Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月19日(2013.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影対象の断層画像から層境界の少なくとも一部の位置を特定する第一の特定手段と、前記第一の特定手段により位置が特定された層境界の深さ方向の位置に基づいて、前記第一の特定手段により位置が特定されなかった部分の探索範囲を設定する設定手段と、
前記設定された探索範囲において前記第一の特定手段では層境界が特定されなかった位置の輝度に基づいて前記探索範囲の中で前記部分の層境界の位置を特定する第二の特定手段と、
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記設定手段は、前記位置が特定された層境界の深さ方向の位置により定められる基準位置を含む範囲を探索範囲として設定する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記設定手段は、前記基準位置を前記位置が特定された層境界の深さ方向の平均の位置とする
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記設定手段は、前記基準位置を前記位置が特定された層境界のうち前記位置が特定されなかった部分から所定の範囲に含まれる層境界の深さ方向の平均の位置とする
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第二の特定手段は、前記深さ方向の輝度変化に基づいて定められる前記部分の層境界の位置の候補が複数ある場合には、前記基準位置に最も近い前記候補の位置を前記部分の層境界の位置として特定する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第二の特定手段は、前記深さ方向の輝度変化が所定の閾値より大きい位置または前記深さ方向の輝度が極大となる位置のいずれかに基づいて前記部分の層境界の位置を特定する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記設定手段は、前記第一の特定手段または前記第二の特定手段により位置が特定された層境界の深さ方向の位置に基づいて、前記位置が特定されなかった部分の探索範囲を新たに設定し、
前記第二の特定手段は、前記新たに設定された探索範囲で深さ方向の輝度変化に基づいて前記位置が特定されなかった部分の層境界の位置を更に特定する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記設定手段は、前記位置が特定された層境界と同一の層境界であって前記特定手段により特定されなかった部分の探索範囲を設定する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項９】
眼部の断層画像の深さ方向への輝度変化が第一の閾値以上となる位置に基づいて前記眼部の所定の層境界の位置を特定する第一の特定手段と、
前記位置が特定された前記層境界の深さ方向の位置に基づいて、前記特定された前記層境界と同一の層境界であって前記第一の特定手段により位置が特定されなかった部分の探索範囲を設定する設定手段と、
前記設定された探索範囲において断層画像の深さ方向への輝度変化が前記第一の閾値よりも小さい第二の閾値以上となる位置に基づいて前記部分の層境界の位置を特定する第二の特定手段と、
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項１０】
前記第一の特定手段は、前記撮影対象の異なる複数の位置に対応する断層画像に対して行うことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記撮影対象とは網膜であり、前記層境界は内境界膜の界面、神経線維層の界面、内網状層の界面、外網状層の界面、視細胞内節外節接合部の界面または網膜色素上皮の界面の少なくともいずれか１つであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記断層画像は、光干渉断層撮像装置により形成された前記撮影対象の断層画像であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記第一の特定手段は、前記断層画像の複数の位置における深さ方向の輝度分布に基づいて層境界を特定し、
前記設定手段は、前記第一の特定手段により特定されたある層の深さ方向の位置に基づいて、当該ある層が前記第一の特定手段では特定されなかった領域を含むように当該ある層についての前記探索範囲を設定する
ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
光干渉断層撮像装置と、
前記光干渉断層撮像装置により撮像された眼部の断層画像から層境界の少なくとも一部の位置を特定する第一の特定手段と、
前記位置が特定された層境界の深さ方向の位置に基づいて、前記位置が特定されなかった部分の探索範囲を設定する設定手段と、
前記設定された探索範囲において前記第一の特定手段では層境界が特定されなかった位置の輝度に基づいて前記探索範囲の中で前記部分の層境界の位置を特定する第二の特定手段と、
前記断層画像と、前記第一の特定手段及び第二の特定手段により特定された層境界の位置とを表示する表示手段と、
を有することを特徴とする画像処理システム。
【請求項１５】
光干渉断層撮像装置により撮像された眼部の断層画像から層境界の少なくとも一部の位置を特定する第一の特定処理と、
前記位置が特定された層境界の深さ方向の位置に基づいて、前記位置が特定されなかった部分の探索範囲を設定する処理と、
前記設定された探索範囲において前記第一の特定手段では層境界が特定されなかった位置の輝度に基づいて前記探索範囲の中で前記部分の層境界の位置を特定する第二の特定処理と、
をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１６】
光干渉断層撮像装置により撮像された眼部の断層画像から層境界の少なくとも一部の位置を特定部が特定する第一の特定ステップと、
前記位置が特定された層境界の深さ方向の位置に基づいて、前記位置が特定されなかった部分の探索範囲を設定する設定ステップと、
前記設定された探索範囲において前記第一の特定手段では層境界が特定されなかった位置の輝度に基づいて前記探索範囲の中で前記部分の層境界の位置を特定部が特定する第二の特定ステップと、
