Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月9日(2013.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
NdFeB焼結磁石から成る磁石基材の表面にDy及び／又はTbを含む層を形成した後に前記磁石基材の焼結温度以下の加熱温度に加熱することにより、前記層中のDy及び／又はTbを前記磁石基材の結晶粒界を通じて前記磁石基材内部に拡散させる粒界拡散処理を行うNdFeB焼結磁石の製造方法において、
a) 前記磁石基材中に含まれる金属状態の希土類の量が12.9原子％以上であり、
b) 前記層が、50質量％以上のDyのフッ化物及び／又はTbのフッ化物を含有する粉体を、前記磁石基材の表面に1cm2あたり5mg以上塗布したものである
ことを特徴とするNdFeB焼結磁石の製造方法。
【請求項２】
前記粉体の平均粒径が100μm以下であることを特徴とする請求項１に記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
【請求項３】
前記加熱温度が700℃以上1000℃以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
【請求項４】
前記磁石基材がDy及びTbをいずれも含有していないことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
【請求項５】
前記磁石基材の厚さが3mm以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
【請求項６】
前記磁石基材の厚さが6mm以下であることを特徴とする請求項５に記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
【請求項７】
前記層が30質量％以下のAlを含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記課題を解決するために成された本発明に係るNdFeB焼結磁石の製造方法は、NdFeB焼結磁石から成る磁石基材の表面にDy及び／又はTbを含む層を形成した後に前記磁石基材の焼結温度以下の加熱温度に加熱することにより、前記層中のDy及び／又はTbを前記磁石基材の結晶粒界を通じて前記磁石基材内部に拡散させる粒界拡散処理を行うNdFeB焼結磁石の製造方法において、
a) 前記磁石基材中に含まれる金属状態の希土類の量が12.9原子％以上であり、
b) 前記層が、50質量％以上のDyのフッ化物及び／又はTbのフッ化物を含有する粉体を、前記磁石基材の表面に1cm2あたり5mg以上塗布したものである
ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月3日(2013.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に、化合物半導体よりなる電子走行層と、前記電子走行層上に化合物半導体よりなる電子供給層とを形成する工程と、
前記電子供給層の上に、ソース電極とドレイン電極を互いに間隔をおいて形成する工程と、
前記電子供給層の上に感光性ポリシラザンの第１の塗布膜を形成する工程と、
前記第１の塗布膜をジャスト露光時間よりも長い露光時間、露光し、現像することにより、前記電子供給層の上に開口を備えた保護絶縁膜を形成する工程と、
前記開口内の前記電子供給層上にゲート電極を形成する工程と、
を有することを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記電子供給層を形成した後であって、前記ソース電極と前記ドレイン電極とを形成する前において、
前記電子供給層の上に感光性ポリシラザンの第２の塗布膜を形成する工程と、
前記第２の塗布膜の一部領域を除く他領域に光を当てることにより、該一部領域の前記第２の塗布膜を未露光にしつつ、前記他領域の前記第２の塗布膜を露光する工程と、
前記露光の後、前記第２の塗布膜を吸湿させることにより、前記一部領域と前記他領域のそれぞれに対応した高誘電率部と低誘電率部とを備えたゲート絶縁膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の化合物半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記ゲート電極は、前記ゲート絶縁膜の前記高誘電率部上に形成されて、
前記ゲート電極の下面の面積が、前記ゲート絶縁膜の前記高誘電率部の面積よりも広いことを特徴とする請求項２に記載の化合物半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記露光時間を、前記ジャスト露光時間よりも２０〜３０％だけ長い時間に設定することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】化合物半導体装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、化合物半導体装置の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の目的は、ゲート電極の近傍での耐圧が高められた化合物半導体装置の製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の一観点によれば、基板の上に、化合物半導体よりなる電子走行層と、前記電子走行層上に化合物半導体よりなる電子供給層とを形成する工程と、前記電子供給層の上に、ソース電極とドレイン電極を互いに間隔をおいて形成する工程と、前記電子供給層の上に感光性ポリシラザンの第１の塗布膜を形成する工程と、前記第１の塗布膜をジャスト露光時間よりも長い露光時間、露光し、現像することにより、前記電子供給層の上に開口を備えた保護絶縁膜を形成する工程と、前記開口内の前記電子供給層上にゲート電極を形成する工程とを有する化合物半導体装置の製造方法が提供される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
なお、上記の化合物半導体装置の製造方法においては、前記電子供給層を形成した後であって、前記ソース電極と前記ドレイン電極とを形成する前において、前記電子供給層の上に感光性ポリシラザンの第２の塗布膜を形成する工程と、前記第２の塗布膜の一部領域を除く他領域に光を当てることにより、該一部領域の前記第２の塗布膜を未露光にしつつ、前記他領域の前記第２の塗布膜を露光する工程と、前記露光の後、前記第２の塗布膜を吸湿させることにより、前記一部領域と前記他領域のそれぞれに対応した高誘電率部と低誘電率部とを備えたゲート絶縁膜を形成する工程とを有してもよい。更に、前記ゲート電極は、前記ゲート絶縁膜の前記高誘電率部上に形成されて、前記ゲート電極の下面の面積が、前記ゲート絶縁膜の前記高誘電率部の面積よりも広くてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月12日(2013.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
