(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂固形分、および任意選択的に顔料、充填剤および慣用のコーティング添加剤を含む水性陰極電着（ＣＥＤ）コーティング剤であって、前記ＣＥＤコーティング剤が、ヒドロキシキノリン、１，２−ジオキシム、１，３−ジオキシム、およびＮ，Ｎ’−ジアリールチオカルバジドおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されるリガンドとの少なくとも１つのビスマス錯体を、ビスマスとして計算され、前記樹脂固形分に基づいて、０．１質量％から２．５質量％の量で含むことを特徴とするＣＥＤコーティング剤。
【請求項２】
前記リガンドが、８−ヒドロキシキノリン、ジアセチルジオキシム、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルチオカルバジドおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載のＣＥＤコーティング剤。
【請求項３】
ビスマスとして計算され、前記ＣＥＤコーティング剤の樹脂固形分に基づいて、少なくとも１つのビスマス錯体の量比率が、０．５質量％から２質量％であることを特徴とする請求項１または２に記載のＣＥＤコーティング剤。
【請求項４】
前記ＣＥＤコーティング剤が、前処理材料で汚染されることを特徴とする請求項１、２または３に記載のＣＥＤコーティング剤。
【請求項５】
前記ＣＥＤコーティング剤が、２０ｐｐｍから３００ｐｐｍのホスフェートで汚染されることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のＣＥＤコーティング剤。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載のＣＥＤコーティング剤を用いることを特徴とする導電性基体をＣＥＤコーティングする方法。
【請求項７】
前記基体が、金属基体であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記金属基体が、変換前処理を受けた金属基体であることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記変換前処理が、リン酸化および任意選択的に不動態化を含む変換前処理であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記基体が、自動車の車体および車体部品からなる群から選択される基体であることを特徴とする請求項６から９のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ビスマス錯体を含む陰極電着（ＣＥＤ）コーティング剤、その調製、およびＣＥＤコーティングによって導電性基体をコーティングするための方法におけるその使用に関連する。
【０００２】
【従来の技術】
鉛を用いないＣＥＤコーティング剤の構成成分として、種々のビスマス塩を使用することが、特許文献に繰り返し記載されている。例えば、特許文献１から特許文献１５にも、例えばＣＥＤコーティング剤の構成成分としてビスマスアセチルアセトンキレートなどのビスマス錯体を用いる可能性に触れているが、有機モノカルボン酸のビスマス塩の使用が好ましく、およびヒドロキシカルボン酸のビスマス塩が特に好ましいことを同時に強調している。
【０００３】
一般に、金属表面上に変換層を得る目的でＣＥＤコーティング剤を用いてコーティングされる金属基体は、リン酸化処理および任意選択的に不動態化処理を含む前処理を受ける。複雑な三次元の形状を有する基体、とりわけ、自動車の車体または自動車の車体部品のような、中空および／またはアンダーカットを有する基体の場合には、例えば、前処理の終結を成す洗浄動作が、完全にそして、必要な効果を伴わずに実施されると、前処理材料およびこれにより生じる好ましくないイオン、とりわけホスフェートイオンなどのＣＥＤコーティング浴中へのキャリーオーバーが起こる可能性がある。この種類の好ましくないイオンは、先行技術から知られるビスマス含有ＣＥＤコーティング剤のビスマスの有効性に有害な作用を及ぼす可能性がある。不都合な結果は、例えば、ＣＥＤコーティング層のベーキング架橋に関する触媒効果の減退、およびベーキングされたＣＥＤコーティング層の阻害された抗腐食作用を含む。
