Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月25日(2013.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】文書オブジェクトを自動位置合わせするための方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
例示のオブジェクト１４は、画像オブジェクトである。画像オブジェクトは、例えば、現実世界の中の何かを描写する写真画像である。グラフィカル（グラフィックス）オブジェクトは、例えばグラフ、チャート、線画などであり、ある例では画像オブジェクトと同様に取り扱ってもよい。これらの種類のオブジェクトは両方とも顕著度検出方法により検出可能な視覚的特徴を有する。理解されるように、図面（図５，８及び９）に例示される画像オブジェクトは線画として示されているが、これらは写真画像（例えばカラー写真画像）を表すものであり、例えばそれら画像について図面に示した表現データが求められる。オブジェクト１６はテキストオブジェクトであり、あらかじめ定められた文字集合からの文字群と、選ばれた１つ又は複数のフォントとを用いて生成された自然言語のテキスト列を主として含んでいる。テキストオブジェクトは、いくつかの例では、拡大されたテキスト部分や式などの普通でないテキストなどのいくつかの顕著な特徴を有している場合もあるものの、いずれの「オン」画素も顕著度においては等価であるものと考えることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図２は、文書内のオブジェクトを位置合わせする方法の一例を示す。この方法の処理は、Ｓ１００で開始し、このステップではオブジェクト１４，１６のような文書オブジェクトを含んだデジタル文書が入力される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
Ｓ１０８では、各オブジェクトの一次元（例えば垂直方向）の顕著度を示す少なくとも１つの関数（ガイドラインプロファイル）が顕著度検出手段の出力に基づき生成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
＜文書分類：Ｓ１０４＞
オブジェクト１４，１６はそれぞれ複数のクラス（分類）の中の１つに分類される。実施形態では、１つの主クラスを用いる。すなわち、テキストアイランド（テキストのかたまり）、写真（絵画）画像（連続調画像など。例えば写真）、及びグラフィックス要素である。写真画像及びグラフィックス画像については、更なる分類ステップが実行される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
人カテゴリのラベルが付された画像オブジェクトについては、Viola-Jones顔検出器（P. Viola and M. Jones. “Robust real-time face detection.” International Journal of Computer Vision (IJCV) 57(2) 137-154 (2004) 参照）のような顔検出部７８を用いてもよい。この方法は、顔が画像中でもっとも顕著な領域であると仮定する。例えば、図８には、人カテゴリに分類されたオブジェクト１４（このオブジェクトの円８６の中から顔が検出されている）が示される。両目の位置を、顔のサイズについて簡単な計算により求めることができる（線８８で示される）。この代わりに、両目の位置を直接的に検出することを目的とするもっと複雑な方法を用いてもよい（例えばG.C. Feng, P.C. Yuen, “Multi-cues eye detection on gray intensity image,” Pattern Recognition, Elsevier (2001)を参照）。両目の垂直方向位置が求められると、推定される両目の高さの位置にガウス分布９０の中心を置き、そのガウス分布を顔のサイズに対して相対的にパラメータ表示することができる。そのガウス分布をガイドラインとして用いることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子文書内のオブジェクトの位置合わせのための方法であって、
入力された電子文書について、当該電子文書のページ内にある位置合わせすべき第１のオブジェクトと第２のオブジェクトを識別するステップと、
前記第１のオブジェクトについての顕著度を検出するステップであって、前記第１のオブジェクトの顕著度マップを生成するステップと、
前記第１のオブジェクトについての顕著度の検出に基づき、前記第１のオブジェクトについての第１の一次元のガイドラインプロファイルを生成するステップであって、前記ガイドラインプロファイルが前記顕著度マップにおける顕著度の一次元平均に基づくことを特徴とするステップと、
前記第２のオブジェクトについての顕著度の検出に基づき、前記第２のオブジェクトについての第２の一次元のガイドラインプロファイルを生成するステップと、
前記第１及び第２のガイドラインプロファイルに基づき前記第１のオブジェクトと前記第２のオブジェクトとを位置合わせして修正済み文書を生成するステップと、
前記修正済み文書を出力するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記位置合わせの処理では、前記第１のガイドラインプロファイルと前記第２のガイドラインプロファイルとのたたみ込みを行うことでピークを検出し、前記オブジェクト同士を前記ピークの位置に基づいて位置合わせする、ことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、前記位置合わせの処理では、前記第１のガイドラインプロファイルのピークを前記第２のガイドラインプロファイルのピークに位置合わせする、ことを特徴とする方法。
【請求項４】
電子文書内のオブジェクトの位置合わせのための方法であって、
入力された電子文書について、当該電子文書のページ内にある位置合わせすべき第１のオブジェクトと第２のオブジェクトを識別するステップと、
前記第１のオブジェクトについての顕著度の検出に基づき、前記第１のオブジェクトについての第１の一次元のガイドラインプロファイルを生成するステップであって、前記第１のオブジェクトは垂直方向の次元と水平方向の次元を有し、前記第１の一次元のガイドラインプロファイルは、当該ガイドラインプロファイル自身の次元として、前記第１のオブジェクトの垂直方向の次元又は水平方向の次元を有することを特徴とするステップと、
前記第２のオブジェクトについての顕著度の検出に基づき、前記第２のオブジェクトについての第２の一次元のガイドラインプロファイルを生成するステップと、
