(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミラー層被覆用のガラスセラミック基質材料であって、ベータ石英および／またはキータイト固溶体を有するガラスセラミックを含み、前記ガラスセラミックは、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、ＳｒＯ、およびＢａＯよりなる群から選ばれた少なくとも一つの成分を含むガラス質表面層を含み、さらに、研磨することなく表面粗度Ｒａが＜５０ｎｍ、２０℃〜３００℃の温度範囲で熱膨張が＜１．２×１０−6／Ｋで、近赤外領域における透過率が１０５０ｎｍにおいて、厚みが４ｍｍで＞８５％である、全組成に基づいて次の組成（質量％）を含むことを特徴とするガラスセラミック基質材料：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．０〜５．５
Ｎａ2Ｏ                            ０〜２．５
Ｋ2Ｏ                              ０〜２．０
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜３．０
ΣＭｇＯ＋ＺｎＯ                    ＜０．３
ＳｒＯ                              ０〜２．０
ＢａＯ                              ０〜３．５
Ｂ2Ｏ3                            １．０〜４．０
Ａｌ2Ｏ3                          １９．０〜２７．０
ＳｉＯ2                            ５５．０〜６６．０
ＴｉＯ2                            １．０〜５．５
ＺｒＯ2                            ０〜２．５
ΣＴｉＯ2+ＺｒＯ2                  ３．０〜６．０
Ｐ2Ｏ5                            ０〜８．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０  ｐｐｍ
Ｆ                                  ０〜０．６
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【請求項２】
前記ガラスセラミックは、主結晶としてベータ石英固溶体を含み、２０℃〜３００℃の温度範囲で熱膨張が＜０．５×１０−6／Ｋで、近赤外領域における透過率が１０５０ｎｍにおいて、厚みが４ｍｍで＞８７％であり、全組成に基づいて次の組成（質量％）を含むことを特徴とする請求項１記載のガラスセラミック基質材料：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．０〜５．０
Ｎａ2Ｏ                            ０〜２．０
Ｋ2Ｏ                              ０〜１．５
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜２．５
ΣＭｇＯ+ＺｎＯ                    ＜０．３０
ΣＳｒＯ+ＢａＯ                    ＜  ４．０
ΣＴｉＯ2+ＺｒＯ2                  ３．５〜５．５
ΣＢ2Ｏ3+Ｐ2Ｏ5                  １．０〜８．０
ＳｒＯ                             ０〜２．０
ＢａＯ                             ０〜３．５
Ｂ2Ｏ3                            １．０〜４．０
Ａｌ2Ｏ3                          １９．０〜２７．０
ＳｉＯ2                            ５５．０〜６６．０
ＴｉＯ2                            １．０〜５．５
ＺｒＯ2                            ０〜２．５
Ｐ2Ｏ5                            ０〜７．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０ｐｐｍ
Ｆ                                  ０〜０．３
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【請求項３】
全組成に基づいて次の組成（質量％）を含むことを特徴とする請求項１記載のガラスセラミック基質材料：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．０〜５．０
Ｎａ2Ｏ                            ０〜２．０
Ｋ2Ｏ                              ０〜１．５
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜２．０
ΣＭｇＯ+ＺｎＯ                    ＜０．３０
ΣＳｒＯ＋ＢａＯ                    ＜  ３．０
ＳｒＯ                             ０〜２．０
ＢａＯ                             ＜  ３．０
Ｂ2Ｏ3                            １．０〜３．０
Ａｌ2Ｏ3                          ２１．０〜２７．０
ＳｉＯ2                            ５５．０〜６６．０
ＴｉＯ2                            １．５〜５．０
ＺｒＯ2                            ０〜２．５
Ｐ2Ｏ5                            ０〜７．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０  ｐｐｍ
ΣＴｉＯ2＋ＺｒＯ2                ３．５〜５．０
ΣＢ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5                   １．０〜８．０
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【請求項４】
全組成に基づいて次の組成（質量％）を含むことを特徴とする請求項１記載のガラスセラミック基質材料：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．５〜５．０
