【手続補正書】
【提出日】平成25年2月22日(2013.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体微粒子を長尺シート状の箔基材に噴射して固体材料の膜を形成する微粒子噴射成膜システムであって、
前記固体微粒子を噴射口から気体とともに噴射する噴射装置と、
前記箔基材を前記噴射口の前方に供給し前記固体微粒子の噴射領域を横切って移動させる搬送装置と、
前記噴射口の前方に位置した箔基材を挟んで前記噴射口と対向する位置に設けられ、前記搬送装置により搬送される前記箔基材の裏面を支持する裏面支持装置と、
前記固体材料の膜の膜厚を検出する膜厚検出センサとを備え、
前記膜厚検出センサにより検出された前記固体材料の膜の膜厚に応じて、前記搬送装置による前記箔基材の搬送速度または前記噴射装置による前記固体微粒子の噴射量が制御されるように構成されたことを特徴とする微粒子噴射成膜システム。
【請求項２】
前記噴射口の周囲に、前記噴射領域を覆い前記噴射口から噴射されたが前記箔基材に固着されずに漂う前記固体微粒子を吸引して回収する吸引回収手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項３】
前記裏面支持装置は、前記噴射装置とともに基台に設置されたベース部材と、前記噴射口に対向して前記ベース部材に設けられ前記噴射領域において前記箔基材の裏面を支持する支持部材とを備え、
前記支持部材は、前記搬送装置により搬送される前記箔基材の裏面を接触支持する支持面を有するとともに、前記箔基材が前記支持面から離間することなく相対摺動可能に前記箔基材の裏面を吸引する吸引手段を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項４】
前記支持部材は、前記支持面にフッ素樹脂加工が施された多孔質材料により形成されることを特徴とする請求項３に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項５】
前記固体材料の膜が形成された箔基材を、当該箔基材の搬送方向と直交する幅方向に切断する切断装置を備えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項６】
前記切断装置は、前記箔基材を切断する切断部が、前記箔基材の搬送方向および前記幅方向に移動可能に構成され、
前記切断部が、前記搬送装置により搬送される前記箔基材の移動に応じて前記箔基材の搬送方向に移動しながら前記幅方向に移動して前記箔基材を切断するように構成したことを特徴とする請求項５に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項７】
前記裏面支持装置は、前記噴射装置とともに基台に設置されたベース部材と、前記噴射口に対向して前記ベース部材に移動可能に設けられ前記噴射領域において前記箔基材の裏面を支持する支持部材とを備え、
前記支持部材は、前記箔基材の裏面を接触支持する部分が、前記搬送装置により搬送される前記箔基材と同一速度で移動し、前記接触支持する部分と前記箔基材とが搬送方向に相対滑りを生じることなく前記箔基材を支持するように構成したことを特徴とする請求項１または２に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項８】
前記支持部材は、外周に前記箔基材の裏面を支持する円筒状の支持面を有して前記噴射口に対向する位置に設けられ、前記箔基板の幅方向に延びる中心軸周りに回転駆動される支持ローラからなり、
前記噴射口に対向し前記箔基材の裏面を接触支持する部分の周速が前記搬送装置により搬送される前記箔基材の移動速度と同一となるように、前記支持ローラの回転速度が設定されることを特徴とする請求項７に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項９】
前記支持部材は、前記ベース部材に設けられた駆動プーリと従動プーリとの間に巻き掛けられて回転駆動される無端ベルト状の支持ベルトからなり、
前記駆動プーリ及び前記従動プーリの間に位置する前記支持ベルトの外周に前記箔基材の裏面を支持する支持面が形成されて前記噴射口に対向する位置に配設され、
前記駆動プーリ及び前記従動プーリ間における前記支持ベルトの移動速度が前記搬送装置により搬送される前記箔基材の移動速度と同一となるように前記駆動プーリの回転速度が設定されることを特徴とする請求項７に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項１０】
前記支持ベルトの内周側に、前記噴射領域の背後において前記支持ベルトを支持するバックサポート部材を設けたことを特徴とする請求項９に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項１１】
前記搬送装置は、外周に前記箔基材に押圧される円筒状の押圧面を有し、前記噴射口よりも前記箔基材の移動方向前方に位置する前記箔基材の表面側と裏面側とに対向して設けられ、前記箔基材の幅方向に延びる中心軸周りに回転される搬送ローラを備え、
前記箔基材の表裏を前記押圧面により挟み込んで前記搬送ローラを回転させることにより、前記箔基材が伸展された状態で前記噴射領域を移動するように構成したことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の微粒子噴射成膜システム。
【請求項１２】
噴射装置の噴射口から固体微粒子を気体とともに噴射し、搬送装置により長尺シート状の箔基材を前記噴射口の前方における前記固体微粒子の噴射領域を横切って移動させて、前記箔基材の表面に固体材料の膜を連続形成する箔基材連続成膜方法であって、
