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【手続補正書】
【提出日】平成25年6月28日(2013.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地局装置の設置位置の周囲に形成されたエリアの内と外との間の移動を検出する検出部と、
前記検出部において移動を検出した場合、基地局装置がパケット信号を送信可能な路車送信期間と、路車送信期間以外の車車送信期間との時間分割多重によって形成されたフレームのうち、車車送信期間においてパケット信号を送信可能なエリア内での通信処理と、フレームの構成とは無関係にパケット信号を送信可能なエリア外での通信処理との間で通信処理を変更する通信部とを備え、
前記エリア内において処理されるパケット信号とエリア外において処理されるパケット信号とは同一フォーマットであり、
前記検出部は、エリア内からエリア外への移動を検出した場合、エリア内からエリア外へのエリアの変更をユーザが知るための信号を出力することを特徴とする無線装置。
【請求項２】
基地局装置の設置位置の周囲に形成されたエリアの内と外との間の移動を検出する検出部と、
前記検出部において移動を検出した場合、基地局装置がパケット信号を送信可能な路車送信期間と、路車送信期間以外の車車送信期間との時間分割多重によって形成されたフレームのうち、車車送信期間においてパケット信号を送信可能なエリア内での通信処理と、フレームの構成とは無関係にパケット信号を送信可能なエリア外での通信処理との間で通信処理を変更する通信部とを備え、
前記エリア内において処理されるパケット信号とエリア外において処理されるパケット信号とは同一フォーマットであり、
前記検出部は、エリア外からエリア内への移動を検出した場合、エリア外からエリア内へのエリアの変更をユーザが知るための信号を出力することを特徴とする無線装置。
【請求項３】
前記通信部における車車送信期間は、他の無線装置にパケット信号を送信可能な期間であることを特徴とする請求項１または２に記載の無線装置。
【請求項４】
前記通信部は、車車送信期間においてＣＳＭＡ／ＣＡによってパケット信号を送信可能なエリア内での通信処理と、フレームの構成とは無関係にＣＳＭＡ／ＣＡによってパケット信号を送信可能なエリア外での通信処理との間で通信処理を変更することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の無線装置。
【請求項５】
前記検出部からの信号をもとに、エリアの変更をユーザに通知する通知部をさらに備えることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の無線装置。
【請求項６】
前記通知部は、エリア内に存在する場合の通知の態様と、エリア外に存在する場合の通知の態様とを変えることによって、エリアの変更をユーザに通知することを特徴とする請求項５に記載の無線装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月23日(2013.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影機を用いて画像又は映像のコンテンツ（画像コンテンツという）を、スクリーンに投影する投影方法において、
ある場所に配置された投影機から二次元の第１画像コンテンツを、スクリーンとなる対象物に投影するステップと、
該投影機の配置された場所と同じ場所に配置されたカメラを用いて、該第１画像コンテンツが投影された該対象物を撮影して、二次元の画像コンテンツ（第２画像コンテンツという）を取得するステップと、
該第２画像コンテンツの座標と該第１画像コンテンツの座標とを比較することにより座標のずれ量の差分を算出し、該第１画像コンテンツの元の座標を該差分に応じて変化させて、該第２画像コンテンツに含まれる歪みを補正した第３画像コンテンツを求めるステップと、
該第３画像コンテンツを記憶手段に格納するステップと、
該記憶手段に記憶された該第３画像コンテンツに対する補正時に得た歪み補正情報を使用して、予め用意された第４画像コンテンツを補正し、補正された該第４画像コンテンツを該対象物に投影する
ことを特徴とする投影方法。
【請求項２】
前記第１画像コンテンツとして、平面上の座標が定義されたます目状の画像コンテンツを、ある場所に配置された投影機から該対象物に投影し、
該ます目状画像コンテンツの全ての座標について、前記差分を算出することを特徴とする請求項１に記載の投影方法。
【請求項３】
異なる別の場所に設置された複数の投影機から、前記補正された第４画像コンテンツを前記対象物に投影して、該対象物上に該第４画像コンテンツの合成した画像コンテンツを形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の投影方法。
【請求項４】
投影機を用いて画像又は映像のコンテンツ（画像コンテンツという）を、スクリーンに投影する投影方法において、
ある場所に配置された投影機から第１画像コンテンツを、スクリーンとなる対象物に投影するステップと、
該投影機の配置された場所とは異なる複数の場所（別の場所という）に配置されたカメラで、該第１画像コンテンツが投影された該対象物を撮影して、複数の二次元の画像コンテンツ（第２画像コンテンツという）を取得するステップと、
該各々の該第２画像コンテンツの座標と該第１画像コンテンツの座標とを比較することにより座標のずれ量の差分を算出し、該第１画像コンテンツの元の座標を該差分に応じて変化させて、該各第２画像コンテンツに含まれる歪みを補正した、複数の第３画像コンテンツを求めるステップと、
複数の各該第３画像コンテンツを記憶手段に格納するステップと、
該記憶手段に記憶された各該第３画像コンテンツに対する補正時に得た歪み補正情報を使用して、予め用意された複数の第４画像コンテンツを補正し、補正された各該第４画像コンテンツを、前記複数の場所に設置された各投影機から該対象物に投影する
ことを特徴とする投影方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月25日(2013.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
特許文献１（実公平７−２９６１号公報）には、主駆動クランク軸４２の偏心軸４４を回転自在に支承する軸受４６にグリスを補給する手段が開示されている。このグリス補給手段は、図１に示すように、偏心軸４４に取り付けられたバランスウェイト４８の外周面と偏心軸４４の軸端とに開口する給油用通路６０を穿設している。そして、給油用通路６０の偏心軸端側開口を、旋回スクロール体２０に取り付けられたベアリングプレート２６に対面させ、偏心軸端とベアリングプレート２６との間に設けられた隙間ｃを介して軸受４６に連通させている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【特許文献１】実公平７−２９６１号公報
