(57)【要約】  第１及び第２表面を有する基材の少なくとも１つの分離処理領域上にパーソナルケア組成物をコーティングするプロセスであって、このパーソナルケア組成物が１Ｈｚの周波数及び２５℃の温度において応力が制御された振幅掃引を用いて測定した１０Ｐａ〜２０００Ｐａの降伏点を有し、基材の第１表面の一部にパーソナルケア組成物を塗布する工程と、支持面を備える支持部材を提供する工程であって、基材の第２表面が支持部材の支持面に接触し、支持面が処理領域に対応する少なくとも１つの空洞を有する、工程と、基材の第１表面と接触する払拭部材を提供する工程と、基材の空洞への変形により生じる応力が基材の弾性限度未満であるように、その第１表面にパーソナルケア組成物が塗布された基材を空洞へと変形させる工程と、過剰なパーソナルケア組成物が除去され、基材が、実質的に空洞に対応するパーソナルケア組成物の分離領域でコーティングされるように支持部材と払拭部材との間に相対運動をもたらす工程であって、基材が恒久的には変形されない、工程と、支持部材から基材を取り外す工程と、を含む、プロセス。
2016506896.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１表面及び第２表面を有する基材の少なくとも１つの分離処理領域上にパーソナルケア組成物をコーティングするプロセスであって、前記パーソナルケア組成物が１Ｈｚの周波数及び２５℃の温度において応力が制御された振幅掃引を用いて測定した１０Ｐａ〜２０００Ｐａの降伏点を有し、
ａ．前記基材の前記第１表面の一部に前記パーソナルケア組成物を塗布する工程と、
ｂ．支持面を備える支持部材を提供する工程であって、前記基材の前記第２表面が前記支持部材の前記支持面に接触し、前記支持面が前記処理領域に対応する少なくとも１つの空洞を有する、工程と、
ｃ．前記基材の前記第１表面と接触する払拭部材を提供する工程と、
ｄ．前記基材の空洞への変形により生じる応力が前記基材の弾性限度未満であるように、その第１表面に前記パーソナルケア組成物が塗布された前記基材を前記空洞内へと変形させる工程と、
ｅ．過剰なパーソナルケア組成物が除去され、前記基材が、実質的に前記空洞に対応するパーソナルケア組成物の分離領域でコーティングされるように前記支持部材と前記払拭部材との間に相対運動をもたらす工程であって、前記基材が恒久的には変形されない、工程と、
ｆ．前記支持部材から前記基材を取り外す工程と、を含む、プロセス。
【請求項２】
前記パーソナルケア組成物が脱毛用組成物である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記支持部材が回転式であり、好ましくは、前記支持部材が円筒状である、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記支持部材が、前記空洞に加えられる負圧と同時に存在する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記基材が前記処理領域を除いて前記パーソナルケア組成物を実質的に含まないように、好ましくは、擦り取り手段、洗浄手段、吸引手段、溶媒衝突手段、溶媒浸漬手段、及びこれらの混合又は組み合わせによって、より好ましくは、払拭部材による擦り取り手段によって、更により好ましくは払拭部材による擦り取り手段及び吸引によって、過剰なパーソナルケア組成物が少なくとも部分的に前記基材から除去される、請求項１〜４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記コーティングされた基材が前記支持部材から取り外される前に、第２基材の第１表面が前記コーティングされた基材と接触して配置される、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記払拭部材が刃を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記払拭部材が、１°〜１７９°、好ましくは１０°〜１７０°、好ましくは１０°〜７０°、より好ましくは２０°〜５５°、更により好ましくは３０°〜４５°、及び更になおより好ましくは３５°〜４０°の接触角を形成する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
過剰なパーソナルケア組成物が真空手段によって前記払拭部材から除去される、請求項１〜８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記基材が前記支持部材と接触する前に、前記パーソナルケア組成物が、連続的な縞模様で前記基材の前記第１表面に塗布される、請求項１〜９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記パーソナルケア組成物が、前記コーティングされた領域の単位面積当たり０．３００ｇ／ｃｍ２〜０．００１ｇ／ｃｍ２、より好ましくは０．０１５ｇ／ｃｍ２〜０．００３ｇ／ｃｍ２、更により好ましくは０．０８０ｇ／ｃｍ２〜０．００５ｇ／ｃｍ２、及び更になおより好ましくは０．０５ｇ／ｃｍ２〜０．００５ｇ／ｃｍ２の量で前記基材上に堆積される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記基材が、５．００ｇ／ｃｍ〜０．０８ｇ／ｃｍ、好ましくは３．００ｇ／ｃｍ〜０．０８ｇ／ｃｍ、より好ましくは１．８０ｇ／ｃｍ〜０．１０ｇ／ｃｍ、更により好ましくは０．８０ｇ／ｃｍ〜０．