(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料と接触する各種処理工程と輸送工程とを含む生産工程の終了後に、この生産工程の実施中に原料と接触していた部分に対して非接触状態である制御装置（4）に接続し、この制御装置（4）で前記原料と接触していた部分の汚染をリアルタイムで測定し、ここで測定した測定値に適合する洗浄方式を選択して、各種処理装置と輸送装置の自動洗浄を行うようにすると共に、前記測定値より汚染の度合いが許容範囲を超えた場合に警報を発するようにした生産工程の汚染防止方法。
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、主として醸造工業又は食品産業の生産工程における、各種装置の汚染防止に関するものである。
【0002】

【従来の技術】
生産工程における各種装置は、各工程の終了時に手動敵又は自動的に洗浄を行うことで、サニタリ性を維持し、洗浄後の有機物汚染や微生物汚染は、作業員の目視により確認していた。微生物検査等を行う場合もあるが、検査に長い時間が必要なため、通常の作業工程に組み込むことは困難であった。また、原料の輸送装置など各種ベルトを利用する装置では、原料の搬送中においても、戻り側のベルトを洗浄する場合もあった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
各種装置の洗浄後の有機物汚染や微生物汚染を、作業員の目視により確認することは、客観性に欠け、安定したサニタリ性維持を行うことはできない。各種装置の汚染の度合いにおいても、正確な記録を残すことは困難である。また、各種ベルトを利用する装置の戻り側のベルトを連続的に洗浄する場合は、必要以上の洗浄を行っている場合もある。特に、汚染の状態を目視により確認していたため、汚染の度合いに適合した洗浄方式を選択することが困難であったためである。
【0004】
この発明の目的は、各種装置の汚染をリアルタイムで測定し、汚染の程度を記録すると共に、装置を効率的で且つ汚染の状態に適合した洗浄を行い、生産工程の汚染を防止する方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の生産工程の汚染防止方法は、原料と接触する各種処理工程と輸送工程とを含む生産工程の終了時に、この生産工程の実施中に原料と接触していた部分に対して非接触状態で配置されていたセンサ（3）を、近赤外線分光分析装置である制御装置（4）に接続し、この制御装置（4）で前記原料と接触していた部分の汚染をリアルタイムで測定し、ここで測定した測定値に適合する洗浄方式を選択して、各種処理装置の輸送装置の自動洗浄を行うようにすると共に、前記測定値より汚染の度合いが許容範囲を超えた場合に警報を発するようにしたものである。
【0006】
すなわち、原料由来の有機物や微生物菌体と、二次的に増殖した微生物菌体などの有機物も短時間で測定することにより、その時点での有機物汚染の度合いを判断することができる。この判断により、薬品洗浄と水洗浄などの洗浄方法の選択、洗浄時間の選択等を自動的に行い、汚染の度合いに適合した洗浄を自動的に実施することができる。
【0007】
なお、有機物汚染の度合いに適合した洗浄方式を自動的に選択することにより、作業員がいない夜間等においても、的確な自動洗浄が可能となる。また、有機物汚染の度合いに応じた、効果的な洗浄が可能となる。
【0008】
更に、前記制御処置（4）により測定した測定値を記録し、この測定値が許容範囲を超えた場合に警報を発生するようにしたものである。
【0009】
すなわち、測定値を記録することにより、汚染の経時変化を確認することが可能となり、汚染防止対策の資料となる。また警報を発生させて音や光により作業員に知らせることにより、各工程での品質管理を的確に行うことができる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下にこの発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図1は、この発明による生産工程の汚染防止方法を組み込んだ回転円盤式製麹装置の実施例の斜視図である。図2は、この発明による生産工程の汚染防止方法を組み込んだ原料冷却装置の実施例の線図的断面図である。
【0011】
図1に示す回転円盤式製麹装置は、培養床1が中心円筒2を回転軸として、回転移動する装置である。製麹中は培養床1に麹基質が堆積しているが、出麹後には麹基質と接触していた培養床1の表面が露出する。この培養床1の上方に有機物を感知するセンサ3を設け、培養床1の表面の汚染を測定する。測定された値は制御盤4に送られ、汚染の度合いに応じて洗浄方式を決定する。
【0012】
洗浄方式の一例としては、汚染の度合いが大きい場合に、水洗浄と複数の薬品洗浄を組み合わせて実施する。汚染の度合いが中程度の場合には、水洗浄と薬品洗浄を組み合わせて実施する。汚染の度合いが小さい場合には、水洗浄のみを実施する。洗浄方式には、薬品の種類と濃度、洗浄水の温度、洗浄回数などの要素があるが、汚染の原因となる原料の性状や、原料の加工程度によって適合した方式を採用する必要がある。
【0013】
汚染の測定値は図示しないが記憶装置又は記録用紙に記録され、汚染の経時変化や洗浄による汚染の減少状態などを認識することができる。このため、洗浄方式の改善等の汚染防止の対策を、客観的な資料で検討することが可能となる。また所定の洗浄工程終了後の汚染の度合いが大きい場合には、自動的又は手動的に再度洗浄を行うこともできる。
【0014】
汚染の度合いが許容範囲を超えた場合には、制御装置としての制御盤4上の表示だけでなく、音や光により作業員に確実に知らせることができる警報を発生させる。汚染の度合いが品質管理上許容範囲を超えている場合には、作業工程を中止し、洗浄等の汚染防止対策を行うことで、製品の品質を維持することができる。
【0015】
図2に示す原料冷却装置は、通気性のあるネットコンベア5上に原料を堆積させ、空冷方式で原料を冷却した後、シュート6から原料を排出する装置である。この原料を排出した後のネットコンベア5の表面を、有機物を感知するセンサ3により汚染を測定する。測定値は、図1に制御盤4として示されているような制御装置に送られ、洗浄の必要性や洗浄の程度が判断される。洗浄が必要な場合には、原料冷却装置を連続的に運転した状態で、戻り側のネットコンベア5を洗浄乾燥することができる。
【0016】
搬送に使用されるベルトコンベア筒の搬送装置も、原料冷却装置のネットコンベア5と同様に汚染を測定して、洗浄の必要性や洗浄の程度を判断し、運転した状態で戻り側を洗浄乾燥することができる。
【0017】
汚染を測定するセンナはセンサ自体の汚染防止の面から、測定する対象物に対して非接触で測定でき、応答性の速い形式のセンサが好ましい。一例としては、近赤外線分光分析法を採用したセンサ3が実用的である。近赤外線分光分析法では、たんぱく質、炭水化物、脂質等を非接触で、リアルタイムに検出することができる。
【0018】
【発明の効果】
この発明の生産工程の汚染防止方法は以上のような構成を有することにより、各種装置の汚染をリアルタイムで測定し、客観的な測定値により汚染の度合いを経時的に判断することができる。また、汚染の度合いを客観的は測定値として記録に残すことができるため、より高度なサニタリ性維持の方策を検討することが可能となる。更に、汚染の度合いが許容範囲を超えた場合には警報を発生するようにして、自動的に又は手動的に対応することができる。特に、汚染の度合いに応じて、各種の洗浄方式を自動的に判断し、洗浄することができるため、安定したサニタリ性を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】  この発明による生産工程の汚染防止方法を組み込んだ回転円盤式製麹装置の実施例の斜視図である。
【図2】  この発明の生産工程の汚染防止方法を組み込んだ原料冷却装置の実施例の線図的断面図である。
【符号の説明】
1  培養床
2  中心円筒
3  センサ
4  制御装置（制御盤）
5  ネットコンベア
6  シュート
【図１】
0004253777.tif 000002
【図２】
0004253777.tif 000003