Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月3日(2012.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開閉自在とされた開閉部材と、前記開閉部材を閉状態に保つようにロックするラッチ機構と、前記開閉部材の外面側に設けられ、前記ラッチ機構をロック及びロック解除動作させるための操作部とを有する収納手段に取付けられ、前記開閉部材を施錠状態又は解錠状態にする錠装置と、電子キーとを備え、前記錠装置と前記電子キーとが通信を行って認証動作を行い利用可と判断されたときに、前記錠装置を解錠状態にする格納システムであって、
前記錠装置は、
前記開閉部材の外面側に取付可能な装置本体部と、
前記装置本体部に取付けられ、利用者が外部から前記操作部を掴んで前記ラッチ機構をロック解除動作させることができるように前記操作部を外部に露出させること及び前記操作部を遮蔽することが可能なように前記操作部を開閉自在に覆う遮蔽部材と、
施錠動作に応じて前記遮蔽部材を遮蔽状態にロックし、解錠動作に応じて前記ロックを解除する遮蔽ロック手段と、
を備え、
前記錠装置及び前記電子キーのうち少なくとも一方は、前記収納手段に関する利用履歴を記憶する記憶手段を有する、格納システム。
【請求項２】
開閉自在とされた開閉部材と、前記開閉部材を閉状態に保つようにロックするラッチ機構と、前記開閉部材の外面側に設けられ、前記ラッチ機構をロック及びロック解除動作させるための操作部とを有する収納手段と、
前記開閉部材の外面側に取付可能な装置本体部と、前記装置本体部に取付けられ、利用者が外部から前記操作部を掴んで前記ラッチ機構をロック解除動作させることができるように前記操作部を外部に露出させること及び前記操作部を遮蔽することが可能なように前記操作部を開閉自在に覆う遮蔽部材と、施錠動作に応じて前記遮蔽部材を遮蔽状態にロックし、解錠動作に応じて前記ロックを解除する遮蔽ロック手段とで構成され、前記開閉部材を施錠状態又は解錠状態にする錠ロック部と、前記錠ロック部を制御する錠側制御部とを有する錠装置と、
認証情報を記憶した記憶部と前記錠側制御部との間で通信を行うキー側制御部とを有する電子キーと、
を備え、前記錠側制御部と前記キー側制御部との間で通信を行って認証動作を行い、利用可と判断されたときに前記錠側制御部が前記錠ロック部に解錠動作を行わせる格納システムであって、
前記キー側制御部は、前記収納手段の利用開始タイミング又は利用終了タイミングのうち少なくとも一方のタイミングで、前記収納手段に関する利用履歴を前記記憶部に記憶させる、格納システム。
【請求項３】
請求項２記載の格納システムであって、
利用者を特定するための利用者特定手段をさらに備え、
前記キー側制御部は、特定された利用者に関する情報を含む利用履歴を前記記憶部に記憶させる、格納システム。
【請求項４】
請求項２又は請求項３記載の格納システムであって、
前記収納手段内に格納された格納物の格納状況を検索する格納物検索手段をさらに備え、
前記収納手段の利用開始タイミング及び利用終了タイミングのうち少なくとも一方のタイミングで、前記格納物検索手段による検索動作を行うと共に、その検索結果を前記記憶部に記憶させる、格納システム。
【請求項５】
請求項２〜請求項４のいずれかに記載の格納システムであって、
前記格納物検索手段は、
前記各格納物に取付けられたタグ装置と、前記各タグ装置と通信可能な通信手段と、前記通信手段を通じて前記各タグ装置との間で通信を行うことで前記各格納物の在庫状況を認識する検索制御部とを備え、
前記検索制御部は、前記電子キーに組込まれており、前記電子キーが前記錠装置にセットされた状態で、前記検索制御部が前記通信手段を介して前記各タグ装置と通信を行う、格納システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】格納システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明に係る格納システムは、開閉自在とされた開閉部材と、前記開閉部材を閉状態に保つようにロックするラッチ機構と、前記開閉部材の外面側に設けられ、前記ラッチ機構をロック及びロック解除動作させるための操作部とを有する収納手段に取付けられ、前記開閉部材を施錠状態又は解錠状態にする錠装置と、電子キーとを備え、前記錠装置と前記電子キーとが通信を行って認証動作を行い利用可と判断されたときに、前記錠装置を解錠状態にする格納システムであって、前記錠装置は、前記開閉部材の外面側に取付可能な装置本体部と、前記装置本体部に取付けられ、利用者が外部から前記操作部を掴んで前記ラッチ機構をロック解除動作させることができるように前記操作部を外部に露出させること及び前記操作部を遮蔽することが可能なように前記操作部を開閉自在に覆う遮蔽部材と、施錠動作に応じて前記遮蔽部材を遮蔽状態にロックし、解錠動作に応じて前記ロックを解除する遮蔽ロック手段と、を備え、前記錠装置及び前記電子キーのうち少なくとも一方は、前記収納手段に関する利用履歴を記憶する記憶手段を有するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、この発明に係る他の格納システムは、開閉自在とされた開閉部材と、前記開閉部材を閉状態に保つようにロックするラッチ機構と、前記開閉部材の外面側に設けられ、前記ラッチ機構をロック及びロック解除動作させるための操作部とを有する収納手段と、前記開閉部材の外面側に取付可能な装置本体部と、前記装置本体部に取付けられ、利用者が外部から前記操作部を掴んで前記ラッチ機構をロック解除動作させることができるように前記操作部を外部に露出させること及び前記操作部を遮蔽することが可能なように前記操作部を開閉自在に覆う遮蔽部材と、施錠動作に応じて前記遮蔽部材を遮蔽状態にロックし、解錠動作に応じて前記ロックを解除する遮蔽ロック手段とで構成され、前記開閉部材を施錠状態又は解錠状態にする錠ロック部と前記錠ロック部を制御する錠側制御部とを有する錠装置と、認証情報を記憶した記憶部と前記錠側制御部との間で通信を行うキー側制御部とを有する電子キーと、を備え、前記錠側制御部と前記キー側制御部との間で通信を行って認証動作を行い、利用可と判断されたときに前記錠側制御部が前記錠ロック部に解錠動作を行わせる格納システムであって、前記キー側制御部は、前記収納手段の利用開始タイミング又は利用終了タイミングのうち少なくとも一方のタイミングで、前記収納手段に関する利用履歴を前記記憶部に記憶させるものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月8日(2013.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
