(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペリクルフレームの少なくとも一方の端面を、表面粗さ（Ｒａ）０．８μｍ以上５．０μｍ以下の粗面状態とし、該粗面に粘着剤を塗布して露光原版に粘着させるための粘着層を設け、他方の端面にペリクル膜を張設することを特徴とするペリクルの製造方法。
【請求項２】
ペリクルフレームの少なくとも一方の端面を、表面粗さ（Ｒａ）１．０μｍ〜５．０μｍの粗面状態とし、該粗面に粘着剤を塗布して露光原版に粘着させるための粘着層を設け、他方の端面にペリクル膜を張設することを特徴とするペリクルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リソグラフィー用ペリクル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは液晶表示板を製造する際の露光原版（レチクル）のゴミよけとして、実質的に５００ｎｍ以下の光を用いる露光方式で使用される帯電防止されたリソグラフィー用ペリクルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハーあるいは液晶用原版に光を照射してパターニングされるが、このとき用いる露光原版にゴミ等の異物が付着していると、異物が光を吸収したり反射するため、転写したパターンが変形したり、エッジががさついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観などが損われ、半導体装置や液晶表示板などの性能や歩留りの低下を来すという問題があった。
【０００３】
このため、これらの作業は通常クリーンルーム内で行われているが、クリーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保つことが難しいため、ゴミ等の異物よけとして露光原版の表面に、露光用の光をよく通過させるペリクルを装着する方法が採られている。この場合、異物は露光原版の表面には直接付着せず、ペリクル膜に付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、ペリクル膜面上の異物は転写に無関係となる。
【０００４】
ペリクルフレーム（以下，単にフレームと称する）に張設されるペリクル膜は、通常光をよく透過させるニトロセルロース、酢酸セルロースなどからなる透明な膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるフレームの上端面に、ペリクル膜の良溶媒を塗布して、風乾し接着することにより（特開昭58‐219023号公報参照）、あるいはペリクル膜をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着することにより製作される（米国特許第4,861,402号明細書、特公昭63‐27707号公報参照）。
ペリクルを露光原版に装着するために、フレームの下部にはポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂などからなる粘着層、及びこの粘着層の保護を目的とした保護シートが貼付されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ペリクルの粘着層は、ペリクルを露光原版に貼り付けるための重要な部材であり、長期間、リソグラフィー工程で使用される間、ペリクルを安定して確実にマスク基板に粘着させ固定しておく役割を担っている。このように粘着層は、マスク基板にペリクルを強固に粘着する性能が要求される反面、何らかの要因でペリクル膜が破損または汚染されると、ペリクル膜を貼り替えねばならないことがある。
【０００６】
その場合、フレームから粘着層が剥がれることなく、ペリクルがマスク基板から容易に剥離できることが要求されている。しかし、マスク基板への強固な粘着性と剥離容易性を共に満足する粘着層を形成することは、現状ではなかなか厳しく、ペリクル剥離時に、粘着層を形成する粘着剤の一部または全部がマスク基板上に付着したまま残ることがある。粘着剤がマスク基板上に残ると、その後のマスク再生洗浄工程での洗浄負荷が大きくなる。
【０００７】
ペリクルを剥離する際、基板上に粘着剤が残らないようにするために、有機溶媒等を使用して粘着剤を膨潤させ、マスク基板との粘着強度を低下させてから剥離することも行われている。この方法で、粘着剤がマスク基板上に残ることは防げるものの、これには溶剤の臭気と毒性の問題、さらには、ペリクル剥離後のマスク基板上に有機溶媒の乾きむらが顕著に残り、その後のマスク再生洗浄工程での負荷が大きくなるという問題があった。
【０００８】
本発明の目的は、露光原版からペリクルを剥離する際、フレームから粘着層が剥がれることなく、粘着剤がマスク基板上に残ることのないフレーム、これを用いたペリクル及びペリクルの製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、鋭意研究の結果、フレームの粘着剤塗布端面の状態を工夫することで、フレームと粘着層との接着力を飛躍的に向上させ、マスク基板からのペリクル剥離に際しては、粘着剤がフレームから剥がれてマスク基板上に残ることなく、ペリクルを剥離できることを見出して本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明のフレームは、上面にペリクル膜が張設され、下面に露光原版に粘着させるための粘着層が設けられるフレームにおいて、粘着層が設けられる下面を粗面状態としてなることを特徴としている。このときフレーム下面の粗面状態を表面粗さ（Ｒａ）０．８μｍ以上、５．０μｍ以下とするのが望ましい。さらに好ましくは表面粗さ（Ｒａ）１．０μｍ以上５．０μｍ以下とするのが望ましい。
本発明のペリクルは、このようなフレームを用いて、この上面にペリクル膜を張設し、粗面状態とした下面に粘着層を形成してなることを特徴としている。
