(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線発生システム内でＸ線に露出されると水素原子を放出する炭化水素を含んだ誘電性流体を水素添加する方法において、
Ｘ線エネルギーと独立して動作し、前記水素原子と前記炭化水素との再結合を促進する有効量の触媒に前記Ｘ線発生システム内の前記誘電性流体を露出させることを含み、
前記触媒の有効量が（１）誘電性流体１リットル当たり表面積少なくとも１ｃｍ２又は（２）誘電性流体１リットル当たり少なくとも０．０１グラムである、方法。
【請求項２】
誘電性流体がＸ線発生装置に対する冷却素子として使われており、前記触媒を含むメッシュに前記誘電性流体を循環させることを更に含む、請求項１記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項３】
誘電性流体が水添ナフタセンを含む、請求項１記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項４】
触媒が約１０−３００℃の範囲の温度および約０．１−３０気圧の範囲の圧力で作用する、請求項１記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項５】
触媒が周期律表第VIII族元素を含む、請求項１記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項６】
触媒の有効量が誘電性流体１リットル当たり表面積が１ｃｍ２〜１００ｃｍ２である、請求項１記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項７】
触媒がルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金から選ばれる元素を含む、請求項６記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項８】
触媒がパラジウムおよび白金の少なくとも１種を含む、請求項７記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項９】
触媒が誘電性流体に溶解されている、請求項１記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項１０】
触媒の有効量が誘電性流体１リットル当たり０．０１グラム〜１グラムである、請求項９記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項１１】
触媒がトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライド、貴金属及び、ウイルキンソン(Wilkinson )の触媒のいずれかを含む、請求項９記載の誘電性流体を水素添加する方法。
【請求項１２】
医用診断Ｘ線と熱エネルギーを生成するＸ線発生装置と、
前記Ｘ線発生装置を循環し、前記熱エネルギーの少なくとも一部を吸収し、前記装置を電気的に絶縁し、Ｘ線に露出されて水素ガスおよび不飽和炭化水素の生成する水添多芳香流体と、
前記流体と相互作用する有効量の触媒であって、前記水素原子と前記不飽和炭化水素と反応し、前記水素原子と不飽和炭化水素とを再結合させる、前記触媒と、
を備える医用診断Ｘ線システム。
【請求項１３】
Ｘ線発生装置からのＸ線に露出されて水素ガスおよび不飽和炭化水素の生成を受ける誘電性流体を水素添加するためのシステムにおいて、前記誘電性流体内の前記水素ガスと不飽和炭化水素との反応を促進するために前記誘電性流体と相互作用して前記誘電性流体内の水素ガスの量を減少する有効量の触媒を前記Ｘ線発生装置内に位置づけているシステム。
【請求項１４】
Ｘ線を発生するためのＸ線発生装置、前記装置を冷却しそして電気的に絶縁するために前記装置の周りに循環される、前記Ｘ線に露出されたときに水素原子を放出する炭化水素を含んだ誘電性流体、および前記誘電性流体と連通されていて前記水素原子の炭化水素との再結合を促進する有効量の触媒を含んでなるＸ線システム。
【請求項１５】
