(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
【化１】
0004214335.tif 000014
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖、分岐若しくは環状のＣ1〜Ｃ8アルキル基（該アルキル基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）又はフェニル基（該フェニル基は、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で任意に置換されていてもよい。）を意味し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4のいずれか２つが一緒になってＣ4〜Ｃ8の環を形成してもよい。
Ｒは水素原子、直鎖、分岐若しくは環状のＣ1〜Ｃ8アルキル基（該アルキル基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、フェニル基（該フェニル基は、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル基、又は置換シリル基を意味し、
Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アリールカルボニルオキシ基（該アリールカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルオキシ基（該アルキルスルホニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アリールスルホニルオキシ基（該アリールスルホニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、ハロゲン原子、水酸基、ＰＦ6、ＣｌＯ4、ＢＦ4、ＮＯ3、１／２ＣＯ3、１／２ＳＯ4、１／３ＰＯ4又はＮＯを意味し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基を意味し、ビナフチル基はラセミ体でも光学活性体でもよい。］で表される光学活性ルテニウム錯体。
【請求項２】
Ｒ2、Ｒ4及びＹが水素原子であり、Ｒ1及びＲ3が一緒になってシクロヘキサン環を形成し、Ｒがフェニル基であり、Ｘ1が塩素原子であり、Ｘ2がＮＯである化合物、又はそのエナンチオマーである請求項１記載の光学活性ルテニウム錯体。
【請求項３】
ビナフチル基が光学活性体である請求項２記載の光学活性ルテニウム錯体。
【請求項４】
式（２）
【化２】
0004214335.tif 000015
［式中、Ｗ1及びＷ2は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいアミノ基、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基（該アルキル基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、Ｃ1〜Ｃ4アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アリールカルボニル基、カルバモイル基、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、モノ又はジＣ1〜Ｃ4アルキルスルホンアミド基を意味し、
Ｗ3は水素原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ基を意味し、
Ｗ4は水素原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基又はフェニル基（該フェニル基は、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基で任意に置換されていてもよい。）を意味するか、又は、Ｗ3とＷ4が一緒になって
【化３】
0004214335.tif 000016
（Ｗ5、Ｗ6、Ｗ7及びＷ8は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ1〜Ｃ4アルキル基を意味する。）を意味する。］で表されるオレフィン化合物を、
式（１）
【化４】
0004214335.tif 000017
[式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｙ、Ｒ、Ｘ1及びＸ2は前記に同じ。]で表される光学活性ルテニウム錯体及び酸化剤の存在下、酸化することを特徴とする
式（３）
【化５】
0004214335.tif 000018
［式中、＊で示された炭素原子の絶対配位はＲかＳを意味し、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4は前記に同じ。］で表される光学活性エポキシ化合物の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学活性ルテニウム錯体及び該ルテニウム錯体を使用するオレフィン化合物からの光学活性エポキシ化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光学活性エポキシ化合物は、高血圧症、喘息症等の治療に有効な光学活性ベンゾピラン化合物を初めとして、種々のファインケミカル化合物の重要な中間体である。
【０００３】
近年、光学活性なマンガン錯体を用いる触媒的不斉エポキシ化反応が見いだされており、近傍官能基を有しないオレフィン化合物からの効率的な光学活性エポキシ化合物の製造法として注目されている。
【０００４】
例えば、特表平５−５０７６４５号公報に記載されているＪａｃｏｂｓｅｎ等の製造法、特開平７−２８５９８３号公報、ＵＳＰ５，４２０，３１４号公報に記載されている香月等の製造法がある。
【０００５】
これらの製造法は、ラセミ体の分割法と異なり、プロキラルなオレフィン化合物から光学活性エポキシ化合物が得られるため、不要な側の対掌体が無駄になると言う問題が解消され、オレフィン化合物及び光学活性マンガン錯体の種類を選択することにより、良好な化学収率と光学収率で光学活性エポキシ化合物が得られる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の錯体を使用しても全ての光学活性エポキシ化合物の製造に良好な結果を与えるとは限らず、特に、cis-オレフィンとtrans-オレフィンの両方のオレフィンから良好な光学純度を有するエポキシ化合物を製造しうる錯体は、未だ知られていない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、不斉エポキシ化反応について鋭意検討を重ねた結果、新規な光学活性ルテニウム錯体を開発し、該ルテニウム錯体が不斉エポキシ化反応の触媒として、cis-オレフィンとtrans-オレフィンの両方のオレフィンから良好な光学純度を有するエポキシ化合物を製造しうる、極めて有用な錯体であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち、本発明は、式（１）
【０００９】
【化６】
0004214335.tif 000002
【００１０】
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖、分岐若しくは環状のＣ1〜Ｃ8アルキル基（該アルキル基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）又はフェニル基（該フェニル基は、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で任意に置換されていてもよい。）を意味し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4のいずれか２つが一緒になってＣ4〜Ｃ8の環を形成してもよい。
【００１１】
Ｒは水素原子、直鎖、分岐若しくは環状のＣ1〜Ｃ8アルキル基（該アルキル基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、フェニル基（該フェニル基は、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル基、又は置換シリル基を意味し、
Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アリールカルボニルオキシ基（該アリールカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルオキシ基（該アルキルスルホニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アリールスルホニルオキシ基（該アリールスルホニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、ハロゲン原子、水酸基、ＰＦ6、ＣｌＯ4、ＢＦ4、ＮＯ3、１／２ＣＯ3、１／２ＳＯ4、１／３ＰＯ4又はＮＯを意味し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基を意味し、ビナフチル基はラセミ体でも光学活性体でもよい。］で表される光学活性ルテニウム錯体及び
式（２）
【００１２】
【化７】
0004214335.tif 000003
【００１３】
［式中、Ｗ1及びＷ2は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいアミノ基、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基（該アルキル基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、Ｃ1〜Ｃ4アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アリールカルボニル基、カルバモイル基、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、モノ又はジＣ1〜Ｃ4アルキルスルホンアミド基を意味し、
