【手続補正書】
【提出日】平成25年7月1日(2013.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置において、複数回露光を行うことで１つの層のパターンを基板に形成する多重露光に使用される複数の原版のそれぞれのパターンのデータをコンピュータによって生成する生成方法であって、
前記基板に形成すべきパターンに対応する仮パターンを構成する複数のパターン要素のそれぞれに順に注目し、注目パターン要素に対する他のパターン要素の相対的な位置を前記注目パターン要素の位置を原点としてマッピングしてマップを生成する第１のステップと、
前記第１のステップで生成したマップから周期性を有するパターン要素を選択し、予め定められた複数の有効光源のうち前記選択したパターン要素の配列パターンに対応する有効光源を決定する第２のステップと、
前記第２のステップで決定した有効光源において予め定められた値よりも大きな値の強度を有する領域からの光を透過する透過率分布を前記投影光学系の瞳面に形成する瞳フィルタを仮定する第３のステップと、
前記第２のステップで決定した有効光源で前記投影光学系の物体面に配置した仮パターンを照明したときに、前記仮パターン及び前記第３のステップで仮定した瞳フィルタを通過した光が前記投影光学系の像面に形成する強度分布を算出する第４のステップと、
前記第４のステップで算出した強度分布において、強度がピークとなるピーク位置を特定する第５のステップと、
前記仮パターンを前記投影光学系の像面に投影したときに、前記複数のパターン要素から前記第５のステップで特定したピーク位置を内部に含む第１のパターン要素を抽出する第６のステップと、
前記第６のステップで抽出した第１のパターン要素を含むパターンのデータを前記複数の原版のうち１つの原版のパターンのデータとして生成する第７のステップと、
を有し、
前記複数のパターン要素から前記第１のパターン要素を除いた第２のパターン要素を含むパターンを新たな仮パターンとして、前記第１のステップから前記第７のステップを含むサイクルを繰り返すことを特徴とする生成方法。
【請求項２】
前記第２のステップでは、前記光源からの光の波長及び前記投影光学系の開口数から決定される解像不可能な周期を有するパターン要素を除きながら前記マップからパターン要素を選択することを特徴とする請求項１に記載の生成方法。
【請求項３】
前記第２のステップでは、前記マップから７つのパターン要素を選択し、前記７つのパターン要素のそれぞれで回折された光のうち３つの光が前記投影光学系の瞳を通過するような有効光源を決定することを特徴とする請求項１に記載の生成方法。
【請求項４】
前記第２のステップでは、前記マップから５つのパターン要素を選択し、前記５つのパターン要素のそれぞれで回折された光のうち４つの光が前記投影光学系の瞳を通過するような有効光源を決定することを特徴とする請求項１に記載の生成方法。
【請求項５】
前記第２のステップでは、前記光源からの光の波長及び前記投影光学系の開口数から決定される解像可能な最小ピッチの１．５倍の長さよりも小さい範囲内であって、前記原点と当該原点から６つのパターン要素を結ぶ直線に対して±１０度の範囲内に存在するパターン要素から前記７つのパターン要素を選択することを特徴とする請求項３に記載の生成方法。
【請求項６】
前記第２のステップでは、前記光源からの光の波長及び前記投影光学系の開口数から決定される解像可能な最小ピッチの１．５倍の長さよりも小さい範囲内であって、前記原点と当該原点から４つのパターン要素を結ぶ直線に対して±１０度の範囲内に存在するパターン要素から前記４つのパターン要素を選択することを特徴とする請求項４に記載の生成方法。
【請求項７】
光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置において、複数回露光を行うことで１つの層のパターンを基板に形成する多重露光に使用される複数の原版のそれぞれのパターンのデータをコンピュータによって生成する生成方法であって、
前記基板に形成すべきパターンに対応する仮パターンをフーリエ変換して、前記投影光学系の光軸に直交する面内において前記仮パターンを構成する複数のパターン要素からの回折光の分布を空間周波数で表す直交座標系のマップを生成する第１のステップと、
前記第１のステップで生成したマップにおいて、前記直交座標系の第１の方向に、且つ、前記直交座標系の原点を中心とする前記投影光学系の瞳半径の２倍の円の外側に位置する１次回折光を特定する第２のステップと、
前記第１のステップで生成したマップに対して、前記第２のステップで特定した前記１次回折光を前記第１の方向の反対側の方向に前記１次回折光の周波数の１／２だけシフトさせ、且つ、前記第１の方向に直交する第２の方向に前記１次回折光の前記第２の方向のピッチの±１／２だけシフトさせた位置に、前記１次回折光の振幅を定数倍した仮想の回折光を挿入した仮想マップを生成し、前記仮想マップに対応する有効光源を決定する第３のステップと、
