【手続補正書】
【提出日】平成25年9月5日(2013.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第１供給配管と前記第３供給配管とが同じ配管からなり、かつ、前記第１供給源と前記第３供給源とが同じ供給源からなることを特徴とする請求項１に記載の結晶成長装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記第２供給配管と前記第３供給配管とで一重管となっており、
前記第２供給源が前記第２供給配管を介して前記第２原料を前記反応容器に供給した後に、前記第３供給源が前記第３供給配管を介して前記不活性ガスを前記反応容器に供給することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の結晶成長装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記第２供給配管と前記第３供給配管とで二重管となっており、
前記第２供給配管が内側に配置され、前記第３供給配管が外側に配置されており、
前記第２供給源が前記第２供給配管を介して前記第２原料を前記反応容器に供給する際に、前記第３供給源が前記第３供給配管を介して前記不活性ガスを前記反応容器に供給することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の結晶成長装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ＧａＮ結晶の製造に用いるＧａＮ結晶成長装置は、加熱加圧雰囲気下で窒素ガス（Ｎ２）と、ガリウム（Ｇａ）の融液（液体Ｇａ）及びフラックスとなるナトリウム（Ｎａ）の融液からなる融液と、を反応させて融液に浸漬された種基板上にＧａＮ結晶を成長させる反応容器と、反応容器内へ窒素ガスを供給するための窒素ガス供給管と、を備えて構成されている（例えば、特許文献１参照）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明においては、前記第１供給配管と前記第３供給配管とが同じ配管からなり、かつ、前記第１供給源と前記第３供給源とが同じ供給源からなるという構成を採用する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明においては、前記第２供給配管と前記第３供給配管とで一重管となっており、前記第２供給源が前記第２供給配管を介して前記第２原料を前記反応容器に供給した後に、前記第３供給源が前記第３供給配管を介して前記不活性ガスを前記反応容器に供給するという構成を採用する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明においては、前記第２供給配管と前記第３供給配管とで二重管となっており、前記第２供給配管が内側に配置され、前記第３供給配管が外側に配置されており、前記第２供給源が前記第２供給配管を介して前記第２原料を前記反応容器に供給する際に、前記第３供給源が前記第３供給配管を介して前記不活性ガスを前記反応容器に供給するという構成を採用する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本実施形態では、第１供給配管と第３供給配管とが同じ配管からなり、かつ、第１供給源と第３供給源とが同じ供給源からなっている。これにより、第１供給配管と第３供給配管とが異なる配管からなり、かつ、第１供給源と第３供給源とが異なる供給源からなる場合に比べて、装置の簡素化及び小型化を図ることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
支持部１２０は、挿通部１０１の他端部を磁気力で支持する第２磁性体１２１と、第２駆動部１４０を支持するベース部１２２と、を備えている。第２磁性体１２１としては、例えば磁石を用いることができる。これにより、第２磁性体１２１と第１磁性体との間には互いに引き合う力が作用する。ベース部１２２には、ガイド部１１０と重なる位置に平面視円形の開口部１２３が形成されている。開口部１２３の径は、ガイド部１１０の外径よりも大きく設定されている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
また、本実施形態では、第１供給配管と第３供給配管とが同じ配管からなり、かつ、第１供給源と第３供給源とが同じ供給源からなっている。これにより、第１供給配管と第３供給配管とが異なる配管からなり、かつ、第１供給源と第３供給源とが異なる供給源からなる場合に比べて、装置の簡素化及び小型化を図ることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
