(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上にそれぞれ多数個が形成されたスキャンラインとデータラインにより決定される画素領域と前記画素領域上に形成された画素電極と、
前記画素電極上に形成された発光層と、
前記発光層を含めた画素領域上に形成されたメタル電極と、
前記発光層をシーリングする平板状のシール・カバー・プレートと、
前記平板状のシール・カバー・プレート上に形成されて熱がよく伝達されるようにする金属薄板と、
前記メタル電極と対向する平板状のシール・カバー・プレートの内面に形成され、前記発光層から水分及び酸素を吸湿するための吸湿剤と、
前記平板状のシール・カバー・プレートの内面に形成され、前記吸湿剤の剥離防止のための半透性膜と、
前記各画素領域に構成されて定義される発光領域の周辺部に前記金属薄板が取り付けられた平板状のシール・カバー・プレートと前記透明基板とを接着させると共に、過熱を防ぐための不活性ガスを注入するようにするための空間を確保するための所定の大きさ以上に形成されたシール剤とを具備し；
前記金属薄板は前記平板状のシール・カバー・プレートと吸湿剤の間に形成され、前記平板状のシール・カバー・プレート全面に接着されることを特徴とする電界発光素子。
【請求項２】
透明基板上にそれぞれ多数個が形成されたスキャンラインとデータラインにより決定される画素領域と前記画素領域上に形成された画素電極と、
前記画素電極上に形成された発光層と、
前記発光層を含めた画素領域上に形成されたメタル電極と、
前記発光層をシーリングする平板状のシール・カバー・プレートと、
前記平板状のシール・カバー・プレート上に形成されて熱がよく伝達されるようにする金属薄板と、
前記メタル電極と対向する平板状のシール・カバー・プレートの内面に形成され、前記発光層から水分及び酸素を吸湿するための吸湿剤と、
前記平板状のシール・カバー・プレートの内面に形成され、前記吸湿剤の剥離防止のための半透性膜と、
前記各画素領域に構成されて定義される発光領域の周辺部に前記金属薄板が取り付けられた平板状のシール・カバー・プレートと前記透明基板とを接着させると共に、過熱を防ぐための不活性ガスを注入するようにするための空間を確保するための所定の大きさ以上に形成されたシール剤とを具備し；
前記金属薄板は前記吸湿剤が形成されなかった前記平板状のシール・カバー・プレートの内面に接着されることを特徴とする電界発光素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電界発光素子に関し、特に熱伝導度を向上させて共に製造工程を単純化することができる電界発光素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近、陰極線管の短所である重さと厚さを減らすことができる平板表示装置が開発されている。このような平板表示装置には液晶表示装置（以下、″ＬＣＤ″という）、電界放出表示装置（Field Emission Display：以下″ＦＥＤ″という）、プラズマディスプレーパネル（Plasma Display Panel：以下″ＰＤＰ″という）及び電界発光素子（Electro Luminescence Device：以下″ＥＬＤ″という）パネルがある。
【０００３】
特にＥＬＤは基本的に正孔輸送層、発光層、電子輸送層とから構成される発光層の両面に電極をつけた形態の物で、広い視野角、高開口率、高色度の特徴を有するために次世代平板表示装置として注目されている。
【０００４】
このようなＥＬＤは使用する材料により大きく無機ＥＬＤと有機ＥＬＤに分類することができる。
【０００５】
有機ＥＬＤは正孔注入電極と電子注入電極の間に形成された有機発光層に電荷を注入すると電子と正孔がペアとなった後に消滅しながら光を発するために無機ＥＬＤに比べて低い電圧で駆動可能であるという長所がある。
【０００６】
また、有機ＥＬＤはプラスティックのように可撓性を有する透明基板の上にも素子を形成することができるだけでなく、ＰＤＰか無機ＥＬＤに比べて１０Ｖ以下の低い電圧で駆動可能で、電力消耗が比較的に小さく、色感が優れる。
