(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［Ｉ］
【化１】
0004209995.tif 000083
｛式中、ＲはＣ２〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ２〜Ｃ６のアルキニル基、Ｃ３〜Ｃ６のシクロアルキル基又はＣ４〜Ｃ９のシクロアルキルアルキル基を示し、
ｎは０〜２の整数を示し、
Ａｒ基は一般式、
【化２】
0004209995.tif 000084
で表される基を示し、上記式中、
Ｑ１は窒素原子又はＣ−Ａ１を示し、
Ｑ２はＣ−Ａ２を示し、
Ｑ３は窒素原子又はＣ−Ａ３を示し、
Ｑ４は窒素原子又はＣ−Ａ４を示し、
Ｑ５は窒素原子又はＣ−Ａ５を示し、
Ｑ６は硫黄原子を示し、
Ｑ７はＣ−Ａ７を示し、
Ｑ８は窒素原子又はＣ−Ａ８を示し、
Ａ１は水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基又はＣ１〜Ｃ４のハロアルキル基を示し、
Ａ２は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はＣ１〜Ｃ６のアルコキシ基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）を示し、
Ａ３は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はＣ１〜Ｃ７のアシル基を示し、
Ａ４は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はＣ１〜Ｃ６のアルコキシ基を示し、
Ａ５は水素原子、ハロゲン原子を示し、
Ａ６は水素原子を示し、
Ａ７は水素原子を示し、
Ａ８は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はＮＲ１Ｒ２（式中、Ｒ１及びＲ２は水素原子を示す。）を示し、
Ａ９は水素原子又はハロゲン原子を示し、
Ａ１０は水素原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）を示し、
Ａ１１は水素原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）を示し、
Ｂ０は水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４のハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はＣ１〜Ｃ６のアルコキシ基を示し、
Ｂ１は水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）を示し、
Ｂ２は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子又はＣ２〜Ｃ７のアルコキシカルボニル基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基（該基はハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ７のアシル基、カルボキシル基又はＮＲ１Ｒ２（式中、Ｒ１及びＲ２は互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基Ｃ１〜Ｃ７のアシル基又はＣ２〜Ｃ７のアルコキシカルボニル基を示す。）を示し、
Ｂ３は水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示し、
ただし、
Ａｒ基が一般式［Ａｒ−１］及び［Ａｒ−２］中のＱ１〜Ｑ５は最大２個までが窒素原子になり得、
さらにＡｒ基が一般式［Ａｒ−１］でかつＱ５のみが窒素原子である場合にはＡ１は水素原子であり、又、
Ａｒ基が一般式［Ａｒ−１］でかつＱ１〜Ｑ５全てが窒素原子でない時においては、Ａ２、Ａ３、Ａ４及びＢ２が同時に水素原子であることはなく、
Ａ１からＡ５全てが水素原子の場合には、Ｂ２がメチル基でＲがイソプロピル基である化合物を除き、
Ａｒ基が一般式［Ａｒ−４］でかつＱ８がＣ−Ａ８の時においては、ＲはＣ２〜Ｃ６のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ３〜Ｃ６のシクロアルキル基又はＣ４〜Ｃ９のシクロアルキルアルキル基（を示す。｝にて表される３−アリールフェニルスルフィド誘導体。
【請求項２】
Ａ１、Ａ５、Ａ７及びＡ１１が水素原子であり、Ｒがエチル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、ｎ−プロピル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はシクロプロピルメチル基である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ａｒ基が一般式［Ａｒ−１］又は一般式［Ａｒ−４］である請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ａｒ基が一般式［Ａｒ−１］であり、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４及びＱ５が、それぞれ、Ｃ−Ａ１、Ｃ−Ａ２、Ｃ−Ａ３、Ｃ−Ａ４及びＣ−Ａ５を示す請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ａｒ基が一般式［Ａｒ−４］である請求項１記載の化合物。
【請求項６】
請求項１記載の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を有効成分として含有する殺虫、殺ダニ剤。
【請求項７】
請求項２記載の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を有効成分として含有する殺虫、殺ダニ剤。
【請求項８】
請求項３記載の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を有効成分として含有する殺虫、殺ダニ剤。
【請求項９】
請求項４記載の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を有効成分として含有する殺虫・殺ダニ剤。
【請求項１０】
請求項５記載の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を有効成分として含有する殺虫、殺ダニ剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、新規な３−アリールフェニルスルフィド誘導体及びこれを有効成分として含有する殺虫、殺ダニ剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
３−メチルチオビフェニル誘導体については、東ドイツ特許１４２５４１号公報明細書、東ドイツ特許１４２５４２号公報明細書、特開平７−２６５５号公報明細書及びテトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、第３９巻、第２２８９頁（１９８３年）に記載の化合物、テトラヘドロン・レタ−（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．）、第２５巻、第４４号、第５０９５頁（１９８４年）等に知られており、３−ピリジルフェニルスルフィド誘導体についてはドイツ特許４３２３９１６号公報明細書及び国際出願ＷＯ９５／０２５８０号公報明細書等に知られているが、殺虫、殺ダニ剤について何等記載がない。また、３−アゾリルフェニルスルフィド誘導体については、国際出願ＷＯ９６／０６８３０号公報明細書、特開平２−１８４６７５号公報明細書、特開昭６０−２３３０６１号公報明細書、欧州特許１５２８９０号公報明細書、南アフリカ特許６８００９５５号公報明細書及びドイツ特許３３１６３００号公報明細書等に知られているが、殺虫、殺ダニ剤について何等記載がない。一方、４−ビフェニルスルフィド誘導体については、殺虫剤として使用し得ることが、例えば、米国特許３４４２９５５号明細書等に報告されているが、本発明の３−アリールフェニルスルフィド誘導体は未だ知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
近年、既存の市販殺虫剤には残留、蓄積、環境汚染等の問題から使用が規制されたり、長期使用によって抵抗性害虫が発生し、効力の薄れたものも出ている。そのため低薬量において高い効力を有し、安全性に優れた殺虫剤の開発が望まれている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、このような状況に鑑み種々の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を合成し、その生理活性について検討を重ねた。その結果、本発明化合物が種々の有害生物、特に農園芸有害生物であるナミハダニ、カンザワハダニ、ミカンハダニ等に代表されるダニ類、コナガ、ニカメイガ、シロイチモジヨトウ等に代表される鱗翅目害虫、トビイロウンカ、ツマグロヨコバイ、ワタアブラムシ等に代表される半翅目害虫及びアズキゾウムシ等に代表される鞘翅目害虫に卓効を示すことを見いだし、本発明を完成したものである。
【０００５】
即ち、本発明は（１）一般式［Ｉ］
【０００６】
【化３】
0004209995.tif 000002
【０００７】
｛式中、ＲはＣ2〜Ｃ6のアルキル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ2〜Ｃ6のアルケニル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ2〜Ｃ6のアルキニル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ3〜Ｃ6のシクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はＣ4〜Ｃ9のシクロアルキルアルキル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）を示し、ｎは０〜２の整数を示し、Ａｒ基は一般式、
【０００８】
【化４】
0004209995.tif 000003
【０００９】
で表される基を示し、上記式中、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4及びＱ5は、それぞれ、窒素原子又はＣ−Ａ1、窒素原子又はＣ−Ａ2、窒素原子又はＣ−Ａ3、窒素原子又はＣ−Ａ4及び窒素原子又はＣ−Ａ5を示し、Ｑ6は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｑ7は窒素原子又はＣ−Ａ7を示し、Ｑ8は窒素原子又はＣ−Ａ8を示し、Ａ1、Ａ5、Ａ7、Ａ11及びＢ0は水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ4のハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6のアルキルチオ基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はＣ1〜Ｃ6のアルコキシ基を示し、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ6、Ａ9、Ｂ1、Ｂ2及びＢ3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6のアルキル基（該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、Ｃ2〜Ｃ7のアルコキシカルボニル基又はＣ1〜Ｃ6のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ2〜Ｃ6のアルケニル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ2〜Ｃ6のアルキニル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ6のアルコキシ基（該基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ2〜Ｃ5のアルコキシカルボニル基又はＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ6のアルキルチオ基（該基はハロゲン原子又はＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ6のアルキルスルフィニル基（該基はハロゲン原子又はＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ6のアルキルスルホニル基（該基はハロゲン原子又はＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ7のアシル基、Ｃ2〜Ｃ5のハロアルキルカルボニル基、カルボキシル基、Ｃ2〜Ｃ7のアルコキシカルボニル基又はＮＲ1Ｒ2［式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6のアルキル基（該基はハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、Ｃ1〜Ｃ6のアルコキシ基又はＣ1〜Ｃ6のアルキルチオ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ2〜Ｃ6のアルケニル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ2〜Ｃ6のアルキニル基（該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ7のアシル基又はＣ2〜Ｃ7のアルコキシカルボニル基を示す。Ｒ1及びＲ2はこれらの結合した窒素原子と共に５から６員環を形成してもよい。］を示し、Ａ8は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ6のアルキル基（該基はハロゲン原子又はＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ6のアルコキシ基（該基はハロゲン原子又はＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ7のアシル基、Ｃ2〜Ｃ5のハロアルキルカルボニル基又はＮＲ1Ｒ2（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示す。）を示し、Ａ10は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6のアルキル基（該基はハロゲン原子又はＣ1〜Ｃ3のアルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ1〜Ｃ7のアシル基、Ｃ2〜Ｃ5のハロアルキルカルボニル基、カルボキシル基又はＣ2〜Ｃ7のアルコキシカルボニル基を示し、ただし、Ａｒ基が一般式［Ａｒ−１］及び［Ａｒ−２］の場合、Ｑ1〜Ｑ5は最大２個までが窒素原子になり得、更にＡｒ基が一般式［Ａｒ−１］でＱ5だけが窒素原子の場合、Ａ1は水素原子であり、又、Ａｒ基が一般式［Ａｒ−１］でＱ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4及びＱ5が、それぞれ、Ｃ−Ａ1、Ｃ−Ａ2、Ｃ−Ａ3、Ｃ−Ａ4及びＣ−Ａ5の場合、Ａ2、Ａ3、Ａ4及びＢ2が同時に水素原子であることはなく、Ａ1からＡ5全てが水素原子の場合には、Ｂ2がメチル基でＲがイソプロピル基である化合物を除き、Ａｒ基が一般式［Ａｒ−４］でＱ8がＣ−Ａ8の場合、ＲはＣ2〜Ｃ6のアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）、Ｃ3〜Ｃ6のシクロアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）又はＣ4〜Ｃ9のシクロアルキルアルキル基（該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい）を示す。｝にて表される３−アリールフェニルスルフィド誘導体及び、これを有効成分として含有する殺虫、殺ダニ剤を提供するものである。
【００１０】
尚、本明細書において、用いられる用語の定義を以下に示す。
【００１１】
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を示す。
【００１２】
アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を意味し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等を挙げることができる。
【００１３】
シクロアルキル基とは、炭素数が３〜６のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００１４】
シクロアルキルアルキル基とは、炭素数が３〜６のシクロアルキル基により置換された炭素数１〜３のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基等を挙げることができる。
【００１５】
アルケニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基、２−プロペニル基等を挙げることができる。
【００１６】
アルキニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、２−プロピニル基等を挙げることができる。
【００１７】
ハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は相異なるハロゲン原子１〜９で置換されている炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばクロロメチル基、トリフルオロメチル基、テトラフルオロエチル基等を挙げることができる。
【００１８】
アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基等を挙げることができる。
【００１９】
アルコキシアルキル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−（アルキル）−基を示し、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基等を挙げることができる。
【００２０】
アルコキシアルコキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基等を挙げることができる。
【００２１】
ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばトリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
【００２２】
アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基及びアルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｓ−基、（アルキル）−ＳＯ−基、（アルキル）−ＳＯ2−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等を挙げることができる。
【００２３】
ハロアルキルチオ基、ハロアルキルスルフィニル基及びハロアルキルスルホニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−Ｓ−基、（ハロアルキル）−ＳＯ−基、（ハロアルキル）−ＳＯ2−基を示し、例えばトリフルオロメチルチオ基、ジクロロフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２−トリフルオロエチルスルホニル基等を挙げることができる。
【００２４】
アシル基とは、ホルミル基又はアルキル部分が上記の意味である（アルキル）−ＣＯ−基を示し、例えばアセチル基、プロピオニル基等を挙げることができる。
【００２５】
ハロアルキルカルボニル基及びアルコキシカルボニル基とは、ハロアルキル又はアルコキシ部分が上記の意味である（ハロアルキル）−ＣＯ−基、（アルコキシ）−ＣＯ−基を示し、例えばトリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基等を挙げることができる。
【００２６】
前記一般式［Ｉ］において、好ましい化合物群としては、Ａｒ基が一般式［Ａｒ−１］又は一般式［Ａｒ−４］であり、Ｒが２，２，２−トリフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基又はシクロプロピルメチル基であり、ｎが０又は１で表される化合物群が挙げられる。
【００２７】
更に好ましい化合物群としては、Ｒが２，２，２−トリフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基又はシクロプロピルメチル基であり、Ａｒ基が、Ａ1及びＡ5が水素原子でＡ3又はＡ2がハロゲン原子、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基であるフェニル基であり、Ｂ0が水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、Ｂ2がハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基であり、ｎが０又は１で表される化合物群が挙げられる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
次に、一般式［Ｉ］で表される本発明化合物の代表的な具体例を表１〜表60  に例示する。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
