(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号記録層を有し、情報記録再生装置において光源から射出され集光素子により収束された光束を該信号記録層に照射されて使用される情報記録ディスクであって、
上記信号記録層は、上記集光素子に臨む側に位置しており、該信号記録層上に、無反射コーティング膜が形成されて、
上記集光素子と上記信号記録層との間には、上記光束の波長より厚い膜が存在していない
ことを特徴とする情報記録ディスク。
【請求項２】
信号記録層を有し、情報記録再生装置において光源から射出された光束を収束させて該信号記録層に照射する集光素子とこの集光素子に臨む側の表面部との間の距離が該光束の波長以下となされて使用される情報記録ディスクであって、
上記信号記録層は、基板の上記光束の照射側に形成され、
上記集光素子に臨む側の表面部には、無反射コーティング膜が形成されている
ことを特徴とする情報記録ディスク。
【請求項３】
上記無反射コーティング膜は、３層以上の誘電体膜により構成されていることを特徴とする請求項２記載の情報記録ディスク。
【請求項４】
上記信号記録層上に、第１の誘電体膜が形成され、
上記無反射コーティング層は、上記第１の誘電体膜上に形成され、この第１の誘電体膜に入射する光束について反射防止を行うことを特徴とする請求項２記載の情報記録ディスク。
【請求項５】
上記信号記録層の集光素子に臨む側の反対側である下層側には、第２の誘電体膜が形成され、さらにこの第２の誘電体膜の下層側に反射膜が形成されており、
上記第１の誘電体膜、上記信号記録層、上記第２の誘電体膜及び上記反射膜は、該信号記録層に入射する光束のうちの該信号記録層に対する法線方向の成分について、エンハンス効果を生じさせることを特徴とする請求項４記載の情報記録ディスク。
【請求項６】
上記無反射コーティング層の厚さは、上記信号記録層の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項４記載の情報記録ディスク。
【請求項７】
上記無反射コーティング層の厚さは、１００ｎｍ以上であることを特徴とする請求項４記載の情報記録ディスク。
【請求項８】
上記表面部の最表面は、研磨工程によって平滑面に形成されていることを特徴とする請求項４記載の情報記録ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報記録ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、情報記録ディスク及びこの情報記録ディスクを用いて情報信号の記録再生を行う情報記録再生装置が提案されている。このような情報記録ディスクとしては、いわゆる光ディスク、光磁気ディスクや、ハードディスクなどが提案されている。
【０００３】
いわゆる光磁気ディスクは、図１７に示すように、信号記録層（ＭＯ膜）１０１及びこの信号記録層１０１の両側に形成されエンハンス効果をもたらす誘電体膜１０２，１０３を有して構成されている。これら信号記録層１０１及び誘電体膜１０２，１０３は、それぞれ、保護膜１０４及び基板１０５、カバー材料等により保護され、外方側には臨んでいない。したがって、この光磁気ディスクにおいては、信号記録層１０１及び誘電体膜１０２，１０３が光学ピックアップ装置の対物レンズや磁気ヘッドなどと擦れること、あるいは、衝突する虞れはなく、このような事態を防止するための対策を講じる必要はない。
【０００４】
また、いわゆるハードディスクにおいて、記録されている情報信号を再生する場合、あるいは、情報記録ディスクに情報信号を記録する場合には、図１８に示すように、情報記録ディスクの基板１０５上に形成された信号記録層１０１と磁気ヘッド１０６とは、極力接近していることが望ましく、また、光学的な条件は必要とされない。したがって、磁気ヘッド１０６及び情報記録ディスクとの間には、潤滑性を有する物質（潤滑剤）が薄くコーティングされてなる潤滑膜１０７が形成されている。ここで、潤滑剤としては、その特性から、フッ素を含有する物質が多く用いられている。磁気ヘッド１０６は、スライダ１０８に取付けられて支持されている。
【０００５】
ところで、近年においては、光ディスクにおいても、ハードディスクのように、信号記録層と光学ピックアップ装置の対物レンズとの距離が近接した光ディスク装置が開発されるようになってきた。これら光ディスク装置としては、スライダにより対物レンズをマウントして支持する構成を有するいわゆる「光ハードディスク装置」、あるいは、スライダにより対物レンズをマウントして支持する構成を有さずとも、対物レンズのＮＡ（開口数）が１以上とされている「ニアフィールド光ディスク装置」などが提案されている。
