(57)【要約】      （修正有）【課題】基板を円滑に搬送させることが可能な基板搬送装置、及び基板を良好に洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板搬送装置は、互いに逆方向へ回転される下側ローラ１３及び上側ローラ１５を有し、下側ローラと上側ローラとによってガラス板Ｇを挟持して搬送する搬送部１１を備え、下側ローラは、ガラス板の搬送方向に直交する幅寸法よりも長い範囲にわたって樹脂製の表層部２６を有し、表層部がガラス板の下面における幅方向の全範囲に当接され、上側ローラは、長尺のシャフト３１と、シャフトの両端近傍に設けられたゴム製の弾性リング３３とを有し、弾性リングがガラス板の上面における幅方向の両縁部近傍箇所に当接される。基板洗浄装置は、搬送部１１が複数配列され、搬送部の間に基板の上下面を洗浄する洗浄機構部を有する。【選択図】図３
0003223771.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
互いに逆方向へ回転される下側ローラ及び上側ローラを有し、前記下側ローラと前記上側ローラとによって基板を挟持して搬送する搬送部を備えた基板搬送装置であって、
前記下側ローラは、前記基板の搬送方向に直交する幅寸法よりも長い範囲にわたって樹脂製の表層部を有し、前記表層部が前記基板の下面における幅方向の全範囲に当接され、
前記上側ローラは、長尺のシャフトと、前記シャフトの両端近傍に設けられたゴム製の弾性リングとを有し、前記弾性リングが前記基板の上面における幅方向の両縁部近傍箇所に当接される、
基板搬送装置。
【請求項２】
前記搬送部は、ガラス板からなる前記基板を搬送する、
請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記弾性リングは、断面矩形状の角リングからなる、
請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記弾性リングは、断面円形状のＯリングからなる、
請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記シャフトには、両端近傍に、複数の前記弾性リングがそれぞれ装着されている、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記表層部は、ウレタン樹脂から形成されている、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記下側ローラは、
前記表層部が外周に巻き付けられたステンレス製の管体と、
前記管体に嵌入された炭素繊維強化プラスチック製の補強管部と、
を有する、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の搬送部が複数配列され、
前記搬送部の間に、前記基板の上下面を洗浄する洗浄機構部が設けられている、
基板洗浄装置。
【請求項９】
前記洗浄機構部は、前記基板の上下面に当接しながら回転する複数のディスクブラシを有する、
請求項８に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
前記洗浄機構部は、複数の前記ディスクブラシが平面視で千鳥状に配置されている、
請求項９に記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】
前記搬送部の間に前記洗浄機構部が設けられた複数の基板洗浄ユニットが直列に配置されている、
請求項８〜１０のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、基板搬送装置及び基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）やＯＬＥＤ（Organic Light-Emitting Diode）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ:Flat Panel Display）用に使用されるガラス板を洗浄する洗浄装置として、ガラス板の表面又は裏面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、ガラス板の端部を保持すると共にガラス板をロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを備えるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この洗浄装置では、搬送機構部を構成する搬送ローラと浮き上がり防止ローラとがガラス板の縁部を挟んで送り出している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−６８２２３号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、洗浄機構部によるガラス板の洗浄力を向上させるために、ガラス板に対するブラシの押し付け力を高めると、洗浄機構部における抵抗が大きくなる。すると、ガラス板の搬送速度が低下したり、ガラス板が停止し、洗浄不良が生じてしまうおそれがある。
