(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルスレーザー光を減圧された容器中の標的に集光することにより、該標的をプラズマ化し該プラズマよりＸ線を発生させるＸ線発生装置において、該標的を構成する物質を前記容器中に送出するノズルの位置又はその位置の変化を検出する検出部を有することを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
前記ノズルの位置又は先端位置が所定の位置になるように前記ノズルを移動する前記ノズルの移動機構を備えたことを特徴とする請求項１に記載のＸ線発生装置。
【請求項３】
前記検出部は、前記ノズルに対して接触式または非接触式のものであることを特徴とする請求項１または２に記載のＸ線発生装置。
【請求項４】
ノズルから標的材料を減圧された容器中に送出する工程と、パルスレーザー光を前記容器中に送出された材料からなる標的に集光する工程と、前記ノズルの先端部の位置または前記ノズルの先端部とプラズマの発生位置を検知する検知工程とを有することを特徴とするＸ線の発生方法。
【請求項５】
前記検知工程は前記ノズルの先端部とプラズマの発生位置間の距離を検知することを特徴とする請求項４に記載のＸ線の発生方法。
【請求項６】
前記検知工程により得られた情報に基づき、前記ノズルの位置を移動させることを特徴とする請求項４または５に記載のＸ線の発生方法。
【請求項７】
パルスレーザー光源と、標的を構成する物質を送出するノズルと、該ノズルの位置またはその位置の変化を検出する検出部とを具えたＸ線発生装置を有することを特徴とするＸ線露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｘ線顕微鏡やＸ線分析装置、Ｘ線露光装置等のＸ線機器のＸ線源として好適なＸ線発生装置及びこれを具備した装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
パルスレーザー光を真空容器内に置かれた標的材料に集光し、標的材料をプラズマ化して、このプラズマから輻射されるＸ線を利用するレーザープラズマＸ線源（Ｘ線発生装置、以下LPXと呼ぶ）は小型でありながら、アンジュレーターに匹敵する程の輝度を持つ。そのため、Ｘ線分析装置やＸ線露光装置等のＸ線機器の光源として近年注目を集めている。
【０００３】
LPXを実用化するための課題としては、長時間の運転が可能であることと、飛散粒子量を少くすること等があげられる。
長時間の運転を行うためには、標的材料の連続供給が容易であることと、標的材料を回収し再利用できることが重要である。特に標的材料が高価な場合には、標的材料を回収し、再利用することは装置のランニングコストを下げるために重要である。
【０００４】
このような理由から標的材料の形態としては、気体や液体あるいは固体微粒子が使用されている。このような形態の標的材料は、ノズル等の標的材料送出部から真空容器内に送出され、これにレーザー光が照射されＸ線を発生させている。
例えば、標的材料として常温で気体である物質（例えば窒素、二酸化炭素、クリプトン、キセノン等）を用い、ノズルから標的材料を噴出させて、これらの標的材料のガスあるいはガスが断熱膨張されることにより生成されたクラスターにレーザー光を照射する方法が用いられている。前記の標的材料は、常温で気体であるために光学素子上に堆積することがないので、光学素子の性能を劣化させることがない好適なものである。
【０００５】
ノズルから噴出したガスは、自由膨張により真空容器内に広がるため、ノズルからの距離が離れるに従って急激にその密度が減少する。このため、プラズマから放出されるＸ線量を多くしようとすると、ガス（クラスター）密度の大きなノズル近傍（ノズル先端から０．数mmから数mmの距離）にプラズマを生成させる必要がある。
【０００６】
また、標的材料として液体を用いる場合には、ノズルから連続的に噴出させたり、また液滴として噴出させ、これらにレーザー光を照射している。
また、標的材料として固体微粒子を用いる場合には、固体微粒子をガスとともに噴出させたり、微粒子を自由落下させて、これにレーザー光を照射している。このような場合においても、レーザー光は標的材料の位置安定性が高いノズル近傍に照射される（ノズルから離れていると標的材料の位置がばらつき、レーザー光を標的材料に当てるのが困難になる）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、気体を標的材料とする従来のＸ線発生装置を用いてＸ線を長時間発生させ続けた。その結果、Ｘ線強度が低下してしまう問題点が生じた。また、固体を標的材料とする従来のＸ線発生装置を用いてＸ線を長時間発生させ続けた結果、Ｘ線強度が不安定になる問題点が生じた。また液体を標的材料に用いた場合にも同様な問題が生じることがあった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、従来の装置を用いて長時間に渡りＸ線を発生させたときの強度低下や安定性の劣化の原因について検討した。