を有することを特徴とする画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで本発明の実施形態に係る画像処理装置は、撮影対象の断層画像を取得する取得手段と、前記取得された断層画像の深さ方向に積層された各層の層境界を検出する検出手段と、前記断層画像の所定の位置において前記検出された層境界の数を算出する算出手段と、前記層境界の数に応じて前記検出された層の種類を判定する判定手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月19日(2013.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２０℃における可使時間が０．３〜３０分の２液混合速硬化性組成物の間欠吐出に使用できる塗布装置であって、該塗布装置は（１）２基の精密定量吐出機、（２）液切り替え弁、（３）混合器を有し、且つ該混合器中における混合液の滞留時間が可使時間の０．０５〜１倍において、該混合液が置換（洗浄）される手段を有することを特徴とする２液混合速硬化性組成物用の塗布装置。
【請求項２】
請求項１の混合器は、冷却部を有する混合器であることを特徴とする請求項１に記載の２液混合速硬化性組成物用の塗布装置。
【請求項３】
請求項２の冷却部を有する混合器の温度が少なくとも−（マイナス）５℃を超えない温度であることを特徴とする請求項２に記載の２液混合速硬化性組成物用の塗布装置。
【請求項４】
請求項１の混合器は、スタティックミキサーであることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の２液混合速硬化性組成物用の塗布装置。
【請求項５】
請求項１の置換手段は、ポリオール（Ｂ液）で置換されることを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の２液混合速硬化性組成物用の塗布装置。
【請求項６】
請求項１の置換手段は、（ａ）混合液の滞留時間、発熱温度、粘度のいずれかの計測又はその組み合わせ、又は（ｂ）該計測から導かれる置換プログラム、により実行されることを特徴とする請求項１〜５いずれかに記載の２液混合速硬化性組成物用の塗布装置。
【請求項７】
請求項１の２液混合速硬化性組成物がポリウレタン組成物であり、（１）該ポリウレタン組成物のＡ液は平均官能基数が２〜３、平均ＮＣＯ基当量が８４〜２０００のポリイソシアネートを含有し、且つ、該ポリイソシアネートの２０℃における蒸気圧は１×１０−２  （１０のマイナス２乗）Ｔｏｒｒ以下であり、且つ粘度が５〜１００，０００ｍＰａ・ｓであり、又、Ｂ液は平均官能基数が２〜６、平均ＯＨ基当量が４０〜５０００のポリオールを含有し、且つ、該ポリオールの粘度が５０〜１００，０００ｍＰａ・ｓであり、更に硬化性触媒を含有し、（２）Ａ液、Ｂ液２液は、当量比（ＮＣＯ基／ＯＨ基比）が１．５／１〜１／１．５で混合され、且つ（１）と（２）から得られる混合物の２０℃における可使時間が０．３〜３０分であることを特徴とする２液混合速硬化性ポリウレタン組成物。
【請求項８】
請求項７のＡ液、Ｂ液の双方、又はその混合物が少なくともー（マイナス）５℃において流動性を保持することを特徴とする請求項７に記載の２液混合速硬化性ポリウレタン組成物。
【請求項９】
請求項７の該組成物を２５℃で３日間養生硬化させた硬化物は、空気中毎分１０℃定速昇温条件下において、重量減少開始温度が２５０℃以上、又３００℃における重量減少率が１０％以下であることを特徴とする請求項７又は８に記載の２液混合速硬化性ポリウレタン組成物。
【請求項１０】
請求項７の該組成物を２５℃で３日間養生硬化させた硬化物の体積抵抗率が、２５℃で１０の１３乗Ω・ｃｍ以上且つ１１０℃で１０の１１乗Ω・ｃｍ以上であることを特徴とする請求項７〜９いずれかに記載の２液混合速硬化性ポリウレタン組成物。
【請求項１１】
請求項７の該組成物を２５℃で３日間養生硬化させた硬化物のショアーＤ硬度が、２５℃で８０以上、１１０℃で６０以上であることを特徴とする請求項７〜１０のいずれかに記載の２液混合速硬化性ポリウレタン組成物。
【請求項１２】
請求項１〜６いずれかの塗布装置を使用して、請求項７〜１１いずれかのポリウレタン組成物を塗布するに際し、該塗布体に乾燥した空気を吹き流して塗布又は硬化させることを特徴とする２液混合速硬化性ポリウレタン組成物の塗布方法又は硬化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月13日(2013.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の欠陥をレーザ光により修正するレーザ加工方法において、
前記欠陥の位置情報を取得する欠陥位置情報取得工程と、
前記レーザ光を照射するレーザ光照射部を、その照射可能領域に前記欠陥が位置するように、前記位置情報に基づき前記基板と相対的に移動させる照射部相対移動工程と、
前記基板の非パターン領域に設定された照射領域の全域又は略全域における前記照射領域に、前記レーザ光照射部により前記レーザ光を一括照射するレーザ光照射工程と、
を含むことを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項２】
前記欠陥の修正の要否を判定する修正要否判定工程を更に含み、  
前記修正要否判定工程において、前記欠陥の修正の要否を、撮像された欠陥の画像と、比較用の画像とを比較することによるパターンマッチングにより行い、  
前記レーザ光照射工程において、前記比較用の画像に基づき設定された照射領域に前記レーザ光を照射する、  
ことを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工方法。
【請求項３】
前記照射領域の設定は、前記照射領域に対応する空間変調素子の微小ミラーと、前記パターン領域に対応する前記空間変調素子の微小ミラーと制御してなることを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工方法。
【請求項４】
前記レーザ光照射工程において、前記非パターン領域のうち、前記パターン領域を膨張させた修正禁止領域を除いた部分である前記照射領域に前記レーザ光を照射することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のレーザ加工方法。
【請求項５】
前記レーザ光照射工程において、前記非パターン領域のうち、前記パターン領域を指定範囲毎に設定された膨張量で膨張させた前記修正禁止領域を除いた部分である前記照射領域に、前記レーザ光を照射することを特徴とする請求項４記載のレーザ加工方法。
【請求項６】
前記照射部相対移動工程は、
前記レーザ光照射部を、修正要否判定用対物レンズの装着時における観察領域に前記欠陥が位置するように、前記位置情報に基づき前記基板と相対的に移動させる第１の照射部相対移動工程と、
