Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記距離情報算出部により算出された距離情報に基づいて、リフォーカス係数を設定するリフォーカス係数設定部を備えた
請求項８に記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラムおよび撮像装置では、複数の視差画像において、相関値演算がなされることにより視差画像間の位相差が検出され、画像内の位相差分布が生成される。この際、互いに異なる２方向以上に沿って個別に位相差検出が行われ、それら２方向以上についての位相差検出結果を利用して位相差分布が生成される。これにより、例えば画像にエッジ領域が含まれている場合であっても、ある１方向に沿った位相差検出結果のみに基づいて位相差分布が生成されている従来の手法と比べ、位相差検出の際にエッジ領域の影響を受けにくくなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（信頼度判定処理を用いた位相差分布の生成動作の例）
２．第２の実施の形態（エッジ検出処理を用いた位相差分布の生成動作の例）
３．適用例（撮像装置のデジタルカメラ等への適用例）
４．変形例
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
図１１は、このような本実施の形態に係る位相差分布ＤＭの生成動作（位相差検出処理）を流れ図で表したものである。この図１１に示したように、位相差分布ＤＭの生成の際に、位相差検出部１４３Ａはまず、図７および図８を参照して前述したように、水平方向でのステレオマッチング処理を行う。言い換えると、視差画像ＤＣ，ＤＨを用いた位相差検出処理を行う（図１１のステップＳ１１）。また、これと並行して、位相差検出部１４３Ａは、図７および図９を参照して前述したように、垂直方向でのステレオマッチング処理を行う。言い換えると、視差画像ＤＣ，ＤＶを用いた位相差検出処理を行う（ステップＳ１２）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
このようにして、本実施の形態では、複数の視差画像（ここでは３つの視差画像ＤＣ，ＤＨ，ＤＶ）において、相関値演算がなされることにより視差画像間の位相差が検出され、画像内の位相差分布ＤＭが生成される。この際、互いに異なる２方向以上（ここでは、画像内の水平方向および垂直方向の２方向）に沿って個別に位相差検出が行われ、それら各方向についての位相差検出結果を利用して位相差分布ＤＭが生成される。これにより、例えば画像にエッジ領域（水平エッジ領域や垂直エッジ領域）が含まれている場合であっても、ある１方向に沿った位相差検出結果のみに基づいて位相差分布が生成されている従来（比較例）の手法と比べ、位相差検出の際にエッジ領域の影響を受けにくくなる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
ここで、図１６に示したように、リフォーカス係数αによって規定されるリフォーカス面１２０上の座標（ｓ，ｔ）の撮像面１３０上における検出強度ＬF'は、以下の（１５）式のように表される。また、リフォーカス面１２０で得られるイメージＥF'（ｓ，ｔ）は、上記検出強度ＬF'をレンズ口径に関して積分したものとなるので、以下の（１６）式のように表される。したがって、並び替え処理部１４４は、この（１６）式用いてリフォーカス演算処理を行うことにより、任意の焦点（リフォーカス係数αによって規定されるリフォーカス面１２０）に設定された再構築画像（画像データＤ２）を生成することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
例えば、上記実施の形態等では、位相差検出部１４３Ａにおいて、３つの視差画像ＤＣ，ＤＨ，ＤＶを用いて位相差分布ＤＭの生成を行っているが、この場合には限定されず、４つ以上の視差画像を用いて位相差分布ＤＭを生成するようにしてもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
加えて、上記実施の形態では、開口絞り１０の位置を撮像レンズの被写体側（入射側）に配置した構成としているが、これに限定されず、撮像レンズの像側（出射側）あるいは、撮像レンズ内部に設けられた構成であってもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2011171858.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2011171858.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月4日(2013.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
前記受信手段は、前記警報情報が伝送されてきた場合、１３セグメント全体の受信を開始する
請求項１０に記載の受信装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図１は、AC(Auxiliary Channel)信号のフレーム構成を示す図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図１の上段に示すように、２０４ビットの情報で一単位とされたAC信号は、先頭から順に、１ビットの差動復調の基準信号、３ビットの構成識別、２００ビットの、変調波の伝送制御に関する付加情報、または地震動警報情報から構成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
誤り訂正回路３７は、送信側でインターリーブされている信号に対してデインターリーブ処理を施し、デパンクチャ、ビタビ復号、拡散信号除去、RS復号等の処理を施し、復号データを出力する。誤り訂正回路３７から出力された復号データはMPEGデコード部１３に供給される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５３】
上述したように、信号識別の001は「地震動警報詳細情報 該当地域なし」、010は「地震動警報詳細情報の試験信号 該当地域あり」、011は「地震動警報詳細情報の試験信号 該当地域なし」をそれぞれ表す。構成識別が001または110であり地震動警報情報が伝送されてきたとしても、信号識別が001，010，011のうちのいずれかであるときは、受信装置１が設置されている地域を対象にした地震が実際には発生していないことになる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月18日(2013.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
