(57)【要約】  本発明は、特に加熱エレメントを覆い又は保持するために使用されるガラスセラミック物品であって、少なくとも１つの発光パターンを含む少なくとも１つの発光領域、特に表示領域を備えており、少なくとも１つのガラスセラミック基材と、少なくとも１つの光源と、少なくとも１つのエナメル被膜とを含んでいて、このエナメル被膜が前記領域の少なくとも一部を被覆し、そしてこのエナメル被膜の範囲内に、前記パターンの形状をなす部分が被覆されないまま残されており、前記エナメルの組成物が少なくとも１種のガラスフリットと少なくとも１種の色素とを含んでいて、該ガラスフリットが次の成分、すなわち、４０〜５５％のＳｉＯ2、０〜１０％のＡｌ2Ｏ3、２５〜５５％のＢ2Ｏ3、０〜５％のＮａ2Ｏ、０〜５％のＫ2Ｏ、及び０〜１０％のＬｉ2Ｏ、を含み、更に前記色素の含有率がフリット／色素混合物の４０〜６５ｗｔ％であり、当該物品は更にエナメル被膜の反対側に散乱領域を含む、ガラスセラミック物品に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱エレメントを覆い又は受容することを特に目的としたガラスセラミック物品、特にガラスセラミックプレートであり、少なくとも１つの発光パターンを含む、特に表示のための、少なくとも１つの発光ゾーンを備えたガラスセラミック物品であって、少なくとも１つのガラスセラミック基材と、少なくとも１つの光源と、少なくとも１つのエナメル被膜とを含んでいて、該エナメル被膜が前記ゾーンのうちの少なくとも一部を被覆しており、そして該エナメル被膜の範囲内に前記パターンの形状で非被覆領域が形成されており、該エナメルの組成物が少なくとも１種のガラスフリットと少なくとも１種の色素とを含んでいて、該ガラスフリットが下記成分、すなわち、
ＳｉＯ2       ４０〜５５％
Ａｌ2Ｏ3      ０〜１０％
Ｂ2Ｏ3        ２５〜５５％
Ｎａ2Ｏ       ０〜５％
Ｋ2Ｏ         ０〜５％
Ｌｉ2Ｏ       ０〜１０％
を含み、更に色素の比率がフリット／色素混合物の４０〜６５重量％であり、該物品は更に該エナメル被膜と向かい合う拡散ゾーンを含んでいる、ガラスセラミック物品。
【請求項２】
前記ガラスフリットが、
ＳｉＯ2       ４５〜５０％
Ａｌ2Ｏ3      ３〜６％
Ｂ2Ｏ3        ２７〜４５％
Ｎａ2Ｏ       ２〜３％
Ｋ2Ｏ         １〜２％
Ｌｉ2Ｏ       ３〜５％
からなることを特徴とする、請求項１に記載のガラスセラミック物品。
【請求項３】
前記エナメル被膜が前記基材の１つの面上に、特に前記ガラスセラミックの上面に被着されており、前記拡散ゾーンが前記基材の反対側の面上にあって、特に該エナメル被膜とほぼ同じ形状及び／又は大きさであることを特徴とする、請求項１又は２に記載のガラスセラミック物品。
【請求項４】
前記光源が前記ガラスセラミック上の適切な操作ゾーンの位置に指を置くことにより容量式のメカニズムによって作動され、この操作ゾーンは該ガラスセラミックの表面に、特に前記発光ゾーンに対応して、表示されていることを特徴とする、請求項１から３までの１項に記載のガラスセラミック物品。
【請求項５】
前記発光ゾーンが、特に触れるによる当該ゾーンの位置の特定を可能にするように、１以上の凸部及び／又は凹部でできた起伏部内に位置しており、該起伏部が例えば１以上の幾何学的パターンの形態をなしていることを特徴とする、請求項１から４までの１項に記載のガラスセラミック物品。
【請求項６】
視感透過率が０．８％〜４０％、好ましくは０．８％〜５％、特に０．８〜２％の範囲であり、波長６２５ｎｍについての光透過率が少なくとも３．５％である基材を含むことを特徴とする、請求項１から５までの１項に記載のガラスセラミック物品。
【請求項７】
当該物品又は前記基材がクッキングプレートであることを特徴とする、請求項１から６までの１項に記載のガラスセラミック物品。
【請求項８】
当該ガラスセラミック物品が、例えば制御パネル上に位置していて少なくとも１つの加熱ゾーンがオンであるかオフであるかを示すのを目的とする少なくとも１つの発光ゾーンを含んでおり、前記エナメル被膜が例えば円板の形態をなしていて、その中心に、制御ボタンであることを示すパターンに従って非被覆領域が形成されており、このボタンの操作は、例えば当該ボタンの上に指を置くことにより容量式のメカニズムに従ってなされ、前記拡散ゾーンは前記光源の上に位置しており、そして例えば、スクリーン印刷された被膜の形状に例えば相当する円形状であることを特徴とする、請求項１から７までの１項に記載のガラスセラミック物品。
【請求項９】
１以上の加熱エレメント、例えば１以上の輻射エレメントもしくはハロゲンエレメント及び／又は１以上の大気ガスバーナー及び／又は１以上の誘導加熱手段、を有する、請求項１から８までの１項に記載の物品又は請求項１から８までの１項に記載の物品を有する調理用及び／又は高温維持用の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスセラミックの分野に関する。より正確に言えば、本発明は、特に加熱エレメントを覆い又は受容するのを目的としたガラスセラミック物品（又は製品又は基材）、特にガラスセラミックプレートであって、当該物品の選択された少なくとも１つのゾーンに発光表示部（又は少なくとも１つの発光ゾーン）を備えているガラスセラミック物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラスセラミッククッキングプレート（又はクッキングホブ）のような物品の売り上げは、ここ数年にわたって絶えず増大している。この成功は、特にこれらのプレートの魅力的な外見、及びそれらのクリーニングしやすさによって説明される。
