(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円板状のディスク基板の少なくとも片面にて、重ねて配設された二つ以上の信号記録層を含んでおり、前記ディスク基板を透過させて光を前記信号記録層に照射し、記録された信号を読み取るようにした光ディスクであって、
前記信号記録層のうち、読み出し側から最も遠い信号記録層が反射膜として形成され、他の信号記録層が、膜厚９ｎｍないし１２ｎｍで形成された半透過反射膜であり、
前記半透過反射膜が、アルミニウム（Ａｌ）と、他の金属として、チタン（Ｔｉ）およびＭｎのみとを含むアルミニウム合金により形成されている、光ディスク。
【請求項２】
前記アルミニウム合金のマンガン（Ｍｎ）の含有量が０．２ないし２．０重量パーセント、チタン（Ｔｉ）の含有量が０．０５ないし２．０重量パーセントとされている、請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】
前記マンガン（Ｍｎ）の含有量が０．３ないし２．０重量パーセントである、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項４】
前記チタン（Ｔｉ）の含有量が０．０５ないし１．０重量パーセントである、請求項２に記載の光ディスク。
【請求項５】
前記反射膜が、アルミニウム（Ａｌ）と、他の金属として、チタン（Ｔｉ）およびＭｎのみとを含むアルミニウム合金により形成されている、請求項１記載の光ディスク。
【請求項６】
前記反射膜が、膜厚４５ｎｍないし６０ｎｍで形成された、請求項１記載の光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、少なくとも一つ以上の半透過反射膜から成る信号記録層を備えた情報記録媒体としての多層光ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば高密度情報記録用の光ディスクは、その情報記録の方式により、両面記録，片面記録そして記録層の数により単層または多層の種類に分かれており、例えば片面単層，片面二層，両面単層及び両面二層の型式がある。
これらの型式のうち、片面二層の光ディスクは、以下のように構成されている。
【０００３】
図１は、片面二層の光ディスクを示している。
図において、光ディスク１は、例えばポリカーボネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の第一のディスク基板２の表面（下面）が、情報を表わす形状に形成されていて、この下面に対してアルミニウム薄膜による反射膜３が形成され、この反射膜３の表面に保護膜４が形成され、さらにその表面に対して、第一のディスク基板２と同様の第二のディスク基板５が、接着層６を介して当接され、前記接着層６を硬化させることにより、ディスク基板２，５を貼り合わせることにより、構成されている。
【０００４】
ここで、第一のディスク基板２の外側面には、例えば記録内容を示すための不定形の印刷パターン７が形成されている。
また、第二のディスク基板５の内側面は、情報を表わす凹凸形状に形成された後、反射膜３の代わりに、半透過反射膜５ａが形成されている。
【０００５】
このような構成の片面二層の光ディスクによれば、図において、下方から光ビームを反射膜３または半透過反射膜５ａに照射して、その反射光ビームを検出することにより、信号読取を行なうようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような片面二層の光ディスクにおいては、その半透過反射膜５ａは、一般的に金，シリコンやこれらの化合物から構成されている。
しかしなから、金は、貴金属であることから、材料コストが高くなってしまうため、光ディスク一枚当たりの製造コストに占める成膜材料の割合が高くなってしまう。
【０００７】
シリコンは、金と比較して低価格であるが、硬くて脆い特性であることから、ディスク基板へのスパッタリング法による成形時に、ターゲットとして加工することが困難である。また、スパッタチャンバー壁や防着板に堆積したシリコンがフレーク状となってスパッタチャンバー内に剥がれ落ちることにより、ディスク基板表面やシリコンによる半透過反射膜の表面が汚染されてしまう等のトラブルが発生しやすい。このため、シリコンをターゲットとして使用した場合、半透過反射膜を成膜するための装置を頻繁に停止させて、スパッタチャンバ壁や防着板等を洗浄する必要があった。
