【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年10月3日(2013.10.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の透過光学要素と、投影対物系の結像ビーム経路に沿って該光学要素を規定可能な位置に保持するための保持デバイス（ＨＤ）とを有し、１つの光学要素が、該結像ビーム経路に位置する光学有用領域（ＯＰＴ）と該光学有用領域の外側に位置する縁部領域（ＥＲ）とを有し、
該保持デバイスの少なくとも１つの保持要素（ＨＥ）が、接触ゾーン（ＣＺ）の領域における該縁部領域で該光学要素に割り当てられ、
投影対物系の物体平面に配置された物体を投影対物系の像平面に位置する該物体の像内に結像するための投影対物系であって、
光学要素（Ｌ２−１、Ｌ２−２、Ｌ３−６）の少なくとも１つには、該光学要素の直ぐ上流に配置された偽光絞り（ＳＬＳ１）と該光学要素の直ぐ下流に配置された第２の偽光絞り（ＳＬＳ２）とを有する絞り配列（ＳＡ１、ＳＡ２、ＳＡ３）が割り当てられ、該偽光絞りの各々は、該偽光絞りが該縁部領域の少なくとも一部を結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽するように形成される、
ことを特徴とする投影対物系。
【請求項２】
１つの偽光絞りが、絞り開口部を定める内側絞り縁部（ＳＥ）を有し、該絞り縁部と前記光学要素の関連の光学面との間の有限の間隔が、該絞り縁部の外周全体にわたって２ｍｍよりも小さく、特に、１ｍｍよりも小さく、該絞り縁部と該光学面の間の最小間隔が、好ましくは、１／１０ｍｍ又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の投影対物系。
【請求項３】
１つの偽光絞りが、好ましくは、平坦な外縁区画（ＯＰ）を有し、該外縁区画には、前記光学要素に対して傾斜して延びて前記絞り縁部（ＳＥ１）を定める内側区画（ＩＰ）が、該絞り縁部の方向に接続され、該内側区画は、好ましくは、円錐形であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影対物系。
【請求項４】
前記偽光絞りは、前記光学要素の場合に全ての接触ゾーン（ＣＺ）及び該接触ゾーンに割り当てられた保持要素（ＨＥ）が前記結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽されるように形成かつ配置されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項５】
前記偽光絞り（ＳＬＳ１、ＳＬＳ２）は、前記遮蔽された光学要素の場合に前記接触ゾーンの一部のみ及び該接触ゾーンに割り当てられた前記保持要素の一部のみが結像ビーム縁部の外側を進む放射線に対して遮蔽されるように形成かつ配置されることを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項６】
前記偽光絞りは、円形の絞り開口部を有し、該偽光絞りが前記結像ビーム経路を制限しないように該結像ビーム経路の縁部を進む結像ビームの光線と前記内側絞り縁部（ＳＥ）の間に間隔が存在し、前記割り当てられた光学要素（Ｌ２−２）は、好ましくは、投影対物系の瞳に又はその近くに位置することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項７】
絞り配列の前記偽光絞りは、絞り開口部を有し、その形状は、絞り開口部を定める絞り縁部とビームの間の間隔が、最大で２ｍｍ、少なくとも１／１０ｍｍ前記結像ビームと該絞り縁部の間に残るように前記結像ビーム経路における該結像ビームの断面形状に適合されることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項８】
少なくとも１つの凹ミラー（ＣＭ）を有し、
前記結像ビーム経路は、前記物体平面（ＯＳ）と該凹ミラーの間に延びる第１の部分ビーム経路（ＲＢ１）と、該凹ミラーと前記像平面（ＩＳ）の間に延びる第２の部分ビーム経路（ＲＢ２）とを有し、前記光学要素（Ｌ２−１、Ｌ２−２）及び割り当てられた偽光絞り（ＳＬＳ１、ＳＬＳ２）は、該第１及び該第２の部分ビーム経路が該光学要素の前記有用領域を通りかつ該偽光絞りを通って延びるように２回通過領域に配置されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項９】