訪問先ネットワークオペレータ（ＶＮＯ）、登録オペレータ（ＲＯ）、および、ネットワークを経由して通信をする機械対機械装置（Ｍ２ＭＥ）からなるシステムの中で、前記Ｍ２ＭＥによって実行される方法において、
前記ＶＮＯへ、一時プライベート識別子を含むネットワークアタッチ要求メッセージを送信するステップと、
前記ＶＮＯで、前記一時プライベート識別子を使用して、認証をするステップと、
前記Ｍ２ＭＥがＶＮＯで認証されるとき、インターネットプロトコル（ＩＰ）アドレスを受信するステップと、
前記受信されたＩＰアドレスを使用して、前記ＶＮＯを介して前記ＲＯへのＩＰリンクを確立するステップと、
前記ＲＯから管理可能識別（ＭＩＤ）を受信するステップと、
前記Ｍ２ＭＥ上で前記ＭＩＤをプロヴィジョニングし、および、前記ＲＯへ成功メッセージをレポートするステップと
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記一時プライベート識別子は、プロヴィジョナル接続識別（ＰＣＩＤ）であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記Ｍ２ＭＥを検証するステップと、
前記Ｍ２ＭＥの前記検証に基づいて、前記ＶＮＯを経由して、検証成功メッセージまたは検証失敗メッセージをプラットフォーム認証局（ＰＶＡ）へ送るステップと
をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記Ｍ２ＭＥの前記検証は、前記Ｍ２ＭＥの内の信頼環境（ＴＲＥ）によって実行される検証手順に基づいて、少なくとも部分的に決定されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記検証手順は、前記Ｍ２ＭＥ内で自律的に実行されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記検証手順は、前記Ｍ２ＭＥによって、半自律的に実行されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記ＭＩＤは、汎用移動通信加入者（ＵＭＴＳ）識別モジュール（ＵＳＩＭ）機能、資格証明、または、前記Ｍ２ＭＥが選択ホームオペレータ（ＳＨＯ）で認証することを可能とする構成情報の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ＲＯは、初期接続機能（ＩＣＦ）、発見および登録機能（ＤＲＦ）、並びにダウンロードおよびプロヴィジョニング機能（ＤＰＦ）を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記初期接続機能（ＩＣＦ）、前記発見および登録機能（ＤＲＦ）、並びに、前記ダウンロードおよびプロヴィジョニング機能（ＤＰＦ）は、前記ネットワークの中で別々のエンティティであることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月2日(2013.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一体成形ライトワイヤであり、
導電性素材から成形され、電源から電力を分配するように適合された、第１バス構成要素と、
導電性素材から成形され、前記電源から電力を分配するように適合された、第２バス構成要素と、
導電性素材から成形され、制御信号を分配するように適合された、第３バス構成要素と、
複数の発光ダイオード（ＬＥＤ）モジュールであって、前記複数のＬＥＤモジュールの各々が、マイクロコントローラ及び少なくとも１つのＬＥＤを具備し、前記複数のＬＥＤモジュールの各々が、前記第１及び第２バス構成要素から電力を引き込むとともに、前記第３バス構成要素から制御信号を受信するように、それぞれ、前記第１、第２、第３のバス構成要素に電気的に接続され、かつ、前記第１、第２、及び第３バス構成要素上に搭載された第１、第２、及び第３電気的接点を具備する前記複数のＬＥＤモジュールと、
前記第１、第２、及び第３バス構成要素、及び、前記マイクロコントローラの各々を含む前記複数のＬＥＤモジュールを連続的かつ完全にカプセル化する連続的な単一の封入剤であって、全長に渡って一定の断面領域を有する前記単一の封入剤と、を具備する。
【請求項２】
前記封入剤が、光散乱粒子を具備する、請求項１に記載の一体成形ライトワイヤ。
【請求項３】
前記複数のＬＥＤモジュールの各々、及び、前記第１及び第２バス構成要素の１つの間の接続は、はんだ、溶接、及び導電性エポキシを具備するグループから選択される、請求項１に記載の一体成形ライトワイヤ。
【請求項４】
前記複数のＬＥＤモジュール各々、及び、他の前記第１及び第２バス構成要素の間の接続は、はんだ、溶接、ワイヤボンディング、及び導電性エポキシを具備するグループから選択される、請求項３に記載の一体成形ライトワイヤ。
【請求項５】
前記複数のＬＥＤモジュールの各々は、複数のＬＥＤを更に具備し、
前記複数のＬＥＤが、赤色、青色、緑色、及び白色ＬＥＤを具備するグループから選択される、請求項１に記載の一体成形ライトワイヤ。
【請求項６】
前記複数のＬＥＤモジュールの各々は、前記受信された制御信号を出力する第４接点をさらに具備する、請求項１に記載の一体成形ライトワイヤ。
【請求項７】
各ＬＥＤモジュールは、前記ＬＥＤモジュールを制御するために用いられる唯一のアドレスを具備する、請求項１に記載の一体成形ライトワイヤ。
【請求項８】
前記アドレスは静的である、請求項７に記載の一体成形ライトワイヤ。
【請求項９】
前記アドレスは動的である、請求項７に記載の一体成形ライトワイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月12日(2013.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オーバレイ測定用の目盛校正曲線を生成する方法であって、
ウエファ上にターゲットの第一アレイを印刷するステップと、
アレイ内の各ターゲットについて、ターゲット非対称パラメータを計算するステップと、
各ターゲットオーバレイ測定に参照用に使用される為の計算されたターゲット非対称パラメータ値を含む第一目盛校正曲線を生成するステップとを含み、前記第一目盛校正曲線の対称中心がゼロオーバレイに対応するものである方法。
【請求項２】
各ターゲットの第一部分はウエファの第一層の中に印刷され、各ターゲットの第二部分はウエファの第二層の中に印刷される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の方法であって、
更に、