【０００６】
「ニアフィールド光ディスク装置」は、図１９に示すように、対物レンズをいわゆるＳＩＬ（ソリッドイマージョンレンズ）１１０とし、このＳＩＬ１１０の第一面を情報記録ディスクの表面部に対して近接させ、該表面部に対するいわゆる近接場領域にＳＩＬ１１０の第一面を配置する構成を有している。
【０００７】
このような「光ハードディスク装置」において使用される情報記録ディスクは、図２０に示すように、基板１０５上に形成されている膜構成として、基板１０５側より順に、反射膜１０９、第２の誘電体膜１０３、信号記録層１０１及び第１の誘電体膜１０２を有している。この情報記録ディスクは、これら反射膜１０９、第２の誘電体膜１０３、信号記録層１０１及び第１の誘電体膜１０２の４層の膜により、基板１０５に対して垂直入射される光線について、記録データのコントラストが高くなるエンハンス効果が得られるように設計されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述のような、いわゆる「光ハードディスク装置」として構成された情報記録再生装置においては、情報記録ディスクの信号記録層と光学ピックアップ装置の対物レンズとの距離が近接することとなるため、これら信号記録層と対物レンズとが衝突する虞れがある。ここで、信号記録層上に潤滑剤を塗布することとした場合、塗布の膜厚ムラが存在すると光学特性のバラツキを発生させてしまうこととなるので、膜厚ムラを極力少なくしなければならない。
【０００９】
また、「ニアフィールド光ディスク装置」における潤滑剤としては、フッ素系材料は、屈折率が低いという特性から不向きである。このように、「ニアフィールド光ディスク装置」においては、潤滑剤として的確な材料を選定することが困難である。
【００１０】
また、「光ハードディスク装置」においては、情報記録ディスクと対物レンズとの微妙な距離の変動が光学特性に影響を与えないようにするために、近接する界面を含む対物レンズの第一面には、無反射コーティング（ＡＲコーティング）がなされていることが望ましい。
【００１１】
しかし、対物レンズと情報記録ディスクとが近接しているために対物レンズが情報記録ディスクに衝突し易く、このような衝突が生じてしまうと、無反射コーティングが剥がれてしまう虞れがある。対物レンズの無反射コーティングが剥がれてしまうと、装置全体の光学特性が変化してしまい、情報信号の良好な記録再生が行えなくなるので、無反射コーティングの成膜材料の選定及びその取扱いが容易ではない。
【００１２】
さらに、上述の構成においては、情報記録ディスクに照射される光束のうちの開口数（ＮＡ）の高い成分は、信号記録層に届きにくい構成となってしまっている。すなわち、情報記録ディスクとＳＩＬとの間の空気膜を屈折率（ｎ）が１の薄膜と考え、屈折率（ｎ）が１．８の光学部品であるＳＩＬより、厚さｔの空気層を介して入射する場合の第１の誘電体膜の反射率の入射角度依存性の計算結果によれば、図２１に示すように、開口数に対応する入射角度が異なることによって、第１の誘電体膜に入射する光の強度が変動する。さらに、例えば、５０ｎｍの厚さの空気層を基準として光学系の設計がされた場合において、空気層の厚さの変動に対する反射率の変動が激しく、光エネルギ分布の変動を生じ易い。
【００１３】
また、ＭＴＦ（伝達関数（Modulation Transfer Function））の計算結果においても、図２２及び図２３に示すように、情報記録ディスクとＳＩＬとの間の空気層の厚さが増加すると、ＭＴＦは、すぐに劣化し易いことがわかる。
【００１４】
さらには、図２０に示した膜構成の情報記録ディスクのにおいては、ＳＩＬに対向する最表面が、ＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる膜となっている。このＺｎＳ−ＳｉＯ2は、とても柔らかい材料であり、ＳＩＬとの衝突が発生してしまった場合、膜が損傷を受けやすい構造となっている。ハードディスクにおいては、表面性を改善するために研磨を行っているが、最表面がＺｎＳ−ＳｉＯ2のような柔らかい材料から形成されている場合には、研磨を行うことができない。
【００１５】
また、この情報記録ディスクにおいては、情報の記録時においてアブレーション現象が発生し易く、膜がなくなってしまうだけでなく、ゴミを発生させ易いという問題がある。
【００１６】
