(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続支持体を可及的に水平状態に維持する押さえフリーロールを配置した前記連続支持体上に設けた樹脂層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開し硬化処理して前記樹脂層上に直接又は別個の重畳層を介して密着した硬化シートを形成し、その硬化シートを当該樹脂層と共に支持体より剥離回収することを特徴とするエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項２】
請求項１において、押さえフリーロールが連続支持体具備の製造装置内に一体化されてなるエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項３】
請求項１又は２において、押さえフリーロールが連続支持体の外側に設けた取付ステーを介して配置されてなるエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項４】
請求項１〜３において、押さえフリーロールの配置位置を連続支持体の幅方向の端部と一致させてなるエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項５】
請求項１〜４において、押さえフリーロールがポリテトラフルオロエチレン又はオーステナイト系ステンレス鋼からなるエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項６】
請求項１〜５において、押さえフリーロールの幅が連続支持体の幅の１０％以下であるエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項７】
請求項３〜６において、押さえフリーロールの取付ステーがステンレス鋼からなるエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項８】
請求項１〜７において、連続支持体が押さえフリーロールとの接点位置を基準に鉛直下方に１５mm以内で可動しうるものであるエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項９】
請求項１〜８において、連続支持体がエンドレスベルトであるエポキシ系樹脂シートの連続製造法。
【請求項１０】
請求項１〜９において、幅方向の厚さ精度が±１０％以内にあるエポキシ系樹脂シートを得る連続製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、厚さ精度と光学特性に優れて液晶セル基板などに好適なエポキシ系樹脂シートの量産性に優れる連続製造法に関する。
【０００２】
【発明の背景】
エポキシ系樹脂の塗工液をエンドレスベルトからなる連続支持体上に直接展開して硬化シートとした場合、その硬化シートが支持体に強く接着して剥離回収の際に亀裂や残留歪み等の損傷が発生して光学用のシートを得ることが困難であることに鑑み、支持体上に先ず易剥離性の樹脂層を形成しその上にエポキシ系樹脂の硬化シートを形成して当該樹脂層と共に剥離回収する方法を開発し先に出願した。
【０００３】
前記において塗工液の展開は、自重等による撓みに基づく厚さのバラツキを防止するためエンドレスベルトに張力を負荷してその緊張下に行う。しかしその場合にベルト中央部の緊張でベルト端に反りが発生し、そのために得られる硬化シートの幅方向における厚さ精度が低下する問題点があった。前記の反りは通例、ベルト端が反り上がるものであり、そのため得られる硬化シートは幅の中央部で厚く端部で薄いことが一般的である。
【０００４】
【発明の技術的課題】
本発明は、前記の幅方向における厚さのバラツキを抑制して厚さが５００μm以下の薄厚にても厚さ精度に優れるエポキシ系樹脂シート、特に光学特性にも優れて液晶セル基板等に有用なシートを効率よく得られる連続製造法の開発を課題とする。
【０００５】
【課題の解決手段】
本発明は、連続支持体を可及的に水平状態に維持する押さえフリーロールを配置した前記連続支持体上に設けた樹脂層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開し硬化処理して前記樹脂層上に直接又は別個の重畳層を介して密着した硬化シートを形成し、その硬化シートを当該樹脂層と共に支持体より剥離回収することを特徴とするエポキシ系樹脂シートの連続製造法を提供するものである。
【０００６】
【発明の効果】
