【手続補正書】
【提出日】平成25年3月13日(2013.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１基板が前記第２基板と対向する第１対向面に設けられた第１反射膜と、
前記第２基板が前記第１基板と対向する第２対向面に設けられ、前記第１反射膜と対向する第２反射膜と、
平面視で前記第１反射膜の周囲の位置にて前記第１基板の前記第１対向面に設けられた第１電極と、
前記第２基板の前記第２対向面に設けられ、前記第１電極と対向する第２電極と、
を含み、
前記第１電極は、電気的に独立した少なくともＫ（Ｋは２以上の整数）個のセグメント電極に分割され、
前記第１反射膜と前記第２反射膜との間の初期ギャップを、前記第１電極と前記第２電極との間の初期ギャップよりも小さくしたことを特徴とする光フィルター。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１基板の前記第１対向面は、第１面と、平面視で前記第１面の周囲に配置されて前記第１面と段差のある第２面とを含み、前記第１面に前記第１反射膜が形成され、前記第２面に前記第１電極が形成されることを特徴とする光フィルター。
【請求項３】
請求項１において、
前記第１基板の前記第１対向面は、第１面と、平面視で前記第１面の周囲に配置されて前記第１面と段差のある第２面とを含み、前記第１面に前記第１反射膜が形成され、前記第２面に前記第１電極が形成され、
前記第２基板の前記第２対向面は、第３面と、平面視で前記第３面の周囲に配置されて前記第３面と段差のある第４面とを含み、前記第３面に前記第２反射膜が形成され、前記第４面に前記第２電極が形成されることを特徴とする光フィルター。
【請求項４】
請求項２または３において、
前記第２基板の前記第２反射膜および前記第２反射膜が配置される部分が、前記第１基板に対して可動に支持されていることを特徴とする光フィルター。
【請求項５】
請求項２または３において、
前記第２基板の前記第２反射膜および前記第２反射膜が配置される部分が、前記第１基板に対して可動に支持され、
前記第２基板は、前記第２反射膜が配置される領域が、前記第２電極が配置される領域より肉厚に形成されていることを特徴とする光フィルター。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
前記第２電極は、同電位となる共通電極であることを特徴とする光フィルター。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
前記第２電極は、同電位となる共通電極であり、
前記Ｋ個のセグメント電極は、前記第１反射膜の中心に対して同心リング状に配置されたリング状電極部をそれぞれ含む少なくとも第１，第２セグメント電極を有し、前記第１セグメント電極が前記第２セグメント電極よりも内周側に配置されていることを特徴とする光フィルター。
【請求項８】
請求項７において、
前記第１セグメント電極には第１引き出し配線が接続され、
前記第２セグメント電極には、前記第２セグメント電極の前記リング状電極部を不連続とする第１スリットが設けられ、
前記第１引き出し配線は前記第１スリットを介して前記第２セグメント電極の外方に引き出されることを特徴とする光フィルター。
【請求項９】
請求項８において、
前記第１基板に対して変位する前記第２基板に配置された前記第２の電極は、前記第２反射膜の中心に対して同心リング状に配置されたリング状電極部をそれぞれ含む第３，第４セグメント電極を有し、前記第３セグメント電極は前記第１セグメント電極と対向し、前記第４セグメント電極は前記第２セグメント電極と対向し、かつ、前記第３，第４セグメント電極同士は電気的に接続されていることを特徴とする光フィルター。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第４セグメント電極の前記リング状電極部は、前記第１スリットと対向する位置にも連続して形成されていることを特徴とする光フィルター。
【請求項１１】
請求項９において、
前記第１スリットと対向する位置にて前記第４セグメント電極の前記リング状電極部を不連続とする第２スリットを有することを特徴とする光フィルター。
【請求項１２】
請求項８乃至１１のいずれかにおいて、
前記第１，第２基板の少なくとも一方が、第１及び第２対角線を有する矩形基板とされ、
前記第１引き出し配線は、前記第１対角線に沿って配置され、前記第１引き出し配線が前記第１セグメント電極より延びる方向を第１方向としたとき、前記第２セグメント電極には、前記第１対角線上にて前記第１方向とは逆方向となる第２方向に延びる第２引き出し配線が接続され、前記第３，第４セグメント電極には、両電極同士を接続して、前記第２対角線に沿った第３方向に延びる第３引き出し配線と、前記第３方向とは逆方向となる第４方向に延びる第４引き出し配線と、が接続され、
平面視にて前記矩形基板の四隅の位置に、前記第１〜第４引き出し配線が接続される第１〜第４接続電極部が設けられていることを特徴とする光フィルター。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかにおいて、
前記第２セグメント電極のリング幅は、前記第１セグメント電極のリング幅よりも広いことを特徴とする光フィルター。
【請求項１４】
請求項７乃至１２のいずれかにおいて、
前記第１基板の前記第２面は、第２−１面と、平面視で前記第２−１面の周囲に配置される第２−２面とを含み、
前記第１セグメント電極は前記第２−１面に配置され、前記第２セグメント電極は前記第２−２面に配置され、前記第２セグメント電極と前記第２電極との間の初期ギャップと、前記第１セグメント電極と前記第２電極との間の初期ギャップとを異ならせたことを特徴とする光フィルター。
