Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光受容体画像形成装置内のバンディング欠陥を修正するための方法、電子写真機および画像形成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光受容体画像形成装置内のバンディング欠陥を修正するための方法であって、
１つ以上のレーザビームを使用して１つ以上の画像を形成するステップと、
前記光受容体内における電界の減衰によって生じる１組以上の画像不完全性について前記１つ以上の画像に対して検査を実施するステップと、
前記電界の減衰を補償するステップと、    
補償された所望の画像を形成するステップと、
を含み、
前記補償するステップは、
前記１つ以上のレーザビームについてパワー分配プロファイルを生成するステップと、
前記パワー分配プロファイルに基づいて、１つ以上のレーザビームにパワーを変調するステップと、
を含み、
前記１組以上の画像不完全性は、輝度値ΔＬｉ＊の位置ｉにおける１組の輝度誤差であり、
前記１つ以上のレーザビームのうちレーザビームｊは、前記レーザビームの露光をΔｐｊだけ変更するように変調され、Δｐｊは、以下の式を最小化することによって推定され、
【数１】
2010179652.tif 000001
上記式中、
【数２】
2010179652.tif 000002
上記式中、
【数３】
2010179652.tif 000003
であり、
Ｓ（Ｘ）は、露光Ｘにおける、露光強度曲線に対する輝度の傾きであり、
βｉｊは、位置ｉにおけるレーザビームｊの露光寄与であり、
Ｎｂは、レーザビームの総数である、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記変調するステップは、前記１つ以上のレーザビームの駆動電圧、強度及び継続期間の少なくとも１つの変更を伴うことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、
前記パワー分配プロファイルは、前記１組の画像不完全性に基づいて生成されることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において、
前記検査を実施するステップはさらに、前記１つ以上の形成された画像を、対応する１つ以上の所定期待画像と比較するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、
前記１つ以上の画像はそれぞれ、異なるハーフトーン値を有し、
前記補償するステップは、形成する所望の画像の前記ハーフトーン値に基づく、ことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、さらに、
２組以上の画像不完全性に基づいて、２つ以上のパワー分配プロファイルを生成するステップと、
形成する前記所望の画像の所望のハーフトーン値を判定するステップと、
前記２つ以上のパワー分配プロファイルを生成するのに用いられた前記画像のハーフトーン値と比較して、前記所望のハーフトーン値に基づいて前記２つ以上のパワー分配プロファイルから所望のパワー分配プロファイルを補完または補外するステップと、
前記所望のパワー分配プロファイルを用いて電解の減衰を補償するステップと、
を含む方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法を採用する電子写真機。
【請求項８】
パワー分配プロファイルを生成し、光受容体画像形成装置内における電界の減衰を補償するように１つ以上のレーザビームを変調する方法であって、
前記１つ以上のレーザビームを使用して画像を形成するステップと、
静電荷の減衰によって生じる１組の画像不完全性について前記画像に対して検査を実施するステップと、
前記１組の画像不完全性に基づいて、前記１つ以上のレーザビームに対するパワー分配プロファイルを生成するステップと、
を含み、
前記１組の画像不完全性は、輝度値ΔＬｉ＊の１組の誤差であり、
前記パワー分配プロファイルは、前記１つ以上のレーザビームのうち任意のレーザビームｊによって生成された露光が、露光変調Δｐｊだけ変更されたパワー分配プロファイルであり、Δｐｊは、以下の式を最小化することによって推定され、
【数４】
2010179652.tif 000004
上記式中、
【数５】
2010179652.tif 000005
上記式中、
【数６】
2010179652.tif 000006
であり、
Ｌ＊は、印刷画像の輝度値であり、
ΔＬｉ＊は、前記１組の画像不完全性から求められた位置ｉにおける前記輝度値の誤差であり、
Ｓ（Ｘ）は、露光Ｘにおける、露光強度曲線に対する輝度の傾きであり、
βｉｊは、位置ｉにおけるレーザビームｊの露光寄与であり、
Ｎｂは、レーザビームの総数である、
ことを特徴とする方法。
【請求項９】
静電荷を有する光受容体と、
前記静電荷を変更するように構成された１つ以上のレーザ光源と、
前記光受容体の静電荷に、前記静電荷に比例して引き付けられる画像形成材料と、
前記１つ以上のレーザ光源によって生成される複数のレーザビームの駆動電圧、強度および継続期間を個々に制御するレーザ制御ユニットと、
形成された画像の複数の画素の輝度値を、各所与の画素ｉについての期待輝度値と比較して、１組の輝度誤差（ΔＬｉ＊）を求める輝度誤差判定ユニットと、
前記１組の輝度誤差に基づいてパワー分配プロファイルを生成するパワー分配プロファイル生成ユニットと、
前記複数のレーザビームのうちの１つ以上を変調し、それにより電界の減衰を補償する変調ユニットと、
を備え、
前記パワー分配プロファイルは、前記１つ以上のレーザビームのうち任意のレーザビームｊによって生成された露光が、露光変調Δｐｊだけ変更されたパワー分配プロファイルであり、Δｐｊは、以下の式を最小化することによって推定され、
【数７】
2010179652.tif 000007
上記式中、
【数８】
2010179652.tif 000008
上記式中、
【数９】
2010179652.tif 000009
であり、
Ｌ＊は、印刷画像の輝度値であり、
Ｓ（Ｘ）は、露光Ｘにおける、露光強度曲線に対する輝度の傾きであり、
βｉｊは、位置ｉにおけるレーザビームｊの露光寄与であり、
Ｎｂは、レーザビームの総数である、
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の画像形成装置において、さらに、
前記光受容体上の静電プロファイルを、特定の画像についての期待静電プロファイルと比較して不完全性プロファイルを生成する試験ユニットと、
前記不完全性プロファイルに基づいてパワー分配プロファイルを生成するパワー分配プロファイル生成ユニットと、
を含むことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月29日(2013.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の電極と、
第二の電極と、
前記第一の電極と前記第二の電極との間に配置された発光層と、を有する有機発光素子であって、