【特許文献２】特開２００２−２２７７７９号公報
【特許文献３】特開２００５−２８２４９６号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
従動クランク軸５２は、ハウジング４０に支承された第１転がり軸受５４によって回転自在に軸支されている。従動クランク軸５２と一体の偏心軸５２ａは、第２転がり軸受５６によって回転自在に軸支され、第２転がり軸受５６は、ベアリングプレート２６と一体のベアリングケース５８に収容されている。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月25日(2013.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向に推力を発生する押圧部材と、回転力を直動運動に変換して前記押圧部材を推進するボールアンドランプ機構とを有する推力発生装置において、
前記ボールアンドランプ機構は、周方向に沿って傾斜し、径方向断面が弧状で形成された傾斜溝を複数有する一対のランプ部材と、
各ランプ部材の傾斜溝間に介装され、前記一対のランプ部材のうち一方のランプ部材から他方のランプ部材に力を伝達する転動部材と、を有し、
前記傾斜溝は、前記転動部材が当接する軌跡の範囲を有しており、該軌跡の範囲内で、前記傾斜溝は、前記転動部材との接触面積が変化する部位を有することを特徴とする推力発生装置。
【請求項２】
前記傾斜溝は、前記軌跡の範囲内で、径方向断面の曲率半径が異なる部位を有することを特徴とする請求項１に記載の推力発生装置。
【請求項３】
前記傾斜溝は、前記転動部材による伝達の力が小さい部位の径方向断面の曲率半径よりも、前記転動部材による伝達の力が大きい部位の径方向断面の曲率半径が小さくなっていることを特徴とする請求項１または２に記載の推力発生装置。
【請求項４】
前記傾斜溝の径方向断面の曲率半径は、全体的または部分的に前記転動部材が当接する前記軌跡において、前記転動部材による伝達の力が小さい部位から大きい部位へ向かうにしたがって一定の割合で小さくなっていくように形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の推力発生装置。
【請求項５】
前記傾斜溝は、各ランプ部材間に介装された転動部材が当接する軌跡に沿って、伝達力の小さい部位から大きい部位へ変化するように形成され、
前記ボールアンドランプ機構に回転力が加えられたときに前記一方のランプ部材の回動により前記転動部材が伝達力の小さい部位から大きい部位に移動し、かつ、前記一方のランプ部材の回動に伴う前記傾斜溝における前記転動部材が当接する軌跡範囲の通過頻度が、伝達力の大きい部位よりも伝達力の小さい部位の方が多くなっていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の推力発生装置。
【請求項６】
前記傾斜溝の径方向断面の曲率半径は、前記一方のランプ部材の回動に伴う前記軌跡範囲の通過頻度が少ない部位の径方向断面の曲率半径を大きく形成することを特徴とする請求項１または２に記載の推力発生装置。
【請求項７】
前記傾斜溝は、前記軌跡の伝達力が小さい部位と大きい部位との間で傾斜角度が変化する点を有し、該変化する点の部位の曲率半径が他の部位の曲率半径よりも小さくなるように形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の推力発生装置。
【請求項８】
前記傾斜溝は、前記伝達力が小さい部位における前記転動部材との接触面積よりも、前記伝達力が大きい部位における前記転動部材との接触面積が大きくなっていることを特徴とする請求項１に記載の推力発生装置。
【請求項９】
ディスクへブレーキパッドを押圧するディスクブレーキのキャリパ内に、請求項１乃至８のいずれかに記載の推力発生装置を備えたことを特徴とするディスクブレーキ。
【請求項１０】
トーションバーからなり一対の軸状体の間に、請求項１乃至８のいずれかに記載の推力発生装置を備えたことを特徴とするスタビライザ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】推力発生装置、ディスクブレーキ及びスタビライザ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するための手段として、本発明の推力発生装置は、軸方向に推力を発生する押圧部材と、回転力を直動運動に変換して前記押圧部材を推進するボールアンドランプ機構とを有する推力発生装置において、前記ボールアンドランプ機構は、周方向に沿って傾斜し、径方向断面が弧状で形成された傾斜溝を複数有する一対のランプ部材と、各ランプ部材の傾斜溝間に介装され、前記一対のランプ部材のうち一方のランプ部材から他方のランプ部材に力を伝達する転動部材と、を有し、前記傾斜溝は、前記転動部材が当接する軌跡の範囲を有しており、該軌跡の範囲内で、前記傾斜溝は、前記転動部材との接触面積が変化する部位を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
次に、図６に示す電動ディスクブレーキ１５の作動について説明する。
制動時には、運転者のブレーキ操作に基づいてコントローラ（図示せず）から電動モータ２９に制御電流を供給してロータ３０を制動方向に回転させる。
次に、ロータ３０の回転は、差動減速機構２６によって所定の減速比で減速され、ボールアンドランプ機構３ｂによって直線運動に変換されてピストン２５を前進させる。
次に、ピストン２５の前進によって、一方のブレーキパッド１８がディスクロータ１６に押圧され、その反力によってキャリパ本体２０が移動して、爪部２２が他方のブレーキパッド１９をディスクロータ１６に押圧して制動力を発生させる。
なお、ブレーキパッド１８、１９の摩耗に対しては、パッド摩耗補償機構２７の調整スクリュ３１が前進してボールアンドランプ機構３ｂを摩耗に追従させることによって補償する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月25日(2013.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリパのシリンダ内に設けられ、ディスクへブレーキパッドを押圧する押圧部材と、前記シリンダ内に設けられ、電動モータからの回転力を回転直動変換機構により直動運動に変換して前記押圧部材を推進して、該推進した前記押圧部材を駐車制動位置に保持させる駐車ブレーキ機構と、を有するディスクブレーキにおいて、
前記回転直動変換機構は、
前記電動モータからの回転力によって前記キャリパに対して回動して、傾斜溝により直動運動の推力を発生させる回動部材と、
該回動部材で発生した直動運動の推力を転動体を介して前記押圧部材または前記シリンダに前記直動運動の推力を伝達する非回動部材と、を有し、
