(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に破砕面を有さない、多面体一次粒子よりなり、六方細密格子であるαアルミナの六方格子面に平行な最大粒子径をＤ、六方細密格子面に垂直な粒子径をＨとした場合に、Ｄ／Ｈ比が０．５以上３．０以下であるαアルミナ粒子からなり、該αアルミナ粒子の数平均粒径が０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であり、累積粒度分布の微粒側からの累積１０％、累積９０％の粒径をそれぞれＤ１０、Ｄ９０としたときにＤ９０／Ｄ１０の値が１０以下の粒度分布である純度９９．９９％以上のアルミナ粉末であって、湿式による目開き５μｍ以上の篩別をおこなった場合に篩上残留物が１００ｐｐｍ以下であるアルミナ粉末を、成形体に成形する手段として、該アルミナ粉末以外に焼結助剤としての作用を有する添加物を添加することなく成形後、該成形体を大気雰囲気中で１５００℃〜１８００℃の温度範囲で焼結することによる、得られた焼結体に存在するポアの最大径が１０μｍ以下であり、単位面積当たり存在する最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアの数が１ｍｍ2当り２０個以下であり、アルミニウム以外の不純物元素量が１００ｐｐｍ未満である焼結体密度３．９７０ｇ／ｃｍ3以上のアルミナ焼結体の製造方法。
【請求項２】
成形体に成形する手段として、一軸プレス成形または冷間静水圧プレスにより乾式成形する請求項１記載のアルミナ焼結体の製造方法。
【請求項３】
成形体に成形する手段として、該アルミナ粉末に水もしくは有機溶媒、有機バインダー、可塑剤、離型剤を添加したスラリーを調製し、該スラリーをスプレードライヤーにて乾燥することにより得られた造粒体を原料とする請求項１または２に記載のアルミナ焼結体の製造方法。
【請求項４】
成形体に成形する手段として、該アルミナ粉末に水もしくは有機溶媒、有機バインダー、可塑剤、離型剤を添加したスラリーを調製し、該スラリーを用いてスリップキャスト法、遠心キャスト成形法、押出し成形法またはドクターブレード法により湿式成形する請求項１〜３のいずれかに記載のアルミナ焼結体の製造方法。
【請求項５】
スラリーを調製する手段として、超音波照射のみあるいは機械的攪拌を行いながら超音波照射する請求項３または４に記載のアルミナ焼結体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、純度が高く、ポアが少ないアルミナ焼結体およびその製造方法に関し、主として半導体産業における異物の付着や吸着を防ぐ製品の材料（例えば、シリコンウェハーの洗浄、移動、表面処理等の操作時に使用される真空チャック、ピンセット、ハンド等の製品の材料）として、また、ポアのないことが要求される製品の材料（例えば、ハードディスク用の基板や磁気ヘッド用基板等の材料、各種工業用ミラー等の材料）として、好適なアルミナ焼結体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体産業におけるシリコンウェハーの洗浄、移動、表面処理等の操作時に使用される真空チャック、ピンセット、ハンド等は、シリコンウェハーへの金属元素の混入、汚染を避けるため、一般にセラミックス材料が使用されている。そしてこのセラミックス材料として、多くの場合アルミナや炭化珪素の焼結体が用いられている。
【０００３】
上記のアルミナや炭化珪素の原料粉末は、通常、一次粒子が０．５μｍ以下の微粒子であるが、形状は楕円球や破砕面を有する多角形体であり、粒子内部も不均質で多数の欠陥を有するものである。また、重量累積粒度分布を測定すると、微粒側からの累積１０％粒径、累積９０％粒径をそれぞれＤ１０、Ｄ９０とした場合、Ｄ９０／Ｄ１０が１０より大きい凝集体が多く含まれ、この凝集体を単一粒子に分散するためには、ボールミルや振動ミル等による強力な粉砕工程が必要である。