前記発光層はホスト材料、第一のエミッタおよび第二のエミッタを含み、
前記第一のエミッタの発光ピーク波長は前記第二のエミッタの発光ピーク波長より大きく、
前記第一のエミッタの芳香族複素環配位子または補助配位子に電子求引性基が含まれる有機発光素子。
【請求項２】
請求項１において、
前記第一のエミッタの補助配位子はピコリン酸の誘導体またはトリアゾール誘導体である有機発光素子。
【請求項３】
請求項１において、
前記電子求引性基はトリフルオロメチル基，クロロ基，ブロモ基，ヨード基，アスタト基，フェニル基，ニトロ基，シアノ基のうち、一つ以上から選ばれる有機発光素子。
【請求項４】
請求項１において、
前記第一の電極と前記第二の電極との間に下部層が形成され、
前記下部層は、正孔輸送層または正孔注入層であり、
前記発光層は、前記下部層上に製膜され、
前記第一のエミッタの置換基および前記下部層を形成する材料の置換基として以下の態様のいずれか一種類以上が存在する有機発光素子。
（１）前記第一のエミッタの置換基及び前記下部層を形成する材料の置換基は、炭素数４以上のアルキル基である。
（２）前記第一のエミッタの置換基及び前記下部層を形成する材料の置換基は、水素結合を形成する。
（３）前記第一のエミッタの置換基はパーフルオロフェニル基、前記下部層を形成する材料の置換基はフェニル基である。
【請求項５】
請求項１において、
前記第二のエミッタに、炭素数３以上のフルオロアルキル基、炭素数３以上のパーフルオロアルキル基，パーフルオロポリエーテル基またはシロキシ基のいずれか一つ以上が含まれる有機発光素子。
【請求項６】
請求項５において、
前記発光層に青色エミッタが含まれ、
前記第一のエミッタが赤色エミッタであり、
前記第二のエミッタが緑色エミッタである有機発光素子。
【請求項７】
第一の電極と、
第二の電極と、
前記第一の電極と前記第二の電極との間に配置された発光層と、を有する有機発光素子であって、
前記発光層はホスト材料、第一のエミッタおよび第二のエミッタのエミッタを含み、
前記第一のエミッタの発光ピーク波長は前記第二のエミッタの発光ピーク波長より長く、
前記第一のエミッタのＨＯＭＯ準位と前記第二のエミッタのＨＯＭＯ準位の差が０.３ｅＶ以内であることを特徴とする有機発光素子。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、
前記発光層から白色光が出射される有機発光素子。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかの有機発光素子に用いられる有機発光層形成用材料であって、
発光層形成用材料は前記ホスト材料、前記第一のエミッタ及び前記第二のエミッタを含む発光層形成用材料。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかの有機発光素子を備える光源装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月2日(2013.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ここで、有機分子内における遷移双極子モーメントの方向は分子骨格により制御できる。例えば、分子を構成する原子がすべて同一平面内にあれば（平面状）、遷移双極子モーメントも分子面内に方向を持つ。また、分子内の、遷移に関わる電子正孔対の分布する一部の原子の配置を同一面内にすることによっても遷移双極子モーメントの方向を制御できる。この場合は、分子を構成する原子がすべて同一平面内にある必要はない。このようにして分子内で遷移双極子モーメントの方向を制御し、これらの有機分子の配向を制御する（垂直（水平）にする）ことにより発光層の平均的な遷移双極子モーメントの方向を制御する（垂直（水平）にする）ことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
Ｙ１で表わされる芳香族ヘテロ環としては、キノリン環、イソキノリン環、ピリジン環、キノキサリン環、チアゾール環、ピラゾール環、ピリミジン環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、インドール環、イソインドール環などがあげられる。Ｙ２で表わされる芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環としては、Ｙ１にある芳香族ヘテロ環のほかに、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、フラン環、ベンゾフラン環、フルオレン環、ベンゾピラン環などがあげられる。前記芳香族ヘテロ環や芳香族炭化水素環に機能性基以外の置換基が付加されても構わない。置換基はたとえば、アルキル基（メチル基、エチル基）、置換アルキル基（トリフルオロメチル基）、アルコキシ基（メトキシ基）、ハロゲン原子（フッ素、塩素）、アミノ基、フェニル基などである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射電極と、
透明電極と、
前記反射電極と前記透明電極との間に配置された発光層とを有する有機発光素子であって、
前記発光層にはホスト、第一のドーパントが含まれ、
前記第一のドーパントについて、遷移双極子モーメントの平均値の基板面に対する垂直方向成分が、水平方向成分より大きく、
前記反射電極の前記発光層側に凹凸構造を有する有機発光素子。
【請求項２】
請求項１において、
前記第一のドーパントには第一の機能性基が含まれ、
前記第一のドーパントの濃度について、前記発光層において前記上部電極が存在する側の領域と、前記下部電極が存在する側の領域のうちいずれか一方が、他方の領域より高い有機発光素子。
【請求項３】
請求項１または２において
前記発光層には第二のドーパントが含まれ、
前記第二のドーパントの発光色は前記第一のドーパントと異なり、
前記第二のドーパントについて、遷移双極子モーメントの平均値の基板面に対する垂直方向成分が、水平方向成分より大きい有機発光素子。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて
前記発光層には第三のドーパントが含まれ、
前記第三のドーパントの発光色は、前記第一のドーパントおよび第二のドーパントと異なり、
前記第三のドーパントについて、遷移双極子モーメントの平均値の基板面に対する垂直方向成分が、水平方向成分より大きい有機発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記第一のドーパントについて、遷移双極子モーメントの平均値の基板面に対する垂直方向成分が６０％以上である有機発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
前記発光層に含まれるドーパントのうちいずれか１つは平面状分子であり、
前記平面状分子の平均値の基板面に対する垂直方向成分が、水平方向成分より大きい有機発光素子。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれかにおいて
前記発光層に含まれるドーパントのうちいずれか１つは棒状分子であり、
前記棒状分子の長軸の平均値の基板面に対する垂直方向成分が、水平方向成分より大きい有機発光素子。
【請求項８】
請求項２において、
前記第一機能性基は、フルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基、アルキル基（Ｃの数は１０以上）、パーフルオロポリエーテル基及びシロキシ基、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、ＳＣＮ、ＣＮ、ＮＨ2、ＮＯ2及びビピリジル基、フェニルアミノ基、オキサゾール基、カルバゾール基及びヒドラゾン部位のうちから１つ以上選ばれる有機発光素子。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかにおいて、
前記第一のドーパントは４配位の中心金属からなる金属錯体である有機発光素子。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第一のドーパントは一般式（１）で示される有機発光素子。
【化１】
2013026300.tif 000001
【請求項１１】
請求項１において、
前記凹凸構造はＡｇ、Ａｕ、ＣｕまたはＡｌのいずれかを主成分とする有機発光素子。
【請求項１２】
請求項１において
前記凹凸構造は凹凸の高さ、幅及びピッチが発光波長より小さい有機発光素子。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記凹凸の高さは４０〜１２０ｎｍの範囲にある有機発光素子。
【請求項１４】
請求項１において、
前記透明電極から見て、前記反射電極が存在する位置とは反対側に光取出し層を有する有機発光素子。
【請求項１５】
請求項１の有機発光素子を備える光源装置。
【請求項１６】
反射電極と、透明電極と、前記反射電極と前記透明電極との間に配置された発光層とを有する有機発光素子の製造方法であって、
前記発光層にはホスト、第一のドーパントが含まれ、
前記第一のドーパントについて、遷移双極子モーメントの平均値の基板面に対する垂直方向成分が、水平方向成分より大きく、
前記発光層は塗布で作製され、
前記反射電極の前記発光層側に凹凸構造が形成される有機発光素子の製造方法。
【請求項１７】
第一の有機発光素子および第二の有機発光素子を備えた光源装置であって、
前記第一の有機発光素子および第二の有機発光素子は、それぞれ、反射電極と、透明電極と、前記反射電極と前記透明電極との間に配置された発光層とを有し、
前記第一の有機発光素子の発光層には第一のホストおよび第一のドーパントが含まれ、
前記第二の有機発光素子の発光層には第ニのホスト、第二のドーパントおよび第三のドーパントが含まれ、
前記第一のドーパント、第二のドーパントおよび第三のドーパントについて、遷移双極子モーメントの平均値の基板面に対する垂直方向成分が、水平方向成分より大きく、
前記反射電極の前記発光層側に凹凸構造を有する光源装置。
【請求項１８】
請求項１７の光源装置において
前記第一のドーパントは青色ドーパントであり、
前記第二のドーパントおよび第三のドーパントは、一方が赤色ドーパントであり、他方が緑色ドーパントである光源装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月2日(2013.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
下部電極と、
上部電極と、
前記下部電極と前記上部電極との間に配置された電荷輸送層および発光層と、を有する有機発光素子を複数有する光源装置であって、
前記基板上の主面に沿う方向に発光色の異なる有機発光素子が形成され、
前記複数の有機発光素子のうち、少なくとも一つの有機発光素子において、
前記発光層にはホスト、第一のドーパントが含まれ、
前記第一のドーパントには第一の機能性基が含まれ、
前記第一のドーパントの濃度について、前記発光層において前記上部電極が存在する側の領域は前記下部電極が存在する側の領域よりも高い光源装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第一のドーパントの濃度の違いは、前記第一のドーパントが前記発光層における前記上部電極が存在する側の領域、または前記下部電極が存在する側の領域へ移動することにより生じる光源装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記第一のドーパントは一般式（１）で示される光源装置。
【化１】
2013026299.tif 000001
（Ａｒ１、２：芳香族炭化水素または芳香族複素環、Ｍ：周期律表第８、９、１０族元素、Ｒ１：アルキル基、フルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基またはシロキシ基、Ｒ２：アルキル基、フルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基またはシロキシ基または置換されていてもよいフェニル基、ピリジル基またはチオフェン基）
【請求項４】
請求項１において、
前記電荷輸送層が電子輸送層である光源装置。
【請求項５】
請求項１において、
前記電荷輸送層は正孔輸送層である光源装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記正孔輸送層の上に前記発光層が隣接して存在する光源装置。
【請求項７】
請求項１において、
前記第一の機能性基はアルキル基、フルオロアルキル基またはシロキシ基のうちのいずれか１つ以上を含む光源装置。
【請求項８】
請求項１において、
前記第一の機能性基はアシル基、カルボキシル基、パーフルオロフェニル基のうちのいずれか１つ以上を含む光源装置。
【請求項９】
請求項１において、
前記第一のドーパントを有する有機発光素子は青色発光素子である光源装置。
【請求項１０】
基板と、
下部電極と、
上部電極と、
前記下部電極と前記上部電極との間に配置された電荷輸送層および発光層と、を有する有機発光素子を複数有する光源装置であって、
前記基板上の主面に沿う方向に発光色の異なる有機発光素子が形成され、
前記複数の有機発光素子のうち、
第一の有機発光素子には第一の発光層が含まれ、
前記第一の発光層には第一のホスト、第一のドーパントが含まれ、
前記第一のドーパントには第一の機能性基が含まれ、
第二の有機発光素子には第二の発光層が含まれ、
前記第二の発光層には第二のホスト、第二のドーパントが含まれ、
前記第二のドーパントには第二の機能性基が含まれ、
前記第一のドーパントまたは前記第二のドーパントの濃度は、前記上部電極が存在する側の領域で前記下部電極が存在する側の領域よりも高い光源装置。
【請求項１１】
有機発光素子に用いられる有機発光素子形成用材料であって、
下記の一般式（１）で表される第一のドーパントを有する有機発光素子形成用材料。
【化２】
2013026299.tif 000002
