(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に防眩層を有する光学フィルムにおいて、
該防眩層のヘイズが４．０乃至５０．０％であって、そのヘイズが１．０％以上の内部散乱と３．０％以上の表面散乱の合計であり、
該防眩層が、該透明支持体側に位置する内部散乱層と、表面側に位置する表面防眩層との２層を含み、
該内部散乱層が、内部散乱層を形成するバインダの屈折率と０．０３以上異なる屈折率を有し、平均粒径が内部散乱層の膜厚の３分の１以下である散乱性粒子を含み、
該表面防眩層が、表面防眩層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径の防眩性粒子を含み、該表面防眩層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径の防眩性粒子が、該表面防眩層に含まれる粒子全体の４０乃至１００％を占めることを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の表面防眩層を形成する素材が、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーから得られるポリマーからなることを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の表面防眩層上に直接、または他の層を介して屈折率が１．３８乃至１．４９の低屈折率層を有することを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項４】
該低屈折率層が動摩擦係数０．０３乃至０．１５、水に対する接触角９０乃至１２０°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素化合物を含んでなることを特徴とする請求項３に記載の防眩性フィルム。
【請求項５】
請求項３または４に記載の表面防眩層を形成するバインダの屈折率が１．５７乃至２．００であることを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項６】
請求項５に記載の表面防眩層を形成するバインダが、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の微粒子とを電離放射線により架橋したものを含んでなることを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の防眩性フィルムを偏光板における偏光層の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項８】
請求項１から６のいずれかに記載の防眩性フィルムまたは請求項７に記載の偏光板の防眩層をディスプレイの最表層に用いたことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルム及びそれを用いた画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
防眩性フィルムや反射防止フィルムは一般に、ＣＲＴ、ＰＤＰやＬＣＤのような画像表示装置において、外光の反射による像の映り込みやコントラスト低下を防止するために、凹凸による表面散乱や光学干渉の原理を用いた低反射率化によってディスプレイの最表面に配置される。
【０００３】
近年、ＬＣＤやＰＤＰあるいはＣＲＴにおいても、パソコンのモニタ用途等の高解像化に伴い、画素の高精細化が進んでいる。特にＬＣＤではｐ−Ｓｉの技術開発が進んだこともあってその変化は急速である。
この高精細画像表示装置に従来の外光の反射による映り込みを防止する防眩性フィルムを用いると、画面上の至る所にランダムに輝点のようなギラツキが発生する。このギラツキは表面凹凸の曲率によりちょうとレンズのようなものが形成され、ちょうどそのレンズの焦点と画素の位置が一致するときに画素が拡大されることにより発生する。防眩性フィルムの表面凹凸はランダムであるので、この焦点をコントロールすることはできず、結果としてランダムにギラツキが発生してしまう。
【０００４】
特開平１０−２６４２８４には紫外線硬化樹脂と架橋アクリルビーズからなる高精細画像表示用の防眩性フィルムが記載されている。これは０．５乃至６．０μｍの比較的小さい粒子を用いてなお且つ粒子の分散性を良化することによりなされている。これは一つ一つの凹凸を小さくして、曲率は大きくすることにより、焦点の位置を全体として平均的に手前に設計していると推測される。この方法である程度までは高精細画像表示用となるが、やはり不十分である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、高精細画像表示装置に好適な防眩性フィルムを、簡便な方法で安定に製造することによって安価に供給することである。
【０００６】
本発明の目的は以下のように達成された。
（１）  透明支持体上に防眩層を有する光学フィルムにおいて、
該防眩層のヘイズが４．０乃至５０．０％であって、そのヘイズが１．０％以上の内部散乱と３．０％以上の表面散乱の合計であり、
該防眩層が、該透明支持体側に位置する内部散乱層と、表面側に位置する表面防眩層との２層を含み、
該内部散乱層が、内部散乱層を形成するバインダの屈折率と０．０３以上異なる屈折率を有し、平均粒径が内部散乱層の膜厚の３分の１以下である散乱性粒子を含み、
該表面防眩層が、表面防眩層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径の防眩性粒子を含み、該表面防眩層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径の防眩性粒子が、該表面防眩層に含まれる粒子全体の４０乃至１００％を占めることを特徴とする防眩性フィルム。