本発明によれば、上記した樹脂層が支持体よりのスムーズな剥離回収を可能とし、かつエポキシ系樹脂の硬化シート等とは良好な密着力を示して、厚さが５００μm以下の場合にも光学特性や耐熱性に優れると共に、押さえフリーロールを介した支持体の反り、特にその端部の反りの修正で幅方向の厚さ精度にも優れるエポキシ系樹脂シートを簡単な操作を介し連続して効率よく製造することができる。
【０００７】
【発明の実施形態】
本発明による連続製造法は、連続支持体を可及的に水平状態に維持する押さえフリーロールを配置した前記連続支持体上に設けた樹脂層の上に直接又は別個の重畳層を介してエポキシ系樹脂の塗工液をシート状に展開し硬化処理して前記樹脂層上に直接又は別個の重畳層を介して密着した硬化シートを形成し、その硬化シートを当該樹脂層と共に支持体より剥離回収してエポキシ系樹脂シートを得るものである。
【０００８】
前記方法の実施は、樹脂の塗工液とエポキシ系樹脂の塗工液を少なくとも用いて、例えばロールコート法やワイヤバーコート法、エクストルージョンコート法やカーテンコート法、スプレコート法やドクターブレード法などの、エポキシ系樹脂塗工液等を流動展開させてシート状に成形しうる適宜な方式を適用して行うことができる。就中、塗布効率や製造効率などの点より流延法、特にダイを介してエポキシ系樹脂塗工液を流動展開させるエクストルージョンコート法が好ましく適用することができる。
【０００９】
図１に前記のエクストルージョンコート法による連続製造方式の工程例を示した。この方法では先ず、押さえフリーロール７を配置したエンドレスベルト４からなる連続支持体を駆動ドラム５と従動ドラム６を介し矢印方向に例えば０．１〜５０ｍ／分、就中０．２〜５ｍ／分等の一定速度で回転走行させつつ、その上にダイ１１を介し樹脂の塗工液を連続的にシート状に塗布し、その展開層１２を乾燥、あるいは必要に応じ加熱又は光照射などにより硬化処理して皮膜からなる樹脂層１とする。なお図例では、紫外線照射装置１３が配置されている。
【００１０】
次に、前記により支持体上に樹脂層１を順次形成しつつその樹脂層の上に、又はその樹脂層に準じて必要に応じ別個に設けた重畳層２の上にダイ３１を介しエポキシ系樹脂の塗工液を順次塗布してシート状に展開し、その展開層３２を加熱方式や光照射方式等の適宜な硬化装置３３を介し硬化処理して、前記の樹脂層１等と密着した硬化シート３を順次形成しつつ、その硬化シート３を当該樹脂層１等と共に支持体４より回収して目的のエポキシ系樹脂シートが連続製造される。
【００１１】
前記の方法によれば、エポキシ系樹脂シートを簡単な一連の操作を介し連続製造できて量産性に優れており、支持体４の上に最初に形成する樹脂層１が、得られたエポキシ系樹脂シートを連続支持体より容易に効率よく剥離回収することを可能にする。
【００１２】
また連続支持体４の幅方向の両端部に配置した押さえフリーロール７が駆動及び従動のドラム５，６を介し引張って緊張状態とした連続支持体の端部における反りを重さにより修正して連続支持体を水平状態に維持し、幅方向を含めて厚さの均一性に優れるエポキシ系樹脂シートを得ることを可能にする。さらに支持体を介した展開層の移動速度の調節で量産速度を容易に制御でき、その移動速度や塗工液展開量の調節で得られるエポキシ系樹脂シートの厚さも容易に制御することができる。
【００１３】
前記において連続支持体としては、エンドレスベルトの如きベルト状物や板状物、ドラムなどの、エポキシ系樹脂塗工液を順次連続的に展開でき、その展開層を支持してシート状に維持できる適宜な連続面を有するものを用いうる。支持体を形成する材質は、エポキシ系樹脂の硬化処理に耐えるものであればよく、従って例えばステンレス鋼や銅やアルミニウムの如き金属、ガラス、プラスチックなどの適宜なものであってよい。就中、耐久性などの点よりステンレス鋼が好ましい。
【００１４】
また前記の方法によれば、連続支持体の表面形態を前記の樹脂層を介し良好に転写反映させることができる。従って連続支持体の表面は、形成目的のエポキシ系樹脂シートの表面形態に応じて例えば平滑面、あるいは微細プリズム状や微細レンズ状等の凹凸面などの適宜な形態とすることができる。一般には平滑面とされ、表面粗さＲａが０．０２μm以下の支持体を用いて表面が鏡面状のエポキシ系樹脂シートを得ることも可能である。
【００１５】
本発明においては図例の如く、連続支持体４を緊張状態とすることによる反り、特に端部の反りを修正して連続支持体を可及的に水平状態に維持し、展開層１２，２２，３２等の厚さ、特にその幅方向の厚さを可及的に均一にしてそれを硬化処理することにより優れるエポキシ系樹脂シートの厚さ精度を高めることを目的に押さえフリーロール７が配置される。
【００１６】
押さえフリーロールは、エポキシ系樹脂シートの製造装置とは別体のものとして配置することもできるが、前記した連続支持体を水平状態に維持する制御性などの点よりは連続支持体を具備する製造装置内に一体的に組み込まれていることが好ましい。
