Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月22日(2012.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）第１のラミネート層、（ｉｉ）第２のラミネート層、（ｉｉｉ）前記第１のラミネート層および前記第２のラミネート層の間に配される芯材、（ｉｖ）前記第１のラミネート層と結合される第１のソルダーマスク層、ならびに（ｖ）前記第２のラミネート層と結合される第２のソルダーマスク層を有する基板と、
前記第１のラミネート層に取り付けられるダイと、
を備え、
前記ダイは、前記ダイの活性側の表面に結合されるインタポーザを有し、
前記表面は、
（ｉ）誘電材料と、
（ｉｉ）前記ダイの電気信号を伝送するボンドパッドと、
を含み、
前記インタポーザは、前記インタポーザの中に形成されたビアを含み、
前記ビアは、前記ボンドパッドに電気的に結合され、前記ダイの前記電気信号をさらに伝送し、
前記ダイおよび前記インタポーザは前記基板の前記芯材の中に埋め込まれる、
装置。
【請求項２】
前記ダイは、シリコンを含み、
前記インタポーザは、シリコンを含み、
前記インタポーザの前記ビアは、シリコン貫通ビア（ＴＳＶ）を含み、
前記ダイの前記誘電材料は、低誘電率材料であって、
前記ダイの前記ボンドパッドは、アルミニウムまたは銅を含み、
前記基板の前記芯材は、樹脂を含み、
前記インタポーザは、金属−金属結合または半田結合を用いて、前記ダイと結合される、
請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ダイは、前記ダイの非活性側を前記第１のラミネート層に結合する接着材を用いて、前記第１のラミネート層に取り付けられ、
前記ダイの前記非活性側は、前記ダイの前記活性側に対向して配される、
請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記インタポーザの前記ビアと電気的に結合され、前記芯材、前記第１のラミネート層および前記第２のラミネート層を介して、前記ダイの前記電気信号をさらに伝送する１以上の配線構造をさらに備える、
請求項１から３の何れか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記１以上の配線構造は、前記インタポーザ上に形成される再分配層を用いて、前記インタポーザの前記ビアと電気的に結合される、
請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記１以上の配線構造は銅を含む、
請求項４または５に記載の装置。
【請求項７】
前記基板は、（ｉ）前記第１のソルダーマスク層の中に配され、（ｉｉ）前記インタポーザの前記ビアと電気的に結合されて、前記ダイの前記電気信号をさらに伝送するボンドパッドをさらに有する、
請求項１から６の何れか１項に記載の装置。
【請求項８】
前記第１のソルダーマスク層の中に配された前記ボンドパッドと結合され、前記ダイの前記電気信号をさらに伝送する半田ボールをさらに備える、
請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記基板は、ボール・グリッド・アレイ（ＢＧＡ）基板を含む、
請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
（ｉ）第１のラミネート層、（ｉｉ）第２のラミネート層、（ｉｉｉ）前記第１のラミネート層および前記第２のラミネート層の間に配される芯材、（ｉｖ）前記第１のラミネート層と結合される第１のソルダーマスク層、ならびに（ｖ）前記第２のラミネート層と結合される第２のソルダーマスク層を有する基板を形成する段階と、
ダイを前記第１のラミネート層に取り付ける段階と
を備え、
前記ダイは、前記ダイの活性側の表面に結合されるインタポーザを有し、
前記表面は、
（ｉ）誘電材料と、
（ｉｉ）前記ダイの電気信号を伝送するボンドパッドと、
を含み、
前記インタポーザは、前記インタポーザの中に形成されたビアを含み、
前記ビアは、前記ボンドパッドに電気的に結合され、前記ダイの前記電気信号をさらに伝送し、
前記ダイおよび前記インタポーザは前記基板の前記芯材の中に埋め込まれる、
方法。
【請求項１１】
前記ダイを作製する段階と、
前記インタポーザを作製する段階と、
前記インタポーザを前記ダイの前記活性側の前記表面に結合する段階と
をさらに有する、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ダイは、シリコンを含み、
前記インタポーザは、シリコンを含み、
前記インタポーザの前記ビアは、シリコン貫通ビア（ＴＳＶ）を含み、
前記ダイの前記誘電材料は、低誘電率材料であって、
前記ダイの前記ボンドパッドは、アルミニウムまたは銅を含み、
前記基板の前記芯材は、樹脂を含み、
前記インタポーザは、金属−金属結合または半田結合を用いて、前記ダイと結合される、
請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ダイは、前記ダイの非活性側を前記第１のラミネート層に結合する接着材を用いて、前記第１のラミネート層に取り付けられ、
前記ダイの前記非活性側は、前記ダイの前記活性側に対向して配される、
請求項１０から１２の何れか１項に記載の方法。
【請求項１４】
１以上の配線構造を形成して、前記インタポーザの前記ビアと電気的に結合して、前記芯材、前記第１のラミネート層および前記第２のラミネート層を介して、前記ダイの前記電気信号をさらに伝送する段階をさらに備える、
請求項１０から１３の何れか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記インタポーザ上に再分配層を形成して、前記１以上の配線構造を前記再分配層を介して前記インタポーザの前記ビアと電気的に結合する段階をさらに備える、
請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記１以上の配線構造は銅を含む、
請求項１４または１５に記載の方法。
【請求項１７】
（ｉ）前記第１のソルダーマスク層の中に配され、（ｉｉ）前記インタポーザの前記ビアと電気的に結合されて、前記ダイの前記電気信号をさらに伝送するボンドパッドを形成する段階をさらに備える、
請求項１０から１６の何れか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記ダイの前記電気信号をさらに伝送する半田ボールを、前記第１のソルダーマスク層の中に配された前記ボンドパッドに結合する段階をさらに備える、
請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記基板は、ボール・グリッド・アレイ（ＢＧＡ）基板を含む、