【００２９】
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
【００３０】
Ｍｅ      ：メチル基、              Ｅｔ      ：エチル基、
Ｐｒ      ：ｎ−プロピル基、        Ｐｒ−ｉ  ：イソプロピル基、
Ｐｒ−ｃ  ：シクロプロピル基、      Ｂｕ      ：ｎ−ブチル基、
Ｂｕ−ｉ  ：イソブチル基、          Ｂｕ−ｓ  ：ｓｅｃ−ブチル基、
Ｂｕ−ｔ  ：ｔｅｒｔ−ブチル基、    Ｂｕ−ｃ  ：シクロブチル基、
Ｐｅｎ    ：ｎ−ペンチル基、        Ｐｅｎ−ｉ：イソペンチル基、
Ｐｅｎ−ｃ：シクロペンチル基、      Ｈｅｘ−ｃ：シクロヘキシル基、
【００３１】
【表１】
0004209995.tif 000004
【００３２】
【表２】
0004209995.tif 000005
【００３３】
【表３】
0004209995.tif 000006
【００３４】
【表４】
0004209995.tif 000007
【００３５】
【表５】
0004209995.tif 000008
【００３６】
【表６】
0004209995.tif 000009
【００３７】
【表７】
0004209995.tif 000010
【００３８】
【表８】
0004209995.tif 000011
【００３９】
【表９】
0004209995.tif 000012
【００４０】
【表１０】
0004209995.tif 000013
【００４１】
【表１１】
0004209995.tif 000014
【００４２】
【表１２】
0004209995.tif 000015
【００４３】
【表１３】
0004209995.tif 000016
【００４４】
【表１４】
0004209995.tif 000017
【００４５】
【表１５】
0004209995.tif 000018
【００４６】
【表１６】
0004209995.tif 000019
【００４７】
【表１７】
0004209995.tif 000020
【００４８】
【表１８】
0004209995.tif 000021
【００４９】
【表１９】
0004209995.tif 000022
【００５０】
【表２０】
0004209995.tif 000023
【００５１】
【表２１】
0004209995.tif 000024
【００５２】
【表２２】
0004209995.tif 000025
【００５３】
【表２３】
0004209995.tif 000026
【００５４】
【表２４】
0004209995.tif 000027
【００５５】
【表２５】
0004209995.tif 000028
【００５６】
【表２６】
0004209995.tif 000029
【００５７】
【表２７】
0004209995.tif 000030
【００５８】
【表２８】
0004209995.tif 000031
【００５９】
【表２９】
0004209995.tif 000032
【００６０】
【表３０】
0004209995.tif 000033
【００６１】
【表３１】
0004209995.tif 000034
【００６２】
【表３２】
0004209995.tif 000035
【００６３】
【表３３】
0004209995.tif 000036
【００６４】
【表３４】
0004209995.tif 000037
【００６５】
【表３５】
0004209995.tif 000038
【００６６】
【表３６】
0004209995.tif 000039
【００６７】
【表３７】
0004209995.tif 000040
【００６８】
【表３８】
0004209995.tif 000041
【００６９】
【表３９】
0004209995.tif 000042
【００７０】
【表４０】
0004209995.tif 000043
【００７１】
【表４１】
0004209995.tif 000044
【００７２】
【表４２】
0004209995.tif 000045
【００７３】
【表４３】
0004209995.tif 000046
【００７４】
【表４４】
0004209995.tif 000047
【００７５】
【表４５】
0004209995.tif 000048
【００７６】
【表４６】
0004209995.tif 000049
【００７７】
【表４７】
0004209995.tif 000050
【００７８】
【表４８】
0004209995.tif 000051
【００７９】
【表４９】
0004209995.tif 000052
【００８０】
【表５０】
0004209995.tif 000053
【００８１】
【表５１】
0004209995.tif 000054
【００８２】
【表５２】
0004209995.tif 000055
【００８３】
【表５３】
0004209995.tif 000056
【００８４】
【表５４】
0004209995.tif 000057
【００８５】
【表５５】
0004209995.tif 000058
【００８６】
【表５６】
0004209995.tif 000059
【００８７】
【表５７】
0004209995.tif 000060
【００８８】
【表５８】
0004209995.tif 000061
【００８９】
【表５９】
0004209995.tif 000062
【００９０】
【表６０】
0004209995.tif 000063
【００９１】
一般式［Ｉ］で表される本発明化合物は、以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。
【００９２】
＜製造法１＞
一般式［Ｉ］で表される本発明化合物のフェニル基は、常にＲＳ(Ｏ)n基にて置換されているが、その原料として３−アリールフェニルチオール誘導体を使用することができる。
【００９３】
【化５】
0004209995.tif 000064
【００９４】
（式中、Ｌ1は、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基又はＳＯ2Ｍを示し、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類金属［ナトリウム又はカリウムが好ましい］を示し、Ａｒ、Ｂ0〜Ｂ3及びＲは前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＩＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＩＩＩ］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒０．５〜１０ｌ中、塩基１〜５倍モル又はラジカル開始剤１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−１］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【００９５】
ここで溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム及びジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール及びイソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル又はプロピオン酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン又はピコリン等のピリジン類及び水又はこれらの混合溶媒を例示できる。
【００９６】
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類を例示できる。
【００９７】
ラジカル開始剤としては、例えば亜硫酸、亜硫酸塩、ロンガリット（ナトリウム・ホルムアルデヒド・スルホキシレ−ト）等の亜硫酸付加物等を例示できる。また、塩基とラジカル開始剤を併用してもよい。
【００９８】
反応温度は−３０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜１５０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【００９９】
＜製造法２＞
一般式［Ｉ−１］で表される本発明化合物の原料としては、製造法１で使用した一般式［ＩＩ］で表される化合物の酸化的２量体である一般式［ＩＶ］で表される化合物を使用することもできる。
【０１００】
【化６】
0004209995.tif 000065
【０１０１】
（式中、Ｌ2はハロゲン原子又はスルフィン酸塩を示し、Ａｒ、Ｂ0〜Ｂ3及びＲは前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＩＶ］で表される化合物１モルに対し、一般式［Ｖ］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒０．５〜１０ｌ中、ラジカル開始剤（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−１］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１０２】
ここで溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル又はプロピオン酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン又はピコリン等のピリジン類及び水又はこれらの混合溶媒を例示できる。
【０１０３】
また、ラジカル開始剤に製造法１で例示した塩基を併用してもよい。
【０１０４】
反応温度は−３０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜１５０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１０５】
＜製造法３＞
【０１０６】
【化７】
0004209995.tif 000066
【０１０７】
（式中、Ｌ3はハロゲン原子を示し、Ａｒ基は一般式［Ａｒ−１］又は一般式［Ａｒ−３］を示し、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＶＩ］又は一般式［ＶＩＩ］で表される化合物１モルに対し、金属（リチウム、マグネシウム又は亜鉛等を例示できる。）又は有機金属化合物（ｎ−ブチルリチウム等を例示できる。）１〜２倍モルを、溶媒０．５〜１０ｌ中で反応させた後、一般式［ＶＩ］又は一般式［ＶＩＩ］で表される他方の化合物１〜５倍モルを、遷移金属触媒０．０１〜１倍モルの存在下又は非存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１０８】
ここで溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン又はピコリン等のピリジン類又はこれらの混合溶媒を例示できる。
【０１０９】
遷移金属触媒としては、酢酸パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム及びトリス（ジベンザルアセトン）パラジウム等のパラジウム化合物類、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケルクロリド及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル等のニッケル化合物等を例示できる。
【０１１０】
反応温度は−９０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−７８℃〜６０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１１１】
上記のＬ3は、一般に臭素原子又はヨウ素原子が好ましいが、一般式［ＶＩＩ］で表される化合物を金属又は有機金属化合物と反応させた後に、Ａ1及びＡ5が水素ではないベンゼン誘導体である一般式［ＶＩ］の化合物を反応させる場合には、Ｌ3はフッ素原子が好ましい。
【０１１２】
＜製造法４＞
【０１１３】
【化８】
0004209995.tif 000067
【０１１４】
（式中、Ｚはトリアルキルスタニル基［トリメチルスタニル基が好ましい］、ジヒドロキシボラニル基又はジアルコキシボラニル基［１，３−ジオキソボロラン−２−イル基又はジメトキシボラニル基が好ましい］を示し、Ａｒ基は一般式［Ａｒ−１］又は一般式［Ａｒ−３］を示し、Ｂ0〜Ｂ3、Ｌ3［臭素又はヨウ素原子が好ましい］、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＶＩＩＩ］又は［ＩＸ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＶＩ］又は［ＶＩＩ］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モル及び遷移金属触媒（製造法３の記載と同様である。）０．０１〜１倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１１５】
上記のＺがジヒドロキシボラニル基の場合には、一般式［ＶＩＩＩ］又は［ＩＸ］で表される化合物の替わりに、その脱水３量体である一般式［ＶＩＩＩ−１］又は［ＩＸ−１］で表されるボロキシンを使用することもできる。
【０１１６】
【化９】
0004209995.tif 000068
【０１１７】
（式中、Ａｒ基は一般式［Ａｒ−１］又は一般式［Ａｒ−３］を示し、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）
反応温度は−７０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−２０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１１８】
＜製造法５＞
【０１１９】
【化１０】
0004209995.tif 000069
【０１２０】
（式中、Ｙ1は水素原子又はハロゲン原子を示し、Ａｒ基は一般式［Ａｒ−１］、［Ａｒ−３］又は［Ａｒ−４］を示し、Ｌ3、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［Ｘ］で表される化合物１モルに対し、金属（リチウム又はマグネシウム等を例示できる。）又は有機金属化合物（ｎ−ブチルリチウム等を例示できる。）１〜３倍モルを、溶媒（製造法３の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中で反応させた後、一般式［ＸＩ］又は一般式［ＸＩＩ］で表される化合物１〜５倍モルを反応させることにより、一般式［Ｉ］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１２１】
反応温度は−９０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−７８℃〜７０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１２２】
＜製造法６＞
【０１２３】
【化１１】
0004209995.tif 000070
【０１２４】
（式中、Ａｒ基は一般式［Ａｒ−２］又は一般式［Ａｒ−４］を示し、Ｂ4は前記Ｂ2の定義中の電子吸引性基［シアノ基、ニトロ基又はアルコキシカルボニル基等を示す。］を示し、Ｂ0、Ｂ1、Ｂ3及びＲは前記と同じ意味を示し、Ｌ4はハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基又はフェニルスルホニルオキシ基を示す。）
即ち、一般式［ＸＩＩＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＩＶ］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−２］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１２５】
ここで溶媒としては、反応を阻害しない溶媒であれば良く、例えばベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン及びジオキサン等のエーテル類、アセトン又はメチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル又はプロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン又はピコリン等のピリジン類又はこれらの混合溶媒を例示できる。
【０１２６】
反応温度は−７０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−２０℃〜１５０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１２７】
＜製造法７＞
【０１２８】
【化１２】
0004209995.tif 000071
【０１２９】
（式中、Ａｒ基は一般式［Ａｒ−２］又は一般式［Ａｒ−４］を示し、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＸＩＩＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＶ］で表される化合物及び無水銅塩（例えば、無水酢酸銅等を例示できる。）１〜５倍モルを、溶媒０．５〜１０ｌ中、３〜４Åのモルキュラーシーブス５〜５０ｇの存在下又は非存在下、有機塩基（例えば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等を例示できる。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１３０】
ここで溶媒としては、反応を阻害しない溶媒であれば良く、例えばクロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルカン類、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン及びジオキサン等のエーテル類、アセトン又はメチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル又はプロピオニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン又はピコリン等のピリジン類又はこれらの混合溶媒を例示できる。
【０１３１】
反応温度は−７０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−２０℃〜１５０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜７２時間で終了する。
【０１３２】
＜製造法８＞
【０１３３】
【化１３】
0004209995.tif 000072
【０１３４】
（式中、Ａｒ基は一般式［Ａｒ−１］〜［Ａｒ−４］を示し、Ｂ0〜Ｂ3及びＲは前記と同じ意味を示し、Ｌ5はハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基又はニトロ基を示す。）
即ち、一般式［ＸＶＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＶＩＩ］で表される化合物（Ｒ基により、イオウ原子が置換されたイソチオ尿素鉱酸塩とアルカリ水酸化物又は炭酸アルカリとから発生させることもできる。）１〜５倍モルを、溶媒０．５〜１０ｌ中、塩基１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−１］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１３５】
ここで溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール及びメチルセルソルブ等のアルコール類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン又はピコリン等のピリジン類及び水又はこれらの混合溶媒を例示できる。
【０１３６】
塩基としては、製造法１にて例示した塩基及び一酸化銅等を使用することができる。
【０１３７】
反応温度は−７０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜１５０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１３８】
＜製造法９＞
【０１３９】
【化１４】
0004209995.tif 000073
【０１４０】
（式中、Ａｒ、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びＭは前記と同じ意味を示し、ｍは０又は２を示す。）
即ち、一般式［ＸＶＩＩＩ］で表される化合物１モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、常法［鉱酸（塩酸及び硫酸等を例示できる。）と亜硝酸塩もしくは亜硝酸アルキルエステルを用いる方法］にてジアゾニウム塩とした後、一般式［ＸＩＸ］で表されるメルカプタンの塩又はスルフィン酸の塩又は一般式［ＸＸ］で表されるジスルフィド類１〜５倍モルと反応させることにより、一般式［Ｉ−３］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１４１】
反応温度は−３０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−１０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１４２】
＜製造法１０＞
【０１４３】
【化１５】
0004209995.tif 000074
【０１４４】
