【手続補正書】
【提出日】平成25年2月12日(2013.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
任意の長さで水平方向に互いに平行に延びる第１および第２の搬送路と、
基板を１枚積載する荷台を有し、前記第１の搬送路の一端に設けられる第１の積出位置と、前記第１の搬送路の他端に設けられる第１の荷卸位置との間で前記第１の搬送路上を往復移動可能な第１のシャトルと、
基板を１枚積載する荷台を有し、前記第２の搬送路の一端に設けられる第２の積出位置と、前記第２の搬送路の他端に設けられる第２の荷卸位置との間で前記第２の搬送路上を往復移動可能な第２のシャトルと、
前記第１および第２の積出位置にアクセス可能に設けられ、第１のエリア内で基板を搬送するための１つまたは複数の第１の搬送アームを有する第１の搬送機構と、
前記第１および第２の荷卸位置にアクセス可能に設けられ、第２のエリア内で基板を搬送するための１つまたは複数の第２の搬送アームを有する第２の搬送機構と、
基板に所望の枚葉処理またはバッチ処理を施すために、前記第１および第２のエリアの少なくとも１つに配置される処理部と
を有し、
前記第１の搬送機構が、前記第１の搬送アームを用いて、前記第１および第２の積出位置で前記第１および第２のシャトルに基板を１枚ずつ積み、
前記第２の搬送機構が、前記第２の搬送アームを用いて、前記第１および第２の荷卸位置で前記第１および第２のシャトルから基板を１枚ずつ卸し、
前記第１のシャトルによる前記第１の積出位置から前記第１の荷卸位置への基板の搬送と、前記第２のシャトルによる前記第２の積出位置から前記第２の荷卸位置への基板の搬送とが独立に行われる、
基板処理装置。
【請求項２】
任意の長さで水平方向に互いに平行に延びる第１および第２の搬送路と、
基板を１枚積載する荷台を有し、前記第１の搬送路の一端に設けられる第１の積出位置と、前記第１の搬送路の他端に設けられる第１の荷卸位置との間で前記第１の搬送路上を往復移動可能な第１のシャトルと、
基板を１枚積載する荷台を有し、前記第２の搬送路の一端に設けられる第２の積出位置と、前記第２の搬送路の他端に設けられる第２の荷卸位置との間で前記第２の搬送路上を往復移動可能な第２のシャトルと、
前記第１および第２の荷卸位置の近くに一端を有し、そこから任意の長さで水平方向に互いに平行に延びる第３および第４の搬送路と、
基板を１枚積載する荷台を有し、前記第３の搬送路の一端に設けられる第３の積出位置と、前記第３の搬送路の他端に設けられる第３の荷卸位置との間で前記第３の搬送路上を往復移動可能な第３のシャトルと、
基板を１枚積載する荷台を有し、前記第４の搬送路の一端に設けられる第４の積出位置と、前記第４の搬送路の他端に設けられる第４の荷卸位置との間で前記第４の搬送路上を往復移動可能な第４のシャトルと、
前記第１および第２の積出位置にアクセス可能に設けられ、第１のエリア内で基板を搬送するための１つまたは複数の第１の搬送アームを有する第１の搬送機構と、
前記第１および第２の荷卸位置と前記第３および第４の積出位置とにアクセス可能に設けられ、第２のエリア内で基板を搬送するための１つまたは複数の第２の搬送アームを有する第２の搬送機構と、
前記第３および第４の荷卸位置にアクセス可能に設けられ、第３のエリア内で基板を搬送するための１つまたは複数の第３の搬送アームを有する第３の搬送機構と、
基板に所望の枚葉処理またはバッチ処理を施すために、前記第１、第２および第３のエリアの少なくとも１つに配置される処理部と
を有し、
前記第１の搬送機構が、前記第１の搬送アームを用いて、前記第１および第２の積出位置で前記第１および第２のシャトルに基板を１枚ずつ積み、
前記第２の搬送機構が、前記第２の搬送アームを用いて、前記第１および第２の荷卸位置で前記第１および第２のシャトルから基板を１枚ずつ卸すとともに、前記第３および第４の積出位置で前記第３および第４のシャトルに基板を１枚ずつ積み、
前記第３の搬送機構が、前記第３の搬送アームを用いて、前記第３および第４の荷卸位置で前記第３および第４のシャトルから基板を１枚ずつ卸し、
前記第１のシャトルによる前記第１の積出位置から前記第１の荷卸位置への基板の搬送と、前記第２のシャトルによる前記第２の積出位置から前記第２の荷卸位置への基板の搬送と、前記第３のシャトルによる前記第３の積出位置から前記第３の荷卸位置への基板の搬送と、前記第４のシャトルによる前記第４の積出位置から前記第４の荷卸位置への基板の搬送とが独立に行われる、
基板処理装置。
【請求項３】
前記第３のエリア内に、処理済みの基板を収納したカセットの払い出しが行われるアンローダ部が設けられ、
前記第３の搬送機構は、前記第３の搬送アームを用いて、前記第３または第４のシャトルから卸した基板を前記カセットに収納する、
