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【手続補正書】
【提出日】平成25年6月7日(2013.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
併設された複数の操作ハンドルをロックするハンドルロック装置を備えた多極回路遮断器であって、
前記ハンドルロック装置は、前記複数の操作ハンドルの間に設置されてこれらの操作ハンドルを一体に拘束すると共に、前記操作ハンドルに対して移動可能に構成された連結バーと、前記連結バーに固定された第１の固定保持手段と、前記多極回路遮断器のケースに設けられ前記第１の固定保持手段と係合し得る第２の固定保持手段とを備え、
前記第１の固定保持手段と前記第２の固定保持手段とが非係合状態にあるとき、前記連結バーを所定方向へ移動させることにより前記第１の固定保持手段と前記第２の固定保持手段とを係合させて前記複数の操作ハンドルをロックし、
前記第１の固定保持手段と前記第２の固定保持手段とが係合状態にあるとき、前記連結バーを前記所定方向に対する逆方向へ移動させることにより前記第１の固定保持手段と前記第２の固定保持手段との係合を解除して前記複数の操作ハンドルのロックを解除する、ことを特徴とする多極回路遮断器。
【請求項２】
前記連結バーは、その外表面の少なくとも一部分が、前記ロックの解除時と前記ロック時との何れか一方において前記複数の操作ハンドルの外表面の一部分と連続するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の多極回路遮断器。
【請求項３】
前記ハンドルロック装置は、前記操作ハンドルに対する前記連結バーの相対的位置に基づいて、前記操作ハンドルがロック状態にあるか否かを判別可能に構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の多極回路遮断器。
【請求項４】
両端部が前記複数の操作ハンドルの相対向する側面にそれぞれ固定される連結ピンを備え、
前記連結バーは、前記連結ピンにより貫通される連結穴を備え、
前記連結穴は、前記連結ピンに対して前記所定方向及び前記所定方向に対する逆方向に前記連結バーの移動を可能とするように形成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のうちの何れか一項に記載の多極回路遮断器。
【請求項５】
前記連結ピンは、断面形状が長円形状に構成され、
前記連結穴は、断面形状が長円形状の一対の連結穴部と、これらの連結穴部を相互に連結する狭間部とにより構成され、
前記連結バーの前記移動時に伴って、前記連結ピンが前記狭間部を介して一方の前記連結穴部から他方の連結穴部へ移動する、
ことを特徴とする請求項４に記載の多極回路遮断器。
【請求項６】
前記連結バーを貫通してこれに固定される連結ピンを備え、
前記複数の操作ハンドルは、少なくともその互いに対向する側面部に前記連結ピンの両端部にそれぞれ係合するハンドル穴を備え、
前記ハンドル穴は、前記連結ピンに対して前記所定方向及び前記所定方向に対する逆方向に前記連結バーの移動を可能とするように形成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のうちの何れか一項に記載の多極回路遮断器。
【請求項７】
前記連結ピンは、断面形状が長円形状に構成され、
前記ハンドル穴は、断面形状が長円形状の一対の連結穴部と、これらの連結穴部を相互に連結する狭間部とにより構成され、
前記連結バーの前記移動時に伴って、前記連結ピンが前記狭間部を介して一方の前記連結穴部から他方の連結穴部へ移動する、ことを特徴とする請求項６に記載の多極回路遮断器。
【請求項８】
両端部が前記複数の操作ハンドルの相対向する側面にそれぞれ固定される断面が円形状形成された連結ピンと、
前記連結バーの前記操作ハンドルに対向する側面部にそれぞれ形成された回転止部と、
前記それぞれの操作ハンドルの相対向する側面部にそれぞれ形成され、前記それぞれの回転止部と係合する回転止部と、
前記連結バーは、前記連結ピンにより貫通される連結穴を備え、
前記連結穴は、前記連結ピンに対して前記所定方向及び前記所定方向に対する逆方向に前記連結バーの移動を可能とするように形成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のうちの何れか一項に記載の多極回路遮断器。
【請求項９】
前記連結バーに形成された前記回転止部は、突部により構成され、
前記操作ハンドルに形成された回転止部は、前記突部に係合する切欠部により構成されると共に、前記連結バーの前記移動に伴う前記突部のスライドを可能とするように構成されている、
ことを特徴とする請求項８に記載の多極回路遮断器。
【請求項１０】
前記連結バーを貫通してこれに固定される断面が円形状に形成された連結ピンと、
前記それぞれの操作ハンドルの相対向する側面部にそれぞれ形成され、前記連結ピンの両端部とそれぞれ係合するハンドル穴と、
前記連結バーの前記操作ハンドルに対向する側面部にそれぞれ形成された回転止部と、
前記それぞれの操作ハンドルの相対向する側面部にそれぞれ形成され、前記それぞれの回転止部と係合する回転止部と、
を備え、
前記ハンドル穴は、前記連結ピンに対して前記所定方向及び前記所定方向に対する逆方向に前記連結バーの移動を可能とするように形成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のうちの何れか一項に記載の多極回路遮断器。
【請求項１１】
前記連結バーに形成された前記回転止部は、突部により構成され、
前記操作ハンドルに形成された回転止部は、前記突部に係合する切欠部により構成されると共に、前記連結バーの前記移動に伴う前記突部のスライドを可能とするように構成されている、
ことを特徴とする請求項１０に記載の多極回路遮断器。
【請求項１２】
前記連結バーに固定された第１の固定保持手段は、突部により構成され、
前記多極回路遮断器のケースに設けられた前記第２の固定保持手段は、前記突部に係合し得る凹部により構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至１１のうちの何れか一項に記載の多極回路遮断器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月18日(2013.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成式ＬｉＭＰＯ4（ＭはＭｎ、またはＭｎとＭｇ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎから選ばれる一種類以上の元素とを含む）で表わされる化合物を有するリチウムイオン二次電池用正極材料において、
該化合物の一次粒子の形状は、短径が２００ｎｍ以下であり、かつ該一次粒子の長径と短径とのアスペクト比が１.５以上，２００以下であり、
さらに該一次粒子同士が凝集して二次粒子化しており、
該二次粒子は、前記一次粒子同士が、該二次粒子の長径の中心付近を主な密着部分として凝集し、該二次粒子の短径のうちの最大部分と、中心部分の比が１.２以上であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項２】
請求項１に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料において、該密着部分の長さが一次粒子の長径の１／２未満であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項３】
