(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム面に、直接又は他の層を介して低屈折率層を形成する光学機能性膜の製造方法において、該低屈折率層を、下記一般式
0004297296.tif 000005
（Ｒ”は、炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、ｎは１以上の整数である。）で表わされる４官能珪素アルコキシド（Ａ）を含む少なくとも２種の珪素アルコキシド（Ａ以外をＢとする）とをＡ：Ｂ＝３０：７０〜９５：５の重量比で同時に加水分解して調製したＳｉＯ2ゾルを表面に塗布し、その後、加熱又は活性エネルギー線照射処理してゲル化し、ＳｉＯ2ゲル層として形成することを特徴とする光学機能性膜の製造方法。
【請求項２】
ＳｉＯ2ゾルが、一般式ＲmＳｉ（ＯＲ’）n（但し、式中のＲは炭素数１〜１０のアルキル基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基又はこれらの基を含有する基等の反応性基を表わし、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、ｍは０〜３、ｎは１〜４の整数を表わし、ｍ＋ｎは４である。）で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製したＳｉＯ2ゾルである請求項１に記載の光学機能性膜の製造方法。
【請求項３】
低屈折率層の屈折率が、１．３８〜１．４６である請求項１または２に記載の光学機能性膜の製造方法。
【請求項４】
基材フィルムが、一軸延伸透明ポリエステルフィルムである請求項１〜３の何れか１項に記載の光学機能性膜の製造方法。
【請求項５】
他の層がハードコート層である請求項１〜４の何れか１項に記載の光学機能性膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、紫外線遮断効果、熱線反射効果、反射防止効果等に優れた光学機能性膜の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、紫外線遮断効果、熱線反射効果、反射防止効果等を有する光学機能性膜の形成方法は、一般に気相法と溶液法の２つに大別されている。前者の気相法による光学機能性膜の製造方法には、真空蒸着法、スパッタリング法等の物理的方法と、ＣＶＤ法等の化学的方法とがある。又、後者の溶液法には、スプレー法、浸漬法及びスクリーン印刷法等がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
気相法による光学機能性膜の製造方法は、高機能且つ高品質な薄膜を得ることが可能であるという利点がある。しかし、高真空系での精密な雰囲気の制御が必要であるいう問題があった。又、特殊な加熱又はイオン発生加速装置を必要とし、製造装置が複雑で大型化するために、必然的に製造コストが高くなるという問題があった。又、薄膜の大面積化或いは複雑な形状の薄膜を製造することは困難であるという問題があった。
【０００４】
一方、塗布法による光学機能性膜の製造方法のうち、スプレー法によるものは、塗布する塗液の利用効率が悪かったり、成膜条件の制御が困難である等の問題があった。又、同じく塗布法による光学機能性膜の製造方法のうち、浸漬法及びスクリーン印刷法等は、スプレー法に比較して成膜原料の利用効率が良く、大量生産や設備コスト面での有利さがある。しかし、これら塗布法により得られる光学機能性膜は、気相法により得られる膜に比較して、機能及び品質が劣るという問題点があった。
【０００５】
近年、塗布法によって優れた品質の薄膜を得る方法として、無機又は有機超微粒子を酸性又はアルカリ水溶液中に分散した分散液を基板上に塗布し、焼成するという方法が提案されている。この製造方法によると大量生産や設備コスト面では有利であるという利点がある。しかし、製造工程中に高温での焼成過程を必要とするため、プラスチック基材フィルムには成膜が不可能であるという難点があった。又、基板と塗布膜との収縮度の違い等により薄膜の均一性が十分でなく、気相法により得られる薄膜に比較した場合に、依然として性能が劣るという問題点もあった。又、熱処理に長時間、例えば、数十分間以上を要し、生産性に劣るという欠点を有していた。
【０００６】
