【手続補正書】
【提出日】平成25年6月26日(2013.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系下に液体を供給して局所的な液浸領域を形成する供給口と、
前記液浸領域から液体を回収する回収口と、
前記回収口から回収された液体の温度を計測する温度センサと、
を備える露光装置。
【請求項２】
前記回収口と接続される回収管をさらに備え、
前記温度センサは、前記回収管内に配置される請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記温度センサの計測結果に基づいて、前記供給口から供給される液体の温度または単位時間当たりの供給量が調整される請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
互いに異なる位置に配置される複数の前記回収口を介して前記供給された液体を回収し、
前記温度センサは前記複数の回収口にそれぞれ対応して複数配置される請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
複数の前記温度センサで計測した前記温度に基づいて、前記液体の温度分布が求められる請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記複数の温度センサのそれぞれは、前記基板の走査方向と直交する方向に関して離れて配置される請求項４または５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記温度センサによる計測結果に基づいて、前記投影光学系の投影状態が調整される請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記投影光学系の一部の光学素子を移動させること又は前記投影光学系の複数の光学素子間の空間の圧力を変動させることにより、前記投影状態が調整される請求項７記載の露光装置。
【請求項９】
前記基板を保持して移動可能な基板ステージを備え、
前記投影状態の調整は、前記基板ステージの移動を制御することを含む請求項７または８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記基板ステージの移動の制御により、前記基板ステージに保持された前記基板の前記投影光学系の光軸方向における位置、または前記基板ステージに保持された前記基板の傾きが調整される請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置の制御方法であって、
前記投影光学系下に供給口から液体を供給して局所的な液浸領域を形成することと、
前記液浸領域から回収口を介して液体を回収することと、
温度センサを用いて前記回収された液体の温度を計測することと、
を含む露光装置の制御方法。
【請求項１２】
前記露光装置は前記回収口と接続される回収管を備え、
前記温度センサは前記回収管内に配置される請求項１１に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１３】
前記露光装置は前記投影光学系下に液体を供給する供給口を備え、
前記温度センサの計測結果に基づいて前記供給口から供給される液体の温度または単位時間当たりの供給量が調整される請求項１２に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１４】
互いに異なる位置に配置される複数の前記回収口を介して前記供給された液体が回収され、
前記温度センサは前記複数の回収口にそれぞれ対応して複数配置される請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１５】
複数の前記温度センサで計測した前記温度に基づいて、前記液体の温度分布が求められる請求項１４に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１６】
前記複数の温度センサの夫々は、前記基板の走査方向と直交する方向に関して離れて配置される請求項１４または１５に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１７】
前記温度センサによる計測結果に基づいて、前記投影光学系の投影状態が調整される請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置の制御方法。
【請求項１８】
前記投影光学系の一部の光学素子を移動させること又は前記投影光学系の複数の光学素子間の空間の圧力を変動させることにより、前記投影状態が調整される請求項１７記載の露光装置の制御方法。
【請求項１９】
前記露光装置は前記基板を保持して移動可能な基板ステージを備え、
前記投影状態の調整は前記基板ステージの移動を制御することを含む請求項１７または１８に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２０】
前記基板ステージの移動の制御により、前記基板ステージに保持された前記基板の前記投影光学系の光軸方向における位置、または前記基板ステージに保持された前記基板の傾きが調整される請求項１９に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２１】
投影光学系と液体とを介して、基板ステージの基板ホルダに支持された基板を露光光で露光する露光装置の制御方法であって、
温度センサが設けられたダミー基板を前記基板ホルダに載置して前記投影光学系下に位置付けることと、
前記投影光学系下に供給口から液体を前記ダミー基板上に供給することと、
前記温度センサで計測した温度情報に基づいて、前記露光装置の動作を制御することと、
を含む露光装置の制御方法。
【請求項２２】
複数の前記温度センサが、前記ダミー基板に配置されている請求項２１に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２３】
前記複数の温度センサは、前記基板にデバイスパターンが露光されるショット領域に対応するように、前記ダミー基板に配置されている請求項２２に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２４】
前記ダミー基板には、前記温度センサを所定位置に位置決めするためのアライメントマークが形成されている請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２５】
前記供給口から供給された液体で、前記ダミー基板上に局所的な液浸領域が形成され、
前記温度情報は、前記液浸領域の液体の温度情報を含む請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２６】
前記ダミー基板上の前記温度センサが配置される領域は、前記ダミー基板上の前記液浸領域よりも大きい請求項２５に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２７】
前記液体の温度情報は、前記液浸領域の温度分布を含む請求項２６に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２８】
前記露光装置の動作は、前記投影光学系の結像特性の調整動作、前記基板ステージの移動制御、および前記供給口から供給される液体の温度調整の少なくとも１つを含む請求項２１〜２７のいずれか一項に記載の露光装置の制御方法。
【請求項２９】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系下に液体を供給する供給口と、
前記基板を支持する基板ホルダを有し、前記投影光学系下を移動可能な基板ステージと、
制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記基板ホルダに載置された、ダミー基板に設けられた温度センサからの温度情報に基づいて所定の動作制御を行う露光装置。
【請求項３０】
前記供給口から供給された液体で、前記ダミー基板上に局所的な液浸領域を形成し、
前記温度情報は、前記液浸領域を形成する液体の温度情報を含む請求項２９に記載の露光装置。
【請求項３１】
前記ダミー基板と前記投影光学系との間に前記液浸領域が形成され、
前記ダミー基板上の前記温度センサが配置される領域は、前記ダミー基板上に形成される前記液浸領域よりも大きい請求項３０に記載の露光装置。
【請求項３２】
前記液体の温度情報は、前記液浸領域の温度分布を含む請求項３１に記載の露光装置。
【請求項３３】
前記所定の動作制御は、前記投影光学系の結像特性の調整動作、前記基板ステージの移動制御、および前記供給口から供給される液体の温度調整の少なくとも１つを含む請求項２９〜３２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３４】
前記ダミー基板には、複数の前記温度センサが配置されている請求項２９〜３３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３５】
前記複数の温度センサは、前記基板にデバイスパターンが露光されるショット領域に対応するように、前記ダミー基板に配置されている請求項３４に記載の露光装置。
【請求項３６】
前記ダミー基板には、前記温度センサを所定位置に位置決めするためのアライメントマークが形成されている請求項２９〜３５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３７】
請求項１〜１０、２９〜３６のいずれか一項に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光装置の制御方法、及びデバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で基板にパターンを露光する露光装置、露光装置の制御方法、及びデバイス製造方法に関するものである。