Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月19日(2013.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１クラッド層と、
前記第１クラッド層の上に形成されたコア層と、
前記コア層のみにその厚み方向に島状に分離されて形成され、光路変換傾斜面を備えた溝部と、
前記第１クラッド層及び前記コア層の上に形成され、前記光路変換傾斜面の真上の領域のみに光路変換ホールが配置された第２クラッド層と、
前記光路変換ホールを塞ぐ封止層と
を有し、
前記光路変換ホールは、前記第２クラッド層の厚み方向に垂直に形成されており、
前記光路変換ホール内に光反射用の空気層が設けられていることを特徴とする光導波路。
【請求項２】
前記封止層は、前記光路変換ホールを含む領域に封止部として部分的に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光導波路。
【請求項３】
前記封止層は、流動性の低い樹脂フィルムからなることを特徴とする請求項１に記載の光導波路。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかの光導波路と、
前記光導波路の前記第１クラッド層の外面側に配置された配線基板と、
前記配線基板に実装され、一端側の前記光路変換傾斜面に光結合される発光素子と、
前記配線基板に実装され、他端側の前記光路変換傾斜面に光結合される受光素子とを有することを特徴とする光導波路装置。
【請求項５】
請求項１に記載の光導波路と、
前記光導波路の前記光路変換ホール側の面に、前記封止層に代えて接着層によって接着された配線基板と、
前記配線基板に実装され、一端側の前記光路変換傾斜面に光結合される発光素子と、
前記配線基板に実装され、他端側の前記光路変換傾斜面に光結合される受光素子とを有し、
前記光路変換ホール内の空気層が前記接着層で封止されていることを特徴とする光導波路装置。
【請求項６】
前記配線基板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の周縁部に枠状に配置されたソルダレジストとを備え、前記光導波路は、前記枠状のソルダレジストの内側の前記絶縁基板の上に搭載されていることを特徴とする請求項５に記載の光導波路装置。
【請求項７】
基板の上に、第１クラッド層を形成する工程と、
前記第１クラッド層の上にコア層を形成する工程と、
前記コア層のみを厚み方向に加工することにより、光路変換傾斜面を備えた溝部を島状に分離して形成する工程と、
前記第１クラッド層及び前記コア層の上に、前記光路変換傾斜面上の真上の領域のみに光路変換ホールが配置された第２クラッド層を形成する工程と、
前記光路変換ホールを塞ぐ封止層を形成する工程とを有し、
前記光路変換ホールは、前記第２クラッド層の厚み方向に垂直に形成され、
前記光路変換ホール内に光反射用の空気層が設けられることを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項８】
前記第２クラッド層を形成する工程は、
感光性樹脂層を形成する工程と、
前記感光性樹脂層をフォトリソグラフィによってパターニングすることにより前記光路変換ホールを形成する工程とを含むことを特徴とする請求項７に記載の光導波路の製造方法。
【請求項９】
前記封止層は、前記光路変換ホールを含む領域に封止部として部分的に形成されることを特徴とする請求項７又は８に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１０】
前記第２クラッド層を形成する工程の後に、あるいは前記封止層を形成する場合は前記封止層を形成した後に、前記基板を除去する工程をさらに有することを特徴とする請求項７乃至９のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
以下の開示の一観点によれば、第１クラッド層と、前記第１クラッド層の上に形成されたコア層と、前記コア層のみにその厚み方向に島状に分離されて形成され、光路変換傾斜面を備えた溝部と、前記第１クラッド層及び前記コア層の上に形成され、前記光路変換傾斜面の真上の領域のみに光路変換ホールが配置された第２クラッド層と、前記光路変換ホールを塞ぐ封止層とを有し、前記光路変換ホールは、前記第２クラッド層の厚み方向に垂直に形成されており、前記光路変換ホール内に光反射用の空気層が設けられている光導波路が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、その開示の他の観点によれば、基板の上に、第１クラッド層を形成する工程と、前記第１クラッド層の上にコア層を形成する工程と、前記コア層のみを厚み方向に加工することにより、光路変換傾斜面を備えた溝部を島状に分離して形成する工程と、前記第１クラッド層及び前記コア層の上に、前記光路変換傾斜面上の真上の領域のみに光路変換ホールが配置された第２クラッド層を形成する工程と、前記光路変換ホールを塞ぐ封止層を形成する工程とを有し、前記光路変換ホールは、前記第２クラッド層の厚み方向に垂直に形成され、前記光路変換ホール内に光反射用の空気層が設けられる光導波路の製造方法が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【図１】図１は第１実施形態の光導波路の製造方法を示す断面図（その１）である。
【図２】図２は第１実施形態の光導波路の製造方法を示す断面図及び平面図（その２）である。
【図３】図３は第１実施形態の光導波路の製造方法を示す断面図及び平面図（その３）である。
【図４】図４は第１実施形態の光導波路の製造方法を示す断面図（その４）である。
【図５】図５は第１実施形態の光導波路の製造方法を示す断面図及び平面図（その５）である。
【図６】図６は第１実施形態の光導波路の製造方法を示す断面図（その６）である。
【図７】図７は第１実施形態の光導波路を示す断面図である。
【図８】図８は第１実施形態の光導波路装置を示す断面図である。
【図９】図９（ａ）〜（ｃ）は第２実施形態の光導波路の製造方法を示す断面図である。
【図１０】図１０（ａ）及び（ｂ）は第３実施形態の光導波路の製造方法を示す断面図である。
【図１１】図１１は図１０（ｂ）の光導波路を配線基板に接続する様子を示す断面図である。
【図１２】図１２は第３実施形態の光導波路装置を示す断面図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
さらに、図５に示すように、フォトリソグラフィ技術により、コア層２２の溝部２２ｘの真上に開口部が形成されるように、フォトマスク（不図示）を介して感光性樹脂層２４ａを露光し、現像を行った後に、感光性樹脂層２４ａを１４０℃程度の加熱処理によって硬化させる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
続いて、図６に示すように、第２クラッド層２４の上に封止層３０を形成することにより、光路変換ホールＬＨ内の空気層Ａを封止層３０で気密封止する。封止層３０の形成方法の好適な例としては、半硬化状態のエポキシ樹脂などの樹脂フィルムを貼付し、加熱処理することにより硬化させて接着する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月8日(2013.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体及び前記像担持体にトナー粒子を現像する現像手段を含む画像形成手段と、
