【手続補正書】
【提出日】平成25年9月17日(2013.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体のパターン形成面に形成されるパターンに対応して、少なくとも前記パターンの幅方向における両側の外縁を含む処理対象領域に対して、当該パターンを構成するドットの直径未満の幅を有する光線を照射して、当該処理対象領域に改質処理が施される改質処理工程と、
前記改質処理が施された処理対象領域を含む前記パターンが形成される領域に対してインクジェット方式により機能性液体が打滴される打滴工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
前記基体は、基板であることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項３】
前記改質処理工程及び前記打滴工程、前記打滴工程の後の少なくとも何れかに、前記基板の温度を調整する温度調整工程を含むことを特徴とする請求項２に記載のパターン形成方法。
【請求項４】
前記基体は、中間転写体であり、
前記中間転写体に形成されたパターンを基板に転写する転写工程を含むことを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項５】
前記転写工程及び前記転写工程の後の少なくともいずれかに、前記基板の温度を調整する温度調整工程を含むことを特徴とする請求項４に記載のパターン形成方法。
【請求項６】
前記転写工程の後に、前記転写されたパターンに対して補助光を照射する補助光照射工程を含むことを特徴とする請求項４又は５に記載のパターン形成方法。
【請求項７】
前記基板の歪みを検出する検出工程と、
前記検出された基板の歪みに基づいて、前記光線の照射データ及び前記打滴のデータの補正データを生成する補正データ生成工程と、
を含み、
前記改質処理工程は、前記補正データに基づいて、当該処理対象領域に対して前記光線が照射され、
前記打滴工程は、前記補正データに基づいて、前記改質処理が施された処理対象領域に対してインクジェット方式により液滴を打滴することを特徴とする請求項２から６のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項８】
前記改質処理工程における光線照射領域に対して、反応ガスを供給する反応ガス供給工程を含むことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項９】
前記改質処理工程は、前記パターンの内部を改質処理領域として光線を照射することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１０】
前記改質処理工程は、前記パターンの幅方向における両側の外縁のそれぞれに対して前記パターンの全幅の１／２以下の照射幅を有する光線を照射することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１１】
前記改質処理工程は、前記パターンの幅方向における両側の外縁の外側を含む処理対象領域に対して改質処理を施すことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１２】
前記改質処理工程は、ドットの直径の１／１０以下の幅を有する光線を照射することを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
前記改質処理工程は、ドット解像度を超える解像度で光線を照射することを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１４】
前記改質処理工程は、ドット解像度の１０倍以上の解像度で光線を照射することを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１５】
前記打滴工程の後に、前記打滴された機能性液体に対して補助光を照射する補助光照射工程を含むことを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１６】
基体のパターン形成面に形成されるパターンに対応して、少なくとも前記パターンの幅方向における両側の外縁を含む処理対象領域に対して、当該パターンを構成するドットの直径未満の幅を有する光線を照射して、当該処理対象領域に改質処理を施す改質処理手段と、
前記改質処理が施された処理対象領域を含む前記パターンが形成される領域に対してインクジェット方式により機能性液体を打滴するインクジェットヘッドと、
を備えたことを特徴とするパターン形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
また、特許文献１は、レーザー光により取り囲まれた領域に液滴が打滴されることで、所定の軌道から外れた液滴を所定の軌道に戻し、レーザー光で取り囲まれた領域内に当該液滴が着弾するように構成された液体吐出装置を開示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
特許文献２に開示された機能性基体の製造方法は、レーザー光のスポット径が単独のドット径よりも小さくなっているために、機能性材料のパターンのエッジ部にジャギーが発生し、機能性材料のパターンの品質が低下してしまう。さらに、機能性材料の溶液の濡れ広がりがレーザー光の照射領域により規制されてしまい、所定のサイズのドットを得ることが困難である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、フィルム基板の材料として、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）などが挙げられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本例に示す改質処理工程における改質エネルギーはレーザー光線（スポット光）が適用される。このレーザー光線の一例を挙げると、波長は３００（ｎｍ）、３６５（ｎｍ）、４０５（ｎｍ）などの紫外線領域又は可視光領域であり、出力は１０〜数百（ｍＪ／ｃｍ２）、レーザー光線の光径（スポット径）は１〜２μｍである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また、ドット間ピッチＰｄは、レーザー光線の露光ピッチＰｂの１０倍となっている。言い換えると、ドット解像度は改質処理の解像度の１／１０となっている。なお、図４では、隣接するドット２６の一部がわずかに重なるように打滴される態様を図示したが、隣接するドット２６の重なり部分がより多くなるように打滴してもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
また、基板１０（図５参照）は、厚みが０．１ｍｍのＰＥＴフィルム基板であり、改質エネルギーは、出力が１００（ｍＪ／ｃｍ２）、波長が４０５ｎｍ、ビーム径Ｄｂが２μｍのレーザー光線が適用される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
図示の例では、着弾時のドット２６の直径はφ３０μｍであり、濡れ広がって安定したドットの直径はφ５０μｍである。図８（ｂ）に示すように、濡れ広がったドット２６が隣接する打滴位置に着弾した他のドットと接触すると、互いの表面張力によって引き寄せ合い、図８（ｂ）に示すように一体化して、図９に示す配線パターン１２が形成される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
また、各ヘッドモジュール１３４Ａ‐ｉは、インクジェットヘッド１３４’の短手方向の両側からヘッドカバー１３４Ｂ，１３４Ｃによって支持されている。なお、ヘッドモジュール１３４Ａを千鳥状に配置してマルチヘッドを構成することも可能である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
