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【手続補正書】
【提出日】平成25年9月18日(2013.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メマツヨイグサ、ワレモコウ、ユキノシタ、ヒマラヤンラズベリー及びそれらの抽出物からなる群より選択される素材のうちの少なくとも１を有効成分とする細胞のＣＧＲＰ応答性抑制剤。
【請求項２】
細胞が血管平滑筋細胞である、請求項１記載の抑制剤。
【請求項３】
メマツヨイグサ、ワレモコウ、ユキノシタ、ヒマラヤンラズベリー及びそれらの抽出物からなる群より選択されるうちの少なくとも１を有効成分とする偏頭痛の予防及び／又は改善剤。
【請求項４】
メマツヨイグサ、ワレモコウ、ユキノシタ、ヒマラヤンラズベリー及びそれらの抽出物からなる群より選択されるうちの少なくとも１を有効成分とする知覚過敏の予防及び／又は改善剤。
【請求項５】
細胞のＣＧＲＰ応答性を抑制する方法であって、ＣＧＲＰ受容体を有し且つＣＧＲＰ応答性を抑制させたい細胞を、メマツヨイグサ、ワレモコウ、ユキノシタ、ヒマラヤンラズベリー及びそれらの抽出物からなる群より選択される素材のうちの少なくとも１の存在下で培養する工程を含む方法。
【請求項６】
細胞が血管平滑筋細胞である、請求項５記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月30日(2013.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
(3) 本実施例の薄膜製造方法及び装置で得られた、本発明に係るウルツ鉱圧電体薄膜の実施例の評価実験
図４〜図１０を用いて、本実施例の薄膜製造方法及び装置により作製した4種類のAlN薄膜（AlN薄膜I〜III）の評価実験を行った結果を説明する。各AlN薄膜の作製条件は、照射したイオンビームの入射角α、イオンビームのエネルギー（加速電圧）、容器内に導入されるガス、及び成膜した膜の厚さの点で以下のように相違している。
・AlN薄膜I
α：20°、加速電圧：3000eV、ガス：窒素ガス、膜厚：3.4μm
・AlN薄膜II
α：20°、加速電圧：3000eV、ガス：窒素ガス、膜厚：1.3μm
・AlN薄膜III
α：40°、加速電圧：3000eV、ガス：窒素ガス1対アルゴンガス2（圧力比）、膜厚：（未測定）
・AlN薄膜IV
α：20°、イオンビームの加速電圧：500eV、膜厚：0.75μm
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
(5) 2層構造の薄膜共振子の一実施例
図１３及び図１４を用いて、本発明に係る2層構造の薄膜共振子の一実施例を説明する。本実施例の2層構造の薄膜共振子４０は、図１３に示すように、第１圧電体層４１と第２圧電体層４２を重ねて、上部電極４３と下部電極４４の間に設けたものである。第１圧電体層４１と第２圧電体層４２は共にウルツ鉱圧電体薄膜から成る。以下ではAlN薄膜を例に説明する。一方、第１圧電体層４１と第２圧電体層４２は、分極ベクトルの方向、即ちc軸の方向が相違する。第１圧電体層４１は、c軸の傾斜角θ1が0°よりわずかに大きい値を有するという、本発明のウルツ鉱圧電体薄膜とは異なる傾斜角を有するものを用いる。なお、このような第１圧電体層４１は、例えば特開2008-182515号に記載の方法により作製することができる。この傾斜角θ1では、縦波に関する圧電定数e33は正であり、横波に関する圧電定数e15は負である（図２参照）。それに対して第２圧電体層４２では本発明に係るウルツ鉱圧電体薄膜であり、傾斜角θ2が72°以上90°未満のもの（例えばθ2が76°であるAlN薄膜I）を用いる。この傾斜角では、縦波に関する圧電定数e33は負であり、横波に関する圧電定数e15は正である（図２）。また、第１圧電体層４１及び第２圧電体層４２に平行な面への分極ベクトルの射影、及びその面に対する法線への分極ベクトルの射影が共に、第１圧電体層４１と第２圧電体層４２では同方向である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月5日(2013.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
前記ガイド機構１５は、前記移載位置１４ａにおいて回転テーブル１４からフランジ１３上に移動した対象物Ｔを前記搬出部２３に向けて導く搬送路を画定するガイドであって、前記フランジ１３の内周縁より外側に設けられる外周ガイド１６、これから延設される第二側部ガイド２０、並びにこの外周ガイド１６及び第二側部ガイド２０に対向するように設けられる第一側部ガイド１８と、これら外周ガイド１６、並びに第一及び第二側部ガイド１８，２０によって画定される搬送路の高さを画定する上部ガイド２２とからなり、それぞれ支持部材（図示せず）により支持されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
例えば、前記搬送ベルト３１は、複数個の突条部３２を備えたものから構成され、それぞれの溝の下方にスリット４１が設けられていても良い。この場合、対象物Ｔを複数列に分けて搬送することができるため、一度により多くの対象物Ｔを搬送することができ、単位時間当たりの処理個数を増やすことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月30日(2013.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＤ３８（配列番号：２２）のエピトープに特異的な単離されたヒト抗体若しくはヒト化抗体又はその抗原結合断片であって、上記抗体は、
（ａ）配列番号：５及び１３、
（ｂ）配列番号：６及び１４、
（ｃ）配列番号：７及び１５、並びに
（ｄ）配列番号：８及び１６
から選択される可変重鎖及び可変軽鎖の対を含む、上記抗体又はその抗原結合断片。
【請求項２】
配列番号：５に示される可変重鎖及び配列番号：１３に示される可変軽鎖を含む、請求項１記載の抗体又は抗原結合断片。
【請求項３】
配列番号：６に示される可変重鎖及び配列番号：１４に示される可変軽鎖を含む、請求項１記載の抗体又は抗原結合断片。
【請求項４】
配列番号：７に示される可変重鎖及び配列番号：１５に示される可変軽鎖を含む、請求項１記載の抗体又は抗原結合断片。
【請求項５】
