(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．アクリルポリマーまたはコポリマーとｄｅｅｐ  ＵＶ光吸収性のカルボン酸染料またはフェノール染料との反応生成物であって、前記カルボン酸染料またはフェノール染料が、カルボン酸染料の場合はヒドロキシエステル部分を介して、またはフェノール染料の場合はヒドロキシエーテル部分を介して結合した前記ポリマーまたはコポリマーを有し、前記部分は反応の間にその場で形成する反応生成物と、
ｂ．メラミン、尿素、ベンゾグアナミン、グリコールウリルおよびそれらの誘導体からなる群より選択されるアルキル化アミノプラスト架橋剤と、
ｃ．硬化のためのプロトン酸触媒と、および
ｄ．少なくともアルコール２０パーセントを含む７０℃ないし１８０℃の沸点のアルコール含有溶媒系
を含む改良された熱硬化性ｄｅｅｐ  ＵＶ抗反射組成物。
【請求項２】
前記ヒドロキシエステルまたはヒドロキシエーテル部分は、前記染料と前記アクリルポリマーまたはコポリマー中に含まれるグリシジルメタクリレート単位との反応により誘導される、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記グリシジルメタクリレート含有アクリルポリマーまたはコポリマーは、５，０００ないし３０，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の数平均分子量（Ｍｎ）および２０，０００ないし１００，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の重量平均分子量（Ｍｗ）を有する、請求項２記載の組成物。
【請求項４】
前記グリシジルメタクリレート含有アクリルポリマーまたはコポリマーは、１０，０００ないし２０，０００ｇ／ｍｏｌのＭｎおよび３０，０００ないし７０，０００ｇ／ｍｏｌのＭｗを有する、請求項２記載の組成物。
【請求項５】
前記アクリルポリマーは、グリシジルメタクリレートのホモポリマーまたはグリシジルメタクリレートと２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、メチルメタクリレートおよび２−クロロエチルメタクリレートからなる群より選択されるコモノマーとのコポリマーである、請求項２記載の組成物。
【請求項６】
前記アクリルポリマーは、グリシジルメタクリレートのホモポリマーまたはグリシジルメタクリレートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートおよびヒドロキシプロピルメタクリレートからなる群より選択されるコモノマーとのコポリマーである、請求項２記載の組成物。
【請求項７】
少なくともグリシジルメタクリレートコモノマー２０モルパーセントを有するグリシジルメタクリレートコポリマーを含んで光学密度を増大させた、請求項５記載の組成物。
【請求項８】
グリシジルメタクリレート３０モルパーセントを有する、請求項７記載の組成物。
【請求項９】
改良された架橋密度のために、前記ポリマーまたはコポリマーについて４００ｇｍ／当量未満のヒドロキシル当量を有する、請求項１記載の組成物。
【請求項１０】
前記ｄｅｅｐ  ＵＶ光吸収染料は、十分な固有吸光率を有し、そして露光波長２４８ｎｍでフィルム厚１μｍ当り少なくとも７．０の光学密度をもたらす濃度で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項１１】
０．３０μｍ未満のホトリソグラフィーを行うことにおける使用のために、２４８ｎｍでフィルム厚１μｍ当り９．０より大きい光学密度を有する、請求項１０記載の組成物。
【請求項１２】
９−アントラセンカルボン酸、２−ナフトエ酸、９−アクリジンカルボン酸およびｐ−アニス酸からなる群より選択されるカルボン酸染料を有する、請求項１０記載の組成物。
【請求項１３】
前記カルボン酸染料は９−アントラセンカルボン酸である、請求項１０記載の組成物。
【請求項１４】
４−ヒドロキシビフェニル、２−ヒドロキシキナルジン、５，７−ジクロロ−８−ヒドロキシキノリンおよび２−アセトキシナフトールからなる群より選択されるフェノール染料を有する、請求項８記載の組成物。
【請求項１５】
前記プロトン酸触媒が、８０ｇ／モルより大きい式量を有し、熱硬化の間の昇華を防止する強プロトン酸である、請求項１記載の組成物。
【請求項１６】
前記プロトン酸触媒は、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸およびナフタレンスルホン酸からなる群より選択される、請求項１４記載の組成物。
【請求項１７】
前記アミノプラスト硬化剤はノボラック類およびポリ（４−ヒドロキシスチレン）からなる群より選択されるポリフェノールと共に存在し、前記ポリフェノールは染料結合アクリルポリマーまたはコポリマー上の遊離グリシジル部位と反応することによって熱架橋をもたらすのに働くが、主要な染料成分としては働かない、請求項２記載の組成物。
【請求項１８】
アミノプラストの反応性当量と前記アクリルポリマーまたはコポリマーのヒドロキシ部分の反応性当量との重量比は０．２０ないし２．００であり、またアミノプラストの重量に基づく酸触媒の重量パーセントは５ないし２０重量パーセントの範囲であり、またコーティング中の全固形分の重量パーセントは２．５ないし１０．０パーセントの範囲である、請求項１記載の組成物。
【請求項１９】
ノボラックおよびポリ（ヒドロキシスチレン）をベースとしたホトレジストに対するエッチ選択性は、酸素化、フッ素化または塩素化ガスまたはそれらの混合物を使用して活性エッチング種を発生させるプラズマエッチ条件下で１．０より大きい、請求項１記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の背景
１．発明の分野
本発明は、ｄｅｅｐ  ＵＶ多層ホトレジストシステムにおける使用のための最下層熱硬化性抗反射コーティング組成物、特に改良されたエッチ速度、適合性および露光波長２４８ｎｍでの光学密度を有するものに関する。
【０００２】
２．従来技術の背景
多層ホトレジストシステムにおける使用のための最下層抗反射コーティング組成物は、“高い差溶解度”としても参照されているホトレジスト溶媒中での高い不溶性を有するポリスルホン、ポリ尿素スルホンおよびポリ（ビニルピリジン）のような高分子量熱可塑性バインダーを慣例的に含んでいた。これらのバインダーは、抗反射組成物と最上層ホトレジストとの混合を抑制するのに働く。そのような熱可塑性バインダーはしばしば、吸湿性であり、高い表面張力を有しまた低い揮発性を示すＮ−メチルピロリドン、ｇ−ブチロラクトンおよびテトラヒドロフルフリルアルコールのような強極性溶媒を必要とする。そのような溶媒は“差溶解度”に対して有益で有り得るが、それらはまた、それらの低い揮発性のために、くぼみ、脱湿潤、空隙、泡立ちおよび厚さの変位のような様々なフィルム欠陥に導く。
【０００３】
半導体回路の像寸法を減じる現在の傾向が存在する。像寸法が寸法０．３０μｍ未満に接近すると、熱可塑性抗反射コーティングの上述の不利益、並びに参照により本明細書中に取り込まれる合衆国特許第５，２３４，９９０号公報、同第５，４０１，６１４号公報、同第５，４８２，８１７号公報、同第５，５５４，４８５号公報および欧州特許出願第９５４８００８７．６号公報において記載された欠点は益々問題となる。最も注目すべき問題は、ホトレジストとの混合に対するそれらのいわゆる抵抗性が次第に完全で完全でなくなることである。従って僅かな混合が常に生じ、レジスト像の最下部で小さいけれども識別可能な歪みを生成する。像寸法が大変小さいので、これらの小さな歪みでさえも良好な品質の実際の装置を生成するためには許容できなくなる。
【０００４】
