(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１及び第２の照明ユニットから出射される光で感光基板上に露光パターンを形成する周辺露光装置において、
前記第１及び第２の照明ユニットを移動可能に保持する保持ユニットと、
前記感光基板と前記保持ユニットとを相対的に第１の方向に移動する第１駆動部と、
前記保持ユニットに対して前記第１及び第２の照明ユニットの各々を前記第１の方向とは異なる第２の方向に沿って移動する第２駆動部と、
前記第１駆動部及び前記第２駆動部の駆動を制御する駆動制御部と、
を備え、
前記駆動制御部は、前記第１の方向に伸びた少なくとも４本の露光パターンであって、前記４本の露光パターンのうちの中央部の２本の露光パターンの間隔が前記第１の照明ユニットと前記第２の照明ユニットとの間の最狭間隔よりも狭く定められた４本の露光パターンを形成するために、
前記第１及び第２の照明ユニットの位置を、前記４本の露光パターンのうちの一方端に位置する露光パターンの位置と前記中央部の２本の露光パターンのうちの一方の露光パターンの位置とに、それぞれ対応させるように前記第２駆動部を制御すると共に、この対応状態において前記感光基板と前記保持ユニットとを相対的に前記第１の方向に移動するように前記第１駆動部を制御し、
前記第１及び第２の照明ユニットの位置を、前記中央部の２本の露光パターンのうちの他方の露光パターンの位置と前記４本の露光パターンのうちの他方端に位置する露光パターンの位置とに、それぞれ対応させるように前記第２駆動部を制御すると共に、この対応状態において前記感光基板と前記保持ユニットとを相対的に前記第１の方向に移動するように前記第１駆動部を制御することを特徴とする周辺露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の周辺露光装置において、
前記駆動制御部は、前記第１の照明ユニットの位置を前記一方端に位置する露光パターンの位置に対応させると共に、前記第２の照明ユニットの位置を、前記中央部の２本の露光パターンのうち、前記一方端から遠い方の露光パターンの位置に対応させるように前記第２駆動部を制御し、更に前記第２の照明ユニットの位置を前記他方端に位置する露光パターンの位置に対応させると共に、前記第１の照明ユニットの位置を、前記中央部の２本の露光パターンのうち、前記他方端から遠い方の露光パターンの位置に対応させるように前記第２駆動部を制御することを特徴とする周辺露光装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の周辺露光装置において、
前記第１及び第２の照明ユニットの少なくとも一方の照明ユニットと前記感光基板との間に配置され、前記一方の照明ユニットから出射される光を遮光する遮光手段を更に備え、
前記遮光手段は、前記一方の照明ユニットから出射される光を遮光する遮光位置と前記一方の照明ユニットから出射される光を遮光しない非遮光位置との間で移動可能であると共に、前記第1の方向にも移動可能であることを特徴とする周辺露光装置。
【請求項４】
請求項３に記載の周辺露光装置において、 前記遮光手段は、前記遮光位置において前記一方の照明ユニットから出射される光を遮光した後に、前記非遮光位置に移動し、その後に、前記第１駆動部による前記感光基板及び前記保持ユニットの相対的移動に伴う前記一方の照明ユニットの相対移動の速度よりも高速で、前記非遮光位置において前記第1の方向に移動し、その後に、再度前記遮光位置に移動して前記一方の照明ユニットから出射される光を遮光することを特徴とする周辺露光装置。
【請求項５】
請求項３に記載の周辺露光装置において、  前記遮光手段は、前記第１駆動部による前記感光基板及び前記保持ユニットの相対的移動に伴う前記一方の照明ユニットの相対移動の速度と同一の速度で、前記遮光位置において前記第1の方向に移動することを特徴とする周辺露光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか1項に記載の周辺露光装置において、
前記第２駆動部は、前記第1及び第２の照明ユニットの少なくとも一方を前記第２の方向に関して前記感光基板のほぼ中央部を露光可能な位置に位置決め可能であることを特徴とする周辺露光装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の周辺露光装置において、
前記第１及び第２の照明ユニットの各々から出射される光の強度を検出する光量検出手段と、
前記光量検出手段で検出された前記第１及び第２の照明ユニットの光の強度のうち低い方の強度に基づいて、前記感光基板と前記保持ユニットとの相対移動の速度を設定する移動速度設定手段とを更に備えることを特徴とする周辺露光装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の周辺露光装置において、
前記第１及び第２の照明ユニットのそれぞれから出射されるビームのサイズを互いに独立して変更するビームサイズ変更手段を更に備えることを特徴とする周辺露光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の周辺露光装置において、
前記感光基板を、前記感光基板の感光面と略直交する回転軸まわりに回転する回転駆動部を更に備え、
前記第２駆動部による前記第１及び第２の照明ユニット間の距離の変更動作は、前記回転駆動部による前記感光基板の回転駆動と並行して行われることを特徴とする周辺露光装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の周辺露光装置において、
前記感光基板を、前記感光基板の感光面と略直交する回転軸まわりに回転させる回転駆動部を更に備え、
前記ビームサイズ変更手段による前記ビームのサイズの変更動作は、前記回転駆動部による前記感光基板の回転駆動と並行して行われることを特徴とする周辺露光装置。
【請求項１１】
第１及び第２の照明ユニットと、前記第１及び第２の照明ユニットを移動可能に保持する保持ユニットと、感光基板と前記保持ユニットとを相対的に第１の方向に移動する第１駆動部と、前記保持ユニットに対して前記第１及び第２の照明ユニットの各々を前記第１の方向とは異なる第２の方向に沿って移動する第２駆動部とを備える周辺露光装置の露光方法において、
第１の方向に伸びた少なくとも４本の露光パターンであって、前記４本の露光パターンのうちの中央部の２本の露光パターンの間隔が前記第１の照明ユニットと前記第２の照明ユニットとの間の最狭間隔よりも狭く定められた４本の露光パターンを前記感光基板に形成するために、前記第１の照明ユニットと第２の照明ユニットとの位置が前記４本の露光パターンのうちの一方端に位置する露光パターンの位置と前記中央部の２本の露光パターンのうちの一方の露光パターンの位置とにそれぞれ対応するように、前記第２駆動部によって前記第１及び第２の照明ユニットを前記第２の方向に移動する第1のステップと、
その後に、前記第１駆動部によって前記感光基板と前記保持ユニットとを相対的に前記第１の方向に移動して、前記第１及び第２の照明ユニットからの出射光によって前記一方端に位置する露光パターン及び前記一方の露光パターンをそれぞれ形成する第２のステップと、
前記第１の照明ユニットと第２の照明ユニットとの位置が前記中央部の２本の露光パターンのうちの他方の露光パターンの位置と前記４本の露光パターンのうちの他方端に位置する露光パターンの位置とにそれぞれ対応するように、前記第２駆動部によって前記第１及び第２の照明ユニットを前記第２の方向に移動する第３のステップと、
その後に、前記第１駆動部によって前記感光基板と前記保持ユニットとを相対的に前記第１の方向に移動して、前記第１及び第２の照明ユニットからの出射光によって、前記他方の露光パターン及び前記他方端に位置する露光パターンをそれぞれ形成する第4のステップと、
