(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
Ｒｕ（Ｘ）（Ｙ）（Ｐｘ）ｎ1[Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ5Ｒ6Ｃ*（ＮＲ7Ｒ8）]
〔式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、水酸基又はＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基を表し、Ｐｘは、ホスフィン配位子を表し、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表す。（Ｒ1〜Ｒ8において、有してもよい置換基とは、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基が１もしくは２個置換したアミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−スルホニルアミノ基、環状イミド基、無置換アミノ基、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基、含酸素へテロ環基、含イオウヘテロ環基又は飽和もしくは不飽和の含窒素へテロ環基である。）
また、Ｒ1とＲ2のいずれかがＲ3とＲ4のいずれかと、Ｒ5とＲ6のいずれかがＲ7とＲ8のいずれかとが結合して環を形成してもよい。Ａは、置換基を有していてもよくエーテル結合を有していてもよいＣ１〜Ｃ３アルキレン、置換基を有していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキレン、置換基を有していてもよいアリレンまたは置換基を有していてもよい２価のヘテロ環を表わす。Ａがアルキレンの場合はＲ1とＲ2のいずれかとＲ5とＲ6のいずれかとが結合して環を形成してもよい。（Ａにおいて、有してもよい置換基とは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基又はアラルキルオキシ基である。）
＊は不斉炭素原子であることを示し、ｎ1は１または２の整数を表す。〕で表されるルテニウム化合物。
【請求項２】
請求項１記載の一般式（１）中のジアミンが一般式（２）：
[Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ5Ｒ6Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）]
（式中、Ａ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は請求項１と同様である）であることを特徴とする請求項１記載のルテニウム化合物。
【請求項３】
請求項１記載の一般式（１）中のジアミンが一般式（２’）：
[Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）]
（式中、Ａ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は請求項１と同様である）
であることを特徴とする請求項１記載のルテニウム化合物。
【請求項４】
請求項１記載の一般式（１）におけるＡがＣ１〜Ｃ３アルキレンであることを特徴とする請求項１記載のルテニウム化合物。
【請求項５】
請求項１記載の一般式（１）におけるＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8が水素原子である、請求項１、請求項３、請求項４記載のルテニウム化合物。
【請求項６】
請求項１記載の一般式（１）中の[Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ5Ｒ6Ｃ*（ＮＲ7Ｒ8）]が、光学活性２，４−ジアミノペンタン、光学活性２，５−ジアミノヘキサン、光学活性ビス（２−アミノプロピル）エーテル、光学活性ビス（２−アミノ−２−フェニルエチル）エーテル、光学活性１，３−ジアミノ−１，３−ジフェニルプロパン、光学活性１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）ベンゼン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）シクロヘキサン、光学活性１，１−ビス（１−アミノエチル）シクロペンタン、３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサンであることを特徴とする請求項１記載のルテニウム化合物。
【請求項７】
一般式（３）又は（３’）
【化１】
0004286486.tif 000018
〔式中、Ａ環部は置換基を有してもよい３〜８員環を表し、Ｂ環部は、置換基を有していてもよく、ヘテロ原子を含んでもよい、４〜８員環を表す。（Ａ環部及びＢ環部において、有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アセチルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基、含酸素へテロ環基、含イオウヘテロ環基又は飽和もしくは不飽和の含窒素へテロ環基である。）〕で表される縮合環ケトン類を、請求項１〜４のいずれかに記載のルテニウム化合物の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源として不斉水素還元する工程を有する、一般式（４）又は（４’）
【化２】
0004286486.tif 000019
（式中、Ａ環部、Ｂ環部及び＊は前記と同じ意味を表す。）で表される光学活性アルコール類の製造方法。
【請求項８】
一般式（５）：Ｒａ−ＣＯ−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ
〔式中、Ｒａ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表す。
（Ｒａ及びＲｃにおいて、有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、フェニル基、ナフチル基、又はヘテロ環基である。）
Ｒｂは、
一般式（６）：Ｒ9ＣＯ（Ｒ11）Ｎ−
一般式（７）：Ｒ9ＣＯ（Ｒ10ＣＯ）Ｎ−
一般式（８）：Ｒ9Ｒ11Ｎ−
で表されるいずれかの基を表す。
｛ここで、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は、それぞれ独立して、水素原子、ホルミル基、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルコキシ基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアラルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。また、Ｒ9とＲ11又はＲ9とＲ10は結合して、５〜８員の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。
（Ｒ9、Ｒ10及びＲ11において有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メチルアミノ基、アセチルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシカルボニル基、フェニル基、ナフチル基、又はヘテロ環基である。）｝〕
で表されるα−アミノケトン類を、請求項１〜４記載のいずれかのルテニウム化合物の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源として不斉水素還元する工程を有する、
一般式（１０）：Ｒａ−Ｃ*Ｈ（ＯＨ）−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ
〔式中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及び＊は前記と同じ意味を表す。〕
で表される光学活性β−アミノアルコール類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ルテニウム化合物、該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いられるジアミン化合物、及び該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用いて、縮合環ケトン類又はα−アミノケトン類を不斉還元することを特徴とする光学活性アルコール類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光学活性アルコール類は、医薬・農薬の合成中間体として有用である。従来、縮合環ケトン類を触媒的不斉還元することによって、対応する光学活性アルコール類を得る方法としては、
▲１▼イリジウム錯体を触媒に用いる水素化による方法〔Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１５，３３１８（１９９３）〕、
▲２▼ルテニウムを触媒に用いる水素移動による方法（特開平１０−１３０２８９号公報）、
▲３▼ルテニウムを触媒に用いる水素化による方法（特開平１１−１８９６００号公報）等が知られている。
【０００３】
また、α−アミノケトン類を水素化反応することによって、対応する光学活性アミノアルコールを得る方法としては、▲４▼特願２０００−２０８６６４号や、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２２，５１０（２０００）に報告例がある。
【０００４】
しかしながら、▲１▼の方法は、極めて高価なイリジウム錯体を用いるため、コスト面から実用化は困難であり、▲２▼の方法は、水素源として蟻酸等の有機化合物を用いなければならず、水素ガス等の安価な水素源を用いる場合に比べ、操作的・コスト的に不利であり、▲３▼の方法は、ケトン類の不斉還元方法として優れたものであるが、環状ケトン類の不斉還元についての知見は従来得られておらず、また、▲４▼の方法は、α−アミノケトン類の不斉還元に関するものであるが、触媒としては複数の置換基を有する高価な２座ホスフィン配位子を用いなければ良好な結果が得られない等の問題があった。
【０００５】
従って、水素ガス等の安価な水素源を用いて、縮合環ケトン類やα−アミノケトン類から対応する光学活性アルコール類を高選択的、高収率に製造できる不斉還元触媒の開発が望まれている。
【０００６】
【発明の解決しようとする課題】
本発明は、かかる実状に鑑みてなされたものであり、入手容易なルテニウム化合物、該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いることができるジアミン化合物、及び該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用いて、縮合環ケトン類又はα−アミノケトン類を不斉還元して、対応する光学活性アルコール類を高立体選択的、かつ高収率に製造する方法を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は第１に、一般式（１）：
Ｒｕ（Ｘ）（Ｙ）（Ｐｘ）ｎ1[Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ5Ｒ6Ｃ*（ＮＲ7Ｒ8）]
〔式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、水酸基又はＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基を表し、Ｐｘは、ホスフィン配位子を表し、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表す。
