(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
気相にてトリフルオロメタンの流れを７００℃より高い温度にて熱分解にかけることよりなる段階と、熱分解段階から生ずるガスの混合物をフッ素化触媒と接触させることよりなる段階とを含むことを特徴とするペンタフルオロエタンおよび／または１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパンの製造方法。
【請求項２】
熱分解段階を７００〜１２００℃の範囲の温度にて行う請求項１に記載の方法。
【請求項３】
熱分解段階を９００〜１１００℃の温度にて行う請求項１に記載の方法。
【請求項４】
熱分解段階を９５０〜１０５０℃の温度にて行う請求項１に記載の方法。
【請求項５】
熱分解段階を１０ミリバール〜１０バールの範囲の圧力下にて行う請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
熱分解段階を５０ミリバール〜２バールの圧力下にて行う請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
熱分解段階を大気圧にて行う請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
接触時間が０．１ミリ秒〜２秒である請求項２〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
接触時間が５ミリ秒〜０．１秒である請求項２〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
接触時間が５〜５０ミリ秒である請求項２〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
熱分解反応器が空チューブ反応器である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
熱分解反応器へ供給するトリフルオロメタンが純粋であるか、不活性ガスで希釈されるか、および／または該方法の際に形成された循環生成物と混合される請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
循環生成物がペンタフルオロエタン、１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン、ペルフルオロシクロブタン、テトラフルオロエチレン、ペルフルオロプロペン、ヘキサフルオロエタンおよび／またはフッ化水素を含む請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
熱分解段階から生ずるガスを、分離せずにフッ素化段階にかける請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
フッ素化段階を気相にて２０〜５００℃の範囲の温度で行う請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
フッ素化段階を気相にて２００〜４００℃の温度で行う請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
フッ素化段階を気相にて２５０〜３５０℃の温度で行う請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
フッ素化段階を１０ミリバール〜２０バールの範囲の圧力下にて行う請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
フッ素化段階を１００ミリバール〜５バールの圧力下にて行う請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
フッ素化段階を大気圧にて行う請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
接触時間が０．１〜１２０秒である請求項１５〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
接触時間が１〜３０秒である請求項１５〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
