【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年7月24日(2013.7.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、液浸液を閉じ込める空間から該流体ハンドリング構造の外側の領域への境界にて、
使用時に基板及び／又は前記基板を支持する基板テーブルの方に向いた第１の列に配置された、２相流抽出のための細長い開口又は複数の開口と、
前記第１の列の隣に位置する第２の列に配置された、ガスナイフ用のガスを供給するための細長いアパーチャを有するガスナイフデバイスと、
前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接して配置された、追加ガス抽出のための細長い開口又は複数の開口と、
を連続して有し、
前記ガスナイフ用の前記ガスは、前記２相流抽出のための前記開口及び前記追加ガス抽出のための前記開口から抽出される、流体ハンドリング構造。
【請求項２】
前記第１及び第２の列は、前記空間を取り囲み、
前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口は、前記ガスナイフデバイスの全長にわたって提供され、
前記第１の列と前記第２の列と前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口との間のそれぞれの離間距離は、前記空間の周辺のすべての場所で実質的に同じである、請求項１に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項３】
前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口は、細長い開口である、請求項１又は２に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項４】
前記ガスナイフデバイスに最も近い前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口の縁部は、前記第１と第２の列の間にありかつ前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口の先にある前記流体ハンドリング構造の表面に対して、斜めの角度αに提供され、そのため前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口の幅が前記表面からの距離に応じて減少する、請求項３に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項５】
前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口は、多孔質材料で覆われた、請求項１から４のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項６】
前記第１の列の前記開口、及び前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口は、前記流体ハンドリング構造へのガス及び／又は液体の通路の入口である、請求項１から５のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項７】
前記第１の列の前記開口は、使用時に負圧源に接続され、
前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口は、使用時に負圧源に接続される、請求項１から６のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項８】
前記第１の列の前記開口に接続された前記負圧源、及び／又は前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口に接続された前記負圧源に接続された、又は接続可能なコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記第１の列の前記開口、及び／又は前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口を通過するガスの流量が、使用時に、前記ガスナイフデバイスからの前記ガスのフローが前記第１及び第２の列の間の前記流体ハンドリング構造の表面に実質的に垂直になる程度の量であるように、前記負圧源の少なくとも一つを制御する、請求項７に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項９】
前記流体ハンドリング構造は、前記ガスナイフデバイスの前記アパーチャに隣接する前記開口の先に、前記境界において、
第３の列の細長い開口又は複数の開口と、
第４の列の細長いアパーチャを有する第２のガスナイフデバイスと、
をさらに連続して有し、
前記第１から第４の列は、前記空間を連続して取り囲み、それぞれの列の間の離間距離は、前記空間の周辺のすべての場所で実質的に同じである、請求項１から８のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項１０】
前記第３の列の前記開口は、使用時に負圧源に接続され、
前記流体ハンドリング構造は、前記負圧源に接続された、又は接続可能なコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記第３の列の前記開口を通過するガスの流量が、前記第４の列の前記アパーチャから流出してガスナイフを形成するガスの流量以上になるように、前記負圧源を制御する、請求項９に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項１１】