【０００４】
【特許文献１】
米国特許第５，９３６，０１３号明細書
【０００５】
【特許文献２】
米国特許第５，７０２，５８１号明細書
【０００６】
【特許文献３】
米国特許第５，５５４，７００号明細書
【０００７】
【特許文献４】
米国特許第５，９０８，９１２号明細書
【０００８】
【特許文献５】
米国特許第６，１７４，４２２号明細書
【０００９】
【特許文献６】
米国特許第５，６７０，４４１号明細書
【００１０】
【特許文献７】
国際公開第９６／１００５７号パンフレット
【００１１】
【特許文献８】
米国特許第５，９７２，１８９号明細書
【００１２】
【特許文献９】
国際公開第００／５０５２２号パンフレット
【００１３】
【特許文献１０】
米国特許第６，２６５，０７９号明細書
【００１４】
【特許文献１１】
欧州特許第１０４１１２５号明細書
【００１５】
【特許文献１２】
国際公開第００／４７６４２号パンフレット
【００１６】
【特許文献１３】
国際公開第０１／５１５７０号パンフレット
【００１７】
【特許文献１４】
独国特許出願公開第４，４３４，５９３号明細書
【００１８】
【特許文献１５】
米国特許第５，７０２，５８１号明細書
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、特に金属基板上に変換層を生産するのに用いられる前処理材料中に生じる、好ましくない種類のイオン、例えば、ホスフェート、ヒドロゲンホスフェート、ジヒドロゲンホスフェート、ジホスフェートおよびトリホスフェートまたはオリゴマーホスフェートのようなアニオンに対して、抵抗性または少なくとも増加された抵抗性を有するビスマス触媒ＣＥＤコーティング剤を提供することである。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
この目的が、樹脂固形分および任意選択的に顔料、充填剤および／または慣用のコーティング添加剤を含み、ヒドロキシキノリン、１，２−ジオキシム、１，３−ジオキシム、Ｎ，Ｎ’−ジアリールチオカルバジドおよび前記リガンドの組み合わせからなる群から選択されるリガンドを有する少なくとも１つのビスマス錯体（以下では、短縮して「定義されるようなビスマス錯体」、または、簡単に「ビスマス錯体」とも呼ぶ）を、ビスマスとして計算され、前記樹脂固形分に基づいて、総計０．１質量％から２．５質量％含む、水性ＣＥＤコーティング剤で達成されることが明らかになる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
ＣＥＤコーティング剤は、それらが単純なビスマス塩またはビスマスアセチルアセトン錯体のかわりに、定義されるようなビスマス錯体を含む場合には、それとともに持ち込まれるイオン、とりわけホスフェートのような前処理材料での汚染に対し、より抵抗性がある。
【００２２】
本発明に従うＣＥＤコーティング剤は、陰極に堆積可能な、本来知られている水性電着コーティング剤である。それらは例えば鉛触媒に代えて架橋触媒として、定義されるような少なくとも１つのビスマス錯体を含む。
【００２３】
