(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクが、第１シェル及び第２シェルを備えるカートリッジ内に収容され、
第１シェル及び第２シェルの各々が内面と外面とを有し、
ライナに対してディスクが回転することによってディスクをきれいにするフレキシブル磁気記録ディスク（16）の織物ライナ（14，18）を支持するためのリフターを形成するための方法であって、該方法が、
a）形成された高さを有する隆起リブ（430）をリフターとして第１シェル（420）の内面（421）上に有する第１シェル（420）を準備するステップと、
b）隆起リブ（430）を変形させることによって制御した高さに隆起リブ（430）の高さを調節するステップと、を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
隆起リブ（430）の高さを調節するステップは、形成された高さから制御した高さに隆起リブ（430）の高さを減少させるステップを備えていることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
隆起リブ（430）の高さを調節するステップは、隆起リブ（430）の長さに沿って、滑動する点接触の角度を持った表面工具（450）を動かすステップを備えていることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、フレキシブル磁気記録ディスクカートリッジに関し、特に、接触して、カートリッジにおけるディスクをきれいにするためにカートリッジにおける織物ライナを持ち上げるためのリフターに関する。
背景技術
フロッピー磁気記録ディスクとは、その各面には磁気ヘッドによって情報が記録される磁気層を有する、ポリエステル樹脂等からなるフレキシブルなディスクである。89mm以下の直径を有するフロッピーディスクは、マイクロフロッピーディスクとして知られている。通常、マイクロフロッピーディスクは、カートリッジを形成する硬いケーシングに収容される。マイクロフロッピーディスクは、その中心でハブを有する薄い円形の磁気記録メディアを備える。
カートリッジは、通常、ケーシングの両方の内面上に織物ライナを含む。ディスクが回転する間、ライナは、記録表面上の破片を除去するために、ディスクの記録表面と接触する。ライナの幅は、ディスクの記録領域の幅と少なくとも等しく、ライナは、ケーシングの内面に固定されたリフターによって、記録表面の全幅に強制的に対向している。
従来技術のマイクロフロッピー磁気記録ディスクカートリッジ10を、図1に示している。カートリッジ10は、フロッピー磁気記録ディスク16を同封する2つのカートリッジシェル12A，20Aからなる。各シェル12A，20Aは、それぞれ、それらの内面上にディスク16形状に近い織物ライナ14，18を有する。従来技術のリフター22は、シェル20Aの内面に付着するとともに、織物ライナ18上に圧力を加えるためにある角度に曲げられている材料の分離シートの形で与えられる。その圧力によって、織物がディスク16にすれ合うようになり、それがカートリッジ10内で回転するとき、ディスクをきれいにする。フロッピーディスク16の回転に対するリフター22、及び織物ライナ14，18によって与えられる抵抗量は、リフターがシェル20Aからある角度で曲げられている程度を調節することによって、製造時に調節される。
発明の概要
リフター22のような、従来技術のリフターは、少なくとも2つの不利な点がある。第1に、そのようなリフターはカートリッジシェルからの分離片であり、分離して形成する必要がある。そして、シェルの内面上に正しく位置決めされなければならず、例えば、接着剤または超音波溶接によってシェルに固定しなければならない。第2に、リフターがケーシングに対してある角度で上方へ曲げられ、やがて、リフターが疲労して、その角度が徐々に減少するので、ディスクの回転に対して加えられたトルクが減少するのと同様に、磁気フロッピーディスクをきれいにする力が減少する。
従来技術のリフターの不利な点を解決するために、本発明に係るリフターは、カートリッジの1つのシェルと物理的且つ化学的に一体化した隆起リブを備える。このように、それは、シェルに対して、形成、位置決め、又は別々に固定されていない。それは、ディスク寿命にわたって疲労しない。したがって、洗浄性を維持してディスク回転時のトルクがより一様になる。
