(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーボ信号および記録トラックに相当する磁性体のパターンを含む記録部と、
前記記録部間に形成された前記磁性体の酸化物を含む非記録部と、
前記記録部の表面に形成された前記磁性体の酸化物を含む表面酸化膜と
を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記記録部の表面に形成された前記表面酸化膜の厚さが、記録部と非記録部との境界で１ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の磁気記録媒体を搭載した磁気記録装置。
【請求項４】
基板上に磁性体を製膜し、
前記磁性体上の記録部に対応する領域にマスクを形成し、
前記マスクに覆われていない領域の磁性体を酸化して非記録部を形成するとともに、非記録部によって分断された磁性体のパターンを含む記録部を形成し、
前記マスクを除去し、
前記記録部表面の磁性体を酸化して前記磁性体の酸化物を含む表面酸化膜を形成する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体の記録密度を向上させるために、記録媒体上の記録トラック間の磁性体を除去するかまたは変性させて磁気記録不可能な非記録部を形成することによって、隣接するトラックの記録再生に関する干渉を抑えたディスクリートトラックを用いるディスクリートトラック型磁気記録媒体が有効である。
【０００３】
ディスクリートトラック媒体の製造方法の一つとして、基板上に製膜された磁性体に所望のサーボ信号および記録トラックを分断した構造を形成することを目的として、磁性体をパターニングする方法が知られている。たとえば、非記録部に相当する部分の磁性体を除去した後、磁性体が除去された凹部を埋込み材料で埋込み、媒体表面を平坦化する方法がある。あるいは、非記録部に相当する部分の磁性体を化学的に変性させ、局所的に磁性体を失活させることにより、磁性体をパターニングする方法がある（たとえば特許文献１）。
【０００４】
上述した方法を用いて得られたディスクリートトラック型磁気記録媒体では、磁性体を局所的に変性させるかまたは磁性体間の凹部を異なる材料で埋め込むので、媒体内で記録部を構成する磁性体と非記録部との間に界面が生じる。この界面は磁気記録層の表面まで連続して形成され、通常は保護膜によってのみ外気と遮断されている。
【０００５】
しかし、互いに異なる材料間の界面では、２つの材料の熱膨張係数の違いや親水性・疎水性に代表される表面エネルギーの違いから、界面に空隙を生じることがある。媒体内に生じた空隙はしばしば、いわゆるコロージョンの原因となる。すなわち、保護膜が不完全な構造を有する場合、保護膜を通して外気、主に水分が界面に沿って媒体内に入り込み、コロージョンを誘発する。コロージョンが生じると、媒体表面への化学物質の析出をもたらすことがある。
【特許文献１】特公平５−４７９１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、予め製膜された磁性膜を加工または変性させることにより製造された従来のディスクリートトラック型磁気記録媒体では、コロージョンが発生するという課題があった。
【０００７】
本発明の目的は、コロージョンの発生を抑制できるディスクリートトラック型の磁気記録媒体およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様に係る磁気記録媒体は、サーボ信号および記録トラックに相当する磁性体のパターンを含む記録部と、前記記録部間に形成された前記磁性体の酸化物を含む非記録部と、前記記録部の表面に形成された前記磁性体の酸化物を含む表面酸化膜とを有することを特徴とする。
【０００９】
