【手続補正書】
【提出日】平成25年6月4日(2013.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンが形成されたマスクを照明光学系で照明し、前記照明されたマスクのパターンの像を投影光学系を介して基板に投影する露光方法であって、
前記照明光学系、前記投影光学系及び前記マスクのパターンのうちの少なくとも一つに関するパラメータと、前記投影光学系における環境条件の変化量、前記環境条件の変化量と前記投影光学系の結像特性の変化量との関係を規定する第１補正係数、及び、前記結像特性の変化量と前記結像特性の変化を補正する補正部による補正量との関係を規定する第２補正係数とに基づいて、前記補正部による補正量を算出する算出工程と、
前記算出工程で算出された補正量に従って前記補正部を動作させる補正工程と、を含み、
前記第１補正係数と前記第２補正係数の値は前記パラメータの値に応じて変化し、
前記算出工程は、
前記環境条件の変化量と前記第１補正係数を用いて前記結像特性の変化量を算出する第１算出工程と、
算出された前記結像特性の変化量と前記第２補正係数を用いて前記補正部による補正量を算出する第２算出工程と、を有する、ことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記パラメータのデータと、前記環境条件の変化量のデータとを取得する取得工程をさらに含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記第１算出工程において、前記第１補正係数と前記パラメータとの対応テーブルを参照して、前記パラメータの値に対応する前記第１補正係数の値を取得し、当該取得された第１補正係数の値と前記環境条件の変化量とに基づいて前記結像特性の変化量を算出し、
前記第２算出工程において、前記第２補正係数と前記パラメータとの対応テーブルを参照して、前記パラメータの値に対応する前記第２補正係数の値を取得し、当該取得された第２補正係数の値と前記第１算出工程で算出された結像特性の変化量とに基づいて前記補正部による補正量を算出する、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光方法。
【請求項４】
前記第１補正係数及び前記第２補正係数は、前記パラメータによる関数式としてそれぞれ表現され、
前記第１算出工程において、前記第１補正係数を前記パラメータを用いて表現した関数式に、前記パラメータの値を代入して前記第１補正係数の値を算出し、当該算出された第１補正係数の値と前記環境条件の変化量とに基づいて前記結像特性の変化量を算出し、
前記第２算出工程において、前記第２補正係数を前記パラメータを用いて表現した関数式に、前記パラメータの値を代入して前記第２補正係数の値を算出し、当該算出された第２補正係数の値と前記第１算出工程で算出された結像特性の変化量とに基づいて前記補正部による補正量を算出する、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光方法。
【請求項５】
前記パラメータは、前記照明光学系の開口数及び有効光源、前記投影光学系の開口数、並びに、前記マスクのパターンの寸法及びピッチのうち少なくとも一つのパラメータである、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項６】
前記環境条件は、圧力、温度及び湿度の少なくともいずれかである、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項７】
前記結像特性は、投影倍率、歪曲収差、像面湾曲及び焦点位置の少なくともいずれかである、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項８】
前記補正部による補正量は、前記基板を保持する基板ステージの移動量と、前記投影光学系に含まれる光学素子の移動量との少なくともいずれかである、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項９】
前記結像特性は、投影倍率及び焦点位置であり、
前記算出工程において、前記補正部による補正量として、前記基板を保持する基板ステージの移動量と、前記投影光学系に含まれる光学素子の移動量とを算出し、
前記補正工程において、前記投影倍率及び焦点位置の変化を補正する、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項１０】
前記第１算出工程で算出された結像特性の変化量が許容範囲内か否かによって前記第２算出工程及び前記補正工程を実行するか否かを決定する決定工程をさらに含む、ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項１１】
パターンが形成されたマスクを照明光学系で照明し、前記照明されたマスクのパターンの像を投影光学系を介して基板に投影する露光装置であって、
前記投影光学系における環境条件の変化量を計測する計測器と、
前記投影光学系の結像特性の変化を補正する補正部と、
前記補正部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記照明光学系、前記投影光学系及び前記マスクのパターンののうちの少なくとも一つに関するパラメータと、前記投影光学系における環境条件の変化量、前記環境条件の変化量と前記投影光学系の結像特性の変化量との関係を規定する第１補正係数、及び、前記結像特性の変化量と前記結像特性の変化を補正する補正部による補正量との関係を規定する第２補正係数とに基づいて、前記補正部による補正量を算出し、