配列番号：８に示される可変重鎖及び配列番号：１６に示される可変軽鎖を含む、請求項１記載の抗体又は抗原結合断片。
【請求項６】
ＩｇＧである、請求項１乃至５の何れか１項記載の単離された抗体。
【請求項７】
ＩｇＧ１である、請求項６記載の単離された抗体。
【請求項８】
Ｆａｂ又はｓｃＦｖ抗体断片である、請求項１乃至５の何れか１項記載の単離された抗原結合断片。
【請求項９】
ＣＤ３８のエピトープに特異的な単離された抗体又はその抗原結合断片であって、
（ａ）配列番号：１及び９、
（ｂ）配列番号：２及び１０、
（ｃ）配列番号：３及び１１、並びに
（ｄ）配列番号：４及び１２
から選択される核酸配列の対によりコードされる可変重鎖及び可変軽鎖の対を含む、上記抗体又はその抗原結合断片。
【請求項１０】
ＣＤ３８のエピトープに特異的な単離された抗体又はその抗原結合断片の可変重鎖及び可変軽鎖の対をコードする核酸配列の対であって、
（ａ）配列番号：１及び９、
（ｂ）配列番号：２及び１０、
（ｃ）配列番号：３及び１１、並びに
（ｄ）配列番号：４及び１２
から選択される、上記核酸配列の対。
【請求項１１】
請求項１０記載の核酸配列を含むベクター。
【請求項１２】
請求項１１記載のベクターを含む単離された細胞。
【請求項１３】
細胞が細菌の細胞である、請求項１２記載の単離された細胞。
【請求項１４】
細胞が哺乳類の細胞である、請求項１２記載の単離された細胞。
【請求項１５】
請求項１乃至９の何れか１項に記載の抗体又は抗原結合断片及びそのための薬学上受容可能な担体又は賦形剤を含む医薬組成物。
【請求項１６】
抗体が合成ヒト抗体である、請求項１乃至９の何れか１項に記載の抗体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月17日(2013.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本開示の活性化合物を含む経口製剤は、錠剤、カプセル剤、バッカル剤、トローチ剤及びロゼンジを含む、通常使用されているいずれの経口剤形を含んでもよい。カプセル剤は、薬学的に許容される澱粉（例えば、トウモロコシ、ジャガイモ又はタピオカ澱粉)、砂糖、人工甘味剤、結晶及び微結晶セルロースなどの粉末セルロース、小麦粉、ゼラチン、ガムなどの不活性充填剤及び／又は賦形剤と１つ又は複数の活性化合物との混合物を含むことができる。有用な錠剤製剤は、従来型圧縮法、湿式造粒法又は乾式造粒法によって作られ、そしてステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸、タルク、ラウリル硫酸ナトリウム、微結晶セルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アルギン酸、アカシアガム、キサンタンガム、クエン酸ナトリウム、複合珪酸塩、炭酸カルシウム、グリシン、デキストリン、蔗糖、ソルビトール、第二リン酸カルシウム、硫酸カルシウム、乳糖、カオリン、マンニトール、塩化ナトリウム、乾燥澱粉及び粉末砂糖を含む、薬学的に許容される賦形剤、結合剤、滑沢剤、崩壊剤、懸濁化又は安定化剤を使用してもよいが、それらに限定されない。本明細書に記載の経口製剤は、１つ又は複数の活性化合物の吸収を変えるために、標準的な徐放性又は持続放出製剤を用いてもよい。坐剤製剤は、坐剤の融点を変えるためにろうの添加有り／無しのカカオバター、及びグリセリンを含む、伝統的材料から作ることができる。種々の分子量のポリエチレングリコールなどの水溶性坐剤基剤を使用してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月2日(2013.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
摺動ピストン（５２）と第１の摺動軸受（５６）が配置された第１の軸受ハウジング（５１）と、連結ピン（５４）と第２の摺動軸受（５７）が配置された第２の軸受ハウジング（５３）とを含む、船舶用のフラップ舵（１００）のための連結装置（５０）において、
前記第１の軸受ハウジング（５１）及び前記第２の軸受ハウジング（５３）は、夫々、同一の直径（５１２，５１３，５３３，５３４，）又は同一の幅と高さを有しており、
前記摺動ピストン（５２）及び前記連結ピン（５４）は、夫々、同一の直径（５２２，５４２）を有しており、
前記第１の摺動軸受（５６）及び前記第２の摺動軸受（５７）は、夫々、同一の直径（５６１，５７１）又は同一の幅と高さを有しており、
前記第１の軸受ハウジング（５１）及び前記第２の軸受ハウジング（５３）は、夫々、同一の材料からなり、
前記摺動ピストン（５２）と前記連結ピン（５４）は、夫々、同一の材料からなり、
前記第１の摺動軸受（５６）及び前記第２の摺動軸受（５７）は、夫々、同一の材料からなり、
前記摺動ピストン（５２）及び前記連結ピン（５４）の直径の寸法が、作動中、前記摺動ピストン（５２）に作用する負荷を参考にして決定される
ことを特徴とする船舶用フラップ舵の連結装置。
【請求項２】
前記第１の摺動軸受（５６）及び/又は前記第２の摺動軸受（５７）が、軸受ブッシュとして構成されていることを特徴とする請求項１に記載の船舶用フラップ舵の連結装置。
【請求項３】
前記第１の摺動軸受（５６）及び/又は前記第２の摺動軸受（５７）が、固体の摩擦軸受として構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の船舶用フラップ舵の連結装置。
【請求項４】
前記第１の摺動軸受（５６）及び/又は前記第２の摺動軸受（５７）が、非金属材料からなっていることを特徴とする請求項１に記載の船舶用フラップ舵の連結装置。
【請求項５】
摺動ピストン（５２）と第１の摺動軸受（５６）が配置された第１の軸受ハウジング（５１）と、連結ピン（５４）と第２の摺動軸受（５７）が配置された第２の軸受ハウジング（５３）とを含み、
前記第１の軸受ハウジング（５１）及び前記第２の軸受ハウジング（５３）は、夫々、同一の直径（５１２，５１３，５３３，５３４，）又は同一の幅と高さを有しており、
前記摺動ピストン（５２）及び前記連結ピン（５４）は、夫々、同一の直径（５２２，５４２）を有しており、
前記第１の摺動軸受（５６）及び前記第２の摺動軸受（５７）は、夫々、同一の直径（５６１，５７１）又は同一の幅と高さを有しており、
前記第１の軸受ハウジング（５１）及び前記第２の軸受ハウジング（５３）は、夫々、同一の材料からなり、
前記摺動ピストン（５２）及び前記連結ピン（５４）は、夫々、同一の材料からなり、
