(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射層が設けられた反射表示領域と、該反射層に設けられた開口部である透過表示領域と、が規定されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記反射表示領域に反射層を形成する工程と、
前記反射表示領域の前記反射層のみの上に透光層を形成する工程と、
前記反射表示領域における前記透光層上、並びに、前記反射層が配置されていない領域である前記透過表示領域に、着色層を構成する感光性樹脂を塗布し、該感光性樹脂を前記透過表示領域に流入させ、さらに該感光性樹脂をパターニングすることによって前記透過表示領域と前記反射表示領域との双方に着色層を形成する工程と、を有し、
前記透過表示領域に配置された着色層は前記反射表示領域に配置された着色層よりも厚く、
前記透光層は親水性を有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親油性を有する材料により形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
反射層が設けられた反射表示領域と、該反射層に設けられた開口部である透過表示領域と、が規定されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記反射表示領域に反射層を形成する工程と、
前記反射表示領域の前記反射層のみの上に透光層を形成する工程と、
前記反射表示領域における前記透光層上、並びに、前記反射層が配置されていない領域である前記透過表示領域に、着色層を構成する感光性樹脂を塗布し、該感光性樹脂を前記透過表示領域に流入させ、さらに該感光性樹脂をパターニングすることによって前記透過表示領域と前記反射表示領域との双方に着色層を形成する工程と、を有し、
前記透過表示領域に配置された着色層は前記反射表示領域に配置された着色層よりも厚く、
前記透光層はを親油性有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親水性を有する材料により形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
反射層が設けられた反射表示領域と、該反射層に設けられた開口部である透過表示領域と、が規定されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記反射表示領域に反射層を形成する工程と、
前記反射表示領域の前記反射層のみの上に透光層を形成する工程と、
前記透光層に対して紫外線を照射することにより前記透光層を親水化する工程と、
前記反射表示領域における前記透光層上、並びに、前記反射層が配置されていない領域である前記透過表示領域に、着色層を構成する感光性樹脂を塗布し、該感光性樹脂を前記透過表示領域に流入させ、さらに該感光性樹脂をパターニングすることによって前記透過表示領域と前記反射表示領域との双方に着色層を形成する工程と、を有し、
前記透過表示領域に配置された着色層は前記反射表示領域に配置された着色層よりも厚く、
前記着色層を構成する感光性樹脂は親油性を有する材料により形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項４】
前記透光層を親水化する工程は、前記透過表示領域に前記紫外線が照射されない角度をもって、前記紫外線を照射することを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項５】
前記透光層を親水化する工程は、前記透過表示領域をマスクした状態で前記紫外線を照射することを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項６】
前記透過表示領域における前記着色層の層厚は、前記反射層及び前記透光層の層厚分だけ前記反射表示領域における前記着色層の層厚よりも厚いことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の製造方法により製造されたカラーフィルタ基板を備えたことを特徴とする電気光学パネル。
【請求項８】
請求項７に記載の電気光学パネルを表示部として備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半透過反射型の電気光学装置に用いるのに好適なカラーフィルタの構造に関する。
【０００２】
【背景技術】
従来から、外光を利用した反射型表示と、バックライトなどの照明光を利用した透過型表示とのいずれをも視認可能とした半透過反射型の液晶表示パネルが知られている。この半透過反射型の液晶表示パネルは、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有し、この反射層をバックライトなどの照明光を透過することができるように構成したものである。この主の反射層としては、液晶表示パネルの画素毎に所定割合の開口部（スリット）を備えたパターンを持つものがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような半透過反射型の液晶表示パネルにおいては、反射経路では外光などの光がカラーフィルタを往復２回通過するのに対し、透過経路ではバックライトなどからの光がカラーフィルタを１回だけ通過するため、反射型表示の彩度に対して透過型表示における彩度が悪くなるという問題がある。すなわち、反射型表示では一般的に表示の明るさが不足しがちであるので、カラーフィルタの光透過率を高く設定して表示の明るさを確保する必要があるが、そうすると透過型表示において十分な彩度を得ることができなくなる。
