(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
変調信号を所定の変動パターンで変動させた変動変調信号が記録された光ディスク、又は、光ディスク原盤からの戻り光信号の入力を受けて、前記戻り光信号の変換を行ない、成形信号を発生させる信号成形回路であって、
前記戻り光信号の信号長を計測する信号長計測手段と、
前記戻り光信号の信号レベルを計測する信号レベル計測手段と、
前記所定の変動パターンに関する変動パターン情報であり、前記光ディスクの再生時の再生誤りを低減するために前記変調信号の変動パターンに応じて補正される前記変調信号の補償情報である変動パターン情報が予め記録されており、前記信号長計測手段により計測された前記信号長及び前記信号レベル計測手段により計測された前記信号レベルの値と前記変動パターン情報とから成形信号パターンを算出し発生させる成形信号パターン発生手段と、
前記成形信号パターン発生手段により発生された前記成形信号パターンに基づいて前記戻り光信号を変換し、成形信号を発生させる成形信号発生手段と
を備える信号成形回路。
【請求項２】
信号長計測手段により計測された前記信号長と信号レベル計測手段により計測された前記信号レベルとの変動の履歴を記録する変動履歴記録手段をさらに有する
請求項１に記載の信号成形回路。
【請求項３】
前記光ディスクには、情報記録面に形成されたピットのピット幅の相違により前記情報記録面に高反射率の領域及び低反射率の領域が形成されて、前記情報記録面に視認可能な所望の画像が記録されており、
前記成形信号パターン発生手段は、前記所望の画像の記録に必要な信号レベル及び信号長の補正情報を、前記変動パターン情報として記録している
請求項１に記載の信号成形回路。
【請求項４】
前記成形信号パターン発生手段に記録されている変動パターン情報は、必要に応じて変更できる
請求項１に記載の信号成形回路。
【請求項５】
変調信号を所定の変動パターンで変動させた変動変調信号が記録された光ディスク、又は、光ディスク原盤からの戻り光信号の入力を受けて、前記戻り光信号の変換を行ない、成形信号を発生させる信号成形方法であって、
前記所定の変動パターンに関する変動パターン情報を予め記録する記録ステップと、
入力された前記戻り光信号の信号レベルが変化してから次に変化するまで時間間隔を信号長として計測する信号長計測ステップと、
前記戻り光信号の信号レベルを計測する信号レベル計測ステップと、
前記記録ステップの処理により予め記録されている前記変動パターン情報であり、前記光ディスクの再生時の再生誤りを低減するために前記変調信号の変動パターンに応じて補正される前記変調信号の補償情報である変動パターン情報に基づき、前記信号長計測ステップの処理により計測された前記信号長及び前記信号レベル計測ステップの処理により計測された前記信号レベルに応じた成形信号パターンを算出する算出ステップと、
前記算出ステップの処理により算出された前記成形信号パターンに基づいて前記戻り光信号を変換し、成形信号を発生させる発生ステップと
を含む信号成形方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は信号成形回路および方法に関し、特に光ディスクに記録される変調信号を所定の変動パターンで変動させた変動変調信号に応じた戻り光信号の入力を受け、戻り光信号の成形を行なう信号成形回路および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、光ディスク、例えばＣＤ（Compact Disk）、ＭＤ（Mini Disk）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）等では、その原盤が作成される場合、所定の情報データに誤り訂正や変調処理を施した変調信号が生成され、この変調信号に応じてレーザー光の照射が制御され、光ディスク原盤のカッティングが行なわれる。このようにして、光ディスク原盤には、変調信号に応じたピットが形成される。
【０００３】
光ディスク原盤に基づいて作成された光ディスクにも、光ディスク原盤と同じピットが形成される。光ディスク再生装置は、この光ディスクに再生レーザー光を照射して、光ディスクからの戻り光を受光し、戻り光の光量に応じて信号レベルが変化する再生信号を得て、その再生信号を復調して情報データの再生を行なう。また、光ディスクの原盤作成システムには、光ディスク原盤が正しく作成されているかを確認するため、戻り光信号を取得してカッティングの検査を行なうカッティング信号検査装置を使用するものがある。
【０００４】
