(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向し且つ交差するストライプ電極で構成された表電極および裏電極と、前記表電極および前記裏電極間に介在するエレクトロルミネッセンス層とを有し、前記表電極および前記裏電極によりマトリクス状に複数の画素が規定された表示装置であって、
前記表電極および前記裏電極のいずれか一方の列方向に延びる電極には、その外側表面をすべて覆うように光遮蔽性または反射性を有する導電層が該一方の電極を構成するストライプ電極に対して一つおきに形成され、他方の行方向に延びる電極には、その外側表面に、列方向に伸び、上記導電層とは互いに重畳しないように且つ交互に配列された光遮蔽性または反射性を有する導電層が形成され、
前記複数の画素は、前記表電極側での表示を行う表側画素と、前記裏電極側での表示を行う裏側画素とに区別され、
前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ列方向に連続し、かつ行方向に交互に配列された、表示装置。
【請求項２】
互いに対向し且つ交差するストライプ電極で構成された表電極および裏電極と、前記表電極および前記裏電極間に介在するエレクトロルミネッセンス層とを有し、前記表電極および前記裏電極によりマトリクス状に複数の画素が規定された表示装置であって、
前記表電極および前記裏電極のいずれか一方の行方向に延びる電極には、その外側表面をすべて覆うように光遮蔽性または反射性を有する導電層が該一方の電極を構成するストライプ電極に対して一つおきに形成され、他方の列方向に延びる電極には、その外側表面に、行方向に伸び、上記導電層とは互いに重畳しないように且つ交互に配列された光遮蔽性または反射性を有する導電層が形成され、
前記複数の画素は、前記表電極側での表示を行う表側画素と、前記裏電極側での表示を行う裏側画素とに区別され、
前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ行方向に連続し、かつ列方向に交互に配列された、表示装置。
【請求項３】
互いに対向し且つ交差するストライプ電極で構成された表電極および裏電極と、前記表電極および前記裏電極間に介在する液晶層とを有し、前記表電極および前記裏電極によりマトリクス状に複数の画素が規定された表示装置であって、
前記表電極および前記裏電極のいずれか一方の列方向に延びる電極には、その外側表面をすべて覆うように反射性を有する導電層が該一方の電極を構成するストライプ電極に対して一つおきに形成され、他方の行方向に延びる電極には、その外側表面に、列方向に伸び、上記導電層とは互いに重畳しないように且つ交互に配列された反射性を有する導電層が形成され、
前記複数の画素は、前記表電極側での表示を行う表側画素と、前記裏電極側での表示を行う裏側画素とに区別され、
前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ列方向に連続し、かつ行方向に交互に配列された、表示装置。
【請求項４】
互いに対向し且つ交差するストライプ電極で構成された表電極および裏電極と、前記表電極および前記裏電極間に介在する液晶層とを有し、前記表電極および前記裏電極によりマトリクス状に複数の画素が規定された表示装置であって、
前記表電極および前記裏電極のいずれか一方の行方向に延びる電極には、その外側表面をすべて覆うように反射性を有する導電層が該一方の電極を構成するストライプ電極に対して一つおきに形成され、他方の列方向に延びる電極には、その外側表面に、行方向に伸び、上記導電層とは互いに重畳しないように且つ交互に配列された反射性を有する導電層が形成され、
前記複数の画素は、前記表電極側での表示を行う表側画素と、前記裏電極側での表示を行う裏側画素とに区別され、
前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ行方向に連続し、かつ列方向に交互に配列された、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表裏両面に情報を表示する両面表示装置に関する。本発明の両面表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、真空蛍光表示（ＶＦＤ）装置などに適用できる。
【０００２】
【従来の技術】
表裏両面に同種の情報を動的表示する両面表示装置は、ＶＦＤ装置やＰＤＰ装置などにより、駅の行き先案内、店舗のキャッシュレジスター、銀行窓口案内など色々な用途に使用されている。従来の両面表示装置は、２つの表示パネルを有するタイプと、表示パネルは１つで、２つの表示媒体層を有するタイプとに概ね分けることができる。
【０００３】
