(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測装置において、被計測光ファイバの計測光出射端固定部におけるクラッド表面に加えられる最大圧縮応力が５．２ｇｆ／ｍｍ2 以下であり、かつ、前記被計測光ファイバの計測光出射端固定部における軸方向の引き抜き力が１５ｇｆ以上であることを特徴とする光ファイバのＭＦＤ計測装置。
【請求項２】
紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測装置において、被計測光ファイバの計測光出射端固定部に開き角がほぼ９０゜のＶ溝を用い、押圧力を２．４ｇｆ／ｍｍ以下とし、かつ、前記被計測光ファイバの計測光出射端固定部における軸方向の引き抜き力を１５ｇｆ以上とすることを特徴とする光ファイバのＭＦＤ計測装置。
【請求項３】
前記計測光出射端固定部には、前記被計測光ファイバを載置する載置面に前記被計測光ファイバを位置決めする位置決め部が形成され、前記載置面を押圧する押圧部材と前記載置面との間に軟質の弾性体が介在され、該軟質の弾性体は前記位置決め部の周囲の載置面にまで延在していることを特徴とする請求項１または２に記載の光ファイバのＭＦＤ計測装置。
【請求項４】
紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測方法において、被計測光ファイバの計測光出射端固定部におけるクラッド表面に加えられる最大圧縮応力を５．２ｇｆ／ｍｍ2 以下となるようにし、かつ、前記被計測光ファイバの計測光出射端固定部における軸方向の引き抜き力を１５ｇｆ以上として計測することを特徴とする光ファイバのＭＦＤ計測方法。
【請求項５】
紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測方法において、被計測光ファイバの計測光出射端固定部に開き角がほぼ９０゜のＶ溝を用い、押圧力を２．４ｇｆ／ｍｍ以下となるようにし、かつ、前記被計測光ファイバの計測光出射端固定部における軸方向の引き抜き力を１５ｇｆ以上として計測することを特徴とする光ファイバのＭＦＤ計測方法。
【請求項６】
前記計測光出射端固定部には、前記被計測光ファイバを載置する載置面に前記被計測光ファイバを位置決めする位置決め部が形成され、前記載置面を押圧する押圧部材と前記載置面との間に軟質の弾性体が介在され、該軟質の弾性体は前記位置決め部の周囲の載置面にまで延在していることを特徴とする請求項４または５に記載の光ファイバのＭＦＤ計測方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、波長多重伝送（ＷＤＭ伝送）等に用いられる紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた実効断面積が６０〜８０μｍ2 の光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測装置、ＭＦＤ計測方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバを用いた高速通信においては、大容量化のために波長多重伝送（ＷＤＭ伝送）が普及している。ＷＤＭ伝送では、１本の光ファイバに波長の異なる多くの信号光が同時に入射される。したがって、１波長の信号光しか用いない場合に比べて、１本の光ファイバで伝送できるデータ量を増加させることができる。例えば、同時に１０波長を入射させれば、１波長を入射させる場合に比べて光ファイバの本数を増やさずに、データ量を１０倍にすることが可能となる。しかし、光ファイバ内で発生する非線形光学効果が信号光の多重数を増やす上で制限を与えるという問題がある。非線形光学効果の発生を抑制するために、実効断面積を大きくする方法がある。したがって、多重数を増やすためには、ＷＤＭ伝送に用いられる光ファイバについては、実効断面積が大きいことが望ましい。
【０００３】
例えば、従来の実効断面積が小さな分散シフト光ファイバ（実効断面積が約４５μｍ2 ）では、１０波長の信号光を入射することが可能であった光伝送システムに対して、実効断面積が約１．５倍の６８μｍ2 の光ファイバを用いると、１５波長を入射することが可能となり、３本の光ファイバを必要としたシステムが２本の光ファイバで足りる計算になり、ケーブルの小径化、保守の容易さ、コストダウン、敷設の容易さの面から有利である。
