(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）に、リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）及び下記〔化１−１〕の一般式（Ｉ）で表される化合物を含有させてなり、
上記リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）は、下記〔化１−２〕の一般式（II）で表される縮合型のリン酸エステル化合物である難燃性合成樹脂組成物。
【化１−１】
0004255170.tif 000026
【化１−２】
0004255170.tif 000027
【請求項２】
ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）とスチレン系高分子化合物（Ｃ）とからなる多成分高分子化合物に、リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）及び下記〔化２−１〕の一般式（Ｉ）で表される化合物を含有させてなり、
上記リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）は、下記〔化２−２〕の一般式（II）で表される縮合型のリン酸エステル化合物である難燃性合成樹脂組成物。
【化２−１】
0004255170.tif 000028
【化２−２】
0004255170.tif 000029
【請求項３】
上記スチレン系高分子化合物（Ｃ）が、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）樹脂である請求項２記載の難燃性合成樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ハロゲン系難燃剤を含まなくとも、耐候性、耐熱性、耐衝撃性、形成性に優れた難燃性合成樹脂組成物に関し、詳しくは、ポリカーボネート系高分子化合物又はポリカーボネート系高分子化合物とスチレン系高分子化合物とからなる多成分高分子化合物にリン酸エステル系難燃剤を含有してなる樹脂組成物に、特定の構造を有するリン酸エステル金属塩難燃助剤を含有させてなる難燃性合成樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
ポリカーボネート系高分子化合物及びポリカーボネート系高分子化合物にＡＢＳ、ＡＳ等の耐衝撃性に優れたスチレン系高分子化合物を混合した多成分高分子化合物は、耐候性、耐熱性、耐衝撃性に優れることから、電気・電子機器分野、通信機器分野、複写機、プリンター、ファクシミリ、パーソナルコンピューター等のＯＡ機器分野のハウジング材として広く応用されており、また、自動車部品分野でも金属製品の代替材料として期待されている。
【０００３】
また、これらの合成樹脂組成物を使用した成型品には、難燃性が求められており、これについてはアメリカの難燃規格であるアンダーライターズラボラトリーズ社のサブジェクト９４（以下、「ＵＬ−９４」と記す。）に基づいて評価されている。ＵＬ−９４では、試験片に着火後、自然消火するまでの消炎時間、燃焼に伴う樹脂垂れ（ドリップ）有無により難燃性を評価しており、上記用途の合成樹脂組成物についてドリップがないこと、消炎時間の短いことが求められている。
【０００４】
合成樹脂組成物に難燃性を付与する難燃剤は、従来、ハロゲン系有機化合物と三酸化アンチモンを組み合わせた系が用いられてきたが、ハロゲン化合物による成形金型の汚染、燃焼、焼却時に発生する有毒ガス、環境問題から、ハロゲンを含有しないものが求められている。
【０００５】
上記問題に対し、ポリカーボネート系高分子化合物又はポリカーボネート系高分子化合物とスチレン系高分子化合物とからなる多成分高分子化合物に、芳香族リン酸エステルに代表されるリン系の難燃剤を用いる方法が検討されている。例えば、米国特許第５，２０４，３９４号明細書、米国特許第５，１１２，５５６号明細書、特開平５−２６２９４０号公報、特開平７−２６１２９号公報、特開平１０−１６８２７３号公報等に、リン酸エステル系難燃剤の使用について報告されている。
【０００６】
しかし、リン酸エステル系難燃剤は、高い難燃性を得るには添加量を多く必要とするため、成形品の物性に影響が出ることがあり、難燃性と物性とを同時に満足することは困難であった。
【０００７】
また、特許第２５８１７７７号公報に、ポリカーボネート系高分子化合物にリン酸エステル金属塩を使用した難燃性ポリカーボネート樹脂組成物が報告されている。
【０００８】
しかし、上記組成物は、リン酸エステル金属塩の使用量が少量の場合は、効果が不充分であり、更にスチレン系高分子化合物を加えた多成分系高分子化合物では、効果が全く不充分であること、使用量が多量の場合は、ドリップが激しくなることが欠点であった。
【０００９】
従って、本発明の目的は、樹脂成分として、ポリカーボネート系高分子化合物又はポリカーボネート系高分子化合物とスチレン系高分子化合物とからなる多成分高分子化合物を用いてなり、耐候性、耐熱性及び耐衝撃性等の物性が良好で且つ難燃性に優れた樹脂組成物を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有するリン酸エステル金属塩を難燃助剤として添加することにより、物性を損なうほどの多量のリン酸エステル系難燃剤を使用しなくとも、上記目的を達成し得ることを知見した。
【００１１】
本発明は、上記知見に基づきなされたもので、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）に、リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）及び下記〔化３−１〕（前記〔化１−１〕と同じ）の一般式（Ｉ）で表される化合物を含有させてなり、