その結果、長時間に渡りＸ線を照射した後、標的材料の送出口であるノズル先端部は削られた状態になっていることが判った。これは、プラズマがノズル近傍に生成された結果、プラズマから放出された高速の原子やイオン、または電子がノズル先端やノズル近傍の部材に衝突することで生じることが判明した。そのために、次第にノズル先端部とレーザー光照射部との間隔が広がってしまい、レーザー照射部でのガス（クラスター）密度が低下し、Ｘ線強度が低下するのである。
【０００９】
前記問題点を解決するために本発明者は、標的材料送出部の先端位置とレーザー集光位置との間隔に着目し、本発明を成すに至った。  そこで本発明は、第１に「パルスレーザー光を減圧された容器中の標的に集光することにより、該標的をプラズマ化し該プラズマよりＸ線を発生させるＸ線発生装置において、該標的を構成する物質を前記容器中に送出するノズルの位置又はその位置の変化を検出する検出部を有することを特徴とするＸ線発生装置（請求項１）」を提供する。また、本発明は第２に「前記ノズルの位置又は先端位置が所定の位置になるように前記ノズルを移動する前記ノズルの移動機構を備えたことを特徴とする請求項１に記載のＸ線発生装置（請求項２）」を提供する。また、本発明は第３に「前記検出部は、前記ノズルに対して接触式または非接触式のものであることを特徴とする請求項１または２に記載のＸ線発生装置（請求項３）」を提供する。また、第４に「ノズルから標的材料を減圧された容器中に送出する工程と、パルスレーザー光を前記容器中に送出された材料からなる標的に集光する工程と、前記ノズルの先端部の位置または前記ノズルの先端部とプラズマの発生位置を検知する検知工程とを有することを特徴とするＸ線の発生方法（請求項４）」を提供する。第５に「前記検知工程は前記ノズルの先端部とプラズマの発生位置間の距離を検知することを特徴とする請求項４に記載のＸ線の発生方法（請求項５）」を提供する。第６に「前記検知工程により得られた情報に基づき、前記ノズルの位置を移動させることを特徴とする請求項４または５に記載のＸ線の発生方法（請求項６）」を提供する。第７に「パルスレーザー光源と、標的を構成する物質を送出するノズルと、該ノズルの位置またはその位置の変化を検出する検出部とを具えたＸ線発生装置を有することを特徴とするＸ線露光装置（請求項７）」を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
減圧された容器中の標的材料上にパルスレーザー光を集光することにより、該標的材料をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるＸ線を利用する本発明にかかるＸ線発生装置では、標的材料を標的材料送出部から真空容器中に送出し、これにレーザー光を照射しＸ線を発生させるものである。
【００１１】
本発明の実施の形態を図４を用いて具体的に説明する。
図４は、本発明のＸ線発生装置の標的材料送出部近傍を示した概略図である。
図４では、標的材料送出部としてノズル400が用いられており、ガス状の標的材料402がノズル400から真空容器（不図示）内に噴出されている。ガスの噴出方向は紙面の下から上に向かって噴出している。噴出されたガスは断熱膨張により急激に冷却されるとともにファンデルワールス力により分子（あるいは原子）同士が互いにくっつきあいクラスターを形成する。
【００１２】
パルスレーザー光401は、ノズル400の直上かつノズル先端の近傍に集光されており、ほぼこの位置にプラズマが生成されＸ線が輻射される。
本発明では、ノズル400近傍に触針式の変位センサー405が置かれている。この触針式のセンサー405は回転導入端子404により回転可能で、通常はノズル400の真上以外の位置に置かれており、定期的にレーザー照射やガスの噴出を止めて、回転導入端子404を回転させて触針式のセンサー405をノズル400の真上に移動させノズル400の先端の位置（高さ）を計測する（標的材料送出部の先端の位置検出手段の一例）。計測された位置（高さ）が、許容範囲を超えていれば、ノズル400の下部に取り付けられたステージ406を駆動することにより、ノズル先端の位置が所定の位置になるようにする（標的材料送出部の移動手段の一例）。
【００１３】