しかしながら、特許文献１には、画像データから二次元コードを検出する検出手段と、検出された二次元コードに含まれるデータを更新し、当該更新後のデータを含む二次元コードを前記画像データに配置する配置手段とを有する装置であって、前記検出手段が画像データから複数の二次元コードを検出した場合に、当該検出された複数の二次元コードのうちのどの二次元コードを前記更新及び前記配置の対象とするか、検出された各々の二次元コードの位置に応じて決定する決定手段は記載されていない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の装置は、画像データから二次元コードを検出する検出手段と、検出された二次元コードに含まれるデータを更新し、当該更新後のデータを含む二次元コードを前記画像データに配置する配置手段と、を有する装置であって、前記検出手段が画像データから複数の二次元コードを検出した場合に、当該検出された複数の二次元コードのうちのどの二次元コードを前記更新及び前記配置の対象とするか、検出された各々の二次元コードの位置に応じて決定する決定手段を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、検出されたセキュリティマークの数と位置によって異なる処理を実現できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データから二次元コードを検出する検出手段と、
検出された二次元コードに含まれるデータを更新し、当該更新後のデータを含む二次元コードを前記画像データに配置する配置手段と、
を有する装置であって、
前記検出手段が画像データから複数の二次元コードを検出した場合に、当該検出された複数の二次元コードのうちのどの二次元コードを前記更新及び前記配置の対象とするか、検出された各々の二次元コードの位置に応じて決定する決定手段
を有することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記配置手段は、前記更新及び前記配置の対象であると決定された二次元コードを含まず、当該二次元コードに含まれるデータを更新した後のデータを含む二次元コードを含んだ画像データを出力することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記出力された画像データを印刷する印刷手段を有することを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記更新は、二次元コードに含まれるユーザ名の更新であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記決定手段は、前記検出手段が画像データから複数の二次元コードを検出した場合に、当該検出された複数の二次元コードのうちのどの二次元コードを前記更新及び前記配置の対象とするかを、検出された二次元コードの位置及び検出された二次元コードが所定の情報を含んでいるかの両方に応じて決定することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記決定手段は、前記検出手段が画像データから複数の二次元コードを検出した場合に、当該検出された複数の二次元コードのうちのどの二次元コードを前記更新及び前記配置の対象とするかを、検出された位置が所定の領域内であるか及び検出された二次元コードが所定の情報を含んでいるかの両方に応じて決定することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記決定手段は、前記検出手段が画像データから複数の二次元コードを検出し、当該検出された複数の二次元コードの中に、前記所定の情報を含み、かつ、所定の領域内で検出された二次元コードが複数含まれている場合に、当該複数含まれている二次元コードのうち、最も古い情報を含む二次元コードを前記更新及び前記配置の対象と決定することを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
検出手段が、画像データから二次元コードを検出する検出ステップと、
配置手段が、前記検出ステップで検出された二次元コードに含まれるデータを更新し、当該更新後のデータを含む二次元コードを前記画像データに配置する配置ステップと、
を含む方法であって、
決定手段が、前記検出ステップで画像データから複数の二次元コードが検出された場合に、当該検出された複数の二次元コードのうちのどの二次元コードを前記更新及び前記配置の対象とするか、検出された各々の二次元コードの位置に応じて決定する決定ステップ
を含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
コンピュータに、請求項８に記載の方法を実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月25日(2013.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
すなわち、図中、最上段の「音量制御安定器内部メモリ状態」の欄内には、比較結果保持部７１に保持されている比較結果が示されている。ここでは、直近４回分の比較結果ｒ０乃至比較結果ｒ３として「1」、「0.8」、「0.2」、および「-0.1」が示されている。最も新しい時刻の比較結果が「1」であり、最も古い時刻の比較結果が「-0.1」である。この例では、直近３回分の比較結果は、０より大きいので、鳴動着信音の音量は推定環境音の音量と比較して、小さかったことになる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鳴動音を出力してユーザに対する報知を行なう出力手段と、
周囲の音声を周囲音として収音する収音手段と、
収音された前記周囲音と、前記出力手段から出力される前記鳴動音とを用いた適応フィルタ処理により、前記周囲音から、前記収音手段で収音された前記鳴動音が除去された推定環境音を抽出する適応フィルタ処理手段と、
前記推定環境音から抽出された所定の特徴の特徴量に基づいて、前記鳴動音の音量または音質の少なくとも一方の調整を制御する制御手段と
を備える情報処理装置。
【請求項２】
前記推定環境音に対する周波数解析を行なう周波数解析手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記推定環境音に対する前記周波数解析により得られた周波数特徴量に基づいて、前記鳴動音の音量または音質の調整を制御する
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記周波数解析手段は、前記鳴動音に対する前記周波数解析をさらに行ない、
前記制御手段は、前記推定環境音の前記周波数特徴量と、前記鳴動音の前記周波数特徴量とに基づいて、前記鳴動音の音量または音質の調整を制御する
請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記推定環境音および前記鳴動音に対する時間波形解析を行なう時間波形解析手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記推定環境音および前記鳴動音の前記周波数特徴量と、前記時間波形解析により得られた前記推定環境音および前記鳴動音の時間波形特徴量とに基づいて、前記鳴動音の音量または音質の調整を制御する
請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記制御手段は、
前記推定環境音および前記鳴動音の前記時間波形特徴量の比較結果と、前記推定環境音および前記鳴動音の前記周波数特徴量の比較結果とに基づいて、前記鳴動音の音量の調整を制御する音量制御手段と、
前記推定環境音の前記周波数特徴量に基づいて、前記鳴動音の音質の調整を制御する音質制御手段と