【０００４】
実効断面積を計測する方法として、ＪＩＳ  Ｃ  ６８２５に記載されているようなモードフィールド径（ＭＦＤ）の計測方法を用いることができる。
【０００５】
図１０は、ＦＦＳ法によるＭＦＤ試験装置の一例の構成図である。図中、１１は光源、１２は励振器、１３はモードフィルタ、１４はクラッドモード除去器、１５は被計測光ファイバ、１６は走査装置、１７は検出器、１８は増幅器、１９は信号処理装置である。
【０００６】
光源１１には、計測時間にわたって位置，強度，波長が安定し、波長分布の半値全幅が１０ｎｍ以下のものが用いられる。光源１１からの出射光は、励振器１２により基本モードだけが伝搬され、高次モードは伝搬されない。励振器１２を通った光源光は、必要によりモードフィルタ１３，クラッドモード除去器１４を通り、光ファイバ内の光が最大となるように位置が調整された被計測光ファイバ１５に導入される。被計測光ファイバ１５の光出射端は図示しない固定部により走査装置１６の回転台の中心位置にセットされる。検出器１７を回転し、各角度θでの光パワーを計測し、計算によりＭＦＤが求められる。
【０００７】
図１１は、ＶＡ法によるＭＦＤ試験装置の一例の構成図、図１２は図１１の孔移動装置の詳細図である。図中、図１０と同様の部分には同じ符号を付して説明を省略する。２０は孔移動装置、２１は遮光板、２２はホルダ、２３はモニタカメラ、２４は集光レンズである。
【０００８】
光源１１から励振器１２，モードフィルタ１３，クラッドモード除去器１４を通った光源光が被計測光ファイバ１５に入射される点は、図１０と同様である。被計測光ファイバ１５の光出射端側は、孔移動装置２０において、固定部として用いられるホルダ２２に固定される。遮光板２１には、孔が開けられ、遮光板２１の孔の中心は、被計測光ファイバ１５の軸上にあり、遮光板２１を被計測光ファイバ１５の軸に沿って移動させながら、遮光板２１の孔を通った光を、集光レンズ２４により集光して検出器１７で検出する。検出結果から計算によりＭＦＤを求める。
【０００９】
図１０〜図１２では、ＭＦＤを求めるＭＦＤ試験装置を説明したが、このようなＭＦＤ試験装置を用いて、得られた放射光強度の計測結果から、計算により実効断面積を求めることができる。このような試験装置では、被計測光ファイバは、計測中に光ファイバの側面や軸方向から力を受けた場合に、光ファイバが移動すると、正確な計測ができない。そのため、上述したように、固定部において、十分な押圧力で光ファイバが固定されるようになっている。光ファイバ固定部としては、金属やアクリル等の硬質部材によって、被計測光ファイバの計測光の出射端を固定する構成が採用されている。
【００１０】
被計測光ファイバの計測光出射端固定部について検討した。固定部において被計測光ファイバ全体に加えられている押圧力（ｇｆ）を、その力が加えられている被計測光ファイバの長さ（ｍｍ）で割った値を単位長さ当たりの押圧力と定義すれば、従来の計測装置における単位長さ当たりの押圧力は、６．３ｇｆ／ｍｍ程度である。この大きさの単位長さ当たりの押圧力の光ファイバ出射端固定部を用いた計測結果では、従来の実効断面積が小さな分散シフト光ファイバ（実効断面積が約４５μｍ2 ）では正確な計測が可能であった。
【００１１】
しかしながら、実効断面積が大きい分散シフト光ファイバ、すなわち、実効断面積が６０〜８０μｍ2 、あるいは、それ以上の実効断面積の光ファイバにおいては、計測値の再現性が悪いことが分かった。これは、従来の実効断面積が小さな光ファイバでは、光ファイバの側面から加えられる応力に対して、光ファイバ内を伝搬する信号光の状態が乱されにくいため、６．３ｇｆ／ｍｍ程度の押圧力を受けても、測定結果に与える影響が少ないためと考えられる。これに対して、実効断面積の大きな分散シフト光ファイバでは、大きな押圧力を受けた場合に、光ファイバの側面から加えられる応力によって、光ファイバ内を伝搬する信号光の状態が乱されて、計測結果の再現性を悪くしているものと考察した。