(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
0004226667.tif 000011
［式中、ＲとＲ’はブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、オクチル、又は２−エチルヘキシルであり；Ａｒは式：
【化２】
0004226667.tif 000012
（式中、Ｒ2はヒドロキシ、メチル、又は１個以上のヒドロキシ基及び／又はアルコキシ基によって任意に置換されるアルキル、アルケニル、アルキニルエーテル残基若しくはポリアルキルエーテル残基であり、Ｒ3は水素であるか又は残基Ｒ2を意味し、ヒドロキシ基はトリアジン核への結合に対してα−位置に存在する）で示される残基の１つを表す］
で示される化合物。
【請求項２】
４，４’−｛６−［ビス（２−エチル−ヘキシル）−アミノ］−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル｝−ジレゾルシノール。
【請求項３】
４，４’−［６−（ジ−イソブチル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］−ジレゾルシノール。
【請求項４】
４，４’−［６−（ジ−ｎ−オクチル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］−ジレゾルシノール。
【請求項５】
４，４’−［６−（ジ−ｎ−ペンチル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］−ジレゾルシノール。
【請求項６】
４，４’−｛６−［ビス（２−エチル−ヘキシル）−アミノ］−２，４−ビス［４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−［１，３，５］−トリアジン。
【請求項７】
４，４’−｛６−［ビス（２−エチル−ヘキシル）−アミノ］−２，４−ビス（４−メチル−２−ヒドロキシ−フェニル）−［１，３，５］−トリアジン。
【請求項８】
４，４’−｛６−［ビス（２−エチル−ヘキシル）−アミノ］−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル｝−ジ−ナフトレゾルシノール。
【請求項９】
４，４’−｛６−（ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミノ）−２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−フェニル）−［１，３，５］−トリアジン。
【請求項１０】
４，４’−｛６−（Ｎ−イソペンチル−Ｎ−３，５，５−トリメチル−ヘキシル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル｝−ジレゾルシノール。
【請求項１１】
請求項１〜１０の化合物を含有する遮光剤。
【請求項１２】
式：
【化３】
0004226667.tif 000013
［式中、ＲとＲ’及びＡｒは請求項１で定義した通りである］
で示される化合物の製造方法であって、式：
【化４】
0004226667.tif 000014
で示される化合物を上記ラジカルＡｒに対応する物質と、フリーデル−クラフツ反応の条件下で反応させ、必要な場合には、Ｒ2、Ｒ3及び／又は上記ラジカルＡｒ中の遊離ヒドロキシ基をエーテル化することを含む製造方法。
【請求項１３】
遮光剤の製造のための請求項１〜１０の化合物の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、遮光剤として有用な化合物と、その製造方法と、遮光剤としての使用とに関する。
【従来の技術】
太陽光線が皮膚の老化を促進し、皮膚癌を招来することさえあり、これらの好ましくない効果が、皮膚を直接褐色に焼き、約３２０〜４００ｎｍの領域内の波長を有するＵＶ  Ａ光線によって主として惹起されることが知られている。
【０００２】
式：
【化１０】
0004226667.tif 000002
［式中、ＲとＲ’は１個以上のヒドロキシ基及び／又はアルコキシ基によって置換される、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルケニル、アルキニル又はアルキルエーテルラジカルであり；Ａｒは式：
【化１１】
0004226667.tif 000003
