(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ｉ）および（ＩＩ）の構造単位：
（Ｉ）下記一般式（１）で表される含フッ素構造単位
（ＩＩ）ラジカル形成基を含む構造単位
【化１】
0004239336.tif 000012
［一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は、相互に独立であって、水素原子、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、アリール基、またはＯＲ５で表わされる基（Ｒ５は、アルキル基、フルオロアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルフルオロアルキル基、フルオロアルコキシカルボニルアルキル基、またはフルオロアルコキシカルボニルフルオロアルキル基である。）であり、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つは、フッ素原子またはフッ素原子を含む基である。］
を含む含フッ素共重合体であって、
下記（Ａ）成分および（Ｂ）成分：
（Ａ）イソシアネート反応性基を有する含フッ素重合体であって、上記一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体
（Ｂ）イソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物
を反応してなることを特徴とする含フッ素共重合体。
【請求項２】
下記（Ｉ）および（ＩＩ）の構造単位：
（Ｉ）下記一般式（１）で表される含フッ素構造単位
（ＩＩ）ラジカル形成基を含む構造単位
【化２】
0004239336.tif 000013
［一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は請求項１で定義した通りである。］
を含む含フッ素共重合体であって、
下記（Ｃ）成分および（Ｄ）成分：
（Ｃ）イソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、上記一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体
（Ｄ）イソシアネート反応性基およびラジカル形成基を有する化合物
を反応してなることを特徴とする含フッ素共重合体。
【請求項３】
下記一般式（１）、（２−１）及び（２−２）で表される構造単位を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の含フッ素共重合体。
【化３】
0004239336.tif 000014
［一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は請求項１で定義した通りであり；一般式（２−１）中、Ｒ６〜Ｒ８は相互に独立であって、水素原子、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、またはアリール基で表される基であり、Ｒ９は、二価の有機基であり、Ｘはラジカル形成基であり；一般式（２−２）中、Ｒ１０〜Ｒ１３は、相互に独立であって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアリール基で表される基（フッ素原子およびフッ素原子を含む基を除く。）である。］
【請求項４】
前記ラジカル形成基が、過酸化物基、過酸化水素基、ペルエステル基、アゾ基及びケトン基からなる群から選択される請求項１〜３のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項５】
当該含フッ素重合体の重量平均分子量を１，０００〜１，０００，０００の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項６】
含フッ素共重合体の主鎖中にポリシロキサン構造単位を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項７】
請求項１および３〜６のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体の製造方法であって、
イソシアネート反応性基を有する重合開始剤、および多価イソシアネート化合物を反応させて、（Ｂ）成分であるイソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物を合成する工程と、
前工程で得られた（Ｂ）成分と、（Ａ）成分であるイソシアネート反応性基を有する含フッ素重合体であって、前記一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体とを反応させる工程と、
を含有することを特徴とする含フッ素共重合体の製造方法。
【請求項８】
請求項２〜６のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体の製造方法であって、
イソシアネート反応性基を有する含フッ素重合体であって、前記一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体と、多価イソシアネート化合物とを反応させて、（Ｃ）成分であるイソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、前記一般式（１）で表される構造単位を有する含フッ素重合体を合成する工程と、
前工程で得られた（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分であるイソシアネート反応性基およびラジカル形成基を有する化合物とを反応させる工程と、
を含有することを特徴とする含フッ素共重合体の製造方法。
【請求項９】
請求項２〜６のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体の製造方法であって、