上記リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）は、下記〔化３−２〕（前記〔化１−２〕と同じ）の一般式（II）で表される縮合型のリン酸エステル化合物である難燃性合成樹脂組成物を提供するものである。
【００１２】
【化３−１】
0004255170.tif 000002
【化３−２】
0004255170.tif 000003
【００１３】
また、本発明は、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）とスチレン系高分子化合物（Ｃ）とからなる多成分高分子化合物に、リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）及び上記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有させてなり、
上記リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）は、上記一般式（II）で表される縮合型のリン酸エステル化合物である難燃性合成樹脂組成物を提供するものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の難燃性合成樹脂組成物について詳述する。
【００１５】
本発明に用いられる上記一般式（Ｉ）で表される化合物（リン酸エステル金属塩）において、Ｒ、Ｒ1 及びＲ2 で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ、Ｍで表されるアルカリ金属原子としては、ナトリウム、カリウム、リチウム等が挙げられ、アルカリ土類金属原子としては、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等が挙げられる。
【００１６】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、下記の化合物Ｎｏ．1 〜７等が挙げられる。但し、本発明は以下の例示化合物により何ら限定されるものではない。
【００１７】
【化４】
0004255170.tif 000004
【００１８】
【化５】
0004255170.tif 000005
【００１９】
【化６】
0004255170.tif 000006
【００２０】
【化７】
0004255170.tif 000007
【００２１】
【化８】
0004255170.tif 000008
【００２２】
【化９】
0004255170.tif 000009
【００２３】
【化１０】
0004255170.tif 000010
【００２４】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、オキシ塩化リンと２，２' −メチレンビスフェノール誘導体とを反応させた後、加水分解して環状酸性リン酸エステルとし、次いで水酸化ナトリウム等の金属水酸化物と反応させ、次に、濾過、乾燥した後、必要に応じてこれを粉砕することで得られる。
【００２５】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物の添加量は、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）１００重量部に対して、０．００５重量部未満では効果が得られ難く、５重量部を超えても添加効果の向上が見られないだけではなくドリップし易くなるので、０．００５〜５重量部が好ましく、０．０５〜１重量部がより好ましい。
【００２６】
本発明に用いられるポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）とは、カーボネート結合を有するポリマーのことであり、例えば、ヒドロキシル基を２個以上含有し、その各々が芳香族の炭素原子に直接結合している単環又は多環の芳香族化合物（以下、「多価ヒドロキシ芳香族化合物」と記す。）とカーボネート前駆体とから得ることができる。該ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）は、その構造、製造方法、連鎖停止剤、分子量等に特に制限を受けることはなく、分岐していてもよい。また、一種類又は二種類以上の混合物で使用してもよく、更には、例えば、ポリエステル等周知一般の、ポリカーボネートと混合して用いられる高分子成分を含んでいてもよい。
【００２７】
上記ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）は、二価ヒドロキシ芳香族化合物とカーボネート前駆体とから得られるものが一般的であり、下記〔化１１〕の一般式(III) で表される化合物が好ましい。
【００２８】
【化１１】
0004255170.tif 000011
【００２９】
上記一般式(III) において、Ｒ8 、Ｒ9 及びＲ10で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ、アルコキシ基としては、これらアルキル基から誘導される基が挙げられ、シクロアルキル基としては、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン又はその置換体等が挙げられ、アリール基、アルキルアリール基としては、フェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、オクチルフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、ナフチル等が挙げられ、アリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル等が挙げられ、Ｘで表されるアルキレン基としては、メチレン、エチレン、エタン−１，１−ジイル、プロピレン、プロパン−２，２−ジイル、１−メチルエチレン、ブチレン、１−メチルプロピレン、２−メチルプロピレン、２，２−ジメチルプロピレン、１，３−ジメチルプロピレン、ブチレン、１−メチルブチレン、２−メチルブチレン、３−メチルブチレン、４−メチルブチレン、２，４−ジメチルブチレン、１，３−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン等が挙げられ、シクロアルキリデン基としては、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデンやその置換体等が挙げられる。
