【手続補正書】
【提出日】平成25年7月29日(2013.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する樹脂（Ａ１）を含む樹脂（Ａ）、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）、光カチオン重合開始剤（Ｃ）、エチレン性不飽和単量体（Ｄ）、エポキシ化合物（Ｅ）、及びオキセタン化合物（Ｆ）を含み、エチレン性不飽和単量体（Ｄ）の重量をＭｅｔ、エポキシ化合物（Ｅ）の重量をＭｃｅ、オキセタン化合物（Ｆ）の重量をＭｃｏとしたとき、（Ｍｃｅ＋Ｍｃｏ）／（Ｍｅｔ＋Ｍｃｅ＋Ｍｃｏ）が、０．４以上０．９以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する樹脂（Ａ１）が、下記（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）を共重合させて共重合体（ａ６）を得て、得られた共重合体（ａ６）と不飽和１塩基酸（ａ４）とを反応させて共重合体（ａ７）を得て、更に得られた共重合体（ａ７）と多塩基酸無水物（ａ５）とを反応させて得られる樹脂（Ａ１−ａ）を含むことを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂組成物。
（ａ１）；１分子中に脂環式骨格と、不飽和結合とを有する化合物
（ａ２）；１分子中にエポキシ基と不飽和結合とを有する化合物
（ａ３）；（ａ１）及び（ａ２）以外の不飽和結合を有する化合物
（ａ４）；不飽和１塩基酸
（ａ５）；多塩基酸無水物
【請求項３】
感光性樹脂組成物の固形分重量をＮＶ、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）の重量をＩｒ、光カチオン重合開始剤（Ｃ）の重量をＩｃとしたとき、（Ｉｒ＋Ｉｃ）／ＮＶが、０．０１以上０．１５以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
Ｍｃｅ／（Ｍｃｅ＋Ｍｃｏ）が、０．４以上０．９５以下であることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
光ラジカル重合開始剤（Ｂ）の重量をＩｒ、光カチオン重合開始剤（Ｃ）の重量をＩｃとしたとき、Ｉｃ／（Ｉｒ＋Ｉｃ）が、０．２以上０．５以下であることを特徴とする請求項１乃至４いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
光ラジカル重合開始剤（Ｂ）が、アセトフェノン系光重合開始剤またはオキシムエステル系光重合開始剤であることを特徴とする請求項１乃至５いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
さらに、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素からなる無機酸化物微粒子を含むことを特徴とする請求項１乃至６いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されるタッチパネル用絶縁膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
＜エポキシ化合物（Ｅ）＞
エポキシ化合物（Ｅ）としては公知の化合物が挙げられ、具体的にはジシクロペンタジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ジ（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２，８，９−ジエポキシリモネン、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ｏ−、ｍ−、ｐ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が用いられる。
中でも式（２−１）、または式（２−２）で表される１，２，８，９−ジエポキシリモネン、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートが硬度・密着性の点で優れるため好ましい。これらはそれぞれを単独で用いても良く、ともに含んでいても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
中でもオキセタン基が１官能であるものとして、好ましくは下記式（３−１）、式（３−２）で表される、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、または３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタンが好ましい。
式（３−１）
【化７】
2012116974.tif 000001
式（３−２）
【化８】
2012116974.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
具体例としては、下記式（３−５）のジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（２−フェノキシメチル）オキセタン、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル等が挙げられる。
式（３−５）
【化１１】
2012116974.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
続いて、樹脂（Ａ１）溶液およびその他の樹脂（Ａ２）溶液の製造方法について説明する。
＜樹脂（Ａ１）溶液の製造方法＞
（樹脂溶液（Ａ１−１）の調製）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりスチレン５．２部、グリシジルメタクリレート３５．５部、ジシクロペンタニルメタクリレート４１．０部、アゾビスイソブチロニトリル１．０部の混合物を２．５時間かけて滴下し重合反応を行った。
次にフラスコ内を空気置換し、アクリル酸１７．０部にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．３部、およびハイドロキノン０．３部を投入し、１２０℃で５時間反応を続け固形分酸価＝０．８となったところで反応を終了し、重量平均分子量が約１２０００（ＧＰＣによる測定）の樹脂溶液を得た。
さらにテトラヒドロ無水フタル酸３０．４部、トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で４時間反応させ、不揮発分が２０％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加して樹脂溶液（Ａ１−１）を調製した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
【表２】
2012116974.tif 000004
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
《無機酸化物微粒子》
・ＺＲ−４０ＢＬ（日産化学社製）；ジルコニアの酸化物微粒子の水酸化テトラメチルアンモニウム分散液（固型分４０％）
・ＰＭＡ−ＳＴ（日産化学社製）；ケイ素の酸化物微粒子のＰＧＭＥＡ分散液（固型分３０％）
《エチレン性不飽和単量体（Ｄ）》
・ＤＰＣＡ３０；カヤキュア ＤＰＣＡ３０（日本化薬社製）
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
《エポキシ化合物（Ｅ）》
・セロキサイド３０００（ダイセル化学工業社製）：１，２，８，９−ジエポキシリモネン
・セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル化学工業社製）：３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート
《オキセタン化合物（Ｆ）》
・アロンオキセタンＯＸＴ−２１２（東亞合成社製）：３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン
・アロンオキセタンＯＸＴ−２２１（東亞合成社製）：ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル
・アロンオキセタンＯＸＴ−１０１（東亞合成社製）：３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン
《密着性促進添加剤》
・ＫＢＭ−４０３（信越化学社製）；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン