(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）一般式（１）
0004228124.tif 000009
〔式中、
Ｒ1：Ｈ、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキルもしくはＣ6〜Ｃ12−アリール、
Ｒ2：Ｈ、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ12−アルキル、
Ｒ3：単結合、Ｃ1〜Ｃ12−アルキレン、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキレンまたはフェニレン、
Ｒ4：Ｈ、アルカリ金属、アンモニウム、アルカリ土類金属、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、
0004228124.tif 000010
Ｃ6〜Ｃ12−アリールまたは
0004228124.tif 000011
である〕
によるヒドロキシベンズトリアゾールと、
（Ｂ）エポキシド基を有する加水分解性シランと
を含有するＵＶ−安定化剤混合物であって、
該成分（Ａ）と該成分（Ｂ）とを混合し、少なくとも３０分間にわたり少なくとも９０℃まで加熱することにより得られる反応物の形態で使用される、混合物。
【請求項２】
一般式（１）中のＲ2のハロゲンが、Ｃｌであることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のＵＶ−安定化剤混合物。
【請求項３】
シランのエポキシド基と一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールとのモル比が１．４より大であることを特徴とする請求の範囲第１項または第２項に記載のＵＶ−安定化剤混合物。
【請求項４】
一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールとして次のヒドロキシベンズトリアゾール：
0004228124.tif 000012
の１種もしくはそれ以上が使用されることを特徴とする請求の範囲第１〜３項のいずれか一項に記載のＵＶ−安定化剤混合物。
【請求項５】
一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールと、エポキシド基を有する加水分解性シランとを混合し、少なくとも３０分間にわたり少なくとも９０℃まで加熱することを特徴とする請求の範囲第１〜４項のいずれか一項に記載のＵＶ−安定化剤混合物の製造方法。
【請求項６】
請求の範囲第１〜４項のいずれか一項に記載のＵＶ−安定化剤混合物を含有するシロキサン被覆材料。
【請求項７】
請求の範囲第５項の方法によって得られるＵＶ−安定化剤混合物を含有するシロキサン被覆材料。
【請求項８】
ヒドロキシベンズトリアゾールの割合がシロキサン被覆材料の固形分に対し０．３〜２０重量％であることを特徴とする請求の範囲第６項または第７項に記載のシロキサン被覆材料。
【請求項９】
さらに、Ｓｉ、Ａｌ、ＳｂおよびＢ並びに遷移金属の酸化物、酸化水和物、窒化物および炭化物からなる群より選択される化合物からなる粒子状の物質を含有し、この物質が１〜１００ｎｍの範囲の粒子寸法を有することを特徴とする請求の範囲第６〜８項のいずれか一項に記載のシロキサン被覆材料。
【請求項１０】
遷移金属が、Ｔｉ、Ｃｅ、ＦｅおよびＺｒからなる群より選択されることを特徴とする請求の範囲第９項に記載のシロキサン被覆材料。
【請求項１１】
任意の種類の支持体材料を被覆するための請求の範囲第６〜１０項のいずれか一項に記載のシロキサン被覆材料の使用。
【請求項１２】
支持体材料が、熱可塑性プラスチックであることを特徴とする請求の範囲第１１項に記載の使用。
【請求項１３】
熱可塑性プラスチックが、ポリカーボネートであることを特徴とする請求の範囲第１２項に記載の使用。
【請求項１４】
少なくとも照射に露呈される材料の表面を請求の範囲第６〜１０項のいずれか一項に記載のシロキサン被覆材料で被覆したことを特徴とする被覆した材料。
