(57)【要約】  物品は、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板（ここで、基板及び配線の無機材料はそれぞれ屈折率を有する）、及びこの基板の表面及びこの無機導電性配線の少なくとも一部に隣接する重合されたアクリレートマトリックスを含む層を含み、この層が基板及びこの配線の無機材料の屈折率の平均の±１０％以内である屈折率を有する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品であって、
パターン化基板であって、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含み、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する、パターン化基板と、
前記基板の表面及び前記無機導電性配線の少なくとも一部に隣接した重合されたアクリレートマトリックスを含む層であって、前記重合されたアクリレートマトリックスが前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する層と、を備える、物品。
【請求項２】
前記重合されたアクリレートマトリックスが、その中に分散された無機ナノ粒子を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記無機ナノ粒子が、前記重合されたアクリレートマトリックス中に６０体積百分率以下の量で存在する、請求項２に記載の物品。
【請求項４】
前記無機ナノ粒子が、ジルコニア、チタニア、ＺｎＳ、ＺｎＯ、酸化スズ、酸化アンチモン、又はこれらの組合せを含む、請求項２に記載の物品。
【請求項５】
前記無機ナノ粒子が、表面変性した無機ナノ粒子である、請求項２に記載の物品。
【請求項６】
表面変性した無機ナノ粒子が、シラン官能基、ヒドロキシウレア官能基、酸性官能基、又はこれらの組合せを含む表面変性剤を含む、請求項５に記載の物品。
【請求項７】
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±５％である屈折率を有する、請求項１に記載の物品。
【請求項８】
前記重合されたアクリレートマトリックスが、（メタ）アクリレートモノマー、（メタ）アクリルアミドモノマー、（メタ）アクリレート−官能性オリゴマー、（メタ）アクリルアミド−官能性オリゴマー、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマー、無機ナノ粒子上の（メタ）アクリレート由来のオリゴマー又はポリマー基、無機ナノ粒子上の（メタ）アクリルアミド由来のオリゴマー又はポリマー基、又はこれらの組合せの１つ以上から形成される、請求項１に記載の物品。
【請求項９】
前記重合されたアクリレートマトリックスが芳香族基を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項１０】
前記無機導電性配線が、インジウムスズ酸化物、ドープＺｎＯ、又はアンチモンスズ酸化物を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項１１】
前記基板が、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンコポリマー、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、又は偏光子フィルムを含む、請求項１に記載の物品。
【請求項１２】
前記基板が、レンズ、タッチセンサー、発光型ディスプレイ、又は光反射型ディスプレイから選択される透明なディスプレイ基板であるか、又はその一部である、請求項１に記載の物品。
【請求項１３】
物品の製造方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備することと、
重合されたアクリレートマトリックスを、前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用することと、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する、方法。
【請求項１４】
前記重合されたアクリレートマトリックスを適用することが、積層体を前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用することを含み、前記積層体が
光学的に透明な接着剤を含む層と、
光学的に透明な接着剤を含む前記層に隣接する重合されたアクリレートマトリックスを含む層と、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが前記パターン化基板表面と前記光学的に透明な接着剤との間に配置されるように、前記積層体が配置される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
コーティングの方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、前記基板及び前記配線の前記無機材料が各々屈折率を有する基板を準備することと、
重合性アクリレートマトリックスを含むコーティング組成物を、前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成することと、
前記重合性アクリレートマトリックスを重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することと、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する、方法。
【請求項１６】
光学的に透明な接着剤を前記コーティング表面上に適用することを更に含み、前記重合性アクリレートマトリックスを重合することが、前記光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
コーティングの方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板を準備することと、
コーティング組成物を前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成することと、
前記重合性アクリレートマトリックスを重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することと、
を含み、
前記コーティング組成物が、
Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む重合性アクリレートマトリックスと、
前記重合性アクリレートマトリックス中に分散された無機ナノ粒子と、
開始剤とを含む、方法。
【請求項１８】
光学的に透明な接着剤を前記コーティング表面上に適用することを更に含み、前記重合性アクリレートマトリックスを重合することが、前記光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
物品であって、
基板表面を含む基板であって、前記基板が、ガラス、ＩＴＯでパターン化されたガラス、非プライマー処理ＰＥＴ、及びシクロオレフィンコポリマーから選択される、基板と、
前記基板上に配置された重合されたアクリレートマトリックスであって、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む、重合されたアクリレートマトリックスと、を含み、
前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が前記コーティングの前記基板への接着を促進する、物品。
【請求項２０】
前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が、重合性又は重合されたアクリレートマトリックスの１つ以上のモノマー中の官能基として提供される、請求項１９に記載の物品。
【請求項２１】
積層体であって、
第１のライナーと、
前記第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む層と、
高屈折率材料を含む前記層に隣接する低屈折率材料を含む層と、
低屈折率材料を含む前記層に隣接する第２のライナーと、を含む、積層体。
【請求項２２】
前記低屈折率材料が光学的に透明な接着剤であり、前記高屈折率材料が、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである、請求項２１に記載の積層体。
【請求項２３】
前記分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスが、接着剤である、請求項２２に記載の積層体。
【請求項２４】
前記接着剤が、感圧性接着剤及び熱活性接着剤のうちの少なくとも１つである、請求項２３に記載の積層体。
【請求項２５】
積層体であって、
第１のライナーと、
前記第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む第１の層と、
高屈折率材料を含む前記層に隣接する低屈折率材料を含む層と、
低屈折率材料を含む前記層に隣接する高屈折率材料を含む第２の層と、
高屈折率材料を含む前記第２の層に隣接する第２のライナーと、を含む、積層体。
【請求項２６】
前記低屈折率材料が光学的に透明な接着剤であり、前記高屈折率材料が、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである、請求項２５に記載の積層体。
【請求項２７】
前記分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスが、接着剤である、請求項２６に記載の積層体。
【請求項２８】
前記接着剤が、感圧性接着剤及び熱活性接着剤のうちの少なくとも１つである、請求項２７に記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
光学的に透明な感圧性接着剤（ＯＣＡ）は、光学ディスプレイで幅広い用途がある。このような用途としては、偏光子を液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のモジュールに結合すること、及び様々な光学フィルムを携帯型ハンドヘルドデバイス（ＭＨＨ）のガラスレンズに取り付けることが挙げられるが、これらに限定されない。偏光子は、直接的又は間接的にＯＣＡと接触してよい。
【０００２】
更に、広く使用されるタッチパネル、すなわち、タッチスクリーンとしては典型的にはインジウム−酸化スズ−（ＩＴＯ）被覆ポリエチレンテレフタレートフィルム又はＩＴＯ被覆ガラスが挙げられる。このＩＴＯは、典型的には、パターン化された配線形態でありかつ導電性である。多くの場合これらＩＴＯ被覆基板は、ＯＣＡを使用してディスプレイモジュールに取り付けられる。幾つかのタッチパネルデザインにおいては、ＯＣＡは導電性ＩＴＯ配線に直接接触させることができる。このような場合、ＯＣＡはＩＴＯ配線と適合性である必要があり、すなわち、ＯＣＡは、ＩＴＯ配線との接触を保持しつつ、ＩＴＯ配線の電気抵抗の最小以上の変化を生じさせてはならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
特に容量型タッチスクリーン用途における大きな問題は、ＩＴＯパターンが、ＩＴＯ、基板と、使用される場合にはＯＣＡとの間の屈折率ミスマッチによりしばしば高視認性状態にあるということである。ＩＴＯ配線の高反射性により、ＩＴＯ配線は周囲の領域から浮き上がって見える。特に、ある視角から及び／又は特定の光の条件下ではパターンは極めて高視認性であり、デバイス製造者及びデバイスの顧客によりいやがられる。例えば、高屈折率のコーティングの使用によるＩＴＯ配線の屈折率へのマッチングによるこの問題の解決における様々な試みに鑑みると、ＩＴＯ配線及び他の導電性配線の隠蔽には大きな技術的挑戦がなお残る。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本開示は、易視認性の導電性配線、特にＩＴＯ配線の問題に解決策を提供する。
【０００５】
一実施形態では、本開示は、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含み、基板及び配線の無機材料がそれぞれ屈折率を有するパターン化基板、及びこの基板の表面及びこの無機導電性配線の少なくとも一部に隣接した重合されたアクリレートマトリックス（所望によりその中に分散された無機ナノ粒子を有する）を含む層を備える、物品を提供する。
【０００６】
特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックス（所望によりその中に分散された無機ナノ粒子を有する）は、基板及びこの配線の無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する。
【０００７】
特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックスは、その中に分散された無機ナノ粒子を含む。特定の実施形態では、無機ナノ粒子は、表面変性した無機ナノ粒子である。
【０００８】
特定の実施形態では、この物品の基板は、レンズ、タッチセンサー、発光型ディスプレイ、又は光反射型ディスプレイから選択される透明なディスプレイ基板であるか、又はその一部である。
【０００９】
一実施形態では、本開示は、基板表面を含む基板であって、この基板がガラス、ＩＴＯでパターン化されたガラス、非プライマー処理ＰＥＴ、及びシクロオレフィンコポリマーから選択される、基板と、基板上に配置された重合されたアクリレートマトリックスであって、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む、重合されたアクリレートマトリックスと、を含み、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基がコーティングの基板への接着を促進する、物品を提供する。
【００１０】
本開示は、パターン化基板のコーティング方法を含む本明細書中に記述される物品の製造方法も提供する。
【００１１】
一実施形態では、この物品の製造方法は、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、基板及び配線の無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備することと、重合されたアクリレートマトリックス（所望によりその中に分散された無機ナノ粒子を有する）をパターン化基板表面の少なくとも一部に適用することを含み、重合されたアクリレートマトリックスが基板及び配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する。
【００１２】
特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックスを適用することは、積層体を適用することを含み、積層体は光学的に透明な接着剤を含む層、及び光学的に透明な接着剤を含む層に隣接する重合されたアクリレートマトリックス（所望によりその中に分散された無機ナノ粒子を有する）を含む層を含む。パターン化基板に適用するときには、積層体は、重合されたアクリレートマトリックスがパターン化基板表面と光学的に透明な接着剤との間に配置されるように配置される。
【００１３】
特定の実施形態では、積層体を適用した後、この方法は、重合されたアクリレートマトリックスにエネルギー（例えば、光又は熱）を印加して、アクリレートマトリックスを架橋するか又はアクリレートマトリックスの架橋を増加させることを更に含む。
【００１４】
一実施形態では、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、配線の基板及び無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備することと、重合性アクリレートマトリックス（所望によりその中に分散された無機ナノ粒子を有する）を含む、コーティング組成物をパターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成することと、重合性アクリレートマトリックス（コーティング組成物の）を重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することを含み、重合されたアクリレートマトリックスが、配線の基板及び無機材料の屈折率の平均の±１０％であるコーティングの方法が提供される。特定の実施形態では、この方法は光学的に透明な接着剤をコーティング表面上に適用することを更に含み、重合性アクリレートマトリックスを重合することが、光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる。
【００１５】
一実施形態では、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板を準備すること、コーティング組成物をパターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成すること、及び重合性アクリレートマトリックス（コーティング組成物の）を重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することを含むコーティングの方法が提供される。この方法では、このコーティング組成物は、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む重合性アクリレートマトリックス、重合性アクリレートマトリックス中に分散された無機ナノ粒子、及び開始剤を含む。特定の実施形態では、この方法は、光学的に透明な接着剤をコーティング表面上に適用することを更に含み、重合性アクリレートマトリックスを重合することは、光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる。
【００１６】
本開示は積層体も提供する。
【００１７】
一実施形態では、積層体は、第１のライナー、第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む第１の層、高屈折率材料を含む層に隣接する低屈折率材料を含む層、及び高屈折率材料を含む第２の層に隣接する第２のライナーを含む。
【００１８】
第２の実施形態では、積層体は、第１のライナー、前記第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む第１の層、高屈折率材料を含む層に隣接する低屈折率材料を含む層、低屈折率材料を含む層に隣接する高屈折率材料（第１の層の同一の材料であってもよく、又はそうでなくともよい）を含む第２の層、及び高屈折率材料を含む第２の層に隣接する第２のライナーを含む。
【００１９】
