(57)【要約】  誘電体ミラーは、高屈折率層及び低屈折率層を交互に有するコーティングを含む。高屈折率層は、ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含み、低屈折率層は、シリコン酸化物を含む。特定の実施形態において、ミラーコーティングは、Ａｌ又はＡｇの金属性反射層を含まずに、特定の実施形態において、フィルム側及び／又はガラス側可視光線反射率が約５０〜９０％（さらに好ましくは約６０〜８０％、最も好ましくは約６５〜７５％）であり、可視光線透過率が約１０〜５０％（さらに好ましくは約１０〜４０％又は２０〜４０％）であってもよい。これらの層の厚さ及び相対的厚さ、並びに屈折率が特定されている。ガラス基板側とフィルム側との間の反射率の非対称性が達成される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーティングを支持するガラス基板を含む誘電体ミラーであって、前記コーティングは、前記ガラス基板から順に、
厚さが約７０〜１４０ｎｍで、ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層と；
厚さが約３０〜１４０ｎｍで、シリコン酸化物を含む第２透明誘電体低屈折率層と；
ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層と；
シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層と；
ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層と；を含み、
前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、（ａ）前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層、及び／又は（ｂ）前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層のうちの１つ又は両方より少なくとも１０ｎｍ厚く；
前記コーティングは、Ａｌ又はＡｇに基づく任意の金属性反射層を含まず；
前記誘電体ミラーは、（ｉ）フィルム側可視光線反射率又はガラス側可視光線反射率が約５０〜９０％であり、（ｉｉ）可視光線透過率が約１０〜４０％であり、
前記ミラーのガラス側可視光線反射率は、前記ミラーのフィルム側可視光線反射率より少なくとも約３０％高いか、又は少なくとも約３０％低い、誘電体ミラー。
【請求項２】
前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、前記第３透明誘電体高屈折率層及び前記第５透明誘電体高屈折率層の両方より少なくとも１０ｎｍ厚い、請求項１に記載のミラー。
【請求項３】
前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、前記第３透明誘電体高屈折率層及び／又は前記第５透明誘電体高屈折率層の１つ又は両方より少なくとも２５ｎｍ厚い、請求項１又は２に記載のミラー。
【請求項４】
前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、前記第３透明誘電体高屈折率層及び前記第５透明誘電体高屈折率層の両方より少なくとも２５ｎｍ厚い、請求項１〜３のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項５】
前記第３透明誘電体高屈折率層と前記第５透明誘電体高屈折率層との間に位置する対称調節層をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項６】
前記対称調節層は、ＮｉＣｒを含む、請求項５に記載のミラー。
【請求項７】
前記ＮｉＣｒを含む対称調節層は、少なくとも部分的に酸化される、請求項６に記載のミラー。
【請求項８】
前記対称調節層は、前記シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層と、前記第３透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと接触している、請求項５〜７のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項９】
前記対称調節層は、前記シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層と、前記第５透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと接触している、請求項５〜７のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１０】
前記ガラス基板は、灰色のガラス基板である、請求項１〜９のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１１】
前記第１透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１２】
前記第３透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１３】
前記第５透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１４】
前記第３透明誘電体高屈折率層は、厚さが約３０〜８０ｎｍである、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１５】
前記シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層は、厚さが約４０〜１２０ｎｍである、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１６】
前記第５透明誘電体高屈折率層は、厚さが約３０〜８０ｎｍである、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１７】
前記第１透明誘電体高屈折率層は、前記ガラス基板に直接接触する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１８】
前記ガラス基板と前記第１透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと接触しているシリコン窒化物を含む層をさらに含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項１９】
前記シリコン酸化物を含む第２透明誘電体低屈折率層は、前記第１透明誘電体高屈折率層と前記第３透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと直接接触している、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項２０】
前記第１、第２、第３、第４、及び第５層は、スパッタ蒸着された層である、請求項１〜１９のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項２１】
前記シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層各々は、アルミニウムでドープされている、請求項１〜２０のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項２２】
前記第１、第３、及び第５透明誘電体高屈折率層各々は、屈折率が約２．１５から２．５である、請求項１〜２１のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項２３】
前記シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層各々は、屈折率が約１．４から１．７である、請求項１〜２２のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項２４】
前記シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層は、各々、（ｉ）前記第１透明誘電体高屈折率層より薄く、（ｉｉ）前記第３及び第５透明誘電体高屈折率層のうち少なくとも１つより厚い、請求項１〜２３のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項２５】
前記ミラーは、焼き戻し処理されている、請求項１〜２４のいずれか一項に記載のミラー、
【請求項２６】
前記ミラーは、中性のガラス側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有し、前記ガラス側反射ａ＊及びｂ＊値の各々が約−２から＋２である、請求項１〜２５のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項２７】
前記ミラーは、中性のフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有し、前記フィルム側反射ａ＊及びｂ＊値の各々が約−２から＋２である、請求項１〜２６のいずれか一項に記載のミラー。
