(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート結合形成性化合物とを反応してなる、主たる繰り返し単位が下記式（１）
【化１】
0004209543.tif 000005
（上記式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アラルキル基又はアリール基であり、Ｗはアルキリデン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基、またはスルホン基である。）で表わされる、粘度平均分子量１２，０００〜１００，０００、溶融粘度変化率０．５％以下、且つ末端ＯＨ基量１００ｅｑ／ｔｏｎ以下の芳香族ポリカーボネート（Ａ）１００重量部、炭素数が２〜２０で２個以上の水酸基を有する多価アルコールの少なくとも１つの水酸基が、炭素数が８以上の長鎖脂肪酸のエステルを形成している多価アルコールの長鎖脂肪酸エステル（Ｂ）０．００１〜０．５重量部、並びにリン酸、ホウ酸、それらのモノエステル及びジエステルからなる群から選ばれる少なくとも一種である化合物（Ｃ）０．０００１〜０．０１重量部からなるポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項２】
芳香族ポリカーボネート（Ａ）が、エステル交換触媒により溶融重縮合されたものであることを特徴とする請求項１記載のポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項３】
エステル交換触媒が、塩基性窒素化合物及び／または塩基性リン化合物とアルカリ金属化合物とを含有する塩基性エステル交換触媒であり、かつ該アルカリ金属化合物は、該エステル交換触媒中、アルカリ金属元素として、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１０-8〜１０-6モル含有することを特徴とする請求項２記載のポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項４】
リン酸、ホウ酸、それらのモノエステル及びジエステルからなる群から選ばれる少なくとも一種である化合物（Ｃ）が１＜ｐＫａ＜１０である請求項１〜３のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項５】
ポリカーボネート樹脂組成物が、さらに溶融粘度安定剤としてスルホン酸系化合物を含有する請求項１〜４のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項６】
スルホン酸系化合物が、スルホン酸塩及びスルホン酸エステルから選ばれる少なくとも１種である請求項５記載のポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を用いて成形加工された成形品。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を用いて成形加工された光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はコンパクトディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ等の光ディスク等の情報記録媒体、レンズ、等の光学用成形品を製造するのに適した成形性、耐熱安定性を有するポリカーボネート樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来技術】
ポリカーボネート樹脂は透明性、耐熱性、機械物性に優れた材料として、従来よりＣＤ（コンパクトディスク）、光ディスク、レンズ等の光学用途に使用されてきており、成形性、耐熱性に関しても、多くの改良方法が提案されてきた。
【０００３】
成形時の離型性を改善する方法に関しても従来より、多くの改善が試みられており、パラフィン、シリコンオイル、脂肪酸、脂肪酸エステルなどの離型剤が知られている。これらの中でも、多価アルコールの部分エステルが、比較的少量の使用でも優れた離型性を発現することが知られている。例えば特公昭５２−３５６９６号公報にはポリカーボネート樹脂中に飽和脂肪族カルボン酸と３価アルコールとのエステルを添加する技術が開示されている。また、脂肪酸モノグリセリドをポリカーボネート樹脂中に添加する技術に関しては、特開平２−４８０８１号公報では光学用成形品の転写性向上、特公昭５５−４１４１号公報では帯電性の向上に関する記載がなされている。
【０００４】
一方、ポリカーボネート樹脂の溶融安定性、色相、耐加水分解性を向上させる方法としては、特開平７−１６５９０５号公報において、重合反応終了後に特定構造のスルホン酸ホスホニウム塩及び／または硫酸エステルのホスホニウム塩を添加する方法が記載されている。
【０００５】
また、ポリカーボネート樹脂に酸成分を添加することに関しては、特開平８−２５９６８７号公報、特開平８−２５９６８８号公報において、溶融重合で製造されたポリカーボネートを、ベント式押し出し機を用いて連続的に脱気するに際し、該押し出し機の樹脂供給口に最近のベント口手前に酸性化合物を添加、混練した後、水を導入して連続的に脱気するポリカーボネートの製造方法が開示されている。これは、触媒や低分子量成分の除去を効果的に行うことにより、熱安定性や、加水分解性を向上させることを主たる目的とするものであるが、安定化されていないポリカーボネート樹脂に対して直接酸成分を添加することは、重合度変化や、ポリマーの劣化といった問題が危惧される。
【０００６】
さらに、特許第２７０１３００号公報にはポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、亜リン酸０．０００５〜０．０１重量部、炭素数１０〜２２の飽和脂肪酸と多価アルコールとの部分エステル０．００１〜０．０１重量部、及び炭素数１０〜３０の飽和脂肪酸と１価あるいは多価アルコールとのエステル０．００５〜０．２重量部を配してなる樹脂組成物が開示されている。亜リン酸の添加は樹脂の成形時の分子量低下の抑制や、湿熱性の向上を目的としたものであるが、亜リン酸の添加だけではポリマーの溶融時の溶融粘度変化率を０．５％以下に抑制することは困難である。
【０００７】
ポリカーボネート樹脂の成形温度は、光学用途では、複屈折の低減、成形性向上のために、重合温度よりも高温で実施される。そのため、ポリマー自身の熱安定性もさる事ながら、離型性向上のために使用される多価アルコールの長鎖脂肪酸エステルは、添加することにより離型性は向上するものの、添加することにより成形温度での滞留安定性が損なわれ、滞留焼けしやすいという問題点がある。そのため、ポリマーの耐熱安定性、離型性の向上と滞留焼けの防止を同時に満足するのはこれまで困難であった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、滞留安定性に優れて成形時の滞留やけが少なく、また、成形時の離型性にも優れるポリカーボネート樹脂組成物を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート結合形成性化合物とを反応してなる、主たる繰り返し単位が下記式（１）
【００１０】
【化２】
