(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネル（１）であって、
前記パッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネルは、
複数の第１電極と、
前記複数の第１電極に直交する複数の第２電極であって、前記複数の第１電極と前記複数の第２電極とがマトリックスを形成する、複数の第２電極と、
一対の第１電極と第２電極との間に積層される一つの発光部（１６）と
を備え、
前記電極のマトリックスは、（ｍ×ｎ）個の別々に電気的に駆動可能な複数のサブパネルに分離され、ｍおよびｎは、２よりも大きな整数であり、
前記複数の第１電極の各々は、ｍ個の導電層（４）であって、互いに電気的に絶縁された導電層（４）から形成され、前記導電層の各々が前記第１電極の長さ方向に沿って前記複数のサブパネルのうちの異なる一つのサブパネルの発光部を駆動するように配置されており、
前記複数の第２電極の各々は、ｎ個の導電層（１７）であって、互いに電気的に絶縁された導電層（１７）から形成され、前記導電層の各々が前記第２電極の長さ方向に沿って前記複数のサブパネルのうちの異なる一つのサブパネルの発光部を駆動するように配置されており、
前記複数のサブパネル（２）の各々は、別個の駆動回路によって駆動され、
前記パッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネルは、基板をさらに備え、
前記複数の第１電極は、前記基板上に形成されており、前記複数の第１電極の各々は、第１バス電極に電気的に接続されており、
前記発光部（１６）は、前記第１電極上に形成された有機機能層から形成され、
前記有機機能層の各々は、少なくとも一つの有機ＥＬ媒体層を含み、
前記複数の第２電極は、前記有機機能層上に形成され、前記複数の第２電極の各々は、第２バス電極に電気的に接続されており、
前記第１バス電極と前記第２バス電極のうちの一方は、前記第１バス電極および前記第２バス電極の一部が重なるように前記第１バス電極と前記第２バス電極とのうちの他方の上に積み重ねられており、前記積み重ねられた第１バス電極および第２バス電極の高さ方向に沿った前記第１バス電極と前記第２バス電極との間に少なくとも１つの電気的絶縁層が形成されており、
前記第２バス電極は、端部と本体部とを有し、前記第２バス電極の端部は、前記有機機能層のうちの一つの有機機能層内に形成された開口部を介して、対応する第２電極に結合されている、パッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
前記第１電極の各導電層と、対応する第１バス電極とが少なくとも一位置で電気的なコンタクトを維持するように形成されている、請求項１に記載のパッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
前記第１バス電極および前記第２バス電極は少なくとも一つの伝導性物質で形成され、前記基板は透明物質で形成される、請求項１に記載のパッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
前記伝導性物質は、金属と、合金と、伝導性ポリマーとのうちの少なくとも一つからなる、請求項３に記載のパッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】
前記金属は、アルミニウムと、銅と、ニッケルと、クロムと、銀と、金とのうちの一つである、請求項４に記載のパッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項６】
パッシブアドレッシング可能な有機ＥＬディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記方法は、
複数の第１電極と複数の第２電極とをアレイ状に形成するステップであって、前記複数の第１電極と前記複数の第２電極との間に一つの発光部（１６）が積層されている、ステップを包含し、
前記電極のアレイは、（ｍ×ｎ）個の別々に電気的に駆動可能な複数のサブパネルに分離され、ｍおよびｎは、２よりも大きな整数であり、
前記複数の第１電極の各々は、ｍ個の第１導電層であって、互いに電気的に絶縁された第１導電層から形成され、前記第１導電層の各々が前記第１電極の長さ方向に沿って前記複数のサブパネルのうちの異なる一つのサブパネルの発光部を駆動するように配置されており、
前記複数の第２電極の各々は、ｎ個の第２導電層であって、互いに電気的に絶縁された第２導電層から形成され、前記第２導電層の各々が前記第２電極の長さ方向に沿って前記複数のサブパネルのうちの異なる一つのサブパネルの発光部を駆動するように配置されており、
前記複数のサブパネルの各々は、別個の駆動回路によって駆動され、
前記複数の第１電極と複数の第２電極とをアレイ状に形成するステップであって、前記複数の第１電極と前記複数の第２電極との間に一つの発光部（１６）が積層されている、ステップは、
