(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心孔を有するディスク状の支持基体上に、情報記録面を有し、この情報記録面上に、樹脂を含有する光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体の前記光透過層を形成するための装置であって、
前記情報記録面を設けた前記支持基体を含む基板を載置し、回転させるための回転テーブルと、
前記中心孔を塞ぐための閉塞手段と、
樹脂を含有する塗布液を吐出するための吐出手段とを備え、
前記閉塞手段が、前記中心孔を塞ぐための円板部と、この円板部の中央に一体化された支持軸とを有し、
前記支持軸の外周面に前記塗布液が供給される光情報媒体の製造装置。
【請求項２】
前記支持軸の少なくとも一部が、前記円板部に向かって直径が漸減する円錐台状である請求項１の光情報媒体の製造装置。
【請求項３】
請求項１または２の光情報媒体の製造装置を用い、
前記回転テーブル上に載置した前記基板の前記中心孔を、前記円板部で塞いだ状態で、前記吐出手段から吐出された前記塗布液を前記支持軸に沿って前記円板部上に供給し、前記基板を前記閉塞手段と共に回転させることにより、前記円板部上に供給された塗布液を前記基板上に展延して樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層を硬化することにより光透過層とする工程とを有する光情報媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、再生専用光ディスク、光記録ディスク等の光情報媒体を製造する方法と、この方法に用いる装置とに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、再生専用光ディスクや光記録ディスク等の光記録媒体では、動画情報等の膨大な情報を記録ないし保存するため、記録密度向上による媒体の高容量化が求められ、これに応えるために、高記録密度化のための研究開発が盛んに行われてきた。
【０００３】
その中のひとつとして、例えばＤＶＤ（Digital Versatile Disk）にみられるように、記録・再生波長を短くし、かつ、記録・再生光学系の対物レンズの開口数（ＮＡ）を大きくして、記録・再生時のレーザービームスポット径を小さくすることが提案されている。ＤＶＤをＣＤと比較すると、記録・再生波長を７８０nmから６５０nmに変更し、ＮＡを０．４５から０．６に変更することにより、６〜８倍の記録容量（４．７GB／面）を達成している。
【０００４】
しかし、このように高ＮＡ化すると、チルトマージンが小さくなってしまう。チルトマージンは、光学系に対する光記録媒体の傾きの許容度であり、ＮＡによって決定される。記録・再生波長をλ、記録・再生光が入射する透明基体の厚さをｄとすると、チルトマージンは
λ／（ｄ・ＮＡ3）
に比例する。また、光記録媒体がレーザービームに対して傾くと、すなわちチルトが発生すると、波面収差（コマ収差）が発生する。基体の屈折率をｎ、傾き角をθとすると、波面収差係数は
（１／２）・ｄ・｛ｎ2・sinθ・cosθ｝・ＮＡ3／（ｎ2−sin2θ）-5/2
で表される。これら各式から、チルトマージンを大きくし、かつコマ収差の発生を抑えるためには、基体の厚さｄを小さくすればよいことがわかる。実際、ＤＶＤでは、基体の厚さをＣＤ基体の厚さ（１．２mm程度）の約半分（０．６mm程度）とすることにより、チルトマージンを確保している。
【０００５】
ところで、より高品位の動画像を長時間記録するために、基体をさらに薄くできる構造が提案されている。この構造は、通常の厚さの基体を剛性維持のための支持基体として用い、その表面にピットや記録層を形成し、その上に薄型の基体として厚さ０．１mm程度の光透過層を設け、この光透過層を通して記録・再生光を入射させるものである。この構造では、従来に比べ基体を著しく薄くできるため、高ＮＡ化による高記録密度達成が可能である。このような構造をもつ媒体は、例えば特開平１０−３２０８５９号公報および特開平１１−１２０６１３号公報に記載されている。
【０００６】
厚さ０．１mm程度の光透過層を設けることにより、開口数ＮＡの大きい、例えばＮＡが０．８５程度の対物レンズが使用可能となる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
