(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板上に処理液を供給して該被処理基板のウェット処理を行う際に用いるウェット処理用ノズルを有するウェット処理用ノズル装置であって、
前記ウェット処理用ノズルには、一端に処理液を導入するための導入口を有する導入通路と一端に使用後の処理液を外部に排出するための排出口を有する排出通路とが形成され、これら導入通路と排出通路のそれぞれの他端に、前記被処理基板に向けて開口する導入開口部と排出開口部とが設けられ、
前記導入開口部に、前記被処理基板上に前記処理液を供給するための多数の貫通孔を有する多孔質材からなり、少なくとも前記被処理基板上の処理液に接する側の一部が親水性材料で形成された処理液供給部材が設けられ、
前記排出開口部に、前記被処理基板上から前記処理液を外部に排出するための多数の貫通孔を有する多孔質材からなり、少なくとも前記被処理基板上の処理液に接する側の一部が親水性材料で形成され、前記処理液を前記被処理基板に対向する面全体からほぼ均等に排出する処理液排出部材が設けられ、
前記導入開口部を通して前記被処理基板に接触した処理液を処理後に、前記排出通路外に流れないように前記被処理基板と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御し前記排出通路を通して吸引排出する手段を有することを特徴とするウェット処理用ノズル装置。
【請求項２】
前記導入開口部と排出開口部との間に、前記被処理基板上の処理液に超音波振動を付与するための超音波振動付与手段が設けられたことを特徴とする請求項１記載のウェット処理用ノズル装置。
【請求項３】
前記処理液供給部材を包含する少なくとも前記導入開口部の周囲が疎水性材料で形成されたことを特徴とする請求項１記載のウェット処理用ノズル装置。
【請求項４】
前記処理液排出部材を包含する少なくとも前記排出開口部の周囲が疎水性材料で形成されたことを特徴とする請求項１記載のウェット処理用ノズル装置。
【請求項５】
前記導入通路が前記被処理基板との相対移動方向に複数並設され、前記複数の導入通路のそれぞれに前記処理液供給部材が設けられたことを特徴とする請求項１記載のウェット処理用ノズル装置。
【請求項６】
請求項１記載のウェット処理用ノズル装置と、前記被処理基板の被処理面に沿って前記ウェット処理用ノズルと前記被処理基板とを相対移動させることにより前記被処理基板の被処理面全域を処理するためのノズルまたは被処理基板の移動手段とを有することを特徴とするウェット処理装置。
【請求項７】
前記ウェット処理用ノズルが、前記被処理基板の両面を処理し得るよう前記被処理基板の一面側と他面側に少なくとも１つずつ設けられたことを特徴とする請求項６記載のウェット処理装置。
【請求項８】
前記被処理基板の一面側と他面側の少なくともいずれか一方の前記ウェット処理用ノズルに、前記被処理基板上の処理液に超音波振動を付与するための超音波振動付与手段が設けられたことを特徴とする請求項７記載のウェット処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体デバイス、液晶表示パネル等の製造プロセスにおける洗浄、エッチング等のウェット処理工程において、被処理基板上に処理液を供給するためのウェット処理用ノズル、及びノズル装置、並びにこれを備えたウェット処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイス、液晶表示パネル等の電子機器の分野においては、その製造プロセス中に被処理基板である半導体基板やガラス基板を洗浄処理する工程が必須である。洗浄工程においては、製造工程中の種々の除去対象物質を除去すべく、超純水、電解イオン水、オゾン水、水素水等、種々の洗浄液を用いた洗浄が行われるが、これら洗浄液は洗浄装置のノズルから基板上に供給される。ところが、従来一般の洗浄用ノズルを用いた場合、洗浄液の使用量が多くなるという問題があった。例えば５００ｍｍ角の基板の洗浄を電解イオン水等の洗浄液を用いて行い、かかる洗浄液による洗浄とリンス洗浄水によるリンスを行った後の基板上のパーティクルの残存量として０．５個／ｃｍ2レベルの清浄度を達成しようとすると、２５〜３０リットル／分程度の洗浄液およびリンス洗浄液を使用しなければならなかった。
【０００３】
そこで、本出願人は、従来型に比べて洗浄液の使用量を大幅に削減できる省液型の洗浄用ノズルを既に出願している。この種の洗浄用ノズルの一例を図１５（ａ）および（ｂ）に示す。図１５（ａ）は洗浄用ノズルの下面図、図１５（ｂ）は図１５（ａ）のXV−XV線に沿う側断面図である。これらの図に示すように、洗浄用ノズル１００は、一端に洗浄液Ｌを導入するための導入口１０１ａを有する導入通路１０１と、一端に使用後の洗浄液Ｌを系外に排出するための排出口１０２ａを有する排出通路１０２とが設けられ、導入通路１０１と排出通路１０２とをそれぞれの他端において交差させて交差部１０３が形成され、交差部１０３に基板Ｗに向けて開口する開口部１０４が設けられたものである。また、排出通路１０２の排出口１０２ａには減圧ポンプ（図示略）が接続されており、減圧ポンプの吸引圧力を制御することにより、開口部１０４の大気と接触している洗浄液Ｌの圧力（洗浄液Ｌの表面張力と基板Ｗの被洗浄面の表面張力も含む）と大気圧との差を制御できるようになっている。
【０００４】
すなわち、開口部１０４の大気と接触している洗浄液Ｌの圧力Ｐw（洗浄液の表面張力と基板Ｗの被洗浄面の表面張力も含む）と大気圧Ｐaとの関係をＰw≒Ｐaとすることにより、開口部１０４を通じて基板Ｗに供給され、基板Ｗに接触した洗浄液Ｌは、洗浄用ノズル１００の外部に漏れることなく、排出通路１０２に排出される。このため、洗浄用ノズル１００から基板Ｗ上に供給された洗浄液Ｌは、基板Ｗ上の洗浄液Ｌを供給した部分（開口部１０４）以外の部分に接触することなく、基板Ｗ上から除去されることになる。このようにして、本提案の洗浄用ノズルは、従来型ノズルに比べて洗浄液の使用量を大幅に削減することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記省液型の洗浄用ノズルにも以下のような問題点があった。
