(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘導結合されたプラズマ発生器のための取付け装置であって、
ハウジングアセンブリが設けられており、該ハウジングアセンブリが、壁開口を備えたハウジング壁から形成されたハウジングと、ハウジングに取り付けられていて、壁開口を貫通して延びた軸線を有する負荷コイルと、ハウジングの殆ど外側でハウジング壁に取り付けられていて壁開口と整合した中心開口を有する受け部材と、該受け部材に取り付けられた環状の第１の電気的な接触素子と、貫通した中心アパーチュアを備えた第１のガスブロックと、中心アパーチュアを中心開口に整合させながら第１のガスブロックをハウジング壁に取り付けるための取付け手段とから成っており、前記第１のガスブロックが、プラズマ形成ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた外部通路を有しており、負荷コイルが、高周波エネルギを受け取るようになっており、ハウジング壁と、受け部材と、第１の接触素子とが、導電性でかつ互いに電気的に接触しており、
取付けアセンブリが設けられており、該取付けアセンブリが、受け部材に嵌合するように形成された取付け部材と、該取付け部材に取り付けられた環状の第２の電気的な接触素子と、取付け部材に取り付けられていて中心アパーチュア内で第１のガスブロックに嵌合するように形成された第２のガスブロックと、該第２のガスブロックから延びるように該第２のガスブロックに取り付けられたガス管とから成っており、第２のガスブロックが、該第２のガスブロックを貫通してガス管にまで延びた内部通路を有しており、取付け部材と、第２の接触素子とが、導電性でかつ相互に電気的に接触しており、
ハウジングアセンブリへの取付けアセンブリの取外し可能な係合のための係合手段が設けられており、ハウジングアセンブリと取付けアセンブリとが、協働するように構成されているので、係合時に、取付け部材が受け部材に嵌合させられ、第２のガスブロックが第１のガスブロックに嵌合させられ、第１の接触素子と、第２の接触素子とが、電気的に接触し、ガス管が負荷コイルと同軸的に延び、プラズマ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内に供給するように内部通路が外部通路を整合し、負荷コイルと、ガス管とが、高周波エネルギとのプラズマ形成ガスの誘導結合によってプラズマを生ぜしめるように、協働するように位置決めされるようになっていることを特徴とする、誘導結合されたプラズマトーチのための取付け装置。
【請求項２】
受け部材が、ハウジングから外方に面した環状のスロットを有しており、第１の接触素子が、前記スロットに保持された１対の向き合ったフィンガリングから成っており、第２の接触素子が、接点帯材から成っており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるように帯材が、フィンガリングの間に挿入されるようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第２のガスブロックとが、円筒状であり、前記係合手段が、受け部材に取付け部材を回転させて係合させるための手段から成っている、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記取付けアセンブリが、さらに、ガス管内へ同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有しており、該試料噴射管が、プラズマへの噴射のための試料材料を受け取るようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項５】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内を中間管の外側を搬送されるようになっており、第１のガスブロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を有しており、第２のガスブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有しており、これにより、取付けアセンブリが係合されながら、補助ガスを中間管内へ搬送するために補助的な内部通路が補助的な外部通路と整合するようになっている、請求項４記載の装置。
【請求項６】
取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有している、請求項４記載の装置。
【請求項７】
取付けアセンブリが、さらに、試料材料をプラズマ内へ噴射するために噴射管が試料源から延びたまま、試料材料の試料源を取付け部材に保持するための手段を有している、請求項４記載の装置。
【請求項８】
前記試料源が、ネブライザである、請求項７記載の装置。
【請求項９】
受け部材が、ハウジングから外方に面した環状のスロットを有しており、第１の接触素子が、前記スロットに保持された１対の向き合ったフィンガリングから成っており、第２の接触素子が、環状の帯材から成っており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるように帯材がフィンガリングの間に挿入されるようになっており、
受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第２のガスブロックとが円筒状であり、係合手段が、受け部材に取付け部材を回転可能に係合させるための手段から成っており、
取付けアセンブリが、さらに、ガス管内へ同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有しており、該試料噴射管が、プラズマ内へ噴射するための試料材料を受け取るようになっており、
取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向ボアを有しており、
取付けアセンブリが、さらに、プラズマ内に試料材料を噴射するためにネブライザから噴射管が延びながら、取付け部材にネブライザを保持するための手段を有している、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内で中間管の外側を搬送されるようになっており、第１のガスブロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を有しており、第２のガスブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有しており、取付けアセンブリが係合させられながら、中間管内に補助ガスを搬送するために、補助的な内部通路が補助的な外部通路と整合するようになっている、請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記係合手段が、ハウジングアセンブリに対する取付けアセンブリの選択的な軸線方向の位置決めのための位置決め手段と、ハウジングアセンブリに対して定置の回転位置に取付けアセンブリを保持するための、回転する保持手段とから成っており、第１の接触手段と、第２の接触手段とが、軸線方向の位置に拘わらず電気的に接触したままであるように、協働するようになっており、
前記取付け手段が、ハウジング壁に対する軸線方向の位置決めの自由度を有しながら回転方向では定置の位置に第１のガスブロックをハウジング壁に保持するための保持手段と、内部通路が外部通路と整合したままであるように、軸線方向の位置に拘わらず第１のガスブロックを第２のガスブロック上の当て付け位置にまで軸線方向に押し付けるための押付け手段とから成っており、これにより、前記位置決め手段が、負荷コイルに対するガス管の軸線方向の位置決めを提供するようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項１２】
