(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、該スレッドは、樹脂フィルムからなる基材上に光回折格子またはホログラムパターンが形成された樹脂層を有し、当該樹脂層上に形成された光回折格子またはホログラムパターンからなる微細凹凸に気相成膜により追従して強磁性材薄膜層を厚み５０ｎｍ〜５００ｎｍで形成することにより、該強磁性材薄膜層に磁気異方性を付与し、微細凹凸の長手方向に磁気ヘッドの磁界を印加した場合の角型比が０．８〜１．０であって、前記印加方向に対して垂直な方向に磁気ヘッドの磁界を印加した場合の角型比が０．５以下であることを特徴とする偽造防止用スレッド。
【請求項２】
光回折格子またはホログラムパターンからなる微細凹凸が磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせであることを特徴とする請求項１記載の偽造防止用スレッド。
【請求項３】
光回折格子またはホログラムパターンが形成された樹脂層と強磁性材薄膜層との間に光反射層を備えることを特徴とする請求項１から請求項２記載の偽造防止用スレッド。
【請求項４】
基材の光回折格子またはホログラムパターンが形成される面とは反対側の面に接着剤層が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３記載の偽造防止用スレッド。
【請求項５】
強磁性材薄膜層上に接着剤層がさらに設けられていることを特徴とする請求項１から請求項４記載の偽造防止用スレッド。
【請求項６】
基紙に請求項１ないし請求項５記載の偽造防止用スレッドを抄き込んで設けた偽造防止用紙であって、上記基紙は、該スレッドを間欠的に露出する表出部と該表出部間であって該スレッドを間欠的に覆う被覆部とを備えていることを特徴とする偽造防止用紙。
【請求項７】
光回折格子またはホログラムパターンが磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせであることを特徴とする請求項６記載の偽造防止用紙。
【請求項８】
表出部と被覆部が複数列設けられ、複数本の偽造防止用スレッドを抄き込んだことを特徴とする請求項６および請求項７記載の偽造防止用紙。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、偽造防止用スレッドおよびそれを用いた偽造防止用紙に関する。詳しくは、基材樹脂フィルムに光回折格子またはホログラムパターンからなる樹脂層を形成し、当該樹脂層上に強磁性材薄膜層を重畳して設けたことを特徴とする偽造防止用スレッドとそれを用いた偽造防止用紙に関する。
このような偽造防止用紙は、商品券、ギフト券、証明書、チケット、投票券、切符、ラベル等の各種セキュリティ媒体に使用することができる。
【０００２】
【従来技術】
各種セキュリティ媒体の偽造防止策として、種々のスレッドを用紙に抄き込む手法がある。このようなスレッドによる偽造防止手段は用紙を製造する段階において設けられるので、カラーコピーやスキャナー取込み、製版印刷等による方法での偽造は困難である。しかし、真正のスレッドに似せた偽造スレッドを抄き込んだ偽造用紙が出回る場合があり、単純な光輝性のスレッドのみでは真正の判断には十分でない場合が生じる。このため、ホログラムや光回折格子パターンを表面に設けたスレッドも開発されているが、大量生産向きの方法が開発されたことや偽造手法の巧妙さから偽造防止効果が低下してきている。
【０００３】
一方、一般的な磁気記録材をスレッドに組み合せた構造も磁気記録情報の改ざんが容易なため、高度の偽造防止構造とはいえない。
そのため、より強度の偽造防止構造として、ホログラム形成層と磁気記録を組合せた構造として、特開平１０−１０５０３１号公報では、ホログラム形成層に強磁性材層を被着して備えた情報記録媒体が提案されている。
そこで、本発明はこのような情報記録媒体にさらに改良を加えて偽造防止用スレッドやそれを用いた偽造防止用紙に適用することで一層の偽造防止効果を図ろうとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の要旨の第１は、偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に光回折格子またはホログラムパターンが形成された樹脂層を有し、当該樹脂層上に被着された強磁性材薄膜層をさらに備えることを特徴とする偽造防止用スレッド、にある。かかる偽造防止用スレッドであるため偽造、改ざんが困難である。
【０００５】