請求項１〜２に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料において、該一次粒子の形状が針状であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項４】
請求項１〜３に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料において、該二次粒子は、該密着部分を起点として、最も近い針状一次粒子の長軸方向の中心軸同士が０度を超える角度をなして凝集しており、二次粒子の短径のうちの最大部分と中心部分の比が１.２以上となることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項５】
請求項１〜４に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料において、該二次粒子は、二次粒子の短軸および長軸方向の中心軸に対してほぼ対象の構造であることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項６】
組成式ＬｉＭＰＯ4（ＭはＭｎ、またはＭｎとＭｇ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎから選ばれる一種類以上の元素とを含む）で表わされる化合物を有するリチウムイオン二次電池用正極材料において、
該化合物の一次粒子形状は、粒子の短径のうちの最大部分の長さが、粒子の中心部分である最小部分の長さの１.２倍以上であり、該粒子中には部分的に、短径が２００ｎｍ以下でありかつ粒子の長径と短径との比であるアスペクト比が１.５−２００である針状構造を含み、
さらに該針状構造は、粒子の短径のうちの最小部分から粒子の端部方向にむけて、最も近い針状構造同士の長軸方向の中心軸同士が０度を超える角度をなして配置されていることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項７】
組成式ＬｉＭＰＯ4（ＭはＭｎ、またはＭｎとＭｇ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎから選ばれる一種類以上の元素とを含む）で表わされる化合物を有するリチウムイオン二次電池用正極材料において、
該化合物は、粒子の短径が２００ｎｍ以下の範囲内であり、かつアスペクト比が１.５−２００である一次粒子が凝集あるいは結合してできた集合体であり、該一次粒子同士が接触あるいは結合している距離が、一次粒子全体の長径の１／２未満の長さであることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項８】
請求項７に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料において、該集合体は一次粒子同士が網目状に凝集していることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項９】
請求項１〜８に記載の一次粒子あるいは二次粒子のうちの一部分を用いることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料。
【請求項１０】
請求項１〜９に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料を用いて作製されるリチウムイオン二次電池用正極活物質。
【請求項１１】
請求項１０に記載のリチウムイオン二次電池用正極活物質を用いて作製されるリチウムイオン二次電池用正極。
【請求項１２】
請求項１１に記載のリチウムイオン二次電池用正極を用いて作製されるリチウムイオン二次電池。
【請求項１３】
請求項１〜１０に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料の製造方法であって、
組成式ＬｉＭＰＯ4（ＭはＭｎ、またはＭｎとＭｇ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎから選ばれる一種類以上の元素とを含む）で表わされる化合物の原料である前駆体を、１１０℃を超える温度に加熱しながら攪拌したエタノールアミンを含む有機溶媒中に拡散させ、
得られた混合後の溶媒をオートクレーブの中に密閉し、１８０℃を超え２２０℃未満の温度で加熱加圧を行うことを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料の製造方法において、該エタノールアミンは、一般式(ＣpＨ2pＯＨ)qＮＨ(3-q)を有し、式中ｐは２〜３、ｑは１〜３の数であり、モノエタノールアミン，ジエタノールアミン，トリエタノールアミンの少なくとも一つを含むことを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料の製造方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載のリチウムイオン二次電池用正極材料の製造方法において、該有機溶媒に界面活性剤を加えることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極材料の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月20日(2013.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンビームを照射するイオンビームカラムと、
上記イオンビームカラムが取り付けられた試料室と、
上記試料室内に配置され、試料を支持する試料ステージと、
上記試料室内に配置され、上記イオンビームカラムから発生されたイオンビームの軌道を変更し、上記試料ステージに支持される試料に照射させる電極部と、
上記電極部を上記試料室内で移動させる電極部移動制御部と、
上記電極部に電圧を供給する電圧供給部と、
を備え、
上記電極部移動制御部が、上記電極部の位置及び傾斜角度を制御し、
上記電極部を、上記イオンビームカラムから見て、上記試料ステージに支持される試料よりも下方に位置させて、イオンビームを上記試料に照射させることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
上記電極部は、平板状の電極を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
上記電極部は、球状の電極を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
上記電極部は、放物曲面形状の電極を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
上記電極部は、多面体の電極を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
上記電極部は、上記イオンビームカラムの近傍に位置する第１の電極部と、上記試料ステージの近傍に位置する第２の電極部とを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
上記電極部に到達する二次イオン又は二次電子を検出する電流計測部と、この電流計測部により計測された二次イオン又は二次電子に基づいて、走査型イオン顕微鏡像を形成する統合コンピュータとを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
