(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
開閉機構を備えた液回路を通じて処理液を供給する液供給機構であって，前記開閉機構の開閉を制御する第１の制御機構と，該第１の制御機構を作動させる電力を供給する電源と，該電源がオフの状態において前記開閉機構の開閉を制御する第２の制御機構とを有し，
前記開閉機構は，前記液回路に設けられ，流体の供給によって開となる開閉弁であり，
前記第１の制御機構は該開閉弁に流体を供給する第１の流体供給機構であり，
前記第２の制御機構は該開閉弁に流体を供給する第２の流体供給機構であることを特徴とする，液処理機構。
【請求項２】
前記第１の制御機構の作動と，前記第２の制御機構の作動とを切り換える切換手段を有することを特徴とする，請求項１に記載の液供給機構。
【請求項３】
前記第２の流体供給機構は，前記開閉弁に流体を供給する主回路と，該主回路に設けられかつ前記電源のオフに連動して開となる主切換弁とを備えることを特徴とする，請求項１または２に記載の液供給機構。
【請求項４】
前記第２の流体供給機構は，前記主回路に設けられ，間欠的に開となる副切換弁を備えることを特徴とする，請求項３に記載の液供給機構。
【請求項５】
前記第２の流体供給機構は，前記副切換弁を所定の時期に開にさせる開時期設定手段と，前記副切換弁を所定の時間だけ開にさせる開時間設定手段とを備えることを特徴とする，請求項４に記載の液供給機構。
【請求項６】
前記開時期設定手段及び／又は前記開時間設定手段は遅延弁であり，該遅延弁は，前記主切換弁が開となることにより前記主回路に供給された流体で作動されることを特徴とする，請求項５に記載の液供給機構。
【請求項７】
請求項１から６の何れかに記載の液供給機構を複数備えたことを特徴とする，液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，例えば半導体ウェハ等の基板に対して純水等の処理液を供給する液処理機構及び液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば半導体製造プロセスにおけるフォトレジスト処理工程では，半導体ウェハ（以下，「ウェハ」という。）等の基板の表面に対してレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し，パターンを露光した後に，このウェハに対して現像液を供給して現像処理し，現像後例えば純水等のリンス液で現像液を洗い流す。このような一連の処理を行うにあたっては，従来から塗布現像処理装置が使用されている。
【０００３】
塗布現像処理装置には，例えばウェハに対するレジスト塗布処理，加熱処理，現像処理等を行う各種処理装置が個別に備えられている。このうち，現像処理装置には，ウェハに対する現像処理後にリンス液としての純水を供給する純水供給ノズルと，このノズルに対して純水供給源から供給された純水を送液させる送液手段等が備えられている。純水供給源と純水供給ノズルとは純水送液管を介して接続しており，この純水送液管にはエア駆動式バルブが設けられている。そして，このエア駆動式バルブにエア供給機構からエアが供給されることにより，エア駆動式バルブは開となり，純水供給源から供給された純水が純水送液管を通じて純水供給ノズルに送液されるようになっている。
【０００４】
ところで，ウェハに対するリンス処理時以外は，リンス液としての純水は純水送液管内で滞留し，ノズルから純水が供給されない状態が続くと純水が劣化してしまう場合があった。特に，しばらく現像処理が行われず，純水の滞留が長い時間にわたって続くような場合には，上記管やノズルの内部でバクテリアが発生してしまう場合があった。
【０００５】
そこで従来から，現像処理を行わない場合にも適当な時期に電気的制御信号によりエア供給機構を稼働させることにより，エア駆動式バルブにエアを供給して純水を吐出する，いわゆるダミーディスペンスが適宜行われている。このダミーディスペンスを行うことにより，純水送液管内やフィルタ，バルブ内部等の純水を常に新しい純水に取り替えて純水の劣化を防ぐと共に，純水送液管等の内部でバクテリアが発生することを防止していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来では，例えば現像処理装置のメインテナンス時のように，現像処理装置の電源がオフにされた場合は，エア駆動式バルブを開閉させるエア供給機構が稼働できなくなるため，このエア駆動式バルブに対してエアが供給されずダミーディスペンスを行うことができなかった。その結果，純水送液管等の内部で純水が劣化し，バクテリアが発生する場合もあった。
