(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
精密基板を収納する容器本体の開口した正面に蓋体を蓋体開閉装置により着脱する基板収納容器の蓋体であって、
蓋体は、裏面プレートに隙間を介して嵌め合わされる表面プレートと、これら裏面プレートと表面プレートの少なくともいずれか一方の外周部に設けられる出没孔と、裏面プレートと表面プレートとの間に内蔵され、出没孔から出没可能な係止爪を突出させてこれを容器本体の正面内周部の係止穴に嵌め入れるラッチ機構と、表面プレートに設けられる流体用の流通口とを含み、裏面プレートに、容器本体に収納された精密基板の周縁を支持するリテーナを装着し、表面プレートには、蓋体開閉装置の位置決めピンに挿入される位置決め凹部を凹み形成するとともに、ラッチ機構用の操作口を形成し、流通口を、ラッチ機構用の操作口を除く箇所に位置させるとともに、ラッチ機構用の観察窓に兼用可能とし、流通口の総面積を蓋体の総面積の０．５％〜８０％としたことを特徴とする基板収納容器の蓋体。
【請求項２】
表面プレートの略外周部以外の領域を流通口とした請求項１記載の基板収納容器の蓋体。
【請求項３】
裏面プレートの内面から流通口内に位置する突起を露出状態に突出させ、この突起を位置決め及び又は保持用に用いるようにした請求項２記載の基板収納容器の蓋体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェーハ、マスクガラス、液晶セル、記録媒体等の破損し易く汚染を嫌う精密基板を収納、保管、輸送したり、あるいは精密基板を加工・処理する加工装置に対する位置決めや加工装置間の搬送、貯蔵に使用される基板収納容器の蓋体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の半導体部品の生産に関する半導体ウェーハ、マスクガラス等の精密基板は、半導体デバイスの厳しい価格競争に伴い、精密基板の歩留まり向上によるコストダウンを目的として精密基板の大口径化(例えば、３００ｍｍないし４００ｍｍ以上)が急ピッチで検討されている。同時に、半導体回路は益々微細化が進められ、ＤＲＡＭのデザインルール(加工最小線幅)も０．２５μｍから０．１８μｍあるいはそれ以下に移行しつつあり、精密基板の加工される工場はもとより、精密基板の運搬時等に使用される容器に関しても益々高度なクリーン度が要求されてきている。
【０００３】
このような要求を実現する手段として、精密基板の各種処理加工に必要な局所環境(ミニエンバイロメント)のみを高度にクリーンな環境(米国連邦規格(Ｆｅｄｅｒａｌ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ２０９Ｅ)のクリーン度が１以下、必要に応じて０．０１レベル)とするとともに、基板収納容器を標準化してその内部に複数枚の精密基板をクリーンな状態で気密収納し、幾つかのクリーンな局所環境間で基板収納容器を搬送し、歩留まりを向上させようという方法が提案されている。係る提案を受け、精密基板を汚染させることなく自動的に搬送することができ、しかも、加工装置に直接アクセスすることのできる基板収納容器の開発が鋭意進められている。
【０００４】
この種の基板収納容器は、図６に部分的に示すように、図示しない精密基板を収納する容器本体１と、この容器本体１の開口の内周領域をガスケット９を介し気密状態に閉鎖する着脱自在の蓋体１０とを備え、この蓋体１０が局所環境内の図示しない加工装置に開閉操作される。
【０００５】
容器本体１は、図６に示すように、各種合成樹脂を使用して略立方形に成形され、複数枚の精密基板を上下に並べて収納する。この容器本体１の底面左右両側部にはボトムレール２がそれぞれ形成され、底面の前部両側と後部中央とには、加工装置に対して位置決め手段として機能するＶグループ(図示せず)がそれぞれ突出形成されており、この複数のＶグループに図示しないボトムプレートが嵌合保持される。このボトムプレートは、基本的には平面略Ｙ字に形成され、前部両側と後部中央とには、Ｖグループの周囲に嵌合する誘導部がそれぞれ形成されており、中央部には、加工装置固定用の貫通口が穿孔形成されている。
