(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動自在に設けられるハンドラにより基板を搬送する装置であって、該ハンドラは、
基板の表面に非接触状態で基板を保持する非接触チャックと、該非接触チャックを昇降するロッドを有する昇降機構と、からなる基板保持装置と、
前記昇降機構の外側のヘッド下端部に基板の端面に当接する当接部材と、該当接部材を、前記非接触チャックの下降と共に基板の端面から離間する方向に移動し、該非接触チャックの上昇と共に基板の端面に近接する方向に移動する移動機構と、からなる基板当接装置とを、それぞれ複数備え、
前記基板保持装置と前記基板当接装置とは、フレームに前記ヘッドを介して複数取り付けられており、
前記移動機構は、前記非接触チャックに対応する位置の前記ヘッド下端部の外側面に水平方向外向きに平行に突設され、前記当接部材を水平方向に移動可能に支持する複数の有頭棒状のガイドと、前記当接部材を基板の端面に近接する方向に付勢するスプリングと、前記当接部材に転動可能に備えられるボールとを、それぞれ備え、
前記昇降機構には、前記非接触チャックの昇降と連動して昇降し、前記ボールに当接して前記当接部材を移動させるテーパ面を底面側に有する前記ロッドの下端に備えられたブラケットとを、備えることを特徴とする、基板搬送装置。
【請求項２】
前記当接部材は、基板の端面に当接して基板を位置決めすると共に基板を保持する傾斜面を有することを特徴とする、請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記当接部材は、基板の下面に当接して基板を支持する支持部材を有することを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、紫外線露光装置などにおいて、移動自在に設けられるハンドラによりプリント基板（以下単に「基板」という。）を搬送する、基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
紫外線露光装置などにおいて、搬入ローラにより搬入された基板を載置台に搬送し、載置台で露光された基板を搬出ローラに搬送する方法としては、移動自在に設けられるハンドラにより基板を保持して搬送する方法がある。
【０００３】
ここで、基板を保持する方法としては、複数の真空吸着パッドを備えたハンドラを用い、真空吸着パッドを当接した基板の表面に吸引力を与え、基板を真空吸着して保持する、という方法が知られている。
【０００４】
しかし、この方法では、基板の表面に真空吸着パッドが当接され、基板の表面に局部的に強い吸引力が与えられるので、以下のような問題を生ずる。
ａ）基板に塗布された塗布剤（インキやレジストなど）が生乾きの場合には、基板を保持できないことがある。
ｂ）基板の表裏を貫通するスルーホールに封入された塗布剤がある場合には、塗布剤が吸引されて抜き取られてしまうことがある。
ｃ）基板の表面に凹凸がある場合や基板の表面にゴミが付着している場合には、それらの影響を受けることがある。
ｄ）基板が薄い場合には、真空吸着パッドが当接する部分において、基板に変形が生じ吸着跡が残ることがある。
ｅ）基板が薄い場合には、真空吸着パッドが当接しない部分において、基板に撓みや曲がりが生ずることがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
一方、かかる問題を生じないような基板を保持する方法としては、特開平７−９２６９号公報に示すように、張力付与機能を有する複数の真空吸着パッド及び非接触チャックである複数のベルヌーイチャックを備えたハンドラを用い、真空吸着パッドを当接した基板の周辺部の表面に吸引力を与え、基板の周辺部を真空吸着して保持すると共に、ベルヌーイチャックを対向させた基板の内側部の表面に負圧を発生させ、基板の内側部を非接触状態で保持し、さらに真空吸着パッド同士の間に張力を与え、撓みや曲がりがないように基板を保持する方法が知られている。