【００１７】
前記の場合、押さえフリーロールは、適宜な方式で製造装置内に組み込みうるが、連続支持体の端部における反りの修正対策としては図２に例示した如く、連続支持体４の幅方向の端部の外側に取付ステー７１を介して支持配置する方式が好ましく、また押さえフリーロール７の配置位置を連続支持体４の幅方向の端部と一致させる方式が好ましい。
【００１８】
押さえフリーロールは、連続支持体の水平状態維持性などに応じて連続支持体の表裏における適宜な位置に１個又は２個以上配置することができる。連続支持体の表側（シート形成側）に配置する場合には、幅方向に連続したシートを形成する点より図例の如く連続支持体４の端部に配置することが好ましい。
【００１９】
押さえフリーロールの大きさは、連続支持体の水平維持の点などより適宜に決定しうるが、前記の表側端部に配置する場合には、押さえフリーロールによるシート形成幅の狭小化を抑制する点より連続支持体の幅の１０％以下、就中８％以下、特に５％以下の幅とすることが好ましい。なお押さえフリーロールの幅は、５mm以上、就中１０mm以上、特に１５mm以上あることが連続支持体を安定に水平維持する点などより好ましい。
【００２０】
押さえフリーロールは、適宜な材料にて形成しうるが耐久性などの点よりはポリテトラフルオロエチレン又はオーステナイト系のステンレス鋼からなるものが好ましい。また上記した押さえフリーロールの取付ステーも耐久性などの点よりSUS304の如きステンレス鋼からなることが好ましい。
【００２１】
上記のように押さえフリーロールは、連続支持体の適宜な位置に配置しうるが連続支持体を可及的に水平状態に調節する点よりは、押さえフリーロールとの接点位置を基準に連続支持体が鉛直下方に１〜１５mm、就中２〜１０mmの範囲で可動しうるものであることが好ましい。
【００２２】
本発明において連続支持体上に最初に設ける樹脂層は、得られたエポキシ系樹脂シートを一体的に支持体より容易に剥離できるようにすることを目的する。従ってその樹脂層の形成には、連続支持体と接着しないか、接着してもその接着力が弱くて容易に剥離できるものが用いられる。
【００２３】
前記した樹脂の種類については特に限定はなく、適宜なものを用いうる。ちなみにその例としては、ウレタン系樹脂やアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂やポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体の如きポリビニルアルコール系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹脂、ポリアリレート系樹脂やスルホン系樹脂、アミド系樹脂やイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂やポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂やシリコーン系樹脂、フッ素系樹脂やポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂やビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂などがあげられる。樹脂層の形成には、適宜な樹脂の２種以上のブレンド物なども用いうる。
【００２４】
樹脂層は、エポキシ系硬化シートと密着してそれと共に支持体より剥離回収されてエポキシ系樹脂シートの片側表面層を形成することより、光学用途では透明性等の光学特性に優れるものであることが好ましい。またエポキシ系樹脂シートの表面をコートして傷付きにくくするものが好ましい。かかる易剥離性や光学特性、ハードコート性、特にステンレス系支持体に対する易剥離性などの点より樹脂層の形成に好ましく用いうるものは、ウレタン系樹脂である。
【００２５】
樹脂層の形成は、例えば樹脂を必要に応じ有機溶媒や水等の適宜な溶媒にて溶液化して上記等の適宜な方式で連続支持体の所定面に塗布し、必要に応じそれを乾燥後、加熱処理や光照射等の樹脂に応じた方式にて硬化処理する方式などの適宜な方式にて皮膜化することにより行うことができる。塗工液の粘度は、適宜に決定しうるが、一般には塗工効率などの点より１〜１００ｃＰとされる。
【００２６】
形成する樹脂層の厚さは、適宜に決定しうるが一般には易剥離性や剥離の際にヒビ割れの生じることを防止する点などより、１〜１０μm、就中８μm以下、特に２〜５μmとすることが好ましい。なおウレタン系樹脂等の塗布層を光照射にて硬化処理する場合には、中心波長が３６５nmや２５４nmの高圧や低圧の紫外線ランプを用いることが処理効率などの点より好ましい。
【００２７】
