(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ストリッピングガス流体の向流において流動化された固体粒子をストリッピングする装置において、
垂直のストリッピングケーシング（４，４ａ）と、
ストリッピングされる粒子の導入のために前記ケーシングの頂点に開く少なくとも１つの導管と、
ストリッピングされた粒子の排出のために前記ケーシングの底部に接続された少なくとも１つ導管（１０）と、
クラッキングされた装入物の少なくとも１つの排出ラインと、
ケーシングの底部（４ａ）に開く少なくとも１つのストリッピングガス流体供給ライン（８）と、
前記ケーシングの中において流体向流ストリッピングのための前記ガス流体中に懸濁した粒子の下方への循環区域とを含み、
前記装置は少なくとも１つのライニングを含み、前記ライニングはケーシング軸線に対して横方向に配置された流通路を有する少なくとも１つのライニング部品（１７，１８，１９）から成り、前記ライニング部品は前記ケーシングの前記循環区域のケーシングの横方向断面全体に延在し、前記ライニング部品は複数の折り曲げられた板を積み重ね、前記板を積み重ね面に対して垂直な方向に切断することによって形成し、折り曲げ板の間に複数の小部屋が形成されるように各板の折り曲げ稜（２２）を隣接板の折り曲げ稜（２２’）に対して４５乃至１３５度の角度を成すように配置し、前記小部屋は均一な断面の交差グルーブ（２３，２４）の網状構造を成し、前記小部屋を通してストリッピングされる粒子とストリッピング流体が対向して通過し、前記小部屋が前記ストリッピング流体および前記ストリッピングされる粒子の循環をケーシングの放射方向に配向する事を特徴とするストリッピング装置。
【請求項２】
前記ライニング部品は流体および粒子の５０％をこの部品外部に向かって第１方向に配向し、他の５０％を前記第１方向に対して１０乃至９０度の角度を成す第２方向に配向する事を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
粒子と流体の５０％が部品内部において、第１板の折り曲げ稜（２２）と隣接の第２板の折り曲げ稜（２２’）との交差点で初方向からそらされ、このそらせ方向は初方向に対して１０乃至９０度の角度を成す事を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第１板の折り曲げ稜（２２）と隣接の第２板の折り曲げ稜（２２’）との交差点がストリッピング粒子および流体の間の接触区域を成す事を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記ライニングは上下に平行に配置された少なくとも２つのライニング部品（１７、１８、１９）を含む事を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記ライニングは３平行部品を含む事を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
第１部品の折り曲げ板（２２）の面が隣接部品の折り曲げ板（２２’）の面に対して４５乃至９０度の角度を成すように配向されている事を特徴とする請求項５または６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
ライニングの全体厚さＥとケーシングのストリッピング区域の高さＨとの比Ｅ／Ｈが１０乃至８０％の範囲内に含まれる事を特徴とする請求項５または６のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
ライニングの占めるスペースがストリッピングケーシングの内部容積の約２０乃至８０％を成す事を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
ライニング部品（１７、１８、１９）が相互に離間され、これらのライニング部品を離間するスペースが流体中の粒子の再分布を促進する事を特徴とする請求項５または６のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