【０００４】
また、上記のように反射型表示と透過型表示とにおいては光がカラーフィルタを通過する回数が異なるので、反射型表示の色彩と透過型表示の色彩とが大きく異なってしまうため、使用者に違和感を与えるという問題もある。
【０００５】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、半透過反射型の表示装置において、反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とをともに確保することが可能なカラーフィルタ基板を提供すること、及び、そのようなカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の１つの観点では、反射表示領域と透過表示領域とが規定されたカラーフィルタ基板であって、前記反射表示領域に配置された反射層と、前記反射表示領域において前記反射層上に配置された透光層と、前記反射表示領域における前記透光層上、並びに、前記反射層が配置されていない領域である前記透過表示領域に配置された着色層とを備え、前記透光層は親水性を有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親油性を有することを特徴とする。
【０００７】
上記のカラーフィルタ基板によれば、ガラスなどの透光性基板上の所定の反射表示領域に反射層が配置される。反射表示領域は、外光を利用した反射型表示を行う際に使用する領域である。反射層の上には、透光性を有する透光層が配置される。これにより、基板上には、反射層及び透光層が配置された反射表示領域と、それらが配置されていない透過表示領域とが存在することになり、反射表示領域は、反射層及び透過層の層厚分だけ透過表示領域よりも層厚が大きくなる。
【０００８】
そして、反射表示領域と透過表示領域の全体に対して着色層が配置されるので、透過表示領域における着色層の層厚は、反射表示領域における着色層の層厚よりも大きくなる。着色層は、感光性樹脂を塗布し、これをパターニングすることにより形成される。ここで、透光層は、着色層を構成する感光性樹脂との親和性が小さいので、着色層を形成する際に塗布された感光性樹脂は透光層によりはじかれ、反射表示領域よりも透過表示領域においてより厚く塗布されることになる。よって、透過表示領域に十分な厚さの着色層を形成することが可能となる。
【０００９】
上記のカラーフィルタ基板の一態様では、前記透光層は親水性を有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親油性を有することができる。透光層として、例えばゼラチン、カゼイン、フィッシュグリュー、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミドなどの親水性の樹脂により構成することにより、着色層を構成する感光性樹脂は、親水性を有する透過層上に滞留しにくくなり、透過表示領域に十分に堆積させることができる。
【００１０】
上記のカラーフィルタ基板の他の一態様では、前記透光層は、フッ素樹脂により構成することができる。これにより、着色層を構成する感光性樹脂は、フッ素樹脂により構成された透光層上に滞留しにくくなり、透過表示領域に十分に堆積させることができる。
【００１１】
上記のカラーフィルタ基板のさらに他の一態様では、前記透光層は親油性を有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親水性を有することができる。これによれば、親水性を有する感光性樹脂は親油性を有する透光層上に滞留しにくくなり、感光性樹脂を透過表示領域に十分に堆積させることができる。
【００１２】
上記のカラーフィルタ基板では、前記透過表示領域における前記着色層の層厚は、前記反射層及び前記透光層の層厚分だけ前記反射表示領域における前記着色層の層厚よりも厚くなる。よって、透過表示領域の着色層の濃度を反射表示領域の着色層の濃度より高くすることができ、透過型表示時の彩度不足を改善することができる。
【００１３】
上記のカラーフィルタ基板では、前記反射層は部分的に開口部を有し、前記透過表示領域は前記開口部に対応することとしてもよい。
【００１４】
また、上記のカラーフィルタ基板を利用して電気光学パネルを構成することができ、また、一対の基板間に挟持された液晶と、前記一対の基板に規定された反射表示領域に配置された反射層と、前記反射表示領域に配置された透光層と、前記反射表示領域における前記透光層上、並びに、前記反射層が配置されていない領域である透過表示領域に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記着色層を構成する感光性樹脂との親和性が小さいことを特徴とする電気光学パネルを構成することができ、その電気光学パネルを表示部として備える電子機器を構成することができる。
【００１５】
