(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
希土類元素の水溶性塩の水溶液と蓚酸水溶液とを、遊離酸濃度０．２モル／リットル以上、希土類元素濃度０．１〜１．０モル／リットルに調整した溶液に、濃度１〜３０重量％、対希土類元素２〜２．５倍モル量の蓚酸水溶液、および対蓚酸２〜４倍モル量のアンモニア水を撹拌しながら混合した後、蓚酸複塩を晶出させ、その沈殿物及び反応母液を３０〜１００℃に１〜８時間保持し、次いでろ過により沈殿物を反応母液から分離し、その後不活性ガス雰囲気下または大気中で７００〜１，７００℃で１〜６時間焼成することにより、蓚酸塩の酸化物への熱分解および酸化物粒内の結晶成長、緻密化を経て造粒工程および粉砕工程を必要とせずに得られ、平均粒径が２３〜１００μｍ、分散指数が０．５以下、嵩密度が真密度の０．３倍以上０．４７倍以下で、アスペクト比が２以下の多面体形であることを特徴とする希土類元素含有化合物溶射用粒子。
【請求項２】
比表面積が８．０ｍ2／ｇ以下であることを特徴とする請求項１記載の希土類元素含有化合物溶射用粒子。
【請求項３】
結晶子が２５ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１または２記載の希土類元素含有化合物溶射用粒子。
【請求項４】
鉄族元素、アルカリ金属元素、およびアルカリ土類金属元素が酸化物換算でそれぞれ５ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の希土類元素含有化合物溶射用粒子。
【請求項５】
基材と、この基材表面に請求項１乃至４のいずれか１項に記載の希土類元素含有化合物溶射用粒子を溶射してなる被膜と、を備えることを特徴とする溶射部材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属、セラミックス等の基材表面にプラズマ溶射等を用いて希土類元素含有化合物溶射被膜を形成した際に、密着性が高く、しかも平滑で高純度の溶射被膜を形成できる希土類元素含有化合物溶射用粒子、および該粒子を用いた溶射部材に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
従来から、金属、セラミックス等に金属酸化物を溶射することにより被膜を形成し、耐熱性、耐磨耗性、耐食性を付与することが行なわれている。
このような溶射被膜を形成するための溶射用粒子として、（１）原料を電気炉で溶融し、冷却凝固後、粉砕機で微粉化し、その後分級することにより粒度調整を行って得られる溶融粉砕粉、（２）原料を焼結後、粉砕機で微粉化し、その後分級することにより粒度調整を行って得られる焼結粉砕粉、（３）原料粉末を有機バインダーに加えてスラリー化し、噴霧乾燥型造粒機を用いて造粒後、焼成し、場合によっては分級することにより粒度調整を行って得られる造粒粉、等が挙げられる。また、溶射部材としてアルミナ、シリカ等を用いた部材が開発されているが、パーティクルのない緻密な部材を得るのが困難であった。
【０００３】
また、上記溶射用粒子に求められる特性として、▲１▼溶射時のプラズマ炎またはフレーム炎まで材料が安定、かつ、定量的に供給できること、▲２▼供給時および溶射時に粒子形状が崩れないこと、▲３▼溶射時に粒子が完全に溶融すること、が要求され、これら各特性は、十数項目からなる粉体物性値で定量的に表現される。
【０００４】
ところで、上記溶射用粒子は、搬送チューブ等の細い流路を介して溶射ガンまで供給されることから、付着がなく安定的かつ定量的に供給を行えるか否かは、溶射用粒子の粉体物性、流動性にかなり影響されることとなる。
しかしながら、上記（１）、（２）の方法で得られる溶融粉砕粉や、焼結粉砕粉は、粒子の強度としては十分であるものの、形状が不定形であるうえ、粒度分布が広いため、搬送中の粒子同士の摩擦により、微粒子が発生するとともに、安息角が大きく流動性が悪いので、搬送チューブや溶射ガン内で閉塞等が生じ、連続的に溶射できない等の問題があった。
【０００５】
これら各粉砕粉の問題点を解決するものとして、上記（３）の方法で得られる造粒粉、すなわち、球形または球に近い形状であるため流動性が良いという特徴を有する造粒粉、が開発されてきている。
