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【手続補正書】
【提出日】平成25年6月26日(2013.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャネル形成領域を有する酸化物半導体層と、
Ｓｉと酸素を含む絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記絶縁層の間に金属酸化物層と、を有し、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層と、前記絶縁層に接し、
前記酸化物半導体層は、酸素と金属元素を含み、
前記金属元素は、Ｉｎを含み、
前記金属酸化物層は、絶縁膜であり、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層が含む前記金属元素のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
チャネル形成領域を有する酸化物半導体層と、
Ｓｉと酸素を含む絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記絶縁層の間に金属酸化物層と、を有し、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層と、前記絶縁層に接し、
前記酸化物半導体層は、酸素と金属元素を含み、
前記金属元素は、Ｉｎ、ＧａおよびＺｎを含み、
前記金属酸化物層は、絶縁膜であり、
前記金属酸化物層は、Ｉｎ、ＧａおよびＺｎを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
チャネル形成領域を有する酸化物半導体層と、
Ｓｉと酸素を含む絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記絶縁層の間に金属酸化物層と、を有し、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層と、前記絶縁層に接し、
前記酸化物半導体層は、酸素と金属元素を含み、
前記金属元素は、Ｉｎを含み、
前記金属酸化物層は、絶縁膜であり、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層が含む前記金属元素のうち少なくとも一つを含み、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層中のＩｎと酸素の結合に起因する酸素欠損を低減する機能を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
チャネル形成領域を有する酸化物半導体層と、
Ｓｉと酸素を含む絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記絶縁層の間に金属酸化物層と、を有し、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層と、前記絶縁層に接し、
前記酸化物半導体層は、酸素と金属元素を含み、
前記金属元素は、Ｉｎ、ＧａおよびＺｎを含み、
前記金属酸化物層は、絶縁膜であり、
前記金属酸化物層は、Ｉｎ、ＧａおよびＺｎを含み、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層中のＩｎと酸素の結合に起因する酸素欠損を低減する機能を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
チャネル形成領域を有する酸化物半導体層と、
Ｓｉと酸素を含む絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記絶縁層の間に金属酸化物層と、を有し、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層と、前記絶縁層に接し、
前記酸化物半導体層は、酸素と金属元素を含み、
前記金属元素は、Ｉｎを含み、
前記金属酸化物層は、絶縁膜であり、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層が含む前記金属元素のうち少なくとも一つを含み、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層中のＩｎと酸素の結合に起因する酸素欠損の形成を抑制する機能を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
チャネル形成領域を有する酸化物半導体層と、
Ｓｉと酸素を含む絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記絶縁層の間に金属酸化物層と、を有し、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層と、前記絶縁層に接し、
前記酸化物半導体層は、酸素と金属元素を含み、
前記金属元素は、Ｉｎ、ＧａおよびＺｎを含み、
前記金属酸化物層は、絶縁膜であり、
前記金属酸化物層は、Ｉｎ、ＧａおよびＺｎを含み、
前記金属酸化物層は、前記酸化物半導体層中のＩｎと酸素の結合に起因する酸素欠損の形成を抑制する機能を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記酸化物半導体層の少なくとも一部は、前記酸化物半導体層の化学量論比を満たす酸素より多い酸素を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記酸化物半導体層の少なくとも一部は、前記酸化物半導体層に発生しうる酸素欠損を補填してもあまりある過剰の酸素を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一において、
前記金属酸化物層の少なくとも一部は、前記金属酸化物層の化学量論比を満たす酸素より多い酸素を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか一において、
前記金属酸化物層の少なくとも一部は、前記酸化物半導体層に発生しうる酸素欠損を補填してもあまりある過剰の酸素を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、
前記酸化物半導体層は、前記金属酸化物層によりＳｉに接しないことを特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一において、
前記金属酸化物層は、Ｓｉを含まないことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月19日(2013.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスであって、
複数の活性半導体層を備える活性領域と、
前記活性領域上に設けられたソース電極と、
前記活性領域上に設けられたドレイン電極と、
前記活性領域上で前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に設けられたゲート電極であって、該ゲート電極はコンタクト部分を備え、前記コンタクト部分は、前記活性領域に電気的に接触するようにされたゲート電極とを備え、
