(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の特性：
−  炭素含有率                              ＞３．１％、
−  メタノール湿潤性                        ＞６０％、
−  反射率                                  ＞９４％、
−  ＢＥＴ／ＣＴＡＢの比                    ＞１および＜３、
−  ＤＢＰ吸収量                            ＜２３０ｇ／１００ｇ、
−  ＢＥＴ表面積                            ５０〜１１０ｍ２／ｇ、
−  ＣＴＡＢ表面積                          ＞３０ｍ２／ｇ、
−  ３０℃および３０ＲＨにおける水蒸気吸収  ＜１．３、
−  ３０℃および７０ＲＨにおける水蒸気吸収  ＜１．７
を有する疎水性シリカ０．５〜６０質量％および式
ＺｎＳｉＲ３-ｎ−Ｏ−［ＳｉＲ２Ｏ］ｘ−ＳｉＲ３-ｎ−Ｚ‘ｎ
［式中、
Ｒ＝アルキル基、アセトキシ基、オキシム基、アルコキシ基、アミド基、アリール基、アルケニル基、これらは１〜５０個の炭素原子を有し、非置換であるか、もしくはＯ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉにより置換されており、そのつど同じであるか、もしくは異なっている、および／または５０〜１００００の繰り返し単位を有するポリスチレン基、ポリビニルアセテート基、ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基およびポリアクリルニトリル基であり、
Ｚ＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、アセトキシ基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、オキシム基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アクリルオキシ基またはホスフェート基であり、その際、有機基は２０個までの炭素原子を有していてもよく、そのつど同じか、もしくは異なっており、
Ｚ‘＝オキシム基、アルコキシ基、アミド基、アセトキシ基であり、
ｎ＝１〜３であり、
ｘ＝１００〜１５０００である］のオルガノポリシロキサン４０〜９９．５質量％を含有する室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項２】
シリコーンゴム調製物が付加的に式
Ｒ‘４-ｔＳｉＺ‘４
［式中、
Ｒ‘＝アルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、アミド基、オキシム基、アリール基、アルケニル基、これらは１〜５０個の炭素原子を有し、非置換であるか、もしくはＯ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉにより置換されており、そのつど同じであるか、もしくは異なっている、および／または５〜５０００の繰り返し単位を有するポリスチレン基、ポリビニルアセテート基、ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基およびポリアクリルニトリル基であり、
Ｚ‘＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、アセトキシ基、オキシム基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基またはホスフェート基であり、その際、有機基は２０個までの炭素原子を有していてもよく、そのつど同じか、もしくは異なっており、
ｔ＝３または４である］の架橋剤０．５〜２０質量％を含有する、請求項１記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項３】
疎水性シリカが沈降シリカから製造されており、かつシリコーンゴム調製物が付加的に熱分解法シリカを０．０１〜１２質量％含有する、請求項１または２記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項４】
シリコーンゴム調製物がさらに、官能化されていないポリシロキサンを０．０１〜９９．５質量％含有する、請求項１から３までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項５】
シリコーンゴム調製物が付加的に１種もしくは複数の水結合剤を０．１〜２０質量％含有する、請求項１から４までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項６】
オルガノポリシロキサンが最大で５０００００ｃＰの粘度を有する、請求項１から５までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項７】
疎水性シリカが１．６未満の修正シアーズ数を有する、請求項１から６までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項８】
疎水性シリカが５．０〜９．０のｐＨ値を有する、請求項１から７までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項９】
疎水性シリカが２％未満の含水率を有する、請求項１から８までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項１０】
疎水性シリカが５００μＳ未満の導電率を有する、請求項１から９までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項１１】
疎水性シリカが３％より大の強熱減量を有する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項１２】
疎水性シリカが疎水性の沈降シリカである、請求項１から１１までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項１３】
シリコーンゴム調製物が付加的に、触媒として金属Ｐｔ、Ｓｎ、Ｔｉおよび／またはＺｎの有機もしくは無機化合物を０．０１〜６質量％および／または防止剤０．０１〜６質量％および／または接着性付与剤を０．０１〜６質量％および／または殺カビ剤および／または殺菌剤を０．０１〜６質量％含有する、請求項１から４までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）。
【請求項１４】
ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンシーラントとしての請求項１から１２までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）の使用。
【請求項１５】
シリコーンシーラントが自己均展性ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンシーラントである、請求項１３記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）の使用。
【請求項１６】
目地剤、窓シーラント、自動車におけるシーリング剤、耐熱性シーリング剤、油浸出性シーリング剤および耐薬品性シーリング剤、耐湿性シーリング剤としての請求項１から１２までのいずれか１項記載の室温加硫型一成分シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコーンゴム加硫物中で高い補強作用において、極めて低い吸水率、高い白色度および正確に調整することができ、貯蔵安定性であるレオロジー特性を有する、疎水性シリカを含有する室温加硫型および湿分架橋型一成分系シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）に関する。
【０００２】
【従来の技術】
シリコーンゴム調製物においてシリカ、特に疎水化された沈降シリカを使用することは公知であり、かつたとえばＤＥ２７２９２４４およびＤＥ２６２８９７５に記載されている。
【０００３】
ＤＥ２６２８９７５およびＤＥ２７２９２４４には、疎水性シリカの製造が記載されており、ここでは吸水率の低い親水性沈降シリカをシリコーン油もしくはジメチルジクロロシランと反応させている。ＤＥ２６２８９７５に記載の方法では、乾燥した沈降シリカに疎水化剤（シリコーン油）を添加することにより反応を行っており、ＤＥ２７２９２４４による方法では、疎水化剤（ジメチルジクロロシラン）を直接、沈降シリカ懸濁液に添加している。いずれの場合でも疎水化工程の後に、高めた温度、つまり２００〜４００℃で熱処理を行う。
【０００４】
この方法における欠点は、こうして疎水化した沈降シリカが、必要とされる工程温度で変色することである。シリカの変色は、シリコーン調製物に添加する際に、つまりこの疎水性沈降シリカをシリコーンゴム調製物またはシリコーン油ベースの消泡剤混合物に添加する際に特に妨げとなることが認められる。
【０００５】
