(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
強誘電体薄膜を構成する金属を含む有機金属化合物を含有するＭＯＤ法用のコロイド溶液からなり、前記有機金属化合物の結晶水以外の水を少なくとも含有することを特徴とする強誘電体薄膜形成用組成物。
【請求項２】
請求の範囲１において、前記有機金属化合物の結晶水以外の水のモル量は、前記コロイド溶液に含まれる金属の総モル量の１〜１０倍であることを特徴とする強誘電体薄膜形成用組成物。
【請求項３】
請求の範囲２において、前記有機金属化合物の結晶水以外の水のモル量は、前記コロイド溶液に含まれる金属の総モル量の５〜７倍であることを特徴とする強誘電体薄膜形成用組成物。
【請求項４】
請求の範囲１〜３の何れかの強誘電体薄膜形成用組成物により形成されたものであることを特徴とする強誘電体薄膜。
【請求項５】
請求の範囲４の強誘電体薄膜を有する圧電素子を、液体を噴射させるための圧電アクチュエータとして備えていることを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項６】
強誘電体薄膜を構成する金属を含む有機金属化合物を含有するＭＯＤ法用のコロイド溶液に前記有機金属化合物の結晶水以外の水を加え、得られた強誘電体薄膜形成用組成物を被対象物上に塗布し、これを乾燥して焼成することにより前記強誘電体薄膜を形成することを特徴とする強誘電体薄膜の製造方法。
【請求項７】
請求の範囲６において、前記被対象物上に前記強誘電体薄膜形成用組成物を塗布する塗布工程では、前記強誘電体薄膜形成用組成物が貯留されたタンク内に乾燥不活性ガスを導入することによって前記強誘電体薄膜形成用組成物を前記タンクに接続されたノズルまで搬送すると共に前記強誘電体薄膜形成用組成物を前記ノズルから回転する前記被対象物上に滴下することを特徴とする強誘電体薄膜の製造方法。
【請求項８】
請求の範囲６において、前記コロイド溶液に加水分解抑制剤を添加した後に、前記結晶水以外の水を加えることを特徴とする強誘電体薄膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＭＯＤ（Metal  Organic  Deposition）法によって強誘電体薄膜を形成するのに用いられる強誘電体薄膜形成用組成物、強誘電体薄膜及び強誘電体薄膜の製造方法並びに液体噴射ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）等に代表される結晶を含む強誘電体薄膜は、自発分極、高誘電率、電気光学効果、圧電効果、焦電効果等を有しているため、圧電素子等の広範なデバイス開発に応用されている。また、このような強誘電体薄膜の成膜方法としては、例えば、ＭＯＤ法、ゾル−ゲル法、ＣＶＤ（Chemical  Vapor  Deposition）法、スパッタリング法等が知られているが、特に、ＭＯＤ法及びゾル−ゲル法は、強誘電体薄膜を比較的低コストで且つ簡便に成膜することができるという利点を有する。【０００３】
強誘電体薄膜は、ＭＯＤ法によって成膜する場合、一般的に、金属アルコキシド等の有機金属化合物をアルコールに溶解し、これに加水分解抑制剤等を加えて得たコロイド溶液を被対象物上に塗布した後、これを乾燥して焼成することで成膜される。一方、ゾル−ゲル法によって成膜する場合には、有機金属化合物をアルコールに溶解し、この有機金属化合物の溶液に必要最小限の水を加えて加水分解及び重縮合させて得たコロイド溶液を用いる以外、ＭＯＤ法と同様にして強誘電体薄膜が成膜される（例えば、特許文献１参照）。【０００４】
ここで、ＭＯＤ法及びゾル−ゲル法を用いた強誘電体薄膜の製造方法について具体的に説明する。タンクに貯留された強誘電体薄膜形成用組成物を乾燥窒素ガス等の乾燥不活性ガス（キャリヤーガス）により被対象物上に配置されたノズルまで搬送し、強誘電体薄膜形成用組成物をそのノズルから回転する被対象物上に滴下する。これによって、被対象物上に前駆体膜を成膜し、これを乾燥及び脱脂してゲル化した後、さらに焼成することにより、強誘電体薄膜が製造される。【０００５】
しかしながら、このようなＭＯＤ法又はゾル−ゲル法によって強誘電体薄膜を形成するのに用いられる強誘電体薄膜形成用組成物は、乾燥不活性ガスに触れる乾燥不活性ガス環境下では、強誘電体薄膜形成用組成物に含まれるアルコール（溶媒）が揮発してしまい、その結果、有機金属化合物の分散安定性が低下し、ゾルが凝集して析出するという問題がある。また、このような強誘電体薄膜形成用組成物をタンク等に一定期間保存するような場合には、ゾルの析出によって、強誘電体薄膜形成用組成物（有機金属化合物）の保存安定性が悪くなるという問題もある。【０００６】
