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【手続補正書】
【提出日】平成25年9月5日(2013.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
液滴の吐出を行う複数のノズルを有する記録ヘッドと、
前記複数のノズルのうちの吐出異常を示す吐出異常ノズルを検出する異常ノズル検出手
段と、
前記吐出異常ノズルに起因する画像のムラの補正に用いられる補正値を記憶する記憶手段と、
前記異常ノズル検出手段で検出された前記吐出異常ノズルから吐出される前記液滴の滴
量を、前記吐出異常ノズル以外の他の正常ノズルから吐出される前記液滴の滴量よりも小
さい所定の上限値以下に制限する滴量制限手段と、
前記記憶手段に記憶された前記補正値に基づき、前記正常ノズルから吐出される前記液
滴の滴量を補正する滴量補正手段と、
前記記録ヘッドと記録媒体とを相対移動させながら、前記記録ヘッドの前記吐出異常ノ
ズル及び前記正常ノズルからそれぞれ吐出された液滴を前記記録媒体上に付着させること
により、前記記録媒体上に画像を記録する画像記録手段と、
を備えるインクジェット記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
液滴の吐出を行う複数のノズルを有する記録ヘッドから吐出異常を示す吐出異常ノズル
を検出する異常ノズル検出ステップと、
前記異常ノズル検出ステップで検出された前記吐出異常ノズルから吐出される前記液滴
の滴量を、前記吐出異常ノズル以外の他の正常ノズルから吐出される前記液滴の滴量より
も小さい所定の上限値以下に制限する滴量制限ステップと、
予め記憶されかつ前記吐出異常ノズルに起因する画像のムラの補正に用いられる補正値に基づき、前記正常ノズルから吐出される前記液滴の滴量を補正する滴量補正ステップと、
前記記録ヘッドと記録媒体とを相対移動させながら、前記記録ヘッドの前記吐出異常ノ
ズル及び前記正常ノズルからそれぞれ吐出された液滴を前記記録媒体上に付着させること
により、前記記録媒体上に画像を記録する画像記録ステップと、
を有するインクジェット記録装置の画像記録方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月2日(2013.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
包装用積層フィルムのシーラント層どうしを、両側部分において合掌状に接合するとともに、底部もしくは頂部を接合させて、単一の被包装物充填スペースを区画し、平坦な姿勢で保管および運搬可能としてなるフレキシブルな合掌貼り包装袋であって、
前記合掌状の接合部が、背貼り接合部であり、
合掌状の接合部の、延在方向の中間部に、被包装物の注出通路を設けると共に、該注出通路の少なくとも一部に、前記合掌状の接合部に比して接合強度が相対的に低い易剥離部分を設けてなる合掌貼り包装袋。
【請求項２】
前記注出通路の幅を、被包装物充填スペースから離隔するにつれて次第に狭小にしてなる請求項１に記載の合掌貼り包装袋。
【請求項３】
前記注出通路の幅を、該注出通路の延在方向の全体にわたって一定としてなる請求項１に記載の合掌貼り包装袋。
【請求項４】
前記易剥離部分を、注出通路の出口に隣接させて設けてなる請求項１〜３のいずれかに記載の合掌貼り包装袋。
【請求項５】
前記易剥離部分を、注出通路の全体にわたって設けてなる請求項１〜３のいずれかに記載の合掌貼り包装袋。
【請求項６】
前記易剥離部分を、注出通路の延在方向の所要の複数箇所に設けてなる請求項１〜３のいずれかに記載の合掌貼り包装袋。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の合掌貼り包装袋の被包装物充填スペースに単一種類の液状被包装物を充填包装してなる包装体を、背貼り接合部を境として二つに山折りした状態で、被包装物充填スペースを厚み方向に押圧することで、前記易剥離部分を剥離させて液状被包装物を注出通路を経て注出する包装袋の使用方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明の合掌貼り包装袋は、包装用積層フィルムのシーラント層どうしを、両側部分において合掌状に接合するとともに、底部もしくは頂部を接合させて、単一の被包装物充填スペースを区画し、平坦な姿勢で保管および運搬可能としてなる、たとえば平面輪郭形状が方形をなす、フレキシブルな合掌貼り包装袋であり、前記合掌状の接合部が、背貼り接合部であり、合掌状の接合部の延在方向の中間部に、被包装物の注出通路を設けるとともに、該注出通路の少なくとも一部に、前記合掌状の接合部に比して接合強度が弱く、相対的に低い、注出通路を遮断してたとえば、被包装物充填スペースの区画に寄与する易剥離部部分を設けてなるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このような包装袋において、前記注出通路の幅、すなわち合掌状の接合部の延在方向の幅を、被包装物充填スペースから離隔するにつれて次第に狭小にすることが好ましく、この一方で、注出通路の幅を、被包装物充填スペースから通路出口に到るまでの間で、すなわち注出通路の延在方向の全長にわたって一定とすることもできる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そして、この発明の、包装袋の使用方法は、先に述べた合掌状の接合部が背貼り接合部からなるいずれかの合掌貼り包装袋の、被包装物充填スペースに単一種類の液状被包装物を充填包装してなる包装体を、背貼り接合部を境として二つに山折りした状態で、被包装物充填スペースを厚み方向に押圧することで、前記易剥離部分を剥離させて液状被包装物を注出通路を経て注出するにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
以下にこの発明の実施形態を図面に示すところに基づいて説明する。
図１に示す包装袋の実施形態において、フレキシブルな合掌貼り包装袋１は、二層以上の積層構造になる包装用積層フィルム２のシーラント層どうしを、両側部分においてヒートシール、インパルスシール、高周波ウエルダーシール、超音波シール、その他によって図に斜線を施して示すように合掌状に接合するとともに、液状被包装物の充填口部を除く、底部もしくは頂部、図では底部を、図に斜線を施して示すように接合して、単一の被包装物充填スペース３を区画することにより構成してなり、この合掌貼り包装袋１は、合掌状の接合部４を上面側、下面側等に位置させた平面視で、輪郭形状を方形とすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
このような、フレキシブルな合掌貼り包装袋１は、たとえば上端開口から、被包装物充填スペース３内へ所定量の液状被包装物を充填するとともに、包装袋１の頂部を好ましくは抜気下で、図２に示すように接合させることで、被包装物を充填包装した包装体８とされる。
