Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月26日(2012.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミシン（１）における繊維或いは繊維でない平成形物（４４）を加工する工具用の保持装置（３）において、基礎部材（１９）には、保持装置（３）を固定する縫い足軸（２１）がミシン（１）の縫い足ロッド（２３）に形成されていて、工具を受容するように形成された工具ホルダー（１５）が基礎部材（１９）に保持されていて、工具ホルダー（１５）が針ロッド（９）に形成された伝達要素（１１）により影響させる連結装置（３９）を包含することを特徴とする保持装置。
【請求項２】
工具ホルダー（１５）が商習慣上の繊維筆記具（５）を受容するか、或いは保持するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の保持装置（３）。
【請求項３】
工具ホルダー（１５）が基礎部材（１９）に移動可能に保持されていて、連結装置（３９）は、保持装置（３）がミシン（１）の縫い足ロッド（２３）に固定されるときに連結装置が針ロッド（９）によって移動できるように、工具ホルダー（１５）に配列整合されていることを特徴とする請求項１或いは２に記載の保持装置（３）。
【請求項４】
連結装置（３９）が緩衝器或いは柔軟に弾力のある要素を包含することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の保持装置（３）。
【請求項５】
工具ホルダー（１５）が第一脚（１５ａ）と第二脚（１５ｂ）を包含し、第一脚（１５ａ）が基礎部材（１９）に移動可能に支承されていて、第二脚（１５ｂ）が第一脚（１５ａ）と固定式或いは調整可能な傾斜角度（９０°＋α）の影響の下で連結されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の保持装置（３）。
【請求項６】
第二脚（１５ｂ）は所定位置に工具を再び分解可能に固定させる手段を包含することを特徴とする請求項５に記載の保持装置（３）。
【請求項７】
工具の位置を与える手段が交換可能なアダプタ（４７）を包含することを特徴とする請求項６に記載の保持装置（３）。
【請求項８】
調整機構が運動領域を制限させるか、或いは相対的位置に影響させるように設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の保持装置（３）。
【請求項９】
基礎部材（１９）及び／又は工具ホルダー（１５）には一つのガイドボルト（２７、３１）或いは一つの他の一致する直線案内要素は、工具ホルダー（１５）がミシン（１）の縫い足ロッド（２３）に接続された保持装置（３）では縫い足軸線（２４）と平行に移動可能に基礎部材（１９）に支承されるように、形成されていて、そして工具ホルダー（１５）が他の力の作用なしにばねの力によって基礎状態或いは第一作業状態で基礎部材（１９）に保持されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の保持装置（３）。
【請求項１０】
工具により繊維或いは繊維でない平成形物（４４）を加工する方法において、工具が請求項１乃至９のいずれか一項による保持装置（３）によって縫い足ロッド（２３）に固定されて針ロッド運動の作用によって移動されるか、或いはその作動を変更されることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月13日(2012.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
杜仲葉乾燥物から調製される抽出液の食品加工物であって、
杜仲葉を焙煎する工程を経ることなく得た杜仲葉乾燥物から調製される抽出液の食品加工物であり、抽出液のブリックスが０．１５％の場合に、アスパラギン酸濃度が０．３〜１．８ｍｇ／Ｌ、グルタミン酸濃度が０．３〜１．３ｍｇ／Ｌ、及びスクロース濃度が１５０〜５００ｍｇ／Ｌの範囲にある食品加工物。
【請求項２】
抽出液のｐＨが６．３〜７．３である、請求項１に記載の食品加工物。
【請求項３】
抽出液が水で抽出する工程を経て調製される、請求項１または２に記載の食品加工物。
【請求項４】
杜仲葉乾燥物が杜仲葉を蒸す工程及び乾燥させる工程を少なくとも経ることにより得られるものである、請求項１〜３のいずれかに記載の食品加工物。
【請求項５】
杜仲葉乾燥物から調製される抽出液を含む飲料であって、
杜仲葉を焙煎する工程を経ることなく得た杜仲葉乾燥物から調製される抽出液を含む飲料であり、抽出液のブリックスが０．１５％の場合に、アスパラギン酸濃度が０．３〜１．８ｍｇ／Ｌ、グルタミン酸濃度が０．３〜１．３ｍｇ／Ｌ、及びスクロース濃度が１５０〜５００ｍｇ／Ｌの範囲にある飲料。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月14日(2012.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高圧タービン（１２）と、
低圧タービン（１４）と、
高圧タービン（１２）と低圧タービン（１４）との間に配置され、燃焼流体を高圧タービン（１２）から低圧タービン（１４）へ送るように構成された移行部分（１６）と、
移行ダクト（３３）内に環状に配置された可変面積タービン・ノズル（４４）と、
を備え、
前記可変面積タービン・ノズル（４４）が、第１の内面と第１の外面の間に延びる複数の可変翼と、第２の内面と第２の外面の間に延びる複数の固定翼を含み、
前記複数の可変翼と前記第１及び第２の内面と前記第１の外面の各々が、セラミック・マトリックス複合材料で構成され、
前記複数の可変翼と前記複数の固定翼と前記第１の内面と前記第１及び第２の外面の各々が、セラミック・マトリックス複合材料で構成され、
前記複数の可変翼と前記複数の固定翼と前記第１の内面と前記第１及び第２の外面の前記セラミック・マトリックス複合材料が前記燃焼流体に直接曝される、タービン・エンジン（１０）。
【請求項２】
セラミック・マトリックス複合材料は、炭化ケイ素繊維−炭化ケイ素マトリックスを含む請求項１に記載のタービン・エンジン（１０）。
【請求項３】
セラミック・マトリックス複合材料は、非酸化物セラミック・マトリックス、酸化物セラミック・マトリックス、またはそれらの組み合わせを含む請求項１に記載のタービン・エンジン（１０）。
【請求項４】
圧縮機（２０）と、
冷却液の流れを圧縮機から移行部分（３３）へ送るように構成された通路と、を備える請求項１に記載のタービン・エンジン（１０）。
【請求項５】
セラミック・マトリックス複合材料で構成される少なくとも１つの構成部品によって、冷却液（６６）の流れの低減が促進される請求項７に記載のタービン・エンジン。