請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月13日(2013.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の第７の態様による撮像装置は、前記撮像装置の傾斜を測定する傾斜角度測定手段を備え、前記撮像手段は、前記傾斜角度測定手段により測定された前記撮像装置の傾斜の度合いが第３の閾値以上であると判断された場合には、２回の撮影を行わないことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の第８の態様による撮像方法は、屋内と屋外とにおいて異なる制御を必要とする被制御部を備えた撮像装置による撮像方法であって、前記撮像方法は、被写体に光を照射する発光ステップと、前記被写体を撮像する撮像ステップと、前記撮像ステップによって取得した画像データにより屋内であるか屋外であるかを判断する判断ステップと、前記判断ステップによる判断結果によって前記被制御部の制御を変更する制御変更ステップと、を含み、前記撮像ステップでは、前記発光ステップにより前記被写体に光を照射した状態と、前記発光ステップにより前記被写体に光を照射していない状態との２回、前記被写体を撮像し、前記判断ステップでは、前記撮像ステップによって取得された２つの画像データに基づいて屋内であるか屋外であるかを判断する、ことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屋内と屋外とにおいて異なる制御を必要とする被制御部を備えた撮像装置であって、
前記撮像装置は、
被写体に光を照射する発光手段と、
前記被写体を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段によって取得した画像データにより屋内であるか屋外であるかを判断する判断手段と、
前記判断手段による判断結果によって前記被制御部の制御を変更する制御変更手段とを備え、
前記撮像手段は、前記発光手段により前記被写体に光を照射した状態と、前記発光手段により前記被写体に光を照射していない状態との２回、前記被写体を撮像し、
前記判断手段は、前記撮像手段によって取得された２つの画像データに基づいて屋内であるか屋外であるかを判断する、
撮像装置。
【請求項２】
前記判断手段は、前記撮像手段によって取得した２つの画像データの輝度の差分が第１の閾値以上となる範囲の面積が第２の閾値を下回る場合には屋外と判断し、輝度の差分が第１の閾値以上となる範囲の面積が前記第２の閾値以上の場合には屋内と判断することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第１の閾値は、前記発光手段によって照射され、前記被写体によって反射されて前記撮像手段に入射する光の光量に基づいて設定されることを特徴とする、請求項２記載の撮像装置。
【請求項４】
前記第２の閾値は、前記画像データが表す画像において、前記画像の全体に対する、前記被写体に対応する部分の割合に基づいて設定されることを特徴とする、請求項２記載の撮像装置。
【請求項５】
前記制御変更手段は、
前記判断手段により屋内であると判断された場合には前記被制御部の動作を停止する変更を行い、
前記判断手段により屋外であると判断された場合には前記被制御部の動作を起動する変更を行うことを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
ズームレンズを移動することにより焦点距離を変更する焦点距離変更手段を備え、
前記撮像手段により２回撮影を行う場合には、前記焦点距離変更手段により前記ズームレンズの焦点距離をワイド端に変更することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記撮像装置の傾斜を測定する傾斜角度測定手段を備え、
前記撮像手段は、前記傾斜角度測定手段により測定された前記撮像装置の傾斜の度合いが第３の閾値以上であると判断された場合には、２回の撮影を行わないことを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
屋内と屋外とにおいて異なる制御を必要とする被制御部を備えた撮像装置による撮像方法であって、
前記撮像方法は、
被写体に光を照射する発光ステップと、
前記被写体を撮像する撮像ステップと、
前記撮像ステップによって取得した画像データにより屋内であるか屋外であるかを判断する判断ステップと、
前記判断ステップによる判断結果によって前記被制御部の制御を変更する制御変更ステップと、を含み、
前記撮像ステップでは、前記発光ステップにより前記被写体に光を照射した状態と、前記発光ステップにより前記被写体に光を照射していない状態との２回、前記被写体を撮像し、
前記判断ステップでは、前記撮像ステップによって取得された２つの画像データに基づいて屋内であるか屋外であるかを判断する、
撮像方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前群に負、後群に正の焦点距離のレンズを持つレトロフォーカスタイプで軸上の色収差が良好に補正された広角の光学系と、
分光特性の異なる複数種類のカラーフィルタと、
前記光学系および前記カラーフィルタを介して得られる被写体像を撮像する撮像素子と、
前記撮像素子から出力される画像信号を処理する画像処理部と、を有し、
前記画像処理部は、前記カラーフィルタの種類別に前記画像信号の倍率の色収差を補正する処理を行う撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月19日(2013.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−１９１２９８号公報
【特許文献２】特開２００５−２０７７９８号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
受信機２２は、図２に示すように入力端子４６を有している。この入力端子４６が、共同受信システム２または４の端末端子１０ａ乃至１０ｄまたは１６ａ乃至１６ｄに順に接続され、共同受信システム２または４を伝送されたテスト信号を受ける。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
信号検出部５２は、増幅部５０からのテスト信号のレベルを検出するレベル検出部（図示せず）を有し、このレベル検出部からのレベル検出信号を、複数、例えば４つの異なる基準信号とそれぞれ比較器（図示せず）で比較される。これら基準信号は、共同受信システム２、４の入力端子６、１２に供給されたテスト信号が共同受信システム２、４に伝送されて、端末端子１０ａ乃至１０ｄのいずれかまたは端末端子１６ａ乃至１６ｄのいずれかで受信されたときに、レベル検出部のレベル検出信号のレベルが、元のテスト信号（送信機２０から送信されるテスト信号の出力レベル）よりも３０ｄＢ、２０ｄＢ、１０ｄＢ、０ｄＢの伝送損失を受けているのに相当するレベルに設定されている。これら比較器での比較結果に基づいて表示部５４に表示がされる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