これらの欠点を克服するために、熱可塑性よりむしろ熱硬化性ポリマーから抗反射コーティングのためのバインダーを開発する必要が生じている。そのようなポリマーは速乾性溶媒から塗布可能であるに十分に素早く硬化し、そしてそれ故、耐溶媒性およびコーティング品質が改良される。参照により本明細書中に取り込まれる“熱硬化性抗反射コーティング組成物”という名称の合衆国特許第５，６９３，６９１号公報および“熱硬化性抗反射コーティングでのレジスト構造の製造法”という名称の本発明者等の係属中の出願第０８／６９２，７１４号公報は、熱硬化性抗反射コーティングの開発を記載し、また組成物および方法における新規な改良を開示している。その中で記載された抗反射コーティングは主に、オリゴマー性ヒドロキシル官能性樹脂と、アミノプラスト架橋剤と、プロトン酸触媒と、および適した溶媒ビヒクルを含み、該ヒドロキシル官能性樹脂はフェノール染料またはカルボン酸染料と３ないし１０のエポキシ官能性を有する低分子量エポキシ樹脂との反応生成物である。該コーティングは３０ないし１２０秒間、温度約１５０℃で焼成することによって硬化される。該合衆国特許第５，６９３，６９１号公報および係属中の出願において教示されているように、揮発性有機溶媒中に可溶であるこれらの組成物は、それらが（１）極めて薄いフィルム（２０００Å未満）における高い光学密度、（２）実質的にホトレジストと混合しないこと、（３）触媒された形態における貯蔵安定性、および（４）発色団をオリゴマー性樹脂マトリクスに結合するための市販で実行可能な合成技術を提供するので、従来技術を越えて改良されている。
【０００５】
低分子量エポキシ樹脂から誘導された上記の染料結合熱硬化性抗反射コーティングは多くの予期し得ない利点を提供するけれども、それらは欠点を有し過ぎる。そのような欠点の一つは、像を該抗反射コーティング層へプラズマエッチングを行うことにより生じる。例えば、合衆国特許第５，６９３，６９１号公報において（本明細書の比較例１参照。）、酸素プラズマエッチングは従来技術の熱可塑性樹脂、例えば合衆国特許第５，２３４，９９０号公報に記載されるポリアリールエーテルスルホン抗反射コーティングの約１．２５倍より速くない速度で行われる。ポリアリールエーテルスルホン抗反射コーティングはｄｅｅｐ  ＵＶホトレジストよりも１．２５倍より遅くエッチングを行うことが知られているので、このことは合衆国特許公報第５，６９３，６９１号公報において記載された熱硬化性抗反射コーティングは、模様転写工程の間にホトレジストとほぼ同じ速度でエッチングが行われることを意味する。抗反射コーティング層厚は典型的に０．０５〜０．１０μｍであるので、プラズマエッチ処理が非常に異方性でないならば、有意なネガティブエッチ偏りが０．３０μｍ未満のレジスト像寸法で観察され得る。
【０００６】
低官能性エポキシ樹脂から誘導された染料結合熱硬化性抗反射コーティングの他の制限は、表面像上に適合して付着するよりむしろ基材トポグラフィーを平面化するそれらの傾向である。適合性の欠如は、オーバーエッチを適用し、コートおよび焼成の処理の間に層成する傾向にある溝構造から抗反射コーティングを除去しなければならないので、ホトレジストのさらにより大きな偏りに導く。
【０００７】
合衆国特許第５，６９３，６９１号よりもより高分子量のポリマーから誘導された染料結合熱硬化性抗反射コーティングもまた開示されている。例えば、欧州特許出願第９２１１８０７０．９号公報は、染料結合アクリルコポリマーおよびアミノプラスト架橋剤を含むｄｅｅｐ  ＵＶ抗反射コーティング組成物を記載する。該コポリマーは好ましくは、９−アントラノールメタクリレートのような９−アントラセンエステルモノマーおよび２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）のようなヒドロキシル官能性モノマーを他のメタクリレートエステルと共重合することによって形成される。第一のモノマーのアントラセン単位は、該コポリマーにｄｅｅｐ  ＵＶ吸光率を与える活性染料または発色団である。（以下の図参照。）ＨＥＭＡは、最終コーティングが硬化されるとき、アミノプラスト試薬との熱架橋のための部位を与える。
【化１】
0004310721.tif 000002
【０００８】
前記アントラセン発色団はカルボン酸エステル結合を介して前記コポリマーのビニル骨格に結合する。該発色団と該コポリマー骨格との間の短く硬直な結合は、含有量が高くなればなるほど該コポリマーが好ましいコーティング溶媒中に不溶になるので、該コポリマー中のアントラセン基含有アクリル単位の含有量を有意に１００モルパーセント未満に結局制限する。このことは次に最大フィルム光学密度、およびそれに対応する抗反射コーティングの抗反射制御力を制限する。また、該コポリマーの十分な有効な架橋を可能にするヒドロキシ官能性コポリマーの濃度が欠如する。これは該抗反射コーティングの光学密度をさらに制限する。
【０００９】
欧州特許出願第９４３０５１２４．３号公報は、一つまたはそれより多くのグリシジル官能基を有する少なくとも一種の化合物（典型的にはポリマーまたはオリゴマー）と、少なくとも一種のフェノール性アントラセン染料と、およびこれらの化合物を溶解することが可能な溶媒を含む熱硬化性抗反射コーティングを開示する。しかしながら、上述で議論した抗反射コーティング組成物とは異なり、表題組成物中のアントラセン染料は硬化の前にグリシジル基含有ポリマーに結合されず、またアミノプラスト架橋剤は該組成物中に存在しない。結果として、高温での数分間の加熱が該フェノール性アントラセン染料と前記グリシジル基含有ポリマーとの間の十分な反応を起こしてコーティングを不溶化するために必要である。この長い硬化サイクルはウエハの歩留まりを減じ、また処理を製造者に一般に許容不可能にする。加えて、表題抗反射コーティングの製造、特にフェノール性アントラセン染料成分の製造は多くの工程を伴い、コーティングを実際の基準において製造および使用できないほどに高価にする。
【００１０】
合衆国特許第５，５９７，８６８号公報は、記載したばかりの欧州特許出願第９４３０５１２４．３号公報おいて記載されたコーティングに類似して硬化する１９３ｎｍホトリソグラフィーのための熱硬化性抗反射コーティングを開示する。ノボラック樹脂のようなポリフェノール染料は、ペンダントエポキシド官能性を有するアクリルポリマーと結合する。コーティングを加熱することは、染料のフェノール性ヒドロキシル基とポリマーのエポキシド基との間の熱硬化反応を生じる。しかしながら、前記公報において記載されるように、硬化処理は有効にするためには１０分より長い間１７０℃より高い温度で行わなければならない。
【００１１】
本発明の要約
従って本発明の主な目的は、従来技術の欠点を打ち消す新規熱硬化性抗反射コーティング組成物およびその使用方法を提供することである。
【００１２】
本発明の特別な目的は、ホトレジスト層に対するアミノプラスト硬化熱硬化性抗反射コーティングのプラズマエッチ速度を、早い硬化速度、高い光学密度、安全な揮発性溶媒中での良好な溶解度および塗布性、高い硬化後の差溶解度、並びに手ごろな費用を保ちつつ改良することである。
【００１３】
本発明の特別な目的はまた、他の染料結合熱硬化性抗反射コーティングと比較して適合性および像被覆を改良することである。
【００１４】
さらなる目的は、アミノプラスト架橋剤で硬化される従来技術の染料結合抗反射コーティングよりも、露光波長２４８ｎｍでより高いフィルム光学密度を提供することである。より高い光学密度はより薄い抗反射コーティング層の使用を可能にし、それは次により短いエッチ時間を可能にし、そしてエッチ偏りを減じる。
【００１５】
改良された熱硬化性抗反射コーティング組成物は主に、１）アクリルポリマーまたはコポリマーとｄｅｅｐ  ＵＶ光吸収性のカルボン酸染料またはフェノール染料との反応生成物であって、該ポリマーと染料を単位化する結合はヒドロキシル官能性部分である反応生成物と、２）多官能性アミノプラスト（または反応的に等価な）架橋剤と、および３）プロトン酸触媒からなり、それらの全ては適した高揮発性溶媒ビヒクル中に溶解させられている。該組成物は半導体基材上に適用され、そしてその後典型的には６０秒間加熱されて露光波長２４８ｎｍで高い光学密度、速いプラズマエッチング性質、高い適合性および化学増幅されたｄｅｅｐ  ＵＶホトレジストとの優秀な相溶性を示す架橋コーティングを形成する。
【００１６】
詳細な説明および好ましい態様
本発明の熱硬化性抗反射コーティング組成物は一般に、
ａ．高分子量アクリルポリマーまたはコポリマー、好ましくはグリシジルメタクリレートとｄｅｅｐ  ＵＶ（Ｄ．Ｕ．Ｖ．）光吸収性のカルボン酸染料またはフェノール染料との反応生成物であって、該染料がカルボン酸基またはフェノール基と該ポリマーのグリシジル基との、それぞれヒドロキシエステル官能基またはヒドロキシエーテル官能基を形成するその場での反応を介して結合する反応生成物と、
ｂ．メラミン、尿素、ベンゾグアナミンもしくはグリコールウリルまたはそれらの誘導体のようなアルキル化アミノプラスト架橋剤と、
ｃ．プロトン酸触媒（硬化のための）と、
ｄ．少なくともアルコール２０重量パーセントを含む低ないし中沸点（７０℃ないし１８０℃）のアルコール含有溶媒系