１５ｇ／ｃｍ、及び更になおより好ましくは０．６０ｇ／ｃｍ〜０．２５ｇ／ｃｍの範囲の剛性を有する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記基材が水不透過性であり、好ましくは、前記基材が、水不透過性材料、より好ましくは可塑性シート、更により好ましくはポリオレフィン、更になおより好ましくはポリエチレン、及び更により好ましくは高密度ポリエチレンを含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記プロセスが、前記第２基材を断ち切ることなく、前記パーソナルケア組成物でコーティングされた領域よりも大きく、当該領域とは異なる領域に前記第１基材を切断するナイフを更に含み、第２ナイフが、前記第１基材の前記切断領域よりも大きい領域に前記第２基材を切断する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記支持面の前記空洞が、不均一の深さの領域を含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上に、より具体的には、パーソナルケア物品の製品に組成物をコーティングするプロセスに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、潤いを与える／水分補給する、着色する、栄養分を与える、又は別の方法でケラチン性組織の状態を視覚的若しくは触覚的に改善することにより、哺乳類のケラチン性組織に利益をもたらすために使用されるパーソナルケア組成物は既知である。具体的には、脱毛用組成物は、毛髪中のケラチンを分解し、したがって、毛髪ストランドを弱体化させて不要な毛髪の除去を可能にする還元剤を含み得る。パーソナルケア組成物は、へらを使用して、又は手でなど様々な方法でケラチン性組織に塗布し得る、クリーム、ジェル、ローションなどの形態を取ってよい。これは、例えば、結果的に手にパーソナルケア組成物が接触することにより、パーソナルケア組成物の使用者にとって汚れる、厄介な手順であり得る。パーソナルケア組成物を材料の上に堆積させることにより、かかる不利益を克服又は緩和することができる。材料ベースのパーソナルケア製品、具体的には脱毛剤は、特開昭６３０７３９１０号、米国特許出願公開第２００６００２８７８号、特開昭６１３５８２６号、特開平１１０１２１２３号、及び特開昭６２２３０７１１号から既知である。基材上に組成物をコーティングするプロセスは、米国特許第３２１８７７６号、同第２５１３８５２号、及び同第４３７５１４６号から既知である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６３０７３９１０号
【特許文献２】米国特許出願公開第２００６００２８７８号
【特許文献３】特開昭６１３５８２６号
【特許文献４】特開平１１０１２１２３号
【特許文献５】特開昭６２２３０７１１号
【特許文献６】米国特許第３２１８７７６号
【特許文献７】米国特許第２５１３８５２号
【特許文献８】米国特許第４３７５１４６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
生じる汚れの一部を除去することによりクリーム及びローションの使用問題の一部に対処するものの、基材ベースのパーソナルケア物品を製造する既知の方法及び基材上に組成物をコーティングする既知のプロセスは、基材上にパーソナルケア組成物の成形領域をもたらして、パーソナルケア物品の容易な取り扱いを可能にするという問題に対処しない。更に、これらは、表面の一部へのパーソナルケア組成物の選択的塗布、つまり、換言すれば、パーソナルケア組成物によって被覆された領域が身体の特定の部分に適合できるようには対処しない。これには、コーティングプロセス中に、基材が恒久的には変形しないことが必要である。さもなければ、最終物品が目的に適合しなくなる。したがって、基材上に配置された組成物の成形領域を有するパーソナルケア物品の製造を容易にするプロセスに対するニーズが存在する。したがって、パーソナルケア組成物が脱毛剤であるとき、毛髪をコーティングするために必要な厚さの脱毛用組成物を提供することが必要である。この問題は、従来技術のコーティングプロセスでは対処されない。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、第１及び第２の表面を有する基材の少なくとも１つの分離処理領域上にパーソナルケア組成物をコーティングするプロセスに関し、このパーソナルケア組成物は、１Ｈｚの周波数及び２５℃の温度において応力が制御された振幅掃引を用いて測定した１０Ｐａ〜２０００Ｐａの降伏点を有し、このプロセスは、
ａ．基材の第１表面の一部にパーソナルケア組成物を塗布する工程と、
ｂ．支持面を備える支持部材を提供する工程であって、基材の第２表面が支持部材の支持面に接触し、支持面が処理領域に対応する少なくとも１つの空洞を有する、工程と、
ｃ．基材の第１表面と接触する払拭部材を提供する工程と、
ｄ．前記基材の空洞への変形により生じる応力が前記基材の弾性限度未満であるように、その第１表面に前記パーソナルケア組成物が塗布された前記基材を前記空洞内へと変形させる工程と、
ｅ．過剰なパーソナルケア組成物が除去され、基材が、実質的に空洞に対応するパーソナルケア組成物の分離領域でコーティングされるように支持部材と払拭部材との間に相対運動をもたらす工程であって、基材が恒久的には変形されない、工程と、
ｆ．支持部材から基材を取り外す工程と、を含む。
【０００６】
