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【手続補正書】
【提出日】平成25年7月23日(2013.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の導光手段を備えた長手状の光プローブと、
前記複数の導光手段のうち光源から出射された光を与える導光手段をいずれかの１つに切り替えるスイッチ手段と、
前記複数の導光手段のうち前記スイッチ手段により前記光源からの光を与える導光手段を順次切り替えて前記光プローブの周方向に沿った領域の全領域にわたる断層画像を取得するプレスキャン手段と、
前記プレスキャン手段により取得した断層画像に基づいて、前記複数の導光手段のうち、前記光源からの光を与える導光手段を決定する決定手段と、
前記複数の導光手段うち前記スイッチ手段により前記光源からの光を与える導光手段を前記決定手段により決定された導光手段のみに順次切り替えて前記光プローブの周方向に沿った領域の一部の領域のみの断層画像を取得すると共に、断層画像を取得する領域を前記光プローブの長手軸方向に移動させて３次元ボリュームデータを取得する本スキャン手段と、
を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。
【請求項２】
前記光プローブは、細長な筒状のシース内に前記複数の導光手段と、前記複数の導光手段から出射された各々の光を前記周方向に沿った領域内の異なる方向に偏向する複数の光偏向面を有する多面体ミラーとを備え、
断層画像の取得時において、前記多面体ミラーを回転させることにより、前記複数の導光手段から出射された各々の光の偏向方向を、前記周方向に沿った領域の全領域を区画した複数の領域の各々の領域内となる範囲で変化させることを特徴とする請求項１の光断層画像化装置。
【請求項３】
前記本スキャン手段は、前記光プローブの長手軸周りに前記多面体ミラーを回転させながら、前記複数の導光手段及び多面体ミラーを前記光プローブの長手軸方向に移動させることで、複数の断層画像から構築される３次元ボリュームデータを生成することを特徴とする請求項２の光断層画像化装置。
【請求項４】
前記決定手段は、前記プレスキャン手段により取得した断層画像の各位置における画素値が所定の閾値以上か否かを判断し、所定の閾値よりも大きい領域の断層画像の取得に関係する導光手段を前記光源からの光を与える導光手段として決定することを特徴とする請求項１、２、又は、３の光断層画像化装置。
【請求項５】
前記多面体ミラーは、平面ｎ角形（ただし、ｎは３以上の自然数とする。）を底面とするｎ角錐体において頭頂点側を所定の高さで切断しｎ角錐面よりｎ個の光偏向面を形成した略ｎ角錐体形状であって、前記シースの長手軸を回転中心として前記ｎ個の光偏向面が回転可能に構成されることを特徴とする請求項２、又は、３に記載の光断層画像化装置。
【請求項６】
複数の導光手段を備えた長手状の光プローブと、前記複数の導光手段のうち光源から出射された光を与える導光手段をいずれかの１つに切り替えるスイッチ手段とを備え、前記光プローブの導光手段に光源から出射された光を与えることによって断層画像を取得する光断層画像化装置における光断層画像取得方法であって、
前記複数の導光手段のうち前記スイッチ手段により前記光源からの光を与える導光手段を順次切り替えて前記光プローブの周方向に沿った領域の全領域にわたる断層画像を取得するプレスキャン工程と、
前記プレスキャン工程により取得した断層画像に基づいて、前記複数の導光手段のうち、前記光源からの光を与える導光手段を決定する決定工程と、
前記複数の導光手段うち前記スイッチ手段により前記光源からの光を与える導光手段を前記決定工程により決定された導光手段のみに順次切り替えて前記光プローブの周方向に沿った領域の一部の領域のみの断層画像を取得すると共に、断層画像を取得する領域を前記光プローブの長手軸方向に移動させて３次元ボリュームデータを取得する本スキャン工程と、
を備えたことを特徴とする光断層画像化装置における光断層画像取得方法。
【請求項７】
前記決定工程は、前記プレスキャン工程により取得した断層画像の各位置における画素値が所定の閾値以上か否かを判断し、所定の閾値よりも大きい領域の断層画像の取得に関係する導光手段を前記光源からの光を与える導光手段として決定することを特徴とする請求項６の光断層画像化装置における光断層画像取得方法。
【請求項８】
前記決定工程は、前記プレスキャン工程により取得した断層画像を画像表示手段に表示し、該表示された断層画像に基づいて本スキャンする領域が入力手段により指定されると、該指定された領域に基づいて前記光源からの光を与える導光手段を決定することを特徴とする請求項７の光断層画像化装置における光断層画像取得方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項５に係る光断層画像化装置は、請求項２、又は、３に記載の発明において、前記多面体ミラーは、平面ｎ角形（ただし、ｎは３以上の自然数とする。）を底面とするｎ角錐体において頭頂点側を所定の高さで切断しｎ角錐面よりｎ個の光偏向面を形成した略ｎ角錐体形状であって、前記シースの長手軸を回転中心として前記ｎ個の光偏向面が回転可能に構成されることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月11日(2013.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
シンチレータ１５０は、図示しない支持基板の表面に、例えば、タリウムが添加されたヨウ化セシウム（ＣｓＩ（Ｔｌ））が真空蒸着法で短冊状の柱状結晶構造１４８に形成されたものであり、前記支持基板の表面におけるシンチレータ１５０の基端部分は、非柱状結晶部分１４６とされている。この場合、柱状結晶構造１４８は、前記支持基板と交差する方向、理想的には略直交方向（図４Ａ及び図４Ｂの上下方向であって９０°）に沿って、各柱間がある程度の隙間を確保した状態で形成されている。そして、シンチレータ１５０における非柱状結晶部分１４６は、前記支持基板の表面に沿って略平坦に形成されているが、柱状結晶構造１４８の先端部分は、中央部が凸状となるように湾曲形成されている。すなわち、シンチレータ１５０は、場所によって異なる厚みとされている。また、ＣｓＩのシンチレータ１５０は、柱状結晶構造１４８が湿度に弱く、非柱状結晶部分１４６が湿度に特に弱いという特性を有するので、防湿保護材１５２で封止されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
