(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレンを、またはエチレンとＣ3−Ｃ8−α−モノオレフィンの混合物を、気相流動床反応器の重合帯域で、微粒子重合体含有嵩高材料の流動床における気相中において、担持クロム触媒の存在下、１から１００バールの圧力、３０から１２５℃の温度下に（共）重合させ、生起する重合熱を再循環反応器ガスの冷却により除去し、生成（共）重合体を気相流動床反応器から排出して、０．９３０から０．９４５ｇ／ｃｍ3の密度を有するエチレン単独重合体および共重合体を製造するための連続的気相流動床法であって、特定密度ｄの（共）重合体を製造するために、下記等式（Ｉ）
【数１】
0004324323.tif 000007
により限定される上方範囲、および下記等式（ＩＩ）
【数２】
0004324323.tif 000008
により限定される下方範囲（ただし、式中の可変数ＴHは最高反応温度（℃）、
ＴLは最低反応温度（℃）、ｄ′は合成されるべき（共）重合体密度ｄの数値を意味する）により制限される範囲内の温度において（共）重合を行なうことを特徴とする方法。
【請求項２】
６００から８００℃の間の温度で活性化された担持クロム触媒を使用することを特徴とする、請求項１の方法。
【請求項３】
１．０から３．０ｍｌ／ｇの平均孔隙容積を有する担持クロム触媒を使用することを特徴とする、請求項１または２の方法。
【請求項４】
エチレンを１−ヘキセンと共重合させることを特徴とする、請求項１から３のいずれかの方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかの方法により製造されることを特徴とするエチレンの単独重合体または共重合体。
【請求項６】
ＩＳＯ１１３３により規制されているように測定して、８から１６の溶融流動速度ＭＦＲを示すことを特徴とする、請求項５のエチレン共重合体。
【請求項７】
フィルムを製造するために、請求項５または６のエチレン共重合体を使用することを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７のエチレン共重合体を使用する方法により製造されることを特徴とするフィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
本発明は、エチレンを、またはエチレンとＣ3−Ｃ8−α−モノオレフィンの混合物を、気相流動床反応器の重合帯域で、微粒子重合体含有嵩高材料の流動床における気相中において、担持クロム触媒の存在下、１から１００バールの圧力、３０から１２５℃の温度下に（共）重合させ、生起する重合熱を再循環反応器の冷却により除去し、生成（共）重合体を気相流動床反応器から排出して、０．８７から０．９７ｇ／ｃｍ3の密度を有するエチレン単独重合体および共重合体を製造するための連続的気相流動床法に関する。
【０００２】
本発明は、またこの方法により製造されるエチレンの単独重合体もしくは共重合体、このようなエチレン共重合体の、フィルムを製造するための用途、およびこのエチレン共重合体を使用して製造されたフィルムに関する。
【０００３】
エチレンの単独重合体および共重合体の加工性ないし成形性ならびにその機械安定性に関する特性は、その密度、平均分子量、分子量分布、コモノマーの性質およびコモノマーの分子量に関する分布により左右される。これらの諸特性は、単独重合体、共重合体の製造条件と、複雑な態様で相互に関連し、圧力、温度のような物理的条件により、また特定触媒の選定より影響され得る。
【０００４】
エチレン単独重合体および共重合体の加工性に関してことに重要な要件は溶融流動速度である。コモノマーの性質および分布のほかに、溶融流動速度を一次的に規制する他のファクターは、重合体の平均分子量である。
【０００５】
【従来技術】
担持クロム触媒を使用して、気相（ｖａｐｏｒ−ｐｈａｓｅ）流動床でエチレン共重合体を製造する方法は、例えばＥＰ−Ａ１７５５３２号、同４７５６０３号各公報に記載されている。重合体微粒子の凝集を回避するため、この重合方法は、重合体密度、従ってその軟化点に応じて種々の温度で、しかしながら常にこの軟化点より低い温度で行なわれる。
【０００６】