このような偽造防止用スレッドは、光回折格子またはホログラムパターンからなる微細凹凸に追従して強磁性材薄膜層を厚み５０ｎｍ〜５００ｎｍで形成することにより、該強磁性材薄膜層に微細凹凸の長手方向に磁気ヘッドの磁界を印加した場合の角型比が０．８〜１．０であって、前記印加方向に対して垂直な方向に磁気ヘッドの磁界を印加した場合の角型比が０．５以下である磁気異方性を付与することができ、また、光回折格子またはホログラムパターンが磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせとすることができる。これらの場合は偽造、改ざんを一層困難とする。また、樹脂層と強磁性材薄膜層との間に光反射層を設ければ、パターンの視認を明瞭にし光輝性を高めることができ、スレッドの裏面または表面に接着剤層を設ければ偽造防止用紙における基紙との接着を強固にすることができる。
【０００６】
上記課題を解決するための本発明の要旨の第２は、基紙に上記の偽造防止用スレッドを抄き込んで設けた偽造防止用紙であって、上記基紙は、該スレッドを間欠的に露出する表出部と該表出部間であって該スレッドを間欠的に覆う被覆部とを備えていることを特徴とする偽造防止用紙、にある。かかる偽造防止用紙であるため、偽造、改ざんが困難である。
【０００７】
このような偽造防止用紙は、光回折格子またはホログラムパターンが磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせとすることができ、また偽造防止用紙には、表出部と被覆部を複数列設け、複数本の偽造防止用スレッドを含ませることができる。この場合は、偽造、改ざんが一層困難となる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の偽造防止用スレッドは、基材上に光回折格子またはホログラムパターンが形成された樹脂層を設け、その表面に強磁性材薄膜をスパッタ等の気相法で形成し磁性層兼反射層を形成するかまたは別にアルミニウム等の光反射層を介在させて通常の光輝性スレッドと同等の反射効果を持たせた構成からなるもので、光回折格子またはホログラムによる特有の光輝性および３次元表示効果と強磁性材薄膜による磁気特性から、通常の光輝性スレッドや磁気スレッドでは得られない複合した効果を有し、偽造、改ざん困難性を高めるものである。
また、光回折格子またはホログラムを特定のパターン形状とすることにより強磁性材から読み出される磁気特性に変化を与えて偽造、改ざんをさらに困難なものとすることができる。
【０００９】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明することにする。
図１は、本発明の偽造防止用スレッドの一部断面を含む斜視図である。本発明の偽造防止用スレッド１０は、樹脂フィルムからなる基材１１上に樹脂層１２を有し、当該樹脂層には光回折格子またはホログラムパターン１３が形成されている。さらに、当該光回折格子またはホログラムパターン１３上には、特定の材料からなる強磁性材薄膜層１５を備えている。図中、矢印（Ａ），（Ｂ）は印加磁界の方向を示すもので、後述するように磁気ヘッドの印加磁界方向により異なる磁気特性を示す。
本発明の好ましい実施形態では、光回折格子またはホログラムパターンからなる微細凹凸に追従して強磁性材薄膜層１５を形成することにより、該強磁性材薄膜層に磁気異方性を付与することができることにある。なお、ここで「追従して」とは、光回折格子またはホログラムパターンからなる微細凹凸上に強磁性材薄膜層を気相成膜したときに、当該薄膜表面が概ね前記微細凹凸の形状に平行した近似した状態の凹凸になることを意味する。
本発明の他の好ましい実施形態では、光回折格子またはホログラムパターン１３を磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせとすることにある。このようにすることで、その固有パターン構成から読み出し磁気特性に対してそれぞれ固有の識別情報を与えることができる。
【００１０】
本発明のさらに他の好ましい実施形態では、基材１１の光回折格子パターンまたはホログラムパターン１３と強磁性材薄膜層１５との間に光反射層１４を設けることで、これによりパターンの視認を明瞭にすることができ光輝性が高まる。また、基材１１の光回折格子パターンまたはホログラムパターン１３形成面とは反対側の面（以下、「裏面」ともする。）に、接着剤層１６ａを設け、強磁性材薄膜層１５上面（以下、「表面」ともする。）に接着剤層を設けることにある。これらの接着剤層は、スレッドを偽造防止用紙に抄き込んだ際に用紙との接着強度を高める効果をもたらす。
【００１１】