前記トナー粒子の飽和帯電量を保持する記憶手段と、
前記画像形成手段によりパッチ画像を形成させ、前記パッチ画像の濃度を測定して目標濃度となるコントラスト電位である第１の電位を求め、前記現像手段のトナー粒子の帯電量を予測して第１の帯電量を求め、前記第１の電位、前記第１の帯電量及び前記飽和帯電量により第２の電位を求め、前記コントラスト電位に前記第２の電位を設定する制御手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記第２の電位は、前記第１の電位に前記飽和帯電量を乗じ、前記第１の帯電量で除することにより求めたものであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記コントラスト電位の設定後、各階調のパッチ画像の濃度を測定して、各階調の補正を行うための第１の補正テーブルを作成し、前記第１の補正テーブルを前記第１の帯電量及び前記飽和帯電量により修正して第２の補正テーブルを作成すること特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記記憶手段は、前記トナー粒子の帯電量の変化と各階調の濃度の補正量との関係を示す帯電量影響テーブルを保持しており、
前記制御手段は、前記帯電量影響テーブルの各階調の補正量から、各階調の補正量を示す中間テーブルを作成し、前記中間テーブルの各階調の値の逆数を求めることで、帯電量階調補正逆テーブルを作成し、前記帯電量階調補正逆テーブルと前記第１の補正テーブルの対応する階調の値を乗ずることで前記第２の補正テーブルを作成し、
前記中間テーブルの各階調の補正量は、前記帯電量影響テーブルの各階調の補正量を、前記飽和帯電量に対する前記第１の帯電量の比が大きくなる程、小さくなる様に修正したものであることを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
階調変換手段をさらに備えており、
画像形成時、前記制御手段は、前記現像手段のトナー粒子の帯電量を予測して第２の帯電量を求め、前記第２の補正テーブルを前記飽和帯電量、及び前記第２の帯電量により修正して第３の補正テーブルを作成し、
前記階調変換手段は、前記第３の補正テーブルを使用して形成する画像の各階調の補正を行うこと特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記制御手段は、
前記帯電量影響テーブルの各階調の補正量から帯電量階調補正テーブルを作成し、前記帯電量階調補正テーブルと前記第２の補正テーブルの対応する階調の値を乗ずることで前記第３の補正テーブルを作成し、
前記帯電量階調補正テーブルの各階調の補正量は、前記帯電量影響テーブルの各階調の補正量を、前記飽和帯電量に対する前記第２の帯電量の比が大きくなる程、小さくなる様に修正したものであることを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明による画像形成装置は、像担持体及び像担持体にトナー粒子を現像する現像手段を含む画像形成手段と、トナー粒子の飽和帯電量を保持する記憶手段と、画像形成手段によりパッチ画像を形成させ、パッチ画像の濃度を測定して目標濃度となるコントラスト電位である第１の電位を求め、現像手段のトナー粒子の帯電量を予測して第１の帯電量を求め、第１の電位、第１の帯電量及び飽和帯電量により第２の電位を求め、コントラスト電位に第２の電位を設定する制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月12日(2013.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から順に、正の屈折力を有する第１レンズ群と、負の屈折力を有する第２レンズ群と、正の屈折力を有する第３レンズ群と、負の屈折力を有する第４レンズ群と、正の屈折力を有する第５レンズ群と、を有し、
変倍に際し、前記第１レンズ群は、像面に対して光軸方向に固定されており、
合焦に際し、前記第３レンズ群の少なくとも一部は、光軸に沿って移動し、
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とし、前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３としたとき、次式
０．０１０  ＜  ｆ１／ｆ３  ＜  １．４１０
の条件を満足することを特徴とする変倍光学系。
【請求項２】
前記第２レンズ群の焦点距離をｆ２とし、前記第４レンズ群の焦点距離をｆ４としたとき、次式
０．１６０  ＜  ｆ２／ｆ４  ＜  ０．３７０
の条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の変倍光学系。
【請求項３】
前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３とし、前記第４レンズ群の焦点距離をｆ４としたとき、次式
０．３７０  ＜  ｆ３／（−ｆ４）  ＜  ０．６２０
の条件を満足することを特徴とする請求項１または２に記載の変倍光学系。
【請求項４】
前記第４レンズ群の焦点距離をｆ４とし、前記第５レンズ群の焦点距離をｆ５としたとき、次式
１．１４０  ＜  （−ｆ４）／ｆ５  ＜  １．５４０
の条件を満足することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の変倍光学系。
【請求項５】
前記第４レンズ群の少なくとも一部は、光軸と直交する方向の成分を含むように移動することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の変倍光学系。
【請求項６】
変倍に際し、前記第１レンズ群と前記第２レンズ群との間隔が変化し、前記第２レンズ群と前記第３レンズ群との間隔が変化し、前記第３レンズ群と前記第４レンズ群との間隔が変化し、前記第４レンズ群と前記第５レンズ群との間隔が変化することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の変倍光学系。
【請求項７】
全てのレンズ面が球面で構成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の変倍光学系。
【請求項８】
変倍に際し、前記第１レンズ群と前記第２レンズ群との間隔が増大し、前記第２レンズ群と前記第３レンズ群との間隔が減少し、前記第３レンズ群と前記第４レンズ群との間隔が増大し、前記第４レンズ群と前記第５レンズ群との間隔が減少することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の変倍光学系。
【請求項９】
変倍に際し、前記第２レンズ群と前記第３レンズ群と前記第４レンズ群と前記第５レンズ群が移動することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の変倍光学系。
【請求項１０】