重質物が分離されたＣ５留分は、塔頂から流出され、コンデンサ１４で冷却された後、ドラム１５内で気液分離される。ドラム１５内に溜まった液体の一部は、ポンプ１６を介して蒸留塔１２に返送される。ドラム１５内に溜まった液体の残部は、精製Ｃ５留分（塔頂留分）としてポンプ１７によって流出される。この精製Ｃ５留分は、イソプレン、ピペリレン、シクロペンタジエン、アミレンなどの有用成分が含んでいる。これらの有用成分は、図示しない後工程で分離精製される。ドラム１５内で分離されたガスは、ガス排出ライン１８から排出される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月8日(2013.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
この第１の蒸留塔１２の塔頂から流出される、重質物が分離された粗Ｃ５留分は、第２の蒸留塔１３に導入され、Ｃ４以下の低沸物を除去する蒸留工程（第２の蒸留工程）が行われる。このＣ４以下の低沸物は塔頂から流出され、Ｃ５留分（以下、「精製Ｃ５留分」と称することがある。）が塔底から流出される。この精製Ｃ５留分は、イソプレン、ピペリレン、シクロペンタジエン、アミレンなどの有用成分を含んでいる。これらの有用成分は、図示しない後工程で分離精製される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月1日(2013.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担子菌類、ヒダナシタケ目、サルノコシカケ科、マイタケ属に属するアンニンコウ（学名：グリフォラ・ガルガル（Ｇｒｉｆｏｌａ  ｇａｒｇａｌ））から抽出される成分を含有することを特徴とする、抗腫瘍活性剤。
【請求項２】
前記成分が抗ウロキナーゼ活性を示す、請求項１に記載の抗腫瘍活性剤。
【請求項３】
アンニンコウから、無極性溶媒で抽出される成分及び／又は水で抽出される成分を含有する、請求項１又は２に記載の抗腫瘍活性剤。
【請求項４】
アンニンコウから無極性溶媒で抽出される成分を含有する、請求項３に記載の抗腫瘍活性剤。
【請求項５】
無極性溶媒がヘキサン又は酢酸エチルである、請求項４に記載の抗腫瘍活性剤。
【請求項６】
アンニンコウから無極性溶媒で抽出される成分が、さらに抗変異原活性を示す、請求項４又は５に記載の抗腫瘍活性剤。
【請求項７】
アンニンコウから水で抽出される成分を含有する、請求項３に記載の抗腫瘍活性剤。
【請求項８】
アンニンコウから水で抽出される成分が、さらにＤＰＰＨラジカル捕捉活性を示す、請求項７に記載の抗腫瘍活性剤。
【請求項９】
ポリフェノール類を含有する、請求項７又は８に記載の抗腫瘍活性剤。
【請求項１０】
担子菌類、ヒダナシタケ目、サルノコシカケ科、マイタケ属に属するアンニンコウ（学名：グリフォラ・ガルガル（Ｇｒｉｆｏｌａ  ｇａｒｇａｌ））から無極性溶媒を用いて抽出を行う工程（１）、工程（１）の抽出残渣から、極性非プロトン性溶媒を用いて抽出を行う（２ａ）及び／又は水以外の極性プロトン性溶媒を用いて抽出を行う（２ｂ）工程（２）、及び工程（２）の抽出残渣から、水抽出を行う工程（３）を含む、請求項１又は２に記載の抗腫瘍活性剤の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月28日(2013.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されることを特徴とする有機化合物。
【化１】
2011256113.tif 000001
式（１）において、Ｒ１乃至Ｒ１６は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アリール基、複素環基からそれぞれ独立に選ばれる。
前記アリール基および前記複素環基はアルキル基を置換基として有してよい。
前記アミノ基はアルキル基またはアリール基を置換基として有してよい。
【請求項２】
Ｒ１乃至Ｒ１６はそれぞれ独立に前記水素原子、前記アリール基から選ばれることを特徴とする請求項１に記載の有機化合物。
【請求項３】
下記一般式（２）で示されることを特徴とする請求項１に記載の有機化合物。
【化２】
2011256113.tif 000002
一般式（２）において、Ｒ１７乃至Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数１以上４以下のアルキル基、アリール基から選ばれる。
前記アリール基はフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ターフェニル基のいずれかである。
前記アリール基は炭素数１以上４以下のアルキル基を置換基として有してよい。
【請求項４】
陽極と陰極と、前記陽極と陰極との間に配置される有機化合物層とを有する有機発光素子において、
前記有機化合物層は請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機化合物を有することを特徴とする有機発光素子。
【請求項５】
前記有機化合物層は発光層であることを特徴とする請求項４に記載の有機発光素子。
【請求項６】
緑色発光することを特徴とする請求項５に記載の有機発光素子。
【請求項７】
複数の画素を有し、前記画素は請求項４乃至６のいずれか一項に記載の有機発光素子と前記有機発光素子に接続するスイッチング素子とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項８】
画像を表示するための表示部と画像を入力するための画像入力部とを有し、前記表示部は複数の画素を有し、前記画素は請求項４乃至６のいずれか一項に記載の有機発光素子と前記有機発光素子に接続するスイッチング素子とを有することを特徴とする画像入力装置。
【請求項９】
請求項４乃至６のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月4日(2013.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）エチレンと、
Ｃ4−Ｃ20直鎖、分岐または環状ジエン、および式Ｈ2Ｃ＝ＣＨＲ（式中、ＲはＣ1−Ｃ20直鎖、分岐または環状アルキル基またはＣ6−Ｃ20アリール基である）によって表される化合物から成る群より選択される少なくとも１つのコモノマーとの少なくとも１つのインターポリマーと；