変色の度合いとしていわゆる反射率を利用することができる。反射率測定の際、試料の拡散反射率を検査する。試料の拡散反射率が高いほど、該試料の反射率ひいては白色度は高い。
【０００６】
沈降シリカは通常、最大で９７％の反射率を有する。従って、疎水性シリカを含有し、高い反射率を有するＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物を製造することが所望される。
【０００７】
シリカを疎水化する際、特にシリカを著しく疎水化する際に、つまりシリカが高いメタノール湿潤性および高い炭素負荷率を有する場合に変色が生じる。しかしまさにこの特性がＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物では所望されている。
【０００８】
ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物は、その機械的特性を完全に形成するために、活性な補強充填剤を必要とする。その際、現時点ではもっぱら高分散性の熱分解法シリカが使用されている。補強充填剤は加硫物中で良好な機械的特性をもたらし、かつ調整されるレオロジー特性は比較的長い貯蔵時間の後でもなお安定したままでなくてはならない。
【０００９】
ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物は室温で加工される。空気湿分硬化型シリコーンゴム調製物の場合、充填剤の含水率が高すぎることは、貯蔵の間の不所望の硬化および品質の劣った加硫物の表面につながる。従って吸水特性、つまり異なった相対的空気湿度において吸着される水の量は、充填剤の工程能力の尺度である。
【００１０】
シリカを疎水化する公知の方法の欠点は、この場合、限定された量の疎水化剤のみをシリカに共有結合させることができるにすぎないことである。しかしＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物中ではまさに高い炭素負荷率が所望される。というのも、このことによりシリカの加工性もしくは分散性ならびにコンパウンドのレオロジー特性、たとえば増粘、つまり所望の降伏価および粘度を調整し、かつ決定的に改善することができるからである。
【００１１】
増粘の尺度としていわゆるＤＢＰ数を利用することができる。ＤＢＰ数はシリカのＤＢＰ吸収能を示す。測定法が示すものは、試料１００ｇに対して何グラムのジブチルフタレートの場合、ニーダー中の飛躍的な力の上昇が観察されるかである。
【００１２】
公知の疎水性沈降シリカの増粘作用はおそらく、３．１％を下回るその低い炭素含有率および／または不均一な疎水化に起因する。このことによりシリコーンゴム調製物中の充填剤としてのシリカの最大で可能な割合が低減する。ＤＥ２６２８９７５には、シリコーンゴム調製物中有の疎水性沈降シリカを試験するためのデータが記載されており、この中で疎水性沈降シリカはシリコーンゴム調製物中で増大する質量割合で使用されている。全ての表において、シリコーンゴム加硫物の機械的特性は充填剤含有率の増大と共に改善されることが認識される。
【００１３】
機械的特性を改善するために疎水性シリカの高い割合を有するが、しかし同時になお流動性であり、ならびに良好な貯蔵安定性を有するＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物を製造することが所望される。
【００１４】
【特許文献１】
ＤＥ２７２９２４４
【特許文献２】
ＤＥ２６２８９７５
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の課題は、充填剤、たとえば疎水性シリカの高い割合、高い反射率、高い白色度および調整可能な機械的特性およびレオロジー特性を貯蔵安定性と共に有するＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記課題は本発明により、低い含水率および低い吸湿性を有する疎水性シリカを使用することにより解決されることが判明した。
【００１７】
従って本発明の対象は、次の特性：
−  炭素含有率                              ＞３．１％、
−  メタノール湿潤性                        ＞６０％、
−  反射率                                  ＞９４％、
−  ＢＥＴ／ＣＴＡＢの比                    ＞１および＜３、
−  ＤＢＰ吸収量                            ＜２３０ｇ／１００ｇ、
−  ＢＥＴ表面積                            ５０〜１１０ｍ２／ｇ、
−  ＣＴＡＢ表面積                          ＞３０ｍ２／ｇ、
−  ３０℃および３０ＲＨにおける水蒸気吸収  ＜１．３、
−  ３０℃および７０ＲＨにおける水蒸気吸収  ＜１．７
を有する疎水性シリカを０．５〜６０質量％および式
ＺｎＳｉＲ３-ｎ−Ｏ−［ＳｉＲ２Ｏ］ｘ−ＳｉＲ３-ｎ−Ｚ‘ｎ
［式中、
Ｒ＝アルキル基、アセトキシ基、オキシム基、アルコキシ基、アミド基、アリール基、アルケニル基、これらは１〜５０個の炭素原子を有し、非置換であるか、もしくはＯ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉにより置換されており、そのつど同じであるか、もしくは異なっている、および／または５０〜１００００の繰り返し単位を有するポリスチレン基、ポリビニルアセテート基、ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基およびポリアクリルニトリル基であり、
Ｚ＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、アセトキシ基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、オキシム基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アクリルオキシ基またはホスフェート基であり、その際、有機基は２０個までの炭素原子を有していてもよく、そのつど同じか、もしくは異なっており、
Ｚ‘＝オキシム基、アルコキシ基、アミド基、アセトキシ基であり、
ｎ＝１〜３であり、
ｘ＝１００〜１５０００、有利には１００〜１１０００、特に有利には１００〜８０００である］のオルガノポリシロキサンを４０〜９９．５質量％含有する、室温加硫型の一成分系シリコーンゴム調製物（ＲＴＶ−１Ｋ）である。
【００１８】
使用される疎水性シリカは熱分解法シリカもしくは沈降シリカであってもよい。重要なことは、使用されるシリカが次の物理化学的データを有していることである：
−  炭素含有率                              ≧３．１％、有利には≧５％、特に有利には３．１〜１０％もしくは４〜７％、
−  メタノール湿潤性                        ≧６０％、有利には６５％以上、特に有利には７０％もしくは７５％以上、
−  反射率                                  ≧９４％、有利には＞９５％、特に有利には９６％以上
−  ＢＥＴ／ＣＴＡＢの比                    ＞１および＜３、
−  ＤＢＰ吸収量                            ５０〜２３０ｇ／１００ｇ、
−  ＢＥＴ表面積                            ５０〜１１０ｍ２／ｇ、
−  ＣＴＡＢ表面積                          ３０〜１１０ｍ２／ｇ。
【００１９】
前記の有利な範囲は相互に無関係に調整することができる。
【００２０】
使用される疎水性シリカはさらに、そのつど相互に無関係に次の特性によって特徴付けられていてもよい：
−  修正シアーズ数  ＜１．６、
(modifizierter Searszahl)
−  ｐＨ値          ５．０〜９．０、有利には７．０〜８．５、
−  含水率          ＜２％、有利には＜１．５％、
−  導電率          ＜５００μＳ、有利には１５０μＳ、
−  強熱減量        ＞３％。
【００２１】
導電率は１００、６０、３０もしくは２０μＳを下回っていてもよい。
【００２２】
たとえば沈降の後、濾過により得られるフィルターケーキを硫酸で酸性にすることによりｐＨ７．０以下を有するシリカが得られる。
【００２３】
有利には、次の工程により製造される疎水性沈降シリカを使用する：
ａ）オルガノポリシロキサン誘導体と沈降シリカとからなる混合物の製造、
ｂ）１０〜１５０℃で０．５〜７２時間のコンディショニング、
ｃ）酸化ガスを用いて３００℃を越える温度での酸化熱処理。
【００２４】
疎水化剤の良好な分散およびこうして製造した疎水性沈降シリカの疎水化の高い度合いによりＲＴＶ−１Ｋ−シリコーン調製物中で、加硫物の良好な機械的特性および光学特性と同時に、適切に調整可能な増粘が得られ、これは比較的長い貯蔵によっても劣化しない。
【００２５】