Ｗ3は水素原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ基を意味し、
Ｗ4は水素原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基又はフェニル基（該フェニル基は、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基で任意に置換されていてもよい。）を意味するか、又は、Ｗ3とＷ4が一緒になって
【００１４】
【化８】
0004214335.tif 000004
【００１５】
（Ｗ5、Ｗ6、Ｗ7及びＷ8は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ1〜Ｃ4アルキル基を意味する。）を意味する。］で表されるオレフィン化合物を、
式（１）
【００１６】
【化９】
0004214335.tif 000005
【００１７】
[式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｙ、Ｒ、Ｘ1及びＸ2は前記に同じ。]で表される光学活性ルテニウム錯体及び酸化剤の存在下、酸化することを特徴とする
式（３）
【００１８】
【化１０】
0004214335.tif 000006
【００１９】
［式中、＊で示された炭素原子の絶対配位はＲかＳを意味し、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3及びＷ4は前記に同じ。］で表される光学活性エポキシ化合物の製造法に関するものである。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、更に詳細に本発明を説明する。
【００２１】
まず、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ、Ｘ1、Ｘ2、Ｙ、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｗ4、Ｗ5、Ｗ6、Ｗ7及びＷ8の各置換基における語句について説明する。
【００２２】
尚、本明細書中「n」はノルマルを、「i」はイソを、「s」はセカンダリーを、「t」はターシャリーを、「c」はシクロを、「o」はオルトを、「m」はメタを、「p」はパラを意味する。
【００２３】
直鎖、分枝若しくは環状のＣ1〜Ｃ8アルキル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル、2-メチル-c-プロピル、n-ペンチル、1-メチル-n-ブチル、2-メチル-n-ブチル、3-メチル-n-ブチル、1,1-ジメチル-n-プロピル、1,2-ジメチル-n-プロピル、2,2-ジメチル-n-プロピル、1-エチル-n-プロピル、c-ペンチル、1-メチル-c-ブチル、2-メチル-c-ブチル、3-メチル-c-ブチル、1,2-ジメチル-c-プロピル、2,3-ジメチル-c-プロピル、1-エチル-c-プロピル、2-エチル-c-プロピル、n-ヘキシル、1-メチル-n-ペンチル、2-メチル-n-ペンチル、3-メチル-n-ペンチル、4-メチル-n-ペンチル、1,1-ジメチル-n-ブチル、1,2-ジメチル-n-ブチル、1,3-ジメチル-n-ブチル、2,2-ジメチル-n-ブチル、2,3-ジメチル-n-ブチル、3,3-ジメチル-n-ブチル、1-エチル-n-ブチル、2-エチル-n-ブチル、1,1,2-トリメチル-n-プロピル、1,2,2-トリメチル-n-プロピル、1-エチル-1-メチル-n-プロピル、1-エチル-2-メチル-n-プロピル、c-ヘキシル、1-メチル-c-ペンチル、2-メチル-c-ペンチル、3-メチル-c-ペンチル、1-エチル-c-ブチル、2-エチル-c-ブチル、3-エチル-c-ブチル、1,2-ジメチル-c-ブチル、1,3-ジメチル-c-ブチル、2,2-ジメチル-c-ブチル、2,3-ジメチル-c-ブチル、2,4-ジメチル-c-ブチル、3,3-ジメチル-c-ブチル、1-n-プロピル-c-プロピル、2-n-プロピル-c-プロピル、1-i-プロピル-c-プロピル、2-i-プロピル-c-プロピル、1,2,2-トリメチル-c-プロピル、1,2,3-トリメチル-c-プロピル、2,2,3-トリメチル-c-プロピル、1-エチル-2-メチル-c-プロピル、2-エチル-1-メチル-c-プロピル、2-エチル-2-メチル-c-プロピル、2-エチル-3-メチル-c-プロピル、n-ヘプチル、c-ヘプチル、n-オクチル及びc-オクチル等が挙げられる。
【００２４】
Ｃ1〜Ｃ4アルキル基としては、直鎖、分枝及び環状のアルキル基が含まれ、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル及び2-メチル-c-プロピル等が挙げられる。
【００２５】
Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基としては、直鎖、分枝及び環状のアルコキシ基が含まれ、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキシ、c-プロポキシ、n-ブトキシ、i-ブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、c-ブトキシ、1-メチル-c-プロポキシ及び2-メチル-c-プロポキシ等が挙げられる。
【００２６】
Ｃ1〜Ｃ4アルキルカルボニル基としては、直鎖、分枝及び環状のアルキルカルボニル基が含まれ、メチルカルボニル、エチルカルボニル、n-プロピルカルボニル、i-プロピルカルボニル、c-プロピルカルボニル、n-ブチルカルボニル、i-ブチルカルボニル、s-ブチルカルボニル、t-ブチルカルボニル、c-ブチルカルボニル、1-メチル-c-プロピルカルボニル及び2-メチル-c-プロピルカルボニル等が挙げられ、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル基としてはこれらに加え、n-ペンチルカルボニル、1-メチル-n-ブチルカルボニル、2-メチル-n-ブチルカルボニル、3-メチル-n-ブチルカルボニル、1,1-ジメチル-n-プロピルカルボニル、1,2-ジメチル-n-プロピルカルボニル、2,2-ジメチル-n-プロピルカルボニル、1-エチル-n-プロピルカルボニル、c-ペンチルカルボニル、1-メチル-c-ブチルカルボニル、2-メチル-c-ブチルカルボニル、3-メチル-c-ブチルカルボニル、1,2-ジメチル-c-プロピルカルボニル、2,3-ジメチル-c-プロピルカルボニル、1-エチル-c-プロピルカルボニル及び2-エチル-c-プロピルカルボニル等が挙げられる。
【００２７】
Ｃ1〜Ｃ4アルキルカルボニルオキシ基としては、直鎖、分枝及び環状のアルキルカルボニルオキシ基が含まれ、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、n-プロピルカルボニルオキシ、i-プロピルカルボニルオキシ、c-プロピルカルボニルオキシ、n-ブチルカルボニルオキシ、i-ブチルカルボニルオキシ、s-ブチルカルボニルオキシ、t-ブチルカルボニルオキシ、c-ブチルカルボニルオキシ、1-メチル-c-プロピルカルボニルオキシ、2-メチル-c-プロピルカルボニルオキシ、n-ペンチルカルボニルオキシ、1-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、2-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、3-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、1,1-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、1,2-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、2,2-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、1-エチル-n-プロピルカルボニルオキシ等が挙げられ、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルオキシ基としてはこれらに加え、c-ペンチルカルボニルオキシ、1-メチル-c-ブチルカルボニルオキシ、2-メチル-c-ブチルカルボニルオキシ、3-メチル-c-ブチルカルボニルオキシ、1,2-ジメチル-c-プロピルカルボニルオキシ、2,3-ジメチル-c-プロピルカルボニルオキシ、1-エチル-c-プロピルカルボニルオキシ及び2-エチル-c-プロピルカルボニルオキシ等が挙げられる。
【００２８】
アリールカルボニルオキシ基としては、ベンゼンカルボニルオキシ基、ｏ−メチルフェニルカルボニルオキシ基、ｍ−メチルフェニルカルボニルオキシ基、ｐ−メチルフェニルカルボニルオキシ基、α−ナフタレンカルボニルオキシ基及びβ−ナフタレンカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００２９】
Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル基としては、直鎖、分枝及び環状のアルコキシカルボニル基が含まれ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル、i-プロポキシカルボニル、c-プロポキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、i-ブトキシカルボニル、s-ブトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、c-ブトキシカルボニル、1-メチル-c-プロポキシカルボニル、2-メチル-c-プロポキシカルボニル、n-ペンチルオキシカルボニル、1-メチル-n-ブトキシカルボニル、2-メチル-n-ブトキシカルボニル、3-メチル-n-ブトキシカルボニル、1,1-ジメチル-n-プロポキシカルボニル、1,2-ジメチル-n-プロポキシカルボニル、2,2-ジメチル-n-プロポキシカルボニル、1-エチル-n-プロポキシカルボニル、c-ペンチルオキシカルボニル、1-メチル-c-ブトキシカルボニル、2-メチル-c-ブトキシカルボニル、3-メチル-c-ブトキシカルボニル、1,2-ジメチル-c-プロポキシカルボニル、2,3-ジメチル-c-プロポキシカルボニル、1-エチル-c-プロポキシカルボニル及び2-エチル-c-プロポキシカルボニル等が挙げられる。
【００３０】
Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル基としては、直鎖、分枝及び環状のアルキルスルフィニル基が含まれ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n-プロピルスルフィニル、i-プロピルスルフィニル、c-プロピルスルフィニル、n-ブチルスルフィニル、i-ブチルスルフィニル、s-ブチルスルフィニル、t-ブチルスルフィニル、c-ブチルスルフィニル、1-メチル-c-プロピルスルフィニル及び2-メチル-c-プロピルスルフィニル等が挙げられる。
【００３１】
アリールスルフィニル基としては、ベンゼンスルフィニル基、ｏ−メチルフェニルスルフィニル基、ｍ−メチルフェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基、α−ナフタレンスルフィニル基及びβ−ナフタレンスルフィニル基等が挙げられる。
【００３２】
Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル基としては、直鎖、分枝及び環状のアルキルスルホニル基が含まれ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスルホニル、i-プロピルスルホニル、c-プロピルスルホニル、n-ブチルスルホニル、i-ブチルスルホニル、s-ブチルスルホニル、t-ブチルスルホニル、c-ブチルスルホニル、1-メチル-c-プロピルスルホニル及び2-メチル-c-プロピルスルホニル等が挙げられる。
【００３３】
アリールスルホニル基としては、ベンゼンスルホニル基、ｏ−メチルフェニルスルホニル基、ｍ−メチルフェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基、α−ナフタレンスルホニル基及びβ−ナフタレンスルホニル基等が挙げられる。
【００３４】
Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルオキシ基としては、直鎖、分枝及び環状のアルキルスルホニルオキシ基が含まれ、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、n-プロピルスルホニルオキシ、i-プロピルスルホニルオキシ、c-プロピルスルホニルオキシ、n-ブチルスルホニルオキシ、i-ブチルスルホニルオキシ、s-ブチルスルホニルオキシ、t-ブチルスルホニルオキシ、c-ブチルスルホニルオキシ、1-メチル-c-プロピルスルホニルオキシ及び2-メチル-c-プロピルスルホニルオキシ等が挙げられる。
【００３５】
アリールスルホニルオキシ基としては、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｏ−メチルフェニルスルホニルオキシ基、ｍ−メチルフェニルスルホニルオキシ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルオキシ基、α−ナフタレンスルホニルオキシ基及びβ−ナフタレンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
【００３６】
Ｃ1〜Ｃ4モノアルキルスルホンアミド基としては、直鎖、分枝及び環状のモノアルキルスルホンアミド基が含まれ、メチルスルホンアミド、エチルスルホンアミド、n-プロピルスルホンアミド、i-プロピルスルホンアミド、c-プロピルスルホンアミド、n-ブチルスルホンアミド、i-ブチルスルホンアミド、s-ブチルスルホンアミド、t-ブチルスルホンアミド、c-ブチルスルホンアミド、1-メチル-c-プロピルスルホンアミド及び2-メチル-c-プロピルスルホンアミド等が挙げられる。
【００３７】
Ｃ1〜Ｃ4ジアルキルスルホンアミド基としては、直鎖、分枝及び環状のジアルキルスルホンアミド基が含まれ、ジメチルスルホンアミド、ジエチルスルホンアミド、ジ-n-プロピルスルホンアミド、ジ-i-プロピルスルホンアミド、ジ-c-プロピルスルホンアミド、ジ-n-ブチルスルホンアミド、ジ-i-ブチルスルホンアミド、ジ-s-ブチルスルホンアミド、ジ-t-ブチルスルホンアミド、ジ-c-ブチルスルホンアミド、ジ（1-メチル-c-プロピル）スルホンアミド及びジ（2-メチル-c-プロピル）スルホンアミド等が挙げられる。
【００３８】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
【００３９】
置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリ−ｉ−プロピルシリル基、、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｉ−ブチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチル−ｎ−プロピルシリル基、ジメチル−ｎ−ブチルシリル基、ジメチル−ｉ−ブチルシリル基及びジメチル−ｔ−ブチルシリル基等が挙げられる。
【００４０】
Ｃ4〜Ｃ8の環としては、c-ブタン環、c-ペンタン環、c-ヘキサン環、c-ヘプタン環及びc-オクタン環等が挙げられる。
【００４１】
保護基で保護されていてもよいアミノ基としては、p-トルエンスルホニルアミノ基、ベンジルアミノ基、アシルアミノ基及びアルコキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００４２】
アシルアミノ基としては、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基及びベンゾイルアミノ基等が挙げられる。
【００４３】
アルコキシカルボニルアミノ基としては、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｉ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｓ−ブトキシカルボニルアミノ基及びｔ−ブトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
【００４４】
アリールカルボニル基としては、ベンゾイル基、ｏ−メチルフェニルカルボニル基、ｍ−メチルフェニルカルボニル基、ｐ−メチルフェニルカルボニル基、α−ナフタレンカルボニル基及びβ−ナフタレンカルボニル基等が挙げられる。
【００４５】
次に具体的な、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ、Ｘ1、Ｘ2、Ｙ、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｗ4、Ｗ5、Ｗ6、Ｗ7、Ｗ8及び酸化剤について説明する。
【００４６】
具体的なＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4としては、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル、2-メチル-c-プロピル、n-ペンチル、1-メチル-n-ブチル、2-メチル-n-ブチル、3-メチル-n-ブチル、1,1-ジメチル-n-プロピル、1,2-ジメチル-n-プロピル、2,2-ジメチル-n-プロピル、1-エチル-n-プロピル、c-ペンチル、1-メチル-c-ブチル、2-メチル-c-ブチル、3-メチル-c-ブチル、1,2-ジメチル-c-プロピル、2,3-ジメチル-c-プロピル、1-エチル-c-プロピル、2-エチル-c-プロピル、n-ヘキシル、1-メチル-n-ペンチル、2-メチル-n-ペンチル、3-メチル-n-ペンチル、4-メチル-n-ペンチル、1,1-ジメチル-n-ブチル、1,2-ジメチル-n-ブチル、1,3-ジメチル-n-ブチル、2,2-ジメチル-n-ブチル、2,3-ジメチル-n-ブチル、3,3-ジメチル-n-ブチル、1-エチル-n-ブチル、2-エチル-n-ブチル、1,1,2-トリメチル-n-プロピル、1,2,2-トリメチル-n-プロピル、1-エチル-1-メチル-n-プロピル、1-エチル-2-メチル-n-プロピル、c-ヘキシル、1-メチル-c-ペンチル、2-メチル-c-ペンチル、3-メチル-c-ペンチル、1-エチル-c-ブチル、2-エチル-c-ブチル、3-エチル-c-ブチル、1,2-ジメチル-c-ブチル、1,3-ジメチル-c-ブチル、2,2-ジメチル-c-ブチル、2,3-ジメチル-c-ブチル、2,4-ジメチル-c-ブチル、3,3-ジメチル-c-ブチル、1-n-プロピル-c-プロピル、2-n-プロピル-c-プロピル、1-i-プロピル-c-プロピル、2-i-プロピル-c-プロピル、1,2,2-トリメチル-c-プロピル、1,2,3-トリメチル-c-プロピル、2,2,3-トリメチル-c-プロピル、1-エチル-2-メチル-c-プロピル、2-エチル-1-メチル-c-プロピル、2-エチル-2-メチル-c-プロピル、2-エチル-3-メチル-c-プロピル、n-ヘプチル、c-ヘプチル、n-オクチル、c-オクチル、フルオロメチル、フルオロエチル、フルオロ-n-プロピル