（式中、Ｘ1はハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基を示し、Ｙ2はアルコキシ基又はアルキルチオ基を示し、Ｌ6はハロゲン原子、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基を示し、Ｒ1はアルキル基を示し、Ｌ3、Ａ8、Ａ10、Ａ11、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）
一般式［Ｉ−４］で表される本発明化合物は、一般的な１，３双極子環化付加反応（例えば、特開昭６３−２８７７６８号公報明細書あるいはコンプリヘンシブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第５巻、第２８３頁記載の方法等）によっても製造することができ、又、一般式［Ｉ−５］で表される本発明化合物は、ニトリル誘導体との環化反応（例えば、特開平１−２３０５６２号公報明細書あるいはコンプリヘンシブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第５巻、第７６９頁記載の方法等）によっても製造することができる。
【０１４５】
即ち、一般式［ＸＸＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＸＩＩ］若しくは一般式［ＸＸＩＩＩ］又は一般式［ＸＩＶ］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−４］で表される目的のピラゾリルフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１４６】
又、一般式［ＸＸＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＸＶ−１］で表される化合物又は一般式［ＸＸＶ−２］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−５］で表される目的のトリアゾリルフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１４７】
別法として一般式［ＸＸＩ］で表される化合物１モルに対し、１〜３倍モルのアンモニア水でアミドラゾン［ＸＸＩ−１］とし、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、これに一般式［ＸＸＶ−３］で表される酸ハライド類を塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させるか、又は一般式［ＸＸＶ−４］で表されるオルソエステル類を１〜５倍モルを、酸触媒（例えばｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類又は四塩化チタン等のルイス酸を例示できる。）の存在下反応させることにより、一般式［Ｉ−５］で表される目的のトリアゾリルフェニルスルフィド誘導体を得ることもできる。
【０１４８】
反応温度は−３０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−１０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１４９】
＜製造法１１＞
【０１５０】
【化１６】
0004209995.tif 000075
【０１５１】
（式中、Ｌ6、Ｒ1、Ｘ1、Ａ8、Ａ10、Ａ11、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＸＸＶＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＸＶＩＩ−１］で表される化合物又は一般式［ＸＸＶＩＩ−２］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−４］で表される目的の３−ピラゾリルフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１５２】
又、一般式［ＸＸＶＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で表される化合物又はその鉱酸塩及び一般式［ＸＸＩＸ］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−５］で表される目的の３−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１５３】
反応温度は−３０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−１０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１５４】
＜製造法１２＞
【０１５５】
【化１７】
0004209995.tif 000076
【０１５６】
（式中、Ｒ1、Ｘ1、Ａ2〜Ａ5、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）即ち、一般式［ＸＸＸ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＸＶＩＩ−３］で表される化合物又は一般式［ＸＸＶＩＩ−４］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−６］で表される目的の３−（２−オキソピリミジニル）フェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１５７】
又、一般式［ＸＸＸＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＸＸＩＩ−１］で表される化合物又は一般式［ＸＸＸＩＩ−２］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［Ｉ−７］で表される目的の３−（６−オキソピリミジニル）フェニルスルフィド誘導体を得ることができる。
【０１５８】
反応温度は−３０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−１０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１５９】
＜製造法１３＞
【０１６０】
【化１８】
0004209995.tif 000077
【０１６１】
（式中、Ａｒ、Ｂ0〜Ｂ3及びＲは前記と同じ意味を示し、ｑは１又は２を示す。）
即ち、一般式［Ｉ−１］で表される本発明化合物１モルを、溶媒０．５〜１０ｌ中、酸化剤１〜６倍モルで酸化することにより、一般式［Ｉ−８］で表される目的の３−アリールフェニルスルフィド誘導体を得ることができる。ここで、場合により触媒（例えばタングステン酸ナトリウムを例示できる。）０．０１〜１倍モルを添加しても良い。
【０１６２】
ここで酸化剤としては、例えば過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン（ＯＸＯＮＥ、イー・アイ・デュポン社商品名；ペルオキソ硫酸水素カリウム含有物）、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸  ｔｅｒｔ−ブチル又は次亜塩素酸ナトリウム等を例示できる。
【０１６３】
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール及びイソプロピルアルコール等のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム及びジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸及び水又はこれらの混合溶媒を例示できる。
【０１６４】
反応温度は−３０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−１０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１６５】
一般式［Ｉ］で表される本発明化合物は、製造法１３と同様に本発明化合物そのものを原料として製造することが可能である。即ち、一般的に知られている方法により官能基導入あるいは官能基変換を行うことで本発明化合物から新たな一般式［Ｉ］で表される本発明化合物を得ることができる（実施例１３〜１７を参照。ただし、これらに限るものではない。）。
【０１６６】
次に本発明化合物の製造中間体の合成法について詳細に説明する。
【０１６７】
＜製造法１４＞  一般式［ＩＩ］及び［ＩＶ］で表される製造中間体の合成
一般式［ＩＩ］及び［ＩＶ］で表される化合物は下記のように合成することができるが、酸化還元反応により相互に変換が可能であり、特に一般式［ＩＩ］で表される化合物は空気中の酸素によっても容易に酸化され、一般式［ＩＶ］で表される化合物になることもある。
【０１６８】
【化１９】
0004209995.tif 000078
【０１６９】
（式中、Ｒ2はメチル基又はトリフルオロメチル基を示し、Ａｒ、Ｂ0〜Ｂ3及びＹ1は前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で表される化合物１モルを、溶媒（製造法１３の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、酸化剤（製造法１３の記載と同様である。）１〜３倍モルで酸化しメチルスルホキシドとした後、無水酢酸又は無水トリフルオロ酢酸１〜５倍モルで処理しプンメラー転位反応を行い、相当するアシルオキシメチルスルフィド［ＸＸＩＶ］とし、これを加水分解することにより、一般式［ＩＩ］又は［ＩＶ］で表される目的化合物を得ることができる。
【０１７０】
又は、一般式［ＸＸＸＶ］で表される化合物１モルを、クロロスルホン酸１〜５倍モルで処理しスルホニルクロリド［ＸＸＸＶＩ］とした後、これを水素化リチウムアルミニウム、亜鉛と酸、スズと酸もしくは赤りんとヨウ素１〜５倍モルを用いて還元することにより、一般式［ＩＩ］で表される合成中間体を得ることができる。
【０１７１】
又は、一般式［ＸＸＸＶ］で表される化合物１モルを、二硫化炭素、ニトロベンゼンやｏ−ジクロロベンゼン等の不活性溶媒０．５〜１０ｌ中、塩化アルミニウム等のルイス酸０．０１〜２．０倍モルの存在下、一塩化硫黄０．４〜１．０倍モルと反応させることにより、一般式［ＩＶ］で表される合成中間体を得ることができる。
【０１７２】
又は、一般式［Ｘ］で表される化合物１モルを、溶媒（製造法３の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、金属又は有機金属化合物（製造法３の記載と同様である。）１〜３倍モルで処理した後、硫黄１〜５倍モルを反応させることにより、一般式［ＩＩ］で表される目的化合物を得ることができる。
【０１７３】
又は、一般式［ＸＶＩＩＩ］で表される化合物１モルを製造法９と同様に、ジアゾニウム塩とした後、キサントゲン酸塩又はチオシアン酸塩１〜３倍モルと反応させて得られた生成物を、アルカリ加水分解することにより、一般式［ＩＩ］で表される目的化合物を得ることができる。
【０１７４】
何れの反応も、反応温度は−７０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−２０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１７５】
更に、Ｂ2が電子吸引性基Ｂ4である時は置換反応により、一般式［ＩＩ−１］で表される合成中間体を得ることができる。
【０１７６】
【化２０】
0004209995.tif 000079
【０１７７】
（式中、Ａｒ、Ｌ5及びＢ0〜Ｂ4は前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＸＸＸＶＩＩ］で表される化合物１モルに対し、硫化ナトリウム［ＸＸＸＶＩＩＩ］１〜３倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させた後、鉱酸等にて中和することにより、一般式［ＩＩ−１］で表される目的の３−アリールフェニルチオール誘導体を得ることができる。
【０１７８】
反応温度は−３０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−２０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１７９】
上記の、一般式［Ｘ］、［ＸＶＩＩＩ］、［ＸＸＸＩＩＩ］、［ＸＸＸＶ］及び［ＸＸＸＶＩＩ］で表される化合物は、製造法３、製造法４、製造法６、製造法７、製造法１０、製造法１１又は製造法１２に準じた合成法にて得ることができ、一般式［Ｘ］で表される化合物のうちＹ1がハロゲン原子の場合は、対応するＹ1が水素原子の化合物をハロゲン化することにより合成することもできる。
【０１８０】
＜製造法１５＞  一般式［ＸＩＩＩ］で表される製造中間体の合成
【０１８１】
【化２１】
0004209995.tif 000080
【０１８２】
（式中、Ｒ3は水素原子又はアルキル基を示し、Ａ2〜Ａ11、Ｒ1、Ｘ1及びＬ6は前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＸＸＸＩＸ］で表されるピリジン類１モルを、溶媒（製造法１３の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、過酸（例えば、ｍ―クロロ過安息香酸、ペルオキシ硫酸等を例示できる。）１〜３倍モルで酸化してＮ−オキシド［ＸＬ］とし、次いで酸ハライド類（アセチルクロリド、オキシ塩化リン等を例示できる。）１〜５倍モルを反応させ、得られた生成物を更にアルカリ条件下又は酸性条件下で加水分解することにより一般式［ＸＩＩＩ−１］で表される目的の合成中間体を得ることができる。
【０１８３】
尿素［ＸＬＩ］１モルに対し、一般式［ＸＸＶＩＩ−３］で表される化合物又は一般式［ＸＸＶＩＩ−４］で表される化合物０．５〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）０．５〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［ＸＩＩＩ−２］で表される目的の合成中間体を得ることができる。
【０１８４】
一般式［ＸＬＩＩ］で表される化合物１モルに対し、一般式［ＸＸＸＩＩ−１］で表される化合物又は一般式［ＸＸＸＩＩ−２］で表される化合物１〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［ＸＩＩＩ−３］で表される目的の合成中間体を得ることができる。
【０１８５】
抱水ヒドラジン［ＸＬＩＩＩ］１モルに対し、一般式［ＸＬＩＶ］で表される化合物０．５〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中で反応させることにより、一般式［ＸＩＩＩ−４］で表される目的の合成中間体を得ることができる。
【０１８６】
又、抱水ヒドラジン［ＸＬＩＩＩ］１モルに対し、一般式［ＸＸＶＩＩ−１］で表される化合物又は一般式［ＸＸＶＩＩ−２］で表される化合物０．５〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）０．５〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［ＸＩＩＩ−５］で表される目的の合成中間体を得ることができる。
【０１８７】
更に、抱水ヒドラジン［ＸＬＩＩＩ］１モルに対し、一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で表される化合物又はその鉱酸塩又は一般式［ＸＸＩＸ］で表される化合物０．５〜５倍モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下で反応させることにより、一般式［ＸＩＩＩ−６］で表される目的の合成中間体を得ることができる。
【０１８８】
何れの反応も、反応温度は−７０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−２０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１８９】
＜製造法１６＞  一般式［ＸＸＩ］で表される製造中間体の合成
【０１９０】
【化２２】
0004209995.tif 000081
【０１９１】
（式中、Ｌ3、Ｌ6、Ａ10、Ｂ0〜Ｂ3、Ｒ及びｎは前記と同じ意味を示す。）
即ち、一般式［ＸＬＶ］で表されるフェニルヒドラジン誘導体１モルを、溶媒（製造法１の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、塩基（製造法１の記載と同様である。）１〜５倍モルの存在下、一般式［ＸＬＶＩ］で表される化合物１〜５倍モルでアシル化して、一般式［ＸＬＶＩＩ］で表される化合物とした後、ハロゲン化剤（例えば三塩化リン、三臭化リン、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリフェニルホスフィン／四塩化炭素又はトリフェニルホスフィン／四臭化炭素等を例示できる。）１〜５倍モルで処理することにより、一般式［ＸＸＩ］で表される目的化合物を得ることができる。
【０１９２】
又は、一般式［ＸＬＶ］で表されるフェニルヒドラジン誘導体１モルを、溶媒（製造法３の記載と同様である。）０．５〜１０ｌ中、酸触媒（例えばｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類又は四塩化チタン等のルイス酸を例示できる。）の存在下又は非存在下、一般式［ＸＬＶＩＩＩ］で表されるアルデヒド誘導体又はアルデヒドに低級アルコールが付加した化合物（アルデヒドヘミアセタール）１〜５倍モルと反応させ、一般式［ＸＬＩＸ］で表されるフェニルヒドラゾン誘導体とした後、ハロゲン化剤（例えば塩素、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド又は次亜塩素酸  ｔｅｒｔ−ブチル等を例示できる。）１〜５倍モルで処理することにより、一般式［ＸＸＩ］で表される目的化合物を得ることができる。
【０１９３】
何れの反応も、反応温度は−７０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは−２０℃〜１５０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１０分〜２０時間で終了する。
【０１９４】
【実施例】
次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化合物の合成中間体の製造法も併せて記載する。
【０１９５】
＜実施例１＞
（１）２−（２−プロペニルチオ）−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル（本発明化合物番号Ｉ−４２）の製造
２−メルカプト−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル１．０ｇ（３．６ミリモル）、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド０．４５ｇ（４．０ミリモル）及び３−臭化プロペニル０．５ｇ（４．１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに加え、室温にて１時間撹拌した。反応混合物を２００ｍｌの水にあけ、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色結晶（融点８９〜９０℃）の２−（２−プロペニルチオ）−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル０．５ｇ（収率４３．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
３．７３                （２Ｈ、ｄ）
５．１６                （１Ｈ、ｄ）
５．２０                （１Ｈ、ｄ）
５．９０                （１Ｈ、ｍ）
７．４８                （１Ｈ、ｄ）
７．５０〜７．７６      （６Ｈ、ｍ）
【０１９６】
（２）２−シクロブチルメチルチオ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル（本発明化合物番号Ｖ−３３）の製造
２―メルカプト−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル０．９ｇ（３．３ミリモル）、シクロブチルメチルブロミド０．５ｇ（３．３ミリモル）、炭酸カリウム０．５５ｇ（４．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を５０ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、３０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粉末（融点１０２〜１０３℃）の２−シクロブチルメチルチオ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル０．２４ｇ（収率２１．２％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．８４〜２．００      （４Ｈ、ｍ）
２．１０〜２．２４      （２Ｈ、ｍ）
２．５７〜２．６７      （１Ｈ、ｍ）
３．１８                （２Ｈ、ｄ）
６．７９                （１Ｈ、ｄ）
７．５３                （１Ｈ、ｄｄ）
７．７１                （１Ｈ、ｄ）
７．７９                （１Ｈ、ｄ）
８．０２                （１Ｈ、ｄｄ）
【０１９７】
＜実施例２＞
