(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
任意の基板に任意の被膜を蒸着によって形成するときに、堆積量を制御するために使用される均しマスクであって、前記均しマスクが、少なくとも２個の偏側性遮蔽パネル（２２）を含み、前記２個の遮蔽パネルが、実質的に共面性であること、及び、前記２個の遮蔽パネルが、双方のパネルに共通の制御装置（２３）の制御下で、相互間スペース（Ｅ）が最小になる接近位置と、相互間スペース（Ｅ）が逆に最大になる離間位置とから成る２つの極端位置の間で連続的に回動するように、第三の遮蔽パネルをなす固定ベース（２４）に対して回動自在に装着されていることを特徴とする均しマスク。
【請求項２】
２つの偏側性遮蔽パネル（２２）に共通の制御装置（２３）が、自在継手（３２）を含み、前記自在継手は、ベース（２４）に可動的に装着されており、且つ、全体的に互いに斜行している複数のスロット（３４）をもつスロットジョイント（３３）によって前記偏側性遮蔽パネル（２２）に係合していることを特徴とする請求項１に記載の均しマスク。
【請求項３】
自在継手（３２）の中央部が、ベース（２４）に回転自在に装着されたねじロッド（３６）に係合しているねじナット（３５）に固定されていることを特徴とする請求項２に記載の均しマスク。
【請求項４】
２個の偏側性遮蔽パネル（２２）の各々が、ベース（２４）に回動自在に装着された支持レバー（５４）に着脱自在に連結されており、前記２個のパネルに共通の制御装置（２３）は、前記支持レバーを介して作用することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の均しマスク。
【請求項５】
自在継手（３２）と偏側性遮蔽パネル（２２）とを係合させるスロットジョイント（３３）のスロット（３４）は、偏側性遮蔽パネル（２２）が連結された支持レバー（５４）に局部的に開設されたスロットであり、これに対応して自在継手（３２）が、前記スロット（３４）に係合する柱脚（５５）を有していることを特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載の均しマスク。
【請求項６】
２個の偏側性遮蔽パネル（２２）の各々の支持レバー（５４）が、ベース（２４）の第一の側の少なくとも一部に伸びており、対応する偏側性遮蔽パネル（２２）が、前記ベース（２４）の他方の側の少なくとも一部に伸びていることを特徴とする請求項４または５に記載の均しマスク。
【請求項７】
２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、ベース（２４）に実質的に平行に伸びていることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の均しマスク。
【請求項８】
接近位置では２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、少なくとも局部的に相互接触していることを特徴とする請求項７に記載の均しマスク。
【請求項９】
接近位置では２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、頂角ゾーン（６２）で互いに点接触しており、このときに相互間に形成されるスペース（Ｅ）は全体として三角形の平面輪郭を有することを特徴とする請求項８に記載の均しマスク。
【請求項１０】
対称面を有しており、２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、前記対称面に関して互いに反対方向に移動することを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の均しマスク。
【請求項１１】
基板に被膜を蒸着により堆積するための処理ボックスであって、各々が各１つの処理すべき基板（１０）を受容する複数の受座（１４）を有している回転自在に装着されたサポート（１２）と、堆積させるべき材料を蒸発させる蒸気放出源（１３）と、サポート（１２）と蒸気放出源（１３）との間に配置された均しマスク（１６）とを内蔵する処理ボックスにおいて、均しマスク（１６）が、請求項１から１０のいずれか一項に記載の均しマスクであることを特徴とする処理ボックス。
