(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に感エネルギー線性レジスト組成物を塗布して被膜を形成し、次いで所望のパターンが得られるように該感エネルギー線性レジスト被膜表面から活性エネルギー線又は熱線を、マスクを介して又は介さず直接に、照射させ、続いて水性現像液で処理して基材上にレジスト被膜パターンを形成するための水性現像液であって、該水性現像液が溶解性パラメーター（ＳＰ値）が８．５以上の水性有機溶剤を０．０１〜３重量％含有しており、かつ該水性現像液が、酸性現像液であって、更に酸性染料を含有している着色現像液である、レジスト被膜パターン形成用水性現像液。
【請求項２】
上記水性有機溶剤の溶解性パラメーター（ＳＰ値）が、８．６〜１６の範囲である請求項１に記載の水性現像液。
【請求項３】
上記水性有機溶剤の含有量が、０．０５〜２重量％である請求項１に記載の水性現像液。
【請求項４】
上記水性有機溶剤が、アルコールエーテル系溶剤である請求項１に記載の水性現像液。
【請求項５】
上記水性現像液が、酸性現像液であって、酸性化合物の濃度が０．０１〜１５重量％である請求項１に記載の水性現像液。
【請求項６】
上記着色酸性水性現像液の酸性染料の濃度が、０．００１〜１０重量％である請求項１に記載の水性現像液。
【請求項７】
上記水性現像液が、ネガ型又はポジ型の感エネルギー線性レジスト被膜用現像液である請求項１に記載の水性現像液。
【請求項８】
請求項１に記載の水性現像液を使用することを特徴とする感エネルギー線性レジスト被膜の現像方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感エネルギー線性レジスト被膜を現像処理してパターンを形成する際に使用する水性現像液に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント配線基板等の導体回路を形成するため、ネガ型感光性レジスト組成物等を塗布した基板に、所望のパターン（画像）の露光を行ったのち、水性現像処理を施して未露光部（ネガ型）又は露光部（ポジ型）の被膜を除去してレジスト被膜パターンを得て、更に除去した部分にエッチング処理を施して所望の配線パターンを得る方法が知られている。
【０００３】
上記方法において、水性現像処理を行った際に未露光部又は露光部の不必要となった被膜を短時間の間に完全に除去することは困難であった。また、露光部と未露光部との識別性が十分でなく、現像された画像が目的とする画像となっているかどうかの判別がつき難く、検板性が悪いといった問題点があった。このような問題点を解決するために従来から画像部を着色する方法が行われている。
【０００４】
このような着色方法として、例えば、特開昭６４−２０６９４号公報にプリント配線基板に光硬化性電着塗料を塗装したのち、露光後、炭酸ナトリウム水溶液に水溶性銅フタロシアニン染料等の染料を溶解した着色現像液に浸漬して、未露光被膜を除去するとともに露光部の被膜を着色する方法が記載されている。
【０００５】
しかしながら、上記現像液には、貯蔵中に、該液中の炭酸ナトリウムが空気中の二酸化炭素と反応して水に不溶解の重炭酸ナトリウムを生じ、これが露光被膜に付着して画像に悪影響を及ぼしたり、アルカリ強度が弱くなるために現像性が悪くなったりするといった問題点があった。
【０００６】
また、該公報には染料として、アゾ系染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、可溶性建染料、硫化染料、カーボニウム染料、キノンイミン染料、フタロシアニン染料等が記載されているが、これらのものはレジスト被膜に対する着色性が劣るために満足できる結果が得られていないのが実情である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、感エネルギー線性レジスト被膜を現像処理してパターンを形成する際に使用する水性現像液であって、現像性、経時安定性及び染料を配合した場合のレジスト被膜の着色性のいずれにも優れた水性現像液を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記従来技術の問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の有機溶剤を特定量含有せしめた水性現像液が、現像性、経時安定性に優れ、しかも染料を配合した場合のレジスト被膜の着色性にも優れることから検板性に優れたレジスト被膜を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明は、基材上に感エネルギー線性レジスト組成物を塗布して被膜を形成し、次いで所望のパターンが得られるように該感エネルギー線性レジスト被膜表面から活性エネルギー線又は熱線を、マスクを介して又は介さず直接に、照射させ、続いてアルカリ性又は酸性の水性現像液で処理して基材上にレジスト被膜パターンを形成するための水性現像液であって、
該水性現像液が溶解性パラメーター（ＳＰ値）が８．５以上の水性有機溶剤を０．０１〜３重量％含有していることを特徴とするレジスト被膜パターン形成用水性現像液に係る。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明における基材としては、レジスト被膜を形成する基材として公知のものを、特に制限なしに使用することができる。例えば、パターン形成用材料、リソグラフィ形成用材料、平板印刷用材料、凸版印刷用材料、オフセット印刷用材料、グラビア製版用材料、情報記録材料、レリーフ像作成用材料等の基材を使用することができる。具体的には、メッキ銅板、銅板積層板、金属薄膜形成基板（ＩＴＯ透明電極、Ｃｒ蒸着基板等）、ガラス基板、金属箔基板、陽極酸化アルミニウム基板等を使用できる。
【００１１】
本発明で基材上に塗装される感エネルギー線性レジスト組成物としては、公知のネガ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性樹脂組成物、ネガ型感熱性樹脂組成物、ポジ型感熱性樹脂組成物等を使用することができる。また、感エネルギー線性レジスト組成物の形態としては、水性樹脂組成物又は有機溶剤型樹脂組成物のいずれであっても良い。また、感エネルギー線性レジスト組成物をプラスチック等の支持体上に塗装、剥離して得られるドライフィルムとしても使用することができる。
