【手続補正書】
【提出日】平成25年3月25日(2013.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板とを互いに貼り合せる基板貼り合せ装置であって、
前記第１基板を保持する第１ステージと、
前記第２基板を前記第１基板に対向するように保持し、前記第１基板と前記第２基板とを互いに接触させるべく前記第１ステージに対して相対移動可能な第２ステージと、
前記第１基板と前記第２基板との接触により前記第１ステージおよび前記第２ステージの少なくとも一方が傾斜したとき、その傾斜量に応じて前記第１基板と前記第２基板との相対位置を補正する位置補正部と、
を備える基板貼り合せ装置。
【請求項２】
前記位置補正部は、前記第１ステージの傾斜量に応じて、前記第２ステージにおける前記第２基板の面方向の位置を補正する請求項１に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項３】
前記第１ステージに対して固定された第１固定鏡と、前記第２ステージに対して固定された第２固定鏡と、前記第１固定鏡と前記第２固定鏡との相対位置から前記第１ステージと前記第２ステージとの相対位置を検出する干渉計とを備え、
前記位置補正部は、前記干渉計の検出結果に基づいて前記相対位置を補正する請求項１または２に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項４】
前記位置補正部は、前記干渉計の検出結果に基づいて補正量を算出し、前記第１ステージと前記第２ステージとの見かけ上の位置ずれ量を前記補正量から差し引く補正を行う請求項３に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項５】
前記位置補正部は、前記第１ステージが傾くことによって前記第１固定鏡が傾いたことにより生じた見かけ上の位置ずれ量を前記補正量から差し引く請求項４に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項６】
前記位置補正部は、前記第１基板の表面の中心を通り、前記表面に沿って伸びる軸の周りに前記第１ステージが回転したときの相対位置のずれ量を前記見かけ上の位置ずれ量とし、前記補正量から差し引く請求項４または５に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項７】
前記位置補正部は、前記干渉計から取得したデータに基づいて、前記見かけ上の位置ずれ量を算出する請求項４から６のいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項８】
前記第１ステージの傾斜角度を検出する角度検出部を備え、
前記位置補正部は、前記角度検出部により検出された前記第１ステージの傾斜角度に基づいて、前記見かけ上の位置ずれ量を算出する請求項４から６のいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項９】
前記角度検出部は、前記第１基板と前記第２基板とが互いに接触したときに前記第１ステージが前記第２ステージから受ける圧力を計測する圧力計測部を有し、前記圧力計測部で計測された圧力から前記第１ステージの傾斜角度を算出する請求項８に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１０】
前記位置補正部は、前記見かけ上の位置ずれの方向と反対方向に前記第２ステージを移動することで補正を行う請求項４から９のいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１１】
前記位置補正部は、前記第１基板と前記第２基板とが接触した後、前記第２ステージが前記第１ステージに向けて移動することにより変化する前記第１ステージの傾斜量に応じて、前記見かけ上の位置ずれの方向と反対方向に前記第２ステージを随時移動することで補正を行う請求項４から１０のいずれか１項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１２】
前記第２ステージに取り付けられ、前記第２ステージの平行基準となる平行基準マークと、
前記平行基準マークおよび前記第２基板の表面に設けられたアラインメントマークを観察する第１マーク観察部と、
前記第１基板の表面に設けられたアラインメントマークを観察する第２マーク観察部と、
前記平行基準マークおよび前記アラインメントマークに基づいて、前記第１基板の表面と前記第２基板の前記表面とを平行にすべく前記第２ステージを傾ける傾斜機構と、
をさらに備える請求項１から１１のいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１３】
前記位置補正部は、前記傾斜機構による前記第２ステージの傾斜量に応じて、前記第２ステージにおける前記第２基板の面方向の位置をさらに補正する請求項１２に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１４】
第１基板と第２基板とを互いに貼り合せる基板貼り合せ方法であって、
前記第１基板を第１ステージに保持する第１保持工程と、
前記第２基板を前記第１基板に対向するように第２ステージに保持する第２保持工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを互いに位置合わせして接触させるべく前記第１ステージに対し前記第２ステージを相対移動させる位置合わせ工程と、
前記位置合わせ工程において前記第１基板と前記第２基板との接触により前記第１ステージおよび前記第２ステージの少なくとも一方が傾斜したとき、その傾斜量に応じて前記第１基板と前記第２基板との相対位置を補正する位置補正工程と、
を含む基板貼り合せ方法。
【請求項１５】
前記位置補正工程は、前記第１ステージの傾斜量に応じて、前記第２ステージにおける前記第２基板の面方向の位置を補正する請求項１４に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項１６】
前記位置補正工程は、前記第１ステージに対して固定された第１固定鏡と前記第２ステージに対して固定された第２固定鏡との相対位置から前記第１ステージと前記第２ステージとの相対位置を検出する干渉計の検出結果に基づいて、前記相対位置を補正する請求項１４または１５に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項１７】
前記位置補正工程は、前記干渉計の検出結果に基づいて補正量を算出し、前記第１ステージと前記第２ステージとの見かけ上の位置ずれ量を前記補正量から差し引く補正を行う請求項１６に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項１８】
前記位置補正工程は、前記第１ステージが傾くことによって前記第１固定鏡が傾いたことにより生じた見かけ上の位置ずれ量を前記補正量から差し引く請求項１７に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項１９】
前記位置補正工程は、前記第１基板の表面の中心を通り、前記表面に沿って伸びる軸の周りに前記第１ステージが回転したときの相対位置のずれ量を前記見かけ上の位置ずれ量とし、前記補正量から差し引く請求項１７または１８に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２０】
前記位置補正工程は、前記干渉計から取得したデータに基づいて、前記見かけ上の位置ずれ量を算出する請求項１７から１９のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２１】
前記第１ステージの傾斜角度を検出する角度検出工程を含み、
前記位置補正工程は、前記角度検出工程により検出された前記第１ステージの傾斜角度に基づいて、前記見かけ上の位置ずれ量を算出する請求項１７から１９のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２２】
前記角度検出工程は、前記第１基板と前記第２基板とが互いに接触したときに前記第１ステージが前記第２ステージから受ける圧力を計測する圧力計測工程を有し、前記圧力計測工程で計測された圧力から前記第１ステージの傾斜角度を算出する請求項２１に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２３】
前記位置補正工程は、前記見かけ上の位置ずれの方向と反対方向に前記第２ステージを移動することで補正を行う請求項１７から２２のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２４】
前記位置補正工程は、前記第１基板と前記第２基板とが接触した後、前記第２ステージが前記第１ステージに向けて移動することにより変化する前記第１ステージの傾斜量に応じて、前記見かけ上の位置ずれの方向と反対方向に前記第２ステージを随時移動することで補正を行う請求項１７から２３のいずれか１項に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２５】
請求項１４から２４のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法により基板を貼り合せることを含む積層半導体装置製造方法。
【請求項２６】
請求項２５に記載の積層半導体装置製造方法により製造された積層半導体装置。