（１）［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルフェニル］イソプロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−５５）の製造
１，１’−チオジ−［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルベンゼン］３．３ｇ（４．９ミリモル）、ロンガリット３．０ｇ（１９．５ミリモル）及びヨウ化イソプロピル３．０ｇ（１７．６ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに加え、室温にて３時間撹拌した。反応混合物を３００ｍｌの水にあけ、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色アメ状物質（ｎD20１．５４６２）の［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルフェニル］イソプロピルスルフィド１．４ｇ（収率３８．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．３３                （６Ｈ、ｄ）
２．４６                （３Ｈ、ｓ）
３．３５〜３．４４      （１Ｈ、ｍ）
６．９８〜７．０２      （１Ｈ、ｄｄ）
７．２０                （１Ｈ、ｄ）
７．３１                （１Ｈ、ｄ）
７．６７                （２Ｈ、ｓ）
【０１９８】
（２）［２−エトキシメトキシ−５−（４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−２１３）の製造
１，１’−チオジ−［２−エトキシメトキシ−５−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゼン］３．３ｇ（５．０ミリモル）、ロンガリット３．０ｇ（１９．５ミリモル）、炭酸カリウム３．０ｇ（２１．７ミリモル）及びヨウ化２，２，２−トリフルオロエチル３．２ｇ（１７．６ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに加え、室温にて３時間撹拌した。反応混合物を３００ｍｌの水にあけ、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粘稠液体（ｎD20１．５２１３）の［２−エトキシメトキシ−５−（４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド３．１ｇ（収率７５．６％）を得た。
【０１９９】
（３）２−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル（本発明化合物番号Ｖ−２７）の製造
１，１’−チオジ−［２−シアノ−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゼン］２．７ｇ（５．０ミリモル）、ロンガリット３．０ｇ（１９．５ミリモル）、炭酸カリウム３．０ｇ（２１．７ミリモル）及びヨウ化２，２，２−トリフルオロエチル６．１ｇ（２９．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに加え、室温にて３時間撹拌した。反応混合物を３００ｍｌの水にあけ、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、褐色固体（融点６５〜６７℃）の２−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル２．５ｇ（収率７１．４％）を得た。
【０２００】
（４）［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド（本発明化合物番号ＶＩ−２９１）の製造
１，１’−チオジ−［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）ベンゼン］１．８ｇ（３．０ミリモル）、ロンガリット２．０ｇ（１３．０ミリモル）、炭酸カリウム２．０ｇ（１４．５ミリモル）及びヨウ化２，２，２−トリフルオロエチル３．２ｇ（１７．６ミリモル）を実施例２の（３）と同様に反応させて、白色結晶（融点５６〜５８℃）の［２−クロロ−４−フルオロ−５（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド１．１ｇ（収率４７．８％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
３．３０                （２Ｈ、ｑ）
７．７６                （１Ｈｄｄ）
７．５０                （１Ｈ、ｄ）
８．１８                （１Ｈ、ｄ）
８．７２                （１Ｈ、ｓ）
【０２０１】
＜実施例３＞
［３−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］イソプロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−７３）の製造
３−ヨードフェニルイソプロピルスルフィド１．０ｇ（３．６ミリモル）を乾燥ベンゼン１０ｍｌに加え、窒素気流下、室温にて撹拌しながら、ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５６ｍｏｌ／ｌ）２．８ｍｌを滴下した。室温にてさらに２時間撹拌した後、１０℃に冷却し、３，５−ジクロロ−４−フルオロベンゾトリフルオリド１．０ｇ（４．３ミリモル）のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を滴下した。室温にてさらに１２時間撹拌した後、反応混合物を１００ｍｌの水にあけ分液した。有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体（ｎD20１．５６７５）の［３−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］イソプロピルスルフィド０．５ｇ（収率３８．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．３２                （６Ｈ、ｄ）
３．３４〜３．４８      （１Ｈ、ｍ）
７．１１〜７．１２      （１Ｈ、ｍ）
７．２６〜７．２７      （１Ｈ、ｄ）
７．４０〜７．４９      （２Ｈ、ｍ）
７．６７                （２Ｈ、ｓ）
【０２０２】
＜実施例４＞
［３−（４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］シクロペンチルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−６７）の製造
４−トリフルオロメチルフェニルボロン酸１．０ｇ（５．２ミリモル）、３−ブロモフェニルシクロペンチルスルフィド１．４ｇ（５．４ミリモル）、炭酸ナトリウム１．６ｇ（１５．０ミリモル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．８ｇ（０．７ミリモル）をトルエン５０ｍｌ、エタノール２５ｍｌ及び水２５ｍｌの混合溶媒に加え、加熱還流下２時間撹拌した。反応混合物を氷水にあけ、トルエンで抽出した。トルエン層を水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体（ｎD20１．５７３２）の［３−（４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］シクロペンチルスルフィド１．３ｇ（収率７８．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．５４〜１．７５      （４Ｈ、ｍ）
１．７６〜１．８５      （２Ｈ、ｍ）
２．０３〜２．１４      （２Ｈ、ｍ）
３．６１〜３．８７      （１Ｈ、ｍ）
７．３８〜７．９６      （８Ｈ、ｍ）
【０２０３】
＜実施例５＞
［５−（４−トリフルオロメチルフェニル）−２−エトキシメトキシフェニル］プロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−２１２）の製造
４−（４−トリフルオロメチルフェニル）フェニルエトキシメチルエーテル３．０ｇ（１０．１ミリモル）をジエチルエーテル３０ｍｌに溶解し、−２０℃にて攪拌しながら、ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５６ｍｏｌ／ｌ）７．８ｍｌを滴下した。室温にてさらに２時間撹拌した後、０℃に冷却し、ジプロピルジスルフィド１．８ｇ（１２．０ミリモル）を滴下した。室温にてさらに２時間撹拌した後、反応混合物を氷水にあけ、エーテル層を水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色粘稠液体（ｎD20１．５４９１）の［５−（４−トリフルオロメチルフェニル）−２−エトキシメトキシフェニル］プロピルスルフィド２．６ｇ（収率６９．５％）を得た。
【０２０４】
＜実施例６＞
２−プロピルチオ−４−（３−トリフルオロメチル−１Ｈ−トリアゾリル）ベンゾニトリル（本発明化合物番号ＶＩ−１）の製造
３−トリフルオロメチル−１Ｈ−トリアゾール１．０６ｇ（７．７ミリモル）、４−クロロ−２−ｎ−プロピルチオベンゾニトリル１．３８ｇ（６．５ミリモル）、炭酸カリウム１．０７ｇ（７．７ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに加え、１５０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却後、反応混合物を１００ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、乳白色粉末（融点１４３〜１４４℃）の２−プロピルチオ−４−（３−トリフルオロメチル−１Ｈ−トリアゾリル）ベンゾニトリル０．７８ｇ（収率３８．２％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．８４〜２．００      （４Ｈ、ｍ）
１．１２                （３Ｈ、ｔ）
１．８０                （２Ｈ、ｈ）
３．１１                （２Ｈ、ｔ）
７．５３                （１Ｈｄｄ）
７．７５                （１Ｈ、ｄ）
７．７７                （１Ｈ、ｄ）
８．６９                （１Ｈ、ｓ）
【０２０５】
＜実施例７＞
［４−フルオロ−２メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２トリフルオロエチルスルフィド（本発明化合物番号Ｖ−６１３）の製造
１Ｈ−３−トリフルオロメチルピラゾール０．３４ｇ（２．４９ミリモル）、２−フルオロ−４−メチル−５−（２，２，２トリフルオロエチルチオ）ベンゼンボロン酸1．３４g（５．０ミリモル）、ピリジン０．３９ｇ（４．９８ミリモル）、酢酸銅（ＩＩ）０．６８ｇ（３．７４ミリモル）、４Åモルキュラーシーブス０．１ｇを塩化メチレン２０ｍｌに加え室温で２日間撹拌した。減圧下溶媒を除去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色液体（ｎD20１．４９９８）の［４−フルオロ−２メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２トリフルオロエチルスルフィド０．０９ｇ（収率１０．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
２．５２                （３Ｈ，ｓ）
３．４３                （２Ｈ、ｑ）
６．７４                （１Ｈ、ｄ）
７．１５                （１Ｈ、ｄ）
７．９９                （１Ｈ、ｂｓ）
８．０５                （１Ｈ、ｄ）
【０２０６】
＜実施例８＞
（１）４−（２，４−ジクロロフェニル）―２−エチルチオベンゾニトリル（本発明化合物番号Ｉ−６２）の製造
６０％水素化ナトリウム０．１２ｇ（３．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに加え、室温にて撹拌しながら、エタンチオール０．２ｇ（３．２ミリモル）を滴下した。水素の発生が終了した後、２−フルオロ−４−（２，４−ジクロロフェニル）ベンゾニトリル０．７ｇ（２．６ミリモル）を加え、６０℃にて６時間撹拌した。反応混合物を約１００ｍｌの氷水にあけ、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色結晶（融点８９〜９２℃）の４−（２，４−ジクロロフェニル）―２−エチルチオベンゾニトリル０．７ｇ（収率８８．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．３８                （３Ｈ、ｔ）
３．０７                （２Ｈ、ｑ）
７．２５〜７．４２      （３Ｈ、ｍ）
７．４９                （１Ｈ、ｄｄ）
７．５２                （１Ｈ、ｄｄ）
７．７６                （１Ｈ、ｄ）
【０２０７】
（２）［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−ニトロフェニル］イソプロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−５６）の製造
６０％水素化ナトリウム０．３３ｇ（８．３ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに加え、室温にて撹拌しながら、イソプロピルメルカプタン０．７ｇ（９．２ミリモル）を滴下した。水素の発生が終了した後、１−クロロ−５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−ニトロベンゼン３．０ｇ（８．１ミリモル）を加え、室温にて１２時間撹拌した。反応混合物を約２００ｍｌの氷水にあけ、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチルを１００ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色アメ状物質（ｎD20１．５８８１）の［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−ニトロフェニル］イソプロピルスルフィド３．０ｇ（収率９０．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．４０                （６Ｈ、ｄ）
３．５０〜３．５９      （１Ｈ、ｍ）
７．１２〜７．１３      （１Ｈ、ｄｄ）
７．３１                （１Ｈ、ｄ）
７．６７                （２Ｈ、ｓ）
８．２５                        （１Ｈ、ｄ）
【０２０８】
（３）［４−フルオロ−２−ニトロ−５−（４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］プロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−２２１）の製造
カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド１．４ｇ（１２．５ミリモル）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに加え、室温にてｎ−プロパンチオール０．９ｇ（１１．８ミリモル）を滴下し、同温度にて１０分間撹拌した。４−（４−トリフルオロメチルフェニル）−２，５−ジフルオロニトロベンゼン３．５ｇ（１１．６ミリモル）を加え、室温にてさらに２時間撹拌した。テトラヒドロフランを減圧下留去し２００ｍｌの氷水を加え、有機物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、１００ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色結晶（融点５７〜５９℃）の［４−フルオロ−２−ニトロ−５−（４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］プロピルスルフィド３．８ｇ（収率９０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．１１                （３Ｈ、ｔ）
１．８１                （２Ｈ、ｍ）
２．９７                （２Ｈ、ｔ）
７．４２                （１Ｈ、ｄ）
７．５６                （２Ｈ、ｄ）
７．８１                （２Ｈ、ｄ）
８．０８                （１Ｈ、ｄ）
【０２０９】
（４）２−シクロプロピルメチルチオ−４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル）ベンゾニトリル（本発明化合物番号ＩＩ−５）の製造
４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル）−２−フルオロベンゾニトリル１．８ｇ（６．８ミリモル）、S−シクロプロピルメチルイソチオ尿素臭化水素塩１．６ｇ（７．６ミリモル）及びN,N-ジメチルホルムアミド５０ｍｌを丸底フラスコに取り、２０％水酸化ナトリウム水１．６ｇ（８ミリモル）を加え一晩攪拌した。減圧下溶媒を留去し、水５０ｍｌ及び酢酸エチル５０ｍｌを加え、分液した。有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して淡黄色羽毛状結晶（融点１３５〜１３６℃）の２−シクロプロピルメチルチオ−４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル）ベンゾニトリル２．２ｇ（収率９６％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
０．２９〜０．３５      （２Ｈ、ｍ）
０．６１〜０．６８      （２Ｈ、ｍ）
１．０７〜１．２０      （１Ｈ、ｍ）
３．０７                （２Ｈ、ｄ）
７．７５                （１Ｈ、ｄ）
７．８５〜７．９０      （２Ｈ、ｍ）
８．０５                （１Ｈ、ｄｄ）
８．１９                （１Ｈ、ｄ）
８．９９                （１Ｈ、ｄｄ）
【０２１０】
（５）４−（６−オキソ−４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロピリミジン−１−イル）−２−プロピルチオベンゾニトリル（本発明化合物番号III−９）の製造
４−（６−オキソ−４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロピリミジン−１−イル）−２−フルオロベンゾニトリル１．１ｇ（３．９ミリモル）をジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解し、炭酸カリウム１．０ｇ（７．２ミリモル）及びプロパンチオール０．３ｇ（３．９ミリモル）を加え、１００℃にて２時間反応させた。減圧下溶媒を留去し、水５０ｍｌ及び酢酸エチル５０ｍｌを加え、分液した。有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、白色粉末（融点１５７〜１５８℃）の４−（６−オキソ−４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロピリミジン−１−イル）−２−プロピルチオベンゾニトリル０．７ｇ（収率５４％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．０９                （３Ｈ、ｔ）
１．７７                （２Ｈ、ｍ）
３．０３                （２Ｈ、ｔ）
６．９６                （１Ｈ，ｓ）
７．２２                （１Ｈ、ｄｄ）
７．３５                （１Ｈ、ｄ）
７．７９                （１Ｈ、ｄ）
８．２５                （１Ｈ、ｓ）
【０２１１】
（６）４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−シクロプロピルメチルチオベンゾニトリル（本発明化合物番号IV−５）の製造
上記実施例８の（４）と同様に、４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−フルオロベンゾニトリル０．９ｇ（４．０ミリモル）とS−シクロプロピルメチルイソチオ尿素臭化水素塩０．９ｇ（４．３ミリモル）を反応させ、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、黄色羽毛状結晶（融点１２３〜１２４℃）の４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−シクロプロピルメチルチオベンゾニトリル１．１ｇ（収率９１％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
０．２８〜０．３３      （２Ｈ、ｍ）
０．６１〜０．６７      （２Ｈ、ｍ）