【０００５】
そこで本考案は、基板を円滑に搬送させることが可能な基板搬送装置及び基板を良好に洗浄することができる基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本考案は下記構成からなる。
（１）  互いに逆方向へ回転される下側ローラ及び上側ローラを有し、前記下側ローラと前記上側ローラとによって基板を挟持して搬送する搬送部を備えた基板搬送装置であって、
前記下側ローラは、前記基板の搬送方向に直交する幅寸法よりも長い範囲にわたって樹脂製の表層部を有し、前記表層部が前記基板の下面における幅方向の全範囲に当接され、
前記上側ローラは、長尺のシャフトと、前記シャフトの両端近傍に設けられたゴム製の弾性リングとを有し、前記弾性リングが前記基板の上面における幅方向の両縁部近傍箇所に当接される、
基板搬送装置。
（２）  上記（１）の搬送部が複数配列され、
前記搬送部の間に、前記基板の上下面を洗浄する洗浄機構部が設けられている、
基板洗浄装置。
【考案の効果】
【０００７】
本考案の基板搬送装置及び基板洗浄装置によれば、基板を円滑に搬送させることができ、したがって、基板を良好に洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本考案の実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板洗浄装置の概略平面図である。
【図２】本考案の実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板洗浄装置の概略側面図である。
【図３】図１におけるＡ−Ａ断面図である。
【図４】基板搬送装置の搬送部の軸方向に沿う一部の概略断面図である。
【図５】基板搬送装置の搬送部の変形例を示す図１におけるＡ−Ａ断面図である。
【図６】基板搬送装置の搬送部と洗浄機構部の他の配置例を示す基板洗浄装置の概略平面図である。
【図７】基板搬送装置の搬送部と洗浄機構部の他の配置例を示す基板洗浄装置の概略平面図である。
【考案を実施するための形態】
【０００９】
以下、本考案の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本考案の実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板洗浄装置の概略平面図である。図２は、本考案の実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板洗浄装置の概略側面図である。
【００１０】
図１及び図２に示すように、本実施形態に係る基板搬送装置１０は、複数の搬送部１１を備えている。この基板搬送装置１０は、複数の洗浄機構部５０とともに基板洗浄装置１００を構成する。つまり、基板洗浄装置１００は、基板搬送装置１０と、基板洗浄機構部５０とから構成されている。
【００１１】
基板洗浄装置１００は、矩形状に形成されたガラス板（基板）Ｇを洗浄する装置である。この基板洗浄装置１００によって洗浄するガラス板Ｇは、例えば、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）やＯＬＥＤ（Organic Light-Emitting Diode）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ:Flat Panel Display）用に使用される無アルカリガラス系材料からなる。基板洗浄装置１００は、水平に搬送されるガラス板Ｇの上下面を洗浄する装置であり、特に、ガラス板Ｇの各種の処理や加工が施される上面を洗浄する。
【００１２】
図３は、図１におけるＡ−Ａ断面図である。図４は、基板搬送装置の搬送部の軸方向に沿う一部の概略断面図である。
【００１３】
図３及び図４に示すように、基板搬送装置１０を構成する複数の搬送部１１は、下側ローラ１３と、上側ローラ１５とを有している。下側ローラ１３と上側ローラ１５とは、上下の対向位置に水平に配置されており、その間にガラス板Ｇが通される。搬送部１１は、下側ローラ１３と上側ローラ１５との間にガラス板Ｇを挟んで互いに逆方向に回転することで、ガラス板Ｇを一方向である搬送方向Ｘ（図１及び図２参照）へ搬送する。
【００１４】
