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【手続補正書】
【提出日】平成25年7月10日(2013.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ギャップを介して対向する２つの反射膜を備え、
前記反射膜は、
銀（Ａｇ）、及び金（Ａｕ）を含有するＡｇ−Ａｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ａｕ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、ケイ素（Ｓｉ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｓｉ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、リン（Ｐ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｐ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、リン（Ｐ）、インジウム（Ｉｎ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｐ−Ｉｎ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、テルル（Ｔｅ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｔｅ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、ガリウム（Ｇａ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｇａ−Ｃｕ合金膜、及び
銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、及びスズ（Ｓｎ）を含有するＡｇ−Ｉｎ−Ｓｎ合金膜、
のいずれかを含む
ことを特徴とする干渉フィルター。
【請求項２】
請求項１に記載の干渉フィルターにおいて、
前記反射膜の厚さは、３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である
ことを特徴とする干渉フィルター。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の干渉フィルターにおいて、
前記Ａｇ−Ａｕ合金膜は、Ａｕ含有量が０．１原子％以上１０原子％以下であり、
前記Ａｇ−Ｃｕ合金膜は、Ｃｕ含有量が０．１原子％以上１０原子％以下であり、
前記Ａｇ−Ａｕ−Ｃｕ合金膜は、Ａｕ含有量が０．１原子％以上であり、Ｃｕ含有量が０．１原子％以上であり、かつ、Ａｕ及びＣｕの合計含有量が１０原子％以下であり、
前記Ａｇ−Ｓｉ−Ｃｕ合金膜は、Ｓｉ含有量が０．１原子％以上であり、Ｃｕ含有量が０．１原子％以上であり、かつ、Ｓｉ及びＣｕの合計含有量が１０原子％以下であり、
前記Ａｇ−Ｐ−Ｃｕ合金膜は、Ｐ含有量が０．１原子％以上であり、Ｃｕ含有量が０．１原子％以上であり、かつ、Ｐ及びＣｕの合計含有量が１０原子％以下であり、
前記Ａｇ−Ｐ−Ｉｎ−Ｃｕ合金膜は、Ｐ含有量が０．１原子％以上であり、Ｉｎ含有量が０．１原子％以上であり、Ｃｕ含有量が０．１原子％以上であり、かつ、Ｐ、Ｉｎ及びＣｕの合計含有量が１０原子％以下であり、
前記Ａｇ−Ｔｅ−Ｃｕ合金膜は、Ｔｅ含有量が０．１原子％以上であり、Ｃｕ含有量が０．１原子％以上であり、かつ、Ｔｅ及びＣｕの合計含有量が１０原子％以下であり、
前記Ａｇ−Ｇａ−Ｃｕ合金膜は、Ｇａ含有量が０．１原子％以上であり、Ｃｕ含有量が０．１原子％以上であり、かつ、Ｇａ及びＣｕの合計含有量が１０原子％以下であり、
前記Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎは、Ｉｎ含有量が０．１原子％以上であり、Ｓｎ含有量が０．１原子％以上であり、かつ、Ｉｎ及びＳｎの合計含有量が１０原子％以下である
ことを特徴とする干渉フィルター。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の干渉フィルターにおいて、
前記反射膜は、単層膜である
ことを特徴とする干渉フィルター。
【請求項５】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の干渉フィルターにおいて、
前記反射膜を支持する基板を備え、
前記反射膜は、誘電体膜、及び前記合金膜を含み、
前記基板に対して、前記基板側から順に前記誘電体膜、及び前記合金膜が設けられ、
前記誘電体膜は、
酸化チタン（ＴｉＯ２）の単層膜、又は
酸化チタン（ＴｉＯ２）もしくは五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）の層と酸化ケイ素（ＳｉＯ２）もしくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）の層とを積層させた多層膜である
ことを特徴とする干渉フィルター。
【請求項６】
請求項５に記載の干渉フィルターにおいて、
前記反射膜は、前記誘電体膜、前記合金膜、及び保護膜を含み、
前記基板に対して、前記基板側から順に前記誘電体膜、前記合金膜、及び前記保護膜が設けられ、
前記保護膜は、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、もしくはアルミナを含む
ことを特徴とする干渉フィルター。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載の干渉フィルターと、
この干渉フィルターにより取り出される光の光量を検出する検出部と、を備えた
ことを特徴とする光モジュール。
【請求項８】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載の干渉フィルターと、
この干渉フィルターにより取り出される光の光量を検出する検出部と、
前記検出部により検出された光の光量に基づいて、光分析処理を実施する処理部と、
を備えた
ことを特徴とする分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の干渉フィルターは、ギャップを介して対向する２つの反射膜を備え、前記反射膜は、
銀（Ａｇ）、及び金（Ａｕ）を含有するＡｇ−Ａｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ａｕ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、ケイ素（Ｓｉ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｓｉ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、リン（Ｐ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｐ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、リン（Ｐ）、インジウム（Ｉｎ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｐ−Ｉｎ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、テルル（Ｔｅ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｔｅ−Ｃｕ合金膜、
