(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）熱可塑性ポリオレフィンからなるベース成分、
（ｂ）組成物の総質量に基づき１ないし３０重量％の、メタクリレートグラフトしたポ  リブタジエンを含む少なくとも１種の放射線重合性成分、および
（ｃ）組成物の総質量に基づき０．０１ないし５重量％の、少なくとも１種の光開始剤からなる増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン組成物。
【請求項２】
さらに０．１ないし３０重量％の量の充填剤（ｄ）を含んでなる、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
フェノール性酸化防止剤、ホスフィット、ヒドロキシルアミン、立体障害アミン、ＵＶ吸収剤およびそれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも１種の安定剤（ｅ）をさらに含む、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
増大した表面耐久性を有する硬化した熱可塑性ポリオレフィン組成物を提供する方法であって、
（１）（ａ）熱可塑性ポリオレフィンベース成分、
（ｂ）組成物の総質量に基づき１ないし３０重量％の、メタクリレートグラフトしたポリブタジエンを含む少なくとも１種の放射線重合性成分、および
（ｃ）組成物の総質量に基づき０．０１ないし５重量％の、少なくとも１種の光開始剤からなる熱可塑性ポリオレフィン組成物を製造すること、および
（２）該熱可塑性ポリオレフィン組成物の表面を放射線に暴露し、それにより増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン組成物を提供すること
からなる方法。
【請求項５】
本願請求項１に記載の熱可塑性ポリオレフィン組成物から製造された成形品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、優れた耐擦傷性、耐引掻性、耐摩滅性および耐摩耗性を有する熱可塑性ポリオレフィン材料（“ポリオレフィン”）、およびその中の不飽和ポリオレフィンを架橋するための放射線への暴露による該ポリオレフィン材料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ポリオレフィンは、その強度、耐環境性および成形適性のために、広範囲の用途において有用である。多くのポリオレフィンは、それらの表面上について、引掻、擦傷、摩耗または他の方法で容易に損傷され過ぎる。これらの表面性質は、様々な方法において測定され得る。例えば、耐引掻性は、球状チップを有する引掻針をポリオレフィンまたは他の材料表面中に一定の荷重下で垂直に針入れすることによって測定され得る。針は、その後、一定速度で水平に移動され、そしてあらゆる形成された引掻傷の幅および／または深さが測定される（例えば、Ｔ．Ｎｏｍｕｒａ等、Ｊ．  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．  ５５：１３０７−１３１５（１９９５）を見よ。）。一般に、これらの表面性質を改良し、引掻、擦傷、摩滅、摩耗等を減少させることによって、ポリオレフィンの実用寿命を増大することが望ましい。
【０００３】
表面性質を増大するための一つの慣用の方法は、無機粒状材料、例えば様々なシリカを使用することである。しかしながら、これらの粒子の均一な分散を達成することは困難であり、そしてこれはそのような生成物において不均一な表面特性を生じる。これらの粒子の使用は、また、ポリオレフィンの他の望ましい物理的特性に損害を与える傾向があり、衝撃強度、靭性、加工性等の損失を生じる。
【０００４】
あるポリオレフィンに増大した表面性質を与えるより有効な慣用の方法は、合衆国特許第４９２１６６９号において開示されている。この特許は、艶出しロールスタックを通して押出された熱可塑性合成樹脂のウェブを通すことであって、該ロールの少なくとも一つは、ロールからウェブ表面に転写される耐引掻性被覆を形成する材料のフィルムをその上に有することを開示する。ポリオレフィンの表面性質を増大することのそのような慣用の方法は、高価で大型であり、またポリオレフィン生成物の加工時間を増加する装置を必要とする。
【０００５】
ポリオレフィンの表面特性を増大する他の方法は、合衆国特許第４０００２１６号において記載され、熱可塑性ポリマーと少なくとも１種のモノエチレン性不飽和モノマーからなる該熱可塑性ポリマーのための表面改変剤との押出可能な、成形可能なまたは熱形成可能なブレンドであって、該表面改変剤は１ないし３０ミクロンの平均寸法を有する架橋ポリマー粒子を有するブレンドを開示する。表面改変剤は、好ましくはエンド重合によって製造され、改変される相溶性ポリオレフィンと共に使用される。
【０００６】
様々な成形物の表面性質を増大するための他の慣用の方法は、成形物にアクリルポリマーまたは被覆を塗布し、そして引き続いてポリマーまたは被覆を放射線源、例えば紫外線（“ＵＶ”）で硬化することである。以下の特許は、そのような慣用の“被覆の塗布および硬化”法および組成物の様々な例を記載している。
【０００７】
合衆国特許第４１５３５２６号および第４０３９７２０号は、飽和ポリビニルアセタールフィルムおよび光開始剤をガラスの層に積層し、そしてフィルムをＵＶで照射し、架橋を開始し、そして改良された溶媒耐摩耗性を与えることによって製造される安全ガラスを開示している。
【０００８】
合衆国特許第４２２７９７９号は、１種またはそれ以上のアミドアクリレート化合物を含む放射線硬化性被覆組成物であって、耐擦傷性保護用かつ化粧用のフィルム被覆を形成する組成物を開示している。
【０００９】
合衆国特許第４２５５３０３号は、エチレンポリマーおよびポリマー１００重量部当りタルク少なくとも１０重量部を含む被覆電子用途のための組成物であって、該タルクが８ないし２０個の炭素原子を有する脂肪酸の金属塩の少なくとも１種で被覆されている組成物を開示している。エチレンポリマーは、高エネルギー電子線での照射または化学硬化剤、例えば有機過酸化物によって硬化され得る。
【００１０】
合衆国特許第４３７１５６６号は、多くの基材への塗布のための化学線硬化性被覆組成物であって、ペンタエリトリトールベースのポリアクリレートまたはポリメタクリレート、例えばペンタエリトリトールテトラアクリレート、塩化ビニル−酢酸ビニル含有ポリマー、および光開始剤を有し、好ましくは溶液の噴霧によって基材上に塗布される組成物を開示している。
【００１１】
合衆国特許第４４７８８７６号は、固体基材を、耐摩耗性シリコン硬質被覆であって、ＵＶ暴露で不活性雰囲気、例えば大気下で硬化可能な被覆で塗布する方法を開示している。該組成物は、ＵＶ架橋性多官能性アクリレートモノマー、コロイドシリカの形態でのＳｉＯ2 、およびアクリルオキシ官能性シラン並びにケトン型と光開始剤との選択されたブレンドを含む。
【００１２】