厚さ０．１mm程度の光透過層の形成方法としては、例えばスピンコート法が挙げられる。スピンコート法を用いる場合、回転テーブルに固定したディスク基板の表面に樹脂を供給し、ディスク基板を回転させて、遠心力により樹脂を展延する。ディスク基板には、駆動装置に装填する際に利用する中心孔が形成されているため、樹脂を回転中心（ディスク基板の中央）に供給することはできず、回転中心から等距離に環状に供給することになる。しかし、樹脂供給位置が回転中心から離れるほど、光透過層の径方向での厚さむらが大きくなってしまう。
【０００８】
光透過層の径方向での厚さむらを低減するため、ディスク基板の中心孔を、板状部材、円板部、閉塞板、キャップ等の閉塞手段により塞ぎ、この閉塞手段の中央付近、すなわち回転中心付近に樹脂を供給する提案がなされている（特開平１０−３２０８５０号公報、同１０−２４９２６４号公報、同１０−２８９４８９号公報、同１１−１９５２５０号公報、同１１−１９５２５１号公報）。
【０００９】
しかし、上記特開平１０−３２０８５０号公報、特開平１０−２４９２６４号公報、特開平１１−１９５２５０号公報には、閉塞手段である板状部材ないしキャップをスピンコート後に取り外す方法が記載されておらず、工業的に利用することが困難である。
【００１０】
これに対し上記特開平１０−２８９４８９号公報には、スピンコート後、閉塞手段である円板部を打ち抜きまたは電磁石による吸着により取り外すことが記載されている。しかし、打ち抜きおよび電磁石による取り外しは工程上煩雑である。また、取り外しの際の閉塞手段の加速度が大きいため、樹脂塗膜に乱れが生じやすい。
【００１１】
また、上記特開平１１−１９５２５１号公報には、円形状のキャップの中央に支持体を一体化した構造の閉塞手段が記載されている。同公報には、この支持体を設けることにより、閉塞手段の着脱や位置合わせが容易になる旨が記載されている。この支持体は、少なくとも１つの孔を有する中空筒状のものであるか、複数の棒状体である。中空筒の内部または複数の棒状体で包囲された領域に樹脂を注入した後、ディスク基板と閉塞手段とを一体的に回転させることにより、ディスク基板上に樹脂層が形成される。この閉塞手段を用いれば、閉塞手段の取り外しは容易となる。
【００１２】
しかし、この閉塞手段では、中空筒に設けられた孔または隣り合う棒状体の間から樹脂を流出させてスピンコートを行う。したがって、支持体の壁（孔以外の領域）または棒状体に樹脂が堰き止められてしまう。また、堰き止められた樹脂が、予測できないタイミングで一挙にディスク基板上に流出することがある。そのため、塗膜にむらが生じやすい。また、この閉塞手段は、樹脂と接触する面の形状が複雑であり、かつ、樹脂と接触する面積が大きいため、閉塞手段の洗浄が困難である。閉塞手段表面に樹脂が残存すると、塗膜にむらが生じやすい。また、同公報の表１には、中空筒の外径が４〜１６mmの場合について塗膜の厚さ変動を調べているが、この結果から、塗膜の厚さむらは中空筒の外径に依存し、外径が大きいほど厚さむらが大きくなることがわかる。すなわち、中空筒の内部に樹脂を供給しても、塗布開始位置は回転中心とは一致せず、中空筒の外周位置が塗布開始位置となると考えられる。なお、樹脂の粘度が比較的高いことを考慮すると、中空筒の外径を４mm未満とすることは困難であるため、同公報記載の方法では、樹脂塗膜の厚さむらを著しく小さくすることは難しい。
【００１３】
本発明の目的は、支持基体表面に情報記録面を有し、この情報記録面上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生用のレーザー光が照射される光情報媒体を製造するに際し、製造工程および製造装置の複雑化を最小限に抑えた上で、光透過層の厚さむらを小さくすることである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（３）の本発明により達成される。
（１）  中心孔を有するディスク状の支持基体上に、情報記録面を有し、この情報記録面上に、樹脂を含有する光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体の前記光透過層を形成するための装置であって、
前記情報記録面を設けた前記支持基体を含む基板を載置し、回転させるための回転テーブルと、
前記中心孔を塞ぐための閉塞手段と、
樹脂を含有する塗布液を吐出するための吐出手段とを備え、
前記閉塞手段が、前記中心孔を塞ぐための円板部と、この円板部の中央に一体化された支持軸とを有し、
前記支持軸の外周面に前記塗布液が供給される光情報媒体の製造装置。
