(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被マーキング物品を載置したステージと、該ステージの上方に配置したマーキングユニットとを相対移動させながら前記マーキングユニットからレーザビームを前記被マーキング物品上に照射し、複数の識別コードを前記相対移動の方向に所定のピッチでかつ前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなすマトリックス状にマーキングする方法において、前記１ユニットのマーキングユニットが前記相対移動方向に１ピッチを移動する間に、一つのレーザ光源から出力した一本のレーザビームを、ビーム照射角度変更手段を用いて走査照射することにより、前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなす識別コードをマーキングすることを特徴とするレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
【請求項２】
前記マーキングユニットが相対移動方向に１ピッチを移動する間に、前記レーザビームの照射方向を相対移動方向と交差する方向へ変更して隣接列の識別コードをマーキングする請求項１に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
【請求項３】
前記識別コードが文字及び／又は２次元図形からなる請求項１又は２に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
【請求項４】
前記被マーキング物品がフォトレジスト塗布基板である請求項１、２又は３に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
【請求項５】
前記フォトレジスト塗布基板が液晶パネル製造用である請求項４に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング方法。
【請求項６】
被マーキング物品を載置するステージと、該ステージの上方に該ステージと相対移動可能に設けたマーキングユニットと、該マーキングユニットにレーザビームを供給するため一つのレーザビーム照射機構とを備え、前記１ユニットのマーキングユニットは、該マーキングユニットが前記相対移動の方向に１ピッチを移動する間に、前記一つのレーザビーム照射機構から出力した一本のレーザビームの照射方向を、前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなす識別コードをマーキングするように変更させるビーム照射角度変更手段を備えることを特徴とするレーザビームによる識別コードのマーキング装置。
【請求項７】
前記被マーキング物品がフォトレジスト塗布基板である請求項６に記載のレーザビームによる識別コードのマーキング装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームによる識別コードのマーキング方法及び装置に関し、更に詳しくは、液晶パネル製造工程等において基板に履歴管理や品質管理等の識別コードをレーザビームにより露光或は直接彫り込むマーキング方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、液晶パネルの製造工程では、フォトレジスト（即ち、感光樹脂）が塗布されたガラス基板に、レーザビームのパターン露光装置によってマトリックス状に配列した多数の回路パターンを露光する他に、識別露光装置によって基板識別コードやパネル識別コード等を露光し、また周辺露光装置によって基板周辺部分の不要レジスト部分を露光してから、現像装置により現像処理する。このように現像処理が済んだガラス基板は、複数の回路パターン毎の単位に分割されて液晶パネルが製作される。
【０００３】
図１４は、上記のように露光処理の後に現像処理をして得られたガラス基板を例示したものである。
【０００４】
ガラス基板５０の表面には、多数の液晶パネル５１が６枚×６枚に多列にマトリックス状に配列して露光されると共に、基板周辺に履歴管理や品質管理等のための基板識別コード５０ａがマーキングされている。また、ガラス基板５０に露光された複数の液晶パネル５１には、分割後でも個々の液晶パネル５１が特定できるように配列番号等のパネル識別コード５１ａがマーキングされ、更に個々の液晶パネル５１を縦列の各縦列毎に、その分断単位が管理できるように分断位置情報等の分断基板識別コード５０ｂがマーキングされている。
【０００５】
上記のように大型のガラス基板５０から複数の小型の液晶パネル５１を分離して製造する場合には、分断基板識別コード５０ｂやパネル識別コード５１ａなどが必要になる。但し、ここに例示した基板識別コード５０ａ、分断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１ａなどの呼称や分割数等はあくまでも一例であり、液晶パネルの種類等により変わることはいうまでもない。