このような問題点に対し、本発明者らは既に、一般式ＲmＳｉ（ＯＲ’）n（但し、式中のＲは炭素数１〜１０のアルキル基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基又はこれらの基を含有する基等の反応性基、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、ｍは０〜３、ｎは１〜４の整数を表わし、ｍ＋ｎは４の整数である。）で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製したＳｉＯ2ゾルを、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布し、形成された塗布層を基材フィルムにダメージを与えない程度の加熱或いは活性エネルギー線を照射してＳｉＯ2ゲル層とすることで、基材フィルムにダメージを与えずに所望の高品質な機能性薄膜を効率よく生産する手法を提案した。しかし、通常の手法で得られるＳｉＯ2ゾルは、ゲル膜とした際の基材フィルムへの密着性が弱いため、基材フィルムから簡単に剥がれてしまうという実用上の問題点がある。
【０００７】
以上の状況に鑑み、本発明者らは鋭意検討した結果、ＳｉＯ2ゲル層の基材フィルムへの密着性は、少なくとも２種以上の珪素アルコキシドを加水分解して調製したＳｉＯ2ゾルをゲル化したＳｉＯ2ゲルを使用することで改善されることが明らかとなり、高機能且つ高品質な特性や生産性を維持し、且つ実用に耐え得る光学機能性膜及びその製造方法を開発し本発明に到達した。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、基材フィルム面に、直接又は他の層を介して低屈折率層を形成する光学機能性膜の製造方法において、該低屈折率層を、下記一般式
0004297296.tif 000002
（Ｒ”は、炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、ｎは１以上の整数である。）で表わされる４官能珪素アルコキシド（Ａ）を含む少なくとも２種の珪素アルコキシド（Ａ以外をＢとする）とをＡ：Ｂ＝３０：７０〜９５：５の重量比で同時に加水分解して調製したＳｉＯ2ゾルを表面に塗布し、その後、加熱又は活性エネルギー線照射処理してゲル化し、ＳｉＯ2ゲル層として形成することを特徴とする光学機能性膜の製造方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
次に好ましい実施の形態を挙げて本発明を更に詳しく説明する。
本発明の光学機能性膜は、基材フィルムに種々の光学機能特性を付与したものである。具体的には、例えば、本発明の光学機能膜はワープロ、コンピューター、テレビ等の各種ディスプレイ、液晶表示素子に用いる偏光板の表面、サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズ等の光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等に必要な機能、例えば、反射防止機能等を付与する目的に有用である。
【００１０】
本発明の光学機能性膜の構成を図面を参照して説明すると、図１は、基材フィルム１の表面に低屈折率層２を形成した実施形態の断面を図解的に説明する図であり、図２は上記低屈折率層２をハードコート層３を介して基材フィルム１に形成した実施形態の断面を図解的に説明する図である。図２においては、低屈折率層２はハードコート層３を介して形成されているが、その他必要に応じて基材フィルム１と低屈折率層２との間には、例えば、ハードコート層３に加えて、又は代えて透明導電性層、接着層、プライマー層等の他の層を介在させることも可能である。
【００１１】
本発明の光学機能性膜を構成する基材フィルムとして好ましく使用できるフィルムとしては、例えば、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等の透明樹脂フィルムが挙げられる。中でも、特に一軸延伸ポリエステルフィルムが透明性に優れ、光学的に異方性がない点で好適に用いられる。基材フィルムの厚みは特に限定されないが、通常は８〜１，０００μｍ程度のものが好適に用いられる。
【００１２】
本発明の光学機能性膜を構成する低屈折率層は、少なくとも２種以上の珪素アルコキシドを加水分解して調製したＳｉＯ2ゾルをゲル化したＳｉＯ2ゲル層である。このようなＳｉＯ2ゾルの原料として好ましく使用される珪素アルコキシドは、一般式ＲmＳｉ（ＯＲ’）nで表される。但し、式中のＲは炭素数１〜１０のアルキル基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基又はこれらの基を含有する基等の反応性基を表わし、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、ｍは０〜３、ｎは１〜４の整数を表わし、ｍ＋ｎは４である。
【００１３】