【０００６】
この方法によれば、基板の内側部においては、ベルヌーイチャックにより非接触状態で保持されるので、前記ａ）ｂ）ｃ）ｄ）の問題は生ぜず、また基板の周辺部においては、真空吸着パッドにより張力が与えられるので、前記ｅ）の問題も生じない。
【０００７】
しかし、特開平７−９２６９号公報に示すこの方法では、基板の周辺部においては、当接する真空吸着パッドにより真空吸着で保持されるので、依然として前記ａ）ｂ）ｃ）ｄ）の問題が生ずる。
【０００８】
一方、この方法では、載置台に搬送された基板の位置とマスクパターンの位置とを予備的に整合する予備位置決め作業を行うために、搬送前の搬入ローラ又は搬送後の載置台のいずれかに、別途の予備位置決め機構を設ける必要があるので、装置の構成が複雑になり作業の手順も増加する、という問題が生ずる。
【０００９】
そこで、本発明は、内側部であるか周辺部であるかに拘わらず基板の表面に非接触状態で基板を保持して搬送することができ、さらに別途の予備位置決め機構を設ける必要がないような、基板搬送装置を提供することを課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記課題を達成すべく提供されるものであり、その請求項１に係る発明は（例えば図１（ａ）参照）、『移動自在に設けられるハンドラ１０により基板Ｗを搬送する装置であって、該ハンドラは、基板の表面に非接触状態で基板を保持する非接触チャック（ベルヌーイチャック３０）と、該非接触チャックを昇降するロッド４０ａを有する昇降機構（エアシリンダ４０）と、からなる基板保持装置２０と、前記昇降機構の外側のヘッド１２下端部に基板の端面に当接する当接部材６０と、該当接部材を、前記非接触チャックの下降と共に基板の端面から離間する方向に移動し、該非接触チャックの上昇と共に基板の端面に近接する方向に移動する移動機構７０と、からなる基板当接装置５０とを、それぞれ複数備え、前記基板保持装置と前記基板当接装置とは、フレームに前記ヘッドを介して複数取り付けられており、前記移動機構７０は、前記非接触チャックに対応する位置の前記ヘッド１２下端部の外側面に水平方向外向きに平行に突設され、前記当接部材６０を水平方向に移動可能に支持する複数の有頭棒状のガイド７１と、前記当接部材を基板Ｗの端面に近接する方向に付勢するスプリング７２と、前記当接部材に転動可能に備えられるボール７３とを、それぞれ備え、前記昇降機構には、前記非接触チャック（ベルヌーイチャック３０）の昇降と連動して昇降し、前記ボールに当接して前記当接部材を移動させるテーパ面７４ａを底面側に有する前記ロッドの下端に備えられたブラケット７４と、を備えることを特徴とする、基板搬送装置１』である。
【００１１】
これによれば（例えば図３（ａ）（ｂ）参照）、下降した後に上昇するベルヌーイチャック３０により、基板の表面に非接触状態で、基板が保持される。また、基板の端面から離間する方向に移動した後に基板の端面に近接する方向に移動する当接部材６０により、基板の表面に非接触状態で、基板の前後移動が規制される。従って、基板の表面に非接触状態で、基板を保持して搬送することができる。
すなわち、ブラケット７４が基板を保持する前のベルヌーイチャック３０の下降と連動して下降すると、ボール７３が傾斜するテーパ面７４ａに追随して転動し、当接部材６０がスプリング７２の付勢力に抗してガイド７１に沿って基板の端面から離間する方向に移動する（即ち開く）。次に、ブラケット７４が基板を保持した後のベルヌーイチャック３０の上昇と連動して上昇すると、ボール７３が傾斜するテーパ面７４ａに追随して転動し、当接部材６０がスプリング７２の付勢力によりガイド７１に沿って基板の端面に近接する方向に移動する（即ち閉じる）。従って、ベルヌーイチャック３０の下降・上昇と、当接部材６０の開閉とを、簡易な構成により連動させることができる。