【０００７】
前記のようなＥＬＤは駆動方式により受動（Passivation）ＥＬＤと能動（Active  Matrix）ＥＬＤに分けられる。
【０００８】
以下、添付図面を参照して従来の技術のＥＬＤを説明する。
【０００９】
一般的に、ＥＬＤは透明基板上に形成された透明電極と、前記透明電極上に形成された発光層と、前記発光層上に形成されたメタル電極と、前記メタル電極上で前記透明基板に対向するよう接着されたシール・カバー・プレートで構成される。
【００１０】
先に、受動ＥＬＤは透明基板に帯状の形態で一列に配列された透明電極と、前記透明電極を含めた全面に形成された保護膜と、前記保護膜上に正孔輸送層、発光層及び電子輸送層が積層され保護膜と、前記保護膜上に正孔輸送層、発光層及び電子輸送層が積層され形成された発光層と、前記発光層上で前記透明電極と交差して帯模様に形成されたカソード電極と、吸湿剤を含んで半透過性膜に形成された支持膜を付着して形成されたシール・カバー・プレートと、前記透明基板と前記シール・カバー・プレートを対向接着させるのに使用されるシール剤で構成される。
【００１１】
能動ＥＬＤは、図１を参照して説明すると、透明基板（１）上にマトリックス状に画素領域を定義するスキャンライン及びデータラインと、前記スキャンライン及びデータラインの交差部上に形成されたスイッチング素子（２ｂ）と、前記スイッチング素子（２ｂ）と電気的に連結されて画素領域に形成された透明電極（２ａ）と、前記透明電極（２ａ）を含めた全面に形成された保護膜（１０）と、前記保護膜（１０）上に正孔輸送層（３ａ）、発光層（３ｂ）及び電子輸送層（３ｃ）が積層されて形成された発光層（３）と、前記発光層（３）上に形成されたメタル電極（４）と、吸湿剤（８）を含んで半透過性膜に形成された支持膜（９）を取り付けて形成されたシール・カバー・プレート（７）と、前記透明基板（１）とシール・カバー・プレート（７）を対向接着させるのに使用されるシール剤（６）によって構成される。
【００１２】
スイッチング素子（２ｂ）は薄膜トランジスタで構成される。ここで、透明電極（２ａ）は陽極で使用され、メタル電極（４）は陰極で使用される。
【００１３】
この時、シール・カバー・プレート（７）と透明基板（１）は窒素、アルゴン等の非活性気体で密閉されたところで一般的なエンキャプシュレーションによりエポキシ樹脂のようなシール剤（６）を間に置いて接着する。
【００１４】
しかし、ＥＬＤと発光層（３）と金属を材料にしたメタル電極（４）は湿気か空気中の酸素と反応して容易に酸化されるために素子において劣化現象を生じる。
【００１５】
従って、吸湿剤（８）を使用して水分を除いて、不活性気体の下でシール・カバー・プレート（７）と透明基板（１）は接着剤により接合される。この時、シール・カバー・プレート（７）と透明基板（１）の接合により形成された空間には非活性気体である窒素（Ｎ２）が注入される。
【００１６】
ここで、シール・カバー・プレート（７）はガラス、プラスティックを材料にして形成される。そして、吸湿剤（８）としては酸化バリウム（BaO）、炭酸カルシウム（CaCO3）、ゼオライト、シリカーゲル、アルミナの微細粉末を使用して、前記粉末をシール・カバー・プレート（７）に含んで紙かテフロンの支持膜（９）を取り付けて使用する。ただ、吸湿剤（８）は平坦に等しく形成されるのが重要である。
【００１７】
しかし、ＥＬＤのパネルの駆動時に熱が発生するが、金属キャニスターかガラスを利用した従来のシール・カバー・プレート（７）は熱を容易に放出しないのでパネルが高温になり、素子の特性を低下させる。また金属キャニスターを使用してもパネルの面積が大きくなるとパネルの中央で発生する熱を放出することができないので、パネルの温度上昇により素子の特性が低下する問題点がある。
【００１８】
また、５″級以上のディスプレーを製作する時には、金属キャニスターには機械的および化学的な保護のために、薄いシール・カバー・プレートが適用される。
【００１９】
