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【手続補正書】
【提出日】平成25年1月7日(2013.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記パターンは縞状のパターンを有し、
前記投影手段は、更に、前記位置姿勢演算手段によって算出された前記計測対象物体の位置姿勢の変化の大きさに基づいて投影するパターンの縞の間隔を変更することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の３次元計測装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
計測対象物体の形状モデルを形状モデル保持手段に保持する工程と、
前記計測対象物体の概略位置姿勢を示す情報を概略位置姿勢保持手段に保持する工程と、
明暗で構成された複数種類のパターンを投影部より前記計測対象物体に投影する投影工程と、
前記投影工程でパターンが投影された前記計測対象物体を撮像部により撮影する撮影工程と、
前記形状モデルと前記概略位置姿勢を示す情報とに基づいて前記撮影工程で取得される撮像画像における前記パターンの座標値を算出する投影位置演算工程と、
前記投影位置演算工程で算出された前記座標値に基づいて前記撮像画像における撮影されたパターンを探索し、撮影されたパターンと投影されたパターンとを対応づけることにより前記計測対象物体の表面と前記撮像部との距離を求める距離演算工程と、
前記距離演算工程で求めた距離と前記形状モデル保持手段に保持されている形状モデルを用いて前記計測対象物体の位置姿勢を推定し、前記概略位置姿勢保持手段に保持されている概略位置姿勢の情報を更新する位置姿勢演算工程とを備えることを特徴とする３次元計測装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月4日(2013.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示手段の表示領域を分割した複数の部分領域における照度を測定する測定手段と、
前記照度が基準値より大きい部分領域を除く領域に、映像を表示する位置を設定する設定手段と
を有する情報処理装置。
【請求項２】
前記設定手段は、更に、前記映像のサイズを、前記映像の全体が前記表示手段に表示可能であるサイズに設定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記設定手段は、前記映像のサイズを、前記照度が前記基準値より大きい部分領域を除く領域に、前記映像の全体が表示可能であるサイズに縮小することを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記設定手段は、前記映像を表示する位置を、設定された位置に変更する手段であって、
前記設定された位置は、前記照度が基準値より大きい部分領域を除く領域に含まれる位置であって、且つ、変更する前の前記映像を表示する位置から移動量が最小となる位置であるすることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記測定手段は、複数の照度計を用いて前記複数の部分領域の照度を測定することを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記測定部は、前記部分領域の輝度を測定する輝度計を用いて前記部分領域の照度を取得することを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
更に、前記表示手段が前期複数の部分領域において発する光の輝度を検出する検知手段を有し、
前記設定手段は、前記測定手段によって測定された照度が基準値より大きい部分領域を除く領域であって、且つ、前記検知手段によって検知された前記輝度が所定の閾値より小さい領域に、前記映像を表示する位置を設定することを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか一項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
表示手段の表示領域を分割した複数の部分領域における照度の変化率を測定する測定手段と、
前記照度の変化率が所定の閾値より大きい部分領域を除く領域に、前記映像を表示する位置を設定する設定手段と
を有する情報処理装置。
【請求項９】
前記測定手段は、第１の時刻における前記部分領域それぞれにおける照度と、第２の時刻における前記複数の部分領域における照度とに基づいて、前記照度の変化率を算出することを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
表示手段に表示する複数の映像の位置を設定する情報処理装置であって、
ユーザ操作によって入力された、表示手段に表示する複数の映像の優先度を取得する取得手段と、
前記表示手段の表示領域を分割した複数の部分領域における照度を測定する測定手段と、
前記照度が所定の閾値より大きい部分領域を除く領域に、前記複数の映像の優先度に基づいて、前記複数の映像を表示するレイアウトを設定する設定手段と
を有する情報処理装置。
【請求項１１】
前記設定手段は、前記取得手段によって取得された前記複数の映像の優先度のうち優先度の高い映像を表示する位置は、優先度の低い映像を表示する位置よりも前記照度が基準値より大きい部分領域から離れた位置に設定することを特徴とする請求項１０に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
前記複数の映像は、映像及び当該映像に重畳するユーザインターフェイス及び字幕の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項１０乃至請求項１１の何れか一項に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
表示手段の表示領域を分割した複数の部分領域における照度を測定する測定工程と、
前記照度が基準値より大きい部分領域を除く領域に、映像を表示する位置を設定する設定工程と
を有する情報処理装置の制御方法。
【請求項１４】
コンピュータを、請求項３に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上述課題を解決するため、本発明の情報処理装置によれば、表示手段の表示領域を分割した複数の部分領域における照度を測定する測定手段と、前記照度が基準値より大きい部分領域を除く領域に、映像を表示する位置を設定する設定手段とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月27日(2012.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６０】
（ソリッド部の筋状濃度ムラ）
上記改造機を用い、温度１０℃、湿度１５％環境下にて、Ａ３用紙（富士ゼロックス製、Ｃ２紙）５万枚に、エリアカバレッジ５％のフルカラー画像を形成した。
まず、１枚目の画像について、ソリッド部の筋状濃度ムラを目視で発生の有無を確認した。