前記ゲート電極は、拡散障壁を備え、前記拡散障壁は、前記コンタクト部分が当該拡散障壁と前記活性領域との間に置かれるように、前記コンタクト部分上に配設されている、半導体デバイス。
【請求項２】
前記ゲート電極が、
前記コンタクト部分が前記拡散障壁と前記活性領域との間に挟まれるように、前記コンタクト部分上に配設された前記拡散障壁と、
前記拡散障壁上に配設された側方導電層と、
前記側方導電層上に配設された保護層と、
をさらに備える請求項１に記載の半導体デバイス。
【請求項３】
前記拡散障壁は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚さを有し、前記側方導電層は、１００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の厚さを有し、前記保護層は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚さを有する、請求項１又は２に記載の半導体デバイス。
【請求項４】
前記拡散障壁は、白金（Ｐｔ）を含み、前記側方導電層は、金（Ａｕ）を含み、前記保護層は、ニッケル（Ｎｉ）を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の半導体デバイス。
【請求項５】
前記コンタクト部は、ニッケルクロム（ＮｉＣｒ），白金（Ｐｔ），タングステン（Ｗ），モリブデン（Ｍｏ），クロム（Ｃｒ）及び窒化インジウムのうちの１つ又はそれ以上を含む、請求項１に記載の半導体デバイス。
【請求項６】
前記コンタクト部は、ニッケルクロム（ＮｉＣｒ）を含む請求項１記載の半導体デバイス。
【請求項７】
前記コンタクト部分は、重量で０パーセントより多く、重量で９０パーセント以下のクロムを含む請求項１に記載の半導体デバイス。
【請求項８】
前記コンタクト部分は、重量でほぼ８０パーセントのニッケルと、重量でほぼ２０パーセントのクロムとを含む請求項１に記載の半導体デバイス。
【請求項９】
前記コンタクト部分は、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚さを有する請求項１に記載の半導体デバイス。
【請求項１０】
前記コンタクト部分は、ほぼ２０ｎｍの厚さを有する請求項１に記載の半導体デバイス。
【請求項１１】
前記活性領域が設けられた基板と、前記活性領域の表面の少なくとも一部上で、前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に配設されたスペーサ層とを備える、請求項１に記載の半導体デバイス。
【請求項１２】
半導体デバイスであって、
複数の活性半導体層を備える活性領域と、
前記活性層上に設けられたソース電極と、
前記活性層上に設けられたドレイン電極と、
前記活性領域上で前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に設けられたゲート電極であって、当該ゲート電極は前記活性領域上に電気的に結合されたコンタクト部分を備え、前記コンタクト部分は多結晶窒化インジウム（ＩｎＮ）を含む、ゲート電極を備えた半導体デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月8日(2013.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動機構部により接点相互が接離可能に設けられた一対の接触子と、開極時に上記接点相互の間に生じるアークを消弧するための消弧グリッドと、上記一対の接触子の少なくとも一方における上記アークの進行方向に上記一方の接触子と同電位で設けられ、表面の少なくとも一部に上記アークの進行方向と交差する方向に所定の間隔で複数の凹凸が繰り返し配設されたアーク転流部と、を備えたことを特徴とする開閉器。
【請求項２】
上記複数の凹凸の隣り合う凸部の間が凹所で隔てられていることを特徴とする請求項１に記載の開閉器。
【請求項３】
上記アーク転流部に設けられた上記凹凸部の内の凸部の背面部に、該凸部の熱容量を小さくする凹所が設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の開閉器。
【請求項４】
上記アーク転流部に設けられた上記凹凸部の内の凹部に、誘電性の絶縁物を設けたことを特徴とする請求項１から請求項３の何れか一項に記載の開閉器。
【請求項５】
上記アーク転流部を磁性材料で構成したことを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一項に記載の開閉器。
【請求項６】
直流回路における陰極側に配置される上記アーク転流部を、上記接触子に用いられる材料よりも仕事関数が低い材料で構成したことを特徴とする請求項１から請求項５の何れか一項に記載の開閉器。
【請求項７】
直流回路における陽極側に配置される上記アーク転流部を、上記接触子に用いられる材料よりも仕事関数が高い材料で構成したことを特徴とする請求項１から請求項５の何れか一項に記載の開閉器。
【請求項８】
上記アーク転流部として、上記接触子に用いられる材料よりも低沸点、あるいは比熱が小さな材料を用いたことを特徴とする請求項１から請求項７の何れか一項に記載の開閉器。
【請求項９】
上記アーク転流部として、上記接触子に用いられる材料よりも高沸点、あるいは比熱が大きな材料を用いたことを特徴とする請求項１から請求項７の何れか一項に記載の開閉器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月31日(2013.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
絶縁フィルムと介在層を合わせた絶縁フィルムの実効比誘電率をε、絶縁フィルムの比誘電率をε１、介在層の比誘電率をε２とすると、εはε１とε２との加重平均である。図２などの断面で絶縁フィルムの断面積をＳ１、介在層の断面積をＳ２とすると、ε＝（ε１Ｓ１＋ε２Ｓ２）／（Ｓ１＋Ｓ２）である。
平角導体からシールド層までの非金属層の実効比誘電率は図５の場合では絶縁フィルム３と介在層７とを合わせた比誘電率となる。絶縁フィルム３の比誘電率を介在層７の比誘電率よりも小さくすることにより、両者を合わせた比誘電率（言い換えると平角導体からシールド層までの非金属層の実効比誘電率）は絶縁フィルム３の比誘電率よりも大きくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月2日(2013.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