上記の両実施形態では、受信機２２、２２ａの信号検出部５２は、増幅部５０の出力のレベルを検出し、そのレベルを異なる基準信号と比較するように構成したが、例えば増幅部５０に自動利得制御回路を設け、その自動利得制御回路において自動利得制御するための自動利得制御信号を異なる値の基準信号と比較するように構成することもできる。また、上記の両実施形態では、受信機２２、２２ａの表示部５４は、４段階に伝送損失を表示するように構成したが、１つ以上の基準信号を使用して、２段階以上の任意の段階で伝送損失を表示することができる。また、表示部５４としてＬＥＤ５４ａ乃至５４ｄを使用したが、これらに代えて、例えば文字や図形を表示することができる１つの液晶表示部を使用することもできる。この場合、第１の実施形態と同様に３０ｄＢ以上の伝送損失、３０乃至２０ｄＢの伝送損失、２０乃至１０ｄＢの伝送損失、１０乃至０ｄＢの伝送損失と文字で表示することもできるし、改修必要、改修不要等の文字を表示することもできる。また、上記の両実施形態では、ＬＥＤ５４ａ乃至５４ｄのうち、識別された伝送損失が該当する伝送損失範囲に対応するＬＥＤのみが点灯したが、逆に識別された伝送損失が該当する伝送損失範囲に対応するＬＥＤのみを消灯させ、他のＬＥＤを点灯させるように構成することもできる。上記の両実施形態では、共同受信システム２、４について診断する場合を示したが、これらに限ったものではなく、他の構成の共同受信システムを診断することもできる。例えば双方向の共同受信システムを診断することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月13日(2013.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラッシュメモリを有するメモリ装置に対してファイルを記録する装置であって、
所定量の動画データ毎に付加情報を多重することによりストリームデータを生成する手段と、
前記メモリ装置に対してディレクトリ用コマンドを発行することにより、前記メモリ装置にランダムにアクセスしてディレクトリデータを書き込むと共に、前記メモリ装置に対してストリーム用コマンドを発行することにより、前記メモリ装置にシーケンシャルにアクセスして前記ストリームデータを含むストリームファイルを書き込む制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記メモリ装置にランダムにアクセスして、前記メモリ装置に記録されたストリームファイルに含まれる付加情報を書き替える場合に、前記ディレクトリ用コマンドを発行することにより前記付加情報を書き替えることを特徴とする記録装置。
【請求項２】
前記付加情報は、前記付加情報から前記ストリームファイルのフッタまでのオフセットの情報を含むことを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
前記制御手段は、動画データの記録停止に応じて、前記ストリームファイルに含まれる付加情報を書き替えることを特徴とする請求項１または２に記載の記録装置。
【請求項４】
前記制御手段は、記録中の前記ストリームファイルのサイズが所定のサイズに達したことに応じて、前記記録中のストリームファイルに含まれる付加情報を書き替えた後に前記記録中のストリームファイルをクローズし、新たにストリームファイルをオープンして前記ストリームデータの記録を続けることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、フラッシュメモリを有するメモリ装置に対してファイルを記録する装置であって、所定量の動画データ毎に付加情報を多重することによりストリームデータを生成する手段と、前記メモリ装置に対してディレクトリ用コマンドを発行することにより、前記メモリ装置にランダムにアクセスしてディレクトリデータを書き込むと共に、前記メモリ装置に対してストリーム用コマンドを発行することにより、前記メモリ装置にシーケンシャルにアクセスして前記ストリームデータを含むストリームファイルを書き込む制御手段とを備え、前記制御手段は、前記メモリ装置にランダムにアクセスして、前記メモリ装置に記録されたストリームファイルに含まれる付加情報を書き替える場合に、前記ディレクトリ用コマンドを発行することにより前記付加情報を書き替える。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自装置のトラフィックを表わす情報を報知する報知部と、
他の基地局装置より報知される前記他の基地局装置のトラフィックを表わす情報を受信する受信部と、
前記他の基地局装置から報知される前記他の基地局装置のトラフィックを表わす情報に基づき、自装置の一部の機能を停止する制御部とを備えた基地局装置。
【請求項２】
基地局装置の制御方法であって、
自装置のトラフィックを表わす情報を報知するステップと、
他の基地局装置より報知される前記他の基地局装置のトラフィックを表わす情報を受信するステップと、
前記他の基地局装置から報知される前記他の基地局装置のトラフィックを表わす情報に基づき、自装置の一部の機能を停止するステップとを備えた基地局装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＯＦＤＭＡ（Orthogonal Frequency Division Multiple Access）方式で通信を行う通信装置であって、アンテナで受信した受信信号を出力する無線部と、
前記無線部に接続されたベースバンド処理部と、
前記ベースバンド処理部に接続され、前記受信信号から干渉電力を排除した信号電力を算出する電力測定処理部と、を備え、
前記ベースバンド処理部は、
前記アンテナに対応して設けられた、前記受信信号にフーリエ変換を施すフーリエ変換部と、前記無線部に接続され１サブチャネルあたりの受信電力の絶対値であるサブチャネル受信電力を算出して出力するサブチャネル受信電力測定部と、前記フーリエ変換部でのフーリエ変換後の受信信号と参照信号との相関値をサブチャネル単位で算出する相関計算部と、
前記相関計算部で算出された前記相関値に基づいて、ＣＩＲ（信号電力対干渉電力比）の値を推定するＣＩＲ推定部と、を備え、
前記ＣＩＲ推定部は、
相関値に対するＣＩＲの値を含んだＣＩＲ情報を予め備え、前記ＣＩＲ情報を使用して入力された前記相関値に対応する前記ＣＩＲの値を算出し、
前記電力測定処理部は、前記ＣＩＲの値と前記サブチャネル受信電力測定部から出力される前記サブチャネル受信電力とに基づいて、前記信号電力を算出する、通信装置。
【請求項２】
ＯＦＤＭＡ（Orthogonal Frequency Division Multiple Access）方式で通信を行う場合の信号電力測定方法であって、
(ａ)アンテナで受信した受信信号にフーリエ変換を施すステップと、
(ｂ)フーリエ変換後の受信信号と参照信号との相関値をサブチャネル単位で算出するステップと、