【請求項６】
セラミック・マトリックス複合材料で構成される少なくとも１つの可変翼（４４）と、
ガス・タービン・エンジン（１０）内に少なくとも１つの可変翼（４４）を回転可能に取り付けるように構成された少なくとも１つのトラニオン（４８）と、
セラミック・マトリックス複合材料で構成される少なくとも１つの固定翼（４２）と、
セラミック・マトリックス複合材料で構成され、前記少なくとも１つの可変翼（４４）の両側に配置される第１の対向する面の組と、
セラミック・マトリックス複合材料で構成され、前記少なくとも１つの固定翼（４２）の両側に配置される第２の対向する面の組と、
を備え、
前記第１及び第２の対向する面の組が、高圧タービン（１２）と低圧タービン（１４）との間の移行ダクトを形成するように構成され、
前記少なくとも１つの可変翼（４４）と前記少なくとも１つの固定翼（４２）と前記第１及び第２の対向する面の組の前記セラミック・マトリックス複合材料が前記ガス・タービン・エンジン（１０）を通る燃焼流体に直接曝される、
可変面積タービン・ノズル・アセンブリ（３４）。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月11日(2012.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、耐熱性、シール性、耐塩素水性にすぐれ、特に高温・高濃度の塩素含有水溶液接触シール材の加硫成形材料等として有効に用いられるEPDM組成物を提供することにある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
かかる本発明の目的は、EPDM100重量部当りBET法比表面積(ASTM D1993-03準拠)が30〜150m2/gで、pHが9.0以下の微粒子状シリカ15〜70重量部、シランカップリング剤0.5〜5重量部および有機過酸化物1〜8重量部を含有してなる、塩素含有水溶液接触シール材の加硫成形材料として用いられるEPDM組成物によって達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係るEPDM組成物から加硫成形して得られたシール材、例えばOリング、Dリング、Xリング、ガスケット、パッキン等は、耐熱性、シール性、耐塩素水性にすぐれ、特に高温・高濃度の塩素含有水溶液接触シール材として、例えばガス給湯器、電気温水器、エコキュート等の水周り関連の器具シール材として有効に用いられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
これらの有機過酸化物は、EPDM100重量部当り約1〜8重量部、好ましくは約2〜7重量部の割合で用いられる。これ以下の配合割合では、十分な架橋密度が得られず、耐熱性や耐圧縮永久歪特性、耐塩素水性が劣るようになり、一方これ以上の割合で用いられると、発泡により加硫成形品が得られなくなる(比較例７〜８参照)。また、加硫系を硫黄系にした場合には、圧縮永久歪の値が非常に悪くなり、長期のシール性に問題が生じるようになる(比較例１１参照)。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
EPDM100重量部当りBET法比表面積(ASTM D1993-03準拠)が30〜150m2/gで、pHが9.0以下の微粒子状シリカ15〜70重量部、シランカップリング剤0.5〜5重量部および有機過酸化物1〜8重量部を含有してなる、塩素含有水溶液接触シール材の加硫成形材料として用いられるEPDM組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月16日(2013.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジフェンヒドラミン、アスコルビン酸、又はそれらの塩を含有する外用組成物において、ムコ多糖類の１種又は２種以上を共存させる、ジフェンヒドラミン、アスコルビン酸、又はそれらの塩を含有する外用組成物の変色抑制方法。
【請求項２】
ムコ多糖類が、ヘパリン類似物質、コンドロイチン硫酸及びその塩、ヒアルロン酸及びその塩、ヒアルロン酸誘導体及びその塩、並びにデルマタン硫酸及びその塩からなる群から選択される１種又は２種以上である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ムコ多糖類が、ヘパリン類似物質、並びにコンドロイチン硫酸及びその塩からなる群から選択される１種又は２種以上である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
ジフェンヒドラミン又はその塩を含有する外用組成物が、乳化物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
アスコルビン酸又はその塩を含有する外用組成物が、液剤である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ジフェンヒドラミン、アスコルビン酸、又はそれらの塩が１重量部に対して、ムコ多糖類の１種又は２種以上を０．００３〜１０重量部共存させる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
変色が、熱及び／又は光によるものである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ムコ多糖類の１種又は２種以上を有効成分とする、ジフェンヒドラミン、アスコルビン酸、又はそれらの塩を含有する外用組成物の変色抑制剤。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月21日(2012.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極と、
前記ゲート電極上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層のチャネル形成領域と重なる領域上の、絶縁層と、
前記酸化物半導体層上の、ソース電極と、
前記酸化物半導体層上の、ドレイン電極と、を有し、
前記酸化物半導体層と、前記ソース電極との間に、第１のｎ型領域を有し、
前記酸化物半導体層と、前記ドレイン電極との間に、第２のｎ型領域を有し、
前記第１のｎ型領域は、チタンと、酸素とを含み、
前記第２のｎ型領域は、チタンと、酸素とを含み、
前記酸化物半導体層は、前記第１のｎ型領域を介して、前記ソース電極と電気的に接続され、
前記酸化物半導体層は、前記第２のｎ型領域を介して、前記ドレイン電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記ソース電極は、チタンを含み、