合焦に際し、前記第３レンズ群の少なくとも一部が物体側から像側に向かって移動することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の変倍光学系。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の変倍光学系を有することを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】変倍光学系、及び、光学機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、変倍光学系、及び、光学機器に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、高い変倍比を有しながら、収差が十分に補正された良好な光学性能を有する変倍光学系、及び、光学機器を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、このような変倍光学系は、変倍に際し、第１レンズ群と第２レンズ群との間隔が増大し、第２レンズ群と第３レンズ群との間隔が減少し、第３レンズ群と第４レンズ群との間隔が増大し、第４レンズ群と第５レンズ群との間隔が減少することが好ましい。
また、このような変倍光学系は、変倍に際し、第２レンズ群と第３レンズ群と第４レンズ群と第５レンズ群が移動することが好ましい。
また、このような変倍光学系は、合焦に際し、第３レンズ群の少なくとも一部が物体側から像側に向かって移動することが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明に係る光学機器は、上述の変倍光学系のいずれかを有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明によれば、高い変倍比を有しながら、収差が十分に補正された良好な光学性能を有する変倍光学系、及び、光学機器を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月26日(2012.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
携帯情報端末に接続されて使用されるデータ入力装置であって、
複数の入力キーが配設されたキーボード本体と、
前記複数の入力キーを被覆し、前記キーボード本体とは長手方向でヒンジ接続されたカバー部材と、
前記携帯情報端末が前記カバー部材によって支持された際、前記キーボード本体の姿勢を保持する姿勢保持機構と、
を備え、
前記姿勢保持機構は、非使用時に前記カバー部材の一部を構成して前記入力キーを被覆すると共に、使用時に前記カバー部材に結合部のヒンジを介して折曲自在に設けられたサポート部材を有することを特徴とするデータ入力装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記の目的を達成するために、本発明は、携帯情報端末に接続されて使用されるデータ入力装置であって、複数の入力キーが配設されたキーボード本体と、前記複数の入力キーを被覆し、前記キーボード本体とは長手方向でヒンジ接続されたカバー部材と、前記携帯情報端末が前記カバー部材によって支持された際、前記キーボード本体の姿勢を保持する姿勢保持機構とを備え、
前記姿勢保持機構は、非使用時に前記カバー部材の一部を構成して前記入力キーを被覆すると共に、使用時に前記カバー部材に結合部のヒンジを介して折曲自在に設けられたサポート部材を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月9日(2013.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドレイン端子が電源端子に接続され、互いのゲート端子が接続された第一デプレッションＮＭＯＳトランジスタ及び第二デプレッションＮＭＯＳトランジスタと、
第一入力端子が前記第一デプレッションＮＭＯＳトランジスタのソース端子と接続され、第二入力端子が前記第二デプレッションＮＭＯＳトランジスタのソース端子と接続され、出力端子が前記第一デプレッションＮＭＯＳトランジスタ及び前記第二デプレッションＮＭＯＳトランジスタのゲート端子と接続され、前記第一デプレッションＮＭＯＳトランジスタのソース端子と前記第二デプレッションＮＭＯＳトランジスタのソース端子の電圧を一定に保持する帰還回路と、
前記第一デプレッションＮＭＯＳトランジスタのソース端子及び前記第二デプレッションＮＭＯＳトランジスタのソース端子と接地端子の間に設けられ、少なくとも２つのＮＭＯＳトランジスタと抵抗とを有する定電流生成回路と、
を備えた定電流回路。
【請求項２】
前記帰還回路は差動増幅回路である、ことを特徴とする請求項１に記載の定電流回路。
【請求項３】
前記定電流生成回路は、
ドレイン端子が前記差動増幅回路の反転入力端子に接続され、ソース端子が前記抵抗を介して接地端子に接続された第一ＮＭＯＳトランジスタと、
ゲート端子とドレイン端子が前記差動増幅回路の非反転入力端子及び前記第一ＮＭＯＳトランジスタのゲート端子に接続され、ソース端子が接地端子に接続された第二ＮＭＯＳトランジスタと、を備えた
ことを特徴とする請求項２に記載の定電流回路。
【請求項４】
前記定電流生成回路は、
ドレイン端子が前記差動増幅回路の反転入力端子に接続され、ソース端子が接地端子に接続された第一ＮＭＯＳトランジスタと、
ゲート端子が前記差動増幅回路の非反転入力端子に接続され、ドレイン端子が前記第一ＮＭＯＳトランジスタのゲート端子及び前記抵抗を介して前記差動増幅回路の非反転入力端子に接続され、ソース端子が接地端子に接続された第二ＮＭＯＳトランジスタと、を備えた
ことを特徴とする請求項２に記載の定電流回路。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の定電流回路と、
前記定電流回路の出力端子に設けられた電圧発生回路と、
を備えた基準電圧回路。
【請求項６】
前記電圧発生回路は、直列に接続されたＰＭＯＳトランジスタと抵抗とダイオードを備え、
前記電圧発生回路の抵抗と前記定電流生成回路の抵抗は、温度係数が等しいことを特徴とする請求項５に記載の基準電圧回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
差動増幅回路１１１は、出力端子をデプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ１３及び１４のゲート端子に接続され、反転入力端子をデプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ１３のソース端子と定電流生成ブロック回路１１２に接続され、非反転入力端子をデプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ１４のソース端子と定電流生成ブロック回路１１２に接続される。定電流生成ブロック回路１１２は、デプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ１３及び１４のソース端子と接地端子１００の間に接続される。デプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ１３及び１４は、ドレイン端子が電源端子１０１に接続される。デプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ１４のソース端子が定電流回路の定電流出力端子１０２に接続される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月6日(2013.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空間に光路を有する光学系と、