上記の原料粉末から作製されたセラミックス焼結体製品は、通常シリコンウェハーに接触する部分を鏡面研磨して使用されるが、そのセラミックス焼結体自体が有するポアにゴミ等の異物が付着するという欠点があった。
さらにはこれらのセラミックス焼結体に担持したままシリコンウェハー等を熱処理あるいはプラズマエッチング等の処理をおこなうと、セラミックス材料に焼結助剤として添加したＭｇや不純物のＮａ等がウェハーを汚染するという欠点があった。
このようにセラミックス材料の研磨面のポアに付着したゴミ等の異物や、アルカリ金属あるいはアルカリ土類金属が、半導体素子の製造工程中に混入することになる。そして半導体素子の高密度化、高集積度化が進むにつれ、これらの異物が製造工程中に混入してくることが、特に問題となってきている。
【０００４】
こうした問題に対し、これまでに特開平９−２８６４号公報には、焼結助剤としてＭｇＯ等を０．０１重量％〜１重量％添加する方法が記載されているが、このようなセラミックス材料では熱拡散炉、プラズマエッチング処理、ＣＶＤ装置での使用の際にＭｇ等が半導体製品に不純物として拡散する問題があった。
また、特開平５−２７９１１４号公報にはＳｉＯ2、周期表第２ａ族元素化合物を添加してボイドの発生を抑制することができるアルミナ焼結体が記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、アルミニウム以外の不純物元素量が１００ｐｐｍ未満と少なく、またポアが極めて少ないアルミナ焼結体を提供することにあり、またその製造にあたって、焼結助剤を用いることなく大気雰囲気中で簡便な製造方法を確立することにより、半導体産業における不純物の付着や吸着を防ぐ製品の材料を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、ある種の純度９９．９９％以上のアルミナ粉末を用いることによって、焼結助剤を用いることなく、ポアが極めて少ないアルミナ焼結体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記の（１）〜（８）を提供する。
【０００７】
（１）実質的に破砕面を有さない、多面体一次粒子よりなり、六方細密格子であるαアルミナの六方格子面に平行な最大粒子径をＤ、六方細密格子面に垂直な粒子径をＨとした場合に、Ｄ／Ｈ比が０．５以上３．０以下であるαアルミナ粒子からなり、該αアルミナ粒子の数平均粒径が０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であり、累積粒度分布の微粒側からの累積１０％、累積９０％の粒径をそれぞれＤ１０、Ｄ９０としたときにＤ９０／Ｄ１０の値が１０以下の粒度分布である純度９９．９９％以上のアルミナ粉末を成形後、該成形体を大気雰囲気中で１５００℃〜１８００℃の温度範囲で焼結することにより、得られた焼結体に存在するポアの最大径が１０μｍ以下であり、単位面積当たり存在する最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアの数が１ｍｍ2当り２０個以下であり、アルミニウム以外の不純物元素量が１００ｐｐｍ未満であるアルミナ焼結体の製造方法。
（２）純度９９．９９％以上のアルミナ粉末が湿式による目開き５μｍ以上の篩別をおこなった場合に篩上残留物が１００ｐｐｍ以下である上記（１）に記載のアルミナ焼結体の製造方法。
（３）成形体に成形する手段として、一軸プレス成形または冷間静水圧プレスにより乾式成形する上記（１）または（２）に記載のアルミナ焼結体の製造方法。
（４）成形体に成形する手段として、該アルミナ粉末以外に焼結助剤としての作用を有する添加物を添加しない上記（１）〜（３）に記載のアルミナ焼結体の製造方法。
（５）成形体に成形する手段として、該アルミナ粉末に水もしくは有機溶媒、有機バインダー、可塑剤、離型剤を添加したスラリーを調製し、該スラリーをスプレードライヤーにて乾燥することにより得られた造粒体を原料とする上記（１）〜（４）に記載のアルミナ焼結体の製造方法。
