Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月14日(2013.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
時系列上の異なる時において生体から取得された複数の生体画像のそれぞれに対して、生体画像内の異なる複数の特徴画像によるマッチングを行う工程と、
前記特徴画像の組み合わせ毎に、前記マッチングの結果に基づいて、特徴画像間の相関係数を算出する工程と、
前記算出された相関係数に基づいて、前記複数の特徴画像のうちに他の特徴画像との相関が悪い画像があるか否かを判断する工程と、
を含むことを特徴とする
特徴画像の評価方法。  
【請求項２】
前記算出する工程において、前記複数の生体画像間における前記複数の特徴画像の座標の差を算出し、該算出された座標の差を用いて前記相関係数を算出することを特徴とする請求項１に記載の評価方法。
【請求項３】
前記マッチングを行う工程において、３以上の特徴画像を用いてマッチングを行い、
前記判断する工程において、前記相関係数が閾値以下であるような組み合わせについて、当該組み合わせを構成する特徴画像を相関が悪い画像の候補とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の評価方法。
【請求項４】
前記生体画像は眼底画像であり、前記特徴画像は血管画像である請求項１乃至３の何れか１項に記載の評価方法。
【請求項５】
前記判断する工程では、前記相関係数が閾値以下であるような組み合わせを構成する特徴画像のそれぞれを悪い画像の候補であるとし、複数の前記他の特徴画像との組み合わせにおいて悪い画像の候補となった特徴画像を、前記悪い画像であると判断することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の評価方法。
【請求項６】
前記判断する工程では、前記相関係数をもとに各特徴画像に点数をつけていき、その点数の平均値により前記他の特徴画像との相関が悪い画像を求めることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の評価方法。
【請求項７】
前記特徴画像は、特徴を持った小領域を表す画像である、請求項１乃至６の何れか１項に記載の評価方法。
【請求項８】
時系列上の異なる時において生体から複数の生体画像を取得する取得手段と、
前記生体画像のそれぞれに対して、生体画像内の異なる複数の特徴画像によるマッチングを行うマッチング手段と、
前記複数の特徴画像の組み合わせ毎に、前記マッチングの結果に基づいて、特徴画像間の相関係数を算出する演算手段と、
前記算出された相関係数に基づいて、前記複数の特徴画像のうちに他の特徴画像との相関が悪い画像があるか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段で相関が悪いと判断された画像以外の特徴画像を用いてマッチングを行い、時系列における被写体の運動を定量的に検知する検知手段とを含む、
運動検出装置。
【請求項９】
請求項１乃至７の何れか１項に記載の評価方法を、コンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の特徴画像の評価方法は、時系列上の異なる時において生体から取得された複数の生体画像のそれぞれに対して、生体画像内の異なる複数の特徴画像によるマッチングを行う工程と、前記特徴画像の組み合わせ毎に、前記マッチングの結果に基づいて、特徴画像間の相関係数を算出する工程と、前記算出された相関係数に基づいて、前記複数の特徴画像のうちに他の特徴画像との相関が悪い画像があるか否かを判断する工程と、を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の運動検出装置は、時系列上の異なる時において生体から複数の生体画像を取得する取得手段と、前記生体画像のそれぞれに対して、生体画像内の異なる複数の特徴画像によるマッチングを行うマッチング手段と、前記複数の特徴画像の組み合わせ毎に、前記マッチングの結果に基づいて、特徴画像間の相関係数を算出する演算手段と、前記算出された相関係数に基づいて、前記複数の特徴画像のうちに他の特徴画像との相関が悪い画像があるか否かを判断する判断手段と、前記判断手段で相関が悪いと判断された画像以外の特徴画像を用いてマッチングを行い、時系列における被写体の運動を定量的に検知する検知手段とを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月9日(2013.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属製の被溶接物の穴を充填する方法であって、
穴の中にプラグを摩擦溶接すること、及び
被溶接物内に、プラグをほぼ取り囲む溶接床を形成すること
を含む方法。
【請求項２】
摩擦溶接を、
プラグを回転させること、及び
回転するプラグを穴の中に押し込むこと
により実行する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
溶接床を形成することを、
プラグを可塑化すること、
被溶接物と接するように、穴の周囲に金床であって、当該金床は、被溶接物と対向する底面を有した第１キャビティであって、プラグを受取るようにされた第１キャビティを備え、当該金床は第１キャビティを囲む第２キャビティをさらに備え、第２キャビティは、直径において第１キャビティと比して大きく、深さにおいて第１キャビティと比して小さく、第２キャビティは第１キャビティを取り囲む、テーパー付けられた凹部を有し、テーパー付けられた凹部は第１キャビティの深さに対して下に向かって角度付けられている、金床を配置すること、及び
可塑化したプラグを、金床内の第２キャビティの中に押出し成形すること
により実行する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
押出し成形することを、可塑化したプラグを、放射方向に沿って外側に、第２キャビティの中へ押出し成形することにより実行する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
被溶接物に、溶接床を取り囲むコイン部を形成すること
を更に含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
コイン部を形成することを、可塑化したプラグの一部を、第１キャビティを取り囲むリセス中に押出し成形することにより実行する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
プラグを穴の中に摩擦溶接した後で、被溶接物を越えて延びるプラグの部分を除去すること
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
被溶接物内の穴を摩擦プラグ溶接するための装置であって、
プラグを回転させ、かつ、回転するプラグを強制的に穴に通す手段、及び
穴を覆うように被溶接物に接触させて配置される金床であって、プラグの一部を中に押出し成形してプラグ周囲に溶接床を形成することができるキャビティを含む金床
を含んでいる装置。
【請求項９】
