(57)【要約】      （修正有）【課題】薬液の高さを精確に制御し、良好な湿式工程を保持する湿式工程に用いる薬液補充還流装置を提供する。【解決手段】薬液補充還流装置１は、制御ユニット、本体２０、液位計、還流弁および補液循環構造５０を含む。本体２０は浸漬槽２１、還流槽２２および複数の還流管を含み、浸漬槽２１は還流管を介して還流槽２２と通じる。液位計は浸漬槽２１中に設置され、さらに制御ユニットと電気的に接続され、液位計は薬液の液位高さを測定して制御ユニットに伝送する。還流弁は、還流管に取り付けられる。補液循環構造５０は補液管５１、補液弁５２および第１送水ポンプ５３を含み、補液管５１は浸漬槽２１および第１送水ポンプ５３の間に接続され、第１送水ポンプ５３は制御ユニットと電気的に接続される。【選択図】図２
0003220344.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
湿式工程に用いる薬液補充還流装置であって、
制御ユニットと；
浸漬槽、還流槽および複数の還流管を含み、該浸漬槽は該還流管を介して該還流槽と通じる本体と；
該浸漬槽中に設置され、さらに該制御ユニットと電気的に接続され、前記薬液の液位高さを測定して該制御ユニットに伝送する液位計と；
少なくとも１つの還流管に取り付けられる少なくとも１つの還流弁と；
少なくとも１つの補液管と、該少なくとも１つの補液管に取り付けられる補液弁と、該還流槽と通じる第１送水ポンプとを含み、該補液管は該浸漬槽および該第１送水ポンプの間に接続され、該第１送水ポンプは該制御ユニットと電気的に接続される補液循環構造と；を含む装置。
【請求項２】
さらに複数のノズルと、該ノズルと接続される連通管とを含み、該ノズルは該浸漬槽に設置される、請求項１に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【請求項３】
さらに該本体外に設置される第２送水ポンプを含み、該第２送水ポンプは該連通管および該還流槽と接続される、請求項２に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【請求項４】
該少なくとも１つの還流弁が該本体の外側に設置され、該還流弁が取り付けられる還流管は該本体外に屈曲して延伸し、該還流弁と接続される、請求項１に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【請求項５】
該補液弁が該本体外側に設置される、請求項１に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【請求項６】
さらに拡散ケースを含み、該拡散ケースは該浸漬槽中に設置され、該補液管の開口を対応して覆う、請求項１に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【請求項７】
該拡散ケースは複数の側板およびカバー板を含み、該側板に複数の拡散孔が設けられる、請求項６に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【請求項８】
該補液循環構造が、さらに循環管と、該循環管に取り付けられる循環弁とを含み、該循環管は該第１送水ポンプおよび該還流槽の間に接続される、請求項１に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【請求項９】
さらに別の液位計を含み、該２つの液位計は該浸漬槽の相対する２つの側面に設置される、請求項１に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【請求項１０】
該還流弁は該制御ユニットと電気的に接続され、該制御ユニットは該液位高さを取得することにより該還流弁の開閉を制御する、請求項１に記載の湿式工程に用いる薬液補充還流装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は湿式工程設備に関し、特に湿式工程に用いる薬液補充還流装置を指す。
【背景技術】
【０００２】
従来の基板の湿式工程設備における加工処理槽は、そのほとんどに還流槽および還流孔が設けられ、これらは薬液水位の高さを制御し、薬液があふれるのを防止する。しかしながら、還流後の薬液に空気が混入して泡沫が生じることがあり、泡沫が薬液の還流に伴って再び加工処理槽に流入した場合、化学処理効果に影響を及ぼす。
【０００３】
このほか、一般的な湿式工程は、通常、ノズル構造が追加され、加圧後の薬液はノズル構造を利用して基板に吹き付けられ、化学処理効果を高める。ただ、薬液の高さはノズル構造の噴射下で制御がより難しく、薬液が排出および溢れる状況が容易に引き起こされる。したがって、どのようにして薬液の高さを精確に制御し、良好な工程を保持するかが、本考案の研究の動機である。