【０００３】
念のために述べておくならば、ガラスセラミックは、前駆ガラス（又はマザーガラス又はグリーンガラス）と呼ばれるガラスをベースとしており、その特有の化学組成が、セラミック化と呼ばれる適切な熱処理による制御された結晶化を誘起するのを可能にする。部分的に結晶化されたこの特有の構造が、ガラスセラミックに独自の特性を与える。
【０００４】
現在、種々のタイプのガラスセラミックプレートが存在しており、おのおのは、所望の特性に好ましくない影響を及ぼすおそれなしにこれらのプレート及び／又はそれらを得る方法に変更を加えることは極めて難しいことに鑑み、多大な研究及び数多くの試験を行った結果として得られたものである。すなわち、クッキングプレートとして使用するためには、ガラスセラミックプレートは一般に、下にある加熱エレメントのうちの少なくとも一部をオフ時に隠すのに充分に低いのみならず、状況（輻射加熱、誘導加熱など）に応じて、使用者がオン状態にある加熱エレメントを安全面から目で検知できるように充分に高い、可視波長範囲の透過率を示さなければならず、それはまた、特に輻射熱源を備えたプレートの場合に、赤外波長範囲内の高い透過率を示さなければならない。
【０００５】
ほとんどの現在のプレートは暗色、特に黒色であり、例えば溶融前のマザーガラスの出発材料に添加された酸化バナジウムを使用することにより着色されている。セラミック化後、この酸化物はバナジウムの還元を伴って強い橙褐色の色合いをもたらす。他の着色剤、例えばコバルト及びマンガンの酸化物など、が使用されることもある。６００ｎｍ未満の透過率が低いことによって、これらのプレートはとりわけ、加熱エレメントが高温に加熱されているときの赤色のエレメントを、あるいは赤色の単色発光ダイオードをベースにした発光表示部を見るのを可能にする。より透明性の高いガラスセラミックプレート（例えばＥｕｒｏｋｅｒａ社によって販売されているガラスセラミックのＫｅｒａＶｉｓｉｏｎ又はｋｅｒａＲｅｓｉｎ）、又は他の色の表示を可能にするその他のプレート（例えばＫｅｒａｓｐｅｃｔｒｕｍガラスセラミック）もある。
【０００６】
ガラスセラミックプレートと一緒に用いられる発光照明は、コントロール又は加熱ゾーンを示すこと、データを表示すること、装飾を見せること、などを可能にすることができる。使用する光源は一般にプレートの下方に設けられて、一般にはガラスセラミックの上面にスクリーン印刷によって被着されたパターン（例えば加熱ゾーンがオン状態であることを示すアイコン又は標識記号、又はオン／オフパターン）を照明できるようになっている。一般的に言えば、概ね小さなこれらのパターンが、充分な明瞭さ及びコントラストで見えることが望ましく、またこれらのパターンが作動状態（点灯）にあろうとあるいは非作動状態（オフ）にあろうと、位置を容易に確認できることが望ましい。
【０００７】
ガラスセラミック上面のクッキングプレートの装飾のために従来から使用されているものと同じタイプのエナメル、例えば７０重量％のガラスフリットと３０重量％の黒色色素とを含むエナメルであって、ガラスフリットが特に二酸化ケイ素ＳｉＯ2（例えばフリットの４２重量％で存在する）と、三酸化ホウ素Ｂ2Ｏ3（例えば２８重量％で存在する）と、酸化アルミニウムＡｌ2Ｏ3（例えば１８重量％で存在する）とを基礎材料とするエナメルでスクリーン印刷することによって、照明するように意図されたパターンを被着させることが知られている。しかしながら、ガラスセラミックの下面に配置された光源が点灯する（例えば赤色光を発する）と、スクリーン印刷されたエナメルによって画定された輪郭は、光がエナメルを通って拡散するので鮮鋭には見えず、ひいては表示されるパターンの鮮明度を低下させることがある。更に、ガラスセラミックの下面の斑点が、透明性のためにパターン内に見えることがあり、光源の光の光学的歪みを招くことがある。
【０００８】
これらの問題を克服する１つの方法は、具体的には、プレート上面のパターンに対向するプレート下面にスクリーン印刷を施すことにより黒色塗料を被着することにある。斑点に起因する光学的歪みの影響を制限するために、ガラスセラミックと同じ屈折率を有する樹脂に黒色塗料を混ぜ合わせることも可能である。しかしながら、ガラスセラミックの上面にスクリーン印刷されたエナメルベースのパターンをガラスセラミックの下面にスクリーン印刷された塗料ベースのパターンと位置合わせすることは、所望の結果を得るために必要ではあるものの、工業的に実施することが極めて難しい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、本発明が追求するものは、発光パターン（すなわち照明されるよう意図されたもの）が１以上の光源（特にガラスセラミックの下面に位置する）によって照明されたときにガラスセラミックの上面に現れる当該パターンの輪郭の鮮鋭さを、照明なしで観察されるものと同様に維持するのを可能にする、実施するのが簡単で且つ有効な解決手段であって、非作動状態においてパターンを明確に識別すること、そしてガラスセラミック下面に位置する斑点を目視できないようにするとともに、これらの斑点によって引き起こされる歪み効果を防止することも可能にする解決手段である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的は、加熱エレメントを覆い又は受容することを特に目的とした、本発明によるガラスセラミック物品（又は製品）、特にガラスセラミックプレート（本発明による物品は具体的