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【手続補正書】
【提出日】平成25年7月3日(2013.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層方向に貫通する貫通孔を内部に有するよう、金属と熱電材料が交互に積層され、前記貫通孔の貫通方向に平行な断面において、前記貫通方向に対して、前記金属と熱電材料の積層面が傾斜している積層体を用意する第1工程と、
前記金属と前記熱電材料を接合する第2工程と、
前記積層体の両端に第1電極と第2電極とを配置する第3工程と、
を具備する、熱発電デバイスの製造方法。
【請求項２】
前記第2工程を前記第1工程と共に行う、請求項１に記載の熱発電デバイスの製造方法。
【請求項３】
前記金属および熱電材料が、内側面、外側面および貫通孔の軸に対して一定の角度を有する2つのテーパー面からなる、請求項２に記載の熱発電デバイスの製造方法。
【請求項４】
前記積層された金属と熱電材料の塑性加工を行うことで、前記第2工程を前記第1工程と共に行う、請求項１または２に記載の熱発電デバイスの製造方法。
【請求項５】
積層方向に貫通する貫通孔を内部に有するよう、金属と熱電材料が交互に積層され、前記貫通孔の貫通方向に平行な断面において、前記貫通方向に対して、前記金属と熱電材料と傾斜している積層体を用意する工程と、
前記金属と前記熱電材料を接合する工程と、
を具備する、熱発電デバイスの積層体の製造方法。
【請求項６】
積層方向に貫通する貫通孔を内部に有し、前記貫通孔の貫通方向に平行な断面において、
前記貫通方向に対して、積層面が傾斜している金属を、前記積層方向に空間を設けて積層する工程と、
前記空間に熱電材料を充填する工程と、
前記積層体の両端に第１電極と第２電極とを配置する工程と、
を具備する、熱発電デバイスの製造方法。
【請求項７】
パイプ型熱発電デバイスの製造方法であって、
下端に第１貫通孔を有し、その下端の方向に断面積が減少する、金属からなる複数の第１カップ状部材と、下端に第２貫通孔を有し、その下端の方向に断面積が減少する、熱電材料からなる複数の第２カップ状部材とを交互に繰り返し配置することにより、複数の第１貫通孔および複数の第２貫通孔から構成される内部貫通孔を有するパイプを形成する工程（ａ）と、
前記パイプを、前記パイプの長手方向に沿って前記パイプが圧縮される方向に圧力を印加しながら焼結することにより、積層体を形成する工程（ｂ）と、
前記積層体の一端に第１電極を、他端に第２電極を配置することにより、パイプ型熱発電デバイスを形成する工程（ｃ）と、
を有するパイプ型熱発電デバイスの製造方法。
【請求項８】
工程（ａ）において、前記パイプは、
第１内面および第１外面を有する複数の前記第１カップ状部材と、第２内面および第２外面を有する複数の前記第２カップ状部材とを、
各第１カップ状部材が、各第１カップ状部材の第１外面が隣接する一方の第２カップ状部材の第２内面に接するように、隣接する一方の第２カップ状部材に挿入され、
前記隣接する他方の第２カップ状部材が、各第１カップ状部材の第１内面が隣接する他方の第２カップ状部材の第２外面に接するように、各第１カップ状部材に挿入されることにより形成される、
請求項７に記載のパイプ型熱発電デバイスの製造方法。
【請求項９】
パイプ型熱発電デバイスの製造方法であって、
第１貫通孔を有し、金属からなる複数の第１平板状部材と、第２貫通孔を有し、熱電材料からなる複数の第２平板状部材とを交互に繰り返し配置することにより、複数の第１貫通孔および複数の第２貫通孔から構成される内部貫通孔を有するパイプを準備する工程（ｄ）と、
前記パイプを焼結する間、前記パイプの長手方向に沿って前記パイプが圧縮される方向と同時に、前記パイプの長手方向に沿って前記内部貫通孔の中心が押し出される方向または引き抜かれる方向に圧力を印加することにより、積層体を形成する工程（ｅ）と、
前記積層体の一端に第１電極を、他端に第２電極を配置することにより、パイプ型熱発電デバイスを形成する工程（ｆ）と、
を有するパイプ型熱発電デバイスの製造方法。
【請求項１０】
工程（ｅ）において、前記パイプを構成する第１平板状部材および第２平板状部材の各接合面が前記パイプの長手方向に沿って傾斜する、前記積層体が形成される、
請求項９に記載のパイプ型熱発電デバイスの製造方法。
【請求項１１】
パイプ型熱発電デバイスの製造方法であって、
第１貫通孔を有し、金属からなる複数の第１平板状部材と、第２貫通孔を有し、熱電材料からなる複数の第２平板状部材とを交互に繰り返し配置することにより、複数の第１貫通孔および複数の第２貫通孔から構成される内部貫通孔を有するパイプを準備する工程（ｇ）と、
前記パイプを焼結する間、前記パイプの長手方向に沿って前記パイプが圧縮される方向に圧力を印加することにより、第１積層体を形成する工程（ｈ）と、
前記第１積層体を塑性加工する間、前記パイプの長手方向に沿って前記内部貫通孔の中心が押し出されるまたは引き抜かれる方向に圧力を印加することにより、第２積層体を形成する工程（ｉ）と、
前記第２積層体の一端に第１電極を、他端に第２電極を配置することにより、パイプ型熱発電デバイスを形成する工程（ｊ）と、
を有するパイプ型熱発電デバイスの製造方法。
【請求項１２】
工程（ｉ）において、前記パイプを構成する第１平板状部材および第２平板状部材の各接合面が前記パイプの長手方向に沿って傾斜する、前記第２積層体が形成される、
請求項１１に記載のパイプ型熱発電デバイスの製造方法。
【請求項１３】
パイプ型熱発電デバイスの製造方法であって、
下端に貫通孔を有し、その下端の方向に断面積が減少する金属からなる複数のカップ状部材を、空間を設けながら配置することにより、複数の貫通孔から構成される内部貫通孔を有するパイプを形成する工程（ｋ）と、
前記パイプの各前記空間に熱電材料からなる流動体を充填することにより、積層体を形成する工程（ｌ）と、
前記積層体の一端に第１電極を、他端に第２電極を配置することにより、パイプ型熱発電デバイスを形成する工程（ｍ）と、
を有するパイプ型熱発電デバイスの製造方法。
【請求項１４】
工程（ｋ）において、前記パイプは、
第１内面および第１外面を有する複数の前記カップ状部材を、
各カップ状部材が、各カップ状部材の第１外面と隣接する一方のカップ状部材の第１内面との間に空間が設けられるように、隣接する一方のカップ状部材に挿入され、
前記隣接する他方のカップ状部材が、各カップ状部材の第１内面と隣接する他方のカップ状部材の第１外面との間に空間が設けられるように、各カップ状部材に挿入されることにより形成される、
請求項１３に記載のパイプ型熱発電デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月16日(2013.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
次に、接合された本体ウェハ１と蓋ウェハ７を貫通孔１７に沿ってダイシングする。これにより、実施の形態３に係る半導体装置が製造される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月31日(2013.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被着体上にフリップチップ接続される半導体素子の裏面に配設されるフリップチップ型半導体裏面用フィルムであって、
