(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送される塗布対象物にその搬送方向に沿って間欠的に塗布剤を所定塗布パターンに塗布する間欠塗布装置において、
塗布対象物を搬送する搬送手段と、
塗布剤を塗布対象物に塗布するために、塗布パターンの搬送方向幅よりも短い幅寸法を持ち、該搬送方向に直交する幅とは同等の幅寸法を持つ吐出口から塗布剤を間欠的に吐出する塗布ノズルと、
塗布対象物の搬送方向に前記塗布ノズルを移動制御するノズル移動手段と、を備え、
前記ノズル移動手段は、前記塗布ノズルと塗布対象物との相対速度を任意に変更制御することを特徴とする間欠塗布装置。
【請求項２】
前記ノズル移動手段は、前記塗布ノズルを塗布対象物の搬送方向に沿って移動させて所定領域に塗布動作を行った後、前記搬送方向とは逆方向に塗布ノズルを移動させ、その後、後続の所定領域に塗布動作を行い、これら動作を繰り返すことを特徴とする請求項１に記載の間欠塗布装置。
【請求項３】
前記ノズル移動手段は、塗布対象物の搬送方向に沿う塗布長が非塗布長より短い場合に、塗布時に前記相対速度を小さくするように制御することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の間欠塗布装置。
【請求項４】
前記ノズル移動手段は、塗布対象物の搬送方向に沿う非塗布長が塗布長より短い場合に、非塗布時に前記相対速度を小さくするように制御することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の間欠塗布装置。
【請求項５】
前記搬送手段は、塗布対象物を円弧状の搬送経路に沿うように搬送し、
前記ノズル移動手段は、前記塗布ノズルを前記搬送経路と同心の経路に沿って移動させることで前記相対速度を制御することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の間欠塗布装置。
【請求項６】
前記搬送手段は、塗布対象物を平面に沿うように搬送し、
前記ノズル移動手段は、前記塗布ノズルを前記平面と平行に移動させることで前記相対速度を制御することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の間欠塗布装置。
【請求項７】
前記ノズル移動手段は、前記搬送手段の一部と前記塗布ノズルとを塗布対象物の搬送方向と平行に移動させることで前記相対速度を制御することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の間欠塗布装置。
【請求項８】
前記相対速度が塗布剤の粘度に応じて調整されることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の間欠塗布装置。
【請求項９】
搬送される塗布対象物にその搬送方向に沿って間欠的に塗布剤を所定塗布パターンに塗布する間欠塗布方法において、
塗布パターンの搬送方向幅よりも短い幅寸法を持ち、該搬送方向に直交する幅とは同等の幅寸法を持つ吐出口から塗布剤を間欠的に吐出する塗布ノズルを搬送方向に移動させる順方向移動工程と、
前記塗布ノズルを搬送方向とは逆方向に移動させる逆方向移動工程と、を備え、
前記順方向移動工程は、
前記塗布ノズルと塗布対象物との相対速度を任意に変更する間欠塗布工程を含むことを特徴とする間欠塗布方法。
【請求項１０】
前記間欠塗布工程における塗布対象物の搬送方向に沿う塗布長が非塗布長より短い場合には、塗布時に前記相対速度を小さくし、
非塗布長が塗布長より短い場合には、非塗布時に前記相対速度を小さくすることを特徴とする請求項９に記載の間欠塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送される塗布対象物の表面にその搬送方向に沿って塗布と非塗布とを繰り返して間欠的に塗布剤を塗布する間欠塗布装置および間欠塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、各種の消費材や工学機器などの工業生産現場において、接着、接合、塗装、印刷などのための接着剤、はんだ、コーティング剤、インクなどの各種塗布剤の塗布が行われている。このような塗布において、近年とみに、塗布対象部のパターン寸法の緻密化や塗布処理速度の高速化などへの対応が求められている。また、このような塗布を行う装置として、塗布対象物を連続走行させ、これに静止した塗布ノズルを対向させて、塗布対象物の表面における必要部分に間欠的に塗布剤を塗布する、いわゆる間欠塗布装置を用いるのが一般的である。
【０００３】
ところで、塗布剤の間欠的な塗布をより正確に行うために、塗布ノズルに内蔵されて塗布剤を供給または停止させるバルブであって、塗布剤の供給を止める際は下流側に負圧を発生させ、塗布剤の供給を開始する際は正圧の発生を一時的に抑制せしめるようにした間欠供給用バルブを備えた間欠塗布装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、塗布始端や塗布終端を、塗布対象物の搬送方向と直交する方向に真っ直ぐに形成するために、塗布時には塗布ノズルを塗布対象物に接近させ、非塗布時には塗布ノズルを塗布対象物から離間させて塗布剤のきれを良くするようにした間欠塗布方法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
また、一定幅で一定長さに形成されるとびとびの連続塗布パターンであってその間隔（非塗布領域の長さ）が小さい場合においても間欠塗布の処理速度を向上するために、それぞれ独立に塗布剤の供給と停止を行う複数の塗布ノズルを搬送方向における前後に備え、各塗布ノズルを順番に駆動することにより分担させて、所望の塗布パターン精度を実現するようにした間欠塗布装置が知られている（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２００１−３８２７６号公報（特許第３３９９８８１号）
【特許文献２】特開平７−２７５７８６号公報（特許第３３４０２３８号）
【特許文献３】特開平１０−４３６５９号公報（特許第３７５７４７７号）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述した特許文献１，２，３に示されるような間欠塗布装置や塗布方法においては、これらを、塗布処理速度をより高速化したり、塗布パターンの寸法精度をより高精度化したりする場合に適用するには、次のような問題がある。
【０００７】
すなわち、特許文献１に示されるような間欠塗布装置においては、間欠供給用バルブの構造に工夫をしたとしても、バルブの動作（開閉）速度に機械的な限界があり、また、塗布剤の粘度が高い場合などには塗布剤吐出のタイムラグのため、精度良い高速塗布処理を実現できない。また、バルブ内の圧力を制御してタイムラグを減少できるとしても、塗布環境や塗布剤の種類毎に種々の粘度を示す塗布剤について圧力制御の条件を設定して、高速塗布処理のもとで精度良く塗布パターンを形成するのは困難である。
【０００８】
例えば、塗布対象物の搬送速度が高速となる場合や塗布パターンが非常に微細である場合にはバルブの開閉が短時間で高頻度に行われるので、所望の塗布パターン長や間隔で塗布することが不可能であり、塗布剤のかすれ、引きずり、塗布始端や塗布終端の歪み、塗布厚みのバラつきなどの塗布不良が発生する。
【０００９】
また、特許文献２に示されるような間欠塗布方法においては、ある条件のもとで塗布ノズルを塗布対象物から離すことにより塗布剤のきれを良くできるとしても、バルブの開閉動作の機械的限界や塗布剤吐出までのタイムラグによる限界があるので、さらなる高速塗布処理や微細塗布パターンに対して上記同様に塗布不良が発生する。
【００１０】
また、特許文献３に示されるような間欠塗布装置においては、ある程度の高速塗布処理や微細塗布パターンに対して対応が可能であるが、やはり、さらなる高速塗布処理や微細塗布パターンに対しては上記同様に塗布不良が発生する。
【００１１】
