(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層と、ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背面層と、を備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする転写シート。
【請求項２】
前記転写層は重合停止剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の転写シート。
【請求項３】
ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層とを備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記ベースフィルムが紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする転写シート。
【請求項４】
前記転写層は重合停止剤を含有することを特徴とする請求項３に記載の転写シート。
【請求項５】
ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に設けられた光吸収層と、該光吸収層上に剥離可能に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有することを特徴とする転写シート。
【請求項６】
ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた焼成除去可能な光吸収層と、該光吸収層上に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有することを特徴とする転写シート。
【請求項７】
前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項５または請求項６に記載の転写シート。
【請求項８】
前記転写層は重合停止剤を含有することを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれかに記載の転写シート。
【請求項９】
ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背面層を備えることを特徴とする請求項３乃至請求項８のいずれかに記載の転写シート。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフィルム側から所望のパターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去することを特徴としたパターン形成方法。
【請求項１１】
請求項３乃至請求項８のいずれかに記載の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフィルム側から紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収性フィルムを介して所望のパターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去することを特徴としたパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電極パターンを高い精度で形成するための転写シートおよびパターン形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等における電極パターンの形成は、より高い精度で、かつ、低い製造コストで実施可能なことが要求されている。従来、ＰＤＰにおける電極パターンの形成は、導電性粉体を含有するパターン形成用ペーストを用いてスクリーン印刷やオフセット印刷等の印刷法により所定のパターンを形成し、乾燥後に焼成する印刷法等により行われていた。
【０００３】
しかし、上記の印刷法は、工程が簡略であり製造コストの低減が期待されるが、スクリーン印刷法ではスクリーン印刷版を構成するメッシュ材料の伸びによる印刷精度の限界があり、また、形成したパターンにメッシュ目が生じたりパターンのにじみが発生し、パターンの表面状態が悪いという問題がある。また、オフセット印刷法では、印刷回数が進むにつれてパターン形成用ペーストが完全に基板に転写されずにブランケットに残るようになり、層厚やパターンの精度の低下が生じる。したがって、ブランケットの交換を随時行いペーストのブランケット残りを防止してパターン精度を維持する必要があり、このため作業が極めて煩雑であるという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような問題を解消するものとして、電極パターン形成用等の感光性樹脂組成物を用いてベースフィルム上に剥離可能に転写層を設けて転写シートとし、この転写シートを用いて転写層を被転写体に熱転写した後、焼成することにより電極パターン等を形成する方法がある。
【０００５】
しかし、被転写体に熱転写された転写層は、上述のような印刷法により形成された被膜に比べて転写性付与のために樹脂、可塑剤等の有機バインダ成分が多いためゴミが付着しやすく、一度ゴミが付着すると、エアーブロー等によって取り除くことが困難であり、製造歩留の向上に支障を来していた。
【０００６】
このため、転写シートの転写層を被転写体に圧着した後、ベースフィルムを剥離せずに残し、このベースフィルムを介して転写層を露光し、その後、ベースフィルムを剥離して現像し、焼成することにより電極パターンを形成することが考えられる。しかし、上記の転写層は、含有する金属微粉末の作用により、照射された光を反射しやすい性質を示す。転写層での反射で生じた散乱光は、ベースフィルムと転写層との界面に沿って進むことになるが、ここではほとんど酸素が存在しないため、酸素によるラジカルの捕捉が生じることがなく、このため、散乱光による転写層の反応が進行する。したがって、形成された電極パターンの線幅に太りが生じて、精度の高い電極パターンを形成することが困難になる。
【０００７】
本発明は、上述のような事情に鑑みてなされたものであり、高精細な電極パターンの形成が可能な転写シートと、電極パターンを高い精度で簡便に形成するためのパターン形成方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の転写シートは、ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層と、ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背面層と、を備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するような構成とした。
また、本発明の転写シートは、前記転写層が重合停止剤を含有するような構成とした。
本発明の転写シートは、ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層とを備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記ベースフィルムが紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するような構成とした。