【００１２】
また、その請求項２に係る発明は（例えば図１（ａ）参照）、『前記当接部材６０は、基板Ｗの端面に当接して基板を位置決めすると共に基板を保持する傾斜面６０ａを有することを特徴とする、請求項１に記載の基板搬送装置１』である。
【００１３】
これによれば（例えば図３（ｂ）参照）、下向きにすぼまる方向に傾斜する傾斜面６０ａにより、基板が位置決めされると共に、基板の端面が保持される。
従って、当接部材６０が、位置決め部材としての役割を果たすため、別途の予備位置決め機構を設ける必要がなくなる。また、当接部材６０が、保持部材としての役割をも果たすため、仮にベルヌーイチャック３０の作動が停止した場合であっても、基板が安定して保持される。
【００１４】
また、その請求項３に係る発明は（例えば図１（ａ）参照）、『前記当接部材６０は、基板Ｗの下面に当接して基板を支持する支持部材６０ｂを有することを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の基板搬送装置１』である。
【００１５】
これによれば（例えば図３（ｂ）参照）、内向きに平行に突設された爪状の部材である支持部材６０ｂにより、基板の下面が支持される。
従って、基板の端面を押圧することなく、基板を支持することができる。また、仮にベルヌーイチャック３０の作動が停止した場合であっても、基板が安定して支持される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る基板搬送装置における好適な実施の形態に関し、図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００２１】
１．基板搬送装置の構成
基板搬送装置１は、断面側面図である図１（ａ），平面図である図２，作用を表す断面側面図である図３（ａ）（ｂ）及び紫外線露光装置に適用された状態を表す側面図である図４に示すように、以下に説明するような構成を有するものである。
なお、図１（ａ）に示す基板搬送装置１においては、中間部分の記載を省略し、左右部分のみを記載してある。また、図３（ａ）（ｂ）に示す基板搬送装置１においては、中間部分及び右側部分の記載を省略し、左側部分のみを記載してある。
【００２２】
この基板搬送装置１は、移動自在に設けられるハンドラ１０により基板Ｗを搬送する装置であって、そのハンドラ１０の構成に特徴を有するものである。
【００２３】
ハンドラ１０は、図１（ａ）に示すように、非接触チャック（ベルヌーイチャック３０）と昇降機構（エアシリンダ４０）とからなる基板保持装置２０と、当接部材６０と移動機構７０とからなる基板当接装置５０とを、それぞれ複数備えてなる。
【００２４】
ここで「複数」とは、基板保持装置２０においては、基板Ｗの保持に適する数及び位置を意味する。また、基板当接装置５０においては、基板Ｗの前後移動の規制に適する数及び位置を意味し、少なくとも基板Ｗの搬送方向の前後の端面に当接する位置、好ましくは基板Ｗの前後左右の端面に当接する位置である。
【００２５】
このハンドラ１０は、図２に示すように、フレーム１１に、基板保持装置２０及び基板当接装置５０を備えるヘッド１２が、ボルト１３により複数取り付けられてなり、さらに必要に応じて、基板保持装置２０のみを備えるヘッド１２′が、ボルト１３により複数取り付けられてなる。
【００２６】
具体的には、ヘッド１２が装置の左側部分の４箇所に、ヘッド１２′が装置の中間部分の４箇所に、ヘッド１２が装置の右側部分の４箇所に、それぞれ取り付けられている。なお、ヘッド１２については、保持した基板Ｗに撓みや曲がりが生じないように、フランジ３１の縁部が基板Ｗの端面から数ｍｍ内側に位置するように取り付けられるのが好ましい（図１（ａ）参照）。これらのヘッド１２，１２′の取り付け位置を変更することにより、基板Ｗの大きさや形状に合わせた最適な保持が可能となる。
【００２７】