このような薄いシール・カバー・プレートは熱伝導度が低いためにＥＬ素子発光時に発生する熱を放出することができず、発生した熱は窒素ガスが充鎮された状態で熱伝導度が低い薄板に累積され、また完全に接合剤を通して密封された状態でこの熱が残存する。このような熱によってＥＬ素子の温度が上昇する問題点が発生する。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は熱伝導度を向上させ、共に製造工程を単純化することができる電界発光素子を提供することである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するために、本発明による電界発光素子は、透明基板上にそれぞれ多数個が形成されたスキャンラインとデータラインにより定義される画素領域と前記画素領域上に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された発光層と、前記発光層を含めた画素領域上に形成されたメタル電極と、前記発光層をシーリングするシール・カバー・プレートと、前記各画素領域に構成されて定義される発光領域の周辺部に前記シール・カバー・プレートと前記透明基板を接着するシール剤と、前記メタル電極の上に形成された熱放出層とを具備する。
【００２２】
好ましくは、シール・カバー・プレートと熱放出層の間に保護膜を更に具備する。
【００２３】
好ましくは、メタル電極と対向するシール・カバー・プレートの内面には前記発光層から水分及び酸素を吸湿するための吸湿剤を更に具備する。
【００２４】
好ましくは、また吸湿剤が前記発光層に剥離防止のための半透性膜を更に具備する。
【００２５】
本発明による異なる電界放出素子は、透明基板上にそれぞれ多数個が形成されたスキャンラインとデータラインにより定義される画素領域と、前記画素領域上に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された発光層と、前記発光層を含めた画素領域上に形成されたメタル電極と、前記発光層をシーリングするシール・カバー・プレートと、前記各画素領域に構成されて定義される発光領域の周辺部に前記シール・カバー・プレートと前記透明基板を接着するシール剤と、前記カバープレート上に形成された熱放出層とを具備する。
【００２６】
本発明によるまた異なる電界放出素子は、透明基板上にそれぞれ多数個が形成されたスキャンラインとデータラインにより定義される画素領域と、前記画素領域上に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された発光層と、前記発光層を含めた画素領域上に形成されたメタル電極と、前記メタル電極が露出されないようメタル電極上に形成された保護膜と、前記保護膜上に形成された熱放出層とを具備する。
【００２７】
本発明によるまた異なる電界放出素子は、透明基板上にそれぞれ多数個が形成されたスキャンラインとデータラインにより決定される画素領域と前記画素領域上に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された発光層と、前記発光層を含めた画素領域上に形成されたメタル電極と、前記発光層をシーリングするシール・カバー・プレートと、前記シール・カバー・プレート上に形成されて熱がよく伝達されるようにする金属薄板と、前記各画素領域に構成されて定義される発光領域の周辺部に前記金属薄板が取り付けられたシール・カバー・プレートと前記透明基板を接着させると共に過熱を防ぐための不活性ガスを注入するようにするための空間を確保するための所定の大きさ以上に形成されたシール剤とを具備する。
【００２８】
金属薄板は前記シール・カバー・プレートと吸湿剤の間に形成され、前記シール・カバー・プレート全面に接着されていてもよい。
【００２９】
好ましくは、上記電界発光素子において、異なる金属薄板は前記吸湿剤が形成されない前記シール・カバー・プレート上に接着されている。
【００３０】
