(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に磁性膜からなる記録膜を有し、基板表面上に互いに屈折率の異なる透明部Ａと透明部Ｂが存在する情報記録媒体において、該情報記録媒体の表面がほぼ平坦であり、前記透明部Ａと前記透明部Ｂは、トラッキングサーボ情報用の部位及び／又はアドレス情報を示す部位であり、かつ基板表面上に交互に位置することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】
基板表面上に透明膜を成膜し、磁性膜からなる記録膜の形成予定領域の透明膜を除去して互いに屈折率の異なる透明部Ａと透明部Ｂを交互に形成した後、除去部に記録膜を埋め込むことにより、該基板表面上に前記透明部Ａと前記透明部Ｂが交互に存在し、かつ記録膜側の表面がほぼ平坦である情報記録媒体を得ることを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
基板表面の透明部の形成予定領域をエッチングし、その領域に互いに屈折率の異なる透明部Ａと透明部Ｂを交互に形成した後、磁性膜からなる記録膜を前記透明部Ａと前記透明部Ｂを含む基板上に成膜することにより、該基板表面上に前記透明部Ａと前記透明部Ｂが交互に存在し、かつ記録膜側の表面がほぼ平坦である情報記録媒体を得ることを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載の情報記録媒体への情報記録再生方法であって、基板の裏面から基板越し又は基板の表面に光を照射することにより、情報記録媒体のトラッキングサーボ情報及び／又はアドレス情報を検出し、得られた検出結果を元に、情報記録再生のための光ヘッドと磁気ヘッドの両方にトラッキングサーボをかけることを特徴とする情報記録再生方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報記録媒体、その製造方法、浮上ヘッド及び情報記録再生方法に関する。更に詳しくは、本発明は、トラッキング性能が向上した光ディスク、磁気ディスク等の情報記録媒体、その製造方法、浮上ヘッド及び情報記録再生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、情報記録媒体の一種である磁気ディスクでは、サーボトラックライタ（ＳＴＷ）で、サーボライトする方式が主流であった。しかし、この方式では、磁気ディスクの記録容量が高くなるとサーボライトに時間がかかるという問題があった。また、サーボライト時間を短縮するために、ＳＴＷを複数台設けることも可能であるが、それにより製造コストが上昇するという問題があった。
そこで、光ディスクで行われているように、予め基板に凹凸を形成し、その凹凸を利用してトラッキングサーボ情報やアドレス情報を作りこむ方法が提案されている（日経エレクトロニクス、第１６９〜１８１頁、Ｎｏ．５８６、１９９３年７月１９日発行）。
【０００３】
一方、上記したように、光ディスクでは予め基板に凹凸を形成し、その凹凸を利用してトラッキングサーボ情報やアドレス情報が作りこまれているが、更に情報の高密度化のために、対物レンズのＮＡを上げたり、浮上スライダにレンズを載せることによりソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ）を用いる方法が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
磁気ディスクでは、トラッキングサーボ情報やアドレス情報を基板に凹凸を形成することで作りこむ場合、これら情報は連続的な凹凸になる。具体的には、磁気ディスクは通常円盤状であるので、アドレス情報は半径方向に対して連続的に凹凸が形成されることとなる。
【０００５】