立体映像（３Ｄ映像）は、左映像を左目で右映像は右目でそれぞれ左・右の二つの映像を分離して視聴する。このため、左・右の目で１つの映像を同時に視聴する２Ｄ映像に比べ同じスクリーンの大きさであっても、立体映像では左・右の画面の大きさが視聴者にとって非常に小さく感じられる。また、従来における一般劇場の内部空間の高さは、一般の建物に比べ２倍以上の高い空間が必要になる。すなわち、図１に示すように、劇場の椅子のｐ配列（前・後方向の配列）の高さが前列より約２０‐２５ｃｍ間隔で階段式に高くなるため、椅子の配列ラインが増えるほど椅子設置の高さが高くなる。このため、椅子の配列を、たとえば８階段まで構成するとき通常６ｍ以上の内部空間の高さが要求される。したがって、通常空間高さが３ｍ内外の既存の一般建物の空間へ劇場を施設することを難しくする。詳細に述べれば、既存の一般建物は、通常ほぼ３ｍ、すなわち、既存の住居ビルや商業ビルの各階の高さは、公衆に対し２ｍ以上と発表されてきたが５ｍ以下である。したがって、通常６ｍ以上の特殊空間を有する劇場建物を最初から別途に建築しなければならない。このような理由から、劇場建築のために過度な投資費が所要されるとともに設置場所に制限を受けてきたという問題点がある。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月30日(2012.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その内部に集塵装置と電動送風機を備えた掃除機本体と、前記掃除機本体に連通し、その内部に回転ブラシと前記回転ブラシを駆動するモータを備えた吸口体を備えた電気掃除機において、
前記モータの駆動電流を検出する電流検出手段と、
前記モータの入力を可変する手段と、
前記電動送風機の入力を可変する手段と、
吸引した空気の中に塵埃が含まれていることを検出するゴミ検出手段とを備え、
前記電流検出手段により、被掃除面の種類を判断し、その被掃除面の種類に応じて、前記モータの入力と、前記電動送風機の入力を制御するとともに、前記ゴミ検出手段が塵埃を検出した時、前記電動送風機の入力を大きくすることを特徴とする電気掃除機。
【請求項２】
請求項１記載の電気掃除機において、
前記ゴミ検出手段が塵埃を検出した時でも、前記被掃除面の種類に応じて前記電動送風機の入力を変えることを特徴とする電気掃除機。
【請求項３】
請求項１記載の電気掃除機において、
前記被掃除面の種類に応じて、前記ゴミ検出手段の検出感度を変化させることを特徴とする電気掃除機。
【請求項４】
その内部に集塵装置と電動送風機を備えた掃除機本体と、前記掃除機本体に連通し、その内部に回転ブラシと前記回転ブラシを駆動するモータを備えた吸口体を備えた電気掃除機において、
前記モータの駆動電流を検出する手段と、
前記モータの入力を可変する手段と、
前記電動送風機の入力を可変する手段と、
吸引した空気の中に塵埃が含まれていることを検出するゴミ検出手段と、
前記モータの駆動電流を検出する手段により、被掃除面の種類を判断し、その被掃除面の種類に応じて、前記モータの入力と、前記電動送風機の入力を制御する制御手段と、
前記モータの駆動電圧を検出し、その駆動電圧に応じた色を発光する表示手段と、
前記ゴミ検出手段の検出した塵埃の有無に応じて、前記発光手段の点灯と点滅を切り替える表示手段駆動手段とを備えたことを特徴とする電気掃除機。
【請求項５】
電気的に駆動されるパワーブラシを備え、吸込み流路内のゴミの量および被清掃面の種類に応じて掃除機本体の吸引力を制御する電気掃除機において、
前記被清掃面の種類に応じて前記パワーブラシの駆動力を制御するが、前記吸込み流路内のゴミの量に応じては前記パワーブラシの駆動力を制御しないことを特徴とする電気掃除機。
【請求項６】
吸込み流路内のゴミの量および被清掃面の種類に応じて掃除機本体の吸引力を制御する電気掃除機において、
前記吸込み流路内のゴミの量の検知結果の表示と前記被清掃面の種類の検知結果の表示とを１つの表示ユニットで共用したことを特徴とする電気掃除機。
【請求項７】
電気的に駆動されるパワーブラシを備え、掃除機本体の吸引力に対応する複数の運転モードを有し、吸込み流路内のゴミの量に応じて前記掃除機本体の吸引力を制御する電気掃除機において、
前記運転モードに応じて前記パワーブラシの駆動力を制御するが、前記吸込み流路内のゴミの量に応じては前記パワーブラシの駆動力を制御しないことを特徴とする電気掃除機。
【請求項８】
掃除機本体の吸引力に対応する複数の運転モードを有し、吸込み流路内のゴミの量に応じて前記掃除機本体の吸引力を制御する電気掃除機において、
前記吸込み流路内のゴミの量の検知結果の表示と前記運転モードを示す表示とを１つの表示ユニットで共用したことを特徴とする電気掃除機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記課題を解決するために、本発明は、その内部に集塵装置と電動送風機を備えた掃除機本体と、前記掃除機本体に連通し、その内部に回転ブラシと前記回転ブラシを駆動するモータを備えた吸口体を備えた電気掃除機において、前記モータの駆動電流を検出する電流検出手段と、前記モータの入力を可変する手段と、前記電動送風機の入力を可変する手段と、吸引した空気の中に塵埃が含まれていることを検出するゴミ検出手段とを備え、前記電流検出手段により、被掃除面の種類を判断し、その被掃除面の種類に応じて、前記モータの入力と、前記電動送風機の入力を制御するとともに、前記ゴミ検出手段が塵埃を検出した時、前記電動送風機の入力を大きくすることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月3日(2013.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体ケース（１）と、肌面を冷却するヘッド（２）と、ヘッド（２）を冷却するための熱電変換素子（４４）を含む冷却部（１２）と、冷却部（１２）に接続される放熱用のヒートシンク（３０）と、ヒートシンク（３０）に熱交換風を供給する送風手段（３１）と、発音表示手段（９５）とを備えており、
本体ケース（１）に設けられるスイッチ（３・４）の操作により、熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）の駆動が開始され、所定時間が経過すると送風手段（３１）の駆動が停止され、さらに所定時間が経過すると熱電変換素子（４４）の駆動が停止され、
所定時間が経過して送風手段（３１）の駆動が停止されたときに発音表示手段（９５）を駆動することを特徴とする美容器具。
【請求項２】
所定時間が経過して送風手段（３１）の駆動が停止された後、所定時間後に発音表示手段（９５）を駆動することを特徴とする請求項１に記載の美容器具。
【請求項３】
所定時間が経過して送風手段（３１）の駆動が停止されたときに発音表示手段（９５）を駆動し、さらに熱電変換素子（４４）の駆動終了前に発音表示手段（９５）を駆動することを特徴とする請求項１に記載の美容器具。
【請求項４】
所定時間が経過して送風手段（３１）の駆動が停止された後、所定時間後に発音表示手段（９５）を駆動し、さらに熱電変換素子（４４）の駆動終了前に発音表示手段（９５）を駆動することを特徴とする請求項１または２に記載の美容器具。
【請求項５】
所定時間が経過して送風手段（３１）の駆動が停止されたときに発音表示手段（９５）を駆動し、さらに熱電変換素子（４４）の駆動終了前に発音表示手段（９５）を駆動し、さらに熱電変換素子（４４）の駆動が終了すると発音表示手段（９５）を駆動することを特徴とする請求項１または３に記載の美容器具。
【請求項６】