ＣＥＤコーティング剤は、例えば１０質量％から３０質量％の固形分を有する水性コーティング剤である。固体は、樹脂固形分、１または複数のビスマス錯体、任意選択的に存在する顔料、充填剤および／またはさらなる非揮発性添加剤からなり、好ましくは鉛化合物を用いない。樹脂固形分は、カチオン性置換基またはカチオン性基に転換されることが可能な置換基を有する、１または複数の慣用の自己架橋性または対外架橋性ＣＥＤバインダー、任意選択的に存在する１または複数の架橋剤、および、１または複数のペースト樹脂のようなＣＥＤコーティング剤中に含まれる任意選択的な他の樹脂からなる。カチオン性基は、カチオン性基またはカチオン性基に転換することが可能な塩基性基、例えば、アミノ、アンモニウム、例えば第４級アンモニウム、ホスホニウムおよび／またはスルホニウム基であってもよい。塩基性基を有するバインダーが好ましい。アミノ基のような窒素を含む塩基性基がとりわけ好ましい。これらの基は４級化の形態で存在してもよく、またはそれらはアミドスルホン酸、またはメタンスルホン酸、乳酸、ギ酸、酢酸のような慣用の中和剤でカチオン性基に転換される。
【００２４】
カチオン性バインダーまたは塩基性バインダーは、例えば第１、第２および／または第３アミノ基を含む樹脂であってもよく、それらのアミン価は、例えば２０から２５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。ＣＥＤバインダーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは３００から１０００である。ＣＥＤバインダーはいかなる制限をも受けない。例えば広範囲の特許文献から知られるいくつかのＣＥＤバインダーまたはＣＥＤバインダー／架橋剤の組み合わせを用いてもよい。そのようなＣＥＤバインダーの例には、アミノ（メタ）アクリレート樹脂、アミノエポキシ樹脂、末端二重結合を有するアミノエポキシ樹脂、第１級ＯＨ基を有するアミノエポキシ樹脂、アミノポリウレタン樹脂、アミノ基を含むポリブタジエン樹脂、または修飾エポキシ樹脂／二酸化炭素／アミン反応性生物が含まれる。これらのバインダーは自己架橋性であってもよく、またはそれらは当業者に知られる架橋剤と組み合わせて用いることも可能である。そのような架橋剤の例には、アミノプラスト樹脂、ブロックトポリイソシアネート、末端に二重結合を有する架橋剤、ポリエポキシド化合物、環状カーボネート基を有する架橋剤またはエステル交換反応および／またはアミド交換反応が可能な基を含む架橋剤を含まれる。
【００２５】
ＣＥＤバインダーを変換してＣＥＤバインダー分散液とし、それ自体ＣＥＤコーティング剤の調製に用いてもよい。ＣＥＤバインダー分散液の調製は当業者に知られている。例えば、ＣＥＤバインダーを酸で中和し、水で希釈することにより変換して、水性分散液とすることにより、ＣＥＤバインダー分散液を調製することが可能である。また、ＣＥＤバインダーは、架橋剤と共に混合物中に存在してもよく、これらと一緒に変換され、水性ＣＥＤバインダー分散液となることが可能である。存在する場合は、例えば減圧蒸留により、変換の前または後に、１または複数の有機溶媒を除去して所望の含有量にすることが可能である。
【００２６】
また、１または複数のバインダーおよび任意選択的に存在する架橋剤、水、および少なくとも１つのビスマス錯体に加えて、ＣＥＤコーティング剤は、顔料、充填剤、有機溶媒および／または慣用のコーティング添加剤も含むことが可能である。顔料および充填剤の例には、二酸化チタン、酸化鉄顔料、カーボンブラック、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料、メタリック顔料、干渉顔料、カオリン、タルク、シリカのような、慣用の無機および／または有機有色顔料および／または特別な効果の顔料および／または充填剤が含まれる。ＣＥＤコーティング剤の顔料＋充填剤／樹脂固形分の質量比率は、例えば０：１から０．８：１であり、着色されたコーティング剤に対しては、０．０５：１から０．４：１であることが好ましい。
【００２７】