上記洗浄用ノズルにおいて、洗浄液の導入通路と排出通路はともに管状の通路となっており、洗浄液が急速に流れる領域は交差部のある程度の範囲内に限られる。そのため、基板上を流れる洗浄液の流速が速い部分と遅い部分とが生じ、洗浄ムラが発生する恐れがあった。しかも、従来型のノズルでは、図１６に示すように、導入通路と排出通路の外側にあたる交差部の端部が鍔状になっていることも関係して、その下に洗浄液がほとんど流れずに停滞した部分、いわゆる「液溜まり」が生じていた。この液溜まりの部分には基板上のパーティクルが集まってしまうため、洗浄効率を落とす原因となっていた。この液溜まりの発生による処理効率の低下の問題は洗浄のみの問題に留まらず、ウェット処理工程共通の問題である。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、ノズルと被処理基板との間の液溜まりの発生を極力防止することにより処理効率の向上が図れ、省液型ノズルの利点をより生かすことができるウェット処理用ノズル、およびこのノズルを備えたノズル装置、並びにウェット処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明のウェット処理用ノズル装置は、被処理基板上に処理液を供給して該被処理基板のウェット処理を行う際に用いるウェット処理用ノズルを有するウェット処理用ノズル装置であって、前記ウェット処理用ノズルには、一端に処理液を導入するための導入口を有する導入通路と一端に使用後の処理液を外部に排出するための排出口を有する排出通路とが形成され、これら導入通路と排出通路のそれぞれの他端に、前記被処理基板に向けて開口する導入開口部と排出開口部とが設けられ、前記導入開口部に、前記被処理基板上に前記処理液を供給するための多数の貫通孔を有する多孔質材からなり、少なくとも前記被処理基板上の処理液に接する側の一部が親水性材料で形成された処理液供給部材が設けられ、前記排出開口部に、前記被処理基板上から前記処理液を外部に排出するための多数の貫通孔を有する多孔質からなり、少なくとも前記被処理基板上の処理液に接する側の一部が親水性材料で形成され、前記処理液を前記被処理基板に対向する面全体からほぼ均等に排出する処理液排出部材が設けられ、前記導入開口部を通して前記被処理基板に接触した処理液を処理後に、前記排出通路外に流れないように前記被処理基板と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御し前記排出通路を通して吸引排出する手段を有することを特徴とするものである。
なお、排出通路の前記一端側は減圧ポンプに接続し、減圧ポンプの吸引圧力を制御することにより、開口部の大気と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御するようにしても良い。
【０００８】
従来型のノズルの場合、導入通路が通常の管状の通路であり、開口部において管状の通路の先にあたる部分には処理液が比較的よく流れる構造となっているが、それ以外の部分では液が滞留しやすい構造、あるいは液の流れの均一性が損なわれる構造となっていた。そこで、本発明のノズルの場合、導入通路の他端にある導入開口部に、被処理基板上に処理液を供給するための多数の貫通孔を有する処理液供給部材を設ける構成とした。つまり、処理液は導入通路の開口部から被処理基板上に直接流れ落ちるのではなく、例えば多孔質材のような処理液供給部材の多数の貫通孔を通じて被処理基板上に供給される。そのため、処理液は処理液供給部材の被処理基板に対向する面全体からほぼ均等に供給されるようになり、均等な流速をもって被処理基板上のある程度広い面積に一様かつ急速に供給される。したがって、液溜まりがほとんど生じなくなり、ウェット処理の効率を従来に比べて向上させることが可能になる。
【０００９】
また、前記排出開口部に、被処理基板上から処理液を外部に排出するための多数の貫通孔を有する処理液排出部材を設けることが好ましい。
上では導入通路側について述べたが、排出通路についても同様であり、排出通路の他端にある排出開口部に、被処理基板上から処理液を排出するための多数の貫通孔を有する処理液排出部材を設けたことにより、処理液は処理液排出部材の被処理基板に対向する面全体からほぼ均等に排出されるようになる。したがって、この排出手段も液溜まりの防止に寄与し、ウェット処理の効率をさらに向上させることができる。また、処理液排出部材に設けた多数の貫通孔の孔径は、被処理基板上の汚染物の大きさに応じて、処理液供給部材に設けた貫通孔の孔径より大きくしても良い。
【００１０】
前記処理液供給部材のうち、少なくとも被処理基板上の処理液に接する側の一部を親水性材料で形成することが好ましい。同様に、前記処理液排出部材のうち、少なくとも被処理基板上の処理液に接する側の一部を親水性材料で形成することが好ましい。
上記の処理液供給部材や処理液排出部材を親水性材料で形成した場合、処理液が処理液供給部材や処理液排出部材と被処理基板との間の空間全体に行き渡りやすくなり、被処理基板上に迅速に処理液を供給し、迅速に排出することができる。また、処理液が処理液供給部材や処理液排出部材と被処理基板との間の空間に保持されやすくなり、上記空間に行き渡った処理液を確実に保持することが可能になる。これにより、ウェット処理の効率を向上させることができる。
【００１１】
前記導入開口部と排出開口部との間に、被処理基板上の処理液に超音波振動を付与するための超音波振動付与手段を設けてもよい。
導入開口部と排出開口部との間に超音波振動付与手段を設けた場合、被処理基板上の処理液に超音波振動を付与することができ、例えば超音波洗浄等を行うことによって洗浄効率を向上させることができる。
【００１２】
さらに、前記処理液供給部材を包含する少なくとも前記導入開口部の周囲を疎水性材料で形成することが好ましい。同様に、前記処理液排出部材を包含する少なくとも前記排出開口部の周囲を疎水性材料で形成することが好ましい。
このような構成とした場合、大気に解放された導入開口部や排出開口部からノズル外部に漏れようとする処理液の流れが抑えられ、開口部の端部の部材の界面張力が小さくなるために処理液が盛り上がるようにしてノズルと被処理基板との間に保持される。したがって、処理液の保持に関する制御性が大幅に向上し、ノズル外部への液漏れを確実に防止することができる。
【００１３】
前記導入通路は単数であってもよいが、導入通路を被処理基板との相対移動方向に複数並設し、複数の導入通路のそれぞれに処理液供給部材を設ける構成としてもよい。
この構成により、様々なシーケンスでウェット処理を行うことができ、複数の導入通路を用いて、例えば一つの導入通路には初期段階でノズルと基板との間に急速に処理液を供給する役目を持たせ、他の導入通路には定常的な処理続行時の処理液の供給の役目を持たせるというように、ウェット処理をより効率的に実施することができる。
【００１４】
本発明のウェット処理用ノズル装置は、上記本発明のウェット処理用ノズルと、前記導入開口部を通して被処理基板に接触した処理液を処理後に、前記排出通路外に流れないように被処理基板と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御し前記排出通路を通して吸引排出する手段とを有することを特徴とするものである。
本発明のウェット処理用ノズル装置は、上記本発明のウェット処理用ノズルと、被処理基板と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御して被処理基板上の処理液を排出通路を通して吸引排出する手段とを備えたことにより、処理液を供給した部分以外の部分に処理液を接触させることなく、被処理基板上から除去することができ、省液型ノズルを実現することができる。