(ｃ)算出した前記相関値に基づいて、ＣＩＲ（信号電力対干渉電力比）の値を推定するステップと、
(ｄ)前記受信信号の１サブチャネルあたりの受信電力の絶対値であるサブチャネル受信電力を算出するステップと、
(ｅ)前記ＣＩＲの値と前記サブチャネル受信電力とに基づいて、前記受信信号から干渉電力を排除した信号電力を算出するステップと、を備え、
前記ステップ(ｃ)は、
予め準備された相関値に対するＣＩＲの値を含んだＣＩＲ情報を使用して前記相関値に対応する前記ＣＩＲの値を算出するステップを含む、信号電力測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＯＦＤＭ（Orthogonal Frequency Division Multiplexing）方式に基づいてサブキャリアを逆フーリエ変換したシンボル間にガード部分を設けたＯＦＤＭ信号を送信する送信装置であって、
前記シンボルに相当する第１の信号に、前記ガード部分の電力を上昇させるための第２の信号を加算させる電力上昇手段を備えることを特徴とする送信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月18日(2013.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基部と、該基部から第１の方向に延出するとともに、該第１の方向に直交する第２の方向に並んで設けられ、前記第１の方向および前記第２の方向にそれぞれ直交する第３の方向に屈曲振動する複数の振動腕とを備える振動体と、
前記振動体を収納するパッケージと、
前記基部に設けられ、固定材を介して前記振動体を前記パッケージに部分的に固定する固着部と、を有し、
前記固着部は、前記第３の方向から見たときに、前記振動体の重心を通り前記第１の方向に延びる線分上もしくはその近傍に位置していることを特徴とする振動デバイス。
【請求項２】
前記固着部は、前記第３の方向から見たときに、前記振動体の重心近傍に設けられている請求項１に記載の振動デバイス。
【請求項３】
前記振動体は、その重心が前記基部内に位置するように構成されている請求項２に記載の振動デバイス。
【請求項４】
前記基部は、その前記第３の方向での厚さが前記各振動腕の前記第３の方向での厚さよりも大きい部分を有する請求項３に記載の振動デバイス。
【請求項５】
前記固着部は、前記第３の方向から見たときに、その中心が前記振動体の重心と一致するように設けられている請求項２ないし４のいずれかに記載の振動デバイス。
【請求項６】
前記基部は、前記第３の方向を厚さ方向とする板状をなし、前記基部の一方の面には、前記固着部が設けられ、前記基部の他方の面上には、前記各振動腕を振動させるための電圧が印加される１対の電極のうちの少なくとも一方の電極が設けられている請求項５に記載の振動デバイス。
【請求項７】
前記基部の他方の面上に設けられた前記電極は、前記第３の方向から見たときに、前記線分付近に位置するように設けられている請求項６に記載の振動デバイス。
【請求項８】
前記１対の電極は、それぞれ、前記基部の前記他方の面上に設けられている請求項６または７に記載の振動デバイス。
【請求項９】
前記１対の電極は、前記第３の方向から見たときに、前記線分上に沿って並ぶように設けられている請求項８に記載の振動デバイス。
【請求項１０】
前記１対の電極のうち、一方の電極が前記基部の前記一方の面上に設けられ、他方の電極が前記基部の前記他方の面上に設けられ、
前記固定材は、導電性を有し、前記固定材を介して前記他方の電極に通電される請求項６に記載の振動デバイス。
【請求項１１】
前記基部は、前記第３の方向を厚さ方向とする板状をなし、前記基部の一方の面には、前記固着部が設けられているとともに、前記各振動腕を振動させるための電圧が印加される１対の電極が前記第３の方向から見たときに前記線分付近に位置するように設けられ、
前記固定材は、導電性を有し、前記固定材を介して前記１対の電極に通電される請求項２ないし４のいずれかに記載の振動デバイス。
【請求項１２】
前記固着部は、前記第３の方向から見たときに、前記線分を介して対称となるように１対設けられている請求項１１に記載の振動デバイス。
【請求項１３】
前記固着部は、前記第３の方向から見たときに、前記線分上に沿って並ぶように１対設けられている請求項１１に記載の振動デバイス。
【請求項１４】
前記振動体は、３つの前記振動腕を備えており、
前記３つの振動腕は、隣り合う２つの前記振動腕が互いに反対方向に屈曲振動するように構成されている請求項１ないし１３のいずれかに記載の振動デバイス。
【請求項１５】
前記固着部の前記第２の方向での幅は、前記３つの振動腕のうちの外側の２つの振動腕の間の前記第２の方向での離間距離よりも小さい請求項１４に記載の振動デバイス。
【請求項１６】
前記振動体は、前記振動腕上に設けられた第１の電極層と、該第１の電極層上に設けられた圧電体層と、該圧電体層上に設けられた第２の電極層とを備え、前記第１の電極層と前記第２の電極層との間に通電することにより、前記圧電体層を伸縮させて、前記振動腕を振動させる圧電体素子を有する請求項１ないし１５のいずれかに記載の振動デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
［適用例１］
本発明の振動デバイスは、基部と、該基部から第１の方向に延出するとともに、該第１の方向に直交する第２の方向に並んで設けられ、前記第１の方向および前記第２の方向にそれぞれ直交する第３の方向に屈曲振動する複数の振動腕とを備える振動体と、
前記振動体を収納するパッケージと、
前記基部に設けられ、固定材を介して前記振動体を前記パッケージに部分的に固定する固着部と、を有し、
前記固着部は、前記第３の方向から見たときに、前記振動体の重心を通り前記第１の方向に延びる線分上もしくはその近傍に位置していることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［適用例６］
本発明の振動デバイスでは、前記基部は、前記第３の方向を厚さ方向とする板状をなし、前記基部の一方の面には、前記固着部が設けられ、前記基部の他方の面上には、前記各振動腕を振動させるための電圧が印加される１対の電極のうちの少なくとも一方の電極が設けられていることが好ましい。
これにより、１つの固着部で振動体をパッケージに簡単に固定することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
［適用例１１］
本発明の振動デバイスでは、前記基部は、前記第３の方向を厚さ方向とする板状をなし、前記基部の一方の面には、前記固着部が設けられているとともに、前記各振動腕を振動させるための電圧が印加される１対の電極が前記第３の方向から見たときに前記線分付近に位置するように設けられ、
前記固定材は、導電性を有し、前記固定材を介して前記１対の電極に通電されることが好ましい。