本発明の他の態様に係る磁気記録媒体の製造方法は、基板上に磁性体を製膜し、前記磁性体上の記録部に対応する領域にマスクを形成し、前記マスクに覆われていない領域の磁性体を酸化して非記録部を形成するとともに、非記録部によって分断された磁性体のパターンを含む記録部を形成し、前記マスクを除去し、前記記録部表面の磁性体を酸化して前記磁性体の酸化物を含む表面酸化膜を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、非記録部が磁性体の酸化物で形成され、かつ記録部の表面に磁性体の酸化物からなる表面酸化膜が形成されており、記録部と非記録部との界面が媒体内で閉じた構造となっているので、媒体のコロージョンを抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１に本発明に係る磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体）１の概略的な平面図を示す。図１にはデータ領域２とサーボ領域３を示している。データ領域２はユーザデータが記録される領域である。媒体面上でのサーボ領域３の形状は、ヘッドスライダがアクセスする際に描く軌跡に対応する円弧状となっている。サーボ領域３の周方向長さは、半径位置が外周側になるほど長くなるように形成されている。なお、図１では１５のサーボ領域３を図示しているが、実際の媒体では１００以上のサーボ領域３が形成されている。
【００１２】
図２にサーボ領域およびデータ領域の模式図を示す。図３にサーボ領域およびデータ領域における記録部および非記録部のパターンを示す。これらの図に示すように、データ領域２はサーボ領域３によって周方向にセクタ分割されている。
【００１３】
データ領域２には、複数の記録部として記録トラック（ディスクリートトラック）２１が所定のトラックピッチＴｐで形成されている。記録トラック２１にユーザデータが記録される。クロストラック方向に沿って隣接する記録トラック２１どうしは非記録部２２によって分離されている。
【００１４】
サーボ領域３は、プリアンブル部３１、アドレス部３２、バースト部３３などを含む。サーボ領域３のプリアンブル部３１、アドレス部３２およびバースト部３３には、サーボ信号を与える記録部および非記録部のパターンが形成されている。これらの部分は以下のような機能を有する。
【００１５】
プリアンブル部３１は、メディアの回転偏心などにより生ずる時間ズレに対し、サーボ信号再生用クロックを同期させるＰＬＬ処理や、信号再生振幅を適正に保つＡＧＣ処理を行うために設けられている。プリアンブル部３１では、半径方向に分断されることなく連続して放射状に略円弧をなして凸部の記録部が、周方向に繰返して形成されている。
【００１６】
アドレス部３２は、サーボマークと呼ばれるサーボ信号認識コードや、セクタ情報、シリンダ情報などが、プリアンブル部３１の周方向ピッチと同一ピッチで、マンチェスタコードにより形成されている。特に、シリンダ情報は、サーボトラック毎にその情報が変化するパターンとなるため、シーク動作時のアドレス判読ミスの影響が小さくなるように、隣接トラックとの変化が最小となるグレイコードに変換してから、マンチェスタコード化して記録されている。
【００１７】
バースト部３３は、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するためのオフトラック検出用領域で、径方向にパターン位相をずらした４種のマーク（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄバーストと呼ばれる）が形成されている。各バーストには、周方向に複数個のマークがプリアンブル部と同一のピッチで配置されている。各バーストの径方向周期は、アドレスパターンが変化する周期、換言すればサーボトラック周期に比例する。各バーストは、周方向に約１０周期分形成され、径方向にサーボトラック周期の２倍長の周期で繰返すように形成されている。
【００１８】
バースト部３３のマーク形状は長方形、または厳密にはヘッドアクセス時のスキュー角を考慮した平行四辺形になるように設計されるが、スタンパ加工精度や転写形成などの加工性能によっては多少丸みを帯びた形状になる。なお、マークは非記録部として形成してもよいし、記録部として形成してもよい。バースト部３３から位置を検出する原理については詳細を省略するが、各ＡＢＣＤバーストの再生信号の平均振幅値を演算処理してオフトラック量を算出する。