【０００８】
さらに、銀またはその合金は、高反射率であり、上述した成膜時の問題も発生しないので、半透過反射膜の材料として使用することが可能である。しかしながら、銀またはその合金は、耐久性に乏しいことから、まだ実用化はされていない。
【０００９】
これに対して、コストの面から、アルミニウムを半透過反射膜の材料として使用することも考えられる。しかし、金属膜形成等に通常用いるアルミニウムは耐久性が低いという欠点があること等から、全反射膜よりも薄い膜厚でなる半透過反射膜に適用する場合、純アルミニウムにより成膜することができないことは明らかである。
このような観点から、アルミニウムを使用した場合に、いかなる合金とすればよいか等については、未だ十分な検討がなされていない。
【００１０】
本発明は、以上の点に鑑み、半透過反射膜の材料としてアルミニウムを使用することにより製造コストを低減でき、しかも半透過反射膜が、要求される十分な耐久性を備える光ディスクを提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記目的は、請求項１の発明によれば、円板状のディスク基板の少なくとも片面にて、重ねて配設された二つ以上の信号記録層を含んでおり、前記ディスク基板を透過させて光を前記信号記録層に照射し、記録された信号を読み取るようにした光ディスクであって、前記信号記録層のうち、読み出し側から最も遠い信号記録層が反射膜として形成され、他の信号記録層が、膜厚９ｎｍないし１２ｎｍで形成された半透過反射膜であり、前記半透過反射膜が、アルミニウム（Ａｌ）と、他の金属として、チタン（Ｔｉ）およびＭｎのみとを含むアルミニウム合金により形成されている、光ディスクにより、達成される。
【００１２】
請求項１の構成によれば、半透過反射膜を構成するアルミニウム合金においてチタン（Ｔｉ）が添加されていることにより、アルミニウム結晶粒が微細化される。これにより、転位の発生が抑制され、半透過反射膜の強度が高められるので、膜変形が発生しにくくなり、安定した状態に保持されると共に、アルミニウム結晶粒の微細化により、結晶粒界腐蝕が防止され、半透過反射膜の耐久性が高められることになる。
【００１３】
また、半透過反射膜を構成するアルミニウム合金において、チタン（Ｔｉ）の添加により、シリコン（Ｓｉ）と同様に、アルミニウム結晶粒が微細化がされるだけでなく、アルミニウムの電気伝導度が低下することになり、アルミニウムと異種金属との電食作用が防止されるので、より一層半透過反射膜の耐久性が高められることになる。
【００１６】
請求項１の構成において、前記半透過反射膜が、チタン（Ｔｉ）に加えて、さらにマンガン（Ｍｎ）を添加したアルミニウム合金から構成されていることを特徴とする。請求項１の構成によれば、半透過反射膜を構成するアルミニウム合金に対してさらにマンガン（Ｍｎ）が添加されることにより、アルミニウムに含まれる不純物としての鉄（Ｆｅ）がアルミニウムと反応してＦｅＡｌ3になることが防止される。これにより、針状結晶であるＦｅＡｌ3によってアルミニウム合金が硬く且つ脆くなることが阻止され、アルミニウム合金そして半透過反射膜の腐蝕が防止されることになる。
【００１７】
請求項２の発明は、請求項１の構成において、前記半透過反射膜が、アルミニウム（Ａｌ）に、チタン（Ｔｉ）とマンガン（Ｍｎ）を含むアルミニウム合金であって、マンガン（Ｍｎ）の含有量が０．２ないし２．０重量パーセント、チタン（Ｔｉ）の含有量が０．０５ないし２．０重量パーセントとされていることを特徴とする。
請求項２の構成によれば、半透過反射膜を、アルミニウム（Ａｌ）に、チタン（Ｔｉ）とマンガン（Ｍｎ）を含むアルミニウム合金で形成する場合の含有量は、シリコン（Ｓｉ）が０．３ないし２．０重量パーセント、マンガン（Ｍｎ）が０．２ないし２．０重量パーセント、チタン（Ｔｉ）が０．０５ないし２．０重量パーセントとするものである。
【００１８】
すなわち、マンガン（Ｍｎ）の含有量が０．２重量パーセントよりも少ないと、上述した膜の耐久性について、要求される効果を得られない。マンガン（Ｍｎ）の含有量が２．０重量パーセントを超えると、半透過反射膜の反射率が低下する。
チタン（Ｔｉ）の含有量が０．０５重量パーセントよりも少ないと、上述した膜の耐久性について、要求される効果を得られない。チタン（Ｔｉ）の含有量が２．０重量パーセントを超えると、製造過程における溶融が極端に困難になり、合金の形成を妨げる。
