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【手続補正書】
【提出日】平成25年5月13日(2013.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スピネル構造を有するＬｉ−Ｍｎ系複合酸化物粒子を主体とするリチウムイオン二次電池用正極活物質において、下記式
空隙率（％）＝（Ａ／Ｂ）×１００          （１）
（Ａは二次粒子１個の断面に含まれるポアの総断面積であり、Ｂは二次粒子１個の断面積である。）で示される前記粒子の空隙率の平均値が１５％以下であり、正極活物質の結晶子サイズが９６０オングストローム以下であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項２】
前記平均空隙率の値が１０％以下であり、かつ一次粒子の平均粒子径が０.２〜３μｍである請求項１に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項３】
正極活物質のタップ密度が、１.９ｇ／ｍｌ以上である請求項１または２に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項４】
正極活物質のタップ密度が、２.２ｇ／ｍｌ以上である請求項３に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項５】
正極活物質の結晶子サイズが、４００〜９６０オングストロームである請求項１乃至４のいずれかの項に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項６】
正極活物質の格子定数が、８.２４０オングストローム以下である請求項１乃至５のいずれかの項に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項７】
前記粒子が、スピネル構造を有するＬｉ−Ｍｎ系複合酸化物と焼結促進助剤とを含む混合物を造粒及び焼結してなるものであり、前記焼結促進助剤が、(1)５５０℃〜９００℃の温度で溶融する酸化物、もしくは同酸化物になり得る前駆体、または(2)５５０℃〜９００℃の温度でリチウムもしくはマンガンと反応することで溶融する酸化物、もしくは同酸化物になり得る前駆体である請求項１乃至６のいずれかの項に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項８】
前記焼結促進助剤が、Ｂｉ、Ｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｐｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素または元素を含む化合物、またはＢ2Ｏ3とＬｉＦを組み合わせた化合物またはＭｎＦ2とＬｉＦを組み合わせた化合物である請求項７に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかの項に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質を含む電極用ペースト。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれかの項に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質を含むリチウムイオン二次電池用正極。
【請求項１１】
請求項１０に記載のリチウムイオン二次電池用正極を備えたリチウムイオン二次電池。
【請求項１２】
リチウムイオン二次電池が、コイン型電池、巻回型電池、円筒型、角型電池または積層型電池である請求項１１に記載のリチウムイオン二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月25日(2013.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、半導体装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
以上の課題を解決するため、本発明の一の態様によれば、
半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられた複数の配線と、
前記配線のランドの上面に設けられた柱状電極と、
前記柱状電極の上部に設けられ、前記複数の配線にそれぞれ接続された複数の半田端子と、
前記複数の配線の少なくとも一部を覆う樹脂層と、を備え、
前記樹脂層上には、少なくとも前記半田端子の周囲を覆う絶縁性樹脂からなるオーバーコート膜が被膜され、隣接する前記半田端子間の前記オーバーコート膜の高さは、前記半田端子の高さよりも低いことを特徴とする半導体装置が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記半導体装置において好ましくは、
前記半田端子の頭頂部は、前記オーバーコート膜から露出しており、
前記オーバーコート膜は、隣接する前記柱状電極の間で凹む形状となるように被覆されている。
上記半導体装置において好ましくは、
前記柱状電極の上面は、当該柱状電極の上面をライトエッチングすることにより、前記樹脂層よりも低く形成されており、
前記柱状電極の上面には前記半田端子が設けられ、
前記柱状電極と前記半田端子との境界の外周部は、前記樹脂層により保護されていて、
前記樹脂層と前記半田端子との境界の外周部は、前記オーバーコート膜により保護されていて、
前記オーバーコート膜は前記柱状電極に対して非接触である。
上記半導体装置において好ましくは、
前記樹脂層は、エポキシ系樹脂とフィラーとの複合材からなる。
上記半導体装置において好ましくは、
前記半田端子に接続された配線パターンを有し、前記半導体基板に対向配置された配線基板を備えている。
上記半導体装置において好ましくは、
前記柱状電極は銅からなり、当該柱状電極の高さは１０μｍ〜７０μｍである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられた複数の配線と、
前記配線のランドの上面に設けられた柱状電極と、
前記柱状電極の上部に設けられ、前記複数の配線にそれぞれ接続された複数の半田端子と、
前記複数の配線の少なくとも一部を覆う樹脂層と、を備え、