上述の特許文献１，２，３に示されるような間欠塗布装置や従来の間欠塗布装置において、高速塗布処理や微細塗布パターンに対して解決策とはなり得ずに限界が発生するのは、塗布対象物の搬送が高速化して塗布対象物と塗布ノズルとの相対速度が増加する一方であるのに、その相対速度の増加に対する対策が採られていないことに原因がある。
【００１２】
本発明は、上記課題を解消するものであって、簡単な構成により、塗布剤の粘度、塗布パターンの長さや間隔、間欠塗布の頻度などにかかわらず正確な間欠塗布を可能とし、塗布パターンにかすれや引きずり等の塗布不良が発生しない高速間欠塗布を実現して生産性を向上できる安価な間欠塗布装置および間欠塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を達成するために、請求項１の発明は、搬送される塗布対象物にその搬送方向に沿って間欠的に塗布剤を所定塗布パターンに塗布する間欠塗布装置において、塗布対象物を搬送する搬送手段と、塗布剤を塗布対象物に塗布するために、塗布パターンの搬送方向幅よりも短い幅寸法を持ち、該搬送方向に直交する幅とは同等の幅寸法を持つ吐出口から塗布剤を間欠的に吐出する塗布ノズルと、塗布対象物の搬送方向に前記塗布ノズルを移動制御するノズル移動手段と、を備え、前記ノズル移動手段は、前記塗布ノズルと塗布対象物との相対速度を任意に変更制御するものである。
【００１４】
請求項２の発明は、請求項１に記載の間欠塗布装置において、前記ノズル移動手段は、前記塗布ノズルを塗布対象物の搬送方向に沿って移動させて所定領域に塗布動作を行った後、前記搬送方向とは逆方向に塗布ノズルを移動させ、その後、後続の所定領域に塗布動作を行い、これら動作を繰り返すものである。
【００１５】
請求項３の発明は、請求項１または請求項２に記載の間欠塗布装置において、前記ノズル移動手段は、塗布対象物の搬送方向に沿う塗布長が非塗布長より短い場合に、塗布時に前記相対速度を小さくするように制御するものである。
【００１６】
請求項４の発明は、請求項１または請求項２に記載の間欠塗布装置において、前記ノズル移動手段は、塗布対象物の搬送方向に沿う非塗布長が塗布長より短い場合に、非塗布時に前記相対速度を小さくするように制御するものである。
【００１７】
請求項５の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の間欠塗布装置において、前記搬送手段は、塗布対象物を円弧状の搬送経路に沿うように搬送し、前記ノズル移動手段は、前記塗布ノズルを前記搬送経路と同心の経路に沿って移動させることで前記相対速度を制御するものである。
【００１８】
請求項６の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の間欠塗布装置において、前記搬送手段は、塗布対象物を平面に沿うように搬送し、前記ノズル移動手段は、前記塗布ノズルを前記平面と平行に移動させることで前記相対速度を制御するものである。
【００１９】
請求項７の発明は、請求項１または請求項２に記載の間欠塗布装置において、前記ノズル移動手段は、前記搬送手段の一部と前記塗布ノズルとを塗布対象物の搬送方向と平行に移動させることで前記相対速度を制御するものである。
【００２０】
請求項８の発明は、請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の間欠塗布装置において、前記相対速度が塗布剤の粘度に応じて調整されるものである。
【００２１】
請求項９の発明は、搬送される塗布対象物にその搬送方向に沿って間欠的に塗布剤を所定塗布パターンに塗布する間欠塗布方法において、塗布パターンの搬送方向幅よりも短い幅寸法を持ち、該搬送方向に直交する幅とは同等の幅寸法を持つ吐出口から塗布剤を間欠的に吐出する塗布ノズルを搬送方向に移動させる順方向移動工程と、前記塗布ノズルを搬送方向とは逆方向に移動させる逆方向移動工程と、を備え、前記順方向移動工程は、前記塗布ノズルと塗布対象物との相対速度を任意に変更する間欠塗布工程を含むものである。
【００２２】
請求項１０の発明は、請求項９に記載の間欠塗布方法において、前記間欠塗布工程における塗布対象物の搬送方向に沿う塗布長が非塗布長より短い場合には、塗布時に前記相対速度を小さくし、非塗布長が塗布長より短い場合には、非塗布時に前記相対速度を小さくするものである。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１の発明によれば、従来は移動する塗布対象物に静止した塗布ノズルを適用しているのに対し、本発明では塗布対象物の搬送方向に沿う前後方向に塗布ノズルを移動させるノズル移動手段を備え、間欠塗布に際し塗布ノズルと塗布対象物の表面との相対速度を任意に変更制御するので、塗布対象物の搬送が高速化しても、塗布ノズルが塗布対象物の移動に追随して相対速度を可変でき、従って、相対速度の増加に起因する塗布パターンのかすれや引きずり、塗布始端や塗布終端の歪み、塗布厚みのバラつき等の塗布不良を発生させることなく、塗布剤の粘度、塗布パターンの長さや間隔、間欠塗布の頻度などにかかわらず正確な間欠塗布を実現でき、また高速間欠塗布が実現できるので結果的に安価な間欠塗布装置が実現できる。
【００２４】
上述のような効果が得られるのは、塗布ノズルを塗布対象物の搬送方向に沿う前後方向に移動させて相対速度を例えば小さくして、同じ塗布長において費やすことのできる塗布時間または非塗布時間をより長くできるからであり、このような時間を実質的に長くすることにより、塗布剤の流動や塗布ノズルのバルブの動作に起因するタイムラグの影響を能動的に緩和して塗布非塗布やバルブ開閉の間欠切替の頻度を低くできるからである。
【００２５】
請求項２の発明によれば、塗布ノズルを塗布対象物の搬送方向とは逆方向に後戻りさせるので、塗布対象物の搬送を停止することなく後続の所定領域に対して塗布または間欠塗布を繰り返すことができ、生産性を向上できる。
【００２６】
請求項３の発明によれば、より精密な処理が必要な微細塗布パターンに対して、その微細塗布パターンの始端部分や終端部分における相対速度をより小さくして処理することになるので、塗布剤の粘性や塗布ノズルのバルブの動作などに起因するタイムラグの影響をより緩和して正確な間欠塗布を実現できる。
【００２７】
請求項４の発明によれば、より精密な処理が必要な微細塗布パターンに対して、その微細塗布パターンの始端部分や終端部分における相対速度をより小さくして処理することになるので、塗布剤の粘性や塗布ノズルのバルブの動作などに起因するタイムラグの影響をより緩和して正確な間欠塗布を実現できる。
【００２８】
請求項５の発明によれば、塗布対象部と塗布ノズルとを同心円周に沿って移動させて塗布を行うことができるので、塗布対象部と塗布ノズルとの間隔を一定に構成することが容易であり、信頼性の高い、保守性に優れた装置とすることができる。
【００２９】
請求項６の発明によれば、平面領域を塗布作業領域とするので、曲面を塗布作業領域とする場合に比べて、立体的にならず平面的であり、容易にその塗布対象に対する作業領域を広く設定できる。
【００３０】
請求項７の発明によれば、搬送手段の一部を塗布対象物に対して相対的に移動させることにより、塗布対象物の移動速度を局所的に変更でき、塗布ノズルと塗布対象物との相対速度を容易に変更可能となる。また、搬送手段の一部と塗布ノズルとを一体にして移動させるようにすれば、塗布ノズルの重量が重くなる場合であっても、安定に移動させることができ、塗布対象部と塗布ノズルとの間隔を精度良く一定に保って塗布することができ、正確な間欠塗布を実現できる。
【００３１】
請求項８の発明によれば、相対速度を最適化して、正確な間欠塗布を効率的に実施できる。
【００３２】
請求項９の発明によれば、順方向移動工程において塗布ノズルと塗布対象物との相対速度を任意に変更するので、塗布ノズルと塗布対象物の表面との相対速度を小さくした状態で塗布対象物の搬送方向に沿って移動させて塗布することができ、塗布対象物の搬送が高速化しても、塗布ノズルが塗布対象物の移動に追随可能であり、従って、相対速度の増加に起因する塗布パターンのかすれや引きずり、塗布始端や塗布終端の歪み、塗布厚みのバラつき等の塗布不良を発生させることなく、塗布剤の粘度、塗布パターンの長さや間隔、間欠塗布の頻度などにかかわらず正確な間欠塗布を実現でき、また高速間欠塗布が実現できる。