また、接触指示部１８６は、前記通知信号に基づいて表示操作部１２２の警告表示を消去させると共に、スピーカ１２４からの警告音を停止させる（ステップＳ２９）。これにより、医師は、放射線変換パネル６４と緩衝層２８０及びシンチレータ１５０とが再度接触して原状回復されたことを容易に把握することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月23日(2013.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定量のサンプル溶液を反応溶液に同伴させ、所定温度に保った反応管流路内を流通させたのち、検出器において反応生成物の濃度を測定する、サンプル溶液内の目的物質の濃度を分析する分析装置であって、
マイクロ波照射装置と、分析対象である溶液系の流体を流通させ反応をさせる反応管が配置された反応器としてのシングルモードキャビティとを有し、マイクロ波照射装置により前記反応器内に３００ＭＨｚから３０ＧＨｚの範囲のマイクロ波が照射されると、サンプル溶液と反応溶液の加温または化学反応が促進され、サンプル溶液の反応時間が短縮されるフローインジェクション分析装置。
【請求項２】
分析装置が、ＴＥｍ０（ｍは１以上の整数）もしくはＴＭｎｍ０（ｎは０以上、ｍは１以上の整数）モードの定在波を形成できるシングルモードキャビティと、マイクロ波による電界もしくは磁界集中部分となるようにキャビティ内部に配置された、分析対象である溶液系の流体を流通させ反応をさせる反応管を有する、請求項１に記載のフローインジェクション分析装置。
【請求項３】
前記のシングルモードキャビティにおいて、目的のモードの定在波がキャビティの軸方向に安定化して形成されるよう、シングルモードキャビティの構造を微調整するか、または／同時に、照射するマイクロ波の周波数を調節する請求項１または２記載のフローインジェクション分析装置。
【請求項４】
前記シングルモードキャビティ内に、マイクロ波吸収が小さく誘電率が１より大きな物質を挿入することで、マイクロ波照射空間の寸法を小さくし、装置の省スペース化を可能とした請求項１から３のいずれか１項に記載のフローインジェクション分析装置。
【請求項５】
所定量のサンプル溶液を反応溶液に同伴させ、所定温度に保った反応管流路内を流通させたのち、検出器において反応生成物の濃度を測定して、サンプル溶液内の目的物質の濃度を分析するに当たり、
マイクロ波による電界もしくは磁界集中部分となるように配置された反応管流路を有するシングルモードキャビティ内に、３００ＭＨｚから３０ＧＨｚの範囲のマイクロ波を照射しシングルモードを形成し、反応管流路内を流通するサンプル溶液と反応溶液の加温または化学反応を促進し、サンプル溶液の反応時間を短縮するフローインジェクション分析方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図７に、代表的なシングルモードキャビティの構造として、円筒の中心軸に沿って均一な電磁界分布（ＴＭ０１０モード）が形成されるように設計した、円筒型ＴＭ０１０キャビティ及びその電界強度分布を示す。円筒型ＴＭ０１０では、円筒の中心軸部分に電界集中部位がある。この他にも、多くの形式のシングルモードキャビティがあり、本発明は、いずれの形式のシングルモードキャビティについても使用可能である。図中１１は空胴共振器、１２がマイクロ波照射口である。下のグラフは空胴共振器１１の半径方向に対する電界強度を示す（横軸が空胴共振器１１の半径と対応している）。空胴共振器１１の、グラフで電界の強くなっている位置に対応する部分に、触媒物質を担持した支持体を配置することにより、触媒物質の選択的な加熱が可能になる。図５では電界で説明したが、電磁波は磁界による加熱作用もあるため、磁界が強くなる部分を利用しても同様な効果を得ることができる。
ここでシングルモードキャビティとは、特定の定存波を安定に形成することができるマイクロ波照射空間内のことをいう。定在波とは、波形が進行せずに止まって振動していうように見える波動のことで、電界強度が０の場所と、電界強度の強い場所の位置が変化しない状態が作られる。特に円筒型の共振空胴（キャビティ）により、ＴＭｎｍ０モード（ｎは０以上、ｍは１以上の整数）の定在波を形成した場合、円筒中心軸に配置した反応管流路部分に、マイクロ波を集中して照射することができるうえ、中心軸の軸方向には電界強度の分布が一様になり、反応溶液は常に制御された電界強度のマイクロ波を照射させることができる。このとき、反応管流路をマイクロ波を透過しやすい材料で構成することで、マイクロ波は内部の溶液に直接到達し、反応溶液を直接誘電加熱することができる。誘電加熱は、従来の伝熱による加熱よりきわめて短時間に発熱させることができるため、所定の反応温度になるよう溶液を迅速に加熱できる。また、サンプル溶液と反応溶液の化学反応が、マイクロ波照射により促進される場合もある。この場合は、加熱に必要な時間だけでなく、反応時間の短縮も期待できる。なお、マイクロ波を透過しやすい材料としては、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、石英などが好ましく、その他ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＥ（ポリエチレン）、ＰＣ（ポリカーボネート）など多くのプラスチック材料やガラス材料を用いることができるが、これに制限されるものではない。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月23日(2013.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
このような位置関係においては、プレーヤが右打ちである場合、ドップラセンサ１１ａは、ゴルフボール４２を打撃するまでのゴルフクラブの速度（ヘッドスピード）を測定するためのセンサとして機能し、ドップラセンサ１１ｂは、ゴルフクラブで打撃された後のゴルフボール４２の速度（ボールスピード）を測定するためのセンサとして機能する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
一方、プレーヤが左打ちである場合には、ドップラセンサ１１ｂが、ゴルフボール４２を打撃するまでのゴルフクラブの速度を測定するためのセンサとして機能し、ドップラセンサ１１ａが、ゴルフクラブで打撃された後のゴルフボール４２の速度を測定するためのセンサとして機能する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月30日(2012.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の足場用シートには、当該シートの周縁から内側に向けて延びる切り込みが設けられ、この切り込みには、当該切り込みを閉じることが可能なスライドファスナが設けられている。電力線等の既存構造物がこの切り込みを通って、当該足場用シートの表裏を貫くようにし、スライドファスナにより、この既存構造物の両側の切り込みを閉じる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足場に張られる足場用シートであって、