【０００６】
従来、上記のような基板識別コード５０ａ、分断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１ａ等の識別コードのマーキング方法は、レーザビーム照射機構を備えたマーキングユニットを一定位置に固定しておき、他方ガラス基板を保持したステージをＮＣ制御によって一定の速度で縦横に移動しながら、そのガラス基板の所定の位置に、上記マーキングユニットのレーザビーム照射機構からレーザビームを照射して識別コードをマーキングしていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の方法は、レーザビーム照射機構を備えたマーキングユニットと基板を載せたステージとを相対的に移動させながら、識別コードを１列ずつ走査照射してマーキングする方法であるため、パネルが小型化して１枚の基板当たりに配列するパネル数が多くなると、必然的に走査照射する回数が増えるため、生産性が低下する原因になっていた。
【０００８】
この生産性の低下を防止する対策として、マーキング装置１台当たりに設けるマーキングユニットの数を増やすということが考えられたが、その設置数の増加によって設置場所を広くとる必要が生じ、装置が大型化してしまうという問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、装置の大型化を招くことなく識別コードのマーキングを効率よく行い、生産性を向上するレーザビームによる識別コードのマーキング方法及び装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明のレーザビームによる識別コードのマーキング方法は、被マーキング物品を載置したステージと、該ステージの上方に配置したマーキングユニットとを相対移動させながら前記マーキングユニットからレーザビームを前記被マーキング物品上に照射し、複数の識別コードを前記相対移動の方向に所定のピッチでかつ前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなすマトリックス状にマーキングする方法において、前記１ユニットのマーキングユニットが前記相対移動方向に１ピッチを移動する間に、一つのレーザ光源から出力した一本のレーザビームを、ビーム照射角度変更手段を用いて走査照射することにより、前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなす識別コードをマーキングすることを特徴とするものである。
【００１１】
従来のマーキング方法では、マーキングユニットを相対移動させるとき１列ずつの識別コードを所定ピッチでマーキングするため、識別コードをマーキングしてから次の識別コードをマーキングする迄はレーザビームを照射しない空白期間になっている。本発明は、マーキングユニットが１ピッチを相対移動する間の空白期間を利用し、隣接する列の識別コードをマーキングして複数列をマーキングするようにしたので、従来のマーキング方法と同じ１ピッチを相対移動する間に倍以上の数の識別コードをマーキングすることができる。したがって、マーキングユニットを増やすなど装置を大型化しなくても、生産量の増大を図ることができる。
【００１２】
また、上記マーキング方法を実施可能にする本発明のマーキング装置は、被マーキング物品を載置するステージと、該ステージの上方に該ステージと相対移動可能に設けたマーキングユニットと、該マーキングユニットにレーザビームを供給するため一つのレーザビーム照射機構とを備え、前記１ユニットのマーキングユニットは、該マーキングユニットが前記相対移動の方向に１ピッチを移動する間に、前記一つのレーザビーム照射機構から出力した一本のレーザビームの照射方向を、前記相対移動の方向に交差する方向に複数列をなす識別コードをマーキングするように変更させるビーム照射角度変更手段を備えることを特徴とするものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図に示す本発明の実施形態を参照して、具体的に説明する。
【００１４】
図１は、本発明の実施形態からなるレーザビームによる識別コードのマーキング装置を例示したものである。
【００１５】
図１において、１はレーザビーム照射機構を備えたマーキングユニット、２は被マーキング物品の基板を保持する基板保持ステージである。基板保持ステージ２の上には、フォトレジスト塗布基板５０が載置されている。フォトレジスト塗布基板５０は、基板の表面にフォトレジスト、つまり感光樹脂を塗布して構成されている。
【００１６】