【０００９】
また、本発明の転写シートは、前記転写層が重合停止剤を含有するような構成とした。
【００１０】
本発明の転写シートは、ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に設けられた光吸収層と、該光吸収層上に剥離可能に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有するような構成とした。
【００１１】
本発明の転写シートは、ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた焼成除去可能な光吸収層と、該光吸収層上に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有するような構成とした。
【００１２】
また、本発明の転写シートは、前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するような構成とした。
【００１３】
さらに、本発明の転写シートは、前記転写層が重合停止剤を含有するような構成とした。
【００１４】
また、本発明の転写シートは、前記ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背面層を備えるような構成とした。
【００１５】
本発明のパターン形成方法は、上述の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフィルム側から所望のパターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去するような構成とした。
【００１６】
また、本発明のパターン形成方法は、上述の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフィルム側から紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収性フィルムを介して所望のパターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去するような構成とした。
【００１７】
上記のような本発明では、ベースフィルム側から転写シートに照射された光は、ベースフィルムを透過して転写層に到達するが、導電性粉体を含有する転写層等の転写シート内部で反射された散乱光は、転写シート内に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収されるので、ベースフィルムと転写層との界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止される。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
転写シートの第１の実施形態
図１は、本発明の転写シートの一実施形態を示す概略断面図である。図１において、転写シート１はベースフィルム２と、このベースフィルム２上に剥離可能に設けられた転写層３と、さらに、転写層３上に剥離可能に設けられた保護フィルム４とを備えている。転写層３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する。そして、ベースフィルム２および転写層３の少なくとも一方は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する。さらに、転写層３は、重合停止剤を含むものであってもよい。
【００１９】
このような転写シート１は、シート状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状とすることができる。使用するコアは、ごみ発生、紙粉発生を防止するためにＡＢＳ樹脂、塩化ビニル樹脂、ベークライト等で成形されたコア、樹脂を含浸させた紙管等が好ましい。
【００２０】
次に、上記の転写シート１の構成について説明する。
（ベースフィルム）
転写シート１を構成するベースフィルム２は、転写層３を形成するときのインキ組成物に対して安定であり、かつ、転写層３の露光に用いる光に対して透過性を有し、また、柔軟性を有するとともに張力もしくは圧力で著しい変形を生じない材料を使用する。
【００２１】
用いる材料としては、まず、樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンフィルム、エチレンー 酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン- ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルブチラールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフルオライドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレンフィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフィルム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、１，４−ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配合したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを１軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料を用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフィルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせたもの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹脂から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しすることによって作成される複合フィルム等を挙げることができる。また、上記の樹脂フィルムに処理を施したもの、例えば、シリコン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエチレンテレフタレート、シリコン処理ポリプロピレン、コロナ処理ポリプロピレン等を使用してもよい。
【００２２】
ベースフィルム２として、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するものを使用する場合、上述の樹脂に紫外線吸収剤や着色剤を含有させてフィルム成形した樹脂フィルムを使用することができる。
【００２３】
使用する紫外線吸収剤としては、従来公知の紫外線吸収剤を挙げることができ、例えば、アゾ系染料、サリチル酸系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、ベンゾエート系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料、ベンゾトリアゾール系染料、ニッケルチオカーバメイト化合物等、３００〜４５０ｎｍの光を吸収するものがよく、これらの１種または２種以上を使用することができる。また、着色剤としては、従来公知の黒色顔料、黒色染料、赤色顔料、赤色染料、黄色顔料、黄色染料等の１種または２種以上を使用することができる。
