(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
0004233135.tif 000047
〔式中、Ｒ1は式（II）
【化２】
0004233135.tif 000048
（式中、Ｒ2およびＲ3はメチル基またはフェニル基を示すが、一方がメチル基を示すときは他方はフェニル基である）を有する基を示す〕で表される６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体。
【請求項２】
式（III）
【化３】
0004233135.tif 000049
〔式中、Ｒ1は式ＯＺ（Ｚは水素原子、アルカリ金属または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）を有する基または式（II）
【化４】
0004233135.tif 000050
（式中、Ｒ2およびＲ3はメチル基またはフェニル基を示すが、一方がメチル基を示すときは他方はフェニル基である）を有する基を示す〕を有する６−ホルミル−１,４−べンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体を式（IV）
【化５】
0004233135.tif 000051
（式中、Ｒ4は（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ4）アルコキシ基、ベンジルオキシ基またはトリフルオロメチル基を示す）で表される化合物と反応させて式（Ｖ）
【化６】
0004233135.tif 000052
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（Ｖ）をアルコリシスに付して式（VI）
【化７】
0004233135.tif 000053
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有し、Ｒ5は（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）で表される化合物を得、得られた化合物（VI）を不斉還元に付して式（VII）
【化８】
0004233135.tif 000054
（式中、Ｒ1、Ｒ4およびＲ5は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（VII）を還元して式（VIII）
【化９】
0004233135.tif 000055
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（VIII）をジフェニルジスルフィドまたはハロゲン化剤と反応させて式（IX）
【化１０】
0004233135.tif 000056
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有し、Ｒ6はフェニルチオ基またはハロゲン原子を示す）で表される化合物を得、得られた化合物（IX）を還元して式（Ｘ）
【化１１】
0004233135.tif 000057
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（Ｘ）を加水分解することを特徴とする式（Ｉ）
【化１２】
0004233135.tif 000058
（式中、Ｒ1はＯＨ基を表す）で表される６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体の製造方法。
【請求項３】
式（III）
【化２０】
0004233135.tif 000059
〔式中、Ｒ1は式ＯＺ（Ｚは水素原子、アルカリ金属または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）を有する基または式（II）
【化２１】
0004233135.tif 000060
（式中、Ｒ2およびＲ3はメチル基またはフェニル基を示すが、一方がメチル基を示すときは他方はフェニル基である）を有する基を示す〕を有する６−ホルミル−１,４−べンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体を不斉触媒の存在下にニトロエタンと反応させて式（XV）
【化２２】
0004233135.tif 000061
（式中、Ｒ1は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（XV）を還元して式（XVI）
【化２３】
0004233135.tif 000062
（式中、Ｒ1は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（XVI）を還元することを特徴とする式（Ｉ）
【化２４】
0004233135.tif 000063
（式中、Ｒ1は前述したものと同一意義を有する）で表される６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体およびその製造方法に関する。さらに詳しくは本発明は、式（Ｉ）
【化２５】
0004233135.tif 000002
〔式中、Ｒ1は式ＯＺ（Ｚは水素原子、アルカリ金属または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）を有する基または式（II）
【化２６】
0004233135.tif 000003
（式中、Ｒ2およびＲ3はメチル基またはフェニル基を示すが、一方がメチル基を示すときは他方はフェニル基である）を有する基を示す〕で表される６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体およびその製造方法に関する。本発明の化合物（Ｉ）は糖尿病、高血糖症および肥満症に対して予防または治療効果を有する１,４−ベンゾジオキサン酸誘導体の合成中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
本発明者らは先に糖尿病、高血糖症および肥満症の予防または治療剤として有用な式（XVII）
【化２７】
0004233135.tif 000004
〔式中、Ａはアリール基または（Ｃ3〜Ｃ8）シクロアルキル基を示し、Ｒ1′およびＲ2′は同一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、（Ｃ1〜Ｃ6）アルキル基、トリフルオロメチル基、（Ｃ1〜Ｃ6）アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基またはアリール（Ｃ1〜Ｃ6）アルキルオキシ基（ここでアリール基、アルキルオキシ基またはアリール（Ｃ1〜Ｃ6）アルキルオキシ基は場合により１または２個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を示し、またはＲ1′とＲ2′とは一緒になって−ＯＣＨ2Ｏ−を示し、Ｒ3′は水素原子または（Ｃ1〜Ｃ6）アルキル基を示し、Ｒ4′は水素原子またはＣＯ2Ｒ5′（Ｒ5′は水素原子または（Ｃ1〜Ｃ6）アルキル基を示す）を示し、Ｘは式
【０００３】
【化２８】
0004233135.tif 000005
（式中、ｎは１または２を示す）を有する２価の基を示す〕で表される１,４−ベンゾジオキサン誘導体を開発し、特許出願した（ＷＯ ９６／３５６８５）。ＷＯ ９６／３５６８５には上記１,４−ベンゾジオキサン誘導体の製造方法としていくつかの製法が記載されており、その１つとして、式（XVIII）
【化２９】
0004233135.tif 000006
（式中、Ａ、Ｒ1′およびＲ2′は前述したものと同一意義を有する）を有する化合物と式（XIX）
【０００４】
【化３０】
0004233135.tif 000007
（式中、Ｒ3′、Ｒ4′およびＲ5′は前述したものと同一意義を有する）を有する化合物を反応させて上記１,４−ベンゾジオキサン誘導体を得る方法が記載されている。
【０００５】
本発明の化合物（Ｉ）において、Ｒ1が式ＯＺで、Ｚが水素原子または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基である場合、上記式（XIX）で表される化合物の一般式の定義に包含されるものであるが、ＷＯ ９６／３５６８５には本発明化合物（Ｉ）は具体的には記載されておらず、またその製造方法についても全く記載されていない。従って本発明化合物（Ｉ）は新規な化合物である。
上記１,４−ベンゾジオキサン誘導体（XVII）は３個の不斉炭素原子を有する場合、理論的に８個の立体異性体が存在する。一般にある化合物の立体異性体が他の立体異性体と生体内における挙動を異にし、その薬理作用が異なることが知られている。事実、上記化合物（XVII）においてもそのβ３作動活性が立体異性体間で最大１０００倍異なる場合があることがＷＯ ９６／３５６８５の試験例１に示されている。
【０００６】
例えば、式（XX）
【化３１】
0004233135.tif 000008