【００１９】
請求項３の発明は、請求項２の構成において、前記マンガン（Ｍｎ）の含有量が０．３ないし２．０重量パーセントであることを特徴とする。
請求項３の構成によれば、好ましくは、前記半透過反射膜を形成するためのアルミニウム合金に含有されるマンガン（Ｍｎ）の含有量を０．３重量パーセント以上とすることで、より十分な膜耐久性を得ることができる。
【００２０】
請求項４の発明は、請求項２の構成において、前記チタン（Ｔｉ）の含有量が０．０５ないし１．０重量パーセントであることを特徴とする。
請求項４の構成によれば、好ましくは、前記半透過反射膜を形成するためのアルミニウム合金に含有されるチタン（Ｔｉ）含有量を１．０重量パーセントまでに抑えることで、製造過程においてチタン（Ｔｉ）を溶融しやすくして、合金の形成を容易にすることができる。
【００２１】
請求項１の構成において、前記半透過反射膜の膜厚が、９ｎｍないし１２ｎｍであることを特徴とする。請求項１の構成によれば、前記半透過反射膜の膜厚が、９ｎｍ以上ないと、当該半透過反射膜における反射光量が不足する。また、半透過反射膜の膜厚が、１２ｎｍを超えると、当該半透過反射膜よりも奥側の膜による反射光量が不足する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好適な実施形態を図１を参照しながら、詳細に説明する。
尚、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
【００２３】
本実施形態を説明するために図面に表れる形状は、従来の光ディスク１の断面の形状と同じであることから、上述した従来の光ディスク１の構造を説明するための図１を用いて、従来の光ディスクと本実施形態の光ディスクとを共通の図面を参照して本実施形態の構成を説明する。このため、従来の光ディスク１と対応する本実施形態の各構成には、従来の光ディスク１と異なる符号を併記して示している。
図１において、光ディスク１０は、片面二層式の光ディスクであって、例えばポリカーボネート，アクリル樹脂，ポリオレフィン等のプラスチックから成る円板状の第一のディスク基板１１及び第二のディスク基板１２と、各ディスク基板１１，１２の互いに対向する内面にそれぞれ形成された反射膜１３及び半透過反射膜１４と、これらの反射膜１３及び半透過反射膜１４の表面を覆う保護膜１５，１６と、保護膜１５，１６を貼り合わせる接着層１７とを有している。
この光ディスク１０は、図において下方から光ビームが照射され、反射膜１３及び半透過反射膜１４でなる各信号記録層に記録された情報が片側から読みだされるようになっている。
【００２４】
前記ディスク基板１１，１２は、それぞれ読み出し側から見て、最も奥側の反射膜１３とこれより手前の半透過反射膜１４による信号記録層のベースとして使用されるものであり、射出成形法等により成形され、その際内面が、例えばスタンパを利用することにより、情報を表わす形状（例えばピット）に形成される。
【００２５】
前記反射膜１３は、従来の光ディスク１の反射膜と同様に、例えばアルミニウム合金により、例えば膜厚４５乃至６０ｎｍで形成されている。
ここで、反射膜１３を構成する材料は、反射膜１３の耐久性やコストの点で可能であるならば、半透過反射膜１４と同じ材料であることが望ましい。
この反射膜１３においては、アルミ合金の膜厚が厚いことにより、十分に高い反射率が得られる。
【００２６】
半透過反射膜１４は、本実施形態では、特に、アルミニウム合金で形成されている。
半透過反射膜１４は、例えば、ディスク基板１２の表面に、後述する合金のターゲットを用いたスパッタリングにより形成される。このスパッタ条件としては、チャンバー内に、５ないし１２ｓｃｃｍの流量でアルゴンガスを導入し、出力２．００ｋＷの電力を印加して、成膜時間を１．００秒とすることで、後述する膜厚の半透過反射膜１４を形成することができる。
図２は、実際に半透過反射膜１４をアルミニウム合金で形成した場合の実施例１ないし１１と比較例を示しており、その際の合金の組成と各金属の合金中への含有量（重量パーセント）を示しており、あわせて、膜の耐久性をテストした表である。
【００２７】
半透過反射膜１４は、アルミニウムと、シリコン（Ｓｉ）またはチタン（Ｔｉ）を含むアルミニウム合金にマンガン（Ｍｎ）を添加したもの、あるいは、これら全てを含有するアルミニウム合金で形成される。