図９は、２つの表示パネルを有するタイプの両面表示装置の側面図である。図９に示す両面表示装置では、片面表示を行う表示ユニット１００が２個用いられている。表示ユニット１００は、表示装置１０１と、表示装置１０１を駆動制御する駆動回路１０２とからなる。２個の表示ユニット１００は、互いに背中合わせで配置され、連結部材１０３を介して支持基板１０４に支持されている。
【０００４】
２つの表示媒体層を有するタイプとして、例えば特開平5-61024 号公報に開示された液晶表示装置を挙げることができる。図１０は、同公報に開示された液晶表示装置の断面図である。図１０に示す液晶表示装置は、３枚の基板１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃを備えており、中間基板１１６ｃの上下面には、それぞれ表示電極１１４ａ，１１４ｂとスイッチング素子１１５ａ，１１５ｂとが形成されている。上側基板１１６ａおよび下側基板１１６ｂにも、電極１１３ａ，１１３ｂがそれぞれ形成されている。上側基板１１６ａと中間基板１１６ｃとの間、および下側基板１１６ｂの中間基板１１６ｃとの間には、それぞれ液晶層１１２ａ，１１２ｂが介在している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
図９に示す両面表示装置では、２個の表示ユニット１００の電気的な絶縁と配線を行うために、２個の表示ユニット１００間の空間を十分確保する必要があるので、薄型化が困難である。また、表示装置１０１が２個必要なだけでなく、駆動回路１０２も２個必要であるので、低コスト化が困難である。
【０００６】
一方、特開平5-61024 号公報に開示された液晶表示装置では、中間基板１１６ｃの両面に、表示電極１１４ａ，１１４ｂとスイッチング素子１１５ａ，１１５ｂとを形成し、さらに中間基板１１６ｃの両側に液晶層１１２ａ，１１２ｂを形成する必要がある。したがって、製造が煩雑となり、表示パネルの低コスト化が困難である。また、表示パネルを駆動または制御するためのドライバＩＣを中間基板１１６ｃの裏表の両面に接続する必要があるので、表示装置を形成する際にも低コスト化が困難であるという問題点がある。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑み、薄型化が可能で、低コスト化が可能である両面表示装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の表示装置は、互いに対向し且つ交差するストライプ電極で構成された表電極および裏電極と、前記表電極および前記裏電極間に介在するエレクトロルミネッセンス層とを有し、前記表電極および前記裏電極によりマトリクス状に複数の画素が規定された表示装置であって、前記表電極および前記裏電極のいずれか一方の列方向に延びる電極には、その外側表面をすべて覆うように光遮蔽性または反射性を有する導電層が該一方の電極を構成するストライプ電極に対して一つおきに形成され、他方の行方向に延びる電極には、その外側表面に、列方向に伸び、上記導電層とは互いに重畳しないように且つ交互に配列された光遮蔽性または反射性を有する導電層が形成され、前記複数の画素は、前記表電極側での表示を行う表側画素と、前記裏電極側での表示を行う裏側画素とに区別され、前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ列方向に連続し、かつ行方向に交互に配列されている。
【０００９】
ここで、「表」側および「裏」側とは、表示媒体層の一方面側および他方面側をいう。「表示媒体層」とは、互いに対向する表電極および裏電極に電圧を印加することによって、両電極の電位差により光透過率が変調される層、または両電極間を流れる電流により自発光する層である。
【００１０】
「画素」とは、表示を行うために光学的な状態が制御される最小単位を指す。「画素」は、単純マトリクス型表示装置においては、複数の列電極と、列電極に交差するように設けられる複数の行電極とによって規定され、両電極が互いに交差するそれぞれの領域が画素を構成する。また、アクティブマトリクス型表示装置においては、画素電極と画素電極に対向する共通電極（対向電極）とが「画素」を規定する。なお、カラー表示においては、例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれの最小表示単位が、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素となる。さらにブラックマトリクスが設けられる構成においては、厳密には、表示すべき状態に応じて電圧が印加される領域のうち、ブラックマトリクスの開口部に対応する領域が「画素」に対応することになる。
【００１１】
本発明の表示装置は、複数の画素がマトリクス状に配列されている。したがって、複数の画素は、典型的には、行方向およびそれに直交する列方向に配列されている。但し、画素の配列はこれに限られず、互いに異なる方向であればよい。例えば、デルタ配列の表示装置においては、行方向に対して傾斜した方向に列方向が設定され得る。列方向および行方向は、表示画面の一方向と、これに交差する他の方向とを表すにすぎず、表示画面の長手方向や短手方向を規定するものではない。
