(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレチクルを保管する保管手段と、前記保管手段とレチクルステージとの間で前記レチクルを搬送する搬送手段とを備え、前記レチクルステージ上のレチクルを使用してウエハの露光を行なう露光装置において、
前記保管手段から前記レチクルステージまでの搬送途中で待機させるために前記レチクルを保持する保持手段と、使用に先立ってレチクルに対し必要な前処理を行なう複数の前処理手段と、使用予定の各レチクルについて名称および前記複数の前処理手段それぞれによる前処理の要または不要を指定する情報を含む使用予定情報に基づいて、前記搬送手段により、前記レチクルステージに前記保管手段からレチクルを搬送するとともに、前記保持手段および前記複数の前処理手段に前記保管手段からレチクルを搬送して待機させておく制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記搬送手段は、前記保管手段と前記保持手段および前記複数の前処理手段の１つとの間でレチクルの搬送を行なう第１の搬送手段と、前記保持手段と前記レチクルステージとの間でレチクルの搬送を行なう第２の搬送手段とを備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記レチクルステージ上のレチクルの使用が終了したらそのレチクルを前記レチクルステージより前記保持手段を経て前記保管手段に回収するとともに、前記保持手段において待機させているレチクルを前記レチクルステージに搬送するものであることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
ロットの処理予定および各ロットで使用するレチクルに関する情報に基づいて前記使用予定情報を生成する生成手段を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
前記生成手段は、前記ロットの処理予定に変更が発生した場合には、変更後のロットの処理予定および各ロットで使用するレチクルに関する情報に基づいて前記使用予定情報を生成するものであることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記使用予定情報に変更が発生した場合、変更後の使用予定情報に基づいて、前記待機のためのレチクルの搬送および前記必要な前処理を行なうものであることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記必要な前処理には、レチクル、もしくはペリクルを有するレチクルのペリクルのゴミ検査、またはレチクルの透過率もしくは回折光量の計測が含まれることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の露光装置。
【請求項８】
前記保持手段に待機させておくレチクルは、前記必要な前処理が行なわれたものであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レチクルを使用して基板を露光する露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、レチクルを交換するに際しての、ペリクル検査等のレチクル前処理、レチクル使用位置へのレチクル搬送およびウエハ露光処理は、交換時に順番に行なっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、レチクルを切り換える回数が増えると、レチクルを交換しながらウエハを露光する処理全体に占めるレチクルの切換えに伴なう処理、つまりレチクル前処理およびレチクル搬送処理の割合が増してしまい、その結果、ウエハの露光処理の占める割合が減って、露光済みウエハの生産性が悪くなる。
【０００４】
そこで本発明の目的は、露光装置において、レチクルの交換に要する時間を減少させ、露光処理の生産性を向上させることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するため、本発明の露光装置は、複数のレチクルを保管する保管手段と、前記保管手段とレチクルステージとの間で前記レチクルを搬送する搬送手段とを備え、前記レチクルステージ上のレチクルを使用してウエハの露光を行なう露光装置において、前記保管手段から前記レチクルステージまでの搬送途中で待機させるために前記レチクルを保持する保持手段と、使用に先立ってレチクルに対し必要な前処理を行なう複数の前処理手段と、使用予定の各レチクルについて名称および前記複数の前処理手段それぞれによる前処理の要または不要を指定する情報を含む使用予定情報に基づいて、前記搬送手段により、前記レチクルステージに前記保管手段からレチクルを搬送するとともに、前記保持手段および前記複数の前処理手段に前記保管手段からレチクルを搬送して待機させておく制御手段とを備えることを特徴とする。
【０００６】
本発明の構成において、制御手段は、次回以降使用される１または複数の原板を、予め保管手段から保持手段に搬送して待機させておく。したがって、現在使用している原板の使用が終了したら、次の原板が、保持手段から使用位置に直ちに搬送されることになる。したがって、露光処理全体に占める原板の交換に伴なう処理に要する時間の割合が減少する。さらに、与えられた原板の使用予定情報に基づいて、現在の露光処理中に、今後使用する原板についてのペリクル検査等の前処理をまとめて行なっておくことにより、処理がより効率的なものとなる。使用予定情報に変更が生じた場合は、変更後の使用予定情報に基づいて、前記一括した前処理および待機のための原板の搬送を再度行なうことにより、使用予定の変更にも追従して、前記原板の待機や予めの前処理が行なわれることになる。
【００１７】
【実施例】
図１は、本発明の一実施例に係る半導体露光装置のレチクル搬送部の構成を示す。同図に示すように、この露光装置は、被露光パターンを有する複数のレチクルを保管するライブラリ１１と、レチクルをライブラリ１１とレチクルステージ１２との間で搬送するハンド１３および１４とを備え、必要に応じてレチクルを交換しながら露光を行なうものである。そしてさらに、レチクルをライブラリ１１からレチクルステージ１２までの搬送途中で待機させまたは中継するために保持するリレー１５と、次回以降使用される１または複数のレチクルを、ハンド１３により、予めライブラリ１１からリレー１５に搬送して待機させておく不図示の制御手段とを備える。
【００１８】