にはクッキングプレート又はホブである）であリ、少なくとも１つの発光パターンを含む、少なくとも１つの発光（するように設計された）ゾーン（又は照明されるよう意図されたゾーン）、特に情報を表示するためのゾーン（例えば１以上の加熱ゾーンがオン状態であるかオフ状態であるかを標識記号又はアイコンによって、文字によって、又はこれに類似するものによって示すゾーン、あるいはオン／オフゾーン）を備た、物品であって、少なくとも１つのガラスセラミック基材と、少なくとも１つの光源（パターンを照明するように意図され配置されていて、この光源は特に基材の下面の下方に配置されている）、特に少なくとも１つの発光ダイオードと、少なくとも１つのエナメル被膜とを含み、該エナメル被膜が前記ゾーンのうちの少なくとも一部を被覆し（該エナメルは特に基材の上面に、特にスクリーン印刷によって被着されている）、そして該エナメル被膜の範囲内に前記パターンの形状で非被覆領域が形成されており、該エナメルの組成物が少なくとも１種のガラスフリット及び少なくとも１種の色素、そして任意選択的に少なくとも１種のビヒクル又はメジウムを含んでおり、該ガラスフリットが、重量百分率（フリットの総重量を基準として表す重量百分率又は質量百分率）として表される比率の下記組成、すなわち、
ＳｉＯ2       ４０〜５５％
Ａｌ2Ｏ3      ０〜１０％
Ｂ2Ｏ3        ２５〜５５％
Ｎａ2Ｏ       ０〜５％
Ｋ2Ｏ         ０〜５％
Ｌｉ2Ｏ       ０〜１０％
を有しており（又は、境界値を含めて上記範囲内の上記成分を含んでおり）、更に色素の割合がフリット／色素混合物の４０〜６５重量％（好ましくは４５〜６０重量％）であり、当該物品は更に前記エナメル被膜と向かい合う拡散ゾーンを含む、ガラスセラミック物品によって達成される。
【００１１】
従って本発明によれば、ガラスセラミック上に、例えばクッキングプレートなどの上に、情報又は制御条件を表示することを目的とした発光用パターンを画定するため、このようなプレートの被膜としては知られておらず、且つ更に従来から使用されているエナメルよりも高い色素の比率を有する、特別な組成を有するフリットによって作られたエナメルが、ガラスセラミックの所望のパターンを組み入れるように意図された表面（又はゾーン）、特に上面に、特にスクリーン印刷によって被着される。このパターンは、被着されたエナメル被膜の範囲内に相応の形状の非被覆領域を形成することによって得られ、そして基材の一方の面上のこの被膜は、エナメル被膜と向かい合う拡散ゾーン、特にエナメル被膜とそれを照明するのを目的とする光源との間に、特に基材の反対側の面に（具体的には下面に）に位置する拡散ゾーンと組み合わされる。この拡散ゾーンは、特に、エナメル被膜と同じ形状及び／又は大きさ（又はほぼ同じ形状及び／又は大きさ）であり、この場合、２つのゾーンを完全に位置合わせする必要はない。このようにして得られた組み合わせには、光源によって放たれてパターン内に集中した光が非被覆領域内にだけ拡散し、そして得られたパターンの輪郭が特に鮮鋭であり、これによりパターンの下方にある斑点又はエレメントを知覚できなくするという効果がある。
【００１２】
黒色ガラスセラミックの上面に塗布された上記のエナメルは、照明されていない状態では、クッキングプレートを被覆するための伝統的なエナメルのものと同程度の不透明性を有し、そしてこのエナメルがガラスセラミックの該当するゾーンを照明するために使用される光、特に赤色光にさらされた場合には、クッキングプレート用の伝統的なエナメルのものよりも大幅に高い不透明性を有する。ガラスセラミックの下面に黒色塗料をスクリーン印刷することは、この場合には不要である。
【００１３】
エナメルは、特にスクリーン印刷することによって、あるいは転写法又はエナメルジェットによって、容易に被着することができ、そして割れ又は膨れを生じさせることなしに（前記組成物は特に膨張率が小さい）、不透明な薄層（有利には焼成後１〜６μｍ、特に２〜５μｍ）を得ることを可能にする。ガラスフリットは、小さな厚さでの被着に適合し、そしてガラス基材上に被着したエナメルにひび又は割れを生じさせることなしに、所望の遮蔽効果に適合するエナメル中の色素の割合（好ましくは焼成後の厚さ２〜５μｍでスクリーン印刷するための）を可能にする。更に、エナメル組成物の粘度は、良好な塗布を可能にし、最終製品におけるエナメルの比較的明るく平滑な外見を保証し、得られた層は良好な機械的強度を有する。エナメルは、光分散のリスクなしに、セラミック化済みの基材上で、エナメルの熱処理に一般に用いられる７００〜８００℃程度の温度で、（後で）都合よく焼成してもよく、あるいは、セラミック化前に前駆ガラス（又はマザーガラス）上に被着させそしてセラミック化する間に都合よく焼成してもよい。
【００１４】
エナメルは、本発明により規定される組成を有するのが有利である。それは特に、ガラスフリット（又はガラス粒子、それらがガラスマトリクスを形成することになる）と色素（特に着色剤としての色素、これらの色素は任意選択的にフリットの一部を形成してもよい）とを含む粉末によって形成される（基材への塗布及び焼成の前に）。フリット及び色素は金属酸化物をベースとしており、そしてメジウム又は「ビヒクル」が基材へのエナメルの塗布と予備的な付着を可能にする。
【００１５】
エナメル組成物のガラスフリットは、ＳｉＯ2の比率が４５〜５０％、及び／又はＡｌ2Ｏ3の比率が２〜８％、有利には３〜６％、及び／又はＢ2Ｏ3の比率が２７〜５０％、有利には２７〜４５％であることが好ましく、この場合Ｂ2Ｏ3の比率は３０％よりも高く、特に３１％よりも高く、又は３２％よりも高く、あるいは更に有利には３３％よりも高く、特に３４％よりも高くてよい。
