Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月1日(2013.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一対の側壁を有するリザーバ本体と、
液体が貯留されブレーキマスタシリンダに接続されるブレーキリザーバ室と、
該ブレーキリザーバ室と画成されて液体が貯留されクラッチマスタシリンダに接続されるクラッチリザーバ室と、
該クラッチリザーバ室が臨む前記各側壁のいずれか一方に設けられる接続ポートと、
前記ブレーキリザーバ室と前記クラッチリザーバ室とを画成する隔壁と、
を有するリザーバにおいて、
前記隔壁は、第１の隔壁と第２の隔壁と有し、
該第１の隔壁は、前記各側壁に沿うように車両前後方向に延びてそれぞれ立設され、
前記第２の隔壁は、前記第１の隔壁と該第１の隔壁に隣接する前記側壁とを繋ぐとともに、前記各側壁に前記ブレーキリザーバ室と前記クラッチリザーバ室とが臨むように、前記各側壁の車両前後方向の中間位置にそれぞれ立設されていることを特徴とするリザーバ。
【請求項２】
前記各第１の隔壁は、前記第２の隔壁との接続側と反対側で車両の後方向の後壁に接続されてなることを特徴とする請求項１に記載のリザーバ。
【請求項３】
前記第１の隔壁および前記第２の隔壁を前記各側壁に対して対称に立設することを特徴とする請求項１または２に記載のリザーバ。
【請求項４】
前記各第１の隔壁は、前記ブレーキリザーバ室と前記クラッチリザーバ室とを連通する連通路がそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のリザーバ。
【請求項５】
前記各第１の隔壁のうち、前記接続ポートが設けられる前記クラッチリザーバ室の第１の隔壁には、前記ブレーキリザーバ室と前記クラッチリザーバ室とを連通する連通路が形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のリザーバ。
【請求項６】
前記各第１の隔壁の間を繋いで立設され、前記各クラッチリザーバ室を連通する接続隔壁を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のリザーバ。
【請求項７】
前記接続隔壁は、車両の後方向の後壁に間隔を持って隣設されることを特徴とする請求項６に記載のリザーバ。
【請求項８】
前記接続隔壁は、車両の前方向の前壁に間隔を持って隣設されることを特徴とする請求項６に記載のリザーバ。
【請求項９】
前記各第１の隔壁のうちいずれか一方に、前記ブレーキリザーバ室と前記クラッチリザーバ室とを連通する連通路が形成されていることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載のリザーバ。
【請求項１０】
前記各側壁は、前記ブレーキリザーバ室と前記クラッチリザーバ室とに跨り、液面レベルを示す液面表示線を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載のリザーバ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は、ブレーキリザーバ室とクラッチリザーバ室とを画成する隔壁が、第１の隔壁と第２の隔壁と有し、該第１の隔壁は、前記各側壁に沿うように車両前後方向に延びてそれぞれ立設され、前記第２の隔壁は、前記第１の隔壁と該第１の隔壁に隣接する前記側壁とを繋ぐとともに、前記各側壁に前記ブレーキリザーバ室と前記クラッチリザーバ室とが臨むように、前記各側壁の車両前後方向の中間位置にそれぞれ立設されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【図１】本発明に係る第１実施形態のリザーバおよびブレーキマスタシリンダ等を示す側面図である。
【図２】本発明に係る第１実施形態のリザーバのリザーバ本体を示す正面図である。
【図３】本発明に係る第１実施形態のリザーバのリザーバ本体を示す側面図である。
【図４】本発明に係る第１実施形態のリザーバのリザーバ本体を示す平面図である。
【図５】本発明に係る第１実施形態のリザーバのリザーバ本体を示す図４のＡ−Ａ断面図である。
【図６】本発明に係る第１実施形態のリザーバのリザーバ本体を示す図４のＢ−Ｂ断面図である。
【図７】本発明に係る第１実施形態のリザーバの下部構成体を示す平面図である。
【図８】本発明に係る第１実施形態のリザーバの別の下部構成体を示す平面図である。
【図９】本発明に係る第１実施形態の他の下部構成体を示す平面図である。
【図１０】本発明に係る第２実施形態のリザーバの下部構成体を示す平面図である。
【図１１】本発明に係る第２実施形態のリザーバの別の下部構成体を示す平面図である。
【図１２】本発明に係る第２実施形態の他の下部構成体を示す平面図である。
【図１３】本発明に係る第３実施形態のリザーバの下部構成体を示す平面図である。
【図１４】本発明に係る第３実施形態のリザーバの別の下部構成体を示す平面図である。
【図１５】本発明に係る第３実施形態の他の下部構成体を示す平面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月15日(2013.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨液が供給された研磨パッドにウェーハの被研磨面を圧接し、前記ウェーハと前記研磨パッドとの相対運動により前記被研磨面を研磨するウェーハの研磨方法であって、
前記研磨パッドの表面で開口し前記研磨液を貯留可能な貯留部を前記表面にパターン状に形成し、
前記研磨液を前記研磨パッドに含浸させ、かつ前記貯留部に前記研磨液を貯留させた状態で前記被研磨面を研磨し、
前記被研磨面の研磨に伴い前記研磨パッドから排出される研磨液の分だけ前記貯留部に供給された研磨液を前記研磨パッドに含浸させつつ前記被研磨面の研磨を行うことを特徴とするウェーハの研磨方法。
【請求項２】
前記研磨液の供給を、前記被研磨面の研磨加工前若しくは前記研磨加工初期のみ行なうことを特徴とする請求項１に記載のウェーハの研磨方法。
【請求項３】
前記ウェーハを、リテーナリングを有する研磨ヘッドにより保持するとともに前記研磨パッドに圧接させることを特徴とする請求項１または２に記載のウェーハの研磨方法。
【請求項４】
前記研磨パッドを、厚さが０．５ｍｍ以上で３．０ｍｍ以下となるように形成したことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のウェーハの研磨方法。
【請求項５】
前記貯留部を、その開口径が０．５ｍｍ以上で１０ｍｍ以下となるように形成し、前記研磨パッドを用いて前記被研磨面の１次研磨を行なうことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のウェーハの研磨方法。
【請求項６】
研磨液が供給されて前記研磨液を含浸するとともにウェーハの被研磨面が圧接され、前記ウェーハとの相対運動により前記被研磨面を研磨する研磨パッドであって、
前記研磨パッドは、