（６）成形体に成形する手段として、該アルミナ粉末に水もしくは有機溶媒、有機バインダー、可塑剤、離型剤を添加したスラリーを調製し、該スラリーを用いてスリップキャスト法、遠心キャスト成形法、押出し成形法またはドクターブレード法により湿式成形する上記（１）〜（４）に記載のアルミナ焼結体の製造方法。
（７）スラリーを調製する手段として、超音波照射のみあるいは機械的攪拌を行いながら超音波照射する上記（５）または（６）に記載のアルミナ焼結体の製造方法。
（８）ポアの最大径が１０μｍ以下であり、単位面積当たり存在する最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアの数が１ｍｍ2当り２０個以下であり、アルミニウム以外の不純物元素量が１００ｐｐｍ未満であるアルミナ焼結体。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明において、原料とするアルミナ粉末は、実質的に破砕面を有さない、多面体一次粒子からなり、六方細密格子であるαアルミナの六方格子面に平行な最大粒子径をＤ、六方細密格子面に垂直な粒子径をＨとした場合に、Ｄ／Ｈ比が０．５以上３．０以下であるαアルミナ粒子からなり、該αアルミナ粒子の数平均粒径が０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であり、累積粒度分布の微粒側からの累積１０％、累積９０％の粒径をそれぞれＤ１０、Ｄ９０としたときにＤ９０／Ｄ１０の値が１０以下の粒度分布を有し、湿式による目開き５μｍの篩別を行った場合に篩上残留物が１００ｐｐｍ以下である、純度９９．９９％以上のアルミナ粉末である。
【０００９】
本発明のアルミナ原料として用いることの出来るアルミナ原料として、原料に遷移アルミナまたは熱処理により遷移アルミナとなるアルミナ粉末を、塩化水素を含有する雰囲気ガス中にて焼成することにより得られるαアルミナ粉末を挙げることができ、特開平６−１９１８３３号公報あるいは特開平６−１９１８３６号公報等に記載のαアルミナの単結晶粒子よりなるアルミナ純度が９９．９９％以上の高純度であるアルミナ粉末の製法に準じて得られる。
【００１０】
アルミナ純度が９９．９９％以上の高純度であることに加え、一次粒子が均質で内部に欠陥を有さず、多面体形状の、Ｄ／Ｈ比が０．５以上３．０以下の粒子で、一次粒子同士が凝集していない単一粒子粉末を原料とすると、粒度分布がシャープなために粒成長が焼結体全体で均一に進行し、焼結体粒内あるいは粒界にポアが取り残されにくいこと、成形体中の粒子配列が均一で成形体密度が高いこと、さらには原料中の不純物による局所的な異常粒成長が進行しポアが残留することがないため、焼結体密度３．９７０ｇ／ｃｍ3以上の高密度が達成できる。
【００１１】
本発明の原料とするアルミナ粒子の一次粒子の平均粒径が１μｍを越えると、得られる焼結体中にポアが残存する、すなわち光学顕微鏡により計数される最大径が１０μｍ以下であり、単位面積当たり存在する最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアが多くなるため好ましくない。また、粒度分布が前記に規定したようにシャープでなければ成形体中の粒子配列が不均一になり、局所的な粒成長が生じ、ポアが残存するので好ましくない。さらには純度が９９．９９％未満では半導体製品へ不純物が混入する原因となるため、あるいは不純物により局所的な異常粒成長が進行しポアが残留するため、好ましくない。
【００１２】
本発明は上記アルミナ原料粉末に、焼結助剤としての作用を有するアルミニウム以外の元素の酸化物あるいは塩類等の添加物を添加しないことを特徴とする。その結果、得られた焼結体に存在するポアの最大径が１０μｍ以下であり、単位面積当たり存在する最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアの数が１ｍｍ2当り２０個以下であり、アルミニウム以外の不純物元素量が１００ｐｐｍ未満であるアルミナ焼結体が取得できる。アルミニウム以外の元素の酸化物あるいは塩類を添加することは、該アルミナ焼結体が淡黄色や淡赤色に着色したり、半導体製造部品として熱拡散炉、プラズマエッチング処理、ＣＶＤ装置での使用の際にこれらの元素が半導体製品に不純物として拡散するので好ましくなく、さらにはアルミニウム以外の元素の存在により、焼結体に異常粒成長が発現し、焼結体密度が３．９７０ｇ／ｃｍ3未満となる場合があるため好ましくない。