受け部材が、ハウジングから外方に面した環状のスロットを有しており、前記第１の接触素子が、前記スロットに保持された１対の向き合ったフィンガリングから成っており、第２の接触素子が、接触する帯材から成っており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるように帯材がフィンガリングの間に挿入されるようになっており、スロットと帯材とがそれぞれ、電気的な接触状態に止まるために軸線方向に協働するように延長している、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第２のガスブロックとが、円筒状であり、係合手段が、取付け手段に嵌合された連結リングと、相対的な回転位置決めの自由度を有しながら取付け部材に連結リングを保持するためのリテーナとから成っており、位置決め手段が、選択的な軸線方向の位置決めのために連結リングを受け部材と回転可能に係合させるための手段から成っている、請求項１１記載の装置。
【請求項１４】
取付けシリンダが、受け部材に沿って外方へ半径方向に延びるための取付けフランジを有しており、連結リングが、取付けフランジに被せはめられており、かつ受け部材に被さるように延びるためのスカートを有しており、
回転保持手段が、軸線に対して平行なハウジングから外方へ開放した少なくとも１つの孔を有する受け部材と、フランジに取り付けられた少なくとも１つのピンとから成っており、各ピンが、対応する孔にスライド可能に挿入されるようになっており、
位置決め手段が、ハウジングアセンブリに対する取付けアセンブリの軸線方向の位置決めを行うために、受け部材へのスカート斜めの回転する係合から成っている、請求項１３記載の装置。
【請求項１５】
連結リングが、アーチ状に間隔を置いて配置された複数の部分的に環状のスロットを有する半径方向内向きのフランジを有しており、リテーナが、取付けフランジに取り付けられた対応する複数のボルトから成っており、各ボルトが、環状のスロットを貫通しており、また、相対的な回転する位置決めの自由度を有しながら、連結リングを取付け部材に同軸的に保持するための頭部を有しており、
回転係合が、内縁部と、アーチ状に間隔を置いて配置されかつ内縁部において開放した複数の斜めのスロットとを有するスカートから成っており、リテーナが、それぞれが斜めのスロット内へ延びながら取付け部材に取り付けられた対応する複数の突起から成っており、これにより、連結リングが、取外し可能な係合のために突起から取外し可能であり、突起を備えた取付け部材上での連結リングの回転が、軸線方向の位置決めを行うようになっている、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管内に同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、内端部を有しており、該内側端部からプラズマ内への噴射のために試料材料を受け取るようになっており、この場合、位置決め手段が、さらに、プラズマに対する内端部の軸線方向の位置決めを提供するようになっている、請求項１１記載の装置。
【請求項１７】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内を中間管の外側で搬送されるようになっており、第１のガスブロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を有しており、第２のガスブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有しており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、補助ガスを中間管内に搬送するために補助的な内部通路が補助的な外部通路と整合するようになっている、請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有している、請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
取付け部材と受け部材とが、管状の突出部が受け部材にルーズに嵌合するために、軸方向で位置決めされている、請求項１８記載の装置。
【請求項２０】
取付けアセンブリが、さらに、試料材料をプラズマ内に噴射するために噴射管が試料源から延びながら、試料材料の試料源を取付け部材に保持するための手段を有している、請求項１６記載の装置。
【請求項２１】
試料源が、ネブライザである、請求項２０記載の装置。
【請求項２２】
受け部材が、ハウジングから外方へ面した環状のスロットを有しており、第１の接触素子が、前記スロット内に保持された１対の向き合ったフィンガリングから成っており、第２の接触素子が、接触帯材から成っており、これにより、取付け部材が係合させられながら、前記帯材が、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるようにフィンガリングの間に挿入されるようになっており、スロットと帯材とがそれぞれ、電気的な接触状態に止まるために軸線方向に、協働するように延長しており、
受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第２のガスブロックとが、円筒状であり、係合手段が、取付け部材に嵌合させられた連結リングと、相対的な回転する位置決めの自由度を有しながら、取付け部材に連結リングを保持するためのリテーナとから成っており、位置決め手段が、選択的な軸線方向の位置決めのために連結リングを受け部材と係合させるための手段から成っており、
取付けアセンブリが、さらに、ガス管内に同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、内端部を有しており、該内端部からプラズマへの噴射のために試料材料を受け取るようになっており、位置決め手段が、さらに、プラズマに対する内端部の軸線方向の位置決めを提供するようになっており、
取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内を中間管の外側で搬送されるようになっており、第１のガスブロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を有しており、第２のガスブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有しており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、補助ガスを中間管内に搬送するために補助的な内部通路が補助的な外部通路と整合するようになっており、
取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有しており、取付け部材と、受け部材とが、管状の突出部が受け部材にルーズに嵌合するように、軸方向で位置決めされており、
取付けアセンブリが、さらに、試料材料をプラズマ内へ噴射するように噴射管がネブライザから延びながら、ネブライザを取付け部材に保持するための手段を有している、請求項１１記載の装置。
【請求項２３】
取付けシリンダが、受け部材に沿って半径方向外向きに延びるための取付けフランジを有しており、連結リングが、前記フランジに沿って嵌合させられ、また、受け部材に沿って延びるためのスカートを有しており、
回転保持手段が、軸線に対して平行に設けられていてハウジングから外方へ開放した少なくとも１つの孔を有する受け部材と、フランジに取り付けられた少なくとも１つのピンとから成っており、各ピンが、対応する孔にスライド可能に挿入されており、
位置決め手段が、ハウジングアセンブリに対する取付けアセンブリの軸線方向の位置決めを行うために、受け部材へのスカートの斜めの回転する係合から成っており、
連結リングが、アーチ状に間隔を置いて配置された複数の部分環状のスロットを有する半径方向内向きのフランジを有しており、リテーナが、取付けフランジに取り付けられた対応する複数のボルトから成っており、相対的な回転による位置決めの自由度を有しながら、取付け部材と同軸的に連結リングを保持するために、各ボルトが、部分環状のスロットを貫通していてかつ頭部を有しており、
前記回転する係合が、内縁部と、アーチ状に間隔を置いて配置されていて前記内縁部において開放した複数の斜めのスロットとを有するスカートから成っており、リテーナが、それぞれが１つのスロット内へ延びながら取付け部材に取り付けられた対応する複数の突起から成っており、連結リングが、取外し可能な係合のために突起から取外し可能であり、突起を用いた取付け部材上での取付けリングの回転が、軸線方向での位置決めを行うようになっている、請求項２２記載の装置。
【請求項２４】
誘導結合されたプラズマ発生器のハウジングアセンブリに取り付けるための取付けアセンブリであって、