前記研磨パッドの表面にパターン状に複数形成され、前記表面で開口し前記研磨液を貯留可能な貯留部を有し、
前記貯留部に前記研磨液を貯留させた状態で前記被研磨面を研磨し、前記被研磨面の研磨に伴い前記研磨パッドから排出される研磨液の分だけ前記貯留部に供給された研磨液を前記研磨パッドに含浸させることにより前記被研磨面を研磨可能とすることを特徴とする研磨パッド。
【請求項７】
前記研磨パッドは、厚さが０．５ｍｍ以上で３．０ｍｍ以下となるように形成されたことを特徴とする請求項６に記載の研磨パッド。
【請求項８】
前記研磨パッドは、前記被研磨面の１次研磨に用いられ、前記貯留部は、その開口径が０．５ｍｍ以上で１０ｍｍ以下となるように形成されたことを特徴とする請求項６または７に記載の研磨パッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明に係るウェーハの研磨方法は、第１には、研磨液が供給された研磨パッドにウェーハの被研磨面を圧接し、前記ウェーハと前記研磨パッドとの相対運動により前記被研磨面を研磨するウェーハの研磨方法であって、前記研磨パッドの表面で開口し前記研磨液を貯留可能な貯留部を前記表面にパターン状に形成し、前記研磨液を前記研磨パッドに含浸させ、かつ前記貯留部に前記研磨液を貯留させた状態で前記被研磨面を研磨し、前記被研磨面の研磨に伴い前記研磨パッドから排出される研磨液の分だけ前記貯留部に供給された研磨液を前記研磨パッドに含浸させつつ前記被研磨面の研磨を行うことを特徴とする。また、前記研磨液の供給を、前記被研磨面の研磨加工前若しくは前記研磨加工初期のみ行なうことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月12日(2013.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被噴射媒体の搬送方向である第１方向と直交する第２方向に移動しながら被噴射媒体に液体を噴射する液体噴射手段と、
前記液体噴射手段と対向配置される、被噴射媒体を支持する被噴射媒体支持手段と、を備えた液体噴射装置であって、
前記液体噴射手段側の所定部位と、前記被噴射媒体支持手段側の所定部位と、を同電位とする同電位形成手段を備え、
前記被噴射媒体支持手段側の所定部位の、前記第２方向における領域は、前記第２方向における被噴射媒体の少なくとも一方側端部に対応する位置を含み、当該位置より被噴射媒体の外側及び内側に延びており、
前記液体噴射手段を前記第２方向における被噴射媒体の一方側端部領域付近に停止させた状態で被噴射媒体を搬送する際、前記第２方向における被噴射媒体の少なくとも前記一方側端部の側において、前記被噴射媒体支持手段側の所定部位における、被噴射媒体の端部より内側の末端位置と、前記液体噴射手段の所定部位における、被噴射媒体の端部より外側の末端位置と、を結ぶラインが被噴射媒体と交わる様に構成されている、
ことを特徴とする液体噴射装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液体噴射装置において、前記被噴射媒体支持手段側の所定部位における、被噴射媒体の端部より外側の末端位置と、前記液体噴射手段の所定部位における、前記被噴射媒体支持手段側の所定部位における外側の末端位置より遠い側の末端位置と、を結ぶラインが被噴射媒体と交差しない様に構成されている、
ことを特徴とする液体噴射装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液体噴射装置において、前記同電位形成手段は、前記液体噴射手段側の所定部位および前記被噴射媒体支持手段側の所定部位に加え、被噴射媒体を同電位とする、
ことを特徴とする液体噴射装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液体噴射装置において、前記同電位形成手段は、前記液体噴射手段側の所定部位、前記被噴射媒体支持手段側の所定部位、被噴射媒体、のこれらをアース接続することによってこれらを同電位とする、
ことを特徴とする液体噴射装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の液体噴射装置において、前記液体噴射手段側の所定部位は、前記被噴射媒体支持手段と対向する面であり、
前記被噴射媒体支持手段側の所定部位は、前記液体噴射手段と対向する面である、
ことを特徴とする液体噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月18日(2013.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
減圧部４０Ａは、回収用容器３４内を減圧させて、回収用容器３４内にフラックスを吸引して回収するためのものである。回収用容器３４内を減圧させる手段の一例として、図３に示すように、ファン１４の回転駆動によってファン１４の裏面側やドレン管２８、排出管３２および回収用容器３４が加圧状態とされる場合に、この圧力を冷却ゾーンＺ３の負圧となっている吸い込み部Ｓ１（図２および図３参照）に回収用容器３４と連通する減圧部４０Ａを設け、回収用容器３４内を減圧させるようにしたものである。この減圧部４０Ａは、容器側連結部４２と連結チューブ４４と本体側連結部４６とから構成される。容器側連結部４２は、蓋部３３の頂面部３３ａの外面の排出管３２と重ならない位置に取り付けられており、蓋部３３を介して回収用容器３４の内部に連通している。本体側連結部４６は、リフロー装置本体１０の冷却ゾーンＺ３を構成するケーシングの側壁部１０ｃに取り付けられており、この側壁部１０ｃを介して冷却ゾーンＺ３の吸い込み部Ｓ１に連通している。連結チューブ４４は、一端が容器側連結部４２に接続され、他端が本体側連結部４６に接続される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月19日(2012.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の画像形成装置は、記録媒体上に異なる複数の濃度領域を有するパターン画像を形成し、その記録媒体に形成されたパターン画像を読み取り、読み取った画像情報に基づいて画像形成条件を設定するキャリブレーション機能を有する画像形成装置において、記録媒体上のパターン画像を読み取る第１の読取手段と、前記第１の読取手段とは別に設けられ、記録媒体上のパターン画像を読み取る第２の読取手段と、前記キャリブレーション機能に用いることが可能な記録媒体種を追加する場合に、第１の記録媒体で前記キャリブレーション機能を実行し、その結果である画像形成条件を設定した状態で、前記第１の記録媒体以外の追加する第２の記録媒体上にパターン画像を形成し、前記第２の記録媒体上に形成されたパターン画像を前記第１の読取手段で読み取り、該読み取った画像情報に基づいて第１の変換テーブルを設定する第１の設定手段と、前記第１の設定手段により設定された前記第１の変換テーブルから、前記第１の読取手段と前記第２の読取手段の読取特性の相関を示す相関テーブルを用いて第２の変換テーブルを設定する第２の設定手段と、前記第２の記録媒体を用いてキャリブレーション機能を実行するときに、前記第１の読取手段を用いる場合には、前記第１の読取手段で読み取られた画像情報を前記第１の変換テーブルを用いて変換した値に基づいて前記画像形成条件を決定し、前記第２の読取手段を用いる場合には、前記第２の読取手段で読み取られた画像情報を前記第２の変換テーブルを用いて変換した値に基づいて前記画像形成条件を決定する決定手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