この造粒粉の粉体強度は、原料とする粒子の粒度分布と、焼結工程の条件とで決まるものであるため、粉体強度にばらつきが生じやすく、強度が低いものは、供給時および溶射時に崩れ易いという問題があり、しかも造粒粉を得るプロセスが複雑になり、多くの工程からなる程、Ｆｅ等の不純物の混入を防ぐことができないという問題があった。
【０００６】
一方、金属酸化物からなる溶射用粒子を溶射する場合、密着強度に優れた溶射被膜を形成するためには、溶射時にフレーム炎またはプラズマ炎中で溶射用粒子を完全に溶融させる必要がある。
しかしながら、噴霧型造粒機を用いた造粒粉の場合、平均粒径２０μｍ以下にするのは難しく、一方、溶融粉砕粉や焼結粉砕粉の場合、粉砕することで平均粒径が小さい溶射材料が得られるものの、粉砕機等からの汚染があるため、通常の粒子では数十ｐｐｍ程度の不純物の混入を避けることができなかった。
【０００７】
このように、上述した溶融粉砕粉、焼結粉砕粉、造粒粉には、それぞれ長所、短所があるため、溶射用粒子として必ずしも最適なものがなかった。しかも、３種類の粉体全てにおいて、粉砕工程、造粒工程、分級工程からの汚染があるため、高純度化という点でも問題となっていた。
すなわち、上記各工程を経て得られる溶融粉砕粉、焼結粉砕粉、造粒粉では、鉄族元素、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素等の不純物が、通常、酸化物換算で２０ｐｐｍ以上混入しているため、当該溶射用粒子を溶射してなる被膜を有する溶射部材が不純物部分から腐食を起こしやすく、十分な耐久性が得られないという問題もあった。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、高融点の希土類元素含有化合物を用いても密着性の高い溶射被膜を形成できるとともに、純度の高い希土類元素含有化合物溶射用粒子、および該粒子を基材表面に溶射してなる溶射部材を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段および発明の実施の形態】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、希土類元素含有化合物溶射用粒子において、平均粒径、分散指数、およびアスペクト比を所定の値に制御し、かつ、粉末形状を多面体形とすること、さらに必要に応じて比表面積、嵩密度、結晶子、ならびに鉄族、アルカリ金属およびアルカリ土類金属元素の各量を所定範囲に制御することで、該溶射用粒子が流動性に優れ、緻密かつ高強度であり、溶射時に崩壊せずに完全に溶解する可能性があることを見いだすとともに、当該溶射用粒子を溶射してなる被膜が、従来の溶射被膜に比べて平滑で高純度になり、密着性および耐食性に優れることを見いだし、本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明は、
１．希土類元素の水溶性塩の水溶液と蓚酸水溶液とを、遊離酸濃度０．２モル／リットル以上、希土類元素濃度０．１〜１．０モル／リットルに調整した溶液に、濃度１〜３０重量％、対希土類元素２〜２．５倍モル量の蓚酸水溶液、および対蓚酸２〜４倍モル量のアンモニア水を撹拌しながら混合した後、蓚酸複塩を晶出させ、その沈殿物及び反応母液を３０〜１００℃に１〜８時間保持し、次いでろ過により沈殿物を反応母液から分離し、その後不活性ガス雰囲気下または大気中で７００〜１，７００℃で１〜６時間焼成することにより、蓚酸塩の酸化物への熱分解および酸化物粒内の結晶成長、緻密化を経て造粒工程および粉砕工程を必要とせずに得られ、平均粒径が２３〜１００μｍ、分散指数が０．５以下、嵩密度が真密度の０．３倍以上０．４７倍以下で、アスペクト比が２以下の多面体形であることを特徴とする希土類元素含有化合物溶射用粒子、
２．比表面積が８．０ｍ2／ｇ以下であることを特徴とする１記載の希土類元素含有化合物溶射用粒子、
３．結晶子が２５ｎｍ以上であることを特徴とする１または２記載の希土類元素含有化合物溶射用粒子、
４．鉄族元素、アルカリ金属元素、およびアルカリ土類金属元素が酸化物換算でそれぞれ５ｐｐｍ以下であることを特徴とする１〜３のいずれかの希土類元素含有化合物溶射用粒子、