前記固体材料の膜の膜厚を検出する膜厚検出センサの出力に基づいて、前記固体材料の膜の平均膜厚が所定の範囲内になるように、前記固体微粒子の噴射量または前記箔基材の搬送速度を制御することを特徴とする箔基材連続成膜方法。
【請求項１３】
前記噴射口の周囲に設けられた吸引回収手段により、前記噴射口から噴射されたが前記箔基材に固着されずに漂う前記固体微粒子を吸引しつつ、前記固体材料の膜を連続形成することを特徴とする請求項１２に記載の箔基材連続成膜方法。
【請求項１４】
前記箔部材の裏面を前記箔部材と同一速度で移動する支持部材により接触支持し、裏面が前記支持部材に相対滑りなく支持された状態で移動される前記箔部材の表面側に、前記固体微粒子を噴射して前記固体材料の膜を連続形成することを特徴とする請求項１２または１３に記載の箔基材連続成膜方法。
【請求項１５】
前記箔部材の裏面を前記箔部材と相対摺動可能な支持部材により接触支持し、裏面が前記支持部材に吸引されて該支持部材から離間することなく摺動移動される前記箔基材の表面側に、前記固体微粒子を噴射して前記固体材料の膜を連続形成することを特徴とする請求項１２または１３に記載の箔基材連続成膜方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】微粒子噴射成膜システム及び箔基材連続成膜方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、第１の本発明は、箔基材連続成膜の微粒子噴射成膜システムである。この微粒子噴射成膜システムは、固体微粒子を長尺シート状の箔基材に噴射して固体材料の膜を形成する微粒子噴射成膜システムであって、前記固体微粒子を噴射口から気体とともに噴射する噴射装置と、前記箔基材を前記噴射口の前方に供給し前記固体微粒子の噴射領域を横切って移動させる搬送装置と、前記噴射口の前方に位置した箔基材を挟んで前記噴射口と対向する位置に設けられ、前記搬送装置により搬送される前記箔基材の裏面を支持する裏面支持装置と、前記固体材料の膜の膜厚を検出する膜厚検出センサとを備え、前記膜厚検出センサにより検出された前記固体材料の膜の膜厚に応じて、前記搬送装置による前記箔基材の搬送速度または前記噴射装置による前記固体微粒子の噴射量が制御されるように構成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
なお、前記裏面支持装置は、噴射装置とともに基台に設置されたベース部材と、噴射口に対向してベース部材に移動可能に設けられ噴射領域において箔基材の裏面を支持する支持部材（例えば、実施形態における支持ローラ２３５、支持ベルト３３５）とを備え、この支持部材は、箔基材の裏面を接触支持する部分（例えば、実施形態における支持部２３５ｐ、支持面２３５ｓ）が、搬送装置により搬送される箔基材と同一速度で移動し、接触支持する部分と箔基材とが搬送方向に相対滑りを生じることなく箔基材を支持するように構成されてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
あるいは、前記裏面支持装置は、前記噴射装置とともに基台に設置されたベース部材と、噴射口に対向してベース部材に設けられ前記噴射領域において箔基材の裏面を支持する支持部材とを備え、この支持部材は、搬送装置により搬送される箔基材の裏面を接触支持する支持面を有するとともに、箔基材が支持面から離間することなく相対摺動可能に箔基材の裏面を吸引する吸引手段（例えば、実施形態におけるポーラス部材１３５ｂ、排気路、吸引回収装置７０）を備え、搬送装置により搬送される箔基材が、噴射領域において吸引手段により支持面に接触支持された状態で摺動移動されるように構成されてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、第２の本発明は、噴射装置の噴射口から固体微粒子を気体とともに噴射し、搬送装置により長尺シート状の箔基材を前記噴射口の前方における前記固体微粒子の噴射領域を横切って移動させて、前記箔基材の表面に固体材料の膜を連続形成する箔基材連続成膜方法であって、前記固体材料の膜の膜厚を検出する膜厚検出センサの出力に基づいて、前記固体材料の膜の平均膜厚が所定の範囲内になるように、前記固体微粒子の噴射量または前記箔基材の搬送速度を制御するようになっている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
なお、箔基材の裏面を支持する裏面支持装置として、前記噴射装置とともに基台に設置されたベース部材と、噴射口に対向してベース部材に移動可能に設けられ前記噴射領域において箔基材の裏面を支持する支持部材（例えば、実施形態における支持ローラ２３５、支持ベルト３３５）とを備え、この支持部材は、箔基材の裏面を接触支持する部分（例えば、実施形態における支持部２３５ｐ、支持面２３５ｓ）が、搬送装置により搬送される前記箔基材と同一速度で移動し、前記接触支持する部分と箔基材とが搬送方向に相対滑りを生じることなく箔基材を支持するように構成され、裏面が前記接触支持する部分に相対滑りなく支持された状態で移動される箔基材の表面側に噴射口から噴射された固体微粒子が衝突し固着して固体材料の膜が連続形成されるように構成されてもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
あるいは、前記裏面支持装置として、前記噴射装置とともに基台に設置されたベース部材と、噴射口に対向してベース部材に設けられ前記噴射領域において箔基材の裏面を支持する支持部材とを備え、この支持部材は、搬送装置により搬送される箔基材の裏面を接触支持する支持面を有するとともに、箔基材が支持面から離間することなく相対摺動可能に箔基材の裏面を吸引するように構成され、裏面が吸引されて支持面から離間することなく接触支持された状態で摺動移動される箔基材の表面側に噴射口から噴射された固体微粒子が衝突し固着して固体材料の膜が連続形成されるように構成されてもよい。