Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月5日(2013.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して露光光を基板上に照射することによって、前記基板を露光する露光装置に備えられるノズル部材であって、
液体供給口と、
液体回収口と、
前記液体供給口よりも上方に配置された吸引口と、
前記投影光学系の像面側に配置された前記基板の表面が対向するように、かつ前記基板の表面との距離が、前記投影光学系の端面と前記基板の表面との距離よりも小さくなるように配置される下面と、を有し、
前記液体供給口は、前記投影光学系の光軸に垂直な方向に液体を供給し、
前記液体回収口が、前記下面に設けられているノズル部材。
【請求項２】
前記下面は、前記投影光学系の端面を囲むように配置される請求項１記載のノズル部材。
【請求項３】
凹部を有し、
前記下面が、前記凹部の周囲に設けられている請求項１又は２記載のノズル部材。
【請求項４】
前記凹部は、前記投影光学系の像面側に配置された前記基板の表面が対向する面を有する請求項３記載のノズル部材。
【請求項５】
前記凹部の前記面は、前記投影光学系の光軸に垂直な面と平行に配置される請求項４記載のノズル部材。
【請求項６】
前記凹部の前記面に、前記吸引口が設けられている請求項４又は５記載のノズル部材。
【請求項７】
前記液体供給口は、前記凹部の壁部に設けられている請求項３〜６のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項８】
前記液体供給口とは別に、前記投影光学系の像面側に配置された前記基板の表面に向かって下向きに液体を供給する液体供給口を有する請求項１〜７のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項９】
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な穴部を有する請求項１〜８のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項１０】
前記液体回収口は、前記投影光学系の投影領域を囲むように形成されている請求項１〜９のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項１１】
前記液体回収口は、前記液体供給口を囲むように形成されている請求項１〜１０のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項１２】
前記液体回収口は多孔部材を介して液体回収を行う請求項１〜１１のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項１３】
前記液体回収が、第１の多孔部材と第２の多孔部材とを介して行われる請求項１２記載のノズル部材。
【請求項１４】
前記液体回収口に接続された環状流路と、
前記環状流路に接続されたマニホールド流路と、を有する請求項１〜１３のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項１５】
前記吸引口は、液体を吸引可能である請求項１〜１４のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項１６】
前記吸引口は、気体を吸引可能である請求項１〜１５のいずれか一項記載のノズル部材。
【請求項１７】
基板上の一部に形成された液浸領域の液体と投影光学系とを介して露光光を前記基板上に照射することによって、前記基板を露光する露光装置に備えられるノズル部材であって、
液体供給口と、
前記液体供給口から供給された液体を回収する液体回収口と、
前記液体回収口から回収された液体が流れる回収流路と、を備え、
前記液体回収口から回収された液体が、第１多孔部材と第第２多孔部材を介して前記回収流路に流れるノズル部材。
【請求項１８】
前記多孔部材は、メッシュ部材を含む請求項１７に記載のノズル部材。
【請求項１９】
前記第１多孔部材と前記第２多孔部材には、それぞれ同形状の孔が複数形成されており、それぞれの孔の位置がずれるように、前記第１多孔部材と第２多孔部材とが重ねて前記液体回収口に配置されている請求項１７又は１８記載のノズル部材。
【請求項２０】
前記第１多孔部材に形成されている孔は、前記第２多孔部材に形成されている孔とは大きさが異なる請求項１７又は１８に記載のノズル部材。
【請求項２１】
投影光学系と、
請求項１〜２０のいずれか一項に記載のノズル部材とを備え、
前記ノズル部材を用いて前記基板上の一部に液浸領域を形成するとともに、前記液浸領域の液体を介して前記投影光学系からの露光光を前記基板に照射する露光装置。
【請求項２２】
前記ノズル部材は、環状の部材であり、
前記投影光学系の終端部の光学素子を囲むように配置される請求項２１記載の露光装置。
【請求項２３】
前記ノズル部材と前記光学素子との間隙に配置されたシール部材を備える請求項２２記載の露光装置。
【請求項２４】
前記ノズル部材の液体回収口から回収された液体と気体とを分離する気液分離器をさらに備える請求項２１〜２３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２５】
前記基板を基板ホルダに保持する基板ステージを備え、
前記基板ステージは、前記基板ホルダに保持された前記基板の表面と面一の上面を有する請求項２１〜２４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２６】
前記基板ステージの前記上面は、前記基板ホルダに保持された前記基板を囲むように設けられた平坦部を含む請求項２５記載の露光装置。
【請求項２７】
前記基板ステージの前記上面は、撥液性の領域を含む請求項２５又は２６記載の露光装置。
【請求項２８】
前記基板ステージの前記撥液性の領域の前記液体との接触角は、９０〜１３０度である請求項２７記載の露光装置。
【請求項２９】
前記基板ステージの前記撥液性の領域は、撥液性材料を塗布する、あるいは撥液性材料の薄膜を貼付する撥液化処理によって形成される請求項２７又は２８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３０】
請求項２１〜請求項２９のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項３１】
請求項１〜２０のいずれか一項記載のノズル部材を用いて、基板上の一部に液浸領域を形成することと、
前記液浸領域の液体を介して投影光学系からの露光光を前記基板に照射することと、