これに該当する化合物としては具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラｔｅｒｔ−ブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類；テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等のアルキルアルコキシシラン類；ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−（−２−アミノエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン等が挙げられる。
【００１４】
これらの２種以上の珪素アルコキシドのうち、少なくとも１種は、下記一般式
0004297296.tif 000003
（Ｒ”は、炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、ｎは１以上の整数である。）で表わされる４官能珪素アルコキシドであることが好ましい。上記式においてｎは１〜１００、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜５である。このような４官能珪素アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン、コロコート４０（コルコート社製、商品名）、ＭＳ５１、ＭＳ５６、ＢＴＳ、ＭＳ５１Ｂ１０（三菱化学製、商品名）等が挙げられる。このような４官能アルコキシドを、他のアルコキシドと併用することによって、形成されるＳｉＯ2ゲル層の基材フィルムに対する密着性が著しく向上する。更に密着性加えて、光学機能性膜の光学特性及びＳｉＯ2ゾル液のポットライフの点から、４官能の珪素アルコキシド（Ａ）とその他のアルコキシド（Ｂ）との混合比は、重量比でＡ：Ｂが３０：７０〜９５：５の範囲が好ましい。
【００１５】
上記の２種以上の珪素アルコキシドを同時に加水分解すれば、本発明で使用するＳｉＯ2ゾルを得ることができる。加水分解は、上記の２種以上の珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解させて行えばよい。使用できる溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；或いはこれらの混合物が挙げられる。
【００１６】
前記の２種以上の珪素アルコキシドは、上記溶媒中に、該珪素アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したと仮定して生じるＳｉＯ2換算で、好ましくは０．１重量％以上、より好ましくは０．１〜１０重量％になるように溶解させる。これは、珪素アルコキシドの溶媒中のＳｉＯ2換算濃度があまりもに小さいと、最終的に形成される光学機能性膜の特性が充分に発揮できない場合があり、一方、同濃度があまりにも大きいと透明均質な膜の形成が困難となる場合があるからである。又、前記の珪素アルコキシドを溶解させた上記溶媒中には、ＳｉＯ2ゾルを調製するのに障害とならない範囲内であるならば、有機物や無機物バインダーを添加することも可能である。
【００１７】
前記２種以上の珪素アルコキシドの加水分解は、上記のように該珪素アルコキシドを溶解させた溶媒に、加水分解に必要な量又はそれ以上の水を加え、好ましくは１５〜３５℃、より好ましくは２２〜２８℃の温度で、好ましくは５〜３０時間、より好ましくは１２〜１６時間攪拌を行えばよい。上記加水分解においては触媒を用いることが好ましい。好ましく使用できる触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸又は酢酸等の酸が挙げられる。これらの酸は、好ましくは約０．００１〜２０．０Ｎ、より好ましくは０．００５〜５．０Ｎ程度の水溶液として、上記珪素アルコキシドを溶解させた溶液に加えればよい。尚、この加えた水溶液中の水分は加水分解用の水分とすることができる。
【００１８】
以上の如くして得られたＳｉＯ2ゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ヶ月の安定な溶液である。従って、基材フィルムに対して漏れ性が良く、塗布適性に優れているために、本発明の光学機能性膜のＳｉＯ2ゲル層を形成させるのに最も好ましく使用することができる。
又、上記ＳｉＯ2ゾルには、各種の添加剤を添加することができる。最も好ましい添加剤としては、成膜を促進する硬化剤が挙げられる。このような硬化剤としては、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩の酢酸、ギ酸等の有機酸溶液等が挙げられる。該有機酸溶液の濃度は約０．０１〜０．１重量％程度であることが好ましい。又、上記ＳｉＯ2ゾルに対する添加量は、ゾル中に存在するＳｉＯ2１００重量部に対して上記有機酸塩として約０．１〜１重量部程度が好ましい。
