Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月29日(2013.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前記互いに横に並んで配置され、一方に受光量を、他方にしきい値を数値表示可能な第１、第２表示部と、
前記第１、第２表示部に対して、一方の前記表示部に隣接して配置され、前記しきい値を増減調整するための上下キースイッチと、
前記第１、第２表示部に対して、他方の前記表示部に隣接して配置され、前記しきい値を受光量に応じて自動的にしきい値を設定するための押しボタン式のしきい値設定キースイッチと、
長押しされることで、前記第１、第２表示部に前記受光量及びしきい値を表示するモードから、前記第１、第２表示部を用いて動作機能を設定する動作機能設定モードに入るための押しボタン式のモードキースイッチとを備え、
前記しきい値設定キースイッチ、前記第１、第２表示部、前記上下キースイッチ、前記モードキースイッチの順に配置されてなることを特徴とする光電スイッチ。
【請求項２】
隣接して配置され、一方に受光量を、他方にしきい値を数値表示可能な第１、第２表示部と、
前記第１、第２表示部のうち、前記受光量が表示される一方の表示部に対して他方の前記表示部とは反対側に配置され、前記しきい値を増減調整するための上下キースイッチと、
前記第１および第２表示部に対して前記上下キースイッチとは反対側に配置され、前記しきい値を受光量に応じて自動的にしきい値を設定するための押しボタン式のしきい値設定キースイッチと、
長押しされることで、前記第１、第２表示部に前記受光量及び前記しきい値を表示するモードから、前記第１、第２表示部を用いて動作機能を設定する動作機能設定モードに入るための押しボタン式のモードキースイッチとを備え、
前記しきい値設定キースイッチ、前記第１、第２表示部、前記上下キースイッチ、前記モードキースイッチの順に配置されてなることを特徴とする光電スイッチ。
【請求項３】
前記しきい値設定キースイッチに隣接して配置され、前記受光量と前記しきい値に基づく前記光電スイッチの検出状態を示す出力オン／オフインジケータをさらに備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の光電スイッチ。
【請求項４】
前記上下キースイッチのアップ方向操作位置とダウン方向操作位置とが前記光電スイッチの長手方向に沿って一体に形成され、前記上下キースイッチのキートップ面が前記長手方向に沿って凹形状の曲面で形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに一に記載の光電スイッチ。
【請求項５】
前記第１、第２表示部が同一の平面に形成され、前記モードキースイッチのキートップ面が前記第１、第２表示部の前記平面に対して前記第１、第２表示部側へ傾きを持った形状で形成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一に記載の光電スイッチ。
【請求項６】
前記キースイッチ及び前記表示部の配列方向の端にピボット軸を介して取り付けらる片開き式の蓋と、
前記モードキースイッチよりも前記ピボット軸側に配置され、前記モードキースイッチよりも低いキートップ面を有する押しボタン式スイッチとをさらに備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一に記載の光電スイッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月19日(2013.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮影機器、撮影方法及び撮影制御プログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、３次元画像の撮影を可能にする撮影機器、撮影方法及び撮影制御プログラムに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は見やすい３Ｄ画像を得るための撮影支援を行うことを可能にすることができる撮影機器、撮影方法及び撮影制御プログラムを提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の撮影機器は、撮像部と、上記撮像部で得られる画像を表示する表示部と、上記撮像部で得られる画像中に並んだ各被写体までの距離の分布に基づいて３Ｄ撮影の有効無効を判定する判定部と、上記判定部による３Ｄ撮影の有効無効の判定結果に基づいて３Ｄ撮影が適していることを示す表示又は３Ｄ撮影が適していないことを示す表示を表示する表示制御部と、を具備する。
また、本発明の撮影機器は、撮像部と、上記撮像部で得られる画像を表示する表示部と、上記撮像部で得られる画像中に並んだ各被写体までの距離の分布を求めて、求めた上記距離の分布に基づいて３Ｄ撮影の有効無効を判定する判定部と、上記判定部による３Ｄ撮影の有効無効の判定結果によって３Ｄ撮影が適していることが示された場合には、３Ｄ撮影のための撮影支援を行い、３Ｄ撮影が適していないことが示された場合には、２Ｄ撮影処理を行う制御部と、を具備する。
また、本発明の撮影方法は、撮像部で得られる画像を表示部に表示する第１の表示制御ステップと、上記撮像部で得られる画像中に並んだ各被写体までの距離の分布を求めて、求めた上記距離の分布に基づいて３Ｄ撮影の有効無効を判定する判定ステップと、上記判定ステップにおける３Ｄ撮影の有効無効の判定結果に基づいて３Ｄ撮影が適していることを示す表示又は３Ｄ撮影が適していないことを示す表示を上記表示部に表示する第２の表示制御ステップと、を具備する。
また、本発明の撮影制御プログラムは、コンピュータに、撮像部で得られる画像を表示部に表示する第１の表示制御ステップと、上記撮像部で得られる画像中に並んだ各被写体までの距離の分布を求めて、求めた上記距離の分布に基づいて３Ｄ撮影の有効無効を判定する判定ステップと、上記判定ステップにおける３Ｄ撮影の有効無効の判定結果に基づいて３Ｄ撮影が適していることを示す表示又は３Ｄ撮影が適していないことを示す表示を上記表示部に表示する第２の表示制御ステップと、を実行させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像部と、
上記撮像部で得られる画像を表示する表示部と、
上記撮像部で得られる画像中に並んだ各被写体までの距離の分布に基づいて３Ｄ撮影の有効無効を判定する判定部と、