【００３３】
また、逆方向移動工程において塗布ノズルを塗布対象物の搬送方向とは逆方向に後戻りさせるので、塗布対象物の搬送を停止することなく後続の一定領域に対して塗布または間欠塗布を繰り返すことができ、生産性を向上できる。
【００３４】
請求項１０の発明によれば、より精密な処理が必要な微細塗布パターンに対して、その微細塗布パターンの始端部分や終端部分における相対速度をより小さくして処理することになるので、塗布剤の粘性や塗布ノズルのバルブの動作などに起因するタイムラグの影響をより緩和して正確な間欠塗布を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の実施形態に係る間欠塗布装置および間欠塗布方法について図面を参照して説明する。なお、図１、図３は各実施形態において適宜参照する。
【００３６】
（第１の実施形態）
図１は第１の実施形態に係る間欠塗布装置の模式的ブロック構成を示し、図２（ａ）は同装置が処理対象とする塗布対象物の処理面を示し、図２（ｂ）（ｃ）は同装置の具体的構成例を示す。間欠塗布装置１は、搬送されて速度Ｖのもとで走行する塗布対象物Ｗの表面にその搬送方向に沿って塗布剤の塗布と非塗布とを繰り返すことにより、塗布済みの塗布部ａと塗布の間欠部である非塗布部ｇとを形成して、間欠的に塗布剤を塗布する塗布装置である。
【００３７】
間欠塗布装置１は、図１に示すように、塗布対象物Ｗを一方方向に搬送する搬送手段である搬送装置２と、塗布剤タンク１０から供給される塗布剤を塗布対象物Ｗの塗布対象部ａ０に塗布するために間欠的に吐出する塗布ノズル３と、搬送装置２によって搬送される塗布対象物Ｗの走行方向に沿う前後方向に塗布ノズル３を移動させるノズル移動手段であるノズル移動装置４と、ノズル移動装置４を制御して塗布対象部ａ０（塗布パターン）の位置移動に応じて塗布ノズル３を移動させると共に塗布ノズル３を制御して塗布剤を吐出させて塗布対象部ａ０にその塗布剤を塗布させる制御手段である制御装置５と、を備えている。
【００３８】
制御装置５は、ノズル移動装置４を制御して、間欠塗布に際し、塗布ノズル３と塗布対象物Ｗの表面との相対速度ＶＲ（ＶＲは絶対値）を任意に変更制御する。ここで、相対速度ＶＲは、塗布対象物Ｗの搬送速度Ｖ、塗布ノズル３の移動速度（Ｖｎとする）により、ＶＲ＝｜Ｖｎ−Ｖ｜と表される。移動速度Ｖｎは、搬送方向の速度Ｖ１や逆方向の速度Ｖ２（Ｖ２は絶対値）を取る。なお、制御装置５は、別装置とはせずに、ノズル移動装置４に組み込んで、ノズル移動装置４が塗布ノズル３の制御や、搬送装置との制御情報のやり取りを行うようにすることができる。
【００３９】
このような間欠塗布装置１によれば、塗布対象物Ｗの搬送方向に沿う前後方向に塗布ノズル３を移動させるノズル移動装置４を備えるので、間欠塗布に際し、塗布ノズル３と塗布対象物Ｗの表面との相対速度ＶＲを任意に小さくまたは大きくするようにノズル移動装置４を変更制御することができる。
【００４０】
また、間欠塗布装置１の塗布ノズル３は、塗布対象物Ｗの表面をその走行方向に沿って所定領域毎に区分して成る所定領域の内部で塗布や間欠塗布を行った後、前記走行方向とは逆方向に後戻りして後続の所定領域に対して塗布や間欠塗布を繰り返すようにすることもできる。
【００４１】
従って、間欠塗布装置１においては、塗布対象物Ｗの搬送が高速化されても、塗布ノズル３が塗布対象物Ｗの移動に追随することができ、従来の解決課題である相対速度の増加に起因する塗布パターンのかすれや引きずり、塗布始端や塗布終端の歪み、塗布厚みのバラつき等の塗布不良が発生しなくなる。
【００４２】
そして、間欠塗布装置１によれば、塗布剤の粘度、塗布パターン（塗布された塗布剤の広がり形状）の長さや間隔、間欠塗布の頻度などにかかわらず正確な間欠塗布を実現でき、また高速間欠塗布を実現できるので、結果的に安価な間欠塗布装置を実現できる。
【００４３】
上述の効果が得られるのは、上述のように塗布に費やすことのできる処理時間を実質的に長くすることにより、塗布剤の流動や塗布ノズル３に内蔵されたバルブ（不図示）の動作などに起因するタイムラグの影響を積極的に（受動的ではなく能動的に）緩和して、塗布非塗布やバルブ開閉の間欠切替の頻度を低くすることができるからである。
【００４４】
また、上述の効果が得られるのは、塗布ノズル３を塗布対象物Ｗの搬送方向に沿う前後方向に移動させて、塗布時における相対速度ＶＲをより小さくすることにより、同じ塗布処理長において費やすことのできる塗布時間や非塗布時間を長くすることができるからである。また、連続的に塗布処理を継続するには、相対速度ＶＲを小さくする一方で、周期的処理における原点復帰の時間を短縮するために相対速度を逆に大きくする必要があり、間欠塗布装置１は、ノズル移動装置４によって、このような塗布ノズル３の相対速度の変更が可能とされている。
【００４５】
このように間欠塗布装置１は、塗布ノズル３を後戻りさせることにより、塗布対象物Ｗの走行を停止することなく後続の一定領域に対して塗布または間欠塗布を繰り返すことができ、生産性を向上できる。
【００４６】
間欠塗布装置１についてさらに説明する。図２（ａ）には、塗布ノズル３の動作軌跡（Ｕ字型の矢印）が示されている。塗布ノズル３は、速度Ｖで搬送される塗布対象物Ｗの動きに追随しつつ塗布部ａを形成し、その後、塗布対象物Ｗの搬送方向と逆行してもとの位置に戻って、次の塗布対象部ａ０に対する処理を行う。このように、塗布対象物Ｗの間欠塗布は、塗布ノズル３の往復動作の繰り返しによって、塗布対象物Ｗの搬送を止めることなく、連続的に実行することができる。
【００４７】
上述の、塗布ノズル３が往復振動的動作を行う装置の構成として、例えば、図２（ｂ）に示す構成とすることができる。これは、円弧状の搬送経路に沿って搬送される塗布対象物Ｗに対し、塗布ノズル３が円弧状の軌跡を描いて往復振動的動作を行う構成である。
【００４８】
また、例えば、図２（ｃ）に示すように、平面状に搬送される塗布対象物Ｗに対し、塗布ノズル３が直線往復動作を行う構成とすることができる。
【００４９】
なお、間欠塗布装置１は、少なくとも、ノズル移動装置４によって塗布ノズル３と塗布対象物Ｗとの相対速度ＶＲを任意に変更制御するものであればよく、必ずしも上述のような塗布ノズル３の往復振動的動作を必要とするものではない。例えば、搬送される塗布対象物Ｗにおける一定長さに間欠塗布処理を行う場合などは、塗布ノズル３が一方方向に移動して塗布処理が完了する。また、この場合の変形として、逆方向から、次の塗布対象物Ｗを搬送し、塗布ノズル３の逆向きの動作によって間欠塗布を行うようにもできる。
【００５０】
（第２の実施形態）
図３は第２の実施形態に係る間欠塗布方法のフローチャートを示し、図４（ａ）（ｂ）は同方法における２種類の塗布形態を模式的に示し、図５は平面視による塗布対象物を示し、図６は同方法における塗布ノズルの速度の時間変化を示す。
【００５１】
本実施形態の間欠塗布方法は、上述の第１の実施形態に係る間欠塗布装置１を用いて塗布を行う方法であり、図１を同様に参照する。この間欠塗布方法は、塗布剤を吐出する塗布ノズル３を搬送方向に沿って移動させる順方向移動工程＃１と、塗布ノズル３を搬送方向とは逆方向に移動させる逆方向移動工程＃２と、を備えている。順方向移動工程＃１は、塗布ノズル３と塗布対象物Ｗとの相対速度ＶＲを任意に変更する間欠塗布工程を含むものである。
【００５２】
上述の処理を行うために、間欠塗布装置１におけるノズル移動装置４は、塗布ノズル３を塗布対象物Ｗの搬送方向に沿って移動させて所定領域に塗布動作を行い（順方向移動工程＃１）、その後、搬送方向とは逆方向に塗布ノズル３を移動させて（逆方向移動工程＃２）、後続の所定領域に塗布動作を行い、これらの動作を繰り返す。この間欠塗布方法によれば、逆方向移動工程＃２において、塗布ノズル３を塗布対象物Ｗの走行方向とは逆方向に後戻りさせるので、間欠塗布を繰り返すことができ、生産性を向上できる。
【００５３】