（２）  前記支持軸の少なくとも一部が、前記円板部に向かって直径が漸減する円錐台状である上記（１）の光情報媒体の製造装置。
（３）  上記（１）または（２）の光情報媒体の製造装置を用い、
前記回転テーブル上に載置した前記基板の前記中心孔を、前記円板部で塞いだ状態で、前記吐出手段から吐出された前記塗布液を前記支持軸に沿って前記円板部上に供給し、前記基板を前記閉塞手段と共に回転させることにより、前記円板部上に供給された塗布液を前記基板上に展延して樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層を硬化することにより光透過層とする工程とを有する光情報媒体の製造方法。
【００１５】
【作用および効果】
本発明の製造装置は、図１および図３に示すように、中心孔１０１を有するディスク基板１００を載置して回転させるための回転テーブル２と、中心孔１０１を塞ぐための閉塞手段３と、樹脂を含有する塗布液５を吐出するための吐出手段（ノズル４）とを備える。閉塞手段３は、中心孔１０１を塞ぐための円板部３１と、この円板部３１の中央に一体化された支持軸３２とを有する。塗布液５は、支持軸３２の外周面に供給される。
【００１６】
本発明では、閉塞手段３に支持軸３２を設けるため、媒体製造工程における閉塞手段３の取り扱いが容易となり、特に、スピンコート後に閉塞手段３を取り外すことが容易となる。
【００１７】
なお、前述したように特開平１１−１９５２５１号公報には、中空筒状の支持体または複数の棒状体からなる支持体を設けた閉塞手段が記載されているが、これに比べ、本発明で用いる閉塞手段には以下に説明する利点がある。
【００１８】
前記特開平１１−１９５２５１号公報では、支持体の壁または棒状体により樹脂が堰き止められてしまうため、前述したように塗膜にむらが生じやすい。これに対し本発明では、支持軸の外周面に塗布液を供給してスピンコートを行うため、塗膜にむらが生じにくい。また、本発明では、樹脂が付着するのは支持軸の外周面であるため、同公報記載のものに比べ閉塞手段の洗浄が容易である。また、同公報では、中空筒状の支持体の内部に粘度の比較的高い塗布液を供給するので、塗布液の流動性を確保するために支持体の外径を小さくすることができず、そのため、塗布開始位置が回転中心から比較的遠くなってしまう。これに対し本発明では、同公報に比べ支持軸の外径を著しく小さくできるので、塗膜の厚さむらを著しく低減できる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明により製造される光情報媒体の構成例を、図８に示す。この光情報媒体は記録媒体であり、支持基体１２０上に、情報記録面として記録層１０４を有し、この記録層１０４上に光透過層１０２を有する。記録または再生のためのレーザー光は、光透過層１０２を通して入射する。
【００２０】
本発明は、記録層の種類によらず適用できる。すなわち、例えば、相変化型記録媒体であっても、ピット形成タイプの記録媒体であっても、光磁気記録媒体であっても適用できる。なお、通常は、記録層の少なくとも一方の側に、記録層の保護や光学的効果を目的として誘電体層や反射層が設けられるが、図８では図示を省略してある。また、本発明は、図示するような記録可能タイプに限らず、再生専用タイプにも適用可能である。その場合、支持基体１２０と一体的に形成されるピット列が、情報記録面を構成することになる。
【００２１】
次に、光透過層の形成方法を説明する。
【００２２】
まず、図１および図２に示すように、回転テーブル２上にディスク基板１００を載置する。このディスク基板１００は、情報記録面を設けた支持基体であり、中心孔１０１を有する。ディスク基板１００は、中心孔１０１が回転テーブル２の環状の突起２１に填め込まれて固定される。なお、これらの図は断面図であるが、断面に現れる端面だけを表示し、奥行き方向の図示は省略してある。これ以降の断面図においても同様である。
【００２３】
次いで、閉塞手段３により中心孔１０１を塞ぐ。この閉塞手段３は、中心孔１０１を塞ぐための円板部３１と、その中央に一体化された支持軸３２と、中心孔１０１に対向する側において円板部３１に一体化された凸部３３とを有する。凸部３３を、突起２１の内周部に嵌合することにより、閉塞手段３は回転テーブル２に固定されると共に、ディスク基板１００と閉塞手段３との位置決めを行うことができる。ただし、ディスク基板１００および閉塞手段３の回転テーブル２への固定方法は特に限定されず、例えば、ディスク基板１００と閉塞手段３とが嵌合した状態で、閉塞手段３を回転テーブル２に嵌合させるものであってもよい。
