(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、この基板の表面上に設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを有し、
前記濡れ性可変層が、少なくとも光触媒とバインダとからなる光触媒含有層であり、かつエネルギーの照射により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項２】
前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項１記載のマイクロレンズ基板。
【請求項３】
前記光触媒含有層がフッ素を含み、前記光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、前記光触媒の作用により前記光触媒含有層表面のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較して低下するように前記光触媒含有層が形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマイクロレンズ基板。
【請求項４】
前記光触媒が、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、および酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）から選択される１種または２種以上の物質であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のマイクロレンズ基板。
【請求項５】
前記光触媒が酸化チタン（ＴｉＯ2）であることを特徴とする請求項４記載のマイクロレンズ基板。
【請求項６】
前記バインダが、ＹnＳｉＸ(4-n)（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載のマイクロレンズ基板。
【請求項７】
前記オルガノポリシロキサンを構成する前記珪素化合物の内、フルオロアルキル基を含む珪素化合物が、０．０１モル％以上含まれていることを特徴とする請求項６記載のマイクロレンズ基板。
【請求項８】
前記光触媒含有層上における表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が、エネルギーが照射されていない部分において１０度以上であり、エネルギーが照射された部分において１０度未満であることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれかの請求項に記載のマイクロレンズ基板。
【請求項９】
（１）基板上にエネルギー照射により照射部分の濡れ性が液体との接触角が低下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程と、
（２）前記基板上に設けられた光触媒含有層上のマイクロレンズを形成する部位であるマイクロレンズ形成部に、エネルギーをパターン照射してマイクロレンズ用露光部を形成する工程と、
（３）このマイクロレンズ用露光部にマイクロレンズ形成用塗料を塗布し、マイクロレンズを形成する工程と
を含むことを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
前記マイクロレンズ用露光部にマイクロレンズ形成用塗料を塗布する工程が、インクジェット方式で塗布されることを特徴とする請求項９記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１１】
前記光触媒含有層上における表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が、エネルギーが照射されていない部分において１０度以上であり、エネルギーが照射された部分において１０度未満であることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載のマイクロレンズ基板を用いたことを特徴とする液晶ディスプレイ。
【請求項１３】
請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載のマイクロレンズ基板を用いたことを特徴とする撮像素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上に複数のマイクロレンズが配置されたマイクロレンズ基板に関し、特に簡便な製造方法で製造されるためコスト的に有利で、かつ品質の良好なマイクロレンズ基板およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、マイクロレンズを透明基板上に配置したマイクロレンズ基板に対する需要が高くなっている。例えば、カラー液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は、カラーフィルタを使用して構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とし、液晶の電気的スイッチングにより３原色の各光の透過を制御してカラー表示を行うものであり、プラズマディスプレイ等に比べて消費電力が小さいという長所がある。このような液晶ディスプレイでは、表示を明るく鮮明なものとするために、背後に照明用光源を備えた、いわゆるバックライト方式が近年普及している。しかし、照明用光源を使用した場合、消費電力が増大し、上記の消費電力が小さいという液晶ディスプレイの長所が損なわれることになる。このため、照明用光源からの光を効率良くカラーフィルタの画素部に集光することにより、照明用光源に要する電力を低減することが要求され、その手段として、マイクロレンズを透明基板上に配列してなるマイクロレンズ基板を使用した液晶ディスプレイが提案されている（特開昭６０−１６５６２３号等）。
【０００３】
また、ＣＣＤ等を使用したカラーイメージセンサーでは、有効開口率を上げるために各受光セルに対応したマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板を受光面に配設したものが開発されている（特開昭６１−６７００３号）。
【０００４】
さらに、近年、光通信等で使用が増大している光ファイバにおいても、光の結合を行う場合にマイクロレンズが組み合わされて使用されている（特開昭６１−１５３６０２号）。
【０００５】
このように、透明基板の一方の面にマイクロレンズが配置されたマイクロレンズ基板は種々の用途で使用されている。このマイクロレンズの製造方法には、（１）ガラスに拡散させたイオン濃度の分布を利用して屈折率勾配型のレンズとする方法（Electronics Letters Vol.17,No.13,PP452(1981)）、（２）金型によってプラスチックあるいはガラスの表面をレンズ状の凹凸に成型する方法、（３）熱可塑性樹脂を用いてレンズの平面形状にパターン化し、その後、熱可塑性樹脂の軟化点以上に加熱して流動させることによりパターンエッジにダレを生じさせて凸レンズを形成する方法（特開昭６０−３８９８９号等）、（４）感光性樹脂にプロキシミティ露光を施してパターンエッジにボケを生じさせ、このボケに応じて光反応生成物の量に分布をもたせて凸レンズ形状を得る方法（特開昭６１−１５３６０２号）、（５）感光性樹脂に強度分布をもたせた光を照射して露光し、光強度に応じた屈折率分布パターンを形成して微小レンズとする方法（特開昭６０−７２９２７号等）、（６）感光性ガラスに対する光照射によって生じる結晶化に伴った収縮を利用して凸レンズを形成する方法（Applied Optics Vol.24,No.16,PP2520(1985)）、（７）感光性樹脂をアライナーを用いて所望のパターン状に露光すると、非露光部から露光部に未反応のモノマーが移動して露光部が盛り上がるという現象を利用した凸レンズ形成方法（応用物理学会光学懇話会微小光学研究グループ機関誌 Vol.5,No.2,PP118(1987),同 Vol.6,No.2,PP87(1988)）等の種々の方法が提案されている。
【０００６】
しかしながら、上述したいずれの製造方法においても、所望の特性を備えたマイクロレンズをより簡便に製造することができず、このためコスト面で問題があり、また品質の面でも問題があった。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、製造工程が簡便であるため、コスト的に有利であり、かつ精度良く製造されるため品質の良好なマイクロレンズ基板と、このようなマイクロレンズ基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は請求項１において、基板と、この基板の表面上に設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを有し、上記濡れ性可変層が、少なくとも光触媒とバインダとからなる光触媒含有層であり、かつエネルギーの照射により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることを特徴とするマイクロレンズ基板を提供する。
【０００９】
このように、本発明は、濡れ性可変層上に複数のマイクロレンズを有する構成としたものであるので、予めマイクロレンズを設ける部分の濡れ性可変層の濡れ性を液体との接触角が小さい親液性領域とし、他の部分の濡れ性可変層を液体との接触角が大きい撥液性領域とすることができる。したがって、このマイクロレンズを設ける親液性領域の部分にマイクロレンズ形成用塗料を付着させることにより、液体との接触角の小さい親液性領域にのみマイクロレンズ形成用塗料が付着するため、基板上に精度良くマイクロレンズを形成することができる。また、マイクロレンズの焦点距離は、マイクロレンズ形成用塗料の量と、このマイクロレンズ形成用塗料が塗布される親液性領域（マイクロレンズ形成部）の面積との関係で決定されるため、比較的容易に焦点距離を制御することが可能となる。
また、エネルギー照射により液体との接触角が低下するように濡れ性の変化する光触媒含有層が形成されれば、エネルギーのパターン照射等を行うことにより容易にこの層の濡れ性を変化させ、液体との接触角の小さい親液性領域を形成とすることができ、マイクロレンズが形成される部分のみ容易に親液性領域とすることが可能となる。したがって、より簡便かつより精度良く親液性領域を形成することができることから、この親液性領域にマイクロレンズを形成することにより、より簡便な工程でより精度の高いマイクロレンズ基板とすることができる。
【００１０】
本発明においては、請求項２に記載するように、上記基板が、透明基板であることが好ましい。マイクロレンズの用途としては、液晶ディスプレイ等において、目視者方向への輝度を高めるために用いられたり、ＣＣＤ素子等の撮像素子の光感度を高めるために用いられる等の光がマイクロレンズ基板を透過するように構成されている必要があるケースが多い。したがって、マイクロレンズ基板に用いられる基板は、透明基板であることが好ましいのである。
【００１３】
上記請求項１または請求項２に記載するマイクロレンズ基板においては、請求項３に記載するように、上記光触媒含有層がフッ素を含み、上記光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、上記光触媒の作用により上記光触媒含有層表面のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されていることが好ましい。
【００１４】
このように、本発明のマイクロレンズ基板は、基板上に形成された光触媒含有層上のエネルギー照射部分のフッ素含有量が低下するように構成されているので、エネルギーをパターン照射することにより、フッ素含有量の低下した部分からなるパターンを形成することができる。フッ素含有量が低下するとその部分は、他の部分と比較して親液性の高い領域となるので、マイクロレンズが形成される部分のみ容易に親液性領域とすることが可能となり、容易にマイクロレンズ基板を製造することができる。
【００１５】
上記請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のマイクロレンズ基板においては、請求項４に記載するように、光触媒が、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、および酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）から選択される１種または２種以上の物質であることが好ましい。中でも請求項５に記載するように光触媒が酸化チタン（ＴｉＯ2）であることが好ましい。これは、酸化チタンのバンドギャップエネルギーが高いため光触媒として有効であり、かつ化学的にも安定で毒性もなく、入手も容易だからである。
