Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月24日(2013.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上下方向に並べられた複数の熱盤と、
前記複数の熱盤の間隔を変化させて、隣接する熱盤間で被加工物のプレスを可能とする熱盤駆動機構と、
前記熱盤を加熱可能な加熱手段と、
前記熱盤を覆う真空チャンバと、
を備え、前記真空チャンバ内で前記熱盤間に被加工物を挟んで加熱プレスする複数の加熱プレス装置と、
前記複数の加熱プレス装置に対して被加工物の搬入及び搬出を行うローダと、
前記複数の加熱プレス装置及び前記ローダの制御を行う制御手段と、
を有し、
前記複数の熱盤は、上部熱盤と、下部熱盤と、前記上部及び前記下部熱盤の間に配置された少なくとも一つの中間熱盤とを含み、
前記中間熱盤の一つには、周縁より水平方向に広がる中間熱盤保持プレートが設けられており、
前記真空チャンバは上下に移動可能な上下一対の枡形容器を有し、該一対の枡形容器は、前記中間熱盤保持プレートを挟み込むように閉じて内部を外部から密閉するように構成され、
前記制御手段は、前記複数の加熱プレス装置の１つで被加工物の加熱プレスを行っている間に、他の前記加熱プレス装置及び前記ローダを制御して、前記他の加熱プレス装置に対して被加工物の搬入及び搬出を行う
ことを特徴とするプレス装置システム。
【請求項２】
前記複数の加熱プレス装置は、上下方向に並べて配置されていることを特徴とする請求項１に記載のプレス装置システム。
【請求項３】
前記中間熱盤の枚数が１枚であり、
前記複数の加熱プレス装置は、一対の側壁を有する支持フレームを備え、
前記一対の側壁の内壁面には、それぞれ前記中間熱盤保持プレートと係合する突出部が形成されており、
前記制御手段は、前記加熱プレス装置に対して被加工物の搬入及び搬出を行う時には、前記熱盤駆動機構により前記下部熱盤を第１の高さまで降下させ、加熱プレスを行う時には、前記熱盤駆動機構により前記下部熱盤を前記第１の高さよりも高い第２の高さまで上昇させるように該加熱プレス装置を制御し、
前記下部熱盤が前記第１の高さにあるときは、前記中間熱盤保持プレートが前記突出部に引っ掛かり、前記中間熱盤は前記下部熱盤から浮上し、
前記下部熱盤が前記第２の高さにあるときは、前記中間熱盤保持プレートが前記突出部から浮上し、前記中間熱盤は前記上部熱盤と前記下部熱盤との間で挟まれるように構成されたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプレス装置システム。
【請求項４】
前記複数の加熱プレス装置の前記真空チャンバから空気を除去する真空ポンプと、
前記制御手段に制御され、前記複数の加熱プレス装置の真空チャンバのいずれから空気を除去するかを切り換える切替弁と、
を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のプレス装置システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するため、本発明のプレス装置システムは、熱盤間に被加工物を挟んで加熱プレスする複数の加熱プレス装置と、複数の加熱プレス装置に対して被加工物の搬入及び搬出を行うローダと、複数の加熱プレス装置及びローダの制御を行う制御手段とを有し、複数の熱盤は、上部熱盤と、下部熱盤と、上部及び下部熱盤の間に配置された少なくとも一つの中間熱盤とを含み、中間熱盤の一つには、周縁より水平方向に広がる中間熱盤保持プレートが設けられており、真空チャンバは上下に移動可能な上下一対の枡形容器を有し、一対の枡形容器は、中間熱盤保持プレートを挟み込むように閉じて内部を外部から密閉するように構成され、制御手段は、複数の加熱プレス装置の１つで被加工物の加熱プレスを行っている間に、他の加熱プレス装置及びローダを制御して、他の加熱プレス装置に対して被加工物の搬入及び搬出を行うことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、中間熱盤の枚数が１枚であり、複数の加熱プレス装置は、一対の側壁を有する支持フレームを備え、一対の側壁の内壁面には、それぞれ中間熱盤保持プレートと係合する突出部が形成されており、制御手段は、加熱プレス装置に対して被加工物の搬入及び搬出を行う時には、熱盤駆動機構により下部熱盤を第１の高さまで降下させ、加熱プレスを行う時には、熱盤駆動機構により下部熱盤を第１の高さよりも高い第２の高さまで上昇させるように加熱プレス装置を制御し、下部熱盤が第１の高さにあるときは、中間熱盤保持プレートが突出部に引っ掛かり、中間熱盤は下部熱盤から浮上し、下部熱盤が第２の高さにあるときは、中間熱盤保持プレートが突出部から浮上し、中間熱盤は上部熱盤と下部熱盤との間で挟まれる構成としてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、複数の加熱プレス装置から空気を除去する真空ポンプを有する構成としてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、制御手段に制御され、複数の加熱プレス装置の真空チャンバのいずれから空気を除去するかを切り換える切替弁を有する構成とすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月19日(2013.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックシールドガスを使用しないオーステナイト系ステンレス鋼の裏波溶接施工方法であって、
重量％でシリコン（Ｓｉ）を０．６５％〜１．５０％含むオーステナイト系ステンレス鋼の溶接用溶加棒をステンレス鋼の溶接施工部において溶解する工程、
前記範囲のＳｉを含む溶融池を前記溶接施工部に形成する工程、
前記溶融池から裏波ビードを形成するとともに、該裏波ビードの表面にＳｉの酸化被膜を形成する工程、
を有することを特徴とするオーステナイト系ステンレス鋼の裏波溶接施工方法。
【請求項２】
前記溶接施工部に開先面を設け、重量％で６０％以上のＳｉを含むフラックスを溶剤と混合したものを前記開先面に塗布する工程を有する請求項１に記載のオーステナイト系ステンレス鋼の溶接施工方法。
【請求項３】
溶接施工対象を初層溶接とする請求項１又は２に記載のオーステナイト系ステンレス鋼の溶接施工方法。
【請求項４】
溶接施工対象を多層溶接とする請求項１又は２に記載のオーステナイト系ステンレス鋼の溶接施工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の各請求項毎の効果は以下の通りとなる。
出願時の請求項１ないし出願時の請求項４に記載の溶接施工方法によれば、裏波ビード表面にＳｉ酸化被膜を形成することにより溶接面を外気から遮断し、溶接金属をバックシールドガスで大気から遮断する必要が無く、健全な裏波ビードが得られることとなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