なお、このようにゾルが析出すると、強誘電体薄膜形成用組成物のゾル組成が変動し、これが原因となって、強誘電体薄膜の膜成分が不均一に分散し、強誘電体薄膜を有する圧電素子の圧電特性が変動してしまう。さらに、圧電素子を圧電アクチュエータとして備えた液体噴射ヘッドにおいては、このような圧電素子の圧電特性の変動が、液体吐出特性のばらつきの原因となってしまう。【０００７】
【特許文献１】特開平０６−５９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑み、非常に優れた有機金属化合物の分散安定性及び保存安定性を長期に亘って維持することができるＭＯＤ法用のコロイド溶液である強誘電体薄膜形成用組成物、強誘電体薄膜及び強誘電体薄膜の製造方法並びに液体噴射ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を解決する本発明の第１の態様は、強誘電体薄膜を構成する金属を含む有機金属化合物を含有するＭＯＤ法用のコロイド溶液からなり、前記有機金属化合物の結晶水以外の水を少なくとも含有することを特徴とする強誘電体薄膜形成用組成物にある。【００１０】
かかる第１の態様では、沸点が比較的高い水を含有しているので、乾燥不活性ガス環境下において、非常に優れた有機金属化合物の分散安定性及び保存安定性を長期に亘って維持することができる。【００１１】
本発明の第２の態様は、第１の態様において、前記有機金属化合物の結晶水以外の水のモル量は、前記コロイド溶液に含まれる金属の総モル量の１〜１０倍であることを特徴とする強誘電体薄膜形成用組成物にある。【００１２】
かかる第２の態様では、強誘電体薄膜形成用組成物の粘度が強誘電体薄膜を成膜する上で最適な値となるため、強誘電体薄膜を比較的容易に成膜することができる。【００１３】
本発明の第３の態様は、第２の態様において、前記有機金属化合物の結晶水以外の水のモル量は、前記コロイド溶液に含まれる金属の総モル量の５〜７倍であることを特徴とする強誘電体薄膜形成用組成物にある。【００１４】
かかる第３の態様では、強誘電体薄膜形成用組成物の粘度が強誘電体薄膜を成膜する上でより最適な値となるため、強誘電体薄膜を比較的容易に成膜することができる。【００１５】
本発明の第４の態様は、第１〜３の何れかの態様の強誘電体薄膜形成用組成物により形成されたものであることを特徴とする強誘電体薄膜にある。【００１６】
かかる第４の態様では、膜成分が略均一に分散し且つ安定した圧電特性を有する強誘電体薄膜を比較的容易に実現することができる。【００１７】
本発明の第５の態様は、第４の態様の強誘電体薄膜を有する圧電素子を、液体を噴射させるための圧電アクチュエータとして備えていることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。【００１８】
かかる第５の態様では、安定した液体吐出特性を有し且つ高い信頼性を有する液体噴射ヘッドを比較的容易に実現することができる。【００１９】
本発明の第６の態様は、強誘電体薄膜を構成する金属を含む有機金属化合物を含有するＭＯＤ法用のコロイド溶液に前記有機金属化合物の結晶水以外の水を加え、得られた強誘電体薄膜形成用組成物を被対象物上に塗布し、これを乾燥して焼成することにより前記強誘電体薄膜を形成することを特徴とする強誘電体薄膜の製造方法にある。【００２０】
かかる第６の態様では、沸点が比較的高い水を含有した強誘電体薄膜形成用組成物が、乾燥不活性ガス環境下において、非常に優れた有機金属化合物の分散安定性及び保存安定性を長期に亘って維持することができるため、膜成分が略均一に分散した強誘電体薄膜を比較的容易に製造することができる。【００２１】
本発明の第７の態様は、第６の態様において、前記被対象物上に前記強誘電体薄膜形成用組成物を塗布する塗布工程では、前記強誘電体薄膜形成用組成物が貯留されたタンク内に乾燥不活性ガスを導入することによって前記強誘電体薄膜形成用組成物を前記タンクに接続されたノズルまで搬送すると共に前記強誘電体薄膜形成用組成物を前記ノズルから回転する前記被対象物上に滴下することを特徴とする強誘電体薄膜の製造方法にある。【００２２】
かかる第７の態様では、膜成分が略均一に分散した前駆体膜を比較的容易に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。【００２４】
（実施形態１）
