Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置であって、
他の通信装置からデータを受信する受信手段と、
前記受信手段により受信した受信データを第１の記憶部に転送すると共に、前記受信データのヘッダ部を第２の記憶部に転送する転送手段と、
前記受信データのチェックサム値を得るために前記第１の記憶部に転送される前記受信データの加算演算を行う加算手段と、
前記第２の記憶部への前記ヘッダ部の転送終了に応答して、前記第２の記憶部へ転送された前記ヘッダ部を解析する解析手段と、
前記第２の記憶部に転送された前記ヘッダ部に基づいて、前記受信データにおける誤り判定のためのチェックサム演算対象領域以外の加算値を取得する取得手段と、
前記加算手段による前記受信データの加算演算結果と前記取得手段により取得した前記加算値とを用いて、前記受信データの誤りを判定する判定手段と、を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記第１の記憶部と前記第２の記憶部とは異なるバスに接続されることを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
無線通信部と有線通信部とを更に有し、
前記解析手段は、前記受信データが前記無線通信部と前記有線通信部のいずれにおいて受信されたものであるかに基づいて、前記ヘッダ部に対して異なる解析処理を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記転送手段は、他の通信装置との間で無線通信の接続設定のための通信が行なわれている場合には、前記受信データを前記第１の記憶部に転送することなく、前記受信データを前記第２の記憶部に転送することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項５】
前記第２の記憶部は、前記第１の記憶部よりも記憶容量が小さいが、前記解析手段からのアクセス速度が前記第１の記憶部よりも速いことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項６】
前記判定手段は、前記加算手段による前記加算演算結果から前記取得手段により取得した前記加算値を減算した値を用いて、前記受信データの誤りを判定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項７】
通信装置の制御方法であって、
他の通信装置からデータを受信する受信工程と、
前記受信工程で受信した受信データを第１の記憶部に転送すると共に、前記受信データのヘッダ部を第２の記憶部に転送する転送工程と、
前記受信データのチェックサム値を得るために前記第１の記憶部に転送される前記受信データの加算演算を行う加算工程と、
前記第２の記憶部への前記ヘッダ部の転送終了に応答して、前記第２の記憶部へ転送された前記ヘッダ部を解析する解析工程と、
前記第２の記憶部に転送された前記ヘッダ部に基づいて、前記受信データにおける誤り判定のためのチェックサム演算対象領域以外の加算値を取得する取得工程と、
前記加算工程で得られた前記受信データの加算演算結果と、前記取得工程で取得された前記加算値とを用いて、前記受信データの誤りを判定する判定工程と、を有することを特徴とする通信装置の制御方法。
【請求項８】
コンピュータを、請求項１乃至６のいずれか１項に記載された通信装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】通信装置およびその制御方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、通信装置およびその制御方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するための本発明の一態様による通信装置は以下の構成を有する。すなわち、
他の通信装置からデータを受信する受信手段と、
前記受信手段により受信した受信データを第１の記憶部に転送すると共に、前記受信データのヘッダ部を第２の記憶部に転送する転送手段と、
前記受信データのチェックサム値を得るために前記第１の記憶部に転送される前記受信データの加算演算を行う加算手段と、
前記第２の記憶部への前記ヘッダ部の転送終了に応答して、前記第２の記憶部へ転送された前記ヘッダ部を解析する解析手段と、
前記第２の記憶部に転送された前記ヘッダ部に基づいて、前記受信データにおける誤り判定のためのチェックサム演算対象領域以外の加算値を取得する取得手段と、
前記加算手段による前記受信データの加算演算結果と前記取得手段により取得した前記加算値とを用いて、前記受信データの誤りを判定する判定手段と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月27日(2013.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体に記録された映像音声ストリームのアクセス単位の再生時刻情報、位置情報およびサイズを含む第１のアドレスマップを管理するアドレス管理手段と、
前記映像音声ストリームの再生条件に基づいて再生単位を決定する再生位置管理手段と、
前記第１のアドレスマップに記録されたアクセス単位の再生時刻情報、位置情報およびサイズを元に前記再生位置管理手段において決定された前記再生単位に対応した再生時刻情報、位置情報およびサイズを含む第２のアドレスマップを生成する第２のアドレスマップ生成手段と、
前記第２のアドレスマップに基づいて前記再生単位を前記記録媒体から読出すストリーム制御手段と、
前記ストリーム制御手段によって前記記録媒体から読み出された前記再生単位を復号するデコード制御手段と
を備えたことを特徴とする映像音声再生装置。
【請求項２】
再生位置管理手段は、再生条件が通常速度の再生の場合、映像音声ストリーム全体を再生単位として決定することを特徴とする請求項１記載の映像音声再生装置。
【請求項３】
再生位置管理手段は、再生条件が一部区間のみの通常速度の再生の場合、前記一部区間に対応する再生単位として決定することを特徴とする請求項１記載の映像音声再生装置。
【請求項４】
再生位置管理手段は、再生条件が特殊再生の場合、キーフレームを再生単位として決定することを特徴とする請求項１記載の映像音声再生装置。
【請求項５】
再生位置管理手段は、再生条件が特殊再生の場合、キーフレームを含む複数のフレームを再生単位として決定することを特徴とする請求項１記載の映像音声再生装置。
【請求項６】
記録媒体に記録された映像音声ストリームのアクセス単位の再生時刻情報、位置情報およびサイズを含む第１のアドレスマップを管理するアドレス管理ステップと、
前記映像音声ストリームの再生条件に基づいて再生単位を決定する再生位置管理ステップと、
前記第１のアドレスマップに記録されたアクセス単位の再生時刻情報、位置情報およびサイズを元に前記再生位置管理ステップにおいて決定された前記再生単位に対応した再生時刻情報、位置情報およびサイズを含む第２のアドレスマップを生成する第２のアドレスマップ生成手段と、
