【手続補正書】
【提出日】平成25年4月9日(2013.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ下面側に対向して配置される液浸部材を含み、前記液浸部材を介して供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域から、前記液浸部材を介して液体を回収する液浸システムと、
前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように前記第１、第２テーブルをそれぞれ前記投影光学系の下方に配置し、かつ前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように前記第１、第２テーブルをそれぞれ前記投影光学系の下方で移動するとともに、前記投影光学系と前記載置した基板の一部との間に維持される前記液浸領域と前記載置した基板とが相対移動するように前記第１、第２テーブルをそれぞれ移動する駆動装置と、を備え、
前記液浸部材はその下面側に供給口を有し、前記液浸部材と、前記液浸領域が一部に位置する前記載置した基板との間に、前記供給口を介して液体が供給され、
前記載置した基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に、前記エネルギビームが通過する開口部を有し、前記供給口は、前記開口部の周囲に配置される。
【請求項３】
請求項２に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記供給口が環状に設けられる。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその内部に、前記供給口に接続される供給流路を有する。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に回収口を有する。
【請求項６】
請求項５に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその内部に、前記回収口に接続される回収流路を有する。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に形成される凹部に前記回収口が設けられる。
【請求項８】
請求項７に記載の露光装置において、
前記凹部は、前記液浸部材の下面側で環状に形成される。
【請求項９】
請求項５〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に、前記エネルギビームが通過する開口部を有し、前記回収口は、前記開口部の周囲に配置される。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記回収口が環状に設けられる。
【請求項１１】
請求項５〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項１２】
請求項５〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部と前記回収口との間に配置される。
【請求項１３】
請求項５〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に配置される。
【請求項１４】
請求項１３に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記開口部に対して前記供給口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材と、前記第１テーブル又は前記第２テーブルによって前記液浸部材の下面と対向して配置される前記基板との間隔を計測するセンサを、さらに備える。
【請求項１６】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ下面側に対向して配置される液浸部材を含み、前記液浸部材を介して供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域から、前記液浸部材を介して液体を回収する液浸システムと、
前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように前記第１、第２テーブルをそれぞれ前記投影光学系の下方に配置し、かつ前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように前記第１、第２テーブルをそれぞれ前記投影光学系の下方で移動するとともに、前記投影光学系と前記載置した基板の一部との間に維持される前記液浸領域と前記載置した基板とが相対移動するように前記第１、第２テーブルをそれぞれ移動する駆動装置と、
前記液浸部材と、前記第１テーブル又は前記第２テーブルによって前記液浸部材に対してその下面側に対向して配置される前記基板との間隔を計測するセンサと、を備え、
前記載置した基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載の露光装置において、
前記センサの計測値に基づいて前記間隔を調整する制御装置を、さらに備える。
【請求項１８】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ下面側に対向して配置される液浸部材を含み、前記液浸部材を介して供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域から、前記液浸部材を介して液体を回収する液浸システムと、
前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように前記第１、第２テーブルをそれぞれ前記投影光学系の下方に配置し、かつ前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように前記第１、第２テーブルをそれぞれ前記投影光学系の下方で移動するとともに、前記投影光学系と前記載置した基板の一部との間に維持される前記液浸領域と前記載置した基板とが相対移動するように前記第１、第２テーブルをそれぞれ移動する駆動装置と、
前記液浸部材と、前記第１テーブル又は前記第２テーブルによって前記液浸部材に対してその下面側に対向して配置される前記基板との間隔を調整する制御装置と、を備え、
前記載置した基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項１９】
請求項１７又は１８に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記間隔を実質的に一定とするように調整する。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材は、前記投影光学系に対して相対移動可能に設けられる。
【請求項２１】
請求項１６又は１８に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に回収口を有し、前記回収口を介して液体が回収される。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその内部に、前記回収口に接続される回収流路を有する。
【請求項２３】
請求項２１又は２２に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に形成される凹部に前記回収口が設けられる。
【請求項２４】
請求項２３に記載の露光装置において、
前記凹部は、前記液浸部材の下面側で環状に形成される。
【請求項２５】
請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に、前記エネルギビームが通過する開口部を有し、前記回収口は、前記開口部の周囲に配置される。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記回収口が環状に設けられる。
【請求項２７】
請求項２１〜２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項２８】
請求項２１〜２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に供給口を有し、前記液浸部材と、前記第１テーブル又は前記第２テーブルによって前記液浸部材と対向して配置される前記基板との間に、前記供給口を介して液体が供給される。
【請求項２９】
請求項２８に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその内部に、前記供給口に接続される供給流路を有する。
【請求項３０】
請求項２８又は２９に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に、前記エネルギビームが通過する開口部を有し、前記供給口は、前記開口部の周囲に配置される。
【請求項３１】
請求項３０に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記供給口が環状に設けられる。
【請求項３２】
請求項２８〜３１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部と前記回収口との間に配置される。
【請求項３３】
請求項２８〜３１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に配置される。
【請求項３４】
請求項３３に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記開口部に対して前記供給口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項３５】
請求項１〜３４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面が、前記液体と接する前記投影光学系の光学部材の射出面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項３６】
請求項１〜３５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材は、前記エネルギビームの照射領域を囲む環状部材である。
【請求項３７】