を含む露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ノズル部材、露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月9日(2013.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液浸部材、液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して基板を露光する液浸露光装置で用いられる液浸部材であって、
液体回収部を有する第１液浸部材と、
可動物体が対向可能な第１面、及び該第１面と反対側の第２面を有するプレートを有する第２液浸部材と、を備え、
前記液体回収部は、前記第２面の一部と第１ギャップを介して対向し、前記第１ギャップ内の液体を回収可能である液浸部材。
【請求項２】
前記液体回収部は多孔部材を含み、
前記多孔部材に接触した液体の少なくとも一部を前記多孔部材を介して回収する請求項１記載の液浸部材。
【請求項３】
前記多孔部材は、気体の通過が抑制されている請求項２記載の液浸部材。
【請求項４】
前記第１液浸部材と前記第２液浸部材との間に形成される第１開口部と、露光光の光路に対して前記第１開口部の外側に設けられた第２開口部とを備え、
前記第１ギャップは、前記第２開口部を介して開放されている請求項１〜３のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５】
前記第２開口部と前記可動物体との距離は、前記第１開口部と前記可動物体との距離より大きい請求項４記載の液浸部材。
【請求項６】
前記第２開口部は、前記可動物体に面していない請求項４又は５記載の液浸部材。
【請求項７】
露光光が通過可能な開口を有する第３液浸部材をさらに備える請求項１〜６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項８】
前記第１液浸部材と前記第３液浸部材との間に、前記可動物体と対向するように形成された第３開口部をさらに備える請求項７記載の液浸部材。
【請求項９】
前記第１液浸部材と前記第３液浸部材との間に設けられた第２ギャップと、
前記第３開口部とは異なる第４開口部とを備え、
前記第２ギャップは、前記第３開口部に接続され、前記第４開口部を介して大気開放されている請求項８記載の液浸部材。
【請求項１０】
前記第３液浸部材は、前記開口の周囲に下面を有し、
前記可動物体と前記第１面との距離は、前記可動物体と前記第３液浸部材の前記下面との距離より小さい請求項７〜９のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１１】
前記第１ギャップは、毛管路を形成する請求項１〜１０のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１２】
前記第１面は、露光光の光路を囲むように配置されている請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１３】
前記第１面の少なくとも一部は、前記露光光の光路から離れる方向において、前記第１面と対向する前記可動物体の表面から徐々に離れる傾斜部を有する請求項１〜１２のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１４】
前記第２面は、前記第１面に対して傾いた傾斜部を含む請求項１〜１３のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１５】
前記第２面は、前記第１面に対して傾いた傾斜部と、前記第１面と実質的に平行な平坦部とを含む請求項１〜１３のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１６】
前記傾斜部は、前記露光光の光路から離れる方向において、前記第１面と対向する前記可動物体の表面から徐々に離れる請求項１４又は１５記載の液浸部材。
【請求項１７】
前記第２面は、前記液体に対して親液性である請求項１〜１６のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１８】
前記第１面は、前記液体に対して撥液性である請求項１〜１７のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１９】
基板を露光する液浸露光装置であって、
露光光を射出する射出面を有する光学部材と、
前記光学部材と前記光学部材の射出面と対向する位置に移動可能な前記可動物体との間に液体の液浸空間を形成する請求項１〜１８のいずれか一項記載の液浸部材と、を備える液浸露光装置。
【請求項２０】
前記可動物体は、前記基板を含み、
前記基板上の前記液体を介して前記露光光が前記基板に照射される請求項１９記載の液浸露光装置。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２２】
基板を露光する液浸露光方法であって、
請求項１〜１７のいずれか一項記載の液浸部材を用いて、露光光を射出する光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、
前記液浸空間の液体を介して前記光学部材からの露光光で前記基板を露光する液浸露光方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月2日(2013.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の第１の導電層と、
前記第１の導電層上方の第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上方の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上方の第２の導電層と、
前記酸化物半導体層上方の第３の導電層と、
前記第１の絶縁層上方の第４の導電層と、
前記第４の導電層上方の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上方の第５の導電層と、を有し、
前記第１の導電層は、トランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記酸化物半導体層は、前記トランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第２の導電層は、前記トランジスタのソース電極又は前記トランジスタのドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第３の導電層は、前記トランジスタのソース電極又は前記トランジスタのドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第４の導電層は、容量素子の第１の電極として機能する領域を有し、
前記第４の導電層は、透光性を有し、
前記第５の導電層は、画素電極として機能する領域を有し、
前記第５の導電層は、前記容量素子の第２の電極として機能する領域を有し、