出願時の請求項５に記載の溶接施工方法によれば、ティグ溶接による片側溶接工法において、Ｓｉ含有量の多い溶加棒を使用して溶接するか、又は、Ｓｉ含有量の多いフラックスを溶剤と混合したものを開先面に塗布した後にＳｉ含有量の多い溶加棒を使用して溶接することによりＳｉの酸化被膜を形成し、バックシールドガスを使用すること無く溶接金属の裏波ビード表面を大気から遮断し、健全な裏波ビードが得られることとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月19日(2013.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被溶接物の溶接位置にレーザ溶接とワイヤを送給して行うアーク溶接とを同時に行いながら、前記溶接位置にフィラーを供給するレーザ溶接方法において、
前記被溶接物の表面における前記フィラーの狙い位置と同じ位置にレーザビームを照射すると共に、
前記レーザビームの直径をデフォーカスで所定の大きさに調整し、
前記フィラーの中心軸と前記レーザビームの光軸とのなす角度を４５度以下にするレーザ溶接方法。
【請求項２】
デフォーカスで前記レーザビームの直径を調整する場合には、被溶接物の表面をレーザビームの焦点よりレーザビームの入射側に配置する請求項１に記載のレーザ溶接方法。
【請求項３】
被溶接物表面での前記レーザビームの直径としては、フィラーの直径の０．７から１．３倍とする請求項１または２に記載のレーザ溶接方法。
【請求項４】
溶接の進行方向から、ワイヤ、レーザビーム、フィラーの順、または、フィラー、レーザビーム、ワイヤの順に配置し溶接を行う請求項１から３のいずれかに記載のレーザ溶接方法。
【請求項５】
ワイヤの被溶接物の表面における狙い位置とレーザビームの照射位置との間隔をワイヤ径の１から５倍とする請求項１から４のいずれかに記載のレーザ溶接方法。
【請求項６】
フィラーと被溶接物または溶融池とを接触させ、前記フィラーに電流を流すことによって前記フィラーを加熱しながら溶接を行う請求項１から５のいずれかに記載のレーザ溶接方法。
【請求項７】
被溶接物の溶接位置にレーザビームを照射するレーザ発生手段と、前記溶接位置にワイヤを送給するワイヤ送給手段と、前記ワイヤ送給手段を制御しながら前記ワイヤと前記被溶接物にアーク溶接のための電力を送給するアーク発生手段と、前記溶接位置にフィラーを送給するフィラー送給手段と、前記レーザ発生手段と前記アーク発生手段とを制御する制御手段とを備え、
前記被溶接物の表面における前記フィラーの狙い位置と同じ位置にレーザビームを照射すると共に、
前記レーザビームの直径をデフォーカスで所定の大きさに調整し、
前記フィラーの中心軸と前記レーザビームの光軸とのなす角度を４５度以下にするレーザ溶接装置。
【請求項８】
デフォーカスで前記レーザビームの直径を調整する場合には、焦点が被溶接物の中に位置するよう配置する請求項７に記載のレーザ溶接装置。
【請求項９】
被溶接物表面での前記レーザビームの直径としては、フィラーの直径の０．７から１．３倍とする請求項７または８に記載のレーザ溶接装置。
【請求項１０】
溶接の進行方向から、ワイヤ、レーザビーム、フィラーの順、または、フィラー、レーザビーム、ワイヤの順に配置し溶接を行う請求項７から９のいずれかに記載のレーザ溶接装置。
【請求項１１】
ワイヤの被溶接物の表面における狙い位置とレーザビームの照射位置との間隔をワイヤ径の１から５倍とする請求項７から１０のいずれかに記載のレーザ溶接装置。
【請求項１２】
フィラーに電流を供給する加熱手段を設けると共に、前記フィラーと被溶接物または溶融池を接触させ、前記フィラーに電流を流すことによって前記フィラーを加熱しながら溶接を行う請求項７から１１のいずれかに記載のレーザ溶接装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置および画像処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、インク滴を吐出して画像処理を行う画像処理装置および画像処理方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで本発明は、記録結果にテクスチャやモアレ、すじなどの画像劣化の発生を抑制する画像処理装置および画像処理方法を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そのため本発明の画像処理装置は、インク滴を吐出する複数のノズルが所定方向に配列された第１のノズル列の端部とインク滴を吐出する複数のノズルが前記所定方向に配列された第２のノズル列の端部とが、前記所定方向と交差する方向にオーバーラップするように配置された記録部に画像を記録させる画像処理装置であって、前記第１のノズル列のうち前記第２のノズル列とオーバーラップする第１領域に含まれるノズルと前記第２のノズル列のうち前記第１のノズル列とオーバーラップする第２領域に含まれるノズルから前記記録媒体に対して吐出されるインク滴の着弾精度に関する情報を取得する取得手段と、前記情報に基づいて、第１の比率で前記第１領域に含まれるノズルからインク滴を吐出させ、第２の比率で前記第２領域に含まれるノズルからインク滴を吐出させて画像を記録するように配分率を決定する決定手段と、を備え、前記情報が第１の精度を示す場合に決定される前記第１の比率及び前記第２の比率の差は、前記情報が前記第１の精度よりも低い第２の精度を示す場合に決定される前記第１の比率及び前記第２の比率の差よりも小さいことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によれば画像処理装置は、第１のノズル列のうち第２のノズル列とオーバーラップする第１領域に含まれるノズルと第２のノズル列のうち第１のノズル列とオーバーラップする第２領域に含まれるノズルから記録媒体に対して吐出されるインク滴の着弾精度に関する情報を取得する取得手段と、情報に基づいて、第１の比率で第１領域に含まれるノズルからインク滴を吐出させ、第２の比率で第２領域に含まれるノズルからインク滴を吐出させて画像を記録するように配分率を決定する決定手段と、を備え、情報が第１の精度を示す場合に決定される第１の比率及び第２の比率の差は、情報が第１の精度よりも低い第２の精度を示す場合に決定される第１の比率及び第２の比率の差よりも小さい。これによって、記録結果にテクスチャやモアレ、すじなどの画像劣化の発生を抑制する画像処理装置を実現することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