これにより、ボンディングワイヤーを用いることなく、１対の電極に通電を行うことができる。そのため、振動デバイスの構成が簡単となる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月22日(2013.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
他の通信機器からの着信時に、当該通信機器を識別する識別子情報を受信する受信部
と、
外部の検索サイトに、検索ワードと当該検索ワードに基づく検索要求とを送信する送信部と、
報知部と、
前記受信部が前記識別子情報を受信した場合、前記送信部に前記検索ワードとして前記識別子情報を送信させ、
前記受信部が前記検索サイトから前記検索要求に基づく検索結果を受信した場合、当該検索結果を前記報知部に報知させる制御部と、
を備える通信機器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月22日(2013.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予めメッセージデータを送信可能な宛先を示すアドレス情報ごとに顔情報を対応付けて記憶する第１記憶手段と、
前記メッセージデータに添付される画像データから顔情報を抽出する抽出手段と、
前記抽出手段により抽出された顔情報と同一人物を示している第１顔情報が前記第１記憶手段に記憶されている場合に、当該第１顔情報に対応付けられている第１アドレス情報を取得する取得手段と、
前記メッセージデータの宛先として、前記取得手段により取得されない第２アドレス情報が指定されており、かつ、前記取得手段により対応するアドレス情報が取得されない第２顔情報が前記抽出手段により前記画像データから抽出された場合に、当該第２顔情報を前記第２アドレス情報に対応付けて前記第１記憶手段に記憶させる制御手段と、
を備えることを特徴とする情報通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月28日(2013.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前記振動片を実装するための振動片実装用パッド、前記振動片実装用パッドと電気的に接続されている第１半導体素子接続用パッド、第２半導体素子用パッド、ならびに前記第２半導体素子用パッドと電気的に接続されている実装用端子が配置されており、
前記第１半導体接続用パッドと前記第２半導体接続用パッドとを電気的に接続する切断用パターンが露出していることを特徴とするベース基板。
【請求項２】
振動片実装用パッド、前記振動片実装用パッドと電気的に接続されている第１半導体素子接続用パッド、第２半導体素子用パッド、前記第２半導体素子用パッドと電気的に接続されている実装用端子、前記第１半導体接続用パッドに電気的に接続している第１の切断用パターン、ならびに前記第２半導体接続用パッドに電気的に接続していると共に前記第１の接続用パターンと間をあけて並んでいる第２の切断用パターンが配置され、かつ前記第１の切断用パターンと前記第２の切断用パターンとの前記間の位置に凹陥部を有しているベース基板と、
前記振動片実装用パッドに実装されている振動片と、
前記第半導体素子接続用パッドおよび前記第２半導体接続用パッドに実装されている半導体素子と、を備えていることを特徴とする電子デバイス。
【請求項３】
前記振動片を実装するための振動片実装用パッド、前記振動片実装用パッドと電気的に接続されている第１半導体素子接続用パッド、第２半導体素子用パッド、ならびに前記第２半導体素子用パッドと電気的に接続されている実装用端子が配置されており、かつ前記第１半導体接続用パッドと前記第２半導体接続用パッドとを電気的に接続している切断用パターンが露出しているベース基板を用意する工程と、
前記振動片実装用パッドに対して振動片を実装する振動片実装工程と、
前記実装用端子を介して前記振動片の発振と共振周波数を測定すると共に、前記共振周波数の調整を行う周波数調整工程と、
前記周波数調整工程後、前記切断用パターンを切断するパターン切断工程と、を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の電子デバイスの製造方法であって、
前記切断工程では、レーザーにより前記切断用パターンを切断することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ベース基板、電子デバイス、および電子デバイスの製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月26日(2013.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動片と半導体素子とを水平方向に並べて実装されているベース基板を備える電子デバイスであって、
前記ベース基板の一方の主面にモニター用電極端子を有し、
前記ベース基板の他方の主面に、
前記振動片を実装するための振動片実装用パッド、
前記振動片実装用パッドと電気的に接続されている第１半導体素子接続用パッド、
前記モニター用電極端子と電気的に接続されている中継パッド、
前記第１半導体素子接続用パッドから延出している第１の切断用パターン、および
前記中継パッドから延出している第２の切断用パターン、を有し、
前記第１の切断用パターンと前記第２の切断用パターンとの間の位置に、前記ベース基板の表面には凹陥部を有することを特徴とする電子デバイス。
【請求項２】
請求項１に記載の電子デバイスであって、
前記中継パッドは、前記半導体素子を実装するための第２半導体素子接続用パッドであり、前記モニター用電極端子は、前記ベース基板の一方の面に形成された実装端子であることを特徴とする電子デバイス。
【請求項３】
一方の面に、モニター用電極端子を有し、他方の面に、振動片実装用パッド、前記振動片実装用パッドと電気的に接続されている第１半導体素子接続用パッド、前記モニター用電極端子と電気的に接続されている中継パッド、および前記第１半導体素子接続用パッドと前記中継パッドとを電気的に接続する切断用パターン、を備えたベース基板を準備する工程、
前記振動片実装用パッドに対して振動片を実装する振動片実装工程、
前記モニター用電極端子を介して前記振動片の発振と共振周波数の調整を行う周波数調整工程、および
前記周波数調整工程後、前記切断用パターンを切断し、前記ベース基板の表面に凹陥部を形成するパターン切断工程、
を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の電子デバイスの製造方法であって、
前記パターン切断工程の後に、前記第１半導体素子接続用パッドに対して半導体素子を実装する半導体素子実装工程、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項５】
請求項３または４に記載の電子デバイスの製造方法であって、
前記半導体素子実装工程の後に、前記半導体素子周囲を樹脂で覆う樹脂充填工程、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項６】
