【手続補正書】
【提出日】平成25年7月31日(2013.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第７観点の圧電デバイスは、電圧の印加により振動する圧電振動片と、圧電振動片が載置されるベース凹部を有するベース部と、ベース部と接合して圧電振動片を密閉封入するリッド部と、ベース部とリッド部とを封止する環状に形成された封止材と、を備える。また、封止材がベース凹部の側面に形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図２に示されるように、水晶フレーム１０のＸ軸方向の長さＡは２０００μｍ程度で、Ｚ’軸方向の長さ（図示しない）は１６００μｍ程度である。本明細書では外形寸法が２０００μｍ×１６００μｍの水晶フレーム１０が用いられているが、例えばより小型の１６００μｍ×１２００μｍ又は１２００μｍ×１０００μｍの水晶フレーム１０が用いられてもよい。また、圧電振動子の小型化につれ、枠体１０５の幅Ｂは狭くなり０．１×Ａ以下、すなわち２００μｍ以下となっている。さらに、「Ｌ」字型の貫通開口部１０８ａ、１０８ｂの幅Ｄは１０μｍ以上にすることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
第１実施形態において、水晶フレーム１０の枠体１０５の幅Ｂがベース部１２の第２接続面Ｍ２の幅（Ｂ＋Ｃ）より狭く形成されている。このため、水晶フレーム１０が押圧されることで、ベース部１２の第２接続面Ｍ２に形成された低融点ガラスＬＧ２は水晶フレーム１０の枠体１０５に対応される部分及び支持部１０４ａ及び支持部１０４ｂに対応される部分が薄くなる。一方、水晶フレーム１０の枠体１０５に押圧されなかった幅Ｃに対応する低融点ガラスＬＧ２は薄くならず貫通開口部１０８ａ、１０８ｂの側面Ｍ３に盛り上がって接着される。これにより、低融点ガラスＬＧ２は図１に示された貫通開口部１０８ａ、１０８ｂに対応する形状で盛り上がった低融点ガラス領域１２６ａ、１２６ｂが形成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、図２に示されたようにリッド部１１、水晶フレーム１０の枠体１０５及びベース部１２により水晶フレーム１０の水晶振動部１０１を収納するキャビティＣＴが形成される。キャビティＣＴは窒素ガスで満たされたり又は真空状態にされたりする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ここで、リッド部１１と水晶フレーム１０とは例えば封止材である低融点ガラスＬＧ１により接合される。水晶フレーム１０の枠体１０５の幅Ｂがリッド部１１の第１接続面Ｍ１の幅（Ｂ＋Ｃ）より狭く形成されている。このため、リッド部１１が押圧されることで、リッド部１１の第１接続面Ｍ１に形成された低融点ガラスＬＧ１は水晶フレーム１０の枠体１０５に対応される部分及び支持部１０４ａ及び支持部１０４ｂに対応される部分が薄くなる。一方、水晶フレーム１０の枠体１０５に押圧されなかった幅Ｃに対応する低融点ガラスＬＧ１は薄くならず貫通開口部１０８ａ、１０８ｂの側面Ｍ３に盛り上がって接着される。これにより、低融点ガラスＬＧ１は図１に示された貫通開口部１０８ａ、１０８ｂに対応する形状で盛り上がった低融点ガラス領域１１６ａ、１１６ｂが形成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
ステップＳ１２では、水晶フレーム１０が製造される。ステップＳ１２はステップＳ１２１及びＳ１２２を含んでいる。
ステップＳ１２１において、図５に示されたように、均一の水晶ウエハ１０Ｗにエッチングにより複数の水晶フレーム１０の外形が形成される。すなわち、水晶振動部１０１と、外枠１０５と、一対の貫通開口部１０８ａ、１０８ｂとが形成される。同時に、各水晶フレーム１０のＸ軸方向の両側には水晶ウエハ１０Ｗを貫通するように角丸長方形の水晶貫通孔ＣＨが形成される。水晶貫通孔ＣＨが半分割されると１つの水晶キャスタレーション１０６ａ、１０６ｂ（図１を参照）になる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
リッド部２１の製造ステップＳ１１において、凹部の形成ステップＳ１１１は必要せず、ステップＳ１１２で後述する水晶フレーム１０の枠体１０５に対応される形状の低融点ガラスＬＧ１がリッドウエハに形成される。
水晶フレーム１０の製造ステップＳ１２は、第１実施形態と同じである。
ベース部２２の製造ステップＳ１３において、ステップＳ１３１ではベース貫通孔ＢＨが形成されるがベース凹部１２１が形成されない。その後、ステップＳ１３２により各電極が形成され、ステップＳ１３３により水晶フレーム１０の枠体１０５に対応される形状の低融点ガラスＬＧ２がベースウエハに形成される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
第５水晶振動子５００は、リッド凹部５１１とリッド凹部５１１の周囲に形成された第１接続面Ｍ１とを有するガラス又は圧電材料からなるリッド部５１を備える。また、ベース凹部５２１とベース凹部５２１の周囲に形成された第２接続面Ｍ２とを有するガラス又は圧電材料からなるベース部５２を備えている。また、ベース部５２のベース凹部５２１とリッド部５１のリッド凹部５１１とは圧電振動片５０を収納するキャビティＣＴが形成される。キャビティＣＴは、窒素ガスで満たされたり又は真空状態にされたりすることで、気密的に封止される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
