(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空系に接続された真空容器の内部に、蒸発源容器と基板ホルダとを、水平方向に沿って互いに対面させ、かつ該基板ホルダの蒸発源容器に対面する側の表面を上向きに傾斜した状態に配置させてなる、基板上に陽電極層、有機発光材料を含む発光層、そして陰電極層を含む機能層が形成された有機エレクトロルミネッセンス素子製造用の真空蒸着装置。
【請求項２】
基板ホルダの蒸発源容器に対面する側の表面に蒸着領域を規定するマスクを保持する手段が設けられている請求項１に記載の真空蒸着装置。
【請求項３】
マスクが、その表面に同一形状の複数個の開口部を持つマスクである請求項２に記載の真空蒸着装置。
【請求項４】
蒸発源容器が容器側面に開口部を有している請求項１乃至３のうちのいずれかの項に記載の真空蒸着装置。
【請求項５】
請求項１に記載の真空蒸着装置の複数個を搬送室を介して接続してなる複合体であって、所望の真空蒸着装置に基板を挿入し、次いで取り出す基板移動手段が該搬送室内に付設されている複合真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜の形成に用いられる真空蒸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
金属、半導体あるいは絶縁体の薄膜を積層してなるトランジスタなどの薄膜積層型デバイスは、多くの電気製品に用いられている。これらの薄膜積層型デバイスを構成する薄膜の形成には、真空蒸着法、スパッタリング法など様々な薄膜形成方法が用いられる。また形成される薄膜は、マスク法あるいはフォトリソグラフィー法などのパターニングにより、デバイスあるいは回路配線に必要な形状に設定される。
【０００３】
薄膜積層型デバイスのうち、有機物のエレクトロルミネッセンス現象を利用した有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と記載する）は、自己発光型の素子であり、それを用いた表示装置は視認性が良く、そして低消費電力であるために次世代の表示装置として期待されている。有機ＥＬ素子は、基板上に陽電極層、有機発光材料を含む発光層（以下、有機発光層という）、そして陰電極層を含む機能層が形成されてなる。各層の薄膜を形成する順序は前記の順序と逆でもよい。そして陽電極層から正孔を、陰電極層から電子を、有機発光層に注入して、電子と正孔とを有機発光層内で再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させて、この励起子が失活する際の光の放出（蛍光、燐光）により発光する素子である。また必要に応じて、発光層と陽電極層の間に正孔輸送層、発光層と陰電極層の間に電子輸送層、あるいはそれらの両方が設けられる。
このような有機物を含む薄膜積層型デバイスにおいては、薄膜の形成には真空蒸着法が、薄膜の形状の設定にはマスク法が用いられる場合が多い。
【０００４】
真空蒸着法は、蒸発源（金属、半導体、絶縁体など）を高温で蒸発させ、これを基板の表面に付着させて薄膜を形成する方法である。半導体デバイスの作製においては、薄膜の形成にはスパッタリング法を用いることが多い。しかし、スパッタリング法により有機物を含む薄膜を形成すると、形成途中の薄膜に高エネルギーの分子が衝突するため、膜にダメージを与えてしまう。従って有機ＥＬ素子を構成する有機物を含む薄膜（有機発光層、正孔輸送層、電子輸送層）は、真空蒸着法あるいはスピンコート法により形成するのが一般的である。なかでも真空蒸着法は、薄膜中に不純物が混入し難いために好ましい薄膜の形成方法である。
【０００５】
マスク法では、必要な薄膜の形状で開口部が設けられた金属の薄板などからなるマスクを用いる。マスク法によるパターニングでは、マスクを基板の上に密着させ、その上に薄膜を形成する。マスクは、基板表面における蒸着領域を規定する。次いでマスクを取り除くことで、マスクの上に形成された膜は取り除かれ、薄膜の形状（蒸着パターン）が設定される。有機物を含む薄膜は、有機溶剤、酸、アルカリなどの薬品に弱く、半導体デバイスの作製において広く用いられているフォトリソグラフィー法によりパターニングをすることが困難である。従って有機ＥＬ素子を構成する薄膜は、一般にマスク法により形状が設定される。このマスク法において、製膜時にマスクと基板が充分に密着していないと、マスクと基板の間に蒸着材料（蒸発源）の分子が入り込み、薄膜の微細な形状を設定することが困難となる。特に有機ＥＬ素子を発光表示装置へ応用する場合、優れた表示品位を得るために画素サイズ（有機ＥＬ素子の大きさ）を小さくする必要があるので、基板とマスクとを充分に密着させることが重要となる。