このハンドラ１０は、図２に示すように、ＬＭガイド，シリンダ，ボールネジなどの一般的な移動手段１５により、基板Ｗの搬送方向に移動自在である。
【００２８】
基板保持装置２０を構成する非接触チャックは、図１（ａ）（ｂ）に示すように、基板Ｗの表面に非接触状態で基板Ｗを保持するものであり、基板Ｗの表面と対向するように配置され、基板Ｗの表面に非接触状態で基板Ｗを保持するものであり、例えばベルヌーイチャック３０である。
【００２９】
このベルヌーイチャック３０は、図１（ａ）に示すように、下向きの漏斗状のフランジ３１の中央部に、フランジ３１の面に沿って気体（圧縮空気又は窒素ガス）を吹き出すノズル３２が備えられ、気体供給装置（図示外）からホース３３を介して気体が供給されるようになっている。なお、フランジ３１については、図示のような漏斗状のものには限られず、円盤状のものでもよい。
【００３０】
このベルヌーイチャック３０は、断面側面図である図１（ｂ）に示すように、角度を持つフランジ３１の面に沿って気体を吹き出し、基板Ｗの表面との隙間から気体を排出することにより（細矢印）、気体の吹き出し方向に負圧を発生させ、この負圧により基板Ｗを引きつけて（太矢印）、基板Ｗの表面に非接触状態で、基板Ｗを保持するものである。
【００３１】
例えば、フランジ３１の径がφ７５で気体の圧力が０．３ＭＰａの場合には、１Ｎ程度の基板Ｗを保持することができる。この気体の圧力（流量）を変更することにより、基板Ｗの大きさや形状に合わせた最適な保持力を設定することができる。
【００３２】
基板保持装置２０を構成する昇降機構は、図１（ａ）に示すように、ベルヌーイチャック３０を昇降するものであり、例えばエアシリンダ４０である。
【００３３】
このエアシリンダ４０は、図３（ａ）（ｂ）に示すように、ヘッド１２に下向きに取り付けられ、下向きに伸長するロッド４０ａを有し、ロッド４０ａの下端にブラケット７４を介してベルヌーイチャック３０を備えている。
【００３４】
基板当接装置５０を構成する当接部材６０は、図１（ａ）に示すように、基板Ｗの端面に当接するものであり、基板Ｗの端面と対向するように、少なくとも基板Ｗの搬送方向の前後の端面に当接する位置に配置され、基板Ｗの表面に非接触状態で、基板Ｗの前後移動を規制するものである。
【００３５】
具体的には、この当接部材６０は、基板Ｗを保持する前には、基板Ｗの周辺部の上方に位置しており（図１（ａ）参照）、基板Ｗを保持する際には、基板Ｗの端面の上方に位置しているが（図３（ａ）参照）、基板Ｗを搬送する際には、基板Ｗの端面の側方に、基板Ｗの端面と対向するように位置している（図３（ｂ）参照）。
【００３６】
この当接部材６０は、図１（ａ）に示すように、その内側面に、下向きにすぼまる方向に傾斜し、基板Ｗの端面に当接して基板Ｗを位置決めすると共に基板Ｗを保持する傾斜面６０ａを有する。
【００３７】
即ち、単に基板Ｗの前後移動を規制するには、基板Ｗの端面に当接する垂直面を有すればよいが、図３（ｂ）に示すように、傾斜面６０ａによって基板Ｗの端面が押動されて基板Ｗが位置決めされるので、当接部材６０が、位置決め部材としての役割を果たすようになる。従って、搬入ローラ２や載置台３（図４参照）において、別途の予備位置決め機構を設ける必要がなくなる。
【００３８】
また、図３（ｂ）に示すように、傾斜面６０ａによって基板Ｗの端面が保持されるので、当接部材６０が、保持部材としての役割をも果たすようになる。従って、仮に停電などにより気体供給装置の作動が停止し、ベルヌーイチャック３０の作動が停止した場合であっても、基板Ｗが安定して保持される。
【００３９】
また当接部材６０は、図１（ａ）に示すように、その下端部に、内向きに平行に突設された爪状の部材であり、基板Ｗの下面に当接して基板Ｗを支持する支持部材６０ｂを有する。
【００４０】