ライニング部品の全体積に対する前記小部屋の体積が５０乃至９８％の範囲内にある事を特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
ライニング部品の全体積に対する前記小部屋の体積が９０乃至９８％の範囲内にある事を特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
ストリッピングされる粒子を垂直なストリッピングケーシング（４，４ａ’）の頂点に導入する段階と、
ストリッピング流体をケーシングの底部（４ａ）に導入する段階と、
前記の懸濁粒子を下方に向かってケーシングの循環区域（３６）を通して前記ストリッピング流体の向流において通過させる段階とを含むストリッピング流体の向流において流動化固体粒子をストリッピングする方法において、
前記粒子と向流流体が少なくとも１つのライニングを通過し、前記ライニングはケーシング軸線に対して横方向に配置された流通路を有する少なくとも１つのライニング部品（１７，１８，１９）から成り、前記ライニング部品は前記ケーシングの前記循環区域のケーシングの横方向断面全体に延在し、前記ライニング部品は複数の折り曲げられた板を積み重ね、前記板を積み重ね面に対して垂直な方向に切断する事によって形成し、折り曲げ板の間に複数の小部屋が形成されるように各板の折り曲げ稜（２２）を隣接板の折り曲げ稜（２２ ’）に対して４５乃至１３５度の角度を成すように配置することによって、前記小部屋は均一な断面の交差グルーブ（２３，２４）の網状構造を成し、前記小部屋を通してストリッピングされる粒子とストリッピング流体が対向して通過し、前記小部屋が前記ストリッピング流体および前記ストリッピングされる粒子の循環をケーシングの放射方向に配向する事を特徴とする方法。
【請求項１４】
流動床触媒クラッキングプラントの中で利用することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１５】
ライニング部品（１７、１８、１９）は静的ミキサである事を特徴とする請求項１乃至１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１６】
流動床触媒クラッキングプラントの中で利用することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
ライニング部品（１７、１８、１９）は静的ミキサである事を特徴とする請求項１３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は流動床中の固体粒子または顆粒のストリッピングに関するものである。本発明は特に粒子間隙の中に同伴されこれらの粒子上に吸着された炭化水素蒸気を除去するため、流動床において固体を流体によってストリッピングする方法および装置を目的としている。
【０００２】
本発明は特に石油工業において使用される技術に適用される。さらに詳しくは、本発明は高分子量の高沸点の炭化水素分子を所望の用途に適したより低い温度間隔で沸騰する事のできるより小さい分子量の炭化水素に分解する流動床クラッキング工程に応用される。
【０００３】
【従来の技術】
この目的で現在最も一般に使用されている方法の１つはいわゆる流動状態触媒クラッキング法である（英語で、Fluid Catalytic Cracking  またはＦＣＣ法）。この型の方法においては、炭化水素装入物が蒸発させられると同時に、この装入物蒸気がその中に懸濁しこの蒸気によって同伴されるクラッキング触媒粒子と高温で接触させられる。クラッキングによって所望の分子量範囲に達しこれに対応して沸点が低下した後に、得られた生成物が触媒粒子から分離され、触媒粒子は同伴された炭化水素を回収するためにストリッピングされ、次にその上に形成されたコークスの燃焼によって再生されて、新しくクラッキングされる装入物と接触させられる。
【０００４】
この方法において、制御された触媒反応と熱反応の結果として炭化水素の沸点の所望の低下が得られる。これらの反応は、噴霧された装入物が触媒粒子と接触させられた時にほとんど瞬間的に生じる。しかし触媒粒子は装入物と接触している短時間中に急速に不活性化される。これは、本質的にその活性部位上に炭化水素、コークス堆積物およびその他の汚染物が吸着される事による。従って触媒の不活性化粒子を例えば蒸気によってストリッピングして、懸濁粒子の間隙中に吸着され同伴される炭化水素を回収し、単数段階または複数段階の再生器において、コークスの制御燃焼により、触媒粒子を連続的にその特性を変更する事なく再生してこれらの触媒粒子を反応区域に再循環させる必要がある。