前記第２及び第４の列の前記アパーチャは、使用時にガス供給装置に接続され、
前記流体ハンドリング構造は、前記ガス供給装置に接続された、又は接続可能なコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記第４の列の前記アパーチャから流出してガスナイフを形成するガスの流量が、前記第２の列の前記アパーチャから流出してガスナイフを形成するガスの流量よりも大きくなるように、前記ガス供給装置を制御する、請求項９又は１０に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項１２】
リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、使用時に液浸液が閉じ込められる空間の該流体ハンドリング構造の外側の領域に対する境界において、
使用時に、基板及び／又は前記基板を支持する基板テーブルの対向面の方に向いた第１の列に配置された、液体とガスを抽出する細長い開口又は複数の開口と、
前記第１の列の隣に位置する第２の列に配置された、ガスナイフ用のガスを供給するための細長いアパーチャと、
前記アパーチャに隣接して配置された、追加して液体とガスを抽出する細長い開口又は複数の開口と、
を連続して有し、
前記ガスナイフ用の前記ガスは、前記液体とガス抽出のための前記開口及び前記追加の液体とガス抽出のための前記開口から抽出される、流体ハンドリング構造。
【請求項１３】
前記第１の列の前記開口は、前記液浸液のメニスカスを前記空間内にピン止めするためのものである、請求項１２に記載の流体ハンドリング構造。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造を備えるリソグラフィ装置。
【請求項１５】
投影システムの最終要素と基板及び／又は前記基板を支持する基板テーブルとの間の空間に液浸液を提供するステップと、
前記投影システムの前記最終要素と前記基板及び／又は前記基板テーブルとの間から、第１の列に配置された２相流抽出のための細長い開口又は複数の開口を通して、液浸液を取り出すステップと、
前記第１の列の隣に位置する第２の列のアパーチャを通してガスナイフを形成するガスを供給することで、前記第１の列の前記開口の方へ液浸液を押すステップと、
前記ガスナイフのための前記アパーチャに隣接し、前記第１の列の前記細長い開口又は複数の開口に対して前記ガスナイフのための前記アパーチャの逆側にある細長い開口又は複数の開口を通して、ガス及び残留液浸液を抽出するステップと、
を含み、
前記ガスナイフ用の前記ガスは、前記２相流抽出のための前記開口及び前記ガスと残留液浸液抽出のための前記開口から抽出される、
デバイス製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
[0011]  一態様によれば、リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、液浸液を封じ込めるように構成された空間から流体ハンドリング構造の外側の領域への境界にて、
使用時に基板及び／又は基板を支持するように構成された基板テーブルの方に向いた第１の列に配置された細長い開口又は複数の開口と、
第２の列の細長いアパーチャを有するガスナイフデバイスと、
ガスナイフデバイスに隣接する細長い開口又は複数の開口と、
を連続して有する、流体ハンドリング構造が提供される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
[0012]  一態様によれば、リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、使用時に液浸液が閉じ込められる空間の該流体ハンドリング構造の外側の領域に対する境界にて、
使用時に例えば基板及び／又は基板を支持するように構成された基板テーブルの対向面の方に向いた第１の列に配置された、流体を抽出する細長い開口又は複数の開口と、
第２の列に配置されたガスナイフのための細長いアパーチャと、
ガスナイフデバイスのための細長いアパーチャに隣接する、液体を抽出する細長い開口又は複数の開口と、
を連続して有する、流体ハンドリング構造が提供される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
[0014]  一態様によれば、投影システムの最終要素と基板及び／又は基板を支持するように構成された基板テーブルとの間の空間に液浸液を提供するステップと、
投影システムの最終要素と基板及び／又は基板テーブルとの間から、第１の列に配置された細長い開口又は複数の開口を通して、液浸液を取り出すステップと、
第２の列のアパーチャを通してガスナイフを形成するガスを供給することで、第１の列の細長い開口又は複数の開口の方へ液浸液を押すステップと、
ガスナイフに隣接し、第１の列の細長い開口又は複数の開口に対してガスナイフの逆側にある細長い開口又は複数の開口を通して、ガス及び残留液浸液を抽出するステップと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
[0058]  各開口５０は、液体とガスとの混合物を抽出するように設計されている。液体は空間１１から抽出されるが、ガスは液体に対して開口５０の反対側の雰囲気から抽出される。これによって、矢印１００で示すガスフローが生成され、このガスフローは、図６に示すように、開口５０の間の実質的に所定位置にメニスカス９０をピン止めする効果がある。ガスフローは、運動量ブロック、ガスフローに誘発された圧力勾配及び／又は液体上のガスフローの抵抗（せん断力）によって、液体の閉じ込めを維持するのに役立つ。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
