Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月11日(2013.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子メール機能を備える電子機器であって、
前記電子メールを送受信する通信部、
前記通信部によって受信された電子メールに対して、返信の電子メールを作成するとき、当該受信された電子メールに設定された送り先に基づいて、当該返信の電子メールについての送り先および当該送り先への当該返信の電子メールの送信を実施するか否かの設定情報を含むリストを作成するリスト作成部、
前記リスト作成部によって作成されたリストを表示する第１リスト表示部、および
利用者の操作入力に従って前記設定情報を変化させる設定情報変化部を備える、電子機器。
【請求項２】
電子メール機能を備える電子機器の情報処理プログラムであって、
前記電子機器のプロセッサに、
前記電子メールを送受信する通信ステップ、
前記通信ステップによって受信された電子メールに対して、返信の電子メールを作成するとき、当該受信された電子メールに設定された送り先に基づいて、当該返信の電子メールについての送り先および当該送り先への当該返信の電子メールの送信を実施するか否かの設定情報を含むリストを作成するリスト作成ステップ、
前記リスト作成ステップによって作成されたリストを表示器に表示するリスト表示ステップ、および
利用者の操作入力に従って前記設定情報を変化させる設定情報変化ステップを実行させる、情報処理プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月3日(2013.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示部と、
前記表示部の傾きを検出する傾きセンサと、
基準面に対する前記表示部の傾きに応じて、前記表示部に表示された画像の拡大、縮小、選択のうち少なくとも１つの処理を行う処理部と
を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記処理部は、前記基準面に対する前記表示部の傾きの大きさに応じて前記画像の拡大率または縮小率を設定することを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
画像を表示する表示部と、
前記表示部の傾きを検出する傾きセンサと、
基準面に対する前記表示部の傾きに応じて、前記表示部に表示された画像の移動を行う画像移動部と
を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
前記画像移動部は、複数の画像を一定の方向に表示した画像群を、前記表示部が下がっている方向へ移動させることを特徴とする請求項３記載の表示装置。
【請求項５】
前記画像移動部は、前記表示部に拡大表示された前記画像の表示位置を、前記表示部が下がっている方向へ移動させることを特徴とする請求項３記載の表示装置。
【請求項６】
前記画像移動部は、前記基準面に対する前記表示部の傾きの大きさに応じて、前記画像の移動量を設定することを特徴とする請求項３〜５の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記表示部の表示面に対して、垂直方向または水平方向の加速度または角速度を検出するセンサと、
前記加速度に応じて前記表示部に表示された前記画像の拡大、縮小、選択のうち少なくとも１つの処理を行う処理部と
を備えることを特徴とする請求項３〜６の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記処理部は、前記加速度または前記角速度の大きさに応じて前記画像の拡大率または縮小率を設定することを特徴とする請求項７記載の表示装置。
【請求項９】
前記表示部の表示面が設けられた面の側面または背面に設けられた接触検出部と、
前記接触検出部による検出結果に基づいて前記画像移動部及び前記処理部による処理を有効とする有効化制御部と
を備えることを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項１０】
画像を表示する表示部を備える本体と、
前記本体を載置する載置部と、
前記載置部に前記本体を載置した場合の前記本体の状態を基準として、前記表示部の傾きを検出する傾きセンサと、
前記傾きに応じて前記表示部に表示された画像の移動を行う画像移動部と
を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
前記傾きセンサは、前記載置部に前記本体を載置した場合に前記表示部の左右方向の傾きを検出し、
前記画像移動部は、複数の画像を一定の方向に表示した画像群または拡大表示された前記画像の表示位置を前記表示部が下がっている方向へ移動させることを特徴とする請求項１０記載の表示装置。
【請求項１２】
前記画像移動部は、前記傾きセンサにより検出された傾きの大きさに応じて前記画像の移動量を設定することを特徴とする請求項１２または１３記載の表示装置。
【請求項１３】
前記傾きは９０度未満の所定角度であることを特徴とする請求項１０〜１２の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項１４】
画像を表示する表示部を備える本体と、
前記本体を載置する載置部と、
前記載置部に前記本体を載置した場合の前記本体の状態を基準として、前記表示部の傾きを検出する傾きセンサと、
前記傾きに応じて前記表示部に表示された画像の前記画像の拡大、縮小、選択のうち少なくとも１つの処理を行う処理部と
を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
前記傾きセンサは、前記載置部に前記本体を載置した場合に前記表示部の前後方向の傾きを検出し、
前記処理部は、前記傾きセンサにより検出された傾きの大きさに応じて前記画像の拡大率または縮小率を設定することを特徴とする請求項１４記載の表示装置。
【請求項１６】
前記本体と前記載置部との接続を検出する接続検出部と、
前記接続検出部により検出した接続の状態に基づいて前記画像移動部及び前記処理部による処理を有効とする有効化制御部と
を備えることを特徴とする請求項１０〜１５の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記画像移動部は、前記画像の分類情報に基づいて前記画像群の移動を一時的に停止することを特徴とする請求項４または１１記載の表示装置。
【請求項１８】
前記分類情報は、前記画像の撮影日、前記画像の撮影に用いたカメラ、前記画像の画像データが記憶されているファイルフォルダ、前記画像の縦横比の情報、前記画像に対応付けられたイベント名称のうち少なくとも１つであることを特徴とする請求項１７記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月9日(2013.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体と、
