【手続補正書】
【提出日】平成25年3月21日(2013.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記液体を回収するための液体回収機構と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記液体供給機構と前記液体回収機構とによって前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージが第１位置から第２位置へほぼ直線的に移動するときに、前記第１位置と前記第２位置との間隔に応じて前記基板ステージの移動速度が異なる露光装置。
【請求項２】
液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、前記投影光学系の像面側に配置された物体の表面が対向するように配置される下面に設けられた第１液体供給口と、前記下面に設けられた第１液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え
前記流路形成部材を使って前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージが第１位置から第２位置へほぼ直線的に移動するときに、前記第１位置と前記第２位置との間隔に応じて前記基板ステージの移動速度が異なる露光装置。
【請求項３】
前記第１位置と前記第２位置との間隔が所定量以上の場合には、前記第１位置と前記第２位置との間隔が前記所定量よりも短い場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、前記投影光学系の像面側に配置された物体の表面が対向するように配置される下面に設けられた第１液体供給口と、前記下面に設けられた第１液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え
前記流路形成部材を使って前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージが第１位置から第２位置へほぼ直線的に移動するときに、前記第１位置と前記第２位置との間隔が所定量以上の場合には、前記第１位置と前記第２位置との間隔が前記所定量よりも短い場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする露光装置。
【請求項５】
前記流路形成部材は、前記開口部に配置される前記光学素子との間に間隙を形成する内側面に設けられた第２液体供給口を有する請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記流路形成部材は、前記内側面に第２液体回収口を有する請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記流路形成部材は、前記開口部に配置される前記光学素子との間に間隙を形成する内側面に設けられた第２液体回収口を有する請求項４記載の露光装置。
【請求項８】
前記液浸領域からの液体流出が起きないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項３〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記液浸領域に気体部分が生成されないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項３〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
液体を介して基板に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記液体を回収するための液体回収機構と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記液体供給機構と前記液体回収機構とによって前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージが第１位置から第２位置へほぼ直線的に移動するときに、前記第１位置から前記第２位置への前記基板ステージの移動方向に応じて前記基板ステージの移動速度が異なる露光装置。
【請求項１１】
前記基板ステージを前記液体回収機構による液体回収力が弱い所定方向へ移動させる場合には、前記基板ステージを前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記液体回収機構による液体回収力が弱い所定方向には、前記液体回収機構の液体回収口が配置されていない請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記液浸領域からの液体流出が起きないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項１１又は１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記液浸領域に気体部分が生成されないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、前記投影光学系の像面側に配置された物体の表面が対向するように配置される下面に設けられた第１液体供給口と、前記下面に設けられた第１液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記流路形成部材を使って前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージが第１位置から第２位置へほぼ直線的に移動するときに、前記第１位置から前記第２位置への前記基板ステージの移動方向に応じて前記基板ステージの移動速度が異なる露光装置。
【請求項１６】
前記流路形成部材の前記第１液体回収口を介して液体回収を行う液体回収機構を備え、
前記基板ステージを前記液体回収機構による液体回収力が弱い所定方向へ移動させる場合には、前記基板ステージを前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、前記投影光学系の像面側に配置された物体の表面が対向するように配置される下面に設けられた第１液体供給口と、前記下面に設けられた第１液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記流路形成部材の前記第１液体回収口を介して液体回収を行う液体回収機構と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記流路形成部材を使って前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージを前記液体回収機構による液体回収力が弱い所定方向へ第１位置から第２位置へほぼ直線的に移動させる場合に、前記基板ステージを前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする露光装置。
【請求項１８】
前記液浸領域からの液体流出が起きないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項１６又は１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記液浸領域に気体部分が生成されないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記流路形成部材は、前記開口部に配置される前記光学素子との間に間隙を形成する内側面に設けられた第２液体供給口を有する請求項１０〜１９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２１】
前記流路形成部材は、前記内側面に第２液体回収口を有する請求項２０記載の露光装置。
【請求項２２】
前記流路形成部材は、前記開口部に配置される前記光学素子との間に間隙を形成する内側面に設けられた第２液体回収口を有する請求項１０〜１９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２３】
請求項１〜請求項２２のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２４】
投影光学系と液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法であって、
液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光することと、
基板を露光していないときに、基板上に液体を保持したまま基板を第１位置から第２位置へ移動することと、
前記第１位置と前記第２位置との位置関係に応じて、前記第１位置から前記第２位置への前記基板の移動速度を調整することを含む露光方法。
【請求項２５】
前記移動の距離が所定距離以上の場合には、所定距離未満の場合よりも前記基板の移動速度を小さくする請求項２４に記載の露光方法。
【請求項２６】
さらに基板上から液体を回収することを含み、液体の回収力が弱い所定方向へ基板を移動させる場合には、前記基板を前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板の移動速度を小さくする請求項２４又は２５に記載の露光方法。
【請求項２７】
前記投影光学系の像面側に形成されている液浸領域からの液体流出が起きないように、前記基板の移動速度を調整する請求項２４〜２６のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項２８】
前記液浸領域に気体部分が生成されないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項２３〜２７のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項２９】
請求項１〜２８のいずれか一項に記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。