【００１９】
図４に本発明の一実施形態に係るＤＴＲ媒体の断面図を示す。図４において、基板５１上に、軟磁性下地層５２が形成されている。軟磁性下地層５２上には、サーボ信号および記録トラックに相当するように、強磁性結晶を含む磁性体をパターン化した記録部５３が形成されている。記録部５３を構成する強磁性結晶が記録ヘッドにより磁化され、再生ヘッドにより磁化が読み取られることによって、記録再生を行うことができる。記録部５３間には記録部を構成する磁性体の酸化物を含む非記録部５４が形成されている。非記録部５４を構成する磁性体の酸化物は軟磁性下地層５２の表面にまで達している。非記録部５４を構成する酸化物は磁性を持たないため、隣接するディスクリートトラックどうしの分断を可能にする。また、記録部５３の表面にも記録部を構成する磁性体の酸化物を含む表面酸化膜５５が形成されている。非記録部５４および表面酸化膜５５の上に保護膜５６が形成されている。
【００２０】
本発明に係る磁気記録媒体では、非記録部５４を構成する酸化物と表面酸化膜５５を構成する酸化物とが、同じ記録部を構成する磁性体の酸化物からなり、界面を生じることなく一体化している。このように、記録部５３の周囲が同一の酸化物で覆われており、記録部５３と非記録部５４との界面が保護膜５６直下の磁気記録層の表面に露出していないので、界面を通した水分の侵入が起こらず、コロージョンを抑えることができる。したがって、本発明に係るディスクリートトラック型磁気記録媒体ではコロージョン耐性を向上させる効果が得られる。
【００２１】
磁気記録層における記録部５３と非記録部５４との界面に水分が浸入するのを防ぐためには記録部５３表面の表面酸化膜５５を構成する酸化物が十分な膜厚を有することが好ましい。高温多湿環境下でのコロージョン試験により、表面酸化膜５５の厚さは記録部５３と非記録部５４との境界で１ｎｍ以上であることが好ましいことがわかっている。
【００２２】
ただし、記録部５３の表面に形成される表面酸化膜５５を構成する酸化物の膜厚が厚すぎると、磁気記録再生時のヘッドと記録部５３との間の距離、すなわち磁気スペーシングを増大させるので、信号劣化につながる。このため、記録部５３表面の表面酸化膜５５の膜厚は１ｎｍ以上、３ｎｍ以下が好ましい。
【００２３】
一方、図５に従来のＤＴＲ媒体の一例の断面図を示す。図５において、基板５１上に、軟磁性下地層５２が形成されている。軟磁性下地層５２上には、磁性体をサーボ信号および記録トラックに対応して加工することによってパターン化した記録部５３が形成されている。記録部５３間の凹部に非磁性埋込み材料を埋め込むことによって非記録部５７が形成されている。記録部５３および非記録部５７の上に保護膜５６が形成されている。
【００２４】
図５に示す従来のＤＴＲ媒体では、保護膜５６直下の磁気記録層表面に記録部５３を構成する磁性体と非記録部５７を構成する埋込み材料との界面が露出している。このため、水分がこの界面から侵入して磁性体と化学反応を起すことによってコロージョンを発生させる。
【００２５】
次に、図６（ａ）〜（ｇ）を参照して、本発明に係る磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体）の製造方法を説明する。この図では基板の一面のみで加工を行うように図示しているが、実際には基板の両面で加工を行う。
【００２６】
図６（ａ）に示すように、基板５１上に、軟磁性下地層５２および強磁性結晶を含む磁性体５３を製膜する。図示しないが、磁性体５３上にエッチング保護膜を形成してもよい。磁性体５３の上にレジスト６０を塗布する。
【００２７】
基板５１としては、たとえばガラス基板、Ａｌ系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、酸化物表面を有するＳｉ単結晶基板、およびこれらの基板にＮｉＰなどのメッキを施したものなどが挙げられる。
