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【手続補正書】
【提出日】平成25年5月2日(2013.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ベースの発光デバイス（ＬＥＤ）を形成する方法であって、
５Åの平均厚さと１０−３Ωｃｍ２未満であって０より大きい比接触抵抗率とを備える金属オーミックコンタクトのための金属層を設けるために、ある時間にわたってある速度でｐ型窒化物層および確認スライドガラスの上に金属を堆積することと、
前記金属層の厚さの表示を得るために、前記金属層の透過率、シート抵抗率、キャパシタンス、反射率、および／または共振周波数を測定することと、
前記金属層の厚さの前記表示が所定の表示閾値に等しいか、それより大きい場合には、金属の堆積を中止することと
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記金属を堆積することは、さらに、
前記確認スライドガラスの上の前記金属層の厚さの前記表示を監視することと、
前記金属層の厚さの前記表示が前記所定の表示閾値より小さい場合には、平均厚さを増すために、続く時間にわたっておよび／または続く速度で前記金属をさらに堆積することと
を備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記速度は、毎秒０．１Åから０．５Åを備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
３５０ｎｍの測定波長で９２％の透過率は、厚さが５Åの平均厚さを備えることを示し、
３５０ｎｍの測定波長で９４％から９６％の透過率は、厚さが３Åの平均厚さを備えることを示し、
３５０ｎｍの測定波長で９８％と１００％の間の透過率は、厚さが１Åの平均厚さを備えることを示すことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記金属を堆積することは、さらに、
前記金属層の厚さの前記表示が前記所定の表示閾値より小さい場合には、前記ｐ型窒化物層および前記確認スライドガラスから前記金属層を除去し、前記ｐ型窒化物層および前記確認スライドガラスの上に続く時間にわたっておよび／または続く速度で金属をさらに堆積することを備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記金属層の厚さの前記関連した表示が前記所定の表示閾値に等しいか、それより大きいように前記金属層が形成されるまで、続く除去後の金属の再堆積のための前記続く時間および／または続く速度を調整することをさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記金属を堆積することは、さらに、
前記金属層を設けるために、前記時間にわたって前記速度で前記確認スライドガラスの上に金属を堆積することと、
前記金属層の厚さの前記表示を監視することと、
前記金属層の厚さの前記表示が前記金属オーミックコンタクトの厚さ許容誤差の範囲内にある場合には、前記平均厚さを有する前記金属オーミックコンタクトを設けるために、前記時間にわたって前記速度で前記ｐ型窒化物層の上に金属を堆積することと、
前記金属層の厚さの前記表示が前記厚さ許容誤差の範囲内にない場合には、第２の金属層を設けるために、第２の時間にわたっておよび／または第２の速度で第２の確認スライドガラスの上に金属を堆積することと、
前記第２の金属層の厚さの表示を監視することと、
前記第２の金属層の厚さの前記表示が前記厚さ許容誤差の範囲内にある場合には、前記平均厚さを有する前記金属オーミックコンタクトを設けるために、前記第２の時間にわたっておよび／または前記第２の速度で前記ｐ型窒化物層の上に金属を堆積することと
を備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
第３の速度で第３の時間にわたって金属を堆積して、前記金属層を前記厚さ許容誤差の範囲内に形成するのに十分な時間を決定するために、形成された前記金属層の厚さを監視することを継続すること
をさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の裸のシリコンチップが搭載された回路基板のための熱散逸構造を作成する方法であって、
（ａ）  露出面を有する複数の裸のシリコンチップが搭載された回路板を設ける、
（ｂ）  内面および外面を有し、平坦な部分の内面が回路板の裸のシリコンチップを帯びる側に面するようにすべく回路板への取付のためにサイズおよび形状が設定された実質的に平坦な部分を有する熱分散体を設ける、
各ステップを含むことを特徴とする複数の裸のシリコンチップが搭載された回路基板のための熱散逸構造を作成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月31日(2013.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−０９６８９９号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の観点の音叉型水晶振動片は、パッケージの内部に収納されパッケージの内部の接続電極に接合される水晶振動片である。そして水晶振動片は、励振電極を有し所定方向に伸びた一対の振動腕と、一対の振動腕が連結された基部と、一対の振動腕の両外側で基部から所定方向に伸びる一対の支持腕と、一対の支持腕の先端領域から励振電極まで引き出された引出電極と、を備える。さらに励振電極は、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｗのうち少なくとも１つの第１の金属膜と第１の金属膜上に形成されたＡｕ又はＡｇのうち少なくとも１つの第２の金属膜との２層からなり、引出電極は、第２の金属膜上に形成されたＣｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｗのうち少なくとも１つの第３の金属膜と第３の金属膜上に形成されたＡｕ又はＡｇのうち少なくとも１つの第４の金属膜との４層からなる。
また、第２の金属膜の膜厚は４０ｎｍから６０ｎｍ（４００Åから６００Å）が望ましく、第４の金属膜の膜厚は６０ｎｍ（６００Å）以上であることが望ましい。
第２の観点の水晶デバイスは、第１の観点の音叉型水晶振動片をパッケージに収納する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
一対の支持腕２５には、励振電極３３，３４から引き出された引出電極３１，３２が形成される。基部２３にも引出電極３１，３２が形成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
ステップＳ１３４において、パッケージＰＫＧの縁部５７の上部に封止剤５４が塗布される。パッケージＰＫＧに蓋体５３が載置される。パッケージＰＫＧを載置した蓋体５３は、真空中又は不活性雰囲気中で、３５０°Ｃ程度に加熱され押圧されて接合される。その後、第１水晶デバイス１００は駆動特性などの検査を行うことで完成する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