キャビティが、
プラグの先端を受けるための、金床内の中央凹部、及び
凹部を取り囲む、金床内の皿穴
を含んでいる、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
皿穴が、被溶接物に対向する壁部を含んでいる、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
キャビティが、皿穴の壁部に隣接して当該壁部を取り囲むリセスを更に含んでいる、請求項１０に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
特定の例示的実施形態に関して本発明の実施形態について説明したが、特定の実施形態は、説明を目的としたものであって制限を目的としたものではなく、当業者であれば他の変形例も想起可能であろう。また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
金属製の被溶接物の穴を充填する方法であって、
穴の中にプラグを摩擦溶接すること、及び
被溶接物内に、プラグをほぼ取り囲む溶接床を形成すること
を含む方法。
（態様２）
摩擦溶接を、
プラグを回転させること、及び
回転するプラグを穴の中に押し込むこと
により実行する、態様１に記載の方法。
（態様３）
溶接床を形成することを、
プラグを可塑化すること、
被溶接物と接するように、穴の周囲に金床を配置すること、及び
可塑化したプラグを、金床内のキャビティの中に押出し成形すること
により実行する、態様１に記載の方法。
（態様４）
押出し成形することを、可塑化したプラグを、放射方向に沿って外側に、キャビティの中へ押出し成形することにより実行する、態様３に記載の方法。
（態様５）
被溶接物に、溶接床を取り囲むコイン部を形成すること
を更に含む、態様３に記載の方法。
（態様６）
コイン部を形成することを、可塑化したプラグの一部を、キャビティを取り囲むリセス中に押出し成形することにより実行する、態様５に記載の方法。
（態様７）
プラグを穴の中に摩擦溶接した後で、被溶接物を越えて延びるプラグの部分を除去すること
を更に含む、態様１に記載の方法。
（態様８）
被溶接物内の穴を摩擦プラグ溶接するための装置であって、
プラグを回転させ、かつ、回転するプラグを強制的に穴に通す手段、及び
穴を覆うように被溶接物に接触させて配置される金床であって、プラグの一部を中に押出し成形してプラグ周囲に溶接床を形成することができるキャビティを含む金床
を含んでいる装置。
（態様９）
キャビティが、
プラグの先端を受けるための、金床内の中央凹部、及び
凹部を取り囲む、金床内の皿穴
を含んでいる、態様８に記載の装置。
（態様１０）
皿穴が、被溶接物に対向する壁部を含んでいる、態様９に記載の装置。
（態様１１）
キャビティが、皿穴の壁部に隣接して当該壁部を取り囲むリセスを更に含んでいる、態様１０に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月7日(2013.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る記録装置は、所定量のインク滴を吐出するノズルが所定方向に配列された第１のノズル列と、前記所定量よりも少ない量のインク滴を吐出するノズルが前記所定方向に配列された第２のノズル列と、前記所定量よりも少ない量のインク滴を吐出するノズルが前記所定方向に配列された第３のノズル列であって前記第１のノズル列に対して前記第２のノズル列とは反対側に位置する前記第３のノズル列と、を備える記録ヘッドを、前記所定方向と交差する走査方向に走査させることにより記録媒体上に画像を記録するための記録装置であって、前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列のうち、前記走査方向において前方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率が、前記走査方向において後方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率よりも低くなるように、前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列からのインク滴の吐出を制御する制御手段を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定量のインク滴を吐出するノズルが所定方向に配列された第１のノズル列と、前記所定量よりも少ない量のインク滴を吐出するノズルが前記所定方向に配列された第２のノズル列と、前記所定量よりも少ない量のインク滴を吐出するノズルが前記所定方向に配列された第３のノズル列であって前記第１のノズル列に対して前記第２のノズル列とは反対側に位置する前記第３のノズル列と、を備える記録ヘッドを、前記所定方向と交差する走査方向に走査させることにより記録媒体上に画像を記録するための記録装置であって、
前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列のうち、前記走査方向において前方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率が、前記走査方向において後方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率よりも低くなるように、前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列からのインク滴の吐出を制御する制御手段を備えることを特徴とする記録装置。
【請求項２】
前記記録装置は、インクを吐出させながら前記記録ヘッドを前記走査方向に対して往復走査させて記録を行い、
前記制御手段は、前記記録ヘッドの走査の方向に応じて前記第２のノズル列から吐出されるインク滴の比率と前記第３のノズル列から吐出されるインク滴の比率を変更することを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
前記記録ヘッドは、前記所定量のインク滴を吐出するノズル列を複数備えることを特徴とする請求項１または２に記載の記録装置。
【請求項４】
前記記録ヘッドは、前記第１のノズル列、前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列を含む複数のノズル列を備え、
前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列は、前記第１のノズル列に隣接して備えられることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項５】
前記第１のノズル列、前記第２のノズル列および前記第３のノズル列のそれぞれから吐出されるインク滴の色は同色であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項６】
前記記録装置は、記録媒体上の単位領域に対して前記記録ヘッドを複数回走査させて前記単位領域に対する画像の記録を完成させる記録モードを実行可能であって、