【００２８】
軟磁性下地層５２としては、Ｆｅ、ＮｉまたはＣｏを含む材料が用いられる。より具体的には、ＦｅＣｏ系合金たとえばＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＶなど、ＦｅＮｉ系合金たとえばＦｅＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＮｉＣｒ、ＦｅＮｉＳｉなど、ＦｅＡｌ系合金およびＦｅＳｉ系合金たとえばＦｅＡｌ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌＳｉＣｒ、ＦｅＡｌＳｉＴｉＲｕ、ＦｅＡｌＯなど、ＦｅＴａ系合金たとえばＦｅＴａ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＴａＮなど、ＦｅＺｒ系合金たとえばＦｅＺｒＮなどが挙げられる。
【００２９】
磁性体５３としては、たとえばＣｏＣｒＰｔ合金にさらに酸化物を含み、垂直磁気異方性を有する磁性材料が用いられる。酸化物としては、特に酸化シリコン，酸化チタンが好適である。
【００３０】
エッチング保護膜としては、たとえばダイヤモンドライクカーボンや窒化炭素などが挙げられる。
【００３１】
レジスト６０は、次のインプリントにより凹凸パターンを転写した後、磁性体５３の凹凸加工を行うためのマスク材料として用いられる。レジストの材料としては、塗布後にインプリントによる凹凸転写が可能なものが用いられ、例えばポリマー材料、低分子有機材料、液状Ｓｉレジストなどが挙げられる。本実施形態では液状Ｓｉレジストであるスピンオングラス（ＳＯＧ）を用いている。
【００３２】
図６（ｂ）に示すように、インプリントによる凹凸パターン転写を行う。転写工程は、両面同時転写型のインプリント装置を用いて行う。基板の両面に塗布されたレジスト（ＳＯＧ）の全面に、所望の凹凸パターンが形成されたインプリントスタンパ（図示せず）を均等に押圧し、レジスト６０の表面に凹凸パターンを転写する。この転写工程により形成されるレジスト６０の凹部が、非記録部に対応する。
【００３３】
図６（ｃ）に示すように、レジスト６０でマスクされずに露出した磁性体５３の表面に対して酸化処理を行う。酸化処理により露出した部分の磁性体５３が磁性を失い、非記録部５４となる。この結果、非記録部５４によって分断された磁性体のパターンが記録部となる。
【００３４】
図６（ｄ）に示すように、記録部に残存しているレジスト６０をエッチングにより除去する。ＳＯＧからなるレジスト６０はフッ素化合物を用いてエッチングすることが好ましい。なお、カーボンからなるレジストを用いた場合には酸素を用いてアッシングすることが好ましい。
【００３５】
図６（ｅ）に示すように、酸化処理を行い、記録部５３表面に所望の厚さすなわち１ｎｍ以上の厚さの酸化物からなる表面酸化膜５５を形成する。この表面酸化膜５５により、記録部５３と非記録部５４との間の界面が磁気記録層の表面に露出する事を避けることができる。
【００３６】
図６（ｆ）に示すように、非記録部５４および表面酸化膜５５上にＤＬＣからなる保護膜５６を形成する。その後、保護膜５６上に潤滑剤を塗布し、本発明に係る磁気記録媒体を完成する。
【００３７】
次に、本発明の磁気記録媒体を搭載した磁気記録装置について説明する。図７に本発明の実施形態に係る磁気記録装置のブロック図を示す。この図では磁気記録媒体の上面にのみヘッドスライダを示しているが、磁気記録媒体の両面にディスクリートトラックを有する垂直磁気記録層が形成されており、この磁気記録媒体の上下面にダウンヘッド／アップヘッドがそれぞれ設けられる。なお、磁気記録装置の構成は、本発明に係る磁気記録媒体を用いている点を除けば、基本的に従来の装置と同様である。
【００３８】
ディスクドライブは、ヘッド・ディスクアセンブリ（ＨＤＡ）１００と呼ばれる本体部と、プリント回路基板（ＰＣＢ）２００とからなる。
【００３９】