を備えることを特徴とする露光方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光方法において、
前記第1のステップは、前記第１の照明ユニットの位置を前記一方端に位置する露光パターンの位置に対応させると共に、前記第２の照明ユニットの位置を、前記中央部の２本の露光パターンのうち、前記一方端から遠い方の露光パターンの位置に対応させるように、前記第２駆動部によって前記第１及び第２の照明ユニットを前記第２の方向に移動し、
前記第３のステップは、前記第２の照明ユニットの位置を前記他方端に位置する露光パターンの位置に対応させると共に、前記第１の照明ユニットの位置を、前記中央部の２本の露光パターンのうち、前記他方端から遠い方の露光パターンの位置に対応させるように、前記第２駆動部によって前記第１及び第２の照明ユニットを前記第２の方向に移動することを特徴とする露光方法。
【請求項１３】
第１の方向に伸びるとともに該第１の方向と異なる第２の方向に相互に間隔を隔てる４本の露光パターンを、第１及び第２の照明ユニットから出射される光によって感光基板上に形成する露光方法において、
前記４本の露光パターンのうちの２本の露光パターンの間隔が前記第１の照明ユニットと前記第２の照明ユニットとの間の前記第２の方向の最狭間隔よりも狭く定められた該４本の露光パターンを形成するために、
前記第１及び第２の照明ユニットと前記感光基板とを前記第１の方向に相対移動させて、前記４本の露光パターンのうちの一方端の露光パターンを前記第１の照明ユニットから出射される光によって形成するとともに、前記４本の露光パターンのうちの前記一方端から３番目の露光パターンを前記第２の照明ユニットから出射される光によって形成することと、
前記一方端の露光パターン及び前記一方端から３番目の露光パターンが形成された前記感光基板と、前記第１及び第２の照明ユニットとを前記第２の方向に相対移動させることと、
前記第１及び第２の照明ユニットと前記感光基板とを前記第１の方向に相対移動させて、前記４本の露光パターンのうちの他方端の露光パターンを前記第２の照明ユニットから出射される光によって形成するとともに、前記４本の露光パターンのうちの前記他方端から３番目の露光パターンを前記第１の照明ユニットから出射される光によって形成することと、
を含むことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は周辺露光装置に関し、特にＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマ表示パネル）などに用いられるガラスプレート等を製作する過程において、フォトレジストの塗布された基板上で回路パターン等が露光される領域以外の部分に塗布されているフォトレジストに光を照射するのに用いて好適な周辺露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネル等を製造する際の一工程であるリソグラフィ工程においては、内部に投影光学系の組み込まれている投影露光装置が用いられる。マスクに形成されているパターンの像は、この投影光学系により基板上のフォトレジスト塗布面に投影される。この基板には、上述したプロセスによってパターンが露光される部分、すなわちパターン領域と、上記パターンの露光されない領域、すなわち非パターン領域とが設定される。リソグラフィ工程においては、上記非パターン領域に光を照射する必要がある。これは、基板にポジ型レジストが塗布されていることによる。つまり、ポジレジストの未露光部分は、現像後も基板上に残る。特に、スピンコートによってフォトレジストを基板上に塗布した場合、その膜厚は基板中央部よりも周辺部の方で厚くなる。一般に、基板周辺部は非パターン領域であり、除去されずに残っているフォトレジストは膜厚が厚いほど剥がれやすいという性質を有している。このポジレジストが後の処理工程中に剥離し、細片（パーティクル）となって飛散することがある。このパーティクルは、液晶表示パネル等、露光対象の基板の歩留まりを低下させる要因となっている。また、たとえ剥離を生じなくても、ＣＶＤなどの後処理を基板に施す際に、基板周辺部等にフォトレジストが残っているとパターン領域に形成される薄膜の膜厚の不均一をもたらすこともある。
【０００３】
そこで、非パターン領域のフォトレジストに光を照射して感光させ、後に続く現像工程において不要なレジストを除去することが一般に行われている。このように、基板上の非パターン領域に光を照射するものとして、光源から出射するスポット光を走査させて基板上の非パターン領域に光を照射する装置が種々提案されている。以下、本明細書中では、基板上の非パターン領域に光を照射する装置を「周辺露光装置」と称する。
【０００４】
基板上に形成されるパターンの精細化にともない、投影露光装置には、より短波長のものが用いられるようになってきている。これにともない、基板に塗布されるフォトレジストの感光波長帯域も単波長側にシフトしている。したがって、周辺露光装置に用いられる光源もｇ線やｉ線等の単波長の光を出射するものが用いられている。
【０００５】
上述したフォトレジストに対応可能な周辺露光装置に用いられる光源としては、生産効率の向上を目的として、高輝度のもの、たとえば超高圧水銀ランプなどが用いられる。理由は、フォトレジストに対して同じドーズ量を与えようとしたときに、大光量の光源を用いればそれだけ短い露光時間で済むからである。つまり、光源から出射されるスポット光を走査させる際の速度を上げることができ、これにより短時間のうちに非パターン領域への光の照射を済ますことができるからである。
【０００６】
上述のように、基板上の露光したい部分にスポット光を照射するため、光源から出射される光を光ファイバによって光出射部に導くものが知られている。光ファイバが用いられる周辺露光装置では、超高圧水銀ランプ等の光源は固定しておき、この光源から伸びる光ファイバの先端部、すなわち光出射部を露光対象の基板の感光面に対して移動させることにより所望の露光パターンで基板を露光することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記周辺露光装置にはさらなる生産効率の向上が求められるようになってくるのにつれて、以下で説明するようなことが問題となりつつある。すなわち、スループットを向上させるためにはできるだけ多くの光を基板の感光面に導く必要があり、光ファイバを用いることによる光量の損失が無視できなくなってきた。この損失は、光ファイバの充填率の関係で生じるロスと、光ファイバ中を光が進む際に生じる減衰等とが要因となっている。特に、使用する光が短波長化するにつれて、光ファイバでの吸収が増して損失も増す。このため、スループットを向上させるためには光源の光量を増すか、光ファイバを高価な石英ガラス製のものとする必要がある。また、光ファイバの先端部が移動を繰り返すうちに光ファイバが劣化して光量伝達ロスが増す場合もある。光ファイバの劣化には、例えば光ファイバが折れたり、またはソラリゼーションを起こす場合などが挙げられる。
【０００８】
また、基板上に形成される周辺露光のパターンとしては、基板周囲を取り囲む矩形のパターンのみならず、いわゆる「日」の字、「目」の字、「田」の字状のパターン、あるいはこれらを組み合わせた形状のパターン等、複雑化する傾向にある。このような、複雑なパターンを形成する必要があることも周辺露光装置のスループット低下の一因となっている。
【０００９】
さらに、周辺露光を行おうとする領域の一部にはアライメントマークや基板の識別番号等が形成される場合がある。この部分について露光をしてしまうと重要な情報が失われてしまう。このため、周辺露光動作中にこれらアライメントマークや識別番号等の露光されている領域の部分で光の照射を一時的に中断させるため、走査動作中の光出射部の停止および動作開始をさせる必要がある。このように光出射部を停動させると、加減速に時間を要するために、周辺露光装置のスループットが低下する場合がある。
