(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さより小さく、前記基板の前記貼り合わせ接着面は平滑または凹部を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板の前記貼り合わせ接着面の表面は、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）の粗さ、または凹部を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項３】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１の基板の前記接着面表面は、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）の粗さまたは凹部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項４】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側に接着面を有する第２の基板と、この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１の基板の前記接着面表面および前記第２の基板の前記接着面表面は、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）の粗さまたは凹部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項５】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板の外周部に凹部または凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項６】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記被照射面の外周部に０．１ｍｍ以内の凹部または凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項７】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１および第２の基板の外周部に０．１ｍｍ以内の凹部または凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項８】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さより小さく、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の外周までの間に凹部または凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項９】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の外周までの間に０．１ｍｍ以内の凹部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１０】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１１】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１および第２の基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１２】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスククランプ領域からデータ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．２５ｍｍ以内の凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１３】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスククランプ領域からデータ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．２５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１４】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１および第２の基板のディスククランプ領域からデータ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．２５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１５】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変化記録膜と、この相変化記録膜上に形成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１６】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変化記録膜と、  この相変化記録膜上に形成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記第３の保護膜が形成された側を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１の基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１７】
接着層と、この接着層の対向する２つの面にそれぞれ形成され、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面および前記接着層に接触した接着面を有する２つの基板と、前記基板の前記記録面の上にそれぞれ形成された２つの反射膜と、前記反射膜の上にそれぞれ形成された２つの第１の保護膜と、前記第１の保護膜の上にそれぞれ形成された２つの相変化記録膜と、前記相変化記録膜上にそれぞれ形成された２つの第２の保護膜と、前記第２の保護膜上にそれぞれ形成された２つの第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームをそれぞれ照射し、前記反射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の記録面からこの記録面上に積層された膜の最表面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１８】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、この保護膜の上に形成された光透過性層とを具備し、前記光透過性層が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、データ部における前記基板の厚さは、０．１ｍｍ±０．０５ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項１９】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の表面に形成された第２の保護膜とを具備し、前記第２の保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さより小さく、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の外周までの間に凹部または凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２０】
前記第１の保護膜の表面は凹凸があり、前記光ビームの波長をλとし、前記第１、第２の保護膜の前記波長λにおける光屈折率をｎとしたとき、前記第２の保護膜の表面粗さはλ／（８ｎ）より小さいことを特徴とする請求項１９記載の情報記録媒体。
【請求項２１】
エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の表面に形成された第２の保護膜とを具備し、前記第２の保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の外周までの間に０．１ｍｍ以内の凹部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２２】
前記第１の保護膜の表面は凹凸があり、前記第１、第２の保護膜の前記波長λにおける光屈折率をｎとしたとき、前記第２の保護膜の表面粗さはλ／（８ｎ）より小さいことを特徴とする請求項２１記載の情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報記録媒体に係り、特に表面記録再生用情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常のＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスクにおいては、１．２ｍｍ厚の透明基板の一方の面上に記録データに応じたエンボスピットが形成され、さらにその上にＡｌなどからなる反射膜が形成されている。こうしたＣＤに記録された情報は、反射膜が設けられた面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより再生される。
【０００３】
より記録密度が高密度化されたＤＶＤやＤＶＤ−ＲＯＭディスクにおいては、０．６ｍｍ厚の透明基板の一方の面上にＣＤの場合よりも微細なエンボスピットが形成され、さらにその上にＡｌなどからなる反射膜が形成されている。こうしたディスクの記録面に記録された情報の再生は、ＣＤの場合と同様に反射膜が形成されている面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより行なわれる。
【０００４】
０．６ｍｍ厚の基板の材料としては、透明な樹脂材料であるＰＣ（ポリカーボネート）が一般的に使用されている。０．６ｍｍのＰＣ基板では、機械的特性が十分ではなく、そのままでは基板が反ってしまうため、記録面が内側となるよう２枚の０．６ｍｍＰＣ基板を貼り合わせて、合計厚さ１．２ｍｍのディスクとして機械的特性を確保している。
【０００５】
なお、ＤＶＤディスクの基板厚が０．６ｍｍとなったのは、チルトマージンを確保するためである。トラックピッチ、ピット密度がより詰まるとディスクの傾き、いわゆるチルトのマージンが減少してしまう。１．２ｍｍから０．６ｍｍへと基板厚を小さくすることによって、チルトマージンは確保することができるが、機械的強度の低下は避けられない。
【０００６】
そこで、基板を薄くして機械的強度を確保するため、ディスクの中央部を厚くすることにより機械的強度を確保することが提案されている（特開平９−２０４６８６号公報）。しかしながら機械的強度を確保するためには、信号記録領域の基板厚さは０．６ｍｍが限界であった。また、透明基板の厚さを０．１ｍｍ〜０．６ｍｍとすることが報告されている（特開平９−２０４６８８号公報）が、記録膜を保持する保護基板の厚さ、反射膜の膜厚等については言及されておらず、実施するうえでは問題であった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
今後さらに記録密度を詰めて情報記録媒体の大容量化を図るためには、基板の厚さをさらに薄くすることが、チルトマージンの面から有効であるものの、基板厚が０．６ｍｍより小さくなると、こうした基板を２枚貼り合わせても機械的強度を確保することが困難となる。
【０００８】
そこで本発明は、さらに記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度とを確保し得る情報記録媒体を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の一態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さより小さく、前記基板の前記貼り合わせ接着面は平滑または凹部を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板の前記貼り合わせ接着面の表面は、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）の粗さ、または凹部を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１の基板の前記接着面表面は、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）の粗さまたは凹部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側に接着面を有する第２の基板と、この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１の基板の前記接着面表面および前記第２の基板の前記接着面表面は、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）の粗さまたは凹部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板の外周部に凹部または凸部を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記被照射面の外周部に０．１ｍｍ以内の凹部または凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１および第２の基板の外周部に０．１ｍｍ以内の凹部または凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さより小さく、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の外周までの間に凹部または凸部を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の外周までの間に０．１ｍｍ以内の凹部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１および第２の基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスククランプ領域からデータ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．２５ｍｍ以内の凸部を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスククランプ領域からデータ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．２５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１および第２の基板のディスククランプ領域からデータ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以内の凹部または０．２５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変化記録膜と、この相変化記録膜上に形成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変化記録膜と、この相変化記録膜上に形成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記第３の保護膜が形成された側を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１の基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、接着層と、この接着層の対向する２つの面にそれぞれ形成され、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面および前記接着層に接触した接着面を有する２つの基板と、前記基板の前記記録面の上にそれぞれ形成された２つの反射膜と、前記反射膜の上にそれぞれ形成された２つの第１の保護膜と、前記第１の保護膜の上にそれぞれ形成された２つの相変化記録膜と、前記相変化記録膜上にそれぞれ形成された２つの第２の保護膜と、前記第２の保護膜上にそれぞれ形成された２つの第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームをそれぞれ照射し、前記反射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の記録面からこの記録面上に積層された膜の最表面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、この保護膜の上に形成された光透過性層とを具備し、前記光透過性層が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、データ部における前記基板の厚さは、０．