５］デカニル（Ｃ１０）などが挙げられるがこれらに限定されない。前述の例が例証するように、ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、単環式である（「単環式カルボシクリル」）か、または融合された環系、架橋された環系もしくはスピロ環系（例えば、二環式系）を含み（「二環式カルボシクリル」）、飽和であり得るか、または部分不飽和であり得る。「カルボシクリル」は、上で定義されたようなカルボシクリル環が、１つまたはそれを超えるアリール基またはヘテロアリール基と融合している環系も含み、ここで、接着点は、カルボシクリル環上に存在し、そのような場合、炭素の数は、炭素環系の中の炭素の数を引き続き指摘する。別段特定されない限り、カルボシクリル基の各実例は、独立して、必要に応じて置換され、すなわち、非置換である（「非置換カルボシクリル」）か、または１つもしくはそれを超える置換基で置換される（「置換カルボシクリル」）。ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、非置換Ｃ３−１０カルボシクリルである。ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、置換Ｃ３−１０カルボシクリルである。
【００６９】
いくつかの実施形態において、「カルボシクリル」は、３〜１０個の環炭素原子を有する単環式の飽和カルボシクリル基（「Ｃ３−１０シクロアルキル」）である。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、３〜８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３−８シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、３〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３−６シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、５〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ５−６シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、５〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５−１０シクロアルキル」）。Ｃ５−６シクロアルキル基の例としては、シクロペンチル（Ｃ５）およびシクロヘキシル（Ｃ５）が挙げられる。Ｃ３−６シクロアルキル基の例としては、上述のＣ５−６シクロアルキル基、ならびにシクロプロピル（Ｃ３）およびシクロブチル（Ｃ４）が挙げられる。Ｃ３−８シクロアルキル基の例としては、上述のＣ３−６シクロアルキル基、ならびにシクロヘプチル（Ｃ７）およびシクロオクチル（Ｃ８）が挙げられる。別段特定されない限り、シクロアルキル基の各実例は、独立して、非置換である（「非置換シクロアルキル」）か、または１つもしくはそれを超える置換基で置換される（「置換シクロアルキル」）。ある特定の実施形態において、シクロアルキル基は、非置換Ｃ３−１０シクロアルキルである。ある特定の実施形態において、シクロアルキル基は、置換Ｃ３−１０シクロアルキルである。
【００７０】
「ヘテロシクリル」または「複素環式」とは、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する３〜１０員の非芳香環系のラジカルのことを指し、ここで、各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リンおよびケイ素から選択される（「３〜１０員ヘテロシクリル」）。１つまたはそれを超える窒素原子を含むヘテロシクリル基において、接着点は、結合価が許容するとき、炭素原子または窒素原子であり得る。ヘテロシクリル基は、単環式であり得る（「単環式ヘテロシクリル」）か、または融合された環系、架橋された環系もしくはスピロ環系、例えば、二環式系であり得（「二環式ヘテロシクリル」）、飽和であり得るか、または部分不飽和であり得る。ヘテロシクリル二環式環系は、一方または両方の環に１つまたはそれを超えるヘテロ原子を含み得る。「ヘテロシクリル」には、上で定義されたようなヘテロシクリル環が１つまたはそれを超えるカルボシクリル基と融合された環系（ここで、接着点は、カルボシクリル環上もしくはヘテロシクリル環上に存在する）または上で定義されたようなヘテロシクリル環が１つまたはそれを超えるアリール基もしくはヘテロアリール基と融合された環系（ここで、接着点は、ヘテロシクリル環上に存在する）も含まれ、そのような場合、環メンバーの数は、ヘテロシクリル環系の中の環メンバーの数を引き続き指摘する。別段特定されない限り、ヘテロシクリルの各実例は、独立して、必要に応じて置換され、すなわち、非置換である（「非置換ヘテロシクリル」）か、または１つもしくはそれを超える置換基で置換される（「置換ヘテロシクリル」）。ある特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、非置換３〜１０員ヘテロシクリルである。ある特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、置換３〜１０員ヘテロシクリルである。
【００７１】
いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜１０員の非芳香環系であり、ここで、各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リンおよびケイ素から選択される（「５〜１０員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜８員の非芳香環系であり、ここで、各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜８員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜６員の非芳香環系であり、ここで、各ヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜６員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、５〜６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１〜３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５〜６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１〜２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５〜６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１つの環ヘテロ原子を有する。
【００７２】
１つのヘテロ原子を含む例示的な３員ヘテロシクリル基としては、アジルジニル、オキシラニル、チオレニルが挙げられるがこれらに限定されない。１つのヘテロ原子を含む例示的な４員ヘテロシクリル基としては、アゼチジニル、オキセタニルおよびチエタニルが挙げられるがこれらに限定されない。１つのヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、テトラヒドロフラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ジヒドロチオフェニル、ピロリジニル、ジヒドロピロリルおよびピロリル−２，５−ジオンが挙げられるがこれらに限定されない。２個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、ジオキソラニル、オキサスルフラニル、ジスルフラニルおよびオキサゾリジン−２−オンが挙げられるがこれらに限定されない。３個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、トリアゾリニル、オキサジアゾリニルおよびチアジアゾリニルが挙げられるがこれらに限定されない。１つのヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロピリジニルおよびチアニルが挙げられるがこれらに限定されない。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、ピペラジニル、モルホリニル、ジチアニル、ジオキサニルが挙げられるがこれらに限定されない。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、トリアジニル（ｔｒｉａｚｉｎａｎｙｌ）が挙げられるがこれに限定されない。１つのヘテロ原子を含む例示的な７員ヘテロシクリル基としては、アゼパニル、オキセパニルおよびチエパニルが挙げられるがこれらに限定されない。１つのヘテロ原子を含む例示的な８員ヘテロシクリル基としては、アゾカニル、オキセカニルおよびチオカニルが挙げられるがこれらに限定されない。Ｃ６アリール環に融合された例示的な５員ヘテロシクリル基（本明細書中で５，６−二環式複素環式環とも称される）としては、インドリニル、イソインドリニル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロベンゾチエニル、ベンゾオキサゾリノニルなどが挙げられるがこれらに限定されない。アリール環に融合された例示的な６員ヘテロシクリル基（本明細書中で６，６−二環式複素環式環とも称される）としては、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニルなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【００７３】
ヘテロシクリル基の特定の例が、以下の例証的な例：
【化２９】
2016514967.tif 000030
に示され、式中、各Ｗは、ＣＲ６７、Ｃ（Ｒ６７）２、ＮＲ６７、ＯおよびＳから選択され；各Ｙは、ＮＲ６７、ＯおよびＳから選択され；Ｒ６７は、独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、５〜１０員ヘテロアリールである。これらのヘテロシクリル環は、アシル、アシルアミノ、アシルオキシ、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、置換アミノ、アミノカルボニル（カルバモイルまたはアミド）、アミノカルボニルアミノ、アミノスルホニル、スルホニルアミノ、アリール、アリールオキシ、アジド、カルボキシル、シアノ、シクロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、ケト、ニトロ、チオール、−Ｓ−アルキル、−Ｓ−アリール、−Ｓ（Ｏ）−アルキル，−Ｓ（Ｏ）−アリール、−Ｓ（Ｏ）２−アルキルおよび−Ｓ（Ｏ）２−アリールからなる群より選択される１つまたはそれを超える基で必要に応じて置換され得る。置換基は、例えば、ラクタム誘導体および尿素誘導体を提供する、カルボニルまたはチオカルボニルを含む。
【００７４】
「ヘテロ」は、化合物または化合物上に存在する基を説明するために使用されるとき、その化合物または基における１つまたはそれを超える炭素原子が、窒素、酸素または硫黄ヘテロ原子によって置き換えられていることを意味する。ヘテロは、１〜５個、特に１〜３個のヘテロ原子を有する、アルキルなどの上に記載されたヒドロカルビル基のいずれかに適用され得る（例えば、ヘテロアルキル、シクロアルキル、例えば、ヘテロシクリル、アリール、例えば、ヘテロアリール、シクロアルケニル、例えば、シクロヘテロアルケニルなど）。
【００７５】
「アシル」とは、ラジカル−Ｃ（Ｏ）Ｒ２０のことを指し、ここで、Ｒ２０は、水素、本明細書中で定義されるような、置換もしくは非置換（ｕｎｓｕｂｓｔｉｔｕｅｄ）アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールである。「アルカノイル」は、Ｒ２０が水素以外の基であるアシル基である。代表的なアシル基としては、ホルミル（−ＣＨＯ）、アセチル（−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３）、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘキシルメチルカルボニル、ベンゾイル（−Ｃ（＝Ｏ）Ｐｈ）、ベンジルカルボニル（−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈ）、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１−Ｃ８アルキル、−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６−Ｃ１０アリール）、−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｔ（５〜１０員ヘテロアリール）、−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル）および−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｔ（４〜１０員ヘテロシクリル）（ここで、ｔは、０〜４の整数である）が挙げられるがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、Ｒ２１は、ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１−Ｃ８アルキル；あるいはＣ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、アリールアルキル、５〜１０員ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルであり、それらの各々は、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシで置換される。
【００７６】
「アシルアミノ」とは、ラジカル−ＮＲ２２Ｃ（Ｏ）Ｒ２３のことを指し、ここで、Ｒ２２およびＲ２３の各実例は、独立して、水素、本明細書中で定義されるような、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいはＲ２２は、アミノ保護基である。例示的な「アシルアミノ」基としては、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、シクロヘキシルメチル−カルボニルアミノ、ベンゾイルアミノおよびベンジルカルボニルアミノが挙げられるがこれらに限定されない。特定の例示的な「アシルアミノ」基は、−ＮＲ２４Ｃ（Ｏ）−Ｃ１−Ｃ８アルキル、−ＮＲ２４Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６−Ｃ１０アリール）、−ＮＲ２４Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｔ（５〜１０員ヘテロアリール）、−ＮＲ２４Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル）および−ＮＲ２４Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｔ（４〜１０員ヘテロシクリル）（ここで、ｔは、０〜４の整数である）であり、各Ｒ２４は、独立して、ＨまたはＣ１−Ｃ８アルキルを表す。ある特定の実施形態において、Ｒ２５は、Ｈ、ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１−Ｃ８アルキル；Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、アリールアルキル、５〜１０員ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルであり、それらの各々は、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシで置換され；Ｒ２６は、Ｈ、ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１−Ｃ８アルキル；Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、アリールアルキル、５〜１０員ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルであり、それらの各々は、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシルで置換されるが；但し、Ｒ２５およびＲ２６の少なくとも１つは、Ｈ以外である。
【００７７】
「アシルオキシ」とは、ラジカル−ＯＣ（Ｏ）Ｒ２７のことを指し、ここで、Ｒ２７は、水素、本明細書中で定義されるような、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールである。代表的な例としては、ホルミル、アセチル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘキシルメチルカルボニル、ベンゾイルおよびベンジルカルボニルが挙げられるがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、Ｒ２８は、ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１−Ｃ８アルキル；Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、アリールアルキル、５〜１０員ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルであり、それらの各々は、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシで置換される。
【００７８】
「アルコキシ」とは、基−ＯＲ２９のことを指し、ここで、Ｒ２９は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールである。特定のアルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシおよび１，２−ジメチルブトキシである。特定のアルコキシ基は、低級アルコキシ、すなわち、１〜６個の炭素原子を有するアルコキシである。さらなる特定のアルコキシ基は、１〜４個の炭素原子を有する。
【００７９】
ある特定の実施形態において、Ｒ２９は、アミノ、置換アミノ、Ｃ６−Ｃ１０アリール、アリールオキシ、カルボキシル、シアノ、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、ハロゲン、５〜１０員ヘテロアリール、ヒドロキシル、ニトロ、チオアルコキシ、チオアリールオキシ、チオール、アルキル−Ｓ（Ｏ）−、アリール−Ｓ（Ｏ）−、アルキル−Ｓ（Ｏ）２−およびアリール−Ｓ（Ｏ）２−からなる群より選択される１つまたはそれを超える置換基、例えば、１〜５個の置換基、特に、１〜３個の置換基、特に、１つの置換基を有する基である。例示的な「置換アルコキシ」基としては、−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６−Ｃ１０アリール）、−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ（５〜１０員ヘテロアリール）、−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル）および−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ（４〜１０員ヘテロシクリル）（ここで、ｔは、０〜４の整数である）が挙げられるが、これらに限定されず、存在する任意のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキルまたはヘテロシクリル基は、それら自体が、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシによって置換され得る。特定の例示的な「置換アルコキシ」基は、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨ２ＣＦ３、−ＯＣＨ２Ｐｈ、−ＯＣＨ２−シクロプロピル、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨおよび−ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＭｅ２である。
【００８０】
「アミノ」とは、ラジカル−ＮＨ２のことを指す。
【００８１】
「置換アミノ」とは、式−Ｎ（Ｒ３８）２のアミノ基のことを指し、ここで、Ｒ３８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリールまたはアミノ保護基であり、ここで、Ｒ３８の少なくとも１つは、水素ではない。ある特定の実施形態において、各Ｒ３８は、独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ３−Ｃ８アルケニル、Ｃ３−Ｃ８アルキニル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、５〜１０員ヘテロアリール、４〜１０員ヘテロシクリルもしくはＣ３−Ｃ１０シクロアルキル；またはハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１−Ｃ８アルキル；ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ３−Ｃ８アルケニル；ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ３−Ｃ８アルキニル、または−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６−Ｃ１０アリール）、−（ＣＨ２）ｔ（５〜１０員ヘテロアリール）、−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル）もしくは−（ＣＨ２）ｔ（４〜１０員ヘテロシクリル）（ここで、ｔは、０〜８の整数である）から選択され、それらの各々は、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシによって置換されるか；あるいは両方のＲ３８基が接続して、アルキレン基を形成する。
【００８２】
例示的な「置換アミノ」基としては、−ＮＲ３９−Ｃ１−Ｃ８アルキル、−ＮＲ３９−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６−Ｃ１０アリール）、−ＮＲ３９−（ＣＨ２）ｔ（５〜１０員ヘテロアリール）、−ＮＲ３９−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル）および−ＮＲ３９−（ＣＨ２）ｔ（４〜１０員ヘテロシクリル）（ここで、ｔは、０〜４、例えば、１または２の整数である）が挙げられるが、これらに限定されず、各Ｒ３９は、独立して、ＨまたはＣ１−Ｃ８アルキルを表し；存在する任意のアルキル基は、それら自体が、ハロ、置換もしくは非置換アミノまたはヒドロキシによって置換され得；存在する任意のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキルまたはヘテロシクリル基は、それら自体が、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシによって置換され得る。誤解を避けるために、用語「置換アミノ」は、下記に定義されるような、アルキルアミノ、置換アルキルアミノ、アルキルアリールアミノ、置換アルキルアリールアミノ、アリールアミノ、置換アリールアミノ、ジアルキルアミノおよび置換ジアルキルアミノの基を含む。置換アミノは、一置換アミノ基と二置換アミノ基の両方を包含する。
【００８３】
「アジド」とは、ラジカル−Ｎ３のことを指す。
【００８４】
「カルバモイル」または「アミド」とは、ラジカル−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２のことを指す。
【００８５】
「置換カルバモイル」または「置換アミド」とは、ラジカル−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６２）２のことを指し、ここで、各Ｒ６２は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリールまたはアミノ保護基であり、ここで、Ｒ６２の少なくとも１つは、水素ではない。ある特定の実施形態において、Ｒ６２は、Ｈ、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、アラルキル、５〜１０員ヘテロアリールおよびヘテロアラルキル；またはハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１−Ｃ８アルキル；またはＣ３−Ｃ１０シクロアルキル、４〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、アラルキル、５〜１０員ヘテロアリールもしくはヘテロアラルキルから選択され、それらの各々は、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシによって置換されるが；但し、少なくとも１つのＲ６２は、Ｈ以外である。
【００８６】
例示的な「置換カルバモイル」基としては、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ６４−Ｃ１−Ｃ８アルキル、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ６４−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６−Ｃ１０アリール）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ６４−（ＣＨ２）ｔ（５〜１０員ヘテロアリール）、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ６４−（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル）および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ６４−（ＣＨ２）ｔ（４〜１０員ヘテロシクリル）（ここで、ｔは、０〜４の整数である）が挙げられるが、これらに限定されず、各Ｒ６４は、独立して、ＨまたはＣ１−Ｃ８アルキルを表し、存在する任意のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキルまたはヘテロシクリル基は、それら自体が、非置換Ｃ１−Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１−Ｃ４ヒドロキシアルキルもしくは非置換Ｃ１−Ｃ４ハロアルコキシまたはヒドロキシによって置換され得る。
【００８７】
「カルボキシ」とは、ラジカル−Ｃ（Ｏ）ＯＨのことを指す。
【００８８】
「シアノ」とは、ラジカル−ＣＮのことを指す。
【００８９】
「ハロ」または「ハロゲン」とは、フルオロ（Ｆ）、クロロ（Ｃｌ）、ブロモ（Ｂｒ）およびヨード（Ｉ）のことを指す。ある特定の実施形態において、ハロ基は、フルオロまたはクロロである。
【００９０】
「ヒドロキシ」とは、ラジカル−ＯＨのことを指す。
【００９１】
「ニトロ」とは、ラジカル−ＮＯ２のことを指す。
【００９２】
「シクロアルキルアルキル」とは、アルキル基がシクロアルキル基で置換されたアルキルラジカルのことを指す。典型的なシクロアルキルアルキル基としては、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルエチル、シクロヘプチルエチルおよびシクロオクチルエチルなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【００９３】
「ヘテロシクリルアルキル」とは、アルキル基がヘテロシクリル基で置換されたアルキルラジカルのことを指す。典型的なヘテロシクリルアルキル基としては、ピロリジニルメチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、モルホリニルメチル、ピロリジニルエチル、ピペリジニルエチル、ピペラジニルエチル、モルホリニルエチルなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【００９４】
「シクロアルケニル」とは、３〜１０個の炭素原子を有し、単一の環式環または複数の縮合環（融合された環系および架橋された環系を含む）を有し、少なくとも１つ、特に１〜２個のオレフィン不飽和の部位を有する、置換または非置換カルボシクリル基のことを指す。そのようなシクロアルケニル基は、例として、単環構造（例えば、シクロヘキセニル、シクロペンテニル、シクロプロペニルなど）を含む。
【００９５】
「融合したシクロアルケニル」とは、その環炭素原子のうちの２つを第２の脂肪族環または芳香環と共通して有し、シクロアルケニル環に芳香族性を付与するように配置されたオレフィン不飽和を有するシクロアルケニルのことを指す。
【００９６】
「エテニル」とは、置換または非置換−（Ｃ＝Ｃ）−のことを指す。
【００９７】
「エチレン」とは、置換または非置換−（Ｃ−Ｃ）−のことを指す。
【００９８】
「エチニル」とは、−（Ｃ≡Ｃ）−のことを指す。
【００９９】
「窒素含有ヘテロシクリル」基は、少なくとも１つの窒素原子を含む４〜７員の非芳香族環式基、例えば、以下に限定されないが、モルホリン、ピペリジン（例えば、２−ピペリジニル、３−ピペリジニルおよび４−ピペリジニル）、ピロリジン（例えば、２−ピロリジニルおよび３−ピロリジニル）、アゼチジン、ピロリドン、イミダゾリン、イミダゾリジノン、２−ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペラジンおよびＮ−アルキルピペラジン（例えば、Ｎ−メチルピペラジン）のことを意味する。特定の例としては、アゼチジン、ピペリドンおよびピペラゾンが挙げられる。
【０１００】
「チオケト」とは、基＝Ｓのことを指す。
【０１０１】
本明細書中で定義されるような、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリール基は、必要に応じて置換される（例えば、「置換」もしくは「非置換」アルキル、「置換」もしくは「非置換」アルケニル、「置換」もしくは「非置換」アルキニル、「置換」もしくは「非置換」カルボシクリル、「置換」もしくは「非置換」ヘテロシクリル、「置換」もしくは「非置換」アリールまたは「置換」もしくは「非置換」ヘテロアリール基）。一般に、用語「置換される」は、用語「必要に応じて」が前に付くかまたは付かないかに関係なく、ある基（例えば、炭素原子または窒素原子）に存在する少なくとも１つの水素が、許容できる置換基、例えば、置換の際に、安定した化合物、例えば、転位、環化、脱離または他の反応などによって変換を自発的に起こさない化合物を生じる置換基で置き換えられることを意味する。別段示されない限り、「置換」基は、その基の１つまたはそれを超える置換可能な位置に置換基を有し、任意の所与の構造における１つより多い位置が置換されるとき、その置換基は、各位置において同じであるかまたは異なる。用語「置換される」は、安定した化合物の形成をもたらす本明細書中に記載される置換基のいずれかの、許容できる有機化合物の置換基のすべてによる置換を含むと企図される。本発明は、安定した化合物に到達するためにそのような組み合わせのいずれかおよびすべてを企図する。本発明の目的のために、窒素などのヘテロ原子は、ヘテロ原子の結合価を満たし、安定した部分の形成をもたらす、水素置換基および／または本明細書中に記載されるような任意の好適な置換基を有し得る。
【０１０２】
例示的な炭素原子置換基としては、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−ＯＮ（Ｒｂｂ）２、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｎ（Ｒｂｂ）３＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＲｃｃ）Ｒｂｂ、−ＳＨ、−ＳＲａａ、−ＳＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＨＯ、−Ｃ（ＯＲｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＳＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２ＯＲａａ、−ＯＳＯ２Ｒａａ、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−ＯＳｉ（Ｒａａ）３  −Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、−ＯＰ（＝Ｏ）２Ｒａａ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３、−ＯＰ（Ｒｃｃ）２、−ＯＰ（Ｒｃｃ）３、−Ｂ（Ｒａａ）２、−Ｂ（ＯＲｃｃ）２、−ＢＲａａ（ＯＲｃｃ）、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ１−１０ペルハロアルキル、Ｃ２−１０アルケニル、Ｃ２−１０アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、３〜１４員ヘテロシクリル、Ｃ６−１４アリールおよび５〜１４員ヘテロアリールが挙げられるが、これらに限定されず、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換されるか；
または炭素原子上の２つのジェミナル水素は、基＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＮ（Ｒｂｂ）２、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、＝ＮＮＲｂｂＳ（＝Ｏ）２Ｒａａ、＝ＮＲｂｂもしくは＝ＮＯＲｃｃで置き換えられ；
Ｒａａの各実例は、独立して、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ１−１０ペルハロアルキル、Ｃ２−１０アルケニル、Ｃ２−１０アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、３〜１４員ヘテロシクリル、Ｃ６−１４アリールおよび５〜１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲａａ基は、接続して、３〜１４員ヘテロシクリル環もしくは５〜１４員ヘテロアリール環を形成し、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換され；
Ｒｂｂの各実例は、独立して、水素、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｃｃ）２，Ｃ１−１０アルキル、Ｃ１−１０ペルハロアルキル、Ｃ２−１０アルケニル、Ｃ２−１０アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、３〜１４員ヘテロシクリル、Ｃ６−１４アリールおよび５〜１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｂｂ基は、接続して、３〜１４員ヘテロシクリル環もしくは５〜１４員ヘテロアリール環を形成し、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換され；
Ｒｃｃの各実例は、独立して、水素、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ１−１０ペルハロアルキル、Ｃ２−１０アルケニル、Ｃ２−１０アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、３〜１４員ヘテロシクリル、Ｃ６−１４アリールおよび５〜１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｃｃ基は、接続して、３〜１４員ヘテロシクリル環もしくは５〜１４員ヘテロアリール環を形成し、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換され；
Ｒｄｄの各実例は、独立して、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＲｅｅ、−ＯＮ（Ｒｆｆ）２、−Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｎ（Ｒｆｆ）３＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＲｅｅ）Ｒｆｆ、−ＳＨ、−ＳＲｅｅ、−ＳＳＲｅｅ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｒｅｅ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＯＣＯ２Ｒｅｅ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＮＲｆｆＣＯ２Ｒｅｅ、−ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｃ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｒｅｅ、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、−Ｃ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＮＲｆｆＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２，−ＮＲｆｆＳＯ２Ｒｅｅ、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＳＯ２Ｒｅｅ、−ＳＯ２ＯＲｅｅ、−ＯＳＯ２Ｒｅｅ、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−Ｓｉ（Ｒｅｅ）３、−ＯＳｉ（Ｒｅｅ）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｅｅ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｒｅｅ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｅｅ）２、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−６ペルハロアルキル、Ｃ２−６アルケニル、Ｃ２−６アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、３〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−１０アリール、５〜１０員ヘテロアリールから選択され、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４もしくは５個のＲｇｇ基で置換されるか、または２つのジェミナルＲｄｄ置換基は、一体となって、＝Ｏもしくは＝Ｓを形成し得；
Ｒｅｅの各実例は、独立して、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−６ペルハロアルキル、Ｃ２−６アルケニル、Ｃ２−６アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、Ｃ６−１０アリール、３〜１０員ヘテロシクリルおよび３〜１０員ヘテロアリールから選択され、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｇｇ基で置換され；
Ｒｆｆの各実例は、独立して、水素、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−６ペルハロアルキル、Ｃ２−６アルケニル、Ｃ２−６アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、３〜１０員ヘテロシクリル、Ｃ６−１０アリールおよび５〜１０員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｆｆ基は、接続して、３〜１４員ヘテロシクリル環もしくは５〜１４員ヘテロアリール環を形成し、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｇｇ基で置換され；
Ｒｇｇの各実例は、独立して、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＣ１−６アルキル、−ＯＮ（Ｃ１−６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１−６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１−６アルキル）３＋Ｘ−、−ＮＨ（Ｃ１−６アルキル）２＋Ｘ−、−ＮＨ２（Ｃ１−６アルキル）＋Ｘ−、−ＮＨ３＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＣ１−６アルキル）（Ｃ１−６アルキル）、−Ｎ（ＯＨ）（Ｃ１−６アルキル）、−ＮＨ（ＯＨ）、−ＳＨ、−ＳＣ１−６アルキル、−ＳＳ（Ｃ１−６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１−６アルキル）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２（Ｃ１−６アルキル）、−ＯＣ（＝Ｏ）（Ｃ１−６アルキル）、−ＯＣＯ２（Ｃ１−６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１−６アルキル）２、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１−６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）（Ｃ１−６アルキル）、−Ｎ（Ｃ１−６アルキル）Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１−６アルキル）、−ＮＨＣＯ２（Ｃ１−６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１−６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１−６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｏ（Ｃ１−６アルキル），−ＯＣ（＝ＮＨ）（Ｃ１−６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＯＣ１−６アルキル、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１−６アルキル）２、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１−６アルキル）、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＯＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１−６アルキル）２、−ＯＣ（ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１−６アルキル）、−ＯＣ（ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＣ（ＮＨ）Ｎ（Ｃ１−６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＳＯ２（Ｃ１−６アルキル）、−ＳＯ２Ｎ（Ｃ１−６アルキル）２、−ＳＯ２ＮＨ（Ｃ１−６アルキル）、−ＳＯ２ＮＨ２，−ＳＯ２Ｃ１−６アルキル、−ＳＯ２ＯＣ１−６アルキル、−ＯＳＯ２Ｃ１−６アルキル、−ＳＯＣ１−６アルキル、−Ｓｉ（Ｃ１−６アルキル）３、−ＯＳｉ（Ｃ１−６アルキル）３  −Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｃ１−６アルキル）２、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ（Ｃ１−６アルキル）、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ（Ｃ１−６アルキル）、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＣ１−６アルキル、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＣ１−６アルキル、−Ｐ（＝Ｏ）２（Ｃ１−６アルキル）、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ１−６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｃ１−６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＣ１−６アルキル）２、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−６ペルハロアルキル、Ｃ２−６アルケニル、Ｃ２−６アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、Ｃ６−１０アリール、３〜１０員ヘテロシクリル、５〜１０員ヘテロアリールであるか；または２つのジェミナルＲｇｇ置換基は、一体となって、＝Ｏもしくは＝Ｓを形成し得；ここで、Ｘ−は、対イオンである。
【０１０３】
「対イオン」または「アニオン性対イオン」は、電気的中性を維持するためにカチオン性の第４級アミノ基と会合した負に帯電した基である。例示的な対イオンとしては、ハロゲン化物イオン（例えば、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−）、ＮＯ３−、ＣｌＯ４−、ＯＨ−、Ｈ２ＰＯ４−、ＨＳＯ４−、スルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸、ナフタレン−２−スルホン酸、ナフタレン−１−スルホン酸−５−スルホン酸、エタン−１−スルホン酸−２−スルホン酸など）およびカルボン酸イオン（例えば、酢酸、エタン酸、プロパン酸、安息香酸、グリセリン酸、乳酸、酒石酸、グリコレール酸など）が挙げられる。
【０１０４】
窒素原子は、結合価が許容するとき、置換または非置換であり得、窒素原子には、第１級、第２級、第３級および第４級窒素原子が含まれる。例示的な窒素原子置換基（ｓｕｂｓｔｉｔｕｔｅｎｔｓ）としては、水素、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｃｃ）２、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ１−１０ペルハロアルキル、Ｃ２−１０アルケニル、Ｃ２−１０アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、３〜１４員ヘテロシクリル、Ｃ６−１４アリールおよび５〜１４員ヘテロアリールが挙げられるがこれらに限定されないか、または窒素原子に付着された２つのＲｃｃ基は、接続して、３〜１４員ヘテロシクリル環もしくは５〜１４員ヘテロアリール環を形成し、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換され、Ｒａａ、Ｒｂｂ、ＲｃｃおよびＲｄｄは、上で定義されたとおりである。
【０１０５】
ある特定の実施形態において、窒素原子上に存在する置換基は、アミノ保護基（本明細書中で窒素保護基とも称される）である。アミノ保護基としては、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、Ｃ１−１０アルキル（例えば、アラルキル、ヘテロアラルキル）、Ｃ２−１０アルケニル、Ｃ２−１０アルキニル、Ｃ３−１０カルボシクリル、３〜１４員ヘテロシクリル、Ｃ６−１４アリールおよび５〜１４員ヘテロアリール基が挙げられるが、これらに限定されず、ここで、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アラルキル、アリールおよびヘテロアリールの各々は、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換され、Ｒａａ、Ｒｂｂ、ＲｃｃおよびＲｄｄは、本明細書中で定義されるとおりである。アミノ保護基は、当該分野で周知であり、アミノ保護基には、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ  ａｎｄ  Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ  ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９９９（参照により本明細書中に援用される）に詳細に記載されているものが含まれる。
【０１０６】
例えば、アミド基などのアミノ保護基（例えば、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ）としては、ホルムアミド、アセトアミド、クロロアセトアミド、トリクロロアセトアミド、トリフルオロアセトアミド、フェニルアセトアミド、３−フェニルプロパンアミド、ピコリンアミド、３−ピリジルカルボキサミド、Ｎ−ベンゾイルフェニルアラニル誘導体、ベンズアミド、ｐ−フェニルベンズアミド、ｏ−ニトロフェニルアセトアミド（ｎｉｔｏｐｈｅｎｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）、ｏ−ニトロフェノキシアセトアミド、アセトアセトアミド、（Ｎ’−ジチオベンジルオキシアシルアミノ）アセトアミド、３−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンアミド、３−（ｏ−ニトロフェニル）プロパンアミド、２−メチル−２−（ｏ−ニトロフェノキシ）プロパンアミド、２−メチル−２−（ｏ−フェニルアゾフェノキシ）プロパンアミド、４−クロロブタンアミド、３−メチル−３−ニトロブタンアミド、ｏ−ニトロシンナミド、Ｎ−アセチルメチオニン誘導体、ｏ−ニトロベンズアミドおよびｏ−（ベンゾイルオキシメチル）ベンズアミドが挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０７】
カルバメート基などのアミノ保護基（例えば、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲａａ）としては、メチルカルバメート、エチルカルバメート（ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｎｔｅ）、９−フルオレニルメチルカルバメート（Ｆｍｏｃ）、９−（２−スルホ）フルオレニルメチルカルバメート、９−（２，７−ジブロモ）フルオロエニルメチルカルバメート、２，７−ジ−ｔ−ブチル−［９−（１０，１０−ジオキソ−１０，１０，１０，１０−テトラヒドロチオキサンチル）］メチルカルバメート（ＤＢＤ−Ｔｍｏｃ）、４−メトキシフェナシルカルバメート（Ｐｈｅｎｏｃ）、２，２，２−トリクロロエチルカルバメート（Ｔｒｏｃ）、２−トリメチルシリルエチルカルバメート（Ｔｅｏｃ）、２−フェニルエチルカルバメート（ｈＺ）、１−（１−アダマンチル）−１−メチルエチルカルバメート（Ａｄｐｏｃ）、１，１−ジメチル−２−ハロエチルカルバメート、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモエチルカルバメート（ＤＢ−ｔ−ＢＯＣ）、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルカルバメート（ＴＣＢＯＣ）、１−メチル−１−（４−ビフェニリル）エチルカルバメート（Ｂｐｏｃ）、１−（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−１−メチルエチルカルバメート（ｔ−Ｂｕｍｅｏｃ）、２−（２’−および４’−ピリジル）エチルカルバメート（Ｐｙｏｃ）、２−（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボキサミド）エチルカルバメート、ｔ−ブチルカルバメート（ＢＯＣ）、１−アダマンチルカルバメート（Ａｄｏｃ）、ビニルカルバメート（Ｖｏｃ）、アリルカルバメート（Ａｌｌｏｃ）、１−イソプロピルアリルカルバメート（Ｉｐａｏｃ）、シンナミルカルバメート（Ｃｏｃ）、４−ニトロシンナミルカルバメート（Ｎｏｃ）、８−キノリルカルバメート、Ｎ−ヒドロキシピペリジニルカルバメート、アルキルジチオカルバメート、ベンジルカルバメート（Ｃｂｚ）、ｐ−メトキシベンジルカルバメート（Ｍｏｚ）、ｐ−ニトロベンジル（ｎｉｔｏｂｅｎｚｙｌ）カルバメート、ｐ−ブロモベンジルカルバメート、ｐ−クロロベンジルカルバメート、２，４−ジクロロベンジルカルバメート、４−メチルスルフィニルベンジルカルバメート（Ｍｓｚ）、９−アントリルメチルカルバメート、ジフェニルメチルカルバメート、２−メチルチオエチルカルバメート、２−メチルスルホニルエチルカルバメート、２−（ｐ−トルエンスルホニル）エチルカルバメート、［２−（１，３−ジチアニル）］メチルカルバメート（Ｄｍｏｃ）、４−メチルチオフェニルカルバメート（Ｍｔｐｃ）、２，４−ジメチルチオフェニルカルバメート（Ｂｍｐｃ）、２−ホスホニオエチルカルバメート（Ｐｅｏｃ）、２−トリフェニルホスホニオイソプロピルカルバメート（Ｐｐｏｃ）、１，１−ジメチル−２−シアノエチルカルバメート、ｍ−クロロ−ｐ−アシルオキシベンジルカルバメート、ｐ−（ジヒドロキシボリル）ベンジルカルバメート、５−ベンゾイソオキサゾリルメチルカルバメート、２−（トリフルオロメチル）−６−クロモニルメチルカルバメート（Ｔｃｒｏｃ）、ｍ−ニトロフェニルカルバメート、３，５−ジメトキシベンジルカルバメート、ｏ−ニトロベンジルカルバメート、３，４−ジメトキシ−６−ニトロベンジルカ���バメート、フェニル（ｏ−ニトロフェニル）メチルカルバメート、ｔ−アミルカルバメート、Ｓ−ベンジルチオカルバメート、ｐ−シアノベンジルカルバメート、シクロブチルカルバメート、シクロヘキシルカルバメート、シクロペンチルカルバメート、シクロプロピルメチルカルバメート、ｐ−デシルオキシベンジルカルバメート、２，２−ジメトキシアシルビニルカルバメート、ｏ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボキサミド）ベンジルカルバメート、１，１−ジメチル−３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボキサミド）プロピルカルバメート、１，１−ジメチルプロピニルカルバメート、ジ（２−ピリジル）メチルカルバメート、２−フラニルメチルカルバメート、２−ヨードエチルカルバメート、イソボルニル（ｉｓｏｂｏｒｙｎｌ）カルバメート、イソブチルカルバメート、イソニコチニルカルバメート、ｐ−（ｐ’−メトキシフェニルアゾ）ベンジルカルバメート、１−メチルシクロブチルカルバメート、１−メチルシクロヘキシルカルバメート、１−メチル−１−シクロプロピルメチルカルバメート、１−メチル−１−（３，５−ジメトキシフェニル）エチルカルバメート、１−メチル−１−（ｐ−フェニルアゾフェニル）エチルカルバメート、１−メチル−１−フェニルエチルカルバメート、１−メチル−１−（４−ピリジル）エチルカルバメート、フェニルカルバメート、ｐ−（フェニルアゾ）ベンジルカルバメート、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニルカルバメート、４−（トリメチルアンモニウム）ベンジルカルバメートおよび２，４，６−トリメチルベンジルカルバメートが挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０８】
スルホンアミド基などのアミノ保護基（例えば、−Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａａ）としては、ｐ−トルエンスルホンアミド（Ｔｓ）、ベンゼンスルホンアミド、２，３，６，−トリメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｒ）、２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｂ）、２，６−ジメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｐｍｅ）、２，３，５，６−テトラメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｅ）、４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｂｓ）、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｓ）、２，６−ジメトキシ−４−メチルベンゼンスルホンアミド（ｉＭｄｓ）、２，２，５，７，８−ペンタメチルクロマン−６−スルホンアミド（Ｐｍｃ）、メタンスルホンアミド（Ｍｓ）、β−トリメチルシリルエタンスルホンアミド（ＳＥＳ）、９−アントラセンスルホンアミド、４−（４’，８’−ジメトキシナフチルメチル）ベンゼンスルホンアミド（ＤＮＭＢＳ）、ベンジルスルホンアミド、トリフルオロメチルスルホンアミドおよびフェナシルスルホンアミドが挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０９】
他のアミノ保護基としては、フェノチアジニル−（１０）−アシル誘導体、Ｎ’−ｐ−トルエンスルホニルアミノアシル誘導体、Ｎ’−フェニルアミノチオアシル誘導体、Ｎ−ベンゾイルフェニルアラニル誘導体、Ｎ−アセチルメチオニン誘導体、４，５−ジフェニル−３−オキサゾリン−２−オン、Ｎ−フタルイミド、Ｎ−ジチアスクシンイミド（Ｄｔｓ）、Ｎ−２，３−ジフェニルマレイミド、Ｎ−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−１，１，４，４−テトラメチルジシリルアザシクロペンタン付加物（ＳＴＡＢＡＳＥ）、５−置換１，３−ジメチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン−２−オン、５−置換１，３−ジベンジル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン−２−オン、１−置換３，５−ジニトロ−４−ピリドン、Ｎ−メチルアミン、Ｎ−アリルアミン、Ｎ−［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチルアミン（ＳＥＭ）、Ｎ−３−アセトキシプロピルアミン、Ｎ−（１−イソプロピル−４−ニトロ−２−オキソ−３−ピロオリン−３−イル）アミン、第四級アンモニウム塩、Ｎ−ベンジルアミン、Ｎ−ジ（４−メトキシフェニル）メチルアミン、Ｎ−５−ジベンゾスベリルアミン、Ｎ−トリフェニルメチルアミン（Ｔｒ）、Ｎ−［（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチル］アミン（ＭＭＴｒ）、Ｎ−９−フェニルフルオレニルアミン（ＰｈＦ）、Ｎ−２，７−ジクロロ−９−フルオレニルメチレンアミン、Ｎ−フェロセニルメチルアミノ（Ｆｃｍ）、Ｎ−２−ピコリルアミノＮ’−オキシド、Ｎ−１，１−ジメチルチオメチレンアミン、Ｎ−ベンジリデンアミン、Ｎ−ｐ−メトキシベンジリデンアミン、Ｎ−ジフェニルメチレンアミン、Ｎ−［（２−ピリジル）メシチル］メチレンアミン、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノメチレン）アミン、Ｎ，Ｎ’−イソプロピリデンジアミン、Ｎ−ｐ−ニトロベンジリデンアミン、Ｎ−サリチリデンアミン、Ｎ−５−クロロサリチリデンアミン、Ｎ−（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）フェニルメチレンアミン、Ｎ−シクロヘキシリデンアミン、Ｎ−（５，５−ジメチル−３−オキソ−１−シクロヘキセニル）アミン、Ｎ−ボラン誘導体、Ｎ−ジフェニルボリン酸誘導体、Ｎ−［フェニル（ペンタアシルクロム−またはタングステン）アシル］アミン、Ｎ−銅キレート、Ｎ−亜鉛キレート、Ｎ−ニトロアミン、Ｎ−ニトロソアミン、アミンＮ−オキシド、ジフェニルホスフィンアミド（Ｄｐｐ）、ジメチルチオホスフィンアミド（Ｍｐｔ）、ジフェニルチオホスフィンアミド（Ｐｐｔ）、ジアルキルホスホルアミデート、ジベンジルホスホルアミデート、ジフェニルホスホルアミデート、ベンゼンスルフェンアミド、ｏ−ニトロベンゼンスルフェンアミド（Ｎｐｓ）、２，４−ジニトロベンゼンスルフェンアミド、ペンタクロロベンゼンスルフェンアミド、２−ニトロ−４−メトキシベンゼンスルフェンアミド、トリフェニルメチルスルフェンアミドおよび３−ニトロピリジンスルフェンアミド（Ｎｐｙｓ）が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１１０】
ある特定の実施形態において、酸素原子上に存在する置換基は、酸素保護基（ヒドロキシル保護基とも称される）である。酸素保護基としては、−Ｒａａ、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、および−Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２が挙げられるが、これらに限定されず、ここで、Ｒａａ、ＲｂｂおよびＲｃｃは、本明細書中で定義されるとおりである。酸素保護基は、当該分野で周知であり、それらには、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ  ａｎｄ  Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ  ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９９９（参照により本明細書中に援用される）に詳細に記載されているものが含まれる。
【０１１１】
例示的な酸素保護基としては、メチル、メトキシルメチル（ＭＯＭ）、メチルチオメチル（ＭＴＭ）、ｔ−ブチルチオメチル、（フェニルジメチルシリル）メトキシメチル（ＳＭＯＭ）、ベンジルオキシメチル（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル（ＰＭＢＭ）、（４−メトキシフェノキシ）メチル（ｐ−ＡＯＭ）、グアイアコールメチル（ＧＵＭ）、ｔ−ブトキシメチル、４−ペンテニルオキシメチル（ＰＯＭ）、シロキシメチル、２−メトキシエトキシメチル（ＭＥＭ）、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル（ＳＥＭＯＲ）、テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）、３−ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、１−メトキシシクロヘキシル、４−メトキシテトラヒドロピラニル（ＭＴＨＰ）、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルＳ，Ｓ−ジオキシド、１−［（２−クロロ−４−メチル）フェニル］−４−メトキシピペリジン−４−イル（ＣＴＭＰ）、１，４−ジオキサン−２−イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イル、１−エトキシエチル、１−（２−クロロエトキシ）エチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−メチル−１−ベンジルオキシエチル、１−メチル−１−ベンジルオキシ−２−フルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−トリメチルシリルエチル、２−（フェニルセレニル）エチル、ｔ−ブチル、アリル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−メトキシフェニル、２，４−ジニトロフェニル、ベンジル（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、ｏ−ニトロベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−ハロベンジル、２，６−ジクロロベンジル、ｐ−シアノベンジル、ｐ−フェニルベンジル、２−ピコリル、４−ピコリル、３−メチル−２−ピコリルＮ−オキシド、ジフェニルメチル、ｐ，ｐ’−ジニトロベンズヒドリル、５−ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、ｐ−メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ（ｐ−メトキシフェニル）フェニルメチル、トリ（ｐ−メトキシフェニル）メチル、４−（４’−ブロモフェナシルオキシフェニル）ジフェニルメチル、４，４’，４”−トリス（４，５−ジクロロフタルイミドフェニル）メチル、４，４’，４”−トリス（レブリノイルオキシフェニル）メチル、４，４’，４”−トリス（ベンゾイルオキシフェニル）メチル、３−（イミダゾール−１−イル）ビス（４’，４”−ジメトキシフェニル）メチル、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１’−ピレニルメチル、９−アントリル、９−（９−フェニル）キサンテニル、９−（９−フェニル−１０−オキソ）アントリル、１，３−ベンゾジスルフラン−２−イル、ベンゾイソチアゾリルＳ，Ｓ−ジオキシド、トリメチルシリル（ＴＭＳ）、トリエチルシリル（ＴＥＳ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ジメチルイソプロピルシリル（ＩＰＤＭＳ）、ジエチルイソプロピルシリル（ＤＥＩＰＳ）、ジメチルテキシルシリル、ｔ−ブチルジメ���ルシリル（ＴＢＤＭＳ）、ｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）、トリベンジルシリル、トリ−ｐ−キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル（ＤＰＭＳ）、ｔ−ブチルメトキシフェニルシリル（ＴＢＭＰＳ）、ホルメート、ベンゾイルホルメート、アセテート、クロロアセテート、ジクロロアセテート、トリクロロアセテート、トリフルオロアセテート、メトキシアセテート、トリフェニルメトキシアセテート、フェノキシアセテート、ｐ−クロロフェノキシアセテート、３−フェニルプロピオネート、４−オキソペンタノエート（レブリネート）、４，４−（エチレンジチオ）ペンタノエート（レブリノイルジチオアセタール）、ピバロエート、アダマントエート、クロトネート、４−メトキシクロトネート、ベンゾエート、ｐ−フェニルベンゾエート、２，４，６−トリメチルベンゾエート（メシトエート）、アルキルメチルカーボネート、９−フルオレニルメチルカーボネート（Ｆｍｏｃ）、アルキルエチルカーボネート、アルキル２，２，２−トリクロロエチルカーボネート（Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エチルカーボネート（ＴＭＳＥＣ）、２−（フェニルスルホニル）エチルカーボネート（Ｐｓｅｃ）、２−（トリフェニルホスホニオ）エチルカーボネート（Ｐｅｏｃ）、アルキルイソブチルカーボネート、アルキルビニルカーボネートアルキルアリルカーボネート、アルキルｐ−ニトロフェニルカーボネート、アルキルベンジルカーボネート、アルキルｐ−メトキシベンジルカーボネート、アルキル３，４−ジメトキシベンジルカーボネート、アルキルｏ−ニトロベンジルカーボネート、アルキルｐ−ニトロベンジルカーボネート、アルキルＳ−ベンジルチオカーボネート、４−エトキシ−１−ナフチル（ｎａｐｔｈｔｈｙｌ）カーボネート、メチルジチオカーボネート、２−ヨードベンゾエート、４−アジドブチレート、４−ニトロ−４−メチルペンタノエート、ｏ−（ジブロモメチル）ベンゾエート、２−ホルミルベンゼンスルホネート、２−（メチルチオメトキシ）エチル、４−（メチルチオメトキシ）ブチレート、２−（メチルチオメトキシメチル）ベンゾエート、２，６−ジクロロ−４−メチルフェノキシアセテート、２，６−ジクロロ−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノキシアセテート、２，４−ビス（１，１−ジメチルプロピル）フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノエート、ｏ−（メトキシアシル）ベンゾエート，α−ナフトエート、ニトレート、アルキルＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルＮ−フェニルカルバメート、ボレート、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル２，４−ジニトロフェニルスルフェネート、スルフェート、メタンスルホネート（メシレート）、ベンジルスルホネートおよびトシレート（Ｔｓ）が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１１２】
ある特定の実施形態において、硫黄原子上に存在する置換基は、硫黄保護基（チオール保護基とも称される）である。硫黄保護基としては、−Ｒａａ、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、および−Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２が挙げられるが、これらに限定されず、ここで、Ｒａａ、ＲｂｂおよびＲｃｃは、本明細書中で定義されるとおりである。硫黄保護基は、当該分野で周知であり、それらには、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ  ａｎｄ  Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ  ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９９９（参照により本明細書中に援用される）に詳細に記載されているものが含まれる。
【０１１３】