【００１１】
本発明のペリクルの製造方法は、フレームの少なくとも一方の端面を表面粗さ（Ｒａ）０．８μｍ以上５．０μｍ以下の粗面状態とし、該粗面に粘着剤を塗布して露光原版に粘着させるための粘着層を設け、他方の端面にペリクル膜を張設することを特徴としている。
【００１２】
【発明の実施の形態】
フレームの材質としては、アルミニウム合金、ステンレス、ポリエチレン等が挙げられるが、強度、加工性などの点から金属、特にはアルミニウム合金が好ましい。
通常、フレームに加工したアルミニウム合金の表面を黒色アルマイト処理して使用しているが、このときの粘着層を設ける粘着剤塗布端面の表面粗さ（Ｒａ）は０．５〜０．７μｍ程度である。本発明は、この粘着剤塗布端面の表面粗さ（Ｒａ）を０．８μｍ以上とすることで、飛躍的にフレームと粘着剤との接着強度を向上させることができた。
【００１３】
さらに、フレームの粘着剤塗布端面の表面粗さ（Ｒａ）を０．８μｍ以上、５．０μｍ以下、好ましくは１．０〜５．０μｍの範囲に調整することで、必要十分な接着強度と、粘着剤塗布時の泡の巻き込み等を抑え外観的にも優れた粘着層を有するペリクルを得ることができる。このとき、表面粗さ（Ｒａ）が０．８μｍ未満では、ペリクル剥離工程において粘着層とフレーム間で界面剥離が生じ、粘着剤がマスク基板上に残りやすい。また、表面粗さ（Ｒａ）が５．０μｍを超えると、粘着剤塗布時に泡を巻き込みやすく、外観不良品を生じる。このため表面粗さ（Ｒａ）を上記範囲に調整する。粘着層を形成する粘着剤としては、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、適宜粘着力を調製してフレームに塗布するとよい。
【００１４】
【実施例】
次に本発明の実施例、比較例をあげる。
（実施例１，２、比較例１〜３）
高さが５．８ｍｍ、外周が縦１２２ｍｍ、横１４９ｍｍ、幅が２ｍｍのジュラルミン製のフレームを製作し、この表面を黒色アルマイト処理した後、一方の端面をサンドブラストにより、表面粗さ（Ｒａ）をそれぞれ０．５２μｍ（比較例１），０．７２μｍ（比較例２），０．８２μｍ（実施例１）， ４．８μｍ（実施例２），５．５μｍ（比較例３）に調整してレチクル貼付用粘着剤端面とした５種類のフレームを、それぞれ３本づつ計１５本用意した。
次に、このサンドブラスト面にアクリル粘着剤ＳＫ−ダイン1604Ｓ（綜研化学社製、商品名）を、汎用ディスペンサーを使用して線引き塗布した。その後、フレームを１００℃に加熱して粘着剤をキュアした後、この上から離型剤が塗布され保護シートを貼付した。さらに、粘着剤を塗布したフレーム面とは反対側の面に、ペリクル膜用接着剤を塗布しペリクル膜を固定した。使用したペリクル膜は、サイトップＣＴＸ−Ｓtype（旭硝子社製，商品名）を用いて形成した厚さ０．８μｍの薄膜である。
【００１５】
このようにして仕上げたペリクルを、Ｃｒ蒸着表面のレチクル、ＭｏＳｉ蒸着表面のレチクル、石英表面のレチクル上にそれぞれ１本づつ配置し、フレーム上端面に25ｋｇの荷重を掛けて貼り付け、フレームとレチクルとの間の粘着状態を観察したところ、フレームとレチクルとの間にエアーパス等の隙間は認められなかった。さらに１ヵ月後に観察しても、フレームとレチクルとの粘着部分は非常に良好な状態を保っていた。なお、Ｃｒマスクは不透明であるため基板裏側から観察できず、側面から観察した。
【００１６】
その後、マスク基板をオートグラフのステージ上に固定し、フレームの短辺中央部をロックペンチで挟み固定した後、毎秒３ｍｍのスピードで垂直上方にゆっくり引き上げ、基板表面からペリクルを剥離させた。
このようにして各マスク基板からペリクルを同じ条件で剥離し、剥離後の状態を比較した。この剥離実験の結果を表１にまとめて示した。
【００１７】
【表１】
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【００１８】
表１に認められるように、実施例１、２は共に全ての基板でマスク基板に粘着剤が残ることなく、ペリクルを良好に剥離することができた。その後のマスク再生洗浄工程もスムーズに洗浄処理が進行した。
比較例１は、フレームの粘着剤塗布端面の粗さが不足し、ペリクル剥離工程では粘着層とフレーム間で界面剥離が生じ、全ての基板において粘着剤がマスク基板上に残ってしまった。このため、その後のマスク再生洗浄工程では、通常の５倍の洗浄時間を要した。
比較例２は、フレームの粘着剤塗布端面の粗さが僅かに不足していたため、ＭｏＳｉ表面とＣｒ表面のマスク基板では、ペリクル剥離工程でのみ粘着層とフレーム間で界面剥離が生じ、マスク基板上に粘着剤が残った。石英基板ではマスク基板に粘着剤が残ることなく良好な剥離が行え、その後のマスク基板の再生洗浄も順調に進められた。
【００１９】
比較例３は、全ての基板に対して粘着剤が残ることなく、ペリクルを良好に剥離することができたが、ペリクルの粘着層に数個発泡が見られ、外観不良となった。これはフレームの粘着剤塗布表面の粗さが大きすぎて、粘着剤塗布時に泡を巻き込んだ可能性が極めて高い。
これらの実験の結果、フレームの粘着剤塗布表面の粗さ（Ｒａ）は、０．８μｍから５．０μｍまでの間にあることが望ましいと云える。
【００２０】
【発明の効果】
本発明は、上記した通りであり、特に、フレームを露光原版に貼り付けるために設ける粘着層の粘着剤塗布端面に工夫を加え、この端面の表面粗さ（Ｒａ）を０．８μｍ以上、好ましくは５．０μｍ以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上５．０μｍ以下とすることにより、粘着層とフレームとの接着強度が増し、ペリクル剥離時に粘着層がフレームから剥がれて、粘着剤がマスク基板上に残ることがなくなった。加えて、溶媒を用いずにそのまま剥離できるため、その後のマスク基板再生洗浄が容易になり、歩留まりの低下やタクトタイムの増加を防ぐことができた。