接着剤層と、この接着剤層上に積層された保護層とを備え、
前記保護層は、金属で構成されているフリップチップ型半導体裏面用フィルム。
【請求項２】
前記金属が、アルミニウム、アルマイト、ステンレス、鉄、チタン、スズ及び銅からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１に記載のフリップチップ型半導体裏面用フィルム。
【請求項３】
前記保護層の前記接着剤層側の表面に対して表面活性化処理が施されている請求項１又は２に記載のフリップチップ型半導体裏面用フィルム。
【請求項４】
前記表面活性化処理が、プラズマ処理、オゾン水処理、紫外線オゾン処理及びイオンビーム処理からなる群より選択される少なくとも１種の処理である請求項３に記載のフリップチップ型半導体裏面用フィルム。
【請求項５】
基材上に粘着剤層が積層されたダイシングテープと、
前記粘着剤層上に、前記保護層側を向けて積層された請求項１〜４のいずれか１に記載のフリップチップ型半導体裏面用フィルムと
を備えるダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム。
【請求項６】
請求項５に記載のダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルムにおけるフリップチップ型半導体裏面用フィルム上に半導体ウェハを貼着する工程と、
前記半導体ウェハをダイシングして半導体素子を形成する工程と、
前記半導体素子を前記フリップチップ型半導体裏面用フィルムとともに、ダイシングテープの粘着剤層から剥離する工程と、
前記半導体素子における被着体との接続用部材にフラックスを付着させる工程と、
前記半導体素子を前記被着体上にフリップチップ接続する工程と
を具備する半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月22日(2013.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導光板と、該導光板の一側端面に配置される光源とを含み、前記導光板の出射面側に、多条のプリズムが平行に配置された、下向きプリズムシートと上向きプリズムシートとが、互いのプリズムの稜線を交差させるようにして積層され、かつ、前記下向きプリズムシートの各プリズムを構成する一対の傾斜面の傾斜角度が、対向する傾斜面で異なるように構成されていることを特徴とする面状照明装置。
【請求項２】
前記下向きプリズムシートの多条のプリズムの断面形状が、前記下向きプリズムシートの全体にわたり同一であることを特徴とする請求項１記載の面状照明装置。
【請求項３】
前記下向きプリズムシートの各プリズムを構成する一対の傾斜面の傾斜角度は、組み合わせて用いられる液晶表示装置の、表示面の光透過率の偏りに起因する輝度の偏りを補完する態様で、形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の面状照明装置。
【請求項４】
前記下向きプリズムシートの多条のプリズムの延在方向が、前記導光板の光源が配置された入光面と直交するように配置されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の面状照明装置。
【請求項５】
前記導光板の射出面から、前記下向きプリズムシート、前記上向きプリズムシートの順に配置されることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の面状照明装置。
【請求項６】
前記上向きプリズムシートに換えて、下向きプリズムシートが、もう一枚の下向きプリズムシートに対しプリズムの稜線を交差させるようにして配置されていることを特徴とする請求項５記載の面状照明装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（６）上記（５）項において、前記上向きプリズムシートに換えて、下向きプリズムシートが、もう一枚の下向きプリズムシートに対しプリズムの稜線を交差させるようにして配置されている面状照明装置（請求項６）。
本項に記載の面状照明装置は、導光板の出射面からの出射光が、上記（５）項の面状照明装置の上向きプリズムシートに換えて配置される下向きプリズムシートにより、そのプリズムの稜線が延びる方向と直交する方向へと偏向されるので、もう一枚の下向きプリズムシートの、上向きプリズムシートに換えて配置される下向きプリズムシートのプリズムと交差する方向に延びる多条のプリズムの各々による偏向作用と併せて、四峰性が現れる（発光面の全体のうちの四点にピークが生じる。）ものとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月21日(2013.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る加熱調理器は、被加熱物を載置する天板と、この天板で上部開口部が覆われた本体と、を備え、本体は、被加熱物を誘導加熱する複数の加熱コイルと、この複数の加熱コイルの駆動を制御する制御回路を搭載した基板と、この基板及び加熱コイルより上流側に冷却ファンを有し、この冷却ファンの吸引力で外気を吸引して、この外気で基板及び加熱コイルを冷却する風路と、風路の冷却ファンよりも上流側に水の冷却ファンへの浸入を防止する水浸入防止構造とを備えたものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を載置する天板と、この天板で上部開口部が覆われた本体と、を備え、
前記本体は、前記被加熱物を誘導加熱する複数の加熱コイルと、
この複数の加熱コイルの駆動を制御する制御回路を搭載した基板と、
この基板及び前記加熱コイルより上流側に冷却ファンを有し、この冷却ファンの吸引力で外気を吸引して、この外気で前記基板及び前記加熱コイルを冷却する風路と、
前記風路の前記冷却ファンよりも上流側に水の前記冷却ファンへの浸入を防止する水浸入防止構造と、を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記風路は、前記本体の後方上部に形成された吸気口と、この吸気口から下方に延設された吸気ダクトと、この吸気ダクトと連通し、前記冷却ファンを収容し、下部に排水口を有するファンケーシングとを備え、
前記吸気ダクトは、側壁と、背壁と、この背壁よりも長さの短い前壁とから構成された水平断面の形状が矩形状のダクトであり、
前記冷却ファンは、複数の羽根を放射状且つ均等に配設して構成された円筒状の羽根部を備え、
前記水浸入防止構造は、前記羽根部の一部を覆う水浸入防止部材と、前記吸気ダクトの前壁の内面に設けられ、前記吸気ダクトの内側を向き、斜め下方に突出した板状のリブと、を備え、
