(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線層を有する多層ベース基板の最上層が研磨されてビルドアップ面として構成され最下層にグランド層が形成されたベース基板部と、
上記ベース基板部のビルドアップ面上に絶縁層を介して他の配線層が多層に形成されると共に、上記他の配線層内にキャパシタンスを含む受動素子が形成されている高周波回路部とから構成され、
上記ベース基板部には、上記グランド層の上側に該ベース基板部の配線層が形成されない配線非形成領域が設けられ、
上記高周波回路部の高さ方向に隣り合う上配線層及び下配線層の上記配線非形成領域に対応する位置にそれぞれ上電極部及び下電極部を形成することによって、上記配線非形成領域の直上に、上記上電極部と上記下電極部との間に上記絶縁層を介在させることで構成されるキャパシタンスを備えている高周波モジュール基板装置。
【請求項２】
配線層を有する多層ベース基板の最上層が研磨されてビルドアップ面として構成され最下層にグランド層を有しないベース基板部と、
上記ベース基板部のビルドアップ面上に絶縁層を介して他の配線層が多層に形成されると共に、上記他の配線層内にキャパシタンスを含む受動素子が形成されている高周波回路部とから構成され、
上記ベース基板部には、該ベース基板部の配線層が形成されない配線非形成領域が設けられ、
上記高周波回路部の上記ビルドアップ面と隣り合う他の配線層の上記配線非形成領域に対応する位置が上電極部となると共に、上記ベース基板部の最上層のビルドアップ面内に形成された配線層の上記配線非形成領域に対応する位置が下電極部となることによって、上記配線非形成領域の直上に、上記上電極部と上記下電極部との間に上記絶縁層を介在させることで構成されるキャパシタンスを備えている高周波モジュール基板装置。
【請求項３】
配線層を有する多層ベース基板の最上層が研磨されてビルドアップ面として構成され最下層にグランド層が形成されたベース基板部と、
上記ベース基板部のビルドアップ面上に絶縁層を介して他の配線層が多層に形成されると共に、上記他の配線層内にキャパシタンスを含む受動素子が形成されている高周波回路部とから構成され、
上記ベース基板部には、上記グランド層の上側に該ベース基板部の配線層が形成されない配線非形成領域が設けられ、
上記高周波回路部の高さ方向に隣り合う上記他の配線層の上配線層及び下配線層の上記配線非形成領域に対応する位置がそれぞれ上電極部及び中電極部となることによって、上記配線非形成領域の直上に、上記上電極部と上記中電極部との間に上記絶縁層を介在させることで構成される第１のキャパシタンスを備えると共に、上記ベース基板部の最上層のビルドアップ面内に形成された配線層の上記配線非形成領域に対応した位置が下電極部となり、この下電極部と上記第１のキャパシタンスの上電極部とを層間接続することによって、上記配線非形成領域の直上に、上記第１のキャパシタンスの中電極部と上記下電極部との間に上記絶縁層を介在させることで構成される第２のキャパシタンスを備えている高周波モジュール基板装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ベース基板部と高周波回路部とからなる高周波モジュール基板装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、音楽、音声或いは画像等の各種情報は、近年、データのデジタル化に伴ってパーソナルコンピュータやモバイルコンピュータ等によっても手軽に扱えるようになっている。また、これらの情報は、音声コーデック技術や画像コーデック技術により帯域圧縮が図られて、デジタル通信やデジタル放送により各種の通信端末機器に対して容易に且つ効率的に配信される環境が整いつつある。例えば、オーディオ・ビデオデータ（ＡＶデータ）は、携帯電話機によって屋外での受信も可能である。
【０００３】
ところで、データ等の送受信システムは、家庭を始めとして小規模な地域内においても好適なネットワークシステムの提案によって、様々に活用されるようになっている。ネットワークシステムとしては、例えばIEEE802.11aで提案されているような５ＧＨｚ帯域の狭域無線通信システム、IEEE802.11bで提案されているような２．４５ＧＨｚ帯域の無線ＬＡＮシステム或いはBluetoothと称される近距離無線通信システム等の種々の次世代ワイヤレスシステムが注目されている。
【０００４】
データ等の送受信システムは、かかるワイヤレスネットワークシステムを有効に利用して、家庭内や屋外等の様々な場所において手軽に且つ中継装置等を介することなく様々なデータの授受、インターネット網へのアクセスやデータの送受信が可能となっている。
【０００５】
一方、データ等の送受信システムにおいては、小型軽量で携帯可能であり上述した通信機能を有する通信端末機器の実現が必須となる。通信端末機器においては、送受信部においてアナログの高周波信号の変復調処理を行うことが必要であることから、一般に図１３に示すような送受信信号からいったん中間周波数に変換するようにしたスーパーへテロダイン方式による高周波送受信回路１００が備えられる。
【０００６】
高周波送受信回路１００には、アンテナや切替スイッチを有して情報信号を受信或いは送信するアンテナ部１０１と、送信と受信との切替を行う送受信切替器１０２とが備えられる。高周波送受信回路１００には、周波数変換回路部１０３や復調回路部１０４等からなる受信回路部１０５が備えられる。高周波送受信回路１００には、パワーアンプ１０６やドライブアンプ１０７及び変調回路部１０８等からなる送信回路部１０９が備えられる。高周波送受信回路１００には、受信回路部１０５や送信回路部１０９に基準周波数を供給する基準周波数生成回路部が備えられる。
【０００７】
以上のような構成の高周波送受信回路１００においては、詳細を省略するが、各段間にそれぞれ介挿された種々のフィルタ、局発装置（VCO:voltage contolled oscillator）、ＳＡＷフィルタ（Surface Acoustic Wave）等の大型機能部品や、整合回路或いはバイアス回路等の高周波アナログ回路に特有なインダクタンス、レジスタンス、キャパシタンス等の受動部品の点数が非常に多い構成となっている。したがって、高周波送受信回路１００は、全体に大型となり、通信端末機器の小型軽量化に大きな障害となっていた。
【０００８】