このように、半透過膜１４を形成するためのアルミニウム合金では、アルミニウムにシリコン（Ｓｉ）またはチタン（Ｔｉ）が添加されていることにより、アルミニウム結晶粒が微細化される。これにより、転位の発生が抑制され、半透過反射膜の強度が高められるので、膜変形が発生しにくくなり、安定した状態に保持されると共に、アルミニウム結晶粒の微細化により、結晶粒界腐蝕が防止され、半透過反射膜の耐久性が高められる。
図２の実施例１１は、アルミニウムとシリコンで合金を形成した場合である。
【００２８】
図２の実施例１ないし４及び実施例１０は、半透過反射膜１４を、アルミニウムに対して、シリコンとマンガンを加えたアルミニウム合金で形成した例を示している。
また、実施例６と実施例７及び実施例９は、半透過反射膜１４を、アルミニウムに対して、チタンとマンガンを加えたアルミニウム合金で形成した例を示している。
実施例８は、半透過反射膜１４を、アルミニウムに対して、シリコンとチタンとマンガンを加えたアルミニウム合金で形成した例を示している。
【００２９】
これらの実施例において、半透過膜１４を形成するためのアルミニウム合金では、アルミニウムに、チタン（Ｔｉ）が添加される場合には、チタン（Ｔｉ）の添加により、シリコン（Ｓｉ）と同様に、アルミニウム結晶粒が微細化がされるだけでなく、アルミニウムの電気伝導度が低下することになり、アルミニウムと異種金属との電食作用が防止されるので、より一層半透過反射膜の耐久性が高められることになる。
【００３０】
そして、半透過反射膜１４が、アルミニウム（Ａｌ）と、シリコン（Ｓｉ）及びチタン（Ｔｉ）を含むアルミニウム合金により形成されている場合には、各金属を加える場合の効果が相乗効果となって発揮される
【００３１】
さらに、半透過反射膜１４が、シリコン（Ｓｉ）及び／またはチタン（Ｔｉ）に加えて、さらにマンガン（Ｍｎ）を添加したアルミニウム合金から構成されている場合には、次のような効果がある。
すなわち、アルミニウム合金に対してさらにマンガン（Ｍｎ）が添加されることにより、アルミニウムに含まれる不純物としての鉄（Ｆｅ）がアルミニウムと反応してＦｅＡｌ3 になることが防止される。これにより、針状結晶であるＦｅＡｌ3 によってアルミニウム合金が硬く且つ脆くなることが阻止され、アルミニウム合金そして半透過反射膜の腐蝕が防止されることになる。
【００３２】
次に、図２に基づいて、上述のアルミニウム合金が含有するアルミニウム以外の他の金属の含有量について説明する。
実施例１１に見るように、半透過反射膜１４を形成するアルミニウム合金を得る上で、アルミニウムにシリコンだけを添加する場合には、その含有量を０．２重量パーセント以上とした場合に、成膜後、半透過反射膜１４を大気暴露して、１０日以上２０日未満の耐久性を得ることができた。また、これとは逆にアルミニウムにシリコンだけを添加する場合には、その含有量が０．２重量パーセントを下回ると、耐久性が損なわれると考えられる。
ここで、半透過反射膜１４の耐久性は、大気暴露された半透過反射膜１４が腐食して、光反射率が低下し、この状態で光ディスク１０を形成した時に、再生信号のジッター（Ｊｉｔｔｅｒ）が増大する。図２では、ジッターが８．０パーセント以下を、耐久性に関して良品として○印を付している。
【００３３】
また、実施例１１を除く他の実施例に示されているように、シリコン（Ｓｉ）の含有量が０．３重量パーセントよりも少ないと、上述した膜の耐久性について、要求される効果を得られない。シリコン（Ｓｉ）の含有量が２．０重量パーセントを超えると、後述する半透過反射膜１４の反射率が低下する。
マンガン（Ｍｎ）の含有量が０．２重量パーセントよりも少ないと、上述した膜の耐久性について、要求される効果を得られない。マンガン（Ｍｎ）の含有量が２．０重量パーセントを超えると、後述する半透過反射膜１４の半透過反射膜の反射率が低下する。
チタン（Ｔｉ）の含有量が０．０５重量パーセントよりも少ないと、上述した膜の耐久性について、要求される効果を得られない。チタン（Ｔｉ）の含有量が２．０重量パーセントを超えると、製造過程における溶融が極端に困難になり、合金の形成を妨げる。
【００３４】
しかも、好ましくは、半透過反射膜１４を形成するためのアルミニウム合金に含有されるマンガン（Ｍｎ）の含有量を０．３重量パーセント以上とすることで、より十分な膜耐久性を得ることができる。