パッケージの内部に収納され、前記パッケージの内部の接続電極に接合される水晶振動片であって、
励振電極を有し所定方向に伸びた一対の振動腕と、
前記一対の振動腕が連結された基部と、
前記一対の振動腕の両外側で前記基部から前記所定方向に伸びる一対の支持腕と、
前記一対の支持腕の先端領域から前記励振電極まで引き出された引出電極と、を備え、
前記励振電極は、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｗのうち少なくとも１つの第１の金属膜と前記第１の金属膜上に形成されたＡｕ又はＡｇのうち少なくとも１つの第２の金属膜との２層からなり、
前記引出電極は、前記第２の金属膜上に形成されたＣｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｗのうち少なくとも１つの第３の金属膜と前記第３の金属膜上に形成されたＡｕ又はＡｇのうち少なくとも１つの第４の金属膜との４層からなる音叉型水晶振動片。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の音叉型水晶振動片と、
前記パッケージに形成され前記励振電極と接続する外部電極と、
を備えることを特徴とする水晶デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月27日(2013.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
視差のある左眼画像と右眼画像を含む立体動画像の再生速度を検出する検出手段と、
前記検出手段で検出された再生速度が閾値よりも速い場合に、前記左眼画像と前記右眼画像の視差の最大値を小さくする調整手段と、
前記調整手段で視差が調整された左眼画像と右眼画像から立体動画像を生成し、出力する生成手段と、
を有することを特徴とする再生装置。
【請求項２】
前記調整手段は、前記検出手段で検出された速度が速いほど、前記左眼画像と前記右眼画像の視差の最大値を小さくする
ことを特徴とする請求項１に記載の再生装置。
【請求項３】
前記調整手段は、前記左眼画像と前記右眼画像の視差を位置によらず一律に同じ値だけ小さくする
ことを特徴とする請求項１または２に記載の再生装置。
【請求項４】
前記調整手段は、前記左眼画像と前記右眼画像の視差に前記検出手段で検出された再生速度を用いて決定された低下率を乗算することにより、調整後の視差を算出する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の再生装置。
【請求項５】
前記調整手段は、前記左眼画像を前記右眼画像に対し相対的に水平方向にシフトすることにより、前記左眼画像と前記右眼画像の視差を小さくする
ことを特徴とする請求項３に記載の再生装置。
【請求項６】
前記調整手段による調整前の前記左眼画像と前記右眼画像の視差の代表値を決定する決定手段を更に有し、
前記調整手段は、前記代表値が大きいほど前記閾値を小さくする
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の再生装置。
【請求項７】
前記調整手段による調整前の前記左眼画像と前記右眼画像の視差の代表値を決定する決定手段を更に有し、
前記調整手段は、調整後の視差の代表値が前記検出手段で検出された再生速度に応じて決定された許容値以下となるように低下率を設定する
ことを特徴とする請求項４に記載の再生装置。
【請求項８】
前記調整手段による調整前の前記左眼画像と前記右眼画像の視差の代表値を決定する決定手段を更に有し、
前記調整手段は、調整後の視差の代表値が前記検出手段で検出された再生速度に応じて決定された許容値以下となるようにシフト量を設定する
ことを特徴とする請求項５に記載の再生装置。
【請求項９】
前記調整手段で視差を調整することにより、前記左眼画像と前記右眼画像の少なくともいずれかが、前記立体動画像を表示する表示装置の表示領域から外れる場合に、前記左眼画像と前記右眼画像を、前記表示領域内に収まるように縮小する縮小手段を更に有する
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の再生装置。
【請求項１０】
視差のある左眼画像と右眼画像を含む立体動画像の再生速度を検出する検出ステップと、
前記検出された再生速度が閾値よりも速い場合に、前記左眼画像と前記右眼画像の視差の最大値を小さくする調整ステップと、
前記視差が調整された左眼画像と右眼画像から立体動画像を生成し、出力する生成ステップと、
を有することを特徴とする再生装置の制御方法。
【請求項１１】
前記調整ステップでは、前記検出ステップで検出された速度が速いほど、前記左眼画像と前記右眼画像の視差の最大値を小さくする
ことを特徴とする請求項１０に記載の再生装置の制御方法。
【請求項１２】
前記調整ステップでは、前記左眼画像と前記右眼画像の視差を位置によらず一律に同じ値だけ小さくする
ことを特徴とする請求項１０または１１に記載の再生装置の制御方法。
【請求項１３】
前記調整ステップでは、前記左眼画像と前記右眼画像の視差に前記検出ステップで検出された再生速度を用いて決定された低下率を乗算することにより、調整後の視差を算出する
ことを特徴とする請求項１０または１１に記載の再生装置の制御方法。
【請求項１４】
前記調整ステップでは、前記左眼画像を前記右眼画像に対し相対的に水平方向にシフトすることにより、前記左眼画像と前記右眼画像の視差を小さくする
ことを特徴とする請求項１２に記載の再生装置の制御方法。
【請求項１５】
前記調整ステップによる調整前の前記左眼画像と前記右眼画像の視差の代表値を決定する決定ステップを更に有し、
前記調整ステップでは、前記代表値が大きいほど前記閾値を小さくする
ことを特徴とする請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の再生装置の制御方法。
【請求項１６】
前記調整ステップによる調整前の前記左眼画像と前記右眼画像の視差の代表値を決定する決定ステップを更に有し、
前記調整ステップでは、調整後の視差の代表値が前記検出ステップで検出された再生速度に応じて決定された許容値以下となるように低下率を設定する
ことを特徴とする請求項１３に記載の再生装置の制御方法。
【請求項１７】
前記調整ステップによる調整前の前記左眼画像と前記右眼画像の視差の代表値を決定する決定ステップを更に有し、
前記調整ステップでは、調整後の視差の代表値が前記検出ステップで検出された再生速度に応じて決定された許容値以下となるようにシフト量を設定する
ことを特徴とする請求項１４に記載の再生装置の制御方法。
【請求項１８】
前記調整ステップで視差を調整することにより、前記左眼画像と前記右眼画像の少なくともいずれかが、前記立体動画像を表示する表示装置の表示領域から外れる場合に、前記左眼画像と前記右眼画像を、前記表示領域内に収まるように縮小する縮小ステップを更に有する