このとき、変位センサーを標的材料吹き出し軸方向だけでなく、この軸に直交する面内の２つの軸に対しても変位センサーを配置すれば、ノズルの位置を一意的に決めることができるので、ノズルを新品に交換する際に、迅速にノズルの位置を決定することができる。
本実施の形態では、ノズル先端の位置検出手段として触針式のセンサーを用いてたが、これに限らず、静電容量式や光学式の位置センサーを用いても良い。
【００１４】
静電容量式を用いる場合、これを金属製のノズルの近傍に設置し、ノズルとセンサー間の静電容量を測定し、両者間の距離を測定する。この方式は、ノズルに非接触であるために、ノズルの形状に依らず設置可能である。また、ノズルの交換時にセンサーの位置を移動させる必要がないので、交換作業を容易に行うことが可能なものである。また、センサーの位置を移動させることがないので、ノズルの交換前後での測定位置のずれによる測定誤差が発生しないので、再現性よく測定を続けることができる。
【００１５】
また光学式の位置センサーを用いる場合、レンズにより集光された半導体レーザーをノズルに当て、その反射光や散乱光を集め、これをＣＣＤリニアセンサー上に集光させる。この集光位置の変化を測定することにより、ノズルの移動距離を求めることができる。この方式もノズルに非接触であるので、前記静電容量式を用いた場合と同じ効果を有するものである。光学式の場合は、被測定物が金属でなくても使用することができる。
【００１６】
また、ノズル先端の位置を直接位置センサーで測定しなくても、ノズルの像を観測することによりノズル先端部の変化をモニターしても良い。このノズルの像を観測する方法はノズルからガスが噴出している最中であっても観測でき、また、プラズマ生成位置も観測することができるのでノズル先端とプラズマ生成位置の間隔の変化を直接観測することができる利点がある。
【００１７】
また、図４ではノズルから標的材料を噴出させているが、これに限らず、標的材料を送り出す機構であればどんなものであっても良い。例えば細線を円筒状の部材内部からから送り出す（押し出す）場合（特願平１０−２６５８８７号）には、円筒状部材の先端位置が一定になるようにすればよい。
また、本実施の形態では、標的材料がガス状の場合について説明したが、標的材料は、固体状または液体状またはこれらが混合した状態のものでも適用できる。
【００１８】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［実施例１］
図１を用い本発明の実施例を説明する。
本実施例は、ノズル先端とプラズマの位置をCCDにより確認する方法について説明する
図１は、本実施例に関わるＸ線発生装置を上から見た概略図である。
【００１９】
容器100内は真空排気装置109により、排気されレーザー光が途中で気中放電したり、プラズマから輻射されたＸ線が吸収されて著しく減衰してしまわない様な圧力にまで減圧されている。
本実施例では、標的材料送出機構としてステンレス製のガスジェットノズル103を用い、標的材料（クリプトン）を真空容器内に噴出させている。ガスの噴出方向は紙面に垂直方向であり、図１中では紙面の裏から表側に向けて噴出していることになる。
【００２０】
レーザー装置（不図示）から放出されたパルスレーザー光101はレンズ102にによりノズル103の直上0.5mmの位置に集光され、プラズマ104はほぼこの位置で生成される。
レーザー光軸から４５°の方向より光源110aからの光を照明レンズ111aによりノズル103上に照射し、光源110ａと対向する位置設置された対物レンズ112aによりその透過光を拡大し、２次元検出器（CCD1）113a上に結像する。また、この方向と直交する方向にもノズル103照明用の光源が置かれており、同様に照明用のレンズ111bによりノズル103を照明し、その透過光を対物レンズ112bにより拡大し、２次元検出器（CCD2）113b上に結像している。各々のCCDの前には出し入れ自在な減光用フィルター114a、114bが取り付けられている。また、CCDの出力信号は各々の画像メモリー（フレームメモリ）115a、115bに取り込まれる。取り込まれた画像は、モニターテレビ116a、116bに映し出される。また、画像メモリ115a、115bに取り込まれた画像データはパーソナルコンピュータ117に転送され、外部記憶素子（ハードディスクなど）に保存できるようになっている。
【００２１】
また、このパーソナルコンピュータ117にはステージコントローラ118が接続されており、このステージコントローラ118によりノズル103が取り付けられているステージ105を駆動できるようになっている。ノズル103が取り付けられているステージ105は、ガス噴出方向（図１中の紙面垂直方向）、レーザー光軸方向（図１中の紙面縦方向）及びこれに直交する方向（図１中の紙面横方向）の３軸に移動することができる。