【請求項２８】
コーティングを支持する基板を含む誘電体ミラーであって、前記コーティングは、前記基板から順に、
厚さが約７０〜１４０ｎｍで、屈折率（ｎ）が約２．１５から２．５である第１誘電体層と；
シリコン酸化物を含む第２誘電体層と；
屈折率が約２．１５から２．５である第３誘電体層と；
シリコン酸化物を含む第４誘電体層と；
屈折率が約２．１５から２．５である第５誘電体層と；を含み、
前記第１誘電体層は、前記第３誘電体層及び／又は前記第５誘電体層の１つ又は両方より少なくとも１０ｎｍ厚く；
前記コーティングは、任意の金属性反射層を含まず；
前記ミラーは、可視フィルム側反射率及び／又は可視ガラス側反射率が約５０〜９０％であり、可視光線透過率が約１０〜５０％である、誘電体ミラー。
【請求項２９】
前記第１、第３、及び第５誘電体層の少なくとも１つは、ニオブ酸化物を含む、請求項２８に記載のミラー。
【請求項３０】
前記第１、第３、及び第５誘電体層の少なくとも１つは、チタン酸化物を含む、請求項２８に記載のミラー。
【請求項３１】
前記第１誘電体層は、前記第３及び第５誘電体層の両方より少なくとも１０ｎｍ厚い、請求項２８に記載のミラー。
【請求項３２】
前記コーティングは、本質的に前記第１、第２、第３、第４及び第５層から成る、請求項２８に記載のミラー。
【請求項３３】
前記シリコン酸化物を含む第２及び第４誘電体層は、各々、（ｉ）前記第１誘電体層より薄く、（ｉｉ）前記第３及び第５誘電体層の両方より厚い、請求項２８に記載のミラー。
【請求項３４】
前記ミラーは、中性のガラス側反射及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有し、前記ガラス側及びフィルム側反射ａ＊及びｂ＊値の各々は、約−２から＋２である、請求項２８に記載のミラー。
【請求項３５】
前記ミラーは、前記基板と前記第１誘電体層との間に位置するシリコン窒化物を含む層をさらに含む、請求項２８に記載のミラー。
【請求項３６】
コーティングを支持する基板を含む誘電体ミラーであって、前記コーティングは、前記基板から順に、
屈折率（ｎ）が約２．１５から２．５である第１誘電体層と；
シリコン酸化物を含む第２誘電体層と；
屈折率が約２．１５から２．５である第３誘電体層と；
シリコン酸化物を含む第４誘電体層と；
屈折率が約２．１５から２．５である第５誘電体層と；を含み
前記第１誘電体層は、前記第３誘電体層及び／又は前記第５誘電体層の１つ又は両方より少なくとも２０ｎｍ薄く；
前記コーティングは、任意の金属性反射層を含まない、誘電体ミラー。
【請求項３７】
前記ミラーは、可視フィルム側反射率及び／又は可視ガラス側反射率が約４０〜９０％で、可視光線透過率が約２０〜６０％である、請求項３６に記載のミラー。
【請求項３８】
前記第１、第３、及び第５誘電体層の少なくとも１つは、ニオブ酸化物を含む、請求項３６に記載のミラー。
【請求項３９】
前記第１、第３、及び第５誘電体層の少なくとも１つは、チタン酸化物を含む、請求項３６に記載のミラー。
【請求項４０】
前記第１誘電体層は、前記第３及び第５誘電体層の両方より少なくとも２０ｎｍ薄い、請求項３６に記載のミラー。
【請求項４１】
前記シリコン酸化物を含む第２誘電体層は、（ｉ）前記第１誘電体層より厚く、（ｉｉ）前記第３及び第５誘電体層の各々より薄い、請求項３６に記載のミラー。
【請求項４２】
前記ミラーのガラス側及びフィルム側可視光線反射率は、実質的に同一である、請求項３６に記載のミラー。
【請求項４３】
前記ミラーは、中性のガラス側及び／又はフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有し、前記ガラス側及び／又はフィルム側反射ａ＊及びｂ＊値は、各々約−２から＋２である、請求項３６に記載のミラー。
【請求項４４】
前記ミラーは、前記基板と前記第１誘電体層との間に位置するシリコン窒化物を含む層をさらに含む、請求項３６に記載のミラー。
【請求項４５】
前記第１誘電体層は、前記第３誘電体層及び前記第５誘電体層の両方より少なくとも４０ｎｍ薄い、請求項３６に記載のミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２０１３年２月１３日に出願された米国出願第１３／７６６，０２５の一部継続出願であり、その開示内容が本明細書に参照として含まれる。
【０００２】
本発明の特定の実施形態は、誘電体ミラー及び／又はこの製造方法に関する。特定の実施形態は、フィルム側及び／又はガラス側可視光線反射率が約５０〜９０％（さらに好ましくは約６０〜８０％、及び最も好ましくは約６５〜７５％）及び可視光線透過率が約１０〜５０％（さらに好ましくは約１０〜４０％、より好ましくは約２０〜４０％、及び最も好ましくは約２５〜３５％）を実現する誘電体ミラーに関する。
【背景技術】
【０００３】
ミラーは、長きにわたり存在し、複数の用途で用いられてきた。一般的に、ミラーは、（ａ）見る人と支持ガラス基板との間にミラーコーティングが提供される第１表面ミラー、又は（ｂ）見る人とミラーコーティングとの間に支持ガラス基板が介在する第２表面ミラーのうちのどちらかである。例えば、米国特許第７，２７６，２８９号、及び同第７，６７８，４５９号；米国特許公開第２００６／００７７５８０号；同第２００７／０１７８３１６号；同第２００８／００７３２０３号；同第２００８／０１６４１７３号；同第２０１０／０２２９８５３号；同第２０１１／０１７６２１２号；及び同第２０１１／０１７６２３６号を参照する。このような特許文献の全体の内容が本明細書に参照として含まれる。
【０００４】
ミラーは、多くの場合、金属性（Ａｌ又はＡｇ）反射層を使用する必要がある。しかし、Ａｌ又はＡｇの金属性反射層を必要とせずにミラーを提供できる場合、それが望ましい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の特定の実施形態は、誘電体ミラー及び／又はその製造方法に関する。具体的には、特定の実施形態は、金属性反射層を含まなくても（例えば、Ａｇ層及びＡｌ層を含まない）、フィルム側及び／又はガラス側可視光線反射率が約５０〜９０％（さらに好ましくは約６０〜８０％、最も好ましくは約６５〜７５％）及び可視光線透過率が約１０〜５０％（さらに好ましくは約１０〜４０％、さらに好ましくは約２０〜４０％、最も好ましくは約２５〜３５％）を実現できる誘電体ミラーに関する。特定の実施形態において、わずかに又は著しく酸化され得るＮｉＣｒなどの又はこれを含む層は、特定の例において提供されてもよい。特定の実施形態において、誘電体ミラーは、ガラス側反射率及びフィルム側反射率に対して優れた性能を提供するものであれば、第１表面ミラー又は第２表面ミラーであってもよい。特定の実施形態において、ミラーは、熱処理（例えば、熱強化及び／又は熱曲げ）されてもされなくてもよい。特定の実施形態の例では、このような誘電体ミラーは、消費者、商業的及び／又は電子看板への適用、例えば、写真フレーム、浴室ミラー、ＴＶ、及び／又は電子装置に用いてもよい。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の特定の実施形態において、コーティングを支持するガラス基板を含む誘電体ミラーが提供され、コーティングは、ガラス基板から順に、厚さが約７０〜１４０ｎｍで、ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層と；厚さが約３０〜１４０ｎｍで、シリコン酸化物を含む第２透明誘電体低屈折率層と；ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層と；シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層と；ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層と；を含み、ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、（ａ）ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層、及び／又は（ｂ）ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層のうちの１つ又は両方より少なくとも１０ｎｍ厚く；コーティングは、Ａｌ又はＡｇに基づく任意の金属性反射層を含まずに、誘電体ミラーは、（ｉ）フィルム側可視光線反射率又はガラス側可視光線反射率が約５０〜９０％、及び（ｉｉ）可視光線透過率が約１０〜４０％であって；ミラーのガラス側可視光線反射率がミラーのフィルム側可視光線反射率より少なくとも約３０％高い又は低い。ミラーは、第３透明誘電体高屈折率層と第５透明誘電体高屈折率層との間に位置する対称調節層をさらに含んでもよい。対称調節層は、ＮｉＣｒなどを含んでもよく、少なくとも部分的に酸化されてもよい。対称調節層は、シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層と第３透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと接触していてもよく、又はシリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層と第５透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと接触していてもよい。ミラーのフィルム側とガラス側との間に可視光線反射率の非対称を達成するために、対称調節層を用いる代りに、ミラーのガラス基板が灰色のガラス基板であってもよい。