その後、画像信号は、ＭＦＰ制御部６０を介してプリンタ制御部１０９に入力される。そして、プリンタ制御部１０９の画像処理部１０９１において、プリンタの出力特性が理想的であった場合に所望の出力が得られるように、画像処理、及びプリンタ部２００などの出力装置に合わせた色処理が施される。なお、入力信号の階調数は８ｂｉｔまで可能であるが、内部処理は精度向上のため画像処理部で１０ｂｉｔに拡張し、後述するディザ処理部１０９５によるディザ処理が行われるまで１０ｂｉｔ処理を行っている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体上に異なる複数の濃度領域を有するパターン画像を形成し、その記録媒体に形成されたパターン画像を読み取り、読み取った画像情報に基づいて画像形成条件を設定するキャリブレーション機能を有する画像形成装置において、
記録媒体上のパターン画像を読み取る第１の読取手段と、
前記第１の読取手段とは別に設けられ、記録媒体上のパターン画像を読み取る第２の読取手段と、
前記キャリブレーション機能に用いることが可能な記録媒体種を追加する場合に、第１の記録媒体で前記キャリブレーション機能を実行し、その結果である画像形成条件を設定した状態で、前記第１の記録媒体以外の追加する第２の記録媒体上にパターン画像を形成し、前記第２の記録媒体上に形成されたパターン画像を前記第１の読取手段で読み取り、該読み取った画像情報に基づいて第１の変換テーブルを設定する第１の設定手段と、
前記第１の設定手段により設定された前記第１の変換テーブルから、前記第１の読取手段と前記第２の読取手段の読取特性の相関を示す相関テーブルを用いて第２の変換テーブルを設定する第２の設定手段と、
前記第２の記録媒体を用いてキャリブレーション機能を実行するときに、前記第１の読取手段を用いる場合には、前記第１の読取手段で読み取られた画像情報を前記第１の変換テーブルを用いて変換した値に基づいて前記画像形成条件を決定し、前記第２の読取手段を用いる場合には、前記第２の読取手段で読み取られた画像情報を前記第２の変換テーブルを用いて変換した値に基づいて前記画像形成条件を決定する決定手段と、を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記相関テーブルは、記録媒体上に形成されたパターン画像を前記第１及び第２の読取手段で読み取り、その各読み取り結果に基づいて生成することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
所定の記録媒体を選択する手段を備え、
前記相関テーブルは、前記選択された記録媒体上に形成されたパターン画像を前記第１及び第２の読取手段で読み取り、その各読み取り結果に基づいて生成することを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月20日(2012.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明による転写装置は、中間転写体の裏面と接触するように配置された第一転写部材と、前記中間転写体の表面に圧接して前記第一転写部材との間に転写部を形成する第二転写部材と、前記中間転写体の前記表面上の現像剤像を記録媒体へ転写するために、前記転写部において前記第一転写部材と前記第二転写部材との間に転写電界を発生させる転写電界発生装置と、前記中間転写体の縁部を検出する中間転写体縁部検出装置と、前記記録媒体の搬送方向において前記第二転写部材の上流側に配置され、前記記録媒体の縁部を検出する第一記録媒体縁部検出装置と、前記記録媒体の前記搬送方向において前記第二転写部材の下流側に配置され、前記記録媒体の前記縁部を検出する第二記録媒体縁部検出装置と、前記中間転写体縁部検出装置の検出結果、前記第一記録媒体縁部検出装置の検出結果、及び前記第二記録媒体縁部検出装置の検出結果に基づいて、前記中間転写体の進行方向に対する前記記録媒体の進行方向の傾きを補正する補正装置とを設けた。
また、本発明による画像形成装置は、上記転写装置を設けた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写装置であって、
中間転写体の裏面と接触するように配置された第一転写部材と、
前記中間転写体の表面に圧接して前記第一転写部材との間に転写部を形成する第二転写部材と、
前記中間転写体の前記表面の現像剤像を記録媒体へ転写するために、前記転写部において前記第一転写部材と前記第二転写部材との間に転写電界を発生させる転写電界発生装置と、
前記中間転写体の縁部を検出する中間転写体縁部検出装置と、
前記記録媒体の搬送方向において前記第二転写部材の上流側に配置され、前記記録媒体の縁部を検出する第一記録媒体縁部検出装置と、
前記記録媒体の前記搬送方向において前記第二転写部材の下流側に配置され、前記記録媒体の前記縁部を検出する第二記録媒体縁部検出装置と、
前記中間転写体縁部検出装置の検出結果と、前記第一記録媒体縁部検出装置の検出結果と、前記第二記録媒体縁部検出装置の検出結果とに基づいて、前記中間転写体の進行方向に対する前記記録媒体の進行方向の傾きを補正する補正装置とを有することを特徴とする転写装置。
【請求項２】
前記中間転写体縁部検出装置の検出結果に基づいて前記中間転写体の前記進行方向を求め、前記第一記録媒体縁部検出装置の検出結果と前記第二記録媒体縁部検出装置の検出結果とに基づいて前記記録媒体の進行方向を求め、前記中間転写体の前記進行方向と前記記録媒体の前記進行方向とに基づいて前記中間転写体の前記進行方向に対する前記記録媒体の前記進行方向の前記傾きを求める制御装置を有することを特徴とする請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
前記中間転写体縁部検出装置は、前記記録媒体の前記搬送方向において前記第一記録媒体縁部検出装置と前記第二記録媒体縁部検出装置との間に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の転写装置。
【請求項４】
さらに、前記第二転写部材に駆動力を与える駆動装置を有しており、前記第二転写部材の表面速度は前記中間転写体の表面速度よりも速く、前記第二転写部材の表面の摩擦係数は前記中間転写体の表面の摩擦係数よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の転写装置。
【請求項５】
前記補正装置は、前記第二転写部材の軸線に垂直な旋回軸線を中心に前記第二転写部材を回転させることにより、前記記録媒体の前記進行方向の前記傾きを補正することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の転写装置。