好ましくは、工程ａ〜ｆは上記の順序で実行される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】パーソナルケア組成物の分離パターンをコーティングするプロセスの正面斜視図を示す。
【図２】パーソナルケア組成物の分離パターンをコーティングするプロセスの側面切り欠き図を示す。
【図３】支持部材及び真空マニホールドの分解斜視図を示す。
【図４】払拭部材による分配及び除去後のコーティングされたパーソナルケア組成物の分離領域を示す、断片側面切り欠き図を示す。
【図５】コーティングされた結合複合ウェブをもたらす、コーティングされた基材と第２基材との結合を示す。
【図６】支持部材の空洞に負圧が供給されない、払拭部材による分配及び除去後のコーティングされたパーソナルケア組成物の分離領域の代替実施形態を示す断片側面切り欠き図を示す。
【図７】パーソナルケア組成物の分離パターンをコーティングするプロセスであって、支持面が平坦である、代替実施形態の正面斜視図を示す。
【図８】パーソナルケア組成物の分離パターンをコーティングするプロセスであって、支持面が平坦である、代替実施形態の側面切り欠き図を示す。
【図９】パーソナルケア組成物の分離パターンをコーティングするプロセスであって、支持面が平坦であり、支持部材の空洞に負圧が供給されない、別の代替実施形態の側面切り欠き図を示す。
【図１０】パーソナルケア組成物の分離領域、基材の切断領域、及び第２基材の切断領域の異なる形状を示すパーソナルケア物品の部分分解斜視図を示す。
【図１１】コーティングされた基材及び第２基材をキスカットすることによりパーソナルケア物品を作製するプロセスの正面斜視図を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明のプロセスは、可塑性基材の処理領域上にパーソナルケア組成物をコーティングする工程を含む。好ましくは、パーソナルケア組成物は脱毛用組成物であり、より好ましくは、水性脱毛用組成物である。
【０００９】
パーソナルケア組成物は、基材上に堆積したままであり、使用中に変形するために、特定のレオロジーを有する必要がある。降伏点は、環境応力下での変形に対するパーソナルケア組成物の耐性を示す。降伏点が高すぎると、組成物が十分に変形しないことがある。組成物が脱毛用組成物である場合、これにより、塗布時に毛髪繊維が脱毛用組成物に事実上入ることができなくなる。しかしながら、降伏点が低すぎる場合、保管中、輸送中、又は使用中に組成物が流動することがあり得、物品の除去時に肌からきちんと除去されない。したがって、更なる払拭という不都合が生じることになり、組成物が脱毛剤である場合には、使用者に刺激をもたらす恐れがある。したがって、組成物の位相角は、１Ｈｚの周波数及び２５℃の温度において応力が制御された振幅掃引を用いて測定した場合、好ましくは１０Ｐａ〜２０００Ｐａ、より好ましくは３０Ｐａ〜１２００Ｐａ、更により好ましくは４５Ｐａ〜５００Ｐａ、及び更になおより好ましくは６０Ｐａ〜３００Ｐａの降伏点を有する。上記の降伏点は、ＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ（Ｎｅｗ  Ｃａｓｔｌｅ，Ｄｅｌａｗａｒｅ，ＵＳＡ）から入手可能なＴＡ１０００  Ｒｈｅｏｍｅｔｅｒで測定したとき、弾性率Ｇ’の線状粘弾プラトー値の大きさにおける５％の減少として定義される。当業者は、増粘系の濃度又は同一性及び組成物の含水量を変更することによって、組成物のレオロジー特性が変更され得ることを理解するであろう。
【００１０】
基材は、好ましくは、少なくとも１種類の水不透過性可塑体を含み、パーソナルケア組成物に適合する。水不透過性基材を使用すると、組成物と組織との接触中に組成物からの水分損失を防ぎ、したがって、組成物の乾燥を防ぐ。組成物からの水分損失は、水分濃度を下げる。したがって、有効成分の濃度が増加する。これは、本発明者らが回避したい、皮膚に対する刺激をもたらし得る。有用な水不透過性可塑体の例としては、ポリプロピレン（ＰＰ）；ポリエチレン（ＰＥ、ＨＤＰＥ及びＬＬＤＰＥなど）；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；ポリアミド（ＰＡ）；ポリカーボネート；ポリウレタン；酢酸セルロース；ポリクロロプレン（polychloropene）；ポリスルホン；ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）；ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡ）；ポリスチレン；ポリフェニレンオキサイド（ＰＰＯ）；アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）；アクリル；アクリロニトリルスチレンアクリレート（ＡＳＡ）；エチレンビニルアルコール（ＥＶＡ）；天然ゴム、ラテックス、ナイロン、ニトリル、シリコーン、及び熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）が挙げられるが、これらに限定されない。基材は、単一のポリマー又はポリマー若しくはコポリマーの混合物を含んでよい。好ましくは、基材は、ポリオレフィン、好ましくはポリエチレン、更により好ましくは高密度ポリエチレンを含むか、これらからなる。
【００１１】
好ましくは、上記に詳述した理由により水分損失を減らすために、組成物と可塑性基材との間に透水性材料の層は存在しない。好ましい実施形態では、水不透過性可塑材料は、水不透過性層を形成する。