【請求項１２】
均しマスク（１６）が、サポート（１２）に実質的に平行に伸びていることを特徴とする請求項１１に記載の処理ボックス。
【請求項１３】
均しマスクが請求項２に記載の均しマスクであり、該マスクの偏側性遮蔽パネル（２２）の回動軸（Ｐ）は、２個のパネルに共通の制御装置（２３）がパネルに作用するゾーンよりもサポート（１２）の回転軸（Ａ）から離間していることを特徴とする請求項１２に記載の処理ボックス。
【請求項１４】
均しマスク（１６）が、サポート（１２）の回転軸（Ａ）を包囲する固定ジョイント（２０）から外側に斜めに伸びていることを特徴とする請求項１１から１３のいずれか一項に記載の処理ボックス。
【請求項１５】
均しマスク（１６）の２個の偏側性遮蔽パネル（２２）に共通の制御装置（２３）が、外部からアクセス可能であることを特徴とする請求項１１から１４のいずれか一項に記載の処理ボックス。
【請求項１６】
一群の基板（１０）を真空蒸着によって処理するために均しマスク（１６）を内蔵する真空蒸着処理ボックス（１１）の内部に基板（１０）を配置する型の多層被膜の形成方法であって、使用される均しマスク（１６）が、請求項１から１０のいずれか一項に記載の可変表面積をもつ均しマスクであること、及び、堆積すべき各層に応じて均しマスクの表面積を変更し得ることを特徴とする多層被膜の形成方法。
【請求項１７】
被膜が複数の層を含んでおり、これによって達成される基板（１０）の処理が、眩しさ防止処理であることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
被膜が異なる材料から成る少なくとも２つの層を含むことを特徴とする請求項１６または１７に記載の方法。
【請求項１９】
被膜を堆積させる前に基板（１０）を加熱することを特徴とする請求項１６から１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
被膜を堆積させる前に基板（１０）をイオン衝撃することを特徴とする請求項１６から１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
均しマスク（１６）の表面積を変更することによってイオン衝撃の強度を調節することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
被膜の堆積をイオン衝撃によって補助することを特徴とする請求項１６から２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
均しマスク（１６）が、少なくとも２個の偏側性遮蔽パネル（２２）を含むことを特徴とする請求項１６から２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
２個の偏側性遮蔽パネル（２２）が、可動的に装着されていることを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
処理される基板（１０）が、眼鏡レンズであることを特徴とする請求項１６から２４のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は一般的には、任意の基板に蒸着によって堆積させる任意の被膜の形成に関する。
【０００２】
必ずしも限定的ではないがより特定的には本発明は、基板が眼鏡レンズである場合の上記のような被膜の形成に関する。
【０００３】
眼鏡レンズの構成物質が無機物であるか有機物であるかまたは複合材料であるかに関わりなく、幾つかの特性を強化する目的または特別な特性を付加する目的で製造後の眼鏡レンズに何らかの表面処理を加えることがしばしば必要になることはよく知られている。
【０００４】
このような処理としては例えば、防眩処理及び／または強化処理などがある。
【０００５】
本発明は特に、このような処理が少なくとも１つの材料層から成る被膜の堆積によって行われ、この堆積処理が蒸着、より正確には真空蒸着である場合を対象とする。
【０００６】
