(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一面内で所定の規則に基づき、配列要素が、その配列ピッチ、配列方向を少しづつ変化させながら、繰り返し配列されて、擬似周期パターンを形成している製品の、擬似周期パターンの欠陥を検出する検査方法であって、ＣＣＤ素子等を用いた撮像手段により得られた、製品の擬似周期パターンの映像信号を、Ａ／Ｄ変換処理して、映像信号に対応したデジタル化した画像データを得た後、得られた前記画像データに対し、（ａ）所定の配列ピッチ、配列方向に対応した、各配列要素の占める画素領域としての配列要素画素領域を決め、その配列要素画素領域に対応する各画素の値を足し込み、配列要素画素領域毎に積算値を得る、配列要素画素領域の積算処理と、（ｂ）積算処理結果に基づき、各配列要素画素領域毎に、配列要素画素領域毎の積算値の差異を強調するための、微分処理等の強調処理と、（ｃ）強調処理工程により得られた結果に対し、所定のスライスレベルと比較して、欠陥部候補を抽出する欠陥候補抽出処理とからなる一連の処理を、複数回行い、得られた抽出結果から欠陥部を抽出する欠陥検出処理工程を行うものであり、前記欠陥検出処理工程は、デジタル化された画像データを、予め幾つかの区域に分割した後、分割された各区域毎に、それぞれ、その区域の配列要素の配列に対応した配列要素画素領域を決め、順に、積算処理、強調処理、欠陥候補抽出処理を行うもので、且つ、得られた欠陥部候補を合わせて欠陥部として抽出するものであることを特徴とする擬似周期パターンの欠陥検査方法。
【請求項２】
同一面内で所定の規則に基づき、配列要素が、その配列ピッチ、配列方向を少しづつ変化させながら、繰り返し配列されて、擬似周期パターンを形成している製品の、擬似周期パターンの欠陥を検出する検査方法であって、ＣＣＤ素子等を用いた撮像手段により得られた、製品の擬似周期パターンの映像信号を、Ａ／Ｄ変換処理して、映像信号に対応したデジタル化した画像データを得た後、得られた前記画像データに対し、（ａ）所定の配列ピッチ、配列方向に対応した、各配列要素の占める画素領域としての配列要素画素領域を決め、その配列要素画素領域に対応する各画素の値を足し込み、配列要素画素領域毎に積算値を得る、配列要素画素領域の積算処理と、（ｂ）積算処理結果に基づき、各配列要素画素領域毎に、配列要素画素領域毎の積算値の差異を強調するための、微分処理等の強調処理と、（ｃ）強調処理工程により得られた結果に対し、所定のスライスレベルと比較して、欠陥部候補を抽出する欠陥候補抽出処理とからなる一連の処理を、複数回行い、得られた抽出結果から欠陥部を抽出する欠陥検出処理工程を行うものであり、前記欠陥検出処理工程は、予め、所定の配列ピッチ、配列方向の組を有する配列に対応した配列要素画素領域を、複数決めておき、デジタル化された画像データ全体に対し、各配列画素領域を用い、それぞれ、積算処理と、強調処理と、欠陥候補抽出処理とを行い、欠陥候補抽出処理により得られた結果より、欠陥部候補の検出数が所定数より少ない区域を、その配列画素領域に対応する欠陥部検出区域として、該区域内の欠陥部候補を欠陥部として抽出するもので、各欠陥部検出区域の欠陥部を合わせて、擬似周期パターン全体における欠陥部として抽出するものであることを特徴とする擬似周期パターンの欠陥検査方法。
【請求項３】
請求項１ないし２のいずれか１項において、製品がシヤドウマスクであることを特徴とする擬似周期パターンの欠陥検査方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、同一面内で一定の規則に基づき、配列ピッチ（間隔）、または配列方向（傾き）が変化した配列要素を有する擬似周期パターンの検査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、同一面内で所定の規則に基づき、配列要素が、所定の配列ピッチで、繰り返し配列されて周期性パターンを形成している製品の周期性パターンの欠陥を検出する検査方法、あるいは、同一面内で所定の規則に基づき、配列要素が、その配列ピッチ、配列方向を少しづつ変化させながら、繰り返し配列されて、擬似周期パターンを形成している製品の、擬似周期パターンの欠陥を検出する検査方法としては、検査員による目視が行われていた。