含フッ素ビニル単量体と、イソシアネート基含有ビニル単量体とを共重合反応させて、（Ｃ）成分であるイソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、前記一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体を共重合する工程と、
前工程で得られた（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分であるイソシアネート反応性基およびラジカル形成基を有する化合物とを反応させる工程と、
を含有することを特徴とする含フッ素共重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、含フッ素重合体、およびその製造方法に関する。より詳細には、反射防止膜等の用途において、（メタ）アクリル化合物等の熱重合や放射線重合に適するとともに、得られる重合物中へフッ素原子を容易に導入することが可能な含フッ素重合体、およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、反射防止膜積層体における反射防止膜の用途において、含フッ素重合体と、オルガノジメチルシロキサン重合体とを反応してなる含フッ素グラフト共重合体が使用されており、この種の含フッ素グラフト共重合体を用いた反射防止膜が、例えば、特開昭５６−２８２１９号公報に開示されている。
しかしながら、かかる含フッ素グラフト共重合体を用いた反射防止膜は、硬化剤を含んでいないために、基材に対する密着力や、あるいは耐溶剤性や耐擦傷性が乏しいという問題が見られた。
【０００３】
そこで、出願人は、特開平１１−２２８６３１号公報にて、特定の含フッ素重合体と、メチロール化メラミン化合物とからなる硬化性樹脂組成物、およびそれを用いて加熱硬化させた反射防止膜を提案している。かかる反射防止膜は、透明性や耐擦傷性に優れ、さらには低屈折率であるという特性を有している。
しかしながら、反射防止膜の製造上、加熱硬化、および放射線硬化のいずれも可能な硬化性樹脂組成物の出現が望まれていた。
【０００４】
そこでまた、出願人は、特願平１１−１１９６１１号公報において、特定の含フッ素重合体と、多官能（メタ）アクリレートと、放射線重合開始剤とからなる硬化性樹脂組成物、およびそれを用いて加熱硬化させた反射防止膜を提案している。かかる反射防止膜は、熱硬化型の反射防止膜の特性に加え、放射線硬化が可能な反面、硬化速度が速く、生産性にも優れるという特性を有している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、反射防止膜の製造上、含フッ素重合体と、多官能（メタ）アクリレートとの相溶性にさらに優れた硬化性樹脂組成物が望まれており、しかも、このような硬化性樹脂組成物に使用される放射線重合開始剤として、多官能（メタ）アクリレートの重合に使用するだけで、フッ素原子を導入することができる放射線重合開始剤の出現が望まれていた。
そこで、本発明者らは、さらに鋭意検討した結果、例えば、（Ａ）イソシアネート反応性基を有する含フッ素共重合体と、（Ｂ）イソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物とを反応させた含フッ素重合体等を用いることにより、（メタ）アクリル化合物等を容易に熱重合したり、放射線重合することが可能であり、しかも、このような含フッ素重合体を用いて（メタ）アクリル化合物等を重合するだけで、当該（メタ）アクリル化合物等の重合物中へ、所定量のフッ素原子を容易に導入出来ることを見出した。
すなわち、本発明は、（メタ）アクリル化合物等の熱重合や放射線重合に適するとともに、得られる重合物（硬化物）中へのフッ素原子の導入が容易な含フッ素重合体、およびその製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記（Ｉ）および（ＩＩ）の構造単位：
（Ｉ）下記一般式（１）で表される含フッ素構造単位
（ＩＩ）ラジカル形成基を含む構造単位
【０００７】
【化３】
0004239336.tif 000002
【０００８】
［一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は、相互に独立であって、水素原子、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、アリール基、またはＯＲ５で表わされる基（Ｒ５は、アルキル基、フルオロアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルフルオロアルキル基、フルオロアルコキシカルボニルアルキル基、またはフルオロアルコキシカルボニルフルオロアルキル基である。）であり、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つは、フッ素原子またはフッ素原子を含む基である。］
を含む含フッ素共重合体であって、
下記（Ａ）成分および（Ｂ）成分：
（Ａ）イソシアネート反応性基を有する含フッ素重合体であって、上記一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体
（Ｂ）イソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物
を反応してなることを特徴とする含フッ素共重合体に関する。
【０００９】
このように含フッ素重合体を構成すると、フッ素原子とラジカル形成基とを重合開始剤に同時に存在させることが可能となり、（メタ）アクリル化合物等に対して容易に重合反応を行なうことができる。
【００１０】
また、本発明の別の態様は、下記一般式（１）、（２−１）及び（２−２）で表される構造単位を含む含フッ素重合体である。なお、下記一般式（１）、（２−１）及び（２−２）で示される各構造単位は、ランダムに共重合していても、あるいはブロック共重合していてもよい。
【００１１】
【化４】
0004239336.tif 000003
【００１２】