（式中、Ｒ2 はヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、又は１個以上のヒドロキシ基及び／又はアルコキシ基によって任意に置換されるアルキル、アルケニル、アルキニルエーテル残基若しくはポリアルキルエーテル残基であり、Ｒ3 は水素であるか又は残基Ｒ2 を意味し、ヒドロキシ基はトリアジン核への結合に対してα−位置に存在する）で示される残基の１つを表し；ＲとＲ’中に存在するＣ原子とＯ原子との数は合計で８〜４２、特に８〜１８であり、Ｏ原子の数は多くともＣ原子の１／２に相当する］
で示される化合物が、顕著な皮膚適合性と安定性（光、熱、水分）によってそれらが皮膚に対する応力影響（stress effect ）の大きな低下をもたらし、それによって皮膚老化を遅延させる点で優れたＵＶ  Ａフィルターであることが現在判明している。しかし、特に、これらのＵＶ  Ａフィルターは明白な光安定性をも有する。
【０００３】
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、２−エチル−ヘキシル、イソ−ノニル、ｎ−ドデシル、ヘキサデシル、ココイル(cocoyl)、エイコシル及び３，７，１１−トリメチル−ドデシルのようなＣ1 −Ｃ20アルキルがアルキル残基の例である。
【０００４】
例えばアリル、プロペニル、メチルプロペニル、ω−ウンデセニル、２，４−ドデカジエニル及び３，７−ジメチル−２，６−ヘプタジエニルのようなＣ2 −Ｃ12アルケニルがアルケニル残基の例である。
例えばエチニル、プロパルギル、２−メチル−４−ペンチニル、ω−ウンデシニル及び３−ドデシニルのようなＣ2 −Ｃ12アルキニルがアルキニル残基の例である。
【０００５】
例えば２−エトキシ−エチル、２−メトキシ−１−メチル−エトキシ、３−メチルオキシ−プロピル、３−（２−エチル−ヘキシル）−オキシ−プロピル、２−エトキシブチル、メトキシメチル及び２−エトキシ−オクタデカニルのようなＣ2 −Ｃ20アルキルエーテル残基がアルキルエーテル残基の例である。
アリル及びプロパルギルが各々アルケニルエーテル残基及びアルキニルエーテル残基の例である。
【０００６】
例えば２−［２−（２−メトキシ）−エトキシ］−エチル、２−［２−（２−ヒドロキシ）−エトキシ］−エチル、２−（２−エトキシ−１−メチル−エトキシ）−１−メチルエチル、２−（２−｛２−［２−（２−ヒドロキシ−プロポキシ）−プロポキシ］−プロポキシ｝−プロポキシ）−プロピル、２−（２−｛２−［２−（２−（２−エトキシ−プロポキシ）−プロポキシ）−プロポキシ］−プロポキシ｝−プロポキシ）−プロピル及び２−（２−｛２−［２−（２−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−エトキシ）−エトキシ］−エトキシ｝−エトキシ）−エチルのようなＣ4 −Ｃ20残基がポリオキサアルキルエーテル残基の例である。
【０００７】
例えば３−メトキシ−２−ヒドロキシプロピル、３−オクチルオキシ−２−ヒドロキシプロピル及び３−イソノニルオキシ−２−ヒドロキシプロピルのようなＣ4 −Ｃ12ヒドロキシアルキルエーテル残基がヒドロキシアルキルエーテル残基の例である。
例えば２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル、２，３−ジヒドロキシ−プロピル及び２−ヒドロキシ−ドデシルのようなＣ2 −Ｃ12アルキルアルコール残基が、アルキルアルコール残基の例である。
【０００８】
Ａｒ残基の例：
【化１２】
0004226667.tif 000004
【０００９】
式Ｉ化合物がＵＶ  Ｂフィルター、即ち約２９０〜約３２０ｎｍの領域内の紅斑生成ＵＶ  Ｂ光線を吸収する物質の保護効果を予想外に高めることも判明している、但し化合物Ｉの吸収最大はこの領域には無く、約３２０〜３６０ｎｍの領域内にある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明の目的は新規な化合物Ｉ、その製造方法、遮光剤、即ち上記式Ｉ化合物を好ましくはＵＶ  Ｂフィルターと組合せて含有するコスメティック目的の遮光製剤、及び特にコスメティック目的の遮光剤としての化合物Ｉの使用である。
【００１１】
後者の場合に、２８０〜３８０ｎｍの全領域におけるＵＶ光線を吸収し−いわゆる“Ａ＋Ｂ総合ブロック”−、皮膚を早期の老化から、多くの場合に光線皮膚症(light dermatoses)から保護する遮光製剤が得られる。