所定時間が経過して送風手段（３１）の駆動が停止された後、所定時間後に発音表示手段（９５）を駆動し、さらに熱電変換素子（４４）の駆動終了前に発音表示手段（９５）を駆動し、さらに熱電変換素子（４４）の駆動が終了すると発音表示手段（９５）を駆動することを特徴とする請求項１、２または４に記載の美容器具。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月3日(2013.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体ケース（１）と、肌面を冷却するヘッド（２）と、ヘッド（２）を冷却するための熱電変換素子（４４）を含む冷却部（１２）と、冷却部（１２）に接続される放熱用のヒートシンク（３０）と、ヒートシンク（３０）に熱交換風を供給する送風手段（３１）とを備えており、
本体ケース（１）に設けられるスイッチ（３・４）の操作により、熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）の駆動が開始され、所定時間が経過すると送風手段（３１）の駆動が停止され、さらに所定時間が経過すると熱電変換素子（４４）の駆動が停止されることを特徴とする美容器具。
【請求項２】
本体ケース（１）と、肌面を冷却するヘッド（２）と、ヘッド（２）を冷却するための熱電変換素子（４４）を含む冷却部（１２）と、冷却部（１２）に接続される放熱用のヒートシンク（３０）と、ヒートシンク（３０）に熱交換風を供給する送風手段（３１）とを備えており、
本体ケース（１）に設けられるスイッチ（３・４）の操作により、熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）の駆動が開始され、所定時間が経過すると送風手段（３１）の駆動が制限され、さらに所定時間が経過すると熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）の駆動が停止されることを特徴とする美容器具。
【請求項３】
上記一連の動作が、連続して所定回数繰り返された場合、
スイッチ（３・４）の操作により、熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）の駆動が開始され、所定時間が経過しても熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）が駆動し続け、さらに所定時間が経過すると熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）の駆動が停止されることを特徴とする請求項１または２に記載の美容器具。
【請求項４】
上記一連の動作が、連続して所定回数繰り返された場合、
スイッチ（３・４）の操作により、熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）の駆動が開始され、所定時間が経過しても熱電変換素子（４４）および送風手段（３１）が駆動し続け、さらに所定時間が経過すると熱電変換素子（４４）の駆動が停止され、さらに所定時間が経過すると送風手段（３１）の駆動が停止されることを特徴とする請求項１または２に記載の美容器具。
【請求項５】
熱電変換素子（４４）の駆動が停止された後、再び送風手段（３１）の駆動が開始され、所定時間の経過後、送風手段（３１）の駆動が停止されることを特徴とする請求項１または２に記載の美容器具。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月19日(2013.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒体の面取りをする面取り装置であって、
前記円筒体の一方端面が台座面に接するように前記円筒体を載置する台座と、
前記円筒体を前記台座の所定位置に固定する支持部と、
前記所定位置に固定された前記円筒体の中心軸と同一軸上にその回転軸が位置している状態で、前記円筒体の他方端面の周縁を面取りする円板状砥石と、
前記円筒体と前記台座により形成される前記円筒体の内部空間に研削液を供給する供給管とを備えていることを特徴とする円筒体の面取り装置。
【請求項２】
前記円筒体が、円筒状永久磁石であることを特徴とする請求項１記載の円筒体の面取り装置。
【請求項３】
前記円板状砥石は円錐台形状であり、前記円筒体の前記他方端面の内周縁を面取りすることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の円筒体の面取り装置。
【請求項４】
前記円板状砥石はカップ形状であり、カップの内周面は底部側から開口部側へ外開きの形状を有し、前記円筒体の前記他方端面の外周縁を面取りすることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の円筒体の面取り装置。
【請求項５】
前記円板状砥石は前記円筒体の前記他方端面との対向面に円周状の溝を有し、前記円筒体の前記他方端面の内周縁及び外周縁を面取りすることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の円筒体の面取り装置。
【請求項６】
前記溝の断面は前記円筒体の前記周縁に接する部分が直線状であることを特徴とする請求項３乃至請求項５のいずれかに記載の円筒体の面取り装置。
【請求項７】
前記溝の断面は前記円筒体の前記周縁に接する部分が曲線状であることを特徴とする請求項３乃至請求項５のいずれかに記載の円筒体の面取り装置。
【請求項８】
円板状砥石により円筒体の面取りをする方法であって、
前記円筒体の一方端面と台座面とが接するように前記円筒体を台座に載置する載置工程と、
前記一方端面と前記台座面とが接した状態で、前記円筒体を前記台座の所定位置に固定する固定工程と、
前記円筒体と前記台座により形成される前記円筒体の内部空間に研削液を供給しながら、前記内部空間が前記研削液で満たされた状態において、前記円筒体の他方端面の周縁を前記円板状砥石により面取りする面取り工程とを備えることを特徴とする円筒体の面取り方法。
【請求項９】
前記円筒体が円筒状永久磁石であることを特徴とする請求項８記載の円筒体の面取り方法。
【請求項１０】
前記研削液を前記台座に設けられた供給口から供給することを特徴とする請求項８又は請求項９記載の円筒体の面取り方法。
【請求項１１】
前記台座、前記一方端面及び他方端面を水平とすることを特徴とする請求項８乃至請求項１０のいずれかに記載の円筒体の面取り方法。
【請求項１２】
前記研削液を０．０５ＭＰａ以上０．５０ＭＰａ以下の範囲内の圧力で供給することを特徴とする請求項８乃至請求項１１のいずれかに記載の円筒体の面取り方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項８記載の本発明の円筒体の面取り方法は、円板状砥石により円筒体の面取りをする方法であって、前記円筒体の一方端面と台座面とが接するように前記円筒体を台座に載置する載置工程と、前記一方端面と前記台座面とが接した状態で、前記円筒体を前記台座の所定位置に固定する固定工程と、前記円筒体と前記台座により形成される前記円筒体の内部空間に研削液を供給しながら、前記内部空間が前記研削液で満たされた状態において、前記円筒体の他方端面の周縁を前記円板状砥石により面取りする面取り工程とを備えることを特徴とする。
上記の構成によれば、円筒体の内部空間に研削液を供給し内部空間が研削液で満たされた状態とし、さらに研削液を供給しながら円板状砥石で面取りすることにより、円筒体の他方端面の全体に研削液を確実に供給することができる。また、円筒体の他方端面における周縁と円板状砥石との接触面を通過して、円筒体内側から外側に噴出する研削液の流れを形成することができるので、円筒体の他方端面に研削液を確実に供給することができる。