当該足場用シートには、周縁から内側に向けて延びる切り込みが設けられ、
切り込みには、当該切り込みを閉じることが可能なスライドファスナが設けられており、
前記スライドファスナは、切り込みを通して当該足場用シートの表裏を貫いて延びる貫通部材の両側の切り込みを閉じることができる、
足場用シート。
【請求項２】
足場に張られる足場用シートであって、
当該足場用シートには、周縁から内側に向けて延びる切り込みが設けられ、
切り込みには、当該切り込みを閉じることが可能なスライドファスナが設けられており、
スライドファスナは、間においてファスナエレメントの噛み合いが解除される二つのスライダを有する頭合わせ型ファスナである、
足場用シート。
【請求項３】
請求項２に記載の足場用シートであって、当該足場用シートの周縁側のスライダは、開き型スライダである、足場用シート。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月10日(2013.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セグメントの搬入と掘削土の搬出とを伴うシールドトンネルの施工方法であって、
先端部で地中を掘削し後方部でセグメントを組み立てるシールド機と、
前記シールド機の後方に連結されて前記シールド機の掘進に伴って移動する門型の架台と、
前記門型の架台に装備されるクレーンと、
前記門型の架台内の下部に設定される置き場と、
前記シールド機による掘削土を前記門型の架台の後方へ搬送する土砂搬送設備と、を備え、
構築済みのトンネル坑内を走行するタイヤ式の搬送車両により、セグメントを搬入し、
前記クレーンにより、前記搬送車両から前記置き場にセグメントを荷卸しした後、
セグメントを荷卸しした搬送車両に前記土砂搬送設備から掘削土を積込み、
前記搬送車両により、掘削土を搬出することを特徴とする、シールドトンネルの施工方法。
【請求項２】
前記土砂搬送設備は、ベルトコンベア、スクリューコンベア又は土砂圧送管により構成することを特徴とする請求項１記載のシールドトンネルの施工方法。
【請求項３】
前記土砂搬送設備は、その終端にホッパーを備え、前記搬送車両に前記ホッパーから掘削土を積込むことを特徴とする請求項１又は請求項２記載のシールドトンネルの施工方法。
【請求項４】
前記シールド機と前記門型の架台との間で床版を構築するようにし、前記門型の架台は前記床版上を移動することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１つに記載のシールドトンネルの施工方法。
【請求項５】
前記床版を構築する部材を前記搬送車両により搬入し、前記置き場に荷卸しすることを特徴とする請求項４記載のシールドトンネルの施工方法。
【請求項６】
前記搬送車両の走行路にはターンテーブルを設け、荷卸し位置に到着する前に、車両の向きを反転させて、荷卸し位置にバックで進入させることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１つに記載のシールドトンネルの施工方法。
【請求項７】
床版を構築する部材の搬入と掘削土の搬出とを伴うシールドトンネルの施工方法であって、
先端部で地中を掘削し後方部でセグメントを組み立てるシールド機と、
前記シールド機の後方に連結されて前記シールド機の掘進に伴って移動する門型の架台と、
前記門型の架台に装備されるクレーンと、
前記門型の架台内の下部に設定される置き場と、
前記シールド機による掘削土を前記門型の架台の後方へ搬送する土砂搬送設備と、を備え、
前記シールド機と前記門型の架台との間で床版を構築する一方、
構築済みのトンネル坑内を走行するタイヤ式の搬送車両により、前記床版を構築する部材を搬入し、
前記クレーンにより、前記搬送車両から前記置き場に前記床版を構成する部材を荷卸しした後、
前記床版を構築する部材を荷卸しした搬送車両に前記土砂搬送設備から掘削土を積込み、
前記搬送車両により、掘削土を搬出することを特徴とする、シールドトンネルの施工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、セグメントの搬入と掘削土の搬出とをセットにして、ダンプトラック等のタイヤ式の搬送車両の往復走行で行わせることにより、運搬効率の大幅な向上を図ることができる。また、タイヤ式の搬送車両を用いることで、レールの敷設が不要となり、自由度が向上する一方、この搬送車両に対し、セグメントの荷卸しと掘削土の積込みとを系列的に行うことで、作業効率の向上をも図ることができる。従って、施工効率の向上に寄与できる。
尚、シールドトンネルの施工においては、セグメントの組み立て後に、シールド機と門型の台車との間で床版を構築するのが望ましい。従って、本発明は、セグメントと共に、又はセグメントに代えて、床版用部材を搬入する際に、セグメント及び床版用部材の搬入と掘削土の搬出とをセットにして、又は、床版用部材の搬入と掘削土の搬出とをセットにして、ダンプトラック等のタイヤ式の搬送車両の往復走行で行わせるようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月11日(2013.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、Ｃ：０．０８％超、０．２５％以下、Ａｌ：２．０〜８．５％を含有すると共に、Ｖ：５．０％以下、Ｃｒ：５．０％以下、Ｆｅ：２．５％以下、Ｍｏ：５．０％以下、Ｎｉ：５．０％以下、Ｎｂ：５．０％以下、Ｔａ：５．０％以下のβ安定化型元素群の１種または２種以上を合計で２．０〜１０．０％含有し、残部がＴｉおよび不可避的不純物であるチタン合金押出材であって、
そのチタン合金押出材の任意の断面における一次α相の面積率が５〜８０％であると共に、その一次α相のうち８０％以上の一次α粒の長径の方向が、チタン合金押出材の押出方向に対して±１５°以内の角度範囲内に収まっており、
且つ、二次α相の平均短径が０．１μｍ以上であることを特徴とする疲労強度に優れたα−β型チタン合金押出材。
【請求項２】
更に、質量％で、Ｓｉ：１．０％以下を含有する請求項１記載の疲労強度に優れたα−β型チタン合金押出材。
【請求項３】
更に、質量％で、Ｚｒ：５．０％以下、Ｓｎ：５．０％以下の１種または２種を合計で７．０％以下含有する請求項１または２記載の疲労強度に優れたα−β型チタン合金押出材。
【請求項４】
前記チタン合金押出材の焼鈍後の任意の断面における、＜０００１＞方向が押出垂直方向に対して±２０°以内の角度範囲内に収まるα相の、全α相中に占める面積率が９３％以上である請求項１乃至３のいずれかに記載のα−β型チタン合金押出材。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載のα−β型チタン合金押出材を押出成形により製造するα−β型チタン合金押出材の製造方法であって、
加熱温度Ｔ１を下記条件式に示す範囲内として押出成形を行うことを特徴とするα−β型チタン合金押出材の製造方法。