上記フォトレジスト塗布基板５０は、不図示の移載ロボットやコンベアなどの基板搬送出機構により搬送されて基板保持ステージ２の上に載置される。基板保持ステージ２には、直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向とに独立に移動する駆動機構と、ステージ２の面中心に垂直な方向の軸を中心に回転する回転駆動機構（いずれも図示せず）が取り付けられ、Ｘ軸方向とＹ軸方向の水平移動と回転運動とが行えるようになっている。
【００１７】
基板保持ステージ２にフォトレジスト塗布基板５０が搬送されると、基板支持ピン（図示せず）が降下してフォトレジスト塗布基板５０が基板保持ステージ２上に降ろされ、そのステージ２上に設けた穴や溝に作用する負圧により吸着保持される。
【００１８】
フォトレジスト塗布基板５０が基板保持ステージ２上に置かれる位置は常に一定でないため、予め登録された基準位置からどの程度ずれがあるか測定される。位置測定は変位センサやＣＣＤカメラと画像処理による変位測定方法が一般的であるが、フォトレジスト塗布基板５０を基板保持ステージ２に保持する前に基準になる場所に横から押さえ込み、位置合わせする方法をとってもよい。
【００１９】
基板５０を保持したステージ２は、ＮＣ制御によって予め登録されたデータをもとに識別コードの露光開始位置へ移動する。露光開始位置は事前に登録しておき、ずれ量を補正計算した状態にして識別コードの露光を実施する。
【００２０】
マーキングユニット１は、レーザ光源（図示せず）から出力した１本のレーザビーム１０を、ビームスプリッター２１で１１と１２に分岐させ、直進したレーザビーム１１はプリズム２２で角度を変える。分岐後に角度変更されたレーザビーム１２と１３は、それぞれビーム偏向機構２３を通り、このビーム偏向機構２３で時系列的に角度を変えられたレーザビーム１４〜１４ｚになる。これらレーザビーム１４〜１４ｚはレンズ２４で平行ビーム１５〜１５ｚに矯正される。
【００２１】
次いで、平行ビーム１５〜１５ｚは、アパーチャ２５のような遮光材を用いることにより、基板５０の所定の位置だけに照射するため余分な範囲のビームを、図２（Ａ）〜（Ｄ）のように処理してカットする。
【００２２】
図２（Ａ）はビーム偏向機構２３で偏向されないレーザビーム（所謂０次光）の出射の様子を示す。偏向されずに照射された０次のレーザビーム１４はレンズ２４を通り、アパーチャ２５で遮光される０次のレーザビーム１５になる。このアパーチャ２５は、必ずしも図示のようにレンズ２４の下流に配置しなくてもよく、ビーム偏向機構２３と被マーキング部品である基板５０との間に配置されていればよい。
【００２３】
図２（Ｂ）〜（Ｄ）は、ビーム偏向機構２３でビーム角度を変えられて選択照射されたレーザビーム（いわゆる１次光）の出射の様子を示す。ビーム偏向機構２３は、所謂音響光学効果を利用して或る一定の周波数で制御信号（図示せず）を印加すると、偏向されない０次のレーザビームのほか、図２（Ｂ）に示すように偏向された１次のレーザビーム１４ａが出射される。この１次のレーザビーム１４ａは、レンズ２４を通ることにより平行な１次のレーザビーム１５ａになり、アパーチャ２５を通過して選択照射された１次のレーザビーム１６ａになる。
【００２４】
ビーム偏向機構２３から出射される１次のレーザビームの偏向角度は、印加された制御信号の周波数により変わる。図２（Ｃ）に示すように偏向照射された１次のレーザビーム１４ｆは、レンズ２４を通ることにより平行光の１次のレーザビーム１５ｆになり、アパーチャ２５を通過して選択照射された１次のレーザビーム１６ｆとなる。また、図２（Ｄ）に示すように偏向照射された１次のレーザビーム１４ｚは、レンズ２４を通ったのちアパーチャ２５で遮光される１次のレーザビーム１５ｚになる。
【００２５】
ビーム偏向機構２３からは、これら０次光や１次光の他に、−１次光や２次光などと呼ばれる光線およびその他の変調成分の光線が出射されるが、それらはアパーチャ２５で遮光されたり、自らの筐体で遮光されたり、またはそれらのエネルギーが弱いために出射されていないものとして扱ってもほとんど問題無い。
【００２６】
アパーチャ２５を通過して選択照射されたレーザビーム１６ａ〜１６ｆは、ミラー３１などの光学的角度変更手段により照射角度が変えられる。ミラー３１により角度を変えられたレーザビーム１７ａ〜１７ｆは、レンズ２６によってレーザビーム１８ａ〜ｆに集光され、フォトレジスト塗布基板５０に照射されてフォトレジストを感光する。レンズ２６は、Ｆθレンズと呼ばれるものが一般的に使用されるが、その他のレンズを使用してもよく、またその他の光学部材を組み合わせて使用してもよい。
【００２７】
