(57)【要約】  約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を有する形状化研磨粒子である。【選択図】  図１Ａ
2016529117.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を含む形状化研磨粒子。
【請求項２】
約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を有する複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む研磨粒子の束。
【請求項３】
前記複数の形状化研磨粒子が約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）を含む、請求項１及び２のいずれか１項に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項４】
前記ＭＱＭＰＤが少なくとも約１％である、請求項３に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項５】
前記形状化研磨粒子又は前記第１の部分の前記複数の形状化研磨粒子が：
約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）；
約８ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）；
約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）；
約８ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）；
約８ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）；
約６ｋＮ／ｍｍ２以下の最大四分位数の差（ＭＱＤ）；
少なくとも約１５％の主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）；
約１．５ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）；
約５０％以下の主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）；
約２５％以下の主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）；
約８ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）；及び、
これらの組合せ
から成る群から選択される第１の研削特徴をさらに含む、請求項１及び２のいずれか１項に記載の形状化研磨粒子又は形状化粒子の束。
【請求項６】
前記ＭＳＧＰＤが少なくとも約１％である、請求項１及び２のいずれか１項に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項７】
前記形状化研磨粒子が、長さ（ｌ）、幅（ｗ）及び高さ（ｈｉ）を有する本体を含み、幅≧長さ、長さ≧高さ、及び、幅≧高さである、請求項１及び２のいずれか１項に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項８】
前記形状化研磨粒子が、第１の主面、第２の主面、及び、第１の主面と第２の主面との間に延びている少なくとも１つの側面を有する立体を含む、請求項１及び２のいずれか１項に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項９】
前記本体が、約１ミクロンと約２００ミクロンとの間の主面かどの曲率半径を含む、請求項８に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１０】
前記本体が、約１ミクロンと約８００ミクロンとの間の側面かどの曲率半径を含む、請求項８に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１１】
前記本体が、約０．１と約１．５との間の、側面かどの曲率半径（ＳＳＣＲ）の主面かどの曲率半径（ＭＳＣＲ）に対する比（ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲ）を含む、請求項８に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１２】
前記本体が、側面かどの曲率半径よりも大きい主面かどの曲率半径を含む、請求項８に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１３】
前記本体が、約１％と約２０％との間のパーセントフラッシングを含む、請求項７に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１４】
前記本体が、長さ及び幅によって画定される平面で見られる二次元的な多角形状を含み、本体は、三角形、四辺形、長方形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形及びこれらの組合せから成る群から選択される形状を含む、請求項７に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１５】
前記本体が有機材料を本質的に含まない、請求項７に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１６】
前記本体が、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、オキシ窒化物、ダイアモンド及びこれらの組合せから成る材料の群から選択される粒を包含する多結晶質材料を含む、請求項７に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１７】
前記本体が播種されたゾルゲルから形成される、請求項７に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１８】
前記本体が希土類元素を含む添加剤を含む、請求項７に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項１９】
主面研削効率及び側面研削効率をさらに含み、ここで、前記主面研削効率が前記側面研削効率よりも小さい、請求項１及び２のいずれか１項に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２０】
主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）、主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）、側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）及び側面研削効率の下側四分位数（ＳＳＬＱ）をさらに含む、請求項１及び２のいずれか１項に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２１】
約６ｋＮ／ｍｍ２以下の最大四分位数の差（ＭＱＤ）をさらに含む、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２２】
少なくとも約１５％の主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）をさらに含む、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２３】
約１．５ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）をさらに含む、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２４】
約５０％以下の主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）をさらに含む、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２５】
約２５％以下の主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）をさらに含む、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２６】
前記主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）が、約０．１ｋＮ／ｍｍ２と約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下との間である、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２７】
前記主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）が、前記主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）よりも小さく、前記主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）が、約８ｋＮ／ｍｍ２以下である、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２８】
前記主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）が、前記主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）よりも小さく、前記主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）が、約８ｋＮ／ｍｍ２以下である、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項２９】
前記側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）が、約０．１ｋＮ／ｍｍ２と約８．３ｋＮ／ｍｍ２との間である、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項３０】
前記側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）が、前記側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）よりも小さく、前記側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）が、約８ｋＮ／ｍｍ２以下である、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項３１】
前記側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）が、前記側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）よりも小さく、ここで、前記側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）が、約８ｋＮ／ｍｍ２以下である、請求項２０に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項３２】
前記第１の部分が束の形状化研磨粒子の総数の多数を含む、請求項２に記載の研磨粒子の束。
【請求項３３】
前記形状化研磨粒子又は前記研磨粒子の束が固定された研磨品の部分である、請求項１及び２のいずれか１項に記載の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【請求項３４】
研磨品であり：
バッキング：
バッキングを覆う複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む研磨粒子の束
を含む前記研磨品であって、ここで、前記第１の部分の複数の形状化研磨粒子は：
約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）；
約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）；及び
これらの組合せのうち、少なくとも１つの第１の研削特徴を含む、前記研磨品。
【請求項３５】
前記束の第１の部分の複数の形状化研磨粒子の多数が、バッキングに対して、実質的に側配向で配置される、請求項３４の研磨品。
【請求項３６】
前記束が形状化研磨粒子の第２の部分をさらに含み、前記形状化研磨粒子の第２の部分は、前記第１の部分の前記第１の研削特徴とは異なる第２の研削特徴を有し、ここで、前記第２の研削特徴は：
主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）；
主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）；
主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）；
側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）；
側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）；
側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）；
主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）；
最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）；
最大四分位数の差（ＭＱＤ）；
主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）；
主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）；
主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）；
主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）；
及びこれらの組合せから成る群から選択される、請求項３４の研磨品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
以下は研磨品、及び、具体的には、形状化研磨粒子を含む研磨品を対象とする。
【背景技術】
【０００２】
研磨粒子及び研磨粒子から作製される研磨品は、研削、仕上げ加工及び研磨を包含する様々な物質除去操作に役立つ。研磨材料の種類によって、そのような研磨粒子は、物品の製造において幅広い種類の材料及び表面を形状化又は研削するのに役立ち得る。三角形の研磨粒子及びそのような物体を組込んだ研磨品といった、特定のジオメトリーを有する特定の種類の研磨粒子が現在までに作り出された。例えば、米国特許第５，２０１，９１６号；第５，３６６，５２３号；及び第５，９８４，９８８号を参照されたい。
【０００３】
特定の形状を有する研磨粒子を製作するのに使用されてきた３つの基本的な技術は、（１）融解、（２）焼結及び（３）化学的セラミックである。融解プロセスでは、研磨粒子は、表面が彫刻されていてもいなくてもよいチルロール、溶融した材料を注ぎ込む鋳型、又は、酸化アルミニウム溶融物に浸漬したヒートシンク材料によって形状化され得る。例えば、米国特許第３，３７７，６６０号（溶融研磨材料を炉から冷たい回転鋳造シリンダー上に流すこと、その材料を迅速に固体化して薄い半固体の湾曲シートを形成すること、半固体材料を圧力ロールで高密度化すること、次いで、迅速に駆動する冷却したコンベヤーでシリンダーから放し、その湾曲を反転することで、半固体材料の帯を部分的に破砕することを含むプロセスを開示している）を参照されたい。
【０００４】
焼結プロセスでは、直径最大１０ミクロメートルの粒径を有する耐火性粉末から研磨粒子が形成され得る。潤滑剤及び適切な溶媒、例えば水と一緒に結合剤を粉末に添加し得る。結果として得られる混合物（単一）、混合物（複数）、又はスラリーを様々な長さ及び直径のプレートレット又はロッドに形状化し得る。例えば、米国特許第３，０７９，２４２号（焼成ボーキサイト材料から研磨粒子を作製する方法を開示しており、当該方法は、（１）材料を細粉末にすること、（２）陽圧（ａｆｆｉｒｍａｔｉｖｅ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ）下で圧縮し、前記粉末の微粒子を粒子サイズの凝集体に形成すること、及び、（３）粒子の凝集体をボーキサイトの融解温度未満の温度で焼結し、粒子の限定的な再結晶を引き起こし、それによって研磨粒が作製されて直接サイズ決定することを含む）を参照されたい。
【０００５】
化学的セラミック技術は、混合物中であってもよいコロイド性分散液又はヒドロゾル（ゾルと呼ばれることもある）を、他の酸化金属前駆物の溶液で、成分の移動性を制限するゲル又はいずれかの他の物理的な状態へ変換すること、乾燥及び焼いてセラミック物質を得ることに関する。例えば、米国特許第４，７４４，８０２号及び第４，８４８，０４１号を参照されたい。
【０００６】
さらに、研磨粒子及び研磨粒子を利用する研磨品の性能、寿命及び能率を向上する必要性が産業内で依然として存在する。
【発明の概要】
【０００７】
一態様に従うと、形状化研磨粒子は、約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を含む。
【０００８】
さらに別の態様では、形状化研磨粒子は、約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）を含む。
【０００９】
さらに別の態様に関しては、研磨粒子の束は、約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を有する複数の形状化研磨粒子を含む、第１の部分を含む。
【００１０】
別の態様に従うと、研磨粒子の束は、約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）を有する複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む。
【００１１】
さらに別の態様では、研磨品は、バッキング、及び、バッキングを覆う複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む研磨粒子の束を含む。第１の部分の複数の形状化研磨粒子は、約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）、約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）及びこれらの組合せのうち少なくとも１つを含む。
【００１２】
一態様に関しては、方法は、研磨品を作業ピースに対して動かすことで物質を作業ピースから除去することを含み、研磨品は、バッキング及び当該バッキングを覆う複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む研磨粒子の束を含む。第１の部分の複数の形状化研磨粒子は、約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）の第１の研削特徴、約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）及びこれらの組合せのうち少なくとも１つを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
本開示は、付属の図面を参照することで、当業者にもっと理解され、その数々の特徴及び利点が当業者に明らかになり得る。
【図１Ａ】図１Ａは、一実施形態に従った粒子材料を形成するためのシステムの一部分を含む。
【図１Ｂ】図１Ｂは、一実施形態に従った粒子材料を形成するための図１Ａのシステムの一部分を含む。
【図２】図２は、一実施形態に従った粒子材料を形成するためのシステムの一部分を含む。
【図３Ａ】図３Ａは、一実施形態に従った形状化研磨粒子の透視図の図示を含む。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａの形状化研磨粒子の断面図を含む。
【図４】図４は、一実施形態に従った形状化研磨粒子の側面図及びパーセンテージフラッシング（ｆｌａｓｈｉｎｇ）を含む。
【図５】図５は、一実施形態に従ったコーティングされた研磨品の一部分の断面図を含む。
【図６】図６は、一実施形態に従ったコーティングされた研磨品の一部分の断面図を含む。
【図７Ａ】図７Ａは、一実施形態に従った形状化研磨粒子の主面の上面図の図示を含む。
【図７Ｂ】図７Ｂは、一実施形態に従った形状化研磨粒子の側面の側面図の図示を含む。
【図８】図８は、ＳＧＧＴから取得したデータを表す、作業ピースから取り除いた全面積あたりの力を一般化したプロットを含む。
【図９】図９は、一実施形態に従って、研削方向に対して所定の配向特徴を有する形状化研磨粒子を含む研磨品の一部分の透視図の図示を含む。
【図１０】図１０は、サンプルＳ１由来の２つの代表的な形状化研磨粒子の画像を含む。
【図１１】図１１は、サンプルＣＳ２由来の２つの代表的な形状化研磨粒子の画像を含む。
【図１２】図１２は、サンプルＣＳ１由来の２つの代表的な形状化研磨粒子の画像を含む。
【図１３】図１３は、形状化研磨粒子の従来のサンプル及び本明細書の実施形態を代表する形状化研磨粒子に関する、ＳＧＧＴに従った主面研削効率及び側面研削効率のプロットを含む。
【図１４】図１４は、一実施形態に従ったコーティングされた研磨材を表し、バッキング上の形状化研磨粒子の配向を分析するのに用いる画像を含む。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下は、例えば、コーティングされた研磨品といった固定された研磨品を包含する研磨品を対象とする。研磨品は、形状化研磨粒子を包み得る。様々な他の使用が形状化研磨粒子に関して得られ得る。本明細書の実施形態の特定の態様は、コーティングされた研磨品の研削特徴を対象としており、そのような特徴は、コーティングされた研磨品の意図される目的又は可能な適用を制限するものとして解釈されない。むしろ、１つ以上の研削特徴は、公知の試験状況に従うと、コーティングされた研磨品の数量化できる特徴であり、従来品と比べてコーティングされた研磨品の利点を示す。
【００１５】
形状化研磨粒子
様々な方法を用いて形状化研磨粒子を提供し得る。粒子は市販の源から提供されえ、又は、製作され得る。様々な適切なプロセスを用いて形状化研磨粒子を作製し得、制限はしないが、スクリーン印刷、造型、プレス加工、鋳造、セクショニング、切断、ダイシング、押し抜き、乾燥、硬化、蒸着、コーティング、押出し、ローリング及びこれらの組合せこれらの組合せが挙げられる。
【００１６】
図１Ａは、１つの非制限的な実施形態に従った形状化研磨粒子を形成するためのシステム１５０の図示を含む。形状化研磨粒子を形成するプロセスは、セラミック材料及び液体を含む混合物１０１を形成することで開始され得る。具体的に、混合物１０１は、セラミック粉末材料及び液体から形成されるゲルであり得、ここで、ゲルは、未完成（すなわち、未発射）状態でも所与の形状を実質的に保持する能力を有する形状安定材料として特徴付けられ得る。一実施形態に従うと、ゲルは、個別の粒子の統合したネットワークとして、セラミック粉末材料から形成され得る。
【００１７】
混合物１０１は、本明細書で詳細を述べるプロセスとの使用に適した流体力学的特徴を有するように、特定の含量の固体材料、液体材料及び添加剤を含み得る。すなわち、特定の例では、混合物は、本明細書に記載するプロセスを介して作製され得る材料の寸法的に安定な相を形成する、特定の粘度、及びより具体的には適切な流体力学的特徴を有し得る。寸法的に安定な相の材料は、具体的な形状を有し、また、形成の次に続く処理の少なくとも一部分の間、その形状を実質的に維持するよう形成され得る材料である。特定の例では、形成プロセスで最初に提供された形状が最終的に形成された物体に存在するように、次に続く処理の間中で形状は維持され得る。
【００１８】
混合物１０１は、セラミック粉末材料といった固体材料を具体的な含量で有するように形成され得る。例えば、一実施形態では、混合物１０１は、混合物１０１の全重量に対して、少なくとも約３５ｗｔ％又は少なくとも約３８ｗｔ％さえといった、少なくとも約２５ｗｔ％の固体含量を有し得る。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、混合物１０１の固体含量は、約７０ｗｔ％以下、約６５ｗｔ％以下、約５５ｗｔ％以下、約４５ｗｔ％以下又は約４２ｗｔ％以下といった約７５ｗｔ％以下であり得る。混合物１０１の固体材料の含量は上記のいずれかの最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【００１９】
一実施形態に従うと、セラミック粉末材料としては、酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、オキシ炭化物（ｏｘｙｃａｒｂｉｄｅ）、オキシ窒化物（ｏｘｙｎｉｔｒｉｄｅ）及びこれらの組合せが挙げられ得る。具体的な例では、セラミック材料としてはアルミナが挙げられ得る。さらに具体的には、セラミック材料としてはベーマイト材料が挙げられ得、これは、アルファアルミナの前駆物であり得る。「ベーマイト」という語句は一般的に、通常Ａｌ２Ｏ３・Ｈ２Ｏであり、約１５％の水含量を有する鉱物ベーマイト、並びに、重量で２０〜３８％といった１５％よりも高い水含量を有する擬ベーマイトを包含する、アルミナ水和物を意味するように本明細書で使用される。ベーマイト（擬ベーマイトを包含する）は、特定及び同定可能な結晶構造を有し、したがって、独自のＸ線回折パターンを有することに留意したい。よって、ベーマイトは、ベーマイト粒子材料の作製のために本明細書で使用される一般的な前駆材料であるＡＴＨ（トリヒドロキシアルミニウム）といった他の水和アルミナを包含する他のアルミナ材料から区別される。
【００２０】
さらに、混合物１０１は、特定の含量の液体材料を有するように形成され得る。いくつかの適切な液体は、水を包含し得る。１つの実施形態に従うと、混合物１０１は、混合物１０１の固体含量よりも少ない液体含量を有するように形成され得る。より具体的な例では、混合物１０１は、混合物１０１の全重量に関して少なくとも約２５ｗｔ％の液体含量を有し得る。他の例では、混合物１０１内の液体の量は、少なくとも約３５ｗｔ％、少なくとも約４５ｗｔ％、少なくとも約５０ｗｔ％又は少なくとも約５８ｗｔ％さえといった、より多い可能性がある。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、混合物の液体含量は、約７０ｗｔ％以下、約６５ｗｔ％以下、約６２ｗｔ％以下又は約６０ｗｔ％以下さえといった、約７５ｗｔ％以下であり得る。混合物１０１の液体の含量は、上記のいずれかの最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【００２１】
さらに、本明細書の実施形態に従った形状化研磨粒子の処理及び形成を容易にするために、混合物１０１は特定の貯蔵弾性係数を有し得る。例えば、混合物１０１は、少なくとも約４×１０４Ｐａ又は少なくとも約５×１０４Ｐａでさえといった少なくとも約１×１０４Ｐａの貯蔵弾性係数を有し得る。しかし、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、混合物１０１は、約２×１０６Ｐａ以下といった、約１×１０７Ｐａ以下の貯蔵弾性係数を有し得る。混合物１０１の貯蔵弾性係数は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【００２２】
貯蔵弾性係数は、ペルチェ板温度制御システムを伴う、ＡＲＥＳ又はＡＲ−Ｇ２回転レオメーターを用いる並行板システムで測定され得る。試験のために、混合物１０１を互いにおよそ８ｍｍ離れるよう設置した２枚の板の間の隙間に押し出す。ゲルを隙間に押出した後、隙間を画定する２枚の板の間の距離を、混合物１０１が板の間の隙間を完全に埋めるまで、２ｍｍまで縮小する。余分な混合物をふき取った後、隙間を０．１ｍｍ縮小し、試験を開始する。試験は、６．２８ラド／ｓ（１Ｈｚ）で０．０１％と１００％との間のひずみ範囲の機器設定で実施する振動ひずみ掃引試験であり、２５ｍｍの平行板を用い、１０年あたりで１０個の点を記録する。試験完了後１時間内に、隙間を再度０．１ｍｍ縮小し、試験を繰り返す。試験は少なくとも６回繰り返し得る。第１の試験は第２の及び第３の試験とは異なり得る。各試料に関して第２の及び第３の試験の結果のみが報告されるべきである。
【００２３】
さらに、本明細書の実施形態に従った形状化研磨粒子の処理及び形成を容易にするために、混合物１０１は特定の粘度を有し得る。例えば、混合物１０１は少なくとも約４×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約５×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約６×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約８×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約１０×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約２０×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約３０×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約４０×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約５０×１０３Ｐａ・ｓ、少なくとも約６０×１０３Ｐａ・ｓ又は少なくとも約６５×１０３Ｐａ・ｓの粘度を有し得る。少なくとも１つの非制限的な実施形態では、混合物１０１は、約９５×１０３Ｐａ・ｓ以下、約９０×１０３Ｐａ・ｓ以下又は約８５×１０３Ｐａ・ｓ以下さえといった、約１００×１０３Ｐａ・ｓ以下の粘度を有し得る。混合物１０１の粘度は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。粘度は上記の貯蔵弾性係数と同じ方法で測定され得る。
【００２４】
さらに、混合物１０１は、例えば、液体とは別であり得る有機添加剤を包含する有機材料を特定の含量で有し、本明細書の実施形態に従った形状化研磨粒子の処理及び形成を容易にするように形成され得る。いくつかの適切な有機添加剤としては、安定剤、フルクトース、スクロース、ラクトース、グルコース、ＵＶ硬化樹脂等といった結合剤が挙げられ得る。
【００２５】
特に、本明細書の実施形態は、従来の形成操作で使用されるスラリーとは異なり得る混合物１０１を用いても良い。例えば、混合物１０１内の有機材料、及び、特に上記有機添加剤のいずれかの含量は、混合物１０１内の他の成分よりも少ない量であり得る。少なくとも１つの実施形態では、混合物１０１は、混合物１０１の全重量に対して約３０ｗｔ％以下の有機材料を有するように形成され得る。他の例では、有機材料の量は、約１５ｗｔ％以下、約１０ｗｔ％以下又は約５ｗｔ％以下さえといった、より少ない可能性がある。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、混合物１０１内の有機材料の量は、混合物１０１全重量に対して少なくとも約０．５ｗｔ％といった、少なくとも約０．０１ｗｔ％であり得る。混合物１０１内の有機材料の量は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【００２６】
さらに、混合物１０１は、前記液体含量とは別に、酸又は塩基を特定の含量で有するように形成され、本明細書の実施形態に従った形状化研磨粒子の処理及び形成を容易にし得る。いくつかの適切な酸又は塩基としては、硝酸、硫酸、クエン酸、塩素酸、酒石酸、リン酸、硝酸アンモニウム及びクエン酸アンモニウムが挙げられ得る。硝酸添加剤を用いる１つの特定の実施形態に従うと、混合物１０１は、約５未満のｐＨを有し得、より具体的には、約２と約４との間のｐＨを有し得る。
【００２７】
図１Ａのシステム１５０は、ダイ１０３を含み得る。図示される通り、混合物１０１は、ダイ１０３の内部に提供され得、また、ダイ１０３の一端に配置されるダイ出口１０５を通って押出されるように構成され得る。さらに図示される通り、押出しには、力１８０（圧力といった）を混合物１０１上に適用することを含み得、ダイ出口１０５を通って混合物１０１を押出すのを容易にする。ある実施形態では、システム１５０は概してスクリーン印刷プロセスと呼ばれ得る。適用区域１８３内での押出しの間、スクリーン１５１は、ベルト１０９の一部分に直接接触している可能性がある。スクリーン印刷プロセスは、混合物１０１をダイ１０３からダイ出口１０５を方向１９１で通るように押出すことを含み得る。特に、スクリーン印刷プロセスは、ダイ出口１０５を通るように混合物１０１を押出す際に、混合物１０１がスクリーン１５１の開口１５２内に押し込まれ得るように、スクリーン１５１を用い得る。
【００２８】
一実施形態に従うと、特定の圧力を押出しの間に使用し得る。例えば、圧力は少なくとも約５００ｋＰａといった、少なくとも約１０ｋＰａであり得る。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、押出しの際に用いる圧力は、約４ＭＰａ以下であり得る。混合物１０１を押出すのに用いる圧力は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。特定の例では、ピストン１９９によって送達される圧力の一貫性は、形状化研磨粒子の改善した処理及び形成を促し得る。特に、混合物１０１全域及びダイ１０３の幅全域への一貫した圧力の制御された送達は、形状化研磨粒子の改善した処理制御及び改善した寸法特徴を促進し得る。
【００２９】
図１Ｂを簡単に参照すると、スクリーン１５１の一部分が図示されている。示す通り、スクリーン１５１は、開口１５２、より具体的には、スクリーン１５１の体積を介して延びている複数の複数の開口１５２を含む。一実施形態に従うと、開口１５２は、スクリーンの長さ（ｌ）及び幅（ｗ）によって画定される平面に見られる、二次元的な形状を有し得る。二次元的な形状には、例えば、多角形、楕円体、数字、ギリシャ文字、ラテン文字、ロシア語の文字、多角形状の組合せを包含する複雑な形状及びこれらの組合せといった様々な形状が挙げられ得る。特定の例では、開口１５２は三角形、長方形、四辺形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、十角形及びこれらの組合せといった二次元的な多角形状を有し得る。
【００３０】
さらに図示される通り、スクリーン１５１は、互いに特定の方法で配向される開口１５２を有し得る。示される通り、１つの実施形態に従うと、各開口１５２は、互いに実質的に同一の配向を有し得、また、スクリーンの表面に対して実質的に同一の配向を有し得る。例えば、各開口１５２は、スクリーン１５１の横軸１５８にわたって横方向に延びている開口１５２の第１の列１５６に関して第１の平面１５５を画定する第１の縁１５４を有し得る。第１の平面１５５は、スクリーン１５１の長手方向軸１５７に実質的に直交した方向で延び得る。しかし、他の例では、開口１５２は必ずしも互いに同一の配向を有する必要はないことが理解されるだろう。
【００３１】
さらに、開口１５２の第１の列１５６は、平行移動の方向に対して配向され、形状化研磨粒子の特定の処理及び制御した形成を容易にし得る。例えば、開口１５２は、第１の列１５６の第１の平面１５５が平行移動１７１の方向に対して角度を画定するように、スクリーン１５１上に配置され得る。図示される通り、第１の平面１５５は、並行移動１７１の方向に対して実質的に直交する角度を画定し得る。さらに、一実施形態では、開口１５２は、第１の列１５６の第１の平面１５５が、並行移動の方向に対して、例えば鋭角又は鈍角を包含する異なる角度を画定するように、スクリーン１５１上に配置され得る。さらに、開口１５２は必ずしも列で配置される必要はない。開口１５２は、二次元的なパターンの形式といった、スクリーン１５１上で、順序付けられた様々な特定の分布で互いに配置され得る。または、開口はスクリーン１５１上にランダムに配置され得る。
【００３２】
図１Ａを再度参照すると、混合物１０１がダイ出口１０５を通るように、及び、混合物１０１の一部分がスクリーン１５１の開口１５２を通るように押込めた後、１つ以上の形状化研磨粒子前駆物１２３がスクリーン１５１の下に配置されるベルト１０９上に印刷され得る。特定の実施形態に従うと、形状化研磨粒子前駆物１２３は、開口１５２の形状を実質的に複製している形状を有し得る。特に、開口１５２内での混合物１０１の平均滞留時間が約２分未満、約１分未満、約４０秒未満又は約２０秒未満さえであり得るように、混合物１０１は急速な方法でスクリーンを通るように押込められ得る。特定の非制限的な実施形態では、混合物１０１は、スクリーン開口１５２を移動する際の印刷中、実質的に未変化であり得、したがって、本来の混合物の成分の量に変化は一切なく、また、スクリーン１５１の開口１５２において、感知できる乾燥を一切経験しない可能性がある。
【００３３】
さらに、システム１５１は、適用区域１８３内に底面ステージ１９８を含み得る。形状化研磨粒子を形成するプロセスの間、ベルト１０９は、形成に適した基板を提供し得る底面ステージ１９８の上部を移動し得る。一実施形態に従うと、底面ステージ１９８は、例えば、本明細書の実施形態に従った形状化研磨粒子の形成を容易にするのに適した構成を有する金属又は金属合金といった、無機材料を含む特に強固な構成を含み得る。さらに、底面ステージ１９８は、ベルト１０９に直接接触し、特定のジオメトリー及び／又は寸法（例えば、平らさ、表面の粗さ等）を有する上面を有し得、このことも、形状化研磨粒子の寸法特徴の改善した制御を促し得る。
【００３４】
システム１５０の操作中、スクリーン１５１は、ベルト１０９が少なくとも適用区域１８３内で方向１５３と実質的に同様の方向１１０に平行移移動し得る一方で、方向１５３に平行移動し得、持続した印刷操作を促す。そのため、形状化研磨粒子前駆物１２３はベルト１０９上に印刷され、ベルト１０９に沿って平行移動し、さらなる処理を経る可能性がある。そのようなさらなる処理は、本明細書の実施形態に記載されるプロセスを包含し得、例えば、形状化、他の材料の適用（例えば、ドーパント材料）、乾燥等が挙げられることが理解されるだろう。
【００３５】
いくつかの実施形態では、ベルト１０９及び／又はスクリーン１５１は、混合物１０１がダイ出口１０５を通って押出される間に平行移動され得る。システム１００に図示される通り、混合物１０１は、方向１９１に押出され得る。ベルト１０９及び／又はスクリーン１５１の平行移動の方向１１０は、混合物１０１の押出しの方向１９１に対して角度をなし得る。並行移動の方向１１０と押出しの方向１９１との間の角度がシステム１００で実質的に直交して図示される一方で、他の角度が企図され、例えば、鋭角又は鈍角が挙げられる。
【００３６】
ベルト１０９及び／又はスクリーン１５１は、特定の速度で平行移動し、処理を容易にし得る。例えば、ベルト１０９及び／又はスクリーン１５１は、少なくとも約３ｃｍ／ｓの速度で平行移動し得る。他の実施形態では、ベルト１０９及び／又はスクリーン１５１の並行移動の速度は、少なくとも約４ｃｍ／ｓ、少なくとも約６ｃｍ／ｓ、少なくとも約８ｃｍ／ｓ又は少なくとも約１０ｃｍ／ｓさえといった、より大きい可能性がある。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、ベルト１０９及び／又はスクリーン１５１は、方向１１０に約５ｍ／ｓ以下、約１ｍ／ｓ以下又は約０．５ｍ／ｓ以下さえの速度で平行移動し得る。ベルト１０９及び／又はスクリーン１５１は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内である速度で平行移動し得、さらに、互いに実質的に同一の速度で平行移動し得ることが理解されるだろう。さらに、本明細書に従った特定のプロセスに関しては、方向１９１への混合物１０１の押出しの速度と比較してベルト１０９の平行移動の速度が制御され、適切な処理が促され得る。
【００３７】
混合物１０１をダイ出口１０５経由で押出した後、混合物１０１は、ダイ１０３の表面に装着されるナイフの刃１０７の下でベルト１０９に沿って平行移動し得る。ナイフの刃１０７は、ダイ１０３の前部で領域を画定し得、混合物１０１のスクリーン１５１の開口１５２内への移動を容易にする。
【００３８】
特定の処理パラメーターが制御され、本明細書に記載する形状化研磨粒子前駆物１２３及び最終的に形成された形状化研磨粒子の形成を容易にし得る。制御され得るいくつかの例示的なプロセスパラメーターとしては、放出距離１９７、混合物の粘度、混合物の貯蔵弾性係数、底面ステージの機械的特性、底面ステージの幾何学的又は寸法的特徴、スクリーンの厚さ、スクリーンの硬直性、混合物の固体含量、混合物の担体含量、放出角度、並行移動速度、温度、放出剤の含量、混合物に課す圧力、ベルトの速度及びこれらの組合せが挙げられる。
【００３９】
一実施形態に従うと、１つの特定のプロセスパラメーターとしては、充填位置と放出位置との間の放出距離１９７を制御することが挙げられ得る。特に、放出距離１９７は、ベルト１０９の平行移動の方向１１０で測定される、ダイ１０３の末端と、スクリーン１５１及びベルト１０９間の分離の最初の点との間の距離であり得る。一実施形態に従うと、放出距離１９７を制御することは、形状化研磨粒子前駆物１２３又は最終的に形成される形状化研磨粒子の少なくとも１つの寸法的特徴に影響を与え得る。さらに、放出距離１９７の制御は、形状化研磨粒子の寸法的特徴の組合せに影響を与え得、制限はしないが、長さ、幅、内部高（ｈｉ）、内部高変動（Ｖｈｉ）、高さの差、プロフィール比、フラッシング指数、ディッシング（ｄｉｓｈｉｎｇ）指数、すくい角、本明細書の実施形態の寸法特徴的な変異形のいずれかの組合せ、及び、これらの組合せが挙げられる。
【００４０】
一実施形態に従うと、放出距離１９７は、スクリーン１５１の長さ以下であり得る。他の例では、放出距離１９７はスクリーン１５１の幅以下であり得る。さらに、１つの特定の実施形態では、放出距離１９７は、スクリーン１５１の開口１５２の最大寸法の１０倍以下であり得る。例えば、開口１５２は、図１Ｂで図示されるような三角形の形状を有し得、放出距離１９７は、三角形の形状を画定する開口１５２の一辺の長さの１０倍以下であり得る。他の例では、放出距離１９７は、スクリーン１５１の開口１５２の最大寸法の約８倍以下、約５倍以下、約３倍以下、約２倍以下、又は、スクリーン１５１の開口１５２の最大寸法以下さえといった、より小さい可能性がある。
【００４１】
より具体的な例では、放出距離１９７は、約２０ｍｍ以下又は約１０ｍｍ以下さえといった、約３０ｍｍ以下であり得る。少なくとも１つの実施形態では、放出距離は実質的にゼロ、及びより具体的には、本質的にゼロであり得る。したがって、混合物１０１は、適用区域１８３内で開口１５２内に配置され得、スクリーン１５１及びベルト１０９は、ダイ１０３の末端で、又は、ダイ１０３の末端の前ででも、互いに分離し得る。
【００４２】
１つの具体的な形成方法に従うと、放出距離１９７は本質的にゼロであり得、これは、実質的に、混合物１０１で開口１５２を充填すること及びベルト１０９とスクリーン１５１との間の分離を同時に行うことを容易にし得る。例えば、スクリーン１５１とベルト１０９がダイ１０３の末端を通過して適用区域１８３を出る前に、スクリーン１５１とベルト１０９との間の分離が開始され得る。より具体的な実施形態では、スクリーン１５１とベルト１０９との間の分離は、開口１５２が混合物１０１で充填された直後に、適用区域１８３を出る前に、スクリーン１５１がダイ１０３の下にいる間に開始され得る。さらに別の実施形態では、スクリーン１５１とベルト１０９との間の分離は、混合物１０１がスクリーン１５１の開口１５２内に配置されている間に開始され得る。代替実施形態では、スクリーン１５１とベルト１０９との間の分離は、混合物１０１がスクリーン１５１の開口１５２内に配置される前に開始され得る。例えば、混合物１０１が開口１５２に押込められている間にベルト１０９とスクリーン１５１との間で隙間が存在するように、開口１５２がダイ出口１０５の下を通過する前にベルト１０９及びスクリーン１５１は分離されている。
【００４３】
例えば、図２は、放出距離１９７が実質的にゼロであり、ベルト１０９とスクリーン１５１との間の分離が、ベルト１０９及びスクリーン１５１がダイ出口１０５の下を通る前に開始される印刷操作を図示している。より具体的には、ベルト１０９とスクリーン１５１との間の放出は、ベルト１０９及びスクリーン１５１が適用区域１８３に入り、ダイ１０３の前部の下を通過するときに開始される。さらに、いくつかの実施形態では、ベルト１０９及びスクリーン１５１の分離は、放出距離１９７がマイナス値になり得るように、ベルト１０９及びスクリーン１５１が適用区域１８３（ダイ１０３の前部によって画定される）に入る前に起こり得る。
【００４４】
放出距離１９７の制御は、向上した寸法的特徴及び向上した寸法的耐性（例えば、低い寸法的特徴のばらつき）を有する形状化研磨粒子の制御された形成を容易にし得る。例えば、他の処理パラメーターの制御と一緒に、放出距離１９７を小さくすることは、より優れた内部高（ｈｉ）値を有する形状化研磨粒子の形成を容易にし得る。
【００４５】
さらに、図２で図示する通り、ベルト１０９の表面とスクリーン１５１の下面１９８との間の分離高さ１９６の制御は、向上した寸法的特徴及び向上した寸法的耐性（例えば、低い寸法的特徴のばらつき）を有する形状化研磨粒子の制御された形成を容易にし得る。分離高さ１９６は、スクリーン１５１の厚さ、ベルト１０９とダイ１０３との間の距離及びこれらの組合せに関連し得る。さらに、形状化研磨粒子前駆物１２３の１つ以上の寸法的特徴（例えば、内部高）は、分離高さ１９６及びスクリーン１５１の厚さを制御することによって制御され得る。具体的な例では、スクリーン１５１は、約６９０ミクロン以下、約６８０ミクロン以下、約６７０ミクロン以下、約６５０ミクロン以下又は約６４０ミクロン以下といった、約７００ミクロン以下の平均的な厚さを有し得る。さらに、スクリーンの平均的な厚さは、少なくとも約３００ミクロン又は少なくとも約４００ミクロンさえといった、少なくとも約１００ミクロンであり得る。
【００４６】
１つの実施形態では、制御のプロセスとしては、測定、算出、調節及びこれらの組合せを包含し得る多段階プロセスが挙げられ得る。そのようなプロセスは、プロセスパラメーター、寸法的特徴、寸法的特徴の組合せ及びこれらの組合せに適用され得る。例えば、一実施形態では、制御としては、１つ以上の寸法的特徴を測定すること、１つ以上の寸法的特徴を測定するプロセスに基づいて１つ以上の値を算出すること、及び、１つ以上の算出値に基づいて１つ以上のプロセスパラメーター（例えば、放出距離１９７）を調節することが挙げられ得る。制御のプロセス、並びに、具体的には測定、算出及び調節のいずれかのプロセスは、形状化研磨粒子の形成前、形成後又は形成中に完了し得る。１つの特定の実施形態では、制御プロセスは持続プロセスであり得、１つ以上の寸法的特徴が測定され、測定した寸法的特徴に応答して１つ以上のプロセスパラメーターが変更する（すなわち、調節される）。例えば、制御のプロセスとしては、形状化研磨粒子前駆物１２３の高さの差といった寸法的特徴を測定すること、形状化研磨粒子前駆物１２３の高さ値の差を算出すること、放出距離１９７を変更して形状化研磨粒子前駆物１２３の高さ値の差を変更することが挙げられ得る。
【００４７】
図１を再度参照すると、混合物１０１をスクリーン１５１の開口１５２内へ押出した後、ベルト１０９及びスクリーン１５１は、ベルト１０９及びスクリーン１５１が分離して形状化研磨粒子前駆物１２３の形成を促し得る放出区域１８５へ並行移動し得る。一実施形態に従うと、スクリーン１５１及びベルト１０９は、特定の放出角度で、放出区域１８５内で互いに分離し得る。
【００４８】
実際に、図示される通り、形状化研磨粒子前駆物１２３は、様々な処置プロセスが実行され得る一連の区域を通って平行移動し得る。いくつかの適切な例示的処置プロセスとしては、乾燥、加熱、硬化、反応、照射、混合、撹拌、振動、平面化、か焼、焼結、粉砕、ふるい、ドーピング及びこれらの組合せが挙げられ得る。一実施形態に従うと、形状化研磨粒子前駆物１２３はあってもなくてもよい形状化区域１１３を通って平行移動し得、ここで、粒子の少なくとも１つの外面が本明細書に記載される通りに形状化され得る。さらに、形状化研磨粒子前駆物１２３はあってもなくてもよい適用区域１３１を通って平行移動し得、ここで、ドーパント材料を本明細書の実施形態に記載する粒子の少なくとも１つの外面に適用し得る。さらに、形状化研磨粒子前駆物１２３は、あってもなくてもよいポスト形成区域１２５を通ってベルト１０９上を平行移動し得、ここで、例えば乾燥が挙げられる様々なプロセスが本明細書の実施形態に記載される通り形状化研磨粒子前駆物１２３に実行され得る。
【００４９】
適用区域１３１は、１つ以上の形状化研磨粒子前駆物１２３の少なくとも１つの外面に材料を適用するために用いられ得る。一実施形態に従うと、ドーパント材料は形状化研磨粒子前駆物１２３に用いられ得る。より具体的には、図１で示す通り、適用区域１３１をポスト形成区域１２５の前に配置し得る。そのため、ドーパント材料を適用するプロセスは、形状化研磨粒子前駆物１２３上で完了し得る。しかし、適用区域１３１はシステム１００内の他の場所に配置され得ることが理解されるだろう。例えば、ドーパント材料を適用するプロセスは、形状化研磨粒子前駆物１２３を形成した後に完了し得、より具体的には、ポスト形成区域１２５の後に完了し得る。本明細書で詳細が説明される別の例では、ドーパント材料を適用するプロセスは、形状化研磨粒子前駆物１２３を形成するプロセスと同時に実行され得る。
【００５０】
適用区域１３１内において、ドーパント材料は、例えばスプレー、浸漬、蒸着、含浸、移植、穿孔、切断、プレス加工、粉砕及びこれらのいずれかの組合せを包含する様々な方法を用いて適用され得る。具体的な例では、適用区域１３１は、スプレーノズル、又は、スプレーノズル１３２及び１３３の組合せを用いてドーパント材料を形状化研磨粒子前駆物１２３上にスプレーし得る。
【００５１】
一実施形態に従うと、ドーパント材料を適用することには、前駆物質といった特定の材料の適用が包含され得る。特定の例では、前駆物質は、最終的に形成される形状化研磨粒子内に組込まれるドーパント材料を含む、金属塩といった塩であり得る。例えば、金属塩としては、ドーパント材料の前駆物質である成分又は化合物が挙げられ得る。塩金属は、塩及び液体担体を含む分散液といった液体形態であり得ることが理解されるだろう。塩としては、窒素、より具体的には、硝酸塩が挙げられ得る。他の実施形態では、塩は塩化物、硫酸塩、リン酸塩及びこれらの組合せであり得る。一実施形態では、塩としては金属硝酸塩が挙げられ得、より具体的には、金属硝酸塩から本質的に成り得る。
【００５２】
一実施形態では、ドーパント材料としては、アルカリ元素、アルカリ土類元素、希土類元素、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、バナジウム又はこれらの組合せといった成分又は化合物が挙げられ得る。１つの特定の実施形態では、ドーパント材料としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、セシウム、プラセオジム、ニオブ、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、バナジウム、クロミウム、コバルト、鉄、ゲルマニウム、マンガン、ニッケル、チタン、亜鉛といった元素及びこれらの組合せを包含する成分又は化合物が挙げられる。
【００５３】