ヘッド・ディスクアセンブリ（ＨＤＡ）１００は、磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体）１と、磁気記録媒体１を回転させるスピンドルモータ１０１と、ピボット１０２を中心に回動するアクチュエータアーム１０３と、アクチュエータアーム１０３の先端に取り付けられたサスペンション１０４と、サスペンション１０４に支持されリードヘッドおよびライトヘッドを含むヘッドスライダ１０５と、アクチュエータアーム１０３を駆動するボイスコイルモータ（ＶＣＭ）１０６と、ヘッドの入出力信号を増幅するヘッドアンプ（図示せず）などを有する。ヘッドアンプ（ＨＩＣ）はアクチュエータアーム１０３上に設けられ、フレキシブルケーブル（ＦＰＣ）１２０を通してプリント回路基板（ＰＣＢ）２００に接続されている。なお、上記のようにヘッドアンプ（ＨＩＣ）をアクチュエータアーム１０３上に設ければヘッド信号のノイズを有効に低減できるが、ヘッドアンプ（ＨＩＣ）はＨＤＡ本体に固定してもよい。
【００４０】
上述したように磁気記録媒体１には両面に垂直磁気記録層が形成され、両面のそれぞれにおいて、ヘッドが移動する軌跡に一致するようにサーボ領域が円弧をなして形成されている。磁気記録媒体の仕様は、ドライブに適応した外径および内径、記録再生特性などを満足する。サーボ領域がなす円弧の半径は、ピボットから磁気ヘッド素子までの距離として与えられる。
【００４１】
プリント回路基板（ＰＣＢ）２００は、４つの主要なシステムＬＳＩを搭載している。これらは、ディスクコントローラ（ＨＤＣ）２１０、リード／ライトチャネルＩＣ２２０、ＭＰＵ２３０およびモータドライバＩＣ２４０である。
【００４２】
ＭＰＵ２３０はドライブ駆動システムの制御部であり、本実施形態に係るヘッド位置決め制御システムを実現するＲＯＭ、ＲＡＭ、ＣＰＵおよびロジック処理部を含む。ロジック処理部はハードウェア回路で構成された演算処理部であり、高速演算処理が行われる。また、その動作ソフト（ＦＷ）はＲＯＭに保存されており、このＦＷに従ってＭＰＵがドライブを制御する。
【００４３】
ディスクコントローラ（ＨＤＣ）２１０はハードディスク内のインターフェース部であり、ディスクドライブとホストシステム（例えばパーソナルコンピュータ）とのインターフェースや、ＭＰＵ、リード／ライトチャネルＩＣ、モータドライバＩＣとの情報交換を行い、ドライブ全体を管理する。
【００４４】
リード／ライトチャネルＩＣ２２０はリード／ライトに関連するヘッド信号処理部であり、ヘッドアンプ（ＨＩＣ）のチャネル切替えやリード／ライトなどの記録再生信号を処理する回路で構成される。
【００４５】
モータドライバＩＣ２４０は、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７およびスピンドルモータ７２の駆動ドライバ部であり、スピンドルモータ７２を一定回転に駆動制御したり、ＭＰＵ２３０からのＶＣＭ操作量を電流値としてＶＣＭ７７に与えてヘッド移動機構を駆動したりする。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明の実施例を説明する。
【００４７】
実施例１
パターンを形成するモールドとして、０．４ｍｍ厚のＮｉインプリントスタンパを用意した。スタンパ上のパターンは図１に対応するように、信号領域の最内周半径を４．７ｍｍ、最外周半径を９．７ｍｍ、トラックピッチを１０４ｎｍとして作製した。スタンパの凹凸深さは５０ｎｍとした。
【００４８】
基板として直径４８ｍｍ、内径１２ｍｍのドーナツ型ガラスディスクを用いた。軟磁性下地層としてＦｅＣｏＶを１００ｎｍ製膜した。磁性体としてＣｏＣｒＰｔ合金とＳｉＯ2を含む組成を有する強磁性層を１５ｎｍ製膜した。エッチング保護膜としてＤＬＣ膜を３０ｎｍ製膜した。レジストとしてＳＯＧをスピンコートにより５０ｎｍの膜厚で塗布した。
【００４９】
基板上に塗布したレジストに対し上記のインプリントスタンパを常温、大気圧下で２００ＭＰａの圧力で１分間押し付け、レジスト表面にインプリントスタンパの凹凸を転写した。レジスト凹凸深さはインプリントスタンパの凹凸と等しく５０ｎｍであった。
【００５０】
