(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
−（ｉ）親水性表面を有しているか又は親水性層が設けられている支持体及び（ｉｉ）その上に設けられる疎水性熱可塑性ポリマー粒子を含むコーティングを含む平版印刷版前駆体を準備し；
−コーティングを熱に露出し、それによりコーティングの露出された領域において熱可塑性ポリマー粒子の凝集を誘導し；
−コーティングにゴム溶液を適用することにより前駆体を現像し、それによりコーティングの非−露出領域を支持体から除去する
段階を含んでなり、
該熱可塑性ポリマーがスチレン及び少なくとも５モル％の窒素−含有モノマーのコポリマーである
ことを特徴とする平版印刷版の作製法。
【請求項２】
−（ｉ）親水性表面を有しているか又は親水性層が設けられている支持体及び（ｉｉ）その上に設けられる疎水性熱可塑性ポリマー粒子を含むコーティングを含む平版印刷版前駆体を準備し；
−コーティングを熱に露出し、それによりコーティングの露出された領域において熱可塑性ポリマー粒子の凝集を誘導し；
−コーティングにゴム溶液を適用することにより前駆体を現像し、それによりコーティングの非−露出領域を支持体から除去する
段階を含んでなり、
該ゴム溶液がベーキングゴム溶液であり、そして現像された版前駆体を少なくとも６０℃の温度で加熱することによる追加のベーキング段階を含んでなる
ことを特徴とする平版印刷版の作製法。
【請求項３】
コーティングがさらに赤外光を熱に変換することができる化合物を含み、且つ露出段階がコーティングを赤外光に露出することにより行われる請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
コーティングがさらに現像後に可視画像を与えるコントラスト染料又は顔料を含む請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
ゴム溶液が親水性フィルム−形成性ポリマー及び／又は界面活性剤を含有する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
親水性フィルム−形成性ポリマーがスルホン酸基を含有するポリマーである請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ゴム溶液が有機酸もしくはそれらの塩を含有する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項８】
ゴム溶液が５０ｍＮ／ｍ未満の表面張力及び５〜８のｐＨを有する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項９】
請求項１又は２に記載の感熱性平版印刷版前駆体を現像するためのゴム溶液の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、単一の段階で感熱性平版印刷版前駆体を現像し且つゴム引きする平版印刷版の作製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
平版印刷においては、印刷版のようないわゆる印刷マスターが印刷機の胴上に搭載される。マスターはその表面上に平版印刷画像を保有しており、該画像にインキを適用し、次いでインキをマスターから典型的には紙である受容材料上に転写することにより、印刷されたコピーが得られる。通常のいわゆる「湿式」平版印刷の場合、インキならびに水性湿し液（ａｑｕｅｏｕｓ  ｆｏｕｎｔａｉｎ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（湿し液（ｄａｍｐｅｎｉｎｇ  ｌｉｑｕｉｄ）とも呼ばれる）が、親油性（又は疎水性、すなわちインキ−受容性、水−反発性）領域ならびに親水性（又は疎油性、すなわち水−受容性、インキ−反発性）領域から成る平版印刷画像に供給される。いわゆる「ドライオグラフィー」印刷の場合、平版印刷画像はインキ−受容性及びインキ−忌避性（ｉｎｋ−ａｂｈｅｓｉｖｅ）（インキ−反発性）領域から成り、ドライオグラフィー印刷の間にはインキのみがマスターに供給される。
【０００３】
印刷マスターは一般にいわゆるコンピューター−ツウ−フィルム（ＣｔＦ）法（ｃｏｍｐｕｔｅｒ−ｔｏ−ｆｉｌｍ  ｍｅｔｈｏｄ）により得られ、その方法では活字書体選択、走査、色分解、スクリーニング、トラッピング、レイアウト及び組付けのような種々のプリ−プレス段階がデジタル的に行われ、各色選択がイメージ−セッターを用いてグラフィックアートフィルムに転写される。処理の後、版前駆体と呼ばれる画像形成材料の露出のためのマスクとしてフィルムを用いることができ、版の処理の後、マスターとして用いることができる印刷版が得られる。１９９５年頃から、いわゆる「ダイレクト刷版（ｃｏｍｐｕｔｅｒ−ｔｏ−ｐｌａｔｅ）」（ＣｔＰ）法が多くの興味を得てきた。「ダイレクト−ツウ−プレート（ｄｉｒｅｃｔ−ｔｏ−ｐｌａｔｅ）」とも呼ばれるこの方法は、デジタル文書がいわゆるプレート−セッターにより版前駆体に直接転移されるので、フィルムの作成を迂回する。
