【手続補正書】
【提出日】平成25年2月15日(2013.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
設計データに基づいて形成されたテンプレートを用いて、画像上でパターンマッチングを実行する演算部を備えた画像処理装置において、
当該演算部は、複数層からなる半導体の画像と、当該画像内の複数層からなる半導体に対応する複数層の設計データに基づいて形成されたテンプレートとのパターンマッチングを実行するものであって、設計データのパターンの輪郭を定義する線分によって、区分けされる内側領域、及び／又は外側領域について、他層によってパターンが隠されていない層の内部領域、他層によってパターンが隠されている層の隠されている部分を除いた内部領域、及び／又はテンプレートの形成に用いた全ての外部領域における前記画像の特徴量を求め、当該特徴量が所定の条件を満たす位置をマッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置と決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記演算部は、前記内側領域、及び／又は外側領域の輝度のばらつきが所定の条件を満たす位置をマッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置と決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記演算部は、前記輝度のばらつきを示すパラメータと、所定のしきい値との比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項４】
請求項１において、
前記演算部は、前記内側領域、及び／又は外側領域の輝度に関する統計量を算出し、当該統計量と所定のしきい値との比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項５】
請求項１において、
前記演算部は、前記内側領域、及び／又は外側領域内の輝度の変化を示すプロファイルを取得し、当該プロファイルと所定のプロファイルとの比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項６】
請求項１において、
前記演算部は、前記内側領域、及び／又は外側領域の中の少なくとも２つの位置にて輝度に関する統計量を算出し、当該統計量の比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記演算部は、前記少なくとも２つの位置の統計量と、所定のしきい値との比較に基づいて、当該少なくとも２つの位置のクラスタリングを行い、当該クラスタリングに基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項８】
請求項７において、
前記演算部は、前記少なくとも２つの位置について、クラスタリングを行うか否かの判定を行うことを特徴とする画像処理装置。
【請求項９】
請求項６において、
前記演算部は、前記少なくとも２つの位置の統計量間の比較に基づいて、当該少なくとも２つの位置のクラスタリングを行い、当該クラスタリングに基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項１０】
請求項９において、
前記演算部は、前記少なくとも２つの位置について、クラスタリングを行うか否かの判定を行うことを特徴とする画像処理装置。
【請求項１１】
設計データに基づいて形成されたテンプレートを用いて、画像上でパターンマッチングを実行するパターンマッチング方法において、
複数層からなる半導体の画像と、当該画像内の複数層からなる半導体に対応する複数層の設計データに基づいて形成されたテンプレートとのパターンマッチングを実行するときに、設計データのパターンの輪郭を定義する線分によって、区分けされる内側領域、及び／又は外側領域について、他層によってパターンが隠されていない層の内部領域、他層によってパターンが隠されている層の隠されている部分を除いた内部領域、及び／又はテンプレートの形成に用いた全ての外部領域における前記画像の特徴量を求め、当該特徴量が所定の条件を満たす位置をマッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置と決定することを特徴とするパターンマッチング方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記内側領域、及び／又は外側領域の輝度のばらつきが所定の条件を満たす位置をマッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置と決定することを特徴とするパターンマッチング方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記輝度のばらつきを示すパラメータと、所定のしきい値との比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定することを特徴とするパターンマッチング方法。
【請求項１４】
請求項１１において、
前記内側領域、及び／又は外側領域の輝度に関する統計量を算出し、当該統計量と所定のしきい値との比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定することを特徴とするパターンマッチング方法。
【請求項１５】
演算装置に、設計データに基づいて形成されたテンプレートを用いて、画像上でパターンマッチングを実行させるコンピュータプログラムにおいて、
当該プログラムは、前記演算装置に、複数層からなる半導体の画像と、当該画像内の複数層からなる半導体に対応する複数層の設計データに基づいて形成されたテンプレートとのパターンマッチングを実行させるものであって、パターンの輪郭を定義する線分によって、区分けされる内側領域、及び／又は外側領域について、他層によってパターンが隠されていない層の内部領域、他層によってパターンが隠されている層の隠されている部分を除いた内部領域、及び／又はテンプレートの形成に用いた全ての外部領域における前記画像の特徴量を演算させ、当該特徴量が所定の条件を満たす位置をマッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置と決定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１６】
請求項１５において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記内側領域、及び／又は外側領域の輝度のばらつきが所定の条件を満たす位置をマッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置として決定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１７】
請求項１６において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記輝度のばらつきを示すパラメータと、所定のしきい値とを比較させ、当該比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１８】
請求項１５において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記内側領域、及び／又は外側領域の輝度に関する統計量を算出させ、当該統計量と所定のしきい値との比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１９】
請求項１５において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記内側領域、及び／又は外側領域内の輝度の変化を示すプロファイルを取得させ、当該プロファイルと所定のプロファイルとの比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項２０】
請求項１５において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記内側領域、及び／又は外側領域の中の少なくとも２つの位置にて輝度に関する統計量を算出させ、当該統計量の比較に基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項２１】
請求項２０において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記少なくとも２つの位置の統計量と、所定のしきい値との比較に基づいて、当該少なくとも２つの位置のクラスタリングを実行させ、当該クラスタリングに基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項２２】
請求項２１において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記少なくとも２つの位置について、クラスタリングを行うか否かの判定をさせることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項２３】
請求項２０において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記少なくとも２つの位置の統計量間の比較に基づいて、当該少なくとも２つの位置のクラスタリングを実施させ、当該クラスタリングに基づいて、前記マッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置を決定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項２４】
請求項２３において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記少なくとも２つの位置について、クラスタリングを行うか否かの判定をさせることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項２５】
請求項１において、
パターンマッチングに成功した位置では、前記内部領域と一致する前記画像の領域に前記画像のエッジ部が写り込まないと仮定して特徴量を求め、当該特徴量が所定の条件を満たす位置をマッチング位置、マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置とすることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２６】
請求項１において、
パターンマッチングに失敗したマッチング位置では、前記内部領域、及び／又は外部領域と一致する前記画像の領域に、前記画像のエッジ部が写り込むと仮定して特徴量を求め、当該特徴量が所定の条件を満たす位置をマッチング位置、マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置とすることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２７】
設計データに基づいて形成されたテンプレートを用いて、被サーチ画像上でパターンマッチングを実行する演算部を備えた画像処理装置において，
当該演算部は、テンプレートと被サーチ画像のエッジや輝度や形状特徴を比較して1つ以上のマッチング候補点を求める機能と、前記マッチング候補点に対してテンプレートのパターンの輪郭線を定義する線分によって区分けされる内部領域及び/または外部領域について，被サーチ画像の特徴量を求める機能と、当該特徴量が所定の条件を満たす位置をマッチング位置、マッチング位置候補、あるいは誤ったマッチング位置と決定する機能を有することを特徴とする画像処理装置。