(57)【要約】  本発明は、光学積層体に関し、より詳しくは、光ルミネッセンス量子ドット粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に付設されることで、光による刺激で発光するため、レーザーポインタをディスプレイに直接表示する場合にレーザーポインタの視認性を顕著に向上させることができる光学積層体に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ルミネッセンス量子ドット（quantum dot）粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に貼り合わせられることを特徴とする、光学積層体。
【請求項２】
前記光ルミネッセンス量子ドット粒子は、量子ドット粒子、量子ドット含有粒子又はこれらの混合物である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記量子ドット粒子は、ＩＩ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＩＩ−Ｖ族半導体化合物、ＩＶ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＶ族元素又はこれを含む化合物、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される半導体物質を含む、請求項２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記量子ドット含有粒子は、無機物コア粒子又は高分子コア粒子の表面に結合された少なくとも一種の量子ドット粒子を含む、請求項２に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記光ルミネッセンス量子ドット粒子の吸収波長は、３５０〜４５０ｎｍ又は６００〜６５０ｎｍである、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項６】
前記光ルミネッセンス層は、前記光ルミネッセンス量子ドット粒子、透光性樹脂、開始剤、及び溶剤を含む光ルミネッセンス層形成用組成物を塗布して形成される、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項７】
前記光ルミネッセンス層は、ハードコーティング層、偏光子、偏光子保護層、位相差層、反射防止層、帯電防止層、高屈折層、低屈折層、防汚層、粘着層、接着層又はこれらの基材フィルムである、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項８】
前記光学積層体は偏光板である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の前記光学積層体を備えた画像表示装置。
【請求項１０】
液晶表示装置である、請求項９に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ルミネッセンス層を備えた光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、会議や発表会等におけるプレゼンテーションでは、プロジエクターを用いて資料画像をスクリーンや壁に投映することが頻繁に行われて来た。その時、発表者は、プレゼンテーション画像上のある箇所にレーザー光を透写するレーザーポインタを用い、スクリーン等を指しながらプレゼンテーションを行うことが一般的である。
【０００３】
プロジエクターを用いたスクリーン投映の場合、投影される画像においては、コントラストが低下するか、或いは画質が悪くなるといった問題がある。一方で、近年では、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）のサイズが７０インチを超える大型化が進んでおり、プロジエクター投映ではなく、これらディスプレイ自体に直接画像を表示してプレゼンテーションを行うことも可能となっている。
【０００４】
しかしながら、ディスプレイによる直接表示でプレゼンテーションを行う場合、ディスプレイが自発発光構造を有するため、レーザーポインタによるレーザー光の投射は視認され難い。また、ディスプレイ自らの表示品位を向上させるため、ディスプレイ表面における防眩性を向上させると、レーザーポインタの投射光の反射も抑制されるので、レーザーポインタの視認性が向上しないといった課題が生じる。近年では、日本国特開２００１−２３６１８１号公報に開示されているように、ディスプレイ上で画面指示操作を行うポインティングデバイスとしてレーザーポインタを用いる可能性もあるため、その視認性はより一層重要となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】日本国特開２００１−２３６１８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、レーザーポインタの視認性を向上させることができる光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
１．光ルミネッセンス量子ドット（quantum dot）粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に貼り合わせられることを特徴とする、光学積層体。
【０００８】
２．前記項目１において、前記光ルミネッセンス量子ドット粒子は、量子ドット粒子、量子ドット含有粒子又はこれらの混合物である、光学積層体。
【０００９】
３．前記項目２において、前記量子ドット粒子は、ＩＩ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＩＩ−Ｖ族半導体化合物、ＩＶ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＶ族元素又はこれを含む化合物、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される半導体物質を含む、光学積層体。
【００１０】
４．前記項目２において、前記量子ドット含有粒子は、無機物コア粒子又は高分子コア粒子の表面に結合された少なくとも一種の量子ドット粒子を含む、光学積層体。
【００１１】
５．前記項目１において、前記光ルミネッセンス量子ドット粒子の吸収波長は、３５０〜４５０ｎｍ又は６００〜６５０ｎｍである、光学積層体。