１ｍｍ±０．０５ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の表面に形成された第２の保護膜とを具備し、前記第２の保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さより小さく、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の外周までの間に凹部または凸部を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の表面に形成された第２の保護膜とを具備し、前記第２の保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記基板のディスクスピンドル穴からディスククランプ領域の外周までの間に０．１ｍｍ以内の凹部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。
【００３２】
（実施例１）
図１に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
【００３３】
図示する光ディスクにおいては、０．６ｍｍ厚ディスク基板１の一方の表面に、記録データに応じたエンボスピット２が形成された記録面が設けられている。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の上には、反射膜３が成膜され、さらにその上に保護膜４がオーバーコートされている。一方、基板１の記録面の裏面側には、接着層８を介してダミー基板７が設けられている。
【００３４】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して保護膜４側から入射し、反射膜３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出することによって行なわれる。
【００３５】
なお従来の光ディスクにおいては、保護膜側からではなく透明基板側から光ビームを入射して、基板の光入射面とは反対側の面に形成されているエンボスデータを読み取っていた。そのため、基板の厚さによってチルトマージンの確保が制限されていた。それに対して、図１に示したような光ディスク構造であれば、基板表面のエンボス面から再生するので、保護膜４の膜厚が従来の基板厚さに相当することになる。
【００３６】
本発明の光ディスクにおいては、エンボス面（記録面）から保護膜４側の表面（被照射面）までの距離は、基板１の厚さより小さく規定しているので、保護膜の膜厚は、基板厚より小さくなる。したがって、基板厚によるチルトマージンの制限を受け難くなり、高記録密度化が容易となる。
【００３７】
図１に示した光ディスクにおける反射膜３は、反射膜材料を真空蒸着またはスパッタ法でにより成膜して作製することができる。
【００３８】
こうした反射膜３の上に配置される保護膜４は、例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成することができる。この保護層４は、例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により反射膜３の表面に塗布して樹脂膜を成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成される。このオーバーコート保護膜４の膜厚としては、実用上、数μｍ〜数０．１ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０００１〜０．１ｍｍの範囲であることがより好ましい。また、反射膜３との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。
【００３９】
保護膜４の材質は、紫外線硬化樹脂に限定されるものではなく、再生に使用される光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料であれば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよい。例えば、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ3 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法などにより保護膜４を形成することもできる。
【００４０】
こうした保護膜４はディスクの表面となるので、ディスクの取り扱い上の傷等を防止するために、表面硬度がＨＢ以上、さらにはＨ以上であることが好ましい。
【００４１】
なお、反射膜３それ自体が安定な膜であれば、保護膜４を省略することも可能である。
【００４２】
ここで、従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板の例を図２に示す。従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板７９においては、ディスク表面の擦り傷等を防止する目的で、図示するように記録面８０の反対側基板面８１のディスク外周に０．１ｍｍの突起８２が設けられていた。
【００４３】
また、ディスク中央部のクランプエリア８３手前内周領域８４には、最大０．１ｍｍの凹部または最大０．０５ｍｍの凸部が設けられていた。さらに、クランプエリア８３の直後外周側からデータエリア８５手前までの領域８６には、最大０．１ｍｍの凹部または最大０．２５ｍｍの凸部が設けられていた。
【００４４】
図２に示すような従来の基板７９を記録面８０を外側にして２枚貼り合わせようとした場合には、前述のディスク表面の凸部が邪魔となって、正確な両面貼り合わせができなかった。
【００４５】
図３には、本発明の表面記録用基板１の一例を模式的に表わす断面図を示す。本発明においては、基板１の記録面１７の反対側基板面１８は平滑または凹部を有し、凸部を有しないように成形する。基板１の記録面１７側には、必要に応じて次のような凸部を形成することができる。図示するように、ディスク外周に０．１ｍｍの凹部または凸部１２，ディスク中央部のクランプエリア１３手前領域１４に最大０．１ｍｍの凹部または最大０．０５ｍｍの凸部、クランプエリア１３直後外周側データエリア１５手前までの領域１６には最大０．１ｍｍの凹部または最大０．２５ｍｍの凸部を形成することがきる。
【００４６】
本実施例の光ディスクに用いられる０．６ｍｍ厚ディスク基板１は、従来のＣＤ、ＤＶＤの製造で採用されている射出成形法により作製することができる。例えば、予め情報が記録されたマスター盤を射出成形機の一方の金型側にセットし、完成後の基板厚さが０．６ｍｍとなるように２つの金型の空間を設定することによって、０．６ｍｍ厚ディスク基板１が作製される。
【００４７】
ここで、片面に記録面を有する０．６ｍｍ厚ディスク基板１を、射出成形法により作製するための金型の一例を図４に模式的に示す。
【００４８】
まず、ディスクの記録面をＡ面とすると、従来のマスタリングでＡ面用のスタンパー１９を作製し、このＡ面用のスタンパー１９の中央に精度よく中心穴２０を形成する。金型２１の一方の面の中央部には、Ａ面用スタンパー１９の中心穴２０に対応した穴径精度の突起２２を設けておく。
【００４９】
射出成形用の金型２１の片面に、Ａ面用スタンパー１９を記録面が内側となるように設置して、Ａ面用スタンパーの中心穴２０を金型２１に設けられた突起２２に配設する。その突起２２にスタンパーの中心穴２０をはめ込むことで、Ａ面用スタンパー１９の位置合わせができる。
【００５０】