ターゲットの第一アレイのピッチがターゲットの第二アレイのピッチと異なるようにして、ウエファ上に第二アレイを印刷するステップと、
ターゲットの第二アレイの計算されたターゲット非対称パラメータ値を含めて第二目盛校正曲線を生成し、当該第二目盛校正曲線の対称中心がゼロオーバレイに対応するようにするステップと、
前記第一および第二目盛校正曲線のそれぞれの対称中心間の距離を測定するステップと、
前記第一および第二目盛校正曲線のそれぞれの対称中心間の距離に基づいたオーバレイ値と、ターゲットの第一および第二アレイ間のピッチのズレと前記第一または第二アレイのピッチのいずれかとの比とを計算するステップと
を備えた方法。
【請求項４】
第二アレイを印刷するステップが、第一アレイのターゲットと同じピッチを持つが、異なる符号の第二アレイのターゲットを印刷するものである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ターゲットは十字架形であり、アレイの各ターゲットは十字形を形成する水平方向のバーと鉛直方向のバーとの間に異なるオフセットを持つものである請求項１から請求項３のいずれか一項記載の方法。
【請求項６】
請求項３記載の方法であって、
前記印刷するステップは、ウエファの活性領域内に任意の順序で前記第一および第二アレイのターゲットを印刷するステップを含み、更に第一および第二アレイのターゲットの各々におけるターゲット用の対称パラメータ値を測定するステップと、測定された対称パラメータ値を使用して前記第一および第二アレイのターゲットのそれぞれに含まれるターゲットを分類するステップとを含む方法。
【請求項７】
オーバレイ測定用の目盛校正曲線を生成する方法であって、
ウエファ上にターゲットの第一アレイを印刷し、
前記ターゲットのアレイ内の各ターゲットについて、ターゲット非対称パラメータ値を計算し、
前記計算されたターゲット非対称パラメータ値を含む第一目盛校正曲線であり、その対称中心がゼロオーバレイに対応する第一目盛校正曲線を生成し、
ターゲットの独立したアレイのためのオーバレイ測定の参照用に前記第一目盛校正曲線を用い、
ターゲットの第二アレイは、前記第一アレイ中の第一部分に対応する前記第ニアレイの第一部分を前記ウエファの第二層に印刷し、前記第一アレイの第二部分に対応する前記第二アレイの第二部分を、前記ウエファの第一層に印刷し、
前記計算されたターゲット非対称パラメータ値を含むターゲットの第二アレイ用の第二目盛校正曲線であり、その対称中心がゼロオーバレイに対応する第二目盛校正曲線を生成し、
前記第一および第二目盛校正曲線のそれぞれの対称中心間の距離を測定し、
前記各ターゲットの第一部分は、前記ウエファの第一層に印刷され、各ターゲットの第二部分は、前記ウエファの第二層に印刷されるものであり、前記第一および第二目盛校正曲線の前記対称中心間の距離に基づいたオーバレイ値と、前記ターゲットの第一および第二アレイ間のピッチのズレと前記第一または第二アレイのピッチのいずれかとの比とを計算する
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月16日(2013.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示される入力データに対する操作及び表示され、前記入力データから処理条件に基づいて生成される出力データに対する操作を受付ける受付手段と、
前記受付手段により前記入力データに対する操作が受付けられた場合と、前記出力データに対する操作が受付けられた場合とで、異なった処理条件を設定する設定手段と
を有する操作受付装置。
【請求項２】
前記設定手段は、同じ操作について、前記表示される入力データに対する操作であるか、前記出力データに対する操作であるかによって、処理条件を異ならせる
請求項１記載の操作受付装置。
【請求項３】
複数の操作の順序を記憶する操作順序記憶手段
をさらに有し、
前記設定手段は前記記憶された順序に従い、前記処理条件を設定する
請求項１又は２記載の操作受付装置。
【請求項４】
表示される原稿データに対する操作及び表示され、前記原稿データから印刷条件に基づいて生成される印刷データに対する操作を受付ける受付手段と、
前記受付手段により前記原稿データに対する操作が受付けられた場合と、前記印刷デ
ータに対する操作が受付けられた場合とで、印刷条件を異にして設定する設定手段と、
設定された印刷条件に基づいて生成された印刷データを印刷する印刷手段と
を有する画像形成装置。
【請求項５】
表示される前記印刷データに対する複数の操作の順序を記憶する操作順序記憶手段
をさらに有し、
前記設定手段は、前記受付手段により、前記原稿データに対する操作が受付けられた場合に、受付けられた操作に対応する第１の処理を原稿データに行い、前記印刷データに対する操作が受付けられた場合に、前記記憶された順序に従い、操作に対応する第２の処理を前記第１の処理がなされた原稿データに対して行なう
請求項４記載の画像形成装置。
【請求項６】
表示される入力データに対する操作及び表示され、前記入力データから処理条件に基づいて生成される出力データに対する操作を受付けるステップと、
表示される入力データに対する操作として操作が受付けられた場合と、表示される出力データに対する操作として操作が受付けられた場合とで、異なった処理条件を設定するステップと
をコンピュータに実行させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
［操作受付装置］
請求項1に係る本発明は、表示される入力データに対する操作及び表示され、前記入力データから処理条件に基づいて生成される出力データに対する操作を受付ける受付手段と、前記受付手段により前記入力データに対する操作が受付けられた場合と、前記出力データに対する操作が受付けられた場合とで、異なった処理条件を設定する設定手段とを有する操作受付装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項２に係る本発明は、前記設定手段は、同じ操作について、前記表示される入力データに対する操作であるか、前記出力データに対する操作であるかによって、処理条件を異ならせる請求項１記載の操作受付装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項３に係る本発明は、複数の操作の順序を記憶する操作順序記憶手段をさらに有し、前記設定手段は前記記憶された順序に従い、前記処理条件を設定する請求項１又は２記載の操作受付装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
［画像形成装置］