前記水浸入防止部材は、少なくとも、前記吸気ダクトの前壁の下端と前記ファンケーシングの上部との接続部付近と前記排水口より外側の上方とを結ぶ直線と、前記羽根部の円筒で囲まれた部分を覆うことを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記板状のリブは、前記吸気ダクトの前壁の内面の上下方向に複数並設されることを特徴とする請求項２記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記風路は、前記本体の後方上部に形成された吸気口と、この吸気口から下方に延設された吸気ダクトと、この吸気ダクトと連通し、前記冷却ファンを収容し、下部に排水口を有するファンケーシングとを備え、
前記吸気ダクトは、側壁とこの側壁とほぼ同じ長さの背壁とこの背壁よりも長さの短い前壁とから構成された水平断面の形状が矩形状のダクトであり、
前記冷却ファンは、複数の羽根を放射状且つ均等に配設して構成された円筒状の羽根部を備え、
前記水浸入防止構造は、前記吸気ダクトの前壁の下端と前記ファンケーシングの上部の接続部付近と前記排水口より外側の上方とを結ぶ直線と、前記羽根部の円筒で囲まれた部分とを少なくとも覆う水浸入防止部材と、前記ファンケーシングの、前記排水口より外側と前記直線の前記排水口側の端部との間の内面に立設した板状のリブと、を備えたことを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
【請求項５】
前記リブの形状は、平板状であることを特徴とする請求項４記載の加熱調理器。
【請求項６】
前記リブの断面形状はほぼ弧状であり、前記弧状の凹部側の開口が水浸入方向に向いていることを特徴とする請求項４記載の加熱調理器。
【請求項７】
前記水浸入防止部材は、前記リブの上方に前記リブを覆うように配置された別の板状のリブを備えたことを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載の加熱調理器。
【請求項８】
前記風路は、前記本体の後方上部に形成された吸気口と、この吸気口から下方に延設された吸気ダクトと、この吸気ダクトと連通し、前記冷却ファンを収容し、下部に排水口を有するファンケーシングとを備え、
前記吸気ダクトは、側壁とこの側壁とほぼ同じ長さの背壁とこの背壁よりも長さの短い前壁とから構成された水平断面の形状が矩形状のダクトであり、
前記冷却ファンは、複数の羽根を放射状且つ均等に配設して構成された円筒状の羽根部を備え、
前記水浸入防止構造は、前記羽根部の一部を覆う水浸入防止部材と、この水浸入防止部材の前記排水口より上流側の底面から下方に立設した１つ以上の板状のリブと、を備え、
前記水浸入防止部材は、少なくとも、前記吸気ダクトの前壁の下端と前記ファンケーシングの上部との接続部付近と前記排水口より外側の上方とを結ぶ直線と、前記羽根部の円筒で囲まれた部分を覆うことを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
【請求項９】
前記水浸入防止部材の下部に錘を備え、
前記水浸入防止部材は、前記羽根の回転軸を中心として回動可能であることを特徴とする請求項７記載の加熱調理器。
【請求項１０】
前記風路は、前記本体の後方上部に形成された吸気口と、この吸気口から下方に延設された吸気ダクトと、この吸気ダクトと連通し、前記冷却ファンを収容し、下部に排水口を有するファンケーシングとを備え、
前記吸気ダクトは、側壁とこの側壁とほぼ同じ長さの背壁とこの背壁よりも長さの短い前壁とから構成された水平断面の形状が矩形状のダクトであり、
前記冷却ファンは、複数の羽根を放射状且つ均等に配設して構成された円筒状の羽根部を備え、
前記水浸入防止構造は、前記羽根部の一部を覆う水浸入防止部材と、前記ファンケーシングの前記排水口の上流側の底部の内面に立設した１つ以上の板状のリブと、を備え、
前記水浸入防止部材は、少なくとも、前記吸気ダクトの前壁の下端と前記ファンケーシングの上部との接続部付近と前記排水口より外側の上方とを結ぶ直線と、前記羽根部の円筒で囲まれた部分を覆うことを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
【請求項１１】
前記ファンケーシングは、前記１つ以上のリブを隠し、水などの重量物によって重力方向に押し込まれたときには、前記リブが突出するように沈み込む弾性部材を備えたことを特徴とする請求項１０記載の加熱調理器。
【請求項１２】
前記ファンケーシングの底部であって前記排水口の上流側に別の排水口を設けたことを特徴とする請求項２〜１１のいずれかに記載の加熱調理器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月26日(2013.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室内に設けられた高周波アンテナと、プラズマを生成するためのガスを前記プラズマ生成室内に導入するプラズマ生成ガス導入手段と、前記プラズマ生成室と連通するプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内に処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、を備えるプラズマ処理装置において、
前記プラズマ生成室内に設けられ、前記高周波アンテナとの距離を変更可能なプラズマ制御板と、
前記プラズマ制御板を移動させるための移動手段と、
を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記プラズマ生成室が、複数備わっていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記プラズマ生成室と前記プラズマ処理室の間に差圧を生成する差圧生成手段を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記差圧生成手段が、貫通孔を多数有する板材を前記プラズマ生成室と前記プラズマ処理室の境界に設けたものであることを特徴とする請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記板材の前記プラズマ処理室側の面に、前記処理ガスを導入するための処理ガス導入孔が設けられていることを特徴とする請求項４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記板材が、前記プラズマ処理室の同一の壁面に一定の間隔をおいて設けられた複数の前記プラズマ生成室を覆うものであり、該板材の、各プラズマ生成室の間の領域において、プラズマ処理室内の排気を行うための排気手段及び該排気手段の排気量の調整を行うための排気量調整手段が設けられていることを特徴とする請求項４又は５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
複数の前記プラズマ生成室が、前記プラズマ処理室の壁面に一定の間隔をおいて設けられ、これらのプラズマ生成室の間に、プラズマ処理室内の排気を行うための排気手段及び該排気手段の排気量の調整を行うための排気量調整手段が設けられていることを特徴とする請求項２又は５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室内に設けられた高周波アンテナと、プラズマを生成するためのガスを前記プラズマ生成室内に導入するプラズマ生成ガス導入手段と、前記プラズマ生成室と連通するプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内に処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、を備えるプラズマ処理装置において、