【００２２】
プラズマ104から放出されたＸ線は、多層膜がコートされた放物面ミラー106によって特定の波長のＸ線（例えば13nm）のみが反射され、平行光とされた後、可視光カットＸ線透過フィルター（例えばBe薄膜やSi薄膜など）107を透過して次段のＸ線光学系へと導かれている。このような方法でＸ線を発生する。
次に本実施例に関わるノズル位置の確認方法について説明する。
【００２３】
まず、プラズマ104からのＸ線の強度が最大となり、またＸ線の角度分布が所望の分布となるようにステージ105を駆動し、最適なノズル位置を決定する。最適なノズルの位置が決定されたら、CCD１(113a)及びCCD２(113b)で撮像されたノズル103の像を画像メモリに取り込み、初期ノズル画像としてハードディスク上に保存する。
【００２４】
次にプラズマの生成位置を決定する。これは実際にプラズマを生成させることにより求める。プラズマからはＸ線の他に可視光も輻射する。Ｘ線の発光領域よりも可視光の発光領域の方が広いが、Ｘ線は可視光像の最も明るい位置あるいは可視光像の中心部分から輻射されると考えられる。そこで、プラズマの可視光像をCCD１(113a)及びCCD２(113b)で撮像する。この時、プラズマからの可視光は非常に強いので、CCDが飽和しないように減光フィルター114a及び114bを挿入して適当な明るさになるようにする。得られたプラズマの可視光像の最も明るい位置、あるいは明るさの重心の位置等を求め、これをプラズマ位置とする。
【００２５】
この様にして求めたプラズマ位置と先に撮影したノズル像から、ノズル先端からプラズマまでの距離を求めることができる。この得られたノズル先端からプラズマまでの距離を初期値としてパーソナルコンピュータ内に記憶する。
本実施例では、プラズマの可視光像からプラズマの位置（Ｘ線発生位置）を推定していたが、Ｘ線ピンホールカメラ等により直接Ｘ線を観察してプラズマの位置（Ｘ線発生位置）を求めても良い。
【００２６】
LPXの運転を開始したならば、一定時間ごとあるいは所定のレーザーショット数を打つ毎に、ノズルの像とプラズマ像を撮影し、ノズル先端からプラズマまでの距離を測定する。測定の結果、ノズル先端からプラズマまでの距離が許容範囲よりも大きくなった場合には、ノズルが取り付けられているステージ105をガス噴出方向（図１中の紙面垂直方向）に動かし、所定の距離（初期値）になるようにする。
【００２７】
この様に、ノズルの位置を制御することによりLPXを長時間運転してノズル先端が削れてきても、ノズル先端とプラズマとの間隔は、ほぼ一定に保たれるので、レーザー光集光位置でのガス（クラスター）の密度もほぼ一定となり、初期のＸ線強度と変わらない強度を得つづけることができる。  レーザー光軸が固定されているならば、レーザー光の集光位置（高さ方向）は固定されるので、プラズマが生成される高さは変化しない。従って、この様な場合には、プラズマ像をその都度撮影してプラズマ位置を求めなくとも、ノズル像だけを撮影するだけでよい。即ち、一定時間ごとあるいは所定のレーザーショット数を打つ毎にノズルの像を撮影し、この像とLPXの運転を開始する前に撮られた初期ノズル画像ノズル先端位置とを比べ、どれ位ノズル先端が削られたかを調べる。その結果、削られた部分が許容範囲を越えたならば、ノズルが取り付けられているステージをガス噴出方向に動かし、初期ノズル画像とほぼ同じ位置になるようにする。この様にすると、いちいちプラズマ位置を求める手間が省けるのでより容易になる。
【００２８】
この様に、ノズルの像を観察することによりノズル先端とプラズマ位置の距離を一定に保つ様にすると、LPXの運転（レーザー光照射やガス噴出）を中断することがないので効率的である。また、ノズルが削られてきて初期の形状と大きく異なるようになった時にはノズルの交換を行う必要があるが、本実施例によれば交換時期を外すことなく、的確な時期で交換をすることができる。
【００２９】
本実施例ではノズル像を２方向から観測しているのでノズルの位置を一意に決めることができる。そこで、新しいノズルを取り付けた後にノズル像を２方向から撮影し、この像と、交換前に２方向から撮られた初期ノズル像と比較し、両者の像が一致するようにノズルが取り付けられているステージを動かすようにすればよい。この様にすればノズル交換時における位置調整が容易にしかも迅速に行う事ができ、LPXの運転効率を上げることができる。
【００３０】
因みに、本実施例ではノズルを直交する２方向から観測しているが、観測方向は任意であり、また、その数も任意である（１方向だけでも良いし、３方向以上であっても良い）。