【００１５】
本発明のウェット処理装置は、上記本発明のウェット処理用ノズルと、被処理基板の被処理面に沿って前記ウェット処理用ノズルと被処理基板とを相対移動させることにより被処理基板の被処理面全域を処理するためのノズルまたは被処理基板の移動手段とを有することを特徴とするものである。
本発明のウェット処理装置は、上記本発明のウェット処理用ノズルと、被処理基板の被処理面に沿ってウェット処理用ノズルと被処理基板とを相対移動させる移動手段とを備えたことにより、上記本発明のウェット処理用ノズルの利点を有したまま被処理基板の被処理面全域を処理することができる。
【００１６】
上記ウェット処理装置において、前記ウェット処理用ノズルを、被処理基板の両面を処理し得るよう被処理基板の一面側と他面側に少なくとも１つずつ設けた構成としてもよい。
この構成により、被処理基板の両面を処理することができ、例えば基板の表面洗浄と裏面洗浄を同時に行うなども可能になる。
【００１７】
さらに、被処理基板の一面側と他面側の少なくともいずれか一方の前記ウェット処理用ノズルに、被処理基板上の処理液に超音波振動を付与するための超音波振動付与手段を設けた構成としてもよい。
この構成により、被処理基板上の処理液に超音波振動を付与することができ、例えば超音波洗浄等を行うことによって高い洗浄効率を有する洗浄装置を実現することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の第１の実施の形態を図１ないし図３を参照して説明する。
図１は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の外観を示す斜視図、図２（ａ）は洗浄用ノズルの下面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のII−II線に沿う断面図、図３は洗浄用ノズルの動作を説明するための図である。
【００１９】
本実施の形態の洗浄用ノズル１は、図１および図２（ａ）に示すように、ケーシング２がその短手方向に３つの領域に分割されており、両端がそれぞれ洗浄液導入部３、洗浄液排出部４であり、中央が超音波振動子収容部５である。洗浄液導入部３の上面に洗浄液導入管６（導入通路）がノズルの長手方向に離間して２本設けられ、同様に、洗浄液排出部４の上面には洗浄液排出管７（排出通路）が２本設けられている。各洗浄液導入管６の上端は開口してここから洗浄液Ｌ（処理液）を導入するための導入口６ａとなり、下端はケーシング２の内部で被処理基板Ｗ（以下、単に基板という）に向けて開口する導入開口部６ｂとなっている。同様に、各洗浄液排出管７の上端は開口してここから使用後の洗浄液Ｌを外部に排出するための排出口７ａとなり、下端はケーシング２の内部で基板Ｗに向けて開口する排出開口部７ｂとなっている。洗浄液排出管７の排出口７ａは、減圧ポンプ（図示せず）に接続し、減圧ポンプの吸引力を制御することにより、使用後の洗浄液Ｌの圧力と大気圧との差を制御し、洗浄液Ｌを確実に排出するようにしている。
【００２０】
また、超音波振動子収容部５の内部には、洗浄液Ｌに超音波振動を付与することで超音波洗浄を行うための超音波振動子８（超音波振動付与手段）が収容されている。超音波振動子収容部５の中央には超音波振動子５を制御するためのケーブル１１が設けられている。
【００２１】
図２（ｂ）に示すように、導入開口部６ｂの内部には、多孔質材からなる洗浄液供給部材１２（処理液供給部材）が装入されている。多孔質材として、具体的にはフッ素樹脂、ポリエチレン等のプラスティック、ＳＵＳ３１６等の金属、アルミナ、シリコン酸化物等のセラミックス、表面に親水基を持たせる親水処理を行ったプラスティック、ＴｉＯ2のような金属酸化物等の材料を用いることができる。中でも、シリコン酸化物、アルミナ、親水処理を施したプラスティック等のような親水性材料であれば、より好ましい。あるいは、洗浄液供給部材１２全体を親水性材料としなくても、少なくとも基板Ｗ上の洗浄液Ｌに接する部分のみを親水性材料で形成しても良いし、表面を親水性処理しても良い。いずれにしても、洗浄液供給部材１２が多孔質材で形成されたことによって、洗浄液導入管６から導入開口部６ｂ内に洗浄液Ｌが供給された際に洗浄液供給部材１２の多数の貫通孔を通じて基板Ｗ上に洗浄液Ｌが供給される。
【００２２】
一方、排出開口部７ｂの内部にも、多孔質材からなる洗浄液排出部材１３（処理液排出部材）が装入されている。洗浄液排出部材１３に使用される多孔質材も、洗浄液供給部材１２に使用されるものと同様の材料を用いることができる。ただし、１つのノズル内で洗浄液供給部材１２と洗浄液排出部材１３に用いられる多孔質材が、同種であっても異種であっても一向に差し支えない。洗浄液排出部材１３が多孔質材で形成されたことによって、基板Ｗ上に残る使用後の洗浄液Ｌが洗浄液排出部材１３の多数の貫通孔から吸引され、洗浄液排出管７を通じてノズル外部に排出される。
【００２３】
次に、上記構成の洗浄用ノズル１の動作（シーケンス）の一例を図３（ａ）〜図３（ｄ）を用いて説明する。この洗浄用ノズル１を用いて従来の技術の項で述べたような省液型ノズルを実現する場合、基板Ｗ上の洗浄液Ｌがノズルと基板との間の空間外に流れないように洗浄液Ｌの圧力と大気圧との差を制御し、洗浄液排出管７を通して洗浄液を吸引排出するための排水用ポンプ（図示略）を洗浄液排出管７に接続してノズル装置を構成する。さらに、洗浄液導入管６には任意の洗浄液供給手段が接続される。
また、図３（ａ）〜（ｄ）においては、洗浄用ノズル１に対して、基板Ｗが右から左に向けて移動するものとして説明する（基板の移動方向を矢印で示す）。
【００２４】
まず最初に、図３（ａ）に示すように、基板Ｗの左端が洗浄液供給部材１２の下方にさしかかったところで洗浄液供給部材１２から基板Ｗ上に洗浄液Ｌが供給される。この時点では超音波振動子８は作動させない。
【００２５】
さらに基板Ｗが移動すると、図３（ｂ）に示すように、超音波振動子８の下方に洗浄液Ｌが流れ込むようになるが、この時点でもまだ超音波振動子８は作動させない。
【００２６】
さらに基板Ｗが移動し、図３（ｃ）に示すように、洗浄液排出部材１３の下方に到達した時点で排水用ポンプを作動させ、洗浄液供給部材１２から基板Ｗ上に供給された洗浄液Ｌを洗浄液排出部材１３から排出する。この段階で洗浄液Ｌは基板Ｗ上を定常的に流れるようになるので、これと同時に超音波振動子８を作動させることにより基板Ｗの超音波洗浄が行われる。
【００２７】
最後に図３（ｄ）に示すように、基板Ｗの右端が洗浄液供給部材１２の下方を通り過ぎたところで洗浄液Ｌの供給を停止するとともに、超音波振動子８を停止する。そして、最後に基板Ｗ上に残った洗浄液Ｌを洗浄液排出部材１３から排出する。このようにして、本装置によれば、基板上面の全域を超音波洗浄することができる。
【００２８】
