【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、カルボキシル基、エチルスルホニル基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基、又は、アリール基を表す。Ｒ３及び、Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、又は、アリール基を表す。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７は、それぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ｒ１とＲ５〜Ｒ７のいずれか１つ、及び、Ｒ３とＲ４とは、それぞれ互いに結合し環を形成してもよい。）
＜２＞  前記一般式（Ｉ）で表される酸発生剤が、下記一般式（ＩＩ）で表される酸発生剤である＜１＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（前記一般式（Ｉａ）〜一般式（Ｉｂ）式中、Ｒ１はそれぞれ独立に、直鎖もしくは分岐のアルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ２はそれぞれ独立に、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基を表し、＊は他の構造との結合箇所を表す。前記一般式（ＩＩａ）中、Ｒ３は第三級アルキル基、２−テトラヒドロフラニル基、又は２−テトラヒドロピラニル基を表す。前記一般式（ＩＩｂ）中、Ｒ4は第三級アルキル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２−テトラヒドロフラニル基、又は２−テトラヒドロピラニル基を表し、Ａｒ２は、二価の芳香族基を表し、＊は他の構造との結合箇所を表す。）
＜１０＞  前記カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基が、エポキシ基及びオキセタニル基から選択される少なくとも１種である前記＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜１１＞  前記カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基が、オキセタニル基である前記＜１０＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、カルボキシル基、エチルスルホニル基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基、又は、アリール基を表す。Ｒ３及び、Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、又は、アリール基を表す。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７は、それぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ｒ１とＲ５〜Ｒ７のいずれか１つ、及び、Ｒ３とＲ４は、それぞれ互いに結合し環を形成してもよい。）
＜１８＞  下記一般式（ＩＩ）で表される化合物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
（前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、カルボキシル基、エチルスルホニル基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基、又は、アリール基を表す。
Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７はそれぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｒ２１〜Ｒ２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。Ｒ２１〜Ｒ２４の少なくとも２つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。）
＜１９＞  下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
（前記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、カルボキシル基、エチルスルホニル基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基、又は、アリール基を表す。
Ｒ２１〜Ｒ２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。Ｒ２１〜Ｒ２４の少なくとも２つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。）
＜２０＞  前記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１がシアノ基である前記＜１７＞〜＜１９＞のいずれか１つに記載の化合物。
＜２１＞  前記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１がアリール基である前記＜１７＞〜＜１９＞のいずれか１つに記載の化合物。
＜２２＞  前記アリール基が、フェニル基又はナフチル基である前記＜２１＞に記載の化合物。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
（前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、カルボキシル基、エチルスルホニル基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基、又は、アリール基を表す。Ｒ３及び、Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、又は、アリール基を表す。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７は、それぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ｒ１とＲ５〜Ｒ７のいずれか１つ、及び、Ｒ３とＲ４は、それぞれ互いに結合し環を形成してもよい。）
前記一般式（Ｉ）で表される特定酸発生剤は、以下に詳述するように、下記一般式（ＩＩ）、さらには、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
前記一般式（Ｉａ）〜一般式（Ｉｂ）式中、Ｒ１はそれぞれ独立に、直鎖もしくは分岐のアルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ２はそれぞれ独立に、直鎖もしく分岐のアルキル基を表し、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基を表し、＊は他の構造との結合箇所を表す。
前記一般式（ＩＩａ）中、Ｒ３は第三級アルキル基、２−テトラヒドロフラニル基、又は２−テトラヒドロピラニル基を表す。前記一般式（ＩＩｂ）中、Ｒ4は第三級アルキル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２−テトラヒドロフラニル基、又は２−テトラヒドロピラニル基を表し、Ａｒ２は、二価の芳香族基を表し、＊は他の構造との結合箇所を表す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、カルボキシル基、エチルスルホニル基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基、又は、アリール基を表す。Ｒ３及び、Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、又は、アリール基を表す。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７は、それぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ｒ１とＲ５〜Ｒ７のいずれか１つ、及び、Ｒ３とＲ４とは、それぞれ互いに結合し環を形成してもよい。）
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ１及び、Ｒ２は、それぞれ一般式（Ｉ）におけるのと同義であり、好ましい例も同様である。
Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７はアルキル基、又は、アリール基を表し、好ましい例としては、前記一般式（Ｉ）におけるのと同様のものが挙げられる。
Ｒ２１〜Ｒ２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。Ｒ２１〜Ｒ２４のうち２つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ２１〜Ｒ２４としては、水素原子、ハロゲン原子、及び、アルキル基が好ましく、また、Ｒ２１〜Ｒ２４のうち少なくとも２つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。なかでも、Ｒ２１〜Ｒ２４がいずれも水素原子である態様が好ましい。
既述の官能基は、いずれも、さらに置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、前記一般式（Ｉ）において記載したものと同様のものを挙げることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）酸解離性基を有する構成単位と、カルボキシル基もしくはフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位と、を含む樹脂、及び、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される酸発生剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2012042836.tif 000001