このように、記録ヘッドのチップのつなぎ部に対して、着弾精度に応じてレベルを設定し、そのレベルに従ってつなぎ部における各チップの記録データ配分率を決定する。これによって、記録結果にテクスチャやモアレ、すじなどの画像劣化の発生を抑制する画像処理装置を実現することができた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インク滴を吐出する複数のノズルが所定方向に配列された第１のノズル列の端部とインク滴を吐出する複数のノズルが前記所定方向に配列された第２のノズル列の端部とが、前記所定方向と交差する方向にオーバーラップするように配置された記録部に画像を記録させる画像処理装置であって、
前記第１のノズル列のうち前記第２のノズル列とオーバーラップする第１領域に含まれるノズルと前記第２のノズル列のうち前記第１のノズル列とオーバーラップする第２領域に含まれるノズルから前記記録媒体に対して吐出されるインク滴の着弾精度に関する情報を取得する取得手段と、
前記情報に基づいて、第１の比率で前記第１領域に含まれるノズルからインク滴を吐出させ、第２の比率で前記第２領域に含まれるノズルからインク滴を吐出させて画像を記録するように配分率を決定する決定手段と、
を備え、
前記情報が第１の精度を示す場合に決定される前記第１の比率及び前記第２の比率の差は、前記情報が前記第１の精度よりも低い第２の精度を示す場合に決定される前記第１の比率及び前記第２の比率の差よりも小さいことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記情報は、前記第１領域のノズル及び前記第２領域のノズル間のレジ調整情報、不吐ノズル情報、前記記録媒体の搬送精度情報のうち少なくとも１つであることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記レジ調整情報は、記録媒体に記録されたレジ調整用パターンを測定した結果もしくはユーザにより入力された結果に基づく情報であることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置
【請求項４】
前記搬送精度情報は、記録媒体に記録された搬送精度検出用パターンを測定した結果に基づく情報であることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記決定手段は、記録に用いるインクの色、記録媒体の種類、記録媒体の幅、記録モードにさらに基づいて、前記配分率を決定することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記配分率に基づいて、前記第１領域に含まれるノズル及び前記第２領域に含まれるノズルを用いて画像を記録する記録手段をさらに備えることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記第１の比率と前記第２の比率の合計は１００％であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
インク滴を吐出する複数のノズルが所定方向に配列された第１のノズル列の端部とインク滴を吐出する複数のノズルが前記所定方向に配列された第２のノズル列の端部とが、前記所定方向と交差する方向にオーバーラップするように配置された記録部に画像を記録させる画像処理方法であって、
前記第１のノズル列のうち前記第２のノズル列とオーバーラップする第１領域に含まれるノズルと前記第２のノズル列のうち前記第１のノズル列とオーバーラップする第２領域に含まれるノズルから前記記録媒体に対して吐出されるインク滴の着弾精度に関する情報を取得する取得工程と、
前記情報に基づいて、第１の比率で前記第１領域に含まれるノズルからインク滴を吐出させ、第２の比率で前記第２領域に含まれるノズルからインク滴を吐出させて画像を記録するように配分率を決定する決定工程と、
を備え、
前記情報が第１の精度を示す場合に決定される前記第１の比率及び前記第２の比率の差は、前記情報が前記第１の精度よりも低い第２の精度を示す場合に決定される前記第１の比率及び前記第２の比率の差よりも小さいことを特徴とする画像処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そのため本発明のインクジェット記録装置は、複数の色のインクを吐出する吐出口が設けられた吐出口面を有する記録ヘッドと、前記吐出口面をワイピングするワイパーと、前記記録ヘッドに前回の記録動作から次回の記録動作までの休止時間に基づいて決定されるインク量予備吐出させる予備吐出手段と、を備えるインクジェット記録装置において、前記予備吐出手段は、前回のプリント動作からの経過時間が所定時間以上で、かつ前記インク量が所定量未満の場合は、前記記録ヘッドに前記所定量予備吐出させることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によればインクジェット記録装置の予備吐出手段は、前回のプリント動作からの経過時間が所定時間以上で、かつインク量が所定量未満の場合は、記録ヘッドに所定量予備吐出させる。これによって、ワイピング動作からの経過時間が所定時間以上になると発生する場合がある混色を、予備吐出による廃インク量を抑えつつ、記録媒体への記録に先立つ記録前予備吐出によって防止するインクジェット記録装置を提供することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の色のインクを吐出する吐出口が設けられた吐出口面を有する記録ヘッドと、前記吐出口面をワイピングするワイパーと、前記記録ヘッドに前回の記録動作から次回の記録動作までの休止時間に基づいて決定されるインク量予備吐出させる予備吐出手段と、を備えるインクジェット記録装置において、
前記予備吐出手段は、前回のプリント動作からの経過時間が所定時間以上で、かつ前記インク量が所定量未満の場合は、前記記録ヘッドに前記所定量予備吐出させることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２】
前記記録ヘッドから予備吐出されたインクを受けるインク受けを備えることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項３】
前記吐出口面をキャッピングするキャップを備え、前記記録ヘッドから前記キャップへインクが予備吐出されることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート収納部に収納されたシートをシート給送ローラにより給送するシート給送装置において、
収納されたシートのシート給送方向と直交する幅方向の両側端の位置を規制するように前記シート収納部に対向して設けられた一対の側端規制部を備え、
前記一対の側端規制部の少なくとも一方を幅方向に移動可能とし、前記一対の側端規制部の内壁面にシートの各側端に当接する凸部をそれぞれ１つずつ対向させて設けたことを特徴とするシート給送装置。
【請求項２】
前記凸部の突出量は、前記一対の側端規制部がシート給送方向に対して最も傾斜した場合においても、前記凸部がシートの各側端に当接するように設定されていることを特徴とする請求項１記載のシート給送装置。