【０００６】
真空蒸着法により薄膜を形成する装置は、真空蒸着装置と呼ばれている。図１は、一般的な真空蒸着装置の一例の構成を模式的に示す配置図である。真空蒸着装置は、真空系に接続された真空容器１の内部に、蒸発源容器２と基板ホルダ３を配置してなる。蒸発源容器２には、蒸発源４が収容される。そして基板ホルダ３には、薄膜が形成される基板５、そして蒸着領域を規定するマスク６が取り付けられる。真空容器１には、真空容器の内部を減圧するために用いる真空ポンプ７および排気バルブ８などからなる真空系が接続されている。そして蒸発源容器２には、加熱電源９を接続する。
【０００７】
図１に示すように、一般的な真空蒸着装置においては、蒸発源容器２が真空容器内部の（重力方向に沿って）下方に、そして基板ホルダ３が真空容器内部の上方に配置される。これは、蒸発源容器を上方に、基板ホルダを下方に配置すると、蒸発源容器から、蒸発する前の蒸着材料（固体）、あるいは加熱されて液体になった蒸着材料が基板表面に落下して、均一な薄膜の形成が困難となるからである。
【０００８】
薄膜の形成および薄膜の形状の設定は、まず蒸発源容器２に蒸発源４を収容し、また基板フォルダ３に、薄膜を付着させる基板５を固定する。さらにマスク法により薄膜の形状を設定するために、基板５の上に必要な薄膜の形状で開口部が設けられたマスク６を密着させて固定する。そして真空容器１の内部を真空ポンプ７により減圧して真空状態にした後、蒸発源容器２の内部に収容した蒸発源４を加熱する。加熱により蒸発した分子は、真空容器１の内部を基板５の方向に（図１に示した一般的な真空蒸着装置においては、下方から上方へ）飛行し、そして基板５の表面に付着（蒸着）して薄膜となる。従来、有機ＥＬ素子もこのような構成の真空蒸着装置により作製されていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
前記のように、有機ＥＬ素子の各層の形成においては、薄膜の形成には真空蒸着法、そして薄膜の形状の設定にはマスク法を用いることが一般的である。ところが図１に模式的に示したように、従来の真空蒸着装置の基板フォルダ３に、基板５、そしてマスク６を取り付けると、マスク６の自重により基板５とマスク６との間に僅かに隙間が生じる場合がある。この状態で薄膜を形成すると、基板５とマスク６の隙間に蒸着材料の分子が回り込み、薄膜は必要な形状よりも僅かに大きく形成されてしまう。また、寸法の大きな基板あるいはプラスチックフィルムのような柔軟な基板を用いると、同様に基板の自重により基板がたわみ、さらにマスクの自重によるたわみも加わって、基板とマスクの密着性はさらに悪化する傾向にある。
【００１０】
これまでの有機ＥＬ素子の製造においては、基板とマスクの密着性は問題とならない程度であった。しかし近年、携帯型電話機に用いられる表示装置に代表されるように、表示装置には高画質そして低価格であることが望まれている。表示装置を高画質にするには、画素サイズ、即ち有機ＥＬ素子の大きさを小さくする必要がある。有機ＥＬ素子の大きさを小さくするには、有機ＥＬ素子の各層の薄膜の形状をこれまでより精度良く設定する必要があり、基板とマスクの密着性が問題となる。そして表示装置を低価格とするには、同一の大きな基板上に複数個の表示装置を作製して生産の効率を高める必要がある。大きな基板を用いると、基板やマスクのたわみ量も大きくなり、基板とマスクの密着性が問題となる。表示装置の画面サイズを大型化する場合も、大きな基板とマスクを用いる必要があるので、同様に基板とマスクの密着性が問題となる。また、蒸着に用いるマスクの厚みは薄いほうが好ましい。マスクが厚いと、蒸発源容器から蒸発した蒸着材料の分子が、マスクの開口部の縁の部分で陰になる基板表面には付着し難いからである。厚みの薄いマスクは、剛性が小さいのでたわみを生じ易く、同様に基板とマスクの密着性が問題となる。