前記第２のアドレスマップに基づいて前記再生単位を前記記録媒体から読出すストリーム制御ステップと、
前記ストリーム制御ステップにおいて前記記録媒体から読み出された前記再生単位を復号するデコード制御ステップとを備えたことを特徴とする映像音声再生方法。
【請求項７】
再生位置管理ステップは、再生条件が通常速度の再生の場合、映像音声ストリーム全体を再生単位として決定することを特徴とする請求項６記載の映像音声再生方法。
【請求項８】
再生位置管理ステップは、再生条件が一部区間のみの通常速度の再生の場合、前記一部区間に対応する再生単位として決定することを特徴とする請求項６記載の映像音声再生方法。
【請求項９】
再生位置管理ステップは、再生条件が特殊再生の場合、キーフレームを再生単位として決定することを特徴とする請求項６記載の映像音声再生方法。
【請求項１０】
再生位置管理ステップは、再生条件が特殊再生の場合、キーフレームを含む複数のフレームを再生単位として決定することを特徴とする請求項６記載の映像音声再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月28日(2013.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、水晶ベースウエハと水晶リッドウエハとが１つの人工水晶原石から切り出される枚数が多くなるとともに、ＡＴカットの水晶ウエハとの熱膨張率の差異も小さい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
この±１．０ｐｐｍ／℃以内という値は水晶デバイスを熱衝撃試験して得られた結果である。つまり、ＡＴカットフレーム２０とは線膨張係数の異なるリッド及びベースを接合して完成した水晶デバイスに、−３０℃から８０度の温度変化を繰り返し与え、どれだけの数の水晶デバイスが破損したかを実験して得られた結果である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
水晶デバイス１００では、水晶リッド１０に金属膜が形成されなかったが、水晶デバイス２００では金属膜が形成されるため金属環を形成する工程が必要である。また、水晶デバイス２００は図４のステップＳ１４１で説明したシロキサン結合に代えて共晶金属による封止材９０により各ウエハが接合される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2012039227.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月24日(2013.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
圧電デバイス１００では、支持腕３３がキャビティ２４の中に載置され、導電性接着剤４１により接続電極２２と接着され固定される。そして、パッケージ２０とリッド１０とが封止材４０により接着され、キャビティ２４が封止される。このようにして圧電デバイス１００は完成するが、圧電デバイス１００は一般に２８０℃前後のリフロー炉でプリント基板にはんだ付けされる。以下、圧電デバイス１００が２００℃以上で一定時間加熱されることを高温試験工程という。そして、圧電デバイス１００は高温試験工程の後でもできるだけ周波数が変動しないことが求められる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
さらに、各支持腕２３３の＋Ｙ軸側には導電性接着剤４１を塗布するための接着部２３３ａが形成されており、基部２３１側には支持部２３３ｂが形成されている。また、接着部２３３ａと支持部２３３ｂとの間には接着サポート部２３３ｃが形成されている。接着サポート部２３３ｃの幅Ｗ１０は、導電性接着剤４１を塗布しやすくするために支持部２３３ｂよりも広く、接着部２３３ａで発生する応力を振動腕２３２に伝えにくくするために接続部２３３ａよりも狭く形成されている。接着部２３３ａ及び接着サポート部２３３ｃは支持部２３３ｂに対して幅広領域となっている。音叉型圧電振動片２３０では接着部２３３ａ及び接着サポート部２３３ｃの全面に導電性接着剤４１が塗布されても良いし、図４（ａ）に示されるように、各支持腕に２カ所又は複数の導電性接着剤４１が塗布されても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
音叉型圧電振動片３３０は、支持部３３３ｂに貫通孔３３４が形成されていることにより支持腕３３３が柔軟に動くようになり、導電性接着剤４１からの応力を逃すことができる。また、接着部３３３ａにも貫通孔が形成されている場合は、支持腕がＺ軸方向へ変位したりＹ軸に対して回転したりする等の応力を発生させてしまう場合あったが、接着部３３３ａに貫通孔を形成しないことにより、これらの応力の発生を防ぐことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
音叉型圧電振動片４３０では、振動腕４３２と支持腕４３３との間の基部４３１のＹ軸方向の長さＬ４６が音叉型圧電振動片３３０よりも短くなっているため、支持腕４３３にかかる応力が振動腕４３２へ伝わりにくくなり、音叉型圧電振動片４３０の周波数変動を小さくすることができる。また、接着部４３３ａに貫通孔が形成されていないことにより、支持腕４３３のＺ軸方向の変位及び支持腕４３３がＹ軸に対して回転する等の応力の発生を防ぐことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
図９（ｂ）は、図９（ａ）のＥ−Ｅ分解断面図である。音叉型圧電振動片６３０は、基部６３１と、振動腕６３２と、支持腕６３３（図１０参照）と、支持腕付け根位置６３８（図１０参照）と、これらを囲むようにして形成されている外枠６３７とにより構成されている。音叉型圧電振動片６３０は、リッド６１０及びベース６２０により外枠６３７が挟みこまれて支えられるようにして配置され、低融点ガラス、直接接合、共晶合金等の接合部材により接合されている。リッド６１０及びベース６２０の音叉型圧電振動片６３０に向かいあう面には凹部が形成されており、この凹部は圧電デバイス６００が形成された時にキャビティ６２４を形成する。音叉型圧電振動片６３０の外枠６３７以外の部分は、このキャビティ６２４に配置される。また、ベース６２０の＋Ｚ軸側の面には接続電極６２２が形成されている。接続電極６２２は、外部電極６２１とベース６２０の内部を貫通する導通部（不図示）により電気的に接続されている。また、接続電極６２２は、音叉型圧電振動片６３０の外枠６３７に形成されている電極接合部６４２において電気的に接続される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