0004209543.tif 000002
【００１１】
（上記式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アラルキル基又はアリール基であり、Ｗはアルキリデン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基、またはスルホン基である。）
で表わされる、粘度平均分子量１２，０００〜１００，０００、溶融粘度変化率０．５％以下、且つ末端ＯＨ基量１００ｅｑ／ｔｏｎ以下の芳香族ポリカーボネート（Ａ）１００重量部、多価アルコールの長鎖脂肪酸エステル（Ｂ）０．００１〜０．５重量部、並びに無機酸及び無機酸の部分エステルから選ばれる化合物（Ｃ）０．０００１〜０．０１重量部からなるポリカーボネート樹脂組成物により、ポリカーボネートの耐熱安定性が向上し、離型性の向上と滞留焼けの防止を達成することができるものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下本発明について詳述する。
本発明で使用される芳香族ポリカーボネート（Ａ）とは、主たる繰り返し単位が、芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート結合形成性化合物との反応生成物であって、上記式（１）であらわされるものであり、界面重合法等のホスゲン法あるいは溶融重合法、固相重合法のいずれの方法でも製造可能である。
【００１３】
上述の芳香族ポリカーボネート（Ａ）の製造に使用される芳香族ジヒドロキシ化合物としては下記式（２）に示される化合物が好ましく用いられる。
【００１４】
【化３】
0004209543.tif 000003
【００１５】
（上記式（２）中、 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＷは、上記式（１）におけるものと同義である）
ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4において、炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基を例示することができる。炭素数１〜１０のアラルキル基としては、ベンジル基、２-フェニル−２−プロピル基を例示することができる。炭素数１〜１０のアリール基としては、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基を例示することができる。
【００１６】
Ｗにおいて、アルキリデン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロアルキレン基、アリール基置換アルキレン基は、炭素数１〜１５のものが好適である。かかるアルキリデン基としては、メチレン基、エチリデン基、２，２−プロピリデン基２，２−ブチリデン基が例示できる。アルキレン基としては、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基が例示できる。シクロアルキリデン基としては、１，１−シクロペンチル基、１，１−シクロヘキシル基、９，９−フルオレン基、が例示できる。シクロアルキレン基としては、が例示できる。
【００１７】
このような芳香族ジヒドロキシ化合物としては、具体的には、
（ｉ）ビス  （４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、  ２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、４，４’−ジヒドロキシフェニル−１，１’−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、４，４’−ジヒドロキシフェニル−９，９−フルオレン、などのビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン類、
（ｉｉ）１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１−メチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−４−（ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル−シクロヘキサン、４−［１−〔３−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘキシル〕−１−メチルエチル］−フェノール、４，４’−〔１−メチル−４−（１−メチルエチル）−１，３−シクロヘキサンジイル〕ビスフェノール、２，２，２’，２’−テトラヒドロ  −３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビス−〔１Ｈ−インデン〕−６，６’−ジオール、などのビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、
（ｉｉｉ）ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）エーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル、などのジヒドロキシアリールエーテル類、
（ｉｖ）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド、などのジヒドロキシジアリールスルフィド類、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチル（ｖ）ジフェニルスルホキシド、などのジヒドロキシジアリールスルスルホキシド類、
（ｖｉ）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン、などのジヒドロキシジアリールスルホン類、
（ｖｉｉ）４，４’−ジヒドロキシジフェニル−３，３’−イサチン、などのジヒドロキシジアリールイサチン類、
（ｖｉｉｉ）３，６−ジヒドロキシ−９，９−ジメチルキサンテン、などのジヒドロキシジアリールキサンテン類
が挙げられる。
【００１８】
中でも２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンがモノマーとしての安定性、更にはそれに含まれる不純物の量が少ないものの入手が容易である点、等より好ましいものとしてあげられる。
【００１９】
本発明における芳香族ポリカーボネート（Ａ）中には、ガラス転移温度の制御、あるいは流動性の向上、あるいは、屈折率のアップ、あるいは複屈折の低減等、光学的性質の制御等を目的として各種モノマーを必要に応じて、一種あるいは２種以上を含有させることも可能なことは言うまでもない。
【００２０】
これらの具体例としては、たとえば脂肪族ジヒドロキシ化合物類例えば
（ｉ）エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、１，１０−デカンジオール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等、
