(57)【要約】  ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）（ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥ）トリブロックコポリマーは、塩基の存在下、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）とジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）との反応で形成される。該ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーは、極性ポリマーと非極性ポリマーとのブレンドにおける相溶化剤として有用である。また、該ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーは、非極性ポリマーと極性充填剤に対する相溶化剤としても有用である。【選択図】図９
2016505089.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ（フェニレンエーテル）ブロックがそれぞれ独立に下式の構造
【化１】
2016505089.tif 000083
［式中、ｍは５〜５０であり；Ｚ１は、それぞれ独立にハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、
Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである］を有し；
ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが下式の構造
【化２】
2016505089.tif 000084
｛式中、Ａは、構造：
【化３】
2016505089.tif 000085
［式中、Ｇ１は、それぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり；Ｅは、それぞれ独立に直接結合または下式の構造
【化４】
2016505089.tif 000086
（式中、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり；ｓは０または１であり；ｔとｕは、それぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【化５】
2016505089.tif 000087
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは２〜６０である｝を有することを特徴とするポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項２】
９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する請求項１に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項３】
前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックが、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；
ｍが１０〜４０であり；
前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが、下式の構造
【化６】
2016505089.tif 000088
（式中、ｎは５〜５０）を有する請求項１に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項４】
前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有する請求項１乃至３のいずれか１項に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項５】
３０〜７０質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを含む請求項１乃至３のいずれか１項に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項６】
前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックの数平均分子量は、２，０００〜１０，０００原子質量単位である請求項１乃至３のいずれか１項に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項７】
前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化７】
2016505089.tif 000089
（式中、ｎは５〜５０）を有し、
９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する請求項１に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項８】
塩基の存在下、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）をジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）と反応させるステップを含むことを特徴とするポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの形成方法。
【請求項９】
組成物の合計質量に対して、
セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、
ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；
アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項１０】
前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（フェニレンエーテル）である請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記極性ポリマーは、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびポリ（ビニルブチラール）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリエステルである請求項９に記載の組成物。
【請求項１２】
前記極性ポリマーは、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびポリ（ビニルブチラール）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリアミドである請求項９に記載の組成物。
【請求項１３】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化８】
2016505089.tif 000090
（式中、ｎは５〜５０）を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位を含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１５００〜３５００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化９】
2016505089.tif 000091
（式中、ｎは５〜５０）を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有し；
前記極性ポリマーは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）またはこれらの組み合わせであり；
前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、およびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）、およびアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーの組み合わせである請求項９に記載の組成物。
【請求項１５】
組成物の合計質量に対して、
アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを３０〜９３質量％と；
ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物、セラミック繊維およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性充填剤を５〜５０質量％と；
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項１６】
前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（フェニレンエーテル）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（アルケニル芳香族）である請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（フェニレンエーテル）である請求項１５に記載の組成物。
【請求項１８】
前記極性充填剤は、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物およびセラミック繊維の１つまたは複数と任意に組み合わせられたガラス繊維である請求項１５に記載の組成物。
【請求項１９】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化１０】
2016505089.tif 000092
（式中、ｎは５〜５０）を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する請求項１５乃至１８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２０】
前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（フェニレンエーテル）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリスチレンであり；
前記極性充填剤は、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物およびセラミック繊維の１つまたは複数と任意に組み合わせられたガラス繊維であり；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位を含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１５００〜３５００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化１１】
2016505089.tif 000093
（式中、ｎは５〜５０）を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する請求項１５に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
フェノキシ樹脂としても既知のポリ（ヒドロキシエーテル）は、典型的に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマー（エポキシ樹脂）との共重合で調製される線状ポリマーである。フェノキシ樹脂は、約６質量％の第二アルコール基を含む。
【０００２】
フェノキシ樹脂は、コーティング剤、接着剤、インク、複合材、繊維およびプラスチック組成物の特性向上に用いられる。懸垂ヒドロキシ基および骨格エーテル結合によって、極性基材、顔料および充填剤に対するぬれと結合が促進される。熱可塑性プラスチックにフェノキシ樹脂を添加することによって、押出、型成形およびフィルム形成作業におけるプロセスレオロジーの制御に役立ち得る。フェノキシ樹脂の非晶質性は、結晶性および半結晶性熱可塑性材料の結晶化動力学の制御に有用であり得る。
【０００３】
フェノキシ樹脂は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミドおよびポリウレタンなどの極性ポリマーとの相溶性が優れている。しかしながら、フェノキシ樹脂は、ポリスチレン、ポリ（フェニレンエーテル）、ポリオレフィン、（メタ）アクリルおよび他の非極性ポリマーとの相溶性が低い。フェノキシ樹脂の非極性ポリマーとの相溶性が低いために、非極性ポリマーに対する添加剤としての有用性、極性ポリマーと非極性ポリマーのブレンドに対する相溶化剤としての有用性、および非極性ポリマーと極性充填剤とのブレンドに対する相溶化剤としての有用性が制限されている。
【発明の概要】
【０００４】
一実施形態は、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックがそれぞれ独立に下式の構造
【化１】
2016505089.tif 000003
［式中、ｍは５〜５０であり；Ｚ１は、それぞれ独立にハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである］を有し；ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが下式の構造
【化２】
2016505089.tif 000004
｛式中、Ａは、構造：
【化３】
2016505089.tif 000005
［式中、Ｇ１は、それぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり；Ｅは、それぞれ独立に直接結合または下式の構造
【化４】
2016505089.tif 000006
（式中、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり；ｓは０または１であり；ｔとｕは、それぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【化５】
2016505089.tif 000007
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは２〜６０である｝を有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーである。
【０００５】
別の実施形態は、塩基の存在下、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）をジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）と反応させるステップを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの形成方法である。
【０００６】
別の実施形態は、組成物の合計質量に対して、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む組成物である。
【０００７】
別の実施形態は、組成物の合計質量に対して、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを３０〜９３質量％と；ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、  硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物、セラミック繊維およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性充填剤を５〜５０質量％と；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む組成物である。
【０００８】
これらおよびその他の実施形態について以下詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（フェニレンエーテル）、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンおよび５質量％のポリ（ヒドロキシエーテル）を含む比較実施例３の組成物の走査透過型電子顕微鏡写真（２５，０００倍）である。組成物の相の異なる成分が標識化されている。「１」は、ポリ（フェニレンエーテル）／ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン分散相領域内のポリ（フェニレンエーテル）である。「２」は、ポリ（フェニレンエーテル）／ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン分散相領域内のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンである。「３」は、ポリ（ブチレンテレフタレート）連続相である。
【００１０】
【図２】ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（フェニレンエーテル）、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンおよび５質量％のポリ（ヒドロキシエーテル）を含む比較実施例３の組成物の別の走査透過型電子顕微鏡写真（５，０００倍）である。
【００１１】
【図３】ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（フェニレンエーテル）、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンおよびポリ（フェニレンエーテル）（ＰＰＥ）含有量が５７％のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）（ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥ）トリブロックコポリマー５質量％を含む実施例８の組成物の走査透過型電子顕微鏡写真（５，０００倍）である。
【００１２】
【図４】ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（フェニレンエーテル）、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンおよびＰＰＥ含有量が４５％のＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー５質量％を含む実施例１１の組成物の走査透過型電子顕微鏡写真である。
【００１３】
【図５】ポリスチレンと表面処理ガラス繊維を含み、相溶化剤を含まない比較実施例１０の組成物の走査型電子顕微鏡写真である。
【００１４】
【図６】ポリスチレン、表面処理ガラス繊維および２．５質量％のポリ（ヒドロキシエーテル）を含む比較実施例１１の組成物の走査型電子顕微鏡写真である。
【００１５】
【図７】ポリスチレン、表面処理ガラス繊維および５質量％のポリ（ヒドロキシエーテル）を含む比較実施例１２の組成物の走査型電子顕微鏡写真である。
【００１６】
【図８】ポリスチレン、表面処理ガラス繊維およびＰＰＥ含有量が４５％のＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー２．５質量％を含む実施例２８の走査型電子顕微鏡写真である。
【００１７】
【図９】ポリスチレン、表面処理ガラス繊維およびＰＰＥ含有量が４５％のＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー５質量％を含む実施例２９の組成物の走査型電子顕微鏡写真である。
【００１８】
【図１０】ポリスチレン、表面処理ガラス繊維およびＰＰＥ含有量が４５％のＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー１０質量％を含む実施例３０の組成物の走査型電子顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー
一実施形態は、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックがそれぞれ独立に下式の構造