１．０７〜１．１５      （１Ｈ、ｍ）
３．００                （２Ｈ、ｄ）
６．９５                （１Ｈ、ｄ）
７．１９                （１Ｈ、ｄ）
７．３６                （１Ｈ、ｄｄ）
７．５４                （１Ｈ、ｄ）
７．６０                （１Ｈ、ｄｄ）
【０２１２】
（７）［２−ニトロ−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］プロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｖ−１６６）の製造
１−（３−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフルオロメチルピラゾール０．８ｇ（２．７ミリモル）、１−プロパンチオール０．２５ｇ（３．３ミリモル）、炭酸カリウム０．５７ｇ（４．１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を５０ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、３０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、琥珀色粘性液体（ｎD20１．５７４１）の［２−ニトロ−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］プロピルスルフィド０．３１ｇ（収率３４．４％）得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．０８                （３Ｈ、ｔ）
１．７５                （２Ｈ、ｈ）
３．０２                （２Ｈ、ｔ）
６．７４                （１Ｈ、ｄ）
７．３７〜７．４０      （２Ｈ、ｍ）
７．７２                （１Ｈｄｄ）
７．９７                （１Ｈ、ｄ）
【０２１３】
（８）２−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）−４−（４−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル（本発明化合物番号Ｖ−６３９）の製造
２−クロロ−４−（４−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル０．６５ｇ（２．４ミリモル）、２，２，２−トリフルオロエタンチオール０．３３ｇ（２．９ミリモル）、炭酸カリウム０．４０ｇ（２．９ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに加え、室温で一夜撹拌した。反応混合物を５０ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、３０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、乳白色粉末（融点９０〜９１℃）の２−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）−４−（４−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル０．４８ｇ（収率５７．１％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
３．６７                （２Ｈ、ｑ）
７．７６                （１Ｈｄｄ）
７．８３                （１Ｈ、ｄ）
７．７９                （１Ｈ、ｓ）
８．０８                （１Ｈ、ｄ）
８．２８                （１Ｈ、ｓ）
【０２１４】
（９）４−（４−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾリル）―２−プロピルチオベンズアルデヒド（本発明化合物番号Ｖ−３８１）の製造
２−クロロ−４−（４−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンズアルデヒド５．７７ｇ（２０．０ミリモル）、１−プロパンチオール１．８３ｇ（２３．９ミリモル）、炭酸カリウム３．３１ｇ（２４．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに加え、室温で一夜撹拌した。反応混合物を２００ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、１００ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色液体（ｎD20１．５７２６）の４−（４−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾリル）―２−プロピルチオベンズアルデヒド３．０７ｇ（収率４６．８％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．１１                （３Ｈ、ｔ）
１．７９                （２Ｈ、ｈ）
２．２６                （３Ｈ、ｓ）
３．０３                （２Ｈ、ｔ）
７．５１                （１Ｈ、ｄｄ）
７．７９                （１Ｈ、ｄ）
７．８３                （１Ｈ、ｓ）
７．９２                （１Ｈ、ｄ）
１０．３５                （１Ｈ、ｓ）
【０２１５】
（１０）２−プロピルチオ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）安息香酸メチル（本発明化合物番号Ｖ−１７５）の製造
２−クロロ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）安息香酸メチル１．５２ｇ（５．０ミリモル）、１−プロパンチオール０．６６ｇ（８．６ミリモル）、炭酸カリウム０．８３ｇ（６．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに加え、６０℃で２４時間撹拌した。反応混合物を５０ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、３０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残査を薄層クロマトグラフィーで精製し、白色粉末（融点１１４〜１１６℃）の２−プロピルチオ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）安息香酸メチル０．３１ｇ（収率１８．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．１４                （３Ｈ、ｔ）
１．８３                （２Ｈ、ｈ）
３．００                （２Ｈ、ｔ）
３．９４                （３Ｈ、ｓ）
６．７７                （１Ｈ、ｄ）
７．４０                （１Ｈ、ｄｄ）
７．７３                （１Ｈ、ｄ）
８．０１                （１Ｈ、ｂｓ）
８．１０                （１Ｈ、ｄ）
【０２１６】
＜実施例９＞
［３−（２，４−ジクロロフェニル）フェニル］イソプロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−７１）の製造
３−（２，４−ジクロロフェニル）アニリン０．９ｇ（３．８ミリモル）及びジイソプロピルジスルフィド０．６ｇ（４．０ミリモル）をアセトニトリル２０ｍｌに加え、６０℃にて亜硝酸  ｔｅｒｔ−ブチル０．４ｇ（４．０ミリモル）を滴下した。同温度にて１時間撹拌した後、低沸点物を減圧下留去し、水及び酢酸エチルを加えて分液した。酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体（ｎD20１．６１４３）の［３−（２，４−ジクロロフェニル）フェニル］イソプロピルスルフィド０．２５ｇ（収率３１．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．３５                （６Ｈ、ｄ）
３．３５〜３．４９      （１Ｈ、ｍ）
７．１９〜７．５２      （７Ｈ、ｍ）
【０２１７】
＜実施例１０＞
［２−メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］プロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｖ−１７６）の製造
Ｎ’−（４−メチル−３−ｎ−プロピルチオフェニル）トリフルオロアセトヒドラジドイルクロリド１．０ｇ（３．２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに加え、０℃で撹拌した。次に、トリエチルアミン０．７２ｇ（７．１ミリモル）及びビニルブロミド１．７ｇ（１５．９ミリモル）を加え、０℃から室温にて２４時間撹拌した。反応混合物を５０ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、３０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体（ｎD20測定不可）の［２−メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］プロピルスルフィド０．２２ｇ（収率２２．７％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．０８                （３Ｈ、ｔ）
１．７５                （２Ｈ、ｈ）
２．３８                （３Ｈ、ｓ）
２．９７                （２Ｈ、ｔ）
６．７１                （１Ｈ、ｄ）
７．２３                （１Ｈ、ｄ）
７．３２                （１Ｈ、ｄｄ）
７．５７                （１Ｈ、ｄ）
７．８９                （１Ｈ、ｂｓ）
【０２１８】
＜実施例１１＞
２−プロピルチオ−４−（５−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル（本発明化合物番号Ｖ−１５３）の製造
４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン１．７ｇ（１０．１ミリモル）及び４−ヒドラジノ−２−プロピルチオベンゾニトリル２．１ｇ（１０．１ミリモル）をエタノール５０ｍｌに加え、加熱還流下２時間撹拌した。減圧下エタノールを留去後、酢酸６０ｍｌを加え、更に加熱還流下６時間撹拌した。減圧下酢酸を留去後、酢酸エチル及び水を加えて分液し、有機層を水で２回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄褐色粘稠液体（ｎD20１．５５６２）の２−プロピルチオ−４−（５−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル１．２ｇ（収率３８．７％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．０８                （３Ｈ、ｔ）
１．７０〜１．８２      （２Ｈ、ｍ）
３．０３                （２Ｈ、ｔ）
６．９０                （１Ｈ、ｄ）
７．３９                （１Ｈ、ｄｄ）
７．５２                （１Ｈ、ｄ）
７．７２                （１Ｈ、ｄ）
７．７８                （１Ｈ、ｄ）
【０２１９】
＜実施例１２＞
（１）［３−（２，４−ジクロロフェニル）フェニル］イソプロピルスルホキシド（本発明化合物番号Ｉ−７２）の製造
［３−（２，４−ジクロロフェニル）フェニル］イソプロピルスルフィド１．０ｇ（３．４ミリモル）をクロロホルム５０ｍｌに溶解し、０℃にて撹拌しながら、ｍ−クロロ過安息香酸０．７ｇ（４．１ミリモル）を添加し、２時間撹拌した。室温にてさらに１２時間撹拌後、５％重曹水を加え分液した。クロロホルム層を５％亜硫酸ナトリウム水溶液、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色アメ状物質（ｎD20１．６１６９）の［３−（２，４−ジクロロフェニル）フェニル］イソプロピルスルホキシド０．９ｇ（収率８５．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．２２                （６Ｈ、ｄｄ）
２．７９〜２．９６      （１Ｈ、ｍ）
７．２６〜７．６５      （７Ｈ、ｍ）
【０２２０】
（２）［２−ジフルオロメチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルホキシド（本発明化合物番号Ｖ−３２４）の製造
［２−ジフルオロメチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド（本発明化合物番号Ｖ−２９５）０．３７ｇ（１．０ミリモル）をクロロホルム５ｍｌに加え、０℃にて撹拌しながら、ｍ−クロロ過安息香酸０．２５ｇ（１．５ミリモル）を添加し、０℃で１時間撹拌した。反応溶液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液１０ｍｌを加え、室温で１０分間撹拌した後、さらにクロロホルム２０ｍｌを加えた。クロロホルム層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍｌで３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。クロロホルムを減圧下留去し、黄色アメ状物質（ｎD20１．４９０９）の［２−ジフルオロメチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルホキシド０．３８ｇ（収率９７．４％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
３．４８〜３．６７      （２Ｈ、ｍ）
６．８２                （１Ｈ、ｄ）
６．９６                （１Ｈ、ｔ）
７．８１                （１Ｈ、ｄｄ）
８．１５                （１Ｈ、ｄ）
８．１６                （１Ｈ、ｄ）
８．５１                （１Ｈ、ｄ）
【０２２１】
（３）［２−メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルホキシド（本発明化合物番号Ｖ−３２１）の製造
［２−メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド（本発明化合物番号Ｖ−２９２）１．６８ｇ（４．９ミリモル）をクロロホルム１０ｍｌに加え、０℃にて撹拌しながら、ｍ−クロロ過安息香酸１．０２ｇ（５．１ミリモル）を添加し、０℃で１時間撹拌した。反応溶液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液１０ｍｌを加え、室温で１０分間撹拌した後、さらにクロロホルム２０ｍｌを加えた。クロロホルム層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍｌで３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。クロロホルムを減圧下留去し、淡黄色固体（融点１０９〜１１０℃）の［２−メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルホキシド０．６５ｇ（収率３７．１％）を得た。1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
２．４４                （３Ｈ、ｓ）
３．４６〜３．５０      （２Ｈ、ｍ）
６．７６                （１Ｈ、ｄ）
７．４１                （１Ｈ、ｄ）
７．９４                （１Ｈ、ｄｄ）
８．０７                （１Ｈ、ｄ）
８．２５                （１Ｈ、ｄ）
【０２２２】
＜実施例１３＞
４−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−イソプロピルチオアニリン（本発明化合物番号Ｉ−５７）の製造
鉄粉３．５ｇ（６３．６ミリモル）、水１０ｍｌ及び酢酸１ｍｌをトルエン２０ｍｌに加え、６０℃にて３０分間撹拌した後、［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−ニトロフェニル］イソプロピルスルフィド（実施例８の（２）で製造した化合物）３．０ｇ（７．３ミリモル）のトルエン１０ｍｌ溶液を滴下した。加熱還流下さらに３時間反応させた後、反応混合物を室温まで冷却した。不溶物を濾別し、濾液に水及びトルエンを加え分液した。トルエン層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色アメ状物質（ｎD20１．５７８２）の４−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−イソプロピルチオアニリン１．０ｇ（収率３６．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．２７                （６Ｈ、ｄ）
３．２０〜３．３４      （１Ｈ、ｍ）
６．８２                （１Ｈ、ｄ）
７．００〜７．０４      （１Ｈ、ｄｄ）
７．２７                （１Ｈ、ｄ）
７．６７                （２Ｈ、ｓ）
【０２２３】
＜実施例１４＞
［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−ブロモフェニル］イソプロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｉ−５８）の製造
５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−イソプロピルチオアニリン（実施例９で製造した化合物）０．７ｇ（１．８ミリモル）及び臭化銅０．５ｇ（３．５ミリモル）をアセトニトリル２０ｍｌに加え、６０℃にて亜硝酸  ｔｅｒｔ−ブチル０．２ｇ（２．０ミリモル）を滴下した。同温度にて１時間撹拌した後、低沸点物を減圧下留去し、水及び酢酸エチルを加えて分液した。酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体（ｎD20１．５６４２）の［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−ブロモフェニル］イソプロピルスルフィド０．２５ｇ（収率３１．０％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．３７                （６Ｈ、ｄ）
３．４９                （１Ｈ、ｑ）
６．９３                （１Ｈ、ｄｄ）
７．１８                （１Ｈ、ｄ）
７．６８                （２Ｈ、ｓ）
７．６９                （１Ｈ、ｄ）
【０２２４】
＜実施例１５＞
［２−メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］プロピルスルフィド（本発明化合物番号Ｖ−１７６）の製造
実施例８の（９）と同様にして得られた２−プロピルチオ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンズアルデヒド（本発明化合物番号Ｖ−１５９）０．９８ｇ（３．１ミリモル）を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、トリエチルシラン１．４４ｇ（１２．４ミリモル）及び三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体０．６３ｍｌ（６．８ミリモル）を加え、室温で２２時間撹拌した。反応混合物を５０ｍｌの氷水にあけ、塩化メチレン２０ｍｌ加えた。塩化メチレン層を分液し、３０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体（ｎD20測定不可）の［２−メチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］プロピルスルフィド０．１８ｇ（収率１９．３％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
１．０８                （３Ｈ、ｔ）
１．７５                （２Ｈ、ｈ）
２．３８                （３Ｈ、ｓ）
２．９７                （２Ｈ、ｔ）
６．７１                （１Ｈ、ｄ）
７．２３                （１Ｈ、ｄ）
７．３２                （１Ｈ、ｄｄ）
７．５７                （１Ｈ、ｄ）
７．８９                （１Ｈ、ｂｓ）
【０２２５】