９２．６×ｌｎＲ＋６３５≦Ｔ１≦Ｔβ―２０、Ｒ≧４
但し、上記条件式でＲは押出比である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月24日(2013.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
以下の手順でリウェットバック試験を行った。
（ｉ）試料を３５０ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに切断する。
（ｉｉ）吸収体は市販の新生児用オムツ（ユニ・チャーム（株）製、ムーニー生まれたて仕立て）の表面シートを外したものを使用し、その上に切断した試料を固定する。不織布Ａおよび比較例Ａでは、山部が形成されている面を上にする。
（ｉｉｉ）８０ミリリットルの人工尿（イオン交換水１０リットルに、尿素２００ｇ、塩化ナトリウム８０ｇ、硫酸マグネシウム８ｇ、塩化カルシウム８ｇ及び色素：青色１号約１ｇを溶解させた水溶液）を１０秒で滴下する。
（ｉｖ）人工尿が透過して試料の表面に人工尿が残らなくなるまで放置する。
ここまでを２回行い、計１６０ミリリットル滴下した後、
（ｖ）人工尿が透過した試料の上にろ紙（東洋濾紙株式会社製、定性濾紙Ｎｏ．２）を載せ、さらに重りを載せて３５ｇ／ｃｍ２の荷重をかけた。
（ｖｉ）荷重をかけてから６０秒経過後、ろ紙を取り出し、重さを測定した。
（ｖｉｉ）試料の上に載せる前と載せた後のろ紙の重さを比較することによって、リウェットバックした人工尿の重さを算出した。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月29日(2013.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体クロマトグラフィーによって分離した試料の画分をサンプルプレート上に所定の順番で所定の位置にスポットし、これらの画分をマトリックス支援レーザー脱離イオン化法によるイオン化部を備えたタンデム質量分析計に供して得られたプリカーサーイオンの相同性を判定する方法であって、
（１）第一の試料に由来するプリカーサーイオンが取得されたサンプルプレート上の位置に対して、第二の試料に由来するプリカーサーイオンが取得されたサンプルプレート上の位置が所定の関係を満たすことを判定する第一のステップと、
（２）第一のステップにおいてサンプルプレート上の位置が所定の関係を満たすと判定された両プリカーサーイオンのプロダクトイオン群の比較により両プリカーサーイオンに相同性があるかどうか判定する第二のステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
上記第一のステップは、さらに、両プリカーサーイオンの質量電荷比が所定の関係を満たすことを判定するステップを備えている、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
上記（２）の要件における両プレカーサーイオンのプロダクトイオン群の比較は、プロダクトイオン群の質量電荷比及びピーク強度を比較することにより行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
さらに、相同性が判定された複数のプリカーサーイオンから、相同性有と判定されたプリカーサーイオンの集合または相同性無と判定されたプリカーサーイオンの集合を取り出すステップを備えている、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
さらに、前記集合を表示するステップを備えてなる請求項4に記載の方法。
【請求項６】
液体クロマトグラフィーによって分離した試料の画分をサンプルプレート上に所定の順番で所定の位置にスポットし、これらの画分をマトリックス支援レーザー脱離イオン化法によるイオン化部を備えたタンデム質量分析計に供して得られたプリカーサーイオンの相同性を判定するためのコンピュータプログラムであって、
（１）第一の試料に由来するプリカーサーイオンが取得されたサンプルプレート上の位置に対して、第二の試料に由来するプリカーサーイオンが取得されたサンプルプレート上の位置が所定の関係を満たすことを判定する第一のステップと、
（２）第一のステップにおいてサンプルプレート上の位置が所定の関係を満たすと判定された両プリカーサーイオンのプロダクトイオン群の比較により両プリカーサーイオンに相同性があるかどうか判定する第二のステップと、
をコンピュータに実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項７】
上記第一のステップは、さらに、両プリカーサーイオンの質量電荷比が所定の関係を満たすことを判定するステップを備えている、請求項6に記載のコンピュータプログラム。
【請求項８】
上記（２）の要件における両プレカーサーイオンのプロダクトイオン群の比較は、プロダクトイオン群の質量電荷比及びピーク強度を比較することにより行われる、請求項6に記載のコンピュータプログラム。
【請求項９】
さらに、相同性が判定された複数のプリカーサーイオンから、相同性有と判定されたプリカーサーイオンの集合または相同性無と判定されたプリカーサーイオンの集合を取り出すステップを備えている、請求項6に記載のコンピュータプログラム。
【請求項１０】
さらに、前記集合を表示するステップを備えてなる請求項9に記載のコンピュータプログラム。
【請求項１１】
請求項6乃至10の何れか1項に記載のコンピュータプログラムを記録した、コンピュータで読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月1日(2013.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、請求項１記載の発明は、現在位置を測定する絶対位置測定手段と、前記絶対位置測定手段の動作タイミングを制御して非連続的に現在位置を測定させる測位制御手段と、移動動作の計測を行う移動計測手段と、前記移動計測手段の計測結果に基づいて少なくとも移動種別を判定する動作内容判別手段と、鉄道路線図の情報を記憶する地図データ記憶手段と、前記絶対位置測定手段により測定された位置情報、及び、前記鉄道路線図の情報に基づいて、前記動作内容判別手段により列車移動状態であると判定された期間の移動経路を決定する移動経路判別手段と、を備えることを特徴とする測位装置である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項７記載の発明は、現在位置を測定する絶対位置測定手段と、動作の計測を行う移動計測手段と、鉄道路線図の情報を記憶する地図データ記憶手段と、を備えた測位装置に用いられるコンピュータを、前記絶対位置測定手段の動作タイミングを制御して非連続的に現在位置を測定させる測位制御手段と、前記移動計測手段の計測結果に基づいて動作状態の判別を行う動作内容判別手段と、前記絶対位置測定手段により測定された位置情報、及び、前記鉄道路線図の情報に基づいて、前動作内容判別手段により判別された列車移動の期間の移動経路を判別する移動経路判別手段と、として機能させるためのプログラムである。