請求項３乃至５のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法であって、
前記パターン切断工程における切断用パターンの切断は、レーザー照射により行うことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
［適用例１］振動片と半導体素子とを水平方向に並べて実装されているベース基板を備える電子デバイスであって、前記ベース基板の一方の主面にモニター用電極端子を有し、前記ベース基板の他方の主面に、前記振動片を実装するための振動片実装用パッド、前記振動片実装用パッドと電気的に接続されている第１半導体素子接続用パッド、前記モニター用電極端子と電気的に接続されている中継パッド、前記第１半導体素子接続用パッドから延出している第１の切断用パターン、および前記中継パッドから延出している第２の切断用パターン、を有し、前記第１の切断用パターンと前記第２の切断用パターンとの間の位置に、前記ベース基板の表面には凹陥部を有することを特徴とする電子デバイス。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［適用例２］適用例１に記載の電子デバイスであって、前記中継パッドは、前記半導体素子を実装するための第２半導体素子接続用パッドであり、前記モニター用電極端子は、前記ベース基板の一方の面に形成された実装端子であることを特徴とする電子デバイス。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［適用例３］一方の面に、モニター用電極端子を有し、他方の面に、振動片実装用パッド、前記振動片実装用パッドと電気的に接続されている第１半導体素子接続用パッド、前記モニター用電極端子と電気的に接続されている中継パッド、および前記第１半導体素子接続用パッドと前記中継パッドとを電気的に接続する切断用パターン、を備えたベース基板を準備する工程、前記振動片実装用パッドに対して振動片を実装する振動片実装工程、前記モニター用電極端子を介して前記振動片の発振と共振周波数の調整を行う周波数調整工程、および前記周波数調整工程後、前記切断用パターンを切断し、前記ベース基板の表面に凹陥部を形成するパターン切断工程、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
［適用例４］上記の電子デバイスの製造方法であって、前記パターン切断工程の後に、前記第１半導体素子接続用パッドに対して半導体素子を実装する半導体素子実装工程、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
［適用例５］上記の電子デバイスの製造方法であって、前記半導体素子実装工程の後に、前記半導体素子周囲を樹脂で覆う樹脂充填工程、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
［適用例６］請求項３乃至５のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法であって、前記パターン切断工程における切断用パターンの切断は、レーザー照射により行うことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
このような特徴を有する電子デバイスの製造方法により電子デバイスを製造すれば、切断用パターンの切断状態を確実なものとすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月4日(2013.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理装置の処理容器内で、被処理体を載置する載置台に被処理体の面積当り０．２Ｗ／ｃｍ2以上１．３Ｗ／ｃｍ2以下の範囲内の出力で高周波電力を供給しながら、被処理体の表面に露出したシリコンに、Ｏ２とＯ３との合計に対するＯ３の体積比率が５０％以上であるオゾンガスを含む処理ガスのプラズマを作用させて酸化処理を行ない、シリコン酸化膜を形成する工程を含む、シリコン酸化膜の形成方法。
【請求項２】
前記処理容器内の圧力が１．３Ｐａ以上１３３３Ｐａ以下の範囲内である請求項１に記載のシリコン酸化膜の形成方法。
【請求項３】
処理温度が、被処理体の温度として２０℃以上６００℃以下の範囲内であることを特徴とする請求項１又は２に記載のシリコン酸化膜の形成方法。
【請求項４】
前記プラズマが、前記処理ガスと、複数のスロットを有する平面アンテナにより前記処理容器内に導入されるマイクロ波と、によって形成されるマイクロ波励起プラズマであることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のシリコン酸化膜の形成方法。
【請求項５】
前記マイクロ波のパワー密度が、被処理体の面積あたり０．２５５Ｗ／ｃｍ2以上２．５５Ｗ／ｃｍ2以下の範囲内であることを特徴とする請求項４に記載のシリコン酸化膜の形成方法。
【請求項６】
プラズマを用いて被処理体を処理する上部が開口した処理容器と、
前記処理容器の前記開口部を塞ぐ誘電体部材と、
前記誘電体部材の外側に設けられ、前記処理容器内に電磁波を導入するためのアンテナと、
前記処理容器内にオゾンガスを含む処理ガスを供給するガス導入部と、
前記処理容器内を排気手段により減圧排気する排気口と、
前記処理容器内で被処理体を載置する載置台と、
前記アンテナによって前記処理容器内に電磁波を導入することにより、前記処理容器内に前記ガス導入部からＯ２とＯ３との合計に対するＯ３の体積比率が５０％以上であるオゾンガスを含む処理ガスを供給し、その処理ガスのプラズマを生成させ、該プラズマを被処理体の表面に露出したシリコンに作用させてシリコン酸化膜を形成するように制御する制御部と、を備えたプラズマ酸化処理装置。
【請求項７】
さらに、一端が前記ガス導入部に接続され、他端がオゾンガス供給源に接続され、内部に不動態化処理が施されて前記オゾンガスを前記処理室内に供給するガス供給配管と、を備えている請求項６に記載のプラズマ酸化処理装置。
【請求項８】
前記ガス導入部は、前記処理容器内の処理空間にガスを噴出するガス穴を含むガス流路を有しており、前記ガス流路の一部分もしくは全体と、前記ガス穴の周囲の処理容器の内壁面とに、不動態化処理が施されている請求項７に記載のプラズマ酸化処理装置。
【請求項９】
前記載置台に被処理体の面積あたり０．２Ｗ／ｃｍ2以上１．３Ｗ／ｃｍ2以下の高周波電力を供給する高周波電源をさらに備えている請求項６から８のいずれか１項に記載のプラズマ酸化処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月11日(2013.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、前記光源からの光で照明される表示面と、前記表示面からの光を射出する射出光学系とを含む本体部と、
前記射出光学系から射出された前記表示面からの光を被照射面へ向けて投写させる投写ユニットと、を備え、
