Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月4日(2012.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
また、図１２には、図１（ａ）のパターンを形成するための更に別の例示的フォトマスク４４を示している。フォトマスク４４の場合、遮光部１２ａ及び１２ｂがマスクパターン１４ａ及び１４ｂの周縁部に配置されている点では図１（ｂ）のフォトマスク４０と同様である。但し、半遮光部１３ａ及び１３ｂを囲む遮光部１２ａ及び１２ｂについて、平面形状の凸コーナー部７１における幅Ｂ２が、凹コーナー部７２における幅Ｂ３よりも大きくなっている。これは、光近接効果補正（ＯＰＣ：optical proximity correction）を考慮した形状である。このようなマスクパターンとすることにより、凸コーナー部７１、凹コーナー部７２のいずれにおいても、転写後のパターンの形状を改善（矩形性を向上）することができる。尚、密集マスクパターン１５において、両端の幅が広くなっているのも同様の理由による。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板上に、スペースを挟んで対向する部分を有するように形成された第１マスクパターン及び第２マスクパターンを備え、
前記第１マスクパターンは、光を部分的に透過させる半遮光部と、遮光部とを含み、
前記第１マスクパターンにおいて、前記半遮光部は、前記遮光部を挟んで前記スペースと対向する部分を有するように配置され、
前記第１マスクパターンと前記第２マスクパターンとの対向方向について、
前記第１マスクパターンの寸法は、（０．７×λ／ＮＡ）×Ｍよりも大きく、
前記スペースの寸法は、（０．５×λ／ＮＡ）×Ｍ以下であることを特徴とするフォトマスク（但し、λは露光光の波長であり、ＮＡは露光機の縮小投影光学系の開口数であり、Ｍは前記縮小投影光学系の倍率である）。
【請求項２】
請求項１のフォトマスクにおいて、
前記第２マスクパターンは遮光部からなり、
前記第１マスクパターンと前記第２マスクパターンとの対向方向について、
前記第２マスクパターンの寸法は、（０．７×λ／ＮＡ）×Ｍ以下であることを特徴とするフォトマスク。
【請求項３】
請求項１のフォトマスクにおいて、
前記半遮光部及び前記遮光部は、前記第２マスクパターンにも他の半遮光部及び他の遮光部として含まれており、
前記第２マスクパターンにおいて、前記他の半遮光部は、前記他の遮光部を挟んで前記スペースと対向するように配置されていることを特徴とするフォトマスク。
【請求項４】
請求項３のフォトマスクにおいて、
前記第１マスクパターンと前記第２マスクパターンとの対向方向について、
前記第２マスクパターンの寸法は、（０．７×λ／ＮＡ）×Ｍよりも大きいことを特徴とするフォトマスク。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つのフォトマスクにおいて、
前記第１マスクパターンと前記第２マスクパターンとの対向方向について、前記遮光部の寸法及び前記半遮光部の寸法は、λ、ＮＡ及びＭに基づいて設定されていることを特徴とするフォトマスク（但し、λは露光光の波長であり、ＮＡは露光機の縮小投影光学系の開口数であり、Ｍは前記縮小投影光学系の倍率である）。
【請求項６】
請求項５のフォトマスクにおいて、
前記遮光部の寸法は、（０．１３×λ／ＮＡ）×Ｍ以上であることを特徴とするフォトマスク。
【請求項７】
請求項５又は６のフォトマスクにおいて、
前記遮光部の寸法は、（１．１３×λ／ＮＡ）×Ｍ以下であることを特徴とするフォトマスク。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか１つのフォトマスクにおいて、
前記半遮光部の寸法は、（０．４２×λ／ＮＡ）×Ｍ以上であることを特徴とするフォトマスク。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つのフォトマスクにおいて、
前記半遮光部は、前記スペースと同位相で光を透過させることを特徴とするフォトマスク。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１つのフォトマスクにおいて、
前記遮光部は、前記半遮光部を囲むように配置されていることを特徴とするフォトマスク。
【請求項１１】
請求項１０のフォトマスクにおいて、
前記遮光部の幅は、前記第１マスクパターンの凹コーナー部よりも前記第１マスクパターンの凸コーナー部において広いことを特徴とするフォトマスク。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１つのフォトマスクにおいて、
前記半遮光部は、前記遮光部によって複数の部分に分割されていることを特徴とするフォトマスク。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１つのフォトマスクにおいて、
前記遮光部は、前記第１マスクパターンと前記第２マスクパターンとの対向方向について前記半遮光部に挟まれた部分を有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１つのフォトマスクにおいて、
前記半遮光部の光透過率は、前記半遮光部を透過した光が、感光領域を発生させる光強度よりも弱い光強度となるように設定されていることを特徴とするフォトマスク。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１つのフォトマスクにおいて、
前記半遮光部は、前記遮光部を挟んで前記スペースと対向する部分のみに配置されていることを特徴とするフォトマスク。
【請求項１６】
反射基板と、
前記反射基板上に、スペースを挟んで対向する部分を有するように形成された第１マスクパターン及び第２マスクパターンとを備え、
前記第１マスクパターンは、光を部分的に反射させる半反射部と、光を実質的に反射しない非反射部とを含み、
前記第１マスクパターンにおいて、前記半反射部は、前記非反射部を挟んで前記スペースと対向するように配置され、
前記第１マスクパターンと前記第２マスクパターンとの対向方向について、
前記第１マスクパターンの寸法は、（０．７×λ／ＮＡ）×Ｍよりも大きく、
前記スペースの寸法は、（０．５×λ／ＮＡ）×Ｍ以下であることを特徴とするフォトマスク（但し、λは露光光の波長であり、ＮＡは露光機の縮小投影光学系の開口数であり、Ｍは前記縮小投影光学系の倍率である）。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１つのフォトマスクを用いるパターン形成方法において、
基板上にレジスト膜を形成する工程（ａ）と、
前記レジスト膜に、前記フォトマスクを介して露光光を照射する工程（ｂ）と、
前記露光光が照射された前記レジスト膜を現像し、前記レジスト膜をパターン化する工程（ｃ）とを備えることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１８】