【００１６】
上記請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載されたマイクロレンズ基板において、光触媒含有層を構成する他の成分であるバインダは、請求項６に記載するように、ＹnＳｉＸ(4-n)（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。光触媒の触媒作用に対抗する結合エネルギーを有し、撥液性を示すフルオロアルキル基等の導入が容易であり、エネルギーが照射された際の親液性を高くすることができるからである。
【００１７】
上記請求項６に記載されたマイクロレンズ基板においては、請求項７に記載されるように、上記オルガノポリシロキサンを構成する上記珪素化合物の内、フルオロアルキル基を含む珪素化合物が０．０１モル％以上含まれていることが好ましい。
【００１８】
このように、フルオロアルキル基を含む珪素化合物が、０．０１モル％以上含まれていれば、光触媒含有層表面に十分にフッ素元素が含有されることになり、エネルギーが照射されフッ素元素の含有量が低下した光触媒含有層上の親液性領域と、エネルギーが未照射の光触媒含有層表面における撥液性領域との濡れ性の差異を大きくすることができることから、親液性領域にマイクロレンズを形成するに際して、マイクロレンズ形成用塗料が撥液性領域にはみ出すことなく正確に付着させることができ、品質の良好なマイクロレンズ基板を製造することができるからである。
【００１９】
上記請求項１から請求項７までのいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項８に記載するように（後述する請求項９または請求項１０に記載の発明においては、請求項１１に記載するように）、上記光触媒含有層上における表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が、エネルギーが照射されていない部分において１０度以上であり、エネルギーが照射された部分において１０度未満であることが好ましい。
【００２０】
エネルギーが照射されていない部分は、撥液性が要求される部分であることから、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度未満である場合は、撥液性が十分でなく、マイクロレンズ形成用塗料が残存する可能性が生じるため好ましくない。また、エネルギーが照射された部分の表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上である場合は、この部分でのマイクロレンズ形成用塗料の広がりが劣る可能性があり、均一な曲率が形成できない等の問題が生じる可能性があるからである。
【００２１】
このような請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載のマイクロレンズ基板を用いた液晶ディスプレイ（請求項１２）や、撮像素子（請求項１３）は、簡便な工程で得られる品質の高いマイクロレンズ基板を用いたものであるので、コスト面で有利であり、かつ品質も良好なものとすることができる。
【００２２】
さらに本発明は、上記目的を達成するために請求項９に記載するように、（１）基板上にエネルギー照射により照射部分の濡れ性が液体との接触角が低下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程と、（２）上記基板上に設けられた光触媒含有層上のマイクロレンズを形成する部位であるマイクロレンズ形成部に、エネルギーをパターン照射してマイクロレンズ用露光部を形成する工程と、（３）このマイクロレンズ用露光部にマイクロレンズ形成用塗料を塗布し、マイクロレンズを形成する工程とを含むことを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法を提供する。
【００２３】
このように、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法においては、基板上に光触媒含有層を設け、この光触媒含有層にエネルギーをパターン照射することにより、液体との接触角を低下させたマイクロレンズ用露光部を形成することができる。このマイクロレンズ用露光部にマイクロレンズ形成用塗料を付着させることにより容易にマイクロレンズを形成することができる。したがって、簡便な製造方法でかつマイクロレンズの位置精度が正確であるマイクロレンズ基板を製造することができる。
【００２４】
さらに、上記請求項９に記載のマイクロレンズの製造方法においては、請求項１０に記載するように、上記マイクロレンズ用露光部にマイクロレンズ形成用塗料を塗布する工程が、インクジェット方式で塗布されることが好ましい。インクジェット方式で塗布することにより、効率良くマイクロレンズ形成用塗料を塗布することが可能となり、またマイクロレンズ形成用塗料の塗布位置が正確であり、撥液性領域に残存するマイクロレンズ用塗料の量を抑えることが可能であるので、より品質の良いマイクロレンズ基板を効率良く製造することができるからである。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明するが、まずマイクロレンズ基板について説明した後、マイクロレンズ基板の製造方法について説明する。
【００２６】
Ａ．マイクロレンズ基板について
まず、本発明のマイクロレンズ基板について詳細に説明する。本発明のマイクロレンズ基板は、基板と、この基板の表面上に設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを有することを特徴とするものである。
【００２７】
このように、本発明のマイクロレンズ基板においては、マイクロレンズが濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層上に設けられている。したがって、予めマイクロレンズを設ける部分の濡れ性を液体との接触角が小さい親液性領域とし、他の部分を液体との接触角が大きい撥液性領域とすることができる。このマイクロレンズを設けるマイクロレンズ形成部にマイクロレンズ形成用塗料を塗布・付着させることにより、液体との接触角の小さい親液性領域にのみマイクロレンズ形成用塗料が付着するため、基板上のマイクロレンズ形成部全体にマイクロレンズ形成用塗料が均一に行き渡り、基板に対して所定の角度を有し、所定の曲率を有するマイクロレンズを形成することができる。なお、ここで、マイクロレンズ基板とは、少なくとも基板とその上に配置された複数個のマイクロレンズからなるものであり、マイクロレンズが所定の間隔をおいて配列されたマイクロレンズアレイとされていてもよい。
【００２８】
このような本発明のマイクロレンズ基板の一例について図面を用いて説明する。
【００２９】
図１は、本発明のマイクロレンズ基板の一例を示すものであり、このマイクロレンズ基板１は、基板２と、この基板２上に設けられた濡れ性可変層３と、さらにこの濡れ性可変層３上に形成された複数のマイクロレンズ４とからなるものである。このマイクロレンズ４は、濡れ性可変層３を親液性領域としたマイクロレンズ形成部５上に形成されており、このマイクロレンズ形成部５以外の部分は撥液性である濡れ性可変層３である。上記マイクロレンズ４は、この濡れ性の差異を利用して基板上に形成されたものである。
【００３０】
以下、本発明のマイクロレンズ基板を構成する各部分についてそれぞれ説明する。
【００３１】
（濡れ性可変層）
上記濡れ性可変層３は、その表面の濡れ性を、外からの刺激、例えば物理的刺激、化学的刺激等により変化させることができる層であれば特に限定されるものではない。例えば、酸またはアルカリ等により表面の粗さの状態が変化し、濡れ性が変化する層等であってもよいし、また紫外線や可視光等により濡れ性可変層内の物質が変化して濡れ性が変化する層等であってもよい。
【００３２】
また濡れ性の変化に関しては、刺激が加えられる前が液体との接触角が大きく、刺激が加えられた後に液体との接触角が小さく変化するような濡れ性可変層であってもよいし、また逆に刺激が加えられる前が液体との接触角が小さく、刺激が加えられた後に液体との接触角が大きく変化するような濡れ性可変層であってもよい。
【００３３】
（光触媒含有層）
本発明においては、この濡れ性可変層が、エネルギーの照射により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層であることが好ましい。このように、露光（本発明においては、光が照射されたことのみならず、エネルギーが照射されたことをも意味するものとする。）により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層を設けることにより、エネルギーのパターン照射等を行うことにより容易に濡れ性を変化させ、液体との接触角の小さい親液性領域のパターンを形成することができ、例えばマイクロレンズを形成する領域のみ容易に親液性領域とすることが可能となる。したがって、効率的にマイクロレンズ基板が製造でき、コスト的に有利となるからである。なお、この場合のエネルギーとしては、通常紫外光を含む光が用いられる。
【００３４】
ここで、親液性領域とは、液体との接触角が小さい領域であり、マイクロレンズ形成用塗料等に対する濡れ性の良好な領域をいうこととする。また、撥液性領域とは、液体との接触角が大きい領域であり、マイクロレンズ形成用塗料等に対する濡れ性が悪い領域をいうこととする。
【００３５】
上記光触媒含有層は、露光していない部分においては、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上、好ましくは表面張力３０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上、特に表面張力２０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上であることが好ましい。これは、露光していない部分は、本発明においては撥液性が要求される部分であることから、液体との接触角が小さい場合は、撥液性が十分でなく、マイクロレンズ形成用塗料が撥液性領域に残存する可能性が生じたり、またマイクロレンズの基板に対する角度を大きくすることが困難になる等の問題が生じる可能性があるためである。
【００３６】
また、上記光触媒含有層は、露光すると液体との接触角が低下して、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度未満、好ましくは表面張力５０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以下、特に表面張力６０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以下となるような層であることが好ましい。露光した部分の液体との接触角が高いと、この部分でのインクの広がりが劣る可能性があり、正確な曲率のマイクロレンズが得られない等の問題が生じる可能性があるからである。
【００３７】
なお、ここでいう液体との接触角は、種々の表面張力を有する液体との接触角を接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジから液滴を滴下して３０秒後）し、その結果から、もしくはその結果をグラフにして得たものである。また、この測定に際して、種々の表面張力を有する液体としては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を用いることができる。
【００３８】
本発明の光触媒含有層は、少なくとも光触媒とバインダとから構成されていることが好ましい。このような層とすることにより、エネルギー照射によって光触媒の作用で臨界表面張力を高くすることが可能となり、液体との接触角を低くすることができる。
【００３９】
このような光触媒含有層における、後述するような酸化チタンに代表される光触媒の作用機構は、必ずしも明確なものではないが、光等の照射によって生成したキャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるいは、酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。