本実施の形態の洗浄用ノズル１の場合、従来のノズルのように洗浄液が導入管から基板上に直接流れ落ちるのではなく、多孔質材からなる洗浄液供給部材１２の多数の貫通孔を通じて基板Ｗ上に供給される。そのため、洗浄液Ｌは洗浄液供給部材１２の基板Ｗに対向する面全体からほぼ均等に供給されるようになり、ほぼ均等な流速をもって基板Ｗ上のある程度広い面積に一様かつ急速に供給される。そして、多数の貫通孔を有する洗浄液排出部材１３により、洗浄液Ｌは洗浄液排出部材１３の基板Ｗに対向する面全体からほぼ均等に排出されるようになる。これら洗浄液供給部材１２、洗浄液排出部材１３の双方の作用により、本実施の形態の洗浄用ノズル１では液溜まりがほとんど生じないためにそれに伴ってパーティクルが溜まるようなことがなく、洗浄効率を従来に比べて向上させることが可能になる。
【００２９】
また、洗浄液供給部材１２や洗浄液排出部材１３を親水性材料で形成した場合、洗浄液Ｌが洗浄液供給部材１２や洗浄液排出部材１３と基板Ｗとの間の空間全体に行き渡りやすくなり、基板Ｗ上に迅速に洗浄液Ｌを供給し、迅速に排出することができる。これにより、洗浄効率をより向上させることができる。さらに、本実施の形態の場合、超音波振動子８が備えられ、基板Ｗ上の洗浄液Ｌに超音波振動を付与することができるため、超音波洗浄により基板Ｗの清浄度をさらに向上することができる。
【００３０】
［第２の実施の形態］
以下、本発明の第２の実施の形態を図４（ａ）、図４（ｂ）を参照して説明する。図４（ａ）は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の下面図、図４（ｂ）は図４（ａ）のIV−IV線に沿う断面図である。
本実施の形態の洗浄用ノズルの基本構成は第１の実施の形態と同様であり、第１の実施の形態の構成の一部に疎水性材料からなる層を付加した点が異なるのみである。よって、図４（ａ）、図４（ｂ）において図２（ａ）、図２（ｂ）と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００３１】
本実施の形態の洗浄用ノズル１５の場合、図４（ａ）、図４（ｂ）に示すように、洗浄液供給部材１２の周囲および洗浄液排出部材１３の周囲が疎水性材料からなる疎水層１６でそれぞれ覆われている。ここでの疎水性材料には、例えばテフロン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂等を用いることができる。本実施の形態では、洗浄液供給部材１２および洗浄液排出部材１３の周囲全体を疎水層１６で覆ったが、必ずしも全体を覆う必要はなく、少なくとも基板Ｗに対向する側の端部を覆っておけばよい。
【００３２】
本実施の形態の洗浄用ノズル１５においては、大気に解放された導入開口部６ｂや排出開口部７ｂからノズル外部に漏れようとする洗浄液Ｌの流れが抑えられ、開口部の端部のところで洗浄液Ｌの表面張力が小さくなるために洗浄液Ｌが盛り上がるようにしてノズル１５と基板Ｗとの間に保持される。したがって、洗浄液Ｌの保持に関する制御性が大幅に向上し、ノズル外部への液漏れを確実に防止することができる。
【００３３】
［第３の実施の形態］
以下、本発明の第３の実施の形態を図５（ａ）、図５（ｂ）および図６を参照して説明する。図５（ａ）は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の下面図、図５（ｂ）は図５（ａ）のＶ−Ｖ線に沿う断面図であり、図６は洗浄用ノズルの動作を説明するための図である。
本実施の形態の洗浄用ノズルの基本構成は第１の実施の形態と同様であり、第１の実施の形態の構成と異なる点は洗浄液供給部材をさらに１つ追加した点のみである。よって、図５（ａ）、図５（ｂ）において図２（ａ）、図２（ｂ）と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。ただし、図５（ａ）、図５（ｂ）と図２（ａ）、図２（ｂ）とではノズルの向きが１８０°反転している。
【００３４】
本実施の形態の洗浄用ノズル１８においては、図５（ａ）、図５（ｂ）に示すように、ケーシング２が４分割され、洗浄液排出部材１３の外側にさらにもう一つの洗浄液供給部材１９が収容され、この部分が洗浄液排出部２０を構成している。以下の説明では、元々あった洗浄液供給部材１２を「第１の洗浄液供給部材」、洗浄液排出部材１３の外側に新たに追加した洗浄液供給部材１９を「第２の洗浄液供給部材」と呼ぶことにする。第２の洗浄液供給部材１９をなす多孔質材は第１の洗浄液供給部材１２と同様でよい。そして、第１の洗浄液供給部材１２と同様、この第２の洗浄液供給部材１９にも洗浄液導入管６から洗浄液Ｌが供給される構成となっている。
【００３５】
次に、上記構成の洗浄用ノズル１８の動作（シーケンス）の一例を図６（ａ）〜図６（ｅ）を用いて説明する。図６（ａ）〜図６（ｅ）においては、洗浄用ノズル１８に対して、基板Ｗが右から左に向けて移動するものとして説明する（基板の移動方向を矢印で示す）。
【００３６】
まず最初に、図６（ａ）に示すように、基板Ｗの左端が第２の洗浄液供給部材１９の下方にさしかかったところで第２の洗浄液供給部材１９から基板Ｗ上に洗浄液Ｌが供給される。この時点では、第１の洗浄液供給部材１３からの洗浄液Ｌの供給はなく、排水用ポンプも超音波振動子８も作動させない。
【００３７】
さらに基板Ｗが移動すると、図６（ｂ）に示すように、洗浄液排出部材１３の下方に洗浄液Ｌが流れ込むようになるが、この時点でもまだ排水用ポンプも超音波振動子８も作動させない。
【００３８】
次に、図６（ｃ）に示すように、超音波振動子８の下方に洗浄液Ｌが流れ込んだ時点で超音波振動子８を作動させて超音波洗浄を開始する。ただし、排水用ポンプは作動させず、洗浄液排出部材１３からの洗浄液の排出は行わない。
【００３９】
さらに基板Ｗが移動し、図６（ｄ）に示すように、第１の洗浄液供給部材１２の下方に到達した時点で第１の洗浄液供給部材１２からの洗浄液Ｌの供給を開始する。これと同時に、洗浄液排出部材１３からの使用後の洗浄液の排出を開始するとともに、第２の洗浄液供給部材１９からの洗浄液Ｌの供給は停止する。この段階に至り、洗浄液Ｌは第１の洗浄液供給部材１２と洗浄液排出部材１３との間を定常的に流れ始める。すなわち、第１の洗浄液供給部材１２は、基板Ｗに対して洗浄液Ｌを定常的に供給する役目を果たし、第２の洗浄液供給部材１９は、初期段階で基板Ｗを急速に洗浄液Ｌで濡らす役目と超音波振動子８の下方に洗浄液Ｌを速やかに行き渡らせる役目とを果たす。
【００４０】
最後に図６（ｅ）に示すように、基板Ｗの右端が洗浄液排出部材１３の下方を通り過ぎたところで洗浄液排出部材１３からの洗浄液Ｌの排出および超音波振動は停止するが、第１の洗浄液供給部材１２からの洗浄液の供給は続行する。基板Ｗの右端が第１の洗浄液供給部材１２の下方を通り過ぎたところで第１の洗浄液供給部材１２からの洗浄液の供給を停止する。このようにして、本装置によれば、基板上面の全域を超音波洗浄することができる。
【００４１】