金型２１のＡ面用スタンパー１９と対向させて金型２３を離間して配置し、加熱され溶融状態とした樹脂を樹脂導入口２４から、これらの間に充填する。次いで、Ａ面用スタンパー１９と金型２３とを近接させて、Ａ面用スタンパー１９と金型２３との間隔を所定の間隔とする。具体的には、樹脂が冷却硬化後、できあがった基板１の厚さが０．６ｍｍとなるようにＡ面用スタンパー面１９と金型面２３との間隔を設定する。
【００５１】
以上の工程によって、片面に記録面が形成された０．６ｍｍ厚のディスク基板１を１回の射出成形で形成することができる。
【００５２】
こうして形成されたディスク基板１の記録面１７側には、上述したようにディスク外周に０．１ｍｍ以内の凹部または凸部１２、ディスク中央部のクランプエリア１３手前内周側領域１４に最大０．１ｍｍの凹部または最大０．０５ｍｍの凸部、クランプエリア１３直後外周側からデータエリア１５手前までの領域１６には最大０．１ｍｍの凹部または最大０．２５ｍｍの凸部に対応した凹凸部を必要に応じて形成することができる。一方、記録面１７の反対面１８は、平らまたは凹部を有し、凸部を有しないようなディスク基板１を形成することができる。
【００５３】
従来の光ディスクでは、基板側から光ビームを入射して記録情報を再生していたため、基板は、再生に使用される光ビームの波長を透過する必要があった。これに対して本発明の光ディスクでは、保護膜側から光ビームを照射して記録情報を再生するため、基板は必ずしも透明でなくともよい。このように保護膜側から光ビームが照射されるので、基板の複屈折も問題とならない。そのため、基板材料としては、耐環境性、耐熱性、および加工性に優れた材料であれば特に限定されず、例えば、ＡＢＳ樹脂、ポリエチレン樹脂、およびポリスチレン樹脂等、より安価な材料を使用することが可能である。
【００５４】
０．６ｍｍ厚ディスク基板１の記録面の上には、スパッタ法または真空蒸着法などにより反射膜３が成膜される。図５のグラフには、反射膜の膜厚と反射率との関係を示す。
【００５５】
ここではＡｌ系合金膜により反射膜を形成し、照射する光ビームの波長は６５０ｎｍとした。こうした条件の場合には、膜厚を約１４ｎｍとしたときに反射率は４５％となり、膜厚が４０ｎｍとなると反射率はほぼ飽和状態となることが図５のグラフに示されている。このグラフに表わされた反射率には保護膜４表面からの表面反射も含まれているので、反射膜表面におけるの反射率は表面反射を除いた値となる。具体的には、反射膜の厚さがゼロのときの反射率が保護膜４の表面反射に相当するので、図５のグラフに示す場合には、その分（約５％）を除いた値が反射膜の反射率となる。
【００５６】
図６には、反射率が４５％および飽和状態となるときの反射膜の膜厚の光波長依存性を示す。なお、反射膜はＡｌ系の合金膜により構成し、光ビームの波長は４００〜８００ｎｍとした。
【００５７】
図６のグラフにおいて、直線ａは反射率４５％となる膜厚であり、直線ｂは、反射率が飽和状態となるときの膜厚である。このグラフに示されるように、光波長４００ｎｍから８００ｎｍで光波長依存性は小さく、この波長範囲内において、反射率４５％となる反射膜膜厚は１３〜１４ｎｍ、また飽和反射率となる膜厚はほぼ４０ｎｍであった。
【００５８】
ＤＶＤ−ＲＯＭの規格では、反射率が４５〜８５％と規定されているので、ＤＶＤ−ＲＯＭとの再生互換を保持するためには、本発明の光ディスクの反射膜における反射率を４５％以上とすることが要求される。そのためには、反射率の膜厚を１４ｎｍ以上とする必要があることが図５のグラフに示されている。さらに、反射膜の膜厚変動を抑制して一定の反射率を得るためには、反射率が飽和した膜厚に設定することが製造上望ましい。そのためには、反射率の膜厚を４０ｎｍ以上とすることが好ましい。
【００５９】
また、こうしたＡｌ系合金膜からなる反射膜は、光波長依存性が小さいので、将来の緑、青色光ビームを用いた再生にも、上述したような膜厚設定で使用することが可能である。
【００６０】
図７には、片面仕様ディスクの一例を模式的に表わす断面図を示す。図示するように、基板１の一方の面には記録面が設けられ、他方の面には、接着層８を介してダミー基板７が貼り合わされている。基板１とダミー基板７との貼り合わせに当たっては、熱硬化樹脂を用いたホットメルト法による貼り合わせ方法、またはＵＶ接着剤をスピンコートし、紫外線を照射して硬化貼り合わせる方法等を採用することができる。あるいは基板１およびダミー基板７の少なくとも一方の表面に予め突起を設けておき、密着させて超音波を照射することで貼り合わせる超音波接着法により接合してもよい。また、両面接着剤を用いた方法等で基板１とダミー基板７とを貼り合わせ、接着層８を形成することもできる。
【００６１】
基板１とダミー基板７との貼り合わせに先だって、少なくとも１つの基板の接着面のにラベル印刷、またはラベル材を貼り付けてもよい。かかる構成とすることによりラベル面が基板内部に設けられることになるので、ラベルの剥がれ等を防止することができる。
【００６２】
（実施例２）
図８に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
【００６３】
図示する光ディスクにおいては、記録面１７を有する０．６ｍｍ厚ディスク基板１と、記録面２６を有する０．６ｍｍ厚ディスク基板２５とが、それぞれの記録面１７，２６を外側にして接着層８により貼り合わされている。
【００６４】
図９には、図８に示した光ディスクの詳細を表わす断面図を示す。図示するように、接着層８を介して貼り合わされたディスク基板１および２５の表面には、記録データに応じたエンボスピット２がそれぞれ形成された記録面が設けられている。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の上には、それぞれ反射膜３が成膜され、さらにその上にそれぞれ保護膜４がオーバーコートされている。
【００６５】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して両面の保護膜４側からそれぞれ入射し、反射膜３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出することによって行なわれる。本実施例の光ディスクは両面に記録面が形成されているので両表面から再生することができ、単純に単面の場合の２倍の記録容量を確保することが可能となる。
【００６６】
ここで用いられるディスク基板１，２５は、前述の実施例１において説明したような方法により作製することができる。
【００６７】
実施例１の片面仕様の光ディスクと比べると、本実施例の光ディスクは接着層８を境にして上下対称なディスク構造となるため、ディスクの反り等をより防止することができる。
【００６８】
反射膜３は、０．６ｍｍディスク基板１，２５上に反射膜材料を真空蒸着またはスパッタ法により成膜することによって形成することができる。
【００６９】
また、保護膜４のオーバーコートは、反射膜３を形成した０．６ｍｍ厚基板の記録面にＵＶ硬化樹脂を塗布、スピンコートし、ＵＶ炉で硬化することによって容易に形成することができる。
【００７０】
保護膜４を形成後、実施例１の場合と同様な貼り合わせ方法で、記録面を外側にして２枚の０．６ｍｍ基板１，２５を貼り合わせることで両面仕様のディスクを作製することができる。
【００７１】
０．６ｍｍ基板の貼り合わせ方法を採用することで、従来のＤＶＤ−ＲＯＭ等の製造工程をそのまま利用することができるという利点がある。
【００７２】
（実施例３）
図１０に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
【００７３】
図示する光ディスクにおいては、０．６ｍｍ厚ディスク基板１の一方の表面には、記録データに応じたエンボスピット２が形成された記録面が設けられている。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の上には、反射膜３が成膜され、さらにその上に第１の保護膜４、および第２の保護膜２７が順次オーバーコートされている。
【００７４】
一方、ディスク基板１の記録面とは反対側の面には、接着層８を介してダミー基板７が設けられている。このダミー基板７上には、必要に応じて、図示するように保護膜２８を設けてもよい。貼り合わせる基板の反り特性をそろえることで、貼り合わせ後の反りがキャンセルされ、反りが生じにくくなる。
