【手続補正書】
【提出日】平成25年10月10日(2013.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
上記方法は、ビスマス含有化合物を有する逆ミセル又はミセルを、テルル化合物が中に分散している逆ミセル又はミセルと組み合わせる工程を含んでもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
コア材料のミセル又は逆ミセルを形成する工程は、有機溶剤又は水溶液中に界面活性剤を溶解させる工程、次に、溶解した界面活性剤に水性相又は有機相を加える工程、次に、逆ミセル又はミセルの水性部分中に分散したコア材料ナノ粒子を形成するコア材料を加える工程を含む。さらに、下記の群から選ばれる更なる工程を実施してもよい。当該群は、ｐＨを調節してコア形成反応を開始させる工程；試薬を導入してコア形成反応を開始させる工程；照射又は加熱してコア形成反応を開始させる工程；ｐＨを調節して系を安定化させる工程；逆ミセル又はミセルに１又は複数のコア構造を直接加える工程；逆ミセル又はミセルの水性部分中に分散されたコア材料ナノ粒子を形成する材料にコア材料を加える工程を含むことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
さらに、コア材料は予めナノ粒子として形成されたものであってもよく、溶液中又はミセル若しくは逆ミセル中に直接加えてもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
熱電ナノ粒子の形成及び洗浄工程の後、その材料を、熱電装置において使用するために、ナノコンポジット材料に成形することができる。一形態において、この形成工程は、コンポジット熱電ナノ粒子を焼結して、コア材料ナノ粒子の包含物を含むシェル材料の網目構造を形成することを含んでよい。別の態様において、コンポジット熱電ナノ粒子の形成後に網目構造を含むナノコンポジット材料を形成するナノ粒子の融合工程を実施する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア材料の逆ミセル又はミセルを形成する工程；
コア材料の逆ミセル又はミセルにビスマス含有化合物を加えて、ビスマス含有化合物が中に分散している逆ミセル又はミセルを形成する工程；
形成されたミセル又は逆ミセルに、ビスマス含有化合物と合金を形成する還元剤の存在下で、テルル含有化合物を加えて、コア−シェル構造を有するコンポジット熱電ナノ粒子を形成する工程；
コア−シェルナノ粒子を、水酸化アンモニウム、水及びメタノールを含む溶媒混合物中で洗浄する工程、ここで、前記コア−シェル粒子は未凝集のまま残り、かつ、１〜２５ナノメートルの粒子サイズを有する；
を含む、熱電ナノ粒子の形成方法。
【請求項２】
前記溶媒混合物が、全体積に対して０．２９〜０．５９体積％の水酸化アンモニウムと、全体積に対して１０〜２０体積％の水と、全体積に対して８０〜９０体積％のメタノールを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記溶媒混合物が、全体積に対して０．４体積％の水酸化アンモニウムと、全体積に対して１４．９４体積％の水と、全体積に対して８４．６６体積％のメタノールを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ビスマス含有化合物を加える工程が、ビスマス含有化合物にＰ型ドーパントを供給することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
テルル含有化合物を加える工程が、テルル含有化合物にＮ型ドーパントを供給することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
テルル含有化合物を加える工程が、テルル含有化合物が中に分散している逆ミセル又はミセルを形成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
テルル含有化合物にＮ型ドーパントを供給することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
コア材料のミセル又は逆ミセルを形成する工程が、
有機溶剤又は水溶液中に界面活性剤を溶解させる工程；
溶解した界面活性剤に水性相又は有機相を加える工程；
コア材料を加えて、逆ミセル又はミセルの水性部分中に分散されたコア材料ナノ粒子を形成する工程；及び
下記の工程：
ｐＨを調節してコア形成反応を開始させる工程；
試薬を導入してコア形成反応を開始させる工程；
照射又は加熱してコア形成反応を開始させる工程；
ｐＨを調節して系を安定化させる工程；
逆ミセル又はミセルに１又は複数のコア構造を直接加える工程；及び
逆ミセル又はミセル中に分散されたコア材料ナノ粒子を形成する材料にコア材料を加える工程；
から成る群から選ばれる工程；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ビスマス含有化合物が中に分散しているミセル又は逆ミセルを形成する工程が、
溶剤又は水溶液中に界面活性剤を溶解させる工程；
溶解した界面活性剤にビスマス含有化合物を加えて、ビスマス含有材料を含む溶剤又は水性部分を有する逆ミセル又はミセルを形成する工程；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
ビスマス含有化合物が中に分散しているミセル又は逆ミセルを形成する工程が、
溶剤又は水溶液中に界面活性剤を溶解させる工程；
溶解した界面活性剤にドーパントを加えて、当該ドーパントを含む水性部分を有する逆ミセル又はミセルを形成する工程；
を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
コア材料のミセル又は逆ミセルを形成する工程が、
溶媒に界面活性剤を溶解させる工程；
溶解した界面活性剤に水酸化アンモニウムを加える工程；
テトラメチルオルトシリケートを加えて、ミセル又は逆ミセルの水性部分中に分散されたＳｉＯ２ナノ粒子を形成する工程；
すでにナノ粒子形態にあるコア材料を加える工程；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
ビスマス含有化合物のミセル又は逆ミセルを形成する工程が、
溶媒中に界面活性剤を溶解させる工程；
溶解した界面活性剤にクエン酸ビスマスを加えて、クエン酸ビスマスを含む水性部分を有するミセル又は逆ミセルを形成する工程；
を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
テルル化物のミセル又は逆ミセルを形成する工程が、
溶媒中に界面活性剤を溶解させる工程；
ＮａＴｅＨ材料を形成し、溶解した界面活性剤に前記ＮａＴｅＨ材料を加えて、ＮａＴｅＨを含む水性部分を有するミセル又は逆ミセルを形成する工程；
を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
クエン酸ビスマスを加える工程を含み、クエン酸ビスマスのビスマスイオンが、テルルの存在下でビスマス金属に還元され、ＳｉＯ２コアナノ粒子の周りで自発的な合金の形態が起こる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ナノコンポジット材料の形成方法であって、請求項１に記載のコンポジット熱電ナノ粒子の形成後にナノ粒子の融合工程を含み、ナノコンポジット材料が網目構造を含む、ナノコンポジット材料の形成方法。
【請求項１６】
請求項１に記載の方法に従って形成されたコア材料ナノ粒子の包含物を含むシェル材料の網目構造を形成する方法であって、コア材料ナノ粒子の包含物を含むシェル材料の網目構造を形成しているコンポジット熱電ナノ粒子を焼結することを含む方法。
【請求項１７】
コア材料の逆ミセル又はミセルを形成する工程；
コア材料の逆ミセル又はミセルにクエン酸ビスマスを加えて、クエン酸ビスマスが中に分散している逆ミセル又はミセルを形成する工程；
形成されたミセル又は逆ミセルに、クエン酸ビスマスと合金を形成する還元剤の存在下で、テルル含有化合物を加えて、コア−シェル構造を有するコンポジット熱電ナノ粒子を形成する工程；
コア−シェルナノ粒子を、水酸化アンモニウム、水及びメタノールを含む溶媒混合物中で洗浄する工程、ここで、前記コア−シェル粒子は未凝集のまま残り、かつ、１〜２５ナノメートルの粒子サイズを有する；
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
クエン酸ビスマスを加える工程が、コア材料のミセル又は逆ミセルに酒石酸アンチモンカリウムを加えることを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
テルル含有化合物を加える工程が、クエン酸ビスマスを加える工程において形成されたミセル又は逆ミセルにセレンを加えることを含む、請求項１７に記載の方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
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【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
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【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
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【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
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【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
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【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
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【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
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