(57)【要約】第１のサポートロールセットを第２のサポートロールセットに対して移動させることによって、堆積反応器の反応空間の中に繰返しパターンを持つ基板ウェブトラックを形成する装置及び方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のサポートロールセットを第２のサポートロールセットに対して移動させることによって、原子層堆積反応器の反応容器の中に繰返しパターンを持つ基板ウェブトラックを形成することと；
前記トラックが形成されたとき、前記第１及び第２のサポートロールセットによって前記基板ウェブを支えることと；
を含む、方法。
【請求項２】
前記第１のサポートロールセットを、前記第２のサポートロールセットの一方側から前記第２のサポートロールセットの反対側に移動することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１のサポートロールセットで前記基板ウェブを前記第２のサポートロールセットの反対側に押すことによって、プリーツ形状のトラックを形成することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記反応容器内に、反応容器蓋部、反応容器側壁、及び前記形成された基板ウェブトラックによって画定される３次元原子層堆積フローボリュームを形成することを含む、請求項１から３の何れかに記載の方法。
【請求項５】
堆積中に前記第１のサポートロールセットを貫く経路を通じて前記反応空間から気体を除去することを含む、請求項１から４の何れかに記載の方法。
【請求項６】
前記堆積反応器の室蓋に基板ウェブソースロールが一体化される、請求項１から５の何れかに記載の方法。
【請求項７】
前記基板ウェブは、反応室蓋を貫通して反応室又は反応空間に送給される、請求項１から６の何れかに記載の方法。
【請求項８】
原子層堆積反応器であって：
反応空間を提供するように構成される反応容器と；
第１のサポートロールセットと；
第２のサポートロールセットと；
を備え、
前記第１及び第２のサポートロールセットは、前記第１のサポートロールセットを前記第２のサポートロールセットに対して移動させることによって、前記反応容器の中に繰返しパターンを持つ基板ウェブトラックを形成し、かつ、前記トラックが形成されたとき、前記基板ウェブを支えるように構成される、
原子層堆積反応器。
【請求項９】
前記第１のサポートロールセットを、前記第２のサポートロールセットの一方側から前記第２のサポートロールセットの反対側に移動するように構成される機構を備える、請求項８に記載の堆積反応器。
【請求項１０】
前記第１及び第２のサポートロールセットは、前記第１のサポートロールセットで前記基板ウェブを前記第２のサポートロールセットの反対側に押すことによって、プリーツ形状のトラックを形成するように構成される、請求項８に記載の堆積反応器。
【請求項１１】
堆積中に前記第１のサポートロールセットを貫く経路を通じて前記反応空間から気体を除去するように構成される、請求項８から１０の何れかに記載の堆積反応器。
【請求項１２】
前記堆積反応器の室蓋に基板ウェブソースロールが一体化される、請求項８から１１の何れかに記載の堆積反応器。
【請求項１３】
前記堆積反応器の室蓋はフィードスルーを備え、該フィードスルーは、該室蓋を貫通して前記反応室又は前記反応空間に前記基板ウェブ送給するように構成される、請求項８から１２の何れかに記載の堆積反応器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、全般的には堆積反応器に関し、より具体的には、堆積反応器の反応容器内に繰返しパターンを有する基板ウェブトラックを提供することに関する。
【発明の背景】
【０００２】