【０００５】
多数の触媒クラッキング装置および方法が雑誌「Oil & Gas Journal, May 18, 1992, pp 68-71 」の論文の中に記載されているので、詳細はこの文献を参照されたい。モビール石油会社のＭＴＧ法およびエンジニアリング社ストーン  ＆  ウエブスターのＤＣＣ法などのストリッピング装置を含めて、触媒クラッキング以外の可動床式、循環流動床式および沸騰床式装置および方法も本発明に関連している。
【０００６】
ストリッピングは流動状態触媒クラッキング法における決定的段階の１つである。ストリッピングが不十分な場合、炭化水素蒸気が触媒粒子上にまたその間に残存し、再生に際して再生器の追加的な燃焼負荷が必要となる。従って再生器まで同伴された炭化水素蒸気の燃焼は転化生成物の最終収率の損失を生じる。
【０００７】
通常技術の１つによれば、本質的に上昇型の反応カラムの場合、反応区域からの流出物の分離後にストリッピングが反応カラムの上端のケーシングの中で実施される。一般に、このケーシングはその高さと直径の比が大である事を特徴とする。このケーシングは種々の形状とし、例えば円形断面または六角形断面のタンク状とする事ができる。
【０００８】
このケーシングは２区域に分割される。ケーシングの上方に配置された第１区域においては、米国特許第２，５７４，４２２号および米国特許第２，５７６，９０６号に記載のようなそれ自体公知の型のバリスティック分離装置が触媒粒子から流出物を分離して触媒粒子を下方に向けるが、炭化水素蒸気は上方に上昇して、サイクロン装置によって触媒微粒子を追加的に分離した後に、分溜区域に送られる。これに対してケーシングの下方水準に配置された第２区域においては、ストリッピングが濃密な流動状態で実施される。ケーシング底部に噴射されるガス流体が不活性化された触媒粒子を向流洗浄し、触媒粒子の間隙の中に入って同伴されまたは不活性触媒粒子の表面に吸着された炭化水素を移動させ回収する。最後にストリッピングされた触媒粒子はケーシング底部に配置された排出装置によって排出され、再生区域に送られる。
【０００９】
このストリッピング操作を最適化するため、触媒粒子上に炭化水素よりも強く吸着され従って炭化水素の脱離を改良する水蒸気などの好ましくは非常に極性の強いガス流体を使用する事は公知である。
【００１０】
しかしこのストリッピング操作はなおも非常に微妙な操作である。特に、触媒粒子の行程を制御する事、および貫孔現象（流動床中の大きな泡の直接貫通）および一般に「バックミクシング」と呼ばれる逆混合現象（ストリッピングケーシングの壁体区域における低流動化粒子の下降）に関連する部分的脱流動化現象を避ける事が困難である。従って、特に大量流動床においては、不活性化された触媒粒子の平均ストリッピング時間および粒子とガス流体との間の接触量が制御困難である。
【００１１】
このストリッピング時間は臨界的であって、二次反応、特にコークス化反応を避けるように限定されなければならない。同様に、再生反応に際して余分の炭化水素が存在して再生器の燃焼負荷を増大させる事のないように、この平均ストリッピング時間が十分でなければならない。
【００１２】
再生区域の導入部分において触媒上に存在するコークス量および再生モードが再生区域中において得られる最終温度を決定する。コークスの燃焼から生じる熱量は単に熱損のほかに、同時に再生流体（空気および／または酸素）を再熱し、燃焼ガスと触媒粒子との間に分配されるからである。従って安定的作動状態においては、外部要因によって熱平衡が変動しない限り、クラッキングプラントの中で発生するコークス量はほぼ一定となる。
【００１３】
このコークス量は、再生区域の入口と出口における触媒上に存在するコークス量の差、Δコークスと関連している。
【００１４】
Δコークスが増大すれば、従って再生される触媒温度が増大すれば、反応温度を許容範囲内に保持するため、触媒粒子の循環量を低減せる必要がある。さらに、Δコークスの増大は触媒粒子の再生温度の上昇に対応する。従って再生温度が制限されないＦＣＣ法による最近のクラッキングプラントにおいては、Δコークスの制御は基本的変数の１つと思われる。
