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【手続補正書】
【提出日】平成25年5月22日(2013.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なる屈折率を有し、互いの格子面及び格子壁面の各々が接するように配置された第１の回折格子及び第２の回折格子を備える回折光学素子であって、
前記格子壁面毎に設けられた複数の遮光部材を有し、
光軸を含む断面内において、前記格子壁面の延長線と前記遮光部材の前記光軸に近い方の端部の延長線との距離をｗＬ、前記格子壁面の延長線と前記遮光部材の他方の端部の延長線との距離をｗＨ、前記第１の回折格子及び前記第２の回折格子の格子ピッチをＰ、使用波長帯域における最小の波長をλ０、とする時、
ｗＨ＞ｗＬ≧０
０＜（ｗＨ＋ｗＬ）／Ｐ＜０．０５
０＜λ０＜ｗＨ
なる条件を満たすことを特徴とする回折光学素子。
【請求項２】
前記遮光部材は、前記第１の回折格子と前記第２の回折格子との境界で発生する全反射光を低減させることを特徴とする請求項１に記載の回折光学素子。
【請求項３】
前記格子面と前記格子壁面と前記遮光部材との各々は、前記光軸を中心として同心円状に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の回折光学素子。
【請求項４】
前記遮光部材は、前記第１の回折格子又は前記第２の回折格子の内部に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の回折光学素子。
【請求項５】
前記遮光部材は、前記格子面及び前記格子壁面に接するように、前記第１の回折格子と前記第２の回折格子との境界に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の回折光学素子。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の回折光学素子と、
屈折光学部と、
を有することを特徴とする光学系。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の回折光学素子と、
前記回折光学素子の後側に配置された絞りと、を有することを特徴とする光学系。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
【請求項９】
光学系のレンズに用いられる回折光学素子であって、
前記レンズの光軸を中心として同心円状に所定の格子ピッチで形成された第１の格子面及び第１の格子壁面を複数備えた第１の回折格子と、
前記光軸を中心として同心円状に前記所定の格子ピッチで形成された第２の格子面及び第２の格子壁面を複数備え、該第２の格子面が前記第１の格子面と接し、かつ、該第２の格子壁面が前記第１の格子壁面と接するように設けられた第２の回折格子と、
前記光軸を中心として同心円状に前記所定の格子ピッチで形成された複数の遮光部材と、を有し、
前記第１の回折格子及び前記第２の回折格子は、互いに異なる屈折率を有して高屈折率領域及び低屈折率領域を構成し、
前記光軸を含む前記レンズの断面において、前記第１の格子壁面及び該第１の格子壁面の延長線によって分けられた領域のうち、前記第１の格子壁面の位置を基準とした場合に前記高屈折率領域に配置された各々の前記遮光部材の幅ｗＨと、前記低屈折率領域に配置された該遮光部材の幅ｗＬは、以下の式（１）〜（３）を満たすことを特徴とする回折光学素子。
ｗＨ＞ｗＬ≧０                    …  （１）
０＜（ｗＨ＋ｗＬ）／Ｐ＜０．０５  …  （２）
０＜λ０＜ｗＨ                    …  （３）
ただし、Ｐは前記格子ピッチ、λ０は使用波長帯域における最小の波長であり、幅ｗＨ、ｗＨの方向は、前記延長線と直交する方向である。
【請求項１０】
前記遮光部材は、前記第１の回折格子と前記第２の回折格子との境界で発生する全反射光を低減させることを特徴とする請求項９に記載の回折光学素子。
【請求項１１】
前記遮光部材は、前記光軸を含む前記レンズの断面において、前記第１の格子壁面及び該第１の格子壁面の延長線によって分けられた領域のうち、前記第１の格子壁面の位置を基準とした場合に前記高屈折率領域にのみ配置されていることを特徴とする請求項９又は１０に記載の回折光学素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一側面としての回折光学素子は、互いに異なる屈折率を有し、互いの格子面及び格子壁面の各々が接するように配置された第１の回折格子及び第２の回折格子を備える回折光学素子であって、前記格子壁面毎に設けられた複数の遮光部材を有し、光軸を含む断面内において、前記格子壁面の延長線と前記遮光部材の前記光軸に近い方の端部の延長線との距離をｗＬ、前記格子壁面の延長線と前記遮光部材の他方の端部の延長線との距離をｗＨ、前記第１の回折格子及び前記第２の回折格子の格子ピッチをＰ、使用波長帯域における最小の波長をλ０、とする時、
ｗＨ＞ｗＬ≧０
０＜（ｗＨ＋ｗＬ）／Ｐ＜０．０５
０＜λ０＜ｗＨ
なる条件を満たすことを特徴とする。
本発明の他の側面としての回折光学素子は、光学系のレンズに用いられる回折光学素子であって、前記レンズの光軸を中心として同心円状に所定の格子ピッチで形成された第１の格子面及び第１の格子壁面を複数備えた第１の回折格子と、前記光軸を中心として同心円状に前記所定の格子ピッチで形成された第２の格子面及び第２の格子壁面を複数備え、該第２の格子面が前記第１の格子面と接し、かつ、該第２の格子壁面が前記第１の格子壁面と接するように設けられた第２の回折格子と、前記光軸を中心として同心円状に前記所定の格子ピッチで形成された複数の遮光部材と、を有し、前記第１の回折格子及び前記第２の回折格子は、互いに異なる屈折率を有して高屈折率領域及び低屈折率領域を構成し、前記光軸を含む前記レンズの断面において、前記第１の格子壁面及び該第１の格子壁面の延長線によって分けられた領域のうち、前記第１の格子壁面の位置を基準とした場合に前記高屈折率領域に配置された各々の前記遮光部材の幅ｗＨと、前記低屈折率領域に配置された該遮光部材の幅ｗＬは、以下の式（１）〜（３）を満たすことを特徴とする。
ｗＨ＞ｗＬ≧０                    …  （１）
０＜（ｗＨ＋ｗＬ）／Ｐ＜０．０５  …  （２）