Ｎａ2Ｏ                            ０〜２．０
Ｋ2Ｏ                              ０〜１．５
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜２．５
ΣＭｇＯ+ＺｎＯ                    ＜０．３０
ΣＳｒＯ＋ＢａＯ                    １．０〜４．０
ＳｒＯ                              ０〜２．０
ＢａＯ                              ０〜３．５
Ｂ2Ｏ3                            １．０〜４．０
Ａｌ2Ｏ3                          ２０〜２５
ＳｉＯ2                            ５５〜６３
ＴｉＯ2                            １．５〜５．０
ＺｒＯ2                            ０〜２．０
ΣＴｉＯ2+ＺｒＯ2                  ３．５〜５．０
Ｐ2Ｏ5                            １．０〜７．０
ΣＢ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5                   ２．０〜８．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０  ｐｐｍ
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【請求項５】
前記ガラス質表面層が最大厚み１．５μｍである、請求項１〜４のいずれかに記載のガラスセラミック基質材料。
【請求項６】
６００℃で２００時間熟成後、＜６０μｍ／１００ｍｍの圧縮値を有する請求項１〜５のいずれかに記載のガラスセラミック基質材料。
【請求項７】
９００ｎｍ〜１８００ｎｍの波長領域において、４ｍｍの厚みに対し、＞８５％のＩＲ透過率を有する請求項１、３または４のいずれかに記載のガラスセラミック基質材料。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のガラスセラミック基質材料を含む、少なくとも一つのパラボラの内部形状を有するレフレクター。
【請求項９】
ＩＲ透過ミラー被覆物を有する請求項８記載のレフレクター。
【請求項１０】
冷光レフレクター製造用として用いられることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のガラスセラミック基質材料。
【請求項１１】
照明エンジニアリングのプレート製造用として用いられることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のガラスセラミック基質材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ベータ石英および／またはキータイト(keatite)固溶体を含むガラスセラミックを含む被覆用の基質材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系のガラスが、主結晶相としてベータ石英固溶体および／またはキータイト固溶体を含むガラスセラミックに転化できることは公知である。これらのガラスセラミックは複数の段階で製造される。溶融および熱成形の後、通常、材料は、熱ストレスを除去するため、転移温度（Ｔｇ）領域の温度に冷却される。材料はさらに室温に冷却される。ガラス体の特定の定性的特性が研究される。
【０００３】
第２の管理された熱処理は、原料ガラスを結晶化して、ガラスセラミック物品へ転化するために使用される。このセラミック転化はマルチ段階熱プロセスで生じ、このプロセスにおいて、最初に６００℃〜８００℃の温度で核形成によって、核がＴｉＯ2またはＺｒＯ2／ＴｉＯ2固溶体から得られる。また、ＳｎＯ2は核形成に含まれていてもよい。その後の温度上昇中に、ベータ石英固溶体は、７００℃〜９００℃の結晶化温度でこれらの核の上に成長する。さらに温度が上昇すると、８００℃〜１１００℃の範囲において、ベータ石英固溶体はキータイト固溶体に転移する。組成に依存するけれども、ベータ石英固溶体を含むガラスセラミックの安定範囲は広い。ある組成では、キータイト固溶体相への転移温度は、ベータ石英固溶体ガラスセラミックの結晶化温度よりも１５０℃高い。その他の組成では、ベータ石英固溶体は、いかなる転移もなく、大部分がキータイト固溶体に転化する。キータイト固溶体への転移は結晶成長と関係するので、クリスタリット(crystallite)サイズが増加する。これは光散乱を増加させる。光透過は大きく減少する。その結果、ガラスセラミック物品の半透明性および不透明性が増加するように見える。ガラスおよびガラスセラミックの光透過率の高さは、品質の効果的な評価を許容する。安全性に関係し、または、特定な製品特性を危うくする欠陥を有する成形体は、その後のプロセス前にえり分けることができる。
【０００４】
これらのガラスセラミックの重要な特性は、２０℃〜３００℃およびそれ以上の範囲において、＜１．５×１０-6／Ｋの極めて低い熱膨張係数を有する材料を製造することにある。主結晶相としてベータ石英固溶体を含むガラスセラミックを用いて、実際上膨張しない材料でさえこの温度範囲で得られる。天文学で使用されるレフレクター(reflector)用の基質材料の用途に、ガラスセラミックは、零熱膨張が−５０℃〜＋５０℃の温度範囲にあるような方法で修正される、これは本発明では重要である。このタイプのガラスセラミック材料は、ショットガラスにおいて、ゼロヅー(ZERODUR)として製造される。
【０００５】
これらのガラスセラミックに関する最近の開発は、レフレクター用の材料として照明エンジニアリングにおいて使用され、ここで、小型化および高発光力のため、高熱負荷が生ずる。ボロシリケートまたはアルミノシリケートガラスから作られた広範なレフレクターと比較して、ガラスセラミックは、熱負荷および温度勾配に抵抗する能力に関する高度な要求を満足する。レフレクターに関し、高発光強度が小容積内で許容される光源が使用される。光源は、高出力ハロゲンランプ、アークランプまたはガス放出ランプの技術的な原理に基づくものである。極超出力ランプランプからの最大放射線は、１μｍの波長、すなわち近赤外にある。
【０００６】
ガラスセラミックは、アルミニウムなどの金属層またはその他の酸化物質のその他の層で被覆してもよい。マルチ酸化物層は、干渉原理を利用し、入射赤外放射線は後方に透過するけれども、可視光線を反射させることができる。基質材料が高いＩＲ透過率を有することを意図するので、許容できない範囲に加熱することなくＩＲ放射線を後方へ透過させる。このタイプのレフレクターは、冷光レフレクターとして公知である。デジタル投影装置および、ＤＶＤまたはビデオ記録投影装置には、ガラスセラミック冷光レフレクターがますます装着されている。