【００１５】
実際に、装入物がますます重質になり従って沸点が高くなるの伴なって、ＦＣＣ法の操作条件がますます厳しくなるに従って、触媒粒子上のコークス堆積量が増大している。ある意味では、これは有利であると思われる。なぜかならば、その結果として反応区域の入口における触媒粒子温度が上昇し、これは装入物のより完全な蒸発と、アスファルテンの制御された熱クラッキングと、触媒によってもたらされるエネルギーの増大とを可能とするからである。しかし、触媒粒子の熱安定性を保持して装入物中の、特に最も耐熱性の破片中の二、三の成分の悪い作用を減少せるために、触媒粒子の再生温度を制御し制限できる事が望ましい。さらに、装入物と触媒粒子との接触を改良しまた装入物を触媒粒子のより多くの活性部位と接触させる事によって装入物の転化率を上昇させるため、Ｃ／Ｏ比、すなわち反応カラムの入口における触媒量Ｃと装入物Ｏとの比率を増大させる事がしばしば望ましい。
【００１６】
ストリッピングを改良するため、種々の技術が提案されている。特に下記の特許がストリッピング改良法を開示している。
【００１７】
米国特許第２，４７２，５０２号に記載のストリッピング装置は複数のグリッドセクションから成る区域を含み、これらのグリッドセクションはストリッピング区域中において相互に離間されまた反応器のケーシング軸線に対して横方向に延在する。これらのグリッドセクションは固体粒子の望ましくない循環を制限する。出願人は、この装置により、ストリッピングされないで直接に再生区域に向かって落下する固体粒子のパーセントが制限される事を指摘している。また出願人は、ストリッピングされた固体粒子が上方に循環する可能性も制限されるとつけ加えているいる。
【００１８】
米国特許第２，４８１，４３９号は、相互に離間された複数のグリッドセクションから成るストリッピング区域を含むストリッピング装置を目的とする。各グリッドセクションは小部屋を含み、固体粒子の下降波を通してストリッピングガスの流出導溝の形成を避けるように相互に離間されている。これらのグリッドセクションがストリッピング区域の長さの大部分を占めるのに対して、グリッドセクション間のスペースはこのストリッピング区域の小部分を占める。これらのスペースはストリッピング固体粒子とガスを再分布して濃密な流動化乱流混合物を形成するために使用される。さらに、また各グリッドセクションの小部屋はガス流を複数の小ガス流に細分する。従って出願人によれば、固体粒子は、グリッドセクションによって画成される小部屋を通過する際に、これらの細分された小ガス流と密接に接触する。
【００１９】
米国特許第２，４９１，５３６号は、米国特許第２，４７２，５０２号に開示されたものとほぼ類似の構造のストリッピング装置を記載している。ストリッピングガスの導入されるストリッピング区域の最下部分が複数の小部屋に細分され、グリッドセクションはストリッピング区域の他の区域の中にのみ配置されている。グリッドセクション間のスペースは固体粒子をストリッピングガスの中に再分布させ、またグリッドセクションの最小の小部屋によって形成される導溝の中に前記ガスが流出する事を防止する。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
前記の各特許に開示の装置はストリッピングに伴なう問題点の一部しか解決していない。さらに、前記の特許の手段はテクノロジーの進展および新規な開発に適合しない。特にＦＣＣプラントのますます厳しくなる操作条件に対応できない。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
出願人は優れた結果を得て先行技術に伴なう問題点を解決するため、流動化固体粒子のストリッピングを改良するための新規な装置および方法を開発した。
【００２２】