以下、偽造防止用スレッドの各構成要素についてさらに詳細に説明する。
基材１１としては、耐水性および耐熱性のある樹脂フィルムが使用でき、一般的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂フィルムをはじめとしてその他のポリエステル樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリサルホン樹脂フィルム、ポリフェニレンサルファイド樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム、等が挙げられる。厚さは、１〜３００μｍ程度、好ましくは、５〜５０μｍの厚さが推奨できる。
【００１２】
光回折格子またはホログラムパターン１３を形成する樹脂層１２を構成する材料は、光回折格子またはホログラムの微小凹凸形状を付与できうる合成樹脂が使用できる。この合成樹脂としては、熱可塑性合成樹脂、例えばポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例えばポリメチルメタクリレート等）、ポリカーボネート、もしくはポリスチレン等、または熱硬化性合成樹脂、例えば不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート（本明細書においては、（メタ）アクリレートの語は、アクリレートおよびメタクリレートの双方を包含する意味である。）、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、もしくはトリアジン系（メタ）アクリレート等が挙げられる。あるいは、上記熱可塑性合成樹脂および熱硬化性合成樹脂を混合して使用しても良い。
【００１３】
さらに合成樹脂としては、特に、熱プレスよりホログラムの微小凹凸形状をエンボスでき、エンボス後には、硬化して充分な耐久性を生じるものが良く、いわゆる紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱硬化、自然硬化型の反応性の樹脂等が用いられうる。本発明においては、紫外線もしくは電子線で硬化する樹脂が適している。具体的には、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレングリコールグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジ  （メタ）アクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラ（メタ）アクリレート等のラジカル重合性不飽和基を有する単量体が用いられうる。
【００１４】
さらに、熱成形性を有する紫外線または電子線硬化性樹脂としては、以下の化合物（１）〜（８）を重合もしくは共重合させた重合体に対し、後述する方法  （イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入したものが用いられうる。
【００１５】
（１）水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等。
（２）カルボキシル基を有する単量体：（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネート等。
（３）エポキシ基を有する単量体：グリシジル（メタ）アクリレート等。
【００１６】
（４）アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸アリル等。
（５）アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等。
（６）スルフォン基を有する単量体：２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。
（７）イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシアネートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物等。
【００１７】
（８）さらに、上記の重合体のガラス転移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体とを共重合させることができる。このような共重合可能な単量体としては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１８】
次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線硬化性樹脂が得られる。
