【手続補正書】
【提出日】平成25年7月12日(2013.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素および遷移金属触媒の存在下、反応温度０〜９０℃の範囲、および反応圧力０．１〜３．０ＭＰａの範囲で、接触還元によって、ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩から、４−アミノ−ｍ−クレゾールを製造する方法において、
前記遷移金属触媒が、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｔ／Ｃ、Ｐｄ（ＩＩ）Ｘ１２、Ｐｔ（０）Ｌ１２、Ｐｔ（ＩＩ）Ｘ２２、Ｐｔ（０）Ｌ２２、ラネーニッケル、ＮｉＸ３２およびＮｉ（０）Ｌ３２
［式中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択され、
Ｌ１、Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立して、ｄｂａ（ジベンジリデンアセトン）、ｄｐｐｆ（１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン）、ｄｐｐｐ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン）、ａｃａｃ（アセチルアセトナート）、ｄｐｐｂ（ｏ−ジフェニルホスフィノベンゾイル）、ｃｏｄ（１，５−シクロオクタジエン）、ＴＰＰ（トリフェニルホスフィン）、ＴＰＢ（テトラフェニルボレート）およびＢＩＮＡＰ（２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルからなる群から選択される。］
からなる群から選択される遷移金属触媒であることを特徴とする、４−アミノ−ｍ−クレゾールの製造方法。
【請求項２】
前記接触還元後、反応液のｐＨを４．０〜８．０に調整して４−アミノ−ｍ−クレゾールを沈殿させた後、濾過によって、沈殿物と濾液とを分離する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記沈殿物から、再結晶によって、４−アミノ−ｍ−クレゾールの結晶を得る工程をさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記濾液から、スルファニル酸を回収する工程をさらに含む、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記接触還元の前に、スルファニル酸をジアゾ化して、さらに、ｍ−クレゾールと反応させることによって、前記ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩を調製する工程を含む、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記接触還元をアルカリ水溶液中で行う、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
スルファニル酸をジアゾ化して、さらに、ｍ−クレゾールと反応させることによって、ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩を調製する工程、
水素；およびＰｄ／Ｃ、Ｐｔ／Ｃ、Ｐｄ（ＩＩ）Ｘ１２、Ｐｔ（０）Ｌ１２、Ｐｔ（ＩＩ）Ｘ２２、Ｐｔ（０）Ｌ２２、ラネーニッケル、ＮｉＸ３２およびＮｉ（０）Ｌ３２
［式中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択され、
Ｌ１、Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立して、ｄｂａ（ジベンジリデンアセトン）、ｄｐｐｆ（１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン）、ｄｐｐｐ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン）、ａｃａｃ（アセチルアセトナート）、ｄｐｐｂ（ｏ−ジフェニルホスフィノベンゾイル）、ｃｏｄ（１，５−シクロオクタジエン）、ＴＰＰ（トリフェニルホスフィン）、ＴＰＢ（テトラフェニルボレート）およびＢＩＮＡＰ（２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルからなる群から選択される。］
からなる群から選択される遷移金属触媒；の存在下、反応温度０〜９０℃の範囲、および反応圧力０．１〜３．０ＭＰａの範囲で、アルカリ水溶液中で、接触還元によって、前記ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩から、４−アミノ−ｍ−クレゾールを調製する工程、
前記接触還元後、反応液のｐＨを４．０〜８．０に調整して４−アミノ−ｍ−クレゾールを沈殿させた後、濾過によって、沈殿物と濾液とを分離する工程、
前記沈殿物から、再結晶によって、４−アミノ−ｍ−クレゾールの結晶を得る工程、および、
前記濾液から、スルファニル酸を回収する工程、
を含む、４−アミノ−ｍ−クレゾールの製造において、原料であるスルファニル酸を回収する方法。
【請求項８】
請求項７記載の方法で回収したスルファニル酸をジアゾ化して、さらに、ｍ−クレゾールと反応させることによって、ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩を製造する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［１］
水素および遷移金属触媒の存在下、反応温度０〜９０℃の範囲、および反応圧力０．１〜３．０ＭＰａの範囲で、接触還元によって、ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩から、４−アミノ−ｍ−クレゾールを製造する方法において、
前記遷移金属触媒が、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｔ／Ｃ、Ｐｄ（ＩＩ）Ｘ１２、Ｐｔ（０）Ｌ１２、Ｐｔ（ＩＩ）Ｘ２２、Ｐｔ（０）Ｌ２２、ラネーニッケル、ＮｉＸ３２およびＮｉ（０）Ｌ３２からなる群から選択される
［式中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択され、
Ｌ１、Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立して、ｄｂａ（ジベンジリデンアセトン）、ｄｐｐｆ（１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン）、ｄｐｐｐ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン）、ａｃａｃ（アセチルアセトナート）、ｄｐｐｂ（ｏ−ジフェニルホスフィノベンゾイル）、ｃｏｄ（１，５−シクロオクタジエン）、ＴＰＰ（トリフェニルホスフィン）、ＴＰＢ（テトラフェニルボレート）およびＢＩＮＡＰ（２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルからなる群から選択される。］
からなる群から選択される遷移金属触媒であることを特徴とする、４−アミノ−ｍ−クレゾールの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
［６］
前記接触還元をアルカリ水溶液中で行う、上記［１］〜［５］のいずれかに記載の方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
［７］
スルファニル酸をジアゾ化して、さらに、ｍ−クレゾールと反応させることによって、ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩を調製する工程、
水素；およびＰｄ／Ｃ、Ｐｔ／Ｃ、Ｐｄ（ＩＩ）Ｘ１２、Ｐｔ（０）Ｌ１２、Ｐｔ（ＩＩ）Ｘ２２、Ｐｔ（０）Ｌ２２、ラネーニッケル、ＮｉＸ３２およびＮｉ（０）Ｌ３２
［式中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択され、
Ｌ１、Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立して、ｄｂａ（ジベンジリデンアセトン）、ｄｐｐｆ（１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン）、ｄｐｐｐ（１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン）、ａｃａｃ（アセチルアセトナート）、ｄｐｐｂ（ｏ−ジフェニルホスフィノベンゾイル）、ｃｏｄ（１，５−シクロオクタジエン）、ＴＰＰ（トリフェニルホスフィン）、ＴＰＢ（テトラフェニルボレート）およびＢＩＮＡＰ（２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルからなる群から選択される。］
からなる群から選択される遷移金属触媒；の存在下、反応温度０〜９０℃の範囲、および反応圧力０．１〜３．０ＭＰａの範囲で、アルカリ水溶液中で、接触還元によって、前記ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩から、４−アミノ−ｍ−クレゾールを調製する工程、
前記接触還元後、反応液のｐＨを４．０〜８．０に調整して４−アミノ−ｍ−クレゾールを沈殿させた後、濾過によって、沈殿物と濾液とを分離する工程、
前記沈殿物から、再結晶によって、４−アミノ−ｍ−クレゾールの結晶を得る工程、および、
前記濾液から、スルファニル酸を回収する工程、
を含む、４−アミノ−ｍ−クレゾールの製造において、原料であるスルファニル酸を回収する方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
［８］
上記［７］のいずれかに記載の方法で回収したスルファニル酸をジアゾ化して、さらに、ｍ−クレゾールと反応させることによって、ｐ−（４−ヒドロキシ−ｏ−トリルアゾ）ベンゼンスルホン酸またはその塩を製造する方法。