前記ドレイン電極は、チタンを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
ゲート電極と、
前記ゲート電極上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層のチャネル形成領域と重なる領域上の、絶縁層と、
前記酸化物半導体層上の、ソース電極と、
前記酸化物半導体層上の、ドレイン電極と、を有し、
前記酸化物半導体層と、前記ソース電極との間に、第１のｎ型領域を有し、
前記酸化物半導体層と、前記ドレイン電極との間に、第２のｎ型領域を有し、
前記第１のｎ型領域は、チタンと、酸素とを含み、
前記第２のｎ型領域は、チタンと、酸素とを含み、
前記ソース電極は、チタンを含む第１の層を有し、
前記ドレイン電極は、チタンを含む第２の層を有し、
前記チタンを含む第１の層の端部は、前記第１のｎ型領域の端と揃う領域を有し、
前記チタンを含む第２の層の端部は、前記第２のｎ型領域の端部と揃う領域を有し、
前記酸化物半導体層は、前記第１のｎ型領域を介して、前記ソース電極と電気的に接続され、
前記酸化物半導体層は、前記第２のｎ型領域を介して、前記ドレイン電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記第１のｎ型領域は、インジウム、ガリウムまたは亜鉛を含み、
前記第２のｎ型領域は、インジウム、ガリウムまたは亜鉛を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第１のｎ型領域のキャリア濃度は、前記酸化物半導体層のキャリア濃度より高く、
前記第２のｎ型領域のキャリア濃度は、前記酸化物半導体層のキャリア濃度より高いことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記酸化物半導体層と前記第１のｎ型領域との間に、第３のｎ型領域を有し、
前記酸化物半導体層と前記第２のｎ型領域との間に、第４のｎ型領域を有し、
前記第３のｎ型領域のキャリア濃度は、前記酸化物半導体層より高く、
前記第３のｎ型領域のキャリア濃度は、前記第１のｎ型領域より低く、
前記第４のｎ型領域のキャリア濃度は、前記酸化物半導体層より高く、
前記第４のｎ型領域のキャリア濃度は、前記第２のｎ型領域より低いことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記酸化物半導体層は、インジウム、ガリウムまたは亜鉛を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層上のチャネル形成領域と重なる領域に、絶縁層を形成し、
前記酸化物半導体層上に、チタンと酸素とを含む第１のｎ型領域と、チタンと酸素とを含む第２のｎ型領域と、を形成し、
前記第１のｎ型領域上にソース電極と、前記第２のｎ型領域上にドレイン電極と、を形成し、
前記第１のｎ型領域のキャリア濃度は、前記酸化物半導体層のキャリア濃度より高く、
前記第２のｎ型領域のキャリア濃度は、前記酸化物半導体層のキャリア濃度より高く、
前記酸化物半導体層は、前記第１のｎ型領域を介して、前記ソース電極と電気的に接続され、
前記酸化物半導体層は、前記第２のｎ型領域を介して、前記ドレイン電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層上のチャネル形成領域と重なる領域に、絶縁層を形成し、
前記酸化物半導体層上に、チタンと酸素とを含む第１のｎ型領域と、チタンと酸素とを含む第２のｎ型領域と、を形成し、
前記第１のｎ型領域上にソース電極と、前記第２のｎ型領域上にドレイン電極と、を形成し、
前記第１のｎ型領域のキャリア濃度は、前記酸化物半導体層のキャリア濃度より高く、
前記第２のｎ型領域のキャリア濃度は、前記酸化物半導体層のキャリア濃度より高く、
前記酸化物半導体層は、前記第１のｎ型領域を介して、前記ソース電極と電気的に接続され、
前記酸化物半導体層は、前記第２のｎ型領域を介して、前記ドレイン電極と電気的に接続され
前記ゲート絶縁膜、前記酸化物半導体層及び前記絶縁層は、大気に曝さずに連続して形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項８又は請求項９において、
前記ゲート絶縁膜、前記酸化物半導体層及び前記絶縁層は、スパッタリング法によって形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれか一項において、
前記ゲート絶縁膜、前記酸化物半導体層、及び前記絶縁層は、酸素を有する雰囲気で形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項８乃至１０のいずれか一項において、
前記第１のｎ型領域及び第２のｎ型領域は、希ガスを有する雰囲気で形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月14日(2013.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２以上の所定数のステージで処理を行うデータ処理であって、入力データから順次に抽出された部分データに対する前段のステージでの処理結果に応じて当該部分データに対する後段のステージでの処理を実行するか否かが決定されるデータ処理を、複数の処理モジュールを用いて実行するデータ処理装置であって、
前記所定数のステージに前記複数の処理モジュールを分配し、前記所定数のステージ間及び少なくとも１つのステージ内において複数の部分データを並列に処理するように前記複数の処理モジュールを接続する接続手段と、
前記所定数のステージの各々について、当該ステージに入力されたデータ量に対する後段のステージに処理を実行させる処理結果が得られたデータ量の割合を検出する検出手段と、
前記検出手段で検出した割合に基づいて各ステージで処理されるデータ量を取得し、取得したデータ量に対する処理時間の差がステージ間で小さくなるように各ステージに分配する処理モジュールの個数を決定する決定手段と、
前記決定手段で決定された分配にしたがって、前記接続手段による前記複数の処理モジュールの接続状態を変更する変更手段とを備えることを特徴とするデータ処理装置。
【請求項２】
前記決定手段は、各ステージで処理されるデータ量を取得し、ステージ間の前記データ量の比にしたがって各ステージに分配する処理モジュールの個数を決定することを特徴とする請求項１に記載のデータ処理装置。
【請求項３】
前記所定数のステージの各ステージについて前記部分データの処理に要する処理時間を記憶する記憶手段を更に備え、
前記決定手段は、
前記割合に基づいて各ステージで処理されるデータ量を算出し、