前記レーザ光照射部を、レーザ光照射用対物レンズの装着時における前記照射可能領域に前記欠陥がセンタリングされるように、前記基板と相対的に移動させる第２の照射部相対移動工程と、を有し、
前記レーザ加工方法は、
前記第１の照射部相対移動工程の後に、前記観察領域に位置する前記欠陥の修正の要否を判定する修正要否判定工程を更に含む、
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項記載のレーザ加工方法。
【請求項７】
前記欠陥の修正の要否を判定する修正要否判定工程を更に含み、
前記修正要否判定工程において、前記基板のパターン領域に含まれる複数の領域ごとに設定された重要度に基づき、前記欠陥の修正の要否を判定する、
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項記載のレーザ加工方法。
【請求項８】
前記照射可能領域に収まらない前記欠陥に対し前記レーザ光照射工程を複数回繰り返し行い、
該複数回のレーザ光照射工程の前記照射可能領域の重複部分を、前記照射領域を縮小することで解消する、
ことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項記載のレーザ加工方法。
【請求項９】
基板上の欠陥をレーザ光により修正するレーザ加工装置において、
レーザ光を照射するレーザ光照射部と、
該レーザ光照射部を前記基板と相対的に移動させる照射部相対駆動部と、
を備え、
前記レーザ光照射部は、前記基板の非パターン領域に設定された照射領域の全域又は略全域における前記照射領域に、前記レーザ光を一括照射する、
ことを特徴とするレーザ加工装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一実施態様にかかるレーザ加工方法は、基板上の欠陥をレーザ光により修正するレーザ加工方法において、前記欠陥の位置情報を取得する欠陥位置情報取得工程と、前記レーザ光を照射するレーザ光照射部を、その照射可能領域に前記欠陥が位置するように、前記位置情報に基づき前記基板と相対的に移動させる照射部相対移動工程と、前記基板の非パターン領域に設定された照射領域の全域又は略全域における前記照射領域に、前記レーザ光照射部により前記レーザ光を一括照射するレーザ光照射工程と、を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一実施態様にかかるレーザ加工装置は、基板上の欠陥をレーザ光により修正するレーザ加工装置において、レーザ光を照射するレーザ光照射部と、該レーザ光照射部を前記基板と相対的に移動させる照射部相対駆動部と、を備え、前記レーザ光照射部は、前記基板の非パターン領域に設定された照射領域の全域又は略全域における前記照射領域に、前記レーザ光を一括照射する、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月28日(2012.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
棒状の加工対象物を把持する主軸を備え、前記加工対象物を、前記主軸が配置された加工部で加工する工作機械において、
この工作機械の側方に配置される他の工作機械により加工される加工対象物を、前記主軸に並設して収容するとともに、前記収容された加工対象物を前記他の工作機械に供給する給材部を、前記加工部の背面側の領域に設けたことを特徴とする工作機械。
【請求項２】
電装装置が収容され、前記背面側に開口する収容部を備え、
前記給材部は、前記収容部の上方の空間に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の工作機械。
【請求項３】
前記加工部に、前記主軸に対向する第２の主軸を設け、
前記加工対象物を前記２つの主軸の背面側に亘って収容するように、前記給材部を形成したことを特徴とする請求項１または２に記載の工作機械。
【請求項４】
前記加工部に、前記加工対象物を加工する加工手段が設けられ、
前記加工手段を、鉛直方向に対して傾斜させて配置し、前記加工手段の傾斜角度に沿って、前記給材部を配置する空間を形成したことを特徴とする請求項１から３のうちいずれか１項に記載の工作機械。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
すなわち、本発明に係る工作機械は、棒状の加工対象物を把持する主軸を備え、前記加工対象物を、前記主軸が配置された加工部で加工する工作機械において、この工作機械の側方に配置される他の工作機械により加工される加工対象物を、前記主軸に並設して収容するとともに、前記収容された加工対象物を前記他の工作機械に供給する給材部を、前記加工部の背面側の領域に設けたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このように構成された本発明に係る工作機械によれば、他の工作機械で加工されるワークを収容するとともに当該他の工作機械にそのワークを供給する給材部が、主軸が配置された加工部の背面側の領域に設けられているため、この給材部に収容されたワークを他の工作機械に供給することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月20日(2013.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、被加工物に加工処理をする被加工物の加工装置に関する。詳述すると、中空の筒体又は中実の棒体等の被加工物に加工工具により加工処理をする被加工物の加工装置に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このため第１の発明は、中空の筒体又は中実の棒体等の被加工物に加工工具により加工処理をする被加工物の加工装置において、複数種の前記加工工具を備えた工具支持装置と、この工具支持装置に備えられた複数種の加工工具のうちの選択された加工工具と連結してこの選択された加工工具を前記被加工物に加工するための位置まで移動させる第１移動機構と、前記被加工物を保持する複数種のクランプ治具を備えたクランプ保持装置と、このクランプ保持装置に備えられた複数種のクランプ治具のうちの選択されたクランプ治具を前記被加工物に加工するための位置に移動させる第２移動機構とを設けたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また第２の発明は、中空の筒体又は中実の棒体等の被加工物に加工工具により加工処理をする被加工物の加工装置において、複数種