【００２４】
ベースフィルム２における紫外線吸収剤や着色剤の含有量は、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で設定することができる。
【００２５】
上記のようなベースフィルム２の厚みは、４〜４００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
【００２６】
（転写層）
転写層３は、導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有するインキ組成物を、ベースフィルム２上にダイレクトグラビアコーティング法、グラビアリバースコーティング法、リバースロールコーティング法、スライドダイコーティング法、スリットダイコーティング法、コンマコーティング法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００２７】
このような転写層３を、紫外線吸収剤、着色剤、重合停止剤の少なくとも１種を含有したものとする場合、紫外線吸収剤や着色剤、重合停止剤を含有させたインキ組成物を塗布、乾燥して形成することができる。
【００２８】
使用する紫外線吸収剤としては、従来公知の紫外線吸収剤のなかで、焼成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存させることのないものであり、例えば、アゾ系染料、サリチル酸系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、ベンゾエート系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料、ベンゾトリアゾール系染料、ニッケルチオカーバメイト化合物等、３００〜４５０ｎｍの光を吸収するものがよく、これらの１種または２種以上を使用することができる。
【００２９】
また、着色剤としては、従来公知の耐火性の黒色顔料、赤色顔料、黄色顔料等を使用することができる。
【００３０】
さらに、重合停止剤は、従来公知の重合停止剤のなかで、焼成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存させることのないものであり、例えば、ハイドロキノン系化合物、チオール系化合物、ニトロ基含有化合物、ニッケルチオカーバメイト化合物等の１種または２種以上を使用することができる。
【００３１】
転写層３における紫外線吸収剤、着色剤、重合停止剤の含有量は、０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５〜３重量％の範囲で設定することができる。
【００３２】
（１）無機成分
導電性粉体としては、Ａｕ粉体、Ａｇ粉体、Ｃｕ粉体、Ｎｉ粉体、Ａｌ粉体、Ａｇ−Ｐｄ粉体等の１種または２種以上を使用することができる。この導電性粉体の形状は、球状、板状、塊状、円錐状、棒状等の種々の形状であってよいが、凝集性がなく分散性が良好な球状の導電性粉体が好ましく、その平均粒径は０．０５〜１０μｍの範囲が好ましい。転写層３における導電性粉体とガラスフリットとの含有割合は、導電性粉末１００重量部に対してガラスフリットが２〜２０重量部、好ましくは２〜１５重量部の範囲とすることができる。
【００３３】
ガラスフリットとしては、例えば、軟化温度が３５０〜６５０℃であり、熱膨張係数α300 が６０×１０-7〜１００×１０-7／℃であるガラスフリットを使用することができる。ガラスフリットの軟化温度が６５０℃を超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、被パターン形成体の耐熱性が低い場合には焼成段階で熱変形を生じることになり好ましくない。また、ガラスフリットの軟化温度が３５０℃未満では、焼成により有機成分が完全に分解、揮発して除去される前にガラスフリットが融着するため、空隙を生じやすく好ましくない。さらに、ガラスフリットの熱膨張係数α300 が６０×１０-7／℃未満、あるいは、１００×１０-7／℃を超えると、被パターン形成体の熱膨張係数との差が大きくなりすぎる場合があり、歪み等を生じることになり好ましくない。このようなガラスフリットの平均粒径は０．１〜１０μｍの範囲が好ましい。このようなガラスフリットとしては、例えばＢｉ2 Ｏ3 、ＺｎＯまたはＰｂＯを主成分とするガラスフリットを使用することができる。
【００３４】
また、転写層３は、無機粉体として酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の無機粉体をガラスフリット１００重量部に対して３０重量部以下の範囲で含有することができる。このような無機粉体は、平均粒径が０．１〜１０μｍの範囲が好ましく、骨材として焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率を制御する作用をなすものである。
【００３５】
（２）有機成分
転写層３に含有される焼成除去可能な感光性樹脂組成物は、少なくともポリマー、モノマーおよび開始剤を含有するものであり、焼成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存させることのないものである。
ポリマーとしては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンの１種以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量体（例えば、東亜合成（株）製Ｍ−５６００）、コハク酸２−メタクリロイルオキシエチル、コハク酸２−アクリロイルオキシエチル、フタル酸２−メタクリロイルオキシエチル、フタル酸２−アクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸２−メタクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸２−アクリロイルオキシエチル、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物等の１種以上からなるポリマーまたはコポリマー、カルボキシル基含有セルロース誘導体等が挙げられる。
【００３６】
また、上記のコポリマーにグリシジル基または水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させたポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３７】
上記のポリマーの分子量は、５，０００〜３００，０００、好ましくは３０，０００〜１５０，０００の範囲である。また、上記のポリマーに他のポリマー、例えば、メタクリル酸エステルポリマー、ポリビニルアルコール誘導体、Ｎ−メチル−２−ピロリドンポリマー、セルロース誘導体、スチレンポリマー等を混合することができる。
【００３８】