【化６】
2016505089.tif 000008
［式中、ｍは５〜５０であり；Ｚ１は、それぞれ独立にハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである］を有し；ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが下式の構造
【化７】
2016505089.tif 000009
｛式中、Ａは、構造：
【化８】
2016505089.tif 000010
［式中、Ｇ１は、それぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり；Ｅは、それぞれ独立に直接結合または下式の構造
【化９】
2016505089.tif 000011
（式中、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり；ｓは０または１であり；ｔとｕは、それぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【化１０】
2016505089.tif 000012
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは２〜６０である｝を有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーである。
【００２０】
本明細書での「ヒドロカルビル」は、単独であるいは別の用語の接頭辞、接尾辞またはフラグメントとして使用されたとしても、炭素と水素だけを含む残基を指す。該残基は、脂肪族または芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和あるいは不飽和であってもよい。それはまた、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和および不飽和の炭化水素部分の組み合わせを含んでいてもよい。しかしながら、該ヒドロカルビル残基が置換であると記載された場合、それは任意に、置換残基の炭素と水素員上にヘテロ原子を含んでいてもよい。従って、置換であると特定的に記載された場合、ヒドロカルビル残基は、１つまたは複数のカルボニル基、アミノ基、ヒドロキシ基などを含んでいてもよく、あるいはヒドロカルビル残基の骨格内にヘテロ原子を含んでいてもよい。一実施例として、Ｚ１は、末端３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と、酸化重合触媒のジ−ｎ−ブチルアミン成分と、の反応で形成されたジ−ｎ−ブチルアミノメチル基であってもよい。
【００２１】
ポリ（フェニレンエーテル）ブロック中のフェニレンエーテル繰り返し単位の数ｍは、５〜５０の範囲内で、それぞれ独立に１０〜４０であってもよく、具体的には１０〜３０であってもよい。
【００２２】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の、具体的には１５００〜４０００原子質量単位の数平均分子量を有する。
【００２３】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含む。これらの実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、Ｚ１がそれぞれ独立にメチルであり、Ｚ２の少なくとも１つが水素であり、他の１つが水素またはメチルであるフェニレンエーテル単位を含む。
【００２４】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に下式の構造を有する：
【化１１】
2016505089.tif 000013
式中、ｍは１０〜４０であり、Ｚ２は、それぞれ独立に水素またはメチルである。
【００２５】
ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造を有する：
【化１２】
2016505089.tif 000014
式中、Ａは、構造：
【化１３】
2016505089.tif 000015
［式中、Ｇ１は、それぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり；Ｅは、それぞれ独立に直接結合または下式の構造
【化１４】
2016505089.tif 000016
（式中、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり；ｓは０または１であり；ｔとｕは、それぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【化１５】
2016505089.tif 000017
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは２〜６０である。ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロック中のヒドロキシエーテル繰り返し単位の数ｎは、２〜６０の範囲内で５〜５０であってもよく、具体的には１０〜３０であってもよい。
【００２６】
一部の実施形態では、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックの数平均分子量は、２，０００〜１０，０００原子質量単位であり、具体的には３０００〜７０００原子質量単位である。
【００２７】
一部の実施形態では、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【化１６】
2016505089.tif 000018
式中、Ｒは、それぞれ独立に水素またはメチルであり；ｋは、それぞれ独立に０、１、２、３または４であり；Ｘは、それぞれ独立にクロロ、フルオロ、ブロモ、さらに任意にカルボキシ、カルボキサミド、ケトン、アルデヒド、アルコール、ハロゲンおよびニトリルから選択された１つまたは複数のメンバーを含むＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビルであり；Ｂは、それぞれ独立に炭素−炭素単結合、Ｃ１−Ｃ１８ヒドロカルビレン、カルボニル、スルフィド、スルホニル、スルフィニル、ホスホリルおよびシランであり；ｐは独立に２〜約２０である。
【００２８】
一部の実施形態では、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造を有する：
【化１７】
2016505089.tif 000019
式中、Ｒ、Ｘ、ｋおよびｐは、上記に定義したものである。
【００２９】
一部の実施形態では、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造を有する：
【化１８】
2016505089.tif 000020
式中、ｎは、２〜６０であり、具体的には５〜５０であり、より具体的には１０〜３０である。
【００３０】
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化１９】
2016505089.tif 000021
（式中、ｎは５〜５０）を有する。
【００３１】
ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとのモル比は、必ず２：１であることは理解されるであろう。しかしながら、各ブロック種の質量含有量は、ブロック構造とブロック長に応じて相当に変わり得る。例えば、一部の実施形態では、ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーは、その合計質量に対して、２０〜８０質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、２０〜８０質量％のポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、を含む。この範囲内で、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックの質量％は、３０〜７０質量％であってもよく、具体的には４０〜６０質量％であってもよく、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックの質量％は、それに応じて変わるであろう。
【００３２】
本ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、２つのガラス転移温度を有する。これによって、本トリブロックコポリマーは、Ｐｅｔｅｒの米国特許出願公報第２０１２／０３２９９３９Ａ１号に記載されているような単一のガラス転移温度を有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）マルチブロックコポリマーとは区別される。一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、ポリ（ヒドロキシエーテル）相に対応した９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、ポリ（フェニレンエーテル）相に対応した１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する。
【００３３】
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの非常に特定的な実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化２０】
2016505089.tif 000022
（式中、ｎは５〜５０）を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２００℃の第２のガラス転移温度と、を有する。この実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、任意に、その質量に対して、３０〜７０質量％の、具体的には４０〜６０質量％のポリ（フェニレンエーテル）を含んでいてもよい。
【００３４】
トリブロックコポリマーの形成方法
一実施形態は、塩基の存在下、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）をジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）と反応させるステップを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの形成方法である。
【００３５】
モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）は、下式の構造を有する：
【化２１】
2016505089.tif 000023
式中、ｍは５〜５０であり；Ｚ１は、それぞれ独立にハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである。
【００３６】
上記のポリ（フェニレンエーテル）ブロックの構造に関する変形はすべて、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックの前駆体であるモノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）にも同様に当てはまる。例えば、一部の実施形態では、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）中のフェニレンエーテル繰り返し単位の数ｍは、１０〜４０であり、具体的には１０〜３０である。
【００３７】
一部の実施形態では、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）の数平均分子量は、１０００〜５０００原子質量単位である。
【００３８】
一部の実施形態では、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）は、２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含む。これらの実施形態では、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）は、Ｚ１がそれぞれ独立にメチルであり、Ｚ２の１つが水素であり、他の１つが水素またはメチルであるフェニレンエーテル単位を含む。
【００３９】
一部の実施形態では、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）は、下式の構造を有する：
【化２２】
2016505089.tif 000024
式中、ｍは１０〜４０であり、Ｚ２は、それぞれ独立に水素またはメチルである。
【００４０】
モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）は、ジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）と反応する。ジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）は、下式の構造を有する：
【化２３】
2016505089.tif 000025
式中、Ａは、構造：
【化２４】
2016505089.tif 000026
［式中、Ｇ１は、それぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり；Ｅは、それぞれ独立に直接結合または下式の構造
【化２５】
2016505089.tif 000027
（式中、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり；ｓは０または１であり；ｔとｕは、それぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【化２６】
2016505089.tif 000028
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは２〜６０である。ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロック中のヒドロキシエーテル繰り返し単位の数ｎは、２〜６０の範囲内で５〜５０であってもよく、具体的には１０〜３０であってもよい。
【００４１】
一部の実施形態では、ジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）の数平均分子量は、２，０００〜１０，０００原子質量単位であり、具体的には３０００〜７０００原子質量単位である。
【００４２】
一部の実施形態では、ジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）は、下式の構造を有する：
【化２７】
2016505089.tif 000029
式中、Ｒは、それぞれ独立に水素またはメチルであり；ｋは、それぞれ独立に０、１、２、３または４であり；Ｘは、それぞれ独立にクロロ、フルオロ、ブロモ、さらに任意にカルボキシ、カルボキサミド、ケトン、アルデヒド、アルコール、ハロゲンおよびニトリルから選択された１つまたは複数のメンバーを含むＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビルであり；Ｂは、それぞれ独立に炭素−炭素単結合、Ｃ１−Ｃ１８ヒドロカルビル、カルボニル、スルフィド、スルホニル、スルフィニル、ホスホリルおよびシランであり；ｐは独立に２〜２０である。
【００４３】
一部の実施形態では、ジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）は、下式の構造を有する：
【化２８】
2016505089.tif 000030
式中、Ｒ、Ｘ、ｋおよびｐは、上記に定義したものである。
【００４４】
一部の実施形態では、ジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）は、下式の構造を有する：
【化２９】
2016505089.tif 000031
式中、ｎは、２〜６０であり、具体的には５〜５０であり、より具体的には１０〜３０である。
【００４５】
モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）とジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）との反応は、塩基の存在下で行なわれる。好適な塩基としては、第三級アミン、例えばトリエチルアミン、トリ−ｎ‐プロピルアミン、トリ−ｎ‐ブチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、α−メチルベンジルジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、アルキルイミダゾールおよびこれらの混合物が挙げられる。特定の第三級アミン触媒は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）である。
【００４６】
該反応は、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素および極性非プロトン性溶媒から構成される群から選択された溶媒の存在下で行ってもよい。好適な極性非プロトン性溶媒は、ケトン、エステル、エーテル、アミド、ニトリル、スルホキシド、スルホンおよびこれらの混合物である。一部の実施形態では、該溶媒はシクロヘキサノンである。
【００４７】
一部の実施形態では、ジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）は、１５〜３００分かけて、具体的には８０〜１８０分かけて、小分けしてモノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）に添加される。エポキシ樹脂のポリ（フェニレンエーテル）への添加終了後、混合物を反応温度で、１〜１２時間、具体的には４〜１０時間撹拌してもよい。該反応は、１００〜２００℃の温度で、具体的には１２０〜１８０℃の温度で、より具体的には１２０〜１６０℃の温度で行ってもよい。
【００４８】
反応が終了すると、反応混合物を冷却し、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素および極性非プロトン性溶媒から構成される群から選択された共溶媒で希釈する。一部の実施形態では、共溶媒は２−ブタノンである。反応混合物を共溶媒で希釈後、貧溶媒を添加してポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを沈殿させる。共溶媒はアルコールであってもよい。好適なアルコールとしては、メタノールとイソプロパノールが挙げられる。沈殿後、生成物をろ過・貧溶媒で洗浄し減圧下で乾燥して、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを得た。
【００４９】
該反応の特定の実施形態では、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）は、下式の構造
【化３０】
2016505089.tif 000032
（式中、ｍは１０〜４０；Ｚ２は、それぞれ独立に水素またはメチル）を有し；ジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）は、下式の構造
【化３１】
2016505089.tif 000033
（式中、ｎは５〜５０）を有し；塩基は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンである。
【００５０】
極性ポリマーと非極性ポリマーを含む相溶化組成物
一実施形態は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーによって、極性ポリマーと非極性ポリマーが相溶化している組成物である。具体的には、該組成物は、その合計質量に対して、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む。
【００５１】