請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第３および第４の搬送路は一定の間隔を空けて上下に重なっている、請求項２または請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１のエリア内に、未処理の基板を収納したカセットの投入が行われるローダ部が設けられ、
前記第１の搬送機構は、前記第１の搬送アームを用いて、前記第１または第２のシャトルへ積むための基板を前記カセットから取り出す、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第１および第２の搬送路は一定の間隔を空けて上下に重なっている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
プロセスフローの上流側から下流側に向かって被処理基板を水平な方向で搬送する搬送ラインと、
前記搬送ライン上に設けられ、その周囲に配置されている第１の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第１の搬送機構と、
前記搬送ライン上の前記第１の搬送機構よりも下流側に設けられ、その周囲に配置されている第２の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第２の搬送機構と、
前記搬送ラインの一区間を構成し、前記第１の搬送機構に隣接する第１および第２の積出位置から前記第２の搬送機構に隣接する第１および第２の荷卸位置へ基板をそれぞれ１枚ずつ積んで個別に枚葉搬送する往復移動可能な第１および第２のシャトルと
を有する基板処理装置。
【請求項８】
プロセスフローの上流側から下流側に向かって被処理基板を水平な方向で搬送する搬送ラインと、
前記搬送ライン上に設けられ、その周囲に配置されている第１の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第１の搬送機構と、
前記搬送ライン上の前記第１の搬送機構よりも下流側に設けられ、その周囲に配置されている第２の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第２の搬送機構と、
前記搬送ラインの一区間を構成し、前記第１の搬送機構に隣接する第１および第２の積出位置から前記第２の搬送機構に隣接する第１および第２の荷卸位置へ基板をそれぞれ１枚ずつ積んで枚葉搬送する往復移動可能な第１および第２のシャトルと
を有し、
前記第１のシャトルによる基板の搬送と前記第２のシャトルによる基板の搬送とが一定のタクト時間で交互に行われる、
基板処理装置。
【請求項９】
前記第１のシャトルが基板を積んで前記第１の積出位置から前記第１の荷卸位置へ移動する動作と、前記第２のシャトルが基板を積まずに前記第２の荷卸位置から前記第２の積出位置へ移動する動作とが同時に行われ、
前記第２のシャトルが基板を積んで前記第２の積出位置から前記第２の荷卸位置へ移動する動作と、前記第１のシャトルが基板を積まずに前記第１の荷卸位置から前記第１の積出位置へ移動する動作とが同時に行われる、
請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記第１の搬送機構が前記第１のシャトルに基板を積む動作と、前記第２の搬送機構が前記第２のシャトルから基板を卸す動作とが独立したタイミングで行われ、
前記第１の搬送機構が前記第２のシャトルへ基板を積む動作と、前記第２の搬送機構が前記第１のシャトルから基板を卸す動作とが独立したタイミングで行われる、
請求項８または請求項９に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記第１および第２のシャトルは、任意の長さで平行に延びる第１および第２の搬送路上でそれぞれ独立に移動する、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記第１および第２の搬送路は一定の間隔を空けて上下に重なっている、請求項１１に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記第１の処理部が、一定の時間差で各々が第１の枚葉処理を繰り返し行う複数の第１の枚葉式処理ユニットを有する、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１４】
前記第１の搬送機構は、前記タクト時間内に、前記第１の枚葉処理を未だ受けていない１枚の基板を前記搬送ラインの上流側から受け取り、その受け取った基板を最も間近に前記第１の枚葉処理が終了している前記第１の枚葉式処理ユニットに搬入して、それと入れ替わりに前記第１の枚葉処理を終えた基板を搬出し、その搬出した基板を前記第１または第２のシャトルのいずれかに積む、請求項１３に記載の基板処理装置。
【請求項１５】
前記第１の処理部が、一定の時間差で各々が第１の枚葉処理を繰り返し行う複数の第１の枚葉式処理ユニットと、一定の時間差で各々が前記第１の枚葉処理の次工程の第２の枚葉処理を繰り返し行う複数の第２の枚葉式処理ユニットとを有する、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１６】
