(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向して配された一対の基板の間に液晶層を有し、上記一対の基板の一方に銀からなる反射膜が所定の形状にパターニングされて形成されてなる液晶表示素子の製造方法であって、
上記反射膜の形成後、上記反射膜の表面をアルカリ性の薬液で薬液処理する液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
上記反射膜をアルカリ性の薬液で薬液処理した後に、配向膜形成工程を実施する請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】
上記薬液は、純水にアンモニアを添加してなる請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】
上記薬液は、さらに水素を添加してなる請求項３記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】
上記薬液は、純水に水素を添加してなる請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】
上記薬液は、純水に水酸化テトラメチルアンモニウムを添加してなる請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】
上記薬液は、ｐＨ１０以上である請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項８】
対向して配された一対の基板の間に液晶層を有し、上記一対の基板の一方に銀からなる反射膜が所定の形状にパターニングされて形成さてなる液晶表示素子の製造方法であって、
上記反射膜の形成後、上記反射膜の表面を熱処理及びアルカリ性の薬液で薬液処理する液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】
上記反射膜をアルカリ性の薬液で薬液処理し、次に熱処理する請求項８記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１０】
上記反射膜を熱処理し、次にアルカリ性の薬液で薬液処理する請求項８記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１１】
対向して配された一対の基板の間に液晶層を有し、上記一対の基板の一方に銀からなる反射膜が所定の形状にパターニングされて形成されてなる液晶表示素子の製造装置であって、
上記反射膜の形成後、上記反射膜の表面をアルカリ性の薬液で薬液処理する薬液処理ユニットを備える液晶表示素子の製造装置。
【請求項１２】
対向して配された一対の基板の間に液晶層を有し、上記一対の基板の一方に銀からなる反射膜が所定の形状にパターニングされて形成されてなる液晶表示素子の製造方法であって、
上記反射膜の形成後、上記反射膜の表面を熱処理する熱処理ユニット及びアルカリ性の薬液で薬液処理する薬液処理ユニットを備える液晶表示素子の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、銀及び銀を含んだ合金からなる反射膜を有する液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子の製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、パーソナルコンピュータ向けのディスプレイとしては、バックライトを用いて表示を行う透過型液晶ディスプレイが主流であったが、近年では、Personal Digital Assistant（ＰＤＡ）や携帯電話等のモバイル用電子機器向けの表示装置の需要が急激に高まっており、透過型液晶表示素子に比べて低消費電力化が可能な反射型液晶表示素子が注目されている。この反射型液晶表示素子は、外部からの入射光を反射板で反射させて表示を行うものであり、バックライトが不要であるためにそのぶんの消費電力が節約され、透過型液晶表示素子を採用した場合に比べて電子機器の長時間駆動を可能とするといった利点がある。
【０００３】
