(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電潜像の露光走査を行う走査光学装置から出力される走査ビームの走査開始の基準位置を検出する基準位置検出手段と、
評価対象画素に走査ビーム評価用パターンを発生する評価パターン発生手段と、
前記走査光学装置のポリゴンミラーに光を照射する発光素子を前記パターンに基づき制御する発光素子制御手段と、
前記走査ビームの光量分布を受光素子で受光して検出する光検出手段と、
前記受光素子を主走査方向に移動する移動手段と、
前記受光素子の位置検出を行う位置検出手段と、
前記移動手段で前記受光素子をビーム主走査方向に移動しながら前記光検出手段で前記走査ビームを検出し、前記位置検出手段で検出される前記受光素子の位置を前記走査ビーム評価用パターンと同期して記憶して、前記光検出手段で検出した走査ビーム位置と位置検出手段で検出した前記受光素子位置とによって前記走査ビームの位置を測定評価する測定評価手段と、
を備えている走査ビーム測定評価装置。
【請求項２】
測定評価手段は、走査ビーム評価用パターンの発生区間と同期して受光素子の位置を記憶するものである請求項１に記載の走査ビーム測定評価装置。
【請求項３】
前記測定評価手段は、独立して設定されている走査ビーム評価用パターンと前記受光素子の位置の検出トリガ位置とにつき、実際の走査パターン生成時に前記トリガ位置で発生する検出トリガ信号と同期して前記受光素子の位置を記憶するものである請求項１または２に記載の走査ビーム測定評価装置。
【請求項４】
前記測定評価手段は、基準位置信号から積算される画素カウンタ積算値により決定されるビーム位置と前記位置検出手段から得られる受光素子の位置とを比較し、あらかじめ決められた条件と同期して前記受光素子の位置を記憶するものである請求項１〜３の何れかの一に記載の走査ビーム測定評価装置。
【請求項５】
前記測定評価手段は、前記受光素子の位置を記憶する条件として、画素カウンタ積算値から決定されるビーム位置と位置検出手段の位置情報とから位置検出手段の位置を走査ビームの位置が通りすぎた後の最初の画素クロック信号に同期して受光素子の位置を記憶するものである請求項４に記載の走査ビーム測定評価装置。
【請求項６】
前記測定評価手段は、前記受光素子の位置を記憶する条件として、前記位置検出手段の位置情報に対応する画素カウンタ積算値から決定されるビーム位置をあらかじめ記憶しておき、前記位置検出手段の対応位置を走査ビームが通りすぎた後、最初の画素クロック信号に同期して受光素子位置を記憶するものである請求項４に記載の走査ビーム測定評価装置。
【請求項７】
前記位置検出手段は、パルス列信号を出力するものであり、
前記評価パターン発生手段は、当該パルス列信号のパルス数をカウントするカウンタ手段を備えている請求項１〜６の何れかの一に記載の走査ビーム測定評価装置。
【請求項８】
請求項１〜７の何れかの一に記載の走査ビーム測定評価装置を備え、当該装置により静電潜像の露光走査を行う走査光学装置の走査ビームの位置を測定評価するものである電子写真方式の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、走査ビーム測定評価装置及び画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レーザビームプリンタ、複写機、ファクシミリ等の電子写真方式の画像形成装置に用いられる書込み走査光学ユニットは、主にレーザ光源、コリメートレンズ、各種レンズ・ミラー、ポリゴンミラーなどで構成される走査光学系を有している。一般に、このような画像形成装置では、レーザ光源から発生されたレーザビームをコリメータレンズによって平行光に変換し、ポリゴンミラーへ照射し、その回転によって偏向する。ポリゴンミラーによって反射された光ビームは、結像レンズおよびミラー系によって感光体上に結像する。
【０００３】
感光体上の点像は、ポリゴンミラーの回転による主走査方向への走査が行われ、また、感光体ドラムの回転により副走査方向への走査が行われ、静電潜像を形成する。この静電潜像が形成された感光体ドラムの表面にトナーを付着させて顕像化させることによりトナー像を形成し、このトナー像を転写紙に転写すると共に定着して、その転写紙に画像を形成することが知られている。
【０００４】
ところで、走査光学系を構成している光学素子に面精度（うねり）、表面欠陥、内部欠陥等の異常があった場合、感光体上へ走査される走査ビームの主走査方向の走査位置ずれや、ビームの深度方向の合焦位置ずれにより、ビームのピーク光量の低下や、ビーム径への影響を伴い、画像形成上の不良を発生させる原因となる。
