【手続補正書】
【提出日】平成25年4月2日(2013.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マークの位置を計測する計測装置であって、
光源から射出される光で前記マークを照明し、前記マークからの光により前記マークの像を形成する光学系と、
前記マークの像を検出する検出系と、
前記光学系の所定面における光量を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記マークの位置を計測しない非計測期間に前記光源から射出される光の光量を、前記マークの位置を計測する計測期間に前記光源から射出される光の光量よりも低くし、
前記非計測期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を、前記計測期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率よりも高くすることを特徴とする計測装置。
【請求項２】
前記光学系は、透過率が互いに異なる複数のフィルタを含み、
前記制御部は、前記計測期間の前記所定面における光量と前記非計測期間の前記所定面における光量との差を低減するように、前記複数のフィルタから前記光源と前記所定面との間の光路に配置されるフィルタを選択することを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項３】
前記フィルタは、波長フィルタ及びＮＤフィルタの少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項２に記載の計測装置。
【請求項４】
前記光学系は、前記光源から射出され前記フィルタを通過した光が入射するファイバを更に含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の計測装置。
【請求項５】
前記光学系は、開口の大きさが互いに異なる複数の照明開口絞りを含み、
前記制御部は、前記計測期間の前記所定面における光量と前記非計測期間の前記所定面における光量との差を低減するように、前記複数の照明開口絞りから前記光源と前記所定面との間の光路に配置される照明開口絞りを選択することを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項６】
前記所定面における光量を検出するセンサ及び前記所定面における温度を検出するセンサの少なくとも一方を更に有し、
前記制御部は、前記少なくとも一方の検出結果に基づいて、前記計測期間の前記所定面における光量と前記非計測期間の前記所定面における光量の差を低減することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項７】
前記所定面における光量及び温度の少なくとも一方の時間変化を表す情報を記憶する記憶部を更に有し、
前記制御部は、前記記憶部に記憶された前記情報に基づいて、前記計測期間の前記所定面における光量と前記非計測期間の前記所定面における光量の差を低減することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項８】
前記光源は、ハロゲンランプを含み、
前記制御部は、前記非計測期間の前記ハロゲンランプの点灯電圧を前記計測時間の前記ハロゲンランプの点灯電圧よりも低くして、前記非計測期間に前記ハロゲンランプから射出される光の光量を前記計測期間に前記ハロゲンランプから射出される光の光量よりも低くすることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項９】
前記光源は、レーザダイオード又はＨｅ−Ｎｅレーザを含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項１０】
前記光学系は、対物レンズを含み、
前記所定面の位置は、前記光源と前記対物レンズとの間に設定されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項１１】
前記対物レンズには、前記マークを照明する光が通過し、前記マークで反射された光が通過することを特徴とする請求項１０に記載の計測装置。
【請求項１２】
マークが形成された基板を露光する露光装置であって、
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の計測装置と、
前記計測装置で計測された前記マークの位置に基づいて、前記基板の位置決めを行う位置決め機構と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
第１のマークの位置を計測し、第２のマークの位置を計測する計測装置であって、
光源から射出される光で前記第１のマークを照明し、前記第１のマークからの光により前記第１のマークの像を形成し、前記光源から射出される光で前記第２のマークを照明し、前記第２のマークからの光により前記第２のマークの像を形成する光学系と、
前記第１のマークの像を検出し、前記第２のマークの像を検出する検出系と、
前記光学系の所定面における光量を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記第１のマークの位置を計測した後から前記第２のマークの位置を計測する前までの期間に前記光源から射出される光の光量を、前記第１のマークの位置を計測している期間に前記光源から射出される光の光量よりも低くし、
前記第１のマークの位置を計測した後から前記第２のマークの位置を計測する前までの期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を、前記第１のマークの位置を計測している期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率よりも高くすることを特徴とする計測装置。
【請求項１４】
マークが形成された基板を露光する露光装置であって、
光源から射出される光で前記マークを照明し、前記マークからの光により前記マークの像を形成する光学系と、前記マークの像を検出する検出系と、前記光学系の所定面における光量を制御する制御部と、を有し、前記マークの位置を計測する計測装置と、
前記計測装置で計測された前記マークの位置に基づいて、前記基板の位置決めを行う位置決め機構と、
前記基板の上にパターンを投影する投影光学系と、を備え、
前記制御部は、前記光学系と前記投影光学系のベースラインを計測した後から前記マークの位置を計測する前までの期間に前記光源から射出される光の光量を、前記ベースラインを計測している期間に前記光源から射出される光の光量よりも低くし、
前記ベースラインを計測した後から前記マークの位置を計測する前までの期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を、前記ベースラインを計測している期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率よりも高くすることを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
基板に感光剤を塗布するステップと、
請求項１２又は１４に記載の露光装置を用いて、前記感光剤が塗布された前記基板を露光するステップと、を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１６】
マークの位置を計測する計測方法であって、
光学系によって、光源から射出される光で前記マークを照明し、前記マークからの光により前記マークの像を形成するステップと、
前記マークの像を検出するステップと、
前記マークの位置を計測しない非計測期間に前記光源から射出される光の光量を、前記マークの位置を計測する計測期間に前記光源から射出される光の光量よりも低くするステップと、
前記非計測期間の前記光源と前記光学系の所定面との間の光路における透過率を、前記計測期間の前記光源と前記光学系の所定面との間の光路における透過率よりも高くするステップと、を有することを特徴とする計測方法。
【請求項１７】
マークの位置を計測する計測装置であって、
光源から射出される光で前記マークを照明し、前記マークからの光により前記マークの像を形成する光学系と、
前記マークの像を検出する検出系と、
前記光源の点灯電圧を制御し、前記光源と前記光学系の所定面との間の光路における透過率を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記マークの位置を計測しない非計測期間の前記光源の点灯電圧を、前記マークの位置を計測する計測期間の前記光源の点灯電圧よりも低くし、
前記非計測期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を、前記計測期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率よりも高くすることを特徴とする計測装置。
【請求項１８】
前記光源は、ハロゲンランプ、レーザダイオード又はＨｅ−Ｎｅレーザを含むことを特徴とする請求項１７に記載の計測装置。
【請求項１９】
マークの位置を計測する計測装置であって、
光源から射出される光で前記マークを照明し、前記マークからの光により前記マークの像を形成する光学系と、
前記マークの像を検出する検出系と、
前記光源の点灯電圧を制御し、前記光源と前記光学系の所定面との間の光路における透過率を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記光源の点灯電圧を低くする際、前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を高くすることを特徴とする計測装置。
【請求項２０】
マークの位置を計測する計測装置であって、
光源から射出される光で前記マークを照明し、前記マークからの光により前記マークの像を形成する光学系と、
前記マークの像を検出する検出系と、
前記光源の点灯電圧を制御し、前記光源と前記光学系の所定面との間の光路における透過率を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記光源の点灯電圧を低くする際、前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を高くし、
前記光源の点灯電圧を高くする際、前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を低くすることを特徴とする計測装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】計測装置、露光装置、デバイスの製造方法及び計測方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、計測装置、露光装置、デバイスの製造方法及び計測方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、マークの位置を計測する計測装置であって、光源から射出される光で前記マークを照明し、前記マークからの光により前記マークの像を形成する光学系と、前記マークの像を検出する検出系と、前記光学系の所定面における光量を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記マークの位置を計測しない非計測期間に前記光源から射出される光の光量を、前記マークの位置を計測する計測期間に前記光源から射出される光の光量よりも低くし、前記非計測期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を、前記計測期間の前記光源と前記所定面との間の光路における透過率よりも高くすることを特徴とする。