前記第１電極を形成するステップと、
列方向に隣接する第１電極間に複数の第１バス電極を形成するステップであって、前記第1バス電極は、前記第1電極の対応する帯に結合される、ステップと、
前記第１電極の少なくとも一部をそれぞれ露出させるために、行方向に複数の第２バス電極を形成するステップであって、前記第２バス電極は、前記基板から絶縁されて突出する、ステップと、
前記第１電極の露出された部分に第１有機機能層、第２有機機能層および第３有機機能層を含む複数の発光部（１６）を形成するステップであって、前記第１有機機能層、前記第２有機機能層および前記第３有機機能層の各々は、少なくとも一つの有機ＥＬ媒体を含む、ステップと、
前記第１有機機能層、前記第２有機機能層および前記第３有機機能層のうちの少なくとも一つの上に前記複数の第２電極を形成するステップであって、前記第２電極は、対応する第２バス電極に結合されている、ステップと
を包含し、
少なくとも一つの第２バス電極は、端部と本体部とを有し、前記第２バス電極の端部は、前記第１有機機能層、前記第２有機機能層および前記第３有機機能層のうちの一つの有機機能層内に形成された開口部を介して、対応する第２電極に結合されている、方法。
【請求項７】
前記第２バス電極の端部は、前記第２バス電極の本体部に実質的に直交するように形成されている、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記サブパネル内の第１導電層は、実質的に長方形の形状を有し、前記第１導電層の少なくとも一つの面の部分に複数の切欠きが形成されている、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記複数の第２バス電極の各々は、対応する切欠きによって規定される領域内へと突出する、請求項８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は発光層への電荷注入時に光を発する有機ＥＬ素子からなる有機ＥＬ(electroluminescent)ディスプレイパネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近では、有機発光ダイオード(Light Emitting Diode: LED)とも呼ばれる有機ＥＬ素子の技術が速い速度で発展しており、既にいくつかの試製品が発表されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、非常に薄く、マトリックス状にアドレス可能であり、１５Ｖ以上の低電圧でも駆動可能であるという長所があった。また、有機ＥＬ素子は、視野角が広く、プラスティックのように可撓性(flexible)のある透明基板上にも形成可能であり、このため次代の平板ディスプレイ(Flat Panel Display: FPD)に適した素子である。更に、よく知られているＬＣＤ(Liquid Crystal Display)に比べてバックライト(backlight)を必要としないため、電力消耗が少ないという長所もあった。
【０００４】
上記のような長所を持つ有機ＥＬ素子は、一般的に無機ＥＬ素子とは動作原理の面で大きな違いがある。
【０００５】
無機ＥＬ素子は、高い電界によって加速された電子が発光体(luminescent impurity)に衝突して励起され、励起された発光体が基底状態に落ちながら発光するのに対して、有機ＥＬ素子は、陰極及び陽極から各々注入された電子と正孔とが結合して生成されたエクスィトン(exciton)が励起状態から基底状態に落ちながら発光する。このような有機ＥＬ素子は、今まで発光効率を改善させ且つ多様な色を作り出すために活発に研究され、今後有機ＥＬ素子の商業化のために生産性、均一性、信頼性等の研究に更に努力を注がなければならない。
【０００６】
有機ＥＬ素子を大型平板ディスプレイに適用するためには、全体的なディスプレイ画面から均一な光が発散されなければならない。このためには、まず適切な蒸着装備を用いて多層膜からなる有機機能層(organic function layers)をパネルの全面に均一に形成する必要がある。次に、パネル駆動による問題点を解決しなければならない。これについて更に詳細に説明する。
有機ＥＬディスプレイパネルを駆動する最も簡単な方法は、シンプルパッシブマトリックス(simple passive matrix)方式であり、直交する二つの電極の間に有機ＥＬ層を形成する構造を有する。この駆動方式では、各々の有機ＥＬ素子がディスプレイ素子及びスイッチング素子の役割を共に行う。このような駆動モードでは、各々の有機ＥＬ素子がダイオードのような非線形電流−電圧の特性を有するため、理論的にはマルチプレックス(multiplexing)による駆動が可能である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、パッシブマトリックスアドレシング(passive matrix addressing)形態の大型有機ＥＬディスプレイパネルを駆動するには下記のような難しさがあった。