1つの見地において、本発明は、フレキシブル磁気記録ディスクの織物ライナを支持するためのリフターを含み、その結果、ライナに対してディスクが回転することによってディスクをきれいにして、ディスクは、第1及び第2シェルを備えるカートリッジ内に収容され、各々が内面と外面を備え、リフターは、第1シェルの内面上に形成された細長い隆起リブを備え、リブは、第1シェルの内面と物理的且つ化学的に一体化されており、リブは、第1シェルの内面上に制御した高さを有する。
別の見地において、本発明は、フレキシブル磁気記録ディスクの織物ライナを支持するためのリフターを提供するものであり、その結果、ライナに対してディスクが回転することによってディスクをきれいにして、ディスクは、第1及び第2シェルを備えるカートリッジ内に収容され、各々が内面と外面とを有し、リフターは、第1シェルの内面に形成された通常半径方向の細長い隆起リブを備えており、リブは、第1シェルの内面と物理的且つ化学的に一体化されていており、凹んだ領域が第2シェルに形成され、第1及び第2シェルが嵌合しているとき、凹んだ領域は第1シェルにおけるリブから対向している。
別の見地において、本発明は、フレキシブル磁気記録ディスクの織物ライナを支持するための成形リフターを提供するものであり、その結果、ライナに対してディスクが回転することによってディスクをきれいにして、ディスクが、第1及び第2シェルを備えるカートリッジ内に収容され、各々が内面と外面とを有する。本発明は、第1シェルの内面に形成された細長い隆起リブを備えており、リブは、第1シェルの内面と物理的且つ化学的に一体化されており、リブの高さは、第1シェルの内面上に約0.4〜0.9ミリメートルであり、隆起構造が第2シェルの内面に形成され、隆起構造は、第1シェルの内面と物理的且つ化学的に一体化されており、第1及び第2シェルが嵌合されるとき、隆起構造は、第1シェルにおけるリブから接線方向に段をつけている。
本発明は、第1及び第2シェルと、織物ライナを支持するためのリフターと、第1及び第2シェルの間にフレキシブル磁気記録ディスクを有するフレキシブル磁気記録ディスクカートリッジも提供するものであり、その結果、ライナに対してディスクが回転することによってディスクをきれいにして、リフターは、第1シェルの内面に形成された通常半径方向の細長い隆起リブを備え、リブは、第1シェルの内面と物理的且つ化学的に一体化されており、凹んだ領域が第2シェルに形成され、第1及び第2シェルが嵌合しているとき、凹んだ領域は第1シェルにおけるリブから対向している。
本発明は、フレキシブル磁気記録ディスクの織物ライナの支持用リフターの形成方法を提供するものであり、その結果、ライナに対してディスクが回転することによってディスクをきれいにして、ディスクが、第1及び第2シェルを備えるカートリッジ内に収容され、各々が内面と外面とを有し、その方法は、その内面上に隆起リブを有する第1シェルを与えるステップであって、リブが形成された高さを有するステップと、リブの変形によって制御した高さに隆起リブの高さを調節するステップとを備える。好ましくは、リブの高さは、常温成形によって調節される。その方法は、第1シェルにおけるリブに対向する、第2シェルにおけるくぼみを与えることを含むことができる。本発明のこれらと他の特徴、及び利点は、添付図面に記載している。
【図面の簡単な説明】
本発明は、添付図面によってさらに理解されるであろう。
図1は、従来技術のマイクロフロッピー磁気記録ディスクカートリッジの等距離画法による拡大図である。
図2，3は、それぞれ、本発明に係る、1つの磁気記録ディスクカートリッジのバックシェルとカバーシェルとの内面の平面図である。
図4は、本発明に係る、1つの成形リフターを示す図2の4-4線で切断した横断面図である。
図5，6は、それぞれ、本発明に係る1つの磁気記録ディスクカートリッジのバックシェルとカバーシェルとの内面の平面図である。
図7は、本発明に係る1つの成形リフター示す図5の7-7線で切断した横断面図である。
図8は、本発明に係る1つの成形リフターを示す横断面図である。
図9，10は、それぞれ、本発明に係る1つの磁気記録ディスクカートリッジのバックシェルとカバーシェルとの内面の平面図である。
図11は、本発明に係る1つの成形リフターを示す図9の11-11線で切断した横断面図である。
図12は、本発明に係る一つ成形リフターの高さを調節する一つ方法を示す概略図である。
図13は、本発明に係る1つの方法によって調節されるように、制御した高さを有する成形リフターの模式的な断面ダイアグラムである。