フッ素化触媒がクロムに基づく請求項１５〜２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
フッ素化段階を液相にて加圧下に行う請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
フッ素化触媒がアンチモン、チタンまたは錫に基づく請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
温度が２０〜１５０℃である請求項２４または２５に記載の方法。
【請求項２７】
フッ素化を溶媒中で行う請求項２４〜２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
フッ素化をＨＦ媒体中で行う請求項２４〜２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２９】
該方法の副生物を、熱分解段階から生じたガス流に添加する請求項１５〜２８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
安定化剤を、熱分解段階から生じたガス流に添加する請求項１５〜２９のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一般的にＨＦＣもしくはＨＦＡとして知られたヒドロフルオロアルカンの分野に関し、より詳細には名称Ｆ２３として知られたトリフルオロメタンからのペンタフルオロエタン（Ｆ１２５）および１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン（Ｆ２２７ｅａ）の製造を主題としている。
【０００２】
【従来の技術】
クロルフルオロアルカン（ＣＦＣ）が成層圏オゾン層の弱化に寄与すると疑われてきたため、ヒドロフルオロアルカンに対する興味が増大してきた。
【０００３】
たとえばフルオロトリクロロメタン（ＣＦＣ１１）、ジクロロジフルオロメタン（ＣＦＣ１２）、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（ＣＦＣ１１３）およびクロロペンタフルオロエタン（ＣＦＣ１１５）のようなＣＦＣ類がこの理由からあらゆる工業国にて禁止されており、たとえば１，１，１，２−テトラフルオロエタン（Ｆ１３４ａ）、ジフルオロメタン（Ｆ３２）、ペンタフルオロエタン（Ｆ１２５）、１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン（Ｆ２２７ｅａ）、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパン（Ｆ２４５ｆａ）および１，１，１，２，２−ペンタフルオロブタン（Ｆ３５６ｍｆｃ）のようなヒドロフルオロアルカン類、並びにたとえばクロロジフルオロメタン（Ｆ２２）、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（Ｆ１４１ｂ）および１−クロロ−１，１−ジフルオロエタン（Ｆ１４２ｂ）のようなヒドロクロロフルオロアルカン類（ＨＣＦＣ）により代替されている。オゾン層に対しＣＦＣよりも有害性は少ないが、ＨＣＦＣは徐々に消失する運命にある。したがって、ＣＦＣおよびＨＣＦＣに代替するにはＨＦＣ型の生産物を製造し得ることが必要である。
【０００４】
ＨＦＣの合成につき現在知られた大部分の方法は、塩素化された化合物のフッ化水素を用いる触媒フッ素化またはクロロフッ素化された化合物の水素化分解またはＨＦＣの存在下におけるＨＣＦＣの熱分解に基づいている。塩素化された化合物を含むと共に塩酸を同時生成するこれら全ての方法は、不純物としてＨＣＦＣまたはＣＦＣ型の塩素化生成物を発生し、これらはオゾン層に対する作用のため全く望ましくないことは明らかである。このように製造されるＨＦＣにおけるＣＦＣもしくはＨＣＦＣ型の塩素化不純物の含有量はできるだけ低くせねばならず、したがって考慮すべき重要な因子である。
【０００５】
これら生成物の種々の用途（冷凍、空調、フォーム膨脹、溶剤または消火）のため、異なる物理的および化学的性質を有する入手可能な数種のＨＦＣまたは一定の用途に対して特に満足しうるＨＦＣの混合物が必要であることが判るであろう。
【０００６】