医用診断Ｘ線と熱エネルギーを生成し、前記Ｘ線が通過する窓を備える真空容器を有するＸ線発生装置、
前記Ｘ線発生装置を循環し、前記熱エネルギーの少なくとも一部を吸収し、前記装置を電気的に絶縁し、Ｘ線に露出されて水素ガスおよび不飽和炭化水素の生成する水添多芳香流体、
真空容器、ホース、ポンプ及びラジエータにより形成される流体循環システム、
前記流体と相互作用する有効量の触媒であって、前記水素原子と前記不飽和炭化水素と反応し、前記水素原子と不飽和炭化水素とを再結合させる、前記触媒と、
を含み、
前記触媒は前記流体循環システム内に配置され、前記触媒は、前記Ｘ線に露出されたときまたは露出されないときに有効である医用診断Ｘ線システム。
【請求項１６】
触媒が周期律表第VIII族元素を含む、請求項１２乃至１５のいずれかに記載のシステム。
【請求項１７】
触媒がパラジウムおよび白金の少なくとも１種を含む、請求項１６記載のシステム。
【請求項１８】
触媒の有効量が誘電性流体１リットル当たり表面積少なくとも１ｃｍ２である、請求項１６記載のシステム。
【請求項１９】
触媒が誘電性流体に溶解されている、請求項１２乃至１８のいずれかに記載のシステム。
【請求項２０】
触媒がトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライドを含む、請求項１９記載のＸ線システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の分野】
本発明はＸ線管を冷却しそして電気的に絶縁するための誘電性流体にかかわり、殊にＸ線放射線に露出されて化学的な分解を受けるＸ線管誘電性流体の接触水素添加のためのシステムおよび方法に係わる。
【０００２】
【発明の背景】
誘電性油はＸ線管を冷却しそして電気的に絶縁するために使用される代表的な流体である。しかしながら、誘電性油はＸ線放射線に露出されると化学的な分解を受ける。Ｘ線に露出された後には、誘電性油は不飽和炭化水素分子、遊離の水素原子およびＨ2 ガスを含んでいる。Ｈ2 ガスの生成は誘電性油の電気絶縁特性を減少しそしてＸ線の透過を妨げる可能性があるので不利益である。従って、Ｘ線管誘電性流体内でのＨ2 ガスの生成を減少および／または除去することが望ましい。
【０００３】
典型的には、Ｘ線管と呼ばれるＸ線ビーム発生装置は円筒状真空容器外囲器内の真空チャンバ中に電気回路の二重電極を含んでいる。真空容器外囲器は代表的にはガラス管または金属性円筒からなっている。電極の一つは陰極アセンブリであり、これは陽極アセンブリを構成する回転式デスク形ターゲットと間隔を置かれて位置づけられている。電極を接続する電気回路を付勢すると陰極アセンブリが電子を供給し、この発生された電子は加速されて薄いビームに集束される。非常に高速な電子のこの薄いビームは真空容器外囲器の軸と平衡に導かれて回転するターゲット陽極の部分に衝突する。耐火金属のような材料からなるターゲット陽極の部分の表面に電子のビームが衝突して発生された運動エネルギーは非常に高い周波数の電磁波に変換される。これらの高い周波数の電磁波がＸ線である。ターゲット陽極の表面は典型的には角度付けられており、これによりＸ線が真空容器外囲器の側部から導き出されるのを助ける。真空容器外囲器を出た後、Ｘ線は医学的検査および診断措置のために人間の解剖部のような物体を透過するように向けられる。更に、工業的Ｘ線管は例えば金属部品のひび割れを検査したりまたは空港で手荷物の中身の検査をするために使用できる。
【０００４】
Ｘ線発生装置は通常循環流体で充填されたケーシングで包囲されており、この循環流体の助けにより熱が吸収されてＸ線管の動作温度が最小にされている。Ｘ線発生装置用の誘電性流体は代表的には約２０−７０℃の範囲の温度で作用する。この非常に高い作用温度は、電子を発生しそして加速するのに必要とされる高い電流、電子がターゲットに衝突して発生された運動エネルギーおよびＸ線自体が原因となって、Ｘ線管から流体に伝達された熱エネルギーの結果である。誘電性油は大量の熱エネルギーを吸収して搬出することができるので、Ｘ線管から熱を運び去るのに利用される代表的な流体である。
【０００５】