【０００６】
容器本体１の左右両側面には同図に示すように、サイドレール３やマニュアルハンドル４がそれぞれ着脱自在に装着され、容器本体１の上面中心部には、図示しない搬送ロボットに把持されるロボティックフランジ５が着脱自在に装着されている。また、容器本体１の内部左右両側面には、棚状の支持部６が容器本体１と一体形成、又は別部品として着脱自在に装着され、この一対の支持部６間に複数枚の精密基板が所定のピッチで水平に整列支持される。容器本体１の開口正面は、段付きに傾斜形成されてフランジ７とされ、このフランジ７の内周面上下には、左右対象の位置に位置する係止穴８がそれぞれ凹み形成されている。
【０００７】
蓋体１０は、図６や図７に示すように、相互に対向嵌合する裏面プレート１１と表面プレート１４とを備え、これら裏面プレート１１と表面プレート１４の間には、外部から操作可能なラッチ機構１７が内蔵されており、このラッチ機構１７が容器本体１に蓋体１０が嵌合する際、各係止穴８に出没可能な係止爪２３を突出係合させ、基板収納容器の気密状態を確保する。蓋体１０の外周面上下には、左右に位置する係止爪２３用の出没孔１２がそれぞれ穿孔形成されている。裏面プレート１１には、棚状のリテーナ１３が着脱自在に装着され、このリテーナ１３が複数枚の精密基板の前部周縁を弾発的に支持する。また、表面プレート１４は、上下の斜め左右に位置決め凹部１５がそれぞれ凹み形成されるとともに、中央部の左右には操作口１６がそれぞれ穿孔形成されている。
【０００８】
加工装置は、外界から搬送されてきた基板収納容器と接続し、この基板収納容器から精密基板をロードしたり、基板収納容器との間で精密基板をアンロードするアクセス装置を備えている。このアクセス装置は、基板収納容器を位置決め搭載し、加工装置に対して接続操作するロードポートと、基板収納容器の蓋体１０に対向してこれを開閉する蓋体開閉装置とから構成されている。ロードポートは、先端部が丸く形成されるとともに、容器本体１の各Ｖグループに嵌入して基盤収納容器を自動求心し、これを所定の位置に高精度に位置決めする複数本の位置決めピンと、ボトムプレートの貫通口に挿入されて基板収納容器を固定するＬ字押さえとを備え、位置決めユニットを前進させて基板収納容器を並行移動させ、蓋体開閉装置に蓋体１０をシール可能に当接させるよう機能する。
【０００９】
蓋体開閉装置は、ロードポートの搭載面に対して略垂直な壁からなる接続壁と、この接続壁に形成されて外界の基板収納容器から加工装置に移し替えられる精密基板通過用の開口部と、この開口部をシールして内部環境が外界のパーティクルの侵入で汚染するのを防止する開閉可能なカバー部材とを備えている。このカバー部材は、蓋体を位置決め保持し、蓋体のラッチ機構１７を回転可能な操作キーを介して施錠、解錠操作する操作装置と、蓋体１０の各位置決め凹部１５に嵌入する一対の位置決めピンと、蓋体１０を真空吸着する吸着装置とから構成されている。
【００１０】
上記において、局所環境で精密基板を処理加工する場合には、先ず、加工装置に基板収納容器が位置決めされ、この基板収納容器が蓋体開閉装置のカバー部材に当接するまで前進し、カバー部材の一対の位置決めピンと蓋体１０の一対の位置決め凹部１５とが嵌合するとともに、カバー部材の操作装置に蓋体１０のラッチ機構１７が解錠操作され、容器本体１のフランジ７から蓋体１０が取り外し可能な状態となる。こうして蓋体１０が取り外し可能な状態となったら、カバー部材が後退、下降して容器本体１から蓋体１０が取り外され、加工装置の内部と容器本体１の基板収納領域とが連通する。この際、容器本体１のフランジ７が接続壁に押圧してシールされるので、外界のパーティクル等が内部環境に侵入することがない。そして、基板収納容器の内部から精密基板が加工装置にローディングされて取り込まれ、その後、精密基板に各種の処理加工が施される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