【００１２】
基材は、好ましくは５．００ｇ／ｃｍ〜０．０８ｇ／ｃｍ、より好ましくは３．００ｇ／ｃｍ〜０．０８ｇ／ｃｍ、更により好ましくは１．８０ｇ／ｃｍ〜０．１０ｇ／ｃｍ、更になおより好ましくは０．８０ｇ／ｃｍ〜０．１５ｇ／ｃｍ、及び更により好ましくは０．６０ｇ／ｃｍ〜０．２５ｇ／ｃｍの範囲の剛性を有する。基材のこの剛性のおかげで、所望の取り扱いやすさが確保され、物品の適合属性が実現し、加えて、コーティングプロセス中に基材が恒久的に変形しないようにすることに役立つ。具体的には、好ましい剛性は、脱毛剤効率を更に向上させるために、折り畳んだり、しわを寄せたりせずに適用される表面に基材を適合させる性能を維持しつつ、組成物の異なる領域が互いに容易に接触できる場合に特に望ましくない、重力又は折り畳み下での物品の崩壊防止に役立つ。したがって、基材は、使用中又は製造中に恒久的に変形することなく、皮膚及び任意の不要な毛髪（該当する場合）に容易に適合する。これは、使用中又は製造中の恒久的な変形が、適用中に使用者に問題をもたらし得るためである。好ましい実施形態では、剛性は実質的に一定であり、製品寿命中に変化しない。
【００１３】
剛性は、Ｔｈｗｉｎｇ−Ａｌｂｅｒｔ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ  Ｃｏ．（Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，Ｐａ）から入手可能なＨａｎｄｌｅ−Ｏ−Ｍｅｔｅｒ（モデル番号２１１−３００）でＡｍｅｒｉｃａｎ  Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ（ＡＳＴＭ）Ｄ２９２３−０６，ｍｅｔｈｏｄ  Ｂを使用して（すなわち、静電気の効果を低減する粉末を使用して）容易に測定できる。剛性は、試料幅のセンチメートル当たりのグラムとして表現される。試料は、１０．１６ｃｍ（４インチ）×１０．１６ｃｍ（４インチ）の試験片として調製し、縁部は、方向性を有する基材の機械方向及び横断方向に対して平行であった。同一基材方向に配向した新たな試験片の同じ側で、３つの剛性測定値を測定した。第１方向に対して９０°に配向した新たな試験片の同じ側で、更に３つの剛性測定値を測定した。新たな試験片の、最初の６つの測定値と反対側で、これら６つの測定値を繰り返した。次いで、１２の剛性測定値を平均し、０．０１ｇ／ｃｍで報告した。
【００１４】
基材の剛性は、基材の厚さ及び固有の弾性係数の関数である。異なる材料は、異なる弾性係数を有する。基材に含まれる単一又は複数の材料に基づいて、基材の所望の剛性を実現できる基材の厚さが選択されるべきである。
【００１５】
基材は、好ましくは８０μｍ〜１２μｍ、より好ましくは５０μｍ〜１５μｍ、更により好ましくは４０μｍ〜１６μｍ、更になおより好ましくは３０μｍ〜１７μｍの厚さを有する。
【００１６】
基材材料及び厚さの組み合わせの非限定例は、以下のとおりである。
【００１７】
【表１】
2016506896.tif 000003
［ＨＤＰＥは、Ｍｅｒｒｉｔｔ−Ｄａｖｉｓ鋳造ラインで製造した８５％のＭ６０３０（ＬＢＩ）及び１５％のＬＤ２００１（Ｅｘｘｏｎ  Ｍｏｂｉｌ）の混合物である］
［ＬＬＤＰＥは、Ｍｅｒｒｉｔｔ−Ｄａｖｉｓ鋳造ラインで製造した１５％のＬＤ２００１（Ｅｘｘｏｎ  Ｍｏｂｉｌ）である］
［ＰＰは、Ｍｅｒｒｉｔｔ−Ｄａｖｉｓ鋳造ラインで製造したＢａｓｅｌｌ  ＰＨ８３５である］
【００１８】
基材は、第１及び第２表面を含む。基材は、少なくとも１つの表面の一部に非平坦面、あるいは微細構造面を含んでよい。表面の非平坦化又は微細構造化により、基材の有効表面積が増加し、したがって、当該基材に対する組成物の付着性が向上し、皮膚からの剥離によって物品を容易に除去しやすくなる、又は表面の把持力が向上し、したがって、取り扱いやすさが向上する。非平坦構造は、くぼみ；しわ又は曲線エンボス加工を含んでよい。非平坦表面は、エンボス加工カレンダー及び鋳造など任意の適切な技法によって基材上に形成されてよい。
【００１９】
基材は、鋳造、射出成形、共射出成形、オーバーモールド、インモールドアセンブリ、加圧成形、吹込成形、鋳造熱又は真空成形など任意の好適な方法で製造されてよい。
【００２０】
図１及び２を参照すると、基材１０は、矢印１０４の方向でプロセスに供給される。基材１０は、連続ウェブ又は個別シートなど非連続材料からなってよい。パーソナルケア組成物２０は、アプリケータ２６を使用して基材１０の第１表面１２に塗布される。アプリケータ２６は、スロット塗布機、単数若しくは複数のノズルを使用した送達、単数若しくは複数の孔を使用した送達、基材１０を槽に浸すことによるフラッドコーティング、霧状パーソナルケア組成物粒子の噴霧、又は当業者に既知の他の塗布手段を含んでよい。パーソナルケア組成物２０を添加する際の質量流量は、好ましくはコーティングされたパーソナルケア組成物２２の分離領域を有する、得られる製品以上である。
【００２１】
好ましくは、パーソナルケア組成物２０は、基材１０が支持部材４０と接触する前に基材の第１表面１２に塗布される。パーソナルケア組成物２０は、支持部材４０との接触中に基材１０に塗布されることができるが、その場合アプリケータ２６は、基材１０が支持部材４０の空洞４４に適合するために、非平坦面にパーソナルケア組成物２０を塗布することが必要になるだろう。スロット塗布機などアプリケータ２６の場合、凹凸表面は、非連続的なコーティング及びパーソナルケア組成物２０への空気混入をもたらし得る。基材１０が支持部材４０と接触する前にパーソナルケア組成物２０を基材に塗布する場合、塗布用に平坦な連続表面が提供される。塗布は、支持なしで張られた、基材１０のウェブスパンに対して行われ得るか、基材１０は、平坦なバックアップローラー又はデッドプレートによって支持され得る。