【００１２】
６．前記項目１において、前記光ルミネッセンス層は、前記光ルミネッセンス量子ドット粒子、透光性樹脂、開始剤、及び溶剤を含む光ルミネッセンス層形成用組成物を塗布して形成される、光学積層体。
【００１３】
７．前記項目１において、前記光ルミネッセンス層は、ハードコーティング層、偏光子、偏光子保護層、位相差層、反射防止層、帯電防止層、高屈折層、低屈折層、防汚層、粘着層、接着層又はこれらの基材フィルムである、光学積層体。
【００１４】
８．前記項目１において、光学積層体は偏光板である、光学積層体。
【００１５】
９．前記項目１〜８のいずれか一項目に記載の前記光学積層体を備えた画像表示装置。
【００１６】
１０．前記項目９において、液晶表示装置である画像表示装置。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の光学積層体は、光ルミネッセンス量子ドット粒子を含むことで光による刺激で発光するため、レーザーポインタをディスプレイに直接表示する場合、レーザーポインタの視認性を顕著に向上させることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明は、光ルミネッセンス量子ドット粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に付設されることで、光による刺激で発光するため、レーザーポインタをディスプレイに直接表示する場合、レーザーポインタの視認性を顕著に向上させることができる光学積層体に関する。
【００１９】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２０】
本発明の光学積層体は、光ルミネッセンス量子ドット（quantum dot）粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に付設される。
【００２１】
本発明において光ルミネッセンス層は、光によって刺激を受けて自ら光を発する層をいう。本発明の光学積層体は、かかる光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に付設されることで、レーザーポインタの光によって該当部位が発光し、レーザーポインタの視認性を顕著に改善することができる。
【００２２】
本発明の光学積層体は、ディスプレイパネルの一方の面に付設される。複数の光学機能性フィルム又はその他の構成下に位置するか、或いはディスプレイパネルを基準として視認者側の背面に位置しても、レーザーポインタの光によって光ルミネッセンス現象が生じ得る位置であれば特に限定されない。
【００２３】
本発明による光ルミネッセンス量子ドット粒子は、量子ドット粒子、量子ドット含有粒子又はこれらの混合物であってよい。
【００２４】
量子ドットとは、ナノサイズの半導体物質である。原子が分子を成し、分子はクラスタという小さな分子の集合体を構成することでナノ粒子を成すが、このようなナノ粒子が特に半導体特性を有している時、それを量子ドットという。
【００２５】
量子ドットは、外部からエネルギーを受けて励起状態になると、自ら該当するエネルギーバンドギャップによるエネルギーを放出する。
【００２６】
量子ドット粒子は、湿式化学工程（wet chemical process）、有機金属化学蒸着工程又は分子線エピタキシー工程によって合成されてもよい。湿式化学工程は、有機溶媒に前駆体物質を加えて粒子を成長させる方法である。結晶が成長する時、有機溶媒が自然に量子ドット結晶の表面に配位されて分散剤の役割を果たすことで結晶の成長を調節する。そのため、有機金属化学蒸着（ＭＯＣＶＤ；metal organic chemical vapor deposition）や分子線エピタキシー（ＭＢＥ；molecular beam epitaxy）のような気相蒸着法よりさらに容易且つ安価な工程によって、ナノ粒子の成長を制御することができる。
【００２７】
本発明による量子ドット粒子は、光による刺激で発光することができる量子ドット粒子であれば特に限定されることなく、例えば、ＩＩ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＩＩ−Ｖ族半導体化合物、ＩＶ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＶ族元素又はこれを含む化合物、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される半導体物質を含む。
【００２８】
前記ＩＩ−ＶＩ族半導体化合物は、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＺｎＯ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される二元素化合物；ＣｄＳｅＳ、ＣｄＳｅＴｅ、ＣｄＳＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＳｅＴｅ、ＺｎＳＴｅ、ＨｇＳｅＳ、ＨｇＳｅＴｅ、ＨｇＳＴｅ、ＣｄＺｎＳ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＴｅ、ＣｄＨｇＳ、ＣｄＨｇＳｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＨｇＺｎＳ、ＨｇＺｎＳｅ、ＨｇＺｎＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される三元素化合物；及びＣｄＺｎＳｅＳ、ＣｄＺｎＳｅＴｅ、ＣｄＺｎＳＴｅ、ＣｄＨｇＳｅＳ、ＣｄＨｇＳｅＴｅ、ＣｄＨｇＳＴｅ、ＨｇＺｎＳｅＳ、ＨｇＺｎＳｅＴｅ、ＨｇＺｎＳＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される四元素化合物からなる群から選択されてもよい。前記ＩＩＩ−Ｖ族半導体化合物は、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、及びこれらの混合物からなる群から選択される二元素化合物；ＧａＮＰ、ＧａＮＡｓ、ＧａＮＳｂ、ＧａＰＡｓ、ＧａＰＳｂ、ＡｌＮＰ、ＡｌＮＡｓ、ＡｌＮＳｂ、ＡｌＰＡｓ、ＡｌＰＳｂ、ＩｎＮＰ、ＩｎＮＡｓ、ＩｎＮＳｂ、ＩｎＰＡｓ、ＩｎＰＳｂ、ＧａＡｌＮＰ、及びこれらの混合物からなる群から選択される三元素化合物；及びＧａＡｌＮＡｓ、ＧａＡｌＮＳｂ、ＧａＡｌＰＡｓ、ＧａＡｌＰＳｂ、ＧａＩｎＮＰ、ＧａＩｎＮＡｓ、ＧａＩｎＮＳｂ、ＧａＩｎＰＡｓ、ＧａＩｎＰＳｂ、ＩｎＡｌＮＰ、ＩｎＡｌＮＡｓ、ＩｎＡｌＮＳｂ、ＩｎＡｌＰＡｓ、ＩｎＡｌＰＳｂ、及びこれらの混合物からなる群から選択される四元素化合物からなる群から選択されてもよい。