上述の各工程＃１，＃２を、さらに説明する。順方向移動工程＃１は、塗布対象物Ｗの表面をその走行方向に沿って所定領域毎に区分して成る１つの所定領域の内部において塗布ノズル３が移動しながら行う、少なくとも１回の塗布工程＃１１、または、塗布工程＃１１と非塗布工程＃１２を繰り返す工程を含む。この繰り返し工程において、塗布工程＃１１と非塗布工程＃１２は、何れから開始してもよく、また何れによって終了してもよい。これらの工程の中で、塗布ノズル３の速度Ｖｎが調整され、相対速度ＶＲが適宜、例えば、十分小さな値とされる。なお、非塗布工程＃１２は、図３中に破線で示しているように、この工程を行わない場合もあり、さらに、この工程を行う場合には、塗布工程＃１１の前後の両方、もしくはどちらか一方でもよい。
【００５４】
上述の逆方向移動工程＃２は、順方向移動工程＃１において対象とした所定領域において塗布を停止する塗布停止工程＃２１と、塗布剤の吐出を停止させた状態で前記所定領域に後続する次の所定領域を新たな対象領域としてその領域の所定位置に塗布ノズル３を位置させる逆走工程＃２２とを含む。逆走工程＃２２における塗布ノズル３の速度をＶ２とする。速度Ｖ２のときの相対速度は、通常、他の速度に比べて大きな値となる。なお、速度の用語は、特に区別することなく、その絶対値つまり速さの意味で用いられている。また、塗布ノズル３が移動速度や移動方向を変る場合には、当然加速や減速を行うが、これらの細かい制御は当然行われるべきことであり、その説明は省略している。
【００５５】
次に、上述の塗布ノズル３の動作をさらに説明する。ここで、塗布対象物Ｗの搬送方向を順方向とし、その反対方向を逆方向とする。塗布ノズル３の動作には、図４（ａ）に示すように、塗布対象物Ｗよりも遅い速度で順方向に移動しながら塗布し、その後もとの位置に復帰する動作形態と、図４（ｂ）に示すように、塗布対象物Ｗよりも速い速度で順方向に移動しながら塗布し、その後もとの位置に復帰する動作形態とがある。
【００５６】
図４（ａ）に示す動作形態を説明する。塗布対象部ａ０または塗布部ａが、搬送方向（速度Ｖの方向）の長さすなわち塗布長Ｄを有し、非塗布長Ｇの間隔をおいて連続的に設定されているとする。塗布ノズル３は、塗布対象部ａ０の搬送方向の前端から速度Ｖ１で移動し、塗布対象部ａ０の前端Ｐから後端Ｑに向けて塗布を行う。この塗布の工程が、上述の順方向移動工程＃１に当たり、その工程に要する時間を時間Ｔ１とする。
【００５７】
上述の工程の後、塗布ノズル３は、時間Ｔ２の間に、速度Ｖ２でもとの位置に復帰（いわゆる所定の動作基準位置に戻る原点復帰）する。すなわち塗布ノズル３は、塗布対象部ａ０の前端Ｐ０の位置に戻る。この工程が、上述の逆方向移動工程＃２である。塗布ノズル３は、この時間Ｔ１，Ｔ２の合計時間Ｔ＝Ｔ１＋Ｔ２を一周期として、搬送方向への移動ともとの位置への復帰とを繰り返す、往復繰り返し動作を行う。この往復動作の振幅Ｌは、基本的には機械的に決められている。また、振幅Ｌは、間欠塗布装置１が機械的調整機構および、または振幅制御用の制御装置等を具備して、これらにより調整することができる。この動作形態では、Ｖ１＜Ｖである。
【００５８】
図４（ｂ）に示す動作形態は、塗布ノズル３が、上述の図４（ａ）に示した動作形態とは、より大きな動作速度とより大きな動作範囲を持つ点が異なる。この動作形態では、塗布ノズル３がより能動的に動作することにより、塗布に費やすことのできる時間を変化させているといえる。その動作は、塗布ノズル３が、塗布対象部ａ０をその後端Ｑから追い越して塗布部ａを形成して塗布部ａの前端Ｐに位置した後、原点復帰して、次の塗布対象部ａ０における後端Ｑ０に回り込む動作である。この動作形態では、Ｖ１＞Ｖである。
【００５９】
図５は、上述の動作形態を、模式的に示している。つまり、この模式図におけるＶ１やＶ２に添えて示された矢印の始点と終点は、時間経過を考慮して理解する必要がある。塗布ノズル３の動作が、塗布対象部ａ０の前端Ｐ０から塗布部ａの後端Ｑに向かう、または、その逆向きの実線の矢印によって示されている。これらの動作が、上述の図４（ａ）の動作形態に対応している。同様に、塗布対象部ａ０の後端Ｑ０から塗布部ａの前端Ｐに向かう、または、その逆向きの破線の矢印によって示した動作が、上述の図４（ｂ）の動作形態に対応している。なお、図４（ｂ）の動作形態では、塗布ノズル３が戻る際に塗布済み部分を通過することになるので、ノズルが塗布剤をなぞることが問題となる場合には、戻り時に塗布ノズル３を上方に逃がす必要がある。
【００６０】
図６は、上述の塗布ノズル３の動作を、速度の時間変化図として示している。この図における速度曲線が囲む面積Ａ，Ｂ（移動距離を表す）について、Ａ＝Ｂの関係がある。これは、塗布ノズル３が上述の原点復帰の往復動作を繰り返すことの説明になっている。なお、この図で、搬送速度Ｖ（通常一定と仮定される）が、速度Ｖ１よりも大きければ上述の図４（ａ）の動作形態に対応し、小さければ上述の図４（ｂ）の動作形態に対応する。
【００６１】
本実施形態において、図示して例示した塗布方法は、塗布対象物Ｗの搬送方向ｘに沿う塗布長Ｄが非塗布長Ｇより短い塗布パターンとなっている。このような塗布パターンに対して、上述の方法によって塗布時に相対速度を十分小さくすることにより、次のような効果が奏される。すなわち、より精密な処理が必要な微細塗布パターンに対して、その注目する微細塗布パターンの始端部分や終端部分における相対速度をより小さくできるので、塗布剤の粘性や塗布ノズルのバルブの動作などに起因するタイムラグの影響をより緩和して正確な間欠塗布を実現できる。
【００６２】
（第３の実施形態）
図７は第３の実施形態に係る間欠塗布方法を説明するための塗布対象物を示し、図８は同方法における塗布形態を模式的に示す。本実施形態は、上述の第２の実施形態で例示した塗布パターンとは異なり、塗布対象物Ｗの搬送方向に沿う非塗布長Ｇが塗布長Ｄより短い場合に相当する。
【００６３】
図７、図８は、上述の図４（ａ）、図５における塗布対象部ａ０と非塗布部ｇの役割を交換した図として理解される。従って、塗布ノズル３は、非塗布部ｇにおいて、塗布対象物Ｗとの相対速度を小さくして移動し、原点復帰の動作時に塗布を行っている。なお、図７の理解には、上記同様にこの図が模式図であることに注意する必要がある。また、図７に示したような非塗布長Ｇが塗布長Ｄより短い場合においても、原理的に、上述のもう一方の図４（ｂ）の方法によって塗布することが可能である。
【００６４】
上述のように、非塗布時に前記相対速度を小さくするように制御することにより、微細塗布パターン（特に、この場合の非塗布部ｇに接続する部分）の始端部分や終端部分の近傍における相対速度をより小さくして処理することになるので、塗布剤の粘性や塗布ノズルのバルブの動作などに起因するタイムラグの影響をより緩和して正確な間欠塗布を実現できる。
【００６５】
（第４の実施形態）
図９は第４の実施形態に係る間欠塗布方法を適用する塗布対象物を示す。この塗布対象物Ｗでは、複数（図の例では３つ）の塗布対象部ａ０が局在し、その局在した複数の塗布対象部ａ０が非塗布部ｇと共に単位領域Ｒを形成し、その単位領域Ｒが繰り返し配置されている。
【００６６】
上述のような配置の塗布対象物Ｗに対して、前述の第２、第３の実施形態と同様に間欠塗布を行うことができる。
【００６７】
（第５の実施形態）
図１０（ａ）は第５の実施形態に係る間欠塗布方法における塗布ノズルと塗布対象物の移動方向における相対速度の位置変化を示し図１０（ｂ）は各位置に対応させた塗布対象物の断面を示す。本実施形態は、上述の第４の実施形態における単位領域Ｒのように、複数回の間欠塗布を搬送方向に移動しつつ連続して行う場合の効果的な処理に関する。
【００６８】
この処理によると、塗布の仕上がり品質を向上させることができる。すなわち、塗布対象物の表面における搬送方向ｘに沿う距離である塗布長ｘａと非塗布長ｘｇのうち、距離が短い塗布長区間における塗布対象物Ｗと塗布ノズル３との相対速度ＶＲ１、（ＶＲ１＝Ｖ１−Ｖ）を、距離が長い区間である非塗布区間におけるよりも小さくして塗布処理を行う。このように塗布ノズル３の相対速度を制御した塗布処理によれば、より正確な間欠塗布を実現できる。
【００６９】
（第６の実施形態）