５．基材と、この基材表面に１〜４のいずれかの希土類元素含有化合物溶射用粒子を溶射してなる被膜と、を備えることを特徴とする溶射部材
を提供する。
【００１１】
以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
本発明における希土類元素含有化合物としては、希土類元素を含む酸化物、ハロゲン化物（フッ化物、フッ化オキサイド、塩化物）等が挙げられるが、特に焼結して用いる点から、酸化物を用いることが好ましい。以下、酸化物について説明するが、他の化合物に関しても同様である。
希土類元素含有酸化物としては、イットリウム（Ｙ）を含む３Ａ族の希土類元素のうちから１種以上を用いることができるが、特にＹ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、およびＬｕから選ばれる１種または２種以上の重希土類元素含有酸化物を用いることが好ましい。
なお、上記希土類元素含有酸化物とＡｌ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｉｎ等から選ばれる１種以上の金属との複合酸化物を用いてもよい。
【００１２】
上記希土類元素含有酸化物は、融点が高く熱伝導度も低いので、その平均粒径を３〜１００μｍとする必要がある。ここで、平均粒径が３μｍ未満であると、溶射時のプラズマ炎等の中で蒸発、飛散してしまい、その分だけロスが生じるという問題がある。一方、平均粒径が１００μｍを超えると、溶射時のプラズマ炎等の中で完全に溶融せずに溶け残り、それが未融着粉となって、密着強度の低下を招く虞がある。より好ましい平均粒径は５〜５０μｍ、特に７〜４０μｍが好ましい。なお、上記平均粒径とは、レーザー回折法で測定した粒度分布のＤ５０の値である。
【００１３】
本発明の希土類元素含有酸化物溶射用粒子は、針状や板状でない立方体を含む正多面体または該形状に近い多面体（本発明では両者を含めて多面体形という）を有し、球状体を含まないものであるとともに、粒度分布の狭いものである。
具体的には、分散指数が０．５以下、アスペクト比が２以下の粒子である。
ここで、分散指数が０．５を超えると、粒度分布がブロードになり、流動性が悪化し、粉体供給時にノズル内で閉塞等を生じることとなる。より好ましい分散指数は０．４以下である。
なお、分散指数とは、下記式で定義されるものである。
分散指数  ＝  （Ｄ９０−Ｄ１０）／（Ｄ９０＋Ｄ１０）
上式において、Ｄ１０は１０ｖｏｌ％での粒径を、Ｄ９０は９０ｖｏｌ％での粒径を示し、ともにレーザー回折法での測定値である。
【００１４】
また、上記アスペクト比は、粒子の長径と短径との比、すなわち、長径／短径で表されるものであり、走査型電子顕微鏡写真から求められるものである。
ここで、アスペクト比が２を超えると、形状が正多面体形からかけ離れたものとなり、流動性が悪化することとなる。この場合、アスペクト比の下限値は、特に限定されないが、１により近いものが好ましい。
【００１５】
以上において、希土類元素含有酸化物溶射用粒子の比表面積が８．０ｍ2／ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは０．１〜４．０ｍ2／ｇ、特に０．１〜１．０ｍ2／ｇであることが好ましい。
ここで、比表面積が８．０ｍ2／ｇを超える場合、表面に凹凸が多くなる、すなわち、表面平滑性が悪くなり、流動性が低下する虞がある。
また、嵩密度が真密度の０．３倍以上０．４７倍以下であることが好ましい。上記値が０．３倍未満の場合、粒子が緻密ではないために強度が弱くなりがちであり、溶射時に崩壊する虞がある。
【００１６】
ところで、単結晶粒子は最も緻密であり、多結晶粒子でも粒子を構成する単結晶粒子の粒径が大きいほど緻密であると考えられる。このような粒子を構成する単結晶粒子の粒径を結晶子といい、上記希土類元素含有酸化物溶射用粒子において、当該結晶子が２５ｎｍ以上であることが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ以上である。結晶子が２５ｎｍ未満の場合、単結晶粒子の粒径が小さい多結晶粒子であるため、緻密とはいえない場合が多いと考えられる。