大抵の場合、被膜は多層被膜である。即ち、被膜は複数の層が上下に積層された積層体から成る。
【０００７】
被膜形成に使用される種々の層は異なる材料から構成されてもよく、異なる厚みに堆積される同じ材料から構成されてもよく、等しい厚みに堆積される同じ材料から構成されてもよい。
【０００８】
最後の場合には、種々の層が異なる蒸着パラメーターで堆積され、その結果として種々の層は異なる物理化学的特性を有する。
【０００９】
例えば、防眩処理の場合、通常は、異なる４種類の材料を使用した少なくとも６つの層、即ち、１つの粘着性層と所望の光学的効果に対応する４つの層と１つの疎水性層とから成る積層体が形成される。
【００１０】
また、大抵の場合には多数の基板が同時に処理されるが、この処理に使用される処理ボックスは、一方で、回転自在に装着されており処理すべき基板の各々を受容する複数の受座がその回転軸の周囲に分布しており、実際には全体として球状カプセルの形態を有しているサポートを内蔵し、かつ他方で、堆積させる材料を蒸発させる蒸気放出源を内蔵している。
【００１１】
実際には、蒸気放出源は、蒸発させる材料を載せたサポート、例えばルツボまたは載物台から成り、蒸発させる材料は、例えばジュール効果によって加熱したり、電子衝撃またはカソードスパッタリングで処理したりする。
【００１２】
いずれの場合にも、解決すべき難題の１つは、各基板に形成する１つまたは複数の堆積層が均一な層でなければならないこと、また、形成される堆積層が全部の基板で等質の層でなければならないことである。
【００１３】
しかしながら材料の蒸発コーンは実際には等方性でない。
【００１４】
これらの条件下で、１つの基板と別の基板との間で形成される層の厚みが違うことは稀ではない。このような違いの原因は、堆積される材料の種類、材料の蒸発を調節するパラメーター、使用される処理ボックスの幾何学形、処理ボックス内の蒸気放出源の位置、などである。
【００１５】
種々の特徴、特に色について特に不都合な基板間の差異を生じさせるこのような層の厚みの違いを解消しないまでも最小にするために、蒸気放出源と処理すべき種々の基板を担持するサポートとの間に適当な形状の均しマスクを介在させることは公知である。
【００１６】
これは例えば米国特許第４３８０２１２号及び第４４４９４７８号に記載されている。
【００１７】
このように使用される均しマスクの実験的に決定された形状は、その翼幅が例えばサポートの回転軸から遠隔の場所よりも該回転軸の近傍の場所で拡大しているような形状である。
【００１８】
こうして、処理される種々の基板に形成される材料の堆積層を全部の基板で実質的に同じ厚みにすることができる。
【００１９】
しかしながら、この均しマスクはこのように１つの層の厚みを最適にすることはできるが、残念なことに全部の層の厚みを最適にすることはできない。
【００２０】
上記の独特な均しマスクを使用するときは、マスクの形状を複数層のうちの１つに層に関して最適化し、その他の層に関しては、技術的に可能な場合には、例えば蒸発させる材料の予備融解時間を多少延長することによって別のパラメーターを調整し、その結果として対応する蒸発コーンの形状を変更する。
【００２１】
しかしながら多くの場合、薄い層の均一性は多少とも軽視される。
【００２２】
従って総体的には完全に満足すべき結果が必ずしも得られない。同時に処理されて取り出された種々の基板は、使用されたサポート上の位置次第で互いに厳密には同一の特性を有していない。
【００２３】
このような状況を打開する可能性を探るために幾つかの試験が行われた。
【００２４】
例えば、２つの異なる層の堆積に各々が個別に適合する２個の異なる均しマスクを処理ボックスに配備し、１回に１つのマスクだけを使用することも提案された。
【００２５】
しかしながらこのような異なる均しマスクを使用する場合、堆積させる層の数の増加に伴ってマスクの数が忽ち増加するので実用化は期待できない。
【００２６】