前記第１及び第２のガイドラインプロファイルに基づき前記第１のオブジェクトと前記第２のオブジェクトとを位置合わせして修正済み文書を生成するステップと、
前記修正済み文書を出力するステップと、
を含む方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年3月15日(2013.3.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
最適化は、期待される情報フローおよび現在の情報フローに関連する不確実性情報を用いることによって、および（または）確率的手法を用いることによって、行われることができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１４１】
従属情報は、既に編集された感覚情報の現在の状態と共に使用され、視覚サブタスクの処理順序を決定する。さらに、期待されるゲインおよびコストに関する情報を考慮して、制御モジュールが、たとえばより低い処理コストで近似した結果を得るのか、それともより高い処理コストで正確な結果を得るのかを決定することができる。不確実性情報が利用可能であれば（プロセス記憶および感覚計測に結びつけられる）、グラフィカルな構造に対して作用する確率的手法をここで含めることができる。感覚事象を表現する各ノードは、その結果の有効性を追跡する。この有効性を、たとえば、計測の信頼性、その取得したデータの品質、あるいは最後の計測からの経過時間によって判断することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１４６】
ＩＩＩ．上記のＩまたはＩＩに記載された方法であって、最適化は、期待される情報フローおよび現在の情報フローに関連する不確実性情報を考慮することによって、および、最新の確率的手法を用いることによって行われる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月22日(2013.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信により、第１の端末機と第１の信号の授受を行うアンテナと、
前記第１の信号に基づき処理を実行する集積回路と、
第２の端末機と第２の信号の授受を行う、表面に導電部を露出した端子部とを有する情報処理装置であって、
前記第１の信号は、搬送波と、前記搬送波の振幅又は周波数を情報に応じ変調して生成された変調波とを有し、
前記第２の信号は、デジタル信号を有し、
前記端子部が有する端子の少なくとも一において、前記端子と高電位の電源端子、及び前記端子と低電位の電源端子との間に保護回路を設けたことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記集積回路は、絶縁表面上に形成された薄膜トランジスタを有し、
前記保護回路は、前記絶縁表面上に形成されたＰＮダイオード、ＰＩＮダイオード、ショットキーバリアダイオード、ゲート・ドレイン間を短絡しダイオード接続した薄膜トランジスタから選ばれた少なくとも一のダイオードを、前記端子と前記高電位の電源端子、及び前記端子と前記低電位の電源端子との間に、それぞれ通常状態において逆バイアスとなるように設けられた構造を有し、
前記薄膜トランジスタと、前記保護回路が有する前記ダイオードは、同一工程によって形成された半導体膜を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記ＰＮダイオード、又は前記ＰＩＮダイオードが有する、Ｐ型又はＮ型の不純物領域は、前記薄膜トランジスタが有する不純物領域と同一工程にて形成され、前記Ｐ型又は前記Ｎ型の不純物領域は、前記半導体膜に形成されていることを特徴とする情報処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の情報処理装置と、前記情報処理装置を支持する基材とを有し、
前記基材は、前記第２の端末機を前記端子部において接続した際、前記第２の端末機を支持固定する構造体を有することを特徴とするＩＣカード。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の情報処理装置、もしくは請求項４に記載のＩＣカードと、前記第１及び第２の端末機とを用いた通信システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月9日(2013.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を射出するレーザ光源と、
該レーザ光源からのレーザ光をライン状に集光するライン集光光学系と、
該ライン集光光学系により集光されたレーザ光を反射又は透過する微小素子が前記ラインの長手方向に複数配列された微小素子アレイと、
該微小素子アレイにより反射又は透過されたレーザ光を前記ラインの長手方向に直交する方向に走査するスキャナと、
該スキャナにより走査されたレーザ光を標本に照射する照射光学系と、
前記微小素子アレイと共役な位置に配置され、前記標本からの光を検出する複数のチャネルが前記微小素子アレイの微小素子のピッチよりも大きなピッチで前記ラインの長手方向に沿って配列された光検出器と、
前記レーザ光が前記ラインの長手方向に沿った複数個のスポット光として標本を照射するように前記微小素子アレイを制御して、異なる前記微小素子において反射又は透過された標本からの光を各前記チャネルにそれぞれ同時に入射させるとともに、標本を照射する前記複数個のレーザスポット光のそれぞれの位置を前記ライン上で順次異ならせて各前記チャネルについて同じチャネルに前記標本上の異なる位置からの光が順次入射するように、前記微小素子を順次切り替える制御部とを備えるレーザ走査型顕微鏡。
【請求項２】
前記標本からの光を、該標本上における前記ラインの長手方向に沿う方向に走査する第２のスキャナを備える請求項１に記載のレーザ走査型顕微鏡。
【請求項３】
前記標本からの光をスペクトル成分に分光し、これらスペクトル成分を前記ラインの長手方向に直交する方向に並べて出射する分光素子を備え、
前記光検出器が、前記ラインの長手方向に直交する方向に複数列設けられ、前記分光素子により分光されたスペクトル成分をそれぞれ検出する請求項１または請求項２に記載のレーザ走査型顕微鏡。
【請求項４】
複数の前記微小素子により１つの集光スポットを生成する場合において、