従って、この包装袋１は、液状被包装物の包装体８からの注出に当たり、被包装物充填スペース３を、図２（ｃ）に矢印で示す方向に押圧することで、易剥離部分７の剥離作用の下で、先に述べた通りの作用効果をもたらすことができる。とくに、図２のように包装袋１が背貼りシール袋からなる場合には、背貼り接合部４を境として二つに山折りし、包装体８の厚みをほぼ２倍とした状態とすることができるため、注出通路５に設けた易剥離部分７を小さな押圧力の下で容易に剥離させ、液状被包装物を注出させることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
そして、このようにして形成される背貼り接合部４の破袋強度は、たとえば、合掌貼り包装袋１内へ、一種類の液状被包装物を充填包装してなる、図２に示すような包装体８を、図４に斜視図で示すような平坦な姿勢で平坦な下面板１３上に載置するとともに、該包装体８を平坦な上面板１４により背貼り接合部４に破袋が生じるまで押圧することによって測定することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
これによれば、この発明に係る包装体８の破袋強度の低下率は約２０％であって、この発明の合掌貼り包装袋１からなる包装体８は、平坦な姿勢で所要の破袋強度を十分に発揮することができ、包装体８の保管、運搬等に際する、包装袋の意図しない破袋を有効に防止し得ることが解かる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月4日(2013.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に穴が形成された鋼板が複数枚積層された積層鋼板と、上記積層鋼板上に配設されたバランサとをリベットにて固定して形成されるロータの上記リベットをせん断するリベットせん断装置において、
上記穴に挿入可能に形成され、上記穴内にて高さ方向の長さが調整可能なピンと、
上記ロータの周方向の対向する箇所にそれぞれ配設された一対の刃物と、
上記一対の刃物を上記積層鋼板と上記バランサとの間に高さ方向の位置において上記ロータに対して水平移動を行い上記積層鋼板と上記バランサとの間に押し込む移動部とを備えたリベットせん断装置。
【請求項２】
上記刃物の形状は、上記積層鋼板と上記バランサとの間に押し込まれた際に、上記バランサを押し上げて上記リベットに引っ張り応力を負荷する形状にて形成されている請求項１に記載のリベットせん断装置。
【請求項３】
上記刃物は、刃先端角θ１の上記刃物の刃先部分を有し、刃物角θ２が、θ１＞θ２にてなる請求項２に記載のリベットせん断装置。
【請求項４】
上記刃物は、
上記刃物の刃先部分の形状が、Ｒ０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下、
上記刃物の厚みが、ｔ＝３ｍｍ〜１０ｍｍにて形成されている請求項３に記載のリベットせん断装置。
【請求項５】
上記刃物は、上記刃物の刃先部分の水平角度が９０度以下にて形成されている箇所を有する請求項２ないし請求項４のいずれか１項に記載のリベットせん断装置。
【請求項６】
上記ピンは、直径の大きさを変更可能な調整部を有する請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のリベットせん断装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載のリベットせん断装置を用いたリベットせん断方法において、
上記ピンを上記穴に挿入し、上記ピンの上面の高さ位置が上記積層鋼板と上記バランサとの間に押し込まれる上記刃物と干渉しない高さ位置となるように保持し、
上記一対の刃物を上記積層鋼板と上記バランサとの間に高さ方向の位置において上記ロータに対して水平移動を行い上記積層鋼板と上記バランサとの間に押し込み上記リベットをせん断するリベットせん断方法。
【請求項８】
請求項６に記載のリベットせん断装置を用いたリベットせん断方法において、
上記ピンを上記穴に挿入し、上記ピンの上面の高さ位置が上記積層鋼板と上記バランサとの間に押し込まれる上記刃物と干渉しない高さ位置とし、かつ、
上記ピンの上記調整部を調整して上記穴に当接させ、当該当接圧は、後工程における上記刃物の押し込み圧より小さく設定され、
上記一対の刃物を上記積層鋼板と上記バランサとの間に高さ方向の位置において上記ロータに対して水平移動を行い上記積層鋼板と上記バランサとの間に押し込み上記リベットをせん断するリベットせん断方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月4日(2013.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換素子と、前記光電変換素子で生じた電荷に基づく信号を読み出すための複数の第１のＭＯＳトランジスタとが配された光電変換領域と、
前記画素に含まれる複数の第１のＭＯＳトランジスタのうちのいずれかのＭＯＳトランジスタの駆動もしくは前記光電変換領域から読み出される信号の処理の少なくとも一方を行なう複数の第２のＭＯＳトランジスタが配された周辺回路領域とが、同一の半導体基板に配された光電変換装置の製造方法であって、
前記第１及び第２のＭＯＳトランジスタのゲート電極を形成する第１の工程と、
前記ゲート電極をマスクにしてＰ型もしくはＮ型の不純物を導入する第２の工程と、
前記光電変換領域及び周辺回路領域を覆うようにシリコン窒化膜を形成する第３の工程と、
前記光電変換領域に形成された前記シリコン窒化膜をマスクにより保護し、前記周辺回路領域の前記シリコン窒化膜に対してエッチバックを行なうことにより、前記第２のＭＯＳトランジスタのゲート電極側壁にサイドスペーサを形成する第４の工程と、
前記光電変換領域に配された前記シリコン窒化膜及び前記サイドスペーサをマスクにして前記不純物と同一導電型の不純物を導入する第５の工程と、
前記光電変換領域及び周辺回路領域全体を覆うように層間絶縁膜を形成する第６の工程と、
前記絶縁膜の前記複数の第１のＭＯＳトランジスタのドレイン領域に対応した領域に、コンタクトホールを形成する第７の工程と、を有し、
前記シリコン窒化膜は、前記コンタクトホールを形成する際の、エッチングストップ膜として機能することを特徴とする光電変換装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１のＭＯＳトランジスタのドレイン領域の不純物濃度よりも前記第２のＭＯＳトランジスタのソース領域およびドレイン領域の不純物濃度が高いことを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項３】
前記層間絶縁膜の前記第１のＭＯＳトランジスタのソースおよびドレイン領域、前記第２のＭＯＳトランジスタのソースおよびドレイン領域に対応した領域に、コンタクトホールを形成する工程と、
前記コンタクトホールにセルフアラインで前記不純物と同一導電型の不純物を導入する工程と、を含むことを特徴とする請求項２に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項４】
前記シリコン窒化膜と前記層間絶縁膜との間にシリコン酸化膜が形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項５】