従来における基板収納容器の蓋体は、以上のように構成されているので、以下の問題がある。先ず、基板収納容器の蓋体１０は、使用前や繰り返し使用後に容器本体１とは別に洗浄槽の洗浄液で洗浄され、再度使用される。この洗浄の際、蓋体１０は、中空構造に形成され、外周面に複数の出没孔１２が、表面プレート１４にはラッチ機構１７の操作口１６がそれぞれ穿孔形成されているので、内部に洗浄液(図７の矢印参照)が流入して洗浄されることとなる。
【００１２】
しかしながら、従来の蓋体１０は、出没孔１２等の開口領域が狭いので、洗浄液が十分に流通・循環せず、その結果、多数の部品からなるラッチ機構１７の洗浄が不充分となったり、連続使用時に汚れたままのラッチ機構１７から汚染物が蓋体１０を経由して容器本体１の内部に流出し、精密基板を汚染させるおそれがある。また、蓋体１０の内部に洗浄液やその水滴が多量に残存するおそれが少なくなく、しかも、水滴の除去が非常に困難なので、乾燥作業の著しい遅延化を招くという問題がある。さらに、ラッチ機構１７の耐久性に限界が生じたり、トラブルが発生した場合、蓋体１０の内部を確認する必要があるが、表面プレート１４が単に被覆されているだけなので、蓋体１０の内部を観察することがきわめて困難である。
【００１３】
本発明は、上記に鑑みなされたもので、蓋体の内部等を十分に洗浄することができ、基板汚染のおそれを有効に解消し、蓋体内部の洗浄液やその水滴等を容易に除去することのできる基板収納容器の蓋体を提供することを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明においては上記課題を解決するため、精密基板を収納する容器本体の開口した正面に蓋体を蓋体開閉装置により着脱するものであって、
蓋体は、裏面プレートに隙間を介して嵌め合わされる表面プレートと、これら裏面プレートと表面プレートの少なくともいずれか一方の外周部に設けられる出没孔と、裏面プレートと表面プレートとの間に内蔵され、出没孔から出没可能な係止爪を突出させてこれを容器本体の正面内周部の係止穴に嵌め入れるラッチ機構と、表面プレートに設けられる流体用の流通口とを含み、裏面プレートに、容器本体に収納された精密基板の周縁を支持するリテーナを装着し、表面プレートには、蓋体開閉装置の位置決めピンに挿入される位置決め凹部を凹み形成するとともに、ラッチ機構用の操作口を形成し、流通口を、ラッチ機構用の操作口を除く箇所に位置させるとともに、ラッチ機構用の観察窓に兼用可能とし、流通口の総面積を蓋体の総面積の０．５％〜８０％としたことを特徴としている。
【００１５】
なお、表面プレートの略外周部以外の領域を流通口とすることができる。
また、裏面プレートの内面から流通口内に位置する突起を露出状態に突出させ、この突起を位置決め及び又は保持用に用いることもできる。
【００１６】
ここで、特許請求の範囲における容器本体は、透明でも非透明でも良いが、非透明の場合、容器本体の背面や側面等を透明のウインドに形成し、容器本体内の基板を観察可能とすると良い。流体は、洗浄液等の液体でも良いが、各種の気体とすることも可能である。また、流通口は、任意の面積を有する円形、矩形、小判形、三角形、台形、多角形、楕円形、菱形、口形、田字形、又はこれらを組み合わせた形状等とすることができ、しかも、単数複数いずれでも良い。この流通口には、実質的に同様の機能を有するなら、表面プレートの周縁部等に位置する各種形状の切り欠きが含まれる。
【００１７】
本発明によれば、蓋体を洗浄液やドライエアー等の流体で洗浄すると、流体は、蓋体の一部の出没孔から内部を通過し、残部の出没孔から流れ出て蓋体を洗浄する。この際、単数複数の流通口が流入口、流出口としてそれぞれ機能するので、流体を十分に流通、循環させ、蓋体の内部等を洗浄することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における基板収納容器の蓋体は、図１ないし図３に示すように、容器本体１の開口の内周領域を枠状のガスケット９を介しシール状態に閉鎖する着脱自在の蓋体１０を、断面略Ｕ字状で略箱形の裏面プレート１１と、この裏面プレート１１の開口表面に隙間を介して螺着被覆される表面プレート１４と、裏面プレート１１の外周部の上下左右にそれぞれ穿孔形成される複数の出没孔１２と、裏面プレート１１と表面プレート１４との間に内蔵され、各出没孔１２から出没可能な係止爪２３を突出させてこれを容器本体１の内周領域の係止穴８に係合させる一対のラッチ機構１７と、表面プレート１４の略四隅部にそれぞ穿孔形成される複数の流通口３０とから構成している。