前記微小素子アレイからの光を前記光検出器へ集光させる検出光学系と前記ライン集光光学系の少なくとも一方の焦点深度が、１つの集光スポットを生成する各前記微小素子により発生する光路差よりも大きく設定されている請求項１から請求項３のいずれかに記載のレーザ走査型顕微鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
この際、制御部６からの指令により、図４に示すように、ＤＭＤ７の微小可動ミラーのＯＮ／ＯＦＦ状態が切り替えられる。ここでは、光検出器１７の各チャネルに対して、レーザ光Ｌのスポット光に対応した蛍光Fのスポット光が４つ入射する場合について説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月30日(2013.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射したＸ線放射線に基づいて画像データを生成する（１２８）ように構成されている検出器アレイ（６２）と、
該検出器アレイ（６２）が配設されている筐体（５８）と、
該筐体（５８）内に配置されたソケット（６６）とを備え、
前記ソケット（６６）は、着脱式バッテリ又はコード付きプラグ（１０６）を二者択一的に受け入れるように構成され、
前記ソケット（６６）は、前記コード付きプラグ（１０６）を接続するように構成されたコネクタを有し、
前記コード付きプラグ（１０６）が接続されたときに、前記コネクタの２以上の電気接点を介して電力を受け、前記コネクタの２以上のデータ接点を介して医用画像の交換を行い、
前記バッテリが接続されたときに、前記コネクタは前記バッテリから前記２以上の電気接点を介して電力を受けるように構成されている、
ディジタルＸ線検出器（２２）。
【請求項２】
前記ソケット（６６）とは場所に設けられたドッキング・コネクタ（７４）を備え、
前記ドッキング・コネクタ（７４）は、有線接続により、医用画像データ又は電力を送るように構成されている、請求項１に記載のディジタルＸ線検出器（２２）。
【請求項３】
前記生成された画像データを送信することが可能な無線送受信器（８８）又は前記生成された生成された画像データを記憶することが可能なメモリ装置（７０）の一方又は複数を含んでいる請求項１に記載のディジタルＸ線検出器（２２）。
【請求項４】
可搬型検出器をイメージング・システムに接続するコード（１０４）であって、
医用データを送信するように構成されたデータ導体と電力を送信するように構成された電力導体とを備えるケーブル（１１０）と、
バッテリが存在しないときに前記可搬型検出器の筐体内に配置されたバッテリ・ソケット（６６）に適合する形状を有し、前記データ導体を前記バッテリ・ソケット（６６）内のデータ線接点に接続すると共に、前記電力導体を前記バッテリ・ソケット（６６）内の電力線接点に接続するプラグ（１０６）と、
前記バッテリ・ソケット（６６）内に前記プラグ（１０６）が挿入されたときに、前記ケーブル（１１０）が前記プラグ（１０６）に関して少なくとも一次元で旋回することを許すように前記ケーブル（１１０）と接続する回転構造（１１２）と、
を備えたコード（１０４）。
【請求項５】
前記プラグ（１０６）は、電力とデータの伝送のための導体を含んでいる、請求項４に記載のコード（１０４）。
【請求項６】
前記プラグ（１０６）は、電力用の少なくとも二つの導体と、データ転送用の少なくとも二つの導体とを含んでいる、請求項４に記載のコード（１０４）。
【請求項７】
前記ケーブル（１１０）の直径が、１０ｍｍ未満である、請求項４乃至６のいずれかに記載のコード（１０４）。
【請求項８】
前記回転構造（１１２）は、前記取り付けられているケーブル（１１０）が４５°、９０°、１２０°、１５０°、１８０°、２１０°又はこれらの間の任意の角度の回転範囲内で旋回することを許す、請求項４乃至７のいずれかに記載のコード（１０４））。
【請求項９】
前記回転構造（１１２）は、前記プラグ（１０６）の残部に対して前記回転構造（１１２）が回転するように前記プラグ（１０６）の筐体と連結するハブ（１１６）を含んでいる、請求項４乃至８のいずれかに記載のコード（１０４）。
【請求項１０】
前記回転構造（１１２）は、スリップ・リング又は玉継手を含んでいる、請求項４乃至９のいずれかに記載のコード（１０４）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月7日(2013.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置及び表示装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
曲面を有する第１の支持体上に、曲面を有する第１の基板を形成する工程と、
前記第１の基板上に、曲面を有する素子層を形成する工程と、
曲面を有する第２の支持体上に、曲面を有する第２の基板を形成する工程と、
スペーサを介して前記第１の基板と前記第２の基板を貼り合わせ、前記第１の基板と前記第２の基板の間に液晶材料を封入する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２】
曲面を有する第１の支持体上に、曲面を有する第１の基板を形成する工程と、
前記第１の基板上に、曲面を有する第１の保護層を形成する工程と、
前記第１の保護層上に、曲面を有する素子層を形成する工程と、
曲面を有する第２の支持体上に、曲面を有する第２の基板を形成する工程と、
前記第２の基板上に、曲面を有する第２の保護層を形成する工程と、
スペーサを介して前記第１の基板と前記第２の基板を貼り合わせ、前記第１の基板と前記第２の基板の間に液晶材料を封入する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記素子層の形成は、支持基板上に形成した前記素子層を転置することにより行うことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
曲面を有する第１の基板と、
前記第１の基板上の、曲面を有する素子層と、
前記素子層上の、曲面を有する液晶層と、
前記液晶層上の、曲面を有する第２の基板と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記第１の基板と前記素子層との間に、曲面を有する第１の保護層を有し、
前記液晶層と前記第２の基板との間に、曲面を有する第２の保護層を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項４又は５において、
表示領域を有し、