請求項１〜３６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材は、前記液体と接する前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられる。
【請求項３８】
請求項１〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材は、その内部に前記液体と接する前記投影光学系の光学部材が位置するように設けられる。
【請求項３９】
請求項１〜３８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が形成されるように、前記液浸部材によって、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板よりも小さい局所領域内で前記液体を保持する。
【請求項４０】
請求項１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において前記液体の供給と回収とを常時行う。
【請求項４１】
請求項１〜４０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記基板の載置領域と、一部に形成される開口内に前記載置領域が位置するように設けられる補助部材と、を有し、前記開口内で前記基板が前記載置領域に載置される。
【請求項４２】
請求項４１に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項４３】
請求項４１又は４２に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項４４】
請求項４１〜４３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材との隙間が３ｍｍ以下となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項４５】
請求項４１〜４４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、その表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項４６】
請求項４１〜４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記補助部材は、前記開口を含む複数の開口が形成され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記開口と異なる開口内に配置される基準部材を有し、
前記投影光学系を介して前記基準部材を用いる計測が行われる。
【請求項４７】
請求項４６に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記基板の露光で用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項４８】
請求項４６又は４７に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記マーク検出系によって前記基板のマーク及び前記基準部材の検出が行われる。
【請求項４９】
請求項４６〜４８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように設けられる。
【請求項５０】
請求項４１〜４９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材が相対移動可能に設けられる。
【請求項５１】
請求項１〜５０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、かつ前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項５２】
請求項１〜５１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルの位置情報を計測するエンコーダを含む位置計測装置を、さらに備える。
【請求項５３】
請求項５２に記載の露光装置において、
前記エンコーダは、前記第１、第２テーブルの裏面に設けられるスケールを使って位置情報を計測する。
【請求項５４】
請求項１〜５３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルと異なる、基板を載置する第３テーブルを、さらに備え、
前記第１、第２及び第３テーブルを用いて前記基板の露光処理シーケンスを実行する。
【請求項５５】
請求項５４に記載の露光装置において、
前記第１、第２及び第３テーブルでは異なる動作が並行して実行される。
【請求項５６】
請求項１〜５３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを、さらに備え、
前記第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作を実行する。
【請求項５７】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ下面側に対向して配置される液浸部材を介して供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記載置した基板の一部に位置するように、前記第１、第２テーブルの一方を前記投影光学系の下方に配置することと、
前記投影光学系と前記載置した基板の一部との間に維持される前記液浸領域に対して前記載置した基板が相対移動するように、前記投影光学系の下方に配置される前記一方のテーブルを移動することと、
前記液浸部材と、前記液浸領域が一部に位置する前記載置した基板との間に、前記液浸部材の下面側に設けられる供給口を介して液体を供給することと、を含み、
前記載置した基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように前記投影光学系の下方に配置される。
【請求項５８】
請求項５７に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部の周囲に配置される前記供給口を介して液体が供給される。
【請求項５９】
請求項５８に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側で環状に設けられる前記供給口を介して液体が供給される。
【請求項６０】
請求項５７〜５９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその内部に、前記供給口に接続される供給流路を有する。
【請求項６１】
請求項５７〜６０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側に設けられる回収口を介して液体が回収される。
【請求項６２】
請求項６１に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその内部に、前記回収口に接続される回収流路を有する。
【請求項６３】
請求項６１又は６２に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側に形成される凹部に前記回収口が設けられる。
【請求項６４】
請求項６３に記載の露光方法において、
前記凹部は、前記液浸部材の下面側で環状に形成される。
【請求項６５】
請求項６１〜６４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部の周囲に配置される前記回収口を介して液体が回収される。
【請求項６６】
請求項６５に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側で環状に設けられる前記回収口を介して液体が回収される。
【請求項６７】
請求項６１〜６６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項６８】
請求項６１〜６７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部と前記回収口との間に配置される。
【請求項６９】
請求項６１〜６７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に配置される。
【請求項７０】
請求項６９に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側で、前記開口部に対して前記供給口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項７１】
請求項５７〜７０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材と、前記第１テーブル又は前記第２テーブルによって前記液浸部材の下面と対向して配置される前記基板との間隔が計測される。
【請求項７２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ下面側に対向して配置される液浸部材を介して供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記載置した基板の一部に位置するように、前記第１、第２テーブルの一方を前記投影光学系の下方に配置することと、
前記投影光学系と前記載置した基板の一部との間に維持される前記液浸領域に対して前記載置した基板が相対移動するように、前記投影光学系の下方に配置される前記一方のテーブルを移動することと、
前記液浸部材と、前記第１テーブル又は前記第２テーブルによって前記液浸部材に対してその下面側に対向して配置される前記基板との間隔を計測することと、を含み、
前記載置した基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように前記投影光学系の下方に配置される。
【請求項７３】
請求項７１又は７２に記載の露光方法において、
前記計測の結果に基づいて前記間隔が調整される。
【請求項７４】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ下面側に対向して配置される液浸部材を介して供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記載置した基板の一部に位置するように、前記第１、第２テーブルの一方を前記投影光学系の下方に配置することと、