【００１３】
本発明において、原料とするアルミナ粉末は純度９９．９９％以上のものであるが、原料中に含まれている０．０１重量％未満のアルミニウム以外の元素の酸化物あるいは塩類、または１０００℃以下の加熱により原料中より除去できる１重量部未満の水、有機物、ハロゲンは本発明のアルミナ焼結体の特徴を損うものではなく、許容されるものである。
【００１４】
ここで本発明のアルミナ焼結体の製造方法について説明すると、まず本発明では、上記アルミナ原料粉末に水もしくは有機溶媒、有機バインダー、可塑剤、分散剤を混合し、スラリーを調整する。次に該スラリーを用いて成形し、得られた成形体を大気雰囲気中、１５００〜１８００℃の温度範囲で焼結して目的とするアルミナ焼結体を製造する。
【００１５】
有機バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、各種アクリル系ポリマー、メチルセルロース、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール系、各種ワックス、各種多糖類を用いることができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００１６】
溶媒としては使用するバインダーの種類や成形方法によって異なり、例えばスプレードライヤーにより顆粒を製造する場合に用いる、ポリビニルアルコールでは水が主に用いられる。またドクターブレード法によりシートを作製する場合に用いる、ポリビニルブチラール系ではメチルエチルケトン、トルエン等の有機溶媒が用いられるが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００１７】
分散剤としては、溶媒が水の場合は主にポリアクリル酸のアンモニウム塩（例えば商品名；ＳＮ−Ｄ５４６８、サンノプコ（株）品）が用いられる。また有機溶媒の場合にはオレイン酸エチル、ソルビタンモノオレート、ソルビンタントリオレート、ポリカルボン酸系等が用いられるが、特に本発明で原料とするアルミナ原料粉末には、ポリエステル系（商品名；テキサホール３０１２、サンノプコ（株）品）が好ましいが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００１８】
可塑剤は用いる有機バインダーによって異なるが、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチエレングリコール、グリセリン、ポリグリセリン、各種エステル系等が用いられる。特に有機溶媒を用いる場合には、ジブチルフタレート、フタル酸ジエチルヘキシル等が用いられるが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００１９】
また、本発明において、その他の添加剤として、離型剤や凝集剤やｐＨ調整剤を添加することもできる。
【００２０】
次に、スラリーの調整法および成形法について説明すると、まず前記アルミナ原料粉末、溶媒、分散剤を適量配合し、機械的な撹拌混合をおこなう。このときにボールミルによる混合は広く一般におこなわれていることであるが、本発明において原料とするアルミナ粉末は、凝集が少なく粒子形状ならびに粒子径が揃った粉末であるため、超音波槽を用いて外部より超音波を照射すること、あるいは超音波ホモジナイザーにより超音波を照射することによって、溶媒中で容易に分散し、均一なスラリーとなることが特徴である。またセラミックスボール等のメディアを使用しない分散方法は、アルミニウム以外の酸化物あるいは塩類の混入を避ける意味で好ましい。超音波は槽容量４０リットルの場合、出力１０００ワット以上、周波数１０キロヘルツ以上好ましくは２５キロヘルツ以上の照射能力が望ましい。撹拌混合時間は該スラリーの容量によって異なるが、例えばスラリー量が１０リットルの場合、３０分以上おこなうことが望ましい。このように原料粉末を充分に分散させた後、有機バインダーを混合する。この混合は、例えば、スラリー量が１０リットルの場合、１時間以上おこなうことが望ましい。