本発明の他の観点では、反射層が設けられた反射表示領域と、該反射層に設けられた開口部である透過表示領域と、が規定されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記反射表示領域に反射層を形成する工程と、前記反射表示領域の前記反射層のみの上に透光層を形成する工程と、前記反射表示領域における前記透光層上、並びに、前記反射層が配置されていない領域である前記透過表示領域に、着色層を構成する感光性樹脂を塗布し、該感光性樹脂を前記透過表示領域に流入させ、さらに該感光性樹脂をパターニングすることによって前記透過表示領域と前記反射表示領域との双方に着色層を形成する工程と、を有し、前記透過表示領域に配置された着色層は前記反射表示領域に配置された着色層よりも厚く、前記透光層は親水性を有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親油性を有する材料により形成されることを特徴とする。
本発明のさらに他の観点では、反射層が設けられた反射表示領域と、該反射層に設けられた開口部である透過表示領域と、が規定されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記反射表示領域に反射層を形成する工程と、前記反射表示領域の前記反射層のみの上に透光層を形成する工程と、前記反射表示領域における前記透光層上、並びに、前記反射層が配置されていない領域である前記透過表示領域に、着色層を構成する感光性樹脂を塗布し、該感光性樹脂を前記透過表示領域に流入させ、さらに該感光性樹脂をパターニングすることによって前記透過表示領域と前記反射表示領域との双方に着色層を形成する工程と、を有し、前記透過表示領域に配置された着色層は前記反射表示領域に配置された着色層よりも厚く、前記透光層はを親油性有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親水性を有する材料により形成されることを特徴とする。
【００１６】
上記のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、ガラスなどの透光性基板上に、所定の反射表示領域に反射層が配置され、その上には、透光性を有する透光層が配置される。そして、反射表示領域と透過表示領域の全体に対して着色層が配置されるので、透過表示領域における着色層の層厚は、反射表示領域における着色層の層厚よりも大きくなる。着色層は、感光性樹脂を塗布し、これをパターニングすることにより形成される。ここで、透光層は、着色層を構成する感光性樹脂との親和性が小さいので、着色層を形成する際に塗布された感光性樹脂は透光層によりはじかれ、透過表示領域により多く塗布されることになる。よって、透過表示領域に十分な厚さの着色層を形成することが可能となる。
【００１７】
上記のカラーフィルタ基板の製造方法の一態様では、前記透光層は親水性を有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親油性を有することができる。透光層として、例えばゼラチン、カゼイン、フィッシュグリュー、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミドなどの親水性の樹脂により構成することにより、着色層を構成する感光性樹脂は、親水性を有する透過層上に滞留しにくくなり、透過表示領域に十分に堆積させることができる。
【００１８】
上記のカラーフィルタ基板の製造方法の他の一態様では、前記透光層は、フッ素樹脂により構成することができる。これにより、着色層を構成する感光性樹脂は、フッ素樹脂により構成された透光層上に滞留しにくくなり、透過表示領域に十分に堆積させることができる。
【００１９】
上記のカラーフィルタ基板の製造方法のさらに他の一態様では、前記透光層は親油性を有する樹脂により構成され、前記着色層を構成する感光性樹脂は親水性を有することができる。これによれば、親水性を有する感光性樹脂は親油性を有する透光層上に滞留しにくくなり、感光性樹脂を透過表示領域に十分に堆積させることができる。
【００２０】
本発明のさらに他の観点では、反射層が設けられた反射表示領域と、該反射層に設けられた開口部である透過表示領域と、が規定されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記反射表示領域に反射層を形成する工程と、前記反射表示領域の前記反射層のみの上に透光層を形成する工程と、前記透光層に対して紫外線を照射することにより前記透光層を親水化する工程と、前記反射表示領域における前記透光層上、並びに、前記反射層が配置されていない領域である前記透過表示領域に、着色層を構成する感光性樹脂を塗布し、該感光性樹脂を前記透過表示領域に流入させ、さらに該感光性樹脂をパターニングすることによって前記透過表示領域と前記反射表示領域との双方に着色層を形成する工程と、を有し、前記透過表示領域に配置された着色層は前記反射表示領域に配置された着色層よりも厚く、前記着色層を構成する感光性樹脂は親油性を有する材料により形成されることを特徴とする。
【００２１】
