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【手続補正書】
【提出日】平成25年9月11日(2013.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
基体２０に対して、筐体３０の平坦部を押圧することで、筐体３０の平坦部が第２の部材１２を圧縮変形する。この結果、筐体３０の平坦部と第２の部材１２との接触面積が増大し、電磁波遮断効果を高めることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
このとき、第１の部材１１は、筐体３０の平坦部の圧縮変形量を吸収できるように、例えば図３Ａに示した第２の部材１２と基体２０とが離隔している間隙に第１の部材１１の変形量が突出、または図３Ｂに示すようにパッキン部材１０が筐体３０の平坦部に沿って圧縮変形する。第２の部材１２は、筐体３０の平坦部の押圧による押し込み量に追従するように引き延ばされる。換言すると、パッキン部材１０は、筐体３０の平坦部の押し込みに追従する第１の部材１１の弾性変形性と、第１の部材１１の弾性変形量に追従する第２の部材１２の引っ張り変形性とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
第２の部材１２は、第１の部材１１上に、パッキン部材１０に凸部３１が当接する方向（図４Ａの上下方向）に積層されている。第２の部材１２は、凹部２１の内壁に密着している。また、第２の部材１２は、その一部が凹部２１から突出するように、第１の部材１１に積層されている。これによって、蓋体２０全閉時にシール材３０が筐体３０に対して確実に密着することができる。尚、第２の部材１２には、一例として、シリコーンゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム等に導電性物質を複合させたものが好適に用いられる。この中でも、シリコーンゴムは、耐熱、耐水及び繰り返し特性の点において他より優れるため、特に好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月23日(2013.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表示部と、
第２の表示部と、
前記第１の表示部に対する入力を検出する第１の検出部と、
前記第２の表示部に対する入力を検出する第２の検出部と、
前記第１の検出部により検出された前記入力に応じて第１の処理を実行し、前記第２の検出部により検出された前記入力に応じて第２の処理を実行する実行部と、
前記実行部により実行された前記第１の処理の画面を前記第１の表示部に表示し、前記第２の処理の画面を前記第２の表示部に表示する制御部とを備え、
前記制御部は、前記第１の表示部および前記第２の表示部のうち、アクティブ状態の画面を表示する表示部と、非アクティブ状態の画面を表示する表示部とを区別するための制御として、前記アクティブ状態の画面の縁の一辺にアクティブ状態を示す線状のバーの画像を表示する、
ことを特徴とする携帯端末装置。
【請求項２】
第１の表示部と、
第２の表示部と、
前記第１の表示部に対する入力を検出する第１の検出部と、
前記第２の表示部に対する入力を検出する第２の検出部と、
前記第１の検出部により検出された前記入力に応じて第１の処理を実行し、前記第２の検出部により検出された前記入力に応じて第２の処理を実行する実行部と、
前記実行部により実行された前記第１の処理の画面を前記第１の表示部に表示し、前記第２の処理の画面を前記第２の表示部に表示する制御部とを備え、
前記制御部は、前記第１の表示部および前記第２の表示部のうち、アクティブ状態の画面を表示する表示部と、非アクティブ状態の画面を表示する表示部とを区別するための制御として、前記アクティブ状態の画面のサイズに比べて、前記非アクティブ状態の画面のサイズを小さくする、
ことを特徴とする携帯端末装置。
【請求項３】
第１の表示部と、
第２の表示部と、
前記第１の表示部に対する入力を検出する第１の検出部と、
前記第２の表示部に対する入力を検出する第２の検出部と、
前記第１の検出部により検出された前記入力に応じて第１の処理を実行し、前記第２の
検出部により検出された前記入力に応じて第２の処理を実行する実行部と、
前記実行部により実行された前記第１の処理の画面を前記第１の表示部に表示し、前記第２の処理の画面を前記第２の表示部に表示する制御部とを備える携帯端末装置であって、
前記第１の表示部は、所定の情報を入力するための第１のキー領域を含み、
前記第２の表示部は、所定の情報を入力するための第２のキー領域を含み、
前記制御部は、前記アクティブ状態の画面を表示する表示部のキー領域に比べて、前記非アクティブ状態の画面を表示する表示部のキー領域を暗くする、
ことを特徴とする携帯端末装置。
【請求項４】
第１の表示部と、
第２の表示部と、
前記第１の表示部に対する入力を検出する第１の検出部と、
前記第２の表示部に対する入力を検出する第２の検出部と、
前記第１の検出部により検出された前記入力に応じて第１の処理を実行し、前記第２の検出部により検出された前記入力に応じて第２の処理を実行する実行部と、
前記実行部により実行された前記第１の処理の画面を前記第１の表示部に表示し、前記第２の処理の画面を前記第２の表示部に表示する制御部とを備える携帯端末装置であって、
前記第１の表示部に対応して設けられ、所定の情報を入力するための点灯可能な第１のキー部と、
前記第２の表示部に対応して設けられ、所定の情報を入力するための点灯可能な第２のキー部とをさらに備え、
前記制御部は、前記アクティブ状態の画面を表示する表示部に対応するキー部に比べて、前記非アクティブ状態の画面を表示する表示部に対応するキー部を暗くする、
ことを特徴とする携帯端末装置。
【請求項５】
第１の表示部と、第２の表示部と、前記第１の表示部に対する入力を検出する第１の検出部と、前記第２の表示部に対する入力を検出する第２の検出部とを備える携帯端末装置のコンピュータに、
前記第１の検出部により検出された前記入力に応じて第１の処理を実行し、前記第２の検出部により検出された前記入力に応じて第２の処理を実行し、
実行された前記第１の処理の画面を前記第１の表示部に表示し、前記第２の処理の画面を前記第２の表示部に表示し、
前記第１の表示部および前記第２の表示部のうち、アクティブ状態の画面を表示する表示部を、非アクティブ状態の画面を表示する表示部から区別するための制御として、前記アクティブ状態の画面の縁の一辺にアクティブ状態を示す線状のバーの画像を表示する機能を付与するプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月11日(2013.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも一方面上に、ペースト組成物を塗布し、乾燥することにより触媒層を形成させてなる触媒層−電解質膜積層体製造用転写シートであって、
前記ペースト組成物は、（１）触媒担持炭素粒子の水分散液に（２）水素イオン伝導性高分子電解質、（３）ｔ−ブタノール及び（４）１−ブタノールを配合し、且つ、ペーストの固形分濃度が９〜２０重量％であり、ｔ−ブタノール１重量部に対して１−ブタノールが２．５〜９重量部の割合で含有されている、触媒層−電解質膜積層体製造用転写シート。
