(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサであって、
第１ＭＴＪ（ＭＴＪ１）スタックであって、
強磁性のフリー層と、
強磁性のピン層と、
前記フリー層と前記ピン層との間に配置されるトンネル・バリア層と、
前記ピン層の磁化をピン止めするために前記強磁性のピン層に接触する反強磁性（ＡＦＭ１）層と
を含む第１ＭＴＪ（ＭＴＪ１）スタックと、
第２ＭＴＪ（ＭＴＪ２）スタックであって、
強磁性のフリー層と、
強磁性のピン層と、
前記フリー層と前記ピン層との間に配置されるトンネル・バリア層と、
前記ピン層の磁化をピン止めするために前記強磁性のピン層に接触する反強磁性（ＡＦＭ２）層と
を含む第２ＭＴＪ（ＭＴＪ２）スタックと、
前記ＭＴＪ１スタックと前記ＭＴＪ２スタックとの間であって、前記ＭＴＪ１スタックのフリー層側と、前記ＭＴＪ２スタックのフリー層側に配置される導電材料の共通電極と、
前記ＭＴＪ１スタックに第１センス電流を供給するために、前記ＭＴＪ１スタックの反強磁性（ＡＦＭ１）層側に配置される第１シールド（Ｓ１）と、
前記ＭＴＪ２スタックに第２センス電流を供給するために、前記ＭＴＪ２スタックの反強磁性（ＡＦＭ２）層側に配置される第２シールド（Ｓ２）と、を有し、
前記ＭＴＪ１スタックのピン層の磁化方向が、前記ＭＴＪ２スタックのピン層の磁化方向に対して逆平行である磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサ。
【請求項２】
前記ピン層が、Ｎｉ−Ｆｅの層、または前記トンネル・バリア層の側にＣｏのインターフェース層があるＮｉ−Ｆｅの副層とＣｏのインターフェース層の積層である、請求項１に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項３】
前記フリー層が、Ｎｉ−Ｆｅの層、または前記トンネル・バリア層の側にＣｏのインターフェース層があるＮｉ−Ｆｅの副層とＣｏのインターフェース層の積層である、請求項１に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項４】
前記トンネル・バリア層が、Ａｌ2Ｏ3から作られる、請求項１に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項５】
前記ＡＦＭ１層が、Ｍｎ−ＦｅおよびＩｒ−Ｍｎからなる材料のグループから選択される、請求項１に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項６】
前記ＡＦＭ２層が、Ｎｉ−Ｍｎ、Ｐｔ−Ｍｎ、およびＰｔ−Ｐｄ−Ｍｎからなる材料のグループから選択される、請求項１に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項７】
前記共通電極が、金（Ａｕ）から作られる、請求項１に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項８】
前記第１シールドおよび前記第２シールドが、Ｎｉ−ＦｅおよびＡｌ−Ｆｅ−Ｓｉからなる材料のグループから選択される、請求項１に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項９】
ディスク・ドライブ・システムであって、
磁気記録ディスクと、
前記磁気記録ディスクに磁気的に記録されたデータをセンスする磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサであって、
第１ＭＴＪ（ＭＴＪ１）スタックであって、
強磁性のフリー層と、
強磁性のピン層と、
前記フリー層と前記ピン層との間に配置されるトンネル・バリア層と、
前記ピン層の磁化をピン止めするために前記強磁性のピン層に接触する反強磁性（ＡＦＭ１）層と
を含む第１ＭＴＪ（ＭＴＪ１）スタックと、
第２ＭＴＪ（ＭＴＪ２）スタックであって、
強磁性のフリー層と、
強磁性のピン層と、
前記フリー層と前記ピン層との間に配置されるトンネル・バリア層と、
前記ピン層の磁化をピン止めするために前記強磁性のピン層に接触する反強磁性（ＡＦＭ２）層と
を含む第２ＭＴＪ（ＭＴＪ２）スタックと、
前記ＭＴＪ１スタックと前記ＭＴＪ２スタックとの間であって、前記ＭＴＪ１スタックのフリー層側と、前記ＭＴＪ２スタックのフリー層側に配置される導電材料の共通電極と、
前記ＭＴＪ１スタックに第１センス電流を供給するために、前記ＭＴＪ１スタックの反強磁性（ＡＦＭ１）層側に配置される第１シールド（Ｓ１）と、
前記ＭＴＪ２スタックに第２センス電流を供給するために、前記ＭＴＪ２スタックの反強磁性（ＡＦＭ２）層側に配置される第２シールド（Ｓ２）と、を有し、
前記ＭＴＪ１スタックのピン層の磁化方向が、前記ＭＴＪ２スタックのピン層の磁化方向に対して逆平行である磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサと、
前記ＭＴＪセンサが前記磁気記録ディスク上の磁気的に記録されたデータの異なる領域にアクセスできるように、前記ＭＴＪセンサを前記磁気記録ディスク上で移動するアクチュエータと、
前記磁気的に記録されたデータからの磁界に応答する、前記ピン層の固定された磁化に対する相対的な前記フリー強磁性層の磁化軸の回転によって引き起こされる、ＭＴＪセンサの抵抗の変化を検出する、前記ＭＴＪセンサに電気的に結合された記録チャネルと
を含む、ディスク・ドライブ・システム。
【請求項１０】
前記ピン層が、Ｎｉ−Ｆｅの層、または前記トンネル・バリア層の側にＣｏのインターフェース層があるＮｉ−Ｆｅの副層とＣｏのインターフェース層の積層である、請求項９に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項１１】
前記フリー層が、Ｎｉ−Ｆｅの層、または前記トンネル・バリア層の側にＣｏのインターフェース層があるＮｉ−Ｆｅの副層とＣｏのインターフェース層の積層である、請求項９に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項１２】
前記トンネル・バリア層が、Ａｌ2Ｏ3から作られる、請求項９に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項１３】
前記ＡＦＭ１層が、Ｍｎ−ＦｅおよびＩｒ−Ｍｎからなる材料のグループから選択される、請求項９に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項１４】
前記ＡＦＭ２層が、Ｎｉ−Ｍｎ、Ｐｔ−Ｍｎ、およびＰｔ−Ｐｄ−Ｍｎからなる材料のグループから選択される、請求項９に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項１５】
前記共通電極が、金（Ａｕ）から作られる、請求項９に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項１６】
前記第１シールドおよび前記第２シールドが、Ｎｉ−ＦｅおよびＡｌ−Ｆｅ−Ｓｉからなる材料のグループから選択される、請求項９に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項１７】
前記記録チャネルが、さらに、前記ディスク・ドライブ・システムでのデータ読取中のサーマル・アスペリティ現象に応答する前記ＭＴＪ１スタックおよび前記ＭＴＪ２スタック内の抵抗変化を検出し、補償する、前記ＭＴＪ１スタックおよび前記ＭＴＪ２スタックに接続される第１入力端子および第２入力端子を有する差動回路を含む、請求項９に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項１８】
磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサであって、
第１ＭＴＪ（ＭＴＪ１）スタックであって、
強磁性のフリー層と、
積層逆平行（ＡＰ）ピン層であって、第１強磁性副層（ＦＭ１）、第２強磁性副層（ＦＭ２）、および前記ＦＭ１副層と前記ＦＭ２副層との間に配置される逆平行結合（ＡＰＣ）層とを含む、積層逆平行（ＡＰ）ピン層と、
前記フリー層と前記ＦＭ１副層との間に配置されるトンネル・バリア層と、
前記ＦＭ２副層の磁化をピン止めするために前記ＦＭ２副層に接触する反強磁性（ＡＦＭ１）層と
を含む第１ＭＴＪ（ＭＴＪ１）スタックと、
第２ＭＴＪ（ＭＴＪ２）スタックであって、
強磁性のフリー層と、
強磁性のピン層と、
前記フリー層と前記ピン層との間に配置されるトンネル・バリア層と、
前記ピン層の磁化をピン止めするために前記強磁性のピン層に接触する反強磁性（ＡＦＭ２）層と
を含む第２ＭＴＪ（ＭＴＪ２）スタックと、
前記ＭＴＪ１スタックと前記ＭＴＪ２スタックとの間であって、前記ＭＴＪ１スタックのフリー層側と、前記ＭＴＪ２スタックのフリー層側に配置される導電材料の共通電極と、
前記ＭＴＪ１スタックに第１センス電流を供給するために、前記ＭＴＪ１スタックの反強磁性（ＡＦＭ１）層側に配置される第１シールド（Ｓ１）と、
前記ＭＴＪ２スタックに第２センス電流を供給するために、前記ＭＴＪ２スタックの反強磁性（ＡＦＭ２）層側に配置される第２シールド（Ｓ２）と、を有し、
前記ＭＴＪ１スタックのＦＭ１副層の磁化方向が、前記ＭＴＪ２スタックのピン層の磁化方向に対して逆平行である磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサ。
【請求項１９】
前記ＦＭ１副層および前記ＦＭ２副層が、Ｎｉ−Ｆｅの層である請求項１８に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項２０】
前記ＡＰＣ層が、ルテニウム（Ｒｕ）から作られる、請求項１８に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項２１】
前記フリー層が、Ｎｉ−Ｆｅの層、または前記トンネル・バリア層の側にＣｏのインターフェース層があるＮｉ−Ｆｅの副層とＣｏのインターフェース層の積層である、請求項１８に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項２２】
前記トンネル・バリア層が、Ａｌ2Ｏ3から作られる、請求項１８に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項２３】
前記ＡＦＭ１層および前記ＡＦＭ２層が、Ｍｎ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｍｎ、Ｉｒ−Ｍｎ、Ｐｔ−Ｍｎ、およびＰｔ−Ｐｄ−Ｍｎからなる材料のグループから選択される、請求項１８に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項２４】
前記共通電極が、金（Ａｕ）から作られる、請求項１８に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項２５】
前記第１シールドおよび前記第２シールドが、Ｎｉ−ＦｅおよびＡｌ−Ｆｅ−Ｓｉからなる材料のグループから選択される、請求項１８に記載のＭＴＪセンサ。
【請求項２６】
ディスク・ドライブ・システムであって、
磁気記録ディスクと、
前記磁気記録ディスクに磁気的に記録されたデータをセンスする磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサであって、
第１ＭＴＪ（ＭＴＪ１）スタックであって、
強磁性のフリー層と、
積層逆平行（ＡＰ）ピン層であって、第１強磁性副層（ＦＭ１）、第２強磁性副層（ＦＭ２）、および前記ＦＭ１副層と前記ＦＭ２副層との間に配置される逆平行結合（ＡＰＣ）層とを含む、積層逆平行（ＡＰ）ピン層と、
前記フリー層と前記ＦＭ１副層との間に配置されるトンネル・バリア層と、
前記ＦＭ２副層の磁化をピン止めするために前記ＦＭ２副層に接触する反強磁性（ＡＦＭ１）層と
を含む第１ＭＴＪ（ＭＴＪ１）スタックと、
第２ＭＴＪ（ＭＴＪ２）スタックであって、
強磁性のフリー層と、
強磁性のピン層と、
前記フリー層と前記ピン層との間に配置されるトンネル・バリア層と、
前記ピン層の磁化をピン止めするために前記強磁性のピン層に接触する反強磁性（ＡＦＭ２）層と
を含む第２ＭＴＪ（ＭＴＪ２）スタックと、
前記ＭＴＪ１スタックと前記ＭＴＪ２スタックとの間であって、前記ＭＴＪ１スタックのフリー層側と、前記ＭＴＪ２スタックのフリー層側に配置される導電材料の共通電極と、
前記ＭＴＪ１スタックに第１センス電流を供給するために、前記ＭＴＪ１スタックの反強磁性（ＡＦＭ１）層側に配置される第１シールド（Ｓ１）と、
前記ＭＴＪ２スタックに第２センス電流を供給するために、前記ＭＴＪ２スタックの反強磁性（ＡＦＭ２）層側に配置される第２シールド（Ｓ２）と、を有し、
前記ＭＴＪ１スタックのＦＭ１副層の磁化方向が、前記ＭＴＪ２スタックのピン層の磁化方向に対して逆平行である磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサと、
前記ＭＴＪセンサが前記磁気記録ディスク上の磁気的に記録されたデータの異なる領域にアクセスできるように、前記ＭＴＪセンサを前記磁気記録ディスク上で移動するアクチュエータと、
前記磁気的に記録されたデータからの磁界に応答する、前記ピン層の固定された磁化に対する相対的な前記フリー強磁性層の磁化軸の回転によって引き起こされる、ＭＴＪセンサの抵抗の変化を検出する、前記ＭＴＪセンサに電気的に結合された記録チャネルと
を含む、ディスク・ドライブ・システム。
【請求項２７】
前記ＦＭ１副層および前記ＦＭ２副層が、Ｎｉ−Ｆｅの層である請求項２６に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項２８】
前記フリー層が、Ｎｉ−Ｆｅの層、または前記トンネル・バリア層の側にＣｏのインターフェース層があるＮｉ−Ｆｅの副層とＣｏのインターフェース層の積層である、請求項２６に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項２９】
前記トンネル・バリア層が、Ａｌ2Ｏ3から作られる、請求項２６に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項３０】
前記ＡＦＭ１層および前記ＡＦＭ２層が、Ｍｎ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｍｎ、Ｉｒ−Ｍｎ、Ｐｔ−Ｍｎ、およびＰｔ−Ｐｄ−Ｍｎからなる材料のグループから選択される、請求項２６に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項３１】
前記共通電極が、金（Ａｕ）から作られる、請求項２６に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項３２】
前記第１シールドおよび前記第２シールドが、Ｎｉ−ＦｅおよびＡｌ−Ｆｅ−Ｓｉからなる材料のグループから選択される、請求項２６に記載のディスク・ドライブ・システム。
【請求項３３】