ＣＦ4ガスを用いてエッチングを行い、レジストの凹部の底に残っているレジスト残渣を除去し、非記録部に相当する部分のＤＬＣ保護膜の表面を露出させた。記録部に対応する部分にはレジスト（ＳＯＧ）が凸部として形成されている。このレジスト（ＳＯＧ）パターンをマスクとして酸素によるエッチングを行い、凹部に位置するＤＬＣ保護膜を３０ｎｍ全て除去し、磁性体を露出させた。
【００５１】
ＣＦ4ガスを用いてエッチングを行い、凸部に残ったレジスト（ＳＯＧ）パターンを除去した。
【００５２】
酸素を用いて酸化処理を行い、凹部で露出した磁性膜を酸化させて磁性を失活させ、非記録部を形成した。同時に、非記録部によって分断された磁性パターンからなる記録部を形成した。
【００５３】
酸素を用いてエッチングを行い、記録部上に残存したＤＬＣ保護膜を除去した。さらに、記録部表面の磁性体を酸化させて表面酸化膜を形成した。
【００５４】
この時点で一部の試料を抜き取り、ＴＥＭにより媒体の断面構造を観測した。その結果、記録部の表面が厚さ１ｎｍの酸化物からなる表面酸化膜で覆われ、この部分では結晶格子が確認されなかった。表面酸化膜の下の記録部では結晶格子が観測された。また、非記録部でも結晶格子が確認されず、酸素による酸化処理により酸化物が形成され、非晶質化していることがわかった。試料の表面をＫｅｒｒ測定することにより、所定のパターンをなす非記録部の酸化物および記録部表面の酸化物に相当する体積比の分だけ磁性が失活していることがわかった。
【００５５】
最後に、非記録部および表面酸化膜の上にＤＬＣからなる保護膜を４ｎｍ形成し、潤滑剤を塗布して本発明に係るＤＴＲ媒体を製造した。
【００５６】
実施例２
実施例１と同様に、基板上への軟磁性下地層、磁性体およびエッチング保護膜（ＤＬＣ）の製膜、レジスト（ＳＯＧ）の塗布、インプリントによるレジストパターンの形成、凹部（非記録部）のレジスト残渣除去、凹部（非記録部）のエッチング保護膜（ＤＬＣ）除去、ＣＦ4ガスを用いたエッチングによる凸部のレジスト（ＳＯＧ）パターン除去、酸化処理による非記録部形成、酸素を用いたエッチングによる凸部のエッチング保護膜（ＤＬＣ）除去を行った。さらに、記録部表面の磁性体を酸化させる時間を実施例１の３倍に設定して表面酸化膜を形成した。
【００５７】
この時点で一部の試料を抜き取り、断面ＴＥＭにより観測した。その結果、記録部の表面が厚さ３ｎｍの酸化物からなる表面酸化膜で覆われ、この部分では結晶格子が確認されなかった。表面酸化膜の下の記録部では結晶格子が観測された。また、非記録部でも結晶格子が確認されず、ＣＦ4によるフッ化処理および酸素による酸化処理により酸化物が形成され、非晶質化していることがわかった。試料の表面をＫｅｒｒ測定することにより、所定のパターンをなす非記録部の酸化物および記録部表面の酸化物に相当する体積比の分だけ磁性が失活していることがわかった。
【００５８】
最後に、非記録部および表面酸化膜の上にＤＬＣからなる保護膜を４ｎｍ形成し、潤滑剤を塗布して実施例２のＤＴＲ媒体を製造した。
【００５９】
比較例１
実施例１と同様に、基板上への軟磁性下地層、磁性体およびエッチング保護膜（ＤＬＣ）の製膜、レジスト（ＳＯＧ）の塗布、インプリントによるレジストパターンの形成、凹部（非記録部）のレジスト残渣除去、凹部（非記録部）のエッチング保護膜（ＤＬＣ）除去、ＣＦ4ガスを用いたエッチングによる凸部のレジスト（ＳＯＧ）パターン除去、酸化処理による非記録部形成、酸素を用いたエッチングによる凸部のエッチング保護膜（ＤＬＣ）除去を行った。しかし、記録部表面の磁性体の酸化処理を行わなかった。
【００６０】
この時点で一部の試料を抜き取り、断面ＴＥＭにより観測した。その結果、記録部の表面で結晶格子が確認された。一方、非記録部では結晶格子が確認されず、ＣＦ4によるフッ化処理および酸素による酸化処理により酸化物が形成され、非晶質化していることがわかった。試料の表面をＫｅｒｒ測定することにより、所定のパターンをなす非記録部の酸化物に相当する体積比の分だけ磁性が失活していることがわかった。
【００６１】