【００１６】
また、ガラスフリットは、２〜３％の範囲の比率のＮａ2Ｏ、及び／又は０．５〜３％、有利には１〜２％の範囲の比率のＫ2Ｏ、及び／又は２〜６％、有利には３〜５％の範囲の比率のＬｉ2Ｏを含むことも好ましい。
【００１７】
確実なハンドリング及び粘性などの点から見て良好な特性を得るために、エナメル組成物は次の構成成分、すなわちＺｒＯ2、ＢａＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ及びＳｒＯのうちの少なくとも１種を含まないことも好ましい。更に、エナメルがＴｉＯ2を含む場合には、フリット中のその比率は５重量％未満、有利には２重量％未満、更には１重量％未満である。
【００１８】
選択したエナメル組成物のガラスフリットは、
ＳｉＯ2        ４５〜５０％
Ａｌ2Ｏ3       ２〜８％、有利には３〜６％
Ｂ2Ｏ3         ２７〜５０％、有利には２７〜４５％
Ｎａ2Ｏ        ２〜３％
Ｋ2Ｏ          ０．５〜３％、有利には１〜２％
Ｌｉ2Ｏ        ２〜６％、有利には３〜５％
からなることが好ましい。
【００１９】
上記組成を有するガラスフリット（又はガラス粒子）に加えて、本発明により規定されるエナメルは他の成分を含んでもよい。本発明によるエナメルは、特に、既に上記した少なくともいくつかの色素を含み、エナメルの全フリット／色素中のフリットに一般的に添加される１種以上の色素の比率は概ね、全フリット／色素を基準として表して、４０重量％と６５重量％の間（境界値を含む）、好ましくは４５重量％と６０重量％の間である。色素は特に、金属酸化物、例えばクロム酸化物、銅酸化物、鉄酸化物、コバルト酸化物、ニッケル酸化物、亜鉛酸化物、マンガン酸化物、セリウム酸化物、チタン酸化物などを含有する化合物、又はアルミニウムをベースとする化合物などから選択することができ（特に所望の色合いに応じて）、及び／又はそれらはクロム酸銅、クロム酸コバルトなどから選択することもできる。
【００２０】
本発明により規定されるエナメルは、少なくとも１種の不透明な黒色色素、例えばクロム、鉄、コバルト及びニッケルの酸化物をベースとするもの、又はクロムと銅のＣｒ−Ｃｕスピネル（例えばスピネルＶ７７０９という呼称でＦｅｒｒｏ（ＴＭ）社によって市販されている黒色色素、又はＢＫ１Ｇという呼称でＳｈｅｐｅｒｄ  Ｃｏｌｏｒｓ社によって市販されている黒色色素など）を含むのが好ましい。エナメルは、ＭｎＯ2、Ｆｅ2Ｏ3及び／又はＣｏＯをベースとする色素、あるいは、ＮｉＯ（緑色）、Ｃｒ2Ｏ3（緑色）、ＴｉＯ2（白色）、Ｃｒ−Ａｌスピネル（ピンク色）、Ｓｎ−Ｓｂ−Ｖ（灰色）、Ｔｉ−Ｓｂ−Ｎｉ（黄色）、Ｚｒ−Ｖ（黄色）、Ｃｏ−Ｚｎ−Ａｌスピネル（青色）、Ｚｎ−Ｆｅ−Ｃｒスピネル（褐色）、ケイ酸塩、例えばＣａ−Ｃｒ−Ｓｉガーネット（緑色）、Ｃａ−Ｓｎ−Ｓｉ−Ｃｒ（ピンク色）、ジルコンＺｒ−Ｓｉ−Ｆｅ（ピンク色）、Ｃｏ−Ｚｎ−Ｓｉ（紺青色）、及び／又はＣｏ−Ｓｉ（紺青色）など、をベースとする色素等を有利に含むこともできる。
【００２１】
ガラスフリット及び色素は一般に、メジウム中に懸濁させる前には粉末の形態をなしている。粉末形態における全フリット／色素の粒度分布は一般に、粉末を構成する粒子の少なくとも９０重量％が直径２０μｍ未満、特に１０μｍ未満となるように選択される。ガラスフリットと色素は、粒度分布が１〜６μｍの範囲の粒子によって構成されていることが好ましい。色素の比率が４０〜６５％、好ましくは４５〜６０％、特に約５０％であるこのようなエナメルによって、厚さを過度に大きくする必要なしに、ひいては基材とエナメルとの膨張率の差を制限することなしに、充分な不透明性を得ることが可能になり、これは割れ（冷却時のエナメル層の膨れ）を回避するのに寄与する。
【００２２】
ガラスフリットは特に、適切な（天然又は合成の）出発材料の混合物を高温（１０００℃を超える）で溶融させることにより得ることができる。この場合、フリットは、特に粉末を得る目的で、一般にエタノールなどの溶媒（これは後で蒸発させる）中で、粉砕され（例えば約１０〜１３μｍまで）、及び／又は微粉砕され（もしくは摩砕され、例えば約３〜４μｍまで）、この粉末に任意選択的に色素が添加される。その結果として得られた（該当する場合には粉砕溶媒の蒸発後の）粉末混合物（ガラス粉末＋色素）を、その後メジウム中の懸濁液にすることによって、基材上に被着することができる組成物（ペースト）が得られる。
【００２３】
被着の準備のできた形態のエナメル組成物は一般に、基材上に塗布するための所望の粘度の調節を可能にし、また基材と結合するのを可能にするメジウムを含む。フリット及び色素の粒子の良好な懸濁を保証するために選択され、そして後でエナメルの焼成中に消滅することになるこのメジウムは、伝統的なエナメル組成物において通常使用される任意の有機のメジウム又はバインダーでよく、そして特に、溶媒、希釈剤、油、例えば松根油及びその他の植物油など、樹脂、例えばアクリル樹脂など、石油留分、皮膜形成材料、例えばセルロース材料など、を含むことができる。被着する準備のできた組成物中のメジウムの比率は好ましくは、前記組成物の４０重量％と６０重量％の間であり、好ましくは４５重量％と５５重量％の間である。
【００２４】
従って、例えばプレートなどの本発明によるガラスセラミック物品上への被着前のエナメル組成物は一般に、被着の方法（特にスクリーン印刷）に適した粘度を有する、ペースト様のコンシステンシーの安定した液体／固体混合物の形態をなしている。
【００２５】