そこで、本発明は、上述の実情に鑑みて提案されるものであって、いわゆる「ニアフィールド技術」を用いて情報信号の記録再生をするにあたって、集光素子との間の空気層の厚さの変化に対して充分なマージンが得られるとともに、集光素子の衝突などが生じた場合において失われるデータ量が最小限に抑えられ、かつ、作製が容易な膜構成を有する情報記録ディスクを提供しようとするものである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するため、本発明は、信号記録層を有し情報記録再生装置において光源から射出され集光素子により収束された光束を該信号記録層に照射されて使用される情報記録ディスクにおいて、信号記録層が集光素子に臨む側に位置しており、この信号記録層上に、無反射コーティング膜が形成されて、集光素子と信号記録層との間には、光束の波長より厚い膜が存在していないことを特徴とするものである。
【００１８】
また、本発明は、信号記録層を有し情報記録再生装置において光源から射出された光束を収束させて該信号記録層に照射する集光素子とこの集光素子に臨む側の表面部との間の距離が該光束の波長以下となされて使用される情報記録ディスクにおいて、上記信号記録層が基板の上記光束の照射側に形成され、集光素子に臨む側の表面部に、無反射コーティング膜が形成されていることを特徴とするものである。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
【００２２】
この実施の形態は、本発明に係る情報記録ディスクを、図１に示すように、いわゆる「ニアフィールド技術」を用いて情報信号の記録再生を行う情報記録ディスクとして構成したものである。また、この実施の形態は、本発明に係る情報記録再生装置を、いわゆる「ニアフィールド技術」を用いて情報記録ディスクに対して情報信号の記録再生を行う情報記録再生装置として構成したものである。
【００２３】
この情報記録ディスクは、図１に示すように、相変化型ディスク（Phase Change Media）として構成されており、基板１側から順に、アルミニウム（Ａｌ）からなる反射膜２、第２の誘電体膜３、信号記録層４、第１の誘電体膜５が形成されている。これら反射膜２、第２の誘電体膜３、信号記録層４及び第１の誘電体膜５の４層の膜により、基板１に対する垂直入射光束成分に対するエンハンス条件、すなわち、ビームウエストにおけるエンハンス条件が構成されている。さらに、第１の誘電体膜５の上には、第３、第４及び第５の誘電体膜６，７，８からなる無反射コーティングが形成されている。これら第３、第４及び第５の誘電体膜６，７，８からなる無反射コーティングにより、集光素子、すなわち、ＳＩＬ（ソリッドイマージョンレンズ）１０より入射される情報記録ディスクの表面に対して角度を有する光線に対して、第１の誘電体膜５に関して無反射条件となるように構成されている。
【００２４】
各誘電体膜をなす厚さ、屈折率及び材料としては、使用波長を６５０ｎｍとした場合、第１の誘電体膜５は、厚さが１００ｎｍで屈折率（ｎ）が２．１６のＺｎＳ−ＳｉＯ2からなり、第２の誘電体膜３は、厚さが４０ｎｍで屈折率（ｎ）が２．１６のＺｎＳ−ＳｉＯ2からなり、第３の誘電体膜６は、厚さが１５ｎｍで屈折率（ｎ）が１．４７のＳｉＯ2からなり、第４の誘電体膜７は、厚さが５０ｎｍで屈折率（ｎ）が２．０のＳｉＮからなり、第５の誘電体膜８は、厚さが２００ｎｍで屈折率（ｎ）が１．４７のＳｉＯ2からなる。信号記録層４は、厚さが２０ｎｍで屈折率（ｎ）が３．９のＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる。
【００２５】
図２に、空気膜９を屈折率（ｎ）が１の薄膜として考え、屈折率（ｎ）が１．８の光学部品により、空気層９の厚さｔを介した場合の第１の誘電体膜５の反射率の入射角度依存性の計算結果を示す。空気層９の厚さを例えば５０ｎｍとすると、無反射コーティングにより、入射角が５０degまでの光線に対して、第１の誘電体膜５の反射率は、いずれも１０％以下になる。この結果によれば、この情報記録ディスクにおいては、結合効率が高くなっているとともに、空気層の厚さの変化に対して、結合効率の変化が緩やかであることがわかる。
【００２６】
さらに、この情報記録ディスクにおいては、ＳＩＬ１０に対向する最表面部をなす材料がＳｉＯ2となっており、該ＳＩＬ１０の該最表面部への衝突が発生した場合においても、膜が損傷を受けにくい構成となっている。
【００２７】