前記制御手段は、第１の回数の前記記録ヘッドの走査により前記単位領域に対する記録を完成させる記録モードにおいて、前記第２のノズル列と前記第３のノズル列のうち前記走査方向において前方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率が、後方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率よりも低くなるように制御し、前記第１の回数よりも多い第２の回数の前記記録ヘッドの走査により前記単位領域に対する画像の記録を完成させる記録モードにおいて、前記第２のノズル列から吐出されるインク滴の比率と前記第３のノズル列から吐出されるインク滴の比率とが略均等になるように制御することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記第１のノズル列の記録デューティが所定値以上の場合に前記第２のノズル列と前記第３のノズル列のうち、前記走査方向において前方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率が後方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率よりも低くなるように制御し、前記第１のノズル列の記録デューティが所定値以上の場合に前記第２のノズル列から吐出されるインク滴の比率と前記第３のノズル列から吐出されるインク滴の比率とが略均等になるように制御することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項８】
前記記録ヘッドは、前記走査方向において前記第２のノズル列に対して前記第１のノズル列の反対側に第４のノズル列を備えるとともに、前記走査方向において前記第３のノズル列に対して前記第１のノズル列の反対側に第５のノズル列を備え、
前記制御手段は、前記第４のノズル列と前記第５のノズル列のうち、前記走査方向において前方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率が後方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率よりも高くなるように制御することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項９】
前記記録ヘッドは、前記第１のノズル列、第２のノズル列、第３のノズル列、第４のノズル列、第５のノズル列を含む複数のノズル列を備え、
前記第２のノズル列と前記第４のノズル列が隣接して備えられ、前記第３のノズル列と前記第５のノズル列が隣接して備えられることを特徴とする請求項８に記載の記録装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、インク滴の吐出を示す記録許容画素と、インク滴の非吐出を示す非記録許容画素が定められたマスクパターンを用いて、前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列から吐出されるインク滴の比率を制御することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項１１】
所定量のインク滴を吐出するノズルが所定方向に配列された第１のノズル列と、前記所定量よりも少ない量のインク滴を吐出するノズルが前記所定方向に配列された第２のノズル列と、前記所定量よりも少ない量のインク滴を吐出するノズルが前記所定方向に配列された第３のノズル列であって前記第１のノズル列に対して前記第２のノズル列とは反対側に位置する前記第３のノズル列と、を備える記録ヘッドを、前記所定方向と交差する走査方向に走査させることにより記録媒体上に画像を記録するための記録方法であって、
前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列のうち、前記走査方向において前方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率が、前記走査方向において後方側に位置するノズル列から吐出されるインク滴の比率よりも低くなるように、前記第２のノズル列及び前記第３のノズル列からインク滴を吐出させることを特徴とする記録方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月1日(2013.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
白色を含む複数色のインクを用いて印刷媒体上に印刷を行う印刷装置であって、
カラー画像を形成するためにインクを噴射する第１のノズル群と、
調整された白色である調色白画像を形成するために白色と白色以外の少なくとも１色とのインクを噴射する第２のノズル群と、
を有するヘッドと、
前記ヘッドを制御して、前記印刷媒体の一の表面に、
第１のカラー画像と、
第１の調色白画像と、
前記第１の調色白画像の色とは独立して設定される色の第２の調色白画像と、
第２のカラー画像と、
を、この順に形成する制御部と、を備える、印刷装置。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷装置であって、
前記制御部は、
前記第１の調色白画像の色を前記第１のカラー画像に応じて設定し、
前記第２の調色白画像の色を前記第２のカラー画像に応じて設定する、印刷装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の印刷装置であって、
前記制御部は、
前記第１の調色白画像の色を前記第１のカラー画像の色の補色の色味を有する白として設定し、
前記第２の調色白画像の色を前記第２のカラー画像の色の補色の色味を有する白として設定する、印刷装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載の印刷装置であって、
前記制御部は、
前記第１の調色白画像の色を、色味を多く含む白として設定し、
前記第２の調色白画像の色を、色味を少なく含む白として設定する、印刷装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の印刷装置であって、
前記制御部は、
印刷中の少なくとも一部の期間において、
前記第１のノズル群による前記第１のカラー画像の形成と前記第２のノズル群による前記第１の調色白画像の形成とが並行して行われると共に、
印刷中の少なくとも一部の他の期間において、
前記第２のノズル群による前記第２の調色白画像の形成と前記第１のノズル群による前記第２のカラー画像の形成とが並行して行われるように、
前記ヘッドを制御する、印刷装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の印刷装置であって、さらに、
画像が形成された前記印刷媒体を巻き戻す巻き戻し機構を備え、
前記制御部は、
前記印刷媒体に前記第１のカラー画像と前記第１の調色白画像とが形成された後に前記印刷媒体が巻き戻されるように前記巻き戻し機構を制御すると共に、
巻き戻された前記印刷媒体に前記第２の調色白画像と前記第２のカラー画像とが形成されるように前記ヘッドを制御する、印刷装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の印刷装置であって、