本発明のマーキング装置には、上述した構成において、上記ミラー３１の回転軸に回転機構３２が取り付けられ、この回転機構３２の回動によりミラー３１をｙ軸方向に対して傾動させ、ミラー３１に反射するレーザビーム１７ａ〜１７ｆの照射方向を、ｙ軸方向に移動させることができるようになっている。さらに、この回転機構３２を支持するＬ状の取付枠３３に、回転機構３２の回転軸と直交する方向の回転軸を有する別の回転機構３４が取り付けられ、この回転機構３４を回動させることにより、ミラー３１に反射するレーザビーム１７ａ〜１７ｆの照射方向をｘ軸方向に移動させることができるようになっている。
【００２８】
上記ミラー３１の回転機構３２、取付枠３３の回転機構３４は、本発明においてレーザビーム照射方向の角度変更手段を構成している。それぞれ回転機構３２及び３４を僅かな角度だけ回動させると、図３に示すように、レーザビーム１７ａ〜１７ｆ，１８ａ〜１８ｆの基板５０に対する照射位置を、鎖線で図示する位置（図１では実線で図示する位置）から、実線で図示する斜め後方の位置へ変更させることができる。
【００２９】
次に、上述した本発明のマーキング装置を使用し、図４に示すようにフォトレジスト塗布基板５０に形成した１２枚×１２枚（＝１４４枚）の液晶パネル５１のそれぞれにパネル識別コード５１ａをマーキングする本発明のマーキング方法について説明する。識別コードは文字及び／又は２次元図形から形成される。
【００３０】
まず、従来のマーキング方法の場合には、本発明に設けられるような角度変更手段を有していないため、ステージ２をマーキングユニット１に対して相対移動させると、図５に示すように、マーキングユニット１がレーザービームを１列ずつのパネル識別コード５１ａを走査照射方向６１に番号（１），（２），（３）・・・の照射順序６２で時系列的に選択照射し、一定のピッチで配列する識別マーク５１ａを露光するようにしていた。この場合、マーキングユニット１が１ユニットであれば１列ずつ１２回の走査照射をする必要があり、２ユニットを設けていれば、各ユニット毎に１列ずつ６回の走査照射をする必要があった。
【００３１】
これに対して本発明のマーキング方法においては、角度変更手段を使用することにより、図６に示すように１回の走査照射に２列ずつマーキングを行うことができる。
【００３２】
すなわち、１回の走査照射を行うとき、図３で説明したように角度変更手段の作動により、基板５０に対するレーザビーム１７ａ〜１７ｆ，１８ａ〜１８ｆの照射位置を、鎖線で図示する位置と実線で図示する位置とに交互に変更しながら、走査照射方向６１に２列の識別コード５１ａを一定ピッチで並ぶようにマーキングする（図６参照）。即ち、照射順序６２で示す（１），（２），（３）・・・の順序番号が奇数のときは、角度変更手段の回動角度を図３の鎖線の姿勢にし、偶数のときは角度変更手段の回動角度を図３の実線の姿勢に時系列的に変えてレーザビームの照射方向を選択し、２列の識別コード５１ａを一定ピッチで並ぶようにマーキングする。
【００３３】
換言すると、識別コードが照射順序（１），（３），（５）番の順に並ぶ列では、（１）番の識別コードのマーキングを終了し次の（３）番の識別コードのマーキングを開始するまでの空白期間に、隣列の（２）番の識別コードのマーキングを行い、また（３）番の識別コードのマーキングを終了し次の（５）番の識別コードのマーキングを開始するまでの空白期間に、隣列の（４）番の識別コードのマーキングを行う。また、識別コードが照射順序（２），（４），（６）番の順に並ぶ列では、（２）番の識別コードのマーキングを終了し次の（４）番の識別コードのマーキングを開始するまでの空白期間に、隣列の（３）番の識別コードのマーキングを行い、また（４）番の識別コードのマーキングを終了し次の（６）番の識別コードのマーキングを開始するまでの空白期間に、隣列の（５）番の識別コードのマーキングを行うようになっている。
【００３４】
このように１回の走査照射を行うとき、複数列の単位で識別コードのマーキングを行うため、図１の実施形態のようにマーキングユニット１を２ユニット設けていれば、１枚の基板５０に対して実施する走査照射回数は３回だけですみ、またマーキングユニット１が１ユニットだけのときは６回ですむことになる。したがって、同一時間内に従来のマーキング方法の倍以上の数の識別コードのマーキングを行うことが可能になる。
【００３５】
上述した実施形態では、角度変更手段の角度を２段階に変えて、１回の走査照射に２列の識別コードをマーキングする場合について説明したが、識別コードのピッチ間の空白時間が許容する限り、図７に示すように３段階に変えても、或いはそれ以上に変えてもよい。また、このときの集束用のレンズ２６は、図７のように単一であってもよいが、図８の例のように各段階毎に集束レンズ２６ａ，２６ｂ，２６ｃを設けるようにしてもよい。この場合、レンズ２６ａ，２６ｂ，２６ｃの数は変更する照射方向の数によって変わること、及びそれぞれの位置が位置調節機構（図示せず）により調節可能であることはいうまでもない。