（Ａｒ１、２：芳香族炭化水素または芳香族複素環、Ｍ：周期律表第８、９、１０族元素、Ｒ１：アルキル基、フルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基またはシロキシ基、Ｒ２：アルキル基、フルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基またはシロキシ基または置換されていてもよいフェニル基、ピリジル基またはチオフェン基）
【請求項１２】
請求項１１に記載の有機発光素子形成用材料、ホストおよび溶液を含む有機発光素子形成用塗液。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月19日(2013.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記反転部は、支持基板又は被処理基板を保持する他の保持部材と、前記他の保持部材に保持された支持基板又は被処理基板を水平軸周りに回動させると共に鉛直方向及び水平方向に移動させる移動機構と、前記他の保持部材に保持された支持基板又は被処理基板の水平方向の向きを調節する位置調節機構と、を有することを特徴とする、請求項５〜８のいずれかに記載の接合システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月29日(2013.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨対象物を保持する保持チャックと研磨パッドが装着された研磨ヘッドとを、前記研磨対象物と前記研磨パッドとを当接させた状態で相対移動させ、前記研磨対象物と前記研磨パッドとの当接部に研磨用のスラリーを供給しながら前記研磨対象物の表面を研磨加工する研磨機構と、
前記研磨パッドの表面をドレッシングするドレス面を有するドレッサーが装着されたドレス工具を備え、前記研磨パッドの表面と前記ドレッサーのドレス面とを当接させ、前記ドレス工具を回転駆動しながら前記研磨パッドに対して相対移動させて前記研磨パッドの表面をドレッシングするドレス機構と、
前記ドレス面における回転中心部に開口形成されて前記ドレス工具の内部に延びるスラリー供給孔と、
前記ドレス機構により前記研磨パッドの表面をドレッシングするときに、前記研磨用のスラリー供給下で前記研磨パッドのドレッシングが行われるようにすべく、前記スラリー供給孔を介して前記ドレス面における回転中心部から前記研磨パッドと前記ドレス面との当接部に前記研磨用のスラリーを供給するスラリー供給機構とを、備えることを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記研磨パッドは前記研磨対象物と当接する研磨面が下向き姿勢で前記研磨ヘッドに装着され、前記ドレッサーは前記ドレス面が上向き姿勢で前記ドレス工具に装着されることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
研磨対象物を保持する保持チャックと研磨パッドが装着された研磨ヘッドとを、前記研磨対象物と前記研磨パッドとを当接させた状態で相対移動させ、前記研磨対象物と前記研磨パッドとの当接部に研磨用のスラリーを供給しながら前記研磨対象物の表面を研磨加工する研磨工程と、
前記研磨パッドの表面とドレス工具に備えられたドレッサーのドレス面とを当接させ、前記ドレス工具を回転駆動しながら前記研磨パッドに対して相対移動させて前記研磨パッドの表面をドレッシングするドレッシング工程とを有し、
前記研磨工程と前記ドレッシング工程とを順次繰り返して行うように構成された研磨パッドのドレス方法であって、
前記ドレッシング工程が、前記ドレス面における回転中心部に開口形成されて前記ドレス工具の内部に延びるスラリー供給孔を介して前記ドレス面における回転中心部から前記研磨パッドと前記ドレス面との当接部に前記研磨用のスラリーを供給しながら、前記ドレス工具により前記研磨パッドの表面をドレッシングするように構成されたことを特徴とするドレス方法。
【請求項４】
前記研磨パッドは前記研磨対象物と当接する研磨面が下向き姿勢で前記研磨ヘッドに装着され、前記ドレッサーは前記ドレス面が上向き姿勢で前記ドレス工具に装着されることを特徴とする請求項３に記載のドレス方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的達成のため、本発明に係る研磨装置は、研磨対象物を保持する保持チャックと研磨パッドが装着された研磨ヘッドとを、前記研磨対象物と前記研磨パッドとを当接させた状態で相対移動させ、前記研磨対象物と前記研磨パッドとの当接部に研磨用のスラリーを供給しながら前記研磨対象物の表面を研磨加工する研磨機構と、前記研磨パッドの表面をドレッシングするドレス面を有するドレッサーが装着されたドレス工具を備え、前記研磨パッドの表面と前記ドレッサーのドレス面とを当接させ、前記ドレス工具を回転駆動しながら前記研磨パッドに対して相対移動させて前記研磨パッドの表面をドレッシングするドレス機構と、前記ドレス面における回転中心部に開口形成されて前記ドレス工具の内部に延びるスラリー供給孔と、前記ドレス機構により前記研磨パッドの表面をドレッシングするときに、前記研磨用のスラリー供給下で前記研磨パッドのドレッシングが行われるようにすべく、前記スラリー供給孔を介して前記ドレス面における回転中心部から前記研磨パッドと前記ドレス面との当接部に前記研磨用のスラリーを供給するスラリー供給機構とを、備えて構成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記研磨装置において、好ましくは、前記研磨パッドは前記研磨対象物と当接する研磨面が下向き姿勢で前記研磨ヘッドに装着され、前記ドレッサーは前記ドレス面が上向き姿勢で前記ドレス工具に装着される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る研磨パッドのドレス方法は、研磨対象物を保持する保持チャックと研磨パッドが装着された研磨ヘッドとを、前記研磨対象物と前記研磨パッドとを当接させた状態で相対移動させ、前記研磨対象物と前記研磨パッドとの当接部に研磨用のスラリーを供給しながら前記研磨対象物の表面を研磨加工する研磨工程と、前記研磨パッドの表面とドレス工具に備えられたドレッサーのドレス面とを当接させ、前記ドレス工具を回転駆動しながら前記研磨パッドに対して相対移動させて前記研磨パッドの表面をドレッシングするドレッシング工程とを有し、前記研磨工程と前記ドレッシング工程とを順次繰り返して行うように構成される。そしてこのドレス方法において、前記ドレッシング工程が、前記ドレス面における回転中心部に開口形成されて前記ドレス工具の内部に延びるスラリー供給孔を介して前記ドレス面における回転中心部から前記研磨パッドと前記ドレス面との当接部に前記研磨用のスラリーを供給しながら、前記ドレス工具により前記研磨パッドの表面をドレッシングするように構成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記のドレス方法において、好ましくは、前記研磨パッドは前記研磨対象物と当接する研磨面が下向き姿勢で前記研磨ヘッドに装着され、前記ドレッサーは前記ドレス面が上向き姿勢で前記ドレス工具に装着される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月17日(2013.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エアーフィルタカートリッジであって、