【請求項３】
前記側端規制部の凸部のシート給送方向の長さＸ´は、０.５（ｍｍ）≦Ｘ´≦３０（ｍｍ）の範囲に設定されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のシート給送装置。
【請求項４】
前記シート給送ローラにより給送されたシートを、挟持して搬送するシート搬送部を備え、
前記凸部は、シートが前記シート搬送部に到達するまでシートの各側端に当接するような位置に設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシート給送装置。
【請求項５】
前記シート搬送部は、幅方向に複数設けられていることを特徴とする請求項４に記載のシート給送装置。
【請求項６】
前記側端規制部の内壁面の、前記凸部のシート給送方向上流に、前記凸部と当接してシートが撓んだ際にシートと当接し、シートの傾斜を規制する規制部を設けたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のシート給送装置。
【請求項７】
前記一対の側端規制部のうち、少なくとも一方は、弾性的にシートの側端に当接するように構成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のシート給送装置。
【請求項８】
画像形成部と、前記画像形成部にシートを給送する請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシート給送装置と、を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月7日(2013.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走行する帯状の基材に塗布液を供給する塗布装置であって、
塗布液が供給されるマニホールド、前記マニホールドに連通するスロットを有し、前記基材に水平方向から塗布液を供給するスロットダイと、
前記スロットダイの上部に設置され、前記スロットの間隔を調整する調整手段を備え、前記調整手段は、脚部を有するブロック、固定ボルトと調整ボルトを含み、前記脚部が前記スロットダイに当接され、前記脚部を挿通する前記固定ボルトと前記脚部以外を挿通する前記調整ボルトにより、前記ブロックが前記スロットダイに固定され、
前記ブロックが１２０ＧＰａ以上のヤング率、及び６０００Ｎ／ｍ２以下の自重による圧力を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１記載の塗布装置であって、前記ブロックが繊維強化プラスチック、又はセラミックで構成される塗布装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の塗布装置であって、前記スロットダイが１ｍ以上の幅を有する塗布装置。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか記載の塗布装置であって、前記スロットダイが、その上部に複数の前記固定ボルトの穴と前記調整ボルトの穴の組を有し、前記調整手段が任意の数、及び位置に配置される塗布装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか記載の塗布装置であって、前記スロットダイの下部に減圧チャンバーをさらに有する塗布装置。
【請求項６】
走行する帯状の基材に塗布液を供給する光学フィルムの製造方法であって、
塗布液が供給されるマニホールド、前記マニホールドに連通するスロットを有し、前記基材に水平方向から塗布液を供給するスロットダイと、前記スロットダイの上部に設置され、前記スロットの間隔を調整する調整手段を備え、前記調整手段は、脚部を有するブロック、固定ボルトと調整ボルトを含み、前記脚部が前記スロットダイに当接され、前記脚部を挿通する前記固定ボルトと前記脚部以外を挿通する前記調整ボルトにより、前記ブロックが前記スロットダイに固定され、前記ブロックが１２０ＧＰａ以上のヤング率、及び６０００Ｎ／ｍ２以下の自重による圧力を有する塗布装置を準備する工程と、
前記調整手段により前記スロットの間隔を調整する工程と、
連続走行する基材に塗布液を前記塗布装置により供給する工程と、
を含む光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の光学フィルムの製造方法であって、前記ブロックが繊維強化プラスチック、又はセラミックで構成される光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項６又は７記載の光学フィルムの製造方法であって、前記スロットダイが１ｍ以上の幅を有する光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項６〜８の何れか記載の光学フィルムの製造方法であって、前記スロットダイが、その上部に複数の前記固定ボルトの穴と前記調整ボルトの穴の組を有し、前記調整手段が任意の数、及び位置に配置される光学フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項６〜９の何れか記載の光学フィルムの製造方法であって、前記スロットダイの下部に減圧チャンバーをさらに有する光学フィルムの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一態様によると、走行する帯状の基材に塗布液を供給する塗布装置であって、塗布液が供給されるマニホールド、前記マニホールドに連通するスロットを有し、前記基材に水平方向から塗布液を供給するスロットダイと、前記スロットダイの上部に設置され、前記スロットの間隔を調整する調整手段を備え、前記調整手段は、脚部を有するブロック、固定ボルトと調整ボルトを含み、前記脚部が前記スロットダイに当接され、前記脚部を挿通する前記固定ボルトと前記脚部以外を挿通する前記調整ボルトにより、前記ブロックが前記スロットダイに固定され、前記ブロックが１２０ＧＰａ以上のヤング率、及び６０００Ｎ／ｍ２以下の自重による圧力を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の別の態様によると、走行する帯状の基材に塗布液を供給する光学フィルムの製造方法であって、塗布液が供給されるマニホールド、前記マニホールドに連通するスロットを有し、前記基材に水平方向から塗布液を供給するスロットダイと、前記スロットダイの上部に設置され、前記スロットの間隔を調整する調整手段を備え、前記調整手段は、脚部を有するブロック、固定ボルトと調整ボルトを含み、前記脚部が前記スロットダイに当接され、前記脚部を挿通する前記固定ボルトと前記脚部以外を挿通する前記調整ボルトにより、前記ブロックが前記スロットダイに固定され、前記ブロックが１２０ＧＰａ以上のヤング率、及び６０００Ｎ／ｍ２以下の自重による圧力を有する塗布装置を準備する工程と、前記調整手段により前記スロットの間隔を調整する工程と、連続走行する基材に塗布液を前記塗布装置により供給する工程と、を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月8日(2013.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂成分および超微粒子成分を含むマトリクスと、該マトリクス中に分散された光拡散性微粒子とを有する光拡散素子であって、