原子層エピタキシー（ＡＬＥ）法は、１９７０年代初頭にツオモ・サントラ博士によって発明された。この方法は、原子層堆積法（ＡＬＤ）という別名で総称され、今日ではＡＬＥに代わり、こちらが使われている。ＡＬＤは、少なくとも２種類の反応性前駆体種を少なくとも１つの基板に連続的に導入することに基づく、特殊な化学的堆積法である。
【０００３】
ＡＬＤによって成長した薄膜は緻密でピンホールがなく、かつ均一の厚さを有する。例えば、ＴＭＡとしても知られるトリメチルアルミニウム(CH3)3Alと水から熱ＡＬＤにより酸化アルミニウムを成長させた実験において、基板ウェーハ上の不均一性はわずか1%程度であった。
【０００４】
ＡＬＤ技術が有望視されている分野の一つは、移動基板ウェブにコーティングを行うことである。
【摘要】
【０００５】
本発明の第１の例示的態様によれば、次の方法、即ち、
第１のサポートロールセットを第２のサポートロールセットに対して移動させることによって、原子層堆積反応器の反応容器の中に繰返しパターンを持つ基板ウェブトラックを形成することと；
前記トラックが形成されたとき、前記第１及び第２のサポートロールセットによって前記基板ウェブを支えることと;
を含む、方法。
【０００６】
例示的実施形態によっては、前記反応容器は反応室である。例示的実施形態によっては、前記反応室は、真空室で囲われている（真空室は反応室を収納する）。例示的実施形態によっては、前記反応容器はインライン原子層堆積モジュール内の反応室である。
【０００７】
例示的実施形態によっては、前記方法は、前記第１のサポートロールセットを、前記第２のサポートロールセットの一方側から前記第２のサポートロールセットの反対側に移動することを含む。ここでロールという用語は、通常のロール及びホイールの両方のみならず、基板ウェブの向きを変えて支えるような他の同等な機械的手段も意味するものとする。
【０００８】
例示的実施形態によっては、前記方法は、前記反応容器内に、反応容器蓋部、反応容器側壁、及び前記形成された基板ウェブトラックによって画定される３次元原子層堆積フローボリュームを形成することを含む。こうして、処理後に洗浄が必要な表面領域を減らすことができ、例示的実施形態によっては、基本的に反応容器側壁と蓋のみで済む。
【０００９】
堆積反応器はＡＬＤ反応器でもよい。例示的実施形態によっては、前記堆積反応器は、反応空間を提供する反応室を備える。前記反応室は蓋で閉じることができる。例示的実施形態によっては、前記第１のサポートロールセットは反応室蓋に取り付けられる。前記第１のサポートロールセットは、 例えば少なくとも１つのサポートステムによって前記室蓋に取り付けることもできる。前記少なくとも１つのサポートステムは固定でも変形可能でもよい。前記第１のロールセットの移動は、例えば、少なくとも１つのステムを変形すること（少なくとも１つのステムはネスト構造又はそれに類する構造を有することができる）や、室蓋に設けられたフードスルーを貫通して少なくとも１つのステムを動かすことによって行うことができる。あるいは、前記室蓋自体を動かすことによって行うことができる。
【００１０】
例示的実施形態によっては、前駆体蒸気が反応室（又は反応容器）の蓋を貫通して反応室に送給される。
【００１１】
例示的実施形態によっては、前記反応室は真空室で囲われる。例示的実施形態によっては、反応室に対する過圧を得るために、不活性ガスが真空室に送給される。例示的実施形態によっては、前記反応器は、真空室内に不活性ガスインフィードラインを備える。
【００１２】
例示的実施形態によっては、前記第１のサポートロールセットは、反応室のルーフや壁の対応部分に取り付けられる。あるいは、反応空間を形成する反応ユニット又はモジュールのルーフや壁に取り付けられてもよい。実装によっては、前記反応ユニット又はモジュールは、反応室内に配置することもできる。前記第１のロールセットの移動は、 例えば第１のサポートロールセットが取り付けられたルーフや壁の対応部分を動かすことによって行うことができる。前記移動は、反応室外部又は反応空間外部の作用により駆動することもできる。