非被覆領域（エナメル被膜の範囲内の、エナメルによって被覆されていない部分）は、例えば、被着後に除去されるマスクを用いてエナメル組成物の被着の間当該ゾーンをマスキングすること、又は例えば当該ゾーンでエナメルを被着するために用いられるスクリーン印刷用のスクリーンのます目をふさぐこと、又は被覆すべきゾーンをエナメルのジェットで正確に狙うことなどによって形成される。
【００２６】
本発明の定義において示したように、本発明による物品はまた、エナメル被膜と向かい合う少なくとも１つの拡散ゾーン（又は光ディフューザ）を含んでおり、光源によって発せられた光は被照明パターンに到達する前にこの拡散ゾーンを通過する。このディフューザは一般に、ガラスセラミックの下面に位置する。この拡散ゾーンは、特に、光源によって発せられた放射線を所望の照明ゾーンに向けて抽出することを可能にするものであり、例えば１つ以上の拡散エレメント又は拡散用の処理によって形成され、そして特に、ガラスセラミックの表面に適用された（例えば下面に接着された）、及び／又はガラスセラミックと結合され又は組み合わされたエレメント（例えば導波路及び／又は光源など）の表面に適用された（例えば、拡散エレメントは光源上に被着されるか、又は当該光源を封入する）、少なくとも１つの層（又はフィルム、又はエレメント、特にポリマー、例えばポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）などの）の形態をなしており（又はそれによって部分的又は完全に構成されており）、及び／又は、例えば化学的攻撃（酸など）もしくは機械的攻撃（サンドブラストなど）などによって、ガラスセラミック（あるいは結合又は組み合わせたエレメント）の該当する表面を差別的に処理又は構造化したものである。
【００２７】
この拡散ゾーンは、特に、光源と被照明ゾーンとの間に配置されて、一般にガラスセラミックと、及び／又は任意選択的に、結合又は組み合わされた別のエレメントと、一体になっている。任意選択的に、拡散ゾーン（又は抽出手段又は抽出面）は、これに代えて又はこれに加えて、ガラスセラミック（又は結合又は組み合わされたエレメント）の厚さ内に、所望に応じて例えば内部レーザーエッチング技術などによって、設けてもよい。
【００２８】
本発明による物品はまた、少なくとも１つ又は２つ以上の光源（その数と配置は照明を均一にするため様々でよい）を含む。光源は、ディスプレイタイプの１以上の構造体（例えばいわゆる「７セグメント」タイプの発光ダイオードを含む）、あるいは感知ボタン及びデジタル表示部を備えた電子制御パネルなどに組み込み、それと一体にすることができる。既に述べたように、光源は、所望により下記で述べるように１以上の光導波路と組み合わされた、多かれ少なかれ間隔をあけた発光ダイオードによって形成されるのが有利である。ダイオードは、特に大きさ、効率、寿命、及び環境条件（熱など）に対する耐性の点で、本発明において有利である。
【００２９】
ダイオードは封入されてもよく、すなわちそれらは半導体部品と、この半導体部品を封入するパッケージ（例えばエポキシ又はナイロン又はシリコーンタイプの樹脂でできた）とを含むことができる。ダイオードは、例えば大きさが１００μｍ又は１ｍｍ程度で、任意選択的に最小限の（例えば保護用の）封止を施された、コリメーティングレンズなしの半導体チップであってもよい。
【００３０】
ダイオードは、支持体又はバー又はベースによって支持されてもよい。この場合、ベースは、放出された放射線をより良好に導くためラッカーもしくは塗料及び／又は鏡面層で被覆され、及び／又は白色のもしくは金属のリフレクタと一体にされた、（平面状又は傾斜した）処理された面及び／又はより良好な発光効率のために反射性にされた面を有することができる。
【００３１】
光源の（プレート又は物品の別の構成部品、例えば制御パネルとの）集成は、溶接、クリップ止め、接着などによって、場合によっては別の構成部品を用いて、行うことができ、例えば、異形金属材の底部にそれ自体が載置された支持材に溶接したダイオードを、その異形材のクリップ止め又は接着によって取り付けることができる。光源の位置決め（特にプレートに対する）は、ガラスセラミックを通して表示が可能になるようになされる。
【００３２】
光源、並びにそれらの給電及び作動は、要件に応じて所望の照明ゾーンを同時に又は別個に照明するのを可能にするように、独立であってもなくてもよい。
【００３３】
光源は、任意の制御システムにより、例えば１以上の電磁式押しボタンによって又は感知ボタンによって始動することができ、そして具体的には、光源はガラスセラミック上の適切な操作ゾーンの（又は操作ゾーン上の）位置に指を置くことにより容量式のメカニズムによって作動させることができる。この操作ゾーンは、具体的には本発明による（照明されるように意図される）前述の発光ゾーンに対応して、ガラスセラミックの表面に表示される。指（電気の導体）のタッチが静電容量を変化させ電荷がそれに移動して、静電容量の変化が測定システムによって検出され、そして測定システムが特に関連する光源を作動させる。
【００３４】