この積層体の特定の実施形態では、低屈折率材料は光学的に透明な接着剤であり、及び高屈折率材料が、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである。特定の実施形態では、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスは接着剤（例えば、感圧性接着剤又は熱活性接着剤）である。
【００２０】
したがって、特定の実施形態では、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスは接着剤として機能することができる。特定の実施形態では、接着剤は感圧性接着剤であり、及び特定の実施形態では、熱活性接着剤（例えば、ホットメルト接着剤）である。
【００２１】
本明細書中、感圧性接着剤（ＰＳＡ）は、室温におけるタックについてのダルキスト（Dahlquist）基準に合致する接着剤として定義され、接着剤（すなわち、接着性、凝集性、伸縮性、及び弾性のバランスを与える）として機能する。
【００２２】
熱活性接着剤（「ＨＡ」）は、室温では非粘稠であるが、一時的に粘稠であり（すなわち、これらは活性化温度で活性化される）及び高温で基板に結合可能である接着剤として定義される。この活性化温度又はそれより高い温度では、これらはＰＳＡと同じ特性（すなわち、接着力、凝集力、伸縮性、及び弾性）を有する。熱活性接着剤は通常、室温より高いガラス転移温度（Ｔｇ）又は融点（Ｔｍ）を有する。温度をＴｇ又はＴｍより上げた場合、貯蔵弾性率は通常低下し、接着剤が粘着性になる。
【００２３】
対照的に、温度をＴｇ又はＴｍより下げると、結合強度は保持又は増加するが、貯蔵弾性率は通常増加し、及び粘着タックは低下する。
【００２４】
本明細書中、用語「高率」、「高屈折率」、及び「高い屈折率」は互換的に使用される。
【００２５】
本明細書中、用語「低率」、「低屈折率」、及び「低い屈折率」」は互換的に使用される。
【００２６】
本明細書中、「隣接する」は、直接接触しているか、又はプライマー又はハードコーティング層など１つ以上の他の材料により隔てられている、典型的には層の形の２つの材料を指すのに使用することができる。しばしば、隣接する材料は直接接触している。
【００２７】
用語「含む（comprise）」及びこの変形は、これらの用語が現れる明細書及び請求項を制限する意図を持たない。
【００２８】
「好ましい」及び「好ましくは」という語は、特定の状況下で、特定の効果をもたらし得る本開示の実施形態のことを指す。しかしながら、同一又は他の環境下で、他の実施形態も好ましい可能性がある。更に、１つ以上の好ましい実施形態の説明は、他の実施形態が有用ではないことを示唆するものではなく、本開示の範囲から他の実施形態を除外することを目的としたものではない。
【００２９】
本出願では、「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」等の用語は、１つの実体のみを指すことを意図するものではなく、具体例を例示のために用いることができる一般分類を含む。用語「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、用語「少なくとも１つ」と共に、互換的に使用される。一覧を伴った、「の少なくとも１つ」及び「の少なくとも１つを含む」という表現は、その一覧の項目の任意の１つ、及びその一覧の項目の２つ以上の任意の組合せを指す。
【００３０】
本明細書で使用するとき、用語「又は」は、内容が明確にそれ以外を指図しない限り、一般的に「及び／又は」を含む意味で使用される。
【００３１】
用語「及び／又は」は、列挙された要素の１つ又は全てを、若しくは列挙された要素の任意の２つ以上の組合せを意味する。
【００３２】
同様に、本明細書においては、全ての数は「約」という用語で修飾されたとみなされ、好ましくは「厳密に」という用語で修飾されたとみなされる。本明細書において測定した量と関連して使用されるとき、用語「約」は、測定を行い測定の目的及び使用測定機器の精度に対応するレベルの注意を払う熟練した技術者によって期待されるような測定量の変化を指す。
【００３３】
また本明細書において、端点による数の範囲の列挙には、その範囲内に包含される全ての数及び端点（例えば、１〜５には、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、５等）が包含される。
【００３４】
本明細書で使用するとき、「室温」という用語は、約２０℃〜約２５℃又は約２２℃〜約２５℃の温度を指す。
【００３５】
本開示の上記の「課題を解決するための手段」は、本開示の開示される各実施形態又は全ての実現形態を説明することを目的としたものではない。以下の説明は、例示的な実施形態をより具体的に例示するものである。本出願の全体を通じて幾つかの箇所で、実施例のリストによって指針が与えられるが、これらの実施例は異なる組合せで使用することができる。いずれの場合も、記載される列挙は、あくまで代表的な群としてのみの役割を果たすものであって、排他的な列挙として解釈するべきではない。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本開示による代表的物品の断面図である。
【図２】本開示による物品の代表的製造方法の概略図である。
【図３】本開示による代表的積層体の概略図である。
【図４】本開示による別の代表的積層体の概略図である。
【図５】ＩＴＯパターン隠蔽試験において記述するように、ガラス上のダイアモンド形状のＩＴＯパターンに対する輝度測定を示すグラフである。ｘ軸はパネルを横断した走査距離であり、ｙ軸は輝度である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
本開示は、例えば、タッチスクリーンを含む物品における高視認性の無機導電性配線、特にＩＴＯ配線の問題に対処する、高屈折率材料、物品、及び方法を提供する。
【００３８】
一般に、この問題は、基板及び配線の無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する材料を使用することにより対処される。これは、無機導電性配線の屈折率にマッチする屈折率を有する材料の使用を含む他の方法にまさる著しい改良を提供する。
【００３９】
有利なこととしては、パターンの隠蔽に通常使用されるパターン付きの導電性配線に対して高屈折率の下地コーティングを必要とすることなく、基板及び配線の無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する材料を導電性配線パターン化基板にかぶせて、パターン視認性を低減することもできる。このような高屈折率の下地コーティングは、典型的には導電性配線材料の屈折率にクローズマッチするものである。
【００４０】
例えば、それに隣接する無機導電性配線を有する基板表面を含むパターン化基板（ここで、基板及び配線の無機材料はそれぞれ屈折率を有する）を含む物品では、重合されたアクリレートマトリックスを含む層は基板及び無機導電性配線の表面の少なくとも一部に隣接し、重合されたアクリレートマトリックスは基板及び配線の無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する。特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックスは、基板及び配線の無機材料の屈折率の平均の±５％以内にある屈折率を有する。
【００４１】
特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックスはその中に分散された無機ナノ粒子を含む。特定の実施形態では、無機ナノ粒子は表面変性した無機ナノ粒子である。このような実施形態では、分散された無機ナノ粒子を有する重合されたアクリレートマトリックスの組合せは、基板及び配線の無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する。特定の実施形態では、分散された無機ナノ粒子を有する重合されたアクリレートマトリックスの組合せは、基板及び配線の無機材料の屈折率の平均の±５％以内にある屈折率を有する。
【００４２】
典型的には、その中に分散された無機ナノ粒子を含まない重合されたアクリレートマトリックスは、少なくとも１．５５、及びしばしば１．７２以下の屈折率を有する。
【００４３】
典型的には、その中に分散された無機ナノ粒子を含まない重合されたアクリレートマトリックスは、少なくとも１．５５、及びしばしば１．９以下の屈折率を有する。
【００４４】
アクリレートマトリックスのこの比較的高い屈折率は、マトリックスそれ自身又はナノ粒子、又はその両方に由来するものであることができる。例えば、アクリレートマトリックスは、無機ナノ粒子が比較的高い屈折率を有する限り、概ね低い屈折率材料（例えば、低屈折率モノマー由来の）であることもある。あるいは、アクリレートマトリックスは、概ね高い屈折率材料であることもあり、その場合には、無機ナノ粒子を使用しても又は使用しなくてもよい。
【００４５】
図に転じると、図１は、第１の基板１２を有する代表的物品１０の断面図を示す。基板の第１の表面１２ａに隣接するのは無機導電性配線１４である。配線は、第１の表面１２ａ上にグリッドを形成する。配線端は、電気コネクターパッド１６で終わる。
【００４６】
典型的には、基板１２は少なくとも１．４５、及びしばしば１．６５以下の屈折率を有する。代表的な基板は、ガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、又は偏光子フィルムなどの材料でできていてもよい。特定の実施形態では、基板は、レンズ、タッチセンサー、発光型ディスプレイ、又は光反射型ディスプレイから選択される透明なディスプレイ基板又はその一部である。
【００４７】
典型的には、無機導電性配線１４の無機材料は少なくとも１．６５、しばしば２．５以下の屈折率を有する。無機導電性配線の製造に使用される代表的な材料には、インジウムスズ酸化物、ドープＺｎＯ、及びアンチモンスズ酸化物が挙げられる。
【００４８】
特定の実施形態では、基板及び無機導電性配線の材料は、基板及び配線の無機材料の屈折率の間の差が０．２超であるように選択される。
【００４９】
図１に示すように、重合されたアクリレートマトリックス１８（所望によりその中に分散した無機ナノ粒子を有する）が配線１４に隣接する。配線がグリッド形式であるために、重合されたアクリレートマトリックス１８の一部は、第１の基板１２の露出した第１の表面１２ａと直接接触していることもある。重合されたアクリレートマトリックス１８は、典型的には層として基板１２の表面１２ａ及び無機導電性配線１４の少なくとも一部上に配置される。重合されたアクリレートマトリックス層の厚さは配線を完全に被覆するのに充分である。配線の間に凹部又は谷（valley）が存在することもあるので、厚さは全表面にわたって均一でないこともある。
【００５０】
図１に示さないが、特定の実施形態では、無機導電性配線はそれに隣接する薄いバリア（保護）層（図示せず）を有することもあり、その場合には重合されたアクリレートマトリックス１８は配線に直接に接触しない。このような保護材料には、スパッタ二酸化ケイ素又は炭化ケイ素、又は高架橋アクリレート又はエポキシベースのハードコーティングが挙げられる。
【００５１】
所望により、この実施形態は重合されたアクリレートマトリックス１８に隣接する第２の基板１１を含む。第１の基板及び第２の基板は、使用される場合、光学的に透明である。
【００５２】
代表的な光学的に透明な基板としては、ディスプレイパネル、例えば、液晶ディスプレイ、ＯＬＥＤディスプレイ、タッチパネル、エレクトロウェッティング方式ディスプレイ又は陰極線管、窓又はグレージング、光学部品、例えば反射器、偏光器、回折格子、鏡、又はカバーレンズ、別のフィルム、例えば、装飾フィルム又は別の光学フィルムが挙げられるが、それらに限定されない。場合によっては、第２の基板１１は、ＩＴＯパターン化基板（すなわち、ＩＴＯ配線１４及びコネクターパッド１６付きの基板１２に類似の）であることもできる。
【００５３】
光学的に透明な基板の代表例としては、ガラス並びにポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート）、ポリウレタン、ポリ（メタ）アクリレート（例えば、ポリメチルメタクリレート）、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状オレフィンコポリマー及びセルローストリアセテートを含有するものを含む、ポリマー基板が挙げられる。典型的には、カバーレンズは、ガラス、ポリメチルメタクリレート、又はポリカーボネートで作製することができる。
【００５４】
場合によっては、慣用の光学的に透明な接着剤（すなわち、低屈折率材料）を重合されたアクリレートマトリックス１８と第２の基板１１との間に配置することができる。
【００５５】
図２は、図１の物品の代表的製造プロセスの概略図を示す。前記プロセスは、第１の表面２２ａを有する第１の基板２２を提供する工程を含む。電気的コネクターパッド２６付きの無機導電性配線２４が第１の表面２２ａに隣接する。転写テープ３０のロールが準備される。テープのロールは、ライナー３１、及びライナー３１と重合されたアクリレートマトリックス３８との間に配置された任意の光学的に透明な接着剤（図示せず）上に被覆された重合されたアクリレートマトリックス３８を含む。所望により、ライナーは、テープのロールを巻き出すことができる剥離コーティングを含む。転写テープは、重合されたマトリックス３８が配線２４と接触するように、第１の基板２２の第１の表面２２ａに積層される。
【００５６】
典型的には、ライナー３１を除去及び破棄し、第２の基板を重合されたアクリレートマトリックス、又は使用される場合には、ライナーと重合されたアクリレートマトリックス３８との間に配置された光学的に透明な接着剤（図示せず）の上に積層することができる。使用される場合には、第２の基板（図２には図示しないが、図１における１１に類似）は、典型的には光学的に透明である。光学的に透明な基板の例は上述されている。２つの基板の積層時、結合は典型的にはエアギャップ無しで形成される。
【００５７】
特定の実施形態では、積層体を適用した後、エネルギー（例えば、光又は熱）を重合されたアクリレートマトリックスに印加して、アクリレートマトリックスを架橋するか又はアクリレートマトリックスの架橋を増加させることができる。
【００５８】
図２は転写テープの使用を示すが、これらの転写テープから作製されるカットシート又はダイカットを用いて、この方法を実施することもできる。また、特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックス３８はそれに隣接する第２の保護ライナー（図示せず）を含むこともできる。
【００５９】
本開示は、また、積層体を例えば転写テープの形で提供する。一実施形態では、このような積層体は、２つのライナーの間に配置された高屈折率材料及び低屈折率材料の層状構造物を含む。別の実施形態では、このような積層体は、高屈折率材料の２つの層、高屈折率材料の２つの層の間に配置された低屈折率材料の層、及び各高屈折率材料層の外表面上のライナーの層状構造物を含む。このような実施形態は図３及び図４で例示されている。
【００６０】
代表的な転写テープは図３で積層体７０として示されている。図２に関してテープのロールについて上述したように、積層体７０は、高屈折率材料５７（例えば、本明細書中で開示されているようにその中に分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックス）及びライナー４１と高屈折率材料５７との間に配置された低屈折率材料５５（例えば、慣用の光学的に透明な接着剤）を含む。したがって、代表的な積層体７０は、ライナー４１と４２との間に配置された高屈折率材料５７及び低屈折率材料５５を含む構造物５０（好ましくは、接着剤構造物５０）を含む。
【００６１】
別の代表的な転写テープは図４で積層体８０として示される。積層体８０は、高屈折率材料の２つの層６７及び６９（例えば、本明細書中で開示されているようにその中に分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックス）をそれらの間に配置された低屈折率材料６５（例えば、慣用の光学的に透明な接着剤）と共に含む、構造物６０（好ましくは、接着剤構造物６０）を含む。構造物６０はライナー４１及び４２との間に配置される。層６７及び６９は同一の材料を含んでもよく又は含まなくともよい。
【００６２】
図３及び図４の積層体の特定の実施形態では、低屈折率材料は光学的に透明な接着剤であり、及び高屈折率材料は、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである。特定の実施形態では、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスは、接着剤である。特定の実施形態では、接着剤は、感圧性接着剤及び熱活性接着剤のうちの少なくとも１つである。
【００６３】
ライナーを除去することにより、転写テープを使用して、図２に示す高屈折率層（例えば、重合されたアクリレートマトリックス）３８の単一の層を供給するか、又はこれらを使用して、高屈折率層及び低屈折率層（それぞれ、図３中の積層体５０、及び図４中の積層体６０）の組合せをその上に導電性配線を有する基板に供給することができる。光学的な隠蔽力を得るためには、積層体の高屈折率層は、基板の導電性配線に隣接するように配置される。重合されたアクリレートマトリックスの単一の層、例えば図２の層３８を使用するとき、層の厚さは、好ましくは少なくとも１２．５マイクロメートル、又は少なくとも２５マイクロメートル、又は少なくとも５０マイクロメートル、又は少なくとも７５マイクロメートル、又は少なくとも１００マイクロメートル、又はそれ以上である。１２．５マイクロメートルを下回ると、単一の層は導電性配線を充分に被覆し及びディスプレイの基板の間のエアギャップを充填するのに充分伸縮性でないこともある。重合されたアクリレートマトリックス３８が無機ナノ粒子を含有するならば、特に、より高装填量の無機ナノ粒子を使用する場合にはマトリックスの伸縮性及び流動性は低下することもある。これらの場合、少なくとも２５マイクロメートルの層厚が必要とされることもある。加えて、一部のディスプレイ組み立て体は、高屈折率材料がレンズの装飾インクステップも充填することを必要とする。これらのインクステップは１０〜１００マイクロメートルの高さであることもあり、高屈折率層（例えば、重合されたアクリレートマトリックス）３８の更に厚いコーティングを必要とする。これらの高屈折率層の原材料コストは相当なものであるので、層厚の増加は極めて高コストである可能性がある。このように、多層構造物（例えば、図３中の構造物５０又は図４中の構造物６０）を使用することは有利であることがある。
【００６４】