を有する（２Ｒ,２′Ｒ,２″Ｒ）−６−｛２−〔２−（３−クロロフェニル）−２−ヒドロキシエチル〕アミノ｝プロピル−２,３−ジヒドロ−１,４−ベンゾジオキシン−２−カルボン酸エチルエステル（実施例２８）のβ３作動活性は１.０×１０-10（脂肪分解モルＥＣ50値）であるのに対して、その立体異性体の１つである（２Ｓ,２′Ｓ,２″Ｒ）−６−｛２−〔２−（３−クロロフェニル）−２−ヒドロキシエチル〕アミノ｝プロピル−２,３−ジヒドロ−１,４−ベンゾジオキシン−２−カルボン酸エチルエステル（実施例３１）のβ３作動活性は１.０×１０-7（脂肪分解モルＥＣ50値）であり（ＷＯ ９６／３５６８５、第１３８頁表１参照）、その活性には１０００倍の開きがある。従ってこれらの化合物を医薬として利用する場合、最も薬理活性の強い立体異性体を高純度で効率よく製造することが望まれる。
【０００７】
ＷＯ ９６／３５６８５においては、上記化合物（XX）は、次に反応式で示すように、(Ｒ)−(−)−２−アミノ−１−（３−クロロフェニル）エタノール(XXI）を(Ｒ)−６−アセトニル−２,３−ジヒドロ−１,４−ベンゾジオキシン−２−カルボン酸メチルエステル（XXII）と反応させて化合物（XXIII）を得、化合物（XXIII）を接触還元してジアステレオ混合物（XXIV）を得、これをジtert−ブチルジカーボネートと反応させてＮ−tert−ブトキシカルボニルジアステレオ混合物（XXV）を得、この混合物をカラムクロマトグラフィー処理によりジアステレオマーを分離して化合物（XXVI）と化合物（XXVII）を得、化合物（XXVI）をエタノール中濃塩酸で処理することによって製造されている（ＷＯ ９６／３５６８５の実施例２８および製造例５８参照）。
【０００８】
【化３２】
0004233135.tif 000009
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ＷＯ ９６／３５６８５に記載の上記化合物（XX）の製造法においては、イミノ化合物（XXIII）を接触還元すると生成物はジアステレオ混合物（XXIV）として得られるのでこれを分離が容易な誘導体（XXV）に変換した後、ジアステレオマーの分離をしなければならず、また、生成物の半分が不要な立体異性体（XXVII）となってしまうという問題点がある。
そこで本発明者らは、立体異性体を分離する必要がない１,４−ベンゾジオキサン誘導体の製造方法を提供すべく、鋭意研究の結果本発明を完成するに至った。
【００1０】
【課題を解決するための手段】
本発明は第一に、式（Ｉ）
【化３３】
0004233135.tif 000010
〔式中、Ｒ1は式ＯＺ（Ｚは水素原子、アルカリ金属または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）を有する基または式（II）
【化３４】
0004233135.tif 000011
（式中、Ｒ2およびＲ3はメチル基またはフェニル基を示すが、一方がメチル基を示すときは他方はフェニル基である）を有する基を示す〕で表される６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体に関する（第一発明）。
【００１１】
本発明は第二に、式（III）
【化３５】
0004233135.tif 000012
〔式中、Ｒ1は式ＯＺ（Ｚは水素原子、アルカリ金属または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）を有する基または式（II）
【化３６】
0004233135.tif 000013
（式中、Ｒ2およびＲ3はメチル基またはフェニル基を示すが、一方がメチル基を示すときは他方はフェニル基である）を有する基を示す〕を有する６−ホルミル−１,４−べンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体を式（IV）
【化３７】
0004233135.tif 000014
（式中、Ｒ4は（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基、（Ｃ1〜Ｃ4）アルコキシ基、ベンジルオキシ基またはトリフルオロメチル基を示す）で表される化合物と反応させて式（Ｖ）
【００１２】
【化３８】
0004233135.tif 000015
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（Ｖ）をアルコリシスに付して式（VI）
【化３９】
0004233135.tif 000016
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有し、Ｒ5は（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）で表される化合物を得、得られた化合物（VI）を不斉還元に付して式（VII）
【００１３】
【化４０】
0004233135.tif 000017
（式中、Ｒ1、Ｒ4およびＲ5は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（VII）を還元して式（VIII）
【化４１】
0004233135.tif 000018
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（VIII）をジフェニルジスルフィドまたはハロゲン化剤と反応させて式（IX）
【００１４】
【化４２】
0004233135.tif 000019
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有し、Ｒ6はフェニルチオ基またはハロゲン原子を示す）で表される化合物を得、得られた化合物（IX）を還元して式（Ｘ）
【００１５】
【化４３】
0004233135.tif 000020
（式中、Ｒ1およびＲ4は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（Ｘ）を加水分解することからなる式（Ｉ）
【化４４】
0004233135.tif 000021
（式中、Ｒ1はＯＨ基を示す）で表される６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体の製造方法に関する（第二発明）。
【００１６】
本発明は第三に、式（III）
【化４５】
0004233135.tif 000022
〔式中、Ｒ1は式ＯＺ（Ｚは水素原子、アルカリ金属または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）を有する基または式（II）
【化４６】
0004233135.tif 000023
（式中、Ｒ2およびＲ3はメチル基またはフェニル基を示すが、一方がメチル基を示すときは他方はフェニル基である）を有する基を示す〕を有する６−ホルミル−１,４−べンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体を１級アミンと反応させてイミンを形成させた後、ニトロエタンと反応させて式（XI）
【化４７】
0004233135.tif 000024
（式中、Ｒ1は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（XI）を式（XII）
【００１７】
【化４８】
0004233135.tif 000025
（式中、Ｒ7およびＲ8は（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基またはフェニル基を示すが、一方がアルキル基であるときは他方はフェニル基である）で表される化合物と反応させて式（XIII）
【化４９】
0004233135.tif 000026
（式中、Ｒ1、Ｒ7およびＲ8は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（XIII）を還元して式（XIV）
【００１８】
【化５０】
0004233135.tif 000027
（式中、Ｒ1、Ｒ7およびＲ8は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（XIV）を還元に付すことからなる式（Ｉ）
【化５１】
0004233135.tif 000028
（式中、Ｒ1は前述したものと同一意義を有する）で表される６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体の製造方法に関する（第三発明）。
【００１９】
本発明は第四に、式（III）
【化５２】
0004233135.tif 000029
〔式中、Ｒ1は式ＯＺ（Ｚは水素原子、アルカリ金属または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）を有する基または式（II）
【化５３】
0004233135.tif 000030