【請求項１５】
材料がポリカーボネートであることを特徴とする請求の範囲第１４項に記載の被覆した材料。
【発明の詳細な説明】
本発明は、ＵＶ−安定化作用構造が所定のヒドロキシベンズトリアゾールであり、従って熱可塑性プラスチック（特に芳香族ポリカーボネート）のＵＶ−安定化に特に適するシロキサン−ラッカー系のための不揮発性ＵＶ−安定化用混合物に関するものである。
有害な環境作用から物質を保護するため、これらにはしばしば保護表面が設けられる。その際、材料に特に耐引掻性表面を付与するシロキサンに基づくラッカーが特に適すると判明している。
これらラッカーは、ラッカー自身およびその下側の物質（いわゆる支持体）を有害なＵＶ−照射から保護するため、いわゆるＵＶ−安定化用物質を含有することができる。長時間にわたり作用するＵＶ−保護の他に、これら物質はラッカー層に均質分配され続けると共に硬化の際にもラッカーのその後の使用の際にもラッカー層から逸散しないよう揮発性でないことが特に必要とされる。さらにＵＶ−安定化用物質は急速に分解してはならず、ラッカーと持続的に均質混合せねばならず、ＵＶ−安定化用物質を含有するラッカーが透明でなければならない。
ＵＳ−Ａ  ４  ２７８  ８０４号およびＵＳ−Ａ  ４  ０５１  １６１号は、ＵＶ−安定化活性物質およびこれらを含有するラッカーに関するものである。しかしながら、そこに開示された物質は、そのＵＶ−保護が不充分であって急速に分解しかつ／または安定化剤を含有するシロキサン系が黄変するという欠点を有する。
さらにＵＳ−Ａ  ５  ４３８  １４２号からは、ＵＶ−安定化活性物質、すなわち１−（３′−（ベンゾトリアゾール−２″−イル）−４′−ヒドロキシフェニル）−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンが公知である。しかしながら、この活性物質はシロキサンに基づくラッカーと持続的に混合しえないと言う欠点を有する。
従って本発明の課題は、上記欠点を持たないＵＶ−安定化剤系を提供することにある。
本発明によればこの課題は、以下の一般式（１）
0004228124.tif 000002
〔式中、
Ｒ1：Ｈ、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキルもしくはＣ6〜Ｃ12−アリール、
Ｒ2：Ｈ、ハロゲン、好ましくはＣｌまたはＣ1〜Ｃ12−アルキル、
Ｒ3：単結合、Ｃ1〜Ｃ12−アルキレン、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキレンまたはフェニレン、
Ｒ4：Ｈ、アルカリ金属、アンモニウム、アルカリ土類金属、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、
0004228124.tif 000003
Ｃ6〜Ｃ12−アリールまたは
0004228124.tif 000004
である〕
によるヒドロキシベンズトリアゾールと、エポキシド基を有する加水分解性シランとを含有するＵＶ−安定化用混合物を提供することにより解決される。
さらに本発明は、シランのエポキシド基と一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールとのモル比が１．４より大、好ましくは２より大、特に好ましくは８より大であるＵＶ−安定化用混合物を提供する。シランのエポキシド単位と一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールとのモル比はしかしながら１：１００を越えてはならない。
本発明による混合物は、シロキサン系（特に耐引掻性かつ耐摩耗性のシロキサン被覆材料）のＵＶ−安定化に適している。この種のＵＶ−安定化用被覆材料（好ましくはラッカー）はたとえば木材、繊維、紙、石材のような全種類の材料の被覆に使用することもできるが、好ましくはプラスチック、金属、ガラスおよびセラミック被覆、特に好ましくは熱可塑性プラスチックおよび特に好ましくはポリカーボネートの被覆に使用することができる。