前記ヘッドの前記第１のノズル群および前記第２のノズル群は、それぞれ２つのサブノズル群により構成され、
前記制御部は、
印刷中の少なくとも一部の期間において、
前記第１のノズル群の一方の前記サブノズル群による前記第１のカラー画像の形成と、
前記第２のノズル群の一方の前記サブノズル群による前記第１の調色白画像の形成と、
前記第２のノズル群の他方の前記サブノズル群による前記第２の調色白画像の形成と、
前記第１のノズル群の他方の前記サブノズル群による前記第２のカラー画像の形成と、
が並行して行われるように、前記ヘッドを制御する、印刷装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の印刷装置であって、
前記制御部は、
前記第１の調色白画像と前記第２の調色白画像とを、前記印刷媒体の前記表面の同一領域に形成する、印刷装置。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の印刷装置であって、
前記複数色のインクは、
少なくとも１つの色相について淡色インクと濃色インクとの組み合わせを含み、
前記第２のノズル群は、前記濃色インクを噴射しない、印刷装置。
【請求項１０】
白色を含む複数色のインクを用いて印刷媒体上に印刷を行う印刷方法であって、
（ａ）
カラー画像を形成するためにインクを噴射する第１のノズル群と、
調整された白色である調色白画像を形成するために白色と白色以外の少なくとも１色とのインクを噴射する第２のノズル群と、
を有するヘッドを準備する工程と、
（ｂ）
前記ヘッドを制御して、
前記印刷媒体の一の表面に、
第１のカラー画像と、
第１の調色白画像と、
前記第１の調色白画像の色とは独立して設定される色の第２の調色白画像と、
第２のカラー画像と、
を、この順に形成する工程と、を備える、印刷方法。
【請求項１１】
印刷システムであって、
白色を含む複数色のインクを用いて印刷媒体上に印刷を行う印刷装置と、
前記印刷装置による印刷を制御する印刷制御装置と、
を備え、
前記印刷装置は、
カラー画像を形成するためにインクを噴射する第１のノズル群と、
調整された白色である調色白画像を形成するために白色と白色以外の少なくとも１色とのインクを噴射する第２のノズル群と、
を有するヘッドを備え、
前記印刷制御装置は、
前記印刷装置の前記ヘッドを制御して、
前記印刷媒体の一の表面に、
第１のカラー画像と、
第１の調色白画像と、
前記第１の調色白画像の色とは独立して設定される色の第２の調色白画像と、
第２のカラー画像と、
を、この順に形成させる、印刷システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷装置、印刷方法および印刷システム
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月3日(2013.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷領域における移動する巻取紙の直線速度を算出する方法であって、
ローパスフィルタを用いて、印刷領域における第一ローラにおいて移動する巻取紙の直線速度の低周波成分を特定し、
ハイパスフィルタを用いて、前記印刷領域における第二ローラにおいて前記移動する巻取紙の直線速度の高周波成分を特定し、
前記第二ローラにおいて前記特定された直線速度の高周波成分を用いて、前記第一ローラにおいて前記特定された前記移動する巻取紙の直線速度の低周波成分に応じた前記巻取紙の直線速度を修正することによって、前記印刷領域における前記第二ローラにおいて前記移動する巻取紙の直線速度を算出する、
ことを含む方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記第一ローラにおいて前記直線速度の前記低周波成分を特定することが、さらに、
第二ローパスフィルタを用いて、前記印刷領域における前記第二ローラにおいて前記移動する巻取紙の直線速度の低周波成分を特定し、
前記第一ローラにおける前記移動する巻取紙の直線速度の前記低周波成分と前記第二ローラにおける前記移動する巻取紙の直線速度の前記第二低周波成分とを平均して前記移動する巻取紙の直線速度の平均低周波成分を特定し、
前記第二ローラにおいて前記特定された前記移動する巻取紙の直線速度の高周波成分を用いて、前記移動する巻取紙の直線速度の前記平均低周波成分に応じた前記移動する巻取紙の直線速度を修正することによって、前記第二ローラにおいて前記移動する巻取紙の直線速度を算出する、
ことを含む方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
前記印刷領域における前記第二ローラにおいて前記移動する巻取紙の直線速度を算出することが、さらに、
前記第一ローラにおいて前記特定された直線速度の低周波成分を前記第二ローラにおいて前記特定された直線速度の高周波成分に加算する、
ことを含む方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、さらに、
ハイパスフィルタを用いて、前記第一ローラにおいて前記移動する巻取紙の直線速度の高周波成分を特定し、
前記特定された前記移動する巻取紙の直線速度の低周波成分と前記特定された前記移動する巻取紙の直線速度の高周波成分とを加算して前記第一ローラにおいて前記移動する巻取紙の直線速度を特定することによって、前記印刷領域における前記第一ローラにおいて前記移動する巻取紙の直線速度を算出する、
ことを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマＣＶＤ装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応室内に第１の電極と第２の電極とを有し、
前記第２の電極は、基板が載置される機能を有し、
前記第１の電極は、前記第２の電極と対向している面に複数の凹部を有し、
前記第１の電極は、前記凹部にガス供給口を有し、
前記凹部は、テーパを側面に有し、
前記側面の端は、丸みを有することを特徴とするプラズマＣＶＤ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月1日(2013.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換素子とトランジスタとを有し、
前記光電変換素子は、第１の単結晶半導体層を有し、
前記トランジスタは、第２の単結晶半導体層を有し、
前記第１の単結晶半導体層は、第１の導電型を示す第１の半導体領域と、第２の導電型を示す第２の半導体領域と、光電変換する機能を有する第３の領域と、を有し、
前記第２の単結晶半導体層は、前記トランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第１の単結晶半導体層と前記第２の単結晶半導体層とは、同一の絶縁層上に設けられ、
前記第１の単結晶半導体層は、前記絶縁層を介して第１の遮光層と重なり、
前記第２の単結晶半導体層は、前記絶縁層を介して第２の遮光層と重なり、
前記第１の単結晶半導体層の膜厚は前記第２の単結晶半導体層の膜厚よりも厚いことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