前記樹脂層上には、少なくとも前記半田端子の周囲を覆う絶縁性樹脂からなるオーバーコート膜が被膜され、隣接する前記半田端子間の前記オーバーコート膜の高さは、前記半田端子の高さよりも低いことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置において、
前記半田端子の頭頂部は、前記オーバーコート膜から露出しており、
前記オーバーコート膜は、隣接する前記柱状電極の間で凹む形状となるように被覆されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の半導体装置において、
前記柱状電極の上面は、当該柱状電極の上面をライトエッチングすることにより、前記樹脂層よりも低く形成されており、
前記柱状電極の上面には前記半田端子が設けられ、
前記柱状電極と前記半田端子との境界の外周部は、前記樹脂層により保護されていて、
前記樹脂層と前記半田端子との境界の外周部は、前記オーバーコート膜により保護されていて、
前記オーバーコート膜は前記柱状電極に対して非接触であることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記樹脂層は、エポキシ系樹脂とフィラーとの複合材からなる半導体装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記半田端子に接続された配線パターンを有し、前記半導体基板に対向配置された配線基板を備えていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記柱状電極は銅からなり、当該柱状電極の高さは１０μｍ〜７０μｍであることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月12日(2013.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最上層配線と、前記最上層配線を覆う絶縁層とを含む配線基板であって、
前記最上層配線は、平面形状が認識マークの所望の形状となるように形成され、上面の全てが前記絶縁層から露出されることで前記認識マークとなる第１の配線層を有し、
前記絶縁層は、前記第１の配線層の上面を全て露出させるための凹部を有し、
前記認識マークの周囲が前記絶縁層によって覆われており、
前記凹部の底面には、前記認識マークの端部から前記凹部の側壁部に向かって湾曲状に凹む湾曲部が形成されていることを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記凹部の底面の表面粗度は、前記認識マークの表面粗度よりも高く、前記凹部の縁部の表面粗度よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記最上層配線は、少なくとも一部がパッドとして前記第１の絶縁層から露出される第２の配線層を含み、
前記第１の配線層と前記第２の配線層とは同じ厚さで形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の配線基板。
【請求項４】
前記凹部は、その側壁部が傾斜面となっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の配線基板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の配線基板を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
絶縁層から露出される認識マークを有する配線基板の製造方法であって、
平面形状が前記認識マークの所望の形状となるように第１の配線層を形成する配線層形成工程と、
前記第１の配線層を覆う前記絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
前記第１の配線層に対向する領域であって、前記第１の配線層の平面形状よりも大きい領域の前記絶縁層を薄化することにより、前記絶縁層に凹部を形成するとともに、前記第１の配線層の上面の全てを前記絶縁層から露出して前記認識マークを形成する薄化工程とを含み、
前記薄化工程では、前記凹部の底面に、前記認識マークの端部から前記凹部の側壁部に向かって湾曲状に凹む湾曲部が形成されるように、前記絶縁層を薄化することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項７】
前記認識マークをエッチングする工程を含むことを特徴とする請求項６に記載の配線基板の製造方法。
【請求項８】
前記薄化工程は、
前記絶縁層の上に、前記凹部に対応する領域を開口する開口部を有するマスクを形成する工程と、
前記マスクの開口部を通じて前記絶縁層にサンドブラスト処理を施すブラスト工程と、を含むことを特徴とする請求項６又は７に記載の配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記配線層形成工程では、前記第１の配線層と同じ厚さの第２の配線層を形成し、
前記絶縁層形成工程では、前記第１の配線層と前記第２の配線層とを覆うように前記絶縁層を形成し、
前記薄化工程では、前記認識マークを形成するとともに、前記第２の配線層に対向する領域の前記絶縁層を薄化することにより、前記第２の絶縁層の少なくとも一部を前記絶縁層から露出してパッドを形成することを特徴とする請求項６〜８のいずれか１つに記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一観点によれば、最上層配線と、前記最上層配線を覆う絶縁層とを含む配線基板であって、前記最上層配線は、平面形状が認識マークの所望の形状となるように形成され、上面の全てが前記絶縁層から露出されることで前記認識マークとなる第１の配線層を有し、前記絶縁層は、前記第１の配線層の上面を全て露出させるための凹部を有し、前記認識マークの周囲が前記絶縁層によって覆われており、前記凹部の底面には、前記認識マークの端部から前記凹部の側壁部に向かって湾曲状に凹む湾曲部が形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の一観点によれば、絶縁層から露出される認識マークを有する配線基板の製造方法であって、平面形状が前記認識マークの所望の形状となるように第１の配線層を形成する配線層形成工程と、前記第１の配線層を覆う前記絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記第１の配線層に対向する領域であって、前記第１の配線層の平面形状よりも大きい領域の前記絶縁層を薄化することにより、前記絶縁層に凹部を形成するとともに、前記第１の配線層の上面の全てを前記絶縁層から露出して前記認識マークを形成する薄化工程とを含み、前記薄化工程では、前記凹部の底面に、前記認識マークの端部から前記凹部の側壁部に向かって湾曲状に凹む湾曲部が形成されるように、前記絶縁層を薄化する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2012074443.