を含む。
【００１７】
新規組成物は、低分子量エポキシ樹脂から誘導された熱硬化性抗反射コーティングよりもより速いエッチング性質、より高い適合性およびより大きい最大光学密度を与える。加えて、それらは欧州特許出願第９２１１８０７０．９号公報において開示されたもののような染料結合アクリルコポリマー組成物を越える高い染料含有量での改良された溶解度を与える。この特徴は、染料をポリマーのビニル骨格に結合するに使用される結合、即ちヒドロキシエステルまたはヒドロキシエーテル官能性部分の性質から導かれる。新規アクリル組成物中の結合の構造を、例としてアントラセン発色団を使用して以下に記載する。
【化２】
0004310721.tif 000003
【００１８】
本発明において、結合は好ましくはＣ3単位が介在する二つのカルボン酸エステルからなる。該Ｃ3単位はさらに２位でヒドロキシル基によってさらに置換される。本発明者等は既に、Ｃ3結合が従来技術のアクリルコポリマーに比較してポリマーの全体の硬直性を減じ、ポリマーがアントラセン基含有アクリル単位から十分になるときでさえ、好ましいコーティング溶媒中で可溶のままにすることを議論した。該Ｃ3結合単位上のヒドロキシル基は、可溶化のためのさらなる推進力を与え、またアミノプラスト架橋剤のための反応部位として働き、より高い架橋密度を意味し、そして従って、架橋が発色団含有アクリル単位で生じることができない従来技術のアクリル系よりもより大きな差溶解度が達成されることができる。
【００１９】
組成物の成分
１．アクリルポリマー／コポリマー
染料が結合するグリシジルメタクリレートポリマーまたはコポリマーは、良く知られている遊離ラジカル溶液重合法によって製造されることができる。該コポリマーについての好ましい数平均分子量（Ｍｎ）範囲は５，０００〜３０，０００ｇ／ｍｏｌであり、好ましい重量平均分子量（Ｍｗ）範囲は２０，０００〜１００，０００ｇ／ｍｏｌである。Ｍｎについての特に好ましい範囲は１０，０００〜２０，０００ｇ／ｍｏｌであり、Ｍｗについての特に好ましい範囲は３０，０００〜７０，０００ｇ／ｍｏｌである。
【００２０】
アクリルポリマーはグリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）のホモポリマーまたはＧＭＡと２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、ヒドロキシプロピルメタクリレート（ＨＰＭ）、メチルメタクリレートまたは２−クロロエチルメタクリレートのような（メタ）アクリレートコモノマーとのコポリマーであり得る。ＨＥＭＡおよびＨＰＭのようなヒドロキシル官能性コモノマーは、それらが最終コーティング中に存在するアミノプラスト架橋剤のためのさらなる反応部位を与えるので、特に好ましい。コモノマーが使用される場合、グリシジルメタクリレートはモノマー単位の少なくとも２０モルパーセント、またより好ましくは３０モルパーセントをなすべきであり、そのことはグリシジル基含有単位への染料結合を介して達成される光学密度を増大する。同様に、ポリマーについて４００ｇ／当量未満のヒドロキシル当量は、最終硬化コーティングにおいて最も改良されかつ有効な架橋密度を得るために好ましい。
【００２１】
２．ｄｅｅｐ  ＵＶ光吸収染料
適した単官能性のカルボン酸染料およびフェノール染料は、アクリルポリマーに結合して抗反射コーティングにｄｅｅｐ  ＵＶ光吸収を与える。該染料の固有吸光率およびポリマー結合染料の濃度は、露光波長２４８ｎｍでフィルム厚１μｍ当り少なくとも７．０の光学密度を与えるに十分であるべきである。２４８ｎｍでフィルム厚１μｍ当り９．０より大きい光学密度は、０．３０μｍ未満のホトリソグラフィーを行うために特に望ましい。
【００２２】
好ましいカルボン酸染料は、９−アントラセンカルボン酸（ＡＣＡ）、２−ナフトエ酸、９−アクリジンカルボン酸およびｐ−アニス酸を含む。適したフェノール染料は、４−ヒドロキシビフェニル、２−ヒドロキシキナルジン、５，７−ジクロロ−８−ヒドロキシキノリンおよび２−アセトキシナフトールである。これらの構造の全ての中で、ＡＣＡはその露光波長２４８ｎｍでの高い固有吸光率のために特に好ましい染料である。
【００２３】
上記された染料は、それらの有用な光吸収特性を保つかまたは改良しさえしつつ、それらの構造内の様々な点で、例えば芳香環についてのニトロ置換により化学修飾され得る。
【００２４】
３．酸触媒
ｐ−トルエンスルホン酸は好ましい酸触媒であるけれども、ドデシルベンゼンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、リン酸およびそれらの混合物のような他の強プロトン酸は適当に用いられ得る。８０ｇ／モルより大きい式量を有する酸触媒が好ましく、抗反射コーティングが熱硬化されるときの昇華を防止する。
【００２５】
４．架橋剤
新規抗反射コーティングは、半導体基材上で熱の適用により硬化される。加熱は染料結合アクリルポリマー上のヒドロキシル置換基とアミノプラスト架橋剤との間の架橋反応を誘発する。そのような硬化機構は工業用コーティングおよび仕上剤において使用されるもののようなポリエステルポリオールを含むことが良く知られている。適したアミノプラストは、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂および尿素−ホルムアルデヒド樹脂を含む。これらの樹脂のメチル化および／またはブチル化形態の使用は、触媒された条件下で約３ないし１２ヶ月の長い貯蔵寿命を得るために非常に好ましい。サイテック・インダストリーズＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫR  １１７４のようなメチル化グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂は、それらの減ぜられた塩基度および、それによる酸触媒ホトレジストとの化学的な干渉への低い傾向のために特に好ましい。該アミノプラスト樹脂は、ポリマーヒドロキシ官能基当り反応性アルコキシメチル架橋官能基０．２０ないし２．００当量を与える比率でコーティングに好ましく添加される。ヒドロキシル基当り０．５０〜１．００反応性当量を与える比率が特に好ましい。
【００２６】
他の架橋様式は、アミノプラスト架橋剤の使用が非常に好ましいけれども、新規抗反射コーティングに適用されることができる。これらの他の様式は、単独でまたは前記アミノプラスト架橋処理と共に作用し得る。例えば、未反応グリシジル官能基が染料結合アクリルポリマー上に存在する場合、ノボラック類およびポリ（４−ヒドロキシスチレン）のようなポリフェノールは、遊離グリシジル部位での反応により抗反射コーティングの熱架橋をなしてアリールエーテル結合を形成することができる。そのような処理は、合衆国特許第５，５９７，８６８号および欧州特許出願第９４３０５１２４．３号のような従来技術において開示されるものとは、本発明において使用されるポリフェノールが抗反射コーティング内で主な染料として働かないことにおいて異なる。その代わりにそれらはコーティングのための架橋剤としてのみ働く。
【００２７】
５．溶媒および添加剤
新規抗反射コーティングのための適した溶媒は、範囲７０℃〜１８０℃で沸騰するアルコール、エステル、グリム、エーテル、環状ケトンおよびそれらの混合物を含む。特に好ましい溶媒および補助溶媒は、１−メトキシ−２−プロパノール（ＰＧＭＥ）、シクロヘキサノン、エチル３−エトキシプロピオネートおよび乳酸エチルである。ＰＧＭＥおよび乳酸エチルのようなアルコールは、コーティング溶媒系の少なくとも２０重量パーセントをなして長い貯蔵寿命に寄与するべきである。
【００２８】
コーティングは、もしコーティング品質またはホトレジスト相溶性の問題を生じないならば、少量（全溶媒の２０重量パーセントまで）のｇ−ブチロラクトンおよびテトラヒドロフルフリルアルコールのような慣用の高沸点抗反射コーティング溶媒で改変されて染料結合ポリマー成分の溶解度を改良し得る。３Ｍ・カンパニーのＦＬＵＯＲＡＤR  ＦＣ−１７１またはＦＣ−４３０のような界面活性剤およびグシリジオキシプロピルトリエトキシシランのような付着促進剤は添加されてコーティング品質を最大限拡大し得る。
【００２９】
製造方法