疎水性シリカは有利にはオルガノポリシロキサン誘導体、たとえばポリジメチルシロキサンを用いて製造されるので、該シリカは熱処理後に有機基としてもっぱらメチル基のみを有しており、このことは極めて高い熱負荷率（空気の供給下で＞３００℃でも変色が生じない）を伴う。この疎水性シリカを製造するために有利には低いシラノール基密度を有するシリカを使用する。シラノール基の量の尺度として修正シアーズ数、つまり酸塩基滴定のアルカリ消費量を利用する。シラノール基密度のための尺度として、以下に定義される、修正シアーズ数をＢＥＴ表面積と関連させて使用する。
【００２６】
シリカの熱処理の際に適用される反応条件は炭化を生じることなく、ひいては変色をほとんど生じない。従って親水性のベースシリカが有機不純物を有していないことが重要である。というのもさもないと、熱処理の間に変色が生じる可能性があるからである。熱処理により生じる、プロセス条件下で気体状の分解生成物は、酸化雰囲気中でもある程度の変色を生じる可能性があるので、この分解生成物を十分なガス装入量により生成物から除去することが重要である。
【００２７】
有利に３０〜１００ｍＰａｓの液状のポリシロキサン、有利にはジメチルシロキサンを使用することにより、ベースシリカ上での最適な分散が可能になる。酸化性の反応条件下で、使用されるポリジメチルシロキサンは樹脂化することができる。このことは、疎水化剤が液状の形でシリカ上に分散し、かつ次いで固定されうるという大きな利点を有する。酸化熱処理により、結合される炭素の量を著しく高めることができる。
【００２８】
有利に使用されるシリカは、急勾配のメタノール湿潤性曲線を示す、つまり均質な疎水化が実施される（図１）。図２は、通常の疎水性シリカのメタノール湿潤性を示している。
【００２９】
高い炭素負荷および高いメタノール湿潤性は、本発明によるシリコーンゴム調製物中のシリカの特性を決定的に改善する。吸湿性をさらに低減することによりＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物中での使用が可能となるので、本発明による調製物の十分な導電率が得られる。著しく炭素を含有する疎水性のシリカは、本発明によるシリコーンゴム調製物中で、実質的に改善されたレオロジー特性を有する。つまりシリカの充填度に依存してごくわずかな増粘が生じるのみである。このわずかな増粘作用により、易流動性のシリコーンゴム調製物を製造することが可能である。本発明によるＲＴＶ−１Ｋ−調製物のレオロジー特性は、沈降シリカから製造された疎水性シリカを使用する際に、熱分解法シリカの添加により改善することができる。この場合、有利には０．０１〜１２、特に有利には０．０５〜４質量％の熱分解法シリカを使用する。
【００３０】
熱分解法シリカとして親水性シリカ（たとえばエアロジル３００、Degussa社）または疎水性シリカ（たとえばエアロジルＲ８１２Ｓ、Degussa社）を使用することができる。さらに比較的高い充填度は、加硫物の明らかに改善された機械的特性につながる。
【００３１】
疎水性沈降シリカの製造は、３工程で行うことができる：
−  まず、シリカ表面上での液状のポリシロキサン誘導体の物理的な前分散（方法工程ａ））。前分散を水性媒体中、つまり７０％を上回る含水率を有するシリカの懸濁液中で実施すると、一般に安定性ではない。従ってこれは前分散後に、迅速に濾別し、および／または短時間乾燥させる（たとえばスピンフラッシュ乾燥機、ノズル塔乾燥機）ことにより実施しなくてはならない。このことはシリカ上でのオルガノポリシロキサン滴の分散の維持につながり、かつ水、シリコーン油およびシリカへの分離を防止する。
【００３２】
−  引き続き適切なコンディショニング工程である方法工程ｂ）により、疎水化剤の分散がさらに改善され、かつシリカ表面上にポリシロキサン誘導体が固定される。分散は水性媒体中でも安定している。方法工程ｂ）の後、ポリシロキサン誘導体はもはやシリカから分離しない。こうしてコンディショニングを行ったシリカを３．１以上の炭素含有率で無段階に５５％までのメタノール湿潤性に調整することができる。ＢＥＴ／ＣＴＡＢ−比は、この方法工程の後、１未満である。シリカへのポリシロキサンの結合はおそらく、ポリシロキサン分子のシロキサン橋とシリカ表面のシラノール基との間で複数の水素橋かけ結合が形成されることにより行われる。
【００３３】
−  引き続き酸化性の雰囲気中で熱処理（方法工程ｃ））を行い、該処理により変色現象が抑制され、疎水化剤の共有結合が生じ、かつ、おそらく気体状の分解生成物が発生することにより、疎水化剤の分散がさらに向上する。熱処理したシリカは、相応する、コンディショニングを行ったシリカよりも低い炭素含有率でより高いメタノール湿潤性を有する。酸化雰囲気下での熱処理は、ポリシロキサンの樹脂化を促進するので、シリカ上に明らかにより大量の疎水化剤を共有結合させることができる。ＢＥＴ／ＣＴＡＢ−比は逆転し、今度は１より大である。
【００３４】
オルガノポリシロキサン誘導体として、沈降シリカの疎水化のために通常使用される全てのオルガノシランもしくはオルガノハロシランを使用することができる。
【００３５】
疎水性シリカを製造するための方法の方法工程ａ）は、次の変法により実施することができる：
−  含水率１〜８０質量％、有利には２０〜６０質量％を有する沈降シリカへのオルガノポリシロキサン誘導体の添加、
−  沈降シリカの分散液へのオルガノポリシロキサン誘導体の添加、つまりケイ酸塩の沈降を行った後に酸をたとえばライン−ヒュッテ−ミキサー(Rhein-Huette-Mischer)またはコトフ−ミキサー(Kothof-Mischer)またはウルトラ−ツラックス(Ultra-Turrax)により添加する。このことは反応後の迅速な濾過もしくは短時間の乾燥を必要とする。
【００３６】
−  含水率７０〜９９質量％を有する沈降シリカへのオルガノポリシロキサン誘導体の添加、引き続き水からの固体の分離。分離は濾過、ノズル塔、スピンフラッシュもしくはその他の短時間の乾燥により行うことができる。含水率が高いほど、分離を迅速に実施すべきである。シリカとポリシロキサンとの分離は回避しなくてはならない。
【００３７】
−  スピンフラッシュ乾燥機への、沈降シリカもしくは含水シリカ（たとえばフィルターケーキ、分散液もしくは懸濁液の形で）と、オルガノポリシロキサン誘導体との同時供給。
【００３８】
−  乾燥した沈降シリカとポリシロキサンとの、たとえばゲーリッケ−ミキサー(Gericke-Mischer)中での混合。
【００３９】
あるいはまず、方法工程ａ）およびｂ）により得られるマスターバッチ、つまりコンディショニングした沈降シリカを製造し、かつ（親水性）もしくは含水沈降シリカ（たとえばフィルターケーキ、シリカ懸濁液もしくは分散液）と混合してもよい。
【００４０】
親水性沈降シリカの含水率はすでに記載した範囲で変動することができる。
【００４１】
ベースシリカはたとえば質量比１：１〜１：３でシリコーン油、たとえばDOW  CORNING  （Ｒ）  ２００  FLUID  ５０  CS（ジメチルポリシロキサン５０ｍＰａｓ、トリメチルシリル基を末端に有する。炭素含有率約３３％）により被覆されていてもよい（工程ａ）。こうして得られた粉末をたとえば１００℃を越える温度で半時間、コンディショニングする。この場合、コンディショニング（工程ｂ）は、水で濡れることができる（メタノール湿潤性＜２０、メタノール湿潤性の定義に関しては測定法を参照のこと）が、しかし水中へ導入したときにシリカとシリコーン油とがもはや相互に分離しない材料が生じるまで実施する（工程ｂ）の後に直接、工程ｃ）が続く場合、メタノール湿潤性は＞２０が有利である）。このマスターバッチ（たとえばシリカ５０質量％およびシリコーン油５０質量％）を水性シリカ分散液もしくはシリカ懸濁液と混合することにより安定した混合物が生じ、その際、シリコーン油はもはやシリカから分離しない。全混合物は一般にシリコーン油１質量部、シリカ約４〜８質量部および水２０〜６０質量部を含有する。このような懸濁液を製造するためにたとえばマスターバッチ（たとえばシリカ５０％およびシリコーン油５０％）を、約１０〜１６倍量のフィルターケーキ（固体含有率約２０％）および約１０〜２０倍量の付加的な水と強力に混合することができる。この方法の利点は、水で湿潤可能なマスターバッチ（疎水性オルガノポリシロキサンを７５％まで含有している！）を直接、シリカ沈降懸濁液もしくはシリカ供給流に極めて微細かつ安定に分散させることができ、その際、乳化剤もしくは界面活性剤を使用する必要がない。該混合物の乾燥または濾過および引き続き乾燥の後、こうして得られたオルガノポリシロキサン含有のシリカをあらためてコンディショニングすることができる（工程ｂ）。
【００４２】
これらの工程は単独で、場合により先行する粉砕と共に実施することができる。しかし粉砕は被覆ａ）の前に実施すべきではない。複数の、つまり同じか、または異なったこれらの変法を連続して実施することも可能である。次の方法の実施態様が考えられる：
−  方法工程ａ）、ｂ）およびｃ）の１つを数回（２〜５回）連続的に実施する。
【００４３】
−  方法工程ａ）およびｂ）を数回（２〜５回）連続的に実施する。
【００４４】
−  全ての方法工程ａ）、ｂ）およびｃ）を数回（２〜５回）連続的に実施する、つまりプロセスを数回実施する。
【００４５】
方法工程ｂ）は、有利には１００〜１５０℃で０．５〜２時間の熱処理により実施する。コンディショニングの後、メタノール湿潤性２０％以上を有する部分的に疎水化されたシリカが存在していてもよい。基本的に湿式疎水化および乾式疎水化を区別することができる。
【００４６】