また、前記金属薄板は前記吸湿剤とシール剤が形成されない前記シール・カバー・プレート上に接着されたものであってもよい。
【００３１】
【作用】
本発明による電界発光素子は熱伝導度が優れ、表面エネルギが低い金属薄膜を平面シール・カバー・プレート上に形成して、シール・カバー・プレートの内部または外側に熱伝導度がよいカーボン系の材料又はその他熱伝導度がよい物質を熱放出層に形成してＥＬＤのパネル駆動時に発生する熱の放出を容易にし、素子の過熱を防いで信頼性を向上させる。
【００３２】
【発明の実施態様】
以下に、図２ないし図８を参照して本発明の好ましい実施例について説明する。
図２は本発明の第１実施例による能動ＥＬＤのシーリング断面図である。
図２に示すように、ＥＬＤは透明基板（１１）上にマトリックス状に形成されて画素領域を定義するスキャンライン及びデータラインと、前記スキャンライン及びデータラインの交差部上に形成されたスイッチング素子（１２ｂ）と、前記スイッチング素子（１２ｂ）と電気的に連結されて画素領域に形成された画素電極（１２ａ）と、前記画素電極（１２ａ）を含めた全面に形成された保護膜（２０）と、前記保護膜（２０）上に正孔輸送層（１３ａ）、発光層（１３ｂ）及び電子輸送層（１３ｃ）が積層されて形成された発光層（１３）と、前記発光層（１３）上に形成されたメタル電極（１４）と、吸湿剤（１８）を含んで反透過性膜に形成された支持膜（１９）を取り付けて形成されたシール・カバー・プレート（１７）と、前記透明基板（１１）とシール・カバー・プレート（１７）を対向接着させるのに使用されるシール剤（１６）によって構成される。この時、スイッチング素子（１２ｂ）は薄膜トランジスタで構成される。ここで、画素電極（１２ａ）は陽極として使用され、メタル電極（１４）は陰極として使用される。
【００３３】
この時、シール・カバー・プレート（１７）と透明基板（１１）は窒素、アルゴン等の非活性気体で密閉し、一般的なエンキャプシュレーションによりエポキシ樹脂のようなシール剤（１６）を間に置いて接着する。
【００３４】
メタル電極（１４）が露出しないようさらに熱放出層を形成するが、メタル電極（１４）と熱放出層（２１）の間に保護膜が更に形成してもよく、メタル電極（１４）が露出しないようさらに保護膜を形成してもよい。
【００３５】
吸湿剤（１８）を使用して水分を除いて、不活性気体の下でシール・カバー・プレート（１７）と透明基板（１１）は接合して前記シール・カバー・プレート（１７）と透明基板（１１）の間に非活性気体を封じ込めるようにする。
【００３６】
保護膜（１５）は吸湿層と、防湿層の中のいずれか一つと、前記２層が積層された多層構造で形成される。
【００３７】
熱放出層（２１）はカーボン系材料或いはその他、熱伝導度がよい物質を蒸着、コーティング、テープリングして形成する。カーボン系材料はＤＬＣ、ａ−Ｃ：Ｈ、グラファイト、カーボンフィルム、カーボンシートを使用することができる。
【００３８】
ここで、シール・カバー・プレート（１７）はガラス、プラスティックを材料にして形成される。そして、吸湿剤（１８）としては酸化バリウム（BaO）、炭酸カルシウム（CaCO3）、ゼオライト、シリカゲル、アルミナの微細粉末を使用して、前記粉末をシール・カバー・プレート（１７）に含んで紙かテフロン（登録商標）の支持膜（１９）を取り付けて使用する。この時、吸湿剤（１８）は平坦に等しく形成される。
【００３９】
前記のようなＥＬＤの製造方法を以下に記載する。
透明基板（１１）上にＩＴＯ透明電極に画素電極（１２ａ）を形成して、正孔輸送層（１３ａ）、発光層（１３ｂ）及び電子輸送層（１３ｃ）を順番に積層して発光層（１３）を形成して、メタル電極（１４）と、前記メタル電極（１４）上に吸湿層と、防湿層の中のいずれか一つ以上に形成された保護膜（１５）、熱放出層（２１）を順番に形成する。続いて、吸湿剤（１８）が支持膜（１９）により支持されているシール・カバー・プレート（１７）をエポキシ樹脂のシール剤（１６）を利用して透明基板（１１）に取り付ける。
【００４０】
図３は本発明の第２実施例による能動ＥＬＤのシーリング断面図である。