【０００４】
このことを考慮して、本考案者が上記既存技術に対して鋭意研究を重ね、さらに学理的な利用を組み合わせ、上記の問題点の解決に尽力することは、本考案者の改良の目標となっている。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
本考案の目的は、湿式工程に用いる薬液補充還流装置を提供することにあり、これにより薬液の高さを精確に制御し、良好な湿式工程を保持する目的を達成する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本考案の湿式工程に用いる薬液補充還流装置は、制御ユニット、本体、液位計、還流弁および補液循環構造を含む。本体は浸漬槽、還流槽および複数の還流管を含み、浸漬槽は還流管を介して還流槽と通じる。液位計は浸漬槽中に設置され、さらに制御ユニットと電気的に接続され、液位計は薬液の液位高さを測定して制御ユニットに伝送する。還流弁は、少なくとも１つの還流管に取り付けられる。補液循環構造は、少なくとも１つの補液管と、少なくとも１つの補液管に取り付けられる補液弁と、還流槽と通じる第１送水ポンプとを含み、補液管は浸漬槽および第１送水ポンプの間に接続され、第１送水ポンプは制御ユニットと電気的に接続される。
【０００７】
既知技術と比較して、本考案の湿式工程に用いる薬液補充還流装置は制御ユニットおよび補液循環構造が設置され、さらに浸漬槽に液位計が設置され、補液循環構造は補液管、補液弁および第１送水ポンプを含む。また、制御ユニットは浸漬槽中の薬液の液位高さを取得することにより、補液弁および第１送水ポンプの動作を制御することができる。これにより、薬液の液位高さが所定より低いとき、制御ユニットは第１送水ポンプを作動させ、補液弁を開放するように制御することにより、還流槽中の薬液を加圧して浸漬槽に送り返す。これにより浸漬槽中の薬液高さを精確に制御し、良好な湿式工程を保持する目的を達成し、本考案の実用性を高める。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、本考案の湿式工程に用いる薬液補充還流装置の平面概要図である。
【図２】図２は、本考案の補液循環構造の使用概要図である。
【図３】図３は、本考案の補液循環構造の使用概要図である。
【図４】図４は、本考案の湿式工程に用いる薬液補充還流装置の使用概要図である。
【考案を実施するための形態】
【０００９】
本考案に関する詳細な説明および技術内容について、図を組み合わせて以下のように説明する。しかしながら添付の図は参考および説明用に提供したに過ぎず、本考案を制限するものではない。
【００１０】
図１から図３を参照されたい。図１から図３は、それぞれ本考案の湿式工程に用いる薬液補充還流装置の平面概要図および補液循環構造の２つの使用概要図である。本考案の湿式工程に用いる薬液補充還流装置１は、制御ユニット１０、本体２０、液位計３０、少なくとも１つの還流弁４０および補液循環構造５０を含む。該液位計３０、該還流弁４０および該補液循環構造５０は該本体２０に取り付けられ、該液位計３０が測定した液位信号は該制御ユニット１０に伝達され、該制御ユニット１０は該補液循環構造５０の動作を制御することができ、これにより該薬液補充還流装置１を構成する。該薬液補充還流装置１の構造を以下にさらに詳細に記載する。
【００１１】
図１に示すように、該本体２０は浸漬槽２１、還流槽２２および複数の還流管２３を含み、該浸漬槽２１は該還流管２３を介して該還流槽２２と通じる。
【００１２】
該液位計３０は該浸漬槽２１中に設置され、さらに該制御ユニット１０と電気的に接続され、該液位計３０は該浸漬槽２１中の薬液の液位高さを測定し、該信号を該制御ユニット１０に伝送する。好ましくは、該薬液補充還流装置１はさらに別の液位計３１を含み、該２つの液位計３０、３１は該浸漬槽２１の相対する２つの側面に設置され、それぞれ該浸漬槽２１中の２側における薬液の高さを取得する。
【００１３】
該還流弁４０は、少なくとも１つの還流管２３に取り付けられる。好ましくは、該還流弁４０は該制御ユニット１０と電気的に接続され、該制御ユニット１０は該浸漬槽２１中の薬液の液位高さを取得することにより、該還流弁４０の開閉を制御することができる。
【００１４】
図２に示すように、該補液循環構造５０は少なくとも１つの補液管５１と、該少なくとも１つの補液管５１に取り付けられる補液弁５２と、該還流槽２２と通じる第１送水ポンプ５３とを含む。該補液管５１は該浸漬槽２１および該第１送水ポンプ５３の間に接続され、該第１送水ポンプ５３は該制御ユニット１０と電気的に接続される。好ましくは、該補液弁５２を該本体２０の外側に設置し、薬液中に浸漬して腐食または損壊する状況が生じるのを防止する。