具体的な例では、ドーパント材料を適用するプロセスには、ドーパント材料を形状化研磨粒子前駆物１２３の少なくとも１つの外面上に選択的に配置することが包含され得る。例えば、ドーパント材料を適用するプロセスには、形状化研磨粒子前駆物１２３の上面又は下面にドーパント材料を適用することが包含され得る。さらに別の実施形態では、形状化研磨粒子前駆物１２３の１つ以上の側面は、ドーパント材料がそれに適用されるように処置され得る。様々な方法を用いてドーパント材料を形状化研磨粒子前駆物１２３の様々な外面に適用し得ることが理解されるだろう。例えば、スプレープロセスを用いて形状化研磨粒子前駆物１２３の上面又は側面にドーパント材料を適用し得る。さらに、代替実施形態では、ドーパント材料は、浸漬、蒸着、含浸又はこれらの組合せといったプロセスを介して形状化研磨粒子前駆物１２３の底面に適用され得る。ベルト１０９の表面をドーパント材料で処置してドーパント材料が形状化研磨粒子前駆物１２３の底面に移動するのを促し得ることが理解されるだろう。
【００５４】
形状化研磨粒子前駆物１２３を形成した後、粒子はポスト形成区域１２５を通って平行移動し得る。ポスト形成区域１２５で様々なプロセスが実行され得、形状化研磨粒子前駆物１２３の処置が挙げられる。一実施形態では、ポスト形成区域１２５は、形状化研磨粒子前駆物１２３が乾燥され得る加熱プロセスを含み得る。乾燥は、水といった揮発性物質を包含する、特定の含量の材料の除去を包含し得る。一実施形態に従うと、乾燥プロセスは、約２８０℃以下又は約２５０℃以下さえといった約３００℃以下の乾燥温度で実行され得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、乾燥プロセスは、少なくとも約５０℃の乾燥温度で実行され得る。乾燥温度は上記の最低温度と最高温度のいずれかの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、形状化研磨粒子前駆物１２３は、少なくとも約０．２フィート／分及び約８フィート／分以下といった特定の速度でポスト形成区域１２５を通って平行移動し得る。
【００５５】
さらに、乾燥プロセスは特定の継続時間の間、実施され得る。例えば、乾燥プロセスは約６時間以下であり得る。
【００５６】
形状化研磨粒子前駆物１２３がポスト形成区域１２５を通って平行移動した後、形状化研磨粒子前駆物１２３はベルト１０９から取り除かれ得る。形状化研磨粒子前駆物１２３は、さらなる処理のために、ビン１２７に回収され得る。
【００５７】
一実施形態に従うと、形状化研磨粒子を形成するプロセスは焼結プロセスをさらに含み得る。本明細書の実施形態の特定のプロセスに関して、焼結は形状化研磨粒子前駆物１２３をベルト１０９から回収した後に実施され得る。または、焼結は、形状化研磨粒子前駆物１２３がベルト１０９上にある間に実施されるプロセスであり得る。形状化研磨粒子前駆物１２３の焼結を用いて、通常未完成状態である粒子を高密度化し得る。具体的な例では、焼結プロセスはセラミック材料の高温相の形成を促し得る。例えば、一実施形態では、形状化研磨粒子前駆物１２３は、アルファアルミナといったアルミナの高温相が形成されるように焼結され得る。一例では、形状化研磨粒子は、粒子の全重量に対して少なくとも約９０ｗｔ％のアルファアルミナを含み得る。他の例では、形状化研磨粒子がアルファアルミナから本質的に成るように、アルファアルミナの含量はより大きい可能性がある。
【００５８】
さらに、最終的に形成される形状化研磨粒子の本体は、特定の二次元の形状を有し得る。例えば、本体は、本体の長さ及び幅が画定する平面で見られる二次元の形状を有し得、多角形状、楕円形の形状、数字、ギリシャ文字、ラテン文字、ロシア語の文字、多角形状の組合せを用いる複雑な形状及びこれらの組合せを包含する形状を有し得る。特定の多角形状としては、三角形、長方形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形、十角形及びこれらのいずれかの組合せが挙げられる。別の実施形態では、本体の長さ及び幅が画定する平面で見られる二次元の形状を含み得、楕円形、ギリシャ文字、ラテン文字、ロシア語の文字及びこれらの組合せから成る群から選択される形状が挙げられる。
【００５９】
図３Ａは、一実施形態に従った形状化研磨粒子３００の透視図の図示を含む。さらに、図３Ｂは、図３Ａの研磨粒子の断面の図示を含む。形状化研磨粒子３００の本体３０１は、上部主面３０３（すなわち、第１の主面）、及び、上部主面３０３の反対側にある底主面３０４（すなわち、第２の主面）を含む。上面３０３及び底面３０４は、側面３０５、３０６及び３０７によって互いに離れている可能性がある。図示される通り、形状化研磨粒子３００の本体３０１は、上面３０３の平面で見られる通り通常三角形の形状を有し得る。特に、本体３０１は、図３Ｂに示される通り、長さ（Ｌ中間）を有し得、これは、本体３０１の底面３０４で、かど３１３から本体３０１の中点３８１を通って本体の反対側の縁３１４の中点まで延びているものとして測定され得る。または、本体３０１は第２の長さ又はプロフィールの長さ（Ｌｐ）によって画定され得、これは、第１のかど３１３から隣接したかど３１２までの上面３０３の側面図からの、本体３０１の寸法の基準である。特に、Ｌ中間の寸法は、かどの高さ（ｈｃ）とそのかどの反対側の中点の縁の高さ（ｈｍ）との間の距離を画定する長さであり得る。寸法Ｌｐは、ｈ１とｈ２との間の距離を画定する粒子３００の側面（図２Ａ及び２Ｂで示すような側面図から見られる通り）に沿ったプロフィールの長さであり得る。本明細書で長さを参照する場合、Ｌ中間又はＬｐのいずれかを指し得る。
【００６０】
本体３０１は、本体３０１の最も長い寸法であり、側面に沿って延びている幅（ｗ）をさらに含み得る。本体３０１は、高さ（ｈ）をさらに含み得、これは、本体３０１の側面に画定される方向の長さ及び幅に垂直な方向に延びている本体３０１の寸法であり得る。特に、本明細書でさらに詳細が説明される通り、本体３０１は、本体３０１上での位置によって、様々な高さによって画定され得る。特定の例では、幅は長さよりも大きいか、又は同じで得、長さは高さよりも大きいか、又は同じで得、また、幅は、高さよりも大きいか、又は同じであり得る。
【００６１】
さらに、本明細書でいずれかの寸法的特徴（例えば、ｈ１、ｈ２、ｈｉ、ｗ、Ｌ中間、Ｌｐ等）を参照する際は、一束の形状化研磨粒子の適切なサンプリングの分析から引き出した、一束の単一形状化研磨粒子の寸法、中央値又は平均値への参照であり得る。明らかに述べていない限りは、本明細書で寸法的特徴を参照する場合、粒子の束から取った適切な数の粒子のサンプルサイズから引き出した統計的に有意な値に基づいた中央値を指すと考えられ得る。特に、本明細書の特定の実施形態に関して、サンプルサイズは、粒子の束からランダムに選択される少なくとも１０個の粒子を含み得る。粒子の束は、単一のプロセスの回から回収した粒子の群であり得る。さらに、又は代替的に、粒子の束は、少なくとも約２０ポンドの粒子といった、商業級の研磨製品を形成するのに適した量の形状化研磨粒子を含み得る。
【００６２】
一実施形態に従うと、形状化研磨粒子の本体３０１は、かど３１３が画定する本体の第１の領域に第１のかど高（ｈｃ）を有し得る。特に、かど３１３は、本体３０１上で最も高い点であり得るが、かど３１３の高さは必ずしも本体３０１上で最も高い点ではない。かど３１３は、上面３０３及び２つの側面３０５及び３０７の接合によって画定される本体３０１上の点又は領域として画定され得る。本体３０１は、互いに離れた他のかどをさらに含み得、例えば、かど３１１及びかど３１２が挙げられる。さらに図示される通り、本体３０１は、かど３１１、３１２及び３１３によって互いに分離され得る縁３１４、３１５及び３１６を含み得る。縁３１４は、上面３０３の側面３０６との交わりによって画定され得る。縁３１５は、かど３１１と３１３との間で上面３０３と側面３０５の交わりによって画定され得る。縁３１６は、かど３１２と３１３との間で上面３０３と側面３０７の交わりによって画定され得る。
【００６３】
さらに図示される通り、本体３０１は、本体３０１の第２の末端に、第２の中点高（ｈｍ）を含み得、これは、かど３１３に画定される第１の末端の反対側であり得る、縁３１４の中点の領域によって画定され得る。軸３５０は本体３０１の２つの末端の間で延び得る。図３Ｂは、軸３５０に沿った本体３０１の断面図であり、軸３５０は、かど３１３と縁３１４の中点との間で、長さ（Ｌ中間）の寸法に沿って、本体３０１の中点３８１を通って延び得る。
【００６４】
一実施形態に従うと、例えば、図３Ａ及び３Ｂの粒子を包含する本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、高さの平均差を有し得、これは、ｈｃとｈｍとの間の差の基準である。本明細書での慣例のために、高さの平均差は、ｈｃ−ｈｍとして通常同定されるが、差の絶対値として定義される。したがって、高さの平均差は、縁３１４の中点の本体３０１の高さがかど３１３の高さよりも大きい場合は、ｈｍ−ｈｃと算出され得ることが理解されるだろう。より具体的には、高さの平均差は、適切なサンプルサイズの複数の形状化研磨粒子に基づいて算出され得る。粒子の高さｈｃ及びｈｍは、ＳＴＩＬ（Ｓｃｉｅｎｃｅｓ  ｅｔ  Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｌｌｅｓ  ｄｅ  ｌａ  Ｌｕｍｉｅｒｅ−Ｆｒａｎｃｅ）Ｍｉｃｒｏ  Ｍｅａｓｕｒｅ  ３Ｄ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔｅｒ（白色（ＬＥＤ）  色収差技術）を用いて測定され得、高さの平均差は、サンプルのｈｃ及びｈｍの平均値をもとに算出され得る。
【００６５】
図３Ｂで図示する通り、１つの特定の実施形態では、形状化研磨粒子３００の本体３０１は、本体３０１の異なる位置で高さにおける平均差を有し得る。本体３０１は、第１のかど高（ｈｃ）と、少なくとも約２０ミクロンである第２の中点高（ｈｍ）との間の［ｈｃ−ｈｍ］の絶対値であり得る、高さの平均差を有し得る。高さの平均差は、縁の中点の本体３０１の高さが反対側のかどの高さよりも大きい場合は、ｈｍ−ｈｃと算出され得ることが理解されるだろう。他の例では、高さの平均差［ｈｃ−ｈｍ］は、少なくとも約２５ミクロン、少なくとも約３０ミクロン、少なくとも約３６ミクロン、少なくとも約４０ミクロン、少なくとも約６５ミクロンといった少なくとも約６０ミクロン、少なくとも約７０ミクロン、少なくとも約７５ミクロン、少なくとも約８０ミクロン、少なくとも約９０ミクロン又は少なくとも約１００ミクロンさえもあり得る。１つの非制限的な実施形態では、高さの平均差は、約２５０ミクロン以下、約２２０ミクロン以下又は約１８０ミクロン以下さえといった、約３００ミクロン以下であり得る。高さの平均差は上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、高さの平均差は、ｈｃの平均値に基づき得ることが理解されるだろう。例えば、かどにおける本体３０１の平均高（Ａｈｃ）は、全てのかどにおける本体３０１の高さを測定し、その値の平均を出すことで算出され得、１つのかど（ｈｃ）の高さの単一の値とは異なり得る。したがって、高さの平均差は等式［Ａｈｃ−ｈｉ］の絶対値によって与えられ得る。さらに、高さの平均差は、形状化研磨粒子の束の適切なサンプルサイズ、及び、サンプルサイズの全粒子のかどの平均高から算出される中央内部高（Ｍｈｉ）を用いて算出され得る。したがって、高さの平均差は、等式［Ａｈｃ−Ｍｈｉ］の絶対値によって与えられ得る。
【００６６】
具体的な例では、本体３０１は、幅：長さとして表される、少なくとも１：１の値を有する１番目のアスペクト比を有するように形成され得る。他の例では、本体３０１は、１番目のアスペクト比（ｗ：ｌ）が、少なくとも約２：１、少なくとも約４：１又は少なくとも約５：１さえといった少なくとも約１．５：１であるように形成され得る。さらに、他の例では、研磨粒子３００は、本体３０１が、９：１以下、約８：１以下又は約５：１以下さえといった約１０：１以下である１番目のアスペクト比を有するように形成され得る。本体３０１は、上記のいずれかの比の間の範囲内で１番目のアスペクト比を有し得ることが理解されるだろう。さらに、本明細書で高さに言及する場合、研磨粒子３００の測定可能な最大高への言及であり得ることが理解されるだろう。研磨粒子３００は、研磨粒子３００の本体３０１内の異なる位置で、異なる高さを有し得ることが後述されるだろう。
【００６７】
１番目のアスペクト比に加え、研磨粒子３００は、本体３０１が、長さ：高さの比として定義され得る２番目のアスペクト比を含むように形成され得、ここで、高さは内部中央高（Ｍｈｉ）である。特定の例では、２番目のアスペクト比は、少なくとも約２：１、少なくとも約４：１又は少なくとも約５：１さえといった少なくとも約１：１であり得る。さらに、他の例では、研磨粒子３００は、本体３０１が、１：２以下又は約１：１以下さえといった約１：３以下である２番目のアスペクト比を有するように形成され得る。本体３０１は、約５：１と約１：１との間といった、上記の比の間の範囲内で２番目のアスペクト比を有し得ることが理解されるだろう。
【００６８】
別の実施形態に従うと、研磨粒子３００は、本体３０１が、幅：高さの比として定義され得る３番目のアスペクト比を含むように形成され得、ここで、高さは内部中央高（Ｍｈｉ）である。本体３０１の３番目のアスペクト比は、少なくとも約２：１、少なくとも約４：１、少なくとも約５：１又は少なくとも約６：１さえといった少なくとも約１：１であり得る。さらに、他の例では、研磨粒子３００は、本体３０１が、２：１以下又は約１：１以下さえといった約３：１以下である３番目のアスペクト比を有するように形成され得る。本体３０１は、約６：１と約１：１との間といった上記の比のいずれかの間の範囲内で３番目のアスペクト比を有し得ることが理解されるだろう。
【００６９】
一実施形態に従うと、形状化研磨粒子３００の本体３０１は、向上した性能を促進し得る特定の寸法を有し得る。例えば、一例では、本体３０１は、本体３０１上のいずれかのかどと反対側の中点の縁との間の寸法に沿って測定する本体３０１の高さの最小寸法であり得る内部高（ｈｉ）を有し得る。本体３０１が通常三角形の２次元形状である具体的な例では、内部高（ｈｉ）は、３つのかどのそれぞれと反対側の中点の縁との間で取った３つの測定に関して、本体３０１の高さの最小寸法（すなわち、底面３０４と上面３０５との間の基準）であり得る。形状化研磨粒子３００の本体３０１の内部高（ｈｉ）が図３Ｂに図示されている。一実施形態に従うと、内部高（ｈｉ）は、幅（ｗ）の少なくとも約２０％であり得る。高さ（ｈｉ）は、形状化研磨粒子３００をセクショニング又はマウンティング及び研削して、本体３０１の内部の最小の高さ（ｈｉ）を決定するのに十分な方法（例えば、光学顕微鏡又はＳＥＭ）で見ることによって測定され得る。１つの特定の実施形態では、高さ（ｈｉ）は、本体３０１の幅の少なくとも約２５％、少なくとも約３０％又は少なくとも約３３％さえといった、幅の少なくとも約２２％であり得る。１つの非制限的な実施形態に関しては、本体３０１の高さ（ｈｉ）は、約７６％以下、約７３％以下、約７０％以下、幅の約６８％以下、幅の約５６％以下、幅の約４８％以下又は幅の約４０％以下さえといった、本体３０１の幅の約８０％以下であり得る。本体３０１の高さ（ｈｉ）は、上記最小パーセンテージ及び最大パーセンテージのいずれかの間の範囲内であり得る。
【００７０】
形状化研磨粒子の束が作製され得、ここで、中央内部高の値（Ｍｈｉ）は制御され得、これは、向上した性能を促進し得る。特に、束の中央内部高（ｈｉ）は、束の形状化研磨粒子の中央幅に、上述したのと同一の方法で関連し得る。特に、中央内部高（Ｍｈｉ）は、束の形状化研磨粒子の中央幅の少なくとも約２２％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％又は少なくとも約３３％さえといった、幅の少なくとも約２０％であり得る。１つの非制限的な実施形態に関しては、本体３０１の中央内部高（Ｍｈｉ）は、約７６％以下、約７３％以下、約７０％以下、幅の約６８％以下、幅の約５６％以下、幅の約４８％以下、又は本体３０１の中央幅の約４０％以下さえといった、約８０％以下であり得る。本体３０１の中央内部高（Ｍｈｉ）は、上記の最小及び最大パーセンテージのいずれかの間範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【００７１】
さらに、形状化研磨粒子の束は、適切なサンプルサイズの寸法的特徴の標準偏差によって測定される通り、向上した寸法的均一性を示し得る。一実施形態に従うと、形状化研磨粒子は、束の適切なサンプルサイズの粒子に関する内部高（ｈｉ）の標準偏差として算出され得る内部高変動（Ｖｈｉ）を有し得る。一実施形態に従うと、内部高変動は、約５８ミクロン以下、約５６ミクロン以下又は約５４ミクロン以下さえといった、約６０ミクロン以下であり得る。１つの非制限的な実施形態では、内部高変動（Ｖｈｉ）は、少なくとも約２ミクロンであり得る。本体の内部高変動は、上記最小値と最大値のとの間の範囲内であり得る。
【００７２】
他の実施形態に関しては、形状化研磨粒子３００の本体３０１は、少なくとも約４００ミクロンの内部高（ｈｉ）を有し得る。より具体的には、高さは、少なくとも約４７５ミクロン又は少なくとも約５００ミクロンさえといった、少なくとも約４５０ミクロンであり得る。さらに１つの非制限的な実施形態では、本体３０１の高さは、約２ｍｍ以下、約１．５ｍｍ以下、約１ｍｍ以下又は約８００ミクロン以下さえといった、約３ｍｍ以下であり得る。本体３０１の高さは、上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記の値の範囲は、形状化研磨粒子の束の中央内部高（Ｍｈｉ）値を示し得ることが理解されるだろう。
【００７３】
本明細書の特定の実施形態では、形状化研磨粒子３００の本体３０１は、特定の寸法を有し得、例えば、幅≧長さ、長さ≧高さ及び幅≧高さが挙げられる。より具体的には、形状化研磨粒子３００の本体３０１は、少なくとも約７００ミクロン、少なくとも約８００ミクロン又は少なくとも約９００ミクロンさえといった、少なくとも約６００ミクロンの幅（ｗ）を有し得る。１つの非制限的な例では、本体３０１は、約３ｍｍ以下、約２．５ｍｍ以下又は約２ｍｍ以下さえといった、約４ｍｍ以下の幅を有し得る。本体３０１の幅は、上記最小値と最大値のいずれかの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記の範囲の値は、形状化研磨粒子の束の中央幅（Ｍｗ）を示し得ることが理解されるだろう。
【００７４】
形状化研磨粒子３００の本体３０１は、特定の寸法を有し得、例えば、少なくとも約０．６ｍｍ、少なくとも約０．８ｍｍ又は少なくとも約０．９ｍｍさえといった少なくとも約０．４ｍｍの長さ（Ｌ中間又はＬｐ）が挙げられる。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態に関しては、本体３０１は、約３ｍｍ以下、約２．５ｍｍ以下又は約２ｍｍ以下さえといった約４ｍｍ以下の長さを有し得る。本体３０１の長さは、上記最小値と最大値のいずれかの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記の値の範囲は、中央長さ（Ｍｌ）を示し得、これは、より具体的には、形状化研磨粒子の束に関する中央中間長さ（ＭＬ中間）又は中央プロフィールの長さ（ＭＬｐ）であり得る。
【００７５】
形状化研磨粒子３００は、特定の量のディッシングを有する本体３０１を有し得、ここで、ディッシング値（ｄ）は、内部の本体３０１の高さ（ｈｉ）の最小寸法と比較した、かどにおける本体３０１の平均高（Ａｈｃ）との間の比として定義され得る。かどにおける本体３０１の平均高（Ａｈｃ）は、全かどの本体３０１の高さを測定し、その値の平均を出すことで算出され得、１つのかどの高さ（ｈｃ）の単一値とは異なり得る。かど又は内部での本体３０１の平均高は、ＳＴＩＬ（Ｓｃｉｅｎｃｅｓ  ｅｔ  Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｌｌｅｓ  ｄｅ  ｌａ  Ｌｕｍｉｅｒｅ−Ｆｒａｎｃｅ）Ｍｉｃｒｏ  Ｍｅａｓｕｒｅ  ３Ｄ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔｅｒ（白色（ＬＥＤ）色収差技術）を用いて測定され得る。代替的に、ディッシングは、束の粒子の適切なサンプリングから算出した、かどにおける粒子の中央高（Ｍｈｃ）に基づき得る。同様に、内部高（ｈｉ）は、束の形状化研磨粒子の適切なサンプリングから引き出した中央内部高（Ｍｈｉ）であり得る。一実施形態に従うと、ディッシング値（ｄ）は、約１．９以下、約１．８以下、約１．７以下、約１．６以下、約１．５以下又は約１．２以下さえといった、約２以下であり得る。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、ディッシング値（ｄ）は、少なくとも約１．０といった、少なくとも約０．９であり得る。ディッシング比は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記のディッシング値は、形状化研磨粒子の束の中央ディッシング値（Ｍｄ）を示し得ることが理解されるだろう。
【００７６】
例えば、図３Ａの粒子の本体３０１を包含する本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、底面積（Ａｂ）を画定する底面３０４を有し得る。具体的な例では、底面３０４は、本体３０１の最大面であり得る。底主面３０４は、上部主面３０３の表面積とは異なる底面積（Ａｂ）として画定される表面積を有し得る。１つの特定の実施形態では、底主面３０４は、上部主面３０３の表面積とは異なる底面積（Ａｂ）として画定される表面積を有し得る。別の実施形態では、底主面３０４は、上部主面３０３の表面積よりも小さい底面積（Ａｂ）として画定される表面積を有し得る。
【００７７】
さらに、本体３０１は、底面積（Ａｂ）に垂直な平面の面積を画定し、粒子３００の中点３８１を通って延びる断面の中点面積（Ａｍ）を有し得る。特定の例では、本体３０１は、約６以下の底面積の中点面積に対する面積比（Ａｂ／Ａｍ）を有し得る。より具体的な例では、面積比は約５以下、約４．５以下、約４以下、約３．５以下又は約３以下さえといった、約５．５以下であり得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、面積比は、少なくとも約１．３又は少なくとも約１．８さえといった、少なくとも約１．１であり得る。面積比は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記面積比は、形状化研磨粒子の束に関する中央面積比を示し得ることが理解されるだろう。
【００７８】
さらに、例えば図３Ｂの粒子を包含する本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、約０．３以下の正規化された高さの差を有し得る。正規化された高さの差は、等式［（ｈｃ−ｈｍ）／（ｈｉ）］の絶対値によって定義され得る。他の実施形態では、正規化された高さの差は、約０．２２以下又は約０．１９以下さえといった、約０．２６以下であり得る。さらに、１つの特定の実施形態では、正規化された高さの差は、少なくとも約０．０５又は少なくとも約０．０６さえといった、少なくとも約０．０４であり得る。正規化された高さの差は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記の正規化された高さの値は、形状化研磨粒子の束に関する中央の正規化された高さの値を示し得ることが理解されるだろう。
【００７９】
別の例では、本体３０１は、少なくとも約０．０４のプロフィール比を有し得、ここで、プロフィール比は、高さの平均差［ｈｃ−ｈｍ］の、形状化研磨粒子３００の長さ（Ｌ中間）に対する比として定義され、［（ｈｃ−ｈｍ）／（Ｌ中間）］の絶対値として定義される。本体３０１の長さ（Ｌ中間）は、図３Ｂで図示する通り、本体３０１を横切る距離であり得ることが理解されるだろう。さらに、長さは、本明細書で定義する形状化研磨粒子の束の粒子の適切なサンプリングから算出した平均又は中央長さであり得る。特定の実施形態に従うと、プロフィール比は、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．０６、少なくとも約０．０７、少なくとも約０．０８又は少なくとも約０．０９さえであり得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、プロフィール比は、約０．２以下、約０．１８以下、約０．１６以下又は約０．１４以下さえといった、約０．３以下であり得る。プロフィール比は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記プロフィール比は、形状化研磨粒子の束に関する中央のプロフィール比を示し得ることが理解されるだろう。
【００８０】
別の実施形態に従うと、本体３０１は、特定のすくい角を有し、これは、底面３０４と、本体３０１の側面３０５、３０６又は３０７との間の角度として規定され得る。例えば、すくい角は、約１°と約８０°との間の範囲内であり得る。本明細書の他の粒子に関しては、すくい角は、約１０°と約５０°との間、約１５°と５０°との間、又は約２０°と５０°との間さえといった、約５°と５５°との間の範囲内であり得る。そのようなすくい角を有する研磨粒子の形成は、研磨粒子３００の研磨能力を向上し得る。特に、すくい角は、上記のいずれかの２つのすくい角間の範囲内であり得る。
【００８１】
別の実施形態に従うと、例えば、図３Ａ及び３Ｂの粒子を包含する本明細書の形状化研磨粒子は、本体３０１の上面３０３の楕円領域３１７を有し得る。楕円領域３１７は、上面３０３を囲って延び、楕円領域３１７を画定し得る溝領域３１８によって画定され得る。楕円領域３１７は、中点３８１を包含し得る。さらに、上面３０３で画定される楕円領域３１７は、形成プロセスの人為産物であると考えられ、本明細書に記載する方法に従った形状化研磨粒子の形成の際に、混合物１０１に付加した応力の結果として形成され得る。
【００８２】
形状化研磨粒子３００は、本体３０１が結晶質材料、より具体的には、多結晶質材料を含むように形成され得る。特に、多結晶質材料としては、研磨粒が挙げられ得る。一実施形態では、本体３０１は例えば結合剤を包含する有機材料を本質的に含み得ない。より具体的には、本体３０１は、多結晶質材料から本質的に成る。
【００８３】
