【手続補正書】
【提出日】平成25年3月26日(2013.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ロード方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ロード方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法に係り、さらに詳しくは、ステージの上面の一部に配置される凹部内に基板をロードするロード方法、該ロード方法を利用する露光方法及び前記各方法を実施するのに好適な露光装置、並びに該露光装置又は前記露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、第１の観点からすると、ステージの上面の一部に配置される凹部内に基板をロードするロード方法であって、前記ステージの凹部内に物体を載置することと、前記凹部内に載置された物体と前記凹部との位置関係の情報を取得することと、前記位置関係の情報に基づいて、前記基板と前記ステージとの位置関係を調整して、前記ステージの凹部内に前記基板をロードすることと、を含むロード方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
これによれば、基板を、ステージの上面の一部に配置される凹部内に容易にロードすることが可能になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、第２の観点からすると、投影光学系を介して露光ビームで基板を露光する露光方法であって、本発明のロード方法を用いて、ステージの上面の一部に配置される凹部内に前記基板を載置することと、前記凹部内に載置された基板に前記露光ビームを照射することと、を含む第１の露光方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
これによれば、本発明のロード方法を用いて、ステージの上面の一部に配置される凹部内に基板を載置し、そのステージ上にロードされた物体に露光ビームを照射して露光が行われる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、第３の観点からすると、搬送系を介してステージにロードされる基板を、投影光学系と液体とを介して露光ビームで露光する露光方法であって、前記搬送系によって搬送される物体を前記ステージの凹部内に載置することと、前記凹部内に載置された物体と前記凹部との位置関係の情報を取得することと、前記搬送系によって前記ステージの上方に搬送される前記基板が前記凹部内に載置されるように、前記取得された情報に基づいて、前記基板を前記ステージにロードすることと、前記凹部内に載置された基板の一部に、前記投影光学系と、前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域とを介して、前記露光ビームを照射することと、を含む第２の露光方法である。
これによれば、搬送系によってステージの上方に搬送される基板が凹部内に載置されるように、前記取得された前記凹部内に載置された物体と前記凹部との位置関係の情報に基づいて、基板が前記ステージにロードされ、凹部内に載置された基板が、液浸方式により露光される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、第４の観点からすると、投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光装置であって、上面の一部に配置される凹部内で前記基板を載置するステージと、前記ステージによって前記投影光学系と対向して配置される前記基板の一部に、前記液体によって液浸領域を形成する局所液浸部材と、前記投影光学系から離れた前記基板の交換位置に配置される前記ステージの上方に前記基板を搬送する搬送系と、前記搬送された基板が前記凹部内に載置されるように前記基板を前記ステージにロードするために、前記搬送系及び前記ステージを制御する制御装置と、前記搬送系を介して前記ステージの凹部内に載置される物体と前記凹部との位置関係の情報を取得する計測装置と、を備え、前記基板のロードは、前記物体と前記凹部との位置関係の情報の取得後に行われ、前記制御装置は、前記基板のロードのために前記取得された情報を用いる露光装置である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
これによれば、基板のロードが、物体とステージの上面の一部に配置される凹部との位置関係の情報の取得後に行われ、制御装置が、その基板のロードのために前記取得された情報を用いる。従って、基板を、ステージの上面の一部に配置される凹部内に容易にロードすることが可能になる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
リソグラフィ工程において、本発明の露光装置を用いることで、物体上にパターンを精度良く形成することができ、これによりマイクロデバイスを歩留まり良く製造することができる。同様に、リソグラフィ工程において、本発明の第１及び第２の露光方法のいずれかを用いることで、物体上にパターンを精度良く形成することができ、これによりマイクロデバイスを歩留まり良く製造することができる。従って、本発明は、さらに別の観点からすると、本発明の露光装置、又は本発明の第１及び第２の露光方法のいずれかを用いる、デバイス製造方法であるとも言える。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０８】
以上説明したように、本発明のロード方法は、ステージ上に基板をロードするのに適している。また、本発明の露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法は、半導体素子などのマイクロデバイスの製造に適している。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージの上面の一部に配置される凹部内に基板をロードするロード方法であって、
前記ステージの凹部内に物体を載置することと、
前記凹部内に載置された物体と前記凹部との位置関係の情報を取得することと、
前記位置関係の情報に基づいて、前記基板と前記ステージとの位置関係を調整して、前記ステージの凹部内に前記基板をロードすることと、を含むロード方法。
【請求項２】
請求項１に記載のロード方法において、
前記凹部内にロードされた基板の外周エッジと前記凹部の内周エッジとの間隔を計測することを、さらに含むロード方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のロード方法において、
前記物体と前記凹部との位置関係の情報は、前記物体の外周エッジと前記凹部の内周エッジとの間隔、あるいは、前記物体の中心と前記凹部の中心とのずれ情報を含むロード方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のロード方法において、
前記位置関係の情報を取得するために前記凹部内に載置される物体は、前記基板よりも小径の工具用基板を含むロード方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のロード方法において、
前記位置関係の情報を取得するために、前記凹部の内周エッジの位置情報と、前記物体の外周エッジの位置情報とが取得されるロード方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のロード方法において、