本発明による不揮発性ＵＶ−安定化用混合物に使用されるヒドロキシベンズトリアゾールは一般式（１）の化合物である。式（１）の好適化合物は次の通りである：
0004228124.tif 000005
式（１）の化合物は文献公知であるか、或いはたとえばＥＰ−Ａ  ０  ０５７  １６０号、第７頁に開示された反応方式に従い文献公知の方法により得ることもできる。参考のためこの特許公報を引用し、従って本発明の開示の一部である。
一般にエポキシドを有するシランとは、少なくとも１個のエポキシド環を有すると同時に加水分解条件下でシラノール−構造を形成する基を有する化合物であると理解される。
たとえば本発明により好適に使用されるエポキシシランはたとえばＵＳ−Ａ  ２  ９４６  ７０１号に記載されている。これらは式（２）もしくは（３）の化合物である：
0004228124.tif 000006
〔式中、
Ｒ5は最高９個の炭素原子を有する二価の炭化水素残基またはＣ、ＨおよびＯ−原子（ここでＯ−原子はエーテル結合残基として存在する）よりなる最高９個の炭素原子を有する二価の残基であり、好ましくはＲ5は−ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−であり、
Ｒ6は最高４個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素残基、最高４個の炭素原子を有するアシル残基または式（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＺ（ここでｎは少なくとも１であり、Ｚは最高４個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素残基を示す）であり；
ｍは０もしくは１である。〕
このエポキシシランの作成もＵＳ−Ａ  ２  ９４６  ７０１号に記載されている。従って、この特許公報を参考のため引用する。特に好適なエポキシシランはＲ6＝メチルであるような化合物である。これらは、たとえばユニオン−カーバイド社およびヒュルスＡＧ社から次のものとして市販入手しうる：
Ａ−１８７もしくは
ダイナシラングリモ        ３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
Ａ−１８６                ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
ＵＶ−安定化用混合物の作成
ＵＶ−安定化用成分の作成は、一般式（１）の化合物とエポキシド基を有する加水分解性シランとの均質混合およびこの混合物の加熱により行われる。加熱は少なくとも９０℃にて少なくとも３０分間にわたり行わねばならない。その際、好ましくは温度は１２０℃より高い。特に有利には、一般式１のヒドロキシベンズトリアゾールの−Ｒ3−ＣＯ−ＯＲ4−基よりも化学量論上多量のエポキシド基として存在するような混合比が使用される。シランのエポキシド単位と一般式１のヒドロキシベンズトリアゾールとのモル比は従って１．４より大、好ましくは２より大、特に好ましくは８より大とすべきである。
ＵＶ−安定化用成分はその後に安定化すべきシラン系に添加しうるよう必ずしも別途に作成する必要がなく、シロキサン系／シロキサン被覆材料の合成に際し部分工程として現場で合成することもできる。
シロキサン系／シロキサン被覆材料
シロキサン系は実質的に熱硬化性の系であって、好ましくは縮合反応により−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合を生じて架橋する。これに並行して、他の架橋メカニズムも進行しうる。この種の系はたとえばＵＳ−Ａ  ３  ７９０  ５２７号、３  ８６５  ７５５号、３  ８８７  ５１４号、４  ２４３  ７２０号、４  ２７８  ８０４号、４  ６８０  ２３２号、４  ００６  ２７１号、４  ４７６  ２８１号、ＤＥ−Ａ４  ０１１  ０４５号、４  １２２  ７４３号、４  ０２０  ３１６号、３  ９１７  ５３５号、３  ７０６  ７１４号、３  ４０７  ０８７号、３  ８３６  ８１５号、２  ９１４  ４２７号、３  １３５  ２４１号、３  １３４  ７７７号、３  １００  ５３２号、３  １５１  ３５０号、ＤＥ−Ａ  ３  ００５  ５４１号、３  ０１４  ４１１号、２  ８３４  ６０６号、２  ９４７  ８７９号、３  ０１６  ０２１号、２  ９１４  ４２７号および４  ３３８  ３６１号に記載されており、本発明による開示の一部として考慮される。