前記投写ユニットは、負のパワーを持つ凸面の広角化ミラーを有し、
前記広角化ミラーは、前記表示面に対して傾けられた前記表示面の像面をなす光を反射し広角化させる、
プロジェクター。
【請求項２】
前記投写ユニットは、前記射出光学系から射出された前記光を前記表示面に対して傾けられた前記表示面の像面をなす光とする像面制御光学系を有する、請求項１に記載のプロジェクター。
【請求項３】
前記投写ユニットは、前記表示面に対して傾けられた前記表示面の像面をなす像について、倍率を変換させる変倍光学系を有する、請求項２に記載のプロジェクター。
【請求項４】
前記投写ユニットは、前記表示面に対して傾けられた前記表示面の像面を、前記表示面に平行な前記被照射面に結像させる、請求項１から３までのいずれか一項に記載のプロジェクター。
【請求項５】
前記射出光学系は、光軸に沿った比較的遠距離の第１の範囲で前記表示面に平行な前記表示面の像面をなす像を結像させる通常表示状態と、前記光軸に沿った比較的近距離の第２の範囲で前記表示面に平行な前記表示面の像面をなす像を結像させるマクロ表示状態とに切り換え可能である、請求項１から４までのいずれか一項に記載のプロジェクター。
【請求項６】
前記本体部は、前記プロジェクターに対して着脱可能である、請求項１から５までのいずれか一項に記載のプロジェクター。
【請求項７】
前記射出光学系と、前記投写ユニットとは、光軸を一致させて配置される、請求項１から６までのいずれか一項に記載のプロジェクター。
【請求項８】
前記射出光学系と、前記投写ユニットとは、前記表示面からの光を前記光軸からシフトさせて進行させるシフト光学系を構成する、請求項７に記載のプロジェクター。
【請求項９】
光源と、前記光源からの光に照射される表示面と、前記表示面からの光を射出する射出光学系とを含む本体部と組み合わせて使用され、前記射出光学系から射出された前記表示面からの光を被照射面へ向けて投写させる投写ユニットであって、
前記表示面に対して傾けられた前記表示面の像面をなす光を反射し広角化させる、負のパワーを持つ凸面の広角化ミラーを有する、
投写ユニット。
【請求項１０】
前記射出光学系から射出された前記光を前記表示面に対して傾けられている前記表示面の像面をなす光とする像面制御光学系を有する、請求項９に記載の投写ユニット。
【請求項１１】
前記投写ユニットは、前記表示面に対して傾けられた前記表示面の像面をなす像について、倍率を変換させる変倍光学系を有する、請求項１０に記載の投写ユニット。
【請求項１２】
請求項１から８までのいずれか一項に記載のプロジェクターと、
前記被照射面を備え、かつ前記被照射面への他の情報の書き込みを可能とする画面表示部と、を備え、
前記プロジェクターのうち、前記射出光学系を含む本体部は、着脱可能である、電子黒板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
図１６（Ｂ）は、図１６（Ａ）の一部を拡大した図であり、投写ユニット３がないとした場合、投写レンズ２０に近い位置で傾いた像面ＩＭＧ'が形成されていることが分かる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月28日(2012.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の方向と前記第１の方向に直交する第２の方向とに沿って画素がマトリクス状に配列された表示部と、
前記表示部に対向して設置され、前記第１の方向および前記第２の方向と交差する第３の方向に直線状に延び、前記第３の方向と直交する方向に配列する複数の光学的開口部として機能する光線制御素子と、
を備え、
Ｍを１以上の整数とすると、前記画素は第１の方向に並ぶＭ色成分を持つＭ個のサブ画素に分割されており、前記光学的開口部の第１の方向の周期をＰ、前記光学的開口部の第２の方向の周期をＱ、前記画素の第１の方向の周期をＡ、前記画素の第２の方向の周期をＢとすると、Ｑ／Ｂは整数Ｎであり、Ｍ×Ｐ／Ａは非整数であり、（Ｑ／Ｂ）／（Ｐ／Ａ）は非整数であることを特徴とする３次元映像表示装置。
【請求項２】
２×（Ｑ／Ｂ）／（Ｐ／Ａ）は非整数であることを特徴とする請求項１記載の３次元映像表示装置。
【請求項３】
Ｐ／Ａを整数倍したとき整数になる最小の値が、Ｎ／２以上、Ｎ×１０以下であることを特徴とする請求項１または２記載の３次元映像表示装置。
【請求項４】
前記表示部の、前記画素はＲサブ画素、Ｇサブ画素、Ｂサブ画素からなり、
Ｇサブ画素に割り当てられる視差番号が整数となるように前記光学的開口部が機能することを特徴とする請求項２または３記載の３次元映像表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の３次元映像表示装置を用いて３次元映像を表示する３次元映像表示方法であって、
視点数が２以上の多視点映像を前記表示部に出力する映像に並べ替えるマッピングを行うステップを備え、前記マッピングは、多視点映像の視点番号と前記第１の方向における座標とに関し、出力する映像においてＮ画素行分の周期であるように行うことを特徴とする３次元映像表示方法。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれかに記載の３次元映像表示装置を用いて３次元映像を表示する３次元映像表示方法であって、
視点数Ｎの多視点映像を前記表示部に出力する映像に並べ替えるマッピングを行うステップを備え、前記マッピングは、多視点映像の視点番号と前記第１の方向における座標とに関し、出力する映像においてＮ画素行分の周期であるように行うことを特徴とする３次元映像表示方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月5日(2013.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記係止孔は略矩形状であって、
前記係止孔の対向する内側面間を跨ぐように形成され、前記本体対向面上に突出する把手を備えたことを特徴とする請求項７に記載の空気調和機の室内機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月29日(2013.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塔頂部に設置された冷却ファンと、塔上部に設置された温水槽と、塔下部に設置された冷水槽と、前記温水槽と前記冷水槽の間に左右一対で設置された充填材とを備えた冷却塔において、エリミネータを左右一対の充填材の内面側の上端部間に架け渡すように設置することを特徴とする冷却塔におけるエリミネータの設置方法。
【請求項２】
前記エリミネータに点検歩廊を設けることを特徴とする請求項１に記載の冷却塔におけるエリミネータの設置方法。
【請求項３】
塔頂部に設置された冷却ファンと、塔上部に設置された温水槽と、塔下部に設置された冷水槽と、前記温水槽と前記冷水槽の間に左右一対で設置された充填材とを備えた冷却塔において、エリミネータを左右一対の充填材の内面側の上端部間に架け渡して設置したことを特徴とする冷却塔。