該極性ポリマーは、セルロースエステルであってもよい。セルロースエステルとしては、例えば、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、三酢酸セルロースおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、セルロースエステルは、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースまたはこれらの組み合わせを含む。セルロースエステルは、硫酸の存在下、セルロースと対応する無水物との反応で調製できる（例えば、セルロースと無水酢酸との反応による酢酸セルロース）。市販のセルロースエステルとしては、Ｃｅｌａｎｅｓｅ  ａｎｄ  Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社の酢酸セルロースと、Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社の酢酸酪酸セルロースと、が挙げられる。
【００５２】
極性ポリマーは、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）であってもよい。本明細書での「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両方を包含する。ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）としては、例えば、ポリ（メチルアクリレート）、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（エチルアクリレート）、ポリ（エチルメタクリレート）、ポリ（ｎ−プロピルアクリレート）、ポリ（ｎ−プロピルメタクリレート）、ポリ（イソプロピルアクリレート）、ポリ（イソプロピルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ブチルアクリレート）、ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート）、ポリ（イソブチルアクリレート）、ポリ（イソブチルメタクリレート）およびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）は、ポリ（メチルメタクリレート）を含む。ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）は、対応するアルキル（メタ）アクリレートのラジカル重合によって形成できる。市販のポリ（アルキル（メタ）アクリレート）としては、Ｌｕｃｉｔｅ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社から商品名ＬＵＣＩＴＥ（登録商標）およびＰＥＲＳＰＥＸ（登録商標）として販売されているポリ（メチルメタクリレート）、およびＡｌｔｕｇｌａｓ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社から商品名ＰＬＥＸＩＧＬＡＳ（登録商標）として販売されているポリ（メチルメタクリレート）が挙げられる。
【００５３】
極性ポリマーはポリアミドであってもよい。ポリアミドとしては、例えば、ポリアミド−６、ポリアミド−６，６、ポリアミド−４、ポリアミド−４，６、ポリアミド−１２、ポリアミド−６，１０、ポリアミド−６，９、ポリアミド−６，１２、非晶質ポリアミド、ポリアミド−６／６Ｔ、ポリアミド−６，６／６Ｔ、ポリアミド−９Ｔおよびこれらの組合せが挙げられる。一部の実施形態では、ポリアミドはポリアミド−６を含む。一部の実施形態では、ポリアミドはポリアミド−６，６を含む。一部の実施形態では、ポリアミドはポリアミド−６とポリアミド−６，６を含む。ポリアミドは、アミノ酸の重縮合またはラクタムの開環重合によって形成できる。市販のポリアミドとしては、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＡＶＰおよびＥＳＰＲＥＥとして販売されているポリアミド−６およびポリアミド−６，６、Ａｓａｈｉ  Ｋａｓｅｉ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ  Ｎｏｒｔｈ  Ａｍｅｒｉｃａ社から商品名ＴＨＥＲＹＬＯＮで販売されているポリアミド−６およびポリアミド−６，６、およびＢＡＳＦ社から商品名ＵＬＴＲＡＭＩＤで販売されているポリアミド−６およびポリアミド−６，６が挙げられる。
【００５４】
極性ポリマーはポリカーボネートであってもよい。ポリカーボネートは、下式の繰り返し構造カーボネート単位を有する：
【化３２】
2016505089.tif 000034
ここで、Ｒ８基の総数の少なくとも６０％は芳香族部分を含んでおり、残りは、脂肪族、脂環式または芳香族である。一部の実施形態では、Ｒ８はそれぞれＣ６−３０芳香族基であり、すなわち、少なくとも１つの芳香族部分を含む。Ｒ８は、ジヒドロキシ化合物（例えば、４，４’−ジヒドロキシビフェニール、１，６−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−ナフチルメタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、１，１−ビス（ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソブテン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン、ｔｒａｎｓ−２，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブテン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）トルエン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アセトニトリル、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｎ−プロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓｅｃ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，１−ジクロロ−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチレン、１，１−ジブロモ−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチレン、１，１−ジクロロ−２，２−ビス（５−フェノキシ−４−ヒドロキシフェニル）エチレン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブタノン、１，６−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，６−ヘキサンジオン、エチレングリコールビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フッ素、２，７−ジヒドロキシピレン、６，６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチルスピロ（ビス）インダン（「スピロビインダンビスフェノール」）、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フタルイミド、２，６−ジヒドロキシジベンゾ−ｐ−ジオキシン、２，６−ジヒドロキシチ��ントレン、２，７−ジヒドロキシフェノキサチン、２，７−ジヒドロキシ−９，１０−ジメチルフェナジン、３，６−ジヒドロキシジベンゾフラン、３，６−ジヒドロキシジベンゾチオフェンおよび２，７−ジヒドロキシカルバゾールなど）、レゾルシノール、５−メチルレゾルシノール、５−エチルレゾルシノール、５−プロピルレゾルシノール、５−ブチルレゾルシノール、５−ｔ−ブチルレゾルシノール、５−フェニルレゾルシノール、５−クミルレゾルシノール、２，４，５，６−テトラフルオロレゾルシノール、２，４，５，６−テトラブロモレゾルシノール、カテコール、ヒドロキノン、２−メチルヒドロキノン、２−エチルヒドロキノン、２−プロピルヒドロキノン、２−ブチルヒドロキノン、２−ｔ−ブチルヒドロキノン、２−フェニルヒドロキノン、２−クミルヒドロキノン、２，３，５，６−テトラメチルヒドロキノン、２，３，５，６−テトラ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，３，５，６−テトラフルオロヒドロキノン、２，３，５，６−テトラブロモヒドロキノンおよびこれらの組み合わせから誘導され得る。一部の実施形態では、ジヒドロキシ化合物は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを含む。ポリカーボネートは、該ジヒドロキシ化合物と、ホスゲンまたはジアリールカーボネート（例えばジフェニルカーボネート）などのカーボネート前駆体との反応で形成できる。市販のポリカーボネートとしては、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＬＥＸＡＮ（登録商標）樹脂として販売されているもの、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ社から商品名ＡＰＥＣ（登録商標）で販売されているもの、およびＣｈｅｍｔｕｒａ社から商品名ＢＬＥＮＤＥＸ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００５５】
極性ポリマーはポリエステルであってもよい。ポリエステルとしては、例えば、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（プロピレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（シクロヘキサンジメチレンテレフタレート）、ポリ（エチレンナフタレート）、ポリ（プロピレンナフタレート）、ポリ（ブチレンナフタレート）、ポリ（エチレンイソフタレート／テレフタレート）、ポリ（プロピレンイソフタレート／テレフタレート）、ポリ（ブチレンイソフタレート／テレフタレート）、ポリ（エチレンテレフタレート／ナフタレート）、ポリ（プロピレンテレフタレート／ナフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート／ナフタレート）、ポリカプロラクトン、ポリ乳酸およびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、ポリエステルはポリ（エチレンテレフタレート）を含む。一部の実施形態では、ポリエステルはポリ（ブチレンテレフタレート）を含む。一部の実施形態では、ポリエステルはポリカプロラクトンを含む。一部の実施形態では、ポリエステルはポリ（乳酸）を含む。ポリエステルは、ジアルコールと二酸の共重合、ヒドロキシ酸の重縮合あるいはラクトンの開環重合によって形成できる。市販のポリエステルとしては、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＶＡＬＯＸ（登録商標）樹脂で販売されているポリ（ブチレンテレフタレート）、ＤｕＰｏｎｔ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社から商品名ＣＲＡＳＴＩＮ（登録商標）で販売されているポリ（ブチレンテレフタレート）、ＤｕＰｏｎｔ  Ｐａｃｋａｇｉｎｇ  ＆  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社から商品名ＭＹＬＡＲ（登録商標）で販売されているポリ（エチレンテレフタレート）、ＤＵＲＥＣＴ社から商品名ＬＡＣＴＥＬ（登録商標）で販売されているポリカプロラクトン、およびＮａｔｕｒｅＷｏｒｋｓ社から商品名ＩＮＧＥＯ（登録商標）で販売されているポリ（乳酸）が挙げられる。
【００５６】
一部の実施形態では、極性ポリマーは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリカプロラクトン、ポリ（乳酸）、ポリ（ブチレンアジペート）、ポリ（ブチレンサクシネート）、ポリ（ブチレンセバケート）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリエステルを含む。
【００５７】
極性ポリマーはポリエーテルイミドであってもよい。ポリエーテルイミドは、少なくとも１つのエーテル基と少なくとも１つのイミド基を含む繰り返し単位を有するポリマーである。ポリエーテルイミドは、二無水物とジアミンとの重縮合反応で形成できる。例えば、二無水物が２，２−ビス（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル）プロパン二無水物であり、ジアミンがｍ−フェニレンジアミンの場合、ポリエーテルイミド形成反応は、以下のように表される。
【化３３】
2016505089.tif 000035
【００５８】
好適な二無水物としては、例えば、３，３−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物、４，４’−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、４，４’−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４，４’−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニル−２，２−プロパン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、（４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物およびこれらの組み合わせが挙げられる。好適なジアミンとしては、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、１，１２−ドデカンジアミン、１，１８−オクタデカンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、４−メチルノナメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、Ｎ−メチル−ビス（３−アミノプロピル）アミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、１，２−ビス（３−アミノプロポキシ）エタン、ビス（３−アミノプロピル）スルフィド、１，４−シクロヘキサンジアミン、ビス−（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２−メチル−４，６−ジエチル−１，３−フェニレン−ジアミン、５−メチル−４，６−ジエチル−１，３−フェニレン−ジアミン、ベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、１，５−ジアミノナフタレン、ビス（４−アミノフェニル）メタン、ビス（２−クロロ−４−アミノ−３，５−ジエチルフェニル）メタン、ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，４−ビス（ｐ−アミノ−ｔ−ブチル）トルエン、ビス（ｐ−アミノ−ｔ−ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−メチル−ｏ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス（ｐ−メチル−ｏ−アミノペンチル）ベンゼン、１，３−ジアミノ−４−イソプロピルベンゼン、ビス（４−アミノフェニル）スルフィド、ビス−（４−アミノフェニル）スルホン、ビス（４−アミノフェニル）エーテルおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、二無水物は、２，２−ビス（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル）プロパン二無水物を含み、ジアミンは、ｍ−フェニレンジアミンを含む。一部の実施形態では、ポリエーテルイミドは、ポリ（２，２’−ビス（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニルプロパン）−１，３−フェニレンビスイミド）（ＣＡＳ登録番号第６１１２８−４６−９号）を含む。市販のポリエーテルイミドとしては、例えば、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＥＸＴＥＭ（登録商標）樹脂およびＵＬＴＥＭ（登録商標）樹脂で販売されているもの、Ｓａｉｎｔ  Ｇｏｂａｉｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＭＥＬＤＩＮ（登録商標）で販売されているもの、およびＰｏｌｙＯｎｅ社から商品名ＥＤＧＥＴＥＫ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００５９】
極性ポリマーはポリスルホンであってもよい。ポリスルホンは、塩基の存在下、ジヒドロキシ化合物とビス（ハロフェニル）スルホンとの反応で形成できる。例えば、ジヒドロキシ化合物がビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンであり、ビス（ハロフェニル）スルホンが４，４’−ジクロロジフェニルスルホンであり、塩基が炭酸ナトリウムの場合、ポリスルホン形成反応は、以下のように表される。
【化３４】
2016505089.tif 000036
【００６０】
好適なジヒドロキシ化合物としては、上記のポリカーボネートの文脈で記載したもの、および１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、４，４’−ビフェノール、３，３’−ビフェノール、３，４’−ビフェノールおよびこれらの組み合わせが挙げられる。好適なビス（ハロフェニル）スルホンとしては、４，４’−ジフルオロジフェニルスルホン、４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、４，４’−ジブロモジフェニルスルホン、３，４’−ジフルオロジフェニルスルホン、３，４’−ジクロロジフェニルスルホン、３，４’−ジブロモジフェニルスルホン、３，３’−ジフルオロジフェニルスルホン、３，３’−ジクロロジフェニルスルホン、３，３’−ジブロモジフェニルスルホンおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、ジヒドロキシ化合物は、ビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンであり、ビス（ハロフェニル）スルホンは、４，４’−ジクロロジフェニルスルホンである。一部の実施形態では、ジヒドロキシ化合物は、４，４’−スルホニルジフェノールであり、ビス（ハロフェニル）スルホンは、４，４’−ジクロロジフェニルスルホンである。市販のポリスルホンとしては、例えば、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＬＮＰ  ＴＨＥＲＭＯＣＯＭＰ（登録商標）化合物として販売されているもの、ＢＡＳＦ社から商品名ＵＬＴＲＡＳＯＮ（登録商標）で販売されているもの、および住友化学（株）から商品名ＳＵＭＩＫＡＥＸＣＥＬ（登録商標）およびＳＵＭＩＰＬＯＹ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００６１】
極性ポリマーはポリエーテルスルホンであってもよい。ポリエーテルスルホンは、下式の構造の繰り返し単位を有するポリマーである：
【化３５】
2016505089.tif 000037
式中、ｆとｇは、それぞれ独立に０〜４であり；Ｒ９とＲ１０は、それぞれ独立にハロゲンまたはＣ１−Ｃ６アルキルである。一部の実施形態では、ポリエーテルスルホンは、下式の構造の繰り返し単位を含む。
【化３６】
2016505089.tif 000038
【００６２】
ポリエーテルスルホンは、塩基の存在下、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホンとビス（ハロフェニル）スルホンとの反応で調製できる。市販のポリエーテルスルホンとしては、例えば、Ｐｏｒｔ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＵＤＥＬ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００６３】