図14は、本発明に係る1つの磁気記録ディスクカートリッジのバックシェルの内面の平面図である。
図15は、図14における15-15線で切断した部分拡大横断面図である。
図16は、図14における16-16線で切断した部分拡大横断面図である。
図17は、本発明に係る1つの磁気記録ディスクカートリッジのバックシェルの内面の平面図である。
図18は、図17における18-18線で切断した部分拡大横断面図である。
図19は、図17における19-19線で切断した部分拡大横断面図である。
詳細な説明
本発明は、カートリッジにおけるメディアをきれいにするために制御した高さを有する成形リブの形のリフターを有する磁気記録ディスクカートリッジ及びその製造方法を提供する。本発明において、「制御した高さ」という用語は、シェルの内面に、リブの高さを調節するために変形した後の成形リブの高さを意味する。言い換えると、リブは、まず所望の最終高さの近くの高さに成形され、制御した高さを有するために成形した後に変形される。成形プロセス後にリブを変形させることによって、リブ高さの精度を増大させることができ、カートリッジ内でメディアを回転させるために必要なトルク制御が良くなる。
図2，3は、本発明に係るリフターを組み込んでいるカートリッジシェルの1つの実施形態の内面を示している。図2はバックシェル20の内面を示し、図3はカバーシェル12の内面を示す。バックシェル20は、カートリッジのメディアコンパートメントの内側周囲を規定するリブ24とコンパートメントの外側周囲を規定するリブ26とを含む。磁気記録メディア16は、最も内側のデータ収容トラック28と最も外側のデータ収容トラック32とを有する。
本発明に係る隆起リブ30は、好ましくは、最も内側のデータ収容トラック28から最も外側のデータ収容トラック32までのメディア16の記録可能な部分の幅に及ぶ。リブ30はカートリッジシェル20の内面上に位置決めされ、2つのシェルが一緒に組立てられるとき、それはシェル12（図3に示す）の内面上の隆起構造40上に直接に存在しない。リブ30と隆起構造40との関係は、図2に示しており、隆起構造40を想像線で示している。リブ30と隆起構造40の1部分との横断面を、図4に示している。
シェル12における隆起構造40は、好ましくは、シェル12の内面上に延在している、ずらりと並んだ接線方向のリッジを備える。しかしながら、隆起構造40が、代わりに、環状又は同心のリッジ、通常平らな固体の盛り上がった表面等からなることは、理解されるであろう。隆起構造40に主として必要なことは、リブ30と協力して、メディア16を曲げるために作用して、回転する間、過大なトルクなしでメディア16を十分にきれいにすることである。
隆起リブ30は、好ましくは、約0.5mm〜約1.0mmより好ましくは約0.6〜0.9mm、最も好ましくは約0.81mmの、シェル20の内面21上に制御した高さを有している。これらの制御した高さが、必要ならば、以下に詳述するように、リブ高さの後調整である。隆起リブ30は、約0.4〜約0.5mmの幅を内面21上のそのベースに有する。リブ30の側面がシェル20とともに最初に形成されるとき、リブ30の側面はリブ30上にピークを形成するために、好ましくは、テーパを付ける。両面はお互いの方に向かうテーパを備えており、シェル20の内面21上に約0.38mmで開始して、図4に示すように、それらが所望の高さで約60°の角度αで一緒になることが、好ましい。
隆起構造40は、好ましくは、図4に示すように、隆起リブ30から約3.8mmの間隔があいている。隆起構造40は、好ましくは、約10の隆起リッジがずらりと並んだ形で与えられ、各々のリッジは、約0.38〜約0.48mm、より好ましくは約0.41〜約0.46mm、最も好ましくは約0.43mmの高さをシェル12の内面13上に有している。
組み立てたあと、制御した高さリブ30の上部と隆起構造40の上部とは、約0.1〜約0.2mm、より好ましくは約0.18mmの、高低差xを規定する。図4に示すように、制御した高さリブ30と隆起構造40との高低差によって、メディア部分がリブ30上と隆起構造40下を動く（回転する間）ときに、メディア16がS型形状に強制的に曲がる。メディア16の1部分が、リブ30上を動くとき、リブ30に面するメディアの面は、織物ライナ18によってきれいにされる。メディアの同じ部分16が隆起構造40の下を動くとき、隆起構造40に面するメディア面は、織物ライナ14によってきれいにされる。この構成の利点は、リブ30と隆起構造40との形成における製造公差を相対的に広げることができる間、メディア16をきれいにすることを提供することである。