最後に、非記録部および表面酸化膜の上にＤＬＣからなる保護膜を４ｎｍ形成し、潤滑剤を塗布して比較例１のＤＴＲ媒体を製造した。
【００６２】
比較例２
実施例１と同様に、基板上への軟磁性下地層、磁性体およびエッチング保護膜（ＤＬＣ）の製膜、レジスト（ＳＯＧ）の塗布、インプリントによるレジストパターンの形成、凹部（非記録部）のレジスト残渣除去、凹部（非記録部）のエッチング保護膜（ＤＬＣ）除去、ＣＦ4ガスを用いたエッチングによる凸部のレジスト（ＳＯＧ）パターン除去、酸化処理による非記録部形成、酸素を用いたエッチングによる凸部のエッチング保護膜（ＤＬＣ）除去を行った。その後、記録部の表面を酸化処理する代わりに、表面にＡｌ2Ｏ3膜を１ｎｍ製膜した。
【００６３】
この時点で一部の試料を抜き取り、断面ＴＥＭにより観測および組成分析を行った。その結果、記録部の表面が厚さ１ｎｍのＡｌ2Ｏ3膜で覆われ、この部分では結晶格子が確認されなかった。Ａｌ2Ｏ3膜の下の記録部では結晶格子が観測された。また、非記録部でも結晶格子が確認されず、ＣＦ4によるフッ化処理および酸素による酸化処理により酸化物が形成され、非晶質化していることがわかった。試料の表面をＫｅｒｒ測定することにより、所定のパターンをなす非記録部の酸化物および記録部表面の酸化物に相当する体積比の分だけ磁性が失活していることがわかった。
【００６４】
しかし、表面をＡＦＭにより観測したところ、微小なひび割れが確認された。実施例１，２および比較例１ではこのようなひび割れが観測されなかったことから、Ａｌ2Ｏ3膜の密着性が悪いためにひび割れが発生したと考えられる。
【００６５】
最後に、Ａｌ2Ｏ3膜の上にＤＬＣからなる保護膜を４ｎｍ形成し、潤滑剤を塗布して比較例２のＤＴＲ媒体を製造した。
【００６６】
（評価）
実施例１，２および比較例１，２の磁気記録媒体について、コロージョンテストおよびビットエラーレートの測定を行った。これらの結果を表１にまとめて示す。
【表１】
0004292227.tif 000002
【００６７】
コロージョンテストは以下のようにして行った。実施例１，２および比較例１，２の磁気記録媒体を、気温８０℃、湿度８０％の高温多湿環境下で４０時間放置し、コロージョンにより発生する表面の輝点チェックを行った。
【００６８】
実施例１および実施例２の媒体は輝点発生が認められず、コロージョンテストの結果は良好であった。一方、比較例１および比較例２の媒体は、テスト後に１平方センチあたり１〜２個程度の輝点発生が認められ、コロージョンテストは不合格であった。
【００６９】
実施例１および実施例２の媒体では、表面が磁性体の酸化物で覆われているため、コロージョンに対する耐性があることがわかる。一方、比較例１の媒体においては保護膜の直下に記録部と非記録部の界面が形成されているため、この界面を通して侵入した水分によってコロージョンが発生したと考えられる。また、比較例２の媒体では、表面にＡｌ2Ｏ3膜が形成されているが、記録部の磁性体と、磁性体と組成が異なるＡｌ2Ｏ3膜との密着性が悪く、ひび割れを起こした部位からコロージョンが発生したと考えられる。
【００７０】
ビットエラーレートの測定は以下のようにして行った。実施例１，２および比較例１，２の媒体を搭載したドライブを作製した。各媒体をトラック密度２４４ｋＴＰＩ（トラックピッチ１０４ｎｍ）で作製し、線記録密度１２６０ｋＢＰＩで記録した。各媒体について、媒体中周部でのビットエラーレートを測定した。
【００７１】
なお、ガラス基板上へ磁性体の連続膜を製膜した後、ＤＬＣ保護膜を４ｎｍ製膜し、潤滑剤を塗布した通常の垂直記録媒体を上記と同じドライブに搭載し、媒体中周部のビットエラーレートを測定したところ−７．０乗であった。ただし、この垂直記録媒体に対し、トラックピッチ１０４ｎｍで隣接トラックへ１０００回記録した後、元のトラックでビットエラーレートを測定したところ−３．６乗であり、隣接記録耐性が低かった。
【００７２】
実施例１，２および比較例１，２の媒体を搭載したドライブについて測定した、媒体中周部のビットエラーレートはそれぞれ−６．５乗，−４．５乗，−７．０乗，および−６．５乗であった。
【００７３】