【００１０】
本発明の目的は、周辺露光装置のスループットを向上させることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
（１）請求項１に記載の周辺露光装置は、少なくとも第１及び第２の照明ユニットから出射される光で感光基板上に露光パターンを形成する周辺露光装置において、第１及び第２の照明ユニットを移動可能に保持する保持ユニットと、感光基板と保持ユニットとを相対的に第１の方向に移動する第１駆動部と、保持ユニットに対して第１及び第２の照明ユニットの各々を第１の方向とは異なる第２の方向に沿って移動する第２駆動部と、第１駆動部及び第２駆動部の駆動を制御する駆動制御部と、を備え、駆動制御部は、第１の方向に伸びた少なくとも４本の露光パターンであって、４本の露光パターンのうちの中央部の２本の露光パターンの間隔が第１の照明ユニットと第２の照明ユニットとの間の最狭間隔よりも狭く定められた４本の露光パターンを形成するために、第１及び第２の照明ユニットの位置を、４本の露光パターンのうちの一方端に位置する露光パターンの位置と中央部の２本の露光パターンのうちの一方の露光パターンの位置とに、それぞれ対応させるように第２駆動部を制御すると共に、この対応状態において感光基板と保持ユニットとを相対的に第１の方向に移動するように第１駆動部を制御し、第１及び第２の照明ユニットの位置を、中央部の２本の露光パターンのうちの他方の露光パターンの位置と４本の露光パターンのうちの他方端に位置する露光パターンの位置とに、それぞれ対応させるように第２駆動部を制御すると共に、この対応状態において感光基板と保持ユニットとを相対的に第１の方向に移動するように第１駆動部を制御することを特徴とする。
（２）請求項１１に記載の露光方法は、第１及び第２の照明ユニットと、第１及び第２の照明ユニットを移動可能に保持する保持ユニットと、感光基板と保持ユニットとを相対的に第１の方向に移動する第１駆動部と、保持ユニットに対して第１及び第２の照明ユニットの各々を第１の方向とは異なる第２の方向に沿って移動する第２駆動部とを備える周辺露光装置の露光方法において、第１の方向に伸びた少なくとも４本の露光パターンであって、４本の露光パターンのうちの中央部の２本の露光パターンの間隔が第１の照明ユニットと第２の照明ユニットとの間の最狭間隔よりも狭く定められた４本の露光パターンを感光基板に形成するために、第１の照明ユニットと第２の照明ユニットとの位置が４本の露光パターンのうちの一方端に位置する露光パターンの位置と中央部の２本の露光パターンのうちの一方の露光パターンの位置とにそれぞれ対応するように、第２駆動部によって第１及び第２の照明ユニットを第２の方向に移動する第1のステップと、その後に、第１駆動部によって感光基板と保持ユニットとを相対的に第１の方向に移動して、第１及び第２の照明ユニットからの出射光によって一方端に位置する露光パターン及び一方の露光パターンをそれぞれ形成する第２のステップと、第１の照明ユニットと第２の照明ユニットとの位置が中央部の２本の露光パターンのうちの他方の露光パターンの位置と４本の露光パターンのうちの他方端に位置する露光パターンの位置とにそれぞれ対応するように、第２駆動部によって第１及び第２の照明ユニットを第２の方向に移動する第３のステップと、その後に、第１駆動部によって感光基板と保持ユニットとを相対的に第１の方向に移動して、第１及び第２の照明ユニットからの出射光によって、他方の露光パターン及び他方端に位置する露光パターンをそれぞれ形成する第４のステップと、を備えることを特徴とする。
（３）請求項１３に記載の露光方法は、第１の方向に伸びるとともに該第１の方向と異なる第２の方向に相互に間隔を隔てる４本の露光パターンを、第１及び第２の照明ユニットから出射される光によって感光基板上に形成する露光方法において、４本の露光パターンのうちの２本の露光パターンの間隔が第１の照明ユニットと第２の照明ユニットとの間の第２の方向の最狭間隔よりも狭く定められた該４本の露光パターンを形成するために、第１及び第２の照明ユニットと感光基板とを第１の方向に相対移動させて、４本の露光パターンのうちの一方端の露光パターンを第１の照明ユニットから出射される光によって形成するとともに、４本の露光パターンのうちの一方端から３番目の露光パターンを第２の照明ユニットから出射される光によって形成することと、一方端の露光パターン及び一方端から３番目の露光パターンが形成された感光基板と、第１及び第２の照明ユニットとを第２の方向に相対移動させることと、第１及び第２の照明ユニットと感光基板とを第１の方向に相対移動させて、４本の露光パターンのうちの他方端の露光パターンを第２の照明ユニットから出射される光によって形成するとともに、４本の露光パターンのうちの他方端から３番目の露光パターンを第１の照明ユニットから出射される光によって形成することと、を含むことを特徴とする。
【００１２】
なお、本発明の構成を説明する上記課題を解決するための手段の項では、本発明を分かり易くするために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本発明が実施の形態に限定されるものではない。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施の形態に係る周辺露光装置の概略的構成を説明する平面図である。また、図２は、図１に示すIIの方向より見た様子を示す図である。図１において、紙面左右方向にＸ軸を、上下方向にＹ軸を、紙面に直交する方向にＺ軸をとり、以下の説明ではこれらの座標軸に沿う方向を適宜Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向と称する。また、必要に応じ、座標値の増える方向をプラスＸ方向、プラスＹ方向、プラスＺ方向などと称する。他の図においても、適宜図１に示す座標軸と一致させるようにして座標軸が示してある。
【００１４】
−  主走査方向駆動機構  −
定盤２の上面の四隅には４本の支柱６Ａ、６Ｂ、６Ｃおよび６Ｄが固定されている。支柱６Ａおよび６Ｃの上端にはガイドレール８Ａが、支柱６Ｂおよび６Ｄの上端にはガイドレール８Ｂが、それぞれＹ方向に沿って掛け渡されて固定されている。
【００１５】
ガイドレール８Ａおよび８Ｂの間には支持部材１２がＸ方向に沿って掛け渡されている。ガイドレール８Ａおよび８Ｂの内部には、それぞれ主走査モータ３０Ａ、３０Ｂ（図１では不図示、図７参照）によって回転駆動される送りネジ機構（不図示）がＹ方向に沿って内蔵されている。主走査モータ３０Ａおよび３０Ｂを正逆転することにより、支持部材１２を±Ｙ方向（以下、本明細書中では図１の±Ｙ方向を「主走査方向」と称する）に移動させることが可能となっている。
【００１６】
−  副走査方向駆動機構  −
二つの光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂは、支持部材１２によって±Ｘ方向に移動可能に支持されている。また、支持部材１２の内部には副走査モータ３２Ａ、３２Ｂ（図１では不図示、図７参照）によって回転駆動される２本の送りネジ機構（不図示）がＸ方向に沿って内蔵されている。これらの副走査モータ３２Ａおよび３２Ｂを独立して正逆転させることにより、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂをそれぞれ独立して±Ｘ方向（以下、本明細書中では図１における±Ｘ方向を「副走査方向」と称する）に駆動可能となっている。
【００１７】
−  遮光ユニット  −
支柱６Ａおよび６Ｃの側面には梁９Ａが、また、支柱６Ｂおよび６Ｄの側面には梁９Ｂが、それぞれＹ方向に沿って掛け渡され、固定されている。梁９Ａには遮光ユニット１１Ａが、梁９Ｂには、遮光ユニット１１Ｂが固定されている。
【００１８】