この支持部材６０ｂを有することにより、図３（ｂ）に示すように、支持部材６０ｂによって基板Ｗの端面の下面が支持される。従って、基板Ｗの端面を押圧することなく、基板Ｗを支持することができる。また、仮に停電などにより気体供給装置の作動が停止し、ベルヌーイチャック３０の作動が停止した場合であっても、基板Ｗが安定して支持される。
【００４１】
さらに当接部材６０は、図１（ａ）に示すように、その上端部に、ガイド７１が挿通される貫通孔であるガイド孔６０ｃを有し、その中央部に、ボール７３が転動可能に収容される袋孔であるボール孔６０ｄを有する。
【００４２】
基板当接装置５０を構成する移動機構７０は、当接部材６０を移動するものであり、具体的には、基板Ｗを保持する前のベルヌーイチャック３０の下降と共に、基板Ｗの端面から離間する方向に当接部材６０を移動し、また基板Ｗを保持した後のベルヌーイチャック３０の上昇と共に、基板Ｗの端面に近接する方向に当接部材６０を移動するものである。
【００４３】
この移動機構７０は、図１（ａ）に示すように、ガイド７１と、スプリング７２と、ボール７３と、ブラケット７４とを備える。
【００４４】
ここで、ガイド７１は、ヘッド１２の外側面に外向きに平行に突設された有頭棒状の部材であり、摺動補助部品である直線軸受７１ａを介してガイド孔６０ｃ内に挿通され、当接部材６０を水平方向に移動可能に支持するものである。
【００４５】
また、スプリング７２は、当接部材６０の外側面とガイド７１の頭部との間に介装され、当接部材６０を基板Ｗの端面に近接する方向に付勢するものである。
【００４６】
また、ボール７３は、ボール孔６０ｄ内に転動可能に収容され、同じくボール孔６０ｄ内に収容されるスプリング７３ａにより背後からテーパ面７４ａに向けて付勢され、傾斜するテーパ面７４ａ及び垂直面７４ｂに追随して転動するものである。
【００４７】
さらに、ブラケット７４は、ロッド４０ａの下端に備えられた側面視でＬ字型を呈する部材であり、その外側面の下側に下向きにすぼまる方向に傾斜するテーパ面７４ａを有し、その外側面の上側に垂直面７４ｂを有し、その下端にベルヌーイチャック３０を備え、ベルヌーイチャック３０の昇降と連動して昇降し、テーパ面７４ａがボール７３に当接して当接部材６０を移動させるものである。
【００４８】
このような移動機構７０を備えることにより、ベルヌーイチャック３０の下降・上昇と、当接部材６０の開閉とを、簡易な構成により連動させることができる。
【００４９】
一方、この基板搬送装置１は、紫外線露光装置Ｍに適用されるものである。
この紫外線露光装置Ｍは、図４に示すように、搬入側から搬出側に向けて順に、搬入ローラ２と、載置台３と、搬出ローラ４とを備え、それらの上方において、搬入ローラ２と載置台３との間を基板搬送装置１が移動し、載置台３と搬出ローラ４との間を基板搬送装置１′が移動して、基板Ｗが搬送されるようになっている。なお、基板搬送装置１′は、基板搬送装置１と同様の構成を有するものである。
【００５０】
ここで、搬入ローラ２は、図１乃至図４に示すように、複数のローラ部材２ａの間から圧縮空気を吹き出すエアノズル５を備える。また、載置台３も、図４に示すように、複数の吹出孔から圧縮空気を吹き出すエアノズル５を備える。ただし、搬出ローラ４は、エアノズルを備えない。
【００５１】
なお、エアノズル５が備えられるパターンとしては、図４に示すように搬入ローラ２及び載置台３に備えられるパターンの他に、搬入ローラ２のみに備えられるパターン、載置台３のみに備えられるパターンの、合計３パターンが考えられる。
【００５２】
このエアノズル５は、図３（ａ）及び図４に示すように、ベルヌーイチャック３０の下降と同期して、ポンプＰから圧縮空気が供給され、基板Ｗの下面に向けて圧縮空気を吹き出すものである。
【００５３】
このようなエアノズル５を備えることにより、塗布剤の乾燥が充分でなく基板Ｗの表面の粘性が高い場合であっても、基板Ｗを搬入ローラ２から容易に分離することができる。また、基板Ｗが載置台３に密着している場合であっても、基板Ｗを載置台３から容易に分離することができる。