前記算出された補正量に従って前記補正部を動作させ、
前記環境条件の変化量と前記第１補正係数を用いて前記結像特性の変化量を算出し、算出された前記結像特性の変化量と前記第２補正係数を用いて前記補正部による補正量を算出し、
前記第１補正係数と前記第２補正係数の値は前記パラメータの値に応じて変化する、ことを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
デバイスを製造する方法であって、
請求項１１に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、パターンが形成されたマスクを照明光学系で照明し、前記照明されたマスクのパターンの像を投影光学系を介して基板に投影する露光方法であって、前記照明光学系、前記投影光学系及び前記マスクのパターンのうちの少なくとも一つに関するパラメータと、前記投影光学系における環境条件の変化量、前記環境条件の変化量と前記投影光学系の結像特性の変化量との関係を規定する第１補正係数、及び、前記結像特性の変化量と前記結像特性の変化を補正する補正部による補正量との関係を規定する第２補正係数とに基づいて、前記補正部による補正量を算出する算出工程と、前記算出工程で算出された補正量に従って前記補正部を動作させる補正工程と、を含み、前記第１補正係数と前記第２補正係数の値は前記パラメータの値に応じて変化し、前記算出工程は、前記環境条件の変化量と前記第１補正係数を用いて前記結像特性の変化量を算出する第１算出工程と、算出された前記結像特性の変化量と前記第２補正係数を用いて前記補正部による補正量を算出する第２算出工程とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
ステップ１０５で、主制御部１２は、気圧の変化に起因する結像特性の変化量を算出する。ステップ１０５は、結像特性の変化量を算出する第１算出工程を構成している。本実施例では補正対象の結像特性として、最良焦点位置、投影倍率を例に挙げたが、他の結像特性（歪曲収差、像面湾曲）であってもよい。気圧計５bの気圧計測値PM と基準大気圧（例えば１０１３hPa）PRとの差である大気圧変化ΔPは次式２で表せる。
ΔP=PM−PR ・・・（２）
また、気圧の変化と結像特性の変化量の関係は次式３，４で表せる。
ΔFP =KF×ΔP・・・（３）
ΔMP =KM×ΔP・・・（４）
ここで、ΔFP、ΔMPはそれぞれ投影光学系５の最良焦点位置、投影倍率の変化量で、KF、KMはそれぞれ単位気圧当たりの最良焦点位置、投影倍率の変化量（以後、気圧敏感度と表記する）である。気圧敏感度KF、KMは、環境条件（圧力）の変化量と、前記環境条件の変化に起因する結像特性（最良焦点位置、投影倍率）の変化量との関係を規定する第１補正係数である。また、気圧敏感度KF、KMは、照明光学系の有効光源、投影光学系５の開口数、レチクル３のパターン等前記少なくとも一つのパラメータによって定められる（変化する）係数である。そのため、気圧敏感度KF、KMと少なくとも一つのパラメータとの対応テーブルが、光学的な計算又は実験により予め求めておかれ、ステップ１０２で入力されて記憶部１０に保存されている。そして、気圧敏感度KF、KMの対応テーブルを参照して必要な気圧敏感度KF、KMが取得される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
ステップ１０６で、主制御部１２は、気圧の変化に起因する結像特性の変化を補正するか否かを判断する。ステップ１０６は、第１算出工程で算出された結像特性の変化量が許容範囲内か否かによって第２算出工程及び後述する補正工程を実行するか否かを決定する決定工程である。気圧の変化に起因する投影光学系の最良焦点位置、投影倍率の変化量が許容範囲内であればステップ１０９に進み露光を行う。変化量ΔFP、ΔMPが許容範囲外であれば、主制御部１２は、ステップ１０７に進み結像特性の変化を補正する補正部による補正量を算出する。ステップ１０７で、主制御部１２は、ウエハステージ７及び投影光学系５内の光学素子５aの駆動量（補正量）を算出する。ステップ１０７は、補正部による補正量を算出する第２算出工程を構成している。また、ステップ１０５とステップ１０７とは、少なくとも一つのパラメータと、投影光学系における環境条件の変化量とに基づいて補正部による補正量を算出する算出工程を構成している。本実施例ではウエハステージ７、光学素子５aを駆動して補正する例を挙げたが、対象となる結像特性が補正できれば、補正手法は限定されない。ウエハステージ７の光軸方向の駆動量をΔTX、光学素子５aの光軸方向の駆動量をΔTYとすると、結像特性の変化量ΔFP、ΔMPとの関係は次式５で表すことができ、駆動量ΔTX、ΔTYを算出することができる。
2011014745.tif 000001
ここで、XF、XMはそれぞれウエハステージ７の光軸方向の単位駆動量当たりの最良焦点位置、投影倍率の変化量（以後、ウエハステージ駆動敏感度と表記する）である。YF、YMはそれぞれ光学素子５aの光軸方向の単位駆動量当たりの最良焦点位置、投影倍率の変化量（以後、光学素子駆動敏感度と表記する）である。ウエハステージ駆動敏感度XF，XM、光学素子駆動敏感度YF，YMは、投影光学系５の結像特性の変化量と補正部の補正量との関係を規定する第２補正係数である。また、駆動敏感度XF，XM，YF，YMは、照明光学系の有効光源、投影光学系５の開口数、レチクル３のパターン等前記少なくとも一つのパラメータによって定められる（変化する）係数である。そのため、駆動敏感度XF，XM，YF，YMと少なくとも一つのパラメータとの対応テーブルが、光学的な計算又は実験により予め求めておかれ、ステップ１０２で入力されて記憶部１０に保存されている。