【００１３】
例示的実施形態によっては、前記基板ウェブは、第１のサポートロールセットで支えられながら、反応室の上から反応室にロードされる。
【００１４】
例示的実施形態によっては、前記方法は、前記第１のサポートロールセットで前記基板ウェブを前記第２のサポートロールセットの反対側に押すことによって、プリーツ形状のトラックを形成することを含む。前記第１のサポートロールセットの動きは並進運動でもよい。
【００１５】
例示的実施形態によっては、前記方法は、堆積中に第１のサポートロールセットを貫く経路を通じて反応空間から気体を除去することを含む。
【００１６】
前記第１のロールセットのロールは、ロールの端部と側面が一部開放されていてもよい。前記ロールは、ロールの外径よりも小さいロール軸を有してもよい。また前記ロールは、空間的に互いに離れたホイールによって実装されてもよい。またそれらは、ロール軸で形成される共通回転軸を有してもよい。
【００１７】
例示的実施形態によっては、前記堆積反応器の室蓋に基板ウェブソースロールが一体化される。前記室蓋は可動蓋である。前記基板ウェブソースロールは、蓋の片側で反応空間が設けられる側とは反対側と一体化されてもよい。
【００１８】
例示的実施形態によっては、前記基板ウェブは、反応室蓋を貫通して反応室又は反応空間に送給される。
【００１９】
前述の室蓋は、反応室を閉じる蓋でもよい。前記蓋は、真空室蓋と一体化された反応室蓋を備える二重蓋システムでもよい。
【００２０】
本発明の第２の例示的態様によれば、原子層堆積反応器であって、
反応空間を提供するように構成される反応容器と；
第１のサポートロールセットと；
第２のサポートロールセットと;
を備え、前記第１及び第２のサポートロールセットは、前記第１のサポートロールセットを前記第２のサポートロールセットに対して移動させることによって、前記反応容器の中に繰返しパターンを持つ基板ウェブトラックを形成し、かつ、前記トラックが形成されたとき、前記基板ウェブを支えるように構成される、原子層堆積反応器が提供される。
【００２１】
前記反応空間は、前記堆積反応器の堆積反応が生じる空間である。前記反応室の容積は、実際には反応空間の体積に等しくてもよい。あるいは、前記反応室は、反応室内により小さい空間を画定することによって、又は反応室内により小さいユニット又はモジュール（反応容器）を収容することによって、反応室内に反応空間を提供するように構成されてもよい。
【００２２】
例示的実施形態によっては、前記堆積反応器は、前記第１のサポートロールセットを、前記第２のサポートロールセットの一方側から前記第２のサポートロールセットの反対側に移動するように構成される機構を備える。
【００２３】
例示的実施形態によっては、前記第１及び第２のサポートロールセットは、前記第１のサポートロールセットで前記基板ウェブを前記第２のサポートロールセットの反対側に押すことによって、プリーツ形状のトラックを形成するように構成される。
【００２４】
例示的実施形態によっては、前記堆積反応器は、堆積中に前記第１のサポートロールセットを貫く経路を通じて前記反応空間から気体を除去するように構成される。
【００２５】
例示的実施形態によっては、前記堆積反応器は、前記反応容器内に、反応容器蓋部、反応容器側壁、及び前記形成された基板ウェブトラックによって画定される３次元原子層堆積フローボリュームを形成するように構成される。
【００２６】
例示的実施形態によっては、前記堆積反応器の室蓋に基板ウェブソースロールが一体化される。
【００２７】
例示的実施形態によっては、前記堆積反応器の室蓋はフィードスルーを備え、該フィードスルーは、該室蓋を貫通して前記反応室又は前記反応空間に前記基板ウェブ送給するように構成される。
【００２８】
例示的実施形態によっては、前記反応室（又は反応容器）の蓋は、該反応室（又は反応容器）の蓋を貫通して前駆体蒸気を反応室（又は反応容器）に送給するように構成されるチャネルを備える。