（式中、Ｒ2およびＲ3はメチル基またはフェニル基を示すが、一方がメチル基を示すときは他方はフェニル基である）を有する基を示す〕を有する６−ホルミル−１,４−べンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体をニトロエタンと反応させて式（XV）
【００２０】
【化５４】
0004233135.tif 000031
（式中、Ｒ1は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（XV）を還元して式（XVI）
【化５５】
0004233135.tif 000032
（式中、Ｒ1は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物を得、得られた化合物（XVI）を還元することを特徴とする式（Ｉ）
【化５６】
0004233135.tif 000033
（式中、Ｒ1は前述したものと同一意義を有する）で表される６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体の製造方法に関する(第四発明)。
【００２１】
本明細書を通じて、アルカリ金属の具体例としてはリチウム、カリウムおよびナトリウムがあげられる。（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソプロピル、sec−ブチル、tert−ブチルがあげられ、アリール基の具体例としては、フェニル、α−ナフチルおよびβ−ナフチルがあげられ、（Ｃ1〜Ｃ4）アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソプロポキシ、sec−ブトキシおよびtert−ブトキシがあげられる。
【００２２】
第一発明において、式（Ｉ）を有する化合物の例としては、
６−（２−(Ｒ)−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−カルボン酸、
６−（２−(Ｒ)−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−カルボン酸メチルエステル、
６−（２−(Ｒ)−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−カルボン酸エチルエステル、
６−（２−(Ｒ)−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド、
６−（２−(Ｒ)−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｒ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド、
などがあげられる。
【００２３】
第二発明の第１工程は、化合物(III)を化合物(IV)と反応させて化合物(Ｖ)を得ることからなり、反応は溶媒の存在下または非存在下に、塩基およびカルボン酸無水物存在下に行われる。使用される溶媒としては、反応に影響を与えない限り制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル類；無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物、またはこれらの混合溶媒が用いられる。使用される塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸銀等の炭酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムプロポキシド、リチウムtert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムプロポキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルコキシド類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸塩類；水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属塩；が挙げられる。反応は好適には、無水酢酸中、塩基として酢酸ナトリウムを用い、４０℃ないし２００℃で、０.５時間ないし１２時間反応させることにより行われる。
【００２４】
第二発明の第２工程は、化合物(Ｖ)をアルコリシスに付して化合物(VI)を得ることからなり、通常アルコール溶媒中、塩基存在下に行われる。使用されるアルコールは、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等が挙げられる。使用される塩基は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸銀等の炭酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムプロポキシド、リチウムtert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムプロポキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルコキシド類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸塩類；が挙げられる。反応は、通常、氷冷下から加熱還流下に好適に行われる。反応時間は、試薬、温度、溶媒等によって異なるが通常、１時間ないし６時間である。反応は好適には、酢酸ナトリウムの存在下、メタノール溶媒中、２ないし４時間加熱還流することにより行われる。
【００２５】
第二発明の第３工程は、化合物(VI)を不斉還元に付して化合物(VII)を得ることからなり、溶媒および不斉触媒の存在下、水素添加を行うことにより行われる。使用される溶媒は、反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類；酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル類；クロロホルム、塩化メチレン、１,２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；水、またはこれらの混合溶媒が用いられる。使用される不斉触媒は、通常、対応する触媒有機金属と不斉な配位子から調製される。使用される触媒金属としては、例えばRhCl3・3H2O、〔RhCl(COD)〕2、〔RhCl(NBD)〕2、〔Rh(NBD)2〕+BF4-、〔Rh(NBD)2〕+CLO4-、〔Rh(COD)2〕+BF4-、〔Rh(COD)2〕+CLO4-等のロジウム錯体；〔RuCl2(benzene)〕2、RuCl2(SbPh3)3、〔Ru(OAc)2(COD)〕等のルテニウム錯体；イリジウム錯体等が用いられる（ここで、ＣＯＤは１,５−シクロオクタジエンを表し、ＮＢＤはノルボルナジエンを表し、ＯＡｃはアセチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。不斉配位子としては、例えば、(Ｒ,Ｒ)−ＤＩＯＰ、(Ｓ,Ｓ)−ＤＩＯＰ、(Ｒ,Ｒ)−ＤＩＰＡＭＰ、(Ｓ,Ｓ)−ＤＩＰＡＭＰ、(Ｓ,Ｓ)−ＣＨＩＲＡＰＨＯＳ、(Ｒ,Ｒ)−ＣＨＩＲＡＰＨＯＳ、(Ｓ)−ＰＲＯＰＨＯＳ、(Ｒ)−ＰＲＯＰＨＯＳ、(Ｓ)−ＰＨＥＮＰＨＯＳ、(Ｒ)−ＰＨＥＮＰＨＯＳ、(Ｒ,Ｒ)−ＮＯＲＰＨＯＳ、(Ｓ,Ｓ)−ＮＯＲＰＨＯＳ、(Ｓ,Ｓ)−ＢＰＰＭ、(Ｒ,Ｒ)−ＢＰＰＭ、(Ｒ)−ＢＩＮＡＰ、(Ｓ)−ＢＩＮＡＰ、ＣＡＭＰＨＯＳ等のホスフィン配位子が使用される（以下に、不斉配位子として使用可能な配位子の構造を記載する）。
【００２６】
【化５７】
0004233135.tif 000034
【００２７】
このとき不斉配位子は、還元される基質、および還元後の所望の絶対立体配置によって任意に選択される。還元は、通常、大気圧〜５０kgf／cm2の圧力の水素ガス下に行われる。反応温度は、１５℃〜１００℃の範囲で好適に行われる。使用される不斉触媒の量は、反応基質、温度、水素圧等により異なるが、通常基質に対して、０.０１mol％〜２mol％の範囲で好適に行われる。反応時間は、反応温度、水素圧、触媒等によって異なるが、通常、１時間ないし２４時間である。反応は、好適には、アルコール溶媒、特にメタノールまたはエタノール中で、０.１mol％〜０.２mol％の不斉触媒（〔Rh(NBD)2〕+ClO4-と(Ｒ,Ｒ)−ＤＩＰＡＭＰから調製した触媒：〔Rh(NBD)(DIPAMP)〕+ClO4-）を用い、大気圧〜１０kgf／cm2の圧力の水素ガス下で、５０℃ないし８０℃で、５時間ないし１２時間行われる。
【００２８】