＜実施例１6＞
［２−ジフルオロメチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド（本発明化合物番号Ｖ−２９５）の製造
実施例８の（９）と同様にして得られた２−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンズアルデヒド（本発明化合物番号Ｖ−２７５）１．０ｇ（２．８ミリモル）を塩化メチレン５ｍｌに溶解し、窒素気流下、ＤＡＳＴ（ジエチルアミノサルファートリフルオリド）０．５５ｇ（３．４ミリモル）を加え、室温で４時間撹拌した。さらに、ＤＡＳＴ（ジエチルアミノサルファートリフルオリド）０．１４ｇ（０．８ミリモル）を加え、室温で一夜撹拌した。反応混合物を２０ｍｌの氷水にあけ、塩化メチレン２０ｍｌ加えた。塩化メチレン層を分液し、２０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを減圧下留去し、黄色粘性液体（ｎD20１．４９５１）の［２−ジフルオロメチル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド０．７５ｇ（収率７０．８％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
３．５０                （２Ｈ、ｑ）
６．７８                （１Ｈ、ｄ）
７．１６                （１Ｈ、ｔ）
７．８２                （２Ｈ、ｓ）
８．０２                （１Ｈ、ｄ）
８．０７                （１Ｈ、ｓ）
【０２２６】
＜実施例１７＞
［２−エテニル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド（本発明化合物番号Ｖ−２７８）の製造実施例８の（９）と同様にして得られた２−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンズアルデヒド（本発明化合物番号Ｖ−２７５）２．８３ｇ（８．０ミリモル）、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド２．８５ｇ（８．０ミリモル）及び炭酸カリウム１．３８ｇ（１０．０ミリモル）をジオキサン２０ｍｌ及び水０．３ｍｌの混合溶媒に加え、５時間加熱還流した。室温まで冷却した後、不溶物をろ過により除去し、ジオキサンを減圧下留去した。得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色液体（ｎD20１．５３２８）の［２−エテニル−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）フェニル］２，２，２−トリフルオロエチルスルフィド１．２３ｇ（収率４３．８％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
３．４１                （２Ｈ、ｑ）
５．４７                （１Ｈ、ｄｄ）
５．７９                （１Ｈ、ｄｄ）
６．７４                （１Ｈ、ｄ）
７．２９                （１Ｈ、ｄｄ）
７．６７                （２Ｈ、ｓ）
７．９１                （１Ｈ、ｓ）
８．９５                （１Ｈ、ｄ）
【０２２７】
（中間体の製造例）
＜参考例１＞
２−メルカプト−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル（化合物ＩＩ）の製造
（ａ）２−メチルチオ−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル（化合物ＸＶＩＩ）の製造
２−フルオロ−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル３．０ｇ（１１．３ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに加え、室温にてメチルメルカプタンナトリウム１５％水溶液７．０ｇ（１５．０ミリモル）を滴下した。６０℃にて６時間撹拌した後、反応混合物を約２００ｍｌの氷水にあけ、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を１００ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶（融点１２８〜１２９℃）の２−メチルチオ−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル２．５ｇ（収率７５．０％）を得た。
【０２２８】
（ｂ）２−メチルスルフィニル−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリルの製造
（ａ）で得られたメチルチオ体２．５ｇ（８．５ミリモル）をクロロホルム５０ｍｌに溶解し、０℃にて撹拌しながら、ｍ−クロロ過安息香酸１．７ｇ（９．９ミリモル）のクロロホルム溶液を滴下し１時間撹拌した。５％重曹水を加え分液し、クロロホルム層を５％亜硫酸ナトリウム水溶液、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄褐色結晶（融点１２７〜１２８℃）の２−メチルスルフィニル−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル２．２ｇ（収率８４．０％）を得た。
【０２２９】
（ｃ）２−メルカプト−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル（化合物ＩＩ）の製造
（ｂ）で得られた２−メチルスルフィニル−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル２．２ｇ（７．１ミリモル）を無水トリフルオロ酢酸１５ｍｌに加え、室温にて１２時間撹拌した後、低沸点物を減圧下留去し、残査にメタノール５０ｍｌ及び２０％水酸化カリウム水溶液３ｇを加え、１時間反応させた。溶媒を減圧下留去し５％硫酸水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、２−メルカプト−４−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゾニトリル１．０ｇ（収率５１．０％）を得た。これを実施例１の（１）の原料として使用した。
【０２３０】
＜参考例２＞
１，１’−チオジ−［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルベンゼン］（化合物ＩＶ）の製造
（ａ）４−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）トルエン（化合物Ｘ）の製造
４−ヨードトルエン５．７ｇ（２６．１ミリモル）を乾燥ベンゼン３０ｍｌに加え、窒素気流下、室温にて撹拌しながら、ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．６０ｍｏｌ／ｌ）１７．０ｍｌを滴下した。室温にて２時間撹拌後、１０℃にて３，５−ジクロロ−４−フルオロベンゾトリフルオリド６．０ｇ（２５．８ミリモル）のジエチルエーテル１０ｍｌ溶液を滴下した。室温にてさらに１２時間撹拌した後、反応混合物を１００ｍｌの水にあけ分液した。有機層を、５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、無色液体の４−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）トルエン６．７ｇ（収率８５．０％）を得た。
【０２３１】
（ｂ）５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルベンゼンスルホニルクロリドの製造
（ａ）で得られた４−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）トルエン６．７ｇ（２２．０ミリモル）をクロロホルム５０ｍｌに溶解し、０℃にて撹拌しながら、クロロスルホン酸３．８ｇ（３２．６ミリモル）を滴下した。室温にて更に３時間撹拌後、反応混合物を約２００ｍｌの氷水にあけ分液した。有機層を水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルベンゼンスルホニルクロリド７．２ｇ（収率８１．０％）を得た。
【０２３２】
（ｃ）１，１’−チオジ−［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルベンゼン］（化合物ＩＶ）の製造
水素化リチウムアルミニウム０．７ｇ（１８．４ミリモル）をジエチルエーテル３０ｍｌに加え、−１０℃にて５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルベンゼンスルホニルクロリド７．２ｇ（１７．８ミリモル）のジエチルエーテル３０ｍｌ溶液を滴下した。室温にて１２時間撹拌後、反応混合物を１規定塩酸水１００ｍｌにあけ分液した。有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色アメ状物質（ｎD20１．６０６６）の１，１’−チオジ−［５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−メチルベンゼン］４．３ｇ（収率７５．０％）を得た。これを実施例２の（１）の原料として使用した。
【０２３３】
＜参考例３＞
２―メルカプト−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル（化合物ＩＩ−１）の製造
２−クロロ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル５．０ｇ（１８．４ｍｍｏｌ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解し、硫化ナトリウム１．８６ｇ（２３．９ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で３０分間撹拌した。室温まで冷却後、水１００ｍｌを加え、酢酸エチル３０ｍｌで洗浄し、水相をクエン酸でｐＨ５〜６に調製した後、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、淡黄色粉末の２―メルカプト−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル（収率９７．６％）を得た。これを実施例１の（２）の原料として使用した。
1Ｈ−ＮＭＲデータ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3溶媒、δ値）
４．２８                （１Ｈ、ｂｓ）
６．７９                （１Ｈ、ｄ）
７．５６                （１Ｈ、ｄｄ）
７．７１                （１Ｈ、ｄ）
７．８７                （１Ｈ、ｄ）
８．０１                （１Ｈ、ｄ）
【０２３４】
＜参考例４＞
１，１’−チオジ−［２−エトキシメトキシ−５−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゼン］（化合物ＩＶ）の製造
［４−（４−トリフルオロメチルフェニル）フェニル］エトキシメチルエーテル３．０ｇ（１０．１ミリモル）をジエチルエーテル３０ｍｌに溶解し、−２０℃において攪拌下、ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５６ｍｏｌ／ｌ）７．８ｍｌを滴下した。室温にてさらに２時間撹拌した後、０℃に冷却し、粉末状の硫黄０．６ｇ（１８．８ミリモル）を加えた。室温にてさらに２時間撹拌した後、反応混合物を希塩酸にあけ、エーテル層を水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査にジメチルスルホキシド２０ｍｌを加え８０℃にて１２時間反応させた後、反応混合物を約２００ｍｌの氷水にあけ、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。有機層を水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、黄色固体（融点６１〜６２℃）の１，１’−チオジ−［２−エトキシメトキシ−５−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゼン］１．６ｇ（収率４８．５％）を得た。これを実施例２の（２）の原料として使用した。
【０２３５】
＜参考例５＞
（１）１，１’−チオジ−［２−シアノ−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゼン］（化合物ＩＶ）の製造
２−メルカプト−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル３．０ｇ（１１．１ｍｍｏｌ）を、ジメチルスルホキシド５ｍｌに加え、５０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却後、反応混合物を５０ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、３０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色固体の１，１’−チオジ−［２−シアノ−５−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゼン］１．３ｇ（収率４２．４％）を得た。これを実施例２の（３）の原料として使用した。
【０２３６】
（２）１，１’−チオジ−［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）ベンゼン］（化合物ＩＶ）の製造
［２−クロロ−４−フルオロ−５（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）フェニル］メチルスルフィド２．２ｇ（７．１ミリモル）を参考例１と同様にして、２−クロロ−４−フルオロ−５（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）チオフェノールとし、次いで参考例５の（１）と同様にして、１，１’−チオジ−［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）ベンゼン］１．８ｇ（収率８５．７％）を得た。これを実施例２の（４）の原料として使用した。
【０２３７】
＜参考例６＞
４−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール（化合物ＸＩＩＩ）の製造
４−エトキシ−３−メチル−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン１．７ｇ（１０．１ミリモル）及び抱水ヒドラジン０．６ｇ（１２．０ミリモル）をエタノール５０ｍｌに加え、室温で２時間攪拌した。減圧下エタノールを留去後、酢酸エチル及び水を加えて分液し、有機層を水で２回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、４−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール１．３ｇ（収率８６．７％）を得た。
【０２３８】
＜参考例７＞
４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロピリミジン−６−オキシド（化合物ＸＩＩＩ）の製造
トリフルオロ酢酸エチル６．９ｇ（４８．６ミリモル）、酢酸ホルムアミジン５ｇ（４８．１ミリモル）及び炭酸ナトリウム５．１ｇ（４８．１ミリモル）をメタノール５０ｍｌ中で６時間還流した。減圧下メタノールを留去後、水及び希塩酸を加え、析出した結晶を濾別し、乾燥して４−トリフルオロメチルー１，６−ジヒドロピリミジンー６−オキシド５．３ｇ（収率８９．９％）を得た。
【０２３９】
＜参考例８＞
Ｎ’−（４−メチル−３−ｎ−プロピルチオフェニル）トリフルオロアセトヒドラジドイルクロリド（化合物ＸＸＩ）の製造
４−メチル−３−ｎ−プロピルチオフェニルヒドラジン２．０ｇ（１０ミリモル）をピリジン１５ｍｌに加え、０℃で撹拌した。無水トリフルオロ酢酸２．１ｇ（１０ミリモル）を滴下し、室温で一夜撹拌した。反応混合物からピリジンを減圧下留去して５０ｍｌの水にあけ、酢酸エチル３０ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を２０ｍｌの水で３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、Ｎ’−（４−メチル−３−ｎ−プロピルチオフェニル）トリフルオロアセトヒドラジド２．３ｇを得た。次に、このヒドラジド２．０ｇ（６．８ミリモル）をアセトニトリル１５ｍｌに溶解し、トリフェニルホスフィン２．０ｇ（７．６ミリモル）及び四塩化炭素５ｍｌを加えて２時間加熱還流した。室温まで冷却後、アセトニトリルを減圧下留去し、得られた残査にトルエン３０ｍｌを加え不溶物をデカンテーションにより除去した（２回）。トルエン層を併せ、４０ｍｌの水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。トルエンを減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｎ’−（４−メチル−３−ｎ−プロピルチオフェニル）トリフルオロアセトヒドラジドイルクロリド１．０ｇ（３．２ミリモル）を得た。これを実施例１０の原料として使用した。
【０２４０】
＜参考例９＞
１−クロロ−５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−ニトロベンゼン（化合物ＸＶＩ）の製造
１−クロロ−３−ヨードベンゼン１０．０ｇ（４１．９ミリモル）を乾燥ベンゼン５０ｍｌに加え、窒素気流下、室温にて撹拌しながら、ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５６ｍｏｌ／ｌ）３２．０ｍｌを滴下した。室温にて２時間撹拌後、１０℃にて３，５−ジクロロ−４−フルオロベンゾトリフルオリド９．９ｇ（４２．５ミリモル）のジエチルエーテル２００ｍｌ溶液を滴下した。室温にてさらに１２時間撹拌後、反応混合物を５００ｍｌの水にあけ分液した。有機層を、２００ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、１−クロロ−３−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゼン５．０ｇ（収率３５．０％）を得た。
【０２４１】
発煙硝酸５０ｍｌに、−３０℃にて１−クロロ−３−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）ベンゼン５．０ｇ（１５．４ミリモル）を滴下した。同温度にて１５分間撹拌した後、５℃まで昇温し約２００ｍｌの氷水にあけ、ジエチルエーテル１００ｍｌで２回抽出した。ジエチルエーテル層を２００ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色液体（ｎD20１．５７４４）の１−クロロ−５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニル）−２−ニトロベンゼン３．０ｇ（収率５２．６％）を得た。これを実施例８の（２）の原料として用いた。
【０２４２】
＜参考例１０＞
２−フルオロ−４−（２，４−ジクロロフェニル）ベンゾニトリル（化合物ＸＶＩ）の製造
２，４−ジクロロフェニルボロン酸１．０ｇ（５．２ミリモル）、４−ブロモ−２−フルオロベンゾニトリル１．１ｇ（５．５ミリモル）、炭酸ナトリウム１．６ｇ（１５．０ミリモル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．８ｇ（０．７ミリモル）をトルエン５０ｍｌ、エタノール２５ｍｌ及び水２５ｍｌの混合溶媒に加え、加熱還流下２時間反応させた。反応混合物を氷水にあけ、トルエンで抽出した。トルエン層を水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、２−フルオロ−４−（２，４−ジクロロフェニル）ベンゾニトリル１．３ｇ（収率９３．０％）を得た。これを実施例８の（１）の原料として使用した。
【０２４３】
＜参考例１１＞
４−（４−トリフルオロメチルフェニル）−２，５−ジフルオロニトロベンゼン（化合物ＸＶＩ）の製造
２，５−ジフルオロ−４−ブロモニトロベンゼン１６．３ｇ（６８．５ミリモル）、４−トリフルオロメチルフェニルボロン酸１３．０ｇ（６８．４ミリモル）、炭酸ナトリウム１５．０ｇ（１４１．５ミリモル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２．０ｇ（１．８ミリモル）をジメトキシエタン２００ｍｌ及び水５０ｍｌの混合溶媒に加え、加熱還流下８時間反応させた。ジメトキシエタンを減圧下留去し３００ｍｌの氷水を加え、有機物を酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、２００ｍｌ水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶（融点１１３〜１１４℃）の４−（４−トリフルオロメチルフェニル）−２，５−ジフルオロニトロベンゼン１３．５ｇ（収率６５．０％）を得た。これを実施例８の（３）の原料として使用した。
【０２４４】
＜参考例１２＞
２−フルオロ−４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル）ベンゾニトリル（化合物ＸＶＩ）の製造