前記ＩＶ−ＶＩ族半導体化合物は、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される二元素化合物；ＳｎＳｅＳ、ＳｎＳｅＴｅ、ＳｎＳＴｅ、ＰｂＳｅＳ、ＰｂＳｅＴｅ、ＰｂＳＴｅ、ＳｎＰｂＳ、ＳｎＰｂＳｅ、ＳｎＰｂＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される三元素化合物；及びＳｎＰｂＳＳｅ、ＳｎＰｂＳｅＴｅ、ＳｎＰｂＳＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される四元素化合物からなる群から選択されてもよい。前記ＩＶ族元素又はこれを含む化合物は、Ｓｉ、Ｇｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される元素化合物；及びＳｉＣ、ＳｉＧｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される二元素化合物；から選択されてもよい。
【００２９】
前記量子ドットは、均質な（homogeneous）単一構造又はコア−シェル（core-shell）の二重構造を有してもよい。後者の場合、それぞれのコア（core）及びシェル（shell）を成す物質は、前述の互いに異なる半導体化合物からなってもよい。但し、前記シェル物質のエネルギーバンドギャップは、コア物質のエネルギーバンドギャップより大きいことがある。例えば、ＣｄＳｅ／ＺｎＳのコア−シェル構造を有する量子ドットを得ようとする場合、界面活性剤としてＴＯＰＯ（trioctylphosphine oxide）を用いた有機溶媒に、（ＣＨ３）２Ｃｄ（dimethyl cadmium）、ＴＯＰＳｅ（trioctylphosphine selenide）等のコア（ＣｄＳｅ）に該当する前駆体物質を注入することで結晶を生成する。結晶が一定のサイズに成長するように高温で一定時間維持させた後、シェル（ＺｎＳ）に該当する前駆体物質を注入して、既に生成済みのコアの表面にシェルを形成させる。これにより、ＴＯＰＯでキャッピング（capping）されたＣｄＳｅ／ＺｎＳの量子ドットが得られる。
【００３０】
本発明による量子ドット含有粒子は、無機物コア粒子又は高分子コア粒子の表面に結合された少なくとも一種の量子ドット粒子を含む。
【００３１】
本発明による量子ドット含有粒子のコア粒子の表面に導入された量子ドット粒子の数は、特に限定されることなく、例えば、１〜８，２００，０００個、好ましくは１０〜６４０，０００個であってよい。
【００３２】
前記無機物コア粒子は、シリカ、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＯ２）、二酸化チタン又は二酸化亜鉛であってよい。或いは、前記高分子コア粒子は、ポリスチレン又はポリメチルメタクリレートであってよい。前記コア粒子の直径は、特に限定されることなく、例えば、２〜１，０００μｍであってよい。
【００３３】
前記コア粒子及び前記量子ドット粒子は、共有結合、イオン結合又は物理的吸着によって結合されてもよい。その時、前記共有結合は、一方に前記量子ドット粒子と結合する硫黄、窒素又はリンのうちいずれか一の原子を含み、他方に前記コア粒子と結合する作用基を有して形成されてもよい。前記作用基は、シラン基、アミノ基、スルホン基、カルボキシ基又はヒドロキシ基であってよい。
【００３４】
本発明による光ルミネッセンス量子ドット粒子の吸収波長は、光ルミネッセンス層がディスプレイの光源によって発光することを抑えるために、可視光線領域の波長ではないことが好ましく、例えば、３５０〜４５０ｎｍであってよい。
【００３５】
また、本発明の他の側面において、光ルミネッセンス量子ドット粒子の吸収波長が可視光線領域の波長であっても、ディスプレイの光源による発光がレーザーポインタの視認性を損なわない程度の波長であれば許容可能であり、例えば、６００〜６５０ｎｍであってよい。
【００３６】
本発明の一具体例によると、本発明による光ルミネッセンス層は、光ルミネッセンスの役割のみを果たす別途の単独層として形成されてもよい。このような場合に、光ルミネッセンス層は、光ルミネッセンス量子ドット粒子を含む光ルミネッセンス層形成用組成物を基材に塗布して形成されてもよい。
【００３７】
本発明による光ルミネッセンス層形成用組成物は、光ルミネッセンス量子ドット粒子、透光性樹脂、開始剤、及び溶剤を含む。
【００３８】
本発明による光ルミネッセンス量子ドット粒子は、溶剤に溶解又は分散された組成物の形態で用いられてもよい。
【００３９】
前記溶剤は、特に限定されることなく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール系溶剤；エチルアセテート、プロピルアセテート、ノルマルブチルアセテート、ターシャリーブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート等のアセテート系溶剤；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶剤；メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭素数２〜１０のアルカン系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００４０】
本発明による光ルミネッセンス層形成用組成物に含まれる光ルミネッセンス量子ドット粒子の含有量は、特に限定されることなく、例えば、光ルミネッセンス層形成用組成物の全質量に対して、０．０５〜５質量％の量であってよく、好ましくは０．１〜３質量％の量であってよい。組成物に含まれる量子ドット粒子及び量子ドット含有粒子の含有量が０．０５〜５質量％であれば、ディスプレイの視認性を損なうことなく、レーザーポイントの視認性を改善する効果を最大限とすることができる。
【００４１】
本発明による透光性樹脂は、光硬化型樹脂であってよい。
【００４２】
前記光硬化型樹脂は、光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマー、モノマーを含んでもよい。
【００４３】
