(57)【要約】      （修正有）【課題】大面積の基板をコーティングする原子層堆積移載コーティング装置を提供する。【解決手段】原子層堆積移載コーティング装置１はサポート台１１、移載モジュール１２、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３、コントロールモジュール１４を有する。原子層堆積移載コーティング装置１は、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３によるハードウェア設計により、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３を効果的に制御することで、間歇的なオン及びオフを行い、或いは基板を搭載する移動プラットホーム１２１によりコーティング移動の距離を短縮し、原子層コーティングの層積加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられ、しかも基板伝送距離を短縮して震動による移動を減らし、加工の歩留まりを向上させられる。【選択図】図１
0003223152.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
原子層堆積移載コーティング装置であって、少なくともサポート台、移載モジュール、複数のスリット気体コーティング機ユニット、コントロールモジュールを有し、
前記移載モジュールは、前記サポート台上に設置され、前記移載モジュールは、移動プラットホーム、及び前記移動プラットホームに連接される駆動アセンブリを有し、
前記複数のスリット気体コーティング機ユニットは、前記移載モジュール上に設置され、前記各スリット気体コーティング機ユニットは、少なくとも１個の固定枠フレーム、及び前記固定枠フレーム上に固定されるスリット気体スプレーアセンブリを有し、
前記複数のスリット気体コーティング機ユニット間は前記移動プラットホーム方向へと並列延伸し組み付けられ、しかも前記スリット気体スプレーアセンブリは、複数の第一給気管、複数の第二給気管、複数の第三給気管、及び回收吸気管を有し、
前記コントロールモジュールは、前記スリット気体スプレーアセンブリと前記駆動アセンブリにそれぞれ電気的に連接する
ことを特徴とする
原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項２】
前記移動プラットホームは、花崗岩プラットホームである
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項３】
前記移動プラットホームは、複数の穿孔を有するコンベアベルトで、前記穿孔は、スリット或いは円孔の内のいずれかである
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項４】
前記駆動アセンブリは、前記移動プラットホームの二端部にそれぞれ設置される２個のローラーアセンブリ、及び前記ローラーアセンブリの一端部に設置される動力部材を有する
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項５】
前記固定枠フレームには、複数のボルトを対応して設置し、
前記各ボルトは、前記スリット気体スプレーアセンブリを固定し、
前記固定枠フレームには、固定柱を連接し、
前記固定柱は、前記サポート台上に固定される
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項６】
前記各スリット気体スプレーアセンブリの延伸長さは、前記移動プラットホームの横方向長さより長い
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項７】
前記コントロールモジュールは、さらに出力ユニットを電気的に連接し、前記出力ユニットは、ディスプレー或いはタッチパネルの内のいずれかである
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項８】
前記原子層堆積移載コーティング装置は、さらに前記移動プラットホーム下方に、複数の加熱吸気ボックスを設置する
ことを特徴とする
請求項１に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項９】
前記加熱吸気ボックスは、内部に収容設置空間を開設する箱体、前記収容設置空間に設置される複数の加熱管アセンブリを有し、しかも前記箱体の、前記移動プラットホームに近接する表面には、複数の貫通孔を開設し、前記加熱吸気ボックスには、真空吸気装置を連接する