【０００４】
特に、熱又は赤外光に対して感受性であるサーマルプレート（ｔｈｅｒｍａｌｐｌａｔｅｓ）は、それらの昼光安定性の故にダイレクト刷版法において広く用いられている。そのような熱的材料を、例えばサーマルヘッドを用いて直接熱に露出することができるが、好ましくは吸収される光を熱に変換する化合物を含み、従ってレーザー、特に赤外レーザーダイオードによる露出に適している。画像−通りに露出されると発生する熱が（物理−）化学的プロセス、例えば融蝕、重合、ポリマーの架橋による不溶化、分解又は熱可塑性ポリマーラテックスの粒子凝析を開始させ、任意の処理の後に平版印刷画像が得られる。多くの熱的版材料は熱−誘導融蝕に基づいている。融蝕性の版に伴う問題は、除去が困難であり且つ印刷プロセスを撹乱し得るか、又はプレート−セッターの露出光学素子を汚染し得る破壊屑の発生である。結果としてそのような融蝕性版は、露出された材料から破壊屑を除去するための処理段階を必要とする。
【０００５】
特許文献１は、親水性結合剤の画像−記録層、光を熱に変換できる化合物及び疎水性熱可塑性ポリマー粒子を含む画像形成材料を画像−通りに露出し、それによってポリマー粒子の凝集を誘導し、露出された領域を、印刷マスターの印刷領域を区画する疎水性相に転換する方法を開示している。印刷機運転の間に胴に供給される湿し液及びインキとの相互作用により層が現像されるので、追加の処理なしで露出の直後に印刷機運転を開始することができる。印刷機の最初の運転の間に非−露出領域は支持体から除去され、それにより版の非−印刷領域を区画する。従ってこれらの材料の湿式化学的処理は使用者に「隠されて」おり、印刷機の始動の間に行われる。他の先行技術の文書、例えば特許文献１及び特許文献２は、水又は水性液を用いる類似の材料の（オフ−プレス）現像を記載している。
【０００６】
ＣｔＦ及びＣｔＰ法の両方において、現像された印刷版をいわゆるゴム−溶液で処理するのが通例である。ゴム溶液は、スカム形成又はトーニング、すなわち指紋、脂肪、油又は塵埃による汚染の故の非−印刷領域におけるインキ−受容から版を保護できる水性液である。多くの場合、ゴム溶液は酸化的汚染から又は版の取り扱い、例えば画像修正、保存又は印刷機の版胴上への搭載の間のスクラッチの発生に対しても版を保護する。ベーキング（ｂａｋｉｎｇ）ゴムと呼ばれる特殊な型のゴム溶液はベーキング段階の間に版を保護するために用いられる。ベーキング段階は、印刷の間のランレングスを増加させるための版の加熱を含む。
【特許文献１】
ＥＰ−Ａ  ７７０  ４９４
【特許文献２】
ＵＳ  ６，００１，５３６
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記から、典型的な版−作製法が多くの段階：画像どおりの露出、現像、ゴム引き及びベーキングを含むことが明らかである。従って本発明の目的は、これらの段階のいくつかを1つの操作に併合することができる版−作製法を提供することである。
【０００８】
［発明の概略］
請求項１の方法は、現像段階とゴム引き段階が1つの処理に併合されている版−作製法を提供する。本発明に従うと、熱可塑性ポリマーの熱−誘導粒子凝集の機構に従って働く感熱性平版印刷版前駆体をゴム溶液により現像する。本発明の好ましい態様に関する特定の特徴を従属クレイムにおいて示す。本発明のさらなる利点及び態様は、以下の記述から明らかになるであろう。
【０００９】
［発明の詳細な記述］
ゴム溶液は典型的には、汚染又は損傷に対して印刷版の平版印刷画像を保護することができる１種もしくはそれより多い表面保護化合物を含む水性液である。そのような化合物の適した例はフィルム−形成性親水性ポリマー又は界面活性剤である。ゴム溶液を用いる処理の後に版上に残る層は、好ましくは０．１〜２０ｇ／ｍ2の表面保護化合物を含む。
【００１０】
ゴム溶液は通常濃厚溶液として供給され、それは末端使用者により使用前に水で希釈される。本発明において他にことわらなければ、ゴム溶液中に存在する化合物のすべての濃度を、非−希釈ゴム溶液に対する重量パーセンテージ（重量％）として表す。
【００１１】