次に、５万枚の画像形成中、ソリッド部における筋状濃度ムラを目視で確認し、下記評価基準に従って繰り返し特性を評価した。
−評価基準−
Ａ：良好。
Ｂ：画質上問題にならないが、部分的に軽微な筋状濃度ムラ発生。
Ｃ：画質上問題となる筋状濃度ムラ発生。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月21日(2013.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
培養容器の試料を観察する顕微鏡システムであって、
対物レンズを含む照明装置で前記培養容器内の前記試料を観察するための観察光学系と、
前記対物レンズの瞳面を観察するための瞳面観察光学系と、
前記瞳面観察光学系によって集光した光を検出する光検出部と、を有する顕微鏡と、
前記光検出部の結果に基づいて、前記培養容器を観察するか否かの判定を行う制御装置と、
を有することを特徴とする顕微鏡システム。
【請求項２】
前記照明装置は、前記対物レンズの瞳面と共役な位置に輪帯絞りを有し、
前記観察光学系は、前記対物レンズの瞳面と共役な位置にリング形状の位相膜を有し、位相差観察できることを特徴とする請求項１に記載の顕微鏡システム。
【請求項３】
前記制御装置は、撮像素子で撮影された前記瞳面の画像にリング形状のマスク画像を重ね合わせることにより、前記瞳面上の前記位相膜とは異なる部分に入射する光の輝度情報を取得し、前記取得された輝度情報に基づいて前記培養容器を観察するか否かの判定を行うことを特徴とする請求項２に記載の顕微鏡システム。
【請求項４】
前記瞳面観察光学系は、光路内へ挿脱可能なベルトランレンズからなり、
前記光検出部は、前記対物レンズの瞳面の画像を撮影する撮像素子からなり、
前記制御装置は、前記ベルトランレンズを光路内へ挿入することによって前記撮像素子で撮影された前記瞳面の画像の輝度情報に基づいて、前記培養容器を観察するか否かの判定を行うことを特徴とする請求項２又は３に記載の顕微鏡システム。
【請求項５】
前記瞳面観察光学系は、前記観察光学系中に配置されたハーフミラーと、前記ハーフミラーの反射光路上であって前記瞳面と共役な位置に配置されたリング形状の遮光部を備えた遮光部材とを含み、
前記光検出部は、光量センサからなり、
前記制御装置は、前記光量センサで検出された光量の値に基づいて、前記培養容器を観察するか否かの判定を行うことを特徴とする請求項２に記載の顕微鏡システム。
【請求項６】
前記制御装置は、前記光検出部の結果を用いて、前記培養容器内の壁面に付着する結露が生じているか否かの判定を行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の顕微鏡システム。
【請求項７】
前記顕微鏡は、前記培養容器の結露を解消するための結露解消部を有し、
前記制御装置は、前記培養容器内の壁面に付着する結露が生じていることが確認された場合に、前記結露解消部を作動させることを特徴とする請求項６に記載の顕微鏡システム。
【請求項８】
前記制御装置は、前記判定によって前記培養容器内に結露が生じていないと確認された場合に、前記試料のタイムラプス撮影を実行することを特徴とする請求項７に記載の顕微鏡システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために本発明は、
培養容器の試料を観察する顕微鏡システムであって、
対物レンズを含む照明装置で前記培養容器内の前記試料を観察するための観察光学系と、
前記対物レンズの瞳面を観察するための瞳面観察光学系と、
前記瞳面観察光学系によって集光した光を検出する光検出部と、を有する顕微鏡と、
前記光検出部の結果に基づいて、前記培養容器を観察するか否かの判定を行う制御装置と、
を有することを特徴とする顕微鏡システムを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月26日(2012.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷を実行することができずに保留された印刷ジョブのうち、印刷可能な状態となった印刷ジョブを特定する特定手段と、
前記特定手段により特定された前記印刷可能な状態となった印刷ジョブを出力する出力手段と、
前記出力手段により出力された印刷ジョブのうち指定された印刷ジョブを印刷部に印刷させる処理手段と、
を備えることを特徴とする印刷制御装置。
【請求項２】
前記特定手段は、前記印刷部にセットされている被記録媒体の種類により印刷ジョブの印刷が可能である場合に、当該印刷ジョブを印刷可能な状態となった印刷ジョブとして特定することを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項３】
保留された印刷ジョブのうち印刷可能な状態となった印刷ジョブの要求を受信する受信手段をさらに備え、
前記特定手段は、前記受信手段により受信した要求を送信した情報処理装置から送信された印刷ジョブを、前記印刷部にセットされている被記録媒体の種類により印刷が可能である場合に、該印刷ジョブを印刷可能な状態となった印刷ジョブとして特定する、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の印刷制御装置。
【請求項４】
前記出力手段は、保留された印刷ジョブのうち印刷可能な状態となった印刷ジョブを送信した情報処理装置に対して当該印刷ジョブを出力し、
前記処理手段は、前記情報処理装置から指定された印刷ジョブの印刷処理を行う、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項５】
前記出力手段は、前記特定手段により特定された前記印刷可能となった印刷ジョブを表示する表示手段を備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項６】
前記特定手段により特定された保留された印刷ジョブのうち印刷可能な状態となった印刷ジョブから印刷処理する印刷ジョブを指定する指定手段をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項７】
ユーザ認証を行う認証手段をさらに備え、
前記指定手段は、前記認証手段により認証されたユーザが指示した印刷ジョブを指定する、ことを特徴とする請求項６に記載の印刷制御装置。
【請求項８】
前記指定手段は、印刷ジョブを印刷指示したユーザ又は印刷指示した情報処理装置に対して、前記印刷可能な状態となった印刷ジョブのうち前記ユーザ又は前記情報処理装置が指示した印刷ジョブ以外の印刷ジョブの指定を不可とするモードを有することを特徴とする請求項６又は７に記載の印刷制御装置。
【請求項９】
印刷を実行することができずに保留された印刷ジョブのうち、印刷可能な状態となった印刷ジョブを特定する特定工程と、
前記特定工程において特定された前記印刷可能となった印刷ジョブを出力する出力工程と、
前記出力工程において出力された印刷ジョブのうち印刷処理する印刷ジョブを指定する指定工程と、
前記指定工程において指定された印刷ジョブを印刷処理する処理工程と、