感光性樹脂組成物を構成する反応性モノマーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を用いることができる。具体的には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。上記の反応性モノマーは、１種または２種以上の混合物として、あるいは、その他の化合物との混合物として使用することができる。
【００３９】
感光性樹脂組成物を構成する光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられ、これらの光重合開始剤を１種または２種以上使用することができる。
【００４０】
このような感光性樹脂組成物の転写層３における含有量は、上述の無機成分１００重量部に対して３〜５０重量部、好ましくは５〜３０重量部の範囲で設定することができる。感光性樹脂組成物の含有量が３重量部未満であると、転写層３の形状保持性が低く、特に、ロール状態での保存性、取扱性に問題を生じ、また、転写シート１を所望の形状に切断（スリット）する場合に無機成分がごみとして発生し、プラズマディスプレイパネル作製に支障を来すことがある。一方、感光性樹脂組成物の含有量が５０重量部を超えると、焼成により有機成分を完全に除去することができず、焼成後の膜中に炭化物が残り品質が低下するので好ましくない。
【００４１】
さらに、上述の感光性樹脂組成物には、添加剤として、増感剤、連鎖移動剤、レベリング剤、分散剤、転写性付与剤、安定剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤、剥離剤等を必要に応じて含有することができる。
【００４２】
転写性付与剤は、転写性、インキ組成物の流動性を向上させることを目的として添加され、例えば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート類、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル類、トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート、トリ−ｎ−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテート等のトリメリット酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアゼテート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルマレート、アセチル−トリ−（２−エチルヘキシル）シトレート、アセチル−トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレート等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコールベンゾエート、トリエチレングリコール−ジ−（２−エチルヘキソエート）、ポリグリコールエーテル等のグリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリセロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸等からなるポリエステル系、分子量３００〜３０００の低分子量ポリエーテル、同低分子量ポリ−α−スチレン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリ−２−エチルヘキシルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリシノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−１，３−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポリエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリアセテート、２−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エステル類を挙げることができる。
【００４３】
また、分散剤、沈降防止剤は、上記の無機粉体の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであり、例えば、リン酸エステル系、シリコーン系、ひまし油エステル系、各種界面活性剤等が挙げられ、消泡剤としては、例えば、シリコーン系、アクリル系、各種界面活性剤等が挙げられ、剥離剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタイプ等が挙げられ、レベリング剤としては、例えば、フッ素系、シリコーン系、各種界面活性剤等が挙げられ、それぞれ適量添加することができる。
【００４４】
また、転写層３形成のために感光性樹脂組成物とともに用いる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等の酢酸エステル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、安息香酸メチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【００４５】
上述のような無機成分と有機成分とを含有し、必要に応じて紫外線吸収剤、着色剤、重合停止剤の少なくとも１種を含有する転写層３の厚みは、５〜２０μｍ、好ましくは５〜１５μｍの範囲で設定することができる。
【００４６】
（保護フィルム）
転写シート１を構成する保護フィルム４は、柔軟で、張力もしくは圧力で著しい変形を生じない材料を使用することができる。具体的には、ポリエチレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメタクリル酸フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルブチラールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフルオライドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレンフィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフィルム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配合したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを１軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料を用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフィルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせたもの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹脂から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しすることによって作成される複合フィルム等を挙げることができる。これらのフィルムのうちで、特に２軸延伸ポリエステルフィルムを使用することが好ましい。また、上記の樹脂フィルムに処理を施したもの、例えば、シリコン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエチレンテレフタレート、メラミン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエチレン、コロナ処理ポリプロピレン、シリコン処理ポリプロピレン等を使用してもよい。
