【手続補正書】
【提出日】平成25年2月18日(2013.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像装置であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する変更手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記被検査物が、被検眼であり、
前記変更手段が、前記被検眼の眼底表面における前記複数の照射位置の間隔を変更することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記変更手段が、前記走査手段の副走査方向における前記複数の照射位置の幅を変更することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項１あるいは２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記変更手段が、前記複数の照射位置の配列を、前記走査手段の主走査方向から副走査方向に変更する、あるいは該副走査方向から該主走査方向に変更することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記複数の測定光を前記被検査物に射出する複数のファイバ端を含み、
前記変更手段が、前記複数のファイバ端を前記複数の測定光の射出方向を軸にして回転することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記複数の測定光を前記被検査物に射出する複数のファイバ端を含み、
前記変更手段が、前記複数のファイバ端の一部を選択することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記変更手段が、前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を取得した際よりも前記複数の測定光の照射位置の間隔を狭くすることにより前記配置を変更し、
前記広い走査領域に含まれる前記被検査物の注目領域における前記光干渉断層画像が、前記狭くされた間隔で前記複数の測定光を走査することにより、取得されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する解析手段と、
前記解析手段による解析結果に基づいて、前記変更手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する変更手段と、
前記変更手段により変更された前記位置関係で前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する解析手段と、
前記解析手段による解析結果に基づいて、前記変更手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１０】
前記解析手段が、前記広域画像から前記被検査物の注目領域を決定し、
前記変更手段が、前記広域画像を取得した際よりも前記複数の照射位置の間隔を狭くするように前記位置関係を変更し、
前記取得手段が、前記変更手段により変更された前記位置関係で前記注目領域の前記光干渉断層画像を取得することを特徴とする請求項９に記載の撮像装置。
【請求項１１】
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段と、
前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する変更手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
複数の測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像方法であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する工程を含むことを特徴とする撮像方法。
【請求項１３】
前記被検査物が、被検眼であり、
前記変更する工程において、前記被検眼の眼底表面における前記複数の照射位置の間隔を変更することにより前記配置を変更することを特徴とする請求項１２に記載の撮像方法。
【請求項１４】
前記変更する工程において、前記走査手段の副走査方向における前記複数の照射位置の幅を変更することを特徴とする請求項１２あるいは１３に記載の撮像方法。
【請求項１５】
前記変更する工程において、前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を取得した際よりも前記複数の測定光の照射位置の間隔を狭くすることにより前記配置を変更し、
前記広い走査領域に含まれる前記被検査物の注目領域における前記光干渉断層画像が、前記狭くされた間隔で前記複数の測定光を走査することにより、取得されることを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載の撮像方法。
【請求項１６】
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する工程を含み、
前記変更する工程において、前記解析する工程における解析結果に基づいて、前記配置を変更することを特徴とする請求項１２乃至１５のいずれか１項に記載の撮像方法。
【請求項１７】
複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する工程と、
前記解析する工程における解析結果を用いて前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。
【請求項１８】
前記広域画像から前記被検査物の注目領域を決定する工程を含み、
前記変更する工程において、前記広域画像を取得した際よりも前記複数の照射位置の間隔を狭くするように前記位置関係を変更し、
前記取得する工程において、前記変更された前記位置関係で前記注目領域の前記断層画像を取得することを特徴とする請求項１７に記載の撮像方法。
【請求項１９】
被検査物に照射される複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段の走査速度であって、前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する工程と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、
を含むことを特徴とする撮像方法。
【請求項２０】
請求項１２乃至１９のいずれか１項に記載の撮像方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像装置であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する変更手段と、を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、別の本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する変更手段と、
前記変更手段により変更された前記位置関係で前記複数の測定光を走査する走査手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する解析手段と、
前記解析手段による解析結果に基づいて、前記変更手段を制御する制御手段と、を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、別の本発明に係る撮像装置は、
複数の測定光を被検査物に照射する照射手段と、
前記照射手段により前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段と、
前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する変更手段と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する取得手段と、を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、前記被検査物の光干渉断層画像を取得する撮像方法であって、
前記被検査物に対して前記複数の測定光を走査する走査手段の走査方向における前記複数の測定光の照射位置の配置を変更する工程を含む。
また、別の本発明に係る撮像方法は、
複数の測定光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、
前記光干渉断層画像を取得する走査領域よりも広い走査領域で取得された前記被検査物の広域画像を解析する工程と、
前記解析する工程における解析結果を用いて前記被検査物に照射される前記複数の測定光の照射位置の位置関係を変更する工程と、を含む。
また、別の本発明に係る撮像方法は、
被検査物に照射される複数の測定光の照射位置を略主走査方向に並べて該複数の測定光を走査する走査手段の走査速度であって、前記複数の測定光の前記略主走査方向の走査速度を変更する工程と、
前記走査された複数の測定光に基づく前記被検査物の光干渉断層画像を取得する工程と、を含む。