（Ｂ）少なくとも１つの分散剤であって、１２〜２５個未満の炭素原子を有する、カルボン酸またはカルボン酸の塩である分散剤との；
（Ｃ）水の存在下における； 
（Ｄ）任意で少なくとも１つの中和剤を含む溶融混練生成物を含む水性分散物であって、
前記分散物が、８〜１１の範囲のｐＨを有し、前記少なくとも１つのエチレンのインターポリマーが、５μｍ未満の体積平均粒径を有する、水性分散物。
【請求項２】
前記分散剤が熱可塑性樹脂の重量に基づいて４重量パーセント未満を占める、請求項１に記載の分散物。
【請求項３】
前記エチレンのインターポリマーが０．９２ｇ／cc未満の密度を有する、請求項１に記載の分散物。
【請求項４】
前記分散物が、約２．０に等しい、またはそれ未満の、数平均粒径（Dn）で割った体積平均粒径（Dv）として定義された粒径分布を有する、請求項１に記載の分散物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月27日(2013.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）成分：トリクロサン、イソプロピルメチルフェノール及びパラクロロメタキシレノールからなる群から選ばれる少なくとも１種の殺菌剤を０．０５〜２質量％、（ｂ）成分：炭素数４〜１２の炭化水素基を有するグリセリルエーテル、並びに（ｃ）成分：下記一般式（１）
Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−ＳＯ3Ｍ    （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜１６の炭化水素基であり、ｎは平均付加モル数を示し、ｎ＝０〜３であり、Ｍはアンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、又はアルカノールアンモニウムイオンである。）で示されるアニオン界面活性剤を０．５〜３５質量％含有し、さらに、（ｅ）成分：多価アルコール（但し（ｂ）成分を除く）を０．０５〜２３質量％含有する皮膚殺菌洗浄剤組成物であって、２５℃におけるｐＨが５．５以下である、皮膚殺菌洗浄剤組成物。
【請求項２】
（ｃ）成分と（ｂ）成分との質量比が（ｃ）／（ｂ）＝０．９／１〜１５／１である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
（ｃ）成分と（ａ）成分との質量比が（ｃ）／（ａ）＝１００／１０〜１００／２である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
該組成物（２５℃）のｐＨが３．０〜５．５である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
（ｄ）成分：安息香酸塩、ソルビン酸塩、プロピオン酸塩、サリチル酸塩及びデヒドロ酢酸塩からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
（ｅ）成分が、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、グリセリン及びソルビトールからなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
ハンドソープ、ボディーシャンプー又はヘアーシャンプーに用いられる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月19日(2013.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のコンクリートクラック誘発目地装置によれば、従来のように目地材を結束線で縛り付ける必要がなく、目地材に沿って摺動させて容易に取り付けることができるので、目地材の設置に要する時間と手間を大幅に軽減することができる。また、本発明の目地装置では、目地材保持具を用いて目地材をボルトで構造用鉄筋に固定するので、従来の目地材における課題であった、設置が困難であることによる目地材と誘導板との心ずれの可能性を容易に回避することができ、高精度の施工を可能にすることができる。また、本発明の目地装置は、構造が簡単であるので廉価に提供することができ、故障などのおそれも少ないので維持管理が容易である。さらに、本発明のコンクリートクラック誘発目地装置の使用方法によれば、良好な施工性および高施工密度を保持しつつ、コンクリートクラック誘発目地材を設置することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明のコンクリートクラック誘発目地装置においては、クラックの誘発を促進するために従来設けられていたコンクリート躯体表面の溝を設けなくとも使用することができるし（図７（ａ）の左側の図を参照）、従来通りに、コンクリート躯体表面に溝を設けて使用してもよい（図７（ａ）の右側の図を参照）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【図１】本発明の好ましい実施の形態に係るクラック誘発目地装置の目地材保持具を示した斜視図である。
【図２】図１の目地材保持具の分解斜視図である。
【図３】図３（ａ）は図１の目地材保持具の正面図、図３（ｂ）は図３（ａ）の線３ａ−３ａに沿って見た図（本体を破線で図示）、図３（ｃ）は図３（ａ）の線３ｃ−３ｃに沿って見た図である。
【図４】図４（ａ）はクラック誘発目地材を示した斜視図、図４（ｂ）はクラック誘発目地材の横断面図の一例、図４（ｃ）は１枚の板でクラック誘発目地材を形成する手順の一例を示した図である。
【図５】本発明のクラック誘発目地装置の使用を示した一連の図である。
【図６】クラック誘発目地装置の使用を説明するための斜視図である。
【図７】図７（ａ）はクラック誘発目地装置の使用を説明するための平面図、図７（ｂ）は、図７（ａ）の線７ｂ−７ｂに沿って見た図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2011256691.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月5日(2013.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周に軸側螺子溝が螺刻された螺子軸と、
内周にナット側螺子溝が螺刻されたボール螺子ナットと、
前記軸側螺子溝と前記ナット側螺子溝とを対向させてなる螺旋状の転動路内に配設された複数のボールと、