遮光ユニット１１Ａの構成について説明すると、この遮光ユニット１１Ａは、基部１０Ａと、移動部材１３Ａと、マスク１６Ａとを有する。移動部材１３Ａは、不図示の空圧アクチュエータによって基部１０Ａに対して±Ｘ方向に相対移動可能となっている。上記構成により、空圧アクチュエータによってマスク１６Ａを副走査方向に駆動することにより、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光束を露光対象物へ導く状態と遮る状態とに切り換えることができる。遮光ユニット１１Ｂも、遮光ユニット１１Ａのものと同様の構成を有しており、空圧アクチュエータによってマスク１６Ｂを副走査方向に駆動することにより、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光束を必要に応じて露光対象物へ導く状態と遮る状態とに切り換えることができる。
【００１９】
上述の遮光ユニットは、梁９Ａ、９Ｂのそれぞれに一つずつ固定されるものとして説明したが、この遮光ユニットが設けられる位置および数については本実施の形態に示されるものに限られるものではなく、任意に定めることができる。また、これら複数の遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂについては梁９Ａ、９Ｂに固定されるのみならず、これら梁９Ａ、９Ｂに沿って移動可能に設けられるものであってもよい。このように遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂを移動可能に設けることにより、レシピに対応して基板Ｇの周辺露光領域中の任意の位置をマスキング可能である。
【００２０】
また、複数の遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂの移動速度を光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの移動速度よりも高速にすることで、一つの光源ユニットあたり複数の箇所のマスキングを行うことも可能となる。これについて説明すると、まずマスキングしたい最初の位置に遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂを待機させておいて周辺露光を開始し、遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂ上を光源ユニット１４Ａ、１４Ｂが通過した後、マスク１６Ａ、１６Ｂを退避させて遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂを再移動させ、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを追い越す。そして次にマスキングしたい位置で停止させ、マスク１６Ａ、１６Ｂで露光領域ＰＡ上のマスキングしたい次の領域を覆い、待機すれば、上述したように一つの光源ユニットあたり複数の箇所のマスキングを行うことも可能となる。また、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂが遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂの上まで来たときに、遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂを光源ユニット１４Ａ、１４Ｂと等速で移動開始させ、所定の位置で遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂを停止させることにより、マスク１６Ａ、１６Ｂでの遮光幅よりも広い領域のマスキングを行うこともできる。なお、マスク１６Ａ、１６Ｂの駆動を空圧アクチュエータで行う例について説明したが、位置制御が可能なモータなどを用いてもよい。
【００２１】
−  光量センサ  −
光量センサ４８は、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光束の光量を測定するためのセンサである。この光量センサ４８により、周辺露光動作に先だって光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光束の光量が順次測定される。なお、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの光路中にハーフミラー等を配置してこのハーフミラーで反射される光をモニタするものであってもよい。また、光量センサ４８で光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光束の光量を測定する理由については後で説明する。
【００２２】
−  プレートホルダ  −
図２を参照して説明すると、露光対象物のガラス基板Ｇが載置されるプレートホルダ４は、定盤２に固定されているプレートホルダ支持部５によってＺ軸回りに回動可能に支持されている。プレートホルダ４の上面には、複数の突起４ａが設けられている。これら複数の突起４ａの高さは、ほぼ同じに揃えられている。また、これら複数の突起４ａの上面には不図示の管路を介して負圧源に接続されている孔が明けられており、プレートホルダ４に露光対象物のガラス基板Ｇが載置された後、吸着、固定される。この突起４ａは、図４においては８個設けられる例が示されているが、基板Ｇのヤング率、大きさおよび厚さなどに応じて、基板Ｇのたわみが悪影響を及ぼさない程度の数および位置で設けられる。
【００２３】
−  光源ユニット  −
図３は、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂの内部構成を概略的に説明する図であり、Ｚ軸に平行な方向に延在する光源ユニット１４Ａ（１４Ｂ）の光軸を含む面での断面を示す。なお、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは同じ構成を有しているので、図３においては光源ユニット１４Ｂの構成要素については括弧付きの符号を付し、光源ユニット１４Ａの構成のみについて説明する。
【００２４】
光源ユニット１４Ａの内部には、超高圧水銀ランプ４０Ａが反射鏡６２Ａの内部に固定されている。反射鏡６２Ａの下方にはリレーレンズ６６Ａおよび投影レンズ６５Ａが固定され、超高圧水銀ランプ４０Ａから出射された光束は反射鏡６２Ａで集光された後、リレーレンズ６６Ａ、投影レンズ６５Ａを介してガラス基板Ｇの感光面、すなわちフォトレジストの塗布された面に導かれる。
【００２５】
シャッタアクチュエータ３４Ａにより、ＸＹ平面に沿う方向に駆動されるシャッタ６３Ａは、超高圧水銀ランプ４０Ａから出射された光をリレーレンズ６６Ａの入射面に導く状態と遮る状態とに切り換えるためのものである。一般に、超高圧水銀ランプから発せられる光が安定するまでには、ランプ点灯を開始してから数十分のウオーミングアップ時間を必要とする。このため、周辺露光装置が稼働を開始した後、超高圧水銀ランプ４０Ａから発せられる光の照射を一時的に停止させる必要がある場合には、超高圧水銀ランプ４０Ａを消灯させることはせずに、シャッタ６３Ａにて遮光する。
【００２６】
ブラインドアクチュエータ３６Ａによって駆動されるブラインド６４Ａは、ガラス基板Ｇに照射する光束を矩形に整形するとともに、副走査方向の光束の幅（サイズ）を調節する機能を有する。このブラインド６４Ａは、投影レンズ６５Ａの出射面とガラス基板Ｇのフォトレジスト塗布面との間で、できるだけフォトレジスト塗布面に近接させるようにして配置される。このブラインド６４Ａは、投影レンズ６５Ａに関して、フォトレジスト塗布面と共役の位置（図３において記号Ｃで示す位置）に配置してもよい。
【００２７】
−  ローダ  −