【０００７】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり，電源がオフの時もダミーディスペンスを行うことができる液処理装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために，請求項１によれば，開閉機構を備えた液回路を通じて処理液を供給する液供給機構であって，前記開閉機構の開閉を制御する第１の制御機構と，該第１の制御機構を作動させる電力を供給する電源と，該電源がオフの状態において前記開閉機構の開閉を制御する第２の制御機構とを有し，前記開閉機構は，前記液回路に設けられ，流体の供給によって開となる開閉弁であり，前記第１の制御機構は該開閉弁に流体を供給する第１の流体供給機構であり，前記第２の制御機構は該開閉弁に流体を供給する第２の流体供給機構であることを特徴とする，液供給機構が提供される。
【０００９】
請求項１に記載の液処理装置にあっては，電源がオフの時には，第２の制御機構によって開閉機構が制御される。この制御により，電源がオンの時と同様に，処理液を外部に吐出させることができる。その結果，処理液のダミーディスペンスを常時行うことが可能となる。また電源がオンの際には，第１の流体供給機構によって開閉弁の開閉が制御され，電源がオフの際には，第２の流体供給機構によって開閉弁の開閉が制御される。
【００１０】
請求項２に記載の発明は，請求項１に記載の液供給機構において，前記第１の制御機構の作動と，前記第２の制御機構の作動とを切り換える切換手段を有することを特徴としている。
【００１１】
請求項２に記載の液供給機構にあっては，電源がオンの時には，第１の制御機構により開閉機構が制御される。一方，電源がオフの時には，第２の制御機構により開閉機構が制御される。
【００１４】
請求項３に記載の発明は，前記第２の流体供給機構が，前記開閉弁に流体を供給する主回路と，該主回路に設けられかつ前記電源のオフに連動して開となる主切換弁とを備えることを特徴としている。
【００１５】
請求項３に記載の液処理装置にあっては，液処理装置の電源がオフになったとき主切換弁が自動的に切り替わって開となるために，主回路を通じて第２の流体供給機構から開閉弁に流体が自動的に供給され，ダミーディスペンスが可能となる。
【００１６】
請求項４に記載の発明は，請求項３に記載の液供給機構において，前記第２の流体供給機構は，前記主回路に設けられ，間欠的に開となる副切換弁を備えることを特徴としている。
【００１７】
請求項４に記載の液処理装置にあっては，副切換弁を閉じた際には主回路を通じた流体の流通が停止するため，開閉弁に流体が供給されない。逆に副切換弁を開いた際には主回路を通じて流体が開閉弁に供給される。かかる副切換弁の間欠的な開閉により，処理液のダミーディスペンスを間欠的に行うことが可能となる。
【００１８】
この場合，請求項５に記載の発明のように，前記第２の流体供給機構は，前記副切換弁を所定の時期に開にさせる開時期設定手段と，前記副切換弁を所定の時間だけ開にさせる開時間設定手段とを備えるようにするとよい。
【００１９】
請求項５に記載の液処理装置にあっては，これらの設定手段によって，副切換弁が開となる時期およびこの時期から副切換弁が閉鎖するまでの時間を自動的に制御できる。その結果，ダミーディスペンスを行う時期と，このダミーディスペンスを行う時間を制御することが可能となる。
【００２０】
請求項６に記載の発明は，請求項５に記載の液処理装置において，前記開時期設定手段及び／又は前記開時間設定手段は遅延弁であり，該遅延弁は，前記主切換弁が開となることにより前記主回路に供給された流体で作動されることを特徴としている。
【００２１】
請求項６に記載の液処理装置において，遅延弁とは，例えば給気されるエアの流量を調整する絞り弁やチェック弁，エアを貯留するタンク，切換弁で構成され，絞り弁の絞り量やタンクの容量等を変えることにより切換弁の作動のタイミングを遅らせることができる。かかる遅延弁によれば，絞り弁やタンクの容量等を適宜調整することにより，副切換弁の開閉のタイミングや副切換弁の開となる時間を制御することが可能となる。
【００２２】
そして請求項７のように，請求項１から６のいずれかに記載した液処理機構を複数備えた液処理装置にあっては，複数の液処理機構において，電源がオフの際に処理液の劣化を防止することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の実施の形態を液処理装置の一例としての現像処理装置に基づいて説明する。図１〜３は本発明の実施の形態にかかる現像処理装置を有する塗布現像処理装置の説明図であり，図１は平面図，図２は正面図，図３は背面図を各々示している。
【００２４】
塗布現像処理装置１は図１に示すように，例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部から塗布現像処理装置１に対して搬入出したり，カセットＣに対してウェハＷを搬入出したりするためのカセットステーション２と，塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステーション３と，この処理ステーション３に隣接して設けられる露光装置（図示せず）との間でウェハＷの受け渡しをするためのインターフェイス部４とを一体に接続した構成を有している。