図１１（ａ）は第６の実施形態に係る間欠塗布方法を説明するための塗布ノズルの相対速度の位置変化を示し、図１１（ｂ）（ｃ）は図１１（ａ）における各位置に対応させて示す塗布の例を示す。
【００７０】
本実施形態の間欠塗布方法は、上述の図１０（ａ）（ｂ）に示した間欠塗布方法の変形例である。すなわち、塗布長ｘａと非塗布長ｘｇのうち距離が短い区間に、その前後の所定区間を含めて成る拡張区間において相対速度ＶＲ１を小さくするように塗布ノズル３の移動制御を行う。図１１（ａ）（ｂ）の例では、塗布長ｘａが短い距離に当たるので、その両側の所定区間ｘ１，ｘ２を塗布長ｘａに加えて、距離（ｘａ＋ｘ１＋ｘ２）によって拡張区間が設定されている。所定区間ｘ１，ｘ２は、処理速度や塗布剤の粘度、塗布パターンに求められる寸法精度などによって、実験的に決められる。
【００７１】
本実施形態の間欠塗布方法によれば、例えば、図１１（ｂ）に示す塗布部ａにおける、微細塗布パターンの始端部Ｐや終端部Ｑを確実に含むように拡張区間を設定して相対速度ＶＲを小さくして、より確実に正確な間欠塗布を実現できる。
【００７２】
また、図１１（ｃ）の例は、塗布長ｘａよりも非塗布長ｘｇが短い場合であり、この場合には、非塗布部ｇを含む区間が拡張区間として設定され、上記同様の効果が奏される。
【００７３】
（第７の実施形態）
図１２は第７の実施形態に係る間欠塗布装置とその装置を用いた間欠塗布方法を説明するための塗布対象物を示し、図１３（ａ）〜（ｄ）は同方法における塗布ノズルの動作を示す。
【００７４】
本実施形態は、上述の第２の実施形態において、図４（ｂ）に示した、塗布対象物Ｗを追い越しながら塗布し、その後もとの位置に復帰する動作形態に関し、順方向移動工程＃１における塗布工程＃１１と非塗布工程＃２１とをより詳細に説明するものである。
【００７５】
順方向移動工程＃１は、図１２に示すように、塗布対象物Ｗの処理対象面を搬送方向ｘに沿って連続して設定した単位領域Ｒ毎に行われる。本図に示す例の場合、領域Ｒ内には、非塗布部ｇすなわち間欠部で区切られた３つの塗布対象部ａ０（または塗布部ａ）が設定されている。また、塗布対象部ａ０は、塗布対象物Ｗの幅方向ｙの大半にわたる幅に設定されており、塗布ノズル３の吐出口（不図示）もその幅に応じて形成されている。
【００７６】
塗布ノズル３は、図１３（ａ）に示すように、処理済みの領域Ｒ１の後方における領域Ｒ２に対して処理を開始し、速度Ｖ１で移動しつつ、図１３（ｂ）（ｃ）に示すように、塗布対象物Ｗの速度Ｖによる移動に対し、相対速度ＶＲ、（ＶＲ＝Ｖ１−Ｖ）だけ速い速度で追い越しながら間欠塗布を行う。この間欠塗布（＃１１，＃１２）の間は、上述の第５、第６の実施形態と同様に、相対速度ＶＲが適宜変更調整される。
【００７７】
塗布ノズル３は、上述の順方向移動工程＃１の後に、図１３（ｄ）に示すように、速度Ｖ２で後戻り（原点復帰）して領域Ｒ２に後続する新たな領域Ｒ３に対して上述の処理を繰り返す。この動作形態では、塗布ノズル３が能動的に動作することにより、塗布に費やすことのできる時間を変化させて、微細塗布パターンに対して、正確な間欠塗布を実現できる。
【００７８】
（第８の実施形態）
図１４は第８の実施形態に係る間欠塗布装置の模式的ブロック構成を示し、図１５は同装置における塗布ノズルの動作機構を示し、図１６（ａ）（ｂ）は同装置における塗布ノズルの移動速度の変速機構を示す。以下においても同様に、前述の図１が参照される。
【００７９】
本実施形態の間欠塗布装置１は、搬送装置２が、塗布対象物Ｗを円弧状の搬送経路に沿うように搬送し、制御装置５、または、ノズル移動装置４が、塗布ノズル３を前記搬送経路と同心の経路に沿って移動させるものである。
【００８０】
さらに詳細に説明すると、図１４に示すように、間欠塗布装置１は、搬送装置２を構成する部材として搬送ロール２０、ノズル移動装置４を構成するリンク機構のリンクＬ１，Ｌ２、リンク機構用の直進アクチュエータ４０、その駆動源であるモータＭ、ノズル移動装置４によって移動制御される塗布ノズル３、ノズル移動装置４や塗布ノズル３による塗布剤の吐出を制御する制御装置５などによって構成されている。
【００８１】
また、塗布ノズル３は、タンク１０からポンプ１１によって供給される塗布剤の吐出と非吐出とを制御するバルブ（不図示）を内蔵している。制御装置５は、そのバルブを制御するバルブコントローラ３ａにバルブ開閉信号を送って吐出を制御する。
【００８２】
リンク機構のリンクＬ１は、その中程において搬送ロール２０の中心軸Ｃの回りに揺動可能に保持され、上端側に塗布ノズル３が固定され、下端側の対偶（回転連結点）においてリンクＬ２の一端が連結されている。リンクＬ２の他端はアクチュエータ４０の直進軸４１の先端の対偶に連結されている。
【００８３】
上述の構成において、塗布対象物Ｗは、回転する搬送ロール２０の表面に沿って移動し、従って、上述の搬送経路は搬送ロール２０の円周面に沿って形成されている。塗布ノズル３の下部先端の吐出口部分は、リンクＬ１によって塗布対象物Ｗの塗布面に対して所定の間隔を保った位置に保持されている。この所定の間隔は、塗布ノズル３を固定する位置を調整可能とする調整ねじなどの調整部材を設けることにより、塗布剤や塗布条件に合わせて事前に調整することができる。また、この間隔の調整は、制御装置５によって制御される間隔調整装置を備えて、塗布中にリアルタイムで行うようにすることができる。
【００８４】
図１５に示すように、モータＭが駆動され、直進軸４１が矢印ｚの方向に前後移動されると、塗布ノズル３は、上述の間隔を保った状態で、搬送経路と同心の円弧状の移動経路に沿って、所定の揺動角度θ内のもとで往復移動する。この揺動角度θは、塗布ノズル３の最大振れ角度幅であり、前述の図４（ａ）（ｂ）に示した振幅Ｌに対応するものといえる。モータＭの回転制御によって、塗布ノズル３の順方向移動工程＃１における移動速度Ｖ１が制御され、相対速度ＶＲが任意に変更制御される。また、同様に、逆方向移動工程＃２における速度Ｖ２も、モータＭの回転制御によって制御される。
【００８５】
上述の揺動角度θは、各リンクＬ１，Ｌ２の長さなどのリンク機構の機械的構造および直進軸４１の移動量などによって決定される。逆に、リンクＬ１，Ｌ２の長さなどのリンク機構の構造を変更することにより、塗布ノズル３の揺動角度θを変更、制御することができ、さらには、後述するように、塗布ノズル３の移動速度（角速度）の調整も行うことができる。このようなリンク機構の構造を用いて、ノズル移動量の変更制御とノズル速度の調整制御とを組み合わせて塗布中にリアルタイム制御を行うことにより、種々の条件に対応した塗布を実現できる。
【００８６】
本実施形態の間欠塗布装置１によれば、塗布対象物Ｗと塗布ノズル３とを同軸円周に沿って移動させて塗布を行うので、塗布対象部と塗布ノズル３との間隔を一定に構成することが容易であり、信頼性の高い、保守性に優れた装置とすることができる。
【００８７】
上述の速度Ｖ１や速度Ｖ２は、図１６（ａ）（ｂ）に示すように、リンクＬ１のリンク長を変化させることによっても、調整することができる。すなわち、リンクＬ１，Ｌ２の連結部（対偶の位置）を構成する揺動角度調整ボックス４３をリンクＬ１に沿って中心軸Ｃの方向に距離ΔＬだけ移動すると、直進軸４１の直進距離Ｚ０が一定のもとであっても、その移動によりリンクＬ１が短くなることにより、塗布ノズル３が距離ΔＬに対応する角度Δθだけ回転することになる。
【００８８】
上述の対偶の位置の移動を、その連結部の部材である揺動角度調整ボックス４３の移動により行うこととし、さらに揺動角度調整ボックス４３の移動をモータ駆動などによって制御することにより、塗布ノズル３の速度Ｖ１，Ｖ２を容易に変更可能となる。そこで、例えば、順方向移動工程＃１において、このような機構を適用すれば、上述の第３、第４の実施形態で示したような相対速度ＶＲの調整がより容易となる。また、逆方向移動工程＃２において、このような機構を適用すれば、より効率的に間欠塗布処理を行うことができる。
【００８９】