を有することを特徴とする印刷処理方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の印刷処理方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷制御装置、印刷処理方法及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の目的は、このような従来の問題点を解決することにある。本発明は、上記の点を鑑み、印刷処理を保留された印刷ジョブを適切に印刷可能な印刷制御装置、印刷処理方法及びプログラムを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するため、本発明に係る印刷制御装置は、印刷を実行することができずに保留された印刷ジョブのうち、印刷可能な状態となった印刷ジョブを特定する特定手段と、前記特定手段により特定された前記印刷可能な状態となった印刷ジョブを出力する出力手段と、前記出力手段により出力された印刷ジョブのうち指定された印刷ジョブを印刷部に印刷させる処理手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明によれば、印刷処理を保留された印刷ジョブを適切に印刷することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月7日(2013.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のラッチと、
第２のラッチと、
データ比較回路と、
を含み、
ホストインターフェイスを介して制御コマンドを受信し、
前記制御コマンドが第１のコマンドである場合は、
前記第１のコマンドに付随するデータを順次前記第１のラッチに保持すると共に、データ記憶部に記憶されているデータを読み出し順次前記第２のラッチに保持し、
前記データ比較回路により前記第１のラッチに保持されたデータと前記第２のラッチに保持されたデータとの比較を行うことを特徴とする誤り検出器。
【請求項２】
前記制御コマンドはパラメーターを有し、前記第２のラッチに保持されるデータは前記パラメーターにより選択され前記データ記憶部から読み出されたデータであることを特徴とする請求項１に記載の誤り検出器。
【請求項３】
前記データ記憶部は複数の領域に分割されており、前記パラメーターは前記複数の領域の中のいずれの領域かを識別するためのものであることを特徴とする請求項２に記載の誤り検出器。
【請求項４】
更に、ＣＲＣ演算回路を含み、
前記制御コマンドが第２のコマンドである場合は、
前記第２のコマンドに付随するデータを保存データとして前記データ記憶部に記憶すると共に前記付随するデータを入力とする前記ＣＲＣ演算回路による演算結果が前記第１のラッチに保持され、
前記制御コマンドが第３のコマンドである場合は、
前記データ記憶部に記憶された前記保存データを入力とする前記ＣＲＣ演算回路による演算結果が前記第２のラッチに保持され、
前記第１のラッチに保持されたデータと前記第２のラッチに保持されたデータとの比較を、前記データ比較回路により行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の誤り検出器。
【請求項５】
前記データ比較回路おける比較の結果が不一致の場合、前記不一致を示す信号を、前記ホストインターフェイスを介して出力することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の誤り検出器。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の誤り検出器を有する半導体装置。
【請求項７】
請求項６に記載の半導体装置を用いた情報処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の情報処理装置と、表示部とを有する表示装置。
【請求項９】
第１のラッチと、
第２のラッチと、
データ比較回路と、
を用い、
ホストインターフェイスを介して制御コマンドを受信し、
前記制御コマンドが第１のコマンドである場合は、
前記第１のコマンドに付随するデータを比較データとして順次前記第１のラッチに保持すると共に、データ記憶部に記憶されているデータを読み出し順次前記第２のラッチに保持し、前記データ比較回路により前記第１のラッチに保持されたデータと前記第２のラッチに保持されたデータとの比較を行う処理を含むことを特徴とする誤り検出方法。
【請求項１０】
前記制御コマンドはパラメーターを有し、前記第２のラッチに保持されるデータは前記パラメーターにより選択され前記データ記憶部から読み出されたデータであることを特徴とする請求項８に記載の誤り検出方法。
【請求項１１】
前記データ記憶部は複数の領域に分割されており、前記パラメーターは前記複数の領域の中のいずれの領域かを識別するためのものであることを特徴とする請求項９に記載の誤り検出方法。
【請求項１２】
更に、ＣＲＣ演算回路を用い、
前記制御コマンドが第２のコマンドである場合は、
前記付随するデータを保存データとして前記データ記憶部に記憶すると共に前記付随するデータを入力とする前記ＣＲＣ演算回路による演算結果を前記第１のラッチに保持する処理と、
前記制御コマンドが第３のコマンドである場合は、
前記データ記憶部に記憶された前記保存データを入力とする前記ＣＲＣ演算回路による演算結果を前記第２のラッチに保持し、前記第１のラッチに保持されたデータと前記第２のラッチに保持されたデータとの比較を前記データ比較回路により行う処理とを含むことを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の誤り検出方法。
【請求項１３】
前記データ比較回路おける比較の結果が不一致の場合、前記不一致を示す信号を、前記ホストインターフェイスを介して出力することを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の誤り検出方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】誤り検出器、誤り検出器を有する半導体装置、誤り検出器を有する半導体装置を用いた情報処理装置及び表示装置並びに誤り検出方法
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月5日(2012.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
前記ヘッドの移動速度の適正値は一定ではなく、工具の種類（大きさ）、被加工物の材質や形状により大きく変わる為、前記移動速度を一定としたまま、この移動速度を適正値に維持する事は難しい。この為、前記工具を固定した回転軸に加わる荷重を測定する事により、前記移動速度を適正値に調節する事が、従来から知られている。即ち、工具により被加工物に切削等の加工を施す際には、加工抵抗により、この工具及びこの工具を固定した回転軸に荷重が加わる。この加工抵抗、延いてはこの回転軸に加わる荷重は、前記移動速度が速くなる程大きくなり、逆に、この移動速度が遅くなる程小さくなる。そこで、前記荷重が所定範囲に収まる様に、前記移動速度を調節すれば、この移動速度を適正範囲に収める事ができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