以下で図４、図５を参照して説明するローダ７０は、周辺露光装置に内蔵されるものであっても、そうでなくてもよいが、ここでは周辺露光装置の外（近傍）に設置されるものとして説明する。なお、図４および図５において周辺露光装置は、定盤２０、プレートホルダ４およびプレートホルダ支持部５のみが図示され、他の構成要素の図示は省略されている。
【００２８】
ローダ７０は、周辺露光装置と他の装置、たとえばコータ・デベロッパや液晶露光装置等との間で露光対象物のガラス基板Ｇを搬送するために用いられるものである。そして、床面等に設置される基部７５の上にスカラロボットのアーム７２が設置されている。アーム７２は、ＸＹ平面に平行な面方向、±Ｚ方向、そしてＺ軸回りに動作の自由度を有している。このアーム７２の先端には、コの字状の搬送枠７３が固定されている。ガラス基板Ｇは、搬送枠７３の腕部７３ａで支持された状態で搬送される。
【００２９】
引き続き図４および図５を参照し、ガラス基板Ｇをプレートホルダ４に載置する際のローダ７０の動作を説明する。先述したように、プレートホルダ４には複数の突起４ａが設けられており、ローダ７０はアーム７２および基板Ｇが突起４ａと衝突することのないように、突起４ａの僅か上方の空間内で腕部７３ａで支持されたガラス基板Ｇを搬送する。そして、ガラス基板Ｇがプレートホルダ４上の所定位置に達すると、ローダ７０はアーム７２をマイナスＺ方向に動かし、ガラス基板Ｇを降下させる。この過程でガラス基板Ｇは複数の突起４ａと接触し、続いてガラス基板Ｇは突起４ａの上面へ真空吸着される。その後、ローダ７０はアーム７２をマイナスＹ方向に移動させて周辺露光装置の外へ退避させる。そして、後で説明するように周辺露光装置が作動を開始する。
【００３０】
−  制御回路  −
図６は、以上に説明した周辺露光装置の動作制御を行う制御回路の概略的構成を説明するブロック図である。周辺露光装置の動作を統括制御する制御部１００には、主走査モータ３０Ａおよび３０Ｂ、副走査モータ３２Ａおよび３２Ｂ、シャッタアクチュエータ３４Ａおよび３４Ｂ、ブラインドアクチュエータ３６Ａおよび３６Ｂ、そして超高圧水銀ランプ４０Ａおよび４０Ｂが接続されている。制御部１００にはさらに、電磁式方向切換弁４６Ａ、４６Ｂおよび５０、光量センサ４８そしてステージアクチュエータ５２が接続されている。また、制御部１００にはホストコンピュータ２００が接続されている。このホストコンピュータ２００は、周辺露光装置を含む複数の装置にそれぞれ組み込まれている制御回路と通信を行って製造プロセスを統括制御するためのものであり、周辺露光装置の外部に設置されるものである。制御部１００は、プレートホルダ４に露光対象のガラス基板Ｇが載置され、ホストコンピュータ２００から上記ガラス基板Ｇを露光する際のプロセスシーケンスやガラス基板Ｇの露光面に与えるドーズ量等の制御パラメータ等（レシピ）の情報を入力するのに応じて以下に説明する露光動作の制御を開始する。
【００３１】
−  周辺露光装置の動作  −
以上のように構成される周辺露光装置の動作について図１〜図６を適宜参照しながら説明する。なお、以下の動作説明では、超高圧水銀ランプ４０Ａおよび４０Ｂは点灯開始してから相当の時間が経過していて安定状態、すなわち周辺露光が行える状態にあるものとする。ホストコンピュータ２００から入力したレシピに従い、制御部１００は周辺露光動作制御を開始する。
【００３２】
先ず、矩形の外形形状を有するガラス基板Ｇの周囲、四辺を「ロ」の字状に露光する場合について説明する。ガラス基板Ｇがプレートホルダ４に載置された後、制御部１００は電磁式方向切換弁５０を制御して複数の突起４ａに空けられている孔と不図示の負圧源とを連通させる。これにより、ガラス基板Ｇはプレートホルダ４に吸着、固定される。
【００３３】
制御部１００は、主走査モータ３０Ａ、３０Ｂそして副走査モータ３２Ａ、３２Ｂを制御して回転させ、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂの光射出部を順次光量センサ４８の上方に位置させ、各光源ユニットから出射される光束の光量を計測する。制御部１００は、光量の少ない方の値と、ホストコンピュータ２００から入力したレシピの情報中に含まれるドーズ量（露光量）とから、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂをガラス基板Ｇに対して相対移動させる際の移動速度を算出する。
【００３４】
このようにして求められた移動速度で周辺露光を行った場合、光量の多い方の光源ユニットから出射される光束で露光されるフォトレジストは露光オーバーとなる。しかし、周辺露光は不要のレジストを除去することを目的としているので、露光量が多少オーバーしても問題はない。むしろ、ドーズ量が不足することにより、不要なレジストを除去しきれないことの方が問題である。従って、本実施の形態のように複数の光源ユニット１４、１４Ｂから出射される光束のうち、もっとも光量の少ないものを基準としてこれらの光源ユニットの移動速度を求めることにより、フォトレジストの露光量不足が生じるのを抑制できる。したがって、除去しきれずに残ってしまったフォトレジストが剥離するなど、後々のプロセス中に不具合を誘発することがなくなる。
【００３５】
制御部１００は、シャッタアクチュエータ３４Ａ、３４Ｂを制御してシャッタ６３Ａおよび６３Ｂを閉じ、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから光束が出射しない状態とする。続いて制御部１００は、主走査モータ３０Ａ、３０Ｂおよび副走査モータ３２Ａ、３２Ｂを制御し、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを主走査方向および副走査方向に駆動して位置決めをする。つまり、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂの光束出射位置を周辺露光開始位置と一致させる。続いて制御部１００は、ホストコンピュータ２００から入力したレシピに基づいてブラインドアクチュエータ３６Ａ、３６Ｂを制御し、非パターン領域の幅に合わせて光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光束のビーム幅を調節する。
【００３６】
ところで、ガラス基板Ｇの周辺部分にアライメントマークや識別番号等が焼き込まれている部分がある場合には、この部分が露光されないようにする必要がある。このような場合、ホストコンピュータ２００より入力したレシピ中に周辺露光を行わない部分がある旨の情報が含まれる。制御部１００はこの情報に基づいて電磁式方向切換弁４６Ａ、４６Ｂを制御してマスク１６ＡをプラスＸ方向に、そしてマスク１６ＢをマイナスＸ方向に駆動する。これにより、遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂは図１に例示される状態に切り換えられ、マスク１６Ａ、１６Ｂがガラス基板Ｇ上の露光領域ＰＡの一部を覆う。これにより、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射されてガラス基板Ｇに塗布されたフォトレジストに入射する光束が部分的に遮光され、基板Ｇ上で露光をしたくない部分がマスキングされる。
【００３７】