（ａ）対向する第１及び第２の流れ面と、対向する側部の第１の組と、を有する媒体パックを備え、前記対向する側部の第１の組は、前記第１の流れ面と前記第２の流れ面との間を伸びる第１及び第２の側部を備え、
(i)前記媒体パックは、フィルタ媒体材料の細長片の積層体を備え、各々の細長片は、対面媒体シートに固定されたひだ付き媒体シートを含み、各ひだ付きシートの流路が前記対向する第１及び第２の流れ面の間の方向に伸びている状態に配向され、
(ii)前記第１の流れ面は、長方形ではない周囲形状を有する平らな流入面を有し、
(iii)前記媒体パックの前記第１の側部は、対向する前記第２の側部と平行ではなく、
(iv)前記細長片の積層体の各細長片は、第１組の流路において、前記ひだ付き媒体シートと前記対面媒体シートとの間に、前記第１の流れ面に隣接してシールを構成する第１の密封材を含み、
(v)前記細長片の積層体は、第２組の流路において前記第２の流れ面に隣接してシールを構成する、隣接する各細長片間の第２の密封材を含み、
（ｂ）前記第１の側部は被覆によって閉鎖され、
（ｃ）前記第２の側部は被覆によって閉鎖される、
ことを特徴とするエアーフィルタカートリッジ。
【請求項２】
（ａ）前記第１の流れ面が台形の周囲形状を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載のエアーフィルタカートリッジ。
【請求項３】
（ａ）第１の、所定の位置に鋳込まれた側部パネルが、前記第１の側部に配置され、
（ｂ）第２の、所定の位置に鋳込まれた側部パネルが、前記第２の側部に配置される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のエアーフィルタカートリッジ。
【請求項４】
（ａ）ハウジングシール構成物を備える、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のエアーフィルタカートリッジ。
【請求項５】
前記細長片の積層体は、隣接する細長片よりも徐々に短くなる細長片によって形成される傾斜した側部を有する細長片の積層体である、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアーフィルタカートリッジ。
【請求項６】
前記媒体パックの前記第１の側部は、媒体構造体を切断したことにより形成された、前記第１の流れ面と前記第２の流れ面との間を伸びる切断側部である、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアーフィルタカートリッジ。
【請求項７】
エアークリーナアセンブリであって、
（ａ）ハウジング基部を備え、
（i）前記ハウジング基部が、周囲壁部と端部壁部とを含み、前記ハウジング基部の端部壁部に対向するアクセス開口部を画定し、
（ii）前記ハウジング基部は、入口部と出口部とを有し、
（iii）前記入口部の一部は、その中に空気流入部構成物を含み、
（iv）前記ハウジング基部は、その中に空気流出部を有し、
（ｂ）前記ハウジング基部上に取り外し可能に取り付けられたアクセスカバーを備え、
（i）前記アクセスカバーが、外側の閉じたパネルカバーと、圧力フランジと、側部構成物とを有し、前記アクセスカバーは、前記パネルカバーが前記ハウジング基部の前記アクセス開口部を閉じた状態で前記ハウジング基部上に配置され、
（ii）前記側部構成物の一部は、前記空気流入部構成物と重ね合わさっており、前記空気流入部と重ね合わさっている前記側部の少なくとも一部は、その中を通る空気流れ開口部構成物を有し、
（ｃ）前記エアークリーナ内に操作可能に配置されたエアーフィルタカートリッジを備え、前記エアーフィルタカートリッジは、
（i）対向する流入面と流出面とを有し、対面媒体に固定されたひだ付き媒体を備える媒体パックを備え、前記ひだ付き媒体の流路が前記流入面と前記流出面との間の方向に伸びている状態に配向され、
（ii）ハウジングシール構成物を備え、
（iii）前記エアーフィルタカートリッジは、
（１）前記ハウジングシール構成物が前記アクセスカバーによって前記ハウジング基部の一部に押しつけられ、
（２）前記媒体パックの前記流入面が、前記空気流入部と前記空気流出部との間の位置に位置するように、
前記ハウジング基部内に配置されている、
ことを特徴とするエアークリーナアセンブリ。
【請求項８】
（ａ）前記入口部と前記出口部とは、それぞれ前記周囲壁部によって囲まれ、
（ｂ）前記入口部を囲む前記周囲壁部の部分は、その中に前記空気流入部構成物を含む、
ことを特徴とする請求項７に記載のエアークリーナアセンブリ。
【請求項９】
（ａ）前記シール構成物は、前記流入面から離間したシール部材を含む、
ことを特徴とする請求項７又は８に記載のエアークリーナアセンブリ。
【請求項１０】
エアーフィルタカートリッジを形成する方法であって、
（ａ）対面媒体に固定されたひだ付き媒体を備え、対向する第１及び第２の流れ面の間の方向に伸びる前記ひだ付き媒体の流路を備える原媒体パックを準備する工程と、
（ｂ）前記原媒体パックを切断し、前記対向する第１及び第２の流れ面の間を延びる切断側部を含む媒体構造を形成する工程と、
（ｃ）前記切断側部の少なくとも一部を被覆する工程と、
（ｄ）ハウジングシール構成物を設ける工程と、を備える、
ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
（ａ）原媒体パックを準備する前記工程は、細長片の積層体を備える原積層体を準備する工程を備え、各前記細長片は、対面媒体シートに固定されるひだ付き媒体シートを備える、
ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
（ａ）切断する前記工程は、前記原積層体を切断し、前記原積層体の対向する側部に対して平行ではない切断側部を形成する、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月23日(2013.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域に設けられた始動領域を遊技媒体が通過したことに基づいて、各々を識別可能な複数種類の識別情報の可変表示を行い表示結果を導出する可変表示手段に予め定められた特定表示結果が導出されたときに、遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御する遊技機であって、
前記始動領域を遊技媒体が通過したにもかかわらず未だ開始されていない可変表示の保留記憶情報を所定の上限記憶数の範囲内で記憶する保留記憶手段と、
識別情報の可変表示を開始するときに前記保留記憶手段から読み出した保留記憶情報に基づいて、前記特定遊技状態に制御させるか否かを、識別情報の表示結果が導出される以前に決定する事前決定手段と、