極性ポリマーは、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）であってもよい。ポリ（エチレン−エチルアクリレート）（ＣＡＳ登録番号第９０１０−８６−０号）は、エチレンとエチルアクリレートのランダムコポリマーである。一部の実施形態では、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）のエチレン含有量は、７０〜９８質量％であり、具体的には８０〜９５質量％であり、残りは、エチルアクリレート含有量である。ポリ（エチレン−エチルアクリレート）は、エチレンとエチルアクリレートとのラジカル共重合で調製できる。市販のポリ（エチレン−エチルアクリレート）としては、Ｄｏｗ社から商品名ＡＭＰＬＩＦＹ（登録商標）で販売されているもの、Ａｒｋｅｍａ社から商品名ＬＯＴＡＤＥＲ（登録商標）で販売されているもの、およびＤｕＰｏｎｔ社から商品名ＥＬＶＡＬＯＹ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００６４】
極性ポリマーは、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）であってもよい。ポリ（エチレン−ビニルアセテート）（ＣＡＳ登録番号第２４９３７−７８−８号）は、エチレンとビニルアセテートとのランダムコポリマーである。一部の実施形態では、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）のビニルアセテート含有量は、８〜６０質量％であり、具体的には１０〜５０質量％であり、より具体的には１５〜４０質量％であり、さらにより具体的には、２０〜３０質量％であり、残りは、エチレン含有量である。ポリ（エチレン−ビニルアセテート）は、エチレンとビニルアセテートとのラジカル共重合で調製できる。市販のポリ（エチレン−ビニルアセテート）としては、ＤｕＰｏｎｔ社から商品名ＥＬＶＡＸ（登録商標）で販売されているもの、Ａｒｋｅｍａ社から商品名ＥＶＡＴＡＮＥ（登録商標）で販売されているもの、およびＬｙｏｎｄｅｌｌＢａｓｅｌｌ社から商品名ＵＬＴＲＡＴＨＥＮＥ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００６５】
極性ポリマーは、熱可塑性ポリウレタンとしても既知のポリウレタンであってもよい。ポリウレタンは、ジイソシアネートと長鎖ジオール（「ポリオール」とも呼ばれる）との反応で形成される。例えば、ジイソシアネートがジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネートであり、長鎖ジオールがポリエチレングリコールの場合、ポリウレタン形成反応は、以下のように表される。
【化３７】
2016505089.tif 000039
【００６６】
好適なジイソシアネートとしては、例えば、１，２−フェニレンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、１，４−ナフタレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，２’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートおよびこれらの組み合わせが挙げられる。長鎖ジオールは、最も一般には、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールおよびポリブタジエンジオールの３種類に分類される。ポリエーテルジオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、エチレンオキシドキャップ化ポリ（オキシプロピレン）ジオールおよびポリオール、アルコキシ化ビスフェノール（エトキシ化ビスフェノールＡおよびプロポキシ化ビスフェノールＡなど）およびこれらの組み合わせが挙げられる。ラクトンのジオール開始重合で調製できるポリエステルジオールとしては、例えば、ポリカプロラクトンジオール、ポリ（エチレンアジペート）ジオール、ポリ（プロピレンアジペート）ジオール、ポリ（ブチレンアジペート）ジオール、オルトフタル酸ポリエステルポリオール、テレフタル酸ポリエステルポリオールおよびこれらの組み合わせが挙げられる。ポリブタジエンジオールは、各末端にヒドロキシ基を有する線状ポリブタジエンである。一部の実施形態では、長鎖ジオールの数平均分子量は、５００〜１０，０００原子質量単位であり、具体的には１，０００〜５，０００原子質量単位である。ポリウレタンの形成に用いられる反応物質は、ジイソシアネートと長鎖ジオールに加えて、鎖延長剤とも呼ばれる短鎖ジオールをさらに含んでいてもよい。好適な短鎖ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオールおよびこれらの組み合わせが挙げられる。市販のポリウレタンとしては、Ｈｕｎｔｓｍａｎ社から商品名ＩＲＯＧＲＡＮ（登録商標）で販売されているもの、Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社から商品名ＤＥＳＭＯＰＡＮ（登録商標）およびＴＥＸＩＮ（登録商標）で販売されているもの、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ社から商品名ＰＥＬＬＥＴＨＡＮＥ（登録商標）で販売されているもの、Ｇｒｅａｔ  Ｅａｓｔｅｒｎ  Ｒｅｓｉｎｓ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ社から商品名ＩＳＯＴＨＡＮＥ（登録商標）で販売されているもの、およびＢＡＳＦ社から商品名ＥＬＡＳＴＯＬＬＡＮ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００６７】
極性ポリマーは、ポリ（ビニルアセテート）であってもよい。ポリ（ビニルアセテート）（ＣＡＳ登録番号第９００３−２０−７号）は、ビニルアセテートのホモポリマーである。ポリ（エチレン−ビニルアセテート）は、ビニルアセテートのラジカル重合で調製できる。市販のポリ（ビニルアセテート）としては、ＡＣＨＥＭＡ社から販売されているもの、Ｗａｃｋｅｒ社から商品名ＶＩＮＮＡＰＡＳ（登録商標）で販売されているもの、およびＳｏｌｕｔｉａ社から商品名ＧＥＬＶＡ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００６８】
極性ポリマーは、ポリ（ビニルアルコール）であってもよい。ポリ（ビニルアルコール）（ＣＡＳ登録番号第９００２−８９−５号）は、ビニルアルコールのホモポリマーである。ポリ（ビニルアルコール）は、概してその互変異性体であるアセトアルデヒドで存在するビニルアルコールのラジカル重合で調製できる。市販のポリ（ビニルアルコール）としては、電気化学工業（株）から商品名ＰＯＶＡＬ（登録商標）で販売されているもの、ＭｏｎｏＳｏｌ社から商品名ＭＯＮＯＳＯＬ（登録商標）で販売されているもの、および積水化学工業（株）から商品名ＣＥＬＶＯＬ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００６９】
極性ポリマーは、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）であってもよい。ポリ（スチレン−アクリロニトリル）（ＣＡＳ登録番号第９００３−５４−７号）は、スチレンとアクリロニトリルとのランダムコポリマーである。一部の実施形態では、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）のスチレン含有量は、６０〜９０質量％であり、具体的には７０〜８０質量％であり、残りは、アクリロニトリル含有量である。ポリ（スチレン−アクリロニトリル）は、スチレンとアクリロニトリルとのラジカル共重合で調製できる。市販のポリ（スチレン−アクリロニトリル）としては、Ｃｈｅｍｔｕｒａ社から商品名ＢＬＥＮＤＥＸ（登録商標）で販売されているもの、Ｆｅｒｒｏ社から商品名ＳＴＹＶＥＸ（登録商標）で販売されているもの、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＥＳＰＲＥＥ（登録商標）樹脂、商品名ＬＮＰ  ＬＵＢＲＩＣＯＭＰ（登録商標）化合物および商品名ＬＮＰ  ＴＨＥＲＭＯＣＯＭＰ（登録商標）化合物で販売されているものが挙げられる。
【００７０】
極性ポリマーは、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）であってもよい。ポリ（スチレン−無水マレイン酸）（ＣＡＳ登録番号第９０１１−１３−６号）は、スチレンと無水マレイン酸とのランダムコポリマーである。一部の実施形態では、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）のスチレン含有量は、３〜２５質量％であり、具体的には５〜１５質量％であり、残りは無水マレイン酸含有量である。ポリ（スチレン−無水マレイン酸）は、スチレンと無水マレイン酸とのラジカル共重合で調製できる。市販のポリ（スチレン−無水マレイン酸）としては、ＩＮＥＯＳ  ＡＢＳ社から商品名ＬＵＳＴＲＡＮ（登録商標）で販売されているもの、およびＰｏｌｙｓｃｏｐｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社から商品名ＸＩＲＡＮ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００７１】
極性ポリマーは、ポリ（ビニルブチラール）であってもよい。ポリ（ビニルブチラール）（ＣＡＳ登録番号第９００１−１３−６号）は、ポリ（ビニルアルコール）とブチルアルデヒドとの反応で調製される。市販のポリ（ビニルブチラール）としては、ＤｕＰｏｎｔ社から商品名ＢＵＴＡＣＩＴＥ（登録商標）で販売されているもの、Ｓｏｌｕｔｉａ社から商品名ＳＡＦＬＥＸ（登録商標）で販売されているもの、および（株）クラレから商品名ＴＲＯＳＩＦＯＬ（登録商標）で販売されているものが挙げられる。
【００７２】
極性ポリマーの分子量または溶融粘度は特に限定されない。当業者であれば、所望の使用（例えば成形条件）および極性ポリマー自身の分子間相互作用を含む要因に基づいて、極性ポリマーの分子量あるいは溶融粘度を選択できる。
【００７３】
一部の実施形態では、極性ポリマーは、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびポリ（ビニルブチラール）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリエステルである。
【００７４】
一部の実施形態では、極性ポリマーは、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびポリ（ビニルブチラール）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリアミドである。
【００７５】
極性ポリマーは、組成物の質量に対して、３０〜９３質量％の量で使用できる。この範囲内で、極性ポリマーの量は、４０〜８６質量％であってもよく、具体的には４５〜７４質量％であってもよく、より具体的には５０〜６４質量％であってもよく、さらにより具体的には５０〜５４質量％であってもよい。
【００７６】
該組成物は、極性ポリマーに加えて、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを含む。
【００７７】
非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーであってもよい。簡略化のために、この成分を「未水素化ブロックコポリマー」と呼ぶ。未水素化ブロックコポリマーは、その質量に対して、１０〜９０質量％のポリ（アルケニル芳香族）と、１０〜９０質量％のポリ（共役ジエン）と、を含んでいてもよい。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、低ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーであり、その中でのポリ（アルケニル芳香族）含有量は、該低ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーの質量に対して、１０〜４０質量％未満であり、具体的には２０〜３５質量％であり、より具体的には２５〜３５質量％であり、さらにより具体的には３０〜３５質量％である。他の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、高ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーであり、その中でのポリ（アルケニル芳香族）含有量は、該高ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーの質量に対して、４０〜９０質量％であり、具体的には５０〜８０質量％であり、より具体的には６０〜７０質量％である。
【００７８】
一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は、４０，０００〜４００，０００原子質量単位である。数平均分子量と質量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィによって、およびポリスチレン標準との比較に基づいて求められる。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は、２００，０００〜４００，０００原子質量単位であり、具体的には２２０，０００〜３５０，０００原子質量単位である。他の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は、４０，０００〜２００，０００原子質量単位あり、具体的には４０，０００〜１８０，０００原子質量単位であり、より具体的には４０，０００〜１５０，０００原子質量単位である。
【００７９】
未水素化ブロックコポリマーの調製に用いられるアルケニル芳香族モノマーは、下式の構造を有していてもよい：
【化３８】
2016505089.tif 000040
式中、Ｒ１１とＲ１２は、それぞれ独立に水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基またはＣ２−Ｃ８アルケニル基を表し；Ｒ１３とＲ１７は、それぞれ独立に水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、塩素原子または臭素原子を表し；Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、それぞれ独立に水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基またはＣ２−Ｃ８アルケニル基を表し；あるいはＲ１４とＲ１５は、中央の芳香環と共にナフチル基を形成し、あるいはＲ１５とＲ１６は、中央の芳香環と共にナフチル基を形成する。具体的なアルケニル芳香族モノマーとしては、例えば、スチレン、ｐ−クロロスチレンなどのクロロスチレン、α−メチルスチレンおよびｐ−メチルスチレンなどのメチルスチレン、および３−ｔ−ブチルスチレンおよび４−ｔ−ブチルスチレンなどのｔ−ブチルスチレンが挙げられる。一部の実施形態では、アルケニル芳香族モノマーはスチレンである。
【００８０】
未水素化ブロックコポリマーの調製に用いられる共役ジエンは、Ｃ４−Ｃ２０共役ジエンであってもよい。好適な共役ジエンとしては、例えば、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエンおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、共役ジエンは、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエンまたはこれらの組み合わせである。一部の実施形態では、共役ジエンは１，３−ブタジエンで構成される。
【００８１】
未水素化ブロックコポリマーは、（Ａ）アルケニル芳香族化合物から誘導された少なくとも１つのブロックと、（Ｂ）共役ジエンから誘導された少なくとも１つのブロックと、を含むコポリマーである。ブロック（Ａ）と（Ｂ）の配置としては、リニア構造、グラフト構造、および分枝鎖の有無に拘わらないラジアルテレブロック構造がある。リニアブロックコポリマーには、傾斜型リニア構造および非傾斜型リニア構造がある。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは傾斜型リニア構造を有する。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは非傾斜型リニア構造を有する。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族モノマーがランダムに取り込まれた（Ｂ）ブロックを含む。リニアブロックコポリマー構造には、ジブロック（Ａ−Ｂブロック）構造、トリブロック（Ａ−Ｂ−ＡブロックまたはＢ−Ａ−Ｂブロック）構造、テトラブロック（Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂブロック）構造、ペンタブロック（Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂ−ＡブロックあるいはＢ−Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂブロック）構造、および（Ａ）および（Ｂ）を合計で６個以上含むリニア構造などがあり、ここで、各（Ａ）ブロックの分子量は、他の（Ａ）ブロックのそれと同じであっても異なっていてもよく、各（Ｂ）ブロックの分子量は、他の（Ｂ）ブロックのそれと同じであっても異なっていてもよい。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、ジブロックコポリマー、トリブロックコポリマーまたはこれらの組み合わせである。
【００８２】
一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエン以外のモノマーの残基を含まない。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとから誘導されたブロックで構成される。未水素化ブロックコポリマーは、これらで形成されたグラフトあるいは他の任意のモノマーで形成されたグラフトを含まない。また、トリブロックコポリマーは炭素原子と水素原子から構成され、従ってヘテロ原子を含まない。
【００８３】
一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、無水マレイン酸などの酸官能化剤の１つまたは複数の残基を含む。
【００８４】
一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは，ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレントリブロックコポリマーを含む。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは，ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレントリブロックコポリマーを含む。
【００８５】
未水素化ブロックコポリマーの調製方法は当分野で既知であり、また、未水素化ブロックコポリマーは市販されている。市販の未水素化ブロックコポリマーの具体的なものとしては、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社から商品名Ｄ１１０１（登録商標）およびＤ１１０２（登録商標）で販売されているポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレントリブロックコポリマー；およびＣｈｅｖｒｏｎ  Ｐｈｉｌｌｉｐｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から商品名Ｋ−ＲＥＳＩＮ  ＫＲ０１（登録商標）、ＫＲ０３（登録商標）およびＫＲ−０５（登録商標）で販売されているスチレン−ブタジエンラジアルテレブロックコポリマーが挙げられる。
【００８６】