一方、通信端末機器には、図１４に示すように中間周波数への変換を行わずに情報信号の送受信を行うようにしたダイレクトコンバージョン方式による高周波送受信回路１１０も用いられる。高周波送受信回路１１０においては、アンテナ部１１１によって受信された情報信号が送受信切替器１１２を介して復調回路部１１３に供給されて直接ベースバンド処理が行われる。高周波送受信回路１１０においては、ソース源で生成された情報信号が変調回路部１１４において中間周波数に変換されることなく直接所定の周波数帯域に変調され、アンプ１１５と送受信切替器１１２を介してアンテナ部１１１から送信される。
【０００９】
以上のような構成の高周波送受信回路１１０においては、情報信号について中間周波数の変換を行うことなくダイレクト検波を行うことによって送受信する構成であることから、フィルタ等の部品点数が低減されて全体構成の簡易化が図られ、より１チップ化に近い構成が見込まれるようになる。しかしながら、高周波送受信回路１１０においても、後段に配置されたフィルタ或いは整合回路の対応が必要となる。また、高周波送受信回路１１０は、高周波段で一度の増幅を行うことから充分なゲインを得ることが困難となり、ベースバンド部でも増幅操作を行う必要がある。したがって、高周波送受信回路１１０は、ＤＣオフセットのキャンセル回路や余分なローパスフィルタを必要とし、さらに全体の消費電力が大きくなるといった問題があった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従来の高周波送受信回路は、上述したようにスーパーへテロダイン方式及びダイレクトコンバージョン方式の何れにおいても、通信端末機器の小型軽量化等の要求仕様に対して充分な特性を満足し得ないものであった。このため、高周波送受信回路については、例えばＳｉ−ＣＭＯＳ回路等をベースとして簡易な構成によって小型化を図ったモジュール化について種々の試みが図られている。すなわち、試みの一つは、例えば特性の良い受動素子をＳｉ基板上に形成するとともにフィルタ回路や共振器等をＬＳＩ上に作り込み、さらにベースバンド部分のロジックＬＳＩも集積化することで、いわゆる１チップ化された高周波モジュール基板装置を製作する方法である。
【００１１】
しかしながら、このような１チップ化された高周波モジュール基板装置においては、いかにして性能の良い受動素子をＬＳＩ上に形成するかが極めて重要となる。そこで、図１５に、高性能な受動素子を有する高周波モジュール基板１２０を示す。高周波モジュール基板１２０は、受動素子としてインダクタンス１２１が、Ｓｉ基板１２２及びＳｉＯ２絶縁層１２３のインダクタンス形成部位１２４に対応して大きな凹部１２５の直上に形成されている。
【００１２】
このインダクタンス１２１は、凹部１２５に臨ませて第１の配線層１２６を形成するとともに凹部１２５を閉塞する第２の配線層１２７が形成されてコイル部１２８によって構成されている。しかしながら、このような構成の高周波モジュール基板装置１２０は、インダクタンス１２１の形成工程が極めて面倒であり、工程の増加によってコストがアップするといった問題があった。
【００１３】
また、この高周波モジュール基板装置においては、アナログ回路の回路部と、デジタル回路のベースバンド回路部との間に介在するＳｉ基板の電気的干渉が大きな問題となった。このような欠点を改善する高周波モジュール基板装置としては、例えば図１６に示したＳｉ基板をベース基板に用いた高周波モジュール基板装置１３０や、図１７に示したガラス基板をベース基板に用いた高周波モジュール基板装置１４０が提案されている。
【００１４】
高周波モジュール基板装置１３０は、Ｓｉ基板１３１上にＳｉＯ２層１３２を形成した後に、リソグラフィ技術によって高周波回路部１３３が成膜形成されている。高周波回路部１３３には、詳細を省略するが、その内部にパターン配線１３４と共に、受動素子１３５として例えばキャパシタンス、インダクタンス等が薄膜形成技術や厚膜形成技術によって多層に形成されている。
【００１５】
高周波モジュール基板装置１３０は、高周波回路部１３３上にビア（中継スルーホール）等を介して内部パターン配線１３４と接続された端子部が形成され、これら端子部にフリップチップ実装法等により高周波ＩＣやＬＳＩ等の回路素子１３６が直接実装されて構成される。この高周波モジュール基板装置１３０は、例えばマザー基板等に実装することで、回路部とベースバンド回路部とを区分して両者の電気的干渉を抑制することが可能とされる。
【００１６】
ところで、この高周波モジュール基板装置１３０においては、導電性を有するＳｉ基板１３１が、高周波回路部１３３内に各受動素子を形成する際に機能するが、各受動素子の良好な高周波特性にとって邪魔になるといった問題があった。
【００１７】
一方、高周波モジュール基板装置１４０は、上述した高周波モジュール基板装置１３０におけるＳｉ基板１３１の問題を解決するために、ベース基板にガラス基板１４１が用いられている。高周波モジュール基板装置１４０も、ガラス基板１４１上にリソグラフィ技術によって高周波回路部１４２が成膜形成されている。高周波回路部１４２には、詳細を省略するが、その内部にパターン配線１４３と共に、受動素子１４４として例えばキャパシタンス、インダクタンス等が薄膜形成技術や厚膜形成技術によって多層に形成されている。
【００１８】
高周波モジュール基板装置１４０は、高周波回路部１４２上にビア等を介して内部パターン配線と接続された端子部が形成され、これら端子部にフリップチップ実装法等により高周波ＩＣやＬＳＩ等の回路素子１４５が直接実装されて構成される。この高周波モジュール基板１４０は、導電性を有しないガラス基板１４１を用いることで、ガラス基板１４１と高周波回路部１４２との容量的結合度が抑制され高周波回路部１４２内に良好な高周波特性を有する受動素子を形成することが可能である。
【００１９】
しかしながら、かかる高周波モジュール基板装置１３０、１４０においては、上述したようなＳｉ基板１３１やガラス基板１４１上に形成した配線層を介して高周波信号系のパターン形成と、電源やグランドの供給配線或いは制御系信号配線が行われる。このため、高周波モジュール基板装置１３０、１４０では、各配線間に電気的干渉が生じるとともに、配線層を多層に形成することによるコストアップや、配線の取り回しによる大型化といった問題が生じてしまうことがある。
【００２０】