【００７５】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して被照射面としての保護膜２７側から入射し、反射膜３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出することによって行なわれる。
【００７６】
本実施例の光ディスクを構成するための０．６ｍｍ厚ディスク基板１、エンボスピット２、反射膜３および保護膜４は、前述の実施例１の光ディスクの場合と同様とすることができる。
【００７７】
保護膜４の上に配置される保護膜２７は、例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成することができる。この保護膜２７は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により保護膜４の表面に塗布し樹脂膜を成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成される。このオーバーコート保護膜２７の膜厚は、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護層２７の膜厚は、実用上０．０００１〜０．１ｍｍであることが好ましい。また、反射膜３との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。
【００７８】
保護膜２７の材質は、上述したような紫外線硬化樹脂に限定されるものではない。再生に使用される光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料であれば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよい。例えば、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ3 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法などにより形成することもできる。
【００７９】
また保護膜２７は、使用される光の波長に対して透明な材料であればよく、上述した材料や形成方法に限定されるものではない。例えば、厚さ０．０００１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の透明な樹脂材料からなるフィルム状、または板状のものを用いることもできる。こうした樹脂フィルム等は、保護膜４をスピンコートする際に保護膜４の上に載せ、ＵＶ炉でＵＶ照射して硬化させることで、保護膜４の上に接着することができる。
【００８０】
ただし、再生に使用する光ビームの波長での保護膜２７の屈折率ｎ2 は、再生に使用する光ビームの波長での保護膜４の屈折率ｎ1 より小さいか等しい材料であることが必要である。保護膜２７の光屈折率が保護膜４の光屈折率より大きい場合（ｎ2 ＞ｎ1 ）には、保護膜２７と保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。
【００８１】
したがって、図１０に示したような保護膜を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、保護膜２７としては、その光屈折率ｎ2 が保護膜４の光屈折率ｎ1 よりも小さいか等しく、透明な材料を用いることが必要である。
【００８２】
また、表面のハードコートや帯電防止の効果を保護膜２７に課することもできる。保護膜４より硬化硬度の高い材料、または表面抵抗の小さい材料を選択することで可能となる。
【００８３】
また、ダミー基板７の表面に保護膜２８を設ける場合には、この保護膜２８は、上述したような保護膜２７の場合と同様にして形成することができる。
【００８４】
本実施例の光ディスクにおいては、保護膜４の上にさらに保護膜２７を配設しているので、ディスク表面の機械的強度を高めるとともに、ディスクの取り扱い上の傷等を防止することが可能となった。
【００８５】
（実施例４）
図１１に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
【００８６】
図示する光ディスクにおいては、０．６ｍｍ厚ディスク基板１および２９を貼り合わせて両面に記録層を形成し、その両面に保護膜が設けられている。
【００８７】
すなわち、ディスク基板１の一方の表面には、記録データに応じたエンボスピット２が形成された記録面が設けられており、この記録面の上には、反射膜３，第１の保護膜４および第２の保護膜２７が順次形成されている。一方、ディスク基板２９の一方の表面には、記録データに応じたエンボスピット３０が形成された記録面が設けられており、この記録面の上には、反射膜３１，第１の保護膜３２および第２の保護膜３３が順次形成されている。ディスク基板１と２９とは、記録面とは反対側の接着面で、接着層８に接着されている。
【００８８】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して保護膜２７側から入射し、記録マークによる記録膜３からの反射光の光強度変化を記録データとして検出するとともに、光ビーム３４を対物レンズ３５で集光して保護膜３３側から入射し、記録マークによる記録膜３１からの反射光の光強度変化を記録データとして検出することによって行なわれる。
【００８９】
前述の実施例３では、ディスク基板の片面のみに記録面を設けたが、本実施例では、こうしたディスク基板を２枚貼り合わせることによって、両面に記録面を設ける以外は前述と同様の構成としたものである。したがって、本実施例の光ディスクを構成するための０．６ｍｍ厚ディスク基板１、２９は、前述の実施例１の場合と同様とすることができ、エンボスピット２、反射膜３および保護膜４等は、前述の実施例１の場合と同様とすることができる。
【００９０】
第１の保護膜４，３２の上に配置される第２の保護膜２７，３３は、例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成することがきる。このような保護膜２７，３３は、例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により保護膜４，３２の表面に塗布して樹脂膜を成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成される。
【００９１】
第２の保護膜２７，３３のオーバーコートは、０．６ｍｍ厚基板にＵＶ硬化樹脂を塗布、スピンコートし、ＵＶ炉で硬化することで容易に形成できる。保護膜形成後、０．６ｍｍ基板を２枚貼り合わせて両面ディスクとする。
【００９２】
このオーバーコート保護膜２７，３３の膜厚は、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護層２７，３３の膜厚は、実用上０．０００１〜０．１ｍｍであることが好ましい。また、反射膜３，２１との光干渉を生じない膜厚であることが好ましい。
【００９３】
保護膜２７，３３の材質は、上述したような紫外線硬化樹脂に限定されるものではない。再生に使用される光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料であれば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよい。例えば、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ3 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法などで形成することができる。
【００９４】
こうした材料を用いて第２の保護膜２７，３３を両面に同時に成膜する場合には、ディスクの両側に蒸着源またはスパッタターゲット材を対向して配置し、対向蒸着または対向スパッタすればよい。あるいは、一方の面をマスク材でマスクして片面ずつ順次成膜することもできる。
【００９５】
また保護膜２７，３３は、使用される光の波長に対して透明な材料であればよく、上述した材料や形成方法に限定されるものではない。例えば、厚さ０．０００１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の透明な樹脂材料からなるフィルム状、または板状のものを用いることもできる。こうした樹脂フィルム等は、保護膜４，３２をスピンコートする際に保護膜の上に載せ、ＵＶ炉でＵＶ照射して硬化させることで保護膜４、３２の上に接着することができる。