また、Ｒ1とＲ2のいずれかがＲ3とＲ4のいずれかと、Ｒ5とＲ6のいずれかがＲ7とＲ8のいずれかとが結合して環を形成してもよい。
Ａは、置換基を有していてもよくエーテル結合を有していてもよいＣ１〜Ｃ３アルキレン、置換基を有していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキレン、置換基を有していてもよいアリレンまたは置換基を有していてもよい２価のヘテロ環を表わす。Ａがアルキレンの場合はＲ1とＲ2のいずれかとＲ5とＲ6のいずれかとが結合して環を形成してもよい。）で表される基であり、＊は不斉炭素原子であることを示し、ｎ1は１または２の整数を表す。〕
で表されるルテニウム化合物（請求項１）、一般式（１）中のジアミンが一般式（２）：
[Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ5Ｒ6Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）]
（式中、Ａ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は請求項１と同様である）であることを特徴とする請求項１記載のルテニウム化合物（請求項２）、一般式（１）中のジアミンが一般式（２’）：[Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）]
（式中、Ａ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は請求項１と同様である）であることを特徴とする請求項１記載のルテニウム化合物（請求項３）、ＡがＣ１〜Ｃ３アルキレンであることを特徴とする請求項１〜３記載のルテニウム化合物（請求項４）、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8が水素原子である、請求項１、請求項３または請求項４記載のルテニウム化合物である（請求項５）。
【０００８】
また、本発明は請求項１記載の一般式（１）中の[Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ5Ｒ6Ｃ*（ＮＲ7Ｒ8）]が、光学活性２，４−ジアミノペンタン、光学活性２，５−ジアミノヘキサン、光学活性ビス（２−アミノプロピル）エーテル、光学活性ビス（２−アミノ−２−フェニルエチル）エーテル、光学活性１，３−ジアミノ−１，３−ジフェニルプロパン、光学活性１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）ベンゼン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）シクロヘキサン、光学活性１，１−ビス（１−アミノエチル）シクロペンタン、３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサンであることを特徴とする請求項１記載のルテニウム化合物を提供する（請求項６）。
【０００９】
本発明は第３に、一般式（３）又は（３’）
【００１０】
【化３】
0004286486.tif 000002
【００１１】
（式中、Ａ環部は置換基を有してもよい３〜８員環を表し、Ｂ環部は、置換基を有していてもよく、ヘテロ原子を含んでもよい、４〜８員環を表す。）で表される縮合環ケトン類を、本発明のルテニウム化合物のいずれか１種若しくは２種以上の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源として用いて不斉水素還元する工程を有することを特徴とする一般式（４）又は（４’）
【００１２】
【化４】
0004286486.tif 000003
【００１３】
（式中、Ａ環部、Ｂ環部及び＊は前記と同じ意味を表す。）で表される光学活性アルコール類の製造方法を提供する（請求項７）。
【００１４】
本発明は第４に、一般式（５）：Ｒａ−ＣＯ−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ
〔式中、Ｒａ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表す。
【００１５】
Ｒｂは、
一般式（６）：Ｒ9ＣＯ（Ｒ11）Ｎ−
一般式（７）：Ｒ9ＣＯ（Ｒ10ＣＯ）Ｎ−
一般式（８）：Ｒ9Ｒ11Ｎ−
で表されるいずれかの基を表す。
（ここで、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は、それぞれ独立して、水素原子、ホルミル基、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルコキシ基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアラルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいアリールオキシ基をそれぞれ表し、また、Ｒ9とＲ11若しくはＲ9とＲ10は結合して、５〜８員の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。）〕で表されるα−アミノケトン類を、本発明のルテニウム化合物のいずれか１種若しくは２種以上の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源として用いて不斉水素還元する工程を有する、一般式（１０）：Ｒａ−Ｃ*Ｈ（ＯＨ）−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ〔式中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及び＊は前記と同じ意味を表す。〕で表される光学活性β−アミノアルコール製造方法を提供する（請求項８）。
【００１６】
本発明のルテニウム化合物は、入手容易なルテニウム塩（化合物）を出発原料として用いるものであって、容易に製造をすることができる。また、本発明のジアミン化合物は、本発明のルテニウム化合物の配位子として好適に用いることができる。さらに、本発明の光学活性アルコール類の製造方法によれば、該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用い、縮合環ケトン類又はα−アミノケトン類を出発原料として、医薬・農薬の合成中間体として有用な前記一般式（４）、（４’）及び（１０）で表される光学活性アルコール類を、水素ガス等の安価な水素源を用いて高立体選択的かつ高収率に製造することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、▲１▼一般式(１)で表されるルテニウム化合物、▲２▼該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いることができる一般式（２）で表されるジアミン化合物、▲３▼及び該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用いて、一般式（３）及び（３’）で表される縮合環ケトン類、又は一般式（５）で表されるα−アミノケトン類を、不斉還元して光学活性アルコール類を製造する方法である。
【００１８】
本発明は、一般式（１）で表されるルテニウム化合物である。
【００１９】
一般式（１）において、Ａは、メチレン、エチレン、プロピレン等のＣ１〜Ｃ３のアルキレン；シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン等のＣ３〜Ｃ８のシクロアルキレン；フェニレン、ナフチレン等のアリレン；または２価のヘテロ環を表し、該へテロ該としては、フラン、ピラン、ジオキソラン、チオフェン、チオピラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、インドリン、フェナントロリン、ジオキソラン−２−オン、ジオキサン、オキサゾリジン、オキサゾリジノン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、スルホラン等の飽和又は不飽和のヘテロ環が挙げられる。また、アルキレン基は任意の位置にエーテル結合を含んでいても良い。
【００２０】
これらの基は更に置換基を有していてよく、該置換基としては、メチル、エチル、プロピル等のＣ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；フェニル、ナフチル等のアリール基；フェノキシ等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基が挙げられる。
【００２１】
Ａがアルキレンのとき、Ｒ1とＲ2のいずれかとＲ3とＲ4のいずれかが結合して環を形成してもよい。
【００２２】
Ｐｘはホスフィン配位子を表す。Ｐｘとしては、例えば、一般式：ＰＲAＲBＲCで表される単座ホスフィン配位子や、一般式：ＲDＲEＰ−Ｗ−ＰＲFＲGで表される２座ホスフィン配位子等が挙げられるが、光学活性であるのが好ましい。
【００２３】
一般式：ＰＲAＲBＲCで表される単座ホスフィン配位子において、ＲA、ＲB及びＲCは、それぞれ独立して、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；置換基を有してもよいフェニル基；シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；等を表す。また、ＲA、ＲB及びＲCのうちの２つが結合して、置換基を有してもよい炭素環を形成してもよい。
【００２４】
前記フェニル基及び炭素環の置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；水酸基；アミノ基；メチル、エチル、プロピル、ブチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル基等のアラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシルオキシ基；アシル基；ヘテロ環基；等が挙げられる。
【００２５】
一般式：ＰＲAＲBＲCで表される単座ホスフィン配位子の具体例としては、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、イソプロピルメチルホスフィン、シクロヘキシル（Ｏ−アニシル）−メチルホスフィン、１−[２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル]エチルメチルエーテル、２−（ジフェニルホスフィノ）−２’−メトキシ−１，１’−ビナフチル等の３級ホスフィンが好適なものとして挙げることができる。また、エチルメチルブチルホスフィン、エチルメチルフェニルホスフィン、イソプロピルエチルメチルホスフィン等のＲA、ＲB及びＲCが３種とも異なる置換基からなるホスフィン配位子を用いることもできる。
【００２６】
一般式：ＲDＲEＰ−Ｗ−ＰＲFＲGで表される２座ホスフィン配位子において、ＲD、ＲE、ＲF及びＲGは、それぞれ独立して、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；置換基を有してもよいフェニル基；又はシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；等を表し、また、ＲDとＲEあるいはＲFとＲGが結合して置換基を有してもよい炭素環を形成してもよい。
【００２７】