Ｘ線管を冷却するのに使用される循環流体は更にＸ線管を電気的に絶縁する誘電特性も持っている。典型的なＸ線管はＸ線を発生するのに莫大な量のエネルギーを利用する。代表的なＸ線管は約１２０，０００−１４０，０００ボルトおよび約４０−４００ミリアンペアを要することがあり、これは約４０キロワットに及ぶ出力を生ずる。この非常に高い電荷がＸ線管内に存在する一方で、ケーシングは接地電位にある。Ｘ線管とケーシングとの間に電気絶縁体がないと、雲から地上への雷アークと同じように、Ｘ線管内の電荷がケーシングにアークする傾向が生じよう。従って、Ｘ線管の周りに悪い誘電絶縁体があると、電圧がＸ線管を貫通してケーシングに接地する可能性がある。電圧が貫通すると循環する誘電体が炭化されるだけでなくＸ線管の真空外囲器のひび割れも生じうる。その結果、Ｘ線管の信頼性を確実にするためには循環する流体の誘電特性が維持されなければならない。
【０００６】
しかしながら、循環する流体の誘電特性はＸ線管によって発生されるＸ線によりマイナスの影響を受ける。Ｘ線放射線は誘電性流体内の化学結合を破壊する。典型的には、Ｘ線放射線は炭素−炭素（Ｃ−Ｃ）および炭素−水素（Ｃ−Ｈ）結合を破壊して水素原子を放出する。遊離の水素原子は結合して二原子水素即ちＨ2 となり、これは気体であって循環する誘電性流体内で気泡を形成する。誘電性流体内のＨ2 の量が増大すると、その気泡の大きさが増して誘電性流体を置換する可能性がある。そのときＸ線管内の高電圧が気泡を横切ってアークしケーシングまで短絡する可能性がある。従って、Ｘ線放射線による誘電性流体の破壊によって引き起こされる気泡の形成は誘電性流体の電気絶縁特性を抑制して、高電圧アークおよびＸ線管の破損を引き起こす可能性がある。
【０００７】
誘電性流体内の多くの気体源は使用に先立って流体を真空処理することにより取り除くことができる。しかし、この場合には、気体はＸ線発生過程の間に生成される。それ故に、使用に先立って誘電性流体を真空処理してもこの問題は取り除けない。従って、Ｘ線発生過程の間に誘電性流体内に生成される気体を除去する方法が必要とされている。
【０００８】
【発明の要約】
本発明によれば、Ｘ線に露出されると水素原子を放出する炭化水素を含んだ誘電性流体を水素添加する方法は、水素原子と炭化水素との再結合を促進する有効量の触媒系に誘電性流体を露出させることを含む。誘電性流体はＸ線発生装置に対する冷却素子として使用され、好ましくは水添ナフタセンを含んでいる。触媒系は約１０−３００℃の範囲の温度および約０．１−３０気圧の範囲の圧力で作用する。触媒系は固体で非可溶性の触媒あるいは可溶性の触媒のいずれからなっていてもよい。
【０００９】
適当な固体の触媒は周期律表第VIII族元素またはその化合物を含むことができる。固体触媒の有効量は誘電性流体１リットル当たり表面積少なくとも１ｃｍ2 乃至は誘電性流体１リットル当たり表面積約１００ｃｍ2 まで、好ましくは１０ｃｍ2 である。固体触媒はルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金からなる群から選ばれる元素を含むことができ、より好ましくは固体触媒はパラジウムおよび白金の少なくとも１種を含む。
【００１０】
適当な可溶性の触媒は誘電性流体に溶解されており、可溶性触媒の有効量は誘電性流体１リットル当たり少なくとも０．０１グラム乃至は誘電性流体１リットル当たり約１グラムまでである。可溶性触媒はトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライド；ＨＲｕ(Ｃ2Ｈ4)(Ｃ6Ｈ4ＰＰｈ2)(ＰＰｈ3)2 のような溶解された状態の貴金属；ロジウム、クロム、燐トリフェニルクロライド化合物を含むウイルキンソン(Wilkinson )の触媒；およびその他の類似の化合物を含むことができる。
【００１１】