【００２９】
本発明の様々な態様及び実施形態を示したが、これらは発明の範囲を限定するために提示されたものではない。前述の実施形態は、本発明の実施にあたり使用され得る特定の態様やステップを説明するために用いられたにすぎない。いくつかの実施形態は、本発明の特定の例示的態様を使ってのみ説明されるかもしれない。いくつかの実施形態は他の実施形態にも適用可能であることが理解されるべきである。該実施形態は適宜組み合わせ可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
本発明を、単なる例示として、かつ添付図面を参照して以下に説明する。
【図１】ある例示的実施形態に従う堆積反応器と、その堆積反応器での基板ウェブトラックの自動形成の概略図を示す。
【図２】ある例示的実施形態に従う堆積反応器と、その堆積反応器での基板ウェブトラックの自動形成の概略図を示す。
【図３】ある例示的実施形態に従うサポートロールの構造を示す。
【図４】ある例示的実施形態に従う、反応空間を形成するモジュールと、そのモジュールでの基板ウェブトラックの自動形成の概略図を示す。
【図５】ある例示的実施形態に従う、反応空間を形成するモジュールと、そのモジュールでの基板ウェブトラックの自動形成の概略図を示す。
【詳細説明】
【００３１】
以下の記述において、原子層堆積（ＡＬＤ）技術は一例として用いられる。ＡＬＤ成長メカニズムの基本は当業者の知るところである。本特許出願の導入部にて説明されたように、ＡＬＤは、少なくとも２種類の反応性前駆体種を少なくとも１つの基板に連続的に導入することに基づく、特殊な化学的堆積法である。連続自己飽和表面反応で材料を基板表面に堆積させるために、少なくとも１つの基板は、反応室内で時間的に分離した複数の前駆体パルスに曝される。本出願の記述において、ＡＬＤという用語は、全ての適用可能なＡＬＤベース技術や、例えばＭＬＤ（分子層堆積）やＰＥＡＬＤ（プラズマ励起原子層堆積）のような等価又は密接に関連したあらゆる技術を含むものとする。
【００３２】
基本的なＡＬＤ堆積サイクルは４つの逐次的工程、すなわち、パルスＡ、パージＡ、パルスＢ、及びパージＢ、から構成される。パルスＡは第１の前駆体蒸気から構成され、パルスＢは別の前駆体蒸気から構成される。パージＡおよびパージＢでは、反応空間から気体の反応副産物や残留反応物分子をパージ（除去）するために、不活性ガスと真空ポンプが用いられる。堆積シーケンスは少なくとも１回の堆積サイクルにより構成される。所望の厚さの薄膜またはコーティングが生成されるまで堆積サイクルが繰り返されるように、堆積シーケンスが組まれる。堆積サイクルは、さらに複雑にすることもできる。例えば、堆積サイクルは、パージステップによって区切られた３回以上の反応物蒸気パルスを含むことができる。これらの堆積サイクルは全て、論理演算装置またはマイクロプロセッサによって制御される、時間的な堆積シーケンスを形成するものである。
【００３３】
以下で記述するような特定の例示的実施形態では、堆積反応器の反応空間内に繰返しパターンを有する基板ウェブトラックを形成する方法及び装置が提供される。図１は、こうした堆積反応器（堆積反応器１０）を示している。堆積反応器１０は、真空室４５を形成する真空室壁４１を備える。真空室４５とその真空室４５で囲われた領域で、堆積反応器１０は反応室（又は反応容器）４４を備える。反応室４４は反応室壁４２によって画定されている。真空室４５と反応室４４は室蓋で閉じられる。図１では、室蓋は上部（即ち、基板ウェブをロードする初期位置）にある。図１に示す実施例では、室蓋は、反応室蓋２２と一体化された真空室蓋２１を備える二重蓋システムである。
【００３４】