第二発明の第４工程は、化合物(VII)を還元に付して化合物(VIII)を得ることからなり、通常溶媒の存在下に還元剤を用いて行われる。使用される溶媒は、反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；クロロホルム、塩化メチレン、１,２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；水、またはこれらの混合溶媒が用いられる。使用される還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム等が好適に用いられる。反応温度は、還元剤、溶媒等によって異なるが、通常−５０℃〜加熱還流下に行われる。反応時間は、反応温度、試薬等によって異なるが、通常３０分間〜２４時間である。反応は好適には、アルコール類特にメタノール、エタノールまたはイソプロパノールを溶媒とし、水素化ホウ素ナトリウムの存在下、１５〜２０時間加熱還流することにより行われるか、あるいは水素化ホウ素リチウムの存在下、１０〜３５℃で５〜６時間反応することにより行われる。
【００２９】
第二発明の第５工程は、化合物(VIII)をジフェニルジスルフィドまたはハロゲン化剤と反応させて化合物(IX)を得ることからなり、反応は通常溶媒の存在下に行われる。使用される溶媒は、反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；クロロホルム、塩化メチレン、１,２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；水、ピリジン、アセトニトリルまたはこれらの混合溶媒が用いられる。反応は、通常リン試薬の存在下に行われる。使用されるリン試薬としては、例えば、トリｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のトリアルキルホスフィン類；トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリプロピルホスファイト、トリｎ−ブチルホスファイト等のホスファイト類が挙げられる。反応は、試薬として、ジフェニルジスルフィド；あるいはヨウ素、臭素、塩素等のハロゲン化剤を用いて好適に行われる。反応は場合により、塩基を加えることができる。使用される塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸銀等の炭酸塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムプロポキシド、リチウムtert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムプロポキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルコキシド類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸塩類；ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等のピリジン類；イミダゾール等が好適に用いられる。反応温度は、通常氷冷下から加熱還流の範囲で行われる。反応時間は試薬、温度等により異なるが、通常、１時間ないし２４時間である。反応は好適には、ピリジン溶媒中、ジフェニルジスルフィド、トリｎ−ブチルホスフィンを用いて、１０℃〜４０℃で３時間ないし１８時間行われる。
【００３０】
第二発明の第６工程は、化合物(IX)を還元して化合物(Ｘ)を得ることからなり、反応は通常溶媒の存在下に行われる。使用される溶媒は、反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；クロロホルム、塩化メチレン、１,２−ジクロロエタン等のハロゲン類；水またはこれらの混合溶媒が用いられる。反応は触媒を用いた水素化条件下に行われ、使用される触媒として例えば、ラネーニッケル、パラジウム炭素、水酸化パラジウム等が用いられる。反応は水素雰囲気下で行われるか、あるいは、水素添加したラネーニッケルを用いて行われる。反応温度は、通常１０℃から加熱還流の範囲で行われ、反応時間は試薬、温度により異なるが、通常１時間ないし１０時間である。反応は、場合により大気圧から３０kgf／cm2の水素ガス下に行われる。好適には、エタノール溶媒中、水素添加したラネーニッケルを用い、６時間から８時間加熱還流することにより行われる。
【００３１】
第二発明の第７工程は、化合物(Ｘ)を加水分解して化合物(Ｉ)を得ることからなり、反応は通常含水溶媒中で行われる。反応は酸の存在下に好適に行われる。使用される酸は、反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸、硝酸のような無機酸類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸等のスルホン酸類が挙げられる。反応に使用される溶媒は水単独あるいは水と有機溶媒の混合溶媒で行われ、有機溶媒としては反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等の有機アミン類；アセトニトリル、ピリジンまたはこれらの混合溶媒が用いられる。水と有機溶媒の混合比率は、水：有機溶媒 １：９９〜９９：１（ｖ／ｖ）の範囲内で好適に行われる。反応温度は、２０℃ないし加熱還流下に行われる。反応時間は、使用される溶媒、試薬、温度により異なるが、通常１時間ないし９６時間である。反応は好適には、酢酸と水（１：１、ｖ／ｖ）の混合溶媒中、塩酸または硫酸存在下、２４時間ないし７２時間加熱還流することにより好適に行われる。
【００３２】
第三発明の第１工程は、化合物(III)を溶媒の存在下または非存在下で１級アミンと反応させてイミンを形成させた後、ニトロエタンと反応させて化合物(XI)を得ることからなる。使用される溶媒としては、反応に影響を与えない限り制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル類；またはこれらの混合溶媒が用いられる。使用される１級アミンとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミン等が挙げられる。好適には、１〜１.２当量のシクロヘキシルアミンの存在下、ベンゼンまたはトルエン中、生成する水を除去しながら２０℃ないし加熱還流下、１時間ないし１２時間反応を行うことによりイミンが形成される。形成されたイミンは、溶媒交換により酢酸溶媒中、ニトロエタンの存在下に、２０℃ないし加熱還流下に、１時間ないし１２時間反応を行い、一般式（XI）で表される化合物が製造される。
【００３３】
第三発明の第２工程は、化合物(XI)を化合物(XII)と反応させて化合物(XIII)を得ることからなり、反応は溶媒中、通常塩基の存在下に行われる。使用される溶媒としては、反応に影響を与えない限り制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル類；またはこれらの混合溶媒が用いられる。使用される塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸銀等の炭酸塩類；ナトリウムtert−ブトキシド、リチウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のtert−ブトキシド類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸塩類；水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属塩が挙げられる。反応は、好適には、エーテル類、特にテトラヒドロフラン中、化合物（XI）と水素化アルカリ金属、特に水素化ナトリウムを反応させ、アルコキシドを発生させた後、化合物（XII）を加え、０.５時間ないし１２時間反応させることにより行われる。反応温度は、好適には−９０℃ないし１０℃で行われる。
【００３４】
第三発明の第３工程は、化合物(XIII)を還元に付して化合物(XIV)を得ることからなり、触媒の存在下接触水素化を行うことにより行われる。反応は通常溶媒中で行われる。使用される溶媒は、反応に影響を与えない限り制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル類；またはこれらの混合溶媒が用いられる。反応は触媒の存在下に行われ、使用される触媒としては、例えばパラジウム−炭素、酸化白金、水酸化パラジウム、ラネーニッケル等の接触水素化触媒が用いられる。反応は、大気圧の水素ガス、あるいは中圧ないし高圧の水素ガス雰囲気下に行われるか、蟻酸塩を水素ドナーとして行われる。反応は好適にはアルコール溶媒特にメタノール、エタノール中、パラジウム−炭素触媒下、大気圧の水素ガス雰囲気下に１０℃ないし４０℃で、１時間ないし２４時間で行われる。
【００３５】