本発明の染料結合アクリルポリマーを製造するための反応図を図１に図示する。第一工程において、グリシジルメタクリレート含有ポリマーまたはコポリマーは溶液中で、例えばカルボン酸染料と反応させられる（経路１）。該反応はグリシジル官能基のエポキシ環を開環し、ヒドロキシエステル結合を形成する。該反応は約８０℃〜２００℃で窒素被覆下、触媒の存在下で行われる。様々な触媒が使用され得るけれども、塩化テトラアルキルアンモニウムが好ましい。経済性の理由のために、反応生成物は好ましくは溶液中に残され、そして母液として使用される。同様な反応条件がフェノール染料が結合されるとき（経路２）に用いられる。しかしながらそのような場合において、水酸化テトラメチルアンモニウムまたは他の強塩基が好ましい触媒である。通常、染料とグリシジル官能基とのモル比は、過剰のグリシジル官能基が架橋のために必要でなければ、約１．０に調節される。
【００３０】
第二工程において、染料結合ポリマーの溶液は、架橋剤、触媒および他の添加剤と混合されて所望の最終配合物を与える。抗反射コーティング溶液中の固形分濃度は典型的に約２．５〜１０．０重量パーセントに調節されて望ましいフィルム厚５００〜２５００Åを達成する。
【００３１】
好ましいコーティング組成物
新規抗反射コーティング中の染料結合アクリルポリマー、アミノプラスト架橋剤および酸触媒についての好ましい比率は、以下の表に表される。
【表１】
0004310721.tif 000004
これらの比率で混合されるとき、抗反射コーティングは１５０℃〜２２５℃の間の焼成温度で、優秀なレジスト相溶性、良好な環境貯蔵安定性および素早い硬化性質を示す。
【００３２】
使用方法
前記熱硬化性抗反射コーティング組成物は、結晶および多結晶シリコン、二酸化シリコン、シリコン（オキシ）ニトリド、アルミニウム、アルミニウム／シリコン合金およびタングステンを含む全ての半導体基材上で有効に使用されることができる。該抗反射コーティングは１０００〜６０００ｒｐｍで３０〜９０秒間スピンコートすることによって適用される。１５００〜４０００ｒｐｍのスピン速度は、半導体製造において慣用的に使用される６”および８”基材上に均一な欠陥のないコーティングを得るために特に好ましい。スピンコートされたフィルムはその後、１２０℃〜２２５℃で３０〜１２０秒間、ホットプレートまたは等価な焼成装置上で硬化される。１５０℃〜２２５℃の焼成温度および４５〜９０秒の焼成時間は、ホトレジストに対する高い差溶解度を達成するために特に有効である。
【００３３】
ホトレジストは硬化された抗反射コーティングの上にスピンコーティングによって適用され、そしてその後軟焼成し、露光し、そして現像して所望のマスキング模様を作成する。所望による露光後の焼成は現像の前にレジストに適用され得る。レジスト模様はその後、有機材料にエッチングを行うために有効であることがマイクロリソグラフィー技術において既知である様々なガスまたはガス混合物、例えばＯ2、Ｃｌ2、ＣＦ4、ＨＣＦ3、ＳＦ6、それらのＮ2、ＡｒおよびＨｅとの混合物等を使用する反応性イオンエッチング（同様に乾燥エッチングまたはプラズマエッチングとしても既知である。）によって抗反射コーティング層に転写される。該抗反射コーティング層にエッチングを行った後、半導体基材は、レジストおよび抗反射コーティング中に形成される模様を通して選択的にエッチングが行われるか、注入されるか、または付着させられる。これらの工程が完了すると、該レジストおよび抗反射コーティングはプラズマエッチングおよび／または液状ストリップ化学物質中での溶解によって除去される。ストリップされた基材はその後、新たな処理サイクルについて準備ができている。
【００３４】
以下の非限定的な例は本発明を説明する。
実施例１
抗反射コーティングを染料結合ポリ（グリシジルメタクリレート）９０モルパーセントとメラミンホルムアルデヒド樹脂および酸触媒を混合することによって製造した。
Ａ．ポリ（グリシジルメタクリレート）ホモポリマー［ＰＧＭ］の製造
グリシジルメタクリレート（１５．０ｇ、１０６ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン６０ｇおよび２，２’−アゾビス（２−メチルプロプリオニトリル）［ＡＩＢＮ］を、磁気攪拌棒、温度計、窒素流入口、および窒素流出口を有する冷却器を備えた２５０ｍｌ三首フラスコに満たした。反応混合物を窒素で１０分間パージし、そして該フラスコをその後７４℃で油浴中に浸けた。内容物を窒素雰囲気下で１８時間、６８℃〜７７℃で攪拌して重合を完了させた。
数滴の生じた２０％ポリマー固形分溶液を攪拌したメタノールに添加することにより、期待されるＰＧＭの白色沈殿が形成した。
【００３５】
Ｂ．ＰＧＭへの９−アントラセンカルボン酸［ＡＣＡ］の付加
ポリマー固形分２．５１ｇおよび遊離エポキシ官能基の計算した１７．６ｍ当量を含む上述のＰＧＭ溶液の一部分（１２．５ｇ）を、ＡＣＡ３．５１ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン３１．２ｇおよび塩化ベンジルトリエチルアンモニウム０．１８ｇ（０．７０ｍｍｏｌ）と混合した。反応物を９２℃〜１０１℃、窒素下で２０時間攪拌し、そしてその後室温に冷却した。
【００３６】
Ｃ．染料結合ポリマーの光学密度
母液の試料４．５０ｇを１−メトキシ−２−プロパノール（ＰＧＭＥ）５．５１ｇで希釈し、ろ過し（０．２μｍ）、４０００ｒｐｍで６０秒間、水晶ウエハ上にスピンコートし、そして１７５℃で６０秒間ホットプレート焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１４．８／μｍを有する硬化フィルムを得た。
【００３７】
Ｄ．抗反射コーティング配合
母液の試料１４．４ｇ、ＣＹＭＥＬR  ３０３ＬＦメラミンホルムアルデヒド樹脂１．０６ｇ、ｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ５５ｍｇおよびＰＧＭＥ３４．５ｇを環境中で攪拌して抗反射コーティングを得た。（ＣＹＭＥＬR  ３０３ＬＦはサイテック・インダストリーズによって製造される高度にメチル化されたメラミン−ホルムアルデヒドである。）
【００３８】
Ｅ．抗反射コーティング特性
溶液をろ過し（０．２μｍ）、水晶ウエハ上にスピンコートし、そしてその後１７５℃で６０秒間焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１１．５／μｍおよびフィルム厚１４５６Åを有する抗反射コーティングを得た。ストリップ試験（以下参照。）を乳酸エチルで行って抗反射コーティングの耐溶媒性を決定した。厚さ損失は無視できる０．３％であり、優秀な耐溶媒性を示した。
【００３９】
ストリッピング試験の説明
硬化した抗反射コーティング層のフィルム厚および光吸光度を、シリコンおよび水晶基材のそれぞれについて決定する。試料をその後、慣用のホトレジスト溶媒である乳酸エチルで５秒間浸漬し、続いて５０００ｒｐｍで３０秒間スピン乾燥する。フィルム厚および光吸光度を再決定する。フィルム厚または光吸光度における数パーセントより大きい（５％より大きい）減少が溶媒ストリッピングから生じた場合、抗反射コーティングは実際の使用について不充分な耐溶媒性を有すると判断される。
【００４０】
実施例２
抗反射コーティングを十分な染料結合ポリ（グリシジルメタクリレート）とグリコールウリル−ホルムアルデヒド架橋剤および酸触媒を混合することによって製造した。
Ａ．ＰＧＭへの９−アントラセンカルボン酸の付加
遊離グリシジル官能基の計算した３６．７ｍ当量を有するポリマー固形分５．２２ｇを含むＰＧＭ溶液の一部分（２６．０ｇ）を、ＡＣＡ８．１７ｇ（３６．７ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン７０．０ｇおよび塩化ベンジルトリエチルアンモニウム０．４５ｇ（１．９８ｍｍｏｌ）と混合した。反応物を窒素雰囲気下、９６℃〜１０４℃で６．７５時間攪拌した。室温への冷却後、ｐ−トルエンスルホン酸［ｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ］３８０ｍｇ（２．００ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液をその後清浄した。
【００４１】
