【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年5月2日(2013.5.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
プラズマ重合は、任意のアミン：炭化水素構成比の２つの成分の共重合によっても行うことができる。プラズマ共重合に好ましいアミン：炭化水素構成比は、アミン：炭化水素比、１００（アミン）：０（炭化水素）〜２０（アミン）：８０（炭化水素）これらの両端の間の任意の比をとることができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７４】
【表１】
2010029186.tif 000001
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜を有する細胞培養表面と、該薄膜被覆表面上のコーティングと、を含む細胞培養基質であって、
前記薄膜は、前記細胞培養表面に接着され、
前記薄膜は、アリルアミン、メチルアミン、プロピルアミン、へプチルアミン及びジアミノプロパンからなる群から選択される1種以上のプラズマ重合されたアミンモノマーを含み、
前記コーティングは、1種以上の細胞外マトリックス蛋白質と水性溶媒を含むコーティング溶液から堆積され、
前記コーティング溶液中の細胞外マトリックス蛋白質の全濃度は、1ng/mL〜1mg/mLであることを特徴とする細胞培養基質。
【請求項２】
薄膜を有する細胞培養表面と、該薄膜被覆表面上のコーティングと、を含む細胞培養基質であって、
前記薄膜は、前記細胞培養表面に接着され、
前記薄膜は、アルカン、アルケン、ジエン、スチレンおよびこれらの組合せより成る群から選択される1種以上のプラズマ重合された炭化水素モノマーを含み、
前記コーティングは、1種以上の細胞外マトリックス蛋白質と水性溶媒を含むコーティング溶液から堆積され、
前記コーティング溶液中の細胞外マトリックス蛋白質の全濃度は、1ng/mL〜1mg/mLであることを特徴とする細胞培養基質。
【請求項３】
薄膜を有する細胞培養表面と、該薄膜被覆表面上のコーティングと、を含む細胞培養基質であって、
前記薄膜は、前記細胞培養表面に接着され、
前記薄膜は、アリルアミン、メチルアミン、プロピルアミン、へプチルアミン及びジアミノプロパンからなる群から選択される1種以上のアミンモノマーと、アルカン、アルケン、ジエン及びスチレンおよびこれらの組合せから成る群から選択される1種以上の炭化水素モノマーと、の組合せからなるプラズマ重合されたモノマーを含み、
前記アミンモノマーの前記炭化水素モノマーに対する比率は100：0〜20：1の間であり、
前記コーティングは、1種以上の細胞外マトリックス蛋白質と水性溶媒を含むコーティング溶液から堆積され、
前記コーティング溶液中の細胞外マトリックス蛋白質の全濃度は、1ng/mL〜1mg/mLであることを特徴とする細胞培養基質。
【請求項４】
請求項1〜３のいずれかに記載の細胞培養基質であって、前記コーティング溶液中の総細胞外マトリックス蛋白質濃度が1μg/mL〜300μg/mLであることを特徴とする細胞培養基質。
【請求項５】
請求項1〜３のいずれかに記載の細胞培養基質であって、前記コーティング溶液の総細胞外マトリックス蛋白質濃度は、5μg/mL〜200μg/mLであることを特徴とする細胞培養基質。
【請求項６】
請求項1〜３のいずれかに記載の細胞培養基質であって、前記コーティング溶液は、天然細胞外マトリックス蛋白質、組換体細胞外マトリックス蛋白質、合成細胞外マトリックス蛋白質およびこれらの組合せからなる群から選択される細胞外マトリックス蛋白質を含むことを特徴とする細胞培養基質。
【請求項７】
請求項1〜３のいずれかに記載の細胞培養基質であって、前記コーティング溶液は、全細胞外マトリックス蛋白質または細胞外マトリックス蛋白質断片を含むことを特徴とする細胞培養基質。
【請求項８】
請求項1〜３のいずれかに記載の細胞培養基質であって、前記コーティング溶液はさらにエンタクチン、ヘパラン硫酸、プロテオグリカン（HSPG）、増殖因子およびこれらの組合せからなる群から選択される成分を含むことを特徴とする細胞培養基質。
【請求項９】
請求項1〜３のいずれかに記載の細胞培養基質であって、水性溶媒が緩衝液、細胞培養液およびこれらの組合せよりなる群から選択されることを特徴とする細胞培養基質。
【請求項１０】
細胞培養基質の調製方法であって、
細胞培養面を提供する工程と、
プラズマ重合によって、前記表面上に被覆を形成することにより、薄膜被覆表面を形成する工程と、
コーティング溶液を前記薄膜被覆表面に導入して、細胞培養基質を形成する工程と、
を含み、
前記プラズマ重合が、アリルアミン、メチルアミン、プロピルアミン、へプチルアミン及びジアミノプロパンからなる群から選択される1種以上のアミンモノマーを利用するものであり、