前記フェニル基及び炭素環の置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；水酸基；アミノ基；メチル、エチル、プロピル、ブチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル基等のアラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシルオキシ基；アシル基；ヘテロ環基；等が挙げられる。
【００２８】
Ｗは、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン基等のＣ１〜Ｃ５アルキレン基；シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン基等のＣ３〜Ｃ６シクロアルキレン基；フェニレン、ナフチレン、１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル、１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル、１，１’−ビナフチル−７，７’−ジイル基等の置換基を有してもよいアリレン基；エテニル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；エチニル、プロピニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルキニル基；を表す。
【００２９】
前記置換基を有してもよいアリール基の置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロペニル、ブテニル等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；等が挙げられる。
【００３０】
一般式：ＲDＲEＰ−Ｗ−ＰＲFＲGで表される２座ホスフィン配位子の具体例としては、ビスジフェニルホスフィノメタン、ビスジフェニルホスフィノエタン、ビスジフェニルホスフィノプロパン、ビスジフェニルホスフィノブタン、ビスジメチルホスフィノエタン、ビスジメチルホスフィノプロパン等が挙げられる。
【００３１】
さらに本発明においては、２，２’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、及びＢＩＮＡＰのナフチル環にアルキル基やアリール基等の置換基をもつＢＩＮＡＰ誘導体、フッ素置換基を有するＢＩＮＡＰ誘導体、リン原子上の同一の２個のベンゼン環にそれぞれアルキルやアルコキシ基等の基置換基をそれぞれ１〜５個有するＢＩＮＡＰ等の誘導体等も好適な２座ホスフィン配位子として例示できる。
【００３２】
これらの具体例としては、２，２’−ビス−（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ）、２，２’−ビス[ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ]−１，１’−ビナフチル（Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰ）、１−[１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル]エチルジアミン、２，２’−ビス−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１−シクロヘキシル−１，２−ビス−（ジフェニルホスフィノ）エタン、１−置換−３，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン、２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，２−ビス[（Ｏ−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ]エタン、置換−１，２−ビス（ホスホラノ）ベンゼン、５，６−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−フェニルエチル）エチレンジアミン、１，２−ビス−（ジフェニルホスフィノ）プロパン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、［（５，６），（５’，６’）−ビス（メチレンジオキシ）ビフェニル−２，２’−ジイル］ビス（ジフェニルホスフィン）、１，２−ビス（ｔ−ブチルメチルホスフィノ）エタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ペンタン等が挙げられる。
【００３３】
なお、この発明に用いることのできるホスフィン配位子は、安定してルテニウム化合物を形成し得るものであれば、上記のものに限定されるものではない。
【００３４】
Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立して、水素原子；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基（好ましくはＣ１〜Ｃ６のアルキル基）；エテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル基等の置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基（好ましくはＣ２〜Ｃ６のアルケニル基）；シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等の置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等の置換基を有してもよいアラルキル基；又は、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基；を表す。
【００３５】
前記Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、アラルキル基及びアリール基の置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；水酸基；置換若しくは無置換アミノ基；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−ブテニル、１，３−ブタジエニル、ｎ−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、ヘキセニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等のアラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシルオキシ基；アシル基；又はヘテロ環基；等が挙げられる。
【００３６】
前記置換アミノ基としては、例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基等の炭化水素基が１又は２個置換したアミノ基；アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基；メタンスルホニルアミノ、トルエンスルホニルアミノ基等のスルホニルアミノ基；Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−アシルアミノ基等のＮ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基；Ｎ−メチル−Ｎ−スルホニルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−スルホニルアミノ基等のＮ−アルキル−Ｎ−スルホニルアミノ基；フタルイミド基等の環状イミド基；等が挙げられる。
【００３７】
前記アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニルオキシ基；ベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基；フェニルメチルカルボニルオキシ基等のアラルキルカルボニルオキシ基；等が挙げられ、前記アシル基としては、例えば、プロパノイル、イソプロピルカルボニル基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基；フェニルメチルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基；等が挙げられる。
【００３８】
前記ヘテロ環基としては、例えば、フラニル、ピラニル、ジオキソラニル基等の含酸素ヘテロ環基；チエニル基等の含イオウヘテロ環基；ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラダジル、ピラジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチアゾリル、キノリル、アントラニル、インドリル、フェナントロニリル基等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基；等が挙げられる。
【００３９】
これらの置換基は、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に制限はない。これらの中でも、合成及び入手容易性の観点から、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8が全て水素原子であるジアミン化合物が好ましい。
【００４０】
また、本発明においては、Ｒ1とＲ2のいずれかがＲ3とＲ4のいずれかと、あるいはＲ5とＲ6のいずれかがＲ7とＲ8のいずれかと、あるいはＲ1とＲ2のいずれかとＲ5とＲ6のいずれかとが結合して炭素環を形成したジアミン化合物を用いることもできる。
【００４１】
一般式（１）中、一般式：Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ5Ｒ6Ｃ*（ＮＲ7Ｒ8）で表されるジアミン配位子の好ましい具体例としては、光学活性２，４−ジアミノペンタン、光学活性２，５−ジアミノヘキサン、光学活性ビス（２−アミノプロピル）エーテル、光学活性ビス（２−アミノ−２−フェニルエチル）エーテル、光学活性１，３−ジアミノ−１，３−ジフェニルプロパン、光学活性１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）ベンゼン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）シクロヘキサン、光学活性１，１−ビス（１−アミノエチル）シクロペンタン、３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン等が挙げられる。
【００４２】
次に、本発明のルテニウム化合物の製造方法について説明する。
ルテニウム化合物の製造方法に用いられる出発原料としては、０価、１価、２価、３価及び、さらに高原子価のルテニウムを用いることができる。これらの中でも、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，３７，１７０３（１９９８）に記載の２価ルテニウム錯体を用いる方法が簡便である。すなわち、２価のルテニウム−ハライド錯体と２座ホスフィン配位子の溶媒溶液を加熱後、ジアミン化合物を加えることで一般式（１）で表されるルテニウム化合物を製造することができる。
【００４３】
以下、出発原料として２価のルテニウム−ハライド錯体を用いた場合のルテニウム化合物の製造方法についてより詳細に説明する。
まず、出発原料の２価のルテニウム−ハライド錯体とホスフィン配位子とを、溶媒中、加熱し反応させ、対応するホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を得る。
【００４４】