本実施の形態の洗浄用ノズル１８によれば、初期段階で基板Ｗを急速に濡らす役目と超音波振動子８の下方に洗浄液を速やかに行き渡らせる役目とを果たす第２の洗浄液供給部材１９を付加したことにより、第１の実施の形態のノズルに比べて洗浄効率をより向上させることができる。
【００４２】
［第４の実施の形態］
以下、本発明の第４の実施の形態を図７（ａ）、図７（ｂ）を参照して説明する。図７（ａ）は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の下面図、図７（ｂ）は図７（ａ）のVII−VII線に沿う断面図である。
本実施の形態の洗浄用ノズルの基本構成は第３の実施の形態と同様であり、第３の実施の形態の構成の一部に疎水層を付加した点が異なるのみである。よって、図７（ａ）、図７（ｂ）において図５（ａ）、図５（ｂ）と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００４３】
第２の実施の形態でも疎水層を設けているが、第２の実施の形態では洗浄液供給部材１２、洗浄液排出部材１３等の個々の部材の周囲に疎水層１６を設けた例を説明した（図４参照）。これに対して、本実施の形態の洗浄用ノズル２２の場合、図７（ａ）、図７（ｂ）に示すように、ケーシング２全体の内周を覆うように疎水性材料からなる疎水層２３で覆われている。ただし、疎水性材料は第２の実施の形態と同様でよいし、少なくとも基板Ｗに対向する側の端部を覆えばよい点も第２の実施の形態と同様である。
【００４４】
本実施の形態の洗浄用ノズル２２においても、ノズル外部への液漏れをより確実に防止することができる、という第２の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００４５】
［第５の実施の形態］
以下、本発明の第５の実施の形態を図８（ａ）、図８（ｂ）および図９を参照して説明する。図８（ａ）は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の下面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のVIII−VIII線に沿う断面図であり、図９は洗浄用ノズルの動作を説明するための図である。
本実施の形態の洗浄用ノズルの基本構成は第３の実施の形態と同様であり、第３の実施の形態の構成と異なる点は洗浄液排出部材をさらに１つ追加した点のみである。よって、図８（ａ）、図８（ｂ）において図５（ａ）、図５（ｂ）と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００４６】
本実施の形態の洗浄用ノズル２５においては、図８（ａ）、図８（ｂ）に示すように、ケーシング２が５分割され、第１の洗浄液供給部材１２の内側（超音波振動子８側）にさらにもう一つの洗浄液排出部材２６が収容されている。そして、この部分が洗浄液排出部２７を構成する。以下の説明では、元々あった洗浄液排出部材１３を「第１の洗浄液排出部材」、第１の洗浄液供給部材１２の内側に新たに追加した洗浄液排出部材２６を「第２の洗浄液排出部材」と呼ぶことにする。第２の洗浄液排出部材２６をなす多孔質材は第１の洗浄液排出部材１３と同様でよい。そして、第１の洗浄液排出部材１３と同様、この第２の洗浄液排出部材２６からも基板Ｗ上の洗浄液Ｌが排出される構成となっている。
【００４７】
次に、上記構成の洗浄用ノズル２５の動作（シーケンス）の一例を図９（ａ）〜図９（ｅ）を用いて説明する。図９（ａ）〜図９（ｅ）においては、洗浄用ノズル２５に対して、基板Ｗが右から左に向けて移動するものとして説明する（基板の移動方向を矢印で示す）。
【００４８】
まず最初に、図９（ａ）に示すように、基板Ｗの左端が第２の洗浄液供給部材１９の下方にさしかかったところで第２の洗浄液供給部材１９から基板Ｗ上に洗浄液Ｌが供給される。この時点では、第１の洗浄液供給部材１２からの洗浄液の供給はなく、排水用ポンプも超音波振動子８も作動させない。また、図９（ａ）のように第１の洗浄液排出部材１３の下方に洗浄液Ｌが存在してもここからの洗浄液Ｌの排出はまだ行わない。
【００４９】
さらに基板Ｗが移動し、図９（ｂ）に示すように、第１の洗浄液排出部材１３および超音波振動子８の下方に洗浄液Ｌが流れ込んだ時点で超音波振動子（を作動させて超音波洗浄を開始する。ただし、依然として、第１の洗浄液排出部材１３からの洗浄液Ｌの排出は行わない。
【００５０】
さらに、図９（ｃ）に示すように、基板Ｗの左端が第２の洗浄液排出部材２６および第１の洗浄液供給部材１２の下方に到達した時点で第１の洗浄液供給部材１２からの洗浄液Ｌの供給を開始する。これと同時に、第１の洗浄液排出部材１３からの使用後の洗浄液Ｌの排出を開始するとともに、第２の洗浄液供給部材１９からの洗浄液Ｌの供給は停止する。この段階に至り、洗浄液Ｌは第１の洗浄液供給部材１２と第１の洗浄液排出部材１３との間を定常的に流れ始める。すなわち、第１の洗浄液供給部材１２は、基板Ｗに対して洗浄液Ｌを定常的に供給する役目を果たし、第２の洗浄液供給部材１９は、初期段階で基板Ｗを急速に洗浄液Ｌで濡らす役目と超音波振動子８の下方に洗浄液Ｌを速やかに行き渡らせる役目とを果たす。
【００５１】
そして、図９（ｄ）に示すように、基板Ｗの右端が第１の洗浄液排出部材１３の下方を通り過ぎたところで第１の洗浄液排出部材１３からの洗浄液Ｌの排出および超音波振動は停止するが、第１の洗浄液供給部材１２からの洗浄液の供給は続行する。さらに、第２の洗浄液排出部材２６からの洗浄液Ｌの排出を開始する。
【００５２】
最後に、図９（ｅ）に示すように、基板Ｗの右端が超音波振動子８の下方を通り過ぎた時点でも第１の洗浄液供給部材１２からの洗浄液Ｌの供給および第２の洗浄液排出部材２６からの洗浄液Ｌの排出を続行し、基板Ｗの右端が第１の洗浄液供給部材１２の下方を通り過ぎた時点で第１の洗浄液供給部材１２からの洗浄液Ｌの供給および第２の洗浄液排出部材２６からの洗浄液Ｌの排出を停止する。このようにして、本装置によれば、基板上面の全域を超音波洗浄することができる。
【００５３】
上記のシーケンスを図６に示した第３の実施の形態のシーケンスと比較すると、図６（ａ）〜図６（ｅ）までの工程と図９（ａ）〜図９（ｄ）までの工程の各部の動作は全く同一であり、図９（ｅ）の工程が異なるのみである。すなわち、本実施の形態の洗浄用ノズル２５によれば、定常的に洗浄液Ｌを供給する第１の洗浄液供給部材１２に隣接して第２の洗浄液排出部材２６を設けたことにより、基板Ｗの洗い終わりのところの端部（図９（ｅ）における基板Ｗの右端）に残る洗浄液Ｌを最後まで排出することができ、洗浄の最終段階で洗浄液Ｌが基板Ｌから漏れ落ちるのを防止でき、さらにこの箇所にパーティクルが溜まるのを防止できる。
【００５４】
［第６の実施の形態］
以下、本発明の第６の実施の形態を図１０（ａ）、図１０（ｂ）を参照して説明する。図１０（ａ）は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の下面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。