【００４０】
このような光触媒の作用を用いて、油性汚れを光照射によって分解し親水化して水により洗浄可能なものとしたり、ガラス等の表面に親水性膜を形成して防曇性を付与したり、あるいは、タイル等の表面に光触媒の含有層を形成して空気中の浮遊菌の数を減少させるいわゆる抗菌タイル等が提案されている。
【００４１】
本発明において濡れ性可変層として光触媒含有層を用いた場合、光触媒により、バインダの一部である有機基や添加剤の酸化、分解等の作用を用いて、露光部の濡れ性を変化させて親液性とし、非露光部との濡れ性に大きな差を生じさせることができる。よって、マイクロレンズ形成用塗料との受容性（親液性）および反撥性（撥液性）を高めることによって、品質の良好でかつコスト的にも有利なマイクロレンズ基板を得ることができる。
【００４２】
また、本発明においてこのような光触媒含有層を用いた場合、この光触媒含有層が少なくとも光触媒とフッ素とを含有し、さらにこの光触媒含有層表面のフッ素含有量が、光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、上記光触媒の作用によりエネルギー照射前に比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されていてもよい。
【００４３】
このような特徴を有するマイクロレンズ基板においては、エネルギーをパターン照射することにより、容易にフッ素の含有量の少ない部分からなるパターンを形成することができる。ここで、フッ素は極めて低い表面エネルギーを有するものであり、このためフッ素を多く含有する物質の表面は、臨界表面張力がより小さくなる。したがって、フッ素の含有量の多い部分の表面の臨界表面張力に比較してフッ素の含有量の少ない部分の臨界表面張力は大きくなる。これはすなわち、フッ素含有量の少ない部分はフッ素含有量の多い部分に比較して親液性領域となっていることを意味する。よって、周囲の表面に比較してフッ素含有量の少ない部分からなるパターンを形成することは、撥液性域内に親液性領域のパターンを形成することとなる。
【００４４】
したがって、このような光触媒含有層を用いた場合は、エネルギーをパターン照射することにより、撥液性領域内に親液性領域のパターンを容易に形成することができるので、この親液性領域のみにマイクロレンズを形成することが容易に可能となり、品質の良好なマイクロレンズ基板とすることができる。
【００４５】
上述したような、フッ素を含む光触媒含有層中に含まれるフッ素の含有量は、エネルギーが照射されて形成されたフッ素含有量が低い親液性領域におけるフッ素含有量が、エネルギー照射されていない部分のフッ素含有量を１００とした場合に１０以下、好ましくは５以下、特に好ましくは１以下であることが好ましい。
【００４６】
このような範囲内とすることにより、エネルギー照射部分と未照射部分との親液性に大きな違いを生じさせることができる。したがって、このような光触媒含有層にマイクロレンズを形成することにより、フッ素含有量が低下した親液性領域のみに正確にマイクロレンズを形成することが可能となり、さらに基板に対して所定の角度を有し、かつ所定の曲率を有するマイクロレンズを形成することができ、精度良くマイクロレンズ基板を得ることができるからである。なお、この低下率は重量を基準としたものである。
【００４７】
このような光触媒含有層中のフッ素含有量の測定は、一般的に行われている種々の方法を用いることが可能であり、例えばＸ線光電子分光法（X-ray Photoelectron Spectroscopy,  ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)とも称される。）、蛍光Ｘ線分析法、質量分析法等の定量的に表面のフッ素の量を測定できる方法であれば特に限定されるものではない。
【００４８】
本発明で使用する光触媒としては、光半導体として知られる例えば酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、および酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）を挙げることができ、これらから選択して１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００４９】
本発明においては、特に酸化チタンが、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性もなく、入手も容易であることから好適に使用される。酸化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明ではいずれも使用することができるが、アナターゼ型の酸化チタンが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励起波長が３８０ｎｍ以下にある。
【００５０】
このようなアナターゼ型酸化チタンとしては、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（石原産業（株）製ＳＴＳ−０２（平均粒径７ｎｍ）、石原産業（株）製ＳＴ−Ｋ０１）、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製ＴＡ−１５（平均粒径１２ｎｍ））等を挙げることができる。
【００５１】
光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効果的に起こるので好ましく、平均粒径か５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下の光触媒を使用するのが特に好ましい。また、光触媒の粒径が小さいほど、形成された光触媒含有層の表面粗さが小さくなるので好ましく、光触媒の粒径が１００ｎｍを越えると光触媒含有層の中心線平均表面粗さが粗くなり、光触媒含有層の非露光部の撥液性が低下し、また露光部の親液性の発現が不十分となるため好ましくない。
【００５２】
本発明のマイクロレンズ基板は、上述したように光触媒含有層表面にフッ素を含有させ、この光触媒含有層表面にエネルギーをパターン照射することにより光触媒含有層表面のフッ素含有量を低下させ、これにより撥液性領域中に親液性領域のパターンを形成し、ここにマイクロレンズを形成して得られるマイクロレンズ基板であってもよい。この場合であっても、光触媒として上述したような二酸化チタンを用いることが好ましいが、このように二酸化チタンを用いた場合の、光触媒含有層中に含まれるフッ素の含有量としては、Ｘ線光電子分光法で分析して定量化すると、チタン（Ｔｉ）元素を１００とした場合に、フッ素（Ｆ）元素が５００以上、このましくは８００以上、特に好ましくは１２００以上となる比率でフッ素（Ｆ）元素が光触媒含有層表面に含まれていることが好ましい。
【００５３】
フッ素（Ｆ）が光触媒含有層にこの程度含まれることにより、光触媒含有層上における臨界表面張力を十分低くすることが可能となることから表面における撥液性を確保でき、これによりエネルギーをパターン照射してフッ素含有量を減少させたパターン部分における表面の親液性領域との濡れ性の差異を大きくすることができ、最終的に得られるマイクロレンズ基板の品質を向上させることができるからである。
【００５４】
さらに、このようなマイクロレンズ基板においては、エネルギーをパターン照射して形成される親液性領域におけるフッ素含有量が、チタン（Ｔｉ）元素を１００とした場合にフッ素（Ｆ）元素が５０以下、好ましくは２０以下、特に好ましくは１０以下となる比率で含まれていることが好ましい。
【００５５】
光触媒含有層中のフッ素の含有率をこの程度低減することができれば、マイクロレンズ等を形成するためには十分な親液性を得ることができ、上記エネルギーが未照射である部分の撥液性との濡れ性の差異により、マイクロレンズ等を精度良く形成することが可能となり、品質の良好なマイクロレンズ基板を得ることができる。
【００５６】
本発明において、光触媒含有層に使用するバインダは、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものが好ましく、例えば、（１）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、（２）撥水牲や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【００５７】
上記の（１）の場合、一般式：
ＹnＳｉＸ(4-n)
（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）
で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。なお、ここでＹで示される基の炭素数は１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
【００５８】
具体的には、メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリｔ−ブトキシシラン；エチルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピルトリブロムシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−ヘキシルトリクロルシラン、ｎ−へキシルトリブロムシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ−へキシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−へキシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−デシルトリクロルシラン、ｎ−デシルトリブロムシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−デシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−オクタデシルトリクロルシラン、ｎ−オクタデシルトリブロムシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブトキシシラン；フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリｔ−ブトキシシラン；テトラクロルシラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン；ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン；ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン；
フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン；トリクロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイソプロポキシヒドロシラン、トリｔ−ブトキシヒドロシラン；ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔ−ブトキシシラン；トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリｔ−ブトキシシラン；β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン；および、それらの部分加水分解物；および、それらの混合物を使用することができる。
【００５９】
また、バインダとして、特にフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いることができ、具体的には、下記に示すフルオロアルキルシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができる。
【００６０】
ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）4ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
