(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光対象物を載置する基台と露光すべきパターンを描いたマスクと該マスクを保持するマスク保持装置とを備えた露光装置において、
前記マスクと露光対象物が密着する時に該マスクと露光対象物との間に介在し、前記マスクと露光対象物に密着する露光波長透過性の保護フィルムと、
所定露光毎に該保護フィルムの新たな部分を前記マスクと露光対象物に介在させるように、前記保護フィルムを移動可能に保持する装置と、を備え、
前記保護フィルムは前記マスクと露光対象物が密着する時以外は、前記マスクと露光対象物に非密着であり移動可能であり、
前記保護フィルムにより、前記マスクと露光対象物の直接接触を防止して、異物の前記マスクへの付着を防止する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記保持する装置が前記保護フィルムを巻き取る巻取装置である、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
露光対象物に露光すべきパターンを描いたマスクを密着させて露光を行う露光方法において、
前記露光対象物とマスクが密着する時に該マスクと露光対象物との間に露光波長透過性保護フィルムを介在させ、該保護フィルムを前記マスクと露光対象物に密着させて露光作業を行い、
該保護フィルムを所定露光毎に前記マスクと露光対象物が密着しない時に、該保護フィルムの新たな部分を前記マスクと露光対象物に介在させるように、前記保護フィルムを移動し、
該保護フィルムにより、前記マスクと露光対象物の直接接触を防止して、異物の前記マスクへの付着を防止する、
ことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プリント配線基板の導体のパターンを形成するために、形成すべきパターンを描いた原版を用いて光を投影露光することにより感光レジストを塗布したプリント配線基板に原版と同一のパターンを描くフォトリソグラフィー法が用いられるようになってきている。
このような露光方法において、マスクと基板の密着が不十分であると投射された光が回り込みパターンの幅が一定にならない等の問題を生じるため、マスクと基板を密着させることが極めて重要である。
マスクと基板を密着させるために、従来はマスクと基板を機械的に密着させた後に、マスクと基板の間を吸引して負圧にするか、マスクの背面側を加圧してマスクと基板の密着を図っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、マスクと基板を密着させる際に、基板に付着した異物や塗布された感光レジストがマスク側に付着することがあり、該マスク側の付着物により次の焼き付けの際にパターン欠陥が生じる問題があった。このような異物の付着による欠陥はマスクと露光対象物を密着或いは近接させて露光を行う場合に常に生じる問題であり、従来よりこの問題の解決が望まれていた。
またマスクと基板を密着させることにより、マスク表面に傷をつける可能性がある等の問題もあった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は露光対象物を載置する基台と露光すべきパターンを描いたマスクと該マスクを保持するマスク保持装置とを備えた露光装置において、前記マスクと露光対象物が密着する時に該マスクと露光対象物との間に介在し、前記マスクと露光対象物に密着する露光波長透過性の保護フィルムと、所定露光毎に該保護フィルムの新たな部分を前記マスクと露光対象物に介在させるように、前記保護フィルムを移動可能に保持する装置と、を備え、前記保護フィルムは前記マスクと露光対象物が密着する時以外は、前記マスクと露光対象物に非密着であり移動可能であり、前記保護フィルムにより、前記マスクと露光対象物の直接接触を防止して、異物の前記マスクへの付着を防止する、ことを特徴とする。
露光時にマスクと露光対象物を密着させても、該保護フィルムにより露光対象物側の異物やレジストなどがマスク側に付着することがなく、後の焼き付けにおいて欠陥が生じることがない。また、該保護フィルムは新たな部分を介在させるように移動可能であるから、常に正常なフィルムを介在させることができ、保護フィルムによる汚染も防止できる。また、保護フィルムは常態では、マスクと露光対象物とは非密着常態であるから、該保護フィルムの移動も円滑に且つ簡単に行える。
前記保持する装置としては、保護フィルムを巻き取る巻取装置を用いるのが望ましく、所定露光毎に該保護フィルムを巻き取ることにより新たなフィルム部分に交換し、連続的な同一欠陥を生じない露光を行える。