【０００７】
天文学で使用されるミラー用の基質として使用されるガラスセラミックは、ＤＥ−Ａ−１９０２４３２およびＵＳ−Ａ−４２８５７２８に記載されている。成形は、溶融ガラスを耐熱性ダイにキャストすることにより行われる。ミラー被覆前に、結晶後に得られる主結晶相としてベータ石英固溶体を含むガラスセラミックは、最初に研磨され、さらに仕上げ研磨される。この方法は、所定の幾何学的な形状および低表面粗度をもたらす。しかしながら、それは時間がかかるとともに、高価である。
【０００８】
ＪＰ−Ｂ−９５０３７３２４は、反射ミラー基質材料として使用される、ベータ石英またはキータイト固溶体から作られたガラスセラミックを記載しており、そのガラスセラミックは、セラミック転化後、研磨することなく低表面粗度Ｒａが最大で０．０３μｍであり、その組成が（質量％）５０〜６５のＳｉＯ2、１８〜３０のＡｌ2Ｏ3、３〜８のＬｉ2Ｏ、３〜５のＴｉＯ2＋ＺｒＯ2、０．３〜７のＲＯ（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、ＰｂまたはＶ）および３までのＲ2Ｏ（Ｒ＝Ｋ，Ｎａ）である。
【０００９】
ＵＳ−Ａ−４４３８２１０は、主結晶相としてベータ石英固溶体を含む透明なガラスセラミックについて記載しており、かかるガラスセラミックは、相対的に１０００ｐｐｍまでの高Ｆｅ2Ｏ3含量にもかかわらず、実質的に無色である。ガラスセラミックの組成は、（質量％で）、６５〜７５のＳｉＯ2、１〜４のＬｉ2Ｏ、１５〜２５のＡｌ2Ｏ3、０．５〜２のＺｎＯ、０〜２のＮａ2Ｏおよび／またはＫ2Ｏ、２〜６のＴｉＯ2、０〜２のＺｒＯ2、０〜２．５のＢａＯ、０〜１．２のＦ、および１００〜１０００ｐｐｍのＦｅ2Ｏ3である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ミラー被覆物を有する、被覆に好適なベータ石英および／またはキータイト固溶体を含むガラスセラミックを含むガラスセラミック基質材料を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、次の通りである。すなわち、ミラー層被覆用のガラスセラミック基質材料であって、ベータ石英および／またはキータイト固溶体を有するガラスセラミックを含み、前記ガラスセラミックは、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、ＳｒＯ、およびＢａＯよりなる群から選ばれた少なくとも一つの成分を含むガラス質表面層を含み、さらに、研磨することなく表面粗度Ｒａが＜５０ｎｍ、２０℃〜３００℃の温度範囲で熱膨張が＜１．２×１０−6／Ｋで、近赤外領域における透過率が１０５０ｎｍにおいて、厚みが４ｍｍで＞８５％である、全組成に基づいて次の組成（質量％）を含むことを特徴とするガラスセラミック基質材料：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．０〜５．５
Ｎａ2Ｏ                              ０〜２．５
Ｋ2Ｏ                              ０〜２．０
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜３．０
ΣＭｇＯ＋ＺｎＯ                    ＜０．３
ＳｒＯ                              ０〜２．０
ＢａＯ                              ０〜３．５
Ｂ2Ｏ3 １．０〜４．０
Ａｌ2Ｏ3                          １９．０〜２７．０
ＳｉＯ2                            ５５．０〜６６．０
ＴｉＯ2                            １．０〜５．５
ＺｒＯ2                            ０〜２．５
ΣＴｉＯ2+ＺｒＯ2                  ３．０〜６．０
Ｐ2Ｏ5                            ０〜８．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０  ｐｐｍ
Ｆ                                  ０〜０．６
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明のガラスセラミックは、次の特性を有する：
・＜１３００℃の作用点(working point)ＶAを有する低粘度、プレス成形により成形するために好適である
・作用点ＶAを越えて最大で５０℃の上限失透温度である良好な失透安定性
・研磨することなくガラスセラミックの表面粗度Ｒａ＜５０ｎｍ、好ましくは＜２０ｎｍ
・室温と３００℃との温度範囲におけるガラスセラミック熱膨張＜１．２×１０-6／Ｋ
・近赤外領域、１０５０ｎｍにおけるガラスセラミックの部分の高透過率、４ｍｍの厚みに対し、＞８５％
プレス成形またはブローにより成形するために、ガラスは低作用点ＶA＜１３００℃を有すべきである。その結果、フィーダー領域、出口、プレス成形装置の熱負荷が減少するので、耐用年数が増加する。同様に、低粘性は、溶融終点におけるガラスの溶融および得られたガラスのブロー（成形）特性に有益な効果を与える。
【００１３】
フィーダーにおけるドロップ（滴）の成形および製造中に溶融ガラスの好ましくない失透を避けるため、溶融ガラスの上限失透点は、最大で作用点（ＶA）を越えて５０℃であるべきである。溶融ガラスの上限失透点は、最も高い温度であり、その温度で第１の結晶が成形材料と出会うこととなる。この温度間隔で、経験から、オリフィスリングまたはフィーダーにおいて結晶の臨界形成をまだ避けることが示される、というのは、ドロップ熟成中のガラス温度は十分にＶAより高いからである。上限失透温度がＶA以下の場合に有利である。
【００１４】
プレス成形中に得られたガラス質成形体の低表面粗度は、結晶中に許容できない範囲に悪化されるべきではない。特に、大きな平均クリスタリットサイズを作る場合に、ガラスセラミックの表面粗度が上昇するかもしれない。ミラー被覆の適用後、表面粗度が実質的に維持され、光の部分散乱に影響を与える。この光散乱は、光効率について反対の影響を与える。表面粗度の目的は、ガラスセラミックのＲａ値が＜５０ｎｍ、好ましくは＜２０ｎｍとすることにある。このことは、一般的に、被覆前に基質材料(substrate material)の高価な研磨の必要性を除くという効率をもたらす。