出発原料の２価のルテニウム−ハライド錯体としては、ホスフィン配位子及びアミン配位子と置換可能な配位子を有するルテニウム錯体であれば、特に制限されるものではない。その具体例としては、[２塩化ルテニウム（ノルボルナジエン）]多核体、[２塩化ルテニウム（シクロオクタジエン）]多核体、[ビス（メチルアリル）ルテニウム（シクロオクタジエン）]等のジエンが配位したハロゲン化ルテニウム化合物；[２塩化ルテニウム（ベンゼン）]二核体、[２塩化ルテニウム（ｐ−シメン）]二核体、[２塩化ルテニウム（トリメチルベンゼン）]二核体、[２塩化ルテニウム（ヘキサメチルベンゼン）]二核体等の芳香族化合物が配位したハロゲン化ルテニウム；等が挙げられる。
【００４５】
ホスフィン配位子の使用量は、ルテニウム−ハライド錯体１モルに対して、単座の場合は、通常２〜３倍モル、好ましくは２倍モルであり、２座の場合は、通常１〜２倍モル、好ましくは等モルである。
【００４６】
この反応に用いられる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＴ）等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
【００４７】
溶媒の使用量は、基質１ｇに対して１ｍｌ〜１００ｍｌ、好ましくは、基質１ｇに対し、１ｍｌ〜１０ｍｌの範囲である。反応温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは、室温〜１００℃の範囲である。
【００４８】
次に、得られたホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体とジアミン化合物とを反応させて、対応するアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を得ることができる。
この反応に用いられるジアミン化合物の使用量は、ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に対して、通常１〜２倍モル、好ましくは等モルである。
反応温度は、通常、−１００〜２００℃、好ましくは−１０〜５０℃の範囲である。
また、あらかじめ単離したホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に、前記と同様の条件下にジアミン化合物を作用させることによっても、アミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を得ることができる。
【００４９】
次いで、得られたアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を、溶媒中、塩基と反応させることによって一般式（１）で表される（ｎ1＝１、Ｘ＝Ｙ＝Ｈ）アミン−ホスフィン−ルテニウムヒドリド錯体を得ることができる。
【００５０】
用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ[２，２，２]オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，４−ジアザビシクロ[５，４，０]ウンデ−７−エン（ＤＢＵ）等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）等の有機リチウム化合物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩；水素化ナトリウム等の金属水素化物；等が挙げられる。
塩基の使用量はアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に対して、通常、２〜１０，０００倍モル、好ましくは、２〜４０倍モルの範囲である。
【００５１】
この反応に用いる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；ＤＭＳＯ等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することができる
【００５２】
溶媒の使用量は、アミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体１ｇに対して、１ｍｌ〜１００ｍｌ、好ましくは１ｍｌ〜１０ｍｌの範囲である。また、反応温度は、通常、−１００〜２００℃、好ましくは、−１０〜５０℃の範囲である。
【００５３】
一般式（１）中、Ｘ又はＹがカルボキシ基、水酸基、アルコキシ基等であるルテニウム化合物は、上記の方法等で有られるアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体にＲＣＯＯＮａやＲＯＮａ（Ｒはアルキル基等を表す。）等を反応させて得ることができる。
【００５４】
以上のようにして製造される一般式（１）で表されるルテニウム化合物は、一般式（３）、（３’）で表される縮合環ケトン類及び一般式（５）で表されるα−アミノケトン類の不斉水素化触媒として有用である。
【００５５】
次に本発明のジアミン化合物について説明する。
本発明のジアミン化合物は、一般式（２）：Ｒ1Ｒ2Ｃ*（ＮＲ3Ｒ4）−Ａ−Ｒ5Ｒ6Ｃ*（ＮＲ7Ｒ8）で表されるものである。一般式（２）中、Ｒ1〜Ｒ8、Ａ及び＊は前記と同じ意味を表す。
かかるジアミン化合物は、例えば、一般式（２ａ）で表されるジケトンを出発原料として、下記に示す反応スキームにしたがって製造することができる。
【００５６】
【化５】
0004286486.tif 000004
【００５７】
すなわち、ジケトン（２ａ）を不斉還元して光学活性ジオール（２ｂ）とし（工程I）、該光学活性ジオール（２ｂ）を光学活性アジド（２ｃ）に誘導し（工程ＩＩ）、光学活性アジド（２ｃ）を還元することにより（工程ＩＩＩ）、容易にジアミン化合物（２）を製造するこができる。
また、ジケトン（２ａ）をジオキシム（２ｄ）に変換し（工程ＩＶ）、このものを不斉還元してジアミン化合物（２）を製造することもできる（工程Ｖ）。
【００５８】
出発原料として用いられるジケトン（２ａ）としては、例えば、２，４−ペンタンジオン、２，５−ヘキサンジオン、１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオン、１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジオン、１，２−ジ（アセチル）ベンゼン等が挙げられる。
【００５９】
工程Ｉのジケトン（２ａ）の不斉還元反応は、例えば、特開平１１−１８９６００号公報の記載と同様にして行うことができる。すなわち、ジケトン（２ａ）と不斉還元触媒とを有機溶媒中に混合し、さらに所望により塩基を添加して、所定圧力の水素ガス又は水素供与体の存在下に不斉還元する方法によって光学活性ジオール（２ｂ）を得ることができる。
【００６０】
不斉還元触媒としては、例えば、本発明化合物である光学活性アミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を使用することができる。不斉還元触媒の使用量は、ジケトン（２ａ）に対して１／５０〜１／２，０００，０００倍モル、好ましくは１／１００〜１／１，０００，０００倍モルの範囲である。
【００６１】
添加する塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；等が挙げられる。これら塩基の使用量は、不斉還元触媒の１モルに対し、２〜１０，０００倍モル、好ましくは、２〜４０倍モルの範囲である。
【００６２】
有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ等を用いることができ、これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。これらの中でも、反応生成物がアルコール化合物であることからアルコール類の使用が好ましい。
【００６３】
水素の圧力は、通常、１〜２００気圧、好ましくは３〜５０気圧の範囲である。また、水素供与体としては、例えば、水素貯蔵合金やジイミド等を用いることができ、その使用量は、一般式（３）、（３’）又は（５）で表されるケトン類に対して、通常、１〜１００倍モルの範囲である。
反応は１５〜１００℃、好ましくは２５〜４０℃の温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、ジケトン（２ａ）濃度、温度、圧力等の反応条件に依存するが、通常、数分〜１日である。
【００６４】
なお、本工程Iのジケトン（２ａ）の不斉還元反応は、オキサザボロジンを触媒として不斉ホウ素還元反応（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，３１，６０１（１９９０））等の公知の方法に準じて行うこともできる。
【００６５】
工程ＩＩの光学活性ジオール（２ｂ）のアジド化反応としては、▲１▼溶媒中、アジド化剤及び塩基の存在下に室温あるいは加熱下に反応させる方法や、▲２▼ジオール（２ｂ）とトシルクロリド、トリフルオロメチルスルホニルクロリド等とを塩基存在下に反応させることによりジスルホン酸エステルとした後、これとアジド化剤を反応させる方法、▲３▼ジオール（２ｂ）と塩化チオニル等のハロゲン化剤と反応させることによりジハライドとした後、これとアジド化剤を反応させる方法等が挙げられる。
【００６６】
アジド化剤としては、ジフェニルホスホリルアジド等の有機アジド化剤、アジ化ナトリウム等無機アジド化剤等の一般式的に購入できるものを使用することができる。アジド化剤の使用量は、光学活性ジオール（２ｂ）に対して、通常２〜１０倍モルの範囲である。
【００６７】
アジド化反応に添加する塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；等が挙げられる。これらの中でも、ＤＢＵ等の有機塩基が好ましい。
【００６８】
アジド化反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；等を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる
【００６９】
反応は、通常−７８℃〜溶媒の沸点、好ましくは−３０℃〜室温の範囲で円滑に進行する。反応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは３〜１８時間である。
【００７０】
工程ＩＩＩの光学活性アジド（２ｃ）の還元反応は、溶媒中、還元剤の存在下に室温又は加熱下に反応させて行う。
還元剤としては、一般的に使用される還元剤を用いることができるが、その具体例としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、三水素化シアノホウ素ナトリウム、トリエチル水素化ホウ素リチウム、ジボラン等を挙げることができる。また、パラジウムや白金の炭素担持体を触媒として水添条件下で反応を行うこともできる。
【００７１】
還元反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；ＤＭＳＯ等を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
【００７２】
反応は、通常−７８℃〜溶媒の沸点、好ましくは−３０℃〜室温の温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは、３〜１８時間である。
【００７３】
工程ＩＶのジケトン（２ａ）のオキシム化は、溶媒中、ジケトン（２ａ）と一般式：Ｒ12ＯＮＨ2（Ｒ12は、アルキル基等を表す。）で表されるアルコキシアミンとを室温又は加熱下に反応させて行う。なお、アルコキシアミンは塩の形で用い、塩基で中和させながら反応させることもできる。かかるアルコキシアミンの塩としては、例えば、メトキシアミン塩酸塩、エトキシアミン塩酸塩、ベンジルオキシアミン塩酸塩等が挙げられる。その使用量は、ジケトン（２ａ）に対して、１〜１００倍モル、好ましくは２〜２０倍モルの範囲である。