【請求項２】
請求項１に記載の触媒層−電解質膜積層体製造用転写シートを用いて作成した触媒層−電解質膜積層体。
【請求項３】
電解質膜の少なくとも一方面上に、ペースト組成物を塗布し、乾燥することにより触媒層を形成させてなる触媒層−電解質膜積層体であって、
前記ペースト組成物は、（１）触媒担持炭素粒子の水分散液に（２）水素イオン伝導性高分子電解質、（３）ｔ−ブタノール及び（４）１−ブタノールを配合し、且つ、ペーストの固形分濃度が９〜２０重量％であり、ｔ−ブタノール１重量部に対して１−ブタノールが２．５〜９重量部の割合で含有されている、触媒層−電解質膜積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、項１〜３に係る触媒層−電解質膜積層体製造用転写シート及び触媒層−電解質膜積層体を提供する。
項１．基材の少なくとも一方面上に、ペースト組成物を塗布し、乾燥することにより触媒層を形成させてなる触媒層−電解質膜積層体製造用転写シートであって、
前記ペースト組成物は、（１）触媒担持炭素粒子の水分散液に（２）水素イオン伝導性高分子電解質、（３）ｔ−ブタノール及び（４）１−ブタノールを配合し、且つ、ペーストの固形分濃度が９〜２０重量％であり、ｔ−ブタノール１重量部に対して１−ブタノールが２．５〜９重量部の割合で含有されている、触媒層−電解質膜積層体製造用転写シート。
項２．項１に記載の触媒層−電解質膜積層体製造用転写シートを用いて作成した触媒層−電解質膜積層体。
項３．電解質膜の少なくとも一方面上に、ペースト組成物を塗布し、乾燥することにより触媒層を形成させてなる触媒層−電解質膜積層体であって、
前記ペースト組成物は、（１）触媒担持炭素粒子の水分散液に（２）水素イオン伝導性高分子電解質、（３）ｔ−ブタノール及び（４）１−ブタノールを配合し、且つ、ペーストの固形分濃度が９〜２０重量％であり、ｔ−ブタノール１重量部に対して１−ブタノールが２．５〜９重量部の割合で含有されている、触媒層−電解質膜積層体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
【表１】
2012182153.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月1日(2013.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動端末装置及び外部ゲートウェイ装置を有する移動体通信システムにおける移動端末装置であって、
前記移動端末装置は、前記外部ゲートウェイ装置との間のデータの送受信に用いる単一のＰＤＮコネクションの確立を要求し、
前記要求によって確立されるＰＤＮコネクションに割り当てられたアドレスブロックを、前記外部ゲートウェイ装置から取得し、
少なくとも１つのＩＰアドレスを前記アドレスブロックから生成し、
前記ＩＰアドレスを送信元として含むデータを、前記ＰＤＮコネクションを経由して、前記外部ゲートウェイ装置に送信し、
前記ＩＰアドレスを送信先として含むデータを、前記ＰＤＮコネクションを経由して、前記外部ゲートウェイ装置から受信する
ことを特徴とする移動端末装置。
【請求項２】
少なくとも１つの情報端末装置、移動端末装置及び外部ゲートウェイ装置を有する移動体通信システムにおける移動端末装置であって、
前記移動端末装置は、前記外部ゲートウェイ装置と前記少なくとも１つの情報端末装置との間の通信に用いる単一のＰＤＮコネクションの確立を要求し、
前記要求によって確立されるＰＤＮコネクションに割り当てられたアドレスブロックを、前記外部ゲートウェイ装置から取得し、
ＩＰアドレスを前記情報端末装置に割り当て、前記ＰＤＮコネクションを経由した前記少なくとも１つの情報端末装置と前記外部ゲートウェイ装置との間のユーザデータをルータとして転送する
ことを特徴とする移動端末装置。
【請求項３】
前記単一のＰＤＮコネクションの確立を要求する際に、前記ＰＤＮコネクションに割り当てるためのアドレスブロックのアドレスタイプを通知する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の移動端末装置。
【請求項４】
前記アドレスタイプは、ＩＰｖ４タイプ及びＩＰｖ６タイプとして指定される
ことを特徴とする請求項３に記載の移動端末装置。
【請求項５】
取得される前記アドレスブロックは、ＩＰｖ６プレフィックスである
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の移動端末装置。
【請求項６】
前記移動端末装置は、ＤＨＣＰｖ６を用いて、前記外部ゲートウェイ装置に対して、前記ＰＤＮコネクションに割り当てられるＩＰｖ６プレフィックスを要求する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の移動端末装置。
【請求項７】
前記ＩＰｖ６プレフィックスは、上位６４ビット未満である
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の移動端末装置。
【請求項８】
移動端末装置及び外部ゲートウェイ装置を有する移動体通信システムにおける外部ゲートウェイ装置であって、
前記移動端末装置から、前記移動端末装置との間のデータの送受信に用いる単一のＰＤＮコネクションの確立の要求によって、前記ＰＤＮコネクションを確立し、
前記ＰＤＮコネクションにアドレスブロックを割り当て、前記移動端末装置に前記アドレスブロックを通知し、
前記アドレスブロックから少なくとも１つ生成されたＩＰアドレスを送信元として含むデータを、前記ＰＤＮコネクションを経由して、前記移動端末装置から受信し、
前記ＩＰアドレスを送信先として含むデータを、前記ＰＤＮコネクションを経由して、前記移動端末装置に送信する
ことを特徴とする外部ゲートウェイ装置。
【請求項９】
前記移動端末装置からの前記単一のＰＤＮコネクションの確立の要求によって、前記ＰＤＮコネクションに割り当てるためのアドレスブロックのアドレスタイプを取得する
ことを特徴とする請求項８に記載の外部ゲートウェイ装置。
【請求項１０】
前記アドレスタイプは、ＩＰｖ４タイプ及びＩＰｖ６タイプとして指定される
ことを特徴とする請求項９に記載の外部ゲートウェイ装置。
【請求項１１】
前記アドレスブロックは、ＩＰｖ６プレフィックスである
ことを特徴とする請求項８に記載の外部ゲートウェイ装置。
【請求項１２】
前記移動端末装置から、ＤＨＣＰｖ６を用いて、前記ＰＤＮコネクションに割り当てるＩＰｖ６プレフィックスの要求を受信する
ことを特徴とする請求項８に記載の外部ゲートウェイ装置。
【請求項１３】
前記ＩＰｖ６プレフィックスは、上位６４ビット未満である