本発明の目的は、基板とマスクの優れた密着性が得られ、薄膜の形状を精度良く設定できる真空蒸着装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、真空蒸着装置の真空容器内部に配置される蒸発源容器や基板ホルダの配置を工夫することで、基板とマスクの密着性に優れる真空蒸着装置を提供できることを見出した。
本発明は、真空系に接続された真空容器の内部に、蒸発源容器と基板ホルダとを、水平方向に沿って互いに対面させ、かつ該基板ホルダの蒸発源容器に対面する側の表面を上向きに傾斜した状態に配置させてなる、基板上に陽電極層、有機発光材料を含む発光層、そして陰電極層を含む機能層が形成された有機エレクトロルミネッセンス素子製造用の真空蒸着装置にある。
本発明の真空蒸着装置の好ましい態様を以下に記載する。
（１）基板ホルダの蒸発源容器に対面する側の表面に蒸着領域を規定するマスクを保持する手段が設けられていること。
（２）マスクが、その表面に同一形状の複数個の開口部を持つマスクであること。
（３）蒸発源容器が容器側面に開口部を有していること。
【００１２】
本発明はまた、上記本発明の真空蒸着装置の複数個を搬送室を介して接続してなる複合体であって、所望の真空蒸着装置に基板を挿入し、次いで取り出す基板移動手段が該搬送室内に付設されている複合真空蒸着装置にもある。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図２に本発明の真空蒸着装置の一例の構成を模式的に示す配置図を示す。本発明の真空蒸着装置は、真空系に接続された真空容器２１の内部に、蒸発源容器２２と基板ホルダ２３とを、水平方向に沿って互いに対向させ、かつ基板ホルダ２３の蒸発源容器２２に対面する側の表面を上向きに傾斜した状態に配置させてなる。真空系には、真空容器２１の内部を減圧して真空状態とするための真空ポンプ２７、真空ポンプ２７と真空容器２１との間に配置される排気バルブ２８などが含まれる。また蒸発源容器２２を加熱するために、蒸発源容器には加熱電源２９が接続される。基板ホルダ２３の蒸発源容器２２に対面する側の表面は、重力方向ｇを基準として表面が上向きに傾斜（傾斜角θを図２に記入した）している。基板ホルダ２３の蒸発源容器２２に対面する側の表面は、重力方向ｇを基準として表面が上向きになるように３０度以内の角度で傾斜していることが好ましく、１〜１０度の範囲内の角度で傾斜していることがさらに好ましい。
【００１４】
本発明の真空蒸着装置により薄膜の形成および薄膜の形状の設定をする場合、蒸発源容器２２には蒸発源２４が収容される。そして、基板フォルダ２３には薄膜を付着させる基板２５が配置され、さらに基板２５の上には蒸着領域を規定するマスク２６が配置される。前記のように基板ホルダ２３の蒸発源容器２２に対面する側の表面は、重力方向ｇを基準として表面が上向きに傾斜している。このため、マスク２６（あるいは基板）の自重による力は、基板２５とマスク２６を密着させる方向（基板ホルダの表面の法線方向）と、基板ホルダ２３の表面に沿った方向に働く。このようにいずれの方向の力も基板とマスクをたわませる方向には働かず、両者の密着性を改善させるように働く。従って、大きな基板やマスクを用いたり、柔軟な基板などを用いた場合にも、基板とマスクの優れた密着性が得られる。従って、真空容器２１を真空ポンプ２７により排気して真空状態とし、蒸発源２４を加熱してマスク２６の上から薄膜を形成し、次いでマスク２６を取り除くことで、マスクの上に形成された膜は取り除かれ、マスクに対応した優れた寸法精度の蒸着パターンを形成することができる。
【００１５】
このように基板とマスクの密着性を改善することで、大きな基板上に有機ＥＬ素子を多数配置する場合、または有機ＥＬ素子が集積された有機ＥＬ発光表示装置を多数配置する場合に、基板上の作製位置によらず有機ＥＬ素子の均一な特性を得ることができる。このように大きな基板上に多数の有機ＥＬ素子を同時に作製するには、マスクはその表面に同一形状の複数個の開口部を持つマスクを用いることが好ましい。このようなマスクを用いることで、均一な特性を有する多数個の有機ＥＬ素子を基板上に同時に作製することができる。