同様に、文献「Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  Ｃｏｒｒｅｃｔｏｒ、１９７１年１０月」（ＩＢＭ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  Ｂｕｌｌｅｔｉｎ、第１４巻、第５号、１９７１年１０月号、１５７２ページ、ＸＰ００２０８３８２０）の中で、可動遮蔽パネルを用いて、均しマスクを形成することが既に提案されている。
【００２７】
しかしながら、先出のマスクと同様に、このような均しマスクを適応させる可能性は限られている。
【００２８】
本発明の目的は一般的には、適応能力をむしろ強化するような装置を提供することである。
【００２９】
より詳細には、本発明の第一の目的は、任意の基板に任意の被膜を蒸着によって形成するときに、堆積量を制御するために使用される均しマスクであって、均しマスクは、少なくとも１個の可動遮蔽パネルを含み、均しマスクは、以後の本文中で便宜的に偏側性遮蔽パネルと呼ばれる少なくとも２個の遮蔽パネルを含み、前記２個の遮蔽パネルが、実質的に共面性であること、及び、前記２個の遮蔽パネルは、双方のパネルに共通の制御装置の制御下で、相互間スペースが最小になる接近位置と、相互間スペースが逆に最大になる離間位置とから成る２つの極端位置の間で連続的に回転するように、第三の遮蔽パネルをなす固定ベースに対して回動自在に装着されていることを特徴とする均しマスクを提供することである。本発明の目的は、また、このような均しマスクを使用する任意の処理ボックス、及び対応する多層被膜の形成方法を提供することである。
【００３０】
本発明の装置は、使用される均しマスクの表面積をできるだけ厳密に調節することによってマスクの表面積を堆積すべき各層に最適化し得るという利点を有している。
【００３１】
実際には、均しマスクの２個の偏側性遮蔽パネルを互いに多少離間させるだけでよい。
【００３２】
従って、同時に処理される複数の基板の各々に同一の厚みの層を堆積させることが実質的に可能であり、またどの層も全部の基板で十分に均一な特性値を有している。
【００３３】
予備融解時間のような別のパラメーターの多少とも任意の調整は必然的に全く不要であるという利点が得られる。
【００３４】
要するに、本発明の均しマスクは可変表面をもつ均しマスクであるという利点を有しており、多層被膜を形成する場合、堆積される層の各々について均しマスクの表面を必要に応じて変更できるという利点を有している。
【００３５】
本発明の特徴及び利点は添付の概略図に基づく非限定的な以下の記載から更に十分に理解されよう。
【００３６】
図１は、処理される基板の透視図である。
【００３７】
図２は、本発明による均しマスクが作動する、この基板の処理のために使用することができる処理ボックスの正面縮小断面図である。
【００３８】
図３は、共働する支持体の一部と共に均しマスクを、図２の矢印ＩＩＩに沿って下方から見た拡大透視図である。
【００３９】
図４は、２枚の偏側性遮蔽パネルの接近位置について、本発明による均しマスクを、図２の矢印４ＩＶに沿って上方から見た拡大上面図である。
【００４０】
図５は、図４でＶでマークされた一部を取出した部分拡大図である。
【００４１】
図６は、本発明による均しマスクが有する固定ベッドプレートと、偏側性遮蔽パネルが、このベッドプレートに軸回転するように取付けられる際に使用されるレバーの１つの透視図である。
【００４２】
図７は、偏側性遮蔽パネルの１枚と、それを支持するレバーを局所的に取出して示した透視図である。
【００４３】
図８は、本発明による均しマスクが吊るされる留め具へのそのマスクの固定法を、図３の矢印ＶＩＩＩにしたがって異なる縮尺で表した側面図である。
【００４４】
図９は、図２のラインＩＸ−ＩＸに沿って、この均しマスクの制御装置を異なる縮尺で表した部分的断面図である。
【００４５】
図１０は、本発明による均しマスクから隔てられた偏側性遮蔽パネルの位置について、図４と同類の上面図である。
【００４６】
【発明の実施の形態】
これらの図は、処理される基板１０が、縁とり研磨後に眼鏡レンズを構成する、輪郭が円形板である場合を例示的に示している。
【００４７】
この基板１０に、たとえば、蒸発によって、より厳密には真空蒸発によって、何らかの材料でできた少なくとも１つの層を有するコーティングを、その基板の上に固着させることからなる何らかの処理、たとえば反射防止処理を施す。