磁気ディスクへ情報を高密度で記録する方法として、記録ヘッドの浮上量を小さくする（即ち、ディスクと記録ヘッドとの間隔をせまくする）方法がある。ところが、浮上量を小さくすると、基板上の前記凹凸が無視できなくなり、浮上量を一定に保つことが困難となる。そのため、トラッキングサーボ情報が正確に再生できずトラッキングできなかったり、情報を正確に記録再生することが困難となる問題が生じる。
【０００６】
一方、光ディスクでも、情報を高密度で記録する方法として、対物レンズのＮＡを上げて浮上スライダの浮上量を小さくする方法がある。しかしながら、上記磁気ディスクと同じ問題が生じる。更に、凹凸を軽減するために樹脂膜で表面を被覆することも考えられるが、樹脂膜は厚さが数μｍのオーダーとなるため、浮上量を小さくすることによるメリットを生かすことができなかった。更に、樹脂膜は、一定の厚さに形成することが困難であるため、良好な集光特性を得ることが困難であるという問題もあった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かくして本発明によれば、基板上に磁性膜からなる記録膜を有し、基板表面上に互いに屈折率の異なる透明部Ａと透明部Ｂが存在する情報記録媒体において、該情報記録媒体の表面がほぼ平坦であり、前記透明部Ａと前記透明部Ｂは、トラッキングサーボ情報用の部位及び／又はアドレス情報を示す部位であり、かつ基板表面上に交互に位置することを特徴とする情報記録媒体が提供される。
更に、本発明によれば、基板表面上に透明膜を成膜し、磁性膜からなる記録膜の形成予定領域の透明膜を除去して互いに屈折率の異なる透明部Ａと透明部Ｂを交互に形成した後、除去部に記録膜を埋め込むことにより、該基板表面上に前記透明部Ａと前記透明部Ｂが交互に存在し、かつ記録膜側の表面がほぼ平坦である情報記録媒体を得ることを特徴とする情報記録媒体の製造方法が提供される。
【０００８】
また、本発明によれば、基板表面の透明部の形成予定領域をエッチングし、その領域に互いに屈折率の異なる透明部Ａと透明部Ｂを交互に形成した後、磁性膜からなる記録膜を前記透明部Ａと前記透明部Ｂを含む基板上に成膜することにより、該基板表面上に前記透明部Ａと前記透明部Ｂが交互に存在し、かつ記録膜側の表面がほぼ平坦である情報記録媒体を得ることを特徴とする情報記録媒体の製造方法が提供される。
【０００９】
また、本発明によれば、上記情報記録媒体への情報記録再生方法であって、基板の裏面から基板越し又は基板の表面に光を照射することにより、情報記録媒体のトラッキングサーボ情報及び／又はアドレス情報を検出し、得られた検出結果を元に、情報記録再生のための光ヘッドと磁気ヘッドの両方にトラッキングサーボをかけることを特徴とする情報記録再生方法が提供される。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の情報記録媒体は、例えば図１に示すように、基板表面上に透明部が存在することを特徴の１つとしている。図１中、１は基板、２はトラッキングサーボ情報用の透明部、３はアドレス情報用の透明部、４は記録膜、５は複数のアドレス情報用の透明部を備えたアドレス情報部、６は情報記録部（情報記録トラック）を意味している。ここで、情報記録媒体が円形の場合、トラッキングサーボ情報用の透明部２の長軸方向が媒体の円周方向であり、短軸方向が媒体の半径方向である。この構成により、後述するように、トラッキングサーボ情報やアドレス情報を適切に得ることができる。
【００１１】
本発明の情報記録媒体には、情報が磁気的に記録再生される、磁気ディスク、光磁気ディスク等が含まれる。
情報記録媒体は、基板、透明部と、磁性膜又は光磁気膜等の記録膜とから主に構成される。透明部を構成する材料は、特に限定されず、二酸化シリコン（ＳｉＯ2）、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が挙げられる。窒化シリコンは、光の波長６８０ｎｍに対する屈折率が１．７であり、二酸化シリコン（屈折率１．５）より大きい屈折率を有する。また、酸化亜鉛の屈折率は２．２である。そのため、二酸化シリコンと同じ位相深さを得るには、物理的な深さを浅くすることができる。