ＥＰ−Ｂ５７１８２６号公報には、重合体粒子の軟化点よりわずかに低い温度で行なわれる、連続的気相流動床法による、エチレン単独重合体および共重合体の製造方法が記載されている。ここで使用される触媒は、チタンおよびマグネシウムを含有するチーグラー触媒である。
【０００７】
しかしながら、これら公知の気相流動床により製造される重合体は、その加工性に関して依然として不満足なものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、この分野における技術的課題ないし本発明の目的は、改善された加工特性を有する生成物をもたらすべき、担持クロム触媒を使用するエチレン単独重合体および共重合体の製造方法を提供することである。
【０００９】
しかるに、上述の課題ないし目的は、エチレンを、またはエチレンとＣ3−Ｃ8−α−モノオレフィンの混合物を、気相流動床反応器の重合帯域で、微粒子重合体含有嵩高材料の流動床における気相中において、担持クロム触媒の存在下、１から１００バールの圧力、３０から１２５℃の温度下に（共）重合させ、生起する重合熱を再循環反応器の冷却により除去し、生成（共）重合体を気相流動床反応器から排出して、０．９３０から０．９４５ｇ／ｃｍ3の密度を有するエチレン単独重合体および共重合体を製造するための連続的気相流動床法であって、特定密度ｄの（共）重合体を製造するために、下記等式（Ｉ）
【００１０】
【数４】
0004324323.tif 000002
により限定される上方範囲、および下記等式（ＩＩ）
【００１１】
【数５】
0004324323.tif 000003
により限定される下方範囲（ただし、式中の可変数ＴHは最高反応温度（℃）、
ＴLは最低反応温度（℃）、ｄ´は合成されるべき（共）重合体密度ｄの数値を意味する）により制限される範囲内の温度において（共）重合を行なうことを特徴とする方法により解決されることが本発明者らにより見出された。
【００１２】
なお、この方法により製造されることができ、改善された特性を有する新規のエチレン単独重合体および共重合体、この共重合体の、フィルム製造のための用途、およびこのエチレン共重合体から製造されるフィルムも本発明者らにより見出された。
【００１３】
【実施態様】
本発明の本質的特徴は、高い重合温度と、特定の触媒、すなわち担持クロム触媒との組合わせに在る。この両ファクターが、合成されるべき重合体の特性に影響を及ぼすことは知られていた。すなわち高い反応器温度は、連鎖成長に対向する連鎖停止反応に選択的、優先的に影響する。反応器温度が高い程、平均分子量ＭWは低くなり、従って溶融流動速度は早くなる。しかしながら、形成される重合体の軟化温度により、反応器温度には上限が設定されるべきである。
【００１４】
他方において、触媒も合成されるべき重合体の特性に強い影響を与える。すなわち、クロム触媒の場合、担体の多孔性と、製造される重合体の平均分子量との間には著しい相関関係がある。担体の孔隙容積が大きい程、平均分子量ＭWは低くなり、従って得られる重合体の溶融流動速度は高くなる（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅ．２１、１２１７（１９８３）におけるＭ−Ｐ．マクダニエルの報文参照）。
【００１５】
クロム触媒が活性化される温度でさえも、重合体の特性に影響を及ぼす。使用される担体材料の焼結温度以下では、以下の関連性、すなわち、クロム触媒の活性化温度が高い程、平均分子量ＭWは低く、溶融流動速度が高いというのは真実である。
【００１６】
これに関連して、重合体におけるコモノマーの配列形態、重合体密度およびメルトフローインデックスに関して従来の重合体とほとんど変わらないが、高い温度で重合された重合体は、その加工性において相違し、しかも場合によっては著しく従来の重合体より秀れていることが全く意外にも見出された。
【００１７】
特定の密度ｄを有する（共）重合体を製造する場合、（共）重合を上記等式Ｉで限定される上方範囲と、上記等式ＩＩで限定される下方範囲により制限される範囲内の温度Ｔにおいて（共）重合を行なうことは本発明の有効性に極めて重要である。このことは、上記制限範囲外の温度で重合させることが、本発明の有効性を失なわせることを意味する。換言すれば、等式（Ｉ）、（ＩＩ）は、特定の所望密度ｄを有する（共）重合体が本発明方法により製造され得る最高および最低の反応温度ＴH、ＴLをそれぞれ示す。
