【手続補正書】
【提出日】平成25年9月20日(2013.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１次荷電粒子ビームを偏向して該１次荷電粒子ビームを光軸（１４２）上に提供する色収差補正ビーム偏向器デバイスであって、
１次荷電粒子ビーム入口（１３４）と、
前記光軸を包含する１次荷電粒子ビーム出口（１３２）と、
磁界を生成するように構成された磁気偏向要素（１６３）と、
前記磁界に重複する電界を生成するように構成された静電偏向要素（１６５）と、
を備え、
前記静電偏向要素及び前記磁気偏向要素から選択された少なくとも１つの要素が、８重極の影響を補償するように配置され、及び／又は、配置可能である、デバイス。
【請求項２】
１次荷電粒子ビームを別の荷電粒子ビームから分離して該１次荷電粒子ビームを光軸（１４２）上に提供する色収差補正ビーム分離器デバイスであって、
１次荷電粒子ビーム入口（１３４）と、
前記光軸を包含する１次荷電粒子ビーム出口（１３２）と、
磁界を生成するように構成された磁気偏向要素（１６３）と、
前記磁界に重複する電界を生成するように構成された静電偏向要素（１６５）と、
を備え、
前記静電偏向要素及び前記磁気偏向要素から選択された少なくとも１つの要素が、８重極の影響を補償するように配置され、及び／又は、配置可能である、デバイス。
【請求項３】
前記静電偏向要素及び前記磁気偏向要素から選択された前記少なくとも一つの要素が、
前記電界が、前記入射１次ビームの方向に向く前記光軸に対して横方向にオフセットされる構成、及び
前記電界が、前記ビーム出口の方向に前記磁界に対してオフセットされる構成、
から選択された少なくとも一つの構成で、前記電界及び前記磁界を提供するように配置され、
前記少なくとも一つの要素は、１次荷電粒子ビーム束の軌道は、前記光軸の周囲で等しい量の正及び負の８重極作用を受けるように調整される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記静電偏向要素及び前記磁気偏向要素から選択された少なくとも１つの要素が、
前記電界及び前記磁界が互いにオフセットされる構成、並びに、
前記電界及び前記磁界から選択された少なくとも１つの要素が前記光軸（１４２）に対してオフセットされる構成
から選択された少なくとも１つの構成で、前記電界及び前記磁界を提供するように配置され、及び／又は、配置可能である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項５】
前記静電偏向要素及び前記磁気偏向要素から選択された少なくとも１つの要素が、
前記電界及び前記磁界が前記光軸と平行に互いにオフセットされる構成、
前記電界及び前記磁界が前記光軸に沿って互いにオフセットされる構成、並びに、
前記電界が前記ビーム出口の方向に前記磁界に対してオフセットされる構成
から選択された少なくとも１つの構成で、前記電界及び前記磁界を提供するように配置され、及び／又は、配置可能である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項６】
前記静電偏向要素及び前記磁気偏向要素から選択された少なくとも１つの要素が、
前記電界及び前記磁界から選択された少なくとも１つの要素が前記光軸に対して横方向にオフセットされる構成、並びに、
前記電界及び前記磁界から選択された少なくとも１つの要素が前記光軸に対して垂直にオフセットされる構成
から選択された少なくとも１つの構成で、前記電界及び前記磁界を提供するように配置され、及び／又は配置可能とされる、請求項１〜５のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項７】
前記１次入射荷電粒子ビーム又は前記１次入射荷電粒子ビームの少なくとも一部分が、前記ビーム入口内へ９０°未満の入射角を有し、及び／又は、
前記静電偏向要素及び前記磁気偏向要素から選択された少なくとも１つの要素が、
前記電界及び前記磁界から選択された少なくとも１つの要素が、前記光軸及び前記１次入射ビームによって画定される平面内に含まれる方向に、互いに及び／又は前記光軸に対してオフセットされる構成、
前記電界が、前記１次入射ビームの方向へ前記光軸に対して横方向にオフセットされる構成、及び、
前記電界が前記磁界に対してオフセットされる構成から選択された少なくとも１つの構成で、前記電界及び前記磁界を提供するように配置され、及び／又は配置可能である、
請求項１〜６のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項８】