そして、上述した高周波モジュール基板装置１３０は、図１８に示すようにインターポーザ基板１５１上に搭載されてパッケージ１５０を形成する。パッケージ１５０は、インターポーザ基板１５１の一方主面上に高周波モジュール基板装置１３０を搭載するとともに全体を絶縁樹脂１５２によって封装してなる。パッケージ１５０は、インターポーザ基板１５１の表裏主面にパターン配線１５３や入出力端子部１５４がそれぞれ形成されていると共に、高周波モジュール基板装置１３０の搭載領域の周囲に多数の電極部１５５が形成されてなる。
【００２１】
パッケージ１５０は、インターポーザ基板１５１上に高周波モジュール基板装置１３０を実装した状態で、この高周波モジュール基板装置１３０と電極部１５５とをワイヤボンディング法によりワイヤ１５６によって電気的に接続して電源供給や信号の送受を行うようにする。したがって、高周波モジュール基板装置１３０には、高周波ＩＣやＬＳＩ等の回路素子１３６等を実装した表面層にパターン配線１３４やワイヤ１５６が接続される電極１３７等が形成される。なお、高周波モジュール基板装置１４０についても、同様にしてパッケージ化が図られる。
【００２２】
これらの高周波モジュール基板装置１３０、１４０は、上述したようにインターポーザ基板１５１上に搭載されてパッケージ化が図られるが、パッケージ１５０の厚みや面積を大きくさせるといった問題があった。また、高周波モジュール基板装置１３０、１４０は、パッケージ１５０のコストをアップさせるといった問題もある。
【００２３】
そして、パッケージ１５０には、高周波モジュール基板装置１３０、１４０に搭載した高周波ＩＣやＬＳＩ等の回路素子１３６、１４５を覆って、電磁波ノイズの影響を低減するシールドカバー１５７が取り付けられる。このため、パッケージ１５０において、回路素子１３６、１４５等から発生する熱がシールドカバー１５７内に籠もって特性を劣化させることから、放熱構造を設ける必要がある。
【００２４】
このようなパッケージ１５０においては、高周波モジュール基板装置１３０、１４０にＳｉ基板１３１やガラス基板１４１が用いられることによって、これら基板側からの放熱を行う放熱構造を設けることが困難であるとともに大型化するといった問題もある。
【００２５】
さらに、高周波モジュール基板装置１３０、１４０は、ベース基板に比較的高価なＳｉ基板１３１やガラス基板１４１が用いられることで、コストがアップするといった問題があった。
【００２６】
そこで、本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、キャパシタンスのさらなる特性向上を可能にすると共に、小型化、低価格化を図った高周波モジュール基板装置を提供することを目的に提案されたものである。
【００２７】
【課題を解決するための手段】
上述した目的を達成する本発明にかかる高周波モジュール基板装置は、配線層を有する多層ベース基板の最上層が研磨されてビルドアップ面として構成され最下層にグランド層が形成されたベース基板部と、ベース基板部のビルドアップ面上に絶縁層を介して他の配線層が多層に形成されると共に、他の配線層内にキャパシタンスを含む受動素子が形成されている高周波回路部とから構成され、ベース基板部には、上記グランド層の上側に該ベース基板部の配線層が形成されない配線非形成領域が設けられ、高周波回路部の高さ方向に隣り合う上配線層及び下配線層の配線非形成領域に対応する位置にそれぞれ上電極部及び下電極部を形成することによって、配線非形成領域の直上に、上電極部と下電極部との間に絶縁層を介在させることで構成されるキャパシタンスを備えている。
【００２８】
本発明にかかる高周波モジュール基板装置は、ベース基板部の配線層に備わる配線非形成領域の直上に、上配線層に形成された上電極部と下配線層に形成された下電極部との間に絶縁層を介在させることで構成されるキャパシタンスが備えられた構造となっている。したがって、この高周波モジュール基板装置では、キャパシタンスとベース基板部の配線層との距離を離すことができ、キャパシタンスに対してベース基板部の配線層により生じる寄生容量が低減されることから、キャパシタンスの特性が向上する。
【００２９】
また、上述した目的を達成する本発明にかかる高周波モジュール基板装置は、配線層を有する多層ベース基板の最上層が研磨されてビルドアップ面として構成され最下層にグランド層を有しないベース基板部と、ベース基板部のビルドアップ面上に絶縁層を介して他の配線層が多層に形成されると共に、他の配線層内にキャパシタンスを含む受動素子が形成されている高周波回路部とから構成され、ベース基板部には、該ベース基板部の配線層が形成されない配線非形成領域が設けられ、高周波回路部のビルドアップ面と隣り合う他の配線層の配線非形成領域に対応する位置が上電極部となると共に、ベース基板部の最上層のビルドアップ面内に形成された配線層の配線非形成領域に対応する位置が下電極部となることによって、配線非形成領域の直上に、上電極部と下電極部との間に絶縁層を介在させることで構成されるキャパシタンスを備えている。
【００３０】
本発明にかかる高周波モジュール基板装置は、ベース基板部の配線層に備わる配線非形成領域の直上に、高周波回路部のビルドアップ面と隣り合う他の配線層に形成された上電極部と、ベース基板部の最上層のビルドアップ面内に形成された配線層に形成された下電極部との間に絶縁層を介在させることで構成されるキャパシタンスが備えられた構造になっている。したがって、この高周波モジュール基板装置では、キャパシタンスとベース基板部の配線層との距離を離すことができ、キャパシタンスに対してベース基板部の配線層により生じる寄生容量が低減されることから、キャパシタンスの特性が向上する。
【００３１】
さらに、上述した目的を達成する本発明にかかる高周波モジュール基板装置は、配線層を有する多層ベース基板の最上層が研磨されてビルドアップ面として構成され最下層にグランド層が形成されたベース基板部と、ベース基板部のビルドアップ面上に絶縁層を介して他の配線層が多層に形成されると共に、他の配線層内にキャパシタンスを含む受動素子が形成されている高周波回路部とから構成され、ベース基板部には、上記グランド層の上側に該ベース基板部の配線層が形成されない配線非形成領域が設けられ、高周波回路部の高さ方向に隣り合う上記他の配線層の上配線層及び下配線層の配線非形成領域に対応する位置がそれぞれ上電極部及び中電極部となることによって、配線非形成領域の直上に、上電極部と中電極部との間に絶縁層を介在させることで構成される第１のキャパシタンスを備えると共に、ベース基板部の最上層のビルドアップ面内に形成された配線層の配線非形成領域に対応した位置が下電極部となり、この下電極部と第１のキャパシタンスの上電極部とを層間接続することによって、配線非形成領域の直上に、第１のキャパシタンスの中電極部と下電極部との間に絶縁層を介在させることで構成される第２のキャパシタンスを備えている。