【００１２】
また、透明部が複数群存在していてもよく、それら透明部が屈折率の互いに異なる２つ以上の群からなっていてもよい。屈折率を異ならせることにより、物理的な深さが同じでも光学的深さを変えることができ、種類の異なる情報を形成することができる。ここで透明部とは、使用する光源（例えば、半導体レーザ）の波長に対して透明という意味である。
【００１３】
基板、記録膜は当該分野で公知の材料により構成することができる。記録膜は、情報が記録される部位であり、基板が円盤状の場合、同心円又はスパイラル状の平面形状を有していてもよい。また、透明部と屈折率を異ならせれば、透明な基板を使用することも可能である。すなわち、基板としてシリコン、アルミニウム、ガラス、樹脂等が使用可能である。
情報記録媒体を構成する透明部は、基板表面上に形成されている。一方、記録膜は、透明部間に埋め込まれていてもよく、透明部を含む基板上に形成されていてもよい。
上記以外の情報記録媒体を構成する部材として、保護膜等が挙げられる。
透明部は、トラッキングサーボ情報用の部位又はアドレス情報を示す部位として使用することが好ましい。透明部の厚さは、記録膜の表面と、透明部の底面から反射する光が干渉するように設定すれば、情報を検出することができる。
【００１４】
本発明の情報記録媒体は、記録膜側の表面がほぼ平坦であることが必要である。平坦にすることで、情報を記録再生する浮上ヘッドの浮上を安定に保ち、良好なトラッキングのサーボ又は集光特性を実現することができる。
【００１５】
上記情報記録媒体の製造方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
（１）基板表面上に透明膜を成膜し、記録膜予定領域の透明膜を除去して透明部を形成した後、除去部に記録膜を埋め込むことにより得ることができる。
（２）基板表面の透明部の形成予定領域をエッチングし、その領域に透明部を形成した後、記録膜を透明部を含む基板上に成膜することにより得ることができる。
更に、本発明では、記録ヘッド、再生ヘッド、光源、フォトディテクタを少なくとも備えた浮上ヘッドであって、浮上ヘッドが全体又は一部に透明部を備え、透明部内に光源及びフォトディテクタが位置することを特徴とする浮上ヘッドも提供できる。この浮上ヘッドによれば、透明部を識別するための光源及びフォトディテクタが、磁気ヘッドのような情報を記録再生するヘッド（記録ヘッド、再生ヘッド）と併設されているので、装置の構成を簡略化できる。
【００１６】
また、本発明では、基板の裏面から基板越し又は基板の表面に光を照射することにより、透明部で光が回折し、基板から反射又は基板を透過する回折光（例えば一次回折光）をフォトディテクタで検出することで、情報記録媒体のトラッキングサーボ情報及び／又はアドレス情報を検出し、得られた検出結果を元に、情報記録再生装置を構成する光ヘッドと磁気ヘッドの両方にトラッキングサーボをかけることによる情報の記録再生方法も提供できる。
なお、基板に入射する光は、トラッキングサーボ情報又はアドレス情報の検出に用いる以外に、記録膜に熱を加えるために使用することができる。
【００１７】
以下、実施の形態により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施の形態１
本発明の情報記録媒体の製造方法の一例の概略断面図を図２（ａ）〜（ｆ）に示す。以下、この図について説明する。
まず、直径２．５インチのシリコン（Ｓｉ）からなる基板２１上に、５０ｎｍの厚さの二酸化シリコン膜（屈折率ｎ＝１．５）２２を成膜する（図２（ａ）参照）。
【００１８】
次に、フォトレジストを塗布及びプリベークすることにより、１００ｎｍの厚さのフォトレジスト層２３を二酸化シリコン膜２２上に形成する。次いで、所定のパターンが形成されたフォトマスク（図示せず）とマスクアライナー（図示せず）を用いて露光した後（図２（ｂ）参照）、現像することによりパターン化したフォトレジスト層２４を得る（図２（ｃ）参照）。