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月12日(2013.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の無線通信端末は、無線通信を行う無線通信部と、前記無線通信以外の機能を有するデバイスと、記憶部とを備える無線通信端末であって、前記無線通信部による無線通信の受信感度を周波数毎に測定する測定部と、前記無線通信部による無線通信中に、前記デバイスを動作させ、前記測定部に前記無線通信の受信感度を周波数毎に測定させ、当該受信感度のノイズの周波数を前記デバイスの動作状態に対応付けて前記記憶部に記憶する制御部と、前記無線通信部による無線通信を行う場合に、前記デバイスの動作状態を取得し、前記取得したデバイスの動作状態に応じたノイズの周波数を前記記憶部から読み出し、前記無線通信中の周波数と前記読み出したノイズの周波数とが重なるか否かを判別し、当該無線通信中の周波数と当該ノイズの周波数とが重なる場合に、前記デバイスの動作状態を変更する変更部と、を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信を行う無線通信部と、前記無線通信以外の機能を有するデバイスと、記憶部とを備える無線通信端末であって、
前記無線通信部による無線通信の受信感度を周波数毎に測定する測定部と、
前記無線通信部による無線通信中に、前記デバイスを動作させ、前記測定部に前記無線通信の受信感度を周波数毎に測定させ、当該受信感度のノイズの周波数を前記デバイスの動作状態に対応付けて前記記憶部に記憶する制御部と、
前記無線通信部による無線通信を行う場合に、前記デバイスの動作状態を取得し、前記取得したデバイスの動作状態に応じたノイズの周波数を前記記憶部から読み出し、前記無線通信中の周波数と前記読み出したノイズの周波数とが重なるか否かを判別し、当該無線通信中の周波数と当該ノイズの周波数とが重なる場合に、前記デバイスの動作状態を変更する変更部と、
を備える無線通信端末。
【請求項２】
前記変更部は、前記測定部に前記無線通信部による無線通信の受信感度を測定させ、当該測定した受信感度が所定値以下である場合に、前記デバイスの動作状態を取得し、前記取得したデバイスの動作状態に応じたノイズの周波数を前記記憶部から読み出し、前記無線通信中の周波数と前記読み出したノイズの周波数とが重なるか否かを判別する請求項１に記載の無線通信端末。
【請求項３】
操作入力を受け付ける操作部を備え、
前記変更部は、前記無線通信中の周波数と前記デバイスの動作状態に応じたノイズの周波数とが重なる場合に、前記操作部により当該デバイスの動作状態を変更するか否かの操作入力を受け付け、当該デバイスの動作状態を変更する操作入力があると、当該デバイスの動作状態を変更する請求項１又は２に記載の無線通信端末。
【請求項４】
前記変更部は、前記デバイスの動作状態を変更する場合に、前記取得したデバイスの動作状態に応じたノイズの周波数を参照し、前記無線通信中の周波数とノイズの周波数とが重ならず前記無線通信中の周波数にノイズの影響が無い動作状態を選択し、前記デバイスの動作状態を当該選択した動作状態に変更する請求項１から３のいずれか一項に記載の無線通信端末。
【請求項５】
無線通信を行う無線通信部と、前記無線通信以外の機能を有するデバイスと、記憶部とを備える無線通信端末のコンピュータを制御するためのプログラムであって、
前記コンピュータを、
前記無線通信部による無線通信の受信感度を周波数毎に測定する測定部、
前記無線通信部による無線通信中に、前記デバイスを動作させ、前記測定部に前記無線通信の受信感度を周波数毎に測定させ、当該受信感度のノイズの周波数を前記デバイスの動作状態に対応付けて前記記憶部に記憶する制御部、
前記無線通信部による無線通信を行う場合に、前記デバイスの動作状態を取得し、前記取得したデバイスの動作状態に応じたノイズの周波数を前記記憶部から読み出し、前記無線通信中の周波数と前記読み出したノイズの周波数とが重なるか否かを判別し、当該無線通信中の周波数と当該ノイズの周波数とが重なる場合に、前記デバイスの動作状態を変更する変更部、
として機能させるようにしたコンピュータ読み取り可能なプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月25日(2011.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パージガス源、
水源、
パージガスに水分を加えるように構成された加湿器を備えるパージガス混合物発生器であって、前記加湿器はパージガス流を含む第１の領域と水を含む第２の領域とを備え、前記第１と第２の領域は液体の侵入に実質的に抵抗性のあるガス透過性膜によって分離されており、前記膜は中空繊維を形成し、第１および第２の領域の一方は前記繊維内にあり、前記第１および第２の領域の他方は前記繊維の外側にあり、前記パージガス発生器は前記加湿器の前記第１の領域を介して前記パージガス流の流量を制御するための質量流量制御器と前記加湿器の前記第２の領域を介して水の流れを制御するための圧力調節器とをさらに備えることにより水分が前記パージガスに加えられて加湿されたパージガス混合物を作るように前記パージガスに水分を加えるように構成されている前記パージガス発生器、および
前記パージガス混合物発生器に接続されて前記加湿されたパージガス混合物をリソグラフ投影装置の少なくとも一部に供給するパージガス混合物出口
を備えるパージガス混合物供給システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月3日(2013.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直交座標軸であるＸ軸とＺ’軸に沿った表裏面を有し、振動領域を備えている圧電基板と、
前記圧電基板から突出している中間部と、
前記中間部から突出している支持部と、を備え、