前記光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレートがより好ましい。
【００４４】
前記ウレタン（メタ）アクリレートは、ヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレート及びイソシアネート基を有する化合物を触媒存在下で反応させて調製することができる。
【００４５】
前記ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートは、特に限定されることなく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン開環ヒドロキシアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラ（メタ）アクリレート混合物、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサ（メタ）アクリレート混合物等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００４６】
前記イソシアネート基を有する化合物は、特に限定されることなく、例えば、１，４−ジイソシアネートブタン、１，６−ジイソシアネートヘキサン、１，８−ジイソシアネートオクタン、１，１２−ジイソシアネートドデカン、１，５−ジイソシアネート−２−メチルペンタン、トリメチル−１，６−ジイソシアネートヘキサン、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、トランス−１，４−シクロヘキセンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、トルエン−２，４−ジイソシアネート、トルエン−２，６−ジイソシアネート、キシレン−１，４−ジイソシアネート、テトラメチルキシレン−１，３−ジイソシアネート、１−クロロメチル−２，４−ジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（２，６−ジメチルフェニルイソシアネート）、４，４’−オキシビス（フェニルイソシアネート）、及びヘキサメチレンジイソシアネートから誘導される３官能イソシアネート、トリメタンプロパノールアダクトトルエンジイソシアネート等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００４７】
前記モノマーは、特に限定されることなく、例えば、光硬化型官能基として（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和基を有するモノマーが挙げられ、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーがより好ましい。
【００４８】
前記（メタ）アクリロイル基を有するモノマーは、特に限定されることなく、例えば、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルネオール（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００４９】
前記例示した光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマー、モノマーは、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００５０】
本発明による透光性樹脂の含有量は、特に限定されることなく、例えば、光ルミネッセンス層形成用組成物の全質量に対して、５〜８０質量％の量で含まれてもよく、好ましくは３０〜５０質量％の量であってよい。透光性樹脂の含有量が５質量％未満であれば、十分な塗工液供給及び光ルミネッセンス層の適正厚み確保が困難なことがあり、８０質量％超過であれば、コーティング液の粘度が高く塗工不良等によって工程性が低下することがある。
【００５１】
本発明による光開始剤は、特に限定されることなく、当分野において通常用いられる光開始剤であってよく、例えば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］２−モルホリンプロパノン−１、ジフェニルケトンベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−オン、４−ヒドロキシシクロフェニルケトン、ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アントラキノン、フルオレン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロアセトフェノン、４，４−ジメトキシアセトフェノン、４，４−ジアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００５２】
本発明による光開始剤の含有量は特に限定されることなく、例えば、光ルミネッセンス層形成用組成物の全質量に対して、０．１〜１０質量％の量で含まれてもよく、好ましくは１〜５質量％の量であってよい。光開始剤の含有量が０．１質量％未満であれば、硬化速度が遅くなって工程効率が低下することがあり、１０質量％超過であれば、過硬化によるクラックが生じることがある。
【００５３】
本発明による溶剤は、特に限定されることなく、当分野において通常用いられる溶剤であってよく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール系溶剤；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート等のエーテル系溶剤；メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ヘキサン、ヘプタン、オクタン等のヘキサン系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００５４】
本発明による溶剤の含有量は、特に限定されることなく、例えば、光ルミネッセンス層形成用組成物の全質量に対して、１０〜９５質量％の量で含まれてもよく、好ましくは５０〜８０質量％の量であってよい。溶剤の含有量が１０質量％未満であれば、組成物の粘度が高くなって作業性が低下することがあり、９５質量％超過であれば、乾燥過程において過度に時間を要し、経済性が低下することがある。
【００５５】