同じ出発物質から塩素化副生物およびＨＣＦＣもしくはＣＦＣ型の不純物または塩酸の生成なしに異なる物理的性質を有する数種のＨＦＣの製造を可能にし、利用できるプロセスを有すること、特にペンタフルオロエタン（Ｆ１２５）および１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン（Ｆ２２７ｅａ）の製造を可能にし、利用できるプロセスを有することがこの分野で特に有利であろう。
【０００７】
塩素化またはクロロフッ素化誘導体からＦ１２５を合成するための多くの方法のうち、次のものを挙げることができる：
−木炭支持体に沈着させたクロムを含有する触媒の存在下（特許ＥＰ  ４５６，５５２号）またはフッ素化アルミナ型の支持体にクロムを含有する触媒の存在下（特許ＥＰ  ３４９，２９８号）における気相でのフッ化水素による１，１，１−トリフルオロ−２，２−ジクロロエタン（Ｆ１２３）のフッ素化に関するもの、
−酸化クロム型の触媒上の通過がその出口にてＦ１２５とＦ１２３との混合物をもたらす、たとえばＦ１２４のようなＨＣＦＣ誘導体の不均化（特許出願ＷＯ  ９２０２４７６号）、
−Ｆ１１５の水素化分解（出願ＷＯ  ９１０５７５２号および特許ＥＰ  ０，５０６，５２５号）（９９％より大きいＦ１１５の変換度は著量のＦ１４３ａ（ＣＦ3−ＣＨ3）の生成をもたらす強制条件を必要とする）。
【０００８】
ＨＣＦＣまたはＣＦＣ型の塩素化誘導体を含むこれら方法は得られるＦ１２５の完全精製を通常伴い、その主たる問題の１つは簡単な蒸留により分離が困難であると共に一層複雑な技術により除去せねばならないＦ１２５中のＦ１１５の存在である（特許ＦＲ  ２，７１６，４４９号に記載）。
【０００９】
さらにＦ１２５は液相（特許ＵＳ  ４，２５８，２２５号）または気相（特許ＥＰ  ０，０３６，１２３号）にて触媒の存在下にテトラフルオロエチレンをフッ素化して得られるが、これらの方法はＣ2Ｆ4の単離もしくは貯蔵を必要とし、この生成物に固有の爆発もしくは重合の危険があるので重大な欠点がある。特許ＲＵ  ２，０４９，０８５号によれば、Ｆ１２４との混合物としてのＣ2Ｆ4のフッ素化は気相にて酸化アルミニウム上のクロムに基づいた触媒を用いて行うことができ、Ｃ2Ｆ4およびＦ１２４はＦ２２（ＣＨＣｌＦ2）の熱分解から生じうるが、これにより得られるＦ１２５はたとえばＦ１１４およびＦ１１５のようなＨＣＦＣにより汚染されて、この種のプロセスの利点を著しく低下させる。
【００１０】
特許ＦＲ  ２，７３１，７０１号は、Ｆ２３とＦ２２との混合物からのＦ１２５の合成方法を記載している。この方法はＦ１２５以外の他のＨＦＣの製造を可能にするが、塩素化された出発物質（Ｆ２２）の使用を必要とし、さらにこの反応により生成されたＨＣｌの存在も非常に望ましくない。何故なら、腐蝕の問題および反応混合物中に発生しうる塩素化副生物の問題があるからである。
【００１１】
特許ＵＳ  ３，００９，９６６号はＦ２３の熱分解段階を含む過フッ素化オレフィンの製造方法を記載しており、極めて少量のＦ１２５およびＦ２２７ｅａも生成することを示している。
【００１２】
Ｆ２２７ｅａの各種の合成方法のうち、金属触媒における２−クロロヘプタフルオロプロパンの水素化分解（特許ＥＰ  ５３９，９８９号）およびアンチモンを含む触媒の存在下におけるペルフルオロプロペンのＨＦによるフッ素化（特許出願ＷＯ  ９６０２４８３号）を挙げることができる。
【００１３】
トリフルオロメタン（Ｆ２３）から出発して、塩素化生成物または副生物を含まず、したがって塩素化出発物質の使用に基づくプロセスにより得られる生成物中に通常存在するようなＣＦＣもしくはＨＣＦＣ型の不純物を含まないＦ１２５及びＦ２２７ｅａを供給するプロセスによりペンタフルオロエタン（Ｆ１２５）、１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン（Ｆ２２７ｅａ）またはこれら化合物の混合物を良好な収率で製造しうることがわかってきた。さらに、この方法は痕跡量の塩酸すら全く含まないフッ化水素酸を同時生成することもできる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、塩素化生成物もしくは副生物を含まないプロセスにより良好な収率にてペンタフルオロエタン（Ｆ１２５）および／または１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン（Ｆ２２７ｅａ）を製造することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