前記回動部材または前記非回動部材には、前記押圧部材が推力の異なる複数の駐車制動位置のいずれかにあっても前記電動モータからの回転力が負荷されないとき、前記転動体と嵌合して前記回動部材の制動解除方向への回動を阻止する保持凹部が前記回動部材の回動方向に複数形成されていることを特徴とするディスクブレーキ。
【請求項２】
前記回動部材には第１の傾斜溝が、前記非回動部材には第２の傾斜溝がそれぞれ形成され、
前記回動部材または前記非回動部材のいずれか一方が前記回動部材の回動により直動運動するように構成され、
前記保持凹部は、前記回動部材の第１の傾斜溝または前記非回動部材の第２の傾斜溝の少なくとも一方に形成されることを特徴とする請求項１に記載のディスクブレーキ。
【請求項３】
前記非回動部材は、前記回動部材と前記シリンダとの間に設けられる固定部材であり、該固定部材と前記回動部材との対向面にそれぞれ設けられる前記傾斜溝に前記保持凹部が形成されることを特徴とする請求項１または２に記載のディスクブレーキ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月16日(2013.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
前記クランクシャフト１２および前記カムシャフト１９間には、クランクシャフト１２の回転動力を１／２の減速比でカムシャフト１９側に伝達する調時伝動機構２２が設けられており、この調時伝動機構２２は、前記クランクシャフト１２に固定される駆動スプロケット２３と、前記カムシャフト１９の一端部に固定される被動スプロケット２４と、駆動スプロケット２３および被動スプロケット２４に巻き掛けられる無端状のカムチェーン２５とで構成される。また前記クランクケース１３、前記シリンダブロック１４Ａおよび前記シリンダヘッド１５には、前記カムチェーン２５を走行させるチェーン通路２６が設けられ、前記クランクシャフト１２の回転に応じて前記カムチェーン２５は矢印で示す走行方向２７に走行する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
本発明の第３の実施の形態について図７を参照しながら説明するが、第１の実施の形態および第２の実施の形態に対応する部分には同一の参照符号を付して図示するのみとし、詳細な説明は省略する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2012077822.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2012077822.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2012077822.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月7日(2013.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
空温式液化ガス気化器(1)の蒸発部(2)において、前後方向に隣り合う蒸発ユニット(3)どうしの間の部分、および前後両端の蒸発ユニット(3)の前後方向外側の部分における上マニホールド管(6)よりも若干下方の高さ位置に、それぞれ左右方向にのびかつ左端が上マニホールド管(6)の左端よりも左方に至る散水管(16)が配置されている。図３に示すように、前後両端の散水管(16)を除いた他の散水管(16)の管壁には、前後両側の蒸発ユニット(3)における各フィン付き管(8)の１つのアウターフィン(8a)の上部に解霜・解氷用水を吐出する複数の水吐出口(17)が、左右方向に間隔をおくとともに斜め下方を向くように形成されている。また、前後両端の散水管(16)の散水管(16)の管壁には、前後両端の蒸発ユニット(3)における各フィン付き管(8)の１つのアウターフィン(8a)の上部に解霜・解氷用水を吐出する複数の水吐出口(17)が、左右方向に間隔をおくとともに斜め下方を向くように形成されている。散水管(16)の各水吐出口(17)は、フィン付き管のアウターフィン(8a)に、解霜・解氷用水の１筋の水流を当てるようになされている。解霜・解氷用水の１筋の水流は、フィン付き管のアウターフィン(8a)の上端から３ｃｍ以上下側の部分に当たるようになされていることが好ましい。なお、解霜・解氷用水の１筋の水流が当たる部分の下限は、フィン付き管のアウターフィン(8a)の上端から１０ｃｍ程度である。したがって、全蒸発ユニット(3)の各フィン付き管のアウターフィン(8a)には、前後両側の散水管(16)の２つの水吐出口(17)から吐出される水流が当たるようになっている。なお、蒸発ユニット(3)の各フィン付き管のアウターフィン(8a)には、前後いずれか一方の散水管(16)の１つの水吐出口(17)から吐出される水流が当たるようになっていてもよい。この場合、水流からフィン付き管のアウターフィン(8a)に伝わる熱量が、２つの水吐出口(17)から吐出される場合と均等になるように、１つの水吐出口(17)から吐出される水量と、２つの水吐出口(17)から吐出される水量を均等にすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月9日(2013.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成長用下地基板上に、クロム層を形成する成膜工程と、
該クロム層を、所定の条件で窒化することによりクロム窒化物層とする窒化工程と、
該クロム窒化物層上に、少なくとも１層のIII族窒化物半導体層をエピタキシャル成長させる結晶層成長工程と
を具えるIII族窒化物半導体素子製造用基板の製造方法であって、
前記クロム層は、スパッタリング法により、スパッタリング粒子飛程領域における成膜速度が７〜65Å/秒の範囲で、厚さが50〜300Åの範囲となるよう成膜され、
前記クロム窒化物層は、炉内圧力6.666kPa以上66.66kPa以下の、温度1000℃以上のMOCVD成長炉内において、アンモニアガスを含むガス雰囲気中で形成され、前記ガス雰囲気中のアンモニアガス以外のガス成分は、窒素ガスおよび水素ガスからなるキャリアガスとし、該キャリアガスに占める窒素ガスの含有比率は60〜100体積％の範囲であることを特徴とするIII族窒化物半導体素子製造用基板の製造方法。
【請求項２】
前記クロム窒化物層表面の窒化クロム微結晶のうち、略三角錐形状を有する窒化クロム微結晶の占める面積比率が、70％以上である請求項１に記載のIII族窒化物半導体素子製造用基板の製造方法。
【請求項３】
前記クロム層は、複数の成長用下地基板上に、それぞれ平均成膜速度が１〜10Å/秒の範囲となるよう間欠的に成膜される請求項１または２に記載のIII族窒化物半導体素子製造用基板の製造方法。
【請求項４】
前記略三角錐形状の窒化クロム微結晶の底辺の方位が、前記III族窒化物半導体層の<11-20>方向(a軸方向)群に平行である請求項１、２または３に記載のIII族窒化物半導体素子製造用基板の製造方法。