上記判定部による３Ｄ撮影の有効無効の判定結果に基づいて３Ｄ撮影が適していることを示す表示又は３Ｄ撮影が適していないことを示す表示を表示する表示制御部と、
を具備したことを特徴とする撮影機器。
【請求項２】
上記判定部は、上記撮像部の撮像範囲内に基準被写体が存在するか否かを判定して、上記３Ｄ撮影の有効無効を判定する
ことを特徴とする請求項１に記載の撮影機器。
【請求項３】
上記判定部は、上記撮像部の撮影範囲に複数の検出点を設定し、上記複数の検出点における距離の分布に基づいて、上記複数の検出点の位置と距離との相関を求めることで、上記３Ｄ撮影の有効無効を判定する
ことを特徴とする請求項１に記載の撮影機器。
【請求項４】
撮像部と、
上記撮像部で得られる画像を表示する表示部と、
上記撮像部で得られる画像中に並んだ各被写体までの距離の分布を求めて、求めた上記距離の分布に基づいて３Ｄ撮影の有効無効を判定する判定部と、
上記判定部による３Ｄ撮影の有効無効の判定結果によって３Ｄ撮影が適していることが示された場合には、３Ｄ撮影のための撮影支援を行い、３Ｄ撮影が適していないことが示された場合には、２Ｄ撮影処理を行う制御部と、
を具備する撮影機器。
【請求項５】
上記判定部は、上記撮像部の撮影範囲に複数の検出点を設定し、上記複数の検出点における距離の分布に基づいて、上記撮像部の撮像範囲内の視線移動の起点ポイントを判定して、上記３Ｄ撮影の有効無効を判定する
ことを特徴とする請求項４に記載の撮影機器。
【請求項６】
上記判定部は、上記撮像部の撮影範囲に複数の検出点を設定し、上記複数の検出点における距離の分布に基づいて、上記複数の検出点の位置と距離との相関を求めることで、上記３Ｄ撮影の有効無効を判定する
ことを特徴とする請求項４に記載の撮影機器。
【請求項７】
撮像部で得られる画像を表示部に表示する第１の表示制御ステップと、
上記撮像部で得られる画像中に並んだ各被写体までの距離の分布を求めて、求めた上記距離の分布に基づいて３Ｄ撮影の有効無効を判定する判定ステップと、
上記判定ステップにおける３Ｄ撮影の有効無効の判定結果に基づいて３Ｄ撮影が適していることを示す表示又は３Ｄ撮影が適していないことを示す表示を上記表示部に表示する第２の表示制御ステップと、
を具備したことを特徴とする撮影方法。
【請求項８】
コンピュータに、
撮像部で得られる画像を表示部に表示する第１の表示制御ステップと、
上記撮像部で得られる画像中に並んだ各被写体までの距離の分布を求めて、求めた上記距離の分布に基づいて３Ｄ撮影の有効無効を判定する判定ステップと、
上記判定ステップにおける３Ｄ撮影の有効無効の判定結果に基づいて３Ｄ撮影が適していることを示す表示又は３Ｄ撮影が適していないことを示す表示を上記表示部に表示する第２の表示制御ステップと、
を実行させるための撮像制御プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月10日(2013.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料溶液が分散したキャリアガスを、ガス通路を通し、該ガス通路のガス出口において連通する気化部に導入して気化を行う気化器において、該ガス通路の該ガス出口が冷却されるようにしたことを特徴とする気化器。
【請求項２】
ガス通路が形成されている本体に、冷却水を流す空間が形成されている請求項１記載の気化器。
【請求項３】
ガス通路が形成されている本体と気化部との接続部が冷却されるようにした請求項１又は２記載の気化器。
【請求項４】
原料溶液が分散したキャリアガスを、ガス通路を通し、該ガス通路のガス出口において連通する気化部に導入して気化を行う気化方法において、該ガス通路の該ガス出口が冷却することを特徴とする気化方法。
【請求項５】
ガス通路が形成されている本体に、冷却水を流す空間が形成し、前記空間に冷却水を流す請求項４記載の気化方法。
【請求項６】
ガス通路が形成されている本体と気化部との接続部を冷却する請求項４又は５記載の気化方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】  請求項１に係る発明は、原料溶液が分散したキャリアガスを、ガス通路を通し、該ガス通路のガス出口において連通する気化部に導入して気化を行う気化器において、該ガス通路の該ガス出口が冷却されるようにしたことを特徴とする気化器である。  請求項2に係る発明は、ガス通路が形成されている本体に、冷却水を流す空間が形成されている請求項１記載の気化器である。  請求項３に係る発明は、ガス通路が形成されている本体と気化部との接続部が冷却されるようにした請求項１又は２記載の気化器である。 請求項４に係る発明は、原料溶液が分散したキャリアガスを、ガス通路を通し、該ガス通路のガス出口において連通する気化部に導入して気化を行う気化方法において、該ガス通路の該ガス出口が冷却することを特徴とする気化方法である。  請求項５に係る発明は、ガス通路が形成されている本体に、冷却水を流す空間が形成し、前記空間に冷却水を流す請求項４記載の気化方法である。  請求項６に係る発明は、ガス通路が形成されている本体と気化部との接続部を冷却する請求項４又は５記載の気化方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月4日(2013.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
内蔵表示部１０７は例えば液晶パネルなどにより構成される。
内蔵表示部１０７は、制御部１０５より３Ｄ表示命令を受信すると、図５（ａ）に示すようにサイドバイサイド画像データに基づいて映像信号出力部１０４の生成した３Ｄ画像を表示する。また制御部１０５より２Ｄ表示命令を受信すると、図５（ｂ）に示すようにサイドバイサイド画像をそのまま表示する。すなわち、Ｌ画像とＲ画像を１フレーム画像に設定したサイドバイサイド画像として表示する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図６は、映像信号出力部１０４の詳細構成を示すブロック図である。この図６を用いて映像信号出力部１０４の詳細構成および詳細処理について説明する。
図６に示すように、映像信号出力部１０４は、画像データ入力部２０１、画素データ分割部２０２、水平方向解像度変換部２０３〜２０８垂直方向解像度変換部２０９〜２１４、画素データ合成部２１５、信号処理部２１６，２１７、外部出力部２１８、内蔵表示部出力部２１９、制御部２２０を有している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
