(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具を、テトラヒドロフランからなる洗浄用溶剤で洗浄することを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】
前記チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具を、前記テトラヒドロフランからなる洗浄用溶剤に浸漬することを特徴とする請求項１記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具に、前記テトラヒドロフランからなる洗浄用溶剤を掛け流し洗浄することを特徴とする請求項１記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具を、前記テトラヒドロフランからなる洗浄用溶剤を染込ませたウエスまたはスポンジで拭き取りを行うことを特徴とする請求項１記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は洗浄用の溶剤及び方法に関する。詳しくは、チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具等を洗浄する溶剤及び洗浄方法に関する。更に詳しくは、プラスチックの注型成形を行う工程において、原料の調合・注入を行ったタンク・配管・治具等を洗浄する溶剤及び洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラスチック原料は、プラスチックとしての性能を得るため、各種成分を混合し（調合）、調合された原料を必要な形状の型（注型）に流し込み（注入）、冷却、加熱またはエネルギー照射によって成形される。
【０００３】
プラスチックの原料は、調合、注入の工程の中でさまざまな、調合用のタンク、配管、治具、注入用の配管、ノズル、あるいはドラフトチャンバー等（以下治具等）に付着してしまう。治具等に付着した原料は、放置するとモノマーの反応が起こりゲル化がはじまり、最終的には硬化してしまう。
【０００４】
治具等に付着したプラスチックの原料を硬化させずに治具等を繰り返し使用するためには洗浄が必要となる。
【０００５】
また、洗浄に使用する溶剤が原料に混入してしまった場合、プラスチックとしての性能を損なう可能性がある。原料への溶剤の混入を防ぐため、速やかかつ残渣なく乾燥する必要がある。洗浄される治具等は、構造が複雑であったり配管として固定されてしまっているため、乾燥炉等で乾燥することができない。したがって、洗浄に使用する溶剤は、乾燥性も要求される。
【０００６】
前述の洗浄性、乾燥性を満足するプラスチック原料付着治具の洗浄に使用される溶剤は、ハロゲン系溶剤のジクロロメタン（塩化メチレン）、トリクロロエチレン（トリクレン）、フロンおよび、Ｎ−メチル−２−ピロリドリン（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、メチルエチルケトン、アセトン、シンナーなどである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した溶剤を使用する従来の洗浄方法にはいくつかの問題点がある。
【０００８】
ジクロロメタンやトリクロロエチレン、フロン等のハロゲン系有機溶剤は、分子中に塩素をはじめとしたハロゲンを含み、引火性が無く、安定した物質である。
【０００９】
しかし、塩素系の溶剤は、毒性が強く、一部では発癌性の疑いもあり、人体に対する安全性に問題がある。また、ハロゲン系有機溶剤全体の傾向として安定な物質が多く、大気中や地中においても分解されにくい。地下浸透や排水中に混入したものについては、土壌や河川に残留し、環境破壊を起こす。一方、大気中に放出したものは、大気中に長期間存在し、分解されずに成層圏に達し、オゾン破壊や温暖化の原因になっており、社会問題となっている。
【００１０】
プラスチック原料付着治具の洗浄においては、被洗浄物のサイズが大きかったり、作業を手で行っているため、密閉式の洗浄装置等で洗浄することが不可能であり、開放状態で使用している限り、人体への吸収や大気等への放出につながり、健康や環境に対する影響が生じてしまう。
【００１１】
Ｎ−メチル−２−ピロリドリン（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の溶剤は、洗浄性には問題ないが、チオエポキシ系原料の洗浄においては、触媒として作用してしまうため、洗浄剤としては使用できない。
【００１２】
アセトン、イソプロピルアルコール等の溶剤は、チオエポキシ系プラスチック原料の洗浄においては洗浄性に問題があり、洗浄剤としては使用できない。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、チオエポキシ系原料の洗浄においては、環境に影響が無く、洗浄性を満足し、触媒として作用しない洗浄方法を発明した。
【００１４】
請求項１記載の発明は、チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具を、テトラヒドロフランからなる洗浄用溶剤で洗浄することを特徴とする洗浄方法を提供する。