各ステージについて前記データ量と前記処理時間と当該ステージに分配された処理モジュールの数とに基づいて求まる処理モジュールあたりの平均処理時間の最大値が、最も小さくなるように各ステージに分配する処理モジュールの個数を決定することを特徴とする請求項１に記載のデータ処理装置。
【請求項４】
前記検出手段は、前記入力データの所定のデータ量ごとに前記割合を検出し、
前記決定手段は、前記所定のデータ量ごとに検出される前記割合に基づいて各ステージに分配する処理モジュールの個数を決定し、
前記変更手段は、前記所定のデータ量ごとに、前記決定手段で決定された分配にしたがって前記接続手段による前記複数の処理モジュールの接続状態を変更することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のデータ処理装置。
【請求項５】
前記変更手段は、処理モジュールによる処理が完了したか否かを監視し、隣接するステージ間で分配された処理モジュールの数が異なる場合に、前段のステージにおける処理モジュールの処理が完了した順に、前段のステージにおける処理モジュールを後段のステージにおける処理が完了した処理モジュールと接続することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のデータ処理装置。
【請求項６】
２以上の所定数のステージで処理を行うデータ処理であって、入力データから順次に抽出された部分データに対する前段のステージでの処理結果に応じて当該部分データに対する後段のステージでの処理を実行するか否かが決定されるデータ処理を、複数の処理モジュールを用いて実行するデータ処理装置であって、
前記所定数のステージに前記複数の処理モジュールを分配し、前記所定数のステージ間及び少なくとも１つのステージ内において複数の部分データを並列に処理するように前記複数の処理モジュールを接続する接続手段を備えたデータ処理装置によるデータ処理方法であって、
検出手段が、前記所定数のステージの各々について、当該ステージに入力されたデータ量に対する後段のステージに処理を実行させる処理結果が得られたデータ量の割合を検出する検出工程と、
決定手段が、前記検出工程で検出した割合に基づいて各ステージで処理されるデータ量を取得し、取得したデータ量に対する処理時間の差がステージ間で小さくなるように各ステージに分配する処理モジュールの個数を決定する決定工程と、
変更手段が、前記決定工程で決定された分配にしたがって、前記接続手段による前記複数の処理モジュールの接続状態を変更する変更工程とを備えることを特徴とするデータ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
上記の目的を達成するための本発明の一態様によるデータ処理装置は以下の構成を備える。すなわち、
２以上の所定数のステージで処理を行うデータ処理であって、入力データから順次に抽出された部分データに対する前段のステージでの処理結果に応じて当該部分データに対する後段のステージでの処理を実行するか否かが決定されるデータ処理を、複数の処理モジュールを用いて実行するデータ処理装置であって、
前記所定数のステージに前記複数の処理モジュールを分配し、前記所定数のステージ間及び少なくとも１つのステージ内において複数の部分データを並列に処理するように前記複数の処理モジュールを接続する接続手段と、
前記所定数のステージの各々について、当該ステージに入力されたデータ量に対する後段のステージに処理を実行させる処理結果が得られたデータ量の割合を検出する検出手段と、
前記検出手段で検出した割合に基づいて各ステージで処理されるデータ量を取得し、取得したデータ量に対する処理時間の差がステージ間で小さくなるように各ステージに分配する処理モジュールの個数を決定する決定手段と、
前記決定手段で決定された分配にしたがって、前記接続手段による前記複数の処理モジュールの接続状態を変更する変更手段とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月14日(2013.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、表面層として導電粒子を含有する樹脂層とを有する現像剤担持体であって、
該樹脂層は、（メタ）アクリル樹脂鎖が式（１）で示されるシロキサン結合を有する基によって架橋されている樹脂を含有し、
該樹脂中のカルボニル基の数がシロキサン結合の数よりも多いことを特徴とする現像剤担持体。
式（１）
【化１】
2011242459.tif 000001
［（式（１）中、＊は（メタ）アクリル樹脂鎖中のカルボニル基に結合している酸素原子への結合部位を示す。Ｒ１及びＲ１０は各々独立に炭素数１〜４のアルキレン基を示す。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ８及びＲ９は各々独立に炭素数１〜６のアルキル基を示す。Ｘは炭素数１〜３のアルキレン基、または窒素原子からケイ素原子に向かって−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−であり、ｐは１〜３の整数を表す。Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は各々独立に式（２）で示される基を示す。
式（２）
【化２】
2011242459.tif 000002
（式（２）中、＊は（メタ）アクリル樹脂鎖中のカルボニル基に結合している酸素原子への結合部位を示す。Ｘは炭素数１〜３のアルキレン基、または窒素原子からケイ素原子に向かって−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−であり、ｐは１〜３の整数を表す。Ｒ１１およびＲ１２は各々独立に炭素数１〜６のアルキル基を示す。Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキレン基を示す。）］。
【請求項２】
前記式（１）で示されるシロキサン結合を有する基におけるＲ１、Ｒ１０及びＲ１３は、各々独立にメチレン基である請求項１に記載の現像剤担持体。
【請求項３】
前記式（１）で示されるシロキサン結合を有する基におけるＲ２、Ｒ３、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１及びＲ１２は、各々独立にメチル基、エチル基またはヘキシル基である請求項１または２に記載の現像剤担持体。
【請求項４】
前記樹脂が第３級アミノ基含有アクリル樹脂とシランカップリング剤との縮合反応物である請求項１乃至３のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【請求項５】
前記第３級アミノ基含有アクリル樹脂が式（３）に示す構造を少なくとも有するモノマーの重合体である請求項４に記載の現像剤担持体。
