(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状の基板に加工を施す際にその基板をステージに載置して固定するのに使用される吸着機構付き定盤であって、コーナー付近が孔でそれ以外の部分が直線状の溝となったパターンで、基板を吸着して固定するための複数の吸着用孔と複数の吸着用溝をステージに設けたことを特徴とする吸着機構付き定盤。
【請求項２】
ステージに載置する基板のサイズに対応して、作用させる吸着用溝と吸着用孔を選択する機構を備えたことを特徴とする請求項１に記載の吸着機構付き定盤。
【請求項３】
定盤が石定盤であることを特徴とする請求項１又は２に記載の吸着機構付き定盤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平板状の基板に加工を施す際に、その基板を載置して固定する吸着機構の付いた定盤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、平板状をした基板の表面に、例えばＴダイなどによって塗工液を塗布するような場合、塗布膜厚を均一にするためには、基板を水平に維持するとともに基板とダイヘッドとのギャップを一定に保つ必要がある。このため、通常は定盤の上に基板を載置して作業を行うようにしている。そして、このような定盤として、ステージに吸着用の溝を形成した高価な石定盤を使用することが多い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従来の技術で述べたような定盤は、載置する基板のサイズが常に一定であれば、そのサイズに合わせた吸着用の溝をステージに加工し、そこから配管をポンプに繋げて吸引することにより、載置した基板をステージに固定することが可能である。しかしながら、対象とする基板のサイズが様々である場合、基板が溝を跨がってしまい、吸着できなくなるという問題がある。そこで、適当なブロック分けをした吸着孔をステージ上に加工する場合もあるが、基板が多少の反りを持っていると、周囲が上方に持ち上がり、その部分での膜厚が薄くなるという問題点が起こる。特に基板が大型化するに連れてこの傾向が強くなる。
【０００４】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、吸着する対象である基板の寸法に関わらず、基板の外周まで吸着した状態で固定できる吸着機構付き定盤を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明である吸着機構付き定盤は、平板状の基板に加工を施す際にその基板をステージに載置して固定するのに使用される吸着機構付き定盤であって、コーナー付近が孔でそれ以外の部分が直線状の溝となったパターンで、基板を吸着して固定するための複数の吸着用孔と複数の吸着用溝をステージに設けたことを特徴としている。
【０００７】
請求項２に記載の発明である吸着機構付き定盤は、請求項１に記載の吸着機構付き定盤において、ステージに載置する基板のサイズに対応して、作用させる吸着用溝と吸着用孔を選択する機構を備えたことを特徴としている。
【０００８】
請求項３に記載の発明である吸着機構付き定盤は、請求項１又は２に記載の吸着機構付き定盤において、その定盤が石定盤であることを特徴としている。
【０００９】
【発明の実施の形態】
次に、具体例を挙げて、その図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。
【００１０】
図１は本発明に係る吸着機構付き定盤の一例を示す平面図であり、同図は定盤のステージを上方から見た場合のパターンを示している。この図１に示されるように、ステージＳには、その中央部に直線状の吸着用溝１が比較的大きな間隔で縦横に設けられ、またコーナー付近を除く側辺に沿ったところには直線状の吸着用溝１が小さな間隔で平行に設けられており、さらにコーナー付近には吸着用孔２が複数設けられている。すなわち、ステージＳのコーナー付近が孔でそれ以外の部分が直線状の溝となったパターンで、複数の吸着用溝１と複数の吸着用孔２が設けられている。
【００１１】
吸着用溝１は、それ自体が吸着力を発揮するために、図示のように吸引孔１ａを有しており、各吸引孔１ａはそれぞれ吸引ポンプに連結されている。一方、吸着用孔２はそれぞれが吸引ポンプに繋がっている。石定盤の場合、吸引孔１ａを近接して設けることは難しいため、図示のように、側辺に沿った吸着用溝１についてはその吸引孔１ａを互い違いの位置に設けるようにすればよい。なお、図では見やすくするために吸着用溝１を細く図示しているが、実際には吸引孔１ａの幅で設けられている。
【００１２】
そして、図示の定盤は、ステージＳに載置する基板のサイズに対応して選択する孔と溝を選択する機構を有している。具体的には、全ての吸着用孔２と吸引孔１ａを吸引ポンプに接続しておき、所定の経路に取り付けたバルブを切り替えて作用させる吸着用孔２と吸引孔１ａの組合せパターンを選択すればよい。
【００１３】
例えば、図１で点線で示したのが最小の基板サイズであるが、このサイズの基板を載置した場合、中央部にある縦横の吸着用溝１と側辺に沿う一番内側の吸着用溝１を選択するとともに、一番内側にある吸着用孔２を選択し、この吸着パターンで基板を吸着する。同様に、それより大きなサイズの基板を載置する場合は、基板により覆われる吸着用溝１と吸着用孔２を選択し、それらを作用させて基板を吸着する。
【００１４】
図１に示す構成の定盤は、中央部にある縦横の吸着用溝１が占める領域よりも大きなサイズの基板を載置するように設計されている。すなわち、この中央部の吸着用溝１はどの基板に対しても作用する。一方、側辺に沿う平行な吸着用溝１は、それを覆う基板が載置された時に選択されて作用する。
【００１５】
基板の吸着時において、側辺に沿う一本の吸着用溝１は基板により途切れない状態であればよい。したがって、プラズマディスプレイパネル用のガラス基板のように、大型化につれて縦横の両方ともにサイズが大きくなるような基板の場合、図１のように側辺に沿う吸着用溝１が同じ長さである必要はなく、例えば図２に示すように、外側の吸着用溝１が徐々に長くなるようなパターンとすることができる。この場合、吸着用孔２の数を減らすことも可能となる。そして、取り扱う基板のサイズが数種類に限定される場合、それに合わせて側辺に沿う吸着用溝１の長さを設定するとともに、吸着用孔２を適宜の数に設定しておくこともできる。石定盤の場合、吸着用孔２や吸引孔１ａの加工は難しいため、これらの数を減らすことはコストダウンに繋がる。
【００１６】
以上、本発明を実施の形態に基づいて詳細に説明してきたが、本発明による吸着機構付き定盤は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることは言うまでもない。
【００１７】
【発明の効果】
本発明の吸着機構付き定盤は、平板状の基板に加工を施す際にその基板をステージに載置して固定するのに使用される吸着機構付き定盤であって、コーナー付近が孔でそれ以外の部分が直線状の溝となったパターンで、基板を吸着して固定するための複数の吸着用孔と複数の吸着用溝をステージに設けたことを特徴としているので、基板サイズに合わせて吸着パターンを変更することにより、吸着する対象である基板の寸法に関わらず、基板の外周まで吸着した状態で固定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る吸着機構付き定盤の一例を示す平面図である。
【図２】本発明に係る吸着機構付き定盤の別の例を示す平面図である。
【符号の説明】
Ｓ  ステージ
１  吸着用溝
１ａ  吸引孔
２  吸着用孔
【図１】
0004325971.tif 000002
【図２】
0004325971.tif 000003