音叉型圧電振動片６３０には、第１実施例で説明した音叉型圧電振動片１３０のように、支持腕付け根位置６３８が振動腕付け根位置６３９よりも−Ｙ軸側に形成されていても良い。また、基部６３１の幅を広くして、振動腕６３２と支持腕６３３との間の距離を広く取っても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月2日(2013.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電材料で形成された圧電体を電極で挟持して構成された圧電素子と、
前記圧電素子が接合された振動体と、
前記圧電素子に交番電圧を印加する電源と、
を備え、前記電源による前記圧電素子への交番電圧の印加によって、前記振動体に振動を発生させる振動発生装置であって、
前記圧電素子は、交番電圧印加に伴なって共振周波数が高周波側に変化する圧電体によって構成され、
前記電源の印加による交番電圧の周波数を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記圧電素子へ印加された交番電圧の周波数を制御することにより、前記圧電素子が有する共振周波数の変化範囲を包含する周波数範囲において、該圧電素子に印加する交番電圧の周波数を低周波数側から高周波数側に逐次変化させる構成を有することを特徴とする振動発生装置。
【請求項２】
前記圧電材料が、チタン酸バリウム、チタン酸ビスマスナトリウム、チタン酸ビスマスカリウム、ニオブ酸カリウムナトリウムから選択されるいずれか１種の単体または２種以上の固溶体を主成分とすることを特徴とする請求項１に記載の振動発生装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の振動発生装置の駆動方法であって、
前記交番電圧の周波数を変化させる速度を、前記圧電素子の共振周波数の変化速度よりも大きくすることを特徴とする振動発生装置の駆動方法。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の振動発生装置を有し、該振動発生装置による振動よって異物を除去することを特徴とする異物除去装置。
【請求項５】
請求項４に記載の異物除去装置を有し、該異物除去装置によって光路上の異物を除去することを特徴とする光学装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、つぎのように構成した振動発生装置、その駆動方法、異物除去装置および光学装置を提供するものである。
本発明の振動発生装置は、圧電材料で形成された圧電体を電極で挟持して構成された圧電素子と、
前記圧電素子が接合された振動体と、
前記圧電素子に交番電圧を印加する電源と、
を備え、前記電源による前記圧電素子への交番電圧の印加によって、前記振動体に振動を発生させる振動発生装置であって、
前記圧電素子は、交番電圧印加に伴なって共振周波数が高周波側に変化する圧電体によって構成され、
前記電源の印加による交番電圧の周波数を制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記圧電素子へ印加された交番電圧の周波数を制御することにより、前記圧電素子が有する共振周波数の変化範囲を包含する周波数範囲において、該圧電素子に印加する交番電圧の周波数を低周波数側から高周波数側に逐次変化させる構成を有することを特徴とする。
また、本発明の振動発生装置の駆動方法は、上記した振動発生装置の駆動方法であって、
前記交番電圧の周波数を変化させる速度を、前記圧電素子の共振周波数の変化速度よりも大きくすることを特徴とする。
また、本発明の異物除去装置は、上記した振動発生装置を有し、該振動発生装置によって所定の方向に異物を移動させて除去することを特徴とする。
また、本発明の光学装置は、上記した異物除去装置を有し、該異物除去装置によって光路上の異物を除去することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月18日(2013.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
施設に備えられる負荷に電力を供給する電力供給システムであって、
充電により電力を蓄え、放電により電力を供給する蓄電部と、
前記蓄電部の充電及び放電を行うことで、前記蓄電部の容量を測定する容量測定部と、を備え、
前記容量測定部が、前記施設の稼働予定を取得し、当該稼働予定に基づいて前記蓄電部の充電及び放電を行うタイミングを決定することを特徴とする電力供給システム。
【請求項２】
前記容量測定部が、前記蓄電部の完全充電及び完全放電を行うことで前記蓄電部の容量を測定し、前記施設の前記稼動予定に基づいて前記蓄電部の完全充電及び完全放電を行うタイミングを決定する、
請求項１に記載の電力供給システム。
【請求項３】
前記容量測定部が、前記蓄電部が前記完全充電された状態から前記完全放電された状態に至るまでに放電した電力に基づいて前記蓄電部の容量を求める、
請求項２に記載の電力供給システム。
【請求項４】
前記容量測定部が、前記蓄電部が前記完全放電された状態から前記完全充電された状態に至るまでに充電した電力に基づいて前記蓄電部の容量を求める、
請求項２に記載の電力供給システム。
【請求項５】
前記施設に、単位期間当たりに前記負荷が消費する電力量が大きい稼働期間と、単位期間当たりに前記負荷が消費する電力量が小さい非稼働期間と、があり、
前記容量測定部が、前記蓄電部の前記完全放電を行うタイミングとして、非稼働期間を優先する、
請求項２〜請求項４のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項６】
前記負荷で消費される電力量を予測する負荷需要量予測部をさらに備え、
前記負荷需要量予測部により、１つの非稼働期間に前記負荷で消費される電力量が、前記蓄電部の前記完全放電により供給される電力量よりも小さくなることが予測される場合、
前記容量測定部は、当該非稼働期間と、他の非稼働期間及び稼働期間の少なくとも１つと、で前記蓄電部の前記完全放電を行う、
請求項５に記載の電力供給システム。
【請求項７】
前記容量測定部は、１つの非稼働期間内、または、連続する複数の非稼働期間内で、前記蓄電部の前記完全充電及び前記完全放電を開始しかつ終了する、
請求項５または請求項６に記載の電力供給システム。
【請求項８】
前記負荷で消費される電力量を予測する負荷需要量予測部をさらに備え、
前記容量測定部は、前記蓄電部の前記完全充電の後に前記完全放電を行うものであり、
前記完全放電の後であり、かつ、直後の稼働期間内で、前記負荷需要量予測部により前記負荷で消費される単位時間当たりの電力量が他よりも大きくなると予測される時間帯よりも前に、前記蓄電部が充電される、
請求項５〜請求項７のいずれかに記載の電力供給システム。
【請求項９】
前記負荷で消費される電力量を予測する負荷需要量予測部をさらに備え、
前記容量測定部が、前記負荷需要量予測部により前記負荷で消費される単位時間当たりの電力量が小さくなると予測される時間帯に、前記蓄電部の前記完全充電を行い、
前記負荷需要量予測部により前記負荷で消費される単位時間当たりの電力量が大きくなると予測される時間帯に、前記蓄電部の前記完全放電を行う、