【００２２】
好ましくは、パーソナルケア組成物２０は、支持部材４０の空洞４４の機械横方向に対応する連続的な縞模様２４で塗布される。これは、積み重ねられたパーソナルケア組成物６８が払拭部材６０の幅を移動する必要のある距離を最小化し、過剰なパーソナルケア組成物の添加を減少させる。あるいは、縞模様２４は非連続的であり、支持部材４０の空洞４４の連続的な機械方向位置に対応するように間欠的であってよい。
【００２３】
支持部材４０は、支持面４２を備えて提供され、基材１０の第２表面１４は、支持部材４０の支持面４２と接触し、支持面４２は、処理領域１６に対応する少なくとも１つの空洞４４を有する。支持部材４０は平坦プレートであるか、コーティング中に基材１０を支持できる他の線織面であってよい。あるいは、これは、回転式であってよい。好ましい実施形態では、支持部材４０は、表面に空洞４４が分布している回転式円筒である。回転式円筒状支持部材４０は、高速であり得る連続コーティングプロセスを実現できる。あるいは、円筒状支持部材４０はまた、割り出しプロセス又は他の不等速プロセスのいずれかで用いられ得る。図１〜３に示される好ましい円筒状支持部材４０は、軸１００の周りを方向１０２に回転する。好ましくは、支持面４２は非常に平滑な仕上げであるか、磨き仕上げであり、平均粗さは約１．６マイクロメートル未満である。支持面４２はまた、好ましくは線織面である。円筒状支持部材４０の場合、支持面は、好ましくは、空洞４４によって画定された領域を除いて、真の円筒から約０．１ｍｍを超えて逸れるべきではない。
【００２４】
基材１０上に一度堆積されたパーソナルケア組成物２２の任意の分離領域の最終形状は、支持部材４０の空洞４４の形状によって決定される。空洞４４の輪郭及び寸法は様々であってよく、パーソナルケア組成物２２の所望の形状をもたらす。複数の空洞間の間隔は、パーソナルケア組成物２２のコーティングされた領域間の所望の間隔に対応する。このプロセスは、コーティング厚さの少なくとも１０００倍を計測する特徴を備える、大型のパーソナルケア組成物２２を製造することができる。分解可能な最小特徴は、コーティング厚さのおよそ０．５〜５倍に限定される。パーソナルケア組成物２２の分離領域の作製に加えて、このプロセスはまた、パーソナルケア組成物の連続パターンの形成に用いられてよい。支持面４２の空洞４４の深さを変化させることにより、基材上のパーソナルケア組成物の厚さが決定され得る。例えば、空洞４４の深さが支持面４２よりも０．２５ｍｍ下である場合、結果として得られる、コーティングされたパーソナルケア組成物２２の分離領域の厚さは、約０．２５ｍｍとなるだろう。空洞４４の深さを減じると、厚さの減じた、コーティングされたパーソナルケア組成物２２がもたらされることになる。好ましくは、空洞４４は、コーティングされた領域の単位面積当たり０．３００ｇ／ｃｍ２〜０．００１ｇ／ｃｍ２、より好ましくは０．０１５ｇ／ｃｍ２〜０．００３ｇ／ｃｍ２、更により好ましくは０．０８０ｇ／ｃｍ２〜０．００５ｇ／ｃｍ２、及び更になおより好ましくは０．０５ｇ／ｃｍ２〜０．００５ｇ／ｃｍ２の量でパーソナルケア組成物が基材上に堆積されるような深さである。
【００２５】
支持面４２に対して深さが均一の空洞４４は、実質的に均一の深さを有するパーソナルケア組成物のコーティング２２をもたらす。支持面４２に対して深さが変化する空洞４４は、深さが変化するパーソナルケア組成物のコーティング２２をもたらす。これを使用して、より多くのパーソナルケア組成物の利益を一部の領域に提供し、より少ない利益を他の領域に提供することを目的とするパーソナルケア組成物のコーティング２２を作製することができる。
【００２６】
基材１０の第２表面１４と支持面４２との間の摩擦は、処理領域１６外の基材１０の残部に最小限の歪みをもたらすコーティング中に、基材１０の処理領域１６が空洞４４の形状に変形し適合するように、基材１０を支持し、制御する。基材１０の空洞４４への変形により生じた応力は基材１０の弾性限度未満であり、したがって、最終的なコーティングされた基材１０は、恒久的には変形しない。弾性限度は、ＡＳＴＭ  Ｄ  ６３８−０２、具体的には、Ａ２．１項で定義されるように測定される。生じた製品は、基材１０の平坦な第１表面１２上にコーティングされたパーソナルケア組成物２２の分離領域を備える、平坦な基材１０である。基材１０の第２表面１４と円筒状支持部材４０の支持面４２との間の摩擦はまた、基材１０を動かす牽引力を提供する。図３を参照すると、基材１０の第２表面１４と支持部材４０の支持面４２との間の摩擦は、基材制御吸引孔５０に負圧４６又は真空源を適用することにより、増加させることができる。基材制御吸引孔５０に十分な負圧４６が加えられると、コーティング中に、基材１０を支持面４２に対して固定することができる。
【００２７】
図１、２、４、及び６を参照すると、好ましい実施形態では、払拭部材６０は、パーソナルケア組成物２４の縞模様でコーティングされた基材１０の経路に沿って位置付けられ、基材１４の第２表面は支持部材４０と接触する。したがって、払拭部材６０は、基材１２の第１表面及びパーソナルケア組成物２４の縞模様と接触する。好ましくは、払拭部材は片持ち梁状であり、剛性ホルダーによって第１端部で支持される。第２端部は、基材の第１表面と接触する。払拭部材は、支持体によって基材に対して予め押圧されており、基材に対して力を加え、この力を維持する。この力により、払拭部材は、基材から残留ゲルを除去できる。払拭部材は機械方向に屈曲する柔軟性を有して、基材厚さの変化及び様々な支持部材の半径に対応し、基材に加える力を維持する。