【０００８】
一つ、有機ＥＬ素子はメモリ機能を有してないため、非常に高い瞬間最高輝度(peak luminance)を必要とし、ディスプレイパネルのロー(row)の個数が制限を受ける。必要な瞬間最高輝度は（ロー電極の数×平均輝度）に比例する。例えば、パネルの平均輝度の１００ｃｄ／ｍ2を得ようとするとき、もしも瞬間最高輝度が５０、０００ｃｄ／ｍ2であればロー電極の数は最大５００個、瞬間最高輝度が１０、０００ｃｄ／ｍ2であれば最大１００個となる。現在の技術の水準では、１０、０００ｃｄ／ｍ2程度の輝度で長時間駆動しても寿命が急激に減少し、将来発光効率が改善されるとしても５０、０００ｃｄ／ｍ2で駆動するのは無理である。従って、パッシブマトリックス方式によって駆動可能な最大のロー電極の数は１００〜２００個程度と見た方が妥当である。
【０００９】
二つ、瞬間的な高電流により、カラム(column)及びロー(row)のバス電極に沿って極めて大きなＩＲ電圧降下が発生してパネルの明るさが均一でなくなる。
【００１０】
三つ、有機ＥＬディスプレイパネルのＲＣ遅延時間の問題である。典型的な透明電極物質であるＩＴＯ(Indium Tin Oxide)は一般金属に比べて抵抗がかなり大きく、有機層は非常に薄く（通常、１００ｎｍ程度）静電容量(capacitance)が比較的に大きいため、全体的に素子のＲＣ定数が大きい。パネルのサイズが大きくなる程もっと問題が大きくなる。
【００１１】
この類の問題を解決するためには薄膜トランジスタ液晶表示装置(TFT-LCD)のようなアクティブアドレシング(active addressing)駆動方式を導入しなければならない。しかし、アクティブマトリックスＥＬ（ＡＭ−ＥＬ）の制作には費用が高くかかるため、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の他のディスプレイ技術との競争から劣る。このため、パッシブマトリックス駆動方式を採っても上記問題点を解決する必要がある。
【００１２】
本発明は上記の問題らを解決するためになされたものであり、その目的は、パッシブマトリックス駆動の可能な大型有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、（ｍ×ｎ）個のサブパネルに分離されたカラム(column)とロー(row)のマトリックス(matrix)に、互いに電気的に絶縁された複数個の導電層で形成される複数個の第１、第２電極がそれぞれ配列され、複数個の第１、第２電極の間に複数個の発光部が積層されることを特徴とし、そのことにより、上記の目的が達成される。
【００１４】
前記有機ＥＬディスプレイパネルは、基板と、前記基板上に形成され、第１バス電極にそれぞれ電気的に連結される複数個の第１電極と、前記第１電極上に形成され、少なくとも一つの有機ＥＬ層を含む有機機能層と、そして前記有機機能層上に形成され、第２バス電極にそれぞれ電気的に連結される複数個の第２電極とを備えることを特徴としてもよい。
前記第１、第２バス電極の各々は各層の間に電気絶縁層を有する積層構造の一部をなし、積層された前記各層は、１つの第１、第２電極を備えるか、或いは絶縁物質を挟んだ多数個の前記第１、第２バス電極を備えることを特徴としてもよい。
前記第１電極の各帯(stripe)に対応する第１バス電極は少なくとも一位置で電気的にコンタクトされることを特徴としてもよい。
前記第１及び第２バス電極は少なくとも一つの伝導性物質で形成され、前記基板は透明物質で形成されることを特徴としてもよい。
前記伝導性物質は、金属、合金、伝導性ポリマーのうち少なくとも一つであることを特徴としてもよい。
【００１５】
前記金属は、アルミニウム、銅、ニッケル、クローム、銀、金のうち何れか一つであることを特徴としてもよい。
複数個の発光部を備える複数個のサブパネルと、  前記サブパネルに対応する複数個の第１電極と、前記各第１電極に対応してカップリング(coupling)される複数個の第１シグナルバスとが形成された基板と、前記第１電極の最小領域がそれぞれ露出される前記基板から絶縁されて突出された複数個の第２シグナルバスと、前記第１電極の露出された領域上に形成され、少なくとも一つの有機ＥＬ層を含む第１、第２、第３有機機能層のうち少なくとも一層と、そして前記第１、第２、第３有機機能層のうち少なくとも一層上に形成され、前記第２シグナルバスに対応してカップリングされる複数個の第２電極と、を備えることを特徴としてもよい。
【００１６】
前記複数個のサブパネルは（ｎ×ｍ）個（ここで、ｎ、ｍは２よりも大きな整数）に配列されることを特徴としてもよい。
前記第２シグナルバス上に各々対応して形成される複数個の隔壁を更に備えることを特徴としてもよい。
【００１７】
前記各隔壁上には対応する第２電極が形成されることを特徴としてもよい。
【００１８】
前記対応する第２電極と各隔壁との間には前記第１、第２、第３有機機能層のうち少なくとも何れか一つが対応して形成されることを特徴としてもよい。
【００１９】