所定条件の成立に基づいて前記始動領域を複数の遊技媒体が通過したことによる複数回の可変表示にわたり、互いに異なる演出態様に対応して前記特定遊技状態となる可能性を異ならせた複数の特定演出のいずれかを実行する特定演出実行手段と、
前記所定条件の成立に基づいて前記始動領域を通過した遊技媒体数に応じて、前記特定演出実行手段により実行される特定演出を決定する特定演出決定手段とを備える、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）上記目的を達成するため、本願発明に係る遊技機は、遊技領域に設けられた始動領域（例えば普通入賞球装置６Ａが形成する第１始動入賞口や普通可変入賞球装置６Ｂが形成する第２始動入賞口など）を遊技媒体（例えば遊技球など）が通過したことに基づいて、各々を識別可能な複数種類の識別情報（例えば特別図柄や飾り図柄など）の可変表示を行い表示結果を導出する可変表示手段（例えば第１および第２特別図柄表示装置４Ａ、４Ｂや画像表示装置５など）に予め定められた特定表示結果（例えば大当り図柄となる特別図柄や大当り組合せの確定飾り図柄など）が導出されたときに、遊技者にとって有利な特定遊技状態（例えば大当り遊技状態など）に制御する遊技機（例えばパチンコ遊技機１など）であって、前記始動領域を遊技媒体が通過したにもかかわらず未だ開始されていない可変表示の保留記憶情報を所定の上限記憶数の範囲内で記憶する保留記憶手段（例えば第１及び第２特図保留記憶部１５１Ａ、１５１Ｂなど）と、識別情報の可変表示を開始するときに前記保留記憶手段から読み出した保留記憶情報に基づいて、前記特定遊技状態に制御させるか否かを、識別情報の表示結果が導出される以前に決定する事前決定手段（例えばステップＳ２３９、Ｓ２４０の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、所定条件の成立に基づいて前記始動領域を複数の遊技媒体が通過したことによる複数回の可変表示にわたり、互いに異なる演出態様に対応して前記特定遊技状態となる可能性を異ならせた複数の特定演出（例えば連続演出パターンＰＣＡ１〜ＰＣＡ３、ＰＣＢ１〜ＰＣＢ３のいずれかによる連続演出など）のいずれかを実行する特定演出実行手段（例えばステップＳ６２０の処理を実行した後に、ステップＳ５５３の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記所定条件の成立に基づいて前記始動領域を通過した遊技媒体数に応じて、前記特定演出実行手段により実行される特定演出を決定する特定演出決定手段（例えばステップＳ６１５の処理にて図２３（Ａ）および（Ｂ）に示すような割合で演出変更結果を決定した後にステップＳ６１６の処理にてＮｏと判定されたときに、ステップＳ６１９の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）とを備える。
このような構成によれば、複数回の可変表示にわたり実行可能な特定演出を、所定条件の成立に基づいて始動領域を通過した遊技媒体数に応じて決定する。これにより、始動領域を通過した遊技媒体数に適応した演出を実行することで、遊技者の期待感を適切に高めて、遊技の興趣を向上させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（５）上記（１）から（４）のいずれかの遊技機において、前記特定演出実行手段により複数の特定演出のうちで第１演出態様の特定演出が実行される場合に、複数の特定演出のうちで前記特定遊技状態となる可能性が第１演出態様よりも低い第２演出態様の特定演出に変更することを制限してもよい（例えばステップＳ６０７にて連続演出パターンＰＣＢ１〜ＰＣＢ３のいずれかに決定する部分、または、ステップＳ６１５にて図２３（Ａ）または（Ｂ）に示すような演出変更結果を決定する部分など）。
このような構成においては、第１演出態様の特定演出が実行された後、特定遊技状態となる可能性が第１演出態様よりも低い第２演出態様の特定演出に変更することが制限される。これにより、遊技者の期待感が減退することを防止して、特定演出の変更に対する遊技者の期待感を適切に高めて、遊技の興趣を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月5日(2013.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々を識別可能な複数種類の識別情報の可変表示を行って表示結果を導出表示する複数の可変表示部から構成される可変表示手段を備え、該可変表示手段に予め定められた特定表示結果が導出表示されたときに、遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御する遊技機であって、
前記可変表示手段において前記識別情報が前記特定表示結果の一部を構成しているが、少なくとも一部の前記可変表示部において前記識別情報が可変表示中であるリーチ状態となった後に特定演出を実行する特定演出実行手段と、
前記可変表示手段において前記識別情報の可変表示が開始されてから前記特定演出実行手段により前記特定演出が実行されるまでに、可変表示を仮停止表示させてから可変表示を再開する再可変表示を１回または複数回実行する再可変表示実行手段と、
前記特定表示結果が導出表示されるときと導出表示されないときとで実行される割合が異なる複数態様の第１示唆演出と、前記特定表示結果が導出表示されるときと導出表示されないときとで実行される割合が異なる複数態様の第２示唆演出とを前記特定演出が実行される前に実行可能な示唆演出実行手段と、
を備え、
前記示唆演出実行手段は、
前記再可変表示実行手段により再可変表示が実行されることなく前記特定演出実行手段により前記特定演出が実行されるときには、前記リーチ状態となってから前記第１示唆演出を実行する一方、
前記再可変表示実行手段により再可変表示が実行されてから前記特定演出実行手段により前記特定演出が実行されるときには、前記再可変表示実行手段により再可変表示が実行されてから前記リーチ状態となるまでに前記第２示唆演出を実行し、前記第２示唆演出を実行した後に前記リーチ状態となってから前記第１示唆演出を実行しない、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
これらの遊技機として、リーチ状態となった後に登場するキャラクタ等の種類でスーパーリーチに発展すること等の可能性を示唆するとともに、特定の識別情報を仮停止させることによって、スーパーリーチに発展すること等の可能性を示唆するものにおいて、特定の識別情報の仮停止が複数回実施されることでスーパーリーチに発展することがほぼ確定していることが示唆されているときには、更にキャラクタの種類でスーパーリーチに発展することや大当りとなる可能性を示唆する演出を省くようにするものがある（例えば、特許文献１参照）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載の遊技機は、