０＜λ０＜ｗＨ                    …  （３）
ただし、Ｐは前記格子ピッチ、λ０は使用波長帯域における最小の波長であり、幅ｗＨ、ｗＨの方向は、前記延長線と直交する方向である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月27日(2013.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の格子面と第１の格子壁面とを備えた第１の回折格子と、第２の格子面と第２の格子壁面とを備えた第２の回折格子と、を有する回折光学素子であって、
前記第１の格子壁面と接するように配置された反射部材を有し、
前記第２の回折格子は、前記第２の格子面が前記第１の格子面に接し、かつ、前記第２の格子壁面が前記反射部材に接するように配置されており、
画面外光束が前記回折光学素子の面法線に対して入射角度ωｉで入射したとき、前記第１の格子壁面又は前記第２の格子壁面から射出する光束の最大強度の射出角度ωｏは、以下の式（１）を満たし、
ωｏ≧ωｉ            …  （１）
前記反射部材の最大幅Ｗ（μｍ）、及び、前記第１の回折格子及び前記第２の回折格子の格子ピッチＰ（μｍ）は、以下の式（２−１）、（２−２）を満たすことを特徴とする回折光学素子。
０＜Ｗ／Ｐ＜０．０４  …  （２−１）
０．０２＜Ｗ          …  （２−２）
【請求項２】
前記反射部材は、均一な厚さの膜形状を有することを特徴とする請求項１に記載の回折光学素子。
【請求項３】
前記第１の格子面と前記面法線とのなす角度α、前記第１の格子面と前記第２の格子壁面とのなす角度β、及び、前記第１の格子面と前記第１の格子壁面とのなす角度γは、以下の式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の回折光学素子。
β≦α＜γ
【請求項４】
前記角度β、γは、更に以下の式を満たすことを特徴とする請求項３に記載の回折光学素子。
γ−β＞０．５°
【請求項５】
前記反射部材の厚さは、入射側から射出側に向けて増加していることを特徴とする請求項３又は４に記載の回折光学素子。
【請求項６】
前記反射部材を構成する材料の可視波長帯域における消衰定数ｋは、以下の式を満たすことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の回折光学素子。
０．８＜ｋ
【請求項７】
前記反射部材は、金属又は金属を含有した材料から構成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の回折光学素子。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の回折光学素子と、
前記回折光学素子の後側に配置された絞りと、を有することを特徴とする光学系。
【請求項９】
請求項８に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一側面としての回折光学素子は、第１の格子面と第１の格子壁面とを備えた第１の回折格子と、第２の格子面と第２の格子壁面とを備えた第２の回折格子と、を有する回折光学素子であって、前記第１の格子壁面と接するように配置された反射部材を有し、前記第２の回折格子は、前記第２の格子面が前記第１の格子面に接し、かつ、前記第２の格子壁面が前記反射部材に接するように配置されており、画面外光束が前記回折光学素子の面法線に対して入射角度ωｉで入射したとき、前記第１の格子壁面又は前記第２の格子壁面から射出する光束の最大強度の射出角度ωｏは、以下の式（１）を満たし、
ωｏ≧ωｉ            …  （１）
前記反射部材の最大幅Ｗ（μｍ）、及び、前記第１の回折格子及び前記第２の回折格子の格子ピッチＰ（μｍ）は、以下の式（２−１）、（２−２）を満たすことを特徴とする。
０＜Ｗ／Ｐ＜０．０４  …  （２−１）
０．０２＜Ｗ          …  （２−２）
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月7日(2013.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
視認者に対して前方斜め方向に配設され、前記視認者側に表示面を有する車載用表示装置であって、
前記視認者側に配置された偏光板を有する液晶パネルと、
前記液晶パネルの前記視認者側に配設された少なくとも１枚の位相差フィルムと、
を少なくとも備え、
前記液晶パネルから出射された偏光は、前記表示面において略垂直方向に偏光軸を有し、
前記位相差フィルムは、前記液晶パネルから出射された偏光の偏光方向を、車両のフロントガラスに対するＰ偏光方向へと補正する車載用表示装置。
【請求項２】
前記少なくとも１枚の位相差フィルムが１枚である場合において、前記位相差フィルムのＮｚ係数が０．４≦Ｎｚ≦０．６を満たす、
または、
前記少なくとも１枚の位相差フィルムが第１の位相差フィルムと第２の位相差フィルムとを含む積層構造を有する場合において、前記第１の位相差フィルムのＮｚ係数が０．２≦Ｎｚ≦０．３を満たし、かつ、前記第２の位相差フィルムのＮｚ係数が０．７≦Ｎｚ≦０．８を満たす、請求項１に記載の車載用表示装置。
【請求項３】
前記少なくとも１枚の位相差フィルムが、ポジティブＡプレートの１／２波長板である、請求項１または２に記載の車載用表示装置。
【請求項４】
前記第１の位相差フィルムのＮｚ係数が０．２５であり、前記第２の位相差フィルムのＮｚ係数が０．７５である、請求項２に記載の車載用表示装置。
【請求項５】
前記少なくとも１枚の位相差フィルムが、ポジティブＣプレートである第１の位相差フィルムと、ポジティブＡプレートである第２の位相差フィルムとを積層した構造である、請求項１に記載の車載用表示装置。
【請求項６】
前記少なくとも１枚の位相差フィルムが、ネガティブＡプレートである第１の位相差フィルムと、ネガティブＣプレートである第２の位相差フィルムとを積層した構造である、請求項１に記載の車載用表示装置。
【請求項７】
前記少なくとも１枚の位相差フィルムの面内遅相軸が、前記偏光板の偏光透過軸と平行または垂直である、請求項１から６のいずれか１項に記載の車載用表示装置。
【請求項８】