楽音データを再生処理する再生処理部と、
楽音を出力する放音面を有する出力部と、
回転体を回転駆動する駆動部と、
前記駆動部を制御する駆動制御部と、
前記回転体の回転数に基づいて、前記再生処理部での再生処理に基づく楽音を加工する加工部と、を備え、
前記筐体は、前記放音面が露出する開口部を有し、前記放音面から出力された楽音を外部に導く導音経路が形成されており、
前記駆動部は、前記導音経路上の所定の位置に配置されることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
筐体と、
楽音データを再生処理する再生処理部と、
楽音を出力する放音面を有する出力部と、
回転体を回転駆動する駆動部と、
前記駆動部を制御する駆動制御部と、
前記再生処理部での再生処理に基づく楽音の周波数を検出する周波数測定部と、を備え、
前記駆動制御部は、前記出力部による楽音の出力から所定時間後における前記回転体の回転駆動により生じる駆動音の周波数が、前記周波数測定部により検出された楽音の周波数の１／ｎ倍になるように、前記周波数測定部の検出結果に基づいて前記駆動部を制御し、
前記筐体は、前記放音面が露出する開口部を有し、前記放音面から出力された楽音を外部に導く導音経路が形成されており、
前記駆動部は、前記導音経路上の所定の位置に配置されることを特徴とする電子機器。
【請求項３】
筐体と、
楽音データを再生処理する再生処理部と、
楽音を出力する放音面を有する出力部と、
回転体を回転駆動する駆動部と、
前記駆動部を制御する駆動制御部と、
前記再生処理部での再生処理に基づく楽音の周波数を検出する測定部と、を備え、
前記駆動制御部は、前記測定部により検出された楽音の周波数に基づいて、前記駆動部が前記回転体を回転駆動する際に生ずる音が、出力される楽音によってマスキングされるように前記回転体の回転数を制御し、
前記筐体は、前記放音面が露出する開口部を有し、前記放音面から出力された楽音を外部に導く導音経路が形成されており、
前記駆動部は、前記導音経路上の所定の位置に配置されることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月14日(2013.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置およびその処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の収録装置から収録された第１の音と、前記第１の収録装置と異なる第２の収録装置から収録された第２の音とを取得する取得手段と、
前記前記第１の音を周波数分析して、声を示す周波数帯域を決定する決定手段と、
前記第２の音を示す周波数成分のうち、前記周波数帯域の周波数成分を変更する変更手段と、
前記周波数帯域の周波数成分が変更された前記第２の音を出力する出力手段とを有する情報処理装置。
【請求項２】
前記変更手段は、前記第２の音を示す周波数成分のうち、前記周波数帯域の周波数成分を減衰させること特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記決定手段は、前記第１の音を周波数分析して得たスペクトル包絡のホルマントに基づく周波数帯域を、声を示す周波数帯域として決定することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記決定手段は、前記前記第１の音を周波数分析して得たスペクトル包絡のホルマントのピークを含む周波数帯域を、声を示す周波数帯域として決定することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記第２の音は、前記第１の音が収録された時間に対応する時間に収録された音であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記第１の音が収録された時間に対応する時間とは、前記第１の音が収録された時間とおなじ時間であることを特徴とする請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
音の周波数成分を変更する情報処理装置の処理方法であって、
取得手段が、第１の収録装置から収録された第１の音と、前記第１の収録装置と異なる第２の収録装置から収録された第２の音とを取得する取得工程と、
決定手段が、前記前記第１の音を周波数分析して、声を示す周波数帯域を決定する決定工程と、
変更手段が、前記第２の音を示す周波数成分のうち、前記周波数帯域の周波数成分を変更する変更工程と、
出力手段が、前記周波数帯域の周波数成分が変更された前記第２の音を出力する出力工程とを有する処理方法。
【請求項８】
前記変更工程は、前記第２の音を示す周波数成分のうち、前記周波数帯域の周波数成分を減衰させること特徴とする請求項７に記載の処理方法。
【請求項９】
前記決定工程は、前記第１の音を周波数分析して得たスペクトル包絡のホルマントに基づく周波数帯域を、声を示す周波数帯域として決定することを特徴とする請求項７または請求項８に記載の処理方法。
【請求項１０】
前記決定工程は、前記前記第１の音を周波数分析して得たスペクトル包絡のホルマントのピークを含む周波数帯域を、声を示す周波数帯域として決定することを特徴とする請求項９に記載の処理方法。
【請求項１１】
前記第２の音は、前記第１の音が収録された時間に対応する時間に収録された音であることを特徴とする請求項７乃至請求項１０のいずれか１項に記載の処理方法。
【請求項１２】
前記第１の音が収録された時間に対応する時間とは、前記第１の音が収録された時間とおなじ時間であることを特徴とする請求項１１に記載の処理方法。
【請求項１３】
コンピュータを、請求項１乃至５の何れか１項に記載の情報処理装置が有する各手段として機能させるためのコンピュータプログラム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のコンピュータプログラムを格納した、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月12日(2013.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
前記した接着剤層は、厚さ５〜１５０μｍとする。５μｍ未満の薄い層では接着力が安定せず、かすれや外観不良が発生しやすいという欠点があり、１５０μｍを越える厚い層では気泡入りや歪みが生じやすいからである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