前記光学系の入口及び出口の一方である第１出入口に光学的に接続された電気光学素子と、
柔軟性を有する光導波路と、
外部との光学的な接続を図るための光インターフェースを備え、前記光学系、前記電気光学素子及び前記光導波路を収納する筺体と、
前記筺体の内側に固定された基板と、
を有し、
前記光導波路は、前記筺体内で前記光インターフェースに光学的に接続される第１接続部と、前記光学系の前記入口及び前記出口の他方である第２出入口に光学的に接続される第２接続部と、を有し、前記筺体内で屈曲して配置され、
前記光インターフェースと前記第１接続部の間を通る第１光軸と、前記第２出入口と前記第２接続部の間を通る第２光軸とは、ずれており、
前記光学系は、前記基板に搭載され、
前記光導波路の第２接続部は、前記基板に固定されていることを特徴とする光モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載された光モジュールにおいて、
前記光学系の前記光路は、光の複数の進行方向を有することを特徴とする光モジュール。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された光モジュールにおいて、
前記光学系は、光を分岐する光学部品、光を合波する光学部品、光を反射する光学部品及び光を屈折する光学部品の少なくとも１つを含むことを特徴とする光モジュール。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載された光モジュールにおいて、
前記筺体外で前記光インターフェースに光学的に接続される外部光ファイバをさらに有していることを特徴とする光モジュール。
【請求項５】
請求項４に記載された光モジュールにおいて、前記光導波路は、前記外部光ファイバよりもコアとクラッドの屈折率差が大きい光ファイバであって、前記外部光ファイバに許容された曲げ半径よりも小さな曲げ半径で曲げられていることを特徴とする光モジュール。
【請求項６】
請求項４または５に記載された光モジュールにおいて、
前記筺体と前記外部光ファイバとの間に配置されたレンズをさらに有することを特徴とする光モジュール。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載された光モジュールにおいて、
前記筐体内の前記第１光軸及び前記第２光軸の少なくとも一方上にレンズをさらに有することを特徴とする光モジュール。
【請求項８】
請求項６又は７に記載された光モジュールにおいて、
前記レンズは、コリメートレンズであることを特徴とする光モジュール。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載された光モジュールにおいて、
前記光導波路の第１接続部は、前記基板との固定を避けて配置されていることを特徴とする光モジュール。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか１項に記載された光モジュールにおいて、
前記光導波路の第１接続部も、前記基板に固定されていることを特徴とする光モジュール。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載された光モジュールにおいて、
前記光導波路の前記第１接続部及び前記第２接続部の少なくとも一方は、前記光導波路の長さ方向に対して斜めになった端面を有していることを特徴とする光モジュール。
【請求項１２】
請求項１１に記載された光モジュールにおいて、
前記端面を通る法線は、前記基板の表面に平行であることを特徴とする光モジュール。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか１項に記載された光モジュールにおいて、
前記基板と前記筺体の間に、前記基板及び前記筺体のいずれよりも弾性係数の低い接着層が介在することを特徴とする光モジュール。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載された光モジュールにおいて、
前記筺体は、外部との電気的な接続を図るための電気インターフェースを有し、
前記光インターフェースと前記電気インターフェースは、相互に、前記筺体の反対側に配置されていることを特徴とする光モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月28日(2013.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像が平面画像であるか立体画像であるかを判定する判定手段と、
ＯＳＤ画像を記憶する記憶手段と、
前記判定手段による判定結果に対応して、前記記憶手段により記憶されるＯＳＤ画像に基づいて、立体表示用のＯＳＤ画像及び平面表示用のＯＳＤ画像のいずれか一方を取得するＯＳＤ画像取得手段と、
前記入力画像に対し、前記ＯＳＤ画像取得手段により取得されたＯＳＤ画像を重畳して画像を生成する画像合成手段と、
前記画像合成手段により生成された画像を表示する表示手段と、
を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記判定手段により前記入力画像が立体画像であると判定された場合に、
前記ＯＳＤ画像取得手段は、前記記憶手段により記憶されるＯＳＤ画像に基づいて、左目用ＯＳＤ画像及び右目用ＯＳＤ画像を含む立体表示用のＯＳＤ画像を取得し、
前記画像合成手段は、前記入力画像に含まれる左目用画像及び右目用画像に対し、前記ＯＳＤ画像取得手段により取得された左目用ＯＳＤ画像及び右目用ＯＳＤ画像をそれぞれ重畳して立体画像を生成することを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記判定手段は、前記入力画像が左目用画像及び右目用画像を含む立体画像であると判定した場合に、前記入力画像の画像フォーマットを判定し、
前記画像合成手段は、前記判定手段により判定された画像フォーマットに基づいて、前記入力画像に含まれる左目用画像及び右目用画像に対し、前記ＯＳＤ画像取得手段により取得された左目用ＯＳＤ画像及び右目用ＯＳＤ画像をそれぞれ重畳して立体画像を生成することを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項４】
前記判定手段は、前記入力画像または前記入力画像の一部が左目用画像であるか右目用画像であるかを判定し、