前記プラズマ生成室が、前記プラズマ処理室の壁面に一定の間隔をおいて複数設けられ、
複数の前記プラズマ生成室の間に、プラズマ処理室内の排気を行うための排気手段及び該排気手段の排気量の調整を行うための排気量調整手段が設けられている
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記プラズマ生成室と前記プラズマ処理室の間に差圧を生成する差圧生成手段を備えることを特徴とする請求項８に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記差圧生成手段が、貫通孔を多数有する板材を前記プラズマ生成室と前記プラズマ処理室の境界に設けたものであることを特徴とする請求項９に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
前記板材の前記プラズマ処理室側の面に、前記処理ガスを導入するための処理ガス導入孔が設けられていることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１２】
前記板材が、前記プラズマ処理室の同一の壁面に設けられた複数の前記プラズマ生成室を覆うものであることを特徴とする請求項１０又は１１に記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係るプラズマ処理装置は、プラズマ生成室内に設けられたプラズマ制御板と該プラズマ生成室内の高周波アンテナの間の距離を調整することで、プラズマの電子エネルギー分布を制御するというものである。高周波アンテナにプラズマ制御板を近づけると、プラズマ生成室内で生成されたプラズマ中の電子が該プラズマ制御板との衝突によって消滅し、電子密度が低下する。この電子密度の低下によりプラズマ内の電子同士の衝突が減少するため、プラズマ内には高いエネルギーの電子が多く残ることになる。これにより電子エネルギー分布において高エネルギー領域の電子の割合が増加する。このようにプラズマ制御板と高周波アンテナの間の距離を調整するだけで電子エネルギー分布を制御することができるため、ガス分子の種類に応じてその解離度を制御することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の上に、ソース電極と、ドレイン電極と、酸化物半導体からなり前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に位置するチャネルと、ゲート絶縁層と、ゲート電極層と、保護層と、を有すると共に、前記基板と、前記チャネルと、前記ゲート絶縁層と、前記ゲート電極と、前記保護層と、がこの順に積層されたトップゲート型薄膜トランジスタであって、
前記保護層が水素を含有し、
前記ゲート電極は、Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種類の元素を含むアモルファス酸化物半導体からなることを特徴とするトップゲート型薄膜トランジスタ。
【請求項２】
前記ゲート電極は、Ｉｎ、Ｓｎ及びＺｎから選ばれる少なくとも１種類の元素と、Ｇａと、を含むアモルファス酸化物半導体であることを特徴とする請求項１に記載のトップゲート側薄膜トランジスタ。
【請求項３】
前記ゲート電極は、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系アモルファス酸化物半導体である請求項１又は２に記載のトップゲート側薄膜トランジスタ。
【請求項４】
前記ソース電極と、前記ドレイン電極と、前記チャネルと、が共通の金属元素を含有する金属酸化物から構成され、
前記ソース電極と、前記ドレイン電極とは、前記チャネルよりも水素含有量が高く電気抵抗が低いことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のトップゲート型薄膜トランジスタ。
【請求項５】
前記ソース電極は、酸化物半導体からなる層状の電極であり、
前記ドレイン電極は、酸化物半導体からなる層状の電極であり、
前記ソース電極と、前記チャネルと、前記ドレイン電極とは、同一面の上にこの順で配列され、
前記ソース電極と、前記チャネルと、前記ドレイン電極とのそれぞれが、酸化物半導体層の部分を構成するコプラナー構造をとることを特徴とする請求項４に記載のトップゲート型薄膜トランジスタ。
【請求項６】
前記同一面は、前記基板の面であることを特徴とする請求項５に記載のトップゲート型薄膜トランジスタ。
【請求項７】
前記酸化物半導体層はアモルファス酸化物半導体からなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のトップゲート型薄膜トランジスタ。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のトップゲート型薄膜トランジスタと、表示素子と、を備え、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極の少なくともいずれか一方と、前記表示素子とが電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
基板と、前記基板の上に、ソース電極と、ドレイン電極と、酸化物半導体からなり前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に位置するチャネルと、ゲート絶縁層と、ゲート電極層と、保護層と、を有すると共に、前記基板と、前記チャネルと、前記ゲート絶縁層と、前記ゲート電極と、前記保護層と、がこの順に積層されたトップゲート型薄膜トランジスタであって、
前記ソース電極と、前記チャネルと、前記ドレイン電極とは、共通の金属元素の酸化物半導体を含有すると共に、同一面の上にこの順で連続的に連なるように配列されてなる酸化物半導体層を構成し、
前記チャネルは、前記酸化物半導体層における、前記ゲート電極により遮蔽された領域に位置し、
前記保護層は水素を含有し、
前記ゲート電極は、Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種類の元素を含む酸化物半導体からなることを特徴とするトップゲート型薄膜トランジスタ。
【請求項１０】
基板と、前記基板の上に、ソース電極と、ドレイン電極と、酸化物半導体からなり前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に位置するチャネルと、ゲート絶縁層と、ゲート電極層と、保護層と、を有すると共に、前記基板と、前記チャネルと、前記ゲート絶縁層と、前記ゲート電極と、前記保護層と、がこの順に積層されたトップゲート型薄膜トランジスタであって、
前記保護層は水素を含有し、