【００１２】
本発明の表示装置によれば、一つの表示媒体層による複数の画素が表側画素と裏側画素とに区別されている。言い換えれば、複数の画素のそれぞれは、表側画素または裏側画素のいずれかに属し、表側画素と裏側画素とが重複することなく規則的に混在する。したがって、表側と裏側とで異なる表示をすることができる。また、一つのエレクトロルミネッセンス層を形成するだけで両面表示が可能となるので、製造が簡単であり、また表示装置を非常に薄くすることができる。本発明の表示装置は、現行と同じ製造装置を用いて、従来と同様のプロセスで製造することができる。エレクトロルミネッセンス層を駆動させるためのドライバＩＣを基板の一方側のみに接続すれば良いので、駆動用ドライバＩＣの実装が簡単であり、製造コストを削減することができる。
【００１３】
前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ列方向に連続し、かつ行方向に交互に配列されている。これにより、一列間隔のストライプで文字などが表示されるので、行方向のライン数を１／２にすることができる。列方向に延びるストライプ状の電極と、それに交差する行方向に延びるストライプ状の電極の間にエレクトロルミネッセンス層とを有し、ストライプ状の両電極が交差する領域が画素となる表示装置では、コモン電極（列電極）側のデューティ比を１／２にして表示品位を上げたり、駆動周波数を２倍にして輝度を向上させたりすることができる。あるいは、コモン電極側のドライバの数を１／２にすることができる。この表示装置は、列方向のライン数が多い場合に有効である。
【００１４】
前記表電極および前記裏電極は、互いに交差するストライプ電極であって、前記表電極または前記裏電極のいずれかの電極の外側に、光遮蔽性または反射性を有する導電層が形成されている。駆動表示領域が列方向または行方向に長い表示装置の場合には、長い方向の電極の抵抗が問題になりやすい。長い方向の電極の外側に導電層を形成することによって、導電層がバスラインとして機能して、電極の抵抗が低下する。また、導電層は光遮蔽性または反射性を有するので、導電層が形成された表側または裏側への光の出射が阻止される。したがって、光遮蔽性または反射性を有する導電層を形成することによって、複数の画素を表側画素と裏側画素とに分けることができる。
【００１５】
前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ千鳥状に配列されていても良い。画素のサイズが大きい場合には、文字や絵を表現するための画素の間隔が広くなるので、表示が荒くなる傾向にある。この表示装置では、千鳥状に画素を配列することにより画素間隔が狭くなるので、表示する文字や絵の品位を上げることができる。
【００１６】
本発明の表示装置は、互いに対向し且つ交差するストライプ電極で構成された表電極および裏電極と、前記表電極および前記裏電極間に介在するエレクトロルミネッセンス層とを有し、前記表電極および前記裏電極によりマトリクス状に複数の画素が規定された表示装置であって、前記表電極および前記裏電極のいずれか一方の行方向に延びる電極には、その外側表面をすべて覆うように光遮蔽性または反射性を有する導電層が該一方の電極を構成するストライプ電極に対して一つおきに形成され、他方の列方向に延びる電極には、その外側表面に、行方向に伸び、上記導電層とは互いに重畳しないように且つ交互に配列された光遮蔽性または反射性を有する導電層が形成され、前記複数の画素は、前記表電極側での表示を行う表側画素と、前記裏電極側での表示を行う裏側画素とに区別され、前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ行方向に連続し、かつ列方向に交互に配列されている。これにより、一行間隔のストライプで文字などが表示されるので、列方向のライン数を１／２にすることができる。列方向に延びるストライプ状の電極と、それに交差する行方向に延びるストライプ状の電極の間にエレクトロルミネッセンス層を有し、ストライプ状の両電極が交差する領域が画素となる表示装置では、セグメント電極（行電極）側のデューティ比を１／２にして表示品位を上げたり、駆動周波数を２倍にして輝度を向上させたりすることができる。あるいは、セグメント電極側のドライバの数を１／２にすることができる。この表示装置は、列方向のライン数が多い場合に有効である。
【００１７】