前記シリコン窒化膜を形成した後に、３５０℃以上の熱処理を行なうことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項６】
前記シリコン窒化膜はプラズマＣＶＤ法により形成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項７】
前記半導体基板に、ＳＴＩにより構成される素子分離領域を形成する工程を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項８】
前記半導体基板に、選択酸化法により素子分離領域を形成する工程を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光電変換装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記課題に鑑みて、本発明の光電変換装置の製造方法は、光電変換素子と、前記光電変換素子で生じた電荷に基づく信号を読み出すための複数の第１のＭＯＳトランジスタとが配された光電変換領域と、前記画素に含まれる複数の第１のＭＯＳトランジスタのうちのいずれかのＭＯＳトランジスタの駆動もしくは前記光電変換領域から読み出される信号の処理の少なくとも一方を行なう複数の第２のＭＯＳトランジスタが配された周辺回路領域とが、同一の半導体基板に配された光電変換装置の製造方法であって、前記第１及び第２のＭＯＳトランジスタのゲート電極を形成する第１の工程と、前記ゲート電極をマスクにしてＰ型もしくはＮ型の不純物を導入する第２の工程と、前記光電変換領域及び周辺回路領域を覆うようにシリコン窒化膜を形成する第３の工程と、前記光電変換領域に形成された前記シリコン窒化膜をマスクにより保護し、前記周辺回路領域の前記シリコン窒化膜に対してエッチバックを行なうことにより、前記第２のＭＯＳトランジスタのゲート電極側壁にサイドスペーサを形成する第４の工程と、前記光電変換領域に配された前記シリコン窒化膜及び前記サイドスペーサをマスクにして前記不純物と同一導電型の不純物を導入する第５の工程と、前記光電変換領域及び周辺回路領域全体を覆うように層間絶縁膜を形成する第６の工程と、前記絶縁膜の前記複数の第１のＭＯＳトランジスタのドレイン領域に対応した領域に、コンタクトホールを形成する第７の工程と、を有し、前記シリコン窒化膜は、前記コンタクトホールを形成する際の、エッチングストップ膜として機能することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月30日(2012.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化ケイ素層と、
該炭化ケイ素層上に設けられ、化学式Ｓｉ３Ｎ４−ＸＯＸ（ここで、０＜Ｘ＜１）を有する酸窒化ケイ素からなる誘電体材料層と、
該誘電体材料層上で、前記炭化ケイ素層の反対側に設けられた第１金属層と、
前記誘電体材料層上で、該誘電体材料層と前記炭化ケイ素層との間に、金属−絶縁体−金属（ＭＩＭ）コンデンサが得られるように設けられた第２金属層と、を備え、
前記第１酸化膜層と前記第２酸化膜層と前記誘電体材料層のうちの少なくとも１つは、その誘電体構造が、窒化膜誘電体のみを有する対応するＭＩＭコンデンサよりも大きな傾斜を有する平均故障寿命対電圧特性を有するように構成されている半導体構造。
【請求項２】
前記誘電体材料層の酸窒化ケイ素は、堆積層である請求項１に記載の半導体構造。
【請求項３】
前記誘電体材料層は、約５０ボルトより大きな電圧で、かつ少なくとも約１００℃の温度で、少なくとも約１０７時間の平均故障寿命が得られるように構成されている請求項１に記載の半導体構造。
【請求項４】
前記誘電体材料層は、約１００ボルトより大きな電圧で、かつ少なくとも約１００℃の温度で、少なくとも約１０７時間の平均故障寿命が得られるように構成されている請求項３に記載の半導体構造。
【請求項５】
前記第１金属層と前記第２金属層は、チタン、白金、クロム及び金のうちの少なくとも１つからなる請求項１に記載の半導体構造。
【請求項６】
前記炭化ケイ素層内に形成された複数の半導体素子を更に備えている請求項１に記載の半導体構造。
【請求項７】
前記誘電体材料層は、少なくとも１００Ｖの動作電圧を得るように構成されている請求項１に記載の半導体構造。
【請求項８】
前記炭化ケイ素層内に設けられた複数の半導体素子と、
該複数の半導体素子と前記第２金属層との間に設けられた絶縁層とを更に備え、
前記第１金属層は、内部接続金属の複数領域を有する第１内部接続層を備え、前記第２金属層は、該絶縁層上で、前記複数の半導体素子の反対側に設けられ、内部接続金属の複数領域を有する第２内部接続層を備える請求項１に記載の半導体構造。
【請求項９】
前記誘電体材料層は、約２０〜約４００ｎｍの厚みを有する請求項８に記載の半導体構造。
【請求項１０】
炭化ケイ素層上に、第１の厚みを有する誘電体材料層を設けるように、化学式Ｓｉ３Ｎ４−ＸＯＸ（ここで、０＜Ｘ＜１）を有する酸窒化ケイ素層を堆積する工程と、
前記酸窒化ケイ素層上に第１金属層を形成する工程と、
前記酸窒化ケイ素層と前記炭化ケイ素層との間に堆積する第２金属層を形成する工程とを有し、
前記第１酸化膜層と前記第２酸化膜層と前記誘電体材料層のうちの少なくとも１つは、その誘電体構造が、窒化膜誘電体のみを有する対応するＭＩＭコンデンサよりも大きな傾斜を有する平均故障寿命対電圧特性を有するように構成されているコンデンサの製造方法。
【請求項１１】
前記第１の厚みは、約２０〜約４００ｎｍである請求項１０に記載のコンデンサの製造方法。
【請求項１２】
前記第１金属層と前記第２金属層は、チタン、白金、クロム及び金のうちの少なくとも１つからなる請求項１０に記載のコンデンサの製造方法。
【請求項１３】
化学式Ｓｉ３Ｎ４−ＸＯＸ（ここで、０＜Ｘ＜１）を有する酸窒化ケイ素層を堆積する工程と、
シリコン前駆物質を供給する工程と、
窒素前駆物質を供給する工程と、
酸素前駆物質を供給する工程と、
プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）プロセスを用いて、前記シリコン前駆物質と前記窒素前駆物質と前記酸素前駆物質を用いて、前記酸窒化ケイ素層を堆積する工程と
を有する請求項１０に記載のコンデンサの製造方法。
【請求項１４】
前記シリコン前駆物質はＳｉＨ４からなり、前記酸素前駆物質はＮ２Ｏからなり、前記窒素前駆物質はＮ２からなる請求項１３に記載のコンデンサの製造方法。
【請求項１５】
約１４７８５立方センチメートルの容積を有するＰＥＣＶＤ装置について、ＳｉＨ４は、約２４０から約３６０標準立方センチメートル／分（ＳＣＣＭ）の流量で供給され、Ｎ２Ｏは、約８から約１２ＳＣＣＭの流量で供給され、Ｎ２は、約１２０から約１８０ＳＣＣＭの流量で供給される請求項１０に記載のコンデンサの製造方法。
【請求項１６】
不活性ガスを供給する工程を更に有する請求項１５に記載のコンデンサの製造方法。
【請求項１７】
前記不活性ガスは、約１６０〜約２４０ＳＣＣＭの流量で供給されるＨｅからなる請求項１６に記載のコンデンサの製造方法。
【請求項１８】