なお樹脂層の形成に際してはその塗工液に、連続支持体よりの剥離性の向上を目的とした例えばエチレンオキサイドを付加した炭素数２５〜１００のエチレンポリマーやパラフィン等の直鎖飽和炭化水素などの適宜な薬剤を配合することができる。
【００２８】
図１に仮装線で示した如くエポキシ系樹脂シートの形成に際しては、樹脂層１の上に必要に応じ別個の重畳層２を設けてその上にエポキシ系樹脂の硬化シート３を設けることができる。図例では前記した樹脂層の形成に準じて、ダイ２１を介し重畳用の塗工液を樹脂層上に順次シート状に展開し、その展開層２２を硬化装置２３を介し皮膜化して重畳層２を形成するようになっている。
【００２９】
樹脂層１とエポキシ系樹脂の硬化シート３の間に必要に応じて設ける前記の重畳層は、例えば耐薬品性や光学的異方性、低吸水性や低透湿性、低酸素透過性等のガスバリア性などの適宜な機能付与を目的とするものであってよい。従って別個に設ける当該重畳層は、１層又は２層以上であってもよい。
【００３０】
ちなみに液晶セルにおいては、水分や酸素がセル基板を透過してセル内に侵入すると液晶の変質や気泡の形成による外観不良、透明導電膜パターンの断線などを発生させるおそれがある。従って液晶セルの場合には、水蒸気や酸素ガスの透過阻止が重要となり、それらガスの透過を阻止しうるガスバリア層を設けたセル基板が好ましく用いられる。
【００３１】
前記のガスバリア層を形成するための塗工液は、目的とするガスの透過を阻止しうる液体化が可能な適宜な材料を用いて調製することができる。一般には水蒸気や酸素ガス等の目的とするガスの透過阻止能に優れる、就中、酸素透過係数が小さい例えばポリビニルアルコールやその部分けん化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体やポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデンなどのポリマー類が用いられる。特にガスバリア性や水分の拡散性ないし吸水度の均一性などの点よりビニルアルコール系ポリマーが好ましく用いうる。
【００３２】
樹脂層上に設けるガスバリア層等の重畳層を形成するための塗工液は、例えば１種又は２種以上の形成材料を必要に応じ溶媒を併用して、ポリマー溶液の如く流動展開しうる状態とすることにより調製することができる。形成するガスバリア層等の重畳層の厚さは、適宜に決定でき特に限定はない。一般には透明性や着色防止、ガスバリア性等の機能性や薄型化、得られるエポキシ系樹脂シートのフレキシビリティーなどの点より１５μm以下、就中１３μm以下、特に１〜１０μmの厚さとすることが好ましい。
【００３３】
樹脂層又はその上の重畳層の上に展開するエポキシ系樹脂塗工液の調製には、エポキシ系樹脂シートの使用目的などに応じて熱硬化型や紫外線硬化型等の適宜なエポキシ系樹脂を用いることができ、その種類について特に限定はない。
【００３４】
ちなみに前記エポキシ系樹脂の例としては、ビスフェノールＡ型やビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型やそれらの水添型の如きビスフェノール型、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型の如きノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型の如き含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族型やグリシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイプやジシクロ型、エステル型やエーテルエステル型、それらの変性型などがあげられる。
【００３５】
硬化変色を生じにくくて透明性等の光学特性などの点より好ましく用いうるエポキシ系樹脂は、ビスフェノールＡ型や脂環式型、トリグリシジルイソシアヌレート型のものなどである。またセル基板等として用いる場合における樹脂シートの剛性や強度等の物性などの点より好ましく用いうるエポキシ系樹脂は、エポキシ当量が１００〜１０００で、軟化点が１２０℃以下の硬化樹脂を形成するものである。
【００３６】
さらに塗工性やシート状への展開性等に優れるエポキシ系樹脂塗工液を得る点などよりは、塗工時の温度以下、就中、常温において液体状態を示す二液混合型のものが好ましく用いうる。その場合、粘度調製や強度、耐熱性の向上等を目的に固形状のエポキシ系樹脂を併用することもできる。従ってエポキシ系樹脂は、１種又は２種以上を用いることができる。
【００３７】
一方、エポキシ系樹脂塗工液には必要に応じて硬化剤を配合でき、熱硬化型のエポキシ系樹脂塗工液の場合には通例、硬化剤が配合される。用いる硬化剤については、特に限定はなく、併用のエポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種又は２種以上用いることができる。