前記第３のステップで決定した有効光源において予め定められた値よりも大きな値の強度を有する領域からの光を透過する透過率分布を前記投影光学系の瞳面に形成する瞳フィルタを仮定する第４のステップと、
前記第３のステップで生成した仮想マップに含まれる回折光のうち前記第４のステップで仮定した瞳フィルタを通過した光が前記投影光学系の像面に形成する強度分布を算出する第５のステップと、
前記第５のステップで算出した強度分布において、強度がピークとなるピーク位置を特定する第６のステップと、
前記仮パターンを前記投影光学系の像面に投影したときに、前記複数のパターン要素から前記第６のステップで特定したピーク位置を内部に含む第１のパターン要素を抽出する第７のステップと、
前記第７のステップで抽出した第１のパターン要素を含むパターンのデータを前記複数の原版のうち１つの原版のパターンのデータとして生成する第８のステップと、
を有し、
前記複数のパターン要素から前記第１のパターン要素を除いた第２のパターン要素を含むパターンを新たな仮パターンとして、前記第１のステップから前記第８のステップを含むサイクルを繰り返すことを特徴とする生成方法。
【請求項８】
前記第１のステップでは、前記投影光学系の瞳半径の４倍までの空間周波数について前記マップを生成することを特徴とする請求項７に記載の生成方法。
【請求項９】
前記第３のステップでは、前記仮想マップにおいて同符号の周波数成分を有する回折光に対して前記投影光学系の瞳の形状をコンボリューションすることで前記有効光源を決定することを特徴とする請求項７に記載の生成方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の生成方法で生成された複数の原版のパターンのデータに基づいて複数の原版を作成することを特徴とする原版の作成方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の原版の作成方法で作成された複数の原版を照明するステップと、
投影光学系を介して前記複数の原版のパターンの像を基板に投影するステップと、
を有することを特徴とする露光方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光方法を用いて基板を露光するステップと、
露光された基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１３】
光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置において、複数回露光を行うことで１つの層のパターンを基板に形成する多重露光に使用される複数の原版のそれぞれのパターンのデータを生成する生成方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記基板に形成すべきパターンに対応する仮パターンを構成する複数のパターン要素のそれぞれに順に注目し、注目パターン要素に対する他のパターン要素の相対的な位置を前記注目パターン要素の位置を原点としてマッピングしてマップを生成する第１のステップと、
前記第１のステップで生成したマップから周期性を有するパターン要素を選択し、予め定められた複数の有効光源のうち前記選択したパターン要素の配列パターンに対応する有効光源を決定する第２のステップと、
前記第２のステップで決定した有効光源において予め定められた値よりも大きな値の強度を有する領域からの光を透過する透過率分布を前記投影光学系の瞳面に形成する瞳フィルタを仮定する第３のステップと、
前記第２のステップで決定した有効光源で前記投影光学系の物体面に配置した仮パターンを照明したときに、前記仮パターン及び前記第３のステップで仮定した瞳フィルタを通過した光が前記投影光学系の像面に形成する強度分布を算出する第４のステップと、
前記第４のステップで算出した強度分布において、強度がピークとなるピーク位置を特定する第５のステップと、
前記仮パターンを前記投影光学系の像面に投影したときに、前記複数のパターン要素から前記第５のステップで特定したピーク位置を内部に含む第１のパターン要素を抽出する第６のステップと、
前記第６のステップで抽出した第１のパターン要素を含むパターンのデータを前記複数の原版のうち１つの原版のパターンのデータとして生成する第７のステップと、
を実行させ、
前記複数のパターン要素から前記第１のパターン要素を除いた第２のパターン要素を含むパターンを新たな仮パターンとして、前記第１のステップから前記第７のステップを含むサイクルを繰り返すことを特徴とするプログラム。
【請求項１４】