【００１２】
ネガ型感光性樹脂組成物
ネガ型感光性樹脂組成物としては、例えば、光硬化性樹脂、光反応開始剤及び必要に応じて光増感色素を含有した従来から公知のものを使用することができる。
【００１３】
上記した光硬化性樹脂としては、一般的に使用されている光照射により架橋しうる感光基を有する光硬化性樹脂であって、該樹脂中に未露光部の被膜がアルカリ性現像液又は酸性現像液により溶解して除去することができるイオン性基（アニオン性基又はカチオン性基）を有しているものであれば特に限定されるものではない。
【００１４】
光硬化性樹脂に含まれる不飽和基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。
【００１５】
イオン性基としては、例えば、アニオン性基としてカルボキシル基が代表的なものとして挙げられ、該カルボキシル基の含有量としては樹脂の酸価で約３０〜７００ｍｇＫＯＨ／ｇ、特に約４０〜６００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲のものが好ましい。酸価が約３０ｍｇＫＯＨ／ｇを下回ると現像液の処理による未硬化被膜の脱膜性が劣るため、次のエッチング工程で銅が充分に除去できないといった欠点があり、一方酸価が約７００ｍｇＫＯＨ／ｇを上回るとレジスト硬化被膜部が脱膜し易くなるために満足できる銅回路が形成されないといった欠点があるので好ましくない。また、カチオン性基としてはアミノ基が代表的なものとして挙げられ、該アミノ基の含有量としては、樹脂のアミン価で約２０〜６５０、特に約３０〜６００の範囲となる量が好ましい。アミン価が約２０を下回ると上記と同様にエッチング工程で銅が充分に除去できないといった欠点があり、一方、アミン価が約６５０を上回るとレジスト硬化被膜が脱膜し易くなるといった欠点があるので好ましくない。
【００１６】
アニオン性樹脂としては、例えば、ポリカルボン酸樹脂に例えば、グリシジル（メタ）アクリレート等のモノマーを反応させて樹脂中に不飽和基とカルボキシル基を導入したものが挙げられる。
【００１７】
また、カチオン性樹脂としては、例えば、水酸基及び第３級アミノ基含有樹脂に、ヒドロキシル基含有不飽和化合物とジイソシアネート化合物との反応物を付加反応させてなる樹脂が挙げられる。
【００１８】
また、アニオン性樹脂及びカチオン性樹脂としては、特開平３−２２３７５９号公報に光硬化性樹脂として記載されているものをいずれも使用できる。
【００１９】
光反応開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルキサントン、チオキサントン、アントラキノン等の芳香族カルボニル化合物；アセトフェノン、プロピオフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α，α’−ジクロル−４−フェノキシアセトフェノン、１−ヒドロキシ−１−シクロヘキシルアセトフェノン、ジアセチルアセトフェノン、アセトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレート、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等の有機過酸化物；ジフェニルヨードブロマイド、ジフェニルヨードニウムクロライド等のジフェニルハロニウム塩；四臭化炭素、クロロホルム、ヨードホルム等の有機ハロゲン化物；３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンベンズアントロン等の複素環式及び多環式化合物；２，２’−アゾ（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）等のアゾ化合物；鉄−アレン錯体；チタノセン化合物；ビスイミダゾール系化合物；Ｎ−アリールグリシジル系化合物；アクリジン系化合物；芳香族ケトン／芳香族アミンの組み合わせ；ペルオキシケタール等が挙げられる。
【００２０】
鉄−アレン錯体としては、ヨーロッパ特許１５２３７７号公報に記載のものを使用できる。チタノセン化合物としては、特開昭６３−２２１１１０号公報に記載のものを使用できる。また、ペルオキシケタールとしては、特開平６−３２１８９５号公報に記載のものを使用できる。
【００２１】
上記した光ラジカル重合開始剤の中でも、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレート、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、鉄−アレン錯体及びチタノセン化合物は、架橋又は重合に対して活性が高いのでこれらのものを使用することが好ましい。
【００２２】
また、光反応開始剤の市販品としては、例えば、「イルガキュア６５１」（チバガイギー社製、商品名、アセトフェノン系光ラジカル重合開始剤）、「イルガキュア１８４」（チバガイギー社製、商品名、アセトフェノン系光ラジカル重合開始剤）、「イルガキュア１８５０」（チバガイギー社製、商品名、アセトフェノン系光ラジカル重合開始剤）、「イルガキュア９０７」（チバガイギー社製、商品名、アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤）、「イルガキュア３６９」（チバガイギー社製、商品名、アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤）、「ルシリンＴＰＯ」（ＢＡＳＦ社製、商品名、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）、「カヤキュアＤＥＴＸＳ」（日本化薬（株）製、商品名）、「ＣＧＩ−７８４」（チバガイギ−社製、商品名、チタン錯体化合物）等が挙げられる。これらのものは１種又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００２３】
光反応開始剤の配合割合は、光硬化性樹脂１００重量部に対して０．１〜２５重量部、好ましくは０．２〜１０重量部である。
【００２４】