【００３６】
また、上述した実施形態では、マーキングユニット１を所定位置に固定した状態にし、基板保持ステージ２の方を直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向に移動すると共に、回動する構成にしたものを説明したが、これを逆にして、マーキングユニット１の方がＸ軸方向やＹ軸方向に移動すると共に、回動するようにしたものであってもよい。また、マーキングユニット１は１ユニットだけでもよい。
【００３７】
角度変更手段としては、回転機構３２と３４を組み合わせた例を示したが、図９に示すように、例えばガルバノスキャナー３５，３６によるミラー角度変更機構を組み合わせたものでもよい。また、角度変更手段としては、ガルバノスキャナー３５，３６を図１０や図１１に例示するような配置や組合せにしたものであってもよい。
【００３８】
また、レーザビームを複数に分岐させる手段として、ビーム偏向機構２３による例を示したが、複数列のビームを照射する手段としては、図１２に示すような回折光学素子などのビーム分岐フィルター３７を使用するものであってもよい。このビーム分岐フィルター３７で分岐されたレーザビーム４１はレンズ２４で平行なレーザビーム４２になり、それぞれのレーザビーム４２が独立して角度変更機構３８に照射される。これら角度変更機構３８で反射されたレーザビーム４３はアパーチャ２５で選択照射されたレーザビーム４４となり、さらにミラー３１で角度を変えてレーザビーム１７ａ〜１７ｆになる。この他にもビームを分岐照射させる手段としては、ガルバノスキャナー又はポリゴンミラーに代表される多角形ミラーなどを利用する方法及びその他の手段を用いることも可能である。
【００３９】
また、実施形態では、説明を簡単にするため６段階に選択照射された１次のレーザビーム１６ａ〜１６ｆと遮光される１次のレーザビーム１５ｚを示した。しかし、実際のマーキングにおいては、図１３のマーキング例に示すような９段階やそれ未満の場合、さらに細分化されて１０段階以上の場合があり、角度切り替え段数は所望する任意の段数であって差し支えないことはいうまでもない。
【００４０】
また、実施形態では、レーザビーム１０を２分岐させた場合について説明したが、これは分岐させない場合であっても、またビームスプリッタを複数個用いて多分岐させる場合であってもよい。また、ビームスプリッタ２１は光線を分岐するための手段であるので、ハーフミラーなどの他の手段であってもよいことは勿論である。また、２ユニットのマーキングユニット１を並列に配置した例を示したが、それらの間隔は移動機構（図示せず）により移動可能にし、識別コードのマーキング場所を任意に変更できることはいうまでもない。
【００４１】
【実施例】
図１の識別コードマーキング装置でフォトレジスト基板に識別コードをマーキングするに当たり、レーザビームとしてＹＡＧレーザの第３高調波である波長λ＝３５５ｎｍのレーザビームを使用し、基板に塗布するフォトレジストとして、この波長で感光する樹脂を選択した。
【００４２】
それぞれの識別コードは、高さ２０ドット×長さ１００ドットの格子からなるものとし、それぞれの大きさは、高さ２ｍｍ×長さ１０ｍｍとする。つまり、それぞれのドット中心とドット中心との距離つまりドットピッチは０．１ｍｍとなる。
【００４３】
レーザビームのパルス周波数ｆは６０ｋＨｚに設定し、ビーム変更機構２３によって識別コードの高さ方向にビームを時系列的に偏向照射させる。この時に選択照射のために識別コードの長さ方向には、３ｋＨｚで次のパルスが出力されることになる。
【００４４】
この時、ステージの移動速度ｖ＝３００ｍｍ／秒に設定すれば、識別コードの長さ方向におけるドットピッチｄｙ＝０．１ｍｍとなる。
【００４５】
ガラス基板の長辺方向の長さＬｘ＝６５０ｍｍ、短辺方向の長さＬｙ＝５５０ｍｍとする。
【００４６】
図４に示すように、１枚のガラス基板から縦横に１２×１２枚に分割して、長辺方向の長さｐｘ＝５４ｍｍ、短辺方向の長さｐｙ＝４０ｍｍのパネルそれぞれに対して識別コードをマーキングするものとする。
【００４７】
従来の方式でマーキングユニット１が２ユニットの場合、図５に示すように６回の走査露光動作を行うことになる。この時、露光する識別コードの長さは１０ｍｍで個々のパネルの長辺方向に露光マーキングするものとする。この場合、露光終了位置から次の露光開始位置までの長さ４４ｍｍは、移動に要する時間となっていた。
【００４８】
本発明の方式により１回の走査露光中に２方向への振り分け動作を行うことにより、図６に示すように３回の走査動作で所定の露光が行える。また、図７に示すように３カ所への振り分け動作を行えば、２回の走査動作で所定の露光が可能である。さらにマーキングユニットの数を増やせば、それぞれの走査動作回数を減らすことが出来る。
【００４９】
