(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの脂肪相を含む美容上容認しうるビヒクル中に、０．５から５重量％のジベンゾイルメタン型ＵＶ−Ａ遮光剤と少なくとも０．１％から２０重量％のベンジリデンマロネートシリコーン型重合体ＵＶ−Ｂフィルターとを含有し、後者の重合体フィルターは一般式：
【化１】
0004357601.tif 000036
または
【化２】
0004357601.tif 000037
〔式中、Ｕは
【化３】
0004357601.tif 000038
であり、そして
Ｖは
【化４】
0004357601.tif 000039
である〕で示される少なくとも１つとの単位と、一般式：
【化５】
0004357601.tif 000040
で示される任意の他の単位を有するオルガノシロキサンを含み
〔上記式中、ＲはＣ1−8アルキルまたはアリール基を表わし、Ｒ1は水素原子またはＣ1−5アルキル基であり、Ｒ2は水素原子、Ｃ1−5アルキル基または基ＯＲ1であり、Ｒ3はＣ1−5アルキル基であり、Ｒ″は水素原子、１価のＣ1−8炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表わし、ａは０、１または２の値を有し、ｂは０、１、２または３の値を有し、ｎは１から６の値を有するが、ただし基−Ｕ−Ｏ−または基−Ｖ−Ｏ−および二つのＲ2基は基−ＣＨ＝Ｃ〔Ｃ（Ｏ）ＯＲ3〕2に関してパラ位および両メタ位のところで芳香環（Ｃ6...）に結合することを条件とする〕、
該シリコーン対該ジベンゾイルメタン誘導体の重量比が０．１以上である、光安定性遮光性化粧用組成物。
【請求項２】
１から４重量％の該ジベンゾイルメタン型ＵＶ−Ａ遮光剤と、少なくとも０．５から１５重量％の該ベンジリデンマロネートシリコーン型ＵＶ−Ｂフィルターとを含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
該シリコーン対該ジベンゾイルメタン誘導体の重量比が１．０以上及び２５以下である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
該シリコーン対該ジベンゾイルメタン誘導体の重量比が８〜１０以下である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項５】
アルキレン誘導体対アルキリデン誘導体の比が５〜５０：９５〜５０％ｗ／ｗであり、あるいは飽和誘導体の場合には、直鎖状誘導体の方が支配的な誘導体である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
アルキレン誘導体対アルキリデン誘導体の比が２０〜３０：８０〜７０％ｗ／ｗであり、あるいは飽和誘導体の場合には、直鎖状誘導体の方が支配的な誘導体である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
（Ｉ）または（II）のすべてのＲ基およびＲ″基の少なくとも８０％がメチル基である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
（Ｉ）の各Ｒ1が水素、メチルおよびエチルから選ばれる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
（Ｉ）または（II）の少なくとも１個のＲ2基が水素で、他は水素、メトキシまたはエトキシである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
（Ｉ）のＲ3がメチルまたはエチルである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
（Ｉ）または（II）の各Ｒ1およびＲ2基が水素である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
ＩおよびIIの重合体が、実質的に直鎖状または環状ジオルガノシロキサン重合体である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
基Ｕ−Ｏ−または基Ｖ−Ｏ−が基−ＣＨ＝Ｃ〔Ｃ（Ｏ）ＯＲ3〕2に関して芳香環上のパラ位を占め、両方の基Ｒ2 は基−ＣＨ＝Ｃ〔Ｃ（Ｏ）ＯＲ3〕2に関して芳香環上のメタ位を占める、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
（Ｉ）または（II）の単位の数が、分子中のシロキサン単位の総数の最高２０％から２５％に制限される、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１５】
（Ｉ）または（II）の単位の数が単位の総数の１０％から１２％またはそれ以下に制限される、前記請求項１〜１４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１６】