【０００７】
本発明の特定の実施形態において、コーティングを支持する基板を含む誘電体ミラーが提供され、コーティングは、ガラス基板から順に、屈折率（ｎ）が約２．１５から２．５である第１誘電体層と；シリコン酸化物を含む第２誘電体層と；屈折率が約２．１５から２．５である第３誘電体層と；シリコン酸化物を含む第４誘電体層と；屈折率が約２．１５から２．５である第５誘電体層と；を含み；第１誘電体層は、第３誘電体層及び／又は第５誘電体層の１つ又は両方より少なくとも２０ｎｍ薄く；コーティングは、任意の金属性反射層を含有しない。
【０００８】
本発明の特定の実施形態において、コーティングを支持するガラス基板を含む誘電体ミラーが提供され、コーティングは、ガラス基板から順に、厚さが約７０〜１４０ｎｍで、ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層と；厚さが約３０〜１４０ｎｍで、シリコン酸化物を含む第２透明誘電体低屈折率層と；ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層と；シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層と；ニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層と；を含み、ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層及び／又はニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層のうちの１つ又は両方より少なくとも１０ｎｍ厚く；コーティングは、任意の金属性反射層を含まず；誘電体ミラーは、可視フィルム側反射率及び／又は可視ガラス側反射率が約５０〜９０％であり、可視光線透過率が約１０〜４０％である。
【０００９】
本発明の特定の実施形態において、コーティングを支持する基板（例えば、ガラス基板）を含むミラーが提供され、コーティングは、基板から順に、厚さが約７０〜１４０ｎｍで、屈折率（ｎ）が約２．１５から２．５である第１誘電体層と；シリコン酸化物を含む第２誘電体層と；屈折率が約２．１５から２．５である第３誘電体層と；シリコン酸化物を含む第４誘電体層と；屈折率が約２．１５から２．５である第５誘電体層と；を含み、第１誘電体層は、第３誘電体層及び／又は第５誘電体層の１つ又は両方より少なくとも１０ｎｍ厚く；コーティングは、任意の金属性反射層を含まず；ミラーは、可視フィルム側反射率及び／又は可視ガラス側反射率が約５０〜９０％であり、可視光線透過率が約２０〜４０％である。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の例示的な実施形態に係る誘電体ミラーの断面図である。
【図２】図１の実施形態の一例に係る誘電体ミラーの光学特性を示す、モデリングされた波長（ｎｍ）に対する、可視光線透過率（Ｔｓ）、フィルム側反射率（ＢＲｓ）、ガラス側反射率（Ｒａ）のグラフである。
【図３】図１の実施形態の一例に係る誘電体ミラーの反射した色の角度分布を示す、モデリングされた角度（°）対ガラス側反射ａ＊及びｂ＊の色値のグラフである。
【図４】本発明の例示的な実施形態に係る誘電体ミラーの断面図である。
【図５ａ】本発明の例示的な実施形態に係る誘電体ミラーの断面図である。
【図５ｂ】本発明の例示的な実施形態に係る誘電体ミラーの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
具体的に図面を参照すると、図面における参照符号は、複数の図面にわたり類似の部分／物質を示す。
【００１２】
図１は、本発明の特定の実施形態に係る誘電体ミラー１００の断面図である。ミラーは、ガラス基板１上にある誘電体コーティング１５０を含む。ガラス基板１は、ソーダ石灰シリカ系ガラス又は任意のその他の適切な形態のガラスであってもよく、本発明の例示的な実施形態における厚さは、約１〜１０ｍｍであり、さらに好ましくは約２〜６ｍｍであってもよい。また、基板１は、石英、シリコンなどであってもよい。ミラーコーティング１５０は、ニオブ酸化物（例えば、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｂＯ２及び／又はＮｂＯ）の又はこれを含む高屈折率透明誘電体層２，４，６及びシリコン酸化物（例えば、アルミニウム及び／又は窒素でドープされていても、ドープされていなくてもよいＳｉＯ２）の又はこれを含む低屈折率透明誘電体層３，５を含む。特定の実施形態において、シリコン酸化物層（３及び／又は５）の１つ又は両方は、約１〜８％アルミニウム及び／又は約１〜１０％の窒素のようなその他の物質でドープしてもよい。特定の例の場合に層２，４，６のうちの１つ以上は、その他の物質でドープしてもよい。図１の実施形態において、層６は、コーティング１５０の最も外側の層であり、空気に露出されてもよい。層（２〜７）の各々は、独立的なこれらの層の各々が実質的に可視光に対して透明（例えば、可視光に対して少なくとも約５０％透明であって、さらに好ましくは少なくとも約６０％又は７０％透明）であるため、「透明」であるものと考慮される。
【００１３】
ニオブ酸化物の又はこれを含む高屈折率透明誘電体層２，４，６は、屈折率（ｎ）が（５５０ｎｍで）約２．１５から２．５であり、さらに好ましくは約２．２から２．４であり、最も好ましくは約２．２５から２．３５である。特定のまた他の実施形態において、高屈折率層（２，４及び／又は６）のうちの１つ以上において、ニオブ酸化物が、チタン酸化物（例えば、ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム、ハフニウム酸化物（例えば、ＨｆＯ２）、セリウム酸化物（例えば、ＣｅＯ２）、亜鉛硫化物、又は、ビスマス酸化物（例えば、Ｂｉ２Ｏ３）で代替されてもよい。したがって、１つのこのような例において、層６は、チタン酸化物であるか又はそれを含んでもよく、層（２及び４）は、ニオブ酸化物であるか又はそれを含み、層３，５は、シリコン酸化物であるか又はそれを含む。シリコン酸化物の又はこれを含む低屈折率透明誘電体層３，５は、屈折率（ｎ）が約１．４から１．７であり、さらに好ましくは約１．４から１．６であり、最も好ましくは約１．４５から１．５５である（本明細書の全ての屈折率ｎ値は、５５０ｎｍで測定される）。
【００１４】
本発明の例示的な実施形態で透明誘電体層（２〜６）は、好ましくはスパッタリングによって蒸着される。例えば、ニオブ酸化物の又はこれを含む透明誘電体層２，４，６は、Ｎｂの又はこれを含む少なくとも１つのスパッタリング対象を介して、アルゴン及び反応性酸素気体の混合物を含む雰囲気でスパッタリングによって、スパッタ蒸着されてもよい。例えば、シリコン酸化物の又はこれを含む透明誘電体層３，５は、Ｓｉ又はＳｉＡｌの又はこれを含む少なくとも１つのスパッタリング対象を介して、アルゴン及び反応性酸素気体の混合物を含む雰囲気でスパッタリングによって、スパッタ蒸着されてもよい。回転するＣ−Ｍａｇスパッタリング対象又はその他の形態の対象を用いてもよい。スパッタリング操作において、十分な反応性酸素気体を用いて本明細書に検討された屈折率値を達成してもよい。また、セラミック対象を用いて１つ以上のこのような層をスパッタ蒸着してもよい。層（２〜６）は、好ましくはスパッタリングによって蒸着されるが、本発明のまた他の実施形態において、その他の技術によって蒸着してもよい。図１の実施形態において、ミラーコーティング１５０は、５つの層で構成されるが、また他の実施形態において追加の層が提供されてもよい。
【００１５】
図１の実施形態及びその他の実施形態において、誘電体ミラー１００は、金属性反射層を含んでいないが（例えば、Ａｇ層及びＡｌ層を含んでいないが）、それにもかかわらず、フィルム側及び／又はガラス側可視光線反射率が約５０〜９０％（さらに好ましくは約６０〜８０％、最も好ましくは約６５〜７５％）であり、可視光線透過率が約１０〜５０％（さらに好ましくは約１０〜４０％、より好ましくは約２０〜４０％、最も好ましくは約２５〜３５％）を実現してもよい。金属性反射層を含まなくても、本明細書に検討された層の厚さ値と共にコーティング１５０で隣接する層の間における大きい屈折率の差によって高い反射率値が達成される。特定の実施形態において、ガラス側反射率（ミラーのガラス１側から測定された反射率）及びフィルム側反射率（ミラーのフィルム１５０側から測定された反射率）は、実質的に対称であってもよい（例えば、ミラーのガラス側反射率及びフィルム側反射率は、約１０％以下異なることもある）。本明細書の屈折率及び厚さ値は、透過した及び反射した色値（例えば、ａ＊及び／又はｂ＊の色値）が実質的に中性になるように調節されてもよい。誘電体ミラー１００は、特定の実施形態において第１又は第２表面ミラーであってもよい。誘電体ミラー１００は、例えばビームスプリッタとして用いてもよい。ミラー１００は、特定の実施形態において熱処理（例えば、熱強化及び／又は熱曲げ）されてもされなくてもよい。特定の実施形態の例では、このような誘電体ミラー１００は、消費者、商業的及び／又は電子看板への適用、例えば、写真フレーム、浴室ミラー、ＴＶ、及び／又は電子装置に用いてもよい。このようなミラーは、消費者、セキュリティ、商業、及び／又は電子看板に適用するための隠されたＴＶ又は電子ミラーに使用してもよい。特定の電子的な適用において、ディスプレイがオンの場合、ガラス１を介してスクリーン画像を見ることができ、ディスプレイがオフの場合、ミラー１００は、本明細書で論じたミラーの反射率及び可視光線透過率値を考慮すると、ミラーの外観を有する。