第三発明の第４工程は、化合物(XIV)を酸性条件下の還元に付して化合物(Ｉ)を得ることからなり、ベンジル位エーテル結合を還元する工程である。反応は通常酸性条件下に行われる。使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の無機酸類；酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類；ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、カンファスルホン酸等のスルホン酸類；三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックス、三塩化アルミニウム等のルイス酸；およびこれらの混合物が挙げられる。還元剤としては、通常ヒドリド還元剤、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリエチルシラン等、あるいは第３工程と同様な接触水素化による還元が行われる。使用される溶媒は、反応に影響を与えない限り制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類；酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル類；またはこれらの混合溶媒が用いられる。反応は好適には、還元剤としてトリエチルシランを用いて、トリフルオロ酢酸溶媒下に、氷冷ないし５０℃で、３０分間ないし１２時間反応を行うことにより行われる。上記第４工程を接触水素化で行う場合、上記第３工程と第４工程は、場合により同一容器内で行われる。すなわち、第３工程の反応条件において、酸を加えることにより行われる。
【００３６】
第四発明の第１工程は、化合物(III)をニトロエタンと反応させて化合物(XV)を得ることからなり、反応は通常溶媒の存在下に、不斉触媒を用いて行われる。溶媒としては反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等の有機アミン類；アセトニトリル、ピリジンまたはこれらの混合溶媒が用いられる。不斉触媒は通常、金属錯体と不斉配位子より調製される。金属錯体としては、例えば、ランタントリクロリド（ＬａＣｌ3）、ランタントリイソプロポキシド（Ｌａ(ＯｉＰｒ)3）、ネオジムトリクロリド（ＮｄＣｌ3）、ネオジムトリイソプロポキシド（Ｎｄ(ＯｉＰｒ)3）、サマリウムトリクロリド（ＳｍＣｌ3）、サマリウムトリイソプロポキシド（Ｓｍ(ＯｉＰｒ)3）、ユーロピウムトリクロリド（ＥｕＣｌ3）、ユーロピウムトリイソプロポキシド（Ｅｕ(ＯｉＰｒ)3）、ガドリニウムトリクロリド（ＧｄＣｌ3）、ガドリニウムトリイソプロポキシド（Ｇｄ(ＯｉＰｒ)3）、プラセオジムトリクロリド（ＰｒＣｌ3）、プラセオジムトリイソプロポキシド（Ｐｒ(ＯｉＰｒ)3）、プロメチウムトレクロリド（ＰｍＣｌ3）、プロメチウムトリイソプロポキシド（Ｐｍ(ＯｉＰｒ)3）等が挙げられる。不斉配位子としては、例えば(Ｒ)−ＢＩＮＯＬ、(Ｓ)−ＢＩＮＯＬ、(Ｒ)−ＢＩＮＡＰ、(Ｓ)−ＢＩＮＡＰ等が挙げられる（下記に構造を示す。ここで、ＲおよびＳは、それぞれの光学異性体の絶対立体配置を示す）。
【００３７】
【化５８】
0004233135.tif 000035
このとき不斉配位子は、反応される基質および反応後の所望の絶対立体配置によって任意に選択される。不斉配位子としてＢＩＮＯＬを用いる場合、場合により対応するＢＩＮＯＬアルコキシドより不斉錯体を調製することができる。ＢＩＮＯＬアルコキシドとしては例えば、ナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシド等が挙げられる。使用される触媒の量は反応基質、反応温度等により異なるが、通常、反応基質に対し０.０１mol％〜１０mol％である。反応は、−７０℃〜３０℃の温度範囲で好適に行われる。反応時間は、触媒種、基質、反応温度によって異なるが通常２４時間〜１６８時間である。
反応は、好適には、金属錯体としてサマリウムトリクロリド（ＳｍＣｌ3）、またはサマリウムトリイソプロポキシド（Ｓｍ(ＯｉＰｒ)3）、またはランタントリクロリド（ＬａＣｌ3）、またはランタントリイソプロポキシド（Ｌａ(ＯｉＰｒ)3）を用い(Ｓ)−ビナフトール（(Ｓ)−ＢＩＮＯＬ）を不斉配位子として用いて調製した不斉触媒を基質に対して１mol％〜５mol％を用い、テトラヒドロフラン中、−６０〜−３０℃で、６０時間〜８０時間行われる。
【００３８】
第四発明の第２工程は、化合物(XV)を還元して化合物(XVI)を得ることからなり、ニトロ基を還元する工程である。反応は触媒の存在下接触水素化を行うか、または還元剤により還元を行うか、または水素化物による還元により行う。反応は、通常溶媒の存在下に行われる。使用される溶媒としては反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；またはこれらの混合溶媒が用いられる。接触水素化を行う場合、使用される触媒としては＜例えばパラジウム−炭素、水酸化パラジウム、酸化白金、ラネーニッケル等の接触水素化触媒が用いられ、通常、大気圧から５０kgf／cm2の圧力の水素ガス下に行われる。還元剤を用いる場合、使用される還元剤としては、例えば金属ナトリウム、金属リチウム、二塩化スズ、沃化サマリウム、鉄粉、亜鉛粉等が用いられる。水素化物を用いる場合、使用される還元剤としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が用いられる。反応は、通常、−７８℃〜３０℃の範囲で好適に行われる。反応時間は試薬、温度等により異なるが、通常１時間ないし４８時間である。反応は好適には、パラジウム−炭素、または酸化白金存在下、大気圧の水素ガス下、メタノールまたはエタノール中、１５℃〜３０℃で８ないし１２時間行われる。
【００３９】
第四発明の第３工程は、化合物(XVI)を還元に付して化合物(Ｉ)を得ることからなり、反応は通常、酸存在下に還元剤により行われる。使用される酸は、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸、硝酸のような無機酸類；酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類；メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸等のスルホン酸類が挙げられる。反応に使用される溶媒は、反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；アセトニトリルまたはこれらの混合溶媒が用いられる。使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ素塩類；トリエチルシラン、トリフェニルシラン、ジフェニルシラン等のシラン類が好適に用いられる。反応温度は、２０℃ないし加熱還流下に行われる。反応時間は、使用される触媒、試薬、温度により異なるが、通常１時間ないし４８時間である。反応は好適には、トリフルオロ酢酸溶媒中、トリエチルシラン存在下、１時間ないし２４時間加熱還流することにより好適に行われる。
【００４０】
上記、第３工程は、接触水素化でも行うことができる。反応に使用される溶媒は反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；アセトニトリルまたはこれらの混合溶媒が用いられる。接触水素化を行う場合、使用される触媒としては例えば、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム、酸化白金、ラネーニッケル等の接触水素化触媒が用いられ、通常、大気圧から５０kgf／cm2の圧力の水素ガス下に行われる。反応は場合により酸の存在下に行われる。使用される酸は、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸、硝酸のような無機酸類；酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類；メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸等のスルホン酸類が挙げられる。好適には、アルコール溶媒中、パラジウム炭素触媒下、無機酸を加え、大気圧から１０kgf／cm2の圧力の水素ガス下、２０℃ないし５０℃で、１ないし２４時間反応することにより行われる。
【００４１】