光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置において、複数回露光を行うことで１つの層のパターンを基板に形成する多重露光に使用される複数の原版のそれぞれのパターンのデータを生成する生成方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記基板に形成すべきパターンに対応する仮パターンをフーリエ変換して、前記投影光学系の光軸に直交する面内において前記仮パターンを構成する複数のパターン要素からの回折光の分布を空間周波数で表す直交座標系のマップを生成する第１のステップと、
前記第１のステップで生成したマップにおいて、前記直交座標系の第１の方向に、且つ、前記直交座標系の原点を中心とする前記投影光学系の瞳半径の２倍の円の外側に位置する１次回折光を特定する第２のステップと、
前記第１のステップで生成したマップに対して、前記第２のステップで特定した前記１次回折光を前記第１の方向の反対側の方向に前記１次回折光の周波数の１／２だけシフトさせ、且つ、前記第１の方向に直交する第２の方向に前記１次回折光の前記第２の方向のピッチの±１／２だけシフトさせた位置に、前記１次回折光の振幅を定数倍した仮想の回折光を挿入した仮想マップを生成し、前記仮想マップに対応する有効光源を決定する第３のステップと、
前記第３のステップで決定した有効光源において予め定められた値よりも大きな値の強度を有する領域からの光を透過する透過率分布を前記投影光学系の瞳面に形成する瞳フィルタを仮定する第４のステップと、
前記第３のステップで生成した仮想マップに含まれる回折光のうち前記第４のステップで仮定した瞳フィルタを通過した光が前記投影光学系の像面に形成する強度分布を算出する第５のステップと、
前記第５のステップで算出した強度分布において、強度がピークとなるピーク位置を特定する第６のステップと、
前記仮パターンを前記投影光学系の像面に投影したときに、前記複数のパターン要素から前記第６のステップで特定したピーク位置を内部に含む第１のパターン要素を抽出する第７のステップと、
前記第７のステップで抽出した第１のパターン要素を含むパターンのデータを前記複数の原版のうち１つの原版のパターンのデータとして生成する第８のステップと、
を実行させ、
前記複数のパターン要素から前記第１のパターン要素を除いた第２のパターン要素を含むパターンを新たな仮パターンとして、前記第１のステップから前記第８のステップを含むサイクルを繰り返すことを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】生成方法、作成方法、露光方法、デバイスの製造方法及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、生成方法、作成方法、露光方法、デバイスの製造方法及びプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての作成方法は、光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置において、複数回露光を行うことで１つの層のパターンを基板に形成する多重露光に使用される複数の原版のそれぞれのパターンのデータをコンピュータによって生成する生成方法であって、前記基板に形成すべきパターンに対応する仮パターンを構成する複数のパターン要素のそれぞれに順に注目し、注目パターン要素に対する他のパターン要素の相対的な位置を前記注目パターン要素の位置を原点としてマッピングしてマップを生成する第１のステップと、前記第１のステップで生成したマップから周期性を有するパターン要素を選択し、予め定められた複数の有効光源のうち前記選択したパターン要素の配列パターンに対応する有効光源を決定する第２のステップと、前記第２のステップで決定した有効光源において予め定められた値よりも大きな値の強度を有する領域からの光を透過する透過率分布を前記投影光学系の瞳面に形成する瞳フィルタを仮定する第３のステップと、前記第２のステップで決定した有効光源で前記投影光学系の物体面に配置した仮パターンを照明したときに、前記仮パターン及び前記第３のステップで仮定した瞳フィルタを通過した光が前記投影光学系の像面に形成する強度分布を算出する第４のステップと、前記第４のステップで算出した強度分布において、強度がピークとなるピーク位置を特定する第５のステップと、前記仮パターンを前記投影光学系の像面に投影したときに、前記複数のパターン要素から前記第５のステップで特定したピーク位置を内部に含む第１のパターン要素を抽出する第６のステップと、前記第６のステップで抽出した第１のパターン要素を含むパターンのデータを前記複数の原版のうち１つの原版のパターンのデータとして生成する第７のステップと、を有し、前記複数のパターン要素から前記第１のパターン要素を除いた第２のパターン要素を含むパターンを新たな仮パターンとして、前記第１のステップから前記第７のステップを含むサイクルを繰り返すことを特徴とする。