ここで、リッド部５１及びベース部５２のＸ軸方向の長さＡは２０００μｍ程度で、Ｚ’軸方向の長さ（図示しない）は１６００μｍ程度である。本明細書では外形寸法が２０００μｍ×１６００μｍのリッド部５１及びベース部５２が用いられているが、例えばより小型の１６００μｍ×１２００μｍ又は１２００μｍ×１０００μｍのリッド部５１及びベース部５２が用いられてもよい。また、圧電振動子の小型化につれ、リッド部５１の第１接続面Ｍ１及びベース部５２の第２接続面Ｍ２の幅Ｂは狭くなり０．１×Ａ以下、すなわち２００ｍ以下となっている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
なお、例えばリッド部５１とベース部５２とが対向に押圧されると、一定の粘度を有する低融点ガラスＬＧはリッド凹部５１１の側面Ｍ７及びベース凹部５２１の側面Ｍ８まで盛り上がって、側面の低融点ガラス領域５０６が形成される。ここで、低融点ガラス領域５０６の厚さＣは、５μｍ以上である。したがって、低融点ガラス領域５０６が水晶振動片５０に接触しないように、リッド凹部５１１の側面Ｍ７又はベース凹部５２１の側面Ｍ８から水晶振動片５０までの距離Ｄは１０μｍ以上にすることが好ましい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
このような構成によれば、リッド部５１の第１接続面Ｍ１及びベース部５２の第２接続面Ｍ２が幅狭く形成されても盛り上がった低融点ガラス領域５０６によってより広い接続面積でより確実にリッド部５１とベース部５２とを接合することができる。したがって、盛り上がった低融点ガラス領域分だけ接続面積が大きくなり、リッド部５１とベース部５２との接合領域を介してから第５水晶振動子５００の外側からキャビティ内への気体のリーク又はその逆のリークが発生しにくくなり、且つ第５水晶振動子５００は外部からの衝撃などにも強くなる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
＜第５水晶振動子５００の製造方法＞
図１４は、第５水晶振動子５００の製造を示したフローチャートである。図１４において、水晶振動片５０の製造ステップＴ５０と、リッド部５１の製造ステップＴ５１と、ベース部５２の製造ステップＴ５２とは別々に並行して行うことができる。また、図１５は第５実施形態の水晶ウエハ５０Ｗの平面図で、図１６は第５実施形態のベースウエハ５２Ｗの平面図である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
ステップＴ５０２において、まずスパッタリングまたは真空蒸着によって水晶ウエハ５０Ｗの両面及び側面にクロム層及び金層が順に形成される。ここで、下地としてのクロム層の厚さは例えば５００Å程度であり、金層の厚さは例えば２５００Å程度である。そして、金属層の全面にフォトレジストが均一に塗布される。その後、露光装置（図示しない）を用いて、フォトマスクに描かれた励振電極５０２ａ、５０２ｂ、引出電極５０３ａ、５０３ｂのパターンが水晶ウエハ５０Ｗに露光される。次に、フォトレジストから露出した金属層がエッチングされる。これにより、図１５に示されたように水晶ウエハ５０Ｗ両面及び側面には励振電極５０２ａ、５０２ｂ及び引出出極５０３ａ、５０３ｂが形成される（図１２を参照）。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
ステップＴ５１１において、均一厚さの水晶平板のリッドウエハ（図４を参照）にリッド凹部５１１が数百から数千個形成される。リッドウエハには、エッチング又は機械加工によりリッド凹部５１１が形成され、リッド凹部５１１の周囲には第１接続面Ｍ１が形成される。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
ステップＴ５１２において、スクリーン印刷でリッドウエハの第１端面Ｍ１上に低融点ガラスＬＧが印刷される。ここで、スクリーンとしてナイロン、テトロン（登録商標）、ステンレスなどの織物が使用される。その後、低融点ガラスＬＧを仮硬化することで、低融点ガラスＬＧがリッドウエハの第１接続面Ｍ１に形成される。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
ステップＴ５２１において、図１６に示されたように、均一厚さの水晶平板のベースウエハ５２Ｗにベース凹部５２１が数百から数千個形成される。ベースウエハ５２Ｗには、エッチング又は機械加工によりベース凹部５２１が形成され、ベース凹部５２１の周囲には第２接続面Ｍ２が形成される。同時に、各ベース部５２のＸ軸方向の両側にはベースウエハ５２Ｗを貫通するようにスルーホール５２２ａ、５２２ｂが形成される。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
ステップＴ５６では、接合されたリッドウエハと、ベースウエハ５２Ｗとが個々に切断される。切断工程では、レーザーを用いたダイシング装置、または切断用ブレードを用いたダイシング装置などを用いて図１６に示された一点鎖線のスクライブラインＳＬに沿って第５水晶振動子５００を単位として個片化する。これにより、数百から数千の第５水晶振動子５００が製造される。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記封止材は、前記第１接合面及び前記第２接合面の幅Ｂに５μｍ以上加えた幅で形成され、
前記ベース部及び前記リッド部の側面から前記圧電振動片までの距離は１０μｍ以上である請求項９に記載の圧電デバイス。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2012065155.tif 000001