下側ローラ１３は、管体２１と、管体２１の両端に設けられた支持軸部２２とを有している。支持軸部２２は、管体２１側にフランジ部２３を有しており、このフランジ部２３に管体２１が固定されている。支持軸部２２は、例えば、ステンレス（ＳＵＳ）等から形成されており、それぞれ軸受（図示略）に支持されている。
【００１５】
管体２１は、ステンレス（ＳＵＳ）製のパイプ材からなり、その内部には、補強管部２５が設けられている。補強管部２５は、炭素繊維強化プラスチック（ＣＦＲＰ：Carbon Fiber Reinforced Plastic）からなるパイプ材であり、管体２１内に嵌入されている。これにより、管体２１は、その内周面が補強管部２５によって長手方向にわたって補強され、軽量化を図りつつ撓みが抑制される。なお、補強管部２５は、ＰＡＮ系よりも硬いＰＩＴＣＨ系の炭素繊維強化プラスチックから形成することにより撓みをより抑えることができる。
【００１６】
また、下側ローラ１３は、管体２１の外周面に、表層部２６が設けられている。この表層部２６は、ウレタン樹脂から形成されている。これにより、管体２１は、長手方向の両端近傍を除く外周面が表層部２６によって覆われている。下側ローラ１３は、その表層部２６の軸方向の長さが、ガラス板Ｇの搬送方向Ｘに直交する幅寸法よりも長く設定されている。これにより、下側ローラ１３は、表層部２６の両端がガラス板Ｇからはみ出し、ガラス板Ｇは、その幅の全域において下側ローラ１３の表層部２６に当接される。
【００１７】
上側ローラ１５は、シャフト３１と、固定部材３２と、弾性リング３３とを有している。シャフト３１は、例えば、ステンレス（ＳＵＳ）等から形成された長尺の丸棒材からなるもので、両端が軸受（図示略）に支持されている。固定部材３２は、シャフト３１の両端近傍に固定されており、弾性リング３３は、固定部材３２の外周に嵌装されている。これにより、弾性リング３３は、固定部材３２を介してシャフト３１に取り付けられている。弾性リング３３は、例えば、耐熱性、耐薬品性、耐油性に優れたフッ素ゴム等の弾性材料から形成されている。この弾性リング３３は、断面視矩形状に形成された角リング状に形成されている。上側ローラ１５は、弾性リング３３が、搬送するガラス板Ｇの搬送方向Ｘに直交する幅方向の両縁部近傍位置に配置されている。これにより、上側ローラ１５は、それぞれの弾性リング３３がガラス板Ｇの幅方向の両縁部近傍に当接される。
【００１８】
それぞれの搬送部１１は、下側ローラ１３及び上側ローラ１５が、駆動機構（図示略）によって互いに反する方向へ同期して回転される。これにより、下側ローラ１３及び上側ローラ１５の間に送り込まれるガラス板Ｇが、下側ローラ１３の表層部２６と上側ローラ１５の弾性リング３３とによって挟持されて搬送方向Ｘに向かって搬送される。このとき、ガラス板Ｇは、下面が幅方向の全域にわたって表層部２６に当接され、上面における幅方向の両縁部近傍が弾性リング３３に当接される。
【００１９】
図１及び図２に示すように、基板洗浄装置１００を構成する洗浄機構部５０は、搬送部１１の間に配置されている。具体的には、二つの搬送部１１を一組とし、これらの組の搬送部１１同士の間にそれぞれ洗浄機構部５０が配置されている。
【００２０】
洗浄機構部５０は、下側ディスクブラシ群５１及び上側ディスクブラシ群５２を備えている。下側ディスクブラシ群５１及び上側ディスクブラシ群５２は、それぞれ複数のディスクブラシ５５を有しており、これらのディスクブラシ５５は、それぞれ駆動モータ５６によって回転される。下側ディスクブラシ群５１及び上側ディスクブラシ群５２の複数のディスクブラシ５５は、基板搬送装置１０によって搬送されるガラス板Ｇの搬送方向Ｘに対して直交する方向に配列されている。
【００２１】
下側ディスクブラシ群５１では、ディスクブラシ５５が上方へ向けて配置されており、基板搬送装置１０によって搬送されるガラス板Ｇの下面を洗浄する。上側ディスクブラシ群５２では、ディスクブラシ５５が下方へ向けて配置されており、基板搬送装置１０によって搬送されるガラス板Ｇの上面を洗浄する。ディスクブラシ５５は、例えば、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等の樹脂からなるスポンジ製のブラシ、あるいはナイロン（ポリアミド）等の樹脂からなる毛ブラシであり、その形状は、例えば外径７０〜１００ｍｍの円柱形状である。なお、駆動モータ５６によるディスクブラシ５５の回転（自転）速度は、１００〜５００ｒｐｍとすることが好ましい。
【００２２】