この様な目的で、工作機械の主軸等の回転軸に加わる荷重を測定する為の装置として、特許文献１に記載された発明装置が従来から知られている。この特許文献１に記載された発明装置は、水晶圧電式の荷重センサを複数個、荷重の作用方向に対して直列に配置し、この荷重センサの測定信号に基づいて、切削工具を支持固定した回転軸（スピンドル）に加わる荷重（切削抵抗）を測定する様に構成している。この様な特許文献１に記載された発明装置の場合、高価な水晶圧電式の荷重センサを使用する為、荷重測定装置全体としてのコストが嵩む事が避けられない。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月23日(2013.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面部を有する基材と、
前記平面部上に形成され、金属で形成された表面を有し、標的物質が配置される回折格子と、を含み、
前記回折格子は、第１の方向に１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の周期で周期的に配列されている複数の第１の突起と、隣り合う２つの第１の突起の間に位置して前記基材の下地を構成する複数の下地部分と、前記複数の第１の突起の上面に形成されている複数の第２の突起と、前記複数の下地部分に形成されている複数の第３の突起と、を含むこと、
を特徴とするセンサーチップ。
【請求項２】
前記複数の第１の突起は、前記第１の方向に交差し前記平面部に平行な第２の方向に周期的に配列されている、請求項１に記載のセンサーチップ。
【請求項３】
前記複数の第２の突起及び前記複数の第３の突起は、前記平面部に平行な第３の方向に周期的に配列されている、請求項１または２に記載のセンサーチップ
【請求項４】
前記複数の第２の突起及び前記複数の第３の突起は、前記第３の方向に交差し前記平面部に平行な第４の方向に周期的に配列されている、請求項３に記載のセンサーチップ。
【請求項５】
前記複数の第２の突起及び前記複数の第３の突起は、微粒子からなる、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のセンサーチップ。
【請求項６】
前記回折格子の前記表面を構成する金属は、金または銀である、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のセンサーチップ。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のセンサーチップと、
前記標的物質を前記センサーチップの表面に搬送する搬送部と、
前記センサーチップを載置する載置部と、
前記センサーチップ、前記搬送部及び前記載置部を収容する筐体と、
前記筐体の前記センサーチップの表面と対向する位置に設けられた照射窓と、
を含む、センサーカートリッジ。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のセンサーチップと、
前記センサーチップに光を照射する光源と、
前記センサーチップによって得られた光を検出する光検出器と、
を含む、分析装置。
【請求項９】
平面部を有する基材と、
金属で形成された表面を有し、標的物質が配置される回折格子と、を含み、
前記回折格子は、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の周期で複数の第１の凸形状が周期的に配列されている第１の凹凸形状と、前記複数の第１の凸形状に前記第１の凹凸形状の周期よりも短い周期で複数の第２の凸形状が周期的に配列されている第２の凹凸形状と、隣り合う２つの第１の凸形状の間に位置する下地部分にて前記第１の凹凸形状の周期よりも短い周期で複数の第３の凸形状が周期的に配列されている第３の凹凸形状とが重畳することにより前記平面部に形成された合成パターンを有すること、
を特徴とするセンサーチップ。
【請求項１０】
前記複数の第１の凸形状は、前記平面部に平行な第１の方向に周期的に配列されているとともに、前記第１の方向に交差して前記平面部に平行な第２の方向に周期的に配列されている、請求項９に記載のセンサーチップ。
【請求項１１】
前記複数の第２の凸形状及び前記複数の第３の凸形状は、前記平面部に平行な第３の方向に周期的に配列されている、請求項９または１０に記載のセンサーチップ
【請求項１２】
前記複数の第２の凸形状及び前記複数の第３の凸形状は、前記第３の方向に交差して前記平面部に平行な第４の方向に周期的に配列されている、請求項１１に記載のセンサーチップ。
【請求項１３】
前記複数の第２の凸形状及び前記複数の第３の凸形状は、微粒子からなる、請求項９乃至１２のいずれか一項に記載のセンサーチップ。
【請求項１４】
前記回折格子の前記表面を構成する金属は、金または銀である、請求項９乃至１３のいずれか一項に記載のセンサーチップ。
【請求項１５】
請求項９乃至１４のいずれか一項に記載のセンサーチップと、
前記標的物質を前記センサーチップの表面に搬送する搬送部と、
前記センサーチップを載置する載置部と、
前記センサーチップ、前記搬送部及び前記載置部を収容する筐体と、
前記筐体の前記センサーチップの表面と対向する位置に設けられた照射窓と、
を含む、センサーカートリッジ。
【請求項１６】
請求項９乃至１４のいずれか一項に記載のセンサーチップと、
前記センサーチップに光を照射する光源と、
前記センサーチップによって得られた光を検出する光検出器と、
を含む、分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の課題を解決するため、本発明にかかるひとつのセンサーチップは、平面部を有する基材と、前記平面部上に形成され、金属で形成された表面を有し、標的物質が配置される回折格子と、を含み、前記回折格子は、第１の方向に１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の周期で周期的に配列されている複数の第１の突起と、隣り合う２つの第１の突起の間に位置して前記基材の下地を構成する複数の下地部分と、前記複数の第１の突起の上面に形成されている複数の第２の突起と、前記複数の下地部分に形成されている複数の第３の突起と、を含むこと、を特徴とする。
上記の課題を解決するため、本発明にかかるひとつのセンサーチップは、平面部を有する基材と、金属で形成された表面を有し、標的物質が配置される回折格子と、を含み、前記回折格子は、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の周期で複数の第１の凸形状が周期的に配列されている第１の凹凸形状と、前記複数の第１の凸形状に前記第１の凹凸形状の周期よりも短い周期で複数の第２の凸形状が周期的に配列されている第２の凹凸形状と、隣り合う２つの第１の凸形状の間に位置する下地部分にて前記第１の凹凸形状の周期よりも短い周期で複数の第３の凸形状が周期的に配列されている第３の凹凸形状とが重畳することにより前記平面部に形成された合成パターンを有すること、を特徴とする。