【００７４】
この反応に用いられる溶媒としては、不活性なものであればよく、工業的に使用できる一般的なものを用いることができる。その具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
【００７５】
反応は、通常−５０℃〜溶媒の沸点、好ましくは、室温〜溶媒の沸点の温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは、８〜１８時間である。
【００７６】
工程Ｖのジオキシム光学活性（２ｄ）の不斉還元反応は、例えば、オキサザボロリジンによる不斉ホウ素還元反応（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６５（１８），５８７９（２０００）参照。）等の公知の方法に準じて行うことができる。
【００７７】
光学活性アルコールの製造方法
次に、本発明のルテニウム化合物を用いた光学活性アルコール類の製造方法について説明する。
【００７８】
【化６】
0004286486.tif 000005
【００７９】
【化７】
0004286486.tif 000006
【００８０】
縮合ケトン類（３）、（３’）又はα−アミノケトン類（５）を出発原料として、ルテニウム化合物を触媒として不斉水素化還元反応により、それぞれに対応する光学活性アルコール（４）、（４’）又は（１０）を製造することができる。
【００８１】
まず、基質となる縮合ケトン類（３）及び（３’）について説明する。  一般式（３）及び（３’）において、Ａ環部は置換基を有してもよい３〜８員環を表し、Ｂ環部は、置換されていてもよく、ヘテロ原子を含んでもよい、４〜８員環を表す。前記置換基を有してもよい３〜８員環もしくは４〜８員環としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン環等の飽和炭化水素環；シクロプロペン、シクロブテン、シクロブタジエン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、ベンゼン環等の不飽和炭化水素環；等が挙げられる。
【００８２】
前記ヘテロ原子を含んでもよい４〜８員ヘテロ環としては、例えば、フラン、ピラン、ジオキソラン等の含酸素ヘテロ環；チオフェン等の含イオウヘテロ環；ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピラダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ペンゾチアゾール、キノリン、インドリン、フェナントロニリン等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環；等が挙げられる。
【００８３】
縮合環ケトン類の具体例としては、置換基を有してもよいα−テトラロン類、置換基を有してもよいβ−テトラロン類、置換基を有してもよいクロモン類、置換基を有してもよい４−クロマノン類、置換基を有してもよいチオクロマン−４−オン類、置換基を有してもよい２，３−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−４−オン類、置換基を有してもよい２−イソチオクロマン−４−オン類、置換基を有してもよい２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソキノリン−４−オン類、置換基を有してもよい１−インダノン類、置換基を有してもよい２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン類、置換基を有してもよい２Ｈ−ベンゾチオピラン−３−オン類、置換基を有してもよいインドリン−３−オン類、置換基を有していてもよい４−ケト−４，５，６，７−テトラヒドロチアナフテン類等が挙げられる。
【００８４】
前記縮合環ケトン類の置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；水酸基；アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチルアミノ等の置換されていてもよいアミノ基；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−ブテニル、１，３−ブタジエニル、ｎ−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、ヘキセニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等のアラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシルオキシ基；アシル基；ヘテロ環基；等が挙げられる。
【００８５】
前記アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニルオキシ基；ベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基；フェニルメチルカルボニルオキシ基等のアラルキルカルボニルオキシ基；等が挙げられ、前記アシル基としては、例えば、プロパノイル、イソプロピルカルボニル基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基；フェニルメチルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基；等が挙げられる。
【００８６】
前記ヘテロ環基としては、例えば、フラニル、ピラニル、ジオキソラニル基等の含酸素ヘテロ環基；チエニル基等の含イオウヘテロ環基；ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラダジル、ピラジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチアゾリル、キノリル、アントラニル、インドリル、フェナントロニリル基等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基；等が挙げられる。
【００８７】
これらの置換基は、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に制限はない。また、例示した縮合環ケトン類のベンゼン環がこれらの置換基を有してもよい他の縮合環に置き換わってもよい。
【００８８】
さらに、前記した置換基は反応を阻害しない範囲において置換基をさらに有してもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；カルボキシル基；アミノ基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；ベンゼン環の任意の位置に置換基を有してもよいフェニル基；ナフタレン環の任意の位置に置換基を有してもよい、１−ナフチル、２−ナフチル基等のナフチル基；環の任意の位置に置換基を有してもよい、フラン、ピラン、ジオキソラン、ジオキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン等のヘテロ環基；等が挙げられる。
【００８９】
次に、α−アミノケトン類（５）について説明する。
式中、Ｒａ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等の置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基；ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−イソプロペニル、１−ブテニル、１−イソプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル基等の置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等の置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等の置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基；置換基を有してもよいヘテロ環基等を表す。
【００９０】
かかる、置換基を有してもよいヘテロ環基としては、例えば、フラニル、ピラニル、ジオキソラニル基等の含酸素ヘテロ環基；チエニル基等の含イオウヘテロ環基；ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラダジル、ピラジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチアゾリル、キノリル、アントラニル、インドリル、フェナントロニリル基等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基；等が挙げられる。
【００９１】
前記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基及びヘテロ環基の置換基としては、本反応を阻害することのない置換基であれば、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に制限はない。その具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；カルボキシル基；アミノ基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；ベンゼン環の任意の位置に置換基を有してもよいフェニル基；ナフタレン環の任意の位置に置換基を有してもよい（１−ナフチル、２−ナフチル基等の）ナフチル基；環の任意の位置に置換基を有してもよい（フラン、ピラン、ジオキソラン、ジオキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン等の）ヘテロ環基；等が挙げられる。
【００９２】
Ｒｂは、一般式（６）：Ｒ9ＣＯ（Ｒ11）Ｎ−、一般式（７）：Ｒ9ＣＯ（Ｒ10ＣＯ）Ｎ−、一般式（８）：Ｒ9Ｒ11Ｎ−、のいずれかの基を表す。
【００９３】
ここで、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11はそれぞれ独立して、水素原子；ホルミル基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｔ−ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルコキシ基；置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルケニル基；ベンジル、４−クロロベンジル、α−メチルベンジル基等の置換基を有してもよいアラルキル基；ベンジルオキシ、４−クロロベンジルオキシ、４−メチルベンジルオキシ基等の置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキルオキシ基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基；ベンゾイルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ基等の置換基を有してもよいアリールオキシ基；等を表す。
【００９４】