一態様では、形状化研磨粒子３００の本体３０１は、互いに結びついて研磨粒子３００の本体３０１を形成する複数の研磨粒子、砂粒及び／又は粒を含む凝集体であり得る。適切な研磨粒としては、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、オキシ窒化物、オキシホウ化物（ｏｘｙｂｏｒｉｄｅ）、ダイアモンド及びこれらの組合せが挙げられ得る。具体的な例では、研磨粒としては、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化クロム、酸化ストロンチウム、酸化シリコン及びこれらの組合せといった、酸化化合物又は錯体が挙げられ得る。１つの特定の例では、研磨粒子３００は、本体３０１を形成する研磨粒がアルミナを含む、より具体的には、アルミナから本質的に成り得るように形成される。さらに、具体的な例では、形状化研磨粒子３００は、播種されたゾルゲルから形成され得る。
【００８４】
本体３０１内に含有される研磨粒（すなわち、結晶子）は、通常約１００ミクロン以下の平均粒径を有し得る。他の実施形態では、平均粒径は、約８０ミクロン以下、約５０ミクロン以下、約３０ミクロン以下、約２０ミクロン以下、約１０ミクロン以下又は約１ミクロン以下さえといった、より小さい可能性がある。さらに、本体３０１に含有される研磨粒の平均粒径は、少なくとも約０．０５ミクロン、少なくとも約０．０８ミクロン、少なくとも約０．１ミクロン又は少なくとも約０．５ミクロンさえといった、少なくとも約０．０１ミクロンであり得る。研磨粒は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内の平均粒径を有し得ることが理解されるだろう。
【００８５】
特定の実施形態に従うと、研磨粒子３００は、本体３０１内に少なくとも２つの異なる種類の研磨粒を含む複合品であり得る。異なる種類の研磨粒は、互いに異なる組成を有する研磨粒である。例えば、本体３０１は、少なくとも２つの異なる種類の研磨粒を含むように形成され得、ここで、２つの異なる種類の研磨粒は、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、オキシ窒化物、オキシホウ化物、ダイアモンド及びこれらの組合せであり得る。
【００８６】
一実施形態に従うと、研磨粒子３００は、本体３０１上で測定可能な最大寸法で測定される、少なくとも約１００ミクロンの平均粒径を有し得る。実際には、研磨粒子３００は、少なくとも約２００ミクロン、少なくとも約３００ミクロン、少なくとも約４００ミクロン、少なくとも約５００ミクロン、少なくとも約６００ミクロン、少なくとも約７００ミクロン、少なくとも約８００ミクロン又は少なくとも約９００ミクロンさえといった、少なくとも約１５０ミクロンの平均粒径を有し得る。さらに、研磨粒子３００は、約３ｍｍ以下、約２ｍｍ以下又は約１．５ｍｍ以下さえといった、約５ｍｍ以下である平均粒径を有し得る。研磨粒子３００は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内で平均粒径を有し得ることが理解されるだろう。
【００８７】
本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、向上した性能を促進し得るパーセントフラッシングを有し得る。特に、フラッシングは図４で示すような１つの側面に沿って見られる粒子の面積を画定し、ここで、フラッシングは箱４０２及び４０３内で本体３０１の側面から延びる。フラッシングは、本体３０１の上面３０３及び底面３０４に隣接した、細くなった領域を表し得る。フラッシングは、側面の本体３０１の側面上の最内部点（例えば、４２１）と本体３０１の側面上の最外部点（例えば、４２２）との間に延びている箱内に含まれる側面に沿った、本体３０１の面積のパーセンテージとして測定され得る。１つの特定の例では、本体３０１は特定の含量のフラッシングを有し得、これは、箱４０２、４０３及び４０４内に含まれる本体３０１の総面積と比較した、箱４０２及び４０３内に含まれる本体３０１の面積のパーセンテージであり得る。一実施形態に従うと、本体３０１のパーセントフラッシング（ｆ）は、少なくとも約１％であり得る。別の実施形態では、パーセントフラッシングは、少なくとも約２％、少なくとも約３％、少なくとも約５％、少なくとも約８％、少なくとも約１０％、少なくとも約１２％、少なくとも約１５％、少なくとも約１８％又は少なくとも約２０％さえといった、より大きい可能性がある。さらに、非制限的な実施形態では、本体３０１のパーセントフラッシングは制御され得、約４０％以下、約３５％以下、約３０％以下、約２５％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１５％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下又は約４％以下さえといった約４５％以下であり得る。本体３０１のパーセントフラッシングは、上記最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記フラッシングパーセンテージは、形状化研磨粒子の束に関する平均フラッシングパーセンテージ又は中央フラッシングパーセンテージを示し得ることが理解されるだろう。
【００８８】
パーセントフラッシングは、形状化研磨粒子３００を横向きにマウントして本体３０１を横で見て図４で示すような白黒画像を作製することで測定され得る。そのようなことに適したプログラムとしては、ＩｍａｇｅＪソフトウェアが挙げられる。パーセントフラッシングは、中央４０４及び箱内の面積を包含する、横で見た本体３０１の総面積（影付き面積の合計）と比較して、箱４０２及び４０３の本体３０１の面積を決定することで測定され得る。そのような手順は、適切な粒子のサンプリングに関して完了し、平均、中央及び／又は標準偏差値を作製し得る。
【００８９】
本明細書の実施形態に従った形状化研磨粒子の束は、適切なサンプルサイズ由来の寸法的特徴の標準偏差で測定される通り、向上した寸法的均一性を示し得る。一実施形態に従うと、形状化研磨粒子は、フラッシング変動（Ｖｆ）を有し得、これは、束の適切なサンプルサイズの粒子に関するフラッシングパーセンテージ（ｆ）の標準偏差として算出され得る。一実施形態に従うと、フラッシング変動は約５．３％以下、約５％以下若しくは約４．８％以下、約４．６％以下又は約４．４％以下さえといった、約５．５％以下であり得る。１つの非制限的な実施形態では、フラッシング変動（Ｖｆ）は少なくとも約０．１％であり得る。フラッシング変動は上記のいずれかの最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【００９０】
本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、少なくとも４０００の高さ（ｈｉ）及びフラッシングの乗数値（ｈｉＦ）を有し得、ここで、ｈｉＦ＝（ｈｉ）（ｆ）であり、「ｈｉ」は上記の通り本体３０１の最小の内部高であり、「ｆ」はパーセントフラッシングである。１つの特定の例では、本体３０１の高さ及びフラッシングの乗数値（ｈｉＦ）は、少なくとも約４５００ミクロン％、少なくとも約５０００ミクロン％、少なくとも約６０００ミクロン％、少なくとも約７０００ミクロン％又は少なくとも約８０００ミクロン％さえといった、より大きい可能性がある。さらに、１つの非制限的な実施形態では、高さ及びフラッシングの乗数値は約３００００ミクロン％以下、約２５０００ミクロン％以下、約２００００ミクロン％以下又は約１８０００ミクロン％以下さえといった約４５０００ミクロン％以下であり得る。本体３０１の高さ及びフラッシングの乗数値は、上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。さらに、上記乗数値は、形状化研磨粒子の束に関して中央乗数値（ＭｈｉＦ）を示し得ることが理解されるだろう。
【００９１】
コーティングされた研磨品
形状化研磨粒子３００を形成又は調達した後、粒子はバッキングと組合せてコーティングされた研磨品を形成し得る。特に、コーティングされた研磨品は、複数の形状化研磨粒子を用い得、これは、単一層で分散され得、また、バッキングを覆い得る。
【００９２】
図５で示される通り、コーティングされた研磨材５００は、基板５０１（すなわち、バッキング）及び基板５０１の表面を覆う少なくとも１つの粘着層を含み得る。粘着層は、メークコート５０３及び／又はサイズコート５０４を含み得る。コーティングされた研磨材５００は、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子５０５を含み得る研磨粒子材料５１０、及び、必ずしも形状化研磨粒子でなくてもよい、ランダムな形状を有する希釈研磨粒子の形式である第２の種類の研磨粒子材料５０７を含み得る。メークコート５０３は基板５０１の表面を覆い得、形状化研磨粒子５０５及び第２の種類の研磨粒子材料５０７の少なくとも一部分を囲み得る。サイズコート５０４は、形状化研磨粒子５０５及び第２の種類の研磨粒子材料５０７並びにメークコート５０３を覆い得、また、形状化研磨粒子５０５及び第２の種類の研磨粒子材料５０７並びにメークコート５０３と接着している可能性がある。
【００９３】
一実施形態に従うと、基板５０１は、有機材料、無機材料及びこれらの組合せを含み得る。特定の例では、基板５０１は織布を含み得る。しかし、基板５０１は非織布から作製され得る。特に適切な基板材料としては、ポリマー、及び、特にポリエステル、ポリウレタン、ポリプロピレン、ＤｕＰｏｎｔ社のＫＡＰＴＯＮといったポリイミド、紙を包含する有機材料が挙げられ得る。いくつかの適切な無機材料としては、金属、金属合金、及び、特に銅箔、アルミニウム箔、スチール箔、並びに、これらの組合せが挙げられ得る。
【００９４】
ポリマー製剤を用いて、例えば、フロントフィル、プレサイズ、メークコート、サイズコート及び／又はスーパーサイズコートといった研磨品の様々な層のいずれかを形成し得る。フロントフィルを形成するのに用いる場合、ポリマー製剤としては通常、ポリマー樹脂、フィブリル化繊維（好ましくはパルプ形態）、フィラー材料及び他のあってもなくてもよい添加剤が挙げられる。いくつかのフロントフィル実施形態に適切な製剤としては、フェノール樹脂、ウォラストナイトフィラー、消泡剤、界面活性剤、フィブリル化繊維、及び残部水といった材料が挙げられ得る。適切なポリマー樹脂材料としては、フェノール樹脂、ウレア／ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／ラテックス樹脂、並びにそれら樹脂の組合せを包含する熱硬化性樹脂から選択される硬化性樹脂が挙げられる。他の適切なポリマー樹脂材料としては、エポキシ樹脂、アクリル化エポキシ樹脂のアクリル化オリゴマー、ポリエステル樹脂、アクリル化ウレタン及びポリエステルアクリレート並びにモノアクリル化、マルチアクリル化モノマーを包含するアクリル化モノマーといった、電子ビーム、ＵＶ放射線又は可視光を用いて硬化可能な樹脂といった放射線硬化性樹脂も挙げられ得る。製剤はまた、侵食性を高めることで蒸着した研磨複合体の自己鋭化特徴を向上し得る非反応性熱可塑性樹脂結合剤も含み得る。そのような熱可塑性樹脂の例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、及びポリオキシプロピレン−ポリオキシエテンブロックコポリマー等が挙げられる。基板５０１上でのフロントフィルの使用は、メークコート５０３の適切な適用及び所定の配向での形状化研磨粒子５０５の改善した適用及び配向に関して、表面の均一性を向上し得る。
【００９５】
メークコート５０３は単一のプロセスで基板５０１の表面に適用され得、又は、研磨粒子材料５１０をメークコート５０３材料と組合せて、基板５０１の表面に混合物として適用し得る。メークコート５０３の適切な材料としては、例えば、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルクロリド、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、シェラック及びこれらの混合物を包含する有機材料、特にポリマー材料が挙げられ得る。一実施形態では、メークコート５０３はポリエステル樹脂を含み得る。コーティングされた基板は次いで、樹脂及び研磨粒子材料を基板に硬化するために加熱され得る。通常、コーティングされた基板５０１は、この硬化プロセスの間、約１００℃と約２５０℃未満との間の温度まで加熱され得る。
【００９６】
研磨粒子材料５１０は、本明細書の実施形態に従った形状化研磨粒子５０５を含み得る。具体的な例では、研磨粒子材料５１０は異なる種類の形状化研磨粒子５０５を含み得る。異なる種類の形状化研磨粒子は、本明細書の実施形態で説明する通り、組成、二次元的な形状、三次元的な形状、サイズ及びこれらの組合せにおいて互いに異なり得る。図示される通り、コーティングされた研磨材５００は、通常三角形の二次元的な形状を有する形状化研磨粒子５０５を含み得る。
【００９７】
もう一方の種類の研磨粒子５０７は、形状化研磨粒子５０５とは異なる希釈粒子であり得る。例えば、希釈粒子は、組成、二次元的な形状、三次元的な形状、サイズ及びこれらの組合せにおいて形状化研磨粒子５０５と異なり得る。例えば、研磨粒子５０７は、ランダムな形状を有する従来の砕かれた研磨砂粒であり得る。研磨粒子５０７は形状化研磨粒子５０５の中央粒径よりも小さい中央粒径を有し得る。
【００９８】
メークコート５０３を研磨粒子材料５１０で十分に形成した後、研磨粒子材料５１０を覆い、研磨粒子材料５１０を定位置に接着するサイズコート５０４を形成し得る。サイズコート５０４は、有機材料を含み得、ポリマー材料から本質的に作製され得、また、特に、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルクロリド、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、シェラック及びこれらの混合物を用い得る。
【００９９】
一実施形態に従うと、本明細書の形状化研磨粒子５０５は、互いに、及び基板５０１に対して所定の配向で配向され得る。完全には理解されていないが、寸法的特徴の１つ又は寸法的特徴の組合せが、形状化研磨粒子５０５の向上した位置付けの原因であると考えられている。一実施形態に従うと、形状化研磨粒子５０５は図５で示す通り、基板５０１に対して平らな配向で配向され得る。平らな配向では、形状化研磨粒子の底面３０４は基板５０１の表面（すなわち、バッキング）に最も近い可能性があり得、形状化研磨粒子５０５の上面３０３は、基板５０１から離れるように方向付けられ、作業ピースと最初のかみ合いを実施するように構成され得る。
【０１００】
別の実施形態に従うと、形状化研磨粒子５０５は、図６で示すような、所定の横配向で基板５０１上に配置され得る。特定の例では、研磨品５００上の形状化研磨粒子５０５の総含量の多数の形状化研磨粒子５０５は、所定の横配向を有し得る。横配向では、形状化研磨粒子５０５の底面３０４は、基板５０１の表面に対して間隔を空けて角度をなし得る。具体的な例では、底面３０４は、基板５０１の表面に対して鈍角（Ａ）を形成し得る。さらに、上面３０３は、基板５０１の表面に対して間隔を空けて角度をなし、これは、具体的な例では、通常鋭角（Ｂ）を形成し得る。横配向では、側面（３０５、３０６又は３０７）は、基板５０１の表面に最も近い可能性があり、より具体的には、基板５０１の表面に直接接触している可能性がある。
【０１０１】
本明細書の他の特定の研磨品に関して、研磨品５００上の少なくとも約５５％の複数の形状化研磨粒子５０５は、所定の横配向を有し得る。さらに、パーセンテージは、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約７７％、少なくとも約８０％、少なくとも約８１％又は少なくとも約８２％さえといった、より大きい可能性がある。１つの非制限的な実施形態に関しては、研磨品５００は、本明細書の形状化研磨粒子５０５を用いて形成され得、ここで、形状化研磨粒子の総含量の約９９％以下は所定の横配向を有する。
【０１０２】
所定の配向の粒子のパーセンテージを決定するために、研磨品５００の２Ｄ微小焦点Ｘ線画像を、次の表１の条件で操作したＣＴスキャン機を用いて取得する。Ｘ線２Ｄ画像処理は、品質保証ソフトウェアを有するＲＢ２１４上で実施された。標本の装着具は、４インチ×４インチの窓と、枠を固定する２つのねじを有する上部が半分平らになった直径０．５インチの固体金属ロッドとを有するプラスティックの枠を用いる。画像処理の前に、標本を枠の一面上で切り離し、ここで、ねじの頭部がＸ線の入射方向と対面した。次いで、４インチ×４インチの窓の面積内の５つの領域が、１２０ｋＶ／８０μＡでの画像処理のために選択される。各２Ｄ投影物を、Ｘ線のオフセット／ゲイン較正で、１５倍の倍率で記録した。
【０１０３】
【表１】
2016529117.tif 000003
【０１０４】
画像を次いで、ＩｍａｇｅＪプログラムを用いてインポート及び分析し、ここで、異なる配向に、次の表２に従って値を割当てる。図１４は、一実施形態に従ったコーティングされた研磨材の部分を示す画像を含み、バッキング上の形状化研磨粒子の配向を分析するのに用いられる。
【０１０５】
【表２】
2016529117.tif 000004
【０１０６】
次いで、表３で以下に提供する通り、３つの計算を実施する。計算を実施した後、１平方センチメートルあたりの、特定の配向（例えば、横配向）にある粒のパーセンテージを引き出し得る。
【０１０７】
【表３】
2016529117.tif 000005
【０１０８】
−これらは全て、画像の代表的な面積に関して標準化されている。
【０１０９】
＋−０．５の倍率を適用し、これらが完全に画像中に存在しているわけではない事実の原因であった。
【０１１０】
さらに、形状化研磨粒子で作成した研磨品は、様々な含量の形状化研磨粒子を使用し得る。例えば、研磨品は、オープンコート構成又はクローズドコート構成である形状化研磨粒子の単一層を含むコーティングされた研磨品であり得る。例えば、複数の形状化研磨粒子は、約７０個の粒子／ｃｍ２以下の形状化研磨粒子のコーティング密度を有するオープンコート研磨製品を画定し得る。他の例では、オープンコート研磨品の１平方センチメートルあたりの形状化研磨粒子の密度は、約６０個の粒子／ｃｍ２以下、約５５個の粒子／ｃｍ２以下又は約５０個の粒子／ｃｍ２以下さえといった、約６５個の粒子／ｃｍ２以下であり得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子を用いるオープンコートでコーティングした研磨材の密度は、少なくとも約５個の粒子／ｃｍ２又は少なくとも約１０個の粒子／ｃｍ２であり得る。オープンコートでコーティングされた研磨品の１平方センチメートルあたりの形状化研磨粒子の密度は、上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【０１１１】
代替実施形態では、複数の形状化研磨粒子は、少なくとも約８０個の粒子／ｃｍ２、なくとも約８５個の粒子／ｃｍ２、なくとも約９０個の粒子／ｃｍ２、なくとも約１００個の粒子／ｃｍ２といった、少なくとも約７５個の粒子／ｃｍ２の形状化研磨粒子のコーティング密度を有するクローズドコート研磨製品を画定し得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子を用いるクローズドコートでコーティングした研磨材の密度は、約５００個の粒子／ｃｍ２以下であり得る。クローズドコート研磨品の１平方センチメートルあたりの形状化研磨粒子の密度は、上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【０１１２】
特定の例では、研磨品は、製品の外部研磨表面を覆う研磨粒子の、約５０％以下のコーティングのオープンコート密度を有し得る。他の実施形態では、研磨表面の総面積に対する研磨粒子のパーセンテージコーティングは、約４０％以下、約３０％以下、約２５％以下又は約２０％以下さえもあり得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、研磨表面の総面積に対する研磨粒子のパーセンテージコーティングは、少なくとも約１０％、少なくとも約１５％、少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３５％又は少なくとも約４０％さえといった、少なくとも約５％であり得る。研磨表面の総面積に関する形状化研磨粒子のパーセント被覆率は、上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内であり得ることが理解されるだろう。
【０１１３】
いくつかの研磨品は、バッキング又は基板５０１の長さ（例えばレン）に対して特定の含量の研磨粒子を有し得る。例えば、一実施形態では、研磨品は、少なくとも約２５ポンド／連又は少なくとも約３０ポンド／連さえといった、少なくとも約２０ポンド／連の形状化研磨粒子の標準化重量を用い得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、研磨品は、約５０ポンド／連以下又は約４５ポンド／連以下さえといった、約６０ポンド／連以下の標準化重量の形状化研磨粒子を含み得る。本明細書の実施形態の研磨品は、上記の最小値と最大値のいずれかの間の範囲内の標準化重量の形状化研磨粒子を用い得ることが理解されるだろう。
【０１１４】
本明細書に記載する研磨品上の複数の形状化研磨粒子は、研磨粒子の束の第１の部分を画定し得、本明細書の実施形態で説明する特徴は、形状化研磨粒子の束の少なくとも第１の部分に存在する特徴を示し得る。さらに、一実施形態に従うと、本明細書で既に記述した１つ以上のプロセスパラメーターの制御は、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子の１つ以上の特徴の広がりも制御し得る。束のいずれかの形状化研磨粒子の１つ以上の特徴の提供は研磨品における粒子の代替又は改善した配置を促進し得、さらに、研磨品の向上した性能又は使用を促進し得る。
【０１１５】
研磨粒子の束の第１の部分は、複数の形状化研磨粒子を含み得、第１の部分のこれら粒子はそれぞれ、実質的に同一の特徴を有し得、例えば、制限はしないが、同一の二次元的な形状の主面が挙げられる。他の特徴としては、本明細書に記載する実施形態の特徴のいずれかが挙げられる。束は、様々な含量の第１の部分を含み得る。第１の部分は、束内の粒子の総数の少数部分（例えば、５０％未満及び１％と４９％との間のいずれかの整数）、束内の粒子の総数の多数部分（例えば、５０％以上及び５０％と９９％との間のいずれかの整数）、又は、束の粒子全て（例えば、９９％と１００％との間）であり得る。例えば、束の第１の部分は、束内の粒子の総量と比較して少数量又は多数量で存在し得る。具体的な例では、第１の部分は、束内の部分の総含量に関して、少なくとも約５％、少なくとも約１０％、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、少なくとも約５０％、少なくとも約６０％又は少なくとも約７０％さえといった、少なくとも約１％の量で存在し得る。さらに、別の実施形態では、束は、束内の部分の総含量に関して、約９０％以下、約８０％以下、約７０％以下、約６０％以下、約５０％以下、約４０％以下、約３０％以下、約２０％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下又は約４％以下さえといった、約９９％以下の第１の部分を含み得る。束は、上記のいずれかの最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内の含量の第１の部分を含み得る。
【０１１６】
束は、研磨粒子の第２の部分も含み得る。研磨粒子の第２の部分は、希釈粒子を含み得る。束の第２の部分は、第１の部分の複数の形状化研磨粒子とは別の研磨特徴を少なくとも１つ有する複数の研磨粒子を含み得、制限はしないが、二次元的な形状、平均粒径、粒子の色、固さ、脆弱性、丈夫さ、密度、比表面積、アスペクト比、本明細書の実施形態のいずれかの特徴及びこれらの組合せといった研磨特徴が挙げられる。
【０１１７】
特定の例では、束の第２の部分は、複数の形状化研磨粒子を含み得、ここで、第２の部分の形状化研磨粒子はそれぞれ、実質的に同一の特徴を有し得、例えば、制限はしないが、同一の二次元的な形状の主面が挙げられる。第２の部分は、本明細書の実施形態の特徴を１つ以上有し得、当該特徴及び第２の部分の粒子の１つ以上の特徴は、第１の部分の複数の形状化研磨粒子とは異なり得る。特定の例では、束は、第１の部分よりも少ない含量の第２の部分を含み得、より具体的には、束内の粒子の総含量に対して少数含量の第２の部分を含み得る。例えば、束は特定の含量の第２の部分を含み得、例えば、束内の粒子の総含量に関して、約３０％以下、約２０％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下又は約４％以下さえといった約４０％以下が挙げられる。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、束は、束内の粒子の総含量に関して、少なくとも約１％、少なくとも約２％、少なくとも約３％、少なくとも約４％、少なくとも約１０％、少なくとも約１５％又は少なくとも約２０％さえといった、少なくとも約０．５％の第２の部分を含み得る。束は、上記のいずれかの最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内の含量の第２の部分を含み得ることが理解されるだろう。
【０１１８】
さらに、代替実施形態では、束は、第１の部分よりも多い含量の第２の部分を含み得、より具体的には、束内の粒子の含量に関して多数含量の第２の部分を含み得る。例えば、少なくとも１つの実施形態では、束は、束内の粒子の総含量に関して、少なくとも約６０％といった、少なくとも約５５％の第２の部分を含み得る。
【０１１９】
束は追加の部分を含み得ることが理解され、例えば、第１及び第２の部分のいずれか又は双方の粒子が共有する特徴とは異なり得る第３の特徴を有する複数の形状化研磨粒子を含む第３の部分が挙げられる。束は、第２の部分及び／又は第１の部分に対して様々な含量の第３の部分を含み得る。第３の部分は、束内の粒子の総数と比較して、第３の分部の粒子の総数に関して束内に少数量又は多数量で存在し得る。具体的な例では、第３の部分は、束内の総粒子の約３０％以下、約２０％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下又は約４％以下さえといった約４０％以下の量で存在し得る。さらに、他の実施形態では、束は、束内の総粒子に関して、少なくとも約１％、少なくとも約５％、少なくとも約１０％、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％又は少なくとも約５０％もの第３の部分といった、最小含量の第３の部分を含み得る。束は、上記のいずれかの最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内の含量の第３の部分を含み得る。さらに、束は、希釈用のランダムに形状化した研磨粒子の含量を含み得、本明細書の実施形態のいずれかの部分と同じ量で存在し得る。