【００１５】
熱負荷に耐性を有するように、極端に高い要求をミラー基質材料の能力に負わせる適用のために、ガラスセラミックの熱膨張は、室温から３００℃の温度範囲において、１．２×１０-6／Ｋ未満であるべきである。これは、温度勾配に耐する高い能力となる、というのは、ミラー基質材料の温度差は臨界的、熱誘導ストレスをもたらすことができないからである。特に、ガラスセラミック中の欠陥またはミラー被覆物と基質材料との間の微小クラックは、ともに避けることはできないが、装置がスイッチのオンオフの間、または温度差によって生じたストレスのために使用中に成長させることができない。
【００１６】
特に、冷光レフレクターとして使用するために、極端に高い放射力を含む適用において、かかる材料は近赤外領域において高い透過率を持たなければならず、そのため、許容されない範囲まで加熱することなく、ＩＲ放射線を後方に透過させる。本発明の組成物は、１０５０ｎｍにおいて、４ｍｍの厚みで＞８５％のＩＲ透過率をもたらす。最も強力な光源の最大放射はこの波長上にある。あいにく、Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2タイプのガラスおよびガラスセラミックにおいて、この波長で二価イオンＦｅ2+に基づく吸収バンドもある。したがって、この臨界領域において吸収を減少させるために、極めて純粋な混合した原材料、すなわち、低レベル鉄を選択する必要がある。カレットの調製および全プロセスは、鉄によって生じる混入を低レベルに保たなければならない。双方の場合に、これは支出を増加させるので、経済的に不利である。混合のため、原料として硝酸塩を用いて酸化溶融マネージメントすることにより、少量だけ、有害なＦｅ2+を酸化してＦｅ3+を形成させる。本発明の組成物は、経済的に許容されるＦｅ2Ｏ3量が１３０ｐｐｍまでで、１０５０ｎｍにおいて、＞８５％の良好なＩＲ透過率をもたらす。
【００１７】
本発明の、ベータ石英および／またはキータイト固溶体を含むガラスセラミックの組成物は、全組成に基づいて、質量％で、次の成分を含んでいる：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．０〜５．５
Ｎａ2Ｏ                            ０〜２．５
Ｋ2Ｏ                              ０〜２．０
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜３．０
ΣＭｇＯ＋ＺｎＯ                    ＜０．３
ＳｒＯ                              ０〜２．０
ＢａＯ                              ０〜３．５
Ｂ2Ｏ3                            １．０〜４．０
Ａｌ2Ｏ3                          １９．０〜２７．０
ＳｉＯ2                            ５５．０〜６６．０
ＴｉＯ2                            １．０〜５．５
ＺｒＯ2                            ０〜２．５
ΣＴｉＯ2＋ＺｒＯ2                ３．０〜６．０
Ｐ2Ｏ5                            ０〜８．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０ ｐｐｍ
Ｆ                                  ０〜０．６（Ｏの代用として）
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【００１８】
酸化物Ｌｉ2Ｏ、Ａｌ2Ｏ3およびＳｉＯ2は、ベータ石英および／またはキータイト固溶体相を含むガラスセラミックの必要な成分である。ＭｇＯ、ＺｎＯおよびＰ2Ｏ5は、さらにまた成分として結晶相に組み込んでもよい。５．５質量％を越えるＬｉ2Ｏは、結晶成長速度を増加させ、失透安定性を危険にさらす。ＭｇＯ含量は、Ｆｅ2Ｏ3痕跡濃度と組合わせて退色を増大させるために制限される。Ｚｎ、それは結晶化学用語においてＭｇと関係するが、この理由のため同様に制限される。ＭｇＯとＺｎＯとの合計は、０．３質量％未満とすべきである。Ｐ2Ｏ5含量は、最大で８質量％に制限される。レベルが高くなると、ガラスセラミックの化学安定性が著しく減少する。これは、ガラスセラミック基質材料は通常ミラー被覆材で被覆される前は化学的に清浄であるので、表面汚染物、特に有機性のものを除去するために、不利である。ガラスセラミックの化学的安定性が貧弱な場合、ガラスセラミック表面は攻撃を受け、その結果、表面粗度が悪化し、光効率が減少する。Ａｌ2Ｏ3含量は、１９〜２７質量％の範囲であるべきである。Ａｌ2Ｏ3含量を２７質量％以下として、溶融ガラスの高粘度化およびムライトを形成する溶融ガラスの好ましくない失透を避ける。ＳｉＯ2量は最大で６６質量％に制限される、というのは、この成分はガラスの粘度を増大させ、プレス成形で成形するために有利な、溶融ガラスの相対的に低作用点ＶAを損ねるからである。アルカリ金属酸化物Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、およびアルカリ土類金属酸化物ＳｒＯ、ＢａＯを添加すると、製造中のガラスの溶融特性と失透特性を改善する。所定の低作用点ＶA＜１３００℃を達成するため、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏの合計は少なくとも０．５質量％にすべきである。Ｎａ2ＯとＫ2Ｏの使用は、ガラスセラミックにおいて、低表面粗度に有利なガラス質表面層を作るために必要である。Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＢ2Ｏ3のレベルがリミットよりも高いと、熱膨張の許容できない悪化の原因となることを示した。これは、これらの成分がガラスセラミックの残留ガラス相中に実質的に留まることによって説明できる。残余のガラス形成剤は、そのレベルが高くなると、結晶化挙動を損ねるであろう。ＴｉＯ2とＺｒＯ2は、核形成剤として重要である。核形成剤ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2の合計は、３．０〜６．０質量％の範囲であるべきである。最小レベルの３質量％は、高光透過およびＩＲ透過に必要な高核密度およびそれによる小クリスタリットサイズを達成するために必要である。小クリスタリットサイズは、研磨することなく、Ｒａ＜５０ｎｍ、好ましくは＜２０ｎｍの、ガラスセラミックの低表面粗度を達成するためにも必要である。核形成剤の量は６．０質量％を越えるべきではない、というのは、プレス成形による成形中に溶融ガラスの失透安定性が悪化するからである。組成物は、Ｏの代わりとしてＦを０．６質量％まで含んでいてもよい。フッ素を添加すると、溶融ガラスの粘度を減少させるために適当であることが証明され、また、ガラスセラミックの強度を増加させるが、０．６質量％の含量でさえ、温度／時間耐荷力(load-bearing capacity)の悪化を導く。同様に、ガラスセラミック表面において、変化の結果としてスポーリングを導くであろう。