前記表電極および前記裏電極は、互いに交差するストライプ電極であって、前記表電極または前記裏電極のいずれかの電極の外側に、光遮蔽性または反射性を有する導電層が形成されている。駆動表示領域が列方向または行方向に長い表示装置の場合には、長い方向の電極の抵抗が問題になりやすい。長い方向の電極の外側に導電層を形成することによって、導電層がバスラインとして機能して、電極の抵抗が低下する。また、導電層は光遮蔽性または反射性を有するので、導電層が形成された表側または裏側への光の出射が阻止される。したがって、光遮蔽性または反射性を有する導電層を形成することによって、複数の画素を表側画素と裏側画素とに分けることができる。
【００１８】
本発明の表示装置は、互いに対向し且つ交差するストライプ電極で構成された表電極および裏電極と、前記表電極および前記裏電極間に介在する液晶層とを有し、前記表電極および前記裏電極によりマトリクス状に複数の画素が規定された表示装置であって、前記表電極および前記裏電極のいずれか一方の列方向に延びる電極には、その外側表面をすべて覆うように反射性を有する導電層が該一方の電極を構成するストライプ電極に対して一つおきに形成され、他方の行方向に延びる電極には、その外側表面に、列方向に伸び、上記導電層とは互いに重畳しないように且つ交互に配列された反射性を有する導電層が形成され、前記複数の画素は、前記表電極側での表示を行う表側画素と、前記裏電極側での表示を行う裏側画素とに区別され、前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ列方向に連続し、かつ行方向に交互に配列されている。
【００１９】
また、本発明の表示装置は、互いに対向し且つ交差するストライプ電極で構成された表電極および裏電極と、前記表電極および前記裏電極間に介在する液晶層とを有し、前記表電極および前記裏電極によりマトリクス状に複数の画素が規定された表示装置であって、前記表電極および前記裏電極のいずれか一方の行方向に延びる電極には、その外側表面をすべて覆うように反射性を有する導電層が該一方の電極を構成するストライプ電極に対して一つおきに形成され、他方の列方向に延びる電極には、その外側表面に、行方向に伸び、上記導電層とは互いに重畳しないように且つ交互に配列された反射性を有する導電層が形成され、前記複数の画素は、前記表電極側での表示を行う表側画素と、前記裏電極側での表示を行う裏側画素とに区別され、前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ行方向に連続し、かつ列方向に交互に配列されている。
【００２０】
前記表側画素および前記裏側画素は、それぞれ千鳥状に配列されていても良い。画素のサイズが大きい場合には、文字や絵を表現するための画素の間隔が広くなるので、表示が荒くなる傾向にある。この表示装置では、千鳥状に画素を配列することにより画素間隔が狭くなるので、表示する文字や絵の品位を上げることができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態では、パッシブ（マルチプレックス）駆動型の表示装置について説明するが、本発明の表示装置は、アクティブ駆動型の表示装置にも適用することができる。アクティブ駆動型の表示装置は、マトリクス状に配置された複数のアクティブ素子と、アクティブ素子に接続された複数の画素電極と、画素電極に対向する共通電極（対向電極）とを有する。アクティブ素子としては、ＴＦＴ(Thin Film Transistor)や他のＦＥＴ（Field Effect Transistor) などの３端子素子、ＭＩＭ(Metal Insulator Metal) などの２端子素子が挙げられる。
【００２２】
（実施形態１：両面表示型無機ＥＬ表示装置）
図１は、実施形態１の表示装置を簡略化して示す斜視図であり、図２は、本実施形態の表示装置を行方向に切断した断面図である。本実施形態の表示装置は、ガラス基板６上に形成されたストライプ状の列電極２ｂと、列電極２ｂに交差するように設けられたストライプ状の行電極２ａと、列電極２ｂおよび行電極２ａ間に介在するＥＬ発光層３とを有する。ストライプ状の両電極２ａ，２ｂは、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透明電極である。本実施形態の表示装置では、両電極２ａ，２ｂに選択的に電圧を印加することにより、両電極２ａ，２ｂが交差する領域におけるＥＬ発光層３が発光する。すなわち、マトリクス状に配置された複数の画素のうち任意の画素を発光させることができる。
【００２３】
本実施形態の表示装置は、各電極２ａ，２ｂの外側（言い換えれば、ＥＬ発光層３に対して反対側）に、それぞれが列方向に延びるストライプ状の光遮蔽層１ａ，１ｂが形成されている。表側の光遮蔽層１ａおよび裏側の光遮蔽層１ｂは、互いに重畳しないように、行方向に交互に配列されている。これにより、ＥＬ発光層３から発光される光は、光遮蔽層１ａ，１ｂが形成されている側へ出射することができない。例えば、表側に光遮蔽層１ａが形成された画素のＥＬ発光層３を発光させた場合、表側へは発光せずに、裏側へ発光する。したがって、表側の光遮蔽層１ａで覆われていないストライプ状の画素が表側画素４ａとなり、裏側の光遮蔽層１ｂで覆われていないストライプ状の画素が裏側画素４ｂとなる。