【０１２０】
別の態様に従うと、束の第１の部分は、粒子の平均の形状、平均粒径、粒子の色、硬さ、脆弱性、丈夫さ、密度、比表面積、主面かどの曲率半径、側面かどの曲率半径、主面かどの曲率半径及び側面かどの曲率半径の比、並びに、これらの組合せから成る群から選択される所定の分類特徴を有し得る。同様に、束の他のいずれかの部分は、上記の分類特徴に従って分類され得る。
【０１２１】
図７Ａは、一実施形態に従った形状化研磨粒子の主面の上面の図示である。図示される通り、形状化研磨粒子の本体７０１は、主面７０２を含み得、これは、本体７０１の上部主面又は下部主面であり得る。さらに図示される通り、本体７０１は、通常三角形の二次元的な形状を有し得る。さらに、本体７０１は、かど７０３の曲率に対して最良適合の円の半径によって規定される特定の曲率半径を有するかど７０３を含み得る。本体７０１は、主面かどの曲率半径を含み得、これは、単一のかどから算出され得、又は、形状化研磨粒子の単一主面のかど全て（例えば、本体７０１の主面の３つのかど）の曲率半径の平均として算出され得る。さらに、主面かどの曲率半径の値は、統計的に関連するサンプルサイズの束の形状化研磨粒子由来の平均値であり得る。かどの曲率半径は、Ｏｌｙｍｐｕｓ  ＤＳＸ顕微鏡で撮った光学像で算出される。粒子は適切な配向（すなわち、主面のかどを見るために上から下、及び、側面のかどを評価するために側面から）から見て、顕微鏡に装備されているコンピューターソフトウェアを用いて、最良適合の円を測定するかどで作製する。最良適合の円は、かどの曲率の最大長が最良適合の円の外周の最大長に対応するように作製される。最良適合の円の半径は、かどの曲率半径を規定する。
【０１２２】
本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、特定の性能特性を促進し得る、特定の主面かどの曲率半径を有し得る。一実施形態に従うと、主面かどの曲率半径は、約７００ミクロン以下、約６００ミクロン以下、約５００ミクロン以下、約４００ミクロン以下、約３００ミクロン以下、約２８０ミクロン以下、約２６０ミクロン以下、約２４０ミクロン以下、約２２０ミクロン以下、約２００ミクロン以下、約１８０ミクロン以下、約１６０ミクロン以下、約１４０ミクロン以下、約１２０ミクロン以下、約１００ミクロン以下、約８０ミクロン以下、約７０ミクロン以下、約６０ミクロン以下、約５０ミクロン以下、約４０ミクロン以下又は約３０ミクロン以下さえといった約８００ミクロン以下であり得る。さらに、少なくとも１つの非制限的な実施形態では、主面かどの曲率半径は、少なくとも約０．１ミクロン、少なくとも約０．５ミクロン、少なくとも約１ミクロン、少なくとも約２ミクロン、少なくとも約３ミクロン、少なくとも約４ミクロン、少なくとも約５ミクロン、少なくとも約８ミクロン、少なくとも約１０ミクロン、少なくとも約１２ミクロン、少なくとも約１５ミクロン、少なくとも約１８ミクロン、少なくとも約２０ミクロン又は少なくとも約２５ミクロンさえであり得る。本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内の主面かどの曲率半径を有する本体を有し得ることが理解されるだろう。
【０１２３】
さらに別の実施形態では、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、特定の側面かどの曲率半径を有する本体を有し得る。図７Ｂは、一実施形態に従った形状化研磨粒子の側面図である。本体７０１は、主面７０２、主面７０２の反対側の主面７１３、及び、主面７０２と７１３との間に延びる側面７０５を有し得る。さらに図示される通り、本体７０１は、主面の１つ（例えば、主面７１３）と側面７０５との間の縁を画定する第１の側面かど７０６を有し得る。第１の側面かど７０６は、かど７０６の曲率に対して最良適合の円の半径によって規定される特定の曲率半径を有し得る。本体７０１は、側面かどの曲率半径を含み得、これは、本体７０１の単一のかどから算出され得、又は、形状化研磨粒子の本体７０１の１つ以上の主面と１つ以上の側面との間でかどを画定するかど全ての曲率半径の平均として算出され得る。さらに、側面かどの曲率半径の値は、統計的に関連するサンプルサイズの束の形状化研磨粒子由来の平均値であり得る。
【０１２４】
本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、特定の性能特性を促進し得る特定の側面かどの曲率半径を有し得る。一実施形態に従うと、側面かどの曲率半径は、約７００ミクロン以下、約６００ミクロン以下、約５００ミクロン以下、約４００ミクロン以下、約３００ミクロン以下、約２００ミクロン以下、約２８０ミクロン以下、約２６０ミクロン以下、約２４０ミクロン以下、約２２０ミクロン以下、約２００ミクロン以下、約１８０ミクロン以下、約１６０ミクロン以下、約１４０ミクロン以下、約１００ミクロン以下、約８０ミクロン以下又は約６０ミクロン以下さえといった約８００ミクロン以下であり得る。さらに、本体は、少なくとも約０．１ミクロン、少なくとも約３ミクロン、少なくとも約６ミクロン、少なくとも約１０ミクロン、少なくとも約１２ミクロン、少なくとも約１５ミクロン、少なくとも約２０ミクロン又は少なくとも約２５ミクロンさえといった少なくとも約１ミクロンである側面かどの曲率半径を有し得ることが理解されるだろう。本明細書の形状化研磨粒子は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内の側面かどの曲率半径を有する本体を有し得ることが理解されるだろう。
【０１２５】
本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、主面かどの曲率半径と側面かどの曲率半径との間に、特定の性能を促進し得る特定の関係性を有し得る。一例では、本体は、側面かどの曲率半径とは異なる主面かどの曲率半径を有し得る。例えば、本体の主面かどの曲率半径は、本体の側面かどの曲率半径よりも大きい可能性がある。別の実施形態では、主面かどの曲率半径は、側面かどの曲率半径よりも小さい可能性がある。さらに、１つの非制限的な実施形態では、主面かどの曲率半径は、側面かどの曲率半径と実質的に同一である。
【０１２６】
さらに、本体は、主面かどの曲率半径（ＭＳＣＲ）に対する側面かどの曲率半径（ＳＳＣＲ）との間の比を定義し得る特定の比ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲを有し得る。本明細書に記す通り、比は単一の主面かどの曲率半径の値、単一の側面かどの曲率半径の値、主面かどの曲率半径の平均値、又は、側面かどの曲率半径の平均値に基づき得る。１つの特定の実施形態では、比（ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲ）は、約１．４以下、約１．３以下、約１．２以下、約１．１以下、約１以下、約０．９以下、約０．８以下といった、約１．５以下であり得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、本体は、少なくとも約０．１、少なくとも約０．２、少なくとも約０．３、少なくとも約０．４、少なくとも約０．５、少なくとも約０．６、少なくとも約０．７、少なくとも約０．８、少なくとも約０．９、少なくとも約１の比ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲを有し得る。本明細書の形状化研磨粒子の本体は、上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内である比（ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲ）を定義し得ることが理解されるだろう。
【０１２７】
特定の理論に束縛されることは望まないが、第１の側面かど７０６と第２の側面かど７０９との間の側面７０５上の本体７０１の平面部分７１０は、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子に関連する性能を促進し得る特定の長さを有し得ることに留意されたい。特に、平面部分７１０の長さを制御し、主面配向及び側面配向である形状化研磨粒子の研削効率を制御し得る。さらに、平面部分７１０は、かど７０６と７０９との間の側面７０５に沿って、第１の側面かど７０６の曲率半径又は第２の側面かど７０９の曲率半径以下であり得る長さを有し得、そのような長さは、研削性能に影響を及ぼし得る。第１の側面かど７０６の曲率半径は、第２の側面かど７０９の曲率半径と同一であり得る、又は、第２の側面かど７０９の曲率半径と異なり得ることも留意されたい。別の実施形態では、平面部分７１０の長さは、側面かどの曲率半径の曲率半径の、約９５％以下、約９０％以下、約８０％以下、約７０％以下、約６０％以下、約５０％以下、約４０％以下、約３０％以下、約２０％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下又は約４％以下さえといった、約９９％以下であり得る。別の非制限的な実施形態では、平面部分７１０は、少なくとも１つ側面かどの曲率半径の曲率半径の、少なくとも約５％、少なくとも約１０％、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、少なくとも約５０％、少なくとも約６０％又は少なくとも約７０％さえといった、少なくとも約１％の長さを有し得る。平面部分７１０は、２つ以上の側面かどの曲率の平均を取って取得した平均の側面かどの曲率半径に対して長さを有し得ることが理解されるだろう。
【０１２８】
一実施形態に従うと、本明細書の実施形態に従った形状化研磨粒子は、特定の研削配向に関連する特定の研削性能を有し得、これは、標準化単一砂粒研削試験（ＳＧＧＴ）に従って測定され得る。ＳＧＧＴを実施する際に、１つの単一形状化研磨粒子を、エポキシの接着剤によって砂粒ホルダーに保持する。形状化研磨粒子を所望する配向（すなわち、主面配向又は側面配向）で固定し、２２ｍ／ｓのホイールの速さ及び３０ミクロンの開始ひっかきの深さを用いて、８インチのひっかき長のために３０４ステンレススチールの作業ピースを横切るように動かす。形状化研磨粒子は断面面積（ＡＲ）を有する溝を作業ピースに作る。各サンプルセットに関して、各形状化研磨粒子は、８インチ長を横断する通過を１５回完了し、１０個の各粒子を各配向に関して試験し、結果を分析する。試験は、作業ピース上の砂粒によって、作業ピースの表面に平行な方向及び溝の方向に及ぼされる接線力を測定し、ひっかき長の始めから終わりまでの溝の断面面積における純変化を測定し、形状化研磨粒子の摩耗を決定する。各通過に関する溝の断面面積における純変化が測定され得る。ＳＧＧＴに関しては、溝の断面面積に関して少なくとも１０００平方ミクロンの最小閾値を各通過に設ける。粒子が最小閾値の断面面積を有する溝を形成できなかった場合、その通過のデータは記録しない。
【０１２９】
ＳＧＧＴは、作業ピースに対して２つの異なる配向の形状化研磨粒子を用いて実施する。ＳＧＧＴは、主面配向である形状化研磨粒子の第１のサンプルセットで行い、ここで、各形状化研磨粒子の主面は、主面が作業ピース上での研削を開始するように、研削方向に垂直に配向する。主面配向である形状化研磨粒子のサンプルセットを用いたＳＧＧＴの結果によって、主面配向の形状化研磨粒子の研削効率の測定、並びに、主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）及び主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）の算出が可能になる。
【０１３０】
ＳＧＧＴを、側面配向である形状化研磨粒子の第２のサンプルセットでも行い、ここで、各形状化研磨粒子の側面は、側面が作業ピースの研削を開始するように、研削方向に垂直に配向する。側面配向である形状化研磨粒子のサンプルセットを用いたＳＧＧＴの結果によって、側面配向の形状化研磨粒子の研削効率の測定、並びに、側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）及び側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）の算出が可能になる。
【０１３１】
図８は、作業ピースから取り除かれた総面積あたりの力の一般化プロットを含み、これは、ＳＧＧＴから引き出したデータを示す。取り除いた総面積あたりの力は、形状化研磨粒子の研削効率の基準であり、取り除いた総面積当の力が低いほど、より効率的な研削性能を示す。図示される通り、図８は、主面配向で配置される形状化研磨粒子の第１のサンプルセットに関するＳＧＧＴデータを示し、したがって、主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）及び主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）を定義する第１の棒８０１を含む。図８はまた、形状化研磨粒子の第２のサンプルセットに関するＳＧＧＴデータを示第２の棒８２０を含み、ここで、粒子は第１のサンプルセットで使った粒と同じ種類（すなわち、同一組成及び形状特徴）であるが、側面配向で試験される。図示される通り、第２のサンプルセット由来のＳＧＧＴデータは、側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）及び側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）を提供する。
【０１３２】
１つの実施形態に従うと、本明細書の形状化研磨粒子は、ＳＧＧＴに従って、側面研削効率（ＳＳＭ）よりも小さい可能性がある主面研削効率（すなわち、ＭＳＭ）を有し得る。すなわち、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、側面上の形状化研磨粒子の研削効率と比較してより良好な主面を用いる研削効率を有し得る。さらに、代替実施形態では、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子が、ＳＧＧＴに従って、ＭＳＭよりも小さいＳＳＭを有し得る。
【０１３３】
一態様では、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）を有し得、これは、データ点の最低７５％の単位面積あたりの力の値を定義し、ＳＧＧＴに従った測定によるデータセット内の値の最上２５％を除く値であり得る。１つの実施形態に従うと、ＭＳＵＱは、約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下といった約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下であり得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、ＭＳＵＱは少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２であり得る。ＭＳＵＱは、上記最小値と最大値のいずれかの間の範囲内であり得る。
【０１３４】
別の実施形態に従うと、本明細書の形状化研磨粒子は、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）を有し得、これは、ＳＧＧＴに従って試験した形状化研磨粒子の第１のサンプルセットの主面研削効率の中央値を定義し得る。ＭＳＭは、ＭＳＵＱに対して特定の値を有し得る。例えば、ＭＳＭは、ＭＳＵＱよりも小さい可能性がある。１つの特定の実施形態では、ＭＳＭは、約７．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．８ｋＮ／ｍｍ２以下又は約４．６ｋＮ／ｍｍ２以下さえといった、約８ｋＮ／ｍｍ２以下である中央値を有し得る。さらに、本明細書の特定の形状化研磨粒子は、少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）を有し得ることが理解されるだろう。本明細書の形状化研磨粒子は上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内でＭＳＭを有し得ることが理解されるだろう。
【０１３５】
さらに別の実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子は、特定の主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）を有し得、これは、データ点の最上７５％の単位面積あたりの力の値を定義し、ＳＧＧＴに従った測定によるデータセット内の値の最低２５％を除く値であり得る。少なくとも１つの実施形態では、ＭＳＬＱは、ＭＳＭと比較して相対値を有し得る。例えば、ＭＳＬＱは、ＭＳＮよりも小さい可能性がある。別の実施形態では、ＭＳＬＱは、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．６ｋＮ／ｍｍ２以下といった、約８ｋＮ／ｍｍ２以下であり得る。さらに別の実施形態では、ＭＳＬＱは少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２であり得る。本明細書の形状化研磨粒子は、上記最小値と最大値のいずれか内のＭＳＬＱを有し得ることが理解されるだろう。
【０１３６】
さらに別の実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子は特定の側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）を有し得、これは、データ点の最低７５％の単位面積あたりの力の値を定義し、ＳＧＧＴに従った測定によるデータセット内の値の最上２５％を除く値であり得る。一実施形態に従うと、ＳＳＵＱは約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下であり得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、ＳＳＵＱは少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２であり得る。本明細書の形状化研磨粒子は、上記最小値又は最大値のいずれかの間の範囲内である、ＳＳＧＴに従ったＳＳＵＱを有し得ることが理解されるだろう。
【０１３７】
別の実施形態に従うと、本明細書の形状化研磨粒子は、特定の側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）を有し得、これは、ＳＧＧＴから算出した側面研削効率の中央値の基準であり得る。ＳＳＭはＳＳＵＱに対して特定値を有し得、より具体的には、ＳＳＵＱよりも小さい可能性がある。１つの特定の実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子は、約７．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．５ｋＮ／ｍｍ２以下又は約４．２ｋＮ／ｍｍ２以下といった、約８ｋＮ／ｍｍ２以下であるＳＳＭを有し得る。さらに別の実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子は、少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２であるＳＳＭを有し得る。本明細書の形状化研磨粒子は上記のいずれかの最小値と最大値との間の範囲内のＳＳＭを有し得ることが理解されるだろう。
【０１３８】
さらに、本明細書の形状化研磨粒子は、側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）を有し得、これは、データ点の最上７５％の単位面積あたりの力の値を定義し、ＳＧＧＴに従った測定によるデータセット内の値の最低２５％を除く値であり得る。一実施形態に従うと、ＳＳＬＱは、ＳＳＭと特定の関係性を有し得、より具体的には、ＳＳＭよりも小さい可能性がある。少なくとも１つの実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子は、約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４ｋＮ／ｍｍ２以下、約３．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約３．５ｋＮ／ｍｍ２以下であり得るＳＳＬＱを有し得る。さらに別の実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子は、少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２であり得るＳＳＬＱを有し得る。本明細書の形状化研磨粒子は、上記最小値と最大値のいずれかの間の範囲内であるＳＳＬＱを有し得ることが理解されるだろう。
【０１３９】
１つの実施形態に従うと、本明細書の形状化研磨粒子は、約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を有し得る。ＭＳＧＰＤは、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）と側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）との間のパーセント差を表し得る。ＭＳＭがＳＳＭよりも大きい場合、ＭＳＧＰＤは、等式ＭＳＧＰＤ＝［（ＭＳＭ−ＳＳＭ）／ＭＳＭ］×１００％を用いて算出され、ここで、ＭＳＭはＳＳＭよりも大きい。ＳＳＭがＭＳＭよりも大きい場合、ＭＳＧＰＤは、等式ＭＳＧＰＤ＝［（ＳＳＭ−ＭＳＭ）／ＳＳＭ］×１００％を用いて算出される。ＭＳＧＰＤにおけるそのようなパーセント差は、固定された研磨品の特定の研削性能を促進し得る。一実施形態に従うと、本明細書の形状化研磨粒子は、約３４％以下、約３２％以下、約３０％以下、約２８％以下、約２６％以下、約２４％以下、約２２％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１６％以下、約１４％以下、約１２％以下のＭＳＧＰＤを有し得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、形状化研磨粒子は、少なくとも約０．１％又は少なくとも約１％ものＭＳＧＰＤを有し得る。形状化研磨粒子は上記のいずれかの最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内のＭＳＧＰＤを有し得ることが理解されるだろう。
【０１４０】
さらに別の実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子は、約１．５ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）を有し得る。ＭＳＭＤは、等式ＭＳＭＤ＝│ＭＳＭ−ＳＳＭ│から算出される、ＭＳＭとＳＳＭとの間の絶対値を示し得ることが理解されるだろう。別の実施形態では、ＭＳＭＤは、約１．４ｋＮ／ｍｍ２以下、約１．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約１．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約１．１ｋＮ／ｍｍ２以下、約１ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．９ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．７ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．６ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．５ｋＮ／ｍｍ２以下であり得る。さらに、１つの非制限的な実施形態では、ＭＳＭＤは、少なくとも約０．０１ｋＮ／ｍｍ２であり得る。形状化研磨粒子は上記のいずれかの最小パーセンテージと最大パーセンテージとの間の範囲内のＭＳＭＤを有し得ることが理解されるだろう。
【０１４１】
他の態様では、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、特定の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）を有し得る。ＭＱＭＰＤは、中央値（例えば、ＭＳＭ）の１つ及び２つの関連した四分位数値（すなわち、ＭＳＵＱ及びＭＳＬＱ）の１つに関する最大パーセント差を表し得、形状化研磨粒子に関して２つの対応する四分位数値の１つに対する中央値との間の最大分散を示し得る。主面の値は側面の値に関連していないことが理解されるだろう。例えば、図８に示す一般化データセットのＭＳＭＰＤは、ＳＳＵＱとＳＳＭとの間のパーセント差に基づき得るだろう。ＭＱＭＰＤの決定には、ＭＳＭに対するＭＳＵＱ、ＭＳＭに対するＭＳＬＱ、ＳＳＭに対するＳＳＵＱ、及び、ＳＳＭに対するＳＳＬＱに関するパーセント差の算出が含まれ得る。ＭＳＵＱとＭＳＭとの間のパーセント差は、等式［（ＭＳＵＱ−ＭＳＭ）／ＭＳＵＱ］×１００％に基づく。ＭＳＬＱとＭＳＭとの間のパーセント差は、等式［（ＭＳＭ−ＭＳＬＱ）／ＭＳＭ］×１００％に基づく。ＳＳＵＱとＳＳＭとの間のパーセント差は、等式［（ＳＳＵＱ−ＳＳＭ）／ＳＳＵＱ］×１００％に基づく。ＳＳＬＱとＳＳＭとの間のパーセント差は、等式［（ＳＳＭ−ＳＳＬＱ）／ＳＳＭ］×１００％に基づく。前述の４つのパーセント差の算出のうち、最大値のパーセント差がＳＧＧＴデータのＭＱＭＰＤを定義する。
【０１４２】