（ｉｉ）  上記式（２）で示される以外の芳香族ジヒドロキシ化合物として、レゾルシン、３−メチルレソルシン、３−エチルレゾルシン、３−ブチルレゾルシン、３−ｔ−ブチルレゾルシン、３−フェニルレゾルシン、３−クミルレゾルシン、ヒドロキノン、２−メチルヒドロキノン、２−エチルヒドロキノン、２−ブチルヒドロキノン、２−ｔ−ブチルヒドロキノン、２−フェニルヒドロキノン、２−クミルヒドロキノン、などのジヒドロキシベンゼン類、
（ｉｉｉ）４，４’−ジヒドロキシジフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジヒドロキシジフェニル、等ジヒドロキシジフェニル類、
（ｉｖ）ジカルボン酸類、たとえばコハク酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、あるいはオキシ酸類例えば、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、乳酸等が挙げられる。
【００２１】
特に望ましい実施態様に於いては、上記芳香族ポリカーボネートが溶融重合法により製造されたものである。溶融重合法ではカーボネート結合形成性化合物としては芳香族炭酸エステルが、具体的にはジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ビス（２−クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレシルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（４−フェニルフェニル）カーボネート、等が挙げられる。ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等も所望により使用できることは当然である。これらの内ジフェニルカーボネートが、反応性、得られる樹脂の着色に対する安定性、更にはコストの点よりも好ましいものとしてあげられる。
【００２２】
かかるカーボネート結合形成性化合物と上記式（２）で示される芳香族ジヒドロキシ化合物とを、公知の方法で反応せしめることにより上記式（１）であらわされる繰り返し単位構造を有するポリカーボネート樹脂を製造することができる。
【００２３】
溶融重合法では、公知のエステル交換触媒が使用可能であるが、重合反応速度、反応時の着色等の点で塩基性エステル交換触媒が好ましく使用される。中でも、アルカリ金属化合物を含有する触媒系が好ましく使用される。
【００２４】
触媒として好ましく本発明に使用されるアルカリ金属化合物としては、たとえばアルカリ金属の水酸化物、炭化水素化合物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸塩チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化硼素塩、安息香酸塩燐酸水素化物、ビスフェノール、フェノールの塩等が挙げられる。
【００２５】
具体例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸ルビジウム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸ルビジウム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、シアン酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸リチウム、チオシアン酸セシウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸セシウム、水素化ホウソナトリウム、水素化ホウソカリウム、水素化ホウソリチウム、フェニル化硼素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジカリウム、リン酸水素ジリチウム、ビスフェノールＡのジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリチウム塩、モノナトリウム塩、モノカリウム塩、ナトリウムカリウム塩、ナトリウムリチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙げられる。
【００２６】
溶融重合反応の触媒としてはアルカリ金属元素を含有する触媒系が使用できるが、アルカリ金属化合物は、カーボネート結合を分解する能力も又有するため、重合反応速度の触媒能をできうる限り保持しつつ、その使用量を押さえることが好ましい。
【００２７】
本目的を達成するためには、上記アルカリ金属化合物等の塩基性エステル交換触媒とともに、塩基性窒素化合物及び／又は塩基性リン化合物を併用し、アルカリ金属元素量を芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１０-8〜１０-6モルの範囲に保つことが好ましい。上記範囲を逸脱すると、得られる芳香族ポリカーボネートの諸物性に悪影響及ぼしたり、またエステル交換反応が十分に進行せず、高分子量のポリカーボネートが得られないことがあり、好ましくない。ポリカーボネート中の触媒系由来のアルカリ金属元素量をかかる量範囲において使用することによりポリカーボネートの製造を効率的に生産性よく実施しうるとともに得られたポリカーボネートの物性も本発明の目的を達成するために好ましいものとなる。
【００２８】
触媒として併用される塩基性窒素化合物の具体例としては、たとえば
（ｉ）テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ4ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ4ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂｕ4ＮＯＨ）、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（φ−ＣＨ2（Ｍｅ）3ＮＯＨ）、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなどのアルキル、アリール、アルキルアリール基などを有するアンモニウムヒドロキシド類、
（ｉｉ）テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラエチルアンモニウムフェノキシド、テトラブチルアンモニウム炭酸塩、ベンジルトリメチルアンモニウム安息香酸塩  ヘキサデシルトリメチルアンモニウムエトキシドなどのアルキル、アリール、アルキルアリール基などを有する塩基性アンモニウム塩、
（ｉｉｉ）トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ヘキサデシルジメチルアミンなどの第三級アミン、
（ｉｖ）テトラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ4ＮＢＨ4）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド（Ｂｕ4ＮＢＨ4）、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ4ＮＢＰｈ4）、テトラメチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ4ＮＢＰｈ4）などの塩基性塩などを挙げることができる。
