【手続補正書】
【提出日】平成24年11月9日(2012.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォアラインを通して、設備排気部に結合された処理チャンバを含む処理システムへのガスフローを制御する方法であって、
第１の出口ポート、第２の出口ポート、第３の出口ポート及び第４の出口ポートを少なくとも有するマニホルドへ第１のガス源から第１のガスを流す工程であって、前記第１の出口ポートは、遮断バルブ及びパージラインを含む排気パスを介して前記フォアラインに結合され、前記第２及び第３の出口ポートの夫々は、夫々の最終バルブを介して前記処理チャンバに接続され、前記第２及び第３の出口ポートの夫々は、夫々のバイパスバルブを介してプレフローパスに接続され、前記プレフローパスは、前記パージラインの上流のスロットルバルブと、前記フォアラインの上流の前記パージラインを含む工程と、
前記マニホルドへ、第２のガス源から第２のガスを流す工程と、
前記マニホルド内のバルブの動作状態を選択して、処理モードにありながら、前記第１及び第２のガスを前記第２又は第３の出口ポートのうち少なくとも１つを通して出す工程と、
前記マニホルド内の前記ガスの所定の状態が得られるまで、前記第１及び第２のガスを、前記マニホルドの前記第２又は第３の出口ポートのうち少なくとも１つを通して、前記プレフローパスを通して前記処理チャンバをバイパスする前記フォアラインへ流す工程であって、前記所定の状態は、前記スロットルバルブを使用して、前記プレフローパス内の状態を前記処理チャンバの状態と適合させることによって得られる工程と、
前記所定の状態が得られた後、前記マニホルドを出て、前記第２又は第３の出口ポートのうち少なくとも１つを通して、前記処理チャンバへ前記第１及び第２のガスを指向させる工程と、
前記処理チャンバ内で基板を処理する工程とを含む方法。
【請求項２】
基板処理が完了した後、前記第１及び第２のガスを、前記マニホルドを通して、前記処理チャンバをバイパスする前記フォアラインへ流す工程を更に含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記マニホルド中の前記第１及び第２のガスのうち少なくとも１つを、第３のガス源から前記マニホルドへ提供された第３のガスと交換する工程を更に含む請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記マニホルドから出る前記第３のガスが、前記フォアラインに入るのを防ぐ工程と、
前記第３のガスが、前記マニホルドを出ていく間、前記第１又は第２のガスのうち少なくとも１つを前記フォアラインへ引き続ける工程とを更に含む請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記第３のガスが、前記フォアラインに入るのを防ぐ工程が、前記第３のガスのフローを停止する工程、又は前記第３のガスを前記処理チャンバへ流す工程を含む請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記第３のガスが、前記フォアラインに入るのを防ぐ工程が、前記第３のガスが前記フォアラインから前記マニホルドを出る、前記出口ポートを分断する工程を含む請求項４記載の方法。
【請求項７】
前記マニホルドにおいて、少なくとも１つのバルブの前記動作状態を調節して、少なくとも２つの出口ポートを通る１つのガス源からのフローの比を得る工程を更に含む請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記マニホルドにおいて、少なくとも１つのバルブの前記動作状態を調節する工程が、
前記マニホルドを出る前記ガスの測定をセンシングする工程と、
前記マニホルドにおいて、少なくとも１つのバルブの前記動作状態を調節して、前記少なくとも２つの出口ポートを通るフローの比を変更する工程とを更に含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記マニホルドを出る前記ガスの測定をセンシングする工程と、
前記センシングされた測定に応答して、前記マニホルドに入る少なくとも１つのガスの前記フロー、少なくとも１つのフロー比コントローラ、前記チャンバに入る前記ガスの組成、又は前記チャンバに入る前記ガスの圧力のうちの１つを調節する工程を更に含む請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記マニホルド内の前記バルブの動作状態を選択して、前記第１及び第２のガスのうち少なくとも１つを、前記第４の出口ポートを通して出し、較正回路へと送る工程を更に含む請求項１記載の方法。
【請求項１１】