【００２８】
払拭部材６０と、基材及びパーソナルケア組成物を備える支持部材４０との間には相対運動が存在する。好ましくは、支持部材４０が動き、払拭部材６０は固定されている。あるいは、払拭部材６０が動き、支持部材４０は固定されているか、払拭部材とは異なる速度で動作するようにプロセスを設定することも可能である。払拭部材６０は、パーソナルケア組成物の縞模様２４を分配して、基材１０で覆われている空洞４４の容積を満たす。蓄積した、過剰なパーソナルケア組成物６８は、払拭部材６０の前に蓄積する。基材１０で運ばれるパーソナルケア組成物の縞模様２４及び払拭部材６０の相対運動によって、蓄積されたパーソナルケア組成物６８に水圧が生じる。生成された水圧は、基材１０を変形させ、空洞４４に適合させることができる。好ましくは、負圧４６も空洞４４に加えられて、基材１０が処理領域１６内の空洞４４の容積に完全に適合するようにさせる。基材１０は、空洞４４の形状及び深さに適合する。基材１０は、空洞４４の形状及び深さに対応する領域内のパーソナルケア組成物２０によってコーティングされる。基材１０は、このプロセス中に恒久的に変形することはない。このため、空洞４４から取り外されると、基材は平坦なままでいることができる。
【００２９】
払拭部材６０は、処理領域１６外の領域にある基材１２の第１表面から、一部又は好ましくは実質的にすべてのパーソナルケア組成物２０を除去する。これにより、パーソナル組成物２２のコーティングされた分離領域を備える、異物のない基材１８がもたらされる。基材１８の異物のない領域から除去されたパーソナルケア組成物６８の一部又はすべては蓄積されて、次のコーティングされた領域２２を満たすように再分配されてよい。コーティングに不要である、過剰なパーソナルケア組成物６６は、再利用するか、廃棄するために除去されてよい。好ましくは、除去されるパーソナルケア組成物６６は、真空６４によって払拭部材から除去される。真空ノズルのピックアップ位置及び形状を調節すると、蓄積されるパーソナルケア組成物６８の量を調節することができる。真空によって運ばれる、除去されるパーソナルケア組成物６６の流れは、真空ダクトへのパーソナルケア組成物の蓄積を防止する溶媒衝突によって促進することができる。除去されるパーソナルケア組成物６６はまた、ポンピング又は最終製品に使用されない領域内にある基材１０上のレーンへの分配によって除去されてよい。
【００３０】
払拭部材６０は、好ましくは、少なくとも部分的に金属又はプラスチックの刃からなる。これは、刃が、基材の第１表面から最大量の組成物を除去するのに有利な形状を有するためである。あるいは、払拭部材６０は、エラストマー材で被覆されたローラー、ブラシ、又は複数の可撓性指部などであってよい。払拭部材６０は、好ましくは凸凹及び支持面４２の半径の変化に適合することができ、除去力をもたらす縁部を含む。これにより、払拭部材６０は更に、過剰なパーソナルケア組成物を除去し、異物のない表面１８をもたらすことができる。払拭部材６０は、空洞４４に適合しないように、好ましくはその幅全体が剛性であり、一定の深さの空洞４４の場合、パーソナルケア組成物２２の分離領域に対して概して均一の厚さをもたらす。払拭部材６０の幅全体が剛性ではなく、空洞４４に適合できる場合、屈曲する払拭部材６０によってパーソナルケア組成物が除去されるため、生じるパーソナルケア組成物２２の分離領域では、中心部においてパーソナルケア組成物の深さが著しく浅くなるだろう。
【００３１】
払拭部材６０の好適な構成体のいくつかの例は、ステンレス鋼、黄銅、チタン、又は約０．０５〜２．０ｍｍ厚の他の金属；ＡＢＳ、デルリン、ＰＴＦＥ、遷移ガラス、炭素繊維、セラミックス、ガラス、又は約０．０５〜４．０ｍｍ厚の他の可塑性若しくは複合材料；又は好ましくは幅全体に剛性をもたらすために別のより剛性の材料で裏打ちされた、ポリウレタン、ゴム、若しくは約０．０５〜１０．０ｍｍ厚のエラストマー材である。好ましくは、基材１２の第２表面と接触する払拭部材６０の縁部は、研磨されてナイフ縁部となる。かかる先細のナイフ縁部によって、小さい欠陥部分に適合しつつ、幅全体に剛性をもたらす柔軟性が可能になる。あるいは、基材１２の第２表面と接触する払拭部材６０の縁部は、アール形状、フィレット形状、面取り、又は正方形の縁部を有してよい。好ましくは、基材１２の第２表面と接触する払拭部材６０の縁部は、非常に平滑な仕上げ又は磨き仕上げを有し、平均粗さは約１．６マイクロメートル未満である。あるいは、基材１２の第２表面と接触する払拭部材６０の縁部は、ＰＴＦＥ又はポリウレタンなど適合性テープで巻かれてよい。
【００３２】
払拭部材６０は、払拭部材６０と基材１２の第１側部との接触点において引かれた接線及び支持面４２に適合するときの基材１２の第１側部の表面で接触角６２を形成する。好ましくは、接触角６２は、１°〜１７９°、好ましくは１０°〜１７０°、好ましくは１０°〜７０°、より好ましくは２０°〜５５°、更により好ましくは３０°〜４５°、及び更になおより好ましくは３５〜４０°である。接触角６２を調整すると、払拭部材６０が基材１８上の異物を実質的に除去する効果に影響する。
【００３３】