前記車載用表示装置が、前記液晶パネルと前記少なくとも１枚の位相差フィルムとの間にタッチパネルを備えた構造である、請求項１から７のいずれか１項に記載の車載用表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月6日(2013.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製品メーカの品質を評価するメーカ品質評価システムであって、
メーカ毎に実績評価値Ｑ１、不良率評価値Ｑ３、書類審査項目の数値、管理体制項目の数値、技術力項目の数値を記憶すると共に、メーカ毎に工程管理項目の不良内容について発生頻度の情報、影響度の情報、発見難易度の情報、危険係数を記憶する記憶部と、
処理プログラムの動作によって実現される処理手段として、
前記記憶部に記憶された、発生頻度の情報、影響度の情報、発見難易度の情報、危険係数、類審査項目の数値、管理体制項目の数値、および技術力項目の数値に基づいて工程審査評価値Ｑ２を演算して前記記憶部に記憶する工程審査評価値演算手段と、
メーカ毎に前記記憶部から前記実績評価値Ｑ１、前記工程審査評価値Ｑ２、前記不良率評価値Ｑ３を取得する評価値取得手段と、
メーカ毎に前記実績評価値Ｑ１、前記工程審査評価値Ｑ２、前記不良率評価値Ｑ３を基に総合評価値ＱALLを演算する総合評価値演算手段と、を備える制御部とを有することを特徴とするメーカ品質評価システム。
【請求項２】
前記工程審査評価値演算手段は、前記記憶部に記憶された、前記不良内容に対する前記発生頻度の情報、前記影響度の情報、前記発見難易度の情報、前記危険係数を基にメーカ毎に評点を演算し、当該評点に対応する等級を決定すると共に、特定の等級で選択された工程管理項目に評価点を付与し、当該評価点の平均値を算出し、当該平均値、前記記憶部に記憶された前記書類審査項目の数値、前記管理体制項目の数値、前記技術力項目の数値に基づいて前記工程審査評価値Ｑ２を演算することを特徴とする請求項１に記載のメーカ品質評価システム。
【請求項３】
発生頻度の情報、影響度の情報、発見難易度の情報、危険係数、類審査項目の数値、管理体制項目の数値、および技術力項目の数値に基づいて工程審査評価値Ｑ２を演算する工程審査評価値演算処理と、
メーカ毎に実績評価値Ｑ１、前記工程審査評価値Ｑ２、不良率評価値Ｑ３を取得する評価値取得処理と、
メーカ毎に前記実績評価値Ｑ１、前記工程審査評価値Ｑ２、前記不良率評価値Ｑ３を基に総合評価値ＱALLを演算する総合評価値演算処理とをコンピュータに実行させることを特徴とするメーカ品質評価プログラム。
【請求項４】
前記不良内容に対する前記発生頻度の情報、前記影響度の情報、前記発見難易度の情報、前記危険係数を基にメーカ毎に評点を演算し、当該評点に対応する等級を決定すると共に、特定の等級で選択された工程管理項目に評価点を付与し、当該評価点の平均値を算出し、当該平均値、前記記憶部に記憶された前記書類審査項目の数値、前記管理体制項目の数値、前記技術力項目の数値に基づいて前記工程審査評価値Ｑ２を演算することで前記工程審査評価値演算処理をコンピュータに実行させることを特徴とする請求項３に記載のメーカ品質評価プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】メーカ品質評価システム、およびメーカ品質評価プログラム
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月8日(2013.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式１で表されるシクロデキストリン化合物。
【化１】
2011190341.tif 000001
（一般式１中、ｍは６〜８の整数を表す。
ｍ個のＸ1及びｍ個のＸ2は各々独立に水酸基、又はトシルオキシ基、−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ＝ＣＲ’Ｒ”及び−ＮＨ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ＝ＣＲ’Ｒ”からなる群より選ばれる１つの基を表す。
但し、ｍ個のＸ1及びｍ個のＸ2のうち少なくとも１つはトシルオキシ基、−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ＝ＣＲ’Ｒ”及び−ＮＨ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ＝ＣＲ’Ｒ”からなる群より選ばれる１つの基を表す。
Ｒは、メチレン基、フェニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる基を表し、
Ｒ’及びＲ”はそれぞれメチル基、フェニル基、及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる基を表す。
Ｙはドキソルビシン、フルオロセイン、アミドトリゾ酸、又はエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）を表す。
Ｒ１は一般式２で表される基、水酸基、グリコシル基を有する置換基又は親水性基を表す。
但し、ｍ個のＲ１のうち少なくとも２つは一般式２で表される基である。
【化２】
2011190341.tif 000002
一般式２中、※はシクロデキストリンを構成するグルコピラノースの６位炭素原子との結合位置を表す。ｎは０〜３の整数を表し、ｎが０の場合、カルボニル炭素原子とアミノ窒素原子を結ぶ部分は単結合を表す。）
【請求項２】
前記一般式１中、ｍが７であり、Ｒ１が前記一般式２で表される基であり、前記一般式２中ｎが２である、請求項１記載のシクロデキストリン化合物。
【請求項３】
一般式３で表されるシクロデキストリン化合物を構成するシクロデキストリン環のＣ−２位水酸基及び／又はＣ−３位水酸基の縮合反応を行うことを特徴とする、一般式１で表されるシクロデキストリン化合物の製造方法。
【化３】
2011190341.tif 000003
（一般式１中、ｍは６〜８の整数を表す。
ｍ個のＸ1及びｍ個のＸ2は各々独立に水酸基、又はトシルオキシ基、−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ＝ＣＲ’Ｒ”及び−ＮＨ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ＝ＣＲ’Ｒ”からなる群より選ばれる１つの基を表す。