水平方向解像度変換部２０３〜２０８は、制御部２２０から解像度変換命令としての拡大縮小命令を受信する。例えば、
入力画像の水平方向の解像度は１４４０、
画像を出力する外部モニタの水平方向の解像度は１９２０、
内蔵表示部１０７の水平方向の解像度は６４０、
これらの設定である場合、入力画像に対して各出力先の表示部の解像度に応じた解像度変換を行うことが必要となる。制御部２２０は、出力先に応じた解像度変換のための拡大縮小命令を発行する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
垂直方向解像度変換部２０９〜２１４も、制御部２２０より出力先に応じた解像度変換のための拡大縮小命令を受信する。例えば、
入力画像の垂直方向の解像度は５４０、
画像を出力する外部モニタの垂直方向の解像度は１０８０、
内蔵表示部１０７の垂直方向の解像度は４８０、
これらの設定である場合、入力画像に対して各出力先の表示部の解像度に応じた解像度変換を行うことが必要となる。制御部２２０は、出力先に応じた解像度変換のための拡大縮小命令を発行する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
外部出力部２１８と、内蔵表示部出力部２１９は後段の出力デバイスに合わせたインタフェース信号へ変換を行う。例えば外部モニタに対する信号の場合はＨＤＭＩ（Ｈｉｇｈ−Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｍｕｌｔｉｍｅｄｉａ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）（登録商標）、内蔵表示部１０７に対する信号の場合はＭＩＰＩ（Ｍｏｂｉｌｅ  Ｉｎｄｕｓｔｒｙ  Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）形式にして画像出力を行う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
このように、係数算出部３０４は、図９に示すフローチャートのステップＳ１０９において、出力画素と参照画素との距離（位相差）に応じた係数を算出する。
ステップＳ１０９において係数演算が終了すると、求められた係数値を畳込み演算部３０５、係数和算出部３０６へ出力する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
この処理によって、異なる画像の画素値を参照した処理が防止され、ＬＲ画像境界部においてノイズの発生がない高品質な画像生成が可能となる。具体的には、サイドバイサイド画像を３Ｄモニタに出力した場合に逆目側画像の画素の影響のない良好な画像出力が可能となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５０】
［５．３次元画像（３Ｄ）と２次元画像（２Ｄ）との切り替え処理について］
例えば、図１に示す画像処理装置１００の内蔵表示部１０７に対して、制御部１０５から２次元画像（２Ｄ）の表示命令を出力する処理、あるいは、外部モニタを２Ｄ表示に設定する処理を行うことで２Ｄ画像を表示することが可能となる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５１】
記録媒体読出部１０１から読み出したデータを復号化部１０２にてデコードする際に受信したデータがマルチピクチャフォーマットなどの多視点を表すフォーマットでなく、単なるＪＰＥＧ画像だった場合には復号化部１０２から制御部１０５に対して、ＪＰＥＧ画像を受け取ったことを通知し、制御部１０５は２Ｄ表示のための処理を各部に行うことになる。具体的には内蔵表示部１０７に２Ｄ表示命令を転送する他には、解像度変換時に図９に示すフロー中のステップＳ１０６において、常に「もう一方の画像の画素を含まない」と判断してステップＳ１０８に移行する処理が実行される。
この場合には、画像境界部における画端処理は実行されないことになる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月9日(2013.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
図１に示されるように、各画像形成ユニット１６Ｖ、１６Ｗ、１６Ｙ、１６Ｍ、１６Ｃ、１６Ｋの感光体１８に形成された各色のトナー画像は、６つの一次転写ロール３６Ｖ、３６Ｗ、３６Ｙ、３６Ｍ、３６Ｃ、３６Ｋによって中間転写ベルト３４に順次多重転写される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
図６に示されるように、位置検出パターン２４０は、黒色の「Ｎ」字のパターンが、該「Ｎ」字の縦線が記録媒体Ｐの搬送方向に沿うように形成された白地のフィルムが貼着されることで構成されている。なお、「Ｎ」字を、より具体的に説明すると、基準ロール２２６の回転軸２２６Ａの軸方向（記録媒体Ｐの幅方向）に間隔をあけて形成された二本の搬送方向に沿った直線部２４０Ａ及び直線部２４０Ｃと、これら直線部２４０Ａの一端と直線部２４０Ｃの他端とを結ぶ斜線部２４０Ｂと、で構成されている。なお、本実施形態では、Ｎ字は、線幅が約０．２ｍｍで黒色とされている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月17日(2012.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子と、
可視光撮影用光学フィルタと赤外光撮影用光学フィルタとを切り替える光学フィルタ制御部と、
前記撮像素子からの映像信号を処理する映像信号処理部とを備える撮像装置であって、
前記映像信号処理部は、撮影された映像の画像認識を行う画像認識部を備えるとともに、前記映像信号処理部は、前記撮影された映像が所定の照度より大きい場合に、前記画像認識部の画像認識によって赤外光撮影が必要であるかを判定し、
前記光学フィルタ制御部は、前記映像信号処理部において赤外光撮影が必要であると判
定された場合に、前記撮像素子の前面に配置する光学フィルタを前記赤外光撮影用光学フ
ィルタに切り替えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
請求項１において、前記映像信号処理部は、前記画像認識部の画像認識によって撮影したい被写体の少なくとも一部が隠されていると判断された場合に、前記赤外光撮影が必要であると判定することを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