【請求項５】
前記成長用下地基板は、六方晶系または擬似六方晶系の結晶構造を有し、表面が(0001)面である請求項１〜４のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体素子製造用基板の製造方法。
【請求項６】
成長用下地基板上に、クロム層を形成する成膜工程と、
該クロム層を、所定の条件で窒化することによりクロム窒化物層とする窒化工程と、
該クロム窒化物層上に、少なくとも１層のIII族窒化物半導体層をエピタキシャル成長させる結晶層成長工程と、
前記クロム窒化物層をケミカルエッチングで除去することにより、前記成長用下地基板と前記III族窒化物半導体とを分離させる分離工程と
を具えるIII族窒化物半導体自立基板またはIII族窒化物半導体素子の製造方法であって、
前記クロム層は、スパッタリング法により、スパッタリング粒子飛程領域における成膜速度が７〜65Å／秒の範囲で、厚さが50〜300Åの範囲となるよう成膜され、
前記クロム窒化物層は、炉内圧力6.666kPa以上66.66kPa以下の、温度1000℃以上のMOCVD成長炉内において、アンモニアガスを含むガス雰囲気中で形成され、前記ガス雰囲気中のアンモニアガス以外のガス成分は、窒素ガスおよび水素ガスからなるキャリアガスとし、該キャリアガスに占める窒素ガスの含有比率は60〜100体積％の範囲であることを特徴とするIII族窒化物半導体自立基板またはIII族窒化物半導体素子の製造方法。
【請求項７】
前記クロム窒化物層表面の窒化クロム微結晶のうち、略三角錐形状を有する窒化クロム微結晶の占める面積比率が、70％以上であることを特徴とする、請求項６に記載のIII族窒化物半導体自立基板またはIII族窒化物半導体素子の製造方法。
【請求項８】
前記クロム層は、複数の成長用下地基板上に、それぞれ平均成膜速度が１〜10Å/秒の範囲となるよう間欠的に成膜される請求項６または７に記載のIII族窒化物半導体自立基板またはIII族窒化物半導体素子の製造方法。
【請求項９】
前記略三角錐形状の窒化クロム微結晶の底辺の方位が、前記III族窒化物半導体層の<11-20>方向(a軸方向)群に平行である請求項６、７または８に記載のIII族窒化物半導体自立基板またはIII族窒化物半導体素子の製造方法。
【請求項１０】
前記成長用下地基板は、六方晶系または擬似六方晶系の結晶構造を有し、表面が(0001)面である請求項６〜９のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体自立基板またはIII族窒化物半導体素子の製造方法。
【請求項１１】
基板と、該基板上のクロム窒化物層とを有するIII族窒化物成長用基板であって、
前記クロム窒化物層は、スパッタリング法により、スパッタリング粒子飛程領域における成膜速度が７〜65Å/秒の範囲で、厚さが50〜300Åの範囲となるよう前記基板上に成膜されたクロム層を、炉内圧力6.666kPa以上66.66kPa以下の、温度1000℃以上のMOCVD成長炉内において、アンモニアガスを含むガス雰囲気中で窒化処理してなり、
前記ガス雰囲気中のアンモニアガス以外のガス成分は、窒素ガスおよび水素ガスからなるキャリアガスであり、該キャリアガスに占める窒素ガスの含有比率は60〜100体積％の範囲であり、
前記クロム窒化物層表面の窒化クロム微結晶のうち、略三角錐形状を有する窒化クロム微結晶の占める面積比率が、70％以上であることを特徴とするIII族窒化物成長用基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（１１）基板と、該基板上のクロム窒化物層とを有するIII族窒化物成長用基板であって、前記クロム窒化物層は、スパッタリング法により、スパッタリング粒子飛程領域における成膜速度が７〜65Å/秒の範囲で、厚さが50〜300Åの範囲となるよう前記基板上に成膜されたクロム層を、炉内圧力6.666kPa以上66.66kPa以下の、温度1000℃以上のMOCVD成長炉内において、アンモニアガスを含むガス雰囲気中で窒化処理してなり、前記ガス雰囲気中のアンモニアガス以外のガス成分は、窒素ガスおよび水素ガスからなるキャリアガスであり、該キャリアガスに占める窒素ガスの含有比率は60〜100体積％の範囲であり、前記クロム窒化物層表面の窒化クロム微結晶のうち、略三角錐形状を有する窒化クロム微結晶の占める面積比率が、70％以上であることを特徴とするIII族窒化物成長用基板。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月13日(2013.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
支持フィルム２１の主面２１ｂ及び接着フィルム２２の主面２２ｂは、支持フィルム２１及び接着フィルム２２を指などで選択的に撮むことが可能な程度に露出していると好ましい。具体的には、接着フィルム２２の端面２２ａ及び保護フィルム２３の端面２３ａ間の距離Ｄ１が好ましくは１〜１００ｍｍ、より好ましくは５〜８０ｍｍ、更に好ましくは１０〜５０ｍｍとなるように露出していると好ましい。また、支持フィルム２１の端面２１ａ及び接着フィルム２２の端面２２ａ間の距離Ｄ２が好ましくは１０〜２００ｃｍ、より好ましくは５０〜１５０ｃｍとなるように露出していると好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月22日(2013.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼板表面にフォルステライト被膜および張力コーティングをそなえ、かつ該鋼板表面に磁区細分化用の線状溝を有する方向性電磁鋼板であって、
該線状溝の直下に、ゴス方位から10°以上の方位差で、かつ粒径が５μm以上の結晶粒が存在している線状溝の比率が20％以下で、
二次再結晶粒の平均β角が2.0°以下で、かつ粒径が10mm以上の二次再結晶粒内のβ角変動幅平均値が１〜４°の範囲であることを特徴とする方向性電磁鋼板。  
【請求項２】
方向性電磁鋼板用スラブを、熱間圧延し、熱延板焼鈍を施したのち、または熱延板焼鈍を施さずに、１回または中間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施して、最終板厚に仕上げ、ついで脱炭焼鈍を施し、鋼板表面にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布してから、最終仕上げ焼鈍を行ったのち、張力コーティングを施す方向性電磁鋼板の製造方法において、
(1)  フォルステライト被膜が形成される上記最終仕上げ焼鈍前に、電解エッチング法により、鋼板の幅方向に線状溝を形成する、
(2)  上記熱延板焼鈍時の冷却過程において、少なくとも750〜350℃の温度域の平均冷却速度を40℃/s以上とする、