しかし、目視による検査では、検査員の疲労の問題や、各検査員毎の判定結果のばらつきの問題があり、これら、周期性パターンや擬似周期性パターンの検査においては、目視による検査に代わる、検査の自動化が求められていた。
近年、貫通孔を配列要素として、擬似周期性パターンを形成しているシャドウマスク等の製品においては、益々の量産化、製品の高精度化に伴い、特に、その高い欠陥検出精度での検査の自動化が求められていた。
【０００３】
これに対し、本願出願人等により、目視による検査に代わるものとして、ＣＣＤ等の撮像手段から得られた映像信号から画像処理により欠陥部を抽出する、周期性パターンや擬似周期性パターンの欠陥検出方法と、それを実施するための装置が提案されている。
撮像手段により得られた映像信号における周期パターンの配列の間隔が、撮像手段の画素の配列と一致もしくは整数倍とならない為に発生するモアレが擬似欠陥の原因となり、欠陥の検出感度を著しく低下させるので、これらの欠陥検出方法では、得られた映像信号における周期パターンの配列の間隔が撮像手段画素の配列と一致もしくは整数倍となるように光学系を調整したり、モアレが発生しないようにフォーカスをずらす方法が採られていた。
【０００４】
しかし、フォーカスをずらす方法は解像力の低下による検出感度の低下に繋がる。
また、得られた映像信号における周期パターンの配列の間隔が撮像手段の画素の配列と一致もしくは整数倍となるように光学系を調整する方法は、擬似周期パターンを検査する場合、ある区域に合わせ光学系を調整し、擬似欠陥が発生しなくしても、この調整の下では、他の区域では得られた映像信号における周期パターンの配列の間隔が映像手段の画素の配列と一致もしくは整数倍とならずに、擬似欠陥が発生することがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、同一面内で所定の規則に基づき、配列要素が、その配列ピッチ、配列方向を少しづつ変化させながら、繰り返し配列されて、擬似周期パターンを形成している製品の、擬似周期パターンの欠陥を検出する検査においては、擬似欠陥の検出が少なく、且つ、検査装置のコストが大きくなったり、品種毎の対応に手間が係ることがない検査方法が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、擬似欠陥の検出が少なく、且つ、検査装置のコストが大きくならず、品種毎の対応に手間が係ることがない、擬似周期パターンの欠陥検出方法を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の擬似周期パターンの欠陥検査方法は、同一面内で所定の規則に基づき、配列要素が、その配列ピッチ、配列方向を少しづつ変化させながら、繰り返し配列されて、擬似周期パターンを形成している製品の、擬似周期パターンの欠陥を検出する検査方法であって、ＣＣＤ素子等を用いた撮像手段により得られた、製品の擬似周期パターンの映像信号を、Ａ／Ｄ変換処理して、映像信号に対応したデジタル化した画像データを得た後、得られた前記画像データに対し、（ａ）所定の配列ピッチ、配列方向に対応した、各配列要素の占める画素領域としての配列要素画素領域を決め、その配列要素画素領域に対応する各画素の値を足し込み、配列要素画素領域毎に積算値を得る、配列要素画素領域の積算処理と、（ｂ）積算処理結果に基づき、各配列要素画素領域毎に、配列要素画素領域毎の積算値の差異を強調するための、微分処理等の強調処理と、（ｃ）強調処理工程により得られた結果に対し、所定のスライスレベルと比較して、欠陥部候補を抽出する欠陥候補抽出処理とからなる一連の処理を、複数回行い、得られた抽出結果から欠陥部を抽出する欠陥検出処理工程を行うものであり、前記欠陥検出処理工程は、デジタル化された画像データを、予め幾つかの区域に分割した後、分割された各区域毎に、それぞれ、その区域の配列要素の配列に対応した配列要素画素領域を決め、順に、積算処理、強調処理、欠陥候補抽出処理を行うもので、且つ、得られた欠陥部候補を合わせて欠陥部として抽出するものであることを特徴とするものである。