【００２４】
次に、図３に示すように、樹脂または樹脂溶液からなる塗布液５をノズル４から吐出し、支持軸３２の外周面に塗布液５を供給する。このとき、回転テーブル２を比較的低速、好ましくは２０〜１００rpmで回転させ、円板部３１上に一様に塗布液が行き渡るようにする。本発明で用いる樹脂は特に限定されず、例えば、エネルギー線硬化型樹脂を用いてもよく、熱硬化性樹脂を用いてもよいが、好ましくはエネルギー線硬化型樹脂、特に紫外線硬化型樹脂を用いる。
【００２５】
次いで、図４に示すように、回転テーブル２を比較的高速で回転させることにより塗布液５を展延する。これにより、ディスク基板１００上に樹脂層５１が形成される。
【００２６】
塗布液の展延条件は特に限定されない。スピンコート法において塗布液の粘度以外の条件を同一とした場合、理論的には、塗膜の厚さは塗布液の粘度の平方根に比例することが知られている。一方、回転数が大きいほど、また、回転時間が長いほど塗膜は薄くなる。したがって、スピンコート時の回転数および回転時間は、形成する樹脂層５１の厚さおよび塗布液の粘度に応じて適宜決定すればよい。ただし、後述するように厚さ３０〜３００μm程度の光透過層を形成する場合には、塗布液の粘度は１００〜１００，０００cP、回転数は５００〜６，０００rpm、回転時間は２〜１０秒間の範囲からそれぞれ選択することが好ましい。
【００２７】
次に、図５に示すように閉塞手段３をディスク基板１００から離間する。用いる塗布液が紫外線硬化型樹脂を含有する場合、図６に示すように紫外線を照射して樹脂層５１を硬化し、光透過層１０２とする。図６では、回転テーブル２上で紫外線を照射しているが、回転テーブルとは別に硬化用ステージを設けて、その上で硬化してもよい。また、ディスク基板を回転させながら閉塞手段を離間してもよい。
【００２８】
なお、樹脂層５１を硬化した後に、閉塞手段３をディスク基板１００から取り外してもよい。しかし、硬化後に閉塞手段３を取り外すと、円板部３上に存在する樹脂層とディスク基板１００上に存在する樹脂層との境界付近にバリが生じたり、硬化後の樹脂が破片となってディスク基板１００上に飛散したりしやすい。したがって、閉塞手段３を取り外した後に樹脂層５１を硬化することが好ましい。
【００２９】
閉塞手段は、円板部と支持軸とを有するものであればよく、そのほかの構成は特に限定されない。図１に示す閉塞手段３は、円錐台状の円板部３１と、円柱状の支持軸３２とを有するものであるが、このほか、例えば図７（Ａ）〜図７（Ｄ）にそれぞれ示す構成の閉塞手段も使用可能である。
【００３０】
図７（Ａ）に示す閉塞手段は、円錐台状の円板部３１と、逆円錐台状の支持軸３２とを有する。この閉塞手段を用いると、塗布液の塗布開始位置を円板部３１の中央により近づけることができるので、塗膜の厚さむらをさらに低減できる。しかも、支持軸３２の全体を細くする場合と異なり、支持軸３２の機械的強度の低下を抑えることができる。また、支持軸３２をチャック等により把持する場合に、落下しにくくなるので、閉塞手段の着脱および搬送の際に有利である。なお、支持軸３２の全体が逆円錐台状である必要はない。すなわち、支持軸３２の少なくとも一部が円板部３１に向かって直径が漸減する円錐台状であって、かつ、それより円板部に近い領域において支持軸の直径が大きくならなければよい。
【００３１】
図７（Ｂ）に示す閉塞手段は、円板部３１の断面形状が図７（Ａ）とは異なる。円板部３１上に塗布液をむらなく展延するためには、外周部に向かって円板部３１の厚さが漸減することが好ましい。その場合、円板部３１の断面において、塗布液が展延される上縁の形状は、図７（Ａ）に示すように直線状であってもよく、図７（Ｂ）に示すように曲線状であってもよい。また、図７（Ｃ）に示すように、円板部３１の外周が垂直面であってもよい。ただし、図７（Ｃ）において円板部３１の外周における厚さｔは、好ましくは０．４mm以下である。厚さｔが大きすぎると、樹脂層をむらなく塗布することが難しくなる。なお、図７（Ｄ）に示すように円板部３１の厚さを均一としてもよい。
【００３２】