戻り光信号について、光ディスクがＣＤである場合の原盤作成システムを例に説明する。図６は、光ディスク原盤作成システムとカッティング信号検査装置の構成図である。
【０００５】
光ディスクマスター２００に記録された情報データは、ＥＦＭ（Eight to Fourteen Modulation)信号送出器３００の読み取り部３１０により読み取られ、信号処理部３２０へ送られる。信号処理部３２０は、読み込まれた情報データに必要な信号処理を施し、変調した信号をＥＦＭ出力部３３０へ送る。ＥＦＭ出力部３３０は、変調された信号をチャンネルクロックに従ったＥＦＭ信号としてレーザービームレコーダ４００へ出力する。
【０００６】
レーザービームレコーダ４００は、ＥＦＭ信号に応じてレーザー光を光ディスク原盤４１０に照射してカッティングを行ない、光ディスク原盤を作成する。カッティング信号検査装置５００は、光ディスク原盤が正しく作成されているかを確認するため、カッティング中の光ディスク原盤４１０からの戻り光信号を取得し、復調して、フォーマット検査やベリファイを行なう。戻り光信号は、変調信号であるＥＦＭ信号と同じ信号になる。
【０００７】
しかし、従来のカッティング信号検査装置、あるいは光ディスク再生装置では変調信号が恣意的に変化していた場合に、戻り光信号の復調が正しくできなくなるという問題がある。
【０００８】
カッティング信号検査装置の例で説明する。従来のＥＦＭ信号送出器３００はＥＦＭ信号を特に変化させることがなかったので、カッティング信号検査装置５００は、入力信号をそのまま復調することができた。
【０００９】
しかしながら、近年、光ディスクの信号面にコントラストをつけて、光ディスク表面に絵や記号を付けたり、コピー防止の目的でＥＦＭ変調信号のレベルや信号の長さを恣意的に変化させた光ディスクが提供されるようになってきている。例えば、特開平９−３１２０２１号公報には、ピットの形成を制御して視認可能な文字や図形を光ディスクに記録する記録方法が提案されている。また、特開平１０−３１８２５号公報に提案されているように、光ディスク再生時における再生誤りを低減させるため、変調信号のパターンに応じて変調信号のタイミングを補正する光ディスク原盤作成システムもある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
このように、信号のレベルや信号の長さを恣意的に変動させた変動変調信号でカッティングされた光ディスク原盤からの戻り光信号が、カッティング信号検査装置５００に入力された場合、変動変調信号に対応することができないため、復調を行なう際に復調誤りが生じたり、復調できなくなったりするという問題が発生する。
【００１１】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、信号のレベルや長さを恣意的に変化させた変動変調信号の戻り光信号を復調可能に成形する信号成形回路及び信号成形方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記課題を解決するために、変調信号を所定の変動パターンで変動させた変動変調信号が記録された光ディスク、又は、光ディスク原盤からの戻り光信号の入力を受けて、戻り光信号の変換を行ない、成形信号を発生させる信号成形回路であって、戻り光信号の信号長を計測する信号長計測手段と、戻り光信号の信号レベルを計測する信号レベル計測手段と、所定の変動パターンに関する変動パターン情報であり、前記光ディスクの再生時の再生誤りを低減するために前記変調信号の変動パターンに応じて補正される前記変調信号の補償情報である変動パターン情報が予め記録されており、信号長計測手段により計測された信号長及び信号レベル計測手段により計測された信号レベルの値と変動パターン情報とから成形信号パターンを算出し発生させる成形信号パターン発生手段と、成形信号パターン発生手段により発生された成形信号パターンに基づいて戻り光信号を変換し、成形信号を発生させる成形信号発生手段とを有することを特徴とする信号成形回路が提供される。
【００１３】
このような構成の信号成形回路では、成形信号パターン発生手段に、光ディスク又は光ディスク原盤に記録される変調信号に施される所定の変動パターンであり、光ディスクの再生時の再生誤りを低減するために変調信号の変動パターンに応じて補正される変調信号の補償情報である変動パターン情報が予め記録されている。信号長計測手段は、光ディスクまたは、光ディスク原盤からの戻り光信号を入力され、戻り光信号の信号レベルが変化してから次に変化するまでの時間間隔を信号長として計測し、成形信号パターン発生手段に送る。信号レベル検出手段も同様に、戻り光信号の信号レベルを計測し、成形信号パターン発生手段に送る。成形信号パターン発生手段は、入力された戻り光信号の信号長と信号レベルとに応じた変動変調信号の変動値を、記録された変動パターン情報に基づいて予測し、最適な成形信号パターンを算出する。算出された成形信号パターンは、成形信号発生手段へ出力される。成形信号発生手段は、成形信号パターンに基づいて戻り光信号の変換を行ない、最適な成形信号を発生する。