【００１９】
次に、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）法により、フォトレジスト層２４が形成されていない部分の二酸化シリコン膜を除去して、基板２１を露出させると共に透明部２５を形成する（図２（ｄ）参照）。
【００２０】
次いで、５０ｎｍの厚さのＣｏＣｒＴａからなる磁性膜２６をスパッタ法により成膜する（図２（ｅ）参照）。この後、フォトレジスト層２４上に形成された磁性膜２６を、フォトレジスト層２４の除去と共にリフトオフする（図２（ｆ）参照）。最後に、保護膜として炭素をスパッタ法により５ｎｍの厚さで成膜することにより、図３に示すごとき断面構造を有する情報記録媒体を得ることができる。なお、炭素からなる保護膜は薄いため、光を８０％程度透過する。図３中、３０は浮上ヘッドで、以下に述べるように光学ヘッド、記録ヘッド、再生ヘッドを搭載している。３１は支持バネである。
【００２１】
次に、上記情報記録媒体への情報の記録再生に適する浮上ヘッド３０の概略斜視図を図４に示す。図４中、４１は記録ヘッド、４２は再生ヘッド、４３は波長６８０ｎｍのレーザ光を発生する光源としての半導体レーザ、４４はレンズ、４５はフォトディテクタ、４６はフォトポリマー、４７はスライダ、４８は半導体レーザのためのヒートシンク、４９はセラミックである。記録ヘッド４１、再生ヘッド４２及びレーザースポットは、ほぼ直線状に揃えて配置されている。スライダ４７は、フォトポリマー４６とセラミック４９とからなり、ほぼ矩形状をしている。該スライダ４７は図示されない支持バネでアクチュエータに支持されている。磁気信号（情報）の記録再生は、記録ヘッドと再生ヘッドとで行われる。
【００２２】
上記浮上ヘッドを用いた情報記録再生方法を説明する。まず、トラッキングサーボのために半導体レーザ４３から出た光は、レンズ４４を通り、情報記録媒体上に集光される。このとき、この実施の形態では、集光したビームの直径は約１μｍで、情報記録媒体上のトラックピッチは０．８μｍで、透明部の幅は０．２μｍとしている。情報記録媒体の透明部から回折した反射光は、フォトポリマー４６を通過してフォトディテクタ４５に入る。フォトディテクタ４５にはプリアンプ（図示せず）が付けられていて、光が電圧レベルとしてトラッキングサーボ回路に送られる。
【００２３】
図５にトラッキングサーボ回路のブロック図を示す。フォトディテクタ５１と５２（図４の符号４５に相当）からの出力は、Ｉ／Ｖ変換器５３と５４で電圧値に変換される。得られた電圧値は増幅器５５と５６で増幅され、差信号が減算器５７で、和信号が加算器５８でそれぞれ作成される。差信号を分子、和信号を分母として除算器５９で割り算し、得られた出力が、オフセット注入器５１０を介して、位相補償器５１１を通って、駆動回路５１２に送られる。
駆動回路５１２は、得られた値を元に、浮上ヘッドが所定のトラックにトラッキングされるように、図示しないアクチュエータのコイルに電流を流す。また、加算器５８による和信号から情報記録媒体の反射率を検出して、セクタのアドレス情報が得られる。なお、図５中、５１３は位置情報検出器を意味する
【００２４】
図６（１）に、情報記録媒体上のビームの位置と２つのフォトディテクタ上の回折光強度パターンを示す。ビームスポット６１がトラック６２の中心にある場合（図６（１）−（ｂ）参照）、左右のフォトディテクタ上での回折光強度は同一となる。しかし、ビームスポット６１がトラック６２の右や左にずれると片側の回折光強度が強くなる（図６（１）−（ａ）及び（ｃ）参照）。図６（１）−（ａ）及び（ｃ）中、斜線は右又は左のフォトディテクタの回折光強度が強いことを示している。即ち、トラックとビームすっポットの位置関係により、左右の回折光強度が変わるが、左右の回折光強度が等しくなるように調整すれば、トラックの中心に浮上ヘッドがトラッキングされることとなる。
【００２５】