「本発明の化合物」および等価な表現は、本明細書中の上に記載されたような化合物、特に、列挙されたおよび／または記載された本明細書中の任意の式に記載の化合物を包含すると意味されており、この表現は、文脈がそれを許す場合、プロドラッグ、薬学的に許容され得る塩および溶媒和化合物、例えば、水和物を含む。同様に、中間体への言及は、それら自体が特許請求されているか否かに関係なく、文脈がそれを許す場合、それらの塩および溶媒和化合物を包含すると意味される。
【０１１４】
これらのおよび他の例示的な置換基は、詳細な説明、実施例および請求項において、より詳細に記載される。本発明は、置換基の上記の例示的な列挙によっていかなる様式でも限定されないと意図されている。
【０１１５】
他の定義
「薬学的に許容され得る」は、連邦政府もしくは州政府の規制当局または米国以外の国における対応する当局によって認可されているまたは認可され得るという意味、あるいは動物、より詳細にはヒトにおける使用について米国薬局方または他の一般に認められている薬局方に列挙されているという意味である。
【０１１６】
「薬学的に許容され得る塩」とは、薬学的に許容され得、かつ親化合物の所望の薬理学的活性を有する、本発明の化合物の塩のことを指す。特に、そのような塩は、無毒性であり、無機酸付加塩または有機酸付加塩および無機塩基付加塩または有機塩基付加塩であり得る。具体的には、そのような塩としては：（１）無機酸（例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸など）と形成される酸付加塩；もしくは有機酸（例えば、酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸、シクロペンタンプロピオン酸、グリコール酸、ピルビン酸、乳酸、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、マレイン酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、３−（４−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸、桂皮酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、１，２−エタン−ジスルホン酸、２−ヒドロキシエタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、４−クロロベンゼンスルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、４−メチルビシクロ［２．２．２］−オクタ−２−エン−１−カルボン酸、グルコヘプトン酸、３−フェニルプロピオン酸、トリメチル酢酸、第３級ブチル酢酸、ラウリル硫酸、グルコン酸、グルタミン酸、ヒドロキシナフトエ酸、サリチル酸、ステアリン酸、ムコン酸など）と形成される酸付加塩；あるいは（２）親化合物に存在する酸性プロトンが、金属イオン、例えば、アルカリ金属イオン、アルカリ土類イオンもしくはアルミニウムイオンによって置き換えられるか；または有機塩基（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルグルカミンなど）と配位するときに形成される塩が挙げられる。塩には、さらに、単なる例として、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウムなど；および化合物が塩基性官能基を含むとき、無毒性の有機酸または無機酸の塩（例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、酒石酸塩、メシル酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、シュウ酸塩など）が挙げられる。用語「薬学的に許容され得るカチオン」とは、酸性官能基の許容され得るカチオン性対イオンのことを指す。そのようなカチオンは、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウムカチオンなどによって例示される（例えば、Ｂｅｒｇｅ，ら、Ｊ．Ｐｈａｒｍ．Ｓｃｉ．６６（１）：１−７９（Ｊａｎ．”７７を参照のこと）。
【０１１７】
「薬学的に許容され得るビヒクル」とは、本発明の化合物とともに投与される、希釈剤、佐剤、賦形剤またはキャリアのことを指す。
【０１１８】
「薬学的に許容され得る代謝的に切断可能な基」とは、インビボで切断されて、本明細書に示される構造式の親分子をもたらす基のことを指す。代謝的に切断可能な基の例としては、−ＣＯＲ、−ＣＯＯＲ、−ＣＯＮＲＲおよび−ＣＨ２ＯＲラジカルが挙げられ、ここで、Ｒは、各存在において、アルキル、トリアルキルシリル、炭素環式アリール、またはアルキル、ハロゲン、ヒドロキシもしくはアルコキシのうちの１つもしくはそれを超える基で置換された炭素環式アリールから独立して選択される。代表的な代謝的に切断可能な基の具体的な例としては、アセチル、メトキシカルボニル、ベンゾイル、メトキシメチルおよびトリメチルシリル基が挙げられる。
【０１１９】
「プロドラッグ」とは、切断可能な基を有し、加溶媒分解によってまたは生理条件下において、インビボで薬学的に活性である本発明の化合物になる化合物（本発明の化合物の誘導体を含む）のことを指す。そのような例としては、コリンエステル誘導体など、Ｎ−アルキルモルホリンエステルなどが挙げられるがこれらに限定されない。本発明の化合物の他の誘導体は、それらの酸と酸誘導体の両方の形態で活性を有するが、しばしば、酸感受性の形態では、哺乳動物生物において可溶性、組織適合性または遅延放出の利点を提供する（Ｂｕｎｄｇａｒｄ，Ｈ．，Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｐｒｏｄｒｕｇｓ，ｐｐ．７−９，２１−２４，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ  １９８５を参照のこと）。プロドラッグには、当業者に周知の酸誘導体、例えば、親酸と好適なアルコールとの反応によって調製されるエステル、あるいは親酸化合物と置換もしくは非置換アミンまたは酸無水物もしくは混合無水物との反応によって調製されるアミドが含まれる。本発明の化合物上のペンダント酸性基から誘導される単純な脂肪族または芳香族のエステル、アミドおよび無水物は、特別なプロドラッグである。場合によっては、二重エステルタイプのプロドラッグ（例えば、（アシルオキシ）アルキルエステルまたは（（アルコキシカルボニル）オキシ）アルキルエステル）を調製することが望ましい。詳細には、本発明の化合物のＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ２−Ｃ８アルケニル、Ｃ２−Ｃ８アルキニル、アリール、Ｃ７−Ｃ１２置換アリールおよびＣ７−Ｃ１２アリールアルキルエステル。
【０１２０】
「溶媒和化合物」とは、通常は加溶媒分解反応によって、溶媒と会合している化合物の形態または水と会合している化合物の形態（「水和物」とも称される）のことを指す。この物理的会合には、水素結合が含まれる。従来の溶媒としては、水、エタノール、酢酸などが挙げられる。本発明の化合物は、例えば、結晶の形態で調製され得、溶媒和され得るかまたは水和され得る。好適な溶媒和化合物には、薬学的に許容され得る溶媒和化合物（例えば、水和物）が含まれ、化学量論的溶媒和化合物と非化学量論的溶媒和化合物の両方がさらに含まれる。ある特定の場合、溶媒和化合物は、例えば、１つまたはそれを超える溶媒分子が結晶性固体の結晶格子の中に組み込まれるとき、単離が可能であり得る。「溶媒和化合物」は、溶液相と単離可能な溶媒和化合物の両方を包含する。代表的な溶媒和化合物としては、水和物、エタノラートおよびメタノラートが挙げられる。
【０１２１】
投与が企図される「被験体」としては、ヒト（すなわち、任意の年齢群の男性または女性、例えば、小児被験体（例えば、乳児、小児、青年）または成人被験体（例えば、若年成人、中年成人または老人））および／または非ヒト動物、例えば、哺乳動物（例えば、霊長類（例えば、カニクイザル、アカゲザル）、ウシ、ブタ、ウマ、ヒツジ、ヤギ、げっ歯類、ネコおよび／またはイヌ）が挙げられるがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、被験体は、ヒトである。ある特定の実施形態において、被験体は、非ヒト動物である。用語「ヒト」、「患者」および「被験体」は、本明細書中で交換可能に使用される。
【０１２２】
「有効量」は、疾患を処置するためまたは予防するために被験体に投与されたたとき、そのような処置または予防をもたらすのに十分な化合物の量を意味する。「有効量」は、化合物、疾患およびその重症度、ならびに処置される被験体の年齢、体重などに応じて変動し得る。「治療有効量」は、治療的な処置に有効な量のことを指す。「予防有効量」は、予防的な処置に有効な量のことを指す。
【０１２３】
「予防する」または「予防」または「予防的な処置」は、疾患または障害を獲得するまたは発症するリスクの低減（すなわち、疾患の少なくとも１つの臨床徴候を、病原体にまだ曝露されていない被験体または疾患発生の前にその疾患の素因を有する被験体において発症させないこと）を指す。
【０１２４】
用語「予防法」は、「予防」に関係し、その目的が疾患の処置または治癒ではなく予防である措置または手順のことを指す。予防的な措置の非限定的な例としては、ワクチンの投与；例えば、拘束に起因して、血栓症のリスクがある入院患者への低分子量ヘパリンの投与；およびマラリアが風土病である地理的地域またはマラリアに接触する（ｃｏｎｔｒａｃｔｉｎｇ）リスクが高い地理的地域への訪問に先立ったクロロキンなどの抗マラリア剤の投与が挙げられ得る。
【０１２５】
任意の疾患もしくは障害を「処置する」または任意の疾患もしくは障害の「処置」または「治療的な処置」は、１つの実施形態では、その疾患または障害を回復させること（すなわち、疾患を停止すること、またはその臨床徴候の少なくとも１つの症状発現、程度もしくは重症度を低減させること）を指す。別の実施形態において、「処置する」または「処置」とは、少なくとも１つの物理的パラメータを回復させることを指し、その回復は、被験体が認識できない場合がある。さらに別の実施形態において、「処置する」または「処置」とは、疾患または障害を物理的に調節すること（例えば、認識可能な徴候の安定化）、生理的に調節すること（例えば、生理的パラメータの安定化）のいずれかまたはその両方のことを指す。さらなる実施形態において、「処置する」または「処置」は、疾患の進行を遅らせることに関する。
【０１２６】
本明細書中で使用されるとき、用語「同位体バリアント」とは、化合物であって、そのような化合物を構成する１つまたはそれを超える原子において非天然の比率の同位体を含む化合物のことを指す。例えば、化合物の「同位体バリアント」は、１つまたはそれを超える非放射性同位体、例えば、ジュウテリウム（２ＨまたはＤ）、炭素−１３（１３Ｃ）、窒素−１５（１５Ｎ）などを含み得る。そのような同位体置換が行われている化合物において、以下の原子は、存在する場合、例えば、任意の水素が２Ｈ／Ｄであり得るか、任意の炭素が１３Ｃであり得るか、または任意の窒素が１５Ｎであり得るように、変化し得ること、ならびにそのような原子の存在および位置は、当該分野の技術の範囲内で決定され得ることが、理解されるだろう。同様に、本発明は、放射性同位体を有する同位体バリアントの調製を含み得、その場合、例えば、得られた化合物は、薬物および／または基質の組織分布研究に使用され得る。放射性同位体であるトリチウム、すなわち、３Ｈ、および炭素−１４、すなわち１４Ｃは、それらの組み込みの容易さおよび検出手段が準備されていることに鑑みて、この目的のために特に有用である。さらに、陽電子放出同位体（例えば、１１Ｃ、１８Ｆ、１５Ｏおよび１３Ｎ）で置換された化合物が、調製され得、その化合物は、基質レセプターの占有度を調べるための陽電子放出断層撮影（ＰＥＴ）研究において有用だろう。放射性であるかまたは放射性でない、本明細書中に提供される化合物のすべての同位体バリアントが、本発明の範囲内に包含されると意図される。
【０１２７】
同じ分子式を有するが、原子の結合の性質もしくは順序または原子の空間的配列が異なる化合物は、「異性体」と呼ばれることも理解されるべきである。原子の空間的配列が異なる異性体は、「立体異性体」と呼ばれる。
【０１２８】
互いに鏡像でない立体異性体は、「ジアステレオマー」と呼ばれ、互いに重ね合せることができない鏡像であるものは、「鏡像異性体」と呼ばれる。化合物が、不斉中心を有するとき、例えば、それが４つの異なる基に結合されているとき、１対の鏡像異性体が存在し得る。鏡像異性体は、その不斉中心の絶対配置によって特徴づけられ得、ＣａｈｎおよびＰｒｅｌｏｇのＲ−およびＳ−配列規則（ｓｅｑｕｅｎｃｉｎｇ  ｒｕｌｅｓ）によって記載されるか、またはその分子が偏光面を回転する様式によって記載され、右旋性もしくは左旋性として（すなわち、それぞれ、（＋）または（−）−異性体として）指摘される。キラル化合物は、個々の鏡像異性体として存在し得るか、またはそれらの混合物として存在し得る。等しい比率の鏡像異性体を含む混合物は、「ラセミ混合物」と呼ばれる。
【０１２９】
「互変異性体」とは、特定の化合物構造の相互交換可能な形態であって、水素原子および電子の転位（ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ）が異なる化合物を指す。したがって、２つの構造が、π電子および原子（通常はＨ）の移動によって平衡状態であり得る。例えば、エノールおよびケトンは、酸または塩基のいずれかでの処理によって迅速に相互変換されるので、互変異性体である。互変異性の別の例は、同様に酸または塩基での処理によって形成される、フェニルニトロメタンのａｃｉ−型およびニトロ−型である。互変異性体は、目的の化合物の最適な化学的反応性および生物学的活性の達成に有意義であり得る。
【０１３０】
本明細書中で使用されるとき、純粋な鏡像異性化合物は、その化合物の他の鏡像異性体または立体異性体を実質的に含まない（すなわち、鏡像体過剰である）。言い換えると、「Ｓ」型の化合物は、「Ｒ」型の化合物を実質的に含まず、したがって、「Ｒ」型の鏡像体過剰である。用語「鏡像異性的に純粋な」または「純粋な鏡像異性体」は、化合物が、７５重量％超、８０重量％超、８５重量％超、９０重量％超、９１重量％超、９２重量％超、９３重量％超、９４重量％超、９５重量％超、９６重量％超、９７重量％超、９８重量％超、９８．５重量％超、９９重量％超、９９．２重量％超、９９．５重量％超、９９．６重量％超、９９．７重量％超、９９．８重量％超または９９．９重量％超の鏡像異性体を含むことを表す。ある特定の実施形態において、重量は、化合物のすべての鏡像異性体または立体異性体の総重量に基づく。
【０１３１】
本明細書中で使用されるとき、別段示されない限り、用語「鏡像異性的に純粋なＲ−化合物」とは、少なくとも約８０重量％のＲ−化合物および多くとも約２０重量％のＳ−化合物、少なくとも約９０重量％のＲ−化合物および多くとも約１０重量％のＳ−化合物、少なくとも約９５重量％のＲ−化合物および多くとも約５重量％のＳ−化合物、少なくとも約９９重量％のＲ−化合物および多くとも約１重量％のＳ−化合物、少なくとも約９９．９重量％のＲ−化合物または多くとも約０．１重量％のＳ−化合物のことを指す。ある特定の実施形態において、重量は、化合物の総重量に基づく。
【０１３２】
本明細書中で使用されるとき、別段示されない限り、用語「鏡像異性的に純粋なＳ−化合物」または「Ｓ−化合物」とは、少なくとも約８０重量％のＳ−化合物および多くとも約２０重量％のＲ−化合物、少なくとも約９０重量％のＳ−化合物および多くとも約１０重量％のＲ−化合物、少なくとも約９５重量％のＳ−化合物および多くとも約５重量％のＲ−化合物、少なくとも約９９重量％のＳ−化合物および多くとも約１重量％のＲ−化合物または少なくとも約９９．９重量％のＳ−化合物および多くとも約０．１重量％のＲ−化合物のことを指す。ある特定の実施形態において、重量は、化合物の総重量に基づく。
【０１３３】
本明細書中に提供される組成物において、鏡像異性的に純粋な化合物またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、水和物もしくはプロドラッグは、他の活性成分または不活性成分とともに存在し得る。例えば、鏡像異性的に純粋なＲ−化合物を含む薬学的組成物は、例えば、約９０％の賦形剤および約１０％の鏡像異性的に純粋なＲ−化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、そのような組成物における鏡像異性的に純粋なＲ−化合物は、例えば、その化合物の総重量基準で、少なくとも約９５重量％のＲ−化合物および多くとも約５重量％のＳ−化合物を含み得る。例えば、鏡像異性的に純粋なＳ−化合物を含む薬学的組成物は、例えば、約９０％の賦形剤および約１０％の鏡像異性的に純粋なＳ−化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、そのような組成物における鏡像異性的に純粋なＳ−化合物は、例えば、その化合物の総重量基準で、少なくとも約９５重量％のＳ−化合物および多くとも約５重量％のＲ−化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、活性成分は、賦形剤またはキャリアをほとんどまたはまったく伴わずに製剤化され得る。
【０１３４】
本発明の化合物は、１つまたはそれを超える不斉中心を有することがあり；ゆえに、そのような化合物は、個々の（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−立体異性体またはそれらの混合物として生成され得る。
【０１３５】
別段示されない限り、本明細書および請求項における特定の化合物の記載または呼称は、個々の鏡像異性体と、それらのラセミ混合物またはそうでない混合物の両方を含むと意図されている。立体化学を決定するための方法および立体異性体を分離するための方法は、当該分野で周知である。
【０１３６】
安定した化学的に実現可能な複素環式環におけるヘテロ原子の最大数は、その環が芳香族であるかまたは非芳香族であるかに関係なく、その環のサイズ、不飽和度およびヘテロ原子の原子価によって決定されることは、有機合成の当業者に認識されるだろう。一般に、複素環式環は、その芳香族複素環が化学的に実現可能であり、かつ安定である限り、１〜４個のヘテロ原子を有し得る。
本発明のある特定の実施形態の詳細な説明
【０１３７】
ある特定の態様において、ＮＭＤＡレセプターモジュレーターとしての、したがって、広範囲のＣＮＳ症状、とりわけ、精神分裂病、うつ病、双極性障害（例えば、Ｉおよび／またはＩＩ）、統合失調感情障害、気分障害、不安障害、人格障害、精神病、強迫性障害、外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）、自閉症圏障害（ＡＳＤ）、気分変調（軽症うつ病）、社会不安障害、強迫性障害（ＯＣＤ）、疼痛（例えば、有痛性症候群または障害）、睡眠障害、記憶障害、痴呆、アルツハイマー病、発作性障害（例えば、癲癇）、外傷性脳損傷、脳卒中、嗜癖障害（例えば、オピエート類、コカインおよび／またはアルコールに対する嗜癖）、自閉症、ハンチントン病、不眠、パーキンソン病、離脱症候群または耳鳴の予防および／または処置に有用な、３−αおよび３β−ヒドロキシステロイド化合物が、本明細書中に提供される。これらの化合物は、改善されたインビボ効力、薬物動態学的特性（ＰＫ）特性、経口バイオアベイラビリティ、製剤化適性、安定性および／または安全性を示すと予想される。
【０１３８】
化合物
本明細書中に記載される例示的な化合物としては、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）が挙げられる。いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される化合物は、ＮＭＤＡＲのアンタゴニストまたはＮＡＭを含む。本明細書中に記載される化合物は、天然に存在するおよび天然に存在しないステロイドおよびステロール（例えば、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロール）を含む。いくつかの実施形態において、その化合物は、オキシステロールである。いくつかの実施形態において、その化合物は、式（Ｉ）の化合物に示されているように、Ｃ−１７β側アルキル側鎖、およびステロイド骨格の様々な位置に随意の置換を有する３−βヒドロキシルステロイドである。さらなる例示的な化合物としては、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性もしくは内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）または２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性もしくは内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）が挙げられる。
【０１３９】
いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される方法、例えば、本明細書中に記載される評価または処置の方法において使用される化合物は、式（Ｉ）に記載の化合物：
【化３０】
2016514967.tif 000031
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせであり；
式中：
Ｚは、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）または（ｖ）の基であり：
【化３１】
2016514967.tif 000032
Ｌ１およびＬ２は、結合、置換もしくは非置換Ｃ１−Ｃ６アルキレン、置換もしくは非置換Ｃ２−Ｃ６アルケニレン、置換もしくは非置換Ｃ２−Ｃ６アルキニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ１−Ｃ６アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルケニレンおよび置換もしくは非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルキニレンからなる群より選択され；
Ｌ３は、置換もしくは非置換Ｃ１−Ｃ６アルキレン、置換もしくは非置換Ｃ２−Ｃ６アルケニレン、置換もしくは非置換Ｃ２−Ｃ６アルキニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ１−Ｃ６アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルケニレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルキニレンであり；
Ｘ１およびＸ２の各実例は、独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（ＲＸ）−であり、ここで、ＲＸの各実例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアルキルまたはアミノ保護基であり；
Ｒ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、ハロ、−Ｎ３、−ＮＯ２、−ＳＣＮ、−ＣＮ、−ＯＲＡ１、−ＳＲＡ１、−Ｎ（ＲＡ１）２、−Ｎ＝ＮＲＡ１、−Ｎ＝Ｃ（ＲＡ１）２、−Ｎ（ＯＲＡ１）（ＲＡ１），−Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲＡ１）（ＲＡ１），−ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、−Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、−ＳＯ２ＲＡ２、−ＮＲＡ１ＳＯ２ＲＡ２、ｏｒ  −ＳＯ２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ここで、ＲＡ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基であるか、あるいは２つのＲＡ１基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成し；ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいはＲＡ１基およびＲＡ２基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成し；
Ｒ２、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂの各実例は、独立して、水素、−ＯＨ、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、−Ｎ３、−ＮＯ２、−ＳＣＮ、−ＣＮ、−ＯＲＢ１、−ＳＲＢ１、−Ｎ（ＲＢ１）２、−Ｎ＝ＮＲＢ１、−Ｎ＝Ｃ（ＲＢ１）２、−Ｎ（ＯＲＢ１）（ＲＢ１）、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂ１）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲＢ１）（ＲＢ１），−ＯＣ（＝Ｏ）ＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＲＢ２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＢ２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＢ１、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＢ２、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＢ１、−Ｓ（＝Ｏ）ＲＢ２、−ＳＯ２ＲＢ２、−ＮＲＢ１ＳＯ２ＲＢ２、ｏｒ  −ＳＯ２Ｎ（ＲＢ１）２であり、ここで、ＲＢ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基であるか、あるいは２つのＲＢ１基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成し；ＲＢ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいはＲＢ１基およびＲＢ２基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成するか；または必要に応じて、Ｒ４ａおよびＲ４ｂの各々ならびに／もしくはＲ７ａおよびＲ７ｂの各々ならびに／もしくはＲ１１ａおよびＲ１１ｂの各々は、一体となって、オキソ（＝Ｏ）基を形成し；
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールであり；
Ｒ３ｂは、水素、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ１）２、−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ２、−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）２ＲＣ２、−Ｐ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＣ１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ２）２、ｏｒ  −Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ２）（ＯＲＣ１）であり、ここで、ＲＣ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基であるか、あるいは２つのＲＣ１基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成し；ＲＣ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールであり；
Ｒ６ａおよびＲ６ｂの各々は、独立して、水素、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニルであり、
【化３２】
2016514967.tif 000033
は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が環Ｂに存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂのうちの一方は、存在せず、単結合が環Ｂに存在する場合、Ｃ５における水素は、アルファ位またはベータ位であり；
Ｒ１４は、水素または置換もしくは非置換アルキルであり；
Ｒ１７は、水素、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリールまたは−ＯＲＤ１であり、ここで、ＲＤ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリールまたは酸素保護基であり；
Ｒ１８、Ｒ１９およびＲ２０の各実例は、独立して、水素または置換もしくは非置換アルキルであり；
Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの各実例は、独立して、水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換アルキルであるか、あるいはＲ２３ａおよびＲ２３ｂは、共に接続して、置換もしくは非置換Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルを形成し；
Ｒ２４は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＥ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＥ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＥ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＥ１）２、−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＥ２、−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＥ１、−Ｐ（＝Ｏ）２ＲＥ２、−Ｐ（＝Ｏ）２ＯＲＥ１、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＥ１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＥ２）２、ｏｒ  −Ｐ（＝Ｏ）（ＲＥ２）（ＯＲＥ１）であり、ここで、ＲＥ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基であるか、あるいは２つのＲＥ１基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成し；ＲＥ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールであり；
Ｙは、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲＺ５−であり；
ＲＺ４は、独立して、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、−ＯＲＺ５、−ＳＲＺ５または−Ｎ（ＲＺ５）２であり；
ＲＺ５の各実例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基であるか、または２つのＲＺ５基は、接続して、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し；
ＲＺ６の各実例は、独立して、水素または置換もしくは非置換アルキルであるか、あるいは２つのＲＺ６基は、接続して、Ｃ３−６炭素環を形成し；
下付き文字ｎは、０、１、２または３である。
【０１４０】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａが、Ｈであり、ｎが、１であり、Ｒ１９が、Ｍｅであるとき；Ｒ１は、Ｈ、アルキル、アルケニルまたはアルキニル以外である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａが、Ｈであり、Ｒ３ｂが、−ＣＯＭｅであり、Ｒ１９が、Ｍｅであり、ｎが、０であるとき；Ｒ１は、ＯＨである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａが、Ｈであり、ｎが、０であり、Ｒ２０が、アルキルであるとき；Ｒ１は、ＯＨ以外である。ある特定の実施形態において、Ｒ１９が、Ｍｅであるとき；Ｒ１は、Ｈ、アルキル、アルケニルまたはアルキニル以外である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、Ｈであり；Ｒ１９は、Ｍｅ以外である。ある特定の実施形態において、Ｒ１およびＲ３ａの各々は、Ｈであり；Ｒ１９は、Ｍｅ以外である。
【０１４１】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａが、Ｈであるとき、Ｒ１は、Ｈ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニル以外である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａが、Ｈであるとき、Ｒ１は、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、ハロ、−Ｎ３、−ＮＯ２、−ＳＣＮ、−ＣＮ、−ＯＲＡ１、−ＳＲＡ１、−Ｎ（ＲＡ１）２、−Ｎ＝ＮＲＡ１、−Ｎ＝Ｃ（ＲＡ１）２、−Ｎ（ＯＲＡ１）（ＲＡ１），−Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲＡ１）（ＲＡ１），−ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、−Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、−ＳＯ２ＲＡ２、−ＮＲＡ１ＳＯ２ＲＡ２、ｏｒ  −ＳＯ２Ｎ（ＲＡ１）２である。
【０１４２】
ある特定のさらなる実施形態において、以下の化合物：
【化３３】
2016514967.tif 000034
ならびにそれらの薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドまたはそれらの組み合わせは、明確に除外される。
【０１４３】
Ｒ３ａの様々な実施形態
上で一般に定義されたように、Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールである。Ｒ３ａは、アルファ位（下）またはベータ位（上）に存在し得ることが、広く理解される。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、アルファである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、ベータである。
【０１４４】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素である。
【０１４５】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲ３ａＣ１−６アルキル基としては、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）、ｎ−ヘキシル（Ｃ６）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるフルオロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルおよび２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるクロロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ２）およびアルコキシ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）が挙げられるがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換アルキルであり、例えば、Ｒ３ａは、ハロアルキル、アルコキシアルキルまたはアミノアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、Ｍｅ、Ｅｔ、ｎ−Ｐｒ、ｎ−Ｂｕ、ｉ−Ｂｕ、フルオロメチル、クロロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル、メトキシメチル、メトキシエチルまたはエトキシメチルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、Ｍｅ、Ｅｔ、ｎ−Ｐｒ、ｎ−Ｂｕまたはｉ−Ｂｕである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、メトキシエチルまたはエトキシエチルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、トリフルオロメトキシメチルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、フルオロメチル、クロロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロエチル、トリフルオロエチルまたは２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、トリフルオロメチルである。
【０１４６】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換アルケニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルケニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルケニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、非置換の、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシアルキルもしくはヒドロキシルからなる群より選択される１つもしくはそれを超える置換基で置換された、エテニル（Ｃ２）、プロペニル（Ｃ３）またはブテニル（Ｃ４）である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、非置換の、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシアルキルもしくはヒドロキシで置換された、エテニル、プロペニルまたはブテニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、エテニルである。
【０１４７】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換アルキニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキニルである。例示的な置換または非置換Ｒ３ａアルキニル基としては、非置換の、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル（例えば、ＣＦ３）、アルコキシアルキル、シクロアルキル（例えば、シクロプロピルまたはシクロブチル）もしくはヒドロキシルで置換された、エチニル、プロピニルまたはブチニルが挙げられるがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、トリフルオロエチニル、シクロプロピルエチニル、シクロブチルエチニルおよびプロピニル、フルオロプロピニルおよびクロロエチニルからなる群より選択される。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、非置換の、または置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリルおよび置換もしくは非置換ヘテロシクリルからなる群より選択される１つもしくはそれを超える置換基で置換された、エチニル（Ｃ２）、プロピニル（Ｃ３）またはブチニル（Ｃ４）である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換フェニルで置換された、エチニル（Ｃ２）、プロピニル（Ｃ３）またはブチニル（Ｃ４）である。ある特定の実施形態において、そのフェニル置換基（ｓｕｂｓｔｉｔｕｔｅｎｔ）は、ハロ、アルキル、トリフルオロアルキル、アルコキシ、アシル、アミノまたはアミドからなる群より選択される１つまたはそれを超える置換基でさらに置換される。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換もしくは非置換の、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾイル、チアゾリル、イソオキサゾイル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリルもしくはテトラゾリルで置換された、エチニル（Ｃ２）、プロピニル（Ｃ３）またはブチニル（Ｃ４）である。
【０１４８】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、非置換の、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシアルキルもしくはヒドロキシルで置換された、エチニル、プロピニルまたはブチニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換アリールで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、非置換のフェニルまたはハロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、トリハロアルキルもしくはアシルで置換されたフェニルで置換された、エチニルあるいはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換カルボシクリルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換の、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換ヘテロアリールで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換の、ピリジニルまたはピリミジニルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換の、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾイル、チアゾリル、イソオキサゾイル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換ヘテロシクリルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換の、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニルまたはモルホリニル（ｍｏｐｈｏｌｉｎｙｌ）で置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、ヒドロキシルまたはアルコキシで置換された、プロピニルまたはブチニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、メトキシまたはエトキシで置換された、プロピニルまたはブチニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、Ｃｌで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、トリフルオロメチルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。
【０１４９】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換カルボシクリル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ３−６カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ３−４カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ４−５カルボシクリルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６カルボシクリルである。
【０１５０】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換ヘテロシクリル、例えば、置換もしくは非置換３〜６員ヘテロシクリル、置換もしくは非置換３〜４員ヘテロシクリル、置換もしくは非置換４〜５員ヘテロシクリルまたは置換もしくは非置換５〜６員ヘテロシクリルである。
【０１５１】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換アリールである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換フェニルである。
【０１５２】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換ヘテロアリール、例えば、必要に応じて置換される５〜６員ヘテロアリールである。
【０１５３】
Ｒ３ａのさらなる実施形態は、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニルおよび置換または非置換アルキニル基として、以下：
【化３４】
2016514967.tif 000035
に描写され、式中、Ｒ３ｃの各実例は、水素、ハロまたは−ＯＲＦ１であり、ここで、ＲＦ１は、置換または非置換アルキルであり；Ｒ３ｄの各実例は、水素、ハロあるいは置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリルまたは置換もしくは非置換ヘテロシクリルである。
【０１５４】
ある特定の実施形態において、少なくとも１つのＲ３ｃは、水素である。ある特定の実施形態において、少なくとも２つのＲ３ｃは、水素である。ある特定の実施形態において、各Ｒ３ｃは、水素である。ある特定の実施形態において、少なくとも１つのＲ３ｃは、ハロゲン（例えば、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）である。ある特定の実施形態において、少なくとも２つのＲ３ｃは、ハロゲン（例えば、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）である。ある特定の実施形態において、各Ｒ３ｃは、ハロゲン（例えば、基−ＣＦ３を提供するフルオロ）である。ある特定の実施形態において、少なくとも１つのＲ３ｃは、−ＯＲＦ１（例えば、ＯＭｅまたはＯＥｔ）である。ある特定の実施形態において、少なくとも２つのＲ３ｃは、−ＯＲＦ１（例えば、ＯＭｅまたはＯＥｔ）である。ある特定の実施形態において、少なくとも１つのＲ３ｃは、水素、Ｆ、−ＯＭｅまたは−ＯＥｔである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｃの１つは、Ｆ、−ＯＭｅまたはＯＥｔであり；残りは、Ｈである。
【０１５５】
ある特定の実施形態において、少なくとも１つのＲ３ｄは、水素である。ある特定の実施形態において、各Ｒ２ｃは、水素である。ある特定の実施形態において、少なくとも１つのＲ３ｄは、ハロゲン（例えば、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）である。ある特定の実施形態において、各Ｒ３ｄは、ハロゲン（例えば、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）である。ある特定の実施形態において、各Ｒ３ｄは、アルキルであり、例えば、各Ｒ２ｃは、Ｍｅである。ある特定の実施形態において、一方のＲ３ｄは、アルキルであり；他方は、水素であり、例えば、一方のＲ３ｄは、Ｍｅであり；他方は、水素である。ある特定の実施形態において、一方のＲ３ｄは、置換または非置換カルボシクリル、例えば、シクロプロピルまたはシクロブチルであり、他方は、水素である。ある特定の実施形態において、少なくとも１つのＲ３ｄは、水素、−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ、−ＣＨ３、−ＣＦ３、シクロプロピルまたはシクロブチルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｄの各実例は、Ｈである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｄの各実例は、ハロゲン（例えば、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｄの各実例は、アルキル、例えば、−ＣＨ３、−ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｄの各実例は、置換または非置換カルボシクリル、例えば、シクロプロピルまたはシクロブチルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｄは、置換または非置換シクロプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｄの各実例は、水素、−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ、−ＣＨ３、−ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ、シクロプロピルまたはシクロブチルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｄは、ＭｅまたはＣｌである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｄは、置換または非置換ヘテロシクリルである。
【０１５６】
−Ｘ１−Ｒ３ｂの様々な実施形態
上で一般に定義されたように、基−Ｘ１Ｒ３ｂに対して、Ｘ１は、独立して、−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（ＲＸ）−であり、ここで、ＲＸの各実例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアルキルまたはアミノ保護基であり；Ｒ３ｂは、水素、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ１）２、−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ１、−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）２ＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＣ１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ１）２、ｏｒ  −Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ１）（ＯＲＣ１）であり、ここで、ＲＣ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基であるか、あるいは２つのＲＣ１基は、接続して、置換もしくは非置換の複素環式環を形成する。基−Ｘ１−Ｒ３ｂは、アルファ位（下）またはベータ位（上）に存在し得ることが、広く理解される。ある特定の実施形態において、基−Ｘ１−Ｒ３ｂは、アルファである。ある特定の実施形態において、基−Ｘ１−Ｒ３ｂは、ベータである。
【０１５７】
ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｏ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｓ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｎ（ＲＸ）−である。ある特定の実施形態において、ＲＸは、アルキルである。ある特定の実施形態において、ＲＸは、Ｍｅ、Ｅｔまたはｉ−Ｐｒである。ある特定の実施形態において、ＲＸは、Ｈであり、すなわち、Ｘ１は、−ＮＨ−である。
【０１５８】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、水素である。例えば、ある特定の実施形態において、基−Ｘ１Ｒ３ｂは、−ＯＨである。ある特定の実施形態において、基−Ｘ１Ｒ３ｂは、−ＳＨである。ある特定の実施形態において、基−Ｘ１Ｒ３ｂは、−ＮＨ２または−ＮＨＲＸである。
【０１５９】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ１）２、−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ１、−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）２ＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＣ１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ１）２、ｏｒ  −Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ１）（ＯＲＣ１）である。
【０１６０】
ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、水素または保護基、すなわち、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基または窒素原子に付着されているときは窒素保護基である。ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、水素である。
【０１６１】
ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲＣ１Ｃ１−６アルキル基としては、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）、ｎ−ヘキシル（Ｃ６）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるフルオロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルおよび２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるクロロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ２）およびアルコキシ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）が挙げられるがこれらに限定されない。
【０１６２】
ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アルケニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルケニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルケニルである。
【０１６３】
ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アルキニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキニルである。
【０１６４】
ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、置換または非置換カルボシクリル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ３−６カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ３−４カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ４−５カルボシクリルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６カルボシクリルである。
【０１６５】
ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、置換または非置換ヘテロシクリル、例えば、置換もしくは非置換３〜６員ヘテロシクリル、置換もしくは非置換３〜４員ヘテロシクリル、置換もしくは非置換４〜５員ヘテロシクリルまたは置換もしくは非置換５〜６員ヘテロシクリルである。
【０１６６】
ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アリール、例えば、置換または非置換フェニルである。
【０１６７】
ある特定の実施形態において、ＲＣ１の少なくとも１つの実例は、置換または非置換ヘテロアリール、例えば、必要に応じて置換される５〜６員ヘテロアリールである。
【０１６８】
ある特定の実施形態において、２つのＲＣ１基は、接続して、置換または非置換の複素環式環、例えば、置換もしくは非置換ピペリジニル環、置換もしくは非置換ピペラジニル環または置換もしくは非置換モルホリニル環を形成する。
【０１６９】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ１）２または−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲＣ１）（ＲＣ１）であり、ここで、ＲＣ１は、本明細書中で定義されるとおりである。
【０１７０】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ１であり、例えば、ＲＣ１は、例えば、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）またはｎ−ヘキシル（Ｃ６）である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｍＣＯ２Ｈであり、ここで、ｍは、２以上５以下の整数である。ある特定の実施形態において、ｍは、２である。ある特定の実施形態において、ｍは、３である。ある特定の実施形態において、ｍは、４である。ある特定の実施形態において、ｍは、５である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＨである。
【０１７１】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ１であり、例えば、ＲＣ１は、例えば、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）またはｎ−ヘキシル（Ｃ６）である。
【０１７２】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ１であり、例えば、ＲＣ１は、例えば、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）またはｎ−ヘキシル（Ｃ６）である。
【０１７３】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ１）２、例えば、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＲＣ１であり、ここで、ＲＣ１は、例えば、置換もしくは非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）もしくはｎ−ヘキシル（Ｃ６）であるか、またはＲ１は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ１）２であり、ここで、その２つのＲＣ１基は、接続して、置換または非置換の複素環式環、例えば、置換もしくは非置換ピペリジニル環、置換もしくは非置換ピペラジニル環または置換もしくは非置換モルホリニル環を形成する。
【０１７４】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ１または−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１であり、ここで、ＲＣ１は、例えば、水素、または置換もしくは非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）もしくはｎ−ヘキシル（Ｃ６）、または置換もしくは非置換フェニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１、例えば、−ＳＯ３Ｈである。
【０１７５】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｐ（＝Ｏ）２ＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＣ１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ１）２または−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ１）（ＯＲＣ１）であり、ここで、各ＲＣ１は、例えば、独立して、水素、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）もしくはｎ−ヘキシル（Ｃ６）または置換もしくは非置換フェニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｐ（＝Ｏ）２ＲＣ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−Ｐ（＝Ｏ）２ＯＲＣ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＣ１）２である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ１）２である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＣ１）（ＯＲＣ１）である。
【０１７６】
Ｚが式（ｉ）または（ｉｉ）の基である様々な実施形態
ある特定の実施形態において、Ｚは、式（ｉ）の基である：
【化３５】
2016514967.tif 000036
【０１７７】
他の実施形態において、Ｚは、式（ｉｉ）の基である：
【化３６】
2016514967.tif 000037
【０１７８】
上で一般に定義されたように、Ｌ１およびＬ２は、結合である（すなわち、換言すれば、存在しない）か、あるいは置換もしくは非置換Ｃ１−Ｃ６アルキレン、置換もしくは非置換Ｃ２−Ｃ６アルケニレン、置換もしくは非置換Ｃ２−Ｃ６アルキニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ１−Ｃ６アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルケニレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ２−Ｃ６アルキニレンである。
【０１７９】
ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、結合である。
【０１８０】
ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ１−Ｃ６アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ１−Ｃ４アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ１−Ｃ３アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ１−Ｃ２アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ１アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ３アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ４アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ５アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ６アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換アルキルおよびハロからなる群より選択される１つまたはそれを超える置換基で置換された、上に記載されたようなアルキレン基である。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、−ＣＨ２−、−ＣＨＭｅ−、−ＣＭｅ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＦ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＭｅ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＭｅ２−である。
【０１８１】
ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２−Ｃ６アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２−Ｃ５アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２−Ｃ４アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２−Ｃ３アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ３アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ４アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ５アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ６アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換アルキルおよびハロからなる群より選択される１つまたはそれを超える置換基で置換された、上に記載されたようなアルケニレン基である。
【０１８２】
ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２−Ｃ６アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２−Ｃ５アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２−Ｃ４アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２−Ｃ３アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ２アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ３アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ４アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１は、置換または非置換Ｃ５アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換Ｃ６アルキニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換アルキルおよびハロからなる群より選択される１つまたはそれを超える置換基で置換された、上に記載されたようなアルキニレン基である。
【０１８３】
さらに、ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換ヘテロＣ１−６アルキレン、例えば、置換もしくは非置換ヘテロＣ１−２アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−３アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ３−４アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ４−５アルキレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ５−６アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換ヘテロＣ２−６アルケニレン（ａｌｋｙｅｎｌｅｎｅ）、例えば、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−３アルケニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ３−４アルケニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ４−５アルケニレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ５−６アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、置換または非置換ヘテロＣ２−６アルキニレン、例えば、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−３アルキニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ３−４アルキニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ４−５アルキニレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ５−６アルキニレンである。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、Ｌ１またはＬ２は、非置換の、あるいはハロ（例えば、フルオロ）または置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキルで置換された、ヘテロアルキレン、ヘテロアルケニレンまたはヘテロアルキニレンである。