【００４７】
上記のような保護フィルム４の厚みは、４〜４００μｍ、好ましくは６〜１５０μｍの範囲で設定することができる。
【００４８】
このような保護フィルム４を備えた本発明の転写シート１を使用する場合、保護フィルム４を剥離除去した後に転写工程に供することができる。尚、本発明の転写シートは、保護フィルムを備えていないものであってもよい。
【００４９】
転写シートの第２の実施形態
図２は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。図２において、転写シート１１はベースフィルム１２と、このベースフィルム１２上に設けられた光吸収層１５と、この光吸収層１５上に剥離可能に形成された転写層１３と、さらに、転写層１３上に剥離可能に設けられた保護フィルム１４とを備えている。光吸収層１５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層である。また、転写層１３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する。さらに、転写シート１１では、ベースフィルム１２および転写層１３の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であってもよく、また、転写層１３は、重合停止剤を含むものであってもよい。
【００５０】
このような転写シート１１は、上述の転写シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状とすることができる。
【００５１】
次に、上記の転写シート１１の構成について説明する。尚、転写シート１１を構成するベースフィルム１２、転写層１３および保護フィルム１４は、上述の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層３および保護フィルム４と同様であり、ここでの説明は省略する。
【００５２】
（光吸収層）
光吸収層１５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であり、光吸収層１５を形成する材料は、転写層１３を形成するときのインキ組成物に対して安定であり、かつ、ベースフィルム１２に固着され、転写層１３が剥離可能となる材料を使用する。
【００５３】
光吸収層１５に用いることができる有機成分としては、アクリレート樹脂、メタクリレート樹脂、セルロース樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エーテル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂を挙げることができる。また、他の有機成分として、可塑剤、安定剤、消泡剤、レベリング剤等を使用することができる。
【００５４】
光吸収層１５に使用する紫外線吸収剤および着色剤は、上述の転写シート１のベースフィルム２に使用できる紫外線吸収剤および着色剤と同じものを挙げることができ、露光に使用する光源に応じて適宜選択することができる。
【００５５】
光吸収層１５は、上述のような樹脂と紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するインキ組成物を、ベースフィルム１２上にダイレクトグラビアコーティング法、グラビアリバースコーティング法、リバースロールコーティング法、スライドダイコーティング法、スリットダイコーティング法、コンマコーティング法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００５６】
尚、上述の本発明の転写シート１１は、保護フィルム１４を剥離除去した後に転写工程に供することができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを備えていないものであってもよい。
【００５７】
転写シートの第３の実施形態
図３は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。図３において、転写シート２１はベースフィルム２２と、このベースフィルム１２上に剥離可能に設けられた光吸収層２５と、この光吸収層２５上に積層された転写層２３と、さらに、転写層２３上に剥離可能に設けられた保護フィルム２４とを備えている。光吸収層２５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する焼成除去可能な層である。また、転写層２３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する。さらに、転写シート２１では、ベースフィルム２２および転写層２３の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であってもよく、また、転写層２３は、重合停止剤を含むものであってもよい。
【００５８】
このような転写シート２１は、上述の転写シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状とすることができる。
【００５９】
次に、上記の転写シート２１の構成について説明する。尚、転写シート２１を構成するベースフィルム２２、転写層２３および保護フィルム２４は、上述の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層３および保護フィルム４と同様であり、ここでの説明は省略する。
【００６０】
（光吸収層）
光吸収層２５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する焼成除去可能な層であり、光吸収層２５を形成する材料は、転写層２３を形成するときのインキ組成物に対して安定であり、ベースフィルム２２に対して剥離可能な程度の粘着性を有し、転写層２３に対して十分な接着力を有する材料を使用する。
【００６１】
光吸収層２５に用いることができる有機成分としては、アクリレート樹脂、メタクリレート樹脂、セルロース樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エーテル樹脂等の樹脂を挙げることができる。また、他の有機成分として、可塑剤、安定剤、消泡剤、レベリング剤等を使用することができる。
【００６２】
光吸収層２５に使用する紫外線吸収剤および着色剤は、上述の転写シート１の転写層３に使用できる紫外線吸収剤および着色剤を挙げることができ、露光に使用する光源に応じて適宜選択することができる。
【００６３】