【００１９】
更に、最終的に得られる本発明の光学機能性膜を、例えば、反射防止膜、熱線反射膜、散乱膜等に使用する場合には、上記ＳｉＯ2ゲル層で形成される低屈折率層の屈折率を１．３８〜１．４６程度に調整することが好ましい。具体的には、層の屈折率を下げるためにはフッ素系有機珪素化合物等を、層の屈折率を高めるためには有機珪素化合物等を添加すればよい。添加できる化合物としては、例えば、アルキルトリアルコキシシラン、スノーテックス（日産化学製）等の有機珪素化合物；ザフロンＦＣ−１１０、２２０、２５０（東亜合成化学製）、セクラルコートＡ−４０２Ｂ（セントラル硝子製）、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフッ素系有機珪素化合物；硼酸トリエチル、硼酸トリメチル、硼酸トリプロピル、硼酸トリブチル等の硼素系化合物等が挙げられる。
【００２０】
これらの添加剤は、ＳｉＯ2ゾルの調製時に加えてもよいし、ＳｉＯ2ゾルの調製後に加えてもよい。これらの添加剤を用いれば、珪素アルコキシドの加水分解時、又はその後に添加剤がシラノール基と反応して更に均一で透明なＳｉＯ2ゾル溶液が得られ、且つ形成されるＳｉＯ2ゲル層の屈折率をある程度の範囲に調整することができる。
【００２１】
本発明の光学機能性膜の低屈折率層は、前記基材フィルムに直接又は他の層を介して前記ＳｉＯ2ゾルを塗布法を用いて塗布し、その後、塗布物を加熱或いは活性エネルギー線照射処理等によりＳｉＯ2ゲル層として形成することが好ましい。前記ＳｉＯ2ゾルの基材フィルムへの塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の方法が挙げられる。
【００２２】
基材フィルムに塗布されたＳｉＯ2ゾルのゲル化方法としては、例えば、加熱や、活性エネルギー線照射処理等の方法が挙げられる。加熱によるゲル化は、基材フィルムに与えるダメージを考慮しなければならないため、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１２０℃以下で行うことがよい。
【００２３】
又、ＳｉＯ2ゾルのゲル化方法として活性エネルギー線照射処理を利用する場合、活性エネルギー線としては、例えば、電子線又は紫外線等が挙げられ、特に電子線によりゲル化を行うことが好ましい。電子線によりゲル化を行う場合には、例えば、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速機から放出される、５０〜１，０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶ程度のエネルギーを有する電子線を使用する。
【００２４】
一方、紫外線によりゲル化を行う場合には、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光源から発する紫外線等を利用することが好ましい。電子線又は紫外線等の活性エネルギー線の総照射量は、活性エネルギー線が電子線である場合には好ましくは２Ｍｒａｄ以上、より好ましくは２〜５０Ｍｒａｄの範囲が適当である。
【００２５】
ＳｉＯ2ゾルに対する電子線照射は、空気を酸素で置換しながら、又は十分な酸素雰囲気中で行うことが好ましく、酸素雰囲気中で行うことによりＳｉＯ2の生成、重合及び縮合等が促進され、より均質且つ高品質のＳｉＯ2ゲル層を形成することができる。このように形成されるＳｉＯ2ゾル層の厚みは０．００１〜１０μｍであり、好ましくは０．０１〜１．０μｍである。
【００２６】
本発明では、上記低屈折率層を他の層を介して基材フィルム上に形成することもできる。上記他の層としては前記のように種々の層が可能であるが、以下図２に示すように他の層がハードコート層３である場合を代表例として説明する。尚、本発明において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ−Ｋ５４００で示される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すものをいう。
【００２７】
ハードコート層は好ましくは反応硬化性樹脂を使用して形成する。該硬化性樹脂は、基材フィルムとの接着がよく、耐擦傷性、硬度、耐光性、耐湿性があり、又、ハードコート層上に形成する低屈折率層との接着性が良好なものであれば特に制限されない。かかる反応硬化性樹脂としては、例えば、アルキッド樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下本明細書では、アクリレートとメタアクリレートとの両者を（メタ）アクリレートと記載する。）等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤を比較的多量に含むもの等の電離放射線硬化型樹脂（その前駆体も含む）等が挙げられる。
