【手続補正書】
【提出日】平成24年12月10日(2012.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上に、第１クラッド層と、コア層と、第２クラッド層とが順に積層された光導波路と、
前記光導波路の両端側の前記第２クラッド層及び前記コア層にそれぞれ形成され、光路変換傾斜面と側壁面とを備えた溝部と、
前記溝部の光路変換傾斜面に配置された金属層から形成された光路変換ミラーと、
前記第２クラッド層の上に形成され、前記光路変換ミラーを被覆する保護絶縁層と、
前記溝部の側壁面に対応する部分に、前記保護絶縁層から前記コア層を貫通して形成された凹部とを有し、
前記光路変換ミラーの端部が前記凹部の側壁から露出していることを特徴とする光導波路装置。
【請求項２】
基板と、
前記基板の上に、第１クラッド層と、コア層と、第２クラッド層とが順に積層された光導波路と、
前記光導波路の両端側の前記コア層及び前記第１クラッド層にそれぞれ形成され、光路変換傾斜面と側壁面とを備えた溝部と、
前記溝部の光路変換傾斜面に配置された金属層から形成された光路変換ミラーと、
前記溝部の側壁面に対応する部分に、前記第２クラッド層及び前記コア層を貫通して形成された凹部とを有し、
前記光路変換ミラーは前記第２クラッド層で被覆されており、かつ、前記光路変換ミラーの端部が前記凹部の側壁から露出していることを特徴とする光導波路装置。
【請求項３】
前記凹部の側面は垂直面であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光導波路装置。
【請求項４】
前記凹部は空洞であるか、あるいは前記凹部に埋込樹脂が埋め込まれていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光導波路装置。
【請求項５】
前記光導波路の一端側に前記光路変換ミラーによって光結合された状態で、前記基板に実装された発光素子と、
前記光導波路の他端側に前記光路変換ミラーによって光結合された状態で、前記基板に実装された受光素子と、
前記発光素子及び前記受光素子の下側及び前記凹部に充填されたアンダーフィル樹脂とをさらに有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光導波路装置。
【請求項６】
基板の上に、第１クラッド層、コア層及び第２クラッド層を順次形成して光導波路を得る工程と、
前記光導波路の両端側に、光路変換傾斜面とそれに交差する側壁面とを備えて前記第２クラッド層及び前記コア層を分断する溝部をそれぞれ形成する工程と、
前記溝部の前記光路変換傾斜面及び側壁面に金属層を選択的に形成する工程と、
前記光導波路の上に前記金属層を封止する保護絶縁層を形成する工程と、
前記保護絶縁層から前記コア層を厚み方向に加工することによって、前記溝部の前記側壁面に形成された前記金属層を除去して凹部を形成することにより、前記光路変換傾斜面に前記金属層からなる光路変換ミラーを得る工程とを有し、
前記光路変換ミラーを得る工程で、前記光路変換ミラーの端部が前記凹部の側壁から露出することを特徴とする光導波路装置の製造方法。
【請求項７】
基板の上に、第１クラッド層及びコア層を順次形成して積層体を得る工程と、
前記積層体の両端側に、光路変換傾斜面とそれに交差する側壁面とを備えて前記コア層を分断する溝部をそれぞれ形成する工程と、
前記溝部の前記光路変換傾斜面及び側壁面に金属層を選択的に形成する工程と、
前記積層体の上に前記金属層を封止する第２クラッド層を形成して、前記コア層が前記第１クラッド層及び前記第２クラッド層で囲まれた光導波路を得る工程と、
前記第２クラッド層から前記コア層を厚み方向に加工することによって、前記溝部の前記側壁面に形成された前記金属層を除去して凹部を形成することにより、前記光路変換傾斜面に前記金属層からなる光路変換ミラーを得る工程とを有し、
前記光路変換ミラーを得る工程で、前記光路変換ミラーの端部が前記凹部の側壁から露出することを特徴とする光導波路装置の製造方法。
【請求項８】
前記光路変換ミラーを得る工程の後に、
前記凹部に埋込樹脂を埋め込む工程をさらに有することを特徴とする請求項６又は７に記載の光導波路装置の製造方法。
【請求項９】
前記光路変換ミラーを得る工程の後に、
前記光導波路の一端側に前記光路変換ミラーによって光結合されるように、前記基板に発光素子を実装し、前記光導波路の他端側に前記光路変換ミラーによって光結合されるように、前記基板に受光素子を実装する工程をさらに有することを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の光導波路装置の製造方法。
【請求項１０】
前記発光素子及び前記受光素子を実装する工程の後に、
前記発光素子及び前記受光素子の下側にアンダーフィル樹脂を充填すると同時に、前記凹部を前記アンダーフィル樹脂で埋め込む工程をさらに有すること特徴とする請求項９に記載の光導波路装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明は光導波路装置の製造方法に係り、基板の上に、第１クラッド層、コア層及び第２クラッド層を順次形成して光導波路を得る工程と、前記光導波路の両端側に、光路変換傾斜面とそれに交差する側壁面とを備えて前記第２クラッド層及び前記コア層を分断する溝部をそれぞれ形成する工程と、前記溝部の前記光路変換傾斜面及び側壁面に金属層を選択的に形成する工程と、前記光導波路の上に前記金属層を封止する保護絶縁層を形成する工程と、前記保護絶縁層から前記コア層を厚み方向に加工することによって、前記溝部の前記側壁面に形成された前記金属層を除去して凹部を形成することにより、前記光路変換傾斜面に前記金属層からなる光路変換ミラーを得る工程とを有し、前記光路変換ミラーを得る工程で、前記光路変換ミラーの端部が前記凹部の側壁から露出することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記課題を解決するため、本発明は光導波路装置に係り、基板と、前記基板の上に、第１クラッド層と、コア層と、第２クラッド層とが順に積層された光導波路と、前記光導波路の両端側の前記第２クラッド層及び前記コア層にそれぞれ形成され、光路変換傾斜面と側壁面とを備えた溝部と、前記溝部の光路変換傾斜面に配置された金属層から形成された光路変換ミラーと、前記第２クラッド層の上に形成され、前記光路変換ミラーを被覆する保護絶縁層と、前記溝部の側壁面に対応する部分に、前記保護絶縁層から前記コア層を貫通して形成された凹部とを有し、前記光路変換ミラーの端部が前記凹部の側壁から露出していることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
さらに、蒸着により、マスク１５の開口部１５ａを通して溝部５０及びその近傍に金属層６０を選択的に成膜する。金属層６０として、良好な光反射性を有する金（Ａｕ）層やアルミニウム（Ａｌ）層などが使用される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
次いで、図１０（ｂ）に示すように、積層体Ｂの両端側において、コア層４２の上面から第１クラッド層４０の厚みの途中まで切削することにより、光路を９０°変換するための光路変換傾斜面Ｓ１とそれに交差する側壁面Ｓ２とを備えた溝部５０を形成する。溝部５０はコア層４２を分断するようにして形成される。