なお、結晶子はＸ線回折のｗｉｌｓｏｎ法から求めた値である。このｗｉｌｓｏｎ法では、単結晶粒子の粒径がどれだけ大きくても、上記結晶子は０〜１００ｎｍの範囲になる。
【００１７】
また、上記希土類元素含有酸化物溶射用粒子は、当該溶射用粒子を溶射してなる被膜を有する溶射部材に十分な耐食性を付与することを考慮すると、鉄族元素（Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏ等）、アルカリ金属元素（Ｎａ，Ｋ等）、およびアルカリ土類金属元素（Ｍｇ，Ｃａ等）が酸化物換算でそれぞれ５ｐｐｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、３ｐｐｍ以下である。これらの各金属元素の量は、少なければ少ないほど好ましいものであるが、通常、その下限値は０．１ｐｐｍ程度である。
なお、鉄族元素、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素の測定は、上記希土類元素含有酸化物溶射用粒子を酸分解した後、ＩＣＰ分光分析（誘導結合高周波プラズマ分光分析）で測定したものである。
【００１８】
上記希土類元素含有酸化物溶射用粒子の製造方法は、特に限定されるものではないが、以下のような方法を用いることが好ましい。
まず、希土類元素水溶液（塩化物、硝酸塩、硫酸塩等の水溶性塩の水溶液）と蓚酸水溶液とを、遊離酸濃度０．２モル／リットル以上、希土類元素濃度０．１〜１．０モル／リットルに調整した溶液に、濃度１〜３０重量％、対希土類元素２〜２．５倍モル量の蓚酸水溶液、および対蓚酸２〜４倍モル量のアンモニア水を撹拌しながら混合する。ここで、上記各溶液の添加順序は特に限定されるものではない。
【００１９】
混合後、蓚酸複塩を晶出させ、その沈殿物及び反応母液を３０〜１００℃、好ましくは５０〜１００℃に１〜８時間保持する。次いで、ろ過により沈殿物を反応母液から分離し、水洗する。反応母液に十分な量の温水を加え、その混合物を上で述べた温度範囲に上に述べた時間保持してもよい。沈殿物をろ過により反応母液から分離し、次いで温水に分散し、上記のように加熱し、再度ろ別してもよい。必要に応じて乾燥した後、不活性ガス雰囲気下または大気中で７００〜１，７００℃、より好ましくは１，２００〜１，６００℃で、１〜６時間、より好ましくは２〜４時間焼成することにより、蓚酸塩の酸化物への熱分解および酸化物粒内の結晶成長、緻密化を経て多面体形を有する希土類元素含有酸化物溶射用粒子を得る。
【００２０】
上記製造方法は、造粒工程および／または粉砕工程を必要としないため、副材料や機器からの汚染物質の混入が少なく、その結果、特に、鉄族元素（Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏ等）、アルカリ金属元素（Ｎａ，Ｋ等）、アルカリ土類金属元素（Ｍｇ，Ｃａ等）が酸化物換算でそれぞれ５ｐｐｍ以下であるとともに、その他の不純物のない高純度な溶射用粒子を得やすいという特徴を有する。
【００２１】
以上説明したように、本発明に係る溶射用粒子は、流動性がよく、搬送チューブ内等で詰まることがないため、安定的かつ連続的に供給でき、しかも、緻密で強度が高いため、溶射時のプラズマ炎中で崩れることがないという特徴を有する。さらに、平均粒径が小さいので、溶射時のプラズマ炎中で完全に溶融する可能性があるとともに、高純度かつ多面体形であるので、当該溶射用粒子からなる被膜の密着強度を高くすることができ、しかも、被膜の表面粗さを細かく（６０μｍ以下）制御することができる。
【００２２】
本発明に係る溶射部材は、基材と、この基材表面に上述の希土類元素含有化合物溶射用粒子を溶射してなる被膜と、を備えることを特徴とする。
ここで、基材としては、特に限定はなく、金属、合金、セラミックス、ガラス等を用いることができる。具体的には、金属として、Ａｌ、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｚｒ、およびこれらの合金が挙げられ、セラミックスとしては、アルミナ、窒化アルミ、窒化珪素、炭化珪素、ジルコニア等の金属窒化物、金属炭化物、金属酸化物等が挙げられる。ガラスとしては、石英ガラス等が挙げられる。
【００２３】