【００１８】
本発明方法は、例えばＥＰ−Ａ４６４５号、同８９６９１号、同１２０５３５号または同２４１９４７号各公報に詳述されているように、気相流動床反応器中において行なわれる。気相流動床反応器は、多少とも長い管状反応器であって、この管中を再循環気相が流動する。この再循環気相流は、通常、気相流動床反応器の下方端部に給送され、その上方端部から排出される。この再循環反応気相は、一般的に、エチレン、必要に応じて分子量制御剤としての水素、窒素のような不活性ガスおよび／またはエタン、ブタン、ヘキサンのような飽和炭化水素の混合物である。反応器気体は、さらにプロペン、ブテン−１、ペンテン−１、ヘキセン−１、ヘプテン−１、オクテン−１のようなＣ3−Ｃ8−α−モノオレフィンを含有し得る。反応器気体の流動速は、ボイドチューブ速度として測定して、一方では導管反応器中に在る重合体微粒子の流動床を撹拌して重合圏をもたらすために、他方では重合熱を有効に除去するために充分に高速度でなければならない。
【００１９】
一定の反応条件を維持するため、反応器気体の組成分は、直接的に、または再循環気相を介して、気相流動床反応器に給送され得る。一般的に、上述したＣ3−Ｃ8−α−モノオレフィンは、直接的に気相流動床反応器に給送されるのが好ましい。本発明方法において、さらに担持クロム触媒も、直接的に重合体粒子撹拌床に給送されるのが有利である。さらに、ＤＥ−Ａ３５４４９１５号公報に記載されているように、触媒は窒素もしくはアルゴンと共に、少しづつ嵩高材料流動床中に直接的に計量給送されるのがことに有利である。
【００２０】
重合体微粒子が重合反応圏から気体混合物中に同伴搬入されるのを阻止するため、本発明方法において使用される気相流動床反応器頂部に、比較的大径の安定圏を設け、ここで再循環気相の流動速度を低下させるのが好ましい。一般的に、この安定圏における再循環気相の流動速度は、重合反応圏のそれに対して三分の一から六分の一に低下させるのが好ましい。
【００２１】
再循環反応器気相は、気相流動床反応器から排出された後、圧縮器および凝縮器に給送される。冷却され、圧縮された循環気相は、慣用の気体分配板体を介して、気相流動床反応器の嵩高材料撹拌床中に再び導入され、循環せしめられる。これにより、嵩高材料撹拌床の完全な混合を保証する、気相の著しく均斉な分配がもたらされる。
【００２２】
本発明方法において、出発材料の組成分、ことにＣ3−Ｃ8−α−モノオレフィンの量割合は生起する共重合体の密度を決定する。
【００２３】
さらに計量給送される触媒の量は、気相流動床反応器の出力を決定する。周知のように、この生産性は、循環反応器気相の冷却能力により決定され、この冷却能力は、一方では、反応器気相に及ぼされる圧力または（共）重合反応を行なう圧力により規制される。この場合、一般的に１から１００バール、好ましくは１０から８０、ことに１５から５０バールの圧力で重合させるのが好ましい。冷却能力は、他方において、重合体微粒子の撹拌床における（共）重合反応温度により規制される。本発明方法において、この温度は３０から１２５℃が好ましいが、上述した温度／密度の相互関係は、それぞれ上限、下限として考察されるべきである。
【００２４】
温度／密度関数の下方範囲が、下式（ＩＩ´）
【００２５】
【数６】
0004324323.tif 000004
により与えられるように、密度に対する温度が設定される方法を使用するのがことに有利であることが見出された。
【００２６】
温度のみならず、窒素のような不活性ガスまたは炭化水素の量も、沈降、凝集のおそれに対して影響を及ぼす。不活性ガスを大量に含有する場合、沈降のおそれを低減するが、同時に時空収率を低下させ、方法が非経済的になるおそれがある。本発明方法において、不活性ガスの量は、反応ガスの全容量に対して、２５から５５容量％、ことに３５から５０容量％になされるのが好ましい。
【００２７】