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、被計測光ファイバ出射端部を固定して被計測光ファイバからの放射光強度を計測する場合に、放射光の乱れを解消して、正確な計測を行なうことができる光ファイバのＭＦＤ計測装置、ＭＦＤ計測方法を提供することを目的とするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測装置において、被計測光ファイバの計測光出射端固定部におけるクラッド表面に加えられる最大圧縮応力が５．２ｇｆ／ｍｍ2 以下であり、かつ、前記被計測光ファイバの計測光出射端固定部における軸方向の引き抜き力が１５ｇｆ以上であることを特徴とするものである。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測装置において、被計測光ファイバの計測光出射端固定部に開き角がほぼ９０゜のＶ溝を用い、押圧力を２．４ｇｆ／ｍｍ以下とし、かつ、前記被計測光ファイバの計測光出射端固定部における軸方向の引き抜き力を１５ｇｆ以上とすることを特徴とするものである。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の光ファイバのＭＦＤ計測装置において、前記計測光出射端固定部には、前記被計測光ファイバを載置する載置面に前記被計測光ファイバを位置決めする位置決め部が形成され、前記載置面を押圧する押圧部材と前記載置面との間に軟質の弾性体が介在され、該軟質の弾性体は前記位置決め部の周囲の載置面にまで延在していることを特徴とするものである。
【００１９】
請求項４に記載の発明は、紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測方法において、被計測光ファイバの計測光出射端固定部におけるクラッド表面に加えられる最大圧縮応力を５．２ｇｆ／ｍｍ2 以下となるようにし、かつ、前記被計測光ファイバの計測光出射端固定部における軸方向の引き抜き力を１５ｇｆ以上として計測することを特徴とするものである。
【００２０】
請求項５に記載の発明は、紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を計測する光ファイバのＭＦＤ計測方法において、被計測光ファイバの計測光出射端固定部に開き角がほぼ９０゜のＶ溝を用い、押圧力を２．４ｇｆ／ｍｍ以下となるようにし、かつ、前記被計測光ファイバの計測光出射端固定部における軸方向の引き抜き力を１５ｇｆ以上として計測することを特徴とするものである。
【００２１】
請求項６に記載の発明は、請求項４または５に記載の光ファイバのＭＦＤ計測方法において、前記計測光出射端固定部には、前記被計測光ファイバを載置する載置面に前記被計測光ファイバを位置決めする位置決め部が形成され、前記載置面を押圧する押圧部材と前記載置面との間に軟質の弾性体が介在され、該軟質の弾性体は前記位置決め部の周囲の載置面にまで延在していることを特徴とするものである。
【００２５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の光ファイバのＭＦＤ計測装置における被計測光ファイバの計測光出射端固定部の第１の実施の形態を説明するための断面図である。図中、１は被計測光ファイバ、１ａはコア部、１ｂはクラッド部、１ｃは被覆部、２は固定部材、２ａは載置面、２ｂは光ファイバ位置決め溝、３は押圧部材である。
【００２６】
この光ファイバの固定部は、載置面２ａを有する固定部材２と押圧部材３から構成されている。固定部材２の載置面２ａには、光ファイバの位置決め部として、光ファイバ位置決め溝２ｂが形成されている。光ファイバ位置決め溝２ｂに被計測光ファイバ１を位置させて、押圧部材３に押圧力を付与して被計測光ファイバ１を固定する。この光ファイバの固定部が用いられるＭＦＤ計測装置の一例は、図１０で説明したＦＦＳ法によるＭＦＤ試験装置である。
【００２７】
図１０のＭＦＤ試験装置による測定方法は、Ｄｉｒｅｃｔ  ｆａｒ−ｆｉｅｌｄ法とも呼ばれる方法であり、分散シフト光ファイバの放射光パターンから実効断面積の計測を行なうものである。
【００２８】