光増感剤としては、従来から公知の光増感色素を使用することができる。このものとしては、例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、メロシアニン系、ケトクマリン系、フマリン系、ボレート系等の色素が挙げられる。これらのものは１種又は２種以上組み合わせて使用することができる。ボレート系光増感色素としては、例えば、特開平５−２４１３３８号公報、特開平７−５６８５号公報及び特開平７−２２５４７４号公報等に記載のものが挙げられる。
【００２５】
上記した以外に、飽和樹脂を使用することができる。該飽和樹脂は、光重合性組成物の溶解性を抑制するために使用することができる。例えば、レジスト被膜のアルカリ現像液に対する溶解性等の抑制剤として使用することができる。このものとしては、例えば、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、天然樹脂、合成ゴム、シリコン樹脂、フッ素樹脂、ポリウレタン樹脂等が包含される。これらの樹脂は１種又は２種以上組合わせて用いることができる。
【００２６】
上記したネガ型感光性樹脂組成物を、有機溶剤型のものとして使用する場合は、上記した感光性樹脂組成物を有機溶剤（ケトン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ類、芳香族炭化水素類、アルコール類、ハロゲン化炭化水素類等）に溶解又は分散した組成物として使用する。
【００２７】
また、この有機溶剤型樹脂組成物を基材に塗装する場合には、例えば、ローラー、ロールコーター、スピンコーター、カーテンロールコーター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装等の手段により、好適に塗装することができる。
【００２８】
次いで、必要に応じてセッティングした後、乾燥することによりレジスト被膜を得ることができる。
【００２９】
また、ネガ型感光性レジスト樹脂組成物を水性のものとして使用する場合は、上記した感光性樹脂組成物を水に溶解又は分散した組成物として使用する。このものは通常のネガ型電着塗装用感光性材料と同様に取り扱うことができ、電着塗料として用いることができる。上記感光性樹脂組成物の水溶化又は水分散化は、感光性樹脂組成物中のアニオン性基（例えば、カルボキシル基）をアルカリ（中和剤）で中和、又は該組成物中のカチオン性基（例えば、アミノ基）を酸（中和剤）で中和することによって行われる。
【００３０】
上記電着塗料は、例えば、浴濃度（固形分濃度）３〜２５重量％、特に５〜１５重量％の範囲に調整した、ｐＨ４〜７の範囲のカチオン電着塗料として、又はｐＨ７〜９の範囲のアニオン電着塗料として、使用することができる。
【００３１】
電着塗料は、例えば、次のようにして被塗物である導体表面に塗装することができる。即ち、まず、浴のｐＨと浴濃度を上記の範囲に調整し、浴温度を１５℃〜４０℃、好ましくは１５℃〜３０℃に管理する。次いで、このように管理された電着塗装浴に、塗装される導体を電着塗料がアニオン型の場合には陽極とし、又カチオン型の場合には陰極として、浸漬し、５〜２００Ｖの直流電流を通電して塗装する。通電時間は１０秒〜５分が適当である。
【００３２】
得られる膜厚は、乾燥膜厚で、一般に０．５〜５０μｍ、特に１〜１５μｍの範囲が好ましい。
【００３３】
電着塗装後、電着浴から被塗物を引き上げ、水洗した後、電着塗膜中に含まれる水分等を熱風等で乾燥、除去する。
【００３４】
また、上記感光性樹脂組成物を塗装した被膜は、露光して硬化させる前に、予めカバーコート層を設けておくことができる。このカバーコート層は空気中の二酸化炭素を遮断して露光によって発生したラジカルが酸素によって失活するのを防止し、露光による感光性樹脂の硬化を円滑に進めるために形成されるものである。
【００３５】
有機溶剤型又は水性のネガ型感光性樹脂組成物を基材上に塗装して得られたネガ型感光性被膜は、所望のパターン（画像）が得られるように活性エネルギー線で直接又はマスクを介して感光させ、硬化させる。
【００３６】
光硬化に使用される光源としては、例えば、超高圧、高圧、中圧、低圧の水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、タングステン灯等が挙げられる。また、可視領域に発振線を持つ各種レーザー、例えば、アルゴンレーザー（４８８ｎｍ）、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）等の各種発振線を持つレーザーも使用できる。
【００３７】
ポジ型感光性樹脂組成物
ポジ型感光性樹脂組成物としては、例えば、光酸発生剤、樹脂及び必要に応じて光増感剤を含むものが使用できる。該組成物は、光により光酸発生剤が分解して発生した酸により樹脂が分解し、樹脂の極性、分子量等の性質が変化し、これにより樹脂がアルカリ性又は酸性の水性現像液に対して溶解性を示すようになるものである。また、該組成物には、更に現像液の溶解性を調整するその他の樹脂等を必要に応じて配合することができる。
【００３８】
ポジ型感光性樹脂組成物としては、例えば、イオン形成基を有するアクリル樹脂等の基体樹脂にキノンジアジドスルホン酸類をスルホン酸エステル結合を介して結合させた樹脂を主成分とする組成物、即ち照射光によりキノンジアジド基が光分解してケテンを経由してインデンカルボン酸を形成する反応を利用したナフトキノンジアジド感光性樹脂組成物；加熱によりアルカリ性現像液や酸性現像液に対して不溶性の架橋被膜を形成し、更に光線照射により酸基を発生する光酸発生剤により架橋構造が切断されて照射部がアルカリ性現像液や酸性現像液に対して可溶性となるメカニズムを利用したポジ型感光性樹脂組成物等が代表的なものとして挙げられる。
【００３９】
イオン形成基を有するアクリル樹脂等の基体樹脂にキノンジアジドスルホン酸類をスルホン酸エステル結合を介して結合させた樹脂を主成分とする組成物としては、特開昭６１−２０６２９３号公報、特開平７−１３３４４９号公報等に記載されたものを使用できる。また、加熱により不溶性の架橋被膜を形成し、更に光線照射により架橋構造が切断されて照射部が現像液に対して可溶性となるメカニズムを利用したポジ型感光性組成物としては、特開平６−２９５０６４号公報、特開平６−３０８７３３号公報、特開平６−３１３１３４号公報、特開平６−３１３１３５号公報、特開平６−３１３１３６号公報、特開平７−１４６５５２号公報等に記載されたものを使用できる。
【００４０】