該樹脂成分の一部が光拡散性微粒子に浸透し、該光拡散性微粒子中の樹脂成分の浸透範囲が、拡散素子中の光拡散性微粒子の平均粒径に対して、９０％以上であり、
算術平均表面粗さＲａが、０．０４μｍ以下である、
光拡散素子。
【請求項２】
ヘイズ値が７０％以上である、請求項１に記載の光拡散素子。
【請求項３】
十点平均表面粗さＲｚが、０．２μｍ以下である、請求項１または２に記載の光拡散素子。
【請求項４】
前記光拡散性微粒子から遠ざかるにつれて前記超微粒子成分の重量濃度が高くなる実質的に球殻状の濃度変調領域が、該光拡散性微粒子の表面近傍外部に形成されている、請求項１から３のいずれかに記載の光拡散素子。
【請求項５】
マトリクスの樹脂成分の前駆体と超微粒子成分と光拡散性微粒子とを有機溶剤中に溶解または分散させた塗工液を基材に塗布する工程Ａと、該基材に塗布された塗工液を乾燥させる工程Ｂと、上記前駆体を重合させる工程Ｃを含み、
工程Ａにおいて、該光拡散性微粒子と該有機溶剤とを混合した後、該光拡散性微粒子を含む該有機溶剤中に、該樹脂成分の前駆体および該超微粒子成分を添加して、塗工液を調製する、
請求項１から４のいずれかに記載の光拡散素子の製造方法。
【請求項６】
前記有機溶剤のＳＰ値と前記光拡散性微粒子のＳＰ値との差が、０．２〜０．８である、請求項５に記載の光拡散素子の製造方法。
【請求項７】
マトリクスの樹脂成分の前駆体と超微粒子成分と光拡散性微粒子とを有機溶剤中に溶解または分散させた塗工液を基材に塗布する工程Ａと、該基材に塗布された塗工液を乾燥させる工程Ｂと、上記前駆体を重合させる工程Ｃを含み、
該有機溶剤のＳＰ値と該光拡散性微粒子のＳＰ値との差が、０．２〜０．８である、
請求項１から４のいずれかに記載の光拡散素子の製造方法。
【請求項８】
前記工程Ａにおいて、前記光拡散性微粒子を膨潤させることをさらに含む、請求項５から７のいずれかに記載の光拡散素子の製造方法。
【請求項９】
前記工程Ａにおける、前記光拡散性微粒子の有機溶剤含有比率が、８０％以上である、請求項８に記載の光拡散素子の製造方法。
【請求項１０】
前記工程Ｃにおいて、前記樹脂成分および超微粒子成分を含むマトリクスが形成される、請求項５から９のいずれかに記載の光拡散素子の製造方法。
【請求項１１】
前記有機溶剤が、第１の有機溶剤と第２の有機溶剤との混合溶剤であり、
該第１の有機溶剤は、該第２の有機溶剤よりも前記光拡散性微粒子に浸透しやすく、かつ、該第２の有機溶剤よりも揮発性が高い、
請求項５から１０のいずれかに記載の光拡散素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記光拡散素子の算術平均表面粗さＲａは、０．０４μｍ以下であり、好ましくは０．０３μｍ以下であり、より好ましくは０．０２５μｍ以下である。光拡散素子の算術平均表面粗さＲａがこのような範囲にあれば、明所においてコントラストの高い映像や画像の表示に寄与し得る光拡散素子を得ることができる。上記のように算術平均表面粗さＲａが小さく、平滑性に優れる光拡散素子は、光拡散素子の製造時に、光拡散性微粒子を有機溶剤および樹脂成分の前駆体により十分に膨潤させることにより得ることができる。光拡散素子の製造方法の詳細は、後述する。光拡散素子の算術平均表面粗さＲａは、小さければ小さいほど好ましいが、実用的な下限値は、例えば０．００１μｍである。なお、本明細書において、「算術平均表面粗さＲａ」は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４年版）に規定される算術平均表面粗さＲａである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月8日(2013.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
圧縮機は、シリンダー内でピストンを往復移動させることにより振動流体を発生している。そこで、板ばねによりシリンダーとピストンとを相対的に往復移動可能に支持することが行われている。この板ばねは円盤形状とされており、その中央にピストンが接続されると共に外周部分は圧縮機のハウジングに固定される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
押さえハブ１６Ｂは押さえリム１６Ａよりも小径のリング形状を有し、押さえリム１６Ａの内側位置に配設される。この押さえハブ１６Ｂの所定位置（本実施形態では１２０度間隔位置）には、外側に延出したハブ側押さえ部１６Ｄが形成されている。また、押さえハブ１６Ｂの内側には、装着孔１６Ｆが形成されている。前記したピストン７は、この装着孔１６Ｆ内に挿入される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
補助ばねハブ１７Ｂは補助ばねリム１７Ａよりも小径のリング形状を有し、補助ばねリム１７Ａの内側位置に配設される。この補助ばねハブ１７Ｂの前記した押さえ１６に形成されたハブ側押さえ部１６Ｄと対応する位置には、外側に延出したハブ側押さえ部１７Ｄが形成されている。また、補助ばねハブ１７Ｂの内側には、ピストン７が挿入される装着孔１７Ｆが形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
板ばねハブ１８Ｂは板ばねリム１８Ａよりも小径のリング形状を有し、板ばねリム１８Ａの内側に位置している。この板ばねハブ１８Ｂの前記した押さえ１６及び補助ばね１７に形成されたハブ側押さえ部１６Ｄ，１７Ｄと対応する位置には、外側に延出したハブ側押さえ部１８Ｄが形成されている。また、板ばねハブ１８Ｂの内側には、ピストン７が挿入される装着孔１８Ｆが形成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
この際、各補助ばね部１７Ｇ，１７Ｈの長さ（図４に矢印Ｌ１で示す）は、弾性アーム部１８Ｇの長さ（図５に矢印Ｌ２で示す）に比べて短くなっている（Ｌ１＜Ｌ２）。具体的には、各補助ばね部１７Ｇ，１７Ｈの長さＬ１は、弾性アーム部１８Ｇの長さＬ２の約１０パーセント〜２５パーセント程度の長さとされている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