また図１に示す実施例では、基板ウェブ１５は反応室４４の上側から反応室４４にロードされる。基板ウェブソースロール１１は室蓋と一体化されている。二重蓋システムの場合、ソースロール１１は反応室蓋２２、あるいは図１のように真空室蓋２１と一体化される。そして基板ウェブソースロール１１は、室蓋（又はそれぞれの蓋）の反応室４４とは反対側にあってもよい。また基板ウェブソースロール１１は、室蓋（又はそれぞれの蓋）と一体化されたハウジング１３内にあってもよい。
【００３５】
室蓋には、基板ウェブ１５が蓋の片側から反対側へ貫通するフィードスルーが具備される。室蓋が二重蓋システムの場合、実装によっては蓋２１と蓋２２の両方を貫通するフィードスルーがあってもよい。室蓋の反応室側には、基板ウェブの経路が実質的に垂直方向で下方に延びている。垂直方向に延びる経路は、第１のサポートロールセットの第１のエッジロール１７で曲げられる。この経路は、第１のサポートロールセットの中央ロール２７を通過して実質的に水平方向に続く（実施形態によっては、中央／中間ロールは無くてもよく、あるいは複数あってもよい）。水平方向に延びる経路は次に、第１のサポートロールセットの第２のエッジロール３７で上方に曲げられ、室蓋に到達するまで実質的に垂直方向で上方に延びている。
【００３６】
基板ウェブ巻取ロール１２は室蓋と一体化されている。二重蓋システムの場合、巻取ロール１２は反応室蓋２２、あるいは図１のように真空室蓋２１と一体化される。そして基板ウェブ巻取ロール１２は、室蓋（又はそれぞれの蓋）の反応室４４とは反対側にあってもよい。また基板ウェブ巻取ロール１２は、室蓋（又はそれぞれの蓋）と一体化されたハウジング１４内にあってもよい。堆積中は、不活性ガスがハウジング１３だけでなくハウジング１４にも送給されてもよい。
【００３７】
室蓋はフィードスルーを備え、このフィードスルーを通じて基板ウェブ１５が蓋の片側から反対側へ送られ、最後に巻取ロール１２で巻き取られる。室蓋が二重蓋システムの場合、実装によっては蓋２１と蓋２２の両方を貫通するフィードスルーがあってもよい。
【００３８】
第１のサポートロールセットは、各サポートステム１６・２６・３６によって室蓋と一体化されている。実装によっては、１つ又は複数のサポートステムがあってもよい。
【００３９】
二重蓋システムの場合、少なくとも１つのサポートステムが反応室蓋２２に取り付けられてもよい。あるいは、少なくとも１つのサポートステムは真空室蓋２１に取り付けられてもよく、両室蓋に取り付けられてもよい。さらにまた、少なくとも１つのサポートステムは、フィードスルーで真空室蓋２２を単に貫通するだけで、真空室蓋２１に取り付けられてもよい。さらにまた、少なくとも１つのサポートステムは、１つ（又は複数）のフィードスルーで全ての室蓋又は室蓋システムを貫通し、反応室の外側又は真空室の外側の支持点に取り付けられる。こうした実施形態の全てにおいて、少なくとも１つのサポートステム又は同等のものは、室蓋（又は反応室蓋）と一体化されていると見做される。
【００４０】
堆積反応器１０は、真空室４４に第２のサポートロールセットを備える。第２のセットのロールは、例えば反応室壁４２に設置され、回転可能であってもよい。第２のサポートロールセットのロールは、少なくとも１つのロールで構成することができる。第２のサポートロールセットは、少なくとも２つのロールを備えることが好ましい。２つを超えるロールがある場合、第２のセットはエッジロールと中間ロールの両方を備える。図１では、第２のサポートロールセットに第１のエッジロール１８と第２のエッジロール２８がある。前述のように実装によっては、１つ又は複数の中間ロールがあってもよい。第２のサポートロールセットは横一列に配置されてもよい。すなわち、第２のセットのロールは、第２のセットに属する他のロールと同じ高さで配置されてもよい。
【００４１】
堆積反応器１０は、反応器の上側からロードできる反応器である。堆積反応器は、反応室４４の上側に室蓋、反応室４４の下側に排気ライン４３を備える。堆積反応器１０は更に、ＡＬＤ技術に従って反応室４４に前駆体蒸気とパージガスを送給するために必要な前駆体蒸気インフィードラインとパージガスインフィードラインを備える。前駆体蒸気は、反応室蓋２２を貫通して反応室に送給されてもよい。