式（３）
【化３】
2011242459.tif 000003
（式（３）中、Ｒ１は炭素数が１〜４のアルキレン基を示す。Ｒ２及びＲ３は各々独立に炭素数が１〜６のアルキル基を示す。Ｒ１４は水素原子またはメチル基を示す。）。 
【請求項６】
前記モノマーが、ジメチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノヘキシルメタクリレート、ジブチルアミノエチルメタクリレートまたはジブチルアミノヘキシルメタクリレートである請求項５に記載の現像剤担持体。
【請求項７】
前記シランカップリング剤が、式（４）で表わされる構造を有するものである請求項４に記載の現像剤担持体：
【化４】
2011242459.tif 000004
（式（４）中、Yは末端にハロゲン元素を有する炭素数が１〜３のアルキル基、または末端にグリシジル基を有する炭素数が２〜６のアルキル基を示す。Ｒはメチル基またはエチル基を示す。）。
【請求項８】
前記シランカップリング剤が、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランまたはクロロメチルトリエトキシシランである請求項４に記載の現像剤担持体。
【請求項９】
該樹脂中のカルボニル基の数とシロキサン結合の数の比が、（１：０．３３）乃至（１：０．９６）である請求項１乃至８のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明にかかる現像剤担持体は、基体と、表面層として導電粒子を含有する樹脂層とを有する現像剤担持体であって、該樹脂層は、（メタ）アクリル樹脂鎖が式（１）で示されるシロキサン結合を有する基によって架橋されている樹脂を含有し、該樹脂中のカルボニル基の数がシロキサン結合の数よりも多いことを特徴とする：
式（１）
【化１】
2011242459.tif 000005
［（式（１）中、＊は（メタ）アクリル樹脂鎖中のカルボニル基に結合している酸素原子への結合部位を示す。Ｒ１及びＲ１０は各々独立に炭素数１〜４のアルキレン基を示す。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ８及びＲ９は各々独立に炭素数１〜６のアルキル基を示す。Ｘは炭素数１〜３のアルキレン基、または窒素原子からケイ素原子に向かって−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−であり、ｐは１〜３の整数を表す。Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は各々独立に式（２）で示される基を示す。
式（２）
【化２】
2011242459.tif 000006
（式（２）中、＊は（メタ）アクリル樹脂鎖中のカルボニル基に結合している酸素原子への結合部位を示す。Ｘは炭素数１〜３のアルキレン基、または窒素原子からケイ素原子に向かって−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−であり、ｐは１〜３の整数を表す。Ｒ１１、Ｒ１２は各々独立に炭素数１〜６のアルキル基を示す。Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキレン基を示す。）］。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
比較例１は現像剤担持体の樹脂中のシロキサン結合の数がカルボニル基の数よりも多い。そのため、現像剤担持体の樹脂層の耐久性が劣り、耐久後の画像濃度、カブリ、画質、削れ量、現像剤融着が悪く、また耐久前後の電荷量、現像剤担持量の変化が大きかった。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月19日(2012.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抵抗膜を有する試料の表面を評価するシステムにおいて、該システムは、
写像投影型電子光学系であって、
紫外線又はＸ線を放射する紫外線レーザ源又はＸ線レーザ源からなる電磁波源と、
該電磁波源から発生された電磁波を、試料表面に直交する方向ではなく斜め方向から試料表面に導く一次電子光学系と、
電磁波が照射された試料表面から放出されて該試料表面の画像情報を有する電子を試料表面に直交する方向に導く２次電子光学系であって、該電子を拡大するための拡大レンズを備えた２次電子光学系と
からなる写像投影型電子光学系と、
２次電子光学系によって導かれた電子を検出して、電気信号として出力する第１の検出器と、
試料表面から放出された電子を検出して電気信号を出力する第２の検出器であって、光電子を吸引するための電極を備えた第２の検出器と、
第１及び第２の検出器から出力された電気信号の何れかを受け取り、受け取った信号を処理して試料表面の画像を生成する処理部と
を備えたことを特徴とする試料表面評価システム。
【請求項２】
請求項１記載の試料表面評価システムにおいて、拡大レンズは、２対の拡大レンズで構成され、各対の拡大レンズが対称ダブレットレンズの無歪レンズで構成されていることを特徴とする試料表面評価システム。
【請求項３】
請求項１又は２記載の試料表面評価システムにおいて、該システムはさらに、
試料表面を平坦化する表面平坦化手段と、
該表面平坦化手段によって平坦化された試料表面上に任意の厚さの抵抗膜を被膜し、その後、該抵抗膜の一部分を溶剤で溶解して、抵抗膜の厚さを所望のレベルに低減する抵抗膜コーティング手段と、
該抵抗膜コーティング手段によって抵抗膜が被膜された試料を、写像投影型電子光学系における検査のために搬送する手段と
を備えていることを特徴とする試料表面評価システム。
【請求項４】
請求項１〜３いずれかに記載の試料表面評価システムにおいて、試料は、半導体ウエハ、フォトマスク、及びレチクルマスクの少なくとも１つであることを特徴とする試料表面評価システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月22日(2013.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
立体表示装置１００は、例えば、図２に示したように、液晶表示パネル１０、バックライト２０、Ｘドライバ３０、Ｙドライバ４０、映像信号処理回路５０およびタイミング制御部６０を備えたものである。Ｘドライバ３０、Ｙドライバ４０、映像信号処理回路５０およびタイミング制御部６０からなる駆動回路は、右目用の映像信号Ｄｉｎに応じた信号電圧と、左目用の映像信号Ｄｉｎに応じた信号電圧とを１フレームごともしくは複数フレームごとに交互に、液晶表示パネル１０内の複数の画素１１（後述）に印加することにより液晶表示パネル１０に映像を表示させるものである。立体表示装置１００は、さらに、例えば、図示しないが、シャッタメガネ２００と通信を行う通信器（例えば、ＲＦ(radio frequency)トランスミッタ）を備えている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