前記支持部は、前記Ｘ軸に沿って、前記圧電基板から離間して延出している第１の支持部、および前記Ｚ’軸に沿って、前記圧電基板から離間して延出している第２の支持部を備え、
前記各支持部は、励振電極から前記各支持部に沿って夫々延びるリード電極を備えており、
前記圧電基板の前記表裏面に、前記励振電極が成膜されており、
前記圧電基板は、前記Ｘ軸に沿い、かつ前記第１の支持部と隣り合って並んでいる第１の辺、および前記Ｚ’軸に沿い、かつ前記第２の支持部と隣り合って並んでいる第２の辺とを備えていることを特徴とする圧電振動素子。
【請求項２】
前記第１の辺と前記第２の辺は、前記中間部と接続していることを特徴とする請求項１記載の圧電振動素子。
【請求項３】
前記第２の辺は前記第１の辺よりも短く、
前記中間部は、前記第２の辺から突出しており、
前記第２の辺の２つの端のうち一方の前記第１の支持部側の端と前記中間部との間より、他方の端と前記中間部との間の距離が長いことを特徴とする請求項１記載の圧電振動素子。
【請求項４】
前記第２の辺は前記第１の辺よりも短く、
前記中間部は、前記第１の辺から突出しており、
前記第１の辺の２つの端のうち一方の前記第２の支持部側の端と前記中間部との間より、他方の端と前記中間部との間の距離が長いことを特徴とする請求項１記載の圧電振動素子。
【請求項５】
前記第２の辺は前記第１の辺よりも短く、
前記第１の支持部は、前記第１の支持部と隣り合って並んでいる前記第１の辺の長さの１／２以上であることを特徴とする請求項１記載の圧電振動素子。
【請求項６】
前記圧電振動素子の前記各リード電極と電気的に接続される素子搭載パッドを上面に備え、且つ外部に実装端子を備えた絶縁基板と、該素子搭載パッド上に搭載される請求項１乃至５の何れか一項に記載の圧電振動素子と、該圧電振動素子を気密封止する蓋部材と、前記各実装端子と前記各素子搭載パッドとを導通する導体と、を備えたことを特徴とする表面実装型圧電振動子。
【請求項７】
前記圧電振動素子の前記各リード電極と電気的に接続される素子搭載パッド、及び何れの前記実装端子とも非導通の枕部材を上面に備え、且つ外部に実装端子を備えた絶縁基板と、前記素子搭載パッド上に搭載される請求項１乃至５の何れか一項に記載の圧電振動素子と、該圧電振動素子を気密封止する蓋部材と、前記各実装端子と前記各素子搭載パッドとを導通する導体と、を備え、
前記圧電振動素子において、前記支持部の前記中間部を前記枕部材と対向するように配置したことを特徴とする表面実装型圧電振動子。
【請求項８】
前記各支持腕の先端部を前記素子搭載パッドと電気的に接着・固定したことを特徴とする請求項６又は７に記載の表面実装型圧電振動子。
【請求項９】
請求項１乃至５の何れか一項に記載の圧電振動素子の前記各リード電極と電気的に接続される素子搭載パッド、及び何れの前記実装端子とも非導通の枕部材を上面に備えると共に他の部位にＩＣ部品搭載パッドを備え、且つ外部に実装端子を備えた絶縁基板と、前記素子搭載パッド上に搭載される請求項１乃至５の何れか一項に記載の圧電振動素子と、該圧電振動素子を気密封止する蓋部材と、前記ＩＣ部品搭載パッドに電気的に接続され且つ発振回路を搭載したＩＣ部品と、前記各実装端子と前記各素子搭載パッドと前記ＩＣ部品搭載パッドとの間を導通する導体と、を備えたことを特徴とする表面実装型圧電発振器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月26日(2013.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像装置、記録制御装置、撮像制御方法及びプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、撮像装置、記録制御装置、撮像制御方法及びプログラムに関し、特に、連写撮影により得られた複数の画像のデータの中から、特定の画像のデータを記録する技術に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、
連続的に撮像動作を複数回繰り返すことによって、複数の画像のデータを順次出力する撮像手段と、
前記撮像手段により順次出力された各時点の画像のデータに対する複数の記録指示を受信する受信手段と、
前記受信手段により受信された複数の記録指示に基づいて、前記撮像手段により順次出力される前記複数の画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する記録制御手段と、
を備える撮像装置を提供する。
また、上記目的を達成するため、請求項６に記載の発明は、
各々異なる時点で撮像された複数の画像のデータを取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された各時点の画像のデータに対する複数の記録指示を受信する受信手段と、
前記受信手段により受信された複数の記録指示に基づいて、前記取得手段により取得される画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する記録制御手段と、
を備える記録制御装置を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、請求項７に記載の発明は、
連続的に撮像動作を複数回繰り返すことによって、複数の画像のデータを順次出力する撮像手段を備える撮像装置が実行する撮像制御方法において、
前記撮像手段により順次出力された各時点の画像のデータに対する複数の記録指示を受信する受信ステップと、
前記受信ステップにより受信された複数の記録指示に基づいて、前記撮像手段により順次出力される前記複数の画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する記録制御ステップと、
を含む撮像制御方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、請求項８に記載の発明は、
連続的に撮像動作を複数回繰り返すことによって、複数の画像のデータを順次出力する撮像手段を備える撮像装置のコンピュータを、
前記撮像手段により順次出力された各時点の画像のデータに対する複数の記録指示を受信する受信手段、
前記受信手段により受信された複数の記録指示に基づいて、前記撮像手段により順次出力される前記複数の画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する記録制御手段、
として機能させるプログラムを提供する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続的に撮像動作を複数回繰り返すことによって、複数の画像のデータを順次出力する撮像手段と、