本実施の形態の洗浄用ノズルの基本構成は第５の実施の形態と同様であり、第５の実施の形態の構成の一部に疎水層を付加した点が異なるのみである。よって、図１０（ａ）、図１０（ｂ）において図８（ａ）、図８（ｂ）と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５５】
本実施の形態の洗浄用ノズル２９においては、図１０（ａ）、図１０（ｂ）に示すように、ケーシング２全体の内周を覆うように疎水性材料からなる疎水層２３で覆われている。
【００５６】
本実施の形態の洗浄用ノズル２９においても、ノズル外部への液漏れをより確実に防止することができる、という第２の実施の形態、第４の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００５７】
第１〜第６の実施の形態で基板の表面洗浄用のノズルを例示したのに対し、以下の実施の形態の洗浄用ノズルは基板の裏面を洗浄するためのノズルである。表面洗浄用ノズルと裏面洗浄用ノズルは個別に使用しても勿論良いが、これらを１台の洗浄装置に兼備する場合、表面洗浄用ノズルと裏面洗浄用ノズルを独立に駆動する構成としても良いし、基板の移動に支障がないような形で表面洗浄用ノズルと裏面洗浄用ノズルを若干の間隙をあけて合体させ、その間隙の中に基板を装入して洗浄を行う構成としても良い。このような場合、表面洗浄用ノズルに超音波振動子を備え、洗浄液に超音波振動を付与すれば、その振動側が裏面側にも伝わるため、裏面洗浄用ノズルには超音波振動子が不要になる。その構成を以下に例示する。
【００５８】
［第７の実施の形態］
以下、本発明の第７の実施の形態を図１１（ａ）、図１１（ｂ）を参照して説明する。図１１（ａ）は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の上面図、図１１（ｂ）は図１１（ａ）のXI−XI線に沿う断面図である。
ここでも、図１１（ａ）、図１１（ｂ）において図２（ａ）、図２（ｂ）と共通の構成要素には同一の符号を付す。
【００５９】
本実施の形態の洗浄用ノズル３１は、図１１（ａ）、図１１（ｂ）に示すように、ケーシング２がその短手方向に２つに分割されており、それぞれ洗浄液導入部３、洗浄液排出部４となっている。洗浄液導入部３の下面に洗浄液導入管６（導入通路）がノズルの長手方向に離間して２本設けられ、同様に、洗浄液排出部４の下面には洗浄液排出管７（排出通路）が２本設けられている。各洗浄液導入管６の下端は開口してここから洗浄液Ｌ（処理液）を導入するための導入口６ａとなり、上端はケーシング２の内部で基板Ｗに向けて開口する導入開口部６ｂとなっている。同様に、各洗浄液排出管７の下端は開口してここから使用後の洗浄液Ｌを外部に排出するための排出口７ａとなり、上端はケーシング２の内部で基板Ｗに向けて開口する排出開口部７ｂとなっている。
【００６０】
図１１（ｂ）に示すように、導入開口部６ｂの内部には、多孔質材からなる洗浄液供給部材１２（処理液供給部材）が装入されている。多孔質材としては、プラスティック、金属、セラミックス等の種々の材料を用いることができるが、親水性材料であればより好ましい。洗浄液供給部材１２が多孔質材で形成されたことによって、洗浄液導入管６から導入開口部６ｂ内に洗浄液Ｌが供給された際に洗浄液供給部材１２の多数の貫通孔を通じて基板Ｗ上に洗浄液Ｌが供給される。一方、排出開口部７ｂの内部にも、多孔質材からなる洗浄液排出部材１３（処理液排出部材）が装入されている。洗浄液排出部材１３が多孔質材で形成されたことによって、基板Ｗ上に残る使用後の洗浄液Ｌが洗浄液排出部材１３の多数の貫通孔から吸引され、洗浄液排出管７を通じて外部に排出される。
【００６１】
本実施の形態の洗浄用ノズル３１は、基板裏面洗浄用ノズルであるが、基板表面洗浄用ノズルと同様、多孔質材からなる洗浄液供給部材１２および洗浄液排出部材１３が設けられたことにより、基板Ｗへの洗浄液Ｌの供給および排出がこれら部材の基板Ｗとの対向面全体を使って行われるため、洗浄液Ｌが基板Ｗ上に満遍なく行き渡り、液溜まりが生じることがないため、洗浄効率を向上することができる。また、ここでは超音波振動子が不要なため、より簡単な構造とすることができる。
【００６２】
［第８の実施の形態］
以下、本発明の第８の実施の形態を図１２（ａ）、図１２（ｂ）を参照して説明する。図１２（ａ）は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の上面図、図１２（ｂ）は図１２（ａ）のXII−XII線に沿う断面図である。
本実施の形態の洗浄用ノズルの基本構成は第７の実施の形態と同様であり、第７の実施の形態の構成の一部に疎水層を付加した点が異なるのみである。よって、図１２（ａ）、図１２（ｂ）において図１１（ａ）、図１１（ｂ）と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００６３】
本実施の形態の洗浄用ノズル３３においては、図１２（ａ）、図１２（ｂ）に示すように、ケーシング２全体の内周を覆うように疎水性材料からなる疎水層２３で覆われている。裏面洗浄用ノズルにおいても疎水層を設けることが望ましく、その構成とすれば、ノズル外部への液漏れをより確実に防止することができる。
【００６４】
［第９の実施の形態］
以下、本発明の第９の実施の形態を図１３（ａ）、図１３（ｂ）を参照して説明する。図１３（ａ）は本実施の形態の洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）の上面図、図１３（ｂ）は図１３（ａ）のXIII−XIII線に沿う断面図である。
【００６５】
この実施の形態の洗浄用ノズル３５は裏面洗浄用ノズルの変形例であって、第７、第８の実施の形態では洗浄液供給部材と洗浄液排出部材とが隣接配置されていたが、図１３（ａ）、図１３（ｂ）に示すように、ケーシング２を３分割した構成とし、洗浄液供給部材１２と洗浄液排出部材１３とを離間させてもかまわない。
【００６６】
［第１０の実施の形態］
以下、本発明の第１０の実施の形態を図１４を参照して説明する。
本実施の形態は上記実施の形態の洗浄用ノズルを具備した洗浄装置（ウェット処理装置）の一例である。図１４は本実施の形態の洗浄装置５１の概略構成を示す図であって、例えば数百ｍｍ角程度の大型のガラス基板（以下、単に基板という）を枚葉洗浄するための装置である。
図中符号５２は洗浄部、５３はステージ（基板保持手段）、５４、５５、５６、４９は洗浄用ノズル、５７は基板搬送ロボット、５８はローダカセット、５９はアンローダカセット、６０は水素水・オゾン水生成部、６１は洗浄液再生部、Ｗは基板である。
【００６７】