【請求項６】
前記補正装置は、前記第一転写部材の軸線に対する前記第二転写部材の軸線の傾きを変更することにより、前記記録媒体の前記進行方向の前記傾きを補正することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の転写装置。
【請求項７】
所定数の記録媒体を搬送して、前記中間転写体縁部検出装置の検出結果と、前記第一記録媒体縁部検出装置の検出結果と、前記第二記録媒体縁部検出装置の検出結果とに基づいて、前記所定数の記録媒体のそれぞれの傾き量を求め、前記傾き量から前記所定数の記録媒体の平均傾き量を求め、前記平均傾き量に基づいて補正シーケンスを決定し、決定した補正シーケンスに基づいて前記補正装置を制御する制御装置を有することを特徴とする請求項１に記載の転写装置。
【請求項８】
画像形成装置であって、
画像情報に応じて像担持体に静電潜像を形成する露光装置と、
前記静電潜像を現像剤により現像して現像剤像にする現像装置と、
前記像担持体の現像剤像を中間転写体へ一次転写する一次転写装置と、
前記中間転写体の現像剤像を記録媒体へ二次転写する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の転写装置と、
記録媒体に二次転写された現像剤像を定着させる定着装置とを有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2011107561.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月19日(2012.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の外周に導電性弾性層を有し、該導電性弾性層の外周に表面層を有する帯電部材の製造方法であって、
（１）３官能以上の硬化性アクリルモノマーとベースポリマーとを含む混合物を調製する工程と、
（２）該混合物の層を該支持体の周面に形成する工程と、
（３）該硬化性アクリルモノマーをブリードさせて、該混合物の層の表面に移行させる工程と、
（４）該混合物の層の表面に移行した該硬化性アクリルモノマーを硬化させて該表面層を形成すると共に、該ベースポリマーを架橋させて導電性弾性層を形成する工程とを有することを特徴とする帯電部材の製造方法。
【請求項２】
前記ベースポリマーと前記アクリルモノマーとのＳＰ値（Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ  Ｐａｒａｍｅｔｅｒ）の絶対値差が１．５（（ＭＰａ）1/2）〜２．５（（ＭＰａ）1/2）である請求項１に記載の帯電部材の製造方法。
【請求項３】
前記ベースポリマーが、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）またはブタジエンゴム（ＢＲ）であり、
前記硬化性アクリルモノマーが、化学式（１）で示されるアクリルモノマー、化学式（２）で示されるアクリルモノマーおよび化学式（３）で示されるアクリルモノマーから選ばれるいずれかである請求項１または２に記載の製造方法：
【化１】
2011107547.tif 000001
【化２】
2011107547.tif 000002
【化３】
2011107547.tif 000003
。
【請求項４】
前記ベースポリマーが、ブタジエンゴム（ＢＲ）であり、
前記硬化性アクリルモノマーが、化学式（１）で示されるアクリルモノマーである請求項１または２に記載の製造方法：
【化４】
2011107547.tif 000004
。
【請求項５】
前記工程（３）が、前記混合物の層を、前記硬化性アクリルモノマーの硬化温度よりも低い温度で加熱する工程を含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月25日(2013.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
電子戦（ＥＷ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｗａｒｆａｒｅ）とは、敵が使用する電磁波を探知したり逆利用したりして敵の軍事作戦効果を低下させ、味方の電磁波使用は敵から邪魔されないように保護する諸般の軍事行為をいう。電磁波を使用する武器は地上の通信装備から各種レーダーやミサイルに至るまでその種類が非常に様々であり、運用周波数帯域が非常に広範囲であるという特徴を有する。また、広い意味の電子戦は、電磁波信号だけでなく、赤外線とレーザ信号などを使用する武器も含むのが一般的である。
[特許文献１]韓国特許出願第１０−２００６−００２７３５５Ａ号
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月24日(2013.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部から印加されるテスト信号を複製して複製された複数のテスト信号それぞれをチャンネルを通じて、テスト対象デバイスにそれぞれ印加し、前記テスト対象デバイスからそれぞれ受信されたテスト結果信号に基づいた複数の判定信号を提供する信号処理ブロックと、
出力モード選択信号に応答して前記複数の判定信号を併合するか、または順次に最終判定信号として提供する出力選択ブロックと、
第１スイッチング制御信号に応答して前記テスト信号を前記信号処理ブロックに提供するか、または前記最終判定信号を外部に提供する信号制御ブロックを含むＢＯＴ（ＢＯＴ； ｂｕｉｌｔ−ｏｆｆ ｔｅｓｔ）装置。
【請求項２】
前記信号処理ブロックは複数の信号処理部を含み、
前記複数の信号処理部それぞれは、
前記テスト信号を複製して前記複製されたテスト信号を提供するバッファと、
第２スイッチング制御信号が第１レベルの場合、前記複製されたテスト信号を前記テスト対象デバイスに提供するリレーと、
前記第２スイッチング制御信号が第２レベルの場合、前記該当テスト結果信号を基準レベルと比較して、結果信号を提供する比較回路と、
前記判定信号を保存して出力するレジスタと、を含み、
前記バッファは第１電源電圧と第２電源電圧の印加を受け、前記複製されたテスト信号のレベルは前記第１電源電圧と第２電源電圧によって可変されることができ、
前記レジスタに保存された前記判定信号は前記複数のテスト対象デバイスに対するテストが完了した後に、前記出力選択ブロックに提供され、
前記比較回路は第３電源電圧と前記第４電源電圧の印加を受け、前記判定信号のレベルは前記第３電源電圧と前記第４電源電圧によって可変されることができることを特徴とする請求項１に記載のＢＯＴ装置。
【請求項３】
前記比較回路は前記テスト結果信号と前記基準レベルが相互に同じ場合にテストパスを示す前記判定信号を提供することを特徴とする請求項２に記載のＢＯＴ装置。
【請求項４】
前記比較回路は前記テスト結果信号と前記基準レベルが相互に異なる場合にテストフェイルを示す前記判定信号を提供することを特徴とする請求項２に記載のＢＯＴ装置。