被計測光ファイバ光ファイバとして、実効断面積６０〜８０μｍ2 、クラッド部１ｂの直径１２５μｍ、被覆部１ｃの直径２４０〜２５５μｍのものを用いた。被覆部１ｃは、内側が軟質（ヤング率が小さい）の紫外線硬化型樹脂、外側が硬質（ヤング率が大きい）の紫外線硬化型樹脂の２層被覆である。被計測光ファイバの計測光出射端固定部における固定部材２および押圧部材３は、金属プレートを用いたが、アクリル等の合成樹脂を用いることもできる。固定部材２の載置面２ａには、光ファイバ位置決め溝２ｂが形成されている。光ファイバ位置決め溝２ｂとしては、開き角が９０゜のＶ溝とした。押圧部材３によって光ファイバが押圧される長さは３８ｍｍである。なお、これらの数値は一例であって、この値に限られるものではない。
【００２９】
上述した押圧力の影響を確認するために、押圧部材３による押圧力を変えて、実効断面積の計測値の再現性の試験をした。図２に試験結果を示す。図２において、横軸は、被計測光ファイバの計測光出射端固定部に押圧力で、単位長さ当たりの押圧力（ｇｆ／ｍｍ）で示しており、縦軸は、実効断面積の計測値（計測結果に基づく計算値）の再現性を標準偏差値（μｍ2 ）で示している。単位長さ当たりの押圧力を２．４ｇｆ／ｍｍ以下にすることで、押圧力による影響を解消することができることが分かる。なお、この試験において用いた固定部材２の光ファイバ位置決め溝２ｂは、開き角が９０゜のＶ溝である。
【００３０】
計測された放射光パターンの例を図３と図４に示す。図３は、被計測光ファイバ出射端固定部での押圧力が大きい場合（押圧力＝６．３ｇｆ／ｍｍ）であり、実効断面積計測値の再現性が悪くなったときの放射光パターン例である。押圧力を下げることにより正確な計測ができることは、図２で説明したが、図４は、押圧力が小さい場合（押圧力＝０．８ｇｆ／ｍｍ）の放射光パターンの例であり、図３に比べて明らかに放射光パターンが乱れていないことが分かる。
【００３１】
測定方法を変えて、同様の試験をした。図１１，図１２で説明したＭＦＤ試験装置による測定方法であり、Ｖａｒｉａｂｌｅ  ａｐｅｒｔｕｒｅ  ｉｎ  ｔｈｅ  ｆａｒ−ｆｉｅｌｄ法とも呼ばれている方法である。用いた被計測光ファイバ光ファイバは、上述した試験に用いたものと同一のものである。また、ホルダにおける被計測光ファイバの計測光出射端固定部は、図１で説明したものと同一のものであり、固定部材２の光ファイバ位置決め溝２ｂは、開き角が９０゜のＶ溝である。
【００３２】
試験結果を図５に示す。図５の横軸と縦軸は図２と同じである。この試験においても、上述した試験結果と同様に、従来の実効断面積が小さな分散シフト光ファイバでは正確な計測が可能であった６．３ｇｆ／ｍｍの押圧力のファイバ固定部を用いた計測値は、再現性が悪く正確な計測ができなかったが、２．４ｇｆ／ｍｍ以下の押圧力の固定部を用いることで再現性の良い計測ができた。
【００３３】
これらの試験結果から、従来の実効断面積が小さな分散シフト光ファイバ（実効断面積が約４５μｍ2 ）では、単位長さ当たりの押圧力を６．３ｇｆ／ｍｍとして正確な計測が可能であった。しかし、実効断面積が大きい分散シフト光ファイバ（実効断面積がほぼ６０μｍ2 以上）では、単位長さ当たりの押圧力を６．３ｇｆ／ｍｍとしたのでは計測値は再現性が悪く正確な計測ができないが、被計測光ファイバの出射端固定部の押圧力を下げると計測値の再現性が良くなり、被計測光ファイバ出射端固定部の単位長さ当たりの押圧力を２．４ｇｆ／ｍｍ以下とすることにより正確な計測が可能となることが分かった。なお、これらの試験で用いた被計測光ファイバの実効断面積の最大値は８０μｍ2 であったが、これより実効断面積が大きい場合は、さらに光ファイバ側面からの応力に対して弱くなるため、出射端固定部の押圧力は２．４ｇｆ／ｍｍよりも弱くしなければならない。なお、この試験に用いた光ファイバは、内層が軟質外層が硬質の紫外線硬化型樹脂の２層被覆であるが、一般に用いられる外径２５０μｍの紫外線硬化型樹脂の２層被覆の光ファイバであれば、出射端固定部の押圧力が２．４ｇｆ／ｍｍ以下であれば、実用上、十分な精度での実効断面積の計測が可能である。
【００３４】