【００３０】
ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）の原料として用いられる多価ヒドロキシ芳香族化合物は、上記一般式(III) に対応するものが挙げられ、具体的には、レゾルシン、カテコール、ハイドロキノン、３−メチルレゾルシン、３−エチルレゾルシン、３−プロピルレゾルシン、３−ブチルレゾルシン、３−第三ブチルレゾルシン、３−フェニルレゾルシン、３−クミルレゾルシン、３−メチルハイドロキノン、３−エチルハイドロキノン、３−プロピルハイドロキノン、３−ブチルハイドロキノン、３−第三ブチルハイドロキノン、３−フェニルハイドロキノン、３−クミルハイドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類；４，４' −ジヒドロキシジフェニル等のビスヒドロキシアリール類；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，４，４−トリメチルシクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）シクロドデカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；１，４−ビス（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）ベンゼン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）ベンゼン等のビス（ヒドロキシアリール）アリール類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）エタン、１，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３−シクロヘキシルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３−メトキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソブタン、２，２−ビス（４−ヒ  ドロキシ）ブタン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル２−メチル）ブタン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）ケトン等のジヒドロキシアリールケトン類；４，４' −ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４' −ジヒドロキシ−３，３' −ジメチルフェニルエーテル、４，４' −ジヒドロキシ−２，５―ジヒドロキシジフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類；４，４' ���チオジフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４，４' −ジヒドロキシ−３，３' −ジメチルジフェニルスルフィド、４，４' −ジヒドロキシ−３，３' −ジメチルジフェニルスルホキシド、４，４' −ジヒドロキシ−３，３' −ジメチルジフェニルスルホキシド、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４' −ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４' −ジヒドロキシ−３，３' −ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシアリール硫黄化合物類やフェノールフタレインが挙げられ、又上記一般式(III) に対応するもの以外の例としては、２，２，２' ，２' −テトラヒドロ−３，３，３' ，３' −テトラメチル−１，１' −スピロビス（１Ｈ−インデン）−７，７' −ジオール等の縮合環を有するものが挙げられ、これらは一種類又は二種類以上混合で用いてもよく、更に三価以上の多価ヒドロキシ芳香族化合物との混合で用いてもよい。
【００３１】
また、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）の原料であるカーボネート前駆体としては、例えば、カルボニルハライド、カルボニルエステル、ハロホルメート等が挙げられ、好適な具体例としては、ホスゲン、炭酸ジエステル、ジフェニルカーボネート、二価フェノールのジハロホルメート及びこれらの混合物等が挙げられる。
【００３２】
ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）の分子量は、１万未満であると形成品の衝撃性低下がおこる場合があり、２０万を超えると流動性が低下し加工が困難になる場合があるので、１〜２０万が好ましく、２〜６万がより好ましい。
【００３３】