前記表示領域は、曲面を有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月13日(2013.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス状に配置され感知信号を生成する光感知部、前記感知信号の出力を制御するために走査信号を伝達する感知走査線、及び前記走査信号に従って前記感知信号を伝達する感知信号線を含み、２つ以上の感知走査線に同一の走査信号を同時に印加する情報認識基板と、
マトリクス状に配置された複数の画素電極、前記画素電極にそれぞれ接続された複数のスイッチング素子、前記複数のスイッチング素子に接続されたスイッチング走査線、及びスイッチング信号線を含むスイッチング基板と、を含むことを特徴とする情報認識表示装置。
【請求項２】
前記感知走査線及び前記感知信号線に対応する位置に前記スイッチング走査線及び前記スイッチング信号線が配置され、前記感知走査線及び前記感知信号線と前記スイッチング走査線及び前記スイッチング信号線とが相互にオーバーラップしていることを特徴とする請求項１に記載の情報認識表示装置。
【請求項３】
前記感知走査線の個数は、前記スイッチング走査線の個数より少ないことを特徴とする請求項２に記載の情報認識表示装置。
【請求項４】
前記感知信号線の個数は、前記スイッチング信号線の個数より少ないことを特徴とする請求項２に記載の情報認識表示装置。
【請求項５】
前記スイッチング基板は、カラーフィルタをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の情報認識表示装置。
【請求項６】
前記カラーフィルタの間に遮光層をさらに含み、前記遮光層と前記感知信号線とが互いにオーバーラップすることを特徴とする請求項５に記載の情報認識表示装置。
【請求項７】
前記情報認識基板は、前記複数の画素電極とともに液晶分子の動きを制御するための共通電極をさらに含むことを特徴とする請求項６に記載の情報認識表示装置。
【請求項８】
２つ以上の前記感知走査線が互いに電気的に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の情報認識表示装置。
【請求項９】
前記感知走査線に走査信号を印加し、前記情報認識基板の第１面に電気的に接続された第１感知走査部及び第２感知走査部と、
前記光感知部のうち、前記第１感知走査部に電気的に接続された第１光感知部から第１感知信号を受け、前記情報認識基板の第２面に電気的に接続された第１光判読部と、
前記光感知部のうち、前記第２感知走査部に電気的に接続された第２光感知部から第２感知信号を受け、前記情報認識基板の第３面に電気的に接続された第２光判読部とをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の情報認識表示装置。
【請求項１０】
前記第１感知走査部と第２感知走査部とは、それぞれ同一の走査信号を同時に前記感知走査線に印加することを特徴とする請求項９に記載の情報認識表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月19日(2013.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明に係る印刷に有用な装置は、第１の外側表面を含む第１の部材と、第１の外側表面とニップを形成する第２の外側表面を含むロールと、を備えた、印刷に有用な装置を含み、第２の外側表面が、軸方向に間隔を空けた第１及び第２のエッジを有する内側部分と、第１のエッジから軸方向に外側にある粗面にされた第１の高摩擦表面と、第２のエッジから軸方向に外側にある粗面にされた第２の高摩擦表面と、を含み、第１及び第２の高摩擦表面がロールの周囲に周方向に延在して且つ内側部分よりも高い粗さを有している。内側部分ならびに第１及び第２の高摩擦表面はニップにて第１の外側表面に接触し、且つ第１及び第２の高摩擦表面がニップを通る媒体経路の外側に位置する。さらに、ロールの第２の外側表面に接触する第３の外側表面を含む熱分配ロールを備え、第３の外側表面が、第１及び第２の高摩擦表面と各々接触する軸方向に間隔を空けた二つの高摩擦表面を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る他の印刷に有用な装置は、軸方向に間隔を空けた第１及び第２のエッジを有する第１の内側部分と、第１のエッジから軸方向に外側にある第１の高摩擦表面と、第２のエッジから軸方向に外側にある第２の高摩擦表面と、を含む第１の部材であって、第１及び第２の高摩擦表面が第１の部材の周囲に周方向に延在して且つ第１の内側部分を形成している材料よりも高い摩擦係数を有する第１の高摩擦材料からできている第１の部材と、第１の外側表面とニップを形成する第２の外側表面と含むロールであって、第２の外側表面が、第３及び第４の軸方向に間隔を空けたエッジを有する第２の内側部分と、第１のエッジから軸方向に外側にある第３の高摩擦表面と、第４のエッジから軸方向に外側にある第４の高摩擦表面と、を含み、第３及び第４の高摩擦表面がロールの周囲に周方向に延在して且つ第２の内側部分を形成している材料よりも高い摩擦係数を有する第２の高摩擦材料からできているロールと、を備えた、印刷に有用な装置を含む。第１の高摩擦表面は第３の高摩擦表面に接触し、第２の高摩擦表面は第４の高摩擦表面に接触し、第１の内側部分は第２の内側部分に接触し、且つ第１、第２、第３及び第４の高摩擦表面はニップを通る媒体経路の外側に位置する。さらに、ロールの第２の外側表面に接触する第３の外側表面を含む熱分配ロールを備え、第３の外側表面が、第３及び第４の高摩擦表面と各々接触する軸方向に間隔を空けた二つの高摩擦表面を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の外側表面を含む第１の部材と、
前記第１の外側表面とニップを形成する第２の外側表面を含むロールと、
を備えており、前記第２の外側表面が、軸方向に間隔を空けた第１及び第２のエッジを有する内側部分と、前記第１のエッジから軸方向に外側にある粗面にされた第１の高摩擦表面と、前記第２のエッジから軸方向に外側にある粗面にされた第２の高摩擦表面と、を含み、前記第１及び第２の高摩擦表面が前記ロールの周囲に周方向に延在して且つ前記内側部分よりも高い粗さを有しており、
前記内側部分ならびに前記第１及び第２の高摩擦表面が前記ニップにて前記第１の外側表面に接触し、且つ前記第１及び第２の高摩擦表面が前記ニップを通る媒体経路の外側に位置し、
さらに、前記ロールの前記第２の外側表面に接触する第３の外側表面を含む熱分配ロールを備え、前記第３の外側表面が、前記第１及び第２の高摩擦表面と各々接触する軸方向に間隔を空けた二つの高摩擦表面を有する、
印刷に有用な装置。
【請求項２】
前記第１の部材が連続した金属ベルトまたはポリマーベルトであり、