前記ＰＥＣＶＤプロセスは、約１６〜約２４ワットの電力と約７２０〜１０８０ｍＴの圧力と約２００〜３００℃の温度で実施される請求項１５に記載のコンデンサの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月27日(2012.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明のＬＥＤ照明器具によれば、ＬＥＤ４２を納装配置するケース本体１９の下面開口部に透光性のカバー６０を閉塞して配設し、レンズ本体７０を前記ケース本体１９に対して交換可能に前記カバー６０の下面側に配設しているので、別の絞り角のレンズ部７１を有するレンズ本体７０のみを交換するだけで良く、そのため、用途によって容易に絞り角を変更することができる。
またカバー６０をケース本体１９の下面開口部に閉塞して配設しているので、ケース本体１９の下面開口部を密閉した状態となり、防湿、防塵の機能を付与することができ、また、カバー６０によりＬＥＤ４２に直接接触するのを防止でき、接触によるＬＥＤ４２の損傷等を防ぐことができる。
なお、カバー６０を配置していることで、レンズ本体７０を使用しなくても、レンズ本体７０無しのＬＥＤ照明器具としてそのまま使用することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
フォトカップラＰＣ１のフォトトランジスタのインピーダンスが下がると、図１４に示すトランジスタＱ２のコレクタ電流が少なくなる。これにより、トランジスタＱ２のコレクタ電位が上昇して、抵抗Ｒ１と抵抗Ｒ２との中間電位が上昇し、その結果、ＩＣ１の１ピンの電圧が増える。
このＩＣ１の１ピンの電圧が上がると、ＩＣ１の出力端子である７ピンからは、スイッチング素子Ｑ１のオン時間を減らす方向に信号を出力する。その結果、ダイオードＤ１と図１５に示す抵抗Ｒ３間の電圧が落ちる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月9日(2012.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子源から放出される一次荷電粒子線を試料上に走査する荷電粒子光学系と、当該荷電粒子光学系を格納する荷電粒子光学鏡筒と、前記走査により得られる反射電子あるいは二次電子を検出する検出器と、少なくとも一つ以上の排気ポンプとを含む荷電粒子線装置において、
前記試料を格納し、前記荷電粒子線装置全体を装置設置面に対して支持する第２の筐体と、
当該第２の筐体上に設けられ、前記荷電粒子光学鏡筒を支持する第１の筐体と、
前記第１の筐体の底面に設けられる、前記一次荷電粒子線を透過あるいは通過させる薄膜とを備え、
装置動作時に、前記荷電粒子光学鏡筒、前記第１の筐体および前記薄膜によって囲まれる閉空間内が真空排気され、
前記第２の筐体の内部は、当該第２の筐体の開口部によって大気開放されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
荷電粒子源から放出される一次荷電粒子線を試料上に走査する荷電粒子光学系と、当該荷電粒子光学系を格納する荷電粒子光学鏡筒と、前記走査により得られる反射電子あるいは二次電子を検出する検出器と、少なくとも一つ以上の排気ポンプとを含む荷電粒子線装置において、
前記一次荷電粒子線の通過経路上に配置される、前記一次荷電粒子線を透過あるいは通過させる薄膜と、
当該薄膜を保持する薄膜支持部材と、
前記試料を格納し、前記荷電粒子線装置全体を装置設置面に対して支持する第２の筐体と、
当該第２の筐体上に配置され、前記薄膜支持部材および前記荷電粒子光学鏡筒とを一定距離離間させるように支持する第１の筐体と、
装置動作時に、前記荷電粒子光学鏡筒、前記薄膜支持部材および前記第１の筐体によって構成される閉空間が真空排気され、
前記第２の筐体の内部は、当該第２の筐体の開口部によって大気開放されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
荷電粒子源から放出される一次荷電粒子線を試料上に走査する荷電粒子光学系と、当該荷電粒子光学系を格納する荷電粒子光学鏡筒と、前記走査により得られる反射電子あるいは二次電子を検出する検出器と、少なくとも一つ以上の排気ポンプとを含む荷電粒子線装置において、
前記一次荷電粒子線を透過あるいは透過させる薄膜および当該薄膜を保持する薄膜支持部材と、
前記試料を格納し、かつ側面に設けられた開口部によって内部が常時大気開放される第２の筐体と、
当該第２の筐体の上部に設置され、内部が真空排気される第１の筐体とを備え、
前記検出器は、前記薄膜を通過して当該薄膜の上方に到達する二次電子あるいは反射電子を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載の荷電粒子線装置において、
前記第２の筐体内にガスを供給するガスノズルを備え、当該ガスノズルにより大気よりも質量の軽いガスが前記第１の筐体内に供給されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項４に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガスノズルからの放出ガスが、水素ガス、ヘリウムガス、メタンガス、水蒸気の内いずれかを含むことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項４に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガスノズルが、前記薄膜支持部材に取り付けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項２または３に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜支持部材は、前記第１の筐体に対して着脱可能であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項２または３に記載の荷電粒子線装置において、
前記第２の筐体に、前記薄膜と前記試料との距離を計測する計測手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
請求項２または３に記載の荷電粒子線装置において、
前記第２の筐体内に、前記試料を載置する試料台と、当該試料台をＺ方向に移動させるＺステージとを備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
請求項２または３に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜または薄膜支持部材が、前記試料と前記薄膜との距離を制限する制限部材を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１１】
請求項２または３に記載の荷電粒子線装置において、
少なくとも前記第２の筐体または第１の筐体のいずれかに、前記一次荷電粒子線の照射に伴い前記試料から放出されるイオン、荷電粒子、光子、Ｘ線のいずれか一つ以上を検出する第２の検出器を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１２】
請求項２または３に記載の荷電粒子線装置において、