【請求項１５】
請求項１４において、
前記第２セグメント電極と前記第２電極との間の初期ギャップが、前記第１セグメント電極と前記第２電極との間の初期ギャップよりも小さいことを特徴とする光フィルター。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれかにおいて、
前記Ｋ個のセグメント電極の各々と、前記第２電極との間の各電位差を制御する電位差制御部を有し、
前記電位差制御部は、前記Ｋ個のセグメント電極毎に設定された電圧値を、前記Ｋ個のセグメント電極の各々に印加して、前記Ｋ個のセグメント電極毎に設定されている、第１電位差から、前記第１電位差より大きい第２電位差、前記第２電位差より大きい第３電位差へと、前記各電位差をそれぞれ切り替えることを特徴とする光フィルター。
【請求項１７】
請求項７乃至１５のいずれかにおいて、
前記第１セグメント電極と前記第２電極との間の内周側電位差と、前記第２セグメント電極と前記第２電極との間の外周側電位差とをそれぞれ制御する電位差制御部を有し、
前記電位差制御部は、前記第１，第２セグメント電極毎に設定された電圧値を、前記第１，第２セグメント電極の各々に印加して、前記第１，第２セグメント電極毎に設定されている、第１電位差から、前記第１電位差より大きい第２電位差、前記第２電位差より大きい第３電位差へと、前記内周側電位差及び前記外周側電位差をそれぞれ切り替えることを特徴とする光フィルター。
【請求項１８】
請求項１７において、
前記電位差制御部は、
前記内周側電位差を前記第１電位差とするときに、前記第１セグメント電極に第１セグメント電圧を印加し、前記内周側電位差を前記第２電位差とするときに前記第１セグメント電極に第２セグメント電圧を印加し、前記内周側電位差を前記第３電位差とするときに前記第１セグメント電極に第３セグメント電圧を印加し、
前記外周側電位差を前記第１電位差とするときに、前記第２セグメント電極に第４セグメント電圧を印加し、前記外周側電位差を前記第２電位差とするときに前記第２セグメント電極に第５セグメント電圧を印加し、前記外周側電位差を前記第３電位差とするときに前記第２セグメント電極に第６セグメント電圧を印加することを特徴とする光フィルター。
【請求項１９】
請求項１７または１８において、
前記内周側電位差及び前記外周側電位差の各々について、前記第２電位差と前記第３電位差との差の絶対値は、前記第１電位差と前記第２電位差との差の絶対値よりも小さいことを特徴とする光フィルター。
【請求項２０】
請求項１７乃至１９のいずれかにおいて、
前記内周側電位差及び前記外周側電位差の各々について、前記第２電位差に設定されている期間は、前記第１電位差に設定されている期間より長く、前記第３電位差に設定されている期間は、前記第２電位差に設定されている期間より長いことを特徴とする光フィルター。
【請求項２１】
請求項１７乃至２０のいずれかにおいて、
前記電位差制御部が、前記外周側電位差を前記第１電位差に設定したとき、前記第１反射膜と前記第２反射膜との間は、第１間隔に設定され、
前記電位差制御部が、前記外周側電位差を前記第２電位差に設定したとき、前記第１反射膜と前記第２反射膜との間は、前記第１間隔よりも小さい第２間隔に設定され、
前記電位差制御部が、前記外周側電位差を前記第３電位差に設定したときに、前記第１反射膜と前記第２反射膜との間は、前記第２間隔よりも小さい第３間隔に設定され、
前記第１間隔と前記第２間隔との差の絶対値は、前記第２間隔と前記第３間隔との差の絶対値と等しいことを特徴とする光フィルター。
【請求項２２】
請求項２１において、
前記電位差制御部は、前記外周側電位差を前記第３電位差に維持して前記内周側電位差を変化させ、
前記電位差制御部が、前記内周側電位差を前記第１電位差に設定したとき、前記第１反射膜と前記第２反射膜との間は、第４間隔に設定され、
前記電位差制御部が、前記内周側電位差を前記２電位差に設定したとき、前記第１反射膜と前記第２反射膜との間は、前記第４間隔よりも小さい第５間隔に設定され、
前記電位差制御部が、前記内周側電位差を前記第３電位差に設定したときに、前記第１反射膜と前記第２反射膜との間は、前記第５間隔よりも小さい第６間隔に設定され、
前記第４間隔と前記第５間隔との差の絶対値は、前記第５間隔と前記第６間隔との差の絶対値と等しいことを特徴とする光フィルター。
【請求項２３】
請求項１９において、
前記電位差制御部は、前記外周側電位差としての前記第３電位差が外周側最大電位差に
到達した後に、前記外周側電位差を前記外周側最大電位差に維持して前記内周側電位差を
変化させることを特徴とする光フィルター。
【請求項２４】
請求項２３において、
前記電位差制御部が、前記内周側電位差としての前記第３電位差を内周側最大電位差に設定したとき、前記第１反射膜と前記第２反射膜との間は最小間隔に設定され、前記外周側最大電位差及び前記内周側最大電位差の各々は、前記電位差制御部に供給される最大電圧を超えない範囲で実質的に等しいことを特徴とする光フィルター。
【請求項２５】
請求項１６乃至２４のいずれかにおいて、
前記電位差制御部は、前記Ｋ個のセグメント電極の各々に順次電圧を印加することで、計Ｎ段階で前記第１反射膜と前記第２反射膜との間隔を可変し、
前記Ｋ個のセグメント電極のうち同一セグメント電極に印加される各印加電圧間の電圧変化量の最小値をΔＶｋｍｉｎとした時、前記第１電極を単一電極で形成した時のＮ段階の各印加電圧間の電圧最小変化量をΔＶ１ｍｉｎと比較して、ΔＶ１ｍｉｎ＜ΔＶｋｍｉｎが成立することを特徴とする光フィルター。
【請求項２６】
請求項１乃至２５のいずれか記載の光フィルターを含む分析機器。
【請求項２７】
請求項１乃至２５のいずれか記載の光フィルターを含む光機器。