本発明において、Ｒｃが水素原子以外の場合には、Ｒ11が水素原子で、かつ、Ｒ9がアルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基及びアラルキルオキシ基の何れかであると、アンチ立体配置の光学活性アミノアルコールが優先的に得られる。このためシン立体配置の光学活性アミノアルコールを得る場合にはそれ以外の置換基の組み合わせを選択する必要がある。ここで、シン立体配置とは炭素鎖を主鎖としてジグザグに左右方向に置いた場合に、その上下方向にそれぞれ置換するアミノ基とヒドロキシルが同じ面を向くような立体配置のことをいい、アンチ立体配置とはアミノ基とヒドロキシル基が逆の面を向くような立体配置のことをいう。
【００９５】
前記アルコキシ基、アルケニル基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アリール基及びアリールオキシ基の置換基としては、本反応を阻害することのない置換基であれば、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に制限はない。その具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；カルボキシル基；アミノ、メチルアミノ、アセチルアミノ等の置換基を有していてもよいアミノ基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシカルボニル基；ベンゼン環の任意の位置に置換基を有してもよいフェニル基；ナフタレン環の任意の位置に置換基を有してもよい（１−ナフチル、２−ナフチル基等の）ナフチル基；環の任意の位置に置換基を有してもよい（フラン、ピラン、ジオキソラン、ジオキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン等の）ヘテロ環基；等が挙げられる
【００９６】
また、Ｒ9とＲ10とが又はＲ9とＲ11とが結合して、５〜８員の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。かかるヘテロ環のとしては、例えば、スクシンイミド、マレイミド、フタルイミド、１，２−シクロヘキサンカルボキサミド、２，４，６−トリオキソピペリジン、α−ピリドン等のイミド類等が挙げられる。
【００９７】
Ｒｂの具体例としては、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、４−メチルベンゾイルアミノ、２−クロロベンゾイルアミノ、３−メトキシベンゾイルアミノ、２−クロロ−４−メトキシベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基；ジアセチルアミノ、ジベンゾイルアミノ基等のジアシルアミノ基；Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ベンジルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ベンジルアミノ、４−メチルベンゾイルメチルアミノ基等のＮ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基；Ｎ−アセチル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−４−メチルファニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−２−クロロフェニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−２，４−ジクロロフェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−４−メチルフェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−２−クロロフェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−２，４−ジクロロフェニルアミノ基等のＮ−アリール−Ｎ−アシルアミノ基；Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロポキシカルボニル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−イソプロポキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−ブトキシアミノ基等のＮ−アルコキシカルボニル−Ｎ−アルキルアミノ基；
【００９８】
Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロポキシカルボニル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−イソプロポキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−ブトキシアミノ基等のＮ−アルコキシカルボニル−Ｎ−アルキルアミノ基；Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−プロポキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−イソプロポキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ基等のＮ−アルコキシカルボニル−Ｎ−アリールアミノ基；
【００９９】
Ｎ−メチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−プロピル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−イソプロピル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−ベンジル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−ブチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−イソプロピルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−イソプロピルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−ｔ−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−ｔ−ブチルスルホニルアミノ等のＮ−アルキル−アルキルスルホニルアミノ基；Ｎ−メチル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−ベンジル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−４−メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−ベンジル−４−メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−２−クロロフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−２，４−ジクロロフェニルスルホニルアミノ基等のＮ−アルキル−置換フェニルスルホニルアミノ基；
【０１００】
Ｎ−フェニル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−イソプロピルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−ｔ−ブチルスルホニルアミノ等のＮ−アリール−アルキルスルホニルアミノ基；Ｎ−フェニル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−４−メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−２−クロロフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−２，４−ジクロロフェニルスルホニルアミノ基等のＮ−アリール−置換フェニルスルホニルアミノ基；スクシンイミドイル基、マレイミドイル基、フタルイミドイル基、３−メチルフタルイミドイル基、４−メチルフタルイミドイル基、４−ｎ−ブチルフタルイミドイル基、４−クロロフタルイミドイル基、テトラメチルフタルイミドイル基、１，２−シクロヘキサンカルボキサミドイル基、２，４，６−トリオキソピペリジン−１−イル基、α−ピリドン−１−イル基等のイミド基等を挙げることができる。
【０１０１】
以上説明したような縮合ケトン類及びα−アミノケトン類は、公知の方法で製造し、入手することができる。
【０１０２】
次に不斉水素化反応について説明する。
不斉水素化反応は、基質となる上記した縮合ケトン類（３）、（３’）又はα−アミノケトン類（５）を、一般式（１）で表されるルテニウム化合物の存在下に、所望により塩基を添加して、所定圧力の水素ガス又は水素供与体の存在下に不斉還元することにより行う。
【０１０３】
また、本発明においては、ルテニウム化合物の原料となる▲１▼ルテニウム錯体（又はルテニウム塩）、リン化合物及びジアミン化合物とを別々に反応系に添加、又は▲２▼ホスフィン配位子を有するルテニウム錯体（又はルテニウム塩）及びジアミン化合物とを別々に反応系に添加して、必要に応じて塩基を添加してルテニウム化合物を生成させた後、該ルテニウム化合物を反応系から取り出すことなく、そこへ基質を添加することにより、ｉｎ  ｓｉｔｕで不斉水素化反応を行わせることもできる。
【０１０４】
触媒として使用する一般式（１）で表されるルテニウム化合物の使用量は、反応容器の大きさや触媒活性によって異なるが、反応基質である縮合ケトン類又はα−ジアミノケトン類に対して、通常１／５０〜１／２，０００，０００倍モル、好ましくは１／５００〜１／５００，０００倍モルの範囲である。
【０１０５】
用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；ｎ−ブチルリチウム等の有機リチウム化合物；ＬＤＡ、リチウムビストリメチルシリルアミド等のリチウムアミド類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；が挙げられる。
【０１０６】
添加する塩基の量は、ルテニウム化合物に対し、通常２〜５００，０００倍モル、好ましくは、２〜５，０００倍モルの範囲である。
【０１０７】
溶媒としては、基質及び触媒を可溶化するものであれば特に制限ない。その具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ等を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。これらの溶媒の中でも、反応生成物がアルコール化合物であることから、アルコール類の使用が好ましい。
【０１０８】
溶媒の使用量は、一般式（３）、（３’）又は（５）で表されるケトン類の溶解度及び経済性に依存し、場合によっては無溶媒又は高希釈条件に近い状態でも反応は進行するが、通常、該ケトン類１００重量部に対して０．１〜１０，０００重量部、好ましくは２０〜１，０００重量部の範囲である。
【０１０９】
水素の圧力は、通常、１〜２００気圧、好ましくは３〜５０気圧の範囲であり、水素供与体としては、例えば、水素貯蔵合金やジイミド等を用いることができ、その使用量は、一般式（３）、（３’）又は（５）で表されるケトン類に対して、通常、１〜１００倍当量の範囲である。
反応温度は、通常−５０〜１００℃、好ましくは２５〜４０℃の温度範囲である。また、反応時間は、反応基質濃度や温度、圧力等の反応条件に依存するが、通常、数分〜数日である。反応形式としては特に制限はないが、例えば、バッチ式においても連続式においても実施することができる。