コーティング可能なＣＥＤコーティング浴において例えば５質量％までの量比率で含まれることが可能な有機溶媒の例には、例えばＮ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、スルホラン；シクロヘキサノール、２−エチルヘキサノール、ブタノールのようなアルコール；メトキシプロパノール、エトキシプロパノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールジエチルエーテルのようなグリコールエーテル；メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン；炭化水素のような極性非プロトン性水混和性溶媒が含まれる。
【００２８】
樹脂固形分に基づいて、例えば０．１質量％から５質量％の量比率でＣＥＤコーティング剤中に含まれることが可能な慣用のコーティング添加剤の例には、湿潤剤、中和剤、クレーター防止剤、均展剤、消泡剤、光安定剤および抗酸化剤が含まれる。
【００２９】
本発明に従うＣＥＤコーティング剤は、特に単純なビスマス塩またはビスマスアセチルアセトネート錯体を含まないが、ヒドロキシキノリン、１，２−ジオキシム、１，３−ジオキシム、およびＮ，Ｎ’−ジアリールチオカルバジドおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されるリガンドを有する少なくとも１つのビスマス錯体を含む。ヒドロキシキノリンの例には、２−、７−およびとりわけ８−ヒドロキシキノリンを含み、あまり好ましくないが、１つまたは複数の他の置換基を有してもよい。８−ヒドロキシキノリンがとりわけ好ましい。１，２−ジオキシムおよび１，３−ジオキシムは、１モルの対応する１，２−または１，３−ジカルボニル化合物の反応生成物、とりわけ２モルのヒドロキシルアミンと対応するジケトンの反応生成物であり、ジアセチルジオキシムが好ましい。Ｎ，Ｎ’−ジアリールチオカルバジドは、２モルのアリールヒドラジンと１モルのチオホスゲンの反応生成物である。Ｎ，Ｎ’−ジフェニルチオカルバジドが好ましい。ビスマス錯体は、上記の１つまたは複数のタイプのリガンドを含むことが可能である。
【００３０】
ＣＥＤコーティング剤中の少なくとも１つのビスマス錯体の量比率は、ビスマスとして計算され、ＣＥＤコーティング剤の樹脂固形分に基づいて０．１質量％から２．５質量％、好ましくは０．５質量％から２質量％である。溶解され、または微細に分散される形態でのＣＥＤコーティング剤の分散相に、少なくとも１つのビスマス錯体が存在できる。
【００３１】
ビスマス錯体は、例えばバルクで１モルの適当なビスマス化合物の形態のビスマスと、１モルから６モル、好ましくは２モルより多く、とりわけ３モルから６モルの１または複数のリガンドを、水性または有機溶媒中、例えば溶液または分散液として、例えば当該反応媒体に依存する温度、２０℃から２５０℃で反応することによって調製されることが可能である。出発化合物として適当なビスマス化合物の例には、酸化ビスマス、水酸化ビスマス、または炭酸ビスマス、硝酸ビスマス、硫酸ビスマス、ビスマスアミドサルフェートのような無機ビスマス塩；またはビスマスのラクテート、ジメチロールプロピオネート、メタンスルホナート、エチルヘキサノエートのような有機ビスマス塩が含まれる。極性の、とりわけ極性非プロトン性溶媒が好ましい反応媒体である。反応終了後に、ビスマス錯体を単離し、本発明に従うＣＥＤコーティング剤の調製に用いるか、または反応媒体の他の構成成分との混合物として、単離および精製することなくそれらを用いることが可能である。
【００３２】
例えば、ビスマス錯体を、沈殿させ、沈殿物として単離してもよい。沈殿物を洗浄し、次にＮ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、スルホランのような有機溶媒、とりわけ極性および好ましくは非プロトン性溶媒中に溶解し、または微細に分散することが可能である。
【００３３】
有機溶媒、とりわけ極性および好ましくは非プロトン性溶媒中でのビスマス錯体の調製の間に、ビスマス錯体もまた、有機溶液または微細に分散された形態として直接得ることが可能である。
【００３４】