【００２１】
前記のように調整したスラリーを減圧下において、脱泡してもよい。また各種消泡剤を用いてもよい。またその後の成形方法によって、各種ｐＨ調整剤や凝集剤の添加により粘度を５０〜１００００センチポイズとしてもよい。たとえばスプレードライヤーによる造粒では球形の顆粒を作製するために、アルミナスラリーの粘度は塩酸水溶液やアンモニア水等によるｐＨ調整で、３００〜４００センチポイズに調整することが好ましい。さらには静置沈降や遠心分離やロータリーエバポレーター等による減圧濃縮等により、スラリー中のアルミナ濃度を高めることもできる。たとえばドクターブレード法による成形ではロータリエバポレーターによりスラリー中のトルエン溶媒を揮発させることにより粘度を３０００〜５０００センチポイズとすることが好ましい。
【００２２】
本発明において、成形方法としては、前記スラリーを用いて、スリップキャスト法、遠心キャスト成形法、押出し成形法等慣用の方法を用いることができる。また前記スラリーをスプレードライ等により顆粒状とした後、プレス成形や冷間静水圧プレス成形することができる。さらには前記スラリーを用いてドクターブレード法によりシート状に成形することもできる。
【００２３】
冷間静水圧プレス成形の場合、前記スラリーをスプレードライ等により顆粒状とし、この顆粒を５０〜５００Ｋｇ／ｃｍ2、好ましくは２００〜３００ｋｇ／ｃｍ2の圧力で一軸プレス成形した後、冷間静水圧プレス成形機にて０．５〜３ｔ／ｃｍ2、好ましくは１．０〜１．５ｔ／ｃｍ2で等方的に加圧し、得られた成形体を所定の形状に加工する。また本発明の原料アルミナ粉末にいかなる焼結助剤としての作用を有する添加物も加えず、そのまま成形型に充填し、上記の圧力で一軸プレス成形もしくは冷間静水圧プレス成形することもできる。
【００２４】
上記の成形法で得られた成形体は、５００〜１０００℃の温度範囲で１時間以上、好ましくは８００〜９００℃の範囲で３時間以上焼成し、脱脂する。その後、空気中で１５００〜１８００℃の範囲、好ましくは１６００〜１７００℃の範囲で焼結して目的とするアルミナ焼結体を製造する。焼結温度が１５００℃より低いと充分緻密化せず、また、１８００℃よりも高い温度で焼結すると、焼結体粒径が大きくなり、ポアが残存するため好ましくない。
【００２５】
【実施例】
次に、本発明の実施例を挙げ、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００２６】
なお、本発明に於ける各種の測定は次のようにして行った。
（１）Ｄ１０、Ｄ９０の測定（重量累積粒度分布の測定）
マスターサイザー（マルバーン社製）を使用し、レーザー回折散乱法により測定した。測定のために準備したアルミナスラリーは、アルミナ粉末２．５ｇに対し、ヘキサメタリン酸ナトリウムの０．５重量％水溶液を２５ｇ添加し、該混合溶液をホモジナイザーにより超音波を２分間照射したものである。
【００２７】
（２）湿式ふるい
アルミナ１０００ｇに対し、蒸留水を１０００ｇ添加した後、容量６リットルの超音波槽（周波数２８ｋＨｚ、出力２００Ｗ）で３０分間攪拌しながら超音波を照射した。一方、蒸留水を満たしたビーカーに、袋状にした目開き５μｍのナイロンメッシュを浸漬した。このナイロンメッシュ袋の中にさきに調製したアルミナスラリーを全量流し込み、ビーカーごと超音波槽を用いて超音波を照射した。これによりアルミナ粒子がナイロンメッシュを通過しビーカーの中に移動する。２０分後ナイロンメッシュ袋を引き上げ、袋外側を十分洗浄したのち、乾燥し重量増加を測定した。その重量増加をアルミナ仕込み量１０００ｇで除し、５μｍ篩上残査量とした。
【００２８】
（３）Ｄ／Ｈ比の測定
