【手続補正書】
【提出日】平成25年4月18日(2013.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板および第２基板を互いに重ね合わせて貼り合せる基板貼り合せ装置であって、
前記第１基板を保持する第１ステージと、
前記第１基板に対向するように前記第２基板を保持し、前記第１ステージに対して移動する第２ステージと、
前記第２ステージの位置を計測する観察部と、
前記第２基板を前記第１基板に対して位置合わせする前に、前記観察部が計測した前記位置に基づいて前記第２ステージの位置を設定し、前記第２基板を前記第１基板に対して位置合わせした後に、前記第２ステージの傾斜量に基づいて補正した重ね合わせ位置で、前記第２基板を前記第１基板に重ね合わせる制御部と
を備える基板貼り合せ装置。
【請求項２】
前記第２ステージは、前記観察部から観察される平行基準マークを有し、前記観察部は、前記平行基準マークまでの距離に基づいて前記第２ステージの位置を計測する請求項１に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記第２基板を前記第１基板に対して位置合わせする前に、前記観察部により計測された前記位置に基づいて前記第２ステージを水平に設定する請求項２に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項４】
前記第２ステージは、前記観察部から観察される複数の平行基準マークを有し、
前記観察部は、前記複数の平行基準マークの各々までの距離および高さの少なくとも一方に基づいて前記第２ステージの位置を計測する請求項１に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記第２基板を前記第１基板に対して位置合わせする前に、前記観察部が計測した前記位置に基づいて、前記複数の平行基準マークの各々までの距離および高さの少なくとも一方が一定になる位置に前記第２ステージの位置を設定する請求項４に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項６】
前記観察部は、前記第１ステージに対して固定された顕微鏡を含み、前記顕微鏡の合焦距離および合焦位置の少なくとも一方に基づいて前記第２ステージの位置を計測する請求項１から５のいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項７】
前記第１ステージに対して固定された第１固定鏡と、前記第２ステージに対して固定された第２固定鏡と、前記第１固定鏡および前記第２固定鏡の相対位置に基づいて前記第１ステージおよび前記第２ステージの相対位置を検出する干渉計とを更に備え、
前記制御部は、前記干渉計の検出結果に基づいて前記相対位置を補正する請求項１から６のいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記干渉計の検出結果を前記傾斜量に応じて補正する請求項７に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記干渉計の検出結果に基づいて補正量を算出し、前記補正量から前記第１ステージおよび前記第２ステージの見かけ上の位置ずれ量を差し引く補正をする請求項８に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記第２ステージが傾くことによって前記第２固定鏡が傾いたことにより生じた見かけ上の位置ずれ量を前記補正量から差し引く請求項９に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記第１基板の表面の中心を通り、前記表面に沿って伸びる軸の周りに前記第２ステージが回転した場合の相対位置のずれ量を前記見かけ上の位置ずれ量とし、前記補正量から差し引く請求項９または請求項１０に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１２】
前記制御部は、前記第２ステージの前記傾斜量に基づいて前記見かけ上の位置ずれ量を算出する請求項９から１１のいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１３】
前記制御部は、前記見かけ上の位置ずれの方向と反対方向に前記第２ステージを移動させて補正する請求項９から１２のいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
【請求項１４】
第１基板および第２基板を互いに重ね合わせて貼り合せる基板貼り合せ方法であって、
前記第１基板を第１ステージに保持する第１保持工程と、
前記第１基板に対向するように前記第２基板を第２ステージに保持する第２保持工程と
前記第２ステージの位置を計測する観察工程と、
前記第２基板を前記第１基板に対して位置合わせする前に、前記観察工程において計測した前記位置に基づいて前記第２ステージの位置を設定する位置設定工程と、
前記第２基板を前記第１基板に対して位置合わせした後に、前記第２ステージの傾斜量に基づいて補正した重ね合わせ位置で、前記第２基板を前記第１基板に重ね合わせる基板重ね合わせ工程と
を備える基板貼り合せ方法。
【請求項１５】
前記観察工程は、前記第２ステージが有する平行基準マークまでの距離に基づいて前記第２ステージの位置を計測する段階を含む請求項１４に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項１６】
前記位置設定工程は、前記第２基板を前記第１基板に対して位置合わせする前に、前記観察工程において計測された前記位置に基づいて前記第２ステージを水平に設定する段階を含む請求項１５に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項１７】
前記観察工程は、前記第２ステージが有する複数の平行基準マークの各々までの距離および高さの少なくとも一方に基づいて前記第２ステージの位置を計測する段階を含む請求項１４に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項１８】
前記位置設定工程は、前記第２基板を前記第１基板に対して位置合わせする前に、前記観察工程において計測した前記位置に基づいて、前記複数の平行基準マークの各々までの距離および高さの少なくとも一方が一定になる位置に前記第２ステージの位置を設定する段階を含む請求項１７に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項１９】
前記観察工程は、前記第１ステージに固定された顕微鏡による、前記第２ステージに対する合焦距離および合焦位置の少なくとも一方に基づいて前記第２ステージの位置を計測する請求項１４から１８のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２０】
前記重ね合わせ工程は、干渉計により、前記第１ステージに対して固定された第１固定鏡と、前記第２ステージに対して固定された第２固定鏡との相対位置に基づいて、前記第１ステージおよび前記第２ステージの相対位置を検出する段階と、
前記干渉計の検出結果に基づいて前記相対位置を補正する段階と
を含む請求項１４から１９のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２１】
前記重ね合わせ工程は、前記干渉計の検出結果を前記傾斜量に応じて前記相対位置を補正する段階を含む請求項２０に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２２】
前記重ね合わせ工程は、前記干渉計の検出結果に基づいて補正量を算出し、前記補正量から前記第１ステージおよび前記第２ステージの見かけ上の位置ずれ量を差し引く補正をする請求項２１に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２３】
前記重ね合わせ工程は、前記第２ステージが傾くことによって前記第２固定鏡が傾いたことにより生じた見かけ上の位置ずれ量を前記補正量から差し引く段階を含む請求項２２に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２４】
前記重ね合わせ工程は、前記第１基板の表面の中心を通り、前記表面に沿って伸びる軸の周りに前記第２ステージが回転した場合の相対位置のずれ量を前記見かけ上の位置ずれ量とし、前記補正量から差し引く請求項２２または請求項２３に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２５】
前記重ね合わせ工程は、前記第２ステージの前記傾斜量に基づいて前記見かけ上の位置ずれ量を算出する段階を含む請求項２２から２４のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２６】
前記重ね合わせ工程は、前記見かけ上の位置ずれの方向と反対方向に前記第２ステージを移動させて補正する請求項２２から２５のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法。
【請求項２７】
請求項１４から１６のいずれか一項に記載の基板貼り合せ方法により基板を貼り合せる段階を含む積層半導体装置製造方法。
【請求項２８】
請求項２７に記載の積層半導体装置製造方法により製造された積層半導体装置。