このストリッピングガス流体の向流において流動化された固体粒子をストリッピングする装置は、ほぼ垂直のストリッピングケーシングと、ストリッピングされる粒子の導入のためにケーシングの頂点に開く少なくとも１つの導管と、ストリッピングされた粒子の排出のために前記ケーシングの底部に接続された少なくとも１つ導管と、クラッキングされた装入物の少なくとも１つの排出ラインと、ケーシングの底部に開く少なくとも１つのストリッピングガス流体供給ラインと、前記ケーシングの中において流体向流ストリッピングのための前記ガス流体中に懸濁した粒子の下方への循環区域とを含み、前記装置は少なくとも１つのライニングを含み、このライニングは、ケーシング軸線に対してほぼ横方向に配置された流通路を有する少なくとも１つの部品から成り、前記部品は前記ケーシングの前記循環区域のケーシングの横方向断面全体に延在し、複数の小部屋から成り、これらの小部屋を通して粒子とストリッピング流体が通過し、またこれらの小部屋がストリッピング流体およびストリッピングされる粒子の循環をほぼ放射方向に配向する。
【００２３】
この放射方向配向はストリッピング流体による粒子の優れた分散と均質化とを可能とする。さらに詳しくは、粒子はライニング部品中を通過した後にスペースの中で再分布されて、流体による組織的な乱流状態を保証し、粒子と流体の接触を不確定的に増大させる。さらにこのライニング部品は、粒子の逆混合現象および貫孔現象の出現、並びに固体またはガスのポケットの形成を防止する。
【００２４】
また前記ライニング部品の利用は粒子と流体との接触区域のサイズを減少させる。実際に、この接触が改善されるので、先行技術と比較して小サイズのストリッピングケーシングを使用する事ができ、しかもストリッピング性能を低下させない。これは部分的には、ライニング部品の小部屋の壁体によって生じる分割および再結合作用によって説明される。小部屋の壁体が噴射された流体を同一サイズの微細な泡状に細分し、ライニング部品の内部および外部において泡の均質な分布を生じて粒子との接触状態を改良する。
【００２５】
また本発明はこの新規なストリッピング装置によるストリッピング法を目的とする。ストリッピング流体の向流において流動化固体粒子をストリッピングするこの方法は、ストリッピングされる粒子をほぼ垂直なストリッピングケーシングの頂点に導入する段階と、ストリッピング流体をケーシングの底部に導入する段階と、前記の懸濁粒子を下方に向かってケーシングの循環区域を通して前記ストリッピング流体の向流において通過させる段階とを含み、この方法においては、前記粒子と向流流体が少なくとも１つのライニングを通過し、このライニングはケーシングの軸線に対して横方向の流通路を有する少なくとも１つの部品から成り、前記循環区域の中でケーシングの横方向全断面にそって延在し、前記部品は複数の小部屋から成り、これらの小部屋がケーシング中の前記粒子と流体とを放射方向に配向する。
【００２６】
本発明の装置および方法は、粒子懸濁液の粒子中および粒子間容積中にあって流体向流状態で同伴される流動化固体を効率的に回収する事ができる。
【００２７】
ＦＣＣプラントの場合、これらの粒子は触媒の不活性化された粒子である。前記の放射方向配向によって得られる粒子と流体との密接な接触により、粒子表面上および粒子細孔の中に存在する流動化炭化水素をよりよく脱離する事ができる。またガス流体の放射方向配向は粒子間スペースによって同伴される炭化水素の回収を改良する。このようにして、Δコークスが低くなり、Ｃ／Ｏ比が増大し、これはプラントの熱／反応平衡を改善するための柔軟性を与える。
【００２８】
本発明の実施態様によれば、ライニング部品の出口において粒子と向流流体が２つの相異なる方向に反らされる。ガス流体と粒子のほぼ５０％が第１方向にそらされ、他の５０％が第１方向と１０乃至９０度の角度をなす第２方向に反らされる。このような偏向と放射方向配向はライニング部品を構成する小部屋のゼオメトリーによって生じる。これらの小部屋は種々の形状をとる事ができる。
【００２９】
例えばこれらの小部屋は複数の折り曲げられた板を組立てこの組立体の面に対して横方向に切断する事によって構成する事ができる。これらの板はパーフォレーションを備え、または条痕を備え、または凹凸を備える事ができ、各板の折り曲げ稜が隣接板の折り曲げ稜に対してほぼ４５乃至１３５度の角度を成すように組立てられる。特に好ましい実施態様によれば、この角度を９０度として、直角に交差したグルーブ網を画成する。これらの交差点がライニング中の流体と粒子との密接な接触点を成す。場合によっては、グルーブ網の交差グルーブが同形通路を成す。