走査電子顕微鏡（ＳＥＭ、日本電子株式会社：Ｔ−３００）を使用して粉末粒子の写真を撮影し、その写真から５個ないし１０個の粒子を選択して画像解析をおこない、その平均値として求めた。
【００２９】
（４）アルミナ焼結体研磨面のポア数ならびにポア径の測定
ポア数は光学顕微鏡（株式会社オリンパス光学工業；ＢＨ−２）を使用して焼結体の鏡面研磨面の写真（倍率５０倍）を撮影し、その写真に黒点としてあらわれるポアの数を目視で計数し、１ｍｍ2当りの個数に換算した。鏡面研磨はアルミナ焼結体を＃８００のダイヤモンド砥石で粗削りし、平面とした後、３μｍの多結晶ダイヤモンドスラリーと銅定盤研磨器（日本エンギス社ハイプレスラッピングシステム）を用いておこなった。研磨時の面圧は３００ｇ／ｃｍ2以上とし、６０分間以上研磨した。さらに当該表面のスクラッチを除くために１μｍの多結晶ダイヤモンドスラリーで３０分間以上研磨をおこなった。ポア径は円ではない、楕円や不定形である場合、該ポアの最大径あるいは対角線の長軸をポア径として計測した。
【００３０】
実施例１
本実施例１では住友化学工業株式会社製αアルミナ粉末（商品名スミコランダムＡＡ０４）を原料とした。該アルミナ粉末は実質的に破砕面を有しない、８〜２０面の多面体粒子よりなり、ＳＥＭ写真により測定した一次粒子径は０．４μｍであった。重量累積粒度分布を測定した結果、Ｄ９０が１．４８μｍ、Ｄ１０が０．３１μｍであり、Ｄ９０／Ｄ１０は４．８であった。湿式による目開き５μｍ以上の篩別をおこなった場合に篩上残留物が５ｐｐｍであった。
【００３１】
上記αアルミナ粉末ＡＡ０４；５Ｋｇ、水（溶媒）；３Ｋｇ、ＳＮ−Ｄ５４６８［サンノプコ（株）品；分散剤］；６２．５ｇを超音波を照射しながら、３０分間撹拌混合をおこなった。その後有機バインダーとしてポリビニルアルコール［（株）クラレ品；商品名ＰＶＡ２０５ｃ］の１０重量％溶液を７５０ｇ、可塑剤としてポリエチレングリコール（試薬；重合度４００）を２５ｇ、滑剤としてステアリン酸エマルジョン［中京油脂（株）品；商品名セロゾール９２０］を１４０ｇを全量、同時に添加し、６０分間撹拌混合してスラリーを調製した。
このスラリーを１規定の塩酸水溶液１１０ｍｌを添加することにより、粘度を３５０センチポイズに調整したスラリーを、スプレードライヤーにより噴霧乾燥し、顆粒を作製した。この顆粒粉末を金型に充填し、油圧式一軸プレス成形機で１５００Ｋｇ／ｃｍ2の荷重で、直径；２０ｍｍ、高さ；１０ｍｍの円柱成形体を作製した。次にこの成形体を９００℃で３時間脱脂し、引続き大気中にて１６５０℃で２時間焼結した。
【００３２】
得られた焼結体の密度をアルキメデス法により計測したところ、３．９７４ｇ／ｃｍ3であった。またこの焼結体を鏡面研磨し、５０倍の光学顕微鏡で観察したところ、最大径１０μｍより大きなポアは存在せず、最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアの数は１ｍｍ2あたり１２個であった。
また、当該焼結体をボロンナイトライド製乳鉢で粉砕した後、ＩＣＰ発光分析法により、元素分析をおこなったところ、Ｆｅ：５ｐｐｍ、Ｓｉ：１２ｐｐｍ、Ｃａ：５ｐｐｍ、Ｍｇ：５ｐｐｍ、Ｎａ：５ｐｐｍ、それ以外の元素は検出限界未満（５ｐｐｍ未満）で、Ａｌ以外の元素の総量は５０ｐｐｍ未満であった。
【００３３】
実施例２
実施例１に記載のαアルミナ粉末ＡＡ０４；１００ｇ、水（溶媒）；６０ｇ、ＳＮ−Ｄ５４６８［サンノプコ（株）品；分散剤］；１．３ｇを超音波を照射しながら、３０分間撹拌混合をおこなった。
このスラリーを減圧下に３０分間静置し、脱泡した。さらに石膏型を利用したスリップキャスト成形により横；３０ｍｍ、縦；５０ｍｍ、高さ；５ｍｍの成形体を作製した。この成形体を大気中１６５０℃で２時間焼結した。
【００３４】
この焼結体の密度をアルキメデス法により計測したところ、３．９７７ｇ／ｃｍ3であった。また、この焼結体を鏡面研磨し、５０倍の光学顕微鏡で観察したところ、最大径１０μｍより大きなポアは存在せず、最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアの数は１ｍｍ2あたり１８個であった。