【００１６】
図４は、本発明のまた他の例示的な実施形態に係る誘電体ミラーの断面図である。図４の実施形態は、透明誘電体バリア層７がガラス基板１と高屈折率層２との間に提供されることを除いて図１の実施形態と同一である。バリア層７は、本発明の特定の実施形態においてシリコン窒化物（例えば、Ｓｉ３Ｎ４）又はそれを含む。特定の実施形態において、シリコン窒化物ベースバリア層７は、約１〜８％アルミニウム及び／又は約１〜１０％の酸素のようなその他の物質でドープしてもよい。図４の実施形態は、特に熱処理された（例えば、焼き戻し処理された）実施形態で有用なものであって、バリア層７は、高温熱処理中に元素（例えば、Ｎａ）がガラス基板からコーティングに移動するのを防止又は低減するのに役立つ。このような熱処理（例えば、焼き戻し処理）は、例えば、少なくとも約５８０℃、さらに好ましくは少なくとも約６００℃の温度でオーブンなどで被覆製品を加熱するステップを含んでもよい。本発明の例示的な実施形態において、図４の実施形態のミラーは、熱処理（例えば、焼き戻し処理）されてもされなくてもよい。
【００１７】
本発明の特定の実施形態において、ニオブ酸化物の又はこれを含む透明誘電体層２は、厚さが約７０〜１４０ｎｍであって、さらに好ましくは約８０〜１３０ｎｍ、より好ましくは約９０〜１２０ｎｍであって、一例の厚さは、約１０５ｎｍである。本発明の特定の実施形態において、ニオブ酸化物の又はこれを含む透明誘電体層４は、厚さが約２０〜９０ｎｍであって、さらに好ましくは約３０〜８０ｎｍ、より好ましくは約４０〜６５ｎｍであってもよく、一例の厚さは、約５２ｎｍである。同様に、本発明の特定の実施形態において、ニオブ酸化物の又はこれを含む透明誘電体層６は、厚さが約２０〜９０ｎｍ、さらに好ましくは約３０〜８０ｎｍ、より好ましくは約４０〜７０ｎｍであってもよく、一例の厚さは、約５４ｎｍである。本明細書の所望する反射率及び透過率値を実現するために、ニオブ酸化物系層２は、好ましくはニオブ酸化物系層４，６の各々より実質的に厚い。例えば、特定の実施形態において、ニオブ酸化物系層２は、厚さがニオブ酸化物系層（４及び／又は６）の１つ又は両方より少なくとも約１０ｎｍ厚い（さらに好ましくは少なくとも約２５ｎｍ厚く、最も好ましくは少なくとも約４０ｎｍ厚い）。
【００１８】
本発明の特定の実施形態において、シリコン酸化物の又はこれを含む透明誘電体層３は、厚さが約３０〜１４０ｎｍ、さらに好ましくは約４０〜１２０ｎｍ、より好ましくは約６０〜１２０ｎｍ、より好ましくは約７５〜１００ｎｍであってもよく、一例の厚さは、約８８ｎｍである。同様に、本発明の特定の実施形態において、シリコン酸化物の又はこれを含む透明誘電体層５は、厚さが約３０〜１４０ｎｍ、さらに好ましくは約４０〜１２０ｎｍ、より好ましくは約６０〜１２０ｎｍ、より好ましくは約７５〜１００ｎｍであってもよく、一例の厚さは、約８８ｎｍである。したがって、シリコン酸化物系層３，５の厚さは、特定の実施形態において実質的に同一であってもよい（すなわち、特定の実施形態でシリコン酸化物系層３，５の厚さは、約２０ｎｍ以下、さらに好ましくは約１０ｎｍ以下異なる）。特定の実施形態において、シリコン酸化物系層（３及び／又は５）の１つ又は両方は、ニオブ酸化物系層２より少なくとも約１０ｎｍ（さらに好ましくは少なくとも約１５ｎｍ）薄く、ニオブ酸化物系層（４及び／又は６）より少なくとも約１０ｎｍ（さらに好ましくは少なくとも約２０ｎｍ）厚い。
【００１９】
特定の実施形態において、透明誘電体バリア層７（スパッタ蒸着してもよい）は、厚さが約５〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは約１０〜４０ｎｍ、より好ましくは約１０〜３０ｎｍであってもよく、一例の厚さは、約２０ｎｍである。特定の実施形態において、バリア層７は、屈折率が約１．９５から２．１０、さらに好ましくは約２．０から２．０５であってもよい。
【００２０】
［実施例１］
本発明の一例の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
ニオブ酸化物層２：厚さ１０５ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ８８ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ５３ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ８８ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ５３ｎｍ
このような例のミラーの光学特性は、図２〜図３に示されている。透明なガラス基板を使用した。図２は、このような例の誘電体ミラーの光学特性を示す、モデリングされた波長（ｎｍ）に対する、可視光線透過率（Ｔｓ）、フィルム側反射率（ＢＲｓ）、ガラス側反射率（Ｒａ）のグラフである。図３は、このような例の誘電体ミラーの反射色の角度分布を示す、モデリングされた角度（°）対ガラス側反射ａ＊及びｂ＊の色値のグラフである。次の可視光線の値（Ｌ＊、可視光線透過率値（ＴＹ又はＴａＹ）、可視光線反射率値（フィルム側ＲｆＹ又はＢＲａ、ガラス側ＲｇＹ又はＲａ）、及び可視光線透過率／反射色値ａ＊及びｂ＊）が測定された。
【００２１】
【表１】
2016530580.tif 000002
【００２２】
したがって、誘電体ミラーは、可視光線透過率が３０％、可視ガラス側反射率が７０％、可視フィルム側反射率が６８％（ガラス側及びフィルム側反射率が実質的に同じ）であることを上の表１から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。図３において、反射したａ＊及びｂ＊の色値の角度分布は、約０〜３０°で大きい変動がないことが分かる。
【００２３】
図２に示したように、ミラーの利点は、３８５ｎｍで紫外線（ＵＶ）透過率が少なくとも約７０％、さらに好ましくは少なくとも約７５％、最も好ましくは少なくとも約８０％又は８５％であるが（図２の３８５ｎｍにおけるＴｓ曲線に注意）、可視光線透過率は、図２に示したように約４０％未満、さらに好ましくは約３５％未満であることである。低い可視光線透過率及び高い反射率値と共に結合されたこのような高いＵＶ透過率により、ミラーが高いＵＶが要求される特定の適用に特に適合する。
【００２４】
［実施例２］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成される。
透明なガラス基板１
ニオブ酸化物層２：厚さ１０８ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ８８ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ５５ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ９０ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ５３ｎｍ
本実施例２のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００２５】
【表２】
2016530580.tif 000003
【００２６】
したがって、本実施例の誘電体ミラーは、可視光線透過率が２９％、可視ガラス側反射率が７０％、可視フィルム側反射率が７１％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率が実質的に同じ）であることを上の表２から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。
【００２７】
［実施例３］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
シリコン窒化物層７：厚さ２０ｎｍ
ニオブ酸化物層２：厚さ９８ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ８８ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ５５ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ９０ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ５３ｎｍ
本実施例３のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００２８】
【表３】
2016530580.tif 000004
【００２９】