【００２４】
本実施形態では、表側画素４ａおよび裏側画素４ｂは、それぞれ行方向に１列間隔でストライプに配列される。１画素の平面形状を正方形とした場合、行方向の表示が荒くなるので、１画素の行方向の長さを列方向の長さよりも短くするのが望ましい。例えば、１画素の行方向の長さを列方向の長さの１／２にする。
【００２５】
図３は、本実施形態の表示装置を用いて、表側に“Ａ”の文字を表示させ、裏側に“Ｂ”の文字を表示させたときのイメージ図である。なお、図３では、分かり易くするために、発光している画素を黒で塗り潰し、発光していない画素および遮光された画素を白抜きで表示する。また観察側と反対側で発光している画素を斜線で表示する。図３に示すように、裏表の両面において十分な表示が得られる。
【００２６】
本実施形態の表示装置によれば、一列間隔のストライプで文字などが表示されるので、行方向のライン数を１／２にすることができる。また、コモン電極（列電極）側のデューティ比を１／２にして表示品位を上げたり、駆動周波数を２倍にして輝度を向上させたりすることができる。あるいは、コモン電極側のドライバの数を１／２にすることができる。ＥＬ発光層３を駆動させるためのドライバＩＣを基板６の一方側のみに接続すれば良いので、駆動用ドライバＩＣの実装が簡単であり、製造コストを削減することができる。
【００２７】
次に、本実施形態の表示装置の製造工程について説明する。まず、ガラス基板６上に、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）またはチタン（Ｔｉ）などの高融点の金属を蒸着またはスパッタなどの方法にて、光が透過しない程度の厚み（５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度）まで成膜する。フォトリソグラフの手法を用いて、硝酸第２セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合液にてエッチングする。後述の裏側電極２ｂと同じ幅またはそれより広い幅で、かつ裏側電極２ｂの１本おきの間隔でストライプ形成して、第１光遮蔽層１ｂとする。なお、第１光遮蔽層１ｂ以外の領域における金属は、完全にエッチング除去しても良く、あるいは光が透過可能な程度の厚み（５０ｎｍ以下程度）までエッチングしても良い。
【００２８】
第１光遮蔽層１ｂの上に、ＩＴＯに代表される透明導電膜を１００ｎｍ〜２００ｎｍ成膜する。第１光遮蔽層１ｂと同じ幅またはそれより狭い幅で、第１光遮蔽層１ｂと平行に電極パターン加工を施して、第１透明電極層（裏側電極２ｂ）とする。ガラス基板６上に、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化シリコン（ＳｉＯ２）もしくは酸化チタンなどの酸化膜、または窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）などの窒化膜からなる第１絶縁層５ｂを形成して、第１透明電極層および第１光遮蔽層１ｂを被覆する。
【００２９】
第１絶縁層５ｂ上に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）などからなる母材に発光中心としてマンガン（Ｍｎ）などを微量に添加した組成を有するＥＬ発光層３を形成する。ＥＬ発光層３上に、上記の酸化膜または窒化膜からなる第２絶縁層５ａを形成し、さらにＩＴＯからなる透明導電膜を形成する。フォトリソグラフの手法を用いて、第１透明電極層（裏側電極２ｂ）と直交する方向に、透明導電膜をストライプ形成して、第２透明電極層（表側電極２ａ）とする。第２透明電極層（表側電極２ａ）の上に、上記の酸化膜または窒化膜からなる第３絶縁層５ｃを３００ｎｍ〜１０００ｎｍ形成する。
【００３０】
第３絶縁層５ｃ上に、第１光遮蔽層１ｂと同じ金属を蒸着またはスパッタなどの方法にて、光を透過しない厚み（５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度）まで成膜する。金属膜をエッチングにより、ストライプ形成する。ストライプの幅は、第１透明導電層（裏側電極２ｂ）と同じ幅またはそれより広い幅とする。また、第１光遮蔽層１ｂと同じ間隔、同じ方向（列方向）で、第１光遮蔽層１ｂが重畳しない領域にストライプを形成する。このストライプは、第２光遮蔽層１ａになる。
【００３１】
このように本実施形態の表示装置は、一つのＥＬ発光層３を形成するだけで両面表示が可能となるので、製造が簡単であり、また表示装置を非常に薄くすることができる。本実施形態の表示装置は、現行と同じ製造装置を用いて、従来と同様のプロセスで製造することができる。したがって、低コストの表示装置が提供される。
【００３２】