【００１９】
ガラス溶融物は、清澄剤を用いて精錬され、その清澄剤としては、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、塩化物化合物などのこのガラス系に一般的なものを、０．５〜２質量％の通常の量で用いる。
【００２０】
混合用に選択された原料および溶融中のプロセス条件に依存するが、本発明のガラスの水分量は、通常、０．０１〜０．０６モル／リットルの範囲である。
【００２１】
好適な実施態様において、ガラスは、主結晶相としてベータ石英固溶体を含むガラスセラミックに転化される。ガラスセラミックは、全組成に基づいて、次の組成（質量％）を含む：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．０〜５．０
Ｎａ2Ｏ                            ０〜２．０
Ｋ2Ｏ                              ０〜１．５
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜２．５
ΣＭｇＯ＋ＺｎＯ                    ＜０．３０
ＳｒＯ                              ０〜２．０
ＢａＯ                              ０〜３．５
ΣＳｒＯ＋ＢａＯ                    ＜４．０
Ｂ2Ｏ3                            １．０〜４．０
Ａｌ2Ｏ3                          １９．０〜２７．０
ＳｉＯ2                            ５５．０〜６６．０
ＴｉＯ2                            １．０〜５．５
ＺｒＯ2                            ０〜２．５
ΣＴｉＯ2＋ＺｒＯ2                ３．５〜５．５
Ｐ2Ｏ5                            ０〜７．０
ΣＢ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5                １．０〜８．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０ ｐｐｍ
Ｆ                                  ０〜０．３（Ｏの代用として）
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【００２２】
ガラスセラミックは、特に２０℃〜３００℃の温度範囲での低熱膨張＜０．５×１０-6／Ｋ、および厚み４ｍｍに対し、近赤外領域、１０５０ｎｍにおける極めて高い透過率、＞８７％、好ましくは＞８９％によって特徴付けられる。Ｆｅ2Ｏ3含量は、混合用の低鉄原料を選択することによって１３０ｐｐｍより少なくすべきである。アルカリ金属、アルカリ土類金属、フッ素の含量、および核形成剤ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2の合計は制限される。組成物は、Ｂ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5の全量で１〜８質量％含むべきである。これらの条件は、結晶化して、ベータ石英固溶体を含み、小クリスタリットサイズおよび所定の特性を有するガラスセラミックを形成することを導く。
【００２３】
製造条件を選択することによって、結晶相としてほぼ独占的にベータ石英固溶体、または、キータイト固溶体をほぼ独占的に含むガラスセラミックを提供する本発明の好適な目的を達成するために、ベータ石英固溶体相の結晶化温度およびキータイト固溶体への転移温度は、少なくとも４０℃、好ましくは８０℃以上離れているべきである。この目的は、減少、特に残余のガラス形成剤、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ｂ2Ｏ3の場合に達成される。組成物は、添加フッ素を含むべきではない。この好適な実施態様によれば、ガラスセラミックは、全組成に基づいて、次の組成（質量％）を含む：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．０〜５．０
Ｎａ2Ｏ                            ０〜２．０
Ｋ2Ｏ                              ０〜１．５
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜２．０
ΣＭｇＯ＋ＺｎＯ                    ＜０．３０
ＳｒＯ                              ０〜２．０
ＢａＯ                              ０〜３．５
ΣＳｒＯ＋ＢａＯ                    ＜３．０
Ｂ2Ｏ3                            １．０〜３．０
Ａｌ2Ｏ3                          ２１．０〜２７．０
ＳｉＯ2                            ５５．０〜６６．０
ＴｉＯ2                            １．５〜５．５
ＺｒＯ2                            ０〜２．５
ΣＴｉＯ2＋ＺｒＯ2                ３．５〜５．０
Ｐ2Ｏ5                            ０〜７．０
ΣＢ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5                １．０〜８．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０  ｐｐｍ
Ｆ                                  技術的に含まれない
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【００２４】