ことを特徴とする
請求項８に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【請求項１０】
前記加熱吸気ボックスの両側部には、前記加熱吸気ボックスをサポートする複数のサポートフレームを設置する
ことを特徴とする
請求項８に記載の原子層堆積移載コーティング装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は原子層堆積移載コーティング装置に関し、特に大面積の基板コーティングに適用される原子層堆積移載コーティング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
原子層堆積（Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）は、一種の薄膜堆積の方法である。
堆積される原子層の厚さは、ナノ（ｎａｎｏｍｅｔｅｒ，ｎｍ）レベルの薄膜である。
一般的に、原子層の堆積方法は、２種以上のガス前駆体を使用し、しかも各ガス前駆体を交替に重複して基板上に加え反応させて形成する。
その製造工程では、基板の一表面をガス前駆体下方に暴露し、堆積循環を行う。
その内、各堆積循環は、一層の薄膜或いは一部分の単層薄膜を形成する。
原子層堆積中において、薄膜生成は、化学反応により、層間累積を行い、ガス前駆体分子は、化学結合の方式で基板表面に結合される。
ガス前駆体と化学結合する基板のすべての表面位置が覆われると、化学吸着は自然に停止する。
続いて、基板を第二ガス前駆体に暴露し、すべての第一ガス前駆体が反応するまで、第二ガス前駆体とすでに固体薄膜を形成した化学吸着前の第一ガス前駆体とを化学反応させ、基板は、自己制限的な方式により、一層の化学吸着第二ガス前駆体に覆われる。
よって、原子層堆積は、自己制限的に逐層堆積され、高いコンフォーマルコーティング及び優良な厚さ制御を提供することができる。
これら特性により、注目の方法となっており、半導体、太陽電池或いは有機発光ダイオード等のパーツの封入作業等にしばしば応用されている。
例えば、有機発光ダイオード或いは太陽電池では、堆積酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）薄膜の封入に用いられ、酸素或いは水分を隔絶し、その厚さを１-１０ｎｍにすることができる。
現在、関連パーツのニーズの拡大に伴い、原子層堆積コーティング設備の量産能力へのニーズも高まっている。
【０００３】
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ-Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ，ＯＬＥＤ）或いは太陽電池量産化の趨勢、パーツの厚さと軟性ニーズ維持による薄型化の趨勢に鑑み、関連の原子層堆積の伝送において、現在では直接、基板或いはロール材を、複数のローラーにより直接駆動し、固定位置に伝送する。
ローラーは基板を直接支えて引き、基板或いはロール材は応力を生じ、しかも基板或いはロール材とロール軸の間は、有効な固定と密着ができないため、移載過程において容易に外力の影響を受け、ずれたり捲れあがったり、さらには変形して、加熱作業を行うなど論外な状態となりやすい。
この他、コーティング作業の安定性と正確性を高めるため、現行では、基板を作業台上に密着し、基板と気体スプレー機構との間で安定的でフラットな距離を保持し、移載或いは関連ガス前駆体料のスプレー作業を行なっている。
このため、関連作業の制限となり、数度の重複堆積を達成するためには、絶えず基板の移動行程を増やし堆積の回数を増やす必要があり、作業時間が長くなり量産性に悪影響を及ぼしている。
さらに、従来の作業台は、花崗岩により基板或いはロール材を伝送し、或いは基板或いはロール材をコンベアベルト上に置き、しかもローラーにより直接コンベアベルトを駆動して基板或いはロール材を伝送する。
しかし、コンベアベルト下方には対応するサポート物によるサポートがないため、基板はコンベアベルト上で有効な定位が得られず、加工時に安定的に伝送されず、基板の加工品質が不良となっている。
よって、新しいハードウェア設計を開発し、伝送時の、基板の過度な移動による震動を避けることが、原子層堆積コーティング等関連産業の開発業者と研究人員にとって喫緊の課題である。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