【０００５】
従来、走査光学系の走査ビームの評価は、ピンホール又はスリットを感光体の表面に相当する位置に設け、その後の受光素子によって測定された、静止状態でのビーム径をもとに、その値が急激に変化する点があるかどうかによって、行われていることが知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来のビーム径の測定方法では、走査全域にわたり、例えば、１ｍｍごとに測定を行った場合、その測定時間は膨大となる。また、ビームの静止状態での測定のため、走査状態でのビーム特性を測定できないという不具合もある。
【０００７】
走査光学系の走査ビームを計測する方法としては、移動手段の位置検出部による位置計測と、その位置におけるドット位置を合成することによって、走査系全体でのドット位置を検出するように構成することも考えられる。
【０００８】
このような測定装置においては、測定時間および振動等を考慮するため、測定の度に移動・停止を繰り返すのではなく、測定手段である２次元センサを主走査方向に移動しながら、ビーム位置を計測する場合が多いと思われるが、走査基準信号発生時で位置を記憶し、全走査域でのビーム位置を検出するようにした場合、以下に述べるような測定時間における誤差が発生し、またこれが位置計測誤差に対して無視できないものであるため、高精度に位置計測を行う場合に問題になる。
【０００９】
以下に、移動機構の速度変動と、観測時刻の位置精度に与える影響を説明する。すなわち、移動機構の移動速度V(mm/sec)、移動速度変動δV(mm/sec)、レーザ１ラインの走査周波数F(1/sec)とすると、１ライン走査時間において、移動機構の移動量L(mm)は、“L=(V+δV)/F”、移動ステージの速度変動が±10％程度あるときの移動量誤差δLは、“δL=±0.1・V/F”であり、V=100、F=2000の場合、“δL=±5*10E-3(mm)=±5μm”となる。
【００１０】
この基準位置からのずれへの対応としては、トリガ用ＰＤを検出系の前段にとりつけることによって行うことが考えられるが、トリガ用ＰＤを追加することにより、装置構成が複雑になるだけでなく、トリガＰＤに確実に走査ビームが入るように点灯制御をおこなう必要があるなど、制御の構成も複雑になってしまう不具合がある。
【００１１】
また、上記移動ステージでは、位置検出用同期信号から位置検出を実際に行うまでの時間間隔に変動があると、同じくビーム位置の誤差につながり、上記設定で仮に1msecの検出時間変動があった場合、位置に換算して10μmの誤差を含有する。走査系のビーム径は100μmよりも小さいものであるので、測定精度が著しく低下する不具合がある。
【００１２】
さらに、この検出時間の変動を小さくするためには、検出専用のハードウエアもしくは、μSecオーダーでの、リアルタイム性を保証しているリアルタイムOSでシステムを構成する必要があり、汎用PCで制御を行う場合に比べ、装置コストが高騰する。
【００１３】
この発明の目的は、走査光学装置について高精度に主走査方向の全走査系位置を計測することである。
【００１４】
この発明の目的は、副走査方向の機構のガタや振動によって発生する副走査方向の位置ずれの影響を低減し高精度に主走査方向の全走査系位置を計測することである。
【００１５】
この発明の目的は、測定評価パターンと検出系位置の比較により、前記高精度の計測の利便性を向上することである。
【００１６】
この発明の目的は、前記高精度の計測の利便性を向上することである。
【００１７】
この発明の目的は、製造コストを低減することである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、静電潜像の露光走査を行う走査光学装置から出力される走査ビームの走査開始の基準位置を検出する基準位置検出手段と、評価対象画素に走査ビーム評価用パターンを発生する評価パターン発生手段と、前記走査光学装置のポリゴンミラーに光を照射する発光素子を前記パターンに基づき制御する発光素子制御手段と、前記走査ビームの光量分布を受光素子で受光して検出する光検出手段と、前記受光素子を主走査方向に移動する移動手段と、前記受光素子の位置検出を行う位置検出手段と、前記移動手段で前記受光素子をビーム主走査方向に移動しながら前記光検出手段で前記走査ビームを検出し、前記位置検出手段で検出される前記受光素子の位置を前記走査ビーム評価用パターンと同期して記憶して、前記光検出手段で検出した走査ビーム位置と位置検出手段で検出した前記受光素子位置とによって前記走査ビームの位置を測定評価する測定評価手段と、を備えている走査ビーム測定評価装置である。