【００３８】
ちなみに前記硬化剤の例としては、テトラヒドロフタル酸やメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如き有機酸系化合物類、エチレンジアミンやプロピレンジアミン、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミン、それらのアミンアダクトやメタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルスルホンの如きアミン系化合物類があげられる。
【００３９】
またジシアンジアミドやポリアミドの如きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾールや２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルイミダゾールやイソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾールやフェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾールやヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾールの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。
【００４０】
さらにメチルイミダゾリンや２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリンやイソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリンやフェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリンやヘプタデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物類、その他、フェノール系化合物類やユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。
【００４１】
加えて酸無水物系化合物類なども前記硬化剤の例としてあげられ、低刺激性による作業環境性や得られるエポキシ系樹脂シートの耐熱性向上による高温耐久性、変色防止性などの点よりは、かかる酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。その例としては無水フタル酸や無水マレイン酸、無水トリメリット酸や無水ピロメリット酸、無水ナジック酸や無水グルタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸やメチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸やメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ナジック酸やドデセニル無水コハク酸、ジクロロ無水コハク酸やベンゾフェノン無水テトラカルボン酸や無水クロレンディック酸などがあげられる。
【００４２】
就中、前記の変色防止性などの点より無水フタル酸やテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸やメチルヘキサヒドロ無水フタル酸の如く無色系ないし淡黄色系で、分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。
【００４３】
硬化剤の使用量は、その種類やエポキシ系樹脂のエポキシ当量などに応じて適宜に決定でき、通例のエポキシ系樹脂硬化の場合に準じうる。一般には、得られるエポキシ系樹脂シートの色相や耐湿性の低下防止などの点よりエポキシ基１当量に対し、０．５〜１．５当量、就中０．６〜１．４当量、特に０．７〜１．２当量の割合で硬化剤を使用することが好ましい。
【００４４】
エポキシ系樹脂塗工液の調製に際しては、必要に応じて硬化促進剤やレベリング剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。硬化促進剤は、硬化速度の促進による必要硬化処理時間の短縮を目的に配合され、その配合にて連続支持体の必要長を不配合の場合の数分の１程度に短縮することもできる。従って量産性の向上や連続製造設備の小型化などの点より硬化促進剤を配合することが好ましい。
【００４５】