合衆国特許第４８１４２０７号は、耐引掻性および耐候性フィルム被覆を成形された成形物に塗布する方法であって、成形物に、少なくとも二つの重合成オレフィン結合を有する遊離ラジカル重合性モノマーと、１００℃で２分より短い半減期を有する過酸化物開始剤と、紫外線安定剤との混合物の薄いフィルムを塗布し、そしてフィルムを７０℃より高い温度への加熱によって硬化することによる方法を開示している。
【００１３】
合衆国特許第４９０２５７８号は、熱可塑性基材のための放射線硬化性被覆であって、多官能性アクリルモノマー、モノ−、ジ−またはトリ官能性アクリルモノマー、熱可塑性またはエラストマーポリマー、および光開始剤を有する被覆を開示している。
【００１４】
合衆国特許第５００６４３６号は、ＵＶ硬化性で水性アルカリ現像可能なハンダマスク組成物であって、熱で遊離ラジカルを発生させることができる熱遊離ラジカル開始剤、および遊離ラジカルによって熱架橋され、実質的に完全に硬化した被覆を与えることができる多不飽和化合物を有する組成物を開示している。
【００１５】
合衆国特許第５３１６７９１号は、被覆されたプラスチック基材の耐衝撃性を改良する方法であって、下塗層として水性ポリウレタン分散液を塗布すること、該層を風乾によって部分的に硬化すること、該下塗層の上に被覆組成物を塗布すること、および該被覆組成物を硬化し、耐摩耗性硬質被膜を形成することによる方法を開示している。
【００１６】
合衆国特許第５３８２６０４号は、架橋接着組成物であって、少なくともいくつかのエポキシ官能基を通してＵＶ線によって架橋されたエポキシ化ジオレフィンブロックコポリマーを有する組成物を開示している。
【００１７】
合衆国特許第５５５８９１１号は、成形物を、被覆される基材に塗布されるポリマーを有する粉体塗料で塗布する方法であって、ポリマーを融解すること、およびＵＶ線によって架橋することの方法を開示している。
【００１８】
合衆国特許第５５９１５５１号は、リソグラフィー被覆およびその方法であって、成形物の表面の少なくとも一部を放射線架橋性ポリマーで被覆すること、およびそれを画像を形成するための放射線の型に暴露する方法を開示している。ポリマーは炭素原子数４ないし７のイソオレフィンおよびパラアルキルスチレンのコポリマーであることが開示されている。
【００１９】
合衆国特許第５６１８５８６号は、被覆としての自己架橋性フィルム形成組成物並びに着色ベースコートおよび透明トップコートを有する多層被覆された成形物を製造する方法であって、該組成物は、Ｎ−アルコキシメチル（メタ）アクリルアミドと少なくとも１種の他のエチレン性不飽和モノマーとの遊離ラジカル開始された反応生成物である非ゲル化添加ポリマーを含むところの方法を開示している。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
これらの慣用の硬化性生成物は、一般に、いくつかの工程、特に製造された生成物をＵＶ硬化性被覆で被覆または有効に積層することが必要とされる。しかしながら、さらなる処理工程、例えば成形物を硬化性組成物で被覆または積層することなしに硬化されることができる独立したポリオレフィン組成物を提供することが有利である。従って、そのような生成物、好ましくは増大した表面耐久性を有するものを生成することが望まれる。本発明は、この必要を満足する新規ポリオレフィン組成物を提供する。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（ａ）熱可塑性ポリオレフィンからなるベース成分、（ｂ）放射線硬化されたとき熱可塑性ポリオレフィンベース成分の表面耐久性を増大する量で存在する、少なくとも１種の放射線重合性成分、および（ｃ）熱可塑性ポリオレフィン組成物の放射線への暴露で放射線重合性成分の架橋を開始するに十分な量で存在する、少なくとも１種の光開始剤を含む、増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン組成物に関する。
【００２２】
ある態様において、ポリオレフィン組成物は、また、０．１ないし３０重量％の量の充填剤（ｄ）をも含む。好ましい態様において、充填剤は炭酸カルシウム、クレイ、タルク、雲母、ガラス、酸化亜鉛、ウォラストナイト、シリカ、二酸化チタン、またはそれらの混合物を含む。
【００２３】
他の態様において、熱可塑性ポリオレフィンベース成分は、放射線暴露の前にまたは続いて熱処理される。熱処理は、強度において２５℃ないし１５０℃に変化することができ、また期間において数分ないし数日（例えば、２分ないし４８時間）に温度および所望の硬化度に依存して変化し得る。さもなくば、ベース成分は、期間の長さが所望の物理的特性に依存して変化し得る、一連の熱および放射線に交互に供されることができる。
【００２４】
組成物は、熱可塑性ポリオレフィンベース成分の環境崩壊を予防し、光開始された表面架橋と実質的に干渉することのない光酸化安定剤を含み得る。
【００２５】
熱可塑性ポリオレフィンベース成分（ａ）は、結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィンと非晶質ポリ−α−オレフィンとのブレンドを含み得る。好ましい態様において、熱可塑性ポリオレフィンベース成分は、半結晶性ポリプロピレンと、ポリ−α−オレフィンとの共重合された非晶質エチレンとのブレンドを含む。他の態様において、非晶質ポリ−α−オレフィンは、非晶質エチレンおよび少なくとも１種のジエンを含む。一般に、熱可塑性ポリオレフィンベース成分は、組成物の約９９ないし５５重量％の量で存在する。好ましい態様において、熱可塑性ポリオレフィンベース成分は、組成物の約９５ないし６５重量％で存在する。
【００２６】
放射線重合性成分（ｂ）は、不飽和ポリオレフィンを含み得る。好ましい態様において、不飽和ポリオレフィンは、エチレン、プロピレンおよびジエンターポリマー、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン性ポリマー、エチレンおよびプロピレンコポリマー、またはそれらの混合物を含む。典型的に、放射線重合性成分は、熱可塑性ポリオレフィン組成物の約１ないし３０重量％の量で存在する。
【００２７】
光開始剤（ｃ）は、ベンゾインおよびベンゾインエーテル誘導体、ベンジルケタール誘導体、α，α−ジアルキルオキシアセトフェノン誘導体、α−アミノアルキルフェノン誘導体、α−ヒドロキシアルキルフェノン誘導体、モノ−、ビス−またはトリスアシルホスフィンオキシド、モノ−、ビス−またはトリスアシルホスホスフィンスルフィド、フェニルグリオキサレート誘導体、Ｏ−アシル−２−オキシイミノケトン誘導体、ベンゾフェノンおよびその誘導体、ミヒラーケトンおよびその誘導体、チオキサントンおよびその誘導体、並びにそれらの混合物、および上記の型のポリマー結合化合物の全てのうちのいずれか１種であり得る。好ましい態様において、光開始剤は、ベンジルケタール誘導体およびモノ−またはビスアシルホスフィンオキシドから選択される。光開始剤は、典型的に、組成物の０．０１ないし５重量％の量で存在する。１種の光開始剤を単独で使用することが可能であるが、しかしまた光開始剤の混合物も、所望により素早い架橋を容易にする促進剤と共に使用され得る。
