(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトリソグラフィでパターンを形成するためにウエハーにフォトレジスト液を塗布する方法において、
外周縁に前記ウエハーの側面と離間するように形成された傾斜面を有し、前記ウエハーとほぼ同じ外形であるウエハー配置溝を形成したベースプレートにウエハーを配置する工程と、
開口を有する押さえマスクを前記ベースプレートの上面に配置し、開口部端面で前記ウエハーの側面を保持し、かつウエハー押さえ部で前記ウエハー上面を押さえる工程と、
フォトレジスト液を塗布する工程を有することを特徴とするウエハーのフォトレジスト液塗布方法。
【請求項２】
前記ウエハー配置溝の深さが前記ウエハーの厚みより１０ないし２０μｍ浅く形成されている請求項１記載のウエハーのフォトレジスト液塗布方法。
【請求項３】
前記ウエハーが円板状である請求項１または２に記載のウエハーのフォトレジスト液塗布方法。
【請求項４】
前記ウエハーが楕円板状である請求項１または２に記載のウエハーのフォトレジスト液塗布方法。
【請求項５】
前記ウエハーが水晶である請求項１ないし４のいずれか１項記載のウエハーのフォトレジスト液塗布方法。
【請求項６】
前記ウエハーがシリコンである請求項１ないし４のいずれか１項記載のウエハーのフォトレジスト液塗布方法。
【請求項７】
前記押さえマスクが金属からなり、前記ベースプレートが内蔵している磁石により前記押さえマスクを固定する請求項１に記載のウエハーのフォトレジスト液塗布方法。
【請求項８】
フォトリソグラフィでパターンを形成するためにウエハーにフォトレジスト液を塗布する装置において、
外周縁に前記ウエハーの側面と離間するように形成された傾斜面を有し、前記ウエハーとほぼ同じ外形であるウエハー配置溝を形成したベースプレートと、
前記ベースプレートの上面に配置され、前記ウエハーの側面を保持する開口部と、前記ウエハー上面を押さえるウエハー押さえ部を有する押さえマスクと、を有することを特徴とするウエハーのフォトレジスト液塗布装置。
【請求項９】
前記ウエハー配置溝の深さが前記ウエハーの厚みより１０ないし２０μｍ浅い請求項８記載のウエハーのフォトレジスト液塗布装置。
【請求項１０】
前記押さえマスクが金属からなり、前記ベースプレートが、前記押さえマスクを固定する磁石を内蔵している請求項８に記載のウエハーのフォトレジスト液塗布装置。
【請求項１１】
フォトリソグラフィでパターンを形成するためにウエハーにフォトレジスト液を塗布する装置用の部品としてのベースプレートであって、外周縁に傾斜面を有しウエハーとほぼ同じ外形のウエハー配置溝を有することを特徴とするウエハーのフォトレジスト液塗布装置用部品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトリソグラフィでウエハーにパターンを形成するために、特に、外形が円板状の水晶またはシリコンウエハー（以下ウエハーという）に、フォトレジスト液を塗布する方法ならびにウエハーのフォトレジスト液塗布装置および該装置用部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトリソグラフィでウエハーに微細な水晶の外形パターンやＩＣ回路パターンを形成するには、ウエハーの正確な位置合わせが必要である。そこで、従来、図2に示すように、位置決めを次のように行ってフォトレジスト液をウエハーに塗布した。
【０００３】
（１） ウエハーに押さえマスク３および位置決めプレート４の固定用磁石５を内蔵したベースプレート２に、位置決めプレート４で、ウエハー１を正確に位置決めをして配置する。
（２） 押さえマスク３で、ウエハー１を保持する。
（３） ウエハー１を配置したベースプレート２を回転体にセットして、フォトレジスト液を、ウエハー押さえマスク３を介して、ウエハー１に噴射塗布する。
【０００４】
【本発明が解決しようとする課題】
しかし、このような従来の方法では、次のような問題があった。
（１） 位置決めプレート４が角窓となるため、ウエハー１の芯出し（中心位置の設定）が困難である。
（２） 工程中、位置決めプレート３はベースプレート２に固定されているが、ベースプレート２との隙間にフォトレジスト液６が毛細管現象により侵入して滞留する。この滞留したフォトレジスト液６が、液塗布工程中に染み出してきてウエハー１を汚染する。