２−フルオロ−４−ブロモベンズアルデヒド４．０ｇ（１９．７ミリモル）、エチレングリコール２．０ｇ（３２．３ミリモル）、ｐ−トルエンスルホン酸０．２ｇ（１．１ミリモル）及びトルエン１００ｍｌを丸底フラスコに取り、４時間共沸脱水した。反応終了後重曹水及び水にて有機相を洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、トルエンを減圧下留去して、２−（２−フルオロ−４−ブロモフェニル）ジオキソラン４．７ｇ（収率９７％）を得た。これをエーテル５０ｍｌに溶解し、窒素気流下、−６０℃にて撹拌しながら、ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５６ｍｏｌ／ｌ）１５．０ｍｌを滴下した。−６０℃にてさらに２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル３．０ｇ（２８．９ミリモル）のジエチルエーテル１０ｍｌ溶液を滴下し、室温にてさらに１２時間撹拌した。０℃にまで再度冷却し、希硫酸５ｍｌを加え１時間攪拌後、反応混合物を１００ｍｌの水にあけ分液した。有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して４−（ジオキソボロラン−２−イル）−２−フルオロベンズアルデヒド２．４ｇ（収率６９％）を得た。これと２−ブロモ５−トリフルオロメチルピリジン３．５ｇ（１４．２ミリモル）、炭酸ナトリウム３．２ｇ（３０．０ミリモル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム１．５ｇ（１．４ミリモル）をトルエン１００ｍｌ、エタノール４０ｍｌ及び水４０ｍｌの混合溶媒に加え、加熱還流下２時間撹拌した。反応混合物を氷水にあけ、トルエンで抽出し、トルエン層を水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル）−２−フルオロベンズアルデヒド２．３ｇ（収率８１％）を得た。これを１００ｍｌのエタノールに溶解し、塩酸ヒドロキシルアミン１．０ｇ（１４．５ミリモル）及びトリエチルアミン１．０ｇ（１０ミリモル）を加え室温下、１２時間攪拌した。減圧下エタノールを留去し、残査に水５０ｍｌ及び酢酸エチル５０ｍｌを加え、分液した。有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残査をピリジンに溶解し、無水トリフルオロ酢酸２．１ｇ（１０ミリモル）を加え一晩放置した。減圧下ピリジンを留去し、重曹水５０ｍｌ及び酢酸エチル５０ｍｌを加え、分液した。有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して２−フルオロ−４−（５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル）ベンゾニトリル１．８ｇ（収率８１％）を得た。これを実施例８の（４）の原料として使用した。
【０２４５】
＜参考例１３＞
２−フルオロ−４−（６−オキソ−４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロピリミジン−１−イル）ベンゾニトリル（化合物ＸＶＩ）の製造
６０％水素化ナトリウム０．８ｇ（２０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ中に分散させ、攪拌下、参考例７で合成した４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロピリミジン−６−オキシド３．３ｇ（２０ミリモル）を加えた。水素ガスの発生が止んだ後、２，４−ジフルオロベンゾニトリル２．８ｇ（２０ミリモル）を加え１１０℃にて１２時間反応させた。減圧下溶媒を留去し、水５０ｍｌ及び酢酸エチル５０ｍｌを加え、分液した。有機層を５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧下留去して２−フルオロ−４−（６−オキソ−４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロピリミジン−１−イル）ベンゾニトリル１．１ｇ（収率１９％）を得た。これを実施例８の（５）の原料として使用した。
【０２４６】
＜参考例１４＞
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−フルオロベンゾニトリル（化合物ＸＶＩ）の製造
参考例１１と同様に、４−（ジオキソボロラン−２−イル）−２−フルオロベンズアルデヒド２．０ｇ（１０．４ミリモル）と２−ブロモ−５−クロロチオフェン２．２ｇ（１１．１ミリモル）をカップリングさせ、次いで塩酸ヒドロキシルアミン反応させることで４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−フルオロベンゾニトリル０．９ｇ（収率３８％）が得られた。これを実施例８の（６）の原料として使用した。
【０２４７】
＜参考例１５＞
２−クロロ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンズアルデヒド（化合物ＸＶＩ）の製造
３−トリフルオロメチルピラゾール４．０８ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、２−クロロ−４−フルオロベンズアルデヒド４．７５ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４．１４ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに加え、６０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却後、反応混合物を１００ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、得られた残査をｎ−ヘキサンで洗浄し、淡黄色粉末の２−クロロ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンズアルデヒド７．１８ｇ（収率８７．２％）を得た。
【０２４８】
＜参考例１６＞
２−クロロ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル（化合物ＸＶＩ）の製造
３−トリフルオロメチルピラゾール２．５ｇ（１８．４ｍｍｏｌ）、２−クロロ−４−フルオロベンゾニトリル２．９ｇ（１８．４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム２．８ｇ（２０．２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに加え、６０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却後、反応混合物を１００ｍｌの水にあけ、有機物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル層を併せ、５０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、得られた残査をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末の２−クロロ−４−（３−トリフルオロメチルピラゾリル）ベンゾニトリル４．６ｇ（収率９２．０％）を得た。これを参考例３の原料に使用した。
【０２４９】
＜参考例１７＞
３−（２，４−ジクロロフェニル）アニリン（化合物ＸＶＩＩＩ）の製造
２，４−ジクロロフェニルボロン酸２．０ｇ（１０．４ミリモル）、３−ヨ−ドアニリン２．４ｇ（１１．０ミリモル）、炭酸ナトリウム３．２ｇ（３０．０ミリモル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム１．６ｇ（１．４ミリモル）をトルエン７０ｍｌ、エタノール３０ｍｌ及び水３０ｍｌの混合溶媒に加え、加熱還流下２時間反応させた。反応混合物を氷水にあけ、トルエンで抽出した。トルエン層を水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、３−（２，４−ジクロロフェニル）アニリン０．９ｇ（収率３６．０％）を得た。これを実施例９の原料として使用した。
【０２５０】
＜参考例１８＞
［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）フェニル］メチルスルフィドの製造
４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルチオフェニルヒドラジン４．１ｇ（１９．８ミリモル）、トリフルオロアセトアルデヒドエチルヘミアセタール２．９ｇ（２０．１ミリモル）、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．３ｇ（１．５ミリモル）及びエタノール５０ｍｌを丸底フラスコに取り、還流下１時間反応させた後、エタノールを減圧下留去してＮ’−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルチオフェニル）トリフルオロアセトアルデヒドヒドラゾンを得た。これをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、室温下Ｎ−ブロモこはく酸イミド３．８ｇ（２１．３ミリモル）を加えた。室温にて更に１時間攪拌後、溶媒を減圧下留去して５０ｍｌの水にあけ、酢酸エチル３０ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を２０ｍｌの水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、Ｎ’−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルチオフェニル）トリフルオロアセトヒドラジドイルブロミド６．５ｇ（９０．３％）を得た。これをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、２８％アンモニア水２ｍｌを加えた。室温にて更に１時間攪拌後、溶媒を減圧下留去して５０ｍｌの水にあけ、酢酸エチル３０ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を２０ｍｌの水で３回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、Ｎ’−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルチオフェニル）トリフルオロアセトアミジン４．５ｇ（８３．８％）を得た。得られたＮ’−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルチオフェニル）トリフルオロアセトアミジン及びｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．３ｇ（１．５ミリモル）を３０ｍｌのオルソぎ酸トリメチル中で６時間還流後、オルソぎ酸トリメチルを減圧下留去して５０ｍｌの水にあけ、酢酸エチル３０ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を２０ｍｌの水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−トリフルオロメチルトリアゾリル）フェニル］メチルスルフィド２．２ｇ（４７．２％）を得た。これを参考例５の（２）の原料として使用した。
【０２５１】
本発明の殺虫、殺ダニ剤は、一般式［Ｉ］で示される３−アリールフェニルスルフィド誘導体を有効成分としてなる。
【０２５２】
本発明化合物を有害生物防除剤の有効成分として使用するに際しては、本発明化合物それ自体で用いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、及びその他補助剤を配合して、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、ペースト剤、油剤、乳濁剤等の種々の形態に製剤することができる。これらの配合割合は通常、有効成分０．１〜９０重量部で農薬補助剤１０〜９９．９重量部である。
【０２５３】
ここにいう製剤化に際して用いられる担体としては、固体担体と液体担体に分けられる。固体担体としては、例えば澱粉、活性炭、大豆粉、小麦粉、木粉、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、タルク、カオリン、ベントナイト、炭酸カルシウム、ゼオライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ等の鉱物性粉末が挙げられる。液体担体としては、例えば水；イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類；シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ケロシン、軽油等の脂肪族炭化水素類；キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルナフタリン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルアセトアミド等の酸アミド類；脂肪酸のグリセリンエステル等のエステル類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド等の含硫化合物類等が挙げられる。
【０２５４】
界面活性剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等が挙げられる。
【０２５５】
その他の補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム、グアーガム、トラガントガム、ポリビニルアルコール等の固着剤あるいは増粘剤、金属石鹸等の消泡剤、脂肪酸、アルキルリン酸塩、シリコーン、パラフィン等の物性向上剤、着色剤等を用いることができる。
【０２５６】
これらの製剤の実際の使用に際しては、そのまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。本発明化合物を含有する種々の製剤、又はその希釈物の施用は、通常一般に行なわれている施用方法、即ち、散布（例えば噴霧、ミスティング、アトマイジング、散粉、散粒、水面施用、箱施用等）、土壌施用（例えば混入、潅注等）、表面施用（例えば塗布、粉衣、被覆等）、浸漬、毒餌等により行うことができる。また、家畜に対して前記有効成分を飼料に混合して与え、その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の発生、成育を防除することも可能である。また、いわゆる超高濃度少量散布法により施用することもできる。この方法においては、活性成分を１００％含有することが可能である。
【０２５７】
本発明の有害生物防除剤の施用は、一般に０．１〜５００００ｐｐｍ、望ましくは１〜１００００ｐｐｍの有効成分濃度で行なう。
【０２５８】
有効成分濃度は、製剤の形態及び施用する方法、目的、時期、場所及び有害生物の発生状況等によって適当に変更できる。例えば水生有害生物の場合、上記濃度範囲の薬液を発生場所に散布しても防除できることから、水中での有効成分濃度範囲は上記以下である。単位面積あたりの施用量は１ｈａ当り、有効成分化合物として０．１〜５０００ｇ、好ましくは１〜１０００ｇが使用されるが、これらに限定されるものではない。
【０２５９】
尚、本発明化合物は単独でも十分有効であることはいうまでもないが、必要に応じて他の肥料、農薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウイルス剤、誘引剤、除草剤、植物生長調整剤などと混用、併用することができ、この場合に一層優れた効果を示すこともある。
【０２６０】
本発明化合物と混合して使用できる殺虫剤、殺菌剤、殺ダニ剤等の代表例を以下に示す。
【０２６１】
例えば有機リン及びカーバメート系殺虫剤：フェンチオン、フェニトロチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、オキシデプロホス、バミドチオン、フェントエート、ジメトエート、ホルモチオン、マラチオン、トリクロルホン、チオメトン、ホスメット、ジクロルボス、アセフェート、ＥＰＢＰ、メチルパラチオン、オキシジメトンメチル、エチオン、ジオキサベンゾホス、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、クロルフェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチルビンホス、プロパホス、イソフェンホス、ジスルホトン、プロフェノホス、ピラクロホス、モノクロトホス、アジンホスメチル、アルジカルブ、メソミル、チオジカルブ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラチオカルブ、プロポキスル、フェノブカルブ、メトルカルブ、イソプロカルブ、カルバリル、ピリミカーブ、エチオフェンカルブ、ジクロフェンチオン、ピリミホスメチル、キナルホス、クロルピリホスメチル、プロチオホス、ナレッド、ＥＰＮ、ＸＭＣ、ベンダイオカルブ、オキサミル、アラニカルブ、クロルエトキシホス等。
【０２６２】
ピレスロイド系殺虫剤：ペルメトリン、シペルメトリン、デルタメトリン、フェンバレレート、フェンプロパトリン、ピレトリン、アレスリン、テトラメトリン、レスメトリン、ジメスリン、プロパスリン、フェノトリン、プロトリン、フルバリネート、シフルトリン、シハロトリン、フルシトリネート、エトフェンプロックス、シクロプロトリン、トラロメトリン、シラフルオフェン、テフルトリン、ビフェントリン、アクリナトリン等。
【０２６３】
アシルウレア系、その他の殺虫剤：ジフルベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプロキシフェン、ルフェヌロン、シロマジン、メトプレン、エンドスルファン、ジアフェンチウロン、イミダクロプリド、フィプロニル、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアルデヒド、マシン油、ＢＴや昆虫病原ウイルス等の微生物農薬、フェノキシカルブ、カルタップ、チオシクラム、ベンスルタップ、テブフェノジド、クロルフェナピル、エマメクチンベンゾエート、アセタプリド、ニテンピラム、オレイン酸ナトリウム、なたね油等。
【０２６４】
殺線虫剤：フェナミホス、ホスチアゼート、エトプロホス、メチルイソチオシアネート、１，３ジクロロプロペン、ＤＣＩＰ等。
【０２６５】
殺ダニ剤：クロルベンジレート、フェニソブロモレート、ジコホル、アミトラズ、プロパルギット、ベンゾメート、ヘキシチアゾクス、フェンブタチンオキシド、ポリナクチン、キノメチオネート、クロルフェンソン、テトラジホン、アバメクチン、ミルベメクチン、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオカルブ、ジエノクロル、エトキサゾール、ハルフェンプロックス、ビフェナゼート等。
【０２６６】
殺菌剤：チオファネートメチル、ベノミル、カルベンダゾール、チアベンダゾール、フォルペット、チウラム、ジラム、ジネブ、マンネブ、ポリカーバメート、イプロベンホス、エジフェンホス、フサライド、プロベナゾール、イソプロチオラン、クロロタロニル、キャプタン、ポリオキシン、ブラストサイジンＳ、カスガマイシン、ストレプトマイシン、バリダマイシン、トリシクラゾール、ピロキロン、フェナジンオキシド、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、イプロジオン、ヒメキサゾール、メタラキシル、トリフルミゾール、トリホリン、トリアジメホン、ビテルタノール、フェナリモル、プロピコナゾール、シモキサニル、プロクロラズ、ペフラゾエート、ヘキサコナゾール、ミクロブタニル、ジクロメジン、テクロフタラム、プロピネブ、ジチアノン、ホセチル、ビンクロゾリン、プロシミドン、オキサジキシル、グアザチン、プロパモカルブ塩酸塩、フルアジナム、オキソリニック酸、ヒドロキシイソキサゾール、メパニピリム等。
【０２６７】
本発明の化合物は、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の害虫に対して、優れた防除効果を示す。そのような害虫の例としては、以下の如き害虫類を例示することができる。
【０２６８】
半翅目害虫、例えばホソヘリカメムシ（Ｒｉｐｔｏｒｔｕｓ  ｃｌａｖａｔｕｓ）、ミナミアオカメムシ（Ｎｅｚａｒａ  ｖｉｒｉｄｕｌａ）、メクラカメムシ類（Ｌｙｇｕｓ  ｓｐ．）、アメリカコバネナガカメムシ（Ｂｌｉｓｓｕｓ  ｌｅｕｃｏｐｔｅｒｕｓ）、ナシグンバイ（Ｓｔｅｐｈａｎｉｔｉｓ  ｎａｓｈｉ）等のカメムシ類（異翅類；ＨＥＴＥＲＯＰＴＥＲＡ）、ツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ  ｃｉｎｃｔｉｃｅｐｓ）、ヒメヨコバイ類（Ｅｍｐｏａｓｃａ  ｓｐ．，  Ｅｒｙｔｈｒｏｎｅｕｒａ  ｓｐ．，Ｃｉｒｃｕｌｉｆｅｒ  ｓｐ．）等のヨコバイ類、トビイロウンカ（Ｎｉｌａｐａｒｖａｔａ  ｌｕｇｅｎｓ）、セジロウンカ（Ｓｏｇａｔｅｌｌａ    ｆｕｒｃｉｆｅｒａ）、ヒメトビウンカ（Ｌａｏｄｅｌｐｈａｘ  ｓｔｒｉａｔｅｌｌｕｓ）等のウンカ類、Ｐｓｙｌｌａ  ｓｐ．等のキジラミ類、タバココナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉａ  ｔａｂａｃｉ）、オンシツコナジラミ（Ｔｒｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ  ｖａｐｏｒａｒｉｏｒｕｍ）等のコナジラミ類、ブドウネアブラムシ（Ｖｉｔｅｕｓ  ｖｉｔｉｆｏｌｉｉ）、モモアカアブラムシ（Ｍｙｚｕｓ  ｐｅｒｓｉｃａｅ）、リンゴアブラムシ（Ａｐｈｉｓ  ｐｏｍｉ）、ワタアブラムシ（Ａｐｈｉｓ  ｇｏｓｓｙｐｉｉ）、Ａｐｈｉｓ  ｆａｂａｅ、ニセダイコンアブラムシ（Ｒｈｏｐａｌｏｓｉｐｈｕｍ  ｐｓｅｄｏｂｒａｓｓｉｃａｓ）、ジャガイモヒゲナガアブラムシ（Ａｕｌａｃｏｒｔｈｕｍ  ｓｏｌａｎｉ）、ムギミドリアブラムシ（Ｓｃｈｉｚａｐｈｉｓ  ｇｒａｍｉｎｕｍ）等のアブラムシ類、クワコナカイガラムシ（Ｐｓｅｕｄｏｃｏｃｃｕｓ  ｃｏｍｓｔｏｃｋｉ）、ルビーロウムシ（Ｃｅｒｏｐｌａｓｔｅｓ  ｒｕｂｅｎｓ）、サンホーゼカイガラムシ（Ｃｏｍｓｔｏｃｋａｓｐｉｓ  ｐｅｒｎｉｃｉｏｓａ）、ヤノネカイガラムシ（Ｕｎａｓｐｉｓ  ｙａｎｏｎｅｎｓｉｓ）等のカイガラムシ類、サシガメ（Ｒｈｏｄｎｉｕｓ  ｓｐ．）等。