【００３２】
本発明にかかる高周波モジュール基板装置は、ベース基板部の配線層に備わる配線非形成領域の直上に、高周波回路部の高さ方向に隣り合う他の配線層の上配線層に形成された上電極部と下配線層に形成された中電極部との間に絶縁層を介在させることで構成される第１のキャパシタンスが備えられると共に、ベース基板部の最上層のビルドアップ面内に形成された配線層に形成された下電極部と上電極層とを層間接続し、中電極部と下電極部との間に絶縁層を介在させることで構成される第２のキャパシタンスが備えられた構造になっている。したがって、この高周波モジュール基板装置では、これらのキャパシタンスとベース基板部の配線層との間の距離を離すことができ、これらのキャパシタンスに対してベース基板部の配線層により生じる寄生容量がそれぞれ低減されることから、これらのキャパシタンスの特性がそれぞれ向上する。
【００３３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。実施の形態として図１に示した高周波モジュール基板装置１は、マザーボードやインターポーザ（中間基板）に対して高密度実装構造を実現するためのパッケージ形態を有し、この装置自体が一つの機能部品として作動するものである。
【００３４】
この高周波モジュール基板装置１は、ベース基板部２と、このベース基板部２の最上層が高精度の平坦面に形成されてビルドアップ面２ａとされ、この上に高周波回路部３とによって構成されている。
【００３５】
ベース基板部２は、いわゆるプリント配線基板であり、誘電絶縁層となる第１のコア基板４の両面に、第１及び第２の配線層５ａ、５ｂがパターン形成された第１の配線基板６と、誘電絶縁層となる第２のコア基板７の両面に、第３及び第４の配線層８ａ、８ｂがパターン形成された第２の配線基板９とが、誘電絶縁層となるプリプレグ材（接着樹脂）１０を介して貼り合わされた構造を有している。
【００３６】
このうち、第１のコア基板４及び第２のコア基板７は、低誘電率で低いＴａｎδ、すなわち高周波特性に優れた材料、例えばポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）、ビスマレイドトリアジン（ＢＴ−ｒｅｓｉｎ）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミド、液晶ポリマ（ＬＣＰ）、ポリノルボルネン（ＰＮＢ）、セラミック或いはセラミックと有機材料の混合体等が用いられて形成される。また、第１のコア基板４及び第２のコア基板７には、機械的剛性とともに耐熱性、耐薬品性を有し、例えば上述した材料によって形成された基材よりもさらに廉価なエポキシ系銅貼基板ＦＲ−５等を用いても良い。
【００３７】
第１及び第２の配線層５ａ、５ｂ並びに第３及び第４の配線層８ａ、８ｂは、例えばフィルタ１１といった機能素子と、この機能素子を繋ぐ信号配線パターン１２や、電源パターン１３及びグランドパターン１４とが、例えば銅箔により薄膜形成されている。また、第１及び第２の配線層５ａ、５ｂ並びに第３及び第４の配線層８ａ、８ｂには、例えばキャパシタンス、インダクタンスやレジスタンスといった受動素子や、アンテナパターン等をパターン形成しても良い。
【００３８】
機能素子は、これらを繋ぐ信号配線パターン１２や、電源パターン１３及びグランドパターン１４と、第１のコア基板４及び第２のコア基板７を貫通して形成された、例えば銅からなるビアホール１５やスルーホール１６を介して電気的に接続されている。これらビアホール１５やスルーホール１６は、ベース基板部２の一部に、このベース基板部２を貫通する孔をドリル加工やレーザー加工により穿設し、この穿設された孔にビアメッキやスルーホールメッキを施すことにより形成される。
【００３９】
このベース基板部２では、廉価な有機材料からなる第１の配線基板６及び第２の配線基板９を従来と同様の多層基板化技術によって積層形成することで、従来のような比較的高価とされるＳｉ基板やガラス基板を用いた場合と比べて、コストの低減化が図られている。なお、このベース基板部２は、上述した４層ビルトアップ構造のものに限定されず、その積層数については任意である。また、ベース基板部２は、上述した両面配線基板６、９をプリプレグ材１０を介して貼り合わせたものに限定されず、例えば両面配線基板の両主面側に樹脂付銅箔を積み重ねていく構造のものであっても良い。
【００４０】
ベース基板部２は、最上層が、すなわち第２のコア基板７の第４の配線層８ｂ側が高度に平坦化されてビルドアップ面２ａを構成している。具体的には、ベース基板部２の最上層の全面に亘って、高周波特性に優れた有機材料からなる絶縁膜を成膜した後に、この最上層に形成された第４の配線層８ｂが露出するまで研磨する。これにより、ベース基板部２は、第４の配線層８ｂにおける配線間に絶縁膜が埋め込まれ、第２のコア基板７上の第４の配線層８ｂが形成されていない部分との段差が無くなり、最上層に高度に平坦化されたビルドアップ面２ａが構成されることとなる。
【００４１】
高周波回路部３は、ベース基板部２のビルドアップ面２ａ上に、絶縁層１７が積層され、この積層された絶縁層１７の内層或いは外層に、薄膜形成技術や厚膜形成技術によって、例えばキャパシタンス１８、１９、２０や、インダクタンス２１や、レジスタンス２２等といった受動素子と、これらを繋ぐ配線パターン２３とがパターニングされている。
【００４２】
絶縁層１７は、低誘電率で低いＴａｎδ、すなわち高周波特性に優れた材料、例えばポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）、ビスマレイドトリアジン（ＢＴ−ｒｅｓｉｎ）、ポリテトラフルオロエチレン（商標名テフロン）、ポリイミド、液晶ポリマ（ＬＣＰ）、ポリノルボルネン（ＰＮＢ）、セラミック或いはセラミックと有機材料の混合体等が用いられて形成される。そして、絶縁層１７は、このような有機材料を、例えばスピンコート法や、カーテンコート法、ロールコート法、ディップコート法等の塗布均一性及び膜厚制御に優れた方法を用いて、ベース基板部２上に精度良く積層形成していくことができる。