【請求項５】
前記出力選択ブロックは、
前記出力モード選択信号が第１レベルの場合には前記複数の判定信号を併合して前記最終判定信号として提供し、
前記出力モード選択信号が第２レベルの場合には前記複数の判定信号を順次に前記最終判定信号として提供することを特徴とする請求項１に記載のＢＯＴ装置。
【請求項６】
前記出力選択ブロックは、
前記複数の判定信号を印加され論理和演算する併合回路と、
選択信号に応答して前記複数の判定信号を一つずつ選択して順次に出力するマルチプレクサと、
前記選択信号を生成するカウンタと、
前記出力モード選択信号が第１レベルの場合には前記併合回路の出力と接続され、前記出力モード選択信号が第２レベルの場合には前記マルチプレクサの出力と接続されるリレーと、を含むことを特徴とする請求項５に記載のＢＯＴ装置。
【請求項７】
前記併合回路は前記複数の判定信号のうち少なくとも一つがハイレベルを示す場合、テストフェイルを示すハイレベルの併合された最終判定信号を提供するＯＲゲートで構成されることを特徴とする請求項６に記載のＢＯＴ装置。
【請求項８】
前記併合回路は前記複数の判定信号のうち少なくとも一つがローレベルを示す場合、テストフェイルを示すローレベルの併合された最終判定信号を提供するＡＮＤゲートで構成されることを特徴とする請求項６に記載のＢＯＴ装置。
【請求項９】
前記出力選択ブロックは、
前記出力モード選択信号によって選択的に活性化して前記複数の判定信号を印加され論理和演算する併合回路と、
前記出力モード選択信号によって選択的に活性化し、選択信号に応答して前記複数の判定信号を一つずつ選択して順次に出力するマルチプレクサと、
前記出力モード選択信号によって選択的に活性化して前記選択信号を生成するカウンタと、を含み、
前記出力モード選択信号が前記第１レベルの場合には前記併合回路がイネーブルされ、前記出力モード選択信号が第２レベルの場合には前記マルチプレクサ及び前記カウンタがイネーブルされることを特徴とする請求項５に記載のＢＯＴ装置。
【請求項１０】
多重の（ｍｕｌｔｉｐｌｅ）半導体装置をテストする装置として、
それぞれのチャンネルを通じて複数の半導体装置に接続する信号処理器と、
スイッチング制御信号に応答して、前記複数の半導体装置それぞれによって処理される共通テスト信号を前記信号処理器に選択的に提供するか、または前記複数の半導体装置それぞれによって処理された前記共通テスト信号に基づいて最終判定信号を外部に提供する信号制御器と、
出力モード選択信号に応答して前記最終判定信号を前記信号制御器に提供する出力選択器を含み、
前記最終判定信号は、テスト結果信号の一つずつの順、または、前記テスト結果信号の併合として、前記半導体装置のうち少なくとも一つのテスト失敗を示し、
前記テスト結果信号それぞれは、前記共通のテスト信号を処理した各半導体装置からのテスト結果信号と基準レベルを比較した結果に基づいたことを特徴とする多重（ｍｕｌｔｉｐｌｅ）半導体装置をテストする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月19日(2012.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
温度センサと、
前記温度センサを収容する空間を外周部に連通させて形成したワークウェハと、
を備える温度検出装置。
【請求項２】
前記ワークウェハの厚さ方向である前記空間の高さは、前記温度センサの最大厚さ以上の高さを有する請求項１に記載の温度検出装置。
【請求項３】
前記空間は、前記外周部から内側へ向かって狭くなる請求項１または２に記載の温度検出装置。
【請求項４】
前記空間は充填材で密封されている請求項１から３のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項５】
温度センサと、
互いに重ねあわされる重ね合わせ面に前記温度センサを収容する空間を形成した、２枚のワークウェハと、
を備える温度検出装置。
【請求項６】
前記２枚のワークウェハの重ね合わせ方向である前記空間の高さは、前記温度センサの最大厚さ以上の高さを有する請求項５に記載の温度検出装置。
【請求項７】
前記２枚のワークウェハのうち一方の重ね合わせ面に、前記空間を形成する溝部を設ける請求項５または６に記載の温度検出装置。
【請求項８】
前記２枚のワークウェハの両方の重ね合わせ面に、前記空間を形成する溝部をそれぞれ同じ深さで設ける請求項５または６に記載の温度検出装置。
【請求項９】
前記空間は、外周部から内側へ向かって狭くなる請求項５から８のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１０】
前記空間は、外周部から内側へ向かって、前記２枚のワークウェハの重ね合わせ方向である高さが小さくなるように狭くなる請求項９に記載の温度検出装置。
【請求項１１】
前記空間は、外周部から内側へ向かって、前記２枚のワークウェハの重ね合わせ方向に直交する方向である幅が小さくなるように狭くなる請求項９または１０に記載の温度検出装置。
【請求項１２】
前記温度センサと前記２枚のワークウェハとの隙間が充填材で密封される請求項５から１１のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１３】
前記温度センサを前記２枚のワークウェハのいずれかの面に付勢する付勢部材を前記空間に備える請求項５から１１のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１４】
前記温度センサは、熱電対であることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１５】
前記熱電対は、シース管と、前記シース管の内部に少なくとも一対の熱電対素線を配置してなるシース型熱電対であることを特徴とする請求項１４に記載の温度検出装置。
【請求項１６】
前記シース管は、前記空間の形状に合わせて、かつ、前記一対の熱電対素線が外部空間に露出しないように、一部がカットされていることを特徴とする請求項１５に記載の温度検出装置。
【請求項１７】
前記温度センサに接続されたケーブルを備え、
前記ケーブルは、前記空間内に収容されており、前記空間内から外周部を経て前記ワークウェハの外部に引き出されている請求項１から１６のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１８】
前記ワークウェハの形状は、半導体製造工程において両面から挟み込まれて熱処理されるウェハの形状と同一である請求項１から１７のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１９】
前記ワークウェハの材質は、半導体製造工程において両面から挟み込まれて熱処理されるウェハの材質と同一である請求項１から１８のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月19日(2012.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
温度センサと、
２つのワークウェハと、