、フルオロ-i-プロピル、フルオロ-n-ブチル、フルオロ-i-ブチル、フルオロ-s-ブチル、フルオロ-t-ブチル、クロロメチル、クロロエチル、クロロ-n-プロピル、クロロ-i-プロピル、クロロ-n-ブチル、クロロ-i-ブチル、クロロ-s-ブチル、クロロ-t-ブチル、ブロモメチル、ブロモエチル、ブロモ-n-プロピル、ブロモ-i-プロピル、ブロモ-n-ブチル、ブロモ-i-ブチル、ブロモ-s-ブチル、ブロモ-t-ブチル、アイオドメチル、アイオドエチル、アイオド-n-プロピル、アイオド-i-プロピル、アイオド-n-ブチル、アイオド-i-ブチル、アイオド-s-ブチル、アイオド-t-ブチル、フェニル、o-フルオロフェニル、o-クロロフェニル、o-ブロモフェニル、o-ヨードフェニル、o-メチルフェニル、o-エチルフェニル、o-(n-プロピル)フェニル、o-(i-プロピル)フェニル、o-(c-プロピル)フェニル、o-(n-ブチル)フェニル、o-(i-ブチル)フェニル、o-(s-ブチル)フェニル、o-(t-ブチル)フェニル、o-(c-ブチル)フェニル、o-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、o-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、o-メトキシフェニル、o-エトキシフェニル、o-(n-プロポキシ)フェニル、o-(i-プロポキシ)フェニル、o-(c-プロポキシ)フェニル、o-(n-ブトキシ)フェニル、o-(i-ブトキシ)フェニル、o-(s-ブトキシ)フェニル、o-(t-ブトキシ)フェニル、o-(c-ブトキシ)フェニル、o-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、o-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、o-シアノフェニル、o-ニトロフェニル、m-フルオロフェニル、m-クロロフェニル、m-ブロモフェニル、m-ヨードフェニル、m-メチルフェニル、m-エチルフェニル、m-(n-プロピル)フェニル、m-(i-プロピル)フェニル、m-(c-プロピル)フェニル、m-(n-ブチル)フェニル、m-(i-ブチル)フェニル、m-(s-ブチル)フェニル、m-(t-ブチル)フェニル、m-(c-ブチル)フェニル、m-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、m-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、m-メトキシフェニル、m-エトキシフェニル、m-(n-プロポキシ)フェニル、m-(i-プロポキシ)フェニル、m-(c-プロポキシ)フェニル、m-(n-ブトキシ)フェニル、m-(i-ブトキシ)フェニル、m-(s-ブトキシ)フェニル、m-(t-ブトキシ)フェニル、m-(c-ブトキシ)フェニル、m-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、m-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、m-シアノフェニル、m-ニトロフェニル、p-フルオロフェニル、p-クロロフェニル、p-ブロモフェニル、p-ヨードフェニル、p-メチルフェニル、p-エチルフェニル、p-(n-プロピル)フェニル、p-(i-プロピル)フェニル、p-(c-プロピル)フェニル、p-(n-ブチル)フェニル、p-(i-ブチル)フェニル、p-(s-ブチル)フェニル、p-(t-ブチル)フェニル、p-(c-ブチル)フェニル、p-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、p-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、p-メトキシフェニル、p-エトキシフェニル、p-(n-プロポキシ)フェニル、p-(i-プロポキシ)フェニル、p-(c-プロポキシ)フェニル、p-(n-ブトキシ)フェニル、p-(i-ブトキシ)フェニル、p-(s-ブトキシ)フェニル、p-(t-ブトキシ)フェニル、p-(c-ブトキシ)フェニル、p-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、p-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、p-シアノフェニル、p-ニトロフェニル、2,3-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフェニル、2,6-ジメチルフェニル、3,4-ジメチルフェニル、3,5-ジメチルフェニル、2,3,4-トリメチルフェニル、2,3,5-トリメチルフェニル、2,3,6-トリメチルフェニル、2,4,5-トリメチルフェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、3,4,5-トリメチルフェニル、2,3,4,5-テトラメチルフェニル、2,3,4,6-テトラメチルフェニル、2,3,5,6-テトラメチルフェニル及び2,3,4,5,6-ペンタメチルフェニル等が挙げられ、又、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4のいずれか２つが一緒になって、c-ブタン環、c-ペンタン環、c-ヘキサン環、c-ヘプタン環及びc-オクタン環等を形成することが挙げられる。
【００４７】
好ましくは、水素原子、フェニル及びいずれか２つが一緒になって、c-ヘキサン環を形成するものが挙げられ、特に、Ｒ1及びＲ3が共にフェニル若しくは一緒になって、c-ヘキサン環を形成する時に、Ｒ2及びＲ4が共に水素原子であるか又は、Ｒ2及びＲ4が共にフェニル若しくは一緒になって、c-ヘキサン環を形成する時に、Ｒ1及びＲ3が共に水素原子である場合が好ましい。
【００４８】
具体的なＲとしては、水素原子、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル、2-メチル-c-プロピル、n-ペンチル、1-メチル-n-ブチル、2-メチル-n-ブチル、3-メチル-n-ブチル、1,1-ジメチル-n-プロピル、1,2-ジメチル-n-プロピル、2,2-ジメチル-n-プロピル、1-エチル-n-プロピル、c-ペンチル、1-メチル-c-ブチル、2-メチル-c-ブチル、3-メチル-c-ブチル、1,2-ジメチル-c-プロピル、2,3-ジメチル-c-プロピル、1-エチル-c-プロピル、2-エチル-c-プロピル、n-ヘキシル、1-メチル-n-ペンチル、2-メチル-n-ペンチル、3-メチル-n-ペンチル、4-メチル-n-ペンチル、1,1-ジメチル-n-ブチル、1,2-ジメチル-n-ブチル、1,3-ジメチル-n-ブチル、2,2-ジメチル-n-ブチル、2,3-ジメチル-n-ブチル、3,3-ジメチル-n-ブチル、1-エチル-n-ブチル、2-エチル-n-ブチル、1,1,2-トリメチル-n-プロピル、1,2,2-トリメチル-n-プロピル、1-エチル-1-メチル-n-プロピル、1-エチル-2-メチル-n-プロピル、c-ヘキシル、1-メチル-c-ペンチル、2-メチル-c-ペンチル、3-メチル-c-ペンチル、1-エチル-c-ブチル、2-エチル-c-ブチル、3-エチル-c-ブチル、1,2-ジメチル-c-ブチル、1,3-ジメチル-c-ブチル、2,2-ジメチル-c-ブチル、2,3-ジメチル-c-ブチル、2,4-ジメチル-c-ブチル、3,3-ジメチル-c-ブチル、1-n-プロピル-c-プロピル、2-n-プロピル-c-プロピル、1-i-プロピル-c-プロピル、2-i-プロピル-c-プロピル、1,2,2-トリメチル-c-プロピル、1,2,3-トリメチル-c-プロピル、2,2,3-トリメチル-c-プロピル、1-エチル-2-メチル-c-プロピル、2-エチル-1-メチル-c-プロピル、2-エチル-2-メチル-c-プロピル、2-エチル-3-メチル-c-プロピル、n-ヘプチル、c-ヘプチル、n-オクチル、c-オクチル、フルオロメチル、フルオロエチル、フルオロ-n-プロピル、フルオロ-i-プロピル、フルオロ-n-ブチル、フルオロ-i-ブチル、フルオロ-s-ブチル、フルオロ-t-ブチル、クロロメチル、クロロエチル、クロロ-n-プロピル、クロロ-i-プロピル、クロロ-n-ブチル、クロロ-i-ブチル、クロロ-s-ブチル、クロロ-t-ブチル、ブロモメチル、ブロモエチル、ブロモ-n-プロピル、ブロモ-i-プロピル、ブロモ-n-ブチル、ブロモ-i-ブチル、ブロモ-s-ブチル、ブロモ-t-ブチル、アイオドメチル、アイオドエチル、アイオド-n-プロピル、アイオド-i-プロピル、アイオド-n-ブチル、アイオド-i-ブチル、アイオド-s-ブチル、アイオド-t-ブチル、フェニル、o-フルオロフェニル、o-クロロフェニル、o-ブロモフェニル、o-ヨードフェニル、o-メチルフェニル、o-エチルフェニル、o-(n-プロピル)フェニル、o-(i-プロピル)フェニル、o-(c-プロピル)フェニル、o-(n-ブチル)フェニル、o-(i-ブチル)フェニル、o-(s-ブチル)フェニル、o-(t-ブチル)フェニル、o-(c-ブチル)フェニル、o-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、o-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、o-メトキシフェニル、o-エトキシフェニル、o-(n-プロポキシ)フェニル、o-(i-プロポキシ)フェニル、o-(c-プロポキシ)フェニル、o-(n-ブトキシ)フェニル、o-(i-ブトキシ)フェニル、o-(s-ブトキシ)フェニル、o-(t-ブトキシ)フェニル、o-(c-ブトキシ)フェニル、o-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、o-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