前記記録チャネルが、さらに、前記ディスク・ドライブ・システムでのデータ読取中のサーマル・アスペリティ現象に応答する前記ＭＴＪ１スタックおよび前記ＭＴＪ２スタック内の抵抗変化を検出し、補償する、前記ＭＴＪ１スタックおよび前記ＭＴＪ２スタックに接続される第１入力端子および第２入力端子を有する差動回路を含む、請求項２６に記載のディスク・ドライブ・システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、全般的には磁気メディアに記録された信号を読み取るのに磁気抵抗読取センサを使用するタイプの直接アクセス記憶装置（ＤＡＳＤ）に関し、具体的には、サーマル・アスペリティ（thermal asperity）の影響を最小にするために新規の磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサを有するＤＡＳＤに関する。
【０００２】
【従来の技術】
コンピュータに、そこにデータを書き込むことができ、後の使用のためにそこからデータを読み取ることができるメディアを有する補助メモリ記憶装置が含まれることがしばしばである。回転式磁気ディスクを組み込んだ直接アクセス記憶装置（ディスク・ドライブ）が、ディスク表面の磁気の形でデータを保管するのに一般に使用されている。データは、ディスク表面上の、同心円状で半径方向に離隔したトラックに記録される。読取センサを含む磁気ヘッドが、ディスク表面のトラックからデータを読み取るのに使用される。
【０００３】
大容量ディスク・ドライブでは、一般にＭＲヘッドと称する磁気抵抗読取センサが、薄膜誘導ヘッドより高いトラック密度および線密度でディスクの表面からデータを読み取ることができるので、普及している読取センサである。ＭＲセンサは、ＭＲ層によってセンスされる磁束の強度および方向の関数としてのＭＲセンシング層（「ＭＲ要素」とも称する）の抵抗の変化を介して磁界を検出する。
【０００４】
従来のＭＲセンサは、ＭＲ要素の抵抗が、ＭＲ要素内の磁化とＭＲ要素を通って流れるセンス電流の方向の間の角度のコサインの自乗として変化する、異方性磁気抵抗（ＡＭＲ）効果に基づいて動作する。記録されたデータを磁気メディアから読み取ることができるのは、記録された磁気メディアからの外部磁界（信号磁界）が、ＭＲ要素内の磁化の方向の変化を引き起こし、これがＭＲ要素の抵抗の変化および対応するセンスされる電流または電圧の変化を引き起こすからである。
【０００５】
もう１つのタイプのＭＲセンサが、ＧＭＲ（giant magnetoresistance）効果を示すＧＭＲセンサである。ＧＭＲセンサでは、ＭＲセンシング層の抵抗が、非磁性層（スペーサ）によって分離された磁性層間の伝導電子のスピン依存の透過と、磁性層と非磁性層の界面および磁性層内で発生する、付随するスピン依存の散乱との関数として変化する。
【０００６】
非磁性材料（たとえば銅）の層によって分離された強磁性材料（たとえば、Ｎｉ−ＦｅまたはＣｏまたはＮｉ−Ｆｅ−ＣｏまたはＮｉ−Ｆｅ／Ｃｏ）の２つの層だけを使用するＧＭＲセンサを、一般に、スピン・バルブ（ＳＶ）効果を示すＳＶセンサと称する。
【０００７】
図１に、中央領域１０２によって分離された端領域１０４および１０６を含む従来技術のＳＶセンサ１００を示す。ピン層１２０と称する第１の強磁性層が、その磁化を、通常は反強磁性（ＡＦＭ）層１２５との交換結合によって固定（ピン止め）される。フリー層１１０と称する第２の強磁性層の磁化は、固定されておらず、記録された磁気メディアからの磁界（信号磁界）に応答して自由に回転する。フリー層１１０は、非磁性導電スペーサ層１１５によってピン層１２０から分離される。それぞれ端領域１０４および１０６内に形成されるハード・バイアス層１３０および１３５が、フリー層１１０に水平のバイアスを与える。それぞれハード・バイアス層１３０および１３５の上に形成されるリード１４０および１４５が、ＳＶセンサ１００の抵抗をセンスするための電気接続をもたらす。参照によって本明細書に組み込まれる米国特許第５２０６５９０号明細書に、ＳＶ効果に基づいて動作するＧＭＲセンサが開示されている。
【０００８】
現在開発中のもう１つのタイプの磁気デバイスが、磁気トンネル接合（ＭＴＪ）デバイスである。ＭＴＪデバイスは、潜在的に、メモリ・セルおよび磁界センサとしての応用分野を有する。ＭＴＪデバイスには、薄い電気的に絶縁性のトンネル・バリア層によって分離された２つの強磁性層が含まれる。トンネル・バリア層は、強磁性層の間で電荷キャリアの量子力学的トンネル効果が発生するのに十分に薄い。トンネル効果プロセスは、電子スピン依存であり、これは、接合をまたいで流れるトンネル電流が、強磁性材料のスピン依存電子特性に依存し、２つの強磁性層の磁気モーメントの相対方位または磁化方向の関数であることを意味する。ＭＴＪセンサでは、１つの強磁性層が、その磁気モーメントを固定またはピン止めされ、他方の強磁性層が、記録メディアからの外部磁界（信号磁界）に応答して自由に回転する磁気モーメントを有する。２つの強磁性層の間に電位が印加される時に、センサの抵抗は、強磁性層の間で絶縁層をまたぐトンネル電流の関数である。トンネル・バリア層を介して垂直に流れるトンネル電流は、２つの強磁性層の相対的な磁化方向に依存するので、記録されたデータを磁気メディアから読み取ることができる。というのは、信号磁界が、フリー層の磁化の方向の変化を引き起こし、これが、ＭＴＪセンサの抵抗の変化およびセンスされる電流または電圧の対応する変化を引き起こすからである。参照によってその全体を本明細書に組み込まれる米国特許第５６５０９５８号明細書に、磁気トンネル接合効果に基づいて動作するＭＴＪセンサが開示されている。
【０００９】
図２に、第１電極２０４、第２電極２０２、およびトンネル・バリア２１５を含む従来技術のＭＴＪセンサ２００を示す。第１電極２０４には、ピン層（ピン強磁性層）２２０、反強磁性（ＡＦＭ）層２３０、およびシード層２４０が含まれる。ピン層２２０の磁化は、ＡＦＭ層２３０との交換結合を介して固定される。第２電極２０２には、フリー層（フリー強磁性層）２１０およびキャップ層２０５が含まれる。フリー層２１０は、非磁性で電気的に絶縁性のトンネル・バリア層２１５によってピン層２２０から分離される。外部磁界がない場合、フリー層２１０は、その磁化を矢印２１２によって示される向きすなわち、矢印２２２（紙の平面に向かう方向の矢印の尾）によって示されるピン層２２０の磁化方向におおむね垂直に向けられる。それぞれ第１電極２０４および第２電極２０２に接触して形成される第１リード２６０および第２リード２６５が、電流源２７０からＭＴＪセンサ２００へのセンシング電流Ｉｓの流れのための電気接続を提供する。通常はパーシャル・レスポンス最尤（partial response maximum likelihood；ＰＲＭＬ）チャネルなどの記録チャネルに含まれる、第１リード２６０および第２リード２６５に接続された信号検出器２８０が、外部磁界によってフリー層２１０内で誘導される変化に起因する抵抗の変化をセンスする。
【００１０】
前に述べたように、ＭＲセンサは、変化する磁界が存在する時に、抵抗の変化を示す。この抵抗変化が、ＭＲ要素を通して一定のセンス電流を渡すことによって、電圧信号に変換される。所与のＭＲセンサの直流電圧の値は、一定のセンス電流とＭＲセンサ・リード間の総抵抗の積である。抵抗の変化が、ＭＲセンサが動作する基本であるから、抵抗の変化は、ＭＲセンサおよびＭＲセンサを組み込んだディスク・ドライブの性能に強く影響する可能性がある。
【００１１】
サーマル・アスペリティ（ＴＡ）と称する現象によって、ＭＲセンサの温度が突然１００℃以上上昇する可能性がある。この突然の温度上昇の原因は、トラックからの情報の読取中の、ディスク表面の突出部とのＭＲセンサの衝突または衝突に近い状態である。この衝突によって、ＭＲセンサの直流ベース電圧がかなりシフトし、したがって、情報が読取不能になる。