オリフィスを使用して前記構成回路内で固定フロー状態を提供する工程であって、前記オリフィスは、前記処理チャンバの制限と実質的に等しい制限を与えるサイズである工程を更に含む請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記遮断バルブを開くことによって前記マニホルドを排気して、前記第１の出口ポート及び前記排気パスを通して前記マニホルドから前記第１及び第２のガスを除去する工程を更に含む請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記マニホルドを排気する工程は、前記スロットルバルブを用いて、前記マニホルドから前記パージラインまでの前記ガスのフローを制御する工程を更に含む請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記マニホルドを排気する工程は、前記第２及び第３の出口ポートに結合される前記バイパスバルブを開いて、前記第２及び第３の出口ポートを出たガスを、前記処理チャンバをバイパスする前記パージラインへ指向させる工程を更に含む請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
フォアラインを通して、設備排気部に結合された処理チャンバを含む処理システムへのガスフローを制御する方法であって、
第１、第２、第３及び第４の出口のうち少なくとも１つに選択的に結合されていてもよい少なくとも第１、第２、第３及び第４の入口を有するマニホルドを提供する工程であって、前記第１の出口ポートは、遮断バルブ及びパージラインを含む排気パスを介して前記フォアラインに結合され、前記第２及び第３の出口ポートの夫々は、夫々の最終バルブを介して前記処理チャンバに接続され、前記第２及び第３の出口ポートの夫々は、夫々のバイパスバルブを介してプレフローパスに接続され、前記プレフローパスは、前記パージラインの上流のスロットルバルブと、前記フォアラインの上流の前記パージラインを含む工程と、
処理前に前記処理チャンバをバイパスする前記プレフローへ、又は較正回路へ、前記マニホルドを通して、１種類以上のガスを流す工程であって、前記プレフローパス内の状態を前記処理チャンバの状態と適合させるために、前記プレフローパス内の前記スロットルバルブを調整する工程と、
基板処理中、前記１種類以上のガスを前記処理チャンバへ流す工程とを含む方法。
【請求項１６】
前記真空環境に、前記マニホルドを通して、１種類以上のガスを流す工程が、前記フローを前記処理チャンバへ迂回する前に、前記ガスのフローが、所定の基準に適合するまで待つ工程を更に含む請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
所定の基準は、フローレート、圧力、又はガス組成のうちの少なくとも１つである請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
処理チャンバを含む処理システムへのガスフローを制御する方法であって、
第１の出口ポート、第２の出口ポート、第３の出口ポート及び第４の出口ポートを少なくとも有するマニホルドへ第１のガス源から第１のガスを流す工程であって、少なくとも前記第２及び第３の出口ポートは、処理チャンバに結合され、前記処理チャンバは、フォアラインを介して排気孔に結合され、前記第１の出口ポートは、遮断バルブ及びパージラインを含む排気パスを介して前記フォアラインに結合され、前記第２及び第３の出口ポートの夫々は、夫々のバイパスバルブを介してプレフローパスに接続され、前記プレフローパスは、前記パージラインの上流のスロットルバルブと、前記フォアラインの上流の前記パージラインを含む工程と、
前記マニホルド内のバルブの動作状態を選択して、前記第１のガスを少なくとも前記第２又は第３の出口ポートを通して同時に流す工程と、
前記マニホルド内の前記ガスの所定の状態が得られるまで、前記第１のガスを、前記マニホルドの前記第２又は第３の出口ポートのうち少なくとも１つを通して、前記プレフローパスを通して前記処理チャンバをバイパスする前記フォアラインへ流す工程であって、前記所定の状態は、前記スロットルバルブを使用して、前記プレフローパス内の状態を前記処理チャンバの状態と適合させることによって得られる工程とを含む方法。
【請求項１９】
前記第１のガスのフローを示す測定をセンシングする工程と、
前記センシングされた測定に応答して、前記第１及び第２の出口ポートの間の前記第１のガスのフローの比を制御する工程とを更に含む請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
センシングする工程は、前記第１のガスの、化学物質、圧力、又は夫々のフロー分割レートのうちの少なくとも１つをセンシングする工程を更に含む請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
センシングされた測定を使用して、前記フロー分割が所定の基準に適合していることを診断する工程を更に含む請求項１８記載の方法。