また、本発明の擬似周期パターンの欠陥検査方法は、同一面内で所定の規則に基づき、配列要素が、その配列ピッチ、配列方向を少しづつ変化させながら、繰り返し配列されて、擬似周期パターンを形成している製品の、擬似周期パターンの欠陥を検出する検査方法であって、ＣＣＤ素子等を用いた撮像手段により得られた、製品の擬似周期パターンの映像信号を、Ａ／Ｄ変換処理して、映像信号に対応したデジタル化した画像データを得た後、得られた前記画像データに対し、（ａ）所定の配列ピッチ、配列方向に対応した、各配列要素の占める画素領域としての配列要素画素領域を決め、その配列要素画素領域に対応する各画素の値を足し込み、配列要素画素領域毎に積算値を得る、配列要素画素領域の積算処理と、（ｂ）積算処理結果に基づき、各配列要素画素領域毎に、配列要素画素領域毎の積算値の差異を強調するための、微分処理等の強調処理と、（ｃ）強調処理工程により得られた結果に対し、所定のスライスレベルと比較して、欠陥部候補を抽出する欠陥候補抽出処理とからなる一連の処理を、複数回行い、得られた抽出結果から欠陥部を抽出する欠陥検出処理工程を行うものであり、前記欠陥検出処理工程は、予め、所定の配列ピッチ、配列方向の組を有する配列に対応した配列要素画素領域を、複数決めておき、デジタル化された画像データ全体に対し、各配列画素領域を用い、それぞれ、積算処理と、強調処理と、欠陥候補抽出処理とを行い、欠陥候補抽出処理により得られた結果より、欠陥部候補の検出数が所定数より少ない区域を、その配列画素領域に対応する欠陥部検出区域として、該区域内の欠陥部候補を欠陥部として抽出するもので、各欠陥部検出区域の欠陥部を合わせて、擬似周期パターン全体における欠陥部として抽出するものであることを特徴とするものである。
そして、上記いずれかにおいて、製品がシヤドウマスクであることを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】
本発明の擬似周期パターンの欠陥検査方法は、このような構成にすることにより、擬似欠陥の検出が少なく、且つ、検査装置のコストが大きくならず、品種毎の対応に手間が係ることがない、擬似周期パターンの欠陥検出方法の提供を可能としている。
具体的には、ＣＣＤ素子等を用いた撮像手段により得られた、製品の擬似周期パターンの映像信号を、Ａ／Ｄ変換処理して、映像信号に対応したデジタル化した画像データを得た後、得られた前記画像データに対し、（ａ）所定の配列ピッチ、配列方向に対応した、各配列要素の占める画素領域としての配列要素画素領域を決め、その配列要素画素領域に対応する各画素の値を足し込み、配列要素画素領域毎に積算値を得る、配列要素画素領域の積算処理と、（ｂ）積算処理結果に基づき、各配列要素画素領域毎に、配列要素画素領域毎の積算値の差異を強調するための、微分処理等の強調処理と、（ｃ）強調処理工程により得られた結果に対し、所定のスライスレベルと比較して、欠陥部候補を抽出する欠陥候補抽出処理とからなる一連の処理を、複数回行い、得られた抽出結果から欠陥部を抽出する欠陥検出処理工程を行うものであり、前記欠陥検出処理工程は、デジタル化された画像データを、予め幾つかの区域に分割した後、分割された各区域毎に、それぞれ、その区域の配列要素の配列に対応した配列要素画素領域を決め、順に、積算処理、強調処理、欠陥候補抽出処理を行うもので、且つ、得られた欠陥部候補を合わせて欠陥部として抽出するものであることにより、あるいはまた、前記欠陥検出処理工程は、予め、所定の配列ピッチ、配列方向の組を有する配列に対応した配列要素画素領域を、複数決めておき、デジタル化された画像データ全体に対し、各配列画素領域を用い、それぞれ、積算処理と、強調処理と、欠陥候補抽出処理とを行い、欠陥候補抽出処理により得られた結果より、欠陥部候補の検出数が所定数より少ない区域を、その配列画素領域に対応する欠陥部検出区域として、該区域内の欠陥部候補を欠陥部として抽出するもので、各欠陥部検出区域の欠陥部を合わせて、擬似周期パターン全体における欠陥部として抽出するものであることにより、これを達成している。