反射型液晶表示素子に用いられる反射板の位置としては、一対の基板が対向してなるセルの外側に反射板を設置する外付け方式と、セルの内部に反射板を反射膜として形成する内付け方式との２通りがある。
【０００４】
このうち外付け方式は、反射板の設置方式が簡単であるため製造コストを廉価に抑えることができ、特に低コストが要求されるスーパーツイストネマチック型の液晶表示素子に採用されることが多い。
【０００５】
しかしながら、外付け方式では、構造上、ガラスを介してセルの外側に反射板が設置されるために視差が生じ、視認性が不十分となる。
【０００６】
一方、内付け方式は、セルの内部に反射膜を作り込むために優れた視認性を実現可能であり、例えば画質を重視する薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと称する。）液晶ディスプレイ等で主に採用されている。
【０００７】
また、この内付け方式の反射膜は、液晶を駆動させる電極の機能を反射膜に持たせることが可能であるといった別の利点がある。このため、抵抗が低く且つ反射率の高い材料であるアルミニウムや銀等が反射膜の材料として用いられる。
【０００８】
従来、反射膜の作製を容易とするために優れた加工性を示すアルミニウムが主に利用されてきたが、最近では、ディスプレイの特性を高めることに主眼がおかれ、より高い反射率を示す銀又は銀を含む合金の利用が多くなっている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、銀又は銀を含む合金は、アルミニウムに比べて取り扱いが難しく、反射膜の作製には様々な不都合を伴う。そのうちの１つとして、銀又は銀を含む合金からなる反射膜を作製後、反射膜が露出した状態で放置すると反射膜表面が黄色く変色し、この結果、ディスプレイの表示品質が損なわれるといった問題がある。
【００１０】
銀又は銀を含む合金からなる反射膜の黄色の変色は、銀の硫化又は酸化に起因するといわれている。特に、ＴＦＴが製造されるクリーンルーム内には、フォトリソグラフィ工程で使用されるポジレジストやエッチング工程で使用される硫酸等の硫黄含有物質が存在するために、銀又は銀を含む合金からなる反射膜の硫化を促進する雰囲気が必然的に生じる。
【００１１】
そこで、反射膜の変色を未然に抑制するために、反射膜が露出・放置される時間を制限して一定の時間内でポリイミド塗布工程に着手する等の対策がとられているが、このような放置時間の短時間化による手法は、製造プロセス全体の時間調整を行わなければならない等、製造上の制約が大きい。
【００１２】
また、放置による変色が生じにくい、銀を含む合金の研究開発もなされているが、未だこのような特性を示す材料の発見には至っていない。
【００１３】
そこで、本発明はこのような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、銀又は銀を含む合金からなる反射膜の変色を改善して表示品質の向上を図ることが可能な液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子の製造装置を提供することを目的とする。
【００１５】
反射膜等の液晶表示素子の構成要素を製造するクリーンルーム内で、銀又は銀を含む合金からなる反射膜を一定時間以上放置すると、反射膜の表面が黄色に変色して液晶表示素子の品質が損なわれるといった問題が生ずる。
【００１７】
また、本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、対向して配された一対の基板の間に液晶層を有し、上記一対の基板の一方に銀又は銀を含む合金からなる反射膜が形成されてなる液晶表示素子の製造方法であって、上記反射膜の形成後、次工程の前に上記反射膜をアルカリ性の薬液で薬液処理することを特徴とする。
【００１８】
以上のような液晶表示素子の製造方法では、例えば配向膜形成工程等の次工程に移る前に、反射膜をアルカリ性の薬液で薬液処理することにより、変色した反射膜の表面状態を改善し、反射膜は、銀又は銀を含む合金の本来有する優れた特性を回復する。このため、製造工程上の制約を受けることなく、変色のない優れた特性の反射膜を液晶表示素子の製造に供することができる。
【００１９】