別の実施の態様では、Ｘ線発生装置からのＸ線に露出されて水素ガスおよび不飽和炭化水素の生成を受ける誘電性流体を水素添加するためのシステムが、誘電性流体内の水素ガスと不飽和炭化水素との反応を促進するために誘電性流体と相互作用して誘電性流体内の水素ガスの量を減少する有効量の触媒系をＸ線発生装置内に位置づけて含んでいる。水素添加システムは好ましくはＸ線システムの一部をなす。触媒系は約１０−３００℃の範囲の温度および約０．１−３０気圧の範囲の圧力で作用する。触媒系は固体触媒あるいは可溶性触媒のいずれからなっていてもよい。適当な固体の触媒は周期律表第VIII族元素またはその化合物を含むことができる。固体触媒はルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金からなる群から選ばれる元素を含むことができ、より好ましくは固体触媒はパラジウムおよび白金の少なくとも１種を含む。固体触媒の有効量は誘電性流体１リットル当たり表面積少なくとも１ｃｍ2 乃至は誘電性流体１リットル当たり表面積約１００ｃｍ2 まで、好ましくは１０ｃｍ2 である。適当な可溶性の触媒は誘電性流体に溶解されており、可溶性触媒の有効量は誘電性流体１リットル当たり少なくとも０．０１グラム乃至は誘電性流体１リットル当たり約１グラムまでである。可溶性触媒はトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライド；ＨＲｕ(Ｃ2Ｈ4)(Ｃ6Ｈ4ＰＰｈ2)(ＰＰｈ3)2 のような溶解された状態の貴金属；ロジウム、クロム、燐トリフェニルクロライド化合物を含むウイルキンソン(Wilkinson )の触媒；およびその他の類似の化合物を含むことができる。
【００１２】
更に別の実施の態様では、Ｘ線システムは、Ｘ線を発生するためのＸ線発生装置、前記装置を冷却しそして電気的に絶縁するために前記装置の周りに循環されＸ線に露出されたときに水素原子を放出する炭化水素を含んだ誘電性流体、および誘電性流体と連通されていて水素原子の炭化水素との再結合を促進する有効量の触媒系を含んでいる。触媒系は約１０−３００℃の範囲の温度および約０．１−３０気圧の範囲の圧力で作用する。触媒系は固体触媒あるいは可溶性触媒のいずれからなっていてもよい。適当な固体の触媒は周期律表第VIII族元素またはその化合物を含む。固体触媒はルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金からなる群から選ばれる元素を含むことができ、より好ましくは固体触媒はパラジウムおよび白金の少なくとも１種を含む。固体触媒の有効量は誘電性流体１リットル当たり表面積少なくとも１ｃｍ2 乃至は誘電性流体１リットル当たり表面積約１００ｃｍ2 まで、好ましくは１０ｃｍ2 である。適当な可溶性の触媒は誘電性流体に溶解されており、可溶性触媒の有効量は誘電性流体１リットル当たり少なくとも０．０１グラム乃至は誘電性流体１リットル当たり約１グラムまでである。可溶性触媒はトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライド；ＨＲｕ(Ｃ2Ｈ4)(Ｃ6Ｈ4ＰＰｈ2)(ＰＰｈ3)2 のような溶解された状態の貴金属；ロジウム、クロム、燐トリフェニルクロライド化合物を含むウイルキンソン(Wilkinson )の触媒；およびその他の類似の化合物を含むことができる。
【００１３】
最後に、本発明は、炭化水素成分と水素添加触媒系とを含み、Ｘ線発生装置に対する冷却素子として使用するのに適した誘電性流体を開示する。誘電性流体は更に炭化水素約９９．７％、触媒系約０．１％および条件添加剤残部を含む。炭化水素は水添軽ナフテン系石油留出物約９９．７％を含む。水素添加触媒系はトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライド；ＨＲｕ(Ｃ2Ｈ4) (Ｃ6Ｈ4ＰＰｈ2) (ＰＰｈ3)2 のような溶解された状態の貴金属；ロジウム、クロム、燐トリフェニルクロライド化合物を含むウイルキンソン(Wilkinson )の触媒；およびその他の類似の化合物を含むことができる。
【００１４】
【発明の詳細な記述】
本発明の一観点によれば、Ｘ線に露出されると水素原子を放出する炭化水素を含んだ誘電性流体を水素添加する方法は、水素原子と誘電性流体との再結合を促進する有効量の触媒系に誘電性流体を露出させることを含む。