実施例１において、ＭＥＫ１０ｇに代えてアセトン２ｇを使用し、真空脱気を行なわず、接着剤層が、有機溶剤（アセトン）を含有するようにしたこと以外は、実施例１と同様にして偏光眼鏡用合わせガラスレンズを製造した。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月11日(2013.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文字の入力を受け付ける文字受付部と、
１以上の変換候補を表示する変換候補表示部と、
１文字以上の文字列を確定文字列に決定する確定文字列決定部と、
前記決定された確定文字列を含む文書データを記憶する文書データ記憶部と、
前記確定文字列が決定されることに応じて、前記確定文字列を含む履歴データを前記文書データと関連付けて記憶する履歴記憶部と、
所定の処理が実行されることに応じて、前記記憶された履歴データのうち前記文書データに関連付けられた履歴データを消去する履歴消去部と、を備え、
前記履歴記憶部は、前記確定文字列が決定されることに応じて、前記入力された１文字以上の文字列と、前記決定された確定文字列とを関連付けた第１履歴データを記憶する第１履歴データ記憶部を含み、
前記変換候補表示部は、前記文字受付部に入力された１文字以上の文字列に対応する変換候補を前記記憶された第１履歴データに基づいて表示する予測変換候補表示部を含み、
前記確定文字列決定部は、前記予測変換候補表示部により表示された前記１以上の変換候補のうちから１つが選択されることに応じて、前記選択された変換候補を前記確定文字列に決定する第１決定部を含む、電子機器。
【請求項２】
文書データを記憶する文書データ記憶部と、
前記文書データに含まれる１文字以上の登録文字列を前記文書データと関連付けて記憶する文字列記憶部と、
所定の処理が実行されることに応じて、前記文字列記憶部に記憶された前記登録文字列のうち前記文書データに関連付けられた登録文字列を消去する文字列消去部と、を備えた電子機器。
【請求項３】
文字の入力を受け付けるステップと、
１以上の変換候補を表示するステップと、
１文字以上の文字列を確定文字列に決定するステップと、
前記決定された確定文字列を含む文書データを記憶するステップと、
前記確定文字列が決定されることに応じて、前記確定文字列を含む履歴データを前記文書データと関連付けて記憶するステップと、
所定の処理が実行されることに応じて、前記記憶された履歴データのうち前記文書データに関連付けられた履歴データを消去するステップと、を含み、
前記履歴データを記憶するステップは、前記確定文字列が決定されることに応じて、前記入力された１文字以上の文字列と、前記決定された確定文字列とを関連付けた第１履歴データを記憶するステップを含み、
前記予測変換候補を表示するステップは、前記文字を受け付けるステップにおいて入力された１文字以上の文字列に対応する変換候補を前記記憶された第１履歴データに基づいて表示するステップを含み、
前記確定文字列を決定するステップは、前記予測変換候補を表示するステップにおいて表示された前記１以上の変換候補のうちから１つが選択されることに応じて、前記選択された変換候補を前記確定文字列に決定するステップを含む、文字変換方法。
【請求項４】
文書データを記憶するステップと、
前記文書データに含まれる１文字以上の登録文字列を前記文書データと関連付けて記憶するステップと、
所定の処理が実行されることに応じて、前記文字列を記憶するステップにおいて記憶された前記登録文字列のうち前記文書データに関連付けられた登録文字列を消去するステップと、を含む文字変換方法。
【請求項５】
文字の入力を受け付けるステップと、
１以上の変換候補を表示するステップと、
１文字以上の文字列を確定文字列に決定するステップと、
前記決定された確定文字列を含む文書データを記憶するステップと、
前記確定文字列が決定されることに応じて、前記確定文字列を含む履歴データを前記文書データと関連付けて記憶するステップと、
所定の処理が実行されることに応じて、前記記憶された履歴データのうち前記文書データに関連付けられた履歴データを消去するステップと、を電子機器を制御するコンピュータに実行させ、
前記履歴データを記憶するステップは、前記確定文字列が決定されることに応じて、前記入力された１文字以上の文字列と、前記決定された確定文字列とを関連付けた第１履歴データを記憶するステップを含み、
前記予測変換候補を表示するステップは、前記文字を受け付けるステップにおいて入力された１文字以上の文字列に対応する変換候補を前記記憶された第１履歴データに基づいて表示するステップを含み、
前記確定文字列を決定するステップは、前記予測変換候補を表示するステップにおいて表示された前記１以上の変換候補のうちから１つが選択されることに応じて、前記選択された変換候補を前記確定文字列に決定するステップを含む、文字変換プログラム。
【請求項６】
文書データを記憶するステップと、
前記文書データに含まれる１文字以上の登録文字列を前記文書データと関連付けて記憶するステップと、
所定の処理が実行されることに応じて、前記文字列を記憶するステップにおいて記憶された前記登録文字列のうち前記文書データに関連付けられた登録文字列を消去するステップと、を電子機器を制御するコンピュータに実行させる文字変換プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月9日(2013.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文字列の入力が行われる入力部と、
入力された前記文字列を表示する第１表示領域と、当該第１表示領域に入力される文字列の候補文字列を複数表示する第２表示領域とを有する表示部と、
入力された文字列の履歴を記憶する履歴記憶部と、
前記第２表示領域に表示する複数の候補文字列を、前記履歴記憶部に記憶される表示履歴に基づいて表示させる制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記履歴記憶部に記憶される履歴に所定文字数以上の文字列が存在する場合、所定文字数未満の文字列を、前記所定文字数以上の文字列よりも優先して、前記候補文字列として前記第２表示領域に表示させる文字入力装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月21日(2013.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各画素が対象物体との間の距離を示す距離画像を取得する画像取得手段と、
前記対象物体の概略位置姿勢を取得する取得手段と、
前記対象物体の概略位置姿勢と前記距離画像の撮影時の撮影パラメータとに基づいて前記対象物体の３次元形状モデルの幾何特徴上の点を前記距離画像上に投影し、該投影された点から所定範囲内の領域で前記３次元形状モデルの幾何特徴に対応する前記距離画像上の幾何特徴を探索して対応付ける対応探索手段と、