前記ボール螺子ナットに形成された取付孔に装着されて前記転動路の一端と他端とを短絡する還流路を形成する循環部材と、を備え、
前記ナット側螺子溝における前記取付孔に臨む接続部には、前記転動路と前記還流路との繋ぎ目部分の段差を解消する段差加工が施されるものであって、
前記ボール螺子ナットは、
前記ナット側螺子溝と前記軸側螺子溝とに挟まれて前記ボールが前記転動路を転動するように、前記螺子軸の軸心から前記ナット側螺子溝の底部までの距離が一定に形成されるベース部と、
前記距離が前記ベース部での距離よりも大きく形成される拡径部と、を有し、
さらに前記ボール螺子ナットは、その軸方向における一端側のみが固定されるものであって、
前記拡径部は、前記一端側に設けられる前記接続部を含み、前記ボール螺子ナットの他端側に設けられる前記接続部を含まないように形成されたことを特徴とするボール螺子装置。
【請求項２】
請求項１に記載のボール螺子装置において、
前記拡径部は、前記ボールが前記軸側螺子溝及び前記ナット側螺子溝のいずれか一方と非接触になる非接触領域を含み、
前記非接触領域は、前記繋ぎ目部分から連続して設けられることを特徴とするボール螺子装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のボール螺子装置において、
前記拡径部は、前記ベース部に隣接して配置され、前記繋ぎ目部分から前記ベース部に近づくにつれて前記距離が小さくなる徐変領域を含むことを特徴とするボール螺子装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のボール螺子装置において、
前記拡径部は、前記ナット側螺子溝により構成される螺旋の中心を、前記螺子軸の軸心に対して前記循環部材側に偏心させることにより形成されたことを特徴とするボール螺子装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のボール螺子装置を備えたことを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、外周に軸側螺子溝が螺刻された螺子軸と、内周にナット側螺子溝が螺刻されたボール螺子ナットと、前記軸側螺子溝と前記ナット側螺子溝とを対向させてなる螺旋状の転動路内に配設された複数のボールと、前記ボール螺子ナットに形成された取付孔に装着されて前記転動路の一端と他端とを短絡する還流路を形成する循環部材と、を備え、前記ナット側螺子溝における前記取付孔に臨む接続部には、前記転動路と前記還流路との繋ぎ目部分の段差を解消する段差加工が施されるものであって、前記ボール螺子ナットは、前記ナット側螺子溝と前記軸側螺子溝とに挟まれて前記ボールが前記転動路を転動するように、前記螺子軸の軸心から前記ナット側螺子溝の底部までの距離が一定に形成されるベース部と、前記距離が前記ベース部での距離よりも大きく形成される拡径部と、を有し、さらに前記ボール螺子ナットは、その軸方向における一端側のみが固定されるものであって、前記拡径部は、前記一端側に設けられる前記接続部を含み、前記ボール螺子ナットの他端側に設けられる前記接続部を含まないように形成されたことを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
これに対し、本請求項のボール螺子装置は、ボール螺子ナットに作用する軸方向荷重の大きさに関係なく、ベース部を転動するボールがボール螺子ナットのトルク伝達に寄与する。そのため、本請求項のボール螺子装置は、ボール螺子ナットのトルクを螺子軸に対して効率的かつ安定的に伝達することができる。
ここで、ボール螺子ナットの一端側のみが固定される構成では、ボール螺子ナットは、軸方向に荷重を受けて変形する際に、該ボール螺子ナットの一端側に比べて他端側の方が、変形前の状態からの変位量が大きくなる。従って、ナット側螺子溝におけるボール螺子ナットの他端側が大きく変位することにより、転動路内の空間が大きくなるため、ボール螺子ナットにおける他端側の転動路内に配設されたボールが受ける負荷は小さくなる。これに対し、ナット側螺子溝におけるボール螺子ナットの一端側は変位量が小さく、転動路内の空間があまり大きくならないため、ボール螺子ナットにおける一端側の転動路内に配設されたボールは大きな負荷を受けることになる。従って、ボール螺子ナットにおける一端側にボールが排出される際に、同ボールに加わる負荷がより急激に変化することになる。この点、上記構成によれば、ボール螺子ナットの一端側の接続部を含むように拡径部が形成されるため、好適にボールの詰まりが発生することを抑制できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載のボール螺子装置において、前記拡径部は、前記ナット側螺子溝により構成される螺旋の中心を、前記螺子軸の軸心に対して前記循環部材側に偏心させることにより形成されたことを要旨とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか一項に記載のボール螺子装置を備えた電動パワーステアリング装置であることを要旨とする。
上記構成によれば、ボールが詰まることを抑制でき、ボール螺子装置により伝達されるトルクが低下することができる。これにより、操舵フィーリングの優れた電動パワーステアリング装置を提供することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月20日(2013.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を電界が伝播する円形導波管と、この円形導波管の下方に接続されて配置され前記円形導波管より径の大きな円柱状の空洞部と、この空洞部の下方に配置され当該空洞部に伝播された電界が内部に供給されてプラズマが形成されるプラズマ処理室とを有し、このプラズマ処理室内に配置された被処理基板を前記プラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記円形導波管が接続される前記空洞部の内部であってその上部に円環状に配置されたリッジを備えたプラズマ処理装置。
【請求項２】