請求項８記載の発明は、前記移動計測手段は磁気センサを備え、前記動作内容判別手段は、前記磁気センサが磁気の乱れにより計測できなくなったとき、列車が発車したタイミングであると判断し、前記測位制御手段は、前記列車が発車したと判断したタイミングから所定時間後に、前記絶対位置測定手段の測定を開始させることを特徴とする請求項１記載の測位装置である。
請求項９記載の発明は、現在位置を測定する絶対位置測定手段と、磁気センサを含む動作の計測を行う移動計測手段とを備え、列車の発車、移動又は停止状態を判断する測位装置のコンピュータが、前記磁気センサが磁気の乱れにより計測できなくなったとき、列車が発車したタイミングであると判断することを特徴とする測位方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現在位置を測定する絶対位置測定手段と、
前記絶対位置測定手段の動作タイミングを制御して非連続的に現在位置を測定させる測位制御手段と、
移動動作の計測を行う移動計測手段と、
前記移動計測手段の計測結果に基づいて少なくとも移動種別を判定する動作内容判別手段と、
鉄道路線図の情報を記憶する地図データ記憶手段と、
前記絶対位置測定手段により測定された位置情報、及び、前記鉄道路線図の情報に基づいて、前記動作内容判別手段により列車移動状態であると判定された期間の移動経路を決定する移動経路判別手段と、
を備える
ことを特徴とする測位装置。
【請求項２】
前記測位制御手段は、
前記動作内容判別手段により列車に乗車したと判定された場合には、前記絶対位置測定手段を動作させて第１地点の位置データを取得し、
前記動作内容判別手段により前記列車から下車したと判定された場合には、前記絶対位置測定手段を動作させて第２地点の位置データを取得し、
前記移動経路判別手段は、
前記第１地点の位置データ、及び、前記第２地点の位置データが取得されると、当該列車移動状態の期間の移動経路を決定する
ことを特徴とする請求項１記載の測位装置。
【請求項３】
前記測位制御手段は、
動作種別が列車移動状態から他の動作種別に変化したと前記動作内容判別手段により判定された場合には、前記絶対位置測定手段を動作させて経由地点の位置データを取得することを特徴とする請求項２記載の測位装置。
【請求項４】
前記測位制御手段は、
前記第１地点の位置データが設定された後、列車から下車したと前記動作内容判別手段により判定されるまでの期間には、前記絶対位置測定手段を動作させない
ことを特徴とする請求項２記載の測位装置。
【請求項５】
前記移動計測手段の計測に基づいて移動量及び移動方向を算出し、当該算出された移動量及び移動方向と、この移動期間中の基準となる位置情報とに基づいて移動経路を決定する自律測位手段を備え、
前記自律測位手段は、
前記絶対位置測定手段により現在位置が取得された場合には、当該現在位置を前記基準となる位置情報として使用し、
前記移動経路判別手段は、
前記絶対位置測定手段、及び、前記自律測位手段により測定された位置情報、及び、前記鉄道路線図の情報に基づいて、前記動作内容判別手段により列車移動状態であると判定された期間の移動経路を判別する
ことを特徴とする請求項１記載の測位装置。
【請求項６】
現在位置を測定する絶対位置測定手段と、動作の計測を行う移動計測手段と、鉄道路線図の情報とを用いて移動経路を求める測位方法において、
前記絶対位置測定手段の動作タイミングを制御して非連続的に現在位置を測定させる測位制御ステップと、
前記移動計測手段の計測結果に基づいて動作状態の判別を行う動作内容判別ステップと、
前記絶対位置測定手段により測定された位置情報、及び、前記鉄道路線図の情報に基づいて、前記動作内容判別ステップで判別された列車移動の期間の移動経路を判別する移動経路判別ステップと、
を含むことを特徴とする測位方法。
【請求項７】
現在位置を測定する絶対位置測定手段と、動作の計測を行う移動計測手段と、鉄道路線図の情報を記憶する地図データ記憶手段と、
を備えた測位装置に用いられるコンピュータを、
前記絶対位置測定手段の動作タイミングを制御して非連続的に現在位置を測定させる測位制御手段と、
前記移動計測手段の計測結果に基づいて動作状態の判別を行う動作内容判別手段と、
前記絶対位置測定手段により測定された位置情報、及び、前記鉄道路線図の情報に基づいて、前記動作内容判別手段により判別された列車移動の期間の移動経路を判別する移動経路判別手段と、
として機能させるためのプログラム。
【請求項８】
前記移動計測手段は磁気センサを備え、
前記動作内容判別手段は、前記磁気センサが磁気の乱れにより計測できなくなったとき、列車が発車したタイミングであると判断し、
前記測位制御手段は、前記列車が発車したと判断したタイミングから所定時間後に、前記絶対位置測定手段の測定を開始させることを特徴とする請求項１記載の測位装置。
【請求項９】
現在位置を測定する絶対位置測定手段と、磁気センサを含む動作の計測を行う移動計測手段とを備え、列車の発車、移動又は停止状態を判断する測位装置のコンピュータが、
前記磁気センサが磁気の乱れにより計測できなくなったとき、列車が発車したタイミングであると判断することを特徴とする測位方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月22日(2012.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
実施の形態１における液面検出装置は、図１から図５に示すように構成されている。
すなわち、液面検出装置は、燃料タンク（図示しない）内の燃料液面に浮くフロート８と、このフロート８に結合（連結）されたフロートアーム７と、このフロートアーム７とフロート８とを保持するプッシュナット９（図１）と、フロートアーム７の回動支点である軸受部３aを有しフロートアーム７を揺動自在に保持するアームホルダ３と、このアームホルダ３の軸受部３aを後述するアームホルダ軸受部用支持部１ｆによって支持（軸支）するフレーム１と、このフレーム１に後述するようにして固定され、導電パターン２ｃと回路基板貫通孔２a、２ｂが配設された回路基板２と、この回路基板２上を摺動接触する可動接点４と、この可動接点４と回路基板２を電気的に導通させるための導電スプリング５と、この導電スプリングの一端と導電パターン２ｃの一端とにそれぞれ後述するようにして接続され、液面変動に伴い回路基板２上を摺動する可動接点４による電気量の変化、例えば電流の変化（電気信号）を外部へ送出するためのリード線６ａ、６ｂなどで構成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