ハウジングアセンブリが、壁開口を備えたハウジング壁から形成されたハウジングと、ハウジングに取り付けられていて、壁開口を貫通して延びた軸線を有する負荷コイルと、ハウジングの殆ど外側でハウジング壁に取り付けられていて、壁開口と整合した中心開口を有する受け部材と、該受け部材に取り付けられた環状の第１の電気的な接触素子と、貫通した中心アパーチュアを備えた第１のガスブロックと、中心アパーチュアを中心開口に整合させながら第１のガスブロックをハウジング壁に取り付けるための取付け手段とを有しており、前記第１のガスブロックが、プラズマ形成ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた外部通路を有しており、負荷コイルが、高周波エネルギを受け取るようになっており、ハウジング壁と、受け部材と、第１の接触素子とが、導電性であり、互いに電気的に接触している形式のものにおいて、
取付けアセンブリが、受け部材に嵌合するように形成された取付け部材と、該取付け部材に取り付けられた環状の第２の電気的な接触素子と、取付け部材に取り付けられていて、中心アパーチュアにおいて第１のガスブロックに嵌合するように形成された第２のガスブロックと、第２のガスブロックから延びるように該第２のガスブロックに取り付けられたガス管と、ハウジングアセンブリへの取付けアセンブリの取外し可能な係合のための係合手段とから成っており、第２のガスブロックが、該第２のガスブロックを貫通してガス管内へ延びた内部通路を有しており、取付け部材と、第２の接触素子とが、導電性であり、互いに電気的に接触しており、
前記係合手段が、協働するように形成されたハウジングアセンブリと取付けアセンブリとから成っており、係合させられながら、取付け部材が受け部材に嵌合させられ、第２のガスブロックが、第１のガスブロックに嵌合させられ、第１の接触素子と、第２の接触素子とが、電気的に接触し、ガス管が、負荷コイルと同軸的に延びており、プラズマ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内で搬送するために内部通路が外部通路と整合しており、高周波エネルギとのプラズマ形成ガスの誘導結合によってプラズマを生ぜしめるために、負荷コイルと、ガス管とが、協働するように位置決めされていることを特徴とする、取付けアセンブリ。
【請求項２５】
受け部材が、ハウジングから外方へ面した環状のスロットを有しており、第１の接触素子が、前記スロット内に保持された１対の向き合ったフィンガリングから成っており、第２の接触素子が、接触帯材から成っており、取付けアセンブリが係合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるように、帯材がフィンガリングの間に挿入されるようになっている、請求項２４記載のアセンブリ。
【請求項２６】
受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第２のガスブロックとが円筒状であり、係合手段が、受け部材に取付け部材を回転係合させるための手段から成っている、請求項２４記載のアセンブリ。
【請求項２７】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管内を同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、プラズマ内に噴射するために試料材料を受け取るようになっている、請求項２４記載のアセンブリ。
【請求項２８】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内で中間管の外側を搬送されるようになっており、第１のガスブロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を有しており、第２のガスブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有しており、これにより、取付け部材が係合させられながら、補助ガスを中間管内へ搬送するために補助的な内部通路が補助的な外部通路と整合するようになっている、請求項２７記載のアセンブリ。
【請求項２９】
取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有している、請求項２７記載のアセンブリ。
【請求項３０】
取付けアセンブリが、さらに、試料材料をプラズマ内へ噴射するために噴射管が試料源から延びながら、試料材料の試料源を取付け部材に保持するための手段を有している、請求項２７記載のアセンブリ。
【請求項３１】
試料源が、ネブライザである、請求項３０記載のアセンブリ。
【請求項３２】
受け部材が、ハウジングから外方に面した環状のスロットを有しており、第１の接触素子が、前記スロット内に保持された１対の向き合ったフィンガリングから成っており、第２の接触素子が、環状の帯材から成っており、取付けアセンブリが係合させられながら、帯材が、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるようにフィンガリングの間に挿入されるようになっており、
受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第２のガスブロックとが、円筒状であり、係合手段が、取付け部材を受け部材に回転係合させるための手段から成っており、
取付けアセンブリが、さらに、ガス管内で同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、プラズマ内へ噴射するために試料材料を受け取るようになっており、
取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有しており、
取付けアセンブリが、さらに、試料材料をプラズマ内へ噴射するために噴射管がネブライザから延びながら、取付け部材にネブライザを保持するための手段を有している、請求項２４記載のアセンブリ。
【請求項３３】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ形成ガスがガス管内を中間管の外側で搬送されるようになっており、第１のガスブロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を有しており、第２のガスブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有しており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、補助ガスを中間管内へ搬送するために、補助的な内部通路が補助的な外部通路と整合するようになっている、請求項３２記載のアセンブリ。
【請求項３４】
係合手段が、ハウジングアセンブリに対する取付けアセンブリの選択的な軸線方向の位置決めのための位置決め手段と、ハウジングアセンブリに対して回転方向で定置の位置に取付けアセンブリを保持するための回転保持手段とから成っており、第１の接触手段と、第２の接触手段とが、軸線方向の位置に拘わらず電気的に接触した状態に止まるように、協働するようになっており、
取付け手段が、ハウジング壁に対する軸線方向の位置決めの自由度を有しながら、回転方向で定置の位置に第１のガスブロックをハウジング壁に保持するための保持手段と、内部通路が外部通路と整合したままであるように軸線方向の位置に拘わらずに第１のガスブロックを第２のガスブロック上の当て付け位置にまで押し付けるための押付け手段とから成っており、これにより、位置決め手段が、負荷コイルに対するガス管の軸線方向の位置決めを提供するようになっている、請求項２４記載のアセンブリ。
【請求項３５】
受け部材が、ハウジングから外方へ面した環状のスロットを有しており、第１の接触素子が、前記スロットにおいて保持された１対の向き合ったフィンガリングから成っており、第２の接触素子が、接触帯材から成っており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるように帯材がフィンガリングの間に挿入されるようになっており、スロットと帯材とがそれぞれ、電気的な接触状態に止まるように軸線方向で、協働するように延長させられている、請求項３４記載のアセンブリ。
【請求項３６】