実際、高屈折率層に対して同一のコーティング厚さを上述のようになおも使用することができるが、高屈折率層を低屈折率層（例えば、慣用のＯＣＡ層）と組合せることにより、これらの積層体は、同時に接着及びギャップ充填性を維持又は改善しながら、導電性配線の隠蔽の光学的な利点をなお提供することができるということを見出した。実際、導電性配線パターン化基板に取り付けられたとき高屈折率層が隠蔽力を提供する一方で、低屈折率層（例えば、慣用のＯＣＡ層）は厚さ及び伸縮性を積層体に付加することができる。加えて、慣用のＯＣＡ層は著しい粘弾性及び接着性を積層体に寄与することができるため、接着性を犠牲にすることなく高屈折率層のコーティング厚さを低減することが可能である。慣用のＯＣＡ層は、少なくとも２５マイクロメートル、又は少なくとも５０マイクロメートル、又は少なくとも７５マイクロメートル、又は少なくとも１００マイクロメートル、又は少なくとも１２５マイクロメートル、又は少なくとも１５０マイクロメートル、又はそれ以上の典型的な厚さを有する。有利なこととしては、この組合せの結果として、高屈折率層の厚さは、１２．５マイクロメートル以下、１０マイクロメートル以下、８マイクロメートル以下、又それ以下まで低減できる。高屈折率層が基板上の導電性配線を充分に被覆することができる限り、光学的な隠蔽力を得ることができる。しばしば、高屈折率層の最小のコーティング厚さは、少なくとも１マイクロメートル、又は少なくとも２マイクロメートル、又は少なくとも３マイクロメートル、又はそれ以上である。したがって、図３及び図４に示す積層体は著しい利点を提供する。
【００６５】
好適なライナーとしてはテープ裏材、光学フィルム、又は剥離ライナーとして慣用される可撓性の裏材材料が挙げられる。一般に、それは除去され及びパターン化基板を含む物品の一部にはならないので、屈折率又は光学透明性に対する特定の制約無しで任意の好適な可撓性の材料が使用できる。本明細書中で記述される積層体に有用であり得るテープ裏材として使用される可撓性の裏材材料の典型的な例としては、紙製（例えば、クラフトペーパー）又はポリプロピレン、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート）、エチレンビニルアセテート、セルロースアセテート、及びエチルセルロースなどのポリマーフィルム製のものが挙げられる。幾つかの可撓性裏材は、コーティング材を有し得る。例えば、剥離ライナーは、シリコーン含有材料又はフッ化炭素含有材料などの低接着性剥離剤でコーティングすることができる。
【００６６】
特定の実施形態では、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスは、接着剤として機能することができる。特定の実施形態では、それは、感圧性接着剤、及び特定の実施形態では、熱活性接着剤である。
【００６７】
所望ならば、重合されたアクリレートマトリックス以外の接着剤を本開示の実施形態に含むことができる。この接着剤は感圧性又は熱活性であってもよい。例えば、導電性配線に向き合う高屈折率層が既に硬化されている場合には、液体の光学的に透明な接着剤（ＬＯＣＡ）を導電性配線に向き合う硬化している高屈折率層と第２の基板との間に適用し、その後ＬＯＣＡを硬化することも可能である。このような光学的に透明な接着剤は、国際公開番号ＷＯ２０１０／０８４４０５Ａ１及びＷＯ２０１１／１１９８２８Ａ１で開示されている種類のものであることができる。あるいは、完全硬化した光学的に透明な接着剤をアクリレートマトリックスに適用することもできる。このような光学的に透明な接着剤は、米国特許出願公開番号２００９／００８７６２９、及び国際公開番号ＷＯ  ２０１０／０４００１４Ａ１及びＷＯ  ２０１１／１１２４４７Ａ２で開示されている種類のものであることができる。
【００６８】
上記のように、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスは、比較的高い屈折率（例えば、分散された無機ナノ粒子を含む場合１．５５〜１．９、又は例えば、分散された無機ナノ粒子を含まない場合１．５５〜１．７２）を有する。したがって、このような材料は、本明細書中では「高屈折率材料」又は「高屈折率層」と呼ばれる。
【００６９】
語句「高率」及び「高屈折率」は、本明細書中で使用されるとき１．５５以上、及び特定の実施形態では１．６以上の屈折率を指す。語句「低率」及び「低屈折率」は、本明細書中で使用されるとき１．５５未満、特定の実施形態では１．５２以下、及び特定の実施形態では１．５０以下の屈折率を指す。
【００７０】
特定の実施形態では、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスも光学的に透明である。本明細書中、「光学的に透明」は、材料（５０マイクロメートル厚の層中の）が少なくとも８５％、好ましくは少なくとも９０％の光学透過率値を有するということを意味する。用語「光学透過率値」は、４００〜７００ｎｍ（出射光／光源×１００）の波長で反射により光源に戻らない全入射光の百分率としての光の百分率を指す。また、特定の実施形態では、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックス（５０マイクロメートル厚の層に対して測定された）は、２％未満のヘーズ、好ましくは１％未満のヘーズを呈する。特定の場合には小量のヘーズが追加の隠蔽力に望ましいこともある。
【００７１】
典型的には、重合されたアクリレートマトリックスは無彩色（すなわち、ＣＩＥ  ＬＡＢ尺度上の「ａ」及び「ｂ」値が０．５より低くなるように着色剤を添加しない）を有するが、特定の場合には、追加の隠蔽力のための若干の色又はディスプレイからのより良好な色出力を許容することが望ましいこともある。
【００７２】
また、特定の実施形態では、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスは、基板及び無機導電性配線に対して良好な接着性を呈する。これは、マトリックスが、重合されたアクリレートマトリックスの高屈折率層、無機導電性配線を有する基板、及び第２の基板（剥離ライナーではない）を含む積層体に対して、電子デバイスに共通に使用される耐久性試験に合格するのに充分な接着性を有するという意味である。
【００７３】
このような耐久性試験は、典型的には評価を受ける各材料の個別の試料に対する３つの試験を含む。（試験１）６５℃及び９０％相対湿度に対する暴露、（試験２）８５℃（水分添加せず）に対する暴露、及び（試験３）温度サイクル（例えば、−４０℃  ８時間、８５℃まで１時間で昇温、８時間８５℃保持、及び１時間で−４０℃まで冷却）。各試験に「合格」するということは、表示した条件に３日暴露した後、接着層が層間剥離又は泡形成の徴候を示さないということを意味する。
【００７４】
また、特定の実施形態では、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスは、無機導電性配線の導電性の変化を殆ど又は全く呈さない。一般に、６５℃及び９０％相対湿度に２１日間暴露したとき、導電性配線と直接接触する高屈折率層は、配線の電気抵抗において２０％以上の変化を生じてはならない（好ましくは、変化が無い）。
【００７５】
アクリレートマトリックス
重合されたアクリレートマトリックスは重合性アクリレートマトリックスから形成される。この文脈では、重合されたアクリレートマトリックスは、（メタ）アクリレートモノマー、（メタ）アクリルアミドモノマー、（メタ）アクリレート−官能性オリゴマー、（メタ）アクリルアミド−官能性オリゴマー、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマー、無機ナノ粒子上の（メタ）アクリレート由来のオリゴマー又はポリマー基、無機ナノ粒子上の（メタ）アクリルアミド由来のオリゴマー又はポリマー基、又はこれらの組合せの１つ以上から形成される。
【００７６】
したがって、本明細書では、「アクリレートマトリックス」は、モノマー、オリゴマー、ポリマー、及び官能化されたナノ粒子を含む、アクリレート及びメタアクリレート並びにアクリルアミド及びメタアクリルアミドを含む。このような材料は、（メタ）アクリレート官能性材料を含んでもよく、ここでこのような官能基は例えば、ポリエステル、エポキシ、又はポリウレタン由来の骨格上の末端基又はペンダント基である。
【００７７】
アクリレートモノマーの例としては、（メタ）アクリルエステルモノマー（すなわち、（メタ）アクリル酸エステルモノマー又は（メタ）アクリレートモノマー）、高屈折率モノマー（典型的には芳香基を含む）、極性モノマー、及び他の任意のモノマーが挙げられる。
【００７８】
この（メタ）アクリレートモノマーは、脂肪族、環状脂肪族、又は芳香族の基を含んでよい。有用な（メタ）アクリレート（例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマー）としては、そのアルキル基が１から最大２２個まで、とりわけ１から最大１８個までの炭素原子を有する、非三級アルキルアルコールの直鎖若しくは分枝状一官能性アクリレート又はメタクリレートが挙げられる。有用なモノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、及び２−メチルブチル（メタ）アクリレート、並びにそれらの組合せが挙げられる。
【００７９】
特定の実施形態に対しては、好適な（メタ）アクリルエステルモノマーとしては、１−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−メチル−１−ブタノール、１−メチル−１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、３−メチル−１−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、３−ヘプタノール、２−オクタノール、１−デカノール、１−ドデカノール、及びこれらの混合物などの非三級アルキルアルコールを有するアクリル酸又はメタクリル酸のエステルからなる群から選択されるものが挙げられるが、これらに限定されない。
【００８０】
典型的には芳香族基を含む、好適な高屈折率モノマーとしては、２−フェノキシエチルアクリレート（商標名ＳＲ３３９でＳａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣ，Ｅｘｔｏｎ、Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａから入手可能）、２−（フェニルチオ）エチルアクリレート（Ｃｙｔｅｃ  Ｉｎｄ．，Ｗｏｏｄｌａｎｄ，ＮＪ）、２−フェニルフェノキシエチルアクリレート（Ｄｏｕｂｌｅ  Ｂｏｎｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄ．Ｃｏ．，Ｔａｉｐｅｉ，Ｔａｉｗａｎ）及び２−プロペノン酸（３−フェノキシフェニル）メチルエステル（Ｍｉｗｏｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，Ｋｏｒｅａ）、エトキシル化ビスフェノールＡジアクリレート（商標名ＳＲ６０１、ＳＲ６０２、及びＳＲ３４９でＳａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣから入手可能）及びＥＭ２２６１及びＥＭ２２６３でＥｔｅｒｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，Ｋａｏｓｉｕｎｇ，Ｔａｉｗａｎから入手可能）、エトキシル化ビスフェニルフルオレンジアクリレート及び希釈剤とのブレンド（商標名ＨＲ６０４０、ＨＲ６０４２、及びＨＲ６０６０でＭｉｗｏｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，Ｋｏｒｅａから、及びＥＭ２２０６でＥｔｅｒｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．Ｋａｏｓｉｕｎｇ，Ｔａｉｗａｎから入手可能）、及び商標名ＤＭＲ  １６１０でＤｏｕｂｌｅ  Ｂｏｎｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄ  Ｃｏ．Ｔａｉｐｅｉ，Ｔａｉｗａｎ）から入手可能のものなどの他のモノマーが挙げられる。高屈折率モノマーとしては２−ビフェニルアクリレート、２−ビフェニルエチルアクリレート、２−ビフェニルヘキシルアクリレート、及び２−ベンジルアクリレートも挙げられ、これらはハロゲン化されてもよく、又はされていなくともよい。
【００８１】
極性モノマーとしては、ヒドロキシル、カルボン酸、アミド、ウレタン又はウレア官能基を含有するアクリルモノマーなどのフリーラジカル共重合性モノマーが挙げられる。
【００８２】
有用なカルボン酸として、アクリル酸及びメタクリル酸が挙げられる。
【００８３】
Ｎ−ビニルラクタムのようなモノマーも含んでよい。
【００８４】
有用なアミドとしては、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタ（アクリルアミド）、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、及びＮ−オクチル（メタ）アクリルアミドが挙げられる。
【００８５】
特殊イオウ含有樹脂が重合性アクリレートマトリックスで使用されてもよい。このような樹脂としては、例えば、ビス（４−メタアクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビス［４−（２，３−エポキシプロピルチオ）フェニル］スルフィド、及びＳｕｍｉｔｏｍｏ  ＳｅｉＫａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｃｏ．、Ｊａｐａｎからの１，１’−チオビス［４−（エテニルチオ）メチル］−ベンゼンが挙げられる。
【００８６】
好適なアクリレートオリゴマーとしてはビスフェノールＡエポキシジアクリレート（商標名ＣＮ１２０及びＣＮ１０４、でＳａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣ，Ｅｘｔｏｎ，ＰＡから入手可能）、エポキシアクリレートオリゴマー（商標名ＤＭ  １５６でＤｏｕｂｌｅ  Ｂｏｎｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄ．Ｃｏ．、Ｔａｉｐｅｉ，Ｔａｉｗａｎから入手可能）が挙げられる。
【００８７】
この文脈では、オリゴマーは、複数のモノマー繰り返し単位を含み、オリゴマーはオリゴマーを形成する組成物のからみ合い分子量を下回る分子量を有する材料を生じる重合度を有する。対照的に、ポリマーは複数のモノマー繰り返し単位を含み、ポリマーはポリマーを形成する組成物のからみ合い分子量を超える分子量を有する材料を生じる重合度を有する。
【００８８】
無機ナノ粒子に取り付けられる好適なアクリレート由来オリゴマー又はポリマー基としては上述のアクリレートモノマーから誘導されるものが挙げられる。無機ナノ粒子に取り付けられるオリゴマー又はポリマー基は、本明細書中で記述するように無機ナノ粒子上に固定されたフリーラジカル開始剤からの開始及び連鎖成長（すなわち、「グローフロム」法）により形成することができる。あるいは又は加えて、これらは、連鎖移動基（例えば、メルカプタン）を含有するナノ粒子の存在における上記のアクリレートモノマーのフリーラジカル重合（すなわち、「グラフトツー」法）により形成することができる。
【００８９】
特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックスは上述の高屈折率モノマーから誘導されるものなどの芳香族基を含む。
【００９０】
特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックスは臭素、リン、Ｎ−ヒドロキシウレア、又はイオウ基を更に含む。このような基は、典型的には、次のようなアクリレートマトリックスの作製で使用可能なモノマー中に存在する：
【００９１】
【化１】
2016505403.tif 000003
（２−（２，４，６−トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート）、
【００９２】
【化２】
2016505403.tif 000004
（米国特許出願公開番号２０１１／０１２６７３４に記載）、及び
【００９３】
【化３】
2016505403.tif 000005
Ｓｕｍｉｔｏｍｏ  ＳｅｉＫａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｃｏ．，Ｊａｐａｎから入手可能、及びビス［４−（アクリロイルオキシエトキシ）フェニルスルフィド（ＴＯ−２０６６，Ｔｏａｇｏｓｅｉ，ＪＰから入手可能）。
【００９４】
注目すべきことは、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基は、ガラス、ＩＴＯでパターン化されたガラス、非プライマー処理ポリエステル（ＰＥＴ）、及びシクロオレフィンコポリマーのような特定の基板に対して重合されたアクリレートマトリックスの接着を促進することができる。
【００９５】
特定の実施形態では、本開示のアクリレートマトリックスは米国特許出願公開番号２０１０／０２２２４９６及び２００９／０１０５４３７による方法を用いて作製することができる。このアクリレートマトリックスは、２−（フェニルチオ）エチルアクリレート、２−フェニルフェノキシエチルアクリレート、２−プロペン酸（３−フェノキシフェニル）メチルエステル、２−ビフェニルオキシヘキシルアクリレート、２−（２，４，６−トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート、及び他の芳香族アクリレートモノマー（例えば、ＣＤ  ５９０、Ｓａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣから入手可能）などの高屈折率モノマー及び所望により２−エチルヘキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、及びイソボルニルアクリレートなどの低屈折率モノマーの組合せから誘導することができる。これらの低屈折率モノマーは、典型的には高屈折率アクリレート組成物中でより低いレベルで使用される。例えば、これらは、アクリレートマトリックス組成物の３０ｐｐｈ重量部未満、又はアクリレートマトリックス組成物の２０ｐｐｈ重量部未満のレベルで使用することができる。より高いレベルは、典型的には組成物の全屈折率の急速な低下を引き起こす。しかしながら、これらの低屈折率モノマーを使用して、全体の流動性又はアクリレートマトリックスを調整することができる。例えば、イソボルニルアクリレートを使用して、Ｔｇを増大させること、及び接着剤を非粘稠性とすること、例えば熱活性の特性を得ることができる。ｎ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、又は２−エチルヘキシルアクリレートのようなモノマーはアクリレートマトリックス組成物に低Ｔｇ及び低弾性率を与えるために、これらを使用して、粘着性を増大させることができる。
【００９６】