導電パターン２ｃ、可動接点４、導電スプリング５間は、次のようにして接続される。
フレーム１に設けたアームホルダ軸受部用支持部１ｆに、アームホルダ３の軸受部３aを圧入し、アームホルダ３がアームホルダ軸受部用支持部１ｆを中心に回動自由に固定された後、アームホルダ軸受部用支持部１ｆ付近で、導電のための導電スプリング５を接続する。この際、導電スプリング５の一端５ａは回路基板２を摺動する可動接点４に、また、もう一方の他端５ｂは、後述するように回路基板２へ接続されるが、まず回路基板貫通孔２ｂに挿通され仮固定される。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
次に、リード線６ａ、６ｂの接続固定について説明する。
フレーム貫通孔１ａ、１ｂおよび回路基板の貫通孔２a、２ｂは、回路基板２をフレーム１の回路基板嵌め込み用凹部１ｅに重ね合わせ嵌めこみ取り付けた時、図５に示すようにその重合部分の同一軸線上に両者が貫通する状態となるようそれぞれ設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
１  フレーム
１a、１ｂ  リード線用のフレーム貫通孔
１ｃ  フレーム前面開口部    １ｄ  フレーム背面壁部
１ｅ  回路基板嵌め込み用凹部
１ｆ  アームホルダ軸受部用支持部
１ｇ、１１ｇ  回路基板押さえ部
１ｈ  リード線保持部
１ｊ、１１ｊ  液面検出装置保持用レール
１ｋ、１１ｋ  爪部
１ｓ  導電スプリング取り付け軸
２  回路基板
２ｃ  導電パターン
２a、２ｂ  回路基板貫通孔
３  アームホルダ
３a  アームホルダの軸受部
４  可動接点
５  導電スプリング
５ａ、５ｂ  導電スプリング端子
６  ６ａ、６ｂ  リード線
７  フロートアーム
８  フロート
９  プッシュナット
１０  取り付け部材
１０ａ  液面検出装置本体取り付け用ガイド
１０ｂ  当接部
１０ｃ  係止部。 
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2012052911.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2012052911.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月5日(2013.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エラストマー全体に対してジブロックの含有量が５０重量％以下で、スチレン比率が１０〜４０重量％あるスチレン系エラストマー（Ａ）：３０重量部〜５５重量部、
水素添加された石油系樹脂もしくは水素添加されたテルペン系樹脂から選ばれる軟化点が９０〜１４０℃の固体粘着付与樹脂（Ｂ）：４０重量部〜６０重量部、及び
芳香族環の含有量が１０重量％未満の鉱物油軟化剤（Ｃ）：１〜１５重量部を、合計１００重量部となるように配合してなる、軟化点が１００〜１５０℃の範囲である熱可塑性組成物（Ｄ）、
及び酸化防止剤（Ｅ）を含有することを特徴とする、
１７０℃における粘度が１５５００〜１９０００（ｍＰａ・ｓ）であり、溶剤を使用しないホットメルト型感圧式接着組成物。
【請求項２】
酸化防止剤（Ｅ）が、フェノール系酸化防止剤及び／又はリン系酸化防止剤であることを特徴とする請求項１記載の感圧式接着組成物。
【請求項３】
熱可塑性組成物（Ｄ）１００重量部に対して酸化防止剤（Ｅ）０．０５〜１０重量部を含むことを特徴とする請求項１または２記載の感圧式接着組成物。
【請求項４】
請求項１ないし３いずれか記載の感圧式接着組成物から形成される感圧式接着層がフィルム状基材の片面もしくは両面に積層されてなる積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明者らは、上記問題を解決するため、鋭意検討した結果、本発明に達した。
即ち、第１の発明は、エラストマー全体に対してジブロックの含有量が５０重量％以下で、スチレン比率が１０〜４０重量％あるスチレン系エラストマー（Ａ）：３０重量部〜５５重量部、
水素添加された石油系樹脂もしくは水素添加されたテルペン系樹脂から選ばれる軟化点が９０〜１４０℃の固体粘着付与樹脂（Ｂ）：４０重量部〜６０重量部、及び
芳香族環の含有量が１０重量％未満の鉱物油軟化剤（Ｃ）：１〜１５重量部を、合計１００重量部となるように配合してなる、軟化点が１００〜１５０℃の範囲である熱可塑性組成物（Ｄ）、
及び酸化防止剤（Ｅ）を含有することを特徴とする、
１７０℃における粘度が１５５００〜１９０００（ｍＰａ・ｓ）であり、溶剤を使用しないホットメルト型感圧式接着組成物に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、第２の発明は、酸化防止剤（Ｅ）が、フェノール系酸化防止剤及び／又はリン系酸化防止剤であることを特徴とする上記発明に記載の感圧式接着組成物に関する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、第３の発明は、熱可塑性組成物（Ｄ）１００重量部に対して酸化防止剤（Ｅ）０．０５〜１０重量部を含むことを特徴とする上記発明に記載の感圧式接着組成物に関する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、第４の発明は、上記発明のいずれか記載の感圧式接着組成物から形成される感圧式接着層がフィルム状基材の片面もしくは両面に積層されてなる積層体に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月31日(2013.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性層と、前記活性層の面内方向に共振モードを有する２次元フォトニック結晶と、を備えた面発光レーザであって、
前記２次元フォトニック結晶は、異なる方向へ伸びる基本並進ベクトルａ1と基本並進ベクトルａ2とを有し、
前記共振モードは、少なくとも前記ａ1の方向の共振モードと前記ａ2の方向の共振モードとを有し、
前記ａ1の長さ｜ａ1｜は、前記ａ1の方向の共振モードにおける共振波長をλ1、前記ａ1の方向の共振モードによって決まる実効屈折率をｎeff1、２以上の整数をｐとすると、｜ａ1｜＝ｐ×（λ1／２ｎeff1）で表され、
前記ａ2の長さ｜ａ2｜は、前記ａ2の方向の共振モードにおける共振波長をλ2、前記ａ2の方向の共振モードによって決まる実効屈折率をｎeff2とすると、｜ａ2｜＝λ2／２ｎeff2で表され、
前記λ1と前記λ2は、前記面発光レーザの外側に位置する外部媒質の屈折率をｎoutとすると、λ2≦２×（ｎeff2／（ｎout＋ｎeff2））×λ1を満たすことを特徴とする面発光レーザ。
【請求項２】
前記λ1と前記λ2は、前記活性層の発光波長範囲の最短波長をλSとすると、λS≦λ2≦λ1を満たすことを特徴とする請求項１に記載の面発光レーザ。