本実施形態では、光遮蔽層１ａ，１ｂの材料として金属を用いているが、製造工程上の問題が生じない限り、光遮蔽特性を有する様々な材料を光遮蔽層に用いることができる。また、本実施形態では、光遮蔽層１ａ，１ｂを形成することにより、光の透過を防いでいるが、反射性を有する材料を用いて反射層を形成しても良い。例えば、光が反射する程度の膜厚を有するアルミニウム膜を形成することによっても、アルミニウム膜の形成側へ光が透過するのを防ぐことができる。
【００３３】
駆動表示領域が列方向に長い表示装置の場合には、列方向に延びる裏側電極２ｂの抵抗が問題になりやすい。本実施形態では、裏側電極２ｂと金属からなる第１光遮蔽層１ｂとが重なって同じ方向（列方向）に延びているので、第１光遮蔽層１ｂはバスラインとして機能し、低抵抗になるという利点がある。
【００３４】
なお、本実施形態のように、第１光遮蔽層１ｂが導電性の金属膜から形成される場合には、第１光遮蔽層１ｂと重なる裏側電極２ｂが無くてもよい。
【００３５】
（実施形態２：両面表示型無機ＥＬ表示装置）
図４は、実施形態２の表示装置を簡略化して示す斜視図である。本実施形態の表示装置は、光遮蔽層の配置が実施形態１と異なり、他の構成要素は実施形態１と同様であるので、光遮蔽層以外の説明を省略する。
【００３６】
本実施形態の表示装置は、各電極２ａ，２ｂの外側（言い換えれば、ＥＬ発光層３に対して反対側）に、それぞれが行方向に延びるストライプ状の光遮蔽層１ａ，１ｂが形成されている。表側の光遮蔽層１ａおよび裏側の光遮蔽層１ｂは、互いに重畳しないように、列方向に交互に配列されている。これにより、表側の光遮蔽層１ａで覆われていないストライプ状の画素が表側画素４ａとなり、裏側の光遮蔽層１ｂで覆われていないストライプ状の画素が裏側画素４ｂとなる。
【００３７】
本実施形態では、表側画素４ａおよび裏側画素４ｂは、それぞれ列方向に１行間隔でストライプに配列される。１画素の平面形状を正方形とした場合、列方向の表示が荒くなるので、１画素の列方向の長さを行方向の長さよりも短くするのが望ましい。例えば、１画素の列方向の長さを行方向の長さの１／２にする。
【００３８】
図５は、本実施形態の表示装置を用いて、表側に“Ａ”の文字を表示させ、裏側に“Ｂ”の文字を表示させたときのイメージ図である。なお、図５では、分かり易くするために、発光している画素を黒で塗り潰し、発光していない画素および遮光された画素を白抜きで表示する。また観察側と反対側で発光している画素を斜線で表示する。図５に示すように、裏表の両面において十分な表示が得られる。
【００３９】
本実施形態の表示装置によれば、一行間隔のストライプで文字などが表示されるので、列方向のライン数を１／２にすることができる。また、セグメント電極（行電極）側のデューティ比を１／２にして表示品位を上げたり、駆動周波数を２倍にして輝度を向上させたりすることができる。あるいは、セグメント電極側のドライバの数を１／２にすることができる。ＥＬ発光層３を駆動させるためのドライバＩＣを基板６の一方側のみに接続すれば良いので、駆動用ドライバＩＣの実装が簡単であり、製造コストを削減することができる。
【００４０】
本実施形態の表示装置は、実施形態１と同様に、一つのＥＬ発光層３を形成するだけで両面表示が可能となるので、製造が簡単であり、また表示装置を非常に薄くすることができる。本実施形態の表示装置は、実施形態１と同様に、現行と同じ製造装置を用いて、従来と同様のプロセスで製造することができる。したがって、低コストの表示装置が提供される。
【００４１】
駆動表示領域が行方向に長い表示装置の場合には、行方向に延びる表側電極２ａの抵抗が問題になりやすい。本実施形態では、表側電極２ａと金属からなる第２光遮蔽層１ａとが重なって同じ方向（行方向）に延びているので、第２光遮蔽層１ａはバスラインとして機能し、低抵抗になるという利点がある。
【００４２】
なお、本実施形態のように、第２光遮蔽層１ａが導電性の金属膜から形成される場合には、第２光遮蔽層１ａと重なる表側電極２ａが無くてもよい。
【００４３】
（実施形態３：両面表示型無機ＥＬ表示装置）
図６は、実施形態３の表示装置を簡略化して示す斜視図である。本実施形態の表示装置は、光遮蔽層の配置が実施形態１と異なり、他の構成要素は実施形態１と同様であるので、光遮蔽層以外の説明を省略する。
【００４４】
本実施形態の表示装置は、各電極２ａ，２ｂの外側（言い換えれば、ＥＬ発光層３に対して反対側）に、それぞれ千鳥状に配列された光遮蔽層１ａ，１ｂが形成されている。表側の光遮蔽層１ａおよび裏側の光遮蔽層１ｂは、互いに重畳しないように配列されている。これにより、表側の光遮蔽層１ａで覆われていない千鳥状の画素が表側画素４ａとなり、裏側の光遮蔽層１ｂで覆われていない千鳥状の画素が裏側画素４ｂとなる。
【００４５】