本発明の別の観点においては、Ｘ線発生装置内でＸ線に露出されて水素ガスおよび不飽和炭化水素の生成を受ける誘電性流体を水素添加するためのシステムは、誘電性流体内の水素ガスと不飽和炭化水素との反応を促進するために誘電性流体と相互作用して誘電性流体内の水素ガスの量を減少する有効量の触媒系をＸ線発生装置内に位置づけて含んでいる。
【００１５】
本発明の更に別の観点においては、Ｘ線システムは、Ｘ線を発生するためのＸ線発生装置、前記装置を冷却しそして電気的に絶縁するために前記装置の周りに循環されＸ線に露出されたときに水素原子を放出する炭化水素を含んだ誘電性流体、および誘電性流体と連通されていて水素原子の炭化水素との再結合を促進する有効量の触媒系を含んでいる。
【００１６】
本発明の更に他の別の観点においては、誘電性流体は炭化水素成分と水素添加触媒とを含み、Ｘ線発生装置に対する冷却素子として使用するのに適している。誘電性流体は炭化水素約９９．７％、触媒系約０．１％および条件添加剤残部を含むことができる。更に、炭化水素は水添軽ナフテン系石油留出物約９９．７％を含むことができ、触媒はトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライドを含むことができる。
【００１７】
図１および２を参照すれば、本発明は代表的にはＸ線系２０に利用される。代表的なＸ線システム２０は流体ポンプ２２、陽極端２４、陰極端２６および陽極端と陰極端との間に位置づけられた中心部分２８を含んでおり、この中心部分にＸ線発生装置即ちＸ線管３０（図２）が含まれている。Ｘ線発生装置３０は鉛張りケーシング３４（図２）内の流体チャンバ３２中に収納されている。チャンバ３２は典型的には誘電性流体のような流体３６で充填されているが、他の流体を利用することもできる。流体３６はＸ線発生装置３０を冷却し、またＸ線発生装置の真空容器外囲器３８内の高い電荷からケーシング３４を絶縁するためシステム２０内に循環される。冷却流体３６用のラジエータ４０が中心部分２８の一方の側に位置づけられ、動作的に接続されたファン４２および４４を有することにより熱い流体３６がラジエータ内を循環するときにラジエータ上に冷却空気流を提供することができる。システム２０、流体ホース４５およびラジエータ等を通して流体３６を循環するためにポンプ２２が提供されている。システム２０を付勢するために陽極容器４６および陰極容器４８（図２）内に電気的接続が設けられている。
【００１８】
図２を参照すると、Ｘ線システム２０は好ましくはアルミニウムで作られそしてＸ線の通過を阻止するために鉛で内張りされたケーシング３４を含んでいる。システム２０内のＸ線発生装置即ちＸ線管３０は典型的には真空容器外囲器３８中の真空チャンバ５４内に陰極アセンブリ５０および回転式のデスク様ターゲット陽極アセンブリ５２を含んでいる。鉛張りケーシング３４の内部には、回転式デスク様ターゲット陽極アセンブリ５２に対して、真空容器外囲器３８の外に固定子５６が位置づけられている。陰極アセンブリ５０および陽極アセンブリ５２を接続する電気回路を付勢すると、電子の流れ５８が陽極アセンブリに向けて加速される。この電子の流れ５８は陽極アセンブリ５２の表面に衝突して高い周波数の電磁波即ちＸ線６０を発生する。Ｘ線６０は真空チャンバ５４を通過し、透過窓６２を通って真空容器外囲器３８から出ていくように向けられる。あるいは、真空容器外囲器３８がガラス、パイレックス（Pyrex ）あるいは診断レベルの放射線（≧６０，０００電子ボルト）の減衰の少ない物質である場合には、別個に窓６２を必要としない（図示せず）。Ｘ線６０はＸ線発生装置３０とケーシング３４との間の流体３６を通り、そしてベリリウムのようなＸ線透過性物質を含む窓６４を通って進む。窓６４は真空容器外囲器３８内の透過窓６２に対して作用的にケーシング３４内に形成されている。こうして、Ｘ線６０はシステム２０から物体に向けて放出される。
【００１９】