すなわち、実施例１と実施例１０とを対比すると、実施例１の方が膜の耐久性が高い。
【００３５】
さらに、半透過反射膜１４を形成するためのアルミニウム合金に含有されるチタン（Ｔｉ）含有量を１．０重量パーセントまでに抑えることで、製造過程において、合金の溶融温度が摂氏９５０度程度となることから、合金の形成をより容易にすることができる。
そして、図２に示していないが、実施例１２として、半透過反射膜１４を形成するためのアルミニウム合金をアルミニウム（Ａｌ）に、シリコン（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、マンガン（Ｍｎ）の全てを含有させてアルミニウム合金を形成した場合において、種々試みた結果、シリコン（Ｓｉ）の含有量が１．１重量パーセントないし１．３重量パーセント、チタン（Ｔｉ）の含有量が０．１２重量パーセントないし０．１７重量パーセント、マンガン（Ｍｎ）の含有量が０．８重量パーセントないし１．０重量パーセントとするのが最も好ましい。すなわち、このような組成とすると、半透過反射膜１４の膜の耐久性が高く、また、合金化することによる光の反射率の低下が少なく、さらに、この組成によれば、溶融しやすく、合金の作成が容易であり、金属間化合物が生成されにくいという点で、最も優れた半透過反射膜１４を得ることができる。
【００３６】
図３は、このようなアルミニウム合金で形成された半透過反射膜１４と読み取り（もしくは記録用）光ビームＬ１，Ｌ２（図１参照）の反射率との関係を示している。
この半透過反射膜１４の膜厚は、光ディスクの規格書に規定された反射率（例えばＤＶＤ規格においては、１８パーセント以上３０パーセント以下）となるように選定される必要がある。
したがって、図３の表より、半透過反射膜１４の膜厚は、９ｎｍ以上で、１２ｎｍ以下に設定される。
【００３７】
図１の保護膜１５，１６は、例えばエポキシアクリレート系の紫外線硬化樹脂を反射膜１３または半透過反射膜１４の表面にコーティングし、紫外線照射により硬化させることにより、形成される。
尚、この保護膜１５，１６は、省略されてもよい。
【００３８】
図１の接着層１７は、第一の基板１１または第二の基板１２の内面（実際には、前記保護膜１５，１６の表面）に対して、例えば、スピンコート法等により塗布された所定厚さの接着剤により形成されており、第一の基板１１及び第二の基板１２を貼り合わせることにより、第一の基板１１と第二の基板１２を貼り合わせた状態で固定保持する。
尚、接着層１７により互いに貼り合わされた第一の基板１１及び第二の基板１２のうち、第一の基板１１の信号記録層とは反対側の面（外面）は、直接にまたは所謂レーベルにより、品番，記録内容等の必要事項の表示（図示せず）等が印刷される。
【００３９】
本実施形態による光ディスク１０は、以上のように構成されており、以下のように再生される。
図１において、光ディスク１０の反射膜１３による信号記録層の再生の場合には、その下方から信号読取用の光ビームＬ１が照射されることにより、この光ビームＬ１は、半透過反射膜１４を透過して、反射膜１３に入射し、この反射膜１３による戻り光が、再び半透過反射膜１４を透過して、下方に向かって進む。
この戻り光を光学ピックアップの光検出器により検出することにより、前記反射膜１３による信号記録層に記録された信号の読取が行なわれることになる。
【００４０】
また、光ディスク１０の半透過反射膜１４による信号記録層の再生の場合には、その下方から信号読取用の光ビームＬ２が照射されることにより、この光ビームＬ２は、半透過反射膜１４に入射し、この半透過反射膜１４による戻り光が、下方に向かって進む。
この戻り光を光学ピックアップの光検出器により検出することにより、前記半透過反射膜１４による信号記録層に記録された信号の読取が行なわれることになる。
【００４１】
この場合、前記半透過反射膜１４は、膜厚９乃至１２ｎｍと薄く形成されていることから、光ビームＬ１に対する光吸収率が低減されるので、反射膜１３による信号記録層からの戻り光の光量が十分高くなり、反射膜１３による信号記録層の再生が確実に行なわれることになる。
【００４２】
半透過反射膜１４がアルミニウム合金から構成されていることにより、膜厚が薄くても十分に高い反射率を確保することができると共に、半透過反射膜１４が容易に形成されることから、光ディスクの生産効率が向上することになる。