洗浄機構部５０は、ガラス板Ｇの上下面に洗浄液を噴射するノズル（図示略）をそなえている。ガラス板Ｇの上下面には、例えば、酸化セリウム等を含有するスラリー、洗浄剤（アルカリ性または酸性）あるいは純水などの洗浄液がノズルから噴射される。例えば、洗浄液として、有機ホスホン酸、ポリカルボン酸塩、芳香族スルホン酸、及びアミン−アルキレンオキサイド付加物を含む水系洗浄剤を使用すれば、研磨後のガラス板Ｇの表面に残留および／または付着した酸化セリウム等からなる研磨砥粒を、良好に分散して除去することができ、ガラス板Ｇの平坦性を損なうこともない。また、洗浄液としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、および炭酸カリウム等の無機アルカリを含有する無機アルカリ洗浄剤も使用される。
【００２３】
上記構成の基板洗浄装置１００では、基板搬送装置１０の搬送部１１を構成する下側ローラ１３と上側ローラ１５との間にガラス板Ｇが送り込まれると、このガラス板Ｇは、下側ローラ１３と上側ローラ１５とで挟持されて搬送方向Ｘへ搬送される。
【００２４】
この基板搬送装置１０によって搬送方向Ｘへ搬送されるガラス板Ｇは、搬送部１１の間に配置された洗浄機構部５０で洗浄される。具体的には、各洗浄機構部５０の下側ディスクブラシ群５１及び上側ディスクブラシ群５２のディスクブラシ５５がガラス板Ｇの下面及び上面に押圧された状態で回転され、これによって、ガラス板Ｇの下面及び上面の付着物等が除去され、ガラス板Ｇの下面及び上面が洗浄される。
【００２５】
この洗浄機構部５０のディスクブラシ５５による洗浄中において、ガラス板Ｇは、搬送部１１の下側ローラ１３と上側ローラ１５とによる高い保持力で搬送方向Ｘへ搬送される。したがって、ディスクブラシ５５からガラス板Ｇに伝わる押圧力及び回転力を強くして洗浄力を高めても、ガラス板Ｇは、搬送速度の低下や搬送停止などの不具合なく、しかも、蛇行せずに安定して搬送される。
【００２６】
以上、説明したように、本実施形態に係る基板搬送装置１０によれば、ガラス板Ｇは、下面における幅方向の全域にわたって樹脂製の表層部２６が当接された下側ローラ１３と、上面における幅方向の両縁部近傍にゴム製の弾性リング３３が当接された上側ローラ１５とによって挟持されて高い保持力で搬送される。これにより、ガラス板Ｇに対して、洗浄処理等の各種処理を施すことによって抵抗が生じたとしても、搬送速度の低下や搬送停止などの不具合なく、しかも、蛇行せずに安定してガラス板Ｇを搬送させることができる。
【００２７】
特に、下側ローラ１３の表層部２６がウレタン樹脂からなり、上側ローラ１５のゴム製の弾性リング３３が断面矩形状の角リングからなるので、ガラス板Ｇを高い保持力で基板を搬送させることができる。
【００２８】
しかも、ガラス板Ｇの上面には、上側ローラ１５の弾性リング３３が幅方向の両縁部近傍に当接されるので、ガラス板Ｇの上面の中央側における洗浄等の各種処理を良好に行うことができる。
【００２９】
また、下側ローラ１３は、表層部２６が外周に巻き付けられたステンレス製の管体２１に炭素繊維強化プラスチック製の補強管部２５が嵌入されて補強された構造であるので、軽量化を図りつつガラス板Ｇの重みによる下側ローラ１３の撓みを抑制することができる。これにより、撓みを抑えつつガラス板Ｇを搬送させることができる。
【００３０】
そして、上記基板搬送装置１０を備えた基板洗浄装置１００によれば、複数の搬送部１１によってガラス板Ｇを搬送しつつ、搬送部１１の間に設けられた洗浄機構部５０でガラス板Ｇの上下面を良好に洗浄することができる。しかも、搬送部１１は、高い保持力でガラス板Ｇを保持しつつ搬送させることができるので、洗浄機構部５０によってガラス板Ｇに対して洗浄処理を施すことによって抵抗が生じたとしても、搬送速度の低下や搬送停止などの不具合なく、しかも、蛇行せずに安定してガラス板Ｇを搬送させることができる。
【００３１】
特に、洗浄機構部５０は、ガラス板Ｇの上下面に当接しながら回転する複数のディスクブラシ５５を有するので、搬送部１１によって搬送されるガラス板Ｇに対して、洗浄機構部５０のディスクブラシ５５で上下面を良好に洗浄することができる。
【００３２】
なお、上記実施形態では、基板搬送装置１０の搬送部１１を構成する上側ローラ１５に、断面視矩形状に形成された角リング状の弾性リング３３を設けた場合を例示したが、弾性リング３３の断面形状及び設置数等は上記実施形態に限定されない。
【００３３】
図５は、基板搬送装置の搬送部の変形例を示す図１におけるＡ−Ａ断面図である。
図５に示すように、この上側ローラ１５では、シャフト３１の両端近傍に設けた固定部材３２に、断面円形状に形成されたＯリングからなる二つの弾性リング３３が軸方向に間隔をあけて装着されている。
【００３４】
この上側ローラ１５を備えた搬送部１１の場合も、上側ローラ１５と、ウレタン樹脂からなる表層部２６を有する下側ローラ１３とで、ガラス板Ｇを高い保持力で搬送させることができる。また、市販されているＯリングを弾性リング３３として用いることにより、設備費の削減を図ることができる。
【００３５】
次に、搬送部１１及び洗浄機構部５０の配置や設置数が異なる変形例に係る各種基板洗浄装置を説明する。