（２）  上記（１）に記載の表面防眩層を形成する素材が、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーから得られるポリマーからなることを特徴とする防眩性フィルム。
（３）  上記（１）又は（２）に記載の表面防眩層上に直接、または他の層を介して屈折率が１．３８乃至１．４９の低屈折率層を有することを特徴とする防眩性フィルム。
（４）  該低屈折率層が動摩擦係数０．０３乃至０．１５、水に対する接触角９０乃至１２０°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素化合物を含んでなることを特徴とする上記（３）に記載の防眩性フィルム。
（５）  上記（３）または（４）に記載の表面防眩層を形成するバインダの屈折率が１．５７乃至２．００であることを特徴とする防眩性フィルム。
（６）  上記（５）に記載の表面防眩層を形成するバインダが、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の微粒子とを電離放射線により架橋したものを含んでなることを特徴とする防眩性フィルム。
（７）  上記（１）から（６）のいずれかに記載の防眩性フィルムを偏光板における偏光層の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
（８）  上記（１）から（６）のいずれかに記載の防眩性フィルムまたは上記（７）に記載の偏光板の防眩層をディスプレイの最表層に用いたことを特徴とする画像表示装置。
【０００７】
レンズ効果によるギラツキを防止するためには、高屈折率化により焦点を特開平１０−２６４２８４よりさらに手前に設計する方法、焦点の位置を揃える方法、レンズにおける集光をなくす方法等が考えられるが、抜本的な解決としては集光をなくす方法が最も効果的である。
レンズによる集光をなくす方法は、光の直進性を妨げることにより達成される。即ち表面凹凸のレンズにより集光すべく屈折した光が直進するのを、層内で妨げればよい。これには内部で屈折率を不均一にする、つまり屈折率分布型の不均一構造により光を曲げるか、または屈折率の異なる散乱子、即ち散乱性粒子を添加する方法が挙げられる。中でも、簡便性から散乱性粒子を用いた内部散乱効果を用いて、ギラツキを改良した高精細画像表示用防眩フィルムを提供することができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を図面を引用しながら説明する。
【０００９】
図１（ａ）に示す態様は防眩性フィルムの参考例であり、透明支持体１１、防眩層１２の順序の層構成を有する。１３は散乱性粒子であり、好ましくは平均粒径が膜厚の３分の１以下であるために表面にほとんど凹凸を形成しない。また、内部散乱を生じさせるためには、防眩層を形成するバインダと散乱性粒子の屈折率差が０．０３以上、好ましくは０．０５以上、より好ましくは０．１以上であるとよい。１４は防眩性粒子であり、好ましくは膜厚の２分の１よりも大きい粒子が該粒子全体の４０乃至１００％を占めるために、表面に凹凸を形成して防眩性を付与することができる。
【００１０】
図１（ｂ）に示す態様は本発明の防眩性フィルムの一例であり、図１（ａ）と異なり防眩層を２層に分割して支持体側に内部散乱層１２ａ、表面側に表面防眩層１２ｂを設けている。このように防眩層を２層に分割することにより、内部散乱起因のヘイズと表面散乱起因のヘイズを正確にコントロールすることが可能となる。つまり、ヘイズは（凹凸の変化がなければ）加成性が成り立つので、内部散乱層１２ａのみのヘイズ即ち内部散乱起因のヘイズをＨｉ、表面防眩層１２ｂまで塗布したときのヘイズをＨとすると、表面散乱起因のヘイズＨｓは下記式により記述される。
【００１１】
Ｈｓ＝Ｈ−Ｈｉ
【００１２】
また、内部散乱を独立にコントロールするためには、表面防眩層を形成するバインダと防眩性粒子１４の屈折率差が０．０３未満、好ましくは０．０２未満であるとよい。
【００１３】
図１（ｃ）に示す態様は防眩性フィルムの参考例であり、図１（ａ）と異なり散乱粒子と防眩性粒子の代わりに、散乱性防眩性粒子１５を用いている。これにより内部散乱起因と表面散乱起因のヘイズを独立にコントロールすることは難しくなるが、１種類の粒子でよいため簡便に製造することができる。散乱性防眩性粒子は、防眩層を形成するバインダとの屈折率差が０．０３以上、好ましくは０．０５以上、より好ましくは０．１以上であり、好ましくは膜厚の２分の１よりも大きい粒子が該粒子全体の４０乃至１００％を占める。
【００１４】
図２に示す態様は本発明の防眩性反射防止フィルムの参考例である。２１は低屈折率層であり、反射防止層では、低屈折率層が下記式を満足することが好ましい。
【００１５】
ｍλ／４×０．７＜ｎ１ｄ１＜ｍλ／４×１．３
【００１６】
式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。
【００１７】
本発明の防眩層の屈折率は１つの値で記述されない。散乱性粒子を添加することによって、防眩層全体としては屈折率が一つの値で定義されない屈折率不均一層となる。
この屈折率不均一層により、防眩層と支持体との屈折率差による光学干渉が引き起こす反射率の波長依存性における大きな振幅やそれに伴う色むらが改良された。
【００１８】
透明支持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましい。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．７であることが好ましい。
【００１９】
画像表示装置の表面保護膜として用いるという観点からは、ＬＣＤに対してはトリアセチルセルロースが、ＰＤＰ及びＣＲＴに対してはポリエチレンテレフタレートあるいはポリエチレンナフタレートが、その他リアプロジェクション等にはそれらの支持体の他、ポリカーボネートが好ましい。