【００２８】
尚、上記反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
更に、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、これらの中に光重合開始剤として、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類や、光増感剤として、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して使用する。
【００３０】
上記の電離放射線硬化型樹脂には、反応性有機珪素化合物を併用することもできる。反応性有機珪素化合物は、電離放射線硬化型樹脂と反応性有機珪素化合物の合計に対して１０〜１００重量％の範囲で使用される。特に電離放射線硬化性有機珪素化合物を使用する場合には、これだけを樹脂成分としてハードコート層を形成することが可能である。このような電離放射線硬化性珪素化合物としては、電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５，０００以下の有機珪素化合物が挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
【００３１】
又、ハードコート層の屈折率を前記低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率とすることによって、本発明の光学機能性膜の低反射性を更に向上させることができる。通常のハードコート層の屈折率は１．４８〜１．５２程度であるが、本発明におけるハードコート層の好ましい屈折率は１．５５〜２．５０程度である。
【００３２】
ハードコート層を高屈折率とするために、該層形成樹脂成分中に高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することができる。本発明で使用する高屈折率を有する該超微粒子としては、その粒径が１〜５０ｎｍで、屈折率が１．６０〜２．７０程度のものが好ましく、具体的には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ2（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ2（屈折率１．９５）、Ｓｂ2Ｏ5（屈折率１．７１）、ＳｎＯ2、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ2Ｏ3（屈折率１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率１．９５）、ＺｒＯ2（屈折率２．０５）、Ａｌ2Ｏ3（屈折率１．６３）等の微粉末が挙げられる。
【００３３】
以上の成分からなる反応硬化性樹脂組成物を用いてハードコート層を形成するには、以上の成分を適当な溶剤に溶解又は分散させて塗工液とし、この塗工液を前記基材フィルム上に直接塗布して硬化させるか、或いは離型フィルムに塗布して硬化させた後、適当な接着剤を用いて基材フィルム上に転写させて形成することもできる。転写法を用いる場合には、ハードコート層上に前記の低屈折率層を形成してから転写することもできる。このようにして形成されるハードコート層の厚みは、通常１〜５０μｍ程度であり、好ましくは３〜２０μｍ程度である。
【００３４】
上記他の層の形成方法は、上記のように透明基材フィルム上に、所望の塗工液を直接又は間接的に塗布して形成してもよく、又、透明基材フィルム上にハードコート層を転写により形成する場合には、予め離型フィルム上に形成したハードコート層上に他の層（接着層等）となる塗工液を塗布し、その後、各層が積層された離型フィルムと透明基材フィルムとを、離型フィルムの積層面を内側にしてラミネートし、次いで離型フィルムを剥離することにより、透明基材フィルムに上記各層を転写してもよい。
【００３５】
以上のように、本発明の光学機能性膜は、単層の反射防止膜として、又は多層の反射防止膜として使用することができる。又、本発明の光学機能性膜の製造方法においては、用いる塗布材料の選択により所望の機能を持つその他の光学機能性膜を得ることができる。
【００３６】
【実施例】
次に本発明を実施例及び比較例を挙げて更に具体的に説明する。
実施例１
▲１▼低屈折率層形成用ＳｉＯ2ゾルの調製
メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）を、ＭＴＥＯＳが全てＭｅＳｉＯ1.5になると仮定したときの固形分濃度が１重量％となるようにメチルエチルケトンに溶解させた。そこに、下記構造式