上記の課題を解決するため、本発明のセンサーチップは、金属を含む基材に形成された回折格子に標的物質を配置し、表面プラズモン共鳴及び表面増強ラマン散乱を利用して、前記標的物質を検出するためのセンサーチップであって、前記回折格子は、前記基材の平面部の上に形成され、前記平面部を垂直に切断する方向の断面形状が矩形の凸形状であり、前記基材の平面内に平行な第１の方向に光の波長よりも短い周期で配列される金属を含む第１の突起の群と、前記第１の突起の群において、隣り合う２つの第１の突起の間に位置する前記基材の下地部分の群と、前記第１の突起の群において、各々の前記第１の突起の上面に形成される金属を含む複数の第２の突起の群と、前記下地部分の群において、各々の前記下地部分に形成される金属を含む複数の第３の突起の群と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月7日(2013.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波を測定するための電磁波測定方法であって、
電磁波の時間波形を取得する波形取得工程と、
ウェーブレット変換を用いて前記電磁波の時間波形をウェーブレット展開係数に分解する分解工程と、
前記各ウェーブレット展開係数の所定の測定帯域におけるスペクトルへの影響度合いを算出する算出工程と、
少なくとも前記ウェーブレット展開係数のスペクトルへの影響度合いに基づいて、前記ウェーブレット展開係数を重み付けする重み付け工程と、
前記重み付けされたウェーブレット展開係数をウェーブレット逆変換によって時間波形に変換する変換工程と、
を含むことを特徴とする電磁波測定方法。
【請求項２】
前記重み付け工程で得られた測定物ごとのウェーブレット展開係数の重み付けをデータベースとして保存する保存工程と、
前記測定物に応じて前記ウェーブレット展開係数の重み付けを調整する調整工程と、
を含み、
前記変換工程において、前記調整工程によって重み付けを調整されたウェーブレット展開係数をウェーブレット逆変換によって時間波形に変換することを特徴とする請求項１に記載の電磁波測定方法。
【請求項３】
前記重み付け工程において、前記ウェーブレット変換で使用するしきい値と前記ウェーブレット展開係数のスペクトルへの影響度合いに基づいて、ウェーブレット展開係数を重み付けすることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁波測定方法。
【請求項４】
前記算出工程において、前記各ウェーブレット展開係数のスペクトルへの影響度合いとして、前記分解したウェーブレット展開係数の値を１つだけ取り出し、ウェーブレット逆変換により時間波形に復元し、得られた時間波形をフーリエ変換し、少なくとも１つの周波数の信号強度を足し合わせた値を算出し、この算出を各ウェーブレット展開係数について繰り返すことを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の電磁波測定方法。
【請求項５】
前記算出工程において、前記各ウェーブレット展開係数のスペクトルへの影響度合いとして、予め分解しておいたウェーブレット展開係数の値を１つだけを取り出し、その値を規格化し、ウェーブレット逆変換により時間波形に復元し、得られた時間波形をフーリエ変換し、少なくとも１つの周波数の信号強度を足し合わせた値を算出し、この算出を各ウェーブレット展開係数について繰り返すことを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の電磁波測定方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの周波数の信号強度を足し合わせた値は、周波数の信号強度を、周波数ごとに重み付けして足し合わせた値であることを特徴とする請求項４または５に記載の電磁波測定方法。
【請求項７】
前記電磁波は、３０ＧＨｚ以上３０ＴＨｚ以下の範囲内の周波数の成分を含むテラヘルツ波であることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の電磁波測定方法。
【請求項８】
電磁波を測定するための電磁波測定装置であって、
電磁波の時間波形を取得する波形取得手段と、
ウェーブレット変換を用いて前記電磁波の時間波形をウェーブレット展開係数に分解する分解手段と、
前記各ウェーブレット展開係数の所定の測定帯域におけるスペクトルへの影響度合いを算出する算出手段と、
少なくとも前記ウェーブレット展開係数のスペクトルへの影響度合いに基づいて、ウェーブレット展開係数を重み付けする重み付け手段と、
前記重み付けされたウェーブレット展開係数をウェーブレット逆変換によって時間波形に変換する変換手段と、
を有することを特徴とする電磁波測定装置。
【請求項９】
請求項１から７の何れか１項に記載の電磁波測定方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月7日(2013.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波を測定するための電磁波測定装置であって、
電磁波の第１の時間波形を取得するための波形取得手段と、
前記第１の時間波形をウェーブレット変換し、操作したウェーブレット展開係数を用いてウェーブレット逆変換することにより第２の時間波形を作成するための作成手段と、
電磁波の時間波形の取得において、前記第１の時間波形と前記第２の時間波形の比に基づいて、前記第２の時間波形に変換して当該時間波形を取得するための変換手段と、
を有することを特徴とする電磁波測定装置。
【請求項２】
前記作成手段は、予め測定した前記電磁波の第１の時間波形をウェーブレット変換し、ウェーブレット展開係数をしきい値処理してウェーブレット逆変換することで、前記ウェーブレット変換で使用したマザーウェーブレットと相関が高く信号処理に適した前記第２の時間波形を作成することを特徴とする請求項１に記載の電磁波測定装置。
【請求項３】
前記波形取得手段は、電磁波を発生させるための発生器と、電磁波を検出するための検出器と、電磁波発生時と電磁波検出時との間の遅延時間を調整する遅延系と、を備え、
前記遅延系で遅延時間を変化させることによって電磁波の第１の時間波形を取得することを特徴とする請求項１または２に記載の電磁波測定装置。
【請求項４】
前記変換手段は、前記第２の時間波形に変換するために、前記遅延時間ごとに取得するデータの値を前記比に基づいて変化させることを特徴とする請求項３に記載の電磁波測定装置。
【請求項５】
前記発生器が光伝導素子であって、
前記変換手段が、前記光伝導素子に印加するバイアス電圧を制御するバイアス電圧制御器、または前記光伝導素子に照射する光の強度を調整する可変減衰器、または前記検出器からの信号を可変に増幅する可変増幅器を含むことを特徴とする請求項３または４に記載の電磁波測定装置。
【請求項６】
前記変換手段が、コンピュータ内の演算手段であることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の電磁波測定装置。
【請求項７】
前記波形取得手段は、参照物体からの電磁波の前記第１の時間波形を取得し、
前記変換手段は、参照物体に類似の測定対象物からの電磁波の時間波形の前記波形取得手段による取得において、前記比に基づいて、前記第２の時間波形に変換して当該測定対象物からの電磁波の時間波形を取得することを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の電磁波測定装置。