(3)  上記脱炭焼鈍の昇温過程において、少なくとも500〜700℃の温度域の平均昇温速度を50℃/s以上とする、
(4)  上記最終仕上げ焼鈍をコイル状で行い、該コイルの径を500〜1500mmの範囲とすることを特徴とする方向性電磁鋼板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
２．方向性電磁鋼板用スラブを、熱間圧延し、熱延板焼鈍を施したのち、または熱延板焼鈍を施さずに、１回または中間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施して、最終板厚に仕上げ、ついで脱炭焼鈍を施し、鋼板表面にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布してから、最終仕上げ焼鈍を行ったのち、張力コーティングを施す方向性電磁鋼板の製造方法において、
(1)  フォルステライト被膜が形成される上記最終仕上げ焼鈍前に、電解エッチング法により、鋼板の幅方向に線状溝を形成する、
(2)  上記熱延板焼鈍時の冷却過程において、少なくとも750〜350℃の温度域の平均冷却速度を40℃/s以上とする、
(3)  上記脱炭焼鈍の昇温過程において、少なくとも500〜700℃の温度域の平均昇温速度を50℃/s以上とする、
(4)  上記最終仕上げ焼鈍をコイル状で行い、該コイルの径を500〜1500mmの範囲とすることを特徴とする方向性電磁鋼板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月5日(2013.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
該象牙細管封鎖剤で厚さ７００μｍの牛歯ディスクの片面を処置した際の象牙質透過抑制率が下記式（Ｉ）を満たす請求項１〜３のいずれか記載の象牙細管封鎖剤。
［１−（象牙細管を封鎖した牛歯ディスクの透過量）／（象牙細管の封鎖を行っていない牛歯ディスクの透過量）］×１００≧７０・・・（Ｉ）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
該象牙細管封鎖剤で厚さ７００μｍの牛歯ディスクの片面を処置した際の象牙質透過抑制率が下記式（Ｉ）を満たすことも好適である。
［１−（象牙細管を封鎖した牛歯ディスクの透過量）／（象牙細管の封鎖を行っていない牛歯ディスクの透過量）］×１００≧７０・・・（Ｉ）
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月5日(2013.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
Ｅ＝（４×Ｓ×Ｍ×（読み値）×Ｃ）／（ｂ×ｈ３×１００×φ）
Ｓ：支点間距離（ｃｍ）＝２ｃｍ
ｂ：試料幅（ｃｍ）＝２．５ｃｍ
ｈ：試料厚さ（ｃｍ）＝０．２２ｃｍ
Ｍ：荷重（Ｌｂ）＝２Ｌｂｓ
φ：荷重目盛読み取り角度（ｒａｄ）＝０．１０４７ｒａｄ
Ｃ：定数＝２．３
定数Ｃは、単位を換算してモーメント値に補正するための数値である。
ｎ＝３で行い、試料３個の平均値を測定値の１桁下でＪＩＳ  Ｚ  ８４０１に準じて統一した。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月17日(2013.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラジエータファンの全周を覆って通過風を車両後方に案内する円筒部とこの円筒部の径方向外側に拡がってラジエータの後部に取り付けられる縦壁部とを有するファンシュラウドを設け、前記円筒部の上側かつ前記縦壁部の後部にエンジンの冷却水を貯留するリザーバタンクを取り付け、このリザーバタンクからオーバーフローした冷却水を外部に排出する排出口を前記リザーバタンクの上部に備えた車両用リザーバタンクの冷却水排出装置において、前記排出口から前記縦壁部側に延びた後、前記縦壁部に沿って鉛直方向に延びる凹溝を、前記リザーバタンクの上面と前面とにわたって形成したことを特徴とする車両用リザーバタンクの冷却水排出装置。
【請求項２】
前記リザーバタンクの底面は前記円筒部に対して所定の隙間を隔てた状態で対向して配置され、前記円筒部には前記リザーバタンクの底面側に突出して冷却水を前記円筒部の周方向に導く遮蔽壁を形成したことを特徴とする請求項１に記載の車両用リザーバタンクの冷却水排出装置。
【請求項３】
前記ファンシュラウドに前記リザーバタンクを取り付ける取付部を形成し、この取付部を前記遮蔽壁に連結したことを特徴とする請求項２に記載の車両用リザーバタンクの冷却水排出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明は、ラジエータファンの全周を覆って通過風を車両後方に案内する円筒部とこの円筒部の径方向外側に拡がってラジエータの後部に取り付けられる縦壁部とを有するファンシュラウドを設け、前記円筒部の上側かつ前記縦壁部の後部にエンジンの冷却水を貯留するリザーバタンクを取り付け、このリザーバタンクからオーバーフローした冷却水を外部に排出する排出口を前記リザーバタンクの上部に備えた車両用リザーバタンクの冷却水排出装置において、前記排出口から前記縦壁部側に延びた後、前記縦壁部に沿って鉛直方向に延びる凹溝を、前記リザーバタンクの上面と前面とにわたって形成したことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
更に、図１、図２、図５に示すように、ファンシュラウド５には、リザーバタンク９を取り付ける取付部１７を形成し、そして、この取付部１７を遮蔽壁１６に連結する。
このような構造では、取付部１７によって遮蔽壁１６の剛性を高めることができ、車両の振動による遮蔽壁１６の変形や撓みを抑制できる。
これによって、リザーバタンク９と円筒部７の間を遮蔽壁１６によって気密にでき、遮蔽壁１６で冷却水がラジエータファン６側に流れ出るのを確実に防止できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
１  ラジエータ 
５  ファンシュラウド 
６  ラジエータファン 
７  円筒部 
８  縦壁部 
９  リザーバタンク 
１０  冷却水排出装置 
１１  リザーバタンクの排出口 
１２  リザーバタンクの凹溝 
１３  リザーバタンクの上面 
１４  リザーバタンクの前面 
１５  リザーバタンクの底面 
１６  遮蔽壁 
１７  リザーバタンクの取付部 
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2012077733.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月5日(2013.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被固定物を設置面に固定するためのベースプレートであって、