したがって本発明の主題はペンタフルオロエタン（Ｆ１２５）および／または１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン（Ｆ２２７ｅａ）の製造方法であり、この方法は：
（ａ）  気相にてトリフルオロメタン（Ｆ２３）の流れを７００℃より高い温度にて熱分解にかけることよりなる段階、および
（ｂ）  熱分解段階から生じたガスの混合物をフッ素化触媒と接触させることよりなる段階
を含むことを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明による方法の段階（ａ）において、Ｆ２３の熱分解はテトラフルオロエチレンおよび／またはペルフルオロプロペンの生成をもたらすと共にフッ化水素の同時生成をもたらす。
【００１７】
フッ素化触媒の存在下で行われる段階（ｂ）においては、段階（ａ）で同時生成したＨＦの１部をテトラフルオロエチレンおよび／またはペルフルオロプロペンに添加してＦ１２５および／またはＦ２２７ｅａを生成させる。
【００１８】
次の反応式：
0004357607.tif 000002
に示したように、段階（ａ）に際し生成されたＨＦは段階（ｂ）に際し部分的にのみ消費される。したがって、過剰量を容易に回収して他の製造操作に利用することができる。さらに反応混合物における塩酸の不存在は、高温度における塩酸の存在により誘発される腐蝕の問題を防止する。
【００１９】
段階（ａ）は減圧下または加圧下に行うことができる。したがって熱分解は１０ミリバール〜１０バールの範囲の絶対圧にて行うことができ、過度に高い圧力は生成物に関する選択率の顕著な損失をもたらすと共に過度に低い圧力はこの方法の生産性を低下させる。この圧力の選択は、第１段階の際のＣ2Ｆ4またはＣ3Ｆ6の中間的生成または第２段階の終了時におけるＦ１２５もしくはＦ２２７ｅａの最終的生成に対する所望の方向性にも関与する。低圧力はＣ2Ｆ4したがってＦ１２５の生成に好適であるのに対し、高圧力はＣ3Ｆ6したがってＦ２２７ｅａの生成を促進する。操作は好ましくは５０ミリバール〜２バールの圧力下に行われ、大気圧に等しい圧力値がさらに好適である。
【００２０】
熱分解段階（ａ）は７００℃より高い温度で行われるが、熱分解温度の正確な選択は選択される接触時間およびプロセスの出口にて所望される生成物に依存する。この温度の上限値は一般に技術的拘束によって決定される。この熱分解温度は一般に７００〜１２００℃であり、好ましくは９００〜１１００℃、より好ましくは９５０〜１０５０℃の範囲で選択される。
【００２１】
以下に示す接触時間は加熱部分の容積とガス流速との比により規定され、単位時間当たりの容積として現され、このガス流速は完全ガスに関する関係を適用して反応段階の圧力および温度条件につき補正される。段階（ａ）に際し接触時間の選択は、関与する温度および圧力条件に明らかに関連する。これは一般に０．１ミリ秒〜２秒、好ましくは５ミリ秒〜０．１秒、より好ましくは５〜５０ミリ秒の範囲である。この接触時間の下限値は実際には、用いるべき温度およびガス流速に関連する技術的限界により支配される。
【００２２】
熱分解段階（ａ）を行う反応器は好ましくは空チューブ型の反応器であるが、交換表面積を増大させるべく不活性パッキングを充填した反応器を使用することもできる。バルクもしくは支持された触媒を反応器中へ導入することもできるが、熱分解段階は一般に触媒を必要とせず、好ましくは触媒の不存在下に行われる。
【００２３】
反応器は、温度および圧力の条件に耐えると共に耐腐食性である各種の材料で作成することができる。これには、例えば白金で内部被覆された反応器を使用することができる。しかしながら本発明の範囲を限定することなく、好ましくはたとえばインコネル、ニッケルもしくはハイテロイのような材料が挙げられる。
【００２４】
Ｆ２３は熱分解反応器中へ純物として或いはプロセスに際し生成された種々異なる生成物の循環物との混合物として導入することができる。本発明の範囲を限定するものでないが、これら生成物および副生物はＦ１２５、Ｆ２２７ｅａ、ペルフルオロシクロブタン（ｃ−Ｃ4Ｆ8）、テトラフルオロエチレン、ペルフルオロプロペン、ヘキサフルオロエタン（Ｆ１１６）もしくはフッ化水素酸であり得ることが示される。たとえば窒素のような不活性希釈ガスをも導入することができる。