銀（Ａｇ）、ガリウム（Ｇａ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｇａ−Ｃｕ合金膜、及び
銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、及びスズ（Ｓｎ）を含有するＡｇ−Ｉｎ−Ｓｎ合金膜、
のいずれかを含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明において、前記反射膜は、単層膜であることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この発明によれば、反射膜は、単層膜なので、反射膜は、可視光波長範囲の内、広い波長域で高い反射率を示す。なお、本発明において、可視光波長範囲は、４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の分析装置は、上記干渉フィルターと、この干渉フィルターにより取り出される光の光量を検出する検出部と、前記検出部により検出された光の光量に基づいて、光分析処理を実施する処理部と、備えたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ここで、分析装置としては、上記干渉フィルターおよび検出部により検出された光の光量に基づいて、干渉フィルターに入射した光の色度や明るさなどを分析する光測定器、ガスの吸収波長を検出してガスの種類を検査するガス検出装置、受光した光からその波長の光に含まれるデータを取得する光通信装置などを例示することができる。
この発明によれば、上述したように、上記干渉フィルターおよび検出部により、所望波長の光の正確な光量を検出できるため、分析装置では、このような正確な光量に基づいて、正確な分析処理を実施できる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月24日(2013.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱部材と、弾性層を有する加圧ローラであって、前記加熱部材と接触してニップ部を形成する加圧ローラと、を有し、前記ニップ部でトナー画像を担持する記録材を挟持搬送しつつトナー画像を加熱する像加熱装置において、
前記加圧ローラの前記弾性層は、熱伝導フィラーを含有する熱硬化シリコーンゴムを有し、前記熱硬化シリコーンゴムは、樹脂マイクロバルーンにより形成された空隙部と、前記空隙部を連結している孔道部と、を有し、前記弾性層の熱伝導率が０．１５Ｗ／ｍＫ〜０．５Ｗ／ｍＫであることを特徴とする像加熱装置。
【請求項２】
前記加圧ローラの前記弾性層のゴム硬度は、アスカーＣで１５度〜５０度であることを特徴とする請求項１に記載の像加熱装置。
【請求項３】
前記加圧ローラの前記熱伝導フィラーは、金属珪素、アルミナ、酸化亜鉛、シリカ、酸化マグネシウム、炭化珪素、グラファイトのうち少なくとも一つから選ばれることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の像加熱装置。
【請求項４】
前記加圧ローラの前記熱伝導フィラーの平均粒子径は２〜５０μｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の像加熱装置。
【請求項５】
前記加圧ローラの前記樹脂マイクロバルーンによる前記空隙部の密度と、前記熱伝導フィラーの添加量が、前記加圧ローラの径方向における表面側の弾性層部分と中心側の弾性層部分とで異なっていることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の像加熱装置。
【請求項６】
像加熱装置に用いられる加圧ローラであって、弾性層を有する加圧ローラにおいて、
前記弾性層は、熱伝導フィラーを含有する熱硬化シリコーンゴムを有し、前記熱硬化シリコーンゴムは、樹脂マイクロバルーンにより形成された空隙部と、前記空隙部を連結している孔道部と、を有し、前記弾性層の熱伝導率が０．１５Ｗ／ｍＫ〜０．５Ｗ／ｍＫであることを特徴とする加圧ローラ。
【請求項７】
前記弾性層のゴム硬度は、アスカーＣで１５度〜５０度であることを特徴とする請求項６に記載の加圧ローラ。
【請求項８】
前記熱伝導フィラーは、金属珪素、アルミナ、酸化亜鉛、シリカ、酸化マグネシウム、炭化珪素、グラファイトのうち少なくとも一つから選ばれることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の加圧ローラ。
【請求項９】
前記熱伝導フィラーの平均粒子径は２〜５０μｍであることを特徴とする請求項６乃至請求項８の何れか一項に記載の加圧ローラ。
【請求項１０】
前記樹脂マイクロバルーンによる前記空隙部の密度と、前記熱伝導フィラーの添加量が、前記加圧ローラの径方向における表面側の弾性層部分と中心側の弾性層部分とで異なっていることを特徴とする請求項６乃至請求項９の何れか一項に記載の加圧ローラ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月22日(2013.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジョブを実行することによってシートに画像を形成する画像形成装置であって、
実行中のジョブを中断した状態で割込みジョブを実行する実行手段と、
前記割込みジョブを実行する場合に、前記実行中のジョブのために行われたシートの給紙予約を解除する解除手段と、
前記解除手段によって前記シートの給紙予約を解除した後に、前記割込みジョブを実行するよう制御する制御手段とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記解除手段は、前記実行中のジョブのために行われたシートの給紙予約を、最後に行われた給紙予約から順に解除することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記解除手段によって解除された給紙予約を記憶する記憶手段と、
前記割込みジョブを実行した後、前記記憶手段に記憶された給紙予約に従って前記中断されたジョブを再開することを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記解除手段は、前記割込みジョブを実行する場合に、前記実行中のジョブが綴じ処理を行うべきジョブでなければ、前記実行中のジョブのために行われたシートの給紙予約を解除し、前記実行中のジョブが綴じ処理を行うべきジョブであれば、前記実行中のジョブのために行われたシートの給紙予約を解除しないことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記解除手段は、前記実行中のジョブが綴じ処理を行うべきジョブであれば、前記実行中のジョブのために行われたシートの給紙予約のうち、前記綴じ処理によって綴じられるべきシートの束に含まれる最後のシートの次のシートの給紙予約を解除することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
ジョブを実行することによってシートに画像を形成する画像形成装置の制御方法であって、
実行中のジョブを中断した状態で割込みジョブを実行する実行工程と、