湿式疎水化とは、ケイ酸塩エダクトが水性のシリカ懸濁液、シリカ供給流または著しく水を含んだシリカのフィルターケーキであることを意味し、これらを、たとえばＤＥ２７２９２４４にオルガノハロゲンシランを含有する沈降懸濁液に関して記載されているように、相応する疎水化剤で被覆する。
【００４７】
乾式疎水化はケイ酸塩エダクトが１〜７５％までの異なった含水率を有するシリカ粉末であり、これを相応する疎水化剤で被覆することを意味する。この方法はたとえばＤＥ２６２８９７５に記載されている。
【００４８】
本発明によるシリカを製造するために、オルガノポリシロキサン誘導体を使用する。しかし、選択された反応条件下でオルガノポリシロキサンへと反応するその他のケイ素化合物を使用することもできる（たとえば水性の環境でのジクロロジメチルシラン）。
【００４９】
疎水化反応試薬として、たとえば組成Ｒ４-ｎＳｉＸｎ（ｎ＝１、２、３）、［ＳｉＲｘＸｙＯ］ｚ（０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、３≦ｚ≦１０、ただしｘ＋ｙ＝２）、［ＳｉＲｘＸｙＮ］ｚ（０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、３≦ｚ≦１０、ただしｘ＋ｙ＝２）、ＳｉＲｎＸｍＯＳｉＲｏＸｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、ただしｎ＋ｍ＝３、ｏ＋ｐ＝３）、ＳｉＲｎＸｍＮＳｉＲｏＸｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、ただしｎ＋ｍ＝３、ｏ＋ｐ＝３）、ＳｉＲｎＸｍ［ＳｉＲｘＸｙＯ］ｚＳｉＲｏＸｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、１≦ｚ≦１００００、ただしｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ＋ｐ＝３）を有するオルガノポリシロキサン誘導体またはこれらの前駆物質を使用する。これらの化合物は直鎖状、環式および分枝鎖状のシラン、シラザンおよびシロキサン化合物であってもよい。Ｒはアルキル基および／またはアリール基であってもよく、これらは官能基、たとえばヒドロキシ基、アミノ基、ポリエーテル、たとえばエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシドおよびハロゲン化物基、たとえばフッ化物、塩化物、臭化物もしくはヨウ化物により置換されていてもよい。Ｒはヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン化物基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基のような基および硫黄含有の基を有していてもよい。Ｘは反応性の基、たとえばシラノール基、アミノ基、メルカプト基、ハロゲン化物基、アルコキシ基、アルケニル基および水素化物基であってもよい。
【００５０】
有利には組成ＳｉＲｎＸｍ［ＳｉＲｘＸｙＯ］ｚＳｉＲｏＸｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦３、０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦３、１≦ｚ≦１００００、ただしｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ＋ｐ＝３）の直鎖状ポリシロキサンを使用し、その際、Ｒは有利にはメチルを表す。
【００５１】
特に有利には組成ＳｉＲｎＸｍ［ＳｉＲｘＸｙＯ］ｚＳｉＲｏＸｐ（０≦ｎ≦３、０≦ｍ≦１、０≦ｘ≦２、０≦ｙ≦０．２、０≦ｏ≦３、０≦ｐ≦１、１≦ｚ≦１０００、ただしｎ＋ｍ＝３、ｘ＋ｙ＝２、ｏ＋ｐ＝３）のポリシロキサンを使用し、その際、Ｒは有利にはメチルを表す。
【００５２】
あるいはまた上記の方法では、官能基を有していない難揮発性のポリシロキサンを使用することもできる。
【００５３】
特定の官能基が、使用されるポリシロキサン中に存在することにより、塩もしくは低分子の物質、たとえばＮＨ３、アミン、アルコールなどが生じることがあり、これらは妨げとなる不純物につながりうる。この場合、重要な例外はシラノール官能化されたポリシロキサンであり、というのも、この場合、不純物として水が生じるのみであり、水は選択される方法条件下で除去することができるからである。
【００５４】
有利には疎水化剤はメチル末端のポリジメチルシロキサン、特に粘度３０〜１００ｍＰａｓ、有利には４０〜６０ｍＰａｓを有するポリジメチルシロキサンである。適切なポリシロキサン油はたとえばDOW  CORNING  （Ｒ）  ２００  FLUID  ５０  CSである。
【００５５】
前記の疎水化剤は難揮発性化合物であるので、疎水化剤をシリカ表面に前分散させるために、毛管力および液−固の界面における拡散プロセスは重要な役割を果たす。
【００５６】
熱処理の過程で有利に使用される疎水化剤が特定の揮発性を有している場合でも、液−固の分散は重要である。この理由からここでは物理的な前分散、コンディショニングおよび熱処理を区別する。
【００５７】
熱処理、つまり方法工程ｃ）は少なくとも３００℃、有利には３５０℃を越える温度で、殊に有利には３６０〜３７０℃で酸化ガスを用いて実施する。酸化ガスは空気、Ｃｌ２、ＮＯｘ（ＮＯ２、Ｎ２Ｏ５、ＮＯ、Ｎ２Ｏ）、Ｏ３、Ｏ２、Ｂｒ２、Ｆ２またはこれらのガスと、別の不活性ガス、たとえばＣＯ２、Ｎ２または燃焼排ガスの、そのつど有利には１体積％以上との混合物であってもよい。
【００５８】
酸化ガスは場合によりさらに８０体積％まで、有利には５０体積％まで、特に有利には２０〜４０体積％の水を含有していてもよい。
【００５９】
いずれの場合でもガスの良好な装入量に注意すべきである；ガスはできる限り、それぞれのシリカ粒子に到達しなくてはならない。このためにたとえば金網反応器(Metallgitterofen)、流動チャンバまたはバンド型反応器が適切である。方法工程ｃ）における酸化熱処理は流体条件下でも実施することができる。この条件は流動床、移動床、乱流床および／または噴流床で調整することができる。
【００６０】
場合により疎水化されたシリカをコンディショニング工程もしくは熱処理の後に粉砕する。しかし被覆工程ａ）の前の粉砕は適切ではなく、かつ不均一な疎水化を伴う品質の劣った生成物につながる。
【００６１】
任意の粉砕の後に、８〜２５μｍ、有利には８〜１５μｍのｄ４．３を有するシリカが得られる。
【００６２】
本発明によるＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム混合物にとって、シリカ上に酸素の影響下で変色する可能性のある有機成分が存在しないことが重要である。メチル、フェニル、フッ化炭素またはフッ化炭化水素のみを有機基として有する有機ケイ素化合物は、雰囲気酸素の存在下でも極めて温度安定性である。しかしシロキサン化合物の安定したシロキサン橋を効果的に分離し、かつシリカと共有結合するために、３００℃を越える温度を必要とする。この高い温度の場合、シロキサン化合物は、特にシラノール基密度の低い沈降シリカの場合、通常、シリカ上での変色現象につながる。本発明によるシリコーンゴム調製物中で必要とされる疎水性シリカを製造するための前記の方法により、この変色を抑制することが可能になる。この変色現象は拡散反射に基づいた光学的な測定方法による反射率の測定により測定される。シリカの反射率が＞９４％の場合、シリカで充填したシリコーンゴムコンパウンドは純白に見える。シリカおよびシリコーンゴムの屈折率はほぼ同じなので、シリコーンゴム中のシリカ充填剤のごくわずかな不純物および変色でさえ明らかに見て取れる。９３％の反射率は、混入されていないシリカ粉末が観察者には純白に見えるとしても、すでに明らかに、裸眼で見ることができるシリコーンゴム中の変色につながる。
【００６３】
本発明による調製物はＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンシーラントとして、特に自己均展性シーラントとして、目地剤として、窓シーラント、自動車におけるシーリング剤、耐熱性シーリング剤、油浸出性(oelausschwitzende)シーリング剤、耐薬品性シーリング剤および耐湿性シーリング剤として使用することができる。
【００６４】
オルガノポリシロキサンとして、従来、室温で架橋して（ＲＴＶ）オルガノポリシロキサンエラストマーを生じる組成物のためのベースとして使用されていた、もしくは使用することができた全てのポリシロキサンを使用することができる。これらはたとえば一般式
ＺｎＳｉＲ３-ｎ−Ｏ−［ＳｉＲ２Ｏ］ｘ−ＳｉＲ３-ｎ−Ｚ‘ｎ
により記載することができ、その際、ｘ、Ｒ、Ｚ‘およびＺはすでに記載したものを表す。
【００６５】
上記の式中でシリコーン鎖中もしくは該鎖に沿って、多くの場合は不純物としてのみ存在するその他のシロキサン単位、たとえば式ＲＳｉＯ３／２、ＲＳｉＯ１／２およびＳｉＯ４／２（式中、Ｒはそのつど、このために上に記載したものを表す）もまたジオルガノシロキサン単位として存在していてもよい。これらのその他のシロキサン単位の量は１０モル％を越えるべきではない。
【００６６】
