(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送ベルト上の真空チャックテーブルに、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品を装着し、この物品上に貼り付けローラにより粘着シートを貼り付け、この粘着シートを剥離ローラにより剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去するにあたり、上記粘着シートの剥離時に上記の剥離ローラ側に設けたヒータにより加温して、この粘着シートの粘着剤層とレジストマスクとの密着性を向上させるようにしたことを特徴とするレジストマスクの除去方法。
【請求項２】
搬送ベルト上の真空チャックテーブルに、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品を装着し、この物品上に粘着シートを貼り付ける貼り付けローラと、この粘着シートを剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去する剥離ローラを備えてなり、かつ上記粘着シートの剥離時に加温してこの粘着シートの粘着剤層とレジストマスクとの密着性を向上させるヒータを上記の剥離ローラ側に設けたことを特徴とするレジストマスクの除去装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、サンドブラスト処理後のレジストマスクを粘着シ―ト類を用いて剥離除去するレジストマスクの除去方法と除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ダイオ―ドの製造においては、シリコンウエハにレジスト材を塗布し、通常のフオトプロセスにより所定の画像（レジストパタ―ン）を形成するか、またはレジストパタ―ンをあらかじめ形成したシ―トを貼り付け、これをマスクとしてサンドブラスト処理を施すことにより、シリコンウエハを所定パタ―ンに加工している。上記サンドブラスト処理後、シリコンウエハ上の不要となつたレジストマスクは、溶剤（剥離液）や薬品などにより除去している。しかしながら、レジストマスクの除去に溶剤や薬品を用いると、作業環境を損なう問題があり、また除去作業に長時間を要するという問題もあつた。
【０００３】
このため、最近では、粘着シ―ト類（シ―ト、テ―プ）を使用し、これをレジストマスク上に貼り付けて剥離操作することにより、レジストマスクを粘着シ―ト類と一体に剥離除去する方法が提案されている。この粘着シ―ト類を使用する方法は、溶剤や薬品が不要のため、作業環境を悪化させる心配がなく、しかも除去作業を短時間に行えるなどの利点があり、その実用化が期待されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、粘着シ―ト類を使用する方法では、レジストマスクとシリコンウエハとの密着強度が大きく、またサンドブラスト処理によりレジストマスクの表面が変質していることもあつて、剥離操作後にレジストマスクの一部がシリコンウエハ上に残つて、完全に剥離除去できない場合があつた。
【０００５】
本発明は、このような事情に照らし、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上から上記マスクを粘着シ―ト類を使用して確実に剥離除去する除去方法と除去装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成するため、鋭意検討した結果、サンドブラスト処理後のレジストマスク上に粘着シ―ト類を貼り付けて剥離操作するにあたり、上記粘着シ―ト類の剥離時に加温して、この粘着シ―ト類の粘着剤層とレジストマスクとの密着性を向上させるようにしたときに、レジストマスクを物品上から確実に除去できることを見い出し、本発明を完成するに至つた。
【０００７】
すなわち、本発明は、搬送ベルト上の真空チャックテーブルに、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品を装着し、この物品上に貼り付けローラにより粘着シートを貼り付け、この粘着シートを剥離ローラにより剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去するにあたり、上記粘着シートの剥離時に上記の剥離ローラ側に設けたヒータにより加温して、この粘着シートの粘着剤層とレジストマスクとの密着性を向上させるようにしたことを特徴とするレジストマスクの除去方法（請求項１）に係るものである。
【０００８】