受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第２のガスブロックとが、円筒状であり、係合手段が、取付け部材に取付けらっれた連結リングと、相対的な回転位置決めの自由度を有しながら取付け部材に連結リングを保持するためのリテーナとから成っており、位置決め手段が、選択的な軸線方向の位置決めのために受け部材に連結リングを回転可能に係合させるための手段から成っている、請求項３４記載のアセンブリ。
【請求項３７】
取付けシリンダが、受け部材に沿って半径方向外向きに延びるための取付けフランジを有しており、この場合、連結リングが、前記フランジに沿って取り付けらていて、かつ受け部材に沿って延びるためのスカートを有しており、
回転可能な保持手段が、軸線に対して平行に設けられていてハウジングから外方へ開放した少なくとも１つの孔を有する受け部材と、それぞれが対応する孔にスライド可能に挿入されるようにフランジに取り付けられた１つのピンとから成っており、
位置決め手段が、ハウジングアセンブリに対する取付けアセンブリの軸線方向の位置決めを行うために、受け部材へのスカートの斜めの回転可能な係合から成っている、請求項３６記載のアセンブリ。
【請求項３８】
連結リングが、アーチ状に間隔を置いて配置された、複数の部分環状のスロットを有する半径方向内方に延びたフランジを有しており、リテーナが、取付けフランジに取り付けられた対応する複数のボルトから成っており、各ボルトが、環状のスロットを貫通して延びており、かつ、相対的な回転位置決めの自由度を有しながら取付け部材と同軸的に連結リングを保持するために頭部を有しており、リテーナが、さらに、周方向で取付け部材に取り付けられた、対応した複数のアーチ状に間隔を置いて配置された突起を有しており、
回転係合が、内方に面した縁部と、アーチ状に間隔を置いて配置されていて内方の縁部において開放した複数の斜めのスロットとを有するスカートから成っており、前記斜めのスロットが、係合のために突起を収容するようになっており、これにより、連結リングが、取外し可能名係合のために突起から取外し可能であり、突起を用いた取付け部材上での連結リングの回転が、軸線方向の位置決めを生ぜしめるようになっている、請求項３７記載のアセンブリ。
【請求項３９】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管内へ同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、内端部を有しており、かつ、該内端部からプラズマ内への噴射のために試料材料を受け入れるようになっており、この場合、位置決め手段が、さらに、プラズマに対する内端部の軸線方向の位置決めを提供するようになっている、請求項３４記載のアセンブリ。
【請求項４０】
取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内を中間管の外側で搬送されるようになっており、第１のガスブロックが、補助ガスを受け入れる、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を有しており、第２のガスブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有しており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、補助ガスを中間管内に搬送するために補助的な内部通路が補助的な外部通路と整合するようになっている、請求項３９記載のアセンブリ。
【請求項４１】
取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有している、請求項４０記載のアセンブリ。
【請求項４２】
取付け部材と、受け部材とが、管状の突出部を受け部材にルーズに嵌合させるために、軸方向で位置決めされている、請求項４１記載のアセンブリ。
【請求項４３】
取付けアセンブリが、さらに、試料材料をプラズマ内に噴射させるために、噴射管が試料源から延びながら、試料材料の試料源を取付け部材に保持するための手段を有している、請求項３９記載のアセンブリ。
【請求項４４】
試料源が、ネブライザである、請求項４３記載のアセンブリ。
【請求項４５】
受け部材が、ハウジングから外方に面した環状のスロットを有しており、第１の接触素子が、前記スロットにおいて保持された１対の向き合ったフィンガリングから成っており、第２の接触素子が、接触帯材から成っており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるように、前記帯材がフィンガリングの間に挿入されるようになっており、スロットと帯材とのそれぞれが、電気的な接触状態に止まるように、軸線方向で、協働するように延長させられており、
受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第２のガスブロックとが、円筒状であり、係合手段が、取付け部材に取り付けられた連結リングと、相対的な回転位置決めの自由度を有しながら取付け部材に連結リングを保持するためのリテーナとから成っており、位置決め手段が、選択的な軸線方向の位置決めのために、連結リングを受け部材と係合させるための手段から成っており、
取付けアセンブリが、さらに、ガス管内で同軸的に延びるように、取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、内端部を有しており、かつ、内端部からプラズマ内へ噴射するために、試料材料を受け取るようになっており、この場合、位置決め手段が、さらに、プラズマに対する内端部の軸線方向の位置決めを提供するようになっており、
取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ形成ガスがガス管内を中間管の外側で搬送されるようになっており、第１のガスブロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を有しており、第２のガスブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有しており、これにより、取付けアセンブリが係合させられながら、補助ガスを中間管内に搬送するために補助的な内部通路が補助的な外部通路と整合するようになっており、
取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有しており、取付け部材と、受け部材とが、管状の突出部が受け部材にルーズに嵌合するために、軸方向で位置決めされており、
取付け部材が、さらに、試料材料をプラズマ内に噴射するために、噴射管がネブライザから延びながらネブライザを取付け部材に保持するための手段を有している、請求項３４記載のアセンブリ。
【請求項４６】
取付けシリンダが、受け部材に沿って半径方向外方へ延びるための取付けフランジを有しており、この場合、連結リングが、前記フランジに沿って嵌合させられておりかつ受け部材に沿って延びるためのスカートを有しており、
回転保持手段が、軸線に対して平行に設けられた、ハウジングから外方へ開放している少なくとも１つの孔を有する受け部材と、それぞれが対応する孔にスライド可能に挿入されるようにフランジに取り付けられた少なくとも１つのピンとから成っており、
位置決め手段が、ハウジングアセンブリに対する取付けアセンブリの軸線方向の位置決めを行うために、受け部材へのスカートの斜めの回転係合から成っており、
連結リングが、アーチ状に間隔を置いて配置された複数の部分環状のスロットを有する半径方向内向きに延びたフランジを有しており、リテーナが、取付けフランジに取り付けられた、対応する複数のボルトから成っており、各ボルトが、部分環状のスロットを貫通して延びており、かつ、相対的な回転による位置決めの自由度を有しながら、連結リングを取付け部材と同軸的に保持するための頭部を有しており、リテーナが、さらに、取付け部材に周方向に沿って取り付けられた、アーチ状に間隔を置いて配置された、対応した複数の突起を有しており、
回転可能な係合は、内方に面した縁部と、アーチ状に間隔を置いて配置されていて前記内縁部において開放した複数の斜めのスロットとを有するスカートから成っており、該斜めのスロットが、突起の係合のために突起を収容するようになっており、これにより、連結リングが、取外し可能な係合のために突起から取外し可能であり、突起を用いた取付け部材上での連結リングの回転が、軸線方向の位置決めを生ぜしめるようになっている、請求項４５記載のアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、誘導結合されたプラズマ発生器、特にこのような発生器のための取付装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
