【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年4月4日(2013.4.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
第１の実施態様において、アミン含有ポリマーは、好ましくは、アミノ官能基の窒素原子を隔てる５個以上の連続した原子を有する。例えば、アミン含有ポリマーは、アミノ官能基の窒素原子を隔てる７個以上（例えば１０個以上）の連続した原子を有し得る。従って、ポリビニルアミン（アミノ官能基の窒素原子を隔てる３個の連続した原子を有する）およびポリエチレンイミン（アミノ官能基の窒素原子を隔てる２個の連続した原子を有する）のようなアミン含有ポリマーは、そのようなアミン含有ポリマーとしての適性を有さない。アミン含有ポリマーは、アミノ官能基を含む繰り返し単位を含む縮合ポリマー（例えばポリアミノアミド）であり得る。そのような縮合ポリマーは、ポリアミン単量体の二酸単量体との反応によって製造され得る。好ましくは、縮合ポリマーが、ジエチレントリアミン／アジピン酸の縮合ポリマーである。また、アミン含有ポリマーは、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、または、１種以上のアミン官能基を含む繰り返し単位、およびアミド、酢酸ビニル、ビニルアルコール、エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドからなる群より選択される繰り返し単位を含むコポリマーであり得る。例えば、アミン含有ポリマーが、ビニルアミンとビニルアルコールのコポリマーであり得る。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
本出願では、以下の態様が提供される。
１．  （a）液体キャリヤー、（b）ポリッシングパッドおよび／または研磨材、および（c）アミノ官能基の窒素原子を隔てる５個以上の連続した原子を有する少なくとも１種のアミン含有ポリマーを含む、化学的−機械的ポリッシングシステム。
２．  少なくとも１種のアミン含有ポリマーが、アミノ官能基を含有する繰り返し単位を含む縮合ポリマーである、態様１に記載のシステム。
３．  該縮合ポリマーがポリアミノアミドである、態様２に記載のシステム。
４．  該縮合ポリマーがジエチレントリアミン／アジピン酸縮合ポリマーである、態様３に記載のシステム。
５．  少なくとも１種のアミン含有ポリマーが、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライドである、態様１に記載のシステム。
６．  少なくとも１種のアミン含有ポリマーが、アミン官能基を含有する繰り返し単位、および、アミド、ビニルアセテート、エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドからなる群より選択される繰り返し単位を含むコポリマーである、態様１に記載のシステム。
７．  少なくとも１種のアミン含有ポリマーが、アミノ官能基の窒素原子を隔てる７個以上の連続した原子を有する、態様１に記載のシステム。
８．  少なくとも１種のアミン含有ポリマーが、アミノ官能基の窒素原子を隔てる１０個以上の連続した原子を有する、態様１に記載のシステム。
９．  過−タイプ（per-type）の酸化剤を更に含む、態様１に記載のシステム。
１０．  該過−タイプの酸化剤が、過酸化物類、過硫酸塩類、過ヨウ素酸塩類、過マンガン酸塩類からなる群より選択されるものである、態様９に記載のシステム。
１１．  錯生成剤を更に含む、態様１に記載のシステム。
１２．  （a）液体キャリヤー、（b）ポリッシングパッドおよび／または研磨材、および（c）１種以上のアミン官能基を含む少なくとも１種のポリマーブロックといかなるアミン官能基も含まない少なくとも１種のポリマーブロックを有する、少なくとも１種のアミン含有ブロックコポリマーを含む、化学的−機械的ポリッシングシステム。
１３．  少なくとも１種のアミン含有ブロックコポリマーが、ＡＢジブロック、ＡＢＡトリブロック、またはＡＢＣトリブロックのコポリマーである、態様１２に記載のシステム。
１４．  １種以上のアミン官能基を含むポリマーブロックが、該アミン含有ブロックコポリマーの１０重量％以上である、態様１２に記載のシステム。
１５．  １種以上のアミン官能基を含むポリマーブロックが、該アミン含有ブロックコポリマーの２０重量％以上である、態様１４に記載のシステム。
１６．  １種以上のアミン官能基を含むポリマーブロックが、該アミン含有ブロックコポリマーの４０重量％以上である、態様１２に記載のシステム。
１７．  少なくとも１種のアミン含有ブロックが、アミノ官能基の窒素原子を隔てる５個以上の連続した原子を有するものである、態様１２に記載のシステム。
１８．  （i）第１の金属含有層および第２の層を含む基板を提供する工程、尚、そこでは該第１および第２の層が同一ではない、（ii）（a）液体キャリヤー、（b）ポリッシングパッドおよび／または研磨材、および（c）（１）アミノ官能基の窒素原子を隔てる少なくとも５個以上の連続した原 子を有する少なくとも１種のアミン含有ポリマー、または（２）１種以上のアミン官能基を含む少なくとも１種のポリマーブロックといかなるアミン官能基も含まない少なくとも１種のポリマーブロックを有する少なくとも１種のアミン含有ブロックコポリマーを含む化学的−機械的ポリッシングシステムを提供する工程、（iii）該基板を該化学的−機械的ポリッシングシステムと接触させる工程、および（iv）該基板の少なくとも一部を研磨して、該基板をポリッシングする工程を含む、多層基板の１層以上の層をポリッシングする方法。