ゴム溶液中で保護化合物として用いるために好ましいポリマーはアラビアゴム、プルラン、セルロース誘導体、例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース又はメチルセルロース、（シクロ）デキストリン、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニルピロリドン）、多糖類、アクリル酸、メタクリル酸もしくはアクリルアミドのホモ−及びコポリマー、ビニルメチルエーテルと無水マレイン酸のコポリマー、酢酸ビニルと無水マレイン酸のコポリマーあるいはスチレンと無水マレイン酸のコポリマーである。非常に好ましいポリマーは、カルボン酸、スルホン酸又はホスホン酸基あるいはそれらの塩を含有するモノマー、例えば（メタ）アクリル酸、酢酸ビニル、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸又はアクリルアミドプロパンスルホン酸のホモ−もしくはコポリマーである。
【００１２】
表面保護剤として用いるための界面活性剤の例にはアニオン性もしくは非イオン性界面活性剤が含まれる。ゴム溶液は、表面保護剤としての上記の親水性ポリマーの１種もしくはそれより多くならびにさらにコーティングされた層の表面性を向上させるための１種もしくはそれより多い界面活性剤を含むこともできる。ゴム溶液の表面張力は好ましくは４０〜５０ｍＮ／ｍである。
【００１３】
アニオン性界面活性剤の例には、アリフェート（ａｌｉｐｈａｔｅｓ）、アビエテート、ヒドロキシアルカンスルホネート、アルカンスルホネート、ジアルキルスルホスクシネート、直鎖状アルキルベンゼンスルホネート、分枝鎖状アルキルベンゼンスルホネート、アルキルナフタレンスルホネート、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホネート、ポリオキシエレチンアルキルスルホフェニルエーテルの塩、ナトリウム  Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウレート、モノアミド  ジナトリウム  Ｎ−アルキルスルホスクシネート、石油スルホネート、硫酸化ひまし油（ｓｕｌｆａｔｅｄ  ｃａｓｔｏｒ  ｏｉｌ）、硫酸化牛脂（ｓｕｌｆａｔｅｄ  ｔａｌｌｏｗ  ｏｉｌ）、脂肪族アルキルエステルの硫酸エステルの塩、アルキル硫酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルの硫酸エステル、脂肪族モノグリセリドの硫酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの硫酸エステルの塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルの硫酸エステルの塩、アルキルリン酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルのリン酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルのリン酸エステルの塩、スチレン無水マレイン酸コポリマーの部分的けん化化合物、オレフィン−無水マレイン酸コポリマーの部分的けん化化合物ならびにナフタレンスルホネートホルマリン縮合物が含まれる。これらのアニオン性界面活性剤の中で特に好ましいのはジアルキルスルホスクシネート、アルキル硫酸エステルの塩及びアルキルナフタレンスルホネートである。
【００１４】
適したアニオン性界面活性剤の特定の例にはドデシルフェノキシベンゼンジスルホン酸ナトリウム、アルキル化ナフタレンスルホネートのナトリウム塩、メチレン−ジナフタレン−ジスルホン酸ジナトリウム、ドデシル−ベンゼンスルホン酸ナトリウム、スルホン化アルキル−ジフェニルオキシド、ペルフルオロアルキルスルホン酸アンモニウムもしくはカリウム及びジオクチル−スルホコハク酸ナトリウムが含まれる。
【００１５】
非イオン性界面活性剤の適した例にはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、グリセリン脂肪族酸の部分的エステル、ソルビタン脂肪族酸の部分的エステル、ペンタエリトリトール脂肪族酸の部分的エステル、プロピレングリコールモノ脂肪族エステル、スクロース脂肪族酸の部分的エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪族酸の部分的エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪族酸の部分的エステル、ポリエチレングリコール脂肪族エステル、ポリ−グリセリン脂肪族酸の部分的エステル、ポリオキシエチレン化ひまし油、ポリオキシエチレングリセリン脂肪族酸の部分的エステル、脂肪族ジエタノールアミド、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪族エステル及びトリアルキルアミンオキシドが含まれる。これらの非イオン性界面活性剤の中で特に好ましいのはポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル及びポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマーである。さらに、フッ素性及びケイ素性アニオン性及び非イオン性界面活性剤を同様に用いることができる。