前記第１の摺動軸受（５６）及び前記第２の摺動軸受（５７）は、夫々、同一の材料からなり、
前記摺動ピストン（５２）及び前記連結ピン（５４）の直径の寸法が、作動中、前記摺動ピストン（５２）に作用する負荷を参考にして決定される、船舶用のフラップ舵（１００）のための連結装置（５０）を製造するための方法において、
前記摺動ピストン（５２）及び前記連結ピン（５４）を製造するために、二つの部片を円柱状固体本体から分離し、
前記第１摺動軸受（５６）及び前記第２の摺動軸受（５７）を製造するために、中空円筒状軸受体から少なくとも一部片を分離し、
前記第１の軸受ハウジング（５１）及び第２の軸受ハウジング（５２）を製造するために、中空体から二つの部片を分離し、
前記一つの軸受部片又は複数の軸受部片を中空体部片の中へ夫々挿入して固定し、
前記固体部片を軸受体部片又は中空体部片の中へ夫々挿入し、いずれの場合においても、その挿入状態で固体本体部片の少なくとも一端領域が前記軸受体部片又は中空体部片から突出するように配置し、そして、前記二つの固体本体部片を少なくとも一つの端部領域で互いに連結する、ことを特徴とする船舶用のフラップ舵のための連結装置の製造方法。
【請求項６】
前記中空体部片の内周面に、軸受体部片を受け入れるための凹み（５１１，５３１）を夫々形成することを特徴とする請求項５に記載の船舶用のフラップ舵のための連結装置の製造方法。
【請求項７】
前記軸受体部片を熱膨張により前記中空体部片内に固定することを特徴とする請求項５又は６に記載の船舶用のフラップ舵のための連結装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月4日(2013.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーティングを施したプリントの色の調節方法であって、
未コーティングのプリントの反射スペクトルをスペクトル測定装置で測定して未コーティングの反射スペクトル測定値を求める工程と、
相関関数を用いて、未コーティングの反射スペクトル測定値に基づいて、コーティングプロセスでコーティングを施したときのプリントの反射スペクトルを、プロセッサを用いて推定する工程と、
プロセッサを用いて、コーティングを施したプリントの推定された反射スペクトルと、出力画像の所望の色に対応する基準反射スペクトルとの差を判定する工程と、
プロセッサを用いて、判定された反射スペクトルの差に基づいて、出力画像の所望の色を達成するように印刷プロセスの少なくとも１つのパラメータを調節する工程と、
を含み、
相関関数は、スペクトル空間における多次元変換であり、コーティングプロセスの前後の複数のカラーパッチの反射スペクトルの関数であり、
コーティングプロセスの前後の複数のカラーパッチの反射スペクトルは、波長域で測定される、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
相関関数は、
複数の未コーティングのカラーパッチの色を測定して該カラーパッチの反射スペクトルを求める工程と、
コーティングプロセスによってコーティングを施された後の複数のカラーパッチの色を測定して、複数のコーティングを施したカラーパッチの反射スペクトルを求める工程と、
求められた複数の未コーティングのカラーパッチの反射スペクトルと、求められた複数のコーティングを施したカラーパッチの反射スペクトルとに基づいて、コーティングを施したカラーパッチの色と未コーティングのカラーパッチの色との相関性を求める工程と、
によって決定される方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、
相関関数は、
として定義され、
式中、Ｓcは、コーティングを施したカラーパッチの反射スペクトルを表し、
Ｓpは、未コーティングのカラーパッチの反射スペクトルを表し、
Ｍ*は、スペクトル変換マトリックスである方法。
【請求項４】
コーティングを施したプリントの色の調節システムであって、
カラープリントを描画するように構成されたマーキング装置と、
未コーティングのプリントの反射スペクトルを測定して未コーティングの反射スペクトル測定値を求めるように構成されたセンサと、
（ｉ）相関関数を用いて、未コーティングの反射スペクトル測定値に基づいて、コーティングプロセスでコーティングを施したときのプリントの反射スペクトルを推定し、
（ｉｉ）コーティングを施したプリントの反射スペクトルと、出力画像の所望の色に対応する基準反射スペクトルとの差を判定し、
（ｉｉｉ）判定された反射スペクトルの差に基づいて、出力画像の所望の色を達成するように印刷プロセスの少なくとも１つのパラメータを調節するように構成されたプロセッサと、
を備え、
相関関数は、スペクトル空間における多次元変換であり、コーティングプロセスの前後の複数のカラーパッチの反射スペクトルの関数であり、
コーティングプロセスの前後の複数のカラーパッチの反射スペクトルは、波長域で測定されるシステム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、
さらに較正システムを備え、
較正システムは、
複数の未コーティングのカラーパッチの色を測定して該カラーパッチの反射スペクトルを求め、
コーティングプロセスによってコーティングを施された後のカラーパッチの色を測定して、複数のコーティングを施したカラーパッチの反射スペクトルを求めるように構成されたセンサと、
求められた複数の未コーティングのカラーパッチの反射スペクトルと、求められた複数のコーティングを施されたカラーパッチの反射スペクトルとに基づいて、コーティングを施したカラーパッチの色と未コーティングのカラーパッチの色との相関性を求めるように構成されたプロセッサと、
を備えるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月7日(2013.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７４】
ii.  前記発電層を形成した電極を色素溶液［濃度：０．３ｍＭ、溶媒：アセトニトリル／ｔ−ブタノール１／１（ｖ／ｖ）の混合溶媒］に４０℃で２時間、浸漬することで、色素を前記発電層の酸化チタン上に担持させアノード電極を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月28日(2012.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技用価値を用いて１ゲームに対して所定数の賭数を設定することによりゲームを開始させることが可能となり、各々が識別可能な複数種類の識別情報を変動表示させる可変表示装置に表示結果が導出されることにより１ゲームが終了し、該可変表示装置に導出された表示結果に応じて入賞が発生可能であるスロットマシンにおいて、