前記第１の筐体内に、前記一次荷電粒子線の照射により試料に流れ込む荷電粒子または電流を検出する機能を備えた試料台を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１３】
請求項４に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガスノズルからのガスの放出状態を制御する制御手段と、
当該制御手段を操作するための操作画面が表示されるモニタとを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の荷電粒子線装置において、
前記操作画面上に、前記ガスの放出開始、停止あるいはガス放出の継続時間を入力するボタンあるいは入力ボックスが表示されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１５】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜の厚みが２０μｍ以下であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１６】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜が、前記一次荷電粒子線が通過するための、面積１mm2以下の貫通孔を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１７】
荷電粒子光学鏡筒の端部より出射する一次荷電粒子線を試料上に走査し、当該走査により得られる反射電子あるいは二次電子を画像化して前記試料を観察する顕微方法において、
前記試料が格納され、かつ前記荷電粒子線装置全体を装置設置面に対して支持する第２の筐体の内部を当該第２の筐体の開口部によって大気開放し、
当該第２の筐体上部に設けられ前記荷電粒子光学鏡筒を支持する第１の筐体の内部の一次荷電粒子線の第１の通過経路であって、前記荷電粒子光学鏡筒の端部と離間されて配置された前記一次荷電粒子線を透過あるいは通過させる薄膜と前記端部との間に存在する一次荷電粒子線の第１の通過経路を真空状態に維持し、
前記薄膜と前記試料間に存在する一次荷電粒子線の第２の通過経路に大気よりも質量の軽いガスを供給し、
前記走査により得られる二次電子または反射電子のうち前記薄膜を透過あるいは通過して前記荷電粒子光学鏡筒側に戻ってくる二次電子または反射電子を検出することにより、前記試料の観察を行うことを特徴とする顕微方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の顕微方法において、
前記第２の通過経路の長さを所定の長さに調整して、前記試料の観察を行うことを特徴とする顕微方法。
【請求項１９】
請求項１７に記載の顕微方法において、
前記大気よりも質量の軽いガスが、水素ガス、ヘリウムガス、メタンガス、水蒸気のいずれか一つを含むこと特徴とする顕微方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月17日(2013.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂又は樹脂組成物を炭化処理してなる平均粒径１〜３０μｍの二次電池用負極材に用いられる炭素材であって、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件下７日後の吸湿率が４．０％以下であり、炭素材の密度が１．１〜２．２ｇ／ｃｍ3であることを特徴とする炭素材。
【請求項２】
請求項１に記載の炭素材を含有することを特徴とする二次電池用負極材。
【請求項３】
請求項２に記載の二次電池用負極材を用いることを特徴とする非水電解質二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月2日(2013.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸素貯蔵材料、導電助剤、及び結着剤を含む混合物からなるとともに酸素を活物質とする正極と、金属リチウムを活物質とする負極と、該正極及び該負極に挟持された電解質層と、前記正極内で前記酸素貯蔵材料及び前記導電助剤とともに三相界面を形成する電解液とを備える金属酸素電池において、
前記結着剤は、伸縮性を有するとともに該電解液に浸透可能な高分子からなり、
前記正極は、前記結着剤に前記導電助剤が分散された高分子複合体からなるとともに前記酸素貯蔵材料の表面を被覆する被覆膜を備えることを特徴とする金属酸素電池。
【請求項２】
請求項１記載の金属酸素電池において、
前記正極に対する前記酸素貯蔵材料の含有量は、４０〜９８質量％の範囲であることを特徴とする金属酸素電池。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の金属酸素電池において、
前記酸素貯蔵材料は、ＹＭｎＯ３で表される複合金属酸化物であることを特徴とする金属酸素電池。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の金属酸素電池において、
前記結着剤は、カルボキシメチルセルロースであることを特徴とする金属酸素電池。
【請求項５】
酸素貯蔵材料、導電助剤、及び結着剤を含む混合物からなるとともに酸素を活物質とする正極と、金属リチウムを活物質とする負極と、該正極及び該負極に挟持された電解質層と、前記正極内で前記酸素貯蔵材料及び前記導電助剤とともに三相界面を形成する電解液とを備える金属酸素電池の製造方法において、
前記結着剤として、伸縮性を有するとともに前記電解液に浸透可能な高分子を用い、該結着剤と該導電助剤と水とを混合し、スラリー状高分子複合体を得る工程と、
該スラリー状高分子複合体と前記酸素貯蔵材料とを混合し、前記混合物を得る工程と、
該混合物を基板に塗布する工程と、
該基板に塗布された混合物を乾燥して前記正極を形成する工程と
を備えることを特徴とする金属酸素電池の製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の金属酸素電池の製造方法において、
前記スラリー状高分子複合体の粘度は、０．０１〜１００Ｐａ・ｓの範囲であることを特徴とする金属酸素電池の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月13日(2013.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
適応型走査を用いる動画符号化装置であって、
予測モードを選択して出力するモード選択手段（１２０）と、
前記予測モードに応じて入力映像の符号化する画素の画素値を予測し、残差信号ブロックを出力する予測手段（１１０）と、
前記残差信号ブロックを変換し、該変換された残差信号ブロックを量子化する変換／量子化手段（１３０）と、
該変換及び量子化された残差信号ブロックを前記予測モードに応じて適応的に走査して符号化する符号化手段（１４０）と
を備え、
該符号化手段（１４０）は、前記予測モードが垂直モードのときは水平走査を実行し、及び、前記予測モードが水平モードのときは垂直走査を実行し、