また、上述の直進アクチュエータ４０は、モータＭの回転をストローク動作に変換するカムボックスを備えて構成できる。モータＭの回転により、リンクＬ１が１往復の揺動をする。その揺動速度の制御によって相対速度ＶＲを調整することができる。また、揺動角度調整ボックス４３によって、リンクＬ１，Ｌ２の対偶を任意の位置に固定できるので、これにより、上述したように揺動角度を調整できる。また、これらの調整機構により、塗布対象物Ｗとの相対速度ＶＲや処理長を制御できる。なお、図１４、図１５、図１６（ａ）（ｂ）に示したリンク機構は一例であって、他の構成とすることができる。例えば、リンクＬ１とリンクＬ２の回転連結点を、中心軸Ｃと塗布ノズル３との間に設けるようにしてもよい。
【００９０】
（第９の実施形態）
図１７は第９の実施形態に係る間欠塗布装置を示す。本実施形態の間欠塗布装置１は、搬送装置２が塗布対象物Ｗを平面に沿うように搬送し、ノズル移動装置４が塗布ノズル３を前記平面と平行に移動させるものである。
【００９１】
搬送装置２は、例えば、２本の搬送ロール２１を備えて構成され、塗布対象物Ｗがその２本の搬送ロールに橋渡しされて搬送される。
【００９２】
本実施形態の間欠塗布装置１によれば、平面領域を塗布作業領域とするので、円柱表面などを塗布作業領域とする場合に比べて、立体的にならず、容易にその作業領域を広く、例えば搬送方向に沿って長く設定できる。
【００９３】
（第１０の実施形態）
図１８（ａ）（ｂ）は第１０の実施形態に係る間欠塗布装置を示す。本実施形態の間欠塗布装置１は、搬送装置２そのものの一部と塗布ノズル３とを塗布対象物Ｗの搬送方向と平行に移動させるものである。
【００９４】
本実施形態では、ベルト状の塗布塗布対象物Ｗ、または、ベルト状の搬送体に担持された塗布対象物Ｗが、図の左方から右方に向けて水平搬送される際に、２つのロール２２と他の２つのロール６１とで、合計４回、それぞれ搬送方向を反転されて向きを１８０゜変えている。ロール２２は間欠塗布装置１の本体（不図示）に固定されている。ロール６１は互いに連結材６２によって固定されて移動保持台６を構成し、移動保持台６は不図示の駆動装置などによって間欠塗布装置１の本体に対して水平移動可能とされている。
【００９５】
上述の移動保持台６は、搬送される塗布対象物Ｗを搬送可能に保持すると共に、その塗布対象物Ｗに対して相対的に移動できるようになっている。このような移動保持台６は、塗布対象物Ｗに対して相対的に移動することにより、塗布対象物Ｗの一部、例えば、塗布対象部ａ０の存在する移動保持台６の上部側の部分の対地速度（間欠塗布装置本体に対する速度）を変更することができる。これは、塗布対象物Ｗの速度をゼロ（Ｖ＝０）とした状態で、移動保持台６を左右に移動させてみた場合に、移動保持台６を囲む塗布対象物Ｗが移動することにより理解できる。
【００９６】
本実施形態の間欠塗布装置１によれば、塗布対象物Ｗの移動速度を局所的に変化させることができるので、塗布ノズル３の塗布対象物Ｗに対する相対速度ＶＲを、容易に変更可能である。
【００９７】
また、塗布ノズル３を、上述の搬送装置２の一部として構成された移動保持台６に固定し、これらを一緒に速度Ｖ１や速度Ｖ２で移動させることにより、塗布対象物Ｗに対して塗布ノズル３を相対移動させることができる。また、塗布ノズル３を、移動保持台６に固定するのではなく、間欠塗布装置本体、従って装置設置場所に対して固定し、移動保持台６の移動により、塗布対象物Ｗに対する塗布ノズル３の相対速度を変化させるようにすることができる。このような構成によれば、塗布対象物Ｗの幅が広くて塗布ノズル３の重量が重くなるなど場合であっても、塗布ノズル３を移動保持台６に備えて移動させることにより、塗布対象物Ｗと塗布ノズル３との間隔を安定かつ一定に保って塗布することができ、正確な間欠塗布を実現できる。
【００９８】
（第１１の実施形態）
図１９（ａ）（ｂ）（ｃ）は第１１の実施形態に係る間欠塗布装置を示し、図２０は同装置における塗布ノズルの速度の時間変化を示す。
【００９９】
本実施形態の間欠塗布装置１は、塗布対象物Ｗの部分領域を局所的に他の領域とは異なる走行速度とする速度可変装置７を備えている。搬送装置は、２つのロール２１とその連結部材２３などを備えている。速度可変装置７は、搬送装置によって搬送される塗布対象物Ｗの部分領域を搬送可能に保持すると共に塗布対象物Ｗに対して相対的に移動する。この移動により、塗布対象物Ｗの部分領域の速度が局所的に変化される。
【０１００】
塗布対象物Ｗの塗布対象部ａ０は、２本の搬送ロール２１に橋渡しされた部分の上面である。塗布ノズル３は、この上面に沿って（図の左右方向に）移動する。この上面領域は、速度可変装置７によって速度が変更される領域であり、塗布ノズル３は、この速度変更領域に対して間欠塗布を行う。
【０１０１】
上述の速度可変装置７は、２つのロール７１とその連結部材７２などを備えて構成され、塗布塗布対象物Ｗの搬送線（図中の左方における塗布対象物Ｗの始端から右方における塗布対象物Ｗの終端に向く想定線）と、その搬送線の上方に配置されたロール２１などとの間に介在配置されている。２つのロール７１とその連結部材７２は、不図示の駆動装置などによって間欠塗布装置１の本体に対して水平移動可能とされている。
【０１０２】
また、本実施形態における図１９（ａ）などに示した構成は、上述の第１０の実施形態における図１８（ａ）の構成において、２つのロール２２を水平方向に移動可能としたものと考えることができる。そして、塗布対象として注目する上述の速度変更領域の対地速度（間欠塗布装置本体に対する速度）が変更されることは、上述同様に理解できる。また、上述同様に、塗布ノズル３を、間欠塗布装置本体に対して固定し、速度可変装置７の移動により、塗布対象物Ｗに対する塗布ノズル３の相対速度を変化させるようにすることができる。
【０１０３】
本実施形態の間欠塗布装置１によれば、上述の第１０の実施形態と同様に塗布対象物Ｗの移動速度を局所的に変化させることができるので、塗布ノズル３の塗布対象物Ｗに対する相対速度ＶＲを、容易に変更可能である。
【０１０４】
次に、塗布対象物Ｗの部分領域を局所的に他の領域とは異なる走行速度とすることによる効果をさらに説明する。図１９（ｂ）は、前述の順方向移動工程＃１を示し、速度可変装置７が左方に速度αで移動し、これにより、塗布ノズル３の直下における塗布対象部の速度がＶ＋２αとなる。この場合、塗布ノズル３は、α＝０の場合と同じ処理をするには、α＝０のときの速度Ｖ１よりも増速した速度Ｕ１、（Ｕ１＞Ｖ１）として相対速度ＶＲを同じにする必要がある。すなわち、ＶＲ＝Ｖ１−Ｖ＝Ｕ１−（Ｖ＋２α）、従ってＵ１＝Ｖ１＋２α、である。
【０１０５】
また、図１９（ｃ）は、前述の逆方向移動工程＃２を示し、速度可変装置７が右方に速度βで移動し、これにより、塗布ノズル３の直下における塗布対象部の速度がＶ−２βとなる。この場合、塗布ノズル３は、β＝０のときの速度Ｖ２よりも減速した速度Ｕ２、（Ｕ２＜Ｖ２）によって後戻りすればよい。
【０１０６】
図２０は、上述の速度変化の状況を示している。この図における破線は、図６におけるＶ１，Ｖ２などと同じ速度曲線を示す。実線で示した速度曲線が、速度Ｕ１，Ｕ２等を示す。実線曲線は、破線曲線を大略全体的に上方に移動したような図になっている。すなわち、Ｕ１＞Ｖ１、Ｕ２＜Ｖ２、（なお、Ｕ２＞０，Ｖ２＞０）である。
【０１０７】
本実施形態の間欠塗布装置１によれば、塗布対象物Ｗの部分領域を他の領域とは異なる搬送速度として加速したり減速したりすることにより、塗布ノズル３の速度変更を行うノズル移動装置４の負担を軽減できる。すなわち、塗布時に塗布対象物Ｗの搬送速度を増加させ、非塗布時に減少させると、塗布時に塗布ノズル３の速度Ｖ１を増加させる必要があるが、非塗布時の復帰動作における最大ピーク速度となる速度Ｖ２を減少させることができる。すなわち、塗布対象物Ｗの局所的速度変化（αとβ）により塗布ノズル３の移動速度の平準化が行える。この効果は、前述の第１０の実施形態においても同様に奏される。
【０１０８】
（第１２の実施形態）
図２１（ａ）（ｂ）は第１２の実施形態に係る間欠塗布装置を示す。本実施形態の間欠塗布装置１は、上述の第１０、第１１の実施形態の間欠塗布装置１において、塗布対象物Ｗを平面に沿うように搬送して平面領域を塗布作業領域とする替わりに、塗布対象物Ｗを円弧状の搬送経路に沿うように搬送させるものである。また、第１１の実施形態の間欠塗布装置１における速度可変装置７が、本実施形態では、搬送ロール２０に略外接する２つのロール７１などによって構成されている。