前記対応探索手段により対応付けられた前記３次元形状モデルの幾何特徴と前記距離画像上の幾何特徴とに基づいて、前記対象物体の位置及び姿勢を導出する導出手段と
を具備することを特徴とする３次元計測装置。
【請求項２】
前記画像取得手段は、
前記対象物体が撮影された２次元画像を更に取得し、
前記対応探索手段は、
前記対象物体の概略位置姿勢と前記距離画像及び前記２次元画像それぞれの撮影時の撮影パラメータとに基づいて前記対象物体の３次元形状モデルの幾何特徴上の点を前記距離画像上及び前記２次元画像上に投影し、該投影された点から所定範囲内の領域で前記対象物体の３次元形状モデルの幾何特徴に対応する前記距離画像上及び前記２次元画像上の幾何特徴を探索して対応付け、
前記導出手段は、
前記対応探索手段により対応付けられた前記３次元形状モデルの幾何特徴と前記距離画像上及び２次元画像上の幾何特徴とに基づいて前記対象物体の位置及び姿勢を導出する
ことを特徴とする請求項１記載の３次元計測装置。
【請求項３】
前記対応探索手段は、
前記３次元形状モデルの幾何特徴上の法線の方向と、前記距離画像上における前記投影された点の所定範囲内から探索された前記幾何特徴の法線の方向とを比較し、互いの法線方向が所定値を越えて異なっていれば、当該幾何特徴については前記対応付けを行なわない
ことを特徴とする請求項１又は２記載の３次元計測装置。
【請求項４】
前記２次元画像は、前記距離画像と同一視点から撮影されており、
前記対応探索手段は、
前記２次元画像の幾何特徴として前記２次元画像から前記対象物体のエッジを検出し、該検出したエッジと前記３次元形状モデルの幾何特徴との対応付けに際して、前記距離画像上の幾何特徴にないエッジと前記３次元形状モデルの幾何特徴との対応付けを行なわない
ことを特徴とする請求項２記載の３次元計測装置。
【請求項５】
前記３次元形状モデルの幾何特徴は、点又は線分により表現される
ことを特徴とする請求項１から４いずれか１項に記載の３次元計測装置。
【請求項６】
前記導出手段は、前記対応探索手段により対応付けられた前記３次元形状モデルの幾何特徴と前記距離画像上の幾何特徴との３次元空間における距離の差に基づいて、前記対象物体の位置及び姿勢を導出することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の３次元計測装置。
【請求項７】
対象物体の位置及び姿勢を算出する３次元計測装置の処理方法であって、
画像取得手段が、各画素が対象物体との間の距離を示す距離画像を取得する工程と、
取得手段が、前記対象物体の概略位置姿勢を取得する工程と、
対応探索手段が、前記対象物体の概略位置姿勢と前記距離画像の撮影時の撮影パラメータとに基づいて前記対象物体の３次元形状モデルの幾何特徴上の点を前記距離画像上に投影し、該投影された点から所定範囲内の領域で前記３次元形状モデルの幾何特徴に対応する前記距離画像上の幾何特徴を探索して対応付ける工程と、
位置姿勢算出手段が、前記対応探索手段により対応付けられた前記３次元形状モデルの幾何特徴と前記距離画像上の幾何特徴とに基づいて、前記対象物体の位置及び姿勢を導出する工程と
を含むことを特徴とする処理方法。
【請求項８】
対象物体の位置及び姿勢を算出する３次元計測装置に内蔵されたコンピュータを、
各画素が対象物体との間の距離を示す距離画像を取得する画像取得手段、
前記対象物体の概略位置姿勢を取得する概略値取得手段、
前記対象物体の概略位置姿勢と前記距離画像の撮影時の撮影パラメータとに基づいて前記対象物体の３次元形状モデルの幾何特徴上の点を前記距離画像上に投影し、該投影された点から所定範囲内の領域で前記３次元形状モデルの幾何特徴に対応する前記距離画像上の幾何特徴を探索して対応付ける対応探索手段、
前記対応探索手段により対応付けられた前記３次元形状モデルの幾何特徴と前記距離画像上の幾何特徴とに基づいて、前記対象物体の位置及び姿勢を導出する導出手段
として機能させるためのプログラム。
【請求項９】
請求項８に記載のプログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記課題を解決するため、本発明の一態様による３次元計測装置は、
各画素が対象物体との間の距離を示す距離画像を取得する画像取得手段と、
前記対象物体の概略位置姿勢を取得する取得手段と、
前記対象物体の概略位置姿勢と前記距離画像の撮影時の撮影パラメータとに基づいて前記対象物体の３次元形状モデルの幾何特徴上の点を前記距離画像上に投影し、該投影された点から所定範囲内の領域で前記３次元形状モデルの幾何特徴に対応する前記距離画像上の幾何特徴を探索して対応付ける対応探索手段と、
前記対応探索手段により対応付けられた前記３次元形状モデルの幾何特徴と前記距離画像上の幾何特徴とに基づいて、前記対象物体の位置及び姿勢を導出する導出手段と
を具備する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】３次元計測装置、処理方法、プログラム及び記憶媒体
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月7日(2013.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地震センサを較正する方法であって、
前記地震センサの可動コイルに電流を注入し、
前記可動コイルの両端の電圧を測定し、
前記可動コイルの電圧を測定する間、環境ノイズを減少させるようにコイルを固定する、ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記可動コイルのＤＣ抵抗（ＤＣＲ）を決定することを更に含み、
前記可動コイルのＤＣＲは、
ｒ＝Ｒ／｛（（Ｅ02−Ｅ01）／（Ｅc2−Ｅc1））−１｝
によって決定され、
ここに、ｒは前記可動コイルのＤＣＲであり、
Ｒは、直列抵抗であり、
Ｅ01及びＥ02は、それぞれ異なる電流量Ｉ1及びＩ2での供給電圧、Ｅc1及びＥc2は、それぞれ異なる電流量Ｉ1及びＩ2での可動コイルの電圧である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
時間のたつにつれてＤＣＲの変化を連続的にモニタすることによって、前記地震センサの前記可動コイルに注入された電流によって発生される熱を補償することを更に含む請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記地震センサの前記可動コイルに、第２の異なる電流を注入し、
前記可動コイルの両端の第２電圧を測定し、
前記可動コイルのＤＣＲを決定することを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記地震センサの前記可動コイルに異なる電流を注入することによるペルチェ効果、ＤＣオフセット及びＤＣドリフトの一つ又はそれ以上を相殺すること、又は
電流の極性を反転させ、反転した極性を有する電流を前記地震センサの前記可動コイルに注入すること