本発明による光ルミネッセンス層形成用組成物は、前記成分の他にも当分野において通常用いられる硬化剤、レベリング剤、密着促進剤、酸化防止剤等の添加剤；強度補強用ナノシリカ、無機ナノ粒子、及びＰＯＳＳ（多面体オリゴマーシルセスキオキサン）；帯電防止用電導性高分子、ナノ粒子、及びイオン性液体；並びに防眩性付与用有機粒子、無機粒子等をさらに含んでもよい。
【００５６】
基材は、耐久性が大きく、且つユーザが容易にディスプレイを視認することができる物質であれば特に限定されることなく、当分野で用いられる素材を特に制限することなく用いてもよい。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；polyethylene terephthalate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ；polycarbonate）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ；polyethersulfone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ；polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ；polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ；polyethylene naphthalate）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ；polyphenylene sulfide）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ；cellulose acetate propionate）、及びガラス等が用いられてもよい。
【００５７】
光ルミネッセンス層形成用組成物を基材上に塗布する方法は、特に限定されることなく、当分野において通常用いられる方法によってもよく、例えば、ファウンテンコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、グラビアコーティング法、ロールコーティング法、バーコーティング法等が挙げられる。
【００５８】
光ルミネッセンス層形成用組成物を塗布してから硬化して光ルミネッセンス層を形成することができるが、硬化に先立ち必要に応じて乾燥段階を経てもよい。
【００５９】
乾燥方法は、特に限定されることなく、例えば、自然乾燥、熱風乾燥、加熱乾燥等の方法によってもよい。
【００６０】
硬化方法は、特に限定されることなく、例えば、紫外線硬化、電離放射線硬化等の方法によってもよい。その手段としては各種の活性エネルギーを用いてもよいが、紫外線を用いることがより好ましい。エネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素等の線源が好ましい。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍにおける積算露光量として５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。照射量が５０ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、硬化がより十分になって、形成される光ルミネッセンス層の硬度もより十分なものとなる。また、照射量が５０００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、形成される光ルミネッセンス層の着色を防ぐことができ、透明性を向上させることができる。
【００６１】
本発明による光ルミネッセンス層を備えた光学積層体は、少なくとも１層の光学機能層をさらに備えてもよい。かかる光学機能層は、例えば、偏光子、偏光子保護層、ハードコーティング層、指紋防止層、位相差層、反射防止層、帯電防止層等であってよい。これらの積層順序は、特に限定されずに適宜選択されてもよく、例えば、光ルミネッセンス層の上に形成されてもよく、光ルミネッセンス層の下に形成されてもよく、或いは基材の反対面に形成されてもよい。
【００６２】
本発明の他の一具体例によれば、本発明による光ルミネッセンス層は、当分野において通常用いられる光学機能層であってよく、例えば、ハードコーティング層、偏光子、偏光子保護層、位相差層、反射防止層、帯電防止層、高屈折層、低屈折層、及び防汚層等であってよい。このような場合に、光ルミネッセンス層形成用組成物は、該当光学機能層形成用組成物と混合して用いられてもよい。
【００６３】
具体的に、前記光学積層体が偏光板として適用される場合、光ルミネッセンス層は、偏光子及び偏光子保護層のうち少なくとも１層であってよい。このような場合に、光ルミネッセンス層形成用組成物は、偏光子形成用組成物又は偏光子保護層形成用組成物と混合して用いられてもよい。また、光ルミネッセンス層は、偏光子又は偏光子保護層のうちの一面に別途の層として形成されてもよい。
【００６４】
また、本発明による光ルミネッセンス層は、ディスプレイパネルに備えられた粘着層又は接着層であってよい。このような場合では、同様に、光ルミネッセンス層形成用組成物は、粘着剤又は接着剤組成物と混合して用いられてもよい。
【００６５】
また、本発明による光ルミネッセンス層は、前記光学機能層、粘着層、接着層等が形成される基材フィルムであってよい。同様に、光ルミネッセンス層形成用組成物は、基材フィルム形成用組成物と混合して用いられてもよい。
【００６６】
基材フィルムは、特に限定されることなく、例えば、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ；polyethersulfone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ；polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ；polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ；polyethylene naphthalate）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；polyethylene terephthalate）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ；polyphenylene sulfide）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、ポリカーボネート（ＰＣ；polycarbonate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、及びセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ；cellulose acetate propionate）等が挙げられる。