アルキル基を表すＲの例は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基およびオクチル基である。アルケニル基としてビニル基、アリル基、エチルアリル基およびブタジエニル基およびアリール基としてフェニル基およびトリル基を使用することができる。
【００６７】
置換された炭化水素基Ｒのための例は特にハロゲン化した炭化水素基、たとえば３，３，３−トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基およびブロモトリル基、およびシアンアルキル基、たとえばβ−シアンエチル基である。
【００６８】
基Ｒとしてのポリマーの例は、炭素を介してケイ素に結合したポリスチレン基、ポリビニルアセテート基、ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基およびポリアクリルニトリル基である。
【００６９】
有利には基Ｒの主要な部は容易な入手性に基づいてメチル基からなる。残りの基Ｒは、特にビニル基および／またはフェニル基である。
【００７０】
特に水の遮断下で貯蔵可能であり、水が作用した際に室温でエラストマーへと硬化する調製物が存在する場合、ＺおよびＺ‘は加水分解可能な基である。このような基の例はアセトキシ基、アミノ基、アミノオキシ基、アルケニルオキシ基（たとえばＨ２Ｃ＝（ＣＨ３ＣＯ−）、アシルオキシ基およびホスフェート基である。特に容易な入手性に基づいて、Ｚとしてアシルオキシ基、特にアセトキシ基が有利である。しかしたとえばオキシム基、たとえば式
−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）の基をＺとして用いても優れた結果が得られる。
【００７１】
加水分解可能な原子Ｚのための例はハロゲン原子および水素原子であり、アルケニル基Ｚのための例は特にビニル基である。
【００７２】
本発明の範囲で使用されるオルガノポリシロキサンの粘度は２５℃で５０００００ｃＰを、有利には２５℃で１５００００ｃＰを越えるべきではない。相応して値ｘは有利には４００００を越えるべきではない。
【００７３】
使用可能なオルガノポリシロキサンのための例は、たとえばＧＥ  Bayer  silicones社のシリコーンポリマーＥ５０（α，ω−ヒドロキシジメチルシロキシポリジメチルシロキサン）またはＭ５０（α，ω−ヒドロキシジメチルシロキシポリジメチルシロキサン）である。
【００７４】
種々のオルガノポリシロキサンからなる混合物を使用することもできる。
【００７５】
これらのオルガノポリシロキサンと疎水性シリカおよび場合により本発明による調製物の別の成分との混合は、任意で公知の方法により、たとえば機械的な混合装置中で行うことができる。これは混合成分の添加を実施する順序と関係なく迅速かつ容易に実施する。
【００７６】
有利には本発明による使用されるシリカを、エラストマーへと硬化可能な組成物の全質量に対して０．５〜６０質量％、有利には３〜３０質量％の量で使用する。
【００７７】
反応性の末端の単位を有するジオルガノポリシロキサン中で唯一の反応性末端単位としてＳｉ結合ヒドロキシ基を有する単位が存在する場合、これらのジオルガノポリシロキサンを架橋しなくてはならない。このことは自体公知の方法で、空気中に含有されている水により、場合によりさらに水を添加して架橋剤を用いて行うことができる。この場合、たとえばＧＥ  Bayer  Silicones社のSilopren-架橋剤３０３４、エチルトリアセトキシシランを場合により縮合触媒の存在下に公知の方法で使用することができる。全ての本発明による調製物のために適切な触媒はたとえばSilopren触媒ＤＢＴＡまたは同じ製造元の１６２タイプ（ジブチルスズジアセテート）である。
【００７８】
本発明によるシリコーン調製物の特別な変法では、さらに式
Ｒ‘４-ｔＳｉＺ‘４
［式中、
Ｒ‘＝アルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、オキシム基、アミド基、アリール基、アルケニル基、これらは１〜５０個の炭素原子を有し、非置換であるか、またはＯ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉにより置換されており、そのつど同じか、もしくは異なり、および／または５〜５０００の繰り返し単位を有するポリスチレン基、ポリビニルアセテート基、ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基およびポリアクリルニトリル基であり、
Ｚ‘＝ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、アセトキシ基、オキシム基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基またはホスフェート基であり、その際、有機基は２０個までの炭素原子を有していてもよく、そのつど同じか、もしくは異なり、
ｔ＝３または４である］の架橋剤０．５〜２０質量％、有利には２〜１０質量％が含有されていてもよい。全ての質量の記載はシリコーン調製物の全量に対する。
【００７９】
上記の式のシランの例は、エチルトリアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、イソプロピルトリアセトキシシラン、イソプロポキシトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリスジエチルアミノオキシシラン、メチルトリス（−シクロヘキシルアミノ）−シラン、メチルトリス−（ジエチルホスファト）−シランおよびメチルトリス（−メチルエチルケトキシム）−シランである。
【００８０】
疎水性沈降シリカの物理化学的な物質データの前記の組合せは、優れた補強充填剤につながる。公知の沈降シリカに対して明らかに低下した平衡含水率は、加工の際に、たとえば分散の際に利点をもたらす。最適に調整されるｐＨ値および低いＤＢＰ数は、著しく短縮された配合時間につながる。低い電解質含量は低い含水率と組み合わせて、最終的に加硫物の良好な電気的特性につながる。室温硬化型シリコーンゴムシーラント中で、使用される疎水性沈降シリカは、そのわずかな含水率に基づいて、硬化していない組成物の貯蔵性に関する利点を示す。よりわずかな含水率は、加硫物のより良好な化学的貯蔵安定性にもつながる。
【００８１】
本発明による調製物はオルガノポリシロキサン、疎水性シリカ、架橋剤および架橋触媒以外に、場合により従来、多くの場合、もしくはしばしば、エラストマーへと硬化可能な組成物中で使用される充填剤を含有していてもよいことは自明である。このような物質の例は、５０ｍ２／ｇ未満の表面積を有する充填剤、たとえば石英粉末、カオリン、層状ケイ酸塩、粘土鉱物、ケイ藻土、さらにケイ酸ジルコニウムおよび炭酸カルシウム、さらに未処理の熱分解法により製造される二酸化ケイ素、有機樹脂、たとえばポリビニルクロリド粉末、オルガノポリシロキサン樹脂、繊維状の充填剤、たとえばアスベスト、ガラス繊維および有機顔料、可溶性の染料、香料、腐食防止剤、硬化を遅延させる薬剤、たとえばベンゾトリアゾールおよび可塑剤、たとえばトリメチルシロキシ基により末端ブロックされたジメチルポリシロキサンである。
【００８２】
場合により本発明によるＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物は、水を結合する物質を（調製物の全量に対して）０．１〜２０質量％、有利には０．１〜１５質量％、特に有利には０．１〜１０質量％含有していてもよい。このために適切な物質は、たとえばカルボン酸無水物、たとえば無水酢酸もしくは無水マレイン酸、および／または炭酸エステル、たとえばジエチルカーボネート、エチレンカーボネートおよび／またはアルケニルオキシ化合物および／またはケタール、たとえばジメチルジオキソランである。１種もしくは複数のこれらの物質を使用することが可能である。
【００８３】
さらにシリコーン調製物は官能化されていないポリシロキサンを０．０１〜９９．５質量％含有していてもよい。この場合、官能化されていない限り、すでに記載したポリシロキサンを使用することができる。適切な、官能化されていないポリシロキサンは、たとえばＧＥ−Bayer  Silicones社のBaysilineオイルＭ１０００（ポリジメチルシロキサン）である。
【００８４】
さらにシリコーンゴム調製物は、触媒として金属Ｐｔ、Ｓｎ、Ｔｉおよび／またはＺｎの有機もしくは無機化合物を０．０１〜６質量％および／または防止剤０．０１〜６質量％および／または安定化剤（たとえばGE  Bayer  Silicones社のＴＰ３５５６）０．０１〜６質量％および／または殺カビ剤および／または殺菌剤０．０１〜６質量％および／または接着性付与剤（たとえばＧＥ−Bayer  Silicones社のSilopren-接着性付与剤３００１、次の組成を有する：ジ−ｔ−ブトキシ−ジアセトキシシラン）０．０１〜６質量％を含有してもいてもよい。
【００８５】
触媒として特にGE  Bayer  Silicones社のＤＢＴＡタイプまたは１６２タイプ（ジブチルスズジアセテート）またはジオクチルジスズラウレートまたはジ−ｎ−ブチルビス（アセチルアセトン）が適切である。
【００８６】
次の実施例は本発明を詳細に説明するが、しかしその範囲を制限するものではない。
【００８７】
【実施例】