請求項２〜請求項８のいずれかに記載の電力供給システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明における電力供給システムは、施設に備えられる負荷に電力を供給する電力供給システムであって、充電により電力を蓄え、 放電により電力を供給する蓄電部と、前記蓄電部の充電及び放電を行うことで、前記蓄電部の容量を測定する容量測定部と、を備え、前記容量測 定部が、前記施設の稼働予定を取得し、当該稼働予定に基づいて前記蓄電部の充電及び放電を行うタイミングを決定することを特徴とする。前記容量測定部が、前記蓄電部の完全充電及び完全放電を行うことで前記蓄電部の容量を測定し、前記施設の前記稼動予定に基づいて前記蓄電部の完全充電及び完全放電を行うタイミングを決定しても構わない。また、前記容量測定部が、前記蓄電部が前記完全充電された状態から前記完全放電された状態に至るまでに放電した電力に基づいて前記蓄電部の容量を求めても構わない。逆に、前記容量測定部が、前記蓄電部が前記完全放電された状態から前記完全充電された状態に至るまでに充電した電力に基づいて前記蓄電部の容量を求めても構わない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明の構成とすると、施設の稼働予定に合わせて蓄電部の充電及び放電が行われる。そのため、蓄電部の容量学習を行うタイミングを適切化することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月19日(2013.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽電池モジュールを備えた太陽光発電システムが現在発電している電力を表示する電力モニタであって、
前記太陽電池モジュールの発電量を示す発電量データが定期的に蓄積されるデータ蓄積手段と、
ネットワークを介して気象情報の過去のデータ及び気象予報の最新データを取得する手段と、
前記データ蓄積手段に蓄積された発電量データのうちの予測対象時期に該当する分と、前記予測対象時期の前記気象情報の過去のデータとを基に、平年の前記予測対象時期における発電量を算出する手段と、
算出した前記平年の予測対象時期における発電量と、前記予測対象時期の前記気象予報の最新データとを基に、前記予測対象時期の前記太陽電池モジュールの発電量を予測する発電量予測手段と、
前記発電量予測手段の予測結果を表示する手段とを有することを特徴とする電力モニタ。
【請求項２】
前記発電量予測手段は、前記データ蓄積手段に蓄積された発電量データに基づいて算出される重み付け係数を用いて発電量を予測することを特徴とする請求項１に記載の電力モニタ。
【請求項３】
前記気象予報のデータは、日照量の平年比での多寡の確率、気温の平年比での高低の確率及び降水量の平年比での多寡の確率を示すデータであることを特徴とする請求項１又は２に記載の電力モニタ。
【請求項４】
前記気象予報のデータは、日照時間の平年比での多寡の確率を示すデータ、又は気温の平年比での高低の確率を示すデータ、又は降水量の平年比での多寡の確率を示すデータ、又はこれらの組み合わせデータであることを特徴とする請求項１又は２に記載の電力モニタ。
【請求項５】
前記発電量予測手段の予測結果に基づいて、商用電源との間の電力の売買量の予測値を算出する電力売買量予測手段と、
前記電力売買量予測手段の予測結果を表示する手段とを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の電力モニタ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月31日(2013.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータハウジングの外周に嵌着されるハウジングリングであって、
周方向において剛性が不均一に形成されてなるとともに、周方向各位置の剛性が、リング幅により設定されてなること、を特徴とするハウジングリング。
【請求項２】
請求項１に記載のハウジングリングにおいて、
周方向に間隔を空けて設けられた複数の高剛性部を有すること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項３】
請求項２に記載のハウジングリングにおいて、
前記各高剛性部は、周方向に不等間隔で形成されてなること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載のハウジングリングにおいて、
前記各高剛性部の数は、モータ磁極数の約数とは異なる値に設定されてなること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項５】
請求項１〜請求項４の何れか一項に記載のハウジングリングにおいて、
周方向各位置の剛性は、厚みにより設定されてなること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項６】
請求項１〜請求項５の何れか一項に記載のハウジングリングにおいて、
周方向各位置の剛性は、熱処理により設定されてなること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項７】
請求項１〜請求項６の何れか一項に記載のハウジングリングを備えたモータ。
【請求項８】
請求項７に記載のモータを備えた電動パワーステアリング装置。
【請求項９】
モータハウジングの外周に嵌着されるハウジングリングであって、
周方向に間隔を空けて設けられた複数の高剛性部を有して剛性が周方向において不均一に形成されてなるとともに、前記各高剛性部の数が、モータ磁極数の約数とは異なる値に設定されてなること、を特徴とするハウジングリング。
【請求項１０】
請求項９に記載のハウジングリングにおいて、
前記各高剛性部は、周方向に不等間隔で形成されてなること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０に記載のハウジングリングにおいて、
周方向各位置の剛性は、厚みにより設定されてなること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項１２】
請求項９〜請求項１１の何れか一項に記載のハウジングリングにおいて、
周方向各位置の剛性は、リング幅により設定されてなること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項１３】
請求項９〜請求項１２の何れか一項に記載のハウジングリングにおいて、
周方向各位置の剛性は、熱処理により設定されてなること、
を特徴とするハウジングリング。
【請求項１４】
請求項９〜請求項１３の何れか一項に記載のハウジングリングを備えたモータ。
【請求項１５】