【０１８４】
上で一般に定義されたように、Ｒ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、ハロ、−Ｎ３、−ＮＯ２、−ＳＣＮ、−ＣＮ、−ＯＲＡ１、−ＳＲＡ１、−Ｎ（ＲＡ１）２、−Ｎ＝ＮＲＡ１、−Ｎ＝Ｃ（ＲＡ１）２、−Ｎ（ＯＲＡ１）（ＲＡ１），−Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲＡ１）（ＲＡ１），−ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＮＲＡ１Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、−Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、−ＳＯ２ＲＡ２、−ＮＲＡ１ＳＯ２ＲＡ２、ｏｒ  −ＳＯ２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ここで、ＲＡ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基であるか、あるいは２つのＲＡ１基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成し；ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいはＲＡ１基およびＲＡ２基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成する。
【０１８５】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、水素である。
【０１８６】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換アルキル、例えば、Ｍｅ、Ｅｔまたはｉ−Ｐｒである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換もしくは非置換アルケニル、例えば、置換もしくは非置換エテニルまたは置換もしくは非置換プロペニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換アルキニルである。
【０１８７】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換もしくは非置換カルボシクリルまたは置換もしくは非置換ヘテロシクリルから選択される。
【０１８８】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換アリール、例えば、フェニルである。
【０１８９】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換ヘテロアリール、例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾイル、チアゾリル、イソオキサゾイル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリニル、イソキノリニル、キナゾニル、キノキシリニル、ナフチリジニル、インドリル、インダゾリル、ベンゾイミダゾリル（ｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｌｏｙｌ）、ピロロピリジニル、ピロロピリミジニル、ピリドピリミジニルまたはプリニルから選択される置換または非置換ヘテロアリールである。ある特定の実施形態において、そのヘテロアリール基は、置換または非置換アルキル、ハロアルキル、アルケニル、置換または非置換アルキニル、オキソ、ヒドロキシ（ｈｙｄｏｘｙ）、ハロ、アルコキシ、−Ｓ−アルキル、置換または非置換アリール、置換または非置換ヘテロアリール、置換または非置換−ＳＯ−アルキル、置換または非置換−ＳＯ２−アルキル、置換または非置換−ＳＯ−アリール、置換または非置換−ＳＯ２−アリール、置換または非置換−ＳＯ−ヘテロアリール、置換または非置換−ＳＯ２−ヘテロアリール、アミノ、シアノおよびアシルから選択される１つまたはそれを超える基で置換される。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、イミダゾリル、ピラゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリルまたはテトラゾリルであり；各々、非置換であるか、またはオキソ、Ｍｅ、Ｆ、Ｃｌ、−ＣＮおよび−ＣＦ３から独立して選択される１つもしくは２つの基で置換される。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、キノリニル、イソキノリニルまたはプリニルであり；各々、非置換であるか、またはオキソ、Ｍｅ、Ｆ、Ｃｌ、−ＣＮおよび−ＣＦ３から独立して選択される１つもしくは２つの基で置換される。
【０１９０】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＯＲＡ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−Ｏ−キノリニル、−Ｏ−イソキノリニル、−Ｏ−プリニルであり、各々、非置換であるか、またはＭｅ、Ｆ、Ｃｌ、−ＣＮおよび−ＣＦ３から独立して選択される１つもしくは２つの基で置換される。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＯＨまたは−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯ２Ｈである。
【０１９１】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＳＲＡ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、Ｓ−キノリニル、−Ｓ−イソキノリニルまたは−Ｓ−プリニルであり、各々、非置換であるか、またはＭｅ、Ｆ、Ｃｌ、−ＣＮおよび−ＣＦ３から独立して選択される１つもしくは２つの基で置換される。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＳＨである。
【０１９２】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１；例えば、−Ｏ−ＳＯ３Ｈである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１；例えば、−Ｓ−ＳＯ３Ｈである。
【０１９３】
上で一般に定義されたように、Ｒ２０は、独立して、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２０は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ２０は、置換または非置換アルキル（例えば、−ＣＨ３）である。
【０１９４】
上で一般に定義されたように、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの各実例は、独立して、水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換アルキルであるか、あるいはＲ２３ａおよびＲ２３ｂは、共に接続して、置換または非置換Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルを形成する。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの各実例は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの一方は、ハロゲン、例えば、フルオロであり、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの他方は、水素、ハロゲンまたは置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの各実例は、ハロゲン、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの各実例は、独立して、置換または非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの各々は、Ｍｅである。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの一方は、Ｈである。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの一方は、Ｈであり；他方は、置換または非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂの一方は、Ｈであり；他方は、ＭｅまたはＥｔである。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂは、共に接続して、置換または非置換Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルを形成する。ある特定の実施形態において、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂは、共に接続して、置換または非置換シクロプロピルを形成する。
【０１９５】
ある特定の実施形態において、基
【化３７】
2016514967.tif 000038
は、以下の式である：
【化３８】
2016514967.tif 000039
【０１９６】
上で一般に定義されたように、Ｘ２は、独立して、−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（ＲＸ）であり、ここで、ＲＸの各実例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアルキルまたはアミノ保護基である。
【０１９７】
ある特定の実施形態において、Ｘ２は、−Ｏ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ２は、−Ｓ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ２は、−Ｎ（ＲＸ）−である。ある特定の実施形態において、ＲＸは、アルキルである。ある特定の実施形態において、ＲＸは、Ｍｅ、Ｅｔまたはｉ−Ｐｒである。ある特定の実施形態において、ＲＸは、水素である。
【０１９８】
ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｏ−であり、Ｘ２は、−Ｏ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｏ−であり、Ｘ２は、−Ｓ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｏ−であり、Ｘ２は、−Ｎ（ＲＸ）−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｓ−であり、Ｘ２は、−Ｏ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｓ−であり、Ｘ２は、−Ｓ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｓ−であり、Ｘ２は、−Ｎ（ＲＸ）−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｎ（ＲＸ）−であり、Ｘ２は、−Ｏ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｎ（ＲＸ）−であり、Ｘ２は、−Ｓ−である。ある特定の実施形態において、Ｘ１は、−Ｎ（ＲＸ）−であり、Ｘ２は、−Ｎ（ＲＸ）−である。
【０１９９】
上で一般に定義されたように、Ｒ２４は、Ｈ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＥ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＥ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＥ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＥ１）２、−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＥ２、−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＥ１、−Ｐ（＝Ｏ）２ＲＥ２、−Ｐ（＝Ｏ）２ＯＲＥ１、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＥ１）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＥ２）２、ｏｒ  −Ｐ（＝Ｏ）（ＲＥ２）（ＯＲＥ１）である。
【０２００】
ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、水素である。
【０２０１】
ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、置換または非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、非置換の、またはハロおよび（ｏｒ  ａｎｄ）ヒドロキシルからなる群より選択される１つもしくはそれを超える置換基で置換された、アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、置換または非置換アルケニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、置換または非置換アルキニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、置換または非置換カルボシクリルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、置換または非置換ヘテロシクリルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、置換もしくは非置換アリールである。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、置換または非置換ヘテロアリールである。
【０２０２】
ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＥ１であり、例えば、Ｒ２４は、−Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｐＣＯ２Ｈであり、ここで、ｐは、２以上５以下の整数である。ある特定の実施形態において、ｐは、２である。ある特定の実施形態において、ｐは、３である。ある特定の実施形態において、ｐは、４である。ある特定の実施形態において、ｐは、５である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＥ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＥ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＥ１）２である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＥ２である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＥ１；例えば、−ＳＯ３Ｈである。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｐ（＝Ｏ）２ＲＥ２である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｐ（＝Ｏ）２ＯＲＥ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲＥ１）２である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＥ２）２である。ある特定の実施形態において、Ｒ２４は、−Ｐ（＝Ｏ）（ＲＥ２）（ＯＲＥ１）である。
【０２０３】
上で一般に定義されたように、下付き文字ｎは、０、１、２または３である。ある特定の実施形態において、ｎは、０である。ある特定の実施形態において、ｎは、１である。ある特定の実施形態において、ｎは、２である。ある特定の実施形態において、ｎは、３である。
Ｚが式（ｉｉｉ）、（ｉｖ）または（ｖ）の基である様々な実施形態
【０２０４】
ある特定の実施形態において、Ｚは、式（ｉｉｉ）、（ｉｖ）または（ｖ）の基である：
【化３９】
2016514967.tif 000040
【０２０５】
ある特定の実施形態において、Ｌ３は、置換または非置換Ｃ１−６アルキレン、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキレン、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキレン、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキレン、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキレンまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ３は、置換または非置換Ｃ２−６アルケニレン、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニレン、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルケニレン、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルケニレンまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ３は、置換または非置換Ｃ２−６アルキニレン、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニレン、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキニレン、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキニレンまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキニレンである。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、Ｌ３は、非置換の、あるいはハロ（例えば、フルオロ）、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキルおよび／または−ＯＲＺ５で置換された、アルキレン、アルケニレンまたはアルキニレンである。
【０２０６】
さらに、ある特定の実施形態において、Ｌ３は、置換または非置換ヘテロＣ１−６アルキレン、例えば、置換もしくは非置換ヘテロＣ１−２アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−３アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ３−４アルキレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ４−５アルキレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ５−６アルキレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ３は、置換または非置換ヘテロＣ２−６アルケニレン、例えば、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−３アルケニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ３−４アルケニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ４−５アルケニレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ５−６アルケニレンである。ある特定の実施形態において、Ｌ３は、置換または非置換ヘテロＣ２−６アルキニレン、例えば、置換もしくは非置換ヘテロＣ２−３アルキニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ３−４アルキニレン、置換もしくは非置換ヘテロＣ４−５アルキニレンまたは置換もしくは非置換ヘテロＣ５−６アルキニレンである。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、Ｌ３は、非置換の、あるいはハロ（例えば、フルオロ）、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキルおよび／または−ＯＲＺ５で置換された、ヘテロアルキレン、ヘテロアルケニレンまたはヘテロアルキニレンである。
【０２０７】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、少なくとも１つのＲＺ５は、水素である。
【０２０８】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ５の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲＺ５Ｃ１−６アルキル基としては、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）、ｎ−ヘキシル（Ｃ６）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるフルオロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルおよび２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるクロロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ２）およびアルコキシ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）が挙げられるがこれらに限定されない。
【０２０９】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ５の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アルケニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルケニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルケニルである。
【０２１０】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ５の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アルキニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキニルである。
【０２１１】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ５の少なくとも１つの実例は、置換または非置換カルボシクリル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ３−６カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ３−４カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ４−５カルボシクリルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６カルボシクリルである。
【０２１２】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ５の少なくとも１つの実例は、置換または非置換ヘテロシクリル、例えば、置換もしくは非置換３〜６員ヘテロシクリル、置換もしくは非置換３〜４員ヘテロシクリル、置換もしくは非置換４〜５員ヘテロシクリルまたは置換もしくは非置換５〜６員ヘテロシクリルである。
【０２１３】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ５の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アリール、例えば、置換または非置換フェニルである。
【０２１４】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ５の少なくとも１つの実例は、置換または非置換ヘテロアリール、例えば、必要に応じて置換される５〜６員ヘテロアリールである。
【０２１５】
上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ５は、保護基、例えば、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基である。
【０２１６】
２つのＲＺ５が窒素原子に付着されているある特定の実施形態において、その２つのＲＺ５基は、接続して、置換または非置換の複素環式環、例えば、置換もしくは非置換ピペリジニル環、置換もしくは非置換ピペラジニル環または置換もしくは非置換モルホリニル環を形成する。
【０２１７】
さらに、上記または下記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ６の各実例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキルであるか、または２つのＲＺ６基は、接続して、Ｃ３−６炭素環を形成する。
【０２１８】
ある特定の実施形態において、ＲＺ６の少なくとも１つの実例は、水素である。
【０２１９】
ある特定の実施形態において、ＲＺ６の少なくとも１つの実例は、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲＺ４Ｃ１−６アルキル基としては、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）、ｎ−ヘキシル（Ｃ６）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるフルオロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルおよび２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるクロロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ２）およびアルコキシ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）が挙げられるがこれらに限定されない。
【０２２０】
ある特定の実施形態において、２つのＲＺ６基は、接続して、Ｃ３−６炭素環、例えば、置換もしくは非置換シクロプロピル環、置換もしくは非置換シクロブチル環、置換もしくは非置換シクロペンチル環または置換もしくは非置換シクロヘキシル環を形成する。
【０２２１】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲＺ４Ｃ１−６アルキル基としては、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）、ｎ−ヘキシル（Ｃ６）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるフルオロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルおよび２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるクロロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ２）およびアルコキシ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）が挙げられるがこれらに限定されない。
【０２２２】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、置換または非置換アルケニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルケニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルケニルである。
【０２２３】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、置換または非置換アルキニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキニルである。
【０２２４】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、置換または非置換カルボシクリル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ３−６カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ３−４カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ４−５カルボシクリルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６カルボシクリルである。
【０２２５】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、置換または非置換ヘテロシクリル、例えば、置換もしくは非置換３〜６員ヘテロシクリル、置換もしくは非置換３〜４員ヘテロシクリル、置換もしくは非置換４〜５員ヘテロシクリルまたは置換もしくは非置換５〜６員ヘテロシクリルである。
【０２２６】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、置換または非置換アリール、例えば、置換または非置換フェニルである。
【０２２７】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、置換または非置換ヘテロアリール、例えば、必要に応じて置換される５〜６員ヘテロアリールである。
【０２２８】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、−ＯＲＺ５であり、ここで、ＲＺ５は、本明細書中で定義されるとおりであり、例えば、ＲＺ５は、水素、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）またはｎ−ヘキシル（Ｃ６）である。
【０２２９】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、−ＳＲＺ５であり、ここで、ＲＺ５は、本明細書中で定義されるとおりであり、例えば、ＲＺ５は、水素、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）またはｎ−ヘキシル（Ｃ６）である。
【０２３０】
ある特定の実施形態において、ＲＺ４は、−Ｎ（ＲＺ５）２であり、例えば、ＲＺ４は、−ＮＨ２または−ＮＨＲＺ５であり、ここで、ＲＺ５は、本明細書中で定義されるとおりであり、例えば、ＲＺ５は、水素、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）もしくはｎ−ヘキシル（Ｃ６）であるか、またはＲＺ４は、−Ｎ（ＲＺ５）２であり、ここで、その２つのＲＺ５基は、接続して、置換または非置換の複素環式環、例えば、置換もしくは非置換ピペリジニル環、置換もしくは非置換ピペラジニル環または置換もしくは非置換モルホリニル環を形成する。
【０２３１】
具体的なＬ３アルキレン基は、本明細書中で企図される。例えば、ある特定の実施形態において、Ｌ３は、以下の式のアルキレン基であり：
【化４０】
2016514967.tif 000041
式中、ｐは、１、２または３であり；ＲＺ７およびＲＺ８の各実例は、独立して、水素、ハロ、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキルまたは−ＯＲＺ５である。ある特定の実施形態において、ｐは、１である。ある特定の実施形態において、ｐは、２である。ある特定の実施形態において、ｐは、３である。
【０２３２】
また、具体的なＬ３アルケニレン基が本明細書中で企図される。例えば、ある特定の実施形態において、Ｌ３は、以下の式のアルケニレン基であり：
【化４１】
2016514967.tif 000042
式中、ｑは、０、１または２であり；ＲＺ７およびＲＺ８の各実例は、独立して、水素、ハロ、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキルまたは−ＯＲＺ５である。ある特定の実施形態において、ｑは、０である。ある特定の実施形態において、ｑは、１である。ある特定の実施形態において、ｑは、２である。
【０２３３】
また、具体的なＬ３ヘテロアルキレン基が本明細書中で企図され、例えば、ある特定の実施形態において、Ｌ３は、以下の式のヘテロアルキレン基であり：
【化４２】
2016514967.tif 000043
式中、ｗは、０もしくは１であり、ｐは、１、２もしくは３であるか、またはｗは、１であり、ｐは、０、１、２もしくは３であり；ＲＺ７およびＲＺ８の各実例は、独立して、水素、ハロ、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキルまたは−ＯＲＺ５である。
【０２３４】
ある特定の実施形態において、ｐは、０である。ある特定の実施形態において、ｐは、１である。ある特定の実施形態において、ｐは、２である。ある特定の実施形態において、ｐは、３である。ある特定の実施形態において、ｗは、０である。ある特定の実施形態において、ｗは、１である。ある特定の実施形態において、ｗは、０であり、ｐは、１である。ある特定の実施形態において、ｗは、０であり、ｐは、２である。ある特定の実施形態において、ｗは、０であり、ｐは、３である。ある特定の実施形態において、ｗは、１であり、ｐは、１である。ある特定の実施形態において、ｗは、１であり、ｐは、２である。ある特定の実施形態において、ｗは、１であり、ｐは、３である。
【０２３５】
例えば、ｗが０である、ある特定の実施形態では、以下の式のＬ３ヘテロアルキレン基が提供され：
【化４３】
2016514967.tif 000044
式中、ｐおよびＲＺ８は、本明細書中で定義されるとおりである。
【０２３６】
ｗが１である、ある特定の実施形態では、以下の式のＬ３ヘテロアルキレン基が提供され：
【化４４】
2016514967.tif 000045
式中、ｐ、Ｒ２７およびＲＺ８は、本明細書中で定義されるとおりである。
【０２３７】
ある特定の実施形態において、ＲＺ７の少なくとも１つの実例は、水素である。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ７の少なくとも１つの実例は、ハロ、例えば、フルオロである。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ７の少なくとも１つの実例は、置換または非置換Ｃ１−６アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲＺ７Ｃ１−６アルキル基としては、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）、ｎ−ヘキシル（Ｃ６）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるフルオロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルおよび２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるクロロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ２）およびアルコキシ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）が挙げられるがこれらに限定されない。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ７の少なくとも１つの実例は、−ＣＨ３、−ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ３（Ｅｔ）または−ＣＨ（ＣＨ３）２（ｉＰｒ）である。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ７の少なくとも１つの実例は、−ＯＲＺ５、例えば、−ＯＨである。
【０２３８】
ある特定の実施形態において、ＲＺ８の少なくとも１つの実例は、水素である。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ８の少なくとも１つの実例は、ハロ、例えば、フルオロである。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ８の少なくとも１つの実例は、置換または非置換Ｃ１−６アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲＺ８Ｃ１−６アルキル基としては、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）、ｎ−ヘキシル（Ｃ６）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるフルオロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルおよび２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるクロロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ２）およびアルコキシ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）が挙げられるがこれらに限定されない。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ８の少なくとも１つの実例は、−ＣＨ３、−ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ３（Ｅｔ）または−ＣＨ（ＣＨ３）２（ｉＰｒ）である。上記の実例のいずれかにおいて、ある特定の実施形態において、ＲＺ８の少なくとも１つの実例は、−ＯＲＺ５、例えば、−ＯＨである。
【０２３９】
例示的なＬ３アルキレン基としては、以下が挙げられるがこれらに限定されない：
【化４５】
2016514967.tif 000046
【０２４０】
例示的なＬ３アルケニレン基としては、以下が挙げられるがこれらに限定されない：
【化４６】
2016514967.tif 000047
【０２４１】
例示的なＬ３ヘテロアルキレン基としては、以下が挙げられるがこれらに限定されない：
【化４７】
2016514967.tif 000048
【０２４２】
ある特定の実施形態において、基
【化４８】
2016514967.tif 000049
（式中、Ｌ３は、アルキレンまたはヘテロアルキレン基である）は、以下の式である：
【化４９】
2016514967.tif 000050
【化５０】
2016514967.tif 000051
【０２４３】
ある特定の実施形態において、基
【化５１】
2016514967.tif 000052
（式中、Ｙは、−Ｏ−であり、Ｌ３は、アルキレンまたはヘテロアルキレン基である）は、以下の式である：
【化５２】
2016514967.tif 000053
【化５３】
2016514967.tif 000054
【０２４４】
ある特定の実施形態において、基
【化５４】
2016514967.tif 000055
（式中、Ｙは、−ＮＨ−であり、Ｌ３は、アルキレンまたはヘテロアルキレン基である）は、以下の式である：
【化５５】
2016514967.tif 000056
【０２４５】
ある特定の実施形態において、基
【化５６】
2016514967.tif 000057
（式中、Ｙは、−Ｏ−であり、Ｌ３は、アルキレンまたはヘテロアルキレン基である）は、以下の式である：
【化５７】
2016514967.tif 000058
【０２４６】
ある特定の実施形態において、基
【化５８】
2016514967.tif 000059
（式中、Ｙは、−ＮＨ−であり、Ｌ３は、アルキレンまたはヘテロアルキレン基である）は、以下の式である：
【化５９】
2016514967.tif 000060
【０２４７】
Ｒ２、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂの様々な実施形態
上で一般に定義されたように、Ｒ２、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂの各実例は、独立して、Ｈ、−ＯＨ、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、−Ｎ３、−ＮＯ２、−ＳＣＮ、−ＣＮ、−ＯＲＢ１、−ＳＲＢ１、−Ｎ（ＲＢ１）２、−Ｎ＝ＮＲＢ１、−Ｎ＝Ｃ（ＲＢ１）２、−Ｎ（ＯＲＢ１）（ＲＢ１）、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂ１）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲＢ１）（ＲＢ１），−ＯＣ（＝Ｏ）ＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＲＢ２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＢ２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＢ１、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＢ２、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＢ１、−Ｓ（＝Ｏ）ＲＢ２、−ＳＯ２ＲＢ２、−ＮＲＢ１ＳＯ２ＲＢ２、ｏｒ  −ＳＯ２Ｎ（ＲＢ１）２であり、かつ／あるいはＲ１１ａおよびＲ１１ｂは、一体となって、オキソ（＝Ｏ）基を形成する。
【０２４８】
ある特定の実施形態において、Ｒ２は、Ｈである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、置換または非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、置換または非置換アルケニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、置換または非置換アルキニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、−ＳＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、−Ｎ（ＲＢ１）２である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、Ｈ、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、−ＯＲＢ１、−ＳＲＢ１または−Ｎ（ＲＢ１）２である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、Ｆ、Ｃｌ、Ｍｅ、Ｅｔ、ｎ−Ｐｒ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、エチニル、ヒドロキシブチニル、メトキシプロピニル、クロロエチニルまたはシクロプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、ＣＦ３、アミノまたはジメチルアミノである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、アルファ位の非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、ベータ位の非水素基である。
【０２４９】
ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂの各実例は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂの一方は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂの一方は、水素であり；他方は、−ＯＲＢ１、−ＳＲＢ１または−Ｎ（ＲＢ１）２である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂの一方は、Ｈであり；他方は、−ＯＨ、−ＯＭｅ、アミノまたはジアルキルアミノである。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ｂは、非水素基であり、Ｒ１１ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、非水素基であり、Ｒ１１ｂは、水素である。
【０２５０】
ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａおよびＲ１１ｂは、一体となって、オキソ基を形成する。
Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ６、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１４、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９の様々な実施形態
【０２５１】
上で一般に定義されたように、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａおよびＲ７ｂの各実例は、独立して、水素、−ＯＨ、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、−Ｎ３、−ＮＯ２、−ＳＣＮ、−ＣＮ、−ＯＲＢ１、−ＳＲＢ１、−Ｎ（ＲＢ１）２、−Ｎ＝ＮＲＢ１、−Ｎ＝Ｃ（ＲＢ１）２、−Ｎ（ＯＲＢ１）（ＲＢ１）、−Ｃ（＝Ｏ）ＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂ１）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＯＲＢ１）（ＲＢ１），−ＯＣ（＝Ｏ）ＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＮＲＢ１Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＲＢ２、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＢ１、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＢ１、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＢ１）２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＢ２、−ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＢ１、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＲＢ２、−Ｓ−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＢ１、−Ｓ（＝Ｏ）ＲＢ２、−ＳＯ２ＲＢ２、−ＮＲＢ１ＳＯ２ＲＢ２、ｏｒ  −ＳＯ２Ｎ（ＲＢ１）２であり、ここで、ＲＢ１は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着されているときは酸素保護基、硫黄原子に付着されているときは硫黄保護基、窒素原子に付着されているときは窒素保護基であるか、あるいは２つのＲＢ１基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成し；ＲＢ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリールまたは置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいはＲＢ１基およびＲＢ２基は、接続して、置換または非置換の複素環式環を形成するか；または必要に応じて、Ｒ４ａおよびＲ４ｂの各々ならびに／またはＲ７ａおよびＲ７ｂの各々は、一体となって、オキソ（＝Ｏ）基を形成する。
【０２５２】
ある特定の実施形態において、Ｒ４ａおよびＲ４ｂの各実例は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ４ａおよびＲ４ｂの一方は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ４ａおよびＲ４ｂの一方は、水素であり；他方は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ４ａおよびＲ４ｂの一方は、水素であり；他方は、Ｍｅ、Ｅｔ、エテニル、エチニル、プロペニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ４ａおよびＲ４ｂの各々は、独立して、置換または非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ４ａおよびＲ４ｂの各々は、Ｍｅである。
【０２５３】
ある特定の実施形態において、Ｒ７ａおよびＲ７ｂの各実例は、水素である。
【０２５４】
上で一般に定義されたように、Ｒ６ａおよびＲ６ｂの各々は、独立して、水素、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニルであり、
【化６０】
2016514967.tif 000061
は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が環Ｂに存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方は、存在せず、単結合が環Ｂに存在する場合、Ｃ５における水素は、アルファ位またはベータ位である。
【０２５５】
【化６１】
2016514967.tif 000062
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂの各実例は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂの各実例は、ハロ、例えば、フルオロである。
【０２５６】
【化６２】
2016514967.tif 000063
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、水素であり、Ｒ６ｂは、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、水素であり、Ｒ６ｂは、ハロ（例えば、フルオロ）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、水素であり、Ｒ６ｂは、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキル、例えば、メチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、水素であり、Ｒ６ｂは、置換または非置換アルケニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、水素であり、Ｒ６ｂは、置換または非置換アルキニルである。
【０２５７】
【化６３】
2016514967.tif 000064
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素であり、Ｒ６ａは、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニルまたは置換もしくは非置換アルキニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素であり、Ｒ６ａは、ハロ（例えば、フルオロ）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素であり、Ｒ６ａは、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキル、例えば、メチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素であり、Ｒ６ａは、置換または非置換アルケニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素であり、Ｒ６ａは、置換または非置換アルキニルである。
【０２５８】
【化６４】
2016514967.tif 000065
が二重結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、水素である。
【化６５】
2016514967.tif 000066
が二重結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロである。
【化６６】
2016514967.tif 000067
が二重結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキル、例えば、メチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルである。
【化６７】
2016514967.tif 000068
が二重結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換アルケニルである。
【化６８】
2016514967.tif 000069
が二重結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換アルキニルである。
【０２５９】
上で一般に定義されたように、Ｒ１７は、水素、ハロ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリールまたは−ＯＲＤ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、ハロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、置換または非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、置換または非置換アルケニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、置換または非置換アルキニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、置換または非置換カルボシクリルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、置換または非置換ヘテロシクリルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、置換または非置換アリールである。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、置換または非置換ヘテロアリールである。ある特定の実施形態において、Ｒ１７は、−ＯＲＤ１（例えば、−ＯＨ）である。
【０２６０】
上で一般に定義されたように、Ｒ１４は、Ｈまたは置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１４は、Ｈである。ある特定の実施形態において、Ｒ１４は、置換または非置換アルキル（例えば、−ＣＨ３）である。
【０２６１】
上で一般に定義されたように、Ｒ１８は、独立して、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１８は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ１８は、置換または非置換アルキル（例えば、−ＣＨ３）である。
【０２６２】
上で一般に定義されたように、Ｒ１９は、独立して、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、置換または非置換アルキル（例えば、−ＣＨ３）である。
【０２６３】
ある特定の実施形態において、Ｒ１４は、水素であり、Ｒ１８は、−ＣＨ３であり、Ｒ１９は、−ＣＨ３である。
【０２６４】
ある特定の実施形態において、Ｒ１４は、水素であり、Ｒ１８は、−ＣＨ３であり、Ｒ１９は、水素である。
【０２６５】
式（Ｉ）のさらなる実施形態
上記の実施形態の様々な組み合わせが、本明細書中でさらに企図される。例えば、ある特定の実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉ−ｗ）の化合物：
【化６９】
2016514967.tif 000070
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｃ３位における基−Ｘ１Ｒ３ｂは、ベータである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化７０】
2016514967.tif 000071
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化７１】
2016514967.tif 000072
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。
【０２６６】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉ−ｘ）の化合物：
【化７２】
2016514967.tif 000073
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｃ３位における基−ＯＨは、ベータである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化７３】
2016514967.tif 000074
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化７４】
2016514967.tif 000075
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。
【０２６７】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉ−ｙ）の化合物：
【化７５】
2016514967.tif 000076
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｃ３位における基−ＯＨは、ベータである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化７６】
2016514967.tif 000077
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化７７】
2016514967.tif 000078
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。
【０２６８】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉ−ｚ）の化合物：
【化７８】
2016514967.tif 000079
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｃ３位における基−ＯＨは、ベータである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化７９】
2016514967.tif 000080
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化８０】
2016514967.tif 000081
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。
【０２６９】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉ−ａ１）、（Ｉ−ａ２）または（Ｉ−ａ３）の化合物：
【化８１】
2016514967.tif 000082
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｃ３位における基−ＯＲ３ｂは、ベータである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。
【０２７０】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉ−ｂ１）、（Ｉ−ｂ２）もしくは（Ｉ−ｂ３）の化合物：
【化８２】
2016514967.tif 000083
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。
【０２７１】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉ−ｃ１）、（Ｉ−ｃ２）もしくは（Ｉ−ｃ３）の化合物：
【化８３】
2016514967.tif 000084
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。
【０２７２】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、式（Ｉ−ｄ）の化合物：
【化８４】
2016514967.tif 000085
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｃ３位における基−Ｘ１Ｒ３ｂは、ベータである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化８５】
2016514967.tif 000086
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化８６】
2016514967.tif 000087
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。ある特定の実施形態において、各ＲＺ６は、独立して、水素またはメチルである。
【０２７３】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、式（Ｉ−ｅ）の化合物：
【化８７】
2016514967.tif 000088
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化８８】
2016514967.tif 000089
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化８９】
2016514967.tif 000090
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。ある特定の実施形態において、各ＲＺ６は、独立して、水素またはメチルである。
【０２７４】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、式（Ｉ−ｆ）の化合物：
【化９０】
2016514967.tif 000091
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｃ３位における基−Ｘ１Ｒ３ｂは、ベータである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化９１】
2016514967.tif 000092
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化９２】
2016514967.tif 000093
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。ある特定の実施形態において、各ＲＺ６は、独立して、水素またはメチルである。ある特定の実施形態において、ＲＺ５は、水素またはメチルである。
【０２７５】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、式（Ｉ−ｇ）の化合物：
【化９３】
2016514967.tif 000094
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化９４】
2016514967.tif 000095
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化９５】
2016514967.tif 000096
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。ある特定の実施形態において、各ＲＺ６は、独立して、水素またはメチルである。ある特定の実施形態において、ＲＺ５は、水素またはメチルである。
【０２７６】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、式（Ｉ−ｈ）の化合物：
【化９６】
2016514967.tif 000097
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｃ３位における基−Ｘ１Ｒ３ｂは、ベータである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化９７】
2016514967.tif 000098
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化９８】
2016514967.tif 000099
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。ある特定の実施形態において、ＲＺ６は、イソプロピルである。
【０２７７】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、式（Ｉ−ｉ）の化合物：
【化９９】
2016514967.tif 000100
またはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素または−ＯＲＢ１である。ある特定の実施形態において、Ｒ１１ａは、水素であり、Ｒ１１ｂは、水素または−ＯＲＢ１である。
【化１００】
2016514967.tif 000101
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ５は、アルファ（下）であり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、
【化１０１】
2016514967.tif 000102
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、ハロ、例えば、フルオロ、またはアルキルであり、Ｒ６ａは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、両方ともハロ、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。ある特定の実施形態において、ＲＺ６は、イソプロピルである。
【０２７８】
式（Ｉ）のさらなる実施形態は、以下の式の化合物を含む：
【化１０２】
2016514967.tif 000103
【化１０３】
2016514967.tif 000104
【化１０４】
2016514967.tif 000105
【化１０５】
2016514967.tif 000106
【化１０６】
2016514967.tif 000107
【０２７９】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、以下の化合物：
【化１０７】
2016514967.tif 000108
【化１０８】
2016514967.tif 000109
【化１０９】
2016514967.tif 000110
【化１１０】
2016514967.tif 000111
【化１１１】
2016514967.tif 000112
【化１１２】
2016514967.tif 000113
【化１１３】
2016514967.tif 000114
のいずれか１つまたはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。
【０２８０】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、以下の化合物：
【化１１４】
2016514967.tif 000115
【化１１５】
2016514967.tif 000116
【化１１６】
2016514967.tif 000117
【化１１７】
2016514967.tif 000118
のいずれか１つまたはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。
【０２８１】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、以下の化合物：
【化１１８】
2016514967.tif 000119
【化１１９】
2016514967.tif 000120
のいずれか１つまたはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。
【０２８２】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、以下の化合物：
【化１２０】
2016514967.tif 000121
【化１２１】
2016514967.tif 000122
【化１２２】
2016514967.tif 000123