既に述べたように、物品は、光源に加えて、物品の１つの部分から別の部分へ光を伝播する（特に全内部反射によって又は金属反射によって）のを目的とする少なくとも１つの導波路を含むことができ、この場合、光源は、導波路がその光線を伝送し、光源が例えば導波路の側面又は端部を介して発光するとともにそこに結合されるように、導波路に取り付けられてその光線をそこに放射することによりそれと共働する。この導波路は、透きとおっており又は透明であるのが有利であり、一般には基材の下面に取り付けられる（別々に設計された後で集成される）。それは、有機物及び／又はプラスチック（例えばポリカーボネート又はポリメチルメタクリレートＰＭＭＡで作製される）であってもよく、又は無機物であってもよく、好ましくは無機物であり、特にそれはガラスである。本発明による物品は、それぞれが１以上の発光ゾーンに割り当てられた複数の導波路を含んでもよく、あるいは任意選択的に開口を備えた、単一の導波路を含んでもよい。導波路は、接着及び／又はクリップ止めによって、又は封入などによって、基材に固定してもよい。導波路の集成は、基材上で又は物品の別の部品上で直接行ってもよく、あるいは物品を取り付ける支持体上で行ってもよく、そして例えば導波路は、基材を搭載する調理機器のケーシングに固定してもよい（この場合、ケーシングは任意選択的に物品の一部を形成することができる）。導波路は、とりわけ、基材が暗色を有する場合において特に、光を所望の照明ゾーンに向かってより良好に案内するのを可能にする。所望により、導波路の端部の幾何学的形状と粗さを、光の制御された局所的抽出を可能にするように設定してもよい。
【００３５】
本発明による物品は、有利には、クッキングプレート、あるいは表示部又は機能的もしくは装飾的な性質を持つ少なくとも１つの発光ゾーンを有するガラスセラミック物品、あるいは（主に）表示目的（装飾的及び／又は機能的な）の物品又はモジュール又は集成体又はシステムであることができる。
【００３６】
「ガラスセラミック物品」という用語は、ガラスセラミックそれ自体から作られた物品だけではなく、同じ用途に適した他の任意の類似の材料（例えば任意選択的に強化されたガラス）、特に耐高温性であり、及び／又は特にゼロ又は擬似ゼロの膨張率（例えば輻射リングで使用されるガラスセラミックプレートの場合のように１５×１０-7Ｋ-1未満）の材料で作られた物品をも意味するものとする。しかしながら、好ましくは、それはガラスセラミックそれ自体から作られた物品である。
【００３７】
好ましくは、本発明による物品は、ガラスセラミックプレート（一般に３ｍｍと４ｍｍの間、特にほぼ４ｍｍ程度の厚さを有する）によって作製される（基材として）。このプレートは平面状、又は主としてもしくは実質的に平面状（特にプレートの対角線の曲率が０．１％未満、好ましくはほぼゼロ）であり、クッキングプレートとしての使用を意図するものである。このようなプレートは一般に、前記プレート及び加熱エレメント、例えば輻射又はハロゲン熱源又は誘導加熱エレメントを含むクッキングトップ又はキッチントップに組み入れることを意図するものである。
【００３８】
プレートは一般に、使用位置における「上」面（可視の面）と、使用位置における別の「下」面（多くの場合、例えば調理器具のフレーム又はケーシング内に隠される）と、側面（又は端部もしくは厚み）とを有している。上面は一般に平面状且つ平滑であるが、しかし凸状の少なくとも１つのゾーン、及び／又は凹状の少なくとも１つのゾーン、及び／又は少なくとも１つの開口（例えばプレートが大気ガスバーナーの受容を目的とした開口を有する場合）があってもよい。下面は、具体的に言うと、平滑であっても、又は例えば圧延により得られる、機械強度を増大させる斑点を備えていてもよい。任意選択的に、斑点の場合、必要ならば下面にインデックス樹脂を被着してそれを平滑にしてもよい。
【００３９】
本発明の１つの実施態様では、本発明に従って記述される発光ゾーンは、特に触ることで当該ゾーンの位置の特定を可能にするように（そのような寸法の）、１つ以上の凸部及び／又は好ましくは凹部でできた起伏部内に位置しており、この起伏部は例えば１以上の幾何学的パターンの形態をなしている。このタイプの起伏部は、ガラスセラミックを研削又は研磨することによって作ることができ、あるいは、特定の追加工程を実施する必要なしに、プレートがぴったり一致しなければならない支持体表面又は成形面もしくはプレス面の幾何学的形状を適合させることによって作ることができる。触る位置の表面構造は、起伏部の幾何学的形状を適切に選択することによって容易に得られる。最適条件の触る位置とするために、起伏部の高さは例えば少なくとも０．１ｍｍに等しく、好ましくは少なくとも０．２ｍｍとすることができ、この高さは例えば２ｍｍを超えず、特に１ｍｍ未満である。起伏部の「高さ」は、プレートの平面に対して垂直方向の寸法、すなわちその最高の箇所と最低の箇所とのレベル差を意味するものとする。
【００４０】
有利な実施態様によれば、プレート上の起伏部の周囲は本質的に平滑な表面状態にあり、起伏部はそこから連続して変動を生じる。プレートは、特に当該ゾーンにおいて、所望の幾何学的形状を有する支持体面又は成形面もしくはプレス面を使用して、押込み、成形又はプレス作業により付形することができる。この場合、ガラスセラミックプレートの材料が塑性変形を可能にするのに充分高い温度にある限り、押込み、成形又はプレスは、通常のガラスセラミックプレート製造方法のいずれの時点で実施してもよい。
【００４１】
本発明による物品は、特に、本質的に視感透過率が０．８％〜４０％、好ましくは０．８〜５％、特に０．８〜２％であり、可視範囲内にある波長６２５ｎｍについての光透過率（所定の波長での透過強度と入射強度との比を求めることによって周知の方法で測定する）が少なくとも３．５％である、任意のガラスセラミックをベースとする。「本質的に」という語は、プレート自体がいかなる被膜の存在もなしにこのような透過率を示すことを意味するものとする。視感透過率は、Ｄ６５光源を使用して標準規格ＩＳＯ  ９０５０：２００３（光透過率にも言及している）に従って測定される。視感透過率は、直接透過及び可能性のある拡散透過の両方を考慮に入れた、全透過率（特に可視範囲全体にわたって積分され、人間の目の感度曲線で重み付けされる）であり、測定は例えば積分球を備えた分光光度計を用いて実施される。必要な場合、所定の厚さでの測定値はその後標準規格ＩＳＯ  ９０５０：２００３に従って４ｍｍの基準厚に換算される。