ゲーム毎に前記可変表示装置の表示結果が導出されるよりも前に、複数種類の入賞表示結果の導出を許容するか否かを決定する事前決定手段と、
前記識別情報の変動表示を停止させるために遊技者により操作される停止操作手段と、
前記事前決定手段の決定結果と前記停止操作手段の操作手順とに応じて前記可変表示装置に表示結果を導出させる手段であって、前記事前決定手段により所定の有利決定が行われていることを条件として所定の有利表示結果を導出させ、前記事前決定手段により所定の不利決定が行われていることを条件として前記有利表示結果とは異なる所定の不利表示結果を導出させる導出制御手段と、
所定の初期化条件が成立したときに、遊技者にとって有利な有利遊技状態にも該有利遊技状態よりも遊技者にとって不利な不利遊技状態にも移行可能な初期遊技状態に遊技状態を制御する初期遊技状態制御手段と、
前記初期遊技状態に制御されているときにおいて前記有利表示結果が導出されたときに、前記有利遊技状態に遊技状態を制御する有利遊技状態制御手段と、
前記初期遊技状態に制御されているときにおいて前記不利表示結果が導出されたときに、前記不利遊技状態に遊技状態を制御する不利遊技状態制御手段と、
前記初期遊技状態に制御されているときにおいて前記不利決定が行われたときに、該不利決定に基づく前記不利表示結果の導出を回避するための前記停止操作手段の操作手順である回避手順を報知する回避手順報知手段と、
予め定められた複数種類の回避決定確率のうちの何れかの回避決定確率を選択する回避決定確率選択手段と、
前記回避決定確率選択手段により選択された回避決定確率を適用し、該適用された回避決定確率で前記初期遊技状態において前記回避手順を報知する旨を決定する回避決定手段と、
前記有利遊技状態に制御されているときにおいて所定の決定条件が成立したときに、前記回避手順を報知する回避権利を付与するか否かを決定する回避権利決定手段と、
前記回避権利決定手段の決定により付与した回避権利を、当該特定権利が前記回避手順報知手段によって用いられるまで持ち越すことが可能な回避権利持越手段とを備え、
前記回避手順報知手段は、
前記初期遊技状態において前記不利決定が行われたときに、前記回避決定手段により前記回避手順を報知する旨が決定されているときには該回避決定手段の決定に基づいて前記回避手順を報知するとともに、
前記初期遊技状態において前記不利決定が行われたときに、前記回避決定手段により前記回避手順を報知する旨が決定されていないときには前記回避権利決定手段の決定により付与された回避権利が用いられたことに基づいて前記回避手順を報知し、
前記初期遊技状態において前記回避決定手段により前記回避手順を報知する旨が決定されていないときに、前記回避権利決定手段の決定により付与された回避権利を用い、該用いた回避権利に基づく報知終了条件が成立するまで前記不利決定が行われたときに前記回避手順を報知し、
前記回避権利決定手段は、前記回避決定手段の決定に適用されている回避決定確率に応じて異なる権利決定確率で、前記回避権利を付与する旨を決定する
ことを特徴とするスロットマシン。
【請求項２】
遊技用価値を用いて１ゲームに対して所定数の賭数を設定することによりゲームを開始させることが可能となり、各々が識別可能な複数種類の識別情報を変動表示させる可変表示装置に表示結果が導出されることにより１ゲームが終了し、該可変表示装置に導出された表示結果に応じて入賞が発生可能であるスロットマシンにおいて、
ゲーム毎に前記可変表示装置の表示結果が導出されるよりも前に、複数種類の入賞表示結果の導出を許容するか否かを決定する事前決定手段と、
前記識別情報の変動表示を停止させるために遊技者により操作される停止操作手段と、
前記事前決定手段の決定結果と前記停止操作手段の操作手順とに応じて前記可変表示装置に表示結果を導出させる手段であって、前記事前決定手段により所定の不利決定が行われていることを条件として所定の不利表示結果を導出させる導出制御手段と、
所定の有利化条件が成立したときに、遊技者にとって有利な有利遊技状態に遊技状態を制御する有利遊技状態制御手段と、
前記有利遊技状態に制御されているときにおいて前記不利表示結果が導出されたときに、前記不利遊技状態に遊技状態を制御する不利遊技状態制御手段と、
前記有利遊技状態に制御されているときにおいて前記不利決定が行われたときに、該不利決定に基づく前記不利表示結果の導出を回避するための前記停止操作手段の操作手順である回避手順を報知する回避手順報知手段と、
予め定められた複数種類の回避決定確率のうちの何れかの回避決定確率を選択する回避決定確率選択手段と、
前記回避決定確率選択手段により選択された回避決定確率を適用し、該適用された回避決定確率で前記有利遊技状態において前記回避手順を報知する旨を決定する回避決定手段と、
前記有利遊技状態に制御されているときにおいて所定の決定条件が成立したときに、前記回避手順を報知する回避権利を付与するか否かを決定する回避権利決定手段と、
前記回避権利決定手段の決定により付与した回避権利を、当該特定権利が前記回避手順報知手段によって用いられるまで持ち越すことが可能な回避権利持越手段とを備え、
前記回避手順報知手段は、
前記有利遊技状態において前記不利決定が行われたときに、前記回避決定手段により前記回避手順を報知する旨が決定されているときには該回避決定手段の決定に基づいて前記回避手順を報知するとともに、
前記有利遊技状態において前記不利決定が行われたときに、前記回避決定手段により前記回避手順を報知する旨が決定されていないときには前記回避権利決定手段の決定により付与された回避権利が用いられたことに基づいて前記回避手順を報知し、
前記有利遊技状態において前記回避決定手段により前記回避手順を報知する旨が決定されていないときに、前記回避権利決定手段の決定により付与された回避権利を用い、該用いた回避権利に基づく報知終了条件が成立するまで前記不利決定が行われたときに前記回避手順を報知し、
前記回避権利決定手段は、前記回避決定手段の決定に適用されている回避決定確率に応じて異なる権利決定確率で、前記回避権利を付与する旨を決定する