図１４に示すように、装置上面中央が洗浄部５２となっており、基板Ｗを保持するステージ５３が設けられている。ステージ５３には、基板Ｗの形状に合致した矩形の段部が設けられ、この段部上に基板Ｗが嵌め込まれて、基板Ｗの表面とステージ５３の表面が面一状態でステージ５３に保持されるようになっている。また、段部の下方には空間部が形成され、空間部にはステージ５３の下方から基板昇降用シャフトが突出している。基板昇降用シャフトの下端にはシリンダ等のシャフト駆動源が設けられ、後述する基板搬送ロボット５７による基板Ｗの受け渡しの際にシリンダの作動により基板昇降用シャフトが上下動し、シャフトの上下動に伴って基板Ｗが上昇または下降するようになっている。
【００６８】
ステージ５３を挟んで対向する位置に一対のラックベース６２が設けられ、これらラックベース６２間に洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９が架設されている。洗浄用ノズルは並列配置された４本のノズルからなり、各洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９が異なる洗浄方法により洗浄を行うものとなっている。本実施の形態の場合、これら４本のノズルは、基板にオゾンを供給するとともに紫外線ランプ４８から紫外線を照射することによって主に有機物を分解除去する紫外線洗浄用ノズル５４、オゾン水を供給しつつ超音波振動子６３により超音波振動を付与して洗浄するオゾン水超音波洗浄用ノズル５５、水素水を供給しつつ超音波振動子６３により超音波振動を付与して洗浄する水素水超音波洗浄用ノズル５６、純水を供給してリンス洗浄を行う純水リンス洗浄用ノズル４９、である。これら４本のノズルが基板Ｗの上方で基板Ｗとの間隔を一定に保ちながらラックベース６２に沿って順次移動することにより、基板Ｗの被洗浄面全域が４種類の洗浄方法により洗浄される構成となっている。
【００６９】
各洗浄用ノズルの移動手段としては、各ラックベース６２上のリニアガイドに沿って水平移動可能とされたスライダがそれぞれ設けられ、各スライダの上面に支柱がそれぞれ立設され、これら支柱に各洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９の両端部が固定されている。各スライダ上にはモータ等の駆動源が設置されており、各スライダがラックベース６２上を自走する構成となっている。そして、装置の制御部（図示略）から供給される制御信号により各スライダ上のモータがそれぞれ作動することによって、各洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９が個別に水平移動する構成となっている。また、支柱にはシリンダ（図示略）等の駆動源が設けられ、支柱が上下動することにより各洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９の高さ、すなわち各洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９と基板Ｗとの間隔がそれぞれ調整可能となっている。
【００７０】
各洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９は、上記実施の形態で詳細に説明した通りのものであり、いわゆるプッシュ・プル型ノズル（省液型ノズル）と呼ばれるものである。ただし、ここでは図示の都合上、超音波振動子６３のみを図示し、洗浄液導入部、洗浄液排出部等に区分した図示は省略する。
【００７１】
洗浄部５２の側方に、水素水・オゾン水生成部６０と洗浄液再生部６１とが設けられている。水素水・オゾン水生成部６０には、水素水製造装置６４とオゾン水製造装置６５とが組み込まれている。いずれの洗浄液も、純水中に水素ガスやオゾンガスを溶解させることによって生成することができる。そして、水素水製造装置６４で生成された水素水が、水素水供給配管６６の途中に設けられた送液ポンプ６７により水素水超音波洗浄用ノズル５６に供給されるようになっている。同様に、オゾン水製造装置６５で生成されたオゾン水が、オゾン水供給配管６８の途中に設けられた送液ポンプ６９によりオゾン水超音波洗浄用ノズル５５に供給されるようになっている。なお、純水リンス洗浄用ノズル４９には製造ライン内の純水供給用配管（図示略）から純水が供給されるようになっている。
【００７２】
また、洗浄液再生部６１には、使用後の洗浄液中に含まれたパーティクルや異物を除去するためのフィルタ７０、７１が設けられている。水素水中のパーティクルを除去するための水素水用フィルタ７０と、オゾン水中のパーティクルを除去するためのオゾン水用フィルタ７１が別系統に設けられている。すなわち、水素水超音波洗浄用ノズル５６の排出口から排出された使用後の水素水は、水素水回収配管７２の途中に設けられた送液ポンプ７３により水素水用フィルタ７０に回収されるようになっている。同様に、オゾン水超音波洗浄用ノズル５５の排出口から排出された使用後のオゾン水は、オゾン水回収配管７４の途中に設けられた送液ポンプ７５によりオゾン水用フィルタ７１に回収されるようになっている。
【００７３】
そして、水素水用フィルタ７０を通した後の水素水は、再生水素水供給配管７６の途中に設けられた送液ポンプ７７により水素水超音波洗浄用ノズル５６に供給されるようになっている。同様に、オゾン水用フィルタ７１を通した後のオゾン水は、再生オゾン水供給配管７８の途中に設けられた送液ポンプ７９によりオゾン水超音波洗浄用ノズル５５に供給されるようになっている。また、水素水供給配管６６と再生水素水供給配管７６は水素水超音波洗浄用ノズル５６の手前で接続され、弁８０によって水素水超音波洗浄用ノズル５６に新しい水素水を導入するか、再生水素水を導入するかを切り換え可能となっている。同様に、オゾン水供給配管６８と再生オゾン水供給配管７８はオゾン水超音波洗浄用ノズル５５の手前で接続され、弁８１によってオゾン水超音波洗浄用ノズル５５に新しいオゾン水を導入するか、再生オゾン水を導入するかを切り換え可能となっている。なお、各フィルタ７０，７１を通した後の水素水やオゾン水は、パーティクルが除去されてはいるものの、液中気体含有濃度が低下しているため、配管を通じて再度水素水製造装置６４やオゾン水製造装置６５に戻し、水素ガスやオゾンガスを補充するようにしてもよい。
【００７４】
洗浄部５２の側方に、ローダカセット５８、アンローダカセット５９が着脱可能に設けられている。これら２つのカセット５８、５９は、複数枚の基板Ｗが収容可能な同一の形状のものであり、ローダカセット５８に洗浄前の基板Ｗを収容し、アンローダカセット５９には洗浄済の基板Ｗが収容される。そして、洗浄部５２とローダカセット５８、アンローダカセット５９の中間の位置に基板搬送ロボット５７が設置されている。基板搬送ロボット５７はその上部に伸縮自在なリンク機構を有するアーム８２を有し、アーム８２は回転可能かつ昇降可能となっており、アーム８２の先端部で基板Ｗを支持、搬送するようになっている。
【００７５】