以下、本発明の真空蒸着装置の構成要素について間単に記載する。
【００１６】
蒸発源容器の構造や、蒸発源容器を構成する材料に特に制限はなく、公知の蒸発源を用いることができる。蒸発源の例としては、抵抗加熱蒸発源、外熱式るつぼ蒸発源、放射加熱蒸発源、高周波誘導加熱蒸発源、電子衝撃および電子ビーム蒸発源などを挙げることができる。有機物を含む蒸着材料を蒸発させるには、蒸発源容器として抵抗加熱蒸発源および外熱式るつぼ蒸発源を用いることが好ましい。抵抗加熱蒸発源には、フィラメント型、マルチループ型、ワイヤーバスケット型、ボート型の蒸発源が含まれる。ボート型蒸発源としては、ボート型蒸発源に蓋が設けられた蒸発源容器を用いることが好ましい。ボートの材料としては、一般にはモリブデン、タンタル、タングステンなどが用いられる。外熱式るつぼ蒸発源のるつぼ（蒸発源容器）は、一般的にはセラミックスから形成される。
【００１７】
蒸発源容器の好ましい構成の例を図３〜図５の断面図に示す。図３に示した蒸発源容器は、ボート４０に蓋４１が設けられた蓋付きのボートである。この蒸発源容器には加熱電源４２が接続されている。蒸発源容器の内部には、蒸発源４３が収容される。蒸発源容器は、図３に示した蒸発源容器の形状に限定される訳ではなく、蒸着材料の大きさや、収容する際の作業性などにより所望の形にしてもよい。図４に示した蒸発源容器は、抵抗加熱蒸発源の別な一例である。そして図５に示した蒸発源容器は、外熱式るつぼ蒸発源の一例である。
【００１８】
本発明の真空蒸着装置において、蒸着は蒸発源容器と基板ホルダが対向する方向で行われる。従って蒸発源容器には、容器の側面部に開口部を有していることが好ましい。また蒸発源容器の基板ホルダに対する相対的な位置は、一般に薄膜を実際に基板上に形成して、形成した薄膜の膜厚分布を考慮して微調整する場合が多い。従って図２においては、蒸発源容器の好ましい配置を示しているが、さらに位置の微調整をすることもできる。
【００１９】
基板ホルダの構造や、基板ホルダを構成する材料に特に制限はなく、公知の基板ホルダを用いることができる。基板ホルダは、基板ホルダの蒸発源容器に対面する側の表面が、重力方向を基準として表面が上向きに傾斜するように配置される。基板ホルダは、形成する薄膜の膜厚分布が均一となるように、基板ホルダの表面の法線方向を中心軸として回転させることもできる。この場合蒸発源容器を配置する位置を、回転の中心軸からずらすことも好ましい。基板ホルダには、基板およびマスクを保持する手段が設けられる。保持の手段は公知の方法でよく、基板やマスクをビスもしくは両面粘着テープなどを用いて基板ホルダに保持する簡単な手段を用いてもよいし、基板やマスクを保持するクランプを駆動して自動で保持する手段を用いてもよい。また、基板あるいはマスクを予め額縁状の固定具に取り付けておき、固定具と基板ホルダを固定することにより基板あるいはマスクを保持してもよい。
【００２０】
有機ＥＬ素子の製造工程について、図２に示した本発明の真空蒸着装置を用いる場合を例として以下に説明する。説明のため、三層（陽電極層、有機発光層、陰電極層）からなる有機ＥＬ素子を、同一の基板上に二個作製する場合について記載する。有機ＥＬ素子の各層の材料や膜厚などは周知であり、多くの文献に記載されている。
（陽電極層）
本発明の真空蒸着装置を用いて基板上に陽電極層を形成することもできるが、陽電極層が予め設けられた電極層付きの基板（以下、電極基板と記載する）を用いることが多い。図６は、電極基板の一例の構成を模式的に示す平面図である。図６に示した電極基板において、二つの陽電極層５０、５１が基板５２の上に設けられている。陽電極層は、通常の半導体デバイスと同様にスパッタリング法とフォトリソグラフィー法により形成される。基板の例としては、ガラス板、プラスチック板などが挙げられる。陽電極層の材料としては、金などの金属、もしくは、ＣｕＩ、ＩＴＯ（インジウムチンオキシド）、ＳｎＯ2 、ＺｎＯなどの電気伝導性透明材料などが一般に用いられる。陽電極層の厚さは、材料にもよるが、通常は、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲内にある。
【００２１】
（有機発光層の形成）