の前記加工工具を備えた工具支持装置と、この工具支持装置に備えられた複数種の加工工具のうちの選択された加工工具を連結するための位置に移動するように前記工具支持装置を移動させる第１移動機構と、前記連結するための位置に移動した選択された加工工具と連結してこの選択された加工工具を前記被加工物に加工するための位置まで移動させる第２移動機構と、前記被加工物を保持する複数種のクランプ治具を備えたクランプ保持装置と、このクランプ保持装置に備えられた複数種のクランプ治具のうちの選択されたクランプ治具が前記被加工物に加工するための位置に移動するように前記クランプ保持装置を移動させる第３移動機構とを備え、加工される前記被加工物に対応して選択されたクランプ治具が加工するための位置に移動するように前記第３移動機構により前記クランプ保持装置を移動させ、且つ複数種の加工工具のうちの選択された加工工具を前記連結するための位置に移動するように前記工具支持装置を前記第１移動機構により移動させると共に前記連結するための位置に移動した前記選択された加工工具と連結してこの選択された加工工具を前記被加工物に加工するための位置まで前記第２移動機構により移動させて、選択されたクランプ治具により保持された前記被加工物に前記選択された前記加工工具により加工をすることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中空の筒体又は中実の棒体等の被加工物に加工工具により加工処理をする被加工物の加工装置において、複数種の前記加工工具を備えた工具支持装置と、この工具支持装置に備えられた複数種の加工工具のうちの選択された加工工具と連結してこの選択された加工工具を前記被加工物に加工するための位置まで移動させる第１移動機構と、前記被加工物を保持する複数種のクランプ治具を備えたクランプ保持装置と、このクランプ保持装置に備えられた複数種のクランプ治具のうちの選択されたクランプ治具を前記被加工物に加工するための位置に移動させる第２移動機構とを設けたことを特徴とする被加工物の加工装置。
【請求項２】
中空の筒体又は中実の棒体等の被加工物に加工工具により加工処理をする被加工物の加工装置において、複数種の前記加工工具を備えた工具支持装置と、この工具支持装置に備えられた複数種の加工工具のうちの選択された加工工具を連結するための位置に移動するように前記工具支持装置を移動させる第１移動機構と、前記連結するための位置に移動した選択された加工工具と連結してこの選択された加工工具を前記被加工物に加工するための位置まで移動させる第２移動機構と、前記被加工物を保持する複数種のクランプ治具を備えたクランプ保持装置と、このクランプ保持装置に備えられた複数種のクランプ治具のうちの選択されたクランプ治具が前記被加工物に加工するための位置に移動するように前記クランプ保持装置を移動させる第３移動機構とを備え、加工される前記被加工物に対応して選択されたクランプ治具が加工するための位置に移動するように前記第３移動機構により前記クランプ保持装置を移動させ、且つ複数種の加工工具のうちの選択された加工工具を前記連結するための位置に移動するように前記工具支持装置を前記第１移動機構により移動させると共に前記連結するための位置に移動した前記選択された加工工具と連結してこの選択された加工工具を前記被加工物に加工するための位置まで前記第２移動機構により移動させて、選択されたクランプ治具により保持された前記被加工物に前記選択された前記加工工具により加工をすることを特徴とする被加工物の加工装置。
【請求項３】
前記工具支持装置に備えられた加工工具を、前記被加工物を前記選択されたクランプ治具により加工のために保持するための位置決めのために使用することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の被加工物の加工装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月26日(2012.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紙製の印刷媒体を支持する支持体上に前記印刷媒体を搬送する搬送部と、
前記支持体に対向するように配置されて、前記支持体に支持されている前記印刷媒体に対して液体を噴射する液体噴射ヘッドと、
を備える液体噴射装置であって、
前記液体噴射ヘッドと隣接するように設けられた静電電極を備えている
ことを特徴とする液体噴射装置。
【請求項２】
前記静電電極は、正極及び負極から構成される
請求項１に記載の液体噴射装置。
【請求項３】
前記静電電極は、前記印刷媒体が搬送される方向において前記液体噴射ヘッドと隣接するように配置される
請求項１又は２に記載の液体噴射装置。
【請求項４】
前記静電電極は、前記印刷媒体が搬送される方向における前記液体噴射ヘッドの両側に隣接するように配置されるとともに、該両側における極性が互いに異なる
請求項３に記載の液体噴射装置。
【請求項５】
前記静電電極は、正極及び負極の電極板が交互に積層された電極群からなる
請求項３に記載の液体噴射装置。
【請求項６】
前記液体噴射ヘッドが有する前記支持体側の面と、前記静電電極が有する前記支持体側の面を払拭するワイパ部材をさらに備え、
前記ワイパ部材は、前記印刷媒体が搬送される方向と直交する方向に沿って前記液体噴射ヘッドと前記静電電極とを払拭する
請求項３〜５のいずれか一項に記載の液体噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の液滴噴射装置は、紙製の印刷媒体を支持する支持体上に前記印刷媒体を搬送する搬送部と、前記支持体に対向するように配置されて、前記支持体に支持されている前記印刷媒体に対して液体を噴射する液体噴射ヘッドと、を備える液体噴射装置であって、前記液体噴射ヘッドと隣接するように設けられた静電電極を備えている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この液体噴射装置において、前記液体噴射ヘッドが有する前記支持体側の面と、前記静電電極が有する前記支持体側の面を払拭するワイパ部材をさらに備え、前記ワイパ部材は、前記印刷媒体が搬送される方向と直交する方向に沿って前記液体噴射ヘッドと前記静電電極とを払拭する構成が好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月6日(2013.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体フレームと、
前記本体フレームに対して、第１回動中心線を中心として、閉位置から開位置までの間の範囲を回動可能に取り付けられる開閉ユニットと、