図３に示すように、熱放出層（２１）がメタル電極（１４）部に形成されるのではなく、前記シール・カバー・プレート（１７）の上に形成されて、残りの構成は図２で説明したことと同一である。
【００４１】
この時、メタル電極（１４）が露出しないよう熱放出層を更に形成してもよく、前記メタル電極（１４）と熱放出層（２１）の間に保護膜を更に形成してもよく、前記メタル電極（１４）が露出しないよう保護膜を更に形成してもよい。
【００４２】
保護膜（１５）は吸湿層と、防湿層の中のいずれか一つからなる単層構造か、前記２層が積層された多層構造で形成される。
【００４３】
熱放出層（２１）はカーボン系材料或いはその他、熱伝導度がよい物質を蒸着、コーティング、テープリングして形成する。カーボン系材料はＤＬＣ、ａ−Ｃ：Ｈ、グラファイト、カーボンフィルム、カーボンシートを使用することができる。
【００４４】
ここで、シール・カバー・プレート（１７）はガラス、プラスティックを材料にして形成される。そして、吸湿剤（１８）としては酸化バリウム（BaO）、炭酸カルシウム（CaCO3）、ゼオライト、シリカゲル、アルミナの微細粉末を使用して、前記粉末をシール・カバー・プレート（１７）に含んで紙かテフロン（登録商標）の支持膜（１９）を取り付けて使用する。この時、吸湿剤（１８）は平坦に均一に形成する。
【００４５】
吸湿剤（１８）を使用して水分を除いて、不活性気体の下でシール・カバー・プレート（１７）と透明基板（１１）は接合して前記シール・カバー・プレート（１７）と透明基板（１１）の間に非活性気体を封じ込める。
【００４６】
前記のＥＬＤの製造方法を以下に示す。
透明基板（１１）上にＩＴＯ透明電極に画素電極（１２ａ）を形成して、正孔輸送層（１３ａ）、発光層（１３ｂ）及び電子輸送層（１３ｃ）を順番に積層して発光層（１３）を形成して、メタル電極（１４）と、前記メタル電極（１４）上に吸湿層と、防湿層の中のいずれか一つ以上に形成された保護膜（１５）、熱放出層（２１）を順番に形成する。続いて、吸湿剤（１８）が支持膜（１９）により支持されているシール・カバー・プレート（１７）をエポキシ樹脂のシール剤（１６）を利用して透明基板（１１）に取り付けて、前記シール・カバー・プレート（１７）上に熱放出層（２１）を形成する。
【００４７】
図４は本発明の第３実施例による能動ＥＬＤのシーリング断面図である。
図４に示すように、ＥＬＤは透明基板（１１）上にマトリックス形態で配列されるよう形成されて画素領域を定義するスキャンライン及びデータラインと、前記スキャンライン及びデータラインの交差部上に形成されたスイッチング素子（１２ｂ）と、前記スイッチング素子（１２ｂ）と電気的に連結されて画素領域に形成された画素電極（１２ａ）と、前記画素電極（１２ａ）を含めた全面に形成された保護膜（２０）と、前記保護膜（２０）上に正孔輸送層（１３ａ）、発光層（１３ｂ）及び電子輸送層（１３ｃ）が積層されて形成された発光層（１３）と、前記発光層（１３）上に形成されたメタル電極（１４）と、前記メタル電極（１４）が露出されないようにメタル電極（１４）上に形成された保護膜（１５）と、前記保護膜（１５）が露出されないよう形成された熱放出層（２１）とを具備する。
【００４８】
保護膜（１５）上にだけ熱放出層（２１）を形成することも可能である。
【００４９】
保護膜（１５）は吸湿層と、防湿層の中のいずれか一つからなる単層構造か、前記２層が積層された多層構造で形成される。
【００５０】
熱放出層（２１）はカーボン系材料或いはその他、熱伝導度がよい物質を蒸着、コーティング、テープリングして形成する。カーボン系材料はＤＬＣ、ａ−Ｃ：Ｈ、グラファイト、カーボンフィルム、カーボンシートを使用することができる。
【００５１】
前記のＥＬＤの製造方法を以下に示す。
透明基板（１１）上にＩＴＯ透明電極に画素電極（１２ａ）を形成して、正孔輸送層（１３ａ）、発光層（１３ｂ）及び電子輸送層（１３ｃ）を順番に積層して発光層（１３）を形成して、メタル電極（１４）と、前記メタル電極（１４）上に吸湿層と、防湿層の中のいずれか一つ以上に形成された保護膜（１５）、熱放出層（２１）を順番に形成する。