なお、液晶表示パネル１０が、本発明の「表示パネル」の一具体例に相当する。また、Ｘドライバ３０、Ｙドライバ４０、映像信号処理回路５０およびタイミング制御部６０が、本発明の「駆動回路」の一具体例に相当する。以下、シャッタメガネ２００、通信器、液晶表示パネル１０、バックライト２０、Ｘドライバ３０、Ｙドライバ４０、映像信号処理回路５０、タイミング制御部６０の順に説明する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
（タイミング制御部６０）
タイミング制御部６０は、Ｘドライバ３０、Ｙドライバ４０およびシャッタメガネ２００が連動して動作するように制御するものである。タイミング制御部６０は、例えば、映像信号処理回路５０から入力された同期信号に応じて（同期して）、Ｘドライバ３０、Ｙドライバ４０および通信器に対して制御信号を出力するようになっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
次に、映像信号処理回路５０の内部構成について説明する。図４は、映像信号処理回路５０を機能ブロックごとに分けて記述したものである。映像信号処理回路５０は、例えば、図４に示したように、ダイナミックレンジ制御部５１、オーバードライブ制御部５２および記憶部５３を有している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2011242474.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月5日(2013.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を変調して投写レンズユニットから投写された映像光を反射ミラーにて反射させて被投写面に投写する投写型表示装置において、
本体キャビネットと、
前記反射ミラーにて反射された映像光を外部に導くために前記本体キャビネットに配された投写口と、
前記本体キャビネットの前記投写口を挟む２つの側面の少なくとも一方に設けられた排
気口と、
前記本体キャビネット内に配された被冷却部との熱交換によって温まった空気を、前記
排気口を通じて外部に排出する排気ユニットと、を備え、
前記排気ユニットは、
排気ファンと、
前記排気ファンから排出された空気を、前記投写レンズユニットの投写方向へ向かわせる偏向部材と、を含む、
ことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の投写型表示装置において、
前記偏向部材は、さらに、前記被投写面に平行な方向において、前記投写口から出射さ
れた前記映像光から離れるように、前記排気ファンから排出された空気を向かわせる、
ことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の投写型表示装置において、
前記偏向部材は、複数の羽板部が所定間隔で配列されたルーバー構造を有する、
ことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の投写型表示装置において、
前記羽板部は、前記排気ファンから排出された空気が当たる面が凹湾曲面に形成される、
ことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項５】
請求項３または４に記載の投写型表示装置において、
前記排気ファンは、前記光源に隣接して配されるとともに、
前記排気ユニットは、さらに、隣り合う前記羽板部の間から前記排気口側へと漏れる前
記光源の光を遮蔽する遮蔽部材を含む、
ことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項６】
請求項１ないし５の何れか一項に記載の投写型表示装置において、
前記排気ファンから排出される空気が、前記被投写面に平行な方向において、前記投写
口から出射された前記光から離れるように、前記排気ファンが前記本体キャビネットに対
して傾けられる、
ことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項７】
請求項１ないし６の何れか一項に記載の投写型表示装置において、
変調された光が入射する投写レンズ部と、
前記投写レンズ部を透過した光を反射して前記被投写面へと向かわせるミラー部と、を
備える、
ことを特徴とする投写型表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載の投写型表示装置において、
前記投写口を挟む２つの側面のうち何れか一方のみに前記排気口が配され、
前記投写口は、前記２つの側面の中間よりも前記排気口から離れる方向に偏った位置に
配置される、
ことを特徴とする投写型表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、光源からの光を変調して投写レンズユニットから投写された映像光を反射ミラーにて反射させて被投写面に投写する投写型表示装置に関する。本発明の投写型表示装置は、本体キャビネットと、前記反射ミラーにて反射された映像光を外部に導くために前記本体キャビネットに配された投写口と、前記本体キャビネットの前記投写口を挟む２つの側面の少なくとも一方に設けられた排気口と、前記本体キャビネット内に配された被冷却部との熱交換によって温まった空気を、前記排気口を通じて外部に排出する排気ユニットとを備える。ここで、前記排気ユニットは、排気ファンと、前記排気ファンから排出された空気を、前記投写レンズユニットの投写方向へ向かわせる偏向部材とを含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の投写型表示装置において、前記偏向部材は、さらに、前記被投写面に平行な方向において、前記投写口から出射された前記映像光から離れるように、前記排気ファンから排出された空気を向かわせるような構成とされ得る。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月14日(2013.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルと、
前記表示パネルを背面側から照明する複数の光源が設けられた第一の基板と、
前記表示パネルを駆動制御する第二の基板と、
前記第一の基板に設けられた前記複数の光源を駆動制御する第三の基板と、