前記割込みジョブを実行する場合に、前記実行中のジョブのために行われたシートの給紙予約を解除する解除工程と、
前記解除工程で前記シートの給紙予約を解除した後に、前記割込みジョブを実行するよう制御する制御工程とを備えることを特徴とする画像形成装置の制御方法。
【請求項７】
請求項６に記載された画像形成装置の制御方法を、コンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項８】
ジョブを実行することによってシートに画像を形成する画像形成装置であって、
実行中のジョブを中断した状態で割込みジョブを実行する実行手段と、
前記実行手段によって割込みジョブを実行する場合に、前記実行中のジョブのために給紙予約されたシートに先立って、前記割込みジョブを実行することによって印刷されるシートを給紙するよう制御する制御手段とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月13日(2013.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本開示の光源装置は、投写型表示装置に用いられる光源であって、レーザーと、レーザーからの光を受けて蛍光を発する蛍光体層を有する蛍光基板と、蛍光が蛍光基板から出射する側に設けられ、入射した光の入射角に応じて屈折光と反射光とに分離するプリズム面を有するプリズムアレイと、を備える。このプリズムアレイは、プリズム面と蛍光基板との間の多重反射により、蛍光の指向性を高めることを要旨とする。上記構成の光源装置は、固体光源により蛍光を発した光が、高い指向性をもつため、出射光束の立体角を小さくでき、高効率な光源が構成できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の光源装置において、プリズムアレイは、複数の四角錐プリズムを有しており、蛍光基板と対向する入射面側が四角錐の底面となるよう、複数の四角錐プリズムが配置されるとよい。すなわち、プリズムアレイは、平面側を入射面、プリズム面側を出射面とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本開示の投写型表示装置は、光源部と、映像信号に応じて画像を形成する画像形成部と、光源装置からの光を集光して画像形成部を照明する照明部と、画像形成部で形成された画像を拡大投写する投写部と、を備え、この光源部に上記の光源装置を用いることを要旨とする。上記の光源装置を用いるため、長寿命で、光利用効率が高く、明るい投写型表示装置が構成できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザーと、
前記レーザーからの光を受けて蛍光を発する蛍光体層を有する蛍光基板と、
前記蛍光が前記蛍光基板から出射する側に設けられ、入射した光の入射角に応じて屈折光と反射光とに分離するプリズム面を有するプリズムアレイと、を備える光源装置であって、
前記プリズムアレイは、前記プリズム面と前記蛍光基板との間の多重反射により、前記蛍光の指向性を高めることを特徴とする光源装置。
【請求項２】
請求項１記載の光源装置において、
前記プリズムアレイは、
複数の四角錐プリズムを有しており、
前記蛍光基板と対向する入射面側が四角錐の底面となるよう、前記複数の四角錐プリズムが配置されることを特徴とする光源装置。
【請求項３】
光源部と、映像信号に応じて画像を形成する画像形成部と、前記光源装置からの光を集光して前記画像形成部を照明する照明部と、前記画像形成部で形成された画像を拡大投写する投写部と、を備える投写型表示装置において、
前記光源部に請求項１または２記載の光源装置を用いることを特徴とする投写型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月17日(2013.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を検出する光電変換部が形成された第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する複数の半導体基板と、
前記複数の半導体基板の前記第１面の上に配置され、放射線を光に変換するシンチレータ層と、
基台の上に配置され、前記複数の半導体基板の前記第１面が同一平面内に位置するように前記複数の半導体基板の前記第２面を支持する部材と、
を備え、
前記部材の単体での測定における立方体の被検査物は、前記第１面に直交する方向に圧縮した場合の前記第１面に平行な方向への伸び量が、前記第１面に平行な方向に圧縮した場合の前記第１面に直交する方向への伸び量よりも小さいことを特徴とする放射線検出装置。
【請求項２】
光を検出する光電変換部が形成された第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する複数の半導体基板と、
前記複数の半導体基板の前記第１面の上に配置され、放射線を光に変換するシンチレータ層と、
基台の上に配置され、前記複数の半導体基板の前記第１面が同一平面内に位置するように前記複数の半導体基板の前記第２面を支持する部材と、
を備え、
前記部材は、前記第１面に平行な方向への伸び量が、前記第１面に直交する方向への伸び量よりも小さいことを特徴とする放射線検出装置。
【請求項３】
光を検出する光電変換部が形成された第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する複数の半導体基板と、
前記複数の半導体基板の前記第１面の上に配置され、放射線を光に変換するシンチレータ層と、
基台の上に配置され、前記複数の半導体基板の前記第１面が同一平面内に位置するように前記複数の半導体基板の前記第２面を支持する部材と、
を備え、
前記部材は、前記第１面に平行な方向における伸縮率が前記第１面に直交する方向における伸縮率よりも低いことを特徴とする放射線検出装置。
【請求項４】
前記部材は、不織布、化学繊維、及び格子状のワイヤの少なくともいずれかで形成された基材を含むことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項５】
前記部材は、前記複数の半導体基板を前記基材に接着する加熱剥離型粘着層をさらに有することを特徴とする請求項４に記載の放射線検出装置。
【請求項６】
前記部材は、前記基材を前記基台に接着する粘着層をさらに有することを特徴とする請求項４又は５に記載の放射線検出装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の放射線検出装置と、
前記放射線検出装置からの信号を処理する信号処理手段と、
を備えることを特徴とする放射線撮像システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題に鑑みて、本発明の一つの側面に係る放射線検出装置は、光を検出する光電変換部が形成された第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する複数の半導体基板と、前記複数の半導体基板の前記第１面の上に配置され、放射線を光に変換するシンチレータ層と、基台の上に配置され、前記複数の半導体基板の前記第１面が同一平面内に位置するように前記複数の半導体基板の前記第２面を支持する部材と、を備え、前記部材の単体での測定における立方体の被検査物は、前記第１面に直交する方向に圧縮した場合の前記第１面に平行な方向への伸び量が、前記第１面に平行な方向に圧縮した場合の前記第１面に直交する方向への伸び量よりも小さいことを特徴とする。