上記第二〜第四発明において出発物質として使用される６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサンー２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体（III）は公知化合物であって、（±）−６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−カルボン酸と（Ｓ）−１−フェニルエチルアミンとを縮合させて、６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−〔Ｎ−（Ｓ）−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（２−Ｒ体）と６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｓ）−〔Ｎ−（Ｓ）−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（２−Ｓ体）の混合物を得、この混合物を分別結晶法により精製し、必要により加水分解することにより得られる（ＷＯ ９６／３５６８５参照）。
不要な立体異性体である上記２−Ｓ体は、塩基で処理することにより、所望の２−Ｒ体（化合物(III)）に変換することができる。
【００４２】
上記変換反応は通常、溶媒中上記２−Ｓ体を塩基で処理することにより行われる。使用される溶媒は反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等の有機アミン類；アセトニトリル、ピリジン、水またはこれらの混合溶媒が用いられ、反応は塩基の存在下に好適に行われる。使用される塩基は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸銀等の炭酸塩類；トリエチルアミン、トリｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等の有機アミン類；ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等のピリジン類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムtert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルコキシド類；１,４−ジアザビシクロ〔２.２.２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１,５−ジアザビシクロ〔４.３.０〕ノン−５−エン（ＤＢＮ）、１,８−ジアザビシクロ〔５.４.０〕ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）等のジアザビシクロ類；水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カリウム等の水素化物が挙げられる。反応は、上記２−Ｓ体に対し、１モル％当量〜３モル当量の塩基存在下に、１５℃ないし加熱還流下に行われる。反応時間は試薬、溶媒、温度等により異なるが、通常１時間ないし１５０時間である。反応は、好適にはアルコール溶媒、特にメタノールまたはエタノール中、５モル％当量ないし１モル当量のＤＢＵまたはＤＢＮ存在下、１５℃ないし加熱還流下、３時間ないし１００時間反応させることにより２−Ｓ体と２−Ｒ体のほぼ１：１の平衡混合物に達して終結する。２−Ｓ体と２−Ｒ体を分別再結晶またはシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離する。
【００４３】
糖尿病、高血糖症および肥満症の予防または治療剤として有用な前記化合物（XVII）は、本発明の化合物（Ｉ）を前記式（XVIII）
【化５９】
0004233135.tif 000036
(式中、Ａ、Ｒ1′およびＲ2′は前述したものと同一意義を有する）で表される化合物と塩基の存在下、有機溶媒中で縮合させ、化合物（Ｉ）においてＲ1がＯＺ（Ｚはアルカリ金属または（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル基を示す）を有する基または式（II）を有する基である場合は、必要により中和もしくは加水分解し、あるいはさらに所望によりエステル化することにより得られる。
【００４４】
上記縮合反応は、通常溶媒中で塩基の存在下に行われる。使用される溶媒は反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等の有機アミン類；アセトニトリル、ピリジン、水またはこれらの混合溶媒が用いられる。反応は塩基の存在下に好適に行われる。使用される塩基は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸銀等の炭酸塩類；トリエチルアミン、トリｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等の有機アミン類；ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等のピリジン類が挙げられる。反応は場合により、添加剤を加えることができる。使用される添加剤は反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、沃化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、沃化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウム、沃化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、沃化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラペンチルアンモニウム、臭化テトラペンチルアンモニウム、沃化テトラペンチルアンモニウム、水酸化テトラペンチルアンモニウム、塩化テトラヘキシルアンモニウム、臭化テトラヘキシルアンモニウム、沃化テトラヘキシルアンモニウム、水酸化テトラヘキシルアンモニウム、塩化テトラヘプチルアンモニウム、臭化テトラヘプチルアンモニウム、沃化テトラヘプチルアンモニウム、水酸化テトラヘプチルアンモニウム、塩化テトラオクチルアンモニウム、臭化テトラオクチルアンモニウム、沃化テトラオクチルアンモニウム、水酸化テトラオクチルアンモニウム等の相間移動触媒が挙げられる。反応は場合によりシリル化剤の存在下に行われる。シリル化剤としては、例えばクロロトリメチルシラン、トリメチルシリルアセタミド等が挙げられる。反応は化合物（Ｉ）に対し、１モル当量〜１０モル当量の化合物（XVIII）を使用し、化合物（XVIII）を反応の最初に全て加えるかあるいは場合により一定時間間隔で化合物（XVIII）を化合物（Ｉ）に少量ずつ加える方法により行われる。反応は、氷冷下ないし加熱還流下で行われる。反応時間は溶媒、当量���温度によって異なるが、通常１時間ないし７２時間である。反応は、好適には、化合物（Ｉ）に対し、１モル当量ないし３モル当量の化合物（XVIII）をアセトン−水（１：１、ｖ／ｖ）の混合溶媒中、塩基として炭酸カリウムを用いて２４ないし４８時間加熱還流するか、あるいは化合物（Ｉ）に対し、１モル当量ないし３モル当量の化合物（XVIII）をｎ−プロパノール−水（１：１、ｖ／ｖ）の混合溶媒中、塩基としてトリエチルアミンを用いて２４ないし４８時間加熱還流することで行われる。
【００４５】
上記加水分解または中和工程は、酸の存在下に水中または水−有機溶媒混合溶媒中で行われる。使用される酸は、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸、硝酸のような無機酸類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸等のスルホン酸類が挙げられる。反応に使用される溶媒は水単独あるいは水と有機溶媒の混合溶媒で行われ、有機溶媒としては反応に影響を与えなければ何でもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、１,４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等の有機アミン類；アセトニトリル、ピリジンまたはこれらの混合溶媒が用いられる。水と有機溶媒の混合比率は、水：有機溶媒 １：９９〜９９：１（ｖ／ｖ）の範囲内で好適に行われる。反応温度は、２０℃ないし加熱還流下に行われる。反応時間は、使用される溶媒、試薬、温度により異なるが、通常１時間ないし４８時間である。反応は好適には、酢酸と水（１：１（ｖ／ｖ））の混合溶媒中、塩酸または硫酸存在下、１２時間ないし２４時間加熱還流することにより好適に行われる。
【００４６】
【発明の実施の態様】
次に実施例および参考例を示して本発明をさらに具体的に説明する。
参考例１（出発物質の製造例）
１）６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（XXVIII）および６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（XXIX）の製造
【化６０】
0004233135.tif 000037
（±）−６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−カルボン酸と(Ｓ)−１−フェニルエチルアミンとを縮合させて標記化合物を製造した。