非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーであってもよい。簡略化のために、この成分を「水素化ブロックコポリマー」と呼ぶ。水素化ブロックコポリマーは、共役ジエンから誘導されたブロック（Ｂ）中の脂肪族不飽和基含有量が、水素化によって少なくとも部分的に低減されている点を除いて、未水素化ブロックコポリマーと同じである。一部の実施形態では、（Ｂ）ブロック中の脂肪族不飽和は、少なくとも５０％、具体的には少なくとも７０％、より具体的には少なくとも９０％低減されている。
【００８７】
市販の水素化ブロックコポリマーの具体的なものとしては、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ  Ｇ１７０１（登録商標）およびＧ１７０２（登録商標）として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）ジブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ  Ｇ１６４１（登録商標）、Ｇ１６５０（登録商標）、Ｇ１６５１（登録商標）、Ｇ１６５４（登録商標）、Ｇ１６５７（登録商標）、Ｇ１７２６（登録商標）、Ｇ４６０９（登録商標）、Ｇ４６１０（登録商標）、ＧＲＰ−６５９８（登録商標）、ＭＤ−６９３２Ｍ（登録商標）、ＭＤ−６９３３（登録商標）およびＭＤ−６９３９（登録商標）として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ  Ｇ１７３０（登録商標）として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ  Ｇ１９０１（登録商標）、Ｇ１９２４（登録商標）およびＭＤ−６６８４（登録商標）として販売されている無水マレイン酸グラフト化ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ  ＭＤ−６６７０（登録商標）として販売されている無水マレイン酸グラフト化ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン−スチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ  Ｈ１０４３（登録商標）として販売されている、ポリスチレン含有量が６７質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ  Ｈ１０５１（登録商標）として販売されている、ポリスチレン含有量が４２質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ  Ｐ１０００（登録商標）およびＰ２０００（登録商標）として販売されているポリスチレン−ポリ（ブタジエン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ  Ｓ８１０４（登録商標）として販売されている、ポリスチレン含有量が６０質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ  Ｓ４０４４（登録商標）、Ｓ４０５５（登録商標）、Ｓ４０７７（登録商標）およびＳ４０９９（登録商標）として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−エチレン／プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；および（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ  Ｓ２１０４（登録商標）として販売されている、ポリスチレン含有量が６５質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーが挙げられる。
【００８８】
非極性ポリマーは、ポリ（アルケニル芳香族）であってもよい。本明細書での「ポリ（アルケニル芳香族）」は、アルケニル芳香族モノマーのホモポリマー、２つ以上のアルケニル芳香族モノマーのコポリマー、これらのポリマーのいずれかのゴム変性誘導体、あるいはこれらの組み合わせを指す。アルケニル芳香族モノマーは、上記の未水素化ブロックコポリマーの文脈に記載されている。代表的なポリ（アルケニル芳香族）としては、アタクチックポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、アイソタクチックポリスチレンおよびゴム変性ポリスチレンが挙げられる。一部の実施形態では、ポリ（アルケニル芳香族）は、アタクチックポリスチレンを含む。一部の実施形態では、ポリ（アルケニル芳香族）は、ゴム変性ポリスチレンの質量に対して、８０〜９６質量％の、具体的には８８〜９４質量％のポリスチレンと、４〜２０質量％の、具体的には６〜１２質量％のポリブタジエンと、を含むゴム変性ポリスチレンを含む。一部の実施形態では、ポリ（アルケニル芳香族）は、アタクチックポリスチレンとゴム変性ポリスチレンとを含む。市販のポリ（アルケニル芳香族）としては、Ａｍｅｒｉｃａｓ  Ｓｔｙｒｅｎｉｃｓ社からＥＡ３１３０−ＡＭＳＴ（登録商標）として販売されているアタクチックポリスチレンおよびＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＥＳＰＲＥＥ（登録商標）ＣＰＳ１５ＧＰ樹脂として販売されているアタクチックポリスチレン；ＰｏｌｙＯｎｅ社からＥＤＴＥＫ  ＱＴ−３０ＧＦ／０００（登録商標）Ｎａｔｕｒａｌとして販売されているシンジオタクチックポリスチレン；および、Ａｍｅｒｉｃａｓ  Ｓｔｙｒｅｎｉｃｓ社からＥＢ６４００−ＡＭＳＴ（登録商標）として販売されているゴム変性ポリスチレンおよびＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からのＨＩＰＳ３１９０として販売されているゴム変性ポリスチレンが挙げられる。
【００８９】
非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）であってもよい。好適なポリ（フェニレンエーテル）としては、下式の構造を有する繰り返し構造単位を含むものが挙げられる：
【化３９】
2016505089.tif 000041
式中、Ｚ１は、それぞれ独立にハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである。本明細書での「ヒドロカルビル」は、単独であるいは別の用語の接頭辞、接尾辞またはフラグメントとして使用されたとしても、炭素と水素だけを含む残基を指す。該残基は、脂肪族または芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和あるいは不飽和であってもよい。それはまた、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和および不飽和の炭化水素部分の組み合わせを含んでいてもよい。しかしながら、該ヒドロカルビル残基が置換であると記載された場合、それは任意に、置換残基の炭素と水素員上にヘテロ原子を含んでいてもよい。従って、置換であると特定的に記載された場合、ヒドロカルビル残基は、１つまたは複数のカルボニル基、アミノ基、ヒドロキシ基などを含んでいてもよく、あるいはヒドロカルビル残基の骨格内にヘテロ原子を含んでいてもよい。一実施例として、Ｚ１は、末端３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と、酸化重合触媒のジ−ｎ−ブチルアミン成分と、の反応で形成されたジ−ｎ−ブチルアミノメチル基であってもよい。
【００９０】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）の固有粘度は、温度２５℃のクロロホルム中で測定して、０．２５〜１ｄＬ／ｇである。この範囲内で、ポリ（フェニレンエーテル）の固有粘度は、０．３〜０．６５ｄＬ／ｇであってもよく、より具体的には０．３５〜０．５ｄＬ／ｇであってもよく、さらにより具体的には０．４〜０．５ｄＬ／ｇであってもよい。
【００９１】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）は、組み込まれたジフェノキノン残基を本質的に含まない。この文脈において、「本質的に含まない」とは、ジフェノキノンの残基を含むポリ（フェニレンエーテル）分子が１質量％未満であることを意味する。Ｈａｙの米国特許第３，３０６，８７４号に記載されているように、一価フェノールの酸化重合によるポリ（フェニレンエーテル）の合成では、所望のポリ（フェニレンエーテル）だけでなく、ジフェノキノンも副生成物として生成される。例えば、一価フェノールが２，６−ジメチルフェノールの場合、３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンが生成される。該ジフェノキノンは典型的には、該重合反応混合物を加熱して末端または内部ジフェノキノン残基を含むポリ（フェニレンエーテル）を生成することによって、ポリ（フェニレンエーテル）内に「再平衡される」（すなわち、ジフェノキノンがポリ（フェニレンエーテル）構造内に取り込まれる）。例えば、ポリ（フェニレンエーテル）を２，６−ジメチルフェノールの酸化重合で調製してポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）と３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンを生成する場合、反応混合物の再平衡によって、取り込まれたジフェノキノンの末端および内部残基を有するポリ（フェニレンエーテル）が生成され得る。しかしながら、こうした再平衡によって、ポリ（フェニレンエーテル）の分子量が低減する。従って、より高分子量のポリ（フェニレンエーテル）が望ましい場合、ジフェノキノンをポリ（フェニレンエーテル）鎖内に再平衡させずに、ポリ（フェニレンエーテル）から分離することが有用であり得る。こうした分離は、例えば、ポリ（フェニレンエーテル）は不溶だがジフェノキノンは可溶の溶媒または溶媒混合物に、ポリ（フェニレンエーテル）を沈殿させることによって実現される。例えば、トルエン中の２，６−ジメチルフェノールの酸化重合によってポリ（フェニレンエーテル）を調製して、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）と３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンとを含むトルエン溶液を生成する場合、ジフェノキノンを本質的に含まないポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）は、該トルエン溶液１容積とメタノールまたはメタノール／水混合物１〜４容積とを混合することによって得られる。あるいは、酸化重合中に生成されるジフェノキノン副生成物の量は、（例えば、１０質量％未満の一価フェノールの存在下で酸化重合を開始し、少なくとも５０分の間に少なくとも９５質量％の一価フェノールを添加することによって）最小化でき、およびまたは、ポリ（フェニレンエーテル）鎖内へのジフェノキノンの再平衡は、（例えば、酸化重合終了後２００分以内にポリ（フェニレンエーテル）を単離することによって）最小化できる。これらの方法は、Ｄｅｌｓｍａｎらの米国特許出願公報第２００９／１０４１０７Ａ１号に記載されている。トルエン中のジフェノキノンの温度依存性溶解度を利用する代替方法では、ジフェノキノンとポリ（フェニレンエーテル）とを含むトルエン溶液の温度を、ジフェノキノンはほとんど不溶だがポリ（フェニレンエーテル）は可溶である約２５℃に調整して、不溶のジフェノキノンを固液分離（例えばろ過）によって除去できる。
【００９２】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）は、２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含む。一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）は、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）である。一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）は、２５℃のクロロホルム中で測定した固有粘度が０．３５〜０．５ｄＬ／ｇの、具体的には０．３５〜０．４６ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を含む。
【００９３】
ポリ（フェニレンエーテル）は、ヒドロキシ基に対して典型的にはオルト位置に存在するアミノアルキル含有末端基（類）を有する分子を含んでいてもよい。また、テトラメチルジフェノキノン（ＴＭＤＱ）副生成物が存在する２，６−ジメチルフェノール含有反応混合物から典型的に得られるＴＭＤＱ末端基類が存在することも多い。ポリ（フェニエンエーテル）は、ホモポリマー、コポリマー、グラフトコポリマー、イオノマーまたはブロックコポリマーの形態であってもよい。
【００９４】
ポリ（フェニレンエーテル）は、１つまたは複数の一価フェノールの酸化重合によって調製できる。市販のポリ（フェニレンエーテル）としては、旭化成ケミカルズ（株）から商品名ＸＹＲＯＮ（登録商標）として販売されているもの、およびＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社から商品名ＰＰＯ（登録商標）樹脂として販売されているものが挙げられる。
【００９５】
一部の実施形態では、非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（フェニレンエーテル）である。
【００９６】
一部の実施形態では、非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）および、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリ（アルケニル芳香族）である。
【００９７】
一部の実施形態では、非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーおよびこれらの水素化ブロックコポリマーの１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）とポリ（アルケニル芳香族）との組み合わせである。
【００９８】
一部の実施形態では、非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーおよびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）と、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーと、の組み合わせである。
【００９９】
一部の実施形態では、非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（フェニレンエーテル）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（アルケニル芳香族）である。
【０１００】
一部の実施形態では、極性ポリマーは、ポリ（ブチレンテレフタレート）を含有するポリエステルを含み；非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）と水素化ブロックコポリマーとを含む。
【０１０１】
一部の実施形態では、極性ポリマーは、ポリ（乳酸）を含有するポリエステルを含み；非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）と水素化ブロックコポリマーとを含む。
【０１０２】
一部の実施形態では、極性ポリマーはポリ（エチレン−ビニルアセテート）を含み；非極性ポリマーは、（ａ）ポリ（フェニレンエーテル）と、（ｂ）未水素化ブロックコポリマー、水素化ブロックコポリマーまたはこれらの組み合わせと、を含む。
【０１０３】
該組成物は、その質量に対して、５〜６８質量％の量の非極性ポリマーを含む。非極性ポリマーの量は、この範囲内で、１０〜６５質量％であってもよく、具体的には２０〜６０質量％であってもよく、より具体的には３０〜５５質量％であってもよく、さらにより具体的には４０〜５０質量％であってもよい。
【０１０４】
該組成物は、極性ポリマーおよび非極性ポリマーに加えて、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを含む。ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーに関する上記の変形はいずれも使用できる。例えば、一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化４０】
2016505089.tif 000042
（式中、ｎは５〜５０）を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する。
【０１０５】
該組成物は、その質量に対して、２〜２０質量％の量のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを含む。この範囲内で、トリブロックコポリマーの量は、４〜１５質量％であってもよく、具体的には５〜１２質量％であってもよい。
【０１０６】
該組成物は、さらに任意に極性充填剤を含んでいてもよい。本明細書での「極性充填剤」は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとエネルギー的に好ましい相互作用が可能な表面を備えた充填剤を指す。エネルギー的に好ましい相互作用としては、例えば、水素結合、双極子−双極子相互作用およびロンドン分散力の１つまたは複数が挙げられ得る。以下に詳述するように、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーによって、非極性ポリマーと極性充填剤は相溶化する。好適な極性充填剤としては、ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ（中空ガラスビーズを含む）、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト（炭酸カルシウムマグネシウム）、加工鉱物繊維（すなわち、炉スラグおよび他の鉱物の溶融紡糸によって形成された人工のガラス状シリケート繊維）、金属酸化物（酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ニッケル、ブロンズ酸化物および酸化銅を含む）、金属水酸化物（水酸化アルミニウムを含む）、セラミック繊維（３Ｍ社からＮＥＸＴＥＬ（登録商標）セラミック繊維として販売されているもの、およびＵｎｉｆｒａｘ社からＦＩＢＥＲＦＲＡＸ（登録商標）耐火性セラミック繊維として販売されているものを含む）およびこれらの組み合わせが挙げられる。
【０１０７】
該組成物の非常に特定的な実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位を含み；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１５００〜３５００原子質量単位の数平均分子量を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化４１】
2016505089.tif 000043
（式中、ｎは５〜５０）を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有し；極性ポリマーは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）またはこれらの組み合わせを含み；非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）、ポリ（アルケニル芳香族）またはこれらの組み合わせを含む。この実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、任意に、その質量に対して、３０〜７０質量％の、具体的には４０〜６０質量％のポリ（フェニレンエーテル）を含んでいてもよい。
【０１０８】
極性充填剤および非極性ポリマーを含む相溶化組成物