従来の情報記録ディスクにおいては、最表面がＺｎＳ−ＳｉＯ2からなるために柔らかく、研磨工程（バーニッシング）を行うことが困難であったが、この情報記録ディスクにおいては、最表面がＳｉＯ2からなることにより、研磨工程を行うことが可能である。したがって、信号記録層４の成膜時におけるスパッタリングなどの工程で異常放電などが発生して、突起が形成されてしまった場合などにおいて、研磨工程を行うことにより、その突起を取り除くことも可能である。
【００２８】
さらには、最表面部をなす第５の誘電体膜８の厚さが１００ｎｍ以上であることにより、研磨に関するマージンが緩やかとなり、すなわち、研磨工程におけるマージンが緩やかとなる。
【００２９】
また、この情報記録ディスクにおいては、集光素子であるＳＩＬ１０が表面部に衝突してしまい、膜剥がれが発生した場合において、ＳＩＬ１０側に無反射コーティング膜が形成されていてこの膜が剥がれてしまった場合と異なり、損なわれるデータは、無反射コーティングが剥がれた部分のみで済み、格段に少なくて済む。一方、ＳＩＬ１０側に無反射コーティング膜が形成されていてこの膜が剥がれた場合には、情報記録ディスクの全面についてのデータの記録再生時においてその光学的条件が変わってしまうこととなる。
【００３０】
そして、信号記録層を光磁気記録（ＭＯ）膜とした場合には、この情報記録ディスクの膜構成は、図３に示すように、基板１側から順番に、反射膜２、第２の誘電体膜３、信号記録層４、第１の誘電体膜５が形成されている。これら反射膜２、第２の誘電体膜３、信号記録層４及び第１の誘電体膜５の４層の膜により、基板１に対する垂直入射光束成分に対するエンハンス条件、すなわち、ビームウエストにおけるエンハンス条件が構成されている。さらに、第１の誘電体膜５の上には、第３、第４及び第５の誘電体膜６，７，８からなる無反射コーティングが形成されている。これら第３、第４及び第５の誘電体膜６，７，８からなる無反射コーティングにより、集光素子、すなわち、ＳＩＬ（ソリッドイマージョンレンズ）１０より入射される情報記録ディスクの表面に対して角度を有する光線に対し、第１の誘電体膜５に関して無反射条件となるように構成されている。
【００３１】
各誘電体膜をなす厚さ、屈折率及び材料としては、使用波長６５０ｎｍとした場合、第１の誘電体膜５は、厚さが１００ｎｍで屈折率（ｎ）が２．００のＳｉＮからなり、第２の誘電体膜３は、厚さが２０ｎｍで屈折率（ｎ）が２．０のＳｉＮからなり、第３の誘電体膜６は、厚さが１０ｎｍで屈折率（ｎ）が１．４７のＳｉＯ2からなり、第４の誘電体膜７は、厚さが５０ｎｍで屈折率（ｎ）が２．０のＳｉＮからなり、第５の誘電体膜８は、厚さが２００ｎｍで屈折率（ｎ）が１．４７のＳｉＯ2からなる。信号記録層４は、厚さが２０ｎｍで屈折率（ｎ）が３．１３のＴｂＦｅＣｏ及び厚さが４ｎｍで屈折率（ｎ）が２．８６のＧｂＦｅＣｏからなる。
【００３２】
図４に、空気膜９を屈折率（ｎ）が１の薄膜として考え、屈折率（ｎ）が１．８の光学部品により、空気層９の厚さｔを介した場合の第１の誘電体膜５の反射率の入射角度依存性の計算結果を示す。空気層９の厚さを例えば５０ｎｍとすると、無反射コーティングにより、入射角が５０degまでの光線に対して、第１の誘電体膜５の反射率は、いずれも１０％以下になる。この結果によれば、この情報記録ディスクにおいては、結合効率が高くなっているとともに、空気層の厚さの変化に対して、結合効率の変化が緩やかであることがわかる。
【００３３】
さらに、この情報記録ディスクにおいては、ＳＩＬ１０に対向する最表面部をなす材料がＳｉＯ2となっており、該ＳＩＬ１０の該最表面部への衝突が発生した場合においても、酸化に弱い信号記録層４が表面に露出してしまうことが生じにくい構成となっている。
【００３４】
この情報記録ディスクにおいては、最表面が厚いＳｉＯ2からなることにより、研磨工程を行うことが可能である。したがって、信号記録層４の成膜時におけるスパッタリングなどの工程で異常放電などが発生して、突起が形成されてしまった場合などにおいて、研磨工程を行うことにより、その突起を取り除くことも可能である。
【００３５】
さらには、最表面部をなす第５の誘電体膜８の厚さが１００ｎｍ以上であることにより、研磨に関するマージンが緩やかとなり、すなわち、研磨工程におけるマージンが緩やかとなる。
【００３６】
また、この情報記録ディスクにおいては、集光素子であるＳＩＬ１０が表面部に衝突してしまい、膜剥がれが発生した場合において、ＳＩＬ１０側に無反射コーティング膜が形成されていてこの膜が剥がれてしまった場合と異なり、損なわれるデータは、無反射コーティングが剥がれた部分のみで済み、格段に少なくて済む。
