【手続補正書】
【提出日】平成25年6月11日(2013.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持する基板ステージと、
前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成するための流路形成部材と、
前記基板の露光を行わない期間中に前記基板ステージを洗浄するために、前記液浸領域を洗浄液で形成するとともに、前記液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させる制御装置とを備える露光装置。
【請求項２】
前記基板ステージは、前記基板を保持する保持部と、前記保持部の周囲に配置され、前記保持部で保持された基板の表面とほぼ平行な平坦面とを有し、
前記制御装置は、前記平坦面上に前記液浸領域の少なくとも一部を形成した状態で、前記液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記保持部は、複数の支持部と、前記複数の支持部を囲むように設けられた壁部を有し、
前記基板ステージは、前記壁部の外側に形成された凹部内の液体を回収可能な回収口を有し、
前記回収口は、前記基板ステージの洗浄時に前記凹部に流入した液体を回収する請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記基板を支持する複数の支持部、前記複数の支持部を囲むように設けられた壁部、および前記壁部の外側に形成された凹部内の液体を回収可能な回収口を有する基板ステージと、
前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成するための流路形成部材と、を備え、
洗浄時に前記回収口を介して洗浄液が回収される露光装置。
【請求項５】
前記基板ステージを洗浄するために、前記液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させる制御装置をさらに有する請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御装置は、前記基板の露光時における前記液浸領域の移動軌跡とは異なるように、前記洗浄時に前記液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させる請求項１〜３、および請求項５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記洗浄時は、前記基板の露光を行わない期間を含む請求項４〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記基板に投影するパターンが形成されたマスクを保持するマスクステージをさらに備え、
前記洗浄時には、前記マスクステージの移動が停止する一方で前記基板ステージが移動する請求項４〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記洗浄時に、前記保持部がカバー部材で覆われることを特徴とする請求項３〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記カバー部材の側面は親液性を有する請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記カバー部材の上面のうち周縁部は親液性を有する請求項９または１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記洗浄時に、前記カバー部材の端部から前記凹部内に流れた液体が前記回収口を介して回収される請求項９〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記基板ステージは、前記壁部の外側に平坦面を有し、
前記平坦面と前記壁部の間に前記凹部が形成されるとともに、前記凹部内に前記回収口が配置されている請求項３〜１２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記回収口は、前記壁部に沿って複数位置に設けられている請求項３〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記凹部内は撥液処理がなされている請求項３〜１４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記基板ステージは、前記洗浄液を供給する供給口を備える請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記供給口から供給された前記洗浄液が、前記基板ステージの前記回収口を介して回収される請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記洗浄液が前記流路形成部材から供給される請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記洗浄液は、有機溶剤を含む請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記流路形成部材から供給された洗浄液が、前記基板ステージに設けられた前記回収口を介して回収される請求項１８または１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置に用いられる洗浄方法であって、
前記基板の露光を行わない期間中に基板ステージを洗浄するために、前記投影光学系と前記基板ステージとの間に洗浄液を供給して液浸領域を形成することと、
前記形成された液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させることと、を有する洗浄方法。
【請求項２２】
前記基板ステージは、前記基板を保持する保持部と、前記保持部の周囲に配置され、前記保持部で保持された基板の表面とほぼ平行な平坦面とを有し、
前記平坦面上に前記液浸領域の少なくとも一部を形成した状態で、前記液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させることを特徴とする請求項２１に記載の洗浄方法。
【請求項２３】
前記保持部は、複数の支持部と、前記複数の支持部を囲むように設けられた壁部を有し、
前記基板ステージは、前記壁部の外側に形成された凹部内の液体を回収可能な回収口を有し、
前記回収口は、前記基板ステージの洗浄時に前記凹部に流入した液体を回収する請求項２２に記載の洗浄方法。
【請求項２４】
投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置に用いられる洗浄方法であって、