ＣＥＤコーティング剤を調製するために、少なくとも１つのビスマス錯体を、ＣＥＤコーティング剤の他の構成成分と混合する。少なくとも１つのビスマス錯体をいくつかの調剤形態、例えば、それ自体または水性調剤もしくは有機的調剤、例えば水溶液、乳剤、または懸濁液として用いられることができる。有機溶液または懸濁液としての使用が好ましく、とりわけ、非プロトン性の、極性水混和性溶媒が好ましく、このような有機溶液または懸濁液中のビスマス錯体の濃度は、例えば１質量％から５０質量％のビスマスの含有量に相当しうる。このような有機溶液または懸濁液を経てＣＥＤコーティング剤を得るための有機溶媒を、通常の方法、例えば限界濾過によって所望の含有量まで除去することが可能である。
【００３５】
ＣＥＤコーティング剤中への少なくとも１つのビスマス錯体の組み込みを、いくつかの方法において行うことが可能である。例えば、任意選択的に既に中和されたＣＥＤバインダーに、または相当量の水の添加前の任意選択的に既に中和されたＣＥＤバインダー溶液に、ビスマス錯体を添加し、次に攪拌により均質化することが可能である。しかしながら、ビスマス錯体を、完成したＣＥＤバインダー水性懸濁液か、または完成したコーティング可能なＣＥＤコーティング剤に添加することも可能である。
【００３６】
ＣＥＤコーティング剤が着色されても、または無着色であっても、知られているＣＥＤコーティング浴の調製方法によってそれらを調製することが可能である。すなわち、原則として、一成分方法および二成分方法の双方の手段による。
【００３７】
着色されたＣＥＤコーティング剤を調製するための一成分方法の場合、ＣＥＤバインダー中、例えばＣＥＤバインダーまたはペースト樹脂の有機溶媒中で顔料および／または充填剤を分散し、任意選択的に粉砕し、引き続いて任意選択的に、補充用のＣＥＤバインダーを練顔料へさらに添加することにより、一成分濃厚物を調製する。次に、中和剤としての酸の添加が既に実施されている場合を除いて、中和剤としての酸を添加した後、水での希釈することによって、ＣＥＤコーティング剤またはＣＥＤコーティング浴をこの材料から調製することができる。固形分を補償する場合には、ＣＥＤコーティング浴の新たな調製と異なり、混合は水とではなく、ＣＥＤコーティングにより固形分を使い果たしたＣＥＤコーティング浴内容物を用いて行われる。少なくとも１つのビスマス錯体の添加は、上記の調剤のいずれか１つの形態で上記の全ての添加方法によって行うことが可能である。好ましくは、少なくとも１つのビスマス錯体の有機溶液を、分散前または後の練り顔料に、および／または水での希釈前に補給目的のために添加されるＣＥＤバインダーに添加する。
【００３８】
無着色のＣＥＤコーティング剤は、一成分法と同様の方法で調製されるが、この場合には、自明のことではあるが、顔料または充填剤の添加および分散は省略される。
【００３９】
着色または無着色のＣＥＤコーティング剤を調製するための二成分法においては、（ａ）少なくとも１つのＣＥＤバインダー分散液を、１つの成分として、（ｂ）少なくとも１つの追加の、任意選択的な着色成分（任意選択的に顔料および／または充填剤を含む）と混合して、ＣＥＤコーティング剤を得る。ここで、さらに、固形分を調整するために水を添加することが可能である。着色成分（ｂ）は、特に、顔料および／または充填剤のペーストである（ｂ１）。顔料および／または充填剤のペースト（ｂ１）は、ＣＥＤバインダー中、好ましくは当業者に知られる慣用のペースト樹脂中で、顔料および／または充填剤を、分散および任意選択的に粉砕することによる通常の方法で調製することが可能である。無着色の成分（ｂ）の例には、添加剤の調剤（ｂ２）、例えば添加剤の水性または有機溶液、水性乳剤、または水性もしくは有機懸濁液の添加剤が含まれる。少なくとも１つのビスマス錯体は、ＣＥＤバインダー分散液（ａ）および／または顔料および／または充填剤ペースト（ｂ１）および／または添加剤調剤（ｂ２）の構成成分であることが可能である。