ライブラリ１１はレチクルの格納場所であり、７つのレチクルを格納することができる。露光処理に使用するレチクルは、ライブラリ１１からレチクルステージ１２（レチクル使用位置）へ搬送され、レチクルステージ１２上において露光のために使用される。リレー１５（レチクル待機位置）は、３つのスロットを有し、１つのスロットで１つのレチクルを保持することができるので、合計３つのレチクルを保持することができる。レチクルステージ１２上で使用しているレチクルの使用が終了したときに、これをライブラリ１１へ回収する際の中継用として、リレー１５の３つのスロットのうちの１つが使用される。したがって、残りの２つのスロットは、使用が予定されている次のレチクルおよびその次のレチクルを保持するために使用される。ハンド１３は、ライブラリ１１、リレー１５、ペリクル検査装置１６ならびに透過率および回折光量計測装置１７間でレチクルの受け渡しを行なう。ハンド１４は、リレー１５およびレチクルステージ１２間でレチクルの受け渡しを行なう。ペリクル検査装置１６はペリクルのゴミを検査する装置である。ペリクル検査装置１６の代わりに、レチクルのゴミを検査するレチクル検査装置を備えるようにしてもよい。透過率および回折光量計測装置１７はレチクルの透過率および回折光量を計測する装置である。
【００１９】
図２はレチクルの使用予定情報の一例を示す。今後使用するレチクルの名称ならびに各レチクルについてのペリクル検査、透過率計測および回折光量計測の要・不要が指定されている。この使用予定情報はこの半導体露光装置の操作部で作成することができる。また、この半導体露光装置に接続された他の装置やコンピュータから受け取ることもできる。
【００２０】
図３はハンド１３の動作シーケンスを示す。シーケンスを開始すると、まず、ステップＳ１において、使用が終了したレチクルがリレー１５に保持されているか否かを判定する。使用が終了したレチクルが保持されていないと判定した場合はそのままステップＳ３へ進むが、保持されていると判定した場合はそのレチクルをライブラリ１１に回収し、格納してからステップＳ３へ進む。ステップＳ３ではレチクルの使用予定情報の通知があったか否かを判定し、通知があった場合はステップＳ４へ進み、通知がなかった場合はステップＳ８へ進む。
【００２１】
ステップＳ４〜Ｓ７では、通知があったレチクルの使用予定情報において示される次のレチクルおよびその次のレチクルについて準備済みであるか否かを判定し（ステップＳ４、Ｓ６）、準備済みでなければ準備を行なう（ステップＳ５、Ｓ７）。この準備とは、使用予定情報におけるペリクル検査、透過率計測および回折光量計測の要・不要の指定に応じてペリクル検査、透過率計測または回折光量計測を行なってからリレー１５まで搬送することである。このとき、リレー１５に空きスロットがなければ、リレー１５に保持されておりかつ準備に該当しないレチクルを、リレー１５からライブラリ１１に回収する。これらステップＳ４〜Ｓ７の準備処理が済むとステップＳ１に戻る。
【００２２】
ステップＳ８〜Ｓ１２では、使用予定情報における３つ目以降のレチクルについて（ステップＳ８）、ペリクル検査、透過率計測または回折光量計測の必要なレチクルがあれば（ステップＳ９、Ｓ１１）、それらについてまとめてペリクル検査、透過率計測または回折光量計測のみを済ませておく（ステップＳ１０、Ｓ１２）。ステップＳ８〜Ｓ１２が終了するとステップＳ１へ戻る。
【００２３】
レチクルの使用予定情報が変更となり、新たな使用予定情報が通知されると、その旨がステップＳ３で検出されて再度ステップＳ５〜Ｓ７の処理がなされ、そして、ステップＳ８〜Ｓ１２の処理がなされることになる。
【００２４】
図１の状態は、図２の使用予定に基づいて図３の動作に従ってレチクルの準備が整った状態を示す。この状態においては、使用予定情報の１番目および２番目に示されているレチクルＢおよびＣは、ステップＳ５およびＳ７の処理により、ライブラリ１１から取り出され、レチクルＢについてはペリクル検査および透過率計測が行なわれてから、リレー１５に搬送され、その第１および第２スロットにおいて待機させられている。使用予定情報の３番目のレチクルＤは、ステップＳ１０およびＳ１２の処理によりライブラリ１１から取り出され、ペリクル検査、透過率計測および回折光量計測が行なわれてからライブラリ１１の第７スロットに保管されている。使用予定情報の４番目のレチクルＥについては、ペリクル検査等がすべて不要であるため、ライブラリ１１の第６スロットに保管されたままである。使用予定情報の５番目のレチクルＦは、ステップＳ１０およびＳ１２の処理により、ライブラリ１１から取り出され、ペリクル検査および透過率計測が行なわれてからライブラリ１１の第５スロットに保管されている。
【００２５】
このように、予め必要なペリクル検査、透過率計測または回折光量計測を終えさせ、次およびその次に使用される予定であるレチクルＢおよびＣを、リレー１５の第１および第２スロットに待機させておくことによって、現在使用されているレチクルＡの使用が終了してリレー１５の第３スロットに搬入されると、直ちに次のレチクルＢをレチクルステージ１２上に搬送することができる。
【００２６】
なお、本発明は、上記実施例に限定されることなく適宜変形して実施することができる。例えば、上述においてはレチクルの使用予定情報を、操作部で作成しあるいは他の装置やコンピュータから受け取るようにしているが、この代わりにロットの処理予定および各ロットで使用する原板に関する情報に基づいて生成するようにしてもよい。その場合、ロットの処理予定に変更が発生した場合には、変更後のロットの処理予定および各ロットで使用する原板に関する情報に基づいて再度使用予定情報が生成される。
【００２７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、レチクルの交換に要する時間を減少させ、露光処理の生産性すなわちスループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施例に係る半導体露光装置のレチクル搬送部の構成を示すブロック図である。
【図２】  図１の装置におけるレチクルの使用予定情報の一例を示す図である。
【図３】  図１の装置におけるハンド１３に関する動作シーケンスを示すフローチャートである。
【符号の説明】
１１：ライブラリ、１２：レチクルステージ、１３：ハンド、１４：ハンド、１５：リレー、１６：ペリクル検査装置、１７：透過率および回折光量計測装置。
【図１】
0004261694.tif 000002
【図２】
0004261694.tif 000003
【図３】
0004261694.tif 000004