請求項２において、前記映像信号処理部は、前記画像認識部の画像認識によって前記被写体の顔が隠されていると判断された場合に、前記赤外光撮影が必要であると判定することを特徴とする撮像装置。
【請求項４】
請求項１から３の何れかにおいて、前記赤外光撮影を行う場合に、被写体に赤外光を照射することを特徴とする撮像装置。
【請求項５】
請求項１から４の何れかにおいて、前記画像認識を行う場合に、ズーム位置を変更し、認識した被写体が撮影に最適な大きさになるように制御することを特徴とする撮像装置。
【請求項６】
請求項１から５の何れかにおいて、前記画像認識を行う場合に、認識した被写体にフォーカスを合わせるように制御することを特徴とする撮像装置。
【請求項７】
請求項１から６の何れかにおいて、前記画像認識を行う場合に、認識した被写体に露光を合わせるように制御することを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
請求項１から７の何れかにおいて、前記赤外光撮影が必要だと判断される所定の照度の範囲と前記画像認識部で画像認識される画像認識パターンとの組み合わせが、複数設定されていることを特徴とする撮像装置。
【請求項９】
請求項１から８の何れかにおいて、前記映像信号処理部は、前記撮影された映像が所定の照度以下である場合に、赤外光撮影が必要であると判定することを特徴とする撮像装置。
【請求項１０】
請求項１から９の何れかにおいて、前記光学フィルタ制御部は、前記赤外光撮影用光学フィルタを用いて所定の時間以上連続して撮影することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
しかしながら、高照度環境においても赤外光撮影用光学フィルタを用いた方が良い場合も考えられる。例えば、ヘルメットシールドで隠された顔を撮影する場合である。監視カメラの役割の一つは、犯罪発生時、現場を撮影することで、捜査時に有益な情報を提供することである。しかし、犯行時に犯人がヘルメットシールドで顔を隠していた場合、有益な情報が得られない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このとき、赤外光撮影用光学フィルタを用いて撮影すると、ヘルメットやマスク等で隠された顔を撮影することができる。人体に照射又は反射した赤外光は可視光よりも波長が長いため、衣服等の薄い膜を透過する特徴がある。このため、赤外光を撮影すると、衣服等で隠された部分を撮影することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ここで、特許文献３では、撮影時は常に、赤外光撮影用光学フィルタと、可視光撮影用
光学フィルタとを、定期的に入れ替えて、赤外光撮影と可視光撮影を同時に行う方法が記
載されている。この方法では、不審者が存在する場合に、光学フィルタの入れ替え頻度を変化させ、可視光撮影ｎフレーム毎に赤外光撮影１フレームが混ざるようにしている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、上記従来の問題を解決するためになされたもので、照度と画像認識による判
定を行うことで、所定の照度より大きい場合に、赤外光撮影が必要な被写体を撮影すると
きにのみ、光学フィルタを赤外光撮影用光学フィルタに切り替えて撮影することのできる撮像装置を提供することを目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月10日(2013.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して所定の処理を行う処理容器と、処理容器内に回転可能に収容され、位置検出対象である基板が載置される基板載置部が形成されるサセプタとを備える半導体製造装置において行われる、基板載置位置を検出する位置検出方法であって、
前記サセプタを動かして前記基板載置部を撮像装置の撮像領域に位置させる工程と、
前記処理容器内において前記撮像装置の撮像領域内に位置するように設けられる２つの第１の位置検出マークであって、該２つの第１の位置検出マークの第１の垂直二等分線が前記サセプタの回転中心を通るように設けられる当該２つの第１の位置検出マークを検出する工程と、
前記サセプタにおいて前記基板載置部に対して設けられる２つの第２の位置検出マークであって、該２つの第２の位置検出マークの第２の垂直二等分線が前記サセプタの回転中心と前記基板載置部の中心とを通るように設けられる当該２つの第２の位置検出マークを検出する工程と、
検出された前記２つの第１の位置検出マークおよび前記２つの第２の位置検出マークに基づいて前記基板載置部が所定の範囲に位置するかを判定する工程と
を含む、位置検出方法。
【請求項２】
前記第１の位置検出マークを検出する工程において、前記第１の垂直二等分線が特定され、
前記第２の位置検出マークを検出する工程において、前記第２の垂直二等分線が特定され、
前記判定する工程において、前記第１の垂直二等分線と前記第２の垂直二等分線とのなす角に基づいて前記基板載置部が所定の範囲に位置するかが判定される、請求項１に記載の位置検出方法。
【請求項３】
前記判定する工程により、前記基板載置部が所定の範囲に位置していると判定された場合に、
前記基板載置部に基板を載置する工程と、
前記基板および前記基板載置部を含む領域を撮像する工程と、
前記領域の画像に基づいて前記基板の位置を推定する工程と、
検出された前記第２の位置検出マークから求まる前記基板載置部の位置と前記基板の位置とから、前記基板が所定の位置にあるかどうかを判定する工程と
が行われる、請求項１または２に記載の位置検出方法。
【請求項４】
前記撮像する工程に先だつ、前記基板の上方に配置される、開口部を有する光散乱性のパネル部材に光を照射する工程を更に含み、
前記撮像する工程において、前記開口部を通して、前記光が照射される前記パネル部材により照らされる、前記基板及び前記基板載置部を含む領域が撮像される、請求項３に記載の位置検出方法。
【請求項５】
前記判定する工程により、前記基板載置部が所定の範囲に位置していると判定されない場合に、警報信号を発する工程を更に含む、請求項１に記載の位置検出方法。
【請求項６】
前記基板の位置を推定する工程が、前記基板載置部に載置された前記基板の端部を認識する工程を含む、請求項３又は４に記載の位置検出方法。
【請求項７】
前記判定する工程により、前記基板載置部が所定の範囲に位置していると判定された場合に、
前記基板載置部の中心を推定する工程と、