ことを特徴とする請求項１１又は１２に記載の外部ゲートウェイ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月26日(2013.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、磁石を含むロータと、ステータコイルを含むステータとを有する高効率発電機に関し、特にステータの構造の改良に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の高効率発電機は、入力軸に固定され、周方向に磁石を複数有するロータと、ロータに対して所定の間隔をもって相対し、その相対する方向に突出する複数のティースにそれぞれ巻き回されたステータコイルを有するステータと、を備え、ステータコイルが、ステータの周方向に偏在するように配置されて不均等負荷配置になるように構成されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、ある磁石の磁力は、他の磁石の磁力と異なることが好適である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力軸に固定され、周方向に磁石を複数有するロータと、
ロータに対して所定の間隔をもって相対し、その相対する方向に突出する複数のティースにそれぞれ巻き回されたステータコイルを有するステータと、
を備え、
ステータコイルが、ステータの周方向に偏在するように配置されて不均等負荷配置になるように構成される、
ことを特徴とする高効率発電機。
【請求項２】
請求項１に記載の高効率発電機において、
ステータは、入力軸に対して偏心している円筒形状である、
ことを特徴とする高効率発電機。
【請求項３】
請求項１または２に記載の高効率発電機において、
あるティースに巻かれるステータコイルの線径が、他のティースに巻かれるステータコイルの線径と異なる、
ことを特徴とする高効率発電機。
【請求項４】
請求項１または２に記載の高効率発電機において、
あるティースに巻かれるステータコイルの巻き数が、他のティースに巻かれるステータコイルの巻き数と異なる、
ことを特徴とする高効率発電機。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１つに記載の高効率発電機において、
ある磁石の磁力は、他の磁石の磁力と異なる、
ことを特徴とする高効率発電機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月10日(2013.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】  まず、図１は、本発明の実施の形態における入出力ユニットを３個備えた計測制御用遠隔入出力装置の全体斜視図で、図２は、本発明の実施の形態における入出力ユニットを左側から見た斜視図で、図３は、図２におけるＡ−Ａ断面図で、図４（ａ）〜（ｃ）は、一方の入出力ユニットの雄側金属端子と隣接する他方の侵入用凹部との位置関係を取り付け段階毎に示す図で、図５は、本発明の実施の形態における入出力ユニットの左側面図で、図６は、支持レールと入出力ユニットとの傾きを説明するための部分断面図で、図７（ａ）〜（ｃ）は、本実施の形態における侵入用凹部の３つの変形例を示す図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】  ここで、第１侵入用凹部２２ｅｒ、第２侵入用凹部２２ｅｍ、第３侵入用凹部２２ｅｆは、それぞれケース左側面２２ｓｌから一定の深さを有するが、取り付け時の進行方向に沿って、順次深さが大きくなっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】１０  計測制御用遠隔入出力装置
１１  電源・通信ユニット
１１ａ  可動スライダー
１２  入出力ユニット
１２ａ  可動スライダー
１２ａｔ  爪部
１２ｂ  雄側端子部
１２ｃ  スライドレール
１２ｄ  延出片
１２ｅ  侵入用凹部
１２ｅｆ  前方側侵入用凹部
１２ｅｍ  接続用凹部
１２ｅｒ  後方側侵入用凹部
１２ｆ  雌側端子部
１２ｇ  ケース背面
１２ｈ  コネクタ端子部
１２ｓｌ  ケース左側面
１２ｓｒ  ケース右側面
２１、２２、２３  入出力ユニット
２１ｅ、２２ｅ、２３ｅ  侵入用凹部
２１ｓｌ、２２ｓｌ、２３ｓｌ  ケース左側面
２２ｅｒ  第１侵入用凹部
２２ｅｍ  第２侵入用凹部
２２ｅｆ  第３侵入用凹部
２２ｅｓ  接続用凹部
２３ｅｆ  前方側侵入用凹部
２３ｅｒ  後方側侵入用凹部
ａ  長さ
ｈ  突出高さ
ｓ  深さ
ｔ  張出片部の厚みの寸法
ｄｍａｘ  最大深さ
θｒ  後方側侵入用凹部のケース左側面に対する角度
θｍ  接続用凹部のケース左側面に対する角度
θｍａｘ  最大傾き
Ｌ  支持レール
Ｌ１  張出片部
Ｇ  隙間の寸法
Ｐ１  ケース背面端部
Ｐ２  爪部の遠方側端部
（Ｇ−ｔ）  寸法差
（（Ｇ−ｔ）／ａ）  比率
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月12日(2013.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体撮像装置の製造方法において、
光電変換部が配された基板と、前記光電変換部の上に配された反射防止膜としての第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜の上に配された第２の絶縁膜と、を有する部材を準備する工程と、
前記第２の絶縁膜の上に、第１の層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第１の層間絶縁膜の上に、配線層を形成する工程と、
前記配線層の上に、第２の層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第１の層間絶縁膜と前記第２の層間絶縁膜の一部を、エッチングを用いて除去することによって、前記第１の層間絶縁膜と前記第２の層間絶縁膜を貫通する開口を形成する工程と、
前記開口に、導波路となる高屈折率部材を形成する工程と、を有し、
前記開口を形成する工程において、前記エッチングの条件は、前記第１の層間絶縁膜がエッチングされる速度よりも前記第２の絶縁膜がエッチングされる速度が遅い条件であることを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【請求項２】
前記部材を準備する工程において、
前記基板は、前記光電変換部とは別の光電変換部を有し、
前記第１の絶縁膜は、前記別の光電変換部の上まで延在し、
前記別の光電変換部上の第１の絶縁膜の上に、前記第２の絶縁膜と分離された別の第２の絶縁膜が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の絶縁膜は、多層膜である請求項１または２に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１の絶縁膜は、窒化シリコンからなる絶縁膜と、前記窒化シリコンからなる絶縁膜の上に配された酸化シリコンからなる絶縁膜とを含む請求項１乃至３のいずれか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項５】
前記部材を準備する工程において、前記基板には、前記光電変換部の信号電荷を転送するゲート電極が配され、
前記第１の絶縁膜は、前記光電変換部の上から前記ゲート電極の上に延在していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項６】
