【手続補正書】
【提出日】平成25年3月22日(2013.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】交換方法、露光方法及びデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、交換方法、露光方法及びデバイス製造方法に係り、さらに詳しくは、露光装置内で基板を載置するステージに着脱可能に搭載されるプレートを交換する交換方法、該交換方法を用いる露光方法、及び該露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、第１の観点からすると、投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光装置内で前記基板を載置するステージに着脱可能に搭載されるプレートを交換する交換方法であって、前記ステージに前記プレートを搭載することと、前記ステージに搭載されたプレートの位置情報を取得することと、を含む交換方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
これによれば、プレートの位置情報が取得される。このため、プレートの位置情報に基づいて、ステージの位置を管理することが可能になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、第２の観点からすると、投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光方法であって、本発明の交換方法を用いて取得される、ステージに搭載されるプレートの位置情報に基づいて、搬送系を介して前記ステージにロードされる前記基板の露光動作を制御することを含み、前記露光動作において、前記液体によって前記基板の一部に液浸領域が形成される第１の露光方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、第３の観点からすると、投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光方法であって、本発明の交換方法を用いて取得される、ステージに搭載されるプレートの位置情報に基づいて、搬送系を介して前記ステージに前記基板をロードすることを含み、前記露光動作において、前記液体によって前記基板の一部に液浸領域が形成される第２の露光方法である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
リソグラフィ工程において、本発明の第１及び第２の露光方法のいずれかを用いることで、基板上にパターンを精度良く形成することができ、これによりマイクロデバイスを歩留まり良く製造することができる。従って、本発明は、さらに別の観点からすると、本発明の第１及び第２の露光方法のいずれかを用いるデバイス製造方法であるとも言える。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９７】
以上説明したように、本発明の交換方法は、露光装置内で基板を載置するステージに着脱可能に搭載されるプレートを交換するのに適している。また、本発明の露光方法及びデバイス製造方法は、半導体素子などのマイクロデバイスの製造に適している。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光装置内で前記基板を載置するステージに着脱可能に搭載されるプレートを交換する交換方法であって、
前記ステージに前記プレートを搭載することと、
前記ステージに搭載されたプレートの位置情報を取得することと、を含む交換方法。
【請求項２】
請求項１に記載の交換方法において、
前記ステージが移動される座標系を規定する位置計測系によって前記ステージの位置情報を計測しつつ、前記位置計測系と異なる検出装置によって前記プレートの一部を検出して、前記座標系における前記プレートの位置情報を取得する交換方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の交換方法において、
前記プレートの交換動作、及び検出動作の少なくとも一方は、前記ステージと異なるステージによって、前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持した状態で行われる交換方法。
【請求項４】
請求項３に記載の交換方法において、
前記異なるステージは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームで露光される物体を載置可能、あるいは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記露光ビームが照射される少なくとも１つの計測部材が設けられる交換方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の交換方法において、
前記プレートはその一部に開口が形成され、
前記ステージは、前記プレートの開口内で前記基板を載置する交換方法。
【請求項６】
請求項５に記載の交換方法において、
前記基板はその表面が前記プレートの上面とほぼ同一面となるように前記開口内に載置される交換方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の交換方法において、
前記ステージは、前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を、前記プレートで維持可能である交換方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の交換方法において、
前記プレートは、前記ステージ上に撥液面を形成する交換方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の交換方法において、
前記プレートは、前記ステージ上に複数のピンを介して真空吸着保持される交換方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の交換方法において、
前記プレートはその一部が前記ステージの外側に張り出して前記ステージに搭載される交換方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の交換方法において、
前記ステージは、前記プレートに形成される開口内で前記基板を載置し、
前記取得される位置情報は、前記プレートの外周エッジ、及び前記開口の内周エッジの少なくとも一方の位置情報を含む交換方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の交換方法において、
前記外周エッジの位置情報は、前記外周エッジが他の部材と衝突しないように前記ステージを移動するために用いられる交換方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の交換方法において、
前記外周エッジの位置情報は、前記外周エッジが前記ステージと異なるステージと衝突しないように前記ステージと前記異なるステージとの少なくとも一方の位置を制御するために用いられる交換方法。
【請求項１４】
請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の交換方法において、
前記内周エッジの位置情報は、前記ステージの上方に搬送される前記基板が前記開口内に載置されるように前記基板を前記ステージにロードするために用いられる交換方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の交換方法において、
前記ロードにおいて、前記ステージの上方に前記基板を搬送する搬送系と前記ステージとの少なくとも一方の制御によって前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係を設定するために、前記内周エッジの位置情報が用いられる交換方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の交換方法において、
前記プレートと接触することなく前記基板がロードされるとともに、前記開口内に載置される基板の表面と前記プレートの上面との間に間隙が形成されるように、前記搬送された基板と前記ステージとの位置関係を設定するために、前記内周エッジの位置情報が用いられる交換方法。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の交換方法において、
前記取得された位置情報に基づいて、前記プレートの交換要否が判断される交換方法。
【請求項１８】
投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光方法であって、
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の交換方法を用いて取得される、ステージに搭載されるプレートの位置情報に基づいて、搬送系を介して前記ステージにロードされる前記基板の露光動作を制御することを含み、
前記露光動作において、前記液体によって前記基板の一部に液浸領域が形成される露光方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の露光方法において、
前記基板は、前記プレートに形成される開口内に載置されるように前記ステージにロードされ、
前記プレートの位置情報に基づいて、前記基板のロードと前記ステージの移動との少なくとも一方が制御される露光方法。
【請求項２０】
投影光学系と液体とを介して露光ビームで基板を露光する露光方法であって、
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の交換方法を用いて取得される、ステージに搭載されるプレートの位置情報に基づいて、搬送系を介して前記ステージに前記基板をロードすることを含み、
前記露光動作において、前記液体によって前記基板の一部に液浸領域が形成される露光方法。
【請求項２１】
請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の露光方法を用いるリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。