ＣＦ3（Ｃ6Ｈ4）Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）3（Ｃ6Ｈ4）Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）5（Ｃ6Ｈ4）Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）7（Ｃ6Ｈ4）Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＯＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）4ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
ＣＦ3（Ｃ6Ｈ4）Ｃ2Ｈ4ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
ＣＦ3（ＣＦ2）3（Ｃ6Ｈ4）Ｃ2Ｈ4ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
ＣＦ3（ＣＦ2）5（Ｃ6Ｈ4）Ｃ2Ｈ4ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
ＣＦ3（ＣＦ2）7（Ｃ6Ｈ4）Ｃ2Ｈ4ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2；
ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3；
ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3；および
ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）Ｃ2Ｈ4ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
【００６１】
上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンをバインダとして用いることにより、光触媒含有層の非露光部の撥液性が大きく向上し、マイクロレンズ形成用塗料の付着を妨げる機能、マイクロレンズの基板に対する角度を所定の角度以上とする機能等を発現することができる。
【００６２】
また、上記の（２）の反応性シリコーンとしては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げることができる。
【００６３】
【化１】
0004312319.tif 000002
【００６４】
ただし、ｎは２以上の整数であり、Ｒ1，Ｒ2はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であり、モル比で全体の４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルである。また、Ｒ1、Ｒ2がメチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基等の反応性基を有する。
【００６５】
また、上記のオルガノポリシロキサンとともに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしない安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合してもよい。
【００６６】
本発明のマイクロレンズ基板においては、このようにオルガノポリシロキサン等の種々のバインダを光触媒含有層に用いることができる。本発明においては、上述したように、このようなバインダおよび光触媒を含む光触媒含有層にフッ素を含有させ、エネルギーをパターン照射することにより光触媒含有層表面のフッ素を低減させ、これにより撥液性領域内に親液性領域を形成するようにしてもよい。この際、光触媒含有層中にフッ素を含有させる必要があるが、このようなバインダを含む光触媒含有層にフッ素を含有させる方法としては、通常高い結合エネルギーを有するバインダに対し、フッ素化合物を比較的弱い結合エネルギーで結合させる方法、比較的弱い結合エネルギーで結合されたフッ素化合物を光触媒含有層に混入させる方法等を挙げることができる。このような方法でフッ素を導入することにより、エネルギーが照射された場合に、まず結合エネルギーが比較的小さいフッ素結合部位が分解され、これによりフッ素を光触媒含有層中から除去することができるからである。
【００６７】
上記第１の方法、すなわち、高い結合エネルギーを有するバインダに対し、フッ素化合物を比較的弱い結合エネルギーで結合させる方法としては、上記オルガノポリシロキサンにフルオロアルキル基を置換基として導入する方法等を挙げることができる。
【００６８】
例えば、オルガノポリシロキサンを得る方法として、上記（１）として記載したように、ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサンを得ることができる。ここで、この方法においては、上述したように上記一般式：
ＹnＳｉＸ(4-n)
（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）
で示される珪素化合物の１種または２種以上を、加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合することによりオルガノポリシロキサンを得るのであるが、この一般式において、置換基Ｙとしてフルオロアルキル基を有する珪素化合物を用いて合成することにより、フルオロアルキル基を置換基として有するオルガノポリシロキサンを得ることができる。このようなフルオロアルキル基を置換基として有するオルガノポリシロキサンをバインダとして用いた場合は、エネルギーが照射された際、光触媒含有層中の光触媒の作用により、フルオロアルキル基の炭素結合の部分が分解されることから、光触媒含有層表面にエネルギーを照射した部分のフッ素含有量を低減させることができる。
【００６９】
この際用いられるフルオロアルキル基を有する珪素化合物としては、フルオロアルキル基を有するものであれば特に限定されるものではないが、少なくとも１個のフルオロアルキル基を有し、このフルオロアルキル基の炭素数が４から３０、好ましくは６から２０、特に好ましくは６から１６である珪素化合物が好適に用いられる。このような珪素化合物の具体例は上述した通りであるが、中でも炭素数が６から８であるフルオロアルキル基を有する上記珪素化合物、すなわちフルオロアルキルシランが好ましい。
【００７０】
本発明においては、このようなフルオロアルキル基を有する珪素化合物を上述したフルオロアルキル基を有さない珪素化合物と混合して用い、これらの共加水分解縮合物を上記オルガノポリシロキサンとして用いてもよいし、このようなフルオロアルキル基を有する珪素化合物を１種または２種以上用い、これらの加水分解縮合物、共加水分解縮合物を上記オルガノポリシロキサンとして用いてもよい。
【００７１】
このようにして得られるフルオロアルキル基を有するオルガノポリシロキサンにおいては、このオルガノポリシロキサンを構成する珪素化合物の内、上記フルオロアルキル基を有する珪素化合物が０．０１モル％以上、好ましくは０．１モル％以上含まれていることが好ましい。
【００７２】
フルオロアルキル基がこの程度含まれることにより、光触媒含有層上の撥液性を高くすることができ、エネルギーを照射して親液性領域とした部分との濡れ性の差異を大きくすることができるからである。
【００７３】
また、上記（２）に示す方法では、撥水牲や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋することによりオルガノポリシロキサンを得るのであるが、この場合も同様に、上述した一般式中のＲ1，Ｒ2のいずれかもしくは両方をフルオロアルキル基等のフッ素を含有する置換基とすることにより、光触媒含有層中にフッ素を含ませることが可能であり、またエネルギーが照射された場合に、シロキサン結合より結合エネルギーの小さいフルオロアルキル基の部分が分解されるため、エネルギー照射により光触媒含有層表面におけるフッ素の含有量を低下させることができる。
【００７４】
一方、後者の例、すなわち、バインダの結合エネルギーより弱いエネルギーで結合したフッ素化合物を導入させる方法としては、例えば、低分子量のフッ素化合物を導入させる場合は、例えばフッ素系の界面活性剤を混入する方法等を挙げることができ、また高分子量のフッ素化合物を導入させる方法としては、バインダ樹脂との相溶性の高いフッ素樹脂を混合する等の方法を挙げることができる。
【００７５】
本発明において光触媒含有層には上記の光触媒、バインダの他に、界面活性剤を含有させることができる。具体的には、日光ケミカルズ（株）製ＮＩＫＫＯＬＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水素系、デュポン社製ＺＯＮＹＬ  ＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子（株）製サーフロンＳ−１４１、１４５、大日本インキ化学工業（株）製メガファックＦ−１４１、１４４、ネオス（株）製フタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダイキン工業（株）製ユニダインＤＳ−４０１、４０２、スリーエム（株）製フロラードＦＣ−１７０、１７６等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることかでき、また、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもできる。
【００７６】
また、光触媒含有層には上記の界面活性剤の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマー等を含有させることができる。
【００７７】
光触媒含有層中の光触媒の含有量は、５〜６０重量％、好ましくは２０〜４０重量％の範囲で設定することができる。また、光触媒含有層の厚みは、０．０５〜１０μｍの範囲内が好ましく、特に好ましくは、０．１〜０．２μｍである。
【００７８】
上記光触媒含有層は、光触媒とバインダを必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を塗布することにより形成することができる。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うことができる。バインダとして紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理を行うことにより光触媒含有層を形成することかできる。
【００７９】
（マイクロレンズ）
本発明においては、図１に示すように濡れ性可変層３、中でも上述した光触媒含有層上に複数のマイクロレンズ４が設けられたところに特徴を有するものである。本発明では、上記光触媒含有層において露光され、液体との接触角が低い親液性領域に、マイクロレンズ形成用塗料により所定のパターンでマイクロレンズが形成される。
【００８０】
本発明においては、基板上に形成されたマイクロレンズが、規則的にマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイとされていることが好ましい。マイクロレンズの主たる用途である液晶ディスプレイや撮像素子等においては、マイクロレンズアレイとして用いられる場合が多いからである。この規則的な配列パターンは、それぞれ用いられる素子等の態様により決定される。
【００８１】
また、各マイクロレンズの底面、すなわち基板との接触面の形状は特に限定されるものではなく、円形のみならず、多角形のものであってもよい。この場合、マイクロレンズ底面の形状を多角形とすることにより、円形のものと比較してマイクロレンズが形成されていない領域の面積を小さくすることができることから、開口率の高いマイクロレンズを容易に得ることができる。
【００８２】
本発明のマイクロレンズ基板上における、マイクロレンズが配置されている部位と、配置されていない部位との面積比は、用いられる機能性素子や要求特性により大きく異なるものではあるが、一般的な的には、１００００：１〜１：１００００の範囲内であるとすることができる。また、マイクロレンズ基板の用途によって大幅に異なるものではあるが、一般にマイクロレンズの焦点距離は１００〜２５００μｍの範囲内であり、またマイクロレンズの形成ピッチは１０〜１０００μｍの範囲内である。
【００８３】