【００９６】
こうした樹脂フィルム等を貼り付けて保護膜２７，３３を形成する場合には、まず、反射膜の一方の面をマスク材でマスクして片面ずつ順次ＵＶ硬化樹脂を塗布して樹脂膜を成膜する。次いで、その上に保護膜２７，３３を載せてスピンコートする。最後に、ＵＶ炉で硬化することにより容易に形成することができる。あるいは、保護膜２７，３３を同時に形成してもよい。この場合は、まず、治具を工夫してディスクを支持してＵＶ硬化樹脂を両面に塗布し、その両面上に保護膜２７，３３を載せスピンコート回転させる。次いで、ＵＶランプが対向して設置されたＵＶ炉にディスクを通過させることで、両面に同時に保護膜２７，３３が形成される。
【００９７】
ディスクの両面の保護膜２７，３３を光ビームの作動距離に応じた厚さとし、かつこれら２つの保護膜をディスクの上下面で同じ厚さとすることで、ディスクの両面を同じ作動距離の光学ヘッドで再生することができる。
【００９８】
ただし、再生に使用する光ビームの波長での第２の保護膜２７，３３の屈折率ｎ2 は、再生に使用する光ビームの波長での第１の保護膜４，３２の屈折率ｎ1 よりそれぞれ小さいか等しい材料であることが必要である。例えば、保護膜２７の光屈折率が保護膜４の屈折率より大きい場合（ｎ2 ＞ｎ1 ）には、保護膜２７と保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。保護膜３３と保護膜３２との間においても、保護膜３３の光屈折率が保護膜３２の屈折率より大きい場合には、これと同様の不都合が生じる。
【００９９】
したがって、図１１に示したような保護膜を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、第２の保護膜２７，３３としては、その光屈折率ｎ2 が第１の保護膜４，３２の光屈折率ｎ1 よりそれぞれ小さいか等しく、透明な材料を用いることが必要である。
【０１００】
本実施例の光ディスクは、第１の保護膜４，３２の両面上にさらに第２の保護膜２７，３３がそれぞれ配設された構成である。前述の実施例３では、一方の面のみに記録面を形成した片面仕様であったが、本実施例では、さらにディスクの他方の面にも記録面を設けて両面仕様としたものである。
【０１０１】
このように両面仕様としたことで、ディスクの記録容量の２倍化が容易に可能となる。
【０１０２】
また、両面の保護膜４，３２の両面上にさらに保護膜２７，３３をそれぞれ配設しているのでディスク両面の機械的強度を高めるとともに、ディスクの取り扱い上の傷等を防止することが可能となった。
【０１０３】
さらに、表面のハードコートや停電防止の効果を保護膜２７，３３に課することもできる。保護膜４，３２より硬化硬度の高い材料、または表面抵抗に小さい材料を選択することも可能となる。
【０１０４】
（実施例５）
前述の実施例４では、ディスクの両面の第２の保護膜２７と３３との膜厚を同じとしたが、ディスクの上下面に設けられる保護膜２７と３３との膜厚を異なる厚さとすることも可能である。
【０１０５】
例えば、図１１に示した光ディスクにおいて、一方の保護膜２７の膜厚を０．０００１〜０．６ｍｍとし、他方の保護膜３３の膜厚を０．６ｍｍとした場合には、次のような利点が得られる。すなわち、保護膜２７側の面を、作動距離の短い光ヘッド用の記録再生面として使用し、保護膜３３側の面は、従来のＤＶＤ仕様に対応した光ヘッド用の記録再生面として使用することが可能となる。
【０１０６】
（実施例６）
前述の実施例５では、ディスクの両面の第２の保護膜２７と３３との膜厚を異なる厚さとしたが、この場合さらに、基板１および基板２９の厚さを調整することで、ディスク全体の厚さを１．２ｍｍとすることができる。
【０１０７】
例えば、図１１に示した光ディスクにおいて、一方の保護膜２７の厚さを０．１ｍｍとし、他方の保護膜３３の厚さを０．６ｍｍとした場合には、ディスク基板１の厚さを０．５ｍｍとし、基板２９を略すとディスク全体の厚さが１．２ｍｍとなる。基板１は表面記録用基板、保護膜３３は従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板で、基板１と保護膜３３とを接着層８を介して貼り合わせることで、従来のＣＤ、ＤＶＤディスクと同等のディスク厚さを実現することができるので、ディスクの取り扱い上の互換性が保持できる。
【０１０８】
（実施例７）
図１２には、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
【０１０９】
図示する光ディスクにおいては、０．６ｍｍ厚ディスク基板３６の一方の表面に光ビーム５のトラッキング用の案内溝３８が形成され、その上に反射膜３９、下保護膜４０、記録膜４１、および上保護膜４２が順次成膜され、さらにその上に保護膜４がオーバーコートされている。ディスク基板３６の他方の面には、接着層８を介してダミー基板３７が貼り合わされており、このダミー基板３７の上には、保護膜４３を図示するように形成してもよい。貼り合わせる基板の反り特性をそろえることで、貼り合わせ後で反りがキャンセルされ反りが生じにくくなる。
【０１１０】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して保護膜４側から入射し、記録マークによる記録膜３９からの反射光の光強度変化を記録データとして検出することによって行なわれる。
【０１１１】
光ディスク基板３６およびダミー基板３７は、安定で経時変化が少ない材料により構成することができる。用い得る材料としては、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のようなアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ガラス、Ａｌなどの金属、合金、およびセラミック等が挙げられる。こうした材料で構成された光ディスク基板３６上には、記録フォーマットに応じて、グループトラック、ランドトラック、プリフォーマットマーク等が形成される。
【０１１２】
反射膜３９は、この上に下保護膜４０を介して形成される記録膜４１の光学変化を光学的にエンハンスして再生信号を増大させる効果と、記録膜４１の冷却効果とを有している。この反射膜２７は、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｉ−Ｃｒ、またはこれらを主成分とした合金等の金属膜を真空蒸着法やスパッタリング法等などにより形成することができる。反射膜３９の膜厚は、実用上、数ｎｍ〜数μｍである。
【０１１３】
記録膜４１は、光ビームの照射条件によって結晶構造が変化する相変化膜により構成される。このような相変化型材料としては、ＧｅＴｅ系、ＴｅＳｅ系、ＧｅＳｂＳｅ系、ＴｅＯx 系、ＩｎＳｅ系、およびＧｅＳｂＴｅ系等のカルコゲナイド系アモルファス半導体材料や、ＩｎＳｂ系、ＧａＳｂ系、およびＩｎＳｂＴｅ系などの化合物半導体材料などを用いることができる。
【０１１４】
上述したような材料を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法等により記録膜４１を形成することができる。この記録膜４１の膜厚は、実用上数ｎｍから数μｍである。
【０１１５】
下保護膜４０および上保護膜４２は、記録膜４１を挟むようにその上下に配設されており、記録ビームの照射により記録膜４１が飛散したり、穴があいてしまうことを防止する役割を有している。また記録時における記録膜４１の加熱、冷却の熱拡散を制御する働きもある。こうした下保護膜４０および上保護膜４２は、例えばＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ3 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリングなどで形成することができる。下保護膜４０および上保護膜４２の膜厚は、実用上数ｎｍ〜数μｍである。
【０１１６】