プレス成形で成形するために特に有利なガラスセラミックは、低作用点ＶA＜１２７０℃、および作用点ＶAに近いかまたはそれよりも低い上限失透温度を有する。失透について臨界的である結晶相は、主にムライト（アルミニウムシリケート）、バデレアイト（ＺｒＯ2）である。この種の改良された失透性能について、この臨界結晶相の成分は、アルカリ金属Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、およびアルカリ土類金属ＳｒＯ、ＢａＯのレベルの増加は失透挙動に役立つ影響を与えるけれども、特にＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2は制限する必要がある。Ｐ2Ｏ5の含量は少なくとも１質量％であるべきである、というのは、Ｐ2Ｏ5はムライトの失透を妨害するからである。組成物は添加フッ素を含んでいない。これらの特性を有する好適なガラスセラミックは、全組成に基づいて次の組成（質量％）を有する：
Ｌｉ2Ｏ                            ３．５〜５．０
Ｎａ2Ｏ                            ０〜２．０
Ｋ2Ｏ                              ０〜１．５
ΣＮａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ                  ０．５〜２．５
ΣＭｇＯ＋ＺｎＯ                    ＜０．３０
ＳｒＯ                              ０〜２．０
ＢａＯ                              ０〜３．５
ΣＳｒＯ＋ＢａＯ                    １．０〜４．０
Ｂ2Ｏ3 １．０〜４．０
Ａｌ2Ｏ3                          ２０〜２５
ＳｉＯ2                            ５５〜６３
ＴｉＯ2                            １．５〜５．５
ＺｒＯ2                            ０〜２．０
ΣＴｉＯ2＋ＺｒＯ2                ３．５〜５．０
Ｐ2Ｏ5                            １．０〜８．０
ΣＢ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5                ２．０〜８．０
Ｆｅ2Ｏ3                          ＜１３０  ｐｐｍ
Ｆ                                  技術的に含まれない
割り与えられた場合に、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、硫酸塩、および塩化物化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一つの清澄剤を含む。
【００２５】
ガラスからガラスセラミックへの転化後、研磨なしで、所定の低表面粗度、Ｒａ＜５０ｎｍ、好ましくは＜２０ｎｍを達成するために、ガラスセラミックの平均クリスタリットサイズは＜３００ｎｍ、好ましくは＜８０ｎｍであるべきである。この場合、ベータ石英固溶体を含むガラスセラミックでは、一般に小さなクリスタリットサイズを達成できる、というのは、キータイト固溶体への転移が微小構造をより粗くしてしまうからである。クリスタリットが基質材料表面において直接的であれば、表面粗度に対し決定的である。
【００２６】
本発明の組成物がアルカリ金属酸化物Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏを含む結果、これらの成分に富むガラス質表面層がセラミック転化（ceramicization）中に、１．５μｍまでの厚みで形成される。同様に、アルカリ土類金属酸化物ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｂ2Ｏ3を添加すると、ガラス質表層の形成を補助する。厚みが大きくなることを避けるべきである、というのは、熱膨張の差で生じる表面クラックのリスクがあるからである。ガラス質表面層は、原料ガラスと比較して、ガラスセラミックの表面粗度を１０ｎｍ未満、一般的に５ｎｍ未満に増加させる効果を有する。その後、基質材料の表面粗度は、プレス成形中に用いられたプロセス条件で得られた表面粗度によって主に決定される。
【００２７】
ある適用例において、可視領域のガラスセラミックを着色することが好ましい。冷光レフレクターとして使用するため、９００〜１８００ｎｍの近赤外領域における高透過率の利点は維持されるべきである。同様に、プレス成形されたガラス質成形体の信頼できる特性評価を達成するために、よい光透過率も維持されるべきである。０．１〜０．５質量％の着色酸化物Ｖ2Ｏ5、は、ガラス質状態における良好な光透過率と、可視領域におけるガラスセラミックの着色と、近赤外領域におけるガラスセラミックの高透過率との組合わせに特に優れていることを示した。Ｖ2Ｏ5を添加すると、ガラスが若干緑色化し、近赤外において僅かな吸収があるけれども、セラミック転化中に強い着色が起こる。
【００２８】
熱負荷に対するガラスセラミックの最大能力は、圧縮(compaction)によって決定される。圧縮は、高い熱負荷にさらされるガラスセラミック基質材料の領域は、低熱負荷にさらされる領域よりも広い範囲に収縮(contract)することを意味し、圧縮値は、圧縮された値である。この効果は、ガラスセラミックに関する温度／時間負荷の関数として、微小構造の変化の結果として生ずる。異なる温度／時間負荷、関係する圧縮は、特に相対的に大きな完成品またはアイテムの場合にその存在を感じさせる。圧縮が大きいと、高い熱負荷にさらされる物品の領域と、低い熱負荷に対するものとの間に許容できない高い圧縮ストレスを導く。極端な環境において、これは、高温で長期間使用した後に割れを導くであろう。圧縮値は、長さが１００ｍｍの試料に基づいて、６００℃で２００時間の熟成後、６０μｍ未満であるべきである、というのは、これは極端に高い熱負荷を含む適用においてさえ満足するからである。
【００２９】
冷光レフレクターとしての使用にとって、厚みが４ｍｍに対しＩＲ透過率が＞８５％、好ましくは＞８７％の場合に、０．５０ｎｍの波長ばかりでなく９００〜１８００ｎｍの全範囲においても有利である。この広い波長範囲は、大部分の光の強いタイプのランプおよびスペクトル分布の放射最大に対応する。これは、ガラスセラミック基質材料を使用の際に多面的に使用できるようにする。
【００３０】