のいずれか１つまたはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。
【０２８３】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、以下の化合物：
【化１２３】
2016514967.tif 000124
【化１２４】
2016514967.tif 000125
のいずれか１つまたはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。
【０２８４】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、以下の化合物：
【化１２５】
2016514967.tif 000126
のいずれか１つまたはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。
【０２８５】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、以下の化合物：
【化１２６】
2016514967.tif 000127
のいずれか１つまたはその薬学的に許容され得る塩、溶媒和化合物、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体、同位体バリアントもしくはＮ−オキシドあるいはそれらの組み合わせである。
【０２８６】
ある特定の実施形態において、上記化合物は、式（Ｉ）の化合物は、式（Ｉ−ｑ）の化合物
【化１２７】
2016514967.tif 000128
およびその薬学的に許容され得る塩であり；
式中：
Ｒ１は、置換または非置換の脂肪族（ａｌｐｈａｔｉｃ）であり；
Ｒ２は、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換シクロプロピルまたは−ＯＲＡ２であり、ここで、ＲＡ２は、水素または置換もしくは非置換アルキルであり；
Ｒ３ａは、水素または−ＯＲＡ３であり、ここで、ＲＡ３は、水素または置換もしくは非置換アルキルであり、Ｒ３ｂは、水素であるか；またはＲ３ａおよびＲ３ｂは、一体となって、オキソ（＝Ｏ）基を形成し；
Ｒ４は、水素、置換もしくは非置換アルキルまたはハロゲンであり；
Ｘは、−Ｃ（ＲＸ）２−または−Ｏ−であり、ここで、ＲＸは、水素もしくはフッ素であるか、または１つのＲＸ基およびＲ５ｂは、一体となって、二重結合を形成し；
Ｒ５ａおよびＲ５ｂの各実例は、独立して、水素またはフッ素であり；
Ｒ６ａは、置換および非置換アルキル、置換および非置換アルケニル、置換および非置換アルキニル、置換および非置換カルボシクリル、置換および非置換ヘテロシクリル、置換および非置換アリールならびに置換および非置換ヘテロアリール基からなる群より選択される非水素基であり、ここで、その非水素基は、フッ素で必要に応じて置換され；
Ｒ６ｂは、水素、またはフッ素で必要に応じて置換される置換もしくは非置換アルキル基であり；
【化１２８】
2016514967.tif 000129
は、単結合または二重結合を表すが、但し、単結合が存在する場合、Ｃ５における水素は、アルファ配置であり；
さらに但し：
（１）ＲＸ、Ｒ５ａおよびＲ５ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素であるか；または
（２）Ｒ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基であるか；または
（３）Ｒ６ａは、２〜１０個の炭素原子を含む非水素基である。
【０２８７】
ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、薬学的に許容され得る塩である。
【０２８８】
本明細書中で広く説明されるように、Ｃ５における水素がベータ配置で提供される式（Ｉ−ｑ）の化合物は、Ｃ５における水素がアルファであるかまたは二重結合がＣ５−Ｃ６に存在する化合物と比べてＮＭＤＡ増強の減少を示す。したがって、式（Ｉ−ｑ）の化合物は、式（Ｉ−ｑＡ）および（Ｉ−ｑＢ）の化合物：
【化１２９】
2016514967.tif 000130
ならびにその薬学的に許容され得る塩だけを包含する。
【０２８９】
式（Ｉ−ｑ）の化合物の基Ｒ１
本明細書中で一般に定義されるように、Ｒ１は、置換または非置換の脂肪族、すなわち、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニルまたは置換もしくは非置換カルボシクリルである。
【０２９０】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲ１Ｃ１−６アルキル基としては、置換または非置換の、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ−プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ−ブチル（Ｃ４）、ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、ｎ−ペンチル（Ｃ５）、３−ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、第３級アミル（Ｃ５）、ｎ−ヘキシル（Ｃ６）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるフルオロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルおよび２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０個またはそれを超えるクロロ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２Ｃｌ、−ＣＨＣｌ２）およびアルコキシ基で置換されたＣ１−６アルキル（例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２Ｏ−シクロプロピル）が挙げられるがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換アルキルであり、例えば、Ｒ１は、ハロアルキル、アルコキシアルキルまたはアミノアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、Ｍｅ、Ｅｔ、ｎ−Ｐｒ、ｎ−Ｂｕ、ｉ−Ｂｕ、フルオロメチル、クロロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル、メトキシメチル、メトキシエチルまたはエトキシメチルである。
【０２９１】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、非置換Ｃ１−３アルキルであり、例えば、Ｒ１は、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３である。
【０２９２】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、１つまたはそれを超えるフッ素原子で置換されたアルキルであり；例えば、Ｒ１は、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２または−ＣＦ３である。
【０２９３】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、１つまたはそれを超える−ＯＲＡ１基で置換されたアルキルであり、ここで、ＲＡ１は、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＣＨ２ＯＲＡ１であり、例えば、ここで、ＲＡ１は、水素、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３である。
【０２９４】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換アルケニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルケニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルケニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、非置換の、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシアルキルもしくはヒドロキシルからなる群より選択される１つもしくはそれを超える置換基で置換された、エテニル（Ｃ２）、プロペニル（Ｃ３）またはブテニル（Ｃ４）である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、非置換の、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシアルキルもしくはヒドロキシで置換された、エテニル、プロペニルまたはブテニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、エテニルである。
【０２９５】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換アルキニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキニルである。例示的な置換または非置換のＲ１アルキニル基としては、非置換の、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル（例えば、ＣＦ３）、アルコキシアルキル、シクロアルキル（例えば、シクロプロピルまたはシクロブチル）もしくはヒドロキシルで置換された、エチニル、プロピニルまたはブチニルが挙げられるがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、トリフルオロエチニル、シクロプロピルエチニル、シクロブチルエチニルおよびプロピニル、フルオロプロピニルおよびクロロエチニルからなる群より選択される。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、非置換の、または置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリルおよび置換もしくは非置換ヘテロシクリルからなる群より選択される１つもしくはそれを超える置換基で置換された、エチニル（Ｃ２）、プロピニル（Ｃ３）またはブチニル（Ｃ４）である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換フェニルで置換された、エチニル（Ｃ２）、プロピニル（Ｃ３）またはブチニル（Ｃ４）である。ある特定の実施形態において、そのフェニル置換基は、ハロ、アルキル、トリフルオロアルキル、アルコキシ、アシル、アミノまたはアミドからなる群より選択される１つまたはそれを超える置換基でさらに置換される。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換の、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾイル、チアゾリル、イソオキサゾイル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリルまたはテトラゾリルで置換された、エチニル（Ｃ２）、プロピニル（Ｃ３）またはブチニル（Ｃ４）である。
【０２９６】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、非置換の、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル、アルコキシアルキルもしくはヒドロキシルで置換された、エチニル、プロピニルまたはブチニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換アリールで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、非置換のフェニルまたはハロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、トリハロアルキルもしくはアシルで置換されたフェニルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換カルボシクリルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換の、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換ヘテロアリールで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換の、ピリジニルまたはピリミジニルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換の、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾイル、チアゾリル、イソオキサゾイル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換ヘテロシクリルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換の、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニルまたはモルホリニルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、ヒドロキシルまたはアルコキシで置換された、プロピニルまたはブチニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、メトキシまたはエトキシで置換された、プロピニルまたはブチニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、クロロで置換された、エチニルまたはプロピニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、トリフルオロメチルで置換された、エチニルまたはプロピニルである。
【０２９７】
ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換または非置換カルボシクリル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ３−６カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ３−４カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ４−５カルボシクリルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６カルボシクリルである。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、置換もしくは非置換シクロプロピルまたは置換もしくは非置換シクロブチルである。
式（Ｉ−ｑ）の化合物の基Ｒ２、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂおよびＲ４
【０２９８】
本明細書中で一般に定義されるように、Ｒ２は、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換シクロプロピルまたは−ＯＲＡ２であり、ここで、ＲＡ２は、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、ハロゲン、例えば、フルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、フルオロまたはクロロである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、置換または非置換Ｃ１−６アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３またはシクロプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、−ＯＲＡ２である。ある特定の実施形態において、ＲＡ２は、水素である。ある特定の実施形態において、ＲＡ２は、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。ある特定の実施形態において、ＲＡ２は、水素、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、すなわち、式−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ３または−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３の基Ｒ２を提供するものである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、アルファ配置の非水素置換基である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、ベータ配置の非水素置換基である。
【０２９９】
本明細書中で一般に定義されるように、Ｒ３ａは、水素または−ＯＲＡ３であり、ここで、ＲＡ３は、水素または置換もしくは非置換アルキルであり、Ｒ３ｂは、水素であるか；あるいはＲ３ａおよびＲ３ｂは、一体となって、オキソ（＝Ｏ）基を形成する。
【０３００】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａとＲ３ｂの両方は、両方とも水素である。
【０３０１】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、一体となって、オキソ（＝Ｏ）基を形成する。
【０３０２】
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、−ＯＲＡ３であり、Ｒ３ｂは、水素である。Ｒ３ａが−ＯＲＡ３である、ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、アルファ配置またはベータ配置である。Ｒ３ａが−ＯＲＡ３である、ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、アルファ配置である。Ｒ３ａが−ＯＲＡ３である、ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、ベータ配置である。ある特定の実施形態において、ＲＡ３は、水素である。ある特定の実施形態において、ＲＡ３は、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。ある特定の実施形態において、ＲＡ３は、水素、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、すなわち、式−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ３または−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３の基Ｒ３ａを提供するものである。
【０３０３】
本明細書中で一般に定義されるように、Ｒ４は、水素、置換もしくは非置換アルキルまたはハロゲンである。ある特定の実施形態において、Ｒ４は、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ４は、ハロゲン、例えば、フルオロである。ある特定の実施形態において、Ｒ４は、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ４は、Ｃ１アルキル、例えば、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ４は、水素、−ＣＨ３または−Ｆである。
【化１３０】
2016514967.tif 000131
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ４は、アルファ配置の非水素置換基である。
【化１３１】
2016514967.tif 000132
が単結合を表すある特定の実施形態において、Ｒ４は、ベータ配置の非水素置換基である。
【０３０４】
式（Ｉ−ｑ）の化合物の基Ｘ、Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ａおよびＲ６ｂ
本明細書中で一般に定義されるように、Ｘは、−Ｃ（ＲＸ）２−または−Ｏ−であり、ここで、ＲＸは、水素もしくはフッ素であるか、または１つのＲＸ基およびＲ５ｂは、一体となって、二重結合を形成し；Ｒ５ａおよびＲ５ｂの各々は、独立して、水素またはフッ素であり；Ｒ６ａは、置換および非置換アルキル、置換および非置換アルケニル、置換および非置換アルキニル、置換および非置換カルボシクリル、置換および非置換ヘテロシクリル、置換および非置換アリールならびに置換および非置換ヘテロアリール基からなる群より選択される非水素基であり、ここで、その非水素基は、フッ素で必要に応じて置換され；Ｒ６ｂは、水素、またはフッ素で必要に応じて置換される置換もしくは非置換アルキル基であるが；但し：（１）ＲＸ、Ｒ５ａおよびＲ５ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素であるか；または（２）Ｒ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基であるか；または（３）Ｒ６ａは、２〜１０個の炭素原子を含む非水素基である。
【０３０５】
ある特定の実施形態において、Ｘは、−Ｏ−である。ある特定の実施形態において、Ｘは、−ＣＨ２−である。ある特定の実施形態において、Ｘは、−ＣＦ２−である。
【０３０６】
ある特定の実施形態において、Ｒ５ａおよびＲ５ｂのうちの少なくとも１つは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ５ａおよびＲ５ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素である。ある特定の実施形態において、Ｒ５ａおよびＲ５ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ５ａおよびＲ５ｂは、両方ともフッ素である。ある特定の実施形態において、ＲＸおよびＲ５ｂは、一体となって、二重結合、例えば、ｃｉｓまたはｔｒａｎｓ二重結合を形成する。
【０３０７】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で置換されていない、本明細書中に記載されるような非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換アルキル（例えば、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）２）、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニルまたは置換もしくは非置換カルボシクリル（例えば、イソプロパノール）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で置換された、本明細書中に記載されるような非水素基である。
【０３０８】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、本明細書中に記載されるような非水素基であり、Ｒ６ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、本明細書中に記載されるような非水素基であり、Ｒ６ｂは、フッ素によって必要に応じて置換される置換または非置換アルキル基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、フッ素で置換されていないアルキル基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で置換されたアルキル基である。
【０３０９】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、フッ素によって必要に応じて置換される、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、フッ素によって必要に応じて置換されるＣ１アルキル、例えば、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。
【０３１０】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換アルキル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ１−６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−２アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキルである。例示的なＲ６ａＣ１−６アルキル基としては、置換または非置換メチル（Ｃ１）、置換または非置換エチル（Ｃ２）、置換または非置換ｎ−プロピル（Ｃ３）、置換または非置換イソプロピル（Ｃ３）、置換または非置換ｎ−ブチル（Ｃ４）、置換または非置換ｔｅｒｔ−ブチル（Ｃ４）、置換または非置換ｓｅｃ−ブチル（Ｃ４）、置換または非置換ｉｓｏ−ブチル（Ｃ４）、置換または非置換ｎ−ペンチル（Ｃ５）、置換または非置換３−ペンタニル（Ｃ５）、置換または非置換アミル（Ｃ５）、置換または非置換ネオペンチル（Ｃ５）、置換または非置換３−メチル−２−ブタニル（Ｃ５）、置換または非置換第３級アミル（Ｃ５）、置換または非置換ｎ−ヘキシル（Ｃ６）が挙げられるがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超えるフッ素、例えば、１、２、３、４個またはそれを超えるフッ素で置換された、上に記載されたようなアルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＦ３、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、ジフルオロエチルまたは２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジメチル−エチル）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超える−ＯＲＡ６基で置換された、上に記載されたようなアルキルであり、ここで、ＲＡ６は、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＨ２ＯＲＡ６、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６、例えば、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３である。
【０３１１】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で必要に応じて置換される、置換または非置換アルケニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルケニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルケニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換ビニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換アリル（Ｃ３）である。
【０３１２】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で必要に応じて置換される、置換または非置換アルキニル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ２−６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３−４アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ４−５アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６アルキニルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換プロパルギル（Ｃ３）である。
【０３１３】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で必要に応じて置換される、置換または非置換カルボシクリル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ３−６カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ３−４カルボシクリル、置換もしくは非置換Ｃ４−５カルボシクリルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６カルボシクリルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換シクロプロピルである。
【０３１４】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で必要に応じて置換される、置換または非置換ヘテロシクリル、例えば、置換もしくは非置換Ｃ３−６ヘテロシクリル、置換もしくは非置換Ｃ３−４ヘテロシクリル、置換もしくは非置換Ｃ４−５ヘテロシクリルまたは置換もしくは非置換Ｃ５−６ヘテロシクリルである。
【０３１５】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で必要に応じて置換される、置換または非置換アリール、例えば、置換または非置換フェニルである。
【０３１６】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で必要に応じて置換される、置換または非置換ヘテロアリール、例えば、必要に応じて置換される５〜６員ヘテロアリールである。
【０３１７】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、２個以上１０個以下の炭素原子、例えば、２個以上９個以下、２個以上８個以下、２個以上７個以下、２個以上６個以下、２個以上５個以下、２個以上４個以下または２個以上３個以下の炭素原子を含む非水素基である。例えば、ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ３カルボシクリルである。
【０３１８】
ある特定の実施形態において、ＲＸ、Ｒ５ａおよびＲ５ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素であるか；またはＲ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基であり；Ｒ６ａは、置換もしくは非置換Ｃ１−３アルキル、置換もしくは非置換Ｃ１−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ１−３アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ３カルボシクリルである。
【０３１９】
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、同じ基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂは、異なる基であり、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｓ）または（Ｒ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｓ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｒ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＦ３であり、Ｒ６ｂは、水素またはＣ１−４アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で置換された非水素基であり、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超える−ＯＲＡ６基で置換され、ここで、ＲＡ６は、水素または置換もしくは非置換アルキルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換Ｃ２−４アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２−３アルキニルまたは置換もしくは非置換Ｃ３カルボシクリルであり、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、非置換Ｃ２−４アルキル、非置換Ｃ２−３アルケニルまたは非置換Ｃ２−３アルキニルまたは非置換Ｃ３カルボシクリルであり、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、フッ素で置換された非水素基であり、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３である。
【０３２０】
ある特定の実施形態の様々な組み合わせ
ある特定の実施形態の様々な組み合わせが、本明細書中でさらに企図される。
【０３２１】
例えば、Ｘが−ＣＨ２−であり、Ｒ５ａおよびＲ５ｂが両方とも水素である、ある特定の実施形態において、式（Ｉ−ｑａ）の化合物：
【化１３２】
2016514967.tif 000133
またはその薬学的に許容され得る塩が提供される。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、２〜１０個の炭素原子を含む非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｓ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｒ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超えるフッ素で必要に応じて置換されるメチル（Ｃ１）、例えば、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチル（Ｃ２）、置換もしくは非置換ｎ−プロピル（Ｃ３）または置換もしくは非置換イソプロピル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＨ２ＯＲＡ６、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換ビニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換アリル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換プロパルギル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換シクロプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、
【化１３３】
2016514967.tif 000134
は、単結合を表し、Ｃ５における水素は、アルファである。ある特定の実施形態において、
【化１３４】
2016514967.tif 000135
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、シクロプロピル、フルオロまたはクロロである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、アルファ配置の非水素置換基である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、ベータ配置の非水素置換基である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、一体となって、＝Ｏ（オキソ）を形成する。ある特定の実施形態において、Ｒ４は、水素である。
【０３２２】
Ｘが−ＣＨ２−であり、Ｒ５ａおよびＲ５ｂが両方ともフッ素である、ある特定の実施形態では、式（Ｉ−ｑｂ）の化合物：
【化１３５】
2016514967.tif 000136
またはその薬学的に許容され得る塩が提供される。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、２〜１０個の炭素原子を含む非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｓ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｒ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超えるフッ素で必要に応じて置換されるメチル（Ｃ１）、例えば、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチル（Ｃ２）、置換もしくは非置換ｎ−プロピル（Ｃ３）または置換もしくは非置換イソプロピル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＨ２ＯＲＡ６、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換ビニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換アリル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換プロパルギル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換シクロプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、
【化１３６】
2016514967.tif 000137
は、単結合を表し、Ｃ５における水素は、アルファである。ある特定の実施形態において、
【化１３７】
2016514967.tif 000138
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、シクロプロピル、フルオロまたはクロロである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、アルファ配置の非水素置換基である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、ベータ配置の非水素置換基である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、一体となって、＝Ｏ（オキソ）を形成する。ある特定の実施形態において、Ｒ４は、水素である。
【０３２３】
Ｘが−Ｃ（ＲＸ）２−であり、１つのＲＸ基およびＲ５ｂが一体となってｔｒａｎｓ二重結合を形成する、ある特定の実施形態では、式（Ｉ−ｑｃ）の化合物：
【化１３８】
2016514967.tif 000139
またはその薬学的に許容され得る塩が提供される。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、２〜１０個の炭素原子を含む非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｓ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｒ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超えるフッ素で必要に応じて置換されるメチル（Ｃ１）、例えば、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチル（Ｃ２）、置換もしくは非置換ｎ−プロピル（Ｃ３）または置換もしくは非置換イソプロピル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＨ２ＯＲＡ６、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換ビニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換アリル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換プロパルギル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換シクロプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、
【化１３９】
2016514967.tif 000140
は、単結合を表し、Ｃ５における水素は、アルファである。ある特定の実施形態において、
【化１４０】
2016514967.tif 000141
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、水素、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、シクロプロピル、フルオロまたはクロロである。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、アルファ配置の非水素置換基である。ある特定の実施形態において、Ｒ２は、ベータ配置の非水素置換基である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、両方とも水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、一体となって、＝Ｏ（オキソ）を形成する。ある特定の実施形態において、Ｒ４は、水素である。
【０３２４】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ−ｑ）の化合物は、式（Ｉ−ｑｄ）の化合物：
【化１４１】
2016514967.tif 000142
またはその薬学的に許容され得る塩から選択される。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、２〜１０個の炭素原子を含む非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｓ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｒ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超えるフッ素で必要に応じて置換されるメチル（Ｃ１）、例えば、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチル（Ｃ２）、置換もしくは非置換ｎ−プロピル（Ｃ３）または置換もしくは非置換イソプロピル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＨ２ＯＲＡ６、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換ビニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換アリル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換プロパルギル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換シクロプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、
【化１４２】
2016514967.tif 000143
は、単結合を表し、Ｃ５における水素は、アルファである。ある特定の実施形態において、
【化１４３】
2016514967.tif 000144
は、二重結合を表す。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ３である。
【０３２５】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ−ｑ）の化合物は、式（Ｉ−ｑｅ）の化合物：
【化１４４】
2016514967.tif 000145
またはその薬学的に許容され得る塩から選択される。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、２〜１０個の炭素原子を含む非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｓ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｒ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超えるフッ素で必要に応じて置換されるメチル（Ｃ１）、例えば、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチル（Ｃ２）、置換もしくは非置換ｎ−プロピル（Ｃ３）または置換もしくは非置換イソプロピル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＨ２ＯＲＡ６、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換ビニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換アリル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換プロパルギル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換シクロプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ３である。
【０３２６】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ−ｑ）の化合物は、式（Ｉ−ｑｆ）の化合物：
【化１４５】
2016514967.tif 000146
またはその薬学的に許容され得る塩から選択される。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、２〜１０個の炭素原子を含む非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａおよびＲ６ｂのうちの少なくとも１つは、フッ素で置換された非水素基である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｓ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａに付着されている炭素は、（Ｒ）配置である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、１つまたはそれを超えるフッ素で必要に応じて置換されるメチル（Ｃ１）、例えば、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチル（Ｃ２）、置換もしくは非置換ｎ−プロピル（Ｃ３）または置換もしくは非置換イソプロピル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、−ＣＨ２ＯＲＡ６、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＲＡ６である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換ビニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換アリル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換もしくは非置換エチニル（Ｃ２）または置換もしくは非置換プロパルギル（Ｃ３）である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、置換または非置換シクロプロピルである。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、水素である。ある特定の実施形態において、Ｒ６ｂは、−ＣＨ３または−ＣＦ３である。ある特定の実施形態において、Ｒ１は、−ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ３である。
【０３２７】
ある特定の実施形態において、式（Ｉ−ｑ）の化合物は：
【化１４６】
2016514967.tif 000147
【化１４７】
2016514967.tif 000148
【化１４８】
2016514967.tif 000149
【化１４９】
2016514967.tif 000150
【化１５０】
2016514967.tif 000151
【化１５１】
2016514967.tif 000152
【化１５２】
2016514967.tif 000153
【化１５３】
2016514967.tif 000154
【化１５４】
2016514967.tif 000155
【化１５５】
2016514967.tif 000156
およびそれらの薬学的に許容され得る塩からなる群より選択される。
【０３２８】
薬学的組成物
別の態様において、本発明は、薬学的に許容され得るキャリアおよび有効量の式（Ｉ）の化合物を含む薬学的組成物を提供する。
【０３２９】
医薬品として使用されるとき、本明細書中に提供される化合物は、典型的には薬学的組成物の形態で投与される。そのような組成物は、薬学分野において周知の様式で調製され得、そのような組成物は、少なくとも１つの活性な化合物を含む。
【０３３０】
薬学的組成物に関する１つの実施形態において、上記キャリアは、非経口キャリア、経口または局所キャリアである。
【０３３１】
本発明は、医薬品または医薬として使用するための、本発明の化合物またはその薬学的組成物にも関する。
【０３３２】
通常、本明細書中に提供される化合物は、治療有効量で投与される。実際に投与される化合物の量は、処置される症状、選択された投与経路、投与される実際の化合物、個々の患者の齢、体重および応答、患者の症状の重症度などを含む関連する状況に鑑みて、典型的には医師によって決定され得る。
【０３３３】
本明細書中に提供される薬学的組成物は、経口、直腸、経皮的、皮下、静脈内、筋肉内および鼻腔内を含む種々の経路によって投与され得る。意図される送達経路に応じて、本明細書中に提供される化合物は、好ましくは、注射可能な組成物もしくは経口組成物のいずれかとして製剤化されるか、または軟膏として、ローションとしてもしくはパッチとして（すべて経皮投与用）製剤化される。
【０３３４】
経口投与用の組成物は、バルク液の溶液もしくは懸濁液、または原末の形態をとり得る。しかしながら、より一般的には、正確な投薬を容易にするために、組成物は、単位剤形で提供される。用語「単位剤形」とは、ヒト被験体用および他の哺乳動物用の単位投薬量として適した物理的に別個の単位のことを指し、各単位は、所望の治療効果をもたらすように計算された所定量の活性な材料を、好適な薬学的賦形剤とともに含む。典型的な単位剤形としては、液体組成物の充填済みで計量済みのアンプルもしくは注射器または固体組成物の場合は丸剤、錠剤、カプセルなどが挙げられる。そのような組成物において、化合物は、通常、微量成分（約０．１〜約５０重量％または好ましくは、約１〜約４０重量％）であり、残りは、様々なビヒクルまたはキャリアおよび所望の投薬形態の形成に役立つ加工助剤である。
【０３３５】
経口投与に適した液体形態は、好適な水性または非水性のビヒクルを、緩衝剤、懸濁剤および分散剤、着色料、香料などとともに含み得る。固体形態は、例えば、以下の成分のうちのいずれか、または同様の性質の化合物を含み得る：結合剤（例えば、微結晶性セルロース、トラガカントゴムまたはゼラチン）；賦形剤（例えば、デンプンもしくはラクトース）、崩壊剤（例えば、アルギン酸、Ｐｒｉｍｏｇｅｌまたはコーンスターチ）；滑沢剤（例えば、ステアリン酸マグネシウム）；滑剤（例えば、コロイド状二酸化ケイ素）；甘味剤（例えば、スクロースまたはサッカリン）；または香味剤（例えば、ペパーミント、サリチル酸メチルまたはオレンジ香料）。
【０３３６】
注射可能な組成物は、典型的には、注射可能な滅菌された食塩水もしくはリン酸緩衝食塩水または当該分野で公知の他の注射可能なキャリアに基づく。従来と同様に、そのような組成物における活性な化合物は、典型的には微量成分であり、しばしば、約０．０５〜１０重量％であり、残りは、注射可能なキャリアなどである。
【０３３７】
経皮的組成物は、典型的には、活性成分を通常、約０．０１〜約２０重量％、好ましくは、約０．１〜約２０重量％、好ましくは、約０．１〜約１０重量％、より好ましくは、約０．５〜約１５重量％の範囲の量で含む局所軟膏またはクリームとして製剤化される。軟膏として製剤化されるとき、活性成分は、典型的にはパラフィン性または水混和性の軟膏基剤と組み合わされ得る。あるいは、活性成分は、例えば、水中油型クリーム基剤を用いて、クリームに製剤化され得る。そのような経皮的製剤は、当該分野で周知であり、通常、活性成分または製剤の安定性の皮膚浸透性を向上させるさらなる成分を含む。すべてのそのような公知の経皮的製剤および成分が、本明細書中に提供される範囲内に含まれる。
【０３３８】
本明細書中に提供される化合物は、経皮的デバイスによっても投与され得る。したがって、経皮的送達は、レザバータイプもしくは多孔質膜タイプまたは固体マトリックス種類のパッチを使用して達成され得る。
【０３３９】
経口投与可能であるか、注射可能であるか、または局所投与可能である組成物に対する上に記載された構成要素は、単なる代表である。他の材料ならびに加工法などは、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，１７ｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ，１９８５，Ｍａｃｋ  Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅａｓｔｏｎ，ＰｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａのＰａｒｔ８（参照により本明細書中に援用される）に示されている。
【０３４０】
経口投与可能であるか、注射可能であるか、または局所投与可能である組成物に対する上に記載された構成要素は、単なる代表である。他の材料ならびに加工法などは、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ  Ｔｈｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｐｒａｃｔｉｃｅ  ｏｆ  Ｐｈａｒｍａｃｙ，２１ｓｔ  ｅｄｉｔｉｏｎ，２００５，Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ：Ｌｉｐｐｉｎｃｏｔｔ  Ｗｉｌｌｉａｍｓ  ＆  ＷｉｌｋｉｎｓのＰａｒｔ８（参照により本明細書中に援用される）に示されている。
【０３４１】
本発明の化合物は、徐放形態でまたは徐放薬物送達系からも投与され得る。代表的な徐放材料の説明は、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓに見られ得る。
【０３４２】
本発明は、本発明の化合物の薬学的に許容され得る製剤にも関する。１つの実施形態において、その製剤は、水を含む。別の実施形態において、その製剤は、シクロデキストリン誘導体を含む。最も一般的なシクロデキストリンは、連結された糖部分上に１つまたはそれを超える置換基を必要に応じて含む、６、７および８個のα−１，４連結型グルコース単位からそれぞれなるα−、β−およびγ−シクロデキストリンであり、これらは、メチル化置換、ヒドロキシアルキル化置換、アシル化置換およびスルホアルキルエーテル置換を含むがこれらに限定されない。ある特定の実施形態において、シクロデキストリンは、スルホアルキルエーテルβ−シクロデキストリン、例えば、Ｃａｐｔｉｓｏｌ（登録商標）としても知られるスルホブチルエーテルβ−シクロデキストリンである。例えば、米国特許第５，３７６，６４５号を参照のこと。ある特定の実施形態において、製剤は、ヘキサプロピル−β−シクロデキストリンを含む。より詳細な実施形態において、製剤は、ヘキサプロピル−β−シクロデキストリン（水中１０〜５０％）を含む。
【０３４３】
本発明は、本発明の化合物の薬学的に許容され得る酸付加塩にも関する。その薬学的に許容され得る塩を調製するために使用され得る酸は、無毒性酸付加塩、すなわち、薬理学的に許容され得るアニオンを含む塩、例えば、塩酸塩、ヨウ化水素酸塩、臭化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、重硫酸塩、リン酸塩、酢酸塩、乳酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、コハク酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、安息香酸塩、パラ−トルエンスルホン酸塩などを形成する酸である。
【０３４４】
以下の製剤実施例は、本発明に従って調製され得る代表的な薬学的組成物を例証するものである。しかしながら、本発明は、以下の薬学的組成物に限定されない。
【０３４５】
例示的製剤１−錠剤：本発明の化合物を乾燥粉末として乾燥ゼラチン結合剤とおよそ１：２の重量比で混合し得る。微量のステアリン酸マグネシウムを滑沢剤として加える。その混合物を打錠機で２４０〜２７０ｍｇの錠剤（１錠あたり８０〜９０ｍｇの活性な化合物）に形成する。
【０３４６】
例示的製剤２−カプセル：本発明の化合物を乾燥粉末としてデンプン希釈剤とおよそ１：１の重量比で混合し得る。その混合物を２５０ｍｇのカプセル（１カプセルあたり１２５ｍｇの活性な化合物）に充填する。
【０３４７】
例示的製剤３−液剤：本発明の化合物（１２５ｍｇ）をスクロース（１．７５ｇ）およびキサンタンガム（４ｍｇ）と混合し得、得られた混合物をブレンドし、Ｎｏ．１０メッシュＵ．Ｓ．シーブに通し、次いで、予め調製しておいた、微結晶性セルロースおよびカルボキシメチルセルロースナトリウム（１１：８９，５０ｍｇ）の水溶液と混合し得る。安息香酸ナトリウム（１０ｍｇ）、香料および着色料を水で希釈し、撹拌しながら加える。次いで、５ｍＬの総体積をもたらすのに十分な水を加え得る。
【０３４８】
例示的製剤４−錠剤：本発明の化合物を乾燥粉末として乾燥ゼラチン結合剤とおよそ１：２の重量比で混合し得る。微量のステアリン酸マグネシウムを滑沢剤として加える。その混合物を打錠機で４５０〜９００ｍｇの錠剤（１５０〜３００ｍｇの活性な化合物）に形成する。
【０３４９】
例示的製剤５−注射剤：本発明の化合物を滅菌された緩衝食塩水の注射可能な水性媒体におよそ５ｍｇ／ｍＬの濃度まで溶解し得るかまたは懸濁し得る。
【０３５０】
例示的製剤６−錠剤：本発明の化合物を乾燥粉末として乾燥ゼラチン結合剤とおよそ１：２の重量比で混合し得る。微量のステアリン酸マグネシウムを滑沢剤として加える。その混合物を打錠機で９０〜１５０ｍｇの錠剤（１錠あたり３０〜５０ｍｇの活性な化合物）に形成する。
【０３５１】
例示的製剤７−錠剤：本発明の化合物を乾燥粉末として乾燥ゼラチン結合剤とおよそ１：２の重量比で混合し得る。微量のステアリン酸マグネシウムを滑沢剤として加える。その混合物を打錠機で３０〜９０ｍｇの錠剤（１錠あたり１０〜３０ｍｇの活性な化合物）に形成する。
【０３５２】
例示的製剤８−錠剤：本発明の化合物を乾燥粉末として乾燥ゼラチン結合剤とおよそ１：２の重量比で混合し得る。微量のステアリン酸マグネシウムを滑沢剤として加える。その混合物を打錠機で０．３〜３０ｍｇの錠剤（１錠あたり０．１〜１０ｍｇの活性な化合物）に形成する。
【０３５３】
例示的製剤９−錠剤：本発明の化合物を乾燥粉末として乾燥ゼラチン結合剤とおよそ１：２の重量比で混合し得る。微量のステアリン酸マグネシウムを滑沢剤として加える。その混合物を打錠機で１５０〜２４０ｍｇの錠剤（１錠あたり５０〜８０ｍｇの活性な化合物）に形成する。
【０３５４】
例示的製剤１０−錠剤：本発明の化合物を乾燥粉末として乾燥ゼラチン結合剤とおよそ１：２の重量比で混合し得る。微量のステアリン酸マグネシウムを滑沢剤として加える。その混合物を打錠機で２７０〜４５０ｍｇの錠剤（１錠あたり９０〜１５０ｍｇの活性な化合物）に形成する。
【０３５５】
注射用量レベルは、約０．１ｍｇ／ｋｇ／時〜少なくとも１０ｍｇ／ｋｇ／時の範囲である（すべて、約１〜約１２０時間、特に、２４〜９６時間にわたる）。約０．１ｍｇ／ｋｇ〜約１０ｍｇ／ｋｇまたはそれを超える前負荷ボーラス（ｐｒｅｌｏａｄｉｎｇ  ｂｏｌｕｓ）を投与することによっても、適正な定常状態レベルが達成され得る。最大総用量は、４０〜８０ｋｇのヒト患者に対して約２ｇ／日を超えないと予想される。
【０３５６】
長期間の症状の予防および／または処置の場合、処置レジメンは、通常、何ヶ月または何年にもわたるので、患者の利便性および許容度のためには経口投薬が好ましい。経口投薬に関しては、１日に１〜５用量、特に２〜４用量、典型的には３用量の経口投与が代表的なレジメンである。これらの投薬パターンを用いて、各用量は、約０．０１〜約２０ｍｇ／ｋｇの本明細書中に提供される化合物をもたらし、好ましい用量は、各々、約０．１〜約１０ｍｇ／ｋｇ、特に、約１〜約５ｍｇ／ｋｇをもたらす。
【０３５７】
経皮的用量は、一般に、注射用量を用いて達成されるものと同様またはそれより低い血中濃度をもたらすように選択される。
【０３５８】
ＣＮＳ障害の発生を予防するために使用されるとき、本明細書中に提供される化合物は、上に記載された投薬レベルで、その症状を発症するリスクがある被験体に、典型的には医師の助言に基づいておよび医師の管理下で投与され得る。特定の症状を発症するリスクがある被験体としては、一般に、その症状の家族歴を有する被験体、または遺伝子検査もしくはスクリーニングによってその症状を特に発症しやすいと同定された被験体が挙げられる。
評価、処置および使用の方法
【０３５９】
患者、例えば、本明細書中に記載される障害を有する患者を評価するかまたは処置する方法が、とりわけ本明細書中に記載される。いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される化合物（例えば、有効量の本明細書中に記載される化合物）が、患者に投与される。いくつかの実施形態において、上記方法は、必要に応じて患者サンプルを取得する工程、ならびに対照基準と比較したときの２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールのレベルの変化について、サンプルの評価を取得する工程および／またはサンプルを評価する工程を含む。ある特定の実施形態において、その評価に応じて、患者は、本明細書中に記載される障害について本明細書中に記載される化合物で処置され、例えば、患者は、有効量の、２４（Ｓ）−ヒドロキシコレステロールまたは構造的に関係するステロールもしくはステロイド、オキシステロール、ＮＭＤＡＲのアゴニストまたはＮＭＤＡＲの正のアロステリックモジュレーター（ＰＡＭ）、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性または内在量を高める（例えば、増加させる）化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを代謝する酵素を阻害する化合物、例えば、２４−ヒドロキシコレステロール７アルファ−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ３９）を阻害する化合物）あるいは式（Ｉ）の化合物などの本明細書中に記載される化合物を投与される。いくつかの実施形態において、その化合物は、ＮＭＤＡＲのアンタゴニストもしくはＮＡＭまたは２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールの内在活性もしくは内在量を減少させる化合物（例えば、２４（ｓ）−ヒドロキシコレステロールを生成する酵素を活性化する化合物、例えば、コレステロール２４（Ｓ）−ヒドロキシラーゼ（ＣＹＰ４６）を活性化する化合物）である。
【０３６０】
「取得する（Ａｃｑｕｉｒｅ）」または「取得する（ａｃｑｕｉｒｉｎｇ）」は、これらの用語が本明細書中で使用されるとき、物理的実体または値を「直接取得すること」または「間接的に取得すること」によって、物理的実体、または値、例えば、数値の所有権を得ることを指す。「直接取得すること」は、プロセスを行うこと（例えば、合成方法または分析方法を行うこと）により、物理的実体または値を得ることを意味する。「間接的に取得すること」とは、別の団体または供給源（例えば、物理的実体または値を直接取得した第三者の研究室）から物理的実体または値を受け取ることを指す。物理的実体を直接取得することは、物理的な物質、例えば、出発物質の物理的変化を含むプロセスを行うことを含む。例示的な変化としては、２つまたはそれを超える出発物質から物理的実体を生成すること、物質を剪断するかまたは断片化すること、物質を分離するかまたは精製すること、２つまたはそれを超える別個の実体を混合物にまとめること、共有結合または非共有結合を破壊することまたは形成することを含む化学反応を行うことが挙げられる。値を直接取得することは、サンプルまたは別の物質の物理的変化を含むプロセスを行うこと、例えば、物質、例えば、サンプル、被検体または試薬の物理的変化を含む分析プロセスを行うこと（時折、本明細書中で「物理的解析」と称される）、分析方法、例えば、以下のうちの１つまたはそれを超えるものを含む方法を行うこと：物質、例えば、被検体またはそのフラグメントもしくは他の誘導体を別の物質から分離するかまたは精製すること；被検体またはそのフラグメントもしくは他の誘導体を、別の物質、例えば、緩衝剤、溶媒または反応体と混和すること；あるいは例えば、被検体の第１の原子と第２の原子との間の共有結合もしくは非共有結合を破壊するかまたは形成することによって；あるいは試薬またはそのフラグメントもしくは他の誘導体の構造を変化させることによって、例えば、その試薬の第１の原子と第２の原子との間の共有結合もしくは非共有結合を破壊するかまたは形成することによって、被検体またはそのフラグメントもしくは他の誘導体の構造を変化させることを含む。
【０３６１】
「サンプルを取得する」は、この用語が本明細書中で使用されるとき、サンプル、例えば、組織サンプルまたは核酸サンプルを「直接取得すること」または「間接的に取得すること」によって、そのサンプルの所有権を得ることを指す。「サンプルを直接取得すること」は、プロセスを行うこと（例えば、手術または抽出などの物理的方法を行うこと）により、サンプルを得ることを意味する。「サンプルを間接的に取得すること」とは、別の団体または供給源（例えば、サンプルを直接取得した第三者の研究室）からサンプルを受け取ることを指す。サンプルを直接取得することは、物理的な物質、例えば、出発物質（例えば、組織、例えば、ヒト患者の中の組織または患者から予め単離された組織）の物理的変化を含むプロセスを行うことを含む。例示的な変化としては、出発物質から物理的実体を調製すること、組織を解剖するかまたは掻爬すること；物質（例えば、サンプル組織または核酸サンプル）を分離するかまたは精製すること；２つまたはそれを超える別個の実体を混合物にまとめること；共有結合または非共有結合を破壊するかまたは形成することを含む化学反応を行うことが挙げられる。サンプルを直接取得することは、サンプルまたは別の物質の物理的変化を含むプロセス、例えば、上に記載されたようなものを行うことを含む。
【０３６２】
本明細書中で使用されるとき、「候補」である患者は、対照の患者または患者群と比べて、特定の治療的レジメンに応答する可能性がある患者である。「候補でない」患者は、対照の患者または患者群と比べて、特定の治療的レジメンに応答する可能性がない患者である。
【０３６３】
本明細書中に提供される化合物および薬学的組成物には、ヒトおよび非ヒト哺乳動物を含む哺乳動物におけるＣＮＳ症状を予防するためおよび／または処置するための治療薬としての用途が見出される。したがって、先に述べたように、本発明は、列挙された処置方法、ならびにそのような方法のための化合物、およびそのような方法に有用な医薬の調製のためのそのような化合物の使用を本発明の範囲内に含み、それらにまで及ぶ。１つの態様において、本明細書中に記載される化合物は、例えば、哺乳動物におけるＣＮＳ症状を処置するため（例えば、精神分裂病、うつ病、双極性障害（例えば、Ｉおよび／またはＩＩ）、統合失調感情障害、気分障害、不安障害、人格障害、精神病、強迫性障害、外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）、自閉症圏障害（ＡＳＤ）、気分変調（軽症うつ病）、社会不安障害、強迫性障害（ＯＣＤ）、疼痛（例えば、有痛性症候群または障害）、睡眠障害、記憶障害（例えば、記憶機能障害）、痴呆、アルツハイマー病、発作性障害（例えば、癲癇）、外傷性脳損傷（ＴＢＩ）、脳卒中、嗜癖障害（例えば、オピエート類、コカインおよび／またはアルコールに対する嗜癖）、自閉症、ハンチントン病、不眠、パーキンソン病、離脱症候群または耳鳴を処置するため）の治療薬として企図される。いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される化合物は、被験体における学習を改善する（例えば、認知（ｃｏｇｎａｔｉｖｅ）機能を改善する）ために使用され得る。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、うつ病、不安、気分障害、睡眠障害、記憶障害（例えば、記憶機能障害）、外傷性脳損傷、脳卒中、癲癇、認知機能不全（ｃｏｇｎａｔｉｖｅ  ｄｉｓｆｕｎｃｔｉｏｎ）および精神分裂病の処置において有用である。いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される化合物は、過量服用、例えば、薬物の過量服用（例えば、ケタミンまたはＰＣＰの過量服用）を処置するために使用され得る。
【０３６４】
ＮＭＤＡ調節に関係する例示的なＣＮＳ症状としては、適応障害、不安障害（強迫性障害、心的外傷後ストレス障害、社会恐怖、全般性不安障害を含む）、認知障害（アルツハイマー病および他の形態の痴呆を含む）、解離性障害、摂食障害、気分障害（うつ病、双極性障害および気分変調性障害を含む）、精神分裂病または他の精神病性障害（統合失調感情障害を含む）、睡眠障害（不眠を含む）、物質乱用関連障害、人格障害（強迫性人格障害を含む）、自閉症圏障害（Ｓｈａｎｋ群のタンパク質に対する変異が関わるものを含む）、神経発達障害（レット症候群を含む）、疼痛（急性および慢性疼痛を含む）、発作性障害（癲癇重積状態および一遺伝子型の癲癇、例えば、Ｄｒａｖｅｔ病、ならびに結節性硬化症複合体（ＴＳＣ）を含む）、脳卒中、外傷性脳損傷、運動障害（ハンチントン病およびパーキンソン病を含む）および耳鳴が挙げられるがこれらに限定されない。