[0082]  ある実施形態では、スキャン方向の変化中にガスナイフを通過してメニスカスへ向かう液滴の（量と）サイズの大幅な縮小が、例えば図７と同様であるが、抽出装置３００が追加された図８に示すように、ガスナイフの極めて近くに別の抽出装置３００を追加することで達成可能である。抽出装置は、液浸液１１から離れたガスナイフ６０のアパーチャ６１に隣接していてもよい。本明細書で説明する図７に示す構成の変形形態も図８に示す実施形態に適用できることは理解されるであろう。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７２】
[0085]  図９に示すように、ガスナイフデバイス６０に最も近いガスナイフデバイスに隣接する別の抽出装置３００の開口３０２の縁部３０１を、第１と第２の列の間にありかつガスナイフデバイスに隣接する開口の先にある流体ハンドリング構造１２の表面５１に対して、斜めの角度αに提供してもよい。この構成では、ガスナイフに隣接する開口の幅は、表面からの距離が増すにつれて減少する。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７７】
[0090]  ある実施形態では、図８に示すように、別の抽出装置３００の１つ又は複数の開口３０２は、負圧源３０５（例えば、ポンプ、できれば正圧源６４及び負圧源６５の一方又は両方を提供するものと同じポンプ）に接続できる。図８に示すように、追加の抽出装置３００用の負圧源３０５は、正圧源６４及び／又は負圧源６５を制御するのに使用される同じコントローラ６３によって制御できる。同様に、所望の流量を達成するために、コントローラ６３を上記の１つ又は複数の好適な流量弁及び／又は流量計に接続してもよい。また、負圧源及び正圧源６４、６５、３０５のうちの１つ以上に別々のコントローラを提供してもよいことも理解されるであろう。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７８】
[0091]  ある実施形態では、コントローラ６３は、細長いアパーチャ６１からのガスナイフ６０の流量、及び１つ又は複数の開口５０及び別の抽出装置３００の１つ又は複数の開口３０２を通した抽出の流量が、ガスナイフデバイス６０からのガスのフローが第１及び第２の列の間の流体ハンドリング構造の表面に実質的に垂直になる程度の量であるように構成されている。これは、例えば、第１の列内の１つ又は複数の開口５０と別の抽出装置３００の１つ又は複数の開口３０２を通した抽出速度を平衡させ、総抽出量とガスナイフデバイス６０のガスフローとの平衡をとることで達成することができる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８０】
[0093]  ある実施形態では、第２の列内のアパーチャ６１から流れて第１のガスナイフデバイス６０を形成するガスの流量は、毎分１００リットル以下、例えば、毎分７５リットル以下であってもよい。第１の列内の１つ又は複数の開口５０から抽出されたガスの流量は、毎分７５リットル以下、例えば、毎分５０リットル以下であってもよい。追加の抽出装置３００のガスの流量は、例えば、少量の液体だけを抽出しているので、より大きい値であってもよい。例えば、追加の抽出装置３００のガスの流量は、毎分約７５リットルであってもよい。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８１】
[0094]  ガスナイフは、開口５０の間の空間全体に圧力勾配を生成するように開口５０に十分に近いことが望ましい。液体の層（すなわち、液膜）、又は液滴が例えば流体ハンドリング構造１２の下に堆積する停滞域が存在しないことが望ましい。ある実施形態では、開口５０を通過するガスの流量を、参照によりその全体を本明細書に組み込むものとする２００９年９月３日出願の米国特許出願ＵＳ６１／２３９，５５５号及び米国特許出願公開ＵＳ２００７−００３０４６４号に記載の細長いアパーチャ６１を通過するガスの流量に結合してもよい。したがって、ガスの流量は、アパーチャ６１から開口５０へ実質的に内向きに誘導される。開口５０とアパーチャ６１とを通過するガスの流量が同じ場合、流量は「平衡がとれている」と呼ぶことができる。平衡がとれたガスのフローは、膜などの残留液体の厚さを最小限にするので、一方向のスキャンの際に望ましい。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８３】
[0096]  本明細書の別の箇所に記載するように、例えば、平行四辺形、菱形、矩形、正方形などの四辺形、又は円などの楕円形を非限定的に含む、任意の閉じた形状を形成するように、開口５０を配置することができる。いずれの場合も、ガスナイフ６０のアパーチャ６１は、開口５０が形成する形状と実質的に同様の形状を有していてもよい。本発明のある実施形態では、空間から流体ハンドリング構造への液体の抽出に使用するための複数の開口５０の代わりに細長い開口を第１の列内に提供してもよい。１つ又は複数の開口５０が形成する形状の縁部とアパーチャ６１が形成する形状との間の離間距離は上記範囲内である。ある実施形態では、離間距離は望ましくは一定である。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８４】