上記基材表面の被膜の厚さは５０〜５００μｍが好ましく、より好ましくは、１５０〜３００μｍである。被膜の厚さが５０μｍ未満であると、当該被膜を有する溶射部材を耐食性部材として使用する場合、わずかの腐食で交換する必要が生じる虞がある。一方、被膜の厚さが５００μｍを超えると、厚すぎて被膜内部での剥離が生じやすくなる虞がある。
また、溶射部材の用途によって異なるが、被膜の表面粗さが６０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは４０μｍ以下である。表面粗さが６０μｍを超えると、溶射部材の使用時における発塵の原因となる虞があるとともに、プラズマ接触面積が大きくなるため、耐食性が悪くなる虞があり、腐食の進行によりパーティクルが発生する虞がある。
すなわち、被膜の表面粗さを６０μｍ以下とすることで、良好な耐食性が得られる。したがって、腐食性ガス雰囲気下においても腐食が起こりにくく、当該溶射部材を耐食性部材として好適に使用することができる。
【００２４】
本発明の溶射部材は、基材表面に、上述の希土類元素含有化合物溶射用粒子をプラズマ溶射または減圧プラズマ溶射等にて被膜を形成することで得ることができる。ここで、プラズマガスとしては、特に限定されるものではなく、窒素／水素、アルゴン／水素、アルゴン／ヘリウム、アルゴン／窒素等を用いることができる。
なお、溶射条件等については、特に限定はなく、基材、希土類元素含有化合物溶射用粒子等の具体的材質、得られる溶射部材の用途等に応じて適宜設定すればよい。
【００２５】
本発明の溶射部材においても、被膜中の鉄族元素、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素が酸化物換算でそれぞれ５ｐｐｍ以下であることが好ましいが、これは上述した各金属元素が酸化物換算でそれぞれ５ｐｐｍ以下の希土類元素含有化合物溶射用粒子を用いて被膜を形成することで達成できる。
すなわち、鉄族元素、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素がそれぞれ５ｐｐｍ以上混入している溶射用粒子を用いて被膜を形成した場合、被膜には溶射用粒子に混入しているだけの鉄族元素、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素がそのまま混入することになるが、上記希土類元素含有化合物溶射用粒子を直接用いることで、このような問題は生じないこととなる。
【００２６】
また、被膜中における上記各金属元素が酸化物換算でそれぞれ５ｐｐｍ以下であれば、汚染が少ないため、当該溶射部材を高純度であることが要求される装置にも問題なく使用することができる。具体的には、液晶製造装置用部材および半導体製造装置用部材等として好適に使用することができる。
【００２７】
【実施例】
以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。
【００２８】
［実施例１］
蓚酸（Ｈ2Ｃ2Ｏ4・２Ｈ2Ｏ）７９４．３ｇを純水９．２７ｄｍ3に溶解し、これに２８％アンモニア水９００ｃｍ3を加えて、撹拌しながら加熱して７５℃に保った。
これとは別に、硝酸イッテルビウムと硝酸イットリウムとの混合溶液（Ｙｂ濃度０．２８ｍｏｌ／ｄｍ3、Ｙ濃度０．４２ｍｏｌ／ｄｍ3、遊離酸濃度１．４０ｍｏｌ／ｄｍ3）４．２９ｄｍ3を室温にて調製し、この溶液を、先に調製、温調した蓚酸水溶液に、撹拌下で約１分間かけて注ぎ込んだ。この混合溶液を、さらに温調によって液温７２〜７５℃に保ちながら、２時間撹拌を続けた。
その後、生じた沈殿をブフナー漏斗でろ別し、純水約１５ｄｍ3で水洗した。回収した沈殿を２時間風乾した。ろ取した蓚酸塩を、磁器坩堝に入れ、大気中、９００℃で２時間焼成し、熱分解させて酸化イッテルビウムと酸化イットリウムとの複合物とした後、さらにアルミナ坩堝に入れて、大気中、１，５００℃で２時間焼成し、溶射用粒子を得た。
得られた溶射用粒子の粒径、結晶子等の各物性値について測定し、結果を表１に示した。また、得られた溶射用粒子の電子顕微鏡写真を図１、２に示す。各図に示されるように、酸化物は角状形状（正多面体形）であることがわかる。
【００２９】