前記水平走査の開始地点と終了地点が異なる列に位置し、及び、前記垂直走査の開始地点と終了地点が異なる行に位置する、
適応型走査を用いる動画符号化装置。
【請求項２】
前記符号化手段（１４０）が水平走査を実行する場合は、前記変換及び量子化された残差信号ブロックにおける１行目の係数を優先走査することを特徴とする請求項１に記載の適応型走査を用いる動画符号化装置。
【請求項３】
前記符号化手段（１４０）が垂直走査を実行する場合は、前記変換及び量子化された残差信号ブロックにおける１列目の係数を優先走査することを特徴とする請求項１に記載の適応型走査を用いる動画符号化装置。
【請求項４】
前記符号化手段（１４０）が、前記予測モードが垂直モード及び水平モードではない場合、ジグザグ走査方式を用いることを特徴とする請求項１に記載の適応型走査を用いる動画符号化装置。
【請求項５】
前記符号化手段（１４０）が、前記予測モードに応じて適応的に走査して獲得し及び並べた係数をエントロピー符号化することを特徴とする請求項１に記載の適応型走査を用いる動画符号化装置。
【請求項６】
前記各開始地点と前記各終了地点は前記残差信号ブロックの主対角上に位置することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の適応型走査を用いる動画符号化装置。
【請求項７】
前記残差信号ブロックが４×４ブロックであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の適応型走査を用いる動画符号化装置。
【請求項８】
適応型走査を用いる動画復号化装置であって、
符号化されたビットストリームを受信し、該符号化されたビットストリームをエントロピー復号化方法にしたがって復号化して、復号化された信号を出力するエントロピー復号化部（２１０）と、
該エントロピー復号化部（２１０）から前記復号化された信号を受信し、前記復号化された信号についての走査方式についての情報を獲得して、該走査方式情報を前記復号化された信号と共に出力する走査方式決定部（２２０）と、
前記復号化された信号を前記走査方式にしたがって復元して、前記復号化された信号で復元された画像を出力する映像復元部（２３０）と
を備え、
前記走査方式が、前記復号化された信号について使用される予測モードに依存し、及び、
前記映像復元部（２３０）は、前記予測モードが垂直モードのときは前記復号化された信号を異なる列に位置する開始地点および終了地点を持った水平走査により復元し、前記予測モードが水平モードのときは前記復号化された信号を異なる行に位置する開始地点および終了地点を持った垂直走査により復元する
ことを特徴とする適応型走査を用いる動画復号化装置。
【請求項９】
前記映像復元部（２３０）は、前記予測モードが垂直モードのときには、前記復元された画像の１行目に対応する前記復号化された信号を優先的に復元することを特徴とする請求項８に記載の適応型走査を用いる動画復号化装置。
【請求項１０】
前記映像復元部（２３０）は、前記予測モードが水平モードのときには、前記復元された画像の１列目に対応する前記復号化された信号を優先的に復元することを特徴とする請求項８に記載の適応型走査を用いる動画復号化装置。
【請求項１１】
前記予測モードが垂直モードでも水平モードでもない場合、前記映像復元部（２３０）は、前記復号化された信号をジグザグ走査に対応して復元することを特徴とする請求項８に記載の適応型走査を用いる動画復号化装置。
【請求項１２】
前記各開始地点と前記各終了地点は前記残差信号ブロックの主対角上に位置することを特徴とする請求項８乃至１１のいずれかに記載の適応型走査を用いる動画復号化装置。
【請求項１３】
前記復元されたエントロピー復号化信号は４×４ブロックに配列された再構築サンプルであることを特徴とする請求項８乃至１２のいずれかに記載の適応型走査を用いる動画復号化装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月24日(2013.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を用いて所定の遊技を行うことが可能な遊技機であって、
遊技媒体が流下可能な少なくとも第１流路および第２流路を含む複数の流路と、
遊技媒体が流下可能な共通流路と、
遊技媒体が通過可能な複数の特定領域と、
遊技領域に設けられた始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて所定条件が成立したか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段によって前記所定条件が成立したと判定されたことを条件に、所定の有効期間において複数の特定領域のうちのいずれかの特定領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、獲得価値期待度が異なる複数種類の特定遊技状態のうちのいずれか１の特定遊技状態に制御する特定遊技状態制御手段とを備え、
前記特定遊技状態制御手段は、複数の特定領域のうちのいずれの特定領域を遊技媒体が通過したかに応じて、異なる振り分けに従って複数種類の特定遊技状態のうちのいずれか１の特定遊技状態に制御し、
複数の特定領域のうちのいずれの特定領域に遊技媒体を通過させるかは、遊技者の操作に応じて選択可能であり、
特定領域は、前記複数の流路にそれぞれ設けられ、
前記共通流路を流下する遊技媒体を前記第１流路に流入させる状態または遊技媒体を前記第２流路に流入させる状態に制御する制御手段をさらに備え、  
前記制御手段は、前記所定の有効期間となった後、切替条件が成立するまでにおいては遊技媒体を前記第１流路に流入させる状態に制御する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（手段１）本発明による遊技機は、遊技媒体（例えば、遊技球）を用いて所定の遊技を行うことが可能な遊技機であって、遊技媒体が流下可能な少なくとも第１流路および第２流路を含む複数の流路（例えば、第１流路２０８、第２流路２０９）と、遊技媒体が流下可能な共通流路（例えば、共通流路２０６）と、遊技媒体が通過可能な複数の特定領域（例えば、可変入賞球装置２００内の特定口Ａ２０１および特定口Ｂ２０２）と、遊技領域に設けられた始動領域（例えば、第１始動入賞口１３、第２始動入賞口１４）を遊技媒体が通過したことにもとづいて所定条件が成立（例えば、大当りが発生）したか否かを判定する判定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ６１を実行する部分）と、判定手段によって所定条件が成立したと判定されたことを条件に、所定の有効期間において複数の特定領域のうちのいずれかの特定領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、獲得価値期待度が異なる複数種類の特定遊技状態のうちのいずれか１の特定遊技状態に制御する特定遊技状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ１３０３，Ｓ１３０５でＹと判定したときにステップＳ１３０８を実行して見た目上のラウンド数を決定して、ステップＳ３０６