回路上では、除算器５９の出力が、図６（２）のようになるようトラッキングサーボをかけることで、記録領域の中心にトラッキングをかけることができる。また、例えば、ディスクの内周や外周では、ビームスポット、記録ヘッド、再生ヘッドとトラックの接線が平行でなくなる。その場合、記録ヘッドや再生ヘッドがトラック中心にあるとき、ビームスポットはトラック中心からはずれるが、この際、除算器５９と位相補償器５１１の間に設けられたオフセット注入器５１０で、所定のオフセット電圧を加えることで、記録ヘッドや再生ヘッドをトラックの中心にトラッキングをかけることも可能である。
【００２６】
ここで、実際にトラッキングが問題なく掛かったのは、透明部の厚さが２０ｎｍより大きい場合であった。但し、この実施の形態の磁気ディスクは、可換変媒体ではないので、フォトディテクタ等のトラッキングサーボ系を調整することにより、２０ｎｍでもトラッキングをかけることが可能である。なお、情報記録媒体が、可換媒体である光ディスクの場合は、３５ｎｍ程度であることが好ましい。
【００２７】
実施の形態２
本発明の情報記録媒体の製造方法の一例の概略断面図を図７（ａ）〜（ｅ）に示す。以下、この図について説明する。
まず、直径２．５インチのＳｉからなる基板７１上に、フォトレジストを塗布及びプリベークすることにより、１００ｎｍの厚さのフォトレジスト層を形成する。次いで、予め所定のパターンが形成されたフォトマスクとマスクアライナー（図示せず）を用いて露光した後、現像することによりパターン化したフォトレジスト層７２を得る（図７（ａ）参照）。
【００２８】
次に、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）法により、フォトレジスト層７２の形成されていない部分の基板７１を５０ｎｍの深さエッチングする（図７（ｂ）参照）。
次に、厚さ５５ｎｍの窒化シリコン層７３をスパッタ法により全面に積層する（図７（ｃ）参照）。フォトレジスト層７２を除去しつつ、フォトレジスト層７２上の窒化シリコン層７３をリフトオフして除去することで、透明部７４を形成する（図７（ｄ）参照）。
【００２９】
更に、基板７１表面を研磨してほぼ平坦にし、全面に厚さ２０ｎｍのＣｏＣｒＴａからなる磁性膜７５をスパッタ法により成膜する（図７（ｅ）参照）。
最後に、保護膜として炭素をスパッタ法により５ｎｍの厚さで成膜することにより、図８に示すごとき断面構造を有する情報記録媒体を得ることができる。なお、炭素からなる保護膜は薄いため光を８０％程度透過し、磁性膜は４０％程度透過するので、トラッキングサーボ情報やアドレス情報の再生には支障がなかった。
【００３０】
実施の形態３
図９は、浮上ヘッドの別な構成を示す斜視図である。図４の浮上ヘッド３０では、半導体レーザ４３が光源として使用されているが、図９では、半導体レーザを稼動部である浮上ヘッド９０に設けず、アクチュエータを固定する基盤（図示せず）に配置している。半導体レーザから出た光は、光ファイバー９３により浮上ヘッド９０まで導かれ、カップリングレンズを兼ねたレンズ９４で情報記録媒体上に照射される。この浮上ヘッド９０を用いても、実施の形態１と同様にトラッキングをかけることができる。なお、図９中、９１は記録ヘッド、９２は再生ヘッド、９５はフォトディテクタ、９６はフォトポリマー、９７はスライダ、９９はセラミックを意味し、それぞれ図４の４１、４２、４５、４６、４７、４９に対応している。
【００３１】
実施の形態４
本発明の情報記録媒体の製造方法の一例の概略断面図を図１０（ａ）〜（ｌ）に示す。以下、この図について説明する。
まず、直径２．５インチのＳｉからなる基板１０１上に、フォトレジストを塗布及びプリベークすることにより、１００ｎｍの厚さのフォトレジスト層１０２を形成する（図１０（ａ）参照）。
【００３２】
次いで、アドレス情報用の透明部を形成するための所定のパターンが形成されたフォトマスク（図示せず）とマスクアライナー（図示せず）を用いて露光した後（図１０（ｂ）参照、図中、Ｘが露光された箇所）、現像することによりパターン化したフォトレジスト層１０２ａを得る（図１０（ｃ）参照）。