本発明の強誘電体薄膜形成用組成物は、ＭＯＤ（Metal  Organic  Deposition）法によって強誘電体薄膜を形成するのに用いられるＭＯＤ法用のコロイド溶液（ゾル）であり、具体的には、強誘電体薄膜を構成する金属を含む有機金属化合物と、この有機金属化合物の結晶水以外の水とを少なくとも含有するものである。ＭＯＤ法とは、ゾル−ゲル法とは異なりゲル化反応を起こさず、単にアルコラートやアルコラートを原料とした有機金属材料の溶液の塗布、乾燥、熱処理だけで膜などを得る方法をいう。ここでいう「有機金属化合物の結晶水」とは、例えば、強誘電体薄膜を形成する材料となる有機金属化合物の結晶中に含まれている水（結晶水）のことであり、本発明でいう「有機金属化合物の結晶水以外の水」とは、このような結晶水とは別の水のことである。【００２５】
また、本発明において、有機金属化合物の結晶水以外の水の量（含有量）は、有機金属化合物の分散安定性及び保存安定性を高める点においては特に上限はないが、塗布、乾燥及び焼成等の成膜プロセスの条件に対する強誘電体薄膜形成用組成物の粘度を考慮すると、最適な範囲がある。具体的には、有機金属化合物の結晶水以外の水のモル量は、好ましくは有機金属化合物の溶液に含まれる金属の総モル量の１〜１０倍、さらに好ましくは、５〜７倍とするのがよい。【００２６】
なお、「有機金属化合物の溶液に含まれる金属の総モル量」とは、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）薄膜を形成するためのＰＺＴ薄膜形成用組成物の場合には、ＰＺＴを構成する金属、すなわち、鉛（Ｐｂ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）の総モル量のことである。【００２７】
ＭＯＤ法によって強誘電体薄膜を形成するのに用いられる本発明の強誘電体薄膜形成用組成物は、金属アルコキシドやアセテート化合物等の有機金属化合物の他に、溶媒であるアルコールと、有機金属化合物の加水分解を抑制する加水分解抑制剤とを含有している。有機金属化合物の溶媒としては、例えば、ブトキシエタノール、プロパノール等が挙げられる。加水分解抑制剤としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、及びアセチルアセトン等が挙げられる。【００２８】
なお、本発明の強誘電体薄膜形成用組成物には、必要に応じて、有機金属化合物を安定化させ、これにより強誘電体薄膜のクラックの発生を防止するための安定化剤として、例えば、ポリエチレングリコール等を添加物として加えてもよく、その他の添加剤として、増粘剤等を加えてもよい。【００２９】
そして、このようなＭＯＤ法によって強誘電体薄膜を形成するのに用いられる本発明の強誘電体薄膜形成用組成物では、沸点が比較的高い水を含有しているので、乾燥不活性ガス環境下において、有機金属化合物の分散安定性を長期亘って維持することができ、ゾルが凝集して析出するのを確実に防止することができる。また、強誘電体薄膜形成用組成物を乾燥不活性ガスと共にタンク等に一定期間保存するような場合においても、ゾルの析出を確実に防止できるため、有機金属化合物の保存安定性を長期に亘って維持することができる。【００３０】
なお、本発明の強誘電体薄膜形成用組成物は、有機金属化合物を含有するＭＯＤ法用のコロイド溶液、例えば、有機金属化合物と加水分解抑制剤とをアルコール（溶媒）に入れたコロイド溶液に、有機金属化合物の結晶水以外の水を加えることで調製される。このように、有機金属化合物の溶液には加水分解抑制剤が含まれているので、その後に水を加えても、有機金属化合物と水との間で加水分解が生じることはない。本願は、特にＭＯＤ法用のコロイド溶液の場合に、よりその効果を発揮する。【００３１】
以下、本発明の強誘電体薄膜形成用組成物を実施例１及び比較例１に基づいてさらに詳細に説明する。【００３２】
（実施例１）