上記のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、ガラスなどの透光性基板上に、所定の反射表示領域に反射層が配置され、その上には、透光性を有する透光層が配置される。そして、反射表示領域と透過表示領域の全体に対して着色層が配置されるので、透過表示領域における着色層の層厚は、反射表示領域における着色層の層厚よりも大きくなる。そして、紫外線を照射することにより透光層が親水化される。着色層は、感光性樹脂を塗布し、これをパターニングすることにより形成されるが、透光層は親水化により着色層を構成する感光性樹脂との親和性が小さいので、着色層を形成する際に塗布された感光性樹脂は透光層によりはじかれ、透過表示領域により多く塗布されることになる。よって、透過表示領域に十分な厚さの着色層を形成することが可能となる。
【００２２】
上記のカラーフィルタ基板の製造方法の一態様では、前記透光層を親水化する工程は、前記透過表示領域に前記紫外線が照射されない角度をもって、前記紫外線を照射するものとしてもよい。また、他の一態様では、前記透光層を親水化する工程は、前記透過表示領域をマスクした状態で前記紫外線を照射するものとしてもよい。こうして、紫外線の照射により反射表示領域のみを親水化することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００２４】
［液晶表示パネルの構成］
図１は、本発明のカラーフィルタ基板を適用した電気光学装置の一実施形態である液晶表示パネル２００を模式的に示す概略断面図である。
【００２５】
この液晶表示パネル２００は、ガラスやプラスチックなどからなる基板２０１と基板２０２とがシール材２０３を介して貼り合わされ、内部に液晶２０４が封入されてなる。基板２０１の内面上には、画素毎に開口部２１１ａを備えた厚さ５０ｎｍから２５０ｎｍ程度の反射層２１１が形成されている。この反射層２１１は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金などの薄膜で形成することができる。開口部２１１ａは、基板２１０の内面に沿って縦横にマトリクス状に配列設定された画素Ｇ毎に、当該画素Ｇの全面積を基準として所定の開口率（例えば１０〜３０％）を有するように構成されている。この開口部２１１ａは、上方から基板２０１を見た平面図である図２に示すように、画素Ｇに１箇所ずつ形成されていてもよいが、画素毎に複数の開口部が設けられていても構わない。
【００２６】
反射層２１１の上には、上記開口部２１１ａを避けるように、厚さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の透光層２１４が部分的に形成される。この透光層２１４は、可視光領域において透光性を有するものであるが、特に可視光線に対して透明、例えば可視光領域において平均透過率が７０％以上で波長分散が小さい（例えば透過率の変動が１０％以下）ものであることが好ましい。なお、透光層２１４を形成する材料については後述する。
【００２７】
透光層２１４の上には、例えば原色系のカラーフィルタの場合には、Ｒ（赤）、Ｒ（緑）及びＢ（青）の３色からなる厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂが、例えば公知のストライプ配列、デルタ（トライアングル）配列、ダイヤゴナル配列などの適宜の配列態様（図２にはストライプ配列のカラーフィルタを示す）で画素Ｇ毎に配列されている。ここで、画素Ｇの間には、着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂが相互に重ね合わされて遮光性を呈する重ね遮光部２１２ＢＭが形成される。各着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂにおいては、重ね遮光部２１２ＢＭの部分を除いて基本的に表面がほぼ平面に構成されている。
【００２８】
上記着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂ及び重ね遮光部２１２ＢＭの上には、透明樹脂などからなる保護層２１２ｐが形成される。この保護層２１２ｐは、着色層を工程中の薬剤などによる腐食や汚染から保護するとともに、カラーフィルタ２１２の表面を平坦化するためのものである。
【００２９】
カラーフィルタ２１２の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などの透明導電体からなる透明電極２１３が形成される。この透明電極２１３は、本実施形態においては複数の並列したストライプ状に形成された透明電極２２１に対して直交する方向に伸び、透明電極２１３と透明電極２２１（図２に一点鎖線で示す）との交差領域内に含まれる液晶表示パネル２００の構成部分（反射層２１１、カラーフィルタ２１２、透明電極２１３、液晶２０４及び透明電極２２１における上記交差領域内の部分）が画素Ｇを構成するようになっている。
【００３０】
本実施形態においては、透光層２１４が形成されていることにより、各着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂにおいて透光層２１４が形成されていない非形成領域、すなわち反射層２１１の開口部２１１ａと平面的に重なる領域に着色層の一部が入り込むように構成され、これによって他の部分よりも厚肉に形成された厚肉部２１２ＴＨが設けられている。
【００３１】
一方、基板２０２の内面上には透明電極２２１が形成され、対向する基板２０１上の透明電極２１３と交差するように構成されている。なお、基板２０１上の透明電極２１３上、及び、基板２０２上の透明電極２２１の上には、配向膜や硬質透明膜などが必要に応じて適宜に形成される。