さらに、本発明のマイクロレンズ基板においては、マイクロレンズの焦点距離を種々変化させたマイクロレンズ基板とすることができる。すなわち、本発明のマイクロレンズ基板においては、マイクロレンズ形成用塗料の基板への付着量を調整することにより、容易に焦点距離を変化させたマイクロレンズを得ることができ、種々焦点距離を有するマイクロレンズを容易に形成することができるのである。以下、この点ついて、図２を用いて具体的に説明する。
【００８４】
図２（ａ）は、マイクロレンズ形成用塗料を少量塗布したケースを示すものである。すなわち、基板２上に形成された濡れ性可変層３において、親液性領域とされたマイクロレンズ形成部５上に少量のマイクロレンズ形成用塗料を塗布し、曲率の小さいマイクロレンズ４を形成したものである。本発明のマイクロレンズ基板においては、マイクロレンズ４が親液性とされたマイクロレンズ形成部５上に形成されていることから、図２（ａ）に示すような少量のマイクロレンズ形成用塗料を塗布した場合であっても、塗布されたマイクロレンズ形成用塗料がマイクロレンズ形成部５全体にひろがる。したがって、曲率の小さい焦点距離の長いマイクロレンズを塗布量を少量とすることにより容易に形成することができる。
【００８５】
図２（ｂ）は、（ａ）よりも曲率が大きく焦点距離の短いマイクロレンズ４を示すものである。本発明においては、マイクロレンズ４の底面となるマイクロレンズ形成部５の面積が定まっていることから、このマイクロレンズ形成部５内に塗布するマイクロレンズ形成用塗料の量により、マイクロレンズ４の曲率および焦点距離を決定することができる。図２（ｂ）は、（ａ）より多い量のマイクロレンズ形成用塗料を塗布した例を示すものであり、このように本発明においては、マイクロレンズ形成用塗料の量を調整することにより、種々の曲率および焦点距離を有するマイクロレンズを容易に得ることができる。
【００８６】
図２（ｃ）は、さらに曲率が大きく焦点距離の短いマイクロレンズ４を示すものである。この場合、親液性領域であるマイクロレンズ形成部５と撥液性領域である濡れ性可変層３との濡れ性の差が大きければ、マイクロレンズ形成用塗料をある程度多量に塗布しても、マイクロレンズ形成部５以外の部分にマイクロレンズ形成用塗料がはみ出ることなくマイクロレンズを形成することができる。このように、本発明においては、濡れ性可変層の親液性領域と撥液性領域、すなわち図２（ｃ）では、親液性領域とされたマイクロレンズ形成部５とその他の濡れ性可変層３との濡れ性の差を大きくするすることにより、曲率の大きい焦点距離の短いマイクロレンズを容易に形成することができる。
【００８７】
また、本発明のマイクロレンズ基板上のマイクロレンズは有色のマイクロレンズとすることも可能である。このようにマイクロレンズを有色とすることにより、通常カラー液晶ディスプレイ等の用いられるカラーフィルタとしての機能およびマイクロレンズとしての機能の両機能を有することができる。したがって、得られる機能性素子を小型化、低コスト化させることが可能となるといった利点を有する。
【００８８】
このような本発明に用いられるマイクロレンズを構成する材料としては、形成時には液状であり、濡れ性可変層上に塗布可能かつその後硬化可能なものであり、さらに硬化後レンズとしての機能を有し得る電磁波等のエネルギー線に対して透過性を有する材料であれば特に限定されるものではない。このような樹脂としては、上記透過性を有する樹脂を溶媒に熔解した溶液を塗布した後溶剤を除去するようにしたもの、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等種々の樹脂を挙げることができるが、硬化が容易でかつ迅速であり、さらには硬化時にレンズ成形材料および基材が高温とならない点で光硬化性樹脂が好ましい。
【００８９】
このような光硬化性樹脂は、通常少なくとも１個以上の官能基を有し、光重合開始剤に硬化エネルギー線を照射することにより発生するイオンまたはラジカルによりイオン重合、ラジカル重合を行い、分子量を増加させ必要であれば架橋構造の形成を行うモノマーやオリゴマーと、光重合開始剤とを少なくとも有する樹脂組成物を硬化させたものである。ここでいう官能基とは、ビニル基、カルボキシル基、水酸基などの反応の原因となる原子団もしくは結合様式をいう。
【００９０】
このようなモノマー、オリゴマーとしては、不飽和ポリエステル型、エンチオール型、アクリル型等が挙げられ、中でも硬化速度、物性選択の幅の広さからアクリル型が好ましい。このようなアクリル型のモノマー、オリゴマーの内、単官能基のものとしては、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルＥＯ付加物アクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン付加物、２−フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、ノニルフェノールＥＯ付加物にカプロラクトン付加したアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フルフリルアルコールのカプロラクトン付加物アクリレート、アクリロイルモルホリン、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、３−メチル−５，５−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート等を挙げることができる。
【００９１】
また、アクリル型のモノマー、オリゴマーの内、多官能のものとしては、ヘキサンジオールアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンのアセタール化合物のジアクリレート、２，２−ビス［４−（アクリロイロキシジエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（アクリロイロキシジエトキシ）フェニル］メタン、水添ビスフェノールエチレンオキサイド付加物のジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド付加物トリアクリレート、グリセリンプロピレンオキサイド付加物トリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートペンタアクリレート混合物、ジペンタエリスリトールのカプロラクトン付加物アクリレート、トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、２−アクリロイロキシエチルホスフェート等を挙げることができる。
【００９２】
さらに、上記光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ミヒラーケトン系、ベンジル系、ベンゾイン系、ベンゾインエーテル系、ベンジルジメチルケタール系、ベンゾインベンゾエート系、α−アシロキシムエステル系等のカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類等のイオウ化合物、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィノキシド等のリン系化合物を挙げることができる。
【００９３】
その他必要に応じて脂肪族アミン、芳香族アミン等の光開始助剤、チオキサンソン等の光鋭感剤等を添加しても良い。
【００９４】
また、熱可塑性樹脂としては、特に可視光域に透明性が高く、屈折率、分散特性、複屈折率などの光学的特性に優れたものが好ましい。具体的には、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、メチルフタレート単独重合体または共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ジエチレングリコール、ビスアリルカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合体、メチルメタクリレート・スチレン共重合体、ポリ（−４−メチルペンテン−１）等を挙げることができる。
【００９５】
さらに、上述したように本発明のマイクロレンズ基板上のマイクロレンズを有色化することも可能であるが、この有色化に際して用いられる着色剤としては、染料、無機顔料、有機顔料等を挙げることができ、通常有色フィルタに用いられている着色剤であれば特に限定されるものではない。本発明においては、中でも高い濃度を与えることができ、レンズ硬化時や、マイクロレンズ基板としての使用時に退色の起きにくい材料が好ましい。
【００９６】
具体的な着色剤としては、染料としては、アゾ系染料、アントラキノン系染料、インジゴイド系染料、フタロシアニン系染料、カルボニウム系染料、キノンイミン系染料、メチン系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、ナフタルイミド系染料、ペリノン系染料、ピリリウム系染料、チアピリリウム系染料、アズレニウム系染料、スクアリリウム塩系染料等を挙げることができる。また、顔料としては、ジアントラキノン、ハロゲン化銅フタロシアニン、銅フタロシアニン、その他フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔料、ピラントロン系顔料等の多環キノン系顔料、インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ピロール系顔料、ピロロピロール系顔料、アゾ系顔料等の有機系顔料を挙げることができる。
【００９７】
（基板）
本発明のマイクロレンズ基板に用いられる基板は、マイクロレンズ基板の用途によりその材質は大きく異なるものである。例えば、液晶ディスプレイや撮像素子等に用いられる場合は、基板もマイクレンズ同様に可視光等に対する透明性を求められるので、透明基板である必要がある。一方、マイクロレンズ基板を鋳型として用いる場合や、マイクロレンズ基板に対して光等を透過させて用いるのではなく反射させて用いる場合等においては、透明基板である必要はない。
【００９８】
このように、本発明に用いられる基板は、その用途に応じて、金属材料、半導体材料、有機材料等種々のものを用いることが可能である。しかしながら、現在、最も一般的なマイクロレンズ基板の用途が、液晶ディスプレイ、撮像素子等のマイクロレンズ基板に対して光を透過させて用いるケースが多いことから、本発明においては、基板が透明基板であることが好ましい。
【００９９】
このような透明基板としては、特に限定されるものでなく、可視光を透過できる材料であれば、無機材料であっても有機材料であってもよい。中でも好ましい材料としては、ソーダガラス、石英ガラス、光学ガラス（例えば、ＨＯＹＡ（株）製、ＢＳＣ７（商品名）等）、電子工学用ガラス（無アルカリガラス等）、透光性セラミックス、ポリカーボネート、メチルメタクリレート単重合体または共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレンなどのプラスチックフィルム、プラスチックシート等を挙げることができる。
【０１００】
本発明における上記基板の厚みは特に限定さえるものではなく、マイクロレンズ基板の用いられる用途に応じた厚みとすることができる。
【０１０１】
（遮光部）
本発明のマイクロレンズ基板には、必要に応じて遮光部を設けてもよい。この遮光部は、通常レンズ周囲の不要な光線がレンズに入射しないように設けられるものである。この遮光部について図３および図４を用いて説明する。
【０１０２】
図３は、本発明のマイクロレンズ基板のマイクロレンズが設けられた面と反対側の面に遮光部を設けた例を示すものである。図３に示すマイクロレンズ基板１は、図１に示すマイクロレンズ基板と同様に基板２上に濡れ性可変層３を設け、濡れ性可変層３中に親液性領域としたマイクロレンズ形成部５を形成し、ここにマイクロレンズ４を設けたものである。図３に示すマイクロレンズ基板１には、さらにこのマイクロレンズ４が形成された面と反対側の面に遮光部６が形成されている。図３に示す例において、遮光部６はマイクロレンズ４が形成された面と同様に濡れ性可変層３が設けられ、その濡れ性可変層３中に親液性領域とした遮光部形成部７を形成し、ここに遮光部６を設けたものである。
【０１０３】
このような遮光部４は、図４に示すようにマイクロレンズ４で収束された光の透過部分のみ開口部とするように形成されてもよく、この例ではマイクロレンズ４の中央部に相当する部位を開口部８としている。
【０１０４】
本発明のマイクロレンズ基板において、遮光部を形成する位置は特に限定されるものではないが、図３および図４に示すように、基板のマイクロレンズが形成された面と反対側の面に形成されることが好ましい。