上記理由により、その製造時にポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）の分子量の制御をするため連鎖停止剤が使用される場合がある。この場合、使用される連鎖停止剤としては、例えば、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｐ−第三ブチルフェノール、２，４，６−トリブロモフェノール、４−（１，３−テトラメチルブチル）フェノール等の長鎖アルキルフェノール類；３，５−ジ第三ブチルフェノール、ｐ−イソオクチルフェノール、ｐ−第三オクチルフェノール、ｐ−ドデシルフェノール、２−（３，５−ジメチルヘプチル）フェノール、４−（３，５−ジメチルヘプチル）フェノール等のフェノール系化合物が挙げられ、一般的な使用量は、用いた多価ヒドロキシ芳香族化合物のジフェノールの０．５〜１０モル％である。
【００３４】
本発明に用いられるリン酸エステル系難燃剤（Ｂ）としては、下記〔化１２〕の一般式（II）で表される縮合型のリン酸エステル化合物を用いる。
【００３５】
【化１２】
0004255170.tif 000012
【００３６】
上記一般式（II）におけるＲ3 、Ｒ4 、Ｒ6 及びＲ7 で表される炭素数１〜３０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、ペンチル、ヘキシル、へプチル、オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、エイコシル、ベヘニル、トリコシル等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、アルケニル基としては、ビニル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等の直鎖又は分岐のアルケニル基が挙げられ、アリール基、アルキルアリール基としては、例えば、フェニル、クレジル、２，６−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチルフェニル、２，４−ジ第三ペンチルフェニル、２，４−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ナフチル、ビフェニル等が挙げられ、アリールアルキル基としては、例えば、ベンジル、フェニルエチル等が挙げられる。
【００３７】
Ｒ5 で表されるアルキレン基としては、例えば、エチレン、プロピレン、テトラメチレン等が挙げられ、アリーレン基としては、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、２，５−ジメチル−１，４−フェニレン、ジフェニルメタン−４，４' −ジイル、２，２−ジフェニルプロパン−４，４' −ジイル、ジフェニルスルフィド−４，４' −ジイル、ジフェニルスルフォン−４，４' −ジイル等が挙げられる。
【００３８】
リン酸エステル難燃剤（Ｂ）としては、より具体的には、下記の化合物Ｎｏ．８〜１５等が挙げられる。但し、以下の化合物により本発明は何等制限を受けるものではない。
【００３９】
【化１３】
0004255170.tif 000013
【００４０】
【化１４】
0004255170.tif 000014
【００４１】
【化１５】
0004255170.tif 000015
【００４２】
【化１６】
0004255170.tif 000016
【００４３】
【化１７】
0004255170.tif 000017
【００４４】
【化１８】
0004255170.tif 000018
【００４５】
【化１９】
0004255170.tif 000019
【００４６】
【化２０】
0004255170.tif 000020
【００４７】
上記リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）として用いられる上記化合物の製造方法としては、特に制約はなく、公知のいかなる方法も利用できる。例えば、オキシ塩化リンと各フェノール化合物とをルイス酸触媒の存在下に脱塩酸反応を行う方法、オキシ塩化リンと２，６−キシレノールとを反応した後、２価フェノールと反応する方法、トリフェニルホスフェートとレゾルシノール等の多価フェノールとを塩化マグネシウム等の触媒を用いてエステル交換反応させる方法等が挙げられる。これらの反応は必要に応じて過剰のフェノールを減圧留去したり、吸着剤や水洗等により触媒を失活除去する工程と組み合わせて行うことが好ましい。
【００４８】
本発明の難燃性合成樹脂組成物における上記リン酸エステル系難燃剤（Ｂ）の使用量は、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）１００重量部に対して、０．１重量部未満では効果が得られ難く、３０重量部を超えても添加効果の向上が見られ難いばかりでなく、加工性、成型品の物性に悪影響を及ぼすおそれがあるので、０．１〜３０重量部が好ましく、１〜２０重量部がより好ましい。
【００４９】
本発明の難燃性合成樹脂組成物には、燃焼時の樹脂垂れ（ドリップ）を防止するために周知一般のドリップ防止剤を使用できる。本発明において好適なドリップ防止剤としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリヘキサフルオロプロピレン等のフッ素系樹脂や、パーフルオロメタンスルホン酸ナトリウム塩、パーフルオロ−ｎ−ブタンスルホン酸カリウム塩、パーフルオロ−ｔ−ブタンスルホン酸カリウム塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ナトリウム塩、パーフルオロ−２−エチルヘキサンスルホン酸カルシウム塩等のパーフルオロアルカンスルホン酸アルカリ金属塩化合物又はパーフルオロアルカンスルホン酸アルカリ土類金属塩、シリコンゴム類が挙げられ、これらは一種類又は二種類以上混合で用いることができる。
【００５０】