（イ）水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体等を縮合反応させる。
（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
（ハ）エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
（ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させても良い。
またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫外線または電子線硬化性樹脂とを混合して用いることもできる。
【００１９】
また、上記のものは、電子線照射により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤として、ベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類等の紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いることができる。
当該樹脂層は着色することもでき、その場合には紫外線や電子線の照射に対して変退色のない染料が好ましい。具体的には、１−２型アゾ系金属錯塩染料、１−１型アゾ系金属錯塩染料、金属フタロシアニン系染料等を使用することができる。
【００２０】
上記の合成樹脂より構成される着色されたまたは無色透明な光回折格子またはホログラムパターン樹脂層１２は、グラビアコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法等のコーティング方法により、厚さ０．１〜１００μｍ、望ましくは、０．５〜５０μｍに塗布形成される。
【００２１】
光反射層１４または透明反射層は、光回折格子またはホログラムパターンに反射性を与える（ホログラム画像等の光輝性効果を増大させる）ためのものである。透明反射層の場合は、反射透明性を有する反射層であり、その材質としては、ホログラム樹脂層１２とは屈折率の異なる物質の連続薄膜や、厚みが２００Å未満の金属薄膜等があげられる。
【００２２】
光回折格子パターンは、格子間隔１００〜２０，０００ｎｍ、深さ１０〜１，０００ｎｍの範囲で形成された回折格子パターンを前記樹脂層１２に形成したもので、入射光を特定の回折角度で回折するため、観察方向により変化した色光を与えるものである。この回折格子は格子間隔ｄが一定であれば、光の波長によって回折角度φが異なり、また光の波長が一定であれば、格子間隔ｄによって回折角度φが異なる。この関係は下記の（式１）で示される。
λ＝ｄ（ｓｉｎω＋ｓｉｎφ）      （式１）
λ：波長    ｄ：格子間隔    ω：入射角度    φ：回折角度
この光回折格子パターンの形成法としては、機械的に切削するもののほか、電子線描画装置によりレジスト上にパターン形成しフォトエッチングの方法で蝕刻することができ、これらの原版を複製用の型版にとり、型押しして転写する方法が採用される。
【００２３】
一方、ホログラムパターンは、２または３次元画像を再生可能な表面凹凸パターンとして形成されたものである。この表面凹凸パターンとしては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布が凹凸模様で記録されたレリーフホログラムを使用可能であり、その他のホログラムとしては、フレネルホログラム、フラウンホーファホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザ再生ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらにそれらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックスステレオグラム等が挙げられる。ホログラムの場合も干渉縞のピッチ、凹凸の深さは、回折格子と同程度のものである。
【００２４】
次に、強磁性材薄膜層１５は、結晶性あるいはアモルファスのものであっても良く、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）のいずれか１種または２種以上の組み合わせからなる磁性材料を主成分として、これに、ほう素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、珪素（Ｓｉ）、燐（Ｐ）、硫黄（Ｓ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブテン（Ｍｏ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、鉛（Ｐｂ）から選ばれた数種の金属または非金属元素の添加物から構成されている。
