(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる光学特性の膜同士を交互に成膜して支持体に多層膜を形成する成膜手段と、
前記支持体及びこれの上に成膜された多層膜の透過率を測定するための測定手段と、
測定された前記透過率が減少に転じると、前記多層膜の一部における前記成膜手段による成膜を終了させる制御手段と、
測定された前記透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去する除去手段と、
を備える
光学部品の製造装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記支持体から最も離れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率のより高い膜の膜厚を制御する請求項１に記載の光学部品の製造装置。
【請求項３】
成膜手段により、異なる光学特性の膜同士を交互に成膜して多層膜を支持体上に形成する際に、少なくとも前記多層膜の一部を成膜しながら、前記支持体及び前記多層膜の透過率を測定手段によって測定する測定ステップと、
測定された前記透過率に基づいて制御手段により前記成膜手段を制御し、前記多層膜の一部において、測定された透過率が減少に転じると、成膜される前記多層膜の一部における前記成膜手段による成膜を終了させる制御ステップと、
前記測定手段によって測定された光の平均透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去手段によって除去する除去ステップと、
を有する
光学部品の製造方法。
【請求項４】
前記制御手段は、前記支持体から最も離れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率のより高い膜の膜厚を制御する請求項３に記載の光学部品の製造方法。
【請求項５】
前記成膜はＡｒガス及び酸素ガス雰囲気中においてスパッタによって行い、前記ガス圧力を１．６Ｐａとする請求項３又は４に記載の光学部品の製造方法。
【請求項６】
前記支持体は、ポリエチレンナフタレートによって構成される請求項３〜５のいずれかに記載の光学部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、支持体に多層膜を成膜して光学部品を製造するための光学部品の製造装置及び製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ダイクロイックミラー等の光学薄膜を形成した光学部品において良好な光学特性を実現するためには、少なくとも１０層の光学薄膜を形成する必要がある。光学薄膜は、低屈折率材料のＭｇＦ2 やＳｉＯ2 等及び高屈折率材料のＴｉＯ2 やＮｂ2 Ｏ5 等により構成される。通常のバッチプロセスで光学薄膜を形成して作製される光学部品は、真空装置内で蒸着やスパッタリング等の薄膜形成方法により光学薄膜原材料を蒸発させて、これをガラス基板等の透明部材上に直接成膜し作製される。
【０００３】
従来の光学部品の製造方法としては、例えば特開平１１−１１９００２号公報に示された薄膜形成方法を利用したものがある。
この薄膜形成方法では、フィルム等の支持体に光学薄膜を成膜しつつ、例えば光学モニタにより所定の透過特性を満たすように各層毎の膜毎にそれぞれの膜厚を調整しつつ、全体として予め光学設計された薄膜構成となるように光学薄膜を連続的に支持体に成膜していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、特開平１１−１１９００２号公報に示された薄膜形成方法では、例えばフィルム等の支持体に連続的に光学薄膜を成膜する際に、各層の膜厚を正確に測定する手段がなかった。このため、調整して成膜したつもりの光学薄膜の膜厚が正確でなく、また製造した光学部品が光学薄膜の理想的な膜厚からのずれにより理想的な光学特性を発揮しないばかりでなく、製造した光学部品間において光学特性のばらつきが生じていた。
【０００５】
例えば図１４に示すように、従来の薄膜形成方法によって光学薄膜を通常の速度で成膜すると、膜厚の変化によって光学部品の光学特性が大きく変化してしまう。尚、図１４において「７４．７６ｎｍ」、「９４．７６ｎｍ」、「１１４．７６ｎｍ」は、それぞれ光学薄膜の膜厚を示している。また、光学薄膜を通常の速度より落として形成した場合であっても、図１５に示すように膜厚によって光学特性が大きく変化してしまう。尚、図１５において「０ｎｍ」、「６５．５ｎｍ」、「９７．３ｎｍ」、「１１２．４ｎｍ」は、それぞれ光学薄膜の膜厚を示している。
また、光学薄膜は、各層毎にその膜厚が調整されるので、成膜に手間がかるという問題点もあった。
【０００６】
そこで本発明は上記課題を解消し、好適な光学特性を発揮し、容易に安定して製造できる光学部品の製造装置及び製造方法を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、請求項１の発明にあっては、異なる光学特性の膜同士を交互に成膜して支持体に多層膜を形成する成膜手段と、前記支持体及びこれの上に成膜された多層膜の透過率を測定するための測定手段と、測定された前記透過率が減少に転じると、前記多層膜の一部における前記成膜手段による成膜を終了させる制御手段と、測定された前記透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去する除去手段と、を備える光学部品の製造装置により、達成される。