【００２５】
カセットステーション２では，載置部となるカセット載置台５上の位置決め突起６の位置に例えば４個の各カセットＣがウェハＷの出入口を処理ステーション３側に向けてＸ方向（図１中の上下方向）一列に載置自在である。そして，このカセット配列方向（Ｘ方向）及びカセットＣに収容されたウェハＷのウェハ配列方向（Ｚ方向；垂直方向）に移動可能なウェハ搬送体７が搬送路８に沿って移動自在であり，各カセットＣに対して選択的にアクセスできるようになっている。
【００２６】
ウェハ搬送体７はθ方向（Ｚ軸を中心とする回転方向）にも回転自在に構成されており，後述するように処理ステーション３側の第３の処理装置群Ｇ3の多段ユニット部に属するアライメント装置３２及びエクステンション装置３３に対してもアクセスできるように構成されている。
【００２７】
処理ステーション３では，ウェハＷを保持するピンセット１０，１１，１２を上中下３本備えた主搬送装置１３が中心部に配置されており，主搬送装置１３の周囲には各種処理装置が多段に配置されて処理装置群を構成している。塗布現像処理装置１においては，５つの処理装置群Ｇ1，Ｇ2，Ｇ3，Ｇ4，Ｇ5が配置可能であり，第１及び第２の処理装置群Ｇ1，Ｇ2は塗布現像処理装置１の正面側に配置されており，第３の処理装置群Ｇ3はカセットステーション２に隣接して配置されており，第４の処理装置群Ｇ4はインターフェイス部４に隣接して配置されており，破線で示した第５の処理装置群Ｇ5は背面側に配置されている。
【００２８】
第１の処理装置群Ｇ1では図２に示すように，２種類のスピンナ型処理装置，例えばウェハＷに対してレジストを塗布して処理するレジスト塗布装置１５と，ウェハＷに対して現像液を供給して処理する本実施の形態にかかる現像処理装置１６が下から順に２段に配置されている。第２の処理装置群Ｇ2の場合も同様に，レジスト塗布装置１７と，現像処理装置１８とが下から順に２段に積み重ねられている。
【００２９】
第３の処理装置群Ｇ3では図３に示すように，ウェハＷを載置台に載せて所定の処理を施すオーブン型の処理装置，例えば冷却処理を行うクーリング装置３０，レジストとウェハＷとの定着性を高めるための疎水化処理装置３１，ウェハＷの位置合わせを行うアライメント装置３２，ウェハＷを待機させるエクステンション装置３３，露光処理前の加熱処理を行うプリベーキング装置３４，３４及び現像処理後の加熱処理を施すポストベーキング装置３５，３５等が下から順に例えば８段に重ねられている。
【００３０】
第４の処理装置群Ｇ4では，例えばクーリング装置４０，載置したウェハＷを自然冷却させるエクステンション・クーリング装置４１，エクステンション装置４２，クーリング装置４３，露光処理後のウェハＷを加熱処理するポストエクスポージャーベーキング装置４４，４４，ポストベーキング装置４５，４５等が下から順に例えば８段に積み重ねられている。
【００３１】
インタフェイス部４の中央部にはウェハ搬送体４９が設けられている。このウェハ搬送体４９はＸ方向（図１中の上下方向），Ｚ方向（垂直方向）の移動及びθ方向（Ｚ軸を中心とする回転方向）の回転が自在にできるように構成されており，第４の処理装置群Ｇ4に属するエクステンション装置４２，周辺露光装置５０，露光装置（図示せず）に対してアクセスできるように構成されている。
【００３２】
塗布現像処理装置１は以上のように構成されている。次に，塗布現像処理装置１に組み込まれた現像処理装置１６，１８について説明する。なお，現像処理装置１６，１８は基本的に同一の構成を有するために，現像処理装置１６について説明する。
【００３３】
現像処理装置１６は図４に示すように，ケーシング５１内において，上面が開口した環状のカップ５２と，カップ５２内にてウェハＷを水平に載置するスピンチャック５３と，現像液をウェハＷに対して供給する現像液供給ノズル５４と，リンス液としての純水をウェハＷに対して供給する純水供給ノズル５５とを備えている。
【００３４】
カップ５２は底面５６が傾斜しており，底面５６の最下部にはカップ５２内で飛散した現像液を排液するための排液管５７が接続されている。この排液管５７の反対側には，カップ５２内部の雰囲気を排気するための排気管５８が接続されている。なお，スピンチャック５３に保持されたウェハＷの下方には，ウェハＷの裏面を洗浄するために裏面洗浄ノズル５９が設けられている。
【００３５】
スピンチャック５３はウェハＷを載置面に吸着保持するように構成されており，カップ５２下方に設けられた昇降回転機構６０の支柱６１に接続されている。このため，スピンチャック５３に保持されたウェハＷは，支柱６１により，昇降及び回転が可能となっている。
【００３６】