［一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は上記で定義した通りであり；一般式（２−１）中、Ｒ６〜Ｒ８は相互に独立であって、水素原子、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、またはアリール基で表される基であり、Ｒ９は、二価の有機基であり、Ｘはラジカル形成基であり；一般式（２−２）中、Ｒ１０〜Ｒ１３は、相互に独立であって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアリール基で表される基（フッ素原子およびフッ素原子を含む基を除く。）である。］
【００１３】
また、本発明の別の態様は、下記（Ｉ）および（ＩＩ）の構造単位：
（Ｉ）下記一般式（１）で表される含フッ素構造単位
（ＩＩ）ラジカル形成基を含む構造単位
【化５】
0004239336.tif 000004
【００１４】
［一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は請求項１で定義した通りである。］
を含む含フッ素共重合体であって、
下記（Ｃ）成分および（Ｄ）成分：
（Ｃ）イソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、上記一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体
（Ｄ）イソシアネート反応性基およびラジカル形成基を有する化合物
を反応してなることを特徴とする含フッ素共重合体に関する。
【００１５】
このように含フッ素重合体を構成すると、（Ｂ）成分あるいは（Ｄ）成分が有するラジカル形成基を起点として、（メタ）アクリル化合物等を熱重合したり放射線重合することができる。したがって、当該含フッ素重合体を用いて、（メタ）アクリル化合物等を重合することにより、本来相溶性に乏しい（メタ）アクリル化合物等と、（Ａ）成分が有する含フッ素構造単位とが強固に結合した硬化物を得ることができる。すなわち、反射防止膜等の用途において、優れた耐擦傷性、耐溶剤性、透明性等の特性を効果的に得ることができる。
また、かかる含フッ素重合体を用いて、（メタ）アクリル化合物等を放射線重合等することにより、所定量のフッ素原子を容易かつ正確に導入することができる。したがって、製造工程が少なくなるとともに、反射防止膜等の用途において、優れた反射防止性能を得ることができる。
【００１６】
また、本発明の含フッ素重合体を構成するにあたり、含フッ素重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量を１，０００〜１，０００，０００の範囲内の値とすることが好ましい。
このように含フッ素重合体を構成することにより、（メタ）アクリル化合物等との相溶性や、ラジカル重合性がより良好となる。
【００１７】
また、本発明の含フッ素重合体を構成するにあたり、ポリシロキサン構造単位を有することが好ましい。
このように含フッ素重合体を構成すると、（メタ）アクリル化合物等を重合させた場合に、表面平滑性や表面摺動性に優れた硬化物を得ることができる。
【００１８】
また、本発明の別の態様は、以下に示す第１〜第３の含フッ素重合体の製造方法に関する。
このように製造することにより、（メタ）アクリル化合物等を容易に熱重合や放射線重合することができるとともに、重合に使用するだけで、得られる硬化物中に所定量のフッ素原子を容易に導入できる含フッ素重合体を得ることができる。
【００１９】
（１）第１の含フッ素重合体の製造方法
第１の製造方法は、イソシアネート反応性基を有する重合開始剤（以下、ｂ１成分と称する。）、および多価イソシアネート化合物（以下、ｂ２成分と称する。）を反応させて、（Ｂ）成分であるイソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物を合成する工程（以下、第１Ａの工程と称する。）と、
前工程で得られた（Ｂ）成分と、（Ａ）成分であるイソシアネート反応性基を有する含フッ素重合体であって一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体とを反応させる工程（以下、第２Ａの工程と称する。）と、
を含有する。
【００２０】
（２）第２の含フッ素重合体の製造方法
第２の製造方法は、イソシアネート反応性基を有する含フッ素重合体であって、一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体（以下、ｃ１成分と称する。）と、多価イソシアネート化合物（以下、ｃ２成分と称する。）とを反応させて（Ｃ）成分であるイソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、一般式（１）で表される構造単位を有する含フッ素重合体を合成する工程（以下、第１Ｂの工程と称する。）と、
前工程で得られた（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分であるイソシアネート反応性基およびラジカル形成基を有する化合物とを反応させる工程（以下、第２Ｂの工程と称する。）と、
を含有する。
【００２１】
（３）第３の含フッ素重合体の製造方法
第３の製造方法は、含フッ素ビニル単量体（以下、ｃ３成分と称する。）と、イソシアネート基含有ビニル単量体（以下、ｃ４成分と称する。）とを共重合反応させて、（Ｃ）成分であるイソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体を共重合する工程（以下、第１Ｃの工程と称する。）と、
前工程で得られた（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分であるイソシアネート反応性基およびラジカル形成基を有する化合物とを反応させる工程（以下、第２Ｃの工程と称する。）と、