請求項４に係る本発明は、表示される原稿データに対する操作及び表示され、前記原稿データから印刷条件に基づいて生成される印刷データに対する操作を受付ける受付手段と、前記受付手段により前記原稿データに対する操作が受付けられた場合と、前記印刷データに対する操作が受付けられた場合とで、印刷条件を異にして設定する設定手段と、設定された印刷条件に基づいて生成された印刷データを印刷する印刷手段とを有する画像形成装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項５に係る本発明は、表示される前記印刷データに対する複数の操作の順序を記憶する操作順序記憶手段をさらに有し、前記設定手段は、前記受付手段により、前記原稿データに対する操作が受付けられた場合に、受付けられた操作に対応する第１の処理を原稿データに行い、前記印刷データに対する操作が受付けられた場合に、前記記憶された順序に従い、操作に対応する第２の処理を前記第１の処理がなされた原稿データに対して行なう請求項４記載の画像形成装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［プログラム］
請求項６に係る本発明は、表示される入力データに対する操作及び表示され、前記入力データから処理条件に基づいて生成される出力データに対する操作を受付けるステップと、表示される入力データに対する操作として操作が受付けられた場合と、表示される出力データに対する操作として操作が受付けられた場合とで、異なった処理条件を設定するステップとをコンピュータに実行させるプロである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月11日(2013.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
読取位置前後で湾曲して搬送される原稿に搬送方向下流から照射した光の反射光を受光する受光部と、
該照射された光を、該受光部に向け反射するような角度分傾斜して配置され、原稿で反射するより多くの光を、原稿が該読取位置を通過するまで遮られることなく該受光部に反射する反射部と、
該受光部への光が、該反射部からの光量より変化した際に原稿の端と判別する判別部と、
を備えた読取装置。
【請求項２】
読取位置前後で湾曲してニップされずに搬送される原稿に搬送方向下流から照射した光の反射光を受光する受光部と、
該照射された光を、該受光部に向け反射するような角度分傾斜して原稿の幅方向全域に配置され、原稿で反射するより多くの光を、原稿が該読取位置を通過するまで遮られることなく該受光部に反射する反射部と、
該受光部への光が、該反射部からの光量より変化した際に原稿の端と判別する判別部と、
を備えた読取装置。
【請求項３】
該判別部は、該受光部の光量が、原稿で反射した光量から、反射部からの光量へと、変化した際も原稿の端と判別する
請求項１ないし３のいずれかに記載の読取装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記技術的課題を解決するために、請求項１に記載の発明の読取装置は、読取位置前後で湾曲して搬送される原稿に搬送方向下流から照射した光の反射光を受光する受光部と、該照射された光を、該受光部に向け反射するような角度分傾斜して配置され、原稿で反射するより多くの光を、原稿が該読取位置を通過するまで遮られることなく該受光部に反射する反射部と、該受光部への光が、該反射部からの光量より変化した際に原稿の端と判別する判別部と、
を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２に記載の発明の読取装置は、読取位置前後で湾曲してニップされずに搬送される原稿に搬送方向下流から照射した光の反射光を受光する受光部と、該照射された光を、該受光部に向け反射するような角度分傾斜して原稿の幅方向全域に配置され、原稿で反射するより多くの光を、原稿が該読取位置を通過するまで遮られることなく該受光部に反射する反射部と、該受光部への光が、該反射部からの光量より変化した際に原稿の端と判別する判別部と、
を備えたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記技術的課題を解決するために、請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の読取装置において、該受光部の光量が、原稿で反射した光量から、反射部からの光量へと、変化した際も原稿の端と判別する判別部と、
を備えたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項1に記載の発明によれば、原稿が原稿読取位置を通過する前に原稿を照射する光が遮られることを防止できる。
請求項２に記載の発明によれば、搬送される原稿の端を精度良く判別することができる。
請求項３に記載の発明によれば、判断部を有しない構成に比べて、搬送路を搬送される原稿の端を精度良く判別することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月10日(2013.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表裏両面の少なくとも一方に凹凸を有する基材の凹凸面に、フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を付着してなる仮積層体（ＰＬ１）を対象とし、そのフィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を基材の凹凸に追従させた本積層体を形成するための積層装置であって、上記仮積層体（ＰＬ１）を収容可能な密閉空間形成手段と、上記密閉空間形成手段によって形成された密閉空間において仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方と上記基材との間の空間を負圧に出来る減圧手段と、仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を加熱することが可能な加熱手段と、仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を上記基材の凸部へ積層して上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方と上記基材が一体化した仮積層体（ＰＬ１）を形成する加圧積層手段（Ｐ２）を有する積層機構（Ｅ２）と、上記密閉空間形成手段によって形成された密閉空間において上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方に接触しない非接触状態で上記仮積層体（ＰＬ１）を加圧して基材に積層して仮積層体（ＰＬ１）から本積層体を形成する加圧積層手段（Ｐ１）とを有する積層機構（Ｅ１）とを有することを特徴とする積層装置。
【請求項２】