【請求項８】
電磁波を測定するための電磁波測定方法であって、
電磁波の第１の時間波形を取得する第１の工程と、
前記第１の時間波形をウェーブレット変換する第２の工程と、
前記ウェーブレット変換の結果に対して、操作したウェーブレット展開係数を用いてウェーブレット逆変換することにより第２の時間波形を取得する第３の工程と、
前記第１の時間波形と前記第２の時間波形の比を求める第４の工程と、
電磁波の時間波形の取得において、前記比に基づいて、前記第２の時間波形に変換して当該時間波形を取得する第５の工程と、
を有することを特徴とする電磁波測定方法。
【請求項９】
前記第５の工程で得られた時間波形をウェーブレット変換し、該ウェーブレット変換の結果に対して、操作したウェーブレット展開係数を用いてウェーブレット逆変換することにより時間波形を取得することを特徴とする請求項８に記載の電磁波測定方法。
【請求項１０】
前記電磁波は、３０ＧＨｚ以上３０ＴＨｚ以下の範囲内の周波数の成分を含むテラヘルツ波であることを特徴とする請求項８または９に記載の電磁波測定方法。
【請求項１１】
請求項８から１０の何れか１項に記載の電磁波測定方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月28日(2012.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影装置によって投影オブジェクトが投影され且つユーザーによって手書きオブジェクトが手書きされた板を撮影して得た画像データを入力する入力手段、
前記入力された画像データから検出した、前記板の四辺及び前記投影装置によって投影される投影領域の四辺に基づいて、第１の枠及び第２の枠を抽出する枠抽出手段、
前記第１の枠から第１の歪み補正値を取得し、前記第２の枠から第２の歪み補正値を取得する補正値取得手段、
前記入力された画像データから、前記投影オブジェクトと前記手書きオブジェクトとを抽出するオブジェクト抽出手段、
前記抽出された手書きオブジェクトに対しては前記第１の歪み補正値を用い、前記抽出された投影オブジェクトに対しては前記第２の歪み補正値を用いて、前記オブジェクト抽出手段で抽出された各オブジェクトの形状の歪み補正を行う歪み補正手段、並びに、
当該歪み補正された各オブジェクトを用いて歪み補正された画像データを生成する出力手段、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記歪み補正手段は、更に、前記手書きオブジェクトが投影オブジェクトに付されたマークオブジェクトであるか否か判定し、マークオブジェクトであると判定した場合は前記第２の歪み補正値を用いて当該オブジェクトの形状を補正し、一方、マークオブジェクトでないと判定した場合は前記第１の歪み補正値を用いて当該オブジェクトの形状を補正することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記歪み補正手段は、前記第２の歪み補正値を用いて、前記手書きオブジェクトと前記投影オブジェクトの位置の補正を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記オブジェクト抽出手段は、前記入力された画像データに含まれる各オブジェクトの色、各オブジェクトの線の揺れ、濃淡の不均一性の少なくともいずれかを用いて、前記手書きオブジェクトと前記投影オブジェクトとを選別して抽出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記オブジェクト抽出手段は、前記入力された画像データに含まれる各オブジェクトの近傍に存在するオブジェクトの位置と大きさとに基づいて、前記手書きオブジェクトと前記投影オブジェクトとを選別して抽出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記オブジェクト抽出手段は、前記投影装置によって投影された前記投影オブジェクトの電子データを特定し、
該特定したデータとの比較により、前記入力された画像データから前記電子データに存在しない手書きオブジェクトを抽出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記出力手段は、歪み補正された前記手書きオブジェクトと前記電子データを合成した画像データを生成し出力することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
投影装置によって投影オブジェクトが投影され且つユーザーによって手書きオブジェクトが手書きされた板を撮影して得た画像データを入力する入力ステップ、
前記入力された画像データから検出した、前記板の四辺及び前記投影装置によって投影される投影領域の四辺に基づいて、第１の枠及び第２の枠を抽出する枠抽出ステップ、
前記第１の枠から第１の歪み補正値を取得し、前記第２の枠から第２の歪み補正値を取得する補正値取得ステップ、
前記入力された画像データから、前記投影オブジェクトと前記手書きオブジェクトとを抽出するオブジェクト抽出ステップ、
前記抽出された手書きオブジェクトに対しては前記第１の歪み補正値を用い、前記抽出された投影オブジェクトに対しては前記第２の歪み補正値を用いて、前記オブジェクト抽出ステップで抽出された各オブジェクトの形状の歪み補正を行う歪み補正ステップ、並びに、
当該歪み補正された各オブジェクトを用いて歪み補正された画像データを生成する出力ステップ、
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項９】
コンピューターを、
投影装置によって投影オブジェクトが投影され且つユーザーによって手書きオブジェクトが手書きされた板を撮影して得た画像データを入力する入力手段、
前記入力された画像データから検出した、前記板の四辺及び前記投影装置によって投影される投影領域の四辺に基づいて、第１の枠及び第２の枠を抽出する枠抽出手段、
前記第１の枠から第１の歪み補正値を取得し、前記第２の枠から第２の歪み補正値を取得する補正値取得手段、
前記入力された画像データから、前記投影オブジェクトと前記手書きオブジェクトとを抽出するオブジェクト抽出手段、
前記抽出された手書きオブジェクトに対しては前記第１の歪み補正値を用い、前記抽出された投影オブジェクトに対しては前記第２の歪み補正値を用いて、前記オブジェクト抽出手段で抽出された各オブジェクトの形状の歪み補正を行う歪み補正手段、並びに、
当該歪み補正された各オブジェクトを用いて歪み補正された画像データを生成する出力手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月27日(2012.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の第１方向に向かってアルミニウムを含む金属膜からなる端子が複数配列する端子部を形成する端子部形成工程と、
少なくとも表示領域に無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程と、