少なくとも１つのビスマス錯体を含むＣＥＤ分散液（ａ）を調製するために、少なくとも１つのビスマス錯体を、例えば非水性相中に存在するＣＥＤバインダーに添加し、これと共に、中和剤としての酸の添加が既に実施されていないことを条件として、中和剤としての酸の添加後、水で希釈することによって相当のＣＥＤバインダー分散液（ａ）に変換することができる。少なくとも１つのビスマス錯体を含む顔料または充填剤ペースト（ｂ１）は、例えば、ＣＥＤバインダー中またはペースト樹脂中で、顔料および／または充填剤と、少なくとも１つのビスマス錯体を、分散および任意選択的に粉砕することによって、または、前もって調製された顔料ペーストと、少なくとも１つのビスマス錯体および／または架橋剤を含むＣＥＤバインダーを混合することによって調製することが可能である。添加剤の調剤（ｂ２）は、単独の添加剤またはいくつかの添加剤の１つとして、少なくとも１つのビスマス錯体を含んでもよく、この調剤は、例えば乳剤、懸濁液、または溶液などの対応する水性調剤または有機調剤であってもよい。
【００４０】
固形分補償の場合には、ＣＥＤコーティング浴の新たな調製と異なり、成分（ａ）および（ｂ）は水で希釈されないが、ＣＥＤコーティングにより固形分が使い果たされたＣＥＤコーティング浴内容物と混合される。
【００４１】
ＣＥＤコーティング層、例えば１０μｍから３０μｍの乾燥層厚のものは、陰極として接続された導電性基体、とりわけ金属基体上に、ＣＥＤコーティング剤から通常の方法で堆積させることができる。
【００４２】
用いられる金属基体は、全ての慣用の金属から作製された部品、例えば自動車産業界において通常用いられる金属部品、とりわけ車体およびそれらの部品などであることが可能である。例には、アルミニウム、マグネシウム、またはそれらの合金、特に、亜鉛メッキ鋼または非亜鉛メッキ鋼が含まれる。ＣＥＤコーティングの前に、金属基体は変換処理を受けてもよく、例えば、それらは、特にリン酸化および任意選択的に不動態化されてもよい。
【００４３】
また、本発明に従うＣＥＤコーティング剤からの、例えば鋼上に堆積される下塗剤の防食は、光沢鋼、または単にリン酸化され、不動態化されていない鋼で顕著である。いくつかの基体は、１つのワークピース上に一緒に存在してもよい（混合構造）。同様に、既に部分的にまたは完全にプレコーティングされた金属部品がワークピース上に存在してもよい。
【００４４】
本発明に従うＣＥＤコーティング剤でコーティングした後、電着コーティングは、例えば、１３０℃から２００℃の対象物温度でベーキングすることにより架橋される。ＣＥＤコーティング層は、ベーキングされていなくてもよいが、１または複数のコーティング層、例えばトップコート層または例えばサーフェーサー層、ベースコート層若しくはクリアコート層を含む多層コーティングが付与されている場合は、ベーキング後のものであってもよい。
【００４５】
特に、変換前処理した金属基体のＣＥＤコーティングの場合には、本発明に従うＣＥＤコーティング剤は、それらの強度の耐久性、すなわち前処理材料、具体的には前処理材料からキャリーオーバーされたイオンでの汚染に対する、わずかな感受性、または抵抗性を付与することが可能である。２０ｐｐｍから３００ｐｐｍのホスフェートを用いる本発明に従うＣＥＤコーティング剤の汚染は、例えばＣＥＤコーティング剤から電着されるコーティング層のベーキング架橋に関する触媒効果、およびベーキングされたＣＥＤコーティング層の防食効果をほとんど低減させない。
【００４６】
（実施例）
（実施例１）
ビスマスアセチルアセトネート錯体の調製
２０．４ｇのアセチルアセトンを、１１１ｇの２９．２質量％ビスマスラクテート水溶液（ビスマス含有量１２．８質量％）に添加し、２時間にわたって還流下で煮沸した。黄色溶液を得た。
【００４７】
（実施例２）
８−ヒドロキシキノリンとのビスマス錯体の調製
１１１ｇの酸化ビスマス、２０８ｇの８−ヒドロキシキノリンおよび５０ｇのＮ−メチルピロリドンを３０分にわたって還流下で煮沸した。緑褐色の溶液を得た。
【００４８】
（実施例３）
ジアセチルジオキシムとのビスマス錯体の調製