【００１４】
本発明の信号成形回路は、信号長と信号レベルとの変動の履歴を記録する変動履歴記録手段をさらに有することが望ましい。
【００１５】
光ディスクに、情報記録面に形成されたピットのピット幅の相違により情報記録面に高反射率の領域及び低反射率の領域が形成されて、情報記録面に視認可能な所望の画像が記録されている場合、成形信号パターン発生手段は、所望の画像の記録に必要な信号レベル及び信号長の補正情報を、変動パターン情報として記録していることが望ましい。
【００１６】
成形信号パターン発生手段に記録されている変動パターン情報は、必要に応じて変更できることが望ましい。
【００１７】
また、上記課題を解決するために、変調信号を所定の変動パターンで変動させた変動変調信号が記録された光ディスク、又は光ディスク原盤からの戻り光信号の入力を受けて戻り光信号の変換を行ない、成形信号を発生させる信号成形方法であって、所定の変動パターンに関する変動パターン情報を予め記録する記録ステップと、入力された戻り光信号の信号レベルが変化してから次に変化するまで時間間隔を信号長として計測する信号長計測ステップと、戻り光信号の信号レベルを計測する信号レベル計測ステップと、記録の処理により予め記録されている変動パターン情報であり、光ディスクの再生時の再生誤りを低減するために変調信号の変動パターンに応じて補正される変調信号の補償情報である変動パターン情報に基づき、信号長計測ステップの処理により計測された信号長及び信号レベル計測ステップの処理により計測された信号レベルとに応じた成形信号パターンを算出する算出ステップと、算出ステップの処理により算出された成形信号パターンに基づいて戻り光信号を変換し、成形信号を発生させる発生ステップとを有することを特徴とする信号成形方法が提供される。
【００１８】
このような手順の信号成形方法では、光ディスクに記録される変調信号に施される所定の変動パターンについての変動パターン情報であり、光ディスクの再生時の再生誤りを低減するために変調信号の変動パターンに応じて補正される変調信号の補償情報である変動パターン情報が予め記録される。所定の変動パターンにより変動が施された変動変調信号に応じた戻り光信号が入力され、戻り光信号のレベルと、戻り光信号の信号レベルが変化してから次に変化するまでの時間間隔である信号長とが計測される。次に、記録された変動パターン情報に基づき、検出された戻り光信号の信号長及び信号レベルの変動値が予測され、最適な成形信号パターンが算出される。続いて、算出された成形信号パターンに基づいて戻り光信号が変換され、成形信号が発生される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。なお、以下に記載する実施形態は、本発明の好適な具体例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、これらの形態に限られたものではない。
【００２０】
図１は、本発明の一実施の形態である信号成形回路の構成図である。本発明に係る信号成形回路は、クロックを再生するＰＬＬ（Phase Locked Loop）１１、回路内の各種タイミング信号を生成するタイミング回路１２、戻り光信号の信号長を算出する信号長算出手段であるカウンタ１３、戻り光信号の信号レベルを検出する信号レベル検出手段であるＡ／Ｄ変換１４、変動パターン情報が予め記録されていて、この変動パターン情報を用いて、入力された戻り光信号の信号長であるカウント値と信号レベル値とから戻り光信号の変動値を予測し、最適な成形信号パターンを算出して成形信号発生回路１６へ出力する成形信号パターン発生手段である、成形信号パターン発生回路１５、復調が可能となる成形信号を発生させる成形信号発生手段である成形信号発生回路１６、及び検出した変動の履歴を記録する変動履歴記録手段である変動履歴記録回路１７とから構成される。
【００２１】
この信号成形回路は、例えば、光ディスク原盤の作成を行なう光ディスク原盤作成システムで、レーザービームレコーダによりカッティングされた光ディスク原盤からの戻り光信号の入力を受け、カッティングの検査を行なうカッティング信号検査装置が、復調処理を行うことが可能となるように信号成形処理を行なうものであり、又は、光ディスクから再生信号である戻り光信号の入力を受け、光ディスク再生装置が復調処理を行うことが可能となるように信号成形処理を行うものである。