前記基板をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を用いて洗浄する洗浄工程と、
前記第１方向が略鉛直方向となるように前記基板を配置して乾燥させる乾燥工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記乾燥工程は、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の蒸気に前記基板を暴露して乾燥させることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記乾燥工程は、前記基板における前記第１方向の一方から他方に向けて気体を吹き付けることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記乾燥工程は、前記基板の表面を略鉛直方向に対して傾斜させて乾燥することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記端子部形成工程は、前記基板の表面より低い位置に前記端子部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記端子部形成工程は、前記第１方向における複数の前記端子を含む領域に繋がった凹部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
［適用例１］本適用例に係る液晶装置の製造方法は、基板上の第１方向に向かってアルミニウムを含む金属膜からなる端子が複数配列する端子部を形成する端子部形成工程と、少なくとも表示領域に無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程と、前記基板をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を用いて洗浄する洗浄工程と、前記第１方向が略鉛直方向となるように前記基板を配置して乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月30日(2013.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部にトランジスタを有する画素を有し、複数のフレーム期間で表示を行う液晶表示装置であって、
前記トランジスタは、酸化物半導体でなる半導体層を有し、
前記フレーム期間は、書き込み期間及び保持期間を有し、
前記書き込み期間において、前記複数の画素のそれぞれに、画像信号を入力した後、前記保持期間において、前記複数の画素が有するトランジスタをオフ状態にして、少なくとも１０秒間、前記画像信号を保持させることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
表示部にトランジスタを有する画素を有し、複数のフレーム期間で表示を行う液晶表示装置であって、
前記トランジスタは、酸化物半導体でなる半導体層を有し、
前記フレーム期間は、書き込み期間及び保持期間を有し、
前記書き込み期間において、複数回の極性の反転した電圧の画像信号を前記画素に入力した後、前記保持期間において、前記複数の画素のトランジスタをオフ状態にして、少なくとも１０秒間、前記画像信号を保持させることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記酸化物半導体は、キャリア濃度が１×１０１４／ｃｍ３未満であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記トランジスタのチャネル幅１μｍあたりのオフ電流は、１×１０−１７Ａ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月2日(2013.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動回路部と、
酸化物半導体でなる半導体層を具備するトランジスタが各画素に設けられた画素部と、
前記駆動回路部を駆動する制御信号及び前記画素部に供給する画像信号を生成するための回路と、
前記画像信号をフレーム期間毎に記憶する記憶回路と、
前記記憶回路で前記フレーム期間毎に記憶された前記画像信号のうち、連続するフレーム期間の前記画像信号の差分を検出する比較回路と、
前記比較回路で差分を検出した際に連続するフレーム期間の前記画像信号を選択して出力する選択回路と、
前記比較回路で差分を検出した際に前記制御信号と前記選択回路より出力される前記画像信号の前記駆動回路部への供給を行い、前記比較回路で差分を検出しない際に前記制御信号を前記駆動回路部への供給を停止する表示制御回路と、を有する液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記酸化物半導体は、キャリア密度が１×１０１４／ｃｍ３未満である液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記酸化物半導体層を具備するトランジスタは、チャネル幅１０μｍの場合において、チャネル幅１μｍあたりのオフ電流を１０ａＡ／μｍ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月7日(2013.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像信号が供給される画素が複数設けられた画素部と、
信号線を選択的に制御する信号線側駆動回路、及びゲート線を選択的に制御するゲート線側駆動回路を有する駆動回路と、
前記画像信号を記憶することができる機能を有する第１の回路と、
前記第１の回路に記憶された前記画像信号を前記画素毎に比較して差分を演算することができる機能を有する第２の回路と、
前記差分に応じて、前記駆動回路の制御及び前記画像信号の読み出しを行うことができる機能を有する第３の回路と、を有し、
前記第３の回路は、前記差分が検出された前記画素のみに前記画像信号を供給し、
前記画素は、ゲートが前記ゲート線に電気的に接続され、第１端子が前記信号線に電気的に接続され、第２端子が画素電極に電気的に接続されたトランジスタを有し、
前記トランジスタは、酸化物半導体を有する半導体層を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
画像信号が供給される画素が複数設けられた画素部と、
デコーダ回路を有することで、信号線及び選択線を選択的に制御する信号線側駆動回路、及びゲート線を選択的に制御するゲート線側駆動回路を有する駆動回路と、
前記画像信号を記憶することができる機能を有する第１の回路と、
前記第１の回路に記憶された前記画像信号を前記画素毎に比較して差分を演算することができる機能を有する第２の回路と、
前記差分に応じて、前記駆動回路の制御及び前記画像信号の読み出しを行うことができる機能を有する第３の回路と、を有し、
前記第３の回路は、前記デコーダ回路を制御することにより、前記差分が検出された前記画素のみに前記画像信号を供給し、
前記画素は、第１のトランジスタ及び第２のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記ゲート線に電気的に接続され、