１１１ｇの２９．２質量％ビスマスラクテート水溶液（ビスマス含有量１２．８質量％）を、５１ｇのジアセチルジオキシムおよび１０００ｇの水および５ｇの触媒としての塩化ナトリウムの混合物に添加し、５０℃で６０分間攪拌した。アンモニアを用いて、ｐＨを８に調整した。形成された沈殿物を分離し、水で洗浄し、乾燥した。９５ｇの乾燥された沈殿物を、還流下で煮沸しながら５０ｇのＮ−メチルピロリドンに溶解した。褐色の溶液を得た。
【００４９】
（実施例４）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルチオカルバジドとのビスマス錯体の調製
１１１ｇの酸化ビスマス、１２０ｇのジフェニルチオカルバゾンおよび５００ｇのＮ−メチルピロリドンの混合物を、還流下、３０分間煮沸した。赤褐色の溶液を得た。
【００５０】
（実施例５  ｄ１）〜ｄ５））
ＣＥＤコーティング分散液の調製
ａ）８３２部のビスフェノールＡ（市販製品Ｅｐｉｋｏｔｅ（登録商標）８２８）をベースとするエポキシ樹脂のモノカーボネートを、８３０部の市販のポリカプロラクトンポリオール（市販製品ＣＡＰＡ ２０５）および７１２部のジグリコールジメチルエーテルと混合し、触媒としての０．３％のＢＦ３エーテラートと共に、０のエポキシ価が得られるまで７０℃から１４０℃で反応した。触媒としての０．３％Ｚｎアセチルアセトネートの存在下、１７４部のトルエンジイソシアネートと１３７部の２−エチルヘキサノールの反応生成物３０７部を、０．３％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムを添加しながら４０℃から８０℃でこの生成物に添加した。約０のＮＣＯ価が得られるまで反応を継続し、ジグリコールジメチルエーテルで、その混合物を、固形分７０質量％に調整した。
【００５１】
ｂ）３４８部のトルエンジイソシアネートと２７４部の２−エチルヘキサノールの反応生成物６１８部を、１７５９部のビスフェノールＡ（市販製品Ｅｐｉｋｏｔｅ（登録商標）１００１）をベースとするエポキシ樹脂のビスカーボネートに、０．３％の水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムを添加しながら、６０℃から８０℃で緩やかに添加した。約０のＮＣＯ価まで、反応を継続した。
【００５２】
ｃ）２０℃から４０℃の温度で、１３７部の２−エチルヘキサノールと１７４部のトルエンジイソシアネートの反応生成物６２２部を、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム触媒（０．３％）と共に、２３１５部のメトキシプロパノール中に溶解された８６０部のビスヘキサメチレントリアミンに添加し、約０のＮＣＯ含有量が得られるまで反応を継続した。次に、４７３７部の反応生成物ｂ）および３２４６部の反応生成物ａ）（各々の場合において、７０％ジグリコールジメチルエーテル溶液）を添加し、６０℃から９０℃で反応した。約３２ｍｇＫＯＨ／ｇのアミン価で反応を終了した。得られた生成物を、約８５％の固形分となるまで減圧下で蒸留した。
【００５３】
ｄ１）３０ミリモルのギ酸／１００ｇの樹脂で中和を実施した。次に混合物を７０℃に加熱し、固形分に基づいて１．５質量％のビスマスが混合物中に存在するような量で、攪拌しながら２時間かけてビスマスラクテートを分割して添加した。別個に６時間６０℃から７０℃で攪拌を継続した。冷却後、混合物を脱イオン水で変換し、４０質量％の固形分を有する分散液とした。
【００５４】
ｄ２〜ｄ５）各々の場合において、実施例１から４の関連するビスマス錯体の熱い、８０℃の溶液を、ビスマスラクテートの代わりに用いたことを除いて、ｄ１）に記載されたように操作を実施した。
【００５５】
（実施例６ａ〜ｅ）
ビスマス含有比較例ＣＥＤクリアコート浴６ａ、ｂおよび本発明６ｃ〜ｅに従うビスマス含有ＣＥＤクリアコート浴の調製
実施例５のｄ１）〜ｄ５）からの分散液を脱イオン水で希釈し、１５質量％の固形分とした。
【００５６】