請求項９記載の本発明は、請求項８記載の円筒体の面取り方法において、前記円筒体が円筒状永久磁石であることを特徴とする。
請求項１０記載の本発明は、請求項８又は請求項９記載の円筒体の面取り方法において、前記研削液を前記台座に設けられた供給口から供給することを特徴とする。
上記の構成によれば、簡易な構成により内部空間に研削液を供給することができる。
請求項１１記載の本発明は、請求項８乃至請求項１０のいずれかに記載の円筒体の面取り方法において、前記台座、前記一方端面及び前記他方端面を水平とすることを特徴とする。
上記の構成によれば、内部空間に研削液を供給する圧力が低くても、他方端面の周縁に研削液を均一に行き渡らせることができる。
請求項１２記載の本発明は、請求項８乃至請求項１１のいずれかに記載の円筒体の面取り方法において、前記研削液を０．０５ＭＰａ以上０．５０ＭＰａ以下の範囲内の圧力で供給することを特徴とする。
上記の構成によれば、円筒体内側から外側に噴出する研削液の流れを、円筒体の他方端面において生じた研削屑などを排出するために適したものとすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図４は、溝４２が断面弧状である円板状砥石４８を備えた面取り装置１０の断面図を示している。図４の二点鎖線で囲った部分Ａの拡大断面図を図５に示す。そして、図５の二点鎖線で囲った部分Ａを模式的に示した拡大断面図を図６に示す。これらの図では、図１で説明した部材と同じものについては同じ番号を付し、説明を省略する。図５、図６に示すように、断面弧状すなわち円筒状永久磁石１１の周縁１７に接する部分が曲面状である溝４２を備えた円板状砥石４８を用いることにより、面取りにより周縁１７を滑らかな面とすることができ、面取りされた円筒状永久磁石１１の周縁１７が弧を描く。このため、後の工程において周縁１７に形成される膜の厚みをより均一にすることが可能となるから、塗装後の耐食性が良い。
円板状砥石４８の円筒状永久磁石１１の外周縁１７ｂと対向する砥石表面４３には、砥粒の結合層４４により砥粒４５が固着されている。結合層４４及び砥粒４５は、円板状砥石４８用として通常用いられているものを用いれば良い。結合層４４としては、ニッケルメッキが好ましいが、他に、セラミック層などを用いることもできる。また、砥粒４５の材質としては、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素（ＣＢＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）などが挙げられる。
本発明によれば、円板状砥石４８の砥石表面４３に効率的に研削液２０を供給することによりその温度上昇を抑制することができるから、温度上昇に伴う硬度低下が著しいダイヤモンドよりなる砥粒４５を備えた円板状砥石４８の長寿命化に特に有効である。また、砥粒４５の粒度は特に限定されないが、例えば円筒状永久磁石１１がＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の場合の面取り加工には、８０〜１７０メッシュ程度のものが用いられ、１２０〜１４０メッシュ程度のものが好ましく用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月15日(2013.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号３に対して少なくとも９０％の同一性を有するアミノ酸配列を含む、単離されたポリペプチドまたはフィターゼであって、該ポリペプチドは、配列番号３に従って番号付けした場合の変異Ｄ５３Ｎを含む、単離されたポリペプチドまたはフィターゼ。
【請求項２】
前記ポリペプチドが配列番号３に対して９９％の同一性を有する、請求項１に記載の単離されたポリペプチドまたはフィターゼ。
【請求項３】
前記ポリペプチドが、シグナル配列を欠失するか、または、配列番号３に従って番号付けした場合のアミノ酸１〜２２を欠失する、請求項１または２に記載の単離されたポリペプチドまたはフィターゼ。
【請求項４】
前記ポリペプチドが、配列番号３に示される配列を有するポリペプチドと比較して増加した熱安定性を有する、請求項１に記載の単離されたポリペプチドまたはフィターゼ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の単離されたポリペプチドまたはフィターゼ、あるいは、これらに対して少なくとも７５％の同一性を有する配列をコードする単離された核酸分子。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項に記載される単離されたポリペプチドもしくはフィターゼを含むプラスミドまたはベクター系。
【請求項７】
請求項５に記載の核酸分子または配列番号２に示される配列を含む単離された核酸分子、あるいは、これらに対して少なくとも７５％の同一性を有する配列を含む、請求項６に記載のプラスミドまたはベクター系。
【請求項８】
前記プラスミドまたはベクター系が、宿主細胞または微生物中において、それぞれのフィターゼ酵素またはそのホモログ、改変型、機能的な等価物もしくは有効なフラグメントの発現のための発現ベクターである、請求項６または７に記載のプラスミドまたはベクター系。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれかに記載のプラスミドまたはベクター系で形質転換またはトランスフェクトされた宿主細胞。
【請求項１０】
請求項９に記載の宿主細胞であって、前記宿主細胞が、Ｂ．ｓｕｂｔｉｌｉｓ、Ｅ．ｃｏｌｉのような細菌を含む微生物、および、Ｈ．ｐｏｌｙｍｏｒｐｈａ、Ｓ．ｐｏｍｂｅ、Ｓ．ｃｅｒｅｖｉｓｉａｅのような酵母を含む真菌由来である、宿主細胞。
【請求項１１】
前記微生物が原核生物細菌細胞である請求項１０に記載の宿主細胞。
【請求項１２】
前記原核生物細菌細胞がＥ．ｃｏｌｉである、請求項１１に記載の宿主細胞。
【請求項１３】
フィターゼを産生する方法であって、該方法は、請求項１〜４のいずれか１項に記載の単離されたポリペプチドまたはフィターゼを宿主細胞中で発現する工程と、該宿主細胞培養培地から該フィターゼを分離する工程とを包含する、方法。
【請求項１４】
請求項１〜４のいずれか１項に記載されるフィターゼを含む食物または動物飼料組成物。
【請求項１５】
食物または動物の飼料中における請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィターゼの使用。
【請求項１６】
食物または動物飼料に対して請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィターゼを液体形態で噴霧する工程、および／または、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィターゼを乾燥生成物として該食品または動物飼料と混合する工程を包含する、食物または動物飼料の生成のための方法。
【請求項１７】
配列番号３に対して少なくとも９０％の同一性を有するアミノ酸配列を有し、不活性化温度を測定することによって決定した場合に、配列番号３と比較して向上された熱安定性を有する単離されたポリペプチドまたはフィターゼであって、該不活性化温度は、残留活性が、室温で同じ条件下で同じ期間にわたってインキュベーションした後の残留活性と比較して５０％である温度であり、