請求項１７のパターン形成方法において、
前記工程（ｂ）において、斜入射照明を用いることを特徴とするパターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月10日(2013.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非侵襲的な体液サンプリング及び分析から得られた分析物を連続的にモニタリングするための方法であって、
皮膚領域の角質層を物理的に破壊することにより該皮膚領域の透過率レベルを上昇させるステップ；
受け器を該皮膚領域に接触させるステップ；
該皮膚領域を通してその外部へ体液を抽出するステップ；
該受け器に体液を収集するステップ；及び
該体液中の少なくとも１つの分析物の濃度を決定するステップ；
を含む、前記方法。
【請求項２】
受け器を前記皮膚領域に接触させる前記ステップが、接着剤を用いて、該受け器を該皮膚領域に接触させるステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記体液中の少なくとも１つの分析物の濃度を決定する前記ステップが、電気化学的方法、生化学的方法、及びこれらの組合せからなる群から選択される方法を用いて、該少なくとも１つの分析物の存在を検出するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記体液中の少なくとも１つの分析物の濃度を決定する前記ステップが、前記少なくとも１つの分析物の存在を検出するために、電気化学的方法、生化学的方法、及びこれらの組合せからなる群から選択される方法を用いて、該体液を分析する計器を提供するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記計器を装着するステップを更に含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記体液中の少なくとも１つの分析物の濃度を決定する前記ステップが、該体液中の少なくとも１つの分析物の濃度を連続的に決定するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記体液中の少なくとも１つの分析物の濃度を決定する前記ステップが、該体液中の少なくとも１つの分析物の濃度を周期的に決定するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記体液中の少なくとも１つの分析物の濃度を決定する前記ステップが、該体液中の複数の分析物の濃度に基づいて、該体液中の該少なくとも１つの分析物の濃度を決定するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの分析物の濃度を表示するステップを更に含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
受け器を前記皮膚領域に接触させる前記ステップが、該受け器を該皮膚領域に少なくとも２４時間接触させるステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
受け器を前記皮膚領域に接触させる前記ステップが、該受け器を該皮膚領域に少なくとも１２時間接触させるステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
受け器を前記皮膚領域に接触させる前記ステップが、該受け器を該皮膚領域に少なくとも６時間接触させるステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
受け器を前記皮膚領域に接触させる前記ステップが、該受け器を該皮膚領域に少なくとも２時間接触させるステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１４】
体液を非侵襲的にサンプリング及び分析するためのシステムであって、
透過率を上昇させた皮膚領域に接触させ、かつ該皮膚領域を通してその外部へ体液を受け取る受け器であって、膜、及び該膜に含まれる媒体、並びにヒドロゲル層、及び該体液中の分析物の存在を検出するための少なくとも１つの試薬を含む、前記受け器；及び、
該受け取られた体液中の分析物の存在を検出して、該分析物の濃度を示す計器であって、プロセッサ、並びに電気化学的検出器、生化学的検出器、及びこれらの組合せからなる群から選択される該分析物の存在を検出するデバイスを含む、前記計器；
を含む、前記システム。
【請求項１５】
前記媒体が、少なくとも１つの浸透剤、並びにヒドロゲル層、流体、及び液体のうちの少なくとも１つを含む、請求項１４記載のシステム。
【請求項１６】
前記浸透剤が、塩化ナトリウム、乳酸塩、硫化マグネシウムのうちの少なくとも１つを含む、請求項１５記載のシステム。
【請求項１７】
前記媒体が、少なくとも１つの試薬を更に含む、請求項１５記載のシステム。
【請求項１８】
前記計器が、分析物の濃度を表示するディスプレイを更に含む、請求項１４記載のシステム。
【請求項１９】
前記受け器が、経皮的な接着剤を更に含む、請求項１４記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月12日(2013.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
光源部と、
前記光源部からの光を映像信号に基づいて変調し、映像光を出射する光変調素子と、
前記映像光に基づいて直視表示を行う直視用表示部と、
前記映像光に基づいて、被投射面に対する投射表示を行う投射光学系と、
前記光変調素子からの映像光を、前記直視用表示部および前記投射光学系のうちの少なくとも一方に向けて進行させる光学部材と、
前記映像光を前記直視用表示部側へ選択的に進行させる直視表示モードと、前記映像光を前記投射光学系側へ選択的に進行させる投射表示モードと、前記映像光を前記直視用表示部側および前記投射光学系側の双方へ進行させる双方表示モードとのうち、少なくとも前記双方表示モードを含む２種類以上の表示モード間で表示モードの切り替えがなされるように、前記光学部材に対して前記映像光の進行方向制御を行うための切替部と
を備えた表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記光学部材が、
前記映像光の偏光状態を制御して出射する偏光制御素子と、
前記偏光制御素子から出射した映像光を、その偏光状態に応じて、前記直視用表示部および前記投射光学系のうちの少なくとも一方の側へ出射する偏光ビームスプリッタとからなり、
前記切替部への操作に応じて前記進行方向制御を行う制御部を更に備えた