【００１９】
したがって、検出評価パターンに同期し移動系の位置情報を取得することにより、高精度に主走査方向の全走査系の位置を計測することができる。
【００２２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の走査ビーム測定評価装置において、測定評価手段は、走査ビーム評価用パターンの発生区間と同期して受光素子の位置を記憶するものである。
【００２３】
したがって、検出評価パターンに同期し移動系の位置情報を取得することにより、高精度に主走査方向の全走査系の位置を計測することができる。
【００２４】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の走査ビーム測定評価装置において、前記測定評価手段は、独立して設定されている走査ビーム評価用パターンと前記受光素子の位置の検出トリガ位置とにつき、実際の走査パターン生成時に前記トリガ位置で発生する検出トリガ信号と同期して前記受光素子の位置を記憶するものである。
【００２５】
したがって、検出評価パターンに同期し移動系の位置情報を取得することにより、高精度に主走査方向の全走査系の位置を計測することができる。
【００２６】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れかの一に記載の走査ビーム測定評価装置において、前記測定評価手段は、基準位置信号から積算される画素カウンタ積算値により決定されるビーム位置と前記位置検出手段から得られる受光素子の位置とを比較し、あらかじめ決められた条件と同期して前記受光素子の位置を記憶するものである。
【００２７】
したがって、測定評価パターンと検出系位置の比較により、高精度計測の利便性を向上することができる。
【００２８】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の走査ビーム測定評価装置において、前記測定評価手段は、前記受光素子の位置を記憶する条件として、画素カウンタ積算値から決定されるビーム位置と位置検出手段の位置情報とから位置検出手段の位置を走査ビームの位置が通りすぎた後の最初の画素クロック信号に同期して受光素子の位置を記憶するものである。
【００２９】
したがって、測定評価パターンと検出系位置の比較により、高精度計測の利便性を向上することができる。
【００３０】
請求項６に記載の発明は、前記測定評価手段は、前記受光素子の位置を記憶する条件として、前記位置検出手段の位置情報に対応する画素カウンタ積算値から決定されるビーム位置をあらかじめ記憶しておき、前記位置検出手段の対応位置を走査ビームが通りすぎた後、最初の画素クロック信号に同期して受光素子位置を記憶するものである。
【００３１】
したがって、測定評価パターンと検出系位置の比較により、高精度計測の利便性を向上することができる。
【００３４】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６の何れかの一に記載の走査ビーム測定評価装置において、前記位置検出手段は、パルス列信号を出力するものであり、前記評価パターン発生手段は、当該パルス列信号のパルス数をカウントするカウンタ手段を備えている。
【００３５】
したがって、評価パターン発生手段に、検出系の位置保存機能を設けることによって、製造コストを低減することができる。
【００３６】
請求項８に記載の発明は、請求項１〜７の何れかの一に記載の走査ビーム測定評価装置を備え、当該装置により静電潜像の露光走査を行う走査光学装置の走査ビームの位置を測定評価するものである電子写真方式の画像形成装置である。
【００３７】
したがって、請求項１〜９の何れかの一に記載の発明と同様の作用、効果を奏することができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】
この発明の一実施の形態について説明する。
【００３９】
図１は、この発明の一実施の形態である、電子写真方式の画像形成装置における走査光学系の走査ビームを測定、評価する装置である走査ビーム測定評価装置１の概略構成を説明するブロック図である。
【００４０】
この走査ビーム測定評価装置１は、走査光学ユニット５０にセットして測定を行う。なお、基準位置検出手段として走査ビームの走査開始位置を検出する受光センサを用い、このセンサからの基準位置信号を以下、同期信号とよぶ。