前記隣接するサブピクセル間に位置する第１シグナルバス上に各々対応して形成される隔壁を更に備えることを特徴としてもよい。
【００２０】
前記複数個の第１、第２電極はそれぞれ互いに電気的に絶縁された複数個の第１、第２導電層で形成され、それぞれカラムとローに配列されることを特徴としてもよい。
【００２１】
前記複数個の第１導電層は透光性物質で形成されることを特徴としてもよい。
【００２２】
前記透光性物質はＩＴＯ(Indium Tin Oxide)であることを特徴としてもよい。
【００２３】
前記基板は、光が透過されることを特徴としてもよい。
【００２４】
前記第１導電層は長方形状であることを特徴としてもよい。
【００２５】
前記対応するサブピクセルに対応する第１導電層は、前記長方形状の一面上に複数個の切欠き(notch)が形成されることを特徴としてもよい。
【００２６】
前記複数個の第２導電層は、抵抗の低い金属、合金のうち何れか一つで形成されることを特徴としてもよい。
【００２７】
前記抵抗の低い金属はアルミニウムであり、前記合金はＭｇ：Ａｇ、Ａｌ：Ｌｉのうち何れか一つであることを特徴としてもよい。
【００２８】
前記複数個の第１シグナルバスは、少なくとも何れか一つの隣接する第１導電層の間にカラム方向に形成され、対応する第１導電層の第１面と対応する第１導電層の第２面にそれぞれカップリングされることを特徴としてもよい。
【００２９】
前記複数個の第２シグナルバスは、少なくとも何れか一つの隣接する第２導電層の間にロー方向に形成され、対応する第２導電層の第１面と対応する第２導電層の第２面にそれぞれカップリングされることを特徴としてもよい。
【００３０】
前記各々の第１シグナルバスは、前記基板上に形成される少なくとも一本の第１連結線と、前記第１連結線を覆っている第１絶縁層とを備え、前記各々の第２シグナルバスは、前記第１導電層上に形成される第２絶縁層と、前記第１導電層上に形成される少なくとも一本の第２連結線と、前記第２連結線上に形成される第３絶縁層とから構成されることを特徴としてもよい。
【００３１】
前記第１、第２連結線はそれぞれ少なくとも一つの伝導性物質で形成されることを特徴としてもよい。
【００３２】
前記伝導性物質は、金属、合金、伝導性ポリマーのうち少なくとも一つであることを特徴としてもよい。
【００３３】
前記金属はアルミニウム、銅、ニッケル、クローム、銀、金のうち何れか一つであることを特徴としてもよい。
【００３４】
前記第１連結線のうち少なくとも何れか一本は前記対応する第１導電層の第１面の全体にコンタクトされ、前記第２連結線は対応する第２導電層の第１面の全体にコンタクトされることを特徴としてもよい。
【００３５】
前記第１絶縁層は、各第１シグナルバスの第１連結線が一本以上の時に隣接する第１連結線を絶縁させてやり、前記第３絶縁層は、各第２シグナルバスの第２連結線が一本以上の時に隣接する第２連結線を絶縁させてやることを特徴としてもよい。
【００３６】
前記隣接する第１、第２連結線のうち少なくとも何れか一本は垂直に積層されることを特徴としてもよい。
【００３７】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、基板上に互いに電気的に絶縁された複数個の第１電極をロー及びカラムの配列状に形成する段階と、前記対応する第１電極にカップリングされるように、カラム方向に隣接する第１電極の間に複数個の第１シグナルバスを形成する段階と、前記第１電極の最小領域がそれぞれ露出される前記基板から絶縁されて突出されるように、前記ロー方向に複数個の第２シグナルバスを形成する段階と、前記第１電極の露出された領域上に、少なくとも一つの有機ＥＬ層を含む第１、第２、第３有機機能層のうち少なくとも一層を形成する段階と、第１、第２、第３有機機能層のうち少なくとも一層上に、前記第２シグナルバスに対応してカップリングされるように複数個の第２電極を形成する段階とを備えることを特徴とし、そのことにより、上記の目的が達成される。
前記少なくとも一本の第２連結線の先端には、前記対応する第１、第２、第３有機機能層内に形成された開口部を介して対応する第２電極がカップリングされることを特徴としてもよい。
【００３８】
前記連結線の先端には前記第２連結線に直角にバス電極が形成されることを特徴としてもよい。
【００３９】
前記第１導電層は長方形状からなり、対応するサブピクセルに対応する第１導電層は前記長方形状の一面上に複数個の切欠き(notch)を含むことを特徴としてもよい。
【００４０】
前記バス電極は前記対応する切欠きによって限定された領域へ突出されることを特徴としてもよい。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法を添付図面に基づいて説明する。
【００４２】
図１は本発明による有機ＥＬディスプレイパネルを示す平面図である。同図に示すように、有機ＥＬディスプレイパネル１は、２ｍ個のカラム(column)と２ｎ個のロー(row)とを有する、つまり（２ｍ×２ｎ）個のサブパネル(sub-panel)２からなる。大型パネルをパッシブアドレシング(passive addressing)方式で駆動するに際して生じる問題点を除去するべく、各サブパネル２は分離駆動される。