制御部１００は、シャッタアクチュエータ３４Ａ、３４Ｂを制御してシャッタ６３Ａ、６３Ｂを開き、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから光束が出射する状態とし、続いて主走査モータ３０Ａ、３０Ｂを制御して光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを主走査方向に走査させる。光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂは、支持部材１２で保持された状態でガラス基板Ｇの上方を一体にほぼ一定の速度で走査し、ガラス基板Ｇの２辺（図１においてＹ方向に沿う２辺）の周辺露光を完了する。このとき、遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂで遮光されている部分は露光されない。このように、本発明に係る周辺露光装置では、途中に露光したくない部分が存在する場合であっても、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂが走査を開始してから停止するまでの間、ほぼ一定の速度で走査させることができる。この点、露光したくない部分の先頭部で光源ユニットの走査を一時停止させてシャッタ６３Ａ、６３Ｂを閉じ、走査を再開して露光したくない部分の終端で再び走査を一時停止し、再度シャッタを開いてから走査を再開するような従来の方式に比べて短時間のうちに周辺露光を完了させることができ、周辺露光装置のスループットを向上させることができる。
【００３８】
上述のようにして、ガラス基板Ｇの対向する２辺の周辺露光が完了するのにともない、制御部１００はシャッタアクチュエータ３４Ａ、３４Ｂを制御してシャッタ６３Ａ、６３Ｂを閉じ、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂからの光束の出射を停止させる。
【００３９】
続いて制御部１００は、ステージアクチュエータ５２を制御してプレートホルダ４をＺ軸に平行な回転軸まわりに９０度回転させる。同時に、ホストコンピュータ２００から入力したレシピに従い、制御部１００は副走査モータ３２Ａ、３２Ｂそしてブラインドアクチュエータ３６Ａ、３６Ｂを制御して光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの光軸間距離を変更するとともにビームサイズの変更を行う。このように、プレートホルダ４の回転と、複数の光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの光軸間距離の変更およびビームサイズの変更を同時に行うことにより、周辺露光装置のスループットを向上させることが可能となる。なお、プレートホルダ４の回転と同時に行われるのは複数の光源ユニット１４Ａ、１４Ｂ間の光軸間距離の変更のみであってもよいし、あるいはビームサイズの変更のみであってもよい。
【００４０】
上述したプレートホルダ４の回転、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの光軸間距離の変更、そしてビームサイズの変更に続き、制御部１００は主走査モータ３０Ａ、３０Ｂを制御して光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの光束の出射部を次の周辺露光の開始位置に移動させる。そして、ホストコンピュータ２００から入力したレシピに基づいて、次の周辺露光を行う領域中に遮光を必要とする領域があると判断した場合、制御部１００はマスク１６Ａ、１６Ｂがガラス基板Ｇ上の露光領域ＰＡの一部を覆う状態を維持する。一方、遮光を必要とする領域が無いと判断すると、制御部１００は電磁式方向切換弁４６Ａ、４６Ｂを制御してマスク１６Ａ、１６Ｂをガラス基板Ｇの周辺露光の範囲から退避させる。続いて制御部１００は、シャッタアクチュエータ３４Ａおよび３４Ｂを制御してシャッタ６３Ａ、６３Ｂを開き、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから光束が出射する状態とした上で主走査モータ３０Ａ、３０Ｂを制御し、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを主走査方向に走査させる。
【００４１】
制御部１００による以上の制御動作により、ガラス基板Ｇの４辺（「ロ」の字状）の周辺露光が完了する。周辺露光のパターンが、いわゆる「目」の字、「日」の字、「田」の字状のものである場合、あるいはこれらを複合した形状のパターンである場合、制御部１００は引き続いて上述したのと同様の周辺露光動作を繰り返し行う。このとき制御部１００は、周辺露光のパターンが偶数本ある場合には光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの双方を走査させて露光を行う。一方、周辺露光のパターンが「日」の字パターンのように奇数本である場合には、最後に残された１本のパターンを複数の光源ユニット１４Ａ、１４Ｂのうちのいずれかを用いて行うように制御部１００は副走査モータ３２Ａ、３２Ｂを制御する。このとき、残りの光源ユニット、すなわち周辺露光動作にあずからない方の光源ユニットは、周辺露光動作にあずかる光源ユニットと干渉しないように移動するよう、制御部１００によって制御される。上記実施の形態の説明では、光源ユニットが二つ設けられる例について説明したが、光源ユニットの数は３以上としてもよい。この場合、周辺露光のパターン数を光源ユニットの数で割ったときの余りの数のパターンを一部の光源ユニットで露光すればよい。そして、周辺露光動作にあずからない光源ユニットは、周辺露光動作にあずかる光源ユニットと干渉しないように移動するよう、制御部１００によって制御される。
【００４２】
ここで図７を参照し、本発明の実施の形態に係る周辺露光装置で「目」の字状の形状パターンの周辺露光が行われる例を二つ、そして「日」の字状の形状パターンの周辺露光が行われる例を一つ説明する。
【００４３】
図７（ａ）は、「目」の字状の形状パターンのうちの中二本のパターンが比較的広い間隔を有している例を示し、図７（ｂ）は図７（ａ）に示す形状パターンの周辺露光を行う際の制御部１００による露光制御手順の一例を示す。図７（ｂ）の手順Ａに示されるように、基板Ｇの長辺に沿う二本のパターンが光源ユニット１４Ａ、１４Ｂによって露光され、続いてプレートホルダ４（図２）が９０度回転される。プレートホルダ４の回転中に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは副走査方向に駆動されて間隔が調節される。続いて、手順Ｂに示されるように、基板Ｇの短辺に沿う二本のパターンが露光される。このとき、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂとガラス基板Ｇとの間の相対移動方向は、手順Ａにおける相対移動方向とは逆向きとなっている。手順Ｂにおける露光動作が完了した後、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは副走査方向に駆動されて二つの光源ユニット間の間隔が狭められる。そして、手順Ｃに示されるように、手順Ｂでの相対移動方向とは逆の方向に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂと基板Ｇとが相対駆動されて残り二本のパターンの露光が行われる。
【００４４】
図７（ｃ）は、「目」の字状の形状パターンのうちの中二本のパターンが比較的狭い間隔を有している例を示し、図７（ｄ）は図７（ｃ）に示す形状パターンの周辺露光を行う際の、制御部１００による露光制御手順の一例を示す。ここで、「比較的狭い」とは、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの大きさ等の制約により、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを最も近づけた状態にしても、これらの光源ユニットの光出射部からそれぞれ出射する光束のピッチよりもパターン間隔の方が狭くなることを意味している。
【００４５】