【００２８】
本発明はまた、（１）（ａ）熱可塑性ポリオレフィンベース成分、（ｂ）放射線硬化されたとき熱可塑性ポリオレフィン成分の表面耐久性を増大するに十分な量における、少なくとも１種の放射線重合性成分、および（ｃ）熱可塑性ポリオレフィン組成物が放射線に暴露されるとき放射線重合性成分の架橋を容易にするに十分な量における、少なくとも１種の光開始剤からなる混合物を製造すること、および（２）少なくとも暴露された表面で放射線重合性成分を架橋するに十分な量において、熱可塑性ポリオレフィン組成物の表面を放射線に暴露し、それによって増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン組成物を提供することによる、増大した表面耐久性を有する硬化した熱可塑性ポリオレフィン組成物を提供する方法に関する。
【００２９】
ある態様において、放射線は、紫外線、電子線、ガンマ線、可視光線、マイクロ波、赤外線、もしくは熱放射線、またはそれらの混合に選択される。他の態様において、放射線は、０．１Ｊ／ｃｍ2 およびそれ以上の出力でかつ２００ないし５００ｎｍの波長で与えられる。
【００３０】
好ましい態様において、熱可塑性ポリオレフィンベース成分（ａ）は、結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィンと非晶質ポリ−α−オレフィンとのブレンドに選択され、放射線重合性成分（ｂ）は、組成物の約０．０１ないし２０重量％で存在する不飽和ポリオレフィンに選択され、光開始剤（ｃ）は、組成物の約０．１ないし５重量％で存在するモノ−、ビス−またはトリスアシルホスフィンオキシドに選択され、そして充填剤（ｄ）が混合物に添加される。方法は、さらに、組成物の表面を放射線に暴露する前に、熱可塑性ポリオレフィン組成物を所望の形状に成形することを含む。
【００３１】
本発明は、また、上記の方法によって形成された増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン組成物にも関する。ある態様において、組成物は、照射後の表面耐引掻性が、硬化後、ソルベイ（Ｓｏｌｖａｙ）尺度（以下の定義を見よ。）に基づいて１．５またはそれより低い等級を有するように重合した成分を含む外側表面を有する。
【００３２】
増大した表面耐久性を有するポリオレフィン組成物、およびその製造方法は、今や有利に発見された。本発明のポリオレフィン組成物は、（ａ）熱可塑性ポリオレフィンベース成分、（ｂ）放射線重合性成分、および（ｃ）光開始剤を、望ましい性質を有する最終生成物を作り出すために使用される１種またはそれ以上の所望による充填剤（ｄ）と一緒に含む。本発明は、ポリオレフィン組成物から製造される成形された成形物の表面の近傍に架橋を優先的に導入することにより、表面変形および回復の機構に影響を与えると考えられている。従って、本発明に従うポリオレフィン組成物は、優れた耐久性および擦傷、引掻、摩滅、摩耗およびその他の表面損傷への耐性を、扱いにくい被覆型方法の必要なく示す。
【００３３】
用語“熱可塑性ポリオレフィン組成物”または“ポリオレフィン組成物”は、１種またはそれ以上の結晶性または半結晶性オレフィンポリマー、例えばポリエチレン、ポリプロピレンまたは他の炭素原子数５ないし２０のオレフィンを含むあらゆる組成物を含むことを意図する。そのようなオレフィンの結晶性は、３０ないし１００％の範囲で変化することができる。これらのポリマーの混合物は、同様に本発明の一部として考慮される。そのようなポリオレフィン組成物中に典型的に含まれることができる他の成分は、炭素原子数３ないし２０の非晶質ポリマーであって、単独でまたは２種の異なるオレフィンのコポリマーもしくは３種の異なるオレフィンのターポリマーとして使用されるものを含むことができる。そのような非結晶成分は、典型的に、ポリオレフィン組成物の低温耐衝撃性または彩色適性特定を増大するために添加される。例えば、合衆国特許第４９４５００５号、第４９９７７２０号および第５４９８６７１号のポリマー組成物が、本発明におけるポリオレフィン成分（ａ）として使用されることができる。
【００３４】
本発明のポリオレフィン組成物は、照射下で架橋できる１種またはそれ以上の不飽和ポリオレフィンと架橋しないが、相溶性を有する１種またはそれ以上のポリオレフィンからなるあらゆる熱可塑性ポリオレフィンベース成分を含み得るけれども、ポリオレフィンベース成分は好ましくはポリオレフィン、より好ましくは結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィンと非晶質ポリ−α−オレフィンとのブレンド、そして最も好ましくは半結晶性プロピレンホモポリマーまたは他のポリ−α−オレフィンとのコポリマーと、エチレンの他のポリ−α−オレフィンまたはジエンとの非晶質コポリマーまたはターポリマーとのブレンドである。あらゆるジエンがコ−またはターポリマーにおける使用のために適しているけれども、好ましくはジエンはエチリジンノルボルネン、ジシクロペンタジエン、またはヘキサジエンである。最も好ましいポリオレフィンベース成分は、ポリ−α−オレフィンのエチレンコポリマーとブレンドされた半結晶性ポリプロピレンを含む。
【００３５】
本発明において使用される用語“ポリ−α−オレフィン”は、１ないし２０個の炭素原子、好ましくは１ないし１０個の炭素原子からなり、第一と第二炭素原子の間に二重結合を有するアルケンを意図する。ポリオレフィン成分は、ベース成分、即ち、組成物中で支配的な成分であり、また本明細書で記載される放射線下で架橋できないものである。ベース成分は、典型的に、組成物の約９９ないし５５重量％、好ましくは組成物の約９５ないし６５重量％、そしてより好ましくは組成物の約９０ないし７０重量％の量で存在する。ポリオレフィン成分、またはポリオレフィンベース成分は、一般に、放射線重合性成分、光開始剤およびあらゆる所望による充填剤を組み合わせた後のポリオレフィン組成物の残余である。
【００３６】
ポリオレフィンベース成分のポリオレフィンは、少なくとも約３０％の結晶性を有するとき半結晶性であると考慮され、一方、Ｘ線回折によって決定される７０ないし１００％の結晶化度を有する完全な結晶性材料もまた適している。ポリプロピレンが選択されたオレフィンであるとき、３０ないし９８％の結晶化度が十分な結晶性挙動を達成するために満足であるけれども、６０ないし７０％が好まれ、非晶質ポリオレフィンは、典型的に、３０％以下の結晶化度を有する。ポリオレフィンの平均分子量は、典型的に、１００００ないし３００００、より典型的に、５００００ないし１５００００である。異なる分子量のポリマーのブレンドは、所望により利用され得る。
【００３７】
