【手続補正書】
【提出日】平成25年9月20日(2013.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイミドＡの溶解度パラメータＳＰA とポリイミドＢの溶解度パラメータＳＰB との差の絶対値｜ＳＰB −ＳＰA ｜が０．５ＭＰａ1/2 以上である、ポリイミドＡの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物（ポリイミド成分Ａと呼ぶこともある）と、ポリイミドＢの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物（ポリイミド成分Ｂと呼ぶこともある）とからなる多成分ポリイミドで形成されたフィルムであって、
全原料成分をランダム重合して得られるフィルムの表面張力γrandに比べて、少なくとも一方のフィルム表面の表面張力γが｜γ−γrand｜＞０．３ｍＮ／ｍであり、且つフィルムにマクロ相分離が生じていないことを特徴とするポリイミドフィルム（但しポリイミド非対称膜は除く）。
【請求項２】
ポリイミドＡのフィルムの弾性率ＥA とポリイミドＢのフィルムの弾性率ＥB との比ＥB ／ＥA が１．０５以上である、ポリイミドＡの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物（ポリイミド成分Ａと呼ぶこともある）と、ポリイミドＢの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物（ポリイミド成分Ｂと呼ぶこともある）とからなる多成分ポリイミドで形成されたフィルムであって、
全原料成分をランダム重合して得られるフィルムの弾性率Ｅrandに比べて、その弾性率ＥがＥ／Ｅrand＞１．００５であり、且つフィルムにマクロ相分離が生じていないことを特徴とするポリイミドフィルム（但しポリイミド非対称膜は除く）。
【請求項３】
ポリイミドＡのガラス転移温度ＴｇA とポリイミドＢのガラス転移温度ＴｇB との差の絶対値｜ＴｇB −ＴｇA ｜が２０℃以上である、ポリイミドＡの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物（ポリイミド成分Ａと呼ぶこともある）と、ポリイミドＢの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物（ポリイミド成分Ｂと呼ぶこともある）とからなる多成分ポリイミドで形成されたフィルムであって、
全原料成分をランダム重合して得られるフィルムの弾性率Ｅrandに比べて、その弾性率ＥがＥ／Ｅrand＞１．００５であり、且つフィルムにマクロ相分離が生じていないことを特徴とするポリイミドフィルム（但しポリイミド非対称膜は除く）。
【請求項４】
ポリイミドＡの溶解度パラメータＳＰA とポリイミドＢの溶解度パラメータＳＰB との差の絶対値｜ＳＰB −ＳＰA ｜が０．５ＭＰａ1/2 以上であり、且つポリイミドＡのフィルムの弾性率ＥA とポリイミドＢのフィルムの弾性率ＥB との比ＥB ／ＥA が１．０５以上である、ポリイミドＡの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物（ポリイミド成分Ａと呼ぶこともある）と、ポリイミドＢの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物（ポリイミド成分Ｂと呼ぶこともある）とからなる多成分ポリイミドで形成されたフィルムであって、
全原料成分をランダム重合して得られるフィルムの弾性率Ｅrandに比べて、その弾性率ＥがＥ／Ｅrand＞１．００５であり、全原料成分をランダム重合して得られるフィルムの表面張力γrandに比べて、少なくとも一方のフィルム表面の表面張力γが｜γ−γrand｜＞０．３ｍＮ／ｍであり、且つフィルムにマクロ相分離が生じていないことを特徴とするポリイミドフィルム（但しポリイミド非対称膜は除く）。
【請求項５】
フッ素原子を含む多成分ポリイミドで形成されたポリイミドフィルムであって、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）で測定した少なくとも一方のフィルム表面のフッ素原子濃度（ΦS ）と、フィルム全体の平均のフッ素原子濃度（ｆ）との比（ΦS ／ｆ）が１．３〜３であることを特徴とするポリイミドフィルム（但しポリイミド非対称膜は除く）。
【請求項６】
フッ素原子を含む多成分ポリイミドで形成されたポリイミドフィルムであって、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）で測定した少なくとも一方のフィルム表面のフッ素原子濃度（ΦS ）と、全原料成分をランダム重合して得られるフィルム表面のフッ素原子濃度（ΦS , rand）との比（ΦS ／ΦS , rand）が１．１〜２．６であることを特徴とするポリイミドフィルム（但しポリイミド非対称膜は除く）。
【請求項７】
ケイ素原子を含む多成分ポリイミドで形成されたポリイミドフィルムであって、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）で測定した少なくとも一方のフィルム表面のケイ素原子濃度（ΦS ）と、全原料成分をランダム重合して得られるフィルム表面のケイ素原子濃度（ΦS , rand）との比（ΦS ／ΦS , rand）が１．１〜４であることを特徴とするポリイミドフィルム（但しポリイミド非対称膜は除く）。
【請求項８】
フィルムの厚みが１０μｍ未満１０ｎｍ以上の極薄フィルムであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のポリイミドフィルム。
【請求項９】
ポリイミドＡの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物をポリイミド成分Ａとし、ポリイミドＢの原料成分及び／又は前記原料成分の重合イミド化反応物をポリイミド成分Ｂとし、前記ポリイミド成分Ａの数平均重合度をＮA とし、前記ポリイミド成分Ｂの数平均重合度をＮB としたときに、
（工程１）ポリイミド成分Ａとポリイミド成分Ｂとを、ＮA とＮB とが下記数式１を満たす組合せで混合して多成分ポリイミドの混合溶液を調製し、
数式１
２．３５×ＮA -2.09 ＜ＮB ＜４５０×ＮA -1.12
（工程２）前記多成分ポリイミドの混合溶液をさらに重合イミド化反応させ、次いで、
（工程３）前記多成分ポリイミドからなるフィルム状物から溶媒を除去する
ことを特徴とする多成分ポリイミドからなるポリイミドフィルム（但しポリイミド非対称膜は除く）の製造方法。
ここで、ＮA 及びＮB は、ポリイミド原料である未反応のテトラカルボン酸成分とジアミン成分の重合度をそれぞれ０．５として算出する。
【請求項１０】
ポリイミドＡの溶解度パラメータＳＰA とポリイミドＢの溶解度パラメータＳＰB との差の絶対値｜ＳＰB −ＳＰA ｜が０．５ＭＰａ1/2 以上であることを特徴とする請求項９に記載の多成分ポリイミドからなるポリイミドフィルムの製造方法。
【請求項１１】
ポリイミドＡのフィルムの弾性率ＥA とポリイミドＢのフィルムの弾性率ＥB との比ＥB ／ＥA が１．０５以上であることを特徴とする請求項９〜１０のいずれかに記載の多成分ポリイミドからなるポリイミドフィルムの製造方法。
【請求項１２】
ポリイミドＡが化学構造にフッ素原子を含むことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の多成分ポリイミドからなるポリイミドフィルムの製造方法。
【請求項１３】
ポリイミドＢが化学構造にフッ素原子を含まないことを特徴とする請求項１２に記載の多成分ポリイミドからなるポリイミドフィルムの製造方法。
【請求項１４】
ポリイミドＢが、引張破断伸びが４％以上であることを特徴とする請求項９〜１３のいずれか１項に記載の多成分ポリイミドからなるポリイミドフィルムの製造方法。
【請求項１５】
ポリイミドＡが化学構造にケイ素原子を含むことを特徴とする請求項９〜１４のいずれか１項に記載の多成分ポリイミドからなるポリイミドフィルムの製造方法。
【請求項１６】
ポリイミドＢが化学構造にケイ素原子を含まないことを特徴とする請求項１５に記載の多成分ポリイミドからなるポリイミドフィルムの製造方法。