【００６７】
また、本発明は、前記光学積層体を備えた画像表示装置を提供する。
【００６８】
本発明の画像表示装置は、ディスプレイパネルの一方の面に付設された前記光学積層体を備える。
【００６９】
画像表示装置の種類は特に限定されることなく、例えば、液晶表示装置、プラズマ表示装置、電界発光表示装置、及び陰極線管表示装置等であってよい。
【００７０】
ディスプレイパネルは、特に限定されることなく、当分野において通常用いられる構成であってよく、その他にも当分野において通常用いられる構成をさらに備えてもよい。
【００７１】
以下、本発明の理解を助けるために、好適な実施例を示すが、これら実施例は本発明を例示するに過ぎず、添付された特許請求の範囲を制限するわけではなく、本発明の範疇及び技術思想の範囲内において実施例に対し変更が多様であること且つ修正が可能であることは、当業者にとって明らかなものであり、このような変更及び修正が添付された特許請求の範囲に属するのも当然のことである。
【００７２】
調製例
（１）光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２５質量部、量子ドット溶液（量子ドット粒子（ＣｄＳ）０．５質量％、トルエン９９．５質量％）２０質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
【００７３】
（２）光ルミネッセンス層（防眩性ハードコーティング層）形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２０質量部、量子ドット溶液（量子ドット粒子（ＣｄＳ４２０）０．５質量％、トルエン９９．５質量％）２０質量部、有機粒子（ＸＸ−１９ＨＷ、積水社、粒子屈折率１．４９５）５質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
【００７４】
（３）光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）形成用組成物
高屈折コーティング液（ＴＹＺ５８−０１Ｅ、屈折率１．５８）８０質量部、及び量子ドット溶液（量子ドット粒子（ＣｄＳ４２０）０．５質量％、トルエン９９．５質量％）２０質量部を撹拌して、プロピレングリコールモノメチルエーテルで全体固形粉が５質量％となるように希釈した後にＰＰ材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
【００７５】
（４）光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２５質量部、量子ドット溶液（量子ドット粒子（ＣｄＳｅ６４０）０．５質量％、トルエン９９．５質量％）２０質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
【００７６】
（５）低屈折ハードコーティング層形成用組成物
中空シリカ含有ＵＶコーティング液（ＭＢ１０３０）１０質量部にイソプロパノール５質量部及びエチルアセテート３質量部を添加して室温で３０分間撹拌した後、ＰＰ材質のフィルタで濾過し、低屈折ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
【００７７】
（６）ハードコーティング層形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２５質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
【００７８】
（７）防眩性ハードコーティング層形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２０質量部、有機粒子（ＸＸ−１９ＨＷ、粒子屈折率１．４９５）５質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、防眩性ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
【００７９】
（８）高屈折ハードコーティング層形成用組成物
高屈折コーティング液（ＴＹＺ５８−０１Ｅ、屈折率１．５８）８０質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルで全体固形粉が５％となるように希釈した後、ＰＰ材質のフィルタで濾過し、高屈折ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
【００８０】
実施例１
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（１）の光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）を形成し、光学積層体を製造した。
【００８１】
実施例２
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（２）の光ルミネッセンス層（防眩性ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで光ルミネッセンス層（防眩性ハードコーティング層）を形成し、光学積層体を製造した。
【００８２】
実施例３
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムの一面に調製例（１）の光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布し、７０℃で２分間乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）を形成した。次いで、前記光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）の上に調製例（８）の高屈折ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１３０ｎｍとなるように塗布し、高屈折ハードコーティング層を形成した。そして、前記高屈折ハードコーティング層上に調製例（５）の低屈折ハードコーティング層形成用組成物を硬化後の厚みが１００ｎｍとなるように塗布し、光学積層体を製造した。