請求項１に記載の表示装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の表示装置は、光源部と、この光源部からの光を映像信号に基づいて変調し映像光を出射する光変調素子と、映像光に基づいて直視表示を行う直視用表示部と、映像光に基づいて被投射面に対する投射表示を行う投射光学系と、光変調素子からの映像光を、直視用表示部および投射光学系のうちの少なくとも一方に向けて進行させる光学部材と、切替部とを備えたものである。切替部は、映像光を直視用表示部側へ選択的に進行させる直視表示モードと、映像光を投射光学系側へ選択的に進行させる投射表示モードと、映像光を直視用表示部側および投射光学系側の双方へ進行させる双方表示モードとのうち、少なくとも双方表示モードを含む２種類以上の表示モード間で表示モードの切り替えがなされるように、光学部材に対して映像光の進行方向制御を行うためのものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の表示装置では、映像信号に基づいて光源からの光が光変調素子により変調され、映像光として出射される。そして、この光変調素子から光学部材への映像光は、直視用表示部および投射光学系のうちの少なくとも一方に向けて進行する。この際、上記直視表示モード、上記投射表示モードおよび上記双方表示モードのうち、少なくとも双方表示モードを含む２種類以上の表示モード間で表示モードの切り替えがなされるように、光学部材に対して映像光の進行方向制御がなされる。これにより、従来の表示装置と比べて多様な表示モード間での切り替えが実現される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の表示装置によれば、上記直視表示モード、上記投射表示モードおよび上記双方表示モードのうち、少なくとも双方表示モードを含む２種類以上の表示モード間で表示モードの切り替えがなされるように光学部材に対して映像光の進行方向制御を行うための切替部を設けたので、多様な表示モード間での切り替えを行うことができる。よって、ユーザにおける利便性を向上させることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月11日(2013.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項２に係る枚葉両面多色印刷機は、請求項１記載の枚葉両面印刷機を、枚葉紙の搬送方向に、上流側の枚葉両面印刷機の他方の圧胴と下流側の枚葉両面印刷機の一方の圧胴とを転接して複数組配置した構成になっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１記載の枚葉両面印刷機を、枚葉紙の搬送方向に、上流側の枚葉両面印刷機の他方の圧胴と下流側の枚葉両面印刷機の一方の圧胴とを転接して複数組配置したことを特徴とする枚葉両面多色印刷機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月18日(2013.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サイズの異なる第１の基板と第２の基板との幅方向の一対の側部の上面にそれぞれ電子部品を実装するための実装装置であって、
平坦な上面を有し、この上面に上記第１の基板或いは上記第２の基板が上記電子部品が実装される幅方向の一対の側部を突出させて載置される載置テーブルと、
上記載置テーブルの上面に載置されてこの上面から突出した上記第１の基板或いは第２の基板の一対の側部の一方の下面を支持するバックアップツールと、
このバックアップツールによって下面が支持された上記第１の基板或いは第２の基板の上記載置テーブルから突出させた側部の上面に上記電子部品を実装する実装手段を具備し、
上記載置テーブルは、
基部と、
この基部の交差する第１の方向と第２の方向のうちの、上記第１の方向に上記第１の基板の幅方向の両側部の上記電子部品が実装される部分だけが突出するよう設けられた一対の第１の突出部と、
上記基部の上記第２の方向に上記第２の基板の幅方向の両側部の上記電子部品が実装される部分だけが突出するよう設けられた一対の第２の突出部と
によって構成されていることをと特徴とする電子部品の実装装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子部品の実装装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
つまり、幅寸法Ｐ１の第１の液晶表示パネル４Ａを、その中心を基部４１の中心Ｏに一致させるとともに、Ｗ１で示す幅方向を第１の方向Ｄ１に沿わせて上記載置テーブル３７の上面に載置したとき、第１の液晶表示パネル４Ａの幅方向両端の側辺部のうちの、図５に示すようにＴＣＰ６が仮圧着された部分だけが上記載置テーブル３７の一対の第１の突出部４２から外方へ突出するよう、上記第１の幅寸法Ｗ１が設定されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
同様に、幅寸法Ｐ２の第２の液晶表示パネル４Ｂを、その中心を基部４１の中心に一致させるとともに、幅方向を第２の方向Ｄ２に沿わせて上記載置テーブル３７の上面に載置したとき、第２の液晶表示パネル４Ｂの幅方向両端の側辺部のうちの、ＴＣＰ６が仮圧着された部分だけが上記載置テーブル３７の一対の第２の突出部４３から外方へ突出するよう、上記第２の幅寸法Ｗ２が設定されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
このようにして、載置テーブル３７の上面に第１の液晶表示パネル４Ａを吸着保持したならば、上記第１の液晶表示パネル４Ａの一方の側辺部をバックアップツール１７の支持面１７ａの上方に位置決めした後、上記載置テーブル３７を下降させて上記第１の液晶表示パネル４Ａの一方の側辺部を上記支持面１７ａに載置する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
上記一対の第１の突出部４２と一対の第２の突出部４３を同一平面上に一体的に設けたことで、載置テーブル３７に対して第１の液晶表示パネル４Ａと第２の液晶表示パネル４Ｂを同一平面となるよう載置して保持することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
そのため、載置テーブル３７に載置される液晶表示パネルのサイズが第１の液晶表示パネル４Ａ或いは第２の液晶表示パネル４Ｂのどちらか一方から他方に変更になっても、どちらのサイズの液晶表示パネルであっても、載置テーブル３７に精度よく、しかも容易に供給載置することが可能である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
そのため、載置テーブル３７に第１の液晶表示パネル４Ａ或いは第２の液晶表示パネル４Ｂのどちらを載置する場合であっても、平面形状が四角形状の場合に比べて載置テーブル３７との接触面積を低減することができる。それによって、液晶表示パネル４Ａ，４Ｂの板面に傷が付き難くなるばかりか、載置テーブル３７の第１、第２の突出部４２，４３がなす面の平坦精度によって液晶表示パネル４Ａ．４Ｂの載置精度を向上させることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2012068408.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月21日(2013.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