【００５４】
なお、図４に示すように、昇降可能な載置台３の上方には、マスクパターンが取り付けられた上焼枠６と、位置決めマークを撮像するＣＣＤカメラ７と、基板Ｗの位置を修正するアライメント機構（図示外）と、基板Ｗとマスクパターンとを密着する真空吸着機構（図示外）と、露光を行う紫外線ランプ８とが備えられている。
【００５５】
２．基板搬送装置の作用
基板搬送装置１は、前記図１乃至図４に示すように、以下に説明するような作用を奏するものである。
【００５６】
（１）初期状態（図４及び図１（ａ）参照）
基板Ｗが、紫外線露光装置Ｍの外部に備えられたコンベヤなどの搬入経路から搬入ローラ２に搬入され、図４及び図１（ａ）に示すような状態になる。
【００５７】
（２）基板の保持（図３（ａ）参照）
気体（圧縮空気又は窒素ガス）が、気体供給装置（図示外）からベルヌーイチャック３０のノズル３２に供給され、フランジ３１の面に沿って吹き出される。
【００５８】
ここで、エアシリンダ４０のロッド４０ａが伸長されると、ブラケット７４がベルヌーイチャック３０の下降と連動して下降し、ボール７３がブラケット７４に形成された傾斜するテーパ面７４ａ及び垂直面７４ｂに追随して転動し、当接部材６０がスプリング７２の付勢力に抗してガイド７１に沿って基板Ｗの端面から離間する方向に移動し、当接部材６０が開く。
【００５９】
同時に、基板Ｗが、気体の吹き出しにより発生する負圧によって、その表面に非接触状態でベルヌーイチャック３０に保持され、図３（ａ）に示すような状態になる。
【００６０】
なお、エアノズル５から圧縮空気を吹き出すことによって、基板Ｗを搬入ローラ２から容易に分離することができる。
【００６１】
（３）基板の位置決め（図３（ｂ）参照）
エアシリンダ４０のロッド４０ａが縮退されると、ブラケット７４がベルヌーイチャック３０の上昇と連動して上昇し、ボール７３がブラケット７４に形成された垂直面７４ｂ及び傾斜するテーパ面７４ａに追随して転動し、当接部材６０がスプリング７２の付勢力によりガイド７１に沿って基板の端面に近接する方向に移動し、当接部材６０が閉じる。
【００６２】
同時に、基板Ｗが、その端面に当接する当接部材６０の傾斜面６０ａによって位置決めされると共に、傾斜面６０ａによって安定して保持され、かつ支持部材６０ｂによって安定して支持され、図３（ｂ）に示すような状態になる。即ち、基板Ｗの保持と共に基板Ｗの位置決めができるので、別途の予備位置決め機構を設ける必要がない。
【００６３】
なお、少なくとも基板Ｗの搬送方向の前後に備えられる当接部材６０，６０によって、基板Ｗが押されて変形することがないように、ベルヌーイチャック３０が上昇する距離、換言すれば当接部材６０が閉じる方向に移動する距離は、適切に制御する必要がある。
【００６４】
（４）基板の搬送（図４参照）
基板Ｗが、当接部材６０，６０によって前後移動を規制されながら、ハンドラ１０と共に移動し、搬入ローラ２から載置台３まで搬送される。
ここで、再びエアシリンダ４０のロッド４０ａが伸長され、当接部材６０が開くと共に、ベルヌーイチャック３０への気体の供給が停止され、基板Ｗの保持が解除されると、基板Ｗが、載置台３上に載置される。
【００６５】
（５）基板の露光（図４参照）
基板Ｗが載置された載置台３が上昇されると、マスクパターンが取り付けられた上焼枠６に基板Ｗが接近され、ＣＣＤカメラ７により基板Ｗとマスクパターンの位置決めマークが撮像され、両者の位置にズレがあるとアライメント機構（図示外）により基板Ｗの位置が修正され、両者の位置が整合されると紫外線ランプ８により基板Ｗの露光が行われ、露光が終了すると載置台３が下降する。
【００６６】
（６）基板の搬送（図４参照）
基板搬送装置１′によって、前記（２）〜（４）と同様の手順により、基板Ｗが保持され、前後移動を規制されながら、載置台３から搬出ローラ４まで搬送され、搬出ローラ４上に載置される。