上面に前記被固定物を取り付けるための取付部を有する板状の台座と、
固定用ボルトにより前記設置面に締結されるボルト締結部を有し、前記台座の側面に着脱可能に設けられる固定ピースとを備えること特徴とするベースプレート。
【請求項２】
請求項１に記載のベースプレートにおいて、
前記台座の側面には、被嵌合部が設けられ、
前記固定ピースの端部には、前記被嵌合部に着脱可能に嵌合する嵌合部が設けられていることを特徴とするベースプレート。
【請求項３】
請求項２に記載のベースプレートにおいて、
前記被嵌合部および前記嵌合部のいずれか一方は、凹状に形成された凹部であり、前記被嵌合部および前記嵌合部のいずれか他方は、前記凹部に嵌合するように凸状に形成された凸部であることを特徴とするベースプレート。
【請求項４】
請求項３に記載のベースプレートにおいて、
前記凹部は、前記台座の幅方向または長さ方向に沿って形成され、
前記台座の底面には、前記台座の幅方向または長さ方向に沿って、かつ、前記凹部に連通して溝部が設けられていることを特徴とするベースプレート。
【請求項５】
請求項３または４に記載のベースプレートにおいて、
前記凸部または前記凹部の表面に突起が設けられていることを特徴とするベースプレート。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれか１項に記載のベースプレートにおいて、
前記凸部は、弾性変形可能な板ばねを有することを特徴とするベースプレート。
【請求項７】
請求項２〜６のいずれか１項に記載のベースプレートにおいて、
前記台座の互いに異なる側面に、それぞれ前記被嵌合部が設けられていることを特徴とするベースプレート。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のベースプレートにおいて、
前記固定ピースの底面の前記設置面からの高さは、前記台座の底面の前記設置面からの高さより０．１〜１ｍｍ高いことを特徴とするベースプレート。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のベースプレートにおいて、
前記被固定物が配管部材であることを特徴とするベースプレート。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月18日(2012.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
５０〜４００ｍｇ／ｌメタミトロンと、添加剤として尿素とを含む、即使用可能な摘果製剤。
【請求項２】
５０〜４００ｍｇ／ｌメタミトロンと、添加剤として０．１〜５０ｇ／ｌギ酸カルシウムとを含む、即使用可能な摘果製剤。
【請求項３】
１００〜３７５ｍｇ／ｌメタミトロンを含む請求項１または２に記載の即使用可能な摘果製剤。
【請求項４】
仁果作物または核果作物の果樹園における、摘果のための請求項１から３のいずれか一項に記載の製剤の使用。
【請求項５】
前記果樹園がリンゴ樹園である、請求項４に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月1日(2013.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
特に好ましい陰イオンは、Ｃｌ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ-、Ｃ6Ｈ5ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3-、（ＣＨ3Ｏ）2ＰＯ2-または（Ｃ2Ｈ5Ｏ）2ＰＯ2-である。
さらに好ましい実施形態において、式Ｉ
［Ａ］n+［Ｙ］n- （Ｉ）
［式中、
［Ａ］n+は、１−メチルイミダゾリウム、１−エチルイミダゾリウム、１−（１−ブチル）イミダゾリウム、１−（１−オクチル）−イミダゾリウム、１−１−ドデシル）イミダゾリウム、１−（１−テトラデシル）イミダゾリウム、１−（１−ヘキサデシル）イミダゾリウム、１，３−ジメチルイミダゾリウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１−（１−ブチル）−３−メチルイミダゾリウム、１−（１−ブチル）−３−エチルイミダゾリウム、１−（１−ヘキシル）−３−メチルイミダゾリウム、１−（１−ヘキシル）−３−エチルイミダゾリウム、１−（１−ヘキシル）−３−ブチル−イミダゾリウム、１−（１−オクチル）−３−メチルイミダゾリウム、１−（１−オクチル）−３−エチルイミダゾリウム、１−（１−オクチル）−３−ブチルイミダゾリウム、１−（１−ドデシル）−３−メチルイミダゾリウム、１−（１−ドデシル）−３−エチルイミダゾリウム、１−（１−ドデシル）−３−ブチルイミダゾリウム、１−（１−ドデシル）−３−オクチルイミダゾリウム、１−（１−テトラデシル）−３−メチルイミダゾリウム、１−（１−テトラデシル）−３−エチルイミダゾリウム、１−（１−テトラデシル）−３−ブチルイミダゾリウム、１−（１−テトラデシル）−３−オクチルイミダゾリウム、１−（１−ヘキサデシル）−３−メチルイミダゾリウム、１−（１−ヘキサデシル）−３−エチルイミダゾリウム、１−（１−ヘキサデシル）−３−ブチルイミダゾリウム、１−（１−ヘキサデシル）−３−オクチルイミダゾリウム、１，２−ジメチルイミダゾリウム、１，２，３−トリメチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１−（１−ブチル）−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１−（１−ヘキシル）−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１−（１−オクチル）−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１，４−ジメチルイミダゾリウム、１，３，４−トリメチルイミダゾリウム、１，４−ジメチル−３−エチルイミダゾリウム、１，４−ジメチル−３−ブチルイミダゾリウム、１，４−ジメチル−３−オクチル−イミダゾリウム、１，４，５−トリメチルイミダゾリウム、１，３，４，５−テトラメチルイミダゾリウム、１，４，５−トリメチル−３−エチルイミダゾリウム、１，４，５−トリメチル−３−ブチルイミダゾリウム、１，４，５−トリメチル−３−オクチルイミダゾリウムまたは１−（プロパ−１−エン−３−イル）−３−メチルイミダゾリウムであり、
［Ｙ］n-は、Ｃｌ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ-、Ｃ6Ｈ5ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3-、（ＣＨ3Ｏ）2ＰＯ2-または（Ｃ2Ｈ5Ｏ）2ＰＯ2-である。］