更に本発明は、露光対象物に露光すべきパターンを描いたマスクを近接又は密着させて露光を行う露光方法において、前記露光対象物とマスクが密着する時に該マスクと露光対象物との間に露光波長透過性フィルムを介在させ、該保護フィルムを前記マスクと露光対象物に密着させて露光作業を行い、該保護フィルムを所定露光毎に前記マスクと露光対象物が密着しない時に、該保護フィルムの新たな部分を前記マスクと露光対象物に介在させるように、前記保護フィルムを移動し、該保護フィルムにより、前記マスクと露光対象物の直接接触を防止して、異物の前記マスクへの付着を防止する、ことを特徴とする。この方法により連続的な同一欠陥を生じない露光を行える。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なおここではフィルムマスクを用いる場合について説明するが、ガラスマスク等を用いる場合にも、本発明は適用可能である。
図１において、基台であるプラテン２０上に載置された露光対象物であるプリント配線図の基板Ｋに所定のパターンを描いたフィルムマスクＦを密着させて光源２１からの露光により、フィルムマスクＦ上のパターンを基板Ｋに焼き付けるように構成されている。
【０００６】
プラテン２０はＸ、Ｙ、Ｚ方向に移動可能になっており、またθ方向に回動して基板ＫとフィルムマスクＦの位置合わせを行えるように構成されている。基板ＫとフィルムマスクＦの位置合わせはＣＣＤカメラ２２により目視或いは画像認識により行われる。
【０００７】
フィルムマスクＦはマスク保持装置１０に保持されている。このマスク保持装置１０の上には加圧フィルムＰが設けられており、流体源３０からの流体圧により加圧フィルムＰを膨らませて、フィルムマスクＦを基板Ｋに対して押圧して密着させるように構成されている。
【０００８】
露光の際には、プラテン２０をＸ、Ｙ、θ方向に移動させてＣＣＤカメラ２２によりフィルムマスクＦと基板Ｋの位置合わせを行った上、プラテン２０をＺ方向に上昇させて基板ＫをフィルムマスクＦに接触させ、次いで加圧フィルムＰの背面側に流体源３０から流体を導入して、フィルムマスクＦを基板Ｋに密着させ、この状態で光源２１からの露光を行うように構成されている。
【０００９】
マスク保持装置１０とプラテン２０の間に保護フィルム１が介在するように構成されている。保護フィルム１はプラテン２０に載置される基板Ｋの上側に位置し、フィルムマスクＦが基板Ｋに密着する際にフィルムマスクＦが直接基板Ｋに接触せず、基板Ｋの異物や感光レジスト等がフィルムマスクＦに付着するのを防ぐように構成されている。
保護フィルム１は光源２１の露光波長を透過する材質から構成されており、露光の透過を阻害しないようになっている。
【００１０】
保護フィルム１は基板Ｋ全体を覆う大きさになっているが、必要に応じてそれよりも大きくしても良いし、或いは基板Ｋの一部分を覆うようにすることも可能である。
【００１１】
保護フィルム１は一端側を繰出しロール２に巻かれており、他端側を巻取りロール３に巻き取られ、該巻取りロール３をモータ４により回転駆動することにより保護フィルム１の入れ替えを行えるようになっている。
【００１２】
この実施形態ではモータ４は装置全体を制御する制御装置（図示せず）により制御されており、露光が終了し、次の基板Ｋが搬入される前に巻取りロール３の巻取が行われて、基板Ｋ一枚に相当する面積或いはこれを超える面積分が入れ替るようになっている。これにより常に新しい保護フィルム１がフィルムマスクＦと基板Ｋの間に介在するように構成されている。
【００１３】
図２に動作を示す。新たな基板Ｋが導入されると（Ａ）、位置合わせ後プラテン２０が上昇してフィルムマスクＦと基板Ｋが密着する。その際保護フィルム１がフィルムマスクＦと基板Ｋの間に介在する（Ｂ）。そのため、基板Ｋに感光レジストや異物があっても、これは保護フィルム１に付着し、フィルムマスクＦに付着することがない（Ｃ）。そして、巻取りロール３に保護フィルム１を巻取り、新たなきれいな保護フィルム１をフィルムマスクＦと基板Ｋの間に介在させる（Ｄ）。
【００１４】
以上の実施形態では、保護フィルム１によりフィルムマスクＦはレジストや異物等により汚れることがなく、露光欠陥の発生を抑制することが可能になる効果がある。また、フィルムマスクＦと基板Ｋが直接接触することがないため、フィルムマスクＦ表面に傷をつける等の危険がない。
【００１５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の露光装置及び露光方法によれば、露光対象物の異物などがマスクに付着することがなく、露光欠陥の発生を抑制でき、またマスク表面に傷をつける危険がない等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す正面図。
【図２】本発明の一実施形態の動作を示す模式図。
【符号の説明】
１：保護フィルム、２：繰出しロール、３：巻取りロール、４：モータ、１０：マスク保持装置、２０：プラテン、２１：光源、２２：ＣＣＤカメラ、３０：流体源、Ｋ：基板、Ｆ：フィルムマスク、Ｐ：加圧フィルム。
【図１】
0004308351.tif 000002
【図２】
0004308351.tif 000003