一実施形態に従うと、本明細書の形状化研磨粒子は、約４４％以下、約４３％以下、約４２％以下、約４１％以下、約４０％以下、約３９％以下、約３８％以下、約３７％以下、約３６％以下、約３５％以下、約３２％以下、約３０％以下、約２８％以下、約２５％以下、約２２％以下又は約２０％以下さえといった、約４５％以下のＭＱＭＰＤを有し得る。別の他の非制限的な実施形態では、形状化研磨粒子は、少なくとも約１％といった、少なくとも約０．１％のＭＱＭＰＤを有し得る。本明細書の形状化研磨粒子は、上記最小パーセンテージと最大パーセンテージのいずれかの間の範囲内のＭＱＭＰＤを有し得ることが理解されるだろう。ＭＳＧＰＤにおけるそのようなパーセント差は、固定された研磨品の特定の研削性能を促進し得る。
【０１４３】
他の態様では、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、特定の最大四分位数の差（ＭＱＤ）を有し得る。ＭＱＤは、四分位数値（すなわち、ＭＳＵＱ、ＭＳＬＱ、ＳＳＵＱ及びＳＳＬＱ）のうちいずれかの間の最大差を表し得、主配向又は側配向に関して四分位数間の最大分散を示し得る。例えば、図８に示す一般化データセットのＭＳＤは、ＳＳＵＱとＭＳＬＱとの間のパーセント差に基づき得、なぜなら、ＳＳＵＱは、四分位数値の力／面積（例えば、ｋＮ／ｍｍ２）値の最大値を有し、ＭＳＬＱは四分位数値の力／面積値の最小値を有するからである。一実施形態に従うと、本明細書の形状化研磨粒子は、約５．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約４ｋＮ／ｍｍ２以下、約３．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約３．５ｋＮ／ｍｍ２以下といった、約６ｋＮ／ｍｍ２以下のＭＱＤを有し得る。さらに別の非制限的な実施形態では、形状化研磨粒子は少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２のＭＱＤを有し得る。本明細書の形状化研磨粒子は、上記最小値及び最大値のいずれかの間の範囲内でＭＱＤを有し得ることが理解されるだろう。
【０１４４】
さらに他の態様に関して、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）を示し得、これは、最大四分位数の差に対する領域８３０での四分位数との間の重複の度合いを示し得、主面配向と側配向との間の研削効率データにおける分散を示し得る。例えば、図８で示す一般化データセットのＭＳＱＰＯは、等式［（ＭＳＵＱ−ＳＳＬＱ）／ＭＱＤ］×１００％に基づき得るだろう。本明細書の形状化研磨粒子に関しては、ＭＳＱＰＯは少なくとも約１５％、少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３５％、少なくとも約４０％、少なくとも約４５％、少なくとも約５０％、少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％であり得る。１つの非制限的な実施形態では、形状化研磨粒子は、約９５％以下といった約９９％以下のＭＳＱＰＯを有し得る。本明細書の形状化研磨粒子は、上記最小パーセンテージと最大パーセンテージのいずれかの間の範囲内のＭＳＱＰＯを有し得ることが理解されるだろう。
【０１４５】
四分位数間の重複の度合いは、２つの上側四分位数データ点（主面又は側面研削効率のいずれかの）のうち最低値を有する上側四分位数との間の差を算出し、配向に関係なく、２つの下側四分位数データ点間で最大値を有する下側四分位数研削効率の値を引くことでも評価され得ることが理解されるだろう。そのようなものとして、１つのデータセット（例えば、主面配向）の上側四分位数値及び下側四分位数値が他の配向のデータセット（すなわち、側面配向）の上側四分位数値と下側四分位数値との間であるいくつかの例では、重複の度合いは１００％であり得、主面上側四分位数と主面下側四分位数との間の差であり得る。
【０１４６】
さらに別の実施形態では、本明細書の形状化研磨粒子は、主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）を有し得、これは、主面研削効率に関連する上側四分位数値と側面研削効率に関連する上側四分位数値との差を表し得る。例えば、図８に示す一般化データセットのＭＳＵＱＰＤは、等式［（ＳＳＵＱ−ＭＳＵＱ）／ＳＳＵＱ］×１００％に基づき得、ここで、ＳＳＵＱはＭＳＵＱよりも大きい。ＭＳＵＱがＳＳＵＱよりも大きい場合、ＭＳＵＱＰＤは等式［（ＭＳＵＱ−ＳＳＵＱ）／ＭＳＵＱ］×１００％を用いて定義され得る。一実施形態に従うと、ＭＳＵＱＰＤは、約５０％以下、約４８％以下、約４５％以下、約４２％以下、約４０％以下、約３８％以下、約３５％以下、約３２％以下、約３０％以下、約２８％以下、約２５％以下、約２２％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１５％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下であり得る。１つの非制限的な実施形態では、形状化研磨粒子は、少なくとも約０．１％のＭＳＵＱＰＤを有し得る。本明細書の形状化研磨粒子は、上記最小パーセンテージと最大パーセンテージのいずれかの間の範囲内のＭＳＵＱＰＤを有し得ることが理解されるだろう。
【０１４７】
一態様に従うと、本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）を有し得、これは、側面研削効率の下側四分位数値に対する主面研削効率に関連する下側四分位数値との間の差を表し得る。例えば、図８に示す一般化データセットのＭＳＬＱＰＤは、等式［（ＳＳＬＱ−ＭＳＬＱ）／ＳＳＬＱ］×１００％に基づき得、ここでＳＳＬＱはＭＳＬＱよりも大きい。ＭＳＬＱがＳＳＬＱよりも大きい場合、ＭＳＬＱＰＤは、等式［（ＭＳＬＱ−ＳＳＬＱ）／ＭＳＬＱ］×１００％を用いて定義され得る。少なくとも１つの実施形態では、ＭＳＬＱＰＤは、約２５％以下、約２２％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１６％以下、約１４％以下、約１２％以下、約１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下であり得る。１つの非制限的な実施形態では、形状化研磨粒子は、少なくとも約０．１％のＭＳＬＱＰＤを有し得る。本明細書の形状化研磨粒子は、上記最小パーセンテージと最大パーセンテージのいずれかの間の範囲内のＭＳＬＱＰＤを有し得ることが理解されるだろう。
【０１４８】
ＳＧＧＴに従った形状化研磨粒子の研削特徴を本明細書で参照してきたが、そのような値は、研磨粒子の束、形状化研磨粒子の束の第１の部分又は複数の形状化研磨粒子に関する中央値を示し得ることが理解されるだろう。特に、ＳＧＧＴ研削特徴を包含する本明細書の特徴のいずれかも、形状化研磨粒子の束、そのいずれかの部分、又は、そのいずれかの複数の形状化研磨粒子を代表するものであり得ることが理解されるだろう。そのようなＳＧＧＴ研削特徴としては、制限はしないが、主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）、主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）、側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）、側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）、主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）、最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）、最大四分位数の差（ＭＱＤ）、主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）、主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）、主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）、主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）及びこれらの組合せが挙げられる。
【０１４９】
１つの特定の実施形態では、形状化研磨粒子の束は、複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含み得、ここで、第１の部分の形状化研磨粒子は、ＳＧＧＴに従った第１の研削特徴を含む。例えば、第１の部分は、第１の主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ１）、第１の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ１）、第１の主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ１）、第１の側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ１）、第１の側面研削効率の中央値（ＳＳＭ１）、第１の側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ１）、第１の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ１）、第１の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ１）、第１の最大四分位数の差（ＭＱＤ１）、第１の主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ１）、第１の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ１）、第１の主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ１）、第１の主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ１）並びにこれらの組合せといった、ＳＧＧＴに従った第１の研削特徴を１つ以上規定する複数の形状化研磨粒子を含み得る。
【０１５０】
さらに、束は、第１の部分とは別であり得る研磨粒子の第２の部分を含み得る。具体的な例では、研磨粒子の第２の部分は複数の研磨粒子を含み得、これは、第１の研削特徴とは著しく異なる第２の研削特徴を１つ以上有する複数の形状化研磨粒子であり得る。第２の研削特徴は、本明細書に記載する特徴のいずれかを含み得、制限はしないが、第２の主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ２）、第２の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ２）、第２の主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ２）、第２の側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ２）、第２の側面研削効率の中央値（ＳＳＭ２）、第２の側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ２）、第２の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ２）、第２の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ２）、第２の最大四分位数の差（ＭＱＤ２）、第２の主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ２）、第２の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ２）、第２の主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ２）、第２の主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ２）並びにこれらの組合せが挙げられる。
【０１５１】
特定の例では、第１の研削特徴を有する研磨粒子の第１の部分及び第２の研削特徴を有する研磨粒子の第２の部分を含む束は、対応する研削特徴間で少なくとも約２％の差を有し得る。例えば、束は、特定の第１の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ１）を有する第１の部分、及び、ＭＳＭ１と少なくとも約２％で異なり得る特定の第２の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ２）を有する第２の部分を含み得、ここで、パーセント差は等式［（ＭＳＭ１−ＭＳＭ２）／ＭＳＭ１］×１００％によって算出され、ＭＳＭ１はＭＳＭ２よりも大きい。ＭＳＭ２がＭＳＭ１よりも大きい場合、用いる等式［（ＭＳＭ２−ＭＳＭ１）／ＭＳＭ２］×１００％である。他の実施形態では、第１の研削特徴と第２の対応する研削特徴との間の差は、少なくとも約８％、少なくとも約１０％、少なくとも約１２％、少なくとも約２５％、少なくとも約１８％、少なくとも約２０％、少なくとも約２２％又は少なくとも約２５％さえといった少なくとも約５％であり得る。第１の部分及び第２の部分の対応する研削特徴のいずれかの間のそのようなパーセント差は、同一の方法で算出され得ることが理解されるだろう。
【０１５２】
図９は、一実施形態に従って、研削方向に対して所定の配向特徴を有する形状化研磨粒子を含む研磨品の一部分の透視図の図示である。一実施形態では、研磨品は、別の形状化研磨粒子９０３に対して、及び／又は、研削方向９８５に対して所定の配向を有する形状化研磨粒子９０２を含み得る。粒子の表面に関する特定の研削性能パラメーターにおける差（すなわち、主面研削特徴対側面の研削特徴）が最小化される特定の形状化研磨粒子を用いることで、コーティングされた研磨材上の粒子の正確な配向の意義が最小化され得、したがって、研磨品の全体の性能が、基板に対する形状化研磨粒子の配向とは関係なく向上することが企図される。
【０１５３】
研削方向９８５は、物質除去操作において、作業ピースに対する、研磨品の動きの意図した方向であり得る。具体的な例では、研削方向９８５はバッキング９０１の寸法に対して規定され得る。例えば、一実施形態では、研削方向９８５は、バッキングの横軸９８１に実質的に垂直であり得、バッキング９０１の長手方向軸９８０に実質的に並行であり得る。形状化研磨粒子９０２の所定の配向特徴は、形状化研磨粒子９０２の作業ピースとの最初の接触表面を規定し得る。例えば、形状化研磨粒子９０２は、主面９６３及び９６４並びに主面９６３と主面９６４との間に延びている側面９６５及び９６６を有し得る。形状化研磨粒子９０２の所定の配向特徴は、主面９６３が、形状化研磨粒子９０２の他の面よりも先に作業ピースと最初の接触を行うように構成されるように、粒子を配置し得る。そのような配向は、研削方向９８５に対して主面配向だと考えられる。より具体的には、形状化研磨粒子９０２は、研削方向９８５に対して特定の配向を有する二等分軸９３１を有し得る。例えば、図示される通り、研削方向９８５及び二等分軸９３１のベクトルは、互いに実質的に垂直である。あらゆる範囲の所定の回転配向が形状研磨粒子に関して企図され、研削方向９８５に対して形状化研磨粒子のあらゆる範囲の配向が企図され、用いられ得ることが理解されるだろう。
【０１５４】
形状化研磨粒子９０３は、形状化研磨粒子９０２及び研削方向９８５と比較して１つ以上の異なる所定の配向特徴を有し得る。図示される通り、形状化研磨粒子９０３は、主面９９１及び９９２を含み得、これは、側面９７１及び９７２によって結合され得る。さらに、図示される通り、形状化研磨粒子９０３は研削方向９８５のベクトルに対して特定の角度を形成する二等分軸９７３を有し得る。図示される通り、形状化研磨粒子９０３の二等分軸９７３は、二等分軸９７３と研削方向９８５との間の角度が本質的に０度であるように、研削方向９８５と実質的に平行配向を有し得る。従って、形状化研磨粒子の所定の配向特徴は、形状化研磨粒子９０３の他の表面のいずれかよりも前に側面９７２が作業ピースと最初の接触を行うことを促す。そのような形状化研磨粒子９０３の配向は、研削方向９８５に対して側面配向と見なされ得る。
【０１５５】
本明細書の実施形態の形状化研磨粒子を用いる本明細書の固定された研磨品は、形状化研磨粒子の、バッキングに対する配向、互いに対する配向及び研削方向に対する配向（例えば、主面配向、側面配向又はその間の配向）に関係なく、向上した性能を有し得る。本明細書の実施形態の形状化研磨粒子は、その配向次第で、限られた重要な性能の変動を有し得、したがって、形状化研磨粒子の、互いに関する配向、バッキングに対する配向及び研削方向に対する配向の意義が最小化され得る。そのような特徴は、向上した性能を有する固定された研磨品（例えば、コーティングされた研磨品、接着された研磨品等）の形成を促進し得る。
【０１５６】
さらに、１つの非制限的な実施形態では、研磨品は、基板及び／又は互いに対して所定の分布で配置され得る形状化研磨粒子の群を１つ以上含み得るとが理解されるだろう。例えば、本明細書に記載する形状化研磨粒子の１つ以上の群は、研削方向に対して所定の配向を有し得る。さらに、本明細書の研磨品は、形状化研磨粒子の群を１つ以上有し得、各郡は、研削方向に対して異なる所定配向を有する。研削方向に対して異なる所定配向を有する形状化研磨粒子の群の使用によって、研磨品の向上した性能が促され得る。
【実施例】
【０１５７】
実施例１
３つのサンプルの形状化研磨粒子を、ＳＧＧＴを用いて分析した。第１のサンプル、サンプルＳ１は、およそ８０ミクロンの平均の主面かどの曲率半径、およそ３０ミクロンの平均の側面かどの曲率半径、およそ０．４のＳＳＣＲ／ＭＳＣＲの比、およそ４００ミクロンの高さ及びおよそ５．５％のフラッシングパーセンテージを有する、播種されたゾルゲルから作製された形状化研磨粒子を含む。図１０は、サンプルＳ１の２つの代表的な形状化研磨粒子の画像を含む。
【０１５８】
第２のサンプル、サンプルＳ２は、およそ８０ミクロンの平均の主面かどの曲率半径、およそ３０ミクロンの平均の側面かどの曲率半径、およそ０．４のＳＳＣＲ／ＭＳＣＲの比、およそ４００ミクロンの高さ、およそ５．５のフラッシングパーセンテージを有する、播種されたゾルゲルから作製された形状化研磨粒子を含む。図１１は、サンプルＳ２の２つの代表的な形状化研磨粒子の画像を含む。
【０１５９】
従来サンプル、サンプルＣＳ１は、３Ｍ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社から３Ｍ９８４Ｆとして市販されているＣｕｂｉｔｒｏｎ  ＩＩ形状化研磨粒子のサンプルである。サンプルＣＳ１の形状化研磨粒子は、希土類元素でドープしたアルファ−アルミナ組成物を有し、およそ３０ミクロンの平均の主面の曲率半径、およそ３０ミクロンの側面かどの曲率半径、およそ１のＳＳＣＲ／ＭＳＣＲの比、およそ２６０ミクロンの高さ、およそ４％のフラッシングパーセンテージであった。図１２は、サンプルＣＳ１の２つの代表的な形状化研磨粒子の画像を含む。
【０１６０】
サンプルは全てＳＧＧＴに従って、主面配向及び側面配向で試験した。データの結果を図１３で提供し、これは、各サンプルに関する主面研削効率及び側面研削効率のプロットを含む。サンプルＣＳ１は３７のＭＳＧＰＤ、約６のＭＱＤ、１２のＭＳＱＰＯ、１．７のＭＳＭＤ、４７のＭＱＭＰＤ、５４のＭＳＵＱＰＤ及び２７のＭＳＬＱＰＤを有していた。サンプルＳ１は、およそ９のＭＳＧＰＤ、約３のＭＱＤ、約１００のＭＳＱＰＯ、０．４のＭＳＭＤ及び３６のＭＱＭＰＤ、３．６のＭＳＵＱＰＤ並びに１８のＭＳＬＱＰＤを有していた。サンプルＳ２は、１０のＭＳＧＰＤ、２．７のＭＱＤ、約８６のＭＳＱＰＯ、０．４７のＭＳＭＤ、２８のＭＱＭＰＤ、４のＭＳＵＱＰＤ、２．９のＭＳＬＱＰＤを有していた。
【０１６１】
さらに、比較して、サンプルＳ１及びＳ２はそれぞれ、サンプルＣＳ１の主面研削効率と同等、又はサンプルＣＳ１の主面研削効率よりも良好な主面研削効率を有していた。さらに、サンプルＳ１及びＳ２はそれぞれ、サンプルＣＳ１のＭＳＧＰＤ値よりもほぼ３倍小さいＭＳＧＰＤ値を有していた。サンプルＳ１及びＳ２は、サンプルＣＳ１のＭＱＤ値よりも２倍小さいＭＱＤ値を有していた。ＭＳＵＱＰＤ値は、サンプルＣＳ１のＭＳＵＱＰＤ値よりも１０倍以上小さかった。サンプルＳ１及びＳ２のＭＳＬＱＰＤ値は、ＣＳ１のＭＳＬＱＰＤの値よりも著しく小さく、サンプルＳ２の場合は、ほぼ１０倍低かった。本明細書の実施形態のサンプルＳ１及びＳ２は、サンプルＣＳ１よりも、側面配向に対する主面配向との間の研削性能選択性が低く、このことは、研磨品を形成する製造効率を向上し得、また、そのような形状化研磨粒子を用いる研磨品の性能を向上し得る。
【０１６２】
本明細書は、従来技術からの逸脱を表す。本明細書の実施形態の形状化研磨粒子及び固定された研磨品は、他の物品とは別の特徴の組合せを含む。例えば、本明細書の形状化研磨粒子は、ＭＳＵＱ、ＭＳＭ、ＭＳＬＱ、ＳＳＵＱ、ＳＳＭ、ＳＳＬＱ、ＭＳＧＰＤ、ＭＱＭＰＤ、ＭＱＤ、ＭＳＱＰＯ、ＭＳＭＤ、ＭＳＵＱＰＤ、ＭＳＬＱＰＤ及びこれらの組合せの観点から、予期できない注目すべき性能を示す。さらに、完全には理解されず、特定の理論に縛られることは望まないが、本明細書の特徴の１つ又は本明細書の特徴の組合せは、形状化研磨粒子の特徴を促進すると考えられ、制限はしないが、アスペクト比、組成、添加剤、二次元的な形状、三次元的な形状、高さの違い、高さプロフィールの違い、フラッシングパーセンテージ、高さ、ディッシング、主面かどの曲率半径、側面かどの曲率半径、ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲ比、平面部分の相対面（ｒｅｌａｔｉｖｅ  ｓｉｄｅ）及びこれらの組合せが挙げられる。
【０１６３】
本明細書で使用される「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含んでいる（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有している（ｈａｖｉｎｇ）」という語句又はこれらのいずれかの他の変化形は、非排他的な包含を含むことが意図される。例えば、特徴の一覧を含むプロセス、方法、物品又は装置は、必ずしもその特徴だけに制限されるわけではなく、明らかに列挙されず、又はそのようなプロセス、方法、物品又は装置に明らかに伴っていない他の特徴を包含し得る。さらに、はっきりと明示されない限りは、「又は」は、排他的な「又は」ではなく、包含的な「又は」を指す。例えば、Ａ又はＢという条件は、次のいずれか１つによって満たされる：Ａは正しく（又は存在し）Ｂは間違っている（又は存在しない）、Ａは間違っており（又は存在せず）Ｂは正しい（又は存在する）、並びに、Ａ及びＢの双方が正しい（又は存在する）。
【０１６４】
「１つの（ａ）」、「１つの（ａｎ）」の使用は、本明細書に記載する要素及び成分を説明するのに用いられる。これは単に便宜のために、本発明の範囲の一般的な概念を提供するためになされる。この説明は、１つ又は少なくとも１つを包含するように読まれるべきであり、別を意味することが明らかでない限り、単数は複数も包含し、又は、その逆もそうである。
【０１６５】
上記主題は、例示的であって制限的ではないと考えられ、付属の特許請求の範囲は、本発明の真の範囲内に包含されるそのような修正、改善及び他の実施形態を全て包含することが意図される。したがって、法が許す最大の程度まで、本明細書の範囲は、以下の特許請求の範囲及びその均等物の最も広義で許容できる解釈によって決定され、前述の詳細な説明によって制限又は限定されてはならない。
【０１６６】
本開示の要約は、特許法に準拠するよう提供され、特許請求の範囲の範囲又は意味を解釈又は制限するのに用いられないという理解のもと提出される。さらに、前述の図面の簡単な説明では、本開示の合理化の目的のために、様々な特徴が一緒に分類され得、又は単一の実施形態で説明され得る。本開示は、請求される実施形態が各請求項で明らかに列挙されるよりも多くの特徴を必要とするという意図を反映しているものとして解釈されるべきではない。むしろ、以下の請求項に反映される通り、発明の主題は、いずれかの開示される実施形態の全ての特徴よりも少ない特徴を対象とし得る。したがって、次の特許請求の範囲は、図面の簡単な説明内に組込まれ、各請求項は別々に請求される主題を定義しながら独立する。
【０１６７】
アイテム
アイテム１．約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を含む形状化研磨粒子。
【０１６８】
アイテム２．約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）を含む形状化研磨粒子。
【０１６９】
アイテム３．約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を有する複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む研磨粒子の束。
【０１７０】
アイテム４．約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）を有する複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む研磨粒子の束。
【０１７１】
アイテム５．アイテム１及び３のいずれかの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、形状化研磨粒子は約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）を含む。
【０１７２】
アイテム６．アイテム２、４及び５のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、ＭＱＭＰＤは約４４％以下、約４３％以下、約４２％以下、約４１％以下、約４０％以下、約３９％以下、約３８％以下、約３７％以下、約３６％以下、約３５％以下である。
【０１７３】
アイテム７．アイテム２、４及び５のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、ＭＱＭＰＤは少なくとも約１％である。
【０１７４】