図１７に図示したヘッドモジュール１３４Ａ‐ｉは、副走査方向Ｙ（図１５に符号Ｓを付して図示した方向）に対して角度αをなす列方向Ｗ、及び主走査方向Ｘ（図１５に符号Ｍを付して図示した方向）に対して角度βをなす行方向Ｖに沿って多数のノズル１７０が並べられた構造を有し、主走査方向Ｘの実質的なノズル配置が高密度化されている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
画像処理部２０６は、画像データから吐出制御用の信号を生成するための各種加工、補正などの処理を行う信号（画像）処理機能を有し、生成した吐出制御用の信号をインクジェットヘッド駆動部２０８、及び露光ヘッド駆動部２０９に供給する制御部である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
露光ヘッド駆動部２０９は、画像処理部２０６によって生成された吐出制御用の信号に基づいて改質処理用の制御信号（改質処理データ）を生成する。該改質処理データによって、レーザー光の照射条件や露光ヘッド１２６の走査条件等が決められる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
搬送制御部２０４は、画像処理部２０６により生成された吐出制御用の信号に基づいて基板１０２（図１０参照）の搬送タイミング及び搬送速度を制御する。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
また、歪み検出部１１０から得られる基板１０２及び描画の歪み情報に基づいて、オンデマンドで改質処理の補正データ及びパターン形成の補正データが生成されるので、基板ごと個体差に対応した最適な改質処理及びパターン形成が実現される。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５４】
すなわち、本例に示すパターン形成装置３００は、いわゆる中間転写型であり、転写ドラム３０１の外周面に形成されたパターン（基板３０２に形成されるパターンの鏡像パターン）が基板３０２へ転写されるように構成されている。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５５】
また、センサ３１４によって基板３０２の歪みが検出され、基板の歪みをキャンセルするように露光データ及び吐出データが補正される。図２０に符号３０３を付した基板３０２の四隅に設けられたマークは、基板３０２の歪み検出の基準となるアライメントマーク３０３である。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９０】
本例では、補助光の照射により高粘度化する液体が適用される。補助光照射部１３５は、基板１０２に着弾した液滴（ドット２６）に補助光を照射し、ドット２６を高粘度化させる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０２】
図２９は、図２６に示すパターン形成装置のさらに他の構成例の説明図である。図２９に示すパターン形成装置３００”は、中間転写方式が適用され、インクジェットヘッド３３４の転写ドラム３０１の回転方向下流側に補助光照射部３３５が配置されている。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１６】
かかる態様によれば、インクジェット方式によって、基板上に好ましい微細パターンが直接形成される。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２０】
また、打滴工程において、又は打滴工程の後に基板の温度調整することで、機能性液体の形状（厚み、ドット径）を適宜調整することができる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２５】
打滴工程において、中間転写体の温度を調節する態様も好ましい。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２６】
（発明６）：発明４又は５に記載のパターン形成方法において、前記転写工程の後に、前記転写されたパターンに対して補助光を照射する補助光照射工程を含むことを特徴とする。かかる態様によれば、基板に転写されたパターンの硬化が促進される。（発明７）：発明２から６のいずれかに記載のパターン形成方法において、前記基板歪みを検出する検出工程と、前記検出された基板の歪みに基づいて、前記光線の照射データ及び前記打滴のデータの補正データを生成する補正データ生成工程と、を含み、前記改質処理工程は、前記補正データに基づいて、当該処理対象領域に対して前記光線が照射され、前記打滴工程は、前記補正データに基づいて、前記改質処理が施された処理対象領域に対してインクジェット方式により液滴を打滴することを特徴とする。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２９】
（発明８）：発明１から７のいずれかに記載のパターン形成方法において、前記改質処理工程における光線照射領域に対して、反応ガスを供給する反応ガス供給工程を含むことを特徴とする。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３２】
（発明９）：発明１から８のいずれかに記載のパターン形成方法において、前記改質処理工程は、前記パターンの内部を改質処理領域として光線を照射することを特徴とする。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３５】
（発明１０）：発明１から９のいずれかに記載のパターン形成方法において、前記改質処理工程は、前記パターンの幅方向における両側の外縁のそれぞれに対して前記パターンの全幅の１／２以下の照射幅を有する光線を照射することを特徴とする。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３８】
（発明１１）：発明１から１０のいずれか１項に記載のパターン形成方法において、前記改質処理工程は、前記パターンの幅方向における両側の外縁の外側を含む処理対象領域に対して改質処理を施すことを特徴とする。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４０】
（発明１２）：発明１から１１のいずれかに記載のパターン形成方法において、前記改質処理工程は、ドットの直径の１／１０以下の幅を有する光線を照射することを特徴とする。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４２】
（発明１３）：発明１から１２のいずれかに記載のパターン形成方法において、前記改質処理工程は、ドット解像度を超える解像度で光線を照射することを特徴とする。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４４】
（発明１４）：発明１から１３のいずれかに記載のパターン形成方法において、前記改質処理工程は、ドット解像度の１０倍以上の解像度で光線を照射することを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４６】
（発明１５）：発明１から１４のいずれか１項に記載のパターン形成方法において、前
記打滴工程の後に、前記打滴された機能性液体に対して補助光を照射する補助光照射工程
を含むことを特徴とする。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2012081460.tif 000001
【手続補正３４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２３】
2012081460.tif 000002