Ｂ．抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル官能基の計算した５．４０ｍ当量を含む上述の母液の試料１５．００ｇを、ＰＧＭＥ３６．４ｇ、サイテック・インダストリーズＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫR  １１７４メチル化グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂０．５８ｇ（５．４０ｍ当量）およびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ４１．２ｍｇと混合して抗反射コーティングを得た。脱イオン化を、溶媒洗浄したＡＭＢＥＲＬＩＴＥR  ２００イオン交換ビーズ２．６ｇと４時間攪拌することによってなした。（ＡＭＢＥＲＬＩＴＥ  ２００はローム・アンド・ハースからの強酸性高容量イオン交換樹脂である。）
【００４２】
Ｃ．抗反射コーティング特性
抗反射コーティングをろ過し（０．２μｍ）、そして水晶およびシリコンウエハ上にスピンコートし、そしてその後２０５℃で６０秒間ホットプレート上で焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１４．７／μｍを有する硬化フィルムを得た。ストリップ試験を乳酸エチルで行って該抗反射コーティングの耐溶媒性を決定した。フィルム厚および光学密度における無視できる変化を観察した。シプレイＡＰＥＸ−ＥRホトレジストでの中間層試験（以下参照。）をも行い、抗反射コーティング厚における少量の増加を観察した（４６Åまたは開始厚の４．２％）。
結果は、各々のモノマー単位がアントラセン発色団で染料結合された十分に可溶なアクリルポリマーが製造され、そして熱硬化性抗反射コーティング成分として使用できることを示した。該結果は同様に、有効な架橋は、ヒドロキシル官能性コモノマーが染料結合アクリルポリマー中に存在すること無しに達成できることを表した。
【００４３】
Ｄ．抗反射コーティング安定性
大気条件で６ヶ月間の貯蔵後、前記抗反射コーティングのフィルム厚は９．８４％増加し、コーティング溶液が相当の長期間安定性を有することを示した。
【００４４】
中間層試験の説明
この試験はホトレジストと抗反射コーティングとの間の混合についての潜在能力を評価する。ｄｅｅｐ  ＵＶ抗反射コーティングについて、該中間層試験は一般に以下のように行う。コートおよび硬化の後、抗反射コーティング厚を楕円偏光測定器によって決定する。次に、シプレイＡＰＥＸ−Ｅのようなｄｅｅｐ  ＵＶホトレジストの０．８μｍ厚層を該抗反射コーティング上にスピンコートする。該ホトレジストをその後９０℃で６０秒間ホットプレート上で軟焼成し、過露光を確実にする接触プリンター上で流し露光し、そして９０秒間９０℃、ホットプレート上で露光後焼成する。試料をその後、シプレイＭＩＣＲＯＰＯＳＩＴR  ＭＦ−７０２ホトレジスト現像液中で６０秒間浸漬現像して露光したホトレジストを清浄する。脱イオン水洗浄および続いて行う窒素での試料の乾燥後、抗反射コーティング層の厚さを再決定する。抗反射コーティングおよびレジストの有意な混合が生じた場合、抗反射コーティング層は、Åまたは開始抗反射コーティング厚のパーセントとして表され得る厚さにおける明瞭な増加を表す。混合を非常に受ける抗反射コーティングは、レジスト処理後に厚さにおける１０％より大きな増加を表す。５％未満の中間層値は許容可能とみなされる。
【００４５】
実施例３
実施例２におけるものと同様な抗反射コーティングをポリマーヒドロキシル基当り計算した０．５アミノプラスト反応性当量に減じた架橋剤の濃度で製造した。
Ａ．抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル基の計算した５．４ｍ当量を含む実施例２において製造した母液の試料１５．０ｇ、ＰＧＭＥ３０．５ｇ、ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４・０．２９ｇ（２．７ｍ当量）およびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ２１．０ｍｇを混合してコーティング溶液を形成した。
【００４６】
Ｂ．抗反射コーティング特性
上述の溶液を４時間、溶媒洗浄したＡＭＢＥＲＬＩＴＥ  ２００イオン交換ビーズ５重量パーセントで脱イオン化し、ろ過し（０．２μｍ）、４０００ｒｐｍで６０秒間スピンコートし、そしてその後２０５℃でホットプレート焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１５．５／μｍを示す抗反射コーティングを製造した。乳酸エチルストリッピングは皆無であり、ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は４６．７Å（４％）であった。
【００４７】
Ｃ．抗反射コーティング安定性
環境条件で５．５ヶ月間の貯蔵後、前記抗反射コーティングのフィルム厚は１４．８％増加した。
【００４８】
実施例４
抗反射コーティングを過剰なグリシジル官能性を有する染料結合グリシジルメタクリレートコポリマーをポリフェノール硬化剤（ノボラック）と混合することによって製造した。
Ａ．架橋剤としてノボラックをまた触媒として２−メチルイミダゾールを使用した抗反射組成物配合
遊離グリシジル官能基の計算した０．３７ｍ当量を含む実施例１において製造した母液の試料１０．０ｇ、シクロヘキサノン１１．５ｇ、ノボラック樹脂４５ｍｇおよび２−メチルイミダゾール触媒４８．８ｍｇを攪拌してコーティング溶液を得た。
【００４９】
Ｂ．抗反射コーティング特性
前記溶液をろ過し（０．２μｍ）、４０００ｒｐｍで６０秒間スピンコートし、１００℃で３０秒間乾燥し、そして２０５℃で６０秒間ホットプレート焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１４．７／μｍを有する抗反射コーティングを得た。乳酸エチルストリッピング試験は厚さ変化１％未満および吸光度損失２．２％を生じ、ポリフェノール硬化老化はフィルムを有効に不溶化したことを示した。
【００５０】
Ｃ．架橋剤としてノボラックを使用した触媒されていない抗反射組成物配合
実施例１において製造したものと同様でありまた遊離グリシジル官能基の計算した１．８６ｍ当量を含む母液の試料を、ノボラック樹脂２３５ｍｇ、フェノール１．８６ｍ当量および十分なシクロヘキサノンと混合して３．６重量パーセントコーティング溶液を得た。該溶液を溶媒洗浄したＤＯＷＥＸ  ＨＣＲ−Ｓビーズ５重量パーセントと攪拌することによって脱イオン化した。
【００５１】
Ｄ．抗反射コーティング特性
前記抗反射コーティング溶液をろ過し（０．２μｍ）、４０００ｒｐｍで６０秒間スピンコートし、１００℃で３０秒間乾燥し、そして２０５℃で６０秒間硬化して波長２４８ｎｍで光学密度１５．７／μｍを有する薄フィルムを得た。ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は７７Å（７．７％）であり、一方乳酸エチルストリッピング損失は開始厚の４．５％であった。
【００５２】
実施例５
二つの異なるカルボン酸をポリ（グリシジルメタクリレート）に結合させそして生じた生成物を熱硬化性抗反射コーティングに配合した。
Ａ．ＰＧＭへのＡＣＡおよび４−クロロ酪酸の共付加
磁気攪拌棒、温度計、窒素流入口、および窒素流出口を有する冷却器を備えた２５０ｍｌ三首フラスコを、グリシジル官能基の計算した２６．４ｍ当量を含む２０．０重量パーセントＰＧＭ溶液１８．７５ｇ、シクロヘキサノン３１．２ｇ、ＡＣＡ１．４７ｇ（６．６１ｍｍｏｌ）、４−クロロ酪酸２．４３ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）および塩化ベンジルトリエチルアンモニウム０．２７ｇ（１．１８ｍｍｏｌ）で満たした。反応混合物を窒素下で２０時間、〜９５℃で攪拌して染料結合ポリマーの１４．１重量パーセント溶液を得た。
【００５３】
Ｂ．抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル官能基の計算した１３．２ｍ当量を含む上述のポリマー溶液の一部分２７．０６ｇを、ＰＧＭＥ５９．６ｇで希釈した。ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４（３５５ｍｇ、〜３．３０ｍ当量）およびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ３５．５ｍｇをその後添加し、そして攪拌してコーティング溶液を得た。抗反射コーティングを４時間、ＰＧＭ洗浄したＡＭＢＥＲＬＩＴＥ  ２００ビーズ５重量パーセントと攪拌することによって脱イオン化した。