光吸収層２５は、上述のような焼成除去可能な樹脂と紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するインキ組成物を、ベースフィルム２２上にダイレクトグラビアコーティング法、グラビアリバースコーティング法、リバースロールコーティング法、スライドダイコーティング法、スリットダイコーティング法、コンマコーティング法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００６４】
尚、上述の本発明の転写シート２１は、保護フィルム２４を剥離除去した後に転写工程に供することができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを備えていないものであってもよい。
【００６５】
転写シートの第４の実施形態
図４は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。図４において、転写シート３１はベースフィルム３２と、このベースフィルム３２上に剥離可能に形成された転写層３３と、転写層３３上に剥離可能に設けられた保護フィルム３４、および、ベースフィルム３２の他方の面に形成された光吸収背面層３６とを備えている。光吸収背面層３６は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層である。また、転写層３３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する。さらに、転写シート３１では、ベースフィルム３２および転写層３３の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であってもよく、また、転写層３３は、重合停止剤を含むものであってもよい。
【００６６】
このような転写シート３１は、上述の転写シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状とすることができる。
【００６７】
上記の転写シート３１を構成するベースフィルム３２、転写層３３および保護フィルム３４は、上述の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層３および保護フィルム４と同様のものとすることができ、ここでの説明は省略する。
【００６８】
また、転写シート３１を構成する光吸収背面層３６は、転写層３３を露光するために照射された光の強度を、転写層３３を露光するには十分な強度で、転写層３３内の反射で生じた散乱光による照射部位外の露光を防止できる程度の強度に弱めるためのものである。この光吸収背面層３６は、上述の転写シート１１を構成する光吸収層１５の説明で挙げたような樹脂と紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するインキ組成物を用いて、公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成することができる。
【００６９】
尚、上述の本発明の転写シート３１は、保護フィルム３４を剥離除去した後に転写工程に供することができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを備えていないものであってもよい。また、転写シート３１のベースフィルム３２と転写層３３との間に、上述の光吸収層１５と同様の光吸収層を設け、転写層３３をこの光吸収層に対して剥離可能としてもよく、あるいは、転写シート３１のベースフィルム３２に対して剥離可能に上述の光吸収層２５と同様の光吸収層を設け、この光吸収層上に転写層３３を積層してもよい。
【００７０】
パターン形成方法の第１の実施形態
次に、本発明のパターン形成方法を、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の電極パターン形成を例として説明する。
【００７１】
ここで、電極パターン形成を説明する前に、ＡＣ型のＰＤＰについて説明する。
図５はＡＣ型ＰＤＰを示す概略構成図であり、前面板と背面板を離した状態を示したものである。図５において、ＰＤＰ５１は前面板６１と背面板７１とが互いに平行に、かつ対向して配設されており、背面板７１の前面側には、立設するように障壁７６が形成され、この障壁７６によって前面板６１と背面板７１とが一定間隔で保持される。前面板６１は、前面ガラス基板６２を有し、この前面ガラス基板６２の背面側に透明電極である維持電極６３と金属電極であるバス電極６４とからなる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層６５が形成されており、さらにその上にＭｇＯ層６６が形成されている。また、背面板７１は、背面ガラス基板７２を有し、この背面ガラス基板７２の前面側には下地層７３を介して上記複合電極と直交するように障壁７６の間に位置してアドレス電極７４が互いに平行に形成され、また、これを覆って誘電体層７５が形成されており、さらに障壁７６の壁面とセルの底面を覆うようにして蛍光体層７７が設けられている。このＡＣ型ＰＤＰでは、前面ガラス基板６２上の複合電極間に交流電源から所定の電圧を印加して電場を形成することにより、前面ガラス基板６２と背面ガラス基板７２と障壁７６とで区画される表示要素としての各セル内で放電が行われる。そして、この放電により生じる紫外線により蛍光体層７７が発光させられ、前面ガラス基板６２を透過してくるこの光を観察者が視認するようになっている。
【００７２】
尚、図５に示されるＡＣ型ＰＤＰでは、下地層７３を介して背面ガラス基板７２上にアドレス電極７４等が設けられているが、下地層７３を形成しないものであってもよい。
【００７３】
次に、上述のＰＤＰの背面板７１におけるアドレス電極７４の形成を説明する。
図６は、上述の本発明の転写シート１を用いたアドレス電極７４のパターン形成を説明するための工程図である。尚、この場合の転写シート１の転写層３は、焼成除去可能な感光性樹脂組成物としてネガ型の感光性樹脂組成物を含有するものとする。
【００７４】
図６において、まず、下地層７３が設けられた背面ガラス基板７２（下地層７３が設けられていない背面ガラス基板７２に直接でもよい）に転写シート１の転写層３側を圧着する（図６（Ａ））。この転写層３の圧着において加熱が必要な場合、背面ガラス基板７２の加熱、圧着ロール等により加熱を行ってもよい。
【００７５】
次に、電極パターン用のフォトマスクＭを介し、ベースフィルム２側から転写層３を露光する（図６（Ｂ））。本発明のパターン形成方法では、フォトマスクＭを介して照射された光は、ベースフィルム２を透過して転写層３に到達するが、転写層３で反射されて生じた散乱光は、転写層３に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収され、あるいは、ベースフィルム２に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収されるので、散乱光がベースフィルム２と転写層３との界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止される。また、転写層３に重合停止剤が含有される場合、仮に照射部位の外に散乱光が拡散しても、散乱光程度の光量では、重合停止剤によって転写層３の感光性樹脂組成物の重合反応が抑制される。したがって、ベースフィルム２を剥離せず残した状態で、ベースフィルム２側から転写層３の露光を行っても、露光パターンに忠実な高精細な露光が可能となる。また、露光時に存在するベースフィルム２が外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するので、ベースフィルムを剥離した状態での露光に比べ、露光に要する時間を大幅に短縮することができる。