【請求項３】
前記２次元フォトニック結晶の外側でかつ前記面内方向に配置された、前記λSから前記λ1までの光を反射するミラーを有していることを特徴とする請求項２に記載の面発光レーザ。
【請求項４】
前記λ1における前記活性層のゲインは、前記λ2における前記活性層のゲインよりも大きいことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の面発光レーザ。
【請求項５】
前記λ1は、前記活性層のゲインのピークと一致していることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の面発光レーザ。
【請求項６】
前記２次元フォトニック結晶は、前記ａ1の方向に幅Δ1の位相シフト構造を１つ以上有
し、
前記幅Δ1は、０よりも大きい奇数をｓとすると、Δ1＝ｓ×（λ1×２ｎeff1）で表されることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の面発光レーザ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の面発光レーザは、活性層と、前記活性層の面内方向に共振モードを有する２次元フォトニック結晶と、を備えた面発光レーザであって、
前記２次元フォトニック結晶は、異なる方向へ伸びる基本並進ベクトルａ1と基本並進ベクトルａ2とを有し、
前記共振モードは、少なくとも前記ａ1の方向の共振モードと前記ａ2の方向の共振モードとを有し、
前記ａ1の長さ｜ａ1｜は、前記ａ1の方向の共振モードにおける共振波長をλ1、前記ａ1の方向の共振モードによって決まる実効屈折率をｎeff1、２以上の整数をｐとすると、｜ａ1｜＝ｐ×（λ1／２ｎeff1）で表され、
前記ａ2の長さ｜ａ2｜は、前記ａ2の方向の共振モードにおける共振波長をλ2、前記ａ2の方向の共振モードによって決まる実効屈折率をｎeff2とすると、｜ａ2｜＝λ2／２ｎeff2で表され、
前記λ1と前記λ2は、前記面発光レーザの外側に位置する外部媒質の屈折率をｎoutとすると、λ2≦２×（ｎeff2／（ｎout＋ｎeff2））×λ1を満たすことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月29日(2013.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を貼り合わせる装置であって、
前記複数の基板を重ね合わせた重ね合わせ基板を鉛直方向に複数組積層して収容し、収容された前記複数の重ね合わせ基板を加熱により接合する接合部と、
を備える基板貼り合わせ装置。
【請求項２】
前記接合部に搬送するための前記複数組の重ね合わせ基板が順に搬入されて積層される積層室を
更に備える請求項１に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項３】
前記積層室で積層された前記複数の重ね合わせ基板を積層状態で、前記積層室から前記接合部へと搬入する第１搬送部を
更に備える請求項２に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項４】
前記接合部によって接合された前記複数の重ね合わせ基板を積層状態で、前記接合部から搬出する第２搬送部を
更に備える請求項１〜３の何れか１項に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項５】
前記複数組の重ね合わせ基板を組毎に分離する分離室を更に備え、
前記第２搬送部は、積層状態の前記複数の重ね合わせ基板を前記接合部から前記分離室へと搬送する請求項４に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項６】
積層状態の前記複数の重ね合わせ基板に、積層方向と交差する方向に位置ずれを生じさせることにより、前記重ね合わせ基板を組毎に分離する分離部材
を更に備える請求項１〜５の何れか１項に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項７】
前記接合部は、積層状態の前記複数組の重ね合わせ基板が基板ホルダによって保持された状態で加熱する
請求項１〜６の何れか１項に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項８】
前記接合部は、前記複数の重ね合わせ基板における基板同士が結合する温度に昇温して、前記重ね合わせ基板の温度を保持する加熱部を有する請求項１から７のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項９】
複数の基板を位置合わせして重ね合わせる段階と、
前記複数の基板が重ね合わされた重ね合わせ基板を複数積層する段階と、
積層された前記複数の重ね合わせ基板を接合部に複数組搬入して鉛直方向に積層する段階と、
積層された前記複数の重ね合わせ基板を前記接合部にて加熱して、各組の前記重ね合わせ基板の基板同士を接合する段階と、
接合された前記重ね合わせ基板を積層半導体装置に個片化する段階と
を備える積層半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記複数の重ね合わせ基板を積層するための積層時間は、前記複数の重ね合わせ基板が前記接合部に収容されている収容時間よりも短い
請求項９に記載の積層半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
基板同士を結合する段階は、Ｎ個の加熱部によって並列に実行され、
前記複数組の重ね合わせ基板を積層するための積層時間Ｔａは、前記複数の重ね合わせ基板が前記接合部に収容されている時間である収容時間をＴｂとすると、
Ｔａ≦Ｔｂ／Ｎ
である請求項９に記載の積層半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項９〜１１の何れか１項に記載の積層半導体装置の製造方法によって製造される積層半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月29日(2013.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１１】
一方、酸素源が原料以外にあるとき、因子は、炉内の治具、デポ、洗浄剤残渣等の「酸素源」、「酸素源からの酸素脱離係数」、「結晶中への酸素取り込み係数」が考えられる。上記の通り、「結晶中への酸素取り込み係数」は雰囲気ガスによらない。よって残りの「酸素源からの酸素脱離係数」が雰囲気ガスによって変わる。水素は、還元性のガスであり、デポ等の望まれない堆積物から酸素を脱離させる。この酸素がエピタキシャル結晶中に取り込まれるものと考えられる。これ故に、雰囲気ガス（キャリアガス及びサブフローガス）として窒素に用いることが好適である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月11日(2013.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を気密に閉塞可能とされた処理チャンバーと、