但し、ｍ個のＸ1及びｍ個のＸ2のうち少なくとも１つはトシルオキシ基、−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｙ、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ＝ＣＲ’Ｒ”及び−ＮＨ−Ｒ−ＣＯＮＨＮＨ＝ＣＲ’Ｒ”からなる群より選ばれる１つの基を表す。
Ｒは、メチレン基、フェニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる基を表し、
Ｒ’及びＲ”はそれぞれメチル基、フェニル基、及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる基を表す。
Ｙはドキソルビシン、フルオロセイン、アミドトリゾ酸、又はエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）を表す。
Ｒ１は一般式２で表される基、水酸基、グリコシル基を有する置換基又は親水性基を表す。
但し、ｍ個のＲ１のうち少なくとも２つは一般式２で表される基である。
【化４】
2011190341.tif 000004
一般式２中、※はシクロデキストリンを構成するグルコピラノースの６位炭素原子との結合位置を表す。ｎは０〜３の整数を表し、ｎが０の場合、カルボニル炭素原子とアミノ窒素原子を結ぶ部分は単結合を表す。
【化５】
2011190341.tif 000005
一般式３中、Ｒ１及びｍは一般式１と同義である。）
【請求項４】
前記一般式１中、ｍが７であり、Ｒ１が前記一般式２で表される基であり、前記一般式２中ｎが２であり、前記一般式３で表されるシクロデキストリン化合物が下記式で表されるシクロデキストリン化合物ＮＤ１である、請求項３記載のシクロデキストリン化合物の製造方法。
（シクロデキストリン化合物ＮＤ１）
2011190341.tif 000006
（前記式において、Ｒaは下記式で表される基である。）
2011190341.tif 000007
（前記式中、※はシクロデキストリンを構成するグルコピラノースの６位炭素原子との結合位置を表す。）
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月27日(2013.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面硬化された摺動部品の製造方法であって、
重量％で、Ｃ：０．０５〜０．５％、Ｓi:≦１．００％、Ｍn：９．０〜２０．０％、Ｎi：０．３〜８．０％、Ｃr：１６．０〜１９．０％、Ｎ：０．０４〜０．４０％、残部がＦe及び不可避不純物からなるオーステナイト系ステンレス鋼製のワークの作製工程と、
前記ワークの真空浸炭処理工程と、
前記真空浸炭処理工程後に前記ワークを研削する研削加工工程、又は前記真空浸炭処理工程後に前記ワークを研削してその後に研磨する研削研磨加工工程のいずれかと、を備えることを特徴とする摺動部品の製造方法。
【請求項２】
前記ワークの作製工程が、線材を直線化し所定の長さに切断する工程、又は、直線棒材を旋削加工する工程であることを特徴とする請求項１に記載の摺動部品の製造方法。
【請求項３】
前記真空浸炭処理工程が、
処理温度１０００℃〜１０８０℃で、処理圧力０．１ｋＰａで、アセチレンガスを供給して所定時間の浸炭処理をする工程と、
前記アセチレンガスの供給停止後に、前記処理温度で、処理圧力０．０５ｋＰａで、所定時間の拡散処理をする工程と、を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の摺動部品の製造方法。
【請求項４】
前記真空浸炭処理工程が、
処理温度１０４０℃〜１０６０℃で、処理圧力０．１ｋＰａで、アセチレンガスを供給して所定時間の浸炭処理する工程と、
前記アセチレンガスの供給停止後に、前記処理温度で、処理圧力０．０５ｋＰａで、所定時間の拡散処理をする工程と、を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の摺動部品の製造方法
【請求項５】
前記浸炭処理時間が６０分以上、前記拡散処理時間が１０分であることを特徴とする請求項３または４に記載の摺動部品の製造方法。
【請求項６】
前記摺動部品が、電子機器又は精密機器に使用されるＨｖ６５０以上の表面硬さを有する軸又は軸受けであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の摺動部品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月26日(2013.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項２に記載の絞り具がその収容穴の前記第１開口を底面に向けて挿置される凹所と、当該凹所に通じる真空排気路とを備え、前記凹所の開口上に布材を通過させるようにしたことを特徴とする絞り具の装着装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本第３発明の絞り具の装着装置は、本第２発明に記載の絞り具がその収容穴（１１）の第１開口（１１１）を底面に向けて挿置される凹所（２１１）と、当該凹所（２１１）に通じる真空排気路（２２）とを備え、凹所（２１１）の開口上に布材（Ｎ）を通過させるようにしたことを特徴とする。本第３発明の装着装置を使用することによって、絞りの自動化がより容易となる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月27日(2013.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
図８に示すとおり、本実施形態では、噴射装置１４の機械方向ＭＤにおける両側には、一対の隔離壁４０ａ，４０ｂが搬送手段１２から離間した状態で配設されている。隔離壁４０ａ，４０ｂが設けられていることによって、領域Ｒ近傍に滞留する空気の領域Ｒへの流入が妨げられ、下面３２の噴射孔３１付近の温度低下を抑えるとともに、噴射孔３１から噴射される加圧蒸気の温度の低下を抑えることができ、加圧蒸気を一定の温度に保った状態のままワーク１１に吹き付けることができる。なお、隔離壁４０ａ，４０ｂは、機械方向ＭＤの上流側または下流側のいずれか一方のみに配設されていてもよいが、ワーク１１の搬送される方向から空気が領域Ｒへ流入されやすいので、少なくとも上流側に位置する隔離壁４０ａを配設することが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