上保護膜４２上のオーバーコート保護膜４は、相変化光ディスクを取り扱ううえでの、傷やほこり等を防止するために配設されるものであり、通常、紫外線硬化樹脂などにより形成される。この保護膜４は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により上保護膜４２の表面に塗布し、紫外線を照射して硬化させることにより形成することができる。オーバーコート保護膜４の膜厚としては、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下とすることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護膜４の膜厚は、０．０００１〜０．１ｍｍとすることが実用上好ましい。さらに、反射膜３９との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。
【０１１７】
一方、ダミー基板３７の上に設けられる保護膜４３は、前述の保護膜４と同様の材料を用いて同様の手法で形成することができる。
【０１１８】
以上、相変化記録膜の相構成として４層構成を例に挙げて説明したが、要求される性能に応じて各層の多層化等も可能である。
【０１１９】
（実施例８）
図１３に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
【０１２０】
図示する光ディスクにおいて、ディスクの一方の側は図１２に示したものと同様の構成である。すなわち、０．６ｍｍ厚ディスク基板３６の一方の表面には光ビーム５のトラッキング用案内溝３８が形成され、その上に反射膜３９、下保護膜４０、記録膜４１、および上保護膜４２が順次成膜され、さらにその上に保護膜４がオーバーコートされている。
【０１２１】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して保護膜４側から入射し、記録マークによる記録膜４１からの反射光の光強度変化を記録データとして検出することによって行なわれる。
【０１２２】
さらにディスク基板３６の他方の面には接着層８を介して第２のディスク基板４４が貼り付けられており、このディスク基板４４の上には、次のように各膜が順次設けられている。
【０１２３】
すなわち、０．６ｍｍ厚ディスク基板４４の表面に光ビーム５１のトラッキング用の案内溝４５が形成され、その上に反射膜４６、下保護膜４７、記録膜４８、上保護膜４９が成膜され、さらにその上に保護膜５０がオーバーコートされている。
【０１２４】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５１を対物レンズ５２で集光して保護膜５０側から入射し、記録マークによる記録膜４８からの反射光の光強度変化を光記録データとして検出することによって行なわれる。
【０１２５】
本実施例の光ディスクを構成するためのディスク基板の材質および各膜の特性は、前述の実施例７で述べたものと同様である。両面への反射膜、記録膜、各保護膜の形成に当たっては、前述の実施例４の場合と同様の方法を適用することができる。
【０１２６】
上保護膜４２，４９上のオーバーコート保護膜４，５０は、相変化光ディスクを取り扱ううえでの、傷やほこり等を防止するために配設されるものであり、通常、紫外線硬化樹脂などにより形成される。この保護膜４，５０は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により上保護膜４２，４９の表面に塗布し、紫外線を照射して硬化させることにより形成することができる。保護膜４，５０の膜厚としては、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護膜４，５０の膜厚は、０．０００１〜０．１ｍｍとすることが実用上が好ましい。さらに、反射膜３９，４６との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。
【０１２７】
以上、相変化記録膜の相構成として４層構成を例に挙げて説明したが、要求される性能に応じて各層の多層化等も可能である。
【０１２８】
（実施例９）
前述の実施例７で説明したような図１２に示される構成の光ディスクにおいて、保護膜４の上にさらに保護膜を配設して、前述の実施例３で説明したような図１０に示されるものと同様の構成とすることもできる。
【０１２９】
保護膜４の上にさらに保護膜２７を配設することによって、ディスク表面の機械的強度を高めるとともに、ディスク取り扱い上の傷等を防止することが可能となる。
【０１３０】
この場合、すでに説明したように、再生に使用する光ビームの波長での保護膜２７の屈折率ｎ2 は、再生に使用する光ビームの波長での保護膜４の屈折率ｎ1 より小さいか等しい材料であることが必要である。保護膜２７の光屈折率が保護膜４の光屈折率より大きい場合（ｎ2 ＞ｎ1 ）には、保護膜２７と保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。
【０１３１】
したがって、保護膜を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、保護膜２７としては、その光屈折率ｎ2 が保護膜４の光屈折率ｎ1 よりも小さいか等しく、透明な材料を用いることが必要である。
【０１３２】
（実施例１０）
前述の実施例８で説明したような図１３に示される構成の光ディスクにおいて、保護膜４，５０の上にさらに保護膜を配設して、前述の実施例４で説明したような図１１に示されるものと同様の構成とすることもできる。
【０１３３】
両面の保護膜４，５０の両面上にさらに保護膜２７，３３を配設することによって、ディスク両面の機械的強度を高めるとともに、ディスク取り扱い上の傷等を防止することが可能となる。
【０１３４】
この場合、すでに説明したように、再生に使用する光ビームの波長での第２の保護膜２７，３３の屈折率ｎ2 は、再生に使用する光ビームの波長での第１の保護膜４，５０の屈折率ｎ1 よりそれぞれ小さいか等しい材料であることが必要である。例えば、保護膜２７の光屈折率が保護膜４の屈折率より大きい場合（ｎ2 ＞ｎ1 ）には、保護膜２７と保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。保護膜３３と保護膜５０との間においても、保護膜３３の光屈折率が保護膜５０の屈折率より大きい場合には、これと同様の不都合が生じる。
【０１３５】
したがって、保護膜を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、第２の保護膜２７，３３としては、その光屈折率ｎ2 が第１の保護膜４，５０の光屈折率ｎ1 よりそれぞれ小さいか等しく、透明な材料を用いることが必要である。
【０１３６】
（実施例１１）
前述の実施例１〜１０で説明した光ディスクにおいて、ディスクの表面のうち、光ビームが照射されて情報の記録再生に使用される側の面は、いずれも平滑な面とする。ディスクの表面が平滑であればゴミがあっても付着しにくく、ゴミの付着防止の効果を得ることができる。またディスクの表面が平滑であれば、対物レンズのディスクへの接触を防止するという効果も得られる。
【０１３７】
各図面に示した光ディスク表面の保護膜は、その内側、すなわちディスク内側に、記録エンボスまたはトラッキング用のグルーブによる凹凸面を有している。一方、ディスク外側の面は、こうした保護膜を厚く形成することで内側の凹凸面を反映せずに平滑化することができる。
【０１３８】
なお、ディスク基板の記録面の凹凸は再生に使用される光ビームの波長λに対して、λ／（８ｎ）（ｎは表面保護膜の前記光波長での光屈折率である）前後の大きさで形成される。ディスク基板の記録面から光ビームが照射される表面（被照射面）までの距離は、概してその１０倍以上であることが、表面の平滑化の面から望まれる。したがって、ディスク基板の記録面から光ビームが照射される表面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上であることが好ましい。
【０１３９】
さらに光ビームが照射される面（被照射面）における光回折現象を低減するために、この被照射面の表面粗さは、λ／（８ｎ）より小さいことが要求される。被照射面の表面粗さは、λ／（８ｎ）の１／２以下であるλ／（１６ｎ）以下であることが望ましい。
【０１４０】
ディスク表面の保護膜を２層で構成する場合、表面の保護膜の粘度をより小さくすることで、表面の粗さを低減することができる。
【０１４１】