電子ビームを上記試料ステージに支持される試料又は上記電極部に照射する走査電子顕微鏡カラムと、この走査電子顕微鏡カラムから照射される電子ビームの走査を制御する電子ビームスキャン制御部とを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
イオンビームを照射するイオンビームカラムと、
上記イオンビームカラムが取り付けられた試料室と、
上記試料室内に配置され、試料を支持する複数の試料ステージと、
上記試料室内に配置された上記複数の試料ステージのうちの一つに配置され、上記イオンビームカラムから発生されたイオンビームの軌道を変更し、上記複数の試料ステージのうちの他のステージに支持される試料に照射させる電極部と、
上記電極部を上記試料室内で移動させる電極部移動制御部と、
上記電極部に電圧を供給する電圧供給部と、
を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の荷電粒子線装置において、
上記電極部移動制御部は、上記電極部の位置及び傾斜角度を制御することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の荷電粒子線装置において、
上記電極部移動制御部は、上記電極部が、上記イオンビームカラムから見て、上記試料ステージに支持される試料よりも下方に位置させて、イオンビームを上記試料に照射させることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１２】
請求項９に記載の荷電粒子線装置において、
電子ビームを上記試料ステージに支持される試料又は上記電極部に照射する走査電子顕微鏡カラムと、この走査電子顕微鏡カラムから照射される電子ビームの走査を制御する電子ビームスキャン制御部とを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１３】
イオンビームカラムが取付けられた試料室内に配置され、電圧が供給される移動可能な電極部の位置及び傾斜角度を制御し、上記電極部を、上記イオンビームカラムから見て、上記試料ステージに支持される試料よりも下方に位置させ、上記電極部により、上記イオンビームカラムから発生されたイオンビームの軌道を変更し、上記イオンビームを上記試料ステージに支持される試料に照射することを特徴とする荷電粒子線照射方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の荷電粒子線照射方法において、
上記イオンビームカラムの近傍に位置する第１の電極部と、上記試料ステージの近傍に位置する第２の電極部とを用いて、上記イオンビームの照射方向を変更することを特徴とする荷電粒子線照射方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の荷電粒子線照射方法において、
上記電極部に到達する二次イオン又は二次電子を電流計測部により検出し、この電流計測部により計測された二次イオン又は二次電子に基づいて、走査型イオン顕微鏡像を形成することを特徴とする荷電粒子線照射方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月25日(2012.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方が透光性を有する一対の基板と、
前記基板間に封入される液体と、
第１色に着色されて前記液体中に分散され、前記基板間に形成される電界に応じて移動する第１粒子と、
前記第１色とは異なる第２色に着色されて前記液体中に分散され、前記第１粒子よりも小さい粒径を有し、前記第１粒子と同極性であり移動開始電圧の異なる第２粒子と、
を備えた画像表示媒体。
【請求項２】
前記第１粒子の移動開始電圧は、前記第２粒子の移動開始電圧よりも大きい請求項１に記載の画像表示媒体。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の画像表示媒体と、
前記基板間に電界を印加する電圧印加部と、
前記第１粒子を前記第２粒子より先に移動させるように前記電圧印加部を制御する制御部と、
を備える画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために請求項１に記載の画像表示媒体は、少なくとも一方が透光性を有する一対の基板と、前記基板間に封入される液体と、第１色に着色されて前記液体中に分散され、前記基板間に形成される電界に応じて移動する第１粒子と、前記第１色とは異なる第２色に着色されて前記液体中に分散され、前記第１粒子よりも小さい粒径を有し、前記第１粒子と同極性であり移動開始電圧の異なる第２粒子と、を備えることを特徴としている。
請求項２に記載の画像表示媒体は、請求項１に記載の画像表示媒体において、前記第１粒子の移動開始電圧は、前記第２粒子の移動開始電圧よりも大きいことを特徴としている。
請求項３に記載の画像表示装置は、請求項１または請求項２に記載の画像表示媒体と、前記基板間に電界を印加する電圧印加部と、  前記第１粒子を前記第２粒子より先に移動させるように前記電圧印加部を制御する制御部と、を備えることを特徴としている。

【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項１に記載の発明によれば、本構成を採用しない場合に比べて混色を抑制したカラー表示ができる、という効果がある。
請求項２に記載の発明によれば、本構成を採用しない場合に比べて混色を抑制したカラー表示ができる、という効果がある。
請求項３に記載の発明によれば、本構成を採用しない場合に比べて混色を抑制したカラー表示ができる、という効果がある。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月4日(2013.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】読取り装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
実施形態によれば、読取り装置は、無線通信部を有する第１券媒体と無線通信を行い第１券媒体から情報を読取る無線リーダーと、２次元コードを有する第２券媒体から２次元コードに応じた情報を読み取る２次元コードリーダーと、を有する読取り装置であって、
開口部を有する本体と、前記開口部の周囲に設けられ、前記第１券媒体と無線通信を行う無線アンテナと、前記開口部を除く本体上面に設けられた導光板に光を入射して発光させる面発光部と、を具備している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信部を有する第１券媒体と無線通信を行い第１券媒体から情報を読取る無線リーダーと、２次元コードを有する第２券媒体から２次元コードに応じた情報を読み取る２次元コードリーダーと、を有する読取り装置において、
開口部を有する本体と、
前記開口部の周囲に設けられ、前記第１券媒体と無線通信を行う無線アンテナと、
前記開口部を除く本体上面に設けられた導光板に光を入射して発光させる面発光部と、
を備える読取り装置。
【請求項２】
前記２次元コードリーダーは、前記開口部を通して前記第２券媒体に光を照射する光源を備え、前記光源から照射された光によって前記２次元コードを撮像する請求項１に記載の読取り装置。
【請求項３】
前記導光板に対向して設けられた光源を更に有し、
前記光源から導光板へ光を出射して前記面発光部を発光する請求項１又は２に記載の読取り装置。
【請求項４】
前記第２券媒体の接近を検知する接近センサを更に有し、
前記２次元コードリーダーは、前記接近センサの検知動作に基づいて、前記光源から照射された光によって前記２次元コードを撮像する請求項２に記載の読取装置。