【０００８】
上記目的は、請求項３の発明にあっては、成膜手段により、異なる光学特性の膜同士を交互に成膜して多層膜を支持体上に形成する際に、少なくとも前記多層膜の一部を成膜しながら、前記支持体及び前記多層膜の透過率を測定手段によって測定する測定ステップと、測定された前記透過率に基づいて制御手段によって前記成膜手段を制御し、前記多層膜の一部において、測定された透過率が減少に転じると、成膜される前記多層膜の一部における前記成膜手段による成膜を終了させる制御ステップと、前記測定手段によって測定された光の平均透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去手段によって除去する除去ステップと、を有する光学部品の製造方法により、達成される。
【０００９】
請求項１又は請求項３のいずれかの構成によれば、それぞれ支持体には、成膜手段によって例えば１層ずつ多層膜が成膜されている。多層膜が支持体に成膜された構成の光学部品の光学特性は、測定手段によって測定される。制御手段は、測定された光学部品の光学特性に基づいて成膜手段を制御し、成膜される多層膜の一部の膜厚を制御する。この多層膜の一部を光学部品の光学特性に最も影響を与える部分とすれば、光学部品は、好適な光学特性を発揮するように形成される。また、多層膜は、その一部の膜厚が制御されるのみであるので、容易に膜厚制御が行われる。従って、光学部品は、好適な光学特性を発揮し、複数製造されても光学特性にばらつきがなく安定した製品となる
【００１０】
また請求項１における前記測定手段は、前記光学部品の透過率を測定しており、前記制御手段は、測定された前記光学部品の透過率が減少に転じると、前記多層膜の一部における前記成膜手段による成膜を終了させることを特徴とする。
請求項３の発明において前記測定手段は、前記光学部品の透過率を測定しており、前記制御手段は、測定された前記光学部品の透過率が減少に転じると、前記多層膜の一部における前記成膜手段による成膜を終了させることを特徴とする。
請求項１又は請求項３のいずれかの構成によれば、それぞれ測定手段は光学部品の透過率を測定している。制御手段は、測定された光学部品の透過率が減少に転じると、多層膜の一部における成膜手段による成膜を終了させる。従って、光学部品には、好適な光学特性を発揮する多層膜が支持体に成膜される。
【００１１】
さらに請求項１の発明は、測定された前記光学部品の透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去するための除去手段を有することを特徴とする。
また請求項３の発明は、前記測定手段によって測定された光の平均透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去手段によって除去する除去ステップを有することを特徴とする。
請求項１又は請求項３のいずれかの構成によれば、それぞれ除去手段は、測定手段によって測定された光学部品の透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去し、この膜の膜厚を微調整することができる。従って、光学部品は、さらに正確に好適な光学特性を発揮するように製造される。
【００１２】
請求項２の発明は、請求項１の構成において、前記制御手段は、前記支持体から最も離れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率のより高い膜の膜厚を制御することを特徴とする。
請求項４の発明は、請求項３の構成において、前記制御手段は、前記支持体から最も離れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率のより高い膜の膜厚を制御することを特徴とする。
請求項２又は請求項４のいずれかの構成によれば、それぞれ多層膜は、異なる屈折率の複数の膜が交互に成膜されたものである。制御手段は、支持体から最も離れた最表面に近い膜であって、交互に成膜される複数の膜のうち屈折率のより高い膜の膜厚を制御する。上述の支持体から最も離れた最表面に近い膜であって、交互に成膜される複数の膜のうち屈折率のより高い膜は、光学部品の光学特性に影響が大きいことを本願発明者らが見出した。このため、制御部がこの膜の膜厚を制御することで、光学部品は好適な光学特性を発揮して形成可能となった。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
図１は、本発明の好ましい実施形態としての光学薄膜形成装置１の構成例を示す平面図である。
光学薄膜形成装置１（光学部品の製造装置）は、高分子フィルム等の支持体上に光学薄膜を成膜するための光学部品の製造装置である。この光学部品の一例としては、例えばプロジェクションテレビに用いられるダイクロイックミラーの他、ＵＶ−ＩＲフィルター（紫外線、赤外線カットフィルター）、バンドパスフィルター等が挙げられる。以下の説明では、光学部品はダイクロイックミラーであると例示して説明する。