【００７６】
さらに、本発明のパターン形成方法では、このようにベースフィルム２を剥離することなく残したままで露光を行うので、上記の圧着工程から露光工程までの間に、粘着性の高い転写層３に直接ゴミが付着することが防止され、また、ベースフィルム２上に付着したゴミはエアーブロー等により容易に取り除くことができ、ゴミ付着による欠陥発生が防げるとともに、露光時に使用するフォトマスクＭへのゴミ、汚れ付着も防止できる。
尚、露光においては、フォトマスクＭをベースフィルム２に密着してもよく、図示例のように所定の間隙を設けて配設してもよい。
【００７７】
次いで、ベースフィルム２を剥離し、転写層３を現像することにより、導電性の感光性樹脂層からなるパターン３´を下地層７３上に形成し（図６（Ｃ））、その後、焼成してパターン３´の有機成分を除去することにより、アドレス電極パターン７４を形成する（図６（Ｄ））。
【００７８】
上述の例では、図１に示されるような本発明の転写シートが使用されているが、図２乃至図４に示される転写シート１１、２１、３１のいずれを使用しても、同様の操作により電極パターン形成を行うことが可能である。
【００７９】
パターン形成方法の第２の実施形態
図７は、上述の本発明の転写シート１を用いたアドレス電極７４のパターン形成を説明するための工程図である。尚、この場合の転写シート１の転写層３は、焼成除去可能な感光性樹脂組成物としてネガ型の感光性樹脂組成物を含有するものとする。
【００８０】
図７において、まず、下地層７３が設けられた背面ガラス基板７２に転写シート１の転写層３側を圧着する（図７（Ａ））。この転写層３の圧着において加熱が必要な場合、背面ガラス基板７２の加熱、圧着ロール等により加熱を行ってもよい。
【００８１】
次に、ベースフィルム２上に光吸収性フィルム４１と電極パターン用のフォトマスクＭを配設し、ベースフィルム２側から転写層３を露光する（図７（Ｂ））。光吸収性フィルム４１は、照射された光の強度を、転写層３を露光するには十分であるが、転写層３内の反射で生じた散乱光による照射部位外の露光を抑制する程度に弱めるためのものである。このような光吸収性フィルム４１は、紫外線吸収剤や着色剤を含有した熱可塑性樹脂を用いてフィルム成形することにより形成することができる。使用できる樹脂材料、紫外線吸収剤、着色剤等は、上述の転写シート１のベースフィルム２の説明で記載した各材料を挙げることができる。光吸収性フィルム４１の厚み、含有される紫外線吸収剤や着色剤の量は、露光に使用する光源、転写層３に含有される感光性樹脂組成物等を考慮して適宜設定することができる。
【００８２】
上述のような露光では、フォトマスクＭを介して照射された光は、光吸収性フィルム４１、ベースフィルム２を透過して転写層３に到達し、転写層３で反射により散乱光が生じても、この散乱光により照射部位外の転写層３が露光されることはない。また、上述のパターン形成方法と同様に、散乱光がベースフィルム２と転写層３との界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止される。また、露光時に存在するベースフィルム２が外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するので、ベースフィルムを剥離した状態での露光に比べ、露光に要する時間を大幅に短縮することができる。
【００８３】
さらに、本発明のパターン形成方法では、上述のパターン形成方法と同様に、ゴミ付着による欠陥発生を防げるとともに、露光時に使用するフォトマスクＭへのゴミ、汚れ付着も防止できる。
【００８４】
尚、露光においては、フォトマスクＭを光吸収性フィルム４１に密着してもよく、図示例のように所定の間隙を設けた配設してもよい。
【００８５】
次いで、ベースフィルム２を剥離し、転写層３を現像することにより、導電性の感光性樹脂層からなるパターン３´を下地層７３上に形成し（図７（Ｃ））、その後、焼成してパターン３´の有機成分を除去することにより、アドレス電極パターン７４を形成する（図７（Ｄ））。
【００８６】
上述の例では、図１に示されるような本発明の転写シートが使用されているが、図２および図３に示される転写シート１１、２１を使用しても、同様の操作により電極パターン形成を行うことが可能である。
【００８７】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
【００８８】
［実施例１］
（１）材料の準備
（ベースフィルム）
ベースフィルムとして、厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製Ｔ−６０）を準備した。
【００８９】
（転写層形成用インキ組成物）
転写層形成用のインキ組成物Ａとして、紫外線吸収剤を含有した下記組成の感光性樹脂組成物を調製した。
0004317288.tif 000002
【００９０】
また、転写層形成用のインキ組成物Ｂとして、紫外線吸収剤を含有しない下記組成の感光性樹脂組成物を調製した。
転写層形成用インキ組成物Ｂ
・銀粉（球形状、平均粒径１μｍ）                  …    ９５重量部
・ガラスフリット                                  …      ５重量部
（主成分：Ｂｉ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，Ｂ2 Ｏ3 （無アルカリ）平均粒径＝１μｍ、熱膨張係数＝７８×１０-7／℃、軟化点＝５００℃）
・ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシプロピルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（グリシジルメタクリレート付加）
（分子量＝８万、酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）    …    １３重量部
・ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート    …    １０重量部
・光重合開始剤（チバガイギ社製イルガキュア３６９）…  １．５重量部
・３−メトキシブチルアセテート                    …    ２０重量部
【００９１】
（光吸収層用インキ組成物）
光吸収層形成用のインキ組成物として、紫外線吸収剤を含有した下記組成の感光性樹脂組成物を調製した。
光吸収層形成用インキ組成物
・ポリメチルメタクリレート                        …  １００重量部
・紫外線吸収剤                                    …      ３重量部
（共同薬品（株）製バイオソープ５８０）
・メチルエチルケトン                              …    ５０重量部