また、光酸発生剤は、露光により酸を発生する化合物であり、この発生した酸を触媒として、樹脂を分解させるものであり、従来から公知のものを使用することができる。このものとしては、例えば、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、セレニウム塩等のオニウム塩類、鉄−アレン錯体類、シラノール−金属キレート錯体類、トリアジン化合物類、ジアジドナフトキノン化合物類、スルホン酸エステル類、スルホン酸イミドエステル類、ハロゲン系化合物類等を使用することができる。また、これら以外に、特開平７−１４６５５２号公報、特願平９−２８９２１８号に記載の光酸発生剤も使用することができる。また、この光酸発生剤成分は、上記した樹脂との混合物であっても樹脂に結合したものであっても構わない。光酸発生剤の配合割合は、樹脂１００重量部に対して約０．１〜４０重量部、特に約０．２〜２０重量部の範囲で含有することが好ましい。
【００４１】
上記したポジ型感光性樹脂組成物を、有機溶剤型のものとして使用する場合は、上記ポジ型感光性樹脂組成物を有機溶剤（ケトン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ類、芳香族炭化水素類、アルコール類、ハロゲン化炭化水素類等）に溶解又は分散した組成物として使用する。
【００４２】
また、この組成物を基材に塗装する方法としては、例えば、ローラー、ロールコーター、スピンコーター、カーテンロールコーター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装等の手段により塗布することができる。
【００４３】
次いで、必要に応じてセッティングした後、乾燥することによりレジスト被膜を得ることができる。
【００４４】
また、上記したポジ型感光性樹脂組成物を、水性のものとして使用する場合は、上記樹脂組成物中のアニオン性基（例えば、カルボキシル基）をアルカリ（中和剤）で中和、又は該組成物中のカチオン性基（例えば、アミノ基）を酸（中和剤）で中和して水溶化又は水分散化したものを使用する。この組成物は、通常の電着塗装用感光性材料と同様に取り扱うことができ、電着塗料として使用できる。
【００４５】
上記電着塗料は、例えば、浴濃度（固形分濃度）３〜２５重量％、特に５〜１５重量％の範囲に調整した、ｐＨ４〜７の範囲のカチオン電着塗料として、又はｐＨ７〜９の範囲のアニオン電着塗料として、使用することができる。
【００４６】
電着塗料は、例えば、次のようにして被塗物である導体表面に塗装することができる。即ち、まず、浴のｐＨと浴濃度を上記の範囲に調整し、浴温度を１５℃〜４０℃、好ましくは１５℃〜３０℃に管理する。次いで、このように管理された電着塗装浴に、塗装される導体を電着塗料がアニオン型の場合には陽極とし、又カチオン型の場合には陰極として、浸漬し、５〜２００Ｖの直流電流を通電して塗装する。通電時間は１０秒〜５分が適当である。
【００４７】
得られる膜厚は乾燥膜厚で、一般に０．５〜５０μｍ、特に１〜１５μｍの範囲が好ましい。
【００４８】
有機溶剤型又は水性のポジ型感光性樹脂組成物を基材上に塗装して得られたポジ型感光性被膜は、必要に応じてセッティング等を行って、約５０〜１３０℃の範囲の温度で乾燥を行うことによりポジ型感光性被膜を形成することができる。次いで、所望のパターン（画像）が得られるように活性エネルギー線で直接又はマスクを介して感光させ露光部分の被膜を現像液で現像処理して除去する。
【００４９】
露光に使用される光源としては、前記したものと同様のものを使用することができる。
【００５０】
ネガ型感熱性樹脂組成物
ネガ型感熱性樹脂組成物としては、赤外線等の熱線により架橋する樹脂にアニオン性基（例えば、カルボキシル基）を含有させ、これをアルカリ（中和剤）で中和するか、又は該樹脂にカチオン性基（例えば、アミノ基）を含有させ、これを酸（中和剤）で中和したものを、水に溶解又は分散させた水性組成物を好適に使用できる。
【００５１】
上記樹脂組成物としては、従来から公知のものを使用することができ、例えば、水酸基含有樹脂／アミノ樹脂、水酸基含有樹脂／ブロックイソシアネート、水酸基含有樹脂／メラミン樹脂、水酸基含有樹脂／加水分解性基（アルコキシシリル基、ヒドロキシシリル基等）含有珪素樹脂、水酸基含有樹脂／加水分解性基含有アクリル系樹脂、エポキシ樹脂／フェノール樹脂、エポキシ樹脂／（無水）カルボン酸、エポキシ樹脂／ポリアミン、不飽和樹脂／ラジカル重合触媒（パーオキサイド等）、カルボキシル基及び／又はヒドロキシフェニル基とエーテル結合とを含有するオレフィン性不飽和化合物等が挙げられる。
【００５２】
該ネガ型感熱性樹脂組成物を基材上に塗装して得られたネガ型感熱性被膜は、必要に応じてセッティング等を行ってネガ型感熱性被膜を形成することができる。次いで、所望のパターン（画像）が得られるように熱線で直接又はマスクを介して感熱させ、硬化させる。
【００５３】
使用する熱線としては、例えば半導体レーザー（８３０ｎｍ）、ＹＡＧレーザー（１．０６μｍ）、赤外線等が挙げられる。
【００５４】
ポジ型感熱性樹脂組成物
ポジ型感熱性樹脂組成物としては、熱酸発生剤、樹脂等を含有する樹脂組成物を使用できる。該ポジ型感熱性樹脂組成物としては、例えば前記ポジ型感光性樹脂組成物と同様のものを使用することができる。
【００５５】
上記組成物を基材に塗装した被膜に赤外線等の熱線を照射することにより該熱酸発生剤が分解して酸を発生し、この発生した酸成分が架橋被膜を分解することにより、現像可能となる。
【００５６】
ポジ型感熱性樹脂組成物を基材に塗装後、必要に応じてセッティング等を行って、約５０〜１３０℃の範囲の温度で乾燥を行うことによりポジ型感熱性被膜を形成することができる。次いで、所望のパターン（画像）が得られるように熱線で直接又はマスクを介して感熱させ、露光部分の被膜を現像液で現像処理して除去する。
【００５７】
熱線としては、前記したものと同様のものを使用することができる。
【００５８】
現像処理
かくして、基材上に感エネルギー線性レジスト組成物を塗布して被膜を形成し、次いで所望のパターンが得られるように該感エネルギー線性被膜表面から活性エネルギー線又は熱線を、マスクを介して又は介さず直接に、照射されたレジスト被膜は、本発明のレジスト被膜パターン形成用水性現像液を用いて、現像処理される。従って、本発明は、本発明水性現像液を使用することを特徴とする感エネルギー線性レジスト被膜の現像方法をも提供する。
【００５９】