なお、既述したように、本発明のワーク処理装置１０は、特定の処理加工にのみ用いられるものではなく、比較的に融点の低い繊維どうしの融着加工、不織布シートの風合い加工や繊維油剤などの洗浄加工などの各種加工処理に用いることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月17日(2013.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
少なくとも前後一対の針床が歯口で対向するように設けられ、各針床にはそれぞれ多数のべら針が編針として配設される横編機で編地を編成する際に、編目の形成に使用する編糸とは異なって渡り糸となる編糸を、編地中の一部の編目を利用して編地に留める処理を含む編地の編成方法に使用するデザイン装置において、
該渡り糸となる編糸は、該一部を利用する編目を保持する保持編針と、該保持編針と歯口で対向する対向編針との間での割増やしを行う際に、該割増やしで目移し側となる編針のフックに、新たに形成する編目として捕捉してから、該対向編針に掛かる編目を該保持編針に掛かる編目に重ねるように目移しして、重ねた編目の一方として編地に留めるように、編成データを生成する手段を含む、
ことを特徴とするデザイン装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
さらに本発明は、少なくとも前後一対の針床が歯口で対向するように設けられ、各針床にはそれぞれ多数のべら針が編針として配設される横編機で編地を編成する際に、編目の形成に使用する編糸とは異なって渡り糸となる編糸を、編地中の一部の編目を利用して編地に留める処理を含む編地の編成方法に使用するデザイン装置において、
該渡り糸となる編糸は、該一部を利用する編目を保持する保持編針と、該保持編針と歯口で対向する対向編針との間での割増やしを行う際に、該割増やしで目移し側となる編針のフックに、新たに形成する編目として捕捉してから、該対向編針に掛かる編目を該保持編針に掛かる編目に重ねるように目移しして、重ねた編目の一方として編地に留めるように、編成データを生成する手段を含む、
ことを特徴とするデザイン装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月13日(2013.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基紙および基紙上に、顔料および接着剤を主成分とする顔料塗工層を有する塗工紙であって、
前記顔料は、粒子径２μｍ以上の顔料粒子が全顔料粒子の５％以下であり、
前記接着剤として少なくとも、ブタジエン成分が５０質量％以上のスチレン−ブタジエンラテックスを含み、前記顔料１００質量部に対する前記スチレン−ブタジエンラテックスの割合が４〜７質量部であることを特徴とする、塗工紙。
【請求項２】
製紙スラッジを主原料とし、脱水工程、乾燥工程、少なくとも３段階の熱処理工程及び粉砕工程を経て得られる再生粒子を、前記基紙に含有することを特徴とする、請求項１に記載の塗工紙。
【請求項３】
前記基紙および前記顔料塗工層の間に、澱粉を主成分とするクリア塗工層が設けられ、前記澱粉が、過硫酸水素カリウムで酸化されて得られた酸化澱粉であることを特徴とする、請求項１または２に記載の塗工紙。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、基紙および基紙上に、顔料および接着剤を主成分とする顔料塗工層を有する塗工紙であって、前記顔料は、粒子径２μｍ以上の顔料粒子が全顔料粒子の５％以下であり、前記接着剤として少なくとも、ブタジエン成分が５０質量％以上のスチレン−ブタジエンラテックスを含み、前記顔料１００質量部に対する前記スチレン−ブタジエンラテックスの割合が４〜７質量部であることを特徴とする、塗工紙である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、粒子径２μｍ以上の顔料粒子が全顔料粒子の５％以下であり、前記接着剤とし
て少なくとも、ブタジエン成分が５０質量％以上のスチレン−ブタジエンラテックスを含
み、前記顔料１００質量部に対する前記スチレン−ブタジエンラテックスの割合が４〜７質量部の塗工紙である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
填料の配合量は特に限定されないが、基紙中の灰分で２〜９質量％となるよう添加することが好ましく、３〜７質量％がより好ましい。灰分が９質量％を超過すると、パルプ同士の水素結合が阻害され易いため腰の無い紙となり、印刷乾燥時の収縮に基紙が耐えられず、ヒジワが発生し易くなるため好ましくない。灰分が２質量％を下回ると、パルプ繊維同士が水素結合で結びつきやすくなり、印刷後乾燥時に塗工紙の収縮が大きくなりやすく、ヒジワが発生しやすくなるため好ましくない。しかしながら本発明においては、後述のとおり、塗工層の顔料として、粒子径が２．０μｍ以上の粒子が全顔料の５％以下であり、かつ接着剤としてブタジエン成分が５０質量％以上のスチレン−ブタジエンラテックスを、前記顔料１００質量部に対して４〜７質量部含有させることにより、特にヒジワの発生を抑制しやすいため、填料の含有量が上記範囲から外れても、ヒジワの発生を抑制しやすい塗工紙が得られる。尚、本発明の灰分とは、ＪＩＳＰ８２５１「紙、板紙及びパルプ−灰分試験方法−５２５℃燃焼法」に準じて測定した値とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