【００２５】
強磁性材薄膜層の形成は、主成分となる鉄、コバルト、ニッケルからなる合金と添加元素からなる材料あるいはこれらの混合物をターゲット材または蒸着源として、スパッタリング、蒸着、イオンプレーティングなどの真空プロセスを用いた手段で光回折格子またはホログラムパターン層上に形成する。
強磁性材薄膜層の厚みは、５００〜５０００Åが適切である。当該層の下限値が５００Å以下となる理由は、磁性体層の厚みが薄くなるため、磁性体の絶対量の減少と共に飽和磁束が減少し、磁気信号が小さくなるためであり、真偽判定に用いる磁気信号を得るためには磁性体の厚みは、５００Å以上が必要となるためである。また、５０００Åが上限値となる理由は、他の方法で作製した磁性体膜（通常は厚さ１μｍ以上）と明確な区別をつけるためであり、これ以上厚くすることは避けることが好ましいからである。さらに、これ以上の厚さとなる場合は、膜の内部応力によるカール等でスレッドの特性が悪くなり、しわ、クラックが発生する場合があるからである。
強磁性材薄膜層の生産性および磁気信号の安定性から、好ましい当該層の厚さは、１５００〜３０００Å（０．１５〜０．３μｍ）の範囲である。
【００２６】
このような強磁性材薄膜層は、Ｈｃ（保磁力）、Ｂｍ（飽和磁束密度）において特異な特性を示し、その磁気特性から通常印加の磁界強度とその磁界によって磁化される磁性体の磁束密度とは非線形のＢ−Ｈ特性（ヒステリシス曲線）を有するので、一般の磁性材料とは明確に区別することができる。
図２は、強磁性材薄膜層のヒステリシス曲線を示すもので、平滑で凹凸のない基材面では、図２（Ａ）のように、強磁性材薄膜層１５は、保磁力Ｈｃが小さく、かつ高角型比（０．８〜１．０）のＢ−Ｈヒステリシス曲線が得られる。一方、凹凸のある基材面では、図２（Ｂ）のように、飽和磁束密度Ｂｍが減少し保磁力Ｈｃが増大し低角型比（０．５以下）のヒステリシス特性が得られる。
【００２７】
角型比の変化は、微細凹凸パターンに対する印加磁界の方向によっても生じる。例えば、図１において微細凹凸の長手方向に磁気ヘッドの磁界を印加した場合（図１の矢印Ａ方向）には、微細凹凸の上面、側面、底面のそれぞれの部分が細長い長方形と仮定でき長手方向に自発磁化を生じる磁性体と考えることができる。このため、矢印（Ａ）方向に磁界を加えた場合は、角型比の高いＢ−Ｈ特性が得られ（低磁界で飽和する。）、矢印（Ｂ）方向に磁界を加えると、磁化容易軸（自発磁化方向）と９０°の方向を持つため、飽和させるためにはより大きな磁界が必要となり角型比が小さいＢ−Ｈ特性が得られる。また、その中間の角度においては、図３の曲線で得られる角度依存値をとることになる。角度９０°（直交）において理論的には零（０）となるが、一定の長さを有するため零にはならない。なお、角型比Ｒｓｑは、次の（式２）で表される。
Ｒｓｑ＝Ｂｒ（残留磁束密度）／Ｂｍ（飽和磁束密度）    （式２）
【００２８】
光回折格子またはホログラムパターンを形成した樹脂層１２と、強磁性材薄膜層１５との間には、光反射層１４として非磁性金属膜を設けることができる。このようにする場合には強磁性体薄膜の色に影響されることなしに、非磁性金属の光沢色が反射光として外部から観測されるようになり、外見上は一般の光回折格子またはホログラムと変わらない偽造防止用スレッドが与えられる。このような光反射層は反射性の非磁性金属材料が使用され、金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル等が使われる。一般的にはコストとよび技術上の問題からアルミニウムが好ましく採用され、その厚さは、１００Å〜２０００Å程度の厚みに形成するが、好ましくは２００Å〜１０００Å程度の厚みである。
【００２９】
青銅、真鍮、白銅等の合金は着色もしくは薄膜の反射率を調整する場合に用いられるが、金属化合物を使用する場合は、その選択により透明または半透明の蒸着層にできる効果がある。これには金属あるいは合金の酸化物、硫化物等の金属化合物を使用することができ、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ2 ）等が好ましく使用される。
【００３０】