本発明の別の側面に係る放射線検出装置は、光を検出する光電変換部が形成された第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する複数の半導体基板と、前記複数の半導体基板の前記第１面の上に配置され、放射線を光に変換するシンチレータ層と、基台の上に配置され、前記複数の半導体基板の前記第１面が同一平面内に位置するように前記複数の半導体基板の前記第２面を支持する部材と、を備え、前記部材は、前記第１面に平行な方向への伸び量が、前記第１面に直交する方向への伸び量よりも小さいことを特徴とする。
本発明の更に別の側面に係る放射線検出装置は、光を検出する光電変換部が形成された第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する複数の半導体基板と、前記複数の半導体基板の前記第１面の上に配置され、放射線を光に変換するシンチレータ層と、基台の上に配置され、前記複数の半導体基板の前記第１面が同一平面内に位置するように前記複数の半導体基板の前記第２面を支持する部材と、を備え、前記部材は、前記第１面に平行な方向における伸縮率が前記第１面に直交する方向における伸縮率よりも低いことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月11日(2013.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体を自動で操作するための自動システム（１）の１または２以上の再利用可能な流体マニピュレータ（３）を洗浄する洗浄ステーション（１０）であって、
１または２以上の洗浄域（３３）を有し、そのそれぞれが少なくとも１つの流体マニピュレータ（３）の少なくとも一部分（９）が入る大きさである、前記１または２以上の流体マニピュレータ（３）を挿入するためのキャビティ（１４）と、
流体噴流（３２）を生成するためにノズル（３０）を介して洗浄液を送り込むための第１の流体ポンプに接続する少なくとも１つのノズル（３０）と、洗浄域（３３）に向かって流体噴流（３２）を偏向するよう位置付けられ、洗浄域（３３）にある少なくとも１つの流体マニピュレータ（３）の外部を洗浄するように流体噴流（３２）が広がるよう形成された少なくとも１つの偏向板表面（３１）とを含む少なくとも１つの洗浄要素（１８）に連結した各洗浄域（３３）
を含む洗浄ステーション。
【請求項２】
少なくとも１つの洗浄要素（１８）が前記ノズル（３０）を介して乾燥用流体を送り込むための第２の流体ポンプに接続され、洗浄域（３３）に向かって乾燥用流体の流体噴流を生成する請求項１記載の洗浄ステーション（１０）。
【請求項３】
キャビティ（１４）が１または２以上の乾燥域を含み、そのそれぞれが少なくとも１つの流体マニピュレーター（３）の少なくとも一部（９）が入る大きさであり、乾燥域に向かって乾燥用流体の流体噴流を生成するため、各乾燥域がノズルを介して乾燥用流体を送り込む第２の流体ポンプに接続される少なくとも１つのノズルを含む少なくとも１つの乾燥要素と連結された請求項１または２記載の洗浄ステーション（１０）。
【請求項４】
種々の流体マニピュレータ（３）に特に適合する複数の洗浄要素（１８）および／または乾燥要素を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の洗浄ステーション（１０）。
【請求項５】
流体を操作するための１または２以上の再利用可能な流体マニピュレータ（３）と、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の、１または２以上の流体マニピュレータ（３）を洗浄する１または２以上の洗浄ステーション（１０）と、
１または２以上の流体マニピュレータ（３）を、前記１または２以上の洗浄ステーション（１０）に対して、およびキャビティ（１４）に対して移動させるための移動機構（７）と、
流体マニピュレータ（３）の外部を洗浄する流体噴流（３２）を生成するための第１の流体ポンプ
を含む流体（４）を自動で操作するための自動システム（１）。
【請求項６】
さらに、流体マニピュレータ（３）の外部を乾燥させる乾燥用流体の流体噴流を生成するための第２流体ポンプを含む請求項５記載の自動システム（１）。
【請求項７】
流体を自動で操作するための自動システム（１）の１または２以上の再利用可能な流体マニピュレータ（３）を洗浄する方法であって、
１または２以上の流体マニピュレータを洗浄するための洗浄域（３３）で少なくとも１の流体マニピュレータ（３）の少なくとも一部（９）を移動させ、
洗浄液の流体噴流（３２）を生成し、
洗浄域（３３）にある流体マニピュレータ（３）の外部を洗浄するために、洗浄域（３３）に向かって流体噴流（３２）を広げ、かつ偏向するよう形成された偏向板表面（３１）に流体噴流（３２）を方向付ける
ステップを含む方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つの流体マニピュレータ（３）が流体噴流（３２）を生成すると同時に回転する請求項７記載の方法。
【請求項９】
洗浄後に流体マニピュレータ（３）を湿潤させる洗浄液を除去するために流体マニピュレータ（３）の周囲を遠心分離するステップを含む請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】
洗浄域または乾燥域において洗浄後に流体マニピュレータ（３）を乾燥させるために乾燥用流体の流体噴流を生成するステップを含む請求項７〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
流体マニピュレータ（３）の少なくとも一部（９）がその外部を洗浄するための第１の洗浄域（３３）で移動後、その外部を洗浄するための第１の洗浄域（９）と異なる１つまたは２つ以上の第２の洗浄域（３３）に移動し、第１および第２の洗浄域が１または２以上の洗浄ステーション（１０）により形成される請求項７〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月17日(2013.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光走査装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、複数のビームを発する発光手段を備えた光走査装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