【００３６】
（変形例１）
図６は、基板搬送装置の搬送部と洗浄機構部の他の配置例を示す基板洗浄装置の概略平面図である。
【００３７】
図６に示すように、変形例１に係る基板洗浄装置２００は、基板洗浄ユニット２０１を備えている。そして、基板洗浄ユニット２０１は、３つの搬送部１１を有しており、これらの搬送部１１の間に、それぞれ洗浄機構部５０が配設されている。基板洗浄装置２００は、３セットの基板洗浄ユニット２０１を直列に設置して構成されている。
【００３８】
このように、搬送部１１と洗浄機構部５０とからなる基板洗浄ユニット２０１を備える基板洗浄装置２００によれば、ガラス板Ｇに対する各種の処理（洗浄処理）等に応じて必要な数の基板洗浄ユニット２０１を直列に設置して設備の拡張を容易に行うことができる。
【００３９】
（変形例２）
図７は、基板搬送装置の搬送部と洗浄機構部の他の配置例を示す基板洗浄装置の概略平面図である。
【００４０】
図７に示すように、変形例２に係る基板洗浄装置３００は、２つの搬送部１１の間に洗浄機構５０が配設された基板洗浄ユニット３０１を備えている。そして、基板洗浄装置３００は、２セットの基板洗浄ユニット３０１を直列に設置して構成されている。また、基板洗浄ユニット３０１を構成する洗浄機構部５０では、下側ディスクブラシ群５１及び上側ディスクブラシ群５２において、２列に配置されたディスクブラシ５５が互いに千鳥状（zigzag  alignment）に配置されている。
【００４１】
このように、搬送部１１と洗浄機構部５０とからなる基板洗浄ユニット３０１を備える基板洗浄装置３００の場合も、ガラス板Ｇに対する各種の処理（洗浄処理）等に応じて必要な数の基板洗浄ユニット２０１を直列に設置して設備の拡張を容易に行うことができる。特に、この基板洗浄装置３００では、各洗浄機構部５０のディスクブラシ５５を千鳥状に配置させることによって、搬送方向Ｘの上流側のディスクブラシ５５間で除去されなかった付着物を、搬送方向Ｘの下流側のディスクブラシ５５で除去することができる。
【００４２】
なお、本考案は、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ、ＦＰＤ以外の電子デバイス、例えば、光学素子用ガラス基板、ガラスディスク、太陽電池等の基板を搬送するのに適用することができる。また、搬送する基板としては、ガラス板に限らず、例えば、金属、セラミックあるいは樹脂から成形されたものでもよい。
【００４３】
このように、本考案は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本考案の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。
【００４４】
以上の通り、本明細書には次の事項が開示されている。
（１）  互いに逆方向へ回転される下側ローラ及び上側ローラを有し、前記下側ローラと前記上側ローラとによって基板を挟持して搬送する搬送部を備えた基板搬送装置であって、
前記下側ローラは、前記基板の搬送方向に直交する幅寸法よりも長い範囲にわたって樹脂製の表層部を有し、前記表層部が前記基板の下面における幅方向の全範囲に当接され、
前記上側ローラは、長尺のシャフトと、前記シャフトの両端近傍に設けられたゴム製の弾性リングとを有し、前記弾性リングが前記基板の上面における幅方向の両縁部近傍箇所に当接される、基板搬送装置。
上記（１）の構成の基板搬送装置によれば、下側ローラの樹脂製の表層部が基板の下面における幅方向の全範囲に当接され、上側ローラのゴム製の弾性リングが基板の上面における幅方向の両縁部近傍箇所に当接される。これにより、基板は、下面における幅方向の全域にわたって樹脂製の表層部が当接された下側ローラと、上面における幅方向の両縁部近傍にゴム製の弾性リングが当接された上側ローラとによって挟持されて高い保持力で搬送される。
これにより、基板に対して、例えば、洗浄処理等の各種処理を施すことによって抵抗が生じたとしても、搬送速度の低下や搬送停止などの不具合なく、しかも、蛇行せずに安定して基板を搬送させることができる。
しかも、基板の上面には、上側ローラの弾性リングが幅方向の両縁部近傍に当接されるので、基板の上面の中央側における各種処理を良好に行うことができる。
【００４５】
（２）  前記搬送部は、ガラス板からなる前記基板を搬送する、（１）に記載の基板搬送装置。
上記（２）の構成の基板搬送装置によれば、下側ローラと上側ローラとからなる搬送部によってガラス板を高い保持力で搬送することができ、搬送されるガラス板に対して、例えば、洗浄処理等の各種処理を円滑に行うことができる。
【００４６】
（３）  前記弾性リングは、断面矩形状の角リングからなる、（１）または（２）に記載の基板搬送装置。