フラスコ内に３５４［ｇ］の２−ｎ−ブトキシエタノール（ＣＨ３（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）を入れた後、このフラスコ内に、３８．４［ｇ］（０．１３５［ｍｏｌ］）のチタニウムテトライソプロポキシド（Ｔｉ（（ＣＨ３）２ＣＨＯ）４）を加え、これを室温下で攪拌して溶液Ａとした。次に、フラスコ内の溶液Ａに、６８．８［ｇ］のジエタノールアミン（ＨＮ（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）２）を混合し、これを室温下で攪拌して溶液Ｂとした。次いで、フラスコ内の溶液Ｂに、１３９．８［ｇ］（０．３６８［ｍｏｌ］）の酢酸鉛３水和物（Ｐｂ（ＣＨ３ＣＯＯ）２・３Ｈ２Ｏ）を加えた後、８２．６［ｇ］（０．１６９［ｍｏｌ］）のジルコニウムアセチルアセトナート（Ｚｒ（ＣＨ３ＣＯＣＨＣＯＣＨ３）４）を加えて、これを７０［℃］に加熱しながら、４５分間攪拌した後、室温になるまで自然冷却して溶液Ｃとした。その後、フラスコ内の溶液Ｃに、３４．２［ｇ］のポリエチレングリコール（（―ＣＨ２ＣＨ２Ｏ―）ｎ）［平均分子量４００］を加え、これを室温下で攪拌して溶液Ｄとした。最後に、フラスコ内の溶液Ｄに、３６．３［ｇ］（２．０２［ｍｏｌ］）の純水を加えて、室温下で攪拌し、これを実施例１の強誘電体薄膜形成用組成物（Ｐｂ１．２１（Ｚｒ０．５５６Ｔｉ０．４４４）Ｏ３薄膜形成用組成物）とした。【００３３】
（比較例１）
純水を入れない以外は、実施例１と同様にして調製したものを比較例１の強誘電体薄膜形成用組成物とした。【００３４】
（試験例１）
上記の実施例１及び比較例１の強誘電体薄膜形成用組成物について、乾燥窒素ガス雰囲気下で、ゾルが析出するまでに要する時間をそれぞれ測定し、比較する試験を行った。その結果、比較例１では、７２時間経過後にゾルの析出が既に生じていたが、実施例１では、１０００時間経過後でもゾルの析出は全く生じていなかった。この試験結果から、酢酸鉛３水和物の結晶水以外の純水を含有する実施例１の強誘電体薄膜形成用組成物は、酢酸鉛３水和物の結晶水以外の純水を含有しない比較例１の強誘電体薄膜形成用組成物と比べて、非常に優れた分散安定性及び保存安定性を長期に亘って維持することができることが分かった。【００３５】
ここで、上述した強誘電体薄膜形成用組成物により形成される強誘電体薄膜は、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）等の強誘電性材料（圧電性材料）やこれにニオブ、ニッケル、マグネシウム、ビスマス、イットリウム又はイッテルビウム等の金属を添加したリラクサ強誘電体等の結晶を含むものである。その組成としては、例えば、ＰｂＴｉＯ３（ＰＴ）、ＰｂＺｒＯ３（ＰＺ）、Ｐｂ（ＺｒｘＴｉ１−ｘ）Ｏ３（ＰＺＴ）、Ｐｂ（Ｍｇ１／３Ｎｂ２／３）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＭＮ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｚｎ１／３Ｎｂ２／３）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＺＮ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｎｉ１／３Ｎｂ２／３）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＮＮ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｉｎ１／２Ｎｂ１／２）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＩＮ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｓｃ１／２Ｔａ１／２）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＳＴ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｓｃ１／２Ｎｂ１／２）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＳＮ−ＰＴ）、ＢｉＳｃＯ３−ＰｂＴｉＯ３（ＢＳ−ＰＴ）、ＢｉＹｂＯ３−ＰｂＴｉＯ３（ＢＹ−ＰＴ）等が挙げられる。【００３６】
このような本発明の強誘電体薄膜は、非常に優れた有機金属化合物の分散安定性及び保存安定性を有する強誘電体薄膜形成用組成物により形成されているため、膜成分が略均一に分散、すなわち、強誘電体薄膜の膜質が略均一となり、安定した圧電特性を発揮することができる。【００３７】
なお、以上説明した本発明に係る強誘電体薄膜形成用組成物及びこの強誘電体薄膜形成用組成物を用いて成膜された強誘電体薄膜は、広範なデバイス開発に応用することができ、その用途等は特に限定されないが、例えば、マイクロアクチュエータ、フィルタ、遅延線、リードセレクタ、音叉発振子、音叉時計、トランシーバ、圧電ピックアップ、圧電イヤホン、圧電マイクロフォン、ＳＡＷフィルタ、ＲＦモジュレータ、共振子、遅延素子、マルチストリップカプラ、圧電加速度計、圧電スピーカ等に応用することができる。【００３８】