を含有する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明における、含フッ素重合体に関する実施形態（第１〜第３の実施形態）、含フッ素重合体の製造方法に関する実施形態（第４〜第６の実施形態）、および含フッ素重合体の使用方法に関する実施形態（第７の実施形態）をそれぞれ具体的に説明する。
【００２３】
［第１の実施形態］
第１の実施形態は、下記構造単位（Ｉ）および（II）を含む含フッ素重合体である。
（Ｉ）  一般式（１）で表される含フッ素構造単位
（II）ラジカル形成基を含む構造単位
なお、当該含フッ素重合体は、例えば、一般式（２）で表わされる構造を有することが好ましい。
【００２４】
（１）構造単位（Ｉ）
▲１▼具体例
構造単位（Ｉ）である一般式（１）で表される含フッ素構造単位としては、フッ素原子またはフッ素原子を含む基が存在し、一般式（１）で表される構造単位を有するものであれば特に制限されるものではないが、例えば、下記式（３）に示すような構造単位の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００２５】
【化５】
0004239336.tif 000005
【００２６】
また、このような構造単位（Ｉ）は、含フッ素ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。
好ましい含フッ素ビニル単量体としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン等のフルオロオレフィン類；
アルキルパーフルオロビニルエーテル類もしくはアルコキシアルキルパーフルオロビニルエーテル類；
パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（ブチルビニルエーテル）、パーフルオロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類；
パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；
トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート等のフッ素含有（メタ）アクリレート類等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの含フッ素ビニル単量体のうち、特にフルオロオレフィン類、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類、またはパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類が含フッ素量の調整が容易であって、反応性に優れていることからより好ましく、具体的には、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロプロピルビニルエーテルまたはパーフルオロプロポキシプロピルビニルエーテル等が挙げられる。
【００２７】
▲２▼構造単位（Ｉ）の含有量
また、構造単位（Ｉ）の含有量を、含フッ素重合体の全体量を１００モル％としたときに、０〜９９モル％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる構造単位（Ｉ）の含有量が、９９モル％を超えると、含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性や透明性、あるいは、基材への密着性が低下する場合があるためである。
したがって、硬化物の屈折率と、有機溶剤への溶解性等とのバランスがより良好となることから、構造単位（Ｉ）の含有量を、含フッ素重合体の全体量に対して、２５〜６５モル％の範囲内の値とすることがより好ましく、３０〜６０モル％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、当該構造単位（Ｉ）は、含フッ素重合体における任意成分である。したがって、かかる構造単位（Ｉ）が含フッ素重合体に含まれない場合には、ラジカル形成基を含む構造単位中に、フッ素原子またはフッ素原子を含む基を有することになる。
【００２８】
▲３▼含フッ素重合体
また、構造単位（Ｉ）は、含フッ素重合体（後述するイソシアネート反応性基含有ビニル単量体を重合成分として含む。以下、同様である。）に含まれている。
このような含フッ素重合体の分子量については、特に制限されるものではないが、例えば、ＧＰＣによるポリスチレン換算における重量平均分子量を１，０００〜１，０００，０００の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる重量平均分子量が１，０００より小さいと、結果として、得られる含フッ素重合体の分子量も小さくなり、得られる硬化物の反射防止性や耐擦傷性等が低下する場合があるためであり、一方、１，０００，０００を超えると、粘度が過度に高くなり取り扱い困難となる場合があるためである。したがって、含フッ素重合体の重量平均分子量を１０，０００〜３００，０００の範囲内の値とすることがより好ましく、２０，０００〜２００，０００の範囲内の値とすることがより好ましい。
【００２９】
また、かかる含フッ素重合体中のフッ素含量についても、特に制限されるものではないが、例えば、４０重量％以上の値とすることが好ましく、４５重量％以上の値とすることがより好ましい。かかるフッ素含量が４０重量％未満となると、屈折率が大きくなり、反射防止膜等としての特性を発揮できない場合があるためである。
なお、含フッ素重合体中のフッ素含量は、アリザリンコンプレクソン法を用いて測定することができる。フッ素含量の定量については、以下同様である。
【００３０】
また、かかる含フッ素重合体の製造方法についても、特に制限されるものではないが、重合開始剤を用いて、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法または溶液重合法等により得ることができる。また、これらの重合操作としても、回分式、半連続式または連続式の操作方式等から適宜選択することができる。さらに、重合条件についても特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度で、１〜１００時間の条件で重合することが好ましい。