本発明で用いる閉塞手段において、円板部３１近傍における支持軸３２の最小直径は、好ましくは４mm未満、より好ましくは２mm以下である。円板部３１近傍における支持軸３２の直径が大きすぎると、塗布開始位置が円板部３１の中央から離れることになり、樹脂層５１の径方向における厚さむらが大きくなってしまう。ただし、円板部３１近傍における支持軸３２の直径が小さすぎると、支持軸３２の機械的強度が不十分となるので、上記最小直径は好ましくは０．５mm以上、より好ましくは０．７mm以上である。支持軸３２の長さは特に限定されず、その外周面への塗布液の供給が容易となるように、また、把持する際の取り扱いの容易さなどを考慮して適宜決定すればよいが、好ましくは５〜１００mm、より好ましくは１０〜３０mmとする。支持軸３２が短すぎると、外周面への塗布液の供給がしにくくなり、また、把持もしにくくなる。一方、支持軸３２が長すぎると、取り扱いが面倒になる。
【００３３】
円板部３１の直径は、ディスク基板の中心孔１０１の直径よりも大きく、かつ、ディスク基板が有する環状の情報記録面の内径よりも小さければよい。ただし、塗布液５が円板部３１の下面に回り込んで中心孔１０１の周面（ディスク基板の内周面）を汚染することがあるので、円板部３１の直径は中心孔１０１の直径よりも４mm以上、特に８mm以上大きいことが好ましい。また、円板部３１を取り外す際に、その近傍の樹脂層５１の形状に乱れが生じやすいので、円板部３１の直径は情報記録面の内径よりも３mm以上、特に５mm以上小さいことが好ましい。具体的な寸法は、中心孔の直径および情報記録面の内径によっても異なるが、通常、直径６０〜１３０mm程度の光ディスクに本発明を適用する場合には、円板部３１の直径は２０〜４０mm、特に２５〜３８mmの範囲内とすることが好ましい。
【００３４】
閉塞手段の構成材料は特に限定されず、金属、樹脂、セラミックス等のいずれであってもよく、これらの２種以上を用いた複合材料であってもよい。また、円板部３１と支持軸３２とを相異なる材料から構成してもよい。ただし、機械的強度、耐久性、寸法精度が良好であることから、閉塞手段は金属から構成することが好ましい。金属としては、例えばステンレス合金、アルミニウム、アルミニウム合金が好ましい。
【００３５】
閉塞手段３の表面、特に円板部３１の全表面は、塗布液よりも表面張力が低いことが好ましい。閉塞手段３の表面が塗布液に対し濡れにくければ、閉塞手段の表面に付着した塗布液の洗浄が容易となる。表面張力の制御は、閉塞手段の構成材料を適宜選択することによっても可能であるが、表面張力を低くしたい領域にテフロン加工等の撥水・撥油処理を施すことが好ましい。
【００３６】
次に、本発明により製造される媒体各部の具体的構成を説明する。
【００３７】
支持基体１２０は、媒体の剛性を維持するために設けられる。支持基体１２０の厚さは、通常、０．２〜１．２mm、好ましくは０．４〜１．２mmとすればよく、透明であっても不透明であってもよい。支持基体１２０は、通常の光記録媒体と同様に樹脂から構成すればよいが、ガラスから構成してもよい。光記録媒体において通常設けられるグルーブ（案内溝）１２１は、図示するように、支持基体１２０に設けた溝を、その上に形成される各層に転写することにより、形成できる。グルーブ１２１は、記録再生光入射側から見て手前側に存在する領域であり、隣り合うグルーブ間に存在する凸条はランドと呼ばれる。
【００３８】
光透過層１０２は、レーザー光を透過するために透光性を有する。光透過層の厚さは、３０〜３００μmの範囲から選択することが好ましい。光透過層がこれより薄いと、光透過層表面に付着した塵埃による光学的な影響が大きくなる。一方、光透過層が厚すぎると、高ＮＡ化による高記録密度達成が難しくなる。
【００３９】
【実施例】
実施例１
以下の手順で、再生専用光ディスクサンプルを作製した。
【００４０】
情報を保持するピットを形成したディスク状支持基体｛ポリカーボネート製、外径１２０mm、内径（中心孔の直径）１５mm、厚さ１．２mm｝の表面に、Ａｌからなる反射層をスパッタ法により形成した。
【００４１】
次いで、閉塞手段を用いる本発明法を利用して、以下の手順で光透過層を形成した。用いた閉塞手段は、ステンレス合金から構成され、図１に示す形状を有するものであり、円板部３１は直径３８mm、支持軸３２は直径１mm、長さ２０mmである。
【００４２】
まず、回転テーブルを６０rpmで回転させながら紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製のＳＤ３０１、粘度５００cP）を支持軸３２の外周面に供給し、次いで、回転テーブルを８００rpmで５秒間回転させることにより前記反射層表面に樹脂を展延して樹脂層を形成した。次いで、閉塞手段をディスク基板から離間した後、樹脂層を紫外線硬化することにより光透過層とし、光ディスクサンプルを得た。
【００４３】