一般式（Ｉ）または（II）を有する単位がオルガノシロキサン化合物の末端に位置する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１７】
ＩまたはIIのポリシロキサンが式（Ｉ）または（II）の４個の末端封鎖単位および一般式（III ）の６から１３０単位を有する、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１８】
ジベンゾイルメタン誘導体が、次の化合物：２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４′−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４′−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンおよび２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンから選ばれる、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１９】
ジベンゾイルメタン誘導体が４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２０】
オイル、ローション、ゲル、固形スチック、乳濁系、クリーム、乳液の形、あるいはイオン性または非イオン性の両親媒性脂質の小胞性分散系、エアゾル、スプレー、フォーム、パウダー、シャンプー、ヘアーコンジショナーまたはラッカーまたはメーキャップの形をとることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２１】
溶媒、シックナー、皮膚軟化剤、乳化剤、保湿剤、界面活性剤、防腐剤、泡止め剤、フレグランス、オイル類、ワックス、低級ポリオールおよび一価アルコール、噴射剤、シリコーン、着色料、および顔料から選ばれる補助剤を更に含有することを特徴とする、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２２】
その他の１種以上の水溶性または親油性ＵＶ遮断剤を更に含有する、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２３】
２９０から４００nmの波長のＵＶ光線から保護する観点での、ヒトの表皮あるいは毛髪の美容上の処置の方法において、皮膚または毛髪へ請求項１から請求項２２のいずれか１項に定義された有効量の化粧用遮光組成物を適用することを特徴とする上記方法。
【請求項２４】
ジベンゾイルメタン型ＵＶ−Ａ遮光剤を２９０から４００nmの波長のＵＶ光線に関して安定化する方法において、請求項１に定義された重合体フィルター０．１から２０重量％をジベンゾイルメタンＵＶ−Ａ遮光剤０．５から５重量％へ添加し、シリコーン対ジベンゾイルメタン誘導体の重量比を０．１以上及び２５以下とする上記方法。
【請求項２５】
式：
0004357601.tif 000041
（ｓは４を示し、ｒは６０を示す。）で表され、アルキレン異性体２０％を含む、新規なベンジリデンマロネートシロキサン。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は２９０から４００nmの波長の紫外線からヒトの表皮および毛髪を保護するための光安定性遮光性化粧用組成物に関する。
【０００２】
特に本発明は、少なくとも一つの脂肪相を含む美容上容認しうるビヒクル中に、約０．５から約５％、特に約１から約４重量％、のジベンゾイルメタン型ＵＶ−Ａ遮光剤と少なくとも約０．１％から約２０％、特に約０．５から約１５重量％、のベンジリデンマロネートシリコーン型重合体ＵＶ−Ｂフィルターとを含有し、後者の重合体フィルターが一般式：
【化６】
0004357601.tif 000002
または
【化７】
0004357601.tif 000003
〔式中、ラジカル
【化８】
0004357601.tif 000004
は（Ｉ′）の二重結合の
【化９】
0004357601.tif 000005
原子又は（II′）の単結合の対応する原子に結合し、ラジカル
【化１０】
0004357601.tif 000006
は（Ｉ′）の二重結合の
【化１１】
0004357601.tif 000007
原子又は（II′）の単結合の対応する原子に結合する、あるいはこの逆もありうる〕
で示される少なくとも１つの単位を含むオルガノシロキサンを有し、
前記オルガノシロキサン中に存在する任意の他の単位は一般式：
【化１２】
0004357601.tif 000008
により表わされ、