【００１４】
光学薄膜形成装置１は、例えば送りロール４（成膜手段）、巻き取りロール６（成膜手段）、ガイドロール５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆ（成膜手段）、プラズマ電極８（成膜手段）、蒸発源７ａ，７ｂ（成膜手段）及び光学モニタ１０（測定手段）を有し、ガス導入バルブ９及び真空排気装置２が設けられている。また、光学薄膜形成装置１は、好ましくは除去手段２７をも有する。
光学薄膜形成装置１内には、例えば支持体３ａを送りロール４からガイドロール５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆを経由して巻き取りロール６に定速で走行させる走行装置（成膜手段）を配設する。プラズマ電極８は、支持体３ａの脱ガス等の前処理装置として、ガイドロール５ａ及び５ｂ間に配置された支持体３ａに対向して配設されている。蒸発源７ａ，７ｂは、例えばスパッタリング装置を用いており、光学薄膜原材料としてＳｉ及びＮｂ等のターゲットをそれぞれガイドロール５ｄに対向して２個配設している。
【００１５】
上述のように光学薄膜形成装置１には、ガス導入バルブ９が設られており、スパッタにおいては、アルゴン（Ａｒ）ガス及び酸素ガス等の反応ガスの導入流量を調節できるようになっている。ガイドロール５ｄは、図示を省略するが、成膜時に支持体３ａの温度上昇を防止するために冷却される構造になっている。
【００１６】
この光学モニタ１０は、例えば支持体３ａの表面に光学薄膜が成膜された光学部品の光学特性を測定する。測定する光学特性としては、例えば光学部品の光の透過率、好ましくは平均透過率である。この光学モニタ１０が光学薄膜形成装置１に設けられていることで、光学薄膜形成装置１は、複数の光学薄膜が成膜された多層膜が形成された光学部品の光の平均透過率を正確に測定することができる。
【００１７】
除去手段２７は、制御部２５の制御によって、例えば光学モニタ１０によって測定された光の平均透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された余分な膜を除去するためのものである。このような構成とすることで、光学薄膜形成装置１は、上述の余分な膜を除去し、この膜の膜厚を微調整することができる。これにより、光学薄膜形成装置１は、好適な光学特性を発揮する光学部品を製造することができる。
【００１８】
図２は、図１の光学モニタ１０の構成例を示すブロック図である。
光学モニタ１０は、例えば光源１０ｃ、光学ヘッド１０ｇ及び分光器１０ｄを有し、好ましくは切り替え器１０ｆが設けられている。これらは、例えば分光器１０ｄと制御部２５とを接続する信号線を除いて、それぞれ光ファイバー等の光通信線によって接続されている。
光学ヘッド１０ｇは、発光部１２及び受光部１３を有する。発光部１２は、波長が例えば４５０〜７００ｎｍの連続発光が可能な光源（波長が例えば４５０〜７００ｎｍの連続スペクトルを持つ光源）であり、例えばＬＥＤ（ＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）である。受光部１３は、波長が例えば４５０〜７００ｎｍの連続スペクトルが検出可能な分光部であり、例えばフォトダイオードである。発光部１２及び受光部１３は、例えば走行する支持体３ａを挟んで互いに対面する位置に設けられている。発光部１２は例えば光源１０ｃに接続されており、光源１０ｃは、原則として一定の光量の光を供給する。また、発光部１２及び光源１０ｃの間には、好ましくは例えば切替器１０ｆから伸びる光通信線１０ｂが接続されている。光学ヘッド１０ｇは、所定の光量の光を発光部１２に供給するためのものである。
【００１９】
受光部１３は、例えば分光器１０ｄと接続されており、好ましくは分光器１０ｄとの間に、光通信線１０ｂが接続された切替器１０ｆが設けられている。受光部１３は、発光部１２から発光された光の内支持体３ａを透過した分の光を受光するためのものである。切替器１０ｆは、光源１０ｃの光量のばらつきを光通信線１０ｂを経由して検知している。従って、分光器１０ｄは、例えば光源１０ｃの光量がばらついたとしても、増減した光量を考慮して発光部１２の発光量に対する受光部１３の受光量の割合を検知することができる。
【００２０】
分光器１０ｄは、制御部２５とも接続されており、制御部２５の制御を受けている。分光器１０ｄは、発光部１２から発光された光の内支持体３ａを透過した光の割合（透過率）を演算している。分光器１０ｄは、切替器１０ｆの機能によって正確に透過率を演算することができる。演算された透過率は、例えば制御部２５に引き渡される。
【００２１】