図７は、本実施形態の表示装置を用いて、表側に“Ａ”の文字を表示させ、裏側に“Ｂ”の文字を表示させたときのイメージ図である。なお、図７では、分かり易くするために、発光している画素を黒で塗り潰し、発光していない画素および遮光された画素を白抜きで表示する。また観察側と反対側で発光している画素を斜線で表示する。画素のサイズが大きい場合には、文字や絵を表現するための画素の間隔が広くなるので、表示が荒くなる傾向がある。本実施形態の表示装置では、表側画素４ａおよび裏側画素４ｂがともに、千鳥状に配列されるので、画素間隔が狭くなり、表示する文字や絵の品位を上げることができる。
【００４６】
本実施形態の表示装置は、実施形態１と同様に、一つのＥＬ発光層３を形成するだけで両面表示が可能となるので、製造が簡単であり、また表示装置を非常に薄くすることができる。本実施形態の表示装置は、実施形態１と同様に、現行と同じ製造装置を用いて、従来と同様のプロセスで製造することができる。したがって、低コストの表示装置が提供される。
【００４７】
なお、本実施形態のように、第１および第２光遮蔽層１ａ，１ｂが導電性の金属膜から形成される場合には、光遮蔽層１ａ，１ｂと重なる部分については、表側電極２ａおよび裏側画素４ｂが無くてもよい。
【００４８】
（実施形態４：両面表示型液晶表示装置）
図８は、実施形態４の表示装置を模式的に示す断面図である。本実施形態の表示装置は、互いに対向配置される表側内面反射板１０および裏側内面反射板２０と、両内面反射板１０，２０に挟まれた液晶層３０とを有する。
【００４９】
裏側内面反射板２０は、ストライプ状の列電極２ｂを有する。裏側内面反射板２０に対向する表側内面反射板１０は、列電極２ｂに交差するように設けられたストライプ状の行電極２ａを有する。ストライプ状の両電極２ａ，２ｂは、ＩＴＯなどの透明電極である。本実施形態の表示装置では、両電極２ａ，２ｂに選択的に電圧を印加することにより、両電極２ａ，２ｂが交差する領域における液晶層３０の光透過率が変化する。すなわち、マトリクス状に配置された複数の画素のうち任意の画素の光透過率を変化させることができる。
【００５０】
本実施形態の表示装置は、各電極２ａ，２ｂの外側（言い換えれば、液晶層３０に対して反対側）に、それぞれが列方向に延びるストライプ状の反射層３１ａ，３１ｂが形成されている。表側の反射層３１ａおよび裏側の反射層３１ｂは、互いに重畳しないように、行方向に交互に配列されている。これにより、例えば表側から観察した場合、表側画素４ａでは、表側から液晶層３０に入射した環境光が裏側の反射層３１ｂにより反射される。このとき、液晶層３０の光透過率を調整することにより、明暗表示の切り換えが可能となる。一方、裏側画素４ｂでは、表側から入射した環境光が、液晶層３０に入射する前に、表側の反射層３１ａで反射されるので、常に明るい表示となる。したがって、表側の反射層３１ａで覆われていないストライプ状の画素が表側画素４ａとなり、裏側の反射層３１ｂで覆われていないストライプ状の画素が裏側画素４ｂとなる。
【００５１】
本実施形態の表示装置では、例えば表側から観察した場合、表側の反射層３１ａの反射光により裏側画素４ｂの領域が明るくなる。したがって、表示する文字などを黒表示することが望まれる。例えば、表側に“Ａ”の文字を表示させ、裏側に“Ｂ”の文字を表示させる場合、図３に示す通りに、表示する文字を黒で表示する。すなわち、本実施形態では、実施形態１と異なり、図３に示す白抜きで表示された画素は、反射光により明るく表示されていることを示し、黒で塗り潰された画素は、液晶層３０の透過率低下により暗く表示されていることを示している。また観察側と反対側の画素であって、斜線で表示された画素は、反対側から観察すれば、暗く表示されていることを示している。なお、反射層３１ａ，３１ｂの外側に光遮蔽層を形成すれば、実施形態１と同様に、表示する文字を明るく表示することができる。
【００５２】
本実施形態では、実施形態１と同様に、反射層３１ａ，３１ｂの配列を列方向に延びるストライプ状としているが、実施形態２に示すように行方向に延びるストライプ状とする、あるいは実施形態３に示すように千鳥状にすることもできる。
【００５３】
次に、本実施形態の表示装置の製造工程について説明する。まず、内面反射板１０，２０の製造工程について説明する。ガラス基板６ａ，６ｂ（コーニング社製７０５９）の一方の面に、好ましくは５００r.p.m 〜３０００r.p.m でレジスト材料をスピンコートする。レジスト材料としては、例えばOFPR-800（東京応化社製）を用いる。本実施形態では、３０００r.p.m で３０秒塗布し、レジスト膜を厚み０．５μｍに成膜する。円形領域が不規則的（ランダム）に配置されたマスクを用いて、露光を行う。さらに、格子状にパターンが配置されたマスクでもう一度露光を行う。
【００５４】
現像剤を用いて、露光後のレジスト膜を現像すると、マスクの円形領域に対応する領域のレジスト膜に円柱部が形成される。この円柱部は格子状に並んでいる。格子の幅は、後に形成する反射膜と同じ幅または反射膜の幅より広くなるように設定する。円柱部は、１２０℃〜２５０℃で熱処理されることによって、角がとれ、表面が滑らかな凸部となる。これにより、凹凸樹脂層９ａ，９ｂが形成される。