【００４２】
第１のサポートロールセットを第２のサポートロールセットに対して移動させることによって、図２に示すような繰返しパターンを持つ基板ウェブトラックが形成される。これは、実際には室蓋を上方（初期）位置から下方位置に下げること等によって実現することができる。第１のサポートロールセット１７−３７が第２のサポートロールセット１８−２８の第１の側（ここでは、上側）から移動することで、所期のトラック形成を行うことができる。図２に示す端部位置では、基板ウェブは第１及び第２のサポートロールセットの両方で支えられ、プリーツ形状のトラックが形成されている。初期状態で上側ロールであったロール（即ち、第１のサポートロールセット）は、トラック形成によって図２に示す下側ロールとなる。
【００４３】
第１のサポートロールセットは、 図１・２に示す少なくとも１つのサポートステムのような機構で可動となる。少なくとも１つのサポートステムは固定であってもよく、反応室蓋に対して変形可能でもよい。第１のロールセットの移動は、 例えば（図１・２に示す）反応室蓋自体の動きによって行うことができる。あるいは、又は加えて、第１のロールセットの移動は、例えば、少なくとも１つのステムを変形すること（少なくとも１つのステムはネスト構造又はそれに類する構造を有することができる）や、室蓋（又は反応室蓋）に設けられたフードスルーを通じて少なくとも１つのステムを動かすことの何れか又は両方によって行うことができる。
【００４４】
図１に示す実施形態でのインフィードライン４６・４７は真空室壁４１の中を貫通していて、反応室４４の上部で反応室に面している。図１の例示的実施形態では、前駆体蒸気とパージガスが上から反応室４４に流入する。これらは反応室蓋２２を貫通して流れる。トラックのプリーツ形状は、反応室（側）壁４２及び反応室蓋２２と合わせて一部が閉じた空間である反応空間を形成する。基板ウェブの反応空間に面する側は、ＡＬＤ技術による連続自己飽和表面反応によって塗布される。図２において反応空間内に描かれた矢印は、反応空間内での流れの向きを示す。前駆体蒸気とパージガスは、プリーツ形状のポケットに中にある基板ウェブの表面に沿って上から下への向きに流れる。
【００４５】
例示的実施形態によっては、前記方法は、堆積中に第１のサポートロールセットを貫く経路を通じて反応空間から気体を除去することを含む。第１のロールセットのロール１７−３７は、ロールの端部と側面が一部開放されていてもよい。気体は、ロール１７−３７の開放端を通って反応空間から排出され、図２の矢印で示す排気ライン４３へ送られる。
【００４６】
図３は、ある例示的実施形態に従う、第１のサポートロールセットに属するロール（例えば、ロール１７）の構造を示している。ロール１７はホイール５１・５２・５３を備え、ホイールはスポーク５６又はそれに類するもののセットによって共通ロール軸５４に結合されている。ロール軸５４はホイール５１−５３の直径よりも小さい。ロール１７はその側面と両端が開放されている。ロールはその周りに有孔マント５５を具備してもよい。こうしてロール１７は、気体がロールに流れてその端部から出られるような構造を持つ。
【００４７】
図４及び５は、インライン製法用に、即ち製造ラインの一部を形成するように設計されたＡＬＤモジュール７０の概略図を示している。モジュール７０は、入力スロットと、反対側に基板ウェブ６５用の出力スロットとを備える。反応室（容器）は、ボディ部７２と蓋部（又はルーフ）７１によってモジュール７０内に形成される。蓋部７１は、それに取り付けられたサポートステム６１・６２によって垂直方向に可動である。サポートステム６１・６２は、それぞれフィードスルー６３・６４を通ってモジュール７０のルーフまで延びている。外部の作用（図示せず）により、垂直運動を駆動することができる。