前記処理チャンバー内に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、
前記処理チャンバー内から排気するための排気機構と、
前記処理ガスのプラズマを生成するためのプラズマ生成機構と、
前記処理チャンバー内に設けられ、被処理基板と、当該被処理基板の周囲を囲むように配設されるフォーカスリングとが同一の平面に載置されるよう構成された載置台と、
前記載置台の温度を調節する温調機構と、
前記載置台の上面に配設され、前記フォーカスリングの下部にまで延在する吸着用電極を有する静電チャックと
を具備し、
前記静電チャックの前記吸着用電極は、前記被処理基板と前記フォーカスリングとの境界部分が下方に向けて屈曲された形状とされている
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマ処理装置であって、
前記静電チャックは、絶縁層の間に前記吸着用電極を介在させた構造を有し、前記絶縁層及び前記吸着用電極は、溶射によって形成されている
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載のプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ生成機構は、前記載置台と、当該載置台と対向するよう配設された上部電極との間に高周波電力を供給して前記処理ガスのプラズマを生成する
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１〜３いずれか１項記載のプラズマ処理装置であって、
前記静電チャックの絶縁層がＹ２Ｏ３又はＡｌ２Ｏ３からなる溶射皮膜である
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明のプラズマ処理装置の一態様は、内部を気密に閉塞可能とされた処理チャンバーと、前記処理チャンバー内に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、前記処理チャンバー内から排気するための排気機構と、前記処理ガスのプラズマを生成するためのプラズマ生成機構と、前記処理チャンバー内に設けられ、被処理基板と、当該被処理基板の周囲を囲むように配設されるフォーカスリングとが同一の平面に載置されるよう構成された載置台と、前記載置台の温度を調節する温調機構と、前記載置台の上面に配設され、前記フォーカスリングの下部にまで延在する吸着用電極を有する静電チャックとを具備し、前記静電チャックの前記吸着用電極は、前記被処理基板と前記フォーカスリングとの境界部分が下方に向けて屈曲された形状とされていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月12日(2013.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
金属空気電池であって、
金属を含む負極と、
導電性を有するペロブスカイト型酸化物、および、酸素還元反応を促進する触媒を含むとともに炭素を含まない多孔質の正極と、
前記負極と前記正極との間に配置される電解質層と、
前記正極に設けられ、前記電解質層に含まれる電解液に対する撥液性を有する撥液層と、
を備えることを特徴とする金属空気電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、金属空気電池であって、金属を含む負極と、導電性を有するペロブスカイト型酸化物、および、酸素還元反応を促進する触媒を含むとともに炭素を含まない多孔質の正極と、前記負極と前記正極との間に配置される電解質層と、前記正極に設けられ、前記電解質層に含まれる電解液に対する撥液性を有する撥液層とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月25日(2013.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ乳酸から選択される少なくとも一種のフィルム（Ａ）、ナイロン６フィルム（Ｂ）、アルミニウム箔（Ｃ）、ポリプロピレンフィルム（Ｄ）がこの順に積層されたＡ／Ｂ／Ｃ／Ｄ積層材であって、ＢおよびＤが無延伸フィルムであり、ＣとＤの間に変性ポリオレフィン層が設けられており、かつ、Ｄは、エルカ酸アミド、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミドから選択される少なくとも１種を０．１〜２０重量ｐｐｍ含有することを特徴とする二次電池容器用積層材。
【請求項２】
前記変性ポリオレフィン層がグラフト変性ポリプロピレンからなることを特徴とする請求項１記載の二次電池容器用積層材。
【請求項３】
フィルム（Ａ）の破断強度が１５０〜２５０ＭＰａ、破断伸度が１００〜１５０％であることを特徴とする請求項１または２に記載の二次電池容器用積層材。
【請求項４】
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ乳酸から選択される少なくとも一種の二軸延伸フィルム（Ａ）、無延伸のナイロン６フィルム（Ｂ）、アルミニウム箔（Ｃ）をこの順に積層し、Ａ／Ｂ／Ｃ積層材とし、次いで、エルカ酸アミド、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミドから選択される少なくとも１種を０．１〜２０重量ｐｐｍ含有する無延伸のポリプロピレンフィルム（Ｄ）を設けてＡ／Ｂ／Ｃ／Ｄ積層材とし、ＣとＤの間に変性ポリオレフィン層を設けることを特徴とする二次電池容器用積層材の製造方法。
【請求項５】
前記変性ポリオレフィン層がグラフト変性ポリプロピレンからなることを特徴とする請求項４記載の二次電池容器用積層材の製造方法。
【請求項６】
二軸延伸フィルム（Ａ）の破断強度が１５０〜２５０ＭＰａ、破断伸度が１００〜１５０％であることを特徴とする請求項４または５に記載の二次電池容器用積層材の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれかに記載の二次電池容器用積層材によって形成した二次電池容器。
【請求項８】
請求項１〜３のいずれかに記載の二次電池容器用積層材のＤ側表面にカバーフィルム（Ｅ）を設けて、二次電池容器を形成することを特徴とする二次電池容器の製造方法。
【請求項９】
カバーフィルム（Ｅ）が二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムにアクリル系又はシリコーン系粘着剤が設けられた製造工程用粘着テープであることを特徴とする請求項８に記載の二次電池容器の製造方法。