ことを特徴とする請求項１０〜１７のいずれか１項に記載の再生装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】再生装置及びその制御方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の再生装置は、視差のある左眼画像と右眼画像を含む立体動画像の再生速度を検出する検出手段と、前記検出手段で検出された再生速度が閾値よりも速い場合に、前記左眼画像と前記右眼画像の視差の最大値を小さくする調整手段と、前記調整手段で視差が調整された左眼画像と右眼画像から立体動画像を生成し、出力する生成手段と、を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の再生装置の制御方法は、視差のある左眼画像と右眼画像を含む立体動画像の再生速度を検出する検出ステップと、前記検出された再生速度が閾値よりも速い場合に、前記左眼画像と前記右眼画像の視差の最大値を小さくする調整ステップと、前記視差が調整された左眼画像と右眼画像から立体動画像を生成し、出力する生成ステップと、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月30日(2013.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記請求項１０記載の画像符号化方法であって、
エッジ部量子化幅算出ステップは、前記グループ内の前記差分値の最大値と最小値との差に対応する複数の前記第３量子化幅の中から、量子化幅を選択する
ことを特徴とする画像符号化方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月2日(2013.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光源に対応した第１のホワイトバランス補正値を用いて撮像手段により形成された画像データを補正して第１の補正画像データを生成するとともに、第２の光源に対応した第２のホワイトバランス補正値を用いて前記撮像手段により形成された画像データを補正して第２の補正画像データを生成する補正手段と、
前記画像データの複数の領域ごとに色評価値を算出する色評価値算出手段と、
前記色評価値に基づいて前記第１の補正画像データと前記第２の補正画像データとを合成する合成手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記画像データから前記第１の光源に対応した第１のホワイトバランス補正値を決定する第１の決定手段と、
前記画像データから前記第２の光源に対応した第２のホワイトバランス補正値を決定する第２の決定手段とをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記第１の決定手段は、黒体放射軸を用いたホワイトバランス制御に基づいて前記第１のホワイトバランス補正値を決定することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第２の決定手段は、光源ごとに予め決められた値を用いて前記第２のホワイトバランス補正値を決定することを特徴とする請求項２又は３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記合成手段は、前記画像データの光源を判別できない場合は、前記合成手段による合成を行わないようにすることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記合成手段は、補間処理により画素ごとの合成比率を算出することを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記色評価値算出手段は、飽和画素が存在する場合には、前記飽和画素の画素値とその画素に対応する別色の画素の画素値とを色平均値の算出に含めないようにすることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記第２の決定手段は、光源に対して色味を残すように前記第２のホワイトバランス補正値を決定することを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記合成手段は、前記第１の補正画像データ及び前記第２の補正画像データの色成分を合成することを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記補正手段は、第３の光源に対応した第３のホワイトバランス補正値を用いて前記画像データを補正して第３の補正画像データを生成し、
前記合成手段は、前記第１の画像データと、前記第２の画像データと、前記第３の画像データとを合成することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記第２の決定手段は、前記画像データから前記第２の光源及び第３の光源に対応した第２のホワイトバランス補正値及び第３のホワイトバランス補正値を決定することを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記色評価値算出手段は、前記画像データの複数の領域ごとに画素値を加算することによって前記色評価値を算出することを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記合成手段は、前記画像データの複数の領域ごとの前記色評価値と前記第２の光源の白の色評価値との差分に基づいて合成比率を算出し、前記合成比率により前記第１の補正画像データと前記第２の補正画像データとを合成することを特徴とする請求項１〜１２の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
第１の光源に対応した第１のホワイトバランス補正値を用いて撮像手段により形成された画像データを補正して第１の補正画像データを生成するとともに、第２の光源に対応した第２のホワイトバランス補正値を用いて前記撮像手段により形成された画像データを補正して第２の補正画像データを生成する補正工程と、
前記画像データの複数の領域ごとに色評価値を算出する色評価値算出工程と、
前記色評価値に基づいて前記第１の補正画像データと第２の補正画像データとを合成する合成工程とを有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１５】
前記画像データから前記第１の光源に対応した第１のホワイトバランス補正値を決定する第１の決定工程と、
前記画像データから前記第２の光源に対応した第２のホワイトバランス補正値を決定する第２の決定工程とをさらに有することを特徴とする請求項１４に記載の画像処理方法。
【請求項１６】
請求項１４又は１５に記載の画像処理方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、画像処理方法及び記憶媒体