【００２９】
また触媒として併用される塩基性リン化合物の具体例としては、たとえば
（ｉ）テトラメチルホスホニウムヒドロキシド（Ｍｅ4ＰＯＨ）、テトラエチルホスホニウムヒドロキシド（Ｅｔ4ＰＯＨ）、テトラブチルホスホニウムヒドロキシド（Ｂｕ4ＰＯＨ）、ベンジルトリメチルホスホニウムヒドロキシド（φ−ＣＨ2（Ｍｅ）3ＰＯＨ）、ヘキサデシルトリメチルホスホニウムヒドロキシドなどのアルキル、アリール、アルキルアリール基などを有するホスホニウムヒドロキシド類、
（ｉｉ）あるいはテトラメチルホスホニウムボロハイドライド（Ｍｅ4ＰＢＨ4）、テトラブチルホスホニウムボロハイドライド（Ｂｕ4ＰＢＨ4）、テトラブチルホスホニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ4ＰＢＰｈ4）、テトラメチルホスホニウムトラフェニルボレート（Ｍｅ4ＰＢＰｈ4）などの塩基性塩などを挙げることができる。
【００３０】
上記塩基性窒素化合物及びまたは塩基性リン化合物は、塩基性窒素原子あるいは塩基性リン原子が芳香族ジヒドロキシ化合物、１モルに対し、１＊１０-5〜５＊１０-4当量となる割合で用いるのが好ましい。より好ましい使用割合は同じ基準に対し２＊１０-5〜５＊１０-4当量となる割合である。特に好ましい割合は同じ基準に対し５＊１０-5〜４＊１０-4当量となる割合である。
【００３１】
本発明における芳香族ポリカーボネートは、末端水酸基濃度が１００（ｅｑ／ｔｏｎ−ポリマー）以下のものが使用されるが、さらに本発明の目的を達成する好ましい実施態様においては末端水酸基濃度が好ましくは少なくとも８０ｅｑ／ｔｏｎ以下、さらにより好ましくは３〜６０ｅｑ／ｔｏｎ、さらに好ましくは５〜５０ｅｑ／ｔｏｎ含有する。
【００３２】
ＯＨ末端基濃度を上記範囲内にするには、ホスゲン法を用いた場合においては分子量調節剤として使用される末端封止剤により上記範囲内に収めることができるが、反応プロセスの特徴上、ＯＨ末端基が多く生成する溶融重合法、あるいは固相重合法においては、特別のＯＨ末端基減少策を講じる必要がある。
【００３３】
例えば、
１）重合原料仕込みモル比制御法；重合反応仕込み時のカーボネート結合形成性化合物/芳香族ジヒドロキシ化合物モル比を高めることにより、たとえば重合反応装置の特徴を考え１．０３から１．１０の間に設定する
２）重合反応収量時点において例えば、ＵＳＰ５，６９６，２２２号記載の方法に従い、サリチル酸エステル系化合物によりＯＨ末端基を封止する
ことにより達成することができる。
【００３４】
２）の場合、サリチル酸エステル系化合物の使用量は封止反応前の末端ＯＨ基、１化学当量当たり０．８〜１０モル、より好ましくは０．８〜５モル、特に好ましくは０．９〜２モルの範囲がよい。かかる量比で添加することにより、末端ＯＨ基の８０％以上を好適に封止することができる。又本封止反応を行う時、上記特許記載の触媒を使用するのが好ましい。
【００３５】
これらサリチル酸エステルとしては具体的には；
（ｉ）２−メトキシカルボニルフェニル−フェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−２’−メチルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−４’−エチルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−３’−ブチルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−４’−ドデシルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−４’−ヘキサデシルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−２’、４’−ジブチルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−ジノニルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−シクロヘキシルフェニルカーボネート、
２−メトキシカルボニルフェニル−ビフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−クミルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−２’−メトキシフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−４’−ブトキシフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−４’−クミルオキシフェニルカーボネート、ジ（２−メトキシカルボニルフェニル）カーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−２−エトキシフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−２’−（Ｏ−メトキシカルボニルフェニル）オキシクミルフェニルカーボネートのごとき２−メトキシカルボニルフェニルアリールカーボネート類；
（ｉｉ）２−メトキシカルボニルフェニル−メチルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−ブチルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−セチルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−ラウリルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−２’−エトキシカルボニルエチルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−２’−（Ｏ−メトキシカルボニルフェニル）オキシカルボニルエチルカーボネートのごとき２−メトキシカルボニルフェニル−アルキルカーボネート類；
（ｉｉｉ）２−エトキシカルボニルフェニル−フェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−プロピルフェニルカーボネート，２−エトキシカルボニルフェニル−ヘキシルフェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−ジブチルフェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−ジノニルフェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−シクロヘキシルフェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−クミルフェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−４’−エトキシカルボニルフェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−４’クミルオキシフェニルカーボネート２−エトキシカルボニルフェニル−カーボネート、ジ（２−エトキシカルボニルフェニル）カーボネートのごとき２−エトキシカルボニルフェニル−アリールカーボネート類；