を備える
請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記音量制御手段は、前記時間波形特徴量の比較結果、前記周波数特徴量の比較結果、および前記適応フィルタ処理により得られた前記周囲音の抑圧量に基づいて、前記鳴動音の音量の調整を制御する
請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記推定環境音に対する時間波形解析を行なう時間波形解析手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記推定環境音に対する前記時間波形解析により得られた時間波形特徴量に基づいて、前記鳴動音の音量または音質の調整を制御する
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項８】
振動することにより前記ユーザに対する報知を行なう振動手段と、
前記適応フィルタ処理により得られた、前記出力手段から前記収音手段までの間の前記鳴動音の伝播特性を用いて、前記情報処理装置への周囲の物体の近接度合いを示す伝播特性特徴量を算出し、前記伝播特性特徴量に基づいて前記振動手段による振動を制御する振動制御手段と
をさらに備える請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記情報処理装置は携帯電話機であり、
前記鳴動音は前記ユーザに対して着信を報知する音声であり、
前記収音手段は、前記携帯電話機での通話時に前記ユーザの音声を収音する通話用のマイクロホンである
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
鳴動音を出力してユーザに対する報知を行なう出力手段と、
周囲の音声を周囲音として収音する収音手段と、
収音された前記周囲音と、前記出力手段から出力される前記鳴動音とを用いた適応フィルタ処理により、前記周囲音から、前記収音手段で収音された前記鳴動音が除去された推定環境音を抽出する適応フィルタ処理手段と、
前記推定環境音から抽出された所定の特徴の特徴量に基づいて、前記鳴動音の音量または音質の少なくとも一方の調整を制御する制御手段と
を備える情報処理装置の情報処理方法であって、
前記出力手段が前記鳴動音を出力し、
前記収音手段が、前記周囲音を収音し、
前記適応フィルタ処理手段が、前記適応フィルタ処理を行って前記推定環境音を抽出し、
前記制御手段が、前記推定環境音の前記特徴量に基づいて、前記鳴動音の音量または音質の調整を制御する
ステップを含む情報処理方法。
【請求項１１】
出力手段に鳴動音を出力させてユーザに対する報知を行なわせ、
収音手段に周囲の音声を周囲音として収音させ、
収音された前記周囲音と、前記出力手段から出力される前記鳴動音とを用いた適応フィルタ処理により、前記周囲音から、前記収音手段で収音された前記鳴動音が除去された推定環境音を抽出し、
前記推定環境音から抽出された所定の特徴の特徴量に基づいて、前記鳴動音の音量または音質の少なくとも一方の調整を制御する
ステップを含む処理をコンピュータに実行させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月18日(2013.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の未硬化樹脂を型により成形して前記基板上に樹脂のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型に投光して該型で生じた散乱光を受光して計測信号を得る計測手段と、
制御手段と、を有し、
前記制御手段は、基準信号を記憶し、前記型に関して前記計測手段に前記計測信号を得させて、該計測信号と前記基準信号との相違を示す指標を求める、ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記制御手段は、予め前記型に関して前記計測手段に前記計測信号を得させて前記基準信号を得る、ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記インプリント装置の外部から前記インプリント装置の内部に前記型が装填された場合、該型による成形を行う前に、該型に関して前記計測手段に前記計測信号を得させて前記基準信号を得る、ことを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
コンソール部を有し、
前記制御手段は、前記指標に対する閾値を前記指標が超えたことを示す情報を前記コンソール部に出力させる、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記閾値として上限値および下限値を記憶し、前記上限値および前記下限値のいずれを前記指標が超えたかを示す情報を前記コンソール部に出力させる、ことを特徴とする請求項４に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記型を保持する型保持手段を有し、
前記制御手段は、前記型保持手段に保持された第１の型を第２の型と交換する場合に、前記第１の型に関して前記計測手段に前記計測信号を得させる、ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記型を保持する型保持手段を有し、
前記制御手段は、前記型保持手段に保持された第１の型を第２の型と交換する場合に、前記第２の型に関して前記計測手段に前記計測信号を得させる、ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記基板を保持する基板保持手段を有し、
前記制御手段は、前記基板保持手段に保持された第１の基板を第２の基板に交換する間に、前記型に関して前記計測手段に前記計測信号を得させる、ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記型を保持する型保持手段と、前記基板を保持する可動の基板保持手段とを有し、
前記計測手段は、前記投光を行う投光部と、前記受光を行う受光部とを有し、
前記投光部と前記受光部とは、前記基板保持手段に配置され、
前記制御手段は、前記型保持手段に保持された前記型に対して前記基板保持手段を移動させて前記型に関して前記計測手段に前記計測信号を得させる、ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板上に樹脂のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含む、ことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、基板上の未硬化樹脂を型により成形して基板上に樹脂のパターンを形成するインプリント装置であって、型に投光して型で生じた散乱光を受光して計測信号を得る計測手段と、制御手段と、を有し、制御手段は、基準信号を記憶し、型に関して計測手段に計測信号を得させて、計測信号と基準信号との相違を示す指標を求める、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月2日(2013.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置、表示装置及び液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１乃至第８のトランジスタと、第１乃至第７の配線と、を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第４の配線と直接接続され、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第３の配線と直接接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第６の配線と直接接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第３の配線と直接接続され、