【００５５】
さらに、基板６ａ，６ｂの全面に、アルミニウム膜を３００ｎｍの均一な厚さにスパッタリングして形成する。これにより、凹凸樹脂層９ａ，９ｂの凸部を覆う反射膜が形成される。反射膜の材料は、アルミニウムに限らず、Ｔｉ，Ｔａ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔなどの他の金属でもよい。スパッタ法に限らず、蒸着などの他の方法で反射膜を形成してもよい。反射膜の膜厚は、光を充分反射する程度であればよい。
【００５６】
凹凸樹脂層９ａ，９ｂの列方向の凸部に沿って、アルミニウム膜を列方向に延びるストライプ状にパターニングする。これにより、列方向に延びるストライプ状の反射層３１ａ，３１ｂが形成される。反射層３１ａ，３１ｂは、凹凸樹脂層９ａ，９ｂの凸部によって、表面が連続的な曲面となり、円錐状の緩やかな起伏の凹凸形状に形成される。反射層３１ａ，３１ｂが凹凸形状に形成されることによって、反射光が散乱されるので、視認性が向上する。反射層３１ａ，３１ｂは、実施形態１と同様に、表側と裏側とで重畳しないように形成する。
【００５７】
さらに、ガラス基板６ａ，６ｂの上に、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化シリコン（ＳｉＯ２）もしくは酸化チタンなどの酸化膜、または窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）などの窒化膜からなる絶縁層５ａ，５ｂを形成する。絶縁層５ａ，５ｂ上に、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）に代表される透明導電膜を１００ｎｍ〜２００ｎｍ成膜する。フォトリソグラフの手法を用いて、透明導電膜をパターン加工して、それぞれがストライプ状の表側電極２ａおよび裏側電極２ｂを形成する。このとき、表側電極２ａと裏側電極２ｂとが直交するように設定する。
【００５８】
表側電極２ａが形成された表側内面反射板１０と、裏側電極２ｂが形成された裏側内面反射板２０とを、シール材（不図示）を介して貼り合わせる。両内面反射板１０，２０の間隙に、液晶材料を充填し、注入口を封止して、液晶層３０を形成する。両内面反射板１０，２０の外側面に、それぞれ位相差板８ａ，８ｂおよび偏光板７ａ，７ｂを貼り付ける。
【００５９】
このように本実施形態の表示装置は、一つの液晶層３０を形成するだけで両面表示が可能となるので、製造が簡単であり、また表示装置を非常に薄くすることができる。本実施形態の表示装置は、現行と同じ製造装置を用いて、従来と同様のプロセスで製造することができる。したがって、低コストの表示装置が提供される。
【００６０】
実施形態１〜４では、モノクロ表示の場合について説明したが、カラーフィルタ層を適当に配置することによりカラー表示も可能となる。また、実施形態１〜４では、無機ＥＬ表示装置と液晶表示装置について説明したが、本発明の表示装置は、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＶＦＤなど表裏から見ることのできる平面型ディスプレイであれば、いずれも適用することができる。
【００６１】
【発明の効果】
本発明によれば、薄型化が可能で、低コスト化が可能な両面表示型の表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施形態１の表示装置を簡略化して示す斜視図である。
【図２】  実施形態１の表示装置を行方向に切断した断面図である。
【図３】  実施形態１の表示装置を用いて、表側に“Ａ”の文字を表示させ、裏側に“Ｂ”の文字を表示させたときのイメージ図である。
【図４】  実施形態２の表示装置を簡略化して示す斜視図である。
【図５】  実施形態２の表示装置を用いて、表側に“Ａ”の文字を表示させ、裏側に“Ｂ”の文字を表示させたときのイメージ図である。
【図６】  実施形態３の表示装置を簡略化して示す斜視図である。
【図７】  実施形態３の表示装置を用いて、表側に“Ａ”の文字を表示させ、裏側に“Ｂ”の文字を表示させたときのイメージ図である。
【図８】  実施形態４の表示装置を模式的に示す断面図である。
【図９】  ２つの表示パネルを有するタイプの両面表示装置の側面図である。
【図１０】  特開平5-61024 号公報に開示された液晶表示装置の断面図である。
【符号の説明】
２ａ  行電極（表電極）
２ｂ  列電極（裏電極）
３  ＥＬ発光層（表示媒体層）
３０  液晶層（表示媒体層）
１ａ，１ｂ  光遮蔽層
３１ａ，３１ｂ  反射層
４ａ  表側画素
４ｂ  裏側画素
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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