また、本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、対向して配された一対の基板の間に液晶層を有し、上記一対の基板の一方に銀又は銀を含む合金からなる反射膜が形成されてなる液晶表示素子の製造方法であって、上記反射膜の形成後、次工程の前に上記反射膜を熱処理及びアルカリ性の薬液で薬液処理することを特徴とする。
【００２０】
以上のような液晶表示素子の製造方法では、例えば配向膜形成工程等の次工程に移る前に、反射膜を熱処理及びアルカリ性の薬液で薬液処理することにより、変色した反射膜の表面状態を改善し、反射膜は、銀又は銀を含む合金の本来有する優れた特性を回復する。このため、製造工程上の制約を受けることなく、変色のない優れた特性の反射膜を液晶表示素子の製造に供することができる。
【００２３】
また、本発明に係る液晶表示素子の製造装置は、対向して配された一対の基板の間に液晶層を有し、上記一対の基板の一方に銀又は銀を含む合金からなる反射膜が形成されてなる液晶表示素子の製造装置であって、上記反射膜の形成後、次工程の前に上記反射膜をアルカリ性の薬液で薬液処理する薬液処理ユニットを備えることを特徴とする。
【００２４】
以上のような液晶表示素子の製造装置では、例えば配向膜形成工程等の次工程に移る前に、薬液処理ユニットで反射膜をアルカリ性の薬液で薬液処理することにより、変色した反射膜の表面状態を改善し、反射膜は、銀又は銀を含む合金の本来有する優れた特性を回復する。このため、製造工程上の制約を受けることなく、変色のない優れた特性の反射膜を液晶表示素子の製造に供することができる。
【００２５】
また、本発明に係る液晶表示素子の製造装置は、対向して配された一対の基板の間に液晶層を有し、上記一対の基板の一方に銀又は銀を含む合金からなる反射膜が形成されてなる液晶表示素子の製造装置であって、上記反射膜の形成後、次工程の前に上記反射膜を熱処理する熱処理ユニット及びアルカリ性の薬液で薬液処理する薬液処理ユニットを備えることを特徴とする。
【００２６】
以上のような液晶表示素子の製造装置では、例えば配向膜形成工程等の次工程に移る前に、熱処理ユニットで反射膜を熱処理すること及び薬液処理ユニットで反射膜をアルカリ性の薬液で薬液処理することにより、変色した反射膜の表面状態を改善し、反射膜は、銀又は銀を含む合金の本来有する優れた特性を回復する。このため、製造工程上の制約を受けることなく、変色のない優れた特性の反射膜を液晶表示素子の製造に供することができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を適用した液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子の製造装置について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２８】
まず、本発明の製造方法を適用して製造された、アクティブマトリクス方式を採用した反射型液晶表示素子について、図１を参照して説明する。
【００２９】
この反射型の液晶表示素子１は、光が入射する側に配された第一基板２と、この第一基板と所定の間隙を有して対向して配された第二基板３とが張り合わされて構成される。
【００３０】
第一基板２は、例えばガラス等の透明な材料からなるものである。第一基板２の第二基板３と対向する主面側には、ＩＴＯ（indium tin oxide）等の透明導電材料からなる透明電極４と、ポリイミド等からなる第一配向膜５とがこの順に積層されてなる。
【００３１】
第二基板３は、例えばホウケイ酸ガラス等が用いられ、第一基板２と対向する主面側に、液晶を駆動するためのスイッチング素子としてのＴＦＴ６と、第二基板３及びＴＦＴ６を被覆するように形成された第一層間絶縁膜７と、さらに第一層間絶縁膜７上に重ねられた第二層間絶縁膜８と、第二層間絶縁膜８の開口を介してＴＦＴ６と電気的に接続された反射膜９と、第二層間絶縁膜８及び反射膜９上に形成されたポリイミド等からなる第二配向膜１０とを有している。
【００３２】
図１に示す反射膜９は、第一基板２側から入射した光を反射する反射板としての機能と、後述する液晶層を駆動する電極の機能とを共用するものである。反射膜９は、銀又は銀を含む合金からなり、銀を含む合金としてはＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ（ＡＰＣ）やＡｇ−Ｐｄ−Ａｕ（ＡＰＡ）等が例示される。