【００１２】
図３は、直流ベース（バイアス）電圧３１０、ベース直流電圧３１０のシフトおよび減衰であるサーマル・アスペリティ電圧３２０、サーマル・アスペリティ３２０がない状態でディスクから読み戻されたデータ信号３３５、およびサーマル・アスペリティ３２０がある状態でディスクから読み戻されたデータ信号３４０を示すグラフである。サーマル・アスペリティ３２０に、直流ベース電圧の急激なシフト３２５と、その後の直流ベース電圧の指数関数的減衰３３０が含まれることに留意されたい。直流ベース電圧の指数関数的減衰３３０は、直流ベース電圧３１０に達するまで継続する。直流ベース電圧の急激なシフト３２５は、データ信号３３５より数倍長くなる可能性があり、これによって、ＭＲセンサに直接にまたは間接的に接続された電子回路が飽和し、データの消失につながることに留意されたい。データの消失は、サーマル・アスペリティ３２０のサイズに応じて、簡単に数バイトの長さになる可能性がある。各バイトは８ビットの長さである。
【００１３】
読取データに対するサーマル・アスペリティの影響を最小にするためのディスク・ドライブ内の既知の配置では、コストがかかる別のアスペリティ低減回路（ＡＲＣ）モジュール、または通常の動作モードおよびアスペリティ回復モードを有する複雑なデータ・チャネル（修正パーシャル・レスポンス最尤（ＰＭＲＬ）チャネルなど）のいずれかが使用される。
【００１４】
サーマル・アスペリティの影響を補償するサーマル・アスペリティ低減回路を有するＭＲセンサおよびスピン・バルブ・センサが、参照によってその内容を本明細書に組み込まれる米国特許第５７９３５７６号明細書および米国特許第５７９３２０７号明細書に記載されている。これらの特許出願では、ＭＲセンサまたはＳＶセンサにセンス電流を供給する２つのリードとアスペリティ補償層に電流を供給する２つのリードという４つのリードを有するセンサが記載されている。ＭＲ要素またはＳＶ要素の両端に生じる電圧（サーマル・アスペリティの存在に起因する電圧およびデータ磁界の存在に起因する電圧）とアスペリティ補償層の両端に生じる電圧（サーマル・アスペリティの存在に起因する電圧）が、サーマル・アスペリティ信号の実質的な除去のために差動増幅器の入力に印加される。
【００１５】
サーマル・アスペリティは、ＭＴＪセンサについて、ＭＲセンサおよびＳＶセンサに類似する問題を提示する。ＭＴＪセンサ抵抗は、センサ内のトンネル・バリア層を通るスピン依存トンネル効果電流が、ディスクに記録されたデータの磁界に起因して変化する際に変化する。トンネル・バリア層の両端に印加される一定のバイアス電圧に起因するＭＴＪセンサのベース抵抗は、サーマル・アスペリティによってトンネル・バリア層の温度が高くなる時に低下する。結果の指数関数的に減衰するサーマル・アスペリティ信号は、重畳されたデータ信号の検出に干渉する。
【００１６】
したがって、複雑な記録チャネルまたは別のＡＲＣモジュールの使用を必要としない、ＭＴＪセンサのサーマル・アスペリティの効果を最小にする発明が必要である。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、磁気トンネル接合（ＭＴＪ）センサを使用するディスク・ドライブで、実質的にサーマル・アスペリティ現象を除去するＭＴＪセンサを開示することである。
【００１８】
本発明のもう１つの目的は、ＭＴＪセンサを使用するディスク・ドライブで、サーマル・アスペリティ現象を検出し、実質的に除去する方法および手段を開示することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記および他の目的および長所は、共通電極によって第２磁気トンネル接合（ＭＴＪ）スタックから分離された第１ＭＴＪスタックを有するＭＴＪセンサによって、本発明の原理に従って達成される。第１ＭＴＪスタックおよび第２ＭＴＪスタックにセンス電流を供給する電極は、それぞれ、第１シールドおよび第２シールドによって提供される。
【００２０】
第１ＭＴＪスタックは、トンネル・バリア層によってピン層から分離されたフリー層を有する。ピン層に隣接するＡＦＭ層が、ピン層の磁化をＡＢＳに垂直に固定（ピン止め）する交換磁束を提供する。フリー層の磁化は、ＡＢＳに平行に向けられ、信号磁界が存在すると自由に回転する。
【００２１】
同様に、第２ＭＴＪスタックは、トンネル・バリア層によってピン層から分離されたフリー層を有する。ピン層に隣接するＡＦＭ層が、ピン層の磁化をＡＢＳに垂直で第１ＭＴＪスタックのピン層の磁化方向に逆平行に固定（ピン止め）する交換磁界を提供する。フリー層の磁化は、ＡＢＳと平行に向けられ、信号磁界が存在すると自由に回転する。
【００２２】
２つのＭＴＪスタックのピン層の磁化が、ＡＢＳに垂直で互いに逆平行に固定された状態で、ディスクからの外部磁界に起因して第１ＭＴＪスタックによって生成される磁気抵抗信号は、同一の外部磁界に起因して第２ＭＴＪスタックによって生成される磁気抵抗信号に関して、位相が１８０°異なる。
【００２３】
第１ＭＴＪスタックのフリー層および第２ＭＴＪスタックのフリー層の両方が、第１ＭＴＪスタックと第２ＭＴＪスタックの間に配置された共通電極に隣接する。第１シールドおよび共通電極に接続された第１電流源が、第１ＭＴＪスタックにセンス電流を供給し、第２シールドおよび共通電極に接続された第２電流源が、第２ＭＴＪスタックにセンス電流を供給する。直流状態（信号磁界なし）の下で、各ＭＴＪスタック内を流れる電流が調整され、その結果、第１ＭＴＪスタックを流れる電流と第１ＭＴＪスタックの抵抗の積が、第２ＭＴＪスタックを流れる電流と第２ＭＴＪスタックの抵抗の積と等しくなるようにされる。第１ＭＴＪスタックの両端に生じる電圧が、差動回路の第１入力端子に供給され、第２ＭＴＪスタックの両端に生じる電圧が、差動回路の第２入力端子に供給される。差動回路は、さらに、出力端子およびグラウンド（共通）端子を有する。
【００２４】
サーマル・アスペリティが存在する場合、両方のＭＴＪスタックの抵抗が変化し、各ＭＴＪスタックの電流と抵抗の積が等しくなるように電流が調節されたので、第１ＭＴＪスタックの両端に生じるサーマル・アスペリティ信号と第２ＭＴＪスタックの両端に生じるサーマル・アスペリティ信号は、実質的に同一の形状、振幅、および位相を有する。しかし、ディスクからのデータ磁界が存在する場合、第１ＭＴＪスタックの両端で生成される磁気抵抗信号は、第２ＭＴＪスタックの両端で生成される磁気抵抗信号に関して位相が１８０°異なる。
【００２５】
サーマル・アスペリティ信号が、差動回路の両方の入力端子に存在し、共通なので、この信号は、差動回路によって打ち消される。しかし、ディスク上のデータ磁界に起因する磁気抵抗信号は、２つの入力端子で位相が１８０°異なり、２つの入力端子の磁気抵抗信号の和に等しい出力信号がもたらされる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
図４を参照すると、本発明を実施するディスク・ドライブ４００が示されている。図４に示されているように、少なくとも１つの回転可能な磁気ディスク４１２が、スピンドル４１４上で支持され、ディスク駆動モータ４１８によって回される。各ディスクの磁気記録メディアは、ディスク４１２上の同心円のデータ・トラック（図示せず）のドーナツ形のパターンの形である。
【００２７】