上記した現像処理としては、感エネルギー線性レジスト組成物が、アニオン性の場合にはアルカリ性水性現像液で処理がおこなわれ、又カチオン性の場合には酸性水性現像液で処理がおこなわれる。
【００６０】
本発明の水性現像液は、アルカリ性又は酸性の水性現像液であって、溶解性パラメーター（ＳＰ値）が８．５以上の水性有機溶剤を０．０１〜３重量％含有していることを特徴とし、これにより現像性、経時安定性等に優れているものである。
【００６１】
本発明のアルカリ性水性現像液は、塩基性化合物と共に、溶解性パラメーター（ＳＰ値）が８．５以上、好ましくは８．６〜１６の範囲の水性有機溶剤を該水性現像液中に０．０１〜３重量％、好ましくは０．０５〜２重量％の範囲で含有する。また、アルカリ性水性現像液は、塩基性染料を含有することが好ましい。
【００６２】
上記水性有機溶剤の溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、式
ＳＰ値＝（分子凝集エネルギー／分子容）1/2
で求められた特性値である。また、水性有機溶剤は、１種又は２種以上の混合溶剤であってもよい。２種以上の混合溶剤の溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、式
ＳＰ値＝Ｓ1×φ1＋Ｓ2×φ2＋……
（式中、Ｓ1、Ｓ2……は混合溶剤に使用されたそれぞれの有機溶剤の溶解性パラメーターを示し、φ1、φ2……は混合溶剤中のそれぞれの有機溶剤の容積分率を示す。）で求めることができる。
【００６３】
水性有機溶剤のＳＰ値が８．５未満になると水に対する溶解性や未露光部若しくは未露熱部又は露光部若しくは露熱部の被膜に対する溶解性が悪くなるので好ましくない。
【００６４】
また、水性有機溶剤の含有量が０．０１重量％未満になると未露光部若しくは未露熱部又は露光部若しくは露熱部の被膜に対する溶解性が悪くなり、一方３重量％を超えると形成画像の安定性が悪くなるので好ましくない。
【００６５】
該ＳＰ値の範囲にある水性有機溶剤としては、例えばJournal of Paint Technology Vol. 42, No.541, P95-102, February 1970に記載されたのものを使用できる。
【００６６】
該有機溶剤としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール系溶剤；セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）エチレングルコールモノメチルエーテル、（ポリ）エチレングルコールモノエチルエーテル、（ポリ）エチレングルコールモノプロピルエーテル、（ポリ）プロピレングリコール、（ポリ）プロピレングルコールモノメチルエーテル、（ポリ）プロピレングルコールモノエチルエーテル、（ポリ）プロピレングルコールモノプロピルエーテル等のアルコールエーテル系溶剤；エステル系メチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ポリエーテル変性ジメチルシロキサン（例えば、「ＢＹＫ−３４５」、「ＢＹＫ−３４８」、「ＢＹＫ−３７７」、商品名、以上ビックケミ・ジャパン株式会社製）等が挙げられる。これらの有機溶剤は、１種又は２種以上混合して使用することができる。また、上記有機溶剤の中でも、現像性の観点から、アルコールエーテル系溶剤が好ましく、特にブチルセロソルブが好ましい。
【００６７】
塩基性化合物としては、従来から公知のものが使用でき、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物；アンモニア；エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ベンジルアミン等の第１級モノアミン；ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、ジエチレントリアミン、エチルアミノエチルアミン、メチルアミノプロピルアミン等のアルキルアミン類；モノエタノールアミン、ネオペンタノールアミン、２−アミノプロパノール、ジエタノールアミン、ジ−ｎ−プロパノールアミン、ジiso−プロパノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール等のアルカノールアミン類等が挙げられる。これらの塩基性化合物は１種又は２種以上混合して使用することができる。また、これらの中でもアルカノールアミン類を必須成分として含有することが好ましい。該アルカノールアミン類は、現像処理中や貯蔵中の二酸化炭素と反応して水不溶性の生成物を生じて、レジスト被膜表面にブツとして残存したり、現像液を貯蔵している間に変質してアルカリ強度が低下したりすることがないので好ましい。
【００６８】
上記塩基性化合物の濃度は、水性現像液中で０．０１〜１５重量％、特に０．１〜５重量％の範囲が好ましい。
【００６９】
更に、アルカリ性水性現像液として、塩基性染料を含有する着色水性現像液を使用することが好ましい。また、該現像液として、上記アルカノールアミン類と塩基性染料とを組み合わせて使用すると、現像液の現像性、経時安定性、着色性等の観点からより好ましい。
【００７０】
塩基性染料としては、化学構造的に分類すると、例えば、チアジン系染料、アジン系染料、キサンテン系染料、ジアリルメタン系染料、トリアリルメタン系染料、アゾ系染料、アザメチン系染料、アントラキノン系染料等が挙げられる。これらの中でも、特にチアジン系染料が、着色性、検板性、経時安定性等に優れる。
【００７１】
使用される染料濃度は、水性現像液中で０．００１〜１０重量％、特に０．０１〜５重量％の範囲が好ましい。
【００７２】
また、アルカリ性水性現像液には、必要に応じて消泡剤等を添加してもよい。
【００７３】
本発明の酸性水性現像液は、酸性化合物と共に、上記溶解性パラメーター（ＳＰ値）が８．５以上、好ましくは８．６〜１６の範囲の水性有機溶剤を、該水性現像液中に０．０１〜３重量％、好ましくは０．０５〜２重量％の範囲で含有する。また、酸性水性現像液は、酸性染料を含有することが好ましい。
【００７４】
上記酸性化合物としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の鉱酸；酢酸、蟻酸、プロピオン酸、トリメチル酢酸、アクリル酸、メタクリル酸、乳酸、ヒドロキシ酢酸、クロトン酸、モノクロル酢酸、マレイン酸モノエチルエステル、フマル酸モノエチルエステル、イタコン酸モノメチルエステル等の有機酸が挙げられる。