各々を識別可能な複数種類の識別情報（例えば、特別図柄）の可変表示を行って表示結果を導出表示する複数の可変表示部から構成される可変表示手段（例えば、第１特別図柄表示器８ａ、第２特別図柄表示器８ｂ、演出表示装置９）を備え、該可変表示手段に予め定められた特定表示結果（例えば、大当り）が導出表示されたときに、遊技者にとって有利な特定遊技状態（例えば、確変大当りＡ）に制御する遊技機であって、
前記可変表示手段において前記識別情報が前記特定表示結果の一部を構成しているが、少なくとも一部の前記可変表示部において前記識別情報が可変表示中であるリーチ状態となった後に特定演出（例えば、ノーマルリーチ、スーパーリーチＡ、スーパーリーチＢ）を実行する特定演出実行手段（演出制御用ＣＰＵ１０１において、例えば、図４６（ｇ）に示すスーパーリーチをステップＳ８０２にて実行する部分）と、
前記可変表示手段において前記識別情報の可変表示が開始されてから前記特定演出実行手段により前記特定演出が実行されるまでに、可変表示部を仮停止表示させてから可変表示を再開する再可変表示を１回または複数回実行する再可変表示実行手段（演出制御用ＣＰＵ１０１において、例えば、図４７（ｃ）に示す擬似連による再変動をステップＳ８０２にて実行する部分）と、
前記特定表示結果が導出表示されるときと導出表示されないときとで実行される割合が異なる複数態様の第１示唆演出（例えば、図４６（ｄ）〜（ｆ）に示すキャラクタＡ〜Ｃの何れかの表示）と、前記特定表示結果が導出表示されるときと導出表示されないときとで実行される割合が異なる複数態様の第２示唆演出（例えば、図４７（ｇ）または図４７（ｈ）に示すキャラクタＢ〜Ｃのいずれかの表示）とを前記特定演出が実行される前に実行可能な示唆演出実行手段（演出制御用ＣＰＵ１０１において、ステップＳ８４２を実行する部分）と、
を備え、
前記示唆演出実行手段は、
前記再可変表示実行手段により再可変表示が実行されることなく前記特定演出実行手段により前記特定演出が実行されるときには、前記リーチ状態となってから前記リーチ演出が実行されるまでに前記第１示唆演出を実行する一方、
前記再可変表示実行手段により再可変表示が実行されてから前記特定演出実行手段により前記特定演出が実行されるときには、前記再可変表示実行手段により再可変表示が実行されてから前記リーチ状態となるまでに前記第２示唆演出を実行し、前記第２示唆演出を実行した後に前記リーチ状態となってから前記第１示唆演出を実行しない、
ことを特徴としている。
この特徴によれば、再可変表示が実行されてリーチ状態となるときには第１示唆演出に代えてリーチ状態でないときに第２示唆演出が実行されるようになるので、演出を省略することにより実行される演出が少なくなってしまうことによる興趣の低下を極力防止することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の手段４に記載の遊技機は、手段３に記載の遊技機であって、
前記示唆演出実行手段は、第１次の前記第２示唆演出を、１の再可変表示から次の再可変表示の間において実行したときには、該次の再可変表示の後に第２次の第２示唆演出を実行し、該第２次の第２示唆演出においては、前記第１次の第２示唆演出にて示唆された信頼度よりも低い信頼度に対応する態様を除いた態様の演出を実行する（例えば、第１次の第２示唆演出にてキャラクタＢが表示されたら、第２次の第２示唆演出においてはキャラクタＢまたはキャラクタＣのみを表示する部分）
ことを特徴としている。
この特徴によれば、第２次の第２示唆演出において、第１次の第２示唆演出にて示唆された信頼度よりも低い信頼度が示唆されてしまうことを防止できるため、遊技者の期待感が低下してしまうことを防止できるので、遊技機の興趣を向上できる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月11日(2013.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動部を有する研磨ヘッドを傾斜させながら、前記可動部を可動部移動方向に移動させることで研磨工具を被加工物に押しつけて前記被加工物を加工する被加工物の製造方法において、
前記研磨ヘッドの傾斜における加速度の前記可動部移動方向の変動分を、前記可動部の移動量を変化させて打ち消しながら加工することを特徴とする被加工物の製造方法。
【請求項２】
前記加速度は、前記可動部の重心部における加速度センサにより検出された値から求めることを特徴とする請求項１記載の被加工物の製造方法。
【請求項３】
可動部に取り付けられた研磨工具を有する研磨ヘッドと、
前記可動部を移動させて前記研磨工具に荷重を発生させる荷重発生手段と、
前記研磨ヘッドを傾斜させる手段と、
前記可動部の加速度を検出する加速度検出手段と、
前記検出された加速度に基づいて、前記荷重発生手段で発生させる荷重を変化させる手段と、を有することを特徴とする研磨装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記検出された加速度の変化に基づいて、前記荷重発生手段により発生させる荷重を変化させることを特徴とする請求項３に記載の研磨装置。
【請求項５】
前記加速度検出手段は、前記可動部の重心に配置された加速度センサであることを特徴とする請求項３または４に記載の研磨装置。
【請求項６】
前記加速度検出手段は、前記可動部の重心を含む直線上の２箇所に配置された加速度センサにより構成されることを特徴とする請求項３または４に記載の研磨装置。
【請求項７】
前記加速度検出手段は、４箇所に配置された加速度センサにより構成され、前記４箇所に配置された加速度センサであることを特徴とする請求項３または４に記載の研磨装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】被加工物の製造方法および研磨装置
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月27日(2013.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ又はそれ以上のプリントヘッドを備えるインクジェット印刷システムのプリントヘッド回転を検出する方法であって、
受像面に対して１つのプリントヘッドの２つの異なるノズル横列の各ノズルを用いて、受像面のクロスプロセス方向に沿って配置される複数のマークからなるテストパターンであって、各マークは１つのプリントヘッドの異なるノズルによって形成されるテストパターンを形成し、
複数のマークにおいて各マークのクロスプロセス方向位置を検出し、
検出したクロスプロセス方向位置に基づいて、テストパターンにおける各マーク間のクロスプロセス方向間隔を測定し、
テストパターンのマークについて、測定したクロスプロセス方向間隔と予期クロスプロセス方向間隔との差を算出し、
算出した当該差を、プリントヘッドのプリントヘッド回転値に対して相関処理し、
プリントヘッドの物理的位置の調整を行う前に受像面の横方向の動きに基づいてプリントヘッド回転値を修正し、
修正されたプリントヘッド回転値に基づいて、プリントヘッドの物理的位置を調整する、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