（ｉｖ）２−エトキシカルボニルフェニル−メチルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−オクチルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−２’−メトキシカルボニルエチルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−カーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−２−（Ｏ−エトキシカルボニルフェニル）オキシカルボニルエチルカーボネートのごとき２−エトキシカルボニルフェニル−アルキルカーボネート類；
（ｖ）（２−メトキシカルボニルフェニル）ベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−メチルベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−ブチルベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−クミルベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−ブトキシベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニル）−２−メトキシカルボニルベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−メトキシカルボニルベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−エトキシカルボニルベンゾエート、３−（Ｏ−メトキシカルボニルフェニル）オキシカルボニル安息香酸（２’−メトキシカルボニルフェニル）エステル、４−（Ｏ−エトキシカルボニルフェニル）オキシカルボニル安息香酸（２’−メトキシカルボニルフェニル）エステルのごとき、芳香族カルボン酸の（２’−メトキシカルボニルフェニル）エステル；
（ｖｉ）（２−エトキシカルボニルフェニル）ベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−メチルベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−ブチルベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−ノニルベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−クミルベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−メトキシベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−ノニルオキシベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−クミルオキシベンゾエート（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−エトキシカルボニルベンゾエートのごとき芳香族カルボン酸の（２’−エトキシカルボニルフェニル）エステル；
（ｖｉｉ）（２−メトキシカルボニルフェニル）アセテート、（２−メトキシカルボニルフェニル）ステアレート、（２−メトキシカルボニルフェニル）オレート、（２−エトキシカルボニルフェニル）シクロヘキサンカルボン酸エステル、ビス（２−メトキシカルボニルフェニル）サクシネート、ビス（２−メトキシカルボニルフェニル）アジペートのごとき脂肪族カルボン酸エステル
が挙げられる。
【００３６】
本発明における芳香族ポリカーボネートは溶融粘度変化率０．５％以下のものが使用される。ここで、溶融粘度変化率は溶融粘度安定性を示すもので、次のように定義する。
【００３７】
レオメトリックス社のＲＡＡ型流動解析装置を用い窒素気流下、せん断速度１ｒａｄ／ｓｅｃ．，２７０℃で測定した溶融粘度値の変化を３０分間測定し、１分あたりの変化率を求めた。溶融粘度は、通常２７０℃での溶融後５分程度を過ぎると直線的に変化するので、溶融粘度（単位：ポイズ）の時間変化を記録し、その直線的変化の開始時点における溶融粘度をＶ１、その３０分後の溶融粘度をＶ２としたときに、
【００３８】
【数１】
（Ｖ１−Ｖ２）＊１００／（Ｖ１＊３０）（％）
を溶融粘度変化率とした。
【００３９】
ポリカーボネートの溶融粘度変化率を０．５％以下にするためには、重縮合反応後、好ましくは、末端封止反応終了後の芳香族ポリカーボネート（Ａ）に対し溶融粘度安定剤（Ｄ）を特定量を添加すること等により達成することができる。溶融粘度安定性の劣ったポリカーボネート樹脂においては、成形加工時の安定性不良に加えて、高湿条件化および成型品の長期使用時の機械的物性の安定性不良とりわけ耐衝撃性の悪化すなわち低下が著しく、実用性に耐えないものとなってしまう。
【００４０】
ここで、溶融粘度安定剤（Ｄ）としては、スルホン酸系化合物が好適に使用できる。かかるスルホン酸系化合物としては、（Ｄ）−１スルホン酸ホスホニウム塩、アンモニウム塩、（Ｄ）−２；スルホン酸、スルホン酸低級エステルを挙げることができる。（Ｄ）−１と（Ｄ）−２とは組み合わせて用いることができる。
（Ｄ）−１；スルホン酸ホスホニウム塩、アンモニウム塩としては、下記式（３）、（４）、（５）で表されるものを例示することができる。
【００４１】
【化４】
Ａ1−（−SＯ3Ｘ1）m                               （３）
（ここでＡ1は置換基を有していてもよいｍ価の炭化水素基であり、Ｘ1はアンモニウム、またはホスホニウムカチオンである。ｍは１〜４の整数である。アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンとしては、下記式
【００４２】
【化５】
+Ｎ（Ｒ11）（Ｒ12）（Ｒ13）（Ｒ14）               （３Ａ）
+Ｐ（Ｒ11）（Ｒ12）（Ｒ13）（Ｒ14）               （３Ｂ）
（式中Ｒ11〜Ｒ14は互いに独立に水素原子、またはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基等の炭素数が１〜３０の１価の炭化水素基である。）
で表わされるカチオンを挙げることができる。）
【００４３】
【化６】
+Ｘ2−Ａ2−SＯ3-                              （４）
（ここでＡ2はエチレン基、プロピレン基、プチレン基等の２価のアルキレン基等の炭化水素基であり、+Ｘ2はアンモニウムカチオンまたはホスホニウムカチオンである。アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンとしては、下記式
