【手続補正書】
【提出日】平成25年3月26日(2013.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法に係り、さらに詳しくは、投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光方法露光方法及び該露光方法を実施するのに好適な露光装置、並びに該露光装置又は前記露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、第１の観点からすると、投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光方法であって、前記基板を載置する第１ステージの外周エッジの位置情報を取得することと、前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する第２ステージに対して前記第１ステージが接近するように前記第１、第２ステージを相対移動するとともに、前記第１、第２ステージを互いに接近させつつ移動するために、前記第１、第２ステージの位置情報を計測しつつ前記第１、第２ステージの駆動を制御することと、を含み、前記第１、第２ステージの移動中、前記外周エッジの位置情報に基づいて前記第１、第２ステージの少なくとも一方の位置が制御されるとともに、前記液浸領域は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持され、前記基板の露光動作中、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームが前記基板に照射される露光方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
これによれば、第１、第２ステージを互いに接近させつつ移動するための両ステージの移動中、外周エッジの位置情報に基づいて第１、第２ステージの少なくとも一方の位置が制御され、かつ液浸領域が、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって投影光学系の下に維持される。そして、液浸露光により基板が露光される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、第２の観点からすると、投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光装置であって、前記基板を載置する第１ステージと、前記第１ステージに対して相対移動可能な第２ステージと、前記第１、第２ステージの位置情報を計測する位置計測系と、前記第１、第２ステージを駆動する駆動系と、前記第１ステージによって前記投影光学系と対向して配置される前記基板の一部に、前記液体によって液浸領域を形成する局所液浸部材と、前記第１ステージの外周エッジの位置情報を取得する計測装置と、前記位置計測系によって計測される位置情報に基づいて、前記駆動系による前記第１、第２ステージの駆動を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する前記第２ステージに対して前記第１ステージが接近するように前記第１、第２ステージを相対移動するとともに、前記第１、第２ステージを互いに接近させつつ移動するために、前記外周エッジの位置情報に基づいて前記第１、第２ステージの少なくとも一方の位置を制御し、前記第１、第２ステージの移動中、前記液浸領域は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される露光装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
これによれば、第１、第２ステージを互いに接近させつつ移動するために、外周エッジの位置情報に基づいて第１、第２ステージの少なくとも一方の位置を制御し、これにより両ステージの位置関係を所望の状態に維持し、かつ前記第１、第２ステージの移動中、液浸領域を、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって投影光学系の下に維持することが可能になる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０１】
以上説明したように、本発明の露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法は、半導体素子などのマイクロデバイスの製造に適している。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光方法であって、
前記基板を載置する第１ステージの外周エッジの位置情報を取得することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する第２ステージに対して前記第１ステージが接近するように前記第１、第２ステージを相対移動するとともに、前記第１、第２ステージを互いに接近させつつ移動するために、前記第１、第２ステージの位置情報を計測しつつ前記第１、第２ステージの駆動を制御することと、を含み、
前記第１、第２ステージの移動中、前記外周エッジの位置情報に基づいて前記第１、第２ステージの少なくとも一方の位置が制御されるとともに、前記液浸領域は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持され、
前記基板の露光動作中、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームが前記基板に照射される露光方法。
【請求項２】
請求項１に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージが移動される座標系を規定する位置計測系によって前記第１ステージの位置情報を計測しつつ、前記位置計測系と異なる検出装置によって前記第１ステージの一部を検出して、前記座標系上における前記外周エッジの位置情報を取得する露光方法。
【請求項３】
請求項２に記載の露光方法において、
前記検出装置は、前記基板のアライメントマークを検出するアライメント系を含む露光方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージは複数箇所で前記外周エッジの位置情報が取得され、
前記第１、第２ステージは互いに衝突しないようにその少なくとも一方の位置が制御される露光方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２ステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される状態で前記外周エッジの位置情報が取得される露光方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２ステージは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームで露光される基板を載置可能、あるいは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームが照射される少なくとも１つの計測部材が設けられる露光方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、上面が前記液浸領域と接するプレートが設けられ、
前記外周エッジの位置情報を取得するために、前記プレートの一部が検出される露光方法。
【請求項８】
請求項７に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記プレートの着脱あるいは交換が行われ、
前記プレートの検出は、前記プレートの着脱毎あるいは交換毎に行われる露光方法。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の露光方法において、
前記プレートはその一部が前記第１ステージの外側に張り出して設けられる露光方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、開口が形成されるプレートが設けられ、
前記外周エッジの位置情報を取得するために、前記プレートの一部が検出され、
前記基板は、前記プレートの開口内に載置される露光方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光方法において、
前記プレートの一部を検出して、前記開口の位置情報を取得することと、
前記投影光学系から離れた前記基板の交換位置に配置される前記第１ステージの上方に前記基板を搬送することと、
前記搬送された基板が前記開口内に載置されるように、前記開口の位置情報に基づいて前記第１ステージに前記基板をロードすることと、をさらに含む露光方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光方法において、
前記ロードにおいて、前記開口の位置情報に基づいて前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係が調整される露光方法。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の露光方法において、