【００５２】
図５は本発明の第４実施例による能動ＥＬＤのシーリング断面図である。
図５に示すように、ＥＬＤは透明基板（１１）上にマトリックス形態で配列されるよう形成されて画素領域を定義するスキャンライン及びデータラインと、前記スキャンライン及びデータラインの交差部上に形成されたスイッチング素子（１２ｂ）と、前記スイッチング素子（１２ｂ）と電気的に連結されて画素領域に形成された画素電極（１２ａ）と、前記画素電極（１２ａ）を含めた全面に形成された保護膜（２０）と、前記保護膜（２０）上に正孔輸送層（１３ａ）、発光層（１３ｂ）及び電子輸送層（１３ｃ）が積層されて形成された発光層（１３）と、前記発光層（１３）上に形成されたメタル電極（１４）と、前記メタル電極（１４）が露出されないようにメタル電極（１４）上に形成された保護膜（１５）と、前記保護膜（１５）が露出されないよう形成された熱放出層（２１）と、前記熱放出層（２１）上に形成されて、前記発光層（１３）をシーリングするシール・カバー・プレート（１７）、前記画素電極（１２ａ）とメタル電極（１４）が交差してピクセルを形成する発光領域の周辺部に前記シール・カバー・プレート（１７）と前記透明基板（１１）を接着するシール剤（１６）とを具備する。
【００５３】
保護膜（１５）上にだけ熱放出層（２１）を形成することも可能である。
【００５４】
保護膜（１５）は吸湿層と、防湿層の中のいずれか一つの断層構造と、前記２層が積層された多層構造で形成される。
【００５５】
熱放出層（２１）はカーボン系材料或いはその他、熱伝導度がよい物質を蒸着、コーティング、テープリングして形成する。カーボン系材料はＤＬＣ、ａ−Ｃ：Ｈ、グラファイト、カーボンフィルム、カーボンシートを使用することができる。
【００５６】
前記のＥＬＤの製造方法を以下に示す。
透明基板（１１）上にＩＴＯ透明電極に画素電極（１２ａ）を形成して、正孔輸送層（１３ａ）、発光層（１３ｂ）及び電子輸送層（１３ｃ）を順番に積層して発光層（１３）を形成して、メタル電極（１４）と、前記メタル電極（１４）上に吸湿層と、防湿層の中のいずれか一つ以上に形成された保護膜（１５）、熱放出層（２１）を順番に形成する。続いて、シール・カバー・プレート（１７）をエポキシ樹脂のシール剤（１６）を利用して透明基板（１１）に取り付ける。
【００５７】
図６は本発明の第５実施例による能動ＥＬＤのシーリング断面図である。
図６に示すように、ＥＬＤは透明基板（３１）上にマトリックス形態で配列されるよう形成されて画素領域を定義するスキャンライン及びデータラインと、前記スキャンライン及びデータラインの交差部上に形成されたスイッチング素子（３２ｂ）と、前記スイッチング素子（３２ｂ）と電気的に連結されて画素領域に形成された画素電極（３２ａ）と、前記画素電極（３２ａ）を含めた全面に形成された保護膜（４０）と、前記保護膜（４０）上に正孔輸送層（３３ａ）、発光層（３３ｂ）及び電子輸送層（３３ｃ）が積層されて形成された発光層（３３）と、前記発光層（３３）上に形成されたメタル電極（３４）と、前記発光層（３３）をシーリングするように平面に形成されるシール・カバー・プレート（３７）、前記画素電極（３２ａ）とメタル電極（３４）が交差してピクセルを形成する発光領域の周辺部に前記シール・カバー・プレート（３７）と前記透明基板（３１）を接着するシール剤（３６）とを具備する。
【００５８】
シール・カバー・プレート（３７）と透明基板（３１）はエンキャプシュレーションによりエポキシ樹脂のようなシール剤（３６）を間に置いて接着される。
【００５９】
またシール・カバー・プレート（３７）より親水性で、接着性が優れて、熱伝導度が高い金属の薄膜（４１）を更に具備する。
【００６０】
ここで、シール・カバー・プレート（３７）はガラス、プラスティックを材料にして形成される。そして、吸湿剤（３８）としては酸化バリウム（BaO）、炭酸カルシウム（CaCO3）、ゼオライト、シリカーゲル、アルミナの微細粉末を使用して、前記粉末をシール・カバー・プレート（３７）に含んで紙かテフロンの支持膜（３９）を取り付けて使用する。この時、吸湿剤（３８）は平坦に均等に設けられる。