また、本発明は、上記レジストマスクの除去方法に基づく除去装置として、搬送ベルト上の真空チャックテーブルに、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品を装着し、この物品上に粘着シートを貼り付ける貼り付けローラと、この粘着シートを剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去する剥離ローラを備えてなり、かつ上記粘着シートの剥離時に加温してこの粘着シートの粘着剤層とレジストマスクとの密着性を向上させるヒータを上記の剥離ローラ側に設けたことを特徴とするレジストマスクの除去装置（請求項２）に係るものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参考にして、説明する。
図１は、本発明のレジストマスクの除去方法とこれに基づく除去装置の一例を示す概略図である。
同図において、物品１は、ガラスなどの台座１０上にシリコンウエハ１１が固定されてなり、水平方向（図中、左側から右側への矢印方向）に一定速度で移動する搬送ベルト２上の真空チヤツクテ―ブル３に装着されている。上記のウエハ１１は、その上に形成したレジストマスク４の存在下、常法により、サンドブラスト処理、つまり微細サンドを強力に噴射する処理を施して、露出部分（マスク４が存在しない部分）だけを削落し、非露出部分（マスク４が存在する部分）はそのまま残すことにより、所定パタ―ンに加工してある。
【００１０】
本発明においては、まず、（ａ）で示す工程で、上記サンドブラスト処理後のレジストマスク４が存在する物品１上に、貼り付けロ―ラ５により、粘着シ―ト類６を貼り付ける。つまり、この工程では、装置構成的に、一定の速度で供給される粘着シ―ト類６の粘着面を貼り付けロ―ラ５により物品１上に押圧し、この物品１上のレジストマスク４に粘着シ―ト類６を貼り付ける機構を備えている。粘着シ―ト類６には、たとえば、プラスチツクフイルム、紙、不織布、布などの基材の片面にアクリル系、ゴム系などの粘着剤を塗着したものが用いられる。粘着剤は紫外線照射などにより硬化するタイプ、非硬化タイプのいずれでもよい。硬化タイプでは（ｂ）に示す工程で紫外線照射装置７により硬化処理して、粘着剤層とレジストマスク４との接着強度を大きくすることができる。
【００１１】
つぎに、（ｃ）で示す工程において、物品１上に貼り付けた上記粘着シ―ト類６を剥離ロ―ラ８を用いて剥離操作することにより、この粘着シ―ト類６とレジストマスク４とを一体に剥離除去して、回収ロ―ラ９に巻き取る。その際、ヒ―タ２０により粘着シ―ト類６と物品１を加温（たとえば５０℃程度に加温）し、粘着シ―ト類６の粘着剤層とレジストマスク４を軟化させて、両者の密着性を向上させるようにする。こうすることにより、レジストマスク４が除去されやすくなり、このマスク４がサンドブラスト処理により変質していても、またこのマスク４とシリコンウエハ１１との密着強度が大きくても、このマスク４を粘着シ―ト類６と一体に確実に剥離除去でき、従来のように上記マスク４の一部がシリコンウエハ１１上に残ることはない。
【００１２】
つまり、この工程では、装置構成的に、物品１上に貼り付けた粘着シ―ト類６を剥離ロ―ラ８により剥離して、この粘着シ―ト類６とレジストマスク４とを一体に剥離除去して、回収ロ―ラ９に巻き取る機構を備えているとともに、上記粘着シ―ト類６の剥離時にヒ―タ２０により粘着シ―ト類６の粘着剤層とレジストマスク４との密着性を向上させる加温機構を設けるようにしたものであり、これにより、上記格別顕著な効果が奏し得られるものである。
【００１３】
このようにしてレジストマスク４が除去された、台座１０上に所定パタ―ンのシリコンウエハ１１を有する物品１は、公知の各種処理工程を経て、半導体装置の製造のためのピツクアツプ工程に供される。
【００１４】
なお、上記の実施例では、粘着シート類６の剥離時の加温方法として、真空チャックテーブル３の上方の剥離ローラ８側に配設したヒータ２０を用いて加温しているが、剥離ローラ８にヒータを内蔵させて加温してもよい。要は、粘着シート類６の粘着剤層とレジストマスク４との密着性を向上させうる加温方法であれば、とくに限定されない。
【００１５】
【発明の効果】
以上のように、本発明においては、サンドブラスト処理後のレジストマスク上に粘着シ―ト類を貼り付けて剥離操作するにあたり、上記粘着シ―ト類の剥離時に加温して、この粘着シ―ト類の粘着剤層とレジストマスクとの密着性を向上させる構成としたことにより、上記のレジストマスクを物品上から確実に剥離除去できる除去方法と除去装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のレジストマスクの除去方法と除去装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
１  物品
１１  シリコンウエハ
４  レジストマスク
５  貼り付けロ―ラ
６  粘着シ―ト類
８  剥離ロ―ラ
２０  ヒ―タ
【図１】
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