【００３０】
これらの折り曲げ板の配置によってライニング部品中の粒子と流体の偏向が促進される。さらに詳しくは前記の実施態様の場合、粒子とガス流体との５０％が、第１板の折り曲げ稜と隣接の第２板の折り曲げ稜との交差点において偏向され、この偏向方向はその初方向に対してほぼ１０乃至９０度の範囲内にある。これらの交差点が粒子とストリッピング流体との優先的接触区域を成す。
【００３１】
他の分野において使用されるライニング部品の種々の構造を本発明を実施するために利用する事ができる。特にスルツァー−ＳＭＶ（Ｓｕｌｚｅｒ−ＳＭＶ）またはケニックス（Ｋｅｎｉｃｓ）社によって市販されるような静的ミキサはこの用途のために作製されたものではないが、本発明によるライニング部品の構成するために適応させ変形する事ができる。
【００３２】
使用されるストリッピングケーシングの型によって、１つまたは複数のライニング部品を有する事ができる。好ましい実施態様において、ストリッピングケーシングは少なくとも２つのライニング部品を含む。付図に図示され下記の実施例において説明する特に好ましい実施態様においては、ストリッピングケーシングは３個のライニング部品を含む。二、三の場合、特にＦＣＣ分野で使用される場合、流体内粒子を再分布させまた特にコークスの破片を通過させるため、これらのライニング部品は相互に離間される。ライニングはストリッピングケーシングの内部容積の望ましくは２０乃至８０％を占める。
【００３３】
ストリッパーが複数のライニング部品を含む場合、これらのライニング部品は、その１つの部品通過後の触媒粒子と流体の方向の面が隣接部品通過後の触媒粒子と流体の方向の面に対してほぼ９０度の角度を成すようにストリッパー中に配置される。
【００３４】
従って前記の小部屋の形状においては、第１ライニング部品の折り曲げられた板の面が、隣接第２ライニング部品の折り曲げられた板の面とほぼ４５乃至９０度の角度を成すように配置される事が好ましい。従って、触媒粒子と流体の方向は、ライニング部品の内部で偏向されるのみならず、各ライニング部品の入口と出口においても偏向される。
【００３５】
ライニング部品の全厚さＥは、粒子と流体との接触が実施されるストリッピング区域の高さＨに依存して選択される。一般にこの厚さＥはストリッピング区域の高さＨの１０乃至８０％である。
【００３６】
さらに各ライニング部品について、このライニング部品の全体積に対する小部屋の体積は５０乃至９８％、好ましくは９０乃至９８％の範囲内とする。この範囲内において粒子とストリッピングガスとの乱流状態を妨げる事なくその良好な循環を生じる事ができる。
【００３７】
付図は本発明を実施するストリッピング装置を概略図示する。これらの付図の詳細な説明により本発明の新規なストリッピング装置の目的および利点が理解されよう。もちろん下記の実施例は非制限的なものであって、当業者はストリッピング段階を必要とする他のプラントに本発明の装置を適用する事ができよう。
【００３８】
【発明の実施の形態】
図１に図示のＦＣＣ法による触媒クラッキング装置は公知の型である。この装置は本質的に装入物エレベータと呼ばれる外側カラム１を含み、このカラム１は、ライン２を通して、処理される装入物を供給され、導管３を通してクラッキング触媒の粒子を受ける。ガス上昇媒体、例えば空気がライン３５からカラム１の中に導入される。
【００３９】
外側カラム１はその頂点においてケーシング４の中に開き、このケーシング４の中でクラッキングされた装入物の分離と、不活性化された触媒粒子のストリッピングとが実施される。
【００４０】
本発明の場合、ストリッパー４ａはカラム１に対して偏心されている。しかし、ストリッパーは他の形状および配置を有する事ができる。例えばストリッパーはカラム１に対して同心とする事ができるが、これには対応の部品設計が必要である。
【００４１】
処理される装入物はケーシング４中に配置されたサイクロン５の中で分離され、ケーシング４の頂上にはクラッキングされた装入物の排出ライン６が備えられ、また不活性化された触媒粒子は重力によってケーシング４の底部４ａに向かって移動する。ライン７がストリッピング流体、一般に水蒸気を、ケーシング４の底部４ａに規則的に配置された流動化ガスのインゼクタまたは拡散装置８に供給する。従って好ましくはストリッピングは触媒粒子の向流において濃密媒質の中で実施される。