図４は、光回折格子またはホログラムパターンの例を示す図である。前記のように特定の磁気特性を与えるように組み合わせパターンを示すものであり、光回折格子またはホログラムパターン１３が、磁気ヘッドの操作方向またはスレッドの長さ方向に対して異なる読み取り磁気特性を与えるように異なる凹凸の配置角度からなるパターンの組み合わせから構成されている。
図４（Ａ）の場合は、光回折格子またはホログラムパターン１３の「有る」部分と「無い」部分１３ｎとがスレッドの長さ方向に対して繰り返し形成されている。このパターンの「有る」部分を「１」、「無い」部分を「０」とすれば、１，０，１，０の繰り返し信号が得られることになる。
図４（Ｂ）の場合は、光回折格子またはホログラムパターン１３の「無い」部分１３ｎと、スレッドの長さ方向に対して「凹凸が平行」の場合と、「凹凸が直交」する場合とが繰り返し形成されている。このパターンの「無い」部分を「０」、「凹凸が平行」の場合を「１」、「凹凸が直交」の場合を「２」とすれば、０，１，２，０，１，２の繰り返し信号が得られることになる。
【００３１】
図４（Ｃ）の場合は、光回折格子またはホログラムパターン１３の「無い」部分１３ｎと、スレッドの長さ方向に対して「凹凸が平行」の場合と、「凹凸が直交」する場合と、「凹凸が４５°で交差」する場合とが、繰り返し形成されている。このパターンの「無い」部分を「０」、「凹凸が平行」の場合を「１」、「凹凸が直交」の場合を「２」、「凹凸が４５°で交差」する場合を「３」とすれば、０，１，２，３，０，１，２，３の繰り返し信号が得られることになる。
このような信号の組み合わせは、上記以外にも各種の方法が可能であり、凹凸の角度の変化により図３のように磁気特性が変化することから、他の角度の場合も読み取りが可能であり、実質的に無制限の数の信号種別をスレッドに対して付与することができる。
【００３２】
接着剤層１６ａは、偽造防止用スレッド１０を用紙に抄き込んだ際に、用紙との接着強度を高めるためのものであり、熱溶解温度６０〜８０°Ｃの水可溶性バインダー等からなる接着剤層を基材１１の裏面に設けることができる。あるいは、接着剤層は、強磁性材層の上面（表面）に設けてもよい。具体的には、水可溶性である、でんぷん、カゼイン、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエチルセルローズ等からなる接着剤を採用することができる。
あるいはまた、接着剤層は、熱溶解温度６０〜８０°Ｃのホットメルト型接着剤であってもよい。その塗布厚みは、数μｍ以内のものであってよい。
【００３３】
次に、本発明の偽造防止用紙について説明する。
スレッドを窓部に表出するように入れた偽造防止用紙は、従来のものは例えば基紙に光輝性スレッド等を抄き込んだタイプの用紙であって、基紙が光輝性スレッドを間欠的に露出する表出部（ウィンド）と、該表出部間で光輝性スレッドを間欠的に覆う被覆部とを備えたものが知られている。この構成の偽造防止用紙は、多筒式抄紙機の一つの抄き網部上に、スレッドと同じ幅かそれより広幅の小さな凸部を設け、この凸部の上にスレッドを載せた状態で紙料液を供給することによって製造できる。つまり、このようにすれば、凸部のない位置ではスレッドが紙料液で挟まれるので被覆部が形成され、凸部の位置ではスレッドが紙料液の下面側から露出するので表出部が形成される。
【００３４】
上記の構成のようなウィンド付きスレッド用紙においては、光輝性スレッド等が表出部において間欠的に露出しているので、コピーした場合でも金属色が再現されないことから偽造防止できる。また、偽造品かどうかを見るために用紙の端面を確認する必要がなく、しかも、光輝性スレッド等が基紙からはがれてしまうのを防止できる。
【００３５】
図５は、本発明の偽造防止用紙の１実施形態を示す図である。図５（Ａ）はその平面図、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）のＡ−Ａ線における断面を示している。
図５のように、本発明の偽造防止用紙２０の第１の実施形態では、基紙２１にスレッド１０を、１本抄き込んだ構成であって、基紙２１には、スレッド１０を間欠的に露出する複数の表出部２６と、各表出部間でスレッド１０を間欠的に覆う被覆部２７とを備えている。表出部２６はスレッドと同幅でもよいが、それより広幅としてスレッド１０の両サイドを透かし部２８となるようにすることで、抄造時に発生するスレッドの公差（ブレ）を透かし部により吸収することができる。
【００３６】
ただし、基紙２１は、スレッド１０の両端部分がいずれのスレッドに対しても被覆部１７として構成されていることが好ましい。スレッドの端部が露出しているとスレッドの剥離が生じるからである。使用するスレッドの幅は用紙の使用目的にもより特に制限されないが、０．２ｍｍ〜５ｍｍ程度のものが通常使用される。