前記投影光学系と前記載置した基板の一部との間に維持される前記液浸領域に対して前記載置した基板が相対移動するように、前記投影光学系の下方に配置される前記一方のテーブルを移動することと、
前記液浸部材と、前記第１テーブル又は前記第２テーブルによって前記液浸部材に対してその下面側に対向して配置される前記基板との間隔を調整することと、を含み、
前記載置した基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように前記投影光学系の下方に配置される。
【請求項７５】
請求項７３又は７４に記載の露光方法において、
前記間隔は実質的に一定となるように調整される。
【請求項７６】
請求項５７〜７５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材は、前記投影光学系に対して相対移動する。
【請求項７７】
請求項７２又は７４に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側に設けられる回収口を介して液体が回収される。
【請求項７８】
請求項７７に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその内部に、前記回収口に接続される回収流路を有する。
【請求項７９】
請求項７７又は７８に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側に形成される凹部に前記回収口が設けられる。
【請求項８０】
請求項７９に記載の露光方法において、
前記凹部は、前記液浸部材の下面側で環状に形成される。
【請求項８１】
請求項７７〜８０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部の周囲に配置される前記回収口を介して液体が回収される。
【請求項８２】
請求項８１に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側で、前記回収口が環状に設けられる。
【請求項８３】
請求項７７〜８２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項８４】
請求項７７〜８３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材と、前記第１テーブル又は前記第２テーブルによって前記液浸部材に対してその下面側に対向して配置される前記基板との間に、前記液浸部材の下面側に設けられる供給口を介して液体が供給される。
【請求項８５】
請求項８４に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその内部に、前記供給口に接続される供給流路を有する。
【請求項８６】
請求項８４又は８５に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部の周囲に配置される前記供給口を介して液体が供給される。
【請求項８７】
請求項８６に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側で環状に設けられる前記供給口を介して液体が供給される。
【請求項８８】
請求項８４〜８７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部と前記回収口との間に配置される。
【請求項８９】
請求項８４〜８７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に配置される。
【請求項９０】
請求項８９に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側で、前記開口部に対して前記供給口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項９１】
請求項５７〜９０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面が、前記液体と接する前記投影光学系の光学部材の射出面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項９２】
請求項５７〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材は、前記エネルギビームの照射領域を囲む環状部材である。
【請求項９３】
請求項５７〜９２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材は、前記液体と接する前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられる。
【請求項９４】
請求項５７〜９３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材は、その内部に前記液体と接する前記投影光学系の光学部材が位置するように設けられる。
【請求項９５】
請求項５７〜９４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下に前記液浸領域が形成されるように、前記液浸部材によって、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板よりも小さい局所領域内で前記液体を保持する。
【請求項９６】
請求項５７〜９５のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において前記液体の供給と回収とが常時行われる。
【請求項９７】
請求項５７〜９６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、一部に形成される開口内に前記基板の載置領域が位置するように補助部材が設けられ、前記補助部材の開口内で前記基板が前記載置領域に載置される。
【請求項９８】
請求項９７に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方に配置される前記第１テーブル又は前記第２テーブルでは、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部が保持される。
【請求項９９】
請求項９７又は９８に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方に配置される前記第１テーブル又は前記第２テーブルでは、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との少なくとも一方によって前記液浸領域が前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１００】
請求項９７〜９９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材との隙間が３ｍｍ以下となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１０１】
請求項９７〜１００のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、その表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１０２】
請求項９７〜１０１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系を介して、前記開口と異なる、前記補助部材の開口内に配置される基準部材を用いる計測が行われる。
【請求項１０３】
請求項１０２に記載の露光方法において、
前記基準部材は、前記基板の露光で用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項１０４】
請求項１０２又は１０３に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、マーク検出系によって前記基板のマーク及び前記基準部材の検出が行われる。
【請求項１０５】
請求項１０２〜１０４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように設けられる。
【請求項１０６】
請求項９７〜１０５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材が相対移動可能に設けられる。
【請求項１０７】
請求項５７〜１０６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、かつ前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項１０８】
請求項５７〜１０７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記露光においてエンコーダによって位置情報が計測される。
【請求項１０９】
請求項１０８に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる計測では、前記第１、第２テーブルの裏面に設けられるスケールが用いられる。
【請求項１１０】
請求項５７〜１０９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルに基板が載置され、前記第１、第２及び第３テーブルを用いて前記基板の露光処理シーケンスが実行される。
【請求項１１１】
請求項１１０に記載の露光方法において、
前記第１、第２及び第３テーブルでは異なる動作が並行して実行される。
【請求項１１２】
請求項５７〜１０９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作が実行される。
【請求項１１３】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜５６のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１１４】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項５７〜１１２のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。