誘導結合されたプラズマ（ＩＣＰ）発生器は、通常、分光分析、微細粉体の処理、材料の溶融、化学反応等に使用される。これらの適用例は、プラズマに固有に関連した高温から生じており、この高温は、電子の励起と、プラズマガス及び噴射された材料のイオン化とを生ぜしめるのに十分に高い。プラズマ発生は、質量分光分析のための、及び、低圧においては、蒸着工程のための機器において利用されるイオンを生ぜしめるためにも利用される。ＩＣＰ発生器は、負荷コイルを介して１０〜１００ＭＨｚの高周波範囲に広く連結することによって高周波電子発振器によって駆動される。高周波に関する問題は、ラジオ、コンピュータ、ビデオ及び関連した制御機器等の補助的な機器に干渉するおそれがある放射である。
【０００３】
ＩＣＰ発生器は、通常、ハウジング区画に取り囲まれており、このハウジング区画は、大気からプラズマを絶縁したり、光放射から人間を保護したり、高周波放射を含んだりすることを含む複数の目的を達する。発生器は、コイルを通過してプラズマ発生ガスを搬送するための、及びプラズマに試料を導入するための管を有している。このような試料は、ネブライザ等の試料源から供給され、この試料源は、通常、プラズマの熱からの保護のためにハウジング区画の外側に配置されている。管及びネブライザ又は別の試料源を含むプラズマ発生器の構成部材を修理及び交換する必要がある。既存の装置の場合、部材の取外し及び交換等の内部の処理のために開放されなければならず、このことは、ガス及び試料の管がコイル内へ延びているので手間がかかる。
【０００４】
試料噴射管の先端が正確に配置されていない場合、特に、溶融された試料を搬送するために有機溶剤が使用されている場合には問題が生じる。先端をプラズマの底部に近すぎる場合には、プラズマ放電からの熱が、先端に形成する炭素堆積物を生じるおそれがある。この堆積物は、インジェクタにプラズマへの試料流を遮断させることによって分析性能に干渉する。他方では、先端がプラズマから遠すぎると、試料の出費が著しく多く、試料はプラズマ内ではなくプラズマの周囲へ提供されてしまう。毎回分解を必要とする有意な試し及び誤りなしに、適切な位置を見いだすことは困難であり、。したがって、先端の位置を最適化するために、動作中にプラズマ形成負荷コイルに対してガス管の軸線方向位置を調整する必要がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明の課題は、誘導結合されたプラズマ発生器の構成部材の容易な取外し及び交換を可能にするような新規の取付け装置を提供することである。別の課題は、ハウジングアセンブリから容易に取り外され、また、ハウジングアセンブリ内で交換される構成部材の取付けアセンブリを提供することである。さらに、別の課題は、工具を用いずにこのような取外し及び交換を提供することである。さらに別の課題は、高周波放出の遮蔽を有するこのような取付け装置を提供することである。さらに別の課題は、プラズマ発生中に、プラズマ形成負荷コイルに対してガス管の位置を調整することができるような取付け装置を提供することである。さらに別の課題は、交換時に、火花又は高周波始動リード線の自動的な接触を可能にするような取付け装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために本発明の構成では、ハウジングアセンブリが設けられており、該ハウジングアセンブリが、壁開口を備えたハウジング壁から形成されたハウジングと、ハウジングに取り付けられていて、壁開口を貫通して延びた軸線を有する負荷コイルと、ハウジングの殆ど外側でハウジング壁に取り付けられていて壁開口と整合した中心開口を有する受け部材と、該受け部材に取り付けられた環状の第１の電気的な接触素子と、貫通した中心アパーチュアを備えた第１のガスブロックと、中心アパーチュアを中心開口に整合させながら第１のガスブロックをハウジング壁に取り付けるための取付け手段とから成っており、前記第１のガスブロックが、プラズマ形成ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた外部通路を有しており、負荷コイルが、高周波エネルギを受け取るようになっており、ハウジング壁と、受け部材と、第１の接触素子とが、導電性でかつ互いに電気的に接触しており、取付けアセンブリが設けられており、該取付けアセンブリが、受け部材に嵌合するように形成された取付け部材と、該取付け部材に取り付けられた環状の第２の電気的な接触素子と、取付け部材に取り付けられていて中心アパーチュア内で第１のガスブロックに嵌合するように形成された第２のガスブロックと、該第２のガスブロックから延びるように該第２のガスブロックに取り付けられたガス管とから成っており、第２のガスブロックが、該第２のガスブロックを貫通してガス管にまで延びた内部通路を有しており、取付け部材と、第２の接触素子とが、導電性でかつ相互に電気的に接触しており、ハウジングアセンブリへの取付けアセンブリの取外し可能な係合のための係合手段が設けられており、ハウジングアセンブリと取付けアセンブリとが、協働するように構成されているので、係合時に、取付け部材が受け部材に嵌合させられ、第２のガスブロックが第１のガスブロックに嵌合させられ、第１の接点素子と、第２の接点素子とが、電気的に接触し、ガス管が負荷コイルと同軸的に延び、プラズマ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内に供給するように内部通路が外部通路を整合し、負荷コイルと、ガス管とが、高周波エネルギとのプラズマ形成ガスの誘導結合によってプラズマを生ぜしめるように、協働するように位置決めされるようにした。
【０００７】
また、本発明による取付けアセンブリの構成によれば、受け部材に嵌合するように形成された取付け部材と、該取付け部材に取り付けられた環状の第２の電気的な接触素子と、取付け部材に取り付けられていて、中心アパーチュアにおいて第１のガスブロックに嵌合するように形成された第２のガスブロックと、第２のガスブロックから延びるように該第２のガスブロックに取り付けられたガス管と、ハウジングアセンブリへの取付けアセンブリの取外し可能な係合のための係合手段とから成っており、第２のガスブロックが、該第２のガスブロックを貫通してガス管内へ延びた内部通路を有しており、取付け部材と、第２の接触素子とが、導電性であり、互いに電気的に接触しており、前記係合手段が、協働するように形成されたハウジングアセンブリと取付けアセンブリとから成っており、係合させられながら、取付け部材が受け部材に嵌合させられ、第２のガスブロックが、第１のガスブロックに嵌合させられ、第１の接触素子と、第２の接触素子とが、電気的に接触し、ガス管が、負荷コイルと同軸的に延びており、プラズマ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内で搬送するために内部通路が外部通路と整合しており、高周波エネルギとのプラズマ形成ガスの誘導結合によってプラズマを生ぜしめるために、負荷コイルと、ガス管とが、協働するように位置決めされているようにした。
【０００８】
【発明の効果】
前記及び別の課題は、誘電結合されたプラズマ発生器のための取付け装置であって、この装置が、ハウジングアセンブリと、取付けアセンブリと、取付けアセンブリをハウジングアセンブリに取外し可能に係合させるための係合手段とから成っているものによって少なくとも部分的に解決された。ハウジングアセンブリは、ハウジングと、ハウジングに取り付けられた負荷コイルと、ハウジングの殆ど外側でハウジング壁に取り付けられており、コイル軸線と整合した中心開口を有する受け部材と、壁の開口とを有している。環状の第１の電気的な接触素子が、受け部材に取り付けられている。第１のガスブロックは、このガスブロックを貫通した中心アパーチュアを有している。第１のガスブロックを、中心アパーチュアが中心開口と整合した状態でハウジング壁に取り付けるために、取付け手段が設けられている。第１のガスブロックは、プラズマ形成ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた外部通路を有している。負荷コイルは、高周波エネルギを受け取るようになっており、ハウジング壁と、受け部材と、第１の接触部材とは、導電性であり、互いに電気的に接触している。