前記撮像手段により順次出力された各時点の画像のデータに対する複数の記録指示を受信する受信手段と、
前記受信手段により受信された複数の記録指示に基づいて、前記撮像手段により順次出力される前記複数の画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する記録制御手段と、
を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記受信手段により受信された複数の記録指示を各時点に対応する画像のデータ毎に評価する評価手段を更に備え、
前記記録制御手段は、前記評価手段による評価結果に基づいて、前記撮像手段により順次出力される前記複数の画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する
ことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記記録制御手段は、
前記撮像手段により所定の時点で出力された画像のデータを、前記記録手段とは異なる記憶領域に記憶させ、
前記評価手段による評価結果に応じて、前記撮像手段により前記所定の時点以降で画像のデータが出力される毎に、当該出力された画像のデータを前記記憶領域に上書きし、
前記撮像手段による撮像動作の終了が指示されると、前記記憶領域に記憶されている画像のデータを前記記録手段に記憶させる、
ことを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記評価手段は、前記受信手段により受信された複数の記録指示を各時点に対応する画像のデータ毎に計数し、
前記記録制御手段は、前記撮像手段により順次出力される前記複数の画像のデータのうち、前記評価手段により計数された所定の時点における前記記録指示の数が他の時点の前記記録指示の数よりも相対的に多い画像のデータを、記録手段に記録させるよう制御する、
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記撮像手段により順次出力される複数の画像のデータのうち、前記評価手段により計数された前記記録指示の数が最も大きい時点に対応する画像のデータを、前記記録手段に記録させるよう制御する請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
各々異なる時点で撮像された複数の画像のデータを取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された各時点の画像のデータに対する複数の記録指示を受信する受信手段と、
前記受信手段により受信された複数の記録指示に基づいて、前記取得手段により取得される画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する記録制御手段と、
を備えることを特徴とする記録制御装置。
【請求項７】
連続的に撮像動作を複数回繰り返すことによって、複数の画像のデータを順次出力する撮像手段を備える撮像装置が実行する撮像制御方法において、
前記撮像手段により順次出力された各時点の画像のデータに対する複数の記録指示を受信する受信ステップと、
前記受信ステップにより受信された複数の記録指示に基づいて、前記撮像手段により順次出力される前記複数の画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する記録制御ステップと、
を含むことを特徴とする撮像制御方法。
【請求項８】
連続的に撮像動作を複数回繰り返すことによって、複数の画像のデータを順次出力する撮像手段を備える撮像装置のコンピュータを、
前記撮像手段により順次出力された各時点の画像のデータに対する複数の記録指示を受信する受信手段、
前記受信手段により受信された複数の記録指示に基づいて、前記撮像手段により順次出力される前記複数の画像のデータのうち、特定の時点の画像のデータを記録手段に記録させるよう制御する記録制御手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月30日(2013.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線信号を電荷信号に変換して蓄積する複数の光電変換素子が配置された放射線検出手段を有する放射線撮像装置であって、
前記複数の光電変換素子に対する電荷信号の蓄積を制御する蓄積制御手段と、
前記複数の光電変換素子に蓄積された電荷信号の読み出しを制御する読み出し制御手段と、
前記蓄積制御手段による電荷信号の蓄積制御、及び、前記読み出し制御手段による電荷信号の読み出し制御のうちの少なくとも何れか一方が行われていない期間に、前記放射線検出手段で発生する不定電位の固定化を繰り返し行う制御手段と、
を有することを特徴とする放射線撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記不定電位の固定化を所定の周期で繰り返し行うことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記光電変換素子のリセット動作を制御するリセット制御手段と、前記光電変換素子の撮影モードを制御する撮影モード制御手段と、前記光電変換素子に蓄積された電荷信号のサンプルホールドを制御するサンプルホールド制御手段とのうちの少なくとも何れか一つを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線撮像装置。
【請求項４】
前記不定電位の固定化が行われている際に撮影開始の指示があった場合、前記制御手段は前記不定電位の固定化を停止するとともに、前記蓄積制御手段は、前記複数の光電変換素子に対する電荷信号の蓄積を開始することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
【請求項５】
前記リセット制御手段は、前記リセット制御手段において発生するリセットノイズを除去するためのクランプ手段を有することを特徴とする請求項３に記載の放射線撮像装置。
【請求項６】
前記撮影モード制御手段は、前記光電変換素子が隣接する画素を電気的に加算する画素加算手段を有し、前記画素加算手段を用いて撮影感度を制御することを特徴とする請求項３に記載の放射線撮像装置。
【請求項７】
