(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板移載機の基板保持部上に載置された基板の真空吸着作動状態を真空吸着可能な基板真空吸着機構により停止し、前記基板保持部を下降して前記基板をボート又はカセットの基板載置面上に移載した後、前記基板真空吸着機構によって再び真空吸着作動状態として吸着圧力を検知することによって、前記基板と前記基板保持部とが離れているか又は密着しているかを確認し、確認結果に基づいて前記ボート又は前記カセットからの前記基板保持部の抜き出し制御を行うようにしたことを特徴とする基板移載方法。
【請求項２】
基板移載機の基板保持部上に載置された基板の真空吸着作動状態を真空吸着可能な基板真空吸着機構により停止し、前記基板保持部を下降して前記基板をボート又はカセットの基板載置面上に移載した後、前記基板真空吸着機構によって再び真空吸着作動状態として吸着圧力を検知することによって、前記基板と前記基板保持部とが離れているか又は密着しているかを確認し、確認結果に基づいて前記ボート又は前記カセットから前記基板保持部の抜き出し制御を行う制御手段を有することを特徴とする基板移載機。
【請求項３】
前記基板保持部は、ツイーザ又は基板搬送プレートであることを特徴とする請求項２に記戴の基板移載機。
【請求項４】
基板移載機の基板保持部上に載置された基板の真空吸着作動状態を真空吸着可能な基板真空吸着機構により停止し、前記基板保持部を下降して前記基板をボート又はカセットの基板載置面上に移載した後、前記基板真空吸着機構によって再び真空吸着作動状態として吸着圧力を検知することによって、前記基板と前記基板保持部とが離れているか又は密着しているかを確認し、確認結果に基づいて前記ボート又は前記カセットから前記基板保持部の抜き出し制御を行う制御手段を有する基板移載機を備えた基板処理装置。
【請求項５】
前記基板と前記基板保持部とが離れているか又は密着しているかを確認し、
前記基板と前記基板保持部が離れている場合、前記基板保持部を前記ボート又は前記カセットから抜き出し、
前記基板と前記基板保持部が密着している場合、警告を報知するとともに前記基板保持部を上昇させ前記基板を保持して停止することを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記基板保持部を複数有する場合、
全ての基板保持部が前記基板と離れている場合、前記基板保持部を前記ボート又は前記カセットから抜き出し、
少なくとも一つの基板保持部が前記基板と密着している場合、前記基板保持部を上昇させ前記基板を保持して停止することを特徴とする請求項４又は５記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記基板が載っていない前記基板保持部に関して、前記基板と基板保持部とが離れているか又は密着しているかを確認しないことを特徴とする請求項４乃至６のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記基板保持部は、ツイーザ又は基板搬送プレートである請求項４乃至７のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造においてウェーハやガラス基板などの基板を基板移載機により移載する基板移載方法、基板移載機及び基板処理装置に係り、特に、ボート又はカセットの基板載置面上に基板を載置した後に、基板が基板を保持する基板保持部から離れているか又は密着しているかを確認した後、前記基板保持部の抜き出しを制御する基板移載方法、基板移載機及び基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造装置で用いられているウェーハ移載機を図２により説明する。ウェーハ移載機１０は、昇降機構（図示せず）を有し、昇降機構の昇降台１１上にスライド機構１２が回転可能に設けられ、スライド機構１２上にチャッキングヘッド１３が水平方向にスライド可能に設けられている。チャッキングヘッド１３には、ウェーハ１を保持するツイーザ１４が鉛直方向に複数段（図示例では５段）設けられている。また、ウェーハ移載機１０は、ウェーハ１を真空吸着するためのウェーハ真空吸着機構（図示せず）を有し、ウェーハ真空吸着機構の吸着孔（図示せず）がツイーザ１４の上面に開口されている。
【０００３】
このウェーハ移載機１０によるウェーハの移載動作を説明する。昇降機構により昇降台１１を昇降すると共にスライド機構１２を回転させ、カセットストッカ１５に対してチャッキングヘッド１３を移載すべきウェーハ１の位置前方に移動し、更に、スライド機構１２によりチャッキングヘッド１３を前進させ、ツイーザ１４をカセット１６内に挿入する。次いで、チャッキングヘッド１３をわずかに上昇させ、ツイーザ１４でウェーハ１を持ち上げ、真空吸着して保持した後、チャッキングヘッド１３を後退させて、移載するウェーハ１をカセット１６から取り出す。
【０００４】