【請求項５】
前記面発光部は、前記券媒体の読み取り動作に基づいて発光する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の読取り装置。
【請求項６】
前記面発光部は、前記導光板に対向して設けられた光源を有し、
前記光源から前記導光板へ光を照射して前記面発光部を第１の色で発光し、
前記無線リーダ、或いは前記２次元コードリーダによって券媒体の読み取りが行われたことにより前記面発光部を第１の色とは異なる第２の色で発光する請求項１ないし５のいずれか１項に記載の読取装置。
【請求項７】
前記無線リーダー、或いは前記２次元コードリーダーによって読み取られた情報に基づいて所定の情報を媒体に印刷して前記媒体を出力する印字装置を更に備える請求項１ないし６のいずれか１項に記載の読取装置。
【請求項８】
所定の情報は、座席案内に関する情報である請求項７に記載の読取装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月3日(2013.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図８に示されるように、リアルセル用のアレイブロックＢＫ１〜ＢＫ８、冗長セル用のアレイブロックＢＫ０，ＢＫ０’並びにセンスアンプＳＡは、冗長ヒット信号ＲＨＳを受け取るロウデコーダおよびコア制御部により制御される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
ここで、冗長ヒット信号ＲＨＳは、アクセスが冗長線（アレイブロックＢＫ０，ＢＫ０’の冗長ワード線ＷＬrd）に対するものかどうか示す信号であり、例えば、リアルワード線ＷＬrlを冗長ワード線ＷＬrdに置き換える場合に変化する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
図１０は、第１実施例の半導体記憶装置を説明するためのブロック図であり、図９における電力供給源ＰＳＡ，ＰＳＢおよび補助電力供給源ＰＳＳ１を示すものである。なお、参照符号ＶＰＰＡは、バンクＢＮＫＡの電源電圧を示し、また、ＶＰＰＢは、バンクＢＮＫＢの電源電圧を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月23日(2013.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
様々なサブシステムを含む処理システムに関連するコンテキスト情報を決定する工程と、
前記コンテキスト情報に基づいて、前記処理システムに関連した電力状態を第１の電力状態から第２の電力状態に自動的に移行する工程と、
を含み、
前記コンテキスト情報は、外部状況を示し、前記外部状況を複数回観測することにより決定されるユーザ使用パターンに基づく
方法。
【請求項２】
前記ユーザ使用パターンは（ｉ）周辺光（ｉｉ）前記処理システムに関連した動き、（ｉｉｉ）前記処理システムに関連した位置、又は（ｉｖ）遠隔装置に関連した位置の少なくとも１つに関連する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
様々なサブシステムと、
プロセッサと、
（ｉ）装置に関連したコンテキスト情報を評価し、（ｉｉ）前記評価に基づいて、前記装置に関連した電力状態を第１の電力状態から第２の電力状態に移行する電力マネージャと、
を含み、
前記コンテキスト情報は、外部状況を表し、前記外部状況を複数回観測することにより決定されるユーザ使用パターンに基づく
装置。
【請求項４】
前記サブシステムの少なくとも１つは、（ｉ）プロセッサ、（ｉｉ）ハードディスクドライブ、（ｉｉｉ）オーディオサブシステム、（ｉｖ）ディスプレイデバイス、又は（ｖ）通信デバイスの少なくとも１つを含む請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記装置は更に、外部状況を検知するセンサを含む請求項３または４に記載の装置。
【請求項６】
前記センサは、（ｉ）周辺光センサ、（ｉｉ）モーションセンサ及び（ｉｉｉ）位置センサの少なくとも１つを含む請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記電力マネージャは、コンテキストアウェア電力マネージャ拡張部を用いることに適したオペレーティングシステム電力ポリシーマネージャである請求項４から６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
様々なサブシステムを含む処理システムによって実行されるプログラムであって、
当該プログラムは、前記処理システムを、
前記処理システムに関連したコンテキスト情報を決定し、前記コンテキスト情報に基づいて、前記処理システムに関連した電力状態を第１の電力状態から第２の電力状態にユーザの入力動作無しで移行させる電力マネージャ
として機能させ、
前記コンテキスト情報は、外部状況を示し、前記外部状況を複数回観測することにより決定されるユーザ使用パターンに基づく
プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月7日(2013.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向し、前記第１基板に向けて進退可能に移動する可動部を有する第２基板と、
前記第１基板の前記第２基板に対向する面に設けられた第１反射膜と、
前記可動部の前記第１基板に対向する面に設けられ、前記第１反射膜と所定の第１ギャップを介して対向する第２反射膜と、
前記第１基板の前記第２基板に対向する面に設けられた第１電極と、
前記第２基板の前記第１基板に対向する面に設けられ、前記第１電極と所定の第２ギャップを介して対向する第２電極と、
前記第１基板に設けられて、前記第１電極から前記第１基板の外周縁に向かって設けられた第１電極線と、
前記第２基板に設けられて、前記第２電極から前記第２基板の外周縁に向かって設けられた第２電極線と、
前記第２基板に設けられて、前記第１電極線と対向し、前記第２電極と絶縁されて設けられた第１対向電極線と、
前記第１電極線及び前記第１対向電極線を導通する第１導通部と、を備え、
前記第２電極線と前記第１対向電極線とは、第２基板の厚み方向から見る平面視において、前記可動部の中心点を中心とした仮想円の前記中心点を通り、前記仮想円を等角度間隔に分割する方向に形成される
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項２】
請求項１に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記第２基板は、前記可動部を前記第２基板の厚み方向に移動可能に保持する連結保持部を有し、
前記連結保持部には、前記第２電極線及び前記第１対向電極線が形成され、
前記第２電極線及び前記第１対向電極線の前記連結保持部に形成された形成領域における形状は、同一形状に形成される
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記第１基板に設けられて、前記第２電極線と対向し、前記第１電極と絶縁されて設けられた第２対向電極線と、
前記第２電極線及び前記第２対向電極線を導通する第２導通部とを備え、
前記第１電極線と前記第２対向電極線とは、第１基板の厚み方向から見る平面視において、前記第１反射膜の中心点を中心とした仮想円の前記中心点を通り、前記仮想円を等角度間隔に分割する方向に形成される