図３を参照すると、好ましくは負圧４６が空洞４４に一致する空洞吸引孔４８に加えられ、基材１０は空洞４４に吸い込まれる。図１、２、３を参照すると、円筒状支持部材４０では、基材制御吸引孔５０及び空洞吸引孔４８に供給される負圧４６が好ましく、基材１０の第２表面１２は支持面４２と接触する。負圧４６のタイミングは、固定された真空マニホールド５４によって制御される。真空マニホールド５４は、真空供給ポート５２に負圧を継続的にもたらす、弓状通路５６を含む。弓状通路５６は、弓状通路５６に対する供給ポート５２の回転位置に応じて、真空マニホールド５４から支持部材４０に負圧４６を分配する。吸引孔４８及び５０は、真空供給ポート５２によって供給される。弓状通路５６の終点位置を調整すると、吸引孔４８及び５０に関して負圧がオン又はオフになるタイミングが調整される。空洞吸引孔４８及び基材制御吸引孔５０に対する独立したタイミング及び真空レベルは、第２同心セットの真空供給ポート５２を提供する第２同心弓状通路をマニホールド５４に設けることにより実現できる。所望により、弓状通路５６の端部において正圧を供給して、支持部材４０からのコーティングされた基材１０の分離を支援することができる。あるいは、独立した真空供給圧及びタイミングは、両側又は当業者になじみの他の引き合い数に対して供給され得る。
【００３４】
好ましくは、負圧４６は吸引孔４８に加えられて、払拭部材６０に近づく前に、基材１０の縞模様のパーソナルケア組成物２４を空洞４４へと引き込む。図４は、支持部材４０の断面を示しており、負圧４６が空洞４４に加えられている。あるいは、払拭部材６０の前に空洞４４に負圧４６が加えられることなく、又は負圧が全く加えられることなく、パーソナルケア組成物２２の分離領域をコーティングすることが可能である。図６は、支持部材４０の断面を示しており、負圧４６が空洞４４に加えられていない。
【００３５】
図１、２、４、及び５を参照すると、基材１０を備える支持部材４４が払拭部材６０を通過した後、結果として得られる基材は、異物のない基材１８の領域で囲まれるパーソナルケア組成物２２の分離領域を有する。パーソナルケア組成物２２の分離領域は、負圧が空洞吸引孔４８に加えられる限り、引き続き空洞４４を満たす。
【００３６】
コーティングされた基材を保護するために、パーソナルケア組成物２２の分離領域でコーティングされた基材１０を、剥離ライナーとして機能し得る第２基材３０と結合させることが望ましい。第２基材は、矢印１０６の方向でプロセスに供給され得る。第２基材３０は、連続ウェブ又は個別シートなど非連続材料を含んでよい。基材１０の第１表面１２が第２基材３０の第１表面３２に面する、複合構造が作製され得る。その結果、パーソナルケア組成物の分離領域は、基材１０と第２基材３０との間に挟まれることになる。第２基材３０の結合は任意であり、本明細書に記載のプロセスは、単一の基材１０上にパーソナルケア組成物２２の分離領域を単にコーティングするために使用され得る。
【００３７】
好ましくは、第２基材３０の結合は、基材１０が支持部材４０との接触を続ける間に発生する。パーソナルケア組成物２２の分離領域は、結合中に空洞４４の容積を占めることができるので、この領域は空洞によって保護されているため、これは、基材１０の層と第２基材３０の層との間でのパーソナルケア組成物の圧縮及び拡散を防止するという利点をもたらす。好ましくは、第２基材３０は、支持部材４４との接線方向に供給される。所望により、第２払拭部材７０を使用して、基材１０と第２基材３０との直接的な結合を促進することができる。これは、そうしなければ基材の間に存在する空気及び酸素を除去することができる。第２払拭部材７０は、本明細書に記載の払拭部材６０と同様の構造であってよい。第２払拭部材７０は、払拭部材６０と同様の調整範囲で接触角６２を形成するように調整される。
【００３８】
好ましいコーティングされた結合複合ウェブ８０は、基材１０と、第２基材３０からなり、これらの間にコーティングされたパーソナルケア組成物の分離領域８２を備える。コーティングされた結合複合ウェブは、矢印１０８の方向にプロセスから離れるように供給される。
【００３９】
好ましくは、支持部材４０は、図１〜６に示されるように円筒形状である。代替実施形態では、非円筒状の支持部材４０が使用される。この支持面４２は、平坦であるか、曲面であってよい。図７〜９は、支持面４２が平坦である、代替実施形態を示している。平坦支持面４２は、連続表面又は不連続表面を含んでよい。支持部材４０は、別個の剛性平坦プレート、チェーン又はベルトで連結された別個の剛性プレート、可撓性ベルト材などとして実施され得る。平坦支持面４２は、断続的な割り出し運動に役立つが、エンドレスベルト若しくはチェーンを使用すると、又は移動ビーム機構を使用すると、連続運動も可能である。好ましい回転実施形態と同様に、平坦支持部材４０は、処理領域１６に対応する空洞４４を含むであろう。
【００４０】