ことを特徴とするスロットマシン。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月7日(2013.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネット（５４）のボアの周りに位置決めされた複数の傾斜コイル（５０）並びにＲＦコイルアセンブリ（５６）にＲＦ信号を送信してＭＲ画像を収集するようにパルスモジュール（３８）により制御されたＲＦ送受信器システム（５８）及びＲＦスイッチ（６２）を有する磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システム（１０）と、
コンピュータ（２０）であって、
共鳴周波数で励起された複数の原子核に対して該共鳴周波数と異なる第１の周波数で第１のオフ共鳴無線周波数（ＲＦ）パルスを印加すること（１０４、１２０、１２６、１５４、１５６）、
第１のオフ共鳴ＲＦパルスの印加（１０４、１２０）後に複数の原子核から第１の信号を収集すること（１０６、１２２、１２８、１５４、１５６）、
前記第１の信号から第１のオフ共鳴ＲＦパルスに基づいた位相シフトを決定すること（１１２、１３０、１４８、１６０）、
基準スキャンに対する位相シフトに基づいてＢ１磁場を決定すること（１１４、１３２、１５０、１６０、１６０）、
コンピュータ読み取り可能記憶媒体（２６）上にＢ１磁場を保存すること、
を行うようにプログラムされたコンピュータ（２０）と、
を備える磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）装置。
【請求項２】
前記コンピュータ（２０）はさらに、
複数の原子核を共鳴周波数で励起するために第１のオフ共鳴ＲＦパルスの印加（１０４、１２０、１２６、１５４、１５６）前に複数の原子核に対して第１の共鳴性ＲＦパルスを印加すること（１０２、１１８、１２４、１５８）、
複数の原子核を共鳴周波数で励起するために複数の原子核に対して第２の共鳴性ＲＦパルスを印加すること（１１８、１２４）、
第２の共鳴性ＲＦパルスの印加（１１８、１２４）後に複数の原子核に対して、共鳴周波数及び第１の周波数と異なる第２の周波数にある第２のオフ共鳴ＲＦパルスを印加すること（１２０、１２６）、
第２のオフ共鳴ＲＦパルスの印加（１２６）後に複数の原子核から第２の信号を収集すること（１２２、１２８）、
を行うようにプログラムされていると共に、
前記コンピュータ（２０）は位相シフトを決定する（１３０、１４８）ようにプログラムされる際に、さらに第２のオフ共鳴ＲＦパルスに基づいた位相シフトを決定するために第１の信号と第２の信号の間の第１の位相差を決定する（１３０、１４８）ようにプログラムされている、
請求項１に記載のＭＲＩ装置。
【請求項３】
前記コンピュータ（２０）はさらに、
第１の共鳴性ＲＦパルス及び第１のオフ共鳴ＲＦパルス（１０４、１２０）の印加（１０２、１１８、１２４、１５８）を反復（１３８、１４４）しかつ第１の画像データ組が収集されるまで第１の信号の収集を反復すること、
第２の共鳴性ＲＦパルス及び第２のオフ共鳴ＲＦパルスの印加（１２０、１２６、１５４、１５６、１２０、１２６）を反復（１３８、１４４）しかつ第２の画像データ組が収集されるまで第２の信号の収集（１２２、１２８）を反復する（１３８、１４４）こと、
第１の位相差を成している第１と第２の画像データ組間の複数の空間依存性の位相差を決定すること（１４８）、
を行うようにプログラムされている、請求項２に記載のＭＲＩ装置。
【請求項４】
前記コンピュータ（２０）はさらに、
第１の信号の収集中に複数の原子核に空間エンコード傾斜（５０）を印加すること、
第２の信号の収集中に複数の原子核に空間エンコード傾斜（５０）を印加すること、
を行うようにプログラムされている、請求項２に記載のＭＲＩ装置。
【請求項５】
前記第１のオフ共鳴ＲＦパルス（１０２、１１８、１２４、１５８）はフェルミパルスでありかつ前記第２のオフ共鳴ＲＦパルス（１２０、１２６）はフェルミパルスである、請求項２に記載のＭＲＩ装置。
【請求項６】
前記第１の周波数及び第２の周波数は水の共振周波数の周りに実質的に対称性である、請求項２に記載のＭＲＩ装置。
【請求項７】
前記コンピュータ（２０）はさらに、
第１の位相差に基づいて第１のＢ１磁場マップを決定すること（１３２）、
ユーザに対して前記第１のＢ１磁場マップを表示すること（１１６）、
を行うようにプログラムされている、請求項２に記載のＭＲＩ装置。
【請求項８】
前記コンピュータ（２０）はさらに、
複数の原子核に対して共鳴周波数にある第３の共鳴性ＲＦパルスを印加すること（１５８）、
第３の共鳴性ＲＦパルスの印加後に複数の原子核から第３の信号を収集すること（１５８）、
第１、第２及び第３の信号に基づいて、第１のオフ共鳴ＲＦパルスの周波数中心点と第２のオフ共鳴ＲＦパルスの周波数中心点とが水の共振周波数の周りに非対称であるか否かを判定すること（１６２）、
前記判定に基づいてＢ０磁場を決定すること（１６２）、
を行うようにプログラムされている、請求項７に記載のＭＲＩ装置。
【請求項９】
第１の共鳴性ＲＦパルス及び第１のオフ共鳴ＲＦパルスの前記印加（１０２、１１８、１２４、１５８、１０４、１２０、１２６、１５４、１５６）は第１のスキャンの間に実施されており、かつ第２の共鳴性ＲＦパルス（１２４）及び第２のオフ共鳴ＲＦパルス（１２６）は第２のスキャンの間に発生している、請求項２に記載のＭＲＩ装置。
【請求項１０】
前記第１及び第２のスキャンが撮像スキャンである、請求項９に記載のＭＲＩ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月3日(2013.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の同軸で積み重ねられた積層を含むステータコア（５０５）であって、各積層が、外周縁部（４１５）に画定されている少なくとも１つの切欠きを含む複数の積層部分（２６０）を含み、各積層部分（２６０）の前記少なくとも１つの切欠きが、前記複数の積み重ねられた積層同士間で軸方向に整列して、前記外周縁部（４１５）に長手方向に延び前記ステータコア（５０５）の外周の周りで離間されている複数のキーバー溝を画定する、ステータコアと、
各キーバー（５１０）が前記複数のキーバー溝の各１つの中に配設される、複数のキーバー（５１０）と、