【００２０】
防眩層を形成するバインダとしては特に限定されない。製膜の観点からは高分子化合物または低分子化合物が架橋して高分子量化したものが好ましい。また画像表示装置の表面に用いるためには耐傷性が必要となるため、少なくとも表面防眩層にハードコート性を付与することが好ましい。
【００２１】
表面防眩層にハードコート性を付与するためには、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００２２】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させる必要がある。
【００２３】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋基を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要がある。
【００２４】
表面防眩層のバインダを高屈折率化するために、屈折率が１．５７以上、好ましくは１．６５以上の高屈折率モノマーを用いることができる。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させる必要がある。
【００２５】
また防眩層のバインダを高屈折率化するために、チタン、アルミニウム、インジウム、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。微粒子の例としては、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＩＴＯ等が挙げられる。
無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全重量の１０乃至９０重量％であることが好ましく、２０乃至８０重量％であると更に好ましく、３０乃至６０重量％が特に好ましい。
【００２６】
防眩層には防眩層を形成するバインダの屈折率と０．０３以上異なる屈折率を有し、平均粒径が膜厚の３分の１以下である散乱性粒子を用いることができる。前述の通り、この粒子は内部散乱を発生させるためのものであり、この条件を満たしていれば特に限定されない。
散乱性粒子としては、例えばポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の樹脂粒子、またはＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯ、ＺｒＯ2、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、アルミノシリケート等の無機粒子が挙げられる。粒子は水及び有機溶剤に不溶のものが好ましい。
防眩層に添加する散乱性粒子は、内部散乱をコントロールするために２種類以上の粒子を組み合わせて用いても構わない。
【００２７】
表面防眩層には表面防眩層の膜厚の２分の１よりも大きい粒径の粒子が、該粒子全体の４０乃至１００％を占める防眩性粒子を用いる。前述の通り、この粒子は表面に凹凸を形成して防眩性を付与するためのものであり、この条件を満たしていれば特に限定されない。防眩性粒子としては、例えばポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の樹脂粒子、またはＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＩＴＯ、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、アルミノシリケート等の無機粒子が挙げられる。粒子は水及び有機溶剤に不溶のものが好ましい。表面防眩層に添加する防眩性粒子は、表面凹凸をコントロールするために２種類以上の粒子を組み合わせて用いても構わない。
【００２８】
図１（ｃ）に示す態様のような防眩性フィルムでは、防眩層には防眩層を形成するバインダの屈折率と０．０３以上異なる屈折率を有し、膜厚の２分の１よりも大きい粒径の粒子が、該粒子全体の４０乃至１００％を占める散乱性防眩性粒子を用いることができる。前述の通り、この粒子は内部散乱を発生させると共に表面に凹凸を形成して防眩性を付与するためのものであり、この条件を満たしていれば特に限定されない。散乱性防眩性粒子としては、例えばポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の樹脂粒子、またはＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＩＴＯ、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、アルミノシリケート等の無機粒子が挙げられる。粒子は水及び有機溶剤に不溶のものが好ましい。防眩層に添加する散乱性防眩性粒子は、内部散乱及び表面凹凸をコントロールするために２種類以上の粒子を組み合わせて用いても構わない。
【００２９】
低屈折率層に用いる化合物としては、屈折率が１．３８乃至１．４９の化合物であり、含フッ素化合物が好ましい。防汚性及び耐傷性の観点から動摩擦係数０．０３乃至０．１５、水に対する接触角９０乃至１２０°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素化合物がより好ましい。塗布性や膜硬度等を調節するために、他の化合物と併用してもよい。架橋性含フッ素化合物としては、含フッ素モノマーや架橋性含フッ素ポリマーが挙げられるが、塗布性の観点から架橋性含フッ素ポリマーが好ましい。
【００３０】
架橋性の含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８及び特開平１０−１４７７３９に知られている。
【００３１】