【００４１】
走査光学ユニット５０は、レーザ光源であるレーザダイオード（以下、ＬＤという）１２と、走査ビームの走査開始位置を検出する受光センサであるフォトダイオード（以下、ＰＤという）１３については、走査ビーム測定評価装置１と入出力できるようコネクタ接続できるようにしてある。また、回転多面鏡１４への信号入出力もコネクタ接続できるようにしておく。
【００４２】
これにより、走査ビーム測定評価装置１は、ＬＤ１２から光ビームを回転多面鏡１４への反射面に向けて照射し、光ビームを反射させて、走査光学ユニット５０で走査させる。光ビームは、まず、ＰＤ１３に照射され、走査ビームの走査開始位置となる同期信号１６を得る。次に、光ビームはｆθレンズ１５などの構成により走査され、感光体像位置Ｒに焦点を結んで直線上に結像する。
【００４３】
走査ビーム測定評価装置１は、この感光体像位置Ｒにおいて、検出手段としてＣＣＤ二次元エリアセンサ２０が配置されている。また、ＣＣＤ二次元エリアセンサ２０には、着脱自在な拡大光学素子である対物レンズ２１により、走査ビームのスポット像を拡大検出できる。また、この対物レンズ２１の着脱の際に生じる、微妙な光軸方向の位置ずれは、光軸方向の図示しない移動ステージなどで微調整できるようになっている。
【００４４】
走査ビーム測定評価装置１は、ＰＤ１３により得られた同期信号１６をもとに、ＬＤ１２の点灯制御部１７で、走査ビームの発光のタイミングをとり、また、ＣＣＤ二次元エリアセンサ２０の取込みトリガをかけ、カメラトリガシャッター２２を開いて受光させる。ここで、この同期信号１６を回転多面鏡１４の面数（この例では６面）に応じてカウントすることで、面選択を可能とし、特定の面でのみＬＤ１２の点灯制御部１７への発光のタイミングに使うようにすることもできる。
【００４５】
ＣＣＤ二次元エリアセンサ２０にて撮像した後、計測部ＣＰＵ４１の指令により、コントローラボックス４０を介して、取得した画像データをデータ格納部３２へ転送する。また、同時に、位置検出部２５が、位置検出用ＰＤ２７からのトリガをもとに取得した撮像位置の位置情報を、保存部３４から計測部ＣＰＵ４１へ転送する。
【００４６】
また、このとき、位置検出用のＰＤ２７は、走査ビームを検出することで、走査ビームが検出系に入射するタイミングに合わせて、位置情報取得のトリガがかかるようにしている。
【００４７】
ＣＣＤ二次元エリアセンサ２０は、Ｘ軸移動ステージ２３によって、主走査方向であるＸ軸方向に移動可能である。これによって、ＣＣＤ二次元エリアセンサ２０は、走査領域内の任意の位置で走査ビームを検出可能となる。この時、Ｘ軸移動ステージ２３は、計測部ＣＰＵ４１からコントローラボックス４０を介し、機構制御部２４により駆動される。また、Ｘ軸移動ステージ２３の移動量は、位置検出センサであるリニアスケール２６（その他、光側長器や、レーザマイクロセンサ等も利用できる）を用い、位置検出部２５により計測を行う。これにより、ＣＣＤ二次元エリアセンサ２０のデータ取得位置を、正確にかつ高速に計測できる。
【００４８】
ＣＣＤ二次元エリアセンサ２０は、主走査方向であるＸ軸方向に移動されながら、この画像データの取得とデータ格納部３２への転送するルーチンを全走査領域内にわたって繰返し、１走査ライン分の画像データを取得する。この後、信号処理部３３により撮像した光量分布データの解析により、走査光学系の全走査域でのリニアリティ、及び、走査線曲がり量の測定評価を終了する。
【００４９】
測定結果は、計測部ＣＰＵ４１にて演算され、走査ビームの画像データをもとに、その走査ラインにおける走査光学系の全走査域でのリニアリティ、及び、走査線曲がり量の表示を表示部４２に行わせることができる。
【００５０】
図２は、走査ビームの点灯制御部１７における基本的なタイミングチャートを示したものである。図２において、（ａ）が、ＬＤ基本信号であり、走査ビームの走査開始位置となる同期信号１６を得るために、受光センサであるＰＤ１３に確実に受光させるために、ある程度時間幅をもたせてＬＤ１２を発光させている。（ｂ）は、ＰＤ１３の受光トリガで、同期信号１６としている。（ｂ）の立下がりタイミングで、ポリゴンミラー１４の回転ムラ等により生ずるクロック位相のずれを調整し、（ｃ）に示す光書き込み系の基本クロック信号（画素ＣＬＯＣＫ）１９を生成する。信号（ｄ）は、この基本クロック信号で駆動されるカウンタ値（画素カウンタ）であり、カウンタは前記同期信号で０にリセットされ、このカウンタ値を用いて、実際のＬＤ１２の書き込みタイミング（すなわちその位置）を制御する。
【００５１】