別の特定の実施形態は、組成物の合計質量に対して、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを３０〜９３質量％と；ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物、セラミック繊維およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性充填剤を５〜５０質量％と；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む組成物である。この実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、任意に、その質量に対して、３０〜７０質量％の、具体的には４０〜６０質量％のポリ（フェニレンエーテル）を含んでいてもよい。
【０１０９】
非極性ポリマーは、上記の極性および非極性ポリマーの相溶化ブレンドの文脈で記載したもののいずれであってもよい。
【０１１０】
一部の実施形態では、非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（フェニレンエーテル）である。
【０１１１】
一部の実施形態では、非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーおよびこれらの水素化ブロックコポリマーの１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）とポリ（アルケニル芳香族）との組み合わせである。
【０１１２】
一部の実施形態では、非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、これらの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（フェニレンエーテル）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（アルケニル芳香族）である。
【０１１３】
該組成物は、その合計質量に対して、３０〜９３質量％の量の非極性ポリマーを含む。この範囲内で、非極性ポリマーの量は、４０〜８６質量％であってもよく、具体的には４５〜７４質量％であってもよく、より具体的には５０〜６４質量％であってもよい。
【０１１４】
好適な極性充填剤としては、上記の極性および非極性ポリマーの相溶化ブレンドの文脈で記載したものが挙げられる。一部の実施形態では、極性充填剤は、ガラス繊維と、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物およびセラミック繊維の１つまたは複数とガラス繊維との組み合わせと、から構成される群から選択される。
【０１１５】
一部の実施形態では、極性充填剤は、ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物およびセラミック繊維の１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、粘土、タルク、雲母およびこれらの組み合わせから構成される群から選択される。
【０１１６】
極性充填剤と非極性ポリマーを相溶化するトリブロックコポリマーを使用する１つの利点は、極性充填剤にこの相溶化を有効とするための表面処理を施す必要がないことである。しかしながら、一部の実施形態では、極性充填剤と非極性ポリマーとの相溶性をさらに向上させるために、表面処理極性充填剤を使用することが望ましい。表面処理極性充填剤は、極性充填剤を（非ポリマー性）表面処理剤で処理して非極性ポリマーとの相溶性を向上させるステップを備えたプロセスの生成物である。表面処理剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン（γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびγ−アミノプロピルトリエトキシシランを含む）、γ−（メタ）アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン（γ−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリルオキシプロピルトリエトキシシランおよびγ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシランを含む）、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン（β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシロキサンおよびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシランを含む）およびこれらの組み合わせが挙げられる。極性充填剤に対する表面処理剤の量は極性充填剤のタイプに応じて変わるが、一般に、極性充填剤の質量に対して０．０５〜５質量％である。同様に、得られる表面処理極性充填剤は、一般に０．０５〜５質量％の表面処理剤残基を含むであろう。
【０１１７】
該組成物は、その合計質量に対して、５〜５０質量％の量の極性充填剤を含む。この範囲内で、極性充填剤の量は、１０〜４０質量％であってもよく、具体的には１５〜３０質量％であってもよい。
【０１１８】
該組成物は、非極性ポリマーと極性充填剤に加えて、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを含む。ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーに関する上記の変形のいずれも使用できる。例えば、一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化４２】
2016505089.tif 000044
（式中、ｎは５〜５０）を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する。
【０１１９】
該組成物は、その合計質量に対して、２〜２０質量％の量のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを含む。この範囲内で、トリブロックコポリマーの量は、４〜１５質量％であってもよく、具体的には５〜１２質量％であってもよい。
【０１２０】
該組成物の非常に特定的な実施形態では、非極性ポリマーはポリスチレンを含み；極性充填剤はガラス繊維を含み；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位を含み；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１５００〜３５００原子質量単位の数平均分子量を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化４３】
2016505089.tif 000045
（式中、ｎは５〜５０）を有し；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する。この実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、任意に、その質量に対して、３０〜７０質量％の、具体的には４０〜６０質量％のポリ（フェニレンエーテル）を含んでいてもよい。
【０１２１】
本発明は少なくとも以下の実施形態を含む。
【０１２２】
実施形態１：ポリ（フェニレンエーテル）ブロックがそれぞれ独立に下式の構造
【化４４】
2016505089.tif 000046
［式中、ｍは５〜５０であり；Ｚ１は、それぞれ独立にハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである］を有し；ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが下式の構造
【化４５】
2016505089.tif 000047
｛式中、Ａは、構造：
【化４６】
2016505089.tif 000048
［式中、Ｇ１は、それぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり；Ｅは、それぞれ独立に直接結合または下式の構造
【化４７】
2016505089.tif 000049
（式中、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり；ｓは０または１であり；ｔとｕは、それぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【化４８】
2016505089.tif 000050
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは２〜６０である｝を有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【０１２３】
実施形態２：９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する実施形態１に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【０１２４】
実施形態３：前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックが、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；ｍが１０〜４０であり；前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが、下式の構造
【化４９】
2016505089.tif 000051
（式中、ｎは５〜５０）を有する実施形態１または実施形態２に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【０１２５】
実施形態４：前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有する実施形態１乃至実施形態３のいずれかに記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【０１２６】
実施形態５：３０〜７０質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを含む実施形態１乃至実施形態４のいずれかに記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【０１２７】
実施形態６：前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックの数平均分子量は、２，０００〜１０，０００原子質量単位である実施形態１乃至実施形態５のいずれかに記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【０１２８】
実施形態７：前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化５０】
2016505089.tif 000052
（式中、ｎは５〜５０）を有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーであって、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する実施形態１乃至実施形態６のいずれかに記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【０１２９】
実施形態７ａ：前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックが、それぞれ独立に下式の構造
【化５１】
2016505089.tif 000053
（式中、ｍは１０〜４０；Ｚ２は、それぞれ独立に水素またはメチル）を有し；前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが下式の構造
【化５２】
2016505089.tif 000054
（式中、ｎは５〜５０）を有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーであって、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【０１３０】
実施形態８：塩基の存在下、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）をジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）と反応させるステップを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの形成方法。
【０１３１】
実施形態９：組成物の合計質量に対して、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む組成物。
【０１３２】
実施形態１０：前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（フェニレンエーテル）である実施形態９に記載の組成物。
【０１３３】
実施形態１０ａ：前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーおよびアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーの１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）とポリ（アルケニル芳香族）との組み合わせである実施形態９に記載の組成物。
【０１３４】
実施形態１０ｂ：前記非極性ポリマーは、ポリ（アルケニル芳香族）、およびアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーの１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）およびアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーの組み合わせである実施形態９に記載の組成物。
【０１３５】
実施形態１１：前記極性ポリマーは、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびポリ（ビニルブチラール）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリエステルである実施形態９，１０，１０ａのいずれかに記載の組成物。
【０１３６】
実施形態１２：前記極性ポリマーは、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびポリ（ビニルブチラール）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリアミドである実施形態９，１０，１０ａのいずれかに記載の組成物。
【０１３７】
実施形態１３：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化５３】
2016505089.tif 000055
（式中、ｎは５〜５０）を有し；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する実施形態９乃至実施形態１２のいずれかに記載の組成物。
【０１３８】
実施形態１４：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位を含み；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１５００〜３５００原子質量単位の数平均分子量を有し；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化５４】
2016505089.tif 000056
（式中、ｎは５〜５０）を有し；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有し；前記極性ポリマーは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）またはこれらの組み合わせであり；前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーおよびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）、およびアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーの組み合わせである実施形態９に記載の組成物。
【０１３９】
実施形態１５：組成物の合計質量に対して、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを３０〜９３質量％と；ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物、セラミック繊維およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性充填剤を５〜５０質量％と；ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む組成物。
【０１４０】
実施形態１６：前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（フェニレンエーテル）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（アルケニル芳香族）である実施形態１５に記載の組成物。
【０１４１】
実施形態１６ａ：前記ポリ（アルケニル芳香族）は、アタクチックホモポリスチレン、シンジオタクチックホモポリスチレン、ゴム変性ポリスチレンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択される実施形態１６に記載の組成物。
【０１４２】
実施形態１７：前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリ（フェニレンエーテル）である実施形態１５に記載の組成物。
【０１４３】
実施形態１７ａ：前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーおよびアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーの１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）とポリ（アルケニル芳香族）との組み合わせである実施形態１５に記載の組成物。
【０１４４】
実施形態１８：前記極性充填剤は、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物およびセラミック繊維の１つまたは複数と任意に組み合わせられたガラス繊維である実施形態１５，１６，１６ａ，１７，１７ａのいずれかに記載の組成物。
【０１４５】
実施形態１８ａ：前記極性充填剤は、ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物およびセラミック繊維の１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた粘土、タルク、雲母およびこれらの組み合わせから構成される群から選択される実施形態１５，１６，１６ａ，１７，１７ａのいずれかに記載の組成物。
【０１４６】
実施形態１８ｂ：前記極性充填剤は、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−（メタ）アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシランおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択された表面処理剤で極性充填剤を処理するステップを含むプロセスの生成物である表面処理極性充填剤である実施形態１５，１６，１６ａ，１７，１７ａ，１８，１８ａのいずれかに記載の組成物。
【０１４７】
実施形態１９：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化５５】