【０３６５】
別の態様において、脳の興奮性に関連する症状を起こしやすいかまたはその症状に苦しんでいる哺乳動物を評価するかまたは処置する方法が提供され、その方法は、有効量の本明細書中に記載される１つまたはそれを超える薬学的組成物を投与する工程を含む。
【０３６６】
別の態様において、鎮静または麻酔を誘導する方法が提供される。別の態様において、適応障害、不安障害、認知障害、解離性障害、摂食障害、気分障害、精神分裂病または他の精神病性障害、睡眠障害、物質関連障害、人格障害、自閉症圏障害、神経発達障害、疼痛、発作性障害、脳卒中、外傷性脳損傷、運動障害および耳鳴に関連する症状を起こしやすいかまたはその症状に苦しんでいる哺乳動物を評価するかまたは処置する方法が提供される。
【０３６７】
なおも別の態様において、医薬品、例えば、特に、上述の症状および疾患の処置または予防における医薬品としての本発明の化合物の使用が提供される。
【０３６８】
さらになおも別の態様において、上述の症状および疾患のうちの１つを処置するためまたは予防するための医薬を製造する方法が提供される。
【０３６９】
さらになおも別の態様において、本発明は、疾患または症状を予防するため、処置するため、回復させるためまたは管理するための方法を提供し、その方法は、そのような予防、処置、回復または管理を必要とする被験体に、予防有効量または治療有効量の本発明の化合物またはその薬学的組成物を投与する工程を含む。
【０３７０】
なおも別の態様において、本発明は、脳の興奮性に関連する疾患または状態を処置する医薬を製造するための、本発明の化合物の使用を提供する。１つの実施形態において、その疾患または症状は、うつ病、不安、精神分裂病、睡眠障害、記憶障害および気分障害から選択される。
【０３７１】
なおも別の態様において、本発明は、脳の興奮性に関連する疾患を処置するために、哺乳動物、例えば、人間を処置する方法を提供し、その方法は、前記哺乳動物を有効量の本発明の化合物またはその組成物で処置する工程を含む。
【０３７２】
なおも別の態様において、本発明は、本発明の化合物と別の薬理学的に活性な作用物質との併用を提供する。
【０３７３】
本明細書中に提供される化合物は、単独の活性な作用物質として投与され得るか、または他の作用物質と併用して投与され得る。併用での投与は、例えば、別個の、連続した、同時のおよび交互の投与を含む、当業者に明らかな任意の手法によって進められ得る。
【実施例】
【０３７４】
本明細書中に記載される本発明がより十分に理解され得るように、以下の実施例が示される。本願に記載される合成実施例および生物学的実施例は、本明細書中に提供される化合物、薬学的組成物および方法を例証するために提供されるものであって、いかなる方法でもそれらの範囲を限定するものとみなされるべきでない。
【０３７５】
材料および方法
本明細書中に提供される化合物は、容易に入手可能な出発物質から、以下の一般的な方法および手順を用いて調製することができる。典型的なまたは好ましいプロセス条件（すなわち、反応温度、時間、反応体のモル比、溶媒、圧力など）が与えられている場合、別段述べられない限り、他のプロセス条件も使用できると認識されるだろう。最適な反応条件は、使用される特定の反応体または溶媒によって変化し得るが、そのような条件は、当業者が日常的な最適化によって決定し得る。
【０３７６】
さらに、当業者には明白であるように、ある特定の官能基が、望まれない反応を起こさないようにするために従来の保護基が必要である場合がある。特定の官能基にとって好適な保護基の選択、ならびに好適な保護条件および脱保護条件の選択は、当該分野で周知である。例えば、数多くの保護基、ならびにそれらの導入および除去は、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ  ａｎｄ  Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｓｅｃｏｎｄ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９１およびその中に引用されている参考文献に記載されている。
【０３７７】
本明細書中に提供される化合物は、公知の標準的な手順によって単離され得、精製され得る。そのような手順としては、再結晶、カラムクロマトグラフィーまたはＨＰＬＣが挙げられる（がこれらに限定されない）。以下のスキームは、本明細書中に列挙される代表的な置換ビアリールアミドの調製に関する詳述とともに提示される。本明細書中に提供される化合物は、有機合成の当業者によって、公知のまたは商業的に入手可能な出発物質および試薬から調製され得る。
【０３７８】
本明細書中に提供される鏡像異性的に純粋な化合物は、当業者に公知の任意の手法に従って調製され得る。例えば、それらは、好適な光学的に純粋な前駆体からのキラル合成もしくは不斉合成によって調製され得るか、または任意の従来の手法によって、例えば、キラルカラム、ＴＬＣを使用するクロマトグラフィー分割によって、もしくはジアステレオ異性体の調製、それらの分離および所望の鏡像異性体の再生によって、ラセミ体から得られ得る。例えば、“Ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒｓ，Ｒａｃｅｍａｔｅｓ  ａｎｄ  Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｓ，”Ｊ．Ｊａｃｑｕｅｓ，Ａ．Ｃｏｌｌｅｔ，ａｎｄ  Ｓ．Ｈ．Ｗｉｌｅｎ，（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９８１）；Ｓ．Ｈ．Ｗｉｌｅｎ，Ａ．Ｃｏｌｌｅｔ，ａｎｄ  Ｊ．Ｊａｃｑｕｅｓ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２７２５（１９７７）；Ｅ．Ｌ．Ｅｌｉｅｌ  Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｃａｒｂｏｎ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ（ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ，ＮＹ，１９６２）；およびＳ．Ｈ．Ｗｉｌｅｎ  Ｔａｂｌｅｓ  ｏｆ  Ｒｅｓｏｌｖｉｎｇ  Ａｇｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｓ  ２６８（Ｅ．Ｌ．Ｅｌｉｅｌ  ｅｄ．，Ｕｎｉｖ．ｏｆ  Ｎｏｔｒｅ  Ｄａｍｅ  Ｐｒｅｓｓ，Ｎｏｔｒｅ  Ｄａｍｅ，ＩＮ，１９７２，Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，Ｅｒｎｅｓｔ  Ｌ．Ｅｌｉｅｌ，Ｓａｍｕｅｌ  Ｈ．Ｗｉｌｅｎ  ａｎｄ  Ｌｅｗｉｓ  Ｎ．Ｍａｎｄａ（１９９４  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）およびＳｔｅｒｅｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  Ａ  Ｐｒａｃｔｉｃａｌ  Ａｐｐｒｏａｃｈ，Ｍｉｈａ’ｌｙ  Ｎｏ’ｇｒａ’ｄｉ（１９９５  ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ．，ＮＹ，ＮＹ）を参照のこと。
【０３７９】
ある特定の実施形態では、本発明の鏡像異性体的に純粋な化合物は、ラセミ体と、好適な光学活性な酸または塩基との反応によって得られ得る。好適な酸または塩基としては、Ｂｉｇｈｌｅｙら、１９９５，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，ｖｏｌ．１３の中のＳａｌｔ  Ｆｏｒｍｓ  ｏｆ  Ｄｒｕｇｓ  ａｎｄ  Ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ，Ｓｗａｒｂｒｉｃｋ  ＆  Ｂｏｙｌａｎ，ｅｄｓ．，Ｍａｒｃｅｌ  Ｄｅｋｋｅｒ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ；ｔｅｎ  Ｈｏｅｖｅ  ＆  Ｈ．Ｗｙｎｂｅｒｇ，１９８５，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ５０：４５０８−４５１４；Ｄａｌｅ  ＆  Ｍｏｓｈｅｒ，１９７３，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．９５：５１２；およびＣＲＣ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｖｉａ  Ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒｉｃ  Ｓａｌｔ  Ｆｏｒｍａｔｉｏｎ（この内容の全体が、参照により本明細書に援用される）に記載されているものが挙げられる。
【０３８０】
鏡像異性体的に純粋な化合物は、使用される特定の酸分割剤および使用される特定の酸鏡像異性体の溶解特性に応じて、結晶化されたジアステレオマーまたは母液からも回収され得る。そのようにして回収された特定の化合物の同一性および光学純度は、当該分野で公知の旋光分析法または他の分析方法によって測定され得る。次いで、それらのジアステレオ異性体（ｄｉａｓｔｅｒｏｉｓｏｍｅｒｓ）は、例えば、クロマトグラフィーまたは分別結晶法によって分離され得、所望の鏡像異性体が、適切な塩基または酸での処理によって再生され得る。他方の鏡像異性体は、同様の様式でラセミ体から得られ得るか、または最初の分離液から作り上げられ得る。ある特定の実施形態では、鏡像異性体的に純粋な化合物は、キラルクロマトグラフィーによってラセミ化合物から分離され得る。鏡像異性体を分離する際に使用するための様々なキラルカラムおよび溶離剤が利用可能であり、分離に適した条件は、当業者に公知の方法によって実験に基づいて決定され得る。本明細書中に提供される鏡像異性体の分離における用途で利用可能な例示的なキラルカラムとしては、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＢ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＢ−Ｈ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ−Ｈ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＦ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＧ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＪおよびＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＫが挙げられるがこれらに限定されない。
【０３８１】
合成手順
本発明の化合物を調製するための一般的なプロセスが、本発明のさらなる実施形態として提供され、一般化されたスキーム１〜１３および実施例１〜３６において例証される。スキーム１〜１３に対して、定義されていない場合、Ｒ’はアルキルであり、Ｒ２３は、Ｒ２３ａまたはＲ２３ｂであり；Ｘ１、Ｌ１、Ｒ１、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ２３ａおよびＲ２３ｂは、本明細書中に記載されるとおりである。
スキーム１．３α−置換−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１５６】
2016514967.tif 000157
スキーム２．３α−置換−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１５７】
2016514967.tif 000158
スキーム３．３β−アミノ−および３β−アルキルアミノステロイドの合成
【化１５８】
2016514967.tif 000159
スキーム４．硫酸ステロイドの合成
【化１５９】
2016514967.tif 000160
スキーム５．ステロイド３β−エステルおよびアミドの合成
【化１６０】
2016514967.tif 000161
スキーム６．３−オキソステロイドの合成
【化１６１】
2016514967.tif 000162
スキーム７．２１−ヘテロアリール−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１６２】
2016514967.tif 000163
スキーム８．３α−置換−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１６３】
2016514967.tif 000164
スキーム９．３α−置換−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１６４】
2016514967.tif 000165
スキーム１０．３α−置換−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１６５】
2016514967.tif 000166
スキーム１１．３α−置換−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１６６】
2016514967.tif 000167
スキーム１２．３α−置換−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１６７】
2016514967.tif 000168
スキーム１３．３α−置換−３β−ヒドロキシステロイドの合成
【化１６８】
2016514967.tif 000169
【０３８２】
実施例１．化合物ＳＴ−２００−Ａ−００１の調製
【化１６９】
2016514967.tif 000170
化合物２の調製：トルエン（６００ｍＬ）中の、ケトン１（５０．０ｇ，０．１７ｍｏｌ，１．０ｅｑ）およびエチレングリコール（６２ｍＬ）の溶液に、ｐ−トルエンスルホン酸（１．４ｇ，７．２８ｍｍｏｌ）を加えた。その反応混合物を、ディーン−スタークトラップを用いて、一晩、加熱還流した。ＬＣＭＳは、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物を室温に冷却し、酢酸エチル（５００ｍＬ）で希釈し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（３００ｍＬ×２）およびブライン（３００ｍＬ×２）で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物２を得て（６４．０ｇ，１００％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３５  （ｄ，  Ｊ＝５．６  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．９７−３．８２  （ｍ，  ４Ｈ），  ３．５９−３．４７  （ｍ，  １Ｈ），  ２．３４−２．２１（ｍ，  ２Ｈ），  ２．０６−１．９４  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９０−１．７４  （ｍ，  ３Ｈ），  １．７３−１．６４  （ｍ，  １Ｈ），  １．６３−１．３３  （ｍ，  １０Ｈ），  １．３２−１．１９  （ｍ，  １Ｈ），  １．１４−１．０３  （ｍ，  １Ｈ），  １．０１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９９−０．９３  （ｍ，  １Ｈ），  ０．８６  （ｓ，  ３Ｈ）．    
【０３８３】
化合物３の調製：乾燥ＣＨ２Ｃｌ２（１２００ｍＬ）中の化合物２（３２ｇ，９６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ（８１ｇ，１９２ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）を０℃において数回に分けて加えた。次いで、その反応混合物を室温において３時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物をＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３＝１：３の飽和水溶液（１Ｌ）でクエンチした。有機相をブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を蒸発させることにより、粗生成物３を得て（３３．０ｇ，１００％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３４  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７７−４．００  （ｍ，  ４Ｈ），  ３．１９−３．３９  （ｍ，  １Ｈ），  ２．８３  （ｄｄ，  Ｊ＝１６．４４，  ２．１３  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．３８−２．５９  （ｍ，  １Ｈ），  ２．２１−２．３７  （ｍ，  １Ｈ），  １．９５−２．０９  （ｍ，  ３Ｈ），  １．５４−１．７３  （ｍ，  ４Ｈ），  １．７４−１．９０  （ｍ，  ２Ｈ），  １．３７−１．５１  （ｍ，  ３Ｈ），  １．２１−１．３４  （ｍ，  ２Ｈ），  １．１９  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９８−１．１２  （ｍ，  １Ｈ），  ０．８３−０．９３  （ｍ，  ３Ｈ）．    
【０３８４】
ＭＡＤの調製：トルエン（３００ｍＬ）中の化合物５（９６ｇ，４３６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、室温のＡｌＭｅ３の溶液（１０９ｍＬ，２１８ｍｍｏｌ，０．５ｅｑ，ヘキサン中２Ｍ）を加えたところ、その時点において、直ちにメタンガスが発生した。得られた混合物を室温において１時間撹拌し、いかなる精製も行わずに、次の工程においてトルエン中のＭＡＤの溶液として使用した。
【０３８５】
化合物４の調製：トルエン（３００ｍＬ）中のＭＡＤ（２１８ｍｍｏｌ，２．３ｅｑ，調製したばかりのもの）の溶液に、−７８℃のトルエン（１００ｍＬ）中の化合物４（３３ｇ，９６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液を１時間にわたって窒素下で滴下した。次いで、その反応混合物を３０分間撹拌し、ＭｅＭｇＢｒ（２０５ｍＬ，２８８ｍｍｏｌ，３．０ｅｑ，トルエン中１．４Ｍ）の溶液を−７８℃において滴下した。その反応混合物を−４０℃まで温め、この温度で３時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（２００ｍＬ）に注ぎ込み、ＥＡで抽出した（１５０ｍＬ×２）。合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を蒸発させることにより、粗生成物を得た。その粗生成物を、ＰＥ：ＥＡ（１５：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物（７．６４ｇ，２２％）を白色粉末として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７５−４．０４  （ｍ，  ４Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１３．６  Ｈｚ，  １Ｈ），  １．８８−２．１２  （ｍ，  ３Ｈ），  １．７３−１．８６  （ｍ，  ２Ｈ），  １．６４−１．７２  （ｍ，  ２Ｈ），  １．５２−１．６３  （ｍ，  ４Ｈ），    １．３５−１．５１  （ｍ，  ４Ｈ），  １．１９−１．３２  （ｍ，  １Ｈ），  １．１２−１．１８  （ｍ，  １Ｈ），  １．１０  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９９−１．０３  （ｍ，  ３Ｈ），  ０．９２−０．９８  （ｍ，  １Ｈ），  ０．８６  （ｓ，  ３Ｈ）．    
【０３８６】
化合物ＩＮＴ  Ａ：ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の化合物４（６．０ｇ，１７．３ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＨＣｌ水溶液（３５ｍＬ，１Ｍ）およびアセトン（３５ｍＬ）を加えた。その反応混合物を室温において一晩撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、反応が完了したことを示唆した。次いで、その反応混合物をＥＡ（２００ｍＬ）で希釈し、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液（２００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で蒸発させることにより、生成物を得た（５．２ｇ，９９．２％）。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．２７  （ｄ，  Ｊ＝６．８  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４５−２．３５  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．０９−１．８４  （ｍ，  ４  Ｈ），  １．８２−１．５７  （ｍ，  ６Ｈ），  １．５０−１．３５  （ｍ，  ４Ｈ），  １．２６−１．０８  （ｍ，  ４Ｈ），  １．０５  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．９５  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．８６  （ｓ，  ３  Ｈ）．    
【０３８７】
化合物Ａ＿００１＿１：ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＰＰｈ３ＣＨ３Ｂｒ（２８．３ｇ，７９．３５ｍｍｏｌ）の溶液に、室温のＴＨＦ（２０ｍＬ）中のｔ−ＢｕＯＫ（８．９６ｇ，７９．３５ｍｍｏｌ）の溶液を加えた。１時間撹拌した後、ＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解されたＩＮＴ  Ａ（４．０ｇ，１３．２２ｍｍｏｌ）を滴下した。その反応混合物を３時間還流した。その反応混合物を室温に冷却し、飽和ＮＨ４Ｃｌでクエンチし、ＥＡで抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、乾燥させ、濃縮することにより、粗生成物を得て、それをフラッシュカラムクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥＡ＝１５／１）によって精製することにより、化合物Ａ＿００１＿１（３．２ｇ，Ｙ＝８０％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３２  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．６５−４．６４  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．５０−２．４２  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．２７−２．２２  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０７−１．９７  （ｍ，  １Ｈ），  １．８７−１．６８  （ｍ，  ４Ｈ），  １．６８−１．４９  （ｍ，  ７Ｈ），  １．４０−１．１５  （ｍ，  ４Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０５  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０４−０．９６  （ｍ，  １Ｈ），  ０．８０  （ｓ，  ３Ｈ）．    
【０３８８】
化合物Ａ＿００１＿２の調製：ＣＨ２Ｃｌ２（５ｍＬ）中の、化合物Ａ＿００１＿１（３００ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）およびプロピオル酸メチル（２５０ｍｇ，３．０ｍｍｏｌ，３．０ｅｑ）の溶液に、２５℃において撹拌しながらＥｔ２ＡｌＣｌ（４ｍＬ，４．０ｍｍｏｌ，４．０ｅｑ，トルエン中１Ｍ）を滴下し、次いで、その反応混合物を一晩撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、出発物質が完全に消費されたことを示唆した。その溶液をＮａＨＣＯ３飽和水溶液（５ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをＰＥ：ＥＡ（１５：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、所望の生成物（２００ｍｇ，５２％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ７．０３−６．９７  （ｍ，  １Ｈ），  ５．８６  （ｄｄ，  Ｊ１＝１．２Ｈｚ，  Ｊ２＝１５．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．３５  （ｄ，  Ｊ＝１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．３２  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７２  （ｓ，  ３Ｈ），  ２．８７  （ｄ，  Ｊ＝６．８  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１３．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．１３−１．９５  （ｍ，  ３Ｈ），  ２．００−１．４０  （ｍ，  １１Ｈ），  １．４０−１．２０  （ｍ，  ４Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０６  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９０−０．８２  （ｍ，  ３Ｈ），  ０．７８  （ｓ，  ３Ｈ）．    
【０３８９】
化合物Ａ＿００１＿３の調製：ＥＡ（５ｍＬ）中の化合物Ａ＿００１＿２（１９２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｎ２下でＰｄ／Ｃ（５％，４０ｍｇ）を加えた。その懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で数回パージした。次いで、その混合物をＨ２バルーン下で３０℃において１時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、反応が完了したことを示した。その懸濁液をセライトパッドで濾過し、そのパッドをＥＡで洗浄した（５ｍＬ×２）。合わせた濾液を濃縮乾固させることにより、生成物（１８５ｍｇ，９５％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３１  （ｄ，  Ｊ＝４．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６７  （ｓ，  ３Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１３．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．３５−２．２８  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．０２−１．９２  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９０−１．６０  （ｍ，  ６Ｈ），  １．５５−１．３０  （ｍ，  ６Ｈ），  １．３０−１．１３  （ｍ，  ５Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０２（ｓ，  ３Ｈ），  １．００−０．７５  （ｍ，  ４Ｈ），  ０．５８  （ｓ，  ３Ｈ）．    
【０３９０】
化合物ＳＴ−２００−Ａ−００１の調製：ＴＨＦ（５ｍＬ）中の化合物Ａ＿００１＿３（１５０ｍｇ，０．３８６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＭｅＬｉ（２ｍＬ，３．２００ｍｍｏｌ，８．３ｅｑ，ＴＨＦ中１．６Ｍ）を窒素下、−７８℃において滴下した。滴下後、その反応混合物を−４０℃まで温め、１時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、反応が完了したことを示した。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（１０ｍＬ）でクエンチし、ＥＡで抽出した（１０ｍＬ×２）。合わせた有機層を減圧下で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをＰＥ：ＥＡ（１０：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物（９１ｍｇ，６０％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３１  （ｄ，  Ｊ＝５．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４３  （ｄ，  Ｊ＝１３．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．０５−１．９５  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９０−１．６０  （ｍ，  ６Ｈ），  １．２１  （ｓ，  ６Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１１−１．０４  （ｍ，  １Ｈ），  １．０３  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０１−０．９２  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．５８  （ｓ，  ３Ｈ）．    
【０３９１】
実施例２．化合物ＳＴ−２００−Ａ−００３の調製
【化１７０】
2016514967.tif 000171
化合物Ａ＿００３＿１の調製：乾燥ＴＨＦ（１５ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（１２．２５ｇ，３３．００ｍｍｏｌ，１０．０ｅｑ）の溶液に、乾燥ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のｔ−ＢｕＯＫ（３．７０ｇ，３３．００ｍｍｏｌ，１０．０ｅｑ）の溶液をＮ２下、０℃において滴下した。その混合物を室温において１．５時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のＩＮＴ  Ａ（１．００ｇ，３．３１ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液を滴下し、得られた混合物を７０℃において４時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、出発物質が完全に消費されたことを示唆した。その反応物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５０ｍＬ）でクエンチし、ＥＡで抽出した（３０ｍＬ×２）。合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＰＥ：ＥＡ＝１２：１）によって精製することにより、生成物（９００ｍｇ，９０．９％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３２  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．１５−５．１２  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４４−２．３０  （ｍ，  ３Ｈ），  ２．２９−２．２１  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０５−１．９７  （ｍ，  ２Ｈ），  １．８１−１．４５  （ｍ，  １４Ｈ），  １．３０−１．１５  （ｍ，  ３  Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０２  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９５−１．０１  （ｍ，  １Ｈ），  ０．９０  （ｓ，  ３Ｈ）．    
【０３９２】
化合物Ａ＿００３＿２の調製：乾燥ＤＣＭ（１５ｍＬ）中の、化合物Ａ＿００３＿１（１．００ｇ，３．２０ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）およびプロピオル酸メチル（０．６７ｇ，８．００ｍｍｏｌ，２．５ｅｑ）の溶液に、Ｅｔ２ＡｌＣｌ（１２．８ｍＬ，１２．８ｍｍｏｌ，４．０ｅｑ，トルエン中１Ｍ）の溶液を、撹拌しながら０℃において滴下した。次いで、その反応物を室温まで温め、一晩撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝５：１）は、出発物質が完全に消費されたことを示唆した。その混合物をＮａＨＣＯ３飽和水溶液（３０ｍＬ）でクエンチし、ＤＣＭで抽出した（３０ｍＬ×２）。合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＰＥ：ＥＡ＝１０：１）によって精製することにより、生成物（１．００ｇ，７８．７％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ６．９７−６．９１  （ｍ，  １  Ｈ）  ５．８２  （ｄ，  Ｊ＝１６  Ｈｚ，  １  Ｈ），  ５．４２−５．４１  （ｍ，  １Ｈ），  ５．３２  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７３  （ｓ，  ３  Ｈ），  ３．０４−３．００  （ｍ，  １  Ｈ），  ２．４３  （ｄ，  Ｊ＝１２．８  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．１１−１．９７  （ｍ，  ３Ｈ），  １．８８−１．５０  （ｍ，  １２Ｈ），  １．４０−１．２０  （ｍ，  ３  Ｈ），  １．２１−１．２６  （ｍ，  １Ｈ），  １．１８  （ｄ，  Ｊ＝６．７８  Ｈｚ，  ３Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０４  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．８２  （ｓ，  ３Ｈ）．
【０３９３】
化合物Ａ＿００３＿３の調製：ＥＡ（１５ｍＬ）中の化合物Ａ＿００３＿２（１６０ｍｇ，０．４０ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（３０ｍｇ，５％）を加えた。次いで、その反応物を１５ｐｓｉのＨ２圧力下、室温において２時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。次いで、その反応混合物を濾過し、濾液を減圧下で蒸発させることにより、生成物を得た（１５０ｍｇ，９２．８％）。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３２  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６７  （ｓ，  ３  Ｈ），  ２．４８−１．９６  （ｍ，  ７Ｈ），  １．９０−１．６２  （ｍ，  ５Ｈ），  １．６０  −１．５５  （ｍ，  ７Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０３−０．９９  （ｍ，  ３  Ｈ），  ０．９５−０．９３  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．７０−０．６６  （ｍ，  ２  Ｈ）。
【０３９４】
化合物ＳＴ−２００−Ａ−００３の調製：Ｎ２保護下の乾燥ＴＨＦ（１ｍＬ）中の化合物Ａ＿００３＿２（１００ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、−７８℃のＭｅＬｉ（１．５６ｍＬ，２．５０ｍｍｏｌ，ＴＨＦ中１．６Ｍ）を滴下し、その混合物をこの温度で３０分間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、反応が完了したことを示した。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５ｍＬ）でクエンチし、ＥＡで抽出した（５ｍＬ×２）。合わせた有機層を減圧下で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをＰＥ：ＥＡ（１０：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物（４５ｍｇ，４５％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１２  Ｈｚ，  １  Ｈ），  ２．０２−１．９８  （ｍ，  ３  Ｈ），  １．９２−１．６６  （ｍ，  ３  Ｈ），  １．６１−１．５６  （ｍ，  ２  Ｈ），  １．５５−１．５４  （ｍ，  ２Ｈ），  １．５３−１．２３  （ｍ，  １１  Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ６Ｈ），  １．１０  （ｓ，  ３  Ｈ），  １．０５  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０２  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．９５−０．９０  （ｍ，  ３  Ｈ），  ０．６８  （ｓ，  ３  Ｈ）。
実施例３．化合物ＳＴ−２００−Ａ−００７の調製
【化１７１】
2016514967.tif 000172
【０３９５】
化合物ＩＮＴ  Ｅの調製：氷浴における９−ＢＢＮ（ＴＨＦ中０．５Ｍ，１３３ｍＬ，６６．６ｍｍｏｌ，１０．０ｅｑ）の溶液に、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のＡ＿００１＿１（２．０ｇ，６．６６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液を滴下した。その反応混合物を６０℃に加熱し、２０時間撹拌した。その混合物を０℃に冷却し、１０％ＮａＯＨ水溶液（２０ｍＬ）に続いて３０％Ｈ２Ｏ２水溶液（３０％，１０ｍＬ）を加えた。その混合物を０℃において２時間撹拌し、次いで、ＥＡで抽出した（３０ｍＬ×３）。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをＰＥ／ＥＡ（１０／１）によって溶出されるフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ＩＮＴ  Ｅ（１．０ｇ，４７％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７５−３．７１  （ｄｄ，  Ｊ１＝１０．４Ｈｚ，  Ｊ２＝６．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５８−３．５３  （ｄｄ，  Ｊ１＝１０．４Ｈｚ，  Ｊ２＝７．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４３−２．４１  （ｄ，  Ｊ＝１０．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．０２−１．９６  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９１  −１．７５  （ｍ，  ３Ｈ），  １．７２−１．４４  （ｍ，  １０Ｈ），  １．３３−１．２０  （ｍ，  ５Ｈ），  １．１８  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０６  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０４−０．９９  （ｍ，  １Ｈ），  ０．６７  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０３９６】
化合物ＩＮＴ  Ｂの調製：氷浴におけるＤＣＭ（１０ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｅ（１００ｍｇ，０．３１４ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（２６５ｍｇ，０．６２８ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）を加えた。その反応混合物を室温まで温め、２時間撹拌した。その混合物を、水（２０ｍＬ）中の、ＮａＳ２Ｏ３（４．５ｇ）およびＮａＨＣＯ３（１．５ｇ）の溶液に注ぎ込み、ＥＡで抽出した（２０ｍＬ×３）。合わせた有機層をブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物（１００ｍｇ，１００％）を得て、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。
【０３９７】
化合物Ａ＿００７＿１の調製：トルエン（１０ｍＬ）中の、ＩＮＴ  Ｂ（１００ｍｇ，０．３１６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）とＰｈ３Ｐ＝ＣＨＣＯＯＣＨ３（６３４ｍｇ，１．８９ｍｍｏｌ，６．０ｅｑ）との混合物を、８０℃において３時間撹拌し、次いで、真空中で濃縮した。残渣をＰＥ／ＥＡ（１２／１）によって溶出されるフラッシュカラムクロマトグラフィーで精製することにより、生成物Ａ＿００７＿１（６５ｍｇ，５５．２％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ６．９９−６．９３  （ｄｄ，  Ｊ１＝１６  Ｈｚ，  Ｊ２＝８．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．８２−５．７７  （ｄｄ，  Ｊ１＝１５．６  Ｈｚ，  Ｊ２＝１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７３  （ｓ，  ３Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．１４−２．１１  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０５−１．９９  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９８−１．４１  （ｍ，  １５Ｈ），  １．２９−１．２４  （ｍ，  ２Ｈ），  １．１２−１．１４  （ｍ，  １Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０６  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０２−０．９５  （ｍ，  １Ｈ），  ０．６６  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０３９８】
化合物Ａ＿００７＿２の調製：ＥＡ（５ｍＬ）中の、化合物Ａ＿００７＿１（６５ｍｇ，０．１７４ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）とＰｄ／Ｃ（５％，２０ｍｇ）との混合物を、Ｈ２（１気圧）下、室温において２時間撹拌した。その混合物を濾過し、濾液を真空中で濃縮することにより、生成物Ａ＿００７＿２を得て（６５ｍｇ，１００％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。
【０３９９】
化合物ＳＴ−２００−Ａ−００７の調製：−７８℃のＴＨＦ（２ｍＬ）中のＡ＿００７＿２（６５ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＣＨ３Ｌｉ（ＴＨＦ中１．６Ｍ，１ｍＬ，１．７ｍｍｏｌ，１０．０ｅｑ）を窒素下で滴下した。その反応混合物を室温まで温め、１時間撹拌した。その混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（１０ｍＬ）でクエンチし、次いで、ＥＡで抽出した（５ｍＬ×２）。合わせた有機層をブライン（５ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＰＥ／ＥＡ＝８／１）によって精製することにより、ＳＴ−２００−Ａ−００７（２７ｍｇ，４１％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１５．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．０２−１．９６  （ｍ，  ２Ｈ），  １．８６  −１．３８  （ｍ，  １４Ｈ），  １．２５−１．１４  （ｍ，  ４Ｈ），  １．２１  （ｓ，  ６Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０９−１．０５  （ｍ，  ２Ｈ）  １．０２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０１−０．９４  （ｍ，  ３Ｈ），  ０．６１  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４００】
実施例４．化合物ＳＴ−２００−Ａ−０１１の調製
【化１７２】
2016514967.tif 000173
化合物ＩＮＴ  Ｄの調製：ＭｅＯＨ（３０ｍＬ）およびＴＨＦ（１５ｍＬ）中のＩＮＴ  Ａ（２．００ｇ，６．５８ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＣｅＣｌ３．７Ｈ２Ｏ（２．４５ｇ，６．５８ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）を加えた。その反応混合物を室温において１０分間撹拌した。次いで、ＮａＢＨ４（０．５０ｇ，１３．１６ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）をゆっくり加え、得られた混合物を室温において３０分間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、反応が完了したことを示した。その反応混合物を、ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５０ｍＬ）を加えることによってクエンチし、ＥＡで抽出した（５０ｍＬ×２）。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、蒸発乾固させることにより、所望の生成物（１．８４ｇ，９１％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：    （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６５  （ｔ，  Ｊ＝８．６  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４３  （ｄ，  Ｊ＝１３．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．０９−１．９７  （ｍ，  ３Ｈ），  １．９７−１．６８  （ｍ，  ３Ｈ），  １．６４−１．３８  （ｍ，  ５Ｈ），  １．３１−１．２０  （ｍ，  ２Ｈ），  １．１９−１．１６  （ｍ，  １Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１１−１．０４  （ｍ，  １Ｈ），  １．０３  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０１−０．９３  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．８８−０．８４  （ｍ，  １Ｈ），  ０．７６  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０１】
化合物Ａ＿０１１＿１の調製：ＤＣＭ（１０ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｄ（５００ｍｇ，１．６３ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、プロピオル酸メチル（３２５ｍｇ，３．３０ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）およびＮＭＭ（２８７ｍｇ，３．３０ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）を順に加えた。その反応混合物を室温において２日間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、反応が完了したことを示した。その反応混合物をＮａＨＣＯ３飽和水溶液（２０ｍＬ）およびブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、蒸発乾固させることにより、粗生成物を得た。残渣を、ＰＥ：ＥＡ（１５：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、所望の生成物（２７４ｍｇ，４３％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：    （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ７．５４  （ｄ，  Ｊ＝１２．８  Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．  ２９  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．２４  （ｄ，  Ｊ＝１２．８  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８８  （ｔ，  Ｊ＝８．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６８  （ｓ，  ３Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１３．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．１９−２．０９  （ｍ，  １Ｈ），  ２．００−１．８９  （ｍ，  ２Ｈ），  １．８８−１．８４  （ｍ，  １Ｈ），  １．８０−１．７０  （ｍ，  ２Ｈ），  １．６２−１．５０  （ｍ，  ５Ｈ），  １．４９−１．４１  （ｍ，  ２Ｈ），  １．３９−１．２９  （ｍ，  １Ｈ），  １．１９−１．１０  （ｍ，  ２Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．００−０．９１  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．７９  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０２】
化合物Ａ＿０１１＿２の調製：ＥＡ（５ｍＬ）中の化合物Ａ＿０１１＿１（５０ｍｇ，０．１２８ｍｍｏｌ）の溶液に、５％Ｐｄ／Ｃ（５０％，２５ｍｇ）をアルゴン下で加えた。その懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で数回パージした。その混合物をＨ２バルーン下、室温において４時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。次いで、その懸濁液をセライトパッドで濾過し、そのパッドをＥＡで洗浄した（５ｍＬ×３）。合わせた濾液を濃縮乾固させることにより、生成物（４８ｍｇ，９６％）を白色固体として得て、それを精製することなく、次の工程で直接使用した。１Ｈ  ＮＭＲ：    （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７７−３．６９  （ｍ，  ２Ｈ），  ３．６６  （ｓ，  ３Ｈ），  ３．３２  （ｔ，  Ｊ＝８．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．５６  （ｔ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．００−１．８９  （ｍ，  ４Ｈ），  １．８１−１．６７  （ｍ，  ２Ｈ），  １．５７−１．４４  （ｍ，  ６Ｈ），  １．４３−１．３２  （ｍ，  １Ｈ），  １．３０−１．１３  （ｍ，  ４Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０２  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９９−０．９１  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．７４  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０３】
化合物ＳＴ−２００−Ａ−０１１の調製：無水ＴＨＦ（５ｍＬ）中の化合物Ａ＿０１１＿２（６０ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＭｅＬｉ（１ｍＬ，１．６０ｍｍｏｌ，１０．０ｅｑ，Ｅｔ２Ｏ中１．６Ｍ）をＮ２下、−７８℃において滴下した。その反応混合物を−７８℃において３０分間撹拌し、次いで、さらに３０分間室温まで温めた。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５ｍＬ）でクエンチした。得られた溶液をＥＡで抽出した（５ｍＬ×３）。合わせた有機層をブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、ＰＥ：ＥＡ（１０：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、目標の生成物（２５ｍｇ，４２％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：    （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．２９  （ｄ，  Ｊ＝４．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８０−３．６２  （ｍ，  ２Ｈ），  ３．２７  （ｔ，  Ｊ＝８．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．３９  （ｄ，  Ｊ＝１３．２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．０５−１．８６  （ｍ，  ４Ｈ），  １．７６−１．６４  （ｍ，  ３Ｈ），  １．５９−１．３７  （ｍ，  ８Ｈ），  １．２７−１．２０  （ｍ，  １Ｈ），  １．１９  （ｓ，  ６Ｈ），  １．１２−１．０８  （ｍ，  ２Ｈ），  １．０７  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９９  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９８−０．８９  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．７２  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０４】
実施例５．化合物ＳＴ−２００−Ａ−０１３の調製
【化１７３】
2016514967.tif 000174
ＤＭＳＯ（１ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｅ（１５０ｍｇ，０．４７１ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＫＯＨ（５３ｍｇ，０．９４２ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）および２，２−ジメチルオキシラン（３４０ｍｇ，４．７１７ｍｍｏｌ，１０．０ｅｑ）を加えた。その反応混合物を５０℃において１６時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物を室温に冷却し、酢酸エチル（２０ｍＬ）で希釈し、ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（１０ｍＬ×２）および水（１０ｍＬ×２）で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをカラムクロマトグラフィーに続いてｐｒｅｐ−ＨＰＬＣ精製によって精製することにより、純粋な生成物ＳＴ−２００−Ａ−０１３を得た（１４ｍｇ，８％）。１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５７−３．４８  （ｍ，  １Ｈ），  ３．３８−３．３５  （ｍ，  １Ｈ），  ３．２０  （ｓ，  ２Ｈ），  ２．４２−２．４０  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０３−１．８５  （ｍ，  ３Ｈ），  １．７６  （ｍ，  ４Ｈ），  １．５５−１．４３  （ｍ，  ４Ｈ），  １．２５  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２８−１．２５  （ｍ，  ６Ｈ），  １．１７−１．１３  （ｍ，  ２Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０６−０．９６  （ｍ，  ５Ｈ），  ０．９２−０．７９  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．６５  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０５】
実施例６．化合物ＳＴ−２００−Ａ−０１７の調製
【化１７４】
2016514967.tif 000175
ＤＭＳＯ（３ｍＬ）中の、化合物ＩＮＴ  Ｄ（１５０ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）および２，２−ジメチルオキシラン（１．５ｇ，２０．８ｍｏｌ，４２．０ｅｑ）の溶液に、ＫＯＨ（５６ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）を加え、次いで、その反応混合物を６０℃において５時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、反応が完了したことを示唆した。その溶液を室温に冷却し、水（１０ｍＬ）で希釈し、ＥＡで抽出した（５ｍＬ×２）。合わせた有機層を減圧下で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをｐｒｅ−ＨＰＬＣによって精製することにより、生成物（６．６ｍｇ，３．５％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３３  （ｔ，  Ｊ＝８．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．２９−３．２２  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．４０−２．５０  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．０５−１．８５  （ｍ，  ４Ｈ），  １．８２−１．６５  （ｍ，  ２Ｈ），  １．６０−１．３５  （ｍ，  ９Ｈ），  １．３４−  １．２２  （ｍ，  １Ｈ），  １．２０−１．１５  （ｍ，  ６Ｈ），  １．１４−１．１１  （ｍ，  １Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０５  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９０−１．００  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．７９  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０６】
実施例７．化合物ＳＴ−２００−Ａ−０２１の調製
【化１７５】
2016514967.tif 000176
ＴＨＦ／Ｈ２Ｏ（４ｍＬ，１／１）中の化合物Ａ＿００１＿３（１５０ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＬｉＯＨ（９０ｍｇ，２．２０ｍｍｏｌ，５．６ｅｑ）を加えた。その反応物を室温において一晩撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、化合物Ａ＿００１＿３が完全に消費されたことを示した。その混合物を水（３ｍＬ）で希釈し、ＭＴＢＥで洗浄し（５ｍＬ×２）、次いで、１Ｍ  ＨＣｌ水溶液でｐＨ＝４に酸性化した。沈殿物を濾過により回収し、真空中で乾燥させることにより、生成物を得た（５４ｍｇ，３７．３％）。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ２．４３−２．３７  （ｍ，  １Ｈ），  ２．３７−２．３３  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．０５−１．９３  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９０−１．７９  （ｍ，  ２Ｈ），  １．７８−１．６１  （ｍ，  ６Ｈ），  １．６１−１．５０  （ｍ，  ６Ｈ），  １．５０−１．３７  （ｍ，  ３Ｈ），  １．３４−１．１３  （ｍ，  ４  Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０２  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９３−１．０１  （ｍ，  ３Ｈ），  ０．６１  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０７】
実施例８．化合物ＳＴ−２００−Ａ−０２２およびＳＴ−２００−Ａ−０２３の調製
【化１７６】
2016514967.tif 000177
化合物７の調製：トルエン（４５０ｍＬ）中の、ケトン６（１６．７ｇ，５２．７１ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）およびエチレングリコール（２０ｍＬ）の溶液に、ｐ−トルエンスルホン酸（４１８ｍｇ，２．２０ｍｍｏｌ）を加えた。その反応混合物を、ディーン−スタークトラップを用いて一晩、加熱還流した。ＬＣＭＳは、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物を室温に冷却し、酢酸エチル（４００ｍＬ）で希釈し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（２００ｍＬ×２）およびブライン（２００ｍＬ×２）で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物７を得て（１９．０ｇ，１００％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３４  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．００−３．８５  （ｍ，  ４Ｈ），  ３．５３−３．５１  （ｍ，  １Ｈ），  ２．２８−２．２２（ｍ，  ２Ｈ），  ２．１２−２．００  （ｍ，  １Ｈ），  １．９９−１．９５  （ｍ，  １Ｈ），  １．８６−１．７３  （ｍ，  ５Ｈ），  １．７１−１．４４  （ｍ，  ８Ｈ），  １．２９  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０８  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０７  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０６−０．９２  （ｍ，  １Ｈ），  ０．７７  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０８】
化合物８の調製：乾燥ＣＨ２Ｃｌ２（７００ｍＬ）中の化合物７（１９．０ｇ，５２．７１ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ（４５．０ｇ，１０５．４２ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）を数回に分けて０℃において加えた。次いで、その反応混合物を室温において３時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物をＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３の飽和水溶液（１Ｌ，１／３）でクエンチした。有機相をブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で蒸発させることにより、粗生成物８を得て（１９．０ｇ，１００％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。１Ｈ  ＮＭＲ：    （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３３  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．０１−３．８５  （ｍ，  ４Ｈ），  ３．３４−３．２１  （ｍ，  １Ｈ），  ２．８２  （ｄｄ，  Ｊ＝１６．３１，  ２．０１  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．５９−２．４０  （ｍ，  １Ｈ），  ２．３７−２．２５  （ｍ，  １Ｈ），  ２．１３−１．９５  （ｍ，  ５Ｈ），  １．８７−１．４１  （ｍ，  １３Ｈ），  １．３０  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２１−１．１５  （ｍ，  ５Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４０９】
化合物９の調製：ＭＡＤ（１５８ｍＬ，１５８ｍｍｏｌ，３．０ｅｑ，トルエン中１Ｍ，ＳＴ−２００−Ａ−００１の合成に記載されたような方法によって調製されたもの）の溶液に、トルエン中の化合物８（１９．０ｇ，５２．７１ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液を窒素下、−７８℃において加えた。次いで、その反応混合物をこの温度で３０分間撹拌した。ＭｅＭｇＢｒ（５３ｍＬ，１５９ｍｍｏｌ，３．０ｅｑ，Ｅｔ２Ｏ中３Ｍ）の溶液を−７８℃において滴下した。その反応混合物を−４０℃まで温め、この温度で３時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（３００ｍＬ）に注ぎ込み、ＥＡで抽出した（１５０ｍＬ×２）。合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で蒸発させることにより、粗生成物を得た。その粗生成物をＰＥ：ＥＡ（１５：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物（７．７０ｇ，３９％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：    （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３１  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．０１−３．８５  （ｍ，  ４Ｈ），  ２．４２  （ｄ，  Ｊ＝１２  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．０４−１．９６  （ｍ，  １Ｈ），  １．９６−１．９５  （ｍ，  ２Ｈ），  １．８５−１．６６  （ｍ，  ５Ｈ），  １．６６−１．６１  （ｍ，  ２Ｈ），  １．６１  −１．３６  （ｍ，  ７Ｈ），  １．３３  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２６−１．１３  （ｍ，  ３Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０５  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．９１−１．００  （ｍ，  ２  Ｈ），  ０．８０  （ｓ，  ３  Ｈ）。
【０４１０】