【００４３】
図２は（４×４）つまり１６個のサブパネルを有するディスプレイパネルを示す断面図である。この一実施例の制作過程を図３〜図１４を参照して説明する。
まず、図３に示すように、透明絶縁基板３上にＩＴＯ(Indium Tin Oxide)のような透明導電膜を形成し、フォトリソグラフィ(photolithography)工程で透明導電膜をパターニングしてそれぞれ複数個の帯(stripe)４を有する第１電極を形成する。ここで、長さ方向から見るとき、一電極の帯が４本の短い帯に分離されている点から、一般的なマトリックスアドレシング(matrix addressing)駆動方式で形成される第１電極の帯とは構造的に相違する。第１電極の各帯４は後続工程で形成される第２電極の帯とともにサブパネル２をなして個別に駆動され、このためには各々の第１、第２電極の帯は互いに電気的に絶縁されなければならない。次に、透明基板３上に、第１、第２電極との電気的な連結のための複数個のコンタクトパッド(contact pad)５、６を形成する。このコンタクトパッド５、６は第１電極の帯４の形成時に共に形成してもよい。
【００４４】
次いで、図４に示すように、第１バス電極を形成して第１電極の帯４とそれに対応するコンタクトパッド５、６とを連結させる。この際、外側の帯４−ａとそれに対応するコンタクトパッド５とは短い第１バス電極７−ａにより連結される。この短い連結線７−ａは、このステップで別に作らずに、図３の工程において第１電極の帯の形成のためのＩＴＯのパターニング時に、外側の帯４−ａとそれに対応するコンタクトパッド５とを連結している形態に予め形成してもよい。内側の帯４−ｂとそれに対応するコンタクトパッド５とは長い第１バス電極７−ｂにより連結される。ここで、第１バス電極としての連結線７−ａ、７−ｂは、アルミニウム又はその合金等のように導電性に優れた金属から形成すればよい。
【００４５】
又、第１バス電極の形成方法にはいろいろあるが、その中でもリフトオフ(lift-off)工程を用いて所定の位置にのみ第１バス電極を形成する方法が好ましい。そして、この過程での第１バス電極のための膜成長(film growth)方法には、蒸気蒸着(vapor deposition)法、電子線蒸着(e-beam evaporation)法、ＲＦスパッタリング(RF sputtering)法、化学気相蒸着(chemical vapor deposition)法、スピンコーティング(spin coating)、ディッピング(dipping)、ドクターブレード(Dr. blade)法、電気鍍金(electroplating)、無電解鍍金(electroless plating)、スクリーンプリンティング(screen printing)法等を使用可能である。
【００４６】
図５Ａの（ａ）は図４の２−ｆの拡大図であり、図５Ａの（ｂ）は図５Ａの（ａ）のＡ−Ａ’線上の断面図である。
【００４７】
一方、図５Ａの（ａ）に例示するように、第１バス電極７−ａ、７−ｂと第１電極の帯４とが重なる面積が小さい場合、第１電極の帯４の長辺に沿ってＩＲ電圧降下現象が表れることがあるが、この現象は第１バス電極とそれに対応する第１電極の帯４との電気的接触面積を広げることで解決可能である。すなわち、図５Ｂの（ａ）に示すように、各々の第１バス電極を、対応する第１電極の帯４の長辺に沿って形成して２つの間の電気的接触面積を広げることにより、長さ方向の電圧降下を最小化する。ある意味では、第１バス電極は第１電極の帯の抵抗を低めてやる補助電極として用いられているとも見られる。これは、第１バス電極の物質に比べて、第１電極の帯によく用いられるＩＴＯの電気抵抗が遥かに大きいからである。２つの間の接触は、連続的でなく、一定の距離おきに一定の長さずつ反復配列する形態であっても良い。構造設計時、所与の条件内で２つの間の総接触面積をつまり並んで接触して形成される総長さを、できるだけ長く且つ長さ方向に均等に分配された形態に調節することが、電圧降下による明るさの偏差を減少させるのに有利である。
【００４８】
次いで、図６（ａ）に示すように、第１バス電極上に電気絶縁物質層８を形成する。ここで、電気絶縁物質層８は機械的且つ化学的な安定性が要求されており、有機又は無機絶縁物質からなり、酸化ケイ素(silicon oxide)、窒化ケイ素(silicon nitride)等の無機化合物が好ましい。この電気絶縁物質層８は、蒸気蒸着(vapor deposition)法、電子線蒸着(e-beam evaporation)法、ＲＦスパッタリング(RF sputtering)法、化学気相蒸着(chemical vapor deposition)法、スピンコーティング(spin coating)、ディッピング(dipping)、ドクターブレード(Dr. blade)法、電気鍍金(electroplating)、無電解鍍金(electroless plating)、スクリーンプリンティング(screen printing)法等を用いて覆える。