真空容器外囲器３８は高温環境において真空チャンバ５４および回転式陽極アセンブリ５２によって生ずる負荷を構造的に扱うことのできる物質で構成されている。真空容器外囲器３８は周知の製造方法を使用して形成され、上述したように、ガラスまたはパイレックスのようなＸ線透過性物質あるいはステンレス鋼または銅のような非−Ｘ線透過性物質で形成しうる。真空容器外囲器３８はＸ線発生装置３０の環境の高温に耐えることができなければならない。例えば、陽極５２は約５００−１８００℃で作動し、陰極５０は約６００℃までで作動し、そして真空容器外囲器３８は約１２０℃までで作動する。真空容器外囲器３８はチャンバ５４内の動作温度によって、更にＸ線６０、偏向された電子およびＸ線になるのに十分なエネルギーを獲得していない真空チャンバ内の低エネルギー電磁波（図示せず）の吸収によって、加熱される。
【００２０】
流体３６はケーシング３４をＸ線管３０内の非常に高い電圧および電流から電気的に絶縁することができ、またＸ線管を冷却することができる。流体３６は約８０ＫＶ乃至１６０ＫＶの範囲に及びうる電圧および約２５０乃至４００ｍＡの範囲に及びうる電流からの電気的絶縁を与える。加えて、流体３６はＸ線管３０を冷却し、そしてＸ線発生過程からの熱を吸収してＸ線管を所定の動作温度に維持することができる。このような誘電性流体は水添ナフタセン化合物、並びにその他の水添多芳香族化合物を含むことができる。
【００２１】
Ｘ線６０が流体３６を通過すると、Ｘ線からの放射線が流体の分子の化学的分解を引き起こす傾向がある。Ｘ線６０への露出は炭素−炭素（Ｃ−Ｃ）結合および炭素−水素（Ｃ−Ｈ）結合を破壊して、不飽和の分子および遊離の水素原子を生成する傾向があり、この遊離の水素原子はＨ2 ガスを形成する傾向がある。水添ナフタセン化合物を含む流体３６に対して例示すると、反応は次のように進行するものと思われる。
【００２２】
【化１】
0004316732.tif 000002
【００２３】
水添ナフタセンの化学的分解は、Ｈ2 ガスが流体３６内で気泡を発生させて流体を置換してしまうので問題である。電気が気泡を通してケーシング３４にアークを生ずる可能性があるので、こうした気泡および流体のこれによる置換は流体３６の電気絶縁体としての有効性を減少する。加えて、このガスはシステム２０の運転中に形成されるので、このＨ2 ガスを除去するために真空処理による等して予備的に処理することはできない。
【００２４】
本発明はＸ線放射線に露出されて生成された遊離の水素原子およびＨ2 ガスを不飽和分子と有利に再結合するシステムおよび方法を提供するものである。水素添加触媒系６６が流体３６と相互作用するためにＸ線システム２０内に導入される。触媒系６６は不飽和分子と遊離の水素原子およびＨ2 ガスとの間の反応を駆動して、流体３６内の不飽和分子、遊離の水素原子およびＨ2 ガスの量を減少する。水添ナフタセン化合物を含む流体３６に対して例示すると、反応は次のように進行するものと思われる。
【００２５】
【化２】
0004316732.tif 000003
【００２６】
こうして、触媒系６６は遊離の水素原子を流体３６を構成する分子に帰還させ、これによってＨ2 ガスの生成を逆転させて流体の誘電特性を改善する手段を提供する。
本発明は約１０−３００℃の範囲の温度および約０．１−３０気圧の範囲の圧力で反応を駆動することができる。触媒６６はこれによって有益なことにあらゆる水準の動作温度並びにＸ線管３０が活動していないときには周囲条件において流体３６内のＨ2 ガスを減少しそして究極的には実質的に除去することができる。
【００２７】
触媒系６６は流体３６との溶液として、固体の非可溶性物質として、あるいはこれら両方のある種組合せとしてのいずれによっても提供できる。図３および４を参照すると、ポンプ２２およびラジエータ４０を含む流体循環系内のホース４５中に固体触媒６８が準備される。固体触媒６８は触媒物質のストランドのフィルタ様メッシュからなることができる。あるいは、反応条件によっては、固体触媒６８は付着プロセスによるなどして循環系の内張りを形成することができ、また固体触媒上を流体３６が循環するように循環系内に固体触媒を内蔵することができる。適当な固体触媒６８は好ましくは周期律表第VIII族元素またはその化合物を含む。周期律表第VIII族元素には鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金が含まれる。不飽和炭化水素、水素原子およびＨ2 ガスを含む流体３６は固体触媒６８の表面と相互作用して、水素と不飽和炭化水素の再結合をもたらし、これによって流体３６中のＨ2 ガスの量を減少する。