他の機械構造部品と接触しながら相対運動する接触面を有する機械構造部品であって、
前記機械構造部品は、シリコン材料と高融点金属シリサイドである合金材料との積層構造の複合材料で構成され、少なくとも前記接触面が前記シリコン材料で構成されることを特徴とする機械構造部品。
【請求項２】
前記高融点金属シリサイドは、タングステン、チタン、モリブデン、コバルト、タンタルのいずれか１つと、シリコンとの化合物であることを特徴とする請求項１に記載の機械構造部品。
【請求項３】
前記高融点金属シリサイドは、第１の高融点金属シリサイド膜と、これと含有する高融点金属が異なる第２の高融点金属シリサイド膜と、を積層してなることを特徴とする請求項１又は２に記載の機械構造部品。
【請求項４】
前記第１の高融点金属シリサイド膜と前記第２の高融点金属シリサイド膜との間に高融点金属膜を備えることを特徴とする請求項３に記載の機械構造部品。
【請求項５】
前記高融点金属膜は、タングステン、チタン、モリブデン、コバルト、タンタルのいずれかであることを特徴とする請求項４に記載の機械構造部品。
【請求項６】
前記シリコン材料は、面方位が異なる２つの単結晶シリコン基板を貼り合せてなることを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載の機械構造部品。
【請求項７】
面方位が異なる２つの前記単結晶シリコン基板の一方は、その貼り合せの主平面を（１００）面とし、他方は、その貼り合せの主平面を（１１１）面とすることを特徴とする請求項６に記載の機械構造部品。
【請求項８】
面方位が異なる２つの前記単結晶シリコン基板の間に前記合金材料を有することを特徴とする請求項６又は７に記載の機械構造部品。
【請求項９】
前記機械構造部品は、時計用歯車又は時計用指針であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１つに記載の機械構造部品。
【請求項１０】
単結晶シリコン基板上に高融点金属シリサイドを形成して複合基板を形成する複合基板形成工程と、
前記複合基板上に、所定の形状のフォトレジストを形成する工程と、
前記フォトレジストをマスクとして、ＳＦ６を含むエッチングガスを用いたドライエッチングにより、前記複合基板を前記所定の形状に形成する工程と、
を有することを特徴とする機械構造部品の製造方法。
【請求項１１】
第１の単結晶シリコン基板上に高融点金属シリサイドを形成し、該高融点金属シリサイドを介して前記第１の単結晶シリコン基板と第２の単結晶シリコン基板とを、貼り合わせ主面が異なる面方位となるように張り合わせて複合基板を形成する複合基板形成工程と、
前記複合基板上に、所定の形状のフォトレジストを形成する工程と、
前記フォトレジストをマスクとして、ＳＦ６を含むエッチングガスを用いたドライエッチングにより、前記複合基板を前記所定の形状に形成する工程と、
を有することを特徴とする機械構造部品の製造方法。
【請求項１２】
第１の単結晶シリコン基板上に第１の高融点金属シリサイド膜を形成し、つづいて該第１の高融点金属シリサイド膜上に、これと含有する高融点金属が異なる第２の高融点金属シリサイド膜を積層することで、前記高融点金属シリサイドを形成することを特徴とする請求項１１に記載の機械構造部品の製造方法。
【請求項１３】
第１の単結晶シリコン基板上に高融点金属膜を形成し、該高融点金属膜を介して前記第１の単結晶シリコン基板と第２の単結晶シリコン基板とを、貼り合わせ主面が異なる面方位となるように張り合わせて複合基板を形成する複合基板形成工程と、
前記複合基板を加熱して、前記高融点金属膜と前記第１の単結晶シリコン基板及び前記第２の単結晶シリコン基板とを反応させ、高融点金属シリサイドを形成する工程と、
前記複合基板上に、所定の形状のフォトレジストを形成する工程と、
前記フォトレジストをマスクとして、ＳＦ６を含むエッチングガスを用いたドライエッチングにより、前記複合基板を前記所定の形状に形成する工程と、
を有することを特徴とする機械構造部品の製造方法。
【請求項１４】
第１の単結晶シリコン基板上に第１の高融点金属シリサイド膜を形成し、該第１の高融点金属シリサイド膜上に高融点金属膜を形成し、該高融点金属膜上に第２の高融点金属シリサイド膜を形成し、高融点金属シリサイドを形成して、該高融点金属シリサイドを介して前記第１の単結晶シリコン基板と前記第２の単結晶シリコン基板とを、貼り合わせ主面が異なる面方位となるように貼り合わせて複合基板を形成する複合基板形成工程と、
前記複合基板上に、所定の形状のフォトレジストを形成する工程と、
前記フォトレジストをマスクとして、ＳＦ６を含むエッチングガスを用いたドライエッチングにより、前記複合基板を前記所定の形状に形成する工程と、
を有することを特徴とする機械構造部品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
他の機械構造部品と接触しながら相対運動する接触面を有する機械構造部品であって、
機械構造部品は、シリコン材料と高融点金属シリサイドである合金材料との積層構造の複合材料で構成され、少なくとも接触面がシリコン材料で構成されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
こうした積層構造を有する機械構造部品は、単結晶シリコンで構成する機械構造部品に比べ、強度が高いため、さまざまな方向から外力が加わる、時計用歯車などに対して有効である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
第１の単結晶シリコン基板上に第1の高融点金属シリサイド膜を形成し、つづいてこの
第１の高融点金属シリサイド膜上に、これと含有する高融点金属が異なる第２の高融点金属シリサイド膜を積層することで、高融点金属シリサイドを形成するようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月6日(2013.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
図１８は中間軸を持つエンジンベンチシステムのトルク応答特性（動力計トルク指令→軸トルク検出特性）のボード線図を示し、図１９はステップ応答波形を示し、カップリングによる共振点（図１８では約１００Ｈｚ）と、クラッチによる共振点（図１８では約１０Ｈｚ）の２つの大きな共振ゲインを持つ共振点が現れる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