前記高屈折率部材と前記第２の絶縁膜とが同一の材料からなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項７】
基板に配された光電変換部と、
前記光電変換部の上に配された反射防止膜としての第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜の上に配されたエッチングストップ膜としての第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜の上に配された第１の層間絶縁膜と、
前記第１の層間絶縁膜の上に配された第１の配線層と、
前記第１の配線層の上に配された第２の層間絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜の上に底面が配され、前記複数の層間絶縁膜よりも高い屈折率を有する部材を含む導波路と、を有する固体撮像装置。
【請求項８】
前記基板は、前記光電変換部に隣接する別の光電変換部を有し、
前記別の光電変換部の上に設けられた別の第２の絶縁膜を有し、
前記第２の絶縁膜と前記別の第２の絶縁膜は、分離されていることを特徴とする請求項７に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記第１の絶縁膜は、前記光電変換部から前記別の光電変換部へ延在して形成されていることを特徴とする請求項７又は８に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記基板は、前記光電変換部の信号電荷を転送するゲート電極を有し、
前記第１の絶縁膜が前記ゲート電極の上へ延在していることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
前記ゲート電極の上面よりも前記第２の絶縁膜の上面は前記基板の近くに配置されている請求項１０に記載の固体撮像装置。
【請求項１２】
前記第１の絶縁膜は、窒化シリコンからなる絶縁膜と、前記窒化シリコンからなる絶縁膜の上に配された酸化シリコンからなる絶縁膜とを含み、
前記第２の絶縁膜は、窒化シリコンからなる請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１３】
請求項７乃至１２のいずれか１項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置からの電気信号を処理する信号処理装置と、を有する撮像システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の固体撮像装置の製造方法は、光電変換部が配された基板と、前記光電変換部の上に配された反射防止膜としての第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜の上に配された第２の絶縁膜と、を有する部材を準備する工程と、前記第２の絶縁膜の上に、第１の層間絶縁膜を形成する工程と、前記第１の層間絶縁膜の上に、配線層を形成する工程と、前記配線層の上に、第２の層間絶縁膜を形成する工程と、前記第１の層間絶縁膜と前記第２の層間絶縁膜の一部を、エッチングを用いて除去することによって、前記第１の層間絶縁膜と前記第２の層間絶縁膜を貫通する開口を形成する工程と、前記開口に、導波路となる高屈折率部材を形成する工程と、を有し、前記開口を形成する工程において、前記エッチングの条件は、前記第１の層間絶縁膜がエッチングされる速度よりも前記第２の絶縁膜がエッチングされる速度が遅い条件である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の固体撮像装置は、基板に配された光電変換部と、前記光電変換部の上に配された反射防止膜としての第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜の上に配されたエッチングストップ膜としての第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜の上に配された第１の層間絶縁膜と、前記第１の層間絶縁膜の上に配された第１の配線層と、前記第１の配線層の上に配された第２の層間絶縁膜と、前記第２の絶縁膜の上に底面が配され、前記複数の層間絶縁膜よりも高い屈折率を有する部材を含む導波路と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月30日(2012.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
光電変換部と、
開口部を囲む側面および前記側面から延在した上面を有する絶縁膜と、
前記側面に接し、前記光電変換部の受光面に対応した領域に下面を有する光路部材と、
少なくとも１つの集光レンズ体層を含む集光部材と、を備え、
前記絶縁膜は、前記光路部材の屈折率より低い屈折率を有し前記光路部材を囲む、１層以上の低屈折率絶縁層を含んでおり、
前記上面は、前記受光面を含む第１平面に平行で前記第１平面から距離Ｔだけ離れた第２平面内に位置しており、
前記下面は、前記第１平面に平行で前記第２平面から前記受光面側に前記距離Ｔ以下の距離Ｄだけ離れた第３平面内に位置しており、
前記集光部材は、前記集光部材の、前記開口部に対応した領域に入射する光の焦点を、前記光路部材の内部であって、前記第２平面と、前記第１平面に平行で前記第２平面から前記受光面側に距離Ｄ／２だけ離れた第４平面と、の間に形成することを特徴とする光電変換素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記絶縁膜は、前記光路部材の屈折率以上の屈折率を有し前記光路部材を囲む、１層以上の高屈折率絶縁層を含んでいることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光電変換素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記低屈折率絶縁層は、前記側面の面積の１／２以上を成すことを特徴とする請求項６に記載の光電変換素子。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の光電変換素子の複数が配列されていることを特徴とする光電変換装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するための本発明の光電変換素子は、光電変換部と、開口部を囲む側面および前記側面から延在した上面を有する絶縁膜と、前記側面に接し、前記光電変換部の受光面に対応した領域に下面を有する光路部材と、少なくとも１つの集光レンズ体層を含む集光部材と、を備え、前記絶縁膜は、前記光路部材の屈折率より低い屈折率を有し前記光路部材を囲む、１層以上の低屈折率絶縁層を含んでおり、前記上面は、前記受光面を含む第１平面に平行で前記第１平面から距離Ｔだけ離れた第２平面内に位置しており、前記下面は、前記第１平面に平行で前記第２平面から前記受光面側に前記距離Ｔ以下の距離Ｄだけ離れた第３平面内に位置しており、前記集光部材は、前記集光部材の、前記開口部に対応した領域に入射する光の焦点を、前記光路部材の内部であって、前記第２平面と、前記第１平面に平行で前記第２平面から前記受光面側に距離Ｄ／２だけ離れた第４平面と、の間に形成することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月30日(2012.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹面反射鏡と、当該凹面反射鏡の底部開口に配置されて光を放射する発光素子とを、基体の一端部に設けられ、前記発光素子のヒートシンク及びヒートマスとして機能する取付ベース部材に配置し、前記凹面反射鏡の反射面の全面に光透過性を持たせ、前記取付ベース部材を、前記凹面反射鏡の略全面を側方に露出させた状態で設けたことを特徴とするランプ。