そこで、本発明は、主走査方向の走査密度を詳細に補正することができる光走査装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記目的を達成するために、本発明の光走査装置は、被走査面に対し、副走査方向にずらした複数のビームを発する発光手段と、前記発光手段から発せられる複数のビームを前記副走査方向に対して垂直な主走査方向に偏向し、前記被走査面で走査させる回転多面鏡と、前記主走査方向における前記被走査面から外れた領域で前記ビームを検知する第１の検知手段と、前記第１の検知手段から前記主走査方向に所定の距離だけ離れて配置され、前記被走査面から外れた領域で前記ビームを検知する第２の検知手段とを備えた光走査装置において、前記複数のビームのうち、第１のビームが前記第１の検知手段と前記第２の検知手段との間を走査する第１の走査時間を計測し、前記第１のビームと異なる第２のビームが前記第１の検知手段と前記第２の検知手段との間を走査する第２の走査時間を計測する計測手段と、前記第１のビームと前記第２のビームの波長差に基づいて設定される補正係数を記憶する記憶手段と、前記第１の走査時間と、前記第２の走査時間と前記補正係数との演算結果とが等しくなるように、前記第１の検知手段および前記第２の検知手段の少なくとも一方の位置を調整する位置調整手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の請求項１に係る光走査装置によれば、第１の走査時間と、第２の走査時間と補正係数との演算結果とが等しくなるように、第１の検知手段および第２の検知手段の少なくとも一方の位置を調整するので、主走査方向の走査密度を詳細に補正することができる。また、ビーム間の波長が異なっても、その波長差から通過時間差を補正するので、第１の検知手段および第２の検知手段を正確に平行に調整することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項３に係る光走査装置によれば、ビームが第１の検知手段と第２の検知手段との間を走査する走査時間を計測するので、簡単に補正係数を求めることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項４に係る光走査装置によれば、第１の発光部と第２の発光部の温度差を用いて補正係数を取得するので、複数の発光部が集積されても、各発光部の温度から波長差を補正し、第１の検知手段および第２の検知手段を正確に平行に調整することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項５に係る光走査装置によれば、第１の検知手段および第２の検知手段の少なくとも一方の傾きを変更するので、第１の検知手段および第２の検知手段を正確に平行に調整することできる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項６に係る光走査装置によれば、スリットを通ったビームを検知するので、第１の検知手段および第２の検知手段を正確に平行に調整することできる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被走査面に対し、副走査方向にずらした複数のビームを発する発光手段と、前記発光手段から発せられる複数のビームを前記副走査方向に対して垂直な主走査方向に偏向し、前記被走査面で走査させる回転多面鏡と、前記主走査方向における前記被走査面から外れた領域で前記ビームを検知する第１の検知手段と、前記第１の検知手段から前記主走査方向に所定の距離だけ離れて配置され、前記被走査面から外れた領域で前記ビームを検知する第２の検知手段とを備えた光走査装置において、
前記複数のビームのうち、第１のビームが前記第１の検知手段と前記第２の検知手段との間を走査する第１の走査時間を計測し、前記第１のビームと異なる第２のビームが前記第１の検知手段と前記第２の検知手段との間を走査する第２の走査時間を計測する計測手段と、
前記第１のビームと前記第２のビームの波長差に基づいて設定される補正係数を記憶する記憶手段と、
前記第１の走査時間と、前記第２の走査時間と前記補正係数との演算結果とが等しくなるように、前記第１の検知手段および前記第２の検知手段の少なくとも一方の位置を調整する位置調整手段とを備えたことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記演算結果は、前記第２の走査時間と前記補正係数との積であることを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１のビームと前記第２のビームの波長差、および前記ビームが前記第１の検知手段と第２の検知手段との間を走査する走査時間を用いて、前記補正係数を取得する補正係数取得手段を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の光走査装置。
【請求項４】
前記発光手段は、
前記複数のビームをそれぞれ発する複数の発光部と、
前記複数の発光部のうち、前記第１のビームを発する第１の発光部の温度を検知する第１の温度検知手段と、
前記複数の発光部のうち、前記第２のビームを発する第２の発光部の温度を検知する第２の温度検知手段とを有し、
前記補正係数取得手段は、さらに、前記第１の発光部と前記第２の発光部の温度差を用いて、前記補正係数を取得することを特徴とする請求項３記載の光走査装置。
【請求項５】
前記第１の検知手段および前記第２の検知手段の少なくとも一方は、前記主走査方向に対して傾きが可変自在に設けられ、
前記位置調整手段は、前記第１の検知手段および前記第２の検知手段の少なくとも一方の傾きを変更することを特徴とする請求項１乃至４いずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記第１の検知手段および前記第２の検知手段は、それぞれ第１のスリットおよび第２のスリットを有し、前記第１のスリットおよび前記第２のスリットを通して入射するビームを検知し、
前記位置調整手段は、前記第１のスリットと前記第２のスリットが平行になるように調整することを特徴とする請求項１乃至５いずれか１項に記載の光走査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月22日(2013.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられた弾性層と、該弾性層の周囲に設けられた表面層とを有する現像ローラであって、
該弾性層が、下記Ａ）、Ｂ）およびＣ）を含有することを特徴とする現像ローラ；
Ａ）ポリマー、
Ｂ）カーボンブラック、
Ｃ）水酸化フラーレン及び酸化フラーレンの少なくとも一方。
【請求項２】
前記カーボンブラックのＤＢＰオイル吸収量が９０ｍｌ／１００ｇ乃至１７５ｍｌ／１００ｇの範囲にある請求項１に記載の現像ローラ。
【請求項３】
前記弾性層中に含まれる水酸化フラーレン及び酸化フラーレンの少なくとも一方の量が、前記ポリマー１００質量部に対して０．５０質量部〜５．００質量部である請求項１又は２に記載の現像ローラ。
【請求項４】
前記カーボンブラックが、前記ポリマー１００質量部に対して５質量部〜３０質量部である請求項１乃至３のいずれか一項に記載の現像ローラ。
【請求項５】
前記ポリマーがジメチルシロキサンを含む請求項１乃至４のいずれか一項に記載の現像ローラ。
【請求項６】
前記水酸化フラーレンが、Ｃ60（Ｏ）mまたはＣ70（Ｏ）mで表されるものである請求項１〜５のいずれか一項に記載の現像ローラ（但し、１≦ｍ≦３）。
【請求項７】
前記酸化フラーレンが、Ｃ60（ＯＨ）nまたはＣ70（ＯＨ）nで表されるものある請求項１〜５のいずれか一項に記載の現像ローラ（但し、５≦ｎ≦１２）。
【請求項８】
電子写真画像形成装置本体に着脱可能に装着される現像装置であって、組み込まれた現像ローラが、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の現像ローラであることを特徴とする現像装置。
【請求項９】
感光ドラムおよび該感光ドラムに当接して配置される現像ローラを有する電子写真画像形成装置であって、該現像ローラが、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の現像ローラであることを特徴とする電子写真画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明にかかる現像ローラは、
軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられた弾性層と、該弾性層の周囲に設けられた表面層とを有する現像ローラであって、
該弾性層が、下記Ａ）、Ｂ）およびＣ）を含有することを特徴とする現像ローラ；
Ａ）ポリマー、
Ｂ）カーボンブラック、
Ｃ）水酸化フラーレン及び酸化フラーレンの少なくとも一方。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
〔比較例２〕
実施例１で使用したフラーレン誘導体の代わりにカーボンナノチューブ炭素繊維（Ｆ−７）を３質量部添加した以外は実施例１と同様にして現像ロールを得た。カーボンナノチューブ炭素繊維はハイペリオン・キャタリシス・インターナショナル社製の平均繊維径１０ｎｍ、平均繊維長１μｍ以上のものを使用した。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月22日(2013.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられた少なくとも一層以上の弾性層と、最表面層と、を有する現像ローラであって、
前記最表面層が酸化フラーレン及び水酸化フラーレンから選ばれる何れか一方または両方を含有することを特徴とする現像ローラ。
【請求項２】
前記最表面層に含まれる酸化フラーレン及び水酸化フラーレンから選ばれる何れか一方または両方の量が、樹脂固形分１００．００質量部に対して、０．１０質量部〜５．００質量部である請求項１に記載の現像ローラ。
【請求項３】
前記最表面層が、前記弾性層の表面を被覆してなり、かつ、ウレタン樹脂を含む請求項１又は２に記載の現像ローラ。
【請求項４】
前記酸化フラーレンが、Ｃ60（Ｏ）mまたはＣ70（Ｏ）mで表されるものである請求項１〜３のいずれか一項に記載の現像ローラ（但し、１≦ｍ≦３である）。
【請求項５】
前記水酸化フラーレンが、Ｃ60（ＯＨ）nまたはＣ70（ＯＨ）nで表されるものである請求項１〜３のいずれか一項に記載の現像ローラ（但し、５≦ｎ≦１２である）。
【請求項６】
電子写真画像形成装置本体に脱着可能に装着され、かつ少なくとも現像ローラ、トナー量規制部材及びトナー容器より構成される電子写真プロセスカートリッジであって、組み込まれた現像ローラが、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の現像ローラであることを特徴とする電子写真プロセスカートリッジ。
【請求項７】
感光ドラム及び該感光ドラムに当接して配置される現像ローラを有する電子写真画像形成装置であって、該現像ローラが、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の現像ローラであることを特徴とする電子写真画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられた少なくとも一層以上の弾性層と、最表面層と、を有する現像ローラであって、
前記最表面層が酸化フラーレン及び水酸化フラーレンから選ばれる何れか一方または両方を含有することを特徴とする現像ローラが提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月21日(2013.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ装置を撮像装置に着脱可能に取り付けるためのマウント部を備えるレンズ装置であって、
変倍に際し光軸方向に移動する変倍レンズ群と、
光軸と垂直な方向に移動可能である防振レンズ群と、
該防振レンズ群を駆動する防振駆動手段と、
該防振駆動手段による該防振レンズ群の駆動を制御する防振制御手段と、
前記レンズ装置が取り付け可能な撮像装置の像面上の所定の１点に結像する被写体の像の光軸に垂直方法の位置ずれであって、前記変倍レンズ群の移動による位置ずれ、を低減するための、前記防振レンズ群を移動する移動量である補正シフト量を記憶する記憶手段と、
を有し、
前記防振制御手段は、前記レンズ装置が取り付けられている撮像装置に必要な補正シフト量を示すユーザ入力を取得し、該取得したユーザ入力に基づき必要な補正シフト量を決定し、前記記憶手段に決定した補正シフト量を記憶し、
前記防振制御手段は、前記記憶手段に記憶された、取り付けられた撮像手段に対応する補正シフト量に基づき、撮影のために前記レンズ装置に取り付けられた撮像装置の前記位置ずれを低減するように前記防振レンズ群の駆動を制御する、
ことを特徴とするレンズ装置。
【請求項２】
前記補正シフト量は、前記変倍レンズ群の少なくとも２箇所以上の変倍位置における位置ずれを取得することによって決定される、ことを特徴とする請求項１に記載のレンズ装置。
【請求項３】
前記レンズ装置は、
変倍光学系を含む切替光学ユニットと、
該切替光学ユニットを該レンズ装置の光軸と垂直方向に駆動し、該変倍光学系を該レンズ装置の光路に対して挿脱する切替駆動部と、
をさらに有し、
前記防振制御手段は、前記変倍光学系が前記レンズ装置の光路に挿入されていない場合、及び、前記変倍光学系が前記レンズ装置の光路に挿入された場合の、前記補正シフト量を決定して記憶し、
前記防振制御手段は、該記憶手段に記憶された前記の場合に対する補正シフト量に基づいて、該防振レンズ群を駆動する、
ことを特徴とする請求項２に記載のレンズ装置。
【請求項４】
前記像面上の所定の１点は、前記撮像面の中心である、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のレンズ装置。
【請求項５】
前記像面上の所定の１点は、前記レンズ装置の光軸上の点である、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のレンズ装置。
【請求項６】
前記補正シフト量を設定するために前記防振レンズ群をユーザが駆動するための操作手段を有し、
該操作手段は、該レンズ装置の変倍操作、又は焦点調整操作に使用する操作部に設けられている、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のレンズ装置。
【請求項７】
前記操作手段は、
前記操作部の変倍操作をするための変倍操作手段又は焦点調整操作をするための焦点調整操作手段を、前記補正シフト量を設定するために前記防振レンズ群を駆動する防振レンズ駆動操作手段として使用するための補正起動手段と、
該防振レンズ群の位置を前記記憶手段に記憶するためのトリガを与える記憶操作手段と、
を含む、
ことを特徴とする請求項６に記載のレンズ装置。
【請求項８】
前記防振制御手段は、前記レンズ装置の変倍操作のために使用される操作部からの信号、又は前記レンズ装置の焦点調整操作のために使用される操作部からの信号、を前記防振レンズ装置を駆動するための信号として使用し、前記補正シフト量を設定する、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のレンズ装置。
【請求項９】
前記レンズ装置は、接続される撮像装置の識別情報を入力するカメラ情報入力手段を有し、
前記記憶手段は、複数の撮像装置のための、前記カメラ情報入力手段より入力された該識別情報と該識別情報に対応する、前記防振レンズ群の前記補正シフト量を記憶し、