前記第一の基板を背面側から支持する放熱性を有する金属板と、
前記表示パネルと前記金属板とを保持して表示モジュールを形成する保持部材と、
前記表示モジュールを収容する筐体とを備える表示装置であって、
前記筐体は、下部に吸気口、上部に排気口を備えており、
前記第二、第三の基板は、前記筐体内における前記表示モジュールの下部に設けられており、
前記金属板の背面側下部を含む領域に、該金属板の背面側の面に接触し、かつ前記第二の基板と前記第三の基板とに接触する伝熱部材が設けられている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第二、第三の基板は、電気実装部品と該電気実装部品を搭載する回路基板を備え、
前記第二、第三の基板は、前記第二の基板が備える回路基板の面と前記第三の基板が備える回路基板の面とがなす角度が略直角となるように配置されている
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記筐体が備える吸気口は、少なくとも前記第二の基板または前記第三の基板の筐体下部側の下端部より上方に設けられている
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記筐体が備える吸気口は、前記第二の基板および前記第三の基板よりも下方に設けられている
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示装置。
【請求項５】
表示パネルと、
前記表示パネルを背面側から照明する複数の光源が設けられた第一の基板と、
前記表示パネルを駆動制御し、前記第一の基板に設けられた前記複数の光源を駆動制御する制御基板と、
前記第一の基板を背面側から支持する放熱性を有する金属板と、
前記表示パネルと前記金属板とを保持して表示モジュールを形成する保持部材と、
前記表示モジュールを収容する筐体とを備える表示装置であって、
前記筐体は、下部に吸気口、上部に排気口を備えており、
前記制御基板は、前記筐体内における前記表示モジュールの下部に設けられており、
前記金属板の背面側下部を含む領域に、該金属板の背面側の面に接触し、かつ前記制御基板に接触する伝熱部材が設けられている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
前記筐体が備える吸気口は、前記制御基板の筐体下部側の下端部より上方に設けられている
ことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記筐体が備える吸気口は、前記制御基板よりも下方に設けられている
ことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項８】
前記排気口は、前記金属板の上端部よりも上方に設けられている
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記表示パネルを背面側から照明する複数の光源は、直下型のバックライトである
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一実施形態の表示装置は、表示パネルと、前記表示パネルを背面側から照明する複数の光源が設けられた第一の基板と、前記表示パネルを駆動制御する第二の基板と、前記第一の基板に設けられた前記複数の光源を駆動制御する第三の基板と、前記第一の基板を背面側から支持する放熱性を有する金属板と、前記表示パネルと前記金属板とを保持して表示モジュールを形成する保持部材と、前記表示モジュールを収容する筐体とを備える。前記筐体は、下部に吸気口、上部に排気口を備えており、前記第二、第三の基板は、前記筐体内における前記表示モジュールの下部に設けられており、前記金属板の背面側下部を含む領域に、該金属板の背面側の面に接触し、かつ前記第二の基板と前記第三の基板とに接触する伝熱部材が設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2011242488.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月18日(2013.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示部の状態を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記表示部に外力が加えられる前後において前記表示部の状態変化が所定値以下となる位置に、ユーザインタフェース用の画像を配置制御する制御部と、
を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記制御部は、前記表示部の状態が第１状態から第２状態に移行されたことを前記検出部によって検出されると、前記ユーザインタフェース用の画像を前記表示部の中央部に移動させる
ことを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記制御部は、前記表示部の状態が前記第２状態から前記第１状態に移行されたことを前記検出部によって検出されると、前記ユーザインタフェース用の画像を前記表示部の周辺部に移動させる
ことを特徴とする請求項２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記制御部は、前記表示部の状態が前記第１状態から前記第２状態に移行されたことを前記検出部によって検出されると、前記表示部及び前記電子機器の少なくとも一方の重心または前記重心より下部に前記ユーザインタフェース用の画像を配置する
ことを特徴とする請求項２または請求項３に記載の電子機器。
【請求項５】
前記表示部に外力が加えられた場合における前記表示部の前記状態変化に関する情報を記憶する記憶部とを備え、
前記制御部は、前記記憶部と前記検出部による検出結果に基づいて前記ユーザインタフェース用の画像を表示する
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の電子機器。
【請求項６】
前記検出部は、前記表示部の重力方向に対する角度、前記表示部の姿勢、前記電子機器の姿勢、及び前記表示部を支持する脚部と前記表示部とがなす角度の少なくとも一つに基づいて前記表示部の状態を検出する
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の電子機器。
【請求項７】
ユーザの前記位置に関する指示を入力する入力部とを備え、
前記制御部は、前記入力部による入力結果に基づいて前記位置を制御する
ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の電子機器。