光電変換素子とトランジスタとを有し、
前記光電変換素子は、第１の単結晶半導体層を有し、
前記トランジスタは、第２の単結晶半導体層を有し、
前記第１の単結晶半導体層は、第１の導電型を示す第１の半導体領域と、第２の導電型を示す第２の半導体領域と、光電変換する機能を有する第３の領域と、を有し、
前記第２の単結晶半導体層は、前記トランジスタのチャネル形成領域を有し、
前記第１の単結晶半導体層と前記第２の単結晶半導体層とは、同一の絶縁層上に設けられ、
前記第１の単結晶半導体層は、前記絶縁層を介して第１の遮光層と重なり、
前記第２の単結晶半導体層は、前記絶縁層を介して第２の遮光層と重なり、
前記第１の遮光層とカラーフィルタとは重なり、
前記第１の単結晶半導体層と前記カラーフィルタとは重なり、
前記第１の単結晶半導体層の膜厚は前記第２の単結晶半導体層の膜厚よりも厚いことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
所定の深さに脆化領域を有する単結晶半導体基板と、ベース基板とを用意し、
前記単結晶半導体基板と前記ベース基板とを、遮光層及び絶縁層とを介して貼り合わせ、
前記脆化領域において前記単結晶半導体基板を分離して、前記ベース基板上に前記遮光層及び前記絶縁層を介して単結晶半導体層を形成し、
前記単結晶半導体層をエッチングして、第１の単結晶半導体層と、前記第１の単結晶半導体層よりも膜厚の薄い第２の単結晶半導体層とを形成し、
前記遮光層をエッチングして、前記第１の単結晶半導体層と重なる第１の遮光層と、前記第２の単結晶半導体層と重なる第２の遮光層とを形成し、
前記第１の単結晶半導体層に、第１の導電型を示す第１の半導体領域と、第２の導電型を示す第２の半導体領域と、光電変換する機能を有する第３の領域とを形成し、
前記第１の単結晶半導体層を用いて光電変換素子を形成し、
前記第２の単結晶半導体層を用いてトランジスタを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
所定の深さに脆化領域を有する単結晶半導体基板と、ベース基板とを用意し、
前記単結晶半導体基板と前記ベース基板とを、遮光層及び絶縁層とを介して貼り合わせ、
前記脆化領域において前記単結晶半導体基板を分離して、前記ベース基板上に前記遮光層及び前記絶縁層を介して第１の単結晶半導体層を形成し、
前記第１の単結晶半導体層上の一部に非晶質半導体層を形成し、
前記非晶質半導体層を固相成長させ、膜厚の厚い領域と膜厚の薄い領域とを有する第２の単結晶半導体層を形成し、
前記第２の単結晶半導体層をパターニングして、第３の単結晶半導体層と、前記第３の単結晶半導体層よりも膜厚の薄い第４の単結晶半導体層とを形成し、
前記遮光層をエッチングして、前記第３の単結晶半導体層と重なる第１の遮光層と、前記第４の単結晶半導体層と重なる第２の遮光層とを形成し、
前記第３の単結晶半導体層に、第１の導電型を示す第１の半導体領域と、第２の導電型を示す第２の半導体領域と、光電変換する機能を有する第３の領域とを形成し、
前記第３の単結晶半導体層を用いて光電変換素子を形成し、
前記第４の単結晶半導体層を用いてトランジスタを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
次に、マスク２５２を用いて遮光層２０４をエッチングする（図１１（Ｇ）参照）。パターニングの際のエッチング処理には、ウエットエッチングまたはドライエッチングのいずれをも適用することができる。ここでは、Ｃｌ２とＣＦ４とＯ２の混合ガスを反応ガスとしたドライエッチングを行う。次いで、マスク２５２を除去する（図１０（Ｈ）参照）。これにより、表示部となる領域のみ遮光層を除去し、島状の半導体層１５２と重なる領域に遮光層が設けられた半導体装置を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月31日(2013.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造を用意する第１の工程と、
エッチング液がなみなみと入った容器を用意する第２の工程と、
前記容器の上方に前記構造を配置する第３の工程と、を有し、
前記構造は、第１の基板を有し、
前記構造は、前記第１の基板の上方に光電変換素子を有し、
前記構造は、前記光電変換素子の上方に第２の基板を有し、
前記第１の基板は、透光性を有し、
前記第３の工程において、前記第１の基板が前記容器の縁に支えられ、
前記第３の工程において、前記第１の基板がエッチングされることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第３の工程において、前記第１の基板に凹部が形成され、
前記凹部に、樹脂を充填する第４の工程が行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月8日(2013.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体基板の再生方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンの照射および熱処理を経て一部が半導体層として分離することにより、周縁部に損傷半導体領域と絶縁層とを含む凸部が残存した半導体基板に対し、
前記絶縁層が除去されるエッチング処理と、
前記半導体基板を構成する半導体材料を酸化する物質、前記酸化された半導体材料を溶解する物質、および、前記半導体材料の酸化の速度および前記酸化された半導体材料の溶解の速度を制御する物質、を含む混合液を用いて、未損傷の半導体領域よりも前記損傷半導体領域が選択的に除去されるエッチング処理と、
前記半導体基板の表面に酸化膜の形成と、
前記酸化膜の表面からの研磨処理により、前記半導体基板の表面の露出と共に前記半導体基板の表面の平坦化と、
を行うことを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項２】
請求項１において、
オゾンを含む水溶液を用いて、前記酸化膜の形成を行うことを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項３】
イオンの照射および熱処理を経て一部が半導体層として分離することにより、周縁部に損傷半導体領域と絶縁層とを含む凸部が残存した半導体基板に対し、
前記絶縁層が除去されるエッチング処理と、
前記半導体基板を構成する半導体材料を酸化する物質、前記酸化された半導体材料を溶解する物質、および、前記半導体材料の酸化の速度および前記酸化された半導体材料の溶解の速度を制御する物質、を含む混合液を用いて、未損傷の半導体領域よりも前記損傷半導体領域が選択的に除去されるエッチング処理と、
前記損傷半導体領域が選択的に除去されるエッチング処理において部分的に残存した第１の酸化膜が除去されるエッチング処理と、
前記半導体基板の表面に第２の酸化膜の形成と、
前記第２の酸化膜の表面からの研磨処理により、前記半導体基板の表面の露出と共に前記半導体基板の表面の平坦化と、
を行うことを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項４】