前記所定の周期は、前記光電変換素子に所定のノイズが蓄積する最短周期以下の周期であることを特徴とする請求項２に記載の放射線撮像装置。
【請求項８】
放射線信号を電荷信号に変換して蓄積する複数の光電変換素子が配置された放射線検出手段を有する放射線撮像装置の制御方法であって、
前記複数の光電変換素子に対する電荷信号の蓄積を制御する蓄積制御ステップと、
前記複数の光電変換素子に蓄積された電荷信号の読み出しを制御する読み出し制御ステップと、
前記蓄積制御ステップによる電荷信号の蓄積制御、及び、前記読み出し制御ステップによる電荷信号の読み出し制御のうちの少なくとも何れか一方が行われていない期間に、前記放射線検出手段で発生する不定電位の固定化を繰り返し行う制御ステップと、
を含むことを特徴とする放射線撮像装置の制御方法。
【請求項９】
放射線信号を電荷信号に変換して蓄積する複数の光電変換素子が配置された放射線検出手段を有する放射線撮像装置であって、
前記複数の光電変換素子に対する電荷信号の蓄積を制御する蓄積制御手段と、
前記複数の光電変換素子に蓄積された電荷信号の読み出しを制御する読み出し制御手段と、
前記読み出し制御手段による電荷信号の読み出し制御の終了後に所定の時間が経過しても前記光電変換素子をリセットするタイミングを規定するための外部同期信号が検出されない場合、前記放射線検出手段で発生する不定電位の固定化を行う制御手段と、
を有することを特徴とする放射線撮像装置。
【請求項１０】
放射線信号を電荷信号に変換して蓄積する複数の光電変換素子が配置された放射線検出手段を有する放射線撮像装置の制御方法であって、
前記複数の光電変換素子に対する電荷信号の蓄積を制御する蓄積制御ステップと、
前記複数の光電変換素子に蓄積された電荷信号の読み出しを制御する読み出し制御ステップと、
前記読み出し制御ステップの終了後に所定の時間が経過しても前記光電変換素子をリセットするタイミングを規定するための外部同期信号が検出されない場合、前記放射線検出手段で発生する不定電位の固定化を行う制御ステップと、
を含むことを特徴とする放射線撮像装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の放射線撮像装置は、放射線信号を電荷信号に変換して蓄積する複数の光電変換素子が配置された放射線検出手段を有する放射線撮像装置であって、前記複数の光電変換素子に対する電荷信号の蓄積を制御する蓄積制御手段と、前記複数の光電変換素子に蓄積された電荷信号の読み出しを制御する読み出し制御手段と、前記蓄積制御手段による電荷信号の蓄積制御、及び、前記読み出し制御手段による電荷信号の読み出し制御のうちの少なくとも何れか一方が行われていない期間に、前記放射線検出手段で発生する不定電位の固定化を繰り返し行う制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月20日(2013.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物の処理面に有機溶媒を供給し、前記供給された有機溶媒を蒸散させる基板処理装置であって、
前記処理面に有機溶媒を供給する有機溶媒供給部と、
前記処理面における発火を検出する検出部と、
を備えたこと、を特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記検出部は、前記処理面の全域を検出領域とすること、を特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記検出部は、前記処理面の周縁部分に対する受光特性が、前記処理面の中央部分に対する受光特性よりも高い検出特性を有したこと、を特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記検出部は、前記処理面の周縁部分に対する受光特性が、前記処理面の中央部分に対する受光特性の１０倍以上となる検出特性を有したこと、を特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記検出部からの信号に基づいた制御を行う制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記発火による発光に基づく発光時間および光の強度の変化の少なくともいずれかに基づいて前記処理面における発火を検出すること、を特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記処理面における発火が検出された場合には、前記発火が検出された被処理物に対して工程異常の識別標識を付与すること、を特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記処理面に洗浄液を供給する洗浄液供給部をさらに備え、
前記制御部は、前記処理面における発火が検出された場合には、前記洗浄液供給部に洗浄液の供給を行わせること、を特徴とする請求項５または６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
被処理物の処理面に有機溶媒を供給し、前記供給された有機溶媒を蒸散させる基板処理方法であって、
前記処理面に有機溶媒を供給する工程と、
前記処理面に供給された有機溶媒を蒸散させる工程と、
を備え、
前記有機溶媒を供給する工程および前記有機溶媒を蒸散させる工程の少なくともいずれ
かにおいて、前記処理面における発火を検出することを特徴とする基板処理方法。
【請求項９】
前記処理面における発火の検出において、発光時間および光の強度の変化の少なくともいずれかに基づいて前記処理面における発火を検出すること、を特徴とする請求項８記載の基板処理方法。
【請求項１０】
前記処理面における発火が検出された場合には、前記発火が検出された被処理物に対して工程異常の識別標識を付与すること、を特徴とする請求項９記載の基板処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
次に、有機溶媒供給部４ｃにより被処理物Ｗの処理面Ｗａに有機溶媒が供給される。処理面Ｗａに供給された有機溶媒は、被処理物Ｗを回転させることで処理面Ｗａの全域に行きわたる。この有機溶媒と処理面Ｗａに残留している洗浄液とが置換される。または、洗浄液と有機溶媒とが混合されることにより蒸散させやすい混合液が形成される。そして、有機溶媒や混合液は遠心力により被処理物Ｗの径外方向に排出される。被処理物Ｗの径外方向に排出された有機溶媒や混合液は、前述した処理液の場合と同様にして排出口２ｅから排出される。または、図示しない隔壁と排出口とを設け、被処理物Ｗの径外方向に排出された有機溶媒や混合液を前述した処理液や洗浄液とは異なる排出口から排出させるようにすることもできる。  