また、含フッ素重合体を製造するに際して、均一に反応させることが可能なことから有機溶剤を用いることが好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、酢酸エチル等のエステル類；メチルエチルケトンやメチルイソブチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；トルエン等の芳香族炭化水素類を挙げることができる。
【００３１】
その他、含フッ素重合体を重合するに際して、重合開始剤として、アゾ基がポリジメチルシロキサンで連結したアゾ開始剤を使用することも好ましい。例えば、ＶＰＳ１００１やＶＰＳ０５０１（和光純薬工業（株）製）を用いると、含フッ素重合体中にポリジメチルシロキサン構造単位を含むことができる。
また、別の重合開始剤として、アゾ基がポリエチレングリコールで連結したアゾ開始剤を使用することも好ましい。例えば、ＶＰＥ０２０１（和光純薬工業（株）製）を用いると、含フッ素重合体中に、ポリエチレングリコールの構造単位を含むことができる。
【００３２】
さらに、含フッ素重合体には、一般式（１）で表される構造単位以外の構造単位、すなわち、フッ素原子およびフッ素原子を含まない構造単位を有することも好ましい。
このようなフッ素原子等を含まない構造単位を導入することにより、得られる含フッ素重合体の、屈折率や密着性等の特性を容易に変更することができる。
【００３３】
したがって、例えば、上述した含フッ素ビニル単量体以外に、フッ素原子およびフッ素原子を含まないフッ素ビニル単量体（以下、非フッ素ビニル単量体）を共重合することにより、一般式（１）で表される構造単位以外の構造単位を導入した含フッ素重合体とすることが好ましい。
このような非フッ素ビニル単量体としては、例えば、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ペンチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル等のビニルエーテル類、エチルアリルエーテル、ブチルアリルエーテル等のアリルエーテル類、または２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、４−イソシアネートブチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルイソシアネート、ジメチルメタイソプロペニルベンジルイソシアネート等のイソシアネート基含有ビニル単量体等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせを共重合することが好ましい。
また、このような非フッ素ビニル単量体の構造単位量を、上述した含フッ素重合体の全体量を１００モル％としたときに、７０モル％以下の値とすることが好ましく、１５〜６５モル％の範囲内の値とすることがより好ましく、３０〜６０モル％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３４】
（３）構造単位（II）
▲１▼ラジカル形成基
構造単位（II）には、少なくとも１つ以上のラジカル形成基、例えば、過酸化物基、過酸化水素基、ペルエステル基、アゾ基、ケトン基等を含むことが好ましく、特に光吸収性が優れており、放射線照射により容易に分解してラジカルを発生することができることからケトン基を有することがより好ましい。
また、このようなラジカル形成基は、複数の官能基を含んだ二価以上の有機基を介して、含フッ素重合体等に結合していることが好ましい。そして、かかる二価以上の有機基を介する結合としては、例えば、ウレタン結合、エステル結合、尿素結合等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００３５】
また、構造単位（II）中のラジカル形成基量については、ラジカルの発生性を考慮して定めることが好ましいが、構造単位（II）の全体量を１００ｍｏｌ％としたときに、例えば、０．１〜９５ｍｏｌ％の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかるラジカル形成基量が０．１ｍｏｌ％未満の値となると、ラジカルの発生性が低下して、含フッ素重合体との反応性が著しく低下する場合があるためであり、一方、かかるラジカル形成基量が９５ｍｏｌ％を超えると、ラジカル反応を制御することが困難となる場合があるためである。
したがって、構造単位（II）中のラジカル形成基量を、構造単位（II）の全体量を１００ｍｏｌ％としたときに、１〜９０ｍｏｌ％の範囲内の値とすることがより好ましく、１０〜７０ｍｏｌ％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３６】
▲２▼構造単位（II）の含有量
また、構造単位（II）の含有量は、ラジカルの発生性を考慮して定めることが好ましいが、含フッ素重合体の全体量を１００ｍｏｌ％としたときに、例えば、１〜１００ｍｏｌ％の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる構造単位が１ｍｏｌ％未満の値となると、ラジカルの発生性が低下して、（メタ）アクリル化合物等との反応性が著しく低下する場合があるためであるためである。
したがって、含フッ素重合体中の構造単位（II）の含有量を、含フッ素重合体の全体量を１００ｍｏｌ％としたときに、５〜９０ｍｏｌ％の範囲内の値とすることがより好ましく、１０〜７０ｍｏｌ％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、含フッ素重合体中に、構造単位（Ｉ）を含まず、ラジカル形成基を含む構造単位（II）のみから構成される場合には、かかる構造単位（II）中に少なくとも１つ以上のフッ素原子またはフッ素原子を含む基を有することになる。
【００３７】
（２）分子量