【００５４】
Ｃ．抗反射コーティング特性
前記コーティングを以前の実施例において記載したように適用し、そして２０５℃で６０秒間硬化した。波長２４８ｎｍでフィルムの光学密度は８．３５／μｍであり、４−クロロ酪酸の低い固有吸光率を反映した。乳酸エチルストリッピングからの吸光度およびフィルム厚の損失は無視できる。ＡＰＥＸ−Ｅ中間層試験は厚さにおける３０．５Åのみの増加の結果となり、比較的低いアミノプラスト濃度（ポリマーヒドロキシル基当りメトキシメチル基０．２５当量）がコーティングを有効に不溶化したことを示した。
【００５５】
Ｄ．プラズマエッチデータ
前記抗反射コーティングは酸素プラズマエッチ条件下でポリアリールエーテルスルホンコーティングと比較して１．６２：１のエッチ選択性を示した。
【００５６】
Ｅ．リソグラフィー性能
前記抗反射コーティングはＡＰＥＸ−Ｅホトレジストで垂直で歪みの無い像形状を与えた。
【００５７】
実施例６
グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）およびヒドロキシプロピルメタクリレート（ＨＰＭ）を分子量研究のために連鎖移動剤を伴っておよび伴わずに共重合させた。
７０：３０のモル比でのＧＭＡおよびＨＰＭの共重合
磁気攪拌棒、温度計、窒素流入口、および窒素流出口を有する冷却器を備えた５００ｍｌ三首フラスコを、グリシジルメタクリレート１９．１３ｇ（１３４．６ｍｍｏｌ）、ヒドロキシプロピルメタクリレート４５．１３ｇ（３１３．０ｍｍｏｌ）（ローム・アンド・ハースＲＯＣＲＹＬR ４１０）、シクロヘキサノン２５６．９ｇおよびＡＩＢＮ０．６４ｇで満たした。内容物を２４時間６８℃〜８０℃、窒素下で加熱してコポリマーを形成した。
ゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）による分子量分析は該コポリマーについて以下の値を与えた、Ｍｗ６７，０００、Ｍｎ１９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ３．５３。
比較重合は、ＰＧＭＥ中で連鎖移動剤としてドデカンチオール０．４重量パーセントを使用して行いポリマー分子量を減じた。ＧＰＣ分析は以下の特性データを与えた、Ｍｗ５７，０００、Ｍｎ１６，７００、Ｍｗ／Ｍｎ３．４１。
【００５８】
実施例７
アミノプラスト硬化抗反射コーティングをグリシジルメタクリレートの染料結合コポリマーおよびヒドロキシプロピルメタクリレートであってＧＭＡとＨＰＭとのモル比が０．２５：０．７５であるものから製造した。
Ａ．グリシジルメタクリレートおよびヒドロキシプロピルメタクリレートの共重合
磁気攪拌棒、窒素流入口、温度計、および窒素流出口を有する冷却器を備えた５００ｍｌ三首フラスコを、グリシジルメタクリレート７．５２ｇ（５２．９ｍｍｏｌ）、ＲＯＣＲＹＬ  ４１０・２２．５４ｇ（１５６．３ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン１２０．０ｇおよびＡＩＢＮ１５０ｍｇで満たした。内容物を２４時間７０℃〜７５℃、窒素下で加熱することにより重合して２０重量パーセント固形分溶液を得た。数滴のコポリマー溶液のシクロヘキサノンへの添加は沈殿を与えた。
【００５９】
Ｂ．コポリマーへのＡＣＡの添加
磁気攪拌棒、窒素流入口、温度計、および窒素流出口を有する冷却器を備えた５００ｍｌ三首フラスコを、グリシジル官能基の計算した２２．０ｍ当量を含む上述のコポリマー溶液６２．５ｇ、ＡＣＡ４．８９ｇ（２２．０ｍｍｏｌ）、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム２４９ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ）およびシクロヘキサノン５０．８ｇで満たした。酸−エポキシ付加を２０時間９５℃〜１０４℃、窒素下で行った。
【００６０】
Ｃ．抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル官能基の計算した２２．１ｍ当量を含む上述のコポリマー溶液の一部分３０．０ｇ、ＰＧＭＥ８５．０ｇ、ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４・１．１９ｇ（〜１１ｍ当量）およびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ１１９ｍｇを攪拌することによって混合した。生じた溶液を、ＰＧＭ洗浄したＡＭＢＥＲＬＩＴＥ  ２００ビーズ５重量パーセントと４時間攪拌することによって脱イオン化した。
【００６１】
Ｄ．抗反射コーティング特性
コーティングを以前の実施例において記載したように適用し、そして硬化した。２４８ｎｍでのコーティングの光学密度は８．６７／μｍであった。乳酸エチルストリップは皆無であった。ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は５４Å（４．０％）であった。
【００６２】
Ｅ．プラズマエッチデータ
酸素中での前記コーティングのプラズマエッチ選択性はポリアリールエーテルスルホンコーティングに対して１．８４であった。アルゴン、ＣＦ4、ＣＨＦ3およびＨｅからなるガス組成物中でエッチングを行ったとき、ポリアリールエーテルスルホンに対するエッチ選択性は１．７９であった。
【００６３】
Ｅ．リソグラフィー性能
抗反射コーティングはＡＰＥＸ−Ｅホトレジストで優秀な像形状を与えた。
【００６４】
Ｇ．貯蔵安定性
アクリルコポリマーをシクロヘキサンではなくＰＧＭＥ中で製造した類似の抗反射コーティング組成物は環境条件で優秀な貯蔵安定性を表した。１．４％のみのフィルム厚増加および０．２４％の光学密度増加を１１６日の期間にわたり観察した。同じ期間後、ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は４０Åのみであることを見出した。
【００６５】
実施例８
抗反射コーティングを実施例７に類似してグリシジルメタクリレートのＡＣＡ結合コポリマーおよびヒドロキシプロプルメタクリレートであってＧＭＡとＨＰＭとのモル比が０．５：０．５であるものを使用して製造した。
【００６６】
Ａ．抗反射コーティング特性
コーティングを以前の実施例において記載したように適用し、そして焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１２．１／μｍを有するフィルムを得た。乳酸エチルストリップ損失は皆無であった。ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は３９Å（３．０％）であった。
【００６７】
Ｂ．プラズマエッチデータ
抗反射コーティングは、アルゴン、ＣＦ4、ＣＨＦ3およびＨｅからなるガス組成物中でエッチングを行ったとき、ポリアリールエーテルスルホンに対して１．５２のエッチング選択性を示した。
【００６８】
Ｃ．リソグラフィー性能
前記抗反射コーティングはＡＰＥＸ−Ｅホトレジストで優秀な像形状を与えた。
【００６９】
実施例９
抗反射コーティングを実施例７に類似してグリシジルメタクリレートのＡＣＡ結合コポリマーおよびヒドロキシエチルメタクリレートであってＧＭＡとＨＥＭＡとのモル比が０．２５：０．７５であるものを使用して製造した。
Ａ．ＡＣＡ結合ＧＭＡ／ＨＥＭＡコポリマーからの抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル基の計算した１１．８ｍ当量を含むＡＣＡ結合コポリマーの一部分１５．０ｇを、ＰＧＭＥ３９．２５ｇ、乳酸エチル４．３ｇ、ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４・６３５ｍｇ（〜５．９１ｍ当量）およびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ６３．５ｍｇと混合した。生じた抗反射コーティング溶液を、ＰＧＭＥ洗浄したＤＯＷＥＸR  ＨＣＲ−Ｓイオン交換ビーズ５重量パーセントで４時間脱イオン化した。（ＤＯＷＥＸR  ＨＣＲ−Ｓはダウ・ケミカル・カンパニーにより製造される強酸性カチオン交換樹脂である。）
【００７０】
Ｂ．抗反射コーティング特性