したがって、本実施例の誘電体ミラー（例えば、図４参照）は、可視光線透過率が２９％であり、可視ガラス側反射率が６９％であり、可視フィルム側反射率が７１％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率が実質的に同じ）であることを上の表３から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。
【００３０】
［実施例４］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
ニオブ酸化物層２：厚さ１２４ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ４５ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ７２ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ６８ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ７１ｎｍ
実施例４のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００３１】
【表４】
2016530580.tif 000005
【００３２】
したがって、本実施例の誘電体ミラーは、可視光線透過率が３９％、可視ガラス側反射率が５８％、可視フィルム側反射率が６０％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率が実質的に同じ）であることを上の表４から知ることができる。ミラーは、実質的に中性（−３．０ないし＋３．０）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。
【００３３】
［実施例５］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
シリコン窒化物層７：厚さ２１．４ｎｍ
ニオブ酸化物層２：厚さ１０６．６ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ４３．３ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ５９．４ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ８０．１ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ６７．３ｎｍ
実施例５のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００３４】
【表５】
2016530580.tif 000006
【００３５】
したがって、本実施例の誘電体ミラーは、可視光線透過率３９％、可視ガラス側反射率５８％、及び可視フィルム側反射率６０％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率が実質的に同じ）であることを上の表５から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。
【００３６】
［実施例６］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
ニオブ酸化物層２：厚さ１９．５ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ２７ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ５９．１ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ９１．８ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ５７．６ｎｍ
実施例６のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００３７】
【表６】
2016530580.tif 000007
【００３８】
したがって、本実施例の誘電体ミラーは、可視光線透過率４８％、可視ガラス側反射率５０％、可視フィルム側反射率５１％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率が実質的に同じ）であることを上の表６から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。
【００３９】
［実施例７］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
シリコン窒化物層７：厚さ２０ｎｍ
ニオブ酸化物層２：厚さ８．４ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ２０ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ５５．６ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ８９．４ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ５６．３ｎｍ
実施例７のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００４０】
【表７】
2016530580.tif 000008
【００４１】
したがって、本実施例の誘電体ミラーは、可視光線透過率が４８％、可視ガラス側反射率が５０％、及び可視フィルム側反射率が５１％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率が実質的に同じ）であることを上の表７から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。
【００４２】
［実施例８］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
ニオブ酸化物層２：厚さ９ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ２０ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ８５ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ１０３ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ３０ｎｍ
実施例８のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００４３】
【表８】
2016530580.tif 000009
【００４４】
したがって、本実施例の誘電体ミラーは、可視光線透過率５８％、可視ガラス側反射率４０％、可視フィルム側反射率４１％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率が実質的に同じ）であることを上の表８から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。
【００４５】
［実施例９］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
シリコン窒化物層７：厚さ２０ｎｍ
ニオブ酸化物層２：厚さ８．４ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ２８．８ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ６０．３ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ４９ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ８０．１ｎｍ
実施例９のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００４６】
【表９】
2016530580.tif 000010
【００４７】
したがって、本実施例の誘電体ミラーは、可視光線透過率５９％、可視ガラス側反射率３８％、可視フィルム側反射率４０％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率が実質的に同じ）であることを上の表９から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。
【００４８】
上述した本発明に係る実施例１〜９は、透明なガラス基板１が用いられて、ガラス側可視光線反射率が実質的にフィルム側可視光線反射率と同じミラーを得た。しかし、本発明のまた他の実施形態において、対称のガラス及びフィルム側可視光線反射率が必ずしも好ましいわけではない。特定の例において、ミラーに対して非対称のガラス側及びフィルム側可視光線反射率を有することが好ましい場合がある。本発明の例示的な実施形態において、これらに対する複数のアクセス方法が提供された。第１アクセス方法（例えば、実施例１０参照）は、図１〜図４の実施形態のいずれか１つで透明なガラス基板の代りに灰色のガラス基板１を用いることであり、これにより、非対称の、ガラス側に対するフィルム側可視光線反射率が得られることが分かった。第２アクセス方法は、ガラス側とフィルム側との間の可視光線反射率の対称を調節するように設計された位置でスタック内に（例えば、ＮｉＣｒ、ＮｉＣｒＯｘなどの又はこれを含む）対称調節層を提供することである。２つのアクセス方法によって、ミラーは、ミラーのフィルム側可視光線反射率と少なくとも約３０％異なる他のガラス側可視光線反射率を得ることができ、さらに好ましくは少なくとも約４０％異なる。実施例１０は、ガラス基板を調節して非対称を提供する第１アクセス方法の一例である。