次に、スライド機構１２を１８０°回転させ、チャッキングヘッド１３をボート１７に対向させ、昇降台１１の昇降によりチャッキングヘッド１３を昇降させて、チャッキングヘッド１３をボート１７のウェーハ移載位置の前方に移動する。更に、チャッキングヘッド１３を前進させて、ツイーザ１４に保持されたウェーハ１をボート１７に挿入し、真空吸着を解除した後、チャッキングヘッド１３をわずかに降下させ、ウェーハ１をボート１７に移載し、チャッキングヘッド１３を後退させる。これにより、カセットストッカ１５からボート１７への１回のウェーハ移載動作が完了する。この移載動作を繰り返すことにより、カセットストッカ１５からボート１７に所望枚数のウェーハ１を移載することができる。また、ボート１７からカセットストッカ１５へのウェーハ１の移載は、上記動作と逆の手順で行われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記ウェーハ移載機１０によって、ボート１７やカセット１６内のスリット、スロット等のウェーハ移載面上にウェーハ１を移載したときに、ウェーハ１に反り等がある場合などに、ウェーハ１とツイーザ１４が密着して離れない可能性があった。この密着状態でチャッキングヘッド１３を引き戻すと、ウェーハ１を引きずり出してしまうため、ボート１７を引きずり倒したり、あるいは、ウェーハ１をツイーザ１４に載せたままの状態で、ウェーハ１をボート１７やカセット１６に取りに行って、ウェーハ１及びツイーザ１４を破損する等の事故が発生する恐れがあった。このような事故を防止するために、オペレータはウェーハ真空吸着機構によるウェーハの吸着圧力を調整する必要があったが、この調整作業は非常に難しく、上記ウェーハ１とツイーザ１４との密着を完全に防ぐことは困難であった。
【０００６】
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消すべくなされたもので、基板移載時に基板と基板保持部とが離れているか否かを確認でき、基板の破損事故等を未然に防止できる基板移載方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の基板移載方法は、ボート又はカセットの基板載置面上に基板移載機により基板を移載した後に、基板を前記基板移載機の基板保持部に真空吸着可能な基板真空吸着機構による吸着圧力を検知することによって、前記基板と基板保持部とが離れていることを確認するようにしたことを特徴とする。
【０００８】
ボート又はカセットの基板載置面上に基板を移載したときに、基板と基板保持部とが離れている場合、基板真空吸着機構の真空ポンプ等を動作させても、基板と基板保持部との隙間から雰囲気ガスが吸引されるので、基板真空吸着機構の吸着圧力（圧力センサ等により検知される）は真空（低圧）状態とはならず、基板と基板保持部とが離れていることを確認できる。一方、基板と基板保持部とが密着している場合、基板真空吸着機構で吸引すると、基板真空吸着機構の吸着圧力は真空（低圧）状態となり、基板と基板保持部とが離れていないことを確認できる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。本発明に係る基板移載方法は、ＣＶＤ装置、拡散装置、酸化装置等の各種の基板処理装置ないし半導体製造装置において、基板（半導体ウェーハやＬＣＤ用等のガラス基板など）の移載・搬送に用いることができるものである。図１及び図２は、本発明の基板移載方法の一実施形態を示すもので、基板としてのウェーハ１をウェーハ移載機２によりカセット（ないしボート）３に移載する際の移載動作を説明する説明図である。
【００１０】
ウェーハ移載機２には、図示のように、基板保持部としてのツイーザ４が上下方向に５段に設けられており、ウェーハ真空吸着機構によって各ツイーザ４上にウェーハ１を真空吸着により保持して搬送することができる。各ツイーザ４内には、吸引路５が形成され、吸引路５の一端側はツイーザ４の上面に開口して吸着孔となっている。また、各吸引路５の他端側は配管６に連通され、これら配管６は配管７に集合されて図示省略の真空ポンプに接続されている。各配管６には、真空センサ（吸着センサ）８と電磁弁９とがそれぞれ設けられている。また、ウェーハ移載機２には、その移動量の制御や、真空ポンプの作動、電磁弁９の開閉などの制御を行う制御手段（図示せず）が設けられている。真空センサ８は、各配管６内の圧力を検知し、検知した圧力が所定圧力以下のとき（真空状態のとき）にはＯＮ信号が、所定圧力を越えるときにはＯＦＦ信号が検知信号として制御手段に入力される。なお、図１および図２において、最上段と最下段のツイーザ４に対する配管６にのみ真空センサ８を図示した。
【００１１】
ウェーハ真空吸着機構の真空ポンプを作動状態にしておき、電磁弁９を開き、ツイーザ４上にウェーハ１を真空吸着して保持しつつカセット３へと搬送し、ツイーザ４をカセット３内に挿入する。次いで、図１（ａ）に示すように、全電磁弁９を閉じて全ツイーザ４の真空吸着を停止し、ツイーザ４をわずかに下降して各ウェーハ１をカセット３の目標スロットに移載する。