抗反射コーティングは、以前に記載されたように適用しそして硬化したとき、波長２４８ｎｍで光学密度８．９７／μｍを示した。乳酸エチルストリップは皆無であった。ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は５５Åであった。
【００７１】
実施例１０
熱硬化性抗反射コーティングをｐ−アニス酸と十分に反応させたポリ（グリシジルメタクリレート）から製造した。
Ａ．ＰＧＭへのｐ−アニス酸の付加
磁気攪拌棒、温度計、窒素流入口、および窒素流出口を有する冷却器を備えた２５０ｍｌ三首フラスコを、グリシジル官能基の計算した５６．７ｍ当量を含むシクロヘキサノン中の２０重量パーセントＰＧＭ４０．４ｇ、シクロヘキサノン６２．０ｇ、ｐ−アニス酸８．６３ｇ（５６．７ｍｍｏｌ）および塩化ベンジルトリエチルアンモニウム０．６５ｇ（２．８５ｍｍｏｌ）で満たした。混合物を窒素雰囲気下、９５℃〜１０４℃で２４時間攪拌して染料結合反応を完了させた。
【００７２】
Ｂ．抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル基の計算した１９．０ｍ当量を含む上述の母液の一部分３７．５ｇを、ＰＧＭＥ１２２．１ｇ、乳酸エチル３１．９ｇ、ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４・１．０２ｇ（９．５２ｍ当量）およびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ１０２ｍｇと混合した。生じた抗反射コーティング溶液を４時間、ＡＭＢＥＲＳＥＰR  ２００Ｈイオン交換ビーズ５重量パーセントで脱イオン化し、そしてその後０．２μｍ終点フィルターを通してろ過した。（ＡＭＢＥＲＳＥＰ  ２００Ｈはローム・アンド・ハース・コーポレイションによって製造される高容量カチオン交換樹脂である。）
【００７３】
Ｃ．抗反射コーティング特性
前記コーティングを、以前の実施例において記載したように処理して波長２４８ｎｍで光学密度４．６４／μｍを有するフィルムを得た。乳酸エチルストリップは皆無であった。
【００７４】
実施例１１
熱硬化性抗反射コーティングを４−フェニルフェノールと十分に反応させたポリ（グリシジルメタクリレート）から製造した。
Ａ．ＰＧＭへの４−フェニルフェノールの付加
磁気攪拌棒、温度計、窒素流入口、および窒素流出口を有する冷却器を備えた２５０ｍｌ三首フラスコを、グリシジル官能基の計算した２５ｍ当量を含むシクロヘキサノン中の２０重量パーセントＰＧＭ１７．７５ｇ、シクロヘキサノン２９．４ｇおよび４−フェニルフェノール４．２５ｇ（２５ｍｍｏｌ）で満たした。窒素雰囲気下で混合物を約８０℃に加熱し、そして２５％水性水酸化テトラメチルアンモニウム０．６５ｇ（１．７８ｍｍｏｌ）を添加した。該混合物を加熱し、そして１１５℃〜１２０℃で４時間攪拌し、その後ｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ０．３８６ｇ（２．０３ｍｍｏｌ）を添加して塩基触媒を中和した。
【００７５】
Ｂ．抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル基の計算した６．２ｍ当量を含む上述の母液の試料１３．０ｇ、ＰＧＭＥ３１．２ｇ、乳酸エチル４．８０ｇ、ＣＹＭＥＬR  ３０３ＬＦ１．１０ｇおよびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ５４．２ｍｇを混合して抗反射コーティング溶液を形成した。
【００７６】
Ｃ．抗反射コーティング特性
コーティングを４０００ｒｐｍで６０秒間スピンコートし、そしてその後２０５℃で６０秒間ホットプレート焼成して波長２４８ｎｍで光学密度４．２／μｍを有する硬化フィルムを得た。乳酸エチルストリップは皆無であり、またＡＰＥＸ−Ｅ中間層は５５Å（３．０％）であった。
【００７７】
実施例１２
自己硬化抗反射コーティングをグリシジルメタクリレートの部分ＡＣＡ結合コポリマーおよび２−クロロエチルメタクリレートから製造した。
Ａ．グリシジルメタクリレートおよび２−クロロエチルメタクリレートの共重合
磁気攪拌棒、温度計、窒素流入口、および窒素流出口を有する冷却器を備えた２５０ｍｌ三首フラスコを、グリシジルメタクリレート２４．０ｇ（１６８ｍｍｏｌ）、２−クロロエチルメタクリレート６．２５ｇ（４２ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン１２０．０ｇおよびＡＩＢＮ１５１ｍｇで満たした。重合を窒素雰囲気下、７０℃〜８０℃で２４時間行った。
【００７８】
Ｂ．過剰なグリシジル官能基を除去するためのコポリマーへのＡＣＡの付加
磁気攪拌棒、温度計、窒素流入口、および窒素流出口を有する冷却器を備えた２５０ｍｌ三首フラスコを、上記のポリマー溶液２６．０ｇ（グリシジル官能基２９．３ｍ当量）、ＡＣＡ４．５６ｇ（２０．５ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン６０．０ｇおよび塩化ベンジルトリエチルアンモニウム２３３．９ｍｇ（１．０３ｍｍｏｌ）で満たした。付加を９５℃〜１０５℃、窒素下で２６時間加熱することにより行った。
【００７９】
Ｃ．コーティング特性
上記の母液約４５ｇをシクロヘキサノン３８．０ｇで希釈して６重量パーセント固形分溶液を得た。該溶液をろ過し（０．２μｍ）、４０００ｒｐｍで６０秒間スピンコートし、１００℃で３０秒間乾燥し、そして２０５℃で６０秒間ホットプレート焼成して波長２４８ｎｍで光学密度１４１．１／μｍを有するコーティングを製造した。乳酸エチルストリップは厚さ損失７．７％および吸光度損失８．１％を生じた。比較的大きいストリップ値は、アミノプラストをコーティングを架橋するために添加していない事実を反映した。ポリマーヒドロキシル基と遊離グリシジル官能基との反応がおそらくコーティングの不溶化の原因である。
【００８０】
実施例１３
熱硬化性抗反射コーティングをグリシジルメタクリレートのＡＣＡ結合コポリマーおよびヒドロキシプロピルメタクリレートであってＧＭＡとＨＰＭとのモル比０．３０：０．７０を有するものから製造した。二種の異なるアミノプラスト架橋剤を使用して下位実施例（ａ）および（ｂ）をなした。
Ａ．添加したチオール連鎖移動剤を用いたモル比０．３０：０．７０でのグリシジルメタクリレートおよびヒドロキシプロピルメタクリレートの共重合
磁気攪拌棒、温度計、窒素流入口、および窒素流出口を有する冷却器を備えた１リットル四首フラスコを、ＲＯＣＲＹＬ  ４１０・８４．２ｇ（５８４．００ｍｍｏｌ）、グリシジルメタクリレート３５．８ｇ（２５１．８ｍｍｏｌ）、ドデカンチオール０．４８ｇ、ＰＧＭＥ４８３．８ｇおよびＡＩＢＮ１．２０ｇで満たした。重合を２４時間窒素雰囲気下、６９．５℃〜７７．５℃で行った。４−メトキシフェノール約１５３．５ｍｇ（２５４ｐｐｍ）を抑制のために冷却した溶液に添加した。ＧＰＣ分子量決定はコポリマーについて以下の値を与えた。Ｍｗ５７，０００、Ｍｎ１６，７００、またＭｗ／Ｍｎ３．４１。
【００８１】
Ｂ．コポリマーへのＡＣＡの付加
磁気攪拌棒、窒素流入口、温度計、および窒素流出口を有する冷却器を備えた１リットル三首フラスコを、グリシジル官能基の計算した１４５．６ｍ当量を含む上述のポリマー溶液３５０．０ｇ、ＡＣＡ３２．４ｇ（１４５．８ｍｍｏｌ）、ＰＧＭＥ２９９．２ｇおよび塩化ベンジルトリメチルアンモニウム０．８３ｇ（３．６４ｍｍｏｌ）で満たした。反応混合物を窒素雰囲気下で２４時間１０４℃〜１０７℃で攪拌した。
【００８２】
Ｃ．（ａ）ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４を使用した抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル基の計算した２２１．３ｍ当量を含む母液の一部３１２．５ｇを、ＰＧＭＥ１０６．８ｇ、乳酸エチル４１．４ｇ、ＰＯＥＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４・１１．９４ｇ（１１１．１ｍ当量）およびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ１．１９ｇと混合して均一な溶液を得た。該溶液を、ＰＧＭＥ洗浄したＤＯＷＥＸ  ＨＣＲ−Ｓビーズ５重量パーセントと４時間攪拌することによって脱イオン化し、そしてその後二層のプラスチック布を通してろ過した。ろ液をＰＧＭＥ１１１７．１ｇおよび乳酸エチル１２４．１ｇで希釈し、均一に攪拌し、そして重ねた終点フィルターを通してろ過した。