前記第３のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第７の配線と直接接続され、
前記第３のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第２のトランジスタのゲートと直接接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、前記第７の配線と直接接続され、
前記第４のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第６の配線と直接接続され、
前記第４のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第２のトランジスタのゲートと直接接続され、
前記第４のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのゲートと直接接続され、
前記第５のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第５の配線と直接接続され、
前記第５のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第１のトランジスタのゲートと直接接続され、
前記第５のトランジスタのゲートは、前記第１の配線と直接接続され、
前記第６のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第６の配線と直接接続され、
前記第６のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第１のトランジスタのゲートと直接接続され、
前記第６のトランジスタのゲートは、前記第２のトランジスタのゲートと直接接続され、
前記第７のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第６の配線と直接接続され、
前記第７のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第１のトランジスタのゲートと直接接続され、
前記第７のトランジスタのゲートは、前記第２の配線と直接接続され、
前記第８のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第６の配線と直接接続され、
前記第８のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第２のトランジスタのゲートと直接接続され、
前記第８のトランジスタのゲートは、前記第１の配線と直接接続され、
前記第７のトランジスタのＷ／Ｌ（Ｗはチャネル幅、Ｌはチャネル長）の値は、前記第１のトランジスタのＷ／Ｌの値の１／４０倍以上、且つ１／１０倍以下の値を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１のトランジスタのＷ／Ｌの値は、前記第１乃至第８のトランジスタのＷ／Ｌの値の中で最も大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第１乃至第８のトランジスタのそれぞれは、酸化物半導体を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１又は請求項２において、
前記第１乃至第８のトランジスタのそれぞれは、ＺｎＯを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の半導体装置と、画素と、を有し、
前記画素は、表示素子を有し、
前記画素は、前記第３の配線と電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の半導体装置と、画素と、を有し、
前記画素は、発光素子を有し、
前記画素は、前記第３の配線と電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の半導体装置と、画素と、を有し、
前記画素は、液晶素子を有し、
前記画素は、前記第３の配線と電気的に接続されていることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月22日(2013.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】自発光装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電膜が形成される第１の工程と、
前記第１の導電膜の上方に、第１の有機樹脂膜が形成される第２の工程と、
前記第１の有機樹脂膜の上方に、電極ホールを有する第２の導電膜が形成される第３の工程と、
前記第１の有機樹脂膜及び前記第２の導電膜の上方に、膜が形成される第４の工程と、
前記膜がエッチングされ、第２の有機樹脂膜及び第３の有機樹脂膜が形成される第５の工程と、を有し、
前記第２の有機樹脂膜は、前記電極ホールに充填された部分を有し、
前記第３の有機樹脂膜は、前記第１の有機樹脂膜と接する部分を有し、
前記第５の工程において、画素部に位置する前記第１の有機絶縁膜は露出しないことを特徴とする自発光装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次電池の蓄電能力の劣化原因である充放電に基づく電極絶縁体不活性化皮膜を電気化学的に除去する装置であって、充電電圧検出器、充電電流検出器、充電電流遮断器、高周波可変発振器、高周波定電圧出力電力増幅器、高周波電流検出器、高周波電流遮断器を備え、誘電緩和損により発生する発熱効果を伴う誘電損周波数の高周波電流を二次蓄電池正負電極に負荷し、二次蓄電電池一般に対する個々の誘電緩和損失ピーク周波数を高周波依存充電電流の増加で自動探索し、絶縁皮膜を選択的に分解し、高周波交流電流の周波数は当該二次電池のイオン拡散電流の応答速度以上の高周波数帯であり、
放電量に比例する電極結晶化及び非結晶不導体物質量である両誘電ダイポール数は両誘電緩和損失ピーク周波数でのコンダクタンスに比例するので放電量が知れ、定格蓄電量から現時点の放電量を差し引き、ステート  オブ  チャージである蓄電残量と完全充電終了信号を両誘電ダイポールコンダクタンスがゼロになる時出力することを特徴とする、充放電に基づく電極絶縁体不活性化皮膜の除去装置。
【請求項２】
連続高周波電流を断続変調し、電極絶縁体皮膜に熱機械的衝撃を効果的に与える方法を含む事を特徴とする、請求項１に記載の充放電に基づく電極絶縁体不活性化皮膜の除去装置。