【００１５】
実際に使用するとき、該制御ユニット１０は該浸漬槽２１中の薬液の液位高さを取得することにより、該補液弁５２の開閉および該第１送水ポンプ５３の動作を制御することができる。薬液の液位高さが所定より低いとき、該制御ユニット１０は該第１送水ポンプ５３を作動させ、該補液弁５２を開放するように制御することにより、該還流槽２２中の薬液を加圧して該補液管５１に送り、続けて該浸漬槽２１に還流させる。
【００１６】
このほか、該補液循環構造５０は、さらに循環管５４と、該循環管５４に取り付けられる循環弁５５とを含む。該循環管５４は、第１送水ポンプ５３および該還流槽２２の間に接続される。好ましくは、該循環弁５５は該制御ユニット１０と電気的に接続され、該制御ユニット１０は該循環弁５５の開放を制御し、さらには該還流槽２２に対して循環作用を行うことができる。
【００１７】
さらに、該薬液補充還流装置１はさらに拡散ケース６０を含む。該拡散ケース６０は該浸漬槽２１中に設置され、該補液管５１の開口を対応して覆う。具体的に、該拡散ケース６０は複数の側板６１およびカバー板６２を含み、該側板６１に複数の拡散孔（図示せず）が設けられる。これにより、該薬液が該補液管５１から該浸漬槽２１に還流されるとき、先に該拡散ケース６０に流入してから、側面の該拡散孔を通って該浸漬槽２１に流出し、これにより噴出する圧力が過度に高いために、還流した薬液に空気が混入するのを防止する。このほか、該カバー板６２の設置も薬液が直接基板に噴出され、さらには工程の歩留まり率に影響を及ぼすのを防止することができる。
【００１８】
本実施例において、該薬液補充還流装置１はさらに複数のノズル７０と、該ノズル７０と接続される連通管７１と、第２送水ポンプ７２とを含む。該ノズル７０は、該浸漬槽２１に設置される。該第２送水ポンプ７２は該本体２０外に設置され、該連通管７１および該還流槽２２と接続される。これにより、該第２送水ポンプ７２は該還流槽２２を加圧して該連通管７１に送り、さらに該ノズル７０を介して該浸漬槽２１に流入させることができる。
【００１９】
説明する必要があることとして、本考案の一実施例において、該少なくとも１つの還流弁４０は該本体２０の外側に設置され、該還流弁４０が取り付けられる還流管２３は該本体２０外に屈曲して延伸し、該還流弁４０と接続される。また、該還流弁４０を該本体２０の外側に設置し、薬液中に浸漬して腐食または損壊する状況が生じるのを防止することができる。
【００２０】
ほかに図４を参照されたい。図４は、本考案の湿式工程に用いる薬液補充還流装置の使用概要図である。図に示すように、実際に使用するとき、該本体２０に輸送構造（図示せず）が取り付けられ、基板２を輸送構造上に位置させると、該浸漬槽２１中に浸漬され、同時に該輸送構造の輸送に伴い、該ノズル７０から噴出される薬液を受け、基板２の湿式工程が行われる。
【００２１】
注意すべきこととして、該薬液の水位高さが所定より低いとき、一時的に該還流弁４０の開放度を調整することができる。例えば弁口を縮小さらには閉鎖することにより、噴出液の流量を還流する薬液の流量より多くし、このようにして薬液の槽中の水位をより精確に制御することができる。
【００２２】
さらに、本考案は制御装置１０により噴出液および還流する薬液間の比率関係を調整して、浸漬槽２１の液面を一定に制御することもできる。同様に、本考案の薬液補充還流装置１は還流槽２２中に液位計を追加することもでき、これにより還流槽２２中の薬液の液位高さを検出する。
【００２３】
以上の記載は本考案の好ましい実施例に過ぎず、本考案の実用新案登録請求の範囲を決めるものではない。その他の本考案の趣旨を利用して同等に変化させたものは、いずれも本考案の実用新案登録請求の範囲に属すべきである。
【符号の説明】
【００２４】
１    薬液補充還流装置
２    基板
１０  制御ユニット
２０  本体
２１  浸漬槽
２２  還流槽
２３  還流管
３０  液位計
３１  液位計
４０  還流弁
５０  補液循環構造
５１  補液管
５２  補液弁
５３  第１送水ポンプ
５４  循環管
５５  循環弁
６０  拡散ケース
６１  側板
６２  カバー板
７０  ノズル
７１  連通管
７２  第２送水ポンプ
【図１】
0003220344.tif 000003
【図２】
0003220344.tif 000004
【図３】
0003220344.tif 000005
【図４】
0003220344.tif 000006