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ホワイトバランス補正を行うために用いて好適な画像処理装置、画像処理方法及び記憶媒体に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の画像処理装置は、第１の光源に対応した第１のホワイトバランス補正値を用いて撮像手段により形成された画像データを補正して第１の補正画像データを生成するとともに、第２の光源に対応した第２のホワイトバランス補正値を用いて前記撮像手段により形成された画像データを補正して第２の補正画像データを生成する補正手段と、前記画像データの複数の領域ごとに色評価値を算出する色評価値算出手段と、前記色評価値に基づいて前記第１の補正画像データと前記第２の補正画像データとを合成する合成手段とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月13日(2013.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【図１】音漏れの発生とその低減について説明する図である。
【図２】音漏れの発生とその低減について説明する図である。
【図３】音漏れの発生とその低減について説明する図である。
【図４】音漏れの発生とその低減について説明する図である。
【図５】本発明を適用した音声再生装置の一実施の形態の構成例を示す図である。
【図６】音声再生処理を説明するフローチャートである。
【図７】音声再生装置の他の構成例を示す図である。
【図８】音声再生処理を説明するフローチャートである。
【図９】音声再生装置の他の構成例を示す図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
つまり、バッファ３７Ｒと連結点ＺＲとの間に、増幅器９１Ｌに対応する増幅器９１Ｒを設ければよい。この増幅器９１Ｒは、バッファ３７Ｒから供給された右チャネルの音声信号に予め定められた係数１／Ｎを乗算して、その結果得られた信号を連結点ＺＲに出力する。これにより連結点ＺＲでは、A/D変換部４１Ｒからフィルタ処理部４２Ｒに供給される信号に、増幅器９１Ｒからの信号が加算されることになる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月18日(2013.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ファームウェアにより動作する情報処理装置であって、
前記ファームウェアの動作中のログを記憶する第１の記憶手段と、
予め設定された事象の発生に対応して、前記第１の記憶手段に記憶されているログを第２の記憶手段に退避させる退避手段と、
操作者により設定された文字列を読み込む読込手段と、
前記退避手段により前記第２の記憶手段に退避されたログに、前記操作者により設定された文字列が含まれるか否かを検査するログ検査手段と、
前記ログ検査手段による検査結果を前記操作者に通知する通知手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記第１の記憶手段は、前記情報処理装置のメインメモリの一部領域に設けられたリングバッファであることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記退避手段により前記第１の記憶手段から前記第２の記憶手段にログの退避が行われた場合、その旨を前記情報処理装置の操作者に通知する通知手段を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記第２の記憶手段に退避したログを前記情報処理装置と通信可能な外部装置に転送する転送手段を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記外部装置は、前記情報処理装置に着脱可能に接続される記憶装置であることを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記外部装置は、ネットワークを介して前記情報処理装置と通信可能な装置であることを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記情報処理装置は、ファームウェアの動作により制御される複数の機能を有するものであり、
前記予め設定された事象を設定するための設定手段を有し、
前記設定手段は、前記予め設定された事象を前記機能ごとにそれぞれ設定することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記情報処理装置の操作者による前記いずれの機能についてログを退避させるかの選択、及び、予め用意されている複数のモードのいずれのモードでログを退避させるかの選択を受け付ける受付手段と、
前記機能ごと及び前記モードごとに、前記予め設定された事象を含むログ設定情報を記憶するログ設定情報記憶手段と、を有し、
前記設定手段は、前記受付手段で受け付けた前記機能の選択及び前記モードの選択に対応するログ設定情報を前記ログ設定情報記憶手段から読み出して、前記予め設定された事象を設定することを特徴とする請求項７に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記設定手段は、前記ログ設定情報を前記ログ設定情報記憶手段又は外部装置から読み出すことを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記読込手段は、ＵＳＢメモリから前記文字列を読み込むことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
ファームウェアにより動作する情報処理装置の制御方法であって、
退避手段が、予め設定された事象の発生に対応して、第１の記憶手段に記憶されている前記ファームウェアの動作中のログを第２の記憶手段に退避させる退避ステップと、
読込手段が、操作者により設定された文字列を読み込む読込ステップと、
ログ検査手段が、前記退避手段により前記第２の記憶手段に退避されたログに、前記操作者により設定された文字列が含まれるか否かを検査するログ検査ステップと、
通知手段が、前記ログ検査ステップによる検査結果を前記操作者に通知する通知ステップと、
を有することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１２】
ファームウェアにより動作する情報処理装置を、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載された情報処理装置の手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、ファームウェアにより動作する情報処理装置であって、前記ファームウェアの動作中のログを記憶する第１の記憶手段と、予め設定された事象の発生に対応して、前記第１の記憶手段に記憶されているログを第２の記憶手段に退避させる退避手段と、操作者により設定された文字列を読み込む読込手段と、前記退避手段により前記第２の記憶手段に退避されたログに、前記操作者により設定された文字列が含まれるか否かを検査するログ検査手段と、前記ログ検査手段による検査結果を前記操作者に通知する通知手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月2日(2013.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像装置およびシステム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を撮像して画像データを生成する撮像部を有し、３次元画像を表示可能な外部機器と所定の通信規格にしたがって通信可能な撮像装置であって、