【００１６】
上記の界面活性剤の２種もしくはそれより多くを組み合わせて用いることができる。例えば２種もしくはそれより多いアニオン性界面活性剤の組合せ又はアニオン性界面活性剤と非イオン性界面活性剤の組合せが好ましいかもしれない。そのような界面活性剤の量は特定的に制限されないが、好ましくは０．０１〜２０重量％である。
【００１７】
ゴム溶液は好ましくは３〜８、より好ましくは５〜８のｐＨを有する。ゴム溶液のｐＨは通常、０．０１〜２重量％の量の無機酸、有機酸又は無機塩を用いて調整される。無機酸の例には硝酸、硫酸、リン酸及びメタリン酸が含まれる。特に有機酸はｐＨ調節剤として及び減感剤として用いられる。有機酸の例にはカルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸又はそれらの塩、例えばスクシネート、ホスフェート、ホスホネート、サルフェート及びスルホネートが含まれる。有機酸の特定の例にはクエン酸、酢酸、シュウ酸、マロン酸、ｐ−トルエンスルホン酸，酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、フィチン酸及び有機ホスホン酸が含まれる。無機塩の例には硝酸マグネシウム、一塩基性リン酸ナトリウム、二塩基性リン酸ナトリウム、硫酸ニッケル、ヘキサメタリン酸ナトリウム及びトリポリリン酸ナトリウムが含まれる。他の無機塩、例えば硫酸マグネシウム又は硝酸亜鉛を腐食抑制剤として用いることができる。無機酸、有機酸又は無機塩を単独であるいはそれらの１つもしくはそれより多くと組み合わせて用いることができる。
【００１８】
前記の成分の他に、湿潤剤、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン及びジグリセリンもゴム溶液中に存在することができる。湿潤剤を単独であるいはそれらの１つもしくはそれより多くと組み合わせて用いることができる。一般に前記の湿潤剤は、好ましくは１〜２５重量％の量で用いられる。
【００１９】
さらにキレート化合物がゴム溶液中に存在することができる。希釈水中に含有されるカルシウムイオン及び他の不純物は印刷に悪影響を有し、かくして印刷物の汚染を引き起こし得る。希釈水にキレート化合物を加えることによりこの問題を取り除くことができる。そのようなキレート化合物の好ましい例には有機ホスホン酸又はホスホノアルカントリカルボン酸が含まれる。特定の例はエチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸及びアミノトリ（メチレンホスホン酸）のカリウムもしくはナトリウム塩である。これらのキレート化剤のこれらのナトリウムもしくはカリウム塩の他に、有機アミン塩が有用である。加えられるべきそのようなキレート化剤の好ましい量は、希釈された形態におけるゴム溶液に対して０．００１〜１．０重量％である。
【００２０】
さらに、防腐剤及び消泡剤がゴム溶液中に存在することができる。そのような防腐剤の例にはフェノール、その誘導体、ホルマリン，イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−３−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、第４級アンモニウム塩、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、グアニジン誘導体、ジアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール及びオキサジン誘導体が含まれる。加えられるべきそのような防腐剤の好ましい量は、それがバクテリア、菌・カビ、酵母などに安定した効果を及ぼすことができる量である。バクテリア、菌・カビ及び酵母の種類に依存するが、それは好ましくは希釈された形態におけるゴム溶液に対して０．０１〜４重量％である。さらに、種々の菌・カビ及びバクテリアに防腐効果を及ぼすために、好ましくは２種もしくはそれより多い防腐剤を組み合わせて用いることができる。消泡剤は好ましくはシリコーン消泡剤である。これらの消泡剤の中で、エマルション分散液型又は可溶化型のいずれかの消泡剤を用いることができる。加えられるべきそのような消泡剤の適した量は、希釈された形態におけるゴム溶液に対して０．００１〜１．０重量％である。
【００２１】