少なくとも１つのスライダ４１３が、ディスク４１２上で位置決めされ、各スライダ４１３は、１つまたは複数の磁気読取／書込ヘッド４２１を支持し、ヘッド４２１に、本発明のＭＴＪセンサが組み込まれる。ディスクが回転する際に、スライダ４１３が、ディスク表面４２２上で半径方向の内外に移動され、その結果、ヘッド４２１が、ディスクの所望のデータが記録された異なる部分にアクセスできるようになる。各スライダ４１３は、サスペンション４１５によってアクチュエータ・アーム４１９に取り付けられる。サスペンション４１５は、ディスク表面４２２に向かってスライダ４１３にバイアスをかける、わずかなばね力を与える。各アクチュエータ・アーム４１９は、アクチュエータ４２７に取り付けられる。図４に示されたアクチュエータは、ボイス・コイル・モータ（ＶＣＭ）とすることができる。ＶＣＭには、固定された磁界の中で移動可能なコイルが含まれ、コイルの移動の方向および速度は、コントローラ４２９によって提供されるモータ電流制御によって制御される。
【００２８】
ディスク・ストレージ・システムの動作中に、ディスク４１２の回転によって、スライダ４１３（ヘッド４２１を含み、ディスク４１２の表面に面するスライダ４１３の表面を、エア・ベアリング面（ＡＢＳ）と称する）とディスク表面４２２の間にエア・ベアリングが生成され、これによって、スライダに上向きの力または揚力が働く。したがって、エア・ベアリングは、サスペンション４１５のわずかなばね力と釣り合い、スライダ４１３を、通常動作中に、小さい実質的に一定の間隔だけディスク表面からわずかに離れた状態で支持する。
【００２９】
ディスク・ストレージ・システムのさまざまな構成要素は、アクセス制御信号および内部クロック信号など、制御ユニット４２９によって生成される制御信号によって、動作中に制御される。通常、制御ユニット４２９には、ロジック制御回路、ストレージ・チップ、およびマイクロプロセッサが含まれる。制御ユニット４２９は、信号線４２３上の駆動モータ制御信号および信号線４２８上のヘッド位置およびシーク制御信号などの制御信号を生成して、さまざまなシステム動作を制御する。信号線４２８上の制御信号は、スライダ４１３をディスク４１２上の所望のデータ・トラックへ最適に移動し、位置決めするための所望の電流プロファイルを提供する。読取信号および書込信号は、記録チャネル４２５によって、読取／書込ヘッド４２１との間で通信される。記録チャネル４２５は、パーシャル・レスポンス最尤（ＰＭＲＬ）チャネルまたはピーク検出チャネルとすることができる。両方のチャネルの設計および実施が、当技術分野および当業者に周知である。好ましい実施形態では、記録チャネル４２５が、ＰＭＲＬチャネルである。
【００３０】
通常の磁気ディスク・ストレージ・システムの上の説明およびそれに付随する図４の図示は、表示だけを目的とする。ディスク・ストレージ・システムに多数のディスクおよびアクチュエータを含めることができ、各アクチュエータが複数のスライダをサポートできることは明白である。
【００３１】
図５に、ＭＴＪ読取ヘッド部分および誘導書込ヘッド部分を含む、本発明を実施する読取／書込ヘッド５００の概略断面図を示す。ヘッド５００は、ラッピングされてＡＢＳを形成する。読取ヘッドには、第１シールド層Ｓ１と第２シールド層Ｓ２の間に配置されたＭＴＪセンサ５４０が含まれる。絶縁ギャップ層Ｇ１が、第１シールド層Ｓ１と第２シールド層Ｓ２の間で、ＭＴＪセンサから離れた領域に配置される。書込ヘッドには、絶縁層ＩＮ１と絶縁層ＩＮ３の間に配置されたコイル層Ｃおよび絶縁層ＩＮ２が含まれ、絶縁層ＩＮ１およびＩＮ３は、第１極磁片Ｐ１と第２極磁片Ｐ２の間に配置される。ギャップ層Ｇ２が、第１極磁片Ｐ１と第２極磁片Ｐ２の間に配置されて、書込ギャップを設けるためにＡＢＳに隣接する極磁片に磁気ギャップを設ける。図５に示された、組み合わされた読取／書込ヘッド５００は、読取ヘッドの第２シールド層Ｓ２が、書込ヘッドの第１極磁片Ｐ１として使用される、「合併」ヘッドである。その代わりに、読取ヘッドの第２シールド層Ｓ２が、書込ヘッドの第１極磁片Ｐ１を形成する層と別の別個の層である「ピギーバック」ヘッドを使用することができる。
【００３２】
図６に、本発明の好ましい実施形態による、ＭＴＪセンサ６００の、原寸通りではないエア・ベアリング面（ＡＢＳ）の図を示す。ＭＴＪセンサ６００には、能動的な中央領域６６２によって互いに分離された受動的な端領域６６４および６６６が含まれる。ＭＴＪセンサ６００の能動領域には、中央領域６６２内に形成される第１ＭＴＪスタック６０２および第２ＭＴＪスタック６０４が含まれる。第１ＭＴＪスタック６０２と第２ＭＴＪスタック６０４の間に配置された金などの導電材料の共通電極層６４２が、中央領域６６２と端領域６６４および６６６内に形成される。第１ＭＴＪスタックは、中央領域６６２内で第１シールド（Ｓ１）６４０の真上に形成される。第１シールド６４０は、基板６０１上に堆積され、中央領域６６２と端領域６６４および６６６の上に延びて、浮遊磁界からＭＴＪセンサ６００を磁気的に遮蔽する、Ｎｉ−Ｆｅ（パーマロイ）またはＡｌ−Ｆｅ−Ｓｉ（センダスト）などの軟磁性材料の層である。Ａｌ2Ｏ3などの電気絶縁材料の第１絶縁体層６５０および６５２を、それぞれ端領域６６４および６６６内で、第１シールド６４０の上で、第１ＭＴＪスタック６０２と接触して形成する。Ａｌ2Ｏ3などの電気絶縁材料の第２絶縁体層６５４および６５６を、それぞれ端領域６６４および６６６内で、共通電極層６４２の上で、第２ＭＴＪスタック６０４と接触して形成する。Ｎｉ−ＦｅまたはＡｌ−Ｆｅ−Ｓｉなどの軟磁性材料の第２シールド（Ｓ２）６４４を、端領域６６４内で第２絶縁体層６５４の上、端領域６６６内で第２絶縁体層６５６の上、および中央領域６６２内で第２ＭＴＪスタック６０４の上に形成する。
【００３３】
ＭＴＪスタック６０２およびＭＴＪスタック６０４のフリー層の磁区状態の水平方向の安定性が所望される場合には、当技術分野で既知のように、第１絶縁体層６５０および６５２と第２絶縁体層６５４および６５６の中にハード・バイアス層を設けることができる。参照によって本明細書に組み込まれる米国特許第５７２０４１０号明細書に、そのようなＭＴＪセンサ用の水平方向バイアス方法が記載されている。
【００３４】
第１ＭＴＪスタック６０２には、強磁性の第１フリー層６２２、強磁性の第１ピン層６１８、第１フリー層６２２と第１ピン層６１８の間に配置された第１トンネル・バリア層６２０、シード層６１０、および第１ピン層６１８とシード層６１０の間に配置された第１反強磁性層（ＡＦＭ１）６１２が含まれる。ＡＦＭ１層６１２は、第１ピン層６１８と交換結合され、第１ピン層６１８の磁化の向きをＡＢＳに垂直にピン止めする交換磁界を提供する。第１フリー層６２２の磁化は、ＡＢＳに平行の向きにされ、信号磁界が存在すると自由に回転する。
【００３５】
第２ＭＴＪスタック６０４には、強磁性の第２フリー層６２４、強磁性の第２ピン層６２８、第２フリー層６２４と第２ピン層６２８の間に配置された第２トンネル・バリア層６２６、キャップ層６３２、および第２ピン層６２８とキャップ層６３２の間に配置された第２反強磁性層（ＡＦＭ２）６３０が含まれる。ＡＦＭ２層６３０は、第２ピン層６２８に交換結合され、第２ピン層６２８の磁化の向きをＡＢＳに垂直にピン止めする交換磁界を提供する。第２フリー層６２４の磁化は、ＡＢＳに平行の向きにされ、信号磁界が存在すると自由に回転する。
【００３６】