図５に示すように，純水供給ノズル５５は純水送液管６２を介して純水供給源６４に接続されている。また純水送液管６２の途中には，開閉機構としてのエア駆動式バルブ６３，流量計６６，フィルタ６７が介装されている。エア駆動式バルブ６３には作動部６５が設けられており，この作動部６５にエアが供給されると，エア駆動式バルブ６３が開放し，純水供給源６４からの純水が純水送液管６２を通じて純水供給ノズル５５に供給されるようになっている。これにより，ウェハＷに対して純水を吐出することができるようになっている。また，エア駆動式バルブ６３の作動部６５にエアが供給されなくなると，駆動式バルブ６３が閉鎖し，純水供給ノズル５５に対して純水が供給されなくなるようになっている。
【００３７】
エア駆動式バルブ６３の作動部６５は，現像処理装置１６の電源６８によって作動する第１の制御機構としての第１エア供給機構６９と，エア供給路７０’およびエア供給路７０を介して接続されており，エア供給路７０’とエア供給路７０との間にはエア駆動式バルブ６３の駆動を切り換えるエア作動式の３方口弁である切換手段としての駆動切換弁７１が介装されている。また，駆動切換弁７１には後述する第２エア供給機構７２の主回路７４が接続されている。駆動切換弁７１は，弁体７１ｂ，７１ｃと，これらの弁体７１ｂ，７１ｃを移動させて流路の切り換えを行う作動部７１ａとバネ７１ｄとを備えている。バネ７１ｄは弁体７１ｂ，７１ｃを作動部７１ａ側に押しているために，常時はエア供給路７０とエア供給路７０’とが弁体７１ｃを介して導通し，第１エア供給機構６９からエア駆動式バルブ６３の作動部６５にエアが供給されて，エア駆動式バルブ６３が開く。この場合，第２エア供給機構７２の主回路７４とエア供給路７０との間においては駆動切換弁７１は閉となり，常時は主回路７４とエア供給路７０は導通しない状態となっている。
一方，後述する第２エア供給機構７２の迂回路７９を介して作動部７１ａにエアが供給されると，そのエアによって弁体７１ｂ，７１ｃがバネ７１ｄを押し戻す方向に移動する。これにより第２エア供給機構７２の主回路７４と，エア供給路７０との間において，駆動切換弁７１は開となって，主回路７４とエア供給路７０とが弁体７１ｂを介して導通し，第２エア供給機構７２からエア駆動式バルブ６３の作動部６５にエアが供給されるようになっている。
【００３８】
次に，第２の制御機構としての第２エア供給手段７２について説明する。先ず主回路７４の最上流側にはコンプレッサ７３が接続されており，このコンプレッサ７３と駆動切換弁７１との間には，安全弁７５，主切換弁７６，フィルタ７７そして副切換弁７８とが順に配置されている。
【００３９】
安全弁７５は手動式の３方口弁である。安全弁７５は弁体７５ａ，７５ｂを有しており，通常は作業者がハンドル７５ｃを操作することによって，弁体７５ｂを介して主回路７４を導通させている。
【００４０】
主切換弁７６は電磁式の３方口弁である。主切換弁７６は弁体７６ａ，７６ｂと，これら弁体７６ａ，７６ｂを移動させて主回路７４の切り換えを行うバネ７６ｃとソレノイド７６ｄとを有している。通常時は電源６８から供給される電力によってソレノイド７６ｄが弁体７６ａ，７６ｂをバネ７６ｃ側に押しているために主切換弁７６が閉となり，弁体７６ａを介して主回路７４は導通していない状態となっている。一方，ソレノイド７６ｄに電源６８からの電力が供給されなくなると，ソレノイド７６ｄで押されていた弁体７６ａ，７６ｂがバネ７６ｃによって押し戻され，主切換弁７６が開となる。これにより弁体７６ｂを介して主回路７４が導通するようになっている。
【００４１】
副切換弁７８はエア作動式の３方口弁である。副切換弁７８は弁体７８ｂ，７８ｃと，これら弁体７８ｂ，７８ｃを移動させて流路の切り換えを行う作動部７８ａと，バネ７８ｄとを有している。バネ７８ｄは弁体７８ｂ，７８ｃを作動部７８ａ側に押しているため，常時は副切換弁７８は閉の状態，即ち常時は主回路７４は弁体７８ｃを介して導通していない状態となっている。一方，作動部７８ａに後述する環状路８０からのエアが給気されると，このエアによって弁体７８ｂ，７８ｃがバネ７８ｄを押し戻す方向に移動するため，副切換弁７８が開となり，弁体７８ｂを介して主回路７４が導通するようになる。
【００４２】
主回路７４にはフィルタ７７と副切換弁７８との間から迂回路７９が分岐しており，迂回路７９の下流側は駆動切換弁７１の作動部７１ａに接続している。また，主回路７４にはフィルタ７７と副切換弁７８との間から環状路８０が分岐している。環状路８０の下流側は上述した副切換弁７８の作動部７８ａに接続しており，環状路８０の途中には第１遅延弁８１が介在している。ここで第１遅延弁８１を図６に基づいて説明すると，第１遅延弁８１には流入したエアの流量を調整可能な絞り弁８１ａと，一定量のエアを貯留可能なタンク８１ｂと，エアを一定方向に流通させるチェック弁８１ｃと，切換弁８１ｄとが備えられている。切換弁８１ｄは上述した駆動切換弁７１や副切換弁７８と基本的に同様の機能及び構成を有するエア作動式の３方口弁であって，環状路８０に介在されている。切換弁８１ｄは弁体８１ｇ，８１ｈと，これらの弁体８１ｇ，８１ｈを移動させるバネ８１ｅおよび作動部８１ｆとを有している。
常時はバネ８１ｅが弁体８１ｇ，８１ｈを作動部８１ｆ側に押しているために切換弁８１ｄは閉となっており，環状路８０は弁体８１ｈを介して導通しない状態となっている。