用いる硬化促進剤については特に限定はなく、エポキシ系樹脂や硬化剤の種類などに応じて例えば、第三級アミン類やイミダゾール類、第四級アンモニウム塩類や有機金属塩類、リン化合物類や尿素系化合物類の如き適宜なものを１種又は２種以上用いることができる。硬化促進剤の使用量は、促進効果などに応じて適宜に決定しうるが、一般には変色防止性などの点よりエポキシ系樹脂１００重量部あたり、０．０５〜７重量部、就中０．１〜５重量部、特に０．２〜３重量部が好ましい。
【００４６】
一方、レベリング剤は、エポキシ系樹脂塗工液の展開層を空気との接触下に硬化処理する場合に、硬化剤等の飛散による表面張力のバラツキなどで梨地状の表面となることを防止して平滑な表面を形成することなどを目的に配合するものであり、例えばシリコーン系やアクリル系、フッ素系等の各種界面活性剤などの表面張力を低下させうる適宜なものを１種又は２種以上用いうる。
【００４７】
また例えばフェノール系やアミン系、有機硫黄系やホスフィン系等の老化防止剤、グリコール類やシリコーン類、アルコール類等の変性剤、発泡防止剤や水酸基含有化合物、染料や変色防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤も配合することができる。前記の発泡防止剤は、得られるエポキシ系樹脂シート中に光学特性の低下原因となる気泡が混入することの防止などを目的に添加され、グリセリン等の多価アルコールなどが好ましく用いうる。
【００４８】
さらに紫外線照射により硬化処理するエポキシ系樹脂塗工液の場合には、光重合開始剤や増感剤などを配合することもできる。その光重合開始剤や増感剤としては、例えばアリルジアゾニウム塩やベンゾフェノン、ベンゾインなどの、エポキシ系樹脂の紫外線硬化処理で公知の適宜なものを用いることができる。
【００４９】
エポキシ系樹脂塗工液は、配合成分を必要に応じ溶媒を併用して流動展開しうる状態とすることにより調製することができる。塗工液の粘度は、適宜に決定しうるが、一般には厚さムラの抑制等による厚さ精度の向上や塗工効率などの点より１００ポイズ以上、就中１２０〜５００ポイズ、特に１５０〜３００ポイズの粘度とすることが好ましい。なお厚さムラの抑制等の点よりエポキシ系樹脂塗工液の展開層を支持する連続支持体は、可及的に水平状態に維持することが好ましい。
【００５０】
エポキシ系樹脂塗工液の展開層の硬化処理は、加熱硬化方式や紫外線硬化方式などのエポキシ系樹脂に応じた適宜な方式にて行うことができ、２種以上の硬化処理方式を併用することもできる。得られる硬化シートの耐熱性の点よりは通例、加熱による硬化方式が好ましい。
【００５１】
加熱手段には、例えば熱風や赤外線ヒータなどの適宜な手段を１種又は２種以上用いることができる。加熱条件としては、３０〜２５０℃、就中４５〜２２０℃、特に６０〜１７０℃の加熱温度で、５〜６０分間、就中１０〜４０分間、特に１５〜３０分間の加熱時間などが一般的であるが、これに限定されない。光学特性の向上等の点よりは通例、例えば１５〜３０分間等の比較的短時間の加熱時間が好ましい。また厚さ精度の向上の点よりは、展開層の幅方向における温度のバラツキを可及的に防止することが好ましい。
【００５２】
エポキシ系樹脂シートの厚さは、セル基板等の使用目的などに応じて適宜に決定することができる。一般には、曲げ強度等の剛直性ないし柔軟性や表面平滑性、低位相差性や薄型軽量性などの点より１mm以下、就中１００〜８００μm、特に２００〜５００μmの厚さとされる。
【００５３】
また液晶セル基板等の光学用途の場合、厚さ精度は±２０％以下、就中±１５％以下、特に±１０％以下であることが好ましく、特に幅方向における厚さ精度が±１０％以内にあるものが好ましい。幅方向の厚さ精度は、形成したエポキシ系樹脂シートの両端部を切断除去する方式にても高めうるが、その場合には切断ロスが発生して歩留まりを低下させる。本発明にては、押さえフリーロールを介した連続支持体の水平維持で幅方向の厚さ精度が±１０％以内のエポキシ系樹脂シートの形成も可能である。
【００５４】
なお上記した連続製造法において、形成したエポキシ系樹脂シートの連続支持体よりの回収は、割れの防止などの点よりガラス転移温度近傍等の高温雰囲気下又は急冷による収縮応力の作用下に剥離することが好ましい。特に割れや亀裂と塑性変形や残留歪みの発生を防止しうるバランスのとれた柔軟性を達成する点より、エポキシ系樹脂硬化層のガラス転移温度の２０℃低い温度以上にて剥離することが好ましい。従って得られた樹脂シートの回収は、ガラス転移温度近傍等の高温雰囲気にても塑性変形しない硬化状態となった後に行うことが前記の割れや歪の発生防止などの点より好ましい。
【００５５】