前記ゲート電極は、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種類の元素と、Ｇａと、を含む酸化物半導体からなることを特徴とするトップゲート型薄膜トランジスタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明は、基板と、前記基板の上に、ソース電極と、ドレイン電極と、酸化物半導体からなり前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に位置するチャネルと、ゲート絶縁層と、ゲート電極層と、保護層と、を有すると共に、前記基板と、前記チャネルと、前記ゲート絶縁層と、前記ゲート電極と、前記保護層と、がこの順に積層されたトップゲート型薄膜トランジスタであって、
前記保護層が水素を含有し、
前記ゲート電極は、Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種類の元素を含むアモルファス酸化物半導体からなることを特徴とするトップゲート型薄膜トランジスタを提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月25日(2013.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
データ処理装置において実行されるデータ処理方法であって、
複数の第１ノードを備える第１パイプラインが、第１ノードに対して第１方向にある第１ノードへ当該第１ノードの保持する第１データを移動させる工程と、
前記第１パイプラインの第１ノードの各々に対応する複数の第２ノードを備える第２パイプラインが、第２ノードに対して前記第１方向と逆の第２方向にある第２ノードへ当該第２ノードの保持する第２データを移動させる工程と、
前記第１データと前記第２データとを用いてデータ処理を行う工程と、
前記第２パイプラインの出力した第２データの属性情報に基づき、前記出力した第２データの何れかを保持する工程と、
を有することを特徴とするデータ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
請求項１４に記載のデータ処理方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月3日(2013.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記燃料を連続的な複数回の噴射で、それらの燃料の総量の５％から５０％の範囲の量で導入することを特徴とする、請求項１から６のいずれか１項に記載の燃料噴射方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月17日(2013.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気フィルタ・ハウジングに配置され、空気流から異物及びごみを除去する空気流フィルタと、
前記空気流フィルタの下流に配置され、吸気型機械に入る空気流の物理的特性を調節するように構成された、モジュール（２０５）を備える空気調和システム（ＡＣＳ）（２００）と、
を備える、吸気型機械に入る空気流を調和するためのシステムであって、
前記モジュール（２０５）は、
入口フィルタ・ハウジングの下流に位置し、前記空気流の物理的特性を調節するように構成された非媒体型調和システム（２３０）であって、流体を前記空気流へ吹き付けて、該非媒体型調和システム（２３０）の上流位置で前記空気流フィルタによって従前にフィルタリングされた前記空気流を予備調整するのに適した複数のノズル（２３５）を含む非媒体型調和システム（２３０）と、
空気流の物理的特性を調節して前記吸気型機械の追加出力を供給するように構成された媒体型調和システム（２６０）であって、前記非媒体型調和システム（２３０）によって予備調整された前記空気流が、直接交換媒体全体に相対的に一様な前記空気流の温度分布を提供し、該媒体型調和システム（２６０）が直接交換媒体（２２０）及び流体分配マニホルド（２１０）を備える、媒体型調和システム（２６０）と、
前記直接交換媒体（２２０）の上方に配置された流体分配パッド（２１５）であって、前記流体分配パッド（２１５）の上方に配置された前記流体分配マニホルド（２１０）が配置された、流体分配パッド（２１５）と、
を備え、
前記非媒体型調和システム（２３０）へ及び前記媒体型調和システム（２６０）へ供給される流体の温度が前記空気流のほぼ露点温度よりも高い場合には、前記ＡＣＳ（２００）が直接蒸発モードで動作し、また前記非媒体型調和システム（２３０）へ及び前記媒体型調和システム（２６０）へ供給される流体の温度が前記空気流のほぼ露点温度よりも低い場合には、前記ＡＣＳ（２００）が直接チリング・モードで動作すること、
を特徴とするシステム。
【請求項２】
前記空気調和システム（２００）の前記モジュール（２０５）は、前記吸気型機械の入口システム（１００）内に配置され、前記入口システム（１００）は、耐候用フード（１０５）、遷移部材（１２０）、入口ダクト（１２５）及び入口抽気加熱部分（１３５）の内の少なくとも１つを有している、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
第１の調和回路（２５５）が、流体を前記複数のノズル（２３５）、前記流体分配マニホルド（２１０）、流体分配パッド（２１５）及び前記直接交換媒体（２２０）へ供給するための非チルド流体供給装置（２４０）と、供給された流体の一部分を収集するためのタンク（２５０）とを有している、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
第２の調和回路（２８０）が、供給源から前記複数のノズル（２３５）、前記流体分配マニホルド（２１０）及び流体分配パッド（２１５）へ流体を送るように構成されたチルド流体供給装置（２６５）と、前記複数のノズル（２３５）、前記流体分配マニホルド（２１０）及び記流体分配パッド（２１５）によって散布された流体の一部分をタンク（２５０）へ送る流体戻り路（２４５）とを有している、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記直接交換媒体（２２０）は、プラスチック、ナイロン、炭素繊維、セルロース、合成ポリマー、金属、又はそれらの組合せを有する材料で構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記非媒体型調和システム（２３０）の前記複数のノズル（２３５）を出る流体のシステム圧力が約１５０ポンド／平方インチ未満である、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記複数のノズルの各々のノズル寸法が約０．１インチ〜約０．２５インチである、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記流体が、水、冷却剤、又はそれらの組合せを有しており、また前記供給源が、蓄熱システム、貯蔵タンク、及び冷却水システムの内の少なくとも１つを有している、請求項４に記載のシステム。
【請求項９】
前記ＡＣＳ（２００）の少なくとも１つの構成要素に対して洗浄機能を遂行させるように、前記複数のノズル（２３５）を通って流れる流体の流量を増大させる、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月19日(2013.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重畳する複数の被検査物に付着した異物を検査する異物検査装置であって、