温度勾配および熱負荷に対する能力に課せられる要求がそんなに極端でない適用にとって、セラミック転化のプロセスステップを除くため、基質材料をガラス質として残すことが経済的に有利である。要求を満たすため、ガラスは、室温〜３００℃の温度範囲において、＜５×１０-6／Ｋ、好ましくは＜４．５×１０-6／Ｋの熱膨張および、６００℃を越える転移温度Ｔｇを有すべきである。ＩＲ透過率は、ガラスセラミックから公知である９００〜１８００ｎｍの波長範囲において、４ｍｍの厚みに対し、＞８５％、好ましくは＞８７％の高レベルに達するべきである。
【００３１】
プレス成形体の信頼できる定性検査を許容するため、ガラスの光透過率は、４ｍｍの厚みに対し、少なくとも８５％であるべきである。この高い光透過率は、安全性に関連しまたは良好な光効率などの特定製品特性を損ねる欠陥を有する成形体を分類できる。これは経済的に有利である、というのは、次のプロセスが増加し、被覆した基質材料を含めて、最終検査が追加費用の原因となるからである。ガラスセラミックの光透過率は、セラミック転化中に生じるキズを同定し、さらなるプロセスステップの前に物品を分類するため、４ｍｍの厚みで測定して、少なくとも５０％、好ましくは８５％を越えるべきである。高い光透過率のため、吸収効果および分散効果を減少する必要がある。吸収は、低い鉄含有とＴｉＯ2、ＭｇＯ、ＺｎＯ含量の減少を組合わせることにより、実質的に減少する。光分散を減少させるため、クリスタリットサイズを可視光線の波長より顕著に低下させ、結晶相と残留ガラス相との間の屈折率の差を低レベルに維持する必要がある。
【００３２】
好適な実施態様において、ガラスセラミック基質材料は、レフレクター、すなわち、1以上のパラボラに似ている内面形状の形態である。光源がパラボラの焦点におけるスポット源として実質的に配列されると、内部形状は、反射光の平行配向性を達成するため、パラボラとしてデザインされる。デザインの理由から、光源がリニアーな場合に、内部形状が1以上のパラボラに似ていることが技術的にしばしば有利である。
【００３３】
冷光レフレクターを生産するために、ガラスセラミック基質材料は、ＩＲ透過ミラー被覆物で被覆される。アルミニウムなどの材料は、この目的には相対的に不適格である、というのは、それらは近ＩＲ領域で反射するからである。層の数、配列、厚み、および層の屈折率で最適化された種々の酸化物層の層配列は、光源の熱放射線をこれらの層配列で可視光線領域において良好に反射させるが、赤外において透過させる。ＳｉＯ2、ＴｉＯ2などの酸化物の層配列を使用することが好ましい。真空蒸着、スパッタリング、好ましくはＰＩＣＶＤ被覆が、被覆プロセスとして使用できる。
【００３４】
ベータ石英および／またはキータイト固溶体を含むガラスセラミックに転化しえる、ミラー被覆物で被覆されるガラス化基質材料の、本発明の製造方法において、成形はフィーダーを介して起こり、そこで所定量のドロップがプレス成形ダイに加えられる。平滑表面のラムは、基質材料の所定パラボラ外形を型押しするために使用される。ガラス化基質材料は、その後、プレス成形ダイから除かれ、冷却炉で熱ストレスレリーフを受ける。欠陥成形体を分類する定性検査を、その後、受ける。
【００３５】
本発明のガラスは、被覆用のガラス化基質材料として、ベータ石英固溶体またはキータイト固溶体を含むガラスセラミックへ転化された後、主結晶相として使用され、温度勾配や熱負荷に対して高い能力を有するガラスセラミック基質材料である。
【００３６】
プレス成形されたガラス化基質材料から主結晶相としてベータ石英固溶体を含むガラスセラミックへの転化の方法において、ガラスは、高い核密度を得るために６３０℃〜７５０℃の温度で１５分以上核とされ、その後、結晶化は７００℃〜８５０℃の温度で少なくとも３０分間行われる。このプロセスのため、ガラスセラミックの平均クリスタリットサイズは８０ｎｍ未満であり、２０℃〜３００℃の温度範囲において、熱膨張は０．５×１０-6／Ｋ未満である。
【００３７】
プレス成形されたガラス化基質材料から主結晶相としてキータイト固溶体を含むガラスセラミックへ転化させるために、転化は７８０℃〜１０００℃の温度で生じ、この場合平均クリスタリットサイズは３００ｎｍ未満であり、２０℃〜３００℃の温度範囲における熱膨張は１．２×１０-6／Ｋ未満である。主結晶相としてキータイト固溶体を備えるガラスセラミック基質材料は高い熱膨張を有し、そのため、主結晶相としてベータ石英固溶体を含むガラスセラミック基質材料と比較して、温度勾配に対する能力が減少する。平均クリスタリットサイズが大きいため、光透過率も低く、クリスタリットにおいて分散により生じた僅かな半透明な外観が観察される。主結晶相としてキータイト固溶体を含むガラスセラミック基質材料は、一般に、改良された温度／時間に関する耐荷力（圧縮）を有する。それらは、高温使用を含む適用に推薦できる。
【００３８】
ガラス化基質材料と、主結晶相としてベータ石英とキータイトを含むガラスセラミックが同じ組成から製造できると経済的に利点がある、というのは、それらは異なる特性プロファイルおよび製造コストを有するからである。
【００３９】
本発明のガラスセラミック基質材料は、レフレクター、特に冷光レフレクター(cold-light reflector)として、ミラー被覆物用の基質材料として、照明エンジニアリングにおける、特に、高発光力のため、温度差と組合わせた高放射熱に耐性が必要である場合に、補助プレートとして、用いることが好ましい。ガラス化基質材料は、熱負荷および温度勾配に対する能力に関する要求が減少した経済的に好適な解答を提供するけれども、ガラスセラミック基質材料はこれらの特性に関する極端に高い要求を満足する。これらの基質材料は高い赤外透過率を有するので、冷光レフレクター類として使用できる。
【００４０】
【実施例】
本発明について、実施例および図面を参照してさらに説明する。
【００４１】
原料ガラスを溶融し、ガラス産業で一般的な原料を用いて１６２０℃で精錬した。焼結溶融シリカからつくられたルツボで溶融した後、溶融物を白金ルツボに注ぎ、１５８０℃で３０分間撹拌することによって均質化した。１６４０℃で２時間放置した後、１４０×１００×３０ｍｍの大きさでキャスティングを行い、６５０℃から初めて冷却炉で室温まで冷却して、熱誘導ストレスを減少した。試験片、たとえば熱膨張係数を測定するための棒、透過率を測定するための小プレートは、これらのキャスティングから製造した。これらのガラス質試料は、ガラスセラミックに関して実施されるテストに求められる大きさであり、核形成および結晶化条件で使用されるガラスセラミックに転化した。
【００４２】
表１は本発明のガラス組成を示す。実施例６，７，８，９は比較実施例であって、従来技術を越える本発明の利点を示す。
【００４３】
使用された原料由来の鉄含量はｐｐｍで与えられる。Ｈ2Ｏ含量は赤外線測定で決定され、モル／リットルで与えられる。
【００４４】
転移温度Ｔｇ、作用点ＶA、２０℃〜３００℃の温度範囲における熱膨張、密度、ＥＮ４１０による可視光線領域における光透過度τ、および厚さ４ｍｍ、波長１０５０および１８００ｎｍにおける赤外透過率は、溶融ガラスで測定した。