【００６１】
吸湿剤（３８）を使用して水分を除いて、窒素（Ｎ２）ガスのような不活性気体の下でシール・カバー・プレート（３７）と透明基板（３１）は接着することで水分及び酸素による過熱を防ぐ。
【００６２】
図７は本発明の第６実施例による能動ＥＬＤのシーリング断面図である。
図７に示すように、ＥＬＤは透明基板（３１）上にマトリックス形態で配列されるよう形成されて画素領域を定義するスキャンライン及びデータラインと、前記スキャンライン及びデータラインの交差部上に形成されたスイッチング素子（３２ｂ）と、前記スイッチング素子（３２ｂ）と電気的に連結されて画素領域に形成された画素電極（３２ａ）と、前記画素電極（３２ａ）を含めた全面に形成された保護膜（４０）と、前記保護膜（４０）上に正孔輸送層（３３ａ）、発光層（３３ｂ）及び電子輸送層（３３ｃ）が積層されて形成された発光層（３３）と、前記発光層（３３）上に形成されたメタル電極（３４）と、前記発光層（３３）をシーリングするように平面に形成されるシール・カバー・プレート（３７）、前記画素電極（３２ａ）とメタル電極（３４）が交差してピクセルを形成する発光領域の周辺部に前記透明基板（３１）とメタル電極（３４）を接着するシール剤（３６）とを具備する。また、シール・カバー・プレート（３７）より親水性で、接着性が優れて、熱伝導度が高い金属薄膜（４２）とを更に具備する。
【００６３】
シール・カバー・プレート（３７）と透明基板（３１）はエンキャプシュレーションによりエポキシ樹脂のようなシール剤（３６）を間に置いて接着される。
【００６４】
シール・カバー・プレート（３７）はガラス、プラスティックを材料にして形成される。そして、吸湿剤（３８）としては酸化バリウム（BaO）、炭酸カルシウム（CaCO3）、ゼオライト（ゼオライト）、シリカーゲル（シリカゲル）、アルミナ（アルミナ）の微細粉末を使用して、前記粉末をシール・カバー・プレート（３７）に含んで紙かテフロン（Teflon）の支持膜（３９）を取り付けて使用する。この時、吸湿剤（３８）は平坦かつ均等に形成される。
【００６５】
吸湿剤（３８）を使用して水分を除いて、窒素（Ｎ２）ガスのような不活性気体の下でシール・カバー・プレート（３７）と透明基板（３１）は接着することで水分及び酸素による過熱を防ぐ。
【００６６】
特に金属薄膜（４２）は吸湿剤（３８）と支持膜（３９）が取り付けられないシール・カバー・プレート（３７）領域上に形成される。
【００６７】
図８は本発明の第７実施例による能動ＥＬＤのシーリングの断面図である。
図８に示すように、ＥＬＤは透明基板（３１）上にマトリックス形態で配列されるよう形成されて画素領域を定義するスキャンライン及びデータラインと、前記スキャンライン及びデータラインの交差部上に形成されたスイッチング素子（３２ｂ）と、前記スイッチング素子（３２ｂ）と電気的に連結されて画素領域に形成された画素電極（３２ａ）と、前記画素電極（３２ａ）を含めた全面に形成された保護膜（４０）と、前記保護膜（４０）上に正孔輸送層（３３ａ）、発光層（３３ｂ）及び電子輸送層（３３ｃ）が積層されて形成された発光層（３３）と、前記発光層（３３）上に形成されたメタル電極（３４）と、前記発光層（３３）をシーリングするように平板状に形成されるシール・カバー・プレート（３７）、前記画素電極（３２ａ）とメタル電極（３４）が交差してピクセルを形成する発光領域の周辺部に前記シール・カバー・プレート（３７）と前記透明基板（３１）を接着するシール剤（３６）とを具備する。また、シール・カバー・プレート（３７）より親水性で、接着性が優れて、熱伝導度が高い金属薄膜（４３）を更に具備する。
【００６８】
シール・カバー・プレート（３７）と透明基板（３１）はエンキャプシュレーションによりエポキシ樹脂のようなシール剤（３６）を間に置いて接着される。
【００６９】