図5〜7は、本発明の変形例を示す。図5はバックシェル120の内面を示し、図6はカバーシェル112の内面を示す。バックシェル120は、カートリッジのメディアコンパートメントの内側周囲を規定するリブ124とコンパートメントの外側周囲を規定するリブ126とを含む。磁気記録メディア116は、最も内側のデータ収容トラック128と最も外側のデータ収容トラック132とを有する。
本発明に係る制御した高さを有する隆起リブ130は、好ましくは、最も内側のデータ収容トラック128から最も外側のデータ収容トラック132までメディア116の記録可能な部分の幅に及ぶ。リブ130はカートリッジシェル120の内面上に位置決めされており、2つのシェルが一緒に組立てられるとき、それがシェル112（図7に示す）の内面上の隆起構造140に形成されたくぼみ142上に直接存在する。隆起構造140における制御した高さリブ130とくぼみ142との関係は、図5に示されており、くぼみ142と隆起構造140とを想像線で示している。制御した高さリブ130と隆起構造140の1部分との横断面を、図7に示している。
くぼみ142と直接一致している隆起リブ130を位置決めすることによって、シェル112，120は、使用又は取り扱い中に一緒になっているならば、リブ130によるメディア116の永久歪み（すなわち、へこむこと）が防止される。
シェル112における隆起構造140は、好ましくは、シェル112の内面113上に位置決めされた通常平らなプラットホームを備える。制御した高さリブ130を受け入れるためのくぼみ142は、そのプラットホームに形成され、メディア116（及び織物ライナ114，118）を圧縮したり、永久変形（すなわち、メディアをへこませる）させることなく、リブ130を受け入れるぐらい十分に深いことが好ましい。シェル112，120が一緒にプレスされるとき、制御した高さリブ130のピークとくぼみ142との間のクリアランスは、好ましくは、約0.20mm以上であり、好ましくは約0.25mmである。しかしながら、クリアランス距離は、メディアおよび／あるいは織物ライナの厚さに基づいて変化することができる。
隆起構造140を通常平らなプラットホームとして示しているが、隆起構造140は、隆起リブ130を受け入れるための凹んだ領域を含むリッジ又は他の不連続な構造の列を備えることができることは理解されるであろう。リッジの列が与えられるならば、各々のリッジは、隆起リブ130の高さを低くして、隆起構造140の1部分を形成するリブ130とリッジとの間での、メディア116の圧縮を防ぐ。
図5，7に示すように、リブ130は、好ましくは、シェル120の内面121の残部上に位置決めされる通常隆起したプラットホーム131に形成される。プラットホーム131は、好ましくは、リブ130の両面（接線方向に）上に位置決めされ、より好ましくは、シェル112上に隆起構造140と通常同一の広がりをもっている。
通常平らな隆起構造140、くぼみ142、隆起リブ130、及び隆起リブ130を囲む通常平らなプラットホームを与えることによって、図示した構成は、取扱っている間メディア変形に至らせる、メディア116とシェル112，120との間でのいかなる集中した点接触も避ける。
図8は、図5〜7に示した構成の別の変形例を示す。図中、くぼみ242がシェル212の内面213に形成され、制御した高さリブ230がシェル220の内面221から直接延在する。代わりに、くぼみ又は隆起リブは、所望のように、それぞれのシェルの内面上に位置決めしたプラットホームの上又は中に設けることができる。
制御した高さを有する隆起リブ130/230と対向するシェルでの対応するくぼみ142/242とを組み込んでいる実施形態において、隆起リブ130/230は、好ましくは、約0.4mm〜約0.9mm、より好ましくは約0.5〜約0.8mm、最も好ましくは約0.6mmの、シェルの内面上に制御した高さを有する。リブ130をそのようなプラットホーム（例えば131）上に位置決めするならば、その高さはプラットホームの高さを含む。これらの高さは、以下に詳細に示すように、必要に応じて、製造時に、制御した高さにリブを後調整する。
隆起リブ130/230は、好ましくは、そのベースで約0.4〜約0.5mmの幅を有しており、図7，8に示すようにリブ上のピークを形成するテーパにより、調整前に、好ましくは、最初に形成される。両面がお互いの方に向かってテーパを備えており、図7に示すように、約60°の角度βを形成するために合うことは、好ましい。