【００２５】
主生成物として未反応のＦ２３、ＨＦおよびペルフルオロプロペンとテトラフルオロエチレンとの混合物を含有すると共に、選択される方向性に応じて殆どこれら２種の生成物の一方もしくは他方を含有しうる熱分解段階（ａ）から生じたガスは、５００℃未満の温度で作用するフッ素化触媒を内蔵した反応器へ移送される。
【００２６】
熱分解段階（ａ）から生ずるガスの粗製混合物は好ましくはフッ素化反応器へ直接に移送されるが、この方法の実施を一層容易にするため中間的または干渉的な貯蔵も主題としうる。循環生成物（特にフッ化水素）は、熱分解段階に由来するガスの混合物に添加することができる。過フッ素化オレフィンを安定化させると共にその重合を防止するために、たとえばリモネンのようなテルペンまたはディプソール（登録商標）の名称で知られた混合物、フェノール、アミンおよび或る種の芳香族誘導体、たとえばトルエンもしくはα−メチルスチレンなどの１種もしくはそれ以上の安定化剤をフッ素化反応器へ流入する流れに添加することもできる。
【００２７】
フッ素化反応は気相または液相にて行うことができる。
【００２８】
反応を気相で行う場合、一般に金属フッ化物および／または酸化物、たとえばクロム、ニッケル、亜鉛、マグネシウム、カルシウムまたは鉄に基づく触媒が使用される。使用する触媒はバルクとすることができ或いはフッ化アルミニウム、木炭またはフッ化水素の存在に対し耐性である他の任意の支持体であり得る支持体上に支持することもできる。クロムに基づく触媒は良好な結果を与え、好適触媒の１種はフッ素化アルミナに基づく支持体に沈着されたクロムを含む触媒で構成される。
【００２９】
気相で行われるフッ素化段階の温度は２００〜５００℃とし得るが、２００〜４００℃、より好ましくは２５０〜３５０℃の温度で操作するのが好適である。気相にて、フッ素化段階の圧力は１０ミリバール〜２０バールの範囲で変化し得る。１００ミリバール〜５バールが有利であり、大気圧に等しい圧力はさらに有利である。技術的観点からは、この方法の２つの段階につき同様な圧力を選択するのが有利であることは明らかである。
【００３０】
気相におけるこのフッ素化段階に際し接触時間は０．１〜１２０秒であり、操作は好ましくは１〜３０秒の接触時間にて行われる。
【００３１】
さらに、フッ素化段階（ｂ）を液相にて加圧下に行うこともできる。次いで反応を溶剤（特にいわゆるＨＦ媒体）の存在下もしくは非存在下で行うことができ、フッ化水素酸を溶媒として使用する。
【００３２】
限定を意味するものでないが、液相におけるフッ素化の触媒としてはアンチモン、チタン、錫、タンタルもしくはニオブの各誘導体である通常の触媒を挙げることができる。液相におけるフッ素化温度は２０〜１５０℃の範囲で変化しうる。
【００３３】
フッ素化段階の出口にて、主としてＦ２３、フッ化水素酸、Ｆ１２５および／またはＦ２２７ｅａを含有するガスを分離する。残留オレフィンＣ2Ｆ4またはＣ3Ｆ6を与えない条件下で操作するのが好都合である。しかしながら、これらオレフィンがまだフッ素化段階の出口に存在すれば、これらをプロセスに循環させ或いは他の用途のため回収することができる。
【００３４】
出口におけるガスを水溶液で洗浄してフッ化水素酸を除去し、次いでガスを蒸留して生成Ｆ１２５および／またはＦ２２７ｅａを回収することができる。一般にＦ２３は反応の開始部に他の未変換中間体または副生物の全部もしくは１部と共に戻される。さらに、この第２段階から生じた粗製ガスを蒸留してＨＦを工業的に容易に一層再使用しうる形態で回収し或いは硫酸での洗浄によりフッ化水素を回収することもできる。
【００３５】
【実施例】
以下、限定はしないが実施例により本発明を説明する。
【００３６】
実施例１
（ａ）  フッ素化触媒の調製
メタノール中の酸化クロムＣｒＯ3の溶液を用いてクロムを６％まで含浸させた１Ｌのアルミナを、流動化された砂浴装置により加熱された内径８ｃｍを有する１．５Ｌのインコネル反応器に充填する。
【００３７】
用いたアルミナは市販のアルミナであって次の特性を示す：
形態：１〜２ｍｍビーズ
ＢＥＴ比表面積：２２３ｍ2／ｇ
孔容積：１．２ｃｍ3／ｇ（４ｎｍ〜６３μｍの孔半径）。
【００３８】