【００４５】
失透挙動を測定するために、ガラスを白金ルツボで溶融した。白金ルツボは、その後、作用点領域の種々の温度で５時間保持した。ガラス溶融物の最初の結晶が白金ルツボと接触した最も高い温度が、失透温度上限（ＵＤＬ＝上限失透限度）を決定する。失透中に生じる臨界結晶相は、表にリストされる。
【００４６】
ＤＴＡ測定は、ベータ石英固溶体を含むガラスセラミックの転移用およびキータイト固溶体を含むガラスセラミックの転移温度用のガラス結晶化温度を示す。均一、一定加熱速度である５Ｋ／ｍｉｎが用いられた。ベータ固溶体ガラスセラミックの結晶化用およびキータイト固溶体を含むガラスセラミックの転移用の温度が表にリストされる。
【００４７】
表１から明らかなように、本発明のガラスＮｏ．１〜５は、プレス成形で成形され、ガラス質のミラー被覆物を用いる被覆用の基質材料として用いられるガラスに課せられる要求を満たした。
【００４８】
作用点ＶAは、１３００℃より低く、ある場合には１２７０℃よりも低かった。上限失透温度ＵＤＬは、ガラスの作用点ＶAよりも最大で５０℃高く、ある場合にはそれよりも低かった。
【００４９】
室温から３００℃の温度範囲におけるガラスの熱膨張は５×１０-6／Ｋ未満であった。転移温度Ｔｇは６００℃以上であった。ガラスの光透過率は、これは特性評価に特に重要であるが、厚み４ｍｍに対し、８５％を越えた。
【００５０】
ガラス質形態のミラー基質材料としての使用に対し、ガラスは、１０５０ｎｍにおいて、厚み４ｍｍで、＞８５％の高いＩＲ透過率を有する。これらの良好な透過率は、同様に、９００〜１８００ｎｍの波長範囲においても得られた。
【００５１】
ベータ石英固溶体の結晶化およびキータイト固溶体への転移に対するＤＴＡピーク温度は、少なくとも４０℃離れていた。
【００５２】
それらの組成のため、比較実施例８と９は極めて低い粘度を有する。転移温度Ｔｇは低い。
【００５３】
比較実施例８において、失透安定性は要求を満たさない。
【００５４】
【表１】
0004342140.tif 000002
【００５５】
【表２】
0004342140.tif 000003
【００５６】
表３，４は、表１、２のガラスＮｏ．に対応するセラミシゼーション用の原料ガラスをリストする。実施例１６、１７および１８は比較ガラスセラミックである。
【００５７】
セラミック転化、すなわち、ガラスのガラスセラミックへの転化は、表３，４にリストされた核形成および結晶化の条件下で生じた。ガラスは、室温から５００℃に、５Ｋ／ｍｉｎの速度で加熱した。リストされた核形成温度への加熱は、４Ｋ／ｍｉｎで起こった。核形成温度および核形成時間は表３，４に示される。核形成温度から結晶化温度への増加は、加熱速度１．５Ｋ／ｍｉｎで実施した。与えられた結晶化温度およびリストされた期間で、ガラスは結晶化した。冷却は５００℃まで、冷却速度約４Ｋ／ｍｉｎで、その後、炉の電気をオフとして行った。
【００５８】
実施例１２および１５は、主結晶相としてキータイト固溶体を有する白色／半透明なガラスセラミックへ転化したガラスセラミックを示す。本発明の残りの実施例は、主結晶相としてベータ石英固溶体を有する。
【００５９】
結晶相の割合、主結晶相の平均クリスタリットサイズは、Ｘ線回折により決定された。
【００６０】
本発明の実施例は、２０℃〜３００℃の温度範囲において測定された熱膨張に対する所定の低い値を有する。
【００６１】
【表３】
0004342140.tif 000004
【００６２】
【表４】
0004342140.tif 000005
【００６３】
図面は図1と図２とを含む。図1は波長を関数としてガラスセラミックの透過率曲線を示す。
【００６４】
図1はガラス番号２、およびそれから得られた主結晶相としてベータ石英固溶体またはキータイト固溶体を含むガラスセラミック（実施例１１と１２）の透過率曲線を示す。高透過率は、９００〜１８００ｎｍの間で達成された。それに対し、比較ガラスセラミック、実施例１７は、セラミサイズ状態で、高い鉄含量に起因する約１０５０ｎｍおよび１８００ｎｍにおいてブロードな吸収バンドを有する。本発明の実施例は、所定の高いＩＲ透過率を達成する。本発明のガラスセラミックの光透過率は、特性検査に重要な高い値を有する。
【００６５】
図２は本発明のガラスセラミックのＬｉ、Ｎａ、ＫおよびＢａのＳＩＭＳ深さプロファイルを示す。
【００６６】
ガラスセラミックの表面粗度を測定するために、ほぼ同じサイズの複数の試料であって、表面が２×２ｃｍ2、厚みが約０．５ｃｍのものは、ガラスのキャスティング中に形成されるように、火造り表面のキャスティングから製造される。一つの試料は比較目的のためガラス質に留まり、その一方、その他はリストされたセラミック転化条件でガラスセラミックに転化される。試料の表面粗度Ｒａは、サイド長さ５０μｍのスクエアー測定領域において、原子力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定する。火造り表面は上記のような方法で測定に使用される、というのは、これは表面がプレス成形中に用いられたプロセス条件で影響受けないことを意味するからである。低粗度は、ガラスセラミックのガラス質表面層の存在に起因する。比較ガラスセラミック実施例１８において、スポーリングが表層に生じたので、表面粗度の測定は不可能であった。
【００６７】
図２は、実施例１３の横区分について測定されたＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｂａの元素濃度に関する深度プロファイルを示す。アルカリ金属およびアルカリ土類金属元素の濃度プロファイルから、実施例において約４００ｎｍの厚みを有するガラス質表面層は、良好な表面粗度を得る観点からは好適であり、形成されたことがわかる。Ｌｉ深さプロファイルは、好適に組み込まれる結晶の存在に相関がある。
【００６８】
圧縮値は、６００℃、２００時間の熟成中に、１００ｍｍ長さの棒の長さ変化として測定される。この温度において、この温度は通常使用される条件よりも高いが、ガラスセラミックの温度／時間耐荷力は促進時間テストで改造される。比較ガラスセラミック実施例１８は高い値を有するけれども、所定の低い圧縮値が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】は、波長を関数としてガラスセラミックの透過率曲線を示すグラフである。
【図２】は、本発明のガラスセラミックのＬｉ、Ｎａ、ＫおよびＢａのＳＩＭＳの深さプロファイルを示すグラフである。
【図１】
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【図２】
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