〔上記式中、ＲはＣ1-8 アルキルまたはアリール基を表わし、Ｒ1 は水素原子またはＣ1-5 アルキル基であり、Ｒ2 は水素原子、Ｃ1-5 アルキル基または基ＯＲ1 であり、Ｒ3 はＣ1-5 アルキル基であり、Ｒ″は水素原子、一価のＣ1-8 炭化水素またはハロゲン化炭化水素基を表わし、ａは０，１または２の値を有し、ｂは０，１，２または３の値を有し、ｎは１から６の値を有するが、ただし
【化１３】
0004357601.tif 000009
あるいは
【化１４】
0004357601.tif 000010
の基および２個のＲ2 基は基−ＣＨ＝Ｃ〔Ｃ（Ｏ）ＯＲ3 〕2 に関してパラ位および両メタ位のところで芳香環（Ｃ6...）に結合し、２本の垂直な画（ｓｔｒｏｋｅ）は式（Ｉ′）の場合にはアルキレン誘導体、
【化１５】
0004357601.tif 000011
またはアルキリデン誘導体、
【化１６】
0004357601.tif 000012
を、また式（II′）の場合には、直鎖をもつ飽和誘導体、
【化１７】
0004357601.tif 000013
あるいは分枝鎖をもつ飽和誘導体、
【化１８】
0004357601.tif 000014
を示すことを条件とする〕
かかる組成物に関するものであり、前記シリコーン対ジベンゾイルメタン誘導体の重量比は約０．１以上、好ましくは約１．０以上そして約２５以下、好ましくは約８から１０以下である。
【０００３】
化合物Ｉ′およびII′の主題に対するもう一つの表示法は
【化１９】
0004357601.tif 000015
あるいは
【化２０】
0004357601.tif 000016
〔式中、
Ｕは
【化２１】
0004357601.tif 000017
であり、
Ｖは
【化２２】
0004357601.tif 000018
である〕
である。
【０００４】
従って、式Ｉは上で指摘した通り、アルキリデン誘導体Ｉａおよびアルキレン誘導体Ｉｂを包含する：
【化２３】
0004357601.tif 000019
【０００５】
これらベンジリデンマロネートシリコーン型化合物の製造および性質はＷＯ９２／２０６９０（１９９２年１１月２６日）に記載されている。
【０００６】
アルキレン対アルキリデン誘導体の比は全く制限がなく、普通は約５〜約５０％：約９５〜５０％ｗ／ｗである。
【０００７】
式IIは飽和直鎖（IIａ）および飽和分枝（IIｂ）誘導体：
【化２４】
0004357601.tif 000020
を包含する。
【０００８】
これらベンジリデンマロネートシリコーン型化合物の製造および性質は、ＥＰ３５８，５８４（ＵＳＰ５０５３２９０）およびＦＲ２，６４２，９６７−Ａ１（ＵＳＰ５４１５８５４）に記載されている。
【０００９】
上記式III の定義中の種々なパラメーターに対する適当な範囲は、前記ＷＯ公報から等しく誘導できる。従って、一般式ＩおよびII中の該ラジカルは次のように定義できる：
【００１０】
Ｒは、例えばメチル、エチル、ブチルまたはフェニルであることができる。
【００１１】
Ｒ″は水素または８炭素原子までを有する一価の炭化水素またはハロゲン化炭化水素基、例えばアルキル、アルケニル、アリール、アルカリール、アルアルキルであり、またハロゲン置換アルキル、アルケニル、アリール、アルカリールおよびアルアルキルもこのような基である。特定の例には、メチル、エチル、ビニル、フェニル、トリル、エチルフェニル、ジメチルフェニル、ベンジル、フェネチルおよび３，３，３−トリフルオロプロピルなどが含まれる。
【００１２】
Ｒ3 は５炭素原子までを有するアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二級ブチル、イソブチル、ペンチルおよびネオペンチルなど、を示す。
【００１３】
Ｒ1 およびＲ2 のＣ1-5 アルキルラジカルの例は上に示した通りである。適当なラジカルＯＲ1 はメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどである。このような関係においてアルキルおよびアルコキシラジカルは直鎖および分枝鎖ラジカルを表わしうることも上記の列挙から推論できるであろう。
【００１４】
すべてのＲおよびＲ″基の少なくとも８０％はメチル基であるのが好ましく、実質的にすべてのＲおよびＲ″基がメチル基であるのが最も好ましい。Ｒ1 は水素、メチルまたはエチルのいずれかであるのが好ましく、水素が最も好ましい。好ましくは各Ｒ2 基が水素であり、又は一つのＲ2 基が水素であり、他の一つはアルコキシ基、好ましくはメトキシまたはエトキシである。Ｒ3 はメチルまたはエチルが好ましく、ａは好ましくは１で、ｂは好ましくは２であり、有機ケイ素化合物を実質的に直鎖または環状のジオルガノ−シロキサン重合体とするのがよい。しかし、ジオルガノシロキサン（例えば、表１、二番目の式参照）が実質的に直鎖状の重合体である場合には、少なくとも２個の末端封鎖単位が存在しなければならず、従って二つの単位（ａは２の値をもつ）、二つの単位（ｂの値は３）あるいは、一つの単位（ａは２）と一つの単位（ｂは３）の存在を必要とする。ｎは１、２または３が好ましい。従って、適当な好ましい重合体は一般式、