【００４９】
次に、図７Ａの（ａ）は後続工程で形成される第２バス電極のための絶縁バッファ層９を形成する過程を示す図であり、図７Ａの（ｂ）は図７Ａの（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。ここで、バッファ層９の役割は、第１電極から第２バス電極を電気的に絶縁させるためのことである。このバッファ層９の物質並びに膜成長方法は、図６の電気絶縁物質層８の場合と同一又は類似である。さらに、バッファ層９は、図７Ｂの（ａ）、図７Ｂの（ｂ）、図７Ｂの（ｃ）に示すように、図６（ａ）の工程段階で電気絶縁物質層８と共に形成されてもよい。
【００５０】
次いで、図８（ａ）、図８（ｂ）、図８（ｃ）に示すように、第２バス電極を第１バス電極に直交するように形成する。ここで、第２バス電極の役割は、後続工程で形成される第２電極とコンタクトパッド６とを電気的に連結させるためのことである。又、第１バス電極７−ａの場合と同じ理由によって短い第２バス電極１０−ａは省略可能である。図８（ｂ）に示すように、長い第２バス電極１０−ｂの大部分はバッファ層９上に形成され、残りの部分は第１電極の帯４にて覆われてないオープン領域１１上にまで延長されて形成される。電気的な短絡を防ぐべく、第２バス電極１０−ｂが第１電極の帯にて覆われた領域１２に接しないように、注意を払う必要がある。第２バス電極は、第１バス電極と同一又は類似の物質並びに膜成長方法で形成可能である。
【００５１】
図９（ａ）に示すように、第２バス電極上に絶縁層１３を形成するが、構造設計に応じてこの絶縁層１３は省略してもよい。この絶縁層１３の物質並びに製造方法は前述した電気絶縁物質層８の場合と同一又は類似である。構造設計に応じては第２バス電極が第１バス電極よりも先に形成されてもよい。
【００５２】
この後の遂行工程は、ピクセレレーション方法及びディスプレイモード(mode)により様々に選択可能である。例えば、米国特許第５、７０１、０５５号に提示した電気絶縁隔壁を用いて隣接するピクセルを分離しようとする場合、第１又は第２バス電極のうち後形成されたバス電極上に形成された絶縁層上に前記隔壁を形成する。また、単色ディスプレイ(monochrome display)用のパネルを制作するためには一連の有機機能層を単純積層すればよいが、マルチカラー(multi color)又はフルカラー(full color)ディスプレイパネルを制作するためには追加的にシャドーマスク(shadow mask)が必要な場合がある。
【００５３】
シャドーマスクと隔壁を用いてフルカラーディスプレイパネルを造る工程を察してみると、
（１）まず、隔壁表面上にシャドーマスクを配置する。ここで、シャドーマスクは、隔壁の間にある第１電極又は第２電極が露出されるように複数個の開口部を有しており、その開口部は各々の電極に整列されている；
（２）隔壁の間にある各々の電極上に整列された開口部を介して第１有機ＥＬ物質を蒸着する。例えば、赤色(red)光を発する第１有機機能層を形成する；
（３）シャドーマスクを再整列し、前記（２）の過程を繰り返し行って緑色(green)及び青色(blue)光を発する第２、第３有機機能層を順次形成する；
（４）隔壁及び有機機能層上に少なくとも一つ以上の第２電極層を形成する。
【００５４】
図１０（ａ）は、上述したようにピクセレーションのための電気絶縁隔壁を形成する過程を示す図である。同図に示すように、隔壁１４は前記絶縁層１３上に形成される。ここで、前記絶縁層１３は一種のバッファ層の役割を果たす。
次いで、図１１に示すように、Ａ領域とＢ領域の第２電極を電気的に絶縁させるべく追加的に隔壁１５を形成する。
【００５５】
次いで、図１２（ａ）、図１２（ｂ）、図１２（ｃ）に示すように、有機機能層１６を積層する。例えば、緑色発光素子の有機機能層をよく見れば以下の通りである。
【００５６】
（１）約１０ｎｍ〜２０ｎｍの厚さのｃｏｐｐｅｒ  ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ（ＣｕＰｃ）からなる正孔注入バッファ層；
（２）約３０ｎｍ〜５０ｎｍの厚さのＮ，Ｎ’−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−Ｎ，Ｎ’−ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−（１，１’−ｂｉｐｈｅｎｙｌ）−４，４’−ｄｉａｍｉｎｅ（ＴＰＤ）からなる正孔輸送層；そして
（３）約４０ｎｍ〜６０ｎｍの厚さのｔｒｉｓ（８−ｈｙｄｒｏｘｙ−ｑｕｉｎｏｌａｔｅ）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ（Ａｌｑ３）からなる発光層；
からなる。
【００５７】
発光層に、ｃｏｕｍａｒｉｎ６又はｑｕｉｎａｃｒｉｄｏｎｅ等の発光染料をドープ剤(dopant)として約１％程度添加することもある。もしも、フルカラーディスプレイパネルを制作する場合、前述したように複数個の隔壁及びシャドーマスクを用いて対応するピクセル上にそれぞれ赤色、緑色、青色の発光物質を順次積層する方法を用いることもできる。