塗工層の顔料は、粒子径２．０μm以上の粒子が顔料全体の５％以下とする。粒子径２．０μm以上の粒子、例えばデラミネーテッドクレーや大粒子径クレーが顔料全体の５％を超過すると、被覆性が良好となり印刷光沢は向上するものの、白紙光沢度が低下しやすいため、平坦化工程におけるカレンダー圧力を強くする必要があり、剛性に劣る塗工紙となる。剛性に劣る塗工紙は水分の吸収または蒸発により収縮しやすくなり、印刷においてヒジワが発生する問題がある。逆に、粒子径２．０μｍ以上の粒子が顔料全体の５％以下では、顔料が密に充填しやすく塗工層内部の空隙が少なくなりすぎて、基紙中の水分が特に蒸発しにくく、ヒジワの発生を防止しにくくなる。このため本発明においては、単に塗工層の顔料として粒子径２．０μm以上の粒子を粒子全体の５％以下とするだけでなく、後述するとおり、接着剤としてブタジエン成分を５０質量％以上含有するスチレン−ブタジエンラテックスを、顔料１００質量部に対して４〜７質量部含有させることにより、充分にヒジワを防止できる塗工紙が得られるのである。すなわち、接着性の高いブタジエン成分を多く含むスチレン−ブタジエンラテックスを用いることで、顔料に対してスチレン−ブタジエンラテックスの量を最小限度の４〜７質量部まで低減させることができるため、印刷時には塗工層中の接着剤の成膜に由来する、水蒸気の透過性低下を最小限に抑えることができ、耐ヒジワ性の低下を防止できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
このようなラテックスとしては、特にガラス転移温度が−２０〜１０℃のラテックスであると塗工層が柔らかくなるため、水蒸気が塗工層を透過しやすく、ヒジワの発生を効果的に防止できるため、より好ましい。更にはラテックスの平均粒子径が１１５〜１６０ｎｍと大きい場合には、塗工層の空隙が大きくなるため、更に水蒸気が塗工層を透過しやすくなる。加えて、ゲル含有量が７０〜９５質量％と低い場合には、より空隙の大きい塗工層が得られるため蒸気が特に塗工層を透過しやすく、特にヒジワを防止する効果が高くなる。上述のごとく、顔料として粒子径が２．０μｍ以上の粒子が顔料全体の５％以下であることに加えて、前記塗工層には接着剤としてブタジエン成分が５０質量％以上のスチレン−ブタジエンラテックスを、前記顔料１００質量部に対して４〜７質量部と低量で含有させることで、ヒジワの発生を防止しやすい塗工紙が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月18日(2012.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラギングマシン（１０）によってメイン配管（１）の内部に挿入されてメイン配管を遮断するものであって、プラギングマシン（１０）のピストンロッド（１１）によってガイド（１２）と共に動作するレバー体（１３）に結合したゴム設置板（１４）に設置され、メイン配管（１）の内面に密着する環状縁部（２１ａ）を有し、高圧ガスを一次的に遮断する一次遮断ゴム（２１）と、複数のローラー（２２ａ、２２ｂ、２２ｃ）が設置されているローラー支持台（２２）とが結合されてなるプラギングヘッドにおいて、
前記一次遮断ゴム（２１）と前記ローラー支持台（２２）との間に設置され、外周縁にチューブ取付溝（２３ａ）を有し、前記チューブ取付溝（２３ａ）に連通している流体供給通路（２３ｂ）を有するチューブ支持台（２３）と、前記チューブ支持台（２３）の前記チューブ取付溝（２３ａ）に設置され、前記流体供給通路（２３ｂ）の出口に連結されるニップル（２４ａ）を有し、ガスを二次的に遮断するゴムチューブ（２４）とを含んでなり、
前記一次遮断ゴム（２１）と前記ゴム設置板（１４）には前記チューブ支持台（２３）の流体供給通路（２３ｂ）に連通する連通孔（２１ｂ、１４ｂ）がそれぞれ設けられており、
前記ゴム設置板（１４）の連通孔（１４ｂ）には外部に連結された流体ホース（１５）が接続されており、
前記チューブ支持台（２３）には前記一次遮断ゴム（２１）と前記ゴムチューブ（２４）との間の空間にあるガスを排出するための流体排出通路（２３ｃ）が設けられており、前記一次遮断ゴム（２１）と前記ゴム設置板（１４）には前記流体排出通路（２３ｃ）に連通する連通孔（２１ｃ、１４ｃ）が設けられており、前記ゴム設置板（１４）の連通孔（１４ｃ）には外部に連結された流体ホースが接続されていることを特徴とする、配管遮断用二重プラギングヘッド。
【請求項２】
前記一次遮断ゴム（２１）と前記チューブ支持台（２３）は、それぞれ多数のボルト貫通孔（２１ｄ、２３ｄ）が設けられ、ボルト（２６）によって前記ローラー支持台（２２）と共に前記ゴム設置板（１４）に結合されていることを特徴とする、請求項１に記載の配管遮断用二重プラギングヘッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の配管遮断用二重プラギングヘッドは、プラギングマシンによってメイン配管の内部に挿入されてメイン配管を遮断するものであって、プラギングマシンのピストンロッドによってガイドと共に動作するレバー体に結合したゴム設置板に設置され、メイン配管の内面に密着する環状縁部を有し、高圧ガスを一次的に遮断する一次遮断ゴムと、複数のローラーが設置されているローラー支持台とが結合されてなるプラギングヘッドにおいて、前記一次遮断ゴムと前記ローラー支持台との間に設置され、外周縁にチューブ取付溝を有し、前記チューブ取付溝に連通している流体供給通路を有するチューブ支持台と、前記チューブ支持台の前記チューブ取付溝に設置され、前記流体供給通路の出口に連結されるニップルを有し、ガスを二次的に遮断するゴムチューブとを含んでなり、前記一次遮断ゴムと前記ゴム設置板には前記チューブ支持台の流体供給通路に連通する連通孔がそれぞれ設けられており、前記ゴム設置板の連通孔には外部に連結された流体ホースが接続されており、前記チューブ支持台には前記一次遮断ゴムと前記ゴムチューブとの間の空間にあるガスを排出するための流体排出通路が設けられており、前記一次遮断ゴムと前記ゴム設置板には前記流体排出通路に連通する連通孔が設けられており、前記ゴム設置板の連通孔には外部に連結された流体ホースが接続されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月7日(2013.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを搬送するシート搬送手段と、
前記シート搬送手段よりもシート搬送方向下流に配置された一対のシート搬送回転体と、
前記シート搬送手段によって搬送されるシートの先端が当接する第１の姿勢と、シートが通過できるような第２の姿勢とに移動可能なシャッタ部材と、
を有し、
前記シャッタ部材は、前記第１の姿勢にあるときに搬送されるシートの先端が前記一対のシート搬送回転体のニップよりも上流において当接するシート当接部と、前記シート当接部にシート先端が当接して形成されるシートのループ部が当接するループ当接部とを有し、