前記基板の外周エッジと前記凹部の内周エッジとが接触しないように、かつ前記基板の外周エッジと前記凹部の内周エッジとの間隔が所定値より小さくなるように前記基板を前記凹部内にロードするロード方法。
【請求項７】
投影光学系を介して露光ビームで基板を露光する露光方法であって、
請求項１〜６のいずれか一項に記載のロード方法を用いて、ステージの上面の一部に配置される凹部内に前記基板を載置することと、
前記凹部内に載置された基板に前記露光ビームを照射することと、を含む露光方法。
【請求項８】
請求項７に記載の露光方法であって、
前記ステージによって前記投影光学系と対向して配置される前記基板の一部に、前記投影光学系の下に供給される液体によって液浸領域が形成され、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームが照射される露光方法。
【請求項９】
請求項８に記載の露光方法において、
前記基板はその表面が前記ステージの上面とほぼ同一面となるように前記凹部内に載置され、
前記液浸領域は、前記ステージの上面と前記凹部内に載置される基板との少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される露光方法。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の露光方法において、
前記ステージの上端側に着脱可能に搭載されるプレートの開口によって前記凹部が規定され、
前記プレートは、前記ステージの上端に撥液面を形成する露光方法。
【請求項１１】
搬送系を介してステージにロードされる基板を、投影光学系と液体とを介して露光ビームで露光する露光方法であって、
前記搬送系によって搬送される物体を前記ステージの凹部内に載置することと、
前記凹部内に載置された物体と前記凹部との位置関係の情報を取得することと、
前記搬送系によって前記ステージの上方に搬送される前記基板が前記凹部内に載置されるように、前記取得された情報に基づいて、前記基板を前記ステージにロードすることと、
前記凹部内に載置された基板の一部に、前記投影光学系と、前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域とを介して、前記露光ビームを照射することと、を含む露光方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光方法において、
前記基板のロードにおいて、前記位置関係の情報に基づいて前記搬送系と前記ステージとの少なくとも一方が制御される露光方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光方法において、
前記基板の外周エッジと前記凹部の内周エッジとが接触することなく前記基板がロードされるとともに、前記凹部内に載置される基板の外周エッジと前記凹部の内周エッジとの間隔が所定値より小さくなるように、前記搬送系と前記ステージとの少なくとも一方の制御によって前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係が調整される露光方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の露光方法において、
前記搬送系と前記ステージとの少なくとも一方の制御によって、前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係が設定される露光方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の露光方法において、
前記凹部が一部に配置される前記ステージの上面と接触することなく前記基板がロードされるとともに、前記凹部内に載置される基板の表面と前記上面との間に間隙が形成されるように、前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係が設定され、
前記ステージはその上面側で前記液浸領域が前記間隙を横切るように移動される露光方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の露光方法において、
前記基板は、前記間隙が０．３ｍｍ程度以下となる、あるいは、前記間隔が実質的に一様となるように前記凹部内に載置される露光方法。
【請求項１７】
請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板のロードにおいて、前記ステージは、前記投影光学系から離れた前記基板の交換位置に配置される露光方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の露光方法において、
前記凹部内に載置された物体は、前記交換位置で前記ステージからアンロードされる露光方法。
【請求項１９】
請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板はその表面が前記ステージの上面とほぼ同一面となるように前記凹部内に載置される露光方法。
【請求項２０】
請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板はプリアライメントが行われ、前記プリアライメントが行われた基板が前記ステージにロードされる露光方法。
【請求項２１】
請求項１１〜２０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記位置関係の情報を取得するために、前記物体と前記ステージの一部とをそれぞれ検出して、前記物体の外周エッジ及び前記凹部の内周エッジに関する位置情報を計測する露光方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光方法において、
前記位置関係の情報は、前記物体の外周エッジと前記凹部の内周エッジとの間隔を含む露光方法。
【請求項２３】
請求項２１に記載の露光方法において、
前記位置関係の情報は、前記凹部内に載置された物体の中心と、前記凹部の中心とのずれ情報を含む露光方法。
【請求項２４】
請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記凹部内に載置された物体の外周エッジと前記凹部の内周エッジとがそれぞれ複数箇所で検出される露光方法。
【請求項２５】
請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ステージが移動される座標系を規定する位置計測系によって前記ステージの位置情報を計測しつつ、前記位置計測系と異なる検出装置によって前記物体と前記ステージの一部とが検出される露光方法。
【請求項２６】
請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ステージは、前記凹部を規定する開口が一部に形成されるプレートが搭載され、
前記位置関係の情報は、前記プレートの着脱毎あるいは交換毎に取得され、
前記取得のために前記プレートの一部が検出される露光方法。
【請求項２７】
請求項２６に記載の露光方法において、
前記プレートの検出動作と交換動作との少なくとも一方は、前記ステージと異なるステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される状態で行われる露光方法。
【請求項２８】
請求項２７に記載の露光方法において、
