【手続補正書】
【提出日】平成25年5月17日(2013.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、
前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が、前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記基板を水平方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が、前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記基板の下面の状態を表す状態情報に基づいて、前記基板を加速をともない搬送する場合の搬送加速度及び前記基板を吸着する吸着力を決定することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記状態情報と、前記搬送加速度及び前記吸着力との対応を表すテーブルを有し、前記テーブルを参照して、前記搬送加速度及び前記吸着力を決定することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御部は、
前記搬送部が前記基板を保持している場合には、前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が、前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部を制御し、
前記搬送部が前記基板を保持していない場合には、前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が、前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部を制御しないことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、
前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の前記基板の下面の吸着を開始してから前記基板の搬送を開始するまでの搬送待ち時間が、前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間よりも長くなるように、前記搬送部を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記基板を水平方向の加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間が、前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間よりも長くなるように、前記搬送部を制御することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記基板の下面の状態を表す状態情報に基づいて、前記基板を加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間、前記基板を加速をともない搬送する場合の搬送加速度及び前記基板を吸着する吸着力を決定することを特徴とする請求項６又は７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記状態情報と、前記搬送待ち時間、前記搬送加速度及び前記吸着力との対応を表すテーブルを有し、前記テーブルを参照して、前記搬送待ち時間、前記搬送加速度及び前記吸着力を決定することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記状態情報は、前記基板の反り量、前記基板が上方に凸形状であるか下方に凸形状であるかを表す反り方向、前記基板の下面への異物の付着の有無及び前記基板の下面の摩擦係数の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項３又は８に記載の露光装置。
【請求項１１】
レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、
前記基板の下面の状態を表す状態情報に基づいて、前記搬送部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、下面の状態が一定量以上である前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が、下面の状態が前記一定量未満である前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さく、かつ、
下面の状態が前記一定量以上である前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が、下面の状態が前記一定量以上である前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、
前記基板の下面の状態を表す状態情報に基づいて、前記搬送部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、下面の状態が一定量以上である前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の前記基板の下面の吸着を開始してから前記基板の搬送を開始するまでの搬送待ち時間が、下面の状態が前記一定量未満である前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間よりも長く、かつ、
下面の状態が前記一定量以上である前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間が、下面の状態が前記一定量以上である前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間よりも長くなるように、前記搬送部を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、
前記基板の下面の状態を表す状態情報に基づいて、前記搬送部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、下面の状態が一定量以上である前記基板を鉛直上方向の減速をともない搬送する場合の搬送加速度が、下面の状態が前記一定量未満である前記基板を鉛直上方向の減速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さく、かつ、
下面の状態が前記一定量以上である前記基板を鉛直上方向の減速をともない搬送する場合の搬送加速度が、下面の状態が前記一定量以上である前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項１４】
前記基板の下面の状態は、前記基板の反り量を含むことを特徴とする請求項１１乃至１３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１６】
基板を搬送する搬送方法であって、
前記基板の下面を吸着して前記基板を保持するステップと、
前記基板を保持した状態で、下方向へ加速しながら前記基板を搬送するステップと、
前記基板を保持した状態で、上方向へ加速しながら前記基板を搬送するステップと、を有し、
前記下方向へ加速しながら前記基板を搬送するときの加速度は、前記上方向へ加速しながら前記基板を搬送するときの加速度よりも小さいことを特徴とする搬送方法。
【請求項１７】
基板を搬送する搬送方法であって、
前記基板の下面を吸着して前記基板を保持するステップと、
前記基板を保持した状態で、上方向へ減速しながら前記基板を搬送するステップと、
前記基板を保持した状態で、下方向へ減速しながら前記基板を搬送するステップと、を有し、
前記上方向へ減速しながら前記基板を搬送するときの加速度は、前記下方向へ減速しながら前記基板を搬送するときの加速度よりも小さいことを特徴とする搬送方法。
【請求項１８】
基板を搬送する搬送方法であって、
前記基板の下面を吸着して前記基板を保持するステップと、
前記基板を保持した状態で、上方向へ加速しながら前記基板を搬送するステップと、
前記基板を保持した状態で、前記上方向へ減速しながら前記基板を搬送するステップと、を有し、
前記上方向へ減速しながら前記基板を搬送するときの加速度は、前記上方向へ加速しながら前記基板を搬送するときの加速度よりも小さいことを特徴とする搬送方法。
【請求項１９】
基板を搬送する搬送方法であって、
前記基板の下面を吸着して前記基板を保持するステップと、
前記基板を保持した状態で、下方向へ加速しながら前記基板を搬送するステップと、
前記基板を保持した状態で、上方向へ加速しながら前記基板を搬送するステップと、を有し、
前記基板の下面の吸着を開始してから前記下方向への前記基板の搬送を開始するまでの時間は、前記基板の下面の吸着を開始してから前記上方向への前記基板の搬送を開始するまでの時間よりも長いことを特徴とする搬送方法。
【請求項２０】
請求項１６乃至１９のうちいずれか１項に記載の搬送方法によって基板を搬送するステップと、
前記基板を露光するステップと、を有することを特徴とする露光方法。
【請求項２１】
基板に感光剤を塗布するステップと、
請求項１６乃至１９のうちいずれか１項に記載の搬送方法によって前記基板を搬送するステップと、
前記基板を露光するステップと、を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光方法、搬送方法及びデバイスの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法、搬送方法及びデバイスの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が、前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部を制御する制御部と、を有することを特徴とする。