特定の実施形態では、ナノ粒子上にグラフトされたポリマーは、ホモポリマーとして低Ｔｇ（３０℃未満）を生じる高屈折率（例えば、少なくとも１．５５の屈折率）モノアクリレートから誘導することができる。このようなモノ−アクリレートとしては２−（フェニルチオ）エチルアクリレート、２−フェニルフェノキシエチルアクリレート、２−プロペン酸（３−フェノキシフェニル）メチルエステル、２−ビフェニルオキシヘキシルアクリレート、２−（２，４，６−トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート、及び他の芳香型アクリレートモノマー（ＣＤ  ５９０、Ｓａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣから入手可能）が挙げられる。これらの低Ｔｇを生じるモノマーは粒子上にグラフトされたポリマーに粘着性を与え、グラフトされた粒子が粘稠となり若干の接着性を示すことを可能とさせる。
【００９７】
ナノ粒子上にグラフトされるポリマーは、カルバゾールエチルアクリレート及びナフチル（チオ）オキシアルキルアクリレートモノマーなどの高屈折率及び高Ｔｇを生じるモノ−アクリレートからも誘導することができる。これらのモノマーは、イソオクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、エトキシル化（４）ノニルフェノールアクリレート（ＳＲ５０４、Ｓａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣから入手可能）、及びカプロラクトンアクリレート（ＳＲ４９５Ｂ、Ｓａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣから入手可能）などの低屈折率及び低Ｔｇを生じるアクリレートモノマーと組合せてもよい。典型的には、ナノ粒子上にグラフトされたポリマー中の低屈折率モノマー含有量は、粒子上にポリマーを作製するのに使用されたモノマーの２０ｐｐｈ重量部未満などの低い濃度で使用される。
【００９８】
特定の実施形態では、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーは、２つ以上の種類の（メタ）アクリレートモノマー（すなわち、アクリレート及び／又はメタアクリレートモノマー）から形成することができる。非硬化状態では、このようなコポリマーは、１００，０００ダルトン〜４００，０００ダルトンの重量平均分子量及び少なくとも１４，０００ダルトンに等しい（メタ）アクリロイル基間の平均距離を有してもよい。これらのコポリマーは、「ＡＤＨＥＳＩＶＥ  ＩＮＣＬＵＤＩＮＧ  ＰＥＮＤＡＮＴ（ＭＥＴＨ）ＡＣＲＹＬＯＹＬＧＲＯＵＰＳ，ＡＲＴＩＣＬＥ，ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤ」（代理人整理番号７１１２９ＵＳ００２）と題する２０１２年１１月１６日出願の本出願人の出願、暫定出願番号６１／７２７，３８４に記述されている。
【００９９】
特定の実施形態では、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーは、１つ以上の（メタ）アクリルエステルモノマー（例えば、最終材料の弾性率及びＴｇを制御するために）、及び１つ以上の共重合性極性モノマー、及び所望により、１つ以上の他のモノマーから誘導することができる。
【０１００】
特定の実施形態では、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーは、少なくとも５０重量部の（メタ）アクリルエステルモノマー、及び少なくとも０．１重量部の共重合性極性モノマーから誘導することができる。特定の実施形態では、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び所望によりペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーは、９５重量部以下の（メタ）アクリルエステルモノマー、及び５０重量部以下の共重合性極性モノマーから誘導することができる。他の任意のモノマーが０〜３０重量部の量で使用することができる。
【０１０１】
ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーを作製するための（メタ）アクリレートモノマー（すなわち、（メタ）アクリル酸エステルモノマー）は、脂肪族、環状脂肪族、又は芳香族基を含むことができる。有用な（メタ）アクリレートモノマーとして、そのアルキル基が１〜最大２２個、とりわけ１〜最大１８個までの炭素原子を有する、非三級アルキルアルコールの直鎖若しくは分枝状一官能性アクリレート又はメタクリレートが挙げられる。有用なモノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、及び２−メチルブチル（メタ）アクリレート、並びにそれらの組合せが挙げられる。
【０１０２】
芳香族基を含むペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーを作製する他の有用な（メタ）アクリレートモノマーとしては、２−フェノキシエチルアクリレート（商標名ＳＲ３３９でＳａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣから入手可能）、２−（フェニルチオ）エチルアクリレート（Ｃｙｔｅｃ  Ｉｎｄ．，Ｗｏｏｄｌａｎｄ，ＮＪ）、２−フェニルフェノキシエチルアクリレート（Ｄｏｕｂｌｅ  Ｂｏｎｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄ．Ｃｏ．，Ｔａｉｐｅｉ，Ｔａｉｗａｎ）、プロピオン酸（３−フェノキシフェニル）メチルエステル（Ｍｉｗｏｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，Ｋｏｒｅａ）、及びこれらの組合せが挙げられる。
【０１０３】
本明細書中で記述されている他の高屈折率モノマーを使用して、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーを作製することができる。
【０１０４】
ウレタン、ウレア、又はアミド官能基などの他の官能基も有用であることができるが、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーの作製に有用な極性モノマーは、典型的にはヒドロキシル及び／又はカルボン酸性官能基を含む。
【０１０５】
有用な酸官能性モノマーとしてはアクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、及びこれらの組合せが挙げられる。マレイン酸無水物及びメタアクリル酸無水物などの酸無水物も使用することができる。
【０１０６】
有用なヒドロキシル官能性モノマーは典型的には４００未満のヒドロキシル等量を有する。ヒドロキシル等量分子量は、モノマー化合物中のヒドロキシル基の数で割ったモノマー化合物の分子量として定義される。このタイプの有用なモノマーとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレート及びメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート及びメタクリレート、２−ヒドロキシプロピル及びメタクリレート及びメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート及びメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、並びに３−ヒドロキシプロピルアクリルアミドが挙げられる。更に、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドから誘導されるグリコールをベースとするヒドロキシ官能性モノマーも使用することができる。このタイプのモノマーの例として、商標名Ｂｉｓｏｍｅｒ  ＰＰＡ  ６としてＣｏｇｎｉｓ（ドイツ）より入手可能なヒドロキシル末端ポリプロピレングリコールアクリレートが挙げられる。所望ならば、このようなモノマーの様々な組合せを使用することができる。
【０１０７】
ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーを作製するための他の任意のモノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−オクチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−モルホリノアクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルラクタム、ビニルエステル（ビニルアセテートなどの）、スチレン、並びにポリメチルメタアクリレート又はポリスチレンをベースとするものなどの高Ｔｇマクロマーが挙げられる。
【０１０８】
ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーを作製するための特定の実施形態では、（メタ）アクリレートモノマーは、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、及びこれらの組合せから選択される。
【０１０９】
ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーを作製するための特定の実施形態では、極性モノマーは、２−ヒドロキシエチルアクリレート及びメタアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート及びメタアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート及びメタアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート及びメタアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、３−ヒドロキシプロピルアクリルアミド、及びこれらの組合せから選択されるヒドロキシル−官能性モノマーである。
【０１１０】
ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーを作製するための特定の実施形態では、任意のモノマーは、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−モルホリノアクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、ビニルアセテート、スチレン、及びこれらの組合せから選択される。
【０１１１】
ペンダント（メタ）アクリロイル基無しのコポリマーは、米国特許第５，６３７，６４６号（Ｅｌｌｉｓ）及び第５，９８６，０１１号（Ｅｌｌｉｓら）に開示されている断熱条件下で又は慣用の溶液重合により作製できる。
【０１１２】
ペンダント（メタ）アクリロイル基をコポリマーに組み込む間接的な、しかし好ましい方法は、コポリマーのモノマー単位の間に極性モノマーで上述した反応性官能基を含むあるモノマーを組み込むことである。これらのペンダント反応性官能基は、反応性ペンダント官能基と共反応性である官能基を含む不飽和化合物と反応される。２つの官能基が反応すると、ペンダント不飽和結合を有する分子が生じる、すなわち、生成コポリマーはペンダント（メタ）アクリロイル基を有することになる。一般的には、この反応は、開環、置換、又は縮合機構により反応する求核官能基と求電子官能基との間の反応である。
【０１１３】
ペンダントフリーラジカル重合性官能基を組み込むこの「間接的な方法」を用いて、好ましい反応性官能基はヒドロキシル及び酸基を含む。ペンダント反応性官能基がヒドロキシル基を含む場合には、共反応性官能基は、好ましくはカルボン酸、イソシアナト、エポキシ、又は酸無水物基を含む。ペンダント反応性官能基がカルボン酸基を含む場合には、共反応性官能基は、好ましくはヒドロキシル、アミノ、エポキシ、イソシアネート、アジリジン、アゼチジン、又はオキサゾリニル基を含む。ペンダント基が酸無水物を含む場合には、共反応性基はヒドロキシル又はアミン基であることができる。
【０１１４】
特定の実施形態では、ペンダント（メタ）アクリロイル基は、コポリマー中のヒドロキシル基とイソシアナトエチルアクリレート又はメタアクリレートとの間の反応から形成することができる。特定の実施形態では、ペンダント（メタ）アクリロイル基は、コポリマー中のカルボン酸とグリシジルアクリレート又はメタアクリレートとの間の反応から形成することができる。
【０１１５】
更に別の実施形態では、ペンダント（メタ）アクリロイル基は、アクリルコポリマー中の酸無水物基と２−ヒドロキシエチルアクリレート又はメタアクリレートなどのヒドロキシル官能性モノマーとの間で形成することができる。
【０１１６】
本開示の重合性アクリレートマトリックスは、典型的には開始剤と混練して、例えば、ＵＶ線又は熱を用いて硬化することが必要である。したがって、特定の実施形態では、本開示の（メタ）アクリレートコポリマーを含む接着剤は開始剤も含む。好適な開始剤は熱開始剤又は光開始剤などのフリーラジカル開始剤（すなわち、フリーラジカル発生型開始剤）である。開始剤の様々な組合せを本開示の接着剤中に含ませることができる。
【０１１７】
熱開始剤の例としてはベンゾイルペルオキシド、シクロヘキサンペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−アミルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−キュミルペルオキシド、及びＡｒｋｅｍａ，Ｉｎｃ．，（Ｋｉｎｇ  ｏｆ  Ｐｒｕｓｓｉａ，ＰＡ）から商標名ＬＵＰＥＲＳＯＬ（例えば、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサンであるＬＵＰＥＲＳＯＬ  １０１、及び２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３−ヘキシンであるＬＵＰＥＲＳＯＬ  １３０）で入手可能なペルオキシドなどの様々なペルオキシド、ｔｅｒｔ−アミルヒドロペルオキシド及びｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドなどの様々なヒドロペルオキシド、及び２，２’−アゾビス（２−メチルブタンニトリル）であるＶＡＺＯ  ６７、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）であるＶＡＺＯ  ６４、（２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルペンタンニトリル）であるＶＡＺＯ  ５２、及び１、１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）であるＶＡＺＯ  ８８を含む商標名ＶＡＺＯでＥ．Ｉ．ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏ．Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥから入手可能なものなどのアゾ化合物、及びＶ−６０１（Ｗａｋｏ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｒｉｃｈｍｏｎｄ，ＶＡから入手可能である、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチルレート）が挙げられる。
【０１１８】
光開始剤の例としては商標名ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１（２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンであり、Ｃｉｂａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹから）入手可能なもの、ＬＵＣＩＲＩＮＴＰＯ−Ｌ（ＢＡＳＦ  Ｃｏｒｐ．から入手可能）、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンであり、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから入手可能）が挙げられる。
【０１１９】
分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスは本質的に粘稠であることができる。所望ならば、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスに粘着付与剤を添加することができる。有用な粘着付与剤として、例えば、ロジンエステル樹脂類、芳香族炭化水素樹脂類、脂肪族炭化水素樹脂類、及びテルペン樹脂類が挙げられる。広くは、水素化ロジンエステル、テルペン、又は芳香族炭化水素樹脂類から選択される淡色系粘着付与剤を使用することができる。（メタ）アクリレート由来の低分子量（例えば、ＧＰＣによるＭｗとして５０，０００ダルトン以下）及び高Ｔｇ（例えば、３０℃超）ポリマーを粘着付与剤として使用することができる。例えば、このような粘着付与剤は、米国特許第６，７８３，８５０号及び第６，９３９，９１１号に記述されている。芳香族粘着付与剤は、屈折率が高いために一般に好ましい。
【０１２０】
特別な目的のために、本開示の分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスに対して、例えば、オイル、可塑剤、酸化防止剤、ＵＶ安定剤、顔料、硬化剤、連鎖移動剤、ポリマー添加剤、及び他の添加剤を含む他の材料を添加することができる。特定の実施形態では、このような添加剤は、接着剤の光学的透明性及び屈折率を著しく低下させないことが望ましい。このような任意の成分の内容及び相対量は当業者に周知である。
【０１２１】
例えば、ヒドロキノンモノメチルエーテル（ｐ−メトキシフェノール、ＭｅＨＱ）、及び商標名ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（テトラキス（メチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート））メタン）でＢＡＳＦから入手可能なものなどの酸化防止剤及び／又は安定剤を（メタ）アクリレートコポリマーに混合して、その温度安定性を増大させることができる。使用される場合には、酸化防止剤及び／又は安定剤は、典型的にはコポリマーの全重量基準で０．０１重量パーセント（ｗｔ％）〜１．０ｗｔ％の範囲で使用される。
【０１２２】
重合分野で周知である連鎖移動剤もまた、分子量又はその他のポリマー特性を制御するために含まれてよい。好適な連鎖移動剤としては四臭素化炭素、ヘキサンブロモメタン、ブロモトリクロロメタン、２−メルカプトエタノール、ｔ−ドデシルメルカプタン、イソオクチルチオグリコエート、３−メルカプト−１，２−プロパンジオ−ル、キュメン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（商標名Ｋａｒｅｎｚ  ＭＴＰＥ１でＳｈｏｗａ  Ｄｅｎｋｏから入手可能）、エチレングリコールビスチオグリコエート、及びこれらの混合物の群から選択されるものが挙げられるが、限定ではない。特定の連鎖移動剤の反応性及び所望の連鎖移動の量に依存して、モノマーの全重量基準で０〜５ｗｔ％を使用することができる。