次に、含フッ素重合体の分子量について説明する。かかる含フッ素重合体の分子量は、所定量の分子量を有するものであれば特に制限されるものではないが、例えば、ＧＰＣによるポリスチレン換算における重量平均分子量を１，０００〜１，０００，０００の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる重量平均分子量が、１，０００より小さいと、（メタ）アクリル化合物等を重合させた場合に得られる硬化物の反射防止性や耐擦傷性等が低下する場合があるためである。一方、かかる重量平均分子量が、１，０００，０００を超えると、（メタ）アクリル化合物を重合させる場合に、均一に分散させることが困難となったり、あるいは相溶性が低下する場合があるためである。
したがって、反射防止膜の用途に用いる場合、当該含フッ素重合体の重量平均分子量を５，０００〜３００，０００の範囲内の値とすることがより好ましく、１０，０００〜２００，０００の範囲内の値とすることがより好ましい。
【００３８】
（３）残留イソシアネート基含量
次に、含フッ素重合体における残留イソシアネート基含量について説明する。かかる残留イソシアネート基含量についても、特に制限されるものではないが、例えば、ジブチルアミンを用いた滴定により測定される残留イソシアネート基含量を０．１ｍｍｏｌ／ｇ以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる残留イソシアネート基含量が、０．１ｍｍｏｌ／ｇを超えると、著しく保存安定性が低下し、（メタ）アクリル化合物等の重合の際に使用可能な含フッ素重合体量が制限される場合があるためである。
したがって、含フッ素重合体における残留イソシアネート基含量を、単位重量当たり、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以下の値とすることがより好ましい。
【００３９】
（４）フッ素含量
次に、含フッ素重合体におけるフッ素含量について説明する。かかるフッ素含量についても、特に制限されるものではないが、例えば、１０〜８０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるフッ素含量が１０重量％未満となると、屈折率の値が大きくなり、反射防止膜等の用途に使用することが困難となる場合があるためである。また、かかるフッ素含量が８０重量％を超えると、含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性や透明性、あるいは、基材への密着性が低下する場合があるためである。
したがって、屈折率の値と、有機溶剤への溶解性等とのバランスがより良好となることから、含フッ素重合体におけるフッ素含量を２０〜６０重量％の範囲内の値とすることがより好ましい。
【００４０】
［第２の実施形態］
第２の実施形態は、下記（Ａ）成分および（Ｂ）成分を反応してなる含フッ素重合体に関する。
（Ａ）イソシアネート反応性基を有する含フッ素重合体であって、一般式（１）で表わされる含フッ素構造単位を有する含フッ素重合体
（Ｂ）イソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物
【００４１】
（１）（Ａ）成分
（Ａ）成分の含フッ素重合体としては、以下のイソシアネート反応性基および含フッ素構造単位を有することが好ましい。また、（Ａ）成分の含フッ素重合体は、以下の分子量や、フッ素含量を有することが好ましい。なお、任意であるが、（Ａ）成分の含フッ素重合体は、以下のシロキサン構造単位を含むことも好ましい。
【００４２】
▲１▼イソシアネート反応性基
（Ａ）成分が有するイソシアネート反応性基としては、イソシアネート基と反応可能な基であれば特に制限されるものではないが、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００４３】
このようなイソシアネート反応性基は、イソシアネート反応性基含有ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。例えば、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、４−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル、２−ジエチルアミノエチルビニルエーテル、アミノプロピルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせを用いることができる。
【００４４】
なお、上述したイソシアネート反応性基含有ビニル単量体に由来する構造単位量を、含フッ素重合体の全体量１００モル％に対して、１〜１００モル％の範囲内の値とすることが好ましく、２〜５０モル％の範囲内の値とすることがより好ましく、３〜３０モル％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
この理由は、かかる構造単位量が、１０モル％未満となると、（Ｂ）成分との反応性が著しく低下する場合があるためである。一方、かかる構造単位量が、７０モル％を超えると、得られる硬化物における屈折率の値が高くなる場合があるためである。
【００４５】
また、（Ａ）成分に含まれるイソシアネート反応性基含量については、（Ｂ）成分との反応性を考慮して定めることが好ましいが、具体的に、０．１〜１００ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかるイソシアネート反応性基含量が０．１ｍｍｏｌ／ｇ未満の値となると、（Ｂ）成分との反応性が著しく低下する場合があるためであり、一方、かかるイソシアネート反応性基含量が１００ｍｍｏｌ／ｇを超えると、含フッ素重合体の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、（Ａ）成分に含まれるイソシアネート反応性基含量を０．２〜５０ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜２０ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、イソシアネート反応性基含量は、例えば水酸基の場合は、水酸基価（（Ａ）成分１ｇを無水酢酸を用いてアセチル化した場合の、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇ数）により表現することができる。