次に、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）法により、フォトレジスト層１０２ａの形成されていない部分の基板１０１を所望深さエッチングする（図１０（ｄ）参照）。
更に、ＣＶＤ法により、エッチングした深さと同じ厚さの二酸化シリコン膜１０３を成膜する（図１０（ｅ）参照）
【００３３】
次に、フォトレジスト層１０２ａとその上に存在する二酸化シリコン膜１０３を除去し、全面に二酸化シリコン膜１０４を堆積させる（図１０（ｆ）参照）。この工程により、透明部１０５ａが基板の表面に形成される。
次に、二酸化シリコン膜１０４上に、フォトレジスト層１０６を形成する（図１０（ｇ）参照）。
次いで、予めトラッキングサーボ情報用の透明部を形成するための所定のパターンが形成されたフォトマスク（図示せず）とマスクアライナー（図示せず）を用いて露光した後、現像することによりパターン化したフォトレジスト層１０６ａを得る（図１０（ｈ）参照）。
【００３４】
フォトレジスト層１０６ａをマスクとして二酸化シリコン膜１０４をエッチングして基板１０１を露出させる（図１０（ｉ）参照）。この工程により、透明部１０５ｂが基板上に形成される。
以上の工程により、トラッキングサーボ情報用の透明部１０５ｂと、これより厚い膜のアドレス情報用の透明部（１０５ａ＋１０５ｂ）が形成されたことになる。
【００３５】
次に、全面に厚さ２０ｎｍの磁性膜１０７をスパッタ法により成膜する（図１０（ｊ）参照）。更に、フォトレジスト層１０６ａを除去すると共に、その上に形成された磁性膜１０７をリフトオフする（図１０（ｋ）参照）。
最後に、保護膜１０８として炭素をスパッタ法により５ｎｍの厚さで成膜することにより、図１１に示すごとき斜視構造を有する情報記録媒体を得ることができる。この情報記録媒体は、アドレス情報用とトラッキングサーボ情報用に最適な位相深さになるような厚さの透明部を形成しているので、両信号を十分大きく得ることができる。
【００３６】
実施の形態５
上記実施の形態４では、トラッキングサーボ情報用の透明部の厚さを、アドレス情報用の透明部の厚さより薄くした。しかし、トラッキングサーボ情報用の透明部を二酸化シリコン膜とし、アドレス情報用の透明部を窒化シリコンや酸化亜鉛とすることで、両透明部をほぼ同一の膜厚とすることができる。この状態を実施の形態５に示す。
この実施の形態の情報記録媒体の製造方法の概略断面図を図１２（ａ）〜（ｌ）に示す。以下、この図について説明する。
まず、直径２．５インチのＳｉからなる基板１２１上に、フォトレジストを塗布及びプリベークすることにより、１００ｎｍの厚さのフォトレジスト層１２２を形成する（図１２（ａ）参照）。
【００３７】
次いで、トラッキングサーボ情報用の透明部を形成するための所定のパターンが形成されたフォトマスク１２３ａとマスクアライナー（図示せず）を用いて露光した後（図１２（ｂ）参照）、現像することによりパターン化したフォトレジスト層１２２ａを得る（図１２（ｃ）参照）。
次に、ＲＩＥ法により、フォトレジスト層１２２ａの形成されていない部分の基板１２１を所望深さエッチングする（図１２（ｄ）参照）。
更に、スパッタ法により、エッチングした深さと同じ厚さの二酸化シリコン膜１２４を成膜する（図１２（ｅ）参照）
【００３８】
次に、フォトレジスト層１２２ａとその上に存在する二酸化シリコン膜１２４を除去する（図１２（ｆ）参照）。なお、この工程により、トラッキングサーボ情報用の透明部１２５ａが基板の表面層に形成される。
次に、全面に、フォトレジスト層１２６を形成する（図１２（ｇ）参照）。
次いで、アドレス情報用の透明部を形成するための所定のパターンが形成されたフォトマスク１２３ｂとマスクアライナー（図示せず）を用いて露光する（図１２（ｈ）参照）。
【００３９】
この後、現像することによりパターン化したフォトレジスト層１２６ａを得る。次に、ＲＩＥ法により、フォトレジスト層１２６ａの形成されていない部分の基板１２１を所望深さエッチングする（図１２（ｉ）参照）。