【０１２３】
導電性配線を有する基板を適用するための積層工程で使用するために、重合性アクリレートマトリックスを使用して、ライナー上に重合されたアクリレートマトリックスを作製することができる。あるいは、コーティング法を用いて、重合性アクリレートマトリックスを導電性配線を有する基板に直接適用することができる。
【０１２４】
多くの場合、本開示の分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスを作製するためのモノマーのフリーラジカル重合は、無溶媒、すなわち形成されるコポリマー、並びにモノマー自身が全て混和性である真のバルク重合で行うことができる。しかしながら、モノマーは、一部の場合溶媒を必要とすることもある。好適な溶媒はコーティング組成物の全ての他の成分と混和性であるものである。これは、組成物が希釈した形及び乾燥時に均質のままに保たれ、溶媒からの成分の分離、例えばナノ粒子凝集又は成分のより大きな相分離がないという意味である。また、好適な溶媒は、コーティング工程時に急速に乾燥して、コーティングの硬化を可能とさせるものである。また、好適な溶媒はコーティング組成物を適用する基板に損傷を与えない（例えば、ポリマーフィルムのクレージングを引き起こす可能性のない）ものである。代表的な溶媒としてはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、１−メトキシ−２−プロパノール、イソプロピルアルコール、トルエン、エチルアセテート、ブチルアセテート、アセトンなど及びこれらの混合物が挙げられる。使用される場合には、このような溶媒は、反応混合物の全重量基準で１０ｗｔ％未満の量、しばしば５ｗｔ％未満の量で存在する。このような溶媒は、典型的には重合されたアクリレートマトリックスの使用前に除去される。
【０１２５】
無機ナノ粒子
特定の実施形態では、アクリレートマトリックス（重合されたものであれ又は重合性のものであれ）は、その中に分散された無機ナノ粒子を有する。このようなナノ粒子は、その屈折率が典型的にはアクリレートマトリックスの屈折率よりも高いので、複合材料の屈折率を増大させる手段を提供する。
【０１２６】
有用な無機ナノ粒子は、１５０ナノメートル（ｎｍ）以下、好ましくは２０ｎｍ以下の大きさ（平均粒径、粒子例えば球状粒子の直径又はロッドの長さの最大寸法である）のものである。これらは、表面変性（すなわち、ナノ粒子の表面上に官能基、オリゴマー又はポリマーを含む）を有しても又は有さなくともよい。
【０１２７】
特定の実施形態では、無機ナノ粒子は、表面変性無しで比較的高い屈折率を有する。特定の実施形態では、無機ナノ粒子は、表面変性無しで少なくとも１．８の屈折率を有する。
【０１２８】
有機材料による無機ナノ粒子の表面変性はナノ粒子の屈折率を低下させることができる。このことは、表面変性剤が低屈折率のものであり、コア無機粒子に比して高体積百分率である場合特に成り立つ。したがって、典型的にはより高い屈折率の変性剤、例えば、脂肪族部分よりも芳香族部分を含むものが好ましい。
【０１２９】
表面変性したナノ粒子を組成物に添加したとき、好ましい屈折率は少なくとも１．６、又は少なくとも１．６５、又は少なくとも１．７０である。これらのナノ粒子は、典型的にはアンチモンスズ酸化物、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、又は酸化亜鉛から誘導される。
【０１３０】
このような高屈折率ナノ粒子の代表的な例は、ジルコニア（ＺｒＯ２）、チタニア（ＴｉＯ２）、亜鉛スルフィド（ＺｎＳ）、酸化アンチモン（例えば、アンチモンスズ酸化物）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（例えば、インジウムスズ酸化物）を、単独又は組合せ（混合金属酸化物を含む）を含む。このコーティング組成物中で使用するためのジルコニアは、「ＮＡＬＣＯ  ＯＯＳＳＯＯ８」の商標名でＮａｌｃｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．から、及びＢｕｈｌｅｒ  ＡＧ  Ｕｚｗｉｌ，ＳｗｉｔｚｅｒｌａｎｄからＢｕｈｌｅｒジルコニアＺ−ＷＯ  ｓｏｌの商標名で入手可能である。ジルコニアナノ粒子も、米国特許出願公開第２００６／０１４８９５０号及び米国特許第６，３７６，５９０号に記載のように調製することができる。
【０１３１】
特定の実施形態では、無機ナノ粒子としてはジルコニア、チタニア、ＺｎＳ、ＺｎＯ、酸化スズ、酸化アンチモン、又はこれらの組合せが挙げられる。
【０１３２】
特定の実施形態では、無機ナノ粒子は１つ以上の表面変性剤を含み、本明細書中では表面変性した無機ナノ粒子と呼ばれる。このような変性剤は、表面変性剤分子の残部に対する固着基として作用する官能基を有することができる。あるいは、このような官能基は表面変性それ自身を提供することもある。
【０１３３】
表面変性剤の例は、ナノ粒子の表面の性質を変性すると知られた様々な官能基（例えば、シラン官能基、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基、酸性官能基）を含み、及びアクリレートマトリックスの成分と反応性であり得る更なる基を有してもよい。
【０１３４】
特定の実施形態では、表面変性した無機ナノ粒子は、例えば、シラン官能基、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基、酸性官能基、又はこれらの組合せを含む表面変性剤を含む。
【０１３５】
シラン官能性（すなわち、官能基）の代表的な例は、次のような化合物を用いてナノ粒子を官能化することにより提供することができる。
イソオクチルトリメトキシ−シラン、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）メトキシエトキシエトキシエチルカーバメート、
Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）メトキシエトキシエトキシエチルカーバメート、
３−（メタアクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
３−（メタアクリロイルオキシ）プロピルトリエトキシシラン、３−（メタアクリロイルオキシ）プロピルメチルジメトキシシラン、
３−（アクリロイルオキシプロピル）メチルジメトキシシラン、３−（メタアクリロイルオキシ）プロピルジメチルエトキシシラン、
３−（メタアクリロイルオキシ）プロピルジメチルエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、
オクタデシルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、
ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ビニルトリス−イソブトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、スチリルエチルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、及びこれらの混合物。
【０１３６】
Ｎ−ヒドロキシウレア官能性（すなわち、官能基）の代表的な例は、次のものなどの化合物を用いてナノ粒子を官能基化することにより、提供することができる。
【０１３７】
【化４】
2016505403.tif 000006
（米国特許出願公開番号２０１１／０１２６７３４に述べられている）。重要なこととしては、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基は、ガラス、ＩＴＯでパターン化されたガラス、非プライマー処理ポリエステル、及びシクロオレフィンコポリマーのような特定の基板への重合されたアクリレートマトリックスの接着を促進することができる。しかしながら、このような基は、粒子上の官能基ではなくアクリレートマトリックスの作製に使用される１つ以上のモノマーの一部であるということが好ましい。
【０１３８】
酸官能性（すなわち、官能基）の代表的な例は、次のものなどの化合物を用いてナノ粒子を官能基化することにより、提供することができる。アクリル酸、メタアクリル酸、オレイン酸、ステアリン酸、ドデカン酸、２−［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］酢酸（ＭＥＥＡＡ）、ベータ−カルボキシエチルアクリレート（ＢＣＥＡ）、２−（２−メトキシエトキシ）酢酸、メトキシフェニル酢酸、及びこれらの混合物。
【０１３９】
このような基は、例えば、本明細書中で述べる、重合性アクリレートマトリックスの成分と反応性の基に対するアンカー基として機能してもよい。反応性表面変性剤としては、例えば、アクリレートマトリックスの成分と共重合することができる基（ビニル、アリル、又は（メタ）アクリレートなどの）、連鎖移動基又は光開始剤基が挙げられる。このような連鎖移動又は開始剤基は、ナノ粒子上のオリゴマー表面変性剤（例えば、（メタ）アクリレート又は（メタ）アクリルアミドオリゴマー）をグラフト又は成長させるために使用されてもよい。これらの型の表面変性剤（（メタ）アクリレート又は（メタ）アクリルアミドオリゴマー）は、ナノ粒子のアクリレートマトリックス中での分散性を助けることができるだけでなく、一部の実施形態ではアクリレートマトリックスをそれ自身形成することができる。このオリゴマーは、重合後の更なる反応及びコーティング又は積層のいずれかによる基板上の堆積のために架橋性であってもよく、又は架橋性でなくともよい。
【０１４０】
表面変性剤中で開始剤基を担持するナノ粒子を使用して、重合性アクリレートマトリックス（例えば、（メタ）アクリレートモノマー）の重合反応を開始することができる。表面変性剤中で連鎖移動基を担持するナノ粒子を使用して、重合性アクリレートマトリックス（例えば、（メタ）アクリレートモノマー）の成分をグラフトにより成長させることができる。
【０１４１】
連鎖移動基の例としては３−メルカプトプロピルトリメトキシシランからのチオール基が挙げられる。
【０１４２】
光開始剤基の例は、ＤＡＲＯＣＵＲ  ２９５９が開始剤基を形成し、シランがナノ粒子表面へのアンカー基である、ＤＡＲＯＣＵＲ  ２９５９光開始剤及びイソシアナトプロピルトリメトキシシランの反応生成物を含む。
【０１４３】
このような官能基をナノ粒子表面に付加する方法は、一般に当業者に周知されている。
【０１４４】
表面変性有り又は無しの無機ナノ粒子の様々な組合せが本開示で使用されてよい。
【０１４５】
一般に、使用される場合には、無機ナノ粒子は、アクリレートマトリックス（重合された又は重合性の）中に６０体積百分率（ｖｏｌ％）以下の量で存在する。一般に、使用される場合には、無機ナノ粒子は、アクリレートマトリックス（重合された又は重合性の）中に少なくとも１ｖｏｌ％量で存在する。
【０１４６】
比較的低い屈折率（例えば、１．５５未満の屈折率）の重合されたアクリレートマトリックスとの組合せで使用される場合には、無機ナノ粒子は、アクリレートマトリックス（重合された又は重合性の）中に６０体積百分率（ｖｏｌ％）の量で存在する。比較的低い屈折率の重合されたアクリレートマトリックスとの組合せで使用される場合には、無機ナノ粒子は、アクリレートマトリックス（重合された又は重合性の）中に少なくとも５ｖｏｌ％の量で存在する。
【０１４７】
必ずしも必要とされないが、比較的高い屈折率（例えば、１．５５以上の屈折率）の重合されたアクリレートマトリックスとの組合せで使用される場合には、無機ナノ粒子は、アクリレートマトリックス（重合された又は重合性の）中に６０体積百分率（ｖｏｌ％）の量で存在する。比較的高い屈折率の重合されたアクリレートマトリックスとの組合せで使用される場合には、無機ナノ粒子は、アクリレートマトリックス（重合されたものであれ又は重合性のものであれ）中に少なくとも１体積百分率（ｖｏｌ％）、又は少なくとも１ｖｏｌ％、又は少なくとも１０ｖｏｌ％、又は少なくとも２０ｖｏｌ％の量で存在する。
【０１４８】
方法及び使用
特定の実施形態では、本開示のアクリレートマトリックスは光学的に透明である。
【０１４９】
したがって、特定の物品は、光学的フィルム又は基板の少なくとも１つの主表面に対する光学的に透明な基板（例えば、フィルム）及び光学的に透明な重合されたアクリレートマトリックスを含む積層体であることができる。これらの物品は、別の基板（例えば、本開示の重合されたアクリレートマトリックスに永続的又は一時的に取り付けられた）、別の接着剤層、又はこれらの組合せを更に含むことができる。
【０１５０】
光学的に透明な重合されたアクリレートマトリックス層が２つの基板の間に配置される積層体の実施形態では、基板の少なくとも１つは、光学フィルム、ディスプレイ（ＯＬＥＤ又はＬＣＤなどの発光型又は反射型）、又はレンズ（例えば、ガラス、ポリメチルメタアクリレート、又はポリカーボネート）である。光学フィルムは、フィルムの表面に突き当たる光を故意に向上、操作、制御、維持、伝導、反射、屈折、吸収、遅延、又はその他の方法で変更する。積層体に含まれるフィルムとして、偏光器、干渉偏光器、反射偏光器、拡散体、有色の光学フィルム、鏡、ルーバ光学フィルム、光制御フィルム、透明シート、輝度向上フィルム、防眩フィルム、及び反射防止フィルム、並びに同様のものなどの、光学的機能を有する多種の材料が挙げられる。提供される積層体用のフィルムは、四分の一波長及び半波長遅延光学要素などの遅延板も含むことができる。他の光学的に透明なフィルムは破砕防止フィルム及び電磁干渉フィルターを含む。このフィルムは、タッチセンサーの作製に使用されるものなどのＩＴＯコーティング又はパターニング用の基板として使用されてもよい。
【０１５１】
いくつかの実施形態では、得られる積層体は光学素子であってよく、又は光学素子を調製するのに使用することができる。本明細書中で使用されるとき、用語「光学要素」は光学効果又は光学用途を有する物品を指す。光学素子は、例えば、電子ディスプレイ、建築用途、輸送用途、投影用途、フォトニクス用途、及びグラフィックス用途で用いることができる。好適な光学要素としてはグレージング（例えば、窓及びウインドシ−ルド）、スクリーン又はディスプレイ、陰極線管、ガラス又は透明プラスチック基板、及び反射材を用いたものなどのＩＴＯ被覆タッチセンサーが挙げられるが、限定ではない。
【０１５２】
アクリレートマトリックスの材料はパターン化基板に多数の方法で適用することができる。それは、例えば、図２に示されるように重合されたアクリレートマトリックスを含む積層体を用いて、適用することができる。あるいは、それは、重合性アクリレートマトリックスを含むコーティング組成物から適用することができる。
【０１５３】
一実施形態では、物品を作製する方法は、それに隣接する無機導電性配線を有する基板表面を含み、基板及び配線の無機材料がそれぞれ屈折率を有するパターン化基板を準備すること、及び重合されたアクリレートマトリックス（所望により、その中に分散された無機ナノ粒子を有する）をパターン化基板表面の少なくとも一部に適用することを含み、重合されたアクリレートマトリックスが基板及び配線の無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する。
【０１５４】
特定の実施形態では、重合されたアクリレートマトリックスを適用することが、積層体を適用することを含み、積層体が、光学的に透明な接着剤を含む層、及び光学的に透明な接着剤層に隣接する高屈折率の重合されたアクリレートマトリックス（所望により、その中に分散された無機ナノ粒子を有する）を含む層を含む。パターン化基板に適用するとき、積層体は、高屈折率の重合されたアクリレートマトリックスがパターン化基板表面と光学的に透明な接着剤との間に配置されるように配置される。
【０１５５】
積層体は、ローラー、真空積層、又はこれらの組合せを含む慣用の方法を用いて適用することができる。積層体は、典型的には周囲条件下で適用されるが、高温（例えば、６０〜７０℃）の条件下で適用されてもよい。組み立てを終らせるのに、当該分野で公知のように、オートクレーブ段階を使用してもよい。積層体を付けた後、エネルギー（例えば、光又は熱）を用いる追加のキュア段階を適用して、アクリレートマトリックスを架橋させるか又はアクリレートマトリックスの架橋を増大させてもよい。
【０１５６】
積層体は、ロールコーティング、スプレーコーティング、ナイフコーティング、ダイコーティングなどを含むコーティング技術を用いて作製することができる。例えば、転写テープの標準の（又は「正規の」）ＯＣＡ層は、転写テープの開示されている種類のものであることができる、例えば、イージー剥離ライナーを剥がした後に高屈折率重合性アクリレートマトリックス（所望によりその中に分散された無機ナノ粒子を有する）で被覆され得る。乾燥及び重合後、重合前又は後に別の剥離ライナーをその表面に積層することにより、高屈折率コーティングを保護することができる。積層体の作製に使用可能な別の方法は、剥離ライナー、例えば、タイト剥離ライナーを高屈折率重合性アクリレートマトリックス（所望により、その中に分散された無機ナノ粒子を有する）によりコーティングすること、コーティングを重合し、続いて、転写テープの剥離ライナーの除去後、標準のＯＣＡ転写テープを高屈折率コーティング上に乾式積層することを含む。重合されたアクリレートマトリックスに隣接する剥離ライナーは、タイト剥離ライナー又はイージー剥離ライナーであってもよい。
【０１５７】
典型的には、積層体を作製するためのコーティング組成物は、重合性アクリレートマトリックス、所望により開始剤、及び溶媒を含む。積層体は、スライド−ダイコーティング又はデュアル層ダイコーティング法を用いて、ＯＣＡベースの重合アクリレート組成物及び標準の溶媒を剥離ライナー上にコーティングし、続いて乾燥及び硬化することによっても作製することができる。
【０１５８】
パターン化基板上のコーティング方法を含む実施形態では、方法は、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、基板及び配線の無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備すること、重合されたアクリレートマトリックス（所望により、その中に分散された無機ナノ粒子を有する）を含むコーティング組成物をパターン化基板表面の少なくとも一部に適用してコーティング表面を形成すること、及び重合性アクリレートマトリックスを重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することを含み、重合されたアクリレートマトリックスが基板及び配線の無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する。特定の実施形態では、この方法は光学的に透明な接着剤をコーティング表面上に適用することを更に含み、重合性アクリレートマトリックスを重合することは、光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる。