【請求項８】
前記制御部は、複数のユーザインタフェース用の画像を前記表示部に表示する際に、前記複数のユーザインタフェース用の画像毎の使用頻度に基づいて前記位置を制御する
ことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の電子機器。
【請求項９】
前記制御部は、前記使用頻度に基づいて、前記ユーザインタフェース用の画像の前記表示部への表示の有無を制御する
ことを特徴とする請求項８に記載の電子機器。
【請求項１０】
電子機器の姿勢を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、ユーザにより操作される操作部材に対する操作入力に割り当てられる機能を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
前記ユーザの前記位置に関する指示、及び前記表示部に外力が加えられた場合における前記電子機器の姿勢変化に関する情報の少なくとも一方を入力する入力部を更に備え、
前記制御部は、前記入力部による入力結果に基づいて、前記機能を制御する
ことを特徴とする請求項１０に記載の電子機器。
【請求項１２】
前記制御部は、前記ユーザにより前記操作部材が操作される前後において前記電子機器の姿勢変化が所定値以下となるように、前記機能を制御する
ことを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の電子機器。
【請求項１３】
前記制御部は、複数の操作部材のそれぞれに対して異なる機能を割り当てる際に、前記機能毎の使用頻度に基づいて、前記機能を割り当てる
ことを特徴とする請求項１０から請求項１２のいずれか一項に記載の電子機器。
【請求項１４】
前記制御部は、前記使用頻度に基づいて、前記操作部材に前記機能を割り当てるか否かを制御する
ことを特徴とする請求項１３に記載の電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の電子機器は、画像を表示する表示部の状態を検出する検出部と、前記検出部による検出結果に基づいて、前記表示部に外力が加えられる前後において前記表示部の状態変化が所定値以下となる位置に、ユーザインタフェース用の画像を配置制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月14日(2013.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
幾何学関係の変化により、θ→θ’、Ｐ→Ｐ’Ｒｘ→Ｒｘ’、Ｒｙ→Ｒｙ’になるとする。Ｌ→Ｌcosβ、ａ→a・cosβになることを考慮して、前述の式（１）〜（８）の変数を置換すると式（１）〜（８）と同様に以下の式（１’）〜（８’）が成り立つ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月26日(2013.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像が形成された被計測対象物に対して光を照射する光照明手段と、
前記被計測対象物に照射された前記光の正反射光を受光する撮像手段と、
前記撮像手段に前記正反射光を結像させる結像手段と、を有する画像検査装置であって、
前記光照明手段は、複数の発光素子と、照明光生成手段と、を含み、
前記照明光生成手段は、前記複数の発光素子が発する光の光路を変換し、前記被計測対象物に照射された際の正反射光が前記結像手段の瞳に対して入射する光を生成することを特徴とする画像検査装置。
【請求項２】
照明光生成手段は、前記複数の発光素子の発する光を反射させて前記被計測対象物に対して入射させる凹状の曲面を有し、
前記凹状の曲面は、前記正反射光が前記結像手段の瞳に対して入射する曲率とされている請求項１記載の画像検査装置。
【請求項３】
照明光生成手段は、前記複数の発光素子の発する光を透過させて前記被計測対象物に対して入射させる凸状の曲面を有し、
前記凸状の曲面は、前記正反射光が前記結像手段の瞳に対して入射する曲率とされている請求項１記載の画像検査装置。
【請求項４】
画像が形成された被計測対象物に対して光を照射する光照明手段と、
前記被計測対象物に照射された前記光の正反射光を受光する撮像手段と、
前記撮像手段に前記正反射光を結像させる結像手段と、を有する画像検査装置であって、
前記光照明手段は、複数の発光素子を含み、
前記複数の発光素子は、前記正反射光が前記結像手段の瞳に対して入射するようにそれぞれが指向している画像検査装置。
【請求項５】
被計測対象物として設置された、全域において光を正反射する正反射体からの正反射光の光量に基づいて、前記正反射光が発生しない不感領域を特定する不感領域処理手段を更に有する請求項１乃至４の何れか一項記載の画像検査装置。
【請求項６】
前記不感領域処理手段は、前記撮像手段が受光した前記不感領域を除く領域からの前記正反射光の光量に基づいて前記画像の検査を行う請求項５記載の画像検査装置。
【請求項７】
前記撮像手段が受光した前記正反射光の光量に基づいて前記被計測対象物の光沢分布を検査する請求項１乃至６の何れか一項記載の画像検査装置。
【請求項８】
画像が形成された前記被計測対象物に対して前記光照明手段とは異なる方向から光を照射する第２の光照明手段を更に有し、
前記撮像手段は、前記第２の光照明手段により前記被計測対象物に照射された前記光の拡散反射光の一部も受光し、
前記結像手段は、前記撮像手段に前記拡散反射光の一部も結像させ、
前記光照明手段が消灯し、前記第２の光照明手段が点灯しているときに前記撮像手段が受光した前記拡散反射光の一部の光量に基づいて前記被計測対象物の濃度分布を検査する請求項１乃至７の何れか一項記載の画像検査装置。
【請求項９】
画像担持媒体に画像を形成する画像形成装置であって、
請求項１乃至８の何れか一項記載の画像検査装置を備え、
前記画像検査装置は、被計測対象物である画像が形成された前記画像担持媒体の光沢分布及び濃度分布の何れか一方又は双方を検査する画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本画像検査装置は、画像が形成された被計測対象物に対して光を照射する光照明手段と、前記被計測対象物に照射された前記光の正反射光を受光する撮像手段と、前記撮像手段に前記正反射光を結像させる結像手段と、を有する画像検査装置であって、前記光照明手段は、複数の発光素子と、照明光生成手段と、を含み、前記照明光生成手段は、前記複数の発光素子が発する光の光路を変換し、前記被計測対象物に照射された際の正反射光が前記結像手段の瞳に対して入射する光を生成することを要件とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】