【化２５】
0004357601.tif 000021
式中、ＲおよびＲ″は上で定義した通りであり、Ｘは基Ｙまたは基Ｒ″を示し、Ｙは式：
【化２６】
0004357601.tif 000022
を有するアルキレン基を示すか、あるいは式（Ｉ）の場合には、対応するアルキリデン誘導体を、また式（II）の場合には、次の基、
【化２７】
0004357601.tif 000023
の一つを示す。
【００１５】
上記式中、ｒは０から１３０の値を有し、ｓは０から２０の値を有し、従ってｓ＝０の場合には少なくとも１個のＸはＹを示し；ｔは０から１０の値を有し、ｖは１から１０の値を有し、そしてｖ＋ｔは少なくとも３の値を有し、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は上記の通りである。
【００１６】
有機ケイ素化合物の置換基Ｙにおいて、上記アルキレン基
【化２８】
0004357601.tif 000024
または対応する上記アルキリデン誘導体、あるいは基：
【化２９】
0004357601.tif 000025
は、基−ＣＨ＝Ｃ〔Ｃ（Ｏ）ＯＲ3 〕2 に関して芳香環（Ｃ6...）のメタ位またはパラ位を占めることができる。
【００１７】
好ましくはパラ位を占める。基Ｒ2 は、基−ＣＨ＝Ｃ〔Ｃ（Ｏ）ＯＲ3 〕2 に関してパラ位とメタ位以外の残りの２箇所を占める。従って、好ましい置換基Ｙの例には、
【化３０】
0004357601.tif 000026
あるいは対応するアルキリデン誘導体、あるいは飽和直鎖構造、例えば、
【化３１】
0004357601.tif 000027
【化３２】
0004357601.tif 000028
あるいは対応する飽和分枝誘導体、即ち下記構造、
【化３３】
0004357601.tif 000029
を有するものが含まれる。
【００１８】
有機ケイ素化合物は一般式（Ｉ）または（II）の範囲に入る少なくとも一つの、好ましくは少なくとも二つの単位を有する。適当な有機ケイ素化合物は重合体物質で、このものはこのような単位（Ｉ）または（II）だけからなるホモポリマーでもあることができ、あるいは（Ｉ）または（II）の単位と一般式（III ）を有する単位とを含む共重合体でもあることができる。この有機ケイ素化合物は、自由流動性の液体から高度に粘稠なガム様物質あるいは樹脂状固体に至るまで様様である。少なくとも化粧品用としては液状の実質的に直鎖のオルガノシロキサンホモポリマーおよび共重合体、例えば１００から２００００mm2 ／ｓ、更に好ましくは５００から５０００mm2 ／ｓ、の粘度（ｃＳｔ）を有するものが特によい。それはこれらが化粧品組成物をつくる他の成分と容易に混合できるからであり、また皮膚上に容易に広がるからである。
【００１９】
特に好ましい有機ケイ素化合物は、単位（Ｉ）または（II）の数を、分子中のシロキサン単位の総数の最高で２０％から２５％に制限したものである。そのＵＶ吸収性において最高の効果を得るためには、単位（Ｉ）または（II）の数を総数の１０％から１２％またはそれ以下に制限するのが好ましい。式（Ｉ）または（II）の単位はオルガノシロキサン重合体中にランダムに分布させることもでき、重合体の末端封鎖単位とすることもでき、これらを重合体の端に位置せしめ同時に重合体鎖につるすこともできる。一般式（Ｉ）または（II）の単位をオルガノシロキサン重合体の端に置いて１個以上の重合体末端封鎖単位を形成させるのが便利である。実質的に直鎖状のポリオルガノシロキサン重合体である好ましい有機ケイ素化合物の一群においては、両方の末端封鎖単位が一般式（Ｉ）または（II）により表わされる構造を有する一方、すべての他の単位は一般式（III ）に従うものである。好ましい有機ケイ素化合物は、式（Ｉ）または（II）の４個の単位と一般式（III ）で表わされるより多数の、例えば６から１３０、とりわけ８から８０個の単位とを有する。
【００２０】
有機ケイ素化合物はそれ自身紅斑性領域（ｅｒｙｔｈｅｍｉｃ  ｒｅｇｉｏｎ）（２９０〜３２０nm）の紫外線を吸収するのに効果的であり、そのためＵＶ−Ｂ領域の吸収が特に望まれる化粧用サンスクリーン製剤への使用に特に適している。この適用に最も好ましい化合物は３００〜３２０nmのところに極大吸光度を有するものである。
【００２１】
新規コンビネーションとしてのＵＶ−Ａ遮光剤に関する限り、好ましい化合物は４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンであり、このものは、例えばＵＳＰ４，３８７，０８９号あるいはＣＨ−特許６４２，５３６に開示されている。
【００２２】
この特別な型に属する他の適切な化合物は次の通りである：