（実施例１２）
図１０，図１１に示したような光ディスクにおける保護膜２７，３３として、射出成形で形成された０．１ｍｍ厚以下の樹脂基板を用いてもよい。
【０１４２】
保護膜４，３２でこの０．１ｍｍ厚以下の樹脂基板を、反射膜３，３３に接着することで、十分な機械的強度を有するディスクを作製することができる。
【０１４３】
（実施例１３）
前述の実施例１２において、０．１ｍｍ厚樹脂基板を形成する際に、０．１ｍｍ厚樹脂基板上にエンボスピット部またはガイドグルーブ部を形成し、平らな基板上に貼り合わせることで、図１４に示す構成のディスクを作製することもできる。
【０１４４】
図示する情報記録媒体は、第１の基板６１上にエンボスピットまたは案内溝が形成された記録面６２が設けられており、この記録面６２上には反射膜６３が形成されている。さらに、接着層６４を介して第２の基板６５が設けられた構成である。かかる構成とすることによって、基板のデータ部の基板厚が０．ｌｍｍ±０．０５ｍｍの情報記録媒体が得られる。なお、基板６１の厚さは、０．１ｍｍ±０．０５ｍｍ以下であってもよい。
【０１４５】
この記録媒体に記録されている記録データの読み出しは、基板６１側に配置した対物レンズ（図示せず）で光ビーム（図示せず）を集光して入射し、反射膜６３からの光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出することによって行なわれる。
【０１４６】
（実施例１４）
図１５には、貼り合わせ面に凹部を設けた基板の一例を模式的に表わす図を示す。図示する基板においては、記録面１７の反対側基板面１８には、凹部６６が設けられている。これ以外の構成は、図３に示したものと同様とすることができる。すなわち、基板の記録面１７側には、必要に応じて次のような凸部を形成することができる。図示するように、ディスク外周に０．１ｍｍの凹部または凸部１２，ディスク中央部のクランプエリア１３手前領域１４に最大０．１ｍｍの凹部または最大０．０５ｍｍの凸部、クランプエリア１３直後外周側データエリア１５手前までの領域１６には最大０．１ｍｍの凹部または最大０．２５ｍｍの凸部を形成することがきる。
【０１４７】
図示するように、基板の貼り合わせ面は平らでなくとも、凹部を有していれば貼り合わせが可能である。
【０１４８】
（実施例１５）
図１６には、青色ＬＤ、ＮＡ０．８３の高ＮＡ対物レンズを用いた表面記録光ディスクの一例を模式的に表わす断面図を示す。
【０１４９】
図示する表面記録光ディスクは、保護膜４，５０を接着層６７，６８に変更し、さらにこうした接着層６７，６８の上に０．１ｍｍ基板６９，７０をそれぞれ設けた以外は、図１３に示したものと同様の構成である。
【０１５０】
すなわち、０．６ｍｍ厚ディスク基板３６の一方の表面には光ビーム５のトラッキング用案内溝３８が形成され、その上に反射膜３９、下保護膜４０、記録膜４１、上保護膜４２、接着層６７、および０．１ｍｍ基板６９が順次積層されている。
【０１５１】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で集光して０．１ｍｍ基板６９側から入射し、記録マークによる記録膜４１からの反射光の光強度変化を記録データとして検出することによって行なわれる。
【０１５２】
さらにディスク基板３６の他方の面には接着層８を介して第２のディスク基板４４が貼り付けられており、このディスク基板４４の上には、次のように各膜が順次設けられている。すなわち、０．６ｍｍ厚ディスク基板４４の表面に光ビーム５１のトラッキング用の案内溝４５が形成され、その上に反射膜４６、下保護膜４７、記録膜４８、上保護膜４９、接着層６８、および０．１ｍｍ基板７０が順次積層されている。
【０１５３】
ディスクに記録されている記録データの読み出しは、図示するように光ビーム５１を対物レンズ５２で集光して０．１ｍｍ基板７０側から入射し、記録マークによる記録膜４８からの反射光の光強度変化を光記録データとして検出することによって行なわれる。
【０１５４】
本実施例の光ディスクを構成するためのディスク基板の材質および各膜の特性は、前述の実施例７で述べたものと同様である。両面への反射膜、記録膜、各保護膜の形成に当たっては、前述の実施例４の場合と同様の方法を適用することができる。
【０１５５】
特に本実施例においては、データ部の基板厚を０．５９ｍｍとし、保護基板の厚さを０．１ｍｍとし、貼り合わせることによって両面ディスクとした。
【０１５６】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度とを確保し得る情報記録媒体が提供される。
【０１５７】
本発明の情報記録媒体は、０．６ｍｍ厚の基板を貼り合わせることによって作製可能であるので、従来のＤＶＤ−ＲＯＭ、ＲＡＭ等のディスクの製造プロセスを利用することができる。
【０１５８】
さらに、本発明の情報記録媒体においては、表面保護膜を従来の０．６ｍｍより薄くしても機械的強度を確保することが可能となり、その工業的価値は絶大である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の情報記録媒体の一例を模式的に表わす断面図。
【図２】従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板を模式的に表わす断面図。
【図３】本発明の表面記録用基板の一例を模式的に表わす断面図。
【図４】図１に示した情報記録媒体に用いられるディスク基板を製造するための金型を模式的に表わす概略図。
【図５】反射膜の膜厚と反射率との関係を表わすグラフ図。
【図６】反射膜の膜厚の光波長依存性を表わすグラフ図。
【図７】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。
【図８】本発明の両面仕様の情報記録媒体の一例を模式的に表わす断面図。
【図９】本発明の両面仕様の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。
【図１０】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。
【図１１】本発明の両面仕様の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。
【図１２】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。
【図１３】本発明の両面仕様の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。
【図１４】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。
【図１５】本発明の表面記録用基板の他の例を模式的に表わす断面図。
【図１６】本発明の両面仕様の情報記録媒体の他の例を模式的に表わす断面図。
【符号の説明】
１…光ディスク基板
２…エンボスピット
３…反射膜
４…保護膜
５…光ビーム
６…対物レンズ
７…ダミー基板
８…接着層
１２…凸部
１３…クランプエリア
１４…クランプエリア手前領域
１５…データエリア
１６…データエリア手前領域
１７，２６…記録面
１８…記録面反対側面
１９…Ａ面用スタンパー
２０…中心穴
２１，２３…金型
２２…突起
２４…樹脂導入口
２５…ディスク基板
２７，２８…保護膜
２９…ディスク基板
３０…エンボスピット
３１…反射膜
３２，３３…保護膜
３４，５１…光ビーム
３５，５２…対物レンズ
３６，４４…ディスク基板
３８，４５…案内溝
３９，４６…反射膜
４０，４７…下保護膜
４１，４８…記録膜
４２，４９…上保護膜
５０…保護膜
６１…第１の基板
６２…記録面
６３…反射膜
６４…接着層
６５…第２の基板
６６…凹部
６７，６８…接着層
６８，７０…０．１ｍｍ基板
７９…従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板
８０…記録面
８１…反対側基板面
８２…突起
８３…クランプエリア
８４…クランプエリア手前内周領域
８５…データエリア
８６…データエリア手前領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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