【００５８】
図１３（ａ）、図１３（ｂ）は第２バス電極１０−ｂ’上の有機機能層１６をエッチングして第２バス電極１０−ｂ’を露出させる過程を示す図であり、これは後工程で形成される第２電極と既に形成された第２バス電極１０−ｂ’とを電気的に連結させるためである。ここで、エッチングは、反応性イオンエッチングやレーザビームエッチング等のドライエッチングを用いることが好ましい。
【００５９】
ここで、図面には第２バス電極当たり電気的なコンタクトのための窓(contact window)又は連結パッド(connection pad)１０−ｂ’が一つずつ形成されたかに図示されているが、実際には窓の個数は必要に応じて例えば各ピクセル当たり一つずつと増えることもできる。しかし、大方の場合、窓が各第２バス電極当たり一つずつあれば足りる。この理由は、一般的にＡｌ、Ｍｇ：Ａｇ、Ａｌ：Ｌｉ等の第２電極用物質が第１電極（ＩＴＯ）に比べて抵抗が遥かに低いからである。
【００６０】
次いで、図１４（ａ）、図１４（ｂ）、図１４（ｃ）に示すように、第２電極１７を形成してから、保護膜を覆って一般的なｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ工程を行うことにより、パネル制作を完成する。
【００６１】
今まで（４×４）個のサブパネルを有するディスプレイパネルの制作工程について説明したが、同じ工程概念を図１５に示すような（６×６）個のサブパネルを有する大型ディスプレイパネルの制作にも同じく適用可能である。このパネルの対称性により、図１６に示すような（３×３）個のサブパネルの制作工程だけでもその制作工程を充分に説明できる。
【００６２】
図１７から図２４は（３×３）個のサブパネル用の制作工程に関する図であり、基本的に（４×４）個のサブパネルの制作工程と類似する。しかし、次のようないくつかの相違点がある。
【００６３】
図１７（ａ）に示すように、（４×４）のサブパネルに比べて各々の第１電極当たりバス電極がもう１つ形成される必要がある（７−ａ、７−ｂ、７−ｃ）。
【００６４】
図１７（ａ）には２つのバス電極が並んで形成されているが、図２５（ｂ）の例に示すように各層当たりの一バス電極が２層に形成されてもよい。
【００６５】
図２０（ａ）の場合にも、（４×４）のサブパネルに比べて各々の第２電極当たりバス電極がもう１つ形成される必要がある（１０−ａ、１０−ｂ、１０−ｃ）。
【００６６】
上述したパネル制作技術は、（２ｍ×２ｎ）個のサブパネルを有する大型ディスプレイパネルの制作にもそのまま適用できるが、単にこの場合には図２５（ａ）、図２５（ｂ）のようにバス電極が多層構造に形成される必要があるだけである。この多層バス電極を形成するためには薄膜又は厚膜工程技術を用いることができる。参考として、図２６（ａ）、図２６（ｂ）は第１、第２バス電極を立体的に示す図である。
【００６７】
上記のようにして制作された各サブパネルは、個別の駆動回路を用いて駆動させるが、さりとて他の駆動回路から完全に独立的になるものではない。すなわち、各サブパネルが個別のスキャン及びデータラインを有しているとしても、他の回路と同期しなければならない。
【００６８】
【発明の効果】
本発明による有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法においては以下のような効果がある。
【００６９】
各々電気的に絶縁された複数個のサブパネルに分割されており、各々のサブパネルは個別に駆動可能であり、大画面ディスプレイの全面にわたって均一の画面を具現できるという利点がある。
【００７０】
また、大画面有機ＥＬディスプレイパネルを低コストに大量生産するに適する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルを示す平面図である。
【図２】（４×４）のサブパネルを有するディスプレイパネルを示す平面図である。
【図３】複数個の第１電極の帯、及び第１、第２電極のコンタクトパッドを形成する過程を示す図である。
【図４】第１電極の帯と、それに対応するコンタクトパッドとを電気的に連結する過程を示す図である。
【図５Ａ】図５Ａの（ａ）は図４の２−ｆの拡大図、図５Ａの（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’線上の断面図である。
【図５Ｂ】図５Ｂの（ａ）は第１電極の帯とそれに対応するコンタクトパッドとを電気的に連結する第２方法を示す図、図５Ｂの（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’線上の断面図である。
【図６】図６（ａ）は第１バス電極を絶縁層で覆う過程を示す図、図６（ｂ）は図６（ａ）のＡ−Ａ’線上の断面図である。