前記複数の被検査物を照明する照明手段と、
前記照明手段により照明された前記異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、
前記被検査物を前記被検査物の面に平行な方向又は前記被検査物の面の法線方向に駆動する第１駆動手段と、
前記照明手段、前記受光手段及び前記第１駆動手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記第１駆動手段は、前記複数の被検査物の相対位置を変更するように、前記複数の被検査物のうち少なくとも１つを駆動し、
前記制御手段は、前記相対位置の変更前後における前記受光手段の受光結果に基づいて、前記複数の被検査物のいずれに前記異物が付着しているかを判定することを特徴とする異物検査装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記相対位置の変更前後における前記受光結果の変化を導出し、前記受光結果の変化に基づいて前記複数の被検査物のいずれに前記異物が付着しているかを判定し、
前記受光結果の変化は、前記異物の位置の変化、前記異物からの散乱光強度の変化及び前記異物の像の変化のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の異物検査装置。
【請求項３】
前記第１駆動手段は、前記面に平行な方向における前記相対位置を変更するように、前記複数の被検査物のうちの少なくとも１つを前記面に平行な方向に駆動することを特徴とする請求項１又は２に記載の異物検査装置。
【請求項４】
前記複数の被検査物は、パターンが形成された原版及び平面部材を含み、
前記第１駆動手段は、前記原版及び前記平面部材で構成された密閉空間内の気圧を制御して、前記原版及び前記平面部材のうち少なくとも１つを前記法線方向に駆動することを特徴とする請求項１又は２に記載の異物検査装置。
【請求項５】
前記平面部材は、前記原版よりも、前記密閉空間内の気圧の変化に対する変形敏感度が小さくなるような剛性を有することを特徴とする請求項４に記載の異物検査装置。
【請求項６】
前記法線方向に対する前記受光手段の光軸角度は、前記受光手段が前記照明手段の照明光の正反射光を受光せずに前記複数の被検査物に付着した前記異物からの散乱光のみを受光する範囲内で設定されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の異物検査装置。
【請求項７】
前記照明手段及び前記受光手段を前記面に平行な方向に駆動する第２駆動手段と、
前記複数の被検査物のうちの少なくとも１つを保持して前記面に平行な方向に移動する保持手段と、を更に備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の異物検査装置。
【請求項８】
前記制御手段は、予め取得された前記複数の被検査物の面毎の感度曲線に基づいて、前記照明手段の照明光量を設定し、
前記感度曲線は、前記異物の大きさと、前記異物の散乱光強度又は前記異物の像の大きさとの関係を示す情報であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の異物検査装置。
【請求項９】
前記第１駆動手段は、前記原版及び前記平面部材のいずれに前記異物が付着しているかが判定される前に、前記原版のたわみを補正することを特徴とする請求項４に記載の異物検査装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記相対位置の変更前後における前記受光手段の受光結果に基づいて、前記被検査物の検査領域における前記異物の付着位置を特定し、前記感度曲線に基づいて、前記異物の大きさを算出することを特徴とする請求項８に記載の異物検査装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記複数の被検査物のいずれに前記異物が付着しているかを判定した結果、前記被検査物の検査領域における前記異物の付着位置を特定した結果、及び、前記異物の大きさを算出した結果のいずれかを出力することを特徴とする請求項１０に記載の異物検査装置。
【請求項１２】
前記制御手段は、前記複数の被検査物のいずれに前記異物が付着しているかを判定した結果、前記被検査物の検査領域における前記異物の付着位置を特定した結果、及び、前記異物の大きさを算出した結果のいずれかに基づいて、前記異物が付着している部分をクリーニングするかどうかを判断することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の異物検査装置。
【請求項１３】
パターンが形成された原版、及び、前記原版とともに密閉空間を構成する平面部材のうち少なくとも１つに付着した異物を検査する異物検査装置であって、
前記原版及び前記平面部材を照明する照明手段と、
前記異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、
前記密閉空間を構成した状態を保ちながら、前記原版と前記平面部材の相対位置を変更するように、前記原版及び前記平面部材のうち少なくとも１つを駆動する駆動手段と、を備え、
前記相対位置の変更前後における前記受光手段の受光結果に基づいて、前記原版及び前記平面部材のいずれに前記異物が付着しているかを判定することを特徴とする異物検査装置。
【請求項１４】
原版に形成されたパターンを基板に露光する露光装置であって、
請求項４、５、９又は１３に記載の異物検査装置により、前記原版、及び、前記原版とともに密閉空間を構成する平面部材に付着した異物を検査することを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、重畳する複数の被検査物に付着した異物を検査する異物検査装置であって、複数の被検査物を照明する照明手段と、照明手段により照明された異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、被検査物を被検査物の面に平行な方向又は被検査物の面の法線方向に駆動する第１駆動手段と、照明手段、受光手段及び第１駆動手段を制御する制御手段と、を備え、第１駆動手段は、複数の被検査物の相対位置を変更するように、複数の被検査物のうち少なくとも１つを駆動し、制御手段は、相対位置の変更前後における受光手段の受光結果に基づいて、複数の被検査物のいずれに異物が付着しているかを判定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明は、パターンが形成された原版、及び、原版とともに密閉空間を構成する平面部材のうち少なくとも１つに付着した異物を検査する異物検査装置であって、原版及び平面部材を照明する照明手段と、異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、密閉空間を構成した状態を保ちながら、原版と平面部材の相対位置を変更するように、原版及び平面部材のうち少なくとも１つを駆動する駆動手段と、を備え、相対位置の変更前後における受光手段の受光結果に基づいて、原版及び平面部材のいずれに異物が付着しているかを判定することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月3日(2013.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１出力端子と第２出力端子の間に複数の抵抗を直列に接続した抵抗回路と、