【００３７】
なお、上述の各実施の形態の説明においては、具体的な例として、使用波長を６５０ｎｍとし、空気膜の厚さを５０ｎｍとし、集光素子（ＳＩＬ１０）の屈折率（ｎ）を１．８とした場合のものを示しているが、本発明に係る情報記録ディスクは、これらの条件に限定されることはない。また、上述の各実施の形態の説明においては、信号記録層が相変化膜である場合及び光磁気記録膜である場合についての構成を示しているが、本発明に係る情報記録ディスクは、このような記録膜の構成に限定されることはなく、信号再生専用の情報記録層を有するものであってもよい。
【００３８】
そして、本発明に係る情報記録再生装置は、上述のような情報記録ディスクを保持して回転操作する回転操作機構を有して構成される。また、この情報記録再生装置は、光源と、この光源から射出された光束を収束させて情報記録ディスクの信号記録層に照射する集光素子としてＳＩＬ（ソリッドイマージョンレンズ）をを備えている。ＳＩＬは、略々半球状に形成されたレンズであり、平面部を情報記録ディスクに対向させ、球面部より入射された光束を該平面部を介して情報記録ディスクに照射させる。このＳＩＬには、光源から発せられた光束が集光レンズなどの光学素子を介して、球面部より入射される。
【００３９】
そして、この情報記録再生装置において、情報記録ディスクは、ＳＩＬの平面部とこのＳＩＬに臨む側の表面部との間の距離が、記録再生用光束の波長以下となされて使用される。ＳＩＬと情報記録ディスクとの間の距離をこのような微小な距離に維持するには、これらＳＩＬと情報記録ディスクとの間の距離を測定しこの測定結果のフィードバックに基づくサーボ動作によりＳＩＬを移動操作したり、あるいは、図５に示すように、ハードディスクなどにおいて使用されているスライダ部材１１にＳＩＬ１０を取付けてこのＳＩＬ１０を情報記録ディスクに対向させ、情報記録ディスクの回転によりこの情報記録ディスクとスライダ部材１１との間に形成される空気層によって該ＳＩＬ１０が該情報記録ディスクより所定の距離に維持されるようにしてもよい。
【００４０】
ＳＩＬの平面部と情報記録ディスクの表面部との間の距離が記録再生用光束の波長以下となるいわゆる近接場領域においては、ＳＩＬから情報記録ディスクへのエバネッセント光（浸み出し光）が生じて、情報記録ディスクへの光束の照射がなされる。
【００４１】
そして、上述のような本発明に係る情報記録ディスク及び情報記録再生装置においては、情報記録ディスクにおける無反射コーティング層がメディアに対してアブレーションを抑える効果を有しているので、記録マージンが広くなり易く、また、ゴミも発生しにくい。
【００４２】
さらに、ＭＴＦ（Modulation Transfer Function）の計算結果において、ＳＩＬと情報記録ディスクとの間の空気層の厚さが増加しても、劣化が少ない。すなわち、情報記録ディスクの表面部に無反射コーティングを行うことにより、図６及び図７、図８及び図９に示すように、ＭＴＦの劣化を画期的に改善する効果がある。
【００４３】
また、相層変化型光ディスクの場合においては、位相条件も重要となるが、この条件においては、図１０に示すように、位相変化に関しても関しても影響が少なく、再生マージンが広い条件であった。
【００４４】
さらに、ＳｉＯ2のみによる一層コートにおいても、図１１及び図１２に示すように、ＭＴＦの劣化を改善する効果がある。相変化型光ディスクの場合においては、位相条件も重要となるので、この条件においては、図１３に示すように、位相変化に関して敏感になりすぎてしまっているために、実使用においては問題があるが、ＭＴＦ特性はよい。
【００４５】
すなわち、相変化型メディアを用いた場合においては使用条件が厳しいが、光磁気（ＭＯ）材料を用いた場合には、１層のコーティング膜であってもよい。
【００４６】
なお、ＳｉＯ2、ＳｉＮ、ＳｉＯ2の３層コートにおいても、無反射条件でない条件においては、図１４、図１５及び図１６に示すように、ＭＴＦの劣化を改善する効果はない。
【００４７】
そして、本発明に係る情報記録ディスクにおいては、ＳＩＬと情報記録ディスクとの間の空気層を薄膜として考え、集光されるレーザ光の焦点近傍におけるエンハンス層、すなわち、反射膜、第２の誘電体膜、信号記録層、第１の誘電体膜の上に、ＳＩＬより入射する光束に対して無反射コーティングが構成されるようにすることにより、設計手法が簡易となる効果も得られる。
【００４８】