また上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等の他、市販品としてはＪＮ−７２１９、ＪＮ−７２２１、ＪＮ−７２２５（いずれもＪＳＲ（株）製）を挙げることができる。
ＪＮ−７２１９、ＪＮ−７２２１及びＪＮ−７２２５は滑り性も有しており、低屈折率、滑り性、防汚性の両立の観点から、低屈折率層にはＪＮ−７２１９、ＪＮ−７２２１、ＪＮ−７２２５が好ましい。
【００３２】
反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【００３３】
反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反射防止膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。
【００３４】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３５】
【実施例】
（内部散乱層用塗布液の調製）
ＵＶ架橋性ハードコート材料（ＫＺ−７８７４、ＪＳＲ（株）製）をイソプロパノール６７３．３ｇ、メチルイソブチルケトン１４６．７ｇの混合溶媒に加えた。これを撹拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５０であった。
さらに平均粒径５０ｎｍの二酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、屈折率２．７、石原産業（株）製）４ｇを添加、攪拌して内部散乱層用塗布液を調製した。
【００３６】
（防眩層用塗布液Ａの調製）
ＵＶ架橋性ハードコート材料（ＫＺ−７８７４、ＪＳＲ（株）製）をイソプロパノール６７３．３ｇ、メチルイソブチルケトン１４６．７ｇの混合溶媒に加えた。これを撹拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５０であった。
さらに平均粒径５．０μの架橋アクリル粒子（ＭＸ−５００Ｈ、綜研化学（株）製）１．３ｇ、平均粒径３．０μの架橋アクリル粒子（ＭＸ−３００Ｈ、綜研化学（株）製）５ｇ及び平均粒径５０ｎｍの二酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、屈折率２．７、石原産業（株）製）４ｇを添加、攪拌して防眩層用塗布液Ａを調製した。
【００３７】
（防眩層用塗布液Ｂの調製）
シクロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケトン６１．３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しながら酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液（ＫＺ−７８８６Ａ、ＪＳＲ（株）製）２１７．０ｇ、を添加した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）５ｇ及び平均粒径５０ｎｍの二酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、屈折率２．７、石原産業（株）製）８ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液Ｂを調製した。
【００３８】
（表面防眩層用塗布液Ｃの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇ及び光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面防眩層用塗布液Ｃを調製した。
【００３９】
（防眩層用塗布液Ｄの調製）
ＵＶ架橋性ハードコート材料（ＫＺ−７８７４、ＪＳＲ（株）製）をイソプロパノール６７３．３ｇ、メチルイソブチルケトン１４６．７ｇの混合溶媒に加えた。これを撹拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５０であった。
さらに平均粒径５．０μの架橋アクリル粒子（ＳＸ−５０７、綜研化学（株）製）１０ｇを添加、攪拌して防眩層用塗布液Ｄを調製した。
【００４０】
（低屈折率層用塗布液Ａの調製）
屈折率１．４６の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２１、ＪＳＲ（株）製）２００ｇにメチルイソブチルケトンを２００ｇ添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【００４１】
［参考例１］
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記の防眩層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ３μｍの防眩層を形成した。防眩層膜厚の２分の１である１．５μｍより大きい粒径の粒子はＭＸ−５００Ｈ、ＭＸ−３００Ｈともほぼ１００％である。
【００４２】
［参考例２］
１８８μｍの厚さの下塗り付きポリエチレンテレフタレートフィルム（Ａ−４１００、東洋紡（株）製）に、上記の防眩層用塗布液Ｂをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１．５μｍの防眩層を形成した。防眩層膜厚の２分の１である０．７５μｍより大きい粒径の粒子ＳＸ−２００Ｈはほぼ１００％である。
【００４３】
［実施例３］
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記の内部散乱層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ３μｍの内部散乱層を形成した。その上に、上記の表面防眩層用塗布液Ｃをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１．５μｍの表面防眩層を形成した。表面防眩層の膜厚の２分の１である０．７５μｍより大きい粒径の粒子ＳＸ−２００Ｈはほぼ１００％である。その上に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。