上記のいずれの場合も、従来方式では識別コードを露光していなかった時間を隣接する列及び／又はその他の列に対してマーキングする。従って、１回の走査照射にかかる時間は同様であるので、走査照射の回数が減少することによって基板１枚当たりの処理時間を短縮することができ、それにより単位時間当たりの基板処理枚数、つまりスループットを多くすることができる。
【００５０】
ここで示した基板の走査速度ｖやコードの大きさはあくまでも一例であり、実際に使用する形態によって変わる。しかも、ドット状のパターンは正確な円形や四角形である必要はなく、三角形や六角形やその他の多角形角およびそれらの角が丸くなったもの、あるいはその他の幾何学図形からなる場合や、隣り合うドットどうしがつながっている場合や独立している場合でも識別コードとしての認識は可能である。
【００５１】
実際にはビーム内のエネルギー分布は均等でない場合も多いが、その場合でもレジストに与えるエネルギーが十分あれば感光される。また、実際の露光エネルギーとレジストの感度、光学系の組み付け精度や表面反射などにより、厳密に完全な正方形とならないことがあるが、識別コードの視認性に問題の無い場合がほとんどである。
【００５２】
本実施例で述べた諸データはあくまでも一例であり、フィルターやレンズの形状や間隔や組み合わせを変えることにより、ビーム形状を円形や多角形など自在に変えることができる。また、使用するレーザビームも本実施例のようなパルスビームでなく、連続波である場合にも応用可能である。
【００５３】
また、本実施例ではフォトレジスト塗布基板への露光マーキングについて説明したが、使用するレーザの種類を変更して他の波長での露光だけでなく、金属成膜付基板やガラス基板、シリコンウェハー基板への彫り込み（ダイレクトマーキング）を行う場合にも有効である。
【００５４】
【発明の効果】
上述したように本発明によれば、マーキングユニットが１ピッチを相対移動する間の空白期間を利用し、隣接する列の識別コードをマーキングして複数列をマーキングするようにしたので、従来のマーキング方法と同じ１ピッチを相対移動する間に倍以上の数の識別コードをマーキングすることができる。
【００５５】
更に、マーキングすべき列数が増えてもマーキングユニットを増やす必要がないので、装置が大型化せず、従来方式で複数列マーキングするものと比較すると装置を簡素化または小型化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態からなるマーキング装置を例示する該略図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｄ）は、図１のマーキング装置におけるビーム偏向機構による偏向作用の様子を示す説明図である。
【図３】図１のマーキング装置により複数列のマーキングを行う操作を示す説明図である。
【図４】面取り数の多い基板に識別コードを配置した例を示す平面図である。
【図５】図４の基板に従来方法でパネル識別コードを露光するときの走査照射順序を示す説明図である。
【図６】図４の基板に本発明の方法でパネル識別コードを露光するときの走査照射順序を示す説明図である。
【図７】図１のマーキング装置により複数例のマーキングを行う操作の他の例を示す説明図である。
【図８】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図９】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図１０】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図１１】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図１２】本発明の方法により複数例のマーキングを行う操作の更に他の例を示す説明図である。
【図１３】識別コードのマーキングイメージ図である。
【図１４】基板上の識別コードの配置例を示す平面図である。
【符号の説明】
１  マーキングユニット
２  基板保持ステージ
１０，１１，１２，１３，１４，１４ａ〜１４ｆ，１５，１５ａ〜１５ｆ，１６ａ〜１６ｆ，１７ａ〜１７ｆ，１８ａ〜１８ｆ  レーザビーム
２３  ビーム偏向機構
２５  アパーチャ
２６，２６ａ〜２６ｃ  集光レンズ
３１  反射ミラー
３２，３４  回転機構（角度変更手段）
３３  取付枠
３５，３６  ガルバノスキャナー（角度変更手段）
５０  フォトレジスト塗布基板
５１  液晶パネル
５１ａ  パネル識別コード
６１  走査照射方向
６２  識別コードの照射順序
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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