【０２６９】
鱗翅目害虫、例えばチャハマキ（Ｈｏｍｏｎａ  ｍａｇｎａｎｉｍａ）、コカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ  ｏｒａｎａ）、テングハマキ（Ｓｐａｒｇａｎｏｔｈｉｓ  ｐｉｌｌｅｒｉａｎａ）、ナシヒメシンクイ（Ｇｒａｐｈｏｌｉｔｈａ  ｍｏｌｅｓｔａ）、マメシンクイガ（Ｌｅｇｕｍｉｎｉｖｏｒａ  ｇｌｙｃｉｎｉｖｏｒｅｌｌａ）、コドリンガ（Ｌａｓｐｅｙｒｅｓｉａ  ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）、Ｅｕｃｏｓｍａ  ｓｐ．、Ｌｏｂｅｓｉａ  ｂｏｔｒａｎａ等のハマキガ類、ブドウホソハマキ（Ｅｕｐｏｅｃｉｌｌｉａ  ａｍｂｉｇｕｅｌｌａ）等のホソハマキガ類、Ｂａｍｂａｌｉｎａ  ｓｐ．等のミノガ類、コクガ（Ｎｅｍａｐｏｇｏｎ  ｇｒａｎｅｌｌｕｓ）、イガ（Ｔｉｎｅａ  ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｓ）等のヒロズコガ類、ギンモンハモグリガ（Ｌｙｏｎｅｔｉａ  ｐｒｕｎｉｆｏｌｉｅｌｌａ）等のハモグリガ類、キンモンホソガ（Ｐｈｙｌｌｏｎｏｒｙｃｔｅｒ  ｒｉｇｏｎｉｅｌｌａ）等のホソガ類、ミカンハモグリガ（Ｐｈｙｌｌｏｃｎｉｓｔｉｓ  ｃｉｔｒｅｌｌａ）等のコハモグリガ類、コナガ（Ｐｌｕｔｅｌｌａ  ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）、Ｐｒａｙｓ  ｃｉｔｒｉ等のスガ類、ブドウスカシバ（Ｐａｒａｎｔｈｒｅｎｅ  ｒｅｇａｌｉｓ）、Ｓｙｎａｎｔｈｅｄｏｎ  ｓｐ．等のスカシバガ類、ワタアカミムシ（Ｐｅｃｔｉｎｏｐｈｏｒａ  ｇｏｓｓｙｐｉｅｌｌａ）、ジャガイモガ（Ｐｈｔｈｏｒｉｍａｅａ  ｏｐｅｒｃｕｌｅｌｌａ）、Ｓｔｏｍｏｐｔｅｒｙｘ  ｓｐ．等のキバガ類、モモシンクイ（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ  ｎｉｐｏｎｅｎｓｉｓ）等のシンクイガ類、イラガ（Ｍｏｎｅｍａ  ｆｌａｖｅｓｃｅｎｓ）等のイラガ類、ニカメイガ（Ｃｈｉｌｏ  ｓｕｐｐｒｅｓｓａｌｉｓ）、コブノメイガ（Ｃｎａｐｈａｌｏｃｒｏｃｉｓ  ｍｅｄｉｎａｌｉｓ）、Ｏｓｔｒｉｎｉａ  ｎｕｂｉｌａｌｉｓ、アワノメイガ（Ｏｓｔｒｉｎｉａ  ｆｕｒｎａｃａｌｉｓ）  、ハイマダラノメイガ（Ｈｅｌｌｕｌａ  ｕｎｄａｌｉｓ）、ハチミツガ（Ｇａｌｌｅｒｉａ  ｍｅｌｌｏｎｅｌｌａ）、Ｅｌａｓｍｏｐａｌｐｕｓ  ｌｉｇｎｏｓｅｌｌｕｓ、Ｌｏｘｏｓｔｅｇｅ  ｓｔｉｃｔｉｃａｌｉｓ等のメイガ類、モンシロチョウ（Ｐｉｅｒｉｓ  ｒａｐａｅ）等のシロチョウ類、ヨモギエダシャク（Ａｓｃｏｔｉｓ  ｓｅｌｅｎａｒｉａ）等のシャクガ類、オビカレハ（Ｍａｌａｃｏｓｏｍａ  ｎｅｕｓｔｒｉａ）等のカレハガ類、Ｍａｎｄｕｃａ  ｓｅｘｔａ等のスズメガ類、チャドクガ（Ｅｕｐｒｏｃｔｉｓ  ｐｓｅｕｄｏｃｏｎｓｐｅｒｓａ）、マイマイガ（Ｌｙｍａｎｔｒｉａ  ｄｉｓｐａｒ）等のドクガ類、アメリカシロヒトリ（Ｈｙｐｈａｎｔｒｉａ  ｃｕｎｅａ）等のヒトリガ類、タバコバッドワーム（Ｈｅｌｉｏｔｈｉｓ  ｖｉｒｅｓｃｅｎｓ）、ボールワーム（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ  ｚｅａ）、シロイチモジヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ  ｅｘｉｇｕａ）、オオタバコガ（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ  ａｒｍｉｇｅｒａ）、ハスモンヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ  ｌｉｔｕｒａ）、ヨトウガ（Ｍａｍｅｓｔｒａ  ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、タマナヤガ（Ａｇｒｏｔｉｓ  ｉｐｓｉｒｏｎ）、アワヨトウ（Ｐｓｅｕｄａｌｅｔｉａ  ｓｅｐａｒａｔａ）、イラクサキンウワバ（Ｔｒｉｃｈｏｐｌｕｓｉａ  ｎｉ）等のヤガ類等。
【０２７０】
鞘翅目害虫、例えばドウガネブイブイ（Ａｎｏｍａｌａ  ｃｕｐｒｅａ）、マメコガネ（Ｐｏｐｉｌｌｉａ  ｊａｐｏｎｉｃａ）、ヒメコガネ（Ａｎｏｍａｌａ  ｒｕｆｏｃｕｐｒｅａ）、Ｅｕｔｈｅｏｌａ  ｒｕｇｉｃｅｐｓ等のコガネムシ類、ワイヤーワーム（Ａｇｒｉｏｔｅｓ  ｓｐ．）、Ｃｏｎｏｄｅｕｓ  ｓｐ．等のコメツキムシ類、ニジュウヤホシテントウ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ  ｖｉｇｉｎｔｉｏｃｔｏｐｕｎｃｔａｔａ）、インゲンテントウムシ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ  ｖａｒｉｖｅｓｔｉｓ）等のテントウムシ類、コクヌストモドキ（Ｔｒｉｂｏｌｉｕｍ  ｃａｓｔａｎｅｕｍ）等のゴミムシダマシ類、ゴマダラカミキリ（Ａｎｏｐｌｏｐｈｏｒａ  ｍａｌａｓｉａｃａ）、マツノマダラカミキリ（Ｍｏｎｏｃｈａｍｕｓ  ａｌｔｅｒｎａｔｕｓ）等のカミキリムシ類、インゲンマメゾウムシ（Ａｃａｎｔｈｏｓｃｅｌｉｄｅｓ  ｏｂｔｅｃｔｕｓ）、アズキゾウムシ（Ｃａｌｌｏｓｏｂｒｕｃｈｕｓ  ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）等のマメゾウムシ類、コロラドハムシ（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ  ｄｅｃｅｍｌｉｎｅａｔａ）、コーンルートワーム（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ  ｓｐ．）、イネドロオイムシ（Ｏｕｌｅｍａ  ｏｒｙｚａｅ）、テンサイトビハムシ（Ｃｈａｅｔｏｃｎｅｍａ  ｃｏｎｃｉｎｎａ）、Ｐｈａｅｄｏｎ  ｃｏｃｈｌｅａｒｉａｓ、Ｏｕｌｅｍａ  ｍｅｌａｎｏｐｕｓ、Ｄｉｃｌａｄｉｓｐａ  ａｒｍｉｇｅｒａ等のハムシ類、Ａｐｉｏｎ  ｇｏｄｍａｎｉ等のホソクチゾウムシ類、イネミズゾウムシ（Ｌｉｓｓｏｒｈｏｐｔｒｕｓ  ｏｒｙｚｏｐｈｉｌｕｓ）、ワタミゾウムシ（Ａｎｔｈｏｎｏｍｕｓ  ｇｒａｎｄｉｓ）等のゾウムシ類、コクゾウムシ（Ｓｉｔｏｐｈｉｌｕｓ  ｚｅａｍａｉｓ）等のオサゾウムシ類、キクイムシ類、カツオブシムシ類、シバンムシ類等。
【０２７１】
双翅目害虫、例えばキリウジガガンボ（Ｔｉｐｒａ  ａｎｏ）、イネユスリカ（Ｔａｎｙｔａｒｓｕｓ  ｏｒｙｚａｅ）、イネシントメタマバエ（Ｏｒｓｅｏｌｉａ  ｏｒｙｚａｅ）、チチュウカイミバエ（Ｃｅｒａｔｉｔｉｓ  ｃａｐｉｔａｔａ）、イネミギワバエ（Ｈｙｄｒｅｌｌｉａ  ｇｒｉｓｅｏｌａ）、オウトウショウジョウバエ（Ｄｒｏｓｏｐｈｉｌａ  ｓｕｚｕｋｉｉ）、フリッツフライ（Ｏｓｃｉｎｅｌｌａ  ｆｒｉｔ）、イネカラバエ（Ｃｈｌｏｒｏｐｓ  ｏｒｙｚａｅ）、インゲンモグリバエ（Ｏｐｈｉｏｍｙｉａ  ｐｈａｓｅｏｌｉ）、マメハモグリバエ（Ｌｉｒｉｏｍｙｚａ  ｔｒｉｆｏｌｉｉ）、アカザモグリハナバエ（Ｐｅｇｏｍｙａ  ｈｙｏｓｃｙａｍｉ）、タネバエ（Ｈｙｌｅｍｉａｐｌａｔｕｒａ）、ソルガムフライ（Ａｔｈｅｒｉｇｏｎａ  ｓｏｃｃａｔａ）、イエバエ（Ｍｕｓｃａ  ｄｏｍｅｓｔｉｃａ）、ウマバエ（Ｇａｓｔｒｏｐｈｉｌｕｓ  ｓｐ．）、サシバエ（Ｓｔｏｍｏｘｙｓ  ｓｐ．）、ネツタイシマカ（Ａｅｄｅｓ  ａｅｇｙｐｔｉ）、アカイエカ（Ｃｕｌｅｘ  ｐｉｐｉｅｎｓ）、シナハマダラカ（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ  ｓｌｎｅｎｓｉｓ）、コガタアカイエカ（Ｃｕｌｅｘ  ｔｒｉｔａｅｎｉｏｒｈｙｎｃｈｕｓ）等。
【０２７２】
膜翅目害虫、例えばクキバチ類（Ｃｅｐｈｕｓ  ｓｐ．）、カタビロコバチ類（Ｈａｒｍｏｌｉｔａ  ｓｐ．）、カブラハバチ類（Ａｔｈａｌｉａ  ｓｐ．）、スズメバチ類（Ｖｅｓｐａ  ｓｐ．）、ファイアーアント類等。
【０２７３】
直翅目害虫、例えばチャバネゴキブリ（Ｂｌａｔｅｌｌａ  ｇｅｒｍａｎｉｃａ）、ワモンゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ  ａｍｅｒｉｃａｎａ  ）、ケラ（Ｇｒｙｌｌｏｔａｌｐａ  ａｆｒｉｃａｎａ）、バッタ（Ｌｏｃｕｓｔａ  ｍｉｇｒａｔｏｒｉａ  ｍｉｇｒａｔｏｒｉｏｄｅｓ）、Ｍｅｌａｎｏｐｌｕｓｓａｎｇｕｉｎｉｐｅｓ等。
【０２７４】
シロアリ目害虫、例えば、ヤマトシロアリ（Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ  ｓｐｅｒａｔｕｓ）、イエシロアリ（Ｃｏｐｔｏｔｅｒｍｅｓ  ｆｏｒｍｏｓａｎｕｓ）等。
【０２７５】
アザミウマ目害虫、例えば、チャノキイロアザミウマ（Ｓｃｉｒｔｏｔｈｒｉｐｓ  ｄｏｒｓａｌｉｓ）、ミナミキイロアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ  ｐａｌｍｉ）、クロトンアザミウマ（Ｈｅｌｉｏｔｈｒｉｐｓ  ｈａｅｍｏｒｒｈｏｉｄａｌｉｓ）、ミカンキイロアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ  ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）、イネクダアザミウマ（Ｈａｐｌｏｔｈｒｉｐｓ  ａｃｕｌｅａｔｕｓ）等。
【０２７６】
ハダニ類、例えばナミハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ  ｕｒｔｉｃａｅ）、カンザワハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ  ｋａｎｚａｗａｉ）、ミカンハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ  ｃｉｔｒｉ）、リンゴハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓｕｌｍｉ）、イエローマイト（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ  ｃａｒｐｉｎｉ）、テキサスシトラスマイト（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ  ｂａｎｋｓｉ）、ミカンサビダニ（Ｐｈｙｌｌｏｃｏｐｔｒｕｔａ  ｏｌｅｉｖｏｒａ）、チャノホコリダニ（Ｐｏｌｙｐｈａｇｏｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ  ｌａｔｕｓ）、ヒメハダニ（Ｂｒｅｖｉｐａｌｐｕｓ  ｓｐ．）、ロビンネダニ（Ｒｈｉｚｏｇｌｙｐｈｕｓ  ｒｏｂｉｎｉ）、ケナガコナダニ（Ｔｙｒｏｐｈａｇｕｓ  ｐｕｔｒｅｓｃｅｎｔｉａｅ）等。
【０２７７】
植物寄生性線虫類、例えばサツマイモネコブセンチュウ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ  ｉｎｃｏｇｎｉｔａ）、ネグサレセンチュウ（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈｕｓｓｐ．）、ダイズシストセンチュウ（Ｈｅｔｅｒｏｄｅｒａ  ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、イネシンガレセンチュウ（Ａｐｈｅｌｅｎｃｈｏｉｄｅｓ  ｂｅｓｓｅｙｉ）、マツノザイセンチュウ（Ｂｕｒｓａｐｈｅｌｅｎｃｈｕｓ  ｘｙｌｏｐｈｉｌｕｓ）等。
【０２７８】
その他有害動物、不快動物、衛生害虫、寄生虫、例えばスクミリンゴガイ（Ｐｏｍａｃｅａ  ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔａ）、ナメクジ（Ｉｎｃｉｌａｒｉａ  ｓｐ．）、アフリカマイマイ（Ａｃｈａｔｉｎａ  ｆｕｌｉｃａ）等の腹足綱類（Ｇａｓｔｒｏｐｏｄａ）、ダンゴムシ（Ａｒｍａｄｉｌｌｉｄｉｕｍ  ｓｐ．）、ワラジムシ、ムカデ等の等脚目類（Ｉｓｏｐｏｄａ）、Ｌｉｐｏｓｃｅｌｉｓ  ｓｐ．等のチャタテムシ類、Ｃｔｅｎｏｌｅｐｉｓｍａ  ｓｐ．等のシミ類、Ｐｕｌｅｘ  ｓｐ．、Ｃｔｅｎｏｃｅｐｈａｌｉｄｅｓ  ｓｐ．等のノミ類、Ｔｒｉｃｈｏｄｅｃｔｅｓ  ｓｐ．等のハジラミ類、Ｃｉｍｅｘ  ｓｐ．等のトコジラミ類、オウシマダニ（Ｂｏｏｐｈｉｌｕｓ  ｍｉｃｒｏｐｌｕｓ）、フタトゲチマダニ（Ｈａｅｍａｐｈｙｓａｌｉｓ  ｌｏｎｇｉｃｏｒｎｉｓ）等の動物寄生性ダニ類、ヒョウヒダニ類等を挙げることができる。
【０２７９】
更に、有機リン系化合物、カーバメート系化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化合物あるいは既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対しても有効である。
【０２８０】
【発明の効果】
本発明の化合物は、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の広範囲の有害生物に対して優れた防除効果を示し、また、抵抗性を帯びた有害生物をも防除できる。
【０２８１】
次に、代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、補助剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において、％は重量百分率を示す。
【０２８２】
製剤例１    乳剤
化合物（Ｉ−２８）３０％、シクロヘキサノン２０％、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル１１％、アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム４％及びメチルナフタリン３５％を均一に溶解して乳剤とした。
製剤例２    水和剤
化合物（Ｉ−２８）１０％、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩０．５％、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル０．５％、珪藻土２４％、クレー６５％を均一に混合粉砕して水和剤とした。
製剤例３    粉剤
化合物（Ｉ−２８）２％、珪藻土５％及びクレー９３％を均一に混合粉砕して粉剤とした。
製剤例４    粒剤
化合物（Ｉ−２８）５％、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩２％、リグニンスルホン酸ナトリウム５％、カルボキシメチルセルロース２％及びクレー８６％を均一に混合粉砕した。この混合物１００重量部に水２０重量部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて１４〜３２メッシュの粒状に加工したのち、乾燥して粒剤とした。
【０２８３】
次に本発明化合物を有効成分とする有害生物防除剤の奏する効果について試験例をもって説明する。
試験例１  ナミハダニ防除試験
製剤例２に準じて調製した水和剤を有効成分として５００ｐｐｍの濃度に水で希釈した。その薬液に、予めナミハダニ成虫を接種しておいたダイズ苗を浸漬し、風乾した。処理後のダイズ苗は２５℃の恒温室に置き、１３日後に生存虫数を調査し、数１の計算式により防除価を求めた。この試験において防除価９０以上の殺ダニ効果が得られる化合物の代表として、Ｉ−2、Ｉ−3、Ｉ−10、Ｉ−12、Ｉ−17、Ｉ−18、Ｉ−19、Ｉ−21、Ｉ−24、Ｉ−26、Ｉ−27、Ｉ−28、Ｉ−29、Ｉ−32、Ｉ−35、Ｉ−37、Ｉ−38、Ｉ−40、Ｉ−42、Ｉ−44、Ｉ−45、Ｉ−46、Ｉ−48、Ｉ−49、Ｉ−50、Ｉ−51、Ｉ−52、Ｉ−53、Ｉ−54、Ｉ−59、Ｉ−60、Ｉ−61、Ｉ−76、Ｉ−77、Ｉ−78、Ｉ−79、Ｉ−81、Ｉ−82、Ｉ−82、Ｉ−85、Ｉ−92、Ｉ−93、Ｉ−96、Ｉ−98、Ｉ−99、Ｉ−100、Ｉ−103、Ｉ−107、Ｉ−111、Ｉ−113、Ｉ−114、Ｉ−118、Ｉ−119、Ｉ−120、Ｉ−122、Ｉ−123、Ｉ−124、Ｉ−127、Ｉ−128、Ｉ−129、Ｉ−130、Ｉ−131、Ｉ−132、Ｉ−133、Ｉ−134、Ｉ−137、Ｉ−151、Ｉ−152、Ｉ−153、Ｉ−163、Ｉ−167、Ｉ−170、Ｉ−173、Ｉ−175、Ｉ−176、Ｉ−178、Ｉ−179、Ｉ−180、Ｉ−181、Ｉ−183、Ｉ−184、Ｉ−185、Ｉ−186、Ｉ−187、Ｉ−188、Ｉ−189、Ｉ−190、Ｉ−191、Ｉ−192、Ｉ−193、Ｉ−194、Ｉ−196、Ｉ−198、Ｉ−199、Ｉ−204、Ｉ−205、Ｉ−206、Ｉ−207、Ｉ−208、Ｉ−209、Ｉ−210、Ｉ−211、Ｉ−213、Ｉ−215、Ｉ−216、Ｉ−219、Ｉ−220、Ｉ−221、Ｉ−222、Ｉ−223、Ｉ−224、Ｉ−227、Ｉ−228、Ｉ−229、Ｉ−230、Ｉ−232、Ｉ−233、Ｉ−234、Ｉ−235、Ｉ−236、Ｉ−238、Ｉ−239、Ｉ−244、Ｉ−245、Ｉ−248、Ｉ−249、Ｉ−250、Ｉ−251、Ｉ−252、Ｉ−253、Ｉ−254、Ｉ−255、Ｉ−256、Ｉ−257、Ｉ−258、Ｉ−259、Ｉ−260、Ｉ−261、Ｉ−262、Ｉ−263、Ｉ−264、Ｉ−265、Ｉ−266、Ｉ−267、Ｉ−276、Ｉ−277、Ｉ−278、Ｉ−279、Ｉ−282、Ｉ−283、Ｉ−286、Ｉ−287、Ｉ−288、Ｉ−290、Ｉ−291、Ｉ−292、Ｉ−293、Ｉ−294、Ｉ−295、Ｉ−296、Ｉ−297、Ｉ−298、Ｉ−299、Ｉ−300、Ｉ−301、Ｉ−302、Ｉ−303、Ｉ−304、Ｉ−305、Ｉ−306、Ｉ−307、Ｉ−308、Ｉ−309、Ｉ−310、Ｉ−311、Ｉ−312、Ｉ−313、Ｉ−314、Ｉ−315、Ｉ−317、Ｉ−318、Ｉ−320、Ｉ−322、Ｉ−324、Ｉ−325、Ｉ−328、Ｉ−329、Ｉ−330、Ｉ−336、Ｉ−337、Ｉ−339、Ｉ−340、Ｉ−341、Ｉ−342、Ｉ−343、Ｉ−344、Ｉ−345、Ｉ−346、Ｉ−347、Ｉ−348、Ｉ−349、Ｉ−350、Ｉ−351、Ｉ−352、Ｉ−353、Ｉ−354、Ｉ−355、Ｉ−356、Ｉ−357、Ｉ−358、Ｉ−359、Ｉ−360、Ｉ−361、Ｉ−362、Ｉ−364、Ｉ−366、Ｉ−367、Ｉ−368、Ｉ−369、Ｉ−370、Ｉ−372、Ｉ−374、Ｉ−383、Ｉ−385、Ｉ−386、Ｉ−387、Ｉ−388、Ｉ−403、Ｉ−405、Ｉ−406、Ｉ−407、Ｉ−408、Ｉ−411、Ｉ−414、Ｉ−417、Ｉ−418、Ｉ−419、Ｉ−421、Ｉ−422、Ｉ−425、Ｉ−426、Ｉ−427、Ｉ−428、Ｉ−429、Ｉ−430、Ｉ−445、Ｉ−446、Ｉ−451、Ｉ−452、Ｉ−477、Ｉ−478、Ｉ−513、Ｉ−514、Ｉ−517、Ｉ−518、Ｉ−535、Ｉ−571、Ｉ−572、Ｉ−573、Ｉ−575、Ｉ−576、Ｉ−577、Ｉ−581、Ｉ−587、Ｉ−588、Ｉ−589、Ｉ−591、Ｉ−593、Ｉ−595、Ｉ−599、Ｉ−600、ＩＩ−1、ＩＩ−3、ＩＩ−4、ＩＩ−5、ＩＩ−6、ＩＩ−9、ＩＩ−11、ＩＩ−15、ＩＩ−16、ＩＩ−19、ＩＩ−20、ＩＩ−27、ＩＩ−28、ＩＩ−39、ＩＩ−40、ＩＩ−43、ＩＩ−44、ＩＩ−55、ＩＩ−57、ＩＩ−58、ＩＩ−61、ＩＩ−62、ＩＩ−77、ＩＩ−78、ＩＩ−81、ＩＩ−82、ＩＩ−85、ＩＩ−86、ＩＩ−89���ＩＩ−94、ＩＩ−95、ＩＩＩ−10、ＩＩＩ−14、ＩＩＩ−15、ＩＶ−5、ＩＶ−6、Ｖ−13、Ｖ−14、Ｖ−19、Ｖ−20、Ｖ−21、Ｖ−27、Ｖ−32、Ｖ−33、Ｖ−36、Ｖ−37、Ｖ−38、Ｖ−44、Ｖ−53、Ｖ−54、Ｖ−82、Ｖ−83、Ｖ−92、Ｖ−93、Ｖ−95、Ｖ−102、Ｖ−103、Ｖ−105、Ｖ−113、Ｖ−114、Ｖ−116、Ｖ−120、Ｖ−121、Ｖ−124、Ｖ−154、Ｖ−155、Ｖ−156、Ｖ−159、Ｖ−167、Ｖ−176、Ｖ−179、Ｖ−188、Ｖ−208、Ｖ−237、Ｖ−266、Ｖ−276、Ｖ−278、Ｖ−283、Ｖ−284、Ｖ−285、Ｖ−286、Ｖ−292、Ｖ−294、Ｖ−295、Ｖ−297、Ｖ−301、Ｖ−302、Ｖ−305、Ｖ−307、Ｖ−312、Ｖ−321、Ｖ−323、Ｖ−324、Ｖ−326、Ｖ−330、Ｖ−331、Ｖ−333、Ｖ−365、Ｖ−366、Ｖ−373、Ｖ−493、Ｖ−613、Ｖ−614、Ｖ−635、Ｖ−636、Ｖ−639、Ｖ−640、Ｖ−645、Ｖ−646、Ｖ−651、Ｖ−652、Ｖ−653、Ｖ−657、Ｖ−658、Ｖ−659、Ｖ−660、Ｖ−685、Ｖ−686、Ｖ−687、Ｖ−688、Ｖ−692、Ｖ−693、Ｖ−694、Ｖ−695、Ｖ−698、Ｖ−699、Ｖ−700、Ｖ−701、Ｖ−708、Ｖ−710、Ｖ−717、Ｖ−718などが挙げられる。
【０２８４】
一方、東ドイツ特許１４２５４１号公報明細書中の実施例１の化合物である比較化合物１(2-アミノ-6-メチルチオ-4-フェニル-ベンゼン-1,3-ジカーボニトリル）および、東ドイツ特許１４２５４２号公報明細書中の例示化合物である比較化合物２(2-アミノ-6-フェニル-4-メチルチオ-3-ニトロベンゾニトリル）のこの試験における防除価は、いずれもゼロであった。
【０２８５】
【数１】
0004209995.tif 000082
【０２８６】