なお、本発明の目的は、光学的に記録及び再生がなされ、カバー層を有しない構成の記録媒体において、光学的結合の効率を高めるとともに、記録媒体の作製を容易とすることにあり、上述したような、いわゆる「ニアフィールド技術」を用いる情報記録ディスク及び情報記録再生装置に限定して適用されるものではない。
【００４９】
【発明の効果】
上述のように、本発明に係る情報記録ディスク及び情報記録再生装置においては、情報記録ディスクの表面部に無反射コーティングを施すことにより、広い入射角度の光線に対して、第１の誘電体膜の反射率を低くすることができ、結合効率が高くなっているともとに、空気層の厚さの変化に対して、結合効率の変化が緩やかとなる。
【００５０】
また、集光素子に対向する最表面部をなす材料がＳｉＯ2となっており、集光素子の最表面部への衝突が発生した場合においても、酸化などに弱い信号記録層が表面に露出してしまうことが生じにくい構成となっている。
【００５１】
さらに、最表面が厚いＳｉＯ2からなることにより、研磨工程を行うことが可能である。したがって、信号記録層４の成膜時におけるスパッタリングなどの工程で異常放電などが発生して、突起が形成されてしまった場合などにおいて、研磨工程を行うことにより、その突起を取り除くことも可能である。この場合、最表面部をなす第５の誘電体膜の厚さが１００ｎｍ以上であることにより、研磨に関するマージンが緩やかとなり、すなわち、研磨工程におけるマージンが緩やかとなる。
【００５２】
そして、集光素子が表面部に衝突してしまい、膜剥がれが発生した場合において、集光素子側に無反射コーティング膜が形成されていてこの膜が剥がれてしまった場合と異なり、損なわれるデータは、無反射コーティングが剥がれた部分のみで済み、格段に少なくて済む。
【００５３】
そして、情報記録ディスクにおける無反射コーティング層がメディアに対してアブレーションを抑える効果を有しているので、記録マージンが広くなり易く、また、ゴミも発生しにくい。
【００５４】
さらに、ＭＴＦ（Modulation Transfer Function）の計算結果において、集光素子と情報記録ディスクとの間の空気層の厚さが増加しても、劣化が少ない。すなわち、情報記録ディスクの表面部に無反射コーティングを行うことにより、ＭＴＦの劣化を画期的に改善する効果がある。
【００５５】
また、相層変化型光ディスクの場合においては、位相条件も重要となるが、この条件においては、位相変化に関しても関しても影響が少なく、再生マージンが広い条件となる。
【００５６】
すなわち、本発明は、いわゆる「ニアフィールド技術」を用いて情報信号の記録再生をするにあたって、集光素子との間の空気層の厚さの変化に対して充分なマージンがを得られるとともに、集光素子の衝突などが生じた場合において失われるデータ量が最小限に抑えられ、かつ、作製が容易な膜構成を有する情報記録ディスクを提供することができるものである。
【００５７】
さらに、本発明は、上述のような情報記録ディスクを用いて、いわゆる「ニアフィールド技術」を用いて情報信号の記録再生をするにあたり、該情報記録ディスクと集光素子との間の空気層の厚さ変化に対する充分なマージンが得られ、また、これら情報記録ディスクと集光素子との衝突などが生じた場合において失われるデータ量を最小限に抑えることができる情報記録再生装置を提供することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る情報記録ディスク及び情報記録再生装置の要部となる集光素子の構成を示す縦断面図である。
【図２】上記図１に示した情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと反射率との関係を示すグラフである。
【図３】上記情報記録ディスク及び情報記録再生装置の要部となる集光素子の構成の他の形態を示す縦断面図である。
【図４】上記図３に示した情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと反射率との関係を示すグラフである。
【図５】上記情報記録再生装置における集光素子の支持構造を示す側面図である。
【図６】上記情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと再生信号のキャリアレベルが最大となる場合のフォーカス位置との関係を示すグラフである。
【図７】上記情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと図６において再生信号のキャリアレベルが最大となるフォーカス位置におけるＭＴＦとの関係を示すグラフである。