内部を電界が伝播する円形導波管と、この円形導波管の下方に接続されて配置され前記円形導波管より径の大きな円柱状の空洞部と、この空洞部の下方に配置され当該空洞部に伝播された電界が内部に供給されてプラズマが形成されるプラズマ処理室とを有し、このプラズマ処理室内に配置された被処理基板を前記プラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記円形導波管の下端部と前記空洞部の上部との間でこれらを接続して配置され下方に向けて径が広がったその断面がテーパ状のテーパ導波管と、前記円形導波管が接続される前記空洞部の内部であってその上部に円環状に配置されたリッジを備えたプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のプラズマ処理装置は、内部を電界が伝播する円形導波管と、この円形導波管の下方に接続されて配置され前記円形導波管より径の大きな円柱状の空洞部と、この空洞部の下方に配置され当該空洞部に伝播された電界が内部に供給されてプラズマが形成されるプラズマ処理室とを有し、このプラズマ処理室内に配置された被処理基板を前記プラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記円形導波管が接続される前記空洞部の内部であってその上部に円環状に配置されたリッジを備えるものである。また、前記円形導波管の下端部と前記空洞部の上部との間でこれらを接続して配置され下方に向けて径が広がったその断面がテーパ状のテーパ導波管と、前記円形導波管が接続される前記空洞部の内部であってその上部に円環状に配置されたリッジを備えることもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月20日(2013.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電界が内部を伝播する導波管と、
この導波管の下方に連結されて配置され前記導波管からの電界が内部に供給されてプラズマが生成される処理室とを備え、
前記処理室内に配置された被処理基板を前記プラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記導波管が前記処理室の上方で上下方向に延びて内部を前記電界の円偏波が前記処理室に向かって伝播する円形導波管を有し、
この円形導波管の前記上下方向に異なる位置において当該円形導波管の中心に向けられた互いの中心軸が直交するように配置された複数のスタブであって、前記中心軸に沿った前記円形導波管内への挿入長が調整可能に構成された複数のスタブを備えたプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマ処理装置において、
前記複数のスタブはそれぞれ円柱状で先端部は半球状であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または２記載のプラズマ処理装置において、
円形導波管内の中心に向けて挿入される複数のスタブの中心軸の角度が調整可能であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のプラズマ処理装置において、
円形導波管内の中心に向けて挿入される３本以上のスタブが円周上に等間隔で配置されることを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明のプラズマ処理装置は、基本的手段として、電界が内部を伝播する導波管と、この導波管の下方に連結されて配置され前記導波管からの電界が内部に供給されてプラズマが生成される処理室とを備え、前記処理室内に配置された被処理基板を前記プラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記導波管が前記処理室の上方で上下方向に延びて内部を前記電界の円偏波が前記処理室に向かって伝播する円形導波管を有し、この円形導波管の前記上下方向に異なる位置において当該円形導波管の中心に向けられた互いの中心軸が直交するように配置された複数のスタブであって、前記中心軸に沿った前記円形導波管内への挿入長が調整可能に構成された複数のスタブを備えるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月25日(2013.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置の露光条件及びマスクのパターンのうち少なくとも一方をコンピュータを用いて決定する決定方法であって、
前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報を用いて、前記基板を露光している間に前記投影光学系の物体面にあるパターンの互いに横ずれした複数の像が重ね合わされるように形成される像を計算する計算ステップと、
該計算結果に基づいて、前記露光条件及び前記マスクのパターンのうち少なくとも一方を決定する決定ステップとを有することを特徴とする決定方法。
【請求項２】
前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報は、前記マスクまたは前記基板を移動するステージの振動の情報を含むことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項３】
前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報は、前記マスクを移動するステージと前記基板を移動するステージとの非同期性の情報を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の決定方法。
【請求項４】
前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報は、前記基板を露光している間に変化するディストーションの情報を含むことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の決定方法。
【請求項５】
前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報はガウス関数のσの値を含み、
前記計算ステップにおいて、前記ガウス関数のσの値を用いて、前記像の横ずれがない場合の前記投影光学系の物体面にあるパターンの像に前記ガウス関数をコンボリューションすることにより、前記複数の像が重ね合わされるように形成される像を計算することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の決定方法。
【請求項６】
前記ガウス関数のσの値は、前記横ずれの互いに垂直な２つの方向において互いに異なる値であることを特徴とする請求項５に記載の決定方法。
【請求項７】