【００３２】
また、基板２０２の外面上には位相差板（１／４波長板）２０５及び偏光板２０６が順次配置され、基板２０１の外面上には位相差板（１／４波長板）２０７及び偏光板２０８が順次配置される。
【００３３】
以上のように構成された液晶表示パネル２００は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に設置される場合、その背後にバックライト２０９が配置された状態で取り付けられる。この液晶表示パネル２００においては、反射型表示がなされる場合には外光が反射経路Ｒに沿って通過して使用者に視認され、透過型表示がなされる場合にはバックライト２０９からの照明光が透過経路Ｔに沿って通過して使用者に視認される。このとき、反射経路Ｒにおいては、光はカラーフィルタ２１２の着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂを往復で２回通過する。これに対し、透過経路Ｔにおいては、光は反射層２１１の開口部２１１ａを通る。よって、透過光は着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂの厚肉部２１２ＴＨを通過することとなるので、その結果、透過型表示における彩度を向上させることができる。
【００３４】
すなわち、カラーフィルタ２１２における反射層２１１の開口部２１１ａに対して平面的に重なる位置に厚肉部２１２ＴＨを形成することにより、反射型表示の明るさを損なうことなく、透過型表示の彩度を向上させることが可能となる。特に、反射型表示と、透過型表示との間の色彩の相違を従来よりも低減させることができる。
【００３５】
ここで、厚肉部２１２ＴＨの厚さは、着色層がほぼ均一に形成されている場合には、反射層２１１と平面的に重なる部分、すなわちその他の部分の厚さのほぼ２倍であることが好ましい。より具体的には、１．４倍〜３．０倍の範囲内であることが好ましく、１．７倍〜２．５倍の範囲内であることが好ましい。このようにすると、反射型表示の彩度と、透過型表示の彩度との差異をさらに低減して両表示間の色彩の相違をさらに低減できる。
【００３６】
また、透光層２１４を部分的に形成することによりカラーフィルタ２１２に厚肉部２１２ＴＨを設けているので、カラーフィルタ２１２の着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂの表面（図示上面）を平坦に形成することが可能となり、液晶表示パネルの表示品位を高めることができる。
【００３７】
［厚肉部の形成］
次に、上述の厚肉部２１２ＴＨの構成及び形成方法について説明する。図１に示されるように、厚肉部２１２ＴＨは、反射層２１１の開口部２１１ａに対応する領域に形成される。実際には、厚肉部２１２ＴＨはカラーフィルタ２１２の各色の着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂを形成する工程によって同時に形成される。より詳しくは、所定の色相を呈する顔料や染料などを分散させてなる着色された感光性樹脂（感光性レジスト）を、反射層２１１及び透光層２１４の形成後の基板１０１上に塗布し、所定パターンにて露光、現像を行ってパターニングすることにより、各着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｇが順に形成される。
【００３８】
しかし、反射層２１１及び透光層２１４の形成後は、反射層２１１及び透光層２１４の形成された領域（即ち、反射型表示を行うための反射表示領域）と、それらが形成されていない領域（即ち、開口部２１１ａに対応する領域であり、透過型表示を行うための透過表示領域）とでは、層厚が異なっており、基板１０１上には小さな凹凸ができている。よって、この上にカラーフィルタを形成するために使用される上記の感光性レジストを塗布すると、反射層２１１及び透光層２１４が形成されていない凹部（透過表示領域に対応する）に感光性レジストが十分に入り込みにくい傾向がある。その結果、実際には厚肉層２１２ＴＨが十分な厚さに形成されず、透過型表示における彩度が依然として不十分となるという問題が生じる。
【００３９】
そこで、本発明では以下に述べる３つの方法により、厚肉部２１２ＴＨを十分な厚さに形成することを可能とする。
【００４０】
（第１の方法）
第１の方法は、図３（ａ）に模式的に示すように、透光層２１４を親水性材料により形成する方法である。カラーフィルタの形成に使用する感光性レジストは親油性を有するので、透光層２１４を親水性材料により形成すれば、基板２０１上に塗布したときに感光性レジストが透光層２１４とはじき合い、透光層２１４上に滞留しにくくなる。その結果、感光性レジストが透光層２１４上からはじかれて透光層２１４が形成されていない透過表示領域に流れやすくなる。透過表示領域の表面は透光層２１４で覆われておらず、基板２０１の上面がそのまま露出されているので、透光層２１４ではじかれた感光性レジストが透過表示領域に流れ込み、そこに溜まることにより十分な量の感光性レジストを透過表示領域に塗布することができるようになる。こうして、厚肉部２１２ＴＨを十分な厚さに形成することが可能となる。透光層２１４を構成するための親水性樹脂としては、例えばゼラチン、カゼイン、フィッシュグリュー、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。