【０１０９】
本実施形態における速度可変装置７を搬送ロール２０の回りで揺動させることにより、塗布対象物Ｗの部分領域を他の領域とは異なる搬送速度として加速したり減速したりすることができ、前記の実施形態と同様の効果が奏される。図２１（ｂ）の例では、搬送の速度Ｖが、速度（Ｖ＋２γ）とされている。
【０１１０】
また、このような速度可変とするには、速度可変装置７を、搬送ロール２０の回り近接して配置する必要もなく、その動作も搬送ロール２０の回りで揺動させる必要はない（水平揺動させてもよい）。上述の第１０、第１１の実施形態を含め、一般に、塗布対象物Ｗの部分領域を他の領域とは異なる搬送速度として加速したり減速したりするには、注目領域を含む前後で、速度の吸収と放出を行う機構を設ければよい。
【０１１１】
（第１３の実施形態）
図２２は第１３の実施形態に係る間欠塗布装置を示し、図２３は同装置における塗布ノズル移動装置の概念を示す。
【０１１２】
本実施形態の間欠塗布装置１は、塗布ノズル３を複数、本例では４つ備えるものである。各塗布ノズル３１，３２，３３，３４（総称して塗布ノズル３）は、移動の制御と塗布剤の吐出の制御がそれぞれ個別に可能とされており、塗布ノズル３のいずれかが塗布または間欠塗布（すなわち、順方向移動工程＃１）を行っている間に、他の塗布ノズル３が塗布対象物の次の一定領域に対して間欠塗布を繰り返すために塗布対象物の走行方向とは逆方向に後戻り（すなわち、逆方向移動工程＃２）をするものである。
【０１１３】
本実施形態におけるノズル移動装置４は、各塗布ノズル３に対応してそれぞれ個別に設けられたプーリ４５と、プーリ４５に縣架されて移動する、例えばベルトなどで構成された周回装置４６と、不図示の駆動源と、を備えている。周回装置４６は、その一部分が、塗布対象物Ｗの塗布面に平行に配置されて、平行に移動する。各塗布ノズル３は、それぞれ、周回装置４６に１つずつ固定されて、互いに順番を守って追い越すことなく、周回する。
【０１１４】
上述のノズル移動装置４は、各塗布ノズル３の周回速度をそれぞれ個別に制御できる点に大きな特徴がある。従って、塗布ノズル３１のように、順方向移動工程＃１にあるノズルは、所定の速度Ｖ１で間欠塗布を行い、塗布を終わって逆方向移動工程＃２にある塗布ノズル３２，３３，３４は、それぞれ個別の速度Ｖｂ２，Ｖｂ３，Ｖｂ４のもとで、移動している。
【０１１５】
本実施形態の間欠塗布装置１によれば、複数の塗布ノズルによって、時分割作業および塗布対象物上の領域分割作業を実現でき、より高速の間欠塗布を実現できる。なお、塗布ノズル３が複数ではなく単一であってもよく、その塗布ノズル３が周回装置４６によって周回移動しながら、上述の間欠塗布を行うようにすることもできる。この場合、その周回速度は、上述同様に周回中に変更制御される。
【０１１６】
（第１４の実施形態）
図２４は第１４の実施形態に係る間欠塗布装置を示す。本実施形態の間欠塗布装置１は、図１４に示した第８の実施形態の間欠塗布装置１において、塗布ノズル３を２つにしたものである。２つの塗布ノズル３１，３２は、搬送ロール２０の中心軸Ｃに沿った方向の互いに逆方向から、塗布対象物Ｗの塗布処理面に接近離脱する構成とされている。
【０１１７】
塗布ノズル３１は、順方向移動工程＃１において、移動経路１ａに沿って移動し、逆方向移動工程＃２において、移動経路１ｂ，１ｃ，１ｄに沿って移動する。また、塗布ノズル３２は、順方向移動工程＃１において、移動経路２ａに沿って移動し、逆方向移動工程＃２において、移動経路２ｂ，２ｃ，２ｄに沿って移動する。図中に、塗布ノズル３２を保持して中心軸Ｃ方向に抜き差しされる支持軸８０が示されている。これらの移動を行うための駆動機構や駆動装置は、図示省略されている。
【０１１８】
本実施形態の間欠塗布装置１によれば、２つの塗布ノズルによって、時分割作業および塗布対象物上の領域分割作業を実現でき、１つの塗布ノズルの場合よりも、より高速の間欠塗布を実現できる。
【０１１９】
（第１５の実施形態）
図２５（ａ）は第１５の実施形態に係る間欠塗布装置を用いて塗布した塗布対象物を示し、図２５（ｂ）（ｃ）は同装置で用いられる塗布ノズルにおける吐出口の配置を示す。
【０１２０】
本実施形態の間欠塗布装置１は、図２５（ａ）に示すように、塗布対象物Ｗにおける領域Ｒにおいて、ｘ方向とｙ方向に２次元分布した塗布部ａ１〜ａ４を形成することができる。この間欠塗布装置１の塗布ノズル３は、例えば図２５（ｂ）に示すように、塗布剤を吐出するための複数の吐出口ｂ１〜ｂ４を備えている。また、これらの吐出口からの塗布剤の吐出は、それぞれ独立に制御可能とされている。
【０１２１】
上述の吐出口ｂ１は塗布部ａ１に対応し、以下同様に吐出口ｂ４が塗布部ａ４に対応している。また、各複数の吐出口ｂ１〜ｂ４は、図２５（ｂ）に示すように、全て１つの塗布ノズル３に形成したり、図２５（ｃ）に示すように、２つの塗布ノズル３に分割して形成したりできる。
【０１２２】
本実施形態の間欠塗布装置１によれば、例えば、塗布対象物の走行方向に沿って配置された吐出口の場合、走行方向前後の異なる塗布領域に対し各吐出口が時分割分担して塗布でき、緻密な塗布パターンなどの高速塗布が実現される。また、吐出口が走行方向における左右方向（幅方向）に配置されている場合、塗布対象部の表面に塗布領域が２次元分布した塗布を実現できる。
【０１２３】
このように吐出口が塗布対象物Ｗの表面に平行に２次元的に分布するように構成されたものにより、塗布対象物Ｗの表面に塗布部ａが２次元分布した塗布を実現できる。本構成は、例えば、プリント基板に複数の表面実装チップをはんだ付けする場合のはんだペーストを塗布する場合などに適用できる。
【０１２４】
本実施形態のように、複雑な塗布部ａを形成できるのは、塗布ノズル３が、停止状態も含めて搬送状態にある塗布対象物Ｗに対して、相対速度ＶＲを任意に変更できるからである。
【０１２５】
（第１６の実施形態）
図２６は第１６の実施形態に係る間欠塗布装置および間欠塗布方法における塗布剤の粘度に対する塗布ノズルの移動速度の関係を示す。本実施形態の間欠塗布装置１は、塗布ノズル３の塗布対象物Ｗに対する相対速度ＶＲが、塗布剤の粘度ηに応じて調整されるものである。
【０１２６】
一般に、塗布剤の粘度ηが高いと、流動性が低く、塗布時における塗布ノズル３の吐出口からの吐出速度が遅くなり、また、吐出停止時のキレが悪く、塗布ノズルの動作に対して塗布剤の挙動にタイムラグが発生する。
【０１２７】
従って、図２６に示すように、粘度ηが高いほど相対速度ＶＲを低く設定し、粘度ηが低いほど相対速度ＶＲを高く設定することにより、相対速度を最適化して、正確な間欠塗布を効率的に実施できる。
【０１２８】
（第１７の実施形態）
図２７（ａ）〜（ｄ）は第１７の実施形態に係る間欠塗布装置および間欠塗布方法における塗布ノズルの移動形態を示す。本実施形態は、間欠塗布装置１の塗布ノズル３が、塗布対象物Ｗに対する相対速度ＶＲを任意に変更できる特徴を用いて、種々の塗布形態が可能であることを示すものである。
【０１２９】
図２７（ａ）の塗布形態は、塗布ノズル３が塗布対象物Ｗの搬送方向ｘとは逆向きに、相対速度ＶＲのもとで、塗布部ａの前端Ｐ（方向ｘに対して前方端）から後端Ｑ（方向ｘに対して後方端）に向かって、一方方向に移動しながら塗布を行うものである。
【０１３０】
図２７（ｂ）の塗布形態は、塗布ノズル３が相対速度ＶＲのもとで、塗布対象物Ｗに対して、その搬送方向ｘに沿って、塗布部ａの後端Ｑから前端Ｐに向かって、一方方向に移動しながら塗布を行うものである。これは通常の一般的な塗布である。
【０１３１】
図２７（ｃ）の塗布形態は、図２７（ａ）の塗布形態において、塗布部ａの前端Ｐと後端Ｑにおいて、それぞれ、塗布部ａの内側方向に折り返す移動を加えたものである。また、図２７（ｄ）の塗布形態は、図２７（ｂ）の塗布形態において、前記同様に、塗布部ａの内側方向に折り返す移動を加えたものである。このような塗布形態によると、各端部における端部処理によって、塗布パターンにかすれや引きずり等の塗布不良が発生しない間欠塗布処理を実現できる。
【０１３２】