【０１０５】
本発明における遮光部は、例えばスパッタリング法等によりクロム等の金属薄膜を形成し、これをパターニングする方法等の従来の方法で設けられてもよいが、例えば上記図３に示すように透明基板上に濡れ性可変層、好ましくは光触媒含有層を設け、その濡れ性の変化を利用して形成するようにしてもよい。
【０１０６】
本発明の遮光部を形成する材料としては、上述したようなクロム等の金属、樹脂バインダ中にカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた有機材料等を挙げることができる。このような樹脂バインダとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を１種または２種以上混合したものや、感光性樹脂、さらにはＯ／Ｗエマルジョン型の樹脂組成物、例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの等を用いることができる。
【０１０７】
Ｂ．マイクロレンズ基板の製造方法について
次に、本発明のマイクロレンズ基板の製造法について詳しく説明する。本発明のマイクロレンズ基板の製造方法は、
（１）基板上にエネルギー照射により照射部分の濡れ性が液体との接触角が低下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程と、
（２）上記基板上に設けられた光触媒含有層上のマイクロレンズを形成する部位であるマイクロレンズ形成部に、エネルギーをパターン照射してマイクロレンズ用露光部を形成する工程と、
（３）このマイクロレンズ用露光部にマイクロレンズ形成用塗料を塗布し、マイクロレンズを形成する工程と
を有するものである。
【０１０８】
まず、第１の工程である光触媒含有層を設ける工程について説明する。この光触媒含有層の形成は、上述したような光触媒とバインダとを必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を塗布した後、加水分解、重縮合反応を進行させてバインダ中に光触媒を強固に固定することにより形成される。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロルパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましく、塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うことかできる。また、結合剤として、紫外線硬化型の成分を含有している場合には、紫外線を照射して硬化処理を行うことにより、基材上に光触媒含有層を形成することができる。
【０１０９】
次に第２の工程である、マイクロレンズ用露光部の形成工程について説明する。第１の工程により基材上に光触媒含有層が形成され、この光触媒含有層にエネルギーを照射してマイクロレンズ用露光部を形成するのであるが、このマイクロレンズ用露光部の形成部位の形状、配置等は、上述したマイクロレンズが形成される部位・配置等と同様であるのでここでの説明は省略する。
【０１１０】
本発明において照射されるエネルギーとしては、紫外光を含む光を用いることができる。このような紫外光を含む光源としては、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を挙げることができる。この露光に用いる光の波長は４００ｎｍ以下の範囲、好ましくは３８０ｎｍ以下の範囲から設定することができ、また、露光に際しての光の照射量は、露光された部位が光触媒の作用により親液性を発現するのに必要な照射量とすることができる。
【０１１１】
エネルギーの照射に際してパターン照射が必要な場合は、上述したような光源を用い、フォトマスクを介したパターン照射により行うことができるが、他の方法として、エキシマ、ＹＡＧ等のレーザーを用いてパターン状に描画照射する方法を用いることも可能である。しかしながら、このような方法は、装置が高価、取り扱いが困難、さらには連続出力ができない等の問題を有する場合がある。
【０１１２】
したがって、本発明においては、光触媒含有層に対し、光触媒反応開始エネルギーを加え、この光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域内に反応速度増加エネルギーをパターン状に加えることにより親液性領域のパターンを形成するようにしてもよい。このようなエネルギーの照射方法を用いてパターンを形成することにより、パターン形成に際して、赤外線レーザ等の比較的安価で取り扱いが容易である反応速度増加エネルギーを用いることができ、これにより上述したような問題が生じないからである。
【０１１３】
このようなエネルギーを加えることにより濡れ性の変化した親液性領域のパターンが形成できるのは、以下の理由による。すなわち、まずパターンを形成する領域に対して光触媒反応開始エネルギーを加えることにより、光触媒含有層に対する光触媒の触媒反応を開始させる。そして、この光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域内に、反応速度増加エネルギーを加える。このように反応速度増加エネルギーを加えることにより、既に光触媒反応開始エネルギーが加えられ、光触媒の触媒作用により反応が開始されている光触媒含有層内の反応が、急激に促進される。そして所定の時間、反応速度増加エネルギーを加えることにより、特性変化層内の特性の変化を所望の範囲まで変化させ、反応速度増加エネルギーが加えられたパターンを濡れ性の変化した親液性領域のパターンとすることができるのである。
【０１１４】
ここで、まず上記光触媒反応開始エネルギーについて説明する。このエネルギー照射方法に用いられる光触媒反応開始エネルギーとは、光触媒が光触媒含有層中の化合物に対して、その特性を変化させるための触媒反応を開始させるエネルギーをいう。
【０１１５】
ここで加える光触媒反応開始エネルギーの量は、光触媒含有層中の濡れ性の変化を急激に生じない程度の量である。加えられる光触媒反応開始エネルギーの量が少ない場合は、反応速度増加エネルギーを加えてパターンを形成する際の感度が低下するため好ましくなく、またこの量が多すぎると、光触媒反応開始エネルギーを加えた光触媒含有層の特性の変化の度合いが大きくなりすぎて、反応速度増加エネルギーを加えた領域との差異が不明確となってしまうため好ましくない。この加えるエネルギーの量に関しては、予めエネルギーを加える量と光触媒含有層中の濡れ性の変化量との予備実験等を行うことにより決定される。
【０１１６】
この方法における光触媒反応開始エネルギーとしては、光触媒反応を開始させることができるエネルギーであれば特に限定されるものではないが、中でも光であることが好ましい。
【０１１７】
本発明において用いられる光触媒は、そのバンドギャップによって触媒反応を開始する光の波長が異なる。例えば、硫化カドニウムであれば４９６ｎｍ、また酸化鉄であれば５３９ｎｍの可視光であり、二酸化チタンであれば３８８ｎｍの紫外光である。したがって、光であれば可視光であれ紫外光であれ本発明で用いることができる。しかしながら、上述したようにバンドギャップエネルギーが高いため光触媒として有効であり、かつ化学的にも安定で毒性もなく、入手も容易といった理由から光触媒としては二酸化チタンが好適に用いられる関係上、この二酸化チタンの触媒反応を開始させる紫外光を含む光であることが好ましい。具体的には、４００ｎｍ以下の範囲、好ましくは３８０ｎｍ以下の範囲の紫外光が含まれることが好ましい。
【０１１８】
このような紫外光を含む光の光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマランプ等の種々の紫外線光源を挙げることができる。
【０１１９】
本発明においては、この光触媒反応開始エネルギーが加えられる範囲は、光触媒含有層の一部分であってもよく、例えばこの光触媒反応開始エネルギーをパターン状に加え、さらに後述する反応速度増加エネルギーもパターン状に加えることにより、濡れ性が変化した親液性領域のパターンを形成することも可能であるが、工程の簡略化、単純化等の理由から、この光触媒反応開始エネルギーをパターンを形成する領域全面にわたって加えることが好ましく、このように全面にわたって光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域に反応速度増加エネルギーをパターン状に加えることにより、光触媒含有層上に親液性領域のパターンを形成するようにすることが好ましい。
【０１２０】
次に、この方法に用いられる反応速度増加エネルギーについて説明する。この方法に用いられる反応速度増加エネルギーとは、上記光触媒反応開始エネルギーによって開始された光触媒含有層の濡れ性を変化させる反応の反応速度を増加させるためのエネルギーをいう。本発明においては、このような作用を有するエネルギーであればいかなるエネルギーであっても用いることができるが、中でも熱エネルギーを用いることが好ましい。
【０１２１】
このような熱エネルギーをパターン状に光触媒含有層に加える方法としては、光触媒含有層上に熱によるパターンが形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、赤外線レーザによる方法や感熱ヘッドによる方法等を挙げることができる。このような赤外線レーザとしては、例えば指向性が強く、照射距離が長いという利点を有する赤外線ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）や、比較的安価であるという利点を有するダイオードレーザ（ＬＥＤ；８３０ｎｍ、１０６４ｎｍ、１１００ｎｍ）等の他、半導体レーザ、Ｈｅ−Ｎｅレーザ、炭酸ガスレーザ等を挙げることができる。
【０１２２】
この方法においては、上述した光触媒反応開始エネルギーを加えることにより、光触媒を活性化させて光触媒含有層内の触媒反応による濡れ性の変化を開始させ、この濡れ性の変化が生じた部分に反応速度増加エネルギーを加えてその部分の触媒反応を促進させることにより、反応速度増加エネルギーが加えられた領域と、加えられなかった領域との反応速度の差により、親液性領域のパターンを形成することができる。
【０１２３】
最後に、基板上にマイクロレンズを形成する第３の工程について説明する。この工程で用いられるマイクロレンズ形成用塗料とは、上述したマイクロレンズの材料が含まれている塗料であり、マイクロレンズ用露光部（マイクロレンズ形成部）に塗布することが可能であり、その後硬化することにより、マイクロレンズとしての機能を有するものであれば特に限定されるものではない。マイクロレンズが光硬化性樹脂からなるものである場合、このマイクロレンズ形成用塗料の形態としては、モノマーと光重合開始剤とが溶解または分散している液体、オリゴマーと光重合開始剤とが溶解または分散している液体、モノマーおよびオリゴマーと光重合開始剤とが溶解もしくは分散している液体等を挙げることができる。また、マイクロレンズが上述したような有色マイクロレンズである場合は、上記マイクロレンズ形成用塗料に上述した着色剤を混合した材料が用いられる。
【０１２４】
このようなマイクロレンズ形成用塗料のマイクロレンズ用露光部（マイクロレンズ形成部）への塗布方法は、特に限定されるものではないが、具体的には、ディップコーティング、ロールコーティング、ビードコーティング、スピンコーティング、エアドクターコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、ロッドコーティング、グラビアコーティング、ロータリースクリーンコーティング、キスコーティング、スロットオリフィスコーティング、スプレーコーティング、キャストコーティング、押出コーティングなどの方法を用いることができ、これらは短時間に大量のマイクロレンズを形成することができる点で好ましい。
【０１２５】
また、本発明においては、上記マイクロレンズ形成用塗料をマイクロレンズ用露光部に塗布する際して、ノズル吐出による方法を用いてもよい。このようなノズル吐出方法としては、例えばマイクロシリンジ、ディスペンサー、インクジェット、針先よりマイクロレンズ形成用塗料を電界などの外部刺激により飛ばす方法、外部刺激により振動するピエゾ素子などの振動素子を用いて素子よりマイクロレンズ形成用塗料を飛ばす方法、針先に付着させたマイクロレンズ形成用塗料を基材表面に付着させる方法等を用いることができる。これらは接触角が大きく高さの高いレンズ形状物を形成する場合に好適である。
【０１２６】