信号（ｅ）は、計測部ＣＰＵ４１で所定のプログラムにもとづき、実際にＬＤ１２を駆動させる信号（Ｌｄ駆動信号）であり、（ｄ）のカウント値と比較して、パターンを出力させることができ、例えば、図２では、４進のカウンタとして、Ｔｐを設定している。このようにＴｐの時間間隔を任意に設定可能であり、ドットの発光させる時間間隔として設定することができる。ここで、（ｃ）のクロック信号において、同期信号１６とタイミングを正確に合せているため、（ｅ）のＬＤ駆動信号により、発光するドットの打たれる位置の再現性は格段に向上させることができる。
【００５２】
つづいて移動系位置の検出に関してのタイミングであるが、同期信号（ｂ）に準じたものを信号（ｇ）として示す（位置検出トリガ）。検出系が移動するため、検出系位置も、信号（ｆ）のように刻々と変化しており、基準位置と、実際の評価パターン位置の違いが検出系位置の誤差となる。また、位置検出トリガ信号（ｇ）から、実際にシステムとしてその位置を記憶するまでの遅延時間をＴｄとすると、この遅延時間内にも移動系は移動するため、Ｔｄに変動があった場合には、それが位置情報の検出誤差につながる。
【００５３】
なお、Ａ４横幅が約３００mmに対して、６００dpiの解像度の書き込み形の場合、少なくともその主走査方向のドット数は、“７０００≒３００(mm)/２５.４(mm/inch)*６００(dpi=dot/inch)”となるため、その走査時間の検出系の移動および、クロックのジッタも測定精度の低下につながる。
【００５４】
前記のように位置検出トリガ用ＰＤを別途設けてタイミング制御を行うなどしてこの影響を低減する場合は、トリガＰＤおよびその測定回路が必要となり、またトリガＰＤにビームが確実に入るように、ビームの発光タイミングを制御する必要があり、装置構成が複雑になってしまう。
【００５５】
これに対し、図３に示す、この走査ビーム測定評価装置１による位置検出トリガ信号の例で、この走査ビーム測定評価装置１による動作を説明する。信号（ｇ１）の記憶用トリガ（位置検出トリガ）は、（ｅ１）のパターン発生区間信号の立ち上がりと同期しており、これにより走査系の位置によらず安定した検出系の位置計測を行う。パターン発生区間信号は、評価対象画素に走査ビーム評価用パターンを発生するものである。
【００５６】
また、信号（ｇ２）の記憶用トリガは、画素カウンタ信号の設定値（ここではカウント値１０１の立ち上がり時）において発生する。これにより、走査系の位置によらず、安定した検出系の位置計測が可能であり、位置検出トリガ信号から実際にデータ格納部３２に書き込までの遅延時間（上記Ｔｄ）が発生するときなどに、補正ができるという効果がある。
【００５７】
前記のように、パターン発生区間信号と、検出系の位置検出時間のずれを低減し、検出誤差低減することが可能となったが、実際に装置として使用するにあたり、発生している評価パターンの光分布部が、検出系にて捕捉されていることを保証する必要がある。
【００５８】
画素カウンタ値から走査しているビーム位置が、検出系位置検出手段から検出系位置がそれぞれ計測されており、この対応は図４に示すグラフのように、検出系位置検出手段の位置の変化に対して、画素カウンタが、何度もクロスする形になる（Ｙ軸は、走査幅が１となるようにそれぞれ正規化する。）。このクロス部で、検出系に走査ビームが入ることに相当する。なお、図４に示すビーム位置１〜８は、走査しているビーム位置を時間毎に示したものである。
【００５９】
このように、画素カウンタ値から走査しているビーム位置と検出系位置との相関によって、位置検出トリガ信号を発生することによって、発生している評価パターンの光分布部が、検出系にて捕捉されていることを保証することができる。
【００６０】
この、規格化した検出系位置Psと同じく、規格化したビームスポット位置Pbにおいて、Pb>Psを満足する最初の画素立ち上がりエッジで位置検出トリガ信号を発生する。
【００６１】
あるいは、移動系および走査ビームのリニアリティが十分でないときは、事前に上記PbとPsの対応を計測しその対応をLUT等のメモリ保存しておき、計測時にPb>LUT(Ps)（LUTは対応表）を満足する最初の画素立ち上がりエッジで位置検出トリガ信号を発生する。
【００６２】
これらの手段により、評価用ドット列パターンを系全体にわたって変更することなく、自動的に移動系検出位置を高精度に検出することが可能となる。なお、図３に示す信号（ｇ１）および信号（ｇ２）の記憶用トリガの発生と、走査しているビーム位置と検出系位置との相関による位置検出トリガ信号の発生とは、いずれも所定の画素カウンタ値の立ち上がり時に発生するものであるため、同時に行うことができる。例えば、Pb＞Psを満足する最初の画素立ち上がりエッジと、図３に示す信号（ｇ１）および信号（ｇ２）の記憶用トリガを発生させるための所定の画素カウンタ値の立ち上がりとを同一にすればよい。