前記第５の導電層は、前記第４の導電層と重なる領域を有し、
前記第５の導電層は、透光性を有し、
前記第５の導電層は、前記第２の導電層と電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第４の導電層又は前記第５の導電層の一方は、前記第４の導電層又は前記第５の導電層の他方と同じ材料を有することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第４の導電層は、前記第２の導電層と重ならない領域を有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月3日(2013.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して基板を露光する露光装置において、
前記投影光学系の複数の光学素子のうち前記投影光学系の像面に最も近い光学素子の近傍に配置され、前記液浸領域を形成するための液体を供給する供給口及び前記液体を回収する回収口の少なくとも一方を有するノズル部材と、
前記ノズル部材を超音波洗浄する洗浄装置と、を備える露光装置。
【請求項２】
前記洗浄装置は、前記ノズル部材に配置された超音波振動子を含む請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記洗浄装置は、前記ノズル部材を超音波振動させて、前記ノズル部材を超音波洗浄する請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記洗浄装置は、前記供給口の近傍、及び前記供給口に接続する前記ノズル部材の内部に形成された供給流路の少なくとも一方に付着した汚染物を除去する請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記洗浄装置は、前記回収口の近傍、及び前記回収口に接続する前記ノズル部材の内部に形成された回収流路の少なくとも一方に付着した汚染物を除去する請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記ノズル部材は、前記回収口に配置された多孔部材を介して前記液体を回収し、
前記洗浄装置は、前記多孔部材に付着した汚染物を除去する請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記洗浄装置は、前記投影光学系と前記投影光学系の像面側で移動可能な可動部材との間の空間が液体で満たされた状態で、前記ノズル部材を超音波洗浄する請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
液体を供給する液体供給機構と、
液体を回収する液体回収機構と、を備え、
前記液体供給機構及び前記液体回収機構を使って液体の供給及び回収を行いながら、前記超音波洗浄する請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記超音波洗浄するときに前記空間に供給される液体は、前記基板を露光するときに前記基板に供給される液体である請求項７又は８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記超音波洗浄するときに前記空間に供給される液体は、過酸化水素水を含む請求項７又は８に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記超音波洗浄するときに前記空間に供給される液体は、アルコールを含む請求項７又は８に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記洗浄装置は、前記基板の交換時、及びロット間の少なくとも一方において前記超音波洗浄する請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記洗浄装置は、前記ノズル部材に紫外光を照射する照射装置を含む請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項１５】
投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置内において、前記投影光学系の複数の光学素子のうち前記投影光学系の像面に最も近い光学素子の近傍に配置されるノズル部材のメンテナンス方法であって、
前記ノズル部材を超音波洗浄することを含むメンテナンス方法。
【請求項１６】
前記ノズル部材に設けられた液体供給口の近傍、及び前記液体供給口に接続する前記ノズル部材の内部に形成された供給流路の少なくとも一方に付着した汚染物を除去することを含む請求項１５に記載のメンテナンス方法。
【請求項１７】
前記ノズル部材に設けられた液体回収口の近傍、及び前記液体回収口に接続する前記ノズル部材の内部に形成された回収流路の少なくとも一方に付着した汚染物を除去することを含む請求項１５又は１６に記載のメンテナンス方法。
【請求項１８】
前記ノズル部材は、前記液体回収口に配置された多孔部材を介して前記液体を回収し、
前記多孔部材に付着した汚染物を除去することを含む請求項１７に記載のメンテナンス方法。
【請求項１９】
前記投影光学系と前記投影光学系の像面側で移動可能な可動部材との間の空間が液体で満たされた状態で、前記ノズル部材を超音波洗浄する請求項１５〜１８のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
【請求項２０】
前記空間への液体の供給及び前記空間からの液体の回収を行いながら、前記超音波洗浄する請求項１９に記載のメンテナンス方法。
【請求項２１】
前記超音波洗浄するときに前記空間に供給される液体は、前記基板を露光するときに前記基板に供給される液体である請求項１９又は２０に記載のメンテナンス方法。
【請求項２２】
前記超音波洗浄するときに前記空間に供給される液体は、過酸化水素水を含む請求項１９又は２０に記載のメンテナンス方法。
【請求項２３】
前記超音波洗浄するときに前記空間に供給される液体は、アルコールを含む請求項１９又は２０に記載のメンテナンス方法。
【請求項２４】
前記基板の交換時、及びロット間の少なくとも一方において前記超音波洗浄する請求項１５〜２３のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
【請求項２５】
前記ノズル部材に紫外光を照射することを含む請求項１５〜２４のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか一項に記載のメンテナンス方法で前記ノズル部材をメンテナンスすることと、
前記ノズル部材により形成された前記液浸領域の液体を介して前記基板を露光することと、を含む露光方法。
【請求項２７】