請求項１４に記載のモータを備えた電動パワーステアリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記問題点を解決するために、請求項１に記載の発明は、モータハウジングの外周に嵌着されるハウジングリングであって、周方向において剛性が不均一に形成されてなるとともに、周方向各位置の剛性が、リング幅により設定されてなること、を要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
即ち、周方向の各位置において同様の歪み（変形）が生ずることにより、ハウジングリングの振動は増幅され、その共振による影響が顕在化しやすくなる。この点、上記構成によれば、モータ駆動時の磁気吸引力により生ずるハウジングリングの変形が周方向において不均一となる。その結果、同ハウジングリングの共振を抑えて、効果的にモータ振動を抑制することができる。そして、容易且つ確実に、周方向各位置の剛性を変化させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項５に記載の発明は、周方向各位置の剛性は、厚みにより設定されてなること、を要旨とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項６に記載の発明は、周方向各位置の剛性は、熱処理により設定されてなること、を要旨とする。
上記各構成によれば、容易且つ確実に、周方向各位置の剛性を変化させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜請求項６の何れか一項に記載のハウジングリングを備えたモータであること、を要旨とする。
上記構成によれば、振動を抑えて静粛性の高いモータを提供することができる。
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載のモータを備えた電動パワーステアリング装置であること、を要旨とする。
上記構成によれば、モータ振動を抑えて静粛性の高い電動パワーステアリング装置を提供することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項９に記載の発明は、モータハウジングの外周に嵌着されるハウジングリングであって、周方向に間隔を空けて設けられた複数の高剛性部を有して剛性が周方向において不均一に形成されてなるとともに、前記各高剛性部の数が、モータ磁極数の約数とは異なる値に設定されてなること、を要旨とする。
請求項１０に記載の発明は、前記各高剛性部は、周方向に不等間隔で形成されてなること、を要旨とする。
請求項１１に記載の発明は、周方向各位置の剛性は、厚みにより設定されてなること、を要旨とする。
請求項１２に記載の発明は、周方向各位置の剛性は、リング幅により設定されてなること、を要旨とする。
請求項１３に記載の発明は、周方向各位置の剛性は、熱処理により設定されてなること、を要旨とする。
請求項１４に記載の発明は、請求項９〜請求項１３の何れか一項に記載のハウジングリングを備えたモータであること、を要旨とする。
請求項１５に記載の発明は、請求項１４に記載のモータを備えた電動パワーステアリング装置であること、を要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月9日(2013.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の即席粥状食品の素の調製において、低粘度化うるち米アルファ化物に配合する澱粉分解物は、ＤＥ１〜２４の澱粉分解物を用いるが、該澱粉分解物として、ＤＥ１〜１８のデキストリンを用いることが特に好ましい。すなわち、デキストリンなどの澱粉分解物は、お粥の喫食中の状態変化を起こさせない性質を持つが、ＤＥが大きくなるとお粥に甘味性を与える傾向にある。おおよそ、ＤＥは１〜２４が使用可能で、ＤＥ１〜１８が、状態変化を起こさなく、甘味性が出なくお粥中の米の風味がすなおに出てより好ましい。また、α化した米粉とデキストリンなどの澱粉分解物の比は、澱粉分解物の含有量が多くなればなるほど、喫食中の粘度増加などの状態変化を抑えることができるが、澱粉分解物を多く添加しすぎると米本来の風味が薄れてしまい本発明の目的から外れる。よって、前記のとおり、低粘度化したうるち米のアルファ化物とデキストリンなどの澱粉分解物の比は、９０：１０〜４０：６０（α化した米粉９０〜４０重量部に対し、澱粉分解物１０〜６０部）が使用可能であるが、お粥の状態、米粉の組成により変えることができる。更に、９０：１０〜６０：４０（α化した米粉９０〜６０重量部に対し、澱粉分解物１０〜４０部）がより好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月10日(2013.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パイプ内に複数の磁石を整列させてなるシャフト形状の固定子と、該固定子の周りを周回するように巻回された複数のコイルを有する可動子と、を備えたシャフト型リニアモータであって、
前記パイプの内周部と前記磁石の外周部との間に空隙を設け、該空隙を冷却用流体を流すための冷却用流路としたことを特徴とするシャフト型リニアモータ。
【請求項２】
前記パイプの内周部の表面を凹凸形状とし、前記冷却用流路は前記パイプ内周部の凹部と前記磁石の外周部とによって形成される空隙であることを特徴とする請求項１に記載のシャフト型リニアモータ。
【請求項３】
前記磁石の外周部の表面を凹凸形状とし、前記冷却用流路は前記磁石外周部の凹部と前記パイプの内周部とによって形成される空隙であることを特徴とする請求項１または２に記載のシャフト型リニアモータ。
【請求項４】
前記パイプには、該パイプの外周部と前記冷却用流路を連通させた複数の連通孔が設けられていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のシャフト型リニアモータ。
【請求項５】
パイプ内に複数の磁石および磁性部材を整列させてなるシャフト形状の固定子と、該固定子の周りを周回するように巻回された複数のコイルを有する可動子と、を備えたシャフト型リニアモータであって、
前記パイプの内周部と前記磁石および前記磁性部材の外周部との間に空隙を設け、該空隙を冷却用流体を流すための冷却用流路としたことを特徴とするシャフト型リニアモータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】  請求項４に係る発明は、前記パイプには、該パイプの外周部と前記冷却用流路を連通させた複数の連通孔が設けられていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のシャフト型リニアモータである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月21日(2013.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に開口部を有するキャビティが設けられたベース基板と、前記キャビティ内に搭載された電子部品とを備え、前記ベース基板の上面にリッドが溶接されて、前記キャビティが封止された半導体パッケージであって、