図７（ｄ）の手順Ｐに示されるように、基板Ｇの長辺に沿う二本のパターンが光源ユニット１４Ａ、１４Ｂによって露光され、続いてプレートホルダ４が９０度回転される。プレートホルダ４の回転中に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは副走査方向に駆動されて間隔が調節される。続いて、手順Ｑに示されるように、基板Ｇの短辺の延在方向と平行な方向に沿う４本のパターンのうちの一番左側のパターンと、左から３番目のパターンとが露光される。このとき、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂとガラス基板Ｇとの間の相対移動方向は、手順Ｐにおける相対移動方向とは逆向きになっている。手順Ｑにおける露光動作が完了した後、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは副走査方向に駆動される。そして、手順Ｒに示されるように、手順Ｑでの相対移動方向とは逆の方向に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂと基板Ｇとが相対駆動され、残り二本のパターンの露光が行われる。
【００４６】
図７（ｂ）に示す例では、ガラス基板Ｇの短辺の延在方向と平行な方向に沿う４本のパターンを露光する際に、外・外、内・内と露光したのに対し、図７（ｄ）に示す例では外・内、内・外と露光している。つまり、ある光源ユニットが副走査方向に移動する際に制御部１００は、上記光源ユニットとこの光源ユニットに相隣する光源ユニットとの間の距離を所定の距離以上に保つようにこれら複数の光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを制御する。そして制御部１００は、一方の光源ユニットの動きを妨げない（干渉しない）ように他の光源ユニットを移動させる。複数の光源ユニットを上述のように移動させることにより、相隣合う光源ユニット同志が干渉することもない。また、露光パターンを形成するパターンで間隔の比較的狭い部分があっても露光を行うことができる。特に、本実施の形態に係る周辺露光装置のように光源と集光光学系とが一体に形成されている光源ユニットが用いられるものの場合、光源や集光光学系の大きさがネックとなって相隣り合う光源ユニットから出射される光束のピッチに制約を生じやすい。しかし、上述のようにして露光を行うことにより、狭いパターン間隔であってもスループットを低下させることなく露光を行うことが可能となる。
【００４７】
図７（ｅ）は、露光パターンが「日」の字状の形状パターンを有する例を示し、図７（ｆ）は図７（ｅ）に示す形状パターンの周辺露光を行う際の制御部１００による露光制御手順の一例を示す。図７（ｆ）の手順Ｘに示されるように、基板Ｇの長辺に沿う二本のパターンが光源ユニット１４Ａ、１４Ｂによって露光され、続いてプレートホルダ４が９０度回転される。プレートホルダ４の回転中に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは副走査方向に駆動されて間隔が調節される。続いて、手順Ｙに示されるように、基板Ｇの短辺に沿う二本のパターンが露光される。このとき、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂとガラス基板Ｇとの間の相対移動方向は、手順Ｘにおける相対移動方向とは逆向きとなっている。手順Ｙにおける露光動作が完了した後、光源ユニット１４Ｂのみが副走査方向に駆動される。そして、手順Ｚに示されるように、手順Ｙでの相対移動方向とは逆の方向に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂと基板Ｇとが相対残りのパターンの露光が行われる。なお、手順Ｚにおいて光源１４Ａのシャッタ６３Ａは閉じられた状態となっている。以上では残りのパターンの露光に際して光源ユニット１４Ｂが用いられる例について説明したが、もちろん光源ユニット１４Ａを用いるものであってもよい。また、上述した「日」の字状、あるいはこれに準ずるパターンの露光が繰り返し行われる場合、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは交互、あるいは所定の回数ごとに交替して用いられるものであってもよい。
【００４８】
以上に説明したように、本発明の実施の形態に係る周辺露光装置では、露光パターン形状の如何によらず、高スループットの露光を行うことができる。特に、超高圧水銀ランプ４０Ａ、４０Ｂからの光を、光ファイバを用いることなく基板Ｇに導いているので、光ファイバの充填率等に起因する光量の低下が抑止され、周辺露光装置のスループットを向上させることができる。また、光ファイバの劣化等による問題も生じないので、周辺露光装置の信頼性を高めることができるのに加え、複数の光源ユニットを上述のように駆動することで基板上に形成可能な周辺露光パターンの自由度を高めることが可能となる。
【００４９】
以上の説明では、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂから出射される光束の光量を検出するために、定盤２の上に光量センサ４８が設けられる例について説明したが、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂのそれぞれに光量センサを内蔵するものであってもよい。また、周辺露光装置が有する光源ユニットの数は２に限られるものではなく、３以上を有するものであってもよい。
【００５０】
複数の光源ユニットを主走査方向および副走査方向に駆動するためのものとして、以上に説明した送りネジ機構のみならず、リニアモータやベルト駆動機構等、他のアクチュエータや機構などを用いるものであってもよい。また、図８を参照して以下に説明するように、光源ユニットを副走査方向に駆動するための機構として回動機構を用いるものであってもよい。
【００５１】
図８は、本発明の実施の形態に係る周辺露光装置における光源ユニットの副走査方向駆動機構の別の例を示す図である。図８では周辺露光装置の一部のみが示されているが、他の部分は図１に示されるものと同様である。図８において、図１に示される周辺露光装置の構成要素と同様の構成要素には同じ符号を付してその説明を省略する。駆動部材１２には、回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂを介して光源ユニット１４Ａ、１４Ｂが支持されている。回動アーム１３４Ａの回動中心軸には、副走査モータ１３２Ａおよびエンコーダ１３３Ａが取り付けられている。同様に、回動アーム１３４Ｂの回動中心軸にも副走査モータ１３２Ｂおよびエンコーダ１３３Ｂが取り付けられている。これらの副走査モータ１３２Ａ、１３２Ｂおよびエンコーダ１３３Ａ、１３３Ｂはいずれも制御部１００に接続されている。
【００５２】
制御部１００によって制御される副走査モータ１３２Ａ、１３２Ｂにより、回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂはそれぞれ揺動駆動される。光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂの先端に固定されており、回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂの角度位置に応じてこれら光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの副走査方向の位置が定められる。回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂの角度位置は、それぞれエンコーダ１３３Ａ、１３３Ｂによって検出される。制御部１００は、エンコーダ１３３Ａ、１３３Ｂから入力される角度位置情報に基づいて副走査モータ１３２Ａ、１３２Ｂを制御し、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの副走査方向の位置決めを行う。なお、ここで説明した例においては回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂの角度位置に応じてブラインド６４Ａ、６４Ｂにより形成される開口形状（ビームの断面形状）が主走査方向に対して傾きを有することになる。