（前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、カルボキシル基、エチルスルホニル基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基、又は、アリール基を表す。Ｒ３及び、Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、又は、アリール基を表す。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７は、それぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ｒ１とＲ５〜Ｒ７のいずれか１つ、及び、Ｒ３とＲ４とは、それぞれ互いに結合し環を形成してもよい。）
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）で表される酸発生剤が、下記一般式（ＩＩ）で表される酸発生剤である請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化２】
2012042836.tif 000002
（前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ一般式（Ｉ）におけるＲ１及びＲ２と同義である。Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７は、それぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｒ２１〜Ｒ２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。Ｒ２１〜Ｒ２４のうち少なくとも２つが、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。）
【請求項３】
前記一般式（ＩＩ）で表される酸発生剤が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される酸発生剤である請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化３】
2012042836.tif 000003
（前記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ２１〜Ｒ２４は、それぞれ一般式（ＩＩ）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ２１〜Ｒ２４と同義である。）
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１がシアノ基である請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１がアリール基である請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
さらに、（Ｃ）増感剤を含有する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記（Ｃ）増感剤が、アントラセン誘導体、アクリドン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ベーススチリル誘導体、及び、ジスチリルベンゼン誘導体から選ばれる増感剤である請求項６に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記（Ａ）樹脂が、スチレン誘導体、マレイミド誘導体、（メタ）アクリル酸、及び水酸基含有(メタ)アクリレートから選ばれる化合物に由来する少なくとも１種の構成単位を、さらに含む請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項９】
前記酸解離性基を有する構成単位が、下記一般式（Ｉａ）〜一般式（ＩＩｂ）で表される構造を有する構成単位から選ばれる少なくとも１種である請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化４】
2012042836.tif 000004
（前記一般式（Ｉａ）〜一般式（Ｉｂ）式中、Ｒ１はそれぞれ独立に、直鎖もしくは分岐のアルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ２はそれぞれ独立に、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基を表し、＊は他の構造との結合箇所を表す。前記一般式（ＩＩａ）中、Ｒ３は第三級アルキル基、２−テトラヒドロフラニル基、又は２−テトラヒドロピラニル基を表す。前記一般式（ＩＩｂ）中、Ｒ4は第三級アルキル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２−テトラヒドロフラニル基、又は２−テトラヒドロピラニル基を表し、Ａｒ２は、二価の芳香族基を表し、＊は他の構造との結合箇所を表す。）
【請求項１０】
前記カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基が、エポキシ基及びオキセタニル基から選択される少なくとも１種である請求項１から請求項９のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
前記カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基が、オキセタニル基である請求項１０に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１２】
（１）請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して感光性樹脂組成物層を形成する塗布工程、
（２）形成された感光性樹脂組成物層から溶剤を除去する溶剤除去工程、
（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物層を活性光線によりパターン露光する露光工程、
（４）パターン露光した感光性樹脂組成物層を水性現像液により現像する現像工程、及び、
（５）現像後の感光性樹脂組成物層を熱硬化する後加熱工程、を含む硬化膜の形成方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の硬化膜の形成方法により形成された硬化膜。
【請求項１４】
層間絶縁膜である請求項１３に記載の硬化膜。
【請求項１５】
請求項１３又は請求項１４に記載の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
【請求項１６】
請求項１３又は請求項１４に記載の硬化膜を具備する液晶表示装置。
【請求項１７】
下記一般式（Ｉ）で表される化合物。
【化５】
2012042836.tif 000005
（前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ｒ３及び、Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、又は、アリール基を表す。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７は、それぞれ独立に、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ｒ１とＲ５〜Ｒ７のいずれか１つ、及び、Ｒ３とＲ４は、それぞれ互いに結合し環を形成してもよい。）
【請求項１８】
下記一般式（ＩＩ）で表される化合物。
【化６】
2012042836.tif 000006
（前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ６Ｈ−、又は、−ＣＲ６Ｒ７−を表し、Ｒ５〜Ｒ７はアルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｒ２１〜Ｒ２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。Ｒ２１〜Ｒ２４のうち２つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。）
【請求項１９】
下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物。
【化７】
2012042836.tif 000007
（前記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ２は、アルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｒ２１〜Ｒ２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。Ｒ２１〜Ｒ２４のうち２つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。）
【請求項２０】
前記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１がシアノ基である請求項１７から請求項１９のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項２１】
前記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１がアリール基である請求項１７から請求項１９のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項２２】
前記アリール基が、フェニル基又はナフチル基である請求項２１に記載の化合物。