前記シート搬送手段により搬送されるシート先端が前記シート当接部に当接する当接力が前記シャッタ部材の移動を規制する方向に作用し、形成されるシートのループ部が前記ループ当接部を押す力が前記シャッタ部材を前記第１の姿勢から前記第２の姿勢に移動させる方向に作用することを特徴とするシート斜行補正装置。
【請求項２】
前記ループ当接部が、前記シャッタ部材を移動させるために、シートに形成される搬送方向と直交する方向における中央近傍のループ量に対応した操作量を前記シャッタ部材に伝えることを特徴とする請求項１に記載のシート斜行補正装置。
【請求項３】
前記幅方向における前記ループ当接部の両側でシートをガイドする可動ガイドを有することを特徴とする請求項２記載のシート斜行補正装置。
【請求項４】
前記ループ当接部は前記シャッタ部材と一体もしくは一体的に保持された部材に形成されており、前記シャッタ部材は回動中心を中心に回動することで前記第１の姿勢と第２の姿勢とに移動することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のシート斜行補正装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のシート斜行補正装置を備え、
搬送されたシートに画像を形成する画像形成手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するための本発明に係る代表的な構成は、シートを搬送するシート搬送手段と、前記シート搬送手段よりもシート搬送方向下流に配置された一対のシート搬送回転体と、前記シート搬送手段によって搬送されるシートの先端が当接する第１の姿勢と、シートが通過できるような第２の姿勢とに移動可能なシャッタ部材と、を有し、前記シャッタ部材は、前記第１の姿勢にあるときに搬送されるシートの先端が前記一対のシート搬送回転体のニップよりも上流において当接するシート当接部と、前記シート当接部にシート先端が当接して形成されるシートのループ部が当接するループ当接部とを有し、前記シート搬送手段により搬送されるシート先端が前記シート当接部に当接する当接力が前記シャッタ部材の移動を規制する方向に作用し、形成されるシートのループ部が前記ループ当接部を押す力が前記シャッタ部材を前記第１の姿勢から前記第２の姿勢に移動させる方向に作用することを特徴とすることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月10日(2013.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分（Ａ）〜（Ｄ）：
（Ａ）平均粒子径が２００μｍ以下であるエリスリトール ２５〜５５質量％、
（Ｂ）水 １５〜３５質量％、
（Ｃ）吸油量が２００〜４００ｍＬ／１００ｇのシリカ ０．５〜１０質量％
（Ｄ）粘結剤
並びにグリセリン及び／又はマルチトールを含有し、（Ｃ）シリカと（Ｄ）粘結剤の質量比（Ｃ：Ｄ）が２０：１〜２：１であり、グリセリン及び／又はマルチトールの含有量が（Ａ）エリスリトールに対して質量比で０．２５〜０．８であり、かつ２５℃における粘度が３０〜２５０Ｐａ・ｓである歯磨き組成物。
【請求項２】
グリセリン及び／又はマルチトールの含有量が（Ａ）エリスリトールに対して質量比で０．４〜０．８である請求項１に記載の歯磨き組成物。
【請求項３】
（Ｃ）シリカと（Ｄ）粘結剤の含有量の合計が３．５〜１０質量％である請求項１又は２に記載の歯磨き組成物。
【請求項４】
（Ｃ）シリカの（Ｂ）水に対する質量比（Ｃ／Ｂ）が０．０５〜０．４である請求項１〜３のいずれか１項に記載の歯磨き組成物。
【請求項５】
さらに薬用成分を０．０１〜２質量％含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の歯磨き組成物。
【請求項６】
薬用成分が、フッ素イオン供給化合物、殺菌剤及び抗炎症剤から選択される１種又は２種以上である請求項５に記載の歯磨き組成物。
【請求項７】
（Ｄ）粘結剤の含有量合計が０．３〜１．０質量％である請求項１〜６のいずれか１項に記載の歯磨き組成物。
【請求項８】
さらにソルビトールを含有する請求項１〜８のいずれか１項に記載の歯磨き組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月17日(2013.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリウレタンポリオール（Ａ）を５０〜９５重量％、多官能イソシアネート化合物（Ｂ）を０．５〜２０重量％、炭素数が１０〜３０である脂肪酸エステル（Ｃ）を０．５〜３１．５重量％含有することを特徴とするウレタン粘着剤。
【請求項２】
基材と、請求項１記載の粘着剤から形成されてなる粘着剤層とを有することを特徴とする粘着テープ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、第一の発明は、ポリウレタンポリオール（Ａ）を５０〜９５重量％、多官能イソシアネート化合物（Ｂ）を０．５〜２０重量％、炭素数が１０〜３０である脂肪酸エステル（Ｃ）を０．５〜３１．５重量％含有することを特徴とするウレタン粘着剤である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月14日(2013.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、プレス加工が完了した可動型３を固定型２から離間させる際には、モータ駆動制御部２３が第１駆動モータ１３及び第２駆動モータ１４の逆回転制御を行なう。これにより、第１駆動モータ１３及び第２駆動モータ１４の逆方向の回転動力が第１回転伝達部１５及び第２回転伝達部１６を介して第１ナット７及び第２ナット８に伝達され、第１ナット７及び第２ナット８の回転が、ナットハウジング１１，１２を介してテーブル２５に図２の矢印Ａ２方向に直線運動として移動されていき、可動型３が固定型２から離間する方向に移動していく。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月15日(2013.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