前記第１の搬送機構は、前記タクト時間内に、前記第１および第２の枚葉処理のいずれも未だ受けていない１枚の基板を前記搬送ラインの上流側から受け取り、その受け取った基板を最も間近に前記第１の枚葉処理が終了している前記第１の枚葉式処理ユニットに搬入して、それと入れ替わりに前記第１の枚葉処理を終えた基板を搬出し、その搬出した基板を最も間近に前記第２の枚葉処理が終了している前記第２の枚葉式処理ユニットに搬入して、それと入れ替わりに前記第２の枚葉処理を終えた基板を搬出し、その搬出した基板を前記第１または第２のシャトルのいずれかに積む、請求項１５に記載の基板処理装置。
【請求項１７】
前記第１の処理部が、一定の時間差で各々が第１のバッチ処理を繰り返し行う複数の第１のバッチ式処理ユニットを有する、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１８】
前記第１の搬送機構は、前記タクト時間内に、前記第１のバッチ処理を未だ受けていない１枚の基板を前記搬送ラインの上流側から受け取り、その受け取った基板を最も間近に前記第１のバッチ処理が終了している前記第１のバッチ式処理ユニットに搬入して、それと入れ替わりに前記第１のバッチ処理を終えた基板を搬出し、その搬出した基板を前記第１または第２のシャトルのいずれかに積む、請求項１７に記載の基板処理装置。
【請求項１９】
前記第２の処理部が、一定の時間差で各々が第３の枚葉処理を繰り返し行う複数の第３の枚葉式処理ユニットを有する、請求項８〜１８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項２０】
前記第２の処理部が、一定の時間差で各々が第３の枚葉処理を繰り返し行う複数の第３の枚葉式処理ユニットと、一定の時間差で各々が前記第３の枚葉処理の次工程の第４の枚葉処理を繰り返し行う複数の第４の枚葉式処理ユニットとを有する、請求項８〜１８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項２１】
前記第２の搬送機構は、前記タクト時間内に、前記第３および第４の枚葉処理のいずれも未だ受けていない１枚の基板を前記第１または第２のシャトルのいずれかから卸し、その卸した基板を最も間近に前記第３の枚葉処理が終了している前記第３の枚葉式処理ユニットに搬入して、それと入れ替わりに前記第３の枚葉処理を終えた基板を搬出し、その搬出した基板を最も間近に前記第４の枚葉処理が終了している前記第４の枚葉式処理ユニットに搬入して、それと入れ替わりに前記第４の枚葉処理を終えた基板を搬出し、その搬出した基板を前記搬送ラインの下流側に渡す、請求項２０に記載の基板処理装置。
【請求項２２】
前記第２の処理部が、一定の時間差でいずれも第２のバッチ処理を繰り返し行う複数の第２のバッチ式処理ユニットを有する、請求項８〜１８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項２３】
前記第１の搬送機構は、
方位角方向に回転可能かつ鉛直方向に昇降可能であって、独立に水平の進退移動または伸縮移動を行える一対の第１の搬送アームを有し、
前記一対の第１の搬送アームのいずれかを用いて前記搬送ラインの上流側から基板を受け取り、
前記一対の第１の搬送アームの両方を用いて前記第１群の処理部と基板の受け渡しを行い、
前記一対の第１の搬送アームのいずれかを用いて前記第１および第２のシャトルに基板を積む、
請求項７〜２２のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項２４】
前記第２の搬送機構は、
方位角方向に回転可能かつ鉛直方向に昇降可能であって、独立に水平の進退移動または伸縮移動を行える一対の第２の搬送アームを有し、
前記一対の第２の搬送アームのいずれかを用いて前記第１および第２のシャトルから基板を卸し、
前記一対の第２の搬送アームの両方を用いて前記第２群の処理部と基板の受け渡しを行い、
前記一対の第２の搬送アームのいずれかを用いて前記搬送ラインの下流側に基板を渡す、
請求項７〜２３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項２５】
プロセスフローの上流側から下流側に向かって被処理基板を水平な方向で搬送する搬送ラインと、
前記搬送ライン上に設けられ、その周囲に配置されている第１の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第１の搬送機構と、
前記搬送ライン上の前記第１の搬送機構よりも下流側に設けられ、その周囲に配置されている第２の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第２の搬送機構と、