前記の成分の他に、必要ならインキ受容剤がゴム溶液中に存在することができる。そのようなインキ受容剤の例にはターペンタイン油、キシレン、トルエン、低ヘプタン（ｌｏｗ  ｈｅｐｔａｎｅ）、ソルベントナフサ、灯油、ミネラルスピリット、炭化水素、例えば約１２０℃〜約２５０℃の沸点を有する石油留分、ジエステルフタレート類（例えばフタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ（２−エチルヘキシル）、フタル酸ジノニル、フタル酸ジデシル、フタル酸ジラウリル、フタル酸ブチルベンジル），脂肪族二塩基性エステル類（例えばアジピン酸ジオクチル、アジピン酸ブチルグリコール、アゼライン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ（２−エチルヘキシル）、セバシン酸ジオクチル）、エポキシド化トリグリセリド類（例えばエポキシ大豆油）、エステルホスフェート類（例えばリン酸トリクレシル、リン酸トリオクチル，リン酸トリスクロロエチル）ならびに１気圧において１５℃もしくはそれ未満の凝固点及び３００℃かそれより高い沸点を有する可塑剤、例えばベンゾエートのエステル（例えば安息香酸ベンジル）が含まれる。これらの溶媒と組み合わせて用いることができる他の溶媒の例にはケトン類（例えばシクロヘキサノン）、ハロゲン化炭化水素（例えばエチレンジクロリド）、エチレングリコールエーテル類（例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル）、脂肪族酸（例えばカプロン酸、エナナト酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸，ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラセリン酸、イソ吉草酸）ならびに不飽和脂肪族酸（例えばアクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ウンデシル酸、オレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エルカ酸、ブテシジン酸（ｂｕｔｅｃｉｄｉｃ  ａｃｉｄ）、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、プロピオル酸、ステアロル酸、クルパノドン酸、タリリン酸（ｔａｒｉｒｉｃ  ａｃｉｄ）、リカン酸（ｌｉｃａｎｉｃ  ａｃｉｄ））が含まれる。好ましくは、それは５０℃の温度で液体である脂肪族酸、より好ましくは５〜２５個の炭素原子、最も好ましくは８〜２１個の炭素原子を有する脂肪族酸である。インキ受容剤は単独で、あるいはそれらの１つもしくはそれより多くと組み合わせて用いられ得る。インキ受容剤は好ましくは０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．０５〜５重量％の量で用いられる。前記のインキ受容剤は水中油型エマルションとして存在することができるか、あるいは可溶化剤により可溶化されていることができる。
【００２２】
粘度上昇化合物、例えば１０5〜１０7の分子量を有するポリ（エチレンオキシド）のような粘度上昇化合物の添加により、ゴム溶液の粘度を例えば１．７〜５ｃｐの値に調整することができる。そのような化合物は０．０１〜１０ｇ／ｌの濃度で存在することができる。
【００２３】
ベーキングゴムは上記と類似の組成を有し、通常のベーキング温度（ｂａｋｅｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓ）で蒸発しない化合物がさらに好ましい。適したベーキングゴム溶液の特定の例は、例えばＥＰ−Ａ  ２２２  ２９７、ＥＰ−Ａ  １  ０２５  ９９２、ＤＥ−Ａ  ２  ６２６  ４７３及びＵＳ  ４，７８６，５８１に記載されている。
【００２４】
本発明の方法で用いられる平版印刷版前駆体はネガティブ作用性であり、露出及び非−露出領域においてそれぞれ疎水性及び親水性領域から成る平版印刷画像を現す。親水性領域は、親水性表面を有するか、又は親水性層が設けられている支持体により区画される。支持体は版のようなシート−様材料であることができるか、あるいはそれは、印刷機の印刷胴の回りで滑ることができるスリーブのような円筒状要素であることができる。好ましくは、支持体はアルミニウム又はステンレススチールのような金属支持体である。
【００２５】