【００４２】
本発明は、このような透過率の基準を有する特に黒色又は褐色の外見を備えた暗色プレートに特に有利に適用されるが、しかしこのような基準を有する使用ガラスセラミックは透明なガラスセラミックであってもよい。本発明による解決手段は、この範囲のプレートに、プレートの他の特性を劣化させるおそれなしにシンプルに適応される。
【００４３】
本発明による物品は、任意選択的に、上述の構成要素以外のエレメント及び／又は層を含んでもよい。例えば、クッキングモジュールの場合、物品は１以上の付加的な機能性又は装飾性エレメント（フレーム、１以上のコネクタ、１以上のケーブル、１以上の制御エレメント）などを備えて（又は組み合わされて）いてもよい。それはまた、エナメル、塗料などをベースとする種々の機能的及び／又は装飾的な被膜を含んでいてもよい。例えば、基材の面のうちの１つは、例えば装飾のため又は隠蔽のため（例えば光源が直接見えるのを回避するため）に、少なくとも１種の他のエナメルの層などを有していてもよい。
【００４４】
本発明はまた、本発明による少なくとも１つの物品（例えば調理器具、作り付けクッキングトップ、オーブンなど）を有する、調理用及び／又は高温維持用の機器（又は装置）であって、任意選択的に１以上の加熱エレメント、例えば１以上の輻射又はハロゲンエレメント及び／又は１以上の大気ガスバーナー及び／又は１以上の誘導加熱手段などを有する、機器（又は装置）にも関する。本発明による物品は、本発明の定義において上述したエレメントに加えて１以上の加熱エレメントを有する調理機器を構成してもよい。本発明は同様に、単一のプレートを有する調理機器及び複数のプレートを有する機器を包含するものであって、これらのプレートのそれぞれは任意選択的に単一のリング又は複数のリングを有する。「リング」という用語は、調理する場所を意味するものとする。本発明はまた、ハイブリッド調理機器にも関し、そのクッキングプレートは複数のタイプのリング（ガスリング、輻射リング、ハロゲンリング又は誘導リング）を有している。
【００４５】
調理機器は一般に、内部加熱エレメントに加えて、制御及び／又は監視手段も含み、内部エレメントはガラスセラミック基材によって覆われており、表示部又は発光ゾーンが当該基材を通して見える。
【００４６】
エナメル被膜と拡散ゾーンは、状況に応じて、ガラスセラミック基材を得るための前駆体ガラス（又はマザーガラス又はグリーンガラス）のセラミック化の前及び／又は後に、ガラスセラミック基材に加えることができる。念のために述べると、ガラスセラミックプレートは一般に次のように製造される。すなわち、ガラスセラミックを作るため選択された組成を有するガラスを溶融炉内で溶融させ、次いでロール間を通過させることにより溶融ガラスを圧延して標準的なリボン又はシートにし、そしてガラスリボンを切断して所望の寸法にする。続いて、こうして切断されたプレートをそれ自体周知の方法でセラミック化する。セラミック化は、選択された熱プロフィールに従ってプレートを焼成することによって、ガラスを「ガラスセラミック」と呼ばれる多結晶材料に変化させるものであり、この多結晶材料の熱膨張率はゼロ又は擬似ゼロであり、そしてそれは７００℃までの範囲の熱応力に耐える。セラミック化は一般に、ガラス転移範囲の近くにあるのが一般的な核形成範囲に至るまで温度を徐々に上昇させる工程と、核形成の領域を数分で通過させる工程と、セラミック化の温度レベルまで温度を更に徐々に上昇させる工程と、セラミック化の温度レベルを数分間維持する工程と、次いで室温まで急速に冷却させる工程とを含む。任意選択的に、この方法はまた、例えばウォータージェット、ホイールを用いる機械的トレーシングなどでの、切断作業（一般にセラミック化前の）、そしてこれに続くドレッシング作業（研削、面取りなど）も含む。
【００４７】
本発明に従って使用するエナメルは、小さい厚さをできる限り少ないパス数で被着するのを可能にする。そしてこれにより、エナメルのフレーキング及びガラスセラミックプレートの機械的損傷を回避することが可能になる。一般に、基材は、セラミック化前又はセラミック化後に、スクリーン印刷用スクリーン（例えばポリエステル又はポリアミドのフィラメント布帛で構成される）を用いて上面の相応するゾーンに上述の組成物を含むペーストをスクリーン印刷し、次いで約１００〜１５０℃で乾燥して塗装される。
【００４８】
選択したエナメルで被覆した基材（焼成後に得られる）は、特に下にあるエレメントを隠すのを可能にするような不透明性を有すると有利である。不透明性は、色の変化ΔＥ*を測定（Ｂｙｋ−Ｇａｒｄｎｅｒ社のＣｏｌｏｒ  Ｇｕｉｄｅ  ４５／０比色計を用いて行われる反射比色分析）することによって評価される。色の変化ΔＥ*は、不透明の白色背景上に配置した基材についてエナメルを支持する面とは反対側の基材面で測定した色と、不透明の黒色背景上に配置した基材についてのそれとの差に相当する（ＣＩＥによって１９７６年に設定された式に従い、ΔＥ*＝（（ＬW*−ＬB*）2＋（ａW*−ａB*）2＋（ｂW*−ｂB*）2）1/2であり、ＬW*、ａW*、ｂW*は白色背景上での第１測定値の比色座標であり、ＬB*、ａB*、ｂB*は黒色背景上での第２測定値の比色座標である）。本発明によるエナメルで被覆されたガラスセラミック基材のΔＥ*の値は、０．５以下、好ましくは０．４以下、特に０．１未満であると有利である。更に、使用するエナメルのＬ*の値は２５未満、又は２１未満、好ましくは１２と１８の間であると有利であり、この値はガラス基材上のエナメルが多孔性でないことを表す。