前記計算ステップにおいて、前記露光条件のパラメーター及び前記マスクのパターンのパラメーターを設定し、仮決定された該パラメータの値を用いて前記像を計算し、
前記決定ステップにおいて、該計算結果に基づいて、前記露光条件及び前記マスクのパターンを決定することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の決定方法。
【請求項８】
前記マスクのパターンのそれぞれを複数の多角形が重ね合わさって構成される形状として、前記複数の多角形のそれぞれの辺の長さを、前記マスクパターンのパラメーターとして設定することを特徴とする請求項７に記載の決定方法。
【請求項９】
前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報に、前記横ずれの程度を規定する複数の設定値が含まれ、
前記計算ステップでは、互いに異なる複数の設定値のそれぞれについて、前記投影光学系の物体面にあるパターンの像を計算することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の決定方法。
【請求項１０】
光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置の露光条件及びマスクのパターンのうち少なくとも一方をコンピュータに決定させるプログラムであって、前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報を用いて、前記基板を露光している間に前記投影光学系の物体面にあるパターンの互いに横ずれした複数の像が重ね合わされるように形成される像を計算する計算ステップと、
該計算結果に基づいて、前記露光条件及び前記マスクのパターンのうち少なくとも一方を決定する決定ステップとを前記コンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１１】
光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置の露光条件及びマスクのパターンのうち少なくとも一方を決定する情報処理装置であって、
前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報を用いて、前記基板を露光している間に前記投影光学系の物体面にあるパターンの互いに横ずれした複数の像が重ね合わされるように形成される像を計算し、該計算結果に基づいて、前記露光条件及び前記マスクのパターンのうち少なくとも一方を決定することを特徴とする情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光条件及びマスクパターンのうち少なくとも一方を決定する決定方法及びプログラム、情報処理装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、露光条件及びマスクパターンのうち少なくとも一方を決定する決定方法及びプログラム、情報処理装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明の一側面としての決定方法は、光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置の露光条件及びマスクのパターンのうち少なくとも一方をコンピュータを用いて決定する決定方法であって、前記露光装置に起因する像の横ずれに関する情報を用いて、前記基板を露光している間に前記投影光学系の物体面にあるパターンの互いに横ずれした複数の像が重ね合わされるように形成される像を計算する計算ステップと、該計算結果に基づいて、前記露光条件及び前記マスクのパターンのうち少なくとも一方を決定する決定ステップとを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月19日(2013.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の未硬化樹脂とデバイスパターンがパターン面に形成された型とを互いに押し付けて前記デバイスパターンを該基板上に形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記パターン面に配置されたアライメントマークを検出する検出器と、
制御部と、
を備え、
前記パターン面は、前記デバイスパターンを有する第１領域と前記アライメントマークを有する第２領域とを含み、前記未硬化樹脂と前記型とが互いに押し付けられた場合に、前記第１領域の凹部が前記未硬化樹脂で充填される第１時刻より、前記第２領域の凹部が前記未硬化樹脂で充填される第２時刻が後になるように構成され、
前記制御部は、
前記第１時刻と前記第２時刻との間に前記アライメントマークを検出するように前記検出器を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記アライメントマークの凹部における最小の幅が、前記デバイスパターンの凹部における最大の幅よりも大きいように、前記パターン面が構成されている、ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記アライメントマークの凹部における最小の奥行きが、前記デバイスパターンの凹部における最大の奥行きよりも大きいように、前記パターン面が構成されている、ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記パターン面は、前記アライメントマークを包囲する第３のパターンを有する領域をさらに含み、
前記第３のパターンの凹部における最大の幅が、前記アライメントマークの凹部における最小の幅よりも小さいように、前記パターン面が構成されている、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記未硬化樹脂を前記基板に吐出する吐出機構を備え、
前記制御部は、前記デバイスパターンの凹部と前記アライメントマークの凹部とが充填される量の前記未硬化樹脂を前記基板に吐出するように前記吐出機構を制御することを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
基板上の未硬化樹脂とデバイスパターンがパターン面に形成された型とを互いに押し付けて前記デバイスパターンを該基板上に形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記パターン面に配置されたアライメントマークを検出する検出器と、
制御部と、
を備え、