前記２つのワークウェハに挟持され、前記温度センサを収容する空間を有するスペーサウェハと、
を備える温度検出装置。
【請求項２】
前記空間は、前記スペーサウェハに形成された溝部を有する請求項１に記載の温度検出装置。
【請求項３】
前記空間は、前記スペーサウェハに設けられたスリットを有する請求項１に記載の温度検出装置。
【請求項４】
前記２つのワークウェハの面内で互いに離間して配置された複数の前記スペーサウェハを備え、
前記空間は、前記複数のスペーサウェハの間隙を有する請求項１に記載の温度検出装置。
【請求項５】
互いに離間した複数のスペーサウェハの間に位置決め部が形成された請求項４に記載の温度検出装置。
【請求項６】
前記位置決め部の高さは前記スペーサウェハの厚さよりも小さい請求項５に記載の温度検出装置。
【請求項７】
前記スペーサウェハは、前記２つのワークウェハよりも薄い請求項１から６のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項８】
前記スペーサウェハは、前記温度センサの最大厚さ以上の厚さを有する請求項１から７のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項９】
前記空間は、外周部から内側へ向かって狭くなる請求項１から８のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１０】
前記空間は、外周部から内側へ向かって、厚み方向である高さが小さくなるように狭くなる請求項９に記載の温度検出装置。
【請求項１１】
前記空間は、外周部から内側へ向かって、厚み方向に直交する方向である幅が小さくなるように狭くなる請求項９または１０に記載の温度検出装置。
【請求項１２】
前記温度センサと前記２つのワークウェハとの隙間が充填材で密封される請求項１から１１のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１３】
前記温度センサを前記２つのワークウェハのいずれかの面に付勢する付勢部材を前記空間に備える請求項１から１１のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１４】
前記温度センサは、熱電対であることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１５】
前記熱電対は、シース管と、前記シース管の内部に少なくとも一対の熱電対素線を配置してなるシース型熱電対であることを特徴とする請求項１４に記載の温度検出装置。
【請求項１６】
前記シース管は、前記空間の形状に合わせて、かつ、前記一対の熱電対素線が外部空間に露出しないように、一部がカットされていることを特徴とする請求項１５に記載の温度検出装置。
【請求項１７】
前記空間は、前記スペーサウェハの外周部に連通している請求項１から１６のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項１８】
前記温度センサに接続されたケーブルを備え、
前記ケーブルは、前記空間内に収容されており、前記空間内から前記外周部を経て前記スペーサウェハの外部に引き出されている請求項１７に記載の温度検出装置。
【請求項１９】
前記ワークウェハの形状は、半導体製造工程において両面から挟み込まれて熱処理されるウェハの形状と同一である請求項１から１８のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項２０】
前記ワークウェハの材質は、半導体製造工程において両面から挟み込まれて熱処理されるウェハの材質と同一である請求項１から１９のいずれか１項に記載の温度検出装置。
【請求項２１】
温度センサと、２枚のワークウェハと、スペーサウェハとを備える温度検出装置の製造方法であって、
前記２枚のワークウェハのうち一方のワークウェハの外周部に接するように配置された複数の位置決めピンに、前記スペーサウェハを当接させて位置決めする位置決め工程と、
前記位置決め工程により位置決めされた前記スペーサウェハを、前記２枚のワークウェハで厚さ方向に挟み込んで接合する接合工程と、
前記接合工程に先立って、又は、前記接合工程の後に実行される工程であって、前記位置決め工程によって形成された前記一方のワークウェハと前記スペーサウェハの間の空間に前記温度センサを収容する収容工程と
を備える温度検出装置の製造方法。
【請求項２２】
温度センサと、２枚のワークウェハと、スペーサウェハとを備える温度検出装置の製造方法であって、
前記２枚のワークウェハのうち一方のワークウェハの表面に位置決め部を設ける設定工程と、
前記設定工程により設けられた前記位置決め部に、前記スペーサウェハを当接させて位置決めする位置決め工程と、
前記位置決め工程により位置決めされた前記スペーサウェハを、前記２枚のワークウェハで厚さ方向に挟み込んで接合する接合工程と、
前記接合工程に先立って、又は、前記接合工程の後に実行される工程であって、前記位置決め工程によって形成された前記一方のワークウェハと前記スペーサウェハの間の空間に前記温度センサを収容する収容工程と
を備える温度検出装置の製造方法。
【請求項２３】
前記設定工程は、前記一方のワークウェハの表面をエッチングすることにより前記位置決め部を設ける請求項２２に記載の温度検出装置の製造方法。
【請求項２４】
前記設定工程は、前記一方のワークウェハの表面に別体の位置決め部材を取り付けることにより前記位置決め部を設ける請求項２２に記載の温度検出装置の製造方法。
【請求項２５】
前記温度センサは、シース管と、前記シース管の内部に少なくとも一対の熱電対素線を配置してなるシース型熱電対であり、
前記収容工程に先立って、前記シース管を、前記空間の形状に合わせて、かつ、前記一対の熱電対素線が外部空間に露出しないように、一部をカットする加工工程を実行する請求項２１から２４のいずれか１項に記載の温度検出装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月26日(2012.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸芯体とその周囲に発泡弾性層とを有する弾性ローラの製造方法であって、
（１）下記（Ａ）〜（Ｆ）を含む混合物の層を軸芯体の周囲に形成する工程と、
（２）該混合物の層をフリー発泡および硬化させて発泡弾性層を形成する工程と、を有することを特徴とする弾性ローラの製造方法：
（Ａ）分子内にケイ素原子結合ビニル基を含有するシリコーンオイル、
（Ｂ）分子内にケイ素原子結合水酸基を含有するシリコーンオイル、
（Ｃ）分子内にケイ素原子結合水素原子を含有するシリコーンオイル、
（Ｄ）シリコーンゲル化剤、
（Ｅ）カーボンブラック、
（Ｆ）反応性触媒。
【請求項２】
前記（Ｄ）成分の添加量が、前記（Ａ）成分の１００質量部に対して１０〜７０質量部である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記シリコーンゲル化剤が、下記式（Ｉ）で示される構造を分子内に有するオルガノポリシロキサン架橋物である請求項１または２に記載の製造方法：