を更に含む請求項１記載の方法。
【請求項６】
地震センサのＤＣ抵抗（ＤＣＲ）を測定する方法であって、
前記地震センサの可動コイルに第１電流を注入し、
前記可動コイルの両端の第１電圧を測定し、
前記可動コイルに、前記第１電流と異なる第２電流を注入し、
前記可動コイルの両端の第２電圧を測定し、
前記第１及び第２電圧を測定する間、環境ノイズを減少させるように、可動コイルを固定し、
前記可動コイルの両端の前記第１電圧及び前記第２電圧に基づいて、前記可動コイルのＤＣＲを決定する、ことを特徴とする方法。
【請求項７】
前記可動コイルのＤＣＲは、
ｒ＝Ｒ／｛（（Ｅ02−Ｅ01）／（Ｅc2−Ｅc1））−１｝
によって決定され、
ここで、ｒは前記可動コイルのＤＣＲであり、
Ｒは、直列抵抗であり、
Ｅ01及びＥ02は、それぞれ異なる電流量Ｉ1及びＩ2での供給電圧、Ｅc1及びＥc2は、それぞれ異なる電流量Ｉ1及びＩ2での可動コイルの電圧である、請求項６記載の方法。
【請求項８】
地震センサを較正するためのシステムであって、
地震センサの可動コイルの両端に電圧を印加するための電源と、
前記可動コイルの両端の電圧を測定するための測定装置と、
前記地震センサと通信しているデジタル信号処理装置と、
前記デジタル信号処理装置によって実行でき、実行したときに、電圧を前記地震センサに印加し、前記可動コイルが固定されたか否かを決定する一組の命令と、含む、
前記システムは、前記可動コイルの電圧を測定する間、環境ノイズを減少させるように、構成され又は設計される、ことを特徴とするシステム。
【請求項９】
前記可動コイルが固定された後、前記可動コイルの両端の電圧を表示するための測定装置と通信可能に結合したインタフェースを更に含む、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
可動センサを較正する方法であって、
地震センサの可動コイルに電流を注入し、
前記可動コイルの両端の電圧を測定し、
測定されたデータをノイズ周波数のサイクルに亘って平均することによって、測定された電圧データ中の電気的主ノイズを抑制する、ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
測定されたデータは、ノイズ周波数のｎ周期に亘って平均され、
ここで、ｎは整数である、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記電気的主ノイズは、５０Ｈｚ又は６０Ｈｚの電気的主ノイズからなり、測定されたデータは、１００ｍｓ周期又は１００ｍｓの何倍かに亘り平均される、請求項１０記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月19日(2012.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン化メディアの処理方法であって、
基板によって支えられた第１の材料の第１の層を供給する工程と、
それぞれが上部表面と１又は複数の側壁を有する形状を含むレジスト・パターンを、第１の層の上に堆積させる工程と、
該レジスト・パターン上に第２の材料の等方層の第１の堆積を実行する工程と、
第２の層の方向性イオン・ミリングを実行して、前記レジスト・パターンの前記側壁の露出を回避しながら、前記レジスト・パターンの前記上部表面を露出させる工程と、
前記レジスト・パターンと前記第２の層の部分を支えていない前記第１の層の部分とを除去して、前記第１の材料によって支えられた前記第２の材料を含む第１のテンプレート・パターンを作製する工程と、を含む方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記第１の材料は前記第２の材料よりもイオン・ミリングに対して高い耐性を有し、かつ前記第２の材料よりもプラズマ・エッチングに対して低い耐性を有する前記方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法であって、前記基板は概して円形の平坦な表面を有し、その上に第１の層が配置されており、また前記基板は円形の平坦な表面の中心に接近して回転軸を有しており、また前記レジスト・パターンの形状は、概して前記回転軸の回りに中心を有する複数の同心リングを含む前記方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法であって、基板は概して円形の平坦な表面を有し、その上に第１の層が配置されており、また基板は前記円形の平坦な表面の中心に接近して回転軸を有しており、また前記レジスト・パターンの形状は、概して前記回転軸の回りに中心を有する複数の同心リングを含んでおり、各リングの各々の上部表面は放射方向の幅を有し、放射方向で前後のリングから分離されており、放射方向の分離は、前記第２の材料の等方層の前記第１の堆積の厚さの約２倍だけ前記放射方向の幅よりも大きい前記方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法であって、更に
前記第２の材料を含む等方層の第２の堆積を実行する工程と、
構造の上部部分から前記第２の材料を除去して、前記第２の材料の前記第１の堆積から残っている前記第２の材料を支えていた残っている前記第１の材料を露出させる工程と、
前記残っている第１の材料を除去して、前記第２の材料を含む第２のテンプレート・パターンを作製する工程と、を含む前記方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、更に方向性イオン・ミリングを実行して、前記第２の堆積の間に前記第１のテンプレート・パターンの構造間に堆積された前記第２の材料を除去する工程を含む前記方法。
【請求項７】
請求項５に記載の方法であって、基板は概して円形の平坦な表面を有し、その上に第１の層が配置されており、また基板は前記円形の平坦な表面の中心に接近して回転軸を有しており、また前記レジスト・パターンの形状は、概して前記回転軸の回りに中心を有する複数の同心リングを含んでおり、各リングの各々の上部表面は放射方向の幅を有し、前後のリングから放射方向に分離されており、放射方向の分離は、等方層の前記第１の堆積の厚さの約２倍だけ前記放射方向の幅よりも大きく、前記第２の材料の前記第２の等方層堆積の厚さは、前記第２の材料の前記第１の等方層堆積の厚さの約半分である前記方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、前記同心レジスト・リングの上部表面は約２０ｎｍの放射方向の幅を有し、また前記同心レジスト・リングは約４０ｎｍの間隔だけ離れており、前記第２の材料の前記第１の等方層堆積の厚さは約１０ｎｍであり、前記第２の材料の前記第２の等方層堆積の厚さは約５ｎｍである前記方法。
【請求項９】