クロスプロセス方向位置を検出する際に、さらに、
インライン線状アレイセンサを用いてテストパターンを走査し、
テストパターンの各マークのクロスプロセス方向位置を示す信号を生成する、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、
クロスプロセス方向位置を検出する際に、さらに、
フラットベッドスキャナを用いてテストパターンを走査し、
テストパターンの各マークのクロスプロセス方向位置を示す信号を生成する、方法。
【請求項４】
１つ又はそれ以上のプリントヘッドを備えるインクジェット印刷システムのプリントヘッド回転を検出する方法であって、
受像面に対して１つのプリントヘッドの２つの異なるノズル横列の各ノズルを用いて、受像面のクロスプロセス方向に沿って配置される複数のマークからなるテストパターンであって、各マークは１つのプリントヘッドの異なるノズルによって形成されるテストパターンを形成し、
テストパターンを走査して、複数のマークにおける各マーク間のクロスプロセス方向間隔を測定し、
テストパターンのマークについて、測定したクロスプロセス方向間隔と予期クロスプロセス方向間隔との差を算出し、
算出した当該差を、プリントヘッドのプリントヘッド回転値に対して相関処理し、
プリントヘッドの物理的位置の調整を行う前に受像面の横方向の動きに基づいてプリントヘッド回転値を修正し、
修正されたプリントヘッド回転値に基づいて、プリントヘッドの物理的位置を調整する、方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法において、
クロスプロセス方向位置を検出する際に、さらに、
インライン線状アレイセンサを用いてテストパターンを走査し、
テストパターンの各マークのクロスプロセス方向位置を示す信号を生成する、方法。
【請求項６】
請求項４に記載の方法において、
クロスプロセス方向位置を検出する際に、さらに、
フラットベッドスキャナを用いてテストパターンを走査し、
テストパターンの各マークのクロスプロセス方向位置を示す信号を生成する、方法。
【請求項７】
１つ又はそれ以上のプリントヘッドを備えるインクジェット印刷システムのプリントヘッド回転を検出するシステムであって、
受像面に対して、受像面のクロスプロセス方向に沿って配置される複数のマークからなるテストパターンであって、各マークは１つのプリントヘッドの少なくとも２つの異なる横列の各ノズルを備えた１つのプリントヘッドの異なるノズルによって形成されるテストパターンを形成するように構成されたプリントヘッドと、
テストパターンの各マークのクロスプロセス方向位置を示す信号を生成するように構成された画像センサと、
画像センサからの信号を受信し、画像センサから受信した各マークのクロスプロセス方向位置を示す信号から、複数のマークにおける各マーク間のクロスプロセス方向間隔を測定し、テストパターンのマークについて測定したクロスプロセス方向間隔と予期クロスプロセス方向間隔との差を算出し、算出した当該差を、プリントヘッドのプリントヘッド回転値に対して相関処理し、受像面の横方向の動きに基づいてプリントヘッド回転値を修正し、この修正されたプリントヘッド回転値に応じてプリントヘッドの物理的な調整を行うために供するように構成されたコントローラと、
を備えるシステム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムにおいて、
画像センサがインライン線状アレイセンサを含む、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月26日(2013.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置を製造する方法であって、
上面及び該上面上に形成された複数のバンプを有する基板を設ける工程と、
前記基板に熱処理プロセスを適用する工程と、
前記熱処理プロセスの後に、前記基板上にエピタキシャル層を成長させる工程と、
を有する方法。
【請求項２】
前記バンプの各々は、頂面及び該頂面と前記上面との間の壁面を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記熱処理プロセスは、前記上面及び前記頂面を、前記エピタキシャル層を成長させるのに適したものにする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記熱処理プロセスは、前記壁面を、前記エピタキシャル層を成長させるのに適したものにしない、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記エピタキシャル層は、前記上面及び前記壁面の上で実質的に同じ結晶方位を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記エピタキシャル層は、前記壁面まで延在する前に、前記上面及び前記頂面の上で成長する、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記エピタキシャル層は、前記壁面及び前記基板の上で同様の回折画像を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記バンプの各々は、前記頂面と前記壁面との間に傾斜面を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項９】
前記熱処理プロセスは、１０３０℃と１０５０℃との間で実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記熱処理プロセスは、１０５０℃以下の温度で実行される、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月29日(2013.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体層を有し、
前記酸化物半導体層の上方に酸化物絶縁層を有し、
酸化物半導体層は、ｃ軸が表面に対して垂直方向に沿うように配向された結晶領域を有し、
前記酸化物半導体層は、
前記酸化物半導体層から水素又は水を脱離する第１の工程と、
前記第１の工程の後に、酸化物絶縁層を加熱し、前記酸化物絶縁層から前記酸化物半導体層へ酸素が供給する第２の工程と、
を経て形成されたものであることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ＩｎとＭ（Ｍは、Ｇａ、Ａｌ、Ｍｎ、又はＣｏ）とＺｎとを有する酸化物半導体層を有し、
前記酸化物半導体層の上方に酸化物絶縁層を有し、
酸化物半導体層は、ｃ軸が表面に対して垂直方向に沿うように配向された結晶領域を有し、
前記酸化物半導体層は、
前記酸化物半導体層から水素又は水を脱離する第１の工程と、
前記第１の工程の後に、酸化物絶縁層を加熱し、前記酸化物絶縁層から前記酸化物半導体層へ酸素が供給する第２の工程と、
を経て形成されたものであることを特徴とする半導体装置。