この場合、処理面Ｗａに供給される有機溶媒は、有機溶媒の溶液、有機溶媒の蒸気、有機溶媒の溶液を気体を用いて霧状にしたものなどとすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月25日(2013.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の側部上面に電子部品を実装する電子部品の実装装置であって、
上記基板の側部下面を支持するバックアップツールと、
このバックアップツールによって側部下面が支持された上記基板の上面に上記電子部品を加圧加熱しながら実装する加圧ツールを具備し、
上記バックアップツールは、上面が長手方向全長にわたって取付け面に形成されたベース部と、上記基板の側部下面を支持する支持面を有し、上記ベース部の上記取付け面に取り付けられるバックアップ部を有し、
上記ベース部には、上記取付け面に開放するとともに、上記長手方向と交差する幅方向に貫通した吸収溝が形成されていることを特徴とする電子部品の実装装置。
【請求項２】
上記ベース部には、上記長手方向に沿う一対の流路が幅方向に離間して形成されていて、この一対の流路の一方と他方とには、供給手段によって上記ベース部を冷却する冷却媒体の流れ方向が逆向きになるよう供給されることを特徴とする請求項１記載の電子部品の実装装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この発明は、基板の側部上面に電子部品を実装する電子部品の実装装置であって、
上記基板の側部下面を支持するバックアップツールと、
このバックアップツールによって側部下面が支持された上記基板の上面に上記電子部品を加圧加熱しながら実装する加圧ツールを具備し、
上記バックアップツールは、上面が長手方向全長にわたって取付け面に形成されたベース部と、上記基板の側部下面を支持する支持面を有し、上記ベース部の上記取付け面に取り付けられるバックアップ部を有し、
上記ベース部には、上記取付け面に開放するとともに、上記長手方向と交差する幅方向に貫通した吸収溝が形成されていることを特徴とする電子部品の実装装置にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記ベース部には、上記長手方向に沿う一対の流路が幅方向に離間して形成されていて、この一対の流路の一方と他方とには、供給手段によって上記ベース部を冷却する冷却媒体の流れ方向が逆向きになるよう供給されることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2012074508.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月8日(2013.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
実施形態の電球形ランプは、一端側から他端側に縮径する縮径部と、縮径部の一端側に設けられ、ランプ軸に平行な円筒部とを有し、プレス成形によって円筒状に形成された金属製の筐体を備える。筐体内に合成樹脂製のケースを一体的に組み立てる。ケースの他端側に口金を取り付ける。ケース内に点灯回路を収容する。半導体発光素子を有する発光モジュールを放熱板の一端側の面に搭載する。放熱板は、周辺部の板厚端面に、端面部と、端面部よりも他端側に形成され、一端側から他端側に縮径する他端部とを有し、端面部は筐体の円筒部と接触し、他端部は少なくとも一部が筐体の縮径部と接触して、筐体に接続する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、プレス成形される筐体を電球形状に近似した形状に形成しても、放熱板から筐体への良好な熱伝導性を確保できることが期待できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
11    電球形ランプ
12    筐体
13    ケース
15    口金
16    発光モジュール
17    放熱板
18    グローブ
19    点灯回路
22    縮径部としてのテーパー部
23 円筒部
32    グローブ取付部
58    板厚端面
61    切欠部
81    照明器具
82    器具本体
83    ソケット
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一端側から他端側に縮径する縮径部と、縮径部の一端側に設けられ、ランプ軸に平行な円筒部とを有し、プレス成形によって円筒状に形成された金属製の筐体と；
筐体内に一体的に組み立てられた合成樹脂製のケースと；
半導体発光素子を有する発光モジュールと；
発光モジュールが一端側の面に搭載され、周辺部の板厚端面に、端面部と、端面部よりも他端側に形成され、一端側から他端側に縮径する他端部とを有し、端面部は筐体の円筒部と接触し、他端部は少なくとも一部が筐体の縮径部と接触して、筐体に接続される放熱板と；
ケースの他端側に取り付けられた口金と；
ケース内に収容された点灯回路と；
を具備していることを特徴とする電球形ランプ。
【請求項２】
筐体の一端側に嵌合されてケースの一端側に取り付けられるグローブを具備し、
ケースには、放熱板を貫通して一端側に突出し、グローブを取り付けるグローブ取付部が設けられ、
放熱板の周辺部には、ケースのグローブ取付部が貫通する切欠部が設けられている
ことを特徴とする請求項１記載の電球形ランプ。
【請求項３】
ソケットを有する器具本体と；
ソケットに装着される請求項１または２記載の電球形ランプと；
を具備していることを特徴とする照明器具。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月9日(2013.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査電極および維持電極からなる複数の表示電極対が前面側基板上に設けられた前面板と、前記表示電極対と立体交差する複数のアドレス電極、前記アドレス電極と前記表示電極対の交差部に各々放電セルを区画するリブ、及び前記リブ間に位置する蛍光体層が、背面側基板上に設けられた背面板と、前記前面板と前記背面板の間に配置された誘電体用薄板とを備え、前記誘電体用薄板の外周縁領域がシール層により前記背面板上に封着されているプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記背面板上に前記誘電体用薄板を封着する工程は、