【請求項２】
前記凹面反射鏡を透明な基材で成形し、当該基材の内周面に誘電多層膜から成るダイクロイック膜を設けて前記反射面を形成したことを特徴とする請求項１に記載のランプ。
【請求項３】
前記基材の外周面が光拡散性を有することを特徴とする請求項２に記載のランプ。
【請求項４】
前記凹面反射鏡の先端開口を塞ぐレンズを備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のランプ。
【請求項５】
前記取付ベース部材は、主表面に前記発光素子が設けられるベース部を備え、前記ベース部の縁部を前記基体の周方向に突出させ、当該突出した縁部の全周に亘って前記基体の外周面に沿って延びるヒートマス部を、前記凹面反射面の略全面から側方に透過される透過光を遮蔽することがない位置に設け、前記ヒートマス部の露出部分を覆うヒートマスカバーを設けたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のランプ。
【請求項６】
前記ヒートマスカバーが、電気絶縁性、及び前記ヒートマス部よりも低熱伝導率を有することを特徴とする請求項５に記載のランプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明は、凹面反射鏡と、当該凹面反射鏡の底部開口に配置されて光を放射する発光素子とを、前記発光素子のヒートシンク及びヒートマスとして機能し、基体の一端部に設けられた取付ベース部材に配置し、前記凹面反射鏡の反射面の全面に光透過性を持たせ、前記取付ベース部材を、前記凹面反射鏡の略全面を側方に露出させた状態で設けたことを特徴とするランプを提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また本発明は、上記ランプにおいて、前記取付ベース部材は、主表面に前記発光素子が設けられるベース部を備え、前記ベース部の縁部を前記基体の周方向に突出させ、当該突出した縁部の全周に亘って前記基体の外周面に沿って延びるヒートマス部を、前記凹面反射面の略全面から側方に透過される透過光を遮蔽することがない位置に設け、前記ヒートマス部の露出部分を覆うヒートマスカバーを設けたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月6日(2013.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の多値データを含むラスタデータを取得する取得手段と、
前記多値データの各レベルに対応する変換パターンの情報に基づいて、前記取得手段により取得したラスタデータを行毎に前記多値データからドットデータへ変換する変換手段と、を備え、
前記変換手段は、前記各レベルのうち少なくとも１つのレベルに対応する変換パターンが複数ある場合、当該レベルにおいて前記複数の変換パターンを所定順に用いる第１モード及び当該レベルにおいて前記複数の変換パターンを前記所定順とは逆の順に用いる第２モードを有し、前記ラスタデータを第１方向に順に変換する場合は前記第１モードで前記多値データを前記ドットデータへ変換し、前記ラスタデータを前記第１方向とは反対方向の第２方向に順に変換する場合は前記第２モードで前記多値データを前記ドットデータへ変換をする
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記取得手段により取得したラスタデータの前記変換パターンに基づく変換順序を行毎に判定する判定手段をさらに備え、
前記変換手段は、前記変換パターンの情報及び前記判定手段により判定された前記変換順序に基づいて変換する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記第１方向及び前記第２方向は、記録ヘッドを双方向に走査させて記録を行う際の記録方向に対応する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記取得手段は、前記ラスタデータを行毎に取得する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記ラスタデータの各行の一端部の変換パターンを特定する第１初期値情報をレベル毎に格納する第１格納手段と、
前記ラスタデータの各行の前記一端部とは反対側の他端部の変換パターンを特定する第２初期値情報をレベル毎に格納する第２格納手段と、
をさらに備え、
前記変換手段は、前記第１モードの場合、前記第１格納手段から取得した前記第１初期値情報に基づいて前記複数の変換パターンを所定順に用いて変換し、前記第２モードの場合、前記第２格納手段から取得した前記第２初期値情報に基づいて前記複数の変換パターンを所定順とは逆の順に用いて変換する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第２初期値情報は、前記第１初期値情報と同一レベルの多値データの数に基づいて決定される
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記第１初期値情報を行毎に設定する設定手段をさらに備える
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
各行のラスタデータに含まれる多値データの数をレベル毎にカウントするカウント手段を備える
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記多値データは１画素に対応する多値データであり、
前記ドットデータはビットマップデータであり、
前記変換パターンは前記ビットマップデータに対応したドットパターンである
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
複数の多値データを含むラスタデータを取得する取得工程と、
前記多値データの各レベルに対応する変換パターンの情報に基づいて、前記取得工程において取得したラスタデータを行毎に前記多値データからドットデータへ変換する変換工程と、を含み、
前記変換工程は、前記各レベルのうち少なくとも１つのレベルに対応する変換パターンが複数ある場合、当該レベルにおいて前記複数の変換パターンを所定順に用いる第１モード及び当該レベルにおいて前記複数の変換パターンを前記所定順とは逆の順に用いる第２モードを有し、前記ラスタデータを第１方向に順に変換する場合は前記第１モードで前記多値データを前記ドットデータへ変換し、前記ラスタデータを前記第１方向とは反対方向の第２方向に順に変換する場合は前記第２モードで前記多値データを前記ドットデータへ変換をする