前記閉位置の前記開閉ユニットと前記本体フレームの間に形成され、前記開閉ユニットを前記開位置に向けて開くと開放状態になる記録媒体の媒体搬送路と、
前記本体フレームに対して、前記開閉ユニットを前記閉位置にロックするロック位置およびロックを解除したロック解除位置に移動可能に取り付けられるロック部材と、
前記本体フレームに対して、前記第１回動中心線とは異なる当該第１回動軸線に平行な第２回動中心線を中心として、第１回動位置から第２回動位置を経由して第３回動位置に至る範囲を回動可能な操作レバーと、
前記操作レバーおよび前記開閉ユニットの間に配置される第１カム機構と、
前記操作レバーおよび前記ロック部材の間に配置される第２カム機構と、を有し、
前記第１カム機構は、前記操作レバーの前記第２回動位置から前記第３回動位置までの回動を、前記開閉ユニットの前記閉位置から前記開位置までの回動に変換し、
前記第２カム機構は、前記操作レバーの前記第１回動位置から前記第２回動位置までの回動を、前記ロック部材の前記ロック位置から前記ロック解除位置までの移動に変換することを特徴とする媒体処理装置。
【請求項２】
前記第１カム機構は、前記操作レバーに形成したカム溝と、前記開閉ユニットに取り付けられ、前記カム溝に沿ってスライド可能なスライドピンと、を備え、
前記カム溝は、前記第２回動中心線を中心とする円弧に沿った方向に延びる第１カム溝部分と、当該第１カム溝部分における前記開閉ユニットの閉じ方向の端から前記円弧の半径方向の外方に折れ曲がって延びる第２カム溝部分と、を備え、
前記操作レバーが前記第１回動位置から前記第２回動位置に回動する間は、前記スライドピンが前記第１カム溝部分に沿って相対的にスライドして前記開閉ユニットが前記閉位置に保持され、前記操作レバーが前記第２回動位置から前記第３回動位置に回動すると、前記スライドピンは前記第２カム溝部分に沿ってスライドしながら前記第１回動中心線を中心として回動させられて、前記開閉ユニットが前記開位置に回動する請求項１に記載の媒体処理装置。
【請求項３】
前記第２カム機構は、前記操作レバーに形成したカム面と、前記ロック部材に取り付けたピンと、を備え、
前記操作レバーが前記第１回動位置から前記第２回動位置まで回動する間は、前記ピンが、前記カム面に沿ってスライドしながら前記ロック部材を前記ロック解除位置に移動させる方向に押される請求項２に記載の媒体処理装置。
【請求項４】
前記操作レバーは、当該操作レバーを操作する操作端部を備え、
前記第２回動中心線から前記操作端部までの距離は、前記第２回動中心線から前記カム溝までの距離、および、当該第２回動中心線から前記カム面までの距離のいずれよりも長い請求項３に記載の媒体処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月18日(2013.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを収納するためのインク収納部と、プリンタへの装着方向に関して前記プリンタが備える光学検知部に対し対向する第１及び第２光学的被検知部と、前記プリンタに前記インクを供給するためのインク供給口と、を備えたインク収納容器において、前記第２光学的被検知部は前記インク収納容器がインク供給可能な位置に装着されることで前記光学検知部に対向し、前記第１光学的被検知部は前記インク収納容器の装着移動中に前記光学検知部に対向するが、前記インク収納容器が装着に至った後には前記光学検知部に対向しないことを特徴とするインク収納容器。
【請求項２】
前記第１光学的被検知部は、前記インク収納容器の装着移動中に前記光学検知部に対向した後、前記インク収納容器が装着に至った後には前記光学検知部に対向しない位置に退避していることを特徴とする請求項1に記載のインク収納容器。
【請求項３】
前記退避が、前記インク収納容器の前記プリンタへの装着操作に連動して、行われることを特徴とする請求項２に記載のインク収納容器。
【請求項４】
前記連動は、前記インク収納容器が前記プリンタへの装着に至ったとき、前記第１光学的被検知部がプリンタ側の相対する壁に突きたることによって起こり、前記連動によって前記第２被検知部が前記光学検知部に対向しない突き当て退避位置に退避することを特徴とする請求項３に記載のインク収納容器。
【請求項５】
前記退避が、前記第１被検知部が自重によって回動して起こることを特徴とする請求項４に記載のインク収納容器。
【請求項６】
前記退避が、前記第１被検知部が弾性部材によって引きつけられて起こることを特徴とする請求項４に記載のインク収納容器。
【請求項７】
再充填されたインクを収納するインク収納部と、プリンタへの装着方向に関して前記プリンタが備える光学検知部に対し対向する第１及び第２光学的被検知部と、前記プリンタに前記インクを供給するためのインク供給部と、を備えた再充填インク収納リサイクル容器において、前記第２光学的被検知部は再充填インク収納リサイクル容器がインク供給可能な位置に装着されることで前記光学検知部に対向し、前記第１光学的被検知部は再充填インク収納リサイクル容器の装着移動中に前記光学検知部に対向するが、再充填インク収納リサイクル容器の装着に至った後には前記光学検知部に対向しないことを特徴とする再充填インク収納リサイクル容器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月11日(2013.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された半導体素子と、
前記半導体素子を覆うように形成された層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜中に形成された第１配線層と、
前記第１配線層と接続し、かつ、前記層間絶縁膜中に形成された第１ビアと、
前記第１ビアと接続し、かつ、前記層間絶縁膜上に形成された第２配線層と、
前記第１配線層と同層で、かつ、前記層間絶縁膜中に形成された第３配線層と、
前記第１ビアと同層で、前記第３配線層と接続し、かつ、前記層間絶縁膜中に形成された平面リング状の第２ビアと、
前記第２配線層と同層で、前記第２ビアと接続し、かつ、前記層間絶縁膜上に形成されたパッドと、
前記パッド及び前記第２配線層を覆うように前記層間絶縁膜上に形成され、かつ、パッドの上部に開口部を有する絶縁膜と、を有し、
前記第２ビアの幅は、前記第１ビアの幅以上であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置において、
平面リング状の前記第２ビアで囲まれた平面領域は、前記パッドと前記第２ビアと前記第３配線層とで囲まれていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項２記載の半導体装置において、