前記コーティング溶液には、1種以上の細胞外マトリックス蛋白質と水性溶液を含み、該コーティング溶液中の総細胞外マトリックス蛋白質濃度が、1ng/mL〜1ｍg/mLである、
ことを特徴とする細胞培養基質の調製方法。
【請求項１１】
細胞培養基質の調製方法であって、
細胞培養面を提供する工程と、
プラズマ重合によって、前記表面上に被覆を形成することにより、薄膜被覆表面を形成する工程と、
コーティング溶液を前記薄膜被覆表面に導入して、細胞培養基質を形成する工程と、
を含み、
前記プラズマ重合が、アルカン、アルケン、ジエン、スチレンおよびこれらの組合せより成る群から選択される1種以上の炭化水素モノマーを利用するものであり、
前記コーティング溶液には、1種以上の細胞外マトリックス蛋白質と水性溶液を含み、該コーティング溶液中の総細胞外マトリックス蛋白質濃度が、1ng/mL〜1ｍg/mLである、
ことを特徴とする細胞培養基質の調製方法。
【請求項１２】
細胞培養基質の調製方法であって、
細胞培養面を提供する工程と、
プラズマ重合によって、前記表面上に被覆を形成することにより、薄膜被覆表面を形成する工程と、
コーティング溶液を前記薄膜被覆表面に導入して、細胞培養基質を形成する工程と、
を含み、
前記プラズマ重合が、アリルアミン、メチルアミン、プロピルアミン、へプチルアミン及びジアミノプロパンからなる群から選択される1種以上のアミンモノマーと；アルカン、アルケン、ジエン及びスチレンおよびこれらの組合せから成る群から選択される1種以上の炭化水素モノマーと、の組合せからなるモノマーを利用するものであり、
前記アミンモノマーの前記炭化水素モノマーに対する比率は100：0〜20：1の間であり、
前記コーティング溶液には、1種以上の細胞外マトリックス蛋白質と水性溶液を含み、該コーティング溶液中の総細胞外マトリックス蛋白質濃度が、1ng/mL〜1ｍg/mLである、
ことを特徴とする細胞培養基質の調製方法。
【請求項１３】
さらに、前記細胞培養基質をインキュベートする方法であって、前記一またはそれ以上の細胞外マトリックス蛋白質を前記薄膜被覆表面に固定する工程を含むことを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
さらに、前記細胞培養基質を一定期間凍結し、その後、前記細胞培養基質をインキュベートして、前記1種以上の細胞外マトリックス蛋白質を前記薄膜被覆表面に固定化する工程を含むことを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
幹細胞培養方法であって、
請求項1〜３のいずれかに記載の細胞培養基質を提供する工程と
前記細胞培養基質に幹細胞懸濁液を塗布する工程と、
前記幹細胞懸濁液を前記細胞の細胞培養基質上において、5％CO2 湿潤空気下、37℃にてインキュベートする工程と、
前記幹細胞を前記細胞培養基質に接着させ、該接着した細胞が大部分未分化の状態にとどまるものである工程と、
を含むことを特徴とする幹細胞培養方法。
【請求項１６】
さらに、真核生物幹細胞の前記懸濁液を塗布する前に、細胞培養培地を前記細胞培養基質に導入することを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記細胞培養培地が、増殖培地を含むことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記幹細胞が、真核生物幹細胞であることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記幹細胞は胚性幹細胞であることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
前記幹細胞はヒト胚性幹細胞であることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項２１】
前記幹細胞はヒト間葉細胞であることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項２２】
前記幹細胞はヒト神経幹細胞であることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項２３】
前記1種以上の細胞外マトリックス蛋白質が、単一タイプの細胞外マトリックス蛋白質であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の細胞培養基質。
【請求項２４】
前記1種以上の細胞外マトリックス蛋白質が、ヒト由来であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の細胞培養基質。