図２０および図２１は、中間軸を持つエンジンベンチシステムの軸トルク制御器を特許文献１の制御手法で構成した場合の制御特性を示す。図２０は軸トルク指令値に対する軸トルク検出値のボード線図、図２１は軸トルク指令値に対する軸トルク検出値のステップ応答である。図２０のボード線図では、クラッチの共振点である１０Ｈｚ付近まで指令値通りになるように制御できているが、図２１を見ると、１００Ｈｚのカップリングの共振点で制御が不安定化し、次第に発散していることがわかる。そのため、特許文献１の制御手法は中間軸を持つエンジンベンチシステムには適用できない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図５は本実施形態の制御系構成を示す。同図が図１と異なる構成は、図１６に示す中間軸を持つ３慣性系のエンジンベンチシステムにおける動力計６のトルク制御に、軸トルク（Ｔ２３）検出値を無駄時間要素（ＴＤ）２３を通して加算器（Ｓｕｍ）２４において動力計トルク指令（Ｔ３ｒｅｆ）に加算して新たな動力計トルク指令としている。この構成により、中間軸を持つエンジンベンチシステムにおいて、動力計６と中間軸１２を結合するカップリング１３のばね剛性に起因する共振を抑制して動力計６を安定に制御するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月6日(2013.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
Ｊｅ＝エンジン慣性モーメント、Ｊｍ＝動力計慣性モーメント、Ｋ１２＝クラッチばね剛性、ＴＩ＝エンジントルク、Ｔ２＝動力計トルク、ω１＝エンジン角速度、ω２＝動力計角速度
図１に示す軸トルク制御器１０Ａは、軸トルク指令（Ｔ１２ｒ）と軸トルク検出値（Ｔ１２）と動力計回転数検出値（ω２）を基に動力計トルク指令を求める。ここで、軸トルク制御器１０Ａは、図２に示すブロック構成とする。図２において、外乱オブザーバ２１は、動力計の慣性モーメントＪｍに回転数ω２を疑似微分した加速度（ｄω２／ｄｔ）を乗じてトルクＪｍ（ｄω２／ｄｔ）を求め、このトルクＪｍ（ｄω２／ｄｔ）と動力計トルク指令Ｔｒｅｆから動力計の外乱トルク（エンジンのアイドル回転により動力計に発生するトルク）を推定し、そのトルクＴｄｉｓｍを動力計トルク指令にフィードバックすることにより動力計の加速度制御系を構成し、軸トルク振動を抑制した軸トルク制御を得る。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月10日(2013.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）、窒素酸化物（ＮＯx）および粒子に加えて酸素（Ｏ2）を含有する、内燃機関の排気ガス中の有害なガスおよび粒子の放出を減少させる方法であって、この方法において、清浄化すべき排気ガスを、長さＬのウォールフロー式フィルター基材を横断して空気比λの非連続的プロフィールを有する運転条件下で案内し、この場合、多重の管路を有する前記ウォールフロー式フィルター基材は、長手方向に走り、長手方向に走る壁によって形成され、かつ管路の境界を定めて管路を形成し、前記管路は、開いた入口端部および閉鎖された出口端部を有する流入管路ならびに閉鎖された入口端部および開いた出口端部を有する流出管路を有し、ウォールフロー式フィルター基材が少なくとも１つの吸蔵材料を含有する触媒活性コーティングを有し、この場合吸蔵材料の全体量に関連して吸蔵材料の少なくとも６０質量％は、流入管路と流出管路との間の壁内に存在し、吸蔵材料の全体量に関連して吸蔵材料の少なくとも５０質量％は、ウォールフロー式フィルター基材中の第１の流入側帯域内に存在し、この第１の流入側帯域は、入口端部から出口端部に向かって延在し、第１の流入側帯域の長さは、ウォールフロー式フィルター基材の長さの最大２／３に相当し、１つ以上の排気ガス成分は、一定の運転条件下で吸蔵材料中で結合されており、排気ガス成分は、運転条件に適した変化の際に吸蔵材料から再び放出されてよいことを特徴とする、内燃機関の排気ガス中の有害なガスおよび粒子の放出を減少させる方法。
【請求項２】
吸蔵材料の全体量に関連して吸蔵材料の少なくとも３０質量％は、ウォールフロー式フィルター基材中の第１の流入側帯域内に存在し、この第１の流入側帯域は、入口端部から出口端部に向かって延在し、第１の流入側帯域の長さは、ウォールフロー式フィルター基材の長さの最大１／３に相当する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
空気比λは、１を上廻るλ値と１未満のλ値との間で周期的に変化する、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
空気比λは、０．５〜５ヘルツの周波数で１≦λ≦１．０５の値と１≧λ≧０．９５の値との間で周期的に変化する、請求項３記載の方法。
【請求項５】
空気比λは、１≦λ≦２０の値と１≧λ≧０．８５の値との間で周期的に変化し、この場合１≦λ≦２０を有するリーンな運転段階は、調整サイクルにおいて１≧λ≧０．８５を有するリッチな運転段階よりも数秒間長い、請求項３記載の方法。
【請求項６】
請求項１記載の方法を実施するための、ウォールフロー式フィルター基材および触媒活性コーティングを有する触媒活性粒子フィルター。
【請求項７】
請求項４記載の方法を実施するための、ウォールフロー式フィルター基材および触媒活性コーティングを有する触媒活性粒子フィルターにおいて、触媒活性コーティングが酸素吸蔵材料を含有することを特徴とする、請求項４記載の方法を実施するための、ウォールフロー式フィルター基材および触媒活性コーティングを有する触媒活性粒子フィルター。
【請求項８】
酸素吸蔵材料がセリウム−ジルコニウム混合酸化物である、請求項７記載の触媒活性粒子フィルター。
【請求項９】
セリウム−ジルコニウム混合酸化物が、さらに、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化プラセオジム、酸化ネオジウムおよびこれらの混合物から構成されている群から選択された希土類金属酸化物でドープされている、請求項８記載の触媒活性粒子フィルター。
【請求項１０】
請求項５記載の方法を実施するための、ウォールフロー式フィルター基材および触媒活性コーティングを有する触媒活性粒子フィルターにおいて、触媒活性コーティングが１つ以上の窒素酸化物吸蔵材料を含有することを特徴とする、請求項５記載の方法を実施するための、ウォールフロー式フィルター基材および触媒活性コーティングを有する触媒活性粒子フィルター。
【請求項１１】
窒素酸化物吸蔵材料が、アルカリ金属、アルカリ土類金属および希土類金属の酸化物、水酸化物、オキシ水酸化物および炭酸塩から選択された１つ以上の窒素酸化物吸蔵成分を含有する、請求項１０記載の触媒活性粒子フィルター。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月2日(2013.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の（１）〜（５）の工程を含むことを特徴とする密閉電池の製造方法。
（１）正極シートと負極シートとをセパレータを介して巻回又は積層することにより両端部にそれぞれ複数枚の正極芯体露出部及び負極芯体露出部が形成された偏平形電極体を作製する工程、