【００８３】
（ｂ）ＣＹＭＥＬ  ３０３ＬＦを使用した抗反射コーティング配合
母液の一部分３３．４ｇ、ＰＧＭＥ１５２．５ｇ、乳酸エチル２０．１ｇ、ＣＹＭＥＬ  ３０３ＬＦ２．５７ｇおよびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ２５７ｍｇを環境で攪拌して溶液を得た。この配合物の一部２０７．０ｇを、ＰＧＭＥ洗浄したＤＯＷＥＸ  ＨＣＲ−Ｓビーズ１０．４ｇと４時間攪拌することによって脱イオン化し、そしてその後二層のプラスチック布および重ねた終点フィルターを通してろ過した。
【００８４】
Ｄ．（ａ）抗反射コーティング特性
コーティング溶液をろ過し（０．１μｍ）、３０００ｒｐｍで６０秒間スピンコートし、そしてその後２０５℃で６０秒間ホットプレート焼成して厚さ８８２Åおよび波長２４８ｎｍでの光学密度９．１／μｍを有する抗反射コーティングを製造した。乳酸エチルストリップは無視可能な厚さ損失を与え、ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は３８Åであった。
【００８５】
（ｂ）抗反射コーティング特性
コーティング溶液を上記のように適用し、そして硬化させて厚さ８９４Åおよび波長２４８ｎｍでの光学密度８．９／μｍを有する抗反射コーティングを製造した。乳酸エチルストリップは無視可能であり、ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は３５Åであった。
【００８６】
実施例１４
実施例１３（ａ）において記載したものと同様な抗反射コーティングをグリシジルメタクリレートのＡＣＡ結合コポリマーおよびヒドロキシプロピルメタクリレートであってＧＭＡとＨＰＭとのモル比が０．３５：０．６５であるものから製造した。該コポリマーおよび母液を実施例１３において説明した手順に類似して製造した。
Ａ．抗反射コーティング配合
ポリマーヒドロキシル基の計算した１６５．９ｍ当量を含む母液の一部分２４６．０ｇ、ＰＧＭＥ２７．９ｇ、乳酸エチル２６．３ｇ、ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ １１７４・８．９２ｇ（８３．０ｍ当量）およびｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ０．８９ｇを混合し、そして攪拌して均一な溶液を得た。濃縮物を、ＰＧＭＥ洗浄したＤＯＷＥＸ ＨＣＲ−Ｓビーズ１５．５ｇと４時間攪拌することによって脱イオン化し、そして二層のプラスチック布を通して注ぐことによってろ過した。ろ液をＰＧＭＥ７１１．０ｇおよび乳酸エチル７９．０ｇで希釈し、そしてその後重ねた終点フィルターを通してろ過した。
【００８７】
Ｂ．抗反射コーティング特性
コーティング溶液を以前の実施例におけるように適用し、そして硬化して厚さ１１２０Åおよび波長２４８ｎｍでの光学密度１０．３／μｍを有する抗反射コーティングを製造した。乳酸エチルストリップは皆無であり、ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は３５Åであった。
【００８８】
比較例１
係属中の合衆国特許出願第０８／５１７，０８９号公報において開示されたもののようなｄｅｅｐ  ＵＶ熱硬化性抗反射コーティングを本発明のグリシジルメタクリレートポリマーまたはコポリマーではなく低分子量エポキシ樹脂を使用して製造した。
Ａ．ＡＲＡＬＤＩＴＥR  ＥＣＮ  １２９９エポキシ樹脂へのＡＣＡの付加
ＡＲＡＬＤＩＴＥ  ＥＣＮ  １２９９樹脂（グリシジル官能基６９．４ｍ当量を含む１６．３２ｇ）、ＡＣＡ２０．００ｇ（９０．０ｍｍｏｌ）、シクロヘキサノン２１１．５ｇおよび塩化ベンジルトリエチルアンモニウム１．０ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を８５℃〜９４℃で１４．５時間攪拌した。（ＡＲＡＬＤＩＴＥ  ＥＣＮ  １２９９はチバ−ガイギー・コーポレイションによって製造されたｏ−クレゾールエポキシノボラックである。）
【００８９】
Ｂ．抗反射コーティング配合
上述の母液（ヒドロキシル基６８．６ｍｍｏｌ）の一部分２４５．８ｇ、ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４・９．８２ｇ（９１．３ｍ当量）、ｐ−ＴＳＡ・Ｈ2Ｏ３．１３ｇおよびＰＧＭＥ７３８．３ｇを攪拌することによって混合して抗反射コーティングを形成した。コーティング溶液を、ＰＧＭＥ洗浄したＡＭＢＥＲＬＩＴＥ  ２００Ｃビーズ５重量パーセントと４時間攪拌することによって脱イオン化し、そしてその後０．２μｍ終点フィルターを通してろ過した。その後等量のＰＧＭＥで希釈した。
【００９０】
Ｃ．抗反射コーティング特性
コーティングは、スピンコートしそして２０５℃で５０秒間焼成したとき、光学密度１０．７／μｍを与えた。乳酸エチルス厚さトリップは０．２％であり、一方ＡＰＥＸ−Ｅ中間層は開始厚の７．３％であった。抗反射コーティングのプラズマエッチおよび適合性の特性は実施例１５および１６においてそれぞれ議論する。
【００９１】
比較例２
比較例１において記載したものと同様な抗反射コーティング組成物を母液の製造のためにＡＣＡに対して等量のＡＲＡＬＤＩＴＥ  ＥＣＮ  １２９９（グリシジル基対カルボン酸１：１）を使用して製造した。
Ａ．抗反射コーティング特性
以前の実施例において記載したように適用しそして２０５℃で６０秒間処理したとき、抗反射コーティングは波長２４８ｎｍで光学密度１１．５／μｍを示した。
この組成物についての光学密度を実施例２のもの（１４．７／μｍ）と比較して新規組成物で達成可能な増大した最大光学密度を示すことができる。双方の場合において、グリシジル基含有樹脂またはポリマーはＡＣＡと十分に結合させ、そしてその後ポリマーヒドロキシル基１当量当りＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ  １１７４架橋剤０．５当量と混合した。アクリル系のより高い光学密度は、ＡＲＡＬＤＩＴＥ  ＥＣＮ  １２９９のようなエポキシ樹脂の典型的な当量（例えば２２０ｇ／ｍｏｌ）に対してグリシジルメタクリレートのより低い当量（１４２ｇ／ｍｏｌ）を反映した。
【００９２】
実施例１５
本発明に従って本発明者等は、新規抗反射コーティングが低分子量エポキシ樹脂から誘導された染料結合熱硬化性抗反射コーティングと比較して優れたエッチ速度を与えることを見出した。以下の表は、本発明の組成物（実施例２，５，７、８、１３ａおよび１３ｂ）および従来技術のもの（比較例１および２）についてのエッチ選択性データを要約する。全てのエッチ選択性データはポリアリールエーテルスルホン抗反射コーティング（ブリューワー・サイエンス抗反射組成物R  ＣＤ−１１、１：１として定義した選択性）に関して表される。新規組成物のより早いエッチング特性は明らかに明瞭である。
【表２】
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【００９３】
実施例１６
従来技術の熱硬化性抗反射コーティング（実施例１）および従来技術の熱可塑性抗反射コーティング（ポリアリールスルホン）の適合性品質を、実施例２において記載した改良した組成物のものと比較した。図２は、増加する基材像アスペクト比の関数として様々な組成物の平面化パーセントを示す（平面化および適合性は逆関係を有する。平面化が増加すると、適合性は減少する。）。データは、本発明の熱硬化性アクリル抗反射コーティングが従来技術の組成物よりもはるかにより適合すること、および良好な適合性が高い像アスペクト比でさえも保たれることを明らかに示す。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、グリシジルメタクリレート含有アクリルコポリマーと代表的なカルボン酸染料および代表的なフェノール染料とを反応させる処理を図示する模式図である。
【図２】  図２は、従来技術および新規の抗反射コーティング組成物の平面化特性が基材像のアスペクト比の増加に伴ってどのように変化するかを図示するグラフである。
【図１】
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【図２】
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