、o-シアノフェニル、o-ニトロフェニル、m-フルオロフェニル、m-クロロフェニル、m-ブロモフェニル、m-ヨードフェニル、m-メチルフェニル、m-エチルフェニル、m-(n-プロピル)フェニル、m-(i-プロピ��)フェニル、m-(c-プロピル)フェニル、m-(n-ブチル)フェニル、m-(i-ブチル)フェニル、m-(s-ブチル)フェニル、m-(t-ブチル)フェニル、m-(c-ブチル)フェニル、m-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、m-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、m-メトキシフェニル、m-エトキシフェニル、m-(n-プロポキシ)フェニル、m-(i-プロポキシ)フェニル、m-(c-プロポキシ)フェニル、m-(n-ブトキシ)フェニル、m-(i-ブトキシ)フェニル、m-(s-ブトキシ)フェニル、m-(t-ブトキシ)フェニル、m-(c-ブトキシ)フェニル、m-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、m-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、m-シアノフェニル、m-ニトロフェニル、p-フルオロフェニル、p-クロロフェニル、p-ブロモフェニル、p-ヨードフェニル、p-メチルフェニル、p-エチルフェニル、p-(n-プロピル)フェニル、p-(i-プロピル)フェニル、p-(c-プロピル)フェニル、p-(n-ブチル)フェニル、p-(i-ブチル)フェニル、p-(s-ブチル)フェニル、p-(t-ブチル)フェニル、p-(c-ブチル)フェニル、p-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、p-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、p-メトキシフェニル、p-エトキシフェニル、p-(n-プロポキシ)フェニル、p-(i-プロポキシ)フェニル、p-(c-プロポキシ)フェニル、p-(n-ブトキシ)フェニル、p-(i-ブトキシ)フェニル、p-(s-ブトキシ)フェニル、p-(t-ブトキシ)フェニル、p-(c-ブトキシ)フェニル、p-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、p-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、p-シアノフェニル、p-ニトロフェニル、2,3-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフェニル、2,6-ジメチルフェニル、3,4-ジメチルフェニル、3,5-ジメチルフェニル、2,3,4-トリメチルフェニル、2,3,5-トリメチルフェニル、2,3,6-トリメチルフェニル、2,4,5-トリメチルフェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、3,4,5-トリメチルフェニル、2,3,4,5-テトラメチルフェニル、2,3,4,6-テトラメチルフェニル、2,3,5,6-テトラメチルフェニル、2,3,4,5,6-ペンタメチルフェニル、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキシ、c-プロポキシ、n-ブトキシ、i-ブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、c-ブトキシ、1-メチル-c-プロポキシ、2-メチル-c-プロポキシ、メチルカルボニル、エチルカルボニル、n-プロピルカルボニル、i-プロピルカルボニル、c-プロピルカルボニル、n-ブチルカルボニル、i-ブチルカルボニル、s-ブチルカルボニル、t-ブチルカルボニル、c-ブチルカルボニル、1-メチル-c-プロピルカルボニル、2-メチル-c-プロピルカルボニル、n-ペンチルカルボニル、1-メチル-n-ブチルカルボニル、2-メチル-n-ブチルカルボニル、3-メチル-n-ブチルカルボニル、1,1-ジメチル-n-プロピルカルボニル、1,2-ジメチル-n-プロピルカルボニル、2,2-ジメチル-n-プロピルカルボニル、1-エチル-n-プロピルカルボニル、c-ペンチルカルボニル、1-メチル-c-ブチルカルボニル、2-メチル-c-ブチルカルボニル、3-メチル-c-ブチルカルボニル、1,2-ジメチル-c-プロピルカルボニル、2,3-ジメチル-c-プロピルカルボニル、1-エチル-c-プロピルカルボニル、2-エチル-c-プロピルカルボニル、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、n-プロピルカルボニルオキシ、i-プロピルカルボニルオキシ、c-プロピルカルボニルオキシ、n-ブチルカルボニルオキシ、i-ブチルカルボニルオキシ、s-ブチルカルボニルオキシ、t-ブチルカルボニルオキシ、c-ブチルカルボニルオキシ、1-メチル-c-プロピルカルボニルオキシ、2-メチル-c-プロピルカル��ニルオキシ、n-ペンチルカルボニルオキシ、1-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、2-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、3-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、1,1-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、1,2-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、2,2-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、1-エチル-n-プロピルカルボニルオキシ、c-ペンチルカルボニルオキシ、1-メチル-c-ブチルカルボニルオキシ、2-メチル-c-ブチルカルボニルオキシ、3-メチル-c-ブチルカルボニルオキシ、1,2-ジメチル-c-プロピルカルボニルオキシ、2,3-ジメチル-c-プロピルカルボニルオキシ、1-エチル-c-プロピルカルボニルオキシ、2-エチル-c-プロピルカルボニルオキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル、i-プロポキシカルボニル、c-プロポキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、i-ブトキシカルボニル、s-ブトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、c-ブトキシカルボニル、1-メチル-c-プロポキシカルボニル、2-メチル-c-プロポキシカルボニル、n-ペンチルオキシカルボニル、1-メチル-n-ブトキシカルボニル、2-メチル-n-ブトキシカルボニル、3-メチル-n-ブトキシカルボニル、1,1-ジメチル-n-プロポキシカルボニル、1,2-ジメチル-n-プロポキシカルボニル、2,2-ジメチル-n-プロポキシカルボニル、1-エチル-n-プロポキシカルボニル、c-ペンチルオキシカルボニル、1-メチル-c-ブトキシカルボニル、2-メチル-c-ブトキシカルボニル、3-メチル-c-ブトキシカルボニル、1,2-ジメチル-c-プロポキシカルボニル、2,3-ジメチル-c-プロポキシカルボニル、1-エチル-c-プロポキシカルボニル、2-エチル-c-プロポキシカルボニル、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリ−ｉ−プロピルシリル基、、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｉ−ブチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチル−ｎ−プロピルシリル基、ジメチル−ｎ−ブチルシリル基、ジメチル−ｉ−ブチルシリル基及びジメチル−ｔ−ブチルシリル基等が挙げられ、好ましくは、フェニル基が挙げられる。
【００４９】
具体的なＸ1及びＸ2としては、それぞれ独立に、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、n-プロピルカルボニルオキシ、i-プロピルカルボニルオキシ、c-プロピルカルボニルオキシ、n-ブチルカルボニルオキシ、i-ブチルカルボニルオキシ、s-ブチルカルボニルオキシ、t-ブチルカルボニルオキシ、c-ブチルカルボニルオキシ、1-メチル-c-プロピルカルボニルオキシ、2-メチル-c-プロピルカルボニルオキシ、n-ペンチルカルボニルオキシ、1-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、2-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、3-メチル-n-ブチルカルボニルオキシ、1,1-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、1,2-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、2,2-ジメチル-n-プロピルカルボニルオキシ、1-エチル-n-プロピルカルボニルオキシ、トリフルオロメチルカルボニルオキシ、ベンゼンカルボニルオキシ基、ｏ−メチルフェニルカルボニルオキシ基、ｍ−メチルフェニルカルボニルオキシ基、ｐ−メチルフェニルカルボニルオキシ基、α−ナフタレンカルボニルオキシ基、β−ナフタレンカルボニルオキシ基、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、n-プロピルスルホニルオキシ、i-プロピルスルホニルオキシ、c-プロピルスルホニルオキシ、n-ブチルスルホニルオキシ、i-ブチルスルホニルオキシ、s-ブチルスルホニルオキシ、t-ブチルスルホニルオキシ、c-ブチルスルホニルオキシ、1-メチル-c-プロピルスルホニルオキシ、2-メチル-c-プロピルスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｏ−メチルフェニルスルホニルオキシ基、ｍ−メチルフェニルスルホニルオキシ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルオキシ基、α−ナフタレンスルホニルオキシ基、β−ナフタレンスルホニルオキシ基、水酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ＰＦ6、ＣｌＯ4、ＢＦ4、ＮＯ3、１／２ＣＯ3、１／２ＳＯ4、１／３ＰＯ4及びＮＯが挙げられ、好ましくは、塩素原子及びＮＯが挙げられる。