0004297296.tif 000004
（ｎの正確な数値は不明）で表わされるＭＳ５１を、ＭＳ５１が全てＳｉＯ2になると仮定したときの固形分濃度が２重量％となるように添加した。これを液温が２５℃に安定するまで３０分間攪拌した。これをＡ液とする。
【００３７】
Ａ液中に、触媒として濃度０．００５Ｎの塩酸をＭＴＥＯＳのアルコキシ基と等モル量加え、２５℃で３時間、加水分解を行なった。これをＢ液とする。このＢ液に、硬化剤として酢酸ナトリウムと酢酸を混合したものを加え、２５℃で１時間攪拌し、ＳｉＯ2ゾル溶液を得た。
この高分子量体がＭｅＳｉＯ1.5に加水分解及び縮合したと仮定したときの固形分濃度が１．５重量％となるように、ＭＴＥＯＳをメチルエチルケトンに溶解し、ＳｉＯ2ゾル溶液を得た。
【００３８】
▲２▼ＳｉＯ2コーティングゾル液の調製
高分子量ゾル液を３０重量％含むＳｉＯ2ゾル液をコーティング溶液とした。
▲３▼高屈折率ハードコート層の形成
透明基材フィルムとして厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（Ａ−４３５０：商品名、東洋紡製）を用意した。一方、屈折率１．９のＺｒＯ2超微粒子（Ｎｏ．１２７５Ａ：商品名、住友大阪セメント製）と、電離放射線硬化型樹脂（Ｘ−１２−２４００−６：商品名、信越化学工業製）を重量比で２：１に混合した。得られた樹脂組成物をＰＥＴフィルム上に、膜厚７μｍ／ｄｒｙとなるようにグラビアリバースコートにより塗工し、溶媒を乾燥除去した。その後、電子線を１７５ｋＶで５Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化し、高屈折率ハードコート層を形成した。
【００３９】
▲４▼低屈折率層の作製
上記で得られた高屈折率ハードコート層上に、さらに上記ＳｉＯ2ゾル溶液を０．１μｍとなるように塗工した。硬化の条件は以下の２通りの手法を用いた。即ち、（１）１２０℃で１時間の熱処理を行った場合と、（２）電子線照射装置を用いて１８０ｋＶ、２０ｍＡで１回の照射量を２０Ｍｒａｄとして２０回照射を行った場合の両者で反射防止フィルムを得た。
【００４０】
▲５▼反射防止膜の特性評価
上記の工程を経て、加熱及び電子線照射により得られた２種類の反射防止フィルムの光学特性は、どちらも全光線透過率が９４．０％、ヘイズ値０．５、可視光線の波長領域での最低反射率は、１．２であり、反射防止性能は優れていた。又、そのテープ剥離試験による密着性はどちらも１００（１００）％であり、基材への密着性も良好であった。
【００４１】
実施例２
ＭＳ５１の代わりにテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を使用した以外は実施例１と同様にして本発明の反射防止フィルムを得た。この反射防止フィルムは実施例１の場合と同様に優れた性質を有していた。
【００４２】
実施例３
ＭＳ５１の代わりにテトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）を使用した以外は実施例１と同様にして本発明の反射防止フイルムを得た。この反射防止フイルムは実施例１の場合と同様に優れた性質を有していた。
【００４３】
比較例
実施例の▲１▼と同様の材料を用い、ＭＳ５１の添加を行わなかった以外は、同一の反応条件にてＳｉＯ2ゾル溶液を得た。このゾル溶液を実施例の▲３▼で作製した高屈折率ハードコート層上に０．１μｍの厚みになるように塗工し、１２０℃で１時間の熱処理を行い、反射防止フィルムを得た。
この反射防止フィルムの光学特性は、全光線透過率９４．０％、ヘイズ値０．５、可視光線の波長領域での最低反射率は１．２であり、実施例と同等の反射防止性能を示したが、そのテープ剥離試験による密着性では塗膜の一部剥離が認められた。
【００４４】
【発明の効果】
以上のように、２種以上の珪素アルコキシドを加水分解して調整することで、光学特性を保持したまま、基材への密着性が向上したＳｉＯ2ゾルが得られる。得られたＳｉＯ2ゾルは、基材にダメージを与えない程度の温度で十分に硬化し、又、活性エネルギー線の照射によっても同等の特性のゲル膜が得られる。これらのゲル膜を用いた本発明の光学機能性膜は、優れた反射防止効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の光学機能性膜の断面を図解的に説明する図。
【図２】  本発明の光学機能性膜の断面を図解的に説明する図。
【符号の説明】
１：基材フィルム
２：低屈折率層
３：ハードコート層
【図１】
0004297296.tif 000006
【図２】
0004297296.tif 000007