ケイ酸塩エダクトとして有利には、極めて低いシラノール基密度を有する、つまり、アルカリ消費量／ＢＥＴ表面積の低い比率、ほぼ同じＢＥＴ表面積で比較的高いＣＴＡＢ表面積および高い白色度および純度を有する沈降シリカを使用する。
【００８８】
製造−ベースシリカ
反応容器中に水５０．０ｍ３を装入する。徐々に水ガラス溶液９．２ｍ３およびＨ２ＳＯ４  ０．９ｍ３を撹拌下で受け器に添加し、その際、混合物中で添加の間、アルカリ性のｐＨ値を維持する。水ガラスおよびＨ２ＳＯ４の添加の終了後に、得られる懸濁液のｐＨ値はアルカリ性の範囲である。懸濁液を酸性にし、濾別し、かつ脱イオン水で洗浄した。疎水性のベースシリカの乾燥は、有利に短時間乾燥により行うことができる。次のデータはこうして得られた、乾燥沈降シリカに関する。
【００８９】
ＢＥＴ表面積［ｍ２／ｇ］                 １５０〜１７０、
ＣＴＡＢ表面積［ｍ２／ｇ］               １５０〜１７０、
２ｈ／１０５℃で乾燥した物質の強熱減量  ３±０．５、
（ＤＩＮ５５９２１）［％］
ｐＨ値５％（メタノール水溶液）          ６〜７、
（ＤＩＮ５３２００）
導電率（５％の水性分散液）［μＳ］      ＜１００、
タップ密度                              ＞２５０ｇ／Ｌ、
シアーズ数                              ＜１３。
【００９０】
ベースシリカとポリシロキサンとの混合は特定の炭素含有率が得られるまで実施した。つまり混合比は要求される炭素含有率の調整に対する計算上の比率から生じる。
【００９１】
１．測定法
１．１  メタノール湿潤性
その表面が加水分解することができない有機基により変性されているシリカは多くの場合、水により濡れない。
【００９２】
しかしこれらの疎水性シリカはメタノール／水の混合物により濡らすことができる。この混合物におけるメタノールの割合は質量％で表され、変性されたシリカの疎水性のための尺度である。メタノール割合が高いほど、物質はより良好に疎水化されている。
【００９３】
測定の実施：
容量１５ｍｌの６つの遠心管中にそのつど疎水性シリカもしくはケイ酸塩２００ｍｇを秤量し、かつ遠心管のそれぞれにメタノールと水との混合物８ｍｌをメタノール濃度を上昇させながら添加した。混合物のメタノール濃度は予測されるメタノール湿潤性に合わせた。遠心管を密閉し、かつ次いで強力に振とうした（１０回の上下運動）。湿潤したシリカ−ケイ酸塩割合を分離するために、次いで遠心管を２５００ｒｐｍで５分、遠心分離した。湿潤した割合は沈殿物を形成し、その体積は遠心管の目盛により読みとる。沈殿物の体積をメタノール−水−混合物の濃度に対してグラフで記載した。この個々の測定点から曲線が得られ、その位置および勾配から試験した試料の疎水化度を特徴付けた。
【００９４】
装置：
精密はかり
遠心分離機
遠心管、目盛付き、
ディスペンサー(Dispensett)。
【００９５】
１．２  ＤＢＰ吸収量
沈降シリカの吸収性の尺度であるＤＢＰ吸収量（ＤＢＰ数）を次のとおりに測定した：
ジブチルフタレート数の測定はブラベンダーのプラストグラフにより行った。ＤＢＰ数は粉末状の生成物の液体の吸収能もしくは吸収力のための尺度である。吸収力は試験される材料の湿分、粒度および秤量に依存する。
【００９６】
装置および試薬
Metrohm  Dibutylphthalat社の記録装置Multi-Dosimat  Ｅ  ４１５（５０１）を有するブラベンダーのプラストグラフ。
【００９７】
実施
シリカ１２．５ｋｇをブラベンダー・プラストグラフの混練機に添加した。絶えず混合しながら（混練機の羽根の回転速度１２５ｒｐｍ）ジブチルフタレートを４ｍｌ／分の速度で混合物に流入させた。混合のためにはわずかな力を必要とするのみであった。測定の終了時に、該混合物は劣った流動性を示した。この事実は、目盛に示される力の必要量の上昇において明らかである。３００の目盛でＤＢＰ供給は自動的に停止された。
【００９８】
評価
ＤＢＰの密度は１．０４７ｇ／ｍｌであった。ＤＢＰ吸収量は無水の乾燥した物質に対する。高い含水率を有する沈降シリカを使用する場合、沈降シリカをＤＢＰ数の測定の前に乾燥させないときには補正表により値を補正すべきである。
【００９９】
【表１】
0004241065.tif 000002
【０１００】
含水率に対する補正値は実験的に測定されたＤＢＰ値に加算し、たとえば含水率５．８％はＤＢＰ吸収量に関して３３ｇ／１００ｇの加算を意味する。
【０１０１】
１．３  粒径
粒径は「Malvern  Mastersizer」により、エタノール中、５分間の超音波処理後に測定した。測定は自動的に行い、かつ体積分布から平均粒径ｄ４．３が得られた。
【０１０２】
１．４  ＤＩＮ５０３３による標準明度(Normfarbwert)Ｒｙの測定
適用
分光光度計Datacolor  ３８９０を用いてシリカ、ケイ酸塩およびゼオライト（粉末の懸濁液）の標準明度Ｒｙを測定した。
【０１０３】
測定の実施：
測定すべきシリカをまず平均粒径約８〜１５μｍに粉砕し、かつ引き続き粉末プレスで圧縮してタブレットが得られた。必要量は粉末の粉末度に依存する。プレスの栓のネジ山の最後のラインまで粉末を充填した。さらに試料を測定装置の下に置き、かつ制御カウンタで白色度測定ＲｙおよびＲ４６０のメニューポイントを選択した。試料の名称を入力後、スペースキーを押して測定を開始した。メモリーコードを入力後、測定値をプリントアウトした。値の算出は式：
【０１０４】
【数１】
0004241065.tif 000003
【０１０５】
［式中で、
Ｙ（λ）は基準スペクトル関数を表し、
Ｓ（λ）は照射源の相対分光放射分布を表し、かつ
Ｒ（λ）は試料のスペクトル反射率を表す］により自動的に行った。
【０１０６】
１．５  シリカ、ケイ酸塩および疎水性シリカのシアーズ数の測定
１．適用：
ｐＨ６〜ｐＨ９の範囲で０．１ＮのＫＯＨを用いた滴定により遊離ＯＨ基を捉えた。
【０１０７】
２．装置
２．１    感量０．０１ｇの精密はかり、
２．２    Mettler社の滴定装置Memotitrator  ＤＬ７０、１０ｍｌおよび２０ｍｌのビュレット、ｐＨ電極１つおよびポンプ（たとえばNOUVAGポンプ、ＳＰ４０／６タイプ）１つを有する、
２．３    プリンター、
２．４    Mettler社の滴定容器２５０ｍｌ、
２．５    ウルトラ−ツラックス、８０００〜２４０００ｒｐｍ、
２．６    恒温水浴、
２．７    メタノールもしくは脱イオン水を供給するための２つのディスペンサー１０〜１００ｍｌ、
２．８    脱塩水を供給するための１つのディスペンサー１０〜５０ｍｌ、
２．９    メスシリンダー１つ、１００ｍｌ、
２．１０  ＩＫＡ  ユニバーサルミルＭ２０。
【０１０８】
３．試薬
３．１    メタノールｐ．Ａ．、
３．２    塩化ナトリウム溶液（ＮａＣｌｐ．Ａ．２５０ｇ、脱イオン水１０００ｍｌ中）、
３．３    ０．１Ｎ塩酸、
３．４    ０．１Ｎカセイカリ溶液、
３．５    脱イオン水、
３．６    緩衝液、ｐＨ７およびｐＨ９。
【０１０９】
４．実施
４．１  試料の準備
試料約１０ｇをＩＫＡユニバーサルミルＭ２０中で６０秒粉砕した。
【０１１０】
重要：極めて微細に粉砕した試料のみが再現可能な結果につながるので、これらの条件は正確に守らなくてはならない。
【０１１１】
４．２  分析の実施
４．２．１  ポイント４．１により準備した試料２．５０ｇを２５０ｍｌの滴定容器に秤量した
４．２．２  メタノールｐ．Ａ．６０ｍｌを計量供給した
４．２．３  試料を完全に濡らした後、脱塩水４０ｍｌを添加した
４．２．４  ウルトラ・ツラックスを用いて約１８０００ｒｐｍの回転数で３０秒間、分散させた
４．２．５  脱イオン水１００ｍｌで容器の縁および撹拌機に付着している試料粒子を懸濁液中に流した
４．２．６  恒温水浴中の試料を２５℃に温度調整した（少なくとも２０分）
４．２．７  ｐＨ電極を緩衝液でｐＨ７およびｐＨ９に検定した
４．２．８  試料を方法Ｓ９１１により滴定装置Memotitrator  ＤＬ  ７０中で滴定した。滴定の経過が一義的でない場合、後から二重反復測定を実施した。
【０１１２】
結果として次のものがプリントアウトされる：
ｐＨ、
Ｖ１  ｍｌ／５ｇにより記載、
Ｖ２  ｍｌ／５ｇにより記載。
【０１１３】
５．計算：
【０１１４】
【数２】
0004241065.tif 000004
【０１１５】
Ｖ１＝ｐＨ６までのＫＯＨのｍｌもしくはＨＣｌのｍｌ／物質５ｇ、
Ｖ２＝ｐＨ９までのＫＯＨ消費量のｍｌ／物質５ｇ、
Ｅ＝秤量。
【０１１６】
原理：
まず懸濁液の出発ｐＨ値を測定し、その後、結果に応じてＫＯＨもしくはＨＣｌによりｐＨ値を６に調整する。その後、ＮａＣｌ溶液２０ｍｌを計量供給する。次いで０．１ＮのＫＯＨによりｐＨ値９まで滴定を続ける。
【０１１７】
シアーズ数
Ｓｉ−ＯＨ＋ＮａＣｌ→Ｓｉ−ＯＮａ＋ＨＣｌ
ＨＣｌ＋ＫＯＨ→ＫＣｌ＋Ｈ２Ｏ
１．６  ＤＩＮ／ＩＳＯ７８７／１１に準拠したタップ密度の測定
測定の実施：
試験すべき試料１０ｇを精密はかりで０．０１ｇまで正確に秤量し、かつタッピング体積の目盛のついた２５０ｍｌのガラスシリンダに充填する。１２５０回のタッピングの後、タッピングした材料の体積を読みとった。
【０１１８】
計算：
【０１１９】
【数３】
0004241065.tif 000005