前記防振制御手段は、該カメラ情報入力手段より入力された前記識別情報に対応する撮影のための補正シフト量を選択し、該選択された補正シフト量に基づいて前記防振レンズ群を駆動するよう制御する、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のレンズ装置。
【請求項１０】
前記レンズ装置は、該レンズ装置に接続される撮像装置と通信する通信手段を更に有し、
前記記憶手段は、複数の撮像装置のための、該通信手段を介して該接続された撮像装置より取得する識別情報、及び該識別情報に対応する前記補正シフト量を記憶し、
前記防振制御手段は、前記通信手段を通して該識別情報に対応する該補正シフト量を撮影のために選択し、該選択された補正シフト量に基づいて前記防振レンズ群の駆動を制御する、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のレンズ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月16日(2013.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この発明は、上記課題を解決するために、次のような構成要素を備えている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、少なくとも一端部に弦支持部が上下に突出して設けられたベース部材と、
このベース部材の前記一端部に位置する弦支持部の上端部を経て前記ベース部材の他端部へ、また、前記ベース部材の前記一端部に位置する弦支持部の下端部を経て前記他端部へと、前記ベース部材の上下に張り渡された弦とを備え、
前記他端部側に位置する前記弦の端部は、前記ベース部材の前記一端部から前記他端部に向かう方向に沿う前記ベース部材の中心線の延長上において、前記ベース部材の前記他端部から離れる方向に向けて引っ張られていることを特徴とする弦モジュールである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２に記載の発明は、両端部にそれぞれ弦支持部が上下に突出して設けられたベース部材と、
このベース部材の一端部に位置する弦支持部の上端部を経て前記ベース部材の他端部へ、また、前記ベース部材の前記一端部に位置する弦支持部の下端部を経て前記他端部へと、前記ベース部材の上下に張り渡された弦とを備え、
前記他端部側に位置する前記弦の端部は、前記ベース部材の前記一端部から前記他端部に向かう方向に沿う前記ベース部材の中心線の延長上において、前記ベース部材の前記他端部から離れる方向に向けて引っ張られていることを特徴とする弦モジュールである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項３に記載の発明は、前記弦が、前記ベース部材の前記一端部で折り返されることにより、前記ベース部材の前記他端部から前記一端部へ、さらに前記ベース部材の前記一端部から前記他端部へと、連続して前記ベース部材の上下に張り渡されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の弦モジュールである。
請求項４に記載の発明は、前記弦の両端部の一方が、前記ベース部材の前記中心線の前記延長上における前記ベース部材の前記他端部側において固定され、前記弦の両端部の他方が、前記ベース部材の前記中心線の前記延長上において、前記ベース部材の前記他端部から離れる方向に引っ張られていることを特徴とする請求項３に記載の弦モジュールである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項５に記載の発明は、前記他端部側に位置する前記弦の端部が固定された弦引張調整部材を備え、
この弦引張調整部材は、前記ベース部材の前記中心線の延長上における前記ベース部材の前記他端部側に配置され、前記中心線に沿って前記ベース部材の前記他端部に対して接離する方向に移動可能とされていることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の弦モジュールである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜請求項５のいずれかに記載された弦モジュールと、
この弦モジュールが取り付けられる楽器ケースと
を備えていることを特徴とする弦楽器である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項７に記載の発明は、前記楽器ケースが、前記ベース部材の上側に位置する前記弦を露出させた状態で前記弦モジュールが取り付けられる第１ケースと、この第１ケースに取り付けられる第２ケースとを備えていることを特徴とする請求項６に記載の弦楽器である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一端部に弦支持部が上下に突出して設けられたベース部材と、
このベース部材の前記一端部に位置する弦支持部の上端部を経て前記ベース部材の他端部へ、また、前記ベース部材の前記一端部に位置する弦支持部の下端部を経て前記他端部へと、前記ベース部材の上下に張り渡された弦とを備え、
前記他端部側に位置する前記弦の端部は、前記ベース部材の前記一端部から前記他端部に向かう方向に沿う前記ベース部材の中心線の延長上において、前記ベース部材の前記他端部から離れる方向に向けて引っ張られていることを特徴とする弦モジュール。
【請求項２】
両端部にそれぞれ弦支持部が上下に突出して設けられたベース部材と、
このベース部材の一端部に位置する弦支持部の上端部を経て前記ベース部材の他端部へ、また、前記ベース部材の前記一端部に位置する弦支持部の下端部を経て前記他端部へと、前記ベース部材の上下に張り渡された弦とを備え、
前記他端部側に位置する前記弦の端部は、前記ベース部材の前記一端部から前記他端部に向かう方向に沿う前記ベース部材の中心線の延長上において、前記ベース部材の前記他端部から離れる方向に向けて引っ張られていることを特徴とする弦モジュール。
【請求項３】
前記弦は、前記ベース部材の前記一端部で折り返されることにより、前記ベース部材の前記他端部から前記一端部へ、さらに前記ベース部材の前記一端部から前記他端部へと、連続して前記ベース部材の上下に張り渡されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の弦モジュール。
【請求項４】
前記弦の両端部の一方が、前記ベース部材の前記中心線の前記延長上における前記ベース部材の前記他端部側において固定され、前記弦の両端部の他方が、前記ベース部材の前記中心線の前記延長上において、前記ベース部材の前記他端部から離れる方向に引っ張られていることを特徴とする請求項３に記載の弦モジュール。
【請求項５】
前記他端部側に位置する前記弦の端部が固定された弦引張調整部材を備え、
この弦引張調整部材は、前記ベース部材の前記中心線の延長上における前記ベース部材の前記他端部側に配置され、前記中心線に沿って前記ベース部材の前記他端部に対して接離する方向に移動可能とされていることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の弦モジュール。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれかに記載された弦モジュールと、