表裏両面の少なくとも一方に凹凸を有する基材の凹凸面に、フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を付着してなる仮積層体（ＰＬ１）を対象とし、そのフィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を基材の凹凸に追従させた本積層体を形成するための積層装置であって、上記仮積層体（ＰＬ１）を収容可能な密閉空間形成手段と、上記密閉空間形成手段によって形成された密閉空間において仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂と上記基材との間の空間を負圧に出来る減圧手段と、仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂を加熱することが可能な加熱手段と、仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂の周縁部を上記基材へ積層して上記仮積層体（ＰＬ２）を形成する加圧積層手段（Ｐ３）を有する積層機構（Ｅ３）と、上記密閉空間形成手段によって形成された密閉空間において上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方に接触しない非接触状態で上記仮積層体（ＰＬ１）を加圧して基材に積層して仮積層体（ＰＬ１）から本積層体を形成する加圧積層手段（Ｐ１）とを有する積層機構（Ｅ１）とを有することを特徴とする積層装置。
【請求項３】
仮積層体（ＰＬ１）を上記積層機構（Ｅ２）または（Ｅ３）へ搬送する搬送機構（Ｔ１）と、上記積層機構（Ｅ２）または（Ｅ３）で形成された上記フィルム状樹脂を上記基材の凸部へ積層して上記フィルム状樹脂と上記基材が一体化した仮積層体（ＰＬ１）もしくは、仮積層体（ＰＬ２）を上記積層機構（Ｅ１）へ搬送する搬送機構（Ｔ２）と、上記積層機構（Ｅ１）で形成された本積層体を上記積層機構（Ｅ１）から搬出する搬送機構（Ｔ３）と、を有することを特徴とする請求項１または２記載の積層装置。
【請求項４】
上記加圧積層手段（Ｐ１）が、加圧圧力を制御する制御手段をさらに有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層装置。
【請求項５】
上記支持体フィルム付きフィルム状樹脂から、支持体フィルムを剥離する支持体フィルム剥離手段をさらに備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層装置。
【請求項６】
フィルム状樹脂が熱硬化性樹脂組成物からなり、フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を所定のサイズに切断する切断手段と、フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム樹脂の一方をプレキュアするプレキュア手段とを有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明は、表裏両面の少なくとも一方に凹凸を有する基材の凹凸面に、フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を付着してなる仮積層体（ＰＬ１）を対象とし、そのフィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を基材の凹凸に追従させた本積層体を形成するための積層装置であって、上記仮積層体（ＰＬ１）を収容可能な密閉空間形成手段と、上記密閉空間形成手段によって形成された密閉空間において仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方と上記基材との間の空間を負圧に出来る減圧手段と、仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を加熱することが可能な加熱手段と、仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を上記基材の凸部へ積層して上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方と上記基材が一体化した仮積層体（ＰＬ１）を形成する加圧積層手段（Ｐ２）とを有する積層機構（Ｅ２）と、上記密閉空間形成手段によって形成された密閉空間において上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方に接触しない非接触状態で上記仮積層体（ＰＬ１）を加圧して基材に積層して仮積層体（ＰＬ１）から本積層体を形成する加圧積層手段（Ｐ１）とを有する積層機構（Ｅ１）とを有する積層装置をその要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに、本発明は、上記仮積層体（ＰＬ１）を対象とし、上記仮積層体（ＰＬ１）を収容可能な密閉空間形成手段と、上記密閉空間形成手段によって形成された密閉空間において仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方と上記基材との間の空間を負圧に出来る減圧手段と、仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を加熱することが可能な加熱手段と、仮積層体（ＰＬ１）の上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方を上記基材の凸部へ積層して上記フィルム状樹脂および支持体フィルム付きフィルム状樹脂の一方と上記基材が一体化した仮積層体（ＰＬ１）を形成する加圧積層手段（Ｐ２）を有する積層機構（Ｅ２）と、上記積層機構（Ｅ１）とを有しており、支持体フィルムによってフィルム状樹脂層の形状が歪んだりせず平面に維持された状態で上記基材と対向させつつ両者を近接させて一体化可能なため、しわが寄ることなくフィルム状樹脂が基材に対して重ねられている仮積層体（ＰＬ１）を得ることができる。そしてそのため、よりフィルム状樹脂の厚みが均一で、しかもマイクロボイドの発生のない本積層体を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月15日(2013.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記判定手段は、前記識別情報に基づいて誤り検出を行う誤り検出手段を備えたことを特徴とする請求項４に記載の記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項７に示すように請求項４に記載の記録装置において、前記判定手段は、前記識別情報に基づいて誤り検出を行う誤り検出手段を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月4日(2013.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定形状を有するキャビティを形成するために互いに密着する状態と互いに密着しない状態とに選択的に切り換わるめす型およびおす型を有する成形型ユニット。
【請求項２】