請求項２６に記載の露光方法で基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光装置のメンテナンス方法、露光方法、及びデバイス製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月11日(2012.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リアクトル及びコンバータ
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コアと、コアに巻回されたコイルと、コアとコイルを有する組立体を収納するケースと、コアおよびコイルをケース内に封止する封止材とを備えるリアクトルであって、
前記ケースとコイルとの間にボビンカバーが存在せず、
前記封止材でコイルとケースとの絶縁を確保し、前記コイルとケースとの間の封止材の厚さが2.5mm以下であるリアクトル。
【請求項２】
前記コアの外周にコイルの端部と当接する絶縁性のつば部を備え、
このつば部により、前記コアがケースに位置合わせされている請求項１に記載のリアクトル。
【請求項３】
前記コイルから露出する前記コアの上面を押えるステーを備え、
このステーにより、前記コアがケースに固定されている請求項１に記載のリアクトル。
【請求項４】
前記コアのうち、コイルで覆われていない箇所をケース内面に接触させてコアをケース内に支持し、
このコアの支持状態において、ケース底面とコイルとの間に所定の絶縁距離が確保できるように、ケースにおけるコアの支持面とケース底面との間隔が設定されている請求項１〜３のいずれか一項に記載のリアクトル。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のリアクトルを備えるコンバータ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月12日(2013.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣｕまたはＣｕ合金からなる導体板と、少なくとも該導体板の半導体素子を搭載する一方面とは反対側の他方面に形成されたＡｌ膜とを備えるリードフレームと、
前記導体板の前記一方面に搭載された半導体素子と、
少なくとも前記半導体素子と前記導体板を封止する封止樹脂と、
前記Ａｌ膜を介して前記導体板と接着される絶縁樹脂シートとを具備することを特徴とするパワーモジュール。
【請求項２】
前記パワーモジュールの前記リードフレームは、前記半導体素子と前記導体板から離れた位置に配置され、導線を介して前記半導体素子と接続されていて、その一部を前記封止樹脂から露出するように、前記導線と共に前記封止樹脂に封止されている、ＣｕまたはＣｕ合金からなるリードをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のパワーモジュール。
【請求項３】
前記導体板の前記他方面が粗化処理されていることを特徴とする、請求項１または２に記載のパワーモジュール。
【請求項４】
前記導体板上に形成された前記Ａｌ膜が粗化処理されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のパワーモジュール。
【請求項５】
前記導体板上に形成された前記Ａｌ膜が化成処理されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のパワーモジュール。
【請求項６】
前記導体板上に形成された前記Ａｌ膜が陽極酸化されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のパワーモジュール。
【請求項７】
前記封止樹脂と前記絶縁樹脂シートの熱伝導率が異なることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のパワーモジュール。
【請求項８】
前記絶縁樹脂シートの熱伝導率が３Ｗ／ｍＫ以上であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載のパワーモジュール。
【請求項９】
前記導体板上に形成された前記Ａｌ膜の膜厚が０．２〜１０μｍであることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載のパワーモジュール。
【請求項１０】
前記Ａｌ膜がめっき法によって形成されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載のパワーモジュール。
【請求項１１】
前記Ａｌ膜がスパッタリング法によって形成されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載のパワーモジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】パワーモジュール
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、パワーモジュールに関し、より具体的には、半導体素子からの熱を放熱する機能を備えたパワーモジュールに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、前記問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、放熱性を維持しながら、絶縁樹脂シートとの密着性を向上させるパワーモジュールを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記する課題を解決するために、本発明に係るパワーモジュールは、例えば特許請求の範囲に記載の構成を採用する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本願は上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば、ＣｕまたはＣｕ合金からなる導体板と、少なくとも該導体板の半導体素子を搭載する一方面とは反対側の他方面に形成されたＡｌ膜とを備えるリードフレームと、前記導体板の前記一方面に搭載された半導体素子と、少なくとも前記半導体素子と前記導体板を封止する封止樹脂と、前記Ａｌ膜を介して前記導体板と接着される絶縁樹脂シートとを具備することを特徴とするパワーモジュールである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
以下、本発明に係るパワーモジュールの実施の形態を、図面を参照して説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月1日(2013.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