２つの画像に基づく３次元画像を表示可能な表示部と、
前記２つの画像の少なくとも一方を用いることによって前記表示部が表示する表示用画像を生成する表示用画像生成部と、
前記２つの画像を用いることによって前記外部機器で表示させるために送信する送信用画像を生成する送信用画像生成部と、
前記送信用画像生成部が生成した送信用画像を前記外部機器へ送信する通信部と、
を備えたことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記表示用画像生成部は、
前記通信部が前記送信用画像を送信するか否かに応じて異なる表示用画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記表示用画像生成部は、
前記通信部が前記送信用画像を送信する場合、表示用画像として、前記２つの画像を重ねた合成画像を生成することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
被写体を撮像して２つの画像データを生成する撮像部と、
３次元画像を第１表示形式で表示可能な第１表示部と、
３次元画像を第２表示形式で表示可能な第２表示部と、
前記２つの画像データに基づき前記第１および第２表示部にそれぞれ表示させる画像データを生成する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記第２表示部に前記３次元画像を表示させる際に、前記第１表示部に前記２つの画像データの合成画像および前記２つの画像データのいずれか一方の画像データに対応する画像を表示させる
ことを特徴とするシステム。
【請求項５】
通信部をさらに備え、
前記制御部は、前記通信部を介して前記第２表示部と通信可能に接続される
ことを特徴とする請求項４に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月16日(2013.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空処理室と、前記真空処理室を排気する排気手段と、前記真空処理室内の圧力を制御するためのゲート式のバルブと、前記真空処理室内に配置され、被処理基板を載置する載置用電極とを備える真空処理装置において、
前記排気手段は、前記載置用電極の下方に配置され、前記真空処理室を同軸排気し、
前記真空処理室は、円筒型のチャンバ上部と円筒型のチャンバ下部が嵌合したチャンバを具備し、
前記バルブは、前記チャンバにより同軸排気する前記真空処理室の軸を中心に左右に開閉可能なゲートバルブを具備していることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空処理装置において、
前記チャンバを軸方向に移動可能なチャンバ上下装置を備え、
前記チャンバ上部と前記チャンバ下部は、Ｏリングの複数のシール部を介して前記真空処理室の軸方向に嵌合されていることを特徴とする真空処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の真空処理装置において、
前記バルブは、メンテナンス用のカバーを具備していることを特徴とする真空処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の真空処理装置において、
前記カバーは、前記バルブに設けられ一部取り外し可能な第一のカバーと、前記ゲートバルブの表面に設けられた交換可能な第二のカバーとを具備していることを特徴とする真空処理装置。
【請求項５】
請求項１に記載の真空処理装置において、
前記ゲートバルブは、複数枚のゲートが連結して構成され、
前記ゲートバルブが１００％開いている時は、前記ゲートが縦方向に重なり合って収納部に格納され、前記ゲートバルブが閉じている時は、最上部のゲートの移動を制御して前記ゲートバルブの開口部を閉鎖することを特徴とする真空処理装置。
【請求項６】
請求項１に記載の真空処理装置において、
前記ゲートバルブは、ヒータを具備していることを特徴とする真空処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の真空処理装置において、
前記真空処理室がプラズマ処理室であることを特徴とする真空処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の真空処理装置において、
前記プラズマ処理室は、ＬＣＤのエッチングまたはＣＶＤ処理が行われることを特徴とする真空処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記目的を達成するために、本発明の真空処理装置は、真空処理室と、前記真空処理室を排気する排気手段と、前記真空処理室内の圧力を制御するためのゲート式のバルブと、前記真空処理室内に配置され、被処理基板を載置する載置用電極とを備える真空処理装置において、前記排気手段は、前記載置用電極の下方に配置され、前記真空処理室を同軸排気し、前記真空処理室は、円筒型のチャンバ上部と円筒型のチャンバ下部が嵌合したチャンバを具備し、前記バルブは、前記チャンバにより同軸排気する前記真空処理室の軸を中心に左右に開閉可能なゲートバルブを具備していることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の真空処理装置は、更に、チャンバを軸方向に移動可能なチャンバ上下装置を備え、前記チャンバ上部と前記チャンバ下部は、Ｏリングの複数のシール部を介して前記真空処理室の軸方向に嵌合されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明の真空処理装置のバルブは、メンテナンス用のカバーを具備していることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明の真空処理装置のカバーは、バルブに設けられ一部取り外し可能な第一のカバーと、ゲートバルブの表面に設けられた交換可能な第二のカバーとを具備していることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の真空処理装置のゲートバルブは、複数枚のゲートが連結して構成され、前記ゲートバルブが１００％開いている時は、前記ゲートが縦方向に重なり合って収納部に格納され、前記ゲートバルブが閉じている時は、最上部のゲートの移動を制御して前記ゲートバルブの開口部を閉鎖することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明の真空処理装置のゲートバルブは、ヒータを具備していることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、本発明の真空処理装置は、真空処理室がプラズマ処理室であることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の真空処理装置は、プラズマ処理室が、ＬＣＤのエッチングまたはＣＶＤ処理が行われることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月12日(2013.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