【００３７】
図６は、本発明の偽造防止用紙の第２の実施形態を示す図である。図６（Ａ）はその平面図、図６（Ｂ）は、図６（Ａ）のＡ−Ａ線における断面を示している。図６のように、本発明の偽造防止用紙の第２の実施形態では、基紙２１にスレッド１０を複数本抄き込んだ構成であって、基紙２１は、スレッド１０を間欠的に露出する複数の表出部２６と、各表出部間でスレッド１０を間欠的に覆う被覆部２７とを備えていることは第１の実施形態と同一ある。
この第２の実施形態では、表出部２６と被覆部２７とが複数本のスレッドに対してスレッド端における用紙の端部からの同一位置において同一状態に現れている特徴がある。すなわち、紙端からｘの位置においてはスレッド１０ａに対してもスレッド１０ｂに対しても共に表出部であり、紙端からｙの位置においてはスレッド１０ａに対してもスレッド１０ｂに対しても共に被覆部となっている。
ただし、基紙２１は、スレッド１０の両端部分がいずれのスレッドに対しても被覆部２７として構成されていることが好ましい。スレッドの端部が露出しているとスレッドの剥離が生じるからである。使用するスレッドの幅は用紙の使用目的にもより特に制限されないが、０．２ｍｍ〜５ｍｍ程度のものが通常使用される。
複数のスレッドの幅は同幅である必要はなく、また色調、光学特性、発色特性、磁気特性等をそれぞれ変えることも任意である。
このように、セキュリティ媒体に２本以上の複数のスレッドを導入することにより、偽造スレッドを単純に貼り付けるような方法は偽造コストが増大し、工程が複雑となるため、偽造抑制効果が増大する。
【００３８】
図７は、本発明の偽造防止用紙の第３の実施形態を示す図である。図７（Ａ）はその平面図、図７（Ｂ）は、図７（Ａ）のＡ−Ａ線における断面を示している。図７のように、本発明の偽造防止用紙の第３の実施形態では、基紙２１にスレッド１０を複数本抄き込んだ構成であって、基紙２１は、スレッド１０を間欠的に露出する複数の表出部２６と、各表出部間でスレッド１０を間欠的に覆う被覆部２７とを備えていることは第１の実施形態と同一ある。
この第３の実施形態では、表出部２６と被覆部２７とが複数本のスレッドのうちの少なくとも隣接する２本のスレッド間において、スレッド端における用紙の端部からの同一位置において異なる状態に現れている特徴がある。すなわち、紙端からｘの位置においてはスレッド１０ａに対しては表出部、スレッド１０ｂに対しては被覆部となっている。ただし、基紙２１は、スレッド１０の両端部分が被覆部２７として構成されていることが好ましいのは第１の実施形態と同一であり、以下の実施形態においても同様である。
このように、表出部をいわゆる千鳥状に設ける場合は、用紙を積み重ねた場合のスレッド部の盛り上がりを低減することができ、印刷加工を容易にし、巻き取り用紙の取扱い時における巻崩れを防止することができる。
【００３９】
次に、本発明の偽造防止用紙の製造状態を説明する。
図８は、スレッド入り偽造防止用紙を抄き込む状態を示す図である。図８（Ａ）はスレッドに平行な断面、図８（Ｂ）は、図８（Ａ）においてスレッドに直角なＣ−Ｃ線における断面、図８（Ｃ）は、同様Ｄ−Ｄ線における断面を示している。図示のように、このスレッド入り偽造防止用紙２０は、スレッド１０と同幅あるいはそれよりも広幅のすき網部の凸部２９ａを抄紙機のすき網部２９に適宜な間隔で設け、この凸部２９ａの上にスレッド１０を載せた状態で紙料液２２ａを供給することによって製造できる。つまり、このようにすれば、凸部２９ａと凸部２９ａの間の位置ではスレッド１０が紙料液２２ａで挟まれるので被覆部２７が形成され、凸部２９ａの位置ではスレッド１０が最下面となるので、抄紙機のすき網から用紙を剥離した際には、スレッドが表面に現れて表出部２６が形成される。
すき網部の凸部２９ａを図８（Ｄ）のように、スレッド１０と同幅にする場合はスレッド１０の両側に透かし部２８が入らないことになる。また、スレッドをまたぐような広幅とする場合は、透かし部が入り装飾的効果を高め、前記のようにスレッドのブレを吸収することができる。
また、スレッドの周辺に透かし模様２５を設ける場合は、凸部２９ａと同様にすき網部に模様状の凸部を形成すれば良い。
【００４０】
【実施例】
（実施例）
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
＜偽造防止用スレッドの作製＞