前記先行技術には、コンベアベルト下方にサポートがないため、コンベアベルト上で基板を定位できず、加工時に安定的に伝送されず、基板の加工品質が不良となる欠点がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本考案は大面積の基板をコーティングする原子層堆積移載コーティング装置に適用され、複数のスリット気体コーティング機ユニットによるハードウェア設計で、複数のスリット気体コーティング機ユニットを効果的に制御することで、間歇的なオン及びオフを行い、原子層の堆積効果を達成し、基板伝送距離を短縮し震動が生じる移動を低下させて加工の歩留まりを向上させ、しかも基板を搭載する移動プラットホームは、コーティング移動の距離を効果的に短縮することで、加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられる原子層堆積移載コーティング装置に関する。
【０００６】
本考案による原子層堆積移載コーティング装置は、少なくともサポート台、移載モジュール、複数のスリット気体コーティング機ユニット、及びコントロールモジュールを有する。
該移載モジュールは、サポート台上に設置され、移載モジュールは、移動プラットホーム、及び移動プラットホームに連接される駆動アセンブリを有する。
該複数のスリット気体コーティング機ユニットは、移載モジュール上に設置され、各スリット気体コーティング機ユニットは、少なくとも１個の固定枠フレーム、及び固定枠フレーム上に固定されるスリット気体スプレーアセンブリを有する。
該スリット気体コーティング機ユニット間は移動プラットホームに向かい並列延伸して組み付けられ、しかもスリット気体スプレーアセンブリは、複数の第一給気管、複数の第二給気管、複数の第三給気管、及び回收吸気管を有する。
該コントロールモジュールは、スリット気体スプレーアセンブリと駆動アセンブリにそれぞれ電気的に連接される。
【０００７】
本考案の一実施形態において、移動プラットホームは、花崗岩プラットホームである。
【０００８】
本考案の一実施形態において、移動プラットホームは、複数の穿孔を有するコンベアベルトで、穿孔は、スリット或いは円孔等の内の一種の形態である。
【０００９】
本考案の一実施形態において、駆動アセンブリは、該移動プラットホームの二端部にそれぞれ設置される２個のローラーアセンブリ、及びローラーアセンブリの一端部に設置される動力部材を有し、動力部材は、ローラーアセンブリの回転を連動し、こうして移動プラットホームの回転を連動する。
【００１０】
本考案の一実施形態において、固定枠フレームには、複数のボルトを対応して設置し、ボルトは、スリット気体スプレーアセンブリを固定し、固定枠フレームには、固定柱を連接し、固定柱は、サポート台上に固定される。
【００１１】
本考案の一実施形態において、スリット気体スプレーアセンブリの延伸長さは、移動プラットホームの横方向長さより長い。
【００１２】
本考案の一実施形態において、コントロールモジュールは、さらに出力ユニットを電気的に連接し、出力ユニットは、ディスプレー或いはタッチパネル等の内の一種の装置を有する。
【００１３】
本考案の一実施形態において、原子層堆積移載コーティング装置は、さらに移動プラットホーム下方に複数の加熱吸気ボックスを設置する。
【００１４】
本考案の一実施形態において、加熱吸気ボックスは、内部に収容設置空間を開設する箱体、収容設置空間に設置される複数の加熱管アセンブリを有し、しかも箱体の、移動プラットホームに近接する一表面には、複数の貫通孔を開設し、該加熱吸気ボックスには、真空吸気装置を連接する。
【００１５】
本考案の一実施形態において、加熱吸気ボックスの両側部には、加熱吸気ボックスをサポートする複数のサポートフレームを設置する。
【００１６】
本考案の一実施形態において、貫通孔は、穿孔と同じくスリット或いは円孔等の内の一種の形態である。
【００１７】
本考案の一実施形態において、貫通孔の配置方向は、穿孔の方向と重なって設置される。
【００１８】
本考案の一実施形態において、加熱吸気ボックスは、さらに真空吸気装置を連接する。
【００１９】
本考案の原子層堆積移載コーティング装置は、複数のスリット気体コーティング機ユニットによるハードウェア設計で、複数のスリット気体コーティング機ユニットを効果的に制御することで、間歇的なオン及びオフを行い、原子層の層積効果を達成し、基板伝送距離を縮小して震動により生じる移動を減らし、加工の歩留まりを向上させ、しかも基板を搭載する移動プラットホームはコーティング移動の距離を効果的に短縮し、加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態の装置全体の立体図である。