前記搬送ライン上の前記第２の搬送機構よりも下流側に設けられ、その周囲に配置されている第３の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第３の搬送機構と、
前記搬送ラインの一区間を構成し、前記第１の搬送機構に隣接する第１および第２の積出位置から前記第２の搬送機構に隣接する第１および第２の荷卸位置へ基板をそれぞれ１枚ずつ枚葉搬送する往復移動可能な第１および第２のシャトルと、
前記搬送ラインの一区間を構成し、前記第２の搬送機構に隣接する第３および第４の積出位置から前記第３の搬送機構に隣接する第３および第４の荷卸位置へ基板をそれぞれ１枚ずつ枚葉搬送する往復移動可能な第３および第４のシャトルと
を有し、
前記第１のシャトルによる基板の搬送と前記第３のシャトルによる基板の搬送とが同時に行われるともに、前記第２のシャトルによる基板の搬送と前記第４のシャトルによる基板の搬送とが同時に行われ、
前記第１および第３のシャトルによる基板の搬送と前記第２および第４のシャトルによる基板の搬送とが一定のタクト時間で交互に行われる、
基板処理装置。
【請求項２６】
前記第１および第３のシャトルが基板を積んで前記第１および第３の積出位置から前記第１および第３の荷卸位置へそれぞれ移動する動作と、前記第２および第４のシャトルが基板を積まずに前記第２および第４の荷卸位置から前記第２および第４の積出位置へそれぞれ移動する動作とが同時に行われ、
前記第２および第４のシャトルが基板を積んで前記第２および第４の積出位置から前記第２および第４の荷卸位置へそれぞれ移動する動作と、前記第１および第３のシャトルが基板を積まずに前記第１および第３の荷卸位置から前記第１および第３の積出位置へそれぞれ移動する動作とが同時に行われる、
請求項２５に記載の基板処理装置。
【請求項２７】
前記第１の搬送機構が前記第１のシャトルに基板を積む動作と、前記第２の搬送機構が前記第２のシャトルから基板を卸す動作と、前記第２の搬送機構が前記第３のシャトルに基板を積む動作と、前記第３の搬送機構が前記第４のシャトルから基板を卸す動作とが独立したタイミングで行われ、
前記第１の搬送機構が前記第２のシャトルに基板を積む動作と、前記第２の搬送機構が前記第１のシャトルから基板を卸す動作と、前記第２の搬送機構が前記第４のシャトルに基板を積む動作と、前記第３の搬送機構が前記第３のシャトルから基板を卸す動作とが独立したタイミングで行われる、
請求項２５または請求項２６に記載の基板処理装置。
【請求項２８】
前記第１および第２のシャトルは、任意の長さで平行に延びる第１および第２の搬送路上でそれぞれ独立に移動し、
前記第３および第４のシャトルは、任意の長さで平行に延びる第３および第４の搬送路上でそれぞれ独立に移動する、
請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項２９】
前記第１および第２の搬送路は一定の間隔を空けて上下に重なり、
前記第３および第４の搬送路は一定の間隔を空けて上下に重なっている、
請求項２８に記載の基板処理装置。
【請求項３０】
前記第２の搬送機構は、
方位角方向に回転可能かつ鉛直方向に昇降可能であって、独立に水平の進退移動または伸縮移動を行える一対の搬送アームを有し、
前記一対の搬送アームのいずれかを用いて前記第１または第２のシャトルのいずれかから基板を卸し、
前記一対の搬送アームの両方を用いて前記第２の処理部と基板の受け渡しを行い、
前記第一対の搬送アームのいずれかを用いて前記第３および第４のシャトルに基板を積む、
請求項２５〜２９のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の第３の観点における基板処理装置は、プロセスフローの上流側から下流側に向かって被処理基板を水平な方向で搬送する搬送ラインと、前記搬送ライン上に設けられ、その周囲に配置されている第１の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第１の搬送機構と、前記搬送ライン上の前記第１の搬送機構よりも下流側に設けられ、その周囲に配置されている第２の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第２の搬送機構と、前記搬送ラインの一区間を構成し、前記第１の搬送機構に隣接する第１および第２の積出位置から前記第２の搬送機構に隣接する第１および第２の荷卸位置へ基板をそれぞれ１枚ずつ積んで個別に枚葉搬送する往復移動可能な第１および第２のシャトルとを有する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上記第３の観点の基板処理装置においては、第１のシャトルによる第１の積出位置から第１の荷卸位置へ基板の枚葉搬送と、第２のシャトルによる第２の積出位置から前記第２の荷卸位置への基板の枚葉搬送とを独立に行うことができる。