化合物ＩＮＴ  Ｃの調製：ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の化合物９（２．７ｇ，７．２１ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＨＣｌ水溶液（１０ｍＬ，１Ｍ）およびアセトン（１０ｍＬ）を加えた。その反応混合物を室温において一晩撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、反応が完了したことを示唆した。次いで、その反応混合物をＥＡ（５０ｍＬ）で希釈し、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液で洗浄し（５０ｍＬ×２）、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で蒸発させることにより、生成物（２．１０ｇ，８８．２％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：    （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ５．３１  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ２．５５−２．５０  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４０  （ｄ，  Ｊ＝１２Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．２０  −２．１９  （ｍ，  １Ｈ），  ２．１５−２．１０  （ｍ，  ３Ｈ），  ２．０８−１．９４  （ｍ，  ３Ｈ），  １．８３−１．７６  （ｍ，  １Ｈ），  １．７４  −１．６５  （ｍ，  ３Ｈ），  １．６２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．６１−１．３９  （ｍ，  ７Ｈ），  １．３０−１．１３  （ｍ，  ４Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．６１−０．６５  （ｍ，  ３Ｈ）。
【０４１１】
化合物Ａ＿０２２＿１の調製：ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）およびＴＨＦ（５ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｃ（７００ｍｇ，２．１ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＮａＢＨ４（１６０ｍｇ，４．２ｍｍｏｌ，２．０ｆｅｑ）を５回に分けて加えた。その反応混合物を室温において１時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５０ｍＬ）でクエンチし、ＥＡで抽出した（２０ｍＬ×２）。合わせた有機層を水（２０ｍＬ）およびブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、所望の生成物Ａ＿０２２＿１を得た（６００ｍｇ，８６％）。
【０４１２】
化合物ＳＴ−２００−Ａ−０２２およびＳＴ−２００−Ａ−０２３の調製：ＤＣＭ（１５ｍＬ）中のＡ＿０２２＿１（５７０ｍｍｏｌ，１．７１７ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＴＥＡ（８６７ｍｇ，８．５８５ｍｍｏｌ，５．０ｅｑ）およびＤＭＡＰ（６３ｍｇ，０．５１５ｍｍｏｌ，０．３ｅｑ）を加えた。次いで、ＢｚＣｌ（９６１ｍｇ，６．８６７ｍｍｏｌ，４．０ｅｑ）を滴下した。得られた混合物を室温において１６時間撹拌し、次いで、１Ｍ  ＨＣｌ水溶液を加えることによって、中和した。水層を分離し、ＤＣＭで抽出した（１０ｍＬ×３）。合わせた有機層をＮａＨＣＯ３飽和水溶液（１０ｍＬ）およびブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、ＰＥ：ＥＡ（１５：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物（３６０ｍｇ，４６．６％）を白色（ｗｒｉｔｅ）固体として得て、それをＳＦＣ分離に適用することにより、目標のＳＴ−２００−Ａ−０２２（１００ｍｇ）およびＳＴ−２００−Ａ−０２３（７０ｍｇ）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（ＳＴ−２００−Ａ−０２２）：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ８．０６  （ｄ，  Ｊ＝７．２  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ７．６１−７．５０  （ｍ，  １Ｈ），  ７．４９−７．４０  （ｍ，  ２Ｈ），  ５．３０  （ｄ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．１９−５．０８  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４０  （ｄ，  Ｊ＝１２Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．０３−１．８６  （ｍ，  ３Ｈ），  １．８５−１．６４  （ｍ，  ５Ｈ），  １．５８−１．３０  （ｍ，  ７Ｈ），  １．２７  （ｄ，  Ｊ＝６．０  Ｈｚ，  ３Ｈ），  １．２３−１．０６  （ｍ，  ６Ｈ），  １．０１−０．８３  （ｍ，  ５Ｈ），  ０．６８  （ｓ，  ３Ｈ）．    １Ｈ  ＮＭＲ（ＳＴ−２００−Ａ−０２３）：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ８．０１  （ｄ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ７．５８−７．５０  （ｍ，  １Ｈ），  ７．４７−７．３９  （ｍ，  ２Ｈ），  ５．３１  （ｄ，  Ｊ＝６．０  Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．２４−５．１４  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４３  （ｄ，  Ｊ＝１３．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．０５−１．８７  （ｍ，  ４Ｈ），  １．８２−１．６１  （ｍ，  ５Ｈ），  １．５５−１．３８  （ｍ，  ４Ｈ），  １．３６  （ｄ，  Ｊ＝６．０  Ｈｚ，  ３Ｈ），  １．２９−１．１４  （ｍ，  ４Ｈ），  １．１２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０４−０．９５  （ｍ，  ４Ｈ），  ０．７４  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４１３】
実施例９．化合物ＳＴ−２００−Ｃ−００１の調製
【化１７７】
2016514967.tif 000178
エタノール（１０ｍＬ）中の化合物ＳＴ−２００−Ａ−００１（６５ｍｇ，０．１６７ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（１０％，１５ｍｇ）をＮ２下で加えた。その懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で数回パージした。次いで、その混合物を５０ｐｓｉの水素圧力下、６０℃において２４時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ：ＥＡ＝３：１）は、反応が完了したことを示した。その懸濁液をセライトパッドで濾過し、そのパッドをエタノールで洗浄した（５ｍＬ×２）。合わせた濾液を濃縮乾固させることにより、粗生成物を得て、それをＰＥ：ＥＡ（１０：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物（２８ｍｇ，４３％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  １．９０−１．８７  （ｍ，  １Ｈ），  １．７５−１．６０  （ｍ，  ４Ｈ），  １．８２−１．６５  （ｍ，  ２Ｈ），  １．５５−１．３０  （ｍ，  １２Ｈ），  １．２７−１．２３  （ｍ，  ６Ｈ），  １．２２  （ｓ，  ６Ｈ），  １．１８−０．９５  （ｍ，  ８Ｈ），  ０．８２  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７２  −０．６５  （ｍ，  １Ｈ），  ０．５５  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４１４】
実施例１０．化合物ＳＴ−２００−Ｃ−００３およびＳＴ−２００−Ｃ−００３Ａの調製
【化１７８】
2016514967.tif 000179
ＥｔＯＨ（３０ｍＬ）中の化合物ＳＴ−２００−Ａ−００３（４０．０ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（１０ｍｇ）を加えた。その混合物を５０ｐｓｉの水素圧力下、６０℃において一晩撹拌した。１Ｈ  ＮＭＲは、反応が完了したことを示唆した。次いで、その混合物をセライトパッドで濾過し、濾液を減圧下で蒸発させた。残渣を、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＰＥ：ＥＡ＝２：１）によって精製することにより、純粋な生成物ＳＴ−２００−Ｃ−００３（１２．０ｍｇ，２９．８％）およびＳＴ−２００−Ｃ−００３Ａ（０．８ｍｇ，２．３  ％）を白色粉末として得た。１Ｈ  ＮＭＲ  （ＳＴ−２００−Ｃ−００３）：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  １．９７−１．８３  （ｍ，  ２Ｈ），  １．６５−１．５５  （ｍ，  ７Ｈ），  １．５５−１．４２  （ｍ，  ４Ｈ），  １．４１−１．２８４１  （ｍ，  ６Ｈ），  １．２７−１．２１  （ｍ，  ５Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ６Ｈ），  １．１６−０．９５  （ｍ，  ７Ｈ），  ０．９２  （ｄ，  Ｊ＝６．２７  Ｈｚ，  ３  Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．６５  （ｓ，  ３  Ｈ）．    １Ｈ  ＮＭＲ  （ＳＴ−２００−Ｃ−００３Ａ）：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  １．９８−１．７９  （ｍ，  ４Ｈ），  １．６４−１．５３  （ｍ，  ６Ｈ），  １．５２  −１．２９  （ｍ，  ７Ｈ），  １．２５−１．２２  （ｍ，  ６Ｈ），  １．２２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０５  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９６  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９１  （ｄ，  Ｊ＝６．５３  Ｈｚ，  ３Ｈ），  ０．８６−０．８０  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．６５  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４１５】
実施例１１．化合物ＳＴ−２００−Ｃ−００７の調製
【化１７９】
2016514967.tif 000180
化合物１０の調製：エタノール（４００ｍＬ）中の、化合物１（２８．０ｇ，０．０９７ｍｏｌ，１．０ｅｑ）とＰｄ／Ｃ（３．５ｇ）との混合物を、４０ｐｓｉの水素圧力下、室温において一晩水素化した。その懸濁液をセライトパッドで濾過し、そのパッドをエタノールで洗浄した（２０ｍＬ×３）。合わせた濾液を濃縮乾固させることにより、生成物（２８．０ｇ，０．０９７ｍｏｌ，１００％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ３．６３−３．５３  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４２  （ｄｄ，  Ｊ＝１９．２，  ８．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．１１−２．０６  （ｍ，  １Ｈ），  １９．６−１．８７  （ｍ，  １Ｈ）  ，  １．８３−１．０９  （ｍ，  １８Ｈ）  ，  １．０４−０．９１  （ｍ，  ２Ｈ）  ，  ０．８５  （ｓ，  ３Ｈ）  ，  ０．８２  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４１６】
化合物１１の調製：トルエン（３００ｍＬ）中の、化合物１０（２８．０ｇ，０．０９７ｍｏｌ，１．０ｅｑ）およびエチレングリコール（３０ｍＬ）の溶液に、ｐ−トルエンスルホン酸（０．７ｇ，３．６４ｍｍｏｌ）を加えた。その反応混合物を、ディーン−スタークトラップを用いて一晩加熱還流した。ＬＣＭＳは、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物を室温に冷却し、酢酸エチル（２５０ｍＬ）で希釈し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（１００ｍＬ×２）およびブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物１１を得て（３０．０ｇ，０．０９０ｍｏｌ，９３％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ４．０２−３．７８  （ｍ，  ４Ｈ），  ３．６８−３．４８  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０４−１．９２  （ｍ，  １Ｈ），  １．８０−１．５４  （ｍ，  ８Ｈ），  １．４６  −１．３２  （ｍ，  ５Ｈ），  １．３１−１．１９（ｍ，  ５Ｈ），  １．１４−１．０５  （ｍ，  １Ｈ），  １．０２−０．８６  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．８３  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．８０  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．７２−０．６１  （ｍ，  １  Ｈ）。
【０４１７】
化合物１２の調製：乾燥ＤＣＭ（３００ｍＬ）中の化合物１１（３０．０ｇ，０．０９０ｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ酸化体（７６．０ｇ，０．１８０ｍｏｌ，２．０ｅｑ）を０℃において加えた。その反応混合物を０℃において３０分間、次いで、室温において２時間撹拌した。ＬＣＭＳは、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物を、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２ＳＯ３の混合水溶液（２００ｍＬ，１／３）でクエンチし、次いで、ＤＣＭ（２５０ｍＬ）で希釈した。有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（１００ｍＬ×２）およびブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物１２を得て（２４．０ｇ，０．０７２ｍｏｌ，８０％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。
【０４１８】
化合物１３の調製：乾燥トルエン（３００ｍＬ）中のＭＡＤ（２．１６ｍｏｌ，３．０ｅｑ，ＳＴ−２００−Ａ−００１の合成に記載されたような方法によって調製されたもの）の溶液に、化合物１２（２４．０ｇ，０．０７２ｍｏｌ，１．０ｅｑ）を−７８℃において滴下し、その混合物を、窒素下、−７８℃において３０分間撹拌した。次いで、ＭｅＭｇＢｒ（７２ｍＬ，２．１６ｍｏｌ，３．０ｅｑ，エーテル中３Ｍ）を−７８℃において滴下し、得られた混合物を同じ温度において２時間撹拌した。ＬＣＭＳは、出発物質が完全に消費されたことを示した。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ４飽和水溶液（４００ｍＬ）に注ぎ込み、ＥＡで抽出した（ｅｘａｃｔｅｄ）（３００ｍＬ×２）。合わせた有機層をブラインで洗浄し（２００ｍＬ×２）、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、ＰＥ：ＥＡ（１５：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物１３（１６．０ｇ，０．０４６ｍｏｌ，７２％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ３．９５−３．８８  （ｍ，  ２  Ｈ），  ３．８７−３．８２  （ｍ，  ２  Ｈ），  ２．０２−１．９２  （ｍ，  １  Ｈ）  ，  １．８４−１．７３  （ｍ，  １  Ｈ），  １．７１−１．５０  （ｍ，  ９  Ｈ），  １．５０−１．４３  （ｍ，  １  Ｈ）  ，１．４２−１．３３  （ｍ，  ４  Ｈ），  １．３３−１．２８  （ｍ  １  Ｈ），  １．２７−１．１９  （ｍ，  ７  Ｈ）  ，１．０８−０．８８  （ｍ，  ２  Ｈ）  ，  ０．８３  （ｓ，  ３  Ｈ）  ，０．８１  （ｓ，  ３  Ｈ）。
【０４１９】
化合物ＩＮＴ  Ｇの調製：１Ｍ  ＨＣｌ水溶液（６０ｍＬ）、アセトン（６０ｍＬ）およびＴＨＦ（３５０ｍｍＬ）中の化合物１３（１６．０ｇ，４６．０ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の混合物を、室温において一晩撹拌し、次いで、水（２００ｍＬ）で希釈し、ＣＯ２が放出されなくなるまで、固体ＮａＨＣＯ３で中和した。その混合物をＥＡで抽出した（３００ｍＬ×２）。合わせた有機層を、ブラインで洗浄し（２００ｍＬ×２）、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、生成物ＩＮＴ  Ｇ（１４．０ｇ，４６．０ｍｍｏｌ，１００％）を白色固体として得た。
１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ２．４４  （ｄｄ，  Ｊ＝１９．２０，  ８．４１  Ｈｚ，  １  Ｈ），  ２．１３−２．０１  （ｍ，  １  Ｈ）  ，１．９８−１．８９  （ｍ，  １  Ｈ）  ，  １．８５−１．７６  （ｍ，  ２  Ｈ），  １．６９−１．６０  （ｍ，  ３  Ｈ），  １．５９−１．４２  （ｍ，  ５  Ｈ）  ，１．３３−１．１３  （ｍ，  １０  Ｈ），  １．０８−０．９４  （ｍ，  ２  Ｈ），  ０．８６  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．８４  （ｓ，  ３  Ｈ），  ０．６８−０．７７  （ｍ，  １  Ｈ）。
【０４２０】
化合物１４の調製：ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のＰＰｈ３ＣＨ３Ｂｒ（１．４ｇ，３．９４ｍｍｏｌ，５．０ｅｑ）の溶液に、ＴＨＦ（５ｍＬ）中のｔ−ＢｕＯＫ（４４２ｍｇ，３．９４ｍｍｏｌ，５．０ｅｑ）の溶液を室温において加えた。１時間撹拌した後、ＴＨＦ（５ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｇ（０．２ｇ，０．６５７ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液を滴下した。その反応混合物を３時間還流し、次いで、室温に冷却し、ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５０ｍＬ）でクエンチし、ＥＡで抽出した（２０ｍＬ×２）。合わせた有機層をブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＰＥ／ＥＡ＝１５／１）によって精製することにより、化合物１４（１８０ｍｇ，９０％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ４．６２  （ｄ，  Ｊ＝６．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ２．５１−２．４４  （ｍ，  １Ｈ），  ２．２４−２．２２  （ｍ，  １Ｈ），  １．８２−１．７８  （ｍ，  １Ｈ），  １．７５−１．３０  （ｍ，  ９Ｈ），  １．２９−１．１１  （ｍ，  １１Ｈ），  １．０３−０．９５  （ｍ，  ３Ｈ），  ０．８３  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７７  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７２−０．６８  （ｍ，  １Ｈ）。
【０４２１】
化合物ＩＮＴ  Ｉの調製：氷浴における９−ＢＢＮ（ＴＨＦ中０．５Ｍ，５０ｍＬ，２５．００ｍｍｏｌ，８．０ｅｑ）の溶液に、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の化合物１４（０．９５ｇ，３．１４ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液を滴下した。その反応混合物を６０℃に加熱し、２０時間撹拌した。その混合物を０℃に冷却し、１０％ＮａＯＨ水溶液（２０ｍＬ）に続いて３０％Ｈ２Ｏ２水溶液（１０ｍＬ）を加えた。得られた混合物を０℃において２時間撹拌し、次いで、ＥＡで抽出した（１０ｍＬ×２）。合わせた有機層をブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＰＥ／ＥＡ＝１０／１）によって精製することにより、ＩＮＴ  Ｉ（０．６３ｇ，６３％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ３．７４−３．６９  （ｄｄ，  Ｊ１＝１０．４Ｈｚ，  Ｊ２＝６．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５６−３．５２  （ｄｄ，  Ｊ１＝１０．４Ｈｚ，  Ｊ２＝７．６Ｈｚ，  １Ｈ），  １．８６−１．８０  （ｍ，  ２Ｈ），  １．６９−１．４４  （ｍ，  １１Ｈ），  １．４１−１．２６  （ｍ，  ４Ｈ），  １．２５−１．２１  （ｍ，  ５Ｈ），  １．１９−０．９９  （ｍ，  ５Ｈ），  ０．９３−０．９１  （ｍ，  ５Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７４−０．６８  （ｍ，  １Ｈ），  ０．６４  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４２２】
化合物ＩＮＴ  Ｊの調製：氷浴におけるＤＣＭ（２０ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｉ（５００ｍｇ，１．５６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（１．３ｇ，３．１２ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）を加えた。その反応混合物を室温まで温め、２時間撹拌した。その混合物を、水（２０ｍＬ）中のＮａＳ２Ｏ３（５ｇ）およびＮａＨＣＯ３（１．５ｇ）の溶液に注ぎ込み、ＥＡで抽出した（２０ｍＬ×２）。合わせた有機層をブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物を得て（５００ｍｇ，１００％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。
【０４２３】
化合物Ｃ＿００７＿１の調製：トルエン（３０ｍＬ）中の、ＩＮＴ  Ｊ（５００ｍｇ，１．５７ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）とＰｈ３Ｐ＝ＣＨＣＯＯＣＨ３（３．１ｇ，８．２７ｍｍｏｌ，６．０ｅｑ）との混合物を８０℃において３時間撹拌した。その混合物を真空中で濃縮し、残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＰＥ／ＥＡ＝１２／１）によって精製することにより、生成物Ｃ＿００７＿１（１８８ｍｇ，３２％）を白色固体として得た。
【０４２４】
化合物Ｃ＿００７＿２の調製：ＥＡ（１０ｍＬ）中の、化合物Ｃ＿００７＿１（１８８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）とＰｄ／Ｃ（５％，６０ｍｇ）との混合物を、Ｈ２（１気圧）下、室温において２時間撹拌した。その混合物を濾過し、濾液を真空中で濃縮することにより、生成物Ｃ＿００７＿２を得て（１８９ｍｇ，１００％）、それをさらに精製することなく、次の工程で直接使用した。
【０４２５】
化合物ＳＴ−２００−Ｃ−００７の調製：−７８℃のＴＨＦ（２ｍＬ）中の化合物Ｃ＿００７＿２（１００ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＣＨ３Ｌｉ（ＴＨＦ中１．６Ｍ，１．６ｍＬ，２．６ｍｍｏｌ，１０．０ｅｑ）を窒素下で滴下した。その反応混合物を室温まで温め、１時間撹拌した。ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（１０ｍＬ）を加えることにより、その反応をクエンチし、その混合物をＥＡで抽出した（１０ｍＬ×２）。合わせた有機層をブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＰＥ／ＥＡ＝８／１）によって精製することにより、目標のＳＴ−２００−Ｃ−００７（３２．７ｍｇ，３２．７％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  １．８２−１．８１  （ｍ，  １Ｈ），  １．７５−１．５７  （ｍ，  ７Ｈ），  １．５６−１．２６  （ｍ，  １０Ｈ），  １．２４  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ６Ｈ），  １．１８−０．８３  （ｍ，  １０Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７１−０．６６  （ｍ，  １Ｈ），  ０．５８  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４２６】
実施例１２．化合物ＳＴ−２００−Ｃ−０１１の調製
【化１８０】
2016514967.tif 000181
化合物ＩＮＴ  Ｈの調製：ＭｅＯＨ（２０ｍＬ）およびＴＨＦ（８ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｇ（１．００ｇ，３．２８ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＣｅＣｌ３．７Ｈ２Ｏ（１．２２ｇ，３．２８ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）を加えた。次いで、ＮａＢＨ４（０．２５ｇ，６．５６ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）を５回に分けて加え、その混合物を室温において１時間撹拌した。その反応物スラリーをＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５０ｍＬ）でクエンチし、ＥＡで抽出した（２０ｍＬ×３）。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、所望の生成物（０．９７ｇ，９７％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：    （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ３．６２  （ｔ，  Ｊ＝８．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．１０−２．０４  （ｍ，  １Ｈ），  １．７９−１．７７  （ｍ，  １Ｈ），  １．７０−１．３５  （ｍ，  １３Ｈ），  １．３１−１．１５  （ｍ，  １１Ｈ），  １．１４−０．８４  （ｍ，  ５Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７２  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７０−０．６１  （ｍ，  １Ｈ）。
【０４２７】
化合物Ｃ＿０１１＿１の調製：ＤＣＭ（２０ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｈ（５００ｍｇ，１．６３ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＮＭＭ（８３０ｍｇ，８．２１ｍｍｏｌ，５．０ｅｑ）およびプロピオル酸メチル（６９０ｍｇ，８．２１ｍｍｏｌ，５．０ｅｑ）を加えた。その混合物を室温において１６時間撹拌し、次いで、水（３０ｍＬ）およびブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、ＰＥ：ＥＡ（１５：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物（５００ｍｇ，７８．６％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ＝  ７．５３  （ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．２４  （ｄ，  Ｊ＝１２．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８６  （ｔ，  Ｊ＝８．４  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６８  （ｓ，  ３Ｈ），  ２．１８−２．０６  （ｍ，  １Ｈ），  １．８４−１．８１  （ｍ，  １Ｈ），  １．７０−０．８５  （ｍ，  ３０Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７８  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７２−０．６４  （ｍ，  １Ｈ）。
【０４２８】
化合物Ｃ＿０１１＿２の調製：ＥＡ（２０ｍＬ）中のＣ＿０１１＿１（５００ｍｇ，１．２８９ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（１０％，５０ｍｇ）を加えた。その懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で数回パージした。その混合物を、３０ｐｓｉの水素圧力下、３０℃において１６時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、その反応が完了したことを示した。その懸濁液をセライトパッドで濾過し、そのパッドをＥＡで洗浄した（２０ｍＬ×５）。合わせた濾液を真空中で濃縮することにより、生成物（４３０ｍｇ，８５．５％）を白色固体として得た。
【０４２９】
化合物ＳＴ−２００−Ｃ−０１１の調製：乾燥ＴＨＦ（１ｍＬ）中のＣ＿０１１＿２（１００ｍｇ，０．２５６ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＭｅＬｉ（１．３ｍＬ，２．０４８ｍｍｏｌ，８．０ｅｑ）を、Ｎ２下、−７８℃において滴下した。得られた混合物をこの温度で０．５時間撹拌し、次いで、その温度を室温まで昇温させ、この温度でさらに１時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝３／１）は、その反応が完了したことを示した。その混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液でクエンチし、ＥＡで抽出した（１０ｍＬ×３）。合わせた有機層をブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、ＰＥ：ＥＡ（１０：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、生成物（３０ｍｇ，３０％）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ３．８６  （ｓ，  １Ｈ），  ３．７８−３．６１  （ｍ，  ２Ｈ），  ３．２９  （ｔ，  Ｊ＝８．３  Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．１０−１．９５  （ｍ，  １Ｈ），  １．９０−１．８１  （ｍ，  １Ｈ），  １．７４  （ｔ，  Ｊ＝５．６  Ｈｚ，  ２Ｈ），  １．６９−１．６１  （ｍ，  ３Ｈ），  １．５５−１．２８  （ｍ，  ９Ｈ），  １．２４−１．２２  （ｍ，  ９Ｈ），  １．２２−０．８３  （ｍ，  ８Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７４  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．６９−０．６２  （ｍ，  １Ｈ）。
【０４３０】
実施例１３．化合物ＳＴ−２００−Ｃ−０１３の調製
【化１８１】
2016514967.tif 000182
ＤＭＳＯ（１ｍＬ）中のＩＮＴ  Ｉ（１５０ｍｇ，０．４６９ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）の溶液に、ＫＯＨ（５３ｍｇ，０．９３７ｍｍｏｌ，２．０ｅｑ）および２，２−ジメチルオキシラン（３３７ｍｇ，４．６８７ｍｍｏｌ，１０．０ｅｑ）を加えた。その反応混合物を５０℃において１６時間撹拌した。ＴＬＣ（ＰＥ／ＥＡ＝１０／１）は、出発物質が完全に消費されたことを示した。その混合物を室温に冷却し、酢酸エチル（２０ｍＬ）で希釈し、ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（１０ｍＬ×２）および水（１０ｍＬ×２）で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮することにより、粗生成物を得て、それをカラムクロマトグラフィーに続いてｐｒｅｐ−ＨＰＬＣによって精製することにより、純粋な生成物ＳＴ−２００−Ｃ−０１３を得た（２６ｍｇ，１５．８％）。１Ｈ  ＮＭＲ：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ３．７２  （ｄｄ，  Ｊ＝７．３，  ９．３  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３５  （ｄｄ，  Ｊ＝６．８，  ９．３  Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．２１  （ｓ，  ２Ｈ），  ２．３４  （ｓ，  １Ｈ），  １．８４−１．８０  （ｍ，  １Ｈ），  １．７９−１．６３  （ｍ，  ５Ｈ），  １．５４−１．２７  （ｍ，  ８Ｈ），  １．２５  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１９  （ｓ，  ６Ｈ），  １．１８−０．８３  （ｍ，  ７Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７４−０．６５  （ｍ，  １Ｈ），  ０．６３  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４３１】
実施例１４．化合物ＳＴ−２００−Ｃ−０１７およびＳＴ−２００−Ｃ−０１７Ａの調製
【化１８２】
2016514967.tif 000183
ＥｔＯＨ（１０ｍＬ）中の、ＳＴ−２００−Ａ−０１７（６０ｍｇ，０．１５９ｍｍｏｌ，１．０ｅｑ）およびＰｄ／Ｃ（１０ｍｇ）の溶液を、５０ｐｓｉの水素圧力下、５０℃において１６時間撹拌した。その反応溶液をセライトパッドで濾過し、濾液を真空中で濃縮した。残渣を、ＰＥ：ＥＡ（２０：１）で溶出されるシリカゲルクロマトグラフィーによって精製することにより、ＳＴ−２００−Ｃ−０１７（２１ｍｇ）およびＳＴ−２００−Ｃ−０１７Ａ（４．６ｍｇ）を白色固体として得た。１Ｈ  ＮＭＲ  （ＳＴ−２００−Ｃ−０１７）：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ３．７３−３．７１  （ｍ，  １Ｈ），  ３．３１  （ｔ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．２７−３．２２  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．４８  （ｓ，  １Ｈ），  ２．０１−１．９１  （ｍ，  １Ｈ），  １．８８−１．８４  （ｍ，  １Ｈ），  １．６８−１．５２  （ｍ，  ４Ｈ），  １．５１−１．４９  （ｍ，  ４Ｈ），  １．４７−１．４２  （ｍ，  １Ｈ），  １．３１  −  １．２４  （ｍ，  ７Ｈ），  １．２０−１．８３  （ｍ，  ６Ｈ），  １．１５−１．１０  （ｍ，  １Ｈ），  １．０３−０．９５  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．９０−０．８５  （ｍ，  １Ｈ），  ０．８１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．６５  （ｓ，３Ｈ），  ０．７０−０．６１  （ｍ，  １Ｈ）．  １Ｈ  ＮＭＲ  （ＳＴ−２００−Ｃ−０１７ａ）：  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ  ３．３３  （ｔ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．２７−３．２２  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．４５  （ｓ，  １Ｈ），  ２．１０−１．９１  （ｍ，  １Ｈ），  １．８９−１．７８  （ｍ，  ３Ｈ），  １．６９−１．６１  （ｍ，  １Ｈ），  １．５８−１．５１  （ｍ，  １Ｈ），  １．５０−１．３０  （ｍ，  ７Ｈ），  １．２９−１．２４  （ｍ，  ５Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２９−１．１０  （ｍ，  ８Ｈ），  １．０９−１．０１  （ｍ，  １Ｈ），  ０．９８  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．７５  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４３２】
実施例１５．化合物３−アルファ−Ａ２および３−ベータ−Ａ２の調製
【化１８３】
2016514967.tif 000184
化合物ＢＢ−２の調製：Ｓｔｅｒｏｉｄｓ（２００６）７１：１８に記載されているように調製された、ＴＨＦ（３５ｍＬ）中のＢＢ−１（１．７５ｇ，４．０６ｍｍｏｌ）の溶液を窒素下において０℃に冷却した。塩化メチルマグネシウム（ＴＨＦ中２２％（ｗ／ｗ），１９．５ｍＬ，５８．１ｍｍｏｌ）を滴下した。０℃での撹拌を１５分間続け、反応混合物を室温まで昇温させ、撹拌を２時間続けた。ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５ｍＬ）をゆっくり加えた。沈殿物が形成され、水（１０ｍＬ）を加えることによってそれを溶解した。ＥｔＯＡｃ（５０ｍＬ）およびブライン（２０ｍＬ）を加えた。層を分離した。水層をＥｔＯＡｃで抽出した（２×５０ｍＬ）。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を真空中で除去した。残渣をジクロロメタン（５０ｍＬ）と同時蒸発させた。ＢＢ−２（１．５４ｇ，３．９５ｍｍｏｌ，９７％）をオフホワイトの固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３２  −  ５．４３  （１Ｈ，  ｍ），  ３．４６  −  ３．６１  （１Ｈ，  ｍ），  １．２０  （３Ｈ，  ｓ），  １．１９  （３Ｈ，  ｓ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ  ＝  ６．６  Ｈｚ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４３３】
化合物ＢＢ−３の調製：オーブンで乾燥させたフラスコにおいて、ジクロロメタン（１９ｍＬ）中の塩化オキサリル（０．６２２ｍＬ，７．２６ｍｍｏｌ）の溶液を窒素下で−７８℃に冷却した。ジメチルスルホキシド（０．６０ｍＬ，８．４７ｍｍｏｌ）をゆっくり加えた。２５分後、ＣＨＣｌ３（３８ｍＬ）中のＢＢ−２（０．４７０ｇ，１．２０９ｍｍｏｌ）の溶液を２５分間にわたって滴下した。その溶液を−７８℃において２．５時間撹拌した。トリエチルアミン（３．３６ｍｌ，２４．１９ｍｍｏｌ）を−７８℃において滴下した。撹拌を１５分間続けた。冷却浴を除去し、撹拌を１０分間続けた。ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（１０ｍＬ）を加え、反応混合物を５分間撹拌した。ジクロロメタン（５０ｍＬ）および水（２０ｍＬ）を加えた。層を分離し、有機層を水（２０ｍＬ）で洗浄した。合わせた水層をブライン（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出した（２×７５ｍＬ）。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を真空中で除去した。フラッシュクロマトグラフィー（ヘプタン，５％〜３０％ＥｔＯＡｃ）によって、ＢＢ−３（２３８ｍｇ，０６１６ｍｍｏｌ，５１％）を白色固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３１  −  ５．３８  （１Ｈ，  ｍ），  ３．２２  −  ３．３４  （１Ｈ，  ｍ），  ２．８３  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ  ＝  １６．４  Ｈｚ，  ２．１  Ｈｚ），  ２．４１  −  ２．５４  （１Ｈ，  ｍ），  ２．２５  −  ２．３４  （１Ｈ，  ｍ），  １．９５  −  ２．０８  （３Ｈ，  ｍ），  １．８２  −１．９３  （１Ｈ，  ｍ），  １．２１  （３Ｈ，  ｓ），  １．２０  （３Ｈ，  ｓ），  １．１９  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９４  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ  ＝  ６．５  Ｈｚ），  ０．７１  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４３４】
化合物３−α−ＯＨ  Ａ２および３−β−ＯＨ  Ａ２の調製：グローブボックス内の、火炎乾燥したフラスコにおいて、ＴＨＦ（脱気したもの，３ｍＬ）を、無水塩化セリウム（ＩＩＩ）（０．３１９ｇ，１．２９ｍｍｏｌ）に加えた。その懸濁液をＲＴにおいて一晩撹拌した。粒子の細かい白色懸濁液をそのグローブボックスから取り出した。ＴＨＦ（乾燥，１ｍＬ）を加え、その（ｔｈｅｗ）混合物をアルゴン下、ＲＴにおいて１５分間撹拌した。アルゴン下において、その粒子の細かい白色懸濁液を−７８℃に冷却した。この温度において、Ｅｔ２Ｏ中１．６Ｍのメチルリチウム（０．７９ｍＬ，１．２７ｍｍｏｌ）を滴下した。黄色の懸濁液が形成され、それを−７８℃において１．５時間撹拌した。ＴＨＦ（乾燥，２ｍＬ）中のＢＢ−３（０．１００ｇ，０．２５９ｍｍｏｌ）の溶液を５分間にわたって滴下した。その反応混合物の色は、黄色から茶色に変化した。反応混合物を−７８℃において４５分間撹拌した。冷却浴を除去し、反応混合物を１０分間撹拌した。５％ＡｃＯＨ水溶液（２ｍＬ）を加えた。反応混合物は、無色透明の溶液に変化した。ＥｔＯＡｃ（１０ｍＬ）を加えた。混合物をＲＴまで昇温させた。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃで抽出した（２×１０ｍＬ）。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を真空中で除去した。フラッシュクロマトグラフィー（Ｈ，５％〜２０％ＥｔＯＡｃ）により、化合物Ａ２（３α−ＯＨ）（３３ｍｇ，０．０８２ｍｍｏｌ；６３．５％）および化合物Ａ２（３β−ＯＨ）（１３ｍｇ，０．０３２ｍｍｏｌ；２５．０％）を得た（３α−ＯＨ）：１Ｈ−ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．４３  −  ５．３８  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４６  −  ２．３７  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０５  −  １．８０  （ｍ，  ４Ｈ），  １．７３  −  １．２３  （ｍ，  １５Ｈ），  １．２２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１９  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１８  −  ０．９９  （ｍ，  ９Ｈ），  ０．９８  （ｓ，  １Ｈ），  ０．９４  （ｄ，  Ｊ  ＝  ６．５  Ｈｚ，  ３Ｈ），  ０．６８  （ｓ，  ３Ｈ）．  （３β−ＯＨ）：  １Ｈ−ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３４  −  ５．２８  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４７  −  ２．３８  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０７  −  １．９２  （ｍ，  ３Ｈ），  １．９１  −  １．６６  （ｍ，  ３Ｈ），  １．６３  −  １．２４  （ｍ，  １３Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１９  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１８  −  １．１２  （ｍ，  ３Ｈ），  １．１１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１０  −  １．０２  （ｍ，  ２Ｈ），  １．０１  （ｓ，  ３Ｈ），  １．００  −  ０．９４  （ｍ，  １Ｈ），  ０．９３  （ｄ，  Ｊ  ＝  ６．５  Ｈｚ，  ３Ｈ），  ０．９１  −  ０．８２  （ｍ，  １Ｈ），  ０．６８  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４３５】
実施例１６．化合物３−アルファ−Ａ２８および３−ベータ−Ａ２８の調製
【化１８４】
2016514967.tif 000185
グローブボックス内の、火炎乾燥したフラスコにおいて、ＴＨＦ（脱気したもの，１．５ｍＬ）を、無水塩化セリウム（ＩＩＩ）（０．２０７ｇ，０．８４１ｍｍｏｌ）に加えた。その懸濁液をＲＴにおいて一晩撹拌した。粒子の細かい白色懸濁液をそのグローブボックスから取り出し、アルゴン下で１５分間撹拌した。アルゴン下において、その粒子の細かい白色懸濁液を−７８℃に冷却した。この温度において、ベンゼン／シクロヘキサン中０．５Ｍのエチルリチウム（１．６８ｍＬ，０．８４１ｍｍｏｌ）を滴下した。黄色の懸濁液が形成され、それを−７８℃において３０分間撹拌した。ＴＨＦ（乾燥，１．５ｍＬ）中のＢＢ−３（０．０６５ｇ，０．１６８ｍｍｏｌ）の溶液を３分間にわたって滴下した。その反応混合物の色は、黄色から茶色に変化した。反応混合物を−７８℃において４５分間撹拌した。茶色の乳濁した懸濁液が得られ、ＴＬＣ（Ｈ／Ｅ；２：１）は、出発物質の完全な変換およびより極性のスポットの形成を示した。冷却浴を除去し、反応混合物を１０分間撹拌した。５％ＡｃＯＨ水溶液（２ｍＬ）を加えた。ブライン（２ｍＬ）を加えた後、反応混合物は、無色透明の溶液に変化した。ＥｔＯＡｃ（５ｍＬ）を加えた。混合物をＲＴまで昇温させた。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃで抽出した（２×５ｍＬ）。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を真空中で除去した。６０ｍｇの白色固体が得られた。ＡｇＮＯ３（Ｈ，５％〜２０％ＥｔＯＡｃ）を含浸させたシリカゲルにおける分離によって、化合物Ａ２８（３α−ＯＨ）（６ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ；８．５６％）および化合物Ａ２８（３β−ＯＨ）（４ｍｇ，０．００９６ｍｍｏｌ；５．７１％）が得られた。（３α−ＯＨ）：１Ｈ−ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．４５  −  ５．３８  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４０  −  ２．３３  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０５  −１．９３  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９２  −  １．８０  （ｍ，  ２Ｈ），  １．７５  −  １．２３  （ｍ，  １５Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１９  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１８  −  ０．９８  （ｍ，  ７Ｈ），  ０．９７  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９６  −  ０．９０  （ｍ，  ６Ｈ），  ０．８９  −  ０．８１  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．６８  （ｓ，  ３Ｈ）．  （３β−ＯＨ）：  １Ｈ−ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３３  −  ５．２５  （ｍ，  １Ｈ），  ２．４１  −  ２．３１  （ｍ，  １Ｈ），  ２．０６  −  １．９３  （ｍ，  ３Ｈ），  １．９０  −  １．７８  （ｍ，  １Ｈ），  １．７７  −  １．２３  （ｍ，  ２０Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１９  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１７  −  １．０５  （ｍ，  ５Ｈ），  １．０３  （ｓ，  ３Ｈ），  １．０１  −  ０．９５  （ｍ，  １Ｈ），  ０．９３  （ｄ，  Ｊ  ＝  ６．５  Ｈｚ，  ３Ｈ），  ０．９２  −  ０．８８  （ｍ，  １Ｈ），  ０．８４  （ｔ，  Ｊ  ＝  ７．４  Ｈｚ，  ３Ｈ），  ０．６７  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４３６】
実施例１７．化合物Ｂ６の調製
【化１８５】
2016514967.tif 000186
化合物Ｂ６ａの調製。無水酢酸（１５．３６ｍｌ，１６４ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下、ピリジン（９０ｍｌ）中のスティグマステロール（Ｓｔｉｇｍａｓｔｅｒｏｌ）（２２．５ｇ，５４．５ｍｍｏｌ）の懸濁液に加え、その混合物を室温において４２時間インキュベートした。ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、ｐ−アニスアルデヒド染色後に、より高い溶出性の生成物への完全な変換を示した。その反応混合物に水（３００ｍｌ）を加えることにより、過剰な無水酢酸をクエンチした。１時間撹拌した後、白色固体を濾過し、水で念入りに洗浄した（９×２５０ｍｌ）。その白色固体を、ビーカー１杯の水酸化ナトリウムの存在下、４０℃の真空オーブンにおいて週末にわたって乾燥させることにより、生成物Ｂ６ａ（２４．６３ｇ，５４．２ｍｍｏｌ，収率＝９９％）を白色粉末として得た。Ｂ６ａを、以下の実験においてそのまま使用した。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３８−５．３７  （１Ｈ，  ｍ），  ５．１５  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１５．１，  ８．６  Ｈｚ），  ５．０１  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１５．１，  ８．６  Ｈｚ），  ４．６４−４．５６  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３３−２．３１  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０３  （３Ｈ，  ｓ），  １．９０−１．８２  （２Ｈ，  ｍ），  １．７５−１．６５  （１Ｈ，  ｍ），  １．０２  （６Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝３．２  Ｈｚ），  ０．８６−０．７８  （９Ｈ，  ｍ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４３７】
化合物Ｂ６ｂの調製。ｎ−ヘプタン（１００ｍｌ）中のヨードベンゼン（３．６６ｍｌ，３２．７ｍｍｏｌ）の溶液に、臭素（１．７５４ｍｌ，３４．１ｍｍｏｌ）を加え、その溶液を窒素雰囲気下で−５℃に冷却した。ｎ−ヘプタン（７００ｍｌ）中のスティグマステリル（Ｓｔｉｇｍａｓｔｅｒｙｌ）アセテートＢ６ａ（１３．５ｇ，２９．７ｍｍｏｌ）の溶液もまた窒素雰囲気下で−５℃に冷却し、激しく撹拌し、上で調製された溶液を、その溶液の淡黄色を維持するように、窒素雰囲気下で２．５時間にわたって滴下した。得られた溶液を一晩撹拌し、次いで、濾過した。ＴＬＣ［ヘプタン（９）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、わずかに溶出性が低い生成物への完全な変換を示した。その溶液を、乾固するまで真空下で濃縮した。残渣を、カラム（９００ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（９５）：ジイソプロピルエーテル（５）］によって精製した。純粋な生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させることにより、Ｂ６ｂ（９．０６ｇ，１４．７ｍｍｏｌ，収率＝５０％）を白色粉末として得た。Ｂ６ｂを、以下の実験においてそのまま使用した。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．４８  （１Ｈ，  ｓｅｐ，  Ｊ＝５．４  Ｈｚ），  ５．１５  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１５．１，  ８．６  Ｈｚ），  ５．０２  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１５．１，  ８．６  Ｈｚ），  ４．８４  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ２．０５  （３Ｈ，  ｓ），  １．４６  （３Ｈ，  ｓ），  １．０１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．９０−０．７９  （１５Ｈ，  ｍ），  ０．７２  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４３８】
化合物Ｂ６ｃの調製。モレキュラーシーブで乾燥させたジクロロメタン（２４０ｍｌ）およびピリジン（３．０５ｍｌ，３７．７ｍｍｏｌ）中の５α，６β−ジブロモスティグマスタン（Ｄｉｂｒｏｍｏｓｔｉｇｍａｓｔａｎ）−３β−イルアセテートＢ６ｂ（８．１１ｇ，１３．２０ｍｍｏｌ）の溶液を、液体窒素／酢酸エチル浴において冷却した。その溶液に、オゾンリッチ酸素流を、焼結ガラス噴霧器を通じて１時間通した。反応混合物の色は、わずかに青色になった。ＴＬＣ［ヘプタン（９）：酢酸エチル（１）］は、ＵＶ２５４において、出発物質の完全な変換を示した。オゾン分解反応を停止した。その反応混合物を直ちに氷酢酸（３３．２ｍｌ，５８１ｍｍｏｌ）と亜鉛末（２１．５７ｇ，３３０ｍｍｏｌ）との混合物に注ぎ込み、室温において一晩撹拌した。その溶液を濾過し、水（２００ｍｌ）、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）、５％水酸化ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）およびブライン（２００ｍｌ）で連続的に洗浄し、次いで、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を蒸発させることにより、粗コレスタ−５−エン−３β−オール−２２−アールＢ６ｃを得て、それをフラッシュカラム（３００ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（１００＝＞９０）：酢酸エチル（０＝＞１０）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させることにより、コレスタ−５−エン−３β−オール−２２−アールＢ６ｃ（２．５８ｇ，６．９３ｍｍｏｌ，収率＝５３％）を白色粉末として得た。Ｂ６ｃを、以下の実験においてそのまま使用した。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ９．５７  （１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝３．３  Ｈｚ），  ５．３８  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６５−４．５６  （１Ｈ，  ｍ），  ２．４１−２．２８  （３Ｈ，  ｍ），  ２．０４  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０３−１．９２  （２Ｈ，  ｍ），  １．９１−１．８１  （３Ｈ，  ｍ），  １．１３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．８  Ｈｚ），  １．０３  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７３  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４３９】
化合物Ｂ６ｄの調製。アルゴン雰囲気下、−１０℃の乾燥ＴＨＦ（６．４ｍＬ）中の（メトキシメチル）トリフェニル−ホスホニウムクロリド（０．７８９ｇ，２．３０ｍｍｏｌ）の溶液に、ヘキサン類中１．６Ｍのｎ−ＢｕＬｉ（１．３４２ｍＬ，２．１５ｍｍｏｌ）を加えた。その溶液を室温において５分間撹拌した後、乾燥ＴＨＦ（１．３ｍＬ）中のＢ６ｃ（０．２ｇ，０．５４ｍｍｏｌ）を加えた。その混合物を室温において３０分間撹拌した。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（７５ｍＬ）に注ぎ込み、ＣＨ２Ｃｌ２（５０ｍＬ）で２回抽出した。合わせた有機層を、ブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４において乾燥させ、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞８８：１２）によって精製することにより、Ｂ６ｄを得た（１０３ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ，収率＝５４％）。Ｂ６ｄは、ＮＭＲによると、１：１のＥ／Ｚ混合物として得られた。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ６．２４  （０．５Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１２．６  Ｈｚ），  ５．７４  （０．５Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．２  Ｈｚ），  ５．３４  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．５９  （０．５Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１２．５，  ９．３  Ｈｚ），  ４．１７  （０．５Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝９．８，  ６．３  Ｈｚ），  ３．５８−３．４６  （１Ｈ，  ｍ），  ３．５５  （１．５Ｈ，  ｓ），  ３．４７  （１．５Ｈ，  ｓ），  ２．６７−２．５４  （０．５Ｈ，  ｍ），  ２．３３−２．１８  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０４−１．７８  （６Ｈ，  ｍ），  １．７７−１．６５  （１Ｈ，  ｍ），  １．０４  （１．５Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９８  （１．５Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．７  Ｈｚ），  ０．７２  （１．５Ｈ，  ｓ），  ０．６９  （１．５Ｈ，  ｓ）。
【０４４０】
化合物Ｂ６ｅの調製。無水酢酸（０．０７９ｍＬ，０．８４ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下のピリジン（３ｍＬ）中のＢ６ｄ（０．１ｇ，０．２７９ｍｍｏｌ）の懸濁液に加え、その混合物を室温において４２時間インキュベートした。その反応混合物に水（６０ｍＬ）を加えることにより、過剰な無水酢酸をクエンチした。１時間撹拌した後、白色固体を濾過し、水で念入りに洗浄した（９×２５０ｍＬ）。その白色固体を、４０℃の真空オーブンにおいて一晩乾燥させることにより、生成物Ｂ６ｅを得た（１１１ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ，収率＝９９％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ６．２４  （０．５Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１２．６  Ｈｚ），  ５．７３  （０．５Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．２  Ｈｚ），  ５．３７  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６６−４．５５  （１Ｈ，  ｍ），  ４．５９  （０．５Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１２．５，  ９．３  Ｈｚ），  ４．１７  （０．５Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝９．８，  ６．３  Ｈｚ），  ３．５５  （１．５Ｈ，  ｓ），  ３．４７  （１．５Ｈ，  ｓ），  ２．６６−２．５４  （０．５Ｈ，  ｍ），  ２．３５−２．２８  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０３  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０２−１．９１  （３Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．８１  （２Ｈ，  ｍ），  １．７７−１．６６  （１Ｈ，  ｍ），  １．０４  （１．５Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  １．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９９  （１．５Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．７２  （１．５Ｈ，  ｓ），  ０．６９  （１．５Ｈ，  ｓ）。
【０４４１】
化合物Ｂ６ｆの調製。アセトン（９ｍＬ）中のＢ６ｅ（０．１１１ｇ，０．２８ｍｍｏｌ）の溶液に、０．１Ｍ  ＨＣｌ水溶液（１ｍＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を加えた。得られた白色懸濁液を室温において１時間撹拌した後、７０℃において１時間および室温において一晩撹拌した。その混合物を７０℃で２時間加熱し、室温に冷却し、Ｈ２Ｏ（５０ｍＬ）で希釈した。その反応混合物を乾固するまで蒸発させ、ＭｅＯＨ（５０ｍＬ）およびＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）と同時蒸発させた。これは、所望の生成物とジメチルアセタールとの混合物であるとみられる。アセトン（１０ｍＬ）中のこの混合物（０．１２ｇ，０．２８ｍｍｏｌ）の溶液に、０．１Ｍ  ＨＣｌ水溶液（１ｍＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を加えた。得られた白色懸濁液を７０℃において２時間撹拌した。１，４−ジオキサン（５ｍＬ）を加え、それにより、不溶性物質を溶解させた。その反応混合物をさらに２時間７０℃に加熱し、室温まで冷却させ、週末にわたって撹拌した。その反応混合物をＨ２Ｏ（５０ｍＬ）で希釈し、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出した（３×５０ｍＬ）。合わせた有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４において乾燥させ、溶媒を蒸発させた。その粗生成物をＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）と同時蒸発させることにより、Ｂ６ｆを得た（１１９ｍｇ，０．３１ｍｍｏｌ，収率＝１１１％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ９．７５  （１Ｈ，  ｍ），  ５．３７，  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６６−．４５４  （１Ｈ，  ｍ），  ２．４７  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１５．８，  ２．４  Ｈｚ），  ２．３６−２．２８  （２Ｈ，  ｍ），  ２．１７  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．８，  ９．３，  ３．３  Ｈｚ），  ２．０３  （３Ｈ，  ｓ），  １．０２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  １．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７０  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４４２】
化合物Ｂ６ｇの調製。化合物Ｂ６ｆ（０．１１ｇ，０．２８５ｍｍｏｌ）をｔ−ブタノール（５ｍＬ）、乾燥ＴＨＦ（１ｍＬ）および２−メチル−２−ブテン（０．５１２ｍＬ，４．８４ｍｍｏｌ）に溶解した。その溶液を撹拌し、冷浴を用いて冷却した。その溶液に、脱塩水（３ｍｌ）中の、ＮａＣｌＯ２（０．０２８ｇ，０．３１３ｍｍｏｌ）およびＫ２ＨＰＯ４（０．０４３ｇ，０．３１３ｍｍｏｌ）の溶液を５分間にわたってゆっくり加え、その混合物を０℃において２時間撹拌した。その混合物を室温において一晩撹拌した。その反応混合物に、Ｈ２Ｏ（３ｍＬ）に溶解された、追加のＮａＣｌＯ２（０．０２８ｇ，０．３１３ｍｍｏｌ）およびＫ２ＨＰＯ４（０．０４３ｇ，０．３１３ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、撹拌を２時間続けた。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（２５０ｍＬ）に注ぎ込み、ＣＨ２Ｃｌ２（７５ｍＬ）で３回抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下で蒸発させた。白色固体残渣（２．２６ｇ，１６３％）を石油エーテル４０−６０（１０ｍＬ）中でトリチュレートした（ｔｒｉｔｕｒａｔｅｄ）。その白色固体を濾過し、石油エーテル４０−６０（５ｍＬ）で２回洗浄し、０．５時間にわたって風乾させることにより、Ｂ６ｆを得た（０．０８９ｇ，０．２２ｍｍｏｌ，収率＝７８％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  １０．０  （１Ｈ，  ｂｓ），  ５．３７  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６６−４．５５  （１Ｈ，  ｍ），  ２．５３−２．４４  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３６−２．２６  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０４  （３Ｈ，  ｓ），  １．０４  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  １．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７２  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４４３】