【００３３】
ＴＦＴ６は、第二基板３上に形成されたＭｏやＭｏＷ等からなるゲート電極１１と、ゲート電極１１の上面に重ねられたＳｉＯ２からなるゲート絶縁膜１２と、このゲート絶縁膜１２を介してゲート電極１１の上方に重ねられたポリシリコンからなる半導体薄膜１３とから構成される。また、第一層間絶縁膜７の開口を介して半導体薄膜１３のソースからソース電極１４が引き出されている。また、反射膜９と電気的に接続されるとともに半導体薄膜１３のドレインからＡｌからなるドレイン電極１５が引き出されている。
【００３４】
また、第一基板２と第二基板３との間隙には、液晶層１６が設けられている。この液晶層１６は、第一配向膜５及び第二配向膜１０によって一軸方向に配向され、透明電極４と反射膜９との間に電圧が印加されることによりその配向方向が変えられる。
【００３５】
この液晶表示素子１においては、第一基板２側から入射した光が透明電極４及び反射膜９によって配向された液晶層１６を通過して反射膜９に到達し、反射膜９で反射して再び液晶層１６から第一基板２外へ反射光を放出することによって、任意の画像を表示する。
【００３６】
以下、上述した液晶表示素子の製造方法について説明する。
【００３７】
先ず、例えば透明なガラス基板からなる第二基板３上に、ゲート電極１１、ゲート絶縁膜１２、及びアモルファスシリコンを順次堆積・パターニングし、アモルファスシリコンをエキシマレーザでアニールすることによって結晶化して半導体薄膜１３とし、ＴＦＴ６を形成する。また、半導体薄膜１３のゲート電極１１の両脇の領域にＰ，Ｂ等を不純物導入し、ソース及びドレインとする。また、ＴＦＴ６を被覆するように、第二基板３の上方に第一層間絶縁膜７を形成する。
【００３８】
次に、半導体薄膜１３のソース及びドレインに対応する箇所の第一層間絶縁膜７を例えばエッチングにより開口して、この開口部を介してソースと接続するソース電極１４及びドレインと接続するドレイン電極１５を、所定の形状にパターニングして形成する。
【００３９】
次に、ＴＦＴ６、ソース電極１４及びドレイン電極１５を被覆するように、第二基板３の上方に、散乱反射を起こさせる散乱層としての機能と層間絶縁膜としての機能とを兼ね備えた第二層間絶縁膜８を形成する。この第二層間絶縁膜８の、ドレイン電極１５に対応する箇所を、例えばエッチングにより開口して、開口部を形成する。
【００４０】
次に、例えばスパッタリング法、真空蒸着法等によって銀又は銀を含む合金からなる薄膜を所定の形状にパターニングして成膜することにより、図２に示すような反射膜９を形成する。
【００４１】
次に、次工程、すなわち第二配向膜１０として例えばポリイミドを塗布する工程の直前に、反射膜９の表面の特性改善を目的として、反射膜９に対して熱処理を施す。銀又は銀を含む合金からなる反射膜９を形成後、クリーンルーム内に放置しておくと、クリーンルーム内の雰囲気中の硫黄等に起因して反射膜９の表面が黄色に変色するといった問題が生じるが、熱処理によって反射膜９の表面の変色を改善することができる。すなわち、熱処理によって、変色した反射膜９の表面から硫黄を拡散させ、銀又は銀を含む合金本来の優れた特性の回復をはかることができる。
【００４２】
熱処理の具体的な温度は、１４０℃〜２００℃の範囲内で行うことが好ましく、これにより変色の改善効果を確実に得ることができる。これに対して、熱処理温度が１４０℃未満であると、硫黄の拡散が進行せずに変色の改善効果が不十分となり、逆に熱処理温度が２００℃を上回ると反射膜が白濁するおそれがある。
【００４３】
また、変色した反射膜９に対してアルカリ性の薬液で薬液処理を行うことによっても、上述した熱処理と同様に、反射膜９の表面の特性を改善することができる。
【００４４】
アルカリ性の薬液は、アルカリ性が強いほど変色の改善効果も強まるが、特にｐＨ１０以上のアルカリ性の薬液を用いることで、本発明の効果を確実且つ十分に得ることができる。また、アルカリ性の薬液での処理方法についても特に限定されることなく、シャワー、ディップ等、いかなる方法でもかまわない。
【００４５】