（実施例７ａ〜ｅ）
１５０ｐｐｍのホスフェートをＣＥＤコーティング浴６ａ〜ｅに添加することによるホスフェート汚染のシミュレーション
各々の場合において適当な量の１％リン酸を添加することにより、ＣＥＤコーティング浴６ａ〜ｅから、１５０ｐｐｍのホスフェートを含む各々の場合のＣＥＤコーティング浴７ａ〜ｅを調製した。
【００５７】
（実施例８ａ〜ｅ）
１５０ｐｐｍのホスフェートをＣＥＤコーティング浴７ａ〜ｅに添加することによるホスフェート汚染のシミュレーション
各々の場合において適当な量の１％リン酸を添加することにより、１５０ｐｐｍのホスフェートを含むＣＥＤコーティング浴７ａ〜ｅから、３００ｐｐｍのホスフェートを含む各々の場合のＣＥＤコーティング浴８ａ〜ｅを調製した。
【００５８】
各々の場合において、前処理なしの鋼試験パネルを、ＣＥＤコーティング浴６ａ〜ｅ、７ａ〜ｅおよび８ａ〜ｅから２０μｍの乾燥層厚でコーティングし、脱イオン水で洗浄した後、種々のベーキング温度（１４０、１５０、１６０および１７０℃の対象物温度）で、２０分にわたってベーキングした。
【００５９】
ベーキングされたＣＥＤコーティング層を、（ａ）アセトン抵抗性を試験することにより、および（ｂ）機械的応力に対する挙動を試験することにより、架橋の完全性に関して試験した。
【００６０】
ａ）アセトン抵抗性
この目的のために、ベーキングされたＣＥＤコーティング層にアセトンを含浸した脱脂綿の塊を置き、時計皿で覆った。２分間、ＣＥＤコーティング層を時計皿で覆ったままにした後、時計皿および脱脂綿の塊を除去し、３０秒後（アセトン残留物を蒸発させるため）に、角へらで引掻くことにより、軟化（ｎｏｋ：不満足な）、および変化のないこと（ｏｋ：満足な）を試験した。
【００６１】
ｂ）機械的応力による試験
この目的のために、裏面衝撃試験（ＡＳＴＭ Ｄ ２７９４、裏面をへこませる、５／８”の半球形のヘッドを有する圧子の使用を参照されたい。）を実施した。２０から８０インチ−ポンドの荷重の範囲内で試験を実施した。ＣＥＤコーティング層の評価を、剥離、亀裂または微小割れの外観検査によって、へこませた表面上で行った。そのような特徴が５０インチ−ポンドの荷重を下回って生じた場合、結果をｎｏｋとみなし、５０インチ−ポンドを上回った場合、その結果をｏｋとみなした。
【００６２】
さらに、ベーキングされたＣＥＤコーティング層を試験して、それらの防食効果を評価した。この目的のために、２４０時間継続する塩水噴霧試験（ＤＩＮ  ５３  １６７に関連するＤＩＮ  ５０  ０２１−ＳＳに従う）の後、切り口（ｍｍ単位、片面上）でのクリープ腐食を測定した。
【００６３】
結果を以下の表に要約した。
【００６４】
【表１】
0004312472.tif 000002
【００６５】
ベーキング温度が１４０℃または１５０℃を越えた場合、汚染されていない（ホスフェートを用いない）比較例のビスマスラクテートを含むＣＥＤコーティング浴６ａ、ビスマスアセチルアセトネート錯体を含む６ｂおよび６ｃ〜ｅ（本発明に従う、８−ヒドロキシキノリン、ジアセチルジオキシムまたはＮ，Ｎ’−ジフェニルチオカルバジド）は、良好な結果を示した。各々の場合において、１５０ｐｐｍのホスフェートで汚染されたＣＥＤコーティング浴６ａ〜６ｅは、ＣＥＤコーティング浴７ａ〜７ｅを形成した。ＣＥＤコーティング浴７ａおよび７ｂは、ほんのわずかネガティブに影響を受けたＣＥＤコーティング浴７ｃ〜７ｅと比較して、より悪い結果を受けた。ＣＥＤコーティング浴８ａ〜８ｅは、与えられた追加量の１５０ｐｐｍホスフェートで汚染された（各々の場合において、全汚染量は、３００ｐｐｍホスフェートであった。）。ホスフェートの汚染に対する感受性において、ＣＥＤコーティング浴７ａ〜７ｅの場合と同様の傾向が示されたが、それらはさらにより顕著であった。ベーキング温度が少なくとも１６０℃から１７０℃であった場合、ＣＥＤコーティング浴８ａ〜８ｂからは許容できない結果を得たが、ＣＥＤコーティング浴８ｃ〜８ｅの結果はまだ許容可能であった。