この弦モジュールが取り付けられる楽器ケースと
を備えていることを特徴とする弦楽器。
【請求項７】
前記楽器ケースは、前記ベース部材の上側に位置する前記弦を露出させた状態で前記弦モジュールが取り付けられる第１ケースと、この第１ケースに取り付けられる第２ケースとを備えていることを特徴とする請求項６に記載の弦楽器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月16日(2013.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図５は、ＲＧＢ／ＲＧＢＷ変換部４２４のブロック構成を表したものである。このＲＧＢ／ＲＧＢＷ変換部４２４は、Ｗ１算出部４２４−１、Ｗ１算出部４２４−２、Ｍｉｎ選択部４２４−３、乗算部４２４−４Ｒ，４２４−４Ｇ，４２４−４Ｂ、減算部４２４−５Ｒ，４２４−５Ｇ，４２４−５Ｂおよび乗算部４２４−６Ｒ，４２４−６Ｇ，４２４−６Ｂを有している。なお、ここでは、入力信号である画素信号Ｄ３ｒ，Ｄ３ｇ，Ｄ３ｂをそれぞれ、Ｒ０，Ｇ０，Ｂ０と、出力信号である画素信号Ｄ４ｒ，Ｄ４ｇ，Ｄ４ｂ，Ｄ４ｗをそれぞれ、Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｗ１として説明する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
（ＲＧＢ／ＲＧＢＺ変換処理の際の算出式）
まず、図７（Ａ），（Ｂ）に示したように、ＲＧＢ／ＲＧＢＺ変換処理前の画素信号Ｒ０，Ｇ０，Ｂ０の輝度レベルと、ＲＧＢ／ＲＧＢＺ変換処理後の画素信号Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｚ１の輝度レベルとの間で、以下の関係（（７），（８）式）が成り立つものとする。すなわち、図７（Ａ）に示したように、（Ｒ０，Ｇ０，Ｂ０）＝（Ｘｒ，Ｘｇ，Ｘｂ）のとき、（Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｚ１）＝（０，０，０，Ｘｚ）となるものとする。また、図７（Ｂ）に示したように、（Ｒ０，Ｇ０，Ｂ０）＝（１，１，１）のとき、（Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｚ１）＝（Ｋｒ，Ｋｇ，Ｋｂ，０）となるものとする。なお、Ｘｒ＝Ｘｇ＝Ｘｂのときは、サブ画素２０Ｚが白のサブ画素２０Ｗとなっている場合に相当する。また、バックライト３におけるスペクトラムが、従来のＲ，Ｇ，Ｂの３色のサブ画素構造の場合と同じであり、かつ各サブ画素２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ，２０Ｚの幅（サブピクセル幅）が互いに同一となっている場合には、ｋｒ＝ｋｇ＝ｋｂとなる。
（Ｒ０，Ｇ０，Ｂ０）＝（Ｘｒ，Ｘｇ，Ｘｂ）
⇒（Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｚ１）＝（０，０，０，Ｘｚ）  ……（７）
（Ｒ０，Ｇ０，Ｂ０）＝（１，１，１）
⇒（Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｚ１）＝（Ｋｒ，Ｋｇ，Ｋｂ，０）  ……（８）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
【数２】
2012027397.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
（ＲＧＢ／ＲＧＢＷ変換処理の際の算出式）
続いて、これまでの説明を基に、サブ画素２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ，２０Ｗからなる本実施の形態のサブ画素構造を用いた場合における、ＲＧＢ／ＲＧＢＷ変換部４２４全体でのＲＧＢ／ＲＧＢＷ変換処理の際の算出式について説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
これらのことから、例えば図８（Ｃ）に示したように、（Ｒ０，Ｇ０，Ｂ０）＝（１，１，１）の場合、（Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｗ１）＝（２／３，２／３，２／３，２／３）とすることができる。すなわち、従来のＲ，Ｇ，Ｂの３色のサブ画素構造の場合と同一の輝度レベルを、Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｗの４色のサブ画素構造では、各色とも２／３倍の輝度レベルで実現することができる。以上のことから、上記したＲＧＢ／ＲＧＢＺ変換に当てはめると、以下の（１４），（１５）式が成り立つ。
Ｘｒ＝Ｘｇ＝Ｘｂ＝１，Ｘｚ＝４／３  ……（１４）
Ｋｒ＝Ｋｇ＝Ｋｂ＝４／３  ……（１５）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
次に、再び図５を参照して、以上の説明を踏まえつつ、ＲＧＢ／ＲＧＢＷ変換部４２４における各ブロックについて説明する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
具体的には、図３に示したように、ゲートドライバ５２からゲート線Ｇを介して供給される選択信号に応じて、ＴＦＴ素子２１のオン・オフ動作が切り替えられる。これにより、データ線Ｄと液晶素子２２および補助容量素子２３との間が選択的に導通される。その結果、データドライバ５１から供給される映像信号Ｄ４に基づく映像電圧が液晶素子２２へと供給され、線順次の表示駆動動作がなされる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
これにより、本変形例では、例えば図１８に示した実施例３のように、画素信号Ｄ４ｗの輝度レベル（信号レベル）の大小に応じた、サブ画素２０Ｗからの出射光（透過光）におけるピーク波長領域の変動が抑えられる。また、例えば図１９に示したように、そのようなサブ画素２０Ｗからの出射光（透過光）におけるピーク波長領域の変動に起因した、Ｗ信号の信号レベルに依存したＷｒ，Ｗｇ，Ｗｂの非線形性も低減する。なお、この図１９に示した特性において、Ｗ信号の信号レベルが低い領域でのＷｒ，Ｗｇ，Ｗｂが互いに近い値を示すこととなるように、上記した黄色顔料の添加量（分散量）を設定するのが望ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
図２２は、ＲＧＢ／ＲＧＢＺ変換部４２４Ａのブロック構成を表したものである。このＲＧＢ／ＲＧＢＺ変換部４２４Ａは、Ｚ１算出部４２４Ａ−１、Ｚ１算出部４２４Ａ−２、Ｍｉｎ選択部４２４Ａ−３、乗算部４２４Ａ−４Ｒ，４２４Ａ−４Ｇ，４２４Ａ−４Ｂ、減算部４２４Ａ−５Ｒ，４２４Ａ−５Ｇ，４２４Ａ−５Ｂおよび乗算部４２４Ａ−６Ｒ，４２４Ａ−６Ｇ，４２４Ａ−６Ｂを有している。ここでは、入力信号である画素信号Ｄ３ｒ，Ｄ３ｇ，Ｄ３ｂをそれぞれ、Ｒ０，Ｇ０，Ｂ０と、出力信号である画素信号Ｄ４ｒ，Ｄ４ｇ，Ｄ４ｂ，Ｄ４ｚをそれぞれ、Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｚ１として説明する。なお、このＲＧＢ／ＲＢＧＺ変換部４２４Ａ全体におけるＲＧＢ／ＲＧＢＺ変換処理の際の算出式は、基本的には、上記実施の形態で説明したＲＧＢ／ＲＧＢＷ変換処理の際の算出式と同様のものとなっている。