前記リッドは、上面に前記ベース基板のキャビティの周壁部の位置に対応する矩形の枠状であって且つ同一高さの凸状部が設けられており、
前記リッドの凸状部は、該リッドの上面と直交方向の断面における外周形状が、上方に向かって先細り状に突起する三角形状もしくは円弧形状であること
を特徴とする半導体パッケージ。
【請求項２】
前記リッドは、該リッドの上面に第一のメタライズ層が設けられ、該リッドの下面に第二のメタライズ層が設けられ、該ベース基板における前記キャビティの周壁部の上面に第三のメタライズ層が設けられていること
を特徴とする請求項１記載の半導体パッケージ。
【請求項３】
前記リッドの第一のメタライズ層は、隣接する一の前記キャビティの周壁部に対応する位置の凸状部と、他の前記キャビティの周壁部に対応する位置の凸状部との間が、不連続に形成されていること
を特徴とする請求項１または請求項２記載の半導体パッケージ。
【請求項４】
上面に開口部を有するキャビティが設けられたベース基板を準備する工程と、
前記キャビティ内に電子部品を搭載する工程と、
前記ベース基板の上面にリッドの溶接を行って、前記キャビティを封止する工程と、を備える半導体パッケージの製造方法であって、
前記リッドは、上面に前記ベース基板のキャビティの周壁部の位置に対応する矩形の枠状であって且つ同一高さの凸状部が設けられており、
前記溶接を行う工程は、一対の電極を用いて、該一対の電極のそれぞれを対向する二辺をなす凸状部の上端部に接触させながら、該一対の電極間に電流を流して溶接を行う工程を有し、
前記リッドの凸状部は、該リッドの上面と直交方向の断面における外周形状が、上方に向かって先細り状に突起する三角形状もしくは円弧形状であり、
前記一対の電極は、接触面が円筒形状を有するローラ電極であり、
前記ローラ電極の、前記リッドの凸状部との接触面は軸方向において同径であること
を特徴とする半導体パッケージの製造方法。
【請求項５】
前記リッドは、該リッドの上面に第一のメタライズ層が設けられ、該リッドの下面に第二のメタライズ層が設けられ、該ベース基板における前記キャビティの周壁部の上面に第三のメタライズ層が設けられていること
を特徴とする請求項４記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項６】
前記リッドの第一のメタライズ層は、隣接する一の前記キャビティの周壁部に対応する位置の凸状部と、他の前記キャビティの周壁部に対応する位置の凸状部との間が、不連続に形成されていること
を特徴とする請求項４または請求項５記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項７】
前記ローラ電極と、前記リッドの凸状部とが点接触すること
を特徴とする請求項４〜６のいずれか一項記載の半導体パッケージの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
開示の半導体パッケージは、上面に開口部を有するキャビティが設けられたベース基板と、前記キャビティ内に搭載された電子部品とを備え、前記ベース基板の上面にリッドが溶接されて、前記キャビティが封止された半導体パッケージであって、前記リッドは、上面に前記ベース基板のキャビティの周壁部の位置に対応する矩形の枠状であって且つ同一高さの凸状部が設けられており、前記リッドの凸状部は、該リッドの上面と直交方向の断面における外周形状が、上方に向かって先細り状に突起する三角形状もしくは円弧形状であることを要件とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
開示の半導体パッケージによれば、製造工程において複数のパッケージを一括で封止することができる。これにより、パッケージ毎に封止を行う場合と比較して、タクトタイムが低減でき、製造コストを低減することが可能となる。また、複数のパッケージを一括で封止する際に、接触面が円筒形状のローラ電極を用いてシーム溶接を行うことができる。これにより、先端が尖ったローラ電極を用いてシーム溶接を行う場合と比較して、電極の交換サイクルを長くすることができ、製造コストを低減することが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
なお、本実施形態におけるベース基板１０は、キャビティの周壁部と隣接する他のキャビティの周壁部との間に、有底のスリット部１５が設けられている。
これによれば、後述のパッケージを個片化する工程において、切断作業を容易化できると共に、製品へのダメージを軽減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月20日(2013.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動回路と、
第１のトランジスタと、
第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のトランジスタは、酸化物半導体を有し、
前記第２のトランジスタは、シリコンを有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第２のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、スイッチを介して、前記駆動回路と電気的に接続されている
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
駆動回路と、
第１のトランジスタと、
第２のトランジスタと、
絶縁膜と、を有し、
前記第１のトランジスタは、酸化物半導体を有し、
前記第２のトランジスタは、シリコンを有し、
前記絶縁膜は、前記酸化物半導体と、前記シリコンとの間にあり、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記絶縁膜の開口部を介して、前記第２のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、スイッチを介して、前記駆動回路と電気的に接続されている
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
駆動回路と、
シリコンと、
酸化物半導体と、
第１の導電膜と、
第２の導電膜と、
第３の導電膜とを有し、
前記第１の導電膜は、前記シリコンを有する第２のトランジスタのゲートとして機能する領域を有し、
前記第２の導電膜は、前記酸化物半導体を有する第１のトランジスタのソース又はドレインとして機能する領域を有し、
前記第２の導電膜と、前記酸化物半導体と、前記第３の導電膜とが重なる領域に容量を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第２のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、スイッチを介して、前記駆動回路と電気的に接続されている