【００４４】
【化７】
−Ｎ+（Ｒ15）（Ｒ16）（Ｒ17）                           （４Ａ）
−Ｐ+（Ｒ15）（Ｒ16）（Ｒ17）                           （４Ｂ）
（ここでＲ15〜Ｒ17は互いに独立に水素原子、またはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基等の炭素数が１〜３０の１価の炭化水素基である。）
で表わされるカチオンを挙げることができる。）
【００４５】
【化８】
Ａ3−（+Ｘ3）N・（Ｒ−ＳＯ3-）N                        （５）
（ここでＡ3はＮ価の炭化水素基であり、Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基等の炭素数が１〜３０の炭化水素基であり、Ｘ3はアンモニウムカチオン、またはホスホニウムカチオンである。Ｎは２〜４の整数である。アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンとしては上記式（４Ａ）、（４Ｂ）で表わされるものを挙げることができる。）
【００４６】
上記式（３）で表わされる化合物の具体的な例としては、たとえば；
オクチルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラメチルアンモニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラエチルアンモニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩を挙げることができる。
【００４７】
上記式（４）で表わされる化合物の具体的な例としては、たとえば；
【００４８】
【化９】
ーＳＯ3−（ＣＨ2）3−Ｐ+（Ｃ2Ｈ5）3、
ーＳＯ3−（ＣＨ2）15−Ｐ+（Ｃ4Ｈ9）3、
ーＳＯ3−（ＣＨ2）15−Ｎ+（Ｃ4Ｈ9）3
を挙げることができる。
【００４９】
上記式（５）で表わされる化合物の具体的な例としては、たとえば；
【００５０】
【化１０】
｛（Ｃ4Ｈ9）3  Ｐ+−（ＣＨ2）10−Ｐ＋（Ｃ4Ｈ9）3｝
（ＣＨ3−Ｃ6Ｈ4−ＳＯ3-）2、
等々を挙げることができる。
【００５１】
（Ｄ）−２；のスルホン酸、スルホン酸低級エステルとしては、たとえば；
ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、のごとき芳香族スルホン酸、ドデシルスルホン酸、ヘキサデシルスルホン酸、ノニルスルホン酸、等の脂肪族スルホン酸、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェニル、ドデシルスルホン酸メチル、ヘキサデシルスルホン酸エチル、ノニルスルホン酸プロピル、デシルスルホン酸ブチル、等が例示できる。
好ましくはスルホン酸低級エステル化合物が使用される。
【００５２】
かかる溶融粘度安定剤は、ホスゲン法で製造された芳香族ポリカーボネートに対しても有効であるが、特に溶融重合法、あるいは固相重合法で製造した芳香族ポリカーボネートに対し、該芳香族ポリカーボネート中に残存するエステル交換触媒、特に塩基性エステル交換触媒であるアルカリ金属化合物のアルカリ金属元素、１化学当量あたり、（Ｄ）−１の化合物においては０．７〜１００化学当量を好ましくは０．８〜３０化学当量を、さらに好ましくは、０．９〜２０化学当量を、特に好ましくは０．９〜１０化学当量を使用する。（Ｄ）−２の化合物においては０．７〜２０化学当量、好ましくは０．８〜１０化学当量を、さらに好ましくは０．９〜５化学当量使用することにより、ポリカーボネート樹脂の溶融粘度安定性を０．５％以下に押さえることができる。
【００５３】
本発明における芳香族ポリカーボネート（Ａ）は、粘度平均分子量１２，０００〜１００，０００のものが使用される。粘度平均分子量が１２，０００未満では、十分な機械的強度を有する成形品が得られない。また、粘度平均分子量が１００，０００を越えると、溶融時の粘度が高くなりすぎ、成形が困難である。粘度平均分子量の値としては更に好ましくは１４０００〜８０、０００である。
【００５４】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、上述のようにして製造される、溶融粘度変化率が０．５％以下、且つ末端ＯＨ基量１００ｅｑ／ｔｏｎ以下の芳香族ポリカーボネート（Ａ）１００重量部に対して、多価アルコールの長鎖脂肪酸エステル（Ｂ）０．００１〜０．５重量部添加される。多価アルコールの長鎖脂肪酸エステルは、炭素数が２〜２０で２個以上の水酸基を有する多価アルコールの少なくとも1つの水酸基が、炭素数が８〜３０の長鎖脂肪酸のエステルを形成しているものである。
【００５５】
多価アルコールの長鎖脂肪酸エステルを形成する多価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ネオペンチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等を挙げることができる。
【００５６】
また、素数が８以上の長鎖脂肪酸の具体例としては；ステアリン酸、吉草酸、カプロン酸、カプリン酸、ラウリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、メリシン酸、テトラトリアコンタン酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸等を挙げる事ができる。
【００５７】
多価アルコールの長鎖脂肪酸エステルの具体例としては、例えばエチレングリコールモノステアレート、グリセリンモノステアレート、トリメチロールプロパンモノステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールモノラウレート、ペンタエリスリトールジステアレート、グリセリンジラウレート、グリセリントリステアレート、トリメチロールプロパンジステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリントリベヘネート、ペンタエリスリトールトリステアレート、トリメチロールプロパントリカプレート、トリメチロールプロパンジオレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート等を例示することができる。
【００５８】
こうした多価アルコールの長鎖脂肪酸エステル（Ｂ）は、上述の芳香族ポリカーボネート（Ａ）１００重量部に対して０．００１〜０．５重量部添加される。添加量が０．００１重量部より少ない場合には、離型剤としての添加効果が十分でなく、十分な離型性能を得ることができない。また、０．５重量部よりも多い場合には、金型汚れの原因となるため好ましくない。多価アルコールの長鎖脂肪酸エステル（Ｂ）の添加量としては、０．００５〜０．２重量部が更に好ましく、０．０１〜０．１量部が更に好ましい。
【００５９】