前記複数の抵抗の夫々の中間端子と前記第２出力端子の間に接続された複数のスイッチ素子を有し、前記複数の抵抗の直列に接続する数を選択する選択回路と、
前記スイッチ素子のオン抵抗値を制御する制御回路と、を備え、
前記制御回路は、前記スイッチ素子のオン抵抗値と前記抵抗回路の前記第１出力端子と前記第２出力端子の間の抵抗値とが所定の比になるように制御する、ことを特徴とする可変抵抗回路を備えた半導体集積回路。
【請求項２】
前記制御回路は
前記抵抗回路の抵抗と同じ特性の基準抵抗を有し、
前記スイッチ素子のオン抵抗値を前記基準抵抗の抵抗値に基づいて制御する、ことを特徴とする請求項１記載の可変抵抗回路を備えた半導体集積回路。
【請求項３】
前記スイッチ素子はＭＯＳトランジスタであって、
前記制御回路は、前記スイッチ素子と同一導電型の基準用ＭＯＳトランジスタを有し、
前記基準用ＭＯＳトランジスタのオン抵抗値と前記基準抵抗の抵抗値が所望の比となるように、前記基準用ＭＯＳトランジスタのゲート電圧を制御する構成であって、
前記制御回路は、前記基準用ＭＯＳトランジスタのゲート電圧を、前記スイッチ素子のＭＯＳトランジスタのゲートに供給する、ことを特徴とする請求項２記載の可変抵抗回路を備えた半導体集積回路。
【請求項４】
前記制御回路は、
直列に接続された第１電流源と前記基準抵抗と、
直列に接続された第２電流源と前記基準用ＭＯＳトランジスタと、
前記基準抵抗の電圧と前記基準用ＭＯＳトランジスタの電圧を入力し、出力電圧で前記基準用ＭＯＳトランジスタのゲートを制御するアンプと、を備え、
前記アンプの出力電圧を前記スイッチ素子のＭＯＳトランジスタのゲートに供給する、ことを特徴とする請求項３記載の可変抵抗回路を備えた半導体集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月6日(2013.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アプリケーションと、当該アプリケーションをどのユーザタイプで動作すべきかを示す定義ファイルとを記憶する記憶手段と、
前記アプリケーションからのアクセス制御情報の発行要求に応じて、前記定義ファイルが示すユーザタイプに応じた前記アクセス制御情報を発行する発行手段と、
前記発行手段により発行された前記アクセス制御情報に従って前記アプリケーションを実行する実行手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記記憶手段は更に、複数のユーザタイプを示すユーザタイプ一覧情報を記憶し、
前記発行手段は前記定義ファイルが示すユーザタイプに対応するユーザタイプが前記ユーザタイプ一覧情報に含まれている場合に、当該ユーザタイプに応じた前記アクセス制御情報を発行することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記定義ファイルが示すユーザタイプが前記ユーザタイプ一覧情報に含まれていない場合、前記実行手段は前記アプリケーションを実行しないことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記アプリケーションにより実行される処理の種類に応じて、前記処理の実行権限を有するユーザタイプを記述した実行権限管理データベースを更に有し、前記実行手段は、前記実行権限管理データベースに基づいて、前記アクセス制御情報のユーザタイプが前記アプリケーションによる処理の実行権限を有するユーザタイプに含まれているかどうか判定することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記発行手段は、前記定義ファイルに定義されたユーザタイプが複数ある場合は、より多くの操作に対する実行権限を有するユーザタイプに応じた前記アクセス制御情報を発行することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記定義ファイルは、前記アプリケーションが前記情報処理装置にインストールされる際に前記記憶手段に書き込まれることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
アプリケーションと、当該アプリケーションをどのユーザタイプで動作すべきかを示す定義ファイルとを記憶する情報処理装置におけるアプリケーションの実行方法であって、
前記アプリケーションからのアクセス制御情報の発行要求に応じて、前記定義ファイルが示すユーザタイプに応じた前記アクセス制御情報を発行する発行工程と、
前記発行工程で発行された前記アクセス制御情報に従って前記アプリケーションを実行する実行工程と、
を有することを特徴とするアプリケーションの実行方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る情報処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
アプリケーションと、当該アプリケーションをどのユーザタイプで動作すべきかを示す定義ファイルとを記憶する記憶手段と、
前記アプリケーションからのアクセス制御情報の発行要求に応じて、前記定義ファイルが示すユーザタイプに応じた前記アクセス制御情報を発行する発行手段と、
前記発行手段により発行された前記アクセス制御情報に従って前記アプリケーションを実行する実行手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ＡＣＴ発行部３２０は、ＡＣＴの発行処理を行う。ＡＣＴ生成部３２１は、ＡＣＴ発行依頼部３１２からのＡＣＴの発行要求に応じてＡＣＴを生成する。アプリ属性取得部３２２は、アプリ属性の取得依頼に応じて、アプリケーション定義ファイル３１４に記述されたアプリケーション３１０の属性であるアプリ属性を取得する。ＡＣＴ生成部３２１がＡＣＴを生成する際、ユーザタイプ一覧３２３が参照される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月23日(2013.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明の情報処理装置は以下の構成を備える。即ち、解析対象の構造化文書を取得する手段と、
前記構造化文書中の構成要素の値の代わりに用いる値として予め設定された修正値と、前記構成要素の値の代わりに前記修正値を用いるために前記構成要素の値が満たすべき条件として予め設定された条件情報と、が登録されたテーブル情報を用いて、前記構成要素の値が前記条件を満たしているか否かを判断する判断手段と、
前記構成要素の値が前記条件を満たしていると前記判断手段が判断した場合には、前記テーブル情報から前記修正値を取得し、前記構成要素の値を該取得した修正値に置き換えることで前記構造化文書を更新する更新手段と