【００２２】
ＰＬＬ１１は、入力された戻り光信号からクロックを再生し、チャンネルクロックとそのＮ倍（Ｎは任意の整数）のクロックを発振する。チャンネルクロックは成形信号発生回路１６に供給されるとともに、外部に出力される。チャンネルクロックのＮ倍のクロックは、タイミング回路１２に供給される。
【００２３】
タイミング回路１２は、ＰＬＬ１１から入力されるチャンネルクロックのＮ倍のクロックを元に、回路内の各部で必要なタイミング信号を発生する。
【００２４】
カウンタ１３は、タイミング回路１２からチャンネルクロックのＮ倍のクロックをタイミング信号として入力され、戻り光信号の信号レベルが変化してから次に変化するまでの時間間隔を信号の長さとしてカウントし、カウント値として成形信号パターン発生回路１５に出力する。戻り光信号は、変調信号を所定の変動パターンで変動させた変動変調信号と同じと見なせるため、カウンタ１３により変動変調信号の信号長の測定が行なわれることになる。
【００２５】
Ａ／Ｄ変換１４は、タイミング回路１２からチャンネルクロックのＮ倍のクロックをタイミング信号として入力され、戻り光信号の信号レベルの変化をサンプリングし、算出されたレベル値を成形信号パターン発生回路１５に出力する。戻り光信号は、変調信号を所定の変動パターンで変動させた変動変調信号と同じと見なせるため、Ａ／Ｄ変換１４により変動変調信号の信号レベルの測定が行なわれることになる。
【００２６】
成形信号パターン発生回路１５には、予め、光ディスク原盤に記録される変調信号に施される所定の変動パターンについての変動パターン情報が記録されている。変動パターン情報は、例えば、光ディスクが、その情報記録面にのピットの幅が制御されることによって絵や記号等の所望の画像を記録した光ディスクである場合、画像の記録に必要な信号レベル及び信号長の補正情報である。また、光ディスク再生時の再生誤りを低減するため、ピット間の干渉の影響を再生側で受けないように、変調信号の変動パターンをサンプリングし、この変動パターンに応じて記録補償が行なわれている光ディスクである場合、この補償情報が変動パターン情報として記録されている。
【００２７】
これらの変動パターン情報には、例えば、変動前の変調信号の信号パターンとそれに対する信号長及び信号レベルの変動量がテーブル情報として記録されている。また、記録される変動パターン情報は、必要に応じて変更することができるため、任意の変動パターンを有する入力信号の処理が可能となる。成形信号パターン発生回路１５は、この変動パターン情報を用いて、入力された戻り光信号の信号長であるカウント値と信号レベルのレベル値とから戻り光信号の変動値を予測し、最適な成形信号パターンを算出して成形信号発生回路１６へ出力する。また、成形信号パターン発生回路１５は、必要に応じて、入力された戻り光信号のカウント値とレベル値とを変動履歴記録回路１７へ転送する。
【００２８】
成形信号発生回路１６は、成形信号パターン発生回路１５から出力された成形信号パターンに基づき、戻り光信号の成形を行ない、復調可能な成形信号を、カッティング信号検査装置又は光ディスク再生装置に出力する。
【００２９】
変動履歴記録回路１７は、成形信号パターン発生回路１５経由で入力された戻り光信号のカウント値とレベル値を順次記録し、変動履歴を生成する。記録されたカウント値とレベル値の変動履歴を用いて、信号が変動していた期間、周期、変動値を解析することができる。
【００３０】
このような構成の信号成形回路の動作及びその信号成形方法について説明する。
【００３１】
本発明に係る信号成形回路は、光ディスクに記録される変調信号を所定の変動パターンで変動させた変動変調信号に応じた戻り光信号の入力を受け、この戻り光信号の成形を行なう。変動変調信号は、光ディスクに記録する情報データに、例えばＥＦＭ変調等の変調処理を行なって生成した変調信号を、予め決められた変動パターンに従って変化させた信号である。例えば、光ディスクの記録面に所定の画像を記録するため、あるいは、再生装置における再生誤りを低減させることを目的として、変調信号の変動が行なわれる。
【００３２】
光ディスクの情報記録面にコントラストを付け、視認可能な画像を記録する場合の変調信号の例で説明する。ここでは、ＣＤへの情報の記録に用いられるＥＦＭ信号について説明する。図２は、本発明の一実施の形態である信号成形回路に入力する変動変調信号の例である。
【００３３】