化合物Ｂ６ｈの調製。ＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）中のＢ６ｇ（０．０９ｇ，０．２２４ｍｍｏｌ）の溶液に、塩化オキサリル（０．０４８ｍＬ，０．５６ｍｍｏｌ）およびＤＭＦ（ｃａｔ）を加えた。その溶液を室温において２時間撹拌した。その反応混合物を乾燥ＭｅＯＨ（１５０ｍＬ，３７０３ｍｍｏｌ）で希釈し、すべての固体が溶解するまで４０℃において撹拌した。その反応混合物を、乾固するまで蒸発させ、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞９５：５）によって精製し、ＴＨＦと２回同時蒸発させることにより、Ｂ６ｈを得た（８５ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ，収率＝９１％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３７  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６６−４．５５  （１Ｈ，  ｍ），  ３．６６  （３Ｈ，  ｓ），  ２．４３  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１４．１，  ２．９  Ｈｚ），  ２．３８−２．２５  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０４  （３Ｈ，  ｓ），  １．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９９  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．２  Ｈｚ），  ０．７２  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４４４】
化合物Ｂ６の調製。乾燥ＴＨＦ（３ｍＬ）中のＢ６ｈ（０．０８５ｇ，０．２０ｍｍｏｌ）の溶液をアルゴン雰囲気下において０℃に冷却した。ＴＨＦ中３．０ＭのＭｅＭｇＣｌ（０．６８ｍＬ，２．０４ｍｍｏｌ）を、注射器を使用して滴下した。その反応混合物を０℃において１時間撹拌した後、室温において２時間撹拌した。ＴＨＦ中３．０ＭのＭｅＭｇＣｌ（０．６８ｍＬ，２．０４ｍｍｏｌ）を再度室温において加え、一晩撹拌を続けた。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（７５ｍＬ）でクエンチし、ＣＨ２Ｃｌ２で３回抽出した（３×５０ｍＬ）。合わせた有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４において乾燥させ、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞４：１）によって精製することにより、Ｂ６（４５ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ，収率＝５９％）を白色綿毛状固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３５  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ３．５３  （１Ｈ，  ｓｅｐ，  Ｊ＝５．１  Ｈｚ），  ２．３４−２．１７  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０３  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．６，  ３．３  Ｈｚ），  ２．０１−１．９４  （１Ｈ，  ｍ），  １．９３−１．７９  （３Ｈ，  ｍ），  １．２３  （６Ｈ，  ｓ），  １．０６  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７２  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４４５】
実施例１８．化合物Ｂ７の調製
【化１８６】
2016514967.tif 000187
化合物Ｂ７ｄの調製：コレスタ−５−エン−３β−オール−２２−アールＢ７ｃ（１．３３ｇ，３．５７ｍｍｏｌ）をｔ−ブタノール（７５ｍｌ）、テトラヒドロフラン（乾燥）（１５ｍｌ）および２−メチル−２−ブテン（１３．２２ｍｌ，１２５ｍｍｏｌ）に溶解した。その溶液を撹拌し、冷浴を用いて冷却した。脱塩水（４５ｍｌ）中の、亜塩素酸ナトリウム（０．３５５ｇ，３．９３ｍｍｏｌ）およびリン酸二水素カリウムｐ．ａ．（０．５３４ｇ，３．９３ｍｍｏｌ）の調製したばかりの溶液を、上記溶液に３０分間にわたってゆっくり加え、その混合物を０℃において２時間撹拌した。氷浴を除去し、その混合物の温度を室温に上げ、一晩撹拌した。ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、より低い溶出性の生成物への部分的な変換を示した。その反応混合物に、水（４５ｍｌ）に溶解された、追加の亜塩素酸ナトリウム（０．３５５ｇ，３．９３ｍｍｏｌ）およびリン酸二水素カリウムｐ．ａ．（０．５３４ｇ，３．９３ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、撹拌を２時間続けた。ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、より低い溶出性の生成物への完全な変換を示した。その反応混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液（２５０ｍｌ）に注ぎ込み、ジクロロメタン（１００ｍｌ）で３回抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧下で蒸発させた。残渣を、トルエン（５０ｍｌ）に続いてジクロロメタン（５０ｍｌ）で２回ストリッピングした（ｓｔｒｉｐｐｅｄ）。白色固体残渣（２．２６ｇ，１６３％）を石油エーテル４０−６０（１０ｍｌ）中で０．５時間トリチュレートした。その白色固体を濾過し、石油エーテル４０−６０（１０ｍｌ）で２回洗浄し、０．５時間風乾させることにより（真空ポンプをオンにしたままで）、Ｂ７ｄ（１．２７ｇ，３．２６ｍｍｏｌ，収率＝９１％）を白色粉末として得た。Ｂ７ｄを、以下の実験においてそのまま使用した。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  １０．３１  （１Ｈ，  ｂｓ），  ５．３７  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６５−４．５６  （１Ｈ，  ｍ），  ２．４７−２．３９  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３６−２．２６  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０４  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０１−１．９２  （２Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．７６  （３Ｈ，  ｍ），  １．２４  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．８  Ｈｚ），  １．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７１  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４４６】
化合物Ｂ７ｅの調製。カルボン酸Ｂ７ｄ（０．１ｇ，０．２５７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解した。塩化オキサリル（０．０４４ｍＬ，０．５１５ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１滴）を加え、その反応混合物を１時間撹拌した。その反応物のサンプルをメタノールに注ぎ、乾固するまで蒸発させ、ＴＬＣ［ヘプタン（３）：酢酸エチル（１）］で分析したところ、それは、バニリン染色後に、メチルエステルへの完全な変換を示した。その反応混合物をメタノール（５０ｍＬ，１２３４ｍｍｏｌ）（モレキュラーシーブで乾燥させたもの）で希釈し、減圧下で蒸発させ、無水トルエンおよびジクロロメタンでストリッピングした。残渣を、フラッシュカラム（４ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（９９＝＞８０）：酢酸エチル（１＝＞２０）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させることにより、Ｂ７ｅを得た（０．１０４ｇ，０．２５７ｍｍｏｌ，収率＝１００％）。Ｂ７ｅを、トルエン（２×５ｍｌ）、ジクロロメタン（２×５ｍｌ）および無水テトラヒドロフラン（２×５ｍｌ）でストリッピングし、次の反応工程においてそのまま使用した。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３７  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６５−４．５６  （１Ｈ，  ｍ），  ３．６５  （３Ｈ，  ｓ），  ２．４７−２．３８  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３６−２．２６  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０３  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０１−１．９２  （２Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．８２  （２Ｈ，  ｍ），  １．１９  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．８  Ｈｚ），  １．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６９  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４４７】
化合物Ｂ７の調製。メチルエステルＢ７ｅ（０．１０４ｇ，０．２５８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（乾燥）（２．６ｍｌ）に溶解し、アルゴン下の氷浴において冷却した。２０分後、ＴＨＦ中３．０Ｍの塩化メチルマグネシウム（０．８６１ｍｌ，２．５８ｍｍｏｌ）を、注射器を介して滴下した。いくらかの気体の放出が観察された。その反応混合物を０．５時間撹拌した後、冷浴を除去し、撹拌を２時間続けた。ＴＬＣ［ヘプタン（３）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、出発物質から２つのより低い溶出性の生成物への完全な変換を示した。撹拌を１時間続けた。その反応混合物を、撹拌しながら塩化アンモニウム飽和水溶液（７５ｍｌ）に注ぎ、ジクロロメタンで抽出した（３×５０ｍｌ）。抽出物を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させた。残渣を、メタノール（２ｍｌ）中で０．５時間トリチュレートし、白色固体を濾過し、濾過残渣をメタノール（２ｍｌ）で洗浄した。フィルター上には、ほとんど材料は残らず、その大部分は濾液中に存在した。濾液および濾過残渣を合わせ、フラッシュカラムクロマトグラフィー［ヘプタン（９９＝＞７０）：酢酸エチル（１＝＞３０）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させた。残渣を、４０℃の真空オーブンにおいて一晩乾燥させることにより、Ｂ７（０．０４４ｇ，０．１２２ｍｍｏｌ，収率＝４７％）を白色固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３５  （１Ｈ，  ｍ），  ３．５３  （１Ｈ，  ｓｅｐ，  Ｊ＝５．２  Ｈｚ），  ２．３４−２．１９  （２Ｈ，  ｍ），  ２．１０  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．６，  ３．４  Ｈｚ），  ２．０３−１．８８  （２Ｈ，  ｍ），  １．８８−１．７９  （２Ｈ，  ｍ），  １．２０  （３Ｈ，  ｓ），  １．１５  （３Ｈ，  ｓ），  １．００  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９８  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．９  Ｈｚ），  ０．７３  （３H,  s)。
【０４４８】
実施例１９．化合物Ｂ８の調製
【化１８７】
2016514967.tif 000188
化合物Ｂ８ｂの調製。火炎乾燥した丸底フラスコにおいて、テトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍｌ）中のＮａＨＭＤＳ（０．０７０ｍｌ，０．３４９ｍｍｏｌ）の溶液を、−７８℃のテトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍｌ）中のシリルオキシホスホネートエステルＢ８ａ（０．１４３ｇ，０．４０３ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。その溶液を、アルゴン雰囲気下、−７８℃において１５分間撹拌した。次いで、テトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍｌ）中のコレスタ−５−エン−３β−オール−２２−アールＢ７ｃ（０．１ｇ，０．２６８ｍｍｏｌ）の溶液を、注射器を介してゆっくり加えた。その反応混合物を室温までゆっくり温め、２０時間撹拌した。ＴＬＣ［ヘプタン（３）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、より高い溶出性の生成物への部分的な変換を示した。その反応混合物を、塩化アンモニウム飽和水溶液（５０ｍｌ）を加えることによってクエンチし、ジクロロメタンで抽出した（３×５０ｍｌ）。合わせた有機層を水（５０ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空中で濃縮した。残渣を、フラッシュカラム（４ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（１００＝＞９０）：ジイソプロピルエーテル（０＝＞１０）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させることにより、生成物Ｂ８ｂ（０．１１７ｇ，０．１８７ｍｍｏｌ，収率＝７０％）を白色粉末として得た。ＮＭＲによると、Ｅ異性体とＺ異性体との７：３混合物が得られた。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．７０  （１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１０．４  Ｈｚ），  ５．２３  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ５．１７−５．１３  （１Ｈ，  ｍ），  ４．５１−４．４０  （１Ｈ，  ｍ），  ４．１１−４．００  （２Ｈ，  ｍ），  ３．１６−３．０７  （０．３Ｈ［Ｚ異性体］，  ｍ），  ２．６８−２．５７  （０．７Ｈ［Ｅ異性体］，  ｍ），  ２．２０−２．１０  （２Ｈ，  ｍ），  １．８９  （３Ｈ，  ｓ），  １．８９−１．７７  （２Ｈ，  ｍ），  １．７５−１．６７  （２Ｈ，  ｍ），  ０．８９−０．８５  （６Ｈ，  ｍ），  ０．８４−０．７７  （１０Ｈ，  ｍ），  ０．５９  （０．９Ｈ［Ｚ異性体］，  ｓ），  ０．５７  （２．１Ｈ［Ｅ異性体］，  ｓ），  ０．０５−０．００  （６Ｈ，  ｍ）。
【０４４９】
化合物Ｂ８ｃの調製。氷酢酸（０．０６０ｍｌ，１．０４７ｍｍｏｌ）およびフッ化セシウム（０．０８０ｇ，０．５２４ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下、０℃のアセトニトリル（無水）（４ｍｌ）中のＢ８ｂ（０．１ｇ，０．１７５ｍｍｏｌ）の懸濁液に加えた。得られた混合物を０℃において３０分間撹拌し、室温において２時間撹拌した。ＬＣＭＳ−ＮＱＡＤ（酸）は、不確かな生成物質量で、出発物質から生成物にほとんど変換されていないことを示した。その反応混合物にジクロロメタン（２ｍｌ）を加えたところ、その反応混合物は、直ちに黄色の透明溶液に変化した。その反応混合物を一晩撹拌した。その反応混合物に追加のフッ化セシウム（０．０８０ｇ，０．５２４ｍｍｏｌ）を加え、撹拌を２４時間続けた。その反応混合物に再度、追加のフッ化セシウム（０．０８０ｇ，０．５２４ｍｍｏｌ）を加え、撹拌を４時間続けた。ＴＬＣ［ヘプタン（３）：酢酸エチル（１）］は、出発物質がまだ少しその反応混合物中に存在することを示したが、その反応混合物をジクロロメタン（７５ｍｌ）で希釈し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（５０ｍｌ）で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で濃縮した。残渣を、フラッシュカラム（２５ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（１００＝＞９０）：酢酸エチル（０＝＞１０）］によって精製することにより、残っている出発物質を除去した（ＴＬＣにおいてのみ可視である）。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させることにより、生成物Ｂ８ｃを得た（０．０５１ｇ，０．１１１ｍｍｏｌ，収率＝６４％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３７  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６５−４．５５  （１Ｈ，  ｍ），  ４．３１，  （２Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝７．１  Ｈｚ），  ２．８９  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１６．８，  ３．０  Ｈｚ），  ２．５７  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１６．８，  ９．９  Ｈｚ），  ２．３７−２．２５  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０４  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０９−１．９１  （２Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．７７  （３Ｈ，  ｍ），  １．３７  （３Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．１  Ｈｚ），  １．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９７  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．７２  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５０】
化合物Ｂ８ｄの調製。ジクロロメタン（１ｍｌ）中のＢ８ｃ（０．０５１ｇ，０．１１１ｍｍｏｌ）の溶液を窒素雰囲気下、氷浴において０．５時間冷却した。ジエチルアミノ硫黄トリフルオリド（ＤＡＳＴ）（０．０２７ｍｌ，０．２２２ｍｍｏｌ）を加え、その反応混合物を室温まで昇温させ、一晩撹拌した。追加のジエチルアミノ硫黄トリフルオリド（ＤＡＳＴ）（０．０２７ｍｌ，０．２２２ｍｍｏｌ）を加え、撹拌を２０時間続けた。ＴＬＣ［ヘプタン（３）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、出発物質がまだ完全に消費されていないことを示した。ＬＣＭＳ−ＥＬＳＤ（塩基）：ｍ／ｚ（＋）＝４２１を有するｒｔ＝３．４３における４７％生成物が、所望の生成物に対応し、アセテート基が排除される［Ｍ−ＣＨ３ＣＯＯＨ＋Ｈ］＋。その反応混合物をジクロロメタン（５０ｍｌ）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム（５０ｍｌ）で洗浄した。水層を分離し、ジクロロメタン（５０ｍｌ）で２回抽出した。抽出物を、先の有機層と合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で蒸発させた。残渣を、フラッシュカラムクロマトグラフィー［ヘプタン（１００＝＞９０）：酢酸エチル（０＝＞９０）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させ、ジクロロメタン（５ｍｌ）でストリッピングすることにより、生成物Ｂ８ｄを得た（０．０２７ｇ，０．０５６ｍｍｏｌ，収率＝５１％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３７  （１Ｈ，  ｂｒｄ），  ４．６５−４．５５  （１Ｈ，  ｍ），  ４．３２，  （２Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝７．１  Ｈｚ），  ２．３７−２．２８  （２Ｈ，  ｍ），  ２．２７−２．０９  （１Ｈ，  ｍ），  ２．０３  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０４−１．９２  （２Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．８１  （３Ｈ，  ｍ），  １．３５  （３Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．１  Ｈｚ），  １．０６  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．１  Ｈｚ），  １．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．８８  （６Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝６．８  Ｈｚ），  ０．７０  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５１】
化合物Ｂ８の調製。化合物Ｂ８ｄ（０．０２７ｇ，０．０５６ｍｍｏｌ）を、アルゴン雰囲気下でテトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍｌ）に溶解した。その混合物を氷浴において１５分間冷却し、ＴＨＦ中２．４Ｍの水素化アルミニウムリチウム（０．０４７ｍｌ，０．１１２ｍｍｏｌ）を徐々に加えた。いくらかの気体の放出が観察された。その反応混合物を冷却し、１時間撹拌した。ＴＬＣ［ヘプタン（３）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、主に１つのより低い溶出性の生成物への完全な変換を示した。氷浴を除去し、撹拌を１時間続けた。その反応混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液（５０ｍｌ）でクエンチし、ジクロロメタン（５０ｍｌ）で３回抽出した。合わせた抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で蒸発させた。残渣を、フラッシュカラム（４ｇシリカ）クロマトグラフィー［ヘプタン（１００＝＞８５）：酢酸エチル（０＝＞１５）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させた。残渣を、メタノールの入ったバイアル（４ｍｌ）に移し、そのメタノールを、窒素流の下、３７℃において蒸発させた。残渣を、４０℃の真空オーブンにおいて一晩乾燥させることにより、生成物Ｂ８を得た（０．０１１ｇ，０．０２８ｍｍｏｌ，収率＝４９％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３５  （１Ｈ，  ｍ），  ３．７１  （２Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝１２．８  Ｈｚ），  ３．５８−３．４８  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３５−２．１８  （２Ｈ，  ｍ），  ２．１５−１．９３  （３Ｈ，  ｍ），  １．９２−１．７３  （５Ｈ，  ｍ），  １．７０−１．４０  （９Ｈ，  ｍ），  １．０８  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７２  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５２】
実施例２０．化合物Ｂ１０の調製
【化１８８】
2016514967.tif 000189
アルゴン下の火炎乾燥したフラスコにおいて、ＴＨＦ（乾燥，２ｍＬ）中の、ＢＢ−１（１００ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）およびチタン（ＩＶ）イソプロポキシド（０．０７ｍＬ，０．２３ｍｍｏｌ）の溶液を０℃に冷却した。エチルマグネシウムブロミド（ＴＨＦ中１．０Ｍ，１．１６ｍＬ）を滴下した。反応混合物を０℃において１５分間撹拌したところ、ＴＬＣ（Ｈ／Ｅ；２：１）は、出発物質および２つの新しいスポットを示した。反応混合物をＲＴまで昇温させ、撹拌を１時間続けた。次いで、反応混合物を０℃に冷却し、エチルマグネシウムブロミド（ＴＨＦ中１．０Ｍ，１．１６ｍＬ）を滴下した。反応混合物を０℃において１５分間撹拌した。ＴＬＣ（Ｈ／Ｅ；２：１）は、完全な変換および単一の新しいスポットを示した。その反応混合物をＥｔ２Ｏ（２ｍＬ）で希釈した。ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（２ｍＬ）およびＨ２Ｏ（２ｍＬ）を０℃において加えた。固体を綿で濾別し、濾過ケークをＥｔ２Ｏ（１０ｍＬ）で洗浄した。無色の層を分離し、水層を、Ｅｔ２Ｏ（２０ｍＬ）およびＥｔ２ＯとＥｔＯＡｃとの混合物（２０ｍＬ；１：１）で抽出した。有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を真空中で除去した。１２５ｍｇの白色固体が得られた。フラッシュクロマトグラフィー（ヘプタン，５％〜３０％ＥｔＯＡｃ）により、化合物Ｂ１０を得た（３７ｍｇ，０．０９６ｍｍｏｌ；４１．２％）。１Ｈ−ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３６−５．３５  （ｍ，  １Ｈ），  ３．５８  −  ３．４６  （ｍ，  １Ｈ），  ２．３２  −  ２．２１  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．０３  −  １．９３  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９１  −  １．８０  （ｍ，  ３Ｈ）  １．７７  （ｓ，  １Ｈ），  １．６９  −  １．３７  （ｍ，  １０Ｈ），  １．３４  −  ０．８２  （ｍ，  ９Ｈ），  １．０１  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９３  （ｄ，  Ｊ  ＝  ６．６  Ｈｚ，  ３Ｈ），  ０．７５  −  ０．７１  （ｍ，  ２Ｈ），  ０．６９  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．４６  −  ０．３９  （ｍ，  ２Ｈ）。
【０４５３】
実施例２１．化合物Ｂ１３ａ〜Ｂ１４の調製
【化１８９】
2016514967.tif 000190
化合物Ｂ１３ａの調製。０℃のピリジン（１５ｍｌ）中のＢＢ−２（７６２ｍｇ，１．９６１ｍｍｏｌ）の溶液に、無水酢酸（０．１８５ｍｌ，１．９６１ｍｍｏｌ）およびＤＭＡＰ（２３．９５ｍｇ，０．１９６ｍｍｏｌ）を加えた（ゆっくり溶解するわずかに黄色がかった懸濁液）。その混合物をＲＴにおいて一晩撹拌した。ＴＬＣ（ヘプタン／ＥｔＯＡｃ  ２：１）は、完全な変換を示した。そのＲＭをＥｔＯＡｃ（１００ｍｌ）および水（１００ｍｌ）で希釈し、層を分離した。水層をＥｔＯＡｃで抽出した（２×）。有機層を合わせ、水（３×）およびブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。得られた固体を、トルエン、ＥｔＯＨおよびＤＣＭと３回、同時蒸発させた。その材料をフラッシュクロマトグラフィー（４０ｇｒシリカ，ヘプタン中４〜４０％ＥｔＯＡｃ，ＤＣＭとともにローディング）によって精製した。化合物Ｂ１３ａ（６８７ｍｇ，１．５９５ｍｍｏｌ；８１％）を白色固体として得た。１ＨＮＭＲ  （３００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３７  （１Ｈ，  ｄ，  ５．１  Ｈｚ），  ４．６０  （１Ｈ，  ｍ），  １．９９  （３Ｈ，  ｓ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ  ＝  ６．６  Ｈｚ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５４】
化合物Ｂ１３ｂの調製。窒素下のジクロロメタン（８．５ｍｌ）中の化合物Ｂ１３ａ（６８７ｍｇ，１．５９５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＭＳ−Ｎ３（０．２３３ｍｌ，１．７５５ｍｍｏｌ）に続いてＢＦ３．ＯＥｔ２（０．８４２ｍｌ，３．１９ｍｍｏｌ）を加えた。その混合物をＲＴにおいて２時間撹拌した。ＴＬＣは、より高い溶出性のスポットへのほぼ完全な変換を示した。不純物が存在した。さらに３０分撹拌し、その後、そのＲＭを２Ｍ  ＮａＯＨ（２５ｍｌ）およびＤＣＭ（２５ｍｌ）で希釈した。層を分離した。水層をＤＣＭで抽出した（２×）。有機層を合わせ、ブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、濃縮し、
フラッシュクロマトグラフィー（ｆｌａｓｈ  ｃｈｒｏｍａｔｇｒａｐｈｙ）（４０ｇｒシリカ，ヘプタン中４〜４０％ＥｔＯＡｃ，ＤＣＭとともにローディング）によって精製することにより、化合物Ｂ１３ｂを得た（６６０ｍｇ，１．３７６ｍｍｏｌ；８６％）。１ＨＮＭＲ  （３００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３７  （１Ｈ，  ｄ，  ４．８  Ｈｚ），  ４．６０  （１Ｈ，  ｍ），  ２．０３  （３Ｈ，  ｓ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ  ＝  ６．６  Ｈｚ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５５】
化合物Ｂ１３の調製。アルゴン下、０℃のジエチルエーテル（乾燥）（１５ｍｌ）中の化合物Ｂ１３ｂ（６６０ｍｇ，１．４４８ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｅｔ２Ｏ中のＬｉＡｌＨ４（０．７９７ｍｌ，３．１９ｍｍｏｌ）を加えた（白色懸濁液が形成された）。その混合物を０℃において３０分間およびＲＴにおいて１時間撹拌し、その後、ＴＬＣは、低い溶出性のスポット（アミン）へのＳＭの完全な変換を示した。その混合物を、再度０℃に冷却し、水（０．０５７ｍｌ，３．１９ｍｍｏｌ）およびＮａＯＨの４Ｍ水溶液（０．７９７ｍｌ，３．１９ｍｍｏｌ）を加えた。ＲＴにおいて３０分間撹拌し、ジエチルエーテルおよびＴＨＦを用いてセライトで濾過した。有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を蒸発させた。その粗生成物を重力カラムクロマトグラフィー（１００ｇｒシリカ，ＤＣＭとともにローディング）によって精製した。まず、そのカラムをＤＣＭ：ＭｅＯＨ（９５：５）で溶出することにより、すべての不純物を洗い流した。次いで、そのカラムをＤＣＭ：ＭｅＯＨ中７Ｍ  ＮＨ３（９５：５）で溶出することにより、化合物Ｂ１３を得た（４００ｍｇ，１．０３２ｍｍｏｌ；７１．２％）。１ＨＮＭＲ  （３００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３５  （１Ｈ，  ｄ，  ５．１  Ｈｚ），  ３．５１  （１Ｈ，  ｍ），  １．０７  （６Ｈ，  ｓ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ  ＝  ６．６  Ｈｚ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５６】
化合物Ｂ１４の調製。化合物Ｂ１３（５０ｍｇ，０．１２９ｍｍｏｌ）を、わずかに加熱することによってテトラヒドロフラン（乾燥）（２ｍｌ）に溶解し、次いで、ＭｅＩ（８．０７μｌ，０．１２９ｍｍｏｌ）（１０ｍＬのＴＨＦ中の８１マイクロリットルのＭｅＩの原液から１ｍＬ）およびＫ２ＣＯ３（２１．３９ｍｇ，０．１５５ｍｍｏｌ）を加えた。ｒｔにおいて一晩撹拌した。固体を濾別し、水で洗浄し、乾燥させた。その混合物を、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ中７Ｎ  ＮＨ３９７．５／２．５、１５ｍｌ／分、１分間の画分において実施される１２ｇ充填済みフラッシュカラム（ＧｒａｃｅＲｅｓｏｌｖｅ（商標））において精製した。このようにして、化合物Ｂ１４（１８ｍｇ，０．０４５ｍｍｏｌ，３４．７％）を得た。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３５  （１Ｈ，  ｄ，  ４．８  Ｈｚ），  ３．５３  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３０  （３Ｈ，  ｓ），  １．０２  （９Ｈ，  ｓ），  ０．９３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ  ＝  ６．６  Ｈｚ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５７】
実施例２２．化合物Ｂ１７の調製
【化１９０】
2016514967.tif 000191
化合物Ｂ１７ａの調製。１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）（０．２８２ｇ，１．４６８ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）（０．０１８ｇ，０．１３３ｍｍｏｌ）を、０℃において、窒素雰囲気下のジクロロメタン（１５ｍｌ）中の、３β−ヒドロキシコラン酸（ｈｙｄｒｏｘｙ  ｃｈｏｌｅｎｉｃ  ａｃｉｄ）（０．５ｇ，１．３３５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（０．１４３ｇ，１．４６８ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．２５６ｍｌ，１．４６８ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。その反応混合物を、週末にわたって室温まで昇温させた。追加の１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）（０．２８２ｇ，１．４６８ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）（０．０１８ｇ，０．１３３ｍｍｏｌ）を加え、撹拌を２時間続けた。その反応物をジクロロメタン（１００ｍｌ）で希釈し、０．５Ｎ硫酸水素カリウム水溶液（７５ｍｌ）および炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（７５ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で蒸発させた。残渣を、フラッシュカラム（４ｇシリカ）クロマトグラフィー［ヘプタン（８０＝＞６６）：酢酸エチル（２０＝＞３３）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させた。残渣を、メタノールでストリッピングし、４０℃において一晩乾燥させることにより、Ｂ１７ａ（０．４９５ｇ，１．１８５ｍｍｏｌ，収率＝８９％）を白色粉末として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３６−５．３５  （１Ｈ，  ｍ），  ３．６９  （３Ｈ，  ｓ），  ３．５８−３．４８  （１Ｈ，  ｍ），  ３．１８  （３Ｈ，  ｓ），  ２．４９−２．４１  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３７−２．２０  （３Ｈ，  ｍ），  ２．０３−１．９６  （２Ｈ，  ｍ），  １．９６−１．７５  （４Ｈ，  ｍ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９５  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．６９  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５８】
化合物Ｂ１７ｂの調製。アルゴン雰囲気下において、Ｂ１７ａ（０．２ｇ，０．４７９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（乾燥）（５ｍｌ）に溶解し、−７５℃に冷却した。ジエチルエーテル中のメチルマグネシウムブロミド３．０Ｍ（０．７９８ｍｌ，２．３９４ｍｍｏｌ）を滴下した（発熱性で、温度は−４０℃に上昇した）。滴下の後、その反応混合物を−７５℃に低下させた。冷浴を除去し、その反応混合物を２０分間にわたって室温まで昇温させ、５時間撹拌した。ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、より高い溶出性の生成物への完全な変換を示した。その反応混合物を、塩化アンモニウム飽和水溶液（７５ｍｌ）を加えることによってクエンチし、ジクロロメタンで抽出した（２×７５ｍｌ）。合わせた抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で蒸発させた。残渣を、フラッシュカラム（４ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（８０＝＞６６）：酢酸エチル（２０＝＞３３）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、減圧下で蒸発させた。残渣を、メタノールでストリッピングし、４０℃において一晩乾燥させることにより、Ｂ１７ｂ（０．１１７ｇ，０．３１４ｍｍｏｌ，収率＝６６％）を白色固体として得た。生成物を次の工程でそのまま使用した。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３６−５．３４  （１Ｈ，  ｍ），  ３．５６−３．４８  （１Ｈ，  ｍ），  ２．５０−２．３０  （２Ｈ，  ｍ）  ２．３０−２．１９  （２Ｈ，  ｍ），  ２．１４  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０２−１．９４  （２Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．８１  （３Ｈ，  ｍ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．６７  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４５９】
化合物Ｂ１７の調製。化合物Ｂ１７ｂ（０．１１７ｇ，０．３１４ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下でエタノール（Ａｂｓ）（５ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却した。水素化ホウ素ナトリウム（０．０１８ｇ，０．４７１ｍｍｏｌ）を一度に加え（発泡しないように注意する）、その反応混合物を室温までゆっくり昇温させた。３時間撹拌した後、ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、出発物質の完全な消費を示した。過剰な水素化ホウ素ナトリウムを、塩化アンモニウム飽和水溶液（５０ｍｌ）を用いて分解した。その反応混合物をジクロロメタンで抽出した（３×５０ｍｌ）。抽出物を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で蒸発させた。残渣を、４０℃の真空オーブンにおいて一晩乾燥させることにより、Ｂ１７（０．１０５ｇ，０．２８０ｍｍｏｌ，収率＝８９％）を白色固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３６−５．３４  （１Ｈ，  ｍ），  ３．７５  （１Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝５．８  Ｈｚ），  ３．５３  （１Ｈ，  ｓｅｐ，  Ｊ＝５．５  Ｈｚ），  ２．３２−２．２０  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０２−１．９５  （２Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．７９  （３Ｈ，  ｍ），  １．１９  （３Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝６．１，  ２．１  Ｈｚ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝５．５  Ｈｚ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６０】
実施例２３．化合物Ｂ１８の調製
【化１９１】
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３β−ヒドロキシコラン酸（０．１ｇ，０．２６７ｍｍｏｌ）を、アルゴン雰囲気下でテトラヒドロフラン（乾燥）（５ｍｌ）に懸濁した。ＴＨＦ中２．４Ｍの水素化アルミニウムリチウム（０．２２２ｍｌ，０．５３４ｍｍｏｌ）を徐々に加えた。いくらかの気体の放出が観察された。その反応混合物を６０℃に加熱し、一晩撹拌した。ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、モリブデン染色後に、より高い溶出性の生成物への完全な変換を示した。酢酸エチル（５０ｍｌ）および水（５０ｍｌ）を慎重に加えることにより、過剰な試薬を無効にした。不溶性物質を濾過し、酢酸エチルで洗浄した（３×５ｍｌ）。洗液を濾液と合わせ、有機相を分離した。水相を酢酸エチル（２５ｍｌ）でさらに２回抽出し、合わせた抽出物をブライン（７５ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で蒸発させることにより、生成物Ｂ１８（０．０３２ｇ，０．０８９ｍｍｏｌ，収率＝３３％）を白色粉末として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．３６−５．３５  （１Ｈ，  ｍ），  ３．６５−３．５８  （２Ｈ，  ｂｓ），  ３．５７−３．４８  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３２−２．２０  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０３−１．９３  （２Ｈ，  ｍ），  １．８９−１．７９  （３Ｈ，  ｍ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９４  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６１】
実施例２４．Ｃ１２、Ｃ３２およびＣ３３の調製
【化１９２】
2016514967.tif 000193
化合物Ｃ１２の調製。化合物Ｃ１２ｅ（３００ｍｇ，０．７２０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（乾燥）（７ｍｌ）に溶解し、アルゴン下で４℃に冷却した。次いで、ＴＨＦ中３Ｍの塩化メチルマグネシウム（２．４００ｍｌ，７．２０ｍｍｏｌ）を、その温度が７℃を超えないような速度で注射器を介して加えた。４℃において２０分間、次いで、ｒｔにおいて撹拌した。２時間後、ＴＬＣは、完全な反応を明らかにした。そのｒｘを、ＮＨ４Ｃｌの飽和撹拌溶液に投下し、ＥｔＯＡｃで抽出した（２×）。すべての生成物が有機層に溶解することを確実にするために、いくらかのＭｅＯＨを加えた。抽出物を乾燥させ（ブライン、Ｎａ２ＳＯ４）、蒸発させた。残渣を、少量のＭｅＯＨ（約５ｍｌ）中で撹拌し、白色固体を濾別し、乾燥させた：化合物Ｃ１２（１６８ｍｇ，０．４４８ｍｍｏｌ；６２．３％）。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＤＭＳＯ−Ｄ６）：  δ（ｐｐｍ）：  ５．３６  （１Ｈ，  ｄ，  ４．６  Ｈｚ），  ４．６１  （１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝４．３  Ｈｚ），  ４．０３  （１Ｈ，  ｓ），  ３．２６  （１Ｈ，  ｍ），  ２．３２  （１Ｈ，  ｍ），  １．０３  （６Ｈ，  ｓ），  ０．８７  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６２】
化合物Ｃ３２ａの調製。化合物Ｃ１２ｅ（７４ｍｇ，０．１７８ｍｍｏｌ）をエタノール（Ａｂｓ）（１０ｍｌ）に溶解し、パラジウム，１０％木炭担持（１８．９０ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）を加えた。そのｒｘに窒素、連続して水素を流した。それをｒｔにおいて激しく撹拌した。２時間後のＬＣＭＳは、完全な変換を示唆したのに対して、ＴＬＣは、いかなる変化も示さなかった。そのｒｘに再度、窒素を流し、Ｐｄ／Ｃをフリットチューブ（ｆｒｉｔｔｅｄ  ｔｕｂｅ）（３フリット）で濾別した。Ｐｄ／Ｃはなおも濾液中に存在した。ＥｔＯＨを蒸発させ、残渣をＤＣＭに溶解し、小さな綿栓で濾過した。これにより、透明の溶液が得られた。ＤＣＭを蒸発させることにより、化合物Ｃ３２ａを得た（６８ｍｇ，０．１６２ｍｍｏｌ；９１％収率）。さらに精製することなく、そのまま使用した。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ４．６８  （１Ｈ，  ｍ），  ３．６６  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０２  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．６６  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６３】
化合物Ｃ３２の調製。化合物Ｃ３２ａ（６８ｍｇ，０．１６２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（乾燥）（１．５ｍｌ）に溶解し、アルゴン下で０℃に冷却した。次いで、塩化メチルマグネシウム（０．５４１ｍＬ，１．６２４ｍｍｏｌ）を加えた。激しい気体の放出が見られる。０℃において撹拌し、３分後、ｒｔにおいて撹拌した。２時間後、少しの塩化メチルマグネシウム（０．１ｍＬ，０．３００ｍｍｏｌ）をさらに加えた。ｒｔで一晩撹拌した。翌日、そのｒｘを５０ｍｌのＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液に注ぎ込み、ＥｔＯＡｃで３回抽出した。ＥｔＯＡｃを乾燥させ（ブライン、硫酸塩）、蒸発させた。残渣を、カラムクロマトグラフィーによって精製した：粗混合物を、溶解を助ける数滴のＭｅＯＨとともにＤＣＭに溶解し、充填済みフラッシュシリカカラムに適用した。それを、５分間の１００％ヘプタン；２０分間の０＝＞２０％ＥｔＯＡｃ／ヘプタンおよび２０分間の２０％ＥｔＯＡｃ／ヘプタン均一濃度を用いて、３０ｍｌ／分の３０秒の画分で溶出した。生成物の画分を合わせ、溶媒を蒸発させ、白色固体残渣をＥｔ２Ｏ中でトリチュレートし、濾別し、乾燥させることにより、化合物Ｃ３２を得た（２５ｍｇ，０．０６３ｍｇ；３８．８％収率）。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ３．５８  （１Ｈ，  ｍ），  １．１９  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．６６  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６４】
化合物Ｃ３３ａの調製。化合物Ｃ１２（１１０ｍｇ，０．２９４ｍｍｏｌ）をトルエン（乾燥）（７ｍｌ）に懸濁し、１−メチル−４−ピペリドン（１．６６６ｍｇ，０．０１５ｍｍｏｌ）およびアルミニウムイソプロポキシド（９３ｍｇ，１．０２８ｍｍｏｌ）を加えた。還流温度において４時間撹拌した。ＴＬＣ：まだｓ．ｍ．が存在している。さらにアルミニウムイソプロポキシド（１００ｍｇ，０．８８４ｍｍｏｌ）を加えた。還流を続けた。２時間後、さらにアルミニウムイソプロポキシド（１００ｍｇ，０．８８４ｍｍｏｌ）を加えた。還流を３時間続けた。次いで、最後の量のアルミニウムイソプロポキシド（１００ｍｇ，０．８８４ｍｍｏｌ）を加えた。さらに２時間還流した。次いで、そのｒｘをｒｔまで冷却させ、ＥｔＯＡｃで希釈し、１Ｎ  ＨＣｌで抽出することにより、それら３つを除去した。黄色の水層をＥｔＯＡｃで２回抽出した。合わせたＥｔＯＡｃ画分を１Ｎ  ＨＣｌで洗浄し（３×）、乾燥させ（ブライン、硫酸塩）、蒸発させた。残渣を、ＤＩＰＥでストリッピングすることにより、白色粉末が残った。この粗混合物を、少しのＭｅＯＨを含むＣＨＣｌ３において適用され、３０ｍｌ／分で勾配をかけて行われる、４０ｇ充填済みフラッシュカラム（ＧｒａｃｅＲｅｓｏｌｖｅ（商標））において精製した：２分間の１００％ヘプタン；３８分間の０＝＞２０％ヘプタン／ＥｔＯＡｃ；１０分間の２０％ヘプタン／ＥｔＯＡｃ；フラクションサイズ３０秒。このようにして、生成物Ｃ３３ａ（８４ｍｇ，０．２２５ｍｍｏｌ；７７％）を得た。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  □（ｐｐｍ）：  ５．８２  （１Ｈ，  ｓ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．７３  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６５】
化合物Ｃ３３ｂの調製。化合物Ｃ３３ａ（８４ｍｇ，０．２２５ｍｍｏｌ）をエタノール（２５ｍｌ）に溶解し、窒素を流した。次いで、炭酸カルシウム担持パラジウム（Ｐｄとして約１０％；２３．９９ｍｇ，０．０２３ｍｍｏｌ，１０％）を加え、そのｒｘに再度、窒素を流した。次いで、そのｒｘに水素を流し、水素下で激しく撹拌した。３時間後、ＴＬＣは、反応の完了を示唆した。それに再度、窒素を流し、触媒をｈｙｆｌｏで濾別し、ＥｔＯＨを蒸発させた。その混合物を、ヘプタン／ＥｔＯＡｃ  ９／１の均一濃度で行われる、１２ｇ充填済みフラッシュカラム（ＧｒａｃｅＲｅｓｏｌｖｅ（商標））において精製した；サンプルをＤＣＭ中で適用した；１５ｍｌ／分、１分のフラクションサイズ；このようにして、生成物Ｃ３３ｂ（４０ｍｇ，０．１０７ｍｍｏｌ；４７．４％）を得た。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ２．６０  （１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝１４．４  Ｈｚ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９３  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．７０  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６６】
化合物Ｃ３３の調製。化合物Ｃ３３ｂ（５ｍｇ，０．０１３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍｌ）に溶解し、−７８℃に冷却した。次いで、Ｋ−セレクトリド（０．０２０ｍｍｏｌ，０．０２０ｍｌ）を加え、その反応混合物を窒素下で６時間撹拌した。１０％ＮａＯＨ溶液（０．１ｍＬ）を加えた後、３０％過酸化水素溶液（０．２ｍＬ）を加えることによって、その反応を停止した。その反応混合物を室温まで温め、撹拌を３０分間続けた。その混合物を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、蒸発させた。その粗生成物を、２：１ヘプタン／ＥｔＯＡｃを使用するフラッシュカラムクロマトグラフィーによって精製した。このようにして、化合物Ｃ３３（２．２ｍｇ，０．００５０２ｍｍｏｌ；３７．６％）を得た。ＬＣＭＳ：８３％純粋、１７％の３α−ＯＨ異性体を含む。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ４．１２  （１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝２．７  Ｈｚ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．６７  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６７】
実施例２５．Ｄ１５の調製
【化１９３】
2016514967.tif 000194
化合物Ｃ３３ｂ（４０ｍｇ，０．１０７ｍｍｏｌ）を、アルゴン下でテトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍｌ）に溶解し、−７８℃に冷却した。次いで、１．６Ｍメチルリチウム（０．３２０ｍｍｏｌ，０．２００ｍｌ）を加えた。−７８℃において撹拌した。２時間後のＴＬＣ：なおも多くのｓ．ｍ．が存在する。そのｒｘをゆっくりｒ．ｔ．に到達させた。１時間後のＴＬＣ：なおも多くのｓ．ｍ．が存在し、粘稠な沈殿物が存在する。溶解を助けるために、さらにテトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍＬ）を加えた。３０分後；ｒｘは、ほぼ完全に溶解した。撹拌を１時間続けた。ＴＬＣ：ｓ．ｍ．がなおも存在するが９０＋％変換。そのｒｘを３０分以上撹拌し、次いで、クエンチした。ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液を加え、生成物をＤＣＭで抽出した（３×）。３２ｍｇの収量（粗）。水層をＮａＣｌで飽和させ、今回はＥｔＯＡｃで再度抽出した（３×）。この時点で、３６ｍｇの粗生成物。その混合物を、１５ｍｌ／分で勾配をかけて行われる１２ｇ充填済みフラッシュカラム（ＧｒａｃｅＲｅｓｏｌｖｅ（商標））において精製した：２分間の１００％ヘプタン；２８分間の０＝＞１５％ヘプタン／ＥｔＯＡｃ；２０分間の１５％ヘプタン／ＥｔＯＡｃ；フラクションサイズ６０秒。このようにして、生成物Ｄ１５（１１ｍｇ，０．０２７ｍｍｏｌ；２５．０５％）を得た。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  １．２１  （３Ｈ，  ｓ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．６７  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６８】
実施例２６．Ｄ１０およびＤ１６の調製
【化１９４】
2016514967.tif 000195
３−アルファ−Ｄ１６化合物の調製。化合物Ｄ１０ａ（６８ｍｇ，０．１８２ｍｍｏｌ）をアルゴン下でテトラヒドロフラン（乾燥）（２ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却した。次いで、塩化メチルマグネシウム（０．６０５ｍｌ，１．８１５ｍｍｏｌ）を加えた。１０分後、そのｒｘをｒｔにおいて３時間撹拌した。次いで、そのｒｘを１００ｍＬのＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液に加え、ｒｘの容器をＴＨＦおよびＤＣＭですすぎ、ＤＣＭとともに０．５時間撹拌した。生成物をＤＣＭでさらに２回抽出した。ＤＣＭを乾燥させ（ブライン、硫酸塩）、蒸発させ、３０ｍｌ／分のフラクション３０秒で行われるシリカカラムにおいて精製した。勾配（Ｇｒａｎｄｉｅｎｔ）：５分間の１００％ヘプタン；２５分間の１００／０Ｈ／ＥｔＯＡｃ＝＞８０／２０ヘプタン／ＥｔＯＡｃ；２０分間の８０／２０ヘプタン／ＥｔＯＡｃ。このようにして、化合物Ｄ１６（３α−ＯＨ）（２１ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ；２９．６％）を得た。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  １．１９  （９Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．６６  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４６９】
３−ベータ−Ｄ１６化合物の調製。化合物Ｄ１０ａ（５７ｍｇ，０．１５２ｍｍｏｌ）をアルゴン下でトルエン（乾燥）（１ｍｌ）に溶解し、−７８℃に冷却した。次いで、トルエン中０．４Ｍ溶液のＭＡＤ（１．１４１ｍｌ，０．４５６ｍｍｏｌ）を加えた。−７８℃において１０分間撹拌した後、ジエチルエーテル中１．６Ｍ溶液のメチルリチウム（０．２８５ｍｌ，０．４５６ｍｍｏｌ）を加えた。アルゴン下、−７８℃において２時間撹拌した。その温度において２時間後、その反応物を撹拌させ、ｒｔまで温めた。さらに２時間後、それを飽和ＮＨ４Ｃｌに加えることによってクエンチした。ｒｘの容器をＥｔＯＡｃですすいだ。生成物をＥｔＯＡｃで抽出した（２×）。ＥｔＯＡｃを乾燥させ（ブライン、Ｎａ２ＳＯ４）、蒸発させた。その混合物を、ＤＣＭ中で適用され、３０ｍｌ／分で勾配をかけて行われる１２ｇ充填済みフラッシュカラム（ＧｒａｃｅＲｅｓｏｌｖｅ（商標））において精製した：５分間の１００％ヘプタン；２５分間の０＝＞１５％ヘプタン／ＥｔＯＡｃ；２０分間の１５％ヘプタン／ＥｔＯＡｃ；フラクションサイズ３０秒。このようにして、生成物Ｄ１６（３β−ＯＨ）（３５ｍｇ，０．０９０ｍｍｏｌ；５８．８％）を得た。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  １．２３  （３Ｈ，  ｓ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．６６  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４７０】
化合物Ｄ１０ａの調製。化合物Ｃ３２（２２２ｍｇ，０．５８９ｍｍｏｌ）を、わずかに加熱することによってクロロホルム（乾燥）（１５ｍｌ）に溶解した。次いで、その溶液を水浴において冷却し（冷却時に結晶化しなかった）、ＰＣＣ（１９１ｍｇ，０．８８４ｍｍｏｌ）を加えた。なおも水浴内で撹拌した。１時間後のＴＬＣ：約６０〜７０％変換。一晩撹拌した。次いで、その溶液を分液漏斗に移し、沈着物をＤＣＭで広範囲に洗浄し、その分液漏斗に加えた。０．５Ｎ  ＫＨＳＯ４で洗浄した。水相をＤＣＭで洗浄し、有機相を合わせ、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ（ブラインなし）、蒸発させた。その混合物を、３０ｍｌ／分で勾配をかけて行われる１２ｇ充填済みフラッシュカラム（ＧｒａｃｅＲｅｓｏｌｖｅ（商標））において精製した：５分間の１００％Ｈ；２５分間の０＝＞１５％Ｈ／ＥＡ；２０分間の１５％Ｈ／ＥＡ；フラクションサイズ３０秒、１００本のチューブ。このようにして、化合物（Ｃｏｕｍｐｏｕｎｄ）Ｄ１０ａ（１３２ｍｇ，０．３５２ｍｍｏｌ；５９．８％）を得た。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．６９  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４７１】
化合物Ｄ１０の調製。化合物Ｄ１０ａ（７３ｍｇ，０．１９５ｍｍｏｌ）をアルゴン下でテトラヒドロフラン（乾燥）（２ｍｌ）に溶解し、トリフルオロメチルトリメチルシラン（０．０８６ｍｌ，０．５８５ｍｍｏｌ）およびフッ化セシウム（２．９６ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）を加えた。ｒｔにおいて撹拌した。その溶液は、ゆっくりとわずかに黄色になった。３時間後のＴＬＣ：完全な変換。そのｒｘをＤＣＭで希釈し、水で抽出した。相分離しなかった。ブライン（等体積）を加えた。うまく分離した。水層を再度ＤＣＭで抽出し；ＤＣＭを合わせ、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、蒸発させた。１０３ｍｇの粗生成物（１０２％）。ヘプタン中の０＝＞２．５％ＤＩＰＥの勾配をかけて３０分間行われる１２ｇ充填済みカラムにおけるフラッシュカラム。このようにして、不純ＴＭＳ−中間体を、３α−および３β−ＯＨ生成物の不純混合物として得て、そのまま使用した：その中間体を１，４−ジオキサン（４ｍｌ）に溶解し、１Ｎ  ＨＣｌ（１ｍＬ，１．０００ｍｍｏｌ）を加える。ｒｔにおいて撹拌した。１時間後のＴＬＣ：ｓ．ｍ．が無くなった。水を加え、生成物をＤＣＭで３回抽出し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、蒸発させた。その粗生成物を、１２分間のＭｅＣＮ／水９５／５＝＞０／１００の勾配をかけて、次いで、１２分間の１００％水という均一濃度で行われるＣ１８−カラムにおいて精製した。このようにして、化合物Ｄ１０（１４ｍｇ，０．０３０ｍｍｏｌ；２２．９％）を得た。１ＨＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  １．１９  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．６７  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４７２】
実施例２７．化合物Ｄ１の調製
【化１９５】
2016514967.tif 000196
火炎乾燥したチューブにおいて、ＴＨＦ（乾燥，１ｍＬ）中の、化合物Ｄ１３ａ（９７ｍｇ，０．２５０ｍｍｏｌ）およびトリフルオロメチルトリメチルシラン（０．１１９ｍｌ，０．７４９ｍｍｏｌ）の無色透明の溶液をアルゴン下で０℃に冷却した。フッ化セシウム（２０ｍｇ，０．１３２ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物は、無色のままであり、それを０℃において５分間撹拌した。冷却浴を除去し、撹拌をＲＴにおいて１．５時間続けた。反応混合物は、茶色−黄色になった。ＴＬＣ（ヘプタン／ＥｔＯＡｃ，１：１）完全な変換。反応混合物をＲＴにおいて一晩静置させた。Ｈ２Ｏ（１ｍＬ）およびＥｔＯＡｃ（５ｍＬ）を加えた。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃで抽出した（２×５ｍＬ）。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を真空中で除去した。フラッシュクロマトグラフィー（ヘプタン，５％〜２０％ＥｔＯＡｃ）は、不純３−ＯＴＭＳ中間体をもたらす。これをそのまま使用した：ＨＣｌ水溶液（１Ｎ，１ｍＬ）を、ＴＨＦ（１ｍＬ）中の３−ＯＴＭＳ中間体の溶液に加えた。反応混合物をＲＴにおいて一晩撹拌した。ＴＬＣ（Ｈ／Ｅ；１：１）完全な変換。溶媒を真空中で除去した。黄色固体が得られた。フラッシュクロマトグラフィー（ヘプタン；１５％〜３５％ＥｔＯＡｃ）による精製から、化合物Ｄ１が得られた（３６ｍｇ，０．０７８ｍｍｏｌ；３１．４％）。１Ｈ−ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  □（ｐｐｍ）：  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９６  （３Ｈ，  ｓ），  ０．８９  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１０．６  Ｈｚ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４７３】
実施例２８．Ｄ２ａ〜Ｄ２化合物の調製
【化１９６】
2016514967.tif 000197
化合物Ｄ２ａの調製。アルゴン雰囲気下において、化合物ＢＢ−１ａ（１ｇ，２．５７ｍｍｏｌ）をメタノール（２５ｍｌ）に溶解し、およびパラジウム，１０％活性炭担持（０．１３７ｇ，０．１２９ｍｍｏｌ）を加えた。アルゴン雰囲気を水素（バルーン）によって置き換え、その反応混合物を室温において一晩激しく撹拌した。その反応混合物をｈｙｆｌｏで濾過し、濾過残渣をメタノール（５０ｍｌ）およびジクロロメタン（２×５０ｍｌ）で洗浄した。濾液および洗液を合わせ、減圧下で蒸発させることにより、生成物Ｄ２ａ（１．０１ｇ，２．５７ｍｍｏｌ，収率＝１００％）を白色粉末として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．６６  （３Ｈ，  ｓ），  ３．５９  （１Ｈ，  ｏｃｔ，  Ｊ＝５．１  Ｈｚ），  ２．３５  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．４，  １０．３，  ５．１  Ｈｚ），  ２．２１  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．８，  ９．５，  ６．３  Ｈｚ），  １．９４  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．４，  ３．３  Ｈｚ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６２  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１４．８，  ８．１，  ４．１  Ｈｚ）。
【０４７４】
化合物Ｄ２ｂの調製。ジクロロメタン（１０ｍｌ）（モレキュラーシーブで乾燥させたもの）中のクロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）（０．９６９ｇ，４．４９ｍｍｏｌ）の懸濁液を、窒素雰囲気下で０℃に冷却した。ジクロロメタン（５ｍｌ）（モレキュラーシーブで乾燥させたもの）中のＤ２ａ（０．５８５ｇ，１．４９８ｍｍｏｌ）の溶液を徐々に加えた。１時間撹拌した後、橙色から暗褐色への色の変化が観察された。氷浴を除去し、撹拌を３．５時間続けた。ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、より高い溶出性の生成物への明瞭な完全な変換を示した。その反応混合物を、ヘプタン／酢酸エチルの２：１混合物（１５ｍｌ）で希釈し、ショートシリカパッド（３０ｇ）で溶出し、そのパッドをヘプタン／酢酸エチル／ジクロロメタン２：１：１（６０ｍｌ）で２回すすいだ。その溶出液を０．５Ｎ硫酸水素カリウム水溶液（９０ｍｌ）で洗浄した。その洗液をジクロロメタン（９０ｍｌ）で逆抽出し、この抽出物を先の有機層と合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧下で蒸発させた。残渣を、ジクロロメタンで２回ストリッピングすることにより、Ｄ２ｂ（０．５５５ｇ，１．４２８ｍｍｏｌ，収率＝９５％）を白色固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．６６  （３Ｈ，  ｓ），  ２．０４−１．９４  （２Ｈ，  ｍ），  １．９１−１．７４  （２Ｈ，  ｍ），  １．７３−１．６６  （１Ｈ，  ｍ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．６４  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４７５】