【００１９】
容器本体１は、図１に示すように、十分な強度・剛性を有するポリカーボネートやアクリル樹脂等の各種合成樹脂を使用して透明の略立方形に成形され、円形を呈した複数枚の精密基板(図示せず)を上下に並べて収納する。この容器本体１の底面左右両側部には、前後方向に伸びるボトムレール２がそれぞれ一体的に形成され、底面の前部両側と後部中央とには、加工装置に対して位置決め手段として機能するＶグループ(図示せず)がそれぞれ突出形成されており、この複数のＶグループに図示しないボトムプレートが嵌合保持される。このボトムプレートは、基本的には平面略Ｙ字に形成され、左右に分かれた前部両側と後部中央とには、Ｖグループの周囲に嵌合する誘導部がそれぞれ形成されており、中央部には、加工装置固定用の貫通口が穿孔形成されている。
【００２０】
容器本体１の左右両側面には同図に示すように、別部品であるサイドレール３やマニュアルハンドル４がそれぞれ着脱自在に装着され、容器本体１の上面中心部には、図示しない搬送ロボットに把持されるロボティックフランジ５が着脱自在に装着されている。また、容器本体１の内部左右両側面には、相対向する棚状の支持部６がそれぞれ一体形成、あるいは着脱自在に装着され、この一対の支持部６間に複数枚の精密基板が所定のピッチで水平に整列支持される。容器本体１の全開口正面は、段付きに傾斜形成されて外側に徐々に拡開する傾斜面に形成され、この傾斜面が蓋体１０の閉鎖時にガイド機能を発揮して蓋体１０を円滑、迅速に嵌合させる。容器本体１の開口部の内周面上下には、左右に位置する係止穴８がそれぞれ凹み形成されている。
【００２１】
なお、ボトムプレート、サイドレール３、及びマニュアルハンドル４は、容器本体１同様、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性樹脂、これら熱可塑性樹脂をベースとした導電性樹脂とのアロイ化技術、炭素繊維や金属繊維等の導電性添加物の添加により帯電防止性が付与された熱可塑性樹脂を用いて形成される。また、熱可塑性樹脂に導電性ポリマーの皮膜を塗布したり、コーティングして導電性を付与することも可能である。また、ボトムプレートは、複数のＶグループに嵌合保持されるものでも良いが、容器本体１の底面に一体形成され、容器本体１の底面を形成するものでも良い。
【００２２】
蓋体１０は、図１ないし図３に示すように、相互に対向嵌合する裏面プレート１１と表面プレート１４とを備え、これら略矩形の裏面プレート１１と表面プレート１４の間の中空部には、外部から操作可能な一対のラッチ機構１７が内蔵されており、この一対のラッチ機構１７が容器本体１に蓋体１０が嵌合する際、各係止穴８に出没可能な係止爪２３を突出係合させ、基板収納容器の気密状態を確保する。蓋体１０を形成する裏面プレート１１と表面プレート１４とは、容器本体１同様、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性樹脂、あるいは熱可塑性樹脂に帯電防止性の付与された材料を使用して形成されている。また、蓋体１０、換言すれば、裏面プレート１１の外周面上下には、左右に位置する係止爪２３用の出没孔１２がそれぞれ長方形状に穿孔形成されている。
【００２３】
裏面プレート１１の中央部には、棚状のリテーナ１３が着脱自在に装着され、このリテーナ１３が複数枚の精密基板の前部周縁を弾発的に支持する。また、表面プレート１４は、上下斜め左右の対角線上に位置決め凹部１５がそれぞれ凹み形成され、この一対の位置決め凹部１５にカバー部材の位置決めピンがそれぞれ挿入される。表面プレート１４の中央部左右には、図示しない操作装置の操作キーに貫通される操作口１６がそれぞれ穿孔形成されている。