〜Ｓ３０８を実行することにより見た目上のラウンド数が５ラウンド、１０ラウンド、または１５ラウンドの大当り遊技状態に制御する部分）とを備え、特定遊技状態制御手段は、複数の特定領域のうちのいずれの特定領域を遊技媒体が通過したかに応じて、異なる振り分けに従って複数種類の特定遊技状態のうちのいずれか１の特定遊技状態に制御し（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０は、ステップＳ１３０８を実行するときに、特定口Ａ２０１を遊技球が通過した場合には図１１（Ａ）に示す特定口Ａ用のラウンド数判定テーブル１３２ａを用いて１００パーセントの割合で見た目上のラウンド数を１０ラウンドに決定し、特定口Ｂ２０２を遊技球が通過した場合には図１１（Ｂ）に示す特定口Ｂ用のラウンド数判定テーブル１３２ｂを用いて見た目上のラウンド数を５ラウンド、１０ラウンド、または１５ラウンドのいずれかに決定し、その決定結果に従ってステップＳ３０６〜Ｓ３０８を実行する）、複数の特定領域のうちのいずれの特定領域に遊技媒体を通過させるかは、遊技者の操作に応じて選択可能であり（例えば、可変入賞球装置２００内の振分部材２０３が特定口Ａ２０１と特定口Ｂ２０２とのいずれを選択しているかを認識して遊技球を打ち分けることが可能である）、特定領域は、複数の流路にそれぞれ設けられ（例えば、第１流路２０８には特定口Ａ２０１が設けられ、第２流路２０９には特定口Ｂ２０２が設けられている）、共通流路を流下する遊技媒体を第１流路に流入させる状態または遊技媒体を第２流路に流入させる状態に制御する制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ２９Ａを実行する部分）をさらに備え、制御手段は、所定の有効期間となった後、切替条件が成立するまでにおいては遊技媒体を第１流路に流入させる状態に制御する（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０は、ステップ１６ａ，Ｓ１３０９Ａの処理を実行することにより、大当り図柄が停止表示されて振分部材２０３の可動制御が最初に開始されるときには必ず特定口Ａ２０１を選択している状態から制御を開始する）ことを特徴とする。そのような構成により、所定条件が成立した後に特定領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて特定遊技状態に制御するように構成された遊技機において、遊技者の嗜好に合わせたゲーム性を実現することができる。また、所定の有効期間となった後、切替条件が成立するまでの期間に遊技媒体が流入する流路は第１流路固定なので、遊技者が混乱することを防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月24日(2013.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を用いて所定の遊技を行うことが可能な遊技機であって、
遊技媒体が通過可能な複数の特定領域と、
遊技領域に設けられた始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて所定条件が成立したか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段によって前記所定条件が成立したと判定されたことを条件に、複数の特定領域のうちのいずれかの特定領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、獲得価値期待度が異なる複数種類の特定遊技状態のうちのいずれか１の特定遊技状態に制御する特定遊技状態制御手段と、
前記始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、特定遊技状態を終了した後に前記所定条件が成立しやすい特別遊技状態に制御するか否かを決定する特別遊技状態決定手段と、
前記特別遊技状態決定手段によって特別遊技状態に制御すると決定された場合に、特定遊技状態を終了した後に特別遊技状態に制御する特別遊技状態制御手段と、
前記特別遊技状態制御手段によって特別遊技状態に制御されることを報知可能な特別遊技状態報知手段とを備え、
前記特定遊技状態制御手段は、複数の特定領域のうちのいずれの特定領域を遊技媒体が通過したかに応じて、異なる振り分けに従って複数種類の特定遊技状態のうちのいずれか１の特定遊技状態に制御し、
複数の特定領域のうちのいずれの特定領域に遊技媒体を通過させるかは、遊技者の操作に応じて選択可能であり、
前記特別遊技状態報知手段は、前記特別遊技状態決定手段によって特別遊技状態に制御すると決定された場合に特定領域を遊技媒体が通過するまでに、特別遊技状態に制御されることを報知する場合と特別遊技状態に制御されることを報知しない場合とがある
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（手段１）本発明による遊技機は、遊技媒体（例えば、遊技球）を用いて所定の遊技を行うことが可能な遊技機であって、遊技媒体が通過可能な複数の特定領域（例えば、可変入賞球装置２００内の特定口Ａ２０１および特定口Ｂ２０２）と、遊技領域に設けられた始動領域（例えば、第１始動入賞口１３、第２始動入賞口１４）を遊技媒体が通過したことにもとづいて所定条件が成立（例えば、大当りが発生）したか否かを判定する判定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ６１を実行する部分）と、判定手段によって所定条件が成立したと判定されたことを条件に、複数の特定領域のうちのいずれかの特定領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、獲得価値期待度が異なる複数種類の特定遊技状態のうちのいずれか１の特定遊技状態に制御する特定遊技状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ１３０３，Ｓ１３０５でＹと判定したときにステップＳ１３０８を実行して見た目上のラウンド数を決定して、ステップＳ３０６〜Ｓ３０８を実行することにより見た目上のラウンド数が５ラウンド、１０ラウンド、または１５ラウンドの大当り遊技状態に制御する部分）と、始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、特定遊技状態を終了した後に所定条件が成立しやすい特別遊技状態（例えば、確変状態）に制御するか否かを決定する特別遊技状態決定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップ７３を実行することにより１５Ｒ確変大当りや確変大当りとするか否かを決定する部分）と、特別遊技状態決定手段によって特別遊技状態に制御すると決定された場合に、特定遊技状態を終了した後に特別遊技状態に制御する特別遊技状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ１６７を実行する部分）と、特別遊技状態制御手段によって特別遊技状態に制御されることを報知可能な特別遊技状態報知手