本発明方法により得られる（共）重合体は、慣用の態様で気相流動床反応器から排出され得る。本発明方法およびこれにより製造される特別の利点にかんがみて、下方流下タンクに至る流下導管に設けられたボールバルブ栓を開放するだけで、生成物の排出は簡単に行なわれる。この場合、タンク内の圧力は、長距離の移送を可能ならしめ、残留モノマーのような液体を（共）重合体がなるべく吸収しないように、この排出工程の間、なるべく低く維持される。次いで、このタンク内において、例えばエチレンで駆出することにより（共）重合体はさらに精製され得る。このようにして吸収される未反応残留モノマーおよび駆出用エチレンは、慣用の縮合工程に給送され得るが、この場合、両者は、標準圧力下に、なるべく低温で分離されるのが好ましい。液状の残留モノマーは、通常、嵩高材料流動床に直ちに返送されるが、なお残存する駆出用エチレンおよびその他のガスは、再循環ガス用の慣用のコンプレッサーで圧縮され、循環反応器ガスに返還され得る。
【００２８】
上記流下タンク内の（共）重合体は、脱臭ないし非活性タンクへ移送され、ここで窒素および／または蒸気による慣用の処理に附され得る。
【００２９】
反応の制御を別として、触媒は重合体特性にも重要な影響を及ぼす。本発明方法には、一般的にすべての担持クロム触媒が使用され得る。これらクロム触媒の多くはフィリップ触媒とも称され、古くから周知の触媒である。
【００３０】
ことに適当な担体材料は、無機化合物、ことにＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＣａＯ、ＺｎＯのような多孔性酸化物およびこれらの混合物である。これらの担体材料は、１から３００μｍ、ことに３０から７０μｍの粒度を有するものが好ましい。ことに好ましい担体はシリカゲルおよびアルミノシリケートゲルであり、ことに式ＳｉＯ2・ａＡｌ2Ｏ3（式中のａは０から２、ことに０から０．５の数値を表わす）で表わされるアルミノシリケートまたは二酸化珪素である。このような触媒は、例えばグレース社のＳｉｌｉｃａ  Ｇｅｌ  ３３２として市販されている。
【００３１】
触媒担体をクロム含有活性組成分でドーピングさせる処理は、溶液から、また揮発性化合物の場合蒸気から行なわれる。適当なクローム化合物は、酸化クロム（ＶＩ）、クロム塩、例えば硝酸クロム（ＩＩＩ）、酢酸クロム（ＩＩＩ）、錯化合物、例えばクロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、クロムヘキサカルボニル、あるいはクロム有機化合物、例えばビス（シクロペンタジエニル）クロム（ＩＩ）、有機クロムエステル、またはビス（アレン）クロム（Ｏ）である。ことに硝酸Ｃｒ（ＩＩＩ）を使用するのが好ましい。
【００３２】
担体は、一般的に、この担体材料を溶媒中においてクロム化合物と接触させ、溶媒を除去し、４００から１１００℃でか焼させることにより担持触媒になされる。このために、担体材料を、溶媒またはクロム化合物溶液中に懸濁させる。
【００３３】
クロミフェラス（ｃｈｒｏｍｉｆｅｒｏｕｓ）組成分のほかに、その他のドーピング剤を担体に施こすこともできる。このようなドーピング剤の適当な例としては、硼素、弗素、アルミニウム、珪素、燐、チタンの化合物が挙げられる。これらドーピング剤は、クロム化合物と共に担体に施こされるのが好ましいが、クロムの施与前または後に別個の工程で施こすこともできる。
【００３４】
この担体ドーピングに使用される溶媒の例としては、水、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、炭化水素が挙げられるが、メタノールがことに適当である。ドーピング溶液の濃度は、溶媒１リットルに対してクロム化合物が０．１から２００、ことに１から５０ｇである。担体への施用時のクロム化合物の量割合は、０．００１：１から２００：１、ことに０．００５：１から１００：１の範囲である。
【００３５】
本発明方法の実施態様によれば、クロム触媒は、少量のＭｇＯおよび／またはＺｎＯを不活性の触媒前駆体に添加し、次いでこの混合物を慣用の態様で活性化する。この処理は触媒の静電特性を改善する。
【００３６】
上記触媒前駆体は、活性化のために、例えば流動床反応器中において、酸素含有雰囲気下、４００から１１００℃の温度でか焼される。冷却は、酸素の吸収を阻止するため、不活性ガス雰囲気中で行なうのが好ましい。このか焼は、弗素化合物、例えばアンモニウムヘキサフルオロシリケートの存在下に行なうこともでき、これにより触媒表面は弗素原子で変性される。
【００３７】