前記画像合成手段は、前記判定手段により左目用画像と判定された画像には左目用ＯＳＤ画像を重畳し、前記判定手段により右目用画像と判定された画像には右目用ＯＳＤ画像を重畳して、立体画像を生成することを特徴とする請求項２または３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記ＯＳＤ画像取得手段は、前記判定手段により前記入力画像が立体画像であると判定された場合に、前記記憶手段により予め記憶される左目用ＯＳＤ画像及び右目用ＯＳＤ画像を取得し、前記判定手段により前記入力画像が平面画像であると判定された場合に、前記記憶手段により予め記憶される左目用ＯＳＤ画像及び右目用ＯＳＤ画像のいずれか一方を取得することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の表示装置。
【請求項６】
前記ＯＳＤ画像取得手段は、前記判定手段により前記入力画像が立体画像であると判定された場合に、前記記憶手段により予め記憶され平面画像であるＯＳＤ画像に基づいて、左目用ＯＳＤ画像及び右目用ＯＳＤ画像を取得し、前記判定手段により前記入力画像が平面画像であると判定された場合には前記記憶手段により予め記憶され平面画像であるＯＳＤ画像を取得することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の表示装置。
【請求項７】
入力画像が平面画像であるか立体画像であるかを判定し、
判定結果に対応して、予め記憶されるＯＳＤ画像に基づく立体表示用のＯＳＤ画像及び平面表示用のＯＳＤ画像のいずれか一方を前記入力画像に重畳して画像を生成し、
生成した画像を表示すること、
を特徴とする表示装置の制御方法。
【請求項８】
表示装置を制御するコンピューターが実行可能なプログラムであって、
前記コンピューターを、
入力画像が平面画像であるか立体画像であるかを判定する判定手段と、
前記判定手段による判定結果に対応して、記憶手段により記憶されるＯＳＤ画像に基づいて、立体表示用のＯＳＤ画像及び平面表示用のＯＳＤ画像のいずれか一方を取得するＯＳＤ画像取得手段と、
前記入力画像に対し、前記ＯＳＤ画像取得手段により取得されたＯＳＤ画像を重畳して画像を生成する画像合成手段と、
前記画像合成手段により生成された画像を表示させる表示制御手段と、
して機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図７Ｄには、立体の入力映像に平面表示のＯＳＤ画像を重畳してスクリーンＳＣに投射した例を示す。この場合、図７Ａを参照して説明したのと同様に、画像読出部２３は左目用ＯＳＤ画像３１のみをＯＳＤ画像用メモリー３から読み出し、画像合成部２４により左目用ＯＳＤ画像３１が左目用のフレームと右目用のフレームの両方に重畳される。
このような表示態様を用いると、メガネ型のフィルターを装着していなくても容易にＯＳＤ画像の文字を視認できるという利点があり、メガネ型のフィルターを外してリモコン５を操作する場合には特に好適である。また、メガネ型のフィルターを装着している人も勿論ＯＳＤ画像を良好に視認できる。図７Ｄの表示態様は、立体映像の投射中にプロジェクター１の動作に係る設定等を行う場合に有用である。
図７Ｄに示す画面では、左目用ＯＳＤ画像３１を用いているため文字が右側によっているので、図７Ｅに示すように、文字を中央に位置させるよう補正してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2012113078.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月14日(2013.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マクロ表面形状および前記マクロ表面形状上の微細表面形状を光学部材の表面に形成することで微細表面形状を有する光学部材を製造する方法であって、
光透過領域および遮蔽領域が形成されたマクロ表面形状金型上に光透過基材を載置する工程と、
前記光透過基材上に光硬化樹脂を配置する工程と、
微細な凹凸が形成された微細表面形状金型と前記マクロ表面形状金型とで、前記光透過基材および前記光硬化樹脂を挟み込む工程と、
前記微細表面形状金型と前記マクロ表面形状金型とで前記光透過基材および前記光硬化樹脂を加圧して前記光硬化樹脂に微細表面形状を形成した後に、前記光透過領域を通して前記光硬化樹脂に光を照射して前記マクロ表面形状を形成する工程と、を行うことにより光学部材を製造すること
を特徴とする光学部材の製造方法。
【請求項２】
前記光透過領域が孔であること
を特徴とする請求項１記載の光学部材の製造方法。
【請求項３】
前記光透過領域が厚さの異なる金属膜の蒸着によって形成されると共に、前記金属膜の膜厚の差により透過率に差を持たせた領域であること
を特徴とする請求項１記載の光学部材の製造方法。
【請求項４】
前記光硬化樹脂が放射線硬化樹脂であり、前記光が放射線であること
を特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光学部材の製造方法。
【請求項５】
マクロ表面形状および前記マクロ表面形状上の微細表面形状を光学部材に形成する光学部材の製造装置であって、
微細な凹凸が形成された微細表面形状金型と、
光透過領域および遮蔽領域が形成されると共に光透過基材が載置されるマクロ表面形状金型と、
前記微細表面形状金型と前記マクロ表面形状金型とで前記光透過基材および前記光透過基材上の光硬化樹脂を加圧する加圧装置と、
前記光透過領域を通して前記光硬化樹脂に光を照射する光源と
を備えたこと
を特徴とする光学部材の製造装置。
【請求項６】
前記微細表面形状金型が、その側面に前記凹凸が形成された回転可能な円柱形状であり、
前記マクロ表面形状金型が、前記微細表面形状金型の側面の一部と当接する環状のベルトであり、
前記微細表面形状金型と前記マクロ表面形状金型が当接する面に前記光透過領域が形成され、
シート状の前記光硬化樹脂を前記微細表面形状金型と前記マクロ表面形状金型との間に送り込む送り機構を備えること
を特徴とする請求項５記載の光学部材の製造装置。
【請求項７】
前記光透過領域が、孔、金属の蒸着、表面粗さ、段差、屈折率差のいずれかにより、前記光の透過量を制御する機能を持つこと
を特徴とする請求項５または請求項６記載の光学部材の製造装置。
【請求項８】
前記光硬化樹脂が放射線硬化樹脂であり、前記光が放射線であり、前記光源が放射線源であること
を特徴とする請求項５〜請求項７のいずれか１項に記載の光学部材の製造装置。
【請求項９】
マクロ表面形状と、前記マクロ表面形状上の微細表面形状とが形成された光学部材であって、
前記微細表面形状が前記マクロ表面形状の法線方向に突出した形状であること
を特徴とする光学部材。
【請求項１０】
前記微細表面形状が、円錐形状、角錐形状、釣鐘形状、円柱形状、角柱形状もしくは先端に向かって階段状に細くなる形状、不規則な凹凸を複数組み合わせた形状のいずれかであること
を特徴とする請求項９記載の光学部材。
【請求項１１】
一つの前記微細表面形状の幅が１０μｍ以下であること
を特徴とする請求項９記載の光学部材。
【請求項１２】
一つの前記マクロ表面形状の幅が１０μｍ〜１０ｍｍであること
を特徴とする請求項１１記載の光学部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学部材の製造方法及び製造装置、並びに光学部材