化合物Ｄ２ｃの調製。アルゴン雰囲気下において、ジブロモメタン（１．２６８ｍｌ，１８．０１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（乾燥）（３０ｍｌ）中の亜鉛の撹拌懸濁液（３．９９ｍｌ，５７．９ｍｍｏｌ）に加えた（わずかに発熱性）。その混合物をドライアイス／アセトニトリル浴において−４０℃に冷却し、１０分間撹拌した。温度が−３０℃を超えないような速度で、塩化チタン（ＩＶ）（１．５３３ｍｌ，１３．９０ｍｍｏｌ）を徐々に加えた（非常に発熱性）。ドライアイス／アセトニトリル浴を除去し、その混合物を、氷浴内で４時間、０〜５℃の内部温度において撹拌した。黒色の懸濁液の一部（約３ｍｌ）を、室温において、テトラヒドロフラン（乾燥）（１０ｍｌ）中のＤ２ｂ（０．１ｇ，０．２５７ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。その混合物を１０分間撹拌した。ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、モリブデン染色後に、その反応混合物中に主に出発物質が存在することを示した。上記懸濁液の別の一部（約３ｍｌ）を加え、撹拌を５分間続けた。ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、モリブデン染色後に、その反応混合物中に主に出発物質がなおも存在することを示した。上記懸濁液の残りを加え、５分間撹拌した後、ＴＬＣ［ヘプタン（２）：酢酸エチル（１）］は、モリブデン染色後に、出発物質から主に１つの非常に無極性の生成物への完全な変換を示した。その反応混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（１００ｍｌ）に注ぎ（発泡しないように注意する）、酢酸エチル（１００ｍｌ）で３回抽出した。合わせた抽出物をブライン（１５０ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で蒸発させた。残渣を、溶離剤をヘプタン中の０〜５％ジイソプロピルエーテルという勾配で使用するシリカゲル（１２ｇフラッシュカラム）においてクロマトグラフィー分析することにより、Ｄ２ｃ（０．０５８ｇ，０．１５０ｍｍｏｌ，収率＝５８％）を白色固体生成物として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ４．５５  （２Ｈ，  ｂｒｄ），  ３．６６  （３Ｈ，  ｓ），  ２．３５  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．４，  １０．３，  ５．１  Ｈｚ），  ２．２１  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．８，  ９．７，  ６．４  Ｈｚ），  ２．１９−２．０９  （２Ｈ，  ｍ），  ２．０６−１．７１  （６Ｈ，  ｍ），  １．６９−１．６１  （１Ｈ，  ｍ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．８５  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６９−０．６０  （１Ｈ，  ｍ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４７６】
化合物Ｄ２ｄの調製。乾燥ジクロロメタン（２ｍｌ）（モレキュラーシーブ（ｍｏｌｓｉｅｖｅｓ）で乾燥させたもの）中のＤ２ｃ（０．０５８ｇ，０．１５０ｍｍｏｌ）の溶液に、窒素雰囲気下において炭酸カリウム（無水）（０．０２７ｇ，０．１９５ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を氷／水浴内で冷却し、固体の３−クロロペルオキシ安息香酸（７０〜７５％）（ｍＣＰＢＡ）（０．０３９ｇ，０．１５８ｍｍｏｌ）を一度に加えた。その反応混合物を一晩撹拌した。ＴＬＣ［ヘプタン（９）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、明瞭な部分的な変換を示した。追加の炭酸カリウム（無水）（０．０２７ｇ，０．１９５ｍｍｏｌ）および３−クロロペルオキシ安息香酸（７０〜７５％）（ｍ−ＣＰＢＡ）（０．０３９ｇ，０．１５８ｍｍｏｌ）を加え、撹拌を２時間続けた。ＴＬＣ［ヘプタン（９）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、完全な変換を示した。その反応混合物を濾過し、沈殿した安息香酸塩をジクロロメタンで洗浄した（２×５ｍｌ）。溶媒を真空中で除去することにより、Ｄ２ｄ（０．０６０ｇ，０．１４９ｍｍｏｌ，収率＝９９％）を白色固体残渣として得た。ＮＭＲによると、α−Ｏ−ジアステレオ異性体とβ−Ｏ−ジアステレオ異性体との２：１混合物が得られた。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．６６（３Ｈ，ｓ），２．６２（０．３３Ｈ［α−ジアステレオ異性体］，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），２．６１（０．３３Ｈ［α−ジアステレオ異性体］，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），２．５７（０．３３Ｈ［β−ジアステレオ異性体］，ｂｓ），２．３５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１５．４，１０．３，５．１Ｈｚ），２．２１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１５．７，９．４，６．３Ｈｚ），２．１０−１．９９（１Ｈ，ｍ），１．９９−１．９２（１Ｈ，ｍ），０．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），０．８６（１Ｈ［β−ジアステレオ異性体］，ｓ，），０．８４（２Ｈ［α−ジアステレオ異性体］，ｓ），０．６６（３Ｈ，ｓ）。
【０４７７】
化合物Ｄ２ｅ（α−ＯＨおよびβ−ＯＨ）の調製。メタノール（過剰乾燥（ｅｘｔｒａ  ｄｒｙ））（５．５ｍｌ）中のＤ２ｄ（０．０５５ｇ，０．１３７ｍｍｏｌ）の混合物を無色透明の溶液が得られるまで加熱した。その溶液を窒素雰囲気下で室温まで冷却させ、メタノール中のナトリウムメトキシドの５．４Ｍ（３０ｗｔ．％）溶液（０．２３９ｍｍｏｌ，０．０８０ｍｌ）を加えた。その反応混合物を加熱還流し、一晩撹拌した。ＴＬＣ［ヘプタン（４）：酢酸エチル（１）］は、バニリン染色後に、完全な変換を示したが、生成物は目では見えなかった。その反応混合物を塩化アンモニウムの飽和水溶液（５０ｍｌ）に注ぎ、ジクロロメタン（５０ｍｌ）で３回抽出した。合わせた抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させた。ＴＬＣによると、非常に極性の生成物が形成された。その反応混合物中に水が存在することに起因して、メチルエステル部分は、カルボン酸に加水分解された。残渣をジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解した。塩化オキサリル（０．０７８ｇ，０．６１２ｍｍｏｌ，０．０５３ｍｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｃａｔ．）を加え、その反応混合物を２時間撹拌した。サンプルをメタノールに注ぎ、乾固するまで蒸発させ、ＴＬＣ［ジクロロメタン（９８）：メタノール（２）］において分析したところ、モリブデン染色後に、メチルエステルへの完全な変換が示された。その反応混合物をメタノール（１５０ｍｌ）（モレキュラーシーブで乾燥させたもの）で希釈し、４０℃の減圧下で蒸発させた。残渣を、フラッシュカラム（１２ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（１００＝＞８０）：酢酸エチル（０＝＞２０）］によって精製した。２つの生成物画分が得られ、それらを別々に回収し、減圧下で蒸発させることにより、Ｄ２ｅ（α−ＯＨ）（０．０３５ｇ，０．０８１ｍｍｏｌ，収率＝３３％）およびＤ２ｅ（β−ＯＨ）（０．０３２ｇ，０．０７４ｍｍｏｌ，収率＝３０％）を白色固体として得た。Ｄ２ｅ（α−ＯＨ）およびＤ２ｅ（β−ＯＨ）を、以下の実験においてそのまま使用した。Ｄ２ｅ（α−ＯＨ）：１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．６６  （３Ｈ，  ｓ），  ３．３８  （３Ｈ，  ｓ），  ３．１８  （２Ｈ，  ｓ），  ２．３５  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．４，  １０．３，  ５．１  Ｈｚ），  ２．２１  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．７，  ９．４，  ６．３  Ｈｚ），  ２．０２  （１Ｈ，  ｂｓ），  １．９４  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．３，  ３．０  Ｈｚ），  １．９０−１．７３  （２Ｈ，  ｍ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．７４  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）．Ｄ２ｅ  （β−ＯＨ）：  １ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．６６  （３Ｈ，  ｓ），  ３．３９  （３Ｈ，  ｓ），  ３．３７  （２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝４．３  Ｈｚ），  ２．５４  （１Ｈ，  ｂｓ），  ２．３５  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．４，  １０．３，  ５．１  Ｈｚ），  ２．２１  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．８，  ９．５，  ６．３  Ｈｚ），  １．９５  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．５，  ３．０  Ｈｚ），  １．９０−１．７３  （２Ｈ，  ｍ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．８３  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４７８】
化合物Ｄ２（α−ＯＨ）の調製。火炎乾燥した丸底フラスコ（１００ｍｌ）において、Ｄ２ｅ（α−ＯＨ）（０．０３５ｇ，０．０８１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍｌ）に溶解し、アルゴン下の氷浴内で０．５時間冷却した。ＴＨＦ中３．０Ｍの塩化メチルマグネシウム（０．８０５ｍｍｏｌ，０．２６８ｍｌ）を、注射器を介して加えた。いくらかの気体の放出が観察された。その反応混合物を２時間撹拌した後、ＴＬＣ［ヘプタン（１）：酢酸エチル（１）］は、モリブデン染色後に、出発物質からより低い溶出性の生成物への完全な変換を示した。その反応混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液（２０ｍｌ）とジクロロメタン（２０ｍｌ）とに分配し、２日間放置した。有機層を分離し、水層をジクロロメタン（２０ｍｌ）でさらに２回抽出した。抽出物を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させた。残渣を、フラッシュカラム（１２ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（１００＝＞８０）：酢酸エチル（０＝＞２０）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、４０℃において減圧下で蒸発させた。残渣を、ジクロロメタン／メタノール中の溶液としてバイアルに移し、窒素流の下、３７℃において蒸発させた。白色固体残渣を４５℃の真空オーブンにおいて一晩乾燥させることにより、Ｄ２（α−ＯＨ）（０．０２５ｇ，０．０５５ｍｍｏｌ，収率＝６８％）を白色粉末として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．３８  （３Ｈ，  ｓ），  ３．１８  （２Ｈ，  ｓ），  １．９８  （１Ｈ，  ｂｓ），  １．９５  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．５，  ３．２  Ｈｚ），  １．８８−１．７９  （１Ｈ，  ｍ），  １．６８−１．６１  （１Ｈ，  ｍ），  １．２０  （３Ｈ，  ｓ），  １．１９  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９１，  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．７４  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４７９】
化合物Ｄ２（β−ＯＨ）の調製。火炎乾燥した丸底フラスコ（１００ｍｌ）において、Ｄ２ｅ（β−ＯＨ）（０．０３５ｇ，０．０８１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（乾燥）（１ｍｌ）に溶解し、アルゴン下の氷浴内で０．５時間冷却した。ＴＨＦ中３．０Ｍの塩化メチルマグネシウム（０．８０５ｍｍｏｌ，０．２６８ｍｌ）を、注射器を介して加えた。いくらかの気体の放出が観察された。その反応混合物を２時間撹拌した後、ＴＬＣ［ヘプタン（１）：酢酸エチル（１）］は、モリブデン染色後に、出発物質からより低い溶出性の生成物への完全な変換を示した。その反応混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液（２０ｍｌ）とジクロロメタン（２０ｍｌ）とに分配し、２日間放置した。有機層を分離し、水層をジクロロメタン（２０ｍｌ）でさらに２回抽出した。抽出物を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させた。残渣を、フラッシュカラム（１２ｇ）クロマトグラフィー［ヘプタン（１００＝＞８０）：酢酸エチル（０＝＞２０）］によって精製した。生成物を含む画分を回収し、４０℃において減圧下で蒸発させた。残渣を、ジクロロメタン／メタノール中の溶液としてバイアルに移し、窒素流の下、３７℃において蒸発させた。白色固体残渣を４５℃の真空オーブンにおいて一晩乾燥させることにより、Ｄ２（β−ＯＨ）（０．０１８ｇ，０．０３９ｍｍｏｌ，収率＝５３％）を白色粉末として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．４０  （３Ｈ，  ｓ），  ３．３９  （１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝９．２  Ｈｚ），  ３．３６  （１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝９．２  Ｈｚ），  ２．５１  （１Ｈ，  ｂｓ），  １．９６  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．４，  ３．１  Ｈｚ），  １．８９−１．７７  （１Ｈ，  ｍ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９１，  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．８３  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８０】
実施例２９．３−アルファ−Ｄ３および３−ベータ−Ｄ６の調製
【化１９７】
2016514967.tif 000198
化合物Ｄ６ａの調製。アルゴン雰囲気下の乾燥ＤＭＦ（７．５ｍＬ）中の、１８−クラウン−６（０．３１５ｇ，１．１９２ｍｍｏｌ）およびＫＨＦ２（０．２３３ｇ，２．９８ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｄ５ｃ（０．３ｇ，０．７４５ｍｍｏｌ）を加えた。その反応混合物を、１５０℃まで一晩加熱した。さらにＫＨＦ２（０．２３３ｇ，２．９８ｍｍｏｌ）を加え、加熱を８時間続けた。その混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏ（１５０ｍＬ）に注ぎ、ＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ）とともに３０分間撹拌した。水層をＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）で２回抽出した。合わせた有機層をブライン（２×）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下で蒸発させた。その粗生成物を、フラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞８５：１５）によって精製することにより、生成物Ｄ６ａを得た（７１ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ，収率＝２３％）。ＮＭＲによると、Ｄ６ａは、３：１のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として得られた。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ４．１８  （１．５Ｈ  ［ｃｉｓ異性体  （β−ＯＨ）］，  ｄ，  Ｊ＝  ４７．８  Ｈｚ），  ４．１５  （０．５Ｈ  ［ｔｒａｎｓ異性体  （α−ＯＨ）］，  ｄ，  Ｊ＝  ４８  Ｈｚ），  ３．６６  （３Ｈ，  ｓ），  ２．３５  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．４  ，１０．３，  ５．２  Ｈｚ），  ２．２１  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．８，  ９．５，  ６．３  Ｈｚ），  ０．９８  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８１】
化合物Ｄ６（β−ＯＨ）およびＤ３（α−ＯＨ）の調製。化合物Ｄ６ａ（０．０７１ｇ，０．１６８ｍｍｏｌ）をトルエン（５０ｍＬ）と同時蒸発させ、アルゴン雰囲気下において乾燥ＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。ＴＨＦ中３．０ＭのＭｅＭｇＣｌ（０．５６０ｍＬ，１．６８０ｍｍｏｌ，）を、注射器を使用して加えた。その反応混合物を０℃において２時間撹拌した。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（５０ｍＬ）でクエンチし、ＣＨ２Ｃｌ２（１００ｍＬ）で３回抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４において乾燥させ、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞８５：１５）によって精製することにより、Ｄ６（β−ＯＨ）（２３ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ，収率＝３２％）およびＤ３（α−ＯＨ）（８ｍｇ，０．００７ｍｍｏｌ，収率＝４％）を得た。Ｄ６（β−ＯＨ）：１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ４．１９  （２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝  ４７．８  Ｈｚ），  ２．００−１．９４  （１Ｈ，  ｍ），  １．７６−１．６９  （１Ｈ，  ｍ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９８  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）．  Ｄ３  （α−ＯＨ）：  １ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ４．１５  （２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝  ４７．８  Ｈｚ），  １．９６  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．４，  ３．２  Ｈｚ），  １．８９−１．７８  （１Ｈ，  ｍ），  １．２０  （３Ｈ，  ｓ），  １．１９  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．７６  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８２】
実施例３０．化合物Ｄ４の調製
【化１９８】
2016514967.tif 000199
化合物Ｄ４ａの調製。ＢＢ−３（０．４４８ｇ，１．１５３ｍｍｏｌ）を、アルゴン雰囲気下においてＥｔＯＨ（ａｂｓ）（１２ｍＬ）およびＭｅＯＨ（６ｍＬ）に懸濁し、パラジウム，１０％活性炭担持（０．０１２ｇ，０．０１２ｍｍｏｌ）を加えた。アルゴン雰囲気を水素（雰囲気）によって置き換え、その反応混合物を、室温において２時間激しく撹拌した。撹拌を３日間続けた。その反応混合物をｈｙｆｌｏで濾過し、乾固するまで蒸発させた。残渣を、酢酸（５ｍＬ）、ＥｔＯＡｃ（５ｍＬ）および１，４−ジオキサン（５ｍＬ）に懸濁し、透明の溶液が得られるまで加熱した。その反応混合物を室温に冷却し、パラジウム，１０％活性炭担持（０．０１２ｇ，０．０１２ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下において加えた。アルゴン雰囲気を水素（雰囲気）によって置き換え、その反応混合物を室温において一晩激しく撹拌した。その反応混合物をｈｙｆｌｏで濾過し、ＭｅＯＨ（２×５０ｍＬ）およびＣＨ２Ｃｌ２（５０ｍＬ）で洗浄した。溶媒を蒸発させ、残渣を、ＮａＨＣＯ３飽和水溶液を用いてトリチュレートし、濾別し、４０℃の真空オーブンにおいて一晩乾燥させることにより、Ｄ４ａ（３８５ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ，収率＝８５％）を白色固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．５９  （１Ｈ，  ｓｅｐ，  Ｊ＝５．３  Ｈｚ），  １．９６  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝９．３，  ３．１  Ｈｚ），  １．９８−１．７５  （２Ｈ，  ｍ），  １．７１  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１３．２，  ３．４  Ｈｚ），  １．６５  （１Ｈ，  ｄｑ，  Ｊ＝１３．０，  ３．４  Ｈｚ），  １．１９  （６Ｈ，  ｓ），  ０．９１，  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．８０  （３Ｈ，  ｓ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８３】
化合物Ｄ４ｂの調製。窒素雰囲気下の乾燥ＣＨ２Ｃｌ２（４ｍＬ）中のクロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）（０．２４８ｇ，１．１５２ｍｍｏｌ）の氷冷溶液に、乾燥ＣＨ２Ｃｌ２（４ｍＬ）中のＤ４ａ（０．３ｇ，０．７６８ｍｍｏｌ）の懸濁液を加えた。乾燥ＣＨＣｌ３（４ｍＬ）中の溶液として再溶解された固体材料を滴下した。その反応混合物を０℃において３０分間撹拌した後、室温において２時間撹拌した。再度、クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）（０．２４８ｇ，１．１５２ｍｍｏｌ）を、室温において一度に加え、その反応混合物を一晩撹拌した。その反応混合物を、砂、シリカ（５ｇ）およびｈｙｆｌｏのショートパッドで溶出し、そのパッドをＣＨ２Ｃｌ２（１００ｍＬ）ですすいだ。溶出液（ｅｌｕｔｅ）を０．５Ｎ  ＫＨＳＯ４水溶液（１００ｍｌ）で２回洗浄した。合わせた洗液をＣＨ２Ｃｌ２（１００ｍＬ）で１回抽出し、合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下で蒸発させることにより、Ｄ４ｂ（３０６ｍｇ，０．７９ｍｍｏｌ，収率＝１０３％）を橙色／茶色固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ２．３８  （１Ｈ，  ｔｄ，  Ｊ＝１４．５，  ６．４  Ｈｚ），  ２．３２−２．２１  （２Ｈ，  ｍ），  ２．１５−１．９３  （３Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．７９  （１Ｈ，  ｍ），  １．７５−１．６５  （１Ｈ，  ｍ），  １．２０  （６Ｈ，  ｓ），  １．０１  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．７８−０．６４  （１Ｈ，  ｍ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８４】
化合物Ｄ４ｃの調製。火炎乾燥した反応チューブにおいて、乾燥ＴＨＦ（２．５ｍＬ）中の、Ｄ４ｂ（０．１ｇ，０．２５７ｍｍｏｌ）および（トリフルオロメチル）トリメチルシラン（０．０５３ｍＬ，０．３４ｍｍｏｌ）の溶液をアルゴン下で０℃に冷却した。ＣｓＦ（スパーテル先端）を加え、その反応混合物を０℃において５分間撹拌した。冷浴を除去し、撹拌を室温において一晩続けた。その反応混合物に追加の（トリフルオロメチル）トリメチルシラン（０．０５３ｍｌ，０．３４ｍｍｏｌ）およびＣｓＦ（スパーテル先端）を加え、アルゴン雰囲気下での撹拌を３時間続けた。Ｈ２Ｏ（５０ｍＬ）およびＥｔＯＡｃ（５０ｍＬ）を加えた。３０分間撹拌した後、層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（５０ｍＬ）で２回抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、溶媒を真空中で除去した。Ｄ４ｃ（１６３ｍｇ，０．３１ｍｍｏｌ，収率＝１１９％）は、淡黄色油状物として得られた。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ２．０４−１．９２  （１Ｈ，  ｍ），  １．９０−１．６８  （２Ｈ，  ｍ），  １．０９  （３Ｈ，  ｓ），  １．０８  （３Ｈ，  ｓ），  ０．８０  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７３  （３Ｈ，  ｓ），  ０．５５  （３Ｈ，  ｓ），  ０．０３  （１２Ｈ，  ｍ）。
【０４８５】
化合物Ｄ４の調製。１，４−ジオキサン（８ｍＬ）中のＤ４ｃ（０．１３７ｇ，０．２５８ｍｍｏｌ）の溶液に、１Ｍ  ＨＣｌ水溶液（２ｍＬ，２．０ｍｍｏｌ）を加えた。その黄色の溶液を室温において３時間撹拌した。その反応混合物をＨ２Ｏ（５０ｍＬ）で希釈し、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出した（３×５０ｍＬ）。合わせた有機層をＮａＨＣＯ３飽和水溶液、ブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４において乾燥させ、溶媒を蒸発させた。その粗生成物を、フラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／ＥｔＯＡｃ，１：０−＞４：１）によって精製し、ＣＨ２Ｃｌ２から結晶化することにより、Ｄ４（４４ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ，収率＝３７％）を白色固体として得た。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ２．０９−２．０２  （１Ｈ，  ｍ），  １．９８  （１Ｈ，  ｓ），  １．９６  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．８，  ３．４  Ｈｚ），  １．８８−１．７７  （２Ｈ，  ｍ），  １．７２−１．６１  （３Ｈ，  ｍ），  １．２０  （３Ｈ，  ｓ），  １．１９  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．６  Ｈｚ），  ０．８５（３Ｈ，  ｓ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８６】
実施例３１．化合物Ｄ５の調製
【化１９９】
2016514967.tif 000200
化合物Ｄ５ａの調製。乾燥トルエン（８０ｍＬ）中の、ＢＢ−１（２ｇ，５．１５ｍｍｏｌ）およびＡｌ（ｉＰｒＯ）３（３．６８ｇ，１８．０１ｍｍｏｌ）の溶液に、１−メチル−４−ピペリドン（２９．１ｇ，２５７ｍｍｏｌ，２９．７ｍＬ）を加えた。その溶液を３時間、撹拌還流した。その反応混合物を室温に冷却し、０．５Ｍ  ＨＣｌ水溶液（８０ｍＬ）、ブライン（８０ｍＬ）およびＥｔ２Ｏ（１２０ｍＬ）で希釈した。有機層をＥｔＯＡｃで抽出した（３×１００ｍＬ）。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、溶媒を真空中で除去した。残渣を、１Ｍ  ＨＣｌ水溶液（２５０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出した（２×２５０ｍＬ）。有機溶媒をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、乾固するまで蒸発させた。その粗生成物を、フラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞９：１）によって精製し、ＣＨ２Ｃｌ２と同時蒸発させることにより、Ｄ５ａを得た（１．２７ｇ，３．２７ｍｍｏｌ，収率＝６４％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ５．７２  （１Ｈ，  ｓ），  ３．６７  （３Ｈ，  ｓ），  ２．４８−２．１７  （６Ｈ，  ｍ），  ２．０２  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝９．６，  ３．８  Ｈｚ），  １．９４−１．７５  （３Ｈ，  ｍ），  １．６９  （１Ｈ，  ｔｄ，  Ｊ＝１４．０，  ４．７  Ｈｚ），  １．１８  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．７１  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８７】
化合物Ｄ５ｂの調製。無水ＥｔＯＨ（１５０ｍＬ）中のＤ５ａ（１．２６ｇ，３．２６ｍｍｏｌ）の懸濁液を、出発物質が溶解するまで加熱した。その溶液を室温に冷却し、アルゴン雰囲気下にした。炭酸カルシウム担持パラジウム，１０％（ｗ／ｗ）（ｃａｔ．）を加え、水素（雰囲気）をその反応混合物の中に１５分間流した。その反応混合物を、水素雰囲気下、室温において一晩撹拌した。その反応混合物にアルゴンを流し、固体をセライト／シリカゲルで濾過し、フィルターをＥｔＯＨ（７５ｍｌ）で洗浄した。溶媒を真空中で除去し、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞９：１）によって精製することにより、生成物Ｄ５ｂを得た（１．１２ｇ，２．１６ｍｍｏｌ，収率＝７５％）。ＮＭＲによると、Ｄ５ｂは、３：１のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として得られた。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．６７  （３Ｈ，  ｓ），  ２．７０  （１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝１４．２  Ｈｚ），  １．０２  （２Ｈ［ｃｉｓ異性体］，  ｓ），  １．００  （１Ｈ［ｔｒａｎｓ異性体］，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．６８  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８８】
化合物Ｄ５ｃの調製。窒素雰囲気下の乾燥ＤＭＳＯ（１０ｍＬ）中のヨウ化トリメチルスルホキソニウム（０．７４７ｇ，３．３９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＨ（鉱油中６０％分散体）（０．０７５ｇ，３．１３ｍｍｏｌ）を一度に加えた。その反応混合物を３０分間撹拌し、乾燥ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のＤ５ｂ（１．０１４ｇ，２．６１ｍｍｏｌ）の溶液を加えた。その反応混合物を１時間撹拌した後、追加のヨウ化トリメチルスルホキソニウム（０．７４７ｇ，３．３９ｍｍｏｌ）およびＮａＨ（鉱油中６０％分散体）（０．０７５ｇ，３．１３ｍｍｏｌ）を加えた。その混合物を２時間撹拌した。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（１５０ｍＬ）とＣＨ２Ｃｌ２（１５０ｍＬ）とに分配した。水層をＣＨ２Ｃｌ２（１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４において乾燥させ、乾固するまで蒸発させた。その粗生成物を、フラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞８８：１２）によって精製することにより、生成物Ｄ５ｃを得た（１ｇ，２．４８ｍｍｏｌ，収率＝７５％）。ＮＭＲによると、Ｄ５ｃは、ｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として得られた。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．６７  （３Ｈ，  ｓ），  ２．６４−２．６０  （２Ｈ，  ｍ），  ２．４２−２．３０  （２Ｈ，  ｍ），  ２．２７−２．１６  （１Ｈ，  ｍ），  ０．９９  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．６６  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４８９】
化合物Ｄ５ｄの調製。窒素雰囲気下のＭｅＯＨ（２．５ｍＬ）中のＤ５ｃ（０．１ｇ，０．２４８ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ＫＯｔＢｕ（０．０５６ｇ，０．４９７ｍｍｏｌ）を一度に加えた。その反応混合物を還流するまで３時間加熱し、室温に一晩冷却した。その混合物をＣＨ２Ｃｌ２（５ｍＬ）で希釈し、ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（２５ｍＬ）に注いだ。水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出した（３×２５ｍＬ）。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、減圧下で蒸発させた。その粗生成物を、フラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞９：１）によって精製し、ＣＨ２Ｃｌ２（５ｍＬ）と同時蒸発させることにより、生成物Ｄ５ｄを得た（０．０８ｇ，０．１８ｍｍｏｌ，収率＝７４％）。ＮＭＲによると、Ｄ５ｄは、約２：１のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として得られた。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．６６（３Ｈ，ｓ），３．３９（２Ｈ［ｃｉｓ異性体（β−ＯＨ）］，ｓ），３．３８（１Ｈ［ｔｒａｎｓ異性体（α−ＯＨ）］，ｓ），３．２４−３．１２（２Ｈ［ｃｉｓ異性体（β−ＯＨ）／ｔｒａｎｓ異性体（α−ＯＨ）］，ｍ），２．３５  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．４，  １０．３，  ５．１  Ｈｚ），  ２．２１  （１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１５．８，  ９．５，  ６．３  Ｈｚ），  ２．０４  （１Ｈ，  ｂｓ），  １．９８−１．９２  （１Ｈ，  ｍ），  １．９２−１．７５  （３Ｈ，  ｍ），  ０．９６  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．４  Ｈｚ），  ０．６４  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４９０】
化合物Ｄ５の調製。火炎乾燥した丸底フラスコ（１００ｍＬ）において、Ｄ５ｄ（０．０８０ｇ，０．１８４ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下において乾燥ＴＨＦ（３ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。ＴＨＦ中３．０ＭのＭｅＭｇＣｌ（０．６１４ｍＬ，１．８４１ｍｍｏｌ）を、注射器を使用して加えた。その反応混合物を０℃において１．５時間撹拌した。その反応混合物をＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（２０ｍＬ）でクエンチし、ＣＨ２Ｃｌ２で３回抽出した（３×２０ｍＬ）。合わせた有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４において乾燥させ、粗生成物を、フラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞８５：１５）によって精製することにより、Ｄ５を得た（３６ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ，収率＝４５％）。１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  ３．３９  （３Ｈ，  ｓ），  ３．２２  （１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝９．０  Ｈｚ），  ３．２０  （１Ｈ，  ｄ，  ９．０  Ｈｚ），  １．２０  ６Ｈ，  ｓ），  ０．９７  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９１  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）。
【０４９１】
実施例３２．Ｃ３−アルファ−Ｄ１３化合物およびＣ３−ベータ−Ｄ１３化合物の調製
【化２００】
2016514967.tif 000201
アルゴン下、０℃において、ジエチルエーテル中１．６Ｍのメチルリチウム（０．２６ｍＬ，０．４１２ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（乾燥，１ｍＬ）中のＤ１３ａ（０．０８０ｇ，０．２０６ｍｍｏｌ）の溶液に滴下した。滴下の際に、白色沈殿物が形成された。ＴＨＦ（乾燥，５ｍＬ）を加えた。０℃での撹拌を１０分間続けた。反応混合物をＲＴまで昇温させ、撹拌を１時間続けた。ＴＬＣ（Ｈ／Ｅ，１：１）は、出発物質および２つのより極性のスポットを示した。ジエチルエーテル中１．６Ｍのメチルリチウム（０．３９ｍＬ，０．６１８ｍｍｏｌ）を、アルゴン下、ＲＴにおいて加えた。撹拌を一晩続けた。反応混合物は、黄色溶液に変化した。溶媒を真空中で除去した。ＴＨＦ（乾燥，１ｍＬ）を、アルゴン下、ＲＴにおいて加えた。ジエチルエーテル中１．６Ｍのメチルリチウム（０．２６ｍＬ，０．４１２ｍｍｏｌ）を滴下し、反応混合物をＲＴにおいて３時間撹拌した。塩化アンモニウム飽和水溶液（１０ｍＬ）、Ｈ２Ｏ（５ｍＬ）およびジエチルエーテル（２０ｍＬ）を加えた。層を分離し、水層をジエチルエーテルで抽出した（２×２５ｍＬ）。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を真空中で除去した。フラッシュクロマトグラフィー（Ｈ，５％〜２５％ＥｔＯＡｃ）により、１３ｍｇの３ベータ−ヒドロキシジアステレオ異性体および１２ｍｇの３アルファ−ヒドロキシジアステレオ異性体が得られた。化合物Ｄ１３（３α−ＯＨ）（１２ｍｇ，０．０３０ｍｍｏｌ；１４．４％）および化合物Ｄ１３（３β−ＯＨ）（１３ｍｇ，０．０３２ｍｍｏｌ；１５．６％）。（３α−ＯＨ）：１Ｈ−ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ２．０３  −  １．９２  （ｍ，  ２Ｈ），  １．９０  −  １．７９  （ｍ，  ２Ｈ），  １．７８  −  １．７０  （ｍ，  １Ｈ），  １．６３  −  ０．９９  （ｍ，  ２５Ｈ），  １．２５  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ３Ｈ），  １．１９  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９３  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９１  （ｄ，  Ｊ  ＝  ６．５  Ｈｚ，  ３Ｈ），  ０．６４  （ｓ，  ３Ｈ）．  （３β−ＯＨ）：  １Ｈ−ＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  δ（ｐｐｍ）：  ２．００  −  １．７８  （ｍ，  ４Ｈ），  １．６７  −  ０．９９  （ｍ，  ２５Ｈ），  １．２２  （ｓ，  ３Ｈ），  １．２０  （ｓ，  ｂｒ，  ６Ｈ），  ０．９６  （ｓ，  ３Ｈ），  ０．９４  −  ０．８６  （ｍ，  ４Ｈ），  ０．６５  （ｓ，  ３Ｈ）。
【０４９２】
実施例３３．化合物Ｃ３−アルファおよびＣ３−ベータＤ１４の調製
【化２０１】
2016514967.tif 000202
火炎乾燥した反応チューブ（２０ｍＬ）において、Ｄ４ｂ（０．１ｇ，０．２５７ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下において乾燥ＴＨＦ（３ｍＬ）に溶解し、−１０℃に冷却した。ＴＨＦ中３．０ＭのＭｅＭｇＣｌ（０．８６ｍＬ，２．５７ｍｍｏｌ）を、注射器を使用して滴下した。ＴＨＦ中３．０ＭのＭｅＭｇＣｌ（０．６８ｍＬ，２．０４ｍｍｏｌ）。その反応混合物は、１．５時間の間に室温に達し、それを室温において２時間撹拌した。その反応混合物を、ＮＨ４Ｃｌ飽和水溶液（１００ｍＬ）の撹拌溶液に注ぎ込み、ＣＨ２Ｃｌ２で３回抽出した（３×７５ｍＬ）。合わせた有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４において乾燥させ、粗生成物を、フラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカ，ヘプタン／酢酸エチル，１：０−＞４：１）によって精製することにより、Ｄ１４（α−ＯＨ）（２８ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ，収率＝２７％）とＤ１４（β−ＯＨ）（２１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ，収率＝２０％）の両方を白色固体として得た。Ｄ１４（α−ＯＨ）：１ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  １．９５  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．３，  ３．１  Ｈｚ），  １．８９−１．７７  （１Ｈ，  ｍ），  １．６５  （１Ｈ，  ｄｑ，  Ｊ＝１２．７，  ３．３  Ｈｚ），  １．２０  （９Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．７５  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７８−０．６９  （１Ｈ，  ｍ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ）．  Ｄ１４  （β−ＯＨ）：  １ＨＮＭＲ  （４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：  １．９６  （１Ｈ，  ｄｔ，  Ｊ＝１２．５，  ３．３  Ｈｚ），  １．８９−１．７７  （１Ｈ，  ｍ），  １．２５  （３Ｈ，  ｓ），  １．２０  （３Ｈ，  ｓ），  １．１９  （３Ｈ，  ｓ），  ０．９２  （３Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．５  Ｈｚ），  ０．８１（３Ｈ，  ｓ），  ０．６５  （３Ｈ，  ｓ），  ０．７０−０．６１  （１Ｈ，  ｍ）。
実施例３４．６−ジフルオロアナログの合成
【化２０２】
2016514967.tif 000203
（ａ）Ｈ２ＳＯ４、ＭｅＯＨ、一晩還流、９７％；（ｂ）Ｊｏｎｅｓ試薬、アセトン、０℃３０分、６０％；（ｃ）ＨＣｌ、ＭｅＯＨ、一晩ｒｔ、４４％；（ｄ）Ａｃ２Ｏ、ピリジン、７０℃、一晩、９２％；（ｅ）ＤＡＳＴ（ｎｅａｔ）、４０℃、４日間、４２℃；（ｆ）ＨＣｌ、ＭｅＯＨ、ＴＨＦ、一晩ｒｔ；（ｇ）Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎペルヨージナン、ＣＨ２Ｃｌ２、一晩ｒｔ；（ｈ）ＭｅＭｇＢｒ、ＴＨＦ、０℃。
実施例３５．５，６−アルケニル−６−モノフルオロアナログの合成
【化２０３】
2016514967.tif 000204
（ａ）Ｈ２ＳＯ４、ＭｅＯＨ、一晩還流、９７％；（ｂ）Ｊｏｎｅｓ試薬、アセトン、０℃３０分、６０％；（ｃ）ＨＣｌ、ＭｅＯＨ、一晩ｒｔ、４４％；（ｄ）Ａｃ２Ｏ、ピリジン、７０℃、一晩、９２％；（ｅ）ＤＡＳＴ（ｎｅａｔ）、ｃａｔ．発煙Ｈ２ＳＯ４；（ｆ）ＨＣｌ、ＭｅＯＨ、ＴＨＦ、一晩ｒｔ；（ｇ）Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎペルヨージナン、ＣＨ２Ｃｌ２、一晩ｒｔ；（ｈ）ＭｅＭｇＢｒ、ＴＨＦ、０℃。
実施例３６．６−ベータ−メチルアナログの合成
【化２０４】
2016514967.tif 000205
（ａ）エタン−１，２−ジオール、ｃａｔ．ＴｓＯＨ、トルエン、一晩還流；（ｂ）Ａｃ２Ｏ、ピリジン、一晩ｒｔ；（ｃ）ＢＨ３、ＴＨＦ、ＮａＯＨ／Ｈ２Ｏ２、０℃その後ｒｔ；（ｄ）Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎペルヨージナン、ＣＨ２Ｃｌ２、一晩ｒｔ；（ｅ）メチルトリフェニルホスホニウムブロミド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ＴＨＦ、室温；（ｆ）ＴＣＤＩ、ＤＭＡＰ、ＣＨ２Ｃｌ２、４０℃；（ｇ）Ｐｈ３ＳｎＨ、ＡＩＢＮ、トルエン、１１０℃；（ｈ）炭酸カリウム、ＭｅＯＨ、一晩ｒｔ；（ｉ）ＭｅＭｇＢｒ、ＴＨＦ、０℃。
【化２０５】
2016514967.tif 000206
（ａ）３Ｍ  ＨＣｌ、アセトン；（ｂ）（エチル）−トリフェニルホスホニウムブロミド、ｔ−ＢｕＯＫ、ＴＨＦ、６５℃；（ｅ）メチルアクリレート、ＥｔＡｌＣｌ２、ＤＣＭ、ｒｔ；（ｆ）１０％Ｐｄ／Ｃ、Ｈ２、ＥｔＯＡｃ；（ｇ）ＭｅＭｇＢｒ、ＴＨＦ、０℃。
【０４９３】
アッセイ方法
本発明の化合物は、文献に記載されている様々なインビトロおよびインビボアッセイを用いて評価され得る；それらの例を下記で説明する。
【０４９４】
以下の実施例は、本明細書中に提供される化合物の生物学的活性、薬学的組成物および方法を例証するために提供されるが、いかなる様式でもそれらの範囲を限定するものとみなされるべきでない。
【０４９５】
ＮＭＤＡ調節活性アッセイ
本発明の化合物は、ＰａｕｌらによってＪ．Ｐｈａｒｍ．ａｎｄ  Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．１９９４，２７１，６７７−６８２に記載されたアッセイを使用して、ＮＭＤＡ調節活性について試験されるかまたは試験され得る。そのアッセイプロトコルを、下記に転載する。
【０４９６】
（１）細胞培養
１９日齢のＳｐｒａｇｕｅ−Ｄａｗｌｅｙラット胚由来の海馬ニューロンを、以前に記載されたように（Ｓｅｇａｌ，Ｊ．ＮｅｕｒｏｐｈｙｓｉｏＬ  ５０  １２４９−１２６４，１９８３）、初代培養として維持する。簡潔には、海馬組織を切除し、機械的に破壊し、１０％ウシ胎仔血清、１０％ウマ血清および２ｍＭグルタミンが補充されたアール塩を含む改変イーグル培地（Ｓｉｇｍａ）が入った、ポリ−Ｌ−リジン（Ｓｉｇｍａ，Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ）でコーティングされたガラス底の３５ｍｍ培養皿にその細胞懸濁液をプレーティングする。Ｎ３血清サプリメント（Ｇｕｔｈｒｉｅら、Ｂｒａｉｎ  Ｒｅｓ．４２０  ３１３−３２３，１９８７から改変したもの）は、ウシ血清アルブミン，０．００１％；トランスフェリン，２０ｍｇ／リットル；インスリン，１０ｍｇ／リットル；セレン，６０ｎＭ；コルチコステロン，４０μｇ／リットル；トリヨードチロニン，２０μｇ／リットル；プロゲステロン，４０ｎＭ；およびプトレッシン，２００μＭからなり、これを上記培地に加える。細胞を、１０％ＣＯ２および９０％空気を含む加湿雰囲気においてインキュベートする。プレーティング後、ウシ胎仔血清を欠く培養液を７日ごとに加える。７〜１４日後に、培養中の細胞を使用する。
【０４９７】
（２）細胞内Ｃａ＋＋の計測
培養物を、以下を含む（単位はミリモル濃度の量）緩衝液で３回洗浄する：ＮａＣｌ，１４５；ＫＣｌ，２．５；ＨＥＰＥＳ，１０；ＣａＣｌ２，１；およびグルコース，１０（ＮａＯＨでｐＨ７．４に調整され、スクロースで３１５〜３２５ｍＯｓｍの重量オスモル濃度に調整されたもの）。次いで、その培養物をフラ−２アセトキシメチルエステル２〜５μＭとともに３０〜４５分間、３７℃の暗所においてインキュベートする。インキュベーション時間の後、培養物を再度、緩衝液で３回洗浄し（ｉｓｈｅｄ）、エステルの完全な加水分解を可能にするために≧１５ｍｍにわたって静置させる。目的のニューロンを、およそ２５０μ１／分の速度（３７℃）において緩衝液で灌流する。灌流デバイスは、細胞からおよそ５００μｍに位置する共通の先端に排出される１０本のチューブの水冷ジャケット付きアレイからなった。すべての溶液が、電圧感受性Ｎａ＋電流を排除するための０．５μＭテトロドトキシン、およびＮＭＤＡレセプター上のストリキニーネ非感受性グリシン部位を飽和させるための２〜５μＭグリシンを含んだ。
【０４９８】
Ｃａ＋＋感受性指示薬フラ−２を用いるミクロ分光蛍光分析法（ｍｉｃｒｏｓｐｅｃｔｒｏｆｌｕｏｒｉｍｅｔｒｙ）によって、［Ｃａ＋＋］を計測する（Ｇｒｏｄｅｎら、Ｃｅｌｌ  Ｃａｌｃｉｕｍ  １２：２７９−２８７，１９９１）。二波長照度測定システム（ＳＰＥＸ−ＤＭ３０００  ＡＲ−ＣＭ，ＳＰＥＸ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｅｄｉｓｏｎ，ＮＪ）を備えたＮｉｋｏｎ倒立顕微鏡を用いてニューロンを照射する。
【０４９９】
フラ−２の励起は、３４０ｎｍおよび３８０ｎｍで生じ、放射光を５１０ｎｍでモニターした。ニューロンは、位相差顕微鏡によって可視化され、それらの特徴的な形態によって容易に同定される。光電子増倍管に達する光を、目的の細胞によって放射される光に、ピンホールによって限定する。光子数を、後の解析のためにデジタル形式で保存する。較正は、Ｇｒｙｎｋｉｅｗｉｃｚら（Ｊ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．２８０，３４４４０−３４５０，１９８５）によって記載されたように行う。以下（単位はミリモル濃度の量）：ＫＣｌ，１３０；ＮａＣｌ，１７；ＨＥＰＥＳ，１０；グルコース，１０；ＣａＣｌ２，２；およびイオノマイシン，０．０１５を含む緩衝液（ｐＨ７．２，３７℃）に細胞を浸すことによって、Ｃａ＋＋飽和時の蛍光比（Ｒｍａｘ）をインサイチュで測定する。いくつかの較正用緩衝液は、ミトコンドリアの酸化的リン酸化を脱共役するために１０μＭのシアン化カルボニル−ｍ−クロロフェニル−ヒドラゾンを含んだ。ゼロのＣａ＋＋での蛍光比（Ｒｍｉｎ）を測定するために、３ｍＭ  ＥＧＴＡおよび８０μＭ  ＥＧＴＡアセトキシメチルエステルをＣａＣｌ２の代わりに用いるように緩衝液を改変する。２８５ｎＭの見かけのＫｄ（Ｇｒｏｄｅｎら、１９９１）を［Ｃａ＋＋］ｉの計算に用いる。
【０５００】
電気生理学アッセイ
本発明の化合物を、ＰｅｔｒｏｖｉｃらによってＪ．Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ  １６０（２００９）６１６−６２８に記載されたような電気生理学アッセイにおいて試験するか、または試験され得る。そのアッセイプロトコルを下記に転載する。
【０５０１】
（１）海馬培養
初代解離海馬培養物を生後１〜２日齢のラットから調製する。動物を断頭し、海馬を切除する。トリプシン消化に続いて機械的解離を用いることにより、細胞懸濁液を調製する。単一細胞を、５００，０００細胞／ｃｍ２の密度で、ポリリジンがコーティングされた３１ｍｍまたは１２ｍｍのカバーグラス上にプレーティングする。ニューロン培養物を、グルタミン（０．５ｍＭ）およびＢ２７無血清サプリメント（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ）が補充されたＮｅｕｒｏｂａｓａｌＴＭ−Ａ（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，Ｃａｒｌｓｂａｄ，ＣＡ，ＵＳＡ）培地中で維持する。
【０５０２】
（２）ＨＥＫ２９３細胞のトランスフェクションおよび維持
ＨＥＫ２９３細胞（Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｔｙｐｅ  Ｃｕｌｔｕｒｅ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ，ＡＴＴＣ  Ｎｏ．ＣＲＬ１５７３，Ｒｏｃｋｖｉｌｌｅ，ＭＤ，ＵＳＡ）を、５％ウシ胎仔血清を含むＯｐｔｉ−ＭＥＭ（登録商標）Ｉ（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ）中、３７℃において培養し、以前に記載されたような（Ｃａｉｓら、Ｎｅｕｒｏｓｃｉｅｎｃｅ  １５１：４２８−４３８，２００８）ＮＲ１−１ａ／ＮＲ２Ｂ／緑色蛍光タンパク質（ＧＦＰ）プラスミドでトランスフェクトする。簡潔には、ＮＲ１、ＮＲ２およびＧＦＰをコードする等量（０．３μｇ）のｃＤＮＡ（ｐＱＢＩ２５，Ｔａｋａｒａ，Ｏｔｓｕ，Ｓｈｉｇａ，Ｊａｐａｎ）を、０．９μｌのＭａｔｒａ−Ａ試薬（ＩＢＡ，Ｇｏｅｔｔｉｎｇｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）と混合し、２４ウェルプレート上のコンフルエントなＨＥＫ２９３細胞に加える。トリプシン処理後、それらの細胞を、２０ｍＭ  ＭｇＣｌ２、１ｍＭ  Ｄ，Ｌ−２−アミノ−５−ホスホノペンタン酸および３ｍＭキヌレン酸が補充された１％ウシ胎仔血清を含むＯｐｔｉ−ＭＥＭ（登録商標）Ｉに再懸濁し、ポリリジンがコーティングされた３０ｍｍのカバーガラス上にプレーティングする。ＮＭＤＡＲサブユニットをコードする以下の遺伝子を使用する：ＮＲ１−１ａ（ＧｅｎＢａｎｋアクセッション番号Ｕ０８２６１）（Ｈｏｌｌｍａｎｎら、Ｎｅｕｒｏｎ  １０：９４３−９５４  １９９３）およびＮＲ２Ｂ（ＧｅｎＢａｎｋアクセッション番号Ｍ９１５６２）（Ｍｏｎｙｅｒら、Ｓｃｉｅｎｃｅ，２５６：１２１７−１２２１，１９９２）。
【０５０３】
（３）培養細胞からの記録および薬物適用
ＨＥＫ２９３のトランスフェクション終了の２４〜４８時間後に実験を行う；５〜８日間、培養して維持されたニューロンを使用する。８０％〜９０％のキャパシタンスおよび直列抵抗（＜１０ＭΩ）補償後、パッチクランプ増幅器でホールセル電圧固定記録を行う。アゴニスト誘導応答を、８極ベッセルフィルター（Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  Ｄｅｖｉｃｅｓ，Ｈａｖｅｒｈｉｌｌ，ＭＡ，ＵＳＡ）を用いて１ｋＨｚで低域フィルタリングし、５ｋＨｚでデジタルサンプリングし、ｐＣＬＡＭＰソフトウェアバージョン９（Ａｘｏｎ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ）を使用して解析する。ホウケイ酸ガラスから引いたパッチピペット（３〜４ＭΩ）を、（単位はｍＭ）１２５グルコン酸、１５ＣｓＣｌ、５ＥＧＴＡ、１０Ｈｅｐｅｓ、３ＭｇＣｌ２、０．５ＣａＣｌ２および２ＡＴＰ−Ｍｇ塩を含むＣｓ＋ベースの細胞内液（Ｃｓ−ＩＣＳ）（ＣｓＯＨで７．２にｐＨを調整した）で満たす。細胞外液（ＥＣＳ）は、（単位はｍＭ）１６０ＮａＣｌ、２．５ＫＣｌ、１０Ｈｅｐｅｓ、１０グルコース、０．２ＥＤＴＡおよび０．７ＣａＣｌ２を含んだ（ＮａＯＨで７．３にｐＨを調整した）。いくつかの実験では、示されるとおり、ＣａＣｌ２の濃度を０．２ｍＭ（ＥＤＴＡなし）に低下させるか２ｍＭに上昇させる。ＮＭＤＡＲコアゴニストであるグリシン（１０μＭ）が、コントロール溶液および試験溶液中に存在する。テトロドトキシン（０．５μＭ）およびビククリンメトクロリド（１０μＭ）を、培養海馬ニューロンに対する実験において使用する。本発明の化合物の溶液を、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）中の調製したばかりの２０ｍＭストックから作製する。同じ濃度のＤＭＳＯをすべてのＥＣＳ中で維持する。マイクロプロセッサ制御マルチバレル高速灌流システムを、約１０ｍｓという細胞周囲の溶液交換の時定数で使用することにより、試験溶液およびコントロール溶液を適用する（Ｖｙｋｌｉｃｋｙら、Ｊ  Ｐｈｙｓｉｏｌ  Ｌｏｎｄ  ４７０：５７５−６００  １９９０）。
【０５０４】
本発明の化合物を、本明細書中に記載される合成方法に従って調製し、当業者に公知の従来の方法を用いることによってそれらの純度を試験する。
【０５０５】
インビトロにおけるＮＭＤＡ結合
化合物をスクリーニングすることにより、インビトロにおけるＮＭＤＡ結合のモジュレーターとしてのそれらの可能性を判定することができる。これらのアッセイは、上で論じられた手順に従って行われるかまたは行われ得る。
【０５０６】
インビボ薬理学
体重が１５〜２０ｇの雄のＮＳＡマウスを、Ｈａｒｌａｎ  Ｓｐｒａｇｕｅ−Ｄａｗｌｅｙ（Ｓａｎ  Ｄｉｅｇｏ，ＣＡ）から入手する。到着したら、それらを、１２時間（０７．００〜１９．００昼）の昼夜サイクルで、一定温度（２３．０°±２．５℃）の部屋の中の、滅菌された床敷材料が入った標準的なポリカーボネートケージ（１ケージあたり４匹）に収容する。食餌（Ｔｅｋｌａｄ  ＬＭ  ４８５）および水は、自由に入手可能である。マウスを実験前に最低４日間、順化させる。
【０５０７】
ワイヤ懸垂試験
ワイヤ懸垂試験では、詰め物をした表面の上（２５ｃｍ）に水平に吊された金属ワイヤ（直径２ｍｍ）からなる特注の装置を使用した。マウスを尾の基部で保持し、前足をワイヤと接触させ、次いで、放す。合格としてスコア付けされるためには、動物は、５秒以内に両後足をワイヤと接触させる必要がある。結果を素量的に処理する。
【０５０８】
薬物代謝および薬物動態：ＨＥＲＧアッセイ
ＨＥＲＧカリウムチャネルを安定に発現するＨＥＫ２９３細胞を電気生理学的研究に使用する。ＨＥＫ細胞におけるこのチャネルの安定したトランスフェクションのための方法は、他の箇所に見られ得る（Ｚｈｏｕら、Ｂｉｏｐｈｙｓ．Ｊ．７４：２３０−４１，１９９８）。実験日の前に、細胞を培養フラスコから収集し、カバーガラス上の１０％ウシ胎仔血清（ＦＣＳ）を含む標準的な最小必須培地（ＭＥＭ）にプレーティングする。プレーティングされた細胞を、９５％Ｏ２／５％ＣＯ２の雰囲気で維持された３７℃の培養器内で保管する。収集の１５〜２８時後に細胞を調べる。
【０５０９】
ホールセルモードの標準的なパッチクランプ法を用いてＨＥＲＧ電流を調べる。実験中、以下の組成（ｍＭ）の標準的な外液で細胞を灌流する：ＮａＣｌ，１３０；ＫＣｌ，４；ＣａＣｌ２，２；ＭｇＣｌ２，１；グルコース，１０；ＨＥＰＥＳ，５；ＮａＯＨでｐＨ７．４。パッチクランプ増幅器およびパッチピペットを使用してホールセル記録を行い、そのパッチピペットは、以下の組成（ｍＭ）の標準的な内液で充填されたとき、１〜３ＭＯｈｍの抵抗を有する：ＫＣｌ，１３０；ＭｇＡＴＰ，５；ＭｇＣｌ２，１．０；ＨＥＰＥＳ，１０；ＥＧＴＡ  ５，ＫＯＨでｐＨ７．２。１５ＭＯｈｍより低いアクセス抵抗および＞１ＧＯｈｍのシール抵抗を有する細胞だけを、さらなる実験に許容する。直列抵抗補償を最大８０％まで適用した。リークサブトラクションを行わない。しかしながら、許容され得るアクセス抵抗は、記録される電流の大きさ、および安全に使用され得る直列抵抗補償レベルに依存した。
【０５１０】
ホールセル配置が達成され、ピペット溶液での細胞透析に十分な時間（＞５分）が経過した後、標準的な電圧プロトコルを細胞に適用して膜電流を誘発する。この電圧プロトコルは、以下のとおりである。膜を１０００ミリ秒間、−８０ｍＶの保持電位から＋４０ｍＶに脱分極させる。この後、保持電圧へと戻る降下電圧ランプ（ｄｅｓｃｅｎｄｉｎｇ  ｖｏｌｔａｇｅ  ｒａｍｐ）（速度０．５ｍＶミリ秒−１）が続いた。この電圧プロトコルを、この実験全体を通して４秒ごとに継続的に細胞に適用する（０．２５Ｈｚ）。このランプ中に約−４０ｍＶを誘発するピーク電流の振幅を計測する。安定した誘発電流応答が外液において得られたら、ビヒクル（標準的な外液中、０．５％ＤＭＳＯ）を蠕動ポンプ（ｐｅｒｉｓｔａｌｉｃ  ｐｕｍｐ）によって１０〜２０分間適用する。ビヒクルコントロール条件において誘発電流応答の振幅の変化が最小であるという条件で、０．３、１、３または１０ｍＭのいずれかの試験化合物を１０分間適用する。この１０分の時間は、供給溶液がポンプを介してチューブを通って溶液レザーバから記録チャンバーを通過する時間を含んだ。化合物溶液への細胞の曝露時間は、チャンバーウェル内の薬物濃度が、試みている濃度に達した後、５分より長かった。その後、可逆性を評価するための１０〜２０分間の洗浄時間がある。最後に、細胞を、高用量の、特異的なＩＫｒ遮断剤であるドフェチリド（５ｍＭ）に曝露することにより、非感受性内因性電流を評価する。
【０５１１】
すべての実験を室温（２３±１℃）において行う。誘発膜電流を、コンピュータにおいてオンラインで記録し、パッチクランプ増幅器および特定のデータ解析ソフトウェアを使用して、５００〜１ＫＨｚ（Ｂｅｓｓｅｌ−３ｄＢ）でフィルタリングし、１〜２ＫＨｚでサンプリングした。約−４０ｍＶで発生するピーク電流振幅を、コンピュータにおいてオフラインで計測する。
【０５１２】
ビヒクルコントロール条件下および薬物存在下における１０個の振幅値の算術平均を計算する。各実験におけるＩＮの減少パーセントを、以下の式を用いて、正規化された電流値によって得た：ＩＮ＝（１−ＩＤ／ＩＣ）×１００（式中、ＩＤは、薬物存在下での平均電流値であり、ＩＣは、コントロール条件下での平均電流値である）。別個の実験を、各薬物濃度に対してまたは時間をマッチさせたコントロールに対して行い、各実験における算術平均をその研究の結果として定義する。
【０５１３】
薬物代謝および薬物動態：ヒト肝ミクロソーム（ＨＬＭ）における半減期
試験化合物（１μＭ）を、１００ｍＭリン酸カリウム緩衝液（ｐＨ７．４）中の、３．３ｍＭ  ＭｇＣｌ２および０．７８ｍｇ／ｍＬ  ＨＬＭ（ＨＬ１０１）とともに、９６深ウェルプレートにおいて３７℃でインキュベートする。反応混合物を、非Ｐ４５０群とＰ４５０群の２群に分ける。ＮＡＤＰＨを、Ｐ４５０群の反応混合物にだけ加える。Ｐ４５０群のサンプルのアリコートを、０、１０、３０および６０分の時点において回収し、ここで、０分の時点は、ＮＡＤＰＨをＰ４５０群の反応混合物に加えた時間を示唆した。非Ｐ４５０群のサンプルのアリコートを、−１０および６５分の時点において回収する。回収されたアリコートを、内標準を含むアセトニトリル溶液で抽出する。沈殿タンパク質を、遠心機でスピンダウンさせる（２０００ｒｐｍ、１５分）。上清中の化合物濃度を、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳシステムによって計測する。化合物／内標準のピーク面積比の自然対数を時間に対してプロットすることによって、半減期値を得る。それらの点を通る最良適合の線の傾きから、代謝速度（ｋ）が得られ、以下の方程式を用いて、それを半減期値に変換する：半減期＝ｌｎ２／ｋ。
【０５１４】
実施例３７．ＮＭＤＡ増強データ
ホールセルパッチクランプ法を用いることにより、ＨＥＫ細胞において発現されるＮＭＤＡレセプター（ＧＲＩＮ１／ＧＲＩＮ２Ａサブユニット）に対する化合物（０．１ｍＭおよび１．０ｍＭ）の効果を調査した。ＮＭＤＡレセプターを発現する安定にトランスフェクトされた細胞からのＮＭＤＡ／グリシンピーク電流および定常状態電流を記録し、これらの電流に対する試験品の調節効果を調査した。
【０５１５】
細胞をヒトＧＲＩＮ１（バリアントＮＲ１−３）で安定的にトランスフェクトした（Ｌｉｐｏｆｅｃｔａｍｉｎｅ（商標））。これらの細胞を、ＧＲＩＮ２Ａ  ｃＤＮＡおよびＣＤ８（ｐＬｅｕ）アンチジーンｃＤＮＡで一過性にトランスフェクトした。トランスフェクションの約２４〜７２時間後、１μｌのＤｙｎａｂｅａｄｓ  Ｍ−４５  ＣＤ８を加えることにより、首尾よくトランスフェクトされた細胞を同定した（Ｊｕｒｍａｎら、Ｂｉｏｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ（１９９４）１７：８７６−８８１）。細胞を５０〜８０％コンフルエンスまで継代した。ＰａｔｃｈＭａｓｔｅｒソフトウェアを使用してＨＥＫＡ  ＥＰＣ−１０増幅器でホールセル電流を計測した。記録用の細胞培養皿を顕微鏡のディッシュホルダーに置き、浴液で継続的に灌流した（１ｍｌ／分）。ピペット溶液を含む、細胞に適用されたすべての溶液を、室温で維持した（１９℃〜３０℃）。パッチ電極とトランスフェクトされた個々のＨＥＫ２９３細胞との間のギガオームシールの形成後（ピペット抵抗範囲：２．５ＭＷ〜６．０ＭＷ；シール抵抗範囲：＞１ＧＷ）、ピペット先端を横断する細胞膜を破断して、細胞内部への電気的アクセスを確実にした（ホールセルパッチ配置）。安定したシールを確立することができたら、パッチクランプされた細胞への３０μＭ  ＮＭＤＡ（および５．０μＭグリシン）の５秒間の適用（２回適用）におけるＮＭＤＡの内向き電流を計測した。それらの細胞を−８０ｍＶの保持電位で電圧固定した。
【表１−１】
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【表１−２】
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【表１−３】
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【表１−４】
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【表１−５】
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【表１−６】
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【０５１６】
他の実施形態
請求項において、冠詞（例えば「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」）は、それとは反対のことが示されないかまたは別途文脈から明らかでない限り、１つまたは１つより多いことを意味することがある。ある群の１つまたはそれを超えるメンバー間に「または」を含む請求項または記載は、それとは反対のことが示されないかまたは別途文脈から明らかでない限り、１つ、１つより多い、またはすべての群メンバーが、所与の生成物もしくはプロセスに存在するか、所与の生成物もしくはプロセスにおいて用いられるか、または所与の生成物もしくはプロセスに別途関連していることが満たされるとみなされる。本発明は、その群の正確に１つのメンバーが、所与の生成物もしくはプロセスに存在するか、所与の生成物もしくはプロセスにおいて用いられるか、または所与の生成物もしくはプロセスに別途関連している実施形態を含む。本発明は、１つより多いまたはすべての群メンバーが所与の生成物もしくはプロセスに存在するか、所与の生成物もしくはプロセスにおいて用いられるか、または所与の生成物もしくはプロセスに別途関連している実施形態を含む。
【０５１７】
さらに、本発明は、列挙される請求項のうちの１項またはそれを超える請求項からの１つまたはそれを超える限定、エレメント、節および記述用語が別の請求項に導入されるすべてのバリエーション、組み合わせおよび順列を包含する。例えば、別の請求項に従属している任意の請求項は、同じ基本請求項に従属している他の任意の請求項に見られる１つまたはそれを超える限定を含むように改変され得る。エレメントが、例えば、マーカッシュ群形式で、リストとして提示されている場合、それらのエレメントの各部分群も開示され、任意のエレメントをその群から除去することができる。一般に、本発明または本発明の態様は、特定のエレメントおよび／または特徴を含むと言及される場合、本発明または本発明の態様のある特定の実施形態が、そのようなエレメントおよび／または特徴からなるか、またはそれらから本質的になると理解されるべきである。単純にするために、それらの実施形態は、本明細書中に具体的にそのとおりの言葉で示されていない。用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」および「含む（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」は、オープンであると意図されており、追加のエレメントまたは工程を含めることを許容することにも注意される。範囲が与えられている場合、終点を含む。さらに、別途示されないか、または文脈および当業者の理解から別途明らかでない限り、範囲として表現されている値は、文脈が明らかに他のことを指示しない限り、本発明の異なる実施形態において述べられた範囲内の任意の具体的な値または部分範囲をその範囲の下限の単位の１０分の１まで想定することができる。
【０５１８】
本願は、様々な発行特許、公開特許出願、学術論文および他の刊行物に言及しており、これらのすべてが参照により本明細書中に援用される。援用される任意の参考文献と本明細書との間に矛盾がある場合、本明細書が支配するものとする。さらに、従来技術に入る本発明の任意の特定の実施形態は、請求項のいずれか１つまたはそれを超える請求項から明確に除外してよい。そのような実施形態は、当業者に公知であるとみなされるので、その除外が本明細書に明確に示されていない場合でもそれらを除外してよい。本発明の任意の特定の実施形態は、従来技術の存在に関係していてもしていなくても、何らかの理由で任意の請求項から除外されることがある。
【０５１９】
当業者は、単なる日常的な実験法を用いて、本明細書中に記載される具体的な実施形態に対する多くの等価物を認識し得るかまたは突き止めることができるだろう。本明細書中に記載される本実施形態の範囲は、上記の説明に限定されると意図されておらず、むしろ添付の請求項に示されるとおりである。当業者は、以下の請求項において定義されるような本発明の精神または範囲から逸脱することなく、この説明に様々な変更および改変が行われ得ることを認識するだろう。
【国際調査報告】
2016514967.tif 000213