【００２４】
各ラッチ機構１７は、図３に部分的に示すように、裏面プレート１１の内面側方に軸支され、操作キーに係合される回転プレート１８と、この回転プレート１８に連結されて上下方向にスライドする一対の連結プレート２１と、各連結プレート２１の先端部に軸着されて出没孔１２から出没する揺動可能な係止爪２３とから構成されている。各回転プレート１８は、基本的には断面略凸字に形成され、中心の突部表面には、表面プレート１４の操作口１６に対向するキー溝１９が凹み形成されており、このキー溝１９に操作キーが嵌挿されて正逆方向に９０°回転する。この回転プレート１８の表面外周には、一対の係合ピン２０が１８０°ずれてそれぞれ突出形成されている。
【００２５】
各連結プレート２１は、基本的には蓋体１０の上下方向に伸びる板状に形成され、裏面プレート１１の内面に複数のガイドピン２２を介しスライド可能に支持されている。この連結プレート２１の末端部は、湾曲形成され、円弧状の連結溝が切り欠き形成されており、この連結溝に回転プレート１８の係合ピン２０が貫通して連結されている。
なお、回転プレート１８と連結プレート２１とは、回転プレート１８に略円周状の溝を形成するとともに、連結プレート２１に突起を設け、これら溝と突起とを係合させて連結しても良い。
【００２６】
各係止爪２３は、断面略Ｔ字状に形成され、一端部が表面プレート１４の内面外周に軸支されている。この係止爪２３は、上下方向の端部が連結プレート２１の先端部に軸着され、他の他端部には、容器本体１の係止穴８に嵌入するローラ２４が回転可能に軸支されており、連結プレート２１の上下方向へのスライドに伴い、弧を描きながら出没孔１２から突出して蓋体１０をロックしたり、出没孔１２内に退没して蓋体１０を取り外し可能な状態とする。
【００２７】
複数の流通口３０は、図２や図３に示すように、基板収納容器の機能を損なわない箇所、換言すれば、表面プレート１４の略四隅部にそれぞれ丸く穿孔形成され、洗浄液の流入口、流出口として機能するとともに、各ラッチ機構１７を構成する連結プレート２１やガイドピン２２を外部から把握可能な観察窓として機能する。複数の流通口３０を表面プレート１４の略四隅部にそれぞれ穿孔形成するのは、標準化された基板収納容器に使用される蓋体１０の表面には、蓋体開閉装置との間にシールゾーンが必要とされ、ＳＥＭＩ規格では蓋体１０表面における四辺の周端部内側にそれぞれ９ｍｍ幅の蓋体形状に沿う枠状のシールゾーンが必要とされるからである。また、蓋体１０の位置決め凹部１５、操作口１６、パージポート部付近に、流通口３０を穿孔形成すると、蓋体１０の機能を害するおそれが少なくないからである。
【００２８】
複数の流通口３０の総面積は、蓋体１０の総面積の０．５％〜８０％以下、より好ましくは、４％〜５０％以下とされる。これは、複数の流通口３０の総面積が蓋体１０の総面積の０．５％未満では、サイクルの短縮に必要な洗浄性と乾燥性を得られなくなるおそれがあるからである。逆に８０％を超えると、蓋体１０の強度低下を招くからである。複数の流通口３０の総面積が好ましくは４％以上なのは、自然放置した状態の乾燥に好適であるという理由に基づく。また、複数の流通口３０の総面積が好ましくは５０％以下なのは、表面プレート１４の固定、補強リブの存在等を考慮したものである。
なお、流通口３０は、流入口、流出口として洗浄液等の循環性を向上させる機能を有するので、少なくとも２個存在するのが好ましい。
【００２９】
以下、具体的な数値をあげて流通口３０を説明すると、口径３００ｍｍの精密基板を整列収納する基板収納容器の蓋体１０の場合には、蓋体１０の表面積は３６６ｍｍ×３０８ｍｍとして計算される。このとき、直径約２０ｍｍの大きさ(蓋体１０の表面積の０．５％)の流通口３０が２個必要となる。このように流通口３０が比較的小さい場合、洗浄液やドライエアーが効率良く循環するよう、２個の流通口３０を流入口、流出口としてそれぞれホース等を接続し、液体や気体を給排気するのが有効である。但し、この場合には、２個の流通口３０に接続するための専用設備が必要である。好ましい例としては、表面プレート１４の略四隅部に、直径４０ｍｍ程度の流通口３０をそれぞれ丸く穿孔形成する例があげられる。その他の部分については、従来例と同様であるので説明を省略する。