前記基板を搬送する基板搬送部を用いて前記基板を前記基板載置部の上方に保持する工程と、
前記基板載置部の上方に保持される前記基板を含む領域を撮像する工程と、
前記領域の画像に基づいて、前記基板が前記基板載置部に載置されたときの当該基板の中心位置を推定する工程と、
前記基板載置部の中心と、推定された前記基板の中心位置との偏差を求める工程と、
前記基板搬送部を移動して前記偏差を相殺する工程と、
が行われる、請求項１に記載の位置検出方法。
【請求項８】
基板に対して所定の処理を行う処理容器と、処理容器内に回転可能に収容され、位置検出対象である基板が載置される基板載置部が形成されるサセプタとを備える半導体製造装置に用いられる、基板の位置を検出する位置検出装置であって、
前記処理容器内において撮像装置の撮像領域内に収まるように設けられる２つの第１の位置検出マークであって、該２つの第１の位置検出マークの第１の垂直二等分線が前記サセプタの回転中心を通るように設けられる当該２つの第１の位置検出マークと、
前記サセプタにおいて前記基板載置部に対して設けられる２つの第２の位置検出マークであって、該２つの第２の位置検出マークの前記垂直二等分線が前記サセプタの回転中心と前記基板載置部の中心とを通るように設けられる当該２つの第２の位置検出マークと、
前記基板載置部の周縁領域とを含む領域を撮像する撮像部、および
前記撮像部により撮像された画像に基づいて前記２つの第１の位置検出マークおよび前記２つの第２の位置検出マークを検出し、検出された前記２つの第１の位置検出マークおよび前記２つの第２の位置検出マークに基づいて前記基板載置部が所定の範囲に位置するかを判定する制御部
を備える、位置検出装置。
【請求項９】
前記制御部が、前記２つの第１の位置検出マークに基づいて得られた前記第１の垂直二等分線と、前記２つの位置検出マークに基づいて得られた前記第２の垂直二等分線とのなす角に基づいて、前記基板載置部が所定の範囲に位置するかを判定する、請求項８に記載の位置検出装置。
【請求項１０】
容器内にて、互いに反応する少なくとも２種類の反応ガスを順番に基板に供給するサイクルを実行して反応生成物の層を当該基板上に生成することにより膜を堆積する成膜装置であって、
前記容器に回転可能に設けられたサセプタと、
前記サセプタの一の面に設けられ、前記基板が載置される載置部と、
前記載置部に載置される前記基板の位置を検出する、請求項８に記載される基板位置検出装置と、
前記一の面に第１の反応ガスを供給するよう構成された第１の反応ガス供給部と、
前記サセプタの回転方向に沿って前記第１の反応ガス供給部から離れた、前記一の面に第２の反応ガスを供給するよう構成された第２の反応ガス供給部と、
前記回転方向に沿って、前記第１の反応ガスが供給される第１の処理領域と前記第２の反応ガスが供給される第２の処理領域との間に位置し、前記第１の処理領域と前記第２の処理領域とを分離する分離領域と、
前記第１の処理領域と前記第２の処理領域とを分離するために、前記容器の中央に位置し、前記一の面に沿って第１の分離ガスを吐出する吐出孔を有する中央領域と、
前記容器を排気するために前記容器に設けられた排気口と、
を備え、
前記分離領域が、第２の分離ガスを供給する分離ガス供給部と、前記第２の分離ガスが前記回転方向に対し前記分離領域から前記処理領域側へ流れることができる狭隘な空間を、前記サセプタの前記一の面に対して形成する天井面と
を含む成膜装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月15日(2013.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層と複数の導体層とを交互に積層して多層化した構造を有する多層配線基板の製造方法であって、
厚さが１００μｍ以下である絶縁材で構成されるシート状のコア絶縁材を準備する準備工程と、
前記コア絶縁材に対してレーザ穴加工を施して前記絶縁材の表面及び裏面にて開口する貫通穴を形成する穴あけ工程と、
無電解銅めっき後に電解銅めっきを施すことにより、前記コア絶縁材の貫通穴内全体が充填されてなる第１層間接続導体部を形成するとともに前記コア絶縁材の表面及び裏面の上に配置され前記第１層間接続導体部に繋がる前記導体層を形成する導体形成工程と、
前記導体層を形成した前記コア絶縁材の表面及び裏面の両方に、前記複数の樹脂絶縁層及び前記複数の導体層を交互に積層して多層化する積層工程と
を含み、
前記穴あけ工程では、隣接して設けられる複数の前記貫通穴について、一方の貫通孔を前記コア絶縁材の表面側からレーザ穴加工を施して形成するとともに他方の貫通穴を前記コア絶縁材の裏面側からレーザ穴加工を施して形成するようにした
ことを特徴とする多層配線基板の製造方法。
【請求項２】
前記積層工程は、前記樹脂絶縁層に貫通穴を形成し、前記樹脂絶縁層の貫通穴内を充填してなる第２層間接続導体部を形成する工程を含み、
前記コア絶縁材は、前記樹脂絶縁層よりも厚く、
前記第１層間接続導体部の直径は、前記第２層間接続導体部の直径よりも大きい
ことを特徴とする請求項１に記載の多層配線基板の製造方法。
【請求項３】
基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層と複数の導体層とを交互に積層して多層化した構造を有する多層配線基板であって、
厚さが１００μｍ以下である絶縁材で構成されるシート状のコア絶縁材と、
前記コア絶縁材に形成された複数の貫通穴と、
複数の前記貫通穴内全体をそれぞれ充填してなる第１層間接続導体部と、
前記コア絶縁材の表面及び裏面に形成された導体層と、
前記コア絶縁材の表面及び裏面の両方に前記複数の樹脂絶縁層と前記複数の導体層とを交互に積層してなるビルドアップ層と
を有し、
複数の前記貫通穴について、一方の貫通穴は前記コア絶縁材の裏面側から表面側に向かうに従って拡径したテーパ状の貫通穴であり、他方の貫通穴は前記コア絶縁材の表面側から裏面側に向かうに従って拡径したテーパ状の貫通穴である
ことを特徴とする多層配線基板。
【請求項４】
前記コア絶縁材は、前記樹脂絶縁層よりも厚く、
前記第１層間接続導体部の直径は、前記樹脂絶縁層の貫通孔内に充填されてなる第２層間接続導体部の直径よりも大きい