【００４３】
上記絞り弁８１ａには環状路８０から分岐したバイパス路８２を通じてエアが流入するようになっており，バイパス路８２には遅延切換弁８３が配置されている。遅延切換弁８３は，上述した駆動切換弁７１や副切換弁７８と基本的に同様の機能及び構成を有するエア作動式の３方口弁であり，作動部８３ａと，弁体８３ｂ，８３ｃと，バネ８３ｄとを有している。常時は弁体８３ｂ，８３ｃはバネ８３ｄによって作動部８３ａ側に押されているため，遅延切換弁８３は開となり，弁体８３ｃを介してバイパス路８２が導通した状態となっているが，後述するように作動部８３ａにバイパス路８５を通じてエアが供給された際にはバネ８３ｄに抗して弁体８３ｂ，８３ｃがバネ８３ｄ側に押し戻されるために遅延切換弁８３は閉となり，バイパス路８２は弁体８３ｂを介して導通しなくなる。
【００４４】
そしてバイパス路８２を通じて絞り弁８１ａに流入したエアは絞り弁８１ａで流量が調整されてタンク８１ｂの内部に蓄えられる。そしてタンク８１ｂにその容量以上のエアが供給されると，エアがタンク８１ｂからチェック弁８１ｃを通じて作動部８１ｆに給気されるようになる。この作動部８１ｆに給気されたエアによってバネ８１ｅに抗して弁体８１ｇ，８１ｈがバネ８１ｅを押し戻す方向に移動する。これにより切換弁８１ｄが開となり，環状路８０は図７に示すように弁体８１ｇを介して導通するようになっている。
【００４５】
第１遅延弁８１よりも上流において環状路８０からバイパス路８５が分岐しており，バイパス路８５の下流側は上述した遅延切換弁８３の作動部８３ａに接続している。このバイパス路８５には第２遅延弁８４が介在されている。第２遅延弁８４は上記第１遅延弁８１と基本的に同様の構成を有しており，絞り弁８４ａと，タンク８４ｂと，チェック弁８４ｃと，切換弁８４ｄとが備えられている。切換弁８４ｄはバイパス路８５に介装されており，弁体８４ｇ，８４ｈと，これらの弁体８４ｇ，８４ｈを移動させてバイパス路８５の切り換えを行うバネ８４ｅと，作動部８４ｆとを有している。常時はバネ８４ｅが弁体８４ｇ，８４ｈを作動部８４ｆ側に押しているため切換弁８４ｄは閉となり，バイパス路８５は弁体８４ｈを介して導通しない状態となっている。
そして，環状路８０を流通するエアが分岐路８０’から絞り弁８４ａ，タンク８４ｂを経て作動部８４ｆに給気されると，このエアによって弁体８４ｇ，８４ｈがバネ８４ｅを押し戻す方向に移動する。その結果，切換弁８４ｄは開となってバイパス路８５は弁体８４ｇを介して導通するようになり，バイパス路８５を流通するエアが上記遅延切換弁８３の作動部８３ａに給気されるようになっている。その結果，バネ８３ｄに抗して弁体８３ｂ，８３ｃがバネ８３ｄ側に押し戻されるために，遅延切換弁８３は閉となって，バイパス路８２は弁体８３ｂを介して導通しなくなる。
【００４６】
さて，カセットステーション２において，ウェハ搬送体７がカセット載置台５上の処理前のウェハＷを収容するカセットＣにアクセスして，そのカセットＣから１枚のウェハＷを取り出す。その後，ウェハＷは第３の処理装置群Ｇ3に属するアライメント装置３２に搬入される。このアライメント装置３２にて位置合わせの終了したウェハＷは主搬送装置１３のピンセット１１に保持された状態で，第１の処理装置群Ｇ1に属するレジスト塗布装置１５に搬送される。このレジスト塗布装置１５にてレジスト膜が形成されたウェハＷはその後，第３の処理装置群Ｇ3のプリベーキング装置３４にて加熱処理に付され，第４の処理装置群Ｇ4のエクステンションクーリング装置４１に搬入されて冷却される。そして，ウェハ搬送体４９によってエクステンションクーリング装置４１から取り出され，周辺露光装置５０を経て露光装置（図示せず）に搬送され，所定の露光処理が施される。
【００４７】
露光処理が終了したウェハＷは第４の処理装置群Ｇ4に属するポストエクスポージャーベーキング装置４４にて露光処理後の加熱処理に付される。その後，クーリング装置４３に搬入されて所定温度まで冷却される。かかる冷却処理後のウェハＷは主搬送装置１０のピンセット１１に保持された状態で現像処理装置１６に搬入され，このウェハＷに対して現像液供給ノズル５４から現像液が供給されて現像が行われた後，純水供給ノズル５５からリンス液としての純水が供給される。
【００４８】
この際，現像処理装置１６の電源６８のオン・オフにかかわらず，本実施の形態では以下のようにしてダミーディスペンスを行うことができるために，ウェハＷには常に劣化していない純水が供給される。
【００４９】
先ず電源６８がオンの際，即ち図８のタイミングチャートに示すＳ1の状態では，図９に示すように，第１エア供給機構６９から供給されたエアがエア供給路７０’，７０を通じてエア駆動式バルブ６３の作動部６５に送られる。この際，第２エア供給機構７２において，主切換弁７６の弁体７６ａ，７６ｂはソレノイド７６ｄによってバネ７６ｃ側に押されているために主切換弁７６は閉となっている。従って，安全弁７５とフィルタ７７との間において主回路７４は導通していない状態となっており，コンプレッサ７３からのエアが主切換弁７６よりも下流側に流通しない。