【図２】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態の装置全体の断面図である。
【図３】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態の基板設置の模式図である。
【図４】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態の移載モジュールと加熱吸気ボックス設置の模式図である。
【図５】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第二実施形態の装置全体の立体図である。
【図６】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第二実施形態の装置全体の断面図である。
【図７】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態のスリット気体スプレーアセンブリ設置の模式図である。
【図８】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態のスリット気体コーティング機ユニット設置の模式図である。
【図９】本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態のスリット気体コーティング機ユニットの作動模式図である。
【考案を実施するための形態】
【００２１】
（一実施形態）
本考案は図に対応し、実施形態の形式で以下の通り詳細な説明を行う。
その内、使用する図は、表示と説明書の補助に用いるだけで、本考案実施後の実際の比率と正確な配置を示すものではない。
よって、図の比率と配置関係により、本考案の実際の実施における請求範囲を制限するものではない。
【００２２】
本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態の装置全体の立体図、装置全体の断面図、及び基板設置の模式図である図１〜図３に合わせて示す通り、本考案の原子層堆積移載コーティング装置１は、少なくともサポート台１１、移載モジュール１２、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３、及びコントロールモジュール１４を有する。
本考案の原子層堆積移載コーティング装置１は、基板２上に、少なくとも１個の原子層を堆積する。
しかも本考案は、各スリット気体コーティング機ユニット１３のハードウェア設計により、各スリット気体コーティング機ユニット１３を効果的に制御し、間歇的なオン及びオフを行い、原子層の層積効果を達成し、
基板２の伝送距離を短縮し震動が生じる移動を低下させて加工の歩留まりを向上させ、しかも基板を搭載する移動プラットホームは、コーティング移動の距離を効果的に短縮することで、加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられる。
基板２は、プラスチック基板、ウエハ、ガラス或いはシリコン等の内の一種である。
【００２３】
サポート台１１は、本考案の原子層堆積移載コーティング装置１をサポートする。
サポート台１１は、デスク型を呈し、サポート台１１は、平面（図示なし）、及び平面をサポートする４個のサポート脚（図示なし）を有する。
【００２４】
移載モジュール１２は、サポート台１１の平面上に設置され、移載モジュール１２は、移動プラットホーム１２１、及び移動プラットホーム１２１に連接される駆動アセンブリ１２２を有する。
図４に合わせて示す通り、移動プラットホーム１２１は、複数の穿孔１２１１を有するコンベアベルトである。
穿孔１２１１は、スリット或いは円孔の内の一種である。
コンベアベルトは、ガラス繊維布、テフロン（登録商標）布或いはステンレス等の内の一種の材質により製造される。
この他、駆動アセンブリ１２２は、移動プラットホーム１２１の二端部にそれぞれ設置される２個のローラーアセンブリ１２２１、及びローラーアセンブリ１２２１の一端部に設置される動力部材１２２２を有する。
動力部材１２２２は、ローラーアセンブリ１２２１の回転を連動し、こうして移動プラットホーム１２１の回転を連動する。
動力部材１２２２は、モーターで、しかも基板２は、移動プラットホーム１２１のコンベアベルト上に設置される。