本発明では、上述した塗布方法の中でも、塗布の正確性および迅速性等の観点からインクジェット方式でマイクロレンズ用塗料が塗布されることが好ましい。この場合用いられるインクジェット装置としては、特に限定されるものではないが、帯電したインクを連続的に噴射し磁場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等の各種の方法を用いたインクジェット装置を用いることができる。
【０１２７】
このインクジェット方式でのマイクロレンズ形成用塗料の塗布は、マイクロレンズ形成用塗料に着色剤が混合された有色マイクロレンズ形成用塗料の場合にも有効である。
【０１２８】
このようにしてマイクロレンズ用露光部内に塗布されたマイクロレンズ形成用塗料を硬化させることによりマイクロレンズが基板上に形成され、マイクロレンズ基板が形成される。本発明において、マイクロレンズ形成用塗料の硬化は用いる原料の種類により種々の方法により行われる。例えば、溶剤に溶解した塗料であれば加熱等することにより溶剤を除去して固化が行われる。
【０１２９】
このマイクロレンズ形成用塗料の硬化工程を考慮すると、本発明に用いられるマイクロレンズの材料の種類としては、光硬化性樹脂であることが好ましい。これは、光硬化性樹脂を用いたマイクロレンズ形成用塗料でであれば光を照射することにより、素早くマイクロレンズ形成用塗料を硬化することができるので、マイクロレンズ基板の製造時間を短縮することができるからである。
【０１３０】
上述したように、マイクロレンズ用露光部内に塗布されたマイクロレンズ形成用塗料は均一に広がっているため、このようなマイクロレンズ形成用塗料を硬化させてマイクロレンズを形成した場合、マイクロレンズの曲率が一定であり、位置精度も良好であるマイクロレンズ基板を形成することができる。
【０１３１】
Ｃ．液晶ディスプレイについて
本発明のマイクロレンズ基板は、目視者方向への輝度を高めるために、例えば液晶ディスプレイ等のディスプレイに隣接または密着する部品として用いることができる。この場合、室内照明や太陽光などの周囲の外光の影響を抑え、表示画質を向上させるために遮光部を設けてもよい。また、光の透過性を高めるため、もしくは光の干渉による発色を防止する等の目的から、濡れ性可変層、好ましくは光触媒含有層の肉厚を薄くすることが好ましい。具体的には、１μｍ以下、より好ましくは０．２μ以下である。
【０１３２】
図５は、本発明のマイクロレンズ基板を用いた液晶ディスプレイの一例を示すものである。この液晶ディスプレイは、アレイ側基板９と液晶部１０とカラーフィルタ１１とからなる液晶ディスプレイ部１２のカラーフィルタ１１側面に、マイクロレンズ基板１が配置されてなるものである。このマイクロレンズ基板１は、カラーフィルタ１１の画素部との位置が一致するように基板２上に各マイクロレンズ４が形成されたものであり、これらマイクロレンズ４がカラーフィルタ１１側となるように配置されている。このマイクロレンズ基板１には、上述したように外光の影響を抑え、表示画質を向上させるために遮光部６が形成されている。このような液晶ディスプレイにおいて、液晶ディスプレイ部１２で発生した光は、本発明のマイクロレンズ基板１を通過して外部に発光１３として発せられ、マイクロレンズの作用により目視者への輝度が高められる。
【０１３３】
本発明のマイクロレンズ基板を用いた液晶ディスプレイは、品質が良好でかつコスト的に有利なマイクロレンズ基板を用いているので、液晶ディスプレイとしての品質も良好でありかつ低コストの液晶ディスプレイとすることができるという利点を有するものである。
【０１３４】
Ｄ．撮像素子について
本発明のマイクロレンズ基板は、撮像装置の光感度を高めるために例えばＣＣＤといった撮像素子に隣接もしくは密着する部品として用いることができる。この場合、好ましくは迷光によるコントラストの低下等といった特性への悪影響を避ける等の理由により、遮光部を設けることが好ましい。また上記液晶ディスプレイの場合と同様に、濡れ性可変層、好ましくは光触媒含有層の肉厚を薄くすることが好ましく、具体的な肉厚としては、１μｍ以下、より好ましくは０．２μ以下である。
【０１３５】
図６は、本発明のマイクロレンズ基板を用いた撮像素子の一例を示すものである。この撮像素子は、有色フィルタ１４および光電変換素子１５からなる撮像素子部１６の有色フィルタ１４側面にマイクロレンズ基板１が配置されてなるものである。このマイクロレンズ基板１は、有色フィルタ１４側に遮光部６が配置され、この遮光部６が形成された基板２の反対側の面にマイクロレンズ４が形成されている。入射光１７は、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ４を経て撮像素子部１６に入るので、撮像素子の光感度を高めることができる。
【０１３６】
本発明のマイクロレンズ基板を用いた撮像素子は、品質が良好でかつコスト的に有利なマイクロレンズ基板を用いているので、撮像素子としての品質も良好でありかつ低コストの撮像素子とすることができる。
【０１３７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【０１３８】
【実施例】
以下、本発明について、実施例を通じてさらに詳述する。
【０１３９】
（実施例１／光触媒含有層の形成）
イソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシラン（東芝シリコーンＴＳＬ８１１３）０．４ｇ、フルオロアルコキシシランＭＦ−１６０Ｅ（トーケムプロダクツ）０．３ｇ、光触媒無機コーティング剤ＳＴ−Ｋ０１（石原産業）２ｇを混合した。この溶液をスピンコーティング法により、石英ガラス製透明基板上に塗布した。そして１５０℃の温度で１０分間乾燥することにより、加水分解、重縮合反応を進行させ、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に固定された膜厚０．２μｍの透明な層を得ることができた。この光触媒含有層上に水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で５０秒問、マスクを介してパターン露光した。
【０１４０】
非露光部および露光部の液体との接触角を測定した結果、非露光部においては表面張力３０ｍＮ／ｍの液体（純正化学株式会社製、エチレングリコールモノエチルエーテル）との接触角を接触角測定器（協和界面科学株式会社製  ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジから液滴を滴下して３０秒後）した結果、３２度であり、露光部では表面張力５０ｍＮ／ｍの液体（純正化学株式会社製ぬれ標準試薬液Ｎｏ．５０）との接触角を同様に測定した結果、７度であった。
露光部、非露光部で濡れ性が異なるパターンが形成された。
【０１４１】
（実施例２／マイクロレンズのコーティングによる形成）
石英ガラス製の透明基板上に、実施例１に記載の光触媒含有層形成用材料を用い、スピンコーティング法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直径５０μｍの円形パターンが２μｍ間隔で複数個並んだ、ネガ型フォトマスクを介して、水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で９０秒間露光し、表面に親液性領域からなる円形パターンが形成された透明基板を得た。
【０１４２】
紫外線硬化型モノマー（ＰＯ変性グリセリントリアクリレート：荒川化学工業社製、商品名：ビームセット７２０）１０００ｇ、硬化開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：イルガキュア１８４）５０ｇを混合し、３分間攪拌した。得られた混合液（マイクロレンズ形成用塗料）をビードコーティング法（スライドコーティング法）にて、上記の濡れ性の異なる円形パターンが施された透明基板上に、膜厚１２μｍにて塗布したところ、露光部分（円形パターン部分）のみに混合液が付着した。これを水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で５秒間露光することにより、直径５０μｍ、焦点距離１ｍｍのマイクロレンズアレイを有するマイクロレンズ基板を得ることができた。
【０１４３】
（実施例３／マイクロレンズの吐出法による形成）
石英ガラス製の透明基板上に、実施例１に記載の光触媒含有層形成用材料を用い、スピンコーティング法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直径２００μｍの円形パターンが１００μｍ間隔で複数個並んだ、ネガ型フォトマスクを介して、水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で９０秒間露光し、表面に親液性領域の円形パターンが形成された透明基板を得た。
【０１４４】
紫外線硬化型モノマー（ＰＯ変性グリセリントリアクリレート：荒川化学工業社製、商品名：ビームセット７２０）１０００ｇ、硬化開始剤紫外線硬化型モノマー（ＰＯ変性グリセリントリアクリレート：荒川化学工業社製、商品名：ビームセット７２０）１０００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：イルガキュア１８４）５０ｇを混合し、３分間攪拌した。得られた混合液（マイクロレンズ形成用塗料）を液体精密定量吐出装置（ＥＦＤ社製ディスペンサー、１５００ＸＬ−１５）にて、上記の濡れ性の異なる円形パターンが施された透明基板上の円形パターン部分の中心に０．０００１ｍｌ吐出した。このとき吐出液（マイクロレンズ形成用塗料）は円形パターン部のみに広がり、それ以外の部分に広がることは無かった。これを水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で１０秒間露光することにより、直径２００μｍ、焦点距離５００μｍのマイクロレンズアレイを有するマイクロレンズ基板を得ることができた。
【０１４５】
（実施例４／有色マイクロレンズの吐出法による形成）
石英ガラス製の透明基板上に実施例１に記載の光触媒含有層形成用材料を用いスピンコーティング法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直径２００μｍの円形パターンが１００μｍ間隔で複数個並んだネガ型フォトマスクを介して水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で９０秒間露光し、表面に親液性領域からなる円形パターンが形成された透明基板を得た。
【０１４６】
次いで、紫外線硬化型モノマー（２官能アクリレートモノマー、日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＧ４００ＤＡ）５００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：ダロキュア１１７３）２５ｇ、赤色染料（東京化成社製、ローズベンガル）０．５ｇを混合し、３分間攪拌し、赤色用のマイクロレンズ形成用塗料を得た。
【０１４７】
また、紫外線硬化型モノマー（２官能アクリレートモノマー、日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＧ４００ＤＡ）５００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：ダロキュア１１７３）２５ｇ、緑色染料（東京化成社製、ビリリアントグリーン）０．５ｇを混合し、３分間攪拌し、緑色用のマイクロレンズ形成用塗料を得た。
【０１４８】
さらに、紫外線硬化型モノマー（２官能アクリレートモノマー、日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＧ４００ＤＡ）５００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：ダロキュア１１７３）２５ｇ、青色染料（東京化成社製、ヴィクトリアブルー）０．５ｇを混合し、３分間攪拌し、青色用のマイクロレンズ形成用塗料を得た。
【０１４９】
得られたマイクロレンズ形成用塗料を液体精密吐出装置（ＥＦＤ製ディスペンサー、１５００ＸＬ−１５）にて、上記の濡れ性の異なる円形パターンが施された透明基板上の円形パターン部分の中心に０．０００１ｍｌ吐出した。この時、吐出液（マイクロレンズ形成用塗料）は円形パターン部のみに広がり、それ以外の部分に広がることはなかった。これを水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で１０秒間露光することにより、直径２００μｍ、焦点距離５００μｍの有色マイクロレンズアレイを有するマイクロレンズ基板を得た。