（２）前記積層された正極芯体露出部及び負極芯体露出部の内、少なくともどちらか一方の芯体露出部を２分割する工程、
（３）前記２分割された芯体露出部の最外側の両表面にそれぞれ集電部材又は溶接受け部材を配置すると共に、前記２分割された芯体露出部間に、金属ブロックの対向する二つの面のそれぞれに突起が形成されている通電ブロックを、前記対向する二つの面のそれぞれの突起が前記２分割された芯体露出部と接するように配置する工程、
（４）前記２分割された芯体露出部の最外側の両表面にそれぞれ配置されている集電部材又は溶接受け部材間に一対の抵抗溶接用電極を当接する工程、
（５）前記一対の抵抗溶接用電極間に押圧力を印加しながら抵抗溶接を行う工程。
【請求項２】
前記通電ブロックとして、前記金属ブロックの前記対向する二つの面と側面との間の角部は面取りされているものを用いたことを特徴とする請求項１に記載の密閉電池の製造
方法。
【請求項３】
前記通電ブロックとして、前記金属ブロックの前記面取りされている部分が平面とされているものを用いたことを特徴とする請求項２に記載の密閉電池の製造方法。
【請求項４】
前記通電ブロックとして、前記金属ブロックの前記突起が設けられている二つの面にはそれぞれ互いに平行な平面部分が設けられているものを用いたことを特徴とする請求項２に記載の密閉電池の製造方法。
【請求項５】
前記通電ブロックとして、突起が円錐台状又は角錐台状のものを使用したことを特徴とする請求項１に記載の密閉電池の製造方法。
【請求項６】
前記通電ブロックとして、前記突起に開口が形成されているもの使用したことを特徴とする請求項１に記載の密閉電池の製造方法。
【請求項７】
前記通電ブロックとして、前記開口が前記金属ブロックの内部にまで延在されているものを使用したことを特徴とする請求項６に記載の密閉電池の製造方法。
【請求項８】
前記通電ブロックとして、前記開口が前記金属ブロックを貫通しているものを使用したことを特徴とする請求項７に記載の抵抗溶接用の記載の密閉電池の製造方法。
【請求項９】
前記通電ブロックとして、前記突起の周囲に環状に絶縁シール材が形成されているものを用いたことを特徴とする請求項１に記載の密閉電池の製造方法。
【請求項１０】
前記通電ブロックとして、前記絶縁シール材は、高さが前記突起よりも低くされているものを用いたことを特徴とする請求項９に記載の密閉電池の製造方法。
【請求項１１】
前記通電ブロックとして、前記正極芯体露出部側及び前記負極芯体露出部間ではそれぞれ前記突起の形状が異なるものを用いたことを特徴とする請求項１に記載の密閉電池の製造方法。
【請求項１２】
前記一対の抵抗溶接用電極間に押圧力を印加しながら抵抗溶接を行う工程において、前記開口が半つぶし状態となるよう押圧力を印加することを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の密閉電池の製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れかに記載の密閉電池の製造方法によって製造されたことを特徴とする密閉電池。
【請求項１４】
金属ブロックの対向する二つの面のそれぞれに突起が形成されていることを特徴とする抵抗溶接用の通電ブロック。
【請求項１５】
前記金属ブロックの前記対向する二つの面と側面との間の角部は面取りされていることを特徴とする請求項１４に記載の抵抗溶接用の通電ブロック。
【請求項１６】
前記面取りされている面は平面とされていることを特徴とする請求項１５に記載の抵抗溶接用の通電ブロック。
【請求項１７】
前記突起が設けられている二つの面は、それぞれ互いに平行な平面部分が設けられていることを特徴とする請求項１５に記載の抵抗溶接用の通電ブロック。
【請求項１８】
前記突起は円錐台状又は角錐台状であることを特徴とする請求項１４に記載の抵抗溶接用の通電ブロック。
【請求項１９】
前記突起には開口が形成されていることを特徴とする請求項１４に記載の抵抗溶接用の通電ブロック。
【請求項２０】
前記開口は前記金属ブロックの内部にまで延在されていることを特徴とする請求項１９に記載の通電ブロック。
【請求項２１】
前記開口は前記金属ブロックを貫通していることを特徴とする請求項２０に記載の抵抗溶接用の通電ブロック。
【請求項２２】
前記突起の周囲には環状に絶縁シール材が形成されていることを特徴とする請求項１４〜２１のいずれかに記載の抵抗溶接用の通電ブロック。
【請求項２３】
前記絶縁シール材は、高さが前記突起よりも低くされていることを特徴とする請求項２２に記載の通電ブロック。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月11日(2013.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
関節面（１８、２０）を有する大腿骨要素（１２）と、
前記第１の要素の前記関節面を支承するような形状の関節面（１７）と、反対側の表面（１９）とを有するベアリング（１６）と、
前記ベアリングのための取付面（２６）と、骨係合面（２８）と、前記取付面の反対側の前記骨係合面から延出する延長部分（３０、３２、３４、３６、３８）とを有する複合脛骨トレイ要素（１４）と、を備えた膝関節プロテーゼであって、
前記ベアリングの前記反対側の表面と前記複合脛骨トレイ要素の前記取付面とは、前記ベアリングを前記複合要素に取り付けるための相補的なロック機構（１４０、１４２、１５４、１５６、１７４、１７６）を有し、
前記延長部分は患者の骨内に植え込まれる際に前記複合脛骨トレイ要素を安定化させるように構成され、
前記延長部分は前記複合脛骨トレイ要素の前記取付面と反対側の端部（４０、４２、４４、４６、４８）を有し、
前記複合脛骨トレイ要素は、多孔質部分（８２）と、ポリエーテルエーテルケトンを含む中実部分（８０）とを含み、
前記中実部分（８０）は前記複合脛骨トレイ要素の前記取付面（２６）及び前記延長部分（３０、３２、３４、３６、３８）の前記端部を画定し、
前記多孔質部分（８２）は前記複合脛骨トレイ要素の前記骨係合面（２８）を画定し、
前記複合脛骨トレイ要素の前記中実部分と前記多孔質部分とは、前記多孔質部分上に前記中実部分のポリマーを型成形することにより、互いに結合されていることを特徴とする、膝関節プロテーゼ。
【請求項２】
前記複合脛骨トレイ要素（１４）の前記中実部分（８０）の前記ポリ（エーテルエーテルケトン）が、繊維強化されている、請求項１に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項３】
前記複合脛骨トレイ要素（１４）の前記多孔質部分（８２）が金属発泡材を含む、請求項１に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項４】
前記金属発泡材がチタン発泡材を含む、請求項３に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項５】