２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４′−ジイソプロピルジベンゾイルメタン；２−メチル−５−イソプロピル−４′−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンおよび２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン。
【００２３】
式Ｉの単位を含む重合体フィルターの機能は最終組成物に必要ないわゆるＡ＋Ｂ全遮断を与えるだけでなく、ＵＶ光線の吸収に関する限り、含まれるＵＶ−Ａ遮光剤を光安定化すること、即ちＵＶ光線に長期にわたって暴露されている間一定不変の保護を保証することである。このように、もし化粧品組成物を種々な時間をおいて繰り返し適用する必要がある場合には、その間隔を延長することができる。
【００２４】
従って、本発明は２９０から４００nmの波長のＵＶ光線に関してジベンゾイルメタンＵＶ−Ａ遮光剤を安定化する方法にも関するものであって、本法の特徴とするところは、０．１から２０重量％の重合体フィルターを０．５から５重量％のジベンゾイルメタンＵＶ−Ａ遮光剤へ添加し、シリコーン対ジベンゾイルメタン誘導体の重量比を０．１以上及び２５以下とする点にある。
【００２５】
ＵＶ−Ａフィルターの望む安定化は、適当に装置したキセノンランプを擬似太陽（ｓｏｌａｒ  ｓｉｍｕｌａｔｏｒ）として使用するそれぞれのＵＶ−Ａフィルターおよび新規コンビネーションについての厳密に並行した実験により容易に証明される。調べる生成物の標準試料、例えば化粧品用溶媒中の溶液（得られたサンスクリーンを石英板上に塗りひろげる）に照射する。安定化効果は、照射の前後におけるλmax の吸光度の差と直接相関する。満足すべき効果を得るにはＩおよびIIの構造がきわめて重要である。
【００２６】
分子ＩおよびIIの構造を僅かに変えてもそれぞれの安定化は不十分となる。僅かに変えるということは、ＩおよびIIにおけるエステル基の「除去」ということで、そのようにするとシンナメート、即ち、ベンジリデンアセテート−ＣＨ＝Ｃ−Ｃ（Ｏ）ＯＲ3 、を生ずる（ＥＰ３０５０５９）。
【００２７】
遮光剤の本発明コンビネーションの両成分は親油性である。従って、この化粧品組成物は少なくとも一つの脂肪相を含み、結果として組成物はそれ自身乳濁系、ローションまたはゲルの形で存在しうる。
【００２８】
本発明化粧用遮光組成物は、適宜オイル、ローション、ゲル、固形スチック、乳濁系、例えばクリーム、乳液の形状、あるいはイオン性または非イオン性両親媒性脂質の小胞性分散系、エアゾル、スプレー、フォーム、パウダー、シャンプー、ヘアーコンジショナーまたはラッカーまたはメーキャップなどの形をとる。
【００２９】
当業者にとって公知の常用溶媒、例えば油類、ワックス、アルコール、ポリオールなどをこれら組成物形の調製に使用できる。好ましい作用剤は脂肪酸、エステル、脂肪アルコールだけでなく、エタノール、イソプロパノール、プロピレングリコール、グリセリンなども適当である。
【００３０】
本化粧用組成物は更に補助剤、例えばこれ以外の溶媒、シックナー、皮膚軟化剤、乳化剤、保湿剤、界面活性剤（ｔｅｎｓｉｄｅ）、防腐剤、泡止め剤、フレグランス、オイル類、ワックス、低級ポリオール、および一価アルコール、噴射剤、シリコーン、着色料および顔料などを含むことができる。
【００３１】
他のＵＶ−Ｂフィルターも添加できる。例は上記ＵＳＰ４，３８７，０８９に示されている。特に乳濁系の場合、このようなＵＶ−フィルターは当然水溶性誘導体でもよい。更に他の適当なＵＶ−Ｂフィルターとして微細顔料、例えば通常の金属酸化物ミクロ顔料を使用できる。
【００３２】
毛髪保護の場合に適当な組成物はシャンプー、コンジショナー、ローション、ゲル、乳濁系、分散系、ラッカーなどである。
【００３３】
これら組成物すべての製造は当業者にとって公知である。
【００３４】
本発明の目的に対して使用される好ましいポリシロキサンの例を下記表Ｉに示す。
【００３５】
これ以上の適当なポリシロキサンは、ＷＯ９２／２０６９０の例３から例６記載のもの、およびＷＯ９２／２０６９０の比較例１の生成物であり、後者の物質は前記式IIに包含される生成物の代表的なものである。
【表１】
0004357601.tif 000030
【化３４】
0004357601.tif 000031
【化３５】
0004357601.tif 000032
【００３６】
【発明の実施の形態】
A.  ３９．８４ｇの｛〔４−（２−プロピニルオキシ）フェニル〕メチレン｝−ジエチルエステルを１００ｇのトルエンに溶かし、窒素下で約７０℃に加熱した。次に白金錯体をヒドロシロキサンのＳｉＨ  １モル当りＰｔ１０-4モルとなるように加えた後、重合度８、ＳｉＨ基２５ｍｐｃ（モル％）（ＳｉＨ９．７％）を有するヒドロシロキサン３９．９６ｇを適加した。この混合物を還流加熱し、赤外分光分析によりすべてのＳｉＨが消失するまでこの状態に保った。次にこれを室温まで冷却した。次にトルエンを蒸発させ、洗浄後に平均構造、Ｒ4 −〔（ＣＨ3 ）2 ＳｉＯ〕8 −Ｒ4 （式中Ｒは式：
【化３６】