【０１５０】
（実施例５／有色マイクロレンズのコーティングによる形成）
石英ガラス製透明基板上に実施例１記載の光触媒含有層形成用材料を用いてスピンコーティング法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直径２００μｍの円形パターンが縦方向に１００μｍ間隔、横方向に７００μｍ間隔で複数個並んだネガ型フォトマスクを介して、水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で９０秒間露光し、表面に親液性領域である円形パターンが施された透明基板を得た。
【０１５１】
次いで、紫外線硬化型モノマー（２官能アクリレートモノマー：日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＧ４００ＤＡ）４００ｇ、紫外線硬化型モノマー（１，６ヘキサンジオールジアクリレート、日本化薬社製、商品名：ＫＳ−ＨＤＤＡ）１００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：ダロキュア１１７３）２５ｇ、赤色染料（東京化成社製、ローズベンガル）０．５ｇを混合し、３分間攪拌し、赤色用マイクロレンズ形成用塗料を得た。
【０１５２】
また、紫外線硬化型モノマー（２官能アクリレートモノマー：日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＧ４００ＤＡ）４００ｇ、紫外線硬化型モノマー（１，６ヘキサンジオールジアクリレート、日本化薬社製、商品名：ＫＳ−ＨＤＤＡ）１００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：ダロキュア１１７３）２５ｇ、緑色染科（東京化成社製ビリリアントグリーン）０．５ｇを混合し、３分間攪拌し、緑色用マイクロレンズ形成用塗料を得た。
【０１５３】
さらに、紫外線硬化型モノマー（２官能アクリレートモノマー：日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＧ４００ＤＡ）４００ｇ、紫外線硬化型モノマー（１，６ヘキサンジオールジアクリレート、日本化薬社製、商品名：ＫＳ−ＨＤＤＡ）１００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：ダロキュア１１７３）２５ｇ、青色染料（東京化成社製、ヴィクトリアブルー）０．５ｇを混合し、３分間攪拌し、青色用マイクロレンズ形成用塗料を得た。
【０１５４】
得られた赤色用マイクロレンズ形成用塗料を、ディップコーティング法にて、上記の濡れ性の異なる円形パターンが施された透明基板上に１２μｍにて塗布したところ、露光部分（円形パターン部分、親液性領域）のみに塗料が付着した。これを水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で１０秒間露光することにより硬化させた。
【０１５５】
この赤色マイクロレンズを形成した透明基板上に上記と同様にして光触媒含有層を形成し、赤色レンズの縦方向の列から１００μｍの間隔をおいて上記と同様の条件で親液性領域の円形パターンを形成した。緑色用マイクロレンズ形成用塗料を用い、赤色と同様の操作を行なうことで緑色マイクロレンズを形成した。
【０１５６】
青色用マイクロレンズ形成用塗料を用いて同様の操作を行ない、赤と緑のマイクロレンズの縦の列の間に１００μｍの間隔をおいて青色マイクロレンズを形成し、直径２００μｍ、焦点距離１ｍｍの有色マイクロレンズアレイを有するマイクロレンズ基板を得た。
【０１５７】
（実施例６／遮光部のコーティングによる形成）
直径１００μｍであって、１０μｍ間隔に並んだマイクロレンズアレイを有する本発明のマイクロレンズ基板（基板：石英ガラス）の裏面に、実施例１記載の光触媒含有層形成用材料を用いて光触媒含有層を形成した。次いで、開口部直径１０μｍであって、１００μｍの間隔で並んだフォトマスクとレンズとの位置合わせを行った後、水銀ランプによりパターン露光を行った。
【０１５８】
次いで、紫外線硬化型モノマー（２官能アクリレートモノマー、日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＧ４００ＤＡ）５００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：ダロキュア１１７３）２５ｇの混合液にカーボンブラックを１００ｇ分散し、遮光部形成用組成物を調製した。この遮光部形成用組成物を、ブレードコーターによりパターン露光された光触媒含有層上に全面塗布すると、非露光部はハジキ、露光部のみに選択的に付着した。次いで、１５０℃で３０分間加熱して、遮光部を形成し、遮光部を有するマイクロレンズ基板を得た。
【０１５９】
（実施例７／遮光部の吐出法による形成）
直径７００μｍであって１０μｍ間隔に並んだマイクロレンズアレイを有する本発明のマイクロレンズ基板（基板：石英ガラス）の裏面に、実施例１記載の光触媒含有層用材料を用いて光触媒含有層を形成した。次いで、開口部直径１０μｍであって７００μｍの間隔で並んだフォトマスクを介して、レンズとの位置合わせ後、水銀ランプによりパターン露光を行った。
【０１６０】
次いで、ディスペンサー（ＥＦＤ社製）により露光部へ実施例６記載の遮光部形成用組成物を吐出することにより、遮光部形成用組成物を露光部にのみ付着させた。次いで、１５０℃で３０分間加熱して、遮光部を有するマイクロレンズ基板を得た。
【０１６１】
（実施例８／マイクロレンズの吐出量による焦点距離の変化）
石英ガラス製透明基板上に実施例１に記載の光触媒含有層形成用材料を用い、スピンコーティング法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直径９ｍｍの円形パターンをもつマスクを介して水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で９０秒間露光し、表面に親液性領域である円形パターンが施された透明基板を得た。
【０１６２】
紫外線硬化型モノマー（２官能アクリレートモノマー、日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＧ４００ＤＡ）５００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：ダロキュア１１７３）２５ｇを混合し、３分間攪拌した。得られたマイクロレンズ形成用塗料をマイクロシリンジにて、上記の濡れ性の異なる円形パターンが施された透明基板上の円形パターン部分の中心に１５〜５５μＬ吐出した。このとき吐出液（マイクロレンズ形成用塗料）は円形パターン部のみに広がりそれ以外の部分に広がることは無く、また滴下量が多いほど基板との接触角が大きくなった。これを水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で１０秒間露光することにより、直径９ｍｍ、焦点距離２７〜９０ｍｍのレンズを、樹脂混合液（マイクロレンズ形成用塗料）の吐出量を制御することにより設計、作成することができた。結果を表１に示す。
【０１６３】
【表１】
0004312319.tif 000003
【０１６４】
（比較例）
比較のために上記樹脂混合液を、光触媒含有層を持たない石英ガラス製透明基板（濡れ性のパターンを有していない基板）上に１５〜５５μＬ吐出した。このとき吐出液は吐出量が多くなるほど濡れ広がり、その形状も安定せず様々な形となった。基板との接触角も吐出量に従って変化することは無かった。これを水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で１０秒間露光したが、得られたレンズ形状物は形状、直径、焦点距離が制御されたものではなかった。樹脂溶液（マイクロレンズ形成用塗料）滴下量と基板との接触角、生成されたレンズ形状物の直径および焦点距離の関係を表２に示す。
【０１６５】
【表２】
0004312319.tif 000004
【０１６６】
表１および表２から明らかなように、実施例８のマイクロレンズはマイクロレンズ形成用塗料の滴下量によりマクロレンズの基材との接触角が変化し、焦点距離もこれにともなって変化したが、比較例のマイクロレンズにはそのような傾向がなく、マイクロレンズ形成用塗料の滴下量が増加すると形成されたレンズの半径が大きくなっていた。
【０１６７】
（実施例９）
石英ガラス透明基板上に、実施例１に記載の光触媒含有層形成用材料を用い、スピンコーティング法にて光触媒含有層を形成した。
【０１６８】
上記光触媒含有層を、高圧水銀ランプにて２５ｍＷ／ｃｍ2（３６５ｎｍ）の照度にて４０秒間照射し、これを照射したまま照射波長８３０ｎｍの半導体レーザにてパターン状に照射した。半導体レーザのパターン照射は、マイクロレンズアレイ形成用ＣＡＤデータに基づき、ガルバノメータを用いて行われた。このとき、半導体レーザ照射面の温度は５０℃であった。照射表面における表面張力５０ｍＮ／ｍの液体（純正化学株式会社製、ぬれ標準試薬液Ｎｏ．５０）との接触角を接触角測定器（協和界面科学株式会社製、ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジから液滴を滴下して３０秒後）した結果、７度であった。
【０１６９】
紫外線硬化型モノマー（ＰＯ変成グリセリントリアクリレート、荒川化学工業社製、商品名：ビームセット７２０）１０００ｇ、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名：イルガキュア１８４）５０ｇ、を混合し、３分間攪拌し、マイクロレンズ形成用塗料を作製した。
【０１７０】
得られたマイクロレンズ形成用塗料を液体精密吐出装置（ＥＦＤ製ディスペンサー、１５００ＸＬ−１５）にて、上記のＣＡＤデータに基づき形成された濡れ性の異なる部分に、０．０００１ｍＬ吐出した。このとき、吐出液（マイクロレンズ形成用塗料）は、ＣＡＤデータに基づき形成された濡れ性の異なる部分にのみ広がり、それ以外の部分に広がることは無かった。
【０１７１】
これを水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ2の照度で１０秒間露光することにより、ＣＡＤデータにより設定された直径３０〜５０μｍの種々の底面形状を有するマイクロレンズアレイを有するマイクロレンズ基板を得た。
【０１７２】
【発明の効果】
本発明は、基板と、この基板の表面上に設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを有することを特徴とするマイクロレンズ基板である。このように、本発明は、濡れ性可変層上に複数のマイクロレンズを形成する構成としたものであるので、予めマイクロレンズを設ける部分の濡れ性可変層の濡れ性を液体との接触角が小さい親液性領域とし、他の部分の濡れ性可変層を液体との接触角が大きい撥液性領域とすることができる。したがって、このマイクロレンズを設ける親液性領域の部分にマイクロレンズ形成用塗料を付着させることにより、液体との接触角の小さい親液性領域にのみマイクロレンズ形成用塗料が付着するため、基板上に精度良くマイクロレンズを形成することができる。また、マイクロレンズの焦点距離は、マイクロレンズ形成用塗料の量と、このマイクロレンズ形成用塗料が塗布される親液性領域の面積との関係で決定されるため、比較的容易に焦点距離を制御することが可能となるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のマイクロレンズ基板における焦点距離の調整を示す概略断面図である。
【図３】本発明のマイクロレンズ基板に遮光部を形成した例を示す概略断面図である。
【図４】図３に示すマイクロレンズ基板の遮光部が形成された面を示す概略平面図である。
【図５】本発明のマイクロレンズ基板を用いた液晶ディスプレイを示す概略断面図である。
【図６】本発明のマイクロレンズ基板を用いた撮像素子を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１…マイクロレンズ基板
２…基板
３…濡れ性可変層
４…マイクロレンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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