【０００９】
取付けアセンブリは、受け部材に嵌合するように形成された取付け部材と、取付け部材に取り付けられた環状の第２の電気的な接触素子と、取付け部材に取り付けられており、中心アパーチュアにおいて第１のガスブロックに嵌合するように形成された第２のガスブロックと、第２のガスブロックから延びるように第２のガスブロックに取り付けられたガス管とを有している。第２のガスブロックは、貫通してガス管内へ延びた内部通路を有しており、取付け部材と、第２の接触素子とは、導電性であり、互いに電気的に接触している。
【００１０】
ハウジングアセンブリと、取付けアセンブリとは、協働するように形成されており、これにより、係合時に、取付け部材が受け部材に嵌合させられ、第２のガスブロックが第１のガスブロックに嵌合させられ、第１の接触素子と第２の接触素子とが電気的に接触させられ、ガス管が同軸的に負荷コイルにまで延び、プラズマ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内で搬送するために内部通路が外部通路と整合し、プラズマ形成ガスを高周波エネルギと誘導結合させることによってプラズマを生ぜしめるために負荷コイルとガス管とが、協働するように位置決めされる。
【００１１】
プラズマ内への試料噴射のために、取付けアセンブリが、さらに、ガス管内へ同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有している。噴射管は、プラズマ内への噴射のために試料材料を受け入れるようになっている。ネブライザアセンブリ等の試料源は、プラズマ内に試料材料を噴射するために噴射管が試料源から延びながら、取付け部材において保持されていてよい。取付け部材は、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状の突出部を有していると有利であり、この突出部は、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有している。
【００１２】
別の実施例の場合には、取付けアセンブリは、負荷コイルに対するガス管の軸線方向の位置決めを提供するために調整可能である。このために、係合手段が、ハウジングアセンブリに対する取付けアセンブリの選択的な軸線方向の位置決めのための位置決め手段と、ハウジングアセンブリに対して定置の回転可能な位置に取付けアセンブリを保持するための回転可能な保持手段とから成っている。第１の接触手段と、第２の接触手段とが、軸線方向の位置決めに拘わらず電気的な接触を保持するように、協働するようになっている。取付け手段が、ハウジングの壁に対する軸線方向の位置決めの自由度を有しながら、回転方向で定置の位置において第１のガスブロックをハウジングの壁に保持するための保持手段と、内部通路が外部通路と整合しているように、軸線方向の位置決めに拘わらず、第１のガスブロックを、第２のガスブロックに設けられた当て付け位置にまで軸線方向に押し付ける押付け手段とから成っている。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を図面につき詳しく説明する。
【００１４】
本発明の装置１０（図１）は、原子放出分光光度計（例えばＰｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製のＯｐｉｍａＴＭ３０００、Ｏｐｔｉｍａ４０００又はＰ−５００）、又は質量分析器（例えばＰｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製のＥｌａｎ）と共に使用されるような慣用の誘電結合されたプラズマ系に適応させられている。この系は、トーチのハウジング１４に取り付けられた負荷コイル１２を有しており、ハウジング１４は、高周波遮蔽のために閉鎖されており、プラズマが発生される部分に不活性ガスを含んでいる。コイルは、通常、例えば２７ＭＨｚの高周波を有する発振器回路１６から高周波エネルギを受け取るようになっている。適切な回路は米国特許第４７６６２８７号明細書（モリスロエ他）に記載されているが、発振器の性質又は詳細は本発明にとって重要ではない。コイルは、発振器回路の一部を形成していてよい。
【００１５】
石英ガラス又は非伝導性（高周波において）の別の材料から形成されたガス管１８は、負荷コイル１２にまで延びており、通常、この負荷コイル１２を短い距離だけ貫通している。アルゴン等のプラズマ形成ガス１９は、管のコイル端部２０において出るように管を通過させられる。コイルによってガスを高周波エネルギと誘導結合することにより、端部でプラズマ放電２２が形成される。分光分析のための放射を行うために、又は材料を処理するためにプラズマが使用される場合には、試料噴射管２４（ガス管の材料と類似の材料から成っている）が、端部２６がコイルの近傍に位置するように、ガス管内に同軸的に位置決めされている。有利には、ガス流の制御のために、中間管２８（ガス管の材料と類似の材料から成っている）が、ガス管と噴射管との間に同軸的に配置されており、プラズマ形成ガス１９が、ガス管内を中間管の外側で搬送される。主ガスと同じタイプであってよい補助ガス３０は、噴射管の端部付近の箇所にまで、中間管の内側で噴射管の外側を搬送されてよい。
【００１６】
本発明は、ハウジング壁３６から成るハウジングアセンブリ３４と、装置の別の定置の構成部材とに、取外し可能に係合することができる取付アセンブリ３２に、前記構成部材の一部を組み込むことに関する。ハウジングアセンブリにおいては、負荷コイル１２が通常の接続手段によって発振器回路１６に取り付けられており、この発振器回路１６自体は、ハウジングへ直接に取り付けられる慣用の取付け部材（図示せず）を有している。コイルは、ハウジングの壁３６に設けられた円形の開口３９の中心を貫通した軸線３８を有している。リング状の受け部材４０は、ハウジングの殆ど外側でハウジングの壁に取り付けられている。
【００１７】
環状の第１の接触素子は、受け部材４０に設けられた、外方に面した環状のスロット４２に、スロットに部分的に被さるように突出した環状の肩部４４によって保持されている（ここで及び請求項で使用されているように、“外方”及び“外方へ”という言葉はハウジングの外側かつハウジングから離れるように向いた方向を示しており、“内方”及び“内方へ”という言葉はハウジング内を向いた方向を示している）。接触素子は、高周波放射を遮蔽するために一般的に使用されるタイプの、ばね材料から形成された１対の向き合ったフィンガリングから形成されていてよい。接触のために単純なリング等の別の手段が使用されてよいが、接触系は高周波遮蔽のために効果的であることが望ましい。ハウジングの壁３６と、受け部材４０と、接触素子４６とは、導電性（一般的に金属製）であり、これらの部材は、互いに（直接に又は間接に）電気的に接触しており、また、接地されている。
【００１８】
さらに、ハウジングアセンブリ３４において、第１のガスブロック４８は、有利には壁の内側において、受け部材４０に隣接して、ハウジングの壁３６への取付け手段４９を有している。この実施例の場合の取付け手段は、ねじ（１つを図示）を備えているか又は接着剤等の他のあらゆる適切な手段であってよい。ガスブロックは、壁の開口３０と整合して貫通した円筒状の中心アパーチュア５０を有している。この円筒状のアパーチュアは、ハウジング内へ行くに従って直径がより小さくなるようにテーパしていると有利である。ガスブロックは、ハウジングの壁に直接に取り付けられているか、又は受け部材への直接な取付けによって間接的に取り付けられていてよい。間接的に取り付けられている場合には、受け部材又はブロック（又は両方）は、壁に取り付けられている。取付け（図示せず）は、ねじ山付きの構成部材内にねじ込まれる等、慣用的に行われる。
【００１９】
本発明の図示と機能的に同等な、壁の取付けの構造的な変更が存在してよい。例えば、実際の壁は、受け部材の外周に取り付けられるフランジを備えながら、受け部材の縁部で終わっていてよい。このような場合には、請求項を含む明細書中の目的のために、壁は、内方に面した受け部材の面を有していると考えられ、この場合、第１のガスブロック４８はこの内面に直接に取り付けられている。また、したがって、受け部材は、実際、壁が凹んでいるかのように壁の境界内に配置されていてよく、“ハウジングの殆ど外側”という言葉は、このような構成を含んでいる。