【図７Ａ】図７Ａの（ａ）は第２バス電極の絶縁バッファ層を形成する過程を示す図、図７Ａの（ｂ）は図７Ａの（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図７Ｂ】図７Ｂ（ａ）は図６（ａ）の第１バス電極用の絶縁層と図７Ａの（ａ）の第２バス電極用の絶縁バッファ層を一度に形成する過程を示す図、図７Ｂ（ｂ）、図７Ｂ（ｃ）はそれぞれ図７Ｂ（ａ）のＡ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’線上の断面図である。
【図８】図８（ａ）は第２バス電極を形成する過程を示す図、図８（ｂ）は拡大図、図８（ｃ）は図８（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図９】図９（ａ）は第２バス電極の絶縁層を形成する過程を示す図、図９（ｂ）は拡大図、図９（ｃ）は図９（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図１０】図１０（ａ）は隣接する第２電極を電気的に絶縁させて各サブパネルをピクセレーションするべく電気絶縁隔壁を形成する過程を示す図、図１０（ｂ）は拡大図、図１０（ｃ）は図１０（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図１１】  Ａ領域とＢ領域の第２電極を電気的に絶縁させるための電気絶縁隔壁を形成する過程を示す図である。
【図１２】図１２（ａ）は有機機能層を形成する過程を示す図、図１２（ｂ）拡大図、図１２（ｃ）は図１２（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図１３】図１３（ａ）は第２電極バス１０−ｂ’上の有機機能層をエッチングして第２バス電極１０−ｂ’を露出させる過程を示す図、図１３（ｂ）は拡大図である。
【図１４】図１４（ａ）は第２電極を形成する過程を示す図、図１４（ｂ）は拡大図、図１４（ｃ）は図１４（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図１５】（６×６）サブパネルを有するディスプレイパネルを示す図である。
【図１６】複数個の第１電極の帯、及び第１、第２電極のコンタクトパッドを形成する過程を拡大して示す図である。
【図１７】図１７（ａ）は第１電極の帯とそれに対応するコンタクトパッドとを電気的に連結する過程を示す図、図１７（ｂ）は図１７（ａ）のＡ−Ａ’線上の断面図である。
【図１８】図１８（ａ）は第１バス電極を絶縁層で覆う過程を示す図、図１８（ｂ）は図１８（ａ）のＡ−Ａ’線上の断面図である。
【図１９】図１９（ａ）は第２バス電極の絶縁バッファ層を形成する過程を示す図、図１９（ｂ）は図１９（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図２０】図２０（ａ）は第２バス電極を形成する過程を示す図、図２０（ｂ）は拡大図、  図２０（ｃ）は図２０（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図２１】図２１（ａ）は第２バス電極の絶縁層を形成する過程を示す図、図２１（ｂ）は拡大図、図２１（ｃ）は図２１（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図２２】図２２（ａ）は隣接する第２電極を電気的に絶縁させて各サブパネルをピクセレーションするための電気絶縁隔壁、及びＣ、Ｄ、Ｅ領域の第２電極をそれぞれ電気的に絶縁させるための電気絶縁隔壁を形成する過程を示す図、図２２（ｂ）は拡大図、  図２２（ｃ）は図２２（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図２３】図２３（ａ）は有機機能層を形成する過程、及び第２バス電極１０−ｂ’上の有機機能層をエッチングして第２バス電極１０−ｂ’を露出させる過程を示す図、図２３（ｂ）は拡大図、図２３（ｃ）は図２３（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図２４】図２４（ａ）は第２電極を形成する過程を示す図、図２４（ｂ）は拡大図、図２４（ｃ）は図２４（ａ）のＢ−Ｂ’線上の断面図である。
【図２５】図２５（ａ）は絶縁層を挟んで一層当たり２つの第２バス電極を有する積層構造を示す図、図２５（ｂ）は一層当たり１つの第２バス電極を有する積層構造を示す図である。
【図２６】図２６（ａ）、図２６（ｂ）はそれぞれ図２５（ａ）及び図２５（ｂ）の第１、第２バス電極を立体的に示す図である。
【符号の説明】
１  パネル
２  サブパネル
３  基板
４  第１電極の帯
５、６  コンタクトパッド
７  第１バス電極
８  電気絶縁層
９  電気絶縁バッファ層
１０  第２バス電極
１１  オープン領域
１２  第１電極で覆われた領域
１３  電気絶縁層
１４、１５  隔壁
１６  有機機能層
１７  第２電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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