更に、スパッタ法により、エッチングした深さと同じ厚さの酸化亜鉛膜１２７を成膜する（図１２（ｊ）参照）。
次に、フォトレジスト層１２６ａとその上に存在する酸化亜鉛膜１２７を除去する（図１２（ｋ）参照）。なお、この工程により、アドレス情報用の透明部１２５ｂが基板の表面層に形成される。
【００４０】
次に、全面に厚さ２０ｎｍの磁性膜１２８をスパッタ法により成膜する（図１２（ｌ）参照）。
最後に、保護膜１２９として炭素をスパッタ法により５ｎｍの厚さで成膜することにより、情報記録媒体を得ることができる。
この情報記録媒体を図１３の情報記録装置で記録再生した。
【００４１】
図１３は、情報記録装置の内、トラッキングサーボ系を中心に簡単に示た図である。以下、この図を説明する。
レーザ１３０１から出た光は、ビーム整形器で平行な真円ビームに整形され、１３０２のビームスプリッタを通過し、１３０３の立ち上げミラーで光路を曲げられ、対物レンズ１３０４を通り情報記録媒体１３０５に照射される。情報記録媒体１３０５中のグルーブによる変調を受けた光は、再び対物レンズ１３０４を通り、１３０２のビームスプリッタで反射し、１３０６の２分割ディテクタに入る。
【００４２】
この２分割ディテクタで光が電気信号に変換され、それぞれの信号は１３０７、１３０８のＩ／Ｖ回路で電圧に変換される。次に、増幅器１３０９、１３１０で増幅され、１３１１の減算器で差信号と１３１２の加算器で和信号が作られる。更に、１３１３の除算器で差信号を和信号で割り算してＴＥＳ信号が作られる。
１３１４の位相補償器で位相を進ませ、１３１５の駆動回路を経て１３１６のアクチュエータで、１３０４の対物レンズによるトラッキングを行う。また、除算器１３１３の出力は別な位相補償器１３１７で位相を進ませ、１３１８の駆動回路を経て１３１９のアクチュエータで、１３２０の浮上ヘッドによるトラッキングを行う。
【００４３】
実施の形態６
実施の形態１と同じ工程を用い、サンプルサーボ方式に適した媒体を作成した。
図１４にその情報記録媒体の斜視図を示す。図１４中、１４１は基板、１４２はサンプルサーボのための透明部（ピット）、１４３はクロック情報のための透明部（ピット）、１４４はアドレス情報のための透明部をそれぞれ意味している。１４２〜１４４の透明部は、基板１４１の表面層に形成されている。この基板上には、窒化シリコンからなる下地層（図示せず）とＴｂ20（Ｆｅ90Ｃｏ10）80からなる光磁気記録層としての磁性膜１４５が積層されている。更に、磁性膜１４５上には、厚さ５ｎｍの炭素からなる保護膜１４６が成膜されている。
【００４４】
図１５に、サンプルピットとクロックピットを備えた情報記録媒体のトラッキングのために使用されるＳＩＬを搭載した浮上スライダを用いた情報記録再生装置の概略構成図を示す。レーザ１５０１から出た光は、ビーム整形器（図示せず）で平行な真円形状のビームに整形され、１５０２のビームスプリッタを通過する。通過したビームは、１５０３の立ち上げミラーで光路を曲げられ、対物レンズ１５０４と浮上ＳＩＬレンズ１５０５を通り情報記録媒体１５０６に照射される。
【００４５】
情報記録媒体で反射した光は、再び対物レンズ１５０４を通り、ビームスプリッタ１５０２で反射し、１５０７のフォトディテクタに入射する。フォトディテクタ１５０７に入射した光をＩ／Ｖ変換器１５０８で電圧に変化し、クロックピットから図示しない回路によりＰＬＬを掛けてクロックを作り、サンプルピット上でゲートを開ける。サンプルピットからの反射光量を検出し、そのレベルをホールド回路１５０９と１５１０によりホールドし、２回路によりホールドされた信号を減算器１５１１により差信号に変換する。この差信号はトラッキングエラー信号に対応し、この信号が、位相補償器１５１２、駆動回路１５１３及びアクチュエータ１５１４介して対物レンズにフィードバックされる。
【００４６】