なお、強磁性体層の膜厚は、読み出し時のノイズや磁気特性を考慮すると、２ｎｍ以上であることが望ましい。また、強磁性体の磁化方向を一方向に強く固定する目的で、ＭｎＩｒ、ＭｎＰｔ、ＭｎＲｈ等の反強磁性体層を強磁性体上に設置することも好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月29日(2013.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン含有膜及び金属含有膜を有する基板を処理する処理室と、
前記基板を加熱する加熱部と、
前記処理室内に水素含有ガス、酸素含有ガス、希ガスを供給するガス供給部と、
前記処理室内にプラズマ放電を生じさせるプラズマ生成部と、
前記ガス供給部、前記プラズマ生成部及び前記加熱部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記処理室内に搬入された前記基板を第１の温度に加熱させつつ、前記処理室内に前記水素含有ガス及び前記酸素含有ガスを供給させた状態でプラズマ放電させて所定時間維持させた後、
前記基板を前記第１の温度よりも高い第２の温度に加熱させつつ、前記処理室内に前記希ガスを供給させて前記処理室内を前記希ガスの雰囲気に所定時間維持させるよう制御する基板処理装置。
【請求項２】
前記処理室内の雰囲気を排気する排気部を有し、
前記制御部は、
前記水素含有ガス及び前記酸素含有ガスの供給とプラズマ放電とを停止させた後、前記処理室内の雰囲気を排気させてから前記処理室内に前記希ガスを供給させるように、前記ガス供給部及び前記排気部を制御する請求項１記載の基板処理装置
【請求項３】
シリコン含有膜及び金属含有膜を有する基板を処理室内に搬入する工程と、
前記基板を第１の温度に加熱しつつ、前記処理室内に水素含有ガス及び酸素含有ガスを
供給した状態でプラズマ放電して所定時間維持する工程と、
前記基板を前記第１の温度よりも高い第２の温度に加熱しつつ、前記処理室内に希ガス
を供給して前記処理室内を前記希ガスの雰囲気に所定時間維持する工程と、
処理済みの前記基板を前記処理室内から搬出する工程と、を有する
半導体装置の製造方法。
【請求項４】
シリコン含有膜及び金属含有膜を有する基板を処理する処理室と、
前記基板を加熱する加熱部と、
前記処理室内に水素含有ガス及び酸素含有ガスを供給するガス供給部と、
前記処理室内の雰囲気を排気する排気部と、
前記処理室内にプラズマ放電を生じさせるプラズマ生成部と、
前記ガス供給部、前記排気部、前記プラズマ生成部及び前記加熱部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記処理室内に搬入された前記基板を第１の温度に加熱させつつ、前記処理室内に前記水素含有ガス及び前記酸素含有ガスを供給させた状態でプラズマ放電させて所定時間維持させた後、
前記基板を前記第１の温度よりも高い第２の温度に加熱させつつ、前記処理室内を減圧状態で所定時間維持させるよう制御する
基板処理装置。
【請求項５】
シリコン含有膜及び金属含有膜を有する基板を処理室内に搬入する工程と、
前記基板を第１の温度に加熱しつつ、前記処理室内に水素含有ガス及び酸素含有ガスを
供給した状態でプラズマ放電して所定時間維持する工程と、
前記基板を前記第１の温度よりも高い第２の温度に加熱しつつ、前記処理室内を減圧状
態で所定時間維持する工程と、
処理済みの前記基板を前記処理室内から搬出する工程と、を有する
半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月4日(2013.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに位置合わせされて重ね合された複数の基板を貼り合わせる基板貼り合わせ装置であって、
前記複数の基板を間に挟んで配置される第１ステージおよび第２ステージと、
前記複数の基板を加圧すべく前記第１ステージおよび前記第２ステージを相対移動させる駆動部と、
前記駆動部の駆動により前記複数の基板を加圧したときに、前記第１ステージ、前記第２ステージおよび前記複数の基板をそれぞれ平行にさせるべく前記第１ステージおよび前記第２ステージのすくなくとも一方を傾斜させるために変形する変形部と、
を備える基板貼り合わせ装置。
【請求項２】
前記駆動部は、前記第１ステージを前記第２ステージに向けて移動させ、
前記変形部は、前記第１ステージに連結され、前記第１ステージが前記第２ステージに向けて移動するのを案内する案内軸を有し、
前記案内軸は、前記加圧時に撓む請求項１に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項３】
前記駆動部は、ピストンおよびシリンダを有し、前記案内軸は前記ピストンから前記第１ステージに前記駆動部の力を伝達する請求項２に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項４】
前記案内軸を摺動可能に支持する支持部を備え、
前記支持部は、前記第１ステージが前記第２ステージから離間している場合に前記案内軸における前記第１ステージに近い側の部分を支持し、前記第１ステージが前記第２ステージとの間で前記複数の基板を加圧している場合に前記案内軸における前記第１ステージから遠い側の部分を支持する請求項２または３に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項５】
前記複数の基板を位置合わせする位置合わせ部と、
前記位置合わせ部によって位置合わせされた前記複数の基板を搬送する搬送部と、
前記搬送部によって搬送された前記複数の基板を加圧して貼り合わせる加圧部と、
を備え、
前記加圧部は、前記第１ステージ、前記第２ステージ、前記駆動部および前記変形部を有する請求項１から４のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項６】
互いに位置合わせされて重ね合された複数の基板を貼り合わせる基板貼り合わせ方法であって、
第１ステージおよび第２ステージの間に前記複数の基板を配置する配置ステップと、
前記第１ステージおよび前記第２ステージを相対移動させて前記複数の基板を加圧する加圧ステップと、
を有し、
前記加圧ステップは、前記第１ステージ、前記第２ステージおよび前記複数の基板をそれぞれ平行にさせるべく前記第１ステージおよび前記第２ステージのすくなくとも一方を傾斜させるために変形部を変形させる基板貼り合わせ方法。
【請求項７】