前記異なるステージは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームで露光される基板を載置可能、あるいは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームが照射される少なくとも１つの計測部材が設けられる露光方法。
【請求項２９】
請求項１１〜２８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記物体は、前記基板よりも小径の工具用基板を含む露光方法。
【請求項３０】
請求項７〜２９のいずれか一項に記載の露光方法を用いるリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
【請求項３１】
投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光装置であって、
上面の一部に配置される凹部内で前記基板を載置するステージと、
前記ステージによって前記投影光学系と対向して配置される前記基板の一部に、前記液体によって液浸領域を形成する局所液浸部材と、
前記投影光学系から離れた前記基板の交換位置に配置される前記ステージの上方に前記基板を搬送する搬送系と、
前記搬送された基板が前記凹部内に載置されるように前記基板を前記ステージにロードするために、前記搬送系及び前記ステージを制御する制御装置と、
前記搬送系を介して前記ステージの凹部内に載置される物体と前記凹部との位置関係の情報を取得する計測装置と、を備え、
前記基板のロードは、前記物体と前記凹部との位置関係の情報の取得後に行われ、
前記制御装置は、前記基板のロードのために前記取得された情報を用いる露光装置。
【請求項３２】
請求項３１に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記位置情報の情報に基づいて、前記基板のロードにおける前記搬送系と前記ステージとの少なくとも一方の位置を制御する露光装置。
【請求項３３】
請求項３２に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記基板の外周エッジと前記凹部の内周エッジとが接触することなく前記基板がロードされるとともに、前記凹部内に載置される基板の外周エッジと前記凹部の内周エッジとの間隔が所定値より小さくなるように、前記搬送系と前記ステージとの少なくとも一方の位置制御によって前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係を調整する露光装置。
【請求項３４】
請求項３２に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記搬送系と前記ステージとの少なくとも一方の位置制御によって、前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係を設定する露光装置。
【請求項３５】
請求項３４に記載の露光装置において、
前記凹部が一部に配置される前記ステージの上面と接触することなく前記基板がロードされるとともに、前記凹部内に載置される基板の表面と前記上面との間に間隙が形成されるように、前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係が設定され、
前記ステージはその上面側で前記液浸領域が前記間隙を横切るように移動される露光装置。
【請求項３６】
請求項３５に記載の露光装置において、
前記基板は、前記間隙が０．３ｍｍ程度以下となる、あるいは、前記間隔が実質的に一様となるように前記凹部内に載置される露光装置。
【請求項３７】
請求項３１〜３６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のロードにおいて、前記ステージは、前記投影光学系から離れた前記基板の交換位置に配置される露光装置。
【請求項３８】
請求項３７に記載の露光装置において、
前記凹部内に載置された物体は、前記交換位置で前記ステージからアンロードされる露光装置。
【請求項３９】
請求項３１〜３８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板はその表面が前記ステージの上面とほぼ同一面となるように前記凹部内に載置される露光装置。
【請求項４０】
請求項３１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記搬送系は、前記基板のプリアライメント装置を有し、
前記プリアライメント装置によってプリアライメントが行われた基板が前記ステージにロードされる露光装置。
【請求項４１】
請求項３１〜４０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記物体と前記ステージの一部とをそれぞれ検出して、前記物体の外周エッジ及び前記凹部の内周エッジに関する位置情報を計測する露光装置。
【請求項４２】
請求項４１に記載の露光装置において、
前記位置関係の情報は、前記物体の外周エッジと前記凹部の内周エッジとの間隔を含む露光装置。
【請求項４３】
請求項４１に記載の露光装置において、
前記位置関係の情報は、前記凹部内に載置された物体の中心と、前記凹部の中心とのずれ情報を含む露光装置。
【請求項４４】
請求項４１〜４３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記凹部内に載置された物体の外周エッジと前記凹部の内周エッジとをそれぞれ複数箇所で検出する露光装置。
【請求項４５】
請求項４１〜４４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ステージの位置情報を計測する位置計測系を、さらに備え、
前記計測装置は、前記物体と前記ステージの一部を検出する、前記位置計測系と異なる検出装置を有し、
前記位置計測系によって前記ステージの位置情報を計測しつつ前記検出装置によって前記物体と前記ステージの一部とが検出される露光装置。
【請求項４６】
請求項４１〜４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ステージは、前記凹部を規定する開口が一部に形成されるプレートが搭載され、
前記物体と前記凹部との位置関係に関する情報は、前記プレートの着脱毎あるいは交換毎に取得され、
前記取得のために前記プレートの一部が検出される露光装置。
【請求項４７】
請求項４６に記載の露光装置において、
前記ステージと異なるステージを、さらに備え、
前記プレートの検出動作と交換動作との少なくとも一方は、前記異なるステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される状態で行われる露光装置。
【請求項４８】
請求項４７に記載の露光装置において、
前記異なるステージは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームで露光される基板を載置可能、あるいは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームが照射される少なくとも１つの計測部材が設けられる露光装置。
【請求項４９】
請求項３１〜４８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記物体は、前記基板よりも小径の工具用基板を含む露光装置。
【請求項５０】
請求項３１〜４９のいずれか一項に記載の露光装置を用いるリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。