ことを特徴とする請求項３に記載の多層配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】多層配線基板及びその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、複数の樹脂絶縁層と複数の導体層とを交互に積層して多層化した構造を有する多層配線基板及びその製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、製造工程を簡素化することができる多層配線基板及びその製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そして上記課題を解決するための手段（手段１）としては、基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層と複数の導体層とを交互に積層して多層化した構造を有する多層配線基板の製造方法であって、厚さが１００μｍ以下である絶縁材で構成されるシート状のコア絶縁材を準備する準備工程と、前記コア絶縁材に対してレーザ穴加工を施して前記絶縁材の表面及び裏面にて開口する貫通穴を形成する穴あけ工程と、無電解銅めっき後に電解銅めっきを施すことにより、前記コア絶縁材の貫通穴内全体が充填されてなる第１層間接続導体部を形成するとともに前記コア絶縁材の表面及び裏面の上に配置され前記第１層間接続導体部に繋がる前記導体層を形成する導体形成工程と、前記導体層を形成した前記コア絶縁材の表面及び裏面の両方に、前記複数の樹脂絶縁層及び前記複数の導体層を交互に積層して多層化する積層工程とを含み、前記穴あけ工程では、隣接して設けられる複数の前記貫通穴について、一方の貫通孔を前記コア絶縁材の表面側からレーザ穴加工を施して形成するとともに他方の貫通穴を前記コア絶縁材の裏面側からレーザ穴加工を施して形成するようにしたことを特徴とする多層配線基板の製造方法がある。
なおこの場合において、前記積層工程は、前記樹脂絶縁層に貫通穴を形成し、前記樹脂絶縁層の貫通穴内を充填してなる第２層間接続導体部を形成する工程を含み、前記コア絶縁材は、前記樹脂絶縁層よりも厚く、前記第１層間接続導体部の直径は、前記第２層間接続導体部の直径よりも大きいものであってもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記製造方法によって製造される多層配線基板は、基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層と複数の導体層とを交互に積層して多層化した構造を有する多層配線基板であって、厚さが１００μｍ以下である絶縁材で構成されるシート状のコア絶縁材と、コア絶縁材において、一方の表面からその反対側の裏面に向けて拡径するよう形成されたテーパ状の貫通穴内に設けられ、コア絶縁材の表面及び裏面の上に配置された導体層に繋がる第１層間接続導体部と、コア絶縁材の表面及び裏面の両方に積層される複数の樹脂絶縁層において、内層側であるコア絶縁材側から外層側である基板主面側及び基板裏面側に向けて拡径するよう形成されたテーパ状の貫通穴内に設けられ、樹脂絶縁層の表面及び裏面の上に配置された導体層に繋がる第２層間接続導体部とを備える。
また、上記製造方法によって製造される別の多層配線基板（手段２）としては、基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層と複数の導体層とを交互に積層して多層化した構造を有する多層配線基板であって、厚さが１００μｍ以下である絶縁材で構成されるシート状のコア絶縁材と、前記コア絶縁材に形成された複数の貫通穴と、複数の前記貫通穴内全体をそれぞれ充填してなる第１層間接続導体部と、前記コア絶縁材の表面及び裏面に形成された導体層と、前記コア絶縁材の表面及び裏面の両方に前記複数の樹脂絶縁層と前記複数の導体層とを交互に積層してなるビルドアップ層とを有し、複数の前記貫通穴について、一方の貫通穴は前記コア絶縁材の裏面側から表面側に向かうに従って拡径したテーパ状の貫通穴であり、他方の貫通穴は前記コア絶縁材の表面側から裏面側に向かうに従って拡径したテーパ状の貫通穴であることを特徴とする多層配線基板がある。なおこの場合において、前記コア絶縁材は、前記樹脂絶縁層よりも厚く、前記第１層間接続導体部の直径は、前記樹脂絶縁層の貫通孔内に充填されてなる第２層間接続導体部の直径よりも大きいものであってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月16日(2013.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
上記本圧着部は、上記基板の２つの辺のうちの一方の辺に仮圧着された電子部品を本圧着する直線状の第１の本圧着部と、他方の辺に仮圧着された電子部品を本圧着する直線状の第２の本圧着部を有し、
上記第１の本圧着部と第２の本圧着部は、９０度の角度をなすとともに、上記待機位置で待機する上記第１の本圧着テーブルと第２の本圧着テーブルとがなす横方向の直線に対して４５度の角度をなした状態で所定の角度で傾斜して配置されていることを特徴とする請求項１記載の電子部品の実装装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
上記第１の本圧着テーブルと第２の本圧着テーブルは、これら本圧着テーブルが上記待機位置で待機しているときの上記横方向の直線に対して４５度の角度をなした状態で所定の角度で傾斜して配置された上記第１の本圧着部と第２の本圧着部に対し、上記本圧着位置で各本圧着テーブルに載置された基板の２つの辺がそれぞれ平行に対向するよう水平方向及び回転方向に駆動可能となっていることを特徴とする請求項３記載の電子部品の実装装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
矩形状の基板の側辺部に仮圧着された電子部品を本圧着する電子部品の実装方法であって、
上記基板が供給される待機位置と、供給された基板に仮圧着された電子部品を本圧着する本圧着位置との間で駆動可能に設けられた第１の本圧着テーブルと第２の本圧着テーブルを有し、
上記第１の本圧着テーブル或いは第２の本圧着テーブルのいずれか一方を上記待機位置に位置決めし待機させ、この一方の本圧着テーブルに電子部品が仮圧着された基板を供給している間に、上記待機位置で基板が既に供給載置された他方の本圧着テーブルを上記本圧着位置に位置決めして上記基板に仮圧着された電子部品を本圧着すること
を特徴とする電子部品の実装方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記本圧着部は、上記基板の２つの辺のうちの一方の辺に仮圧着された電子部品を本圧着する直線状の第１の本圧着部と、他方の辺に仮圧着された電子部品を本圧着する直線状の第２の本圧着部を有し、