【０１１０】
反応終了後は、通常の有機合成化学的手法により、単離・精製を行い目的物を得ることができる。目的物の構造は、1Ｈ−ＮＭＲ、旋光度測定、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段によって決定することができる。
【０１１１】
以上のようにして製造された光学活性アミノアルコール（１０）において、Ｒｃが水素原子でないものはシン（ｓｙｎ）立体配置を有する。ここでシン立体配置とは、炭素鎖を主鎖としてジグザグに左右方向に置いた場合に、その上下方向にそれぞれ置換するアミノ基とヒドロキシル基が同じ面を向くような立体配置をいう。
【０１１２】
【実施例】
次に、実施例で本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。尚、各実施例における物性の測定に用いた装置は次の通りである。
ＮＭＲスペクトル：Ｖａｒｉａｎ  ＧＥＭＩＮＩ−３００（３００ＭＨｚ）、バリアン社製
旋光度：ＪＡＳＣＯ  ＤＩＰ−３６０、日本分光（株）製
高速液体クロマトグラフィー：ＬＣ−１０Ａｄｖｐ、ＳＰＤ−１０Ａｖｐ、島津製作所（株）製
ガスクロマトグラフィー：ＧＣ−１７Ａ、Ｃ−Ｒ７Ａ  Ｐｌｕｓ、島津製作所（株）製
【０１１３】
（参考例１）（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニルブタンの合成
【０１１４】
【化８】
0004286486.tif 000007
【０１１５】
１，４−ジオキソ−１，４−ジフェニルブタン０．４７７ｇ（２ｍｍｏｌ）のイソプロパノール３ｍｌ溶液、トルエン５ｍｌ及び水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）０．２ｍｌを混合し脱気し、[（Ｒ）−Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰ]ＲｕＣｌ2[（Ｒ）−１，１’−ジアニシル−２−イソプロピル−１，２−エチレンジアミン[（Ｒ）−ＤＡＩＰＥＮと略す：Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２０、１３５２９（１９９８）]]１２ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を加えた。その後、水素を８気圧まで圧入し、室温で１８時間攪拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製して、目的の（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニルブタン０．４３ｇを得た。収率９０％
【０１１６】
（参考例２）（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアジド−１，４−ジフェニルブタンの合成
【０１１７】
【化９】
0004286486.tif 000008
【０１１８】
（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニルブタン０．５５ｇ（２．２７ｍｍｏｌ）とＤＢＵ０．７ｍｌ（２．７２ｍｍｏｌ）のトルエン６ｍｌ溶液にジフェニルホスホリルアジド１．７８ｇ（２．７２ｍｍｏｌ）を攪拌しながら０℃で添加した。室温で１８時間攪拌した後、反応液を希塩酸にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製することにより、目的の（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアジド−１，４−ジフェニルブタン０．２１ｇを得た。収率３２％
【０１１９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ）：７．５−７．３（ｍ，１０Ｈ）、４．４（ｔ，２Ｈ）、１．９（ｍ，２Ｈ）、１．７（ｍ，２Ｈ）
【０１２０】
（実施例１）（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン塩酸塩の合成
【０１２１】
【化１０】
0004286486.tif 000009
【０１２２】
（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアジド−１，４−ジフェニルブタン０．２１ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）のエタノール６ｍｌ溶液に、５％パラジウムカーボン０．１ｇを加え、反応系を水素置換して、常温、常圧下に４８時間攪拌した。反応終了後、反応溶液から不溶物を濾別し、濾液に濃塩酸を加えて濃縮し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を酢酸エチルで洗浄し、乾燥することにより、目的とする（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン塩酸塩０．１ｇを得た。収率３７％
【０１２３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δｐｐｍ）：８．６（ｓ，６Ｈ）、７．４（ｓ，１０Ｈ）、４．２（ｍ，２Ｈ）、２．０（ｍ，２Ｈ）、１．５（ｍ，２Ｈ）
［α］D24＝−１０．１°（ｃ＝１．０，ＭｅＯＨ）
【０１２４】
（実施例２）ＲｕＣｌ2[（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ][（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン]の合成
【０１２５】
【化１１】
0004286486.tif 000010
【０１２６】
シュレンクチューブ中にイソプロパノール２ｍｌ、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、脱気した後、ＲｕＣｌ2[（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ]のＤＭＦ付加物２５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加えて溶解させた。溶媒を減圧留去することにより目的物を得た。
この化合物の31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）を測定した結果、４３．９ｐｐｍにシングレットピークが観測された。
【０１２７】
（実施例３）ＲｕＣｌ2[（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ][（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン]の合成
【０１２８】
【化１２】
0004286486.tif 000011
【０１２９】
シュレンクチューブ中にイソプロパノール２ｍｌ、（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン８ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、脱気した後、ＲｕＣｌ2[（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ]のＤＭＦ付加物２５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加えて溶解させた。溶媒を減圧留去することにより目的物を得た。
この化合物の31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）を測定した結果、４４．６ｐｐｍにシングレットピークが観測された。
【０１３０】
(参考例３) ３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアジドヘキサンの合成
３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｓ，５Ｓ）−ヘキサンジオール ビスメタンスルホナート１．５２ｇ（４．４ｍｍｏｌ）をＤＭＳＯ１５ｍｌに溶解し、アジ化ナトリウム１．２７ｇ（１７．５ｍｍｏｌ）を加えて５０度で２４時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製することによりジアジド体０．７１ｇを得た。収率６７％。
【０１３１】
(実施例４) ３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサンの合成
３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアジドヘキサン０．７１ｇをメタノール５ｍｌに溶解し、５％パラジウムカーボン０．１ｇを加え反応系を水素置換して常温、常圧下２４時間撹拌した。反応終了後反応溶液から不溶物を濾別し、濾液を濃縮して得られた残留物をクーゲルロールで蒸留（１６０度／５ｍｍＨｇ）して目的物０．４９ｇを得た。収率８８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3， δｐｐｍ）：３．６８（ｍ， ２Ｈ）、３．０（ｍ， ２Ｈ）、１．４６（ｂｓ， ４Ｈ）、１．３９（ｓ， ６Ｈ）、１．１６（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，６Ｈ）
〔α〕D23＝２８．９゜ (ｃ＝１．４， ＭｅＯＨ）
【０１３２】
(実施例５) ＲｕＣｌ2［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン］の合成
シュレンクチューブ中に脱気したイソプロパノール５ｍｌ、３，４−O−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン５０ｍｇ（０．２６６ｍｍｏｌ）、［ＲｕＣｌ２(シメン)］2 ８２ｍｇ（０．１３４ｍｍｏｌ）を加え、還流下３０分撹拌した。続いて（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ１６６ｍｇ（０．２６６ｍｍｏｌ）を加えて還流下４５分撹拌した。冷却した後ヘキサンを加えて析出した結晶を濾別して目的物を得た。
この化合物の31Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）を測定した結果、４５．４ｐｐｍにシングレットピークが観測された。
【０１３３】
（実施例６）（Ｒ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの合成
【０１３４】
【化１３】
0004286486.tif 000012
【０１３５】
アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン塩酸塩１ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラロン０．３７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）７５μｌ及びイソプロパノール１．５ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ2［（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ］のＤＭＦ付加物５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて１．５時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して光学異性体混合物を得た。転化率６４％