【００４４】
［参考例４］
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記の防眩層用塗布液Ｄをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ５μｍの防眩層を形成した。防眩層の膜厚の２分の１である２．５μｍより大きい粒径の粒子ＳＸ−５０７はほぼ１００％である。その上に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０９６μｍの低屈折率層を形成した。
【００４５】
［比較例１］
二酸化チタン微粒子を添加しない他は、参考例１と同様にして比較例１を作成した。
【００４６】
［比較例２］
防眩層の厚みを５μｍにする他は、参考例２と同様にして比較例２を作成した。防眩層膜厚の２分の１である２．５μｍより大きい粒径の粒子ＳＸ−２００Ｈは１０％未満である。
【００４７】
［比較例３］
内部散乱層に二酸化チタン微粒子を添加しない他は、実施例３と同様にして比較例３を作成した。
【００４８】
（防眩性フィルムの評価）
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。
（１）ヘイズ
得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ  １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。ヘイズは散乱性粒子のみの場合のヘイズも併せて測定し、内部散乱起因ヘイズと表面散乱起因ヘイズに分離した。
（２）鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて
ｎ＝５の評価において傷が全く認められない    ：○
ｎ＝５の評価において傷が１または２つ        ：△
ｎ＝５の評価において傷が３つ以上            ：×
（３）平均反射率
防眩性反射防止フィルムについて、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。
（４）接触角、指紋付着性評価
防眩性反射防止フィルムについて、表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させてから、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。
指紋が完全に拭き取れる                      ：○
指紋がやや見える                            ：△
指紋がほとんど拭き取れない                  ：×
【００４９】
（５）動摩擦係数測定
防眩性反射防止フィルムについて、表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎにて測定した値を用いた。
（６）防眩性評価
作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない                ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる                ：○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる      ：△
蛍光灯がほとんどぼけない                    ：×
（７）ギラツキ評価
作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。
ほとんどギラツキが見られない                ：○
わずかにギラツキがある                      ：△
目で識別できるサイズのギラツキがある        ：×
表１に実施例及び比較例の結果を示す。
【００５０】
【表１】
0004376368.tif 000002
【００５１】
参考例４のヘイズの内訳は、防眩層膜厚を３０μｍにすることにより、表面凹凸をほとんど無くして内部散乱のみのヘイズとし、実際の膜厚５μｍに換算した。
【００５２】
次に、実施例３のフィルムを用いて防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作成したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。画素のギラツキもほとんど見られなかった。
【００５３】
【発明の効果】
本発明によれば、高精細画像表示装置に好適な防眩性フィルムを、簡便な方法で安定に製造することによって安価に供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）防眩性フィルムの代表的な層構成を示す断面図である。
（ｂ）防眩性フィルムの代表的な層構成を示す断面図である。
（ｃ）防眩性フィルムの代表的な層構成を示す断面図である。
【図２】防眩性反射防止フィルムの代表的な層構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１１  透明支持体
１２  防眩層
１２ａ  内部散乱層
１２ｂ  表面防眩層
１３  散乱性粒子
１４  防眩性粒子
１５  散乱性防眩性粒子
２１  低屈折率層
【図１】
0004376368.tif 000003
【図２】
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