これらの新規な遮光剤（特に、毎日のコスメティックのための皮膚保護製剤）の製造は、遮光剤のために通常用いられるコスメティック基剤中に式Ｉ化合物を好ましくはＵＶ  Ｂフィルターと組合せて混入することを含む。
【００１２】
本発明の範囲内のＵＶ  Ｂフィルターとして、即ち約２９０〜３２０ｎｍに吸収最大を有する物質として、通常のＵＶ  Ｂフィルター、例えば、広範囲な種類の物質に属する下記有機化合物を挙げることができる：
【００１３】
（１）ｐ−アミノ安息香酸誘導体、例えばエチルｐ−アミノベンゾエートと例えばプロピル、ブチル及びイソブチルｐ−アミノベンゾエートのような他のエステル；エチルｐ−ジメチルアミノベンゾエート、グリセリルｐ−アミノベンゾエート、アミルｐ−ジメチルアミノベンゾエート；及びオクチルｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエート、
【００１４】
（２ａ）ケイ皮酸誘導体、例えば２−エトキシエチルｐ−メトキシシンナメート、２−エチルヘキシル（又はペンチル）ｐ−メトキシシンナメート、ｐ−メトキシケイ皮酸エステル混合物及びケイ皮酸エステル混合物、
（２ｂ）マロン酸誘導体、例えばフェニルメチレンマロン酸エステル、及び例えばＥＰ７８９，０８０中に“ポリシロキサンＡ”と呼ばれる化合物のような、シロキサンに結合した（２ａ）と（２ｂ）、
【００１５】
（３）複素環式窒素化合物、例えば２−フェニルベンズイミダゾール誘導体（例えば、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸）、
（４）サリチル酸誘導体、例えばメチルサリチレート、ホモメンチルサリチレート、フェニルサリチレート及びエチルヘキシルサリチレート、
（５）ベンゾフェノン誘導体、例えば４−フェニルベンゾフェノン、イソオクチル４−フェニルベンゾフェノン−２−カルボキシレート，２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノン及び２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、
【００１６】
（６）没食子酸誘導体、例えばジガロイルトリオレエート、
（７）アリーリデンシクロアルカノン(arylidenecycloalkanones )、例えばベンジリデン樟脳、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジリデン樟脳（好ましい）又はメチルベンジリデン樟脳、
（８）アントラニル酸誘導体、例えばメンチルアントラニレート、
（９）ヒドロキシフェニルベンズトリアゾール、
（１０）アクリレート、例えば２−エチルヘキシル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（オクトクリレン）及びエチル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、
（１１）微小結晶粉末、例えば微小結晶ＴｉＯ2 、ＺｎＯ及びＦｅ2 Ｏ3 
【００１７】
（２）に挙げた化合物が好ましく、特に２−エチルヘキシルｐ−メトキシシンナメートが好ましい。
本発明の範囲内の遮光剤に通常用いられるコスメティック基剤として、例えばクリーム、ローション、エマルジョン、軟膏、ゲル、溶液、スプレー、スティック及び乳液(milk)のような、コスメティック必要条件に応じた任意の慣用的製剤を用いることができる；“コスメティック、開発、製造及びコスメティック剤の使用”，Ｗｉｌｆｒｉｅｄ  Ｕｍｂａｃｈ編集、Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｔｒａｇ  シュトウットガルト−ニューヨーク，１９８８；“日焼け止め、開発、評価及び規制に関して”Ｎ．Ｙ．Ｌｏｗｅ、Ｎ．Ａ．Ｓｈａａｔｈ編集、Ｍａｒｃｅｌ  Ｄｅｋｋｅｒ社、ニューヨーク  バーゼル（１９９０）をも参照のこと。
【００１８】
遮光効果は用いる基剤にも依存する。さらに、同じ基剤の場合には、遮光効果は活性物質濃度に依存する。適当な濃度はコスメティック製剤中に例えば１〜６％、好ましくは２〜５％の式Ｉ化合物である。化合物ＩのＵＶ  Ｂフィルターに対する比は決定的ではない。しかし、経済的理由から、この比は例えば化合物Ｉの１部に対するＵＶ  Ｂフィルター１〜２部である。
化合物Ｉは、それらの親油性を考慮すると、油含有及び脂肪含有コスメティック製剤に良好に混入されることができる。
【００１９】