【０１５９】
一実施形態では、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板を準備すること、コーティング組成物をパターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成すること、及び重合性アクリレートマトリックスを重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することを含む、コーティングの方法が提供される。この方法では、コーティング組成物は、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む重合性アクリレートマトリックス、重合性アクリレートマトリックス中に分散された無機ナノ粒子、及び開始剤を含む。特定の実施形態では、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基の重量百分率はコーティングの少なくとも０．５ｗｔ％である。特定の実施形態では、この方法は光学的に透明な接着剤をコーティング表面上に適用することを更に含み、重合性アクリレートマトリックスを重合することは、光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる。
【０１６０】
このような実施形態では、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基は、ガラス、ＩＴＯでパターン化されたガラス、非プライマー処理ＰＥＴ、及びシクロオレフィン（ＣＯＰ）ポリマーなどの基板に対して重合されたアクリレートマトリックスの接着を促進する。このような基板は、接着が困難であることが知られており、接着の促進にプライマーがしばしば使用される。
【０１６１】
典型的には、重合性アクリレートマトリックス（積層体の作製における使用及びパターン化基板上でのコーティングのために）を含むコーティング組成物は、開始剤も含む。好適な開始剤は、フリーラジカル開始剤、例えば、熱又は活性輻射線により活性化可能なものである。特定の実施形態では、重合性アクリレートマトリックスを含むコーティング組成物は本明細書中で記述するように、溶媒も含む（パターン化基板上にコーティングするために）。一部の実施形態では（例えば、ポリマーグラフトナノ粒子）、追加の重合段階は必要とされず、及びポリマーグラフトされた粒子は本明細書中で記述するように無溶媒又は溶媒付きで被覆され、乾燥されてもよい。所望により、コーティングは、熱又は輻射線への暴露により架橋してもよい。
【０１６２】
実例となるコーティング技術としては、ロールコーティング、スプレーコーティング、ナイフコーティング、ダイコーティングなどが挙げられる。コーティング組成物は、典型的には周囲条件下で貼り合わされるが、高温（例えば、６０〜７０℃）の条件下で貼り合わされてもよい。組み立てを終らせるのに、当該分野で公知のように、オートクレーブ段階を使用してもよい。
【０１６３】
図示された実施形態
１．物品であって、
パターン化基板であって、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含み、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する、パターン化基板と、
前記基板の表面及び前記無機導電性配線に少なくとも一部に隣接した重合されたアクリレートマトリックスを含む層であって、前記重合されたアクリレートマトリックスが前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する層と、を備える、物品。
２．前記重合されたアクリレートマトリックスが、その中に分散された無機ナノ粒子を含む、実施形態１に記載の物品。
３．前記無機ナノ粒子が、重合されたアクリレートマトリックス中に６０体積百分率以下の量で存在する、実施形態２に記載の物品。
４．前記無機ナノ粒子が、ジルコニア、チタニア、ＺｎＳ、ＺｎＯ、酸化スズ、酸化アンチモン、又はこれらの組合せを含む、実施形態１又は２に記載の物品。
５．前記無機ナノ粒子が、表面変性した無機ナノ粒子である、実施形態２〜４のいずれか一に記載の物品。
６．表面変性した無機ナノ粒子が、シラン官能基、ヒドロキシウレア官能基、酸性官能基、又はこれらの組合せを含む表面変性剤を含む、実施形態５に記載の物品。
７．表面変性無しの前記無機ナノ粒子が、少なくとも１．８の屈折率を有する、実施形態２〜６のいずれか一に記載の物品。
８．前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±５％である屈折率を有する、実施形態１に記載の物品。
９．前記重合されたアクリレートマトリックスが、（メタ）アクリレートモノマー、（メタ）アクリルアミドモノマー、（メタ）アクリレート−官能性オリゴマー、（メタ）アクリルアミド−官能性オリゴマー、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマー、無機ナノ粒子上の（メタ）アクリレート由来のオリゴマー又はポリマー基、無機ナノ粒子上の（メタ）アクリルアミド由来のオリゴマー又はポリマー基、又はこれらの組合せの１つ以上から形成される、実施形態１〜８のいずれか一つに記載の物品。
１０．前記重合されたアクリレートマトリックスが芳香族基を含む、実施形態１〜９のいずれか一に記載の物品。
１１．前記重合されたアクリレートマトリックスが臭素、リン、Ｎ−ヒドロキシウレア、イオウ基、又はこれらの組合せを含む、実施形態１〜１０のいずれか一に記載の物品。
１２．前記基板及び前記配線の無機材料の前記屈折率の間の差が０．２超である、実施形態１〜１１のいずれか一に記載の物品。
１３．前記重合されたアクリレートマトリックスを含む前記層が前記配線を完全に被覆するのに充分な厚さを有する、実施形態１〜１２のいずれか一に記載の物品。
１４．前記無機導電性配線がインジウムスズ酸化物、ドープＺｎＯ、又はアンチモンスズ酸化物を含む、実施形態１〜１３のいずれか一に記載の物品。
１５．前記基板が、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンコポリマー、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、又は偏光子フィルムを含む、実施形態１〜１４のいずれか一に記載の物品。
１６．前記分散された無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスが１．５５〜１．９の屈折率を有する、実施形態２〜１５のいずれか一に記載の物品。
１７．前記無機ナノ粒子無しの重合されたアクリレートマトリックスが１．５５〜１．７２の屈折率を有する、実施形態１〜１５のいずれか一に記載の物品。
１８．前記基板が１．４５〜１．６５の屈折率を有する、実施形態１〜１７のいずれか一に記載の物品。
１９．前記配線の前記無機材料が少なくとも１．６５の屈折率を有する、実施形態１〜１８のいずれか一に記載の物品。
２０．前記基板が、レンズ、タッチセンサー、発光型ディスプレイ、又は光反射型ディスプレイから選択される透明なディスプレイ基板であるか、又はその一部である、実施形態１〜１９のいずれか一に記載の物品。
２１．物品の製造方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備することと、
重合されたアクリレートマトリックスを、前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用することと、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する、方法。
２２．重合されたアクリレートマトリックスを適用することが、積層体を前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用することを含み、前記積層体が
光学的に透明な接着剤を含む層と、
光学的に透明な接着剤を含む前記層に隣接する重合されたアクリレートマトリックスを含む層と、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが前記パターン化基板表面と前記光学的に透明な接着剤との間に配置されるように、前記積層体が配置される、実施形態２１に記載の方法。
２３．前記重合されたアクリレートマトリックスが、分散された無機ナノ粒子を含む、実施形態２１又は２２に記載の方法。
２４．前記無機ナノ粒子が、表面変性した無機ナノ粒子である、実施形態２３に記載の方法。
２５．前記積層体を適用した後、前記方法が重合されたアクリレートマトリックスに輻射線を当てて、前記アクリレートマトリックスを架橋するか又は前記アクリレートマトリックスの架橋を増加させることを更に含む、実施形態２１〜２４のいずれか一に記載の方法。
２６．コーティングの方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備することと、
重合性アクリレートマトリックスを含むコーティング組成物を前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成することと、
前記重合性アクリレートマトリックスを重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することと、を含み、
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する、方法。
２７．光学的に透明な接着剤を前記コーティング表面上に適用することを更に含み、前記重合性アクリレートマトリックスを重合することが、前記光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる、実施形態２６に記載の方法。
２８．前記コーティング組成物が、分散された無機ナノ粒子を更に含む、実施形態２６又は２７に記載の方法。
２９．前記無機ナノ粒子が、表面変性した無機ナノ粒子である、実施形態２６に記載の方法。
３０．前記コーティング組成物が、開始剤を更に含む、実施形態２６又は２９のいずれか一の方法。
３１．前記開始剤が、フリーラジカル開始剤である、実施形態３０に記載の方法。
３２．前記コーティング組成物が、溶媒を更に含む、実施形態２６〜３１のいずれか一に記載の方法。
３３．コーティングの方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備することと、
コーティング組成物を前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成することと、前記重合性アクリレートマトリックスを重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することと、を含み、前記コーティング組成物が、
Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む重合性アクリレートマトリックスと、
前記重合性アクリレートマトリックス中に分散された無機ナノ粒子と、
開始剤と
を含む方法。
３４．光学的に透明な接着剤を前記コーティング表面に適用することを更に含み、前記重合性アクリレートマトリックスを重合することが、前記光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる、実施形態３３に記載の方法。
３５．前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有し、前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する、実施形態３３又は３４に記載の方法。
３６．前記無機ナノ粒子が、表面変性した無機ナノ粒子である、実施形態３３〜３５のいずれか一に記載の方法。
３７．前記コーティング組成物が、開始剤を更に含む、実施形態３３〜３６のいずれか一に記載の方法。
３８．前記開始剤が、フリーラジカル開始剤である、実施形態３７に記載の方法。
３９．前記コーティング組成物が、溶媒を更に含む、実施形態３３〜３８のいずれか一に記載の方法。
４０．前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が、ガラス、ＩＴＯでパターン化されたガラス、非プライマー処理ＰＥＴ、及びシクロオレフィンコポリマーから選択される基板に対する前記コーティングの接着を促進する、実施形態３３〜３９のいずれか一に記載の方法。
４１．Ｎ−ヒドロキシウレア官能基の重量百分率が、前記コーティングの少なくとも０．５ｗｔ％である、実施形態３３〜４０のいずれか一に記載の方法。
４２．前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が、前記無機ナノ粒子上の官能基として提供されない、実施形態３３〜４１のいずれか一に記載の方法。
４３．前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が、前記重合性又は重合されたアクリレートマトリックスの１つ以上のモノマー中の官能基として提供される、実施形態３３〜４２のいずれか一に記載の方法。
４４．物品であって、
基板表面を含み、前記基板が、ガラス、ＩＴＯでパターン化されたガラス、非プライマー処理ＰＥＴ、及びシクロオレフィンコポリマーから選択される、基板と、
前記基板上に配置された重合されたアクリレートマトリックスであって、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む、重合されたアクリレートマトリックスと、を含み、
前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が前記コーティングの前記基板への接着を促進する、物品。
４５．Ｎ−ヒドロキシウレア官能基の重量百分率が、前記コーティングの少なくとも０．５ｗｔ％である、実施形態４４に記載の物品。
４６．前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が、前記無機ナノ粒子上の官能基として提供されない、実施形態４４又は４５に記載の物品。
４７．前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が、前記重合性又は重合されたアクリレートマトリックスの１つ以上のモノマー中の官能基として提供される、実施形態４４〜４６のいずれか一に記載の物品。
４８．積層体であって、
第１のライナーと、
前記第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む層と、
高屈折率材料を含む前記層に隣接する低屈折率材料を含む層と、
低屈折率材料を含む前記層に隣接する第２のライナーと、を含む、積層体。
４９．前記低屈折率材料が光学的に透明な接着剤であり、前記高屈折率材料が、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである、実施形態４８に記載の積層体。
５０．前記分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスが、接着剤である、実施形態４８又は４９に記載の積層体。
５１．前記接着剤が、感圧性接着剤及び熱活性接着剤の少なくとも１つである、実施形態５０に記載の積層体。
５２．積層体であって、
第１のライナーと、
前記第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む第１の層と、
高屈折率材料を含む前記層に隣接する低屈折率材料を含む層と、
低屈折率材料を含む前記層に隣接する高屈折率材料を含む第２の層と、
高屈折率材料を含む前記第２の層に隣接する第２のライナーと、を含む、積層体。
５３．前記低屈折率材料が光学的に透明な接着剤であり、前記高屈折率材料が、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである、実施形態５２に記載の積層体。
５４．前記分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスが、接着剤である、実施形態５２又は５３に記載の積層体。
５５．前記接着剤が、感圧性接着剤及び熱活性接着剤の少なくとも１つである、実施形態５４に記載の積層体。
【実施例】
【０１６４】
本開示の目的及び利点を、以下の実施例によって更に例示するが、これらの実施例に引用された特定の物質及びその量、並びにその他の条件及び詳細は、本開示を不当に制限すると解釈されるべきではない。
【０１６５】
【表１】
2016505403.tif 000007
【０１６６】
試験方法及び作製手順
パターン化ＩＴＯの光学試験
ＩＴＯでパターン化されたガラス基板又はＩＴＯでパターン化されたポリエステル（ＰＥＴ）フィルム基板をパターン化ＩＴＯ光学試験で使用して、高屈折率コーティング層がＩＴＯパターンを目視検出から隠蔽する能力を求めた。ＩＴＯパターンは普通のダイアモンド形状であり、ＩＴＯ厚さはタッピングモード原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定して約２９ｎｍであった。反射型分光エリプソメトリーで測定されるＩＴＯ配線の屈折率は６００ｎｍ波長で１．８３であり、露出したガラス基板の屈折率は６００ｎｍ波長で１．５３であった。イージー剥離ライナーを除去し、高屈折率接着剤層をＩＴＯでパターン化されたガラス基板と接触させることにより、転写テープ片（タイトライナー／８２６５  ＯＣＡ／高ＲＩ接着剤／イージー剥離ライナー）をＩＴＯでパターン化されたガラス又はＰＥＴ基板に積層した。次いで、転写テープのタイト剥離ライナーを除去し、透明な５ｍｉｌ（１２７マイクロメートル）厚のＰＥＴ片（商標名ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７でＥ．Ｉ．ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒｅから入手可能）を露出した８２６５  ＯＣＡ接着剤表面上に積層した。次いで、ＩＴＯでパターン化されたガラス基板を目視観察して、転写テープの高屈折率接着剤コーティングがＩＴＯパターンを隠蔽することができるかどうか観察した。
【０１６７】
パターン化ＩＴＯ適合性試験
ＩＴＯ配線を有するガラス基板を３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｍｅｔｈｕｅｎ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓで内製したＩＴＯ配線を有するＰＥＴフィルムで置き換えたことを除いて、積層体試料をパターン化ＩＴＯの光学試験で述べたように作製した。これは、カーボンを被覆したコネクターパッドを終端とする５本の平行なＩＴＯ配線からなる一般的な試験細片である。配線は約１５ｃｍの長さであり、６０オーム／平方の平均電気抵抗を有する。保護コーティングはＩＴＯ配線にかぶせて適用されない。コネクターパッドを横切ってメーターの導線を配置させたオーム計を使用し、ＩＴＯ配線上にて、初期の表面抵抗を測定した。得られた積層体は、６５℃に設定した相対湿度９０％のオーブン内にてコンディショニングした。各配線に対する表面抵抗を、オーム計を使用して１００時間にわたって定期的に測定した。５個の表面抵抗測定値の平均を記録した。％抵抗変化対コントロール（大気に直接露出したＩＴＯ表面）を報告する。