前記第１のトランジスタの第１端子は、前記信号線に電気的に接続され、
前記第１のトランジスタの第２端子は、前記第２のトランジスタの第１端子に電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記選択線に電気的に接続され、
前記第２のトランジスタの第２端子は、画素電極に電気的に接続されており、
前記第１のトランジスタ及び前記第２のトランジスタは、酸化物半導体を有する半導体層を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
画像信号が供給される画素が複数設けられた画素部と、
シフトレジスタ回路を有することで信号線を順次選択する信号線側駆動回路、及びデコーダ回路を有することでゲート線を選択的に制御するゲート線側駆動回路を有する駆動回路と、
前記画像信号を記憶することができる機能を有する第１の回路と、
前記第１の回路に記憶された前記画像信号を前記画素毎に比較して差分を演算することができる機能を有する第２の回路と、
前記差分に応じて、前記駆動回路の制御及び前記画像信号の読み出しを行うことができる機能を有する第３の回路と、を有し、
前記第３の回路は、前記デコーダ回路を制御することにより、前記差分が検出された前記画素に前記画像信号を供給し、
前記画素は、ゲートが前記ゲート線に電気的に接続され、第１端子が前記信号線に電気的に接続され、第２端子が画素電極に電気的に接続されたトランジスタを有し、
前記トランジスタは、酸化物半導体を有する半導体層を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記酸化物半導体は、二次イオン質量分析法で検出される水素濃度が１×１０１６／ｃｍ３以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記酸化物半導体は、キャリア濃度が１×１０１４／ｃｍ３未満であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記画素部は、前記画素毎に前記画素電極を有し、端子部、スイッチングトランジスタとともに第１の基板上に設けられており、対向電極が第２の基板上に設けられており、前記画素電極と前記対向電極との間には液晶が挟持されており、
前記対向電極は、前記スイッチングトランジスタを介して前記端子部と電気的に接続されており、
前記スイッチングトランジスタが有する半導体層は、酸化物半導体であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記酸化物半導体は、二次イオン質量分析法で検出される水素濃度が１×１０１６／ｃｍ３以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項６または請求項７において、
前記酸化物半導体は、キャリア濃度が１×１０１４／ｃｍ３未満であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一に記載の液晶表示装置を具備する電子機器。
【請求項１０】
画像信号が供給され、酸化物半導体を有する半導体層を有するトランジスタで構成される画素が複数設けられた画素部と、
信号線側駆動回路、及びゲート線側駆動回路を有する駆動回路と、
前記画像信号を記憶することができる機能を有する第１の回路と、
前記画像信号を前記画素毎に比較して差分を演算することができる機能を有する第２の回路と、
前記駆動回路の制御及び前記画像信号の読み出しを行うことができる機能を有する第３の回路と、を有し、
前記第２の回路において、前記第１の回路に記憶された連続するフレーム期間の画像信号を読み出して前記画素毎に比較して差分を演算し、
前記第３の回路において、前記第２の回路で前記差分が検出された前記画素のみに前記画像信号を供給するよう前記駆動回路を制御することを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月28日(2012.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影可能状態と収納状態を移動するレンズ鏡筒の一部である像ぶれ補正装置であって、ベース部材と、
第一レンズを保持し、前記第一レンズの光軸に直交する方向に移動可能な第一レンズユニットと、
第二レンズを保持し、前記第一レンズユニットに対して取り付けられ、前記第二レンズの光軸に直交する方向に移動可能である第二レンズユニットと、
前記ベース部材と前記第一レンズユニットとに挟持される転動部材を有し、
前記撮影可能状態よりも前記収納状態の方が前記第一レンズユニットと前記第二レンズユニットの間隔は小さく、前記撮影可能状態よりも前記収納状態の方が前記第一レンズユニットと前記ベース部材の間隔が大きく、かつ前記収納状態のときは前記転動部材が前記ベース部材もしくは前記第一レンズユニットと当接しないことを特徴とする像ぶれ補正装置。
【請求項２】
前記第一レンズユニットは前記ベース部材に対して被写体側に位置し、
前記第二レンズユニットは前記ベース部材に対して撮像素子側に位置することを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項３】
前記第二レンズユニットは前記第一レンズユニットに対して被写体側に位置し、
前記ベース部材は前記第一レンズユニットに対して撮像素子側に位置することを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項４】
請求項３に記載の像ぶれ補正装置を備えたレンズ鏡筒であって、
前記レンズ鏡筒は第三レンズと前記第三レンズを保持する第三レンズユニットとを更に有し、
前記第三レンズユニットは、前記収納状態のときに前記ベース部材の貫通穴を通じて前記第一レンズユニットと当接する当接部を有するレンズ鏡筒。
【請求項５】
請求項１または２に記載の像ぶれ補正装置を備えたレンズ鏡筒であって、
前記レンズ鏡筒は前記像ぶれ補正装置よりも光軸方向被写体側にズームユニットを更に有し、
前記ズームユニットは、前記収納状態のときに前記第一レンズユニットと当接するレンズ鏡筒。
【請求項６】
請求項４又は５に記載のレンズ鏡筒を有する撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】像ぶれ補正装置及びレンズ鏡筒、撮影装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明は、撮影可能状態と収納状態を移動するレンズ鏡筒の一部である像ぶれ補正装置であって、ベース部材と、第一レンズを保持し、前記第一レンズの光軸に直交する方向に移動可能な第一レンズユニットと、第二レンズを保持し、前記第一レンズユニットに対して取り付けられ、前記第二レンズの光軸に直交する方向に移動可能である第二レンズユニットと、前記ベース部材と前記第一レンズユニットとに挟持される転動部材を有し、前記撮影可能状態よりも前記収納状態の方が前記第一レンズユニットと前記第二レンズユニットの間隔は小さく、前記撮影可能状態よりも前記収納状態の方が前記第一レンズユニットと前記ベース部材の間隔が大きく、かつ前記収納状態のときは前記転動部材が前記ベース部材もしくは前記第一レンズユニットと当接しないことを特徴とする。