上述した試験では、被覆が施された光ファイバを、開き角が９０゜のＶ溝に位置させて、押圧部材で押圧したときの単位長さ当たりの押圧力をパラメータとして試験を行なった。そして、大きな押圧力を受けた場合に、光ファイバの側面から加えられる応力によって、光ファイバ内を伝搬する信号光の状態が乱されて、計測結果の再現性を悪くしているものとの考察をし、それを実証する試験をした。押圧力によって光ファイバ内を伝搬する信号光の状態に影響を及ぼす応力は、上述した試験では被覆を介してクラッド部に伝達されるから、同じ押圧力であっても、Ｖ溝の開き角や被覆部の特性によって、クラッド部の側面に及ぼされる応力は変わる。したがって、一般に用いられる紫外線硬化型樹脂の２層被覆の光ファイバを開き角がほぼ９０゜のＶ溝に載置して押圧部材により、押圧した場合の単位長さ当たりの押圧力は、上述したように２．４ｇｆ／ｍｍ以下であればよいといえるが、より一般性を持たせるためには、クラッド表面に加えられる最大圧縮応力を問題とするのがよい。
【００３５】
そこで、上述した試験で用いた被計測光ファイバの特性についてより詳しく説明する。図６は、被計測光ファイバの断面図である。図中、４ａはクラッド部、４ｂは一次被覆部、４ｃは二次被覆部である。クラッド４ａは、直径０．１２５ｍｍ，ヤング率７１５４ｋｇｆ／ｍｍ2 ，ポアソン比０．１６であり、一次被覆部４ｂは、外径０．１９７ｍｍ，ヤング率０．１２ｋｇｆ／ｍｍ2 ，ポアソン比０．４５であり、二次被覆部４ｃは、外径０．２４５ｍｍ，ヤング率８０ｋｇｆ／ｍｍ2 ，ポアソン比０．４５である。
【００３６】
このような特性の被計測光ファイバを開き角が９０゜のＶ溝に位置させた場合の押圧部材による単位長さ当たりの押圧力と、被計測光ファイバのクラッドの表面に加えられる最大圧縮応力との関係を計算で求めると、押圧力１ｇｆ／ｍｍ当たり、最大圧縮応力は、２．１５６ｇｆ／ｍｍ2 となるから、単位長さ当たりの押圧力が２．４ｇｆ／ｍｍ以下では、クラッド表面に加えられる最大圧縮応力は５．１７ｇｆ／ｍｍ2 以下となる。したがって、クラッド表面に加えられる最大圧縮応力を５．２ｇｆ／ｍｍ2 以下であれば、大きな実効断面積を有する分散シフト光ファイバ、すなわち、実効断面積６０〜８０μｍ2 の分散シフト光ファイバにおいて、より正確な測定が可能となる。
【００３７】
図７は、図６の光ファイバの外周面に着色層が施された被計測光ファイバの断面図である。図中、図６と同様の部分には同じ符号を付して説明を省略する。５ｄは着色層である。着色層４ｄは、外径０．２５３ｍｍ，ヤング率９５ｋｇｆ／ｍｍ2 ，ポアソン比０．４０である。クラッド部４ａ，一次被覆部４ｂ，二次被覆部４ｃの特性値については図５と同じである。
【００３８】
このような特性の被計測光ファイバを開き角が９０゜のＶ溝に位置させた場合の押圧部材による単位長さ当たりの押圧力と、被計測光ファイバのクラッドの表面に加えられる最大圧縮応力との関係を計算で求めると、押圧力１ｇｆ／ｍｍ当たり、最大圧縮応力は、２．１３９ｇｆ／ｍｍ2 となるから、単位長さ当たりの押圧力が２．４ｇｆ／ｍｍ以下では、クラッド表面に加えられる最大圧縮応力は５．１３ｇｆ／ｍｍ2 以下となる。したがって、着色層が設けられた被計測光ファイバであっても、クラッド表面に加えられる最大圧縮応力を５．２ｇｆ／ｍｍ2 以下とすることにより、大きな実効断面積を有する分散シフト光ファイバ、すなわち、実効断面積６０〜８０μｍ2 の分散シフト光ファイバにおいて、より正確な測定が可能となる。
【００３９】
なお、クラッド表面に加えられる最大圧縮応力を５．２ｇｆ／ｍｍ2 以下とするという数値的な範囲は、図２および図５で説明した試験結果から導出されたものであるが、定性的にいえば、被計測光ファイバの計測光出射端固定部における押圧力を、計測値の標準偏差が０．２μｍ2 以下となるようにするものということもできる。
【００４０】
図８は、本発明の光ファイバのＭＦＤ計測装置における被計測光ファイバの計測光出射端固定部の第２の実施の形態を説明するための断面図である。図中、図１と同様の部分には同じ符号を付して説明を省略する。５は軟質の弾性体である。
【００４１】
この実施の形態では、軟質の弾性体５を介して押圧部材３で押圧した。光ファイバの固定部における光ファイバの側面に加えられる押圧力を小さくし過ぎると、固定力が小さくなり、計測中に光ファイバが移動して計測結果が不正確になってしまうという問題が生じる。この問題に対処するには、光ファイバの側面に加えられる押圧力が小さくとも、計測中の光ファイバに触れても動かない程度に固定するような考慮が必要がある。軟質の弾性体５で、被計測光ファイバを押圧することにより、押圧面と光ファイバとの接触面積が大きくなり、小さい押圧力でも光ファイバの固定部における固定力を大きくできる。また、軟質の弾性体５は光ファイバの側面に対して面接触となるから、クラッドの表面に局部的な応力を及ぼすことをやわらげることができる点でも有利である。軟質の弾性体５の材質としては、軟質ゴム、シリコーンゴム、軟質ポリウレタンフォームや軟質ポリ塩化ビニル等が加工性や価格の点で優れている。なお、クッション部材として作用する材料を用いてもよい。