該残留活性は、特定の温度にて１時間、２００ｍＭ  酢酸ナトリウム緩衝液ｐＨ３．５中の２ｍＭ  フィチン酸塩および０．８ｍＭ  ＣａＣｌ２の反応混合物をインキュベートし、その時間の後、新たに調製したＡＭＭ溶液２００μｌを該反応混合物に添加することによって放出されたリン酸塩を測定することによって決定され、該ＡＭＭ溶液は、１：１：２の比の７．５Ｎ  Ｈ２ＳＯ４、１５ｍＭ  モリブデン酸アンモニウムおよびアセトンから構成され、
ここで、該ＡＭＭ試薬の添加後、１０分より後でかつ３０分より前に、３９０ｎｍでの吸光度が測定され、そして、リン酸塩の量が、既知濃度のリン酸塩溶液を用いて検量線を作成することによって決定される、
単離されたポリペプチドまたはフィターゼ。
【請求項１８】
明細書中に記載の発明。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月25日(2013.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記第１図柄表示手段及び前記第２図柄表示手段は、前記第１図柄変動ゲーム及び前記第２図柄変動ゲームにおいて異なる制御情報が決定された場合に、同一の表示図柄が形成されるときを含むように前記発光体が配置されていることを特徴とする請求項１〜請求項３のうちいずれか一項に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のうちいずれか一項に記載の遊技機において、前記第１図柄表示手段及び前記第２図柄表示手段は、前記第１図柄変動ゲーム及び前記第２図柄変動ゲームにおいて異なる制御情報が決定された場合に、同一の表示図柄が形成されるときを含むように前記発光体が配置されていることを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
（７）第１，第２特別図柄発光部１２ａ〜１２ｆ，１３ａ〜１３ｆの位置が異なっているが、７セグメント型を形成し得るように配置されているので、点灯が指示される特別図柄発光部が異なったとしても、点灯する特別図柄発光部によって形成される図柄形状が同一となる場合がある。例えば、図４（ｃ）に示すように、図柄番号「２４」の特別図柄が第１特別図柄表示装置１２に表示されると、第１特別図柄発光部１２ａ，１２ｂ，１２ｅ〜１２ｇが点灯する一方で、第１特別図柄発光部１２ｃ，１２ｄが点灯しないことによって、アルファベットの「Ｐ」を模した特別図柄１が形成される。同様に、図５（ｄ）に示すように、図柄番号「４０」の特別図柄が第２特別図柄表示装置１３に表示されると、第２特別図柄発光部１３ｂ〜１３ｅ，１３ｇが点灯する一方で、第２特別図柄発光部１３ａ，１３ｆが点灯しないことによって、アルファベットの「Ｐ」を模した特別図柄２が形成される。この場合、特別図柄１と特別図柄２が同一の形状となる。ところが、これらの特別図柄はそれぞれ図柄番号が異なるため、内部的には別の特別図柄となる。これにより、異なる大当りの種類が同一形状の特別図柄によって報知されることになるため、大当りの種類を遊技者に分かり難くすることができる。したがって、遊技者にとって不利な大当りに当選している場合であっても、遊技者にとって有利な大当りに当選していることに期待を持たせることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月26日(2013.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の（ａ）又は（ｂ）のポリペプチドをコードする単離されたポリヌクレオチド：
（ａ）配列番号：１４に示すアミノ酸配列を有するポリペプチド；及び
（ｂ）ポリペプチド（ａ）のアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換又は付加されることによりポリペプチド（ａ）から誘導され、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドに結合する、ポリペプチド。
【請求項２】
以下の（ａ）又は（ｂ）のポリペプチドをコードする単離されたポリヌクレオチド：
（ａ）１位〜２０位に位置するシグナルペプチドを欠く配列番号：１４のアミノ酸配列を有するポリペプチド；及び
（ｂ）ポリペプチド（ａ）のアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換又は付加されることによりポリペプチド（ａ）から誘導され、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドに結合する、ポリペプチド。
【請求項３】
以下の（ａ）又は（ｂ）の単離されたポリヌクレオチド：
（ａ）配列番号：１４に示すアミノ酸配列をコードするポリヌクレオチド；
（ｂ）（ａ）に定義されるポリヌクレオチドと相補的な塩基配列を有するポリヌクレオチドとストリンジェントな条件下でハイブリダイズし、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドに結合するポリペプチドをコードするポリヌクレオチド。
【請求項４】
以下の（ａ）又は（ｂ）の単離されたポリヌクレオチド：
（ａ）配列番号：１３に示すヌクレオチド配列の全長コード化配列を有するポリヌクレオチド；及び
（ｂ）（ａ）に定義されるポリヌクレオチドと相補的な塩基配列を有するポリヌクレオチドとストリンジェントな条件下でハイブリダイズする全長コード化配列を有するポリヌクレオチドであって、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドに結合するポリペプチドをコードするポリヌクレオチド。
【請求項５】
以下の（ａ）又は（ｂ）の単離されたポリヌクレオチド：
（ａ）ＡＴＣＣ登録番号ＰＴＡ−１５３５で寄託したＤＮＡの全長コード化配列を有するポリヌクレオチド；及び
（ｂ）（ａ）に定義されるポリヌクレオチドと相補的な塩基配列を有するポリヌクレオチドとストリンジェントな条件下でハイブリダイズし、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドに結合するポリペプチドをコードするポリヌクレオチド。
【請求項６】
請求項１ないし５の何れか一項に記載のポリヌクレオチドを含んでなるベクター。
【請求項７】
ベクターで形質転換された宿主細胞によって認識されるコントロール配列と作用可能に連結している請求項６のベクター。
【請求項８】
請求項６のベクターを含んでなる宿主細胞。
【請求項９】
前記細胞がＣＨＯ細胞、大腸菌細胞、酵母細胞又はバキュロウイルス感染昆虫細胞である、請求項８の宿主細胞。
【請求項１０】
ポリペプチドの発現に適した条件下で請求項８の宿主細胞を培養し、前記ポリペプチドを細胞培養物から回収することを含んでなる、ポリペプチドを製造する方法。
【請求項１１】
以下の（ａ）又は（ｂ）の単離されたポリペプチド：
（ａ）配列番号：１４に示すアミノ酸配列を含むポリペプチド；及び
（ｂ）ポリペプチド（ａ）に定義されるアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換又は付加されることによりポリペプチド（ａ）から誘導され、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドに結合するポリペプチド。