これらのドリップ防止剤の使用量は、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）１００重量部に対して、０．０５重量部未満ではドリップ防止効果が小さく、５重量部を超えると成型品の熱収縮が大きくなり、寸法精度が低下する場合があり又コスト高となるので、０．０５〜５重量部が好ましく、０．１〜２重量部がより好ましい。
【００５１】
本発明の難燃性合成樹脂組成物には、更に安定化を付与する場合、必要に応じて、樹脂の混合時、成型時等の任意の段階において、汎用の紫外線吸収剤、抗酸化剤、光安定剤等の添加剤を添加することができる。
【００５２】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、５，５' −メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２' −メチレンビス（４−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−カルボキシフェニル）ベンゾトリアゾールのポリエチレングリコールエステル、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−アクリロイルオキシエチル）−５−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−５−第三ブチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−５−第三オクチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−５−第三ブチルフェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三アミル−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（３−メタクリロイルオキシプロピル）フェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシメチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイルオキシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾール等の２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−Ｃ１２〜１３混合アルコキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル〕−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシ−３−アリルフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリア��ン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等の２−（２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，５−トリアジン類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−２' −エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４' −ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシアノアクリレート類；各種の金属塩又は金属キレート、特にニッケル又はクロムの塩又はキレート類等が挙げられる。
【００５３】
これらの紫外線吸収剤の使用量は、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）１００重量部に対して、０．００５重量部未満ではその安定化効果が充分には得られず、３０重量部を超えて使用しても添加効果の向上が見られ難く無駄となるおそれがあるので、０．００５〜３０重量部が好ましく、０．０５〜２０重量部がより好ましい。
【００５４】
上記抗酸化剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ビス（２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェニル）・エチルホスファイト、ジフェニルアシッドホスファイト、２，２' −メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホスファイト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、ビス（ネオペンチルグリコール）・１，４−シクロヘキサンジメチルジホスフィト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、フェニル−４，４' −イソプロピリデンジフェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（Ｃ１２〜１５混合アルキル）−４，４' −イソプロピリデンジフェニルホスファイト、ビス[ ２，２' −メチレンビス( ４，６−ジアミルフェニル)]・イソプロピリデンジフェニルホスファイト、水素化−４，４' −イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス( オクチルフェニル) ・ビス[ ４，４' −ｎ−ブチリデンビス( ２−第三ブチル−５−メチルフェノール)]・１，６−ヘキサンジオール・ジホスファイト、テトラトリデシル・４，４' −ブチリデンビス( ２−第三ブチル−５−メチルフェノール) ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）・１，１，３−トリス（２−メチル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン・トリホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２−ブチル−２−エチルプロパンジオール・２，４，６−トリ第三ブチルフェノールモノホスファイト等のリン系抗酸化剤；