【０１６８】
屈折率の測定
光学コーティングの屈折率を、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ  ＭＯＤＥＬ  ２０１０プリズムカップラー（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  Ｉｎｃ．（Ｐｅｎｎｉｎｇｔｏｎ，ＮＪ））を使用して、６３２．８ｎｍで測定した。高屈折率コーティングをＰＥＴフィルム、Ｅ．Ｉ．ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥからのＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７の上に適用し、周囲条件で空気中で乾燥することにより、試料を作製した。
【０１６９】
光学特性測定
ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ  ＵＳＡ，Ｃｏｌｕｍｂｉａ，ＭＤからのＨａｚｅ−ＧａｒｄＰｌｕｓを用いて、ヘーズ（％）及び透過率（％）を測定した。試験に先立ち、転写テープを重合した高屈折率材料、又は使用される場合には、スライドに接着する８２６５ＯＣＡを付けたガラススライドに積層した。ハードコートを使用する場合には、具体的な例で加工されたＰＥＴフィルム上のハードコーティングを試験した。
【０１７０】
ＩＴＯパターン隠蔽試験
ＩＴＯパターン隠蔽性能試験方法を次のように確立した。下から照明時に試料を白色スクリーンのノートブックディスプレイ上に載せた。ＰｒｏｍｅｔｒｉｃカメラＰＭ−１４５３Ｆ−１（Ｒａｄｉａｎｔ  Ｉｍａｇｉｎｇ，Ｒｅｄｍｏｎｄ，ＷＡから入手可能）を用いて、試料の性能を測定した。ＩＴＯパターン隠蔽性能をＩＴＯパターンのコントラスト比（ＣＲ）
【０１７１】
【数１】
2016505403.tif 000008
により求めた。ここで、Ｉはカンデラ／ｍ２で測定される輝度を表す。ＣＲが小さい程、所定のコーティングのＩＴＯ配線隠蔽性能は良好である。
【０１７２】
クロスハッチ接着試験
ＩＴＯでパターン化されたガラス基板、ガラス、ＰＥＴ、ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７、商標名「ＺＥＯＮＯＲ  ＣＯＰ」でＺｅｏｎ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓＬ．Ｐ．Ｌｏｕｉｓｖｉｌｌｅ，Ｋｅｎｔｕｃｋｙから入手可能なシクロオレフィンコポリマーフィルムを含む、様々な基板上の光学コーティングの接着性を評価するために、標準のクロスハッチ接着試験を使用した。かみそりの刃を用いて、３つの正方形のクロスハッチパターンを作製した。３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａから入手可能なテープ「３Ｍ  ＳＣＯＴＣＨ  ８１０」をクロスハッチ領域に貼り付けた。このテープを急速に引っ張って、テープを基板から引き剥がし、そしてクロスハッチパターン中の正方形から引き剥がされたコーティングの領域部分によりパーセント接着を定量化した。コーティングのどれもが基板から引き剥がされない場合、試料を接着試験に「合格」と表示した。
【０１７３】
ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤Ｉの作製
凝縮器、温度調節器、及び窒素パージ管を備えた２５０ｍＬ三ツ口フラスコに５０．１ｇのＺｒＯ２−ＤＩＳＰ１を装填した。この分散物に６０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを急速な撹拌下で添加した。この混合物を３０分間Ｎ２パージした。次に、３．１４５ｇのＰｈＴＭＯｘＳ及び１．３３ｇの３−ＭＰＴＭＯｘＳを添加した。この混合物を５０℃まで加熱し、続いて２０ｇの追加の１−メトキシ−２−プロパノール及び１００ｇのトルエンを添加した。この混合物を撹拌し、８０℃まで加熱し、Ｎ２パージ下で１６時間維持した。
【０１７４】
この混合物を室温まで冷却し、続いて２．２４ｇのＩＯＡ、１０．１６ｇの２−ＰｈＴｈＥＡ、及び０．０７５ｇのＶＡＺＯ  ６７を混合物に添加した。３０分混合した後、反応を７０°、ＣＮ２パージ下で１６時間進行させた。
【０１７５】
５０℃の水浴を用いて、溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。追加のトルエンを添加して、回収した固形分を溶解し、３６．４％固形分（ｗｔ）の僅かに半透明のポリマーグラフトしたＺｒＯ２分散物、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子接着剤コーティングＩを形成した。分散物をＰＥＴフィルム、ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７上に被覆し、空気中外周温度で乾燥して、透明な粘稠な接着剤、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤Ｉを得た。ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤Ｉの屈折率は１．６７であった。
【０１７６】
ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＩの作製
凝縮器、温度調節器、及び窒素パージ管を備えた２５０ｍＬ三ツ口フラスコに６０ｇのＺｒＯ２−ＤＩＳＰ１を装填した。この分散物に６０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを急速な撹拌下で添加した。この混合物を３０分間Ｎ２パージした。次に、３．７８ｇのＰｈＴＭＯｘＳ及び１．５９ｇの３−ＭＰＴＭＯｘＳを添加した。この混合物を５０℃まで加熱し、続いて２０ｇの追加の１−メトキシ−２−プロパノール及び１００ｇのトルエンを添加した。この混合物を撹拌し、８０℃まで加熱し、Ｎ２パージ下で１６時間維持した。
【０１７７】
温度を７０℃まで下げ、続いて２．６８ｇのＩＯＡ、６．０８ｇの２−ＢｉＰｈＯｘＨＡ及び６．０９ｇの２−ＰｈＴｈＥＡ、及び０．０７５ｇのＶＡＺＯ  ６７を添加した。反応を７０℃、Ｎ２パージ下で１６時間進行させた。
【０１７８】
５０℃の水浴を用いて、溶媒をロータリーエバポレーターで除去し、白色固形分を形成した。次に、１００ｇのテトラヒドロフランを添加して、固形分を溶解し、僅かに半透明の分散物を形成し、次いで８０ｇのトルエンを添加した。ロータリーエバポレーターを用いて、溶媒を更に除去して、３６．６３％固形分（ｗｔ）の僅かに半透明のポリマーグラフトしたＺｒＯ２分散物、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子接着剤コーティングＩＩを形成した。この分散物をＰＥＴフィルム、ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７上に被覆し、空気中外周温度で乾燥して、透明で粘稠な接着剤、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＩを得た。ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＩの屈折率は１．６６２であった。
【０１７９】
ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＩＩの作製
凝縮器、温度調節器、及び窒素パージ管を備えた２５０ｍＬ三ツ口フラスコに５９．２ｇのＺｒＯ２−ＤＩＳＰ１を装填した。この分散物に６０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを急速な撹拌下で添加した。この混合物を３０分間Ｎ２パージした。３．７ｇのＰｈＴＭＯｘＳ及び１．５９ｇの３−ＭＰＴＭＯｘＳを小さいビーカー中で秤量し、フラスコに添加した。ビーカーを２０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールですすぎ、これをフラスコに添加した。この混合物を５０℃に加熱し、６０ｇのトルエンを添加した。この混合物を撹拌し、Ｎ２パージ下で７８℃まで加熱し、１６時間維持した。
【０１８０】
溶液を室温まで冷却し、続いて４０ｇのトルエン、１．６ｇのＩＯＡ、１３．３７ｇの２−ＰｈＴｈＥＡ、１．３９ｇのＡＢＰ／ＩＯＡ  ２４／７６（ｗｔ／ｗｔ）プレミックス、０．０４５ｇのＨＤＤＡ、及び０．０９ｇのＶＡＺＯ  ６７を添加した。３０分混合した後、撹拌した混合物をＮ２パージ下で７０℃まで加熱し、１６時間維持した。
【０１８１】
ロータリーエバポレーターを用いて、溶媒を５０℃水浴で除去し、続いて８０ｇのトルエンを添加した。溶媒を更に除去して、３５％固形分（ｗｔ）の僅かに半透明のポリマーグラフトしたＺｒＯ２分散物、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子接着剤コーティングＩＩＩを形成した。分散物をＰＥＴフィルム、ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７上に被覆し、空気中外周温度で乾燥して、透明で粘稠な接着剤、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＩＩを得た。ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＩＩの屈折率は１．６５６であった。
【０１８２】
ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＶの作製
褐色の８オンスジャーに、３０．４８ｇの２−ＰｈＴｈＥＡ、７．２４ｇのＩＯＡ、０．３８ｇのＨＥＡ、０．１９ｇのＶＡＺＯ  ６７、０．６４ｇの３−ＭＰＴＭＯｘＳ、及び１２０ｇのトルエンを添加した。混合物を２０分間Ｎ２パージし、次いでジャーをシールした。ジャーを７０℃水浴中に２４時間置いて、モノマーを重合して、シラン末端ポリマー溶液を形成した。
【０１８３】
凝縮器、温度調節器、及び窒素パージ管を備えた５００ｍＬ三ツ口フラスコに１２９．２ｇのＺｒＯ２−ＤＩＳＰ２、１５６ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、９．６６ｇのＰｈＴＭＯｘＳ、１．７８ｇの３−ＭＰＴＭＯｘＳ及び上記で作製したシラン末端ポリマー溶液を装填した。溶液を急速な撹拌下で一緒に混合した。３０分後、混合物を７８℃で１６時間加熱した。全反応工程をＮ２パージ下で行った。
【０１８４】
反応後、混合物を丸底フラスコに移し、５３℃の温度を有する水浴を用いて、溶媒をロータリーエバポレーター処理により除去した。ロータリーエバポレーター処理時、白色固形分が溶液中に生成された。２００ｇのトルエンの過剰のアリコートを添加して、均質の半透明の懸濁液を形成した。ロータリーエバポレーター処理を継続して、水を完全に除去するまで、溶媒を除去した。溶液はより透明となった。追加のトルエンを添加して、３５％（ｗｔ）固形分の透明なポリマーグラフトしたＺＯ２ゾルを作製した。分散物をＰＥＴフィルム、ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７上に被覆し、空気中外周温度で乾燥して、透明で粘稠な接着剤、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＶを得た。ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＶの屈折率は１．６６であった。
【０１８５】
（実施例１）
３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮから入手可能な８２６５  ＯＣＡ片を１２ｃｍ×４０ｃｍの長方形細片に切断した。「イージー」剥離ライナーを除去し、ガラススライド上に露出接着剤表面を上に向けて長方形細片を置いた。Ｒ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ，Ｗｅｂｓｔｅｒ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋから入手可能な＃１０巻き線ロッドを用いて、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子接着剤コーティングＩを８２６５  ＯＣＡの露出接着剤表面上に被覆した。このコーティングを空気中外周温度で１５分間乾燥させて、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤Ｉの層を形成した。乾燥したコーティングの厚さは約３マイクロメートルであった。イージー剥離ライナーを露出し、乾燥した接着剤層に積層して、転写テープ、実施例１を形成した。
【０１８６】
上述のパターン化ＩＴＯ光学試験に続いて、ＩＴＯ配線を実施例１から作製されるＩＴＯでパターン化されたガラス／接着剤積層体について検討し、比較例４（８２６５  ＯＣＡのみ）により作製されるＩＴＯでパターン化されたガラス／接着剤積層体と比較した。ＩＴＯパターンは、比較例４を含有するパターン化基板／接着剤積層体と比較して、実施例１を含有するＩＴＯパターン化基板／接着剤積層体に対してずっと低視認性であった。パターン化ＩＴＯ適合性試験に続いてＩＴＯ適合性について試験すると、抵抗変化は１％未満であった。
【０１８７】
（実施例２）
ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子接着剤コーティングＩＩをポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子接着剤コーティングＩの代わりに使用して、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＩ、実施例２の層を有する転写テープを作製したことを除いて、実施例２を実施例１のそれと同じく作製した。
【０１８８】
上述のパターン化ＩＴＯ光学試験に続いて、ＩＴＯ配線を実施例２から作製されるＩＴＯパターン化基板／接着剤積層体について検討し、比較例４（８２６５  ＯＣＡ）により作製されるＩＴＯパターン化基板／接着剤積層体と比較した。ＩＴＯパターンは、比較例４を含有するパターン付きガラス／接着剤積層体と比較して、実施例２を含有するＩＴＯでパターン化されたガラス／接着剤積層体に対してずっと低視認性であった。パターン化ＩＴＯ適合性試験に続いてＩＴＯ適合性について試験すると、抵抗変化は１％未満であった。
【０１８９】
（実施例３）
ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子接着剤コーティングＩＩＩをポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子接着剤コーティングＩの代わりに使用して、ポリマーグラフトしたＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率接着剤ＩＩ、実施例３の層を有する転写テープを作製したことを除いて、実施例３を実施例１のそれと同じく作製した。高屈折率接着剤の厚さは約３マイクロメートルであった。
【０１９０】
上述のパターン化ＩＴＯ光学試験に続いて、ＩＴＯ配線を実施例１から作製されるＩＴＯでパターン化されたＰＥＴ基板／接着剤積層体について検討し、比較例４（８２６５  ＯＣＡのみ）により作製されるＩＴＯでパターン化されたＰＥＴ基板／接着剤積層体と比較した。ＩＴＯパターンは、比較例４を含有するパターン化基板／接着剤積層体と比較して、実施例３を含有するＩＴＯでパターン化されたＰＥＴ基板／接着剤積層体に対してずっと低視認性であった。
【０１９１】
比較例４
８２６５  ＯＣＡの単一層をＩＴＯでパターン化されたガラス基板上に積層した。ＯＣＡの屈折率１．４９は、ＩＴＯパターン化基板に使用されるガラス屈折率約１．５０に近接マッチングするものであった。パターン化ＩＴＯ適合性試験に続いてＩＴＯ適合性について試験すると、抵抗変化は１％未満であった。しかしながら、ＩＴＯ配線はパターン化ＩＴＯ光学試験において極めて高視認性であり、したがってこの試料は配線の隠蔽力を持たない。
【０１９２】
比較例５
ＩＴＯでパターン化されたガラス基板をＩＴＯでパターン化されたＰＥＴフィルム基板で置き換えたことを除いて、比較例５は比較例４と同じであった。
【０１９３】
結果を表１に要約する。
【０１９４】
【表２】
2016505403.tif 000009
【０１９５】
Ａ−１７４で表面変性したＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率ハードコート溶液の作製
添加漏斗、温度調節器、パドル型攪拌機、油浴及び蒸溜ヘッドを備えた２０００ｍｌ三ツ口フラスコに５００ｇの４７．７％固形分（ｗｔ）ＺｒＯ２−ＤＩＳＰ２分散物を装填した。この分散物に３５８．６ｇ脱イオン水及び０．５４ｇの５％（ｗｔ）Ｐｒｏｓｔａｂ  ５１９８（水溶液）のプレミックスを撹拌しながら添加した。次に、７５８．６ｇの１−メトキシ−２−プロパノールをバッチに添加し、次いで６３．９ｇの３Ａ−１７４及び１００ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを添加した。バッチを８０℃まで加熱し、約１６時間保持した。得られる混合物は粘稠で不透明の白色液体であった。この混合物を室温まで冷却した。真空蒸留及び１．７８２ｇの１−メトキシ−２−プロパノールの添加を交互に行うことにより、水をバッチから除去した。バッチを真空蒸留により更に濃縮して、５９．１％の固形分（ｗｔ）の低粘度、半透明の分散物を得、Ａ−１７４で変性したＺｒＯ２ナノ粒子分散物を形成した。
【０１９６】
ナノ粒子（１０ｇのＡ−１７４で変性したＺｒＯ２ナノ粒子分散物）、１．４８ｇのＳＲ６０１、０．１４ｇの１２７及び１３ｇのＭＥＫ（メチルエチルケトン）を一緒に混合して、均質のハードコート溶液を形成した。
【０１９７】
（実施例６）
Ｒ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ，Ｗｅｂｓｔｅｒ，ＮｅｗＹｏｒｋからの＃８巻き線ロッドを用いて、上記のハードコート溶液をＩＴＯでパターン化されたガラス基板上に被覆した。Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．，Ｇａｉｔｈｅｒｓｂｕｒｇ，Ｍａｒｙｌａｎｄから入手可能の「ＬＩＧＨＴ  ＨＡＭＭＥＲ  ６」ＵＶシステムを用いて、コーティングをＮ２下で完全硬化した。ランプ出力は１００％であり、ライン速度は３０ｆｔ／分（９．１ｍ／分）であった。ＩＴＯパターン化ガラス基板は上記の「パターン化ＩＴＯ光学試験」で述べたものであった。硬化コーティングの屈折率は１．６９であった。