【化１】
2011107262.tif 000001
（式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ６は各々独立に水素原子またはメチル基を示す）。
【請求項４】
前記シリコーンゲル化剤のちょう度が、２０〜１５０である請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
軸芯体とその周囲に発泡弾性層とを有する弾性ローラであって、
該発泡弾性層が、軸芯体の周囲に形成されてなる下記（Ａ）〜（Ｆ）を含む混合物の層をフリー発泡および硬化させて形成されてなるものであることを特徴とする弾性ローラ：
（Ａ）分子内にケイ素原子結合ビニル基を含有するシリコーンオイル、
（Ｂ）分子内にケイ素原子結合水酸基を含有するシリコーンオイル、
（Ｃ）分子内にケイ素原子結合水素原子を含有するシリコーンオイル、
（Ｄ）シリコーンゲル化剤、
（Ｅ）カーボンブラック、
（Ｆ）反応性触媒。
【請求項６】
前記発泡弾性層の比重が０．３乃至０．７である請求項５に記載の弾性ローラ。
【請求項７】
請求項５または６に記載の弾性ローラを現像ローラとして有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月16日(2012.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記中間層が、前記ヒドロキシ基を有するフラーレン誘導体を前記金属酸化物粒子に対して０．０５質量％以上４質量％以下含有する請求項１に記載の電子写真感光体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月15日(2012.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に中間層および感光層をこの順に形成して電子写真感光体を製造する方法において、
下記条件を満たすシリカ被覆酸化チタン粒子、樹脂、および溶剤を用いて中間層用塗布液を調製する工程、および
該中間層用塗布液の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて該中間層を形成する工程
を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法：
（条件）シリカ被覆酸化チタン粒子の含有量が２．５質量％である水分散液の電気伝導度が、５０μＳ／ｃｍ以上２００μＳ／ｃｍ以下である。
【請求項２】
前記シリカ被覆酸化チタン粒子が超音波により洗浄処理されたシリカ被覆酸化チタン粒子である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記シリカ被覆酸化チタン粒子が、アルミナでは被覆されていないシリカ被覆酸化チタン粒子である請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記シリカ被覆酸化チタン粒子が、アナターゼ型酸化チタンの粒子をシリカで被覆してなる粒子である請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
前記電気伝導度が、５０μＳ／ｃｍ以上１００μＳ／ｃｍ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記樹脂が、アルコール可溶性のポリアミドである請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、本発明は、支持体上に中間層および感光層をこの順に形成して電子写真感光体を製造する方法において、
下記条件を満たすシリカ被覆酸化チタン粒子、樹脂、および溶剤を用いて中間層用塗布液を調製する工程、
該中間層用塗布液の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて該中間層を形成する工程
を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法である：
（条件）シリカ被覆酸化チタン粒子の含有量が２．５質量％である水分散液における電気伝導度が、５０μＳ／ｃｍ以上２００μＳ／ｃｍ以下である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月14日(2013.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺な印刷用紙に熱定着を伴う作像プロセスにより画像を形成する第１の印刷装置と、前記第１の印刷装置から送り出された印刷済みの前記印刷用紙を受け入れて、前記第１の印刷装置と同じ搬送速度でウェブ搬送手段により搬送される該印刷用紙に画像を形成する第２の印刷装置とを備えてなる印刷システムにおいて、
前記第１の印刷装置は、前記印刷用紙上に形成した定着前の画像を該印刷用紙に定着させる熱定着装置の手前で、前記印刷用紙を予備的に加熱する予備加熱手段を備え、
前記第２の印刷装置は、前記印刷用紙に画像を形成する前の位置で、該印刷用紙にジャムを生じていることを検出するジャム検出手段を備え、
前記ジャム検出手段は、前記ウェブ搬送手段のトラクタドアに設けられた一対の光センサであり、
前記第２の印刷装置は、前記第１の印刷装置の前記予備加熱手段で停止していた前記印刷用紙が前記ジャム検出手段の検出位置を通過する期間、前記ジャム検出手段の検出動作を行わず、前記期間を定めるための時間Ｍは、Ｍ＝Ｑ／Ｚであり、ここで、Ｑは前記予備加熱手段から前記熱定着装置までの距離、Ｚは前記印刷装置の印刷速度であることを特徴とする印刷システム。
【請求項２】
印刷動作中に前記印刷用紙の搬送が停止した後に再開される度に、前記第１の印刷装置の前記予備加熱手段で停止していた前記印刷用紙が前記ジャム検出手段の検出位置を通過するタイミングをそれぞれ算出して記憶する記憶手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の印刷システム。
【請求項３】
前記第１の印刷装置が前記印刷用紙に静電潜像を転写して画像記録を開始する位置から、前記第２の印刷装置が前記印刷用紙に画像を記録する位置までの長さに基づいて、前記ジャム検出手段の検出動作を行わないタイミングを算出する算出手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の印刷システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この発明は、長尺な印刷用紙に熱定着を伴う作像プロセスにより画像を形成する第１の印刷装置と、上記第１の印刷装置から送り出された印刷済みの上記印刷用紙を受け入れて、上記第１の印刷装置と同じ搬送速度でウェブ搬送手段により搬送される該印刷用紙に画像を形成する第２の印刷装置とを備えてなる印刷システムにおいて、上記第１の印刷装置は、上記印刷用紙上に形成した定着前の画像を該印刷用紙に定着させる熱定着装置の手前で、上記印刷用紙を予備的に加熱する予備加熱手段を備え、上記ジャム検出手段は、上記ウェブ搬送手段のトラクタドアに設けられた一対の光センサであり、上記第２の印刷装置は、上記印刷用紙に画像を形成する前の位置で、該印刷用紙にジャムを生じていることを検出するジャム検出手段を備え、上記第２の印刷装置は、上記第１の印刷装置の上記予備加熱手段で停止していた上記印刷用紙が上記ジャム検出手段の検出位置を通過する期間、上記ジャム検出手段の検出動作を行わず、上記期間を定めるための時間Ｍは、Ｍ＝Ｑ／Ｚであり、ここで、Ｑは前記予備加熱手段から前記熱定着装置までの距離、Ｚは前記印刷装置の印刷速度としたものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【図１】本実施例の印刷装置Ｐ１，Ｐ２において、ウェブジャム検出に関する信号処理系の要部の一例を示したブロック図である。