【図８】上記情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと再生信号のキャリアレベルが最大となる場合のフォーカス位置との関係を示すグラフである。
【図９】上記情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと図８において再生信号のキャリアレベルが最大となるフォーカス位置におけるＭＴＦとの関係を示すグラフである。
【図１０】上記情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと位相特性との関係を示すグラフである。
【図１１】１層の無反射コーティングを施した情報記録ディスクにおける空気層の厚さと再生信号のキャリアレベルが最大となる場合のフォーカス位置との関係を示すグラフである。
【図１２】１層の無反射コーティングを施した情報記録ディスクにおける空気層の厚さと図１１において再生信号のキャリアレベルが最大となるフォーカス位置におけるＭＴＦとの関係を示すグラフである。
【図１３】１層の無反射コーティングを施した情報記録ディスクにおける空気層の厚さと位相特性との関係を示すグラフである。
【図１４】無反射条件を満たさないコーティングを施した情報記録ディスクにおける空気層の厚さと再生信号のキャリアレベルが最大となる場合のフォーカス位置との関係を示すグラフである。
【図１５】無反射条件を満たさないコーティングを施した情報記録ディスクにおける空気層の厚さとＭＴＦとの関係を示すグラフである。
【図１６】無反射条件を満たさないコーティングを施した情報記録ディスクにおける空気層の厚さとＭＴＦとの関係を示すグラフである。
【図１７】従来の情報記録ディスクである光磁気ディスク及び情報記録再生装置の要部となる対物レンズの構成を示す縦断面図である。
【図１８】従来の情報記録ディスクであるハードディスク及び情報記録再生装置の要部となる磁気ヘッドの構成を示す縦断面図である。
【図１９】従来提案されているニアフィールド光ディスク及び情報記録再生装置の要部となるＳＩＬの構成を示す縦断面図である。
【図２０】従来提案されているニアフィールド光ディスクの構成を示す縦断面図である。
【図２１】上記従来の情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層と反射率との関係を示すグラフである。
【図２２】上記従来の情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと再生信号のキャリアレベルが最大となる場合のフォーカス位置との関係を示すグラフである。
【図２３】上記従来の情報記録ディスク及び情報記録再生装置における空気層の厚さと図２２において再生信号のキャリアレベルが最大となるフォーカス位置におけるＭＴＦとの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１  基板、２  反射膜、３  第２の誘電体膜、４  信号記録層、５  第１の誘電体膜、６  第３の誘電体膜、７  第４の誘電体膜、８  第５の誘電体膜、９  空気層、１０  ＳＩＬ
【図１】
0004207315.tif 000002
【図２】
0004207315.tif 000003
【図３】
0004207315.tif 000004
【図４】
0004207315.tif 000005
【図５】
0004207315.tif 000006
【図６】
0004207315.tif 000007
【図７】
0004207315.tif 000008
【図８】
0004207315.tif 000009
【図９】
0004207315.tif 000010
【図１０】
0004207315.tif 000011
【図１１】
0004207315.tif 000012
【図１２】
0004207315.tif 000013
【図１３】
0004207315.tif 000014
【図１４】
0004207315.tif 000015
【図１５】
0004207315.tif 000016
【図１６】
0004207315.tif 000017
【図１７】
0004207315.tif 000018
【図１８】
0004207315.tif 000019
【図１９】
0004207315.tif 000020
【図２０】
0004207315.tif 000021
【図２１】
0004207315.tif 000022
【図２２】
0004207315.tif 000023
【図２３】
0004207315.tif 000024