のイオン液体を使用する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月21日(2013.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応可能な物質Ａ粒子と物質Ｂ粒子により構成された混合粉末に遠心力を印加し、さらに該混合粉末に溶融した物質Ａを注入することにより、粉末粒子間に物質Ａを行き渡らせ、かつ、物質Ａと物質Ｂとを反応させて、遠心力方向に化合物ＡｍＢｎが傾斜分散した傾斜機能材料の製造方法。
【請求項２】
前記物質Ａが金属であり、前記物質Ｂが金属あるいは半金属である、請求項１に記載の傾斜機能材料の製造方法。
【請求項３】
前記物質ＡがＭｇであり、前記物質ＢがＳｉである、請求項２に記載の傾斜機能材料の製造方法。
【請求項４】
前記物質ＡがＡｌであり、前記物質ＢがＴｉである、請求項２に記載の傾斜機能材料の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】化合物粒子が傾斜分散した傾斜機能材料の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月3日(2013.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記の如き実情に鑑みこれらの課題を解決することを目的として創作されたものであって、請求項１の発明は、躯体開口部と、該躯体開口部の左右方向戸尻側に隣接する戸袋と、該戸袋の屋内側面に沿って躯体開口部と戸袋とのあいだをスライド移動して躯体開口部の開閉移動をするドア体とを備えて構成される既設の引き戸式ドア装置において、ドア体よりも屋内側面に、走行レールが備えられるレールユニットと、該レールユニットに走行案内されて躯体開口部と戸袋とのあいだを移動可能な保護パネルとを後付けして設けるにあたり、前記レールユニットは、躯体開口部から戸袋に至るまでの左右方向全域に亘って設けられていることを特徴とする引き戸式ドア装置である。
請求項２の発明は、躯体開口部および戸袋の上部には、戸袋と、該戸袋および躯体開口部の上方に配された上部側躯体とを連結するための無目が設けられ、レールユニットの上下端縁は、無目の屋内側面上下端縁と面一状になっていることを特徴とする請求項１記載の引き戸式ドア装置である。
請求項３の発明は、保護パネルは、下端縁に床面上を走行する戸車を備え、上端縁にレールユニットに抜け止め状に走行する走行ローラが設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の引き戸式ドア装置である。
請求項４の発明は、保護パネルは、ガラス材を備えて構成されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１記載の引き戸式ドア装置である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１の発明とすることにより、引き戸式ドア装置に保護パネルとレールユニットとを意匠性よく後付けできるうえ、後付けする作業が簡単、かつ、容易なうえ、メンテナンス性にも優れたものにできる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
尚、本発明は前記実施の形態に限定されないことは勿論であって、既設の引き戸式ドア装置に保護パネルおよびレールユニットを設ける場合に、引き戸式ドア装置には種々の仕様があり、覆蓋体の上下方向長さが一定であるが、枠体とカバー体との連結位置、連結形状が仕様によってそれぞれ異なる場合がある。これに対し、本発明が実施されたレールユニットの第一レール部材は、下端部に形成された屋内外方向一方のレール片を覆蓋体に固定する構成となっているうえ、上下方向中間部において支持部材に支持される構成となっている。この結果、枠体とカバー体との連結状態（連結位置、連結形状）にかかわらず、どのような仕様の引き戸式ドア装置に対しても第一、第二レール部材、さらには、支持部材をそのまま用いて後付けすることが可能である。
因みに、図７（Ａ）に第二の実施の形態を示すが、このものでは、枠体１７とカバー体１８との連結構成が、枠体１７の屋内側片１７ａとカバー体１８の上端部とを屋内外方向に積層し、該積層部を螺子１８ａにより螺着する構成であり、これ以外の構成は前記第一の実施の形態と同様となっている。尚、第一の実施の形態と同様の部材構成については、同様の符号を付すことにより説明を省略する。そして、このものでも、第一の実施の形態のレールユニットＲ（第一、第二レール部材１４、１５）をそのまま用いることで、保護パネル１１を開口部側に移動自在に後付けすることができる。
また、本発明の実施の形態には、躯体開口部を開閉移動するドア体と、ドア体の上端部に設けられる複数の走行体と、開口部上方の躯体における屋内外方向一方の面に固定され、走行体を介してドア体をスライド移動自在に吊持するレール体と、ドア体の吊持部を前記一方から覆う覆蓋体とを備えてなる既設の引き戸式ドア装置に、戸尻側躯体とともに戸袋を構成する保護パネルを、ドア体の開閉方向にスライド移動自在に設けるにあたり、保護パネルの上端部に複数の走行ローラを設ける一方、該走行ローラが走行する屋内外方向に対向する一対のレール片が下方に形成されたレールユニットを覆蓋体に設ける構成とし、前記レールユニットを、屋内外方向他方のレール片と該他方側レール片から一方に向けて突出する第一連結片と該第一連結片の突出端部から上方に突出して覆蓋体の上部を覆う覆い片とを備え、前記他方側レール片が覆蓋体に固定される第一レール部材と、屋内外方向一方のレール片と該一方側レール片から他方に向けて突出する第二連結片とを備えた第二レール部材とにより構成される分割型とし、覆蓋体に固定される第一レール部材に対する第一レール部材の固定は、屋内外側レール片のあいだに保護パネルの走行ローラを組込んで、覆い片と屋内外方向一方のレール片とを面一状とするとともに、第一連結片の下方に第二レール部材の第二連結片を積層し、第二連結片側から挿入した螺子を第一連結片に形成されたビスポケットに螺合するようにしたことを特徴とする引き戸式ドア装置が含まれる。
この場合に、第一レール部材の覆い片は、覆蓋体に固定された支持部材に固定されていることも含まれる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
躯体開口部と、該躯体開口部の左右方向戸尻側に隣接する戸袋と、該戸袋の屋内側面に沿って躯体開口部と戸袋とのあいだをスライド移動して躯体開口部の開閉移動をするドア体とを備えて構成される既設の引き戸式ドア装置において、ドア体よりも屋内側面に、走行レールが備えられるレールユニットと、該レールユニットに走行案内されて躯体開口部と戸袋とのあいだを移動可能な保護パネルとを後付けして設けるにあたり、前記レールユニットは、躯体開口部から戸袋に至るまでの左右方向全域に亘って設けられていることを特徴とする引き戸式ドア装置。
【請求項２】