【００３０】
上記構成において、使用前や繰り返し使用後の蓋体１０を洗浄槽の洗浄液で洗浄すると、洗浄液は、蓋体１０の一部の出没孔１２から内部を通過し、残部の出没孔１２から外部に流出して蓋体１０を洗浄する。この際、一部の流通口３０が流入口として、残部の流通口３０が流出口としてそれぞれ機能し、比較的多量の洗浄液(図２の矢印参照)を十分に流通、循環させ、蓋体１０内部の洗浄に資する。
【００３１】
上記構成によれば、蓋体１０に小さい出没孔１２の他に、複数の流通口３０を穿孔形成しているので、洗浄液を十分に流通・循環させることができる。したがって、多数の部品からなるラッチ機構１７を十分に洗浄することができ、連続使用時に汚れたままのラッチ機構１７から汚染物が蓋体１０を経由して容器本体１の内部に流出し、精密基板を汚染させるおそれがない。また、蓋体１０の内部に洗浄液やその水滴が多量に残存するおそれが実に少なく、しかも、水滴の除去が比較的簡単なので、乾燥作業の著しい円滑化、短縮化、迅速化、容易化を図ることができる。具体的には、乾燥時間を従来の１／４以下に短縮でき、繰り返し使用時の作業性の大幅な向上が大いに期待できる。さらに、ラッチ機構１７の耐久性に限界が生じたり、トラブルが発生した場合でも、蓋体１０の内部を確認することが可能なので、きわめて容易にメンテナンスすることができる。
【００３２】
次に、図４や図５は本発明の第２の実施形態を示すもので、この場合には、表面プレート１４の略外周部以外の領域、すなわち略中央部に単一の流通口３０を大きく区画形成し、裏面プレート１１の内面の上下左右等から流通口３０内に位置する複数の突起３１を表面プレート１４側に向けて露出状態に突出させ、この複数の突起３１を位置決め凹部１５として用いたり、蓋体吸着用やガスパージ用等の保持部３２として用いるようにしている。その他の部分については、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
【００３３】
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、表面プレート１４を枠状に形成して大きな流通口３０を区画形成するので、洗浄性や乾燥作業の作業性の著しい向上が大いに期待できる。さらに、流通口３０の開口領域が実に広いので、連結プレート２１の磨耗状況等を簡単に把握することができ、メンテナンスや部品交換がますます容易となり、これを通じ、精密基板の汚染防止にも大いに資することが可能になる。
【００３４】
なお、上記実施形態では枠状のガスケット９を単に示したが、このガスケット９は耐熱性、耐薬品性等に優れるフッ素ゴム等で形成すると良い。また、裏面プレート１１を断面略Ｕ字状の略箱形に形成し、この裏面プレート１１の開口表面に表面プレート１４を隙間を介して螺着被覆したが、表面プレート１４を断面略Ｕ字状の略箱形に形成することも可能である。また、ラッチ機構１７の構成は、同様の機能を期待できるのであれば、適宜変更することが可能である。例えば、回転プレート１８の外周部に複数の連結溝をそれぞれ形成するとともに、各連結プレート２１の末端部に係合ピン２０を突出形成し、これらを実質的に連結し、回転プレート１８の回転に基づいて各連結プレート２１を上下方向にスライドさせることもできる。さらに、突起３１は、単数でも良いし、形状を適宜変更することも可能である。
【００３５】
【実施例】
以下、本発明に係る基板収納容器の蓋体の実施例を比較例と共に説明する。
蓋体の乾燥時間の確認試験