図7，8を参照すると、リブ上を動く（回転する間）とき、隆起リブ130/230とくぼみ142/242との配置によってメディア116/216が強制的に曲がる。メディア116/216の1部分がリブ130/230上を動くとき、リブ130/230に面するメディア面は、織物ライナ118/218によってきれいにされる。メディア116/216の同じ部分がくぼみ142/242の後縁143/243を通りすぎて動くとき、くぼみ142/242に面するメディア面が織物ライナ114/214によってきれいにされる。この構成の利点は、リブ130/230とくぼみ142/242との形成における製造公差を相対的に広くすることができている間、メディア116/216を洗浄することを提供することである。
制御した高さリブ130は、好ましくは、くぼみ142から、少なくとも約0.5mm、より好ましくは約0.4〜約0.6、最も好ましくは約0.5mmの距離yで、間隔があいている。
図9〜11は、メディア洗浄を有効にするために、成形リフターに組み込まれている、本発明の別の変形例を示す。図9はバックシェル320の内面を示し、図10はカバーシェル312の内面を示す。バックシェル320は、カートリッジのメディアコンパートメントの内側周囲を規定するリブ324とコンパートメントの外側周囲を規定するリブ326とを含む。磁気記録メディア316は、最も内側のデータ収容トラック328と最も外側のデータ収容トラック332とを有する。
少なくとも2つの隆起リブ330a，330cは、シェル320の内面321上に位置決めされ、好ましくは、最も内側のデータ収容トラック328から最も外側のデータ収容トラック332までの、メディア316の記録可能な部分の幅に及ぶ。対向するリブ330bは、対向するシェル312の内面313上に位置決めされ、好ましくは、最も内側のデータ収容トラック328から最も外側のデータ収容トラック332までの、メディア316の記録可能な部分の幅に及ぶ。シェル312，320を組立てるとき、リブ330bは、好ましくは、リブ330a，330cの間に位置決めされる（図11に示す）。シェル320におけるリブ330a，330cとシェル312におけるリブ330bとの関係を、図9に示しており、リブ330bを想像線で示している。リブ330a，330b，及び330cは通常メディア316の半径方向に向いており、カートリッジを組立てるとき、各々のリブが、近隣のリブ又はリブから約12°の角度で間隔があいていることは、好ましい。リブ330a，330b，及び330cが、好ましくは、通常半径方向に向いているけれども、メディア316上の記録領域の幅がリブ上のメディアの偏りによってきれいにされるならば、それらがあらゆる所望な方向に存在できることは理解されるであろう。
リブの横断面を図11に示す。その図において、メディアは、好ましくは、右側から左側へ回転する。すなわち、回転しているメディア316上の与えられた点は、最初にリブ330aを通過し、続いてリブ330bを通過し、最後にリブ330cを通過する。リブ330a、330b、及び330cの少なくともひとつが、そのそれぞれの内面上に制御した高さを有し、所望のレベル内にメディア316の回転トルクを制御している間、メディア316を所望のようにきれいにすることは、好ましい。
隆起リブ330aは、シェル320の内面321上に制御した高さを備える。シェル320の内面321上にあるリブ330aの高さは、好ましくは、約0.5mm〜約1.0mm、より好ましくは約0.6〜約0.9mm、最も好ましくは約0.81mmである。これらの高さは、必要であるならば、以下に詳細に記載するように、リブ高さの後調整である。隆起リブ330aの幅は、内面321上のそのベースで約0.4〜約0.5mmである。リブ330aの側面がシェル320とともに最初に形成されるとき、リブ330aの側面は、好ましくは、テーパを付けて、リブ330a上にピークを形成する。シェル320の内面321上に約0.38mmで開始して、両面がお互いの方へテーパを付けることは、好ましい。シェル320は、図11に示すように、それらが所望の高さで約60°の角度αで、一緒になる。
リブ330aの高さは、好ましくは、リブ330aのピークを変形することによって調節され、所望の高さを持つ仕上げリブを与える。リブ330aを変形するために用いられる様々な方法を、以下に詳細に記載する。しかしながら、この結果、リブ330a及び、本発明に係る制御した高さを備える他のあらゆるリブのピークは、変形される。