【００５０】
こうして第１エア供給機構６９から供給されたエアがエア駆動式バルブ６３の作動部６５に給気されることによりエア駆動式バルブ６３が開となり，純水供給源６４から供給された純水がエア駆動式バルブ６３を介して純水送液管６２を通じて純水供給ノズル５５に送られる。その結果，純水供給ノズル５５から純水が吐出され，ダミーディスペンスが可能となる。
【００５１】
次に現像処理装置１６のメインテナンス時等のように，現像処理装置１６の電源６８がオフとなり図８のタイミングチャートに示すＳ2の状態になった場合には，第１エア供給機構６９からのエアの供給が停止すると共に，主切換弁７６のソレノイド７６ｄに電力が供給されなくなるために，弁体７６ａ，７６ｂがバネ７６ｃによってソレノイド７６ｄ側に押されることにより，主切換弁７６が開となる。そして図１０に示すように，安全弁７５とフィルタ７７との間において主回路７４が弁体７６ｂを介して導通するようになる。このため，コンプレッサ７３から供給されるエアが主回路７４を通じて流通するようになる。そして，主回路７４から迂回路７９に分岐したエアが駆動切換弁７１の作動部７１ａに給気されるようになり，バネ７１ｄで作動部７１ａ側に押されていた弁体７１ｂ，７１ｃがこのエアによって押し戻される。このため，主回路７４とエア供給路７０との間において，駆動切換弁７１は開となり，弁体７１ｂを介してエア供給路７０と主回路７４とが導通するようになる。但しこの場合には，副切換弁７８がまだ閉となっているために，コンプレッサ７３から供給されたエアが主回路７４を通じてエア供給路７０に供給されない。
【００５２】
またコンプレッサ７３から供給されたエアは，主回路７４から分岐した環状路８０を通じて流通し，この環状路８０から分岐するバイパス路８２にも流通する。この際，遅延切換弁８３は開となって，バイパス路８２は弁体８３ｃを介して導通しているために，バイパス路８２を流通するエアは第１遅延弁８１の絞り弁８１ａに給気される。そして絞り弁８１ａで所定の流量に調整されたエアはその後，タンク８１ｂに貯留される。
【００５３】
次いで図８に示すＳ3の状態，即ちエアがバイパス路８２を通じて第１遅延弁８１に設けられたタンク８１ｂに容量以上のエアが給気された際には図１１に示すように，タンク８１ｂに貯留されていたエアがチェック弁８１ｃを介して，作動部８１ｆに給気される。このため，弁体８１ｇ，８１ｈがバネ８１ｅ側に押されて切換弁８１ｄが開となり，環状路８０が弁体８１ｇを介して導通するようになる。そして，環状路８０を流通するエアは弁体８１ｇを通過し，その後，副切換弁７８の作動部７８ａに給気される。
【００５４】
そして副切換弁７８の作動部７８ａに給気されるエアによって，弁体７８ｂ，７８ｃがバネ７８ｄ側に押され，副切換弁７８は開となり，主回路７４は弁体７８ｂを介して導通するようになる。従って，コンプレッサ７３から供給されたエアは主回路７４を通じてエア供給路７０に流入した後，エア駆動式バルブ６３の作動部６５に給気される。このため，純水が純水供給ノズル５５に対して送液されて，ダミーディスペンスが行われる。
【００５５】
一方，作動部７８ａに対する給気と同時に分岐路８０’から第２遅延弁８４にもエアが供給される。そして分岐路８０’から絞り弁８４ａに給気されたエアは，絞り弁８４ａで所定の流量に調整された後，タンク８４ｂに貯留されていく。
【００５６】
そして，タンク８４ｂに容量以上のエアが供給された際には図８に示すＳ4の状態，即ちタンク８４ｂに貯留されたエアが図１２に示すように，チェック弁８４ｃを介して作動部８４ｆに給気される。このため，弁体８４ｇ，８４ｈが作動部８４ｆに給気されたエアによってバネ８４ｅ側に押され，切換弁８４ｄが開となり，バイパス路８５が弁体８４ｇを挟んで導通するようになる。従って，バイパス路８５を通じて流通するエアは弁体８４ｇを介して遅延切換弁８３の作動部８３ａに給気される。このエアの給気によってバネ８３ｄに押されていた弁体８３ｂ，８３ｃが押し戻されて遅延切換弁８３が閉となり，弁体８３ｂと弁体８３ｃとが切り換わって，バイパス路８２は弁体８３ｂを介して導通しなくなる。
【００５７】
このため，バイパス路８２から第１遅延弁８１の絞り弁８１ａにはエアが供給されなくなり，作動部８１ｆに給気されたエアで押されていた切換弁８１ｄがバネ８１ｅに押し返される。従って，切換弁８１ｄは閉となって，環状路８０は第１遅延弁８１の弁体８１ｈを介して導通しなくなる。従って，副切換弁７８の作動部７８ａには環状路８０からのエアが給気されなくなるために，弁体７８ｂ，７８ｃはバネ７８ｄに押し戻されて副切換弁７８が閉となり，主回路７４は弁体７８ｃを介して導通しなくなる。その結果，コンプレッサ７３から供給されたエアがエア駆動式バルブ６３の作動部６５に給気されなくなるために，エア駆動式バルブ６３は閉じて純水供給ノズル５５に対して純水が送液されなくなり，ダミーディスペンスが停止する。
【００５８】