従って本発明は本発明によるＵＶ−安定化されたシロキサン系もまた提供する。
好ましくはＳｉ、Ａｌ、ＳｂおよびＢ並びに遷移金属（好ましくはＴｉ、Ｃｅ、ＦｅおよびＺｒ）の酸化物、酸化水和物、窒化物および炭化物から選択されると共に１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍの範囲の粒子寸法を有する粒子状材料を含有するシロキサン系が使用される。
シロキサン系には、シロキサン系の固形分に対しヒドロキシベンズトリアゾールの割合が０．３〜２０、好ましくは３〜１５、特に好ましくは５〜１０重量％となるようなシロキサン系の固形物に対する量の本発明によるＵＶ−安定化用混合物を添加すべきである。
シロキサンに基づく耐引掻性被覆系およびその成分の作成については、本発明の一部でもあるＤＥ−Ａ  ２  ９１４  ４２７号およびＤＥ−Ａ  ４  ３３８  ３６１号が参照される。
支持体材料
本発明によるＵＶ−安定化用混合物を加えたシロキサン系はバルク材料として或いは被覆材料として使用することができる。被覆のための支持体材料の選択は限定されない。好ましくは、これらＵＶ−安定化用被覆材料は木材、繊維、紙、石材、金属、ガラス、セラミックおよびプラスチックの被覆に適し、特にたとえばベッカー／ブラウン：クンストストッフ・ハンドブーフ、カール・ハンサー・フェアラーク、ミュンヘン、ウイーン（１９７２）に記載されたような熱可塑性プラスチックの被覆に適する。特に、これらは透明な熱可塑性プラスチック、好ましくはポリカーボネートの被覆に適している。
被覆の目的には、一般的な被覆法（たとえば浸漬、流し塗り、流し込み、焼付け、遠心塗布、噴霧またはブラシ掛け）が用いられる。
コーチングはたとえば２〜２００μｍ、好ましくは２〜３０μｍ、特に好ましくは５〜１５μｍの被覆厚さにて塗布される。必要に応じ、支持体はコーチングの塗布に先立ち付着剤または下塗層で基礎処理することができる。
ラッカーの硬化は好ましくは＞９０℃の温度にて行われる。
本発明の意味において熱可塑性芳香族ポリカーボネートはホモポリカーボネートでもコポリマーカーボネートでもよく、ポリカーボネートは公知のように線状もしくは分枝鎖とすることができる。
適するポリカーボネートにおけるカーボネート基の８０モル％まで、好ましくは２０〜５０モル％の部分を芳香族ジカルボン酸エステル基により置換することができる。炭酸の酸残基と芳香族ジカルボン酸の酸残基を分子鎖中に組み込んだこの種のポリカーボネートはより正確には芳香族ポリエステルカーボネートと称される。これらは上位概念である熱可塑性芳香族ポリカーボネートの下位に含まれる。
ポリカーボネート製造の詳細は過去約４０年間にわたり多くの特許公報に記載されている。単に例示に過ぎないが、「シュネル・ケミストリー・アンド・フィジークス・オブ・ポリカーボネート」、ポリマー・レビュース、第９巻、インターサイエンス・パブリッシャース、ニューヨーク、ロンドン、シドニー（１９６４）；Ｄ．Ｃ．プレボルセク、Ｂ．Ｔ．デボナおよびＹ．ケステン、コーポレート・リサーチ・センター、アライド・ケミカル・コーポレーション、モリストン、ニュージャージー０７９６０、「シンセシス・オブ・ポリ（エステルカーボネート）コポリマー」、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス、ポリマー・ケミストリー編、第１９巻、第７５〜９０頁（１９８０）；Ｄ．フライターク、Ｕ．グリゴ、Ｐ．Ｒ．ミラー、Ｎ．ヌーベルチン、バイエルＡＧ社、「ポリカーボネート」、エンサイクロペジア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド・エンジニアリング、第１１巻、第２版（１９８８）、第６４８〜７１８頁；および最後にＵ．グリゴ博士、Ｋ．キルシナー博士およびＰ．Ｒ．ミラー、「ポリカーボネート」、ベッカー／ブラウン、クンストストッフ−ハンドブーフ、第３／１巻、ポリカーボネート、ポリアセテート、ポリエステル、セルロースエステル、カール・ハンサー・フェアラーク、ミュンヘン、ウイーン（１９９２）、第１１７〜２９９頁が参照される。