電極基板をサセプタと呼ばれる額縁状の固定具３０に、そして発光層の形状で開口部が設けられたマスクをマスクホルダと呼ばれる額縁状の固定具３１に固定する。図７に、用いるマスク（有機発光層用マスク）４７の平面図を示す。また図７に示したマスクには、同一形状（有機発光層の形状）で開口部が二個４８、４９設けられている。そして基板が固定されたサセプタ３０を、真空蒸着装置の基板ホルダ２３にビスで固定する。さらに基板の上に、マスク４７が固定されたマスクホルダ３１を配置し、マスクホルダ３１を同様に基板ホルダ２３にビスで固定する。次に有機発光材料（蒸発源）２４を蒸発源容器２２に収容する。そして真空ポンプ２７により真空容器内部を真空状態とし、加熱電源２９により蒸発源容器２２に収容した蒸発源２４を蒸発させ、マスクの上から有機発光層を形成する。このとき基板ホルダ２３に取り付けられたマスクは、基板ホルダの表面が重力方向を基準として傾斜しているので基板と充分密着する。そしてマスクを基板から取り除くことで、マスクに対応した有機発光層の蒸着パターンが形成される。有機発光層が形成された電極基板の平面図を図８に示す。図８において、有機発光層５３および５４が、マスク４７に対応した蒸着パターンとして形成されている。
【００２２】
有機発光材料の例としては、「光電子機能有機材料ハンドブック（第２刷）、朝倉書店発行」３９６〜３９８頁に記載されている電子輸送性発光材料（表III ．２．３２）、同３９８〜３９９頁に記載されているホール輸送性発光材料（表III ．２．３３）、同３９９〜４００頁に記載されている三層構造素子における発光材料、および同４０３〜４０４頁に記載されている単層型素子の発光材料（表III ．２．３６）などを挙げることができる。また、発光色を調整するために有機材料に蛍光色素をドーピングすることもできる。実用的な発光効率を得るために、有機発光層の厚さは、１０〜２００ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００２３】
（陰電極層の形成）
有機発光層５３および５４が形成された電極基板の上に、陰電極層の形状で開口部が設けられたマスクを用いること以外は有機発光層の形成と同様にして、陰電極層を形成する。陰電極層の材料としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｉｎ、希土類金属、Ｎａ・Ｋ合金、Ｍｇ・Ａｇ合金、Ｍｇ・Ｃｕ合金、Ａｌ・Ｌｉ合金、Ａｌ／Ａｌ2Ｏ3混合物が一般に用いられる。陰電極層の厚さは、材料にもよるが、通常１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲内にある。
このようにして作製された有機ＥＬ発光素子の平面図を図９に示す。図９において、陽電極層５０と陰電極層５５との間に電圧を印加することで有機ＥＬ素子５６が、陽電極層５１と陰電極層５５との間に電圧を印加することで有機ＥＬ素子５７が発光する。有機ＥＬ発光表示装置を作製するには、同様にして有機ＥＬ素子を多数基板上に作製すればよい。陰電極層の形成時に有機発光層にダメージを与えないように、陰電極層は本発明の真空蒸着装置を用いて形成することが好ましい。
【００２４】
次に、本発明の真空蒸着装置を応用した、有機ＥＬ素子を効率良く製造することができる複合真空蒸着装置について説明する。図１０に本発明の複合真空蒸着装置の一例の構成を模式的に示す平面図を示す。複合真空蒸着装置は、本発明の真空蒸着装置を複数個が搬送室を介して接続してなる複合体であり、所望の真空蒸着装置に基板を挿入し、次いで取り出す基板移動手段が該搬送室内に付設されている。図１０に示した複合真空蒸着装置においては、本発明の真空蒸着装置が搬送室５８を介して５個（真空蒸着装置６１〜６５）接続されている。
【００２５】
搬送室５８には、有機ＥＬ素子を作製する基板（あるいはマスク）を所望の真空蒸着装置に挿入し、薄膜形成後の基板（あるいはマスク）を取り出す搬送手段５９が付設されている。また、基板を複合真空蒸着装置に挿入および取り出しするための仕込み室６６が搬送室５８に接続されている。それぞれの真空蒸着装置６１〜６５、仕込み室６６、および搬送室５８は、（仕切り弁７１〜７６により）独立に真空度を調節できる。従って、それぞれの真空蒸着装置は独立に真空度を調節して蒸着ができ、蒸着中にも別の基板あるいはマスクを仕込み室６６に準備することができる。真空蒸着装置の真空容器の内部に、基板ホルダ８１〜８５および蒸発源容器９１〜９５が、それぞれ配置されている。基板ホルダ８１〜８５のそれぞれは、蒸発源容器に対面する側の表面が上向きに傾斜した状態で配置されている。なお、各蒸着室、搬送室、および仕込み室には専用の真空系をそれぞれ接続しても良いし、一個の真空系をそれぞれの蒸着室に排気バルブを介して接続してもよい。