シール・カバー・プレート（３７）はガラス、プラスティックを材料にして形成される。そして、吸湿剤（３８）としては酸化バリウム（BaO）、炭酸カルシウム（CaCO3）、ゼオライト（ゼオライト）、シリカーゲル（シリカゲル）、アルミナ（アルミナ）の微細粉末を使用して、前記粉末をシール・カバー・プレート（３７）に含んで紙かテフロン（Teflon）の支持膜（３９）を取り付けて使用する。この時、吸湿剤（３８）は平坦に等しく形成される。
【００７０】
そして、吸湿剤（３８）を使用して水分を除いて、窒素（Ｎ２）ガスのような不活性気体の下でシール・カバー・プレート（３７）と透明基板（３１）は接着することで水分及び酸素による過熱されることを防ぐ。
【００７１】
特に金属薄膜（４３）は吸湿剤（３８）と支持膜（３９）が取り付けられない領域とシール・カバー・プレート（３７）と透明基板（３１）がシール剤（３６）により接着される領域を除いたシール・カバー・プレート（３７）領域上に形成される。
【００７２】
従って、第１実施例乃至第４実施例の方法によるＥＬＤはＥＬＤをカプセル化するシール・カバー・プレート（１７）の内部または外側に熱伝導度がよいカーボン系材料またはその他熱伝導度がよい物質を熱放出層（２１）に形成してＥＬＤのパネル駆動時に発生する熱を容易に放出して素子の過度な過熱を防止して信頼性を向上させる。
【００７３】
また、第５実施例乃至第７実施例の方法によるＥＬＤは発光素子の駆動時に発生する熱の分散効果を誘導して安全性と信頼性が高い物質を使用するので熱伝導度を向上させて更に製造工程を単純化することができる発光素子を製作することができるようにする。
【００７４】
【発明の効果】
上述のように、本発明による電界発光素子は熱伝導度が優れ、表面エネルギが低い金属薄膜を平面シール・カバー・プレート上に形成することで軽量、薄型のディバイスー製作と耐熱安全性を保証し、電界発光素子で発生する熱を効果的に分散して安全性と信頼性を高めることができる。
【００７５】
本発明による異なる電界発光素子はシール・カバー・プレートの内部または外側に熱伝導度がよいカーボン系の材料又はその他熱伝導度がよい物質を熱放出層に形成して、ＥＬＤのパネル駆動時に発生する熱の放出を容易にして素子の過熱を防いで信頼性を向上させることができる。
【００７６】
以上説明した内容を通して当業者であれば、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で多様な変更及び修正の可能性を理解することができる。従って、本発明の技術的な範囲は明細書の詳細な説明に記載された内容に限らず、特許請求の範囲によって定めなければならない。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は従来技術による電界発光素子を図示した図面である。
【図２】  図２は本発明の第１実施例による電界発光素子を図示した図面である。
【図３】  図３は本発明の第２実施例による電界発光素子を図示した図面である。
【図４】  図４は本発明の第３実施例による電界発光素子を図示した図面である。
【図５】  図５は本発明の第４実施例による電界発光素子を図示した図面である。
【図６】  図６は本発明の第５実施例による電界発光素子を図示した図面である。
【図７】  図７は本発明の第６実施例による電界発光素子を図示した図面である。
【図８】  図８は本発明の第７実施例による電界発光素子を図示した図面である。
【符号の説明】
１、１１、３１：透明基板
２ａ、１２ａ、３２ａ：画素電極（透明電極）
２ｂ、１２ｂ、３２ｂ：スイッチング素子
３ａ、１３ａ、３３ａ：正孔輸送層
３ｂ、１３ｂ、３３ｂ：発光層
３ｃ、１３ｃ、３３ｃ：電子輸送層
３、１３、３３：発光層
４、１４、３４：メタル電極
６、１６、３６：シール剤
７、１７、３７：シール・カバー・プレート
８、１８、３８：吸湿剤
９、１５、２０、４０：保護膜
２１：熱放出層
３９：支持膜
４１、４２、４３：金属薄膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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