0004357601.tif 000033
を有する）を有する褐色粘稠な重合体６０．５ｇを得た。最終生成物中に存在する未反応｛〔４−（２−プロピニルオキシ）フェニル〕メチレン｝−ジエチルエステルは全反応生成物の０．３４重量％に過ぎなかった。
【００３７】
B.  １３．２８ｇの｛〔４−（２−プロピニルオキシ）フェニル〕メチレン｝−ジエチルエステルをトルエン７５ｇに溶かし、窒素下で約７０℃に加熱した。次に白金錯体をヒドロシロキサンのＳｉＨ  １モル当りＰｔ１０-4モルとなるように加えた後、重合度６４、ＳｉＨ基６ｍｐｃ（ＳｉＨ  ２．３６％）を有するヒドロシロキサン４４ｇを滴加した。この混合物を還流加熱し、赤外分光分析によりすべてのＳｉＨが消失するまでこの状態に保った。次にこれを室温まで冷却した。次にトルエンを蒸発させ、洗浄の後、平均構造：
【化３７】
0004357601.tif 000034
（式中、Ｒ4 は式：
【化３８】
0004357601.tif 000035
を有する）（「ポリシロキサンＡ」）を有する褐色粘稠な重合体５２ｇを得た。
【００３８】
【実施例】
1.  下記成分を用いてサンスクリーンクリームを調製する：
A                                                       ％（ｗ／ｗ）
ステアリン酸（オクタデカン酸）                          １０．０
ブチルメトキシジベンゾイルメタン                          ２．０
（１−〔４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル〕
−３−（４−メトキシフェニル）−１，３−プロパ
ンジオン）
（Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ  Ｓ．Ａ．により
商品名ＰＡＲＳＯＬ  １７８９として販売されている）
グリセリルモノミリステート                                ５．０
（テトラデカン酸の１，２，３−プロパントリオールとの
エステル）
セチルアルコール（ヘキサデカノール）                  ２．０
ココ−カプリレート／カプレート                          １０．０
（Ｃｏｃｏ−ｃａｐｒｙｌａｔｅ／ｃａｐｒａｔｅ）
（ココナッツアルコールとｎ−オクタン酸および
ｎ−デカン酸とのエステルの混合物）
（Ｈｅｎｋｅｌにより、商品名ＣＥＴＩＯＬ  ＬＣとして
販売されている）
ポリシロキサンＡ                                        １０．０
ディ  セチルホスフェート                                  ３．０
（Ｄｅａ  Ｃｅｔｙｌｐｈｏｓｐｈａｔｅ）
（ヘキサデシルホスフェートのジエタノールアミン塩）
（Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ  Ｓ．Ａ．により
商品名ＡＭＰＨＩＳＯＬとして販売されている）
ＥＤＴＡ  Ｎａ2 （エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム）    ０．１
B 脱イオン水                                              ５１．０
プロピレングリコール（１，３−プロパンジオール）          ６．０
フェノキシエタノール中パラベンの混合物                    ０．６
（４−ヒドロキシ安息香酸のメチル、エチル、プロピル
およびブチルエステルの混合物）
（Ｎｉｐａ  Ｌａｂｏｒａｔｏｉｒｅｓ  Ｌｔｄ．
により商品名ｐｈｅｎｏｎｉｐ（登録商標）として
販売されている）
C 通常のフレグランス                                        ０．３
【００３９】
2.  下記成分を用いてサンスクリーンローションを調製する：
A                                                       ％（ｗ／ｗ）
グリセリルモノミリステート                                ５．０
セチルアルコール                                          ２．０
ブチルメトキシジベンゾイルメタン                          １．０
イソプロピルミリステート（２−メチルエチル
テトラデカノエート                                      ７．０
オレイルアルコール（オクタデカノール）                    ３．０
ポリシロキサンＡ                                          ５．０