熱可塑性ポリカーボネートは１２  ０００〜４００  ０００、好ましくは１８  ０００〜８０  ０００、特に２２  ０００〜６０  ０００の平均分子量
0004228124.tif 000007
（ＣＨ2Ｃｌ2中での２５℃における相対粘度およびＣＨ2Ｃｌ2の１００ｍｌ当たり０．５ｇの濃度で測定）を有する。
さらに本発明は被覆された材料、好ましくはポリカーボネート、特に好ましくは耐引掻性の被覆ポリカーボネートを提供する。
実施例
実施例１：
（ａ）  ＵＶ−吸収性出発化合物
（ａ１）  ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−（２−カルボキシエチル）−フェニル）−ベンズトリアゾール  ｍ．ｐ．１９５℃
（ＥＰ  ０  ０５７  １６０号の例１と同様に作成）
（ａ２）  ２−（２−ヒドロキシ−３−シクロヘキシル−５（３−カルボキシプロピル）−フェニル）−ベンズトリアゾール
（α）１３２ｇ（０．７５モル）の２−シクロヘキシルフェノールを８００ｍｌの乾燥クロルベンゼンに溶解させる。次いで５〜１０℃にて２００ｇ（１．５モル）のＡｌＣｌ3を添加し、次いで０〜１０℃にて４００ｍｌのクロルベンゼンにおける７３．５ｇ（０．７５モル）の無水マレイン酸の溶液を添加する。室温にて１２時間の後、氷水に注ぎ入れ、濃塩酸で酸性化させる。ｍ．ｐ．１８７〜１９０℃の８５ｇの粉末が得られる。
（β）３４．５ｇ（０．２５モル）のｏ−ニトロアニリンを３００ｍｌの水および６９ｍｌの濃塩酸の中撹拌する。次いで５℃にて１５５ｍｌの水における１７．３ｇ（０．２５モル）の亜硝酸ナトリウムの溶液を滴下する。次いで、この溶液を５℃にて１リットルの水における６８．５ｇ（０．２５モル）の化合物αおよび７９．５ｇ（０．７５モル）の炭酸ナトリウムの溶液に滴下する。１１７ｇのｍ．ｐ．１５５℃の固形物が得られる。
（γ）４２．５ｇ（０．１モル）のアゾ染料βに２００ｍｌの２ｎ  ＮａＯＨを添加する。次いで５０ｇの亜鉛粉を添加し、１時間以内に８０ｍｌの１０ｎ  ＮａＯＨを４５℃未満の温度に留まるよう注ぎ入れる。次いで４時間かけて９０℃まで加熱し、濾過し、濾液をＨＣｌで酸性化させる。
シクロヘキサンからの再結晶化の後、３１ｇの２−（２−ヒドロキシ−３−シクロヘキシル−５−（３−カルボキシプロピル）−フェニル）−ベンズトリアゾールがｍ．ｐ．１６５℃の無色結晶として得られる。
（ｂ）  成分（ａ１）および３−グリシジルオキシ−プロピルトリメトキシシラン（グリモ）からのＵＶ−安定化用成分
５０ｇの成分（ａ１）と４５０ｇの３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランとを準備し、窒素雰囲気下にて撹拌しながら１４０〜１５０℃まで加熱し、この温度に１時間保持する。
この混合物（混合物１）を次のように改変させた：
混合物：
２    １００ｇの（ａ１）    ４００ｇのグリモ
３    １５０ｇの（ａ１）    ３５０ｇのグリモ
４    ２００ｇの（ａ１）    ３００ｇのグリモ
５    １００ｇの（ａ１）    ４００ｇのα−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル−トリメトキシシラン
（ｃ）  ＤＥ−Ａ  ２  ９１４  ４２７号によるシロキサン被覆材料の作成（被覆ゾルＩ）