ＭＴＪセンサ６００は、マグネトロン・スパッタリングまたはイオン・ビーム・スパッタリング・システムで製造して、図６に示された多層構造を順次堆積することができる。５００ないし１０００ｎｍの厚さを有するＮｉ−Ｆｅの第１シールド（Ｓ１）６４０を、基板６０１上に堆積する。シード層６１０、ＡＦＭ１層６１２、第１ピン層６１８、第１トンネル・バリア層６２０、および第１フリー層６２２を、約４０Ｏｅの水平または横の磁界が存在する状態で第１シールド６４０の上に順次堆積して、強磁性層のすべての磁化容易軸の向きを決める。シード層６１０は、後続層の結晶学的組織または粒子サイズを変更するために堆積される層であり、後続層の材料によっては必要でない場合がある。使用される場合に、シード層は、約３ないし５ｎｍの厚さを有する、タンタル（Ｔａ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、またはニッケル−鉄（Ｎｉ−Ｆｅ）から形成することができる。Ｍｎ50−Ｆｅ50またはＩｒ20−Ｍｎ80から形成され、約１０ｎｍの厚さを有するＡＦＭ１層６１２を、シード層６１０の上に堆積する。強磁性の第１ピン層６１８は、約２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅから形成することができ、その代わりに、ＡＦＭ１層６１２の上に堆積される２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅの副層およびＮｉ−Ｆｅ副層の上に堆積される約０．５ｎｍの厚さを有するコバルト（Ｃｏ）のインターフェース層から形成することができる。第１トンネル・バリア層６２０は、第１ピン層６１８の上に０．８ないし２ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）層を堆積し、プラズマ酸化することによって、Ａｌ2Ｏ3から形成される。強磁性の第１フリー層６２２は、２ないし５ｎｍの厚さを有するＮｉ−Ｆｅから形成することができ、その代わりに、第１トンネル・バリア層６２０の上に堆積される約０．５ｎｍの厚さを有するＣｏのインターフェース層およびＣｏインターフェース層の上に堆積される２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅの副層から形成することができる。
【００３７】
第１ＭＴＪスタック６０２は、ホトレジストを堆積し、当技術分野で周知のホトリソグラフィ・プロセスおよびイオン・ミリング・プロセスを使用することによって、中央領域６６２内で画定される。ここで、第１絶縁体層６５０および６５２を、それぞれ端領域６６４および６６６内で、露出された第１シールド６４０の上に堆積することができる。第１絶縁体層６５０および６５２は、第１ＭＴＪスタック６０２の全厚さにほぼ等しい厚さを有するＡｌ層を堆積し、プラズマ酸化することによって、Ａｌ2Ｏ3から形成される。その後、第１ＭＴＪスタック６０２を保護するホトレジストを除去し、２０ないし３０ｎｍの範囲の厚さを有する金（Ａｕ）の共通電極６４２を、露出された第１ＭＴＪスタック６０２と第１絶縁体層６５０および６５２の上に堆積する。
【００３８】
第２ＭＴＪスタック６０４は、強磁性の第２フリー層６２４、第２トンネル・バリア層６２６、強磁性の第２ピン層６２８、ＡＦＭ２層６３０、およびキャップ層６３２を、約４０Ｏｅの水平または横の磁界が存在する状態で共通電極６４２の上に順次堆積して、強磁性層のすべての磁化容易軸の向きを決めることによって形成される。第２フリー層６２４は、約２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅから形成することができ、その代わりに、共通電極６４２の上に堆積される２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅの副層およびＮｉ−Ｆｅ副層の上に堆積される０．５ｎｍの範囲の厚さを有するＣｏのインターフェース層から形成することができる。第２トンネル・バリア層６２６は、第２フリー層６２４の上に０．８ないし２ｎｍのＡｌ層を堆積し、プラズマ酸化することによって、Ａｌ2Ｏ3から形成される。強磁性の第２ピン層６２８は、第２トンネル・バリア層６２６の上に堆積される２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅから形成することができ、その代わりに、第２トンネル・バリア層６２６の上に堆積される約０．５ｎｍの厚さを有するＣｏのインターフェース層およびＣｏインターフェース層の上に堆積される２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅの副層から形成することができる。ＡＦＭ２層６３０は、第２ピン層６２８の上に堆積される、約１０ｎｍの厚さを有する、Ｎｉ50−Ｍｎ50か、その代わりにＰｔ−ＭｎまたはＰｔ−Ｐｄ−Ｍｎから形成される。２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するタンタル（Ｔａ）から形成されるキャップ層６３２が、ＡＦＭ２層６３０の上に堆積される。
【００３９】
第２ＭＴＪスタック６０４は、ホトレジストを堆積し、当技術分野で周知のホトリソグラフィ・プロセスおよびイオン・ミリング・プロセスを使用することによって、中央領域６６２内で画定される。ここで、第２絶縁体層６５４および６５６を、それぞれ端領域６６４および６６６内で、露出された共通電極６４２の上に堆積することができる。第２絶縁体層６５４および６５６は、第２ＭＴＪスタック６０４の全厚さにほぼ等しい厚さを有するＡｌ層を堆積し、プラズマ酸化することによって、Ａｌ2Ｏ3から形成される。その後、第２ＭＴＪスタック６０４を保護するホトレジストを除去し、５００ないし１０００ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅの第２シールド（Ｓ２）６４４を、露出された第２ＭＴＪスタック６０４と第２絶縁体層６５４および６５６の上に堆積する。
【００４０】
もう一度図６を参照すると、第１シールド（Ｓ１）６４０および共通電極６４２が、第１ＭＴＪスタック６０２へのセンシング電流Ｉ１の流れのための電気接続を提供する。第１ＭＴＪスタック６０２内では、センシング電流Ｉ１の流れが、矢印６７０によって示されるように、第１トンネル・バリア層６２０の平面に垂直の方向である。第１絶縁体層６５０および６５２は、それぞれ端領域６６４および６６６での電気的絶縁をもたらし、第１ＭＴＪスタック６０２の周囲でのセンシング電流Ｉ１の分路を防ぐ。第２シールド（Ｓ２）６４４および共通電極６４２が、第２ＭＴＪスタック６０４へのセンシング電流Ｉ２の流れのための電気接続を提供する。第２ＭＴＪスタック６０４内では、センシング電流Ｉ２の流れが、矢印６７２によって示されるように、第２トンネル・バリア層６２６の平面に垂直の方向である。第２絶縁体層６５４および６５６が、それぞれ端領域６６４および６６６での電気的絶縁をもたらし、第２ＭＴＪスタック６０４の周囲でのセンシング電流Ｉ２の分路を防ぐ。
【００４１】
ＭＴＪセンサ６００の製造プロセスが完了した後に、第１ＭＴＪスタック６０２のピン層６１８および第２ＭＴＪスタック６０４のピン層６２８の磁化を、初期化プロセスによって逆平行の向きに固定しなければならない。ピン層６１８および６２８の磁化が、ＡＢＳに垂直で、矢印６１９および６２９（それぞれ紙から出る方向および紙に入る方向の矢印の頭および尾）によって示されるように互いに逆平行に固定された状態で、ディスクからの外部磁界に起因して第１ＭＴＪスタック６０２によって生成される磁気抵抗信号が、同一の外部磁界に起因して第２ＭＴＪスタック６０４によって生成される磁気抵抗信号に関して位相が１８０°異なるようになる。
【００４２】
