【手続補正書】
【提出日】平成25年4月11日(2013.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域に、
第１画素電極と、
基板本体と前記第１画素電極との間に設けられた第１配線層と、
前記第１配線層と前記第１画素電極との間に設けられた第１遮光層と、
前記表示領域の外側領域に、
前記第１画素電極と同一層に設けられた第２画素電極と、
前記基板本体と前記第２画素電極との間に設けられた第２配線層と、
前記第２配線層と前記第２画素電極との間に設けられた第２遮光層とを備え、
前記表示領域および前記表示領域の外側領域において、
前記第１配線層と前記第１遮光層との間および前記第２配線層と前記第２遮光層との間に設けられた第１層間絶縁膜と、
前記第１遮光層と前記第１画素電極および前記第２遮光層と前記第２画素電極との間に設けられた第２層間絶縁膜と、
前記第１層間絶縁膜に設けられ、前記表示領域の外側領域における開口密度が前記表示領域における開口密度に比して低い第１スルーホールと、
前記第２層間絶縁膜に設けられ、前記表示領域の外側領域における開口密度が前記表示領域における開口密度に比して高い第２スルーホールと、
を有していることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記第２層間絶縁膜の表面は、前記表示領域と前記表示領域の外側領域とにおいて連続した平坦面であることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記第１スルーホールは、前記表示領域が位置する内側から前記表示領域の外側領域において前記表示領域に対して離間する外側に向けて開口密度が漸減し、
前記第２スルーホールは、前記表示領域が位置する内側から前記表示領域の外側領域において前記表示領域に対して離間する外側に向けて開口密度が漸増していることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記第２画素電極は、前記第２遮光層を介して黒表示用の電位が印加されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記表示領域の外側領域において、前記第１スルーホールは、前記第２配線層のうち、前記第２画素電極に印加される電位と異なる電位が印加されている第２配線層に重ならない位置に設けられていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記第１画素電極および前記第２画素電極は、反射性導電膜からなることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の液晶装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【請求項８】
前記液晶装置に光を供給する光源部と、前記液晶装置によって光変調された光を投射する投射光学系と、を有していることを特徴とする請求項７に記載の電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係る液晶装置は、表示領域に、第１画素電極と、基板本体と前記第１画素電極との間に設けられた第１配線層と、前記第１配線層と前記第１画素電極との間に設けられた第１遮光層と、前記表示領域の外側領域に、前記第１画素電極と同一層に設けられた第２画素電極と、前記基板本体と前記第２画素電極との間に設けられた第２配線層と、前記第２配線層と前記第２画素電極との間に設けられた第２遮光層とを備え、前記表示領域および前記表示領域の外側領域において、前記第１配線層と前記第１遮光層との間および前記第２配線層と前記第２遮光層との間に設けられた第１層間絶縁膜と、前記第１遮光層と前記第１画素電極および前記第２遮光層と前記第２画素電極との間に設けられた第２層間絶縁膜と、前記第１層間絶縁膜に設けられ、前記表示領域の外側領域における開口密度が前記表示領域における開口密度に比して低い第１スルーホールと、前記第２層間絶縁膜に設けられ、前記表示領域の外側領域における開口密度が前記表示領域における開口密度に比して高い第２スルーホールと、を有していることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る液晶装置において、第１層間絶縁膜の表面では、表示領域の外側領域（周辺領域）における第１スルーホールの開口密度が表示領域における開口密度に比して低いため、第１層間絶縁膜の表面を研磨する際、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とでは、表示領域の外側領域（周辺領域）の側において第１層間絶縁膜の研磨速度が低い。従って、第１層間絶縁膜の表面を研磨した際、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）との間には、表示領域の外側領域（周辺領域）の方が高い段差が発生する。但し、本発明では、第２層間絶縁膜の表面では、表示領域の外側領域（周辺領域）における第２スルーホールの開口密度が表示領域における開口密度に比して高い。このため、第２層間絶縁膜の表面を研磨する際、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とでは、表示領域の外側領域（周辺領域）の側において第１層間絶縁膜の研磨速度が高い。従って、第１層間絶縁膜の表面に形成されている段差は、第２層間絶縁膜の表面を研磨する際の表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とにおける研磨速度の差によって相殺される。それ故、第２層間絶縁膜の表面には、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）との間に段差が発生しない。よって、表示領域の第１画素電極の表面と表示領域の外側領域（周辺領域）の第２画素電極の表面とが同一の平面上に位置するので、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とにおける黒表示の均一性を向上させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明において、前記第２層間絶縁膜の表面は、前記表示領域と前記表示領域の外側領域とにおいて連続した平坦面であることが好ましい。このように構成すると、表示領域の第１画素電極の表面と表示領域の外側領域（周辺領域）の第２画素電極の表面とは、完全に同一の平面上に位置するので、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とにおける黒表示の均一性を向上させることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明において、前記第１スルーホールは、前記表示領域が位置する内側から前記表示領域の外側領域において前記表示領域に対して離間する外側に向けて開口密度が漸減し、前記第２スルーホールは、前記表示領域が位置する内側から前記表示領域の外側領域において前記表示領域に対して離間する外側に向けて開口密度が漸増していることが好ましい。このように構成すると、第１層間絶縁膜の表面に形成されている段差を穏やかにすることができるので、第１層間絶縁膜の表面に形成されている段差を、第２層間絶縁膜の表面を研磨する際の表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とにおける研磨速度の差によって確実に相殺することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明において、前記第２画素電極は、前記第２遮光層を介して黒表示用の電位が印加されることが好ましい。このように構成すると、第２画素電極を各々島状に独立して形成しても、第２画素電極に黒表示用の電位を容易に印加することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明において、前記表示領域の外側領域において、前記第１スルーホールは、前記第２配線層のうち、前記第２画素電極に印加される電位と異なる電位が印加されている第２配線層に重ならない位置に設けられていることが好ましい。このように構成すると、第２遮光層が広い領域にわたって形成され、かつ、第１スルーホールが第２遮光層と重なる位置に設けられている場合でも、第２遮光層や第２画素電極が、第２画素電極に印加される電位と異なる電位が印加されている第２配線層と短絡することを防止することができる。