【００７５】
また、上記酸性化合物の濃度は、水性現像液中で０．０１〜１５重量％、特に０．１〜５重量％の範囲が好ましい。
【００７６】
また、酸性染料としては、化学構造的に分類すると、例えば、アゾ系染料、アントラキノン系染料等が挙げられる。
【００７７】
上記酸性染料の濃度は、水性現像液中で０．００１〜１０重量％、特に０．０１〜５重量％の範囲が好ましい。
【００７８】
また、酸性水性現像液には、必要に応じて消泡剤等を添加してもよい。
【００７９】
本発明のレジスト被膜パターン形成用水性現像液を用いて、レジスト被膜を現像処理することにより、ポジレジスト被膜の場合は露光部又は露熱部の被膜が除去され、又ネガレジスト被膜の場合は未露光部又は未露熱部の被膜が除去され、所望のレジスト被膜パターンが、好適に形成される。
【００８０】
また、現像処理をおこなったのち、エッチングレジスト基板として使用する場合には、次いで露出した銅層（非回路部分）を塩化第２鉄や塩化第２銅の水溶液でエッチングすることにより除去する。また、エッチング後のレジスト被膜の除去は苛性ソーダ等の強アルカリや塩化メチレン等の溶剤により除去される。
【００８１】
本発明の水性現像液は、特にフォトレジスト、リソグラフィ、平板印刷用製版材、凸版印刷用製版材、オフセット印刷用ＰＳ板、情報記録材料、レリーフ像作製材料等の現像工程に適用できる。
【００８２】
【実施例】
以下、製造例、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。各例において、「部」及び「％」は、それぞれ「重量部」及び「重量％」を意味する。
【００８３】
製造例１  水性ネガ型感光性アニオン樹脂組成物１の製造
光硬化性樹脂として、アクリル樹脂（樹脂酸価１５５ｍｇＫＯＨ／ｇ、モノマー組成がメチルメタクリレート／ブチルアクリレート／アクリル酸＝４０／４０／２０（重量比）、分子量１０００）１００部にグリシジルメタクリレート２４重量部を反応させてなる光硬化性樹脂（樹脂固形分５５％、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒、樹脂酸価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量約２万）の固形分１００部に、光重合性開始剤（「ＣＧＩ−７８４」、商品名、チバガイギー社製、チタノセン化合物）１部、光増感剤（「ＬＳ−１４８」、商品名、三井東圧（株）製、クマリン色素系化合物）１部を配合して感光液を調製した。
【００８４】
得られた感光液１００部（固形分）にトリエチルアミン７部を混合攪拌した後、脱イオン水中に分散して、アニオン樹脂組成物１である水分散樹脂溶液（固形分１５％）を得た。
【００８５】
製造例２  水性ネガ型感光性カチオン樹脂組成物２の製造
モノマー組成がメチルアクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレート／ジメチルアミノエチルメタクリレート＝２０／１０／２２／３０／１８（重量比）のアクリル共重合体１００部にアクリル酸１５部を付加反応させて得られる光硬化性樹脂（アミン価約５６、不飽和度１．８３モル／Ｋｇ）１００部に、製造例１で使用した光増感剤０．５部、トリメチロールプロパントリアクリレート５５部、製造例１で使用したチタノセン化合物２０部を混合して得られる感光液１００部（固形分）に酢酸３部を配合した後、脱イオン水中に分散して、カチオン樹脂組成物２である水分散樹脂溶液（固形分１５％）を得た。
【００８６】
製造例３  ポジ型感光性アニオン樹脂組成物３の製造
テトラヒドロフラン２００部、ｐ−ヒドロキシスチレン６５部、ｎ−ブチルアクリレート２８部、アクリル酸１１部及びアゾビスイソブチロニトリル３部の混合物を１００℃で２時間反応させて得られた反応物を１５００ｃｃのトルエン溶剤中に注ぎ込み、反応物を沈殿、分離した後、沈殿物を６０℃で乾燥して分子量約５２００、ヒドロキシフェニル基含有量４．６モル／Ｋｇの感光性樹脂を得た。次いで、このもの１００部にジビニルエーテル化合物（ビスフェノール化合物１モルと２−クロロエチルビニルエーテル２モルとの縮合物）６０部、「ＮＡＩ−１０５」（光酸発生剤、みどり化学（株）製、商品名）１０部及び光増感色素として「ＮＫＸ−１５９５」（光増感色素、日本感光色素（株）製、クマリン系色素、商品名）１．５部の配合物を、ジエチレングリコールジメチルエーテルに溶解して、固形分２０％に調製して、アニオン樹脂組成物３である感光液を得た。
【００８７】
製造例４  水性ポジ型感光性カチオン樹脂組成物４の製造
テトラヒドロフラン２００部、ｐ−ヒドロキシスチレン６５部、ジメチルアミノエチルメタクリレート１８部、ｎ−ブチルアクリレート１７部及びアゾビスイソブチロニトリル３部の混合物を１００℃で２時間反応させて得られた反応物を１５００ｃｃのトルエン溶剤中に注ぎ込み、反応物を沈殿、分離した後、沈殿物を６０℃で乾燥して分子量約５０００、ヒドロキシフェニル基含有量４．６モル／Ｋｇの感光性樹脂を得た。次いで、このもの１００部にジビニルエーテル化合物（ビスフェノール化合物１モルと２−クロロエチルビニルエーテル２モルとの縮合物）６０部、「ＮＡＩ−１０５」（光酸発生剤、みどり化学（株）製、商品名）１０部及び製造例３で使用した光増感剤１．５部の配合物を、ジエチレングリコールジメチルエーテルに溶解して、固形分６０％に調製して、感光液を得た。
【００８８】
この感光液１００部（固形分）に、アミノ基に対して酢酸０．８当量を混合攪拌した後、脱イオン水中に分散してカチオン樹脂組成物４である水分散樹脂溶液（固形分１５％）を得た。
【００８９】
製造例５  水性ネガ型感熱型組成物５の製造
アクリル樹脂（モノマー組成がメチルメタクリレート／スチレン／ｎ−ブチルメタクリレート／３，４−エポキシシクロヘキシルメタクリレート／オキセタンメタクリレート＝４５／１０／１０／２５／１０（重量比）、重量平均分子量１００００）５０部、アクリル樹脂（モノマー組成がメチルメタクリレート／アクリル酸＝６０／４０（重量比）、重量平均分子量１００００）５０部、「サイラキュアＵＶＩ−６９９０」（ユニオンカーバイド社製、商品名、カチオン重合触媒）１部及び「ＮＫＸ−１５９５」（光増感色素、日本感光色素（株）製、クマリン系色素、商品名）５部を、トリエチルアミンで中和し、水分散して、ネガ型感熱型組成物５（固形分２０％）を得た。