一方、不織布、織布等をそのままセパレータとして使用するのではなく、基材として使用し、各種材料を該基材に複合化させて、耐熱性やシャットダウン機能等を付与したセパレータが開示されている。例えば、基材に多孔質フィルムと貼り合わせて複合化したセパレータ、基材にフィラー粒子、樹脂、ゲル状電解質、固体電解質等を含浸・表面塗工することで複合化したセパレータが報告されている（例えば、特許文献８〜１２参照）。特に、アルミナ等のアルミニウム系無機化合物のフィラーを基材の表面に塗工して多孔質層を設けることによって耐熱性を持たせた複合化セパレータが広く検討されている。しかしながら、アルミナ系の無機化合物では、電解液の分解による劣化を誘発することが指摘されている（例えば、非特許文献１〜２参照）。このように、耐熱性、電池特性、電解液の分解の抑制を十分に兼ね備えたものはなかった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の課題は、耐熱性が高く、電池特性に優れ、且つ電解液の分解による電池の劣化を抑制した、リチウム二次電池用セパレータを提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明により、耐熱性が高く、電池特性に優れ、且つ電解液の分解による電池の劣化を抑制した、リチウム二次電池用セパレータを提供することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明者らは、電解液の分解による電池の劣化を抑制したリチウム二次電池用セパレータを提供するために、多孔質層に水酸化マグネシウム及び酸化マグネシウムを含有させた場合に好適な多孔質基材について鋭意検討を行った。その結果、ポリエステル系繊維を含有する不織布を用いることにより、内部抵抗値が低く且つ放電容量維持率も高い、電池特性に優れたリチウム二次電池用セパレータを提供できることを見出した。ポリエステル系繊維を含有する不織布がマグネシウム系無機化合物に好適な理由は定かではないが、より広く検討されているアルミニウムのイオンは三価のイオンであるのに対し、マグネシウムのイオンは二価であることから、極性のあるカルボニル基を有するポリエステル系繊維との相互作用が、アルミニウム系無機化合物とマグネシウム系無機化合部とでは異なっていることが推測される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月21日(2012.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機成分を主体とするゾル溶液を用いて静電紡糸法により無機ナノファイバーを製造する方法であって、
前記ゾル溶液が、反応性の高い金属アルコキシドと、塩触媒とを含有し、
前記塩触媒が、Ｎ−Ｎ結合、Ｎ−Ｏ結合、Ｎ−Ｃ＝Ｎ結合、又はＮ−Ｃ＝Ｓ結合を有するアミン系化合物である
ことを特徴とする、前記製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のゾル溶液を用いて静電紡糸法により無機系ゲル状細繊維を形成した後、熱処理を行った、金属アルコシキシドの未反応のアルコキシ基が残存している無機ナノファイバー。
【請求項３】
請求項１に記載のゾル溶液を用いて静電紡糸法により無機系ゲル状細繊維を形成した後、熱処理を行った、ミクロ孔を有する無機ナノファイバー。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月21日(2013.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動車、好ましくは乗用車の車体構造の枠側部材であって、
それぞれ、一体物として製造された金属製の外枠と最小数の個別の金属シートから製造された、特に好ましくは単一部品として製造された金属製の内枠であり、それらがそれぞれ、ルーフアーチセグメントと車体フロア縦部材セグメントと中央ピラーセグメントとにより区切られる少なくとも１つの開口部を有し、相互に堅固に連結され、連結を介して金属製の外枠と金属製の内枠との間に形成された空間が一体成形プラスチックから構成される補強構造物により強化され、前記補強構造物が、前記２つの枠と共に堅固な金属−プラスチック連結を構成していることを特徴とする、枠側部材。
【請求項２】
前記一体成形プラスチックで使用される成分Ａ）が、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリカーボネート、またはポリアルキレンの群からのプラスチックを含むことを特徴とする、請求項１に記載の枠側部材。
【請求項３】
前記プラスチックの中で使用されるポリアミドが、２．０〜４．０の相対溶液粘度（ｍ−クレゾール中２５℃で測定）を有するナイロン−６（ＰＡ６）もしくはナイロン−６，６（ＰＡ６６）を含むか、または９９．９９〜１０重量部のポリアミドと、少なくとも以下の、
Ｂ）  ０．０１〜５０重量部の以下の群からのさらなる流動性改良剤
Ｂ１）  少なくとも１種のオレフィンと、脂肪族アルコールの少なくとも１種のメタクリレートもしくはアクリレートとから構成され、そのＭＦＩ（メルトフローインデックス）が１００ｇ／１０分以上のコポリマー（そのＭＦＩは、荷重２．１６ｋｇで、１９０℃で測定または定量したものである）、または
Ｂ２）  １〜６００ｍｇＫＯＨ／ｇ−ポリカーボネートのＯＨ価（ＤＩＮ  ５３２４０、パート２による）を有する、高分岐状もしくは超分岐状ポリカーボネート、または
Ｂ３）  ＡｘＢｙタイプの高分岐状もしくは超分岐状ポリエステル（ここで、ｘが少なくとも１．１、ｙが少なくとも２．１である）、または
Ｂ４）  一般式（Ｉ）の低分子量のポリアルキレングリコールエステル（ＰＡＧＥ）
Ｒ−ＣＯＯ−（Ｚ−Ｏ）ｎＯＣ−Ｒ      （Ｉ）
［式中、
Ｒは、１〜２０個の炭素原子を有する分岐状または直鎖状のアルキル基であり、
Ｚは、分岐状または直鎖状のＣ２〜Ｃ１５アルキレン基であり、そして
ｎは、２〜２０の整数である］、または
以下の混合物：Ｂ１）とＢ２）、もしくはＢ２）とＢ３）、もしくはＢ１）とＢ３）、もしくはＢ１）とＢ２）とＢ３）、もしくはＢ１）とＢ４）、もしくはＢ２）とＢ４）、もしくはＢ３）とＢ４）、もしくは成分Ｂ１）〜Ｂ４）の三元混合物、とから構成される混合物を含む
ことを特徴とする、請求項２に記載の枠側部材。
【請求項４】
使用される前記ポリアミドが、直鎖状の高分子鎖および星形構造を有する高分子鎖を含むことを特徴とする、請求項３に記載の枠側部材。
【請求項５】
成分Ｂ）の使用とは無関係に、それらのポリアミドを使用することを特徴とする、請求項４に記載の枠側部材。
【請求項６】
一体成形プラスチックならびに前記金属製の外枠および前記金属製の内枠から製造される前記補強構造物の間の堅固なかみ合い連結が、前記金属製の外枠中および前記金属製の内枠中の穿孔による不連続な連結部位によりさらに増強され、前記熱可塑性プラスチックが、それらを通過し、前記穿孔の表面上に拡がることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の枠側部材。
【請求項７】