アイテム８．アイテム２及び５のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、形状化研磨粒子は約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を含む。
【０１７５】
アイテム９．アイテム１、３及び８のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、形状化研磨粒子は、約３４％以下、約３２％以下、約３０％以下、約２８％以下、約２６％以下、約２４％以下、約２２％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１６％以下、約１４％以下、約１２％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を含む。
【０１７６】
アイテム１０．アイテム１、３及び８のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、形状化研磨粒子は、少なくとも約１％の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を含む。
【０１７７】
アイテム１１．アイテム１、２、３及び４のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、形状化研磨粒子は、長さ（ｌ）、幅（ｗ）及び高さ（ｈｉ）を有する本体を含み、幅≧長さ、長さ≧高さ、及び、幅≧高さである。
【０１７８】
アイテム１２．アイテム１、２、３及び４のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、形状化研磨粒子は、第１の主面、第２の主面、及び、第１の主面と第２の主面との間に延びている少なくとも１つの側面を有する立体を含む。
【０１７９】
アイテム１３．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、本体は、約２００ミクロン以下、約１８０ミクロン以下、約１６０ミクロン以下、約１４０ミクロン以下、約１３０ミクロン以下、約１２０ミクロン以下、約１１０ミクロン以下、約１００ミクロン以下、約９８ミクロン以下、約９５ミクロン以下、約９０ミクロン以下、約８８ミクロン以下、約８５ミクロン以下の主面かどの曲率半径を含む。
【０１８０】
アイテム１４．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、少なくとも約１ミクロンの主面かどの曲率半径を含む。
【０１８１】
アイテム１５．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、約７００ミクロン以下、約６００ミクロン以下、約５００ミクロン以下、約４００ミクロン以下、約３００ミクロン以下、約２００ミクロン以下、約２８０ミクロン以下、約２６０ミクロン以下、約２４０ミクロン以下、約２２０ミクロン以下、約２００ミクロン以下、約１８０ミクロン以下、約１６０ミクロン以下、約１４０ミクロン以下、約１００ミクロン以下、約８０ミクロン以下又は約６０ミクロン以下さえといった約８００ミクロン以下の側面かどの曲率半径を含む。
【０１８２】
アイテム１６．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、少なくとも約１ミクロンの側面かどの曲率半径を含む。
【０１８３】
アイテム１７．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、約１．５以下、約１．４以下、約１．３以下、約１．２以下、約１．１以下、約１以下、以下、約０．９以下、約０．８以下の、側面かどの曲率半径（ＳＳＣＲ）の主面かどの曲率半径（ＭＳＣＲ）に対する比（ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲ）を含む。
【０１８４】
アイテム１８．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、少なくとも約０．１、少なくとも約０．２、少なくとも約０．３、少なくとも約０．４、少なくとも約０．５、少なくとも約０．６、少なくとも約０．７、少なくとも約０．８、少なくとも約０．９、少なくとも約１の、側面かどの曲率半径（ＳＳＣＲ）の主面かどの曲率半径（ＭＳＣＲ）に対する比（ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲ）を含む。
【０１８５】
アイテム１９．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、側面かどの曲率半径よりも大きい主面かどの曲率半径を含む。
【０１８６】
アイテム２０．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、側面かどの曲率半径よりも小さい主面かどの曲率半径を含む。
【０１８７】
アイテム２１．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、側面かどの曲率半径と実質的に同一の主面かどの曲率半径を含む。
【０１８８】
アイテム２２．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、高さ（ｈ）は、幅（ｗ）の少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３３％及び約８０％以下、約７６％以下、約７３％以下、約７０％以下、幅の約６８％以下、幅の約５６％以下、幅の約４８％以下、幅の約４０％以下である。
【０１８９】
アイテム２３．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、高さ（ｈ）は、少なくとも約４００ミクロン、少なくとも約４５０ミクロン、少なくとも約４７５ミクロン、少なくとも約５００ミクロン、及び、約３ｍｍ以下、約２ｍｍ以下、約１．５ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、約８００ミクロン以下である。
【０１９０】
アイテム２４．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、幅は、少なくとも約６００ミクロン、少なくとも約７００ミクロン、少なくとも約８００ミクロン、少なくとも約９００ミクロン、及び、約４ｍｍ以下、約３ｍｍ以下、約２．５ｍｍ以下、約２ｍｍ以下である。
【０１９１】
アイテム２５．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、約２０％以下、約１８％以下、約１５％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下、約４％以下、及び、少なくとも約１％以下のパーセントフラッシングを含む。
【０１９２】
アイテム２６．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、約２以下、約１．９以下、約１．８以下、約１．７以下、約１．６以下、約１．５以下、約１．２以下、及び、少なくとも約０．９、少なくとも約１．０のディッシング値（ｄ）を含む。
【０１９３】
アイテム２７．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、少なくとも約１：１及び約１０：１以下の、幅：長さの１番目のアスペクト比を含む。
【０１９４】
アイテム２８．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、約５：１と約１：１との間の範囲内である幅：高さの比によって定義される２番目のアスペクト比を含む。
【０１９５】
アイテム２９．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、約６：１と約１．５：１との間の範囲内である長さ：高さの比によって定義される３番目のアスペクト比を含む。
【０１９６】
アイテム３０．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、長さ及び幅によって画定される平面で見られる二次元的な多角形状を含み、本体は、三角形、四辺形、長方形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形及びこれらの組合せから成る群から選択される形状を含み、本体は、本体の長さ及び幅によって画定される平面で見られる、楕円形、ギリシャ文字、ラテン文字、ロシア語の文字、三角形及びこれらの組合せから成る群から選択される二次元的な形状を含む。
【０１９７】
アイテム３１．アイテム１２の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、第１の主面は、第２の主面と異なる面積を画定し、第１の主面は、第２の主面が画定する面積よりも大きい面積を画定し、第１の主面は、第２の主面が画定する面積よりも小さい面積を画定する。
【０１９８】
アイテム３２．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は結合剤を本質的に含まず、本体は、有機材料を本質的に含まない。
【０１９９】
アイテム３３．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は多結晶質材料を含み、ここで、多結晶質材料は粒を含み、粒は、窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、オキシ窒化物、ダイアモンド及びこれらの組合せから成る材料の群から選択され、粒は、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化クロム、酸化ストロンチウム、酸化シリコン酸化及びこれらの組合せから成る酸化物の群から選択される酸化物を含み、粒は、アルミナを含み、また、粒は、本質的にアルミナから成る。
【０２００】
アイテム３４．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、本体は、播種されたゾルゲルから形成される。
【０２０１】
アイテム３５．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、約１ミクロン以下の平均の粒の大きさを有する多結晶質材料を含む。
【０２０２】
アイテム３６．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は、少なくとも約２つの異なる種類の研磨粒を含む複合体である。
【０２０３】
アイテム３７．アイテム１１及び１２のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、本体は添加剤を含み、添加剤は、酸化物を含み、添加剤は金属元素を含み、また、添加剤は希土類元素を含む。
【０２０４】
アイテム３８．アイテム３７の形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であって、ここで、添加剤はドーパント材料を含み、ドーパント材料としては、アルカリ元素、アルカリ土類元素、希土類元素、遷移金属元素及びこれらの組合せが挙げられ、ドーパント材料は、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、バナジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、セシウム、プラセオジム、クロミウム、コバルト、鉄、ゲルマニウム、マンガン、ニッケル、チタン、亜鉛及びこれらの組合せから成る群から選択される元素を含む。
【０２０５】
アイテム３９．主面研削効率及び側面研削効率をさらに含み、ここで、主面研削効率が側面研削効率よりも小さい、アイテム１、２、３及び４のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【０２０６】
アイテム４０．主面研削効率及び側面研削効率をさらに含み、ここで、主面研削効率が側面研削効率よりも大きい、アイテム１、２、３及び４のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【０２０７】
アイテム４１．主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）、主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）、側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）及び側面研削効率の下側四分位数（ＳＳＬＱ）をさらに含む、アイテム１、２、３及び４のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【０２０８】
アイテム４２．約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約４ｋＮ／ｍｍ２以下、約３．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約３．５ｋＮ／ｍｍ２以下の最大四分位数の差（ＭＱＤ）をさらに含む、アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【０２０９】
アイテム４３．少なくとも約１５％、少なくとも約２０％、少なくとも約２５％、少なくとも約３０％、少なくとも約３５％、少なくとも約４０％、少なくとも約４５％、少なくとも約５０％、少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％の主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）をさらに含む、アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【０２１０】
アイテム４４．約１．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約１．４ｋＮ／ｍｍ２以下、約１．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約１．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約１．１ｋＮ／ｍｍ２以下、約１ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．９ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約．７ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．６ｋＮ／ｍｍ２以下、約０．５ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）をさらに含む、アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【０２１１】
アイテム４５．約５０％以下、約４８％以下、約４５％以下、約４２％以下、約４０％以下、約３８％以下、約３５％以下、約３２％以下、約３０％以下、約２８％以下、約２５％以下、約２２％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１５％以下、約１２％以下、約１０％以下、約８％以下、約６％以下の主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）をさらに含む、アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【０２１２】
アイテム４６．約２５％以下、約２２％以下、約２０％以下、約１８％以下、約１６％以下、約１４％以下、約１２％以下、約１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下の主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）をさらに含む、アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束。
【０２１３】
アイテム４７．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）が約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下である。
【０２１４】
アイテム４８．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）は少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２である。
【０２１５】
アイテム４９．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）は、主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）よりも小さく、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）は約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．６ｋＮ／ｍｍ２以下である。
【０２１６】
アイテム５０．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）は、少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２である。
【０２１７】
アイテム５１．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）は、主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）よりも小さく、主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）は約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４ｋＮ／ｍｍ２以下、約ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．６ｋＮ／ｍｍ２以下である。
【０２１８】
アイテム５２．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）は少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２である。
【０２１９】
アイテム５３．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束である、ここで、側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）は、約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下、約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下である。
【０２２０】
アイテム５４．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）は、少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２である。
【０２２１】
アイテム５５．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）は、側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）よりも小さく、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）は、約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約７．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約６．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約５．２ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４．２ｋＮ／ｍｍ２以下である。
【０２２２】
アイテム５６．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）は少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２である。
【０２２３】
アイテム５７．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）は、側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）よりも小さく、ここで、側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）は、約８ｋＮ／ｍｍ２以下、約７ｋＮ／ｍｍ２以下、約６ｋＮ／ｍｍ２以下、約５ｋＮ／ｍｍ２以下、約４ｋＮ／ｍｍ２以下、約３．８ｋＮ／ｍｍ２以下、約３．５ｋＮ／ｍｍ２以下である。
【０２２４】
アイテム５８．アイテム４１のいずれか１つの形状化研磨粒子又は研磨粒子の束であり、ここで、側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）は、少なくとも約０．１ｋＮ／ｍｍ２である。
【０２２５】
アイテム５９．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の多数を含む。
【０２２６】
アイテム６０．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の少数を含む。
【０２２７】
アイテム６１．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の少なくとも１％を画定する。
【０２２８】
アイテム６２．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の約９９％以下を画定する。
【０２２９】
アイテム６３．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、束は、形状化研磨粒子の第２の部分を含み、ここで、形状化研磨粒子の第２の部分は、第１の部分の第１の研削特徴とは異なる第２の研削特徴を有し、第２の研削特徴は：主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）；主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）；主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）；側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）；側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）；側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）；主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）；最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）；最大四分位数の差（ＭＱＤ）；主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）；主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）；主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）；主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）；及びこれらの組合せから成る群から選択される。
【０２３０】
アイテム６４．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、ここで、研磨粒子の束は、固定された研磨品の部分であり、固定された研磨品は、接着された研磨品、コーティングされた研磨品及びこれらの組合せから成る群から選択される。
【０２３１】
アイテム６５．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、研磨粒子の束は、固定された研磨品の部分であり、固定された研磨品は、コーティングされた研磨品を含み、束の第１の部分は、複数の形状化研磨粒子を含み、複数の形状化研磨粒子の各形状化研磨粒子は、バッキングに対して制御された配向で配置され、制御される配向としては、所定の回転配向、所定の側面の配向及び所定の長手方向の配向のうち少なくとも１つが挙げられる。
【０２３２】
アイテム６６．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、ここで、形状化研磨粒子の第１の部分の多数は、側配向でバッキングと結合しており、また、第１の部分の形状化研磨粒子の少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約７７％、少なくとも約８０％、少なくとも約８２％及び約９９％以下がバッキングと側配向で結合しており、である。
【０２３３】
アイテム６７．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子はオープンコートを画定し、第１の部分の複数の形状化研磨粒子は、クローズドコートを画定し、また、オープンコートは約７０個の粒子／ｃｍ２以下のコーティング密度を含む。
【０２３４】