前記パターン面は、前記デバイスパターンを有する第１領域と前記アライメントマークを有する第２領域と前記アライメントマークを包囲する溝を有する第３領域とを含み、
前記制御部は、
前記未硬化樹脂と前記型とが互いに押し付けられて前記第１領域の凹部に前記未硬化樹脂が充填される第１時刻と、前記未硬化樹脂と前記型とが互いに押し付けられて前記未硬化樹脂が前記第１領域から前記第３領域を越えて前記第２領域の凹部に充填される第２時刻との間に前記アライメントマークを検出するように前記検出器を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項７】
基板上の未硬化樹脂とデバイスパターンがパターン面に形成された型とを互いに押し付けて前記デバイスパターンを該基板上に形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記パターン面に配置されたアライメントマークを検出する検出器と、
前記未硬化樹脂を硬化する光を前記未硬化樹脂に照射する照射手段と、
制御部と、
を備え、
前記パターン面は、前記デバイスパターンを有する第１領域と前記アライメントマークを有する第２領域とを含み、
前記制御部は、
前記未硬化樹脂と前記型とが互いに押し付けられて前記第２領域の凹部に前記未硬化樹脂が入り込んだ後であって、かつ、前記第２領域の凹部が前記未硬化樹脂で充填される前に、前記光を照射して前記第２領域の凹部内の未硬化樹脂を硬化するように、前記照射手段を制御し、
前記第２領域の凹部内の前記未硬化樹脂が硬化した状態で前記アライメントマークを検出するように前記検出器を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項８】
前記照射手段は、前記第１領域の凹部に前記未硬化樹脂が充填された後に、前記未硬化樹脂を硬化する光を前記第１領域の凹部内の前記未硬化樹脂に照射する、ことを特徴とする請求項７に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記検出器は、前記光を用いて前記アライメントマークを検出する、ことを特徴とする請求項７または請求項８に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含む、ことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１１】
基板上の未硬化樹脂とデバイスパターンがパターン面に形成された型とを互いに押し付けて前記デバイスパターンを該基板上に形成するインプリント処理を行うインプリント装置で使用される型であって、
前記デバイスパターンを有する第１領域とアライメントマークを有する第２領域とを含むパターン面を有し、
前記パターン面は、前記未硬化樹脂と前記型とが互いに押し付けられた場合に、前記第１領域の凹部が前記未硬化樹脂で充填される第１時刻より、前記第２領域の凹部が前記未硬化樹脂で充填される第２時刻が後になるように、構成されている、
ことを特徴とする型。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の１つの側面は、基板上の未硬化樹脂とデバイスパターンがパターン面に形成された型とを互いに押し付けて前記デバイスパターンを該基板上に形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記パターン面に配置されたアライメントマークを検出する検出器と、制御部と、を備え、前記パターン面は、前記デバイスパターンを有する第１領域と前記アライメントマークを有する第２領域とを含み、前記未硬化樹脂と前記型とが互いに押し付けられた場合に、前記第１領域の凹部が前記未硬化樹脂で充填される第１時刻より、前記第２領域の凹部が前記未硬化樹脂で充填される第２時刻が後になるように構成され、前記制御部は、前記第１時刻と前記第２時刻との間に前記アライメントマークを検出するように前記検出器を制御する、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月21日(2013.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する反応管と、
前記反応管を支持するマニホールドと、
前記反応管の周囲に設けられ前記反応管内を加熱するヒータと、
前記ヒータより下方の前記反応管の側方を囲うように設けられる囲い部と、
前記囲い部と前記反応管との間の間隙を強制排気する排気装置と、
前記反応管と前記マニホールドとの間の当接部に設けられる密閉部材と、を有し、
前記囲い部には、前記排気装置が前記囲い部の外側の雰囲気を前記間隙へ吸気する吸気口が設けられる熱処理装置。   
【請求項２】
前記囲い部は、前記囲い部の側壁の周方向に複数設けられる吸気口を有する、請求項１に記載の熱処理装置。
【請求項３】
前記吸気口は、前記排気口の下方側よりも前記排気口の上方側の数の方が多くなるように設けられた請求項１または２に記載の熱処理装置。
【請求項４】
前記吸気口の総開口面積は、前記囲い部の側壁の総面積より小さく形成される、請求項１または２に記載の熱処理装置。
【請求項５】
前記囲い部は、前記間隙の長手方向の長さが幅方向の長さよりも大きくなるように構成される、請求項１または２に記載の熱処理装置。
【請求項６】
前記囲い部の外径は、前記ヒータの外径よりも小さくし、前記囲い部の内径は前記ヒータの内径以下の大きさとなるように構成される、請求項１または２に記載の熱処理装置。
【請求項７】
マニホールドに支持された反応管内に基板を搬入する工程と、   
前記反応管内で基板を熱処理する工程と、   
熱処理後の基板を前記反応管より搬出する工程と、を有し、  
前記反応管と前記マニホールドとの間の当接部が密閉部材で密閉され、前記反応管の側方を囲う囲い部が設けられ、該囲い部には吸気口が設けられ、少なくとも前記熱処理工程では、前記反応管と前記囲い部との間の雰囲気を強制排気し、前記吸気口から前記間隙へ吸気する半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記吸気口は、前記囲い部の側壁の周方向に複数設けられて前記囲い部の外側の雰囲気を吸気する、請求項７に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記吸気口は、前記排気口の下方側よりも前記排気口の上方側の数の方が多くなるように設けられる、請求項７または８に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記吸気口の総開口面積は、前記囲い部の側壁の総面積より小さく形成される、請求項７または８に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記囲い部は、前記間隙の長手方向の長さが幅方向の長さよりも大きくなるように構成される、請求項７または８に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記囲い部の外径は、前記ヒータの外径よりも小さくし、前記囲い部の内径は前記ヒータの内径以下の大きさとなるように構成される、請求項７または８に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月12日(2013.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