【００４９】
［実施例１０］
本発明の一例のまた他の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
灰色のガラス基板１
ニオブ酸化物層２：厚さ１０５ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ１１０ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ４０ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ１１０ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ４５ｎｍ
【００５０】
実施例１０のミラーの光学特性は、可視光線透過率（Ｔｓ又はＴＹ）、可視光線反射率（フィルム側ＲｆＹ及びガラス側ＲｇＹの可視光線反射率）、及び０度の視野角で色値ａ＊、ｂ＊に対して次のようになる。
【００５１】
【表１０】
2016530580.tif 000011
【００５２】
したがって、本実施例の誘電体ミラーは、可視光線透過率１４％、可視ガラス側反射率６９％、可視フィルム側反射率１８％（ガラス側及びフィルム側可視光線反射率は、非対称で実質的に異なる）であることを上の表１０から知ることができる。ミラーは、中性（−２から＋２）のガラス側及びフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有することが分かる。これらは、Ｉｌｌ．Ｃ，２°により測定された。驚くべきことに、実施例１０の灰色のガラス基板を提供することは、非対称可視光線反射率値を提供し、特定の例において有利になり得る。したがって、本発明の特定の実施形態において、ミラーに対してガラス側可視光線反射率はフィルム側可視光線反射率より少なくとも約３０％異なり、さらに好ましくは少なくとも約４０％異なる。
【００５３】
実施例１１及び１２は、ガラス側とフィルム側との間の可視光線反射率の対称を調節するように設計された位置でミラースタック内に（例えば、ＮｉＣｒ、ＮｉＣｒＯｘなどの又はこれを含む）対称調節層が提供されて、非対称になる第２アクセス方法の一例である。実施例１１のミラーは、図５ａに示され、実施例１２のミラーは、一般的に図５ｂに示されている。図５ａ及び図５ｂの実施形態は、追加の対称調節層８がスタック内に提供されることを除いて、上述された図１〜図４の実施形態と同一である。勿論、必要に応じて任意にシリコン窒化物含有層７が図５ａ〜図５ｂの実施形態に提供されてもよい。
【００５４】
［実施例１１］
本発明の一例の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
ニオブ酸化物層２：厚さ１３０ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ４１ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ６７ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ９３ｎｍ
ＮｉＣｒ対称調節層８：厚さ２０ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ３５．５ｎｍ
【００５５】
［実施例１２］
本発明の一例の例の誘電体ミラー１００は、次のように構成された。
透明なガラス基板１
ニオブ酸化物層２：厚さ１０２ｎｍ
シリコン酸化物層３：厚さ９５ｎｍ
ニオブ酸化物層４：厚さ５２ｎｍ
ＮｉＣｒ対称調節層８：厚さ１０ｎｍ
シリコン酸化物層５：厚さ４９ｎｍ
ニオブ酸化物層６：厚さ６５ｎｍ
【００５６】
ＮｉＣｒ含む対称調節層８を提供することにより、実施例１０で前記立証されたのと類似の、フィルム側とガラス側との間の非対称可視光線反射率が得られる。しかし、図５ａ及び図５ｂに示された位置の間で（わずかに又は著しく酸化され得る）ＮｉＣｒ対称調節層８の位置の変更によって非対称を逆にすることが分かる。すなわち、高いガラス側可視光線反射率及び低いフィルム側可視光線反射率は、層８の位置のうちの１つを用いて達成されることができ、低いガラス側可視光線反射率及び高いフィルム側可視光線反射率は、その他の層８の位置を用いて達成してもよい。実施例１１、１２の両方において、ミラーは、可視光線透過率が約１８〜２０％である。しかし、２つの実施例のうちの１つの実施例において、ガラス側可視光線反射率は６６％であって、フィルム側可視光線反射率は１０％であり、又２つの実施例のうちの他の１つの実施例において、ガラス側可視光線反射率は３０％であって、フィルム側可視光線反射率は７３％であった。したがって、ＮｉＣｒ系層８は、反射を起こす層ではないが（代わりに、ＮｉＣｒ系層８は、ＮｉＣｒ系層８が位置する側のうちの１つからの反射を低減する）、ガラス側とフィルム側との間で可視光線反射率が非対称になり、特定の例においては好ましい場合がある。本発明の特定の実施形態において、（酸化されたり酸化されないことがあるＮｉＣｒの又はこれを含む）対称調節層８は、厚さが３から５０ｎｍ、さらに好ましくは約５から４５ｎｍ、より好ましくは約５から３０ｎｍ、最も好ましくは約１０から２０ｎｍである。
【００５７】
可視光線透過率、ａ＊及びｂ＊値、ガラス側可視光線反射率、及びフィルム側可視光線反射率などの光学特性は、本明細書では、ミラーに適用されたり、ミラーを受容することができる任意の選択的な塗料層又は物理的支持体を考慮せずに測定されていることに留意する。
【００５８】
層、層システム、コーティングなどは、基板、層、層システム、コーティングなどの「上に」あるか、又はこれ「によって支持される」ものと記載されているが、その他の層がその間に提供されてもよい。したがって、例えば上述したコーティング又は層は、その他の層が間に提供される場合にも、基板及び／又はその他のコーティング又は層の「上に」及びこれ「によって支持される」ものと考えてもよい。
【００５９】
本発明の特定の実施形態において、コーティングを支持するガラス基板１を含む誘電体ミラーが提供され、前記コーティングは、前記ガラス基板から順に、厚さが約７０〜１４０ｎｍで、ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層２と；厚さが約３０〜１４０ｎｍで、シリコン酸化物を含む第２透明誘電体低屈折率層３と；ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層４と；シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層５と；ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層６と；を含み、前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、（ａ）前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層、及び／又は（ｂ）前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層のうちの１つ又は両方より少なくとも１０ｎｍ厚く；前記コーティングは、Ａｌ又はＡｇに基づく任意の金属性反射層を含まず；前記誘電体ミラーは、（ｉ）フィルム側可視光線反射率又はガラス側可視光線反射率が約５０〜９０％であり、（ｉｉ）可視光線透過率が約１０〜４０％であり、前記ミラーのガラス側可視光線反射率は、前記ミラーのフィルム側可視光線反射率より少なくとも約３０％高いか、又は少なくとも約３０％低い。
【００６０】
直前の段落のミラーにおいて、前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、前記第３透明誘電体高屈折率層及び前記第５透明誘電体高屈折率層の両方より少なくとも１０ｎｍ厚くてもよい。
【００６１】
前記２つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、前記第３透明誘電体高屈折率層及び／又は前記第５透明誘電体高屈折率層の１つ又は両方より少なくとも２５ｎｍ厚くてもよい。
【００６２】
前記３つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ニオブ酸化物及び／又はチタン酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、前記第３透明誘電体高屈折率層及び前記第５透明誘電体高屈折率層の両方より少なくとも２５ｎｍ厚くてもよい。
【００６３】