それらのリブ、例えば、リブ330aのように、製造後にその高さが制御されないリブ330b，330cに対する、内面313，321上のリブ330b，330cのそれぞれの高さは、約0.13〜約0.37mm、より好ましくは約0.18〜約0.32mm、最も好ましくは約0.25mmである。
制御した高さリブ330a上、及び、リブ330b下のメディア316の運動は、所望の洗浄作用に有効であり、メディア316を回転するのに必要なトルク制御に寄与する。リブ330a，330bのピーク間の垂直方向の間隔z（図11参照）は、好ましくは、約0.13〜約0.37mmであり、より好ましくは約0.25mmである。
上述した実施形態のすべてにおいて、カートリッジは制御した高さを有する少なくともひとつの隆起リブを含む。その隆起リブは、メディアが回転するとき、制御可能なトルクを与えるのと同時に、磁気記録メディアを適切にきれいにするのに必要な所望の持ち上げ作用を与える。隆起リブの制御した高さを得る方法を、以下の図12と関連して記載している。
普通のディスケットカートリッジを製造する間、アセンブリーラインから離れて動いている仕上げディスケットカートリッジは、定期的にテストされて、メディアを回転するのに必要なトルクが、プロセス制御公差（仕様）、すなわち通常15〜21グラム-cm内であるかどうかを測定する。トルクが低くすぎる（又は低くなってきている）ならば、従来のリフター22（図1参照）の傾斜の角度は、アセンブリーライン上の未仕上げのディスケットカートリッジ上で増大することができ、これにより、リフターと織物ライナとによって回転メディア上に引き出された抗力を増大させる。反対に、トルクが高すぎる（または高くなってきている）ならば、従来のリフター22の傾斜角度は、アセンブリーライン上で未仕上げのディスケットカートリッジ上で減少させることができ、これにより抗力を減少させる。
シェルにおいて成形される隆起リブによって従来のリフター22を置き換える1つの潜在的な不利な点は、成形された特徴の公差上の限界のために、製造時にトルクの制御能力が失なわれると予想されることである。しかしながら、本発明者は、隆起リブリフター、及び、リブが形成されたあとリブの高さを正確に制御できる製造方法を提供することによってこの問題を解決している。
図12を参照すると、図12は、シェル420の内面421上のリブ430高さの制御方法を示す。リブ430は、カートリッジシェルと同時に成形され、理想的な平均高さと思われる高さよりわずかに高くなっている。成形したときのリブ430の高さは、予想した理想的な高さよりわずかに高いことが好ましい。シェル420と共に成形されるリブ430の上部は、好ましくは、図4,7，及び11に示すように、最も高くて受け入れ可能な高さと予想されるところから約60°の角度でピークからテーパを有している。
アセンブリープロセスの間、リブ430の上部は、リブ430の長さに沿って、滑動する点接触の角度を持った表面工具450を動かすことによって変形され、その結果、シェル420の内面421に対するその高さが予想された理想的な平均高さまで減少する。このことは、「常温の成形」リブ430として本明細書に記載している。リブ430に対する工具面452の角度γは、好ましくは、約10°であり、変形プロセスの間の工具速度は約100mm/秒である。1つの好ましい材料が硬化した工具鋼であるけれども、工具450は、あらゆる適切な材料からも製造することができる。シェル420及び工具450は、好ましくは、このプロセスの間、周囲温度（すなわち約20℃）で保持される。
リブ430の変形結果を、図13に示す。図は、リブ材料の置換を示すとともに、成形時にリブ430に元々形成されたピークから鈍くなっている、変形後のリブ430の横断面を含む。リブ430の高さにおけるその元々の高さ（想像線で示す）からの減少を、図13においてｄとして示している。その距離dは、好ましくは約0.05mm以上であり、より好ましくは、約0.05〜約0.1mmである。
このプロセスに基づく変形例は、単一ブローにおける平らな工具で全体のリブを打つことを含むが、それはシェルの外側表面上に凹部を生み出すことができる。リブ430および／あるいは工具450は、リブ高さの制御が容易になるように加熱することができる。さらに、リブ高さの調整が容易になるように化学薬品を用いることができる。