その製造に、成分Ａ）および必要に応じてＢ）に加えて、０．００１〜７５重量部の充填剤または補強用材料からの成分Ｃ）をさらに含む成形組成物を使用することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の枠側部材。
【請求項８】
自動車、好ましくは乗用車の車体構造の枠側部材を製造するための方法であって、それぞれ、一体物として製造された金属製の外枠と、最小数の個別の金属シートから製造された、特に好ましくは単一部品として製造された金属製の内枠とを有し、それらがそれぞれ、ルーフアーチセグメントと車体フロア縦部材セグメントと中央ピラーセグメントとにより区切られる少なくとも１つの開口部を有し、相互に堅固に連結され、連結を介して金属製の外枠と金属製の内枠との間に形成された空間が一体成形プラスチックから構成される補強構造物により強化され、前記補強構造物が、前記２つの枠と共に堅固な金属−プラスチック連結を構成し、前記２つの枠構成要素、すなわち前記金属製の外枠および前記金属製の内枠の成形が、それぞれ成形型の中において成形プロセスを介して予め実施されていることを特徴とする、方法。
【請求項９】
自動車、好ましくは乗用車の重量を軽減させるための方法であって、前記車体構造が、一体物として製造された金属製の外枠と一体物として製造された金属製の内枠とをそれぞれ有する枠側部材から構成され、それらがそれぞれ、ルーフアーチセグメントと車体フロア縦部材セグメントと中央ピラーセグメントとにより区切られる少なくとも１つの開口部を有し、相互に堅固に連結され、連結を介して金属製の外枠と金属製の内枠との間に形成された空間が一体成形プラスチックから構成される補強構造物により強化され、前記補強構造物が、前記２つの枠と共に堅固な金属−プラスチック連結を構成していることを特徴とする、方法。
【請求項１０】
自動車、好ましくは乗用車であって、それらの車体構造が、一体物として製造された金属製の外枠と最小数の個別の金属シートから製造された、特に好ましくは単一部品として製造された金属製の内枠とをそれぞれ有する枠側部材から構成され、それらがそれぞれ、ルーフアーチセグメントと車体フロア縦部材セグメントと中央ピラーセグメントとにより区切られる少なくとも１つの開口部を有し、相互に堅固に連結され、連結を介して金属製の外枠と金属製の内枠との間に形成された空間が一体成形プラスチックから構成される補強構造物により強化され、前記補強構造物が、前記２つの枠と共に堅固な金属−プラスチック連結を構成していることを特徴とする、自動車、好ましくは乗用車。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月26日(2012.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ファンを備える空気ダクトと、
前記空気ダクトに接続された中心本体と、
前記ファンの下流に配置された複数の制御翼対であって、該複数の制御翼対の各対は、第１の制御翼と第２の制御翼とを備え、該第１の制御翼と該第２の制御翼とは互いに隣接する、前記複数の制御翼対と、
各制御翼用の個々のサーボ機構と
各制御翼のそれぞれのサーボ機構を介して各制御翼の運動を独立に制御するように構成された飛行制御システムであって、前記複数の制御翼対の各対に対して、前記飛行制御システムは、前記第１の制御翼と該第２の制御翼とを互いに向かって偏向させるように構成されている、前記飛行制御システムと、
を備える、ダクト付きファン航空機。
【請求項２】
請求項１に記載のダクト付きファン航空機において、前記飛行制御システムは、前記制御翼の前縁を同じ方向に偏向させると共に、前記制御翼の前記前縁を互いに向かって偏向させるように、前記複数の制御翼対の各対の２つの制御翼を独立に制御するように構成されている、ダクト付きファン航空機。  
【請求項３】
ダクト付きファン航空機を制御するための方法であって、
前記方法は、前記ダクト付きファン航空機の飛行制御システムを用いて、該ダクト付きファン航空機の複数の制御翼の少なくとも２つの隣接する制御翼の運動を独立に制御する工程を備え、
前記ダクト付きファン航空機は、
ファンを備える空気ダクトと、
前記空気ダクトに接続された中心本体と、
前記ファンの下流に配置された前記複数の制御翼であって、該複数の制御翼は、複数の制御翼対を備え、該制御翼対の各対は、第１の制御翼と第２の制御翼とを備え、該第１の制御翼と該第２の制御翼とは互いに隣接する、前記複数の制御翼と、
前記複数の制御翼の各制御翼用の個々のサーボ機構と、を備え、
前記少なくとも２つの隣接する制御翼の運動を独立に制御する工程は、各制御翼対に対して、前記飛行制御システムを用いて、前記第１の制御翼と該第２の制御翼とを互いに向かって偏向させるように、前記第１の制御翼と前記第２の制御翼のそれぞれのサーボ機構を独立に動作させる工程を備える、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月22日(2012.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）下記一般式（１）で表される化合物〔以下、（ａ）成分という〕４０〜５８質量％、（ｂ）炭素数が１〜６のアルコール〔以下、（ｂ）成分という〕１３〜２０質量％、（ｃ）アルカリ剤〔以下、（ｃ）成分という〕０．００２〜０．５質量％、及び水を含有する界面活性剤組成物。
ＲＯ−〔（ＰＯ）m／（ＥＯ）n〕ＳＯ3Ｍ          （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜２４の炭化水素基であり、ＰＯとＥＯは夫々プロピレンオキシ基とエチレンオキシ基であり、ｍ、ｎはＰＯ又はＥＯの付加モル数を示し、それぞれ０＜ｍ＜５、０＜ｎ≦２０となる数である。Ｍは陽イオンである（但し水素イオンを除く）。ＰＯとＥＯの付加はブロックでもランダムでもよい。）
【請求項２】
水の含有量が４５質量％以下である請求項１記載の界面活性剤組成物。
【請求項３】
（ｃ）成分を、０．０５〜０．３質量％含有する請求項１又は２記載の界面活性剤組成物。
【請求項４】
（ａ）成分が、一般式（１）中のＲが炭素数８〜１６の炭化水素基の化合物である請求項１〜３の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項５】
（ａ）成分が、一般式（１）中のＲが炭素数１２〜１４の炭化水素基の化合物である請求項１〜４の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項６】
（ａ）成分が、天然油脂原料由来のアルコールから誘導された化合物である請求項１〜５の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項７】