前記めす型および前記おす型は、共通の軸線の方向において相対的に移動可能、かつ、前記軸線まわりに相対的に回転可能に支持されている請求項１に記載の成形型ユニット。
【請求項３】
さらに、
前記おす型と一体的に運動する第１部材と、
前記めす型と一体的に運動する第２部材と
を含み、
それら第１部材および第２部材は、相対移動可能に互いに係合するガイドピンとガイド長穴またはガイド溝との組合せにより、互いに相対的に回転可能かつ軸方向移動可能であるとともに、前記第１部材および前記第２部材の間の軸方向における相対接近限度位置が、前記おす型が前記めす型に密着することを阻止する位置と許可する位置とに、前記第１部材および前記第２部材の間の回転方向相対位置に応じて変化する請求項２に記載の成形型ユニット。
【請求項４】
前記ガイド長穴またはガイド溝は、前記ガイドピンと共同して、前記おす型の、前記めす型に対する移動軌跡を定義する所定経路を有する請求項３に記載の成形型ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】成形型ユニット
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、所定形状を有するキャビティを形成するために互いに密着する状態と互いに密着しない状態とに選択的に切り換わるめす型およびおす型を有する成形型ユニットに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そこで、本発明は、所定形状を有するキャビティを形成するために互いに密着する状態と互いに密着しない状態とに選択的に切り換わるめす型およびおす型を有する成形型ユニットを提供することを課題としてなされたものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
その課題を解決するために、本発明の一側面によれば、所定形状を有するキャビティを形成するために互いに密着する状態と互いに密着しない状態とに選択的に切り換わるめす型およびおす型を有する成形型ユニットが提供される。
本発明の別の側面によれば、所定形状を有するキャビティを形成するために互いに密着する状態と互いに密着しない状態とに選択的に切り換わるめす型およびおす型を有する成形型ユニットを用い、液状の混合材料から、合成樹脂製の製品を成形する方法であって、前記めす型内の空間を前記材料で充填する充填工程と、前記めす型に前記おす型を、それらめす型およびおす型の回転中にそれらめす型およびおす型のうちの少なくとも一方に発生する慣性力と遠心力とのうちの少なくとも一方によってそれらめす型とおす型とが互いに相対的に接近して最終的に前記めす型に前記おす型が密着することが可能であるように、組み付ける組付け工程と、前記めす型を、そのめす型に前記おす型が組み付けられた状態で、かつ、前記めす型内の空間が前記材料で充填されている状態で、攪拌機内に配置し、その攪拌機により、前記めす型および前記おす型を、真空圧下において、公転軸まわりに公転させつつ、その公転軸に対して偏心した自転軸まわりに自転させ、それにより、前記めす型に前記おす型が密着することによってそれらめす型とおす型との間に形成された前記キャビティ内において前記材料を攪拌しつつ脱泡する攪拌脱泡工程と、前記成形型ユニット内の前記材料を硬化させる硬化工程とを含み、前記攪拌脱泡工程は、前記公転および前記自転のうちの少なくとも一方の速度を時間的に変化させ、それにより、前記めす型に前記おす型が密着しない型開き状態と、前記慣性力と遠心力とのうちの少なくとも一方によって前記めす型に前記おす型が密着する型締まり状態とをそれらの順に実現する成形方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月16日(2012.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
形態（Ａ）−Ｍ−（Ａ’）の２つの融合ポリペプチドから形成されるダイマーを含むＴｉｅ−１レセプターを活性化するための組成物であって、ここで、成分Ａおよび成分Ａ’は各々が、Ｔｉｅ−１を結合し得る単鎖可変フラグメント（ｓｃＦｖ）抗体であり、そして、成分Ｍは、ＩｇＧのＦｃドメインを含むマルチマー化成分であり、該ダイマーは、４つより多くのＴｉｅ−１レセプターに結合し、クラスター形成し得る、組成物。
【請求項２】
ＡおよびＡ’が異なるｓｃＦｖである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ＭがヒトＩｇＧ１のＦｃドメインを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記２つの融合ポリペプチドの各々が、ｓｃＦｖ２−１Ｇ３−Ｆｃ−ｓｃＦｖ１−１Ｆ１１（配列番号５１)を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記２つの融合ポリペプチドの各々が、ｓｃＦｖ１−１Ｆ１１−Ｆｃ−ｓｃＦｖ１−１Ｆ１１（配列番号５０）を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
形態（Ａ）−Ｍ−（Ａ’）の２つの融合ポリペプチドから形成されるダイマーを含むＴｉｅ−１レセプターを活性化するための組成物であって、ここで、成分Ａは、Ｔｉｅ−１を結合し得る単鎖可変フラグメント（ｓｃＦｖ）抗体であり、成分Ｍは、ＩｇＧのＦｃドメインを含むマルチマー化成分であり、そして、成分Ａ’は、Ａｎｇ１またはＡｎｇ２のフィブリノゲンドメインであり、該ダイマーは、４つより多くのＴｉｅ−１レセプターに結合し、クラスター形成し得る、組成物。
【請求項７】
成分Ａ’がＡｎｇ１のフィブリノゲンドメインである、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
成分Ａ’がＡｎｇ２のフィブリノゲンドメインである、請求項６に記載の組成物。
【請求項９】
ＭがヒトＩｇＧ１のＦｃドメインを含む、請求項６に記載の組成物。
【請求項１０】
前記２つの融合ポリペプチドの各々が、ｓｃＦｖ１−１Ｆ１１−Ｆｃ−ＦＤ１（配列番号５２)を含む、請求項６に記載の組成物。
【請求項１１】
前記２つの融合ポリペプチドの各々が、ｓｃＦｖ１−１Ｆ１１−Ｆｃ−ＦＤ２（配列番号５３）を含む、請求項６に記載の組成物。
【請求項１２】
形態（Ａ）−Ｍ−（Ａ’）の２つの融合ポリペプチドから形成されるダイマーを含むＴｉｅ−２レセプターを活性化するための組成物であって、ここで、成分Ａおよび成分Ａ’は各々が、Ｔｉｅ−２を結合し得る単鎖可変フラグメント（ｓｃＦｖ）抗体であり、そして、成分Ｍは、ＩｇＧのＦｃドメインを含むマルチマー化成分であり、該ダイマーは、４つより多くのＴｉｅ−２レセプターに結合し、クラスター形成し得る、組成物。
【請求項１３】
ＡおよびＡ’が異なるｓｃＦｖである、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