【００２６】
複合真空蒸着装置による有機ＥＬ素子の作製は、前記の本発明の真空蒸着装置による有機ＥＬ素子の作製と同様にして行えばよい。例えば真空蒸着装置６１において、陽電極層の設けられた電極基板を基板ホルダ８１に取り付け、電極基板の上に有機発光層用のマスクを配置する。そして蒸発源容器９１に収容された有機発光材料（蒸発源）を蒸発させて蒸着パターン（有機発光層）を形成する。搬送手段５９によりマスク、そして基板を基板ホルダ８１から取り外す。発光層の設けられた基板を搬送手段５９により真空蒸着装置６２に挿入して基板ホルダ８２に配置し、その上に陰電極層用のマスクを配置して同様に蒸着パターン（陰電極層）を形成することで有機ＥＬ素子を作製することができる。搬送手段５９により取り外されたマスクは、仕込み室６６などに挿入して保管しておけばよい。
【００２７】
有機ＥＬ素子は、基板上に陽電極層、有機発光層、そして陰電極層を含む機能層が形成されてなる。本発明の真空蒸着装置を用いることで有機ＥＬ素子の各層を構成する薄膜（蒸着パターン）を寸法精度良く形成することができるので、有機ＥＬ素子の複数層を順次形成して積層する場合にも、有機ＥＬ素子の全体を寸法精度良く作製できる。また本発明の複合真空蒸着装置を用いることで、有機ＥＬ素子の全体（陽電極層から陰電極層の形成まで）を真空状態を保ったままで作製できるため、大気中の水分や不純物などを吸着することなく、有機ＥＬ素子を作製できる。
【００２８】
【発明の効果】
本発明の真空蒸着装置を用いることにより、マスク法でパターニングする際の基板とマスクの密着性が向上し、薄膜の形状を精度良く設定することができる。本発明の真空蒸着装置は、有機ＥＬ素子の製造に用いられる。そして本発明の真空蒸着装置を用いることで、大きな寸法の基板およびマスクを用いた場合にも基板とマスクの優れた密着性が得られ、薄膜を正確な形状に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の真空蒸着装置の一例の構成を模式的に示す配置図である。
【図２】本発明の真空蒸着装置の一例の構成を模式的に示す配置図である。
【図３】蒸発源容器の一例の構成を示す図である。
【図４】蒸発源容器の別な一例を示す図である。
【図５】蒸発源容器のさらに別な一例を示す図である。
【図６】電極基板の構成を模式的に示す平面図である。
【図７】有機発光層用のマスクを模式的に示す平面図である。
【図８】有機発光層が形成された電極基板の構成を模式的に示す平面図である。
【図９】有機ＥＬ素子の一例の構成を示す平面図である。
【図１０】本発明の複合真空蒸着装置の構成を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
１、２１  真空容器
２、２２  蒸発源容器
３、２３  基板フォルダ
４、２４  蒸発源
５、２５  基板
６、２６  マスク
７、２７  真空ポンプ
８、２８  排気バルブ
９、２９  加熱電源
１０、３０  サセプタ
１１、３１  マスクホルダ
４０  ボート
４１  蓋
４２  加熱電源
４３  蒸発源
４４  ヒータ
４７  マスク
４８、４９  開口部
５０、５１  陽電極層
５２  基板
５３、５４  有機発光層
５５  陰電極層
５６、５７  有機ＥＬ素子
５８  搬送室
５９  搬送手段
６１〜６５  本発明の真空蒸着装置
６６  仕込み室
７１〜７６  仕切弁
８１〜８５  基板ホルダ
９１〜９５  蒸発源容器
ｇ  重力方向
θ  基板ホルダ表面の傾斜角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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