増大された表面耐久性のポリオレフィン組成物は、また、放射線重合性成分（ｂ）および光開始剤（ｃ）をも含む。放射線重合性成分（ｂ）は、典型的に不飽和ポリオレフィンである。不飽和ポリオレフィンは、その共有結合の少なくとも約１％が不飽和であるべきであることを除いて、ポリオレフィン成分について本明細書で記載されたあらゆる適したポリオレフィンであり得る。放射線重合性成分においてより大きな不飽和度を有することが好ましく、それは放射線に暴露されたときより多くかつより素早い架橋を生じ、またポリオレフィン組成物の表面性質をより大きな程度で最大限に増大する。不飽和ポリオレフィンは、例えば、エチレン、プロピレンおよびジエンターポリマー、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン性ポリマー、またはそれらの混合物等である。しかしながら、好ましくは、放射線重合性成分はエチレンα−オレフィンコポリマー、そしてより好ましくはエチレンおよびプロピレンのコポリマーである。放射線重合性成分は、放射線硬化されたときポリオレフィン組成物の表面耐久性を増大させるに十分な量で存在する。放射線重合性成分は、ポリオレフィン組成物の好ましくは約１ないし３０重量％、より好ましくは約５ないし２０重量％、そして最も好ましくは約１０ないし１５重量％において存在する。
【００３８】
ポリオレフィン組成物はまた、照射されたときポリオレフィン組成物の硬化を容易にするための光開始剤（ｃ）、または遊離ラジカル開始剤をも含む。光開始剤は、放射線重合性成分を架橋するために遊離ラジカル開裂を開始することができるあらゆる化合物を含み得る。適した光開始剤は典型的に、ベンゾインおよびベンゾインエーテル誘導体、ベンジルケタールおよびその誘導体、α、α−ジアルキルオキシアセトフェノン誘導体、α−アミノアルキルケトン誘導体、α−ヒドロキシアルキルケトン誘導体、モノ−またはビス−またはトリスアシルホスフィンオキシド、モノ−またはビス−またはトリスアシルホスフィンスルフィド、フェニルグリオキシレート誘導体、Ｏ−アシル−２−オキシイミノケトン誘導体、ベンゾフェノンおよびその誘導体、ミヒラーケトンおよびその誘導体、チオキサントンおよびその誘導体、および上記の型のポリマー結合化合物の全て等を含む。特別な光開始剤は、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド、２−ベンジル−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパノ−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパノンおよび１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンを含むことができる。好ましい光開始剤は、ベンジルケタール誘導体およびアシルホスフィンオキシドの型のものまたはそれらの混合物である。光開始剤は、典型的に、ポリオレフィン組成物が放射線に暴露されたとき、放射線重合性成分の架橋を開始するに十分な量で存在する。好ましくは、光開始剤は、ポリオレフィン組成物の約０．０１ないし５重量％、より好ましくは約０．０５ないし４重量％、そして最も好ましくは約０．１ないし３重量％の量で存在する。好ましくは、十分素早い挙動においてポリオレフィン組成物を硬化するに必要な最小の光開始剤の量が用いられる。
【００３９】
充填剤（ｄ）は、所望により、本発明のポリオレフィン組成物に含まれ得る。炭酸カルシウム、クレイ、タルク、雲母、ウォラストナイト、ガラス、シリカ、酸化亜鉛、二酸化チタン等は、全て、ポリオレフィンと共に使用するために適した充填剤である。最も適当な充填剤は、典型的に、最終ポリオレフィン生成物における所望の特質に依存して選択され、そしてそのような充填剤の選択は当業者によって容易に達成される。充填剤は、典型的に、ポリオレフィン組成物の約１ないし３０重量％、そして好ましくは５ないし１５重量％の量で存在する。
【００４０】
ポリオレフィン組成物を製造するために、（ａ）ポリオレフィン成分、（ｂ）少なくとも１種の放射線重合性成分、（ｃ）少なくとも１種の光開始剤、および（ｄ）あらゆる所望による充填剤が、硬化性組成物を形成するために組み合わされる。様々な成分が典型的に混合され、そして放射線重合性成分、光開始剤、およびポリオレフィン成分は、好ましくは、実質的に均一に分散される。
【００４１】
ポリオレフィン組成物は、また、混合の間、機械的処理の間および意図される最終使用用途の間であって、高められた温度への暴露または太陽光またはその双方を含むものへの安定性を組成物に与えるために、１種またはそれ以上の安定剤を含むこともできる。本発明の安定剤は、例えば、以下のものから選択される。
【００４２】
１．  酸化防止剤
１．１．  アルキル化モノフェノール、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、
２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、
２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、
２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
直鎖または側鎖において分岐鎖であるノニルフェノール、例えば、
２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよびそれらの混合物。
【００４３】
１．２．  アルキルチオメチルフェノール、例えば、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、
２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００４４】
１．３．  ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、
２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、
２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００４５】
１．４．  トコフェロール、例えば、
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、
δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）。
１．５．  ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、
２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、
４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、
４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００４６】
１．６．  アルキリデンビスフェノール、例えば、
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、
２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、
４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、
ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、
２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
１，１，５，５−テトラキス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００４７】
１．７．  Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば、
３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、
オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、
トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、
トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、
ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、
イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００４８】
１．８．  ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、
ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００４９】
１．９．  芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００５０】
１．１０．  トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００５１】
１．１１．  ベンジルホスホネート、例えば、
ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
１．１２．  アシルアミノフェノール、例えば、
４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、
オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００５２】
１．１３．  β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、
アルコール例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、
ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、
ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、
３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５３】
１．１４．  β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、
アルコール例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、
ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、
ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、
３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５４】
１．１５．  β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、
アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、
３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５５】
１．１６．  ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、
アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、
３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、
トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５６】
１．１７．  β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
１．１８．  アスコルビン酸またはその誘導体、例えば
アスコルビン酸の塩またはエステル、例えば、
アスコルビルパルミテート、ジパルミテートＬ−アスコルベート、
ナトリウムＬ−アスコルベート−２−スルフェート、または
ナトリウム、カリウムおよびカルシウムのようなアスコルビン塩、または
それらの混合物。
【００５７】
１．１９．  アミン酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、
４−イソプロポキシジフェニルアミン、
Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、
Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、
Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、
オクチル化ジフェニルアミン、例えば
ｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、
４−ｎ−ブチルアミノフェノール、
４−ブチリルアミノフェノール、
４−ノナノイルアミノフェノール、
４−ドデカノイルアミノフェノール、
４−オクタデカノイルアミノフェノール、
ビス（４−メトキシフェニル）アミン、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、
２，４’−ジアミノジフェニルメタン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、
１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、
１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、
（ｏ−トリル）ビグアニド、
ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、
第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、
モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、