ディ  セチルホスフェート                                  ３．０
ＥＤＴＡ  Ｎａ2                                           ０．１
B 脱イオン水                                              ６７．０
プロピレングリコール                                      ６．０
フェノキシエタノール中パラベンの混合物                    ０．６
C フレグランス                                              ０．３
【００４０】
3.  下記成分を用いてサンスクリーンローションを調製する：
A                                                       ％（ｗ／ｗ）
グリセリルモノステート                                    ４．０
ブチルメトキシジベンゾイルメタン                          １．０
セチルアルコール                                          １．０
ココ−カプリレート／カプレート                            ６．０
ポリシロキサンＡ                                        １０．０
セチルリン酸カリウム（ヘキサデシルリン酸の                ２．０
カリウム塩）
（Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ  Ｓ．Ａ．により
商品名ＡＭＰＨＩＳＯＬ  Ｋとして販売されている）
ＥＤＴＡ  Ｎａ2                                           ０．１
B 脱イオン水                                              ５９．３６
カーボマー（Ｃａｒｂｏｍｅｒ）（ショ糖のアリル          １０．０
エーテルで架橋されたアクリル酸のホモポリマー、
水中１％分散液）
（Ｂ．Ｆ．Ｇｏｏｄｒｉｃｈにより商品名
Ｃａｒｂｏｐｏｌ  ９８１（登録商標）として販売）
プロピレングリコール                                      ５．０
水酸化カリウム、１０％溶液                                ０．６４
フェノキシエタノール中パラベンの混合物                    ０．６
C フレグランス                                              ０．３
【００４１】
4.  下記成分を用いてシリコーン中水クリーム（Ｗ／Ｏ組成物）を調製する：
A                                                       ％（ｗ／ｗ）
ブチルメトキシジベンゾイルメタン                          １．０
Ｃ12/15 アルキルベンゾエート（ドデシル                    ５．０
およびペンタデシルベンゾエート混合物）
（Ｆｉｎｅｔｅｘ  Ｃｏｒｐ．により商品名
ＦＩＮＳＯＬＶ  ＴＮとして販売）
シリコーン油（ジメチコーンおよびシクロメチコーンの      １０．０
コポリオール）
（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇにより商品名ＤＣ−３２２５
として販売）
シリコーン油（シクロメチコーンおよび                    １０．０
ジメチコノールの混合物）
（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇにより商品名ＤＣ−１４０１
として販売）
ポリシロキサンＡ                                        １０．０
ＥＤＴＡ  Ｎａ2                                           ０．１
B 脱イオン水                                              ５６．０
塩化ナトリウム                                            ４．０
プロピレングリコール                                      ３．０
フェノキシエタノール中パラベンの混合物                    ０．６
C フレグランス                                              ０．３
同じ方法で、上記組成物中のポリシロキサンＡの代りに、ＷＯ９２／２０６９０の比較例１の化合物を用いることができる。