請求項３において、
オゾンを含む水溶液を用いて、前記第２の酸化膜の形成を行うことを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項５】
請求項３又は請求項４において、
前記第１の酸化膜が除去されるエッチング処理と、前記第２の酸化膜の形成を繰り返し行うことを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項６】
請求項３乃至請求項５のいずれか一項において、
フッ酸を含む溶液を用いて、前記第１の酸化膜が除去されるエッチング処理を行うことを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記イオンは、水素ガスから生成されるイオン種の総量に対してＨ３＋の割合を５０％以上とすることを特徴とする半導体基板の再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマＣＶＤ装置、及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、
第２の電極と、
前記第１の電極と、前記第２の電極との間に反応ガスを供給することができる機能とを有し、
前記第１の電極は、凹部と、凸部とを有し、
前記第１の電極は、前記反応ガスが流れる中空部に連結したガス供給口を有し、
前記ガス供給口は、前記凹部の一部に、選択的に配置されていることを特徴とするプラズマＣＶＤ装置。
【請求項２】
第１の電極と、ユニットセルと、第２の電極とを有し、
前記ユニットセルは、第１の導電型を示す半導体膜と、光電変換を奏する半導体膜と、第２の導電型を示す半導体膜とを有し、
前記第１の導電型を示す半導体膜、前記光電変換を奏する半導体膜、及び前記第２の導電型を示す半導体膜の少なくとも一つを、プラズマＣＶＤ装置を用いて形成する工程を有し、
前記プラズマＣＶＤ装置は、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と、前記第２の電極との間に反応ガスを供給することができる機能とを有し、
前記第１の電極は、凹部と、凸部とを有し、
前記第１の電極は、前記反応ガスが流れる中空部に連結したガス供給口を有し、
前記ガス供給口は、前記凹部の一部に、選択的に配置されていることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体基板の再生方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周縁部に凸部を有する半導体基板であって、
前記凸部は、表面の絶縁層と、前記絶縁層の下の第１の半導体領域と、前記第１の半導体領域の下の水素イオンを含む第２の半導体領域と、を有し、
前記半導体基板に対して前記絶縁層を除去する第１のエッチング処理を行い、
前記第１のエッチング処理後に、前記第１及び前記第２の半導体領域を除去する第２のエッチング処理を行い、
前記第２のエッチング処理は、前記第１及び前記第２の半導体領域を酸化する物質、酸化された前記第１及び前記第２の半導体領域を溶解する物質、および、前記第１及び前記第２の半導体領域の酸化の速度および酸化された前記第１及び前記第２の半導体領域の溶解の速度を制御する物質、を含む混合液を用いて行われることを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項２】
周縁部に凸部を有する半導体基板であって、
前記凸部は、表面の絶縁層と、前記絶縁層の下の第１の半導体領域と、前記第１の半導体領域の下の水素イオンを含む第２の半導体領域と、を有し、
前記半導体基板に対して前記絶縁層を除去する第１のエッチング処理を行い、
前記第１のエッチング処理後に、前記第１及び前記第２の半導体領域を除去する第２のエッチング処理を行い、
前記第２のエッチング処理は、フッ酸と硝酸と酢酸とを含む混合液を用いて行い、
前記混合液のフッ酸と硝酸と酢酸との体積比は、フッ酸よりは硝酸が大きく、硝酸よりは酢酸が大きいことを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
周縁部に前記凸部を有する前記半導体基板は、前記半導体基板の中央部にあった半導体領域が分離されることにより、形成されることを特徴とする半導体基板の再生方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２のエッチング処理の後に、表面を研磨することを特徴とする半導体基板の再生方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月8日(2013.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上の第１のフォトダイオードおよび第２のフォトダイオードと、
前記第１のフォトダイオードを覆う第１のカラーフィルターと、
前記第２のフォトダイオードを覆う第２のカラーフィルターと、
前記第１のカラーフィルター上に設けられた第１のマイクロレンズと、
前記第２のカラーフィルター上に設けられた第２のマイクロレンズと、を有し、
前記第１のフォトダイオードと第２のフォトダイオードとの間には、前記第１のカラーフィルター及び前記第２のカラーフィルターからなる遮光層が形成されていることを特徴とする光検出装置。
【請求項２】
透光性基板上の第１のフォトダイオードおよび第２のフォトダイオードと、
前記第１のフォトダイオード上に設けられた第１のマイクロレンズと、
前記第２のフォトダイオード上に設けられた第２のマイクロレンズと、
前記第１のマイクロレンズ上を覆う第１のカラーフィルターと、
前記第２のマイクロレンズ上を覆う第２のカラーフィルターと、を有し、
前記第１のフォトダイオードと第２のフォトダイオードとの間には、前記第１のカラーフィルター及び前記第２のカラーフィルターからなる遮光層が形成されていることを特徴とする光検出装置。
【請求項３】
透光性基板上の第１の遮光層及び第２の遮光層と、
前記透光性基板、前記第１の遮光層及び前記第２の遮光層上に接して設けられた透光性絶縁膜と、
前記第１の遮光層上に、前記透光性絶縁膜を介して設けられた第１のフォトダイオードと、
前記第２の遮光層上に、前記透光性絶縁膜を介して設けられた第２のフォトダイオードと、
前記第１のフォトダイオードを覆う第１のカラーフィルターと、
前記第２のフォトダイオードを覆う第２のカラーフィルターと、
前記第１のカラーフィルター上に設けられた第１のマイクロレンズと、
前記第２のカラーフィルター上に設けられた第２のマイクロレンズと、を有し、
前記第１のフォトダイオードと第２のフォトダイオードとの間では、前記第１のカラーフィルターと前記第２のカラーフィルターとが隣接して第３の遮光層が形成されていることを特徴とする光検出装置。
【請求項４】
透光性基板上の第１の遮光層及び第２の遮光層と、
前記透光性基板、前記第１の遮光層及び前記第２の遮光層上に接して設けられた透光性絶縁膜と、
前記第１の遮光層上に、前記透光性絶縁膜を介して設けられた第１のフォトダイオードと、
前記第２の遮光層上に、前記透光性絶縁膜を介して設けられた第２のフォトダイオードと、
前記第１のフォトダイオード上に設けられた第１のマイクロレンズと、