【００４１】
また、親水性を有しない樹脂であっても、他の物質との親和性が低く、感光性レジストをはじいて透光層２１４上に滞留しにくくする特性を有する樹脂により透光層２１４を形成すれば、同様の効果を得ることができる。そのような樹脂としては、例えばフッ素樹脂などが挙げられる。
【００４２】
（第２の方法）
第２の方法は、透光層２１４を親水性とする点で第１の方法と同様であるが、親水性樹脂により透光層２１４を形成するのではなく、紫外線（ＵＶ）照射により透光層２１４を親水化する方法である。
【００４３】
電子デバイス製造の微細加工や薄膜形成プロセスのＵＶ洗浄により知られるように、ＵＶ照射により物質を親水化することができる。ＵＶ照射による親水化の原理はおよそ以下のようなものである。
【００４４】
物質が電磁波から受けるモル当たりのエネルギーは、紫外線の２５４ｎｍと１８５ｎｍでそれぞれ１１３kcal/molと１５５kcal/molであり、一方、ほとんどの有機物の化学結合エネルギーはこれよりも小さいので、ＵＶを照射すると有機物の結合を切断することができる。照射面の有機物は有機化合物のフリーラジカルや励起状態の分子に変化する。紫外線１８５ｎｍは大気中の酸素に吸収されてオゾン（Ｏ3）を発生し、このオゾンに紫外線２５４ｎｍが吸収されると励起状態の酸素原子が生成される。励起状態の酸素原子は強力な酸化力を持ち、先の有機化合物のフリーラジカルや励起状態の分子と反応してＣＯ2やＨ2Ｏのような物質になって揮発除去され、基板の海面では、＝ＣＯ（カルボニル基）や−ＣＯＯＨ（カルボキシル基）などの親水性を有するようになる。
【００４５】
本発明においては、図３（ｂ）に模式的に示すように、反射層２１１及び透光層２１４が形成された後の基板２０１上にＵＶ光線を照射する。その際、親水化したい領域は透光層２１４が形成されている反射表示領域のみであるので、反射表示領域のみにＵＶ光線が照射され、透過表示領域にはＵＶ光線が照射されないようにする必要がある。この１つの方法は図３（ｂ）に示すように、ＵＶ光線を基板２０１に対して所定の入射角θをもって照射する方法である。基板２０１上に形成された反射層２１１及び透光層２１４の合計の層厚をｈ、透光層が２１４が形成された領域の幅をａとすると、入射角θについては、
ｔａｎθ＞ｈ／ａ
の条件下でＵＶ光線を照射すれば、透過表示領域にはＵＶ光線は照射されず、反射表示領域の透光層２１４の部分のみにＵＶ光線を当てて親水化することができる。また、透光層２１４の部分のみにＵＶ光線を当てる別の方法としては、透過表示領域をマスクした状態で基板２０１の全領域に対してＵＶ光線を照射する方法もある。
【００４６】
（第３の方法）
一方、第３の方法は、上記第１及び第２の方法とは考え方を逆にし、カラーフィルタ形成において使用する感光性レジストを親水性材料とする方法である。透光層２１４を構成する樹脂としてアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの親油性樹脂が使用される場合には、カラーフィルタ形成において使用する感光性レジストに親水性の染料を利用すれば、感光性レジストが透光層２１４上に滞留しにくくなり、その結果、透過表示領域に感光性レジストが流れ込んで透過表示領域に十分な層厚の着色層を形成することが可能となる。
【００４７】
本発明では、上記のいずれかの方法により、カラーフィルタ形成において使用する感光性レジストを透過表示領域に十分な厚さで塗布し、それにより厚肉部２１２ＴＨを十分な厚さに形成することを可能とする。
【００４８】
［カラーフィルタ基板の製造方法］
次に、本発明によるカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
【００４９】
（第１の方法）
まず、上述の第１の方法を利用する場合のカラーフィルタ基板の製造方法について図４を参照して説明する。
【００５０】
基板２０１の表面上には、最初にアルミニウム、アルミニウム合金、銀合金、クロムなどの金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜し、これをフォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることによって図４（ａ）に示すように開口部２１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射層２１１を形成する。
【００５１】
次に、図４（ｂ）に示すように、反射層２１１の開口部２１１ａの直上領域を除く部分に厚さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の透光層２１４を形成する。この透光層２１４は、例えば基板２０１及び反射層２１１の表面上に全面的に形成した後、フォトリソグラフィー法などによって開口部２１１ａに対応する部分（透過表示領域）を選択的に除去することによって、形成できる。
【００５２】
次に、図４（ｃ）に示すように、所定の色相を呈する顔料を分散させてなる着色された感光性樹脂（感光性レジスト）を塗布し、所定パターンにて露光、現像をしてパターニングを行うことにより、厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂを順に形成していく。ここで、各着色層は画素間領域において相互に重なるようにパターニングが行われ、複数（図示の例では３つ）の着色層が重なった重ね遮光層２１２ＢＭが形成される。