長手方向に離間されておりかつ前記ステータコア（５０５）の周りに配設されている少なくとも第１のコア支持リング（５２０ａ）および第２のコア支持リング（５２０ｂ）であって、前記複数のキーバー（５１０）の各々が第１のコア支持リング（５２０ａ）および第２のコア支持リング（５２０ｂ）の内縁部に取り付けられている、第１のコア支持リングおよび第２のコア支持リングと、
長手方向に離間されておりかつ前記ステータコア（５０５）および前記複数のキーバー（５１０）の周りに配設されている複数のコアリング圧縮バンド（５１５）であって、複数のコアリング圧縮バンド（５１５）の各々が、連結されて前記各コアリング圧縮バンド（２００）を形成する複数の半円形部分（２１０）から形成されており、前記複数のキーバー（５１０）の各々が、前記複数のコアリング圧縮バンド（２００）の内縁部に画定されている各切欠き（２４０）内に配設され、前記コアリング圧縮バンド（５１５）の各々が、前記ステータフレーム（５２５）と構造的に独立している、複数のコアリング圧縮バンドと、
前記第１のコア支持リング（５２０ａ）および前記第２のコア支持リング（５２０ｂ）が備え付けられているステータフレーム（５２５）と、
を備える、ステータ組立体（４００）。
【請求項２】
前記複数のコアリング圧縮バンド（２００）の各々が、前記複数の半円形部分（２１０）の少なくとも２つを調節可能に接続するように動作可能な少なくとも１つの調節可能なコネクタ（２２０）を含む、請求項１に記載のステータ組立体（４００）。
【請求項３】
前記複数のコアリング圧縮バンド（３００）の各々に関して、前記複数の半円形部分（３１０）の少なくとも２つは調節不能に連結されている、請求項１に記載のステータ組立体（４００）。
【請求項４】
前記複数のコアリング圧縮バンド（２００）の各々が、第１の半円形部分（２１０ａ）と、第２の半円形部分（２１０ｂ）と、第３の半円形部分（２１０ｃ）とを含み、前記第１の半円形部分（２１０ａ）は前記第２の半円形部分（２１０ｂ）に調節可能に連結されている、請求項１に記載のステータ組立体（４００）。
【請求項５】
前記第２の半円形部分（２１０ｂ）が、前記第３の半円形部分（２１０ｃ）に調節可能に連結されており、前記第３の半円形部分（２１０ｃ）が、前記第１の半円形部分（２１０ａ）に調節可能に連結されている、請求項４に記載のステータ組立体（４００）。
【請求項６】
前記複数のコアリング圧縮バンド（２００）の各々に画定されている前記複数の切欠き（２４０）の各々が、前記ステータコア（５０５）から延出している各キーバー（２５０）の横断面形状を少なくとも部分的に補完する形状に形成されている、請求項１に記載のステータ組立体（４００）。
【請求項７】
前記コアリング圧縮バンド（５１５）の各々が、前記複数のキーバー（５１０）に対して径方向内側の力を掛ける、請求項１に記載のステータ組立体（４００）。
【請求項８】
前記コアリング圧縮バンド（２００）の各々が、前記各コアリング圧縮バンド（２００）を形成する前記複数の半円形部分（２１０）の少なくとも２つを接続する少なくとも１つの調節可能なコネクタ（２２０）により調節可能であり、前記少なくとも１つの調節可能なコネクタ（２２０）を調節することにより、前記複数のキーバー（２５０）に対して掛かる前記径方向内側の力を調節する、請求項７に記載のステータ組立体（４００）。
【請求項９】
前記第１のコア支持リング（５２０ａ）および前記第２のコア支持リング（５２０ｂ）が、長手方向に延び前記第１のコア支持リング（５２０ａ）および前記第２のコア支持リング（５２０ｂ）に取り付けられている複数のスプリングバー（５３０）を介して前記ステータコア組立体に備え付けられている、請求項１に記載のステータ組立体（４００）。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月21日(2012.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸に周りに回転するように構成された一対の隣接したロータ・ホイール（３４）と、
隣接したロータ・ホイール（３４）のみによって機械的に支持される懸垂線状シール構造（４０）であって、隣接したロータ・ホイール（３４）間の容積（４６）を隣接したロータ・ホイール（３４）上を流れる高温流体（５２）から分離するように軸の周りに環状に配置された懸垂線状シール構造（４０）と、を備え、
懸垂線状シール構造（４０）は、隣接したロータ・ホイール（３４）と接合するように反対方向に延びる第１及び第２のアーム・セグメント（６０、６２）を有し、
第１及び第２のアーム・セグメント（６０、６２）は、容積（４６）内に延びる凸曲線状部分を形成する、
システム（１０）。
【請求項２】
第１及び第２のアーム・セグメント（６０、６２）は、隣接したロータ・ホイール（３４）のリム（６６）と接続するように構成された周方向の溝付き部分（６４）を備える請求項２に記載のシステム（１０）。
【請求項３】
懸垂線状シール構造（４０）は、静翼シール表面（５４）と接合するように構成されたシール・ラック（５６）を備える請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項４】
隣接したロータ・ホイール（３４）は、ガス・タービン・エンジン（１２）のシャフト（２６）に結合されている請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項５】
各隣接したロータ・ホイール（３４）は、ロータ・ホイール（３４）から半径方向（３５）に延びるタービン・ブレード（３２）を支持する複数の周方向に離間に配置された開口部を備えており、懸垂線状シール構造（４０）は、隣接したロータ・ホイール（３４）と、周方向に離間に配置された開口部と同じ半径方向位置において接合する請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項６】
タービン（２２）、燃焼器（２０）、圧縮機（１８）、またはそれらの組み合わせを備える請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項７】
懸垂線状シール構造（４０）は、第１及び第２のアーム・セグメント（６０、６２）に対してほぼ垂直に延びるウェブ（５８）と、ウェブ（５８）の第１及び第２のアーム・セグメント（６０、６２）とは反対方向の端に配置されたシール・ラック（５６）を備える請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項８】