（ａ）成分が、一般式（１）中のＲが炭素数８〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基の化合物である請求項１〜６の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項８】
（ａ）成分が、一般式（１）中のＲが１級アルコール由来の炭化水素基の化合物である請求項１〜７の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項９】
（ａ）成分が、一般式（１）中のｍが０．１〜３の化合物である請求項１〜８の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項１０】
（ａ）成分が、一般式（１）中のｎが１〜２０の化合物である請求項１〜９の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項１１】
（ａ）成分が、一般式（１）中のＰＯとＥＯが、ＲＯ−にＰＯ、ＥＯの順でブロック付加した化合物である請求項１〜１０の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項１２】
（ｂ）成分が、エタノールである請求項１〜１１の何れか１項記載の界面活性剤組成物。
【請求項１３】
以下の工程工程（ｉ）〜（iii）を含む、請求項１〜１２の何れか１項記載の界面活性剤組成物の製造方法。
工程（ｉ）：炭素数８〜２４の炭化水素基を有するアルコール１モルに、プロピレンオキサイドを０モル超、５モル未満且つエチレンオキサイドを０モル超、２０モル以下の範囲で付加する工程。
工程（ii）：上記工程（ｉ）で得られたアルコキシレートを硫酸化する工程。
工程（iii）：上記工程（ii）で得られたアルコキシレートの硫酸化物に、該硫酸化物の中和に必要な量よりも多い量の（ｃ）成分と（ｂ）成分と水とを含有する混合物を添加して、前記硫酸化物の中和物である（ａ）成分と、（ｂ）成分と、（ｃ）成分と、水とを含む混合物を得る工程。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月12日(2013.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
近接場光により記録媒体に情報を記録するヘッドジンバルアセンブリであって、
前記記録媒体の表面に沿って延設され、厚さ方向に撓むサスペンションと、
前記サスペンションの先端側に備えられており、前記サスペンションよりも厚さ方向に撓む支持部と、
前記支持部に対向する支持対向部分を有するとともに、前記近接場光の生成に用いられる光束を導入する導光部と、
前記支持部に備えられ、前記支持部の所望部分に前記支持対向部分を位置決めするために用いられる立体構造部とを備え、
前記支持対向部分は、前記サスペンションの長手方向に直交する断面の幅が前記支持部に接触する接触面の幅よりも大きい部分を有することを特徴とするヘッドジンバルアセンブリ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、上記目的を達成するために、以下の手段を提供する。
本発明に係るヘッドジンバルアセンブリは、近接場光により記録媒体に情報を記録するヘッドジンバルアセンブリであって、記録媒体の表面に沿って延設され、厚さ方向に撓むサスペンションと、サスペンションの先端側に備えられており、サスペンションよりも厚さ方向に撓む支持部と、支持部に対向する支持対向部分を有するとともに、近接場光の生成に用いられる光束を導入する導光部と、支持部に備えられ、支持部の所望部分に支持対向部分を位置決めするために用いられる立体構造部とを備え、支持対向部分は、サスペンションの長手方向に直交する断面の幅が支持部に接触する接触面の幅よりも大きい部分を有することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月17日(2013.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文書レイアウトに従い文書群の索引の集合を生成するコンピュータ実装された方法であって、
複数の文書をコンピュータメモリに提供するステップと、
前記提供された文書からレイアウトブロックを抽出するステップと、
コンピュータプロセッサを用いて、前記レイアウトブロックを複数のレイアウトブロッククラスタにクラスタリングするステップと、
前記レイアウトブロッククラスタの各々に対して代表ブロックを計算するステップと、
前記文書のレイアウトブロックおよび前記計算された代表ブロックに基づいて各々の提供された文書に対して文書索引を生成するステップと、
前記生成された文書索引を複数の文書索引クラスタにクラスタリングするステップと、
前記文書索引クラスタの各々に対して代表クラスタ索引を生成するステップと、
前記生成された文書索引、代表ブロック、文書索引クラスタ、および代表クラスタ索引をメモリへ出力するステップと、を含む方法。
【請求項２】
文書索引を生成するステップが、
前記提供された文書内の各レイアウトブロックと各代表ブロックとの類似度を計算するステップと、
前記計算された類似度に基づいて各々の提供された文書に対する文書索引を生成するステップと、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記計算された類似度に基づいて文書索引を生成するステップが、
2011028749.tif 000001
2011028749.tif 000002
のいずれか１つの関数を使用することを含み、
ここで、ｎは文書内のレイアウトブロックの数であり、
ｍは、代表ブロックの数であり、
ｉ＝１〜ｎ、
ｊ＝１〜ｍ、
vijは値のベクトルであって、各値はレイアウトブロックと代表ブロックと間の計算された類似度を表し、
文書索引はｍ個の要素を含むベクトルであって、各要素はｗｊ（ｊ＝１〜ｍ）に等しい、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
文書レイアウトに従い文書群への問い合わせを行なうコンピュータ搭載されたシステムであって、
（ｉ）文書索引の集合と、
代表ブロックの集合と、
文書索引クラスタの集合と、
代表索引の集合と、
文書レイアウトクエリと、
をメモリに受け入れるべく構成されたデータ入力モジュールと、
（ｉｉ）前記文書レイアウトクエリからレイアウトブロックを抽出し、
前記文書レイアウトクエリから抽出されたレイアウトブロックを前記代表ブロックの集合に射影してクエリ索引を生成し、
ランク付け関数を用いて、前記クエリ索引と前記文書索引クラスタの集合内の各代表索引との類似度を計算し、
類似度が最大である代表索引を含む文書索引クラスタを最上位文書索引クラスタとして識別して、
前記ランク付け関数を用いて、前記最上位文書索引クラスタ内の各文書索引と前記クエリ索引との類似度を計算すべく構成された文書クエリモジュールと、
（ｉｉｉ）前記最上位文書索引クラスタ内の各文書索引と前記クエリ索引との間の前記計算された類似度に基づいて上位ｋ個の文書の順序付きリストを保持して、