上記構成の洗浄装置５１は、例えば洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９と基板Ｗとの間隔、洗浄用ノズルの移動速度、洗浄液の流量等、種々の洗浄条件をオペレータが設定する他は、各部の動作が制御部により制御されており、自動運転する構成になっている。したがって、この洗浄装置５１を使用する際には、洗浄前の基板Ｗをローダカセット５８にセットし、オペレータがスタートスイッチを操作すれば、基板搬送ロボット５７によりローダカセット５８からステージ５３上に基板Ｗが搬送され、ステージ５３上で各洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９により紫外線洗浄、オゾン水超音波洗浄、水素水超音波洗浄、リンス洗浄が順次自動的に行われ、洗浄後、基板搬送ロボット５７によりアンローダカセット５９に収容される。
【００７６】
本実施の形態の洗浄装置５１においては、４本の洗浄用ノズル５４，５５，５６，４９の各々が、紫外線洗浄、オゾン水超音波洗浄、水素水超音波洗浄、リンス洗浄といった異なる洗浄方法により洗浄処理する構成であるため、本装置１台で種々の洗浄方法を実施することができる。したがって、例えば、水素水超音波洗浄、オゾン水超音波洗浄により微細な粒径のパーティクルを除去し、さらにリンス洗浄で基板表面に付着した洗浄液も洗い流しながら仕上げの洗浄を行う、というように種々の被除去物を充分に洗浄除去することができる。また、本実施の形態の洗浄装置の場合、上記実施の形態の洗浄用ノズルが備えられているため、洗浄液の使用量を従来に比べて低減することができ、しかも、ノズルの下方に液溜まりが生じないため、高効率、高清浄度の基板洗浄を実施することができる。したがって、半導体デバイス、液晶表示パネル等をはじめとする各種電子機器の製造ラインに好適な洗浄装置を実現することができる。
【００７７】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば上記実施の形態の洗浄用ノズルにおいては、洗浄液導入側と排出側の双方に多孔質材からなる洗浄液供給部材および洗浄液排出部材を設けた構造であり好ましいが、必ずしも両方を備える必要はなく、液導入側における多孔質材の効果の方が大きいため、少なくとも洗浄液導入側に洗浄液供給部材を設ければよい。また、洗浄液供給部材の多数の貫通孔は一様に分布していて勿論良いが、ノズルの端部にいくほど貫通孔の数が少なくなるように分布させても良い。この構成とすると、ノズルの端部側からの液の流出が少なくなるため、ノズル外部への液漏れを確実に防止することができる。
【００７８】
さらに、ノズルの形状や寸法、洗浄液導入管や洗浄液排出管の数や設置位置等の具体的な構成、ノズルの動作シーケンス等に関しては、適宜設計変更が可能なことは勿論である。さらに、上記実施の形態においては、本発明を洗浄用ノズルに適用した例を示したが、洗浄以外のウェット処理、例えばエッチング、レジスト除去等に本発明のノズルを適用することも可能である。
【００７９】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明のウェット処理用ノズルによれば、処理液が処理液供給部材の被処理基板に対向する面全体からほぼ均等に供給されるため、液溜まりがほとんど生じなくなり、ウェット処理の効率を従来に比べて格段に向上させることができる。このノズルの使用により、高効率、高清浄度のウェット処理が可能なウェット処理装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１の実施の形態の洗浄用ノズルの外観を示す斜視図である。
【図２】  図２（ａ）は同洗浄用ノズルの下面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のII−II線に沿う断面図である。
【図３】  同洗浄用ノズルの動作を説明するための図である。
【図４】  本発明の第２の実施の形態の洗浄用ノズルを示す図であって、図４（ａ）は同洗浄用ノズルの下面図、図４（ｂ）は図４（ａ）のIV−IV線に沿う断面図である。
【図５】  本発明の第３の実施の形態の洗浄用ノズルを示す図であって、図５（ａ）は同洗浄用ノズルの下面図、図５（ｂ）は図５（ａ）のＶ−Ｖ線に沿う断面図である。
【図６】  同洗浄用ノズルの動作を説明するための図である。
【図７】  本発明の第４の実施の形態の洗浄用ノズルを示す図であって、図７（ａ）は同洗浄用ノズルの下面図、図７（ｂ）は図７（ａ）のVII−VII線に沿う断面図である。
【図８】  本発明の第５の実施の形態の洗浄用ノズルを示す図であって、図８（ａ）は同洗浄用ノズルの下面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のVIII−VIII線に沿う断面図である。
【図９】  同洗浄用ノズルの動作を説明するための図である。
【図１０】  本発明の第６の実施の形態の洗浄用ノズルを示す図であって、図１０（ａ）は同洗浄用ノズルの下面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。
【図１１】  本発明の第７の実施の形態の洗浄用ノズルを示す図であって、図１１（ａ）は同洗浄用ノズルの上面図、図１１（ｂ）は図１１（ａ）のXI−XI線に沿う断面図である。
【図１２】  本発明の第８の実施の形態の洗浄用ノズルを示す図であって、図１２（ａ）は同洗浄用ノズルの上面図、図１２（ｂ）は図１２（ａ）のXII−XII線に沿う断面図である。
【図１３】  本発明の第９の実施の形態の洗浄用ノズルを示す図であって、図１３（ａ）は同洗浄用ノズルの上面図、図１３（ｂ）は図１３（ａ）のXIII−XIII線に沿う断面図である。
【図１４】  本発明の第１０の実施の形態の洗浄装置の概略構成を示す平面図である。
【図１５】  従来の省液型ノズルの一例を示す図であって、図１５（ａ）は同ノズルの下面図、図１５（ｂ）は図１５（ａ）のXV−XV線に沿う断面図である。
【符号の説明】
１，１５，１８，２２，２５，２９，３１，３３，３５  洗浄用ノズル（ウェット処理用ノズル）
６  洗浄液導入管（導入通路）
６ａ  導入口
６ｂ  導入開口部
７  洗浄液排出管（排出通路）
７ａ  排出口
７ｂ  排出開口部
８  超音波振動子（超音波振動付与手段）
１２  （第１の）洗浄液供給部材（処理液供給部材）
１３  （第１の）洗浄液排出部材（処理液排出部材）
１６，２３  疎水層
１９  第２の洗浄液供給部材（処理液供給部材）
２６  第２の洗浄液排出部材（処理液排出部材）
５１  洗浄装置（ウェット処理装置）
Ｌ  洗浄液（処理液）
Ｗ  基板（被処理基板）
【図１】
0004215900.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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