【００４２】
このようにしてストリッピングされて不活性化された触媒粒子はケーシング４の底部から導管１０を通して再生器９に向かって排出され、この導管１０上に調整弁１１が配備されている。再生器９の中において、触媒粒子上に堆積したコークスが、ライン１２から再生器底部に噴射される空気によって燃焼される。このライン１２は一定間隔でインゼクタ１３に空気を供給する。処理された触媒粒子は燃焼ガスによって同伴されてサイクロン１４によって分離され、サイクロンから燃焼ガスがライン１５によって排出され、他方触媒粒子は再生器９の底部に落下して、そこから調整弁１６を備えた導管３によって、装入物エレベータ１の供給のために循環される。
【００４３】
このような装置のサイズ特性および動作特性は通常下記のようである。
【００４４】
エレベータ１の反応部分の高さ：５−４０メートル、
クラッキングされる装入物の温度：７５−４５０℃、
エレベータ１の被処理装入物の供給流量：１０００−20,000トン／日、
エレベータ１の触媒供給流量：３−５０トン／分、
エレベータ１中のクラッキング温度：５００−６００℃、
エレベータ１中の装入物滞留時間：０．１−１０秒、
触媒再生温度：６５０−９００℃、
再生器９中の触媒滞留時間：５−２０分。
【００４５】
図２に概略図示のストリッパー４は本発明による装置を含む。このストリッパーの懸濁状態の触媒粒子とストリッピングガスとの向流循環区域３６中に３ライニング部品１７、１８および１９を加えた。
【００４６】
これらの３部品１７、１８、１９はケーシング４の軸線に対してほぼ垂直に配置されまた相互にほぼ平行である。これらの３部品はストリッピング流体の分布用インゼクタ８の上方に配置されている。これらの部品のケーシング４の壁体に対する固定は先行技術の手段によって実施され、この手段がストリッピング中、前記部品を不動状態に保持する。
【００４７】
この実施態様において、ライニング部品１７、１８、１９はスペース２０、２１によって相互に分離され、これらのスペースはライニング部品間の閉塞と破片、特にコークスの堆積の問題を避けるためのものである。これらのスペースの中におけるガスと粒子の放射方向流出と、均質な粒子／ガス比との故に、ストリッピング効率が著しく改善される。実際にこれらのスペース２０、２１は、放射方向に向かう破片を１つのライニング部品から他のライニング部品に通過させる。またこれらのスペースは、ライニング部品間において流動化濃密混合物の乱流を生じる事により、粒子と流体の再分布を生じる。
【００４８】
これらのライニング部品は、折り曲げられた板を組合わせてその組立体の面に対して横方向に切断する事によって形成される。ストリッパーの内部において、各ライニング部品は第１部品の折り曲げられた板の面が隣接部品の折り曲げられた板の面に対してほぼ９０度の角度を成すように配向される。このようにして、第１部品の通過後に触媒粒子と流体の循環方向が第２部品通過後の触媒粒子と流体の循環方向に対してほぼ９０度を成し、この事がライニング部品の外部における触媒粒子の再分布を改良しまた流体による組織的乱流状態を形成する。
【００４９】
図３はライニング部品の一部の平面図である。
【００５０】
このライニング部品は複数の折り曲げられた板をその面に対して横方向に切断して形成される。これらの折り曲げられた板は、各板の折り曲げ稜２２が隣接板の折り曲げ稜２２’に対してほぼ９０度の角度を成すように組立てられる。このようにして各板の折り曲げ稜が隣接板の折り曲げ稜と交差し、交差したグルーブ網２３、２４から成る小部屋構造を成す。これらのグルーブの交差区域が粒子と流体の優先的接触区域を成す。
【００５１】
これらのグルーブ２３、２４を通る向流状態の粒子と流体は濃密な流動化状態に保持される。このような小部屋構造の断面はライニング部品中の粒子閉塞現象を避けるように選ばれる。
【００５２】
図示の場合、波形板は相互に折り曲げ稜２２、２２’のレベルで溶接される。触媒粒子がグルーブ２３、２４の中に進入して案内される。各グルーブの配置により、第１板の折り曲げ稜と隣接の第２板の折り曲げ稜とによって形成される各交差点で粒子がそらされて、粒子と向流ストリッピング流体の分割と再混合とを改善する。
【００５３】