2016505089.tif 000057
（式中、ｎは５〜５０）を有し；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する実施形態１５，１６，１６ａ，１７，１７ａ，１８，１８ａ，１８ｂのいずれかに記載の組成物。
【０１４８】
実施形態２０：前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（フェニレンエーテル）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリスチレンであり；前記極性充填剤は、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物およびセラミック繊維の１つまたは複数と任意に組み合わせられたガラス繊維であり；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位を含み；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１５００〜３５００原子質量単位の数平均分子量を有し；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化５６】
2016505089.tif 000058
（式中、ｎは５〜５０）を有し；前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する実施形態１５に記載の組成物。
【０１４９】
本明細書で開示された範囲はすべて終点を含むものであり、該終点は互いに独立に組み合わせできる。本明細書で開示した範囲はそれぞれ、この開示範囲内の任意の点またはサブ範囲の開示を構成する。
【０１５０】
以下の非限定的実施例によって、本発明をさらに例証する。
【０１５１】
材料
実施例で使用した材料を表１に示す。
【表１−１】
2016505089.tif 000059
【表１−２】
2016505089.tif 000060
【０１５２】
調製実施例１
ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）８ｋｇ、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー２ｋｇ、ＴＢＰＰ５０ｇ、およびＰＨＢＰＰ５０ｇを混合して、７９．２質量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル（表１の「ＰＰＥ０．４０」）、１９．８質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー（表１の「ＳＥＢＳ」）、０．５質量％のトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（表１の「ＴＢＰＰ」）および０．５質量％のペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）（表１の「ＰＨＢＰＰ」）を含むマスターバッチを調製した。スクリュー径３０ｍｍの二軸Ｗｅｒｎｅｒ  ＆  Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ押出機を、スクリュー回転数３２５ｒｐｍ、スループット４８ポンド／ｈ（２１．８ｋｇ／ｈ）、トルク８３％、ゾーン温度が供給口からダイまで２４０℃、２８５℃、２８５℃、２８０℃、２８０℃および２８５℃で操作して該混合物を押し出した。
【０１５３】
調製実施例２
Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸実験室押出機（スクリュー径１８ｍｍ）をスクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク４０％、ゾーン温度が供給口からダイまで１８０℃、２３０℃、２６０℃、２６０℃、２６０℃、２５５℃および２４０℃で操作し、ポリ（ブチレンテレフタレート）（表１の「ＰＢＴ」）２９９１ｇと無水リン酸一ナトリウム（表１のＮａＨ２ＰＯ４）９ｇ（０．３質量％）を混合して、安定したポリ（ブチレンテレフタレート）マスターバッチを調製した。
【０１５４】
調製実施例３
Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸実験室押出機（スクリュー径１８ｍｍ）をスクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク７５〜１００％、ゾーン温度が供給口からダイまで１８０℃、２２０℃、２５０℃、２６０℃、２６０℃、２６０℃および２６０℃で操作し、ポリ（エチレンテレフタレート）（表１の「未使用ＰＥＴ」）２９９１ｇと無水リン酸一ナトリウム９ｇ（０．３質量％）を混合して、安定したポリ（エチレンテレフタレート）を調製した。
【０１５５】
調製実施例４
Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸実験室押出機（スクリュー径１８ｍｍ）をスクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク５５〜７０％、ゾーン温度が供給口からダイまで１８０℃、２３０℃、２５０℃、２６０℃、２６０℃、２６０℃および２６０℃で操作し、ポリ（エチレンテレフタレート）（表１の「再利用ＰＥＴ」）２９９１ｇと無水リン酸一ナトリウム９ｇ（０．３質量％）を混合して、安定したポリ（エチレンテレフタレート）を調製した。
【０１５６】
実施例１
この実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）を４５．１質量％含むＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの調製を例証する。反応物質の特性と量を表２に示す。「ＨＥＷ」は、「ヒドロキシ当量」の略であり、ヒドロキシ基の当量（モル）当たりのポリ（フェニレンエーテル）の質量（ｇ）を指し、「ＥＥＷ」は、「エポキシ当量」の略であり、エポキシ基の当量（モル）当たりのビスフェノールＡ−エピクロロヒドリンコポリマー（「エポキシ樹脂」）の質量（ｇ）を指す。
【表２】
2016505089.tif 000061
【０１５７】
トリブロックコポリマーを以下のように調製した。シクロヘキサノン５００ｍＬを、機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗および加熱マントルを装備した２Ｌの三口丸底フラスコに添加して１４０℃に加熱した。ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。１２０分かけて、ほぼ表３に示すように小分けしてエポキシ樹脂を添加した。
【表３】
2016505089.tif 000062
【０１５８】
この溶液を１４０℃×７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。反応生成物をメタノール中に沈殿させて分離・ろ過し、メタノールで洗浄して、真空オーブン内にて１００℃で乾燥させた。生成物の重量は４６２ｇ（収率９２．４％）であった。
【０１５９】
実施例２
この実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）を５７．０質量％含むＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの調製を例証する。反応物質の特性および量を表４に示す。
【表４】
2016505089.tif 000063
【０１６０】
トリブロックコポリマーを以下のように調製した。シクロヘキサノン５００ｍＬを、機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗および加熱マントルを装備した２Ｌの三口丸底フラスコに添加して１４０℃に加熱した。ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。９０分かけて、ほぼ表５に示すように小分けしてエポキシ樹脂を添加した。
【表５】
2016505089.tif 000064
【０１６１】
この溶液を１４０℃×７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。反応生成物をメタノール中に沈殿させて分離・ろ過し、メタノールで洗浄して、真空オーブン内にて１００℃で乾燥させた。生成物の重量は４６２ｇ（収率９２．４％）であった。
【０１６２】
実施例３
この実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）を６３．８質量％含むＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの調製を例証する。反応物質の特性および量を表６に示す。
【表６】
2016505089.tif 000065
【０１６３】
トリブロックコポリマーを以下のように調製した。シクロヘキサノン１００ｍＬを、機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗および加熱マントルを装備した３００ｍＬの三口丸底フラスコに添加して１４０℃に加熱した。ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ１．０ｇ（０．００８２モル）を添加し溶解させた。９０分かけて、ほぼ表７に示すように小分けしてエポキシ樹脂を添加した。
【表７】
2016505089.tif 000066
【０１６４】
この溶液を１４０℃×７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン１００ｍＬで希釈した。反応生成物をメタノール中に沈殿させて分離・ろ過し、メタノールで洗浄して、真空オーブン内にて１００℃で乾燥させた。生成物の重量は８７ｇ（収率８７％）であった。
【０１６５】
実施例４
この実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）を４８．９質量％含むＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの調製を例証する。反応物質の特性および量を表８に示す。
【表８】
2016505089.tif 000067
【０１６６】
トリブロックコポリマーを以下のように調製した。シクロヘキサノン１００ｍＬを、機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗および加熱マントルを装備した３００ｍＬの三口丸底フラスコに添加して１４０℃に加熱した。ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ１．０ｇ（０．００８２モル）を添加し溶解させた。９０分かけて、ほぼ表９に示すように小分けしてエポキシ樹脂を添加した。
【表９】
2016505089.tif 000068
【０１６７】
この溶液を１４０℃×７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン１００ｍＬで希釈した。反応生成物をメタノール中に沈殿させて分離・ろ過し、メタノールで洗浄して、真空オーブン内にて１００℃で乾燥させた。生成物の重量は９１ｇ（収率９１％）であった。
【０１６８】
実施例５
この実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）を４１．７質量％含むＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの調製を例証する。反応物質の特性および量を表１０に示す。
【表１０】
2016505089.tif 000069
【０１６９】
トリブロックコポリマーを以下のように調製した。シクロヘキサノン１００ｍＬを、機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗および加熱マントルを装備した３００ｍＬの三口丸底フラスコに添加して１４０℃に加熱した。ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ１．０ｇ（０．００８２モル）を添加し溶解させた。９０分かけて、ほぼ表１１に示すように小分けしてエポキシ樹脂を添加した。
【表１１】
2016505089.tif 000070
【０１７０】
この溶液を１４０℃×７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン１００ｍＬで希釈した。反応生成物をメタノール中に沈殿させて分離・ろ過し、メタノールで洗浄して、真空オーブン内にて１００℃で乾燥させた。生成物の重量は８２ｇ（収率８２％）であった。
【０１７１】
実施例６
この実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）を３４．９質量％含むＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの調製を例証する。反応物質の特性および量を表１２に示す。
【表１２】
2016505089.tif 000071
【０１７２】
トリブロックコポリマーを以下のように調製した。シクロヘキサノン１００ｍＬを、機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗および加熱マントルを装備した３００ｍＬの三口丸底フラスコに添加して１４０℃に加熱した。ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ１．０ｇ（０．００８２モル）を添加し溶解させた。１２０分かけて、ほぼ表１３に示すように小分けしてエポキシ樹脂を添加した。
【表１３】
2016505089.tif 000072
【０１７３】
この溶液を１４０℃×７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン１００ｍＬで希釈した。反応生成物をメタノール中に沈殿させて分離・ろ過し、メタノールで洗浄して、真空オーブン内にて１００℃で乾燥させた。生成物の重量は８４ｇ（収率８４％）であった。
【０１７４】
トリブロックコポリマーのキャラクタリゼーション
ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−０８に準拠し、温度範囲３０〜２５０℃、加熱速度２０℃／ｍｉｎとしたＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製２９２０Ｍ−ＤＳを用いた示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）により、これらのＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーのキャラクタリゼーションを行った。トリブロックコポリマーはすべて、検討した温度範囲に亘って、２つのガラス転移温度を有していた。低い方のガラス転移温度（Ｔｇ１）は、ポリ（ヒドロキシエーテル）相に対応して約１０５〜１０６℃であった。高い方のガラス転移温度（Ｔｇ２）は、ポリ（フェニレンエーテル）相に対応して約１７９〜１８３℃であった。結果を表１４に示す。
【表１４】
2016505089.tif 000073
【０１７５】
サンプルを圧縮成形して厚みが約２．５ｍｍの部品を成形した．この試験部品を８０℃の脱イオン水に浸漬し、０、２４、４８、７２、９６、１６８、２１６および２４０時間経過後に秤量して吸湿量を求めた。その後、各時間における質量％上昇を算出した。結果（質量％上昇）を表１５に示す。ここでの比較実施例Ａは、表１の「ＰＫＨＨ」で示すフェノキシ樹脂である。この結果から、トリブロックコポリマー中のＰＰＥの濃度の上昇に伴って、吸湿量が低下することがわかる。
【表１５】
2016505089.tif 000074
【０１７６】
実施例７〜１２、比較実施例１〜３
これらの実施例では、非極性ポリマー（ポリ（フェニレンエーテル）およびポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン）と極性ポリマー（ポリ（ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ））とのブレンドを相溶化させるためのＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの使用について例証する。
【０１７７】
これらのブレンドでは、表１に記載のＰＰＥ／ＳＥＢＳマスターバッチを使用した。比較実施例１は、ＰＢＴとＰＰＥ／ＳＥＢＳ（ポリ（ヒドロキシエーテル）またはＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーは含まない）とのブレンドである。比較実施例２と３は、ＰＢＴと、ＰＰＥ／ＳＥＢＳと、表１のＰＫＨＨで示すポリ（ヒドロキシエーテル）それぞれ２．５質量％および５質量％と、のブレンドである。
【０１７８】
Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸実験室押出機（スクリュー径１８ｍｍ）をスクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク６０〜７５％、ゾーン温度が供給口からダイまで１８０℃、２３０℃、２５０℃、２７０℃、２７０℃、２７０℃および２７０℃で操作して、組成物を混合した。Ｄｅｍａｇ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｇｒｏｕｐ社のモデル４０−８０射出成形機をバレル温度２７１℃、ノズル温度２７１℃、金型温度５４℃、射出圧９．７７〜１０．４７ＭＰａ、背圧０．３５ＭＰａで操作して、物性試験用の物品を射出成形した。
【０１７９】
組成物と特性を表１６に示す。成分量の単位は、組成物の合計質量に対する質量％である。密度（ｇ／ｃｍ３）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９２−０８に準拠し温度２３℃で求めた。曲げ弾性率（ＭＰａ）と５％ひずみ曲げ応力（ＭＰａ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−１０方法Ｂに準拠し、温度２３℃、厚み３．２ｍｍ×幅１２．７ｍｍのサンプル、支点間距離１０ｃｍ、（３．９３７インチ）、クロスヘッド速度１．３５ｍｍ／分（０．０５３インチ／分）の条件で測定した。熱変形温度（℃）は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、試験方向エッジワイズ、横断面寸法３．２ｍｍ×１２．５ｍｍ、負荷１．８２ＭＰａ、および試験前のアニーリングなしの条件で測定した。引張弾性率（ＭＰａ）、引張降伏点応力（ＭＰａ）、引張破断応力（ＭＰａ）、引張降伏点伸び率（％）および引張破断伸び率（％）は、ＡＳＴＭ  Ｄ６３８−０８に準拠し、温度２３℃、Ｉ形棒、ゲージ長５０ｍｍ、試験速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で求めた。ノッチ付アイゾッド衝撃強度（Ｊ／ｍ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ２５６−０８方法Ａに準拠し、温度２３℃、ハンマーエネルギー２フィート−ポンド（２．７１１Ｊ）、棒寸法３．２ｍｍ×１２．７ｍｍ×０．２ｍｍの条件で求めた。
【０１８０】
表１６の結果から、比較実施例１（ポリ（ヒドロキシエーテル）またはＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーを含まない）および比較実施例２と３（ポリ（ヒドロキシエーテル）を含む）に比べて、ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーを含む実施例７〜１２の引張降伏点伸び率、引張破断伸び率およびノッチ付アイゾッド衝撃強度は向上していることがわかる。また、実施例８、９、１１および１２の曲げ弾性率は向上しており；実施例８〜１２の５％ひずみ曲応力は向上しており；実施例８〜１０の熱変形温度は向上しており；実施例７〜９、１１および１２の引張降伏点応力と引張破断応力は向上している。
【表１６−１】
2016505089.tif 000075
【表１６−２】
2016505089.tif 000076
【０１８１】