【００８３】
実施例４
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムの一面に調製例（６）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布し、７０℃で２分間乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することでハードコーティング層を形成した。次いで、ハードコーティング層上に調製例（３）の光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが１３０ｎｍとなるように塗布し、光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）を形成した。そして、前記光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）の上に調製例（５）の低屈折ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１００ｎｍとなるように塗布し、光学積層体を製造した。
【００８４】
実施例５
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（４）の光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）を形成し、光学積層体を製造した。
【００８５】
実施例６
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムの一面に調製例（６）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布し、７０℃で２分間乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することでハードコーティング層を形成した。次いで、ハードコーティング層上に調製例（３）の光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが１３０ｎｍとなるように塗布し、光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）を形成した。そして、前記光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）上に調製例（５）の低屈折ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１００ｎｍとなるように塗布し、光学積層体を製造した。
【００８６】
比較例１
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（６）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することでハードコーティング層を形成し、光学積層体を製造した。
【００８７】
比較例２
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（７）の防眩性ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで防眩性ハードコーティング層を形成し、光学積層体を製造した。
【００８８】
比較例３
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムの一面に調製例（６）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布し、７０℃で２分間乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することでハードコーティング層を形成した。次いで、ハードコーティング層上に調製例（８）の高屈折ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１３０ｎｍとなるように塗布し、高屈折ハードコーティング層を形成した。そして、前記高屈折ハードコーティング層上に調製例（５）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１００ｎｍとなるように塗布し、光学積層体を製造した。
【００８９】
実験例
（１）レーザーポインタ視認性評価
実施例及び比較例で製造された光学積層体を偏光板に接着した後、ディスプレイパネルに接合した。
【００９０】
次いで、白色駆動状態で、実施例１〜４及び比較例の場合は４０５ｎｍのレーザーポインタで、実施例５及び６の場合は６１５ｎｍのレーザーポインタでそれぞれ視認性を下記基準に従って評価した。
【００９１】
＜評価基準＞
○：非常に容易に視認される。
△：不明瞭で容易に視認されない。
×：全く視認されない。
【００９２】
（２）透過率測定
実施例及び比較例で製造された光学積層体において、トリアセチルセルロース面を光源（Ｄ６５）側に向け、分光光度計（ＨＺ−１、須賀社）で全光線透過率（Total Transmittance）及びヘイズを測定した。
【００９３】
（３）反射率測定
実施例３、４、６及び比較例３で製造された光学積層体の３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域における反射率をＵＶ分光器（ＵＶ−スペクトロフォトメーター、ＳＨＩＭＡＤＺＵ社）で測定し、最低反射率を示した。
【００９４】
【表１】
2016526174.tif 000002
【００９５】
前記表１を参照すると、実施例１〜６の光学積層体は、レーザーポイントが非常に容易に視認され、視認性に優れることが確認された。また、透過率、ヘイズ、及び反射率も比較例の光学積層体と類似して優れていた。
【００９６】
しかしながら、比較例１〜３の光学積層体は、レーザーポイントが不明瞭で容易に視認されないか、或いは全く視認されず、視認性に劣っていた。
【国際調査報告】
2016526174.tif 000003
2016526174.tif 000004
2016526174.tif 000005
2016526174.tif 000006