前記順序付きリストを出力すべく構成された文書ランク付けモジュールと、を含むシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月19日(2013.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】タッチパネル
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する第１基板及び第２基板を有するパネルと、前記第１基板側から異なる波長領域の光を前記パネルに順にまたは並行して供給する複数の光源とを有し、
前記第１基板と前記第２基板の間には、液晶素子、フォトダイオード及び薄膜トランジスタを各々有する複数の画素が設けられており、
前記フォトダイオードが有する島状の半導体膜と、薄膜トランジスタが有する島状の半導体膜とは、前記第２基板上の一の半導体膜をエッチングする工程を経て形成されたタッチパネル。
【請求項２】
対向する第１基板及び第２基板を有するパネルと、前記第１基板側から異なる波長領域の光を前記パネルに順にまたは並行して供給する複数の光源とを有し、
前記第１基板と前記第２基板の間には、液晶素子、フォトダイオード及び薄膜トランジスタを各々有する複数の画素が設けられており、
前記フォトダイオードが有する島状の半導体膜と、薄膜トランジスタが有する島状の半導体膜とは、前記第２基板上の一の半導体膜をエッチングする工程を経て形成されており、
前記第１基板に形成されている遮蔽膜は、前記フォトダイオードと重なっているタッチパネル。
【請求項３】
対向する第１基板及び第２基板を有するパネルと、前記第１基板側から異なる波長領域の光を前記パネルに順にまたは並行して供給する複数の光源とを有し、
前記第１基板と前記第２基板の間には、液晶素子、フォトダイオード及び薄膜トランジスタを各々有する複数の画素が設けられており、
フォトダイオードが有する島状の半導体膜と、薄膜トランジスタが有する島状の半導体膜とは、前記第２基板上の一の半導体膜をエッチングする工程を経て形成されており、
前記フォトダイオード上に形成されている遮蔽膜と、前記薄膜トランジスタが有するゲート電極とは、前記第２基板上の一の導電膜をエッチングすることで形成されているタッチパネル。
【請求項４】
対向する第１基板及び第２基板を有するパネルと、前記第１基板側から光を前記パネルに供給する光源とを有し、
前記第１基板と前記第２基板の間には、液晶素子、フォトダイオード及び薄膜トランジスタを各々有する複数の画素と、異なる波長の光を透過する複数のカラーフィルタと、が設けられており、
前記フォトダイオードが有する島状の半導体膜と、薄膜トランジスタが有する島状の半導体膜とは、前記第２基板上の一の半導体膜をエッチングする工程を経て形成されたタッチパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月17日(2013.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体メモリと、該半導体メモリを制御するメモリコントローラとを有する記憶装置であって、
前記半導体メモリは複数の物理ページを有し、
前記物理ページはデータ部と管理部とを有し、
前記データ部には、固有の論理アドレスを有するデータを、前記管理部には管理データを格納し、
前記メモリコントローラは、スクランブルパターンを生成するスクランブルパターン生成部と、前記スクランブルパターン生成部で生成したスクランブルパターンを用いてスクランブル処理を行うスクランブル処理部と、前記論理アドレスと前記半導体メモリの物理ページのアドレスである物理アドレスとの対応を保持する論理物理アドレス変換テーブルと、前記スクランブルパターン生成部及び前記スクランブル処理部を制御する制御回路とを備え、
前記制御回路は、前記データ部に対しては、前記データ部に固有の論理アドレスを基にして前記スクランブルパターン生成部でスクランブルパターンを生成して、このスクランブルパターンを用いて前記スクランブル処理部でこの論理アドレスに対応するデータ部のデータをスクランブルし、前記管理部に対しては、前記管理部の書き込み先となる物理アドレスを基にして前記スクランブルパターン生成部でスクランブルパターンを生成して、このスクランブルパターンを用いて前記スクランブル処理部で管理データをスクランブルし、前記半導体メモリに対して書き込み読み出しを行うように制御する
ことを特徴とする記憶装置。
【請求項２】
前記半導体メモリが不揮発性メモリであり、
前記物理ページが前記不揮発性メモリの書き込み単位である
ことを特徴とする請求項１に記載の記憶装置。
【請求項３】
前記不揮発性メモリがＮＡＮＤタイプのフラッシュメモリである
ことを特徴とする請求項２に記載の記憶装置。
【請求項４】
前記ＮＡＮＤタイプのフラッシュメモリが多値メモリセルからなる
ことを特徴とする請求項３に記載の記憶装置。
【請求項５】
前記記憶装置が、着脱可能なメモリーカードであることを特徴とする請求項１に記載の記憶装置。
【請求項６】
複数の物理ページを有する半導体メモリに対して書き込み読み出しを行うメモリコントローラであって、
スクランブルパターンを生成するスクランブルパターン生成部と、前記スクランブルパターン生成部で生成したスクランブルパターンを用いてスクランブル処理を行うスクランブル処理部と、前記論理アドレスと前記半導体メモリの物理ページのアドレスである物理アドレスとの対応を保持する論理物理アドレス変換テーブルと、前記スクランブルパターン生成部及び前記スクランブル処理部を制御する制御回路とを備え、
前記物理ページをデータ部と管理部に分けて管理し、
前記データ部には、固有の論理アドレスを有するデータを、前記管理部には管理データを格納し、
前記制御回路は、前記データ部に対しては、前記データ部に固有の論理アドレスを基にして前記スクランブルパターン生成部でスクランブルパターンを生成して、このスクランブルパターンを用いて前記スクランブル処理部でこの論理アドレスに対応するデータ部のデータをスクランブルし、前記管理部に対しては、前記管理部の書き込み先となる物理アドレスを基にして前記スクランブルパターン生成部でスクランブルパターンを生成して、このスクランブルパターンを用いて前記スクランブル処理部で管理データをスクランブルし、前記半導体メモリに対して書き込み読み出しを行うように制御する
ことを特徴とするメモリコントローラ。
【請求項７】
前記半導体メモリが不揮発性メモリであり、
前記物理ページが前記不揮発性メモリの書き込み単位である
ことを特徴とする請求項６に記載のメモリコントローラ。
【請求項８】
前記不揮発性メモリがＮＡＮＤタイプのフラッシュメモリである
ことを特徴とする請求項７に記載のメモリコントローラ。
【請求項９】
前記ＮＡＮＤタイプのフラッシュメモリが多値メモリセルからなる
ことを特徴とする請求項８に記載のメモリコントローラ。