比較実施例３、実施例８および実施例１１の形態を走査透過型電子顕微鏡法で調査した。ミクロトームで薄片化した表面を、四酸化オスミウムで１５分間、四酸化ルテニウムで４５秒間染色し、走査透過型電子顕微鏡モジュールを装備したＺｅｉｓｓ  ＥＶＯ４０ＸＶＰ走査電子顕微鏡で観察した。比較実施例３に対応する図１（２５，０００倍）では、顕微鏡写真の異なる相が示されている。分散相は、実質的にポリ（フェニレンエーテル）（標識「１」）とポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン（標識「２」）とで構成されており、連続相は、実質的にポリ（ブチレンテレフタレート）（標識「３」）で構成されている。比較実施例３、実施例８および実施例１１の代表的な顕微鏡写真（５，０００倍）をそれぞれ図２、３および４に示す。ポリ（ヒドロキシエーテル）５質量％を含む比較実施例３に対応する図２では、非常に大きなポリ（フェニレンエーテル）／ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン分散相領域が示されている。対照的に、ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー５質量％とＰＰＥ５７質量％を含む実施例８と、ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー５質量％とＰＰＥ４５質量％を含む実施例１１と、にそれぞれ対応する図３と４では、著しく小さなポリ（フェニレンエーテル）／ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン分散相領域が示されている。
【０１８２】
実施例１３〜１８、比較実施例４〜６
これらの実施例では、非極性ポリマー（ポリ（フェニレンエーテル）およびポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン）と極性ポリマー（ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ））とのブレンドを相溶化させるためのＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの使用について例証する。このＰＥＴは未使用樹脂として得た。
【０１８３】
Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸実験室押出機（スクリュー径１８ｍｍ）をスクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク６０〜７５％、ゾーン温度が供給口からダイまで１８０℃、２３０℃、２５０℃、２７０℃、２７０℃、２７０℃および２７０℃で操作して、組成物を混合した。Ｄｅｍａｇ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｇｒｏｕｐ社のモデル４０−８０射出成形機をバレル温度２５４〜３０４℃、ノズル温度２７１〜３０４℃、金型温度５４〜７７℃、射出圧９．０７〜１１．１７ＭＰａ、背圧０．３５ＭＰａで操作して、物性試験用の物品を射出成形した。
【０１８４】
組成物と特性を表１７に示す。この結果から、比較実施例４（相溶化剤を含まない）および比較実施例５と６（ポリ（ヒドロキシエーテル）を含む）に比べて、ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーを含む実施例１３〜１８の曲げ弾性率、熱変形温度、引張弾性率、引張降伏点応力、引張破断応力、引張破断伸び率およびノッチ付アイゾッド衝撃強度は向上していることがわかる。また、実施例１３〜１５、１７および１８の５％ひずみ曲げ応力と引張降伏点伸び率は向上している。
【表１７−１】
2016505089.tif 000077
【表１７−２】
2016505089.tif 000078
【０１８５】
実施例１９〜２４、比較実施例７〜９
これらの実施例では、非極性ポリマー（ポリ（フェニレンエーテル）およびポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン）と極性ポリマー（ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ））とのブレンドを相溶化させるためのＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの使用についてさらに例証する。このＰＥＴは再利用樹脂として得た。
【０１８６】
組成物と特性を表１８に示す。この結果から、比較実施例７（相溶化剤を含まない）および比較実施例８と９（ポリ（ヒドロキシエーテル）を含む）に比べて、ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーを含む実施例１９〜２４の熱変形温度、引張弾性率、引張降伏点応力、引張破断応力、引張降伏点伸び率、引張破断伸び率およびノッチ付アイゾッド衝撃強度は向上していることがわかる。また、実施例１２〜２１、２３および２４の曲げ弾性率と５％ひずみ曲げ応力は向上している。
【表１８−１】
2016505089.tif 000079
【表１８−２】
2016505089.tif 000080
【０１８７】
実施例２５〜３０、比較実施例１０〜１２
これらの実施例では、非極性ポリマー（ポリスチレン）と極性充填剤（ガラス繊維）とのブレンドを相溶化させるためのＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーの使用について例証する。
【０１８８】
Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸実験室押出機（スクリュー径１８ｍｍ）をスクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク６０〜７０％、ゾーン温度が供給口からダイまで１８０℃、２３０℃、２５０℃、２７０℃、２７０℃、２７０℃および２８０℃で操作して、組成物を混合した。Ｄｅｍａｇ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｇｒｏｕｐ社のモデル４０−８０射出成形機をバレル温度２８８℃、ノズル温度２８８℃、金型温度６０℃、射出圧１０．４７ＭＰａ、背圧０．１４ＭＰａで操作して、物性試験用の物品を射出成形した。
【０１８９】
組成物と特性を表１９に示す。曲げ弾性率（ＭＰａ）、曲げ降伏点応力（ＭＰａ）および曲げ破断応力（ＭＰａ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１手順Ａに準拠し、温度２３℃、棒横断面寸法３．２ｍｍ×１２．７ｍｍ、支点間距離５０．８ｍｍ、試験速度１．２７ｍｍ／分（０．０５インチ／分）の条件で求めた。引張降伏点応力は、ＡＳＴＭ  Ｄ６３８−０８に準拠し、温度２３℃、Ｉ形棒、ゲージ長５０ｍｍ、試験速度５ｍｍ／ｍｉｎの条件で求めた。他の特性は、上記の実施例１〜６に記載の方法で求めた。
【０１９０】
表１９の結果から、比較実施例１０（相溶化剤を含まない）および比較実施例１１と１２（ポリ（ヒドロキシエーテル）を含む）に対して、ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーを含む実施例２５〜３０の曲げ弾性率、曲げ降伏点応力、曲げ破断応力、熱変形温度、ノッチ付アイゾッド衝撃強度、引張破断応力および引張破断伸び率は向上していることがわかる。
【表１９−１】
2016505089.tif 000081
【表１９−２】
2016505089.tif 000082
【０１９１】
ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーを含む実施例２５〜３０の物性が向上していることから、ＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマーは、ポリスチレン相とガラス繊維間の界面接着の向上に有効であることが示唆される。従って、ポリスチレン−ガラス繊維界面を走査電子顕微鏡法（ＳＥＭ）で調査した。
【０１９２】
走査電子顕微鏡法（ＳＥＭ）用のサンプルは液体窒素中で凍結切片化し、ＳＥＭスタブ上に載せた。その後、サンプルを金でコーティングした。Ｃａｒｌ  Ｚｅｉｓｓ  ＡＧ−ＥＶＯ（登録商標）４０シリーズ走査電子顕微鏡を用いてサンプル観察を行った。観察条件は、ＳＥＭモード、プローブ電流４０ｐＡ、ＨＶ（高真空）および加速電圧２０ｋＶとした。
【０１９３】
図５は比較実施例１０に対応している。ポリスチレンとガラス繊維との相互作用の兆候はない。ガラス繊維は露出しているように見え、ガラス繊維に付着したポリスチレンの兆候はない。ガラス繊維とポリスチレンとは分離している。
【０１９４】
図６は比較実施例１１に対応している。樹脂とガラス繊維との強い相互作用の兆候はない。ガラス繊維は、ポリスチレン／ポリ（ヒドロキシエーテル）樹脂には接着していない。恐らくはポリ（ヒドロキシエーテル）と思われる低レベルの樹脂がガラス繊維に付着しているように見える。
【０１９５】
図７は比較実施例１２に対応している。樹脂とガラス繊維との強い相互作用の兆候はない。ガラス繊維は、ポリスチレン／ポリ（ヒドロキシエーテル）樹脂には接着していない。恐らくはポリ（ヒドロキシエーテル）と思われる低レベルの樹脂がガラス繊維に付着しているように見える。
【０１９６】
図８は、ＰＰＥ含有量が４５％のＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー２．５質量％を含む実施例２８に対応している。ポリスチレン／ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー樹脂とガラス繊維間は、良好に接着している。樹脂とガラス繊維間の分離の兆候はない。
【０１９７】
図９は、ＰＰＥ含有量が４５％のＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー５質量％を含む実施例２９に対応している。ポリスチレン／ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー樹脂とガラス繊維間は、良好に接着している。樹脂とガラス繊維間の分離の兆候はない。
【０１９８】
図１０は、ＰＰＥ含有量が４５％のＰＰＥ−ＰＨＥ−ＰＰＥトリブロックコポリマー１０質量％を含む実施例３０に対応している。ポリスチレン／ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー樹脂とガラス繊維間は、良好に接着している。樹脂とガラス繊維間の分離の兆候はない。
【図１】
2016505089.tif 000094
【図２】
2016505089.tif 000095
【図３】
2016505089.tif 000096
【図４】
2016505089.tif 000097
【図５】
2016505089.tif 000098
【図６】
2016505089.tif 000099
【図７】
2016505089.tif 000100
【図８】
2016505089.tif 000101
【図９】
2016505089.tif 000102
【図１０】
2016505089.tif 000103
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月2日(2015.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ（フェニレンエーテル）ブロックがそれぞれ独立に下式の構造
【化１】
2016505089.tif 000104
［式中、ｍは５〜５０であり；Ｚ１は、それぞれ独立にハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルでない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、
Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである］を有し；
ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが下式の構造
【化２】
2016505089.tif 000105
｛式中、Ａは、構造：
【化３】
2016505089.tif 000106
［式中、Ｇ１は、それぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり；Ｅは、それぞれ独立に直接結合または下式の構造
【化４】
2016505089.tif 000107
（式中、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり；ｓは０または１であり；ｔとｕは、それぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【化５】
2016505089.tif 000108
（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは２〜６０である｝を有することを特徴とするポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項２】
９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する請求項１に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項３】
前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックが、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；
ｍが１０〜４０であり；
前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックが、下式の構造
【化６】
2016505089.tif 000109
（式中、ｎは５〜５０）を有する請求項１又は２に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項４】
前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し、前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックの数平均分子量は、２，０００〜１０，０００原子質量単位である請求項１乃至３のいずれか１項に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項５】
前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化７】
2016505089.tif 000110
（式中、ｎは５〜５０）を有し、
９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する請求項１乃至４のいずれか１項に記載のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマー。
【請求項６】
塩基の存在下、モノヒドロキシ末端ポリ（フェニレンエーテル）をジエポキシ末端ポリ（ヒドロキシエーテル）と反応させるステップを含むことを特徴とするポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの形成方法。
【請求項７】
組成物の合計質量に対して、
セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、
ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；
アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含み、
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化８】
2016505089.tif 000111
（式中、ｎは５〜５０）を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有することを特徴とする組成物。
【請求項８】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位を含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１５００〜３５００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化９】
2016505089.tif 000112
（式中、ｎは５〜５０）を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有し；
前記極性ポリマーは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）またはこれらの組み合わせであり；
前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、およびポリ（アルケニル芳香族）の１つまたは複数とさらに任意に組み合わせられた、ポリ（フェニレンエーテル）、およびアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーの組み合わせである請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
組成物の合計質量に対して、
アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを３０〜９３質量％と；
ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物、セラミック繊維およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性充填剤を５〜５０質量％と；
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含み、
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位またはこれらの組み合わせを含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１０００〜５０００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化１０】
2016505089.tif 000113
（式中、ｎは５〜５０）を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有することを特徴とする組成物。
【請求項１０】
前記非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびポリ（フェニレンエーテル）の１つまたは複数と任意に組み合わせられたポリスチレンであり；
前記極性充填剤は、ガラスフレーク、ガラスビーズ、粘土、タルク、雲母、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、珪灰石、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ドロマイト、加工鉱物繊維、金属酸化物、金属水酸化物およびセラミック繊維の１つまたは複数と任意に組み合わせられたガラス繊維であり；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位を含み；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、それぞれ独立に１５００〜３５００原子質量単位の数平均分子量を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーの前記ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化１１】
2016505089.tif 000114
（式中、ｎは５〜５０）を有し；
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーは、９５〜１１５℃の第１のガラス転移温度と、１７０〜２２０℃の第２のガラス転移温度と、を有する請求項９に記載の組成物。
【国際調査報告】
2016505089.tif 000115
2016505089.tif 000116