また、本実施例ではノズルの照明がクリティカル照明になっているが、これはケーラー照明であってもかまわない。また本実施例では、透過型の顕微鏡の構成を取っているが、これは一般の撮影と同様に照明光のノズルからの反射光をCCDカメラで撮像する様にしても良い。
【００３１】
［実施例２］
本実施例では、レーザー光の光軸が固定されており、プラズマが生成される位置（高さ）が変化しない場合について、図２を用いて説明する。
本実施例のような場合では、より簡便にノズル先端の減り具合を知ることができる。図２にその一つの実施例を示す。
【００３２】
図２の基本構成は、図１の構成とほぼ同様である。ステンレス製のノズル203は、ステージ205に取り付けられており、このステージ205はガス噴出方向（紙面垂直方向）、レーザー光軸方向及びこれに直交する方向の３軸に移動することができる。
ステージ205は真空容器外部に置かれたステージコントローラ217により駆動される。本実施例では標的材料にクリプトン(Kr)を使用している。ノズル203から噴出されたガス状またはクラスター状の標的材料（クリプトン）にレーザー光201が集光され、プラズマ204が生成される。プラズマ204から放出されたＸ線は、多層膜がコートされた放物面ミラー206によって特定の波長のＸ線（例えば13nm）のみ反射され、平行光とされた後、可視光カットＸ線透過フィルター（例えばBe薄膜やSi薄膜など）207を透過して次段のＸ線光学系へと導かれている。
【００３３】
He-Neレーザー210から出射されたレーザー光はミラー211で反射された後、レンズ212とレンズ213によりビーム径を広げ、且つ平行化されてビーム214を形成する。ビーム214はその一部分がノズル203にかかるように照射され、その透過光は可視域に感度を持つフォトダイオード215によって検出される。
ノズル及びフォトダイオード部分を横から見た図を図３に示す。
【００３４】
図３のように、ノズル300の先端部分にレーザービーム301がかかり、フォトダイオード302にその透過光が入射される（303はプラズマ）。
図２でフォトダイオード215の出力信号は中央演算装置（パーソナルコンピュータなど）216に入力される。プラズマが生成されるとフォトダイオード215はHe-Neレーザー光214のほかにプラズマ204から放出される可視光をも検出してしまう。このため、プラズマ発光中のフォトダイオードの出力は中央演算装置216に取り込まれないようにサンプリングするタイミングがコントロールされている。プラズマ204からのＸ線の強度が最大となり、またＸ線の角度分布が所望の分布となるようにノズル203の位置をステージ205を駆動することにより決定することができたならば、そのときのHe-Neレーザービーム214によるフォトダイオード215の出力信号を中央演算装置216内に記憶しておく。そして、LPXの運転を開始した後、一定時間毎あるいは一定回数レーザー光を照射する毎にフォトダイオード215の出力信号を取り込み、He-Neレーザービーム214の透過光量を計測する。ノズルがプラズマにより削り取られてくるとフォトダイオードに到達するHe-Neレーザー光が多くなってくるので、フォトダイオードの出力信号は大きくなってくる。
【００３５】
フォトダイオードの出力信号が所定の強度を超えたならば、ノズル先端とプラズマ間の間隔が広がったとして、ステージコントローラー217に信号を供給しステージ205を駆動してノズルをガス噴出方向に移動させて、フォトダイオードの出力がもとの値にほぼ等しくなるようにする。
この様にすることにより、ノズルの先端位置を常に初期状態にほぼ等しくする事ができる。このとき、予めノズルの高さ（ガス吹き出し方向のノズルの位置）とフォトダイオード215によって検出されるHe-Neレーザービーム214の透過光量との関係を調べておけば、LPXを長時間運転してフォトダイオード215の出力信号強度が変化してきたときに、フォトダイオード215の出力信号の強度からノズルの位置（高さ）を知ることができるので、どれ位ノズルをガス吹き出し方向に移動させればよいかを知ることができる。よって、的確且つ迅速にノズル先端とプラズマ間の距離を一定に保つことができる。
【００３６】
本実施例では、透過されたHe-Neレーザービームを計測するのにフォトダイオードを用いているが、使用しているビームに感度があるものであればどんなものであっても良い。また、CCD等の２次元検出器であっても良い。
上述の２つの実施例では標的材料に常温で気体（クリプトン）のものを用いているが、これに限らず、キセノン(Xe)や二酸化炭素(CO2)等どんな種類の気体であっても良く、単一の種類の気体でも良いし、混合気体であっても良い。また、標的材料は気体に限らず、液体であってもよし、固体であっても良い。液体の場合には液滴であっても良い。固体の場合には微粒子状であっても良い（例えば錫(Sn)や錫の化合物（例えば酸化錫(SnO2)の微粒子等。また、加熱や冷却した状態で気体，液体，固体であっても良い。