【００４７】
６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド：〔α〕D27＝＋１４.０°（ｃ １.０、クロロホルム）
６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド：〔α〕D26＝＋４１.３°（ｃ １.０、クロロホルム）
２）６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミドの異性化
６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（５２％ジアステレオ過剰率）のメタノール溶液に０.１モル当量の１,８−ジアザビシクロ〔５.４.０〕ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）を加え１２時間加熱還流し、６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（１２.３％のジアステレオ過剰率）を得た。ジアステレオ過剰率（de(SS)％）は、高速液体クロマトグラフィー（以下に条件を記載する）により、以下の式により算出した。
＜高速液体クロマトグラフィー条件＞
カラム：Nucleosil（ＧＬサイエンス社製シリカゲル細口径５０Å、シリカゲル平均粒径５μｍ）４.６mmφ×２５０mm
移動相：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２（ｖ／ｖ）
検出：紫外吸収 ２８０nm
流速：１.０ml／min
＜ジアステレオ過剰率＞
【数１】
0004233135.tif 000038
６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミドの紫外吸収面積値：Ａ
６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミドの紫外吸収面積値：Ｂ
６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミドのジアステレオ過剰率：de(SS)％
本実施例で、６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミドのジアステレオ過剰率が減少することはすなわち、６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｓ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミドが、６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミドへ異性化することを意味する。
【００４８】
実施例１
６−（２−メチル−２−オキサゾリン−５−オン−４−イルメチレン）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（XXX）
【化６１】
0004233135.tif 000039
６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（３０ｇ）、Ｎ−アセチルグリシン（１５ｇ）、酢酸ナトリウム（１０ｇ）、無水酢酸（３４ｇ）の混合物を１７０℃で１時間加熱した。反応液をクロロホルムに溶解して水洗した後、常法により精製し標題化合物を１９ｇ得た。
1H-NMR（重クロロホルム）δ 1.57(d, J=7Hz, 3H), 2.39(s, 3H), 4.17(dd, J=7Hz, 12Hz, 1H), 4.58(dd, J=2Hz, 12Hz, 1H), 4.77(dd, J=2Hz, 7Hz, 1H), 5.19(quint, J=7Hz, 1H), 6.72(d, J=8Hz, 1H), 7.01(d, J=8Hz, 1H), 7.02(s, 1H), 7.21〜7.31(m, 5H), 7.56(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 7.82(d, J=2Hz, 1H)；
IR(KBr) νmax cm-1 3341, 1768, 1657, 1504, 1260；
〔α〕D28＝−44.1°（c 0.11；クロロホルム）。
【００４９】
実施例２
６−(Ｚ)−（２−アセチルアミノ−２−メトキシカルボニル−１−エチレン）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（XXXI）
【化６２】
0004233135.tif 000040
６−（２−メチル−２−オキサゾリン−５−オン−４−イルメチレン）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（１９ｇ）、酢酸ナトリウム（１０ｇ）のメタノール（１００ml）懸濁液を３時間加熱還流した。反応溶媒を減圧留去し、残留物をクロロホルムに溶解して水洗した後、常法により精製し標題化合物を１８ｇ得た。
1H-NMR（重クロロホルム）δ 1.56(d, J=7Hz, 3H), 1.71(br, 0.6H), 2.14(s, 2.4H), 3.83(s, 3H), 4.11(dd, J=8Hz, 12Hz, 1H), 4.53(dd, J=2Hz, 12Hz, 1H), 4.71(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 5.18(quint, J=8Hz, 1H), 6.75(d, J=8Hz, 1H), 6.93(d, J=8Hz, 1H), 7.01(d, J=8Hz, 1H), 7.08(s, 1H), 7.20〜7.31(m, 7H)；
IR(KBr) νmax cm-1 3278, 1716, 1681, 1516, 1268；
〔α〕D28＝−7.3°（c 1.0；クロロホルム）。
【００５０】
実施例３
６−（２−(Ｓ)−アセチルアミノ−２−メトキシカルボニルエチル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（XXXII）
【化６３】
0004233135.tif 000041
６−(Ｚ)−（２−アセチルアミノ−２−メトキシカルボニル−１−エチレン）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド１４.５７ｇ、メタノール（６０ml）および別途調製した〔Ｒｈ(ＮＢＤ)(ＤＩＰＡＭＰ)〕+ＣｌＯ4-錯体−メタノール溶液（Tetrahedron、40巻、ｐ1255、1984年記載の方法に準じて調製）の混合物をオートクレーブ中にて１５kgf／cm2の水素ガス下、７０℃にて９.５時間撹拌した。反応溶媒を減圧留去後、常法により精製し標題化合物を１３.３ｇ（９２％、９３.７％de）得た。
1H-NMR（重クロロホルム）δ 1.57(d, J=7Hz, 3H), 1.99(d, 3H), 3.00(dd, J=6Hz, 14Hz, 1H), 3.07(dd, J=6Hz, 14Hz, 1H), 3.73(s, 3H), 4.09(dd, J=8Hz, 12Hz, 1H), 4.53(dd, J=2H, 12H, 1H), 4.68(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 4.83(td, J=6Hz, 8Hz, 1H), 5.18(quint, J=8Hz, 1H), 5.89(d, J=8Hz, 1H), 6.61(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 6.64(d, J=2Hz, 1H), 6.77(d, J=8Hz, 1H), 6.87(d, J=8Hz, 1H), 7.20〜7.32(m, 5H)；
IR(KBr) νmax cm-1 3341, 1732, 1654, 1536, 1272；
〔α〕D27＝＋95.4°（c 1.1；クロロホルム）。
【００５１】
実施例４
６−（２−(Ｓ)−アセチルアミノ−２−ヒドロキシプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（XXXIII）
【化６４】
0004233135.tif 000042
６−（２−(Ｓ)−アセチルアミノ−２−メトキシカルボニルエチル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド１３.６３ｇのメタノール１５０ml懸濁液に水素化ホウ素ナトリウムを加え、７０℃にて撹拌した。原料が消失した後、反応溶媒を減圧留去し残留物をクロロホルムに溶解して水洗した後、常法により精製し標題化合物を８.１３ｇ得た。