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２のトランジスタは、ｎ型を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２のトランジスタは、ｐ型を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月20日(2013.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のトランジスタと、
第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のトランジスタは、酸化物半導体を有し、
前記第２のトランジスタは、シリコンを有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインは、前記第２のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１のトランジスタと、
第２のトランジスタと、
絶縁膜と、を有し、
前記第１のトランジスタは、酸化物半導体を有し、
前記第２のトランジスタは、シリコンを有し、
前記絶縁膜は、前記酸化物半導体と、前記シリコンとの間にあり、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインは、前記絶縁膜の開口部を介して、前記第２のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有する
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
シリコンと、
酸化物半導体と、
第１の導電膜と、
第２の導電膜と、
第３の導電膜とを有し、
前記第１の導電膜は、前記シリコンを有する第２のトランジスタのゲートとして機能する領域を有し、
前記第２の導電膜は、前記酸化物半導体を有する第１のトランジスタのソース又はドレインとして機能する領域を有し、
前記第２の導電膜と、前記酸化物半導体と、前記第３の導電膜とが重なる領域に容量を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインは、前記第２のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２のトランジスタは、ｎ型を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２のトランジスタは、ｐ型を有することを特徴とする半導体装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年6月12日(2013.6.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１のウエハ（２０）と第２のウエハ（３０）との間を分子接着接合する方法であって、少なくとも機械的位置合せのステップと、前記２つのウエハ（２０、３０）を接触させるステップと、前記２つのウエハの間の接合波の伝播を開始するステップと、を含む、方法において、
機械的位置合せの前記ステップ及び前記２つのウエハを接触させる前記ステップの間、前記ウエハが、所定圧力閾値以上の第１の圧力（Ｐ１）の接合装置のチャンバ内に配置され、
接合波の伝播を開始する前記ステップの間、前記ウエハ（２０、３０）が、前記接合波を自発的に開始するように、前記所定圧力閾値未満かつ１ミリバール未満の第２の圧力（Ｐ２）の前記接合装置の前記チャンバ内に配置され、
前記２つのウエハは、少なくとも前記２つのウエハを接触させる前記ステップの始めから接合波の伝播を開始する前記ステップの終わりまでの間、前記接合装置の前記チャンバ内に配置されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記所定の圧力閾値が２０ミリバール以下５ミリバール以上であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記機械的位置合せ及び前記２つのウエハ（２０、３０）を接触させる前記ステップの前に、前記２つのウエハの間の空間を維持するように前記２つのウエハの間に少なくとも３つのスペーサ要素（４１、４２、４３）を介在させると同時に、前記ウエハが互いに面するように配置され、前記機械的位置合せ及び前記２つのウエハ（２０、３０）を接触させる前記ステップが、
前記スペーサ要素のうちの１つ（４１）を後退させるステップと、
前記２つのウエハ（２０、３０）に対して、前記２つのウエハを互いに対して位置合せするように、プッシャ（４４）によって第１の横方向力を加えるステップであって、前記ウエハが少なくとも１つの保持フィンガ（４５；４６）によって保持されている、ステップと、
他のスペーサ要素（４２、４３）を後退させるステップと、
前記プッシャ（４４）を後退させるステップと、
前記２つのウエハ（２０、３０）に対して前記プッシャ（４４）によって第２の横方向力を加えるステップと、
前記プッシャ（４４）を後退させるステップと
を含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
第１のウエハ（１００）の第１の面（１０１）の上に第１の一連のマイクロコンポーネント（１１０）を製作するステップと、少なくとも機械的位置合せのステップ、及び前記第１の一連のマイクロコンポーネントを備えた前記第１のウエハ（１００）の前記第１の面を第２のウエハ（２００）の面と接触させるステップとを含み、その後に、前記２つのウエハ（１００、２００）の間の接合波の伝播を開始するステップが続く、３次元複合構造（３００）を製造する方法において、機械的位置合せの前記ステップ、前記ウエハを接触させる前記ステップ、及び前記ウエハの間の接合波の伝播を開始する前記ステップが、請求項１〜３のいずれか一項に記載の接合方法に従って行われることを特徴とする方法。
【請求項５】
前記接合ステップの後、前記第１のウエハ（１００）を薄層化して層（１００ａ）を形成するステップを含むことを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記層（１００ａ）の、前記第１の一連のマイクロコンポーネント（１１０）を備えた前記面と反対側の面（１０２）に、第２の一連のマイクロコンポーネント（１４０）を製作するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記接合するステップの前に、前記第１の基板（１００）の前記第１の一連のマイクロコンポーネント（１１０）を備えた前記面の上に、酸化物層を形成するステップを含むことを特徴とする、請求項４〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の基板（１００）がＳＯＩ型の構造であることを特徴とする、請求項４〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