【００５５】
２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、トリデシル・３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオアセテート、チオジエチレンビス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４，４' −チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２−オクチルチオ−４，６−ジ（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−ｓ−トリアジン、２，２' −メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス[ ３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド] グリコールエステル、４，４' −ブチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２' −エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス[ ２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル] テレフタレート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリス[ （３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル] イソシアヌレート、テトラキス[ メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート] メタン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、３，９−ビス[ ２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルヒドロシンナモイルオキシ）−１，１−ジメチルエチル] −２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン] 、トリエチレングリコールビス［β−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］等のフェノール系抗酸化剤；
【００５６】
チオジプロピオン酸のジラウリル、ジミリスチル、ミリスチルステアリル、ジステアリルエステル等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類等の硫黄系抗酸化剤が挙げられる。
【００５７】
これらの抗酸化剤の使用量は、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）１００重量部に対して、０．０１重量部未満ではその安定化効果が充分に得られ難く、５０重量部を超えて使用しても添加効果の上昇が見られ難いので、０．０１〜５０重量部が好ましく、０．５〜３０重量部がより好ましい。
【００５８】
更に、本発明の難燃性合成樹脂組成物には、必要に応じて、ガラス繊維、炭素繊維、ポリアミド繊維、芳香族ポリエステル繊維等の補強繊維材、炭酸カルシウム、タルク、シリカ、カーボンブラック、酸化チタン等の充填剤、顔料、染料等の着色剤、滑剤、帯電防止剤、離型剤、流動性改良剤等の周知一般の添加剤を樹脂の混合時、成型時等の任意の段階において配合することができる。
【００５９】
本発明の難燃性合成樹脂組成物は、電気・電子機器分野、通信機器分野、ＯＡ機器分野のハウジング材、例えば、複写機、プリンター、ファクシミリ、パーソナルコンピューター等や、自動車部品分野の金属製品の代替材料等の用途に用いられる。
【００６０】
また、本発明の難燃性合成樹脂組成物は、上記ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）に変えて、該ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）とスチレン系高分子化合物（Ｃ）とからなる多成分高分子化合物を用いることもできる。尚、この場合、各成分の使用量の基準は、上記高分子化合物（Ａ）に変えて上記多成分高分子化合物とする。
【００６１】
ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）とスチレン系高分子化合物（Ｃ）とからなる多成分高分子化合物において、これを構成するスチレン系高分子化合物（Ｃ）とは、スチレンに代表される芳香族ビニル化合物を必須原料とし、他の樹脂原料を任意成分として用いて得られる高分子化合物のことであり、これらはその構造、製造方法、分子量等に特に制限を受けることなく使用できる。
【００６２】