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターを透過した検査対象光を受光する受光部とを備える
ことを特徴とする光モジュール。
【請求項５】
請求項４に記載の光モジュールと、
前記光モジュールの前記受光部により受光された光に基づいて、前記検査対象光の光特性を分析する分析処理部とを備える
ことを特徴とする光分析装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月6日(2013.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体ケースと、グリップ部と、バッテリ取り付け部と、本体ケースに収納され、固定子及び回転子を有するブラシレスモータと、前記バッテリ取り付け部に取り付けられる第１の基板と、前記回転子に固定される回転軸と、前記回転軸により貫通される第２の基板と、を有する電動工具であって、
前記第２の基板を放射方向に張り出すことによって、配線接続部を形成したことを特徴とする電動工具。
【請求項２】
請求項１記載の電動工具であって、前記回転軸は、第１の軸受け及び第２の軸受けにより回転可能に支持されており、前記第１の軸受けは、前記本体ケースにより保持されており、前記第２の軸受けは、中間区画壁によって保持されていることを特徴とする電動工具。
【請求項３】
本体ケースと、グリップ部と、を有し、
前記本体ケースに収容され、固定子及び回転子を有するブラシレスモータと、
前記グリップ部に設けられるスイッチレバーと、
前記ブラシレスモータの一端側に配置される回路基板と、を有し、
前記回路基板は、前記ブラシレスモータよりも放射方向外側に張り出す配線接続部を有することを特徴とする電動工具。
【請求項４】
請求項３記載の電動工具であって、前記固定子は、固定子鉄心と、電気絶縁部材と、駆動コイルと、を有し、前記回路基板は、前記電気絶縁部材にねじ止めされることを特徴とする電動工具。
【請求項５】
請求項４記載の電動工具であって、前記配線接続部は、前記固定子鉄心よりも放射方向外側に配置されることを特徴とする電動工具。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月4日(2013.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
台金の外周に、ダイヤモンド砥粒とボンド材との焼結からなる砥粒層が周方向にセグメント状に隙間をもって配列形成され、これら砥粒層のセグメント間の上記各隙間にビトリファイドからなるボンド材の焼結からなるボンド層が充填され、研削作用面が周方向において、砥粒層とボンド層とが交互に配列して、連続に形成されたダイヤモンドホイール。
【請求項２】
砥粒層のボンド材がメタルボンド材からなる請求項１に記載のダイヤモンドホイール。
【請求項３】
砥粒層のボンド材がレジンボンド材からなる請求項１に記載のダイヤモンドホイール。
【請求項４】
台金がカップ状である請求項１から３のいずれか一項に記載のダイヤモンドホイール。
【請求項５】
台金の外周がペンシルエッジ状であって、ダイヤモンドホイールが面取り用である請求項１から３のいずれか一項に記載のダイヤモンドホイール。
【請求項６】
台金が円盤状であって、ダイヤモンドホイールがカッティング用である請求項１から３のいずれか一項に記載のダイヤモンドホイール。
【請求項７】
台金がストレート円盤状である請求項１から３のいずれか一項に記載のダイヤモンドホイール。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月8日(2013.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被研磨物を保持する保持機構と、前記保持機構に保持された前記被研磨物を研磨する研磨部材とを備え、前記保持機構に保持された前記被研磨物の被研磨面に前記研磨部材を当接させながら相対移動させて前記被研磨物の研磨加工を行うように構成された研磨装置において、
前記被研磨面と前記研磨部材との当接部に供給される研磨液の流量を計測する流量計と、
プローブ光が照射された前記被研磨面からの反射光を検出する光検出部と、
前記流量計により計測された前記研磨液の流量と前記光検出部に検出された前記反射光の情報とに基づいて、前記当接部に対する前記研磨液の供給状態を判定する供給判定部とを有して構成されることを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記供給判定部は、前記研磨液の供給開始から前記光検出部に検出された前記反射光の光量が所定の設定光量以下に減少するまでの時間が所定の設定時間よりも長い場合に、前記当接部に対する前記研磨液の供給量が不足であると判定することを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
前記供給判定部は、前記研磨液の供給開始前に前記光検出部に検出された前記反射光の光量に対する、前記研磨液が前記当接部に対して供給されたときに前記光検出部に検出された前記反射光の光量の減少量が所定の設定量よりも小さい場合に、前記当接部に対する前記研磨液の供給量が不足であると判定することを特徴とする請求項１または２に記載の研磨装置。
【請求項４】
前記供給判定部は、前記光検出部に検出された前記反射光の光量が所定の基準光量を超えた場合に、前記当接部に対する前記研磨液の供給量が不足であると判定することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項５】
前記供給判定部により前記当接部に対する前記研磨液の供給量が不足であると判定された場合に、前記被研磨物の研磨加工を中止させる制御を行う研磨加工制御部を有して構成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項６】
前記光検出部に検出された前記反射光の情報に基づいて前記研磨加工の終点を検出する終点検出部を有して構成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項７】
前記被研磨面と前記研磨部材との当接部に研磨液を供給する研磨液供給機構を有して構成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項８】
前記被研磨面にプローブ光を照射する照明部を有して構成されることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項９】
前記プローブ光が照射される前記被研磨面の位置に空気流を吹き付けるエアー供給部を有して構成されることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の研磨装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このような目的達成のため、本発明に係る研磨装置は、被研磨物を保持する保持機構と、前記保持機構に保持された前記被研磨物を研磨する研磨部材とを備え、前記保持機構に保持された前記被研磨物の被研磨面に前記研磨部材を当接させながら相対移動させて前記被研磨物の研磨加工を行うように構成された研磨装置において、前記被研磨面と前記研磨部材との当接部に供給される研磨液の流量を計測する流量計と、プローブ光が照射された前記被研磨面からの反射光を検出する光検出部と、前記流量計により計測された前記研磨液の流量と前記光検出部に検出された前記反射光の情報とに基づいて、前記当接部に対する前記研磨液の供給状態を判定する供給判定部とを有して構成される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月8日(2013.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶接作業中のパージを制御する方法であって、該方法は、