特に好ましい平版支持体は電気化学的に研磨され且つ陽極酸化されたアルミニウム支持体である。陽極酸化されたアルミニウム支持体を処理してその表面の親水性を向上させることができる。例えばアルミニウム支持体を高められた温度、例えば９５℃でケイ酸ナトリウム溶液を用いてその表面を処理することによりケイ酸塩化することができる。あるいはまた、リン酸塩処理を施すことができ、それは酸化アルミニウム表面をリン酸塩溶液で処理することを含み、リン酸塩溶液はさらに無機フッ化物を含有していることができる。さらに酸化アルミニウム表面をクエン酸又はクエン酸塩溶液で濯ぐことができる。この処理は室温で行うことができるか、又は約３０〜５０℃のわずかに高められた温度で行うことができる。さらに興味深い処理は酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶液で濯ぐことを含む。さらに、酸化アルミニウム表面をポリビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン酸、ポリビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニルスルホン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビニルアルコールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族アルデヒドとの反応により生成するポリビニルアルコールのアセタールを用いて処理することができる。これらの後処理の１つ又はそれより多くを単独で又は組み合わせて行うことができることはさらに明らかである。これらの処理のもっと詳細な記載はＧＢ−Ａ−１  ０８４  ０７０、ＤＥ−Ａ−４  ４２３  １４０、ＤＥ−Ａ−４  ４１７  ９０７、ＥＰ−Ａ−６５９  ９０９、ＥＰ−Ａ−５３７  ６３３、ＤＥ−Ａ−４  ００１  ４６６、ＥＰ−Ａ−２９２  ８０１、ＥＰ−Ａ−２９１  ７６０及びＵＳ−Ｐ−４  ４５８  ００５に示されている。
【００２６】
他の態様に従うと、支持体は下記で「ベース層」と呼ばれる親水性層が設けられていることができる柔軟性支持体であることもできる。柔軟性支持体は例えば紙、プラスチックフィルム又はアルミニウムである。プラスチックフィルムの好ましい例はポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルムなどである。プラスチックフィルム支持体は不透明又は透明であることができる。
【００２７】
ベース層は好ましくはホルムアルデヒド、グリオキサール、ポリイソシアナート又は加水分解されたテトラ−アルキルオルトシリケートのような硬膜剤を用いて架橋された親水性結合剤から得られる架橋された親水性層である。後者が特に好ましい。親水性ベース層の厚さは０．２〜２５μｍの範囲内で変わることができ、好ましくは１〜１０μｍである。ベース層の好ましい態様のさらなる詳細は例えばＥＰ−Ａ  １  ０２５  ９９２において見出され得る。
【００２８】
支持体上に設けられるコーティングは画像−記録層を含み、それは疎水性熱可塑性ポリマー粒子を含有する。適した疎水性ポリマーの特定の例は、例えばポリエチレン、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（メチル（メタ）アクリレート）、ポリ（エチル（メタ）アクリレート）、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（メタ）アクリロニトリル、ポリ（ビニルカルバゾール）、ポリスチレン又はそれらのコポリマーである。ポリスチレン及びポリ（メタ）アクリロニトリル又はそれらの誘導体が非常に好ましい態様である。そのような好ましい態様に従うと、熱可塑性ポリマーは少なくとも５０重量％のポリスチレン、より好ましくは少なくとも６０重量％のポリスチレンを含む。版のクリーナー中で用いられる炭化水素のような有機化学品に対する十分な抵抗性を得るために、熱可塑性ポリマーは好ましくは少なくとも５重量％、より好ましくは少なくとも３０重量％の窒素含有モノマー単位又は２０より高い溶解パラメーターを特徴とするモノマーに対応する単位、例えば（メタ）アクリロニトリルを含む。そのような窒素含有モノマー単位の適した例は、２００１年１１月２３日に申請されたヨーロッパ特許出願番号０１０００６５７に開示されている。
【００２９】
最も好ましい態様に従うと、熱可塑性ポリマーは、１：１〜５：１（スチレン：アクリロニトリル）の重量比、例えば２：１の比率におけるスチレン及びアクリロニトリル単位から成るコポリマーである。
【００３０】
熱可塑性ポリマー粒子の重量平均分子量は５，０００〜１，０００，０００ｇ／モルの範囲であることができる。疎水性粒子は好ましくは２００ｎｍ未満、より好ましくは１０〜１００ｎｍの数平均粒径を有する。画像−記録層中に含有される疎水性熱可塑性ポリマー粒子の量は、好ましくは２０重量％〜６５重量％、より好ましくは２５重量％〜５５重量％、最も好ましくは３０重量％〜４５重量％である。
【００３１】