ＡＦＭ１層６１２の材料は、ＡＦＭ２層６３０の材料のブロッキング温度（ブロッキング温度は、交換結合が０になる温度である）より低いブロッキング温度を有するように選択される。ＡＦＭ２層６３０は、まず、ＡＦＭ２材料のブロッキング温度、ＴB2（Ｎｉ50−Ｍｎ50のブロッキング温度は約２５０℃である）より高い温度までＭＴＪセンサ６００を加熱し、次に、ＡＢＳに垂直に約５０００Ｏｅを超える外部磁界を印加した状態で、センサを冷却することによって方向を決められる。その後、ＡＦＭ１層６１２が、第１ＭＴＪスタック６０２の両端に電圧パルスを印加し、ＴB1を超えるがＴB2未満の温度への抵抗加熱を引き起こすことによってＡＦＭ１材料をそのブロッキング温度ＴB1（Ｍｎ50−Ｆｅ50のブロッキング温度は約１５０℃である）を超えて局所的に加熱し、ＡＢＳに垂直でＡＦＭ２層６３０をセットするために印加された磁界に逆平行に約５０００Ｏｅを超える外部磁界を印加した状態で、センサを冷却することによって、リセットされる。ＡＦＭ１層６１２およびＡＦＭ２層６３０のセット中に印加される外部磁界は、第１ピン層６１８の磁化と第２ピン層６２８の磁化を互いに逆平行にセットするために、逆平行である。
【００４３】
図７に、本発明の好ましい実施形態によるサーマル・アスペリティ低減回路７００の概略図を示す。回路７００には、第１シールド（Ｓ１）６４０電極、第２シールド（Ｓ２）６４４電極、および共通電極６４２を有するＭＴＪセンサ６００と、第１電流源７１０と、第２電流源７１２と、差動回路７３０とが含まれる。差動回路７３０には、第１入力端子７３３、第２入力端子７３５、出力端子７４０、およびグラウンド（基準）端子７３８が含まれる。
【００４４】
図７を参照すると、第１電流源７１０は、第１ＭＴＪスタック６０２にセンス電流Ｉ１を供給するために、第１シールド（Ｓ１）６４０および共通電極６４２に接続される。第２電流源７１２は、第２ＭＴＪスタック６０４にセンス電流Ｉ２を供給するために、第２シールド（Ｓ２）６４４および共通電極６４２に接続される。電流Ｉ１およびＩ２は、外部磁界（信号磁界）が存在しない状態で、第１ＭＴＪスタックの抵抗とＩ１の積（すなわち第１ＭＴＪスタックの両端での電圧降下）が、第２ＭＴＪスタックの抵抗とＩ２の積（第２ＭＴＪスタックの両端での電圧降下）と等しくなるように調整される。
【００４５】
第１シールド（Ｓ１）６４０は、ワイヤ７３２を介して、差動回路７３０の第１入力端子７３３にも接続され、第２シールド（Ｓ２）６４４は、ワイヤ７３４を介して、差動回路７３０の第２入力端子７３５にも接続される。共通電極は、共通配線パッド７１４に接続されることが好ましい。共通パッド７１４は、ワイヤ７３６を介して、差動回路７３０のグラウンド７３８に接続される。差動回路７３０の出力端子７４０は、図４の説明に従って検出された信号の次の処理のために、データ記録チャネル７２０に接続される。記録チャネル７２０および差動回路７３０を一緒にして、記録システム７５０と呼称する。差動回路７３０は、データ記録チャネル７２０が集積されるものと同一のシリコン・チップに集積される、シリコンベースの高速差動増幅器であることが好ましい。差動回路７３０は、さらに、第１入力端子７３３および第２入力端子７３５に印加される電圧の差に起因する、ノード７４０での出力電圧を、次の形で表現できるような差動利得を有する。
Ｖ740＝Ａ×（Ｖ733−Ｖ735）
ここで、Ａは、差動回路７３０の差動利得である。差動増幅器の設計は、当業者に既知である。
【００４６】
ここで図８、図９、および図１０を参照すると、それぞれ差動増幅器７３０の第１入力端子７３３、第２入力端子７３５、および出力端子７４０に存在する、直流バイアス状態と、磁気ディスクからのデータ磁界が存在する場合と、サーマル・アスペリティおよび磁気ディスクからのデータ磁界が存在する場合との電圧信号が示されている。図７、図８、図９、および図１０を参照すると、直流バイアス状態（外部磁界が存在しない）の下で、第１入力端子７３３の電圧は、ＲMTJ1×Ｉ１である直流電圧８１０であり、第２入力端子７３５の電圧は、ＲMTJ2×Ｉ２である直流電圧８２０であり、出力端子７４０の電圧は、直流電圧８３０である。
【００４７】
磁気ディスクからのデータ磁界など、磁界が存在すると、トンネル・バリア層６２０および６２６の抵抗の変化が原因で、ＭＴＪスタックの両端の電圧が変化する。データ磁界が存在する場合の第１トンネル・バリア層６２０の抵抗変化の結果として第１ＭＴＪスタック６０２の両端に生じる電圧は、交流信号の形で表される。その結果、第１シールド６４０に接続された第１入力端子７３３の電圧信号は、交流成分８１４および直流成分８１０を有する電圧８１２になる。交流成分は、上で述べたように、ディスクからの磁界が存在する場合の第１トンネル・バリア層６２０の抵抗の変化に起因し、次式によって表される。
Ｉ１×ΔＲMTJ1
直流成分は、上で述べたように、
Ｉ１×ＲMTJ1
である。したがって
Ｖ812＝Ｉ１×ΔＲMTJ1＋Ｉ１×ＲMTJ1
である。
【００４８】
同様に、データ磁界が存在する場合の第２トンネル・バリア層６２６の抵抗の変化の結果として第２ＭＴＪスタック６０４の両端に生じる電圧は、交流信号の形で表される。その結果、第２シールド６４４に接続された第２入力端子７３５の電圧信号は、交流成分８２４および直流成分８２０を有する電圧８２２になる。交流成分は、上で述べたように、ディスクからの磁界が存在する場合の第２トンネル・バリア層６２６の抵抗の変化に起因し、次式によって表される。
Ｉ２×ΔＲMTJ2
直流成分は、上で述べたように、
Ｉ２×ＲMTJ2
である。したがって、
Ｖ822＝Ｉ２×ΔＲMTJ2＋Ｉ２×ＲMTJ2
である。しかし、２つのＭＴＪスタック６０２および６０４のめいめいのピン層の磁化方向６１９および６２９の逆平行方位に起因して、電圧８１２の交流成分８１４と電圧８２２の交流成分８２４の間に１８０°の位相差があることに留意されたい。
【００４９】
ディスクからの磁界が存在する場合、出力端子７４０の電圧は、下に示すように、第１入力端子７３３と第２入力端子７３５の電圧信号の間の差に回路７３０の差動利得をかけた値に等しくなる。
Ｖ740＝Ａ×（Ｖ733−Ｖ735）
Ｖ832＝Ａ×（Ｖ812−Ｖ822）
Ｖ832＝Ａ×（Ｉ１×ΔＲMTJ1＋Ｉ１×ＲMTJ1−Ｉ２×ΔＲMTJ2−Ｉ２×ＲMTJ2）
電流Ｉ１およびＩ２は、Ｉ１×ＲMTJ1＝Ｉ２×ＲMTJ2になるように選択されたので、上の２つの信号からの寄与が互いに打ち消し合い、次のようになる。
Ｖ832＝Ａ×（Ｉ１×ΔＲMTJ1−Ｉ２×ΔＲMTJ2）
第２ＭＴＪスタック６０４からの磁気抵抗信号が、第１ＭＴＪスタック６０２からの磁気抵抗信号と１８０°位相がずれているので、出力端子７４０の交流電圧８３４が、第１入力端子７３３の交流成分８１４の振幅と第２入力端子７３５の交流成分８２４の振幅の和になることに留意されたい。
【００５０】
ここで、ディスクのトラックからデータを読み取っている間にサーマル・アスペリティ現象が発生し、ＭＴＪセンサ６００の温度が上昇したと仮定する。そのような条件の下で、第１入力端子７３３の電圧は、交流成分８４４および直流成分８４０を有する電圧８４２になる。交流成分は、ディスクからの磁界が存在する場合の第１トンネル・バリア層６２０の抵抗の変化に起因し、Ｉ１×ΔＲMTJ1である。
【００５１】
直流成分８４０は、直流電圧の急激なシフトとその後のシフトされた直流電圧の指数関数的減衰によって表され、Ｉ１×ＲMTJ1であり、したがって、
Ｖ842＝Ｉ１×ΔＲMTJ1＋Ｉ１×ＲMTJ1
である。
【００５２】
サーマル・アスペリティが存在する場合、第２入力端子７３５の電圧は、交流成分８５４と直流成分８５０を有する、次式の電圧８５２になる。
Ｖ852＝Ｉ２×ΔＲMTJ2＋Ｉ２×ＲMTJ2
【００５３】
ここで、ディスクからデータを読み取っている間のサーマル・アスペリティ現象という条件の下で、出力端子７４０の電圧は、下に示すように、第１入力端子７３３と第２入力端子７３５の電圧信号の間の差に回路７３０の差動利得をかけた値に等しくなる。
Ｖ740＝Ａ×（Ｖ733−Ｖ735）
Ｖ862＝Ａ×（Ｖ842−Ｖ852）
Ｖ862＝Ａ×（Ｉ１×ΔＲMTJ1＋Ｉ１×ＲMTJ1−Ｉ２×ΔＲMTJ2−Ｉ２×ＲMTJ2）