ことを特徴とする画像処理方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の画像処理方法をコンピュータにより実行する
ことを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明の一態様は、複数の多値データを含むラスタデータを取得する取得手段と、前記多値データの各レベルに対応する変換パターンの情報に基づいて、前記取得手段により取得したラスタデータを行毎に前記多値データからドットデータへ変換する変換手段と、を備え、前記変換手段は、前記各レベルのうち少なくとも１つのレベルに対応する変換パターンが複数ある場合、当該レベルにおいて前記複数の変換パターンを所定順に用いる第１モード及び当該レベルにおいて前記複数の変換パターンを前記所定順とは逆の順に用いる第２モードを有し、前記ラスタデータを第１方向に順に変換する場合は前記第１モードで前記多値データを前記ドットデータへ変換し、前記ラスタデータを前記第１方向とは反対方向の第２方向に順に変換する場合は前記第２モードで前記多値データを前記ドットデータへ変換をすることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、画像処理方法およびプログラム
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月29日(2013.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスドライバによって生成されたジョブデータに基づきジョブを実行するジョブ処理装置において、
ジョブデータ及び当該ジョブデータを生成したデバイスドライバを特定するための情報を受信する受信手段と、
前記受信手段で受信した前記情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されているか判定する判定手段と、
前記判定手段により前記受信手段で受信した前記情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されていると判定されなかった場合に、前記受信手段で受信したジョブデータに基づくジョブの実行を制限する制御手段とを有することを特徴とするジョブ処理装置。
【請求項２】
前記受信手段で受信したジョブデータに基づき印刷処理を行う印刷処理手段を有し、前記制御手段は、前記受信手段で受信した前記情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されていると判定されなかった場合、前記印刷処理手段による印刷処理の実行を制限することを特徴とする請求項１に記載のジョブ処理装置。
【請求項３】
前記受信手段で受信する前記情報は、前記デバイスドライバの種別またはバージョンを特定する情報を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のジョブ処理装置。
【請求項４】
前記受信手段で受信したジョブデータの送信元を識別する識別手段を有し、前記制御手段は、前記識別手段で識別した送信元に応じて前記受信手段で受信したジョブデータに基づくジョブの実行を制限することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のジョブ処理装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記判定手段により前記受信手段で受信した前記情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されていると判定されなかった場合であっても前記受信手段で受信したジョブデータが前記識別手段で識別した送信元から初めて受信したものであった場合、当該ジョブデータに基づくジョブの実行を許可することを特徴とする請求項４に記載のジョブ処理装置。
【請求項６】
ジョブデータ及び当該ジョブデータを生成したデバイスドライバを特定するための情報を受信し、
前記受信した情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されているか判定し、
前記受信した情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されていると判定されなかった場合に、前記ジョブデータに基づくジョブの実行を制限することを特徴とするジョブ処理方法。
【請求項７】
コンピュータ可読記憶媒体に格納されるコンピュータ実行可能なプログラムであって、
ジョブデータ及び当該ジョブデータを生成したデバイスドライバを特定するための情報を受信し、
前記受信した情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されているか判定し、
前記受信した情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されていると判定されなかった場合に、前記ジョブデータに基づくジョブの実行を制限する工程を含むことを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記問題点を解決するため、本発明のジョブ処理装置は、デバイスドライバによって生成されたジョブデータに基づきジョブを実行するジョブ処理装置であって、ジョブデータ及び当該ジョブデータを生成したデバイスドライバを特定するための情報を受信する受信手段と、前記受信手段で受信した前記情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されているか判定する判定手段と、前記判定手段により前記受信手段で受信した前記情報により特定されるデバイスドライバで生成されたジョブデータに基づくジョブの実行が許可されていると判定されなかった場合に、前記受信手段で受信したジョブデータに基づくジョブの実行を制限する制御手段とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月19日(2013.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吐出するためのエネルギーを発生することが可能な吐出エネルギー発生素子を複数と、液体の吐出口が設けられた吐出口部材と、該吐出口と連通する流路と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
以下の工程：
１つの液体吐出ヘッドに対応する個数のエネルギー発生素子からなる１単位、が互いに隣接して複数単位配置されたヘッド領域と、前記ヘッド領域を囲むように位置し、前記ヘッド領域の１単位が有する前記吐出エネルギー発生素子の前記個数に満たない個数の吐出エネルギー発生素子を有する単位が複数単位配置された周縁領域と、を有する基板を用意する；
前記基板の前記ヘッド領域の上と前記周縁領域の上とに固体層を設ける；