【００６３】
また、連続ドット列の評価ではなく、限定されたスポット（１個とか５、６個のドット列）の評価等のために短区間のパターンを投影評価する場合などは、上記PbとPsの関係より、現在測定系が存在しているところに対して、パターンの発生区間を自動的に変更し、そのときのパターン発生開始位置と、移動系検出位置を併せて記憶することにより、スポット位置の制御を外部から行う必要がなくなる。
【００６４】
パターンと同期した位置検出トリガ信号２８の発生部と、ＰＤ２７の位置を記憶するデータ格納部３２を設けているので、図中の位置検出用ＰＤ２７からのトリガは不要となる。
【００６５】
また、ＰＤ２７の位置を検出する位置検出部２５と、パターン発生区間信号を出力する手段の接続を直接行うことによって、前記トリガ信号から位置を保存するまでの遅延時間Ｔｄの影響を低減することが可能となる。
【００６６】
さらに、リニアセンサ、マグネスケール、エンコーダ等のＡＢ相でパルス出力するような、位置検出部２５に対して、そのパルス列を直接パターン発生区間信号を出力する手段の内部に接続し、その手段の内部にカウンタ機能を持たせることによって、装置全体でのコストを下げることが可能となる。
【００６７】
前述のような構成により位置検出タイミング制御によって、実際にセンサ入力を行うタイミングでの位置計測が可能となるため、振動や機構ガタ等によって生ずる副操作方向の微小な位置ずれに関しても計測することが可能となり、高精度な走査ビーム位置の測定を行うことができる。
【００６８】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明は、検出評価パターンに同期し移動系の位置情報を取得することにより、高精度に主走査方向の全走査系の位置を計測することができる。
【００７０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の走査ビーム測定評価装置において、検出評価パターンに同期し移動系の位置情報を取得することにより、高精度に主走査方向の全走査系の位置を計測することができる。
【００７１】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の走査ビーム測定評価装置において、検出評価パターンに同期し移動系の位置情報を取得することにより、高精度に主走査方向の全走査系の位置を計測することができる。
【００７２】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れかの一に記載の走査ビーム測定評価装置において、測定評価パターンと検出系位置の比較により、高精度計測の利便性を向上することができる。
【００７３】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の走査ビーム測定評価装置において、測定評価パターンと検出系位置の比較により、高精度計測の利便性を向上することができる。
【００７４】
請求項６に記載の発明は、請求項４に記載の走査ビーム測定評価装置において、測定評価パターンと検出系位置の比較により、高精度計測の利便性を向上することができる。
【００７６】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６の何れかの一に記載の走査ビーム測定評価装置において、評価パターン発生手段に、検出系の位置保存機能を設けることによって、製造コストを低減することができる。
【００７７】
請求項８に記載の発明は、請求項１〜７の何れかの一に記載の発明と同様の作用、効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態である走査ビーム測定評価装置の概略構成を説明するブロック図である。
【図２】前記走査ビーム測定評価装置の動作を説明するタイミングチャートである。
【図３】同タイミングチャートである。
【図４】同説明図である。
【符号の説明】
１    走査ビーム測定評価装置
１２  発光素子
１３  受光素子
５０  走査光学ユニット
【図１】
0004261079.tif 000002
【図２】
0004261079.tif 000003
【図３】
0004261079.tif 000004
【図４】
0004261079.tif 000005