前記第２のフォトダイオード上に設けられた第２のマイクロレンズと、
前記第１のマイクロレンズ上を覆う第１のカラーフィルターと、
前記第２のマイクロレンズ上を覆う第２のカラーフィルターと、を有し、
前記第１のフォトダイオードと第２のフォトダイオードとの間では、前記第１のカラーフィルターと前記第２のカラーフィルターとが隣接して第３の遮光層が形成されていることを特徴とする光検出装置。
【請求項５】
バックライトと、
前記バックライト上の第１の透光性基板と、
前記第１の透光性基板上の液晶層と、
前記液晶層上の第２の透光性基板と、
前記第１の透光性基板上の第１の遮光層と、
前記第１の透光性基板上の第２の遮光層と、
前記第１の遮光層上の第１のフォトダイオードと、
前記第２の遮光層上の第２のフォトダイオードと、
前記第１のフォトダイオードを覆う第１のカラーフィルターと、
前記第２のフォトダイオードを覆う第２のカラーフィルターと、
前記第１のカラーフィルター上に設けられた第１のマイクロレンズと、
前記第２のカラーフィルター上に設けられた第２のマイクロレンズと、を有し、
前記第１のフォトダイオードと第２のフォトダイオードとの間には、前記第１のカラーフィルター及び前記第２のカラーフィルターからなる第３の遮光層を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
第１の透光性基板と、
前記第１の透光性基板上の発光層と、
前記発光層上の第２の透光性基板と、
前記第１の透光性基板上の第１のフォトダイオードと、
前記第１の透光性基板上の第２のフォトダイオードと、
前記第１のフォトダイオードを覆う第１のカラーフィルターと、
前記第２のフォトダイオードを覆う第２のカラーフィルターと、
前記第１のカラーフィルター上に設けられた第１のマイクロレンズと、
前記第２のカラーフィルター上に設けられた第２のマイクロレンズと、を有し、
前記第１のフォトダイオードと第２のフォトダイオードとの間には、前記第１のカラーフィルター及び前記第２のカラーフィルターからなる遮光層を有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月31日(2013.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
５ｎｍ以上１５ｎｍ以下の結晶核から結晶成長を生じさせることにより半導体膜を形成する工程を有し、
前記工程は、プラズマＣＶＤ装置を用いて行われ、
前記プラズマＣＶＤ装置は、第１の電極と第２の電極とを有し、
前記プラズマＣＶＤ装置は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に反応ガスを供給することができる機能を有し、
前記工程において、前記反応ガスの圧力は５００Ｐａ以上１５００Ｐａ以下であり、
前記工程において、前記第１の電極と前記第２の電極との間隔は４ｍｍ以上１６ｍｍ以下であり、
前記工程において、供給される電力は、３ＭＨｚ以上１３．５６ＭＨｚ以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月16日(2013.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リアクトル、リアクトル用部品、及びコンバータ
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻線を螺旋状に巻回してなるコイルと、コイルの内側に配されて閉磁路の一部を構成する内側コア部、及び内側コア部に結合されて閉磁路の残部を構成する連結コア部を有するコアとを備えるリアクトルであって、
前記コイルと前記内側コア部との間に介在される介在樹脂部を有する樹脂部と、
前記介在樹脂部と前記内側コア部との間に介在されて、前記介在樹脂部に作用する応力を緩和する緩衝部材とを備えるリアクトル。
【請求項２】
前記緩衝部材の構成材料は、前記樹脂部の構成樹脂よりもヤング率が小さい請求項１に記載のリアクトル。
【請求項３】
前記樹脂部は、前記コイルと前記コアの組合体の少なくとも一部を覆う外側樹脂部を備え、
前記外側樹脂部の一部が、前記介在樹脂部を構成している請求項１又は請求項２に記載のリアクトル。
【請求項４】
前記樹脂部は、前記コイルの形状を保持する内側樹脂部を備え、
前記内側樹脂部の一部が、前記介在樹脂部を構成している請求項１又は請求項２に記載のリアクトル。
【請求項５】
前記樹脂部の構成樹脂がエポキシ樹脂である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のリアクトル。
【請求項６】
前記緩衝部材が、熱収縮チューブ、常温収縮チューブ、モールド層、コーティング層、及びテープ巻き層の少なくとも一種である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のリアクトル。
【請求項７】
前記コイルは単一のコイル素子からなり、
前記内側コア部は、前記コイル素子に挿入される棒状コア材で、
前記連結コア部は、前記内側コア部の端部に連結してコイル素子の外側に配される外側コア材である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のリアクトル。
【請求項８】
前記コイルは、並列状態に連結された一対のコイル素子からなり、
前記内側コア部は、各コイル素子に挿入される一対の中間コア材で、
前記連結コア部は、両中間コア材をつないで環状のコアを形成するように各中間コア材の端部に配される一対の端部コア材である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のリアクトル。
【請求項９】
前記端部コア材におけるリアクトルの設置側の面及びその反対面の少なくとも一方が、前記内側コア部におけるリアクトルの設置側の面及びその反対面の少なくとも一方よりも突出している請求項８に記載のリアクトル。
【請求項１０】
前記コイルの少なくとも一部を覆って、このコイルの形状を保持する内側樹脂部と、
前記内側樹脂部を備えるコイルと前記コアとの組立体の外周の少なくとも一部を覆う外側樹脂部と、
前記内側樹脂部に一体に形成され、前記外側樹脂部を金型で形成するときに前記組立体を前記金型に対して位置決めするために用いられ、前記外側樹脂部に覆われない位置決め部とを備える請求項８又は請求項９に記載のリアクトル。
【請求項１１】
前記コイルは、両コイル素子を連結する連結部を備え、
前記連結部は、前記両コイル素子のターン形成面よりも突出して設けられており、
前記位置決め部は、前記内側樹脂部において前記連結部を覆う箇所に形成されている請求項１０に記載のリアクトル。
【請求項１２】
前記コアが次の（１）〜（４）のいずれかの構成である請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載のリアクトル。
（１）内側コア部及び連結コア部の双方が磁性粉末の成形体である
（２）内側コア部及び連結コア部の双方が磁性板の積層体である
（３）内側コア部は磁性板の積層体であり、連結コア部は磁性粉末の成形体である
（４）内側コア部は磁性粉末の成形体で、連結コア部は磁性粉末と樹脂との混合物の成形体である
【請求項１３】