１９．  該第１の金属含有層が、銅、タンタル、チタンまたはタングステンを含む、態様１８に記載の方法。
２０．  該第１の金属含有層が、白金、イリジウム、レ二ウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウムおよび金からなる群より選択される貴金属を含む、態様１８に記載の方法。
２１．  該貴金属が白金である、態様２０に記載の方法。
２２．  該貴金属がイリジウムである、態様２０に記載の方法。
２３．  該貴金属がルテニウムである、態様２０に記載の方法。
２４．  該第２の層が金属酸化物を含む、態様１８に記載の方法。
本発明の好ましい実施態様が、本発明の実施のために発明者らの知る最良の態様を含めて、ここに記載される。これらの好ましい実施態様の変形が、当業者にとって前記の記載を読んで明らかになるかもしれない。本発明者らは、そのような変形を妥当なように使用することを当業者に期待しており、また、本発明者らは、ここに特定して記載されるものと別なように本発明が実施されることを意図している。従って、本発明は、適用される法律で許されるようにここに添付される請求項に列挙される要件についての全ての変形および均等なものを含む。さらに、上記記載要素の全ての可能な変形におけるいかなる組み合せも、ここで違ったように示されない限り、または文脈によって違ったように明確に否定されない限り、本発明によって囲い込まれている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（a）液体キャリヤー、
（b）ポリッシングパッドおよび／または研磨材、および
（c）アミン官能基の窒素原子を隔てる５個以上の連続した原子を有する、アミン官能基を含有する繰り返し単位を含む縮合ポリマーであるポリアミノアミドおよびポリジアリルジメチルアンモニウムクロライドからなる群から選択される、１種以上のアミン官能基を含む少なくとも１種のポリマーブロックと、いかなるアミン官能基も含まない少なくとも１種のポリマーブロックを有し、且つ、ＡＢジブロック、ＡＢＡトリブロック、またはＡＢＣトリブロックのコポリマーであるアミン含有ブロックコポリマー
を含む、化学的−機械的ポリッシングシステム。
【請求項２】
１種以上のアミン官能基を含むポリマーブロックが、該アミン含有ブロックコポリマーの１０重量％以上である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
１種以上のアミン官能基を含むポリマーブロックが、該アミン含有ブロックコポリマーの２０重量％以上である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
１種以上のアミン官能基を含むポリマーブロックが、該アミン含有ブロックコポリマーの４０重量％以上である、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
（i）第１の金属含有層および第２の層を含む基板を提供する工程、尚、そこでは該第１および第２の層が同一ではない、
（ii）（a）液体キャリヤー、
（b）ポリッシングパッドおよび／または研磨材、並びに
（c）アミン官能基の窒素原子を隔てる５個以上の連続した原子を有する、アミン官能基を含有する繰り返し単位を含む縮合ポリマーであるポリアミノアミドおよびポリジアリルジメチルアンモニウムクロライドからなる群から選択される、１種以上のアミン官能基を含む少なくとも１種のポリマーブロックと、いかなるアミン官能基も含まない少なくとも１種のポリマーブロックを有し、且つ、ＡＢジブロック、ＡＢＡトリブロック、またはＡＢＣトリブロックのコポリマーであるアミン含有ブロックコポリマー
を含む、化学的−機械的ポリッシングシステムを提供する工程、
（iii）該基板を該化学的−機械的ポリッシングシステムと接触させる工程、および
（iv）該基板の少なくとも一部を研磨して、該基板をポリッシングする工程
を含む、多層基板の１層以上の層をポリッシングする方法。
【請求項６】
該第１の金属含有層が、銅、タンタル、チタンまたはタングステンを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
該第１の金属含有層が、白金、イリジウム、レ二ウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウムおよび金からなる群より選択される貴金属を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
該貴金属が白金である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
該貴金属がイリジウムである、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
該貴金属がルテニウムである、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
該第２の層が金属酸化物を含む、請求項５に記載の方法。