【００４６】
▲２▼含フッ素構造単位
（Ａ）成分が有する一般式（１）で表わされる含フッ素構造単位は、第１の実施形態で説明した内容と同様とすることができる。したがって、含フッ素ビニル単量体と、あるいは任意で、非フッ素ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。
【００４７】
▲３▼シロキサン構造単位
（Ａ）成分である含フッ素重合体は、ポリシロキサン構造単位、例えば、下記一般式（４）で表されるポリシロキサン構造単位を有することが好ましい。このようにポリシロキサン構造単位を導入すると、（メタ）アクリル化合物等を重合させた場合に、表面平滑性や表面摺動性に優れた硬化物を得ることができるためである。
【００４８】
【化６】
0004239336.tif 000006
【００４９】
［一般式（４）中、Ｒ14およびＲ15は相互に独立であり、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、またはアリール基で表される基であり、ｑは４〜３００の整数である。］
【００５０】
また、ポリシロキサン構造単位の含有量を、（Ａ）成分の全体量を１００モル％としたときに、０．０１〜３０モル％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるポリシロキサン構造単位量が、０．０１モル％未満となると、添加効果が発現しない場合があるためであり、一方、かかるポリシロキサン構造単位量が３０モル％を超えると、（Ａ）成分の有機溶剤への溶解性、透明性、あるいは、基材への密着性が低下する場合があるためである。
したがって、ポリシロキサン構造単位量を、（Ａ）成分の全体量を１００モル％としたときに、０．０５〜２０モル％の範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜１０モル％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５１】
▲４▼分子量
（Ａ）成分の分子量については、ポリスチレン換算における重量平均分子量を例えば、１，０００〜１，０００，０００の範囲内の値とすることが好ましい。
なお、特に、反射防止膜の用途に用いる場合は当該重量平均分子量を３，０００〜７００，０００の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる重量平均分子量が、反射防止膜の場合は３，０００より小さくなると、得られる含フッ素重合体の分子量が小さくなり、したがって、得られる反射防止膜の反射防止性や耐擦傷性等が低下する場合があるためである。一方、かかる重量平均分子量が７００，０００を超えると、粘度が過度に高くなり取り扱い困難となる場合があるためである。
したがって、反射防止膜の用途に用いる場合、含フッ素重合体の重量平均分子量を５，０００〜３００，０００の範囲内の値とすることがより好ましく、１０，０００〜２００，０００の範囲内の値とすることがより好ましい。
【００５２】
▲５▼フッ素含量
（Ａ）成分のフッ素含量についても、特に制限されるものではないが、例えば、４０重量％以上の値とすることが好ましく、４５重量％以上の値とすることがより好ましい。
この理由は、かかるフッ素含量が４０重量％未満となると、（Ａ）成分の屈折率の値が大きくなり、結果として、反射防止膜等の用途に使用することが困難となる場合があるためである。
【００５３】
（２）（Ｂ）成分
（Ｂ）成分としては、以下のイソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物であることが好ましい。なお、（Ｂ）成分の具体例としては、後述する第４の実施形態における第１Ａの工程において説明するように、イソシアネート反応性基を有する重合開始剤（ｂ１成分）と、多価イソシアネート化合物（ｂ２成分）とを反応させて得られる化合物等が挙げられる。
【００５４】
▲１▼イソシアネート基
（Ｂ）成分は、分子内にイソシアネート基を有することにより、（Ａ）成分が有するイソシアネート反応性基、例えば、水酸基と容易に反応することができる。
また、（Ｂ）成分に含まれるイソシアネート基含量については（Ａ）成分との反応性や保存安定性を考慮して定めることが好ましいが、具体的に、０．１〜１００ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるイソシアネート基含量が０．１ｍｍｏｌ／ｇ未満の値となると、（Ａ）成分との反応性が著しく低下する場合があるためであり、一方、かかるイソシアネート基含量が１００ｍｍｏｌ／ｇを超えると、含フッ素重合体の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、（Ｂ）成分に含まれるイソシアネート基含量を０．２〜５０ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜２０ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５５】
▲２▼ラジカル形成基
（Ｂ）成分が有するラジカル形成基の種類や含有量としては、第１の実施形態で説明した内容と同様とすることができる。したがって、ラジカル形成基として、例えば、ケトン基を有することが好ましく、また、（Ｂ）成分の全体量を１００ｍｏｌ％としたときに、ラジカル形成基の含有量を、例えば、０．１〜９５ｍｏｌ％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００５６】
（３）分子量、残留イソシアネート基含量およびフッ素含量