２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、
フェノチアジン、
モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、
モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、
Ｎ−アリルフェノチアジン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、
Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、
２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、
２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【００５８】
２．  ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１．  ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェノール］、
２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物、
次式［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ−ＣＨ2 ＣＨ2 −］2 −［式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表す。］で表されるもの。
【００５９】
２．２．  ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、
４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、
４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００６０】
２．３．  置換および未置換安息香酸のエステル、例えば、
４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、
オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、
ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、
ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００６１】
２．４．  アクリレート、例えば、
エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、
メチルα−カルボメトキシシンナメート、
メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、
ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよび
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００６２】
２．５．  ニッケル化合物、例えば、
２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのようなさらなる配位子を伴うまたは伴わないもの、
ニッケルジブチルジチオカルバメート、
４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル塩、
ケトキシムのニッケル錯体、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシム、
１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、さらなる配位子を伴うまたは伴わないもの。
【００６３】
２．６．  立体障害アミン、例えば、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよびコハク酸の縮合生成物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、
１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、
３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、
８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、
１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ  Ｒｅｇ．  Ｎｏ．  ［１３６５０４−９６−６］）、
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカン、
７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンおよびエピクロロヒドリンの反応生成物。
【００６４】
２．７．  オキサミド、例えば、
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、
２，２’−ジエトキシオキサニリド、
２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、
２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、
２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、
２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド、および
その２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、および
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、および
ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００６５】
２．８．  ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【００６６】
３．  金属奪活剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、
Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、
オキサニリド、
イソフタロイルジヒドラジド、
セバコイルビスフェニルヒドラジド、
Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００６７】
４．  ホスフィットおよびホスホナイト、例えば、
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、
ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、
ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
トリステアリルソルビトールトリホスフィット、
テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【００６８】
５．  ヒドロキシルアミン、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、
水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００６９】
６．  ニトロン、例えば、
Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、
Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、
Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、
Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、
Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、
水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００７０】
７．  チオ相乗剤、例えば、
ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピネート。
８．  過酸化物捕捉剤、例えば、
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、
メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、
亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、
ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００７１】
９．  塩基性補助安定剤、例えば、
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、
ポリアミド、ポリウレタン、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えば
カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、
マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレートおよび
カリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたは
錫ピロカテコレート。
【００７２】
１０．  その他の添加剤、例えば、
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。
【００７３】
１１．  ベンゾフラノンおよびインドリノン、例えば、
ＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４、
ＵＳ−Ａ−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２、
ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１、
ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６、
ＥＰ−Ａ−０５８９８３９もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２
において開示されるもの、または
３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、
５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、
３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、
５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、
３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、
３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
【００７４】
熱可塑性ポリオレフィン組成物中の補助安定剤の濃度は、通常、組成物の０．１ないし５重量％である。
ポリオレフィン組成物は、その後、例えば射出成形、補助射出成形、吹込成形、押出等のような様々な慣用の手段のによって所望の生成物に好ましく成形される。当業者は、本発明によって容易に製造される広範囲の有用で望ましい生成物であって、電極製造または絶縁材のような電気部品、様々な材料の表面処理、および自動車部品を含む生成物を計画することができる。様々な用途は単に自動車分野において有用であることができるけれども、それらは様々な他の分野の試みに適用される。内装および外装の自動車用途、例えばインストルメントパネル、熱成形スキン、バンパーフェイシア、クラッド、並びに他の内装および外装トリム部品は、本発明のための優れた耐久性を有して容易に製造されることができる。
【００７５】
その未硬化状態においてポリオレフィン組成物は、組成物を照射に供することによって硬化される。放射線重合性成分架橋は、遊離ラジカルを生成することができる電離線、例えばガンマ線、ＵＶ、電子線、可視光線、マイクロ波または赤外線の放射線源により開始される。１種以上の型の放射線が使用され得るけれども、これは、典型的には、費用問題のために避けられる。好ましくは、ＵＶまたは電子線が硬化処理のために使用される。
【００７６】
例えば、放射線源としてＵＶ線が使用されるとき、硬化処理は、ＵＶ光を配合された生成物上に向ける少なくとも一つのＵＶランプを必要とする。これらのＵＶランプは、アーク光であって、中圧水銀ランプおよび高圧キセノンランプを含むもの、またはレーザー光のいずれかを与え得る。使用される光開始剤および光開始剤混合物は、光開始剤がＵＶエネルギーを吸収できるように、ＵＶランプの発光スペクトルと少なくとも部分的に重なる吸収スペクトルを有しなければならない。光開始剤は、樹脂または放射線重合性成分を、硬化した（架橋した）形態に急速に転換する化学反応を素早く開始する。この光開始された硬化は、典型的に、１秒より短い時間で起こるけれども、これはＵＶエネルギー伝達の比率に依存する。例えば、ＵＶエネルギーは約２００ないし６００ｎｍ、例えば３００ないし５００ｎｍ、好ましくは３００ないし４００ｎｍの波長を有する。本発明に従う組成物を照射するために適した放射線源は、典型的に、約０．１Ｊ／ｃｍ2 およびそれ以上、例えば０．１ないし１５Ｊ／ｃｍ2 、例えば１ないし１５Ｊ／ｃｍ2 または２ないし１５Ｊ／ｃｍ2 、または１ないし６Ｊ／ｃｍ2 の比率でエネルギーを与える。例えば、約１ないし６Ｊ／ｃｍ2 のランプは、典型的に、熱可塑性ポリオレフィン組成物を硬化するために１秒より短い時間を要する。当然、他の硬化機構（例えば、熱または湿分誘発性硬化）を、光開始された架橋が完了した後に、十分に続けることが可能である。