を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
即ち、先ず、このテーブル情報を用いて、この構成要素の値がこの設定値と一致しているか否かを判断する。そして、この構成要素の値がこの設定値と一致していると判断した場合には、このテーブル情報からこの修正値を取得し、この構成要素の値をこの取得した修正値に置き換えることでこの構造化文書を更新する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
解析対象の構造化文書を取得する手段と、
前記構造化文書中の構成要素の値の代わりに用いる値として予め設定された修正値と、前記構成要素の値の代わりに前記修正値を用いるために前記構成要素の値が満たすべき条件として予め設定された条件情報と、が登録されたテーブル情報を用いて、前記構成要素の値が前記条件を満たしているか否かを判断する判断手段と、
前記構成要素の値が前記条件を満たしていると前記判断手段が判断した場合には、前記テーブル情報から前記修正値を取得し、前記構成要素の値を該取得した修正値に置き換えることで前記構造化文書を更新する更新手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
更に、
前記構成要素の値が前記条件を満たしていると前記判断手段が判断した場合には、前記修正値を、前記構造化文書に対する解析指示を行ったアプリケーションプログラムに対して通知する手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
解析対象の構造化文書を取得する手段と、
前記構造化文書中の構成要素が取りうる値として予め設定された設定値と、該構成要素の値が該設定値と一致する場合に該値の代わりに用いる値として予め設定された修正値と、が登録されたテーブル情報を用いて、前記構成要素の値が前記設定値と一致しているか否かを判断する判断手段と、
前記構成要素の値が前記設定値と一致していると前記判断手段が判断した場合には、前記テーブル情報から前記修正値を取得し、前記構成要素の値を該取得した修正値に置き換えることで前記構造化文書を更新する更新手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項４】
前記テーブル情報は、前記構造化文書のスキーマを定義したスキーマ定義情報から作成された情報であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
情報処理装置が行う情報処理方法であって、
前記情報処理装置の取得手段が、解析対象の構造化文書を取得する工程と、
前記情報処理装置の判断手段が、前記構造化文書中の構成要素の値の代わりに用いる値として予め設定された修正値と、前記構成要素の値の代わりに前記修正値を用いるために前記構成要素の値が満たすべき条件として予め設定された条件情報と、が登録されたテーブル情報を用いて、前記構成要素の値が前記条件を満たしているか否かを判断する判断工程と、
前記情報処理装置の更新手段が、前記構成要素の値が前記条件を満たしていると前記判断工程で判断した場合には、前記テーブル情報から前記修正値を取得し、前記構成要素の値を該取得した修正値に置き換えることで前記構造化文書を更新する更新工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項６】
情報処理装置が行う情報処理方法であって、
前記情報処理装置の取得手段が、解析対象の構造化文書を取得する工程と、
前記情報処理装置の判断手段が、前記構造化文書中の構成要素が取りうる値として予め設定された設定値と、該構成要素の値が該設定値と一致する場合に該値の代わりに用いる値として予め設定された修正値と、が登録されたテーブル情報を用いて、前記構成要素の値が前記設定値と一致しているか否かを判断する判断工程と、
前記情報処理装置の更新手段が、前記構成要素の値が前記設定値と一致していると前記判断工程で判断した場合には、前記テーブル情報から前記修正値を取得し、前記構成要素の値を該取得した修正値に置き換えることで前記構造化文書を更新する更新工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項７】
コンピュータを、請求項１乃至４の何れか１項に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのコンピュータプログラム。
【請求項８】
請求項７に記載のコンピュータプログラムを格納した、コンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月10日(2013.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
すなわち、ステップＳ２１では、コマンドシーケンサ部２３は、リーダライタ１０からのライトコマンドに従い、そのライトコマンドとともにリーダライタ１０から送信されてくるデータを、バッファユニットの管理ページ以外のページにライトし（ライト状態にする処理のみを行い）、ライト状態にする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６２】
そして、無線タグ２０は、リーダライタ１０からライトコマンドが送信されてくると、そのライトコマンドを受信する。さらに、無線タグ２０は、リーダライタ１０からのライトコマンドに従って、そのライトコマンドとともにリーダライタ１０から送信されているデータを、メモリ部２４（のバッファユニット）に書き込む書き込み処理を行う。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月8日(2013.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信したコマンド及びデータを処理する情報処理システムにおいて、
受信したコマンド及びデータを処理する内部回路と、
前記受信したコマンド及びデータを履歴として格納するメモリと、
前記内部回路の障害検出に応じて、前記メモリのコマンド及びデータを読み出し、前記内部回路に出力する制御部とを有する
ことを特徴とする情報処理システム。
【請求項２】
前記内部回路の障害を検出し、前記制御部に読み出し指示を行う処理回路を更に有する
ことを特徴とする請求項１の情報処理システム。
【請求項３】
情報処理装置に接続され、前記情報処理装置から前記コマンド及びコマンドを受信し、前記内部回路及び前記メモリに前記受信したコマンド及びデータを出力するインターフェース回路を更に有する
ことを特徴とする請求項１の情報処理システム。
【請求項４】
受信したコマンド及びデータを処理する情報処理システムの障害処理方法において、
内部回路が受信したコマンド及びデータを処理するステップと、
前記受信したコマンド及びデータを履歴としてメモリに格納するステップと、
制御部が前記内部回路の障害検出に応じて、前記メモリのコマンド及びデータを読み出し、前記内部回路に出力するステップとを有する
ことを特徴とする情報処理システムの障害処理方法。
【請求項５】
処理回路が前記内部回路の障害を検出し、前記制御部に読み出し指示を行うステップを更に有する
ことを特徴とする請求項４の情報処理システムの障害処理方法。