このサンプルの情報記録面に相当する半径２３〜５８mmの領域において、上記光透過層の厚さをレーザーフォーカス変位計により測定した。その結果、光透過層の厚さは９７±２μmの範囲内に収まり、径方向の厚さむらが極めて小さいことが確認できた。
【００４４】
実施例２
紫外線硬化樹脂として日本化薬社製のＫ２００９（粘度２５００cP）を用い、回転数２５００rpmで４秒間スピンコートしたほかは実施例１と同様にして、光ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて実施例１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは７８±２μmに収まり、径方向の厚さむらが極めて小さいことが確認できた。
【００４５】
実施例３
図７（Ａ）に示す閉塞手段を用いたほかは実施例１と同様にして光ディスクサンプルを作製した。なお、この閉塞手段において、円板部３１との接合部での支持軸３２の直径は０．７mmであった。このサンプルについて実施例１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは９８±１μmに収まり、径方向の厚さむらが実施例１よりも小さくなることが確認できた。
【００４６】
比較例１
閉塞手段を使用せず、ディスク基板の半径１９mmの位置に樹脂を供給したほかは実施例１と同様にして、光ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて実施例１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは７５±２０μmであり、内周と外周との厚さの差は４０μmと極めて大きくなった。
【００４７】
比較例２
回転数８００rpmで３秒間スピンコートしたほかは比較例１と同様にして、光ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて実施例１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは９６±２５μmであった。すなわち、測定領域内における光透過層の最大厚さと最小厚さとの平均値は実施例１とほぼ同じにできたが、内周と外周との厚さの差は５０μmと極めて大きくなった。
【００４８】
比較例３
閉塞手段を使用せず、ディスク基板の半径１９mmの位置に樹脂を供給したほかは実施例２と同様にして、光ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて実施例１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは６０±１７μmであり、内周と外周との厚さの差は３４μmと極めて大きくなった。
【図面の簡単な説明】
【図１】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図２】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図３】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図４】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図５】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図６】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図７】（Ａ）〜（Ｄ）は閉塞手段の構成例を示す断面図である。
【図８】光情報媒体の構成例を示す部分断面図である。
【符号の説明】
２  回転テーブル
２１  突起
３  閉塞手段
３１  円板部
３２  支持軸
３３  凸部
４  ノズル
５  塗布液
５１  樹脂層
１００  ディスク基板
１０１  中心孔
１０２  光透過層
１２０  支持基体
１２１  グルーブ
１０４  記録層
【図１】
0004342087.tif 000002
【図２】
0004342087.tif 000003
【図３】
0004342087.tif 000004
【図４】
0004342087.tif 000005
【図５】
0004342087.tif 000006
【図６】
0004342087.tif 000007
【図７】
0004342087.tif 000008
【図８】
0004342087.tif 000009