また、当該焼結体をボロンナイトライド製乳鉢で粉砕した後、ＩＣＰ発光分析法により、元素分析をおこなったところ、Ｆｅ：９ｐｐｍ、Ｓｉ：１７ｐｐｍ、Ｃａ：６ｐｐｍ、Ｍｇ：５ｐｐｍ、Ｎａ：５ｐｐｍ、それ以外の元素は検出限界未満（５ｐｐｍ未満）で、Ａｌ以外の元素の総量は６０ｐｐｍ未満であった。
【００３５】
実施例３
本実施例３では住友化学工業株式会社製αアルミナ粉末（商品名スミコランダムＡＡ０３）を原料とした。該アルミナ粉末は実質的に破砕面を有しない、８〜２０面の多面体粒子よりなり、ＳＥＭ写真により測定した一次粒子径は０．３３μｍであった。重量累積粒度分布を測定した結果、Ｄ９０が１．３８μｍ、Ｄ１０が０．２６μｍであり、Ｄ９０／Ｄ１０は５．０であった。湿式による目開き５μｍ以上の篩別をおこなった場合に篩上残留物が７ｐｐｍであった。
上記一次粒子径が０．３３μｍのアルミナ粉末を金型に充填し、油圧式一軸プレス成形機で２００Ｋｇ／ｃｍ2の荷重で、直径；２０ｍｍ、高さ；１０ｍｍの円柱成形体を作製した。次にこの成形体を圧力；１０００Ｋｇ／ｃｍ2で冷間静水圧成形をおこなった。この成形体を大気中にて９００℃で３時間脱脂し、引続き大気中にて１５５０℃で２時間焼結した。
【００３６】
この焼結体の密度をアルキメデス法により計測したところ、３．９８３ｇ／ｃｍ3であった。またこの焼結体を鏡面研磨し、５０倍の光学顕微鏡で観察したところ、最大径１０μｍより大きなポアは存在せず、最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアは１ｍｍ2あたり５個であった。
また当該焼結体をボロンナイトライド製乳鉢で粉砕した後、ＩＣＰ発光分析法により、元素分析をおこなったところ、Ｓｉ：１１ｐｐｍ、Ｎａ：５ｐｐｍ、それ以外の元素は検出限界未満（５ｐｐｍ未満）で、Ａｌ以外の元素の総量は５０ｐｐｍ未満であった。
【００３７】
実施例４
本実施例４では住友化学工業株式会社製αアルミナ粉末（商品名スミコランダムＡＡ０７）を原料とした。該アルミナ粉末は実質的に破砕面を有しない、８〜２０面の多面体粒子よりなり、ＳＥＭ写真により測定した一次粒子径は０．７μｍであった。重量累積粒度分布を測定した結果、Ｄ９０が２．０８μｍ、Ｄ１０が０．５７μｍであり、Ｄ９０／Ｄ１０は３．６であった。湿式による目開き５μｍ以上の篩別をおこなった場合に篩上残留物が４ｐｐｍであった。
【００３８】
上記αアルミナ粉末ＡＡ０７；５Ｋｇ、水（溶媒）；３Ｋｇ、ＳＮ−Ｄ５４６８［サンノプコ（株）品；分散剤］；６２．５ｇを超音波を照射しながら、３０分間撹拌混合をおこなった。その後有機バインダーとしてアクリル系エマルジョン［（株）大日本インキ；商品名ボンコート３９８１］の４０重量％溶液を２５０ｇ、滑剤としてステアリン酸エマルジョン［中京油脂（株）品；商品名セロゾール９２０］を１４０ｇを全量、同時に添加し、６０分間撹拌混合してスラリーを調製した。
【００３９】
このスラリーを１規定の塩酸水溶液１１０ｍｌを添加することにより、粘度を３５０センチポイズに調整したスラリーを、スプレードライヤーにより噴霧乾燥し、顆粒を作製した。この顆粒粉末を金型に充填し、油圧式一軸プレス成形機で１５００Ｋｇ／ｃｍ2の荷重で、直径；２０ｍｍ、高さ；１０ｍｍの円柱成形体を作製した。次にこの成形体を大気中にて９００℃で３時間脱脂し、引続き大気中にて１７５０℃で２時間焼結した。
【００４０】
得られた焼結体の密度をアルキメデス法により計測したところ、３．９７１ｇ／ｃｍ3であった。またこの焼結体を鏡面研磨し、５０倍の光学顕微鏡で観察したところ、最大径１０μｍより大きなポアは存在せず、最大径１μｍ以上１０μｍ以下のポアは１ｍｍ2あたり１５個であった。
また当該焼結体をボロンナイトライド製乳鉢で粉砕した後、ＩＣＰ発光分析法により、元素分析をおこなったところ、Ｆｅ：１０ｐｐｍ、Ｎａ：９ｐｐｍ、それ以外の元素は検出限界未満（５ｐｐｍ未満）で、Ａｌ以外の元素の総量は５０ｐｐｍ未満であった。