本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第二実施形態の装置全体の立体図、及び装置全体の断面図である図６に合わせて示す通り、移載モジュール１２の移動プラットホーム１２１は、花崗岩材質により製造されるプラットホームである。
【００２５】
本考案による原子層堆積移載コーティング装置の第一実施形態のスリット気体スプレーアセンブリ設置の模式図、スリット気体コーティング機ユニット設置の模式図、及びスリット気体コーティング機ユニットの作動模式図である図７〜図９に合わせて示す通り、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３は、移載モジュール１２上に設置される。
各スリット気体コーティング機ユニット１３は、少なくとも１個の固定枠フレーム１３１、固定枠フレーム１３１上に固定されるスリット気体スプレーアセンブリ１３２、及び固定枠フレーム１３１に対応して設置され、スリット気体スプレーアセンブリ１３２を固定する複数のボルト１３３を有する。
複数のスリット気体コーティング機ユニット１３間は移動プラットホーム１２１方向へと並列延伸し組み付けられ、しかもスリット気体スプレーアセンブリ１３２は、複数の第一給気管１３２１、複数の第二給気管１３２２、複数の第三給気管１３２３、及び回收吸気管１３２４を有する。
各第一給気管１３２１は、第一前駆体（図示なし）を供給する。
第一前駆体は、例えば水蒸気（Ｈ２Ｏ）だがこれに限定されない。
各第二給気管１３２２は、第二前駆体（図示なし）を供給する。
第二前駆体は、例えば、トリメチルアミン（Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ、ＴＭＡと略称）だがこれに限定されない。
各第三給気管１３２３は、窒素気体を供給し、各気体は、基板２上で反応し、少なくとも１層の原子層を形成する。
回收吸気管１３２４は、余分な気体を回収し、各気体のスプレー安定循環と反応を提供する。
この他、固定枠フレーム１３１には、固定柱１３１１を連接する。
固定柱１３１１は、サポート台１１上に固定される。
さらに、各スリット気体スプレーアセンブリ１３２の延伸長さは、移動プラットホーム１２１の横方向長さより長い。
【００２６】
コントロールモジュール１４は、スリット気体スプレーアセンブリ１３２と駆動アセンブリ１２２にそれぞれ電気的に連接される。
コントロールモジュール１４は、サポート台１１下方に設置され、各スリット気体コーティング機ユニット１３の気体供給流量及び回收吸気の流量を制御し、ローラーアセンブリ１２２１の回転メカニズム、往復頻度、及び移載速度を制御する。
コントロールモジュール１４は、出力ユニット１５を電気的に連接し、しかも出力ユニット１５は、ディスプレー或いはタッチパネル等の内の一種の装置を有する。
出力ユニット１５は、各種作業状態の表示データと入力を提供し、使用者の参考に供する。
【００２７】
図４に合わせて示す通り、原子層堆積移載コーティング装置１は、さらに移動プラットホーム１２１下方に、複数の加熱吸気ボックス１６を設置する。
加熱吸気ボックス１６は、内部に収容設置空間１６１１を開設する箱体１６１、収容設置空間１６１１に設置される複数の加熱管アセンブリ１６２を有し、しかも箱体１６１の、移動プラットホーム１２１に近接する表面には、各穿孔１２１１と対応する複数の貫通孔１６１２を開設する。
貫通孔１６１２は、穿孔１２１１と相同のスリット或いは円孔の内の一種である。
加熱吸気ボックス１６の両側部には、加熱吸気ボックス１６をサポートする複数のサポートフレーム１６３を設置する。
さらに、貫通孔１６１２の配置方向は、穿孔１２１１の方向と重なって設置し、貫通孔１６１２の幅は、０．５ｍｍから２ｍｍの間である。
各加熱吸気ボックス１６は、ローラーアセンブリ１２２１と移動プラットホーム１２１の間に設置され、箱体１６１の収容設置空間１６１１には、加熱管アセンブリ１６２を設置し、各気体反応に必要な熱源を提供し、温度制御を行う。
しかも、箱体１６１表面に設置するスリット形態の貫通孔１６１２は、同じくスリット形態の穿孔１２１１と対応し、加熱管アセンブリ１６２の制御可能温度を、貫通孔１６１２と穿孔１２１１を通して、基板２に伝える。
しかも、各加熱吸気ボックス１６は、移動プラットホーム１２１を上方へとサポートする効果も提供でき、基板２搭載の安定性を拡大する。
加熱吸気ボックス１６には、真空吸気装置１６４を連接する。
真空吸気装置１６４は、サポート台１１下方に設置され、真空吸気装置１６４は、負圧を生じ、貫通孔１６１２と穿孔１２１１を通して、基板２を搭載する吸引力を提供し、これにより基板２は、移動プラットホーム１２１上に密着し、コーティング作業の安定性と精度を高めることができる。
