【手続補正書】
【提出日】平成25年4月9日(2013.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
それぞれ、基板を載置しかつ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動するとともに、前記第２領域から第１領域への移動と前記第１領域から前記第２領域への移動とで異なる経路を辿るように移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動する。
【請求項２】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
それぞれ、基板を載置しかつ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動するとともに、前記第２領域から第１領域への移動と前記第１領域から前記第２領域への移動とで異なる経路を辿るように移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系の下方に位置付けられる前記第１、第２テーブルを移動し、この移動により、前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系の下方に位置付けられる前記第１、第２テーブルの他方によって前記液浸領域が維持される。
【請求項３】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
それぞれ、基板を載置しかつ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動するとともに、前記第２領域から第１領域への移動と前記第１領域から前記第２領域への移動とで異なる経路を辿るように移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動する。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項５】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
それぞれ、基板を載置しかつ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動し、前記第１テーブルと前記第２テーブルとを同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動する。
【請求項６】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
それぞれ、基板を載置しかつ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動し、前記第１テーブルと前記第２テーブルとを同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系の下方に位置付けられる前記第１、第２テーブルを移動し、この移動により、前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系の下方に位置付けられる前記第１、第２テーブルの他方によって前記液浸領域が維持される。
【請求項７】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
それぞれ、基板を載置しかつ前記投影光学系の下方に位置付けられる第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動し、前記第１テーブルと前記第２テーブルとを同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動する。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第１領域から前記第２領域に移動される。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２テーブルの一方から他方に移動される。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動の途中で、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記駆動システムは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が実質的に維持されるように近接した状態、または前記液体の流出が防止されるように近接した状態、または接触した状態で、前記第１、第２テーブルを前記液浸領域に対して移動する。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、その少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように、互いに近接または接触した状態が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように移動され、前記載置した基板が前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が形成されるように、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板よりも小さい局所領域内で前記液体を保持する。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において前記液体の供給と回収とを常時行う。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記一方のテーブルは、前記第１領域において、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板の露光が行われ、前記他方のテーブルは、前記第２領域に配置され、前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動に先立ち、前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項１８】
請求項１７に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動に先立ち、前記第１領域に配置される前記一方のテーブルと前記第２領域に配置される前記他方のテーブルとで異なる動作が並行して行われる。
【請求項１９】
請求項１７又は１８に記載の露光装置において、
前記第２領域に配置されるマーク検出系を、さらに備え、
前記マーク検出系による前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出に続いて、前記他方のテーブルが前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項２０】
請求項１９に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、上面の一部に配置される基準部材を有し、
前記マーク検出系によって、前記他方のテーブルに載置される基板のマーク及び前記基準部材の検出が行われる。
【請求項２１】
請求項１９又は２０に記載の露光装置において、
前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出は、前記一方のテーブルに載置される基板の露光と並行して行われる。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のテーブルと、前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系と対向して配置される前記他方のテーブルとで、異なる動作が行われる。
【請求項２３】
請求項２２に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動に続いて、前記他方のテーブルに載置される基板の露光が開始される。
【請求項２４】
請求項２２又は２３に記載の露光装置において、
前記他方のテーブルでは、前記基板の露光に先立ち、基準部材の検出が行われる。
【請求項２５】
請求項２２〜２４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のテーブルは、前記第１領域から前記第２領域に移動される。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光装置において、
前記第２領域に配置される前記一方のテーブルと、前記第１領域に配置される前記他方のテーブルとで異なる動作が並行して行われる。
【請求項２７】
請求項２５又は２６に記載の露光装置において、
前記第２領域において、前記一方のテーブルに載置される前記露光された基板の交換が行われる。
【請求項２８】
請求項１〜２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動の前後の少なくとも一方において、前記第１テーブルと前記第２テーブルとで互いに異なる動作が行われる。
【請求項２９】
請求項１〜２８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１テーブルに載置される基板の露光動作と、前記第２テーブルに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項３０】
請求項１〜２９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。
【請求項３１】
請求項１〜３０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、上面の一部に配置される、前記基板の載置領域を有し、前記上面と、前記載置領域に載置される基板との少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持可能である。
【請求項３２】
請求項３１に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記上面によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項３３】
請求項３１又は３２に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記上面によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項３４】
請求項３１〜３３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の下方で前記第１、第２テーブルをそれぞれ移動することによって、前記液浸領域は、前記上面と、前記載置領域に載置される基板との一方から他方に移動する。
【請求項３５】
請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、その表面が前記上面と実質的に同一面となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項３６】
請求項３１〜３５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記上面の一部に配置される基準部材を有し、
前記投影光学系を介して前記基準部材を用いる計測が行われる。
【請求項３７】
請求項３６に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記基板の露光で用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項３８】
請求項３６又は３７に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記マーク検出系によって前記基板のマーク及び前記基準部材の検出が行われる。
【請求項３９】