【００４８】
図２に概略的に示されているように、そのために、軸Ａの周りに回転するように取付けられた支持体１２と、堆積する材料が蒸発する起点となる発生源１３を内側に有する処理ボックス１１が使用される。
【００４９】
たとえば、図示されているように、支持体１２は半球形であり、その回転軸Ａは、その対称軸に沿って、すなわち、中央ゾーンを通って延びている。
【００５０】
いずれにしても、図３に見られるように、このように使用された支持体１２は、通常、複数のスペース１４、すなわち実際には、たとえば簡単なはめ込みによって、処理する基板１０をそれぞれ収納するのに適した複数の単純な開口部を有する。
【００５１】
必然的に、発生源１３は、たとえば簡単なるつぼで構成することができ、それは、回転軸Ａにしたがって支持体１２と並んで垂直に配置され、その中に蒸発する材料が入れられる。
【００５２】
ここに図示された実施形態においては、この材料の蒸発は、電子ボンバードによって発生したと仮定され、図２の１５に、対応する電子銃が概略的に示されている。
【００５３】
実際に、施されるコーティングは、基板１０上に材料のいくつかの層を連続して固着させることからなり、場合によっては、それらの層の一つ一つに使用される材料が異なる。
【００５４】
上述の措置はそれ自体よく知られており、特に、支持体１２の支援と回転駆動のために利用される手段に関しては、本発明に固有のものではないので、ここではこれ以上詳しくは説明しない。
【００５５】
同じくそれ自体よく知られた方法で、処理ボックス１１の中で、支持体１２と発生源１３との間に入り込む均しマスク１６が利用される。
【００５６】
全体的に見て、この均しマスクは、そのマスクの下方にある支持体１２にほぼ平行に延在する。
【００５７】
たとえば、図示されているように、そのマスクは、支持体１２の周辺部１９まで支持体１２の有効表面全体に沿って全面的に放射方向に延在する。
【００５８】
ここに図示されている実施形態においては、以下により詳細に説明する措置にしたがって、均しマスク１６は、支持体１２の回転軸Ａを取り囲む固定留め具２０から突き出すように延在する。
【００５９】
それ自体よく知られた方法で、本発明によって利用される均しマスク１６は、少なくとも２枚の別々の遮蔽パネル２２を備え、そのうちの１枚は移動可能なように取付けられる。
【００６０】
本発明によれば、以下、便宜上、偏側性遮蔽パネルと呼ばれるそれら２枚の遮蔽パネル２２は、互いにほぼ同一平面上にあり、以下に詳述する共通の制御装置２３によって制御され、さらに、２つの極端な位置、すなわち図４に示されているように、互いの間の空間Ｅが最小値をとるような接近位置と、図１０に示されているように、この空間Ｅが反対に最大値となるような遠隔位置との間で、連続的に移動できるように取付けられる。
【００６１】
ここに図示された実施形態においては、２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、固定されているベッドプレート２４に対して互いに軸回転するように取付けられる。
【００６２】
それらの軸回転軸Ｐは、互いに隔てられた位置にあり、互いにほぼ平行であり、また、それらは支持体１にほぼ垂直に延在する。
【００６３】
それらの軸回転軸Ｐは、図４と１０ではそれらの軌跡によってマークされており、図６では、点線で概略的に示されている。
【００６４】
ここに図示された実施形態においては、ベッドプレート２４は、一般的なプレートの形を有する。
【００６５】
このベッドプレートは、このようにして第三の遮蔽パネルまたは中央遮蔽パネルを形成し、２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、それにほぼ平行に延在する。
【００６６】
したがって、偏側性遮蔽パネル２２の軸回転軸Ｐは、このベッドプレート２４にほぼ垂直である。
【００６７】
ここに図示された実施形態においては、ベッドプレート２４は、支持体１２の回転軸Ａの方向に、長方形の輪郭を有する前部２４Ａを有し、この前部によって固定留め具２０への固定が行なわれる。また支持体１２の周囲１９方向には、台形の輪郭を有する後部２４Ｂを有し、この後部は、以下に説明する理由から円形の開口部２６を有する。