前記装置は更に、前記ベルトの内側に配置されたヒータを備え、前記ヒータは、前記ニップの位置で前記ベルトの内側表面に接触する加熱表面を含む、
請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の外側表面が、軸方向に間隔を空けた第３及び第４のエッジを有する内側部分と、前記第３のエッジから軸方向に外側にあって且つ前記第１の高摩擦表面に接触する粗面にされた第３の高摩擦表面と、前記第４のエッジから軸方向に外側にあって且つ前記第２の高摩擦表面に接触する粗面にされた第４の高摩擦表面と、を備えており、
前記第３及び第４の高摩擦表面が各々前記第１の部材の周囲に周方向に延在し、前記第1の部材の前記内側表面よりも高い粗さを有し、且つ前記ニップを通る前記媒体経路の外側に位置する、
請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第２の外側表面の前記内側部分が、前記ロール及び第１の部材の回転の間に前記内側部分と前記第１の外側表面との間の摩擦を低減するために有効な滑らかで低表面エネルギーの材料を備える、
請求項１に記載の装置。
【請求項５】
軸方向に間隔を空けた第１及び第２のエッジを有する第１の内側部分と、前記第１のエッジから軸方向に外側にある第１の高摩擦表面と、前記第２のエッジから軸方向に外側にある第２の高摩擦表面と、を含む第１の部材であって、前記第１及び第２の高摩擦表面が前記第１の部材の周囲に周方向に延在して且つ前記第１の内側部分を形成している材料よりも高い摩擦係数を有する第１の高摩擦材料からできている、第１の部材と、
前記第１の外側表面とニップを形成する第２の外側表面と含むロールであって、前記第２の外側表面が、軸方向に間隔を空けた第３及び第４のエッジを有する第２の内側部分と、前記第３のエッジから軸方向に外側にある第３の高摩擦表面と、前記第４のエッジから軸方向に外側にある第４の高摩擦表面と、を含み、前記第３及び第４の高摩擦表面が前記ロールの周囲に周方向に延在して且つ前記第２の内側部分を形成している材料よりも高い摩擦係数を有する第２の高摩擦材料からできている、ロールと、
を備えており、
前記第１の高摩擦表面が前記第３の高摩擦表面に接触し、前記第２の高摩擦表面が前記第４の高摩擦表面に接触し、前記第１の内側部分が前記第２の内側部分に接触し、且つ前記第１、第２、第３及び第４の高摩擦表面が前記ニップを通る媒体経路の外側に位置し、
さらに、前記ロールの前記第２の外側表面に接触する第３の外側表面を含む熱分配ロールを備え、前記第３の外側表面が、前記第３及び第４の高摩擦表面と各々接触する軸方向に間隔を空けた二つの高摩擦表面を有する、
印刷に有用な装置。
【請求項６】
前記第１の部材が連続した金属ベルト又はポリマーベルトであり、
前記第１の高摩擦材料がポリマー材料であり、
前記第２の高摩擦材料がポリマー材料であり、
前記第２の外側表面の前記第２の内側部分が、前記ロール及び第１の部材の回転の間に前記第２の内側部分と前記第１の外側表面との間の摩擦を低減するために有効な滑らかで低摩擦のポリマー材料を備える、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記ベルトの内側に配置されたヒータを備え、前記ヒータは、前記ニップの位置で前記ベルトの内側表面に接触する加熱表面を含む、請求項６に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月25日(2013.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する第１の封止部材と、可撓性を有する第２の封止部材との間に、発光素子を有する発光パネルを形成する工程と、
前記発光パネルを曲折した形状に加工する工程と、
前記曲折した形状を有する発光パネルを覆う保護膜を形成する工程と、を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２】
可撓性を有し、発光素子が形成された第１の封止部材を、曲面を有する支持体に貼り付ける工程と、
可撓性を有する第２の封止部材を、前記第１の封止部材に貼り付け、曲折した形状を有する発光パネルを形成する工程と、
前記曲折した形状を有する発光パネルを覆う保護膜を形成する工程と、を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３】
可撓性を有する第１の封止部材を、曲面を有する支持体に貼り付ける工程と、
可撓性を有し、発光素子が形成された第２の封止部材を、前記第１の封止部材に貼り付け、曲折した形状を有する発光パネルを形成する工程と、
前記曲折した形状を有する発光パネルを覆う保護膜を形成する工程と、を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１において、
前記第２の封止部材上に、シール材により前記第１の封止部材と接着された、可撓性を有する第３の封止部材を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記第１の封止部材と前記第２の封止部材の形状を固定する処理を行った後、前記保護膜を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記保護膜として、前記第１の封止部材を覆う第１の保護膜と、前記第２の封止部材を覆う第２の保護膜と、を形成し、
前記第１の保護膜と前記第２の保護膜は、互いに重なる領域を有することを特徴とする発光装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月29日(2013.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の間隔で積層された複数の基板を処理する反応室と、
少なくともシリコン含有ガス及び塩素含有ガス、若しくは、シリコン及び塩素含有ガスを供給する第１のガス供給系と、
前記第１のガス供給系に接続される第１のガス供給部であって、前記反応室内の前記基板の主面に対して平行方向にガスを供給する第１のガス供給口を有する第１のガス供給部と、
少なくとも還元ガスを供給する第２のガス供給系と、
前記第２のガス供給系に接続される第２のガス供給部であって、少なくとも第２のガス供給口を有する第２のガス供給部と、
少なくとも炭素含有ガスを供給する第３のガス供給系であって、少なくとも前記第１のガス供給部又は前記第２のガス供給部のいずれかに接続される第３のガス供給系と、