【００３７】
また、上述の実施例では、ノズルから標的材料を噴出させているが、標的材料が液体や固体微粒子の場合には自由落下であっても良い。また、ノズルからの標的材料の噴出はパルス的であっても良いし、連続的であっても良い。
上述の２つの実施例ではノズルの材料としてステンレスを用いているがこれに限るものではない。材料としてスパッターされ難い材料、例えばモリブデン(Mo)やタンタル(Ta)、タングステン(W)等を用いれば、ノズルが削られ難くなり、ノズルからの飛散粒子量が低減するので、光学素子上への付着量を少なくすることができる。
【００３８】
またノズルの材料として、使用しているＸ線に対して透過率の高い材料を用いれば、たとえ飛散粒子が光学素子上に付着したとしても、その影響（透過率や反射率の低下）を小さくできる。例えば、使用Ｘ線の波長が13nm近傍であれば、SiやZr、Moは13nmのＸ線に対して比較的透過率が高いので、ノズルの材料としてSiCやSiO2、ZrO2、Mo等を用いればよい。
【００３９】
ノズル先端位置またはその変化を知る方法は上述の２つの実施例に限らず、先に述べたような触針式のセンサーやレーザー変位センサーのような非接触の変位センサー等を用いて、ノズル先端位置の計測を行っても良い。この方法ではLPX運転中（レーザー照射中）は計測できないので、LPXの運転を一旦中止して測定を行わねばならないが、ノズル先端位置が測定器により直接求められるので、計測系が単純になる利点がある。
【００４０】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、標的材料送出部（例えばノズル）の位置又はその変化を検出する手段を有しているので、プラズマによりどれくらい標的材料出部材が削られたかを知ることができる。従って、標的材料送出部の状態を常に把握することができる。
【００４１】
また、標的材料送出部を移動する手段を有することにより、標的材料送出部の先端位置を常に初期の位置に保持することができる。その結果、LPXを長時間運転してもレーザー光集光位置における標的材料の密度や、プラズマの発生位置を常に初期状態のまま維持できるので、長期間に渡り安定してＸ線を発生させ続けることができる。
【００４２】
また、標的材料送出部の好適な位置の確認が容易であるため、新しいものに交換する際も、所定の位置に即座に保持できるの。従って、交換時間を短縮することができ、装置の運転効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】は、本発明の第１の実施例に関わるＸ線発生装置の概略図である。
【図２】は、本発明の第２の実施例に関わるＸ線発生装置の概略図である。
【図３】は、本発明の第２の実施例に関わるノズル及びフォトダイオード部を横から見た概略図である。
【図４】は、本発明に関わる別の実施の形態内容に関わる機構の概略図である。
【主要部分の符号の説明】
１００…真空容器、１０１…レーザー光、１０２…レンズ、１０３…ノズル、１０４…プラズマ、１０５…ステージ、１０６…多層膜楕円ミラー、１０７…可視光カットＸ線透過フィルター、１０８…バルブ、１０９…真空排気装置、１１０ａ，１１０ｂ…光源、１１１ａ，１１１ｂ…照明用レンズ、１１２ａ，１１２ｂ…対物レンズ、１１３ａ，１１３ｂ…ＣＣＤ、１１４ａ，１１４ｂ…減光フィルター、１１５ａ，１１５ｂ…画像メモリ（フレームメモリ）、１１６ａ，１１６ｂ…モニターテレビ、１１７…パーソナルコンピュータ、１１８…ステージコントローラ、２００…真空容器、２０１…レーザー光、２０２…レンズ、２０３…ノズル、２０４…プラズマ、２０５…ステージ、２０６…多層膜楕円ミラー、２０７…可視光カットＸ線透過フィルター、２０８…バルブ、２０９…真空排気装置、２１０…He-Neレーザー、２１１…ミラー、２１２…レンズ、２１３…レンズ、２１４…He-Neレーザービーム、２１５…フォトダイオード、２１６…パーソナルコンピュータ、２１７…ステージコントローラ、３００…ノズル、３０１…He-Neレーザービーム、３０２…フォトダイオード、３０３…プラズマ、４００…ノズル、４０１…レーザー光、４０２…ガス、４０３…プラズマ、４０４…回転導入端子、４０５…触針式変位センサー、４０６…ステージ
【図１】
0004273574.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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