前段階のか焼は、気相流動床中で行なうのが好ましい。好ましい一実施態様によれば、混合物はまず２００から４００℃（好ましくは２５０から３５０℃）に、純粋な不活性ガス（好ましくは窒素）で、次いで空気で流動化して加熱され、混合物はその後、所望の最終温度に加熱される。混合物はこの最終温度に２から２０、ことに５から１５時間維持され、その後、このガス流は前の不活性ガス流に切換えられ、冷却される。
【００３８】
本発明方法の好ましい実施態様によれば、６００から８００、ことに６８０℃から７５０℃の温度で活性化された担持クロム触媒が使用される。
【００３９】
本発明方法により製造されたエチレン単独重合体および共重合体の一部は、極めて秀れた特性を示し、これはことに０．９３０から０．９４５の密度を有するエチレン共重合体の場合に顕著であり、その故にこれらのエチレン共重合体は好ましい。このエチレン共重合体は、密度が０．９３５から０．９４０の場合、ことに好ましい。このような密度範囲のエチレン共重合体のことに好ましい重合温度範囲は、１１０から１１３℃である。
【００４０】
重合温度と触媒を、またことに担体の孔隙容積と活性化温度を注意深く均衡させることにより、種々のメルト、フロー、インデックス（ＭＦＩ）およびメルト、フロー、レート（ＭＦＲ）を、必要に応じて所定のコモノマー濃度、従って所定の密度を有する共重合体を製造することが可能となる。フィルムを製造するため、これらの共重合体は、８から１６、ことに１０から１４（ＩＳＯ１１３３、２１．６／１９０℃で測定して）のメルト、フロー、レートを示すのがことに重要である。
【００４１】
本発明方法により製造されるエチレン共重合体、ことに上述した特徴を示すエチレン共重合体は、フィルムの製造に極めて適当である。このようなフィルムの製造は、周知の態様、ことに吹込成形法により行なわれる。本発明共重合体は、ことにシート吹込による処理にことに適する。この場合、共重合体は、裂開の問題を惹起することなく、高い剥離速度で処理され得る。この秀れた加工処理特性の故に、同じ密度、同じＭＦＩを示す従来のエチレン共重合体を使用する場合にくらべて厚さの薄いフィルムが、一連の設定条件下に製造され得る。
【００４２】
以下の実施例により、本発明をさらに具体的に、ただし例示的に説明する。
【００４３】
【実施例】
実施例１
（担持クロム触媒の製造）
３２０ｍ2／ｇの比表面積（ＢＥＴ）、１．７５ｍｌ／ｇの孔隙容積を有する粒子状ＳｉＯ2を担体として使用した。このような担体材料は、例えばＳｙｌｏｐｏｌ  ３３２のような商品名でグレース社から商業的に入手可能である。
【００４４】
このような担体１００ｋｇに、メタノール中、Ｃｒ（ＮＯ3）3９Ｈ2Ｏ（１１．３９ｇ／ｌ）の溶液１４１ｌを添加した。１時間後に、溶媒を減圧で蒸留除去した。
【００４５】
中間生成物は、０．２質量％のクロムを含有する。これを気相流動床中でか焼した。すなわち、混合物をまず窒素のみで、次いで空気に切換えて、流動させ、３００℃に加熱した。さらに混合物を、７００℃の所望最終温度まで加熱した。混合物を最終温度に１０時間維持し、次いでガスを再び窒素に切換え、混合物を冷却した。
【００４６】
実施例２
（気相重合）
０．５ｍの直径を有する流動床反応器中において重合を行なった。重合温度は１１０．４℃から１１２．５℃、反応器圧力は２１バールとした。反応器ガスは、以下の組成、すなわちエチレン５６容量％、１−ヘキセン０．２３容量％、ヘキサン２容量％、窒素４１．７７容量％を示した。触媒は、実施例の触媒を使用した。
【００４７】
実施例３
（フィルムの製造）
従来法により製造された共重合体と対比するため、本発明の共重合体と併行して、同じ条件下に二種類の一般的に使用されている市販製品を同様にフィルム加工した。
【００４８】
【表１】
0004324323.tif 000005
加工は、以下の設定、すなわちノズル径１００ｍｍ、ダイスロット１．２ｍｍ、材料温度２２５℃、ダイ圧力３９０バール、澎張比１：４、ネック寸法９００ｍｍ、フィルム厚さ２０μｍで、ウィントメラー、ヘルシェルのフィルム吹込成形機を使用して行なった。加工処理は高い剥離速度で行なうことができ薄いフィルムが得られた。フィルム製品の結果は以下の通りであった。
【００４９】
【表２】
0004324323.tif 000006