前記第１のガス供給系が前記第１のガス供給部の前記第１のガス供給口から少なくとも前記シリコン含有ガス及び前記塩素含有ガス、若しくは、前記シリコン及び塩素含有ガスを前記反応室内へ供給し、前記第２のガス供給系が前記第２のガス供給部の前記第２のガス供給口から少なくとも前記還元ガスを前記反応室内へ供給し、前記第３のガス供給系が前記第１のガス供給部の前記第１のガス供給口又は前記第２のガス供給部の前記第２のガス供給口から少なくとも前記炭素含有ガスを前記反応室内へ供給し、前記基板に炭化珪素膜を形成するよう制御する制御部と、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
前記第１のガス供給系は、更に希ガスをも供給するように構成されており、
前記制御部は、前記第１のガス供給系が前記第１のガス供給部の前記第１のガス供給口から少なくとも前記シリコン含有ガスと前記塩素含有ガスとともに前記希ガス、若しくは、前記シリコン及び塩素含有ガスとともに前記希ガスを前記反応室内へ供給するよう制御する請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１のガス供給系は、更にアルゴンガスをも供給するように構成されており、
前記制御部は、前記第１のガス供給系が前記第１のガス供給部の前記第１のガス供給口から少なくとも前記シリコン含有ガス及び前記塩素含有ガスとともに前記アルゴンガス、若しくは、前記シリコン及び塩素含有ガスとともに前記アルゴンガスを前記反応室内へ供給するよう制御する請求項１または請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記還元ガスは、水素ガスまたは水素含有ガスである請求項１乃至３のいずれか１つに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記第１のガス供給部内における塩素原子と水素原子の比率が、前記反応室内の塩素原子と水素原子の比率と異なるように前記第１のガス供給系と前記第２のガス供給系を制御する請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記処理室内における塩素原子と水素原子の比率を予め定められた基準値よりも小さくすることで成膜速度を増大させ、前記塩素原子と水素原子の比率を前記予め定められた基準値よりも大きくすることで成膜速度を低下させるように前記第１のガス供給系と第２のガス供給系を制御する請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記反応室内の温度は、１５００℃以上１７００℃以下であり、
前記反応室内の圧力は、１０Ｔｏｒｒ以上２００Ｔｏｒｒ以下である請求項１乃至６のいずれか１つに記載の基板処理装置。
【請求項８】
所定の間隔で積層された複数の基板を反応室内に搬入する工程と、
前記反応室内の前記基板の主面に対して平行方向にガスを供給する第１のガス供給口を有する第１のガス供給部の該第１のガス供給口から少なくともシリコン含有ガス及び塩素含有ガス、若しくは、シリコン及び塩素含有ガスを前記反応室内へ供給し、第２のガス供給部の第２のガス供給口から少なくとも還元ガスを前記反応室内へ供給し、前記第１のガス供給部の前記第１のガス供給口または前記第２のガス供給部の前記第２のガス供給口から少なくとも炭素含有ガスを前記反応室内へ供給し、前記基板に炭化珪素膜を形成する工程と、
前記反応室から前記基板を搬出する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項９】
所定の間隔で積層された複数の基板を反応室内に搬入する工程と、
前記反応室内の前記基板の主面に対して平行方向にガスを供給する第１のガス供給口を有する第１のガス供給部の該第１のガス供給口から少なくともシリコン含有ガス及び塩素含有ガス、若しくは、シリコン及び塩素含有ガスを前記反応室内へ供給し、第２のガス供給部の第２のガス供給口から少なくとも還元ガスを前記反応室内へ供給し、前記第１のガス供給部の前記第１のガス供給口または前記第２のガス供給部の前記第２のガス供給口から少なくとも炭素含有ガスを前記反応室内へ供給し、前記基板に炭化珪素膜を形成する工程と、
前記反応室から前記基板を搬出する工程と、
を有する基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月18日(2013.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路部品（１６）が搭載された電気システム（１２）上に配置された誘電体被覆（１８）であって、前記電気システム（１２）の表面に共形になるように形状設定され、前記電気システムの前記表面上にあるコンタクトパッド（２２）の上に配置された複数の開口（２０）を有する誘電体被覆（１８）と、
導電性被覆（２４）であって、前記誘電体被覆（１８）上に層状に重ねられ、かつ前記導電性被覆（２４）と前記コンタクトパッド（２２）の間に電気接続が形成されるように前記コンタクトパッド（２２）上に層状に重ねられた導電性被覆（２４）と
を備え、
前記誘電体被覆（１８）および前記導電性被覆（２４）が、所望の回路部品（１６）または回路部品（１６）群を覆う前記形状適応構造のそれぞれの遮蔽領域（２６）を分離するように貫通して形成された複数の重なり合う経路開口（２７）を有する
形状適応構造（１０）。
【請求項２】
前記回路部品のそれぞれを覆う前記それぞれの遮蔽領域（２６）が、前記回路部品を覆う前記誘電体被覆（１８）および前記導電性被覆（２４）からなる分離型パッチを備える、請求項１記載の形状適応構造（１０）。
【請求項３】
前記複数の重なり合う経路開口（２７）のそれぞれが、そのそれぞれに対応する遮蔽領域（２６）を取り囲む閉ループ経路を備える、請求項１または２に記載の形状適応構造（１０）。
【請求項４】
前記導電性被覆（２４）が、微粒子金属スプレー被覆、スパッタリングした金属被覆、およびめっきした金属被覆のうち１つを備える、請求項１乃至３のいずれかに記載の形状適応構造（１０）。
【請求項５】
前記複数の重なり合う経路開口（２７）のそれぞれが、約２５〜５００マイクロメートルの幅を有する、請求項１乃至４のいずれかに記載の形状適応構造（１０）。
【請求項６】
前記複数の重なり合う経路開口（２７）がレーザ切断経路開口を備える、請求項１乃至５のいずれかに記載の形状適応構造（１０）。
【請求項７】
前記誘電体被覆（１８）と前記電気システム（１２）の前記表面との間に配置されたはんだ層（１７）をさらに備え、前記はんだ層（１７）が、貫通して形成された、前記誘電体被覆および導電性被覆（１８、２４）内の前記複数の重なり合う経路開口（２７）に重なり合う複数の経路開口（２７）を含む、請求項１乃至６のいずれかに記載の形状適応構造（１０）。
【請求項８】
前記電気システム（１２）が、プリント回路基板（ＰＣＢ）、フレックスＰＣＢ、リジッドフレックスＰＣＢ、およびモジュールのうち１つを備える、請求項１乃至７のいずれかに記載の形状適応構造（１０）。