また、本発明の強誘電体薄膜の製造方法では、有機金属化合物をアルコール等の溶媒に溶解して得た溶液に、加水分解抑制剤等を添加した後、有機金属化合物の結晶水以外の水を加えることで強誘電体薄膜形成用組成物を調製する工程を含み、調製した強誘電体薄膜形成用組成物を被対象物上に塗布した後、これを乾燥及び脱脂して焼成することにより、強誘電体薄膜が形成されるようになっている。【００３９】
このように、本発明の強誘電体薄膜の製造方法においては、沸点が比較的高い水を含有した強誘電体薄膜形成用組成物が、乾燥不活性ガス環境下において、非常に優れた有機金属化合物の分散安定性及び保存安定性を長期に亘って維持することができるため、膜成分が略均一に分散、すなわち、膜質が略均一である強誘電体薄膜を比較的容易に形成することができる。【００４０】
また、被対象物上に強誘電体薄膜形成用組成物を塗布する塗布工程においては、強誘電体薄膜形成用組成物が貯留されたタンク内に乾燥不活性ガスを所定流量で導入し、強誘電体薄膜形成用組成物をタンクに接続されたノズルまで搬送して、強誘電体薄膜形成用組成物をそのノズルから回転する被対象物上に滴下するのが好ましい。これにより、膜成分が略均一に分散した強誘電体薄膜の前駆体膜を比較的容易に製造することができる。【００４１】
（実施形態２）
以下、図１及び図２を参照して、本発明を圧電アクチュエータに適用した液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドについて詳細に説明する。図１は、液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略を示す分解斜視図であり、図２は、図１の平面図及びＡ−Ａ’断面図である。図１及び図２に示すように、流路形成基板１０は、本実施形態では面方位（１１０）のシリコン単結晶基板からなり、その一方面には予め熱酸化により形成した酸化シリコン（ＳｉＯ２）からなる、厚さ０．５〜２μｍの弾性膜５０が形成されている。【００４２】
この流路形成基板１０には、シリコン単結晶基板をその一方面側から異方性エッチングすることにより、複数の隔壁１１によって区画された圧力発生室１２が複数並設されている。また、圧力発生室１２の並設方向（幅方向）とは直交する方向（長手方向）の一方の端部の外側には、後述する保護基板３０のリザーバ部３２と連通される連通部１３が形成されている。また、この連通部１３は、各圧力発生室１２の長手方向一端部でそれぞれインク供給路１４を介して連通されている。【００４３】
また、流路形成基板１０の開口面側には、圧力発生室１２を形成する際のマスク膜５１が設けられており、このマスク膜５１上には、各圧力発生室１２のインク供給路１４とは反対側の端部近傍に連通するノズル開口２１が穿設されたノズルプレート２０が接着剤や熱溶着フィルム等を介して固着されている。【００４４】
一方、このような流路形成基板１０の開口面とは反対側の弾性膜５０の上には、厚さが例えば、約０．４μｍの絶縁体膜５５が形成され、この絶縁体膜５５上には、厚さが例えば、約０．２μｍの下電極膜６０と、厚さが例えば、約１μｍの強誘電体薄膜（圧電体層）７０と、厚さが例えば、約０．０５μｍの上電極膜８０とが、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子３００を構成している。ここで、本実施形態の強誘電体薄膜７０は、有機金属化合物の溶液に有機金属化合物の結晶水以外の水を加えて得たＭＯＤ法用のコロイド溶液からなる強誘電体薄膜形成用組成物により形成されている。【００４５】
なお、圧電素子３００とは、下電極膜６０、強誘電体薄膜７０、及び上電極膜８０を含む部分をいう。一般的には、圧電素子３００の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極及び強誘電体薄膜７０を各圧力発生室１２毎にパターニングして構成する。そして、ここではパターニングされた何れか一方の電極及び強誘電体薄膜７０から構成され、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部という。本実施形態では、下電極膜６０を圧電素子３００の共通電極とし、上電極膜８０を圧電素子３００の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。何れの場合においても、各圧力発生室１２毎に圧電体能動部が形成されていることになる。また、ここでは、圧電素子３００と当該圧電素子３００の駆動により変位が生じる振動板とを合わせて圧電アクチュエータと称する。なお、本実施形態では、弾性膜５０、絶縁体膜５５及び下電極膜６０が振動板として作用する。【００４６】