なお、本発明は、上記構成に限られることなく種々の変形が可能である。例えば、各実施形態に置いて、間欠塗布装置１または間欠塗布方法によって間欠塗布される塗布対象物Ｗは、そのものが自体が連続的に搬送される塗布対象物（基材）であってもよく、また、そのような連続体の上に担持された個別離散の塗布対象物であってもよい。
【０１３３】
また、間欠塗布装置１または間欠塗布方法において、撮像装置と画像処理装置などから成る位置検出装置を備えて、その位置検出装置によって、塗布対象物Ｗの表面に設定された塗布位置を検出するようにしてもよい。位置検出装置を備えることにより、塗布位置（塗布対象部ａ０の位置）が、一定していない場合、例えば、ピッチ等が一定していない場合に対応して間欠塗布を行うことができる。また、このような位置検出装置は、塗布後の塗布部ａの位置を検出して、位置精度の良否判断や、不良検出に用いることができる。なお、位置検出装置は、少なくとも、塗布位置の位置情報がわかる装置であればよい。
【０１３４】
また、塗布ノズル３は、塗布剤を確実に吐出でき、かつ吐出停止できるものであればよい。従って、塗布ノズル３として、刷毛塗りの刷毛や、吹き付けノズルなどを用いることができる。また、塗布剤として、液状のもの、霧状のもの、流動性の低いものであっても、それぞれ、搬送速度Ｖや塗布時の速度Ｖ１を最適化して、適切な相対速度ＶＲのもとで最適な間欠塗布を実現することができる。また、塗布材は、外部のタンクからフレキシブルチューブなどを介して塗布ノズルに供給する他、塗布ノズルに内蔵することもできる。
【０１３５】
また、本間欠塗布装置１または間欠塗布方法は、その適用例として、大量生産ラインに組み込まれて利用される間欠塗布装置などに用いられる。特に、高速で連続的に搬送される塗布対象物に対して間欠的に塗布剤を塗布する装置である、コンバーティング装置に好適に適用される。
【０１３６】
また、本間欠塗布装置１または間欠塗布方法の適用分野、用途、塗布対象物の例（用途、例示）などとして、消費材の製造、おむつ等衛生用品の製造、電子デバイス等の製造、半導体関連部品の製造、ＲＦＩＤタグの製造、ＲＦＩＤタグの取り付け、ラベルまたはタグの加工、ラベルまたはタグの取り付け、光学ディスプレイの製造、フレキシブルディスプレイの製造、電池（太陽電池、燃料電池等）の製造、製本、包装機、医療用品の製造（特に湿布等）、さらには、コーティング等の印刷技術など、樹脂等の塗布剤を間欠的に塗布する工程を含む製品の製造などをあげることができる。
【０１３７】
また、本発明は、上述した各実施形態の構成を矛盾のない範囲で互いに組み合わせた構成とすることができ、そのような組合せ可能な構成の実施形態は明記されていなくても当然に本発明に含まれる。例えば、第２の実施形態において、図４（ａ）（ｂ）を参照して示した２種類の塗布方法は、他の実施形態におけるいずれの塗布装置や塗布方法においても適用でき、第２の実施形態における図５に示したような非塗布長Ｇが塗布長Ｄより長い場合や、第３の実施形態における図７に示したような塗布長Ｄが非塗布長Ｇより長い場合のいずれにも適用できる。また、各実施形態において説明した効果は、互いに他の実施形態においても、矛盾のない範囲で同様の効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【０１３８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る間欠塗布装置の模式的ブロック構成図。
【図２】（ａ）は同上装置による塗布の様子を示す塗布対象物の平面図、（ｂ）は同上装置の具体的構造の模式図、を示す塗布対象物の平面図、（ｃ）は同上装置の他の具体的構造の模式図。
【図３】第２の実施形態に係る間欠塗布方法のフローチャート。
【図４】（ａ）（ｂ）は同上方法における２種類の塗布形態を模式的に説明する状態変化図。
【図５】同上方法を説明するための塗布対象物の平面図。
【図６】同上方法における塗布ノズルの速度の時間変化図。
【図７】第３の実施形態に係る間欠塗布方法を説明するための塗布対象物の平面図。
【図８】同上方法における塗布形態を模式的に説明する状態変化図。
【図９】第４の実施形態に係る間欠塗布方法を説明するための塗布対象物の平面図。
【図１０】（ａ）は第５の実施形態に係る間欠塗布方法における塗布ノズルと塗布対象物の移動方向における相対速度の位置変化図、（ｂ）は（ａ）の各位置に対応させて示す塗布対象物の断面図。
【図１１】（ａ）は第６の実施形態に係る間欠塗布方法を説明するための塗布対象物に対する塗布ノズルの相対速度の位置変化図、（ｂ）は（ａ）の各位置に対応させて示す塗布対象物の断面図、（ｃ）は（ａ）の各位置に対応させた他の例を示す塗布対象物の断面図。
【図１２】第７の実施形態に係る間欠塗布方法を説明するための塗布対象物の平面図。
【図１３】（ａ）〜（ｄ）は同上方法における塗布ノズルの動作を説明する側面図。
【図１４】第８の実施形態に係る間欠塗布装置の模式的ブロック構成図。
【図１５】同上装置における塗布ノズルの動作機構を説明するための側面図。
【図１６】（ａ）（ｂ）は同上装置における塗布ノズルの移動速度の変速機構を説明するための側面図。
【図１７】第９の実施形態に係る間欠塗布装置を説明するための側面図。
【図１８】（ａ）は第１０の実施形態に係る間欠塗布装置を説明するための側面図、（ｂ）は同装置の動作を説明する側面図。
【図１９】（ａ）は第１１の実施形態に係る間欠塗布装置を説明するための側面図、（ｂ）（ｃ）は同装置の動作を説明するための側面図。
【図２０】同上装置における塗布ノズルの速度の時間変化図。
【図２１】第１２の実施形態に係る間欠塗布装置を説明するための側面図。
【図２２】第１３の実施形態に係る間欠塗布装置を説明するための側面図。
【図２３】同上装置における塗布ノズル移動装置の概念を説明するための斜視図。
【図２４】第１４の実施形態に係る間欠塗布装置を説明するための斜視図。
【図２５】（ａ）は第１５の実施形態に係る間欠塗布装置を用いて塗布した塗布対象物の平面図、（ｂ）（ｃ）は同装置で用いられる塗布ノズルにおける吐出口の配置図。
【図２６】第１６の実施形態に係る間欠塗布装置および間欠塗布方法における塗布剤の粘度に対する塗布ノズルの移動速度の変化図。
【図２７】（ａ）〜（ｄ）は第１７の実施形態に係る間欠塗布装置および間欠塗布方法における塗布ノズルの移動形態を説明する側面図。
【符号の説明】
【０１３９】
１    間欠塗布装置
２    搬送装置
３    塗布ノズル
４    ノズル移動装置
３１〜３４    塗布ノズル
ａ０    塗布対象部
ｂ１〜ｂ４    吐出口
ｘ    搬送方向
ｘａ    塗布長
ｘｇ    非塗布長
Ｄ    塗布長
Ｇ    非塗布長
Ｒ，Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３    領域
Ｕ１，Ｖ１    速度（ノズル移動の）
Ｕ２，Ｖ２    速度（ノズル移動の）
Ｖ    速度（塗布対象物の）
Ｖｎ    速度（ノズル移動の）
ＶＲ    相対速度（塗布ノズルの）
Ｖｂ２，Ｖｂ３，Ｖｂ４    ノズル移動速度（非塗布時）
Ｗ    塗布対象物
【要約】
【課題】搬送される塗布対象物の表面にその搬送方向に沿って間欠的に塗布剤を塗布する間欠塗布装置および間欠塗布方法において、簡単で安価な構成により、塗布剤の粘度、塗布パターンの長さや間隔、間欠塗布の頻度などにかかわらず正確な間欠塗布を可能とし、塗布パターンにかすれや引きずり等の塗布不良が発生しない高速間欠塗布処理を実現して生産性を向上する。
【解決手段】間欠塗布装置１は、塗布対象物Ｗを搬送する搬送装置２と、塗布剤を塗布対象物Ｗに塗布するために間欠的に吐出する塗布ノズル３と、塗布対象物Ｗの搬送方向に沿う前後方向に塗布ノズル３を移動制御するノズル移動装置４と、を備え、ノズル移動装置４は、塗布ノズル３と塗布対象物Ｗとの相対速度ＶＲを任意に変更制御する。
【選択図】図１【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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