【請求項１２】
以下の（ａ）又は（ｂ）の単離されたポリペプチド：
（ａ）１位〜２０位に位置するシグナルペプチドを欠く配列番号：１４のアミノ酸配列を含むポリペプチド；及び
（ｂ）ポリペプチド（ａ）のアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換又は付加されることによりポリペプチド（ａ）から誘導され、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドに結合するポリペプチド。
【請求項１３】
以下の（ａ）又は（ｂ）の単離されたポリペプチド：
（ａ）ＡＴＣＣ登録番号ＰＴＡ−１５３５で寄託したＤＮＡの全長コード化配列によってコードされているアミノ酸配列を有するポリペプチド；及び
（ｂ）ポリペプチド（ａ）のアミノ酸配列において１若しくは数個のアミノ酸が欠失、置換又は付加されることによりポリペプチド（ａ）から誘導され、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドに結合するポリペプチド。
【請求項１４】
異種アミノ酸配列と融合した請求項１１ないし１３の何れか一項に記載のポリペプチドを含んでなるキメラ分子。
【請求項１５】
前記異種アミノ酸配列が、エピトープタグ配列又は免疫グロブリンのＦｃ領域である、請求項１４のキメラ分子。
【請求項１６】
請求項１１ないし１３の何れか一項に記載のポリペプチドと特異的に結合する抗体。
【請求項１７】
前記抗体が、モノクローナル抗体、ヒト化抗体又は一本鎖抗体である、請求項１６の抗体。
【請求項１８】
前記抗体が、配列番号：１０に示されるアミノ酸配列を有するポリペプチドへの請求項１１ないし１３の何れか一項に記載のポリペプチドの結合を阻害する、請求項１６に記載の抗体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月25日(2013.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題を解決するために、本発明に係るネイルプリント装置は、
ネイルプリント装置であって、
指を撮影して当該指に対応する爪部の爪領域画像を含む指爪画像を取得する指爪画像取得手段と、
この指爪画像取得手段によって取得された前記指爪画像から爪部の輪郭を抽出する輪郭抽出手段と、
前記爪部上に貼り付けられる貼着層とこの貼着層を爪部上に貼り付けるための粘着層と未使用時にこの粘着層を被覆し使用時に前記粘着層から剥離される剥離層とが積層されてなるネイルチップシート上に印刷を施す印刷手段と、
前記輪郭抽出手段により抽出された爪部の輪郭を前記ネイルチップシートにおける前記貼着層および前記剥離層のうちの少なくとも一方の層の上に印刷するように前記印刷手段を制御する印刷制御手段と、
を備えていることを特徴としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明に係る印刷制御方法は、
ネイルプリント装置の印刷制御方法であって、
前記ネイルプリント装置は、爪部上に貼り付けられる貼着層とこの貼着層を爪部上に貼り付けるための粘着層と未使用時にこの粘着層を被覆し使用時に前記粘着層から剥離される剥離層とが積層されてなるネイルチップシート上に印刷を施す印刷手段を備え、
指を撮影して当該指に対応する爪部の爪領域画像を含む指爪画像を取得する指爪画像取得ステップと、
この指爪画像取得ステップにおいて取得された前記指爪画像から爪部の輪郭を抽出する輪郭抽出ステップと、
前記輪郭抽出ステップにおいて抽出された爪部の輪郭を前記ネイルチップシートにおける前記貼着層および前記剥離層のうちの少なくとも一方の層の上に印刷するように前記印刷手段を制御する印刷制御ステップと、
を含んでいることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネイルプリント装置であって、
指を撮影して当該指に対応する爪部の爪領域画像を含む指爪画像を取得する指爪画像取得手段と、
この指爪画像取得手段によって取得された前記指爪画像から爪部の輪郭を抽出する輪郭抽出手段と、
前記爪部上に貼り付けられる貼着層とこの貼着層を爪部上に貼り付けるための粘着層と未使用時にこの粘着層を被覆し使用時に前記粘着層から剥離される剥離層とが積層されてなるネイルチップシート上に印刷を施す印刷手段と、
前記輪郭抽出手段により抽出された爪部の輪郭を前記ネイルチップシートにおける前記貼着層および前記剥離層のうちの少なくとも一方の層の上に印刷するように前記印刷手段を制御する印刷制御手段と、
を備えていることを特徴とするネイルプリント装置。
【請求項２】
前記ネイルチップシートは、テープ状の長尺なシートであることを特徴とする請求項１に記載のネイルプリント装置。
【請求項３】
前記ネイルチップシートは、印刷時において前記剥離層が前記印刷手段と対向するように配置され、
前記印刷手段は、前記剥離層上に前記爪部の輪郭を印刷するものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のネイルプリント装置。
【請求項４】
前記ネイルチップシートは、印刷時において印刷開始位置の基準となる基準線が設けられ、
前記指爪画像取得手段は、複数の指を撮影して当該各指に対応する爪部の爪領域画像を含む指爪画像をそれぞれ取得し、
前記輪郭抽出手段は、この取得された前記各指爪画像から爪部の輪郭をそれぞれ抽出し、
前記印刷制御手段は、前記複数の爪部の輪郭を前記基準線から所定の距離を置いて印刷するように前記印刷手段を制御するものであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のネイルプリント装置。
【請求項５】
ネイルプリント装置の印刷制御方法であって、
前記ネイルプリント装置は、爪部上に貼り付けられる貼着層とこの貼着層を爪部上に貼り付けるための粘着層と未使用時にこの粘着層を被覆し使用時に前記粘着層から剥離される剥離層とが積層されてなるネイルチップシート上に印刷を施す印刷手段を備え、
指を撮影して当該指に対応する爪部の爪領域画像を含む指爪画像を取得する指爪画像取得ステップと、
この指爪画像取得ステップにおいて取得された前記指爪画像から爪部の輪郭を抽出する輪郭抽出ステップと、
前記輪郭抽出ステップにおいて抽出された爪部の輪郭を前記ネイルチップシートにおける前記貼着層および前記剥離層のうちの少なくとも一方の層の上に印刷するように前記印刷手段を制御する印刷制御ステップと、
を含んでいることを特徴とする印刷制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月15日(2013.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スピンコーターシステムであって、
コーティングされるべき加工片を内部に受容するように適合されたスピンコーティングボウルであって、該コーティングされるべき加工片は、該スピンコーティングボウル内で回転するように設置される、スピンコーティングボウル；および
該スピンコーティングボウルの面を囲む光源の環状アレイであって、光学制御のために該スピンコーティングボウルの内部を照射するように構成されている、光源の環状アレイ、