【請求項３】
二次蓄電池の完全充電終了を誘電緩和損失駆動ピーク周波数の切断と接続で充電電流が変化しない事で明確に知り、充電される無効暗充電電力を正確に制御する、請求項１に記載の充放電に基づく電極絶縁体不活性化皮膜の除去装置。
【請求項４】
高周波交流電流の印加と充電を交互に行い、誘電緩和損加熱分解した二次蓄電池皮膜成分を充電電流によって再生活性化することを特徴とする、請求項１に記載の充放電に基づく電極絶縁体不活性化皮膜の除去装置。
【請求項５】
請求項１に記載の充放電に基づく電極絶縁体不活性化皮膜の除去装置において、特定蓄電池にあっては特定誘電率ピーク周波数を記憶装置に記憶し特定定点高周波を出力する簡易装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月1日(2013.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シングルキャリア伝送方式を用いて変調された送信信号を受信する受信装置であって、
受信信号をシンボル速度に対してＰ倍（Ｐ＞１）の速度によってオーバーサンプリングするＡＤコンバータと、
前記ＡＤコンバータの出力から、Ｎシンボルに相当するＰ×Ｎ個のサンプルポイントの時間領域信号を選択し、前記Ｐ×Ｎポイントの時間領域信号をフーリエ変換してＰ×Ｎポイントの周波数領域信号に変換し、前記Ｐ×Ｎポイントの周波数領域信号のうち、受信信号帯域に相当するＮポイントの周波数領域信号を出力するフーリエ変換部と、
前記フーリエ変換部から出力されるＮポイントの周波数領域信号のうち、補正係数を算出するための第１のＮポイントの周波数領域信号と、前記受信装置が既知のリファレンス信号の周波数領域信号との差分から歪特性又は位相誤差特性を推定する歪推定部と、
前記歪特性又は位相誤差特性を補正するための補正係数を算出する補正係数算出部と、
前記フーリエ変換部から出力される周波数領域信号のうち、歪特性又は位相誤差特性の補正対象である第２のＮポイントの周波数領域信号に、前記補正係数を乗算して、前記第２のＮポイントの周波数領域信号を補正する補正部と、
前記補正された第２のＮポイントの周波数領域信号を逆フーリエ変換して前記シンボル速度と同じサンプリング速度のＮポイントの時間領域信号に変換し、Ｎサンプルの時間領域信号から部分時系列を出力する逆フーリエ変換部と、
を備える受信装置。
【請求項２】
請求項１記載の受信装置であって、
前記補正係数算出部は、前記歪特性の逆特性又は前記位相誤差特性に加え、受信フィルタ特性を補正するための補正係数を算出する受信装置。
【請求項３】
請求項１記載の受信装置であって、
前記送信信号は、プリアンブル、伝送路推定用フィールド、ガードインターバルおよびデータを含む信号フォーマットを有し、
前記フーリエ変換部は、
前記伝送路推定用フィールド、又は、前記ガードインターバルを用いて、前記第１のＮポイントの周波数領域信号を出力し、前記データを用いて前記第２のＮポイントの周波数領域信号を出力し、
前記歪推定部は、前記伝送路推定用フィールドの周波数領域信号を用いて前記歪特性を推定し、前記ガードインターバルの周波数領域信号を用いて前記位相誤差特性を推定する受信装置。
【請求項４】
請求項１記載の受信装置であって、
前記第リファレンス信号は、予め保持しておいた前記伝送路推定用フィールド、又は、前記ガードインターバルをＮポイントの周波数領域に変換した信号である受信装置。
【請求項５】
請求項１に記載の受信装置であって、
前記フーリエ変換部は、
前記受信信号帯域に相当するＮポイントの周波数領域信号として、前記Ｐ×Ｎポイントの周波数領域信号のうち、０ポイントからＮ／２−１ポイント、及び、Ｐ×Ｎ−Ｎ／２−１ポイントからＰ×Ｎ−１ポイントまでのＮポイントの周波数領域信号を出力する受信装置。
【請求項６】
請求項１に記載の受信装置であって、
前記歪推定部は、
前記差分を直線近似した値を、前記歪特性又は前記位相誤差特性として出力する受信装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の受信装置は、シングルキャリア伝送方式を用いて変調された送信信号を受信する受信装置であって、受信信号をシンボル速度に対してＰ倍（Ｐ＞１）の速度によってオーバーサンプリングするＡＤコンバータと、前記ＡＤコンバータの出力から、Ｎシンボルに相当するＰ×Ｎ個のサンプルポイントの時間領域信号を選択し、前記Ｐ×Ｎポイントの時間領域信号をフーリエ変換してＰ×Ｎポイントの周波数領域信号に変換し、前記Ｐ×Ｎポイントの周波数領域信号のうち、受信信号帯域に相当するＮポイントの周波数領域信号を出力するフーリエ変換部と、前記フーリエ変換部から出力されるＮポイントの周波数領域信号のうち、補正係数を算出するための第１のＮポイントの周波数領域信号と、前記受信装置が既知のリファレンス信号の周波数領域信号との差分から歪特性又は位相誤差特性を推定する歪推定部と、前記歪特性又は位相誤差特性を補正するための補正係数を算出する補正係数算出部と、前記フーリエ変換部から出力される周波数領域信号のうち、歪特性又は位相誤差特性の補正対象である第２のＮポイントの周波数領域信号に、前記補正係数を乗算して、第２のＮポイントの周波数領域信号を補正する補正部と、前記補正された第２のＮポイントの周波数領域信号を逆フーリエ変換して前記シンボル速度と同じサンプリング速度のＮポイントの時間領域信号に変換し、Ｎサンプルの時間領域信号から部分時系列を出力する逆フーリエ変換部と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月14日(2012.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
冷媒及び冷凍機用潤滑油組成物を含む冷凍機用の組成物であって、
前記冷媒が、下記の分子式（Ａ）
ＣpＯqＦrＲs          ・・・（Ａ）
［式中、ＲはＨを示し、ｐは２〜６、ｑは０、ｒは１〜１２、ｓは０〜１１の整数であり、分子中に炭素−炭素不飽和結合を１以上有する。］
で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の不飽和フッ化炭化水素化合物と飽和フッ化炭化水素化合物との組合せからなり、
前記不飽和フッ化炭化水素化合物と飽和フッ化炭化水素化合物との組合せにおける該飽和フッ化炭化水素化合物の配合量が冷媒全量に基づき３０質量％以下であり、
前記冷凍機用潤滑油組成物が、基油として、ポリプロピレングリコールジメチルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコールジメチルエーテル、ポリプロピレングリコールメチルノニルフェニルエーテル、ポリプロピレングリコールジオクチルエーテル、ポリエチルビニルエーテル、ポリエチルビニルエーテルとポリイソブチルビニルエーテルとの共重合体、ポリプロピレングリコールとポリエチルビニルエーテルとの共重合体、ポリエチレングリコールとポリエチルビニルエーテルとの共重合体及びペンタエリスリトールオクタン酸ノナン酸エステルから選ばれる少なくとも１種の含酸素化合物を主成分として含むものを用いたことを特徴とする冷凍機用の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月21日(2013.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ−メチル−２−ピロリドン溶剤中でイソシアネート成分と酸成分とのみを合成反応させてなり、導体上にポリアミドイミド皮膜を形成するためのポリアミドイミド樹脂絶縁塗料において、