さらに、本発明の樹脂組成物には、無機酸、無機酸の部分エステル、及びこれらの２種以上の混合物から選ばれる化合物（Ｃ）が含有される。無機酸としては、リン酸、亜燐酸、次亜燐酸、ピロリン酸、ポリリン酸、ホウ酸、硫酸、等、無機酸の部分エステルとしては、これらの無機酸の部分エステルをあげることができる。こうしたエステルを形成するアルコール成分としては、直鎖状、あるいは分岐を有する炭素数１〜３０のアルキルアルコール、フェノール類をあげることができる。
【００６０】
直鎖状の炭素数１〜３０のアルキルアルコールとしては、メタノール、エタノールプロパノール、ステアリルアルコール、分岐を有する炭素数１〜３０のアルキルアルコールとしては、イソプロピルアルコール、ネオペンタノール等を例示できる。また、フェノール類としては、フェノール、ノニルフェノール、ｔ−ブチルフェノール等のアルキルフェノール、フェニルフェノールなどの芳香族置換フェノール等を例示することができる。
【００６１】
無機酸及び無機酸の部分エステルから選ばれる化合物（Ｃ）は、上述の芳香族ポリカーボネート１００重量部に対して０．０００１〜０．０１重量部添加される。添加量が０．０００１重量部より少ない場合には、離型性能や、滞留焼けの防止効果が十分ではない。また、０．０１重量部よりも多い場合には、成形品の長期耐熱性が低下する可能性があり、好ましくない。添加量としては、０．０００５〜０．００５重量部が更に好ましい。
【００６２】
上記化合物（Ｃ）としては、１＜ｐＫａ＜１０であるものが好ましく使用される。具体的には、無機酸としてはリン酸、亜燐酸、ホウ酸等、無機酸の部分エステルとしては、亜リン酸ジフェニル、リン酸ジフェニル、亜リン酸ジメチル、リン酸ジメチル、亜リン酸ジステアリル、リン酸ジステアリル等のリン酸、亜リン酸の部分アルキルエステル、部分アリールエステルを例示することができる。
【００６３】
上記化合物（Ｃ）は、上記溶融粘度安定剤が添加されて、ポリカーボネート樹脂の溶融粘度安定性が、０．５％以下に抑えられた後に添加することが好ましい。添加形態に特に制限はないが、具体的な添加方法としては、溶融粘度安定剤が添加された後、上記化合物（Ｃ）を直接添加する方法、適当な溶媒、好ましくは水に所定量を溶解したものを溶融ポリマーに添加して水を脱気除去する方法、マスターペレットの形で添加する方法が挙げられる。
【００６４】
添加時期は、芳香族ポリカーボネートの溶融粘度安定性が、０．５％以下となった後であれば、特に制限はない。特に水溶液の形で化合物（Ｃ）が添加される場合には、溶融粘度安定剤により安定化された溶融樹脂への添加が、重合度の変化を起こしにくい点で一層好ましい結果を得ることができる。
【００６５】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、本発明の目的を損なわない限り、所望により他の添加剤を含有することができる。他の添加剤としては亜リン酸エステル系安定剤、フェノール系安定剤、有機チオエーテル系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げることができる。
【００６６】
亜リン酸エステル系安定剤防止剤としては例えば；
（ｉ）ビス（２，３−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、フェニルジイソオクチルホスファイト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイト、テトラフェニルプロピレングリコールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、
２−｛｛２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ｛d、f｝｛１，３，２｝ジオキサフォスフェピン６−イル｝オキシ｝−Ｎ，Ｎ−ビス｛２−｛｛２，４，８，１０−テトラキス（１，１ジメチルエチル）ジベンゾ｛d、f｝｛１，３，２｝ジオキサフォスフェピン６−イル｝オキシ｝−エチル｝エタナミン等のアリールアルキルホスファイト類；
（ｉｉ）トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリメオクチルホスファイト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスチルジホスファイト、ビス（トリデシル）ペンタエリスリチルジホスファイト、トリス（２−クロロエチル）ホスファイト、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスファイト等のトリアルキルホスファイト類；
（ｉｉｉ）トリシクロヘキシルホスファイト等のトリシクロアルキルホスファイト類；
（ｉｖ）トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホスファイト、等のトリアリールホスファイト類。
【００６７】
フェノール系安定剤としてはたとえば；
Ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス｛メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝メタン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ジステアリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−ｔ−ブチルベンジル）マロネート
トリエチレングリコール−ビス｛３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、１，６−ヘキサンジオール−ビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、２，４−ビス−（Ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシフェニル「３，５−ジ−ｔ−ブチル−アニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペンタエリスリチル−テトラキス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、２，２−チオジエチレンビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネートジエチルエステル、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルスルホン酸エチル）カルシウム、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、２，４−ビス｛（オクチルチオ）メチル｝−Ｏ−クレゾール、イソオクチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，５，７，８−テトラメチル−２（４’，８’，１２’−トリメチルトリデシル）クロマン−６−オール、Ｎ，Ｎ’−ビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルヒドラジン、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、等が挙げられる。
【００６８】
チオエーテル系安定剤としては；
ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、l  ジトリデシル−３，３’−チオプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）などを挙げることができる。
【００６９】
またヒンダードアミン系安定剤としてはたとえば；
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−〔２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−４−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，２，３−トリアザスピロ〔４，５〕ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−（３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−Ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
などを挙げることができる。
【００７０】
これらの安定剤は単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。これらの内亜燐酸エステルが好ましい。
【００７１】
これらの耐熱安定剤は樹脂成分１００重量部あたり０．０００１〜５重量部、好ましくは０．０００５〜１重量部、さらに好ましくは０．００１〜０．５重量部の量で通常は使用される。
【００７２】
更に所望により、従来公知のベンゾトリアゾール系光安定剤、ベンゾフェノン系光安定剤、シアノアクリレート系光安定剤、第４級アンモニウム塩系、アルキルホスフェート系の帯電防止剤等を使用しても良い。
【００７３】
【発明の効果】
本発明によれば、離型剤としてる多価アルコールの長鎖脂肪酸エステル（Ｂ）を特定量用いる場合、無機酸あるいは無機酸の部分エステルを配合することにより、離型性がよく、かつ滞留焼けの少ない色相の良好な芳香族ポリカーボネート組成物の成形品を得ることができる。
【００７４】
【実施例】
以下本発明を実施例により説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
【００７５】
１）ポリカーボネートの粘度平均分子量；
塩化メチレン中、２０℃ウベローデ粘度管にて固有粘度を測定した。固有粘度より粘度平均分子量は次式より計算した。
【００７６】
【数２】
〔η〕＝１．２３×１０-4×ＭＷ0.83
【００７７】
２）末端基濃度；
サンプル、０．０２gを０．４ｍlのクロロホルムに溶解し、２０℃で１Ｈ−ＮＭＲ（日本電子社製ＥＸ−２７０）を用いて、末端水酸基濃度を測定した。
【００７８】
３）溶融粘度安定性；
レオメトリックス社のＲＡＡ型流動解析装置を用い窒素気流下、剪断速度１rad/sec．２７０℃で測定した溶融粘度の変化の絶対値を３０分間測定し、１分当たりの変化率を求めた。
【００７９】
４）離型性
５０ｍｍ×９０ｍｍ×２ｍｍの平板の２枚どりの金型を用いて名機製作所（株） Ｍ５０B射出成形機によりシリンダー温度３８０℃成形サイクル２０秒、金型温度８０℃射出圧３００Kg、型締め力５０トンで成形した。この際、成形品の取り出し時のエジェクターピンにかかった負荷をエジェクターピンの油圧を測定することにより離型力を測定した。離型力は小さいほど好ましいが、効果が期待できる目安としては１４ｋｇ／ｃｍ2程度である。
【００８０】
５）滞留安定性；
５０ｍｍ×９０ｍｍ×２ｍｍの平板を名機製作所（株）  Ｍ５０Ｂ射出成形機によりシリンダー温度３８０℃成形サイクル２０秒、金型温度７５℃、射出圧３００Ｋｇ、型締め力５０トンで成形した。この成形品につき色相Ｌａｂを測定、さらに樹脂同温度で１０分間シリンダー内に滞留させた後成形を行い色相を測定、滞留前後の色差（ΔＥ）を求めた。平板のＬ／ａ／ｂ値、滞留前後の色差（ΔＥ）は日本電色（株）製Ｚ−１００１ＤＰ色差計によりＪＩＳ８７２２、Ｚ８７３０に従い測定した。色差（△Ｅ）は、下記式で表される。
【００８１】
【数３】
△Ｅ =（(△L）2+（△a）2+（△b）2)）1/2
【００８２】
【参考合成例】
２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２２８重量部、ジフェニルカーボネート２２３重量部及びテトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．００９重量部及びビスフェノールＡジナトリウム塩０．０００１４重量部を攪拌装置、減圧装置、蒸留塔などを具備した反応装置に仕込み、１８０℃窒素雰囲気下で３０分攪拌し溶解した。次いで同温度で、１００ｍｍＨｇの減圧下、３０分間フェノールを留出しつつ反応させた。さらに２２０℃に昇温しつつ３０ｍｍＨｇに減圧し、同温同圧で３０分間反応させた。更に反応系を更に徐々に昇温、減圧し、最終的に２７０℃、０．５ｍｍＨｇとし、ポリカーボネート樹脂を得た。さらに得られた樹脂１００重量部に対して、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を０．００１２重量部添加し２０分間混合した。得られた樹脂の粘度平均分子量は１５３００で、ＯＨ末端は５３ｅｑ／ｔｏｎ、溶融粘度変化率は０．１（％／分）であった。
【００８３】
［実施例１］
Ｗｅｒｅｎｅｒ＆Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ社製ＺＳＫ２５型２軸押し出し機に、液体の添加設備及びベント孔を設けて、参考例で得られたポリマーをシリンダ温度２７０℃で溶融押出しを行った。参考例１のポリマーは２５０ｇ／分の速度に対し、リン酸０．５％水溶液を１ｍｌ／分の速度で、液体の添加設備により加圧下で溶融ポリマーに直接添加した後、ベント孔を１０ｍｍＨｇの真空に保持することにより、水分をポリマー中から除去し、ポリマー１００重量部に対してリン酸を０．００２重量部添加した。
こうして得られたポリマー１００重量部に対し、再度上記２軸押し出し機および液体の添加装置により、同様に２７０℃で溶融押出しを行いながら、グリセリンモノステアレート０．０５重量部を添加し、ペレット化した。
得られた組成物の離型性、滞留安定性を調べた結果を表１に示す。
【００８４】
［実施例２〜４］
実施例１と同様に１度目の溶融押出し時に酸成分を水溶液で添加し、２度目の溶融押出しで長鎖脂肪酸エステル、及び、他の添加剤をポリマー中に表中の所定量を添加した組成物の離型力、滞留安定性の結果を表１に示す。
【００８５】
［実施例５］
酸成分を水溶液で添加せず、酸成分を長鎖脂肪酸エステルと溶融混合した後、実施例１同様に溶融ポリマー中に液状で添加した。化合物と混合量を表１に示す。
【００８６】
［比較例１］
表中の所定量を実施例１同様に溶融ポリマー中に液状で添加した。化合物、混合量及び結果を表１に示す。
【００８７】
［比較例２］
参考例で得られたポリマーを用いて、離型性、滞留安定性の評価を行った。結果を表１に示す。
【００８８】
【表１】
0004209543.tif 000004
【００８９】
注１）添加量は、参考例のポリマー１００重量部に対するもの
注２）アデカスタブ５２２Ａ：旭電化（株）社製亜リン酸エステル系酸化安定剤