軌道溶接機を用いて管状加工部品の隣接する端と端との突き合わせ溶接作業を実行することと、
溶接部位において外径領域または内径領域のいずれかに対してパージガスの流量プロファイルを適用することと
を含み、
該流量プロファイルは、少なくとも、溶接作業を開始する前の第１の流量と、該溶接作業中の第２の流量とを含み、該第２の流量は、該第１の流量より低い、方法。
【請求項２】
前記溶接部位における外径領域または内径領域のいずれかに対してパージガスの流量プロファイルを適用するステップは、溶接作業が終了した後の第３の流量を含み、該第３の流量は、前記第２の流量よりも高い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記流量プロファイルを適用するステップは、電子自動パージ制御を使用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
溶接作業は、パージガスが前記溶接部位に流れるまで自動的に抑止される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記流量プロファイルを適用するステップは、質量流量制御器を使用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
溶接作業中のパージを制御する方法であって、該方法は、
軌道溶接機を用いて管状加工部品の隣接する端と端との突き合わせ溶接作業を実行することと、
溶接部位において外径領域または内径領域のいずれかに対してパージガスの流量プロファイルを適用することと
を含み、
該流量プロファイルは、少なくとも、溶接作業が開始する間の第１の流量と、該溶接作業が終了した後の第２の流量とを含み、該第２の流量は、該第１の流量よりも高い、方法。
【請求項７】
前記溶接部位における外径領域または内径領域のいずれかに対してパージガスの流量プロファイルを適用するステップは、前記溶接作業が開始される前の第３の流量を含み、該第３の流量は、前記第１の流量よりも高い、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記流量プロファイルを適用するステップは、電子自動パージ制御を使用することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
溶接作業は、パージガスが該溶接部位に流れるまで自動的に抑止される、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記流量プロファイルを適用するステップは、質量流量制御器を使用することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
管状加工部品のための溶接システムであって、該溶接システムは、
溶接機電源であって、溶接作業中電源を提供する軌道溶接ヘッドに接続可能である、溶接機電源と、
少なくとも１つのパージガスの自動流量制御と
を含み、
該パージガスの自動流量制御は、パージガス源に接続可能な入口と、軌道溶接ヘッド内で管状加工部品に対する溶接部位の外径領域にパージガス流を提供する出口とを含み、該自動流量制御は、該溶接部位における外径領域または内径領域のいずれかに対してパージガスの流量プロファイルを適用し、
該流量プロファイルは、少なくとも、溶接作業を開始する前の第１の流量と、該溶接作業中の第２の流量とを含み、該第２の流量は、該第１の流量より低い、溶接システム。
【請求項１２】
前記流量プロファイルは、溶接作業が終了した後の第３の流量を含み、該第３の流量は、前記第２の流量よりも高い、請求項１１に記載の溶接システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月13日(2013.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カンゾウ葉部、アシタバ、センブリおよびエンメイソウからなる群より選択される１種または２種以上の抽出物を有効成分として含有することを特徴とするインスリン様成長因子−１（ＩＧＦ−１）発現促進剤。
【請求項２】
カンゾウ葉部、アシタバ、センブリおよびエンメイソウからなる群より選択される１種または２種以上の抽出物を有効成分として含有することを特徴とするインスリン様成長因子−１（ＩＧＦ−１）の発現減少に起因する疾患の予防・治療剤。
【請求項３】
カンゾウ葉部の抽出物を有効成分として含有することを特徴とする育毛剤。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月16日(2013.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
骨髄性白血病に罹患した被験体における化学療法の有効性を高めるための組成物であって、該組成物は、１，１’−[１，４−フェニレン−ビス−（メチレン）]−ビス−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン（ＡＭ３１００）もしくはその薬学的に受容可能な塩、Ｎ−[１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカニル−（１，４−フェニ
レン−ビス−（メチレン）]−２−アミノエチル−２−ピリジン（ＡＭＤ３４６５）もし
くはその薬学的に受容可能な塩、またはＮ１−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イルメチル）−Ｎ１−（５，６，７，８−テトラヒドロキノリン−８−イル）ブタン−１，４−ジアミン（ＡＭＤ１１０７０）もしくはその薬学的に受容可能な塩から選択されるＣＸＣＲ４アンタゴニスト化合物を含み、該化学療法は、白血球を骨髄から末梢血液へと移行させ、該移行は、該移行を実行するのに十分な量の該ＣＸＣＲ４アンタゴニスト化合物を該被験体に投与こと、および少なくとも１つの化学療法剤を該被験体に投与することによるものである、組成物。
【請求項２】
前記ＣＸＣＲ４アンタゴニスト化合物は、体重の０．１μｇ／ｋｇ〜５ｍｇ／ｋｇの投与量範囲で前記被験体に投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
１，１’−[１，４−フェニレン−ビス−（メチレン）]−ビス−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン（ＡＭ３１００）もしくはその薬学的に受容可能な塩、Ｎ−[
１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカニル−（１，４−フェニレン−ビス−（メチレン）]−２−アミノエチル−２−ピリジン（ＡＭＤ３４６５）もしくはその薬学的
に受容可能な塩、またはＮ１−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イルメチル）−Ｎ１−（５，６，７，８−テトラヒドロキノリン−８−イル）ブタン−１，４−ジアミン（ＡＭＤ１１０７０）もしくはその薬学的に受容可能な塩から選択されるＣＸＣＲ４アンタゴニスト化合物の有効量を、骨髄性白血病に罹患した被験体において化学療法の有効性を高めるための単位投薬形態で含む医薬組成物。
【請求項４】