なお、本実施形態では、不活性ガスとして窒素ガスを用いる場合を例示して説明したがこれに限らない。例えば、不活性ガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス、水素ガスを用いることもできる。この場合、窒化ガリウム製造装置は、第１供給配管と第３供給配管とが異なる配管からなり、かつ、第１供給源と第３供給源とが異なる供給源からなるように構成される。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る窒化ガリウム製造装置１７０の構成について、図３を用いて説明する。図３は、本発明の第２実施形態における第２供給配管及び第３供給配管を示す模式図である。なお、図３においては、反応容器の内部に突出した第２供給配管及び第３供給配管以外の構成部品（図１参照）については、上述した窒化ガリウム製造装置１と同様であるため、便宜上、図示を省略している。図３に示すように、本実施形態の窒化ガリウム製造装置１７０は、第２供給配管と第３供給配管とで二重管となっている点で、上述の第１実施形態で説明した窒化ガリウム製造装置１と異なる。なお、以下の説明では、第２供給配管として液体ガリウム供給配管（Ｇａ供給配管）１７１、第３供給配管として窒素ガス供給配管（Ｎ２供給配管）１７２を例示して説明する。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
本実施形態の窒化ガリウム製造装置１７０は、Ｇａ供給配管１７１とＮ２供給配管１７２とで中心軸が同軸の二重管となっている。Ｇａ供給配管１７１が内側に配置され、Ｎ２供給配管１７２が外側に配置されている。Ｇａ供給配管１７１の先端（−Ｚ方向側）は、Ｎ２供給配管１７２の先端（−Ｚ方向側）よりも内側（＋Ｚ方向側）に配置されている。Ｇａタンク５０（図１参照）がＧａ供給配管１７１を介して液体Ｇａを反応容器１０（図１参照）に供給する際に、Ｎ２ボンベ６０（図１参照）がＮ２供給配管１７２を介してＮ２を反応容器１０に供給する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
したがって、本実施形態では、Ｇａ供給配管１７１で液体Ｇａを反応容器１０に供給中であってもＮ２供給配管１７２でＮ２を常時反応容器１０に流し続けることができる。このため、Ｇａタンク５０がＧａ供給配管１７１を介して液体Ｇａを反応容器１０に供給した後に、Ｎ２ボンベ６０がＮ２供給配管１７２を介してＮ２を反応容器１０に供給する場合に比べて、混合融液１２から蒸発したＮａガスがＧａ供給配管１７１の内部に流入することを抑制することができる。したがって、Ｇａ供給配管１７１内にＧａＮの雑晶が形成されることを抑制し、Ｇａ供給配管１７１の閉塞を抑制することが可能な窒化ガリウム製造装置１７０を提供することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る窒化ガリウム製造装置２７０の構成について、図４を用いて説明する。図４は、図３に対応した、本発明の第３実施形態における第２供給配管及び第３供給配管を示す模式図である。なお、図４においては、反応容器の内部に突出した第２供給配管及び第３供給配管以外の構成部品（図１参照）については、上述した窒化ガリウム製造装置１と同様であるため、便宜上、図示を省略している。図４に示すように、本実施形態の窒化ガリウム製造装置２７０は、第３供給配管の先端部が先細りのテーパー形状となっている点で、上述の第２実施形態で説明した窒化ガリウム製造装置１７０と異なる。なお、以下の説明では、第２供給配管として液体ガリウム供給配管（Ｇａ供給配管）２７１、第３供給配管として窒素ガス供給配管（Ｎ２供給配管）２７２を例示して説明する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
本実施形態の窒化ガリウム製造装置２７０は、Ｇａ供給配管２７１とＮ２供給配管２７２とで中心軸が同軸の二重管となっている。Ｇａ供給配管２７１が内側に配置され、Ｎ２供給配管２７２が外側に配置されている。Ｇａ供給配管２７１の先端（−Ｚ方向側）は、Ｎ２供給配管２７２の先端（−Ｚ方向側）よりも内側（＋Ｚ方向側）に配置されている。Ｇａタンク５０（図１参照）がＧａ供給配管１７１を介して液体Ｇａを反応容器１０（図１参照）に供給する際に、Ｎ２ボンベ６０（図１参照）がＮ２供給配管１７２を介してＮ２を反応容器１０に供給する。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
１,１７０,２７０…窒化ガリウム製造装置（結晶成長装置）、１０…反応容器、１１…種基板、１２…融液、５０…Ｇａ供給源（第２供給源）、５１,１７１,２７１…Ｇａ供給配管（第２供給配管）、５１Ｒａ…垂直供給路、５１Ｒｂ…傾斜供給路、６０…Ｎ２供給源（第１供給源、第３供給源）、６１,１７２,２７２…Ｎ２供給配管（第１供給配管、第３供給配管）