軸の周りに環状に配置されるように構成された懸垂線状シール構造（４０）であって、軸の周りに回転するように構成された２つの隣接するロータ・ホイール（３４）によって機械的に支持されるように構成され、隣接したロータ・ホイール（３４）間の容積（４６）を隣接したロータ・ホイール（３４）上を流れる高温流体（５２）から分離するように構成された懸垂線状シール構造（４０）であって、懸垂線状シール構造（４０）は、隣接したロータ・ホイール（３４）と接合するように反対方向に延びる第１及び第２の曲線アーム・セグメント（６０、６２）と、第１及び第２の曲線アーム・セグメント（６０、６２）に対してほぼ垂直に延びるウェブ（５８）と、ウェブ（５８）の第１及び第２の曲線アーム・セグメント（６０、６２）とは反対方向の端に配置されたシール・ラック（５６）とを有する、懸垂線状シール構造（４０）と、
懸垂線状シール構造（４０）の対向する軸面上において軸の周りに環状に配置されるように構成された一対の接続用接合部（６４）であって、懸垂線状シール構造（４０）を２つの隣接したロータ・ホイール（３４）に取り付けて、懸垂線状シール構造の対向する軸面間における中間支持なしで懸垂線状シール構造（４０）を機械的に支持するように構成された接続用接合部（６４）と、を備えるシステム（１０）。
【請求項９】
懸垂線状シール構造（４０）に沿って離間に環状に配置され、対向する軸面間を延びるリブ（６８）を備える請求項８に記載のシステム（１０）。
【請求項１０】
第１及び第２の曲線アーム・セグメント（６０、６２）は、容積（４６）内に延びる凸曲線状部分を形成する、請求項８に記載のシステム（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月19日(2012.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テラヘルツ波を用いて物体を分析するための分析装置であって、
テラヘルツ波を発生させる発生部と、
テラヘルツ波を検出する検出部と、
前記発生部から発生したテラヘルツ波を前記物体における第１の位置に集光させる第１の光学部と、
前記物体からのテラヘルツ波を前記検出部の検出面に集光させる選択部と、を備え、
前記選択部は、前記物体からのテラヘルツ波を第２の位置に集光させる第２の光学部と、前記第２の位置に集光したテラヘルツ波を前記検出面上の第３の位置に集光させる第３の光学部と、を有し、
前記選択部は、前記第１の光学部よりも多くの焦点を持つことを特徴とする分析装置。
【請求項２】
前記検出部は、光伝導膜と、互いに間隙を有して該光伝導膜に設けられる電極対と、を有する光伝導素子であり、
前記第２の位置は、前記間隙で、且つ前記電極対が設けられる前記光伝導膜における面にあるように構成されることを特徴とする請求項１に記載の分析装置。
【請求項３】
テラヘルツ時間領域分光法により、前記検出部で検出したテラヘルツ波を用いて、前記物体における前記第１の位置で反射したテラヘルツ波の時間波形を取得する時間波形取得部を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の分析装置。
【請求項４】
前記検出部が前記テラヘルツ波を検出するタイミングを変更する遅延光学部と、
前記時間波形の時間領域に応じて前記遅延光学部を制御する制御部と、を備え、
前記時間領域は、前記検出部で検出されるテラヘルツ波の強度に応じて設定されることを特徴とする請求項３に記載の分析装置。
【請求項５】
前記第３の光学部と前記検出部との間に配置される開口部を備え、
前記開口部は、前記物体からのテラヘルツ波のうち、前記物体における前記第３の位置に集光するテラヘルツ波を選択的に透過するように配置されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る分析装置は、テラヘルツ波を用いて物体を分析するための分析装置であって、テラヘルツ波を発生させる発生部と、テラヘルツ波を検出する検出部と、前記発生部から発生したテラヘルツ波を前記物体における第１の位置に集光させる第１の光学部と、前記物体からのテラヘルツ波を前記検出部の検出面に集光させる選択部と、を備え、前記選択部は、前記物体からのテラヘルツ波を第２の位置に集光させる第２の光学部と、前記第２の位置に集光したテラヘルツ波を前記検出面上の第３の位置に集光させる第３の光学部と、を有し、前記選択部は、前記第１の光学部よりも多くの焦点を持つことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月29日(2013.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体層を有し、
前記酸化物半導体層と電気的に接続されたソース電極を有し、
前記酸化物半導体層と電気的に接続されたドレイン電極を有し、
前記酸化物半導体層は、ｃ軸が表面に対して垂直方向に沿うように配向された結晶領域を有し、
前記酸化物半導体層は、前記ソース電極と重なる第１の領域を有し、
前記酸化物半導体層は、前記ドレイン電極と重なる第２の領域を有し、
前記酸化物半導体層は、前記第１の領域と前記第２の領域との間に第３の領域を有し、
前記第３の領域は、前記第１の領域よりも多くの酸素を含み、
前記第３の領域は、前記第２の領域よりも多くの酸素を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ＩｎとＭ（Ｍは、Ｇａ、Ａｌ、Ｍｎ、又はＣｏ）とＺｎとを有する酸化物半導体層を有し、
前記酸化物半導体層と電気的に接続されたソース電極を有し、
前記酸化物半導体層と電気的に接続されたドレイン電極を有し、
前記酸化物半導体層は、ｃ軸が表面に対して垂直方向に沿うように配向された結晶領域を有し、
前記酸化物半導体層は、前記ソース電極と重なる第１の領域を有し、
前記酸化物半導体層は、前記ドレイン電極と重なる第２の領域を有し、
前記酸化物半導体層は、前記第１の領域と前記第２の領域との間に第３の領域を有し、
前記第３の領域は、前記第１の領域よりも多くの酸素を含み、
前記第３の領域は、前記第２の領域よりも多くの酸素を含むことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月16日(2013.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のトランジスタと、第２のトランジスタとを有し、
前記第１のトランジスタは、半導体層の上下に絶縁層を介して配置された第１のゲート及び第２のゲートを有し、