疎水性熱可塑性ポリマー粒子は画像−記録層の水性コーティング液中の分散液として存在し、ＵＳ  ３，４７６，９３７に開示されている方法により調製され得る。熱可塑性ポリマー粒子の水性分散液の調製のために特に適した他の方法は：
−疎水性熱可塑性ポリマーを有機性の水非混和性溶媒中に溶解し、
−かくして得られる溶液を水又は水性媒体中に分散させ、
−蒸発により有機溶媒を除去する
ことを含む。
【００３２】
画像−記録層は好ましくは親水性結合剤、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマーあるいは無水マレイン酸／ビニルメチルエーテルコポリマーを含む。用いられる（コ）ポリマー又は（コ）ポリマー混合物の親水度は好ましくは、少なくとも６０重量パーセント、好ましくは８０重量パーセントの程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と同じか又はそれより高い。
【００３３】
画像−記録層は他の成分、例えば追加の結合剤、界面活性剤、着色剤、現像抑制剤又は促進剤ならびに特に赤外光を熱に変換できる１種もしくはそれより多い化合物も含有することができる。特に有用な光から熱への変換化合物は、例えば赤外染料、カーボンブラック、金属炭化物、ホウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロンズ−構造酸化物及び導電性ポリマー分散液、例えばポリピロール、ポリアリニン又はポリチオフェン分散液である。着色剤は好ましくは、処理後に可視画像を与える染料又は顔料である。
【００３４】
コーティングは、画像−記録層に隣接して１つもしくはそれより多い追加の層を含有することもできる。そのような追加の層は、例えば画像−記録層と支持体の間の接着−促進層；あるいは赤外光を熱に変換できる上記の化合物の１種もしくはそれより多くを含む光−吸収層；あるいはゴム溶液を用いる処理の間に除去されるカバー層であることができる。
【００３５】
本発明において用いられる印刷版前駆体は、例えばサーマルヘッド、ＬＥＤｓ又は赤外レーザーにより熱に、又は赤外光に露出される。好ましくは、約７００〜約１５００ｎｍの範囲内の波長を有する近赤外光を発するレーザー、例えば半導体レーザーダイオード、Ｎｄ：ＹＡＧ又はＮｄ：ＹＬＦレーザーが用いられる。必要なレーザー出力は、画像−記録層の感度、スポット直径（最大強度の１／ｅ2における近代的プレート−セッターの典型的な値：１０〜２５μｍ）により決定されるレーザービームの画素滞留時間、走査速度及び露出装置の解像度（すなわち多くの場合にインチ当たりのドット又はｄｐｉで表される直線距離の単位当たりのアドレス可能な（ａｄｄｒｅｓｓａｂｌｅ）画素の数；典型的な値：１０００〜４０００ｄｐｉ）に依存する。２つの型のレーザー−露出装置：内部（ＩＴＤ）及び外部ドラム（ＸＴＤ）プレート−セッターが通常用いられる。熱的版のためのＩＴＤプレート−セッターは、典型的には最高で５００ｍ／秒の非常に高い走査速度を特徴とし、数ワットのレーザー出力を必要とし得る。約２００ｍＷ〜約１Ｗの典型的なレーザー出力を有する熱的版のためのＸＴＤプレート−セッターは、例えば０．１〜１０ｍ／秒のもっと低い走査速度で働く。
【００３６】
露出段階の間に発生する熱の故に、疎水性熱可塑性ポリマー粒子は溶融又は凝析し、印刷版の印刷領域に相当する疎水性相を形成する。凝析は、熱可塑性ポリマー粒子の熱−誘導凝集、軟化又は融解から生じ得る。熱可塑性疎水性ポリマー粒子の凝析温度に特定の上限はないが、温度はポリマー粒子の分解温度より十分に低くなければならない。好ましくは、凝析温度はポリマー粒子の分解が起こる温度より少なくとも１０℃低い。凝析温度は好ましくは５０℃より高く、より好ましくは１００℃より高い。
【００３７】
現像段階にゴムもしくはベーキングゴム溶液の供給により、本質的に露出領域を除去することなく、すなわち露出領域のインキ−受容性を許容できないものとする程度まで露出領域に影響を与えずに、画像−記録層の非−露出領域が除去される。ゴムもしくはベーキングゴムの供給による現像を、例えば回転ブラシによる機械的こすり（ｒｕｂｂｉｎｇ）と組み合わせることができる。ゴムもしくはベーキングゴム溶液を、例えば含浸されたパッドを用いてこすり込むことにより、浸漬、（スピン−）コーティング、スプレー噴霧、手もしくは自動処理装置で注ぐことにより版に適用することができる。ベーキングゴム溶液の適用後、版をベーキングの前に乾燥することができるか、あるいはベーキングプロセス自身の間に乾燥する。ベーキングプロセスは熱可塑性ポリマー粒子の凝析温度より高い温度、例えば１００℃〜２３０℃において、５〜４０分間行うことができる。例えば露出され且つ現像された版を２３０℃の温度で５分間、１５０℃の温度で１０分間又は１２０℃の温度で３０分間ベーキングすることができる。ベーキングは通常の熱風炉中で、又は赤外もしくは紫外スペクトルを発するランプを用いる照射により行われ得る。