具体的なアルカリ性の薬液としては、純水にアンモニアを添加してなる薬液、純水に水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）を添加してなる薬液、これらの薬液にさらに水素をバブリング等によって添加してなる薬液、純水に水素を添加してなる薬液等が挙げられる。
【００４６】
なお、変色の改善を図るためには、上述したアルカリ性の薬液の薬液処理と熱処理とを併用してもよく、順序も任意である。
【００４７】
実際に、変色の進行した銀からなる反射膜に対してアルカリ性の薬液で処理を行い、本発明の効果を確認した。
【００４８】
基板上に銀からなる反射膜を形成し、この基板をクリーンルーム内のフォトリソグラフィ装置の近傍に７２時間放置して変色させた。この変色した基板を、ｐＨ９のアンモニア添加水、ｐＨ１２のアンモニア添加水、ｐＨ１３．５のアンモニア添加水でそれぞれ処理した後、反射膜の表面の色度を測定した。反射膜の表面色度の測定結果を図３に示す。
【００４９】
図３から、変色した反射膜をアルカリ性の薬液で処理することにより、反射膜形成直後の銀本来の色度が回復されることがわかる。特に、アルカリ性の薬液が強アルカリであるほど、変色の改善効果が飛躍的に高まり、反射膜形成直後の銀本来の色度に近づけられることがわかる。
【００５０】
上述のようにして反射膜９の表面状態を改善した後、直ちに配向膜１０の形成工程に着手する。すなわち、反射膜９上に例えばポリイミドを塗布し、乾燥させることにより第二配向膜１０を形成する。また、第二配向膜１０に対してラビングを行う。
【００５１】
また、透明電極４及び第一配向膜５がこの順に積層された第一基板２を用意し、第一基板２と第二基板３とを対向させて張り合わせて組み立て、さらに液晶を注入して液晶層１６を形成し、偏光板を張り合わせることによって図１に示す反射型液晶表示素子１を得る。
【００５２】
従来では、銀又は銀を含む合金からなる反射膜の変色を未然に抑制するための対策が必要であり、例えば反射膜形成工程と次工程との間の放置時間を一定時間内におさめる等の製造プロセス全体の時間調整を行っており、製造上の制約が大きかった。
【００５３】
これに対して、本発明の製造方法では、例えば配向膜形成工程等の次工程の前に、熱処理及び／又はアルカリ性の薬液の薬液処理を反射膜に対して施すことにより、変色が進行した反射膜の表面状態を改善して、反射膜に銀又は銀を含む合金が本来有する反射特性を回復させる。このため、銀又は銀を含む合金を反射膜として使用するに際して製造上の制約を受けることなく、所望のタイミングにて、銀又は銀を含む合金の本来有する優れた特性が十二分に引き出された状態の反射膜を次工程に供することができる。したがって、本発明によれば、優れた表示品質を示す液晶表示素子を比較的容易に製造することができる。
【００５４】
つぎに、上述した反射膜の変色を改善する方法を実現するための製造装置の一例について図４を用いて説明する。図４に示す処理装置２０は、アルカリ性の薬液を用いた薬液処理を行うメガソニックユニット２１と、メガソニックユニット２１で用いられたアルカリ性の薬液を洗浄するリンスユニット２２と、リンスユニット２２で付着した水分を風圧で除去するエアナイフ２３と、昇温装置を有し熱処理を行うベークユニット２４とを工程順に備えた構成とされる。
【００５５】
この処理装置２０で反射膜９の変色を改善するためには、先ず、搬送キャリア２５に反射膜９等が形成された第二基板３を保持させ、搬送ロボットによってこの搬送キャリア２５をメガソニックユニット２１へ導入する。
【００５６】
このメガソニックユニット２１において、第二基板３にアルカリ性の薬液を噴霧するとともに超音波洗浄を行い、反射膜９を薬液処理する。
【００５７】
次に、搬送キャリア２５をリンスユニット２２へ移動させ、メガソニックユニット２１で使用したアルカリ性の薬液が残存しないように反射膜９が形成された第二基板３を例えば純水によって十分に洗浄する。
【００５８】
次に、洗浄後の第二基板３に対してエアナイフ２３によってエアを吹き付け、水切りを行う。
【００５９】
次に、搬送キャリア２５をベークユニット２４へ移動させ、反射膜９が形成された第二基板３を十分に乾燥させるとともに、例えば１４０℃〜２００℃の所定の温度条件で熱処理を行う。
【００６０】