【００９０】
製造例６  ポジ型感熱性ドライフィルム６の製造
テトラヒドロフラン２００部、ｐ−ヒドロキシスチレン６５部、ｎ−ブチルアクリレート２８部、アクリル酸１１部及びアゾビスイソブチロニトリル３部の混合物を１００℃で２時間反応させて得られた反応物を１５００ｃｃのトルエン溶剤中に注ぎ込み、反応物を沈殿、分離した後、沈殿物を６０℃で乾燥して分子量約５２００、ヒドロキシフェニル基含有量４．６モル／Ｋｇの感光性樹脂を得た。次いで、このもの１００部に、ジビニルエーテル化合物（ビスフェノール化合物１モルと２−クロロエチルビニルエーテル２モルとの縮合物）６０部、「ＮＡＩ−１０５」（光酸発生剤、みどり化学（株）製、商品名）１０部及びトリエチルアミン７部を混合攪拌した後、脱イオン水中に分散して、水分散樹脂溶液（固形分１５％）を得た。これを、ポリエチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚が１０μｍになるようにローラー塗装し、８０℃で１０分間乾燥した。次いで、該フィルムから塗装被膜を剥離して、ドライフィルム６を製造した。
【００９１】
製造例７  有機溶剤型ネガ型感光性アニオン樹脂組成物７の製造
光硬化性樹脂として、アクリル樹脂（樹脂酸価１５５ｍｇＫＯＨ／ｇ、モノマー組成がメチルメタクリレート／ブチルアクリレート／アクリル酸＝４０／４０／２０（重量比）、分子量１０００）１００部にグリシジルメタクリレート２４重量部を反応させてなる光硬化性樹脂（樹脂固形分５５％、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒、樹脂酸価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量約２万）の固形分１００部に、光重合性開始剤（「ＣＧＩ−７８４」、商品名、チバガイギー社製、チタノセン化合物）１部、光増感剤（「ＬＳ−１４８」、商品名、三井東圧（株）製、クマリン色素系化合物）１部を配合して、アニオン樹脂組成物７である感光液を調製した。
【００９２】
製造例８  有機溶剤型ネガ型感光性カチオン樹脂組成物８の製造
モノマー組成がメチルアクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレート／ジメチルアミノエチルメタクリレート＝２０／１０／２２／３０／１８（重量比）のアクリル共重合体１００部にアクリル酸１５部を付加反応させて得られる光硬化性樹脂（アミン価約５６、不飽和度１．８３モル／Ｋｇ）１００部に、製造例１で使用した光増感剤０．５部、トリメチロールプロパントリアクリレート５５部、製造例１で使用したチタノセン化合物２０部を混合して得られる感光液１００部（固形分）を、プロピレングリコールモノメチルエーテルに混合して、カチオン樹脂組成物８である樹脂溶液（固形分１５％）を得た。
【００９３】
実施例１
ジエタノールアミン／ブチルセロソルブ（ＳＰ値８．９）／脱イオン水＝０．６／０．１／９９．３（重量％）の配合比率で、本発明のアルカリ性水性現像液Ａを調製した。
【００９４】
製造例１で得られた水分散樹脂溶液を電着塗装浴として、積層銅板（銅張基板、以下同じ）を陽極とし、乾燥膜厚が１０μｍとなるようにアニオン電着塗装を行った後、水洗し、８０℃で５分間乾燥を行い電着塗膜感光層であるレジスト被膜を有する基板を得た。
【００９５】
次いで、上記で得られたレジスト被膜を有する基板の表面を、回路パターンマスクの上からアルゴンレーザー（発振線４８８ｎｍ）の光線を照射し露光した。次いで、上記アルカリ性水性現像液Ａに３０℃で１分間浸漬し、現像処理した。その結果、未硬化レジスト被膜は該現像液に完全に溶解しており、パターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【００９６】
また、アルカリ性水性現像液Ａを３０℃で１ヶ月貯蔵したものを使用した以外は上記と同様にして試験を行った。その結果、未硬化レジスト被膜は該現像液に完全に溶解しており、パターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。また、この現像液は、沈殿等の変化はなく、経時安定性が良好であった。
【００９７】
実施例２
ジエタノールアミン／ブチルセロソルブ（ＳＰ値８．９）／「メチレンブルー」（チアジン系塩基性染料）／脱イオン水＝０．６／０．１／０．０５／９９．２５（重量％）の配合比率で、本発明の着色アルカリ性水性現像液Ｂを調製した。
【００９８】
上記「メチレンブルー」（チアジン系塩基性染料）は、下記の構造式で示される化合物である。
【００９９】
【化１】
0004385241.tif 000002
【０１００】
実施例１において、アルカリ性水性現像液Ａに代えて、上記アルカリ性水性現像液Ｂを使用した以外は、実施例１と同様にして現像処理を行った。その結果、現像パターン（硬化部）のレジスト被膜は着色ムラがなく均一に着色されておりパターンの判別性は良好であった。このアルカリ性水性現像液によるパターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【０１０１】
また、アルカリ性水性現像液Ｂを３０℃で１ヶ月貯蔵したものを使用した以外は上記と同様にして試験を行った。その結果、現像パターン（硬化部）のレジスト被膜は着色ムラがなく均一に着色されパターンの判別性は良好であった。このアルカリ性水性現像液によるパターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。また、この現像液は、沈殿等の変化はなく、経時安定性が良好であった。
【０１０２】
実施例３
酢酸／ブチルセロソルブ（ＳＰ値８．９）／「Ｃ．Ｉ．アシッドブルー４０」（アントラキノン系酸性染料）／脱イオン水＝２．３８／０．１／０．０５／９７．４７（重量％）の配合比率で、本発明の酸性水性現像液Ｃを調製した。
【０１０３】
上記「Ｃ．Ｉ．アシッドブルー４０」（アントラキノン系酸性染料）は、下記の構造式で示される化合物である。
【０１０４】
【化２】
0004385241.tif 000003
【０１０５】
製造例２で得られた水分散樹脂溶液を電着塗装浴として、積層銅板を陰極とし、乾燥膜厚が１０μｍとなるようにカチオン電着塗装を行った後、水洗し、８０℃で５分間乾燥を行い電着塗膜感光層であるレジスト被膜を有する基板を得た。