【００５３】
着色層の形成工程では、感光性レジストとしてレベリング性の高い材料を用い、これをスピンコーティング法などの平坦性を得やすい方法で塗布する。この際に透光層２１４を形成する樹脂としては前述のような親水性樹脂もしくはフッ素樹脂など、カラーフィルタ層を形成する際に使用する感光性レジストとの親和性が小さく、感光性レジストをはじく性質を有する樹脂を使用することにより、透光層２１４が形成されていない透過表示領域内へも感光性レジストが十分に入り込む。こうして形成された各着色層においては、透光層２１４が形成されているので、各画素において透光層２１４の非形成領域である透過表示領域（開口部２１１ａに対応）に厚肉部２１２ＴＨが適切な層厚で形成される。
【００５４】
このようにして形成されたカラーフィルタ基板上には、図１に示す保護層２１２ｐが形成されて、その表面がほぼ平坦とされる。
【００５５】
（第２の方法）
次に、第２の方法を利用する場合のカラーフィルタ基板の製造方法について図５を参照して説明する。
【００５６】
第２の方法においては、図５（ａ）に示すように基板２０１上に反射層を形成し、さらに図５（ｂ）に示すようにその上に透光層２１４を形成するまでは、図４を参照して説明した第１の方法と同様である。但し、透光層２１４としては、第１の方法の場合のように親水性樹脂を用いてもよいが、必ずしもその必要はなく、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などを用いることもできる。
【００５７】
そして、そのようにして形成された透光層２１４の上に図５（ｃ）に示すようにＵＶ光線を照射して透光層２１４の表面を親水化する。この際、透光層２１４の表面のみにＵＶ光線を照射する方法は、前述のように透過表示領域にＵＶ光線が照射されないようにＵＶ光線の照射角を調整する方法や、透過表示領域をマスクしてからＵＶ光線を照射する方法などがある。
【００５８】
ＵＶ光線の照射により透光層２１４が親水化されると、その後は第１の方法の場合と同様に、所定の色相を呈する顔料を含む感光性レジストを透過表示領域及び反射表示領域の全体に塗布し、パターニングしてカラーフィルタの着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂ及び重ね遮光層２１２ＢＭを形成する（図５（ｄ））。ＵＶ光線の照射により透光層２１４が親水化した後に感光性レジストを塗布するので、感光性レジストが透光層２１４上に滞留しにくくなり、透過表示領域に流れ込んで十分な厚さの厚肉部２１２ＴＨが形成される。さらに、その上に図１に示す保護層２１２ｐが形成されて、その表面がほぼ平坦とされる。こうして、第２の方法を利用してカラーフィルタ基板が形成される。
【００５９】
（第３の方法）
次に、第３の方法を利用する場合のカラーフィルタ基板の製造方法について図４を参照して説明する。
【００６０】
第３の方法は、カラーフィルタの着色層を形成する工程において、使用する感光性レジストに親水性の染料を用いる方法であり、それ以外は基本的に第１の方法と同様である。
【００６１】
即ち、図４（ａ）に示すように、基板２０１上に反射層２１１を形成し、次に図４（ｂ）に示すように反射層２１１の上に透光層２１４を形成する。このとき、透光層は親油性のアクリル樹脂やエポキシ樹脂などを用いる。
【００６２】
そして、親水性の染料を用いた感光性レジストを透過表示領域及び反射表示領域の全体に塗布し、パターニングしてカラーフィルタの着色層２１２ｒ、２１２ｇ、２１２ｂ及び重ね遮光層２１２ＢＭを形成する（図４（ｃ））。感光性レジストが親水性を有するので、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などにより形成された透光層２１４上に感光性レジストが滞留しにくくなり、透過表示領域に流れ込んで十分な厚さの厚肉部２１２ＴＨが形成される。さらに、その上に図１に示す保護層２１２ｐが形成されて、その表面がほぼ平坦とされる。こうして、第３の方法を利用してカラーフィルタ基板が形成される。
【００６３】
［液晶表示パネルの製造方法］
次に、こうして得られたカラーフィルタ基板を用いて、図１に示す液晶表示パネル２００を製造する方法について図６を参照して説明する。図６は、表示パネル２００の製造工程を示す流れ図である。
【００６４】
まず、上記の方法により、適正な厚さの厚肉部２１２ＴＨを含むカラーフィルタが形成された基板２０１が製造され（工程Ｓ１）、さらに保護層２１２ｐに透明導電体をスパッタリング法により被着し、フォトリソグラフィー法によってパターニングすることにより、透明電極２１３を形成する（工程Ｓ２）。その後、透明電極２１３上にポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ３）。
【００６５】
一方、反対側の基板２０２を製作し（工程Ｓ４）、同様の方法で透明電極２２１を形成し（工程Ｓ５）、さらに透明電極２２１上に配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ６）。
【００６６】