請求項５に記載の方法であって、前記第２の材料の前記第２の等方層堆積の厚さ（Ｔ２）は前記第２の材料の等方層の前記第１の堆積の厚さ（Ｔ１）よりも小さく、前記レジスト・パターンの形状は、ほぼＴ１＋２Ｔ２に等しい放射方向の幅（Ｒｗ）を有する同心リングを含み、該同心レジスト・リング間の間隔は３Ｔ１＋２Ｔ２にほぼ等しい前記方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法であって、前記レジスト・パターンは更にサーボ・パターンのための形状を含む前記方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法であって、基板は概して円形の平面の形状をして円形の平面の中心に近接して回転軸を有しており、また第２のテンプレート・パターンは概して回転軸の回りに中心を有する複数の同心リングを含む前記方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法であって、前記第１のテンプレート・パターンは前記レジスト・パターンのリングのピッチのそれより約２倍の密度の最小ピッチを有しており、また第２のテンプレート・パターンは前記レジスト・パターンのリングのピッチの密度の約４倍の密度の最小ピッチを有する前記方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法であって、前記第１の材料は一般にアモルファス・カーボンを含み、また前記第２の材料は酸化アルミニウムを含む前記方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法であって、前記第１の材料は一般にアモルファス・カーボン、シリコン・カーバイド、ルテニウムおよびクロムを含むグループから選ばれた材料を含む前記方法。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法であって、前記レジスト・パターンと前記第１の材料の前記第１の層の部分とを除去する工程は低温でのプラズマによるエッチングを含む前記方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、前記プラズマは酸素を含むプラズマであり、前記低温は約−２０℃よりも低い前記方法。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法であって、前記第２の材料の前記第１の等方層堆積の厚さは、前記第２の材料の等方層の第２の堆積の厚さの約２倍である前記方法。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法であって、前記第１のテンプレート・パターンは、生産用テンプレートを作製するマスタ・テンプレートとして使用される前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月21日(2013.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリンタのプリントヘッドへの電力供給を制御する方法であって、
プリントヘッドの温度に対応する第１の電気信号を生成するステップと、
防護状況の検出に応答してプリントヘッドへの電力供給を終了させるように構成された第１の電子回路で、前記第１の電気信号を監視するステップと、
前記第１の電気信号に対応する温度が温度閾値を上回るのに応答して、前記第１の電子回路で過熱信号を生成するステップと、
前記プリントヘッドへ供給される電力量を調節するように構成された第２の電子回路で、前記第１の電気信号を監視するステップと、
前記第１の電気信号が基準信号を上回るのに応答して、第３の電子回路で回路故障信号を生成するステップと、
前記第１の電気信号を第４及び第５の電子回路で監視するステップと、
前記第１の電気信号に対応する温度が温度閾値を上回るのに応答して、前記第４の電子回路で過熱信号を生成するステップと、
前記第１の電気信号に対応する温度が第２の基準信号より大きいことに応答して、前記第５の回路で回路故障信号を生成するステップと、
前記過熱信号または回路故障信号の生成に応答して、前記プリントヘッドから電力を分断するステップと、を含み、
前記第１及び第４の電子回路は、異なる集積回路で実装され、
前記第２及び第５の電子回路は、異なる集積回路で実装される、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、さらに、
前記第１の電子回路を実装する集積回路における電気的接地損失の検出に応答して、オープングランド信号を生成するステップと、
前記オープングランド信号の生成に応答して、前記プリントヘッドから電力を分断するステップと、を含む方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
前記第１及び第３の電子回路は、異なる集積回路で実装され、
前記方法は、さらに、
前記第１及び第３の電子回路を実装する集積回路のうち１つにおける電気的接地損失の検出に応答して、オープングランド信号を生成するステップと、
前記オープングランド信号の生成に応答して、前記プリントヘッドから電力を分断するステップと、を含む方法。
【請求項４】
プリンタ内のプリントヘッドへ供給される電力を監視するシステムであって、
第１の電気信号を監視し、第１の電子回路が、前記第１の電気信号を参照して防護状況を検出するのに応答して、プリントヘッドへの電力供給を終了させるように構成された第１の電子回路と、
前記第１の電気信号を監視し、前記プリントヘッドへ供給される電力量を調節するように構成された第２の電子回路と、
前記第１の電気信号を監視し、第３の電子回路が防護状況を検出するのに応答して、プリントヘッドへの電力供給を終了させるように構成された第３の電子回路と、
前記第１及び第３の電子回路を実装する集積回路のうち１つにおける電気的接地損失の検出に応答して、オープングランド信号を生成するように構成された第４の電子回路と、
前記第１、第３及び第４の電子回路に接続され、前記第１の電子回路及び第３の電子回路による防護状況の検出、及び、前記第４の電子回路によるオープングランド信号の生成のいずれか１つに応答して、前記プリントヘッドから電力を分断するように構成されたスイッチと、を含み、
前記第１及び第３の電子回路は、異なる集積回路で実装される、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月29日(2012.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料ガスを分解して基体の上に蒸着させて堆積膜を形成するための真空気密可能な反応容器と、
該反応容器を排気するための排気装置と、
該反応容器と該排気装置とを連絡して、原料ガスを該反応容器から該排気装置に流すための排気流路と
を有する堆積膜形成装置において、
該排気流路には、原料ガスの流れる向きに対して断面積が段差をもって広がっている部分が存在し、