[0097]  一般に、ある実施形態では、流体ハンドリング構造１２の構成は、別の抽出装置３００の性能が確実にできる限り高いか又は最大限であるように、すなわちガスナイフ６０に隣接する液体を抽出する際に確実に効果的であるように構成することができることは理解されるであろう。上記のように、これは、別の抽出装置３００を通過する抽出流体のフローが確実に十分に高くなるようにすることで達成することができる。代替的に又は追加的に、これは、追加の抽出装置３００が確実にガスナイフデバイス６０のアパーチャ６１の縁部にできるだけ近くなるようにすることで達成することができる。代替的に又は追加的に、これは、ガスナイフデバイス６０を通過するガスのフローを、外向きの、すなわち別の抽出装置３００の方向のガスの半径方向のフローが存在するように確実に十分に大きくすることで、達成することができる。代替的に又は追加的に、これは、流体ハンドリング構造とリソグラフィ装置の動作を考慮に入れて、できる限り低いフライハイトで流体ハンドリング構造１２を動作させることで、すなわち、流体ハンドリング構造１２の下面５１が確実に基板Ｗ及び／又は基板テーブルＷＴの表面にできる限り近いようにすることで、達成することができる。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９２】
[00105]  ある実施形態では、第１のガスナイフデバイスのガスの流量は比較的少なくて
もよいことが望ましい場合がある。これは、上記のように、第１の列の複数の開口５０を通るフローが２相で、大量の液体を備えるからである。第２の列のアパーチャ６１と第１の列の複数の開口５０とを通過する流量が不安定な２相流形態の場合、例えば、流量が多すぎることがあり、結果として２相流は力が変動し、例えば振動することがあり、これは望ましくない。他方、フロー形態が安定しているほど、例えば、第２の列のアパーチャ６１及び／又は第１の列の複数の開口５０を通過する流量が少ないほど、投影システムＰＳと流体ハンドリング構造に対する基板Ｗ及び／又は基板テーブルＷＴの所与の移動速度でガスナイフデバイスを通過する液浸液の漏れはより大きくなる。したがって、単一のガスナイフ構成内のガスの流量は、本質的にこれら２つの矛盾する要求の妥協点であった。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３３】
[00146]  以下の条項によって本発明の実施形態を記述する。
条項１．リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、液浸液を封じ込めるように構成された空間から該流体ハンドリング構造の外側の領域への境界に、
使用時に基板及び／又は前記基板を支持するように構成された基板テーブルの方に向いた第１の列に配置された細長い開口又は複数の開口と、
第２の列内の細長いアパーチャを有するガスナイフデバイスと、
前記ガスナイフデバイスに隣接する細長い開口又は複数の開口と、
を連続して有する流体ハンドリング構造。
条項２．前記第１及び第２の列は、前記液浸液を封じ込めるように構成された前記空間を取り囲み、
前記ガスナイフデバイスに隣接する前記細長い開口又は複数の開口は、前記ガスナイフデバイスの全長にわたって提供され、
前記第１の列と前記第２の列と前記ガスナイフデバイスに隣接する前記細長い開口又は複数の開口との間のそれぞれの離間距離は、前記液浸液を封じ込めるように構成された前記空間の周辺のすべての場所で実質的に同じである、条項１に記載の流体ハンドリング構造。
条項３．前記ガスナイフデバイスに隣接する前記細長い開口又は複数の開口の最も近い縁部と前記ガスナイフデバイスの前記細長いアパーチャの最も近い縁部との離間距離は、０．２５ｍｍ〜０．７５ｍｍの範囲から選択され、望ましくは０．５ｍｍである、条項１又は２に記載の流体ハンドリング構造。
条項４．前記ガスナイフデバイスに隣接する前記開口は、細長い開口である、条項１から３のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項５．前記ガスナイフデバイスに隣接する前記開口の幅は、３０μｍ〜２００μｍ又は１００μｍ〜１５０μｍの範囲から選択される、条項４に記載の流体ハンドリング構造。
条項６．前記ガスナイフデバイスに最も近い前記ガスナイフデバイスに隣接する前記開口の縁部は、前記第１と第２の列の間にありかつ前記ガスナイフデバイスに隣接する開口の先にある前記流体ハンドリング構造の表面に対して、斜めの角度αに提供され、そのため前記ガスナイフデバイスに隣接する前記開口の幅が前記表面からの距離に応じて減少する、条項４又は５に記載の流体ハンドリング構造。
条項７．前記流体ハンドリング構造の前記表面に対する前記ガスナイフデバイスに隣接する前記開口の前記縁部の角度は、１０°〜６０°又は１０°〜４５°の範囲から選択されるか、又は望ましくは２０°である、条項６に記載の流体ハンドリング構造。
条項８．前記ガスナイフデバイスに隣接する前記開口は、多孔質材料で覆われた、条項１から７のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項９．前記第１の列の前記細長い開口又は複数の開口、及び前記ガスナイフデバイスに隣接する前記細長い開口又は複数の開口は、前記流体ハンドリング構造へのガス及び／又は液体の通路の入口である、条項１から８のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項１０．前記第１の列の前記細長い開口又は複数の開口は、使用時に負圧源に接続され、