前記イソシアネート成分は、分子中に屈曲構造を有するイソシアネートである２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートを５〜５０モル％の範囲で含むことを特徴とするポリアミドイミド樹脂絶縁塗料。
【請求項２】
前記イソシアネート成分は、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートのうち少なくとも１種を含む請求項１に記載のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料。
【請求項３】
導体上に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン溶剤中でイソシアネート成分と酸成分とのみを合成反応させてなるポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を塗布して形成されたポリアミドイミド皮膜を有する絶縁皮膜が形成されている絶縁電線において、
前記ポリアミドイミド皮膜は、分子中に屈曲構造を有するイソシアネートである２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートを前記イソシアネート成分中５〜５０モル％の範囲で含むポリアミドイミド樹脂絶縁塗料からなることを特徴とする絶縁電線。
【請求項４】
前記絶縁皮膜は、圧縮変形したときの外径の変形率が５０％以下であるときに、変形前の絶縁破壊電圧の６０％以上の絶縁破壊電圧を有する請求項３に記載の絶縁電線。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために請求項１の発明は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン溶剤中でイソシアネート成分と酸成分とのみを合成反応させてなり、導体上にポリアミドイミド皮膜を形成するためのポリアミドイミド樹脂絶縁塗料において、前記イソシアネート成分は、分子中に屈曲構造を有するイソシアネートである２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートを５〜５０モル％の範囲で含むことを特徴とするポリアミドイミド樹脂絶縁塗料である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項２の発明は、前記イソシアネート成分は、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートのうち少なくとも１種を含む請求項１に記載のポリアミドイミド樹脂絶縁塗料である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３の発明は、導体上に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン溶剤中でイソシアネート成分と酸成分とのみを合成反応させてなるポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を塗布して形成されたポリアミドイミド皮膜を有する絶縁皮膜が形成されている絶縁電線において、前記ポリアミドイミド皮膜は、分子中に屈曲構造を有するイソシアネートである２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートを前記イソシアネート成分中５〜５０モル％の範囲で含むポリアミドイミド樹脂絶縁塗料からなることを特徴とする絶縁電線である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
２，４’−ＭＤＩの配合比は５〜５０モル％が望ましく、１０〜４０モル％の範囲がなお望ましい。５モル％未満ではポリアミドイミド皮膜の伸びを改善する効果が低く、５０モル％を超えると合成時の反応性が悪化し、特性の低下も伴うので、好ましくない。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月25日(2012.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
開口部或いは出入口に設置され、水が流入する際、前記開口部或いは前記出入口を遮断すべく、前記流入する水の方向に高さ方向の平面内で、基端側を支点として先端側が起立揺動する扉体の先端側に一端を繋いだロープの他端に取付けたカウンタウエイトの重量で前記流入初期の扉体の浮上動作を補助する浮体式フラップゲートであって、
前記ロープを巻き取るドラムの回転軸に、扉体を起立させる方向にのみ回転が可能な一方向クラッチを設置したことを特徴とする浮体式フラップゲート。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月21日(2013.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記目的を達成するため、請求項１および請求項２記載の本発明は、トンネル坑内に少なくとも、レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工のいずれかを有するトンネル工事における接地方法であって、レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工のいずれかを接地極とし、トンネル工事の進捗に併せて接地極の接地抵抗を継続して測定すること、および、坑外に設けた接地点と、レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工のいずれかとを電気的に接続して接地極とすることを要旨とするものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項１および請求項２記載の本発明によれば、坑内キュービクル設置場所（施工距離伸長に伴い前方へ随時移動する）で接地抵抗が確認できるため、電気安全保安の面からも優れ、坑内の設備（レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工）を利用して接地工事を施工できるので、材料費、施工費を低減でき、接地用電線費用と接地工事費の低減が図れる。また、トンネルの進捗に従い、接地極の抵抗は小さくなる。