（α）３０重量％のＳｉＯ2含有量を有する３００ｇのコロイド状珪酸に１９．８ｇの氷酢酸と２１０ｇの蒸留水と２２７ｇのイソプロパノールとを添加する。充分混合した後、９００ｇのメチルトリエトキシシランを添加すると共に、混合物を撹拌下に６０℃まで加温する。混合物を４時間にわたりこの温度に保持し、次いでさらに１２００ｇのイソプロパノールを混合物に添加する。室温まで生成物を冷却した後、僅かに不透明の溶液を濾過する。
（β）撹拌器と還流冷却器とを設けた容器に、３４０ｇのイソプロパノールと１９０ｇのテトラエトキシシランと３６０ｇのメチルトリエトキシシランとを入れる。この混合物を１８０ｇの０．０５ｎ塩酸と混合し、同時加水分解を行わせるため還流下に５時間加温する。反応の後、混合物を室温まで冷却する。その結果、テトラエトキシシラン（ＳｉＯ2として計算し、５．１％）の部分加水分解物とメチルトリエトキシシラン（ＣＨ3ＳｉＯ1.5とし計算し、１２．６％）の部分加水分解物とを含有する溶液が生ずる。
被覆材料として使用する前に、比１：１における両性分（α）および（β）を互いに混合し、６０重量部のｎ−ブタノールと４０重量部の酢酸と２０重量部のトルエンとからなる混合物に溶解させる。
（ｄ）  ＤＥ−Ａ  ４  ３３８  ３６１号に従うシロキサン被覆材料の作成（被覆ゾルＩＩ）
ベーマイトゾルを作成するため、１２．８２ｇの酢酸安定化（６．４重量％の酢酸）されたベーマイト粉末を１０４．６２ｇの０．１ｎ  ＨＣｌと合した。次いで超音波処理（２０分間）により無色透明な溶液が生じ、その２４．３ｇを１１８．１７ｇのＧＰＴＳ（３−グリシジルオキシプロピル−トリメトキシシラン）と６２．５０ｇのＴＥＯＳ（テトラエチルオルトシリケート）とからなる混合物と合した。この反応混合物を２時間にわたり室温にて撹拌し、次いで氷冷しながら１８．９３ｇのアルミニウムトリブトキシエタノラートと合した。得られた透明ゾルを２時間にわたり室温にて撹拌し、次いで氷冷下に９３．１４ｇの上記ベーマイトゾルおよび７９．３０ｇのブトキシエタノールと合した。
（ｅ）  ＵＶ−安定化された被覆ゾルＩおよびＩＩ
それぞれ１０００ｇの被覆ゾルＩおよびＩＩに、それぞれ６０ｇの本発明によるＵＶ−安定化用混合物２を添加した。この組成物により石英ガラスを被覆すると共に、ＵＶ光透過率をベックマンＤＵ７０フォトメータにて２５０〜６００ｎｍの波長範囲で測定した。被覆厚さは５μｍであって、＜３５０ｎｍの波長のポリカーボネートにつき臨界的な照射線の＞９８％を吸収した。
支持体の被覆およびコーチングの性質検査
寸法１０５×１５０×４ｍｍを有するビスフェノールＡに基づくポリカーボネート（Ｔｇ＝１４７℃、Ｍw２７  ５００）のプレートをイソプロパノールで洗浄すると共に、３重量％のアミノプロピルトリメトキシシランと９７重量％のブチルグリコールとからなる混合物に浸漬し、次いで３０分間にわたり１３０℃で熱処理して下塗りした。次いで、これらプレートをそれぞれ被覆ゾルＩもしくはＩＩにて浸漬速度Ｖ＝１００ｃｍ／ｍｉｎで２０μｍの層厚さに被覆した。室温にて１０分間フラッシュさせた後、被覆プレートを１３０℃にて１時間乾燥させた。耐引掻性ラッカーの層厚さは乾燥後に約５μｍであった。この被覆されたプレートを次いで硬化させた後、室温にて２日間貯蔵し、次いで所定量のＵＶ照光に露呈させた。
ＵＶ−露光試験
ラッカー処理されたポリカーボネート板の露光試験は、ＤＩＮ  ５３３８７−１−Ａ−Ｘに従う次の試験条件下での水噴霧サイクルにより濾光キセノンアーク照射線により行った：
風化装置：                    キセノン−ＷＯＭ
３４０ｎｍにおける照射強度：  ０．３５Ｗ／ｍ2（好適）
フィルター組合せ：            内部：パイレックス  外部：パイレックス
黒色板温度：                  ６０℃±５℃
黒色標準温度：                ６０℃±３℃
操作方式：                    一定
水噴霧サイクル：              １０２：１８
相対的大気湿度：              ６０〜８０％
ラッカー処理されたプレートの風化安定性の基準として、露光時間に応じた黄色化を用いた。プレートの対応する黄色値はＡＳＴＭ  Ｄ１９２５−７０に従い黄色度指数：Ｙ．Ｉ．として測定した。
0004228124.tif 000008