【００２８】
固体触媒６８を使用するときには、固体触媒の触媒的に有効な量は流体３６の１リットル当たり触媒表面積約１−１００ｃｍ2 、好ましくは約１０ｃｍ2 をなし得る。当業者が認識されるように、固体触媒６８の有効な量は使用される触媒のタイプおよび流体３６のタイプにより変動する。この実施の態様では、固体触媒６８はケーシング３４中あるいはラジエータ４０やポンプ２２またはその他の流体循環部品内に設けられる圧延箔、寸断されメッキされた金属、メッキされた内張りなどを含みうる。更に、固体触媒６８は多孔質容器内の固体物質、流体３６が循環して通ることのできるスクリーン又はその他のフィルタ様装置あるいはここに開示されたことを見れば当業者にとって自明であるようなその他の類似した装置上のメッキされた金属でよい。
【００２９】
あるいは別に、触媒系６６は流体３６に溶解された可溶性触媒７０として提供できる。例えば、適当な可溶性触媒７０は流体３６に添加されたトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライドを含むことができる。流体３６に溶解された可溶性触媒７０の他の例にはＨＲｕ(Ｃ2Ｈ4)(Ｃ6Ｈ4ＰＰｈ2)(ＰＰｈ3)2 のような溶解された状態の貴金属；ロジウム、クロム、燐トリフェニルクロライド化合物を含むウイルキンソン(Wilkinson )の触媒；およびその他の類似の化合物が含まれる。可溶性触媒７０の触媒的に有効な量は流体３６の１リットル当たり約０．０１−１グラムをなし得る。誘電性流体は炭化水素約９９．７％、可溶性触媒７０約０．１％および条件添加剤残部を含むことができる。好ましくは、炭化水素は水添軽ナフテン系石油留出物約９９．７％を含み、そして触媒はトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロライドを含むことができる。しかしながら、当業者が認識されるように、可溶性触媒７０の有効量の範囲は使用される触媒のタイプおよび流体３６のタイプにより変動する。
【００３０】
本発明の一つの有利な特徴は流体の作動温度およびシステム２０が休止されているときのような周囲温度のいずれにおいても流体３６中の不飽和分子、遊離水素原子およびＨ2 ガスの量の減少をもたらす点である。周囲温度において流体３６を水素添加する能力が望まれるときには、固体触媒６８は好ましくはパラジウムであるが、しかし白金、ロジウム、イリジウム、オスミウムおよびルテニウムを含むことができる。同様に、上記に論じた種々の可溶性触媒７０も周囲温度において活性であり所望の反応を駆動することができる。この範囲の活性度はニッケルおよびその化合物のような代表的な実用水素添加触媒が使用できない低い水準の温度での流体３６の水素添加を有利に生起させる。
【００３１】
このようにして、本発明はＸ線システム２０内のＸ線管３０を冷却しそして電気的に絶縁するのに使用されて放射線で損傷された流体３６の接触水素添加のための方法および装置を有利に提供する。
本発明はこうした好適な実施の態様に関して記載されたが、他の実施の態様でも同じ結果を達成しうる。本発明の変更および修正は当業者に自明であるから、特許請求の範囲はこうした変更並びに均等物全てが網羅されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】内部にＸ線発生装置即ちＸ線管が位置づけられている代表的なＸ線システムの平面図である。
【図２】部品を一部取り除かれた、Ｘ線発生装置を含んだ図１のＸ線システムの断面図である。
【図３】図１の線３−３に沿って見た断面図である。
【図４】一部が取り除かれて固体触媒を露出している流体ホースの斜視図である。
【図１】
0004316732.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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