また，環状路８０が第１遅延弁８１の弁体８１ｈを挟んで導通しなくなると，第２遅延弁８４の作動部８４ｆにも分岐路８０’を通じてエアが給気されなくなる。そのため，切換弁８４ｄは閉となり，それまで導通していたバイパス路８５が弁体８４ｈを介して導通しなくなる。従って，バイパス路８５を通じて遅延切換弁８３の作動部８３ａにもエアが給気されなくなるために，弁体８３ｂ，８３ｃがバネ８３ｄに押し戻され，遅延切換弁８３が開となって，バイパス路８２は弁体８３ｃを介して再び導通し，再び図８のタイミングチャートで示すＳ2の状態に戻る。
【００５９】
以後，電源６８がオンの状態になるまで図８のタイミングチャートに示した状態Ｓ2〜Ｓ4の一連の工程を繰り返すことにより，コンプレッサ７３から供給されたエアを間欠的にエア駆動式バルブ６３の作動部６５に給気し，間欠的なダミーディスペンスを行う。
【００６０】
なお，本実施の形態においては，第１遅延弁８１及び第２遅延弁８４において，絞り弁８１ａ，８４ａによるエアの流量調整とタンク８１ｂ，８４ｂの各容量を適宜調整することにより，弁体８１ｇを介して環状路８０が導通するタイミングと，弁体８４ｇを介してバイパス路８５が導通する時間を制御することができる。これにより，環状路８０を通じて副切換弁７８の作動部７８ａに供給されるエアのタイミングとその供給時間とを制御することができるようになっている。なお，前記実施の形態では，環状路８０から作動部７８ａにエアが６００秒おきに１０秒間だけ供給されるように設定されており，エア駆動式バルブ６３の作動部６５には６００秒おきに１０秒間だけコンプレッサ７３からのエアが給気されるようになっている。その結果，電源６８がオフの際には，ダミーディスペンスを６００秒おきに１０秒間だけ行うことができるようになる。
【００６１】
本発明の実施の形態によれば，電源６８がオフになった際に，コンプレッサ７３から供給されるエアを第２エア供給機構７２でエア駆動式バルブ６３の作動部６５に給気することができる。
【００６２】
そして，エア駆動式バルブ６３の作動部６５に対してエアが供給されることにより，エア駆動式バルブ６３が開放し，純水供給源６４から供給された純水が純水供給ノズル５５に送液される。従って，電源６８がオフの際にもウェハＷに対するダミーディスペンスを行うことが可能となるため，純水送液管６２等の内部にある純水が劣化せず，ウェハＷに対する好適な現像処理後のリンス処理を行うことができる。また純水送液管６２等の内部でバクテリアが発生することを防止することも可能となる。
【００６３】
また，副切換弁７８の作動部７８ａに環状路８０からエアを給気することにより，弁体７８ｂを介して主回路７４を導通させることができ，この作動部７８ａにエアを給気しなければ弁体７８ｃを介して主回路７４を導通させないようにすることができる。このように副切換弁７８の開閉動作を間欠的に切り換えることにより，コンプレッサ７３から供給されたエアをエア駆動式バルブ６３の作動部６５に対して間欠的に給気することができる。その結果，ウェハＷに対して純水を間欠的に供給することが可能となる。
【００６４】
第１遅延弁８１にあっては，タンク８１ｂ内にエアが溜まり始めてからエアが作動部８１ｆに向かって排出されるまでの時間を，例えば６００秒に設定している。この６００秒の間環状路８０は弁体８１ｈを介して導通していない状態となっているため，副切換弁７８の作動部７８ａには環状路８０からエアが供給されず，副切換弁７８は閉となっている。そして，タンク８１ｂからエアが放出されると，作動部７８ａにエアが供給され，副切換弁７８が開となる。その結果，副切換弁７８は６００秒おきに開閉するようになり，ダミーディスペンスを６００秒おきに行うことが可能となる。なお，絞り弁８１ａの流量やタンク８１ｂの容量を変化させることによって，上記６００秒の設定時間を適宜調整することができる。
【００６５】
弁体８１ｇを介して環状路８０を流通するエアは，副切換弁７８の作動部７８ａと第２遅延弁８４のタンク８４ｂとに同時に供給される。そして本実施の形態では，タンク８４ｂにエアが溜まり初めてからエアが作動部８４ｆに向かって放出されるまでの時間を，例えば１０秒に設定している。この１０秒の間，副切換弁７８は開となるが，タンク８４ｂから放出したエアが作動部８４ｆに給気されると，バイパス路８５が導通して遅延切換弁８３の作動部８３ａにエアが供給される。このため，遅延切換弁８３は閉となって第１遅延弁８１の作動部８１ａにエアが供給されなくなり，切換弁８１ｄが閉となる。その結果，環状路８０が弁体８１ｈを介して導通しなくなるために副切換弁７８が閉となる。
このように，第２遅延弁８４にあっては，副切換弁７８が開となってから１０秒後に再び副切換弁７８を閉にする。その結果，ダミーディスペンスをこの１０秒間だけ行うことが可能となる。なお，絞り弁８４ａの流量やタンク８４ｂの容量を変化させることにより，上記１０秒の設定時間を適宜調整することができる。
【００６６】