最後に、搬送キャリア２５をベークユニット２４から搬出する。これにより、反射膜９の表面の変色が改善され、銀又は銀を含む合金が本来有する優れた反射特性を回復した反射膜９が得られる。
【００６１】
そして、この第二基板３を用いて直ちに配向膜形成工程等の次工程に着手する。
【００６２】
以上のような処理装置を用いて、例えば配向膜形成工程等の次工程の前に反射膜を熱処理及び／又はアルカリ性の薬液で薬液処理することにより、変色が進行した反射膜の表面状態を改善して、反射膜に銀又は銀を含む合金が本来有する反射特性を回復させる。このため、銀又は銀を含む合金を反射膜として使用するに際して製造上の制約を受けることなく、所望のタイミングにて、銀又は銀を含む合金の本来有する優れた特性が十二分に引き出された状態の反射膜を次ぎ工程に供することができる。したがって、本発明の処理装置によれば、優れた表示品質を示す反射型液晶表示素子を比較的容易に製造することができる。
【００６３】
なお、上述の説明では、処理装置としてアルカリ性の薬液の薬液処理を行うメガソニックユニットと熱処理を行うベークユニットとの両方を備えた装置を例に挙げたが、本発明を適用した装置は、いずれか一方のみを備えた構成であってもかまわない。
【００６４】
また、上述の説明では、いわゆる反射型の液晶表示素子を例に挙げたが、本発明は反射型と透過型とを併用した液晶表示素子の製造方法及びこの製造装置に適用することもできる。
【００６５】
【実施例】
以下、本発明を適用した具体的な実施例について、実験結果に基づいて説明する。
【００６６】
〔実施例１〕
先ず、第二基板としてホウケイ酸ガラス（コーニング社製７０５９）上に、スイッチング素子としてのＴＦＴ、第一層間絶縁膜及び第二層間絶縁膜を形成した。さらにその上に銀からなる薄膜を成膜し、所定の形状にパターニングすることにより、反射膜を形成した。なお、これらの一連の工程は、クリーンルーム内で行った。次に、クリーンルーム内のフォトリソグラフィ装置の近傍に、反射膜が形成された第二基板を３日間放置し、反射膜の表面を十分に変色させた。
【００６７】
次に、配向膜を形成する直前に、反射膜が形成された第二基板をホットプレート上で５分間、１６０℃にて熱処理した。熱処理後に反射膜を確認したところ、変色が改善されて、反射膜は本来の銀色を回復していた。
【００６８】
熱処理後、直ちに反射膜上に配向膜を形成し、公知のラビング工程、組み立て工程、液晶注入工程及び偏光板貼り付け工程を経て、反射型液晶表示素子を作製した。
【００６９】
作製された反射型液晶表示素子について特性を確認したところ、反射膜形成後の３日間の放置を行わずに作製された反射型液晶表示素子と同等の優れた特性を示した。
【００７０】
〔実施例２〕
上述した実施例１と同様にして第二基板上に反射膜を形成し、クリーンルーム内のフォトリソグラフィ装置の近傍に３日間放置し、反射膜の表面を十分に変色させた。
【００７１】
次に、配向膜を形成する直前に、アルカリ性の薬液としてテトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の２．３８％水溶液に、反射膜が形成された第二基板を３分間ディップした。その後、反射膜が形成された第二基板を純水でリンスした後、十分に乾燥させた。
【００７２】
アルカリ性の薬液で薬液処理後、直ちに反射膜上に配向膜を形成し、公知のラビング工程、組み立て工程、液晶注入工程及び偏光板貼り付け工程を経て、反射型液晶表示素子を作製した。
【００７３】
作製された反射型液晶表示素子について特性を確認したところ、反射膜形成後の３日間の放置を行わずに作製された反射型液晶表示素子と同等の優れた特性を示した。
【００７４】
〔実施例３〕
上述した実施例１と同様にして第二基板上に反射膜を形成し、クリーンルーム内のフォトリソグラフィ装置の近傍に３日間放置し、反射膜の表面を十分に変色させた。
【００７５】
次に、配向膜を形成する直前に、アルカリ性の薬液としてアンモニアの１０ｍｍｏｌ水溶液に水素を溶解させてなる溶液で、反射膜が形成された第二基板に対してメガソニックによる枚葉洗浄を１分間行った。その後、反射膜が形成された第二基板を純水でリンスした後、十分に乾燥させた。
【００７６】
アルカリ性の薬液で薬液処理後、直ちに反射膜上に配向膜を形成し、公知のラビング工程、組み立て工程、液晶注入工程及び偏光板貼り付け工程を経て、反射型液晶表示素子を作製した。