また、各補助ばね部１７Ｇ，１７Ｈの板厚（Ｔ１とする）は、弾性アーム部１８Ｇの板厚（Ｔ２とする）よりも小さくなるよう設定されている（Ｔ１＜Ｔ２）。具体的には、各補助ばね部１７Ｇ，１７Ｈの板厚Ｔ１は、弾性アーム部１８Ｇの板厚Ｔ２の約１０パーセント〜４０パーセント程度の厚さとされている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
更に、各補助ばね部１７Ｇ，１７Ｈの剛性は、弾性アーム部１８Ｇの剛性よりも小さくなるよう設定されている。具体的には、各補助ばね部１７Ｇ，１７Ｈの剛性は、弾性アーム部１８Ｇの剛性の約２パーセント〜１０パーセント程度の剛性とされている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
ところで、本実施形態のように一対の補助ばね１７の間に板ばね１８を配設することにより、各補助ばね１７のハブ側押さえ部１７Ｄとリム側補助ばね部１７Ｇとの境界位置（図中矢印Ｐ２で示す）において、弾性変形時に応力集中が発生することが考えられる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
１  冷凍機
２  圧縮機
３  膨張器
４  位相制御部
５  ハウジング
６  シリンダー
７  ピストン
８  リニアモーター
１２  圧縮室
１４  支持部材
１５  板ばねユニット
１６  押さえ
１６Ａ  押さえリム
１６Ｂ  押さえハブ
１６Ｃ，１７Ｃ，１８Ｃ  リム側押さえ部
１６Ｄ，１７Ｄ，１８Ｄ  ハブ側押さえ部
１６Ｅ，１７Ｅ  空間部
１６Ｆ，１７Ｆ，１８Ｆ  装着孔
１７  補助ばね
１７Ａ  補助ばねリム
１７Ｂ  補助ばねハブ
１７Ｇ  リム側補助ばね部
１７Ｈ  ハブ側補助ばね部
１８  板ばね
１８Ａ  板ばねリム
１８Ｂ  板ばねハブ
１８Ｅ  スリット
１８Ｇ  弾性アーム部
１９  支持ホルダ
３０  蓄冷器
３１  パルス管
３２  低温熱交換器
３３  熱交換器
４０  イナータンスチューブ
４１  バッファタンク
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月17日(2013.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
杖軸下端を接地部とする歩行補助用杖において、杖軸下端接地部近くに、杖軸下端接地部に先行し接地する杖軸から前方、または後方でかつ下方に突き出す弾性体でなる補助支持脚を設け、杖使用時には、該補助支持脚先端の杖軸芯より偏芯した位置で杖軸下端部に先行接地し発生する衝撃を軽減し、杖軸下端接地後は杖の補助支持脚として杖を支えることを特徴とする補助支持脚付き歩行用杖。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】本発明による杖軸下端部は石突と補助支持脚で構成するが、該補助支持脚は、杖軸下端に設ける石突（弾性体）より部分的に角状に突き出し、杖軸より偏芯位置で先行接地する石突材と一体型の構造としてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月3日(2013.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化粧料を口唇に塗布するための化粧料塗布用具と、該化粧料を収容するための容器とを備え、該塗布用具が該容器の口部から該容器内に出入自在な口唇化粧料塗布装置であって、
該塗布用具は、化粧料を塗布するための塗布面を有し、かつ扁平体からなる塗布部と、先端に該塗布部を連結した支持軸とを有しており、
前記塗布用具が前記容器内に挿入された状態において、前記塗布部の塗布面が該容器の底部方向を向くように、該塗布部が該支持軸の軸方向に対して傾斜しており、
前記容器の口部又はその近傍に、しごき孔を有する可撓性しごき弁が設けられており、前記しごき孔の周縁部から下方に延設して、可撓性環状裾部が前記可撓性しごき弁と一体として設けられている口唇化粧料塗布装置。
【請求項２】
前記しごき孔の内径を、前記塗布部との接合面における前記支持軸の外径で除した値が０．７〜１．０であり、前記可撓性環状裾部の裾長さを、前記塗布部の長さで除した値が０．０５〜０．５である請求項１に記載の口唇化粧料塗布装置。
【請求項３】
前記塗布部及び前記しごき弁の硬度が、Ａスケール硬度で５５〜７０°の範囲である請求項１又は２に記載の口唇化粧料塗布装置。
【請求項４】
前記塗布部及び前記可撓性環状裾部の材質がエラストマーである請求項１ないし３のいずれか一項に記載の口唇化粧料塗布装置。
【請求項５】
前記塗布部を正面視したとき、該塗布部は、最広幅部を有し、かつ該最広幅部から先端に向けて漸次狭幅となっている請求項１ないし４のいずれか一項に記載の口唇化粧料塗布装置。
【請求項６】
前記塗布部を正面視したとき、前記塗布面は、その中央部に窪み部が形成された凹面となっている請求項１ないし５のいずれか一項に記載の口唇化粧料塗布装置。
【請求項７】
前記塗布部は、前記最広幅部から前記支持軸との連結部に向けて漸次幅が狭くなっており、該連結部においては、該塗布部の幅と該支持軸の幅とが略一致している請求項５に記載の口唇化粧料塗布装置。
【請求項８】
前記最広幅部が、前記塗布部の先端から離れた位置にある請求項５又は７に記載の口唇化粧料塗布装置。
【請求項９】
前記塗布部は、前記塗布面と反対側の面に、該塗布部の長手方向に延びる直線状又は曲線状の溝を１本又は複数本有する請求項１１ないし８のいずれか一項に記載の口唇化粧料塗布装置。
【請求項１０】
前記塗布部は、その表面に植毛処理が施されている請求項１ないし９のいずれか一項に記載の口唇化粧料塗布装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月25日(2013.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アイテム仕分けシステム内で重複アイテムを検出する方法であって、
前記アイテムに沿った複数の場所で前記アイテムの厚さを測定すること、
前記測定厚のばらつきを検出すること、
離散した厚さレベル間の段部を示す厚さの差異を測定すること、
前記段部と所定高さ値とを比較すること、及び
段部高さが前記所定高さ値よりも大きい場合、２つ以上の重複アイテムを示す二重送り状態を判定すること、
を含む方法において、
重複アイテムを互いに対して変位させるために運搬経路に沿った前記アイテムの移動の方向を変化させ、前記移動方向の変化が前記運搬経路内の移行区域に沿った前記アイテムの搬送を含み、前記移行区域が前記運搬経路内の屈曲部、湾曲部、及び縁部のうちのいずれか１つを含むこと、及び
前記変位中に前記アイテムの剛性を測定すること、
を含み、
段部高さが前記所定高さ値よりも大きく、かつ前記剛性が所定剛性値よりも大きい場合、二重送り状態が存在すると判定されること、
を特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月29日(2012.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学物質に汚染された汚染水に過硫酸塩を添加して、前記汚染水を浄化する化学物質汚染の浄化方法であって、