実施例の蓋体１０と比較例の蓋体１０を用意し、これらについて乾燥時間の確認試験を実施し、その結果を表１にまとめて検討・評価した。確認試験は、先ず、純水中に蓋体１０を浸漬して取り出し、この蓋体１０を保持して複数の出没孔１２を図３のように上下方向に向けた。そして、蓋体１０内部の純水が蓋体１０の流通口３０から連続して滴下しなくなったら、６０℃に保温された乾燥機中に蓋体１０を表面プレート１４が上方向を向くよう水平にセットし、蓋体１０内部の乾燥時間を測定した。
【００３６】
なお、蓋体１０内部の乾燥状態は、５分毎に乾燥機から蓋体１０を取り出し、表面プレート１４をその都度取り外し、蓋体１０内部の乾燥状態、すなわち、水滴の有無を把握することにより確認した。水滴が残存している場合には、表面プレート１４を再度取り付け、水滴を除去できるまで試験を続行し、水滴が見られなくなった時間を乾燥時間とした。ここで乾燥時間とは、乾燥機にセットした時間の累計をいい、乾燥状態の確認時間を含まない。
【００３７】
実施例１の蓋体１０
表面プレート１４の略四隅部に直径４０ｍｍの流通口３０をそれぞれ丸く穿孔形成し、この複数の流通口３０の面積を蓋体１０表面の面積の約５％とした(図２参照)。
実施例２の蓋体１０
表面プレート１４の略外周部以外の領域、すなわち略中央部に単一の流通口３０を大きく区画形成し、この流通口３０の面積を蓋体１０表面の面積の約４７％とした(図４参照)。
比較例の蓋体１０
表面プレート１４に流通口３０を有しない従来の蓋体１０を使用した(図７参照)。
なお、ラッチ機構１７については、実施例、比較例共に図３の構造のものを用いた。
【００３８】
【表１】
0004321950.tif 000002
【００３９】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、蓋体の内部等を十分に洗浄することができ、基板汚染のおそれを有効に解消することができるという効果がある。すなわち、蓋体に出没孔の他に、流通口を形成しているので、洗浄液を十分に流通・循環させることができる。したがって、多数の部品からなるラッチ機構を十分に洗浄することができ、連続使用時に汚れたままのラッチ機構から汚染物が蓋体を経由して容器本体の内部に流出し、精密基板を汚染させるおそれが少ない。また、流体が洗浄液の場合には、蓋体内部の洗浄液やその水滴を容易に除去することができ、しかも、流通口を大きく形成する場合、蓋体内部を簡易に把握することが可能になる。また、流通口の総面積が蓋体の総面積の０．５％未満ではないので、サイクルの短縮に必要な洗浄性と乾燥性を得られなくなるおそれが少ない。さらに、８０％を超えることもないので、蓋体の強度低下を招くことも少ない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板収納容器の蓋体の実施形態を示す分解斜視説明図である。
【図２】本発明に係る基板収納容器の蓋体の実施形態における蓋体を示す正面図である。
【図３】図１のＩＩＩ‐ＩＩＩ線断面図である。
【図４】本発明に係る基板収納容器の蓋体の第２の実施形態における蓋体を示す正面図である。
【図５】図４のＶ‐Ｖ線断面図である。
【図６】従来の基板収納容器を示す分解斜視説明図である。
【図７】図６のＶＩＩ‐ＶＩＩ線断面図である。
【符号の説明】
１          容器本体
７          フランジ(開口面)
８          係止穴
１０        蓋体
１１        裏面プレート
１２        出没孔
１４        表面プレート
１５        位置決め凹部
１７        ラッチ機構
１８        回転プレート
１９        キー溝
２１        連結プレート
２３        係止爪
３０        流通口
３１        突起
３２        保持部
【図１】
0004321950.tif 000003
【図２】
0004321950.tif 000004
【図３】
0004321950.tif 000005
【図４】
0004321950.tif 000006
【図５】
0004321950.tif 000007
【図６】
0004321950.tif 000008
【図７】
0004321950.tif 000009