【００４１】
比較例１
本比較例１では、純度９９．９９０％、一次粒子径０．２μｍのアルミナ原料粉末［住友化学工業（株）品；ＡＫＰ−３０］を使用した。このアルミナ粉末の一次粒子は多面体形状ではない不定形粒子であり、Ｄ／Ｈが３より大きかった。またこの粒子をトンネル型電子顕微鏡で観察したところ粒子内部に多数の欠陥を有していた。このアルミナ粉末の重量累積粒度分布を測定したところ、Ｄ９０が１．２８μｍ、Ｄ１０が０．４４μｍであり、Ｄ９０／Ｄ１０は５．１であった。湿式による目開き５μm以上の篩別をおこなった場合に篩上残留物が５６７ｐｐｍであった。
【００４２】
上記のアルミナ原料粉末；１００ｇ、水（溶媒）；６０ｇ、ＳＮ−Ｄ５４６８（サンノプコ（株）品；分散剤）；１．３ｇを超音波を照射しながら、３０分間撹拌混合をおこなった。
このスラリーを減圧下に３０分間静置し、脱泡した。さらに石膏型を利用したスリップキャスト成形により横；３０ｍｍ、縦；５０ｍｍ、高さ；５ｍｍの成形体を作製した。この成形体を実施例２と同条件で焼結した。
【００４３】
この焼結体の密度をアルキメデス法により計測したところ、３．９３５ｇ／ｃｍ3であった。またこの焼結体を鏡面研磨し、５０倍の光学顕微鏡で観察したところ、最大径１０μｍより大きなポアが１ｍｍ2あたり６５個であり、最大径１０μｍ以下のポアは無数に存在した。
【００４４】
比較例２
比較例１のアルミナ原料粉末；５０００ｇ、水（溶媒）；３０００ｇ、ＳＮ−Ｄ５４６８［サンノプコ（株）品；分散剤］；６５ｇを超音波を照射しながら、３０分間撹拌混合をおこなった。このスラリーを２ｍｍΦのアルミナボールを用いて、ボールミル処理をおこなった。ボールミル時間は２時間とした。さらにその後有機バインダーとしてポリビニルアルコール［（株）クラレ；商品名ＰＶＡ２０５ｃ］の１０重量％溶液を１０００ｇ、滑剤としてステアリン酸エマルジョン［中京油脂（株）品；商品名セロゾール９２０］を１４０ｇを全量、同時に添加し、６０分間撹拌混合してスラリーを調製した。
【００４５】
このスラリーを１規定の塩酸水溶液１１０ｍｌを添加することにより、粘度を３５０センチポイズに調整したスラリーを、スプレードライヤーにより噴霧乾燥し、顆粒を作製した。この顆粒粉末を金型に充填し、油圧式一軸プレス成形機で１５００Ｋｇ／ｃｍ2の荷重で、直径；２０ｍｍ、高さ；１０ｍｍの円柱成形体を作製した。次にこの成形体を大気中にて９００℃で３時間脱脂し、引続き大気中にて１６５０℃で２時間焼結した。
【００４６】
この焼結体の密度をアルキメデス法により計測したところ、３．９４５ｇ／ｃｍ3であった。またこの焼結体を鏡面研磨し、５０倍の光学顕微鏡で観察したところ、最大径１０μｍより大きなポアが１ｍｍ2あたり５０個であり、最大径１０μｍ以下のポアは無数に存在した。
【００４７】
比較例３
比較例１に記載したアルミナ粉末を金型に充填し、一軸プレス成形機で３００Ｋｇ／ｃｍ2の荷重で、直径；２０ｍｍ、高さ；１０ｍｍの円柱成形体を作製した。次にこの成形体を圧力；３０００Ｋｇ／ｃｍ2で冷間静水圧プレスをおこなった。この成形体を大気中にて９００℃で３時間脱脂し、引続き大気中にて１７５０℃で２時間焼結した。
この焼結体の密度をアルキメデス法により計測したところ、３．９５０ｇ／ｃｍ3であった。またこの焼結体を鏡面研磨し、５０倍の光学顕微鏡で観察したところ、最大径１０μｍより大きなポアが１ｍｍ2あたり３５個であり、最大径１０μｍ以下のポアは無数に存在した。
【００４８】
【発明の効果】
本発明は、不純物やポアが極めて少ないことから、例えば、半導体産業におけるアルカリ金属およびアルカリ土類金属等の混入、ゴミ等の付着や吸着を避けたい製品（例えば、シリコンウェハーの洗浄、移動、表面処理等の操作時に使用される真空チャック、バキュームピンセット、ハンド等の製品の材料、さらには磁性材料の研磨用治具）として、また、ポアの存在自体を避けたい製品の材料（例えば、ハードディスク基板や磁気ヘッド用基板などの材料、各種工業用ミラー等の材料、ダミーウェハー）として好適なアルミナ焼結体を提供することができる。