【００６７】
なお、基板Ｗを保持する際に、エアノズル５から圧縮空気を吹き出すことによって、基板Ｗを載置台３から容易に分離することができる。
【００６８】
【発明の効果】
本発明に係る基板搬送装置は、以下に説明するような顕著な効果を奏するものである。
【００６９】
（１）非接触チャックを備えることにより、内側部であるか周辺部であるかに拘わらず、基板の表面に非接触状態で基板を保持することができる。
従って、ａ）基板に塗布された塗布剤（インキやレジストなど）が生乾きの場合であっても、基板を保持できる。
また、ｂ）基板の表裏を貫通するスルーホールに封入された塗布剤がある場合であっても、塗布剤が吸引されて抜き取られてしまうことがない。
また、ｃ）基板の表面に凹凸がある場合や基板の表面にゴミが付着している場合であっても、それらの影響を受けることがない。
また、ｄ）基板が薄い場合であっても、基板に変形が生じたり吸着跡が残ったりすることがない。
さらに、ｅ）基板が薄い場合であっても、基板に撓みや曲がりが生ずることがない。
なお、当接部材を備えることにより、基板の前後移動が規制されるので、基板の表面に非接触状態で基板を搬送することができる。
【００７０】
（２）傾斜面を備えることにより、別途の予備位置決め機構を設ける必要がなくなる。従って、装置の構成が簡易であり、作業の手順も増加しない。また、仮に非接触チャックの作動が停止した場合であっても、基板が安定して保持される。
【００７１】
（３）支持部材を備えることにより、基板の端面を押圧することなく、基板を支持することができる。また、仮に非接触チャックの作動が停止した場合であっても、基板が安定して支持される。
【００７２】
（４）移動機構を備えることにより、ベルヌーイチャックの下降・上昇と、当接部材の開閉とを、簡易な構成により連動させることができる。
【００７３】
（５）エアノズルを備えることにより、基板を搬入ローラや載置台から容易に分離できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板搬送装置を表す断面側面図であり、（ａ）は装置の全体、（ｂ）は基板とベルヌーイチャックとの関係を表す。
【図２】本発明に係る基板搬送装置を表す平面図である。
【図３】本発明に係る基板搬送装置の作用を表す断面側面図であり、（ａ）は基板の保持、（ｂ）は基板の位置決めを表す。
【図４】本発明に係る基板搬送装置において、紫外線露光装置に適用された状態を表す側面図である。
【符号の説明】
Ｍ      紫外線露光装置
Ｐ      ポンプ
Ｗ      基板
１      基板搬送装置
２      搬入ローラ
２ａ    ローラ部材
３      載置台
４      搬出ローラ
５      エアノズル
６      上焼枠
７      ＣＣＤカメラ
８      紫外線ランプ
１０      ハンドラ
１１      フレーム
１２      ヘッド
１３      ボルト
１５      移動手段
２０      基板保持装置
３０      ベルヌーイチャック（非接触チャック）
３１      フランジ
３２      ノズル
３３      ホース
４０      エアシリンダ（昇降機構）
４０ａ    ロッド
５０      基板当接装置
６０      当接部材
６０ａ    傾斜面
６０ｂ    支持部材
６０ｃ    ガイド孔
６０ｄ    ボール孔
７０      移動機構
７１      ガイド
７１ａ    直線軸受
７２      スプリング
７３      ボール
７３ａ    スプリング
７４      ブラケット
７４ａ    テーパ面
７４ｂ    垂直面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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