上記のようにして得られた溶射用粒子を、アルゴン／水素でプラズマ溶射して、アルミニウム合金基板上に膜厚２５０μｍの被膜を形成し、溶射部材を得た。形成した被膜の物性値について測定した値を表２に示す。
なお、表２において、表面粗さＲａはＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠した方法により測定した。
【００３０】
［実施例２］
硝酸イッテルビウムと硝酸イットリウムとの混合溶液の代わりに、硝酸イッテルビウム溶液（Ｙｂ濃度０．７０ｍｏｌ／ｄｍ3、遊離酸濃度１．４０ｍｏｌ／ｄｍ3）を用いた以外は、実施例１と同様にして、溶射用粒子を得た。得られた溶射用粒子の粒径、結晶子等の各物性値について測定した結果を表１に示す。
上記のようにして得られた溶射用粒子をアルゴン／水素でプラズマ溶射し、基材であるアルミニウム合金基板上に膜厚２１０μｍの被膜を形成した。形成した被膜の物性値について測定した結果を表２に示す。
なお、図示は省略するが、実施例２で得られた溶射用粒子も実施例１と同様に角状形状（正多面体形）を示している。
【００３１】
［比較例１］
ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）１５ｇを溶かした純水１５リットルに、平均粒子径１．２μｍの酸化イッテルビウム５ｋｇを分散させてスラリーを作製し、噴霧型造粒機でこのスラリーを噴霧乾燥させて造粒粉を作製した。さらに、この造粒粉を１，６００℃で２時間焼成して溶射用粒子とした。
上記、造粒工程によって得られた溶射用粒子の粒径、結晶子等の各物性値について測定した結果を表１に示すが、該粒子は角状ではなかった。
さらに、この溶射用粒子をアルゴン／水素で減圧プラズマ溶射し、基材であるアルミニウム合金基板上に膜厚２５０μｍになるように被膜を形成した。形成した被膜の物性値について測定した結果を表２に示す。
【００３２】
【表１】
0004273292.tif 000002
【００３３】
【表２】
0004273292.tif 000003
【００３４】
表１に示されるように、実施例１、２で得られた希土類元素含有酸化物溶射用粒子は、平均粒径が２３〜１００μｍの範囲にあり、かつ、分散指数が０．４以下と小さく、ＣａＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｎａ2Ｏ等の不純物が少なく高純度であり、嵩密度が真密度の０．３倍以上であることがわかる。これに対して、比較例１で得られた希土類元素含有酸化物溶射用粒子は、分散指数が０．５２と０．５より大きく、Ｆｅ2Ｏ3、Ｎａ2Ｏ等の不純物があり、嵩密度が真密度の０．３倍未満であることがわかる。
【００３５】
また、表２に示されるように、実施例１、２の希土類元素含有酸化物溶射用粒子からなる被膜は、ＣａＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｎａ2Ｏ等の不純物が少なく、高純度が必要とされる用途、例えば、液晶製造装置用部材および半導体製造装置用部材に適していることがわかる。しかも、表面粗さが細かく、腐食性ガス雰囲気（例えばハロゲン系ガスプラズマ）に対する耐食性部材として好適である。
これに対して、比較例１の溶射用粒子からなる被膜は、溶射用粒子に混入している量の鉄族元素、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素がそのまま混入しており、しかも、表面粗さも７３μｍと粗いことがわかる。
【００３６】
【発明の効果】
以上に述べたように、本発明の希土類元素含有化合物溶射用粒子は、平均粒径が３〜１００μｍ、分散指数が０．５以下、アスペクト比が２以下の多面体形であるため、安定的かつ連続的に供給でき、しかも、溶射時のプラズマ炎中で完全に溶融する可能性があるので、当該溶射用粒子からなる被膜と被溶射材との密着強度を高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得られた希土類元素含有酸化物溶射用粒子の電子顕微鏡写真である。
【図２】実施例１で得られた希土類元素含有酸化物溶射用粒子の電子顕微鏡写真である。
【図１】
0004273292.tif 000004
【図２】
0004273292.tif 000005