前記加圧ステップは、前記第１ステージを前記第２ステージに向けて移動させ、前記第１ステージの移動を案内する案内軸を撓ませる請求項６に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項８】
複数の基板を位置合わせする段階と、
位置合わせされた前記複数の基板を当接板に当接させて駆動部によって押圧して接合する接合段階と、
接合された前記複数の基板を半導体装置に個片化する個片化段階と、
を有し、
前記接合段階では、
前記当接板に連結され、前記当接板と前記複数の基板とを互いに平行にさせるべく前記当接板を傾斜させるために変形部を変形させる積層半導体装置の製造方法。
【請求項９】
互いに位置合わせされて重ね合された複数の基板を貼り合わせる基板貼り合わせ装置であって、
第１ステージと、
前記１ステージに向かい合って配置される第２ステージと、
前記複数の基板を加圧すべく前記第１ステージおよび前記第２ステージをそれらが互いに近接する方向に相対移動させる駆動部と、
前記駆動部の駆動により前記複数の基板を加圧したときに、前記第１ステージが前記第２ステージに倣って傾斜することを許容すべく変形する変形部とを備える基板貼り合わせ装置。
【請求項１０】
押圧すべき対象物に当接する当接板と、
前記当接板を前記対象物へ向けて押圧する駆動力を発生する駆動部と、
前記当接板に連結され、前記当接板が前記対象物を押圧したときに前記当接板が前記対象物に倣って傾斜することを許容すべく変形する変形部とを備える押圧装置。
【請求項１１】
前記変形部は、前記当接板に連結され、前記当接板が前記対象物の方向へ移動するのを案内すると共に、前記当接板が前記対象物を押圧する場合に撓む案内軸である請求項１０に記載の押圧装置。
【請求項１２】
前記駆動部は、ピストンおよびシリンダを有し、前記案内軸は前記ピストンから前記当接板に前記駆動部の力を伝達する請求項１１に記載の押圧装置。
【請求項１３】
前記案内軸を摺動可能に支持する支持部をさらに備え、
前記支持部は、前記当接板が前記対象物を押圧していない場合に前記案内軸における前記当接板から近い側を支持すると共に、前記当接板が前記対象物を押圧している場合に前記案内軸における前記当接板から遠い側を支持する請求項１１または１２に記載の押圧装置。
【請求項１４】
一対の対象物を位置合わせする段階と、
位置合わせされた前記一対の対象物を当接板に当接させて駆動部によって押圧して前記一対の対象物を接合する段階とを備える貼り合わせ方法であって、
前記接合する段階では、
前記当接板が前記一対の対象物を押圧したときに前記当接板が前記一対の対象物に倣って傾斜することを許容すべく変形部を変形する貼り合わせ方法。
【請求項１５】
一対の基板を位置合わせする段階と、
位置合わせされた前記一対の基板を当接板に当接させて駆動部によって押圧して接合する段階と、
接合された前記一対の基板を半導体装置に個片化する段階とを備える積層半導体装置の製造方法であって、
前記接合する段階では、
前記当接板が前記一対の基板を押圧したときに前記当接板が前記一対の基板に倣って傾斜することを許容すべく変形部を変形する積層半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板貼り合わせ装置、押圧装置、貼り合わせ方法、及び、積層半導体装置の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月28日(2013.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被照射面を照射する発光装置であって、
前記発光装置は、
帯状の基板と、
前記基板の長手方向に沿って所定の間隔で前記基板の実装面に実装される複数の発光素子と、
前記長手方向に沿って前記所定の間隔で前記実装面に実装され、各々の前記発光素子から出射される光を各々入射するとともに、入射した光の配光を制御して入射した光を照射方向に向けて出射する複数の光束制御部材と、
を有し、
前記基板は、
前記長手方向に沿って所定の間隔で形成されるとともに前記長手方向において隣り合う前記光束制御部材の間で幅方向の両端に一対ずつ形成された破断面を有し、
前記一対の破断面間の前記幅方向における寸法が前記光束制御部材の前記幅方向の寸法より小さいとともに、平面視した際に前記光束制御部材と重なり合う部分の前記幅方向の寸法が、前記一対の破断面間の前記幅方向における寸法よりも小さい発光装置。
【請求項２】
請求項１記載の発光装置と、
前記発光装置の前記光束制御部材より出射された光により照射される被照射面と、
を有する照明装置。
【請求項３】
複数に分離することにより発光素子及び光束制御部材を実装する複数の帯状の基板が形成される多面取り用基板であって、
前記発光素子及び前記光束制御部材を実装する実装面と、
前記分離の境となる各分離線上に所定の間隔で設けられるとともに厚み方向に貫通する貫通孔と、
前記分離線の各々において隣り合う前記貫通孔の間の前記分離線上に設けられ、前記多面取り用基板の表面である前記実装面及び裏面の少なくとも一方から所定の深さまでの溝である切断ガイド部と、
を有し、
前記貫通孔は、前記分離線に対して垂直な線上に所定の間隔で設けられ、
前記実装面は、前記垂直な線上において隣り合う前記貫通孔により挟まれる領域において、平面視した際に前記貫通孔の全部または一部と重なり合うように前記光束制御部材が実装される多面取り用基板。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月18日(2012.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気タービン（１００）であって、
作動用蒸気流を導入及び排出するための蒸気入口（１２２）及び排気口（１２４）を含むケーシング（１２０）であって、蒸気タービン（１００）の作動構造を囲繞するケーシング（１２０）と、
前記ケーシング（１２０）の排気口（１２４）から出る作動用蒸気流のエンタルピー条件に影響を与えるため蒸気タービン（１００）の所定の位置（１５０）での制御用蒸気流（１０４）の導入を制御する弁（１０２）と、
前記ケーシング（１２０）の排気口（１２４）から出る作動用蒸気流の所望のエンタルピー条件を達成するため弁（１０２）の作動を制御する制御装置（１０６）と
を備える蒸気タービン（１００）。
【請求項２】
前記位置（１５０）が排気口（１２４）に位置する、請求項１記載の蒸気タービン（１００）。
【請求項３】
前記位置（１５０）がケーシング（１２０）に沿った地点に位置する、請求項１記載の蒸気タービン（１００）。
【請求項４】
前記ケーシング（１２０）から蒸気を抽出する１以上の抽出点（１２８）をさらに含む、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の蒸気タービン（１００）。
【請求項５】
前記制御用蒸気流（１０４）が１以上の抽出点（１２８）から導かれる、請求項４記載の蒸気タービン（１００）。
【請求項６】
前記制御装置（１０６）が蒸気タービン（１００）の制御装置（１０８）の一部である、請求項１記載の蒸気タービン（１００）。
【請求項７】