【００５４】
図１１は、入力端子７３３および７３５の電圧と差動回路７３０の出力端子７４０の結果の電圧の位相関係をよりよく示すために、それぞれ図８、図９、および図１０の部分Ａ、Ｂ、およびＣを示すグラフである。
【００５５】
電流Ｉ１およびＩ２が、Ｉ１×ＲMTJ1＝Ｉ２×ＲMTJ2になるように選択され、第１ＭＴＪスタック６０２および第２ＭＴＪスタック６０４が、同等の構造および同一の熱係数を有するので、第１ＭＴＪスタック６０２および第２ＭＴＪスタック６０４の両端に生じるサーマル・アスペリティ信号は、実質的に同一の形状、振幅、および位相を有する。したがって、項Ｉ１×ＲMTJ1およびＩ２×ＲMTJ2は、互いに打ち消し合い、次式がもたらされる。
Ｖ862＝Ａ×（Ｉ１×ΔＲMTJ1−Ｉ２×ΔＲMTJ2）
第２ＭＴＪスタック６０４からの磁気抵抗信号は、第１ＭＴＪスタック６０２からの磁気抵抗信号から位相が１８０°ずれているので、出力端子７４０の交流電圧８６４の振幅は、図１１の曲線Ｃに示されているように、それぞれ入力端子７３３および７３５の交流電圧８４４および８５４の振幅の和になる。
【００５６】
実際の実施形態では、（１）第１ＭＴＪスタック６０２と第２ＭＴＪスタック６０４の抵抗の間、（２）第１ＭＴＪスタック・リードと第２ＭＴＪスタック・リードの抵抗の間、（３）第１電流源７１０と第２電流源７１２の間、および（４）差動回路の内部不整合に存在する有限の物理的不一致に起因して、通常は、直流電圧の急激なシフトの最初に、出力端子７４０に狭い信号スパイク８７０が存在する。しかし、このスパイクは、一般に２〜３ビットの長さにすぎず、データの消失を引き起こさない。
【００５７】
図１２を参照すると、本発明の好ましい実施形態のＭＴＪセンサ１０００の、原寸通りではないエア・ベアリング面（ＡＢＳ）の図が示されている。ＭＴＪセンサ１０００は、実質的に上で説明したＭＴＪセンサ６００と同一であるが、ＭＴＪセンサ１０００に、積層逆平行（ＡＰ）ピン層１０１３を有する、中央領域６６２内で形成された第１ＭＴＪスタック１００２が含まれる点が異なる。積層ＡＰピン層１０１３には、２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅの第１強磁性副層（ＦＭ１）１０１８、２ないし５ｎｍの範囲の厚さを有するＮｉ−Ｆｅの第２強磁性副層（ＦＭ２）１０１４、およびＦＭ１副層１０１８とＦＭ２副層１０１４の間に配置される逆平行結合（ＡＰＣ）層１０１６が含まれる。ＡＰＣ層１０１６は、ＦＭ１副層１０１８とＦＭ２副層１０１４が互いに反強磁性的に強く結合できるようにする、非磁性材料、好ましくはルテニウム（Ｒｕ）から形成される。ＦＭ２副層１０１４は、第１反強磁性（ＡＦＭ１）層６１２の上に形成される。ＡＦＭ１層６１２は、ＦＭ２副層１０１４に交換結合され、ＦＭ２副層１０１４の磁化方向をＡＢＳに垂直にピン止めする交換磁界を提供する。第１トンネル・バリア層６２０が、ＦＭ１副層１０１８の上に形成される。
【００５８】
積層ＡＰピン層１０１３を使用する本発明の代替実施形態のＭＴＪセンサ１０００の新規の特徴は、第１ＭＴＪスタック１００２および第２ＭＴＪスタック６０４のピン層の磁化方向を互いに逆平行に固定するのに必要な初期化プロセスが簡略化されることである。ＭＴＪセンサ１０００の初期化プロセスには、所望の方向で５０００Ｏｅの磁界を印加して、ＡＦＭ１およびＡＦＭ２の両方の材料のブロッキング温度を超えてＭＴＪセンサ１０００全体を加熱し、冷却することによって、ＡＦＭ１  ６１２およびＡＦＭ２  ６３０の両方の磁化方向を同一方向にセットするステップが含まれる。初期化プロセスの後に、ＦＭ２副層１０１４および第２ピン層６２８が、それぞれの磁化方向１０１５および６２９を有し、これらの方向は、ＡＢＳに垂直で互いに平行に向けられている。ＡＰＣ層１０１６のゆえに、ＦＭ１副層１０１８の磁化方向１０１９は、ＡＢＳに垂直で、ＦＭ２副層１０１４の磁化方向１０１５に逆平行で、第２ピン層６２８の磁化方向６２９に逆平行に向けられる。ＦＭ１副層１０１８および第２ピン層６２８の磁化が、それぞれ矢印１０１９および６２９（それぞれ紙から出る矢印の頭および紙に入る矢印の尾）によって示されるように、ＡＢＳに垂直で互いに逆平行に固定された状態で、第１ＭＴＪスタック１００２によってディスクからの外部磁界に起因して生成される磁気抵抗信号は、第２ＭＴＪスタック６０４によって同一の外部磁界に起因して生成される磁気抵抗信号に関して位相が１８０°異なる。
【００５９】
本発明の代替実施形態のＭＴＪセンサ１０００では、ＡＦＭ１層６１２およびＡＦＭ２層６３０の両方が、単一の加熱ステップによって初期化されるので、ＡＦＭ１の材料のブロッキング温度が、ＡＦＭ２の材料のブロッキング温度より低いことが必要でなくなる。したがって、代替実施形態では、ＡＦＭ１層６１２およびＡＦＭ２層６３０の両方を、Ｍｎ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｍｎ、Ｉｒ−Ｍｎ、Ｐｔ−Ｍｎ、およびＰｔ−Ｐｄ−Ｍｎからなる材料のグループから選択することができる。
【００６０】
本発明の代替実施形態では、図７のＭＴＪセンサ６００が、代替のＭＴＪセンサ１０００によって置換されて、サーマル・アスペリティ低減回路７００を使用するサーマル・アスペリティの検出および低減がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  従来技術のＳＶセンサの、原寸通りではないエア・ベアリング面の図である。
【図２】  従来技術のＭＴＪセンサの、原寸通りではないエア・ベアリング面の図である。
【図３】  サーマル・アスペリティ信号およびデータ・トラックから読み戻されたデータ信号を示すグラフである。
【図４】  磁気記録ディスク・ドライブ・システムの簡略化された図である。
【図５】  ＭＲ読取ヘッドがシールドの間で誘導書込ヘッドに隣接して配置されている、誘導書込／ＭＲ読取ヘッドの、原寸通りではない垂直断面図である。
【図６】  本発明の磁気トンネル接合センサの実施形態の、原寸通りではないエア・ベアリング面の図である。
【図７】  本発明の好ましい実施形態による、サーマル・アスペリティ低減方法および手段を示す概略図である。
【図８】  サーマル・アスペリティ信号およびデータ信号がない場合、サーマル・アスペリティ信号はないがデータ信号がある場合、およびサーマル・アスペリティ信号およびデータ信号が存在する場合の、本発明の好ましい実施形態の差動回路の第１入力端子の信号を示すグラフである。
【図９】  サーマル・アスペリティ信号およびデータ信号がない場合、サーマル・アスペリティ信号はないがデータ信号がある場合、およびサーマル・アスペリティ信号およびデータ信号が存在する場合の、本発明の好ましい実施形態の差動回路の第２入力端子の信号を示すグラフである。
【図１０】  サーマル・アスペリティ信号およびデータ信号がない場合、サーマル・アスペリティ信号はないがデータ信号がある場合、およびサーマル・アスペリティ信号およびデータ信号が存在する場合の、本発明の好ましい実施形態の差動回路の出力端子の信号を示すグラフである。
【図１１】  サーマル・アスペリティ信号およびデータ信号がある場合の、信号の位相の関係を示す、図８、図９、および図１０の信号の部分Ａ、Ｂ、およびＣを増幅したグラフである。
【図１２】  本発明の磁気トンネル接合センサの代替実施形態の、原寸通りでないエア・ベアリング面の図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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