詳しくは、擬似周期パターンの配列要素の配列ピッチ（間隔）や配列方向（傾き）に対応させて、配列要素画素領域を決めることにより、その積算値より、擬似周期パターンの各配列要素の画像データを確実に得ることができるものとしている。
また、各配列要素画素領域毎に、微分処理等の強調処理を行うことにより、配列要素画素領域毎の積算値の差異を強調することができ、続く、欠陥候補抽出処理により、確実に欠陥部候補を抽出できるものとしている。
【０００８】
更に具体的には、欠陥検出処理工程は、デジタル化された画像データを、予め幾つかの区域に分割した後、分割された各区域毎に、それぞれ、その区域の配列要素の配列に対応した配列要素画素領域を決め、順に、積算処理、強調処理、欠陥候補抽出処理を行うもので、且つ、得られた欠陥部候補を合わせて欠陥部として抽出するものであることにより、あるいはまた、欠陥検出処理工程は、予め、所定の配列ピッチ、配列方向の組を有する配列に対応した配列要素画素領域を、複数決めておき、デジタル化された画像データ全体に対し、各配列画素領域を用い、それぞれ、積算処理と、強調処理と、欠陥候補抽出処理とを行い、欠陥候補抽出処理により得られた結果より、欠陥部候補の検出数が所定数より少ない区域を、その配列画素領域に対応する欠陥部検出区域として、該区域内の欠陥部候補を欠陥部として抽出するもので、各欠陥部検出区域の欠陥部を合わせて、擬似周期パターン全体における欠陥部として抽出するものてあることにより、これを達成している。
即ち、擬似周期パターン全体を配列要素の配列ピッチ（間隔）や配列方向（傾き）が異なる所定の複数の区域に分け、各区域に合った条件下で、その対応する映像信号を処理して、それぞれ欠陥候補を検出し、各区域毎に検出された欠陥候補からあわせて、欠陥部を検出することにより、擬似欠陥の抽出を少なくして、欠陥部を検出することを可能としている。
【０００９】
特に、製品がシヤドウマスクのような、貫通孔を擬似周期パターンとする製品の検査にも対応でき、その量産化や高精度化にも対応できる。
【００１０】
本発明の擬似周期パターンの欠陥検査方法は、擬似周期パターンが撮像手段の撮影視野内にはいる場合には、１つの撮像手段の視野の映像信号を画像処理するだけで、各々の区域毎に、光学系を配置する必要もなく、品種の切替時に膨大な調整時間を要することもない。
擬似周期パターンが大きい場合や、解像度を要する、即ち、擬似欠陥の検出を極度にきらう検査の場合には、複数の撮像手段を用いて、同様の処理を行うと、これに対応できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の擬似周期パターンの欠陥検査方法の実施の形態の１例を図に基づいて説明する。
図１は本発明の擬似周期パターンの欠陥検査方法の実施の形態の第１の例のフローを示し、図２（ａ）はこれを実施するための装置の概略構成図で、図２（ｂ）は装置の変形例の概略構成図で、図３は積算処理を説明するための図で、図４は擬似周期パターンを分ける区域を説明するための図で、図５は欠陥部候補抽出処理を説明するための図である。
図１中、Ｓ１１０〜Ｓ２２２は、処理ステップを示している。