【００２０】
ガスブロック４８は、このガスブロック４８を貫通して中央アパーチュア５０にまで横方向に延びた第１の外部通路５２を有している。外部通路５２の外端部は、慣用のガスレギュレータと弁（図示せず）とを介してガス源５６へ延びたガスライン５４によって、プラズマを形成するガス１９を受け取るようになっている。補助ガス３０が使用されている場合には、ガスライン６０とガス源６２とから中央アパーチュア５０にまで同様に延びた第２の補助的な外部通路５８が設けられている。
【００２１】
取付けアセンブリ３２は、受け部材４０に嵌合するように形成された取付け部材６４を有しており、この取付け部材６４は、例えば受け部材に被さる外側リム６６を備えた浅いカップの形状を有している。環状の第２の接触素子が取付け部材に保持されており、この接触素子は、第１の接触素子と接触するように適応している。第１の接触素子が１対のフィンガリング４６として形成されている場合、第２の手段は、電気的に接触されるようにフィンガリングの間に挿入される帯材６８である（構造上は、帯材は取付け部材の一部として形成されていてよい）。択一的に、より単純な第１の接触リングが用いられている場合には、第２の接触素子は、前記のような十分な遮蔽に対する当然の考慮を払いながら、例えば単純な平らなリングであってもよい。
【００２２】
第２のガスブロック７０は、ねじ等のあらゆる適切な手段（図示せず）によって取付け部材に同軸的に取り付けられている。このガスブロック７０は、中心ボア７２を有しており、この中心ボア７２には、ガス管１８が一方の端部にＯリング７４を備えながら保持されており、これによりガス管１８は中心ボアから同軸的に延びている。補助的な中間管２８が用いられている場合には、この中間管２８も、Ｏリング７６を備えながらボアの狭まった部分において、内側のガスブロックに取り付けられている。第２のガスブロック７０と管とは、ガス管１８の側壁に設けられた孔８０を含む第１の内部通路７８を有しており、この内部通路７８は、このガス管１８内へ横方向内向きに延びている。第２の補助的な内部通路８２も、中心ボア７２内へ横方向に延びており、これによりガスを補助的な中間管２８内へ、有利にはこの中間管２８の内端部８４においてガスを方向付けるようになっている。噴射管２４が使用されている場合には、噴射管２４は、補助的な管を通ってコイル１２にまで延びるように、取付け部材６４と内側のガスブロック７０とを同軸的に貫通しながら保持されている。横方向の通路は全体的に半径方向に延びている必要はなく、ガス源と都合よく接続するように個々のガスブロック内で適宜に方向付けられていてよい。
【００２３】
第２のガスブロック７０は、プラズマ形成ガスをガス管１８へ供給するために第１の内部通路７８が第１の外部通路５２と整合した状態で外側のガスブロック４８に嵌合されるように形成されている。同様に、補助的な内部通路８２は、補助ガスを補助的な中間管２８へ供給するために補助的な外部通路５８と整合させられている。第２のガスブロック７０の外面に設けられた溝に組み付けられた２対のＯリング８６，８８は、個々の通路をシールしている。２つのガスブロックの係合面のテーパは、容易な取外しを可能にする。ガスブロックの材料は、適切な、耐高周波の、臨界的でない、硬質プラスチックである。しかしながら、金属はコイルに近すぎないことが望ましい。
【００２４】
噴射管２４は、慣用のネブライザアセンブリ９０に設けられた噴霧室９６等の試料源、又はキャリヤガスを備えた粉体供給装置から延びている。通常、ネブライザの噴霧室には、直角のガスジェットオリフィスを備えた管９１の近くに位置した試料オリフィス９３が設けられており、オリフィスはＩＣＰの軸線３８から横方向にずれている。ネブライザアセンブリ又は他の試料源は、あらゆる適切な手段、例えばねじ、クランピング、又は、（図示したように）ネブライザの交換を可能にするために部材に永久に取り付けられた定置の部分９２と、クランプ及び／又はねじを用いて取り付けられる取外し可能な部分９４とから形成されたブラケットを用いて、取付け部材６４又は第２のガスブロック７０に保持されていてよい。噴霧室９６は、ネブライザから延びた短いスリーブ９８と連通している。噴射管は、霧化された試料をネブライザ室からプラズマ内へ搬送するために１対のＯリング１００を用いてスリーブ内にに保持されている。
【００２５】
高周波放射の逃げをさらに制限するために、取付け部材は、ガス管に設けられた噴射管に沿ってコイルに向かって途中まで突出した、導電性の管状の突出部１０２を有している。突出部１０２は、高周波干渉コードと一致するように高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高い比を備えた軸線方向のボア１０４を有している。このことを行うためには、比は少なくとも８：１であることが望ましい。
【００２６】
取付けアセンブリ３２は、取外し可能なねじ、クランプ、縁部と受け部材とにねじ山を設ける（回して係合させるために）等のあらゆる実用的な手段を用いてハウジングアセンブリ３４に取外し可能に係合させられている。適切な手段（図２）は、受け部材４０から半径方向外方へ突出した２つまたは３つ以上のアーチ状に間隔を置いて配置されたピン１０６を利用している。取付け部材のリム６６に設けられた対応して開放した斜めのスロット１０８によって、取外しが容易な回転係合が可能である。取付けアセンブリが係合させられている場合には、取付け手段６４は受け部材４０に嵌合させられており、第２のガスブロック７０は第１のガスブロック４８に嵌合させられており、第２の接触素子６８は第１の接触素子４６と電気的に接触しており、ガス管１８は負荷コイル１２と同軸的に延びており、内部通路７８，８２は、ガス管内にガスを搬送して負荷コイルにおいて排出されるように外部通路５２，５８と個々に整合しており、負荷コイルとガス管とは、プラズマ形成ガスを高周波エネルギと誘導結合することによってプラズマ２２を生ぜしめるために、協働するように位置決めされている。高周波の逃げは効果的に制限される。
【００２７】
始動装置１０９からの慣用の火花又は高周波パルスは、プラズマを生ぜしめるために使用される。パルスは、始動電動機からのリード線１１３に取り付けられたねじ１１２によって定置のガスブロック４８に保持されたばねクリップ１１０によって、ガス管１８内へ向けられてよい。取付けアセンブリが係合させられている場合には、ばねクリップは、導管の壁に埋め込まれた金属製の接触子１１４に接触している。このように、取付けアセンブリがハウジングアセンブリに挿入されると、始動電動機の接続が自動的に形成される。
【００２８】
装置の構成部材及び表面、特に、取付け部材、中心アパーチュア、第２のガスブロックは円筒状であると有利であり、これにより、係合手段は、取付け手段を受け部材に回転可能に係合させることができる。しかしながら、他の係合手段がスリップクランプ又は蝶ねじとして使用されている場合には、このような構成部材及び表面は、横断面で見て楕円形又は四角形等の他のあらゆる所望の輪郭であってよい。
【００２９】
ガス管と試料噴射管との端部を負荷コイル及びプラズマに対して軸線方向に調整することができる実施例が、図３、図４及び図５に示されている。基本的な構成は図１の実施例の場合と同じであり、適当な箇所では符号が同じである。いくつかの特徴は、図１の場合とほぼ同じ機能を有しているので再度詳しく説明していない。したがって、負荷コイル１２は閉じられたハウジング１４に取り付けられており、この負荷コイルは高周波エネルギを受け取るようになっている。ガス管１８はプラズマ２２が形成されるコイルにまで延びており、試料噴射管２４が同軸的に位置決めされていてよい。選択的に、中間管２４が同軸的に配置されていてもよい。管は取付けアセンブリ３２へ組み込まれており、この取付けアセンブリ３２は、ハウジングの壁３６を有するハウジングアセンブリ３４と係合している。リング状の受け部材４０は、ハウジングの壁の外側に取り付けられている。フィンガリング４６又は同様のものが、受け部材に設けられた環状のスロット４２内に保持されている。
【００３０】