制御部２５では、引き渡されたその透過率（平均透過率でも良い）に基づいて光学部品に成膜される多層膜の一部の膜厚を制御する。制御部２５は、例えば光学部品に成膜される多層膜の内、支持体から最も離れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率のより高い膜（図３におけるチューニング層３２）の膜厚を制御する。このチューニング層３２は、例えば後述する異なる屈折率の膜同士でなる多層膜における屈折率の高い膜であるので、光学部品の光学特性に影響が大きい。このため、制御部２５がこの膜の膜厚を制御することで、光学部品は好適な光学特性を発揮するようになる。
【００２２】
図３は、図１の光学薄膜形成装置１によって形成される光学部品の断面の一例を示す断面図である。
光学部品は、例えば下層から支持体３ａ、ハードコート層３ｂ、低屈折層３ｃ’及び多層膜３０で構成されている。多層膜３０は、低屈折層３ｃ及び高屈折層３ｄが繰り返した構成でなる。多層膜３０を構成する各層は、それぞれ１層ずつ成膜される。従って、光学部品は、ハードコート層３ｂ付き支持体３ａに低屈折率層３ｃ’を介し、低屈折層３ｃと高屈折層３ｄとを交互に合計例えば２１層成膜してなる。
【００２３】
以下では、多層膜３０におけるチューニング層３２の位置を上述のように決定する検証を行う。
図４〜図１１は、それぞれ波長に対する透過率分布の一例を示す特性図であり、横軸が波長［ｎｍ］を示しており、縦軸が透過率［％］を示している。また、図４〜図１１において光学特性を示す各線の右に記載された数値は、チューニング膜３２の膜厚を示している。
【００２４】
図４（Ａ）は、支持体３ａに対して垂直方向から入射した光についての光学特性に関するものであり、光学モニタ１０での出力結果を示す光学特性の一例である。図４（Ｂ）は、支持体３ａに対して垂直方向から４５゜傾斜して入射した光についての光学特性に関するものであり、作成された光学部品（この説明においては例えばダイクロイックミラー）の光学特性の一例である。
尚、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）〜図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）では、それぞれ図４（Ａ）及び図４（Ｂ）と、上述の条件については同様である。
【００２５】
図４〜図７は、それぞれ上述の説明のように多層膜３０の下層から、低屈折率層３ｃ，高屈折率層３ｄ，低屈折率層３ｃ，・・・，高屈折率層３ｄ，低屈折率層３ｃの順で成膜される場合の波長に対する透過率特性を示している。チューニング層３２は、図４では第１８層、図５では第１９層、図６では第２０層、図７では第２１層としている。
【００２６】
これらの光学特性を参照すると、ダイクロイックミラーの光学特性から低屈折率層３ｃよりも高屈折率層３ｄの方が膜厚変化により光学特性が変化することがわかる。さらには、光学モニタ１０での出力結果（図４（Ａ）〜図７（Ａ））から、第２０層目の高屈折率層３ｄでは、透過帯域の波長（４５０〜５５０ｎｍ）において理想膜厚の時に透過率のピーク値が来る。これに対して、第１８層目の高屈折率層３ｄでは、理想膜厚の時に透過率がピーク値とはならないことがわかる。
【００２７】
図８〜図１１は、それぞれ上述の説明とは異なり多層膜３０の下層から、高屈折率層３ｄ，低屈折率層３ｃ，高屈折率層３ｄ，・・・，低屈折率層３ｃ，高屈折率層３ｄの順で成膜されるとしてシミュレーションを行った場合の波長に対する透過率特性を示している。チューニング層３２は、図８では第１８層、図９では第１９層、図１０では第２０層、図２０では第２１層としている。
【００２８】
これらの光学特性を参照すると、ダイクロイックミラーの光学特性から低屈折率層３ｃよりも高屈折率層３ｄの方が膜厚変化により光学特性が変化することがわかる。さらには、光学モニタ１０での出力結果（図４（Ａ）〜図７（Ａ））から、第２１層目の高屈折率層３ｄでは、透過帯域の波長（４５０〜５５０ｎｍ）において理想膜厚の時に透過率のピーク値が来る。これに対して、第１９層目の高屈折率層３ｄでは、理想膜厚の時に透過率がピーク値とはならないことがわかる。
【００２９】
これらのシミュレーションからもわかるように、チューニング層３２は、光学部品に成膜される多層膜３０の内、支持体３ａから最も離れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率のより高い膜３ｄとすることが望ましい。
【００３０】
光学部品の製造装置は以上のような構成であり、次に図１〜図３、図１２及び図１３を参照しながらその光学部品の製造方法の一例について説明する。
まず、光学薄膜形成装置１内では、例えば厚さ１８８μm のポリエチレンナフタレートを材質とする支持体３ａを、送りロール４にセットして送りロール４からガイドロール５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆを経由して巻き取りロール６に巻き取るようにする。
【００３１】
次に、光学薄膜形成装置１は、Ａｒガス及び酸素ガスの流量を調節しつつ、Ｓｉのターゲットの蒸発源７ａをスパッタさせてＳｉＯx （ｘは、例えば２以下の正数）を支持体３ａに形成する。次に、光学薄膜形成装置１は、Ｎｂのターゲットの蒸発源７ｂ、Ｓｉのターゲットの蒸発源７ａとを交互にスパッタさせて、Ａｒガス及び酸素ガスの流量を調節しつつ、光学モニタ１０により所定の透過率特性を満たすように膜厚を調整しつつ、予め光学設計された薄膜構成の光学薄膜のＳｉＯ2 とＮｂ2 Ｏ5 を例えば１層づつ例えば２１層形成する（ＳｉＯx はＳｉＯ2 に含める）。