を備える、スピンコーターシステム。
【請求項２】
前記スピンコーティングボウルが、実質的に閉じた頂部および側部、ならびに該スピンコーティングボウルの底に面する部分の加工片アクセス開口部を備え、チャックが、該加工片アクセス開口部の内外に移動するように構成されている、請求項１に記載のスピンコーターシステム。
【請求項３】
前記光源の環状アレイが、前記スピンコーティングボウルの面の少なくとも一部分を通して光を拡散させ、該スピンコーティングボウルの内部を照射させるように構成されている、請求項１に記載のスピンコーターシステム。
【請求項４】
統合された映像システムをさらに備え、該映像システムは、前記スピンコーティングボウルの頂部に設置されたカメラを備える、請求項１に記載のスピンコーターシステム。
【請求項５】
再循環スピンコーターシステムであって、
コーティング材料の供給源；
コーティングされるべき加工片を内部に受容するように適合されたスピンコーティングボウルであって、該スピンコーティングボウルは、実質的に閉じた頂部、および該スピンコーティングボウルの底に面する部分の加工片アクセス開口部を備え、該コーティングされるべき加工片は、該スピンコーティングボウル内で回転するように設置され、該スピンコーティングボウルは、内部に再循環排液口を有し、該再循環排液口は、コーティング材料が前記スピンコーティングボウルから回収されることを可能にするように構成されており、そして回収された該コーティング材料を該コーティング材料の供給源に戻すように構成されている、スピンコーティングボウル；
該コーティング材料の供給源に結合されるように適合されたコーティングノズル；
内側壁の上端に付随する湿潤流体チャンバであって、該湿潤流体チャンバは、少なくとも該ノズルの作動中に、側壁湿潤流体を該スピンコーティングボウルの内側壁に分配するように構成されている、湿潤流体チャンバ；ならびに
該スピンコーティングボウルの内部を照射するための光源の環状アレイ、
を備える、再循環スピンコーターシステム。
【請求項６】
前記再循環排液口が、前記加工片アクセス開口部を囲む環状トラフ、および前記コーティング材料の供給源に結合されて該環状トラフまで延びる少なくとも１つの排液開口部を備える、請求項５に記載の再循環スピンコーターシステム。
【請求項７】
前記スピンコーティングボウルが、発散内側壁を備え、該発散内側壁は、半径方向外向きの方向に発散して該スピンコーティングボウルの上端から下端まで延び、前記湿潤流体チャンバが、前記コーティング材料の供給源に結合された該内側壁の上端の周りの環状チャンバであり、これによって、前記コーティング材料がまた側壁湿潤流体を形成する、請求項５に記載の再循環スピンコーターシステム。
【請求項８】
前記コーティングノズルが、少なくとも２つの作動可能な位置を備え、該作動可能な位置が、前記コーティング材料を前記スピンコーティングボウル内の加工片の方へと分配し得るように構成された第一の作動可能なコーティング位置、およびコーティング材料を回収されるように前記再循環排液口に直接分配するように構成された第二の作動可能なパージ位置である、請求項５に記載の再循環スピンコーターシステム。
【請求項９】
加工片の配向を決定するために、前記スピンコーティングボウル内の加工片の画像を捕捉するように構成されたカメラをさらに備える、請求項５に記載の再循環スピンコーターシステム。
【請求項１０】
前記光源のアレイが、前記スピンコーティングボウルの内部から、少なくとも該スピンコーティングボウルの面の一部分だけ間隔を空けており、これによって、該位置が前記光源のための拡散器を形成する、請求項９に記載の再循環スピンコーターシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月23日(2013.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面側に前扉を有する遊技機において、
前記前扉の外面に形成される開口の内側から外側に向けて移動可能とされ、少なくとも発光体を具備して構成される装飾部と、
前記発光体を発光させる制御を行う制御部とを備え、
前記装飾部は、前記開口の外側に向けて移動する前の移動前状態では、前記開口の外側に向けて移動した後の移動後状態よりも、外部から視認困難となるように構成され、
前記制御部は、前記装飾部が前記移動前状態にあるときと前記移動後状態にあるときに、前記発光体を発光させる制御を行うことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記移動前状態にある前記装飾部を外部から視認困難とするとともに、前記移動後状態にある前記装飾部を外部から視認容易とするように前記開口を開閉する開閉部を備え、
前記開閉部は、前記発光体から発せられる光を透光する部材で構成されることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、
前面側に前扉を有する遊技機において、
前記前扉の外面に形成される開口の内側から外側に向けて移動可能とされ、少なくとも発光体を具備して構成される装飾部と、
前記発光体を発光させる制御を行う制御部とを備え、
前記装飾部は、前記開口の外側に向けて移動する前の移動前状態では、前記開口の外側に向けて移動した後の移動後状態よりも、外部から視認困難となるように構成され、
前記制御部は、前記装飾部が前記移動前状態にあるときと前記移動後状態にあるときに、前記発光体を発光させる制御を行うことを特徴とする。
また、請求項２に記載の発明は、
前記移動前状態にある前記装飾部を外部から視認困難とするとともに、前記移動後状態にある前記装飾部を外部から視認容易とするように前記開口を開閉する開閉部を備え、
前記開閉部は、前記発光体から発せられる光を透光する部材で構成されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月8日(2013.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
摺動部を有する冷媒圧縮部を備え、冷媒であるジフルオロメタンと、冷凍機油とを封入した冷凍空調用圧縮機において、
前記冷凍機油は、下記化学式（１）で表される４０℃における動粘度が４０〜１００ｍｍ２／ｓの化合物（式中、Ｒ１〜Ｒ2は、水素もしくは炭素数１〜３のアルキル基を表す。）からなる基油と、下記化学式（２）で表される添加ポリオールエステル油（式中、Ｒ３は炭素数７〜９のアルキル基を表す。）を含み、前記添加ポリオールエステル油の組成が１〜１０重量％であることを特徴とする冷凍空調用圧縮機。
【化１】
2013076533.tif 000001
【化２】
2013076533.tif 000002
【請求項２】
請求項１記載の冷凍空調用圧縮機において、
前記冷凍機油は、環状ケタール化合物もしくは環状アセタール化合物であることを特徴とする冷凍空調用圧縮機。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の冷凍空調用圧縮機において、
前記冷媒と冷凍機油との低温側臨界溶解温度が−１０℃以下であることを特徴とする冷凍空調用圧縮機。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の冷凍空調用圧縮機を用いたことを特徴とする冷凍空調装置。