アイテム６８．アイテム３及び４のいずれか１つの研磨粒子の束であり、ここで、研磨粒子の束はコーティングされた研磨品の部分であり、複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分は、バッキングを覆い、バッキングは織布を含み、バッキングは非織布を含み、バッキングは有機材料を含み、バッキングはポリマーを含み、また、バッキングは、布、紙、フィルム、織物、フリース織物、バルカナイズドファイバー、織布、非織布、ウェビング、ポリマー、樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ラテックス樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレアホルムアルデヒド樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリイミド及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２３５】
アイテム６９．アイテム６８の研磨粒子の束であり、ここで、バッキングは、触媒、カップリング剤、硬化剤（ｃｕｒａｎｔ）、帯電防止剤、懸濁剤、抗ローディング剤、潤滑剤、湿潤剤、染料、フィラー、粘度調整剤、分散剤、消泡剤及び研削剤から成る群から選択される添加剤を含む。
【０２３６】
アイテム７０．バッキングを覆う粘着層をさらに含むアイテム６８の研磨粒子の束であり、ここで、粘着層はメークコートを含み、メークコートはバッキングを覆い、メークコートはバッキングの一部分に直接接着しており、メークコートは有機材料を含み、メークコートはポリマー材料を含み、また、メークコートは、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルクロリド、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、シェラック及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２３７】
アイテム７１．アイテム７０の研磨粒子の束であり、ここで、粘着層は、サイズコートを含み、サイズコートは複数の形状化研磨粒子の一部分を覆い、サイズコートはメークコートを覆い、サイズコートは第１の研磨粒子の一部分に直接接着しており、サイズコートは有機材料を含み、サイズコートはポリマー材料を含み、サイズコートは、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルクロリド、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、シェラック及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２３８】
アイテム７２．バッキング：バッキングを覆う複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む研磨粒子の束を含む研磨品であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子は：約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）；約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）；及びこれらの組合せのうち、少なくとも１つの第１の研削特徴を含む。
【０２３９】
アイテム７３．アイテム７２の研磨品であり、ここで、束の第１の部分の複数の形状化研磨粒子の多数は、バッキングに対して側配向で配置される。
【０２４０】
アイテム７４．アイテム７２の研磨品であり、ここで、束の第１の部分の複数の形状化研磨粒子の多数は、バッキングに対して、実質的にランダムな回転配向を含む。
【０２４１】
アイテム７５．アイテム７２の研磨品であり、ここで、束の第１の部分の複数の形状化研磨粒子の多数は、所定の研削方向に対して、実質的にランダムな回転配向を含む。
【０２４２】
アイテム７６．アイテム７２の研磨品であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子の少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約７７％、少なくとも約８０％、少なくとも約８２％及び約９９％以下は、側配向で配向される。
【０２４３】
アイテム７７．アイテム７２の研磨品であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子はオープンコートを画定し、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子はクローズドコートを画定し、オープンコートは、約７０個の粒子／ｃｍ２以下、約６５個の粒子／ｃｍ２以下、約６０個の粒子／ｃｍ２以下、約５５個の粒子／ｃｍ２以下、約５０個の粒子／ｃｍ２以下、少なくとも約５個の粒子／ｃｍ２、少なくとも約１０個の粒子／ｃｍ２のコーティング密度を含む。
【０２４４】
アイテム７８．アイテム７２の研磨品であり、ここで、バッキングは、織布を含み、バッキングは非織布を含み、バッキングは有機材料を含み、バッキングはポリマーを含み、また、バッキングは、布、紙、フィルム、織物、フリース織物、バルカナイズドファイバー、織布、非織布、ウェビング、ポリマー、樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ラテックス樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレアホルムアルデヒド樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリイミド及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２４５】
アイテム７９．アイテム７２の研磨品であり、ここで、バッキングは、触媒、カップリング剤、硬化剤（ｃｕｒａｎｔ）、帯電防止剤、懸濁剤、抗ローディング剤、潤滑剤、湿潤剤、染料、フィラー、粘度調整剤、分散剤、消泡剤及び研削剤から成る群から選択される添加剤を含む。
【０２４６】
アイテム８０．アイテム７２の研磨品であり、ここで、バッキングを覆う粘着層をさらに含み、粘着層はメークコートを含み、メークコートはバッキングを覆い、メークコートはバッキングの一部分に直接接着しており、メークコートは有機材料を含み、メークコートはポリマー材料を含み、また、メークコートは、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルクロリド、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、シェラック及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２４７】
アイテム８１．アイテム８０の研磨品であり、ここで、粘着層は、サイズコートを含み、サイズコートは複数の形状化研磨粒子の一部分を覆い、サイズコートはメークコートを覆い、サイズコートは第１の研磨粒子の一部分に直接接着しており、サイズコートは有機材料を含み、サイズコートはポリマー材料を含み、サイズコートは、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルクロリド、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、シェラック及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２４８】
アイテム８２．アイテム７２の研磨品であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子は：約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）；約８ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）；約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）；約８ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）；約８ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）；約６ｋＮ／ｍｍ２以下の最大四分位数の差（ＭＱＤ）；少なくとも約１５％の主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）；約１．５ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）；約５０％以下の主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）；約２５％以下の主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）；約８ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）；及びこれらの組合せから成る群から選択される第１の研削特徴をさらに含む。
【０２４９】
アイテム８３．アイテム７２の研磨品であり、ここで、束は、形状化研磨粒子の第２の部分をさらに含み、形状化研磨粒子の第２の部分は、第１の部分の第１の研削特徴とは異なる第２の研削特徴を有し、また、第２の研削特徴は：主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）；主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）；主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）；側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）；側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）；側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）；主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）；最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）；最大四分位数の差（ＭＱＤ）；主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）；主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）；主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）；主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）；及びこれらの組合せから成る群から選択される。
【０２５０】
アイテム８４．アイテム８３の研磨品であり、ここで、第１の部分の第１の研削特徴の少なくとも１つは、対応する第２の部分の第２の研削特徴と比較して少なくとも約２％、少なくとも約５％、少なくとも約８％、少なくとも約１０％、少なくとも約１２％、少なくとも約２５％、少なくとも約１８％、少なくとも約２０％、少なくとも約２２％、少なくとも約２５％で異なる。
【０２５１】
アイテム８５．アイテム８３の研磨品であり、ここで、第１の部分の第１の研削特徴の少なくとも１つは、対応する第２の部分の第２の研削特徴よりも少なくとも約２％、少なくとも約５％、少なくとも約８％、少なくとも約１０％、少なくとも約１２％、少なくとも約２５％、少なくとも約１８％、少なくとも約２０％、少なくとも約２２％、少なくとも約２５％大きい。
【０２５２】
アイテム８６．アイテム８３の研磨品であり、ここで、第１の部分の第１の研削特徴の少なくとも１つは、対応する第２の部分の第２の研削特徴よりも、少なくとも約２％、少なくとも約５％、少なくとも約８％、少なくとも約１０％、少なくとも約１２％、少なくとも約２５％、少なくとも約１８％、少なくとも約２０％、少なくとも約２２％、少なくとも約２５％小さい。
【０２５３】
アイテム８７．アイテム７２の研磨品であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の多数を含む。
【０２５４】
アイテム８８．アイテム７２の研磨品であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の少数を含む。
【０２５５】
アイテム８９．アイテム７２の研磨品であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の少なくとも１％を画定する。
【０２５６】
アイテム９０．アイテム７２の研磨品であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の約９９％以下を画定する。
【０２５７】
アイテム９１．アイテム７２の研磨品であり、ここで、束は、研磨粒子の第２の部分をさらに含み、第２の部分は、ランダムの形状を有する砕かれた研磨粒子を含む。
【０２５８】
アイテム９２．アイテム７２の研磨品であり、ここで、束は、研磨粒子の第２の部分をさらに含み、第２の部分は、希釈研磨粒子を含む。
【０２５９】
アイテム９３．作業ピースの表面に対して研磨品を動かすことで作業ピースから物質を取り除くことを含む方法であり、研磨品は：バッキング；及びバッキングを覆う複数の形状化研磨粒子を含む第１の部分を含む研磨粒子の束を含み、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子は：約３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）；約４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）；及びこれらの組合せの第１の研削特徴のうち少なくとも１つを含む。
【０２６０】
アイテム９４．アイテム９３の方法であり、ここで、固定された研磨品は、バッキングを覆う単一層の束を含むコーティングされた研磨品を含む。
【０２６１】
アイテム９５．アイテム９３の方法であり、ここで、束の第１の部分の複数の形状化研磨粒子の多数は、バッキングに対して側配向で配置される。
【０２６２】
アイテム９６．アイテム９３の方法であり、ここで、束の第１の部分の複数の形状化研磨粒子の多数は、バッキングに対して実質的にランダムな回転配向を含む。
【０２６３】
アイテム９７．アイテム９３の方法であり、ここで、束の第１の部分の複数の形状化研磨粒子の多数は、所定の研削方向に対して実質的にランダムな回転配向を含む。
【０２６４】
アイテム９８．アイテム９３の方法であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子の少なくとも約５５％、少なくとも約６０％、少なくとも約６５％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約７７％、少なくとも約８０％、少なくとも約８２％及び約９９％以下は、側配向で配向である。
【０２６５】
アイテム９９．アイテム９３の方法であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子はオープンコートを画定し、オープンコートは、約７０個の粒子／ｃｍ２以下、約６５個の粒子／ｃｍ２以下、約６０個の粒子／ｃｍ２以下、約５５個の粒子／ｃｍ２以下、約５０個の粒子／ｃｍ２以下、少なくとも約５個の粒子／ｃｍ２、少なくとも約１０個の粒子／ｃｍ２のコーティング密度を含む。
【０２６６】
アイテム１００．アイテム９３の方法であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子は、クローズドコートを画定し、クローズドコートは、少なくとも約７５個の粒子／ｃｍ２、少なくとも約８０個の粒子／ｃｍ２、少なくとも約８５個の粒子／ｃｍ２、少なくとも約９０個の粒子／ｃｍ２、少なくとも約１００個の粒子／ｃｍ２のコーティング密度を含む。
【０２６７】
アイテム１０１．アイテム９３の方法であり、ここで、バッキングは、織布を含み、バッキングは非織布を含み、バッキングは有機材料を含み、バッキングはポリマーを含み、また、バッキングは、布、紙、フィルム、織物、フリース織物、バルカナイズドファイバー、織布、非織布、ウェビング、ポリマー、樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ラテックス樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレアホルムアルデヒド樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリイミド及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２６８】
アイテム１０２．アイテム９３の方法であり、ここで、バッキングは、触媒、カップリング剤、硬化剤（ｃｕｒａｎｔ）、帯電防止剤、懸濁剤、抗ローディング剤、潤滑剤、湿潤剤、染料、フィラー、粘度調整剤、分散剤、消泡剤及び研削剤から成る群から選択される添加剤を含む。
【０２６９】
アイテム１０３．アイテム９３の方法であり、バッキングを覆う粘着層をさらに含み、ここで、粘着層はメークコートを含み、メークコートはバッキングを覆い、メークコートはバッキングの一部分に直接接着しており、メークコートは有機材料を含み、メークコートはポリマー材料を含み、また、メークコートは、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルクロリド、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、シェラック及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２７０】
アイテム１０４．アイテム９３の方法であり、ここで、粘着層は、サイズコートを含み、サイズコートは複数の形状化研磨粒子の一部分を覆い、サイズコートはメークコートを覆い、サイズコートは第１の研磨粒子の一部分に直接接着しており、サイズコートは有機材料を含み、サイズコートはポリマー材料を含み、サイズコートは、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルクロリド、ポリエチレン、ポリシロキサン、シリコーン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、天然ゴム、デンプン、シェラック及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む。
【０２７１】
アイテム１０５．アイテム９３の方法であり、ここで、第１の部分の複数の形状化研磨粒子は：約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）；約８ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）；約８．３ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）；約８ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）；約８ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）；約６ｋＮ／ｍｍ２以下の最大四分位数の差（ＭＱＤ）；少なくとも約１５％の主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）；約１．５ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）；約５０％以下の主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）；約２５％以下の主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）；約８ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）；及びこれらの組合せから成る群から選択される第１の研削特徴をさらに含む。
【０２７２】
アイテム１０６．アイテム９３の方法であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の多数を含む。
【０２７３】
アイテム１０７．アイテム９３の方法であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の少数を含む。
【０２７４】
アイテム１０８．アイテム９３の方法であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の少なくとも１％を画定する。
【０２７５】
アイテム１０９．アイテム９３の方法であり、ここで、第１の部分は、束の形状化研磨粒子の総数の約９９％以下を画定する。
【０２７６】
アイテム１１０．アイテム９３の方法であり、ここで、束は、研磨粒子の第２の部分をさらに含み、第２の部分は、ランダムな形状を有する砕かれた研磨粒子を含む。
【０２７７】
アイテム１１１．アイテム９３の方法であり、ここで、束は、研磨粒子の第２の部分をさらに含み、第２の部分は、希釈研磨粒子を含む。
【図１Ａ】
2016529117.tif 000006
【図１Ｂ】
2016529117.tif 000007
【図２】
2016529117.tif 000008
【図３Ａ】
2016529117.tif 000009
【図３Ｂ】
2016529117.tif 000010
【図４】
2016529117.tif 000011
【図５】
2016529117.tif 000012
【図６】
2016529117.tif 000013
【図７Ａ】
2016529117.tif 000014
【図７Ｂ】
2016529117.tif 000015
【図８】
2016529117.tif 000016
【図９】
2016529117.tif 000017
【図１０】
2016529117.tif 000018
【図１１】
2016529117.tif 000019
【図１２】
2016529117.tif 000020
【図１３】
2016529117.tif 000021
【図１４】
2016529117.tif 000022
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月8日(2016.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３５％以下の主面対側面の研削配向のパーセント差（ＭＳＧＰＤ）を含む形状化研磨粒子。
【請求項２】
前記形状化研磨粒子が４５％以下の最大四分位数対中央値のパーセント差（ＭＱＭＰＤ）を含む、請求項１に記載の形状化研磨粒子。
【請求項３】
前記ＭＱＭＰＤが少なくとも約１％である、請求項２に記載の形状化研磨粒子。
【請求項４】
前記ＭＳＧＰＤが少なくとも約１％である、請求項１に記載の形状化研磨粒子。
【請求項５】
前記形状化研磨粒子が：
８．３ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の上側四分位数値（ＭＳＵＱ）；
８ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の下側四分位数値（ＭＳＬＱ）；
８．３ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の上側四分位数値（ＳＳＵＱ）；
８ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の中央値（ＳＳＭ）；
８ｋＮ／ｍｍ２以下の側面研削効率の下側四分位数値（ＳＳＬＱ）；
６ｋＮ／ｍｍ２以下の最大四分位数の差（ＭＱＤ）；
少なくとも約１５％の主面対側面の四分位数のパーセント重複（ＭＳＱＰＯ）；
１．５ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値及び側面研削効率の中央値の差（ＭＳＭＤ）；
５０％以下の主面対側面の上側四分位数のパーセント差（ＭＳＵＱＰＤ）；
２５％以下の主面対側面の下側四分位数のパーセント差（ＭＳＬＱＰＤ）；
８ｋＮ／ｍｍ２以下の主面研削効率の中央値（ＭＳＭ）；及び、
これらの組合せ
から成る群から選択される第１の研削特徴をさらに含む、請求項１に記載の形状化研磨粒子。
【請求項６】
前記形状化研磨粒子が、長さ（ｌ）、幅（ｗ）及び高さ（ｈｉ）を有する本体を含み、幅≧長さ、長さ≧高さ、及び、幅≧高さである、請求項１に記載の形状化研磨粒子。
【請求項７】
前記形状化研磨粒子が、第１の主面、第２の主面、及び、第１の主面と第２の主面との間に延びている少なくとも１つの側面を有する立体を含む、請求項１に記載の形状化研磨粒子。
【請求項８】
前記本体が、１ミクロンと２００ミクロンとの間の主面かどの曲率半径を含む、請求項７に記載の形状化研磨粒子。
【請求項９】
前記本体が、１ミクロンと８００ミクロンとの間の側面かどの曲率半径を含む、請求項７に記載の形状化研磨粒子。
【請求項１０】
前記本体が、０．１と１．５との間の、側面かどの曲率半径（ＳＳＣＲ）の主面かどの曲率半径（ＭＳＣＲ）に対する比（ＳＳＣＲ／ＭＳＣＲ）を含む、請求項７に記載の形状化研磨粒子。
【請求項１１】
前記本体が、側面かどの曲率半径よりも大きい主面かどの曲率半径を含む、請求項７に記載の形状化研磨粒子。
【請求項１２】
前記本体が、１％と２０％との間のパーセントフラッシングを含む、請求項６に記載の形状化研磨粒子。
【請求項１３】
前記本体が、長さ及び幅によって画定される平面で見られる二次元的な多角形状を含み、本体は、三角形、四辺形、長方形、台形、五角形、六角形、七角形、八角形及びこれらの組合せから成る群から選択される形状を含む、請求項６に記載の形状化研磨粒子。
【請求項１４】
前記本体が有機材料を本質的に含まない、請求項６に記載の形状化研磨粒子。
【請求項１５】
前記形状化研磨粒子が固定された研磨品の部分である、請求項１に記載の形状化研磨粒子。
【国際調査報告】
2016529117.tif 000023
2016529117.tif 000024