図４は３部品２５、２６、２７から成るライニング組立体の全体図である。これらの部品はセパレータ２８、２９によって相互に分離されてスペース３０、３１の中での粒子と流体との再分布を生じる。ストリッピング流体はこれらの部品を通して下から上へと循環し、粒子は上から下へと循環して、逆混合現象および貫孔現象は避けられる。
【００５４】
実施例
下記に説明する類似条件で実施されたテストは本発明を説明するためのものであって、特に本発明によるストリッピング装置およびストリッピング法による二、三の利点を示す。
【００５５】
移動流動床型触媒クラッキングプラントのストリッピングケーシングの中で本発明の方法を再現するための代表的なテストを実施した。これらのテスト結果を、ストリッピング区域にじゃま板を備えた装置の性能と比較した。
【００５６】
テストは市販プラントの中で、ほぼ２・１０5 パスカルの圧力で実施される。ストリッピング流量はストリッピング蒸気２．８トン／時の高水準に保持される。これは、２６０％の空容積洗浄率に相当する。処理された装入物はＶＧＯ（バキューム・ガス・オイル）と、北海原油の大気圧残留物との混合物（４０／６０比）であって、このプラントを５２０℃で操作する。
【００５７】
【表１】
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テストＮｏ．１においてストリッピングケーシングは先行技術構造のじゃま板を含み、米国特許第３，４７２，５０２号に記載のグリッドと類似の性能を有する。テストＮｏ．２においてストリッピングケーシングはストリッピング区域３の中に本発明によるスペースによって分離されたストリッピング部品を含む。
【００５８】
【発明の効果】
本発明を実施したプラントにおいては再生温度および後燃（一般に「アフターバーニング」とよばれる）温度の著しい低下が見られる。コークス水素およびΔコークスのパーセントも低下し、これはストリッピング区域における良好な接触と洗浄効果とを示し、従って触媒粒子上および粒子間の炭化水素の非常にすぐれた回収を示す。
【００５９】
ストリッピングの高い効率は装置内部におけるＣ／Ｏ比（装入物Ｏと接触する触媒Ｃの質量比）を増大させる事ができ、従って装入物を触媒粒子のより多数の活性部位と接触させる事により装入物の転化率を向上させる事ができる。
【００６０】
さらに、装置の触媒粒子の安定性を増大し、これは装置中に粒子の適量を保持しながら、新しい触媒粒子の毎日の添加量と不活性化された触媒粒子の毎日の抽出量とを低減させる。
【００６１】
第３テスト（テストＮｏ．３）は１．６ｔ／ｈのオーダの少ないストリッピング蒸気によって実施された。この結果もテストＮｏ．１と比較して満足な結果である。すなわち本発明によるストリッピングは、先行技術に対して効率を改良しながらストリッピング蒸気の消費量を低減する事ができる。その結果、エネルギーが節約され、またストリッピングに使用される蒸気の凝縮による汚染水の量を低減させる事ができる。
【００６２】
前記の結果はこの新規ストリッピング装置によって得られる利得を示す。特にガスと触媒粒子との接触の改良の結果、再生器への炭化水素同伴量が低下し、コークスの水素含有量が低下し、また後燃現象が除去される。
【図面の簡単な説明】
【図１】先行技術の触媒クラッキング装置の概略図。
【図２】ＦＣＣプラントのストリッパーに適用された本発明の実施態様を示す概略図。
【図３】本発明のライニング部品の一部の斜視図。
【図４】本発明によるライニング部品全体の斜視図。
【符号の説明】
４  ストリッピングケーシング
４ａ  ストリッパー
７  ストリッピングガス
８  インゼクタ
９  再生器
１０  導管
１７  ライニング部品
１８  ライニング部品
１９  ライニング部品
２０  スペース
２１  スペース
２２  折り曲げ稜
２２’  折り曲げ稜
２３  グルーブ網
２４  グルーブ網
２５  ライニング部品
２６  ライニング部品
２７  ライニング部品
３０  スペース
３１  スペース
３６  循環区域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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