【０１９８】
目視検査下で、屈折率１．６９のコーティング、実施例６付きのＩＴＯ配線は、８２６５  ＯＣＡ、比較例４を被覆したＩＴＯ配線と比較して、著しく低視認性であった。
【０１９９】
ヒドロキシウレア−リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子樹脂溶液１の作製
リガンド１Ａを次の通り作製した。磁気撹拌棒を備えた１Ｌフラスコ中に、２５０ｍＬのテトラヒドロフラン及び１６．２ｇのヒドロキシルアミンの５０％水溶液を添加した。この溶液を氷浴中で２℃に冷却した。撹拌しながら、３９．５ｇのＩＥＭをゆっくりと添加して、溶液温度を８℃未満に維持した。２時間後、氷浴を取り外した。この溶液を室温で更に１時間撹拌した。リガンド１Ａの化学構造を下記に示す。
【０２００】
【化５】
2016505403.tif 000010
【０２０１】
リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子溶液を米国特許出願公開第２０１１／０１２６７３４号の実施例１にしたがって作製した。低粘性の半透明の表面処理されたＺｒＯ２溶液は１−メトキシ−２−プロパノール中に分散した５３．２％（ｗｔ）ジルコニアであった。
【０２０２】
４オンスのジャー中、３０ｇのリガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子溶液、３．９９ｇの（２−ＰｈＴｈＥＡ）、１６ｇのＭＥＫ、０．１４ｇのＩｒｇａｃｕｒｅ  １２７を一緒に混合して、均質のコーティング溶液ヒドロキシウレア−リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子樹脂溶液を形成した。
【０２０３】
光学測定に対しては、ヒドロキシウレア−リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子樹脂溶液１をＲ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ，Ｗｅｂｓｔｅｒ，ＮｅｗＹｏｒｋから入手可能な＃１２巻き線ロッドを用いて、２ｍｉｌ（５１マイクロメートル）ＰＥＴフィルムＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７上に被覆した。得られるコーティングを空気中で１５分間乾燥し、次いでＦｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．，Ｇａｉｔｈｅｒｓｂｕｒｇ，Ｍａｒｙｌａｎｄから入手可能の「ＬＩＧＨＴ  ＨＡＭＭＥＲ  ６」ＵＶシステムを用いて、硬化した。ランプ出力は１００％であり、ライン速度は３０ｆｔ／分（９．１ｍ／分）であった。この硬化コーティングの屈折率は１．７０２であった。
【０２０４】
（実施例７）
Ｒ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓからの＃１２巻き線ロッドを用いて、ヒドロキシウレア−リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子樹脂溶液１をＩＴＯでパターン化されたガラス表面上に被覆した。Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．，Ｇａｉｔｈｅｒｓｂｕｒｇ，Ｍａｒｙｌａｎｄから入手可能の「ＬＩＧＨＴ  ＨＡＭＭＥＲ  ６」ＵＶシステムを用いて、コーティングをＮ２下で完全硬化した。ランプ出力は１００％であり、ライン速度は３０ｆｔ／分（９．１ｍ／分）であった。ＩＴＯパターン化ガラス基板は「パターン化ＩＴＯ光学試験」で述べたものであった。８２６５  ＯＣＡ片の「イージー」剥離ライナーを除去し、対応する接着剤を硬化リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子樹脂コーティングの露出表面に積層した。「タイト」剥離ライナーをＯＣＡから除去し、ＦＵＪＩ  ＦＩＬＭ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎから入手可能な透明なＴＡＣフィルムを露出したＯＣＡ表面に貼り付けた。
【０２０５】
比較例８
ＩＴＯでパターン化されたガラス基板の別の領域上には、ＴＡＣフィルムで置き換えたタイト剥離ライナー付きの８２６５  ＯＣＡのみを適用した、比較例８。比較例８（８２６５  ＯＣＡ）の屈折率は１．４９であった。
【０２０６】
実施例７及び比較例８の目視観察によって、高屈折率コーティングを有する実施例７は、比較例８と比較してＩＴＯでパターン化された配線の隠蔽において著しく良好であるということが明らかになった。ＩＴＯパターン隠蔽試験から求められるコントラスト比は、比較例８及びＩＴＯコントロール試料と比較して実施例７の改善されたＩＴＯ配線隠蔽性能を明らかに示した。比較例９に対しては、ＩＴＯ配線は視認可能でないが、コーティング外観は許容できない強い干渉縞を含む。試験結果を図５及び表２に要約する。
【０２０７】
図５は、ＩＴＯパターン隠蔽試験で述べたように、ダイアモンド形状ＩＴＯパターンに対するガラス上の輝度測定を示す。３つの軌跡は、コントロール（非被覆ＩＴＯパターン）、ＩＴＯ配線の最上部に適用されたＲＩ  １．４８の通常のＯＣＡ（１．４８のＲＩの比較例７で述べたように）、又は本発明（実施例７）のＲＩ  １．７のコーティングの適用後のそれぞれの輝度測定に対応する。ｘ軸は検査走査の距離を表す。検査ビームがＩＴＯ配線に当たると、輝度は非ＩＴＯ領域に比して低下する。したがって、波打の少ない線がコントラスト比が低いことを示して、良好なＩＴＯ配線の隠蔽を与える。
【０２０８】
表２は、以下の式
【０２０９】
【数２】
2016505403.tif 000011
によるコントラスト比（ＣＲ）の計算により上記と同一のことを示す。式中、Ｉはカンデラ／ｍ２で測定した輝度を表す。ＣＲが小さい程、所定のコーティングのＩＴＯ配線隠蔽性能は良好である。
【０２１０】
Ａ−１７４／Ａ−１２３０で表面変性したＴｉＯ２ナノ粒子高屈折率ハードコート溶液の作製
表面処理したＴｉＯ２ナノ粒子を次の通り作製した。４２．８ｇのＮＴＢ−１を２５０ｍｌの三ツ口フラスコに添加した。１５ｇの追加の水及び４５ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを急速な撹拌下に添加した。５ｇの１−メトキシ−２−プロパノール中の１．４３２ｇのＡ−１７４及び０．３１８ｇのＡ−１２３０の混合物をゆっくりと添加した。この溶液を８０℃まで加熱し、急速な撹拌下に１６時間時間保持した。次いで、ロータリーエバポレーターを用いて、溶媒の大部分を除去した。得られた白色／淡色様の材料は、１−メトキシ−２−プロパノール／ＭＥＫの１：１混合物で希釈した。溶液の半透明性／透明性は進み、次いでロータリーエバポレーターを用いて溶媒を更に除去して、４７％（ｗｔ）固形分の半透明の安定ナノ分散物を得た。
【０２１１】
ナノ粒子（１０ｇのＡ−１７４／Ａ−１２３０で変性したＴｉＯ２粒子分散物）、１．１７ｇのＥＭ２２０６、０．１ｇのＩｒｇ１２７及び８．４ｇのＭＥＫを一緒に混合して、Ａ−１７４／Ａ−１２３０で表面変性したＴｉＯ２ナノ粒子高屈折率ハードコート溶液を形成した。
比較例９
Ａ−１７４／Ａ−１２３０で表面変性したＴｉＯ２ナノ粒子高屈折率ハードコート溶液を実施例６で述べたようにＩＴＯでパターン化されたガラス基板上に被覆及び硬化して、比較例９を形成した。硬化コーティングの屈折率は１．９２であった。
【０２１２】
【表３】
2016505403.tif 000012
【０２１３】
（実施例１０）
ヒドロキシウレア−リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子樹脂溶液２の作製
４オンスのジャー中で３０ｇのＮ−ヒドロキシウレア−リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子（５３．２％  ｗｔ１−メトキシ−２−プロパノール中に分散）、３．９９ｇのＣＮ１２０、１６ｇのＭＥＫ、０．１４ｇのＩｒｇ１２７を一緒に混合して、均質のコーティング溶液を形成した。
【０２１４】
光学測定、屈折率及びヘーズのために、＃１２巻き線ロッド（Ｒ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ，ＷｅｂｓｔｅｒＮＹから入手可能）を用いて、ヒドロキシウレア−リガンド１Ａで変性したＺｒＯ２ナノ粒子樹脂溶液１（実施例７からの溶液）及び溶液２（実施例１０からの溶液）をＰＥＴフィルム、ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７上に被覆した。次いで、得られるフィルムを空気中で１５分間乾燥し、次いで上述のＬｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  ６ＵＶシステムを用いて１００％ランプ出力及び１分当たり３０フィート（９メートル）のライン速度で硬化して、実施例１０を作製した。クロスハッチ接着試験のために、コーティング溶液をＩＴＯでパターン化されたガラス及びガラス元板に適用し、次いでＰＥＴフィルムと同一の方法で乾燥及び硬化した。光学測定及び接着の結果を表３に示す。
【０２１５】
【表４】
2016505403.tif 000013
【０２１６】
ヒドロキシウレア−リガンド１Ｂの作製
リガンド１Ｂを次の通り作製した。磁気撹拌棒を備えた１Ｌフラスコ中に２５０ｍＬのテトラヒドロフラン及び１６．２ｇのヒドロキシルアミンの５０％水溶液を添加した。この溶液を氷浴中で２℃まで冷却した。撹拌しながら、３９．５ｇのＩＥＭをゆっくりと添加して、溶液温度を８℃以下に維持した。２時間後、氷浴を取り外した。この溶液を室温で１時間更に撹拌した。次いで、６０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを添加した。混合後、ロータリーエバポレーターを用いて、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、水、及び１−メトキシプロパノールの一部を含む溶媒を除去した。２０ｇの追加のＴＨＦを添加して、リガンド１Ｂの５５．５％固形分（ｗｔ）を含むＴＨＦ／１−メトキシ−２−プロパノール中のリガンド１Ｂの透明の溶液を得た。
【０２１７】
（実施例１１）
ヒドロキシウレア−リガンド１Ｂ樹脂溶液の作製
４オンスのジャー中で４．０４ｇのＨＲ６０４２、１．６４ｇの上記で作製したＮ−ヒドロキシウレア官能化されたリガンド１Ｂ、３ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、４ｇのＭＥＫ、及び０．０９ｇのＩｒｇ１２７を一緒に混合して、均質のコーティング溶液を形成した。
【０２１８】
比較例１２
４オンスジャー中で６．４５ｇのＨＲ６０４２、５ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、５ｇのＭＥＫ、及び０．１３ｇのＩｒｇ  １２７を一緒に混合して、均質のコーティング溶液を形成した。
【０２１９】
光学測定、屈折率及びヘーズのために、＃１２巻き線ロッド（Ｒ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ，Ｗｅｂｓｔｅｒ  ＮＹから入手可能）を用いて、実施例１１及び比較例１２からの溶液をＰＥＴフィルム、ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７上に被覆した。次いで、得られるフィルムを空気中で１５分間乾燥し、次いで上述のＬｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  ６ＵＶシステムを用いて１００％ランプ出力及び１分当たり３０フィート（９メートル）のライン速度で硬化して、実施例１０を作製した。クロスハッチ接着試験のために、コーティング溶液をＩＴＯでパターン化されたガラス、ＰＥＴフィルム、ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１７、及びＣＯＰフィルム基板に適用し、次いで実施例１０に述べたように乾燥及び硬化した。光学測定及び接着の結果を表４に示す。
【０２２０】
【表５】
2016505403.tif 000014
【０２２１】
Ａ−１７４で変性したＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率ホットメルトＯＣＡ溶液の作製
添加漏斗、温度調節器、かい型攪拌器、油浴及び蒸溜ヘッドを備えた２０００ｍｌの三ツ口フラスコに５００ｇの４７．７％固形分（ｗｔ）のＺｒＯ２−ＤＩＳＰ２分散物を装填した。この分散物に３５８．６ｇ脱イオン水及び０．５４ｇの５％（ｗｔ）Ｐｒｏｓｔａｂ  ５１９８（水溶液）のプレミックスを撹拌しながら添加した。次に、７５８．６ｇの１−メトキシ−２−プロパノールをこのバッチに添加し、続いて、６３．９ｇの３Ａ−１７４及び１００ｇの１−メトキシ−２−プロパノールを添加した。このバッチを８０℃まで加熱し、約１６時間保持した。得られる混合物は粘稠で不透明な、白色液体であった。この混合物を室温まで冷却した。真空蒸留及び１，７８２ｇの１−メトキシ−２−プロパノールの添加を交互に行うことにより、水をバッチから除去した。バッチを真空蒸留によって更に濃縮して、５９．１％固形分（ｗｔ）の低粘性で半透明の分散物を得て、Ａ−１７４で変性したＺｒＯ２ナノ粒子分散物を形成した。
【０２２２】
５リットルのステンレススチール反応器に、８４３．０ｇの２−ＥＨＡ、１１２５．０ｇのＢＡ、３７５．０ｇのＨＥＡ、１２５．０ｇのＡｃｍ、２．５０ｇのＩｒｇ１０１０酸化防止剤、７．２５ｇのＥＧＢＴＧ、及び２０．５ｇの２−ＥＨＡ中４．７６ｗｔ％のＭＥＨＱを添加した。この混合物を撹拌しながら６０℃まで加熱し、次いで１２．０ｇの２−ＥＨＡ中０．２５ｗｔ％固形分のＶＡＺＯ  ５２を反応器に添加し、撹拌した。反応器を加熱し、次いで、６３℃の誘導温度に達する前に、６ｐｓｉ（４１ｋＰａ）の窒素ガスで加圧しながら酸素をパージし、反応を１３０℃のピーク（ｐｅａｋ）反応温度まで断熱的に進行させた。
【０２２３】
１．０ｇのＶＡＺＯ  ５２、０．１０ｇのＶＡＺＯ  ８８、０．０５ｇのＬｕｐ１０１、０．１５ｇのＬｕｐ１３０、及び４８．７０ｇのエチルアセテートを４ｏｚ（０．１Ｌ）のガラスジャーに混合し、及び往復型混合器中で振盪して、固形分を溶解することにより、溶液を作製した。次いで、１７．５ｇのエチルアセテート溶液及び２．４２ｇのＥＧＢＴＧを反応器の中に混合、添加した。反応器を加熱し、次いで、５９℃の誘導温度に達する前に、６ｐｓｉ（４１ｋＰａ）の窒素ガスで加圧しながら酸素をパージし、反応を１８１℃のピーク反応温度まで断熱的に進行させた。残存モノマーを部分真空ストリップしながら、反応器を１３５℃まで冷却し、次いで９０／１０窒素／酸素コントロールガスで３０分間パージした。次いで、２．８４ｇのＩＥＭを反応器に添加し、１３５℃で等温的に２時間維持した。最終的に、２．８４ｇのＴＰＯ−Ｌ光開始剤を反応器の中に添加し、３０分間撹拌し、そして混合物を１ｌｂ（０．５ｋｇ）のシリコーンライニングした箱の中に排出した。この工程から得られた反応混合物のサンプルを採取したところ、混合物の総重量に基づいて、未反応のモノマーは６．８１％であった。
【０２２４】
５０ｍＬのジャー中で、２ｇのホットメルトＯＣＡをＭＥＫに溶解して、３０％（ｗｔ）固形分の溶液を形成した。１３．６ｇのＡ−１７４で変性したＺｒＯ２ナノ粒子分散物をホットメルトＯＣＡ溶液に添加し、充分に混合して、Ａ−１７４で変性したＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率ホットメルトＯＣＡ溶液を形成した。オーブン乾燥及び溶媒の除去後、ホットメルト加工可能なＯＣＡを得た。
【０２２５】
ＦｕｓｉｏｎＵＶＳｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．，Ｇａｉｔｈｅｒｓｂｕｒｇ．Ｍａｒｙｌａｎｄから入手可能な「ＬＩＧＨＴ  ＨＡＭＭＥＲ  ６」ＵＶシステムを用いて、ＣＬＥＡＲＳＩＬ  Ｔ１０剥離ライナー上でホットメルトＯＣＡコーティングをＵＶ硬化した後、ホットメルトＯＣＡの屈折率を測定した。ランプ出力は１００％であり、ライン速度は３０ｆｔ／分（９．１ｍ／分）であった。この測定を行うために、ホットメルトＯＣＡの追加の試料（８２６５  ＯＣＡ層無しの）を作製した。屈折率は１．６４と測定された。
【０２２６】
（実施例１３）
Ａ−１７４で変性したＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率ホットメルトＯＣＡ溶液を、Ｒ．Ｄ．Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ，Ｗｅｂｓｔｅｒ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋからの＃３３巻き線ロッドを用いて、商標名「ＣＬＥＡＲＳＩＬ  Ｔ１０」でＣＰＦｉｌｍｓ，Ｉｎｃ．，Ｆｉｅｌｄａｌｅ，Ｖｉｒｇｉｎｉａから入手可能なシリコーン剥離ライナー上に被覆した。コーティングを空気中外周温度で１５分間乾燥して、変性ＺｒＯ２ナノ粒子高屈折率ホットメルトＯＣＡを形成した。３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮから入手可能な８２６５  ＯＣＡ片の「イージー」剥離ライナーを８２６５  ＯＣＡから除去し、それをホットメルトＯＣＡの露出表面に積層して、転写接着剤、実施例１３を形成した。
【０２２７】
上述のパターン化ＩＴＯ光学試験に続いて、ＩＴＯ配線を実施例１から作製したＩＴＯでパターン化されたガラス基板／接着剤積層体について検討し、比較例４（８２６５  ＯＣＡのみ）により作製されたＩＴＯでパターン化されたＰＥＴ基板／接着剤積層体と比較した。ＩＴＯパターンは、比較例４を含有するパターン化基板／接着剤積層体と比較して、実施例１３を含有するＩＴＯでパターン化されたガラス基板／接着剤積層体に対してずっと低視認性であった。
【０２２８】
本明細書に引用される特許、特許文献、及び刊行物の完全な開示内容は、あたかもそれぞれが個々に組み込まれたのと同様に、それら全体が参照により組み込まれる。本開示の範囲及び趣旨を逸脱することなく本開示に対する様々な改変及び変更が可能であることは当業者には明らかであろう。本開示は本明細書に記載される説明的実施形態及び実施例によって不要に限定されるものではない点、更にこうした実施例及び実施形態はあくまで一例として示されるものであって本開示の範囲は以下の特許請求の範囲によってのみ限定されるものである点は理解されるはずである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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