したがって、トンネルの進捗にともない（簡易）接地工事を簡素化できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項３記載の本発明は、レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工のいずれかと0電気的に接続して接地極とするのに、トランス台車と後続の計装ケーブル台車の双方の連結器と並行してＫＩＶ線を接続し、片端はトランス台車の接地端子（Ａ種，Ｂ種共通）に接続することを要旨とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項３記載の本発明によれば、トランス台車と後続の計装ケーブル台車の双方の連結器と並行してＫＩＶ線を接続し、片端はトランス台車の接地端子（Ａ種，Ｂ種共通）に接続することで、鋼製セグメント、鋼製枕木、レール、トランス台車などは今回全てスチールであり、電気的に全て接続されているため基準を満たす接地抵抗値となり、従来の接地線を地上受変電設備の接地極（Ａ種接地）まで敷設する必要がなくなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項４記載の本発明は、接地極の設置抵抗を継続して測定は、連結器と並行して接続したＫＩＶ線を利用し、電路の共振現象利用のクランプ式接地抵抗計を用いて接地抵抗値を測定することを要旨とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項４記載の本発明によれば、また連結器と並行して接続したＫＩＶ線を利用し、電路の共振現象利用のクランプ式接地抵抗計を用いて接地抵抗値を測定することで、継続しての測定が可能となり、変動に迅速に対応できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
接地点Ｒ１＝１０Ωだとして、Ｒ２レール枕木（抵抗値２０Ω）は、
2012251351.tif 000001
となり、接地点とレール枕木を接続しただけでは、接地抵抗値は低減できても目標抵抗値を確保できない。これに、簡易接地工事（抵抗値２０Ω）を施し接続することで
2012251351.tif 000002
となり、目標抵抗値（5Ω）を確保できる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トンネル坑内に少なくとも、レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工のいずれかを有するトンネル工事における接地方法であって、レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工のいずれかを接地極とし、トンネル工事の進捗に併せて接地極の接地抵抗を継続して測定することを特徴とするトンネル工事における接地方法。
【請求項２】
坑外に設けた接地点と、レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工のいずれかとを電気的に接続して接地極とする請求項１記載のトンネル工事における接地方法。
【請求項３】
レール、鋼製枕木、鋼製セグメント、鋼製支保工のいずれかと電気的に接続して接地極とするのに、トランス台車と後続の計装ケーブル台車の双方の連結器と並行してＫＩＶ線を接続し、片端はトランス台車の接地端子（Ａ種，Ｂ種共通）に接続する請求項１または請求項２記載のトンネル工事における接地方法。
【請求項４】
接地極の設置抵抗を継続して測定は、連結器と並行して接続したＫＩＶ線を利用し、電路の共振現象利用のクランプ式接地抵抗計を用いて接地抵抗値を測定する請求項３記載のトンネル工事における接地方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月5日(2013.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するため、本発明は、ピストン本体と、前記ピストン本体に接合されたピストンロッドと、を備え、前記ピストン本体は、板状部材により構成された第１ピストン部材と第２ピストン部材とを有し、前記第１ピストン部材と前記第２ピストン部材とは、前記ピストンロッドの軸線方向に重ねた状態で、互いに接合されており、前記第１ピストン部材の外周縁部と前記第２ピストン部材の外周縁部との間に周方向に延在するシール装着溝が形成され、前記第１ピストン部材と前記第２ピストン部材のうち少なくとも一方は、全体にわたって板厚を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明に係るピストン組立体の製造方法は、板状部材により構成された第１ピストン部材と第２ピストン部材とを重ね合わせ、両者を接合してピストン本体を得る第１工程と、前記ピストン本体とピストンロッドとを接合する第２工程と、を有し、前記第１ピストン部材の外周縁部と前記第２ピストン部材の外周縁部との間に周方向に延在するシール装着溝が形成され、前記第１ピストン部材と前記第２ピストン部材のうち少なくとも一方は、全体にわたって板厚を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
このように製作されたピストン組立体１０Ｂのピストン本体６０の外周部（シール装着溝６５）には、シール部材１９が装着され、ハウジング１２（図１参照）内に摺動可能に配置されて、流体圧シリンダ１１として組み立てられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
このように製作されたピストン組立体１０Ｃのピストン本体８０の外周部（シール装着溝１７）には、シール部材１９が装着され、ハウジング１２（図１参照）内に摺動可能に配置されて、流体圧シリンダ１１として組み立てられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピストン本体と、
前記ピストン本体に接合されたピストンロッドと、を備え、
前記ピストン本体は、板状部材により構成された第１ピストン部材と第２ピストン部材とを有し、
前記第１ピストン部材と前記第２ピストン部材とは、前記ピストンロッドの軸線方向に重ねた状態で、互いに接合されており、
前記第１ピストン部材の外周縁部と前記第２ピストン部材の外周縁部との間に周方向に延在するシール装着溝が形成され、
前記第１ピストン部材と前記第２ピストン部材のうち少なくとも一方は、全体にわたって板厚を有する、
ことを特徴とするピストン組立体。
【請求項２】
請求項１記載のピストン組立体において、
前記第１ピストン部材には、板厚方向の貫通孔が設けられ、
前記ピストンロッドの一端には、前記貫通孔に嵌合する嵌合部が突出形成されている、
ことを特徴とするピストン組立体。
【請求項３】
請求項１記載のピストン組立体において、
前記ピストン本体は、板状部材により構成された第３ピストン部材を有し、
前記ピストン本体の外周部で、前記第２ピストン部材と前記第３ピストン部材との間に形成される溝部に、前記ピストン本体の外周に沿って延在するサポート部材又はマグネットが配設されている、
ことを特徴とするピストン組立体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のピストン組立体において、
前記ピストン本体の一方の側に、第１ピストンロッドとしての前記ピストンロッドが溶接により接合され、
前記ピストン本体の他方の側に、第２ピストンロッドが接合されている、
ことを特徴とするピストン組立体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のピストン組立体において、
前記第１ピストン部材と前記第２ピストン部材とは、溶接によって接合され、
前記ピストン本体と前記ピストンロッドとは、溶接によって接合されている、