図１〜図５中、１１０、１１１、１１２は撮像手段、１２０、１２１は照明手段、１３０は画像処理部、１４０はＡ／Ｄ変換部、１８０、１８１は検査試料（被検査物）、３１０は画素の視野（画素領域）、３２１、３２２、３２３は配列要素領域、３２１Ａ、３２２Ａ、３２３Ａは配列要素画素領域、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３は配列要素画素領域のＸ方向長さ、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３は配列要素画素領域のＹ方向長さ、ΔＸはＸ方向ピッチ、ΔＹはＹ方向ピッチである。
【００１２】
まず、実施の形態の第１の例を挙げる。
本例は、微細な貫通孔を配列要素として、これを配列した擬似周期パターンを持つ板状の金属板製品の、擬似周期パターンの欠陥検出を、図２（ａ）に示す装置を用いて行う場合の例で、予め、条件出し処理（Ｓ１１０）にて、サンプルを用い、処理条件とこれに対応した擬似周期パターンの区域を決めておき、製品の欠陥検出処理（Ｓ１２０）では、この決められた処理条件と区域に基づき、欠陥の検出を行うものである。
尚、欠陥検出に際し、検出区域毎に対応した配列要素画素領域を決め、これを用いることを条件としているため、特定の決められた検出区間毎の配列要素画素領域に基づく処理のことを、ここでは、処理条件と言っている。
【００１３】
図１、図２に基づいて処理を説明する。
はじめに、サンプル（欠陥見本）から、検査の際得られる画像データを処理条件に対応した区域に分ける、処理条件と区域を対応させて得る、条件出しを行う。（Ｓ１１０）
まず、製品のサンプルを検査試料１８０として、その擬似周期パターン全体を撮像手段１１０により撮影し（Ｓ１１１）、その映像信号を得る。（Ｓ１１２）次いで、撮影により得られた映像信号（撮影画像データ）をＡ／Ｄ変換し（Ｓ１１３）、デジタル化された画像データを得る。（Ｓ１１４）
尚、予め、サンプルには所定の位置に、所定の欠陥が設けられている。
本例では、撮像手段１１０としてＣＣＤカメラを用い、検査試料１８０の撮像手段１１０とは反対側に配置した照明手段１２０により照射された透過光で撮影して、映像信号（撮影画像）を得る。
そして、撮像手段１１０による撮影で得られた映像信号を、Ａ／Ｄ変換部１４０により、Ａ／Ｄ変換して、デジタル化した画像データを得る。
【００１４】
得られる映像信号（撮影画像）には、擬似周期パターンの配列に対応し、その配列ピッチ（間隔）、配列方向が異なる配列情報が含まれ、同一の処理で欠陥検出すると擬似欠陥が多く抽出されるため、ここでは、画像データの領域を、擬似周期パターンの、配列要素の間隔や傾きがある程度一定な幾つかの領域に分ける。
具体的には、デジタル化された画像データの領域を、擬似周期パターンの、配列要素の情報に合わせ、以下のようにして、Ｎ個の区画に分割する。
各Ｎ個の所定の処理条件下で、欠陥候補の検出を行い、欠陥候補が所定数以下の区域を、それぞれのＮ個の区域が、画像データの全領域を埋めるようにして、選び、それぞれの区域を欠陥候補の検出区域とする。
必要に応じて、区域のオーバーラップ部は除き、これより、画像データの全領域を、Ｎ個の処理条件に対応した、Ｎ個の区域に区分けすることができる。
図４（ａ）は、１例として、Ｎが２の場合で、対応区域が２の場合の、画像データの区分を示した図で、図４（ｂ）はＮが３の場合の１例である。
【００１５】
処理条件ｎ（Ｓ１１６）では、配列ピッチＰｘｎ、Ｐｙｎ、配列方向θｎとして、これより配列要素画素領域ＳＡｎを決め、各配列要素画素領域の各画素の値を足し込み、積算値をえる積算処理を行う。
次いで、配列要素画素領域ＳＡｎ毎に、その積算値に差異がある場合には、それを強調して示すために、強調処理として、２次微分処理を行う。（Ｓ１１７）２次微分処理は、配列要素画素領域ＳＡｎ毎に、空間フィルターを用いて演算する。
所定のスライスレベルと比較して、欠陥候補を抽出し、欠陥候補が所定数以下の区域を、この処理条件に合った欠陥の検出区域ｎとして、処理条件ｎと得られた検出区域ｎを蓄積する。
このようにして、ｎが１からＮまで行う。
このようにして、処理ｎに対応した検出区域ｎをそれぞれ得ることができる。
【００１６】