【請求項９】
前記電気システム（１２）から前記分離型遮蔽領域（２６）のそれぞれまで延び、それにより前記分離型遮蔽領域（２６）を前記電気システム（１２）に電気的に接地するパッケージフィードスルー（２５）をさらに備える、請求項１乃至８のいずれかに記載の形状適応構造（１０）。
【請求項１０】
前記導電性被覆（２４）が、
第１の金属被覆であって、前記誘電体被覆（１８）上に層状に重ねられ、かつ前記第１の金属被覆と前記コンタクトパッド（２２）の間に電気接続が形成されるように前記複数の開口（２０）内に層状に重ねられた第１の金属被覆と、
前記第１の金属被覆上に層状に重ねられた第２の金属被覆と
を備える、請求項１乃至９のいずれかに記載の形状適応構造（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月17日(2013.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体（１６）の外側（１９）を規定する外面と、筐体（１６）の内側（１８）を規定する内面と、前記筐体（１６）の前記内面及び前記外面にそれぞれ対応する内面（４８）及び外面（５０）を有する少なくとも１つの壁（４４、４６）とを備える、炭素繊維強化構造で形成された筐体（１６）と、
前記筐体（１６）の前記内面に実装された電子回路基板（１４）を保持する少なくとも１つのカードレール（２０）と、
炭素繊維から形成され、前記少なくとも１つの壁（４４、４６）の前記外面（５０）から延出し、前記少なくとも１つの壁（４４、４６）を貫通し且つ前記カードレール（２０）と当接するタブ（６０）を有する少なくとも１つの放熱フィン（５８）と、
前記放熱フィン（５８）の内側から前記筐体の前記少なくとも１つの壁（４４、４６）を貫通して延出し、前記カードレール（２０）と当接する複数の等方性炭素繊維（５９）と、
を具備し、
前記複数の等方性炭素繊維（５９）は、前記タブ（６０）を貫通して延出し、前記カードレール（２０）から前記放熱フィン（５８）に至る直接熱伝導経路を形成する、
アビオニクス用シャーシアッセンブリ（１２）。
【請求項２】
前記少なくとも１つの放熱フィン（５８）は前記筐体（１６）に対して一体硬化される、請求項１に記載のアビオニクス用シャーシアッセンブリ（１２）。
【請求項３】
前記カードレール（２０）を前記少なくとも１つの壁（４４、４６）の前記内面（４８）に接続し且つ前記カードレール（２０）を前記等方性炭素繊維（５９）に熱伝導結合することにより前記熱伝導経路の一部を形成する熱伝導性マウント（６１）を更に具備する、請求項３に記載のアビオニクス用シャーシアッセンブリ（１２）。
【請求項４】
前記熱伝導性マウント（６１）は、前記カードレール（２０）と前記少なくとも１つの壁（４４、４６）の前記内面（４８）との間に配置され且つ前記熱伝導経路の一部を形成するために熱伝導性接着剤（６７）が配置される複数の隙間空間（６５）を規定する請求項３に記載のアビオニクス用シャーシアッセンブリ（１２）。
【請求項５】
前記少なくとも１つの壁（４４、４６）の外側から突出する少なくとも１つの他の放熱フィン（５８）を更に具備し、複数の等方性炭素繊維は前記少なくとも１つの他の放熱フィン（５８）から前記少なくとも１つの壁（４４、４６）を貫通しない、請求項１に記載のアビオニクス用シャーシアッセンブリ（１２）。
【請求項６】
前記少なくとも１つの壁（４４、４６）は、前記少なくとも１つのカードレール（２０）から前記少なくとも１つの他の放熱フィン（５８）へ熱を伝導する炭素複合材料から形成される請求項５に記載のアビオニクス用シャーシアッセンブリ（１２）。
【請求項７】
前記少なくとも１つの放熱フィン（５８）は前記カードレール（２０）と平行である請求項１に記載のアビオニクス用シャーシアッセンブリ（１２）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月31日(2013.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録対象となる映像データを入力する入力手段と、
前記入力手段により入力された映像データを記録するＳＳＤと、
映像データを記録するＨＤＤと、
前記ＨＤＤに関して温度を検出する温度検出手段と、
前記各手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、当該映像記録装置の電源がオンにされたときに、前記ＳＳＤの電源をオンとし、前記入力手段に入力された映像データを前記ＳＳＤに記録し、また、所定の時間間隔で、前記温度検出手段により検出される温度が前記ＨＤＤの動作を可能とする所定の範囲内であるか否かを判定し、前記温度検出手段により検出される温度が所定の範囲内であった場合に、前記ＨＤＤの電源がオフであれば電源をオンとし、所定のタイミングで前記ＳＳＤに記録された映像データを前記ＨＤＤへ転送記録する、ことを特徴とする映像記録装置。
【請求項２】
前記ＨＤＤに関して温度を調整する温度調整手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記温度検出手段により検出される温度が前記所定の範囲外である場合には、前記温度検出手段により検出される温度が前記所定の範囲内となるように前記温度調整手段により温度を調整することを特徴とする請求項１に記載される映像記録装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記ＳＳＤに記録された映像データと前記ＨＤＤに記録された映像データとの差分を判定し、前記ＨＤＤに欠如している映像データがある場合に、前記ＳＳＤから当該欠如している映像データを前記ＨＤＤへ送信することを特徴とする請求項１または請求項２に記載される映像記録装置。
【請求項４】
記録対象となる映像データを入力する入力手段と、
前記入力手段により入力された映像データを記録するＳＳＤと、
映像データを記録するＨＤＤと、
前記ＨＤＤに関して温度を検出する温度検出手段と、
前記各手段を制御する制御手段と、を備える映像記録装置において、
当該映像記録装置の電源がオンにされたときに、前記ＳＳＤの電源をオンとし、前記入力手段に入力された映像データを前記ＳＳＤに記録し、また、所定の時間間隔で、前記温度検出手段により検出される温度が前記ＨＤＤの動作を可能とする所定の範囲内であるか否かを判定し、前記温度検出手段により検出された温度が所定の範囲内であった場合に、前記ＨＤＤの電源がオフであれば電源をオンとし、所定のタイミングで前記ＳＳＤに記録された映像データを前記ＨＤＤへ転送記録する、ことを特徴とする映像記録方法。