【００４３】
受動素子や配線パターン２３は、例えば銅からなるビアホール２４やスルーホール２５を介してお互いに電気的に接続されている。これらビアホール２４やスルーホール２５は、高周波回路部３の一部に、この高周波回路部３を貫通する孔をドリル加工やレーザー加工により穿設し、この穿設された孔にビアメッキやスルーホールメッキを施すことにより形成される。
【００４４】
この高周波回路部３の最上層には、半導体チップ２６がフリップチップ接続により搭載されている。ここで、フリップチップ接続は、半導体チップ２６側の電極上にバンプ２７を形成し、表裏逆にして高周波回路部３側の配線パターン２３の電極２８とバンプ２７とを位置合わせし、加熱溶融することで、いわゆるフェースダウンボンディングで接続する実装方法である。このフリップチップ接続によれば、例えばワイヤーボンディングと比べてワイヤーの引き回し空間が不要となり、特に高さ方向の寸法を大幅に削減することができる。
【００４５】
そして、これら高周波回路部３に形成された受動素子及び半導体チップ２６は、配線パターン２３、ビアホール２４、スルーホール２５を介して、ベース基板部２側の第４の配線層８ｂと電気的に接続されている。
【００４６】
この高周波モジュール基板装置１では、ベース基板部２が多層化されることによって、高周波回路部３における積層数を削減することができる。すなわち、この高周波モジュール基板装置１では、高周波回路部３の内層或いは外層に形成された、例えば受動素子や配線パターン２３等の薄膜パターンや、ビアホール２４、スルーホール２５等とは別に、ベース基板部２の内層或いは外層に、例えば機能素子や信号配線パターン１２等の導体パターンが形成されることによって、これらを従来のようなＳｉ基板やガラス基板上にまとめて形成する場合に比べて、高周波回路部３にかかる高密度化の負担を大幅に低減することができる。
【００４７】
これにより、高周波モジュール基板装置１では、高周波回路部３の積層数を低減することが可能となり、装置全体のさらなる小型化及び低コスト化が可能となっている。
【００４８】
また、この高周波モジュール基板装置１では、上述したベース基板部２の導電パターンと高周波回路部３の薄膜パターンとが分離されることによって、これらの間で発生する電気的干渉を抑制することができ、その特性の向上を図ることができる。
【００４９】
さらに、この高周波モジュール基板装置１では、ベース基板部２の最上層に高度に平坦化されたビルドアップ面２ａが構成されていることから、この上に高周波回路部３を精度良く積層形成していくことができる。
【００５０】
ところで、この高周波モジュール基板装置１おいて、ベース基板部２には、第１及び第２の配線層５ａ、５ｂ並びに第３及び第４の配線層８ａ、８ｂが厚み方向の同じ位置で形成されていない領域（以下、配線非形成領域という。）２９、３０、３１が設けられている。これら配線非形成領域２９、３０、３１は、少なくともベース基板部２のビルドアップ面２ａに露出している第３の配線層８ｂから厚み方向の中途部に亘って或いはベース基板部２を貫通して設けられている。そして、これら配線非形成領域２９、３０、３１の直上には、高周波回路部３内に設けられたキャパシタンス１８、１９、２０がそれぞれ形成されている。
【００５１】
例えば、配線非形成領域２９は、図２に示すように、キャパシタンス１８が形成された領域における第４の配線層８ｂから第２の配線層５ｂに至る厚み方向に亘って設けられている。すなわち、第４の配線層８ｂには、図２及び図３（ａ）に示すように、キャパシタンス１８が形成される領域に対応した第１の配線非形成区域３２が設けられている。また、第３の配線層８ａには、図２及び図３（ｂ）に示すように、キャパシタンス１８が形成される領域に対応した第２の配線非形成区域３３が設けられている。さらに、第２の配線層５ｂには、図２及び図３（ｃ）に示すように、キャパシタンス１８が形成される領域に対応した第３の配線非形成区域３４が設けられている。
【００５２】
そして、配線非形成領域２９は、図２及び図３（ｄ）に示すように、これら第１の配線非形成区域３２、第２の配線非形成区域３３及び第３の配線非形成区域３４を通して、第１の配線層５ａに形成されたグランドパターン１４とキャパシタンス１８とが、所定の距離だけ離された状態で対向配置される構造となっている。
【００５３】
配線非形成領域３０は、キャパシタンス１９が形成された領域における第３の配線層８ａから第１の配線層５ａに至る厚み方向に亘って設けられ、ベース基板部２内にキャパシタンス１９に対向配置されるグランドパターン１４が存在しない構造となっている。また、配線非形成領域３１は、キャパシタンス２０が形成された領域における第３の配線層８ａから第２の配線層５ｂに至る厚み方向に亘って設けられ、ベース基板部２内にキャパシタンス２０に第１の配線層５ａに形成されたグランドパターン１４が対向配置される構造となっている。
【００５４】
一方、キャパシタンス１８は、図２に示すように、高周波回路部３の絶縁層１７の内層或いは外層に位置して、ビルドアップ面２ａと隣り合う第１の配線パターン２３ａの一部に形成された下電極部３５と、ビルドアップ面２ａから数えて２層目の第２の配線パターン２３ｂの一部に形成された上電極部３６との間にビルドアップ面２ａから数えて２層目の第２の絶縁層１７ｂを介在させることによって構成されている。そして、キャパシタンス１８は、ビアホール２４を介して配線パターン２３と電気的に接続された構造とされている。
【００５５】
このキャパシタンス１８を形成する際は、先ず、ビルドアップ面２ａ上に、上述した有機材料からなる第１の絶縁層１７ａを形成する。次に、第１の絶縁層１７ａ上に、例えばＮｉや銅等からなる導電膜を全面に亘って成膜した後に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとして、この導電膜をエッチングすることによって、配線非形成領域２９の直上に下電極部３５がパターニングされた第１の配線パターン２３ａの下地層（図示せず。）を形成する。次に、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、数μｍ程度のＣｕからなる導電膜を成膜することで、下電極部３５を有する第１の配線パターン２３ａを形成する。
【００５６】