上記第１の本圧着部と第２の本圧着部は、９０度の角度をなすとともに、上記待機位置で待機する上記第１の本圧着テーブルと第２の本圧着テーブルとがなす横方向の直線に対して４５度の角度をなした状態で所定の角度で傾斜して配置されていることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
上記第１の本圧着テーブルと第２の本圧着テーブルは、これら本圧着テーブルが上記待機位置で待機しているときの上記横方向の直線に対して４５度の角度をなした状態で所定の角度で傾斜して配置された上記第１の本圧着部と第２の本圧着部に対し、上記本圧着位置で各本圧着テーブルに載置された基板の２つの辺がそれぞれ平行に対向するよう水平方向及び回転方向に駆動可能となっていることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
この発明は、矩形状の基板の側辺部に仮圧着された電子部品を本圧着する電子部品の実装方法であって、
上記基板が供給される待機位置と、供給された基板に仮圧着された電子部品を本圧着する本圧着位置との間で駆動可能に設けられた第１の本圧着テーブルと第２の本圧着テーブルを有し、
上記第１の本圧着テーブル或いは第２の本圧着テーブルのいずれか一方を上記待機位置に位置決めし待機させ、この一方の本圧着テーブルに電子部品が仮圧着された基板を供給している間に、上記待機位置で基板が既に供給載置された他方の本圧着テーブルを上記本圧着位置に位置決めして上記基板に仮圧着された電子部品を本圧着すること
を特徴とする電子部品の実装方法にある。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月16日(2013.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の側辺部に電子部品を仮圧着する電子部品の実装装置であって、
上記電子部品の供給部と、
この供給部に対向して配置され上記供給部に対して接近する仮圧着位置と上記供給部から離反する待機位置との間で駆動される第１の仮圧着テーブル及び第２の仮圧着テーブルと、
上記第１の仮圧着テーブルと第２の仮圧着テーブルとの移動方向と交差する方向の一端側に配置され上記電子部品が仮圧着されていない基板が供給載置される供給テーブルと、
上記第１の仮圧着テーブルと第２の仮圧着テーブルとの移動方向と交差する方向の他端側に配置され上記仮圧着位置で上記電子部品が仮圧着されて上記待機位置に戻った基板が載置される排出テーブルと、
上記供給テーブルに供給載置された基板を上方から取り出して上記待機位置に位置決めされた上記第１の仮圧着テーブル或いは第２の仮圧着テーブルのいずれか一方に供給するとともに、上記仮圧着位置で電子部品が仮圧着されて上記待機位置に戻った上記第１の仮圧着テーブル或いは第２の仮圧着テーブルのいずれか一方から上記基板を上方から取り出して上記排出テーブルに載置する搬送手段と
を具備したことを特徴とする電子部品の実装装置。
【請求項２】
上記搬送手段は、上記供給テーブルから取り出した電子部品が仮圧着されていない基板を上記待機位置に位置決めされた上記第１の仮圧着テーブルと第２の仮圧着テーブルに対して交互に供給することを具備したことを特徴とする請求項１記載の電子部品の実装装置。
【請求項３】
基板の側辺部に電子部品を仮圧着する電子部品の実装方法であって、
上記電子部品の供給部に接近する仮圧着位置と上記供給部から離反する待機位置との間で駆動される第１の仮圧着テーブル及び第２の仮圧着テーブルを有し、
上記第１の仮圧着テーブル或いは第２の仮圧着テーブルのいずれか一方を上記待機位置に位置決めし待機させ、この一方の仮圧着テーブルに電子部品が仮圧着されていない基板を供給している間に、上記待機位置で電子部品が仮圧着されていない基板が既に供給載置された他方の仮圧着テーブルを上記仮圧着位置に位置決めして上記基板に電子部品を仮圧着すること
を特徴とする電子部品の実装方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月10日(2013.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極面と当該電極面に接続された配線ラインとを備え前記電極面の静電容量の変化を前記配線ラインを介して出力する静電容量センサ部と、
当該静電容量センサ部が裏面に設置された操作パネル部と、を有する静電容量型タッチパネルにおいて、
前記操作パネル部の裏面の配線ラインに面する部位に凹部に形成した低誘電率層を設けたことを特徴とする静電容量型タッチパネル。
【請求項２】
凹部の低誘電率層内に、操作パネル部の材質より誘電率が小さい部材を設けることを特徴とする請求項１記載の静電容量型タッチパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月28日(2013.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段により取得された画像の部分領域毎に画像特徴量を取得する特徴量取得手段と、
画像特徴量を前記部分領域毎に保持する背景モデルにおける画像特徴量と前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量とを前記部分領域毎に比較する比較手段と、
前記比較手段による比較結果に基づいて、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を用いて前記背景モデルに保持された画像特徴量に含まれる複数の成分を各成分に応じた度合いで更新する更新手段と、
前記背景モデルを用いて前記部分領域毎に検出対象となる対象物体が存在する領域を検出する検出手段と
を具備することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記部分領域における画像特徴量の複数の成分は、当該部分領域に対する所定の変換結果における複数の周波数成分であることを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記複数の周波数成分は、交流成分と直流成分とを含み、
前記更新手段は、前記複数の周波数成分のうち交流成分よりも直流成分に対する更新の度合いの方が大きい
ことを特徴とする請求項２記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記更新手段は、前記複数の周波数成分のうち、所定の周波数より高い周波数成分に対するより、所定の周波数以下となる周波数成分に対する更新の度合いの方が大きい