前記過硫酸塩を添加して、前記汚染水を浄化する前に、前記汚染水のｐＨを５以下にした後、脱気処理をして、前記汚染水に溶存する無機炭素を除去又は減少させることを特徴とする化学物質汚染の処理方法。
【請求項２】
化学物質に汚染された地下水に過硫酸塩を添加して、前記地下水を原位置で浄化する化学物質汚染の浄化方法であって、
前記過硫酸塩を添加して、前記地下水を浄化する前に、前記地下水のｐＨを５以下にした後、脱気処理をして、前記地下水に溶存する無機炭素を除去又は減少させることを特徴とする化学物質汚染の処理方法。
【請求項３】
化学物質に汚染された汚染水に過硫酸塩を添加して、前記汚染水を浄化する化学物質汚染の浄化方法であって、
前記過硫酸塩を添加して、前記汚染水を浄化する前に、前記汚染水のｐＨを５以下にした後、炭酸ガス以外のガスにて曝気処理をして、前記汚染水に溶存する無機炭素を除去又は減少させることを特徴とする化学物質汚染の処理方法。
【請求項４】
化学物質に汚染された地下水に過硫酸塩を添加して、前記地下水を原位置で浄化する化学物質汚染の浄化方法であって、
前記過硫酸塩を添加して、前記地下水を浄化する前に、前記地下水のｐＨを５以下にした後、炭酸ガス以外のガスにて曝気処理をして、前記地下水に溶存する無機炭素を除去又は減少させることを特徴とする化学物質汚染の処理方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の化学物質汚染の処理方法であって、曝気処理又は脱気処理により排出されるガスを活性炭処理することを特徴とする化学物質汚染の処理方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の化学物質汚染の処理方法であって、前記過硫酸塩を添加した汚染水又は地下水を中和することを特徴とする化学物質汚染の処理方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の化学物質汚染の処理方法であって、前記化学物質は有機塩素化合物又は芳香族炭化水素であることを特徴とする化学物質汚染の処理方法。
【請求項８】
化学物質に汚染された地下水を原位置で浄化する化学物質汚染の処理装置であって、
前記地下水に過硫酸塩を添加する過硫酸塩添加手段と、
前記過硫酸塩添加手段によって前記地下水に過硫酸塩を添加する前に、前記地下水のｐＨを５以下にした後、脱気処理をして、前記地下水に溶存する無機炭素を除去又は減少させる無機炭素処理手段と、を備えることを特徴とする化学物質汚染の処理装置。
【請求項９】
化学物質に汚染された地下水を原位置で浄化する化学物質汚染の処理装置であって、
前記地下水に過硫酸塩を添加する過硫酸塩添加手段と、
前記過硫酸塩添加手段によって前記地下水に過硫酸塩を添加する前に、前記地下水のｐＨを５以下にした後、炭酸ガス以外のガスにて、曝気処理をして、前記地下水に溶存する無機炭素を除去又は減少させる無機炭素処理手段と、を備えることを特徴とする化学物質汚染の処理装置。
【請求項１０】
請求項８又は９記載の化学物質汚染の処理装置であって、前記無機炭素処理手段における曝気処理又は脱気処理により排出されるガスを活性炭処理する活性炭処理手段を備えることを特徴とする化学物質汚染の処理装置。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の化学物質汚染の処理装置であって、前記過硫酸塩添加手段により前記過硫酸塩が添加された地下水を中和する中和手段を備えることを特徴とする化学物質汚染の処理装置。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか１項に記載の化学物質汚染の処理装置であって、前記化学物質は、有機塩素化合物又は芳香族炭化水素であることを特徴とする化学物質汚染の処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月4日(2012.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一流路と第二流路からなる主流路と、
前記第二流路の周囲に該第二流路に対しそれぞれ略同心状に形成されるとともに、周方向に互いに位置をずらして設けられ、一端部に前記第一流路がそれぞれ連通する複数の螺旋流路と、
前記第二流路の流れ方向の複数箇所から分岐し、前記複数の螺旋流路の流れ方向の複数箇所で該複数の螺旋流路にそれぞれ連通する複数の分岐流路と、
前記第一流路または前記第二流路の開口端部に設けられた流体入口部と、
前記流体入口部とは異なる、前記第一流路または前記第二流路の開口端部に設けられた流体出口部とを有することを特徴とする流体混合器。
【請求項２】
前記複数の螺旋流路の流路軸線に対する流路断面形状が互いに同一であることを特徴とする請求項１に記載の流体混合器。
【請求項３】
前記第一流路、前記第二流路および前記分岐流路がそれぞれ内部に設けられるとともに、前記分岐流路に連通して外周面に複数の螺旋溝が形成された本体部と、
前記本体部の外周面に嵌合され、前記複数の螺旋溝とともに前記複数の螺旋流路を形成する筐体とを備え、
前記第一流路および前記第二流路は、互いに同軸上に離間して配置され、
前記流体入口部および前記流体出口部は、それぞれ前記本体部の長手方向端部に設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の流体混合器。
【請求項４】
前記第二流路の流路断面積が、該第二流路の開口端部側から他端部側に向かって徐々に小さく形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の流体混合器。
【請求項５】
前記複数の螺旋流路の流路断面積が、前記第一流路の開口端部側から他端部側に向かって徐々に小さく形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の流体混合器。
【請求項６】
長手方向一端部から他端部側にかけて溝深さが徐々に浅くなるように外周面に複数の螺旋溝が形成されるとともに、長手方向他端部から一端部側にかけて断面積が縮径された円錐状の空間部が形成され、さらに前記複数の螺旋溝と前記空間部とを連通する複数の連通孔が開口された本体部と、
前記本体部の外周面に嵌合され、前記複数の螺旋溝とともに前記複数の螺旋流路を形成する筐体とを備え、
前記筐体の一端部には、前記複数の螺旋流路の端部にそれぞれ連通して前記第一流路を形成する第一流路形成部が、他端部には、前記空間部とともに前記第二流路を形成する第二流路形成部がそれぞれ設けられ、
前記複数の連通孔は、前記複数の分岐流路を形成し、
前記第一流路および前記第二流路は、互いに同軸上に離間して配置され、