ＭがヒトＩｇＧ１のＦｃドメインを含む、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１５】
前記ダイマーが、各々がｓｃＦｖＡ１２Ａ−Ｆｃ−ｓｃＦｖＢ２（配列番号２８)を含む２つの融合ポリペプチドから形成される、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１６】
前記ダイマーが、各々がｓｃＦｖＢ２−Ｆｃ−ｓｃＦｖＢ２（配列番号２９）を含む２つの融合ポリペプチドから形成される、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１７】
形態（Ａ）−Ｍ−（Ａ’）の２つの融合ポリペプチドから形成されるダイマーを含むＴｉｅ−２レセプターを活性化するための組成物であって、ここで、成分Ａは、Ｔｉｅ−２を結合し得る単鎖可変フラグメント（ｓｃＦｖ）抗体であり、成分Ｍは、ＩｇＧのＦｃドメインを含むマルチマー化成分であり、そして、成分Ａ’は、Ａｎｇ１またはＡｎｇ２のフィブリノゲンドメインであり、該ダイマーは、４つより多くのＴｉｅ−２レセプターに結合し、クラスター形成し得る、組成物。
【請求項１８】
成分Ａ’がＡｎｇ１のフィブリノゲンドメインである、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
成分Ａ’がＡｎｇ２のフィブリノゲンドメインである、請求項１７に記載の組成物。
【請求項２０】
ＭがヒトＩｇＧ１のＦｃドメインを含む、請求項１７に記載の組成物。
【請求項２１】
前記２つの融合ポリペプチドの各々が、ｓｃＦｖＢ２−Ｆｃ−ＦＤ１（配列番号３０）を含む、請求項１７に記載の組成物。
【請求項２２】
前記２つの融合ポリペプチドの各々が、ｓｃＦｖＢ２−Ｆｃ−ＦＤ２（配列番号３１）を含む、請求項１７に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
包装および該包装中の少なくとも１つのチョコレート菓子を含む、包装されたチョコレート菓子であって、該チョコレート菓子は、チョコレートの外層を有し、該包装されたチョコレート菓子は、該チョコレートの外層が磨り減り、引っ掻き傷がつくことまたは損傷することにさらされる原因となる条件下で貯蔵されておりそして／または輸送されており、該チョコレート菓子は、該チョコレートの外層上に磨り減り抵抗性コーティングを含み、該磨り減り抵抗性コーティングは、コーティング組成物を該チョコレートの外層に塗布し、そしてその後該コーティング組成物を乾燥することにより得られた残留物を含み、ここで、該コーティング組成物は、以下：
ｉ）水、エタノール、およびイソプロパノールまたはそれらの任意の組み合わせから選択される溶媒と、
ｉｉ）１種類以上の第一フィルム形成剤であって、該コーティング組成物が乾燥した際に形成されるフィルムに強度とフレキシビリティとを与える、１種類以上の第一フィルム形成剤と
を含む、包装されたチョコレート菓子。
【請求項２】
請求項１に記載の包装されたチョコレート菓子であって、ここで、前記チョコレート菓子が、固形チョコレート、チョコレートでコーティングした製品またはチョコレートでエンロービングした製品である、包装されたチョコレート菓子。
【請求項３】
請求項２に記載の包装されたチョコレート菓子であって、ここで、前記第一フィルム形成剤がキサンタンガム、アラビアガム、グアーガム、ローカストビーンガム、寒天、アルギネート類、ガティガム、カラヤガム、トラガカントガム、キトサン、カラギーナン類、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ペクチン、ゼラチン、加工澱粉、デキストリン、ゼイン、ホエイタンパク質およびそれらの混合物からなる群から選択される、包装されたチョコレート菓子。
【請求項４】
請求項１に記載の包装されたチョコレート菓子であって、ここで、前記コーティング組成物が、
ｉ）  水を含む溶媒；
ｉｉ）  キサンタンガム、アラビアガム、グアーガム、ローカストビーンガム、寒天、アルギネート類、ガティガム、カラヤガム、トラガカントガム、キトサン、カラギーナン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ペクチン、ゼラチン、加工澱粉、デキストリンおよびゼインから選択される第一フィルム形成剤；
ｉｉｉ）  界面活性剤；および
ｉｖ）  澱粉、スクロース、マルトース、フルクトース、デキストロース、グルコース、糖ポリオール類、コーンシロップ、シェラック、およびマルトデキストリンから選択される第二フィルム形成剤
を含む、包装されたチョコレート菓子。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の包装されたチョコレート製品であって、ここで、該包装されたチョコレート製品が、包装および該包装の中の複数のチョコレート菓子を含む、包装されたチョコレート製品。
【請求項６】
請求項５に記載の包装されたチョコレート製品であって、ここで、前記包装されたチョコレート菓子が、前記包装中で前記複数のチョコレート菓子が転がり回る原因となる条件下で貯蔵されており、そして／または輸送されている、包装されたチョコレート製品。
【請求項７】
包装の中に収容された１つ以上のチョコレート菓子の、該チョコレートの外層が磨り減り、引っ掻き傷がつくことまたは損傷することにさらされる原因となる条件下でそのように形成された該チョコレート菓子の包装が貯蔵されそして／または輸送された際の、磨り減り抵抗性を高める方法であって、該１つ以上のチョコレート菓子がチョコレートの外層を有し、該方法が、コーティング組成物を該チョコレートの外層に塗布し、そしてその後、該コーティング組成物を乾燥することを包含し、ここで、該コーティング組成物が以下：
ｉ）  水、エタノール、およびイソプロパノールまたはそれらの任意の組み合わせから選択される溶媒と；
ｉｉ）  １種類以上の第一フィルム形成剤であって、該コーティング組成物が乾燥した際に形成されるフィルムに強度とフレキシビリティとを与える、１種類以上の第一フィルム形成剤と
を含む、方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、ここで、前記チョコレート菓子が、固形チョコレート、チョコレートでコーティングした製品またはチョコレートでエンロービングした製品である、方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、ここで、前記第一フィルム形成剤がキサンタンガム、アラビアガム、グアーガム、ローカストビーンガム、寒天、アルギネート類、ガティガム、カラヤガム、トラガカントガム、キトサン、カラギーナン類、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ペクチン、ゼラチン、加工澱粉、デキストリン、ゼイン、ホエイタンパク質およびそれらの混合物からなる群から選択される、方法。