請求項３６〜３８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基準部材はその表面が前記上面と実質的に同一面となるように設けられる。
【請求項４０】
請求項３６〜３９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、一部に開口が形成される補助部材を有し、前記開口内に前記載置領域が位置するように前記補助部材が設けられ、前記開口内に前記基板が載置される。
【請求項４１】
請求項１〜４０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記一方のテーブルが前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２テーブルは互いに接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２テーブルが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４２】
請求項４１に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系と対向して配置される前記一方のテーブルに対して前記他方のテーブルが接近するように相対移動される。
【請求項４３】
請求項４１又は４２に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して接近するように相対移動される。
【請求項４４】
請求項４３に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記所定方向に関する前記接近のための移動と、前記所定方向と交差する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項４５】
請求項４１又は４２に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向と交差する方向に関する位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項４６】
請求項４１〜４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記接近した第１、第２テーブルはその境界あるいはその間隙が前記液浸領域の下を通過するように前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４７】
請求項４１〜４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記接近した第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４８】
請求項１〜４７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２領域は、所定方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４９】
請求項４８に記載の露光装置において、
前記第２領域において、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板のマーク検出及び／又は交換が行われる。
【請求項５０】
請求項１〜４９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される所定方向に移動される。
【請求項５１】
請求項１〜５０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５２】
請求項１〜５１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５３】
請求項１〜５２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、前記液体と接する、前記投影光学系の光学部材の周囲に配置され、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板に照射される照明光が通過する開口を有する液浸部材を有し、前記液浸部材を介して前記液浸領域に液体を供給するとともに、前記液浸部材を介して前記液浸領域から液体を回収する。
【請求項５４】
請求項５３に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で前記開口の周囲に配置される回収口を有し、
前記基板は、前記露光において、前記液浸部材の下面に近接して配置される。
【請求項５５】
請求項１〜５４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われるとともに、前記マーク検出系によって前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項５６】
請求項１〜５５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルの位置情報を計測する計測装置を、さらに備え、
前記計測装置は、前記第１、第２テーブルの位置情報を計測するエンコーダを含む。
【請求項５７】
請求項５６に記載の露光装置において、
前記エンコーダは、前記第１、第２テーブルの裏面に設けられるスケールを使って位置情報を計測する。
【請求項５８】
請求項１〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを、さらに備え、
前記第１、第２及び第３テーブルでそれぞれ基板を載置して露光処理シーケンスを実行する。
【請求項５９】
請求項５８に記載の露光装置において、
前記第１、第２及び第３テーブルでは異なる動作が並行して実行される。
【請求項６０】
請求項１〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを、さらに備え、
前記第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作を実行する。
【請求項６１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ基板を載置し、かつ前記第２領域から前記第１領域への移動と前記第１領域から前記第２領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項６２】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系の下方に位置付けられる前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動により前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系の下方に位置付けられる前記第１、第２テーブルの他方によって前記液浸領域が維持され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ基板を載置し、かつ前記第２領域から前記第１領域への移動と前記第１領域から前記第２領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項６３】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ基板を載置し、かつ前記第２領域から前記第１領域への移動と前記第１領域から前記第２領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項６４】
請求項６１〜６３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項６５】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ基板を載置し、前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項６６】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系の下方に位置付けられる前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動により前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系の下方に位置付けられる前記第１、第２テーブルの他方によって前記液浸領域が維持され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ基板を載置し、前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項６７】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ基板を載置し、前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項６８】
請求項６１〜６７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第１領域から前記第２領域に移動される。
【請求項６９】
請求項６１〜６８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２テーブルの一方から他方に移動される。
【請求項７０】
請求項６１〜６９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項７１】
請求項７０に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動の途中で、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項７２】
請求項６１〜７１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が実質的に維持されるように近接した状態、または前記液体の流出が防止されるように近接した状態、または接触した状態で、前記液浸領域に対して移動する。
【請求項７３】
請求項６１〜７２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、その少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように、互いに近接または接触した状態が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項７４】
請求項６１〜７３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように移動され、前記載置した基板が前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項７５】
請求項６１〜７４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板よりも小さい局所領域内に前記液体を保持して、前記投影光学系の下に前記液浸領域を形成する。
【請求項７６】
請求項６１〜７５のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において前記液体の供給と回収とを常時行う。
【請求項７７】
請求項６１〜７６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記一方のテーブルは、前記第１領域において、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板の露光が行われ、前記他方のテーブルは、前記第２領域に配置され、前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動に先立ち、前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項７８】