【００２８】
本考案の実施時における第一種作動方式は、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３により、基板２コーティング面積に対応する。
コーティング時には、基板２を搭載する移動プラットホーム１２１の移動作動を行わず、複数のスリット気体スプレーアセンブリ１３２を制御して、間歇性のオン及びオフを行わせることで、コーティング原子層堆積効果を達成できる。
しかも、基板２の伝送距離を縮小し震動を低下させ移動を生じ、加工の歩留まりを向上させることができる。
第二種作動方式は、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３を延伸して組み合わせる長さは、移動プラットホーム１２１の横方向長さより長い。
コーティング時には、各スリット気体コーティング機ユニット１３面積は、基板２コーティングの面積に対応し、移動プラットホーム１２１は、往復作動できる。
移動プラットホーム１２１の毎回の移動距離は、１個のスリット気体コーティング機ユニット１３の長さを一回の距離とする時、基板２は、一層のコーティングを重ねることができる。
こうして、基板２を搭載する移動プラットホーム１２１のコーティング移動の距離を短縮できるばかりか、加工の作業時間を短縮することもできる。
第三種作動方式は、移動プラットホーム１２１上に、複数の基板２を設置し、複数の基板２は、複数のスリット気体コーティング機ユニット１３にそれぞれ対応する。
移動プラットホーム１２１は往復作動し、これにより複数のスリット気体コーティング機ユニット１３は、複数の基板２にコーティングできる。
移動プラットホーム１２１の往復作動により、複数の基板２コーティング層数を拡大でき、コーティング倍増の加工効率を達成でき、しかも複数の基板２が伝送中に震動により移動することを防止でき、こうして加工の歩留まりを高めることができる。
【００２９】
上述の実施説明により明らかなように、本考案は従来製品に比べ、以下の長所を備える。
本考案の原子層堆積移載コーティング装置は、複数のスリット気体コーティング機ユニットによるハードウェア設計で、複数のスリット気体コーティング機ユニットを効果的に制御することで、間歇的なオン及びオフを行い、原子層の層積効果を達成し、基板伝送距離を縮小し震動により生じる移動を減らし、加工の歩留まりを向上させ、しかも基板を搭載する移動プラットホームはコーティング移動の距離を効果的に短縮し、加工の作業時間を確実に短縮し、及び加工効率を倍増させられる。
【００３０】
上記を総合すると、本考案の原子層堆積移載コーティング装置は確かに上述の実施形態により、予期の使用効果を達成でき、しかも本考案は申請前に公開されておらず、特許法の規定と要求に完全に符合してため、法に基づき実用新案登録を申請する。
上述の図及び説明は、本考案の実施形態にすぎず、本考案の保護範囲を限定するものではなく、よって、本考案により保護される範囲は後述される実用新案登録請求の範囲を基準とする。
【符号の説明】
【００３１】
１  原子層堆積移載コーティング装置、
１１  サポート台、
１２  移載モジュール、
１２１  移動プラットホーム、
１２１１  穿孔、
１２２  駆動アセンブリ、
１２２１  ローラーアセンブリ、
１２２２  動力部材、
１３  スリット気体コーティング機ユニット、
１３１  固定枠フレーム、
１３１１  固定柱、
１３２  スリット気体スプレーアセンブリ、
１３２１  第一給気管、
１３２２  第二給気管、
１３２３  第三給気管、
１３２４  回收吸気管、
１３３  ボルト、
１４  コントロールモジュール、
１５  出力ユニット、
１６  加熱吸気ボックス、
１６１  箱体、
１６１１  収容設置空間、
１６１２  貫通孔、
１６２  加熱管アセンブリ、
１６３  サポートフレーム、
１６４  真空吸気装置、
２  基板。
【図１】
0003223152.tif 000003
【図２】
0003223152.tif 000004
【図３】
0003223152.tif 000005
【図４】
0003223152.tif 000006
【図５】
0003223152.tif 000007
【図６】
0003223152.tif 000008
【図７】
0003223152.tif 000009
【図８】
0003223152.tif 000010
【図９】
0003223152.tif 000011