ことを特徴とするピストン組立体。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項に記載のピストン組立体と、
前記ピストン組立体を軸線方向に移動可能に収容するハウジングと、を備える、
ことを特徴とする流体圧シリンダ。
【請求項７】
板状部材により構成された第１ピストン部材と第２ピストン部材とを重ね合わせ、両者を接合してピストン本体を得る第１工程と、
前記ピストン本体とピストンロッドとを接合する第２工程と、を有し、
前記第１ピストン部材の外周縁部と前記第２ピストン部材の外周縁部との間に周方向に延在するシール装着溝が形成され、
前記第１ピストン部材と前記第２ピストン部材のうち少なくとも一方は、全体にわたって板厚を有する、
ことを特徴とするピストン組立体の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載のピストン組立体の製造方法において、
前記第１工程において、前記第１ピストン部材と前記第２ピストン部材とを溶接によって接合し、
前記第２工程において、前記ピストン本体と前記ピストンロッドとを溶接によって接合する、
ことを特徴とするピストン組立体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月18日(2013.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
この質量分析データ解析方法によれば、実測のＭＳqスペクトルの情報を利用した、より正確性の高い指標値に基づいて複数の候補ペプチドの中から最も信頼性の高いペプチドを選出できるので、ペプチドの同定精度を向上させることができる。また、そのペプチド同定結果と併せて指標値を提供することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
そこで、ステップＳ４２と同様に、ＭＳ3分析を実施した際と同じ質量電荷比のプリカーサイオンを設定したとの条件の下に候補ペプチドの理論ＭＳ3フラグメントイオンの質量電荷比を求める。そして、その理論ＭＳ3フラグメント質量情報の中で、プリカーサイオンと同系列であるｂ系列フラグメントイオンの質量電荷比に対するピークが実測のＭＳ2スペクトルに存在せず実測のＭＳ3スペクトルに存在すれば、該ピークを追加すべきものとして選択し、ステップＳ２で求めたピークリストに追加する（ステップＳ４４）。また、上記理論ＭＳ3フラグメント質量情報の中で、プリカーサイオンと異系列であるｙ系列フラグメントイオンの質量電荷比に対するピークが実測のＭＳ3スペクトルに存在すれば、その質量電荷比にＭＳ2プリカーサイオンの質量電荷比とＭＳ3プリカーサイオンの質量電荷比との差及び水分子１個分の質量電荷比を加算する。そして、その加算後の質量電荷比に対するピークが実測のＭＳ2スペクトルに存在しなければ、該ピークを追加すべきものとして選択し、上記ピークリストにさらに追加する（ステップＳ４５）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
続いて、上述した特徴的なデータ解析方法によるペプチド同定の効果を確認するために行った評価について説明する。図１２及び図１３は幾つかの異なるペプチドに対し、上記手法を適用した場合の評価例を示す図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
図１２は３つのペプチドに対する評価例であり、図中、MS2+3が本実施例による手法を用いた結果である。本実施例の手法ではＭＳ2スペクトルのみを用いたデータベース検索に対し、ペプチドの期待値が、2.60E-04、2.4E-01、1.10E-02から、6.10E-08、6.70E-02、3.80E-05にそれぞれ改善されていることが確認できる。即ち、ペプチドによって程度に差はあるものの、いずれのペプチドに対しても同定精度が向上していると言える。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
図１３はいずれも、標品であるタンパク質をカルバミドメチル（Carbamidomethyl）標識化し、トリプシンで酵素消化したサンプルを島津製作所のAXIMA-QITで測定して得られたデータに対する評価例である。図中、expect(y/b)は本実施例の手法を適用する前の期待値とスペクトル中の有効イオンの個数、merged expect(y/b)が本実施例の手法を適用した後の期待値と有効イオン個数である。これらの評価例でも、本実施例の手法ではＭＳ2スペクトルのみを用いたデータベース検索に対し、ペプチドの期待値が改善されていることが確認できる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月30日(2013.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
はんだ付けによりプリント基板の配線パターンに電気接続され、導電性材料を含む電流補助部材であって、
プリント基板の主面と交差する第１面に沿って配置された板状の胴体部と、
胴体部の第１側端から前方に延出した第１リード部と、
胴体部の第２側端から後方に延出した第２リード部とを備えたことを特徴とする電流補助部材。
【請求項２】
胴体部の両上隅部には、切欠部が形成されていることを特徴とする請求項１記載の電流補助部材。
【請求項３】
第１リード部及び第２リード部と胴体部とがつながる連結部が、それぞれ胴体部の高さ中央に位置することを特徴とする請求項１又は２に記載の電流補助部材。
【請求項４】
第１リード部及び第２リード部は、プリント基板のスルーホールに垂直に挿入される脚部、及び脚部と胴体部とを連結する肩部を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電流補助部材。
【請求項５】
第１リード部及び第２リード部と胴体部との間に、それぞれ空隙部が形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電流補助部材。
【請求項６】
請求項５記載の電流補助部材が複数個、プリント基板上に設置されている大電流基板であって、
第１電流補助部材と第２電流補助部材とは、第１電流補助部材の第１リード部と、第２電流補助部材の第１リード部側の空隙部とが前後方向に並ぶように配置されていることを特徴とする大電流基板。
【請求項７】
第１電流補助部材と第３電流補助部材とは、第１面に平行に、横方向に距離Ｌを隔てて設置されていることを特徴とする請求項６記載の大電流基板。
【請求項８】
距離Ｌ、各空隙部の幅及び各リード部の幅が等しいことを特徴とする請求項７記載の大電流基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
リード部２ａ，２ｂは屈曲しており、脚部４ａ，４ｂと肩部５ａ，５ｂとから成る。図１に示すように、リード部２ａは胴体部１の＋ｘ端から−ｙ方向に引き出され、リード部２ｂは−ｘ端から＋ｙ方向に引き出されている。これとは逆に、リード部２ａが胴体部１の＋ｘ端から＋ｙ方向に引き出され、リード部２ｂが−ｘ端から−ｙ方向に引き出される構成でもよい。これは、以下の構成でも同様である。図１ｂ〜図１ｄに示すように、脚部４ａ，４ｂは、スルーホール７ａ，７ｂに垂直に挿入され、はんだ付けされて、プリント基板２０の配線パターンに電気的に接続される。