ここで、各処理条件毎の欠陥候補の検出を、図３を基に説明しておく。
図３は、デジタル化した画像データの一部である画素の視野（画素領域）３１０と、製品の擬似周期パターンの対応する配列要素３２１、３２２、３２３とを、その位置関係が分かるように、拡大して示した概略図で、所定の処理条件に対応した、所定の区域の一部を示したものである。
図３中、３２１Ａ、３２２Ａ、３２３Ａは配列要素画素領域である。
図３に示すように、配列は、図のｘ方向に対してθだけ傾いており、各配列要素３２１、３２２、３２３は、それぞれＸ１×Ｙ１、Ｘ２×Ｙ２、Ｘ３×Ｙ３の画素による矩形の、配列要素画素領域３２１Ａ、３２２Ａ、３２３Ａによって囲むことができる。
配列要素３２１、３２２、３２３の配列ピッチ（間隔）や配列方向（傾き）がある程度一定な区域では、Ｘ１＝Ｘ２＝Ｘ３、Ｙ１＝Ｙ２＝Ｙ３となる。
また、各配列要素の中心位置はΔＸ、ΔＹだけ離れているとする。
【００１７】
配列要素３２２を、着目する配列要素とする。
例えば、着目する配列要素の画素の値の合計値をＳＵＭ（積算値とも言う）とし、周囲の配列要素３２１、３２２の画素の値の合計値をＳＵＭを、それぞれ、配列要素からの距離の函数として、ＳＵＭ（−ΔＸ、−ΔＹ）、ＳＵＭ（＋ΔＸ、＋ΔＹ）と表現した場合、着目する配列要素３２２における、ＳＵＭデータを２次微分処理した微分値（Ｂｉｂｕｎｔｉ）は、下記の（１）式のように表される。
Ｂｉｂｕｎｔｉ＝  ＳＵＭ（−ΔＸ、−ΔＹ）＋ＳＵＭ（＋ΔＸ、＋ΔＹ）
−２×ＳＵＭ                    （１）
着目する配列要素と周囲の配列要素を比較する為に、上記（１）式の演算を、所定の区域全体に対して行う。
着目する配列要素の画素の値の合計が周囲の配列要素の画素の値の合計値と異なる場合のみ、演算値である微分値（Ｂｉｂｕｎｔｉ）が他とのそれと比べ、著しく異なる値となる。
これより、所定の値（スライスレベル）と比較することにより、欠陥部候補を検出することが可能となる。
例えば、図５（ａ）に示すように、ＳＵＭのデータ（積算値）が得られた場合、このＳＵＭのデータ（積算値）の２次微分処理のデータは、図５（ｂ）のようになる。
図５（ａ）に示す、緩やかな信号分は除去され、図５（ａ）の欠陥候補信号Ａ０のみが、図５（ｂ）にて欠陥候補信号Ａ１として、強調されて得られる。
欠陥候補信号Ａ１は、図５（ｂ）に示すように、正常部に比べて著しく大きい、もしくは、小さい値となる。
このような信号値のみを抽出できるように、抽出するためのスライスレベルＳＬｌを設定し、所定のスライスレベルと比較することにより、欠陥候補の箇所が認識できる。
ここでは、このような処理を、処理条件ｎで、擬似周期パターン全体に対して行い、抽出される欠陥部候補が所定数以下の、擬似周期パターンの所定の区域のみを、処理条件ｎに対応した検出区域ｎとする。
【００１８】
次に、製品について、以下のようにして、その擬似周期パターンの欠陥検出を行う。（Ｓ２１０）
先ず、製品の擬似周期パターン全体を撮影手段１１０により撮影し（Ｓ２１１）、映像信号（撮影画像データ）を得る。（Ｓ２１２）
次いで、得られた映像信号（撮影画像データ）をＡ／Ｄ変換し、デジタル化された画像データを得る。（Ｓ２１３）
次いで、予め条件出し処理（Ｓ１１０）にて、決められている処理条件ｎ毎に、その対応する画像データの検出区域ｎに対し、欠陥部候補の検出を行う。（Ｓ２１７〜Ｓ２１８）
ここでは、得られた各検出区域ｎ毎の欠陥部候補を、それぞれ、各検出区域ｎ毎の欠陥部として、その欠陥位置の情報を蓄積する。（Ｓ２１９）
処理条件の対象区域以外の区域についてはマスク処理を施し、欠陥候補の検出を行う。
欠陥検出は、条件出し処理（Ｓ１１０）の場合と同様に、積算処理、２次微分処理を行った後、所定のスライスレベルと比較して、得られた欠陥部候補を、そのまま欠陥として検出するものである。
そして、各処理条件において検出された欠陥部を合わせて、製品の欠陥部とするものである。
【００１９】