【００３２】
また、光学薄膜成膜のときに、スパッタのＡｒガス及び酸素ガスの流量をガス導入バルブ９により調節して圧力を変化させ、光学薄膜の応力が小さくなるような条件に設定する。例えば通常のスパッタ条件は圧力が０．３Ｐａ程度であるが、これを１．６Ｐａ程度にすることにより、ＳｉＯ2 とＮｂ2 Ｏ5 の応力のバランスを調整しつつ光学薄膜全体の内部応力を小さくし、フィルム状の支持体３ａのカールを低減することができる。
【００３３】
支持体３ａは、予め光学薄膜形成面にはハードコート層を形成し、また、光学薄膜形成面の反対面に接着剤層と接着剤層上に保護フィルムを形成したものを使用する。例えばポリエチレンナフタレートの支持体３ａは、耐熱性があり熱変形が小さいので成膜時に光学薄膜を均一に成膜することができる。例えば、ポリエチレンナフタレートのガラス転移点は１１０℃であり、ポリエチレンテレフタレートの６９℃と比べて耐熱性に優れるものと推察される。
【００３４】
次に、透明部材として、例えば幅５ｃｍ、長さ８．７５ｃｍ、厚さ１ｍｍの板状ガラスを用意する。上記の光学薄膜を形成した支持体３ａは、例えば接着剤を介して上記透明部材にラミネート接合され、板状ガラスの外形形状に裁断される。これにより、例えばプロジェクションテレビ用のダイクロイックミラーに適用した光学部品が完成する。尚、透明部材は予め接着剤層と接着剤層上に保護フィルムを形成したものを使用しても良い。
【００３５】
このように、高品質の光学部品（光学フィルタ）を安定的に製造するには、光学モニタ１０が必須である。
図１２は、光学モニタ１０を使用し、膜厚を少しずつ厚くしたときの平均透過率のシミュレーションの一例を示す図であり、図１３は、光学モニタ１０の有無による最終透過率分布の違いの一例を示す図である。
図１２は、チューニング層３２の膜厚が一例として２０μｍ前後変化した場合の結果であり、垂直に光が入射した場合での計算となっている。チューニング層３２は、例えば９４．７６ｎｍが理想膜厚であり、その特性は７４．７６ｎｍから膜厚を徐々に増やすと平均透過率は上昇して９４．７６ｎｍ程度においてピークを迎える。また、その特性は、さらにチューニング層３２の膜厚を増やすと平均透過率が減少に転じることがわかる。また、図１３では、光学モニタ１０を使用することにより、透過帯域波長（４５０〜５５０ｎｍ）の平均透過率が７％前後も上昇し、高品質の光学部品を作成することができる。
【００３６】
本発明の実施形態によれば、好適な光学特性を発揮する光学部品を容易に安定して製造することができる。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、好適な光学特性を発揮し、容易に安定して製造できる光学部品の製造装置及び製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好ましい実施形態としての光学薄膜形成装置の構成例を示す平面図。
【図２】図１の光学モニタの構成例を示すブロック図。
【図３】図１の光学薄膜形成装置によって形成される光学部品の断面の一例を示す断面図。
【図４】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図５】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図６】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図７】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図８】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図９】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図１０】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図１１】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図１２】光学モニタを使用し、膜厚を少しずつ厚くしたときの平均透過率の実際の変化例を示す図。
【図１３】光学モニタの有無による最終透過率分布の違いの一例を示す図。
【図１４】従来の光学薄膜形成方法によって形成された光学部品の波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図１５】従来の光学薄膜形成方法によって形成された光学部品の波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【符号の説明】
１・・・光学薄膜形成装置（光学部品の製造装置）、２５・・・制御部（制御手段）、２７・・・除去手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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