前記化学療法は、カルボプラチン、カルマスチン、クロラムブシル、ダカルバジン、イホスファミド、ロムスチン、メクロレタミン、プロカルバジン、ペントスタチン、（２’−デオキシコホルマイシン）、エトポシド、テニポシド、トポテカン、ビンブラスチン、ビ
ンクリスチン、パクリタキセル、デキサメタゾン、メチルプレドニゾロン、プレドニゾン、オールトランス型レチノイン酸、亜ヒ酸、インターフェロンα、リツキシマブ、ゲムツズマブ・オゾガマイシン、メシル酸イマチニブ、シタラビン、メルファラン、ブスルファン、チオテパ、ブレオマイシン、シスプラチン、シクロホスファミド、シトキサン、ダウノルビシン、ドキソルビシン、イダルビシン、ミトキサントロン、５−アザシチジン、クラドリビン、フルダラビン、ヒドロキシウレア、６−メルカプトプリン、メトトレキサート、および６−チオグアニンからなる群より選択される化学療法剤を使用する、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記化学療法剤は、ミトキサントロン、エトポシドまたはシタラビンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記化学療法剤は、ダウノルビシンである、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記骨髄性白血病は急性骨髄性白血病である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記ＣＸＣＲ４アンタゴニスト化合物は、１，１’−[１，４−フェニレン−ビス−（メ
チレン）]−ビス−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカンまたはその薬学的
に受容可能な塩であり、前記化学療法剤は、ミトキサントロン、エトポシドまたはシタラビンである、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記化学療法剤はシタラビンである、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ＣＸＣＲ４アンタゴニスト化合物は、１，１’−[１，４−フェニレン−ビス−（メ
チレン）]−ビス−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカンである、請求項７
に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ＣＸＣＲ４アンタゴニスト化合物は、１，１’−[１，４−フェニレン−ビス−（メ
チレン）]−ビス−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカンまたはその薬学的
に受容可能な塩であり、前記化学療法剤は、ダウノルビシンである、請求項７に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ＣＸＣＲ４アンタゴニスト化合物は、１，１’−[１，４−フェニレン−ビス−（メ
チレン）]−ビス−１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカンである、請求項１
１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記骨髄性白血病は慢性骨髄性白血病である、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月25日(2013.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
コンピュータに、
画像データを取り込む画像入力機能と、
前記画像入力機能を介して受入した画像データから当該画像データよりも解像度の低い縮小画像データを生成する画像縮小処理機能と、
前記縮小画像データに対して階調変換を行うための入出力関係を規定した第１のルックアップテーブル（以下「第１ＬＵＴ」という。）を格納する第１ＬＵＴ格納機能と、
前記画像データに応じてインクの吐出を行う複数のノズルを有する液体吐出ヘッドにおける各ノズルの液体吐出量をノズル単位で補正するための信号変換の関係を規定した第２のルックアップテーブル（以下、「第２ＬＵＴ」という。）を格納する第２ＬＵＴ格納機能と、
前記各ノズルに対応して割り当てられている前記第２ＬＵＴから、前記縮小画像データの解像度に対応した一定幅の単位で前記縮小画像データの信号値を補正する第３のルックアップテーブル（以下、「第３ＬＵＴ」という。）を生成する第３ＬＵＴ生成機能と、
前記画像縮小処理機能にて生成された前記縮小画像データに対して前記第１ＬＵＴと前記第３ＬＵＴを適用した変換処理を行う画像変換機能と、
前記画像変換機能で得られた変換後の縮小画像データから、当該縮小画像データに対応する画像内容の描画に使用されるインク量の分布を示すインク量分布データを作成するインク量分布データ算出機能と、
前記インク量分布データを解析して、規定値以上のインク量が使用されるか否かを判定する画像解析機能と
を実現させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
複数のノズルを有する液体吐出ヘッドと、
前記液体吐出ヘッドに対して記録媒体を相対移動させる媒体搬送手段と、
入力される画像データに対して、前記第１ＬＵＴ、前記第２ＬＵＴ、及び信号値に対応して単位面積あたりのドットサイズ別比率が定められたハーフトーンテーブルに基づく信号処理を行い、２値又は多値のデータを生成する画像処理手段と、
前記画像処理手段で生成されたデータに基づいて前記液体吐出ヘッドの各ノズルの吐出を制御する吐出制御手段と、
請求項１から１６のいずれか１項に記載のインク使用量評価装置と、
を備えたことを特徴とするインクジェット装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９５】
（第１８態様）：コンピュータに、画像データを取り込む画像入力機能と、前記画像入力機能を介して受入した画像データから当該画像データよりも解像度の低い縮小画像データを生成する画像縮小処理機能と、前記縮小画像データに対して階調変換を行うための入出力関係を規定した第１のルックアップテーブル（以下「第１ＬＵＴ」という。）を格納する第１ＬＵＴ格納機能と、前記画像データに応じてインクの吐出を行う複数のノズルを有する液体吐出ヘッドにおける各ノズルの液体吐出量をノズル単位で補正するための信号変換の関係を規定した第２のルックアップテーブル（以下、「第２ＬＵＴ」という。）を格納する第２ＬＵＴ格納機能と、前記各ノズルに対応して割り当てられている前記第２ＬＵＴから、前記縮小画像データの解像度に対応した一定幅の単位で前記縮小画像データの信号値を補正する第３のルックアップテーブル（以下、「第３ＬＵＴ」という。）を生成する第３ＬＵＴ生成機能と、前記画像縮小処理機能にて生成された前記縮小画像データに対して前記第１ＬＵＴと前記第３ＬＵＴを適用した変換処理を行う画像変換機能と、前記画像変換機能で得られた変換後の縮小画像データから、当該縮小画像データに対応する画像内容の描画に使用されるインク量の分布を示すインク量分布データを作成するインク量分布データ算出機能と、前記インク量分布データを解析して、規定値以上のインク量が使用されるか否かを判定する画像解析機能と、を実現させるためのプログラム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９７】