次に、第１の絶縁層１７ａ上に、下電極部３５を有する第１の配線パターン２３ａを覆うように、上述した有機材料からなる第２の絶縁層１７ｂを形成する。次に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとしてエッチングを行い、下電極部３５の端部付近と接合される部分が露出するビア（孔）を形成する。次に、このフォトレジストを残したまま、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、Ｃｕからなる導電膜を成膜した後、フォトレジストを、このフォトレジスト上に堆積した導電膜と共に除去する。これにより、第２の絶縁層１７ｂに埋め込まれたビアホール２４と、下電極部３５とが電気的に接続される。
【００５７】
次に、この第２の絶縁層１７ｂ上に、例えばＮｉや銅等からなる導電膜を全面に亘って成膜した後に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとして、この導電膜をエッチングすることによって、下電極部３５の直上に上電極部３６がパターニングされた第２の配線パターン２３ｂの下地層（図示せず。）を形成する。次に、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、数μｍ程度のＣｕからなる導電膜を成膜することで、下地層上に上電極部３６を有する第２の配線パターン２３ｂをパターン形成する。このようにして、キャパシタンス１８が形成される。
【００５８】
以上のように、この高周波モジュール基板装置１では、ベース基板部２の配線非形成領域２９が、少なくともベース基板部２ａのビルドアップ面２ａから厚み方向の中途部に亘って第２の配線層５ｂにまで設けられている。そして、高周波モジュール基板装置１は、高周波回路部３の配線非形成領域２９の直上に位置してキャパシタンス１８が形成されている。
【００５９】
したがって、高周波モジュール基板装置１では、キャパシタンス１８とグランドパターン１４との間の距離を離すことができ、キャパシタンス１８に対してグランドパターン１４により生じる寄生容量が低減されることから、キャパシタンス１８の特性を向上させることができる。ここで、従来のように、図４に示すグランドパターン５０の直上に形成されたキャパシタンス５１と、本発明のように、図５に示す配線非形成領域５２の直上に形成されたキャパシタンス５３とについて周波数を変化させながらポート間容量の測定を行った。図４及び図５においては、上述した高周波モジュール基板装置１と同等な構成、部位についての説明を省略するとともに、図面において同じ符号を付するものとする。
【００６０】
以下、これら周波数とポート間容量との関係について測定した結果を図６に示す。なお、図６では、縦軸にポート間容量を示し、横軸に周波数を示している。ここで言うポート間容量とは、キャパシタンスを構成する電極部間の静電容量の大きさを示すものである。図６の測定結果から、従来のように、グランドパターン５０の直上にキャパシタンス５１を形成した場合、グランドパターン５０と、グランドパターン５０に隣り合うキャパシタンス５１を構成する電極との間に寄生容量が発生し、この寄生容量がキャパシタンス５１の静電容量に負荷されることからポート間容量が大きくなっていることがわかる。
【００６１】
これに対して、本発明のように、配線非形成領域５２の直上にキャパシタンス５３を形成した場合、グランドパターン５０とキャパシタンス５３との間に寄生容量を発生することがなく、周波数帯域が１ＧＨｚといった比較的低い領域で半分以下のポート間容量値に抑えられていることがわかる。
【００６２】
したがって、配線非形成領域５２の直上に形成されたキャパシタンス５３では、比較的低い周波数帯域で優れた高周波特性を得ることができる。
【００６３】
次に、図７に示すように、ベース基板部２内の第４の配線層８ｂの一部に形成された下電極部３７と、高周波回路部３内の第１の配線層２３ａの一部に形成された上電極部３８との間に第１の絶縁層１７ａを介在させることによって構成されたキャパシタンス１９について説明する。キャパシタンス１９も、ビアホール２４を介して配線パターン２３と電気的に接続された構造となっている。
【００６４】
このキャパシタンス１９を形成する際は、先ず、配線非形成領域３０の直上に下電極部３７が形成されている第４の配線層８ｂが露出するビルドアップ面２ａ上に、上述した有機材料からなる第１の絶縁層１７ａを形成する。次に、第１の絶縁層１７ａ上に、例えばＮｉや銅等からなる導電膜を全面に亘って成膜した後に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとして、この導電膜をエッチングすることによって、下電極部３７の直上に上電極部３８がパターニングされた第１の配線パターン２３ａの下地層（図示せず。）を形成する。次に、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、数μｍ程度のＣｕからなる導電膜を成膜することで、上電極部３８を有する第１の配線パターン２３ａをパターン形成する。
【００６５】
次に、第１の絶縁層１７ａ上に、上電極部３８を有する第１の配線パターン２３ａを覆うように、上述した有機材料からなる第２の絶縁層１７ｂを形成する。次に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとしてエッチングを行い、上電極部３８の端部付近と接合される部分が露出するビア（孔）を形成する。次に、このフォトレジストを残したまま、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、Ｃｕからなる導電膜を成膜した後、フォトレジストを、このフォトレジスト上に堆積した導電膜と共に除去する。これにより、第２の絶縁層１７ｂに埋め込まれたビアホール２４と、上電極部３８とが電気的に接続される。
【００６６】
次に、この第２の絶縁層１７ｂ上に、例えばＮｉや銅等からなる導電膜を全面に亘って成膜した後に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとして、この導電膜をエッチングすることによって、第２の配線パターン２３ｂの下地層（図示せず。）を形成する。次に、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、数μｍ程度のＣｕからなる導電膜を成膜することで、ビアホール２４と電気的に接続された第２の配線パターン２３ｂを形成する。このようにして、キャパシタンス１９が形成される。