前記ケーシング（１２０）の排気口（１２４）から出る作動用蒸気流を工業用途（１３０，１４０）に供給するための導管をさらに含む、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の蒸気タービン（１００）。
【請求項８】
排気口（１２４）の下流の絞り弁（１６０）（１０２）をさらに含む、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の蒸気タービン（１００）。
【請求項９】
作動用蒸気流を導入及び排出するための蒸気入口（１２２）及び排気口（１２４）を含むケーシング（１２０）であって、蒸気タービン（１００）の作動構造を囲繞するケーシング（１２０）を備える蒸気タービン（１００）を準備する段階と、
前記ケーシング（１２０）の排気口（１２４）から出る作動用蒸気流の所望のエンタルピー条件を達成するため排気口（１２４）から出る作動用蒸気流のエンタルピー条件に影響を与える蒸気タービン（１００）の所定の位置（１５０）での制御用蒸気流（１０４）の導入を制御する弁（１０２）の作動を制御する段階と
を含む方法。
【請求項１０】
前記位置（１５０）が排気口（１２４）に位置する、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記位置（１５０）がケーシング（１２０）に沿った地点に位置する、請求項９記載の方法。
【請求項１２】
前記ケーシング（１２０）の１以上の抽出点（１２８）から蒸気を抽出する段階をさらに含む、請求項９乃至請求項１１のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
前記制御用蒸気流（１０４）が１以上の抽出点（１２８）から導かれる、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記制御が蒸気タービン（１００）の制御装置（１０６）によって実施される、請求項９乃至請求項１３のいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
前記ケーシング（１２０）の排気口（１２４）から出る作動用蒸気流を工業用途（１３０，１４０）に送給する段階をさらに含む、請求項９乃至請求項１４のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月20日(2012.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低英国熱量単位（ＢＴＵ）燃料（６６）の第１の発熱量を決定する（９０）ステップと、
タービン・システム（１２）の起動条件に基づいて、第１のターゲットＢＴＵレベルを決定するステップと、
タービン・システム（１２）の定常状態条件に基づいて第２のターゲットＢＴＵレベルを決定する（９２）ステップと、
高ＢＴＵ燃料（７０）の第２の発熱量を制御する（９４）ステップと、
タービン・システム（１２）の起動条件の間に、第１のターゲットＢＴＵレベルに基づいて第１の混合燃料を生成するために、高ＢＴＵ燃料（７０）と低ＢＴＵ燃料（６６）の混合を制御するステップと、
タービン・システム（１２）の定常状態条件の間に、第２のターゲットＢＴＵレベルに基づいて第２の混合燃料を生成するために、高ＢＴＵ燃料（７０）と低ＢＴＵ燃料（６６）の混合を制御するステップと、
を含み、
第１および第２の混合燃料は、起動条件および定常状態条件の間、前記低ＢＴＵ燃料を有する、
方法。
【請求項２】
低ＢＴＵ燃料（６６）は低ＢＴＵガス燃料であり、高ＢＴＵ燃料（７０）は高ＢＴＵ液体燃料である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
起動条件および定常状態条件の間、タービン・システムの燃焼器の上流の混合室で高ＢＴＵ燃料（７０）と低ＢＴＵ燃料（６６）との混合する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
低ＢＴＵ燃料（６６）は低ＢＴＵガス燃料であり、高ＢＴＵ燃料（７０）は高ＢＴＵ液体燃料であり、
混合を制御するステップが、混合室で高ＢＴＵ燃料を噴射または気化して混合するステップを含む、
請求項３に記載の方法。
【請求項５】
タービン・システムの動作パラメータをモニタするステップと、
タービン・システムの動作に関連する履歴データにアクセスするステップと、
ターゲットＢＴＵレベルを決定し、高ＢＴＵ燃料と低ＢＴＵ燃料の混合を制御するために、前記動作パラメータと前記履歴データを評価するステップと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
高炉ガス（ＢＦＧ）、コーク炉ガス（ＣＯＧ）、および合成ガスのうちの少なくとも１つの供給源から低ＢＴＵ燃料を受け取るステップと、
混合燃料の生成のために、高炉ガス（ＢＦＧ）、コーク炉ガス（ＣＯＧ）、または合成ガスを、タービン・システムのタービン燃焼器の上流の混合室で、高ＢＴＵ燃料と混合するステップと、
タービン燃焼器で混合燃料を燃焼するステップと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
混合室（７２）を備えるタービン・システムであって、
混合室（７２）は、
低ＢＴＵ燃料（６６）を受け取るように構成された低英国熱量単位（ＢＴＵ）燃料入口と、
高ＢＴＵ燃料（７０）を受け取るように構成された高ＢＴＵ燃料入口と、
混合燃料（７４）を燃料ノズル（７６）へ送るように構成された燃料出口と、
タービン・システム（１２）の起動条件の間、第１の混合燃料を生成するために、高ＢＴＵ燃料（７０）と低ＢＴＵ燃料（６６）の混合を制御し、かつタービン・システム（１２）の定常状態条件の間、第２の混合燃料を生成するために、高ＢＴＵ燃料（７０）と低ＢＴＵ燃料（６６）の混合を制御し、起動条件および定常状態条件の間、低ＢＴＵ燃料が第１および第２の混合燃料の一部をなすような命令を有する記録媒体と、
を備え、
混合室（７２）は、低ＢＴＵ燃料（６６）および高ＢＴＵ燃料（７０）を混合して混合燃料（７４）を生成するように構成され、低ＢＴＵ燃料（６６）および高ＢＴＵ燃料（７０）間の比率によって混合燃料（７４）の発熱量を制御する、
タービン・システム。
【請求項８】
タービン・システム（１２）の動作パラメータ（８３）に基づいて、発熱量を変えるために、低および高ＢＴＵ燃料（６６、７０）間の比率を調整する命令を有する制御器（８６）を備える請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
動作パラメータ（８３）は、タービン・システム（１２）の起動条件、定常状態条件、負荷量、またはそれらの組み合わせを含む請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
制御器（８６）は、定常状態条件、低負荷条件、またはそれらの組み合わせの間は混合燃料（７４）内の高ＢＴＵ燃料（７０）の量を減らすような命令を有し、
制御器（８６）は、起動条件、非定常状態条件、高負荷条件、またはそれらの組み合わせの間は混合燃料（７４）内の高ＢＴＵ燃料（７０）の量を増加させるような命令を有する、
請求項８に記載のシステム。