【請求項１０】
請求項７に記載の方法であって、ここで、前記コーティング組成物が以下：
ｉ）  水を含む溶媒；
ｉｉ）  キサンタンガム、アラビアガム、グアーガム、ローカストビーンガム、寒天、アルギネート類、ガティガム、カラヤガム、トラガカントガム、キトサン、カラギーナン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ペクチン、ゼラチン、加工澱粉、デキストリンおよびゼインから選択される第一フィルム形成剤；
ｉｉｉ）  界面活性剤；および
ｉｖ）  澱粉、スクロース、マルトース、フルクトース、デキストロース、グルコース、糖ポリオール類、コーンシロップ、シェラック、およびマルトデキストリンから選択される第二フィルム形成剤
を含む、方法。
【請求項１１】
請求項７〜１０のいずれか１項に記載の方法であって、ここで、前記包装されたチョコレート菓子が、包装および該包装の中の複数のチョコレート菓子を含む、方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法であって、ここで、前記包装されたチョコレート菓子が、前記包装中で該複数のチョコレート菓子が転がり回る原因となる条件下で貯蔵されており、そして／または輸送されている、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月7日(2013.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
一方、胴部縦幅は、可動部１０２が移動する間に出力される測距センサＳＡ１，ＳＡ２の出力Ｏ１，Ｏ２と、可動部１０２が移動する間に出力される移動量検出センサの出力Ｏ３とから算出される。図１０に示すように、可動部１０２は、下方に押し下げられることで被験者３００の胴部３０１の上端が位置する高さを通過することになるため、その際の測距センサＳＡ１，ＳＡ２の出力Ｏ１，Ｏ２に図１３に示すような特徴点（具体的には、出力Ｏ１，Ｏ２が極端に減少する点）が現れる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８１】
胴部横幅は、可動部２０２ａ，２０２ｂが移動する間に出力される測距センサＳＡ１，ＳＡ２の出力から算出される。図２０ないし図２２に示すように、測距センサＳＡ１，ＳＡ２が被験者３００の胴部３０１の左右に位置した状態においては、測距センサＳＡ１，ＳＡ２から出射された光は、それぞれ被験者３００の胴部３０１の右側面および左側面に照射されることになる。そのため、可動部２０２ａ，２０２ｂが移動する間に出力される測距センサＳＡ１，ＳＡ２の出力は、測距センサＳＡ１，ＳＡ２から被験者３００の胴部３０１までの水平方向の距離に応じた出力となる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月19日(2013.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脱脂乳またはホエイをナノ濾過処理し、１．３倍以上に濃縮した脱脂濃縮乳または濃縮ホエイを含む流体を原料とし、前記原料のタンパク質の重量１に対するカリウムの重量比が０．０４以下であることを特徴とする、フレッシュチーズの製造方法。
【請求項２】
脱脂乳またはホエイをナノ濾過処理し、１．４〜２倍に濃縮した脱脂濃縮乳または濃縮ホエイを含む流体を原料とすることを特徴とする、請求項１に記載のフレッシュチーズの製造方法。
【請求項３】
脱脂濃縮乳または濃縮ホエイを含む流体へクリームを加えることを特徴とする、請求項１または２に記載のフレッシュチーズの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法を用いて製造したフレッシュチーズであって、脂肪の含量が０〜２重量％およびタンパク質の含量が１２〜２５重量％であることを特徴とする、前記フレッシュチーズ。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法を用いて製造したフレッシュチーズであって、脂肪の含量が２０〜４０重量％およびタンパク質の含量が５〜１５重量％以上であることを特徴とする、前記フレッシュチーズ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月11日(2013.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体の管腔内に留置される半径方向に拡張可能な筒形状であって、円筒仮想表面に形成された主ステント要素から成り、このステント要素はニッケルまたはニッケル／コバルト合金より高い疲労強度を有する合金から作製されたことを特徴とするステント。
【請求項２】
前記ステント要素の疲労強度は、前記ニッケルまたはニッケル／コバルト合金の１．５倍以上の強度を有する合金である請求項１に記載のステント。
【請求項３】
前記ステント要素は、金、銀、銅、ニッケル、コバルト、パラジュ−ムのいずれかを含む電鋳合金である請求項１または請求項２に記載のステント。
【請求項４】
前記ステント要素は、硫酸塩、塩化物、アンモニア錯塩、シアン錯塩、スルファミン塩、次亜りん酸塩、ピロリン酸塩、酒石酸塩、ＥＤＴＡのいずれかの化合物を添加して、金、銀、銅、ニッケル、コバルト、パラジュ−ムのいずれかを含む合金を用いて電鋳で作製されている請求項３に記載のステント。
【請求項５】
前記ステント要素は、金を主構成成分とし、銀、銅、ニッケル、コバルト、パラジュ−ムから選ばれた少なくとも１つ以上の合金を用いて、電鋳で作製されている請求項３または請求項４に記載のステント。
【請求項６】
前記ステント要素は、パラジュ−ムを主構成成分とし、金、銀、銅、ニッケル、コバルトから選ばれた少なくとも１つ以上の合金を用いて、電鋳で作製されている請求項３または請求項４に記載のステント。
【請求項７】
前記ステント要素は、筒形状に形成するための接合部を有している請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載のステント。
【請求項８】
前記ステント要素は、前記接合部が電着により接合される請求項７に記載のステント。
【請求項９】
前記ステント要素は、複数のセルとこのセル同士を連結する連結部からなり、セルの線径が１０〜５０μｍ、連結部の線径が５〜２０μｍである請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載のステント。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図５】
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【図６】
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