さらに、流路形成基板１０の圧電素子３００側には、圧電素子３００に対向する領域にその運動を阻害しない程度の空間を確保可能な圧電素子保持部３１を有する保護基板３０が接着剤を介して接合されている。圧電素子３００は、この圧電素子保持部３１内に形成されているため、外部環境の影響を殆ど受けない状態で保護されている。なお、圧電素子保持部３１は、空間が密封されていてもよいし密封されていなくてもよい。【００４７】
また、保護基板３０には、各圧力発生室１２の共通のインク室となるリザーバ１００の少なくとも一部を構成するリザーバ部３２が設けられ、このリザーバ部３２は、上述のように流路形成基板１０の連通部１３と連通されて各圧力発生室１２の共通のインク室となるリザーバ１００を構成している。また、保護基板３０の圧電素子保持部３１とリザーバ部３２との間の領域には、保護基板３０を厚さ方向に貫通する貫通孔３３が設けられている。そして、各圧電素子３００から引き出されたリード電極９０は、その端部近傍が貫通孔３３内で露出されている。【００４８】
さらに、このような保護基板３０上には、封止膜４１及び固定板４２とからなるコンプライアンス基板４０が接合されている。また、固定板４２は、金属等の硬質の材料で形成される。この固定板４２のリザーバ１００に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部４３となっているため、リザーバ１００の一方面は可撓性を有する封止膜４１のみで封止されている。【００４９】
このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドでは、図示しない外部インク供給手段からインクを取り込み、リザーバ１００からノズル開口２１に至るまで内部をインクで満たした後、図示しない駆動ＩＣからの駆動信号に従い、圧力発生室１２に対応するそれぞれの下電極膜６０と上電極膜８０との間に駆動電圧を印加し、弾性膜５０、絶縁体膜５５、下電極膜６０及び強誘電体薄膜７０をたわみ変形させることにより、各圧力発生室１２内の圧力が高まりノズル開口２１からインク滴が吐出する。【００５０】
以上説明した本実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、強誘電体薄膜７０が、有機金属化合物と、この有機金属化合物の結晶水以外の水とを含有した強誘電体薄膜形成用組成物、すなわち、非常に優れた有機金属化合物の分散安定性及び保存安定性を有する強誘電体薄膜形成用組成物によって形成されているので、強誘電体薄膜７０の膜成分が略均一に分散し、強誘電体薄膜７０の膜質が略均一となる。したがって、ヘッドのインク吐出特性が安定し、且つヘッドの信頼性を高めることができる。【００５１】
なお、本実施形態では、液体噴射ヘッドとしてインクを吐出するインクジェット式記録ヘッドを一例として説明したが、これに限定されず、例えば、プリンタ等の画像記録装置に用いられる記録ヘッド、液晶ディスプレー等のカラーフィルタの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ＥＬディスプレー、ＦＥＤ（面発光ディスプレー）等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオｃｈｉｐ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等を挙げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の実施形態２に係る記録ヘッドの概略を示す分解斜視図である。
【図２】本発明の実施形態２に係る記録ヘッドの平面図及びＡ−Ａ’断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１０  流路形成基板、１２  圧力発生室、２０  ノズルプレート、２１  ノズル開口、３０  保護基板、３１  圧電素子保持部、３２  リザーバ部、４０  コンプライアンス基板、６０  下電極膜、７０  強誘電体薄膜（圧電体層）、８０  上電極膜、９０  リード電極、１００  リザーバ、３００  圧電素子
【図１】
0004284557.tif 000002
【図２】
0004284557.tif 000003