【００１５】
請求項２記載の発明は、前記チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具を、前記テトラヒドロフランからなる洗浄用溶剤に浸漬することを特徴とする請求項１記載の洗浄方法を提供する。
【００１６】
請求項３記載の発明は、前記チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具に、前記テトラヒドロフランからなる洗浄用溶剤を掛け流し洗浄することを特徴とする請求項１記載の洗浄方法を提供する。
【００１７】
請求項４記載の発明は、前記チオエポキシ系プラスチック原料が付着した治具を、前記テトラヒドロフランからなる洗浄用溶剤を染込ませたウエスまたはスポンジで拭き取りを行うことを特徴とする請求項１記載の洗浄方法を提供する。
【００２４】
本発明においては、ハロゲン原子を含まない分子構造を持つ溶剤を使用するため、オゾン破壊がほとんど無い。地球温暖化への影響が無く、地球環境にやさしい洗浄が可能になる。
【００２５】
蒸気圧が３０ｍｍＨｇ以上にすることによって、乾燥が容易になり、さらに望ましくは４０ｍｍＨｇ以上にすると、乾燥がより容易になり、残渣の無い洗浄が可能になる。
【００２６】
上記洗浄用溶剤を使用すると、洗浄方法として、被洗浄物の形状により異なるが、洗浄用溶剤に浸漬したり、洗浄用溶剤を掛け流したり、洗浄用溶剤をウエス等に染み込ませて拭き取りすることにより被洗浄汚れの洗浄が可能となる。また、洗浄用溶剤の浸漬洗浄に超音波を印加することにより、洗浄効果が上がる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態について説明するが、本発明は、下記の実施の形態に制限されるものではない。
【００２８】
［実施例１］
チオエポキシ系プラスチックメガネレンズの原料調合、注入工程を例に説明する。
【００２９】
図１に示すような調合装置を用いて、プラスチックメガネレンズの原料を調合する。原料タンク１に主原料と添加剤を別々に貯え、配管２を通して、調合タンク３内で混合し、攪拌器４で攪拌を行う。調合後の原料を図２に示すような注入装置の送液タンク５に移送し、加圧することにより注入用配管６を通して、ドラフトチャンバー９内で注入ノズル７を使用し成形用注型８に原料を注入する。これら一連の工程において、調合に使用する調合タンク３をはじめ、注入用配管６等をテトラヒドロフランで洗浄を行った。
【００３０】
洗浄方法：調合タンク３は、タンク内に洗浄用溶剤を溜め攪拌器４で攪拌後、液を抜き取る。その後、調合タンク３内の側壁や攪拌器４等は、液をかけ流し、乾燥エアを導入し１時間放置する。注入装置は、送液タンク５に洗浄用溶剤を入れ、溶剤を圧空にて送液し、注入用配管６を通し、注入ノズル７の出口にて洗浄用溶剤を回収する。送液洗浄後、乾燥エアを送液タンク５と注入用配管６内に通し、１時間放置する。ドラフトチャンバー９内の汚れは、ウエス等に洗浄用溶剤を染み込ませ、拭き取りで洗浄する。
【００３１】
［比較例１］
洗浄溶剤として、アセトンを用いて、実施例１と同様の方法で洗浄を行った。
【００３２】
［比較例２］
洗浄溶剤として、イソプロピルアルコールを用いて、実施例１と同様の方法で洗浄を行った。
【００３３】
［比較例３］
洗浄溶剤として、 Ｎ−メチル−２−ピロリドリン（ＮＭＰ）を用いて、実施例１と同様の方法で洗浄を行った。
【００３４】
［比較例４］
洗浄溶剤として、 ジクロロメタン（塩化メチレン）を用いて、実施例１と同様の方法で洗浄を行った。
【００３５】
実施例及び比較例の結果は表１のとおり。表中の◎は、使用上極めて良好な状態を示し、○は、使用上良好な状態を示し、×は、使用不可を示す。
【００３６】
【表１】
0004273639.tif 000002
【００３７】
実施例１に関しては、残渣なく汚染物の除去ができ、乾燥ができ、触媒作用がないため、洗浄に使用できる。
【００３８】
比較例１に関しては、 汚染物の除去ができず、また触媒としても作用するため、洗浄には使用できない。
【００３９】
比較例２に関しては、汚染物の除去ができず、洗浄には使用できない。
比較例３に関しては残渣なく汚染物の除去ができるものの、乾燥できず、また触媒としても作用するため、洗浄には使用できない。
比較例４に関しては残渣なく汚染物の除去ができるものの、安全性（環境への影響）に問題があり使用できない。
【００４０】
【発明の効果】
本発明の洗浄方法によれば、塩素系溶剤を使用せずに、チオエポキシ系プラスチック原料付着治具の洗浄品質を保ちながら、環境にやさしい洗浄を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】調合装置の概要図を示している。
【図２】注入装置の概要図を示している。
【符号の説明】
１  原料タンク
２  配管
３  調合タンク
４  攪拌器
５  送液タンク
６  注入用配管
７  注入ノズル
８  成形用注型
９  ドラフトチャンバー
【図１】
0004273639.tif 000003
【図２】
0004273639.tif 000004