該堆積膜形成装置が、クリーニングガスを該排気流路の該段差よりも排気装置側の領域に直接流入させるためのクリーニングガス流入手段をさらに有する
ことを特徴とする堆積膜形成装置。
【請求項２】
前記排気流路の前記段差よりも前記排気装置側の断面積が、前記排気流路の前記段差よりも前記反応容器側の断面積に対して３倍以上１０倍以下である請求項１に記載の堆積膜形成装置。
【請求項３】
前記段差において、前記排気流路の内壁が、原料ガスの流れる向きに対して９０度以上広がっている請求項１または２に記載の堆積膜形成装置。
【請求項４】
前記排気流路には、原料ガスの流れる向きに対して断面積が第２の段差をもって狭まっている部分が存在し、
該第２の段差は、前記段差と前記排気装置との間に存在し、
前記クリーニングガス流入手段が、前記クリーニングガスを前記排気流路の前記段差と該第２の段差との間の領域に直接流入させるための手段である
請求項１〜３のいずれか１項に記載の堆積膜形成装置。
【請求項５】
前記原料ガスがシラン類を含むガスであり、前記堆積膜がケイ素原子を主成分として含む非単結晶質堆積膜である請求項１〜４のいずれか１項に記載の堆積膜形成装置。
【請求項６】
前記クリーニングガスが三フッ化塩素を含むガスである請求項５に記載の堆積膜形成装置。
【請求項７】
前記クリーニングガスがラジカル化したクリーニングガスである請求項１〜６のいずれか１項に記載の堆積膜形成装置。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の堆積膜形成装置を用いて基体の上に堆積膜を形成する方法であって、前記反応容器の中で原料ガスを分解して基体の上に蒸着させて堆積膜を形成するとともに、クリーニングガスを前記排気流路の前記段差よりも前記排気装置側の領域に直接流入させることを特徴とする堆積膜形成方法。
【請求項９】
請求項４に記載の堆積膜形成装置を用いて基体の上に堆積膜を形成する方法であって、前記反応容器の中で原料ガスを分解して基体の上に蒸着させて堆積膜を形成するとともに、クリーニングガスを前記排気流路の前記段差と前記第２の段差との間の領域に直接流入させることを特徴とする堆積膜形成方法。
【請求項１０】
前記原料ガスがシラン類を含むガスであり、前記堆積膜がケイ素原子を主成分として含む非単結晶質堆積膜である請求項８または９に記載の堆積膜形成方法。
【請求項１１】
前記クリーニングガスが三フッ化塩素を含むガスである請求項１０に記載の堆積膜形成方法。
【請求項１２】
前記クリーニングガスがラジカル化したクリーニングガスである請求項８〜１１のいずれか１項に記載の堆積膜形成方法。
【請求項１３】
基体上に堆積膜を形成して電子写真感光体を製造する方法において、請求項８〜１２のいずれか１項に記載の堆積膜形成方法を用いて該基体上に該堆積膜を形成することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月11日(2013.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両のブレーキ倍力装置用三方向弁シミュレータ（１００−４００）において、
−制御ピストン（１０６−４０６）と、
−前記シミュレータが休止しているときは前記制御ピストンから離れている反力ピストン（１４０−４４０）と、を備えており、
前記シミュレータは、前記制御ピストンを、前記シミュレータの外側から伝達されてきたコマンドの影響下にあるときには、前記反力ピストンの方向に所定の行程に亘って、前記反力ピストンに応力を伝達することなく動かすことができるように、作られていることを特徴とする、シミュレータ。
【請求項２】
前記制御ピストン（１０６−４０６）が、応力を前記反力ピストン（１４０−４４０）に直接伝達するように作られている、請求項１に記載のシミュレータ。
【請求項３】
−エンクロージャ（１０４−４０４）と、
−それぞれが前記エンクロージャと連通することのできる３本のダクトと、
−マスターシリンダーダクトという名で、前記シミュレータの前記エンクロージャとは連通することができず、前記反力ピストン（１４０−４４０）を動かすために流体圧力を当該反力ピストンに伝達するように作られている、ダクト（１４２−４４２）と、を備えている、請求項１または２に記載のシミュレータ。
【請求項４】
前記制御ピストン及び前記反力ピストンに対して可動であり、且つ前記制御ピストン及び前記反力ピストンによって応力を加えられるように作られている剛体の滑動部（１２６−４２６）であって、前記反力ピストン（１４０−４４０）は、前記滑動部内を好適に伸張している、剛体の滑動部を備えている、請求項１〜３の何れか一項に記載のシミュレータ。
【請求項５】
前記滑動部（１２６−４２６）と、前記シミュレータのケーシングとに押し付けられているスプリング（１３６−４３６）を備えている、請求項４に記載のシミュレータ。
【請求項６】
前記シミュレータが休止しているときは、予荷重スプリング（４４６）によって前記反力ピストンの方向に応力が掛けられている予荷重部材（４８８）であって、これに対して、前記反力ピストン（４４０）が、前記制御ピストン（４０６）の方向に押し付けられている、予荷重部材を備えている、請求項１〜５の何れか一項に記載のシミュレータ。
【請求項７】
前記シミュレータは、前記シミュレータが休止しているときは、前記予荷重部材（４８８）が前記シミュレータのケーシングに押し付けられるように、作られている、請求項６に記載のシミュレータ。
【請求項８】
−作動ダクトという名のダクト（４９６）と、
−真空ダクトという名のダクト（４９４）と、
−大気ダクトという名の第１ダクト（４９２）と、を備えており、
前記シミュレータは、前記作動ダクトを、前記真空ダクト及び前記第１大気ダクトと、随意的に連通させることができ、
前記シミュレータは、少なくとも第２大気ダクト（４９０）を備えていて、前記作動ダクト（４９６）を、前記第１大気ダクト（４９２）と連通させる前に前記第２大気ダクトと連通させることができるようになっている、請求項１〜７の何れか一項に記載のシミュレータ。
【請求項９】
−エンクロージャ（１０４−４０４）と、それぞれが前記エンクロージャと直接連通することのできる３本のダクトとを有するケーシングと、
−前記エンクロージャ（１２６−４２６）の中を伸張する滑動部と、
−前記ピストンと前記滑動部とに押し付けられているスプリング（１３４−４３４）と、
−マスターシリンダーダクトという名のダクト（１４２−４４２）であって、流体圧力を前記滑動部に、前記制御ピストンとは独立して、この圧力が前記滑動部に前記制御ピストンとは反対の方向に応力を掛けるように伝達するように作られている、ダクトと、を備えている、請求項１〜８の何れか一項に記載のシミュレータ。
【請求項１０】
制動システムにおいて、
−制御装置（４７０）と、
−前記制御装置によって制御されるように作られている、請求項１〜９の何れか一項に記載されているシミュレータ（１００−４００）と、