偽造防止用スレッドの基材フィルム１１として、平滑性が良く透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製「ルミラーＳ−２８」）〔厚み；１６μｍ〕に、常温で固体であり熱成形性を有する樹脂層、例えば常温で固体の紫外線硬化性樹脂層（回折格子形成層）を形成し、この面に光回折格子パターンが凹凸状に形成されている原版を加圧接触させて、回折格子パターンを樹脂層表面に転写すると同時に透明なフィルムの背後から紫外線を照射して樹脂層１２を硬化させて光回折格子パターンを形成した。なお、光回折格子パターンは、図３（Ｂ）のように形成し、光回折格子またはホログラムパターン１３の「無い」部分と、スレッドの長さ方向に対して「凹凸が平行」の場合と、「凹凸が直交」する場合とが繰り返されるように構成した。
【００４１】
続いて、この光回折格子パターン面に、Ａｌによる蒸着膜を厚み、３００Åに形成してから、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる強磁性材薄膜１５をスパッタリング法で、膜厚０．２μｍになるように形成した。
また、基材フィルムの裏面に、塩酢ビ系接着剤を１μｍの厚みに塗布した後、スリッタ機を使用して、幅２ｍｍにスリッタして、本発明の偽造防止用スレッドを完成した。
【００４２】
このスレッドの磁気特性を測定した結果、微細凹凸に平行した方向に印加磁界をかけたとき（図１における矢印Ａ方向）は、角型比は０．９であった。また、直交した方向（矢印Ｂ方向）のときは、角型比は０．２であった。そのときの測定は、ＶＳＭ（試料振動型磁束計）の直流磁場による計測であるが、交流磁場によるＢ−Ｈアナライザーによる計測であっても同じ結果となる。
【００４３】
＜偽造防止用紙の抄造＞
上記で製造した偽造防止用スレッド１０の２本が、図６のように偽造防止用紙に現れるように、表出部２６がピッチ１０ｍｍ×幅１０ｍｍ、被覆部２７がピッチ１０ｍｍで繰り返される抄き網パターンの抄紙機で、９０ｋｇ／四六版の上質紙に抄造した。なお、被覆部２７の上部の紙料が３５ｇ／ｍ2 、被覆部の下部の紙料が６９ｇ／ｍ2 となるように抄き網部の凸部の高さを調整した。
このようにして完成した偽造防止用紙２０は、磁気ヘッドで読み取った場合、スレッドの長さ方向に対して、パターンの「無い」部分が「０」、「凹凸が平行」の場合が「１」、「凹凸が直交」の場合が「２」として、０，１，２，０，１，２の繰り返し信号が得られた。
【００４４】
【発明の効果】
以上に詳述のように本発明の偽造防止用スレッドは、基材上に光回折格子またはホログラムパターンが形成された樹脂層を設け、その表面に強磁性材薄膜層を必要により光反射層を介在させて設けてあるので、通常の光輝性スレッドと同等の反射効果を持ち、光回折格子またはホログラムによる特有の光輝性を呈するほか、３次元表示効果と強磁性材薄膜による微細凹凸の長手方向に磁気ヘッドの磁界を印加した場合の角型比が０．８〜１．０であって、前記印加方向に対して垂直な方向に磁気ヘッドの磁界を印加した場合の角型比が０．５以下である磁気異方性を持つ磁気特性から通常の光輝性スレッドや磁気スレッドでは得られない複合した効果を発揮し、偽造困難性を高めたものとなる。また、光回折格子またはホログラムを特定のパターン形状とすることにより強磁性材から読み出される磁気特性に変化を与えて偽造、改ざんを一層困難なものとすることができる。また、本発明の偽造防止用紙は、基紙にこのような偽造防止用スレッドを抄き込んであるので、複製が困難であり商品券やその他の有価証券等の信頼性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の偽造防止用スレッドの一部断面を含む斜視図である。
【図２】  強磁性材薄膜層のヒステリシス曲線を示すある。
【図３】  印加磁界の方向による角型比の変化を示す図である。
【図４】  光回折格子またはホログラムパターンの例を示す図である。
【図５】  本発明の偽造防止用紙の第１の実施形態を示す図である。
【図６】  本発明の偽造防止用紙の第２の実施形態を示す図である。
【図７】  本発明の偽造防止用紙の第３の実施形態を示す図である。
【図８】  スレッド入り偽造防止用紙を抄き込む状態を示す図である。
【符号の説明】
１０    偽造防止用スレッド
１１    基材
１２    樹脂層
１３    光回折格子またはホログラムパターン
１４    光反射層
１５    強磁性材薄膜層
１６ａ  接着剤層
２０    偽造防止用紙
２１    基紙
２２ａ  紙料液
２６    表出部
２７    被覆部
２８    透かし部
２９    すき網部
２９ａ  すき網部の凸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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