前記流体入口部は、前記第一流路形成部および前記第二流路形成部のいずれか一方の端部に設けられ、前記流体出口部は、前記第一流路形成部および前記第二流路形成部のいずれか他方の端部に設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の流体混合器。
【請求項７】
前記本体部は、複数の分割部材を有し、該複数の分割部材が前記第二流路の流れ方向にかけて連結されてなることを特徴とする請求項６に記載の流体混合器。
【請求項８】
前記分割部材は、前記螺旋流路の回転方向が交互に逆回りになるように連結されてなることを特徴とする請求項７に記載の流体混合器。
【請求項９】
前記筐体は、円筒部材と、該円筒部材の両端部に接続された継手部材とを有することを特徴とする請求項３〜８のいずれか１項に記載の流体混合器。
【請求項１０】
前記筐体は、フランジ部が設けられた複数の筐体部材を有し、該複数の筐体部材が該フランジ部を介して長手方向に互いに連結されてなることを特徴とする請求項３〜９のいずれか１項に記載の流体混合器。
【請求項１１】
前記筐体部材は、一対の円筒部材であり、
前記フランジ部は、前記一対の円筒部材の各一端部に径方向外側にそれぞれ突設され、
前記本体部は、前記一対の円筒部材の内側に収容されて、前記一対の円筒部材の前記フランジ部同士が連結されることにより固定されることを特徴とする請求項１０に記載の流体混合器。
【請求項１２】
前記筐体の端部にフェルール継手部が設けられていることを特徴とする請求項３乃至請求項１１のいずれか１項に記載の流体混合器。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の流体混合器と、
前記流体混合器に複数の異種流体を合流して導く流路を形成する流路形成手段とを備えることを特徴とする流体混合器を用いた装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月22日(2013.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
切削部材を研削する研削装置であって、
前記切削部材が、支持部と、該支持部の端部に沿って取付けられた刃部とを備えてなり、
前記研削装置が、
外周面が研削部であって回転駆動される円盤状の研削部材と、
前記研削部材の外周面と前記切削部材とを当接させるように前記切削部材を支持する支持機構と、を備え、
該支持機構は、前記切削部材を保持する保持部材と、該保持部材を移動させる移動装置とを備え、前記切削部材の支持部のみが前記円盤状の研削部材の外周面に当接するように前記切削部材を前記研削部材に対して移動できるものである、
ことを特徴とする研削装置。
【請求項２】
前記切削部材の前記支持部が超硬材で構成され、前記刃部がダイヤモンドを含む材料で構成されている、
請求項１に記載の研削装置。
【請求項３】
前記移動装置は、前記保持部材を上下方向に移動させる、
請求項１または２に記載の研削装置。
【請求項４】
前記移動装置は、ハイドロチェッカによって、移動速度が制御されている、
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の研削装置。
【請求項５】
前記切削部材が、ロッドレンズアレイの端面切削用の切削部材である、
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の研削装置。
【請求項６】
切削部材の支持部の先端部を研磨することにより、刃部の先端面が支持部の先端面よりも前方に位置するようにすることを特徴とする、切削部材の再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月29日(2013.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主軸台にＣ軸を中心に回転可能に支持された主軸に被加工物を取り付ける一方、
前記Ｃ軸に平行なＺ軸、前記被加工物に対する切り込み方向を規定するためのＸ軸、及び前記Ｘ軸及びＺ軸に直交するＹ軸に沿って移動可能にした工具台に、切削加工用の工具を、前記Ｘ軸に平行なＡ軸を中心として回転可能に取り付け、
前記被加工物をＣ軸を中心に回転させる一方、前記工具の、前記Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸に沿った位置、並びにＡ軸を中心とした回転角を数値制御して、前記被加工物から不等リード不等傾斜角を有するスクリューロータを加工することを特徴とするスクリューロータ加工方法。
【請求項２】
前記工具台を、更に前記Ｙ軸を中心に旋回可能に構成し、前記工具の、前記Ｙ軸を中心とした旋回角を数値制御することを特徴とする請求項１に記載のスクリューロータ加工方法。
【請求項３】
加工中または加工後の前記被加工物の加工形状を計測して測定値を生成し、当該測定値を、加工すべきスクリューロータの三次元モデルデータと比較して修正値を生成し、当該修正値を基に前記工具台の移動及び工具の回転を数値制御することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のスクリューロータ加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】スクリューロータ加工方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、スクリューロータ加工方法に関し、特に、不等リード不等傾斜角を有するスクリューロータを加工するスクリューロータ加工方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
そこで、本発明は、従来の問題を解決するものであって、すなわち、本発明の目的は、多大な加工負担を必要とすることなく、低コストで短時間にて高精度な不等リード不等傾斜角を有するスクリューロータを大量に加工することが可能であり、スクリュー型真空ポンプを安価にかつ大量に供給することを可能にするスクリューロータ加工方法を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明のスクリューロータ加工方法は、主軸台にＣ軸を中心に回転可能に支持された主軸に被加工物を取り付ける一方、前記Ｃ軸に平行なＺ軸、前記被加工物に対する切り込み方向を規定するためのＸ軸、及び前記Ｘ軸及びＺ軸に直交するＹ軸に沿って移動可能にした工具台に、切削加工用の工具を、前記Ｘ軸に平行なＡ軸を中心として回転可能に取り付け、前記被加工物をＣ軸を中心に回転させる一方、前記工具の、前記Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸に沿った位置、並びにＡ軸を中心とした回転角を数値制御して、前記被加工物から不等リード不等傾斜角を有するスクリューロータを加工することにより、前述した課題を解決したものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】