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、光学デバイスに設けられ、マクロ表面形状の上に微細な凹凸が形成される光学部材の製造方法及び製造装置、並びに光学部材に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記目的を達成するための本発明の光学部材の製造方法は、マクロ表面形状および前記マクロ表面形状上の微細表面形状を光学部材の表面に形成することで微細表面形状を有する光学部材を製造する方法であって、光透過領域および遮蔽領域が形成されたマクロ表面形状金型上に光透過基材を載置する工程と、前記光透過基材上に光硬化樹脂を配置する工程と、微細な凹凸が形成された微細表面形状金型と前記マクロ表面形状金型とで、前記光透過基材および前記光硬化樹脂を挟み込む工程と、前記微細表面形状金型と前記マクロ表面形状金型とで前記光透過基材および前記光硬化樹脂を加圧して前記光硬化樹脂に微細表面形状を形成した後に、前記光透過領域を通して前記光硬化樹脂に光を照射して前記マクロ表面形状を形成する工程と、を行うことにより光学部材を製造することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、上記目的を達成するための本発明の光学部材の製造装置は、マクロ表面形状および前記マクロ表面形状上の微細表面形状を光学部材に形成する光学部材の製造装置であって、微細な凹凸が形成された微細表面形状金型と、光透過領域および遮蔽領域が形成されると共に光透過基材が載置されるマクロ表面形状金型と、前記微細表面形状金型と前記マクロ表面形状金型とで前記光透過基材および前記光透過基材上の光硬化樹脂を加圧する加圧装置と、前記光透過領域を通して前記光硬化樹脂に光を照射する光源とを備えたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
なお、本実施の形態１で得られる光学部材は、微細表面形状の形成後にマクロ表面形状が形成されるものである。そのため、図２（ｆ）で示す様に、本実施の形態１の光学部材の微細表面形状は、マクロ表面形状（うねった光硬化樹脂２）の表面に対し、法線方向に突出するように形成することができる。すなわち、本実施の形態１の光学部材は、マクロ表面形状に対し幾何光学的に有意な方向に微細表面形状が形成できる。そのため、様々な方向に突出した微細表面形状を形成できる。よって、どのような方向から光が入射しても、いずれかの微細表面形状に平行に入射されることになり、一定方向に微細表面形状が形成された場合に比べて、光の散乱をより効果的に防止することができる。さらに、法線方向と平行な方向に微細表面形状を形成した場合は、離型の困難性を解消することもできる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
本発明は、光学デバイスに設けられ、マクロ表面形状の上に微細な凹凸が形成される光学部材の製造方法及び製造装置、それに用いる金型並びに光学部材等に有用である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月4日(2013.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素領域に、走査線及びデータ線と、前記走査線及び前記データ線の交差に対応して設けられた画素部とを備える電気光学装置を駆動するために用いられる電気光学装置用駆動回路であって、
転送信号を順次出力するシフトレジスタと、
前記画素領域に表示すべき画像を表示する表示期間では第１電位で一定であり、前記画素領域の表示をオフ状態するオフシーケンス期間では前記第１電位とは異なる第２電位で一定となるリセット信号を出力するリセット信号出力部と、
前記順次出力された転送信号と、前記出力されたリセット信号とが入力され、前記入力されたリセット信号が前記第１電位である場合には、前記入力された転送信号に応じてアクティブ電位となる信号を出力し、前記入力されたリセット信号が前記第２電位である場合には、前記アクティブ電位で一定の信号を出力する第１論理回路部と、
前記表示期間には、前記転送信号のパルス幅よりも狭い所定のパルス幅を有するパルス信号であるイネーブル信号を出力するイネーブル信号出力部と、
前記第１論理回路部から出力された信号と、前記イネーブル信号出力部から出力されたイネーブル信号との論理積に相当する信号を出力する第２論理回路部と
を備え、
前記イネーブル信号出力部は、前記オフシーケンス期間には、前記イネーブル信号を前記アクティブ電位で一定に維持する
ことを特徴とする電気光学装置用駆動回路。
【請求項２】
前記イネーブル信号出力部は、前記イネーブル信号として複数系列の信号を出力し、
前記リセット信号出力部は、前記出力された複数系列の信号の否定論理積を演算することにより、前記リセット信号を生成する
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用駆動回路。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の電気光学装置用駆動回路を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の電気光学装置用駆動回路は上記課題を解決するために、画素領域に、走査線及びデータ線と、前記走査線及び前記データ線の交差に対応して設けられた画素部とを備える電気光学装置を駆動するために用いられる電気光学装置用駆動回路であって、転送信号を順次出力するシフトレジスタと、前記画素領域に表示すべき画像を表示する表示期間では第１電位で一定であり、前記画素領域の表示をオフ状態するオフシーケンス期間では前記第１電位とは異なる第２電位で一定となるリセット信号を出力するリセット信号出力部と、前記順次出力された転送信号と、前記出力されたリセット信号とが入力され、前記入力されたリセット信号が前記第１電位である場合には、前記入力された転送信号に応じてアクティブ電位となる信号を出力し、前記入力されたリセット信号が前記第２電位である場合には、前記アクティブ電位で一定の信号を出力する第１論理回路部と、前記表示期間には、前記転送信号のパルス幅よりも狭い所定のパルス幅を有するパルス信号であるイネーブル信号を出力するイネーブル信号出力部と、前記第１論理回路部から出力された信号と、前記イネーブル信号出力部から出力されたイネーブル信号との論理積に相当する信号を出力する第２論理回路部とを備え、前記イネーブル信号出力部は、前記オフシーケンス期間には、前記イネーブル信号を前記アクティブ電位で一定に維持する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月11日(2013.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を光源とする光源部と；
熱伝導性を有し、前面側に前記光源部が配設されるとともに、背面側から立設される中央壁および中央壁から直交する方向に延在し、中央壁から離間するに従い肉厚が小さくなっている複数の放熱フィンを一体に備えた本体と；