アセンブリーラインから離れて来ている仕上げディスケットカートリッジが定期的にテストされて、メディアを回転させるのに必要なトルクの高低について測定される。トルクが低くすぎる（または低くなってきている）ならば、アセンブリーライン上の未仕上げディスケットカートリッジ上のリブの制御した高さは、内面421に対して工具450を持ち上げることによって増大することができる。これにより、リブ430上を回転する間、メディア上の抗力とトルクとを増大させる。反対に、トルクが高過ぎる（または高くなってきている）ならば、アセンブリーライン上の未仕上げディスケットカートリッジ上のリブの高さは、内面421に対して工具450を下げることによって減少させることができ、これにより、リブ430上を回転する間、メディア上の抗力とトルクとを減少させる。
リブ高さを制御するための常温成形に適切な、シェルとリブとの製造用の材料は、ディスクカートリッジ用に用いられるエンジニアリング等級の樹脂である。適切な樹脂の例は、スチレン（アクリロニトリルブタジエンスチレンを含む）、ポリプロピレン、及び複合樹脂であるが、これらに限定されない。他の材料が、本発明に係るシェル及び成形リブを形成するためにも用いることができる。
材料の選択は、材料物性に基づく高さの制御方法に影響を与えることができる。使用する材料及びプロセスが、破壊することなく塑性変形をして、リブに対してなめらかな制御した高さを与えることは、好ましい。
図14〜16は、本発明と関連して有用な成形リフターの別の変形例を示す。図14は、バックシェル520のみの内面521を示し、このバックシェル520がディスクカートリッジを形成するためにあらゆる適切なカバーシェルと嵌合することは理解されるべきである。バックシェル520に有用なカバーシェルのための有用な構成の1つの実施例は、上記の図6に示したカバーシェル112である。
バックシェル520において、本発明に係る制御した高さを有する隆起リブ530は、好ましくは、メディアの記録可能な部分の幅に及ぶ。リブ530の端部534は、図15に示すように、好ましくは、ある角度に曲げられており、上述した常温成形プロセスが容易になる。リブ530は、その断面図が、例えば図7に上記のように示されるピークを形成しないという点においていくぶん異なっている。むしろ、リブ530は、成形時に通常鈍角か又は平らな上部532を有するが、上述したような制御した高さリブを与えるためにさらに変形される。
上述した隆起リブのように、隆起リブ530は、好ましくは、カートリッジシェル520の内面521上に位置決めされ、その結果、2つのシェルが一緒に組立てられるとき、それは、嵌合しているカバーシェルに形成された対応するくぼみ、例えば、シェル112の内面上に隆起構造140に形成されたくぼみ142の直接上に存在する。カバーシェルにおけるくぼみが、リブ530でメディアを圧縮することなくリブ530を収納するのに十分な深さを有する状態で、隆起リブ530を直接ラインに位置決めすることによって、シェルが使用又は取り扱いの間に強制的に一緒にされているならば、リブ530によるメディアの永久歪み（すなわち、へこむこと）は防がれる。
隆起リブ530は、好ましくは、バックシェル520の内面521から直接延在しており、好ましくは、一対の隆起プラットホーム531a，531b（一般に「プラットホーム531」として参照される）によって、側面に位置している。プラットホーム531が、好ましくは、リブ530の両面（接線方向に）上に位置決めされ、好ましくは、リブ530と同様に半径方向に延在する。上記の図5，7におけるリブ130に関連して記載したプラットホーム131と違って、プラットホーム531は、図14，16に示すように、間隔があけられているか、隆起リブ530から分離されている。カートリッジシェルが圧縮されるならば、単一の隆起プラットホーム131がシェル120にある、すなわち、それらによって隆起リブ530がメディアの変形又は、くぼませることを防止するので、隆起プラットホーム531が、同じ機能を与える。さらに、好ましい隆起プラットホーム531は、なめらかな上面を有しており、メディアも変形可能な集中した点接触を与えることを避ける。隆起プラットホーム531が嵌合しているカバーシェルにおけるあらゆる隆起プラットホーム（例えば、カバーシェル112におけるプラットホーム140）と、通常同一の広がりを有することは、さらに好ましい。