・トルエン                                        …    ５０重量部
【００９２】
（２）転写シートの作製
上記の各材料を下記の表１に示す組み合わせで使用し、下記の２種の層構成Ｉ、IIからなる転写シート（試料１〜３）を作製した。
層構成Ｉ  ：ベースフィルム／転写層／保護フィルム
（ベースフィルムと転写層間で剥離）
層構成II  ：ベースフィルム／光吸収層／転写層／保護フィルム
（ベースフィルムと光吸収層間で剥離）
【００９３】
ベースフィルム上への転写層（厚み１０μｍ）の形成は、転写層形成用のインキ組成物をブレードコート法により塗布し乾燥（１００℃、１０分間）することにより行った。
【００９４】
また、ベースフィルム上への光吸収層（厚み５μｍ）の形成は、光吸収層形成用のインキ組成物をブレードコート法により塗布し乾燥（８０℃、５分間）することにより行った。
【００９５】
また、保護フィルムとしては、シリコン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（東セロ（株）製ＳＰ−ＰＥＴ−０３−２５−Ｃ）を転写層上にラミネートして設けた。
【００９６】
（３）電極パターンの形成
次いで、上記の各転写シート（試料１〜３）を所定の幅にスリットし、保護フィルムを剥離した後、６０℃に加温したガラス基板上に旭化成工業（株）製ラミネータＡＬ−７００を用いて６０℃の熱ロールで圧着した。次に、室温まで冷却した後、プラズマディスプレイパネルの電極のネガパターンマスク（開口部線幅１２０μｍ）を介して紫外線（光源：超高圧水銀ランプ）を照射（５０ｍＪ／ｃｍ2 ）して転写層を露光した。
【００９７】
次いで、ベースフィルムを剥離して転写層をガラス基板に転写した。この転写工程において、層構成Ｉの転写シートを使用した場合は、転写層のみがガラス基板上に転写され、層構成IIの転写シートを使用した場合は、転写層と光吸収層とがガラス基板上に転写された。
【００９８】
次いで、０．５％炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像し、所定のパターンを得た。その後、ガラス基板を５５０℃で焼成して、電極パターンを形成した。
【００９９】
このように形成された電極パターンの厚み、線幅を測定して、下記の表１に示した。
【０１００】
【表１】
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表１に示されるように、本発明の転写シート（試料１、２）を用いて形成した電極パターンは、厚み、線幅が均一であり、高い精度で形成されていることが確認された。
【０１０１】
これに対して、比較の転写シート（試料３）を用いて形成した電極パターンは、パターンの太りが発生して直線性の悪いものであった。
【０１０２】
［実施例２］
実施例１で作製した本発明の転写シート（試料１）を使用し、ベースフィルムを剥離せずに残した状態で紫外線の照射量を５０ｍＪ／ｃｍ2 として転写層を露光し、実施例１と同様にして電極パターンを形成した。形成した電極パターンは、厚みが４±１μｍ、線幅が１００±５μｍで均一な高精度のパターンであった。
【０１０３】
また、比較として、実施例１で作製した本発明の転写シート（試料１）を使用し、保護フィルムを剥離した後、６０℃に加温したガラス基板上に旭化成工業（株）製ラミネータＡＬ−７００を用いて６０℃の熱ロールで圧着した。次に、室温まで冷却した後、ベースフィルムを剥離して転写層をガラス基板に転写した。
【０１０４】
次に、プラズマディスプレイパネルの電極のネガパターンマスク（開口部線幅１２０μｍ）を介して紫外線（光源：超高圧水銀ランプ）を種々の照射量で照射して転写層の露光を行った。
【０１０５】
次いで、０．５％炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像し、所定のパターンを得た。その後、ガラス基板を５５０℃で焼成して、電極パターンを形成した。
【０１０６】
このように形成された比較の電極パターンの厚み、線幅を測定した結果、本発明にしたがってベースフィルムを剥離せずに残した状態で転写層を露光した場合と同様の厚み、線幅が均一な電極パターンを形成するためには、２５０ｍＪ／ｃｍ2 の照射量が必要であった。このことから、本発明のパターン形成方法により、露光に要する時間を大幅に短縮できることが確認された。
【０１０７】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば転写シートは、ベースフィルム側から照射された光を透過して転写層に到達させるが、導電性粉体を含有する転写層等の転写シート内部での反射により生じた散乱光を、転写シート内に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収するので、散乱光がベースフィルムと他の層との界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止され、これにより、転写シートの転写層を基板に圧着し、ベースフィルムを剥離せずに残した状態でベースフィルム側から転写層の露光を行っても、露光パターンに忠実な高精細な露光が可能となり、かつ、露光時に存在するベースフィルムが外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するので、露光に要する時間が大幅に短縮でき、同時に、従来、転写工程から露光工程までの間に発生していた転写層へのゴミ付着が防止され、ゴミ付着による欠陥発生が防止できるとともに、露光時に使用するフォトマスクへのゴミ、汚れ付着も防止でき、工程管理および効率が大幅に向上し、高精細な電極パターンを高い精度で形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の転写シートの一実施形態を示す概略断面図である。
【図２】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。
【図３】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。
【図４】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略断面図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの一例を示す概略構成図である。
【図６】本発明のパターン形成方法の一実施形態を説明するための工程図である。
【図７】本発明のパターン形成方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
【符号の説明】
１，１１，２１，３１…転写シート
２，１２，２２，３２…ベースフィルム
３，１３，２３，３３…転写層
４，１４，２４，３４…保護フィルム
１５，２５…光吸収層
３６…光吸収背面層
４１…光吸収性フィルム
５１…プラズマディスプレイパネル
６１…前面板
７１…背面板
７４…アドレス電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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