前記４つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第３透明誘電体高屈折率層と前記第５透明誘電体高屈折率層との間に位置する対称調節層８をさらに含んでもよい。前記対称調節層は、ＮｉＣｒなどを含み、少なくとも部分的に酸化されてもよい。前記対称調節層８は、前記第３透明誘電体高屈折率層とシリコン酸化物を含む前記第４透明誘電体低屈折率層との間に位置し、これらと接触しているか、又は前記第５透明誘電体高屈折率層と前記シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層との間に位置し、これらと接触していてもよい。また、前記４つの段落のうちのいずれか１つのミラーのガラス基板は、灰色のガラス基板であってもよい。
【００６４】
前記５つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第１透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含むか、又は本質的にニオブ酸化物から成っていてもよい。
【００６５】
前記６つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第３透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含むか、又は本質的にニオブ酸化物から成っていてもよい、
【００６６】
前記７つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第５透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含むか、又は本質的にニオブ酸化物から成っていてもよい。
【００６７】
前記８つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第３透明誘電体高屈折率層は、厚さが約３０〜８０ｎｍであってもよい。
【００６８】
前記９つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層は、厚さが約４０〜１２０ｎｍであってもよい。
【００６９】
前記１０個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第５透明誘電体高屈折率層は、厚さが約３０〜８０ｎｍであってもよい。
【００７０】
前記１１個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第１透明誘電体高屈折率層は、前記ガラス基板に直接接触したり、また、シリコン窒化物を含む層７が前記ガラス基板１と前記第１透明誘電体高屈折率層２との間に位置して、これらと接触していてもよい。
【００７１】
前記１２個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記シリコン酸化物を含む第２透明誘電体低屈折率層は、前記第１透明誘電体高屈折率層と前記第３透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと直接接触していてもよい。
【００７２】
前記１３個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、全ての層は、スパッタ蒸着された層であってもよい。
【００７３】
前記１４個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層は、アルミニウムでドープしてもよい。
【００７４】
前記１５個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、第１、第３、及び第５透明誘電体高屈折率層各々は、屈折率が約２．１５から２．５であってもよい。
【００７５】
前記１６個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層各々は、屈折率が約１．４から１．７であってもよい。
【００７６】
前記１７個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層は、各々、（ｉ）前記第１透明誘電体高屈折率層より薄く、（ｉｉ）前記第３及び第５透明誘電体高屈折率層のうち少なくとも１つより厚くてもよい。
【００７７】
前記１８個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ミラーは、熱強化されてもよい。
【００７８】
前記１９個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ミラーは、中性のガラス側反射色値ａ＊及びｂ＊を有し、前記ガラス側反射ａ＊及びｂ＊値の各々が約−２から＋２であってもよい。
【００７９】
前記２０個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ミラーは、中性のフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有し、前記フィルム側反射ａ＊及びｂ＊値の各々が約−２から＋２であってもよい。
【００８０】
本発明の特定の実施形態において、コーティングを支持する基板を含む誘電体ミラーが提供され、前記コーティングは、前記基板から順に、屈折率（ｎ）が約２．１５から２．５である第１誘電体層２と；シリコン酸化物を含む第２誘電体層３と；屈折率が約２．１５から２．５である第３誘電体層４と；シリコン酸化物を含む第４誘電体層５と；屈折率が約２．１５から２．５である第５誘電体層６と；を含み、前記第１誘電体層は、前記第３誘電体層及び／又は前記第５誘電体層の１つ又は両方より少なくとも２０ｎｍ薄く；前記コーティングは、任意の金属性反射層を含まない。
【００８１】
直前の段落のミラーは、可視フィルム側反射率及び／又は可視ガラス側反射率が約４０〜９０％であり、可視光線透過率が約２０〜６０％であってもよい。
【００８２】
前記２つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第１、第３、及び第５誘電体層の少なくとも１つは、ニオブ酸化物を含んでもよい。
【００８３】
前記３つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第１、第３、及び第５誘電体層の少なくとも１つは、チタン酸化物を含んでもよい。
【００８４】
前記４つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記第１誘電体層は、前記第３及び第５誘電体層の両方より少なくとも２０ｎｍ薄くてもよい。
【００８５】
前記５つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記シリコン酸化物を含む第２誘電体層は、（ｉ）前記第１誘電体層より厚く、及び／又は（ｉｉ）前記第３及び第５誘電体層の各々より薄くてもよい。
【００８６】
前記６つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、ミラーのガラス側及びフィルム側可視光線反射率は、実質的に同じであってもよい。
【００８７】
前記７つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ミラーは、中性のガラス側及び／又はフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有し、前記ガラス側及び／又はフィルム側反射ａ＊及びｂ＊値の各々は、約−２から＋２である。
【００８８】
前記８つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ミラーは、前記基板と前記第１誘電体層との間に位置するシリコン窒化物を含む層をさらに含んでもよい。
【００８９】
前記９つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、第１誘電体層は、第３誘電体層及び第５誘電体層の両方より少なくとも４０ｎｍ薄くてもよい。
【００９０】
本発明の特定の実施形態において、コーティングを支持するガラス基板を含む誘電体ミラーが提供され、前記コーティングは、前記ガラス基板から順に、厚さが約７０〜１４０ｎｍで、ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層と；厚さが約３０〜１４０ｎｍで、シリコン酸化物を含む第２透明誘電体低屈折率層と；ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層と；シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層と；ニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層と；を含み、前記ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、前記ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層、及び／又は前記ニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層のうちの１つ又は両方より少なくとも１０ｎｍ厚く；前記コーティングは、任意の金属性反射層を含まず；前記誘電体ミラーは、可視フィルム側反射率及び／又は可視ガラス側反射率が約５０〜９０％であり、可視光線透過率が約１０〜４０％である。