平坦支持部材４０を使用するプロセスは、円筒状回転支持部材４０を使用するプロセスと同様である。好ましくは、パーソナルケア組成物２４の縞模様は、基材１０に塗布される。基材１０は、支持面４２上に供給されるか、その上に配置される。平坦支持部材４０と払拭部材６０との間の相対直線運動により、パーソナルケア組成物２０及び基材１０が空洞４４に押し込まれ、過剰なパーソナルケア組成物が除去されて、異物のない基材１８となる。支持部材４０の運動方向は矢印１１２によって示されており、矢印１１０は、払拭部材６０の直線運動方向を示す。支持部材４０及び払拭部材６０の両方が動き得る、又は一方が固定され得る。回転実施形態と同様に、好ましくは空洞４４は、吸引孔４８によって供給される負圧４６を有するであろう。図８は、支持部材４０の断面を示しており、負圧４６が基材１０に加えられて、これを空洞４４に引き込む。あるいは、このプロセスは、負圧を加えずに実行することができ、払拭部材６０とパーソナルケア組成物２４の縞模様との間の相対運動によって生じる水圧に依存して、基材及びパーソナルケア組成物２２を空洞４４に押し込む。図９は、支持部材４０の断面を示しており、負圧４６は加えられていない。払拭部材が通過すると、結果として得られた基材１０は、異物のない領域１８に囲まれたパーソナルケア組成物２２の分離領域を有するであろう。あるいは、第２基材は、基材１０が平坦支持面４２と接触する間に結合することができる、又はコーティングされた基材１０は、支持面４２から取り外すことができる。
【００４１】
図１０は、最終消費者によって使用される最終パーソナルケア物品の好ましい実施形態の部分分解図を示す。パーソナルケア組成物２２の分離領域は、本明細書に記載のプロセスによって作製される。基材１０は、消費者がパーソナルケア組成物２２を適用できる形状２０２に切断される。第２基材３０は形状２０８に切断されて、１つ以上の基材２０２及びパーソナルケア組成物２２を運ぶためのカードを形成する。パーソナルケア組成物２２及び基材２０２は、好ましくは異なる形状であり、基材領域２０２はパーソナルケア組成物２２よりも大きい。これは、パーソナルケア組成物でコーティングされていない、消費者が基材を保持するための領域をもたらすであろう。第２基材２０８の形状は、好ましくは基材２０２の形状とは異なり、これよりも大きい。図１０の形状は、純粋に例示を目的としたものである。多くの他の形状が可能である。
【００４２】
図１１を参照すると、コーティングされた複合ウェブ８０は、矢印１０８の方向に移動する。ナイフ２００を使用して、基材１０で形状２０２を切断することができる。第２基材を断ち切ることなく、パーソナルケア組成物でコーティングされた領域よりも大きく、これとは異なる領域に第１基材をするために、ナイフ２００は、好ましくは、基材１０を断ち切るが、第２基材３０は断ち切らない、キスカットナイフである。ナイフ２００は、好ましくは、基材２０２のみをキスカットできるように刃先とアンビルとの間に十分な隙間を有する、回転ダイカッターである。切断形状２０２から残されたトリム材２０４は、再利用するか、廃棄するためにプロセスから引き離されてよい。
【００４３】
第２ナイフ２０６を使用して、第２基材が第１基材の切断領域よりも大きくなるように、第２基材３０に切り込んで形状２０８を切断することができる。ナイフ２０６は、好ましくは、第２基材３０を完全に断ち切るように配置された回転ダイカッターである。切断形状２０８から残されたトリム材２０７は、再利用するか、廃棄するためにプロセスから引き離されてよい。最終製品カード２０８は、コンベヤー又は他の手段で矢印１０９の方向に運び去られてよい。次に、最終製品カード２０８は、パウチ、袋、トレイ、又はカートンなど二次パッケージに梱包されてよい。好ましくは、カード２０８は、稀ガス又は窒素でパウチ内のすべての酸素をパージした後で、ホイルパウチに梱包される。これは、酸素への曝露による劣化からパーソナルケア組成物２２を保護するであろう。
【００４４】
本明細書に開示した寸法及び値は、記載された正確な数値に厳密に限定されるものと理解されるべきではない。むしろ、特に断らないかぎり、そのような寸法のそれぞれは、記載された値及びその値の周辺の機能的に同等の範囲の両方を意味するものとする。例えば、「４０ｍｍ」として開示される寸法は、「約４０ｍｍ」を意味することを意図する。
【００４５】
任意の相互参照又は関連特許若しくは関連出願を包含する本明細書に引用される全ての文献は、明確に除外ないしは別の方法で限定されない限り、その全てを本明細書中に参照により組み込まれる。いずれの文献の引用も、こうした文献が本願で開示又は特許請求される全ての発明に対する先行技術であることを容認するものではなく、また、こうした文献が、単独で、あるいは他の全ての参照文献とのあらゆる組み合わせにおいて、こうした発明のいずれかを参照、教示、示唆又は開示していることを容認するものでもない。更に、本文書において、用語の任意の意味又は定義の範囲が、参考として組み込まれた文書中の同様の用語の任意の意味又は定義と矛盾する場合には、本文書中で用語に割り当てられる意味又は定義に準拠するものとする。
【００４６】
本発明の特定の実施形態が例示され記載されてきたが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく他の様々な変更及び修正を実施できることが、当業者には自明であろう。したがって、本発明の範囲内にあるそのようなすべての変更及び修正を添付の特許請求の範囲で扱うものとする。
【図１】
2016506896.tif 000004
【図２】
2016506896.tif 000005
【図３】
2016506896.tif 000006
【図４】
2016506896.tif 000007
【図５】
2016506896.tif 000008
【図６】
2016506896.tif 000009
【図７】
2016506896.tif 000010
【図８】
2016506896.tif 000011
【図９】
2016506896.tif 000012
【図１０】
2016506896.tif 000013
【図１１】
2016506896.tif 000014
【国際調査報告】
2016506896.tif 000015
2016506896.tif 000016