【００６８】
偏側性遮蔽パネル２２の軸回転軸Ｐは、前方２４Ａと後方２４Ｂのそれら２つの部分間の接合部に働きかける。
当然のことながら、ベッドプレートの前方２４Ａと後方２４Ｂのこれら２つの部分は互いに連続している。
【００６９】
固定留め具２０に固定するために、前部２４Ａは、スライダ２７を備え、それによってアセンブリが、蝶形ねじ２８の制御の下に、脚２９の上に調節可能な位置に取付けられ、この脚２９はそれ自体が、図８に点線で示されているように、蝶形ねじ３０によって固定留め具２０上に後付けされる。
【００７０】
ここに図示されている実施形態においては、２枚の偏側性遮蔽パネル２２に共通の制御装置２３は、ベッドプレート２４の上表面側に、すなわち支持体１２に向かって回転する表面側にスイングジョイント３２を備え、そのスイングジョイントはベッドプレート２４の上に移動できるように取付けられ、ボタンホール型装着部分３３によってそれらの偏側性遮蔽パネル２２とかみ合い、それらのボタンホール３４は、全体的に互いに斜めになっている。
【００７１】
実際に、スイングジョイント３２は、偏側性遮蔽パネル２２の軸回転軸Ｐを通る平面に平行に延在する。
【００７２】
スイングジョイント３２は、その中央部分によって、ねじ立てされたナット３５に連動し、そのナットは、ベッドプレート２４の中線に沿って、ベッドプレート上に回転するように取付けられたねじ切りロッド３６と連結する。
【００７３】
たとえば、図４及び５に示されているように、スイングジョイント３２は、偏側性遮蔽パネル２２の各々に対して１本ずつ、計２本のアーム３７を備え、それら２本のアームは、それぞれ、たとえばねじ３８によって、ねじ立てされたナット３５に堅固に連動しながら、そのナット３５を起点として背中合わせに延在する。
【００７４】
必然的に、ここに図示された実施形態においては、ねじ切りロッド３６は、たとえばねじ４０によってベッドプレート２４に堅固に連結された２本の軸受３９の間に延在し、アセンブリはフード４１に隠されて配置され、フードは、それ自体がたとえばねじ４２によってベッドプレート２４上に後付けされ、さらに側方向にスイングジョイント３２のアーム３７を通すためのスリット４４を有する。
【００７５】
ここに図示された実施形態においては、本発明による均しマスク１６の２枚の偏側性遮蔽パネル２２に共通の制御装置２３は、処理ボックス１１の外側からアクセス可能である。
【００７６】
たとえば、ここに図示されているように、この制御装置２３のねじ切りロッド３６は、継手４６によって、引込み用可撓管４５上に回転するように支持され、この引込み用可撓管４５は、鞘管４７に隠されて、ベッドプレートの後部２４Ｂの円形開口部２６を利用して、ベッドプレート２４を貫通し、この円形開口部２６に垂直にベッドプレート２４上に後付けされた端面４８が、その通路においてアセンブリを保持することができる、
図９に示されているように、引込み用可撓管４５はその他端で、別の継手４９によってロッド５０に連結され、回転ジョイント５１によって、このロッドは、その低部において処理ボックス１１の外に突き出し、この処理ボックスの外側で、何らかの回転制御装置５２に連動する。
【００７７】
上述の措置は、本発明に固有のものではないので、ここではこれ以上詳述しない。
【００７８】
ここに図示されている実施形態において、本発明による均しマスク１６の２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、ベッドプレート２４上に軸回転するように取付けられた支持体のレバー５４上に取外し可能なように後付けされ、このレバーを介して、それらのパネルに共通の制御装置２３が作動する。
【００７９】
たとえば、ここに図示されているように、ボタンホール３３付き装着部分のボタンホール３４は、それによってこの制御装置２３のスイングジョイント３２が、このような偏側性遮蔽パネル２２とかみ合い、支持体レバー５４を局所的に切込み、このレバー上に、この偏側性遮蔽パネル２が後付けされ、それと対応して、スイングジョイント３２が、図４では、このボタンホール３４の中に柔らかく摩擦するようにかみ合わされる柱脚５５を支持する。