触媒を窒素でフラッシュさせながら２００℃にて１晩乾燥させ、次いでこの温度および窒素の存在下に２４０ｇのフッ化水素を１８ｇ／ｈの流速にて導入する。次いで温度を３５０℃に上昇させ、ＨＦの導入を同じ流速にてさらに１２時間にわたり続ける。方法の第２段階で使用するフッ素化触媒がこのようにして得られる。
【００３９】
（ｂ）  トリフルオロメタンの熱分解
１７０℃まで予熱されたトリフルオロメタン（Ｆ２３）を、長さ約５０ｃｍ、内径４ｍｍおよび外径６ｍｍを有する空ニッケルチューブよりなる反応器に導入する。このチューブを炉により加熱し、設定温度に近い温度（設定温度とそれより２０℃だけ低い温度との間の温度）まで実際に加熱される長さは、このチューブ中へ温度プローブを導入すると共に窒素を流すことにより２０ｃｍにて実験的に評価し、この温度プローブを試験に際し除去した。この長さを第１段階における接触時間を評価する際に考慮する。この実施例のための設定温度（Ｔ１）は１０００℃であり、接触時間（ＣＴ１）は３２ミリ秒である。
【００４０】
（ｃ）  熱分解生成物のフッ素化
本方法のこの第２段階を行う反応器は、項目（ａ）に記載した反応器であって、項目（ａ）にて調製した触媒を充填する。項目（ｂ）に記載した熱分解段階からのガスをこのフッ素化反応器へ直接移送する。この第２段階の温度（Ｔ２）を３００℃に設定する。圧力は大気圧に等しく、触媒の容積に関し計算した接触時間（ｃｔ２）は２９秒である。第２反応器の出口にてガスを水洗し、次いで塩化カルシウムで乾燥させる。
【００４１】
得られた結果を下表に示す。
【００４２】
実施例２
操作は実施例１におけると同様に行うが、流入させるＦ２３の流速を変化させ、すなわちこの方法の２つの段階の接触時間を変化させる。その結果を下表に示す。
【００４３】
実施例３
操作は前記実施例と同様な方法で行うが、内径２ｍｍおよび外径４ｍｍを有する熱分解反応器（第１段階）を使用し、加熱領域は２０ｃｍに等しくする。さらに、操作を第２段階に際し一層小容積の触媒で行って、１５秒の接触時間を得る。得られた結果を下表に示す。
【００４４】
【表１】
0004357607.tif 000003
【００４５】
実施例４
操作を実施例３と同じ条件下で行った。１００時間以上にわたり操作した後も、フッ素化触媒の失活の徴候は認められず、生成物の分布は変化しないままであった。
【００４６】
実施例５
使用した装置は１Ｌの３１６Ｌステンレス鋼ジャケット付オートクレーブで構成し、これには同じくジャケット付の単一冷却器および圧力制御弁を装着した。
【００４７】
５０２ｇのＨＦ（２５．１モル）と７１．７ｇのＴａＣｌ5（０．２モル）とを、液体窒素中に浸しておいた前記オートクレーブに順次に充填する。次いでオートクレーブの温度を室温に戻す。次いでオートクレーブを油浴に浸して反応混合物において約１００℃の温度を得る一方、冷却器の頂部における温度を２０℃に維持すると共に組立て装置を１０バールの圧力に調整する。
【００４８】
１００℃の温度に達した際、Ｃ2Ｆ4を気相にて１４．９ｇ／ｈ（０．３モル／ｈ）の流速で供給する。冷却器の頂部にて連続放出される最も揮発性の生成物を水スパージャーに流入させ、次いでドライヤに流入させた後、液体窒素で冷却されたステンレス鋼容器に集める。
【００４９】
２時間にわたり反応させた後、オートクレーブを油浴中での水の循環により冷却する。室温まで戻した後、オートクレーブを脱ガスすると共に反応生成物を洗浄、乾燥および上記のように回収する。かくして回収された気相および液相を分析すると共に、恐らく脱ガス後にオートクレーブ中に残留しうる液相をも分析する。
【００５０】
変換率（導入Ｃ2Ｆ4の１００モルに対して表わす）は１２．９％に達し、Ｆ１２５の選択率（反応により消費されたＣ2Ｆ4のモル数に対して表わす）は９９．９％である。
【００５１】
実施例６
実施例５を反復したが、４８２ｇのＨＦ（２４．１モル）と５０．６ｇのＮｂＣｌ5（０．１９モル）とを液体窒素に浸しておいたオートクレーブに順次に充填し、Ｃ2Ｆ4を１５．１ｇ／ｈ（０．３モル）の流速にて気相で供給する。
【００５２】
２時間にわたり反応させた後、気相および液相の分析は、導入Ｃ2Ｆ4の変換率が１１％に達し、Ｆ１２５の選択率が９９．９％であることを示す。
【００５３】
実施例５および６は、本発明による方法の段階（ａ）に従いＦ２３の熱分解反応から生じたガスの混合物を液相における触媒フッ素化反応にかけてＦ１２５を生成させうることを示す。