1H-NMR（重クロロホルム）δ 1.55(d, J=7Hz, 3H), 1.96(s, 3H), 2.77(d, J=7Hz, 2H), 3.52〜3.60(m, 1H), 3.60〜3.70(m, 1H), 4.08(br, 1H), 4.11(dd, J=8Hz, 12Hz, 1H), 4.52(dd, J=2Hz, 12Hz, 1H), 4.68(dd, J=2Hz, 8Hz,1H), 5.17(quint, J=8Hz, 1H), 5.76(br-d, J=8Hz, 1H), 6.74(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 6.75(s, 1H), 6.78(d, J=8Hz, 1H), 6.90(d, J=8Hz, 1H), 7.10〜7.32(m, 5H)；
IR(KBr) νmax cm-1 3325, 1646, 1536, 1308, 1260, 1131；
〔α〕D24＝＋13.1°（c 1.08；メタノール）。
【００５２】
実施例５
６−（２−(Ｓ)−アセチルアミノ−２−フェニルチオプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（XXXIV）
【化６５】
0004233135.tif 000043
６−（２−(Ｓ)−アセチルアミノ−２−ヒドロキシプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド８.８５ｇおよびジフェニルジスルフィド１４.５ｇのピリジン（６０ml）溶液を室温にて撹拌し、これに、トリ−ｎ−ブチルホスフィン１６.４mlを滴下し、室温下１３.５時間撹拌した。反応液を酢酸エチルに溶解して水洗した後、常法により精製し、標題化合物を８.４１ｇ（白色結晶）得た。
1H-NMR（重クロロホルム）δ 1.55(d, J=7Hz, 3H), 1.81(s, 3H), 2.84(d, J=7Hz, 2H), 3.00(dd, J=5Hz, 14Hz, 1H), 3.08(dd, J=5Hz, 14Hz, 1H), 4.10(dd, J=8Hz, 12Hz, 1H), 4.34(sextet, J=8Hz, 1H), 4.52(dd, J=2Hz, 12Hz, 1H), 4.68(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 5.17(quint, J=7Hz, 1H), 5.50(d, J=8Hz, 1H), 6.70(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 6.72(s, 1H), 6.78(d, J=8Hz, 1H), 6.88(d, J=8Hz, 1H), 7.15〜7.40(m, 10H)；
IR(KBr) νmax cm-1 3317, 2925, 1661, 1567, 1433, 1284；
〔α〕D28＝＋32.7°（c 1.00；クロロホルム）。
【００５３】
実施例６
６−（２−(Ｒ)−アセチルアミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド（XXXV）
【化６６】
0004233135.tif 000044
６−（２−(Ｓ)−アセチルアミノ−２−フェニルチオプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド１.０２ｇのエタノール（６０ml）懸濁液に、ラネーニッケル（Ｗ４）／エタノール懸濁液を加え、２.５時間加熱還流した。反応液をセライト濾過後、減圧留去し、残留物を常法により精製し、標題化合物を０.９４ｇ得た。
1H-NMR(重クロロホルム）δ 1.08(d, J=7Hz, 3H), 1.55(d, J=7Hz, 3H), 1.93(s, 3H), 2.60(dd, J=7Hz, 14Hz, 1H), 2.73(dd, J=7Hz, 14Hz, 1H), 4.12(dd, J=8Hz, 12Hz, 1H), 4.19(quint, J=7Hz, 1H), 4.52(dd, J=2Hz, 12Hz, 1H), 4.69(dd, J=3Hz, 8Hz, 1H), 5.18(quint, J=8Hz, 1H), 5.25(d, J=7Hz, 1H), 6.70(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 6.71(s, 1H), 6.77(d, J=8Hz, 1H), 7.20〜7.32(m, 5H)；
IR(KBr) νmax cm-1 3294, 1661, 1634, 1547, 1516, 1284；
〔α〕D27＝＋27.3°（c 3.16；クロロホルム）。
【００５４】
実施例７
６−（２−(Ｒ)−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−カルボン酸（XXXVI）
【化６７】
0004233135.tif 000045
６−（２−(Ｒ)−アセチルアミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−〔Ｎ−(Ｓ)−１−フェニルエチル〕カルボキサミド４.７６ｇの酢酸−水（５０ml−５０ml）溶液に、濃硫酸（５ml）を加え７４時間加熱還流した。反応溶媒を減圧留去し中和後、逆相中圧カラムクロマトグラフィー精製により標題化合物を２.３７ｇ得た。
1H-NMR(重水）δ 1.29(d, J=7Hz, 3H), 2.79(dd, J=8Hz, 14Hz, 1H), 2.87(dd, J=7Hz, 14Hz, 1H), 3.56(sext, J=7Hz, 1H), 4.36〜4.40(m, 2H), 4.73(dd, J=4Hz, 5Hz, 1H), 6.81(d, J=2Hz, 1H), 6.83(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 6.99(d, J=8Hz, 1H)；
IR(KBr) νmax cm-1 2933, 1590, 1514, 1407, 1280, 1101；
〔α〕D24＝＋24.1°（c 1.01；0.5規定塩酸水溶液）。
【００５５】
参考例２
６−｛〔２−(Ｒ)−（３−クロロフェニル）−２−ヒドロキシエチル〕−（２−(Ｒ)−アミノプロピル）｝−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−カルボン酸（XXXVII）の製造例
【化６８】
0004233135.tif 000046
６−（２−(Ｒ)−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−(Ｒ)−カルボン酸１.０ｇのアセトニトリル−水（２０ml−１０ml）の懸濁液に(Ｒ)−ｍ−クロロスチレンオキシド（０.６５ml、日東化学社製）、トリエチルアミン（１.８ml）を加え、１５.５時間加熱還流を行った。反応溶媒を減圧留去後、残渣を逆相中圧クロマトグラフィーにて精製し標題化合物を０.５７ｇ（収率；３５％）得た。
1H-NMR(重クロロホルム）δ 0.87(d, J=6Hz, 3H), 2.02(t, J=12Hz, 1H), 2.43(dd, J=2Hz, 12Hz, 1H), 2.84(t, J=12Hz, 1H), 3.05〜3.14(m, 2H), 4.16(dd, J=3Hz, 12Hz, 1H), 4.50(dd, J=2Hz, 12Hz, 1H), 4.68(t, J=2Hz, 1H), 5.13(dd, J=2Hz, 10Hz, 1H), 6.34(dd, J=2Hz, 8Hz, 1H), 6.44(d, J=2Hz, 1H), 6.75(d, J=8Hz, 1H), 7.30〜7.38(m, 3H), 7.47(s, 1H)。
【００５６】
【発明の効果】
本発明によれば、６−（２−（Ｒ）−アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体（Ｉ）およびその製造方法が提供される。本発明の化合物（Ｉ）は、糖尿病、高血糖症および肥満症に対して予防または治療効果を有する６−（２−（Ｒ）−置換アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体の合成中間体として有用である。
【００５７】
本発明の化合物（Ｉ）は６−ホルミル−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体（III）から立体選択的に製造され、本発明の化合物（Ｉ）を（Ｒ）−スチレンオキシド誘導体と反応させることにより、従来公知の方法とは異なって立体異性体の分離の工程を要することなく上記目的化合物を製造することができ、また、出発物質（III）は光学分割が容易でありしかも不要な方の立体異性体を所望の立体異性体に変換することも容易である。従って本発明の化合物（Ｉ）を合成中間体として利用すると、上記６−（２−（Ｒ）−置換アミノプロピル）−１,４−ベンゾジオキサン−２−（Ｒ）−カルボン酸誘導体を工業的に有利に製造することができる。