【００４８】
モジュール７０は、前述の実施形態で説明したものと同様に、第１の基板ウェブサポートロールセット６６と第２の基板ウェブサポートロールセット６７とを備える。サポートロールの構造と動作に関しては、前述の実施形態を概括的に参照されたい。第１のロールセット６６は可動であるが、第２のロールセット６７は固定である。第１のロールセット６６を動かす運動機構６８は、（図４に示すように）反応室壁に取り付けられる。外部の作用で反応室蓋部７１を垂直に動かすと第１のロールセット６６も共に動かせるように、運動機構６８は反応室蓋部７１結合されていてもよい。
【００４９】
第１のサポートロールセット６６を第２のサポートロールセット６７に対して移動させることによって、図５に示すような繰返しパターンを持つ基板ウェブトラックが形成される。これもまた、室蓋部７１を上方（初期）位置から下方位置に下げることによって実現することができる。第１のサポートロールセット６６が第２のサポートロールセット６７の上側から移動することで、所期のトラック形成を行うことができる。図５に示す端部位置では、基板ウェブは第１及び第２のサポートロールセットの両方で支えられ、プリーツ形状のトラックが形成されている。
【００５０】
反応室はまた、前述の実施形態と同様に気体が第１のロールセット６６を通過して排出されるように、垂直運動で第１のサポートロールセット６６が移動する所に開口部６９を備える。
【００５１】
前駆体蒸気は、反応容器蓋部７１（の１つ又は複数のチャネル）を通って上から反応容器に送給されてもよい。例示的実施形態によっては、前駆体蒸気は、少なくとも１つのサポートステム６１及び／又は６２の内部に形成されるチャネルを通って送給される。モジュールは、反応容器内に、反応容器蓋部７１と反応容器側壁、形成された基板ウェブトラックによって画定される３次元原子層堆積フローボリュームを形成する。
【００５２】
本件において開示される１つ又は複数の実施例の技術的効果のあるものを以下に示す。ただし、これらの効果は特許請求の範囲および解釈を制限するものではない。その技術的効果は、第１のサポートロールセットを第２のサポートロールセットに対して移動させることによる自動トラック形成である。別の技術的効果は、第１の（即ち下側の）サポートロールセットを貫く経路を通じて反応空間から気体を除去することにより、上から下への流れを実現することである。
【００５３】
前述した機能又は方法ステップの一部が異なる順番で実行されてもよいし、同時に実行されてもよいことに留意されたい。さらに、前述の機能又は方法ステップの１つ又は複数が任意選択できたり、統合されたりしてもよい。
【００５４】
以上の説明により、本発明の特定の実装および実施形態の非限定例を用いて、発明者によって現在考案されている、本発明を実施するための最良の形態の完全かつ有益な説明を提供した。しかしながら、当業者には明らかであるように、上述の実施形態の詳細は本発明を限定するものではなく、本発明の特徴から逸脱することなく同等の手段を用いて、他の実施形態に実装することができる。
【００５５】
さらに、以上に開示した本発明の実施形態の特徴は、対応する他の特徴を用いることなく用いられてもよい。然るに、以上の説明は、本発明の原理を説明するための例に過ぎず、それを限定するものではないと捉えるべきである。よって、本発明の範囲は添付の特許請求のみによって制限されるものである。
【図１】
2016529390.tif 000003
【図２】
2016529390.tif 000004
【図３】
2016529390.tif 000005
【図４】
2016529390.tif 000006
【図５】
2016529390.tif 000007
【国際調査報告】
2016529390.tif 000008
2016529390.tif 000009
2016529390.tif 000010
2016529390.tif 000011