内部が減圧排気される処理室内に処理ガスを供給し、さらに該処理室内
に電界を供給してプラズマを生成し前記処理室内の試料載置電極上に配置
された試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
前記試料載置電極は、温度調節された冷媒を通流させるための冷媒流路
を内部に備えた基材部と、当該基材部の上面を覆って前記試料が載置される
面を構成する絶縁材と、当該絶縁材の内部に配置され前記基材部の中心に
ついて同心状の領域に配置された複数のヒータ用抵抗体とを備え、
前記複数のヒータ用抵抗体のうち前記中心側の領域に配置されたヒータ
用抵抗体に電力を供給するための線路のアースに対するインピーダンスが
当該中心側の領域より外周側の領域に配置されたヒータ用抵抗体に電力を
供給するための線路のアースに対するインピーダンスより高くされた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部が減圧排気される処理室内に処理ガスを供給し、さらに該処理室内
に電界を供給してプラズマを生成し前記処理室内の試料載置電極上に配置
された試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
前記試料載置電極は、温度調節された冷媒を通流させるための冷媒流路
を内部に備えた基材部と、当該基材部の上面を覆って前記試料が載置される
面を構成する絶縁材と、当該絶縁材の内部に配置され前記基材部の中心に
ついて同心状の領域に配置された複数のヒータ用抵抗体とを備え、
前記複数のヒータ用抵抗体のうち前記中心側の領域に配置されたヒータ
用抵抗体に電力を供給するための線路のアースに対するインピーダンスが
当該中心側の領域より外周側の領域に配置されたヒータ用抵抗体に電力を
供給するための線路のアースに対するインピーダンスより高くされたプラ
ズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマ処理装置において、
前記ヒータ用抵抗体は、その両端各々が給電線、インピーダンス調整器、
フィルタを介して直流ヒータ電源の正及び負極に電気的に接続されたプラ
ズマ処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記インピーダンス調整器は、その両端にそれぞれ設けた給電線、インピ
ーダンス調整器、ハイカットフィルタを介して直流ヒータ電源の正および
負極に接続すると共に、前記インピーダンス調整器は、可変インダクタン
スと可変キャパシタで構成されており、これらを調整することにより、載
置電極のクーリングプレートに印加されるＲＦバイアス電流のグランドへ
の流れ込み量を調整することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
内部が減圧排気される処理室内に処理ガスを供給し、さらに該処理室内
に電界を供給してプラズマを生成し前記処理室内の試料載置電極上に配置
された試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理方法であって、
前記試料載置電極は、温度調節された冷媒を通流させるための冷媒流路
を内部に備えた基材部と、当該基材部の上面を覆って前記試料が載置される
面を構成する絶縁材と、当該絶縁材の内部に配置され前記基材部の中心に
ついて同心状の領域に配置された複数のヒータ用抵抗体とを備え、
前記複数のヒータ用抵抗体のうち前記中心側の領域に配置されたヒータ
用抵抗体に電力を供給するための線路のアースに対するインピーダンスを
当該中心側の領域より外周側の領域に配置されたヒータ用抵抗体に電力を
供給するための線路のアースに対するインピーダンスより高く調整して前
記試料を処理するプラズマ処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月11日(2013.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つのアンテナと、
上記少なくとも２つのアンテナを用いて対向する無線装置と無線通信する無線部と、
上記少なくとも２つのアンテナの送受信の切替を制御する制御部と、を有し、
上記制御部は、所定のタイミング信号を受信することで、該タイミング信号に応じて上記少なくとも２つのアンテナの送受信を切替えることを特徴とする無線通信装置。
【請求項２】
上記制御部は、上記少なくとも２つのアンテナに対し、送信アンテナ切替のタイミングと受信アンテナ切替のタイミングの間に所定の時間差を設けて切替えることを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項３】
上記制御部は、上記タイミング信号のカウント数に応じて上記少なくとも２つのアンテナの送受信を切替えることを特徴とする請求項２に記載の無線通信装置。
【請求項４】
無線部と少なくとも２つのアンテナと制御部とを備える無線通信装置において、
所定のタイミング信号を受信し、該タイミング信号に応じて上記少なくとも２つのアンテナの送受信を切替えて対向する無線装置と無線通信することを特徴とする無線通信方法。
【請求項５】
上記少なくとも２つのアンテナに対し、送信アンテナ切替のタイミングと受信アンテナ切替のタイミングの間に所定の時間差を設けて切替えることを特徴とする請求項４に記載の無線通信方法。
【請求項６】
上記タイミング信号のカウント数に応じて上記少なくとも２つのアンテナの送受信を切替えることを特徴とする請求項５に記載の無線通信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】無線通信装置および無線通信方法