前記複合脛骨トレイ要素（１４）の前記多孔質部分（８２）がポリマー発泡材を含む、請求項１に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項６】
前記複合脛骨トレイ要素（１４）の前記多孔質部分（７２）がポリ（エーテルエーテルケトン）発泡材を含む、請求項５に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項７】
前記ポリ（エーテルエーテルケトン）発泡材が繊維強化されている、請求項６に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項８】
前記複合脛骨トレイ要素（１４）が、前記取付面（２６）と前記骨係合面（２８）との間に配置される金属プレート（２００）を含む、請求項５に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項９】
前記金属プレート（２００）が切り抜き部（２０１、２０３、２０５、２０７、２０９）を含み、前記ポリマーが前記金属プレートの前記切り抜き部を通じて延びる、請求項８に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項１０】
前記切り抜き部が貫通孔を含み、前記金属プレートが複数の貫通孔（２０１、２０３、２０５、２０７、２０９）を含み、前記ポリマーが前記貫通孔を通じて延びる、請求項９に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項１１】
前記貫通孔（２０１、２０３、２０５、２０７、２０９）を通じて延びる前記ポリマーがポリマー発泡材を含む、請求項１０に記載の膝関節プロテーゼ。
【請求項１２】
前記貫通孔（２０１、２０３、２０５、２０７、２０９）を通じて延びる前記ポリマーが中実ポリマーを含む、請求項１１に記載の膝関節プロテーゼ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月15日(2013.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラットフォーム１０８から機器１０５を支持する装置１００であって、
前記プラットフォーム１０８において当該装置１００を取り付けるクランプ１４０と、
前記機器１０５を受ける取付板３００と、
該取付板３００を前記クランプ１４０と相互接続するクラッチ・アセンブリであって、前記プラットフォーム１０８の上方の前記取付板の上昇位置から前記プラットフォーム１０８の下方の前記取付板３００の下降位置への前記取付板３００の移動時に前記取付板３００と被支持機器１０５との全体的に同じ予め画定された整列関係を保持するように動作可能なクラッチ・アセンブリ２１５と、
ばね２５５により前記クラッチ・アセンブリ２１５に接続されるアクチュエータ・ハンドル２３５とを含み、
停留位置にある前記アクチュエータ・ハンドル２３５及びばね２５５は、前記上昇位置と前記下降位置との間の任意の可変的な位置に前記取付板３００及び被支持機器１０５を固定するように、前記クラッチ・アセンブリ２１５に対する摩擦拘束を生ずる、取付装置１００。
【請求項２】
前記クランプ１４０に対して垂直の面に沿って回転するように旋回可能に接続された延長アーム１８５を含み、
前記クラッチ・アセンブリ２１５の少なくとも一部が前記延長アーム１８５内に配置される、請求項１に記載の取付装置１００。
【請求項３】
前記アクチュエータ・ハンドル２３５に力を加えることにより、前記ばね２５５が、前記クラッチ・アセンブリ２１５に対する摩擦拘束、並びに前記上昇位置と前記下降位置との間の前記取付板３００及び被支持機器１０５の移動を解除する、請求項１または２に記載の取付装置１００。
【請求項４】
前記取付板３００及び被支持機器１０５の移動の解除を制御するアクチュエータ・ハンドル２３５をさらに含んでおり、前記アクチュエータ・ハンドル２３５の整列関係を、前記上昇位置から前記下降位置への前記取付板３００の移動時に前記取付板３００の前記全体的に同じ予め画定された整列関係に保持する請求項１乃至３のいずれかに記載の取付装置１００。
【請求項５】
アクチュエータ・ハンドル２３５、筐体及び延長アーム１８５をさらに含んでおり、前記取付板３００は前記筐体２１２に取り付けられており、該筐体２１２は前記延長アーム１８５に旋回接続されており、該延長アーム１８５は前記クランプ１４０に旋回接続されており、前記アクチュエータ・ハンドル２３５に力を加えることにより、前記クラッチ・アセンブリ２１５及び前記取付板３００の移動の拘束を解除する、請求項１乃至４のいずれかに記載の取付装置１００。
【請求項６】
前記クラッチ・アセンブリ２１５は、
前記延長アーム１８５を前記筐体２１２及び前記取付板３００に旋回接続する第一のシャフト２５０に沿って第一の歯車２５２及び滑車ドラム２７０に堅固に接続されているブレーキ・ドラム２４５と、
前記延長アーム１８５を前記クランプ１４０に旋回接続する第二のシャフト１９４に堅固に取り付けられている第二の滑車ドラム２８０と、
前記筐体２１２に堅固に取り付けられており前記第一の歯車２５２と咬み合い係合している第二の歯車２６５と、
前記第一の滑車ドラム２７０を前記第二の滑車ドラム２８０に相互接続する滑車ベルト２７５と
を含んでおり、前記第一の滑車ドラム２７０の摩擦拘束が、前記延長アーム１８５、前記筐体２１２、前記取付板３００、及び前記被支持機器１０５の移動を拘束するように前記第二の滑車ドラム２８０及び前記第二の歯車２６５の移動からの拘束を生ずる、請求項１乃至５のいずれかに記載の取付装置１００。
【請求項７】
前記アクチュエータ・ハンドル２３５に前記力を加えることにより、前記取付板３００及び機器１０５が前記上昇位置と前記下降位置との間を移動するように、前記第一の滑車ドラム２７０に対する摩擦拘束を解除するばね２５５の拡張を生ずる、請求項１乃至６のいずれかに記載の取付装置１００。
【請求項８】
ばね２５５が、前記上昇位置と前記下降位置との間の任意の可変的な位置からの当該取付装置１００及び被支持機器１０５の移動を拘束し得る、請求項７に記載の取付装置１００。
【請求項９】
前記滑車ベルト２７５は、前記第一及び第二の滑車ドラム２７０及び２８０に設けられた突起と係合する突起を含んでいる、請求項７に記載の取付装置１００。
【請求項１０】
前記第一及び第二の歯車２５２、２６５、前記第一及び第二の滑車ドラム２７０、２８０、並びに前記ブレーキ・ドラム２４５は１対１比構成にある、請求項７に記載の取付装置１００。
【請求項１１】
前記上昇位置と前記下降位置との間での前記取付板３００の移動は、前記第一の歯車２５２及び取り付けられた第一の滑車ドラム２７０の前記延長アーム１８５及び前記第二の滑車ドラム２８０に関する回転を生ずる、請求項７に記載の取付装置１００。
【請求項１２】
プラットフォーム１０８から機器１０５を支持する方法であって、
取付板３００を含む当該取付装置１００がクラッチ・アセンブリ２１５と接続している状態で、前記プラットフォーム１０８において取付装置１００を取り付けるステップと、