【請求項５】
前記映像記録装置は前記ＨＤＤに関して温度を調整する温度調整手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記温度検出手段により検出される温度が前記所定の範囲外である場合には、前記温度検出手段により検出される温度が前記所定の範囲内となるように前記温度調整手段により温度を調整することを特徴とする請求項４に記載される映像記録方法。
【請求項６】
前記制御手段は、前記ＳＳＤに記録された映像データと前記ＨＤＤに記録された映像データとの差分を判定し、前記ＨＤＤに欠如している映像データがある場合に、前記ＳＳＤから当該欠如している映像データを前記ＨＤＤへ送信することを特徴とする請求項４または請求項５に記載される映像記録方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】映像記録装置および映像記録方法
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月12日(2013.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−５０１４０号公報
【特許文献２】特開２００５−１６９４４４号公報
【特許文献３】特開昭６３−１４５７９４号公報
【特許文献４】特開２００２−４２５４７号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
例えば、ステンレス鋼の表面の不動態皮膜を除去し、その部分に導電材料を固着させれば、オーミック接合が得られるとも考えられる。しかし、不動態皮膜は、傷などにより削れても空気中の酸素と接合して数秒程度で復元するため、上記のような方法を採用することは非常に困難である。尚、参考として、特許文献２には、絶縁皮膜で被覆された導体の接合部にレーザ光を照射することによって絶縁皮膜を剥離・除去した後、導体同士をレーザ溶接やろう付けにより接合する方法が示されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
例えば特許文献３には、ステンレス鋼にＮｉ等のメッキを施すことで、導電材料との間の通電性を高めたものが示されているが、メッキを施すことにより工数の増加や材料コストの増大を招く。特に、ＨＤＤ用磁気ヘッドサスペンションでは、通電性を確保するためにステンレス鋼に金メッキを施す場合があるが、金を用いることで材料コストが大幅に高騰する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、特許文献４には、ステンレス鋼の表層を改質することにより、導電材料との間の導電性を高めたものが示されているが、特許文献３の方法と同様に工数の増加や材料コストの増大を招くと共に、ステンレス鋼と導電材料との接合部の抵抗値が必ずしも安定してオーミック特性を示すとは言えない。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月25日(2012.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の時期の各々での行動実績に対して、評価対象となる人物が入力した自己評価の評価種別を教師データとして、前記複数の時期の各々における前記人物の行動実績を学習し、学習分類器を生成する生成手段と、
評価対象の時期における前記人物の行動実績を、前記生成手段により生成された学習分類器に基づいて評価する評価手段と、
を有する情報処理装置
【請求項２】
前記学習分類器は、前記人物の行動を評価する際の基準となる評価基準情報を示す、
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記評価種別を含む記録を、前記人物の属性を示す属性情報に関連付けて記憶する記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に、前記評価基準情報が記憶されていないときに、前記記憶手段に記憶されている前記評価情報を含む記録の数が予め定められた基準数以上か否かを判断する判断手段と、
を有し、
前記評価手段は、
前記判断手段により判断された数が、前記基準数以上の場合、前記各記録に含まれる評価種別を教師データとして、前記各記録に含まれる前記人物の行動実績を評価する、
請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記生成手段により生成された学習分類器が、複数の時期の各々での前記人物以外の他の人物の行動実績に対して
前記他の人物自身が入力した自己評価の評価種別を教師データとする当該複数の時期の各々での前記他の人物の行動
実績の学習結果、に基づく条件を満足する場合に、当該学習分類器を修正する修正手段をさらに含み、
前記評価手段は、
前記学習分類器が修正された場合、修正された前記学習分類器に基づいて、評価対象の時期での前記人物の行動実
績を評価すること、
を特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記生成手段は、
複数の状態の各々について、前記人物が当該状態にあった複数の時期の各々での前記人物の行動実績に対して入力
された自己評価の評価種別を教師データとして、当該複数の時期の各々での前記人物の行動実績を学習して学習分類
器を生成し、
前記評価手段は、
評価対象の時期での前記人物の行動実績を、前記複数の状態のうちの当該評価対象の時期での前記人物の状態、に
ついて生成された学習分類器に基づいて評価すること、
を特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記人物とは異なる他の人物により予め定められた操作が行われた場合に、前記生成手段により生成された前記学
習分類器を修正する修正手段をさらに含み、
前記評価手段は、
前記学習分類器が修正された場合、修正された前記学習分類器に基づいて、評価対象の時期での前記人物の行動実
績を評価し、
前記修正手段は、
前記他の人物の属性が予め定められた条件を満足する場合に、前記生成手段により生成された前記学習分類器を修
正すること、
を特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項７】
複数の時期の各々での人物の行動実績に対して前記人物自身が入力した自己評価の評価種別を教師データとして、
当該複数の時期の各々での前記人物の行動実績を学習し、学習分類器を生成する生成手段、
評価対象の時期での前記人物の行動実績を、前記生成手段により生成された学習分類器に基づいて評価する評価手
段、
としてコンピュータを機能させるプログラム。