この傾きを補正するためには、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂに対して相対回転可能としてもよい。あるいは、ブラインド６４Ａ（６４Ｂ）およびブラインドアクチュエータ３６Ａ（３６Ｂ）の部分のみを回動アーム１３４Ａ（１３４Ｂ）に対して相対回転可能としてもよい。また、このような回転機構を用いるのに代えて回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂそれぞれを２本のアームが用いられた平行リンクに置き換え、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂをそれぞれ平行リンクの先端部で支持してもよい。この場合、平行リンクの角度位置、すなわち光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの副走査方向の位置によらず、ブラインド６４Ａ、６４Ｂによって形成される開口の角度位置は主走査方向に対して一定に保たれる。
【００５３】
さらに、以上では複数の光源ユニットが主走査方向に駆動される例について説明したが、これに代えて基板Ｇが主走査方向に駆動されるものであってもよい。さらに、複数の光源ユニットおよび基板Ｇの双方を駆動してこれら複数の光源ユニットと基板Ｇとを相対移動させてもよい。この場合、図１に示される遮光ユニット１１Ａおよび１１Ｂはプレートホルダ４と一体に移動するように構成すればよい。
【００５４】
以上の発明の実施の形態と請求項との対応において、超高圧水銀ランプ４０Ａ、４０Ｂが光源を、リレーレンズ６６Ａ、６６Ｂおよび投影レンズ６５Ａ、６５Ｂが集光光学系を、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂが照明ユニットを、ガラス基板Ｇが感光基板を、保持部材１２が保持ユニットを、主走査モータ３０Ａ、３０Ｂが第１駆動部を、副走査モータ３２Ａ、３２Ｂ、１３２Ａ、１３２Ｂが第２駆動部を、光量センサ４８が光量検出手段を、制御部１００が駆動制御部、照明ユニット移動制御手段および移動速度設定手段を、ブラインド６４Ａ、６４Ｂおよびブラインドアクチュエータ３６Ａ、３６Ｂがビームサイズ変更手段を、ステージアクチュエータ５２が回転駆動部を、遮光ユニット１１Ａおよび１１Ｂが遮光手段をそれぞれ構成する。
【００５５】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、以下の効果を奏する。
（１）  請求項１〜３に記載の発明によれば、感光基板の略中央部に位置決め可能な複数の照明ユニットのそれぞれを第２の方向に駆動する際に、これら複数の照明ユニットが互いに干渉しないように駆動することにより、これら複数の照明ユニットが衝突する等の不具合が生じることがなく、周辺露光装置を円滑に稼働させることができ、周辺露光装置のスループットを向上させることが可能となる。
（２）  請求項４に記載の発明によれば、複数の照明ユニットのそれぞれから出射される光の強度を検出し、複数の照明ユニットのそれぞれと感光基板とを相対移動させて感光基板上の非パターン領域を露光する時、光量検出手段で検出された複数の照明ユニットの光の強度のうち低い方の強度に基づいて複数の照明ユニットのそれぞれと感光基板との相対移動の速度を設定することにより、複数の照明ユニットから出射する光束の光量にばらつきを有していても、フォトレジストを除去するのに十分な光量で露光を行うことができる。また、各照明ユニットごとの光量に応じて何度も周辺露光動作を繰り返す必要がなく、まとめて露光を行うことができるので、各照明ユニットごとの光量にばらつきを有していても周辺露光装置のスループットが低下するのを抑制することができる。
（３）  請求項５に記載の発明によれば、複数の照明ユニットのそれぞれから出射されるビームのサイズが互いに独立して変更されることにより、異なる幅を有する複数のパターンを同時に露光することができ、周辺露光装置のスループットを向上させることが可能となる。
（４）  請求項６に記載の発明によれば、複数の照明ユニット間の距離の変更動作は、回転駆動部により感光基板が回転駆動されるのと並行して行われることにより、続いて行われる複数の露光動作間のインターバルが短縮される。したがって、周辺露光装置のスループットを向上させることが可能となる。
（５）  請求項７に記載の発明によれば、複数の照明ユニットのそれぞれから出射されるビームのサイズ変更動作は、回転駆動部により感光基板が回転駆動されるのと並行して行われることにより、続いて行われる複数の露光動作間のインターバルが短縮される。したがって、周辺露光装置のスループットを向上させることが可能となる。
（６）  請求項８に記載の発明によれば、複数の照明ユニットと感光基板とを相対移動させる移動経路近傍に設けられ、光出射部から出射された光が感光基板上の照射を所望しない部分に照射されるのを防ぐための遮光手段を有することにより、露光対象の非パターン領域中に露光を所望しない部分があっても照明ユニットを一時停止させることなく走査させることができる。つまり、周辺露光動作のために走査中の照明ユニットを一時停止させて照明ユニット内のシャッタを作動させ、不所望の部分への露光が行われないようにする必要がない。このように、周辺露光動作中の照明ユニットの停動（加減速動作）が不要となるので、周辺露光装置のスループットを高めることが可能となる。
（７）  請求項９に記載の発明によれば、遮光手段が必要に応じて照明ユニットと基板との間の位置に設定されることにより、一台の周辺露光装置で異なるタイプの基板の周辺露光を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、本発明の実施の形態に係る周辺露光装置の概略的構成を説明する平面図である。
【図２】  図２は、本発明の実施の形態に係る周辺露光装置の概略的構成を説明する部分断面図である。
【図３】  図３は、光源ユニットの構成例を概略的に示す縦断面図である。
【図４】  図４は、本実施の形態に係る周辺露光装置と他の装置との間で露光対象物を受け渡しするローダを説明する図である。
【図５】  図５は、露光対象物がローダによって周辺露光装置にセットされる様子を説明する図である。
【図６】  図６は、本発明の実施の形態に係る周辺露光装置の制御回路を概略的に示すブロック図である。
【図７】  図７は、種々の露光パターン形状に対応して行われる周辺露光動作の手順を説明する図である。
【図８】  図８は、光源ユニットの副走査機構の別の例を示す図である。
【符号の説明】
２  …  定盤    ４  …  プレートホルダ    ５  …  プレートホルダ支持部
８Ａ、８Ｂ      …  ガイドレール  ９Ａ、９Ｂ  …  梁
１１Ａ、１１Ｂ  …  遮光ユニット    １２  …  支持部材
１４Ａ、１４Ｂ  …  光源ユニット
１６Ａ、１６Ｂ  …  マスク        ３０Ａ、３０Ｂ  …  主走査モータ
３２Ａ、３２Ｂ  …  副走査モータ
３４Ａ、３４Ｂ  …  シャッタアクチュエータ
３６Ａ、３６Ｂ  …  ブラインドアクチュエータ
４０Ａ、４０Ｂ  …  超高圧水銀ランプ
４６Ａ、４６Ｂ  …  電磁式方向切換弁    ４８  …  光量センサ
５２  …  ステージアクチュエータ        ７０  …  ローダ
１００  …  制御部              ２００  …  ホストコンピュータ
【図１】
0004342663.tif 000002
【図２】
0004342663.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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