【００５０】
又、Ｘ1及びＸ2の一方が、ハロゲン原子、もう一方がＮＯである場合が、好ましい。
【００５１】
具体的なＹとしては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル2-メチル-c-プロピル、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキシ、c-プロポキシ、n-ブトキシ、i-ブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、c-ブトキシ、1-メチル-c-プロポキシ、2-メチル-c-プロポキシ、ニトロ基及びシアノ基が挙げられ、好ましくは、水素原子が挙げられる。
【００５２】
具体的なＷ1及びＷ2としては、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、ニトロ基、p-トルエンスルホニルアミノ基、ベンジルアミノ基、、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｉ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｓ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル、2-メチル-c-プロピル、フルオロメチル、フルオロエチル、フルオロ-n-プロピル、フルオロ-i-プロピル、フルオロ-n-ブチル、フルオロ-i-ブチル、フルオロ-s-ブチル、フルオロ-t-ブチル、クロロメチル、クロロエチル、クロロ-n-プロピル、クロロ-i-プロピル、クロロ-n-ブチル、クロロ-i-ブチル、クロロ-s-ブチル、クロロ-t-ブチル、ブロモメチル、ブロモエチル、ブロモ-n-プロピル、ブロモ-i-プロピル、ブロモ-n-ブチル、ブロモ-i-ブチル、ブロモ-s-ブチル、ブロモ-t-ブチル、アイオドメチル、アイオドエチル、アイオド-n-プロピル、アイオド-i-プロピル、アイオド-n-ブチル、アイオド-i-ブチル、アイオド-s-ブチル、アイオド-t-ブチル、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキシ、c-プロポキシ、n-ブトキシ、i-ブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、c-ブトキシ、1-メチル-c-プロポキシ、2-メチル-c-プロポキシ、カルボキシル基、ホルミル基、メチルカルボニル、エチルカルボニル、n-プロピルカルボニル、i-プロピルカルボニル、c-プロピルカルボニル、n-ブチルカルボニル、i-ブチルカルボニル、s-ブチルカルボニル、t-ブチルカルボニル、c-ブチルカルボニル、1-メチル-c-プロピルカルボニル、2-メチル-c-プロピルカルボニル、フルオロメチルカルボニル、フルオロエチルカルボニル、フルオロ-n-プロピルカルボニル、フルオロ-i-プロピルカルボニル、フルオロ-c-プロピルカルボニル、フルオロ-n-ブチルカルボニル、フルオロ-i-ブチルカルボニル、フルオロ-s-ブチルカルボニル、フルオロ-t-ブチルカルボニル、フルオロ-c-ブチルカルボニル、フルオロ-1-メチル-c-プロピルカルボニル、フルオロ-2-メチル-c-プロピルカルボニル、クロロメチルカルボニル、クロロエチルカルボニル、クロロ-n-プロピルカルボニル、クロロ-i-プロピルカルボニル、クロロ-c-プロピルカルボニル、クロロ-n-ブチルカルボニル、クロロ-i-ブチルカルボニル、クロロ-s-ブチルカルボニル、クロロ-t-ブチルカルボニル、クロロ-c-ブチルカルボニル、クロロ-1-メチル-c-プロピルカルボニル、クロロ-2-メチル-c-プロピルカルボニル、ブロモメチルカルボニル、ブロモエチルカルボニル、ブロモ-n-プロピルカルボニル、ブロモ-i-プロピルカルボニル、ブロモ-c-プロピルカルボニル、ブロモ-n-ブチルカルボニル、ブロモ-i-ブチルカルボニル、ブロモ-s-ブチルカルボニル、ブロモ-t-ブチルカルボニル、ブロモ-c-ブチルカルボニル、ブロモ-1-メチル-c-プロピルカルボニル、ブロモ-2-メチル-c-プロピルカルボニル、アイオドメチルカルボニル、アイオドエチルカルボニル、アイオド-n-プロピルカルボニル、アイオド-i-プロピルカ��ボニル、アイオド-c-プロピルカルボニル、アイオド-n-ブチルカルボニル、アイオド-i-ブチルカルボニル、アイオド-s-ブチルカルボニル、アイオド-t-ブチルカルボニル、アイオド-c-ブチルカルボニル、アイオド-1-メチル-c-プロピルカルボニル、アイオド-2-メチル-c-プロピルカルボニル、ベンゾイル基、ｏ−メチルフェニルカルボニル基、ｍ−メチルフェニルカルボニル基、ｐ−メチルフェニルカルボニル基、α−ナフタレンカルボニル基、β−ナフタレンカルボニル基、カルバモイル基、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n-プロピルスルフィニル、i-プロピルスルフィニル、c-プロピルスルフィニル、n-ブチルスルフィニル、i-ブチルスルフィニル、s-ブチルスルフィニル、t-ブチルスルフィニル、c-ブチルスルフィニル、1-メチル-c-プロピルスルフィニル、2-メチル-c-プロピルスルフィニル、ベンゼンスルフィニル基、ｏ−メチルフェニルスルフィニル基、ｍ−メチルフェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基、α−ナフタレンスルフィニル基、β−ナフタレンスルフィニル基、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスルホニル、i-プロピルスルホニル、c-プロピルスルホニル、n-ブチルスルホニル、i-ブチルスルホニル、s-ブチルスルホニル、t-ブチルスルホニル、c-ブチルスルホニル、1-メチル-c-プロピルスルホニル、2-メチル-c-プロピルスルホニル、ベンゼンスルホニル基、ｏ−メチルフェニルスルホニル基、ｍ−メチルフェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基、α−ナフタレンスルホニル基、β−ナフタレンスルホニル基、スルホンアミド基、メチルスルホンアミド、エチルスルホンアミド、n-プロピルスルホンアミド、i-プロピルスルホンアミド、c-プロピルスルホンアミド、n-ブチルスルホンアミド、i-ブチルスルホンアミド、s-ブチルスルホンアミド、t-ブチルスルホンアミド、c-ブチルスルホンアミド、1-メチル-c-プロピルスルホンアミド、2-メチル-c-プロピルスルホンアミド、ジメチルスルホンアミド、ジエチルスルホンアミド、ジ-n-プロピルスルホンアミド、ジ-i-プロピルスルホンアミド、ジ-c-プロピルスルホンアミド、ジ-n-ブチルスルホンアミド、ジ-i-ブチルスルホンアミド、ジ-s-ブチルスルホンアミド、ジ-t-ブチルスルホンアミド、ジ-c-ブチルスルホンアミド、ジ（1-メチル-c-プロピル）スルホンアミド及びジ（2-メチル-c-プロピル）スルホンアミド等が挙げられ、好ましくは、水素原子、ニトロ基及びアセチルアミノ基等が挙げられる。
【００５３】
具体的なＷ3としては、水素原子、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル、2-メチル-c-プロピル、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキシ、c-プロポキシ、n-ブトキシ、i-ブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、c-ブトキシ、1-メチル-c-プロポキシ及び2-メチル-c-プロポキシ等が挙げられる。
【００５４】
