【手続補正書】
【提出日】平成25年4月12日(2013.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージに載置される基板に対向して配置されてペーストを前記基板の表面に向けて吐出するノズルと、
このノズルを前記基板の表面に垂直な方向に当該基板に対して相対動させる垂直動機構と、
前記ノズルに対向する前記基板上の位置である塗布位置から所定距離だけ離れた位置に設定される測定位置にて前記基板表面までの距離を検出する距離検出手段と、
この距離検出手段による検出値に基づいて前記垂直動機構を制御して前記ノズルの先端と前記基板との間隔が目標値となるように調整する制御手段と、を有し、
前記ノズルからのペーストを前記基板の表面に予め設定されたパターンで塗布するようにしたペースト塗布装置において、
表面に上側の面と下側の面とによる段差の形成された基板にペーストを塗布する場合に、前記上側の面と前記下側の面との間の高低差としての深さ値を記憶する記憶手段を有し、
前記制御手段は、前記ノズルから吐出した前記ペーストを前記設定されたパターンで前記上側の面及び前記下側の面のうちの一方の面上に塗布する過程において、前記測定位置が前記上側の面及び前記下側の面のうちの他方の面上に位置しているか否かを判断し、前記測定位置が前記他方の面上に位置すると判定したときには、前記記憶手段に記憶された前記深さ値と前記距離検出手段にて得られる検出値とに基づいて、前記ノズルの先端と前記一方の面との間隔が前記目標値となるように前記垂直動機構を制御するペースト塗布装置。
【請求項２】
前記記憶手段には、前記基板上に前記パターンでペーストを塗布すべき前記塗布位置としての各位置と、当該位置の前記塗布位置がある前記基板の表面と前記測定位置のある前記基板の表面との間の段差の深さ値とが対応づけられて記憶され、
前記制御手段は、前記ノズルが前記記憶手段に記憶された位置となるときに、該位置に対応して前記記憶手段に記憶された深さ値に基づいて前記垂直動機構を制御する請求項１記載のペースト塗布装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記深さ値に基づいて前記距離検出手段にて得られる検出値を補正する補正手段を有し、前記補正された検出値により前記垂直動機構を制御する請求項１または２記載のペースト塗布装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記距離測定手段にて得られる検出値が予め設定された目標値となるように前記垂直動機構を制御するものであって、
前記制御手段は、更に、前記深さ値に基づいて前記目標値を補正する補正手段を有し、前記距離測定手段にて得られる検出値が前記補正された目標値となるように前記垂直動機構を制御する請求項１または２記載のペースト塗布装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記距離測定手段にて得られる検出値と予め設定された目標値との差分値に基づいて前記垂直動機構を制御するものであって、
前記制御手段は、更に、前記差分値を前記深さ値に基づいて補正する補正手段を有し、該補正された差分値に基づいて前記垂直動機構を制御する請求項１または２記載のペースト塗布装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係るペースト塗布装置は、ステージに載置される基板に対向して配置されてペーストを前記基板の表面に向けて吐出するノズルと、
このノズルを前記基板の表面に垂直な方向に当該基板に対して相対動させる垂直動機構と、
前記ノズルに対向する前記基板上の位置である塗布位置から所定距離だけ離れた位置に設定される測定位置にて前記基板表面までの距離を検出する距離検出手段と、
この距離検出手段による検出値に基づいて前記垂直動機構を制御して前記ノズルの先端と前記基板との間隔が目標値となるように調整する制御手段と、を有し、
前記ノズルからのペーストを前記基板の表面に予め設定されたパターンで塗布するようにしたペースト塗布装置において、
表面に上側の面と下側の面とによる段差の形成された基板にペーストを塗布する場合に、前記上側の面と前記下側の面との間の高低差としての深さ値を記憶する記憶手段を有し、
前記制御手段は、前記ノズルから吐出した前記ペーストを前記設定されたパターンで前記上側の面及び前記下側の面のうちの一方の面上に塗布する過程において、前記測定位置が前記上側の面及び前記下側の面のうちの他方の面上に位置しているか否かを判断し、前記測定位置が前記他方の面上に位置すると判定したときには、前記記憶手段に記憶された前記深さ値と前記距離検出手段にて得られる検出値とに基づいて、前記ノズルの先端と前記一方の面との間隔が前記目標値となるように前記垂直動機構を制御する構成となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような構成により、表面に上側の面と下側の面とによる段差の形成された基板に予め設定されたパターンでペーストを塗布する場合に、前記ノズルから吐出した前記ペーストを前記設定されたパターンで前記上側の面及び前記下側の面のうちの一方の面上に塗布する過程において、測定位置が前記上側の面と前記下側の面のうちの他方の面上に位置するときには、制御手段は、記憶手段に記憶された上側の面と下側の面との間の高低差としての深さ値と前記距離検出手段にて得られた検出値とに基づいて、前記ノズルの先端と前記一方の面との間隔が前記目標値となるように前記垂直動機構を制御する。これにより、ノズルとペーストを塗布すべき基板との間隔を一定に保持することができるようになる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記深さ値は、固定値を用いることも、また、ノズルの各位置で異なるようにすることもできる。後者の場合、本発明に係るペースト塗布装置において、前記記憶手段には、前記基板上に前記パターンでペーストを塗布すべき前記塗布位置としての各位置と、当該位置の前記塗布位置がある前記基板の表面と前記測定位置のある前記基板の表面との間の段差の深さ値とが対応づけられて記憶され、前記制御手段は、前記ペースト吐出機構が前記記憶手段に記憶された位置となるときに、該位置に対応して前記記憶手段に記憶された深さ値に基づいて前記垂直動機構を制御する構成とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このような構成により、段差の深さ値がノズルの配置される各位置によって異なったとしても、各位置での深さ値がその位置に対応させて記憶手段に記憶され、その各位置において、その対応する深さ値に基づいて垂直動機構が制御されるようになるので、段差の上側の面と下側の面のうちの測定位置のある面と異なる面におけるどのような位置にてノズルからのペーストが塗布される場合であっても、当該ノズルとペーストを塗布すべき基板表面との間隔を一定に保持することができるようになる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このような構成により、ノズルによってペーストが塗布される面と測定位置のある面とが段差の下側の面と上側の面とに別れても、距離検出手段にて得られる検出値が前記段差の深さ値に基づいて補正され、その補正された検出値に基づいて垂直動機構が制御されるので、ノズルとペーストを塗布する基板表面との間の距離を一定に保つことができるようになる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このような構成により、ノズルによってペーストが塗布される面と測定位置のある面とが段差の下側の面と上側の面とに別れても、距離測定手段にて得られる測定位置での検出値の目標値が段差の深さ値に基づいて補正され、前記検出値がその補正された目標値となるように垂直動機構が制御されるので、ノズルとペーストを塗布する基板表面との間隔を一定に保つことができるようになる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
このような構成により、ノズルによってペーストが塗布される面と測定位置のある面とが段差の下側の面と上側の面とに別れても、距離測定手段にて得られる測定位置での検出値と目標値との差分値が段差の深さ値に基づいて補正され、その補正された差分値に基づいて垂直動機構が制御されるので、ノズルとペーストを塗布する基板表面との間隔を一定に保つことができるようになる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明によれば、ノズルによってペーストが塗布される面と測定位置の面とあるが段差の下側の面と上側の面とに別れた状況であっても、ノズルとペーストを塗布する基板表面との間隔が一定に保たれるようになるので、表面に段差の形成された基板の当該表面に的確にペーストを塗布することができるようになる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
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