【００７７】
試験は、相対的表面耐引掻性を測定するためにソルベイエンジニアードポリマー（Ｓｏｌｖａｙ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒ）によって開発された。この試験について、試験試料は少なくとも４”×４”（１００ｍｍ×１００ｍｍ）の寸法であり、中心に取り付けのための穿孔を有する。ターバーアブレイジョン（Ｔａｂｅｒ  Ａｂｒａｓｉｏｎ）試験機（ＡＳＴＭ  Ｄ１０４４において詳細に記載される。）を、試料の表面を引掻くためのサンディング輪の代わりに、鋭いチップ（半径≒０．２５ｍｍ）を有するステンレス鋼スライダーを用いることによって改装した。回転の中心からのチップの距離３４ｍｍおよびターンテーブル回転７２ｒｐｍで、実際のスライド速度は２５ｍｍ／秒に等しく、それは人が表面を通常の速度で指の爪で引っ掻く条件と同様である。試験は一回転後に終了させる。この試験に使用する通常の荷重は、１Ｌｂ（４５３．６ｇ）である。試験が完了したとき、試料を、その後、目測で１ないし５の数字の尺度（１＝優、ほとんど何の擦傷も目測されない。５＝不良に引っ掻かれる。）について等級付けする。弱い溝の幅および損傷された表面の性質は、また、光学顕微鏡またはより複雑な装置、例えば表面プロファイル計（ｓｕｒｆａｃｅ  ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔｅｒ）および走査型力顕微鏡（ｓｃａｎｎｉｎｇ  ｆｏｒｃｅ  ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）でさらに研究することもできる。擦傷等級に従う弱い摩滅痕の典型的な大きさは、以下のとおりである。
【００７８】
0004340987.tif 000002
本試験において１．５またはそれ以下の値が、非常に良いまたは優秀な性能を示す。
【発明の実施の形態】
【００７９】
本発明は、より詳細に本発明の組成物の製造を記載する以下の実施例を参照することによって、さらに明確にされる。材料および方法の双方に関する多くの変法が、本発明の目的および意図から逸脱することなく行われ得ることは、当業者に明白である。
光開始剤Ａは２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンである。
光開始剤Ｂは２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノ−１−オンである。
【００８０】
実施例１ないし２：光開始剤を有するおよび有しないＵＶ照射
実施例１ないし２は、以下の表Ｉに示されるように、ポリオレフィン成分と放射線硬化性成分からなる試料で、光開始剤を有するものと有しないものの双方を、水銀ランプによるＵＶ線に受けさせて比較するものである。光開始剤を有する配合物は、照射によってショアー硬度において顕著な増加を表すが、光開始剤を有しない配合物は、ショアー硬度において変化を示さなかった。双方の配合物をキシレン中に４時間浸漬した後、光開始剤を有する試料はより少ない重量増加を示し、これは５個の試料プラック中へのキシレンの拡散の速度を低下させるところの架橋が表面に存在することを示す。従って、ＵＶ硬化プロセスが可能なことが確証された。
ＤＩＮ  ５３５０５に従うショアー硬度、ＡＳＴＭ  Ｄ  ７８５に従うロックウェル硬度の決定。“ショアー”および“ロックウェル”値がより高ければ高いほど、硬化した配合物はより硬い。
ソルベイ尺度の値の決定は上記したとおりである。値がより低ければ低いほど、硬化した配合物はより硬い。
【００８１】
0004340987.tif 000003
0004340987.tif 000004
【００８２】
実施例３ないし５：光開始に基づく表面性質
実施例３ないし５は、以下の表ＩＩに示さされるように、代表的なエンジニアポリオレフィンブレンドの表面硬度および耐擦傷性性能を光開始の前および後で比較するものである。この実験において、水銀“Ｄ”バルブを放射線源として使用した。このバルブは、水銀“Ｈ”バルブと比較したとき、短波長でより低い発光および長波長でより増大された発光を有する。光開始剤“Ａ”および光開始剤“Ｂ”をそれぞれ使用する実施例４および５は、実施例３における光開始剤を有さない試料よりも、硬度における顕著により大きな増加および大幅に改良された耐擦傷性を示す。
【００８３】
0004340987.tif 000005
0004340987.tif 000006
0004340987.tif 000007
【００８４】
実施例６ないし９：より大きな不飽和度を有する放射線硬化性成分
実施例６ないし９は、以下の表ＩＩＩに示されるように、配合したとき、放射線重合性成分がより高い不飽和度を有するように（よりメタクリレートグラフトしたポリブタジエン）製造され、そして表ＩＩ（実施例３ないし５）における配合物と比較するものである。ＵＶ硬化後の実施例６ないし９の耐擦傷性は、放射線重合性成分中でより低い不飽和度を有するポリオレフィン組成物を超えるさらなる改良を表した。
【００８５】
0004340987.tif 000008
0004340987.tif 000009
0004340987.tif 000010
【００８６】
実施例１０：表面耐久性についてのＵＶ線および熱処理の効果
実施例１０は、以下の表ＩＶに示されるように、ＵＶ線およびそれに続く熱硬化でプラスチック成分を処理する効果を試験するものである。ＵＶ線および引き続く熱処理に暴露されたとき、同一のＵＶ照射であるが熱硬化なしに暴露されたプラスチック成分と比較して、改良された耐擦傷性を有する表面を生じた。
【００８７】
0004340987.tif 000011
0004340987.tif 000012
【００８８】
実施例１１：安定剤の混入
実施例１０に従い、２０００より小さい分子量を有する立体障害アミン、好ましくは４００ないし１０００の分子量を有する立体障害アミン、２０００より大きい分子量を有する立体障害アミン、好ましくは２０００ないし４０００の分子量を有する立体障害アミン、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール類のＵＶ吸収剤またはその混合物をさらに含んで製造された成形物は、改良された耐擦傷性およびＵＶ光および熱暴露の劣化効果に対する安定性を示した。
【００８９】
本発明の好ましい態様は、上記において記載されるけれども、本発明は本明細書に開示された特定の態様に限定されず、当業者によって多くの変法が可能であると理解される。使用された材料および化学的な詳細は、本発明によって開示および教示された方法および組成物から逸脱することなく、わずかに異なるまたは変化されることができると理解される。