前記の連続支持体よりのエポキシ系樹脂シートの回収に際しては、必要に応じ剥離手段を用いることができる。ちなみに上記した樹脂層又は必要に応じての重畳層の形成後その端部等に耐熱テープを接着し、その上にエポキシ系樹脂の硬化シートを形成する方式などにより、その耐熱テープを把持持ち上げてエポキシ系樹脂シートを連続支持体より効率よく剥離回収することができる。
【００５６】
形成されたエポキシ系樹脂シートの連続体は、必要に応じてレーザー光線や超音波カッター、ダイシングやウォータージェットなどの適宜な切断手段を介し適宜な寸法に切断して回収することもできる。
【００５７】
本発明によるエポキシ系樹脂シートは、例えば液晶セル等の各種セルにおけるセル基板などに好ましく用いうる。特に耐熱性や光学特性、厚さ精度や表面平滑性等に優れて高温処理に耐え曲げ強度等に優れて位相差が小さく軽量性に優れることなどが要求される液晶セル基板の如く、光学用途のセル基板に好ましく用いることができる。
【００５８】
液晶セル基板としては、液晶セルの製造過程の高温雰囲気等に耐えるものとする点などよりガラス転移温度が１２０℃以上、就中１３０℃以上、特に１４０℃以上のエポキシ系樹脂シートであることが好ましい。なお前記のガラス転移温度は、ＴＭＡ（熱機械分析法）による引張モードにて昇温速度２℃／分の条件により測定することができる。
【００５９】
本発明によるエポキシ系樹脂シートを用いた液晶セルの形成に際しては、従来に準じ必要に応じて透明導電膜や配向膜、偏光板や位相差板等の種々の機能層を重畳することもできる。また形成する液晶セルは、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、ＴＦＴ型や強誘電性液晶型など任意である。
【００６０】
【実施例】
実施例１
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート１００部（重量部、以下同じ）、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物１２５部、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート３．７５部、グリセリン２．２５部及びシリコーン系界面活性剤（レベリング剤、楠本化成社製、ディスパロンＬＳ−００９）０．０７部を撹拌混合し、４９℃にて９０分間エージングしてエポキシ系樹脂塗工液を調製した。
【００６１】
次に図１に例示した、ステンレス製エンドレスベルトの表側における駆動・従動ドラム間の中間部の両端部にSUS304製取付ステーを介して配置した一対のポリテトラフルオロエチレン製押さえフリーロールを有する流延法にて、そのフリーロールを介しエンドレスベルト両端部の反りを修正しベルトを水平に維持して０．２ｍ／分の一定速度で回転走行させつつその上に、ウレタン系紫外線硬化型樹脂（新中村化学社製、ＮＫオリゴＵＮ−０１）を含む１５重量％トルエン溶液をダイより吐出させて流延塗布し、トルエンを揮発乾燥後、紫外線照射装置を介し硬化処理し（中心波長２５４nm、積算光量２０００mJ／cm２）、幅５００mm、厚さ２μmの樹脂層を形成した。
【００６２】
ついで前記の操作を継続しつつ、硬化した樹脂層の上に上記のエポキシ樹脂塗工液をダイより１００ｇ／分の割合で連続に吐出させてシート状に流延展開し、その展開層を加熱装置を介し１４０℃で２５分間加熱硬化処理した後、１３０℃に温調した従動ドラム上で硬化シートをそれに密着した樹脂層と共にエンドレスベルトより剥離回収し、それを流れ方向に４９０mmの間隔で切断して幅４９０mm（両端部を５mmの幅で切断）、平均厚さ４００μm、ガラス転移温度１４０℃以上で表面が平滑な光学特性の均一性に優れるエポキシ系樹脂シートを連続的に得た。シートの幅方向の厚さ精度は、平均厚さ４００μmに対し±３０μm（約８％）であった。
【００６３】
比較例
押さえフリーロールを配置しないほかは実施例１に準じて、目的厚さ４００μmのエポキシ系樹脂シート（４９０mm幅）を得た。シートの幅方向の厚さ精度は、目的厚さ４００μmに対し±８０μm（２０％以下）であった。形成シートの両端部を２５mmの幅で切断して幅が４５０mmのシートとした場合にもその厚さ精度は±５０μm（約１３％以下）であった。
【図面の簡単な説明】
【図１】製造工程例の説明図
【図２】製造装置例の説明図
【符号の説明】
１：樹脂層  ２：重畳層（ガスバリア層）  ３：エポキシ系樹脂の硬化シート
１１，２１，３１：ダイ  １２，２２，３２：展開層
１３，２３，３３：硬化装置  ４：連続支持体（エンドレスベルト）
５，６：駆動・従動ドラム  ７：押さえフリーロール（７１：取付ステー）
【図１】
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【図２】
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