次に、実施の形態の第２の例を挙げる。
第２の例は、図１に示す条件出し処理Ｓ１１０をそのまま、欠陥検出に適用するもので、図１に示す処理Ｓ１１０において、サンプル撮影（Ｓ１１１）に代え、製品撮影を行うもので、他については、実施の形態の第１の例の条件出し処理と同様で、処理条件ｎに対応した、検出区域ｎを求める際に、その区域ｎ内の欠陥位置の情報を蓄積するものである。
即ち、各処理条件ｎにて、検出区域ｎ内の欠陥部候補を、そのまま欠陥部として、全ての処理条件ｎと、対応する検出区域ｎ内の欠陥部を合わせて、欠陥として検出するのである。
各処理については、実施の形態の第１の例と、重複するので、説明を省略する。
【００２０】
（変形例）
上記、第１の例、第２の例では、検査対象を一台のＣＣＤカメラの視野で撮影しているが、検査対象が大きい場合や、解像度を要する検査においては、複数の撮像手段を設置して、各カメラ毎に処理する領域を決め、各カメラ毎の決められた領域に対し、第１の例や第２の例と同様の処理を施し、その領域の欠陥を検出し、全てのカメラ毎の欠陥検出のデータを合わせて、欠陥を検出する方法も適用できる。
検査試料１８０の撮影を、例えば、図２（ｂ）に示すように、２第の撮像手段１１１、１１２で行う。
Ａ／Ｄ変換部１４０は、２つの撮像手段１１１、１１２からの映像信号を、Ａ／Ｄ変換するようにしているが、各撮像手段１１１、１１２に対して各１つのＡ／Ｄ変換部を持たせても良いことは言うまでもない。
【００２１】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、擬似欠陥の検出が少なく、且つ、検査装置のコストが大きくならず、品種毎の対応に手間が係ることがない、擬似周期パターンの欠陥検出方法の提供を可能とした。
特にシヤドウマスクのような、微細な貫通孔を配列要素として、これを配列した擬似周期パターンを持つ板状の金属板製品の、擬似周期パターンの欠陥検出には有効であり、益々の量産化と高精度化に対応できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の擬似周期パターンの欠陥検査方法の実施の形態の１例のフロー図
【図２】図２（ａ）は本発明の擬似周期パターンの欠陥検査方法の実施の形態の１例を実施するための装置の概略構成図で、図２（ｂ）はその変形例の概略構成図である。
【図３】積算処理を説明するための図
【図４】周期パターンを分ける区域を説明するための図
【図５】欠陥部候補抽出処理を説明するための図
【符号の説明】
１１０、１１１、１１２          撮像手段
１２０、１２１                  照明手段
１３０                          画像処理部
１４０                          Ａ／Ｄ変換部
１８０、１８１                  検査試料（被検査物）
３１０                          画素の視野（画素領域）
３２１、３２２、３２３          配列要素領域
３２１Ａ、３２２Ａ、３２３Ａ    配列要素画素領域
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３                配列要素画素領域のＸ方向長さ
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３                配列要素画素領域のＹ方向長さ
ΔＸ                            Ｘ方向ピッチ
ΔＹ                            Ｙ方向ピッチ
【図１】
0004357640.tif 000002
【図２】
0004357640.tif 000003
【図３】
0004357640.tif 000004
【図４】
0004357640.tif 000005
【図５】
0004357640.tif 000006