−前記シミュレータによって制御することができるブレーキ倍力装置（２５０；４５０）であって、前記制御装置が、流体圧力の介在無しに前記ブレーキ倍力装置に締結されているマスターシリンダー（４６０）に応力を掛ける構造を有することができるように、前記制御装置に剛に締結されている、ブレーキ倍力装置と、を備えている制動システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月21日(2013.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｇ１）で表されるアントラセン誘導体。
【化１】
2010163430.tif 000001
（一般式（Ｇ１）において、Ａｒ１は炭素数６乃至１３の置換のアリール基又は炭素数６乃至１３の無置換のアリール基を表し、Ａｒ２及びＡｒ３はそれぞれ、炭素数６乃至１３の置換のアリーレン基又は炭素数６乃至１３の無置換のアリーレン基を表し、Ｒ１乃至Ｒ８はそれぞれ、水素又は炭素数１乃至４のアルキル基を表し、Ｒ１１は炭素数１乃至４のアルキル基、炭素数６乃至１３の置換のアリール基、又は炭素数６乃至１３の無置換のアリール基を表し、Ｒ１２は水素、炭素数１乃至４のアルキル基、炭素数６乃至１３の置換のアリール基、又は炭素数６乃至１３の無置換のアリール基を表す。）
【請求項２】
下記一般式（Ｇ１−１）で表されるアントラセン誘導体。
【化２】
2010163430.tif 000002
（一般式（Ｇ１−１）において、Ａｒ１は炭素数６乃至１３の置換のアリール基又は炭素数６乃至１３の無置換のアリール基を表し、Ａｒ２及びＡｒ３はそれぞれ、炭素数６乃至１３の置換のアリーレン基又は炭素数６乃至１３の無置換のアリーレン基を表し、Ｒ１２は水素、炭素数１乃至４のアルキル基、炭素数６乃至１３の置換のアリール基、又は炭素数６乃至１３の無置換のアリール基を表し、Ｒ２１乃至Ｒ２５はそれぞれ、水素、炭素数１乃至４のアルキル基、炭素数６乃至１０の置換のアリール基又は炭素数６乃至１０の無置換のアリール基を表す。）
【請求項３】
下記一般式（Ｇ１−２）で表されるアントラセン誘導体。
【化３】
2010163430.tif 000003
（一般式（Ｇ１−２）において、Ａｒ１は置換のフェニル基、無置換のフェニル基、１−ナフチル基、又は２−ナフチル基を表し、Ａｒ２及びＡｒ３はそれぞれ、炭素数６乃至１３の置換のアリーレン基又は炭素数６乃至１３の無置換のアリーレン基を表す。）
【請求項４】
下記一般式（Ｇ１−３）で表されるアントラセン誘導体。
【化４】
2010163430.tif 000004
（一般式（Ｇ１−３）において、Ａｒ１は置換のフェニル基、無置換のフェニル基、１−ナフチル基、又は２−ナフチル基を表し、Ａｒ２は炭素数６乃至１３の置換のアリーレン基又は炭素数６乃至１３の無置換のアリーレン基を表し、Ａｒ３はパラ−フェニレン基又はビフェニル−４，４’−ジイル基を表す。）
【請求項５】
下記一般式（Ｇ１−４）で表されるアントラセン誘導体。
【化５】
2010163430.tif 000005
（一般式（Ｇ１−４）において、Ａｒ１は置換のフェニル基、無置換のフェニル基、１−ナフチル基、又は２−ナフチル基を表し、Ａｒ２はパラ−フェニレン基又はビフェニル−４，４’−ジイル基を表す。）
【請求項６】
下記構造式（１０１）で表されるアントラセン誘導体。
【化６】
2010163430.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月17日(2013.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縦軸を有し、
（ａ）可撓性非金属耐熱材料から成るストリップ状のコアシート（１１１）と、
（ｂ）前記コアシートの周りに編み付けられた金属メッシュ（１１３）と、を含んで成るハイブリッド耐熱ストリップ（１０７）であって、
前記金属メッシュ（１１３）を前記コアシート（１１１）の周りに編み付けた後、前記コアシート（１１１）と前記金属メッシュ（１１３）とが圧着され、前記圧着によって前記ストリップ（１０７）の縦軸に対して実質的に垂直に配向された波形が形成されているハイブリッド耐熱ストリップ。
【請求項２】
前記可撓性非金属耐熱材料が黒鉛及び雲母の少なくとも一つを含む請求項１に記載のストリップ。
【請求項３】
前記コアシート（１１１）が、第１の可撓性非金属耐熱材料層と第２の可撓性非金属耐熱材料層とを含んで成る請求項１又は２に記載のストリップ。
【請求項４】
前記第１の層と第２の層が同じ組成を有している請求項３に記載のストリップ。
【請求項５】
前記第１の層と第２の層が異なる組成を有している請求項３に記載のストリップ。
【請求項６】
前記コアシート（１１１）が可撓性金属材料から成る層を更に含む請求項１〜５のいずれか１項に記載のストリップ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のストリップ（１０７）を含んで成る耐熱シール（１１７）であって、前記ストリップ（１０７）が予備成形物（１０９）に形成され、前記予備成形物（１０９）が圧縮されてシール（１１７）に形成される耐熱シール。
【請求項８】
可撓性黒鉛ストリップ（１１１）にワイヤメッシュ（１１３）をかぶせ編みし、圧着し、円環状に圧縮成形されて成る耐熱シール（１１７）であって、前記圧着は前記かぶせ編みの後に行われ、前記圧着によって前記ストリップ（１１１）の縦軸に対して実質的に垂直に配向された波形が形成されることを特徴とする耐熱シール。
【請求項９】
（ａ）可撓性非金属耐熱材料を含むコアシート（１１１）を提供するステップと、
（ｂ）前記コアシート（１１１）の周りに金属メッシュ（１１３）を編み付けて複合材料（１１５）を形成するステップと、
（ｃ）前記複合材料（１１５）を圧着するステップと、
（ｄ）前記圧着した複合材料（１１５）から予備成形物（１０９）を形成するステップと、
（ｅ）前記予備成形物（１０９）を圧縮してシール（１１７）を形成するステップと、を含んで成り、
前記圧着によって前記複合材料（１１５）の縦軸に対して実質的に垂直に配向された波形が形成されることにより、前記（ｅ）のステップの後、金属メッシュ（１１３）が可撓性非金属耐熱材料の全体に実質的に分散されるハイブリッド耐熱シールの製造方法。
【請求項１０】
前記可撓性非金属耐熱材料が黒鉛及び雲母の少なくとも一つである請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記コアシート（１１１）が１種類より多い可撓性非金属耐熱材料を含む請求項９又は１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記コアシート（１１１）が可撓性金属材料を更に含む請求項９〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。