前記露光装置は  前記基板を支持する複数の支持部、前記複数の支持部を囲むように設けられた壁部、および前記壁部の外側に形成された凹部内の液体を回収可能な回収口を有する基板ステージを備え、
洗浄時に前記回収口を介して洗浄液が回収される洗浄方法。
【請求項２５】
前記基板ステージを洗浄するために、前記液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させる請求項２４に記載の洗浄方法。
【請求項２６】
前記基板の露光時における前記液浸領域の移動軌跡とは異なるように、前記洗浄時に前記液浸領域と前記基板ステージとが相対移動する請求項２１〜２３、および請求項２５のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項２７】
前記洗浄時は、前記基板の露光を行わない期間を含む請求項２４〜２６のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項２８】
前記露光装置はパターンが形成されたマスクを保持するマスクステージをさらに備え、
前記洗浄時には、前記マスクステージの移動が停止する一方で前記基板ステージが移動する請求項２４〜２７のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項２９】
前記洗浄時に、前記保持部がカバー部材で覆われることを特徴とする請求項２３〜２８のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項３０】
前記カバー部材の側面は親液性を有する請求項２９に記載の洗浄方法。
【請求項３１】
前記カバー部材の上面のうち周縁部は親液性を有する請求項２９または３０に記載の洗浄方法。
【請求項３２】
前記周縁部を除く前記カバー部材の上面は、前記周縁部よりも前記液体に対して撥液性である請求項３１に記載の洗浄方法。
【請求項３３】
前記洗浄時に、前記カバー部材の端部から前記凹部内に流れた液体が前記回収口を介して回収される請求項２９〜３２のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項３４】
前記基板ステージは、前記壁部の外側に平坦面を有し、
前記平坦面と前記壁部の間に前記凹部が形成されるとともに、前記凹部内に前記回収口が配置されている請求項２３〜３３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項３５】
前記回収口は、前記壁部に沿って複数位置に設けられている請求項２３〜３４のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項３６】
前記凹部内は撥液処理がなされている請求項２３〜３５のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項３７】
前記基板ステージに設けられた供給口を介して前記洗浄液が供給される請求項２１〜３６のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項３８】
前記基板ステージの供給口から供給された前記洗浄液が、前記基板ステージの回収口を介して回収される請求項３７に記載の洗浄方法。
【請求項３９】
前記投影光学系下に液浸領域を形成する流路形成部材から、前記洗浄液が供給される請求項２１〜３８のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項４０】
前記洗浄液は、有機溶剤を含む請求項３９に記載の洗浄方法。
【請求項４１】
前記流路形成部材から供給された洗浄液が、前記基板ステージに設けられた回収口を介して回収される請求項３９または４０に記載の洗浄方法。
【請求項４２】
液浸露光装置の露光対象の基板が載置される基板ステージに載置可能な平板状のダミー基板であって、
上面に複数の親液性の溝部が形成されたダミー基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明による露光装置は、投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、投影光学系と、前記基板を保持する基板ステージと、前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成するための流路形成部材と、前記基板の露光を行わない期間中に前記基板ステージを洗浄するために、前記液浸領域を洗浄液で形成するとともに、前記液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させる制御装置とを備えるものである。
本発明による別の露光装置は、投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置であって、前記基板を支持する複数の支持部、前記複数の支持部を囲むように設けられた壁部、および前記壁部の外側に形成された凹部内の液体を回収可能な回収口を有する基板ステージと、前記投影光学系の像面側に液浸領域を形成するための流路形成部材と、を備え、洗浄時に前記回収口を介して洗浄液が回収される露光装置である。
本発明による洗浄方法は、投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置に用いられる洗浄方法であって、前記基板の露光を行わない期間中に基板ステージを洗浄するために、前記投影光学系と前記基板ステージとの間に洗浄液を供給して液浸領域を形成することと、前記形成された液浸領域と前記基板ステージとを相対移動させることと、を有する洗浄方法である。
本発明による別の洗浄方法は、投影光学系と液体とを介して露光光で基板を露光する露光装置に用いられる洗浄方法であって、前記露光装置は  前記基板を支持する複数の支持部、前記複数の支持部を囲むように設けられた壁部、および前記壁部の外側に形成された凹部内の液体を回収可能な回収口を有する基板ステージを備え、洗浄時に前記回収口を介して洗浄液が回収される洗浄方法である。
また、本発明によるダミー基板は、液浸露光装置の露光対象の基板が載置される基板ステージに載置可能な平板状のダミー基板であって、上面に複数の親液性の溝部が形成されたものである。
また、本願の明細書には以下の発明も記載されている。
本発明の第１の態様に従えば、基板（Ｐ）を露光する露光方法であって：基板ステージ（ＰＨなど）に保持された基板（Ｐ）上に液浸領域（ＡＲ２）を形成し、露光光でその液浸領域の液体を介してその基板を露光することと、その基板の露光を行わない期間中に、その液浸領域とその基板ステージとを相対移動して、その基板ステージを洗浄することをむ露光方法が提供される。