新規な化合物は、親油性に関して、産業用遮光剤として用いられる公知の置換トリアジンに比べて、全ての化合物Ｉがこの場合に要求される基準、即ち、例えばＣｅｔｉｏｌ  ＬＣ（ココイルカプリレート／カプレート）、Ｌｅｘｏｒｅｚ１００（グリセロールジエチレングリコールアジペートクロスポリマー）又はＣｒｏｄｅｍｏｌ  ＤＡ（ジイソプロピルアジペート）のような、コスメティック溶媒中に≧１％の溶解度を満たす点で優れている（ＵＳＰ３，８９６，１２５と、それぞれ、ＤＡＳ１，２４１，４５２とを参照のこと）。他方では、既知の構造の場合には、僅か０．５％以下の溶解度が得られるにすぎない。
【００２０】
これに関して、実施例１の化合物が特に好ましい化合物である。
さらに、構造特徴（及びそれによるアクセシビリティ）も本発明の場合にはより単純である。
化合物Ｉは新規である。これらの化合物Ｉは本発明の目的を形成する。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
化合物Ｉへのアクセスは次のように説明することができる：
【化１３】
0004226667.tif 000005
【００２２】
化合物ＩＩ→化合物Ｉのプロセスは、式：
【化１４】
0004226667.tif 000006
で示される化合物を上記ラジカルＡｒに相当する物質と例えばフリーデル−クラフツ反応の条件下で反応させることを含む。
Ｒ2 及び／又はＲ3 中の遊離ヒドロキシ基を必要な場合にエーテル化することができる。
【００２３】
反応パートナーの反応はフリーデル−クラフツ反応に通常用いられる条件下で、即ち、それ自体公知の方法で実施されることができる。したがって、この反応は溶媒の存在下でも不存在下でも実施される。適当な溶媒は非プロトン性有機溶媒、例えばトルエン、ニトロトルエン、クロロ−、ジクロロ−及びトリクロロベンゼン、炭化水素（例えば、イソオクタン）、塩素化炭化水素、ニトロアルカン、スルホラン（テトラメチレンスルホン）、二硫化炭素、二酸化硫黄等並びにこれらの混合物である。既知触媒、即ち、塩化アルミニウム、塩化スズ、塩化亜鉛、四塩化チタン、三フッ化ホウ素等のようなルイス酸を便利に用いることができる。温度範囲は便利には約１０℃〜約２２０℃の温度範囲であり、好ましくは約８０℃〜１５０℃の範囲である。
【００２４】
化合物ＩＩへの可能な１つのアクセスは上述したが、この方法論はＪ．Ｔ．Ｔｈｕｒｓｔｏｎ等によってＪ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．７３，２９８１（１９５１）に詳述されており、下記スキームと下記実施例とから明らかになるであろう。
遊離ヒドロキシ基のエーテル化はそれ自体公知の方法によって、例えば一般式Ｉのフェノールをエーテル形成試薬、例えばアルキルハライド（又はアルケニルハライド若しくはアルキニルハライド）、アルキルトシラート(alkyl tosylate)又はエポキシドと反応させることによって行うことができる。この反応は溶媒の不存在下で（好ましい）又は溶媒（例えば、ジエチルエーテル、エタノール、アセトン、ＤＭＳＯ、ＤＭＦ、トルエン等）の存在下で、中性条件下又は任意に酸（例えば、Ｈ2 ＳＯ4 等）を用いても又は好ましくは塩基（ピリジン、トリメチルアミン、ＮａＯＨ、ＮａＯＥｔ、ｔｅｒｔ−ブチル−ＯＮａ、ＮａＨ、ＬｉＨ、Ｋ、Ｎａ、Ｋ2 ＣＯ3 、Ｎａ2 ＣＯ3 、ＮａＨＣＯ3 、ブチルリチウム等）を用いても実施することができる。
【００２５】
さらに、相間移動試薬、例えばテトラブチルアンモニウムブロミド、クラウンエーテル等を用いることができる。
したがって、試薬としては、例えばヨウ化メチル、塩化メチル、臭化オクチル、塩化アリル、臭化プロパルギル、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、オクタン−１，２−エポキシド、メチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル等が考慮される。
便利な温度範囲は約０℃〜約１５０℃の範囲である。
【００２６】
【実施例】
実施例１
４，４’−｛６−［ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミノ］−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル｝−ジレゾルシノール