ここで、２つのサンプルピットの中心を光が通ると、反射光量は図１６（１）のようになる。光が中心からずれると図１６（２）のように、反射光量が変動するため、変動量を測定することでトラッキングエラー信号を得ることができる。なお、上記ＳＩＬを用いた情報の記録再生方法では、透明部の厚さが３５ｎｍ以上必要であった。
浮上ＳＩＬレンズの浮上量は１５０ｎｍである。サンプルピットは図１４のように情報記録媒体の半径方向に並べて形成されているが、基板の表面は略平坦であるため、浮上ＳＩＬレンズを安定に浮上させることができる。
【００４７】
【発明の効果】
透明部を含む情報記録媒体の表面を略平坦にすることにより、浮上ヘッドを安定に浮上させることができ、精度の高いトラッキングが可能となり、より安定して情報の記録再生を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の情報記録媒体の概略斜視図である。
【図２】本発明の情報記録媒体の製造方法の概略工程断面図である。
【図３】本発明の情報記録媒体の概略断面図である。
【図４】本発明の浮上ヘッドの概略斜視図である。
【図５】本発明の情報記録再生装置を構成するトラッキングサーボ回路のブロック図である。
【図６】本発明の情報記録媒体上のビームの位置と２つのフォトディテクタ上の回折光強度パターン及び除算器４９の出力結果である。
【図７】本発明の情報記録媒体の製造方法の概略工程断面図である。
【図８】本発明の情報記録媒体の概略断面図である。
【図９】本発明の浮上ヘッドの概略斜視図である。
【図１０】本発明の情報記録媒体の製造方法の概略工程断面図である。
【図１１】本発明の情報記録媒体の概略斜視図である。
【図１２】本発明の情報記録媒体の製造方法の概略工程断面図である。
【図１３】本発明の情報記録再生装置の概略構成図である。
【図１４】本発明の情報記録媒体の概略斜視図である。
【図１５】本発明の情報記録再生装置の概略構成図である。
【図１６】本発明の情報記録媒体の反射光量を示すグラフである。
【符号の説明】
１、２１、７１、１０１、１２１、１４１  基板
２、３、２５、７４、１０５ａ、１０５ｂ、１２５ａ、１２５ｂ、１４２、１４３、１４４  透明部
４、７５  記録膜
５  アドレス情報部
６  情報記録部
２２、１０３、１０４、１２４  二酸化シリコン膜
２３、２４、７２、１０２、１０２ａ、１０６、１０６ａ、１２２、１２２ａ、１２６、１２６ａ  フォトレジスト層
２６、７５、１０７、１２８、１４５  磁性膜
３０、９０、１３２０  浮上ヘッド
３１  支持バネ
４１、９１  記録ヘッド
４２、９２  再生ヘッド
４３  半導体レーザ
４４、９４  レンズ
４５、５１、５２、９５、１５０７  フォトディテクタ
４６、９６  フォトポリマー
４７、９７  スライダ
４８  ヒートシンク
４９、９９  セラミック
５３、５４、１３０７、１３０８、１５０８  Ｉ／Ｖ変換器
５５、５６、１３０９、１３１０  増幅器
５７、１３１１、１５１１  減算器
５８、１３１２  加算器
５９、１３１３  除算器
５１０  オフセット注入器
５１１、１３１４、１３１７、１５１２  位相補償器
５１２、１３１５、１３１８、１５１３  駆動回路
５１３  位置情報検出器
６１  ビームスポット
６２  トラック
７３  窒化シリコン層
９３  光ファイバー
１０８、１２９、１４６  保護膜
１２３ａ、１２３ｂ  フォトマスク
１２７  酸化亜鉛膜
１３０１、１５０１  レーザ
１３０２、１５０２  ビームスプリッタ
１３０３、１５０３  立ち上げミラー
１３０４、１５０４  対物レンズ
１３０５、１５０６  情報記録媒体
１３０６  ２分割ディテクタ
１３１６、１３１９、１５１４  アクチュエータ
１５０５  浮上ＳＩＬレンズ
１５０９、１５１０  ホールド回路
Ｘ  露光された箇所
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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