（第１９態様）：複数のノズルを有する液体吐出ヘッドと、前記液体吐出ヘッドに対して記録媒体を相対移動させる媒体搬送手段と、入力される画像データに対して、前記第１ＬＵＴ、前記第２ＬＵＴ、及び信号値に対応して単位面積あたりのドットサイズ別比率が定められたハーフトーンテーブルに基づく信号処理を行い、２値又は多値のデータを生成する画像処理手段と、前記画像処理手段で生成されたデータに基づいて前記液体吐出ヘッドの各ノズルの吐出を制御する吐出制御手段と、第１態様から第１６態様のいずれか１項に記載のインク使用量評価装置と、を備えたことを特徴とするインクジェット装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月20日(2013.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続走行するアルミニウムウェブの少なくとも一方面を粗面化処理する粗面化処理工程を有し、
前記粗面化処理工程は、
前記アルミニウムウェブにアルカリ溶液を接触させてエッチングするアルカリエッチング処理工程と、
前記エッチングされたアルミニウムウェブを酸性電解液中で電気化学的に粗面化する電解粗面化処理工程と、を備え、
前記電解粗面化処理工程で粗面化処理されたアルミニウムウェブを酸性水溶液中で陽極酸化処理し、前記アルミニウムウェブに陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理工程と、を有する平版印刷版用支持体の製造方法であって、
前記電解粗面化処理工程は、前記酸性電解液を、電解槽と電解液貯留槽との間で、前記酸性電解液の組成濃度調整を行いながら循環使用する循環工程と、前記循環使用されている酸性電解液を濾過して酸性電解液中の固形物を除去する濾過工程と、を備え、
及び／又は前記陽極酸化処理工程では、前記酸性水溶液を、給電槽と酸性液貯留槽との間、及び電解処理槽と前記酸性液貯留槽との間で、前記酸性水溶液の組成濃度調整を行いながら循環使用する循環工程と、前記循環使用されている酸性水溶液を濾過して酸性水溶液中の固形物を除去する濾過工程と、を備える平版印刷版用支持体の製造方法。
【請求項２】
前記電解粗面化処理工程の濾過工程、及び／又は前記陽極酸化処理工程の濾過工程において、１μｍ〜１０μｍの孔径の濾過膜で固形物を除去する請求項１に記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
【請求項３】
前記陽極酸化処理工程において、前記電解処理槽内の前記酸性水溶液中から銅イオンを回収することにより前記酸性水溶液中の銅イオン濃度を減少させる銅イオン除去工程を、さらに備えた請求項１又は２に記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
【請求項４】
前記電解粗面化処理工程の濾過工程において、前記循環使用されている酸性電解液中の固形物濃度を測定する固形物濃度測定工程と、前記測定した固形物濃度に基づいて固形物含有量が２０ｐｐｍ以下になるように前記濾過工程をＯＮ−ＯＦＦ制御する制御工程と、をさらに備えた請求項１から３のいずれか記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
【請求項５】
前記陽極酸化処理工程の濾過工程において、前記循環使用されている酸性水溶液中の固形物濃度を測定する固形物濃度測定工程と、前記測定した固形物濃度に基づいて固形物含有量が２０ｐｐｍ以下になるように前記濾過工程をＯＮ−ＯＦＦ制御する制御工程と、を備えた請求項１から４のいずれか記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
【請求項６】
前記アルミニウムウェブとして使用するアルミニウム材料のアルミ純度が低くなるほど、前記電解粗面化処理工程の濾過工程、及び前記陽極酸化処理工程の濾過工程における前記固形物の除去量を多くする請求項１から５のいずれか記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
【請求項７】
前記アルミニウムウェブはアルミニウム純度が９９．０％以下のアルミニウムで構成される請求項１から６のいずれか記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
【請求項８】
電解粗面化処理装置と陽極酸化処理装置とを有する平版印刷版用支持体の製造装置であって、
前記電解粗面化処理装置は、電解槽と電解液貯留槽との間で酸性電解液を循環使用する循環ラインと、前記循環使用されている酸性電解液を濾過して酸性電解液中の固形物を除去する濾過ラインと、前記酸性電解液の組成濃度を調整する組成濃度調整ラインとを備え、
及び／又は前記陽極酸化処理装置は、給電槽と酸性液貯留槽との間、及び電解処理槽と前記酸性液貯留槽との間で酸性水溶液を循環使用する循環ラインと、前記循環使用されている酸性水溶液を濾過して酸性水溶液中の固形物を除去する濾過ラインと、前記酸性水溶液の組成濃度を調整する調整ラインを備える平版印刷版用支持体の製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の一態様によると、連続走行するアルミニウムウェブの少なくとも一方面を粗面化処理する粗面化処理工程を有し、前記粗面化処理工程は、前記アルミニウムウェブにアルカリ溶液を接触させてエッチングするアルカリエッチング処理工程と、前記エッチングされたアルミニウムウェブを酸性電解液中で電気化学的に粗面化する電解粗面化処理工程と、を備え、前記電解粗面化処理工程で粗面化処理されたアルミニウムウェブを酸性水溶液中で陽極酸化処理し、前記アルミニウムウェブに陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理工程と、を有する平版印刷版用支持体の製造方法であって、前記電解粗面化処理工程は、前記酸性電解液を、電解槽と電解液貯留槽との間で、前記酸性電解液の組成濃度調整を行いながら循環使用する循環工程と、前記循環使用されている酸性電解液を濾過して酸性電解液中の固形物を除去する濾過工程と、を備え、及び／又は前記陽極酸化処理工程では、前記酸性水溶液を、給電槽と酸性液貯留槽との間、及び電解処理槽と前記酸性液貯留槽との間で、前記酸性水溶液の組成濃度調整を行いながら循環使用する循環工程と、前記循環使用されている酸性水溶液を濾過して酸性水溶液中の固形物を除去する濾過工程と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
好ましくは、前記電解粗面化処理工程の濾過工程、及び／又は前記陽極酸化処理工程の濾過工程において、１μｍ〜１０μｍの孔径の濾過膜で固形物を除去する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
イオン除去装置としてイオン交換器を設置することで、酸性電解液中から不要なイオンを除去することができる。イオン交換器は、容器内部にイオンを吸着するイオン交換樹脂を充填したものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
イオン除去装置としてイオン交換器を設置することで、酸性電解液中から不要なイオンを除去することができる。イオン交換器は、容器内部にイオンを吸着するイオン交換樹脂を充填したものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６８】
なお、本実施の形態では、電解粗面化処理及び陽極酸化処理で発生する酸性液中の固形物濾過に濾過助剤を使用しなかったが、濾過助剤を使用してもよい。この場合の濾過助剤としてはアルカリエッチング処理で使用する研磨剤に限定されず、珪藻土やパーライトのような通常の濾過助剤も使用できる。