（ａ）４，６−ジクロロ−［１，３，５］−トリアジン−２−イル−ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミンの製造：１８．４ｇ（０．１モル）のシアヌル酸塩化物を７５ｍｌのアセトン中に懸濁させ、９０ｍｌの冷却した水に滴加する。次に、２４．１ｇ（０．１モル）のビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミンを滴加し、続いて、１４ｍｌの水に溶解した４ｇ（０．１モル）のＮａＯＨを滴加する。この懸濁液を２０℃において２時間撹拌し、次に２００ｍｌの水中に注入し、酢酸エチルによって抽出する。乾燥し、濃縮し、一緒にした有機相は３５ｇの透明な油状物の所望のジクロロトリアジンを生じ、これの構造をＭＳ（３８８＝Ｍ＋）によって判定する。
【００２７】
（ｂ）１５０ｍｌのトルエン中の１６．５ｇ（０．１２４モル）のＡｌＣｌ3 と２３．２ｇ（０．０６モル）の上記で得られた油状物との懸濁液を７０℃に加熱し、１９ｇのスルホラン中の１４．５ｇ（０．１３２モル）のレゾルシノールによって処理する。この混合物を１１０℃において２４時間撹拌し、次に水と酢酸エチルとに分配する。酢酸エチル相を２Ｎ  ＮａＯＨ溶液によって抽出し、ＮａＯＨ抽出物を希ＨＣｌによって酸性化して、濾過する。得られた生成物をＮａＣｌ溶液によって中性で洗浄し、ヘキサン／ジエチルエーテルから再結晶する。微粉状の所望の生成物の収量２１．９ｇ。融点１４１〜１４３℃、ＵＶ３３９ｎｍ（Ｅ＝６４８）。
【００２８】
実施例２
４，４’−［６−（ジ−ｎ−オクチル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］−ジレゾルシノール
実施例１の操作を実施するが、ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミンの代わりに１当量のジ−ｎ−オクチルアミンを用いる。
第１工程の収率は理論量(theory)の７６％であり、第２工程の収率は理論量の５１％である。Ｍ．Ｐ．：１６５〜１６７℃。ＵＶ３３８ｎｍ（Ｅ＝７２４）。
【００２９】
実施例３
４，４’−［６−（ジ−ｎ−ペンチル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］−ジレゾルシノール
実施例１の操作を実施するが、ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミンの代わりに１当量のジ−ｎ−ペンチルアミンを用いる。
第１工程の収率は理論量の８１％であり、第２工程の収率は理論量の４６％である。Ｍ．Ｐ．：１９０〜１９２℃。ＵＶ３３９ｎｍ（Ｅ＝６８１）。
【００３０】
実施例４
４，４’−［６−（ジ−イソブチル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］−ジレゾルシノール
実施例１の操作を実施するが、ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミンの代わりに１当量のジ−イソブチルアミンを用いる。
第１工程の収率は理論量の８９％であり、第２工程の収率は理論量の６３％である。Ｍ．Ｐ．：２１０〜２２０℃。ＵＶ３３８ｎｍ（Ｅ＝７３６）。
【００３１】
実施例５
４，４’−［６−（アリル−２−エチル−ヘキシル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］−ジレゾルシノール
実施例１の操作を実施するが、ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミンの代わりに１当量のアリル−２−エチル−ヘキシルアミンを用いる。第１工程の収率は理論量の９４％であり、第２工程の収率は理論量の２０％である。Ｍ．Ｐ．：９０〜９４℃。ＵＶ３４０ｎｍ（Ｅ＝８９６）。
【００３２】
アリル−２−エチル−ヘキシルアミンは次のように製造した：１７．８ｍｌの２−エチル−ヘキシルブロミドを０℃において６０ｍｌのアリルアミンに滴加する。次に、混合物を還流するまで徐々に加熱し、１８時間還流させ、続いて、過剰なアリルアミンを留去する。残渣をエーテル中に加え、ＮａＯＨ水溶液とＮａＣｌ水溶液とによって洗浄し、再び濃縮する。１１．９ｇ（６３％）の黄色がかった油状物のアリル−２−エチル−ヘキシルアミンが得られ、これの正体をＮＭＲ、ＩＲ及びＭＳによって確認した。
【００３３】
実施例６
４，４’−｛６−［ビス（２−エチル−ヘキシル）−アミノ］−２，４−ビス［４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−［１，３，５］−トリアジン