【図２】印刷装置Ｐ１の転写点から印刷装置Ｐ２の転写点までのウェブＷの搬送路に位置する各要素を展開した様子を表す概略構成図である。
【図３】本実施例におけるメイン制御部２２によるウェブジャム検出制御の一例を示すフローチャートである。
【図４】図３におけるステップＳ１０２で参照するエラーマスク期間の設定に係る処理の一例を示したフローチャートである。
【図５】ウェブジャム検出に関する信号処理系の要部の他の例を示したブロック図である。
【図６】従来のウェブ印刷システムの基本構成を示す概略構成斜視図である。
【図７】図６の印刷装置Ｐ１，Ｐ２の概略構成の一例を示す概略構成図である。
【図８】ウェブ搬送手段の概略構成の一例を示す概略構成図である。
【図９】ウェブジャム検出センサ２ａ，２ｂの動作を説明するための概略断面図である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
以下、添付図面を参照しながら、この発明の実施の形態を詳細に説明する。
本発明の一実施例にかかる印刷システムの基本構成は、図６及び図７に示した従来装置と同じ構成を備えるので、以下の説明において、図６及び図７と同一部分については、同一符号を参照して説明する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図１は、図２に示した印刷装置Ｐ１，Ｐ２において、ウェブジャム検出に関する信号処理系の要部の一例を示したブロック図である。印刷装置Ｐ１，Ｐ２は、ウェブ搬送手段１のトラクタドア１２（図８、図９参照）に一体化されたウェブジャム検出センサ２によりウェブジャムを検出するためのウェブジャム検出部３０を備えている。
図８は、ウェブ搬送手段の概略構成の一例を示す概略構成図である。
図８において、ウェブ搬送手段１にはウェブＷを搬送するため、規格化された送り穴Ｈに挿入されるトラクタピン１１、自在に開閉する機構を有するトラクタドア１２、及び、トラクタドア１２に同期して自在に開閉するウェブジャム検出センサ２ａ，２ｂが対に設置されている。このウェブジャム検出センサ２は、例えば、透過型ウェブジャムセンサであり、ウェブジャム検出センサ２ａがセンサ光１３を発光し、ウェブジャム検出センサ２ｂがセンサ光１３を受光する一対の光センサとなっている。
なお、図８において、トラクタドア１２は、ウェブジャム検出センサ２ａ，２ｂに近接する部分のみ示している。
図９は、ウェブジャム検出センサ２ａ，２ｂの動作を説明するための概略断面図である。
図９において、ウェブ搬送手段１の部分で図に波線で示したようにウェブＷが詰まってしまい、センサ光１３をウェブＷが遮った場合、ウェブジャム検出センサ２ｂは、センサ光を受光しなくなるため、ウェブのジャムを検出する。
ここで、ウェブジャム検出センサ２ａ，２ｂは、トラクタドア１２と同期して開閉するため、トラクタドア１２の一方が開いていたり、ウェブＷが詰まることによりトラクタドア１２が持ち上がり、センサ光１３をウェブジャム検出センサ２ｂが受光しなくなってもウェブジャムを検出する構造となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月16日(2013.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素を有し、
前記画素は、酸化物と、第１の導電層と、第２の導電層と、第３の導電層と、第４の導電層と、第５の導電層と、を有し、
前記酸化物は、トランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第１の導電層は、前記トランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第２の導電層は、前記トランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第３の導電層は、前記第１の導電層と電気的に接続され、
前記第４の導電層は、前記第２の導電層と電気的に接続され、
前記第５の導電層は、前記トランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第３の導電層は、前記第５の導電層と同層に設けられており、
前記第４の導電層は、前記第５の導電層と同層に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
画素を有し、
前記画素は、酸化物と、第１の導電層と、第２の導電層と、第３の導電層と、第４の導電層と、第５の導電層と、第６の導電層と、を有し、
前記酸化物は、トランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第１の導電層は、前記トランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第２の導電層は、前記トランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第３の導電層は、前記第１の導電層と電気的に接続され、
前記第４の導電層は、前記第２の導電層と電気的に接続され、
前記第５の導電層は、前記トランジスタの第１のゲート電極として機能する領域を有し、
前記第６の導電層は、前記トランジスタの第２のゲート電極として機能する領域を有し、
前記第３の導電層は、前記第５の導電層と同層に設けられており、
前記第４の導電層は、前記第５の導電層と同層に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記第６の導電層の電位は、前記第５の導電層の電位とおおむね同じであることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記酸化物のキャリア濃度は、５×１０１４／ｃｍ３以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記酸化物のエネルギーギャップは、２ｅＶ以上であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
ドレイン電圧が１Ｖ又は１０Ｖである場合であって、且つゲート電圧が−２０Ｖ〜−５Ｖの範囲のいずれかであるときの前記トランジスタのドレイン電流は、１×１０−１３Ａ以下であることを特徴とする表示装置。