【手続補正書】
【提出日】平成25年4月11日(2013.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動し、前記第１領域から前記第２領域への移動経路を前記第１ステージと前記第２ステージとで異ならせる駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する。
【請求項２】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動し、前記第１領域から前記第２領域への移動経路を前記第１ステージと前記第２ステージとで異ならせる駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージを移動し、この移動により前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される。
【請求項３】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動し、前記第１領域から前記第２領域への移動経路を前記第１ステージと前記第２ステージとで異ならせる駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージと前記第２ステージとは前記第２領域から前記第１領域への移動経路が互いに異なる。
【請求項５】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動するとともに、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する。
【請求項６】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動するとともに、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージを移動し、この移動により前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される。
【請求項７】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動するとともに、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関する位置関係が前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一となるように配置される。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、その端部が対向した状態で前記液浸領域に対して移動され、前記対向する第１、第２ステージの端部が、前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一である。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して、前記所定方向に関して逆向きに移動される。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動による、前記第１、第２ステージの一方の他方への置換において、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２ステージの一方から他方に移動する。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、前記１、第２ステージの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、その少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように、互いに近接または接触した状態が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記駆動システムは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が実質的に維持されるように近接した状態、または前記第１、第２ステージの間隙からの液体の漏出が防止又は抑制されるように近接した状態、または接触した状態で、前記第１、第２ステージを前記液浸領域に対して移動する。
【請求項１６】
請求項１４又は１５に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、所定方向に関して前記近接または接触した状態で、その境界またはその間隙が前記液浸領域の下を通るように移動されるとともに、前記所定方向に関する位置関係が前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで異なるように配置される。
【請求項１７】
請求項１６に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向に関して並置され、前記液浸領域が前記対向した端部を横切るように前記所定方向に移動される。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系と対向して配置される前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２ステージが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１９】
請求項１８に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して互いに接近し、前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで前記所定方向に関して前記第１、第２ステージの配置が同一となるように相対移動される。
【請求項２０】
請求項１９に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向と交差する方向に関しても接近するように相対移動される。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向と交差する方向に関してその位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項２３】
請求項２２に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージの少なくとも一方は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して、前記基板の露光に用いられるエネルギビームを検出する計測部材を有する。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、上面の一部に配置される前記基板の載置領域を有し、前記上面と、前記載置領域に載置される基板との少なくとも一方によって、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持可能である。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の表面が前記上面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項２７】
請求項２５又は２６に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記上面の一部に配置される基準部材を有し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して、前記基板の露光に用いられるエネルギビームが前記基準部材に照射されるように移動される。
【請求項２８】
請求項２７に記載の露光装置において、
前記基準部材はその表面が前記上面とほぼ面一となるように設けられる。
【請求項２９】
請求項２７又は２８に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記基板の露光に用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項３０】
請求項１〜２９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の載置領域と、内部に前記載置領域が配置される補助部材と、を有し、その上面が前記補助部材によって実質的に同一面となるように設定される。
【請求項３１】
請求項１〜３０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージに載置される基板の露光動作と、前記第２ステージに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項３２】
請求項１〜３１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。
【請求項３３】
請求項１〜３２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の前後の少なくとも一方において、前記第１ステージと前記第２ステージとで互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項３４】
請求項１〜３３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基板を載置し、前記基板の計測、露光、及び交換が行われるように移動され、
前記基板の露光前後でそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われる。
【請求項３５】
請求項３４に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に先立ち、前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光と並行して、前記第１、第２ステージの他方に載置される基板の計測又は交換が行われる。
【請求項３６】
請求項３５に記載の露光装置において、
前記計測が行われた基板を載置する前記他方のステージは、前記投影光学系と対向して配置される前記一方のステージに対して接近するように相対移動され、前記液浸領域に対する前記接近した第１、第２ステージの移動に続いて、前記他方のステージに載置される基板の露光動作が開始される。
【請求項３７】
請求項３６に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記接近した第１、第２ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱した前記一方のステージは、前記露光された基板の交換が行われる。
【請求項３８】
請求項１〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基板を載置し、前記基板の露光に先立ち、前記マーク検出系によるマーク検出を含む前記基板の計測が行われるように移動される。
【請求項３９】
請求項３８に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準部材を有し、前記マーク検出系によって前記基板のマークと前記基準部材とが検出される。
【請求項４０】
請求項１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われるとともに、前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項４１】
請求項１〜４０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される走査方向と交差する所定方向に移動される。
【請求項４２】
請求項１〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系と位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４３】
請求項１〜４２のいずれか一項に記載の露光装置において、
所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系と異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４４】
請求項１〜４３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２領域は、所定方向と交差する方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４５】
請求項１〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４６】
請求項１〜４１、４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４７】
請求項１〜４１、４５、４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２領域は、所定方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４８】
請求項１〜４７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２領域において、前記基板のマーク検出と交換との少なくとも一方が行われる。
【請求項４９】
請求項１〜４８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とを常時行う。
【請求項５０】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜４９のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項５１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１ステージと前記第２ステージとは前記第１領域から前記第２領域への移動経路が互いに異なる。