巻線を螺旋状に巻回してなるコイルと、コイルの内側以外に配されて閉磁路の一部を構成する連結コア部を有するコアとを備えるリアクトルに用いるリアクトル用部品であって、
前記コイルの内側に配されて閉磁路の残部を構成する内側コア部と、
この内側コア部の外周の少なくとも一部を覆う緩衝部材と、
この緩衝部材で覆われた前記内側コア部を前記コイルと一体化すると共に、そのコイルの形状を保持する内側樹脂部とを備えるリアクトル用部品。
【請求項１４】
前記緩衝部材の構成材料は、前記内側樹脂部の構成樹脂よりもヤング率が小さい請求項１３に記載のリアクトル用部品。
【請求項１５】
請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載のリアクトルを備えるコンバータ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月4日(2013.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信システムにおける短文メッセージサービス（Ｓｈｏｒｔ  Ｍｅｓｓａｇｅ  Ｓｅｒｖｉｃｅ：ＳＭＳ）を支援するための端末の動作方法であって、
アイドルモード（Ｉｄｌｅ  Ｍｏｄｅ）でレンジング応答メッセージを介して基地局から短文メッセージを受信する過程と、
前記基地局から短文メッセージを受信する際、タイマーを始める過程と、
前記タイマーが動作する間に、前記短文メッセージに対するＡＣＫ（ＡＣＫｎｏｗｌｅｄｇｅ）メッセージを送信するためのアップリンク資源割り当てを待機する過程と、
前記ＡＣＫメッセージを送信するためのアップリンク資源を割り当てる過程と、
前記タイマーを中止し前記アップリンク資源を利用して前記ＡＣＫメッセージを送信する過程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
無線通信システムにおける短文メッセージサービスを支援するための基地局の動作方法であって、
レンジング応答メッセージを介して短文メッセージを送信する過程と、
前記短文メッセージを送信した後、タイマーを始める過程と、
前記タイマーが動作する間に、前記短文メッセージに対するＡＣＫメッセージを送信するためのアップリンク資源を割り当てる過程と、
前記短文メッセージに対するＡＣＫメッセージ受信する過程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
無線通信システムにおける短文メッセージサービスを支援するための端末装置であって、
アイドルモードでレンジング応答メッセージを介して基地局から短文メッセージを受信する受信部と、
前記基地局から短文メッセージを受信する際、タイマーを始め、
前記タイマーが動作する間に、前記短文メッセージに対するＡＣＫメッセージを送信するためのアップリンク資源割り当てを待機するとともに、前記ＡＣＫメッセージを送信するためのアップリンク資源を割り当てる制御部と、
前記タイマーを中止し前記アップリンク資源を利用して前記ＡＣＫメッセージを送信する送信部とを備えることを特徴とする装置。
【請求項４】
無線通信システムにおける短文メッセージサービスを支援するための基地局装置であって、
レンジング応答メッセージを介して短文メッセージを送信する送信部と、
前記短文メッセージを送信した後、タイマーを始め、
前記タイマーが動作する間に、前記短文メッセージに対するＡＣＫメッセージを送信するためのアップリンク資源を割り当てる制御部と、
前記短文メッセージに対するＡＣＫメッセージを受信する受信部とを備えることを特徴とする装置。
【請求項５】
前記アイドルモードでレンジングメッセージを介して基地局から短文メッセージ受信する過程は、
前記基地局からページング聴取区間にページングメッセージを介して短文メッセージを受信するための位置登録更新手順要求を受信する過程と、
前記基地局にレンジングコードを送信して、前記レンジングコードに対する応答を受信する過程と、
前記基地局にレンジング要請メッセージを送信する過程と、
前記基地局から前記短文メッセージを含んだレンジング応答メッセージを受信する過程とを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記レンジング応答メッセージを介して短文メッセージを送信する過程は、
端末にページング聴取区間にページングメッセージを介して短文メッセージを受信するための位置登録更新手順要求を送信する過程と、
前記端末からレンジングコードを受信して、前記レンジングコードに対する応答を送信する過程と、
前記端末からレンジング要請メッセージを受信した後、前記端末に前記短文メッセージを含んだレンジング応答メッセージを送信する過程とを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記レンジング要請メッセージは、短文メッセージ情報のための位置更新登録手順であることを指示する情報を含むことを特徴とする請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
前記レンジング応答メッセージは、短文メッセージ情報のための位置更新登録手順成功を指示する情報を含むことを特徴とする請求項５又は６に記載の方法。
【請求項９】
前記アップリンク資源は、ＣＤＭＡ  Ａｌｌｏｃａｔｉｏｎ  Ａ−ＭＡＰ  ＩＥであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１０】
前記アップリンク資源割り当てをデコードするための識別子は、
前記レンジング応答メッセージに含まれるか、又は
前記アイドルモードで用いられる端末識別子に基づいて構成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記ＡＣＫメッセージのＭＡＣヘッダに含まれるＦＩＤ（Ｆｌｏｗ  ＩＤｅｎｔｉｆｉｅｒ）は、
前記レンジング応答メッセージを介して基地局から受信するか、又は
前記短文メッセージの受信応答のために予め定義されたＦＩＤであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１２】
前記タイマーが満了すると、前記アイドルモードに遷移する過程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記受信部は、前記基地局からページング聴取区間にページングメッセージを介して短文メッセージを受信するための位置登録更新手順要求を受信し、前記基地局にレンジングコードを送信して、前記レンジングコードに対する応答を受信し、前記基地局から前記短文メッセージを含んだレンジング応答メッセージを受信し、
前記送信部は、前記基地局にレンジング要請メッセージを送信することを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項１４】
前記送信部は、
端末にページング聴取区間にページングメッセージを介して短文メッセージを受信するための位置登録更新手順要求を送信し、レンジングコードに対する応答を送信し、前記端末に前記短文メッセージを含んだレンジング応答メッセージを送信し、
前記受信部は、前記端末から前記レンジングコードを受信し、前記端末からレンジング要請メッセージを受信することを特徴とする請求項４に記載の装置。