２．１５ｇの４，４’−｛６−［ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミノ］−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル｝−ジレゾルシノール（実施例１によって製造）と２２ｍｇのテトラブチルアンモニウムクロリドとを４０ｍｌのブチルグリシジルエーテル中で１３０゜℃に２４時間加熱する。その後に、この冷却した黄色溶液を水で洗浄し、水ジェット真空中で濃縮し、続いて０．０５トールの高真空中で濃縮し、シリカゲル上でヘキサン／酢酸エチルを用いてクロマトグラフィーする。２．３５ｇの黄色がかった油状物が得られ、これの正体をＮＭＲ、ＩＲ及びＭＳ（７９６＝Ｍ＋）によって確認する。ＵＶ３１９ｎｍ（Ｅ＝３４６）。
【００３４】
実施例７
４，４’−｛６−［ビス（２−エチル−ヘキシル）−アミノ］−２，４−ビス（４−メチル−２−ヒドロキシ−フェニル）−［１，３，５］−トリアジン
１０ｇの実施例１に述べたジクロロトリアジンを、１００ｍｌのキシレン中の６．１ｇのｍ−クレゾールと６．９ｇのＡｌＣｌ3 と共に１２０℃に４日間加熱する。次に、反応混合物を水と酢酸エチルとに分配し、有機相を濃縮し、シリカゲルに通してヘキサン／トルエンを用いてクロマトグラフィーする。上記結晶質生成物の収量１．９ｇ、ｍ．ｐ．７５〜７６℃、ＭＳ（５３２＝Ｍ＋）、ＵＶ３４０ｎｍ（Ｅ＝３７３）。
【００３５】
実施例８
４，４’−｛６−ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル｝−ジ−ナフトレゾルシノール
実施例１の操作を実施するが、（ｂ）においてレゾルシノールの代わりに１，３−ナフトレゾルシノールを用いて、反応混合物を１３０℃に１８時間加熱する。仕上げ処理(working up)後に、粗生成物をシリカゲル上で酢酸エチル／ヘキサン＝１：１中でクロマトグラフィーする。
所望の生成物が得られる：ｍ．ｐ．１００〜１０５℃。ＵＶ３８２ｎｍ（Ｅ＝３８４）。
【００３６】
実施例９
４，４’−｛６−（ジブチル−アミノ）−２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシ−５−ヘキシル−フェニル）−［１，３，５］−トリアジン
実施例１の操作を実施するが、（ａ）においてビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミンの代わりにジ−ｎ−ブチルアミンを用い、（ｂ）においてレゾルシノ−ルの代わりに４−ヘキシルレゾルシノールを用いる。混合物を１１０℃に２日間加熱する。仕上げ処理後に、粗生成物をトルエン／エタノールから結晶化する。
所望の生成物が得られる：ｍ．ｐ．２０３〜２０６℃。ＵＶ３５０ｎｍ（Ｅ＝３５０）。
【００３７】
実施例１０
４，４’−｛６−（ビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミノ）−２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシ−３−メチル−フェニル）−［１，３，５］−トリアジン
実施例１の操作を実施するが、（ｂ）においてレゾルシノールの代わりに１，６−ジヒドロキシトルエンを用いて、反応混合物を１３０℃に２時間加熱する。仕上げ処理後に、粗生成物をアセトニトリル中で２回再結晶する。
所望の生成物が得られる：ｍ．ｐ．９０〜９３℃。ＵＶ３４０ｎｍ（Ｅ＝６５３）。
【００３８】
実施例１１
４，４’−｛６−（Ｎ−イソペンチル−Ｎ−３，５，５−トリメチル−ヘキシル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル｝−ジレゾルシノール
実施例１の操作を実施するが、（ａ）においてビス−（２−エチル−ヘキシル）−アミンの代わりにＮ−イソペンチル−Ｎ−３，５，５−トリメチル−ヘキシル−アミンを用いる。
上記生成物が５２％収率で得られる：ｍ．ｐ．１８７〜１８９℃。ＵＶ３３７．５ｎｍ（Ｅ＝６６５）。
［Ｎ−イソペンチル−Ｎ−３，５，５−トリメチル−ヘキシル−アミンは、０〜２０℃におけるＫＯＨ水溶液中の“イソノニルアミン”（Ｈｏｅｃｈｓｔ）と塩化イソバレロイルとから、その後の還流温度下でのエーテル中でのＬｉＡｌＨ4 による還元によって得られる］
【００３９】
0004226667.tif 000007
とを４０℃において混合する。
【００４０】
0004226667.tif 000008
0004226667.tif 000009
との混合物によって処理する。
【００４１】
0004226667.tif 000010
を４０℃において混合する。