【請求項４】
前記エリミネータに点検歩廊を設けたことを特徴とする請求項３に記載の冷却塔。
【請求項５】
前記エリミネータの溝底部および両側の溝側部からなる縦断面の輪郭の長さＬが、前記充填材の高さＨの1.3〜1.7倍であることを特徴とする請求項３または４に記載の冷却塔。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】冷却塔、およびその冷却塔におけるエリミネータの設置方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、冷却塔、およびその冷却塔におけるエリミネータの設置方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、冷却塔内部のエリミネータや充填材の点検・洗浄を容易にする冷却塔、およびその冷却塔におけるエリミネータの設置方法を提供することを目的とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
［２］前記エリミネータに点検歩廊を設けることを特徴とする前記［１］に記載の冷却塔におけるエリミネータの設置方法。
［３］塔頂部に設置された冷却ファンと、塔上部に設置された温水槽と、塔下部に設置された冷水槽と、前記温水槽と前記冷水槽の間に左右一対で設置された充填材とを備えた冷却塔において、エリミネータを左右一対の充填材の内面側の上端部間に架け渡して設置したことを特徴とする冷却塔。
［４］前記エリミネータに点検歩廊を設けたことを特徴とする前記［３］に記載の冷却塔。
［５］前記エリミネータの溝底部および両側の溝側部からなる縦断面の輪郭の長さＬが、前記充填材の高さＨの1.3〜1.7倍であることを特徴とする前記［３］または［４］に記載の冷却塔。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月19日(2013.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記水冷媒熱交換器の重心よりも前記圧縮機から遠い位置にある前記接合部は、前記第１脚部材の上方に位置する請求項１記載のヒートポンプ給湯室外機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月10日(2013.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷媒ガスをベーンが往復運動するベーン溝を有するシリンダに吸入して圧縮し、吐出マフラの吐出穴から密閉容器内に吐出する圧縮機構部と、前記圧縮機構部を回転子により駆動する電動機とが密閉容器内に収容される密閉型圧縮機であって、
前記シリンダの上端面から前記回転子の下端面の間の所定の位置に、前記シリンダ及び前記回転子より所定の距離を空けて１枚以上の板を設け、前記板の少なくとも１枚は前記吐出マフラの前記吐出穴より下に設け、該板の外径は、前記ベーン溝を覆う径以上で前記密閉容器の内径より所定寸法小径であることを特徴とする密閉型圧縮機。
【請求項２】
前記シリンダの上端面から所定の距離を空けて、前記吐出マフラの前記吐出穴より下の高さに設けられ、前記ベーン溝を覆う径以上で前記密閉容器の内径より所定寸法小径である第１の板と、
前記回転子の下端面より所定の距離を空けて、前記吐出マフラの前記吐出穴の高さ位置より上に設けられ、前記回転子の外径より所定寸法大径の第２の板と、を設けたことを特徴とする請求項１記載の密閉型圧縮機。
【請求項３】
前記圧縮機構部は、クランク軸を支持する上軸受を備え、前記第１の板を、前記吐出マフラの鍔部または前記上軸受の鍔部を径方向に延出して形成したことを特徴とする請求項２記載の密閉型圧縮機。
【請求項４】
前記板の表面にディンプル加工と波状加工と穴開け加工とのいずれかを施すか、もしくはメッシュ等の多孔部材を張付けることを特徴とする請求項１記載の密閉型圧縮機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月17日(2013.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線検出装置の製造方法であって、
放射線を可視光に変換可能であり基台の上に生成された柱状結晶の集合体を支持する支持層を形成する工程と、
前記支持層によって支持された前記柱状結晶の集合体を前記基台から剥離する工程と、
前記剥離された柱状結晶の集合体のうち前記基台に接していた面がセンサパネルの光電変換部に対向するように、前記剥離された柱状結晶の集合体を前記センサパネルに取り付ける工程とを有することを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記基台のうち前記柱状結晶の集合体が形成された領域を取り囲む領域に緩衝膜を形成する工程をさらに含み、
前記支持層を形成する工程において、前記柱状結晶の集合体と前記緩衝膜とを覆うように前記支持層が形成され、
前記支持層の前記緩衝膜に対する密着力は前記支持層の前記基台に対する密着力よりも弱い
ことを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記基台は凸部を有し、前記柱状結晶は前記凸部の上に成長することを特徴とする請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記支持層は、前記柱状結晶の耐湿性を高めるための保護層を含むことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記支持層は、前記柱状結晶からの光を反射するための反射層を含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記取り付ける工程は、前記剥離された柱状結晶の集合体のうち前記基台に接していた面を、接着剤を用いて前記センサパネルに接着する工程を含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
光電変換部を有するセンサパネルと、
前記光電変換部を覆う位置に配置された柱状結晶の集合体と、
前記センサパネルと前記柱状結晶の集合体とを接着する接着層と
を備え、
前記接着層は前記柱状結晶の柱間に入り込んでいることを特徴とする放射線検出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係る放射線検出装置の製造方法は、放射線を可視光に変換可能であり基台の上に生成された柱状結晶の集合体を支持する支持層を形成する工程と、前記支持層によって支持された前記柱状結晶の集合体を前記基台から剥離する工程と、前記剥離された柱状結晶の集合体のうち前記基台に接していた面がセンサパネルの光電変換部に対向するように、前記剥離された柱状結晶の集合体を前記センサパネルに取り付ける工程とを有することを特徴とする。