【００９１】
直前の段落のミラーにおいて、前記ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層及びニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層の両方より少なくとも１０ｎｍ厚くてもよい。
【００９２】
前記２つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層及び／又はニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層の１つ又は両方より少なくとも２５ｎｍ厚くてもよい。
【００９３】
前記３つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層及びニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層の両方より少なくとも２５ｎｍ厚くてもよい。
【００９４】
前記４つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、第１、第３及び第５層のうちの１つ、２つ、又は３つの全ては、本質的にニオブ酸化物から成っていてもよい。
【００９５】
前記５つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、誘電体ミラーは、可視フィルム側反射率が約６０〜８０％で、可視ガラス側反射率が約６０〜８０％であってもよい。
【００９６】
前記６つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、誘電体ミラーは、可視光線透過率が約２５〜３５％であってもよい。
【００９７】
前記７つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層は、厚さが約３０〜８０ｎｍであってもよい。
【００９８】
前記８つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層は、厚さが約４０〜１２０ｎｍであってもよい。
【００９９】
前記９つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、ニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層は、厚さが約３０〜８０ｎｍであってもよい。
【０１００】
前記１０個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、コーティングは、本質的に第１、第２、第３、第４及び第５層から成っていてもよい。
【０１０１】
前記１１個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層は、ガラス基板に直接接触してもよい。
【０１０２】
前記１２個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、シリコン酸化物を含む第２透明誘電体低屈折率層は、ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層とニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと直接接触していてもよい。
【０１０３】
前記１３個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、シリコン酸化物を含む第４透明誘電体低屈折率層は、ニオブ酸化物を含む第３透明誘電体高屈折率層とニオブ酸化物を含む第５透明誘電体高屈折率層との間に位置し、これらと直接接触していてもよい。
【０１０４】
前記１４個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、第１、第２、第３、第４、及び第５層は、スパッタ蒸着された層であってもよい。
【０１０５】
前記１５個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層は、アルミニウム及び／又は窒素でドープしてもよい。
【０１０６】
前記１６個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、ニオブ酸化物を含む第１、第３、及び第５透明誘電体高屈折率層は、屈折率が約２．１５から２．５であって、さらに好ましくは約２．２から２．４であってもよい。
【０１０７】
前記１７個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層は、屈折率が約１．４から１．７であって、さらに好ましくは約１．４から１．６であってもよい。
【０１０８】
前記１８個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記シリコン酸化物を含む第２及び第４透明誘電体低屈折率層は、各々、（ｉ）前記ニオブ酸化物を含む第１透明誘電体高屈折率層より薄く、（ｉｉ）前記ニオブ酸化物を含む第３及び第５透明誘電体高屈折率層の両方より厚くてもよい。
【０１０９】
前記１９個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、ミラーは、３８５ｎｍで紫外線（ＵＶ）透過率が少なくとも約７５％、さらに好ましくは少なくとも約８０％であってもよい。
【０１１０】
前記２０個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、前記ミラーは、熱処理（例えば、焼き戻し処理）されていてもよい。
【０１１１】
前記２１個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、第５層は、コーティングの最も外側の層であってもよい。
【０１１２】
前記２２個の段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、ミラーは、中性のガラス側及び／又はフィルム側反射の色値ａ＊及びｂ＊を有し、ガラス側及び／又はフィルム側反射ａ＊及びｂ＊値の各々は、約−２から＋２である。
【０１１３】
前記２３個の段落のうちいずれか１つのミラーは、少なくとも第３誘電体層と第５誘電体層との間に位置するＮｉＣｒを含む層をさらに含んでもよい。ＮｉＣｒを含む層は、少なくとも一部の酸素を含んでも含まなくてもよく、第３及び第４誘電体層の間に位置し、これらと接触しているか、又は第４及び第５誘電体層の間に位置し、これらと接触していてもよい。
【０１１４】
本発明の特定の実施形態において、コーティングを支持する基板を含むミラーが提供され、前記コーティングは、前記基板から順に、厚さが約７０〜１４０ｎｍで屈折率（ｎ）が約２．１５から２．５である第１誘電体層と；シリコン酸化物を含む第２誘電体層と；屈折率が約２．１５から２．５である第３誘電体層と；シリコン酸化物を含む第４誘電体層と；屈折率が約２．１５から２．５である第５誘電体層と；を含み、前記第１誘電体層は、前記第３誘電体層及び／又は前記第５誘電体層の１つ又は両方より少なくとも１０ｎｍ厚く；前記コーティングは、任意の金属性反射層を含まずに、ミラーは、可視フィルム側反射率及び／又は可視ガラス側反射率が約５０〜９０％であり、可視光線透過率が約２０〜４０％であってもよい。
【０１１５】
直前の段落のミラーにおいて、（ｉ）前記第１、第３、及び第５誘電体層の少なくとも１つは、ニオブ酸化物を含むか、本質的にニオブ酸化物から成っていてもよく、及び／又は（ｉｉ）第１、第３、及び第５誘電体層の少なくとも１つは、チタン酸化物を含むか、本質的にチタン酸化物から成っていてもよい。
【０１１６】
前記２つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、第１誘電体層は、第３及び第５誘電体層の両方より少なくとも１０ｎｍ厚くてもよい。
【０１１７】
前記３つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、コーティングは、本質的に第１、第２、第３、第４及び第５層から成っていてもよい。
【０１１８】
前記４つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、シリコン酸化物を含む第２及び第４誘電体層は、各々、（ｉ）第１誘電体層より薄く、（ｉｉ）第３及び第５誘電体層の両方より厚くてもよい。
【０１１９】
前記５つの段落のうちいずれか１つのミラーにおいて、ミラーは、３８５ｎｍで紫外線（ＵＶ）透過率が少なくとも約７５％、さらに好ましくは少なくとも約８０％又は８５％であってもよい。
【０１２０】
本発明は、現在最も実用的で好ましい実施形態と考えられるものに関して説明したが、本発明は、開示された実施形態に制限されるものではないことを理解すべきであり、請求の範囲の思想及び範囲内で含まれる様々な変更及び同等の配列を含むことが意図される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【国際調査報告】
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