プラットホーム531が間隔をあけられているか、又は隆起リブ530（バックシェル520の内面521から直接延在する）から分離されているので、隆起リブ530は、通常、製造プロセスの間、上述したように大きく変形されているので、ライナによってメディア上に配置された抗力にわたって柔軟性と制御とを改良する。リブ530が隆起プラットホーム上に位置決めされていないので、リブ530を大変形させることが可能であるが、むしろ、それが、バックシェル520の内面521から直接延在する。この結果、その高さ（1つの好ましい実施形態においては0.86mmである）の全て又はほとんど全てが、本明細書に記載した方法によって低減されて、所望の制御した高さを得られる。しかしながら、例えば、図5，7におけるリブ130の変形量は、プラットホーム131の高さによって制限される。
さらに、バックシェル620の別の実施形態を、図17〜19に示す。上述した隆起リブ530のように、バックシェル620に形成された隆起リブ630は、好ましくは、バックシェル620の内面621から直接延在する。
しかしながら、バックシェル520とバックシェル620との間の1つの相違点は、バックシェル520の隆起プラットホーム531la，531bの各々が、上述したバックシェル520と関連して用いられた隆起プラットホーム531と同様の機能を多くの点で与える複数の隆起プラットホーム631によって置換されるということである。言い換えると、複数の小さな隆起プラットホーム631は、隆起リブ630がメディアを変形することを通常防止する。さらに、シェルが一緒にプレスされるならば、複数の小さな隆起プラットホーム631は、好ましくは、プラットホーム631それ自身によってメディア変形に至る、メディアとシェルとの間の集中した点接触を避けるために、平らな上面を含む。
複数の小さなプラットホーム631の各々の分布は、好ましくは、メディアの半径方向の幅を越えて延在し、嵌合するカバーシェルに形成された対向プラットホーム（もしあるならば）に、通常、対応するけれども、それらは、多分に設計選択事項である。1つの好ましい実施形態において、小さなプラットホーム631は、通常、ベースにおいて約0.89mm／辺の方形であり、規則正しい約0.25mmの間隔があいている。プラットホームの垂直面は、好ましくは、型からの開放を容易にするために、約10度の抜き勾配φ（図19参照）を有する。
大きなプラットホーム（例えば、バックシェル120と関連して記載されるプラットホーム131又はバックシェル520と関連して記載されるプラットホーム531）の代わりに、複数の小さなプラットホーム631を与える利点の一つは、冷却後の変形を低減することである。発明者は以下の理論によって限定されるべきではないと希望する。しかしながら、大きな固体プラットホーム又はプラットホームのために必要な材料の大きな質量が、シェルを変形することができる仕上部分における残留応力（冷却速度が異なることによる）となることは推測される。所望の機能（すなわち、メディアに対する隆起リブ630の圧縮を防ぐ）を実行するために必要な材料量を減らすことによって、残留応力は、成型時のシェル冷却をうまく制御することによって低減される。
図16,19に示した複数のプラットホームにおける各々のプラットホーム631が、方形であり、規則正しい（すなわち、繰り返しの）パターンを与えるけれども、それ自身とメディアとの間の集中した点接触を避けるものの、隆起リブによってメディアの圧縮を妨げている所望の機能を与える、複数の隆起構造のあらゆるパターン（繰り返し又は非繰り返し）は、本発明のラインの中にあることを理解されるべきである。方形のプラットホームの図示パターンに置換できる他のプラットホーム形状の実施例は、間隔をあけられた円筒状のプラットホームの規則的又は不規則なパターン、平らにされた上面を持つリッジの規則的又は不規則なパターン等を備えるが、これに制限されるものではない。
本発明の様々な変形例は、本発明の範囲から逸脱することなく当業者に明らかである。本発明が、本明細書で説明した実施形態及び方法に過度に制限されるべきでないことは、理解されるべきである。
【図１】
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【図４】
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【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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