前記平面領域は、前記開口部の平面領域より大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３記載の半導体装置において、
前記パッドの端から前記第２ビアの内側の端までの距離が０より大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項３記載の半導体装置において、
前記パッドと前記第２ビアが平面的に重なっていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第２ビアの平面リング状は矩形状であって、角部の幅が辺部の幅より大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第２ビアの平面リング状は角部が８以上となる多角形状であることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第２ビアの平面リング状は円形状であることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第２ビアの平面リング状は長方形状であって、長辺の幅が短辺の幅より太いことを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項１記載の半導体装置において、
平面リング状の前記第２ビアの内側には、前記第２ビアより幅が小さい平面リング状の第３ビアが設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項１記載の半導体装置において、
平面リング状の前記第２ビアの内側には、前記パッドおよび前記第３配線層に接続する複数の第３ビアが設けられており、
前記第２ビアと前記第３ビアとの距離は、前記複数の第３ビア間の距離より大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
請求項１記載の半導体装置において、
平面リング状の前記第２ビアの内側には、前記パッドおよび前記第３配線層に接続し、且つ、平面メッシュ状の第３ビアが設けられており、
前記平面メッシュ状の交点以外の前記第３ビアの幅が、前記第１ビアの幅と同じであることを特徴とする半導体装置。
【請求項１３】
請求項１記載の半導体装置において、
平面リング状の前記第２ビアの内側には、前記パッドおよび前記第３配線層に接続し、且つ、平面リング状の多重の第３ビアが設けられており、
前記多重の第３ビアの一部の幅が、前記第１ビアの幅と同じであることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月29日(2013.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パーベイシブ・モデル適応のためのコンピュータ実装方法であって、
生産システムに動作シーケンスを含む生産計画を提供するステップと、
前記生産システム内において前記生産計画を実行するステップと、
前記生産計画の実行の間に前記生産システム内の少なくとも１つのセンサによってもたらされる観察データをコンピュータ・メモリ内に収集するステップと、
前記収集された観察データに基づいて前記コンピュータ・メモリ内のシステム・モデルに対してなされるべき変更を計算するステップと、
前記計算された変更に従って前記システム・モデルを動的に更新するステップと、
前記動的に更新されたシステム・モデルに少なくとも部分的に基づいて更新された生産計画を作成するステップと、
前記更新された生産計画を前記コンピュータ・メモリ内に格納するステップと、
を包含し、
前記システム・モデルは、前記生産システムについて真であると考えられることの表現であり、
前記生産計画及び動的に更新された生産計画は、最適化され、最適な生産性を提供し、同時に又はほぼ同時に、前記システム・モデルを動的に更新するための最大化された情報内容の値を提供し、
前記動的に更新されたシステム・モデルに少なくとも部分的に基づいて更新された生産計画を作成するステップは、
前記生産システムの内部制約に基づいて有向グラフを作成するステップと、
情報内容を最大化する経路を作り出すために、最良優先サーチ・アルゴリズムのための評価関数として情報内容関数を利用することによって前記最良優先サーチ・アルゴリズムを前記有向グラフ上で実行するステップと、
前記最良優先サーチ・アルゴリズムによってもたらされる前記経路を前記更新された生産計画としてセットするステップと、を包含し、
前記情報内容関数は、カルマンフィルタを利用する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記最良優先サーチ・アルゴリズムは、Ａ＊グラフ探索アルゴリズムである、
ことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
パーベイシブ・モデル適応のためのコンピュータ・ベースのシステムであって、
（ｉ）生産システムの少なくとも１つのセンサによってもたらされる観察データを受信し、かつ前記生産システムからの前記受信された観察データに基づいて前記生産システムのシステム・モデルに対してなされるべき変更を計算するべく構成されたモデル適応エンジンと、
（ｉｉ）前記モデル適応エンジンからの前記計算された変更に基づいて前記システム・モデルを動的に更新するべく設計されたシステム・モデル・モジュールと、
（ｉｉｉ）前記システム・モデル・モジュールからの前記更新されたシステム・モデルに少なくとも部分的に基づいて動作シーケンスを含む生産計画を更新するべく設計されたプランナ・モジュールと、
を具現化するコンピュータ実行可能命令を含む少なくとも１つのメモリと、
前記コンピュータ実行可能命令を実行する少なくとも１つのプロセッサと、
を備え、
前記プランナ・モジュールは、
前記生産システムの内部制約に基づいて有向グラフを生成するよう構成された制約条件モジュールと、
前記システム・モデルに基づいてヒューリスティクスを生成するよう構成された情報評価基準モジュールと、
前記制約条件モジュールからの前記有向グラフ及び前記情報評価基準モジュールからの前記ヒューリスティクスに基づいて生産計画を更新するよう構成されたサーチ・モジュールと、
を包含し、
前記サーチ・モジュールは、
情報内容を最大化する経路を作り出すために、最良優先サーチ・アルゴリズムのための評価関数として情報内容関数を利用することによって前記最良優先サーチ・アルゴリズムを前記制約条件モジュールにより生成された前記有向グラフ上で実行し、
前記最良優先サーチ・アルゴリズムによってもたらされる前記経路を前記更新された生産計画としてセットし、