前記取付板３００において前記機器１０５を結合するステップであって、前記機器１０５の移動が前記クラッチ・アセンブリ２１５に対する摩擦拘束により制約される、結合するステップと、
前記取付板３００及び被支持機器１０５の前記移動時に前記取付板３００と被支持機器１０５との同じ全体的な予め画定された整列関係を保ちつつ前記プラットフォーム１０８の上方の上昇位置と前記プラットフォーム１０８の下方の下降位置との間で前記取付板３００及び被支持機器１０５を移動させるように、アクチュエータ・ハンドル２３５に加わる力に応じて前記クラッチ・アセンブリ２１５に対する摩擦拘束を解除するステップと
を備えた方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月27日(2013.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼底上の撮影位置を設定するための光スキャナーを有し、被検者眼眼底の断層画像を得るための光コヒーレンストモグラフィーデバイスと、
光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された眼底断層画像と共に，眼底断層画像に対する検者の判断を補助するための情報を、モニタに表示させる情報表示手段であって、前記眼底断層画像の撮影情報に基づいて前記情報を変更する情報表示手段と、
を備えることを特徴とする眼底観察装置。
【請求項２】
請求項１の眼底観察装置において、
演算解析手段であって、それは、光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された前記断層画像における眼底の各層情報を画像処理により検出し、検出された各層情報をある判定基準に基づいて判定することにより断層画像を判定する演算解析手段を備え
前記演算解析手段は、前記判定基準を少なくとも前記撮影情報に基づいて変更し、
前記情報表示手段は、前記演算解析手段による判定結果を前記情報としてモニタに表示させることを特徴とする眼底観察装置。
【請求項３】
請求項２の眼底観察装置において、
前記演算解析手段は、被検者眼眼底の黄斑部を含む断層画像を解析する場合において、黄斑部に関し左右対称に形成される神経線維層の一方の層厚が所定範囲外か否かを判定することを特徴とする眼底観察装置。
【請求項４】
請求項２〜３のいずれかの眼底観察装置において、
前記演算解析手段は、眼底上の撮影部位を判定する場合、前記光スキャナーの走査角度に応じて異なる判定基準を用いて判定することを特徴とする眼底観察装置。
【請求項５】
請求項２〜４のいずれかのの眼底観察装置は、前記光スキャナの駆動を制御することにより眼底上の撮影位置を変更する制御手段を備え、
前記演算解析手段は、前記演算解析手段による判定結果に基づいて前記断層画像における異常部位を特定する、又は、
光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された前記断層画像における特徴部位を画像処理により特定する、の少なくともいずれかの処理を行う
前記制御手段は、演算解析手段によって特定された異常部位又は特徴部位の断層画像が得られるように撮影位置を調整することを特徴とする眼底観察装置。
【請求項６】
請求項５の眼底観察装置において、
前記制御手段は、前記光スキャナを用いて眼底上で測定光を二次元的に走査することにより眼底の広範囲にわたる第１の断層画像を取得し、
前記演算解析手段は、前記第１の断層画像における異常部位又は特徴部位を特定し、
そして、前記制御手段は、前記演算解析手段によって前記特定部位に対応する走査範囲にて測定光を走査させて第２の断層画像を取得することを特徴とする眼底観察装置。
【請求項７】
請求項２〜６のいずれかの眼底観察装置において、
被検者眼底の正面画像を得るための正面眼底像撮像デバイスを有し、
演算解析手段は、さらに、正面眼底像撮像デバイスによって取得された正面画像の輝度情報を画像処理により検出し、検出された輝度情報をある判定基準に基づいて判定することにより正面画像を判定することを特徴とする眼底観察装置。
【請求項８】
請求項７の眼底観察装置において、
前記演算解析手段は、前記演算解析手段による断層画像と正面画像の判定結果に基づいて目的撮影部位又は異常部位を画像処理により特定し、
前記制御手段は、演算解析手段によって特定された部位の断層画像が得られるように撮影位置を調整することを特徴とする眼底観察装置。
【請求項９】
請求項２〜８のいずれかの眼底観察装置において、
動画像としてモニタに表示される断層観察画像又は正面画像上に、前記演算解析手段による解析結果を示すグラフィックを重畳表示する表示制御手段を備えることを特徴とする眼底観察装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）  
眼底上の撮影位置を設定するための光スキャナーを有し、被検者眼眼底の断層画像を得るための光コヒーレンストモグラフィーデバイスと、
光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された眼底断層画像と共に，眼底断層画像に対する検者の判断を補助するための情報を、モニタに表示させる情報表示手段であって、前記眼底断層画像の撮影情報に基づいて前記情報を変更する情報表示手段と、
を備えることを特徴とする眼底観察装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月19日(2012.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
実施例１として図４に示すゴルフボール１０ｂを作製した。このゴルフボールは、直径の異なる６種類の円形ディンプルが配置されており、ゴルフボールの最外径を４２．７ｍｍ、基準球面の直径を４２．５ｍｍ、基準球面の各断面の外周長さを１３３．５２ｍｍとし、ディンプルの総数Ｎを３３８個、第１の凸部面積Ａｒｔを３．００ｍｍ2、第１の凹部面積Ａｒｕを６．７８ｍｍ2、第２の凸部面積Ａｒｔを５．５９ｍｍ2、第２の凹部面積Ａｒｕを４．３０ｍｍ2、赤道の凸部面積Ａｒｔを６．２７ｍｍ2、赤道の凹部面積Ａｒｕを３．８７ｍｍ2とした。よって、第１の断面の面粗度Ｒｐは０．０７ｍｍ、第２の断面の面粗度Ｒｍは０．０７ｍｍ、赤道断面の面粗度Ｒｓは０．０８となり、これらの平均である面粗度Ｒｄａは０．０７４となった。平均凸部面積Ｓｒｔを平均凹部面積Ｓｒｕで除した値Ｓｒｔ／Ｓｒｕは０．７８となった。Ｒｄａ＊Ｎは２５．１５となった。また、Ｒｅ８００００／２０００ｒｐｍでの揚力係数ＣＬに対するＲｅ７００００／２０００ｒｐｍでの揚力係数ＣＬの比を８５％とした。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また、実施例２として図１に示すゴルフボール１０を、表１に記載したパラメータを変更したことを除き、実施例１と同様の設計で作製した。さらに、比較例１〜３として、図５〜図７に示すゴルフボール４０ａ〜４０ｃを、表１に記載したパラメータを変更したことを除き、実施例１と同様の設計で作製した。これらの結果も表１に示す。