【００６７】
以上のように、この高周波モジュール基板装置１では、ベース基板部２の配線非形成領域３０が、少なくともベース基板部２の第３の配線層８ａから厚み方向にベース基板部２を貫通して設けられている。そして、高周波モジュール基板装置１は、高周波回路部３の配線非形成領域３０の直上に位置してキャパシタンス１９が形成されている。
【００６８】
したがって、高周波モジュール基板装置１では、キャパシタンス１９と干渉するグランドパターン１４が存在せず、キャパシタンス１９に対して発生する寄生容量が大幅に低減されることから、キャパシタンス１９の特性を向上させることができる。
【００６９】
ここで、図８に示すキャパシタンス６０と隣り合うグランドパターン６１だけに配線非形成領域６２が形成され、この配線非形成領域６２の直上に形成されたキャパシタンス６０と、図９に示す下層のグランドパターン６３全てに配線非形成領域６４が形成され、この配線非形成領域６４の直上に形成されたキャパシタンス６５とについて周波数を変化させながらポート間容量の測定を行った。図８及び図９においては、上述した高周波モジュール基板装置１と同等な構成、部位についての説明を省略するとともに、図面において同じ符号を付するものとする。
【００７０】
以下、これら周波数とポート間容量との関係について測定した結果を図１０に示す。なお、図１０では、縦軸にポート間容量を示し、横軸に周波数を示している。ここで言うポート間容量とは、キャパシタンスを構成する電極部間の静電容量の大きさを示すものである。図１０の測定結果から、下層のグランドパターン６３全てに形成された配線非形成領域６４の直上に形成されたキャパシタンス６５は、キャパシタンス６０と隣り合うグランドパターン６１だけに形成された配線非形成領域６２の直上に形成されたキャパシタンス６０に比べて、グランドパターン６３との間に発生する寄生容量が低減されていることから、周波数帯域が比較的高い領域でポート間容量が抑制されていることがわかる。
【００７１】
したがって、下層のグランドパターン６３全てに形成された配線非形成領域６４の直上に形成されたキャパシタンス６５では、比較的高い周波数帯域で優れた高周波特性を得ることができる。
【００７２】
次に、図１１に示すように、高周波回路部３内の第１の配線パターン２３ａの一部に形成された中電極部３９と、第２の配線パターン２３ｂの一部に形成された上電極部４０との間に第２の絶縁層１７ｂを介在させた構造の第１のキャパシタンス２０ｂと、ベース基板部２内の第４の配線層８ｂの一部に形成された下電極部４１と、中電極部３９との間に第１の絶縁層１７ａを介在させた構造の第２のキャパシタンス２０ａとによって構成される電極部が三層構造のキャパシタンス２０について説明する。キャパシタンス２０は、スルーホール２５によって上電極部４０と下電極部４１とが層間接続され、中電極部３９がビアホール２４を介して配線パターン２３と電気的に接続された構造となっている。
【００７３】
このキャパシタンス２０を形成する際は、先ず、配線非形成領域３１の直上に下電極部４１が形成されている第４の配線層８ｂが露出するビルドアップ面２ａ上に、上述した有機材料からなる第１の絶縁層１７ａを形成する。次に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとしてエッチングを行い、下電極部４１の端部付近と接合される部分が露出するビア（孔）を形成する。次に、このフォトレジストを残したまま、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、Ｃｕからなる導電膜を成膜した後、フォトレジストを、このフォトレジスト上に堆積した導電膜と共に除去する。これにより、第１の絶縁層１７ａに埋め込まれたスルーホール２５の中間体が下電極部４１の端部付近に電気的に接続される。
【００７４】
次に、第１の絶縁層１７ａ上に、例えばＮｉや銅等からなる導電膜を全面に亘って成膜した後に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとして、この導電膜をエッチングすることによって、下電極部４１の直上に中電極部３９がパターニングされた第１の配線パターン２３ａの下地層（図示せず。）を形成する。次に、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、数μｍ程度のＣｕからなる導電膜を成膜し、下地層上に中電極部３９を有する第１の配線パターン２３ａをパターン形成することで、第１のキャパシタンス２０ａを形成する。
【００７５】
次に、第１の絶縁層１７ａ上に、中電極部３９を有する第１の配線パターン２３ａを覆うように、上述した有機材料からなる第２の絶縁層１７ｂを形成する。次に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとしてエッチングを行い、中電極部３９の端部付近とスルーホール中間体とが接合される部分が露出するビア（孔）を形成する。次に、このフォトレジストを残したまま、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、Ｃｕからなる導電膜を成膜した後、フォトレジストを、このフォトレジスト上に堆積した導電膜と共に除去する。これにより、第２の絶縁層１７ｂに埋め込まれたビアホール２４と、絶縁層１７を貫通するスルーホール２５とが形成される。
【００７６】
次に、この第２の絶縁層１７ｂ上に、例えばＮｉや銅等からなる導電膜を全面に亘って成膜した後に、フォトリソグラフィ技術を用いて所定の形状にパターニングされたフォトレジストをマスクとして、この導電膜をエッチングすることによって、中電極部３９の直上に上電極部４０がパターニングされた第２の配線パターン２３ｂの下地層（図示せず。）を形成する。次に、例えば硫酸銅溶液を用いた電解メッキにより、数μｍ程度のＣｕからなる導電膜を成膜し、下地層上に上電極部４０を有する第２の配線パターン２３ｂをパターン形成することで、第２のキャパシタンス２０ｂ形成する。このようにして、電極部が三層構造のキャパシタンス２０が形成される。
【００７７】
以上のように、この高周波モジュール基板装置１では、ベース基板部２の配線非形成領域３１が、少なくともベース基板部２の第３の配線層８ａから厚み方向の中途部に亘って第２の配線層５ｂにまで設けられている。そして、高周波モジュール基板装置１は、高周波回路部３の配線非形成領域３１の直上に位置してキャパシタンス２０が形成されている。