前記偽光絞り（ＳＬＳ１、ＳＬＳ２）の少なくとも１つは、外周方向にセグメント化された偽光絞りとして、該偽光絞りが前記縁部領域（ＥＲ）の一部のみを前記結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽し、該縁部領域の別の部分が該結像ビーム経路の外側を進む放射線に露光されるように形成されることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１０】
前記光学要素（Ｌ２−１）は、前記光学有用領域の内側に非回転対称放射線負荷を有する領域に配置され、
外周方向にセグメント化された少なくとも１つの偽光絞り（ＳＬＳ１、ＳＬＳ２）は、該光学要素の該放射線負荷の非対称性が、前記結像ビーム経路の外側の前記縁部領域上に入射する前記放射線によって低減されるように、配置されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１１】
絞り配列（ＳＡ１）が設けられた前記光学要素（Ｌ２−１）は、光学的に視野平面の近くに、特に、部分口径比ＳＡＲの絶対値が該光学要素の前記光学面の全てに対して０．３よりも小さい位置に配置されることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１２】
投影対物系（２００）が、物体視野を第１の実中間像（ＩＭＩ１）に結像するための第１の対物系部分（ＯＰ１）と、該第１の対物系部分から到着する放射線を用いて第２の実中間像（ＩＭＩ２）を生成するための第２の対物系部分（ＯＰ２）と、該第２の実中間像を前記像平面（ＩＳ）に結像するための第３の対物系部分（ＯＰ３）とを有し、
前記第２の対物系部分は、凹ミラー（ＣＭ）を有する反射屈折対物系部分であり、第１の折り返しミラー（ＦＭ１）が、前記物体平面から到着する前記放射線を該凹ミラーの方向に反射するために設けられ、第２の折り返しミラー（ＦＭ２）が、該凹ミラーから到着する該放射線を前記像平面の方向に反射するために設けられ、割り当てられた絞り配列（ＳＡ１、ＳＡ２）を有する少なくとも１つの光学要素（Ｌ２−１、Ｌ２−２）が、該凹ミラー（ＣＭ）と該折り返しミラー（ＦＭ１、ＦＭ２）の間の２回通過領域に配置される、
ことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１３】
正の屈折力の視野レンズ（Ｌ２−１）が、前記第１の中間像（ＩＭＩ１）と前記凹ミラー（ＣＭ）の間の該第１の中間像の近視野領域に配置され、該視野レンズには、絞り配列（ＳＡ１）が割り当てられることを特徴とする請求項１２に記載の投影対物系。
【請求項１４】
第１の絞り配列（ＳＡ１）及び少なくとも１つの第２の絞り配列（ＳＡ２、ＳＡ３）が設けられることを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１５】
投影対物系の像面の領域に配置され、かつ該投影対物系の物体平面の領域に配置されたマスクのパターンの少なくとも１つの像を有する放射線感応基板を露光するための投影露光機械であって、
紫外線を出力するための光源（ＬＳ）と、
前記光源の光を受光し、かつマスクのパターン上に向けられる照明放射線を形成するための照明系（ＩＬＬ）と、
前記マスクの構造を感光基板上に結像するための投影対物系（ＰＯ）と、
を有し、
前記投影対物系は、請求項１から請求項１４のうちの１つに従って構成される、
ことを特徴とする機械。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
本出願では、基準平面（例えば、視野平面又は瞳平面）に対する光学面の光学的近接性又は光学的距離をいわゆる部分口径比ＳＡＲによって説明する。本出願の目的では、光学面の部分口径比ＳＡＲは、次式で定められる。
ＳＡＲ＝ｓｉｇｎ  ｈ（ｒ／（｜ｈ｜＋｜ｒ｜））
ｒは、周縁光線高さを表し、ｈは、主光線高さを表し、符号関数ｓｉｇｎ  ｘは、ｘの符号を表し、慣習的にｓｉｇｎ  ０＝１が成り立つ。主光線高さは、絶対値で最大視野高さを有する物体視野の視野点の主光線の光線高さとして理解される。この場合、光線高さは、符号を有するとして理解される。周縁光線高さは、光軸と物体平面の交差点から発する最大開口を有する光線の光線高さとして理解される。この視野点は、特に軸外像視野の場合に、物体平面に配置されたパターンの伝達に寄与する必要はない。