【０１０６】
次いで、上記で得られたレジスト被膜を有する基板の表面を、回路パターンマスクの上からアルゴンレーザー（発振４８８ｎｍ）の光線を照射し露光した。次いで、酸性水性現像液Ｃに３０℃で１分間浸漬した。その結果、現像パターン（硬化部）のレジスト被膜は着色ムラがなく均一に着色されパターンの判別性は良好であった。この酸性現像液によるパターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【０１０７】
実施例４
製造例３で得られた感光液を、積層銅板に乾燥膜厚が１０μｍとなるようにローラー塗装を行った後、１３０℃で５分間加熱を行いレジスト被膜を有する基板を得た。
【０１０８】
次いで、上記で得られたレジスト被膜を有する基板の表面を、回路パターンマスクの上からアルゴンレーザー（発振線４８８ｎｍ）の光線を照射し露光した。次いで、前記アルカリ性水性現像液Ｂに３０℃で１分間浸漬した。その結果、現像パターンのレジスト被膜は着色ムラがなく均一に着色されパターンの判別性は良好であった。このアルカリ性水性現像液によるパターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【０１０９】
実施例５
製造例４で得られた水分散樹脂溶液を電着塗装浴として、積層銅板を陰極とし、乾燥膜厚が５μｍとなるようにカチオン電着塗装を行った後、水洗し、１２０℃で８分間加熱してレジスト被膜を有する基板を作成した。
【０１１０】
次いで、上記で得られたレジスト被膜を有する基板の表面を回路パターンマスクの上からアルゴンレーザー（発振線４８８ｎｍ）の光線を照射し露光した。次いで、前記酸性現像液Ｃに３０℃で１分間浸漬した。その結果、現像パターンのレジスト被膜は着色ムラがなく均一に着色されパターンの判別性は良好であった。この酸性現像液によるパターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【０１１１】
実施例６
製造例５で得られたネガ型感熱型組成物を、積層銅板に乾燥膜厚が１０μｍとなるようにローラー塗装した後、１３０℃で５分間加熱を行いレジスト被膜を有する基板を得た。
【０１１２】
次いで、上記で得られたレジスト被膜を有する基板の表面を回路パターンマスクの上から熱線（波長８３０ｎｍ、半導体レーザー、１Ｊ／ｃｍ2）をパターン状に直接該被膜表面から照射した。次いで、前記アルカリ性水性現像液Ｂに３０℃で１分間浸漬した。その結果、現像パターン（硬化部）のレジスト被膜は着色ムラがなく均一に着色されパターンの判別性は良好であった。このアルカリ現像液によるパターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【０１１３】
実施例７
製造例６で得られたドライフィルムを、積層銅板に貼り付け、回路パターンマスクの上から熱線（波長８３０ｎｍ、半導体レーザー、１Ｊ／ｃｍ2）をパターン状に直接該被膜表面から照射した。次いで、前記アルカリ性水性現像液Ｂに３０℃で１分間浸漬した。その結果、現像パターンのレジスト被膜は着色ムラがなく均一に着色されパターンの判別性は良好であった。このアルカリ性水性現像液によるパターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【０１１４】
実施例８
製造例７で得られた感光液を、積層銅板に、乾燥膜厚が１０μｍとなるようにローラー塗装を行った後、８０℃で５分間乾燥を行い、塗膜感光層であるレジスト被膜を有する基板を得た。
【０１１５】
次いで、上記で得られたレジスト被膜を有する基板の表面を、回路パターンマスクの上からアルゴンレーザー（発振線４８８ｎｍ）の光線を照射し露光した。次いで、前記アルカリ性水性現像液Ａに３０℃で１分間浸漬し、現像処理した。その結果、未硬化レジスト被膜は該現像液に完全に溶解しており、パターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【０１１６】
実施例９
製造例８で得られた樹脂溶液を、積層銅板に、乾燥膜厚が１０μｍとなるようにローラー塗装を行った後、８０℃で５分間乾燥を行い、塗膜感光層であるレジスト被膜を有する基板を得た。
【０１１７】
次いで、上記で得られたレジスト被膜を有する基板の表面を、回路パターンマスクの上からアルゴンレーザー（発振４８８ｎｍ）の光線を照射し露光した。次いで、前記酸性水性現像液Ｃに３０℃で１分間浸漬した。その結果、現像パターン（硬化部）のレジスト被膜は着色ムラがなく均一に着色されパターンの判別性は良好であった。この酸性現像液によるパターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は１００％で良好であった。
【０１１８】
比較例１
炭酸ナトリウム／脱イオン水＝０．２５／９９．７５（重量％）の配合比率で、比較用のアルカリ性水性現像液Ｄを調製した。
【０１１９】
実施例１において、アルカリ性水性現像液Ａに代えて、上記アルカリ性水性現像液Ｄを使用した以外は実施例１と同様にして試験を行った。その結果、未硬化レジスト被膜は、アルカリ性水性現像液に対する溶解性が劣り、パターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は約９０％で悪かった。
【０１２０】
また、上記アルカリ性水性現像液Ｄを３０℃で１ヶ月貯蔵した以外は上記と同様の方法で試験を行った。その結果、パターン検査合格率（１００枚チェック後の合格率）は約８０％で悪かった。
【０１２１】
【発明の効果】
本発明のレジスト被膜パターン形成用水性現像液によれば、感エネルギー線性レジスト被膜を現像処理してパターンを形成する際に、現像性、経時安定性及び染料を配合した場合のレジスト被膜の着色性のいずれにも優れているという顕著な効果が得られる。
【０１２２】
特に、本発明水性アルカリ性現像液において、塩基性化合物としてアルカノールアミン類を使用することにより、現像液の経時安定性が更に向上する。また、アルカリ性現像液の染料としてチアジン系塩基性染料を使用することにより、レジスト被膜に対する着色性が優れ、更にアルカノールアミン類とチアジン系塩基性染料を組み合わせて使用することにより、より着色性が向上し、且つその現像液経時安定性（アルカノールアミン類がチアジン系塩基性染料を変質させない、沈降物等がない等）が優れるといった顕著な効果を発揮する。