ことを特徴とする請求項２記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記更新手段は、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量の複数の成分に対してそれぞれ異なる重み付けを行なって前記背景モデルを更新する
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記更新手段は、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量の複数の成分のそれぞれを更新する更新量の上限値を異ならせて前記背景モデルを更新する
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記更新手段は、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量の複数の成分のそれぞれに対して行なう更新の頻度を異ならせて前記背景モデルを更新する
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記背景モデルは、複数の状態の画像特徴量を前記部分領域毎に保持しており、
前記比較手段は、前記背景モデルにおける各状態の画像特徴量と前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量とを前記部分領域毎に比較し、当該比較結果に基づいて、前記部分領域毎に前記背景モデルにおける１つの状態の画像特徴量を選択し、
前記更新手段は、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を用いて、前記部分領域毎に前記背景モデルにおいて選択された１つの状態の画像特徴量の複数の成分を各成分に応じた度合いで更新し、
前記検出手段は、前記において選択された１つの状態の画像特徴量を用いて前記部分領域毎に検出対象となる対象物体が存在する領域を検出する
ことを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記比較手段は、前記部分領域毎に、前記比較結果において差分値が最小となる状態の画像特徴量を選択し、
前記更新手段は、前記差分値が所定の閾値を越えていれば、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を新規の画像特徴量として前記背景モデルにおける該当の部分領域に登録し、前記差分値が所定の閾値以下であれば、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を用いて前記背景モデルにおける該当の部分領域の画像特徴量を更新し、
前記検出手段は、前記差分値が所定の閾値を越えている部分領域を前記対象物体が存在する領域として検出する
ことを特徴とする請求項８記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記比較手段は、前記部分領域毎に、前記比較結果において差分値が最小となる状態の画像特徴量を選択し、
前記更新手段は、前記差分値が所定の閾値を越えていれば、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を新規の状態の画像特徴量として時刻情報に関連付けて前記背景モデルにおける該当の部分領域に登録し、前記差分値が所定の閾値以下であれば、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を用いて前記背景モデルにおける該当の部分領域の選択された状態の画像特徴量を更新し、
前記検出手段は、現在時刻と、前記更新手段により登録又は更新された画像特徴量に関連付けられた時刻情報との差が所定の閾値以下であれば、該当の部分領域を前記対象物体が存在する領域として検出する
ことを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項１１】
情報処理装置における処理方法であって、
画像取得手段が、画像を取得する工程と、
特徴量取得手段が、前記画像取得手段により取得された画像の部分領域毎に画像特徴量を取得する工程と、
比較手段が、画像特徴量を前記部分領域毎に保持する背景モデルにおける画像特徴量と前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量とを前記部分領域毎に比較する工程と、
更新手段が、前記比較手段による比較結果に基づいて、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を用いて前記背景モデルに保持された画像特徴量に含まれる複数の成分を各成分に応じた度合いで更新する工程と、
検出手段が、前記背景モデルを用いて前記部分領域毎に検出対象となる対象物体が存在する領域を検出する工程と
を含むことを特徴とする情報処理装置の処理方法。
【請求項１２】
コンピュータを、
画像を取得する画像取得手段、
前記画像取得手段により取得された画像の部分領域毎に画像特徴量を取得する特徴量取得手段、
画像特徴量を前記部分領域毎に保持する背景モデルにおける画像特徴量と前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量とを前記部分領域毎に比較する比較手段、
前記比較手段による比較結果に基づいて、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を用いて前記背景モデルに保持された画像特徴量に含まれる複数の成分を各成分に応じた度合いで更新する更新手段、
前記背景モデルを用いて前記部分領域毎に検出対象となる対象物体が存在する領域を検出する検出手段
として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の一態様による情報処理装置は、画像を取得する画像取得手段と、前記画像取得手段により取得された画像の部分領域毎に画像特徴量を取得する特徴量取得手段と、画像特徴量を前記部分領域毎に保持する背景モデルにおける画像特徴量と前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量とを前記部分領域毎に比較する比較手段と、前記比較手段による比較結果に基づいて、前記特徴量取得手段により取得された画像特徴量を用いて前記背景モデルに保持された画像特徴量に含まれる複数の成分を各成分に応じた度合いで更新する更新手段と、前記背景モデルを用いて前記部分領域毎に検出対象となる対象物体が存在する領域を検出する検出手段とを具備することを特徴とする。