【手続補正書】
【提出日】平成25年9月25日(2013.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置における前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布をコンピュータを用いて決定する決定方法であって、
前記投影光学系の物体面に配置するマスクのパターンを設定する第１のステップと、
前記投影光学系の像面に形成される前記第１のステップで設定したマスクのパターンの光学像を評価するための評価場所を設定する第２のステップと、
前記照明光学系の瞳面に形成される複数の要素光源を生成する第３のステップと、
前記投影光学系が有しうる互いに異なる複数の収差状態を設定する第４のステップと、  前記第４のステップで設定した複数の収差状態から選択した１つの収差状態を前記投影光学系に与え、前記第３のステップで生成した複数の要素光源から選択した１つの要素光源で前記マスクのパターンを照明したときに前記第２のステップで設定した評価場所に形成される前記マスクのパターンの光学像を、前記複数の収差状態と前記複数の要素光源との組み合わせの全てについて算出する第５のステップと、
前記第５のステップで算出した光学像に基づいて、前記マスクのパターンの光学像の前記評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、前記複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けを決定し、前記重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源を前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する第６のステップと、
を有することを特徴とする決定方法。
【請求項２】
前記投影光学系の像面からデフォーカスした複数のデフォーカス面を設定するステップを更に有し、
前記第５のステップでは、前記複数のデフォーカス面のそれぞれについても、前記第２のステップで設定した評価場所に対応する位置の上に形成される前記マスクのパターンの光学像を算出し、
前記第６のステップでは、前記複数のデフォーカス面のそれぞれについて算出した光学像にも基づいて、前記マスクのパターンの光学像の前記評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、前記複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けを決定し、前記重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源を前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する請求項１に記載の決定方法。
【請求項３】
前記第３のステップは、前記複数の要素光源のそれぞれについて強度を比例倍した強度評価用の要素光源を生成するステップを含み、
前記第５のステップでは、前記強度評価用の要素光源のそれぞれについても、前記第２のステップで設定した評価場所に対応する位置の上に形成される前記マスクのパターンの光学像を算出し、
前記第６のステップでは、前記強度評価用の要素光源のそれぞれについて算出した光学像にも基づいて、前記マスクのパターンの光学像の前記評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、前記複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けを決定し、前記重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源を前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する請求項１に記載の決定方法。
【請求項４】
前記第６のステップでは、数理計画法によって、前記マスクのパターンの光学像の前記評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布を決定することを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項５】
前記第４のステップでは、前記複数の収差状態のそれぞれが少なくともコマ収差を含むように、収差状態を設定することを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項６】
前記マスクのパターンは、イオン注入工程で用いられるマスクのパターンであることを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項７】
マスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンと前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布とをコンピュータを用いて決定する決定方法であって、
前記投影光学系の物体面に配置するマスクの仮パターンを設定する第１のステップと、  前記投影光学系の像面に形成される前記第１のステップで設定したマスクの仮パターンの光学像を評価するための評価場所を設定する第２のステップと、
前記照明光学系の瞳面に形成される複数の要素光源を生成する第３のステップと、
前記投影光学系が有しうる互いに異なる複数の収差状態を設定する第４のステップと、  前記第４のステップで設定した複数の収差状態から選択した１つの収差状態を前記投影光学系に与え、前記第３のステップで生成した複数の要素光源から選択した１つの要素光源で前記マスクの仮パターンを照明したときに前記第２のステップで設定した評価場所に形成される前記マスクの仮パターンの光学像を、前記複数の収差状態と前記複数の要素光源との組み合わせの全てについて算出する第５のステップと、
前記第５のステップで算出した光学像に基づいて、前記マスクの仮パターンの光学像の前記評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、前記マスクのパターンの形状を規定するためのパラメータと前記複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けとを決定し、前記決定したパラメータで規定されるパターン及び前記重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源のそれぞれを前記マスクのパターン及び前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する第６のステップと、
を有することを特徴とする決定方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の決定方法を用いて決定された光強度分布を形成する照明光学系から射出した光でマスクを照明するステップと、
前記マスクのパターンの像を、投影光学系を介して基板に投影するステップと、
を有することを特徴とする露光方法。
【請求項９】
マスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置における前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布を決定する決定方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記投影光学系の物体面に配置するマスクのパターンを設定する第１のステップと、
前記投影光学系の像面に形成される前記第１のステップで設定したマスクのパターンの光学像を評価するための評価場所を設定する第２のステップと、
前記照明光学系の瞳面に形成される複数の要素光源を生成する第３のステップと、
前記投影光学系が有しうる互いに異なる複数の収差状態を設定する第４のステップと、  前記第４のステップで設定した複数の収差状態から選択した１つの収差状態を前記投影光学系に与え、前記第３のステップで生成した複数の要素光源から選択した１つの要素光源で前記マスクのパターンを照明したときに前記第２のステップで設定した評価場所の上に形成される前記マスクのパターンの光学像を、前記複数の収差状態と前記複数の要素光源との組み合わせの全てについて算出する第５のステップと、
前記第５のステップで算出した光学像に基づいて、前記マスクのパターンの光学像の前記評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、前記複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けを決定し、前記重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源を前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する第６のステップと、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１０】
マスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンと前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、  前記コンピュータに、
前記投影光学系の物体面に配置するマスクの仮パターンを設定する第１のステップと、  前記投影光学系の像面に形成される前記第１のステップで設定したマスクの仮パターンの光学像を評価するための評価場所を設定する第２のステップと、
前記照明光学系の瞳面に形成される複数の要素光源を生成する第３のステップと、
前記投影光学系が有しうる互いに異なる複数の収差状態を設定する第４のステップと、  前記第４のステップで設定した複数の収差状態から選択した１つの収差状態を前記投影光学系に与え、前記第３のステップで生成した複数の要素光源から選択した１つの要素光源で前記マスクの仮パターンを照明したときに前記第２のステップで設定した評価場所に形成される前記マスクの仮パターンの光学像を、前記複数の収差状態と前記複数の要素光源との組み合わせの全てについて算出する第５のステップと、
前記第５のステップで算出した光学像に基づいて、前記マスクの仮パターンの光学像の前記評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、前記マスクのパターンの形状を規定するためのパラメータと前記複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けとを決定し、前記決定したパラメータで規定されるパターン及び前記重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源のそれぞれを前記マスクのパターン及び前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する第６のステップと、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１１】
請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の決定方法を実行することを特徴とするコンピュータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】決定方法、露光方法、プログラム及びコンピュータ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布（有効光源）を決定する決定方法、露光方法、プログラム及びコンピュータに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての決定方法は、マスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置における前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布をコンピュータを用いて決定する決定方法であって、前記投影光学系の物体面に配置するマスクのパターンを設定する第１のステップと、前記投影光学系の像面に形成される前記第１のステップで設定したマスクのパターンの光学像を評価するための評価場所を設定する第２のステップと、前記照明光学系の瞳面に形成される複数の要素光源を生成する第３のステップと、前記投影光学系が有しうる互いに異なる複数の収差状態を設定する第４のステップと、前記第４のステップで設定した複数の収差状態から選択した１つの収差状態を前記投影光学系に与え、前記第３のステップで生成した複数の要素光源から選択した１つの要素光源で前記マスクのパターンを照明したときに前記第２のステップで設定した評価場所に形成される前記マスクのパターンの光学像を、前記複数の収差状態と前記複数の要素光源との組み合わせの全てについて算出する第５のステップと、前記第５のステップで算出した光学像に基づいて、前記マスクのパターンの光学像の前記評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、前記複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けを決定し、前記重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源を前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する第６のステップと、を有することを特徴とする。