チャンネルクロックは、変調信号の基準となるクロック信号である。ＥＦＭ信号は、チャンネルクロックを基準として信号レベルを１／０に変化させる。ＥＦＭ信号の最小信号は、３チャンネルクロック分の信号（以下、３Ｔ信号とする）であり、通常のＥＦＭ３Ｔ信号は、図中で最初に出現する３Ｔ信号を拡大したものである。以下、信号長は、チャンネルクロックを基準として、信号レベルが変化してから次に変化するまでのチャンネルクロック数（カウント値）とする。
【００３４】
また、レベルは、ＥＦＭ信号の変化の大きさを示している。光ディスク原盤作成装置において、レーザービームレコーダ（Leaser Beam Recorder  以下、ＬＢＲとする）は、ＥＦＭ信号に応じて光ディスクの情報記録面にレーザー光を照射してピットを形成する。ＬＢＲの出力パワーは、ＥＦＭ信号のレベルに対応しており、ＥＦＭ信号のレベルを制御してＬＢＲのパワーが変動されることにより、ＬＢＲで形成されるピットの幅が変化する。また、信号長はＬＢＲのレーザー光照射時間に対応しており、ＥＦＭ信号の信号長が補正されて、ピットの長さが調整される。
【００３５】
光ディスクの情報記録面に形成されたピットのピット幅の相違により、情報記録面に高反射率の領域と低反射率の領域が形成される。このピットの反射率の違いを利用することにより、透かし絵のように絵や記号が形成される。
【００３６】
一般に、ピット幅を変化させると、プレイヤーで再生した信号の長さが、ピット幅の影響を受けてしまう。このため、ピット幅の影響を受けないようにＥＦＭ信号の信号長の補償が行なわれる。これにより、コントラストを付けて画像を記録した光ディスクをプレイヤーで正しく再生することができる。
【００３７】
ＥＦＭ信号とこれに応じて光ディスクに形成されるピットの形状について説明する。図３乃至図５は、ＥＦＭ信号と形成されるピットの例である。図３は、通常のＥＦＭ３Ｔ信号とそれにより形成される通常のＥＦＭ３Ｔピットである。
【００３８】
図４は、ＬＢＲのパワーをハイパワーに変動させた場合であり、ＥＦＭ信号のレベル値を通常より大きくして、ＬＢＲのパワーをハイパワーにする。これにより、ピットの幅が通常より広く形成される。このとき、プレイヤーで正しく再生できるように、信号長を通常より短くすることにより、データ補償が行なわれる。
【００３９】
図５は、ＬＢＲのパワーをローパワーに変動させた場合であり、ＥＦＭ信号のレベル値を通常より小さくして、ＬＢＲのパワーをローパワーにする。これにより、ピットの幅が通常より狭く形成される。このとき、プレイヤーで正しく再生できるように、信号長を通常より長くして、データ補償を行なう。このようにして変動された変調信号は、チャンネルクロックに同期しなくなる。このため、カッティング信号検査装置で正しく復調するためには、信号を成形してチャンネルクロックにほぼ同期した信号にする必要がある。
【００４０】
図１に戻って説明する。
【００４１】
成形信号パターン発生回路１５には、予め、入力する戻り光信号に施された変動パターンに関する変動パターン情報が記録されている。信号成形回路が、光ディスク原盤作成の場合に、カッティング信号検査装置に組み込まれている場合、戻り光信号は、変動変調信号を受けてカッティングされた光ディスク原盤から供給される。ＰＬＬ１１は、入力された戻り光信号からクロックを再生し、チャンネルクロックとそのＮ倍のクロックを発振する。チャンネルクロックは、成形信号発生回路１６に供給されるとともに、外部に出力される。
【００４２】
また、チャンネルクロックのＮ倍のクロックは、タイミング回路１２に供給される。タイミング回路１２は、ＰＬＬ１１から入力するチャンネルクロックのＮ倍のクロックを元に、回路内の各部で必要なタイミング信号を発生させて、各部に供給する。カウンタ１３は、タイミング回路１２からチャンネルクロックのＮ倍のクロックをタイミング信号として入力され、戻り光信号の信号レベルが変化してから次に変化するまでの時間間隔を信号の長さとしてカウントし、このカウント値を成形信号パターン発生回路１５に出力する。
【００４３】
一方、Ａ／Ｄ変換１４は、タイミング回路１２からチャンネルクロックのＮ倍のクロックをタイミング信号として入力され、戻り光信号の信号レベルの変化をサンプリングし、算出されたレベル値を成形信号パターン発生回路１５に出力する。
【００４４】
成形信号パターン発生回路１５は、変動パターン情報を用いて、入力された戻り光信号のカウント値とレベル値とからその変動値を予測し、最適な成形信号パターンを算出し、成形信号発生回路１６へ出力する。また、成形信号パターン発生回路１５は、必要に応じて、入力された戻り光信号のカウント値とレベル値とを変動履歴記録回路１７へ転送する。成形信号発生回路１６は、成形信号パターン発生回路１５から出力される成形信号パターンに基づき、戻り光信号の成形を行ない、チャンネルクロックを基準として成形信号を出力する。