前記ガスナイフデバイスに隣接する前記細長い開口又は複数の開口は、使用時に負圧源に接続される、条項１から９のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項１１．前記第１の列の前記細長い開口又は複数の開口に接続された前記負圧源、及び／又は前記ガスナイフデバイスに隣接する前記細長い開口又は複数の開口に接続された前記負圧源に接続された、又は接続可能なコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記第１の列の前記細長い開口又は複数の開口、及び／又は前記ガスナイフデバイスに隣接する前記細長い開口又は複数の開口を通過するガスの流量が、使用時に、前記第２の列の細長いアパーチャを有する前記ガスナイフデバイスからのガスのフローが前記第１及び第２の列の間の前記流体ハンドリング構造の表面に実質的に垂直になる程度の量であるように、前記負圧源の少なくとも一つを制御する、条項１０に記載の流体ハンドリング構造。
条項１２．前記流体ハンドリング構造は、前記第２の列の細長いアパーチャを有する前記ガスナイフデバイスに隣接する前記細長い開口又は複数の開口の先に、前記境界にて、  第３の列の細長い開口又は複数の開口と、
第４の列の細長いアパーチャを有する第２のガスナイフデバイスと、
をさらに連続して有する、条項１から１１のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項１３．前記第１から第４の列は、前記液浸液を封じ込めるように構成された前記空間を連続して取り囲み、それぞれの列の間の離間距離は、前記液浸液を封じ込めるように構成された前記空間の周辺のすべての場所で実質的に同じである、条項１２に記載の流体ハンドリング構造。
条項１４．前記第３の列の前記細長い開口又は複数の開口は、前記流体ハンドリング構造へのガス及び／又は液体の通路の入口である、条項１２又は１３に記載の流体ハンドリング構造。
条項１５．前記第３の列の前記細長い開口又は複数の開口は、使用時に負圧源に接続され、
前記流体ハンドリング構造は、前記負圧源に接続された、又は接続可能なコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記第３の列の前記細長い開口又は複数の開口を通過するガスの流量が、前記第４の列のアパーチャから流出してガスナイフを形成するガスの流量以上になるように、前記負圧源を制御するように構成される、条項１２から１４のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項１６．前記第２及び第４の列のアパーチャは、使用時にガス供給装置に接続され、  前記流体ハンドリング構造は、前記ガス供給装置に接続された、又は接続可能なコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記第４の列のアパーチャから流出して前記ガスナイフを形成するガスの流量が、前記第２の列のアパーチャから流出して前記ガスナイフを形成するガスの流量よりも大きくなるように、前記ガス供給装置を制御するように構成される、条項１２から１５のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項１７．使用時に基板及び／又は前記基板を支持するように構成された基板テーブルの上面にほぼ平行である下面をさらに有し、前記第１〜第４の列の開口及びアパーチャが前記下面に形成される、条項１２から１６のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項１８．使用時に、前記第１〜第４の列の開口及びアパーチャの周辺の前記下面の区域と基板及び／又は基板テーブルの上面との離間距離が実質的に同じである、条項１７に記載の流体ハンドリング構造。
条項１９．使用時に、前記第１の列内の前記細長い開口又は複数の開口の周辺の前記下面の区域と前記基板及び／又は基板テーブルの前記上面との離間距離が、前記第４の列内の前記アパーチャの周辺の前記下面の区域と前記基板及び／又は基板テーブルの前記上面との離間距離よりも大きい、条項１７に記載の流体ハンドリング構造。
条項２０．前記流体ハンドリング構造は、前記第２及び第３の列の間の第５の列に配置された前記下面の凹部を有する、条項１７から１９のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造。
条項２１．前記凹部は、ガス導管によって前記流体ハンドリング構造の外側の領域に接続された少なくとも１つの開口を有する、条項２０に記載の流体ハンドリング構造。
条項２２．リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、使用時に液浸液が閉じ込められる空間の該流体ハンドリング構造の外側の領域に対する境界に、
使用時に例えば基板及び／又は前記基板を支持するように構成された基板テーブルの対向面の方へ向いた第１の列に配置された、流体を抽出する細長い開口又は複数の開口と、  第２の列のガスナイフの細長いアパーチャと、
前記ガスナイフの細長いアパーチャに隣接して形成された、液体を抽出する細長い開口又は複数の開口と、
を連続して有する流体ハンドリング構造。
条項２３．前記第１の列の前記細長い開口又は複数の開口は、前記液浸液のメニスカスを前記空間内にピン止めするためのものである、条項２２に記載の流体ハンドリング構造。
条項２４．前記条項のいずれか１項に記載の流体ハンドリング構造を備えるリソグラフィ装置。
条項２５．投影システムの最終要素と基板及び／又は前記基板を支持するように構成された基板テーブルとの間の空間に液浸液を提供するステップと、
前記投影システムの前記最終要素と前記基板及び／又は前記基板テーブルとの間から、第１の列に配置された細長い開口又は複数の開口を通して、液浸液を取り出すステップと、
第２の列のアパーチャを通してガスナイフを形成するガスを供給することで、前記第１の列の前記細長い開口又は複数の開口の方へ液浸液を押すステップと、
前記ガスナイフに隣接し、前記第１の列の前記細長い開口又は複数の開口に対して前記ガスナイフの逆側にある細長い開口又は複数の開口を通して、ガス及び残留液浸液を抽出するステップと、
を含むデバイス製造方法。