前記１単位に対応した前記流路の側壁を前記ヘッド領域に、前記流路の側壁を囲むように設けられる外壁部材を前記周縁領域に、前記固体層から形成する；
前記流路の側壁と前記外壁部材とを覆い、かつ、少なくとも前記流路となる部分を占有する埋め込み材料層を設ける；
前記埋め込み材料層に覆われた前記側壁が露出するように、前記埋め込み材料層の表面から前記基板に向かって前記埋め込み材料層を研磨して、前記側壁が露出した研磨面を得る；及び
前記側壁の研磨面を覆うように前記吐出口部材となる部材を設ける、
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記固体層がネガ型の感光性樹脂からなる層である請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記側壁と前記外壁部材とが平行に対向配置されている部分を有する請求項１または２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記埋め込み材料層はポジ型感光性樹脂からなる層である請求項１〜３のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記ヘッド領域の前記基板表面における平面形状が矩形である請求項１〜４のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記周縁領域とその上に形成された構造物を前記基板から除去する請求項１〜５のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記基板をダイシングにより切断することで前記周縁領域を前記基板から除去する請求項６に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記基板の前記ヘッド領域を分断することにより一つの液体吐出ヘッドを得る請求項１〜７のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明にかかる液体吐出ヘッドの製造方法は、液体を吐出するためのエネルギーを発生することが可能な吐出エネルギー発生素子を複数と、液体の吐出口が設けられた吐出口部材と、該吐出口と連通する流路と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
以下の工程：
１つの液体吐出ヘッドに対応する個数のエネルギー発生素子からなる１単位、が互いに隣接して複数単位配置されたヘッド領域と、前記ヘッド領域を囲むように位置し、前記ヘッド領域の１単位が有する前記吐出エネルギー発生素子の前記個数に満たない個数の吐出エネルギー発生素子を有する単位が複数単位配置された周縁領域と、を有する基板を用意する；
前記基板の前記ヘッド領域の上と前記周縁領域の上とに固体層を設ける；
前記１単位に対応した前記流路の側壁を前記ヘッド領域に、前記流路の側壁を囲むように設けられる外壁部材を前記周縁領域に、前記固体層から形成する；
前記流路の側壁と前記外壁部材とを覆い、かつ、少なくとも前記流路となる部分を占有する埋め込み材料層を設ける；
前記埋め込み材料層に覆われた前記側壁が露出するように、前記埋め込み材料層の表面から前記基板に向かって前記埋め込み材料層を研磨して、前記側壁が露出した研磨面を得る；及び
前記側壁の研磨面を覆うように前記吐出口部材となる部材を設ける、
を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月19日(2013.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
「ステムの遠位部分に向かって引き返してはいない」という表現は、ブラシのコアに沿って進む際、ステムの長手方向軸線上に投影された場合におけるステムからの移動距離がコアの自由端に近づく際、常に増大するということを意味しているものと理解されるべきである。
「ステムの長手方向軸線」という表現は、ステムの直線状遠位部分の長手方向軸線を意味しているものと理解されるべきである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月21日(2013.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織を通って挿入される可撓性ポートシールであって、該可撓性ポートシールは、
近位端と遠位端とを有する外側シールであって、該外側シールは、該外側シールの該近位端から該外側シールの該遠位端に延びるボアを画定する、外側シールと、
該外側シールの該ボア内に配置された支持プレートであって、該支持プレート全体は、組織を通って該可撓性ポートシールが挿入されることを容易にするために、拡張された状態と圧縮された状態との間で遷移可能である、支持プレートと、
外科用器具を受容するためのスルーボアを画定するスルーポートと
を含み、
該スルーポートは、該支持プレートを通って延び、かつ、該支持プレートを通って長手方向に調整可能であり、該スルーポートは、該外側シールの該ボア内に完全に配置され、かつ、該外側シールの該近位端と該遠位端との間に延び、該スルーポートは、該スルーポートを通って挿入される外科用器具に対して流体密封シールを形成し、該外側シールは、該支持プレートを受容するために、該外側シールの内面に形成された溝を有する、可撓性ポートシール。
【請求項２】
前記外側シールは、中央部分と、該中央部分の近位端に上側リムとを有する、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項３】
前記外側シールは、前記中央部分の遠位端に下側リムを有する、請求項２に記載の可撓性ポートシール。
【請求項４】
前記上側リムは、前記中央部分の直径よりも大きい直径を有する、請求項２に記載の可撓性ポートシール。
【請求項５】
前記支持プレートは、円形ディスクである、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項６】
前記スルーポートは、前記支持プレートに取り付けられた中空の管である、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項７】
前記スルーポートは、前記中空の管のボア内に配置された器具シールを含む、請求項６に記載の可撓性ポートシール。
【請求項８】
前記器具シールは、砂時計シールである、請求項７に記載の可撓性ポートシール。
【請求項９】
前記器具シールは、ダックビル弁である、請求項７に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１０】
前記外側シールは、可撓性材料で形成されている、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１１】
前記支持プレートは、可撓性材料で形成されている、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１２】
前記スルーポートは、可撓性材料で形成されている、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１３】