前記第２のトランジスタは、半導体層の上下に絶縁層を介して配置された第３のゲート及び第４のゲートを有し、
前記第１のゲートには、前記第１のトランジスタのスイッチングを制御するための第１の信号が入力され、
前記第３のゲートには、前記第２のトランジスタのスイッチングを制御するための第１の信号が入力され、
前記第２のゲートには、前記第１のトランジスタのしきい値電圧を制御するための第２の信号が入力され、
前記第４のゲートには、前記第２のトランジスタのしきい値電圧を制御するための第２の信号が入力され、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第１の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第２の配線と電気的に接続され、
前記第１のゲートは、第３の配線と電気的に接続され、
前記第３のゲートは、第４の配線と電気的に接続され、
前記第２のゲート、及び前記第４のゲートは、第５の配線と電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
第１のトランジスタと、第２のトランジスタとを有し、
前記第１のトランジスタは、酸化物半導体層の上下に絶縁層を介して配置された第１のゲート及び第２のゲートを有し、
前記第２のトランジスタは、酸化物半導体層の上下に絶縁層を介して配置された第３のゲート及び第４のゲートを有し、
前記第１のゲートには、前記第１のトランジスタのスイッチングを制御するための第１の信号が入力され、
前記第３のゲートには、前記第２のトランジスタのスイッチングを制御するための第１の信号が入力され、
前記第２のゲートには、前記第１のトランジスタのしきい値電圧を制御するための第２の信号が入力され、
前記第４のゲートには、前記第２のトランジスタのしきい値電圧を制御するための第２の信号が入力され、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第１の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第２の配線と電気的に接続され、
前記第１のゲートは、第３の配線と電気的に接続され、
前記第３のゲートは、第４の配線と電気的に接続され、
前記第２のゲート、及び前記第４のゲートは、第５の配線と電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月17日(2013.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第二のダイの上に積まれた第一のダイを備えており、各ダイは、活性面と基板を備えており、ダイ活性面は複数の段々接続によって連結されており、前記段々接続は前記第一および第二のダイの前記活性面の間にギャップを作り出し、
前記第一のダイの中に配置された、熱伝導材料で充てんされた基板貫通ビアと、
前記ギャップの内部に配置された第一の熱伝導層を備えている、三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項２】
前記熱伝導材料と前記第一の熱伝導層は前記第一および第二のダイよりも高い熱伝導率を有している請求項１の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項３】
前記熱伝導材料の熱伝導率は少なくとも１０Ｗ／ｍ／Ｋである、請求項１の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項４】
少なくとも一つのダイの端部に配置された第二の熱伝導層をさらに備えており、前記第二の熱伝導層は、前記ダイの間に配置された前記熱伝導材料に熱的に連結されている、請求項１の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項５】
前記第一の熱伝導層は、ダイヤモンド・マトリックスとダイヤモンド膜パターンのリストから選択されている、請求項１の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項６】
前記熱伝導材料は、少なくとも部分的にカーボン・ナノチューブで構成されている、請求項１の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項７】
前記第一のダイは前記第二のダイよりも周囲が大きい、請求項１の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項８】
前記第二のダイは、少なくとも二つのダイを備えており、前記二つのダイの少なくとも一つはさらに第二の熱伝導層を備えている、請求項１の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項９】
前記熱伝導材料はまた電気的伝導性または電気的絶縁性である、請求項１の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項１０】
第一のダイと第二のダイを備えており、おのおのは活性面と基板を備えており、
ダイ活性面を連結するための手段と、前記第一のダイと前記第二のダイの間にギャップを作り出す手段と、
前記第一のダイを通って延びているビアの中に配置された、熱を伝導するための手段と、
前記ギャップ内に配置された熱を伝導するための手段を備えている、三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項１１】
前記第二のダイの層内に配置された前記手段は、ダイヤモンド・マトリックスとダイヤモンド膜パターンのリストから選択されている、請求項１０に記載の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項１２】
前記第一のダイを通って延びているビアの中に配置された前記手段は、カーボン・ナノチューブで構成されている、請求項１０の三次元集積回路（ＩＣ）デバイス。
【請求項１３】
三次元集積回路（ＩＣ）デバイスを製造する方法であり、
活性面と基板を有している第一のダイを用意し、
前記第一のビアに貫通基板ビアを設け、前記貫通基板ビアを熱伝導材料で充てんし、
活性面と基板を有している第二のダイを用意し、
前記第一のダイの活性面と前記第二のダイの活性面を一緒に連結する複数の段々接続を設け、前記段々接続が前記第一および第二のダイの活性面の間にギャップを作り出し、
前記ギャップ内に熱伝導層を設ける、方法。