ハウジングアセンブリ３４のためには、第１のガスブロック４８は壁３６への取付け手段４９を有しており、ガスブロックは、図１の実施例の場合と同じ形式で、源（図示せず）からガスを受け取る外部ガス通路５２，５８を有している。取付けアセンブリ３２は、受け部材に嵌合するように形成された取付け部材６４を有している。接触する帯材６８′（以下に説明するように細長い）は、電気的な接触のためにフィンガリングの間に挿入されている。第２のガスブロック７０は、ガス管１８がＯリング７４を用いて第２のガスブロック内に保持されながら、取付け部材に同軸的に取り付けられている。第２のブロックは、図１の場合に図示及び説明したように、内部ガス通路７８，８２を有している。試料噴射管２４が使用されている場合には、この試料噴射管２４は、取付け部材６４と内側のガスブロック７０とを貫通して同軸的に保持されており、これにより、補助的な管２８を貫通してコイル１２にまで延びている。第２のガスブロック７０は、個々のガスと試料とを管内へ搬送するために内部通路が外部通路と整合しながら、第１のガスブロック４８に嵌合するように形成されている。ネブライザアセンブリ９０、若しくは別の試料噴射系も、火花プラズマイグナイタ（図示せず）等の同様の部材を備えた前の実施例の場合と同じである。
【００３１】
この実施例によれば、取付けアセンブリ３２は、コイル１２及びプラズマ２２に対する管端部の選択的な位置決めを可能にするために軸線方向で位置決め可能である。第１のガスブロック４８の取付けは、保持手段４９によって行われ、この保持手段４９はハウジングの壁に対する軸線方向位置決めの自由度を有しながら、第１のガスブロック４８を回転方向で定置にハウジングの壁に保持している。この実施例の場合には、これは、壁３６にねじ込まれた、アーチ状に間隔をおいて配置された保持ねじ１２０（１つを図示）を用いて達成される。保持ねじ１２０は、第１のガスブロックに設けられた個々のボア１２２を貫通しており、ボア１２２は、ルーズなすべりばめを許容する。コイル側のボアの端部において又はコイル側のボアの端部の近くにおいて、肩部１２４は、壁から離れるように延長させられた位置においてガスブロックをねじ頭１２６に対して止めている。ねじに配置されたばね１２８は、壁側のボアの狭くなった部分において、ねじ頭１２６と第２の肩部１３０との間で圧縮されており、これにより、取付けアセンブリの軸線方向の位置１３２とは無関係に、第２のガスブロック７０を、壁に向かって、第２のガスブロックにおける当接位置にまで軸線方向に押し付け、これにより、内部通路は外部通路と軸線方向で整合している（図１に示したように）。
【００３２】
説明したように、ハウジングアセンブリにおける取付けアセンブリの係合は、選択的な軸線方向の位置決め１３２を許容する。電気的な接触を維持するために、受け部材に設けられたスロット４２と、取付け部材から延びた帯材６８′とは、それぞれ、位置決め範囲に亘って電気的な接触維持するために、軸線方向に（軸線３８に対して平行に）協働的に延長している。
【００３３】
軸線方向の位置決めは、選択的に、選択された位置に締め付けるためにねじを保持しながら、受け部材への取付け部材の単純なすべりばめ等の、あらゆる所望の形式で行われてよい。しかしながら、有利な側面においては、位置決めは回転によってより正確さを有しながら行われる。このためには、取付け部材６４はフランジ１３６を有しており、係合手段が、フランジに被せはめられる連結リング１３４から成っている。
【００３４】
受け部材４０は、軸線３８に対して平行に整合させられた、ハウジングから外向きに開放した少なくとも１つの孔１３７を有している。各孔のための頭なしピン１３８は、それぞれの頭なしピンが対応する孔にスライド可能に挿入されるように、フランジに取り付けられており、これにより、取付け部材と受け部材との相対的な回転を阻止しながら、軸線方向の位置決めを許容している。
【００３５】
連結リング１３４は半径方向内向きに延びたフランジ１４０を有しており、このフランジ１４０は、アーチ状に間隔を置いて配置された複数の部分的な環状のスロット１４２を有している。各スロットには、頭部１４５を備えたボルト１４４が取付けフランジ１４４に取り付けられている。スロットに配置されたボルトは、相対的な回転方向の位置決めの範囲内での自由度を有しながら、連結リングを取付け部材に対して保持している。
【００３６】
連結リングはスカート１４８を有しており、このスカート１４８は、内側に面した縁部１５０と、スカートにアーチ状に間隔を置いて配置された、縁部１５０において開放した複数の斜めに設けられたスロット１５２とを有している（図４）。このような各スロット１５２のために、受け部材４０の円筒状の外面には突起１５４が取り付けられており、各突起１５４が、斜めに設けられたスロット内へ、有利には貫通して延びている。したがって、連結リングは取付けアセンブリと共に、取り外し可能な係合のために、受け部材と突起とから取り外し可能であり、突起を備えた受け部材に沿った連結リングの回転は、軸線方向の位置決めを生ぜしめる。
【００３７】
前の実施例のように、取付け部材は、ガス管内で噴射管に沿って被さるように突出した管状の突出部１０２′を有しており、この突出部１０２′は、高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するために、長さＬ対直径Ｄの十分に高い比を有する軸線方向のボア１０４を有している。この実施例の場合には、取付け部材と受け部材とは、管状の突出部が受け部材にルーズに嵌合するように、協働するように形成されていると有利であり、これにより軸線方向調整のための場所を提供する。低摩擦材料から形成された支持シリンダ１５６は、受け部材４０内での突出部１０２′の回転を容易にするために使用されていてよい。Ｏリング１５８は、図１に示したＯリング７２，７６，８６，８８と同じ機能を有する。ねじ１６０はガスブロック７０にねじ込まれる。ネブライザアセンブリ９０は、図１に示したようにブラケット９２，９４を用いて保持されている。
【００３８】
また、前の実施例のように、火花又は高周波式の始動装置１０９が、リード線１１３を介して、ねじによってガスブロックに取り付けられたばねクリップ１１０に接続されている。取付けアセンブリの係合に基づき、クリップが、導管の壁に埋め込まれた金属製の接触子１１４に接触する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の装置の実施例を示す縦断面図である。
【図２】図１の２−２の方向で見た側面図である。
【図３】本発明の別の実施例を示す縦断面図である。
【図４】図３の装置の一部の分解斜視図である。
【図５】図１の実施例の分解斜視図である。
【符号の説明】
１０  装置、  １２  負荷コイル、  １４  ハウジング、  １６  発振器回路、  １８  ガス管、  ２０  コイル端部、  ２２  プラズマ放電、  ２４  試料噴射管、  ２６  端部、  ２８  中間管、  ３０  補助ガス、  ３２  取付けアセンブリ、  ３４  ハウジングアセンブリ、  ３６  壁、  ３８  軸線、  ４０  受け部材、  ４２  スロット、  ４４  肩部、  ４６  接触素子、  ４８  第１のガスブロック、  ４９  保持手段、  ５０  中心開口、  ５２  ガス通路、  ５４  ガスライン、  ５６  ガス源、  ５８  外部通路、  ６０  ガスライン、  ６２  ガス源、  ６４  取付け部材、  ６６  外側リム、  ６８  帯材、  ７０  第２のガスブロック、  ７４，７６  Ｏリング、  ７８  第１の内部通路、  ８０  孔、  ８２  内部通路、  ８４  内端部、  ８６，８８  Ｏリング、  ９０  管、  ９２  定置部分、  ９３  試料オリフィス、  ９４  取外し可能部分、  ９６  噴霧室、  ９８  スリーブ、  １０２  突出部、  １０４  ボア、  １０６  ピン、  １０８  スロット、  １１０  ばねクリップ、  １１２  ねじ、  １１３  リード線、  １１４  接触子、  １２２  ボア、  １２４  肩部、  １２６  ねじ頭、  １２８  ばね、  １３０  第２の肩部、  １３２  軸線方向位置決め、  １３４  連結リング、  １３６  フランジ、  １３７  孔、  １３８  頭無しピン、  １４０  フランジ、  １４２  スロット、  １４４  ボルト、  １４５  頭部、  １４８  スカート、  １５０  縁部、  １５２  スロット、  １５３  開放部、  １５４  突起、  １５６  支持シリンダ、  １５８  Ｏリング、  １６０  ねじ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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