【００７７】
作製された反射型液晶表示素子について特性を確認したところ、反射膜形成後の３日間の放置を行わずに作製された反射型液晶表示素子と同等の優れた特性を示した。
【００７８】
〔実施例４〕
上述した実施例１と同様にして第二基板上に反射膜を形成し、クリーンルーム内のフォトリソグラフィ装置の近傍に３日間放置し、反射膜の表面を十分に変色させた。
【００７９】
次に、配向膜を形成する直前に、アルカリ性の薬液として、アンモニアの１０ｍｍｏｌ水溶液に水素を溶解させてなる溶液で、反射膜が形成された第二基板に対してメガソニックによる枚葉洗浄を１分間行った。その後、反射膜が形成された第二基板を純水でリンスし、エアナイフで水切りした後で、ホットプレート上で５分間、１８０℃にて熱処理した。
【００８０】
アルカリ性の薬液で薬液処理後、直ちに反射膜上に配向膜を形成し、公知のラビング工程、組み立て工程、液晶注入工程及び偏光板貼り付け工程を経て、反射型液晶表示素子を作製した。
【００８１】
作製された反射型液晶表示素子について特性を確認したところ、反射膜形成後の３日間の放置を行わずに作製された反射型液晶表示素子と同等の優れた特性を示した。
【００８２】
〔比較例〕
上述した実施例１と同様にして第二基板上に反射膜を形成し、クリーンルーム内のフォトリソグラフィ装置の近傍に３日間放置し、反射膜の表面を十分に変色させた。
【００８３】
次に、熱処理や薬液処理等を行わず、変色した反射膜上にそのまま配向膜を形成し、公知のラビング工程、組み立て工程、液晶注入工程及び偏光板貼り付け工程を経て、反射型液晶表示素子を作製した。
【００８４】
作製された反射型液晶表示素子について特性を確認したところ、反射膜の黄色が反映されて、反射型液晶表示素子全体が黄色に着色しており、実施例１〜実施例４に比べて表示品質が損なわれていた。
【００８５】
以上の結果から、配向膜形成工程の前に熱処理、アルカリ性の薬液の薬液処理、又は熱処理とアルカリ性の薬液の薬液処理との併用処理を行うことにより、変色の進行した反射膜の表面状態を改善し、反射型液晶表示素子の表示品質を向上させられることがわかった。
【００８６】
【発明の効果】
以上の説明からも明らかなように、本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、例えば配向膜形成工程等の次工程に移る前に反射膜を熱処理及び／又はアルカリ性の薬液の薬液処理することにより、変色した反射膜の表面状態を改善し、反射膜は銀又は銀を含む合金の本来有する優れた特性を回復する。このため、製造工程上の制約を受けることなく、変色のない優れた特性の反射膜を液晶表示素子の製造に供することができる。したがって、本発明によれば、製造上の取り扱いが難しい銀又は銀を含む合金の反射膜としての使用を容易とし、優れた表示品質の液晶表示素子を製造することができる。
【００８７】
また、本発明に係る液晶表示素子の製造装置は、例えば配向膜形成工程等の次工程に移る前に、反射膜に対して、熱処理ユニットで熱処理及び／又は薬液処理ユニットでアルカリ性の薬液で薬液処理することにより、変色した反射膜の表面状態を改善し、反射膜は、銀又は銀を含む合金の本来有する優れた特性を回復する。このため、製造工程上の制約を受けることなく、変色のない優れた特性の反射膜を液晶表示素子の製造に供することができる。したがって、本発明によれば、表示品質に優れた液晶表示素子の製造を容易とすることが可能な液晶表示素子の製造装置を提供することができる
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した反射型液晶表示素子の概略断面図である。
【図２】反射膜まで形成された状態の第二基板の概略断面図である。
【図３】反射膜の表面色度の測定結果を示す特性図である。
【図４】処理装置を示す平面図である。
【符号の説明】
１    反射型液晶表示素子
２    第一基板
３    第二基板
６    ＴＦＴ
９    反射膜
１０    第二配向膜
１６    液晶層
【図１】
0004215978.tif 000002
【図２】
0004215978.tif 000003
【図３】
0004215978.tif 000004
【図４】
0004215978.tif 000005