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ８００９を実行して確変図柄の大当り図柄を決定したときにステップＳ８６２を実行して確変図柄の大当り図柄を停止表示する部分）とを備え、特定遊技状態制御手段は、複数の特定領域のうちのいずれの特定領域を遊技媒体が通過したかに応じて、異なる振り分けに従って複数種類の特定遊技状態のうちのいずれか１の特定遊技状態に制御し（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０は、ステップＳ１３０８を実行するときに、特定口Ａ２０１を遊技球が通過した場合には図１１（Ａ）に示す特定口Ａ用のラウンド数判定テーブル１３２ａを用いて１００パーセントの割合で見た目上のラウンド数を１０ラウンドに決定し、特定口Ｂ２０２を遊技球が通過した場合には図１１（Ｂ）に示す特定口Ｂ用のラウンド数判定テーブル１３２ｂを用いて見た目上のラウンド数を５ラウンド、１０ラウンド、または１５ラウンドのいずれかに決定し、その決定結果に従ってステップＳ３０６〜Ｓ３０８を実行する）、複数の特定領域のうちのいずれの特定領域に遊技媒体を通過させるかは、遊技者の操作に応じて選択可能であり（例えば、可変入賞球装置２００内の振分部材２０３が特定口Ａ２０１と特定口Ｂ２０２とのいずれを選択しているかを認識して遊技球を打ち分けることが可能である）、特別遊技状態報知手段は、特別遊技状態決定手段によって特別遊技状態に制御すると決定された場合に特定領域を遊技媒体が通過するまでに、特別遊技状態に制御されることを報知する場合と特別遊技状態に制御されることを報知しない場合とがある（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００は、ステップＳ８００９において確変図柄の大当り図柄を決定してステップＳ８６２において確変図柄の大当り図柄を停止表示する場合と、ステップＳ８００９において非確変図柄の大当り図柄を決定してステップＳ８６２において非確変図柄の大当り図柄を停止表示する場合とがある）ことを特徴とする。そのような構成により、所定条件が成立した後に特定領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて特定遊技状態に制御するように構成された遊技機において、遊技者の嗜好に合わせたゲーム性を実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月29日(2013.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の図柄が外周面に記されている複数の回転リールと、これらの回転リールのそれぞれの中心に出力軸が結合されて、当該回転リールを回転駆動する複数のモータと、複数のモータのそれぞれが中央部に取り付けられるとともに、それぞれの両端部が当該モータの出力軸に結合された回転リールの外周面よりも径方向外側に延出する複数の取付プレートと、これらの取付プレートの両端部がそれぞれ接合され、これらの取付プレート及びモータを介して前記複数の回転リールを回転自在に支持する支持フレームとを備えたリールユニットであって、
前記回転リールには、複数の図柄が記されているリールテープと、このリールテープが巻回される外周リング部と、前記モータの出力軸が結合されるハブ部と、前記外周リング部及び前記ハブ部を相互に連結する複数のスポーク部とが設けられ、
前記ハブ部は、直径が異なるとともに、同軸位置に配置されている内筒部及び外筒部と、前記内筒部の外周面から前記外筒部の内周面まで延びて、前記内筒部及び前記外筒部を相互に連結する複数のリブ部とを有し、
前記スポーク部は、前記外筒部の外周面から前記外周リング部へ向かって突出し、先端が前記外周リング部に連結されたものであり、
前記外筒部には、前記外筒部の一方の端縁から前記内筒部の外周面まで延びて、前記複数のリブ部のうち互いに隣り合う前記リブ部を連結する隔壁部が複数設けられ、
前記内筒部は、有底筒状に形成されるとともに、中心部に前記モータの出力軸が挿通される軸受筒を有し、前記内筒部の中心軸方向の長さが前記外筒部の中心軸方向の長さよりも大きくなるように形成されていることを特徴とするリールユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（請求項１）
（特徴点）
請求項１記載の発明は、次の点を特徴とする。
すなわち、請求項１に記載された発明は、複数の図柄が外周面に記されている複数の回転リール(20)と、これらの回転リール(20)のそれぞれの中心に出力軸(31A)が結合されて、当該回転リール(20)を回転駆動する複数のモータ(31)と、複数のモータ(31)のそれぞれが中央部に取り付けられるとともに、それぞれの両端部が当該モータ(31)の出力軸(31A)に結合された回転リール(20)の外周面よりも径方向外側に延出する複数の取付プレート(50)と、これらの取付プレート(50)の両端部(51,52)がそれぞれ接合され、これらの取付プレート(50)及びモータ(31)を介して前記複数の回転リール(20)を回転自在に支持する支持フレーム(40)とを備えたリールユニット(30)であって、前記回転リール(20)には、複数の図柄が記されているリールテープ(21)と、このリールテープ(21)が巻回される外周リング部(24)と、前記モータ(31)の出力軸(31A)が結合されるハブ部(25)と、前記外周リング部(24)及び前記ハブ部(25)を相互に連結する複数のスポーク部(26)とが設けられ、前記ハブ部(25)は、直径が異なるとともに、同軸位置に配置されている内筒部(27)及び外筒部(28)と、前記内筒部(27)の外周面から前記外筒部(28)の内周面まで延びて、前記内筒部(27)及び前記外筒部(28)を相互に連結する複数のリブ部(28A)とを有し、前記スポーク部(26)は、前記外筒部(28)の外周面から前記外周リング部(24)へ向かって突出し、先端が前記外周リング部(24)に連結されたものであり、前記外筒部(28)には、前記外筒部(28)の一方の端縁から前記内筒部(27)の外周面まで延びて、前記複数のリブ部(28A)のうち互いに隣り合う前記リブ部(28A)を連結する隔壁部(28B)が複数設けられ、前記内筒部(27)は、有底筒状に形成されるとともに、中心部に前記モータ(31)の出力軸(31A)が挿通される軸受筒を有し、前記内筒部(27)の中心軸方向の長さが前記外筒部(28)の中心軸方向の長さよりも大きくなるように形成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明によれば、以下のような効果が得られる。
すなわち、本発明によれば、回転リールのハブ部に、直径が異なるとともに、同軸位置に配置されている内筒部及び外筒部を設け、さらに、内筒部の外周面から外筒部の内周面まで延びて、内筒部及び外筒部を相互に連結する複数のリブ部を内筒部及び外筒部の間に設け、さらに、複数のリブ部を連結する隔壁部を外筒部に設け、この隔壁部によっても、内筒部及び外筒部を相互に連結するようにしたので、リブ部及び隔壁部は、同心位置に配置された内筒部及び外筒部の一方を他方に対して張力によって固定することができ、従って、厚さを薄くして、重量を軽減しても、充分な剛性を確保することができる。