上記スチレン系高分子化合物（Ｃ）の必須原料として使用される芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、ビニルナフタレンやα−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、エチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノブロモスチレン、ジムロモスチレン、フルオロスチレン、ｐ−第三ブチルスチレン等のハロゲン原子及び／又はアルキル基及び／又はアルケニル基で１〜５置換されたスチレン置換体が挙げられ、任意成分として使用される樹脂原料としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル類；アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和カルボン酸類；炭素数１〜８のアルキルアクリルレート、炭素数１〜８のアルキルメタクリレート等のα，β−不飽和カルボン酸エステル類；無水マレイン酸、無水イタコン酸等のα，β−不飽和ジカルボン酸無水物及びその誘導体類；マレイミド、Ｎ−マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−クロロフェニルマレイミド等のα，β−不飽和カルボン酸イミド類；イソプレン、ブタジエン、クロロプレン等の共役ジエン化合物類；エポキシ変性共役ジエン化合物類；エチレン、プロピレン等のオレフィン類；酢酸ビニルが挙げられる。
【００６３】
スチレン系高分子化合物（Ｃ）は、芳香族ビニル化合物が少なくとも一種類用いられていればよく、二種類以上の高分子化合物の混合物でもよい。二種類以上の混合物の製造法としては、溶融ブレンド法、練りブレンド法、溶融キャスト法、溶液法等のブレンド法や、グラフト法、ブロック法、ランダム法、相互法等の共重合法、溶融グラフト法、ブロックグラフト共重合法等が挙げられる。
【００６４】
上記スチレン系高分子化合物（Ｃ）の具体例としては、ポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン（ＨＩＰＳ）樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）樹脂、塩化ポリエチレンアクリロニトリルスチレン（ＡＣＳ）樹脂、スチレンアクリロニトリル（ＳＡＮ）樹脂、アクリロニトリルブチルアクリレートスチレン（ＡＡＳ）樹脂、ブタジエンスチレン樹脂、スチレンマレイン酸樹脂、スチレンマレイミド樹脂、エチレンプロピレンアクリロニトリルスチレン（ＡＥＳ）樹脂、ブタジエンメタクリル酸メチルスチレン（ＭＢＳ）樹脂等が挙げられる。
【００６５】
上記スチレン系高分子化合物（Ｃ）の種類及び使用量は、目的とする成形体の物性により適宜選択されるが、ハウジング材、自動車部品用途には、ＡＢＳ樹脂が好適であり、その使用量は、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）１００重量部に対し、１〜５０重量部が好ましく、１０〜４０重量部がより好ましい。
【００６６】
また、ポリカーボネート系高分子化合物（Ａ）とスチレン系高分子化合物（Ｃ）とからなる多成分高分子化合物については、その製造方法、分子量等に特に制限を受けることはない。
【００６７】
【実施例】
以下、本発明を実施例及び比較例によって更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により何等制限されるものではない。
【００６８】
（実施例１）
ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂（ユーピロンＥ−２０００Ｆ：三菱瓦斯化学社製）１００重量部、表１記載の難燃剤、難燃助剤をドライブレンドし、２８０℃で単軸押出機を用いてペレット化した。得られたペレットをオーブンで１２０℃、６時間乾燥した後、３００℃のシリンダー温度で射出成型器を用いて、金型温度１００℃で５インチ×１／２インチ×１／８インチの試験片を作成した。得られた試験片についてＵＬ−９４テスト（消炎時間測定）及びブリード評価を行った。それらの結果を表１に示す。
【００６９】
【表１】
0004255170.tif 000021
【００７０】
（実施例２）
ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂（ユーピロンＥ−２０００Ｆ：三菱瓦斯化学社製）８０重量部とＡＢＳ樹脂（スタイラック１００：旭化成工業社製）２０重量部をへンシェルミキサーで混合し、オーブンで１２０℃、６時間乾燥した後、ドリップ防止剤であるポリテトテフルオルエチレン（テフロン６Ｊ：三井・デュポンフロロケミカル社製）０．１２重量部、表２〜４記載の難燃剤、難燃助剤をドライブレンドし、２６０℃で単軸押出機を用いてペレット化した。得られたペレットをオーブンで１２０℃、６時間乾燥した後、２６０℃のシリンダー温度で射出成型器を用いて、金型温度１００℃で５インチ×１／２インチ×１／８インチの試験片を作成した。得られた試験片についてＵＬ−９４テスト（消炎時間、ドリップ評価）、ブリード評価を行った。それらの結果を表２（難燃助剤の比較）、表３（難燃剤の比較）、表４（濃度の比較）に纏めた。尚、表２〜４には、それぞれの比較を明瞭にするために一部重複して記載した例もある。
【００７１】
【表２】
0004255170.tif 000022
【００７２】
【表３】
0004255170.tif 000023
【００７３】
【表４】
0004255170.tif 000024
【００７４】
（実施例３）
ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂（ユーピロンＥ−２０００Ｆ：三菱瓦斯化学社製）６０重量部、ＡＢＳ樹脂（スタイラック１００：旭化成工業社製）４０重量部、及び表５に記載の難燃剤、難燃助剤を用いた以外は、実施例２と同様に試験片を作成し、各評価を行った。それらの結果を表５に示す。
【００７５】
【表５】
0004255170.tif 000025
【００７６】
【発明の効果】
本発明は、ポリカーボネート系高分子化合物又はポリカーボネート系高分子化合物とスチレン系高分子化合物とからなる多成分高分子化合物を含有してなる樹脂組成物であって、耐候性、耐熱性及び耐衝撃性等の物性が良好で且つ難燃性に優れたものである。