を具備していることを特徴とする照明器具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の実施形態による照明器具は、発光素子を光源とする光源部と、熱伝導性を有し、前面側に前記光源部が配設されるとともに、背面側から立設される中央壁および中央壁から直交する方向に延在し、中央壁から離間するに従い肉厚が小さくなっている複数の放熱フィンを一体に備えた本体とを具備している。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月8日(2013.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
ステップＳ４３において、凸部情報更新部１１１は、新たに検出された凸部と、登録済みの凸部との距離が最小となるユークリッド距離d(xold,yold)が、所定の閾値ｔｈ１よりも十分に小さく、フレーム間で移動した同一の凸部とみなせるか否かを判定する。すなわち、フレーム間で移動したとみなせる凸部同士であるか否かが判定される。ステップＳ４３において、例えば、ユークリッド距離d(xold,yold)が、所定の閾値ｔｈ１よりも十分に小さく、フレーム間で移動した同一の凸部とみなせると判定された場合、処理は、ステップＳ４４に進む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
ステップＳ９５において、先端部情報更新部１２１は、処理対象となる先端部情報の近傍に局所先端部が検出されていないことになるため、無効な先端部であるものとみなし、尤度p=0にすると共に、更新フラグfを更新済みを示す１に設定する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
すなわち、順次先端部情報の最新フレーム座標が、追跡ID毎にフレーム単位で読み出されるので、フレーム単位で読み出された最新フレーム座標の情報を順次記憶して接続することにより、例えば、図１８で示されるように、人物の左右の手Ｈ１，Ｈ２が先端部として認識され、その軌跡が軌跡ｒ１０１，ｒ１０２のように求められる。軌跡ジェスチャ検出部１０６は、この軌跡に基づいて、ジェスチャを検出し、検出したジェスチャの情報を出力すると共に、検出したジェスチャの情報、および、ジェスチャの検出に寄与した先端部情報を識別する追跡IDを追跡優先度設定部１０７に供給する。尚、ジェスチャの途中などの場合、ジェスチャとしては認識されないことになるが、この場合においても、軌跡ジェスチャ検出部１０６は、追跡IDに基づいて、軌跡の情報のみを追跡優先度設定部１０７に供給する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月29日(2013.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸を偏向させることによって像ぶれを補正する像ぶれ補正装置であって、
ベース部材と、
像ぶれを補正するための補正部材を保持し、前記ベース部材に対して光軸と非平行な方向へ移動可能な保持部材と、
前記ベース部材と前記保持部材とに挟持される転動部材と、
粘性抵抗を得られる減衰手段とを有し、
前記ベース部材の一部と前記保持部材の一部とが前記光軸と直交する方向から見て重なり合うように設けられ、かつ該ベース部材と該保持部材の間に前記減衰手段が配設されることを特徴とする像ぶれ補正装置。
【請求項２】
前記固定部材の一部または前記保持部材の一部として軸部材が設けられ、
前記保持部材又は前記固定部材の他方に穴部が設けられ、
前記保持部材又は前記固定部材の他方に係合されることなく前記軸部材は前記穴部に延在されることを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項３】
前記穴部は貫通穴であることを特徴とする請求項２に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項４】
前記減衰手段は紫外線の照射によって硬化する素材からなることを特徴とする請求項１ないし３の何れか１項に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項５】
前記減衰剤は、硬化状態において０．３Ｈｚから１００Ｈｚの帯域に転移領域を有する紫外線硬化シリコーンゲルであることを特徴とする請求項４に記載の像振れ補正装置。
【請求項６】
前記保持部材が駆動可能な距離ａと、前記軸部材と前記穴部の間隙ｂは、ａ＜ｂの関係を有することを特徴とする請求項２ないし５の何れか１項に記載の像振れ補正装置。
【請求項７】
前記減衰手段は、同心円状に配設されることを特徴とする請求項１ないし６の何れか１項に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項８】
前記転動部材を挟持するように前記ベース部材と前記保持部材を互いに近づける方向に付勢するとともに、前記保持部材の移動可能範囲の中心方向に当該保持部材を付勢する付勢手段を更に有することを特徴とする請求項１ないし７の何れか１項に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項９】
前記減衰手段は、光軸方向から見て、前記補正レンズの中心を通る直線に対して線対称、もしくは前記補正レンズの中心に対して点対称であることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の像振れ補正装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の像ぶれ補正装置を具備することを特徴とする光学機器。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の像ぶれ補正装置を具備することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明は、光軸を偏向させることによって像ぶれを補正する像ぶれ補正装置であって、ベース部材と、像ぶれを補正するための補正部材を保持し、前記ベース部材に対して光軸と非平行な方向へ移動可能な保持部材と、前記ベース部材と前記保持部材とに挟持される転動部材と、粘性抵抗を得られる減衰手段とを有し、前記ベース部材の一部と前記保持部材の一部とが前記光軸と直交する方向から見て重なり合うように設けられ、かつ該ベース部材と該保持部材の間に前記減衰手段が配設されることを特徴とする像ぶれ補正装置とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月9日(2013.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、本発明は、
（１）ポリアミド樹脂１００重量部に対し、ホスフィン酸金属塩および／またはジホスフィン酸金属塩を２０〜５０重量部、ハイドロタルサイトおよび／またはステアリン酸亜鉛を０．１〜  ５重量部配合してなるポリアミド樹脂組成物、
（２）ハイドロタルサイトが焼成ハイドロタルサイトである（１）記載のポリアミド樹脂組成物、
（３）焼成ハイドロタルサイトが下記一般式（１）で表される（２）記載のポリアミド樹脂組成物、
（Ｍｇ１−ｘＡｌｘ）Ｏ１＋０．５Ｘ（１）
但し、式中０＜ｘ＜０．４。
（４）ホスフィン酸金属塩および／またはジホスフィン酸金属塩の金属塩が、アルミニウム塩である（１）〜（３）のいずれかに記載のポリアミド樹脂組成物、