具体的なＷ4としては、水素原子、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル、2-メチル-c-プロピル、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポキシ、c-プロポキシ、n-ブトキシ、i-ブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、c-ブトキシ、1-メチル-c-プロポキシ、2-メチル-c-プロポキシ、フェニル、o-フルオロフェニル、o-クロロフェニル、o-ブロモフェニル、o-ヨードフェニル、o-メチルフェニル、o-エチルフェニル、o-(n-プロピル)フェニル、o-(i-プロピル)フェニル、o-(c-プロピル)フェニル、o-(n-ブチル)フェニル、o-(i-ブチル)フェニル、o-(s-ブチル)フェニル、o-(t-ブチル)フェニル、o-(c-ブチル)フェニル、o-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、o-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、o-メトキシフェニル、o-エトキシフェニル、o-(n-プロポキシ)フェニル、o-(i-プロポキシ)フェニル、o-(c-プロポキシ)フェニル、o-(n-ブトキシ)フェニル、o-(i-ブトキシ)フェニル、o-(s-ブトキシ)フェニル、o-(t-ブトキシ)フェニル、o-(c-ブトキシ)フェニル、o-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、o-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、o-シアノフェニル、o-ニトロフェニル、m-フルオロフェニル、m-クロロフェニル、m-ブロモフェニル、m-ヨードフェニル、m-メチルフェニル、m-エチルフェニル、m-(n-プロピル)フェニル、m-(i-プロピル)フェニル、m-(c-プロピル)フェニル、m-(n-ブチル)フェニル、m-(i-ブチル)フェニル、m-(s-ブチル)フェニル、m-(t-ブチル)フェニル、m-(c-ブチル)フェニル、m-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、m-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、m-メトキシフェニル、m-エトキシフェニル、m-(n-プロポキシ)フェニル、m-(i-プロポキシ)フェニル、m-(c-プロポキシ)フェニル、m-(n-ブトキシ)フェニル、m-(i-ブトキシ)フェニル、m-(s-ブトキシ)フェニル、m-(t-ブトキシ)フェニル、m-(c-ブトキシ)フェニル、m-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、m-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、m-シアノフェニル、m-ニトロフェニル、p-フルオロフェニル、p-クロロフェニル、p-ブロモフェニル、p-ヨードフェニル、p-メチルフェニル、p-エチルフェニル、p-(n-プロピル)フェニル、p-(i-プロピル)フェニル、p-(c-プロピル)フェニル、p-(n-ブチル)フェニル、p-(i-ブチル)フェニル、p-(s-ブチル)フェニル、p-(t-ブチル)フェニル、p-(c-ブチル)フェニル、p-(1-メチル-c-プロピル)フェニル、p-(2-メチル-c-プロピル)フェニル、p-メトキシフェニル、p-エトキシフェニル、p-(n-プロポキシ)フェニル、p-(i-プロポキシ)フェニル、p-(c-プロポキシ)フェニル、p-(n-ブトキシ)フェニル、p-(i-ブトキシ)フェニル、p-(s-ブトキシ)フェニル、p-(t-ブトキシ)フェニル、p-(c-ブトキシ)フェニル、p-(1-メチル-c-プロポキシ)フェニル、p-(2-メチル-c-プロポキシ)フェニル、p-シアノフェニル、p-ニトロフェニル、2,3-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフェニル、2,6-ジメチルフェニル、3,4-ジメチルフェニル、3,5-ジメチルフェニル、2,3,4-トリメチルフェニル、2,3,5-トリメチルフェニル、2,3,6-トリメチルフェニル、2,4,5-トリメチルフェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、3,4,5-トリメチルフェニル、2,3,4,5-テトラメチルフェニル、2,3,4,6-テトラメチルフェニル、2,3,5,6-テトラメチルフェニル及び2,3,4,5,6-ペンタメチルフェニル等が挙げられ、好ましくは、水素原子、フェニル及びメチル等が挙げられる。
【００５５】
具体的なＷ5、Ｗ6、Ｗ7及びＷ8としては、それぞれ独立に、水素原子、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル及び2-メチル-c-プロピル等が挙げられ、好ましくは、水素原子及びメチル等が挙げられる。
【００５６】
具体的な酸化剤としては、ヨードシルベンゼン、ヨードシルメシチレン、ヨードソ安息香酸、次亜塩素酸ナトリウム、2,6-ジクロロピリジン Ｎ−オキシド、次亜塩素酸カルシウム等が挙げられ、好ましくは2,6-ジクロロピリジン Ｎ−オキシドが挙げられる。
【００５７】
次に、式（１）で表される光学活性ルテニウム錯体の製造法について説明する。
【００５８】
光学活性ルテニウム錯体の配位子となるイミン化合物（９）の原料となるサリチルアルデヒド化合物（７）の製造法を、式１に示した。［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  ５０（４１），１１８２７（１９９４）記載の方法を参考にして製造することができる。］。
式１
【００５９】
【化１１】
0004214335.tif 000007
【００６０】
［式中、Ｙ及びＲは前記に同じであり、Ｔｆ2ＮＰｈはＮ−フェニルトリフルオロメタンスルホンイミドを、ＲＭｇＢｒはグリニア試薬を、ＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）は塩化［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ニッケル（II）を、ＭＯＭＣｌはクロロメチルメチルエーテルを、（ｉ−Ｐｒ）2ＮＥｔはジイソプロピルエチルアミンを、ｔ−ＢｕＬｉはターシャリーブチルリチウムを、ＤＭＦはN,N-ジメチルホルムアミドを、ＴＭＳＢｒは臭化トリメチルシリルを意味する。］
即ち、ビナフトール誘導体（４）を、（ａ）コリジン存在下、Ｎ−フェニルトリフルオロメタンスルホンイミドを反応させて一方の水酸基をトリフレート化とし、（ｂ）塩化［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ニッケル（II）を触媒としてグリニャール試薬でＲを導入して（５）とし、次いで（ｃ）塩基性条件下、クロロメチルメチルエーテルでメトキシメチル化し、（６）とした後、（ｄ）ｔ−ブチルリチウムでのリチオ化、（ｅ）ジメチルホルムアミドでのホルミル化、（ｆ）トリメチルシリルブロミドでの脱メトキシメチル化を経てサリチルアルデヒド化合物（７）を合成する。
【００６１】
尚、光学活性なビナフトール誘導体を用いれば、同様の方法により、光学活性なサリチルアルデヒド化合物を合成することができる。
【００６２】
光学活性ルテニウム錯体の配位子となるイミン化合物（９）の製造法を式２に示した。
式２
【００６３】
【化１２】
0004214335.tif 000008
【００６４】
［式中、Ｙ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記に同じ。］
イミン化合物（９）は、サリチルアルデヒド化合物（７）とジアミン化合物（８）を脱水縮合する事により製造することができる。
【００６５】
ジアミン化合物（８）は、一般に市販品を使用することができる。
【００６６】
サリチルアルデヒド化合物（７）に対するジアミン化合物（８）の使用量としては、０．２〜２モル当量、好ましくは０．５当量程度がよい。
【００６７】
反応温度としては、特に制限がなく、−２０℃から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは０℃から５０℃の範囲がよい。
【００６８】
溶媒としては、エタノール、メタノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒が挙げられる。
【００６９】
好ましい溶媒としてはエタノール、メタノール、アセトニトリル、ジクロロメタン、トルエン、N,N-ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。
【００７０】
反応において、生成する水を除去するため脱水剤を共存させてもよい。
【００７１】
脱水剤としては、無水硫酸マグネシウム、無水ホウ酸、モレキュラーシーブ等が挙げられる。
【００７２】
脱水剤の使用量としては、生成する水に対して当モル以上存在させればよい。
【００７３】
又、生成する水を上記溶媒との共沸脱水により除去してもよい。
【００７４】
生成したイミン化合物は必ずしも反応系中から取り出す必要はなく、連続して光学活性ルテニウム錯体の製造に供するすることができる。
【００７５】
尚、光学活性なサリチルアルデヒド化合物を用いれば、同様の方法により、ビナフチル基が光学活性であるイミン化合物を合成することができる。
【００７６】
光学活性ルテニウム錯体（１）の製造法を式３に示した。
【００７７】
式３
【００７８】
【化１３】
0004214335.tif 000009
【００７９】
［式中、Ｙ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｘ1及びＸ2は前記に同じであり、Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルオキシ基（該アルキルカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アリールカルボニルオキシ基（該アリールカルボニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルオキシ基（該アルキルスルホニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、アリールスルホニルオキシ基（該アリールスルホニルオキシ基は、ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。）、ハロゲン原子、水酸基、ＰＦ6、ＣｌＯ4、ＢＦ4、ＮＯ3、１／２ＣＯ3、１／２ＳＯ4又は１／３ＰＯ4を意味する。］
光学活性ルテニウム錯体（１）はイミン化合物（９）に水素化ナトリウムを反応させて、脱プロトン化を行った後、ルテニウム化合物（１０）を反応させることにより、製造する事ができる。
【００８０】