請求項７７に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動に先立ち、前記第１領域に配置される前記一方のテーブルと前記第２領域に配置される前記他方のテーブルとで異なる動作が並行して行われる。
【請求項７９】
請求項７７又は７８に記載の露光方法において、
前記第２領域に配置されるマーク検出系による、前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出に続いて、前記他方のテーブルが前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項８０】
請求項７９に記載の露光方法において、
前記マーク検出系によって、前記他方のテーブルの基準部材、及び前記基板のマークの検出が行われる。
【請求項８１】
請求項７９又は８０に記載の露光方法において、
前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出は、前記一方のテーブルに載置される基板の露光と並行して行われる。
【請求項８２】
請求項６１〜８１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のテーブルと、前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系と対向して配置される前記他方のテーブルとで、異なる動作が行われる。
【請求項８３】
請求項８２に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動に続いて、前記他方のテーブルに載置される基板の露光が開始される。
【請求項８４】
請求項８２又は８３に記載の露光方法において、
前記他方のテーブルでは、前記基板の露光に先立ち、基準部材の検出が行われる。
【請求項８５】
請求項８２〜８４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のテーブルは、前記第１領域から前記第２領域に移動される。
【請求項８６】
請求項８５に記載の露光方法において、
前記第２領域に配置される前記一方のテーブルと、前記第１領域に配置される前記他方のテーブルとで異なる動作が並行して行われる。
【請求項８７】
請求項８５又は８６に記載の露光方法において、
前記第２領域において、前記一方のテーブルに載置される前記露光された基板の交換が行われる。
【請求項８８】
請求項６１〜８７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動の前後の少なくとも一方において、前記第１テーブルと前記第２テーブルとで互いに異なる動作が行われる。
【請求項８９】
請求項６１〜８８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１テーブルに載置される基板の露光動作と、前記第２テーブルに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項９０】
請求項６１〜８９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。
【請求項９１】
請求項６１〜９０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、一部に前記基板の載置領域が配置される上面と、前記載置領域に載置される基板との少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持可能である。
【請求項９２】
請求項９１に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記上面によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項９３】
請求項９１又は９２に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記上面によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項９４】
請求項９１〜９３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方で前記第１、第２テーブルをそれぞれ移動することによって、前記液浸領域は、前記上面と、前記載置領域に載置される基板との一方から他方に移動する。
【請求項９５】
請求項９１〜９４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、その表面が前記上面と実質的に同一面となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項９６】
請求項９１〜９５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系を介して、前記上面の一部に配置される基準部材を用いる計測が行われる。
【請求項９７】
請求項９６に記載の露光方法において、
前記基準部材は、前記基板の露光で用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項９８】
請求項９６又は９７に記載の露光方法において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系によって、前記基準部材の検出が行われる。
【請求項９９】
請求項９６〜９８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基準部材はその表面が前記上面と実質的に同一面となるように設けられる。
【請求項１００】
請求項９６〜９９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、一部に開口が形成される補助部材を有し、前記開口内に前記載置領域が位置するように前記補助部材が設けられ、前記開口内に前記基板が載置される。
【請求項１０１】
請求項６１〜１００のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記一方のテーブルが前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２テーブルは互いに接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２テーブルが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１０２】
請求項１０１に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系と対向して配置される前記一方のテーブルに対して前記他方のテーブルが接近するように相対移動される。
【請求項１０３】
請求項１０１又は１０２に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して接近するように相対移動される。
【請求項１０４】
請求項１０３に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記所定方向に関する前記接近のための移動と、前記所定方向と交差する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項１０５】
請求項１０１又は１０２に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向と交差する方向に関する位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項１０６】
請求項１０１〜１０５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記接近した第１、第２テーブルはその境界あるいはその間隙が前記液浸領域の下を通過するように前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１０７】
請求項１０１〜１０６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記接近した第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１０８】
請求項６１〜１０７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２領域は、所定方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１０９】
請求項１０８に記載の露光方法において、
前記第２領域において、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板のマーク検出及び／又は交換が行われる。
【請求項１１０】
請求項６１〜１０９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される所定方向に移動される。
【請求項１１１】
請求項６１〜１１０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によって前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１１２】
請求項６１〜１１１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１１３】
請求項６１〜１１２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液体と接する、前記投影光学系の光学部材の周囲に配置され、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板に照射される照明光が通過する開口を有する液浸部材を介して、前記液浸領域に液体が供給されるとともに、前記液浸部材を介して前記液浸領域から液体が回収される。
【請求項１１４】
請求項１１３に記載の露光方法において、
前記液浸部材の下面側で前記開口の周囲に配置される回収口を介して前記液浸領域から液体が回収され、
前記基板は、前記露光において、前記液浸部材の下面に近接して配置される。
【請求項１１５】
請求項６１〜１１４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われるとともに、前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項１１６】
請求項６１〜１１５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記露光においてエンコーダによってその位置情報が計測される。
【請求項１１７】
請求項１１６に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる計測では、前記第１、第２テーブルの裏面に設けられるスケールが用いられる。
【請求項１１８】
請求項６１〜１１７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルで基板を載置するとともに、前記第１、第２及び第３テーブルを用いて前記基板の露光処理シーケンスが実行される。
【請求項１１９】
請求項１１８に記載の露光方法において、
前記第１、第２及び第３テーブルでは異なる動作が並行して実行される。
【請求項１２０】
請求項７１〜１１７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作が実行される。
【請求項１２１】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜６０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１２２】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項６１〜１２０のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。