比較例１の媒体は、保護膜直下に記録部が存在し、他の例に比べて磁気スペーシングが小さいため、ビットエラーレートが低くなっていると思われる。ただし、比較例１の媒体はコロージョン耐性が著しく低い。
【００７４】
実施例２の媒体は、コロージョンテストの結果が良好であるが、他の例に比べてビットエラーレートが高い。実施例２の媒体では保護膜の下に厚さ３ｎｍの表面酸化膜が存在するため、磁気スペーシングが大きくなっている。しかも、磁性体の酸化物である表面酸化膜が厚いと、記録層そのものの厚みが薄くなるため、ビットエラーレートが高くなる。ただし、ビットエラーレートは多少高いが、記録再生に大きく影響するほどではない。
【００７５】
比較例２の媒体は、保護膜の下に実施例１と同じ厚さのＡｌ2Ｏ3膜が形成されているため、ビットエラーレートは実施例１と同等である。しかし、比較例２の媒体では、Ａｌ2Ｏ3膜のひび割れに起因してコロージョン耐性が悪い。
【００７６】
実施例１の媒体は、保護膜の下に厚さ１ｎｍの磁性体の酸化物からなる表面酸化膜が存在し、比較例１と比較してややビットエラーレートが高くなるが、実施例２ほどビットエラーレートが高くなることはない。また、実施例１の媒体は、コロージョン耐性が非常に良好である。
【００７７】
なお、実施例１，２および比較例１，２の媒体（トラックピッチ１０４ｎｍ）を搭載したドライブで、隣接トラックへ１０００回記録した後、元のトラックでビットエラーレートを測定したところ、それぞれ−５．５乗，−３．７乗，−６．０乗，−５．５乗であり、連続膜を有する垂直記録媒体の場合と比較して隣接記録耐性が高いことが確認された。
【００７８】
以上説明したように、本発明に係るディスクリート媒体は、記録再生特性を損なうことなく、優れたコロージョン耐性を示すことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の概略的な平面図。
【図２】サーボ領域およびデータ領域の模式図。
【図３】サーボ領域およびデータ領域のパターンを示す平面図。
【図４】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の断面図。
【図５】従来の磁気記録媒体の断面図。
【図６】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を示す断面図。
【図７】本発明の一実施形態に係る磁気記録装置のブロック図。
【符号の説明】
【００８０】
１…磁気記録媒体、２…データ領域、３…サーボ領域、２１…記録トラック、２２…非記録部、３１…プリアンブル部、３２…アドレス部、３３…バースト部、５１…基板、５２…軟磁性下地層、５３…記録部、５４…非記録部、５５…表面酸化膜、５６…保護膜、６０…レジスト、１００…ヘッド・ディスクアセンブリ（ＨＤＡ）、１０１…スピンドルモータ、１０２…ピボット、１０３…アクチュエータアーム、１０４…サスペンション、１０５…ヘッドスライダ、１０６…ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）、１２０…フレキシブルケーブル（ＦＰＣ）、２００…プリント回路基板（ＰＣＢ）、２１０…ディスクコントローラ（ＨＤＣ）、２２０…リード／ライトチャネルＩＣ、２３０…ＭＰＵ、２４０…モータドライバＩＣ。
【要約】
【課題】コロージョンの発生を抑制できるディスクリートトラック型の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】サーボ信号および記録トラックに相当する磁性体のパターンを含む記録部と、前記記録部間に形成された前記磁性体の酸化物を含む非記録部と、前記記録部の表面に形成された前記磁性体の酸化物を含む表面酸化膜とを有することを特徴とする磁気記録媒体。
【選択図】      図４【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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