【００８０】
ここに図示されている実施形態においては、２枚の偏側性遮蔽パネル２２の各々の支持体のレバー５４は、制御装置２３がそのレバーに作動するように、少なくとも部分的にベッドプレート２４の第一の方向に、より厳密には、ベッドプレートの上側表面の方向に延在し、対応する偏側性遮蔽パネル２２は、反対に、このベッドプレート２４の反対方向に、より厳密には、このベッドプレートの下側表面方向、すなわち、支持体１２の反対側に回転するこのベッドプレート２４の表面方向に、少なくとも部分的に延在する。
【００８１】
たとえば、ここに図示されているように、２枚の偏側性遮蔽パネル２２の各々の支持体のレバー５４は、一方では、ベッドプレート２４の上側表面方向に側板５６を有し、その側板は、対応するボタンホール３４を有し、その軸回転軸Ｐを具体的に表すためにベッドプレート２４によって支持される植込みボルト５７上に軸回転するように取付けられ、他方では、ベッドプレート２４の下側表面方向に、ステー５８を備え、このステーは、２つの小円柱５９によって側板５６に連結されながら、その側板に吊り下げられ、このステーの上に、当該の偏側性遮蔽パネル２２が蝶形ねじ６０を用いて後付けされる。
【００８２】
このようにして、有利には、偏側性遮蔽パネル２２を洗浄するために、パネルを一回使用した後に取外すことも可能であり、それによって洗浄が容易になる。
【００８３】
このようにしてまた、望むならば、任意の配列の偏側性遮蔽パネル２２を他の配列を有する別の偏側性遮蔽パネルに置き換えることも可能になる。
【００８４】
ここに図示された実施形態においては、偏側性遮蔽パネル２２は、互いに同じものであり、平面輪郭が全体的に長方形であるが、最も外側の縦方向側面は曲線ででき、より厳密には凸状である。
【００８５】
したがって、それらパネルは、最も内側の縦方向の側面上では、それらの軸回転軸Ｐとは反対側の先端で、角度ゾーン６２を有する。
【００８６】
いずれにせよ、本発明による均しマスク１６は、好ましくは、対称形の平面を受入れ、その平面は、実際には、支持体１２の放射方向に沿って延在しながら、そのベッドプレート２４の中線を通り、この支持体に対して、２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、互いに反対方向に移動できる。
【００８７】
ここに図示された実施形態においては、これら２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、共通の制御装置２３のそれらパネルに対する作動ゾーンよりも、支持体１２の軸回転軸Ａから遠ざけられ、この場合、ボタンホール型装着部分３３によって、この制御装置２３のスイングジョイント３２が、支持体のレバー５４とかみ合わされる。
【００８８】
この実施形態において、それと付随して、作動中のボタンホール付きの２つの装着部分２２のボタンホール３４は、支持体１２の回転軸Ａとは反対方向に互いに向かって収束する。
【００８９】
ここに図示された実施形態においては、さらに、２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、図４に示されているような接近位置にある場合には、少なくとも局所的に互いに接触する。
【００９０】
たとえば、図示されているように、それらパネルが接近位置にある場合、それらは、角度ゾーン、この場合には角度ゾーン６２によって互いに点でだけ接触し、こうして互いの間に設けられる空間Ｅは、頂点が支持体１２の回転軸Ａに向かっている全体的に三角形の平面輪郭を有する。
【００９１】
それと付随して、このとき、制御装置２３のスイングジョイント３２はねじ切りロッド３６の前部方向に、すなわち支持体１２の回転軸Ａに最も近いロッドの方向に延在する。
【００９２】
制御装置２３が作動すると、スイングジョイント３２は、ねじ切りロッド３６に沿って平行に移動し、それが、２枚の偏側性遮蔽パネル２２の互いに段階的な隔たりををつくりだす。
【００９３】