なお，以上の実施の形態では専ら現像処理装置１６について説明したが，この現像処理装置１６と同様の構成を備える他の現像処理装置１８について，本発明を適用することももちろん可能である。即ち，図１３に示すように，純水供給源６４と現像処理装置１８の純水供給ノズル９０とを純水送液管９１を介して接続し，純水送液管９１の途中にエア駆動式バルブ９２を設け，このエア駆動式バルブ９２の駆動を切り換える駆動切換弁９３を設ける。そして，第１エア供給機構６９と駆動切換弁９３とをエア供給路９４’を介して接続し，駆動切換弁９３とエア駆動式バルブ９２の作動部９５とをエア供給路９４を介して接続し，さらに主回路７４から分岐した分岐回路９６を駆動切換弁９３に接続し，迂回路７９から分岐した接続回路９７を駆動切換弁９３の作動部９３ａに接続する。
かかる構成によれば，他の現像処理装置１８について新たな第２エア供給機構を形成しなくても，現像処理装置１６の第２エア供給機構７２を共通して利用することにより電源６８がオフの際にはコンプレッサ７３から供給されたエアを他の現像処理装置１８のエア駆動式バルブ９２の作動部９５にも給気することが可能となる。もちろん，３つ以上の現像処理装置を塗布現像処理装置１に備える場合にあっても，これと同様に，第２エア供給機構７２を共通して利用することができる。
【００６７】
また，エア駆動式バルブ６３から送液される処理液としては純水を例に挙げて説明したが，本発明はかかる例には限定されず，例えば現像中のウェハＷに供給される現像液にも適用が可能である。また，本発明で使用される流体もエアには限定されず，例えば液体であってもよい。
さらに基板としてウェハＷを使用した例を挙げて説明したが，本発明はＬＣＤ基板やＣＤ基板等の他の基板を使用する場合にも応用可能である。
【００６８】
【発明の効果】
請求項１〜７に記載の液処理機構によれば，電源がオフの際に第２の制御機構によって開閉機構に流体を供給することができる。従って，電源がオフの時でも処理液を送液することができるためにダミーディスペンスをすることができる。その結果，長時間電源がオフの場合でも，劣化した処理液を基板に対して供給することがなく，現像処理の欠陥をなくすことが可能となる。
【００６９】
特に請求項３に記載の液処理機構によれば，電源がオフになると主切換弁が自動的に開に切り換わり，第２の流体供給機構により流体が主回路を通じて開閉弁に自動で供給される。従って，ダミーディスペンスを自動で行うことができるために，作業者の負担が軽減化すると共に，作業者の切換ミスを防ぐことができる。
【００７０】
特に請求項４〜６に記載の液処理装置によれば，副切換弁の開放・閉鎖を間欠的に切り換えることで，主回路を通じて流体を開閉機構に対して間欠的に給気することができる。これにより，ダミーディスペンスを間欠的に行うことが可能となり，ダミーディスペンスで消費される処理液の量を節約することが可能となる。
【００７１】
特に請求項５，６に記載の液処理装置によれば，副切換弁の開放時間及び閉鎖時間を制御することができるために，基板に対して処理液を吐出させるタイミングおよびその吐出時間を好適に設定することができる。さらに請求項７によれば，複数の液処理機構において，電源がオフの際に処理液の劣化を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる現像処理装置を備えた塗布現像処理装置の平面図である。
【図２】図１の塗布現像処理装置の正面図である。
【図３】図１の塗布現像処理装置の背面図である。
【図４】本実施の形態にかかる現像処理装置の断面図である。
【図５】図４の現像処理装置に設けられた第２エア供給機構の説明図である。
【図６】図５の第２エア供給機構に装備された遅延弁の構成を示す説明図である。
【図７】図６の遅延弁の弁体が切り替わる様子を示す説明図である。
【図８】ダミーディスペンスが行われる際の遅延弁等の動作を示すタイミングチャートである。
【図９】図４の現像処理装置の電源がオンの際におけるエアの流れを示す説明図である。
【図１０】図５の第２エア供給機構の主切換弁が切り換わった際のエアの流れを示す説明図である。
【図１１】図５の第２エア供給機構の第１遅延弁からエアが放出された際のエアの流れを示す説明図である。
【図１２】図５の第２エア供給機構の第２遅延弁からエアが放出された際のエアの流れを示す説明図である。
【図１３】図５の第２エア供給機構で２台の現像処理装置を接続した説明図である。
【符号の説明】
１  塗布現像処理装置
１６，１８  現像処理装置
５５  純水供給ノズル
６３  エア駆動式バルブ
６５  作動部
６８  電源
６９  第１エア供給機構
７１  駆動切換弁
７２  第２エア供給機構
７３  コンプレッサ
７４  主回路
７６  主切換弁
７８  副切換弁
７９  迂回路
８０  環状路
８１  第１遅延弁
８２，８５  バイパス路
８３  遅延切換弁
８４  第２遅延弁
Ｗ  ウェハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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