少なくとも前記第１の一連のマイクロコンポーネント（１１０）がイメージセンサを備えることを特徴とする、請求項４〜８のいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
本発明の一態様によれば、所定圧力閾値は２０ミリバール以下５ミリバール以上である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
より正確には、上述したように、機械的位置合せ及びウエハを接触させるステップの間に接合伝播が開始しないように、第１の圧力Ｐ１は、所定圧力閾値を上回り、たとえば２０ｍｂａｒ以下５ｍｂａｒ以上にある。特に、ステップＳ３以降、ウエハ３０の接合面３１の一部は、ウエハ２０の接合面２１に接触している。したがって、この瞬間以降、ウエハが、圧力が圧力閾値を下回る環境に配置されたとすると、ウエハの処理中、特にプッシャとウエハとの接触中、又はプッシャがウエハ３０をウエハ２０上に下降させるように後退する時、ウエハに加えられるいかなる接触又は衝撃も、接合波の伝播の開始をもたらしやすくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月5日(2013.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両眼視差を利用してオブジェクトを立体表示する表示手段を備える表示装置であって、
左眼用及び右眼用の画像内のオブジェクトの奥行きの情報を取得する取得手段と、
画質を調整する奥行き範囲及び画質調整パラメータを受信する受信手段と、
前記左眼用及び右眼用の画像内の前記奥行き範囲に対応する領域について、前記画質調整パラメータに従い画質を調整する調整手段と、
前記奥行き範囲を示す所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を生成する生成手段と、を備え、
前記表示手段は、前記生成手段により生成された前記所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を、前記画質調整がなされた左眼用及び右眼用の画像とともに表示することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
両眼視差を利用してオブジェクトを立体表示する表示手段を備える表示装置であって、
左眼用及び右眼用の画像内のオブジェクトの奥行きの情報を取得する取得手段と、
画質を調整する奥行き範囲及び画質調整パラメータを受信する受信手段と、
前記左眼用及び右眼用の画像内の前記奥行き範囲に含まれるオブジェクトについて、前記画質調整パラメータに従い画質を調整する調整手段と、
前記奥行き範囲を示す所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を生成する生成手段と、を備え、
前記表示手段は、前記生成手段により生成された前記所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を、前記画質調整がなされた左眼用及び右眼用の画像とともに表示することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
前記所定のオブジェクトは、前記奥行き範囲の長さ分の奥行きを有するオブジェクトであることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記画質調整パラメータは、シャープネス、明度、及びコントラストの少なくともいずれかのパラメータであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
両眼視差を利用してオブジェクトを立体表示する表示手段を備える表示装置の制御方法であって、
取得手段が、左眼用及び右眼用の画像内のオブジェクトの奥行きの情報を取得する取得工程と、
受信手段が、画質を調整する奥行き範囲及び画質調整パラメータを受信する受信工程と、
調整手段が、前記左眼用及び右眼用の画像内の前記奥行き範囲に対応する領域について、前記画質調整パラメータに従い画質を調整する調整工程と、
生成手段が、前記奥行き範囲を示す所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を生成する生成工程と、
前記表示手段が、前記生成工程において生成された前記所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を、前記画質調整がなされた左眼用及び右眼用の画像とともに表示する表示工程と、を備えることを特徴とする表示装置の制御方法。
【請求項６】
両眼視差を利用してオブジェクトを立体表示する表示手段を備える表示装置の制御方法であって、
取得手段が、左眼用及び右眼用の画像内のオブジェクトの奥行きの情報を取得する取得工程と、
受信手段が、画質を調整する奥行き範囲及び画質調整パラメータを受信する受信工程と、
調整手段が、前記左眼用及び右眼用の画像内の前記奥行き範囲に含まれるオブジェクトについて、前記画質調整パラメータに従い画質を調整する調整工程と、
生成手段が、前記奥行き範囲を示す所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を生成する生成工程と、
前記表示手段が、前記生成工程において生成された前記所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を、前記画質調整がなされた左眼用及び右眼用の画像とともに表示する表示工程と、を備えることを特徴とする表示装置の制御方法。
【請求項７】
前記所定のオブジェクトは、前記奥行き範囲の長さ分の奥行きを有するオブジェクトであることを特徴とする請求項５または６に記載の表示装置の制御方法。
【請求項８】
前記画質調整パラメータは、シャープネス、明度、及びコントラストの少なくともいずれかのパラメータであることを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の表示装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前述の目的を達成するために、本発明の表示装置は、以下の構成を備える。
両眼視差を利用してオブジェクトを立体表示する表示手段を備える表示装置であって、左眼用及び右眼用の画像内のオブジェクトの奥行きの情報を取得する取得手段と、画質を調整する奥行き範囲及び画質調整パラメータを受信する受信手段と、左眼用及び右眼用の画像内の奥行き範囲に対応する領域について、画質調整パラメータに従い画質を調整する調整手段と、奥行き範囲を示す所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を生成する生成手段と、を備え、表示手段は、生成手段により生成された所定のオブジェクトを立体表示する左眼用及び右眼用の画像を、画質調整がなされた左眼用及び右眼用の画像とともに表示することを特徴とする。