【００７８】
したがって、高周波モジュール基板装置１では、キャパシタンス２０とグランドパターン１４との間の距離を離すことができ、キャパシタンス２０に対してグランドパターン１４により生じる寄生容量が低減されることから、キャパシタンス２０の特性を向上させることができる。
【００７９】
また、この高周波モジュール基板装置１では、キャパシタンス２０の電極部が三層構造であることから、電極部が二層構造のキャパシタンスに比べて静電容量の大きいキャパシタンス２０が形成される面積を同程度、若しくは小さくすることができる。
【００８０】
ここで、電極部が三層構造のキャパシタンスと、電極部が二層構造のキャパシタンスとにおけるキャパシタンスの形成面積とポート間容量との関係を図１２に示す。なお、図１２には、縦軸にポート間容量を示し、横軸にキャパシタンスの形成面積を示している。ここで言うポート間容量とは、キャパシタンスを構成する電極部間の静電容量の大きさを示すものである。
【００８１】
図１２の測定結果から、電極部が三層構造のキャパシタンスは、電極部が二層構造のキャパシタンスに比べて、キャパシタンスが形成される面積に対するポート間容量が大きくなっていることがわかる。
【００８２】
このことから、電極部が三層構造のキャパシタンスでは、同じ静電容量を有する電極部が二層構造のキャパシタンスより、形成される面積を小さくすることができる。
【００８３】
以上のことから、この高周波モジュール基板装置１では、キャパシタンス１８、１９、２０のさらなる特性向上が可能であると共に、さらなる小型化及び低コスト化が可能である。
【００８４】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明にかかる高周波モジュール基板装置では、ベース基板部の配線非形成領域の直上に位置して、キャパシタンスが形成されており、このキャパシタンスに対してベース基板部の配線層等により生じる寄生容量が低減されることから、キャパシタンスの特性を向上させることができる。また、この高周波モジュール基板装置では、絶縁層と配線層とが多層に形成されたベース基板部及び高周波回路部によって構成され、これらベース基板部内及び高周波回路部内に受動素子等を形成できることから、小型化及び低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明を適用した高周波モジュール基板装置の一例を示す断面図である。
【図２】  同高周波モジュール基板装置における配線禁止領域及びキャパシタンスの形成部分を拡大して示す要部断面図である。
【図３】  ベース基板部の各層における配線非形成領域の構造を示す平面図であり、（ａ）は、第４の配線層における配線非形成区域を示し、（ｂ）は、第３の配線層における配線非形成区域を示し、（ｃ）は、第２の配線層における配線非形成区域を示し、（ｄ）は、第１の配線層におけるグランドパターンを示す。
【図４】  グランドパターンの直上に形成されたキャパシタンスを示す模式図である。
【図５】  配線非形成領域の直上に形成されたキャパシタンスを示す模式図である。
【図６】  配線非形成領域上に形成されたキャパシタンスと、グランドパターン上に形成されたキャパシタンスとにおけるポート間容量と周波数との関係を示した特性図である。
【図７】  同高周波モジュール基板装置における配線禁止領域及びキャパシタンスの形成部分を拡大して示す要部断面図である。
【図８】  キャパシタンスと隣り合うグランドパターンだけに形成された配線非形成領域形成されたキャパシタンスを示す模式図である。
【図９】  下層のグランドパターン全てに形成された配線非形成領域の直上に形成されたキャパシタンスを示す模式図である。
【図１０】  キャパシタンスと隣り合うグランドパターンだけに形成された配線非形成領域形成されたキャパシタンスと、下層のグランドパターン全てに形成された配線非形成領域の直上に形成されたキャパシタンスとにおけるポート間容量と周波数との関係を示した特性図である。
【図１１】  同高周波モジュール基板装置における配線禁止領域及び電極部が三層構造のキャパシタンスの形成部分を拡大して示す要部断面図である。
【図１２】  電極部が三層構造のキャパシタンスと、電極部が二層構造のキャパシタンスとにおけるポート間容量とキャパシタンス形成面積との関係を示した特性図である。
【図１３】  スーパーへテロダイン方式による高周波送受信回路の構成図である。
【図１４】  ダイレクトコンバージョン方式による高周波送受信回路の構成図である。
【図１５】  従来の高周波モジュール基板装置を示す図であり、同図（ａ）はインダクタンス拡大して示す要部斜視図、同図（ｂ）は要部断面図である。
【図１６】  同高周波モジュール基板装置のベース基板にシリコン基板を用いた構成を示した断面図である。
【図１７】  同高周波モジュール基板装置のベース基板にガラス基板を用いた構成を示した断面図である。
【図１８】  同高周波モジュール基板装置をインターポーザ基板に実装したパッケージの断面図である。
【符号の説明】
１  高周波モジュール基板装置、２  ベース基板部、２ａ  ビルドアップ面、３  高周波回路部、４  第１のコア基板、５ａ  第１の配線層、５ｂ  第２の配線層、６  第１の配線基板、７  第２のコア基板、８ａ  第３の配線層、８ｂ  第２の配線層、９  第２の配線基板、１０  プリプレグ材、１１  フィルタ、１２  信号配線パターン、１３  電源パターン、１４  グランドパターン、１５，２４  ビアホール、１６，２５  スルーホール、１７  絶縁層、１７ａ  第１の絶縁層、１７ｂ  第２の絶縁層、１８，１９，２０  キャパシタンス、２１  インダクタンス、２２  レジスタンス、２３  配線パターン、２３ａ  第１の配線パターン、２３ｂ  第２の配線パターン、２６  半導体チップ、２７  バンプ、２８  電極、２９，３０，３１  配線非形成領域、３２  第１の配線非形成区域、３３  第２の配線非形成区域、３４  第３の配線非形成区域、３５，３７，４１  下電極部、３６，３８，４０  上電極部、３９  中電極部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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