平均粒径が２０ｎｍ以下かつＤ９５の粒径が３０ｎｍ以下の粒子によって構成されることを特徴とする請求項３又は４に記載のダイヤモンド多結晶体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月12日(2013.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メトトレキサートを有効成分として含有する関節リウマチ薬であって、関節リウマチ患者に対して、就寝前に投与されるように用いられるものにおいて、前記投与が午後９時〜午前３時であることを特徴とする関節リウマチ薬。
【請求項２】
前記投与が午前１時〜午前３時であることを特徴とする請求項１に記載の関節リウマチ薬。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明者は、かかる問題点を解決するべく鋭意研究の結果、抗リウマチ薬であるＭＴＸの投与量や投与回数を変更することなく、投与時刻を種々検討した結果、生体リズムに合わせてＭＴＸを投与する投与タイミングを見出し、ＭＴＸの薬理効果を安全かつ効率的に高めることができることを確認し、本発明を完成するに至った。
本発明の関節リウマチ薬は、かかる知見に基づきなされたもので、請求項１に記載の通り、ＭＴＸを有効成分として含有する関節リウマチ薬であって、関節リウマチ患者に対して就寝前に投与されるように用いられるものにおいて、前記投与が午後９時〜午前３時であることを特徴とする。
また、請求項２に記載の関節リウマチ薬は、請求項１記載の関節リウマチ薬において、前記投与が午前１時〜午前３時であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月6日(2013.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
【化３】
2011190196.tif 000001
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、２個の塩素原子により置換されていてもよいシクロプロピル基又はメトキシ基であるか、又は
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それらの隣り合う２個が一緒になって、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−で表される基を形成し、但し、Ｒ１は水素原子ではなく、
Ｘは、水素原子、４−メチルベンゾイル基、４−モルホリニルカルボニル基、１−アゼチジンカルボニル基、ジメチルカルバモイル基、１−プロパンスルホニル基又は４−メチルベンゼンスルホニル基である］で示される化合物及びその塩からなる群より選択される１種以上の化合物と、エチル（ＲＳ）−２−クロロ−３−［２−クロロ−５−（４−ジフルオロメチル−４，５−ジヒドロ−３−メチル−５−オキソ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）−４−フルオロフェニル］プロピオナート（化合物Ａ）及び／又は１−｛３−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルバモイル）スルファモイル］−２−ピリジル｝−２−フルオロプロピル＝メトキシアセタート（化合物Ｂ）を含有する除草性組成物。
【請求項２】
一般式（Ｉ）で表される化合物が、
６−クロロ−３−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イルオキシ）−４−ピリダジノール、
６−クロロ−３−（２−シクロプロピル−６−メチルフェノキシ）−４−ピリダジノール、
６−クロロ−３−［（５−メチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イル）オキシ］−４−ピリダジノール、
６−クロロ−３−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イルオキシ）−４−ピリダジニル  ４−メチルベンゼンスルホネート、
６−クロロ−３−（２−シクロプロピル−６−メチルフェノキシ）−４−ピリダジニル  ４−メチルベンゼンスルホネート、
６−クロロ−３−［（５−メチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イル）オキシ］−４−ピリダジニル  ４−メチルベンゼンスルホネート、
６−クロロ−３−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イルオキシ）−４−ピリダジニル  ４−モルホリンカルボキシレート、
６−クロロ−３−（２−シクロプロピル−６−メチルフェノキシ）−４−ピリダジニル  ４−モルホリンカルボキシレート、又は
６−クロロ−３−［（５−メチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イル）オキシ］−４−ピリダジニル  ４−モルホリンカルボキシレート
である、請求項１に記載の除草性組成物。
【請求項３】
一般式（Ｉ）で表される化合物が、
６−クロロ−３−（２−シクロプロピル−６−メチルフェノキシ）−４−ピリダジノール、
６−クロロ−３−（２−シクロプロピル−６−メチルフェノキシ）−４−ピリダジニル  ４−メチルベンゼンスルホネート、又は
６−クロロ−３−（２−シクロプロピル−６−メチルフェノキシ）−４−ピリダジニル  ４−モルホリンカルボキシレート
である、請求項１又は２に記載の除草性組成物。
【請求項４】
一般式（Ｉ）で表される化合物１質量部に対する化合物Ａ及び／又は化合物Ｂの配合比が、０．００１〜１０質量部である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の除草性組成物。
【請求項５】
一般式（Ｉ）で表される化合物１質量部に対する化合物Ａ及び／又は化合物Ｂの配合比が、０．００５〜５質量部である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の除草性組成物。
【請求項６】
一般式（Ｉ）で表される化合物１質量部に対する化合物Ａ及び／又は化合物Ｂの配合比が、０．０１〜１質量部である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の除草性組成物。
【請求項７】
一般式（Ｉ）で表される化合物及びその塩からなる群から選択される１種以上の化合物と化合物Ａ及び／又はＢを同時に、あるいは、時間を置いて別々に使用する除草方法。