このものの光学純度をガスクロマトグラフィー（移動相：ヘリウム、カラム：ＣＰ−Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ−Ｄｅｘ  ＣＢ、クロムパック(株)製）で測定したところ、９１％ｅｅであった。
【０１３６】
実施例６と同様の条件で、原料のテトラロンを変えた場合の反応生成物の光学純度（％ｅｅ）を第１表に示した。
【０１３７】
【表１】
0004286486.tif 000013
【０１３８】
（実施例７）（Ｓ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの合成
【０１３９】
【化１４】
0004286486.tif 000014
【０１４０】
アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、（Ｓ，Ｓ）−２，４−ジアミノペンタン塩酸塩１．ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラロン０．３７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、水酸化カリウムイソプロパノール（１Ｍ）７５μｌ及びイソプロパノール３ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ］のＤＭＦ付加物５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素ガスを８気圧まで圧入し、室温にて１．５時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して光学異性体混合物を得た。転化率８３％。
このものの光学純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／イソプロパノール＝９／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＢ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ７５％ｅｅであった。
【０１４１】
実施例７と同様の条件で、ジアミンを変えて反応を行い、得られた（Ｓ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの転化率％、光学純度％ｅｅを第２表に示した。
【０１４２】
【表２】
0004286486.tif 000015
【０１４３】
(実施例８) 光学活性７−メトキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの合成
簡易型オートクレーブ(容量１００ｍｌ)中に、７−メトキシ−１−テトラロン０．１９ｇ（１ｍｍｏｌ）、ＲｕＣｌ２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジフェニルブタン−１，４−ジアミン］５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えアルゴン置換した後に、脱気したイソプロパノール２．５ｍｌおよび水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）１００μｌを加えた。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて１．５時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン／酢酸エチル＝２／１)で精製し光学異性体混合物を定量的に得た。
このものの光学純度を高速液体クロマトグラフィー(移動相：ヘキサン／イソプロパノール＝９２／８、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＤ−Ｈ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、９２％ｅｅであった。
【０１４４】
(実施例９) 光学活性５−メトキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの合成
簡易型オートクレーブ(容量１００ｍｌ)中に、５−メトキシ−１−テトラロン０．４１ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、ＲｕＣｌ２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン］５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えアルゴン置換した後に、脱気したイソプロパノール２ｍｌおよび水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）１００μｌを加えた。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて２時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン／酢酸エチル＝２／１)で精製し光学異性体混合物０．３６ｇを得た。収率８７％
このものの光学純度を高速液体クロマトグラフィー(移動相：ヘキサン／イソプロパノール＝９／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＢ、ダイセル化学工業(株）製）で測定したところ、９５％ｅｅであった。
【０１４５】
(実施例１０) 光学活性シス−２−メチル−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの合成
簡易型オートクレーブ(容量１００ｍｌ)中に、ＲｕＣｌ2［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン］５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えアルゴン置換した後に、イソプロパノール２．５ｍｌ中に水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）１００μｌおよび２−メチル−１−テトラロン０．１６ｇ（１ｍｍｏｌ）を溶解したものを脱気した後に加えた。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて２時間撹拌した。
このものをガスクロマトグラフィー(移動相：ヘリウム、カラム：βＤＥＸ３２５、スペルコ製）で測定したところ、転換率＞９９％、９８％ｄｅ、８８％ｅｅであった。
【０１４６】
（比較例１）
ホスフィン配位子として（Ｒ）−Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰを用い、ジアミンとして（１Ｒ，２Ｒ）−ジフェニルエチレンジアミンを用いた以外は実施例１０と同様の条件で実験を行った。転化率２６％、２６％ｄｅ、８４％ｅｅ（cis体）、３３％ｅｅ（trans体）であった。
【０１４７】
（実施例１１）光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノールの合成
【０１４８】
【化１５】
0004286486.tif 000016
【０１４９】
アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン塩酸塩２．２ｍｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ）、１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイル）アミノプロパン−１−オン０．６７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、０．１Ｎのｔ−ブトキシカリウムのイソプロパノール１．５ｍｌ溶液及びイソプロパノール５ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ2[（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ]のＤＭＦ付加物１２．５ｍｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素を１２気圧まで圧入し、２５℃にて１時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して、光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノール０．６５ｇを得た。収率９７％
【０１５０】
このものの光学純度及びジアステレオマー純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／エタノール＝１５／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＪ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、光学純度は８９％ｅｅであり、ジアステレオマー純度は９９％ｄｅ以上であった。
【０１５１】
（実施例１２）光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノールの合成
【０１５２】
【化１６】
0004286486.tif 000017
【０１５３】
アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジフェニルブタン−１，４−ジアミン３．６ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）、１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイル）アミノプロパン−１−オン０．５３ｇ（２ｍｍｏｌ）、水酸化カリウムイソプロパノール（１Ｍ）１００μｌ及びイソプロパノール５ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ］のＤＭＦ付加物の１０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素ガスを１２気圧まで圧入し、２５℃にて１時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して、光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノール０．５ｇを得た。収率９４％
【０１５４】
このものの光学純度及びジアステレオマー純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／エタノール＝１５／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＪ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、光学純度９４％ｅｅであり、ジアステレオマー純度９９％ｄｅ以上であった。
【０１５５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、入手容易なルテニウム化合物、該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いることができるジアミン化合物を提供できる。
また、該ルテニウム化合物を触媒として用いて、縮合環ケトン類やα−アミノケトン類を不斉還元することにより、対応する光学活性アルコール類を、高立体選択的かつ高収率で製造することができる。