前記静電偏向要素及び前記磁気偏向要素から選択された少なくとも１つの要素が、前記電界が実質的に前記磁界において提供され、且つ、前記電界及び前記磁界の双方が前記光軸に対してオフセットされる構成で、前記電界及び前記磁界を提供するように配置され、及び／又は、配置可能である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項９】
前記電界が中心を有し、前記磁界が中心を有し、前記電界の前記オフセット及び／又は前記磁界の前記オフセットが、それぞれの界の中心のオフセットによって実現される、請求項１〜８のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の色収差補正ビーム偏向器デバイス及び色収差補正ビーム分離器デバイスから選択された少なくとも１つの要素を備える荷電粒子ビームデバイス。
【請求項１１】
前記色収差補正ビーム分離器デバイスが、前記荷電粒子ビームデバイスの１次荷電粒子ビームを前記荷電粒子ビームデバイスの信号荷電粒子ビームから分離するように構成され、
前記荷電粒子ビームデバイスが、前記ビーム分離器デバイスの前記光軸（１４２）に対応する対物光軸をもつ対物レンズ要素（５２５）を有する、請求項１０に記載の荷電粒子ビームデバイス。
【請求項１２】
走査荷電粒子ビームデバイス、イオンビームデバイス、電子ビームデバイス、電子ビーム検査デバイス、及びＳＥＭから選択された少なくとも１つの要素である、請求項１０又は１１に記載の荷電粒子ビームデバイス。
【請求項１３】
１次荷電粒子ビームを偏向して前記１次荷電粒子ビームを光軸（１４２）上に提供する色収差補正ビーム偏向器デバイスを動作させる方法であって、
磁界を提供するステップと、
前記磁界に重複する電界を提供するステップと、
を含み、
前記電界及び前記磁界から選択された少なくとも１つの要素が、８重極の影響を補償するような位置に提供される、方法。
【請求項１４】
１次荷電粒子ビームを別の荷電粒子ビームから分離して前記１次荷電粒子ビームを光軸（１４２）上に提供する色収差補正ビーム分離器デバイスを動作させる方法であって、
磁界を提供するステップと、
前記磁界に重複する電界を提供するステップと
を含み、
前記電界及び前記磁界から選択された少なくとも１つの要素が、８重極の影響を補償するような位置に提供される、方法。
【請求項１５】
前記電界及び前記磁界は、
前記電界が、前記入射１次ビームの方向に向く前記光軸に対して横方向にオフセットされる構成、及び
前記電界が、前記ビーム出口の方向に前記磁界に対してオフセットされる構成、
から選択された少なくとも一つの構成で、提供され、
前記少なくとも一つの要素は、１次荷電粒子ビーム束の軌道は、前記光軸の周囲で等しい量の正及び負の８重極作用を受けるように調整される、
ことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記電界及び前記磁界が、
前記電界及び前記磁界が互いにオフセットされる構成、並びに
前記電界及び前記磁界から選択された少なくとも１つの要素が前記光軸（１４２）に対してオフセットされる構成
から選択された少なくとも１つの構成で提供される、請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記色収差補正ビーム偏向器デバイスが、請求項１及び３〜９のいずれか一項に記載の色収差補正ビーム偏向器デバイスであり、前記色収差補正ビーム分離器デバイスが請求項２〜９のいずれか一項に記載の色収差補正ビーム分離器デバイスである、請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
試料を調査及び／又は構築するための、請求項１及び３〜９のいずれか一項に記載の色収差補正ビーム偏向器デバイス、請求項２〜９のいずれか一項に記載の色収差補正ビーム分離器デバイス、及び請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の荷電粒子ビームデバイスから選択された少なくとも１つのデバイスの使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
[0007]上記を踏まえて、請求項１に記載の色収差補正ビーム偏向器デバイス、請求項２に記載の色収差補正ビーム分離器デバイス、請求項１０に記載の荷電粒子ビームデバイス、請求項１３に記載の色収差補正ビーム偏向器デバイスを動作させる方法、請求項１４に記載の色収差補正ビーム分離器デバイスを動作させる方法、及び請求項１８に記載の使用を提供する。