【０１２０】
タッピング体積は読みとった値に相応する。
【０１２１】
Ｅ＝秤量、ｇで記載、
Ｉ＝内容量、ｍｌで記載。
【０１２２】
装置：
精密はかり、
タッピング体積計、Ludwigshafen在、Engelsmann社、
目盛付き２５０ｍｌガラスシリンダ、Ludwigshafen在、Engelsmann社。
【０１２３】
注釈：
特別なケースでは材料を秤量前に５００μｍのふるいで分級するか、もしくは秤量を増大させた。このことは試験報告に記載しなくてはならない。
【０１２４】
１．７  ＣＴＡＢ表面積の測定
１．適用
この方法は、「ゴム効果表面(Kautschukwirksame Oberflaeche)」ともよばれる「外側」表面におけるＣＴＡＢ（Ｎ−セチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムブロミド）の吸着に基づく。
【０１２５】
ＣＴＡＢの吸着は水溶液中で攪拌および超音波処理下で行う。過剰の吸着されなかったＣＴＡＢはＮＤＳＳ（ジオクチルナトリウムスルホスクシネート溶液）を用いた逆滴定により滴定装置(Titroprozessor)中で確認し、その際、最終点は溶液の濁りの最大により与えられ、かつフォト電極(Phototrode)により測定される。計算のためにＣＴＡＢ分子あたり０．３５ｎｍ２の要求空間を想定する。
【０１２６】
測定はＡＳＴＭ３７６５に準拠して行う。それぞれの測定列においてシリカＶＮ３タイプの標準試料を試験する。
【０１２７】
２．反応平衡：（逆滴定）
【０１２８】
【化１】
0004241065.tif 000006
【０１２９】
３．装置：
３．１    ミル、たとえばＩＫＡ型：Ｍ２０、
３．２    分析はかり、
３．３    マグネット式撹拌装置、
３．４    マグネチックスターラー、
３．５    滴定装置、たとえばMETTLER、ＤＬ５５またはＤＬ７０タイプ、ｐＨ電極、たとえばMettler型、ＤＧ１１１タイプ、フォト電極、たとえばMettler型、ＤＰ５５０タイプおよびピストン式ビュレット(Kolbenbuerette)、ＮＤＳＳ溶液用、容量２０ｍｌ、フラスコビュレット、ＫＯＨ、０．１Ｎ用、容量１０ｍｌを有する、
３．６    ポリプロピレン製の滴定皿１００ｍｌ、
３．７    滴定ガラス容器、容量１５０ｍｌ、スナップオン・キャップで密閉可能、
３．８    エルレンマイヤーフラスコ、容量１００ｍｌ、ネジ蓋もしくはＮＳストッパで密閉可能、
３．９    超音波浴、
３．１０  圧力濾過容器、
３．１１  硝酸セルロース製の薄膜フィルタ、孔径０．１μｍ、直径４７ｍｍ、たとえばSartorius、１１３  ５８タイプ、
３．１２  ピペット、５ｍｌ、１００ｍｌ。
【０１３０】
４．試薬：
４．１  カセイカリ溶液、０．１Ｎ
４．２  ＣＴＡＢ溶液、０．０１５１モル／ｌ
ＣＴＡＢ５．５０ｇを撹拌（マグネチックスターラー）下にガラスビーカー中で、温かい（約３０〜４０℃の）脱塩水約８００ｍｌ中に溶解し、１ｌのメスシリンダーに移し、２３〜２５℃に冷却後、脱塩水で目印まで充たし、かつ貯蔵ビンに移し替えた。
【０１３１】
注意：
溶液の保存および測定の実施は≧２３℃で実施しなくてはならない、というのも、ＣＴＡＢはこの温度より低いと晶出するからである。溶液は使用の１０〜１４日前に製造すべきである。
【０１３２】
４．３  ＮＤＳＳ溶液０．００４２６モル／ｌ
ＮＤＳＳ（ジオクチルナトリウムスルホスクシネート）１．８９５ｇにガラスビーカー中で脱塩水約８００ｍｌを添加し、かつ全てが溶解するまでマグネチックスターラーで攪拌した。引き続き溶液を１ｌのメスシリンダーに移し、目印まで脱塩水で充たし、かつ貯蔵ビンに移し替えた。
【０１３３】
ＮＤＳＳ溶液は容易に生物学的に分解する。従って製造された溶液はよく密閉し、かつ３ヶ月以上保存すべきではない。
【０１３４】
ＣＴＡＢ溶液の濃度は正確に秤量した：０．０１５１０モル／ｌ
ＮＤＳＳ溶液の濃度を「盲検滴定(Blindtitration)」により毎日測定する。
【０１３５】
５．実施
５．１  盲検滴定（ＮＤＳＳ溶液の濃度の測定）
５．１．１  ＣＴＡＢ溶液５ｍｌに対するＮＤＳＳ溶液の消費をそれぞれの測定列の前に１日１回試験する（盲検値(Blindwert)）
５．１．２  ＣＴＡＢ溶液を正確に５ｍｌ、滴定皿にピペットで移す
５．１．３  脱塩水約５０ｍｌを添加する
５．１．４  滴定装置により滴定終了まで滴定する。それぞれの盲検滴定を二重測定として実施し、値が一致しない場合には結果の再現性が得られるまでさらなる滴定を実施すべきである。
【０１３６】
５．２  吸着
５．２．１  造粒され、かつクロップ粒状の試料をミルで粉砕した（ミルのビーター・ブレードは被覆されていなくてはならない）
５．２．２  粉砕した試料を正確に５００ｇ、０．１ｍｇの感量で分析はかりに秤量した
５．２．３  秤量した試料を電磁攪拌棒で定量的に１５０ｍｌの滴定容器に移し替えた
５．２．４  ＣＴＡＢ溶液を正確に１００ｍｌ、計量供給し、滴定容器を蓋で密閉し、かつ電磁撹拌機で１５分間攪拌した
５．２．５  滴定容器を滴定装置にネジ止めし、かつ懸濁液のｐＨ値をＫＯＨ、０．１モル／ｌで±０．０５の値に調整した
５．２．６  懸濁液を超音波浴中で４分間処理した
５．２．７  薄膜フィルターを備えた圧力濾過器による濾過。吸着の間、温度が必ず２３℃〜２５℃の範囲に維持されるように注意すべきである。
【０１３７】
５．３  滴定
５．３．１  濾液（５．２．７を参照のこと）５ｍｌを１００ｍｌ滴定皿にピペットで移し、かつ脱塩水で約５０ｍｌまで充たした
５．３．２  滴定皿を滴定装置にネジ止めした
５．３．３  規定の測定法により濁りが最大になるまでＮＤＳＳ溶液で滴定した。それぞれの濁りは二重測定として実施し、値が一致しない場合には、結果の再現性が得られるまでさらに滴定を実施した。
【０１３８】
６．計算
【０１３９】
【数４】
0004241065.tif 000007
【０１４０】
Ｖ１＝盲検試料（ＣＴＡＢ５ｍｌを適用する際のＮＤＳＳのｍｌ）、
Ｖ２＝消費（濾液５ｍｌを適用する際のＮＤＳＳのｍｌ）、
Ｅ＝秤量ＣＴＡＢのｇ／ｌ（５．５ｇ）、
５７８．４３５＝ＣＴＡＢ１ｇが必要とする空間、ｍ２。
【０１４１】
測定値は通常、無水の物質に対して補正して記載する：
【０１４２】
【数５】
0004241065.tif 000008
【０１４３】
標準試料の測定値が目標値から３±ｍ２／ｇ逸脱する場合、全ての測定列を繰り返すべきである。
【０１４４】
７．注釈
１．について：文献中ではＮＤＳＳ（ジオクチルナトリウムスルホスクシネート）はエーロゾルＯＴともよばれている。ｐＨ値＞９を有する試料、たとえばExtrusilにおいてｐＨ値を測定したが、しかし補正しなかった。というのも酸は表面を変化しうるからである。フォト電極は滴定の開始前に１００％の透明度に相応して１０００ｍＶに調整した。
【０１４５】
３．について：規定された、異なったＣＴＡＢ溶液の体積を測定するために、規則的に検定されるかぎりで、ディスペンサーもしくはピペットを使用した。
【０１４６】
４．に関して：ポイント４．１および４．３で記載した溶液は使用可能な溶液として引き合いに出される。製造元は目下、Duisburg在、Kraft社である。電話番号：０２０３−５８−３０２５。
【０１４７】
−注文番号６０５６．４  ＣＴＡＢ溶液０．０１５１ｍｌ／ｌ
−注文番号６０５７．４  ＮＤＳＳ溶液０．００４２３モル／ｌ
（２．５リットルのガラスビン）。
【０１４８】
５．２．４について：攪拌後に濡れていない疎水性の試料はｐＨ値を調整する前に、該試料を濡らすためにウルトラツラックスで慎重に分散させる。
【０１４９】
５．２．５について：ｐＨ値の調整のために滴定装置の使用が推奨される。滴定は終点測定法により実施する。
【０１５０】
５．２．７について：濾過のために圧縮ガスボンベからの窒素を使用する。これは４〜６バールの前圧力に調整される。
【０１５１】
６．について：場合により必要とされる測定列の繰り返しの際に、特に、ｐＨ値の調整のために使用されるｐＨメータも再度あらためて検定することに注意しなくてはならない。
【０１５２】
１．８  水蒸気吸収量（水蒸気等温線）の測定
水蒸気吸収量を測定するために、試料を一定の温度（３０℃）で異なった相対湿度にさらす。一定の質量が調整されるまで待機する。完全に乾燥した（つまり空気湿度がほぼゼロである）空気を用いて開始する。平衡が達成された後、この質量を基準点として選択する、つまり完全に乾燥した空気（平衡が調整された後）中の試料の質量と、湿った空気（平衡が調整された後）中の試料の質量との間の差よりも高い空気湿度に換算する。空気湿度は１０％の幅で変化する。ヒステリシス効果を排除するために、水の吸着も水蒸気の吸着も測定した。
【０１５３】
例１
ベースシリカの乾燥およびシリコーン油（DOW  CORNING  （Ｒ）  ２００  FLUID  ５０  ＣＳ、炭素含有率約３３％、粘度５０ｍＰａｓ）による被覆は、スピンフラッシュ乾燥機中で行った。次いで少なくとも２０％のメタノール湿潤性を有するまで、シリカを室温で少なくとも４８時間コンディショニングした。コンディショニングしたシリカの分析データは第１．１表に記載されている。
【０１５４】
【表２】
0004241065.tif 000009
【０１５５】
次いで異なった酸素含有率で流動床内で熱処理を行った。試験パラメータは第１．２表に記載されている。