そして、シール材２０３を介して上記の基板２０１と基板２０２とを貼り合わせてパネル構造を構成する（工程Ｓ７）。基板２０１と基板２０２とは、基板間に分散配置された図示しないスペーサなどによってほぼ規定の基板間隔となるように貼り合わせられる。
【００６７】
その後、シール材２０３の図示しない開口部から液晶２０４を注入し、シール材２０３の開口部を紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する（工程Ｓ８）。こうして主要なパネル構造が完成した後に、上述の位相差板や偏光板などを必要に応じてパネル構造の外面上に貼着などの方法によって取り付け（工程Ｓ９）、図１に示す液晶表示パネル２００が完成する。
【００６８】
［電子機器］
次に、上記液晶表示パネルを含む液晶装置を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。図７は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示パネル２００と、これを制御する制御手段１２００とを有する。ここでは、液晶表示パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体ＩＣなどで構成される駆動回路２００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０と、を有する。
【００６９】
表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されている。
【００７０】
表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫとともに駆動回路２００Ｂへ供給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００７１】
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の具体例について図８を参照して説明する。
【００７２】
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図８（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ４１は、キーボード４１１を備えた本体部４１２と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部４１３とを備えている。
【００７３】
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図８（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機４２は、複数の操作ボタン４２１のほか、受話口４２２、送話口４２３とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部４２４を備える。
【００７４】
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図８（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図８（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【００７５】
上記実施例に限定されることなく、本発明の電気光学装置としては、パッシブマトリクス型やアクティブマトリクス型の液晶表示パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル）にも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、電気泳動ディスプレイ装置などの電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの構造を示す断面図である。
【図２】図１に示す液晶表示パネルのカラーフィルタ層の構造を示す平面図である。
【図３】本発明により、厚肉部を有するカラーフィルタ層を形成する方法の例を説明する図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法を示す断面図である。
【図５】本発明のカラーフィルタ基板の他の製造方法を示す断面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法の工程図である。
【図７】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図８】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルを適用した電子機器の例を示す図である。
【符号の説明】
２００  液晶表示パネル
２０１、２０２  基板
２０３  シール材
２０９  バックライト
２１１  反射層
２１４  透光層
２１２  カラーフィルタ層
２１２ＢＭ  重ね遮光層
２１２ＴＨ  厚肉部
２１２ｐ  保護層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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