【手続補正書】
【提出日】平成25年9月27日(2013.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、誘電率異方性が負の液晶層と、を含む液晶装置であって、
前記基板と前記液晶層との間に配置された第１画素電極と、
前記第１画素電極と第１方向において隣り合う第２画素電極と、
前記第１画素電極と前記第１方向に交差する第２方向において隣り合う第３画素電極と、
前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置され、前記液晶層中の第１の液晶分子を前記第２方向に沿って配向させるための第１配向膜と、
前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に配置され、前記液晶層中の第２の液晶分子を前記第１方向に沿って配向させるための第２配向膜と、
前記第１の画素電極、前記第２の画素電極、及び前記第３の画素電極を覆い、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間及び前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に配置され、前記液晶層中の第３の液晶分子を前記基板の法線に沿って配向させるための第３配向膜と、
を含み、
前記第１画素電極と前記第２画素電極との間において、前記第１配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置され、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間において、前記第２配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置であって、
前記第１配向膜は、前記第２方向からの斜方物理蒸着法を用いた第１無機配向膜であり、
前記第２配向膜は、前記第１方向からの斜方物理蒸着法を用いた第２無機配向膜であり、
前記第３配向膜は、前記第１方向及び前記第２方向と交差する方向からの斜方物理蒸着法を用いた第３無機配向膜であることを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液晶装置であって、
前記第３配向膜は、前記第１の画素電極、前記第２の画素電極、及び前記第３の画素電極と、前記液晶層との間において、前記第１配向膜及び前記第２配向膜を覆うように配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
基板を覆うように配置された第１画素電極と、
前記第１画素電極と第１方向において隣り合う第２画素電極と、
前記第１画素電極と前記第１方向に交差する第２方向において隣り合う第３画素電極と、
前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置され、第１の液晶分子を前記第２方向に沿って配向させるための第１配向膜と、
前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に配置され、第２の液晶分子を前記第１方向に沿って配向させるための第２配向膜と、
前記第１の画素電極、前記第２の画素電極、及び前記第３の画素電極を覆い、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間及び前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に配置され、第３の液晶分子を前記基板の法線に沿って配向させるための第３配向膜と、
を含み、
前記第１画素電極と前記第２画素電極との間において、前記第１配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置され、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間において、前記第２配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液晶装置であって、
前記第３配向膜は、前記第１の画素電極、前記第２の画素電極、前記第３の画素電極、前記第１配向膜及び前記第２配向膜を覆うように配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項６】
第１画素電極と、前記第１画素電極と第１方向において隣り合う第２画素電極と、前記第１画素電極と前記第１方向に交差する第２方向において隣り合う第３画素電極とが配置された基板と、誘電率異方性が負の液晶層と、を含む液晶装置の製造方法であって、
前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に、前記液晶層中の第１の液晶分子を前記第２方向に沿って配向させるための第１配向膜を形成する工程と、
前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に、前記液晶層中の第２の液晶分子を前記第１方向に沿って配向させるための第２配向膜を形成する工程と、
前記第１画素電極と前記第２画素電極との間、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間、及び前記画素電極と前記液晶層との間に、前記液晶層中の第３の液晶分子を前記基板の法線に沿って配向させるための第３配向膜を形成する工程と、
を含み、
前記第１画素電極と前記第２画素電極との間において、前記第１配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置され、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間において、前記第２配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置されることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第１配向膜は、前記第２方向からの斜方物理蒸着法を用いて形成され、
前記第２配向膜は、前記第１方向からの斜方物理蒸着法を用いて形成され、
前記第３配向膜は、前記第１方向及び前記第２方向と交差する方向からの斜方物理蒸着法を用いて形成されていることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第３配向膜は、前記第１の画素電極、前記第２の画素電極、及び前記第３の画素電極と、前記液晶層との間において、前記第１配向膜及び前記第２配向膜を覆うように配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項９】
請求項１乃至５のいずれかに記載の液晶装置を含むことを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
請求項６または７に記載の液晶装置の製造方法を用いて形成された液晶装置を含むことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上記した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり以下の形態または適用例として実現することが可能である。
本発明の一態様の液晶装置は、基板と、誘電率異方性が負の液晶層と、を含む液晶装置であって、前記基板と前記液晶層との間に配置された第１画素電極と、前記第１画素電極と第１方向において隣り合う第２画素電極と、前記第１画素電極と前記第１方向に交差する第２方向において隣り合う第３画素電極と、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置され、前記液晶層中の第１の液晶分子を前記第２方向に沿って配向させるための第１配向膜と、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に配置され、前記液晶層中の第２の液晶分子を前記第１方向に沿って配向させるための第２配向膜と、前記第１の画素電極、前記第２の画素電極、及び前記第３の画素電極を覆い、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間及び前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に配置され、前記液晶層中の第３の液晶分子を前記基板の法線に沿って配向させるための第３配向膜と、を含み、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間において、前記第１配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置され、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間において、前記第２配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置されることを特徴とする。
本発明の別の一態様の液晶装置は、基板を覆うように配置された第１画素電極と、前記第１画素電極と第１方向において隣り合う第２画素電極と、前記第１画素電極と前記第１方向に交差する第２方向において隣り合う第３画素電極と、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に配置され、第１の液晶分子を前記第２方向に沿って配向させるための第１配向膜と、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に配置され、第２の液晶分子を前記第１方向に沿って配向させるための第２配向膜と、前記第１の画素電極、前記第２の画素電極、及び前記第３の画素電極を覆い、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間及び前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に配置され、第３の液晶分子を前記基板の法線に沿って配向させるための第３配向膜と、を含み、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間において、前記第１配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置され、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間において、前記第２配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置されることを特徴とする。
本発明の一態様の液晶装置の製造方法は、第１画素電極と、前記第１画素電極と第１方向において隣り合う第２画素電極と、前記第１画素電極と前記第１方向に交差する第２方向において隣り合う第３画素電極とが配置された基板と、誘電率異方性が負の液晶層と、を含む液晶装置の製造方法であって、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に、前記液晶層中の第１の液晶分子を前記第２方向に沿って配向させるための第１配向膜を形成する工程と、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間に、前記液晶層中の第２の液晶分子を前記第１方向に沿って配向させるための第２配向膜を形成する工程と、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間、及び前記画素電極と前記液晶層との間に、前記液晶層中の第３の液晶分子を前記基板の法線に沿って配向させるための第３配向膜を形成する工程と、を含み、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間において、前記第１配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置され、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間において、前記第２配向膜及び前記第３配向膜が前記液晶と接するように配置されることを特徴とする。