躯体開口部および戸袋の上部には、戸袋と、該戸袋および躯体開口部の上方に配された上部側躯体とを連結するための無目が設けられ、レールユニットの上下端縁は、無目の屋内側面上下端縁と面一状になっていることを特徴とする請求項１記載の引き戸式ドア装置。
【請求項３】
保護パネルは、下端縁に床面上を走行する戸車を備え、上端縁にレールユニットに抜け止め状に走行する走行ローラが設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の引き戸式ドア装置。
【請求項４】
保護パネルは、ガラス材を備えて構成されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１記載の引き戸式ドア装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月29日(2013.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
建設作業及び土木作業に用いられる油圧式パワーショベル等の作業機は、一般的に、自走できる下部走行装置と、その上で３６０度回転できる上部旋回体とを組み合わせた基本構造を有している。上部旋回体には、ブラケットを介してブーム（アーム部材）が設けられ、このブームの先端側にアーム（アーム部材）が設けられている。さらに、アームの先端側には、バケット等のアタッチメントが取り付けられる。一般に、パワーショべルでは、ブーム、アーム及びバケットをまとめて作業部と称し、ブーム及びアームをフロントと称している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
例えば、上述した例では、筐体３２０の材質は球状黒鉛鋳鉄としたが、鋳物であれば、ねずみ鋳鉄、鋳鋼、アルミニウムでも良い。また、連結ピン挿通用孔間を連通する中空部３３０の形状は、丸、楕円、四角等、中子（巾木）の強度と連結ピン挿通用孔の強度、ブーム、アームの強度を考慮し、設定することができる。また、アーム部材は、アーム３００及びブーム２００を含んでいる。また、ブーム２００もアーム３００と同様に構成してもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月3日(2013.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学異方性組織と光学等方性組織と空隙とで構成された黒鉛粒子からなり、黒鉛材料からなる成形体断面において、一辺が１００μｍの正方形領域を任意に１０箇所選んだとき、該領域中に現れる黒鉛粒子の断面に対して、クロスニコル状態での鋭敏色検板を通過させた偏光顕微鏡像において、光学異方性組織ドメインの黒鉛網面の向きを示す干渉色であるマゼンタ、ブルーおよびイエローの各色の面積の合計値のうち、最も小さいものの面積合計値Ｃminが、前記黒鉛粒子の断面積合計に対して１２〜３２％である黒鉛材料。
【請求項２】
請求項１に記載の黒鉛粒子の表面が他の炭素材料で被覆された粒子からなる黒鉛材料。
【請求項３】
繊維径２〜１０００ｎｍの炭素繊維の一部が前記黒鉛粒子の表面に接着している請求項１または請求項２に記載の黒鉛材料。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の黒鉛材料を含む電池電極用炭素材料。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の黒鉛材料１００質量部と、０．３３７０ｎｍ以下の平均面間隔(ｄ002)を有する球状の天然黒鉛または人造黒鉛０．０１〜２００質量部とを含む電池電極用炭素材料。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれかに記載の黒鉛材料１００質量部と、０．３３７０ｎｍ以下の平均面間隔(ｄ002)を有しアスペクト比が２〜１００の天然黒鉛または人造黒鉛０．０１〜１２０質量部とを含む電池電極用炭素材料。
【請求項７】
請求項４〜６のいずれかに記載の電池電極用炭素材料とバインダーとを含む電極用ペースト。
【請求項８】
請求項７に記載の電極用ペーストの成形体からなる電極。
【請求項９】
請求項８に記載の電極を構成要素として含む電池。
【請求項１０】
請求項８に記載の電極を構成要素として含むリチウムイオン二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月19日(2013.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
(b)  保磁力が、磁気記録に適した１００Ｏｅ（＝１００π／４ｋＡ／ｍ）以上、１０００Ｏｅ（＝１０００π／４ｋＡ／ｍ）以下程度であること。
(c)  複数の粒子間の焼結がないこと。
(d)  温度や時間に依存して磁気特性が変動しないこと。
(e)  残留磁化が０．３ｅｍｕ／ｇ（＝０．３Ａ・ｍ２／ｋｇ）以上であること。磁気情報の磁気量を増加させるためには、残留磁化は大きいほど好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
で表されるコバルトフェライトの球形粒子（球形コバルトフェライト粒子）が好ましい。
前記球形コバルトフェライト粒子としては、例えば堺化学工業(株)製のＦＣＯ−２〔一次粒子の平均粒径０．０１５μｍ、保持力４５０Ｏｅ（＝４５０π／４ｋＡ／ｍ）、残留磁化１５ｅｍｕ／ｇ（＝１５Ａ・ｍ２／ｋｇ）〕等が挙げられる。
磁性体粒子の含有割合は任意に設定できるが、特にＭＩＣＲシステムにおいて記録する磁気情報の磁気量をこれまでより増加させることを考慮すると、水性磁性分散体の総量中の３０質量％以上、特に３５質量％以上であるのが好ましい。本発明によれば、次に説明する(II)の分散安定剤の作用によって、かかる多量の磁性体粒子を水性分散媒中に安定に分散させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
で表される２−アミノ−１−メチル−１−プロパノールを滴下したのち、さらに純水で希釈して、分散安定剤としてのジホスホン酸アミン塩(i)の３０質量％水溶液を得た。ヒドロキシエチレンジホスホン酸と２−アミノ−１−メチル−１−プロパノールのモル比は１：１．２に設定した。
（水性磁性分散体の調製）
前記ジホスホン酸アミン塩(i)の３０質量％水溶液８質量部に、純水５１．９質量部と、消泡剤〔ビイクへミー（ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ）社製のＢＹＫ（登録商標）０２５〕０．１質量部とを加えて混合した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
【表１】
2011184262.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
【表２】
2011184262.tif 000002