【００４９】
本発明による物品は、少なくとも１つの加熱ゾーンがオンであるかオフであるかを示すことが目的の少なくとも１つの発光ゾーン（オン／オフゾーンと呼ばれ、当該ゾーンの被照明パターンを画定する非被覆領域は、例えば、オン状態を示すアイコンの形態をなしている）を含んでいることが好ましい。本発明による物品はまた、前記ゾーンの上面に例えばスクリーン印刷によって被着された、本発明により規定されたエナメルを含むことも好ましく、このエナメル被膜は例えば円板の形をしていて、その中心に選択されたパターン（例えば上述のオン／オフパターン）に従って非被覆領域が形成されている。このパターンは、例えば、それが、例えば制御パネル上に位置する、オン／オフ制御ボタンであることを示すものであり、このボタンの操作は、例えばガラスセラミック上の当該ボタンに指を置くことにより静電容量のメカニズムに従ってなされる。それの操作によりＬＥＤが点灯して光（例えば赤色）を発する。このＬＥＤによって発せられた光は、光源の上方に位置する拡散ゾーンによって拡散され、このゾーンは例えば円筒形状（又は円形又は円板形状、直径が例えば上面にスクリーン印刷された円板のそれに相当する）を有する。この拡散用の円板は、例えば、ガラスセラミックの下面に接着される。ＬＥＤの光がスクリーン印刷されたオン／オフ円の下方で拡散されると、赤色光が非被覆ゾーンに現れる。
【００５０】
本発明及びその利点は、下記の例を読むことでよりよく理解される。この例は例示のために提供されるにすぎず、本発明を限定するものではない。
【実施例】
【００５１】
〔本発明による例〕
この例では、製造した物品は平坦なクッキングモジュールであって、Ｅｕｒｏｋｅｒａ社によってＫｅｒａＢｌａｃｋ＋又はＫｅｒａＶｉｓｉｏｎの呼称で市販されている半透明の黒色ガラスセラミックプレート（基材）を含むモジュールである。このプレートは平滑な上面と平滑な下面とを有しており、上記物品はプレートの下にそれと向かい合わせて固定された光源を更に含む。
【００５２】
使用した光源は、ＡｌＩｎＧａＰ  ５ｍｍ  Ａｖａｇｏ  ＬＥＤダイオードの呼称でＡｖａｇｏ社によって市販されている発光ダイオード（ＬＥＤ）であり、これをプレートの下方に配置する。更に、プレートの上面の制御パネルのところに、光源と位置を合わせてエナメルを被着する。このエナメルは、次の組成、すなわち、ＳｉＯ2：４７．６％、Ａｌ2Ｏ3：５．０％、Ｌｉ2Ｏ：３．６％、Ｂ2Ｏ3：４０％、Ｎａ2Ｏ：２．５％、Ｋ2Ｏ：１．４％、のガラスフリット５０％と、Ｖ７７０９の呼称でＦｅｒｒｏ社によって市販されている黒色色素（クロム−銅スピネルをベースとする）５０重量％で構成される。被着するエナメルの厚さは２．５μｍと５μｍの間である。この被着は、円板の形状で行われ、そして作動を示すアイコンの形状の非被覆領域が、被着のために使用するスクリーン印刷用スクリーンの相応のマスクを用いてこのエナメル被着物に形成される。形成されたパターンは、それが制御ゾーン（オン／オフゾーン）であることを示し、このゾーンの操作は静電容量のメカニズムに従って行われる。
【００５３】
更に、厚さ５ｍｍのポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）のペレットを拡散ゾーンとして使用し、この拡散ゾーンはガラスセラミックの下、又は光源の上に接着される（この光源は任意選択的にＰＶＣ内に封入されてもよい）。
【００５４】
続いて、このようにして装飾を施したマザーガラスプレートを、６５０℃まで急速加熱し、次いで約１５℃／分の加熱速度で約８２０℃まで加熱し、次いで１分当たり数度の加熱速度で最高結晶化温度（ほぼ９００℃と９５０℃の間）まで加熱し、この最高結晶化温度で数分間保持し、次いで炉内で冷却することによりセラミック化し、このセラミック化中にエナメルの焼成を行う。セラミック化及びエナメルの焼成後に、ガラスセラミックの下方の、オン／オフパターンの位置にあるオン／オフ制御ボタンＬＥＤの光は、非被覆ゾーン内にだけ拡散し、オン／オフパターンの申し分のない画定を可能にする。
【００５５】
〔参照例〕
上述のエナメルの代わりに、次の組成、すなわち、ＳｉＯ2：４１．７％、Ａｌ2Ｏ3：１８．５％、Ｌｉ2Ｏ：２．１％、Ｂ2Ｏ3：２８．０％、Ｎａ2Ｏ：０．９％、Ｋ2Ｏ：３．５％、ＣａＯ：２．８％、のガラスフリット７０％と、２２０９４６の呼称でＦｅｒｒｏ社によって市販されているＣｏＳｉをベースとする黒色色素３０重量％で構成されるエナメルを使用する。セラミック化及びエナメルの焼成後に、ガラスセラミックの下方の、オン／オフパターンの位置にあるオン／オフ制御ボタンＬＥＤの光は、エナメル内に拡散し、オン／オフパターンの十分な画定を妨げる。更に、使用するフリットの軟化点（５９０℃）は、本発明による例のフリットのそれ（５１５℃）と比較して非常に高く、このフリットと関連し得る色素含有率は、ガラスセラミック表面上での良好な層形成を可能としないエナメルが得られるのを承知の上で制限される。
【００５６】
本発明による物品、特にプレートは、調理器具又はクッキングトップのための新しい様々なクッキングプレートを製造するために特に有利に使用することができる。
【国際調査報告】
2016503157.tif 000002
2016503157.tif 000003
2016503157.tif 000004
2016503157.tif 000005
2016503157.tif 000006
2016503157.tif 000007