【請求項５２】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
この移動により前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持され、
前記第１ステージと前記第２ステージとは前記第１領域から前記第２領域への移動経路が互いに異なる。
【請求項５３】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１ステージと前記第２ステージとは前記第１領域から前記第２領域への移動経路が互いに異なる。
【請求項５４】
請求項５１〜５３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージと前記第２ステージとは前記第２領域から前記第１領域への移動経路が互いに異なる。
【請求項５５】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項５６】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
この移動により前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持され、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項５７】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項５８】
請求項５１〜５７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関する位置関係が前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一となるように配置される。
【請求項５９】
請求項５８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、その端部が対向した状態で前記液浸領域に対して移動され、前記対向する第１、第２ステージの端部が、前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一である。
【請求項６０】
請求項５８又は５９に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して、前記所定方向に関して逆向きに移動される。
【請求項６１】
請求項５１〜６０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動による、前記第１、第２ステージの一方の他方への置換において、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持される。
【請求項６２】
請求項５１〜６１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２ステージの一方から他方に移動する。
【請求項６３】
請求項６２に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、前記１、第２ステージの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項６４】
請求項５１〜６３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、その少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように、互いに近接または接触した状態が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項６５】
請求項５１〜６４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が実質的に維持されるように近接した状態、または前記第１、第２ステージの間隙からの液体の漏出が防止又は抑制されるように近接した状態、または接触した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項６６】
請求項６４又は６５に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、所定方向に関して前記近接または接触した状態で、その境界またはその間隙が前記液浸領域の下を通るように移動されるとともに、前記所定方向に関する位置関係が前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで異なるように配置される。
【請求項６７】
請求項６６に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向に関して並置され、前記液浸領域が前記対向した端部を横切るように前記所定方向に移動される。
【請求項６８】
請求項５１〜６７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系と対向して配置される前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２ステージが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項６９】
請求項６８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して互いに接近し、前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで前記所定方向に関して前記第１、第２ステージの配置が同一となるように相対移動される。
【請求項７０】
請求項６９に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向と交差する方向に関しても接近するように相対移動される。
【請求項７１】
請求項５１〜７０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向と交差する方向に関してその位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項７２】
請求項５１〜７１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項７３】
請求項７２に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項７４】
請求項５１〜７３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージの少なくとも一方に設けられる計測部材によって、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して、前記基板の露光に用いられるエネルギビームを検出する。
【請求項７５】
請求項５１〜７４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、一部に前記基板の載置領域が配置される上面と、前記載置領域に載置される基板との少なくとも一方によって、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持可能である。
【請求項７６】
請求項７５に記載の露光方法において、
前記基板はその表面が前記上面とほぼ面一となるように前記載置領域に載置される。
【請求項７７】
請求項７５又は７６に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記上面の一部に配置される基準部材に、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して、前記基板の露光に用いられるエネルギビームが照射されるように移動される。
【請求項７８】
請求項７７に記載の露光方法において、
前記基準部材はその表面が前記上面とほぼ面一となるように設けられる。
【請求項７９】
請求項７７又は７８に記載の露光方法において、
前記基準部材は、前記基板の露光に用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項８０】
請求項５１〜７９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、内部に前記基板の載置領域が配置される補助部材によって、その上面が実質的に同一面となるように設定される。
【請求項８１】
請求項５１〜８０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージに載置される基板の露光動作と、前記第２ステージに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項８２】
請求項５１〜８１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。
【請求項８３】
請求項５１〜８２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の前後の少なくとも一方において、前記第１ステージと前記第２ステージとで互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項８４】
請求項５１〜８３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基板を載置し、前記基板の計測、露光、及び交換が行われるように移動され、
前記基板の露光前後でそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われる。
【請求項８５】
請求項８４に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に先立ち、前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光と並行して、前記第１、第２ステージの他方に載置される基板の計測又は交換が行われる。
【請求項８６】
請求項８５に記載の露光方法において、
前記計測が行われた基板を載置する前記他方のステージは、前記投影光学系と対向して配置される前記一方のステージに対して接近するように相対移動され、前記液浸領域に対する前記接近した第１、第２ステージの移動に続いて、前記他方のステージに載置される基板の露光動作が開始される。
【請求項８７】
請求項８６に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記接近した第１、第２ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱した前記一方のステージは、前記露光された基板の交換が行われる。
【請求項８８】
請求項５１〜８７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基板を載置し、前記基板の露光に先立ち、前記基板のマーク検出を含む前記基板の計測が行われるように移動される。
【請求項８９】
請求項８８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準部材を有し、前記基板のマークを検出するマーク検出系によって前記基準部材の検出が行われる。
【請求項９０】
請求項５１〜８９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われるとともに、前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項９１】
請求項５１〜９０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される走査方向と交差する所定方向に移動される。
【請求項９２】
請求項５１〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系と位置が異なるマーク検出系によって、前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９３】
請求項５１〜９２のいずれか一項に記載の露光方法において、
所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系と異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９４】
請求項５１〜９３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２領域は、所定方向と交差する方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９５】
請求項５１〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によって前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９６】
請求項５１〜９１、９５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９７】
請求項５１〜９１、９５、９６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２領域は、所定方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９８】
請求項５１〜９７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２領域において、前記基板のマーク検出と交換との少なくとも一方が行われる。
【請求項９９】
請求項５１〜９８のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とが常時行われる。
【請求項１００】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項５１〜９９のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。