【００１２】
ウェーハ移載後、ツイーザ４をカセット３から抜き出すが、その前に、それぞれのウェーハ１とツイーザ４とが離れているか否かの確認動作を行う。この確認動作を本実施形態では最下段のツイーザ４から最上段のツイーザ４へと順に１つずつ行う。即ち、まず、図１（ｂ）に示すように、最下段のツイーザ４の吸引路５に連通する配管６の電磁弁９のみを開き、最下段のツイーザ４のみを真空吸着作動状態とする。この状態を所定時間保った後、真空センサ８のＯＮ，ＯＦＦ状態を検知する。ウェーハ１とツイーザ４とが離れていれば、配管６の圧力は低下せず、真空センサ８はＯＦＦ状態であり、一方、ウェーハ１とツイーザ４とが密着していれば、配管６の圧力は低下し、真空センサ８はＯＮ状態となる。従って、全ての真空センサ８がＯＦＦ状態となっていれば、現在の確認対象ツイーザである最下段のツイーザ４とウェーハ１とは確実に離れていると判断でき、下から２段目のツイーザ４の確認に移る。
【００１３】
この場合も上記と同様に、図１（ｃ）に示すように、下から２段目のツイーザ４に対応する電磁弁９のみを開き、全ての真空センサ８がＯＦＦ状態となっていることを検知して、下から２段目のツイーザ４がウェーハ１から離れていることを確認する。こうして、最上段のツイーザ４まで１つずつ確認動作を実行し、全てのツイーザ４がウェーハ１から離れていることを確認した後、ツイーザ４をカセット３から抜き出すことにより、ウェーハ移載動作が正常に終了する（図１（ｄ））。
【００１４】
ところが、ウェーハ１をカセット３のスロットに移載しても、図２（ａ）に示すように、ウェーハ１に反り等があってウェーハ１とツイーザ４とが離れずに密着している場合がある。このような場合には、上記ウェーハ真空吸着機構による吸着圧力の確認動作を実施すると、ウェーハ１が密着しているツイーザ４に対する真空センサ８がＯＮ状態となるので、ウェーハ１とツイーザ４とが離れていないことを確認できる。従って、真空センサ８がいずれか一つでもＯＮ状態となったときには、その旨の警告を発し、全ての電磁弁９を開いて全ツイーザ４を真空吸着作動状態とし、ツイーザ４をわずかに上昇させ全ウェーハ１をスロットからすくい上げて保持し、ウェーハ搬送動作を停止する（図２（ｂ））。
【００１５】
このように、ツイーザ４からカセット等にウェーハ１を載せた後、ツイーザ４を元の位置に引き戻す前に、ウェーハ１とツイーザ４とが離れているか否かを確認し、離れていない場合には、ウェーハ搬送動作を緊急停止するようにしたので、ツイーザ４上にウェーハ１を保持したままで、カセット等からツイーザ４を抜き出したり、カセット等にウェーハを取りに入ったりして、ウェーハ等を破損するなどの事故を未然に防止することができる。
【００１６】
また、ウェーハ１を移載した後に、ウェーハ１がツイーザ４から剥離されていることを確認するために、ウェーハ１をツイーザ４に真空吸着させるウェーハ真空吸着機構を利用して行っているので、真空吸着機構を有するウェーハ移載機にあっては、ウェーハ剥離確認のための検出手段等を特に設ける必要もなく、簡易に実施できる。
【００１７】
なお、上記実施形態では、全てのツイーザ４に対してウェーハ１がツイーザ４から離れていることの確認を行ったが、カセット等に収納されているウェーハの収納データなどから、ウェーハ１が載っていないことが分かっているツイーザ４に対しては移載後の剥離確認動作を省略してもよい。また、上記実施形態では、基板保持部としてツイーザを用いたが、基板搬送プレートなどを用いるようにしてもよい。
【００１８】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、基板をカセット等に移載した後に、基板を基板保持部に真空吸着可能な基板真空吸着機構による吸着圧力を検知して、基板と基板保持部とが離れていることを確認する構成としたため、基板と基板保持部との密着による基板、基板保持部等の破損事故などを未然に防止でき、基板移載操作の安全性・信頼性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板移載方法の一実施形態を示すもので、ウェーハをウェーハ移載機によりカセット等に移載する際の移載動作を説明する説明図である。
【図２】本発明に係る基板移載方法の一実施形態を示すもので、ウェーハをウェーハ移載機によりカセット等に移載する際の移載動作を説明する説明図である。
【図３】従来のウェーハ移載機によるウェーハ移載方法を説明するための概略構成図である。
【符号の説明】
１  ウェーハ
２  ウェーハ移載機
３  カセット
４  ツイーザ
５  吸引路
６  配管
７  配管
８  真空センサ
９  電磁弁
【図１】
0004283919.tif 000002
【図２】
0004283919.tif 000003
【図３】
0004283919.tif 000004