前記情報内容関数は、カルマンフィルタを利用する、
ことを特徴とするパーベイシブ・モデル適応のためのコンピュータ−ベースのシステム。
【請求項４】
前記最良優先サーチ・アルゴリズムは、Ａ＊グラフ探索アルゴリズムである、
ことを特徴とする、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
パーベイシブ・モデル適応のためのコンピュータ・ベースのシステムであって、
（ｉ）生産システムの少なくとも１つのセンサによってもたらされる観察データを受信し、かつ前記生産システムからの前記受信された観察データに基づいて前記生産システムのシステム・モデルに対してなされるべき変更を計算するべく構成されたモデル適応エンジンと、
（ｉｉ）前記モデル適応エンジンからの前記計算された変更に基づいて前記システム・モデルを動的に更新するべく設計されたシステム・モデル・モジュールと、
（ｉｉｉ）前記システム・モデル・モジュールからの前記更新されたシステム・モデルに少なくとも部分的に基づいて生産計画を更新するべく設計されたプランナ・モジュールと、
を具現化するコンピュータ実行可能命令を含む少なくとも１つのメモリと、
前記コンピュータ実行可能命令を実行する少なくとも１つのプロセッサと、
を備え、
前記プランナ・モジュールにより更新された前記生産計画は、生産性及び最大化された情報内容の値のために最適化され、
前記プランナ・モジュールは、
前記生産システムの内部制約に基づいて有向グラフを生成するよう構成された制約条件モジュールと、
前記システム・モデルに基づいてヒューリスティクスを生成するよう構成された情報評価基準モジュールと、
前記制約条件モジュールからの前記有向グラフ及び前記情報評価基準モジュールからの前記ヒューリスティクスに基づいて生産計画を更新するよう構成されたサーチ・モジュールと、
を包含し、
前記サーチ・モジュールは、
情報内容を最大化する経路を作り出すために、最良優先サーチ・アルゴリズムのための評価関数として情報内容関数を利用することによって前記最良優先サーチ・アルゴリズムを前記制約条件モジュールにより生成された前記有向グラフ上で実行し、
前記最良優先サーチ・アルゴリズムによってもたらされる前記経路を前記更新された生産計画としてセットし、
前記情報内容関数は、カルマンフィルタを利用する、
ことを特徴とするパーベイシブ・モデル適応のためのコンピュータ−ベースのシステム。
【請求項６】
前記最良優先サーチ・アルゴリズムは、Ａ＊グラフ探索アルゴリズムである、
ことを特徴とする、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記生産計画は、前記システム・モデルの動作シーケンスを含む、
ことを特徴とする、請求項５に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月6日(2013.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査線及び信号線が交差する表示部を有する可撓性の表示パネルと、
前記可撓性の表示パネルの一端部を拘持する支持部と、
前記支持部に設けられ前記信号線に信号を出力する信号線駆動回路と、
前記表示パネルの可撓面に前記支持部と略垂直方向に配設され前記走査線に信号を出力する走査線駆動回路とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記表示パネルは前記支持部の長手方向に沿って応力集中領域を有し、
前記応力集中領域は前記表示部と前記支持部との間に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記走査線駆動回路は、複数の回路部を有し、前記複数の回路部は互いに離間して設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記複数の回路部が離間する部位において、前記支持部の長手方向に沿った応力集中領域がさらに設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記支持部は、前記信号線駆動回路に加えて、バッテリー、アンテナ、ＣＰＵ、メモリのいずれか一を有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月25日(2013.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動回路により表示制御が行われる表示部を有する表示パネルと、前記表示パネルを固定する綴じ部とを有し、
前記綴じ部には前記駆動回路が設けられ、
前記表示パネルは、前記綴じ部の長軸方向に対して平行に延びる折曲部を有することを特徴とする電子機器。
【請求項２】
走査線駆動回路及び信号線駆動回路により表示制御が行われる表示部を有する表示パネルと、前記表示パネルを固定する綴じ部とを有し、
前記綴じ部には前記信号線駆動回路が設けられ、
前記表示パネルは、前記綴じ部の長軸方向に対して垂直方向の端部に前記走査線駆動回路が設けられていることを特徴とする電子機器。
【請求項３】
走査線駆動回路及び信号線駆動回路により表示制御が行われる表示部を有する表示パネルと、前記表示パネルを固定する綴じ部とを有し、
前記綴じ部には前記信号線駆動回路が設けられ、
前記表示パネルは、前記綴じ部の長軸方向に対して垂直方向に前記走査線駆動回路が離間して設けられていることを特徴とする電子機器。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記綴じ部は、バッテリー、アンテナ、ＣＰＵ、メモリのいずれか一をさらに有することを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月29日(2013.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が通過可能な光通過領域の外側に備えられ、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の光の反射率が１５％以下であり、波長１０００ｎｍ以上１７００ｎｍ未満の光の反射率が５０％以上である反射面が、少なくとも一部に備えられた筐体部を含むことを特徴とする光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載された光学装置であって、
前記筺体部の前記反射面は、前記光通過領域の外側に備えられた基材の外側に形成される第１層と、前記第１層の外側に形成される第２層とを有しており、
前記第１層は、前記第２層よりも可視光の反射率が高いことを特徴とする光学装置。
【請求項３】
請求項２に記載された光学装置であって、