前記リブの上面に当接させて前記誘電体用薄板を前記背面板上に戴置する工程と、
前記背面板上に前記誘電体用薄板を戴置する工程の後、前記誘電体用薄板と前記背面板の位置関係を固定し、前記誘電体用薄板の前記リブとの接触面と反対側の面の外周縁領域、及び前記誘電体用薄板と前記背面板の周縁対向部にシール材を付設し、前記シール層を形成する工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマディスプレイパネルの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも記述する。）の製造方法に関し、特に交流駆動面放電型ＰＤＰにおける背面板に係る封着構造及びその製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上記課題を解決するために、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前記背面板上に前記誘電体用薄板を封着する工程が、前記リブの上面に当接させて前記誘電体用薄板を前記背面板上に戴置する工程と、前記背面板上に前記誘電体用薄板を戴置する工程の後、前記誘電体用薄板と前記背面板の位置関係を固定し、前記誘電体用薄板の前記リブとの接触面と反対側の面の外周縁領域、及び前記誘電体用薄板と前記背面板の周縁対向部にシール材を付設し、前記シール層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明のＰＤＰの製造方法は、上記構成を基本として、以下のような態様をとることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
すなわち、上記構成のＰＤＰの製造方法において、前記シール層を形成する工程では、さらに、前記誘電体用薄板と前記背面板の周縁対向部に前記シール層を形成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月9日(2013.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面基板上に設けられた走査電極および維持電極からなる複数の表示電極対、及び前記表示電極対を被覆するように形成された前面誘電体層を有する前面板と、背面基板上に設けられ前記表示電極対と立体交差する複数のアドレス電極、前記アドレス電極を被覆するように形成された背面誘電体層、前記アドレス電極と前記表示電極対の交差部に各々放電セルを区画するリブ、及び前記リブ間に位置する蛍光体層を有する背面板とを備え、前記前面板と前記背面板の間は、外周縁領域に形成されたシール層により封着されているプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記前面板と前記背面板の間を封着するための工程として、
前記背面板または前記前面板の少なくとも一方の外周縁領域における、前記シール層を配置すべき位置に台座部を形成する工程と、
前記背面板と前記前面板とを対向させ、前記台座部と前記前面板あるいは前記背面板に対向する要素の面との間、または前記台座部どうしの対向する面の間に所定の間隔を設けて位置決めする工程と、
前記台座部と前記対向する要素の面との間、または前記台座部どうしの対向する面の間に金属はんだを溶融状態で供給し、前記金属はんだが冷却され固化することにより金属はんだ層を形成する工程とを備え、
形成された前記金属はんだ層により前記前面板と前記背面板の間を封着することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマディスプレイパネルの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも記述する。）の製造方法に関し、特に交流駆動面放電型ＰＤＰにおける前面板と背面板の封着構造の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
以上の状況を考慮して、本発明は、前面板と背面板の封着用シール層が金属はんだにより形成された封着構造における、金属はんだが電極群に跨ることによる電極間のショート、及び背面誘電体層中のピンホールや泡に起因する電極間のショートを回避可能な構造を有するＰＤＰの製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月25日(2013.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
伝搬路推定を行う伝搬路推定部を備え、
前記伝搬路推定部は、
伝搬路適合度を向上させる順番にパスを検出する処理を繰り返すパス検出部を備え、
前記伝搬路適合度として、
伝搬路推定値と受信信号の適合の度合いと、前記パスの数に基づいたペナルティの和を用いること、
を特徴とする受信装置。
【請求項２】
前記パス検出部は、前記伝搬路適合度を向上できるパスが無くなるまで、パスを検出する処理を繰り返すことを特徴とする請求項１に記載の受信装置。
【請求項３】
前記パス検出部は、１パスずつ検出を行うこと、
を特徴とする請求項２に記載の受信装置。
【請求項４】
前記パス検出部は、前記伝搬路適合度を向上できないパスを候補から削除する処理をさらに備えること、
を特徴とする請求項１から３までのいずれか１項に記載の受信装置。
【請求項５】
前記パス検出部は、前記ペナルティを、前記パイロットシンボルの配置周波数に基づいて算出すること、
を特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の受信装置。
【請求項６】
前記パス検出部は、前記ペナルティを、前記パイロットシンボルの時間波形に基づいて算出すること、
を特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の受信装置。
【請求項７】
伝搬路推定を行う伝搬路推定ステップを備え、
前記伝搬路推定ステップは、
伝搬路適合度を向上させる順番にパスを検出する処理を繰り返すパス検出過程を備え、
前記伝搬路適合度として、
伝搬路推定値と受信信号の適合の度合いと、前記パスの数に基づいたペナルティの和を用いること、
を特徴とする受信方法。
【請求項８】
請求項７に記載の受信方法をコンピュータに実行させるための受信プログラム。