【００３８】
【実施例】
比較実施例
電気化学的に研磨され且つ陽極酸化されたアルミニウム基質上に、水性コーティング溶液から３０ｇ／ｍ2の湿潤厚さで画像−記録層をコーティングした。乾燥後、画像−記録層はアニオン性湿潤剤で安定化された６００ｍｇ／ｍ2の７０ｎｍの平均粒度を有するポリスチレン粒子、６０ｍｇ／ｍ2の赤外吸収染料Ｉ、１２０ｍｇ／ｍ2のポリアクリル酸（Ａｌｌｉｅｄ  ＣｏｌｌｏｉｄｓからのＧｌａｓｃｏｌ  Ｄ１５、分子量  ２．７ｘ１０7ｇ／モル）及び８０ｍｇ／ｍ2のブルーコントラスト染料ＩＩから成った。
【００３９】
【化１】
0004286027.tif 000002
【００４０】
かくして得られた版前駆体を、３３０ｍＪ／ｃｍ2及び１５０ｒｐｍで運転されるＣｒｅｏ  Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（ＣｒｅｏＳｃｉｔｅｘ，Ｂｕｒｎａｂｙ，Ｃａｎａｄａから入手可能なプレート−セッター）を用いて露出した。次いで材料をＡｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ  Ｎ．Ｖ．，Ｍｏｒｔｓｅｌ，Ｂｅｌｇｉｕｍから入手可能なＨＷＰ４５０処理装置において水を用いて現像した。現像後、２７０℃の温度における炉中で２分間、版をベーキングした。
【００４１】
次いで版をＨｅｉｄｅｌｂｅｒｇｅｒ  Ｄｒｕｃｋｍａｓｃｈｉｎｅｎ  ＡＧ，Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ，Ｇｅｒｍａｎｙから入手可能なＧＴＯ４６印刷機上に搭載した。Ｋ＆Ｅ８００インキならびに湿し液としての４％Ｃｏｍｂｉｆｉｘ  ＸＬ及び１０％のイソプロパノールを用いる印刷は、印刷されたシート上における高いレベルのトーニング（非−画像領域におけるインキ受容）を生じた。版のベーキングなしで同じ試験を繰り返し、それはわずかなトーニング及びブランケット上におけるいくらかのインキ付着を生じた。
【００４２】
実施例１
上記と同じ材料をＨＷＰ４５０処理装置において、７７ｍｌ／ｌのＤＯＷＦＡＸ  ３Ｂ２界面活性剤溶液（Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌから入手可能）、１０ｇ／ｌのクエン酸（１液）及び３３ｇ／ｌのクエン酸トリ−ナトリウム（２液）を含有するゴム溶液を用いて処理した。ゴム溶液のｐＨは５．０であり、表面張力は４５ｍＮ／ｍであった。上記のベーキング段階も行った。
【００４３】
上記と同じ印刷試験は、トーニングのない高い質のプリントを生じた。ベーキングされない材料を用いて、ブランケット上におけるインキ付着のない類似の結果が得られた。
【００４４】
実施例２
上記と同じ材料を準備し、但し熱可塑性ポリマー粒子は６０：４０のモル比におけるスチレンとアクリロニトリルから成り、６５ｎｍの平均直径を有した。実施例１におけると同じ露出、現像、ベーキング及び印刷段階を用い、トーニングのない１００，０００枚の印刷コピーのランレングスが得られた。ベーキングされない材料を用いて、ブランケット上におけるインキ付着のない類似の結果が得られた。
【００４５】
実施例３
実施例２におけるとおりに版前駆体を準備し、露出し、次いでＨＷＰ４５０装置を用い、以下の溶液で現像した：
（ｉ）４００ｍｌの１モルＫＨ2ＰＯ4及び６００ｍｌの１モルＮａ2ＨＰＯ4から成る緩衝水溶液（ｐＨ＝７．０）。
（ｉｉ）４６７ｍｌの０．１モルＮａＯＨ及び５００ｍｌの１モルクエン酸モノ−カリウムから成り、１リットルに希釈された緩衝水溶液（ｐＨ＝５．０）。
（ｉｉｉ）７重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液。
（ｉｖ）通常のＵＶ−感受性ネガティブ版のための典型的な現像液である、Ａｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ，Ｍｏｒｔｓｅｌ，Ｂｅｌｇｉｕｍから入手可能な現像液ＥＮ２３２．
（ｖ）８ｍｌ／ｌの上記で特定したＤＯＷＦＡＸ  ３Ｂ２，１ｇ／ｌのクエン酸（１液）及び３ｇ／ｌのクエン酸トリ−ナトリウム（２液）を含有し、５．２５のｐＨ及び４１ｍＮ／ｍの表面張力を有する水性ゴム溶液。
【００４６】
上記のとおりにベーキング及び印刷を行った。現像法（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）及び（ｉｖ）により作製された版は有意なトーニングのある劣ったプリントを生じたが、版（ｖ）はトーニングのない高い質のプリントを生じた。