【０００５】
（３） このため、ウエハー位置決めプレート４を取り外して清掃する必要があり、その都度工程を停止しなければならない。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者は、ウエハー位置決めプレートがウエハー汚染の原因であること着目して本発明を完成するに至った。以下、本発明をウエハーへのフォトレジスト液塗布方法を中心に説明し、該装置ならびに該装置用部品については該方法に使用する装置および部品としてあわせて説明する。本発明によれば、次の構成によりフォトレジスト液をウエハーに塗布する。
【０００７】
（１） 押さえマスクを固定する磁石を内蔵し、かつ、ウエハーの外径とほぼ同一の溝外径を有しその外周縁が傾斜面であるウエハー配置溝を形成したベースプレートに、ウエハーを配置する。
（２） 該ウエハーを、押さえ部を有するマスクで固定して、フォトレジスト液を塗布する。
【０００８】
このように構成した本発明では、次の理由により上記課題を解決することが出来る。
▲１▼  ベースプレートの溝が、ウエハーとほぼ同じ外形であり、また、溝の端部の外縁が傾斜面であるので、ウエハーを配置するだけで容易に芯出しをすることができる。従来のように位置決めプレートを使用する必要がない。
【０００９】
▲２▼  そこで、一工程後、ウエハー押さえマスクを取り外して清掃すれば充分であり、従来のように長時間に渡り工程を停止して清掃する必要がない。
【００１０】
【発明の実施の形態】
発明の実施の形態を実施例にもとづき図面を参照して説明する。
図1は、本発明を説明する断面図である。
（１） 水晶ウエハー１は楕円形であって、Ｘ軸方向の寸法が約76.２ｍｍ、Ｙ軸方向の寸法が約７４.２５ｍｍで、Ｚ軸方向にインゴットより切り出す。ポリシング後の厚みは１３０μｍのものである。
【００１１】
（２） ベースプレート２はアルミニュウム製であって、上記水晶ウエハー１を配置することができるような外形および寸法に形成されたウエハー配置溝８を複数個（通常は１ないし２）有する。該溝８の深さは、配置するウエハーより１０ないし２０μｍ浅く形成する。溝の外周縁は、図面で示すように、断面の上部から下部にかけての傾斜面９が形成されている。また、ベースプレート２には、複数のサマリウム・コバルト製焼結磁石５が配置されており、ウエハー押さえマスク３を磁力により固定する。
【００１２】
（３） ウエハー押さえマスク３は、ウエハー押さえ部７を複数箇所突出させたフォトレジスト液塗布用の開口部を有するステンレスプレートである。
（４） 次に、塗布工程を説明する。先ず、ベースプレート２の溝８に水晶ウエハー１を配置する。溝8の外周縁の傾斜面９のために、水晶ウエハーを配置すると自然に芯出しをすることができる。次に、ウエハー押さえマスク３をベースプレート２にセットし、押さえ部７でウエハーを保持する。次に、水晶ウエハー１を配置したベースプレート２を回転体などに複数セットして回転させ、ウエハー押さえマスク３を介してフォトレジスト液を噴射塗布する。
【００１３】
塗布終了後、ベースプレート２よりウエハー押さえマスク３を取り外してフォトレジスト液を塗布した水晶ウエハー１を容器などに収納する。この後、ベースプレート２などを清掃すればよい。
なお、本発明は、円板状や楕円板状のウエハーへのフォトレジスト液の塗布において特に顕著な効果を発揮する方法並びに装置および部品であるが、本発明の主旨に沿うものであれば上記実施例に限定されない。
【００１４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ウエハーを容易に位置決めすることができ、かつ、フォトレジスト液の滞留による悪影響を防止することができるので、量産上多大な効果をもたらすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を説明する図。
【図２】従来の方法を説明する図である。
【符号の説明】
１    ウエハー
２    ベースプレート
３    ウエハー押さえマスク
４    ウエハー位置決めプレート
５    磁石
６    滞留フォトレジスト液
７    押さえ部
８    ウエハー配置溝
９    傾斜面
【図１】
0004209505.tif 000002
【図２】
0004209505.tif 000003