水素化ナトリウムの使用量としては、イミン化合物に対して１．８〜３．０当量、好ましくは２．０〜２．４当量がよい。
【００８１】
水素化ナトリウムを加える温度は、−３０〜６０℃の範囲であり、好ましくは、０〜４０℃の範囲である。
【００８２】
水素化ナトリウムを加えると水素ガスが発生するが、次の反応を行う前に、水素ガスの発生が完全に終了している必要がある。
【００８３】
水素ガスが完全に終了する時間は、加える温度によって変化するが、例えば２５℃の場合、１０分〜３時間、好ましくは、３０分〜１時間反応させれば充分である。
【００８４】
溶媒は、次のルテニウム化合物との反応で用いる溶媒を使用することができる。
【００８５】
ルテニウム化合物（１０）の使用量としては、イミン化合物に対して０．５モル〜１０モル当量、好ましくは０．８モル〜２モル当量がよい。
【００８６】
反応温度としては、特に制限がなく、６０℃から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは８０℃から１３０℃の範囲がよい。
【００８７】
反応時間は、反応温度によって変化するが、例えば、１１０℃の場合、３０〜１００時間、好ましくは、４０〜６０時間がよい。
【００８８】
溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒が挙げられる。
【００８９】
好ましい溶媒としてはN,N-ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。
【００９０】
尚、ビナフチル基が光学活性であるイミン化合物を用いれば、同様の方法により、ビナフチル基が光学活性である光学活性ルテニウム錯体を合成することができる。
【００９１】
次に、式（１）の光学活性ルテニウム錯体を触媒として使用する、式（２）のオレフィン化合物の不斉エポキシ化反応による光学活性エポキシ化合物の製造法について説明する。
【００９２】
式（２）のオレフィン化合物としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−クロルスチレン、ｐ−クロルスチレン、ｏ−ブロムスチレン、ｐ−ブロムスチレン、ｏ−ニトロスチレン、ｐ−ニトロスチレン、インデン、１，２−ジヒドロナフタレン、trans-スチルベン、trans-β-メチルスチレン、cis-β-メチルスチレン及び
式（１１）
【００９３】
【化１４】
0004214335.tif 000010
【００９４】
［式中、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ5及びＷ6は前記に同じ。］
で表されるベンゾピラン誘導体等が挙げられる。
【００９５】
ベンゾピラン誘導体の具体例としては、２，２−ジメチルクロメン、６−シアノ−２，２−ジメチルクロメン、６−アセトアミド−７−ニトロ−２，２−ジメチルクロメン等が挙げられる。
【００９６】
酸化剤の使用量としては、式（１）のオレフィン化合物に対して１〜２０倍モルの範囲、好ましくは１〜１０倍モルの範囲がよい。
【００９７】
光学活性ルテニウム錯体触媒の使用量としては、オレフィン化合物に対して０．０１〜５０モル％の範囲、好ましくは、０．１〜１０モル％の範囲で充分である。
【００９８】
反応温度としては、通常−５０℃〜５０℃の範囲、好ましくは−２５℃〜３０℃の範囲がよい。
【００９９】
反応時間は、使用するオレフィン化合物、光学活性ルテニウム錯体及び酸化剤の種類にもよるが、通常０．１〜１０００時間である。
【０１００】
本反応において、３級アミン及び３級アミンＮ−オキサイド等を反応促進剤として共存させることもできる。
【０１０１】
これらの化合物としては、イミダゾール、１−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、ピリジン、４−ｔ−ブチルピリジン、４−フェニルピリジン、４−フェニルプロピルピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール−Ｎ−オキサイド、１−メチルイミダゾール−Ｎ−オキサイド、２−メチルイミダゾール−Ｎ−オキサイド、ピリジン−Ｎ−オキサイド、４−ｔ−ブチルピリジン−Ｎ−オキサイド、４−フェニルピリジン−Ｎ−オキサイド、４−フェニルプロピルピリジン−Ｎ−オキサイド、α−ピコリン−Ｎ−オキサイド、β−ピコリン−Ｎ−オキサイド、γ−ピコリン−Ｎ−オキサイド、４−ジメチルアミノピリジン−Ｎ−オキサイド等が挙げられる。
【０１０２】
３級アミン及び３級アミンＮ−オキサイドの使用量としては、オレフィン化合物に対して０．０１〜２倍モルの範囲がよい。
【０１０３】
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、フルオロベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブタノール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒等が挙げられ、好ましい溶媒としては、ジエチルエーテル、クロルベンゼン、アセトニトリル及び酢酸エチルが挙げられる。
【０１０４】
更に、これらの反応溶媒は、単独又は組み合わせて使用することもできる。
【０１０５】
反応終了後、目的物を適当な溶媒により抽出し、溶媒を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー又は蒸留等により光学活性エポキシ化合物を得ることができる。
【０１０６】
目的物の光学純度は、光学活性クロマトグラフィーカラムや旋光度によって測定することができる。
【０１０７】
【実施例】
以下、実施例により更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０８】
参考例１［光学活性イミン化合物（１２）の合成］
【０１０９】
【化１５】
0004214335.tif 000011
【０１１０】
光学活性なサリチルアルデヒド化合物（Ｙが水素原子であり、Ｒがフェニル基であるサリチルアルデヒド化合物（７）の（Ｒ）体）１．９７ｇ（５．２５ｍｍｏｌ）及び(1S,2S)-(+)-1,2-ジアミノシクロヘキサン３００ｍｇ（２．６３ｍｍｏｌ）をエタノール６０ｍｌに溶解し、室温で４時間攪拌した。
生じた黄白色沈殿を濾取し、少量のエタノールで洗浄後、減圧下で乾燥し、目的の光学活性イミン化合物（１２）２．０９ｇ（収率９６．０％）を黄白色固体として得た。
【０１１１】
実施例１［光学活性ルテニウム錯体（１３）の合成］
【０１１２】
【化１６】
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【０１１３】
Ｒｕ(ＮＯ)Ｃｌ3・ｎＨ2Ｏ １５９ｍｇ（３水和物として０．５４４ｍｍｏｌ）をN,N-ジメチルホルムアミド１．８ｍｌに溶解し、１１０℃で４時間加熱した。
減圧下溶媒を留去した後、残査にN,N-ジメチルホルムアミド３．６ｍｌを加え、Ｒｕ(ＮＯ)Ｃｌ3の溶液を調製した。
水素化ナトリウム１９．２ｍｇ（０．８００ｍｍｏｌ）をN,N-ジメチルホルムアミド３．６ｍｌに加え、攪拌後、光学活性イミン化合物（１２）３００ｍｇ（０．３６３ｍｍｏｌ）を加えた。
水素が発生し、混合物は透明な橙色溶液へと変化した。
３０分攪拌後、得られた橙色溶液を先に調製したＲｕ(ＮＯ)Ｃｌ3の溶液に加え、１１０℃で４８時間攪拌した。
反応混合物を室温まで戻し、穏やかに加温しながら減圧下で溶媒を留去した。
残査をジクロロメタンに溶解し、水（３回）及び飽和食塩水（１回）で洗浄した。
有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。
得られた粗生成物をジクロロメタン−アセトニトリルより２回再結晶することにより、目的の光学活性ルテニウム錯体（１３）１６３ｍｇ（４５％）を赤褐色結晶として得た
【０１１４】
IR（KBr）：3049, 2930, 2860, 1851, 1820, 1662, 1614, 1579, 1319, 754cm-1元素分析
測定値  H, 4.73%; C 72.16%; N, 4.25%
計算値  H, 4.53%; C 72.03%; N, 4.20%
【０１１５】
実施例２[6-アセトアミド-2,2-ジメチル-7-ニトロクロメンのエポキシ化]
6-アセトアミド-2,2-ジメチル-7-ニトロクロメン（０．１ｍｍｏｌ）、1-ブロモナフタレン（内部標準物質）及びジエチルエーテル１ｍｌよりなる溶液に光学活性ルテニウム錯体（１３）（２ｍｏｌ％）を加えた。
この溶液に2,6-ジクロロピリジン Ｎ−オキシド（０．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間攪拌した。
溶液を素早くシリカゲルを通して濾過し、濾液を減圧下溶媒を留去し、ＮＭＲにてエポキシ化合物の収率を決定した。（収率５４％）
残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液  n-ペンタン／ジエチルエーテル＝５０／１）に付し、対応するエポキシ化合物を得た。
エポキシ化合物の光学純度は、ＨＰＬＣにて決定した。
【０１１６】
不斉収率９８％ｅｅ（ＤＡＩＣＥＬ  ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＪ，ヘキサン：イソプロパノール＝１：１）。
又、標準品との比較により、エポキシ化合物の絶対配置は、3S,4Sであった。
【０１１７】
実施例３〜７（各種オレフィン化合物のエポキシ化）
実施例２と同様の方法により実施例３〜７を行った。
【０１１８】
【化１７】
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【０１１９】
【発明の効果】
本発明の新規な光学活性ルテニウム錯体を使用することにより、cis-及びtrans-オレフィン化合物から、高い光学純度で、光学活性な医薬品やその中間体として有用な光学活性エポキシ化合物を製造することができる。