また、半透過反射膜１４がアルミニウム合金から構成されていることにより、材料コストが低いことから、光ディスクの製造コストが低減されると共に、半透過反射膜１４がＤＣスパッタにより形成されるので、スパッタ装置に特別な構造が不要となり、光ディスクの製造装置の設備コストが低減される。
【００４３】
ここで、前記半透過反射膜１４は、アルミニウムにシリコン（Ｓｉ）を添加することによって、アルミニウムの結晶粒が微細化される。これにより、アルミニウムの転位の発生が防止され、膜強度が高められるので、膜変形の発生が抑制され、安定した状態に保持されることになる。また、アルミニウムの結晶粒の微細化により、結晶粒界腐蝕が防止されるので、半透過反射膜１４の耐久性が高められ得る。
さらに、前記半透過反射膜１４は、アルミニウムにマンガンＭｎを添加することによって、アルミニウムに含まれる不純物としての鉄Ｆｅが、アルミニウムと結合してＦｅＡｌ3 となることが防止される。これにより、アルミニウムの所謂錆びが防止され、半透過反射膜１４の腐蝕が防止されることになる。
【００４４】
また、反射膜１３が半透過反射膜１４と同じ材料により形成される場合には、さらに以下のような利点が得られる。
即ち、異種金属と近接された際に、電位差が発生するガルバニック電池が構成されないので、光ディスクの耐久性がより一層高められることになる。
また、反射膜１３及び半透過反射膜１４が同じスパッタ装置により形成されることになるので、製造装置が低コストで実現できると共に、製造装置全体が小型に構成されることになる。
さらに、光ディスクの廃材としてのリサイクルの際に、反射膜１３及び半透過反射膜１４が同じ材料から構成されていることにより、分離処理が容易に行なわれることになり、リサイクルに要するコストが低減される。
【００４５】
半透過反射膜１４が、アルミニウムにチタン（Ｔｉ）を添加して形成した場合、このような構成の光ディスク１０においては、前述したシリコン（Ｓｉ）を添加したアルミニウム合金から成る半透過反射膜１４を備えた光ディスク１０の場合と同様の効果が得られると共に、チタンＴｉの添加により、アルミニウムの電気伝導度が低下することになり、アルミニウムと異種金属との電食作用が防止されるので、より一層半透過反射膜の耐久性が高められることになる。
さらに、膜形成のためのスパッタリング工程の際に、シリコンを使用しないことから、シリコンの場合のように、防着板に付着したシリコンが、フレーク状となって剥離することがないので、スパッタチャンバ汚染が少なくなり、安定稼働が容易となる。
【００４６】
上述した実施形態においては、光ディスク１０は、片面二層式の光ディスクとして構成されており、二層の信号記録層のうち、一層が半透過反射膜１４により構成されているが、これに限らず、三層以上の信号記録層を有する片面多層式の光ディスクや、それぞれ二層以上の信号記録層を有する両面多層式の光ディスクにおいて、信号読取側と反対側の一層を除いた他の信号記録層が半透過反射膜により構成されている光ディスクに本発明を適用できることは明らかである。
あるいはまた、１枚のディスク基板に信号記録層を多層に形成する光ディスクの半透過反射膜をアルミニウム合金で形成する場合にも適用することができる。また、光ディスク１０において、図１の保護膜１５，１６は必要に応じて形成され、必須の構成ではない。
【００４７】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、半透過反射膜の材料としてアルミニウムを使用することにより製造コストを低減でき、しかも半透過反射膜が、要求される十分な耐久性を備える光ディスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による光ディスクの第一の実施形態の構成を示す概略断面図である。
【図２】図１の光ディスク１０の半透過反射膜１４の膜組成と金属成分の含有量について、膜耐久性との関係を示した表である。
【図３】図１の光ディスク１０の半透過反射膜１４の厚みと反射率との関係を示した表である。
【符号の説明】
１０・・・光ディスク、１１，１２・・・ディスク基板、１３・・・反射膜、１４・・・半透過反射膜、１５，１６・・・保護層、１７・・・接着層
【図１】
0004339530.tif 000002
【図２】
0004339530.tif 000003
【図３】
0004339530.tif 000004