【００４５】
成形信号は、チャンネルクロックに同期しており、正しく復調することができる。さらに、変動履歴記録回路１７は、成形信号パターン発生回路１５経由で入力される戻り光信号のカウント値とレベル値を順次記録し、変動履歴を生成する。
【００４６】
このように、信号レベルや信号長が変動されている信号を変換して、正しく復調することが出来る信号を成形することができるため、本発明に係る信号成形回路を変動信号に対応していない機器に搭載することで、変動信号に対応することができるようになる。
【００４７】
また、成形信号パターン発生回路１５に記録されている変動パターンを、入力信号に合わせて変更することにより、多種類の変動された信号に対応して復調可能な信号を成形できるようになる。特に、光ディスクの原盤作成システムでは、多種多様の光ディスク原盤を作成するため、この信号成形回路を利用することで、カッティング信号検査装置等は、変動する変調信号に容易に対応することができる。また、光ディスクを再生する際に、この信号成形回路を利用することで、光ディスク再生装置は、変動する変調信号の再生に容易に対応することができる。
【００４８】
さらに、変動する信号長や信号レベルを記録することにより、信号の解析を行なうことができる。
【００４９】
本発明の信号成形回路では、予め、変調信号に施される変動パターンに関する変動パターン情報が記録される。変動変調信号に応じた戻り光信号が入力されると、その信号長と信号レベルとが検出され、変動パターン情報を用いてその変動値が予測され、最適な成形信号パターンが算出される。この算出された成形信号パターンに基づいて、入力される戻り光信号の変換が行なわれ、最適な成形信号が発生される。
【００５０】
このように、本発明によれば、信号レベルや信号長を変動させた変動変調信号を変換して最適な成形信号を得ることができるため、その後の復調処理において復調誤りが生じない。このため、本発明の信号成形回路を変動変調信号に対応していない機器に搭載することにより、その機器が所定の変動パターンを有する変動変調信号の処理を行なうことができるようになる。
【００５１】
また、本発明の信号成形方法では、予め、光ディスクに記録される変調信号に施される所定の変動パターンに関する変動パターン情報が記録される。変動変調信号に応じた戻り光信号が入力され、その信号長と信号レベルとが検出され、変動パターン情報を用いてその変動値が予測され、最適な成形信号パターンが算出される。続いて、算出された成形信号パターンに基づいて戻り光信号の変換が行なわれ、最適な成形信号が発生される。
【００５２】
このように、本発明によれば、信号レベルや信号長を変動させた変動変調信号を変換して最適な成形信号を得ることができるため、その後の復調処理において復調誤りが生じない。
【００５３】
【発明の効果】
本発明によれば、信号レベルや信号長を変動させた変動変調信号を変換して最適な成形信号を得ることができる。また、その後の復調処理において復調誤りが生じないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施の形態である信号成形回路の構成図である。
【図２】  本発明の一実施の形態である信号成形回路に入力される変動変調信号の例である。
【図３】  通常のＥＦＭ信号と形成されるピットの例である。
【図４】  ハイパワーのＥＦＭ信号と形成されるピットの例である。
【図５】  ローパワーのＥＦＭ信号と形成されるピットの例である。
【図６】  光ディスク原盤作成システムとカッティング信号検査装置の構成図である。
【符号の説明】
１１  ＰＬＬ，  １２  タイミング回路，  １３  カウンタ，  １４  Ａ／Ｄ変換，  １５  成形信号パターン発生回路，  １６  成形信号発生回路，  １７  変動履歴記録回路，  ２００  光ディスクマスター，  ３００  ＥＦＭ信号送出器，  ３１０  読み取り部，  ３２０  信号処理部，  ３３０  ＥＦＭ出力部，  ４００  レーザービームレコーダ，  ４１０  光ディスク原盤，  ５００  カッティング信号検査装置
【図１】
0004295986.tif 000002
【図２】
0004295986.tif 000003
【図３】
0004295986.tif 000004
【図４】
0004295986.tif 000005
【図５】
0004295986.tif 000006
【図６】
0004295986.tif 000007