（５）ポリアミド樹脂組成物を３００℃で１０分加熱した際に発生する硫酸イオンが１ｐｐｍ未満である（１）〜（４）のいずれかに記載のポリアミド樹脂組成物、
（６）（１）〜（５）のいずれかに記載のポリアミド樹脂組成物からなる成形品、を提供するものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミド樹脂１００重量部に対し、ホスフィン酸金属塩および／またはジホスフィン酸金属塩を２０〜５０重量部、ハイドロタルサイトおよび／またはステアリン酸亜鉛を０．１〜  ５重量部配合してなるポリアミド樹脂組成物。
【請求項２】
ハイドロタルサイトが焼成ハイドロタルサイトである請求項1記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項３】
焼成ハイドロタルサイトが下記一般式（１）で表される請求項２記載のポリアミド樹脂組成物。
（Ｍｇ１−ｘＡｌｘ）Ｏ１＋０．５Ｘ（１）
但し、式中０＜ｘ＜０．４。
【請求項４】
ホスフィン酸金属塩および／またはジホスフィン酸金属塩の金属塩が、アルミニウム塩である請求項１〜３のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項５】
ポリアミド樹脂組成物を３００℃で１０分加熱した際に発生する硫酸イオンが１ｐｐｍ未満である請求項１〜４のいずれかに記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のポリアミド樹脂組成物からなる成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月10日(2012.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、以下のとおりである。
１．１０〜１００重量％が粒子径１０００μｍ以下のポリアミド樹脂粉末であるポリアミド樹脂（Ａ）１００重量部と、平均粒径が１００〜１０００μｍであるハロゲン化カリウム（Ｃ）１〜２５重量部を攪拌羽付きの混合機で混合した後、溶融混練するポリアミドマスターバッチの製造方法。
２．さらに、ポリアミド樹脂（Ａ）１００重量部に対して、ハロゲン化銅（Ｄ）０．１〜１０重量部を溶融混練する１に記載のポリアミドマスターバッチの製造方法。
３．ポリアミド樹脂（Ａ）とハロゲン化カリウム（Ｃ）およびハロゲン化銅（Ｄ）を、攪拌羽付きの混合機で混合した後、溶融混練する２に記載のポリアミドマスターバッチの製造方法。
４．攪拌羽付きの混合機で混合する際、ポリアミド樹脂（Ａ）１００重量部に対し、水０．０５〜０．５重量部を加えて混合する１〜３いずれかに記載のポリアミドマスターバッチの製造方法。
５．粒子径１０００μｍ以下のポリアミド樹脂粉末が、ポリアミド樹脂を目開き１ｍｍ以下である篩を通過させることによって得られるものである１〜４いずれかに記載のポリアミドマスターバッチの製造方法。
６．ポリアミド樹脂（Ｂ）１００重量部に対して、１〜５いずれかに記載の製造方法により得られるポリアミドマスターバッチ０．１〜１０重量部を配合するポリアミド樹脂組成物の製造方法。
７．１〜５いずれかに記載の製造方法により製造されるポリアミドマスターバッチ。
８．ポリアミド樹脂（Ｂ）１００重量部に対して、７に記載のポリアミドマスターバッチを０．１〜１０重量部配合してなるポリアミド樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
（１−３）混合および溶融混練
ポリアミド樹脂ペレット、ポリアミド粉末、ハロゲン化カリウム、ハロゲン化銅、水を攪拌羽付き混合機(三井鉱山（株）ＦＭ１５０Ｊ）を使用して混合した後、２軸押出機(池貝鉄工（株）ＰＣＭ４５）を使用して溶融混練した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
（５−３）混合および溶融混練
原材料をタンブラー（中村科学工業（株）ＰＴＭ１５０）で混合した後、実施例１と同じ方法で溶融混練してポリアミドマスターバッチを得た。押出機での溶融混練は安定せず、吐出が乱れた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
＜実施例３＞
ポリアミド樹脂（ナイロン６６ 東レ（株）アミランＥ３０００）と、ポリアミド樹脂１００重量部に対して、実施例１で得たポリアミドマスターバッチと２．５９重量部とガラス繊維（エヌエスジー・ヴェトロテックス（株）ＴＰ５７）４５．５６重量部を２軸押出機（（株）日本製鋼所ＴＥＸ５４）で溶融混練し、ポリアミド樹脂組成物を得た。評価結果を表２に示す。なお、１０００ｔのポリアミド樹脂組成物を溶融混練した後、押出機内部を確認したが、腐食は確認されなかった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
＜比較例６＞
ポリアミド樹脂（ナイロン６６ 東レ（株）アミランＥ３０００）と、ポリアミド樹脂１００重量部に対してヨウ化第一銅マスターバッチ（東レ（株）ナイロン６アミランＣＭ１００１／日本化学産業（株）ヨウ化第一銅＝９５／５）０．８７重量部、ガラス繊維（エヌエスジー・ヴェトロテックス（株）ＴＰ５７）４４．９３重量部、ヨウ化カリウム水溶液(水／ヨウ化カリウム＝３／２）０．７２重量部を２軸押出機（（株）日本製鋼所ＴＥＸ５４）で溶融混練し、ポリアミド樹脂組成物を得た。評価結果を表２に示す。なお、１０００ｔのポリアミド樹脂組成物を溶融混練した後、押出機内部を確認したところ、押出機スクリュウ表面の腐食が確認された。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０〜１００重量％が粒子径１０００μｍ以下のポリアミド樹脂粉末であるポリアミド樹脂（Ａ）１００重量部と、平均粒径が１００〜１０００μｍであるハロゲン化カリウム（Ｃ）１〜２５重量部を攪拌羽付きの混合機で混合した後、溶融混練するポリアミドマスターバッチの製造方法。
【請求項２】
さらに、ポリアミド樹脂（Ａ）１００重量部に対して、ハロゲン化銅（Ｄ）０．１〜１０重量部を溶融混練する請求項１に記載のポリアミドマスターバッチの製造方法。
【請求項３】
ポリアミド樹脂（Ａ）とハロゲン化カリウム（Ｃ）およびハロゲン化銅（Ｄ）を、攪拌羽付きの混合機で混合した後、溶融混練する請求項２に記載のポリアミドマスターバッチの製造方法。
【請求項４】
攪拌羽付きの混合機で混合する際、ポリアミド樹脂（Ａ）１００重量部に対し、水０．０５〜０．５重量部を加えて混合する請求項１〜３いずれかに記載のポリアミドマスターバッチの製造方法。
【請求項５】
粒子径１０００μｍ以下のポリアミド樹脂粉末が、ポリアミド樹脂を目開き１ｍｍ以下である篩を通過させることによって得られるものである請求項１〜４いずれかに記載のポリアミドマスターバッチの製造方法。
【請求項６】
ポリアミド樹脂（Ｂ）１００重量部に対して、請求項１〜５いずれかに記載の製造方法により得られるポリアミドマスターバッチ０．１〜１０重量部を配合するポリアミド樹脂組成物の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５いずれかに記載の製造方法により製造されるポリアミドマスターバッチ。
【請求項８】
ポリアミド樹脂（Ｂ）１００重量部に対して、請求項７に記載のポリアミドマスターバッチを０．１〜１０重量部配合してなるポリアミド樹脂組成物。