こうして、２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、ベッドプレート２４の両側に、側方向に広げられ、こうして支持体１２の回転軸Ａの方向にこのベッドプレートの翼幅を段階的に増大させるかのようにすべてが行なわれる。
【００９４】
スイングジョイントは行程の終わりに、ねじ切りロッド３６の後部方向、すなわち支持体１２の回転軸Ａから最も隔てられた部分の方向に延在し、したがって、２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、図１０に図示されているような隔てられた位置に存在する。
【００９５】
こうして互いの間に設けられた空間Ｅはまた、全体的に長方形の平面輪郭を有するが、その輪郭の頂点は、支持体１２の回転軸Ａの反対方向に誘導される。
【００９６】
容易に理解できるように、制御装置２３によって、２枚の偏側性遮蔽パネル２２は、さらに、その接近位置と遠隔位置との間の何らかの中間位置を連続的に占めることができる。
【００９７】
以上のことから結果的に、基板１０全体を処理する多層コーティングを行なうために、本発明によれば、対応する真空蒸発型処理ボックス１１内に、たとえば上述のタイプの面積可変型均しマスク１６が使用され、層の少なくとも１つの固着のために、またたとえば必要に応じて、それら層の一つ一つの固着のために、均しマスク１６の面積を変えることができる。
【００９８】
たとえば、処理される基板１０が眼鏡用レンズである場合には、固着されるコーティングは、それら基板１０のために結果的に実施される処理が反射防止処理であるような層を含む。
【００９９】
例えば同様に、このコーティングは少なくとも２つの異なる材料でできた層を有する。
【０１００】
望むならば、基板１０は、コーティングを固着するために加熱される。
【０１０１】
同様に望むならば、それら基板は、コーティングを固着させる前に、イオンボンバードを受けることができ、そのイオンボンバードの強さは、たとえば、分布用マスク１６の面積を変えることで調整される。
【０１０２】
同様に、コーティングの固着は、望むならばイオンボンバードによって補助することもできる。
【０１０３】
さらに、本発明は、以上に説明し図示された実施形態に限定されず、あらゆる変形実施形態を包括するものである。
【０１０４】
さらに、その適用領域は、どんな真空蒸発技術、特にマグネトロン技術にまで拡大することができる。それらの技術については、処理される基板が蒸発する材料の近接に置かれることから、層の均質性の問題が一層深刻である
したがって、必要であれば、使用される分配マスクの形状を適合させるだけでよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】  処理される基板の透視図である。
【図２】  本発明による均しマスクが作動する、この基板の処理のために使用することができる処理ボックスの正面縮小断面図である。
【図３】  共働する支持体の一部と共に均しマスクを図２の矢印ＩＩＩに沿って下方から見た拡大透視図である。
【図４】  ２枚の偏側性遮蔽パネルの接近位置について、本発明による均しマスクを、図２の矢印４ＩＶに沿って上方から見た拡大上面図である。
【図５】  図４でＶでマークされた一部を取出した部分拡大図である。
【図６】  本発明による均しマスクが有する固定ベッドプレートと、偏側性遮蔽パネルが、このベッドプレートに軸回転するように取付けられる際に使用されるレバーの１つの透視図である。
【図７】  偏側性遮蔽パネルの１枚と、それを支持するレバーを局所的に取出して示した透視図である。
【図８】  本発明による均しマスクが吊るされる留め具へのそのマスクの固定法を、図３の矢印ＶＩＩＩにしたがって異なる縮尺で表した側面図である。
【図９】  図２のラインＩＸ−ＩＸに沿って、この均しマスクの制御装置を異なる縮尺で表した部分的断面図である。
【図１０】  本発明による均しマスクから隔てられた偏側性遮蔽パネルの位置について、図４と同類の上面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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