前記開口の位置情報に基づいて、前記基板を搬送する搬送系と前記第１ステージとの少なくとも一方を制御して、前記搬送された基板と前記第１ステージとの位置関係が設定される露光方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の露光方法において、
前記開口の内周エッジと接触することなく前記基板がロードされるとともに、前記開口内に載置される基板の表面と前記プレートの上面との間に間隙が形成されるように、前記搬送された基板と前記第１ステージとの位置関係が設定される露光方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の露光方法において、
前記基板は、前記間隙が０．３ｍｍ程度以下となる、あるいは、前記間隙が実質的に一様となるように前記開口内に載置される露光方法。
【請求項１６】
請求項１４又は１５に記載の露光方法において、
前記第１ステージはその上面側で前記液浸領域が前記間隙を横切るように移動される露光方法。
【請求項１７】
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板はプリアライメントが行われ、前記プリアライメントが行われた基板が前記第１ステージにロードされる露光方法。
【請求項１８】
請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板はその表面が前記プレートの上面とほぼ同一面となるように前記開口内に載置される露光方法。
【請求項１９】
請求項７〜１８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記プレートは、前記第１ステージ上に撥液面を形成する露光方法。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光方法を用いるリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
【請求項２１】
投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光装置であって、
前記基板を載置する第１ステージと、
前記第１ステージに対して相対移動可能な第２ステージと、
前記第１、第２ステージの位置情報を計測する位置計測系と、
前記第１、第２ステージを駆動する駆動系と、
前記第１ステージによって前記投影光学系と対向して配置される前記基板の一部に、前記液体によって液浸領域を形成する局所液浸部材と、
前記第１ステージの外周エッジの位置情報を取得する計測装置と、
前記位置計測系によって計測される位置情報に基づいて、前記駆動系による前記第１、第２ステージの駆動を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する前記第２ステージに対して前記第１ステージが接近するように前記第１、第２ステージを相対移動するとともに、前記第１、第２ステージを互いに接近させつつ移動するために、前記外周エッジの位置情報に基づいて前記第１、第２ステージの少なくとも一方の位置を制御し、前記第１、第２ステージの移動中、前記液浸領域は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される露光装置。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記第１ステージの一部を検出する、前記位置計測系と異なる検出装置を有し、
前記位置計測系によって前記第１ステージの位置情報を計測しつつ前記検出装置によって前記第１ステージの一部を検出して、前記位置計測系によって規定される座標系上における前記外周エッジの位置情報を取得する露光装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の露光装置において、
前記検出装置は、前記基板のアライメントマークを検出するアライメント系を含む露光装置。
【請求項２４】
請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは複数箇所で前記外周エッジの位置情報が取得され、
前記第１、第２ステージは互いに衝突しないようにその少なくとも一方の位置が制御される露光装置。
【請求項２５】
請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２ステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される状態で前記外周エッジの位置情報が取得される露光装置。
【請求項２６】
請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームで露光される基板を載置可能、あるいは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームが照射される少なくとも１つの計測部材が設けられる露光装置。
【請求項２７】
請求項２１〜２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、上面が前記液浸領域と接するプレートが設けられ、
前記外周エッジの位置情報を取得するために、前記計測装置によって前記プレートの一部が検出される露光装置。
【請求項２８】
請求項２７に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記プレートの着脱あるいは交換が行われ、
前記プレートの検出は、前記プレートの着脱毎あるいは交換毎に行われる露光装置。
【請求項２９】
請求項２７又は２８に記載の露光装置において、
前記プレートはその一部が前記第１ステージの外側に張り出して設けられる露光装置。
【請求項３０】
請求項２１〜２９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、開口が形成されるプレートが設けられ、
前記外周エッジの位置情報を取得するために、前記計測装置によって前記プレートの一部が検出され、
前記基板は、前記プレートの開口内に載置される露光装置。
【請求項３１】
請求項３０に記載の露光装置において、
前記投影光学系から離れた前記基板の交換位置に配置される前記第１ステージの上方に前記基板を搬送する搬送系を、さらに備え、
前記計測装置は、前記プレートの開口の位置情報を取得し、
前記制御装置は、前記搬送された基板が前記開口内に載置されるように、前記開口の位置情報に基づいて前記第１ステージに前記基板をロードする露光装置。
【請求項３２】
請求項３１に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記ロードにおいて、前記開口の位置情報に基づいて前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係を調整する露光装置。
【請求項３３】
請求項３１又は３２に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記開口の位置情報に基づいて前記基板を搬送する搬送系と前記第１ステージとの少なくとも一方を制御して、前記搬送された基板と前記第１ステージとの位置関係を設定する露光装置。
【請求項３４】
請求項３３に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記開口の内周エッジと接触することなく前記基板がロードされるとともに、前記開口内に載置される基板の表面と前記プレートの上面との間に間隙が形成されるように、前記搬送された基板と前記第１ステージとの位置関係を設定する露光装置。
【請求項３５】
請求項３４に記載の露光装置において、
前記基板は、前記間隙が０．３ｍｍ程度以下となる、あるいは、前記間隙が実質的に一様となるように前記開口内に載置される露光装置。
【請求項３６】
請求項３４又は３５に記載の露光装置において、
前記第１ステージはその上面側で前記液浸領域が前記間隙を横切るように移動される露光装置。
【請求項３７】
請求項３１〜３６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記搬送系は、前記基板のプリアライメント装置を有し、
前記プリアライメント装置によってプリアライメントが行われた基板が前記第１ステージにロードされる露光装置。
【請求項３８】
請求項３０〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記基板の表面が前記プレートの上面とほぼ同一面となるように前記開口内で前記基板を載置する露光装置。
【請求項３９】
請求項２７〜３８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記プレートは、前記第１ステージ上に撥液面を形成する露光装置。
【請求項４０】
請求項２１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置を用いるリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。