１つ以上の追加のスルーポートをさらに含む、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１４】
複数のスルーポートのうちの１つ以上をさらに含み、該複数のスルーポートのうちの１つ以上は、直線状である、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１５】
前記複数のスルーポートのうちの１つ以上は、可変の長さを有する、請求項１４に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１６】
前記スルーポートの近位端および遠位端は、前記上側リムと前記下側リムとの間に配置されている、請求項３に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１７】
前記スルーポートは、前記支持プレートに取り外し可能に結合されている、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１８】
前記複数のスルーポートのうちの１つ以上は、互いに独立して移動可能である、請求項１４に記載の可撓性ポートシール。
【請求項１９】
前記スルーポートは、前記支持プレートに対して旋回可能である、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【請求項２０】
前記支持プレートは、フォーム材料で作られている、請求項１に記載の可撓性ポートシール。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月13日(2013.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセスプラントを表す第１のスクリプトをロードするステップであって、前記第１のスクリプトは電子記述言語に従い構造化されたインタープリティブシステムレベルスクリプトを含むステップと、
前記第１のスクリプトをコンパイルして第２のスクリプトを形成するステップであって、前記第２のスクリプトは前記プロセスプラントのための特定のプロセス制御システムに関連するベンダー固有の構成言語に従って構造化されるステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記第１のスクリプトをコンパイルして前記第２のスクリプトを形成するステップは、
前記第１のスクリプトに含まれる１つ以上の語彙素を識別するステップと、
前記１つ以上の語彙素に基づいて前記第１のスクリプトに含まれるトークンを識別するステップと、
前記トークン間の１つ以上の文法的関係を識別するステップと、
前記トークンおよび前記文法的関係に基づいて前記第２のスクリプトを形成するステップと、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２のスクリプトに基づいてプロセス制御システム操作データベースを生成するステップと、
前記操作データベースに基づいて前記プロセス制御システムを構成するステップと、をさらに含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のスクリプトは、前記プロセスプラントまたは第２のプロセスプラントのうちの少なくとも１つのための第２のプロセス制御システムに関連する第２のベンダー固有の構成言語に従って構造化された第３のスクリプトを形成するようにコンパイル可能である、請求項１〜３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のスクリプトは、前記プロセス制御システムの第１のデバイスと前記プロセス制御システムの第２のデバイスとの間の関係を表す、請求項１〜４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記第１のデバイスはフィールドデバイスを備え、前記第２のデバイスは制御システムコンポーネントを備える、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第２のスクリプトを前記プロセス制御システムに関連するプロセス制御システム構成データベースにインポートするステップをさらに含む、請求項１〜６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
プロセスプラントを表す第１のスクリプトの作成に使用可能なエディタであって、前記第１のスクリプトは電子記述言語に従い構造化された解釈可能なシステムレベルスクリプトを含むエディタと、
前記第１のスクリプトから第２のスクリプトを形成するコンパイラであって、前記第２のスクリプトは前記プロセスプラントのための特定のプロセス制御システムに関連するベンダー固有の構成言語に従って構造化されるコンパイラと、を備える装置。
【請求項９】
前記コンパイラは、
前記第１のスクリプトに含まれる１つ以上の語彙素を識別するスキャナと、
前記１つ以上の語彙素に基づいて前記第１のスクリプトに含まれるトークンを識別するトークナイザと、
前記トークン間の１つ以上の文法的関係を識別するパーサと、
前記トークンおよび前記文法的関係に基づいて前記第２のスクリプトを形成するインタプリタと、をさらに含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第２のスクリプトに基づいてプロセス制御システム構成データベースへの投入を行うデータベースポピュレータと、
前記プロセス制御システム構成データベースに基づいて前記プロセス制御システムを構成するデータベースサーバと、をさらに備える、請求項８又は９に記載の装置。
【請求項１１】
機械が読み取り可能な命令を格納する製造品であって、前記機械が読み取り可能な命令は、実行されると、機械に、
プロセスプラントを表す第１のスクリプトであって、電子記述言語に従い構造化されたインタープリティブシステムレベルスクリプトを含む前記第１のスクリプトをロードさせ、
前記第１のスクリプトをコンパイルして第２のスクリプトを形成させ、前記第２のスクリプトは前記プロセスプラントのための特定のプロセス制御システムに関連するベンダー固有の構成言語に従って構造化される、製造品。
【請求項１２】
前記機械が読み取り可能な命令は、実行されると、前記機械に、
前記第１のスクリプトに含まれる１つ以上の語彙素を特定することと、
前記１つ以上の語彙素に基づいて前記第１のスクリプトに含まれるトークンを識別することと、
前記トークン間の１つ以上の文法的関係を識別することと、
前記トークンおよび前記文法的関係に基づいて前記第２のスクリプトを形成することと、によって前記第１のスクリプトをコンパイルして前記第２のスクリプトを形成させる、請求項１１に記載の製造品。
【請求項１３】
前記機械が読み取り可能な命令は、実行されると、前記機械に、前記第２のスクリプトを前記プロセス制御システムに関連するプロセス制御システム構成データベースにインポートさせる、請求項１１又は１２に記載の製造品。
【請求項１４】
前記機械が読み取り可能な命令は、実行されると、前記機械に、
前記第２のスクリプトに基づいてプロセス制御システム操作データベースを生成させ、
前記操作データベースに基づいて前記プロセス制御システムを構成させる、請求項１１〜１３の何れか１項に記載の製造品。