【００４２】
図９は、本発明の光ファイバのＭＦＤ計測装置における被計測光ファイバの計測光出射端固定部の第３の実施の形態を説明するための断面図である。図中、図１，図８と同様の部分には同じ符号を付して説明を省略する。
【００４３】
この実施の形態では、軟質の弾性体５の幅が、第２の実施の形態より広くされており、固定部材２の載置面２ａにおける光ファイバ位置決め溝２ｂの周囲の載置面２ａにまで延在している。軟質の弾性体５の幅は、被計測光ファイバ１に接触する部分の幅の３倍以上とするのがよい。すなわち、固定部材２の光ファイバ位置決め溝２ｂの両側の載置面２ａ上に、軟質の弾性体５が被計測光ファイバ１に接触している部分の幅以上の幅で接触するような幅となる。この実施の形態では、押圧部材３も軟質の弾性体５が載置面２ａに接触して移動しにくくなっており、より安定に被計測光ファイバ１を固定できる。
【００４４】
さらに、第１の実施の形態においては、押圧部材３で押圧される光ファイバの軸方向の長さを長くすること、第２，第３の実施の形態においては、軟質の弾性体５で押圧される光ファイバの軸方向の長さを長くすることにより、光ファイバの軸方向での接触面積が大きくなり、計測中の光ファイバの移動を防ぐことができる。手で軽く光ファイバに触れても動かない程度の固定力として、光ファイバの固定部における光ファイバの軸方向の引き抜き力が１５ｇｆ以上であることが望ましい。
【００４５】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、紫外線硬化型樹脂の２層被覆がされた６０〜８０μｍ2 の実効断面積を有する分散シフト光ファイバの端面からの放射光強度を再現性よく、正確に計測してＭＦＤを計測することができるという効果がある。また、本発明の光ファイバのＭＦＤ計測装置、ＭＦＤ計測方法で計測された光ファイバは、実効断面積が精度よく測定されたものであるから、ＷＤＭ伝送に有効に用いられるものであり、この光ファイバを用いた光伝送システムを構築することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の光ファイバのＭＦＤ計測装置における被計測光ファイバの計測光出射端固定部の第１の実施の形態を説明するための断面図である。
【図２】  試験結果を示す線図である。
【図３】  押圧力が大きい場合の放射光パターンの例を示す線図である。
【図４】  押圧力が小さい場合の放射光パターンの例を示す線図である。
【図５】  試験結果を示す線図である。
【図６】  被計測光ファイバの断面図である。
【図７】  被計測光ファイバの断面図である。
【図８】  本発明の光ファイバのＭＦＤ計測装置における被計測光ファイバの計測光出射端固定部の第２の実施の形態を説明するための断面図である。
【図９】  本発明の光ファイバのＭＦＤ計測装置における被計測光ファイバの計測光出射端固定部の第３の実施の形態を説明するための断面図である。
【図１０】  ＦＦＳ法によるＭＦＤ試験装置の一例の構成図である。
【図１１】  ＶＡ法によるＭＦＤ試験装置の一例の構成図である。
【図１２】  図１１の孔移動装置の詳細図である。
【符号の説明】
１…被計測光ファイバ、１ａ…コア部、１ｂ…クラッド部、１ｃ…被覆部、２…固定部材、２ａ…載置面、２ｂ…光ファイバ位置決め溝、３…押圧部材、４ａ…クラッド部、４ｂ…一次被覆部、４ｃ…二次被覆部、４ｄ…着色層、５…軟質の弾性体、１１…光源、１２…励振器、１３…モードフィルタ、１４…クラッドモード除去器、１５…被計測光ファイバ、１６…走査装置、１７…検出器、１８…増幅器、１９…信号処理装置、２０…孔移動装置、２１…遮光板、２２…ホルダ、２３…モニタカメラ、２４…集光レンズ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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