【０１５６】
【表３】
0004241065.tif 000010
【０１５７】
試験は酸素含有率と変色との関連性を示している。試験２および３においてのみ、＞９４％の反射率が得られている。これらのシリカは、試験１からのシリカに対して、シリコーンゴム中で目に見える変色を示さない。酸化熱処理した沈降シリカの分析データは第１．３表に記載されている。
【０１５８】
【表４】
0004241065.tif 000011
【０１５９】
例２
ベースシリカをゲーリッケミキサー中、質量比１：１でシリコーン油（ジメチルポリシロキサン、５０ｍＰａｓ、たとえばDOW  CORNING  （Ｒ）  ２００  FLUID  ５０  ＣＳ、炭素含有率約３３％）により被覆した。こうして得られた粉末を温度１０５℃で１時間コンディショニングした。その際、たしかに水で濡らすことができるが、しかし水中でシリカとシリコーン油とがもはや相互に分離しない材料が生じた。このマスターバッチとベースシリカのフィルターケーキとを混合することにより安定した調製物が得られ、この場合、シリコーン油はもはや疎水性のフィルターケーキからは分離しない。こうして製造した疎水性のマスターバッチとフィルターケーキとを一緒にスピンフラッシュ乾燥機に搬送し、ここで混合し、かつ乾燥させた。ジメチルシロキサンで処理したシリカを、メタノール湿潤性が少なくとも２０％に達するまで、室温で３日間のエージング処理によりコンディショニングした。コンディショニングしたシリカの分析データは第２．１表に記載されている。
【０１６０】
【表５】
0004241065.tif 000012
【０１６１】
コンディショニングした沈降シリカの熱処理は酸化条件下にマッフル炉中、約１〜２ｃｍの堆積高さで、３３０〜３６０℃を越える温度で１時間行う。酸化熱処理した沈降シリカの分析データは第２．３表に記載されている。
【０１６２】
【表６】
0004241065.tif 000013
【０１６３】
例３
シリカ（フィルターケーキの形）上でのシリコーン油（粘度５０ｍＰａｓ、メチル末端、たとえばDOW  CORNING  （Ｒ）  ２００  FLUID  ５０  CS、炭素含有率約３３％）の前分散は、同時に乾燥させながらスピンフラッシュ乾燥機中で行った。ジメチルシロキサン処理したシリカは、少なくとも２０％のメタノール湿潤性が得られるまで室温で少なくとも４８時間、コンディショニングした。コンディショニングしたシリカの分析データは第３．１表に記載されている。
【０１６４】
【表７】
0004241065.tif 000014
【０１６５】
材料の熱処理は酸化条件下にマッフル炉中で、約１〜２ｃｍの堆積高さで、３３０〜３６０℃を越える温度で１時間行った。酸化熱処理した沈降シリカの分析データは第３．２表に記載されている。
【０１６６】
【表８】
0004241065.tif 000015
【０１６７】
例４
ベースシリカをゲーリッケミキサーに質量比１：１：でシリコーン油（ジメチルポリシロキサン５０ｍＰａｓ、たとえばDOW  CORNING  （Ｒ）  ２００  FLUID  ５０  CS  炭素含有率約３３％）と共に装入した。こうして得られた粉末を少なくとも１時間、温度１０５℃でコンディショニングした。その際、水により濡れるが、しかし水中でシリカとシリコーン油がもはや相互に分離しない材料が生じる。このマスターバッチを水と混合することにより安定した懸濁液が生じ、この場合、シリコーン油はもはやシリカから分離しない。該懸濁液の分析データは第４．１表に記載されている。
【０１６８】
【表９】
0004241065.tif 000016
【０１６９】
懸濁液の乾燥は噴霧乾燥機により行った。ジメチルシロキサン処理したシリカを、少なくとも２０％のメタノール湿潤性が達成されるまで室温で少なくとも４８時間エージングさせることによりコンディショニングした。コンディショニングしたシリカの分析データは第４．２表に記載されている。
【０１７０】
【表１０】
0004241065.tif 000017
【０１７１】
コンディショニングした沈降シリカの熱処理は酸化条件下にマッフル炉中、約１〜２ｃｍの堆積高さで、３３０〜３６０℃を超える温度で１時間行った。酸化熱処理した沈降シリカの分析データは第４．３表に記載されている。
【０１７２】
【表１１】
0004241065.tif 000018
【０１７３】
例５
ベースシリカのシリカ懸濁液（固体含有率１２．８％）中に、強力に剪断する混合装置を用いてシリコーン油（ポリジメチルシロキサン、５０ｍＰａｓ、たとえばDOW  CORNING  （Ｒ）  ２００  FLUID  ５０  CS、炭素含有率約３３％）を懸濁させた。シリカ懸濁液中のシリコーン油の分散を、即座に噴霧乾燥することにより維持した。ジメチルシロキサン処理したシリカを、少なくとも２０％のメタノール湿潤性が達成されるまで、室温で少なくとも４８時間エージングさせることにより、コンディショニングした。コンディショニングしたシリカの分析データは第５．１に記載されている。
【０１７４】
【表１２】
0004241065.tif 000019
【０１７５】
材料の熱処理は酸化条件下でマッフル炉中、約１〜２ｃｍの堆積高さで、３３０〜３６０℃を超える温度で１時間行った。酸化熱処理した沈降シリカの分析データは第５．２に記載されている。
【０１７６】
【表１３】
0004241065.tif 000020
【０１７７】
例６
疎水性ベースシリカを乾燥したままシリコーン油（ポリジメチルシロキサン、粘度５０ｍＰａｓ、たとえばDOW  CORNING  （Ｒ）  ２００  FLUID  ５０  CS、炭素含有率約３３％）と共に装入し、かつ少なくとも２０％のメタノール湿潤性が達成されるまで、室温で少なくとも４８時間エージングさせることによりコンディショニングした。材料の熱処理は酸化条件下に、３３０〜３６０℃を越える温度で１時間行った。得られた材料の分析データは第６．１表に記載されている。
【０１７８】
【表１４】
0004241065.tif 000021
【０１７９】
例７
第１表に記載の特性を有する疎水性の沈降シリカを製造し、かつ第２表に記載のＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴムコンパウンド中に配合した。第３表は、シリカの異なった充填度を有するＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンシーラントのレオロジー挙動を示す。標準シリカとしてAEROSIL  １５０タイプの熱分解法シリカ（親水性）およびAEROSIL  Ｒ  ９７４ならびにAEROSIL  Ｒ  ９７２（疎水性）を使用した。表は疎水性沈降シリカの充填度の増大と共に粘度が明らかに上昇することを示しており、AEROSIL  １５０を含有する標準調製物のレオロジーレベルは約１７質量％の充填度から達成される。
【０１８０】
【表１５】
0004241065.tif 000022
【０１８１】
【表１６】
0004241065.tif 000023
【０１８２】
【表１７】
0004241065.tif 000024
【０１８３】
第４表はＲＴＶ−１Ｋ−加硫物の相応する機械的特性を示している。本発明による調製物の機械的特性は同じ粘度の場合、従来技術のものよりも著しく良好である。
【０１８４】
【表１８】
0004241065.tif 000025
【０１８５】
第５表および第６表は、本発明による調製物が３０日後でもなお貯蔵性であることを示している。
【０１８６】
【表１９】
0004241065.tif 000026
【０１８７】
【表２０】
0004241065.tif 000027
【０１８８】
６０℃の温度上昇と共に、約６ヶ月の貯蔵期間をシミュレートした。この場合でもレオロジー挙動の著しい変化は確認されなかった。
【０１８９】
例８
疎水性沈降シリカおよび場合により熱分解法シリカを含有するＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物の降伏価を試験した。流動性を確認するために相応する混合物を製造し、かつ０．７ｇの量をガラスプレート上に塗布した。引き続き該ガラスプレートを垂直にし、かつ２４時間後に流れの長さを測定することにより流動性を測定した。疎水性沈降シリカを含有する混合物の流動性は、少量の熱分解法シリカの添加により著しく改善できることが明らかである（図３）。第７表は相応する混合物のチキソトロピー挙動もしくは安定性を示している。
【０１９０】
従って熱分解法シリカを添加することにより、疎水性シリカの充填度とは無関係に、本発明によるシリコーンゴム調製物の流動性を広い範囲で調整できることが確認される。
【０１９１】
【表２１】
0004241065.tif 000028
【０１９２】
Ｌ１：試験前の材料の長さ、
Ｌ２：試験後の材料の長さ。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による疎水性シリカのメタノール湿潤性曲線を示すグラフの図。
【図２】通常の疎水性シリカのメタノール湿潤性を示すグラフの図。
【図３】ＲＴＶ−１Ｋ−シリコーンゴム調製物の流動性を示す図。
【図１】
0004241065.tif 000029
【図２】
0004241065.tif 000030
【図３】
0004241065.tif 000031