上記（３）の構成の基板搬送装置によれば、表層部が基板の下面における幅方向の全範囲に当接する下側ローラと、断面矩形状の角リングからなる弾性リングが基板の上面における幅方向の両縁部近傍に当接する上側ローラとによって、高い保持力で基板を搬送させることができる。
【００４７】
（４）  前記弾性リングは、断面円形状のＯリングからなる、（１）または（２）に記載の基板搬送装置。
上記（４）の構成の基板搬送装置によれば、表層部が基板の下面における幅方向の全範囲に当接する下側ローラと、断面円形状のＯリングからなる弾性リングが基板の上面における幅方向の両縁部近傍に当接する上側ローラとによって、高い保持力で基板を搬送させることができる。
【００４８】
（５）  前記シャフトには、両端近傍に、複数の前記弾性リングがそれぞれ装着されている、（１）〜（４）のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
上記（５）の構成の基板搬送装置によれば、表層部が基板の下面における幅方向の全範囲に当接する下側ローラと、複数の弾性リングが基板の上面における幅方向の両縁部近傍にそれぞれ当接する上側ローラとによって、高い保持力で基板を搬送させることができる。
【００４９】
（６）  前記表層部は、ウレタン樹脂から形成されている、（１）〜（５）のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
上記（６）の構成の基板搬送装置によれば、ウレタン樹脂からなる表層部が基板の下面における幅方向の全範囲に当接する下側ローラと、弾性リングが基板の上面における幅方向の両縁部近傍に当接する上側ローラとによって、高い保持力で基板を搬送させることができる。
【００５０】
（７）  前記下側ローラは、
前記表層部が外周に巻き付けられたステンレス製の管体と、
前記管体に嵌入された炭素繊維強化プラスチック製の補強管部と、
を有する、（１）〜（６）のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
上記（７）の構成の基板搬送装置によれば、ステンレス製の管体を炭素繊維強化プラスチック製の補強管部によって補強することにより、軽量化を図りつつ基板の重みによる下側ローラの撓みを抑制することができる。これにより、撓みを抑えつつ基板を搬送させることができる。
【００５１】
（８）  （１）〜（７）のいずれか一つに記載の搬送部が複数配列され、
前記搬送部の間に、前記基板の上下面を洗浄する洗浄機構部が設けられている、基板洗浄装置。
上記（８）の構成の基板洗浄装置によれば、複数の搬送部によって基板を搬送しつつ、搬送部の間に設けられた洗浄機構部で基板の上下面を良好に洗浄することができる。しかも、搬送部は、高い保持力で基板を保持しつつ搬送させることができるので、洗浄機構部によって基板に対して洗浄処理を施すことによって抵抗が生じたとしても、搬送速度の低下や搬送停止などの不具合なく、しかも、蛇行せずに安定して基板を搬送させることができる。
【００５２】
（９）  前記洗浄機構部は、前記基板の上下面に当接しながら回転する複数のディスクブラシを有する、（８）に記載の基板洗浄装置。
上記（９）の構成の基板洗浄装置によれば、基板の上下面に当接しながら回転する複数のディスクブラシによって、基板を搬送させながら上下面を良好に洗浄することができる。
【００５３】
（１０）  前記洗浄機構部は、複数の前記ディスクブラシが平面視で千鳥状に配置されている、（９）に記載の基板洗浄装置。
上記（１０）の構成の基板洗浄装置によれば、千鳥状に配置された複数のディスクブラシによって、基板の上下面を隙間なく洗浄することができる。
【００５４】
（１１）  前記搬送部の間に前記洗浄機構部が設けられた複数の基板洗浄ユニットが直列に配置されている、（８）〜（１０）のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
上記（１１）の構成の基板洗浄装置によれば、基板に対する各種の処理等に応じて、搬送部と洗浄機構部とからなる複数の基板洗浄ユニットを直列に設置して設備の拡張を容易に行うことができる。
【符号の説明】
【００５５】
１０  基板搬送装置
１１  搬送部
１３  下側ローラ
１５  上側ローラ
２１  管体
２５  補強管部
２６  表層部
３１  シャフト
３３  弾性リング
５０  洗浄機構部
５５  ディスクブラシ
１００，２００，３００  基板洗浄装置
２０１，３０１  基板洗浄ユニット
Ｇ  ガラス板（基板）
【図１】
0003223771.tif 000003
【図２】
0003223771.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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