前記反射面は、前記第２層の外側に形成される第３層をさらに有し、
前記第３層は、前記第１層および前記第２層より可視光の透過率が高いことを特徴とする光学装置。
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載された光学装置であって、
前記第１層は、金属粒子を含むことを特徴とする光学装置。
【請求項５】
請求項２から請求項４までの何れか１項に記載された光学装置であって、
前記第２層は、少なくとも波長１０００ｎｍ以上１７００ｎｍ未満の光の反射率が、前記第１層より低いことを特徴とする光学装置。
【請求項６】
請求項２から請求項５までの何れか１項に記載された光学装置であって、
前記第２層は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の光の反射率が、１０％以下であることを特徴とする光学装置。
【請求項７】
請求項４に記載された光学装置であって、
前記第１層に含まれる前記金属粒子は、Ａｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｎｉ，Ｃｕのうちから選択された少なくとも１つの元素を含有することを特徴とする光学装置。
【請求項８】
請求項２から請求項７までの何れか１項に記載された光学装置であって、
前記基材は、ポリカーボネート、マグネシウム系合金、マグネシウム、アルミニウム系合金、アルミニウム、カーボン・樹脂複合材料から選択された少なくとも１つを有することを特徴とする光学装置。
【請求項９】
請求項２から請求項８までの何れか１項に記載された光学装置であって、
前記第１層および前記第２層は、塗布により形成された塗膜であることを特徴とする光学装置。
【請求項１０】
請求項２から請求項９までの何れか１項に記載された光学装置であって、
前記第１層、及び、前記第２層の少なくとも一方は、Ｓｉ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｃｕのうちから選択された少なくとも１つの元素を含有することを特徴とする光学装置。
【請求項１１】
請求項２から請求項１０までの何れか１項に記載された光学装置であって、
前記反射面は、当該反射面の最外側表面に形成される複数の凸部または複数の凹部を有し、
複数の前記凸部および複数の前記凹部は、互いに間隔を隔てて配置されており、
前記凸部および前記凹部は、前記第１層および前記第２層より可視光の透過率が高いことを特徴とする光学装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載された光学装置であって、
前記凸部または凹部は、前記第３層の外側に形成されることを特徴とする光学装置。
【請求項１３】
光が通過可能な光通過領域の外側に備えられ、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の光の反射率が１５％以下であり、波長１０００ｎｍ以上１７００ｎｍ未満の光の反射率が５０％以上である反射面が、少なくとも一部に備えられた筐体部を含み、
前記筐体部の前記反射面は、前記光通過領域の外側に備えられた基材の外側に形成される第１層と、前記第１層の外側に形成される第２層と、前記第２層の外側に形成される第３層と、前記第３層の外側に形成される複数の凸部または複数の凹部とを有し、
前記第１層は、前記第２層よりも可視光の反射率が高く、
前記第３層は、前記第１層および前記第２層より可視光の透過率が高く、
複数の前記凸部および複数の前記凹部は、互いに間隔を隔てて配置されており、
前記凸部および前記凹部は、前記第１層および前記第２層より可視光の透過率が高いことを特徴とする光学装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明に係る光学装置は、
光が通過可能な光通過領域（１５）の外側に備えられ、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の光の反射率が１５％以下であり、波長１０００ｎｍ以上１７００ｎｍ未満の光の反射率が５０％以上である反射面（２４，５４，６４，７０，７４，７６）が、少なくとも一部に備えられた筐体部（１２，５３）を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、例えば、前記筐体部の前記反射面は、前記光通過領域の外側に備えられた基材（３６）の外側に形成される第１層（３２）と、前記第１層の外側に形成される第２層（３４）とを有していてもよく、前記第１層は、前記第２層よりも可視光の反射率が高くてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、例えば、前記第１層は、金属粒子（３８）を含んでも良い。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月13日(2012.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
被写体の画像データを取得するための撮像装置であって、
前記被写体の光学像から複数の画像データを連続して取得可能な画像取得部と、
前記画像取得部を収容する筐体と、
フラッシュ光を出射する装置であって、前記筐体に対して回転駆動することで前記フラッシュ光の出射角度を変更可能なフラッシュ装置と、
前記複数の画像データが連続して取得される際の前記フラッシュ光の前記出射角度が前記複数の画像データのうち少なくとも２つの画像データごとで異なるように前記フラッシュ装置を制御するフラッシュ制御部と、
を備えた撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る撮像装置は、被写体の画像データを取得するための装置であって、画像取得部と、筐体と、フラッシュ装置と、フラッシュ制御部と、を備えている。画像取得部は被写体の光学像から複数の画像データを連続して取得可能である。筐体は画像取得部を収容している。フラッシュ装置は、フラッシュ光を出射する装置であって、筐体に対して回転駆動することでフラッシュ光の出射角度を変更可能である。フラッシュ制御部は、複数の画像データが連続して取得される際のフラッシュ光の出射角度が複数の画像データのうち少なくとも２つの画像データごとで異なるようにフラッシュ装置を制御する。
ここで、撮像装置としては、静止画のみ撮影可能な装置、動画のみ撮影可能な装置、および静止画および動画を撮影可能な装置が考えられる。例えば、撮像装置は、交換レンズ式デジタルカメラ、一体型のデジタルカメラ、デジタルビデオカメラである。撮像装置は、交換レンズ式デジタルカメラのカメラ本体のみであってもよい。