したがって、第１の搬送機構は、第１または第２のシャトルのどちらかが第１または第２の積出位置に滞在している間に基板を１枚積めばよい。また、第２の搬送機構は、第１または第２のシャトルのどちらかが第１または第２の荷卸位置に滞在している間に基板を１枚卸せばよい。各搬送機構は、直接的には第１および第２のシャトルの定型的かつ周期的な往復動作に合わせて基板の受け渡しまたは転送を行えばよく、相手側の搬送機構の出方または状況を気にする必要はない。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の第４の観点における基板処理装置は、プロセスフローの上流側から下流側に向かって被処理基板を水平な方向で搬送する搬送ラインと、前記搬送ライン上に設けられ、その周囲に配置されている第１の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第１の搬送機構と、前記搬送ライン上の前記第１の搬送機構よりも下流側に設けられ、その周囲に配置されている第２の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第２の搬送機構と、前記搬送ラインの一区間を構成し、前記第１の搬送機構に隣接する第１および第２の積出位置から前記第２の搬送機構に隣接する第１および第２の荷卸位置へ基板をそれぞれ１枚ずつ積んで枚葉搬送する往復移動可能な第１および第２のシャトルとを有し、前記第１のシャトルによる基板の搬送と前記第２のシャトルによる基板の搬送とが一定のタクト時間で交互に行われる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上記第４の観点の基板処理装置においては、上記のように、第１のシャトルによる基板の枚葉搬送と第２のシャトルによる基板の枚葉搬送とが一定のタクト時間で交互に行われる。ここで、第１の搬送機構は、第１および第２のシャトルがタクト時間の周期で交互に第１および第２の積出位置に滞在している間に基板を１枚積めばよい。第２の搬送機構は、第１および第２のシャトルがタクト時間の周期で交互に第１および第２の荷卸位置に滞在している間に基板を１枚卸せばよい。各搬送機構は、直接的には第１および第２のシャトルの定型的かつ周期的な往復動作に合わせてタクト時間の周期で基板の受け渡しまたは転送を行えばよく、相手側の搬送機構の出方または状況を気にする必要はない。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明の第５の観点における基板処理装置は、プロセスフローの上流側から下流側に向かって被処理基板を水平な方向で搬送する搬送ラインと、前記搬送ライン上に設けられ、その周囲に配置されている第１の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第１の搬送機構と、前記搬送ライン上の前記第１の搬送機構よりも下流側に設けられ、その周囲に配置されている第２の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第２の搬送機構と、前記搬送ライン上の前記第２の搬送機構よりも下流側に設けられ、その周囲に配置されている第３の処理部と基板の受け渡しを１枚ずつ行う第３の搬送機構と、前記搬送ラインの一区間を構成し、前記第１の搬送機構に隣接する第１および第２の積出位置から前記第２の搬送機構に隣接する第１および第２の荷卸位置へ基板をそれぞれ１枚ずつ枚葉搬送する往復移動可能な第１および第２のシャトルと、前記搬送ラインの一区間を構成し、前記第２の搬送機構に隣接する第３および第４の積出位置から前記第３の搬送機構に隣接する第３および第４の荷卸位置へ基板をそれぞれ１枚ずつ枚葉搬送する往復移動可能な第３および第４のシャトルとを有し、前記第１のシャトルによる基板の搬送と前記第３のシャトルによる基板の搬送とが同時に行われるともに、前記第２のシャトルによる基板の搬送と前記第４のシャトルによる基板の搬送とが同時に行われ、前記第１および第３のシャトルによる基板の搬送と前記第２および第４のシャトルによる基板の搬送とが一定のタクト時間で交互に行われる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
上記第５の観点の基板処理装置においては、上記のように、第１のシャトルによる第１の積出位置から第１の荷卸位置への基板の枚葉搬送と第３のシャトルによる第３の積出位置から第３の荷卸位置への基板の枚葉搬送とが同時に行われるとともに、第２のシャトルによる第２の積出位置から第２の荷卸位置への基板の枚葉搬送と第４のシャトルによる第４の積出位置から第４の荷卸位置への基板の枚葉搬送とが同時に行われ、第１および第３のシャトルによる基板の枚葉搬送と第２および第４のシャトルによる基板の枚葉搬送とが一定のタクト時間で交互に行われる。第１、第２、第３、第４の全てのシャトルが同期して往復動作するので、搬送プログラムの負担は軽いうえ、システム搬送効率ないしスループットが高い。