第２の実施形態の含フッ素重合体についての分子量、残留イソシアネート基含量およびフッ素含量については、第１の実施形態で説明した内容と同様とすることができる。
【００５７】
［第３の実施形態］
第３の実施形態は、下記（Ｃ）成分および（Ｄ）成分を反応してなる含フッ素重合体に関する。
（Ｃ）イソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、一般式（１）で表わされる含フッ素構造単位を有する含フッ素重合体
（Ｄ）イソシアネート反応性基およびラジカル形成基を有する化合物
【００５８】
このように含フッ素重合体を構成することにより、第１の実施形態と同様に、（メタ）アクリル化合物等を容易に熱重合や放射線重合することができるとともに、重合に使用するだけで、得られる硬化物中に所定量のフッ素原子を容易に導入することができる。
なお、第３の実施形態と第２の実施形態との相違は、反応に関与するイソシアネート基およびイソシアネート反応性基が含まれる化合物が逆になっている点である。例えば、イソシアネート基が、第２の実施形態では、ラジカル形成基を有する化合物に含有されているが、第３の実施形態では、含フッ素重合体に含有されているものである。また、イソシアネート反応性基については、第２の実施形態では、含フッ素重合体に含有されているが、第３の実施形態では、ラジカル形成基を有する化合物に含有されているものである。
【００５９】
（１）（Ｃ）成分
（Ｃ）成分の含フッ素重合体としては、以下のイソシアネート基および含フッ素構造単位等を有することが好ましい。
▲１▼イソシアネート基
（Ｃ）成分は、分子内にイソシアネート基を有することにより、（Ｄ）成分が有するイソシアネート反応性基、例えば、水酸基と容易に反応することができる。
また、（Ｃ）成分に含まれるイソシアネート基含量については（Ｄ）成分との反応性や保存安定性を考慮して定めることが好ましいが、具体的に、０．１〜１００ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかるイソシアネート基含量が０．１ｍｍｏｌ／ｇ未満の値となると、（Ｄ）成分との反応性が著しく低下する場合があるためであり、一方、かかるイソシアネート基含量が１００ｍｍｏｌ／ｇを超えると、含フッ素重合体の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、（Ｃ）成分に含まれるイソシアネート基含量を０．２〜５０ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜２０ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６０】
▲２▼含フッ素構造単位等
第３の実施形態における（Ｃ）成分の含フッ素構造単位、他のビニル単量体、シロキサン構造単位、分子量、フッ素含量、製造方法については、第２の実施形態の（Ａ）成分である含フッ素重合体と同様の内容とすることができる。
【００６１】
（２）（Ｄ）成分
（Ｄ）成分の化合物としては、以下のイソシアネート反応性基およびラジカル形成基等を有することが好ましい。
なお、（Ｄ）成分の具体例としては、後述する第４の実施形態における第１Ａの工程において説明するように、イソシアネート反応性基を有する重合開始剤（ｂ１成分）等が挙げられる。
【００６２】
▲１▼イソシアネート反応性基
（Ｄ）成分は、分子内にイソシアネート反応性基、例えば、水酸基を有することにより、（Ｃ）成分が有するイソシアネート基に対して、容易に反応させることができる。
また、（Ｄ）成分に含まれるイソシアネート反応性基含量については（Ｃ）成分との反応性や保存安定性を考慮して定めることが好ましいが、具体的に、０．１〜１００ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかるイソシアネート反応性基含量が０．１ｍｍｏｌ／ｇ未満の値となると、（Ｃ）成分との反応性が著しく低下する場合があるためであり、一方、かかるイソシアネート反応性基含量が１００ｍｍｏｌ／ｇを超えると、含フッ素重合体の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、（Ｄ）成分に含まれるイソシアネート反応性基含量を０．２〜５０ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜２０ｍｍｏｌ／ｇの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６３】
▲２▼ラジカル形成基
（Ｄ）成分が有するラジカル形成基については、第２の実施形態の（Ｂ）成分が有するラジカル形成基と同様の内容とすることができる。
【００６４】
［第４の実施形態］
第４の実施形態は、第２の実施形態である含フッ素重合体の製造方法（第１の製造方法と称する場合がある。）に関しており、以下の第１Ａの工程と、第２Ａの工程とからなることを特徴とした製造方法である。
【００６５】
▲１▼第１Ａの工程
イソシアネート反応性基を有する重合開始剤（ｂ１成分）と、多価イソシアネート化合物（ｂ２成分）とを反応させて、（Ｂ）成分であるイソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物を合成する工程である。
▲２▼第２Ａの工程
第１の工程で得られた（Ｂ）成分と、（Ａ）成分であるイソシアネート反応性基および一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体とを反応させて、含フッ素重合体を合成する工程である。
【００６６】
（１）第１Ａの工程
▲１▼イソシアネート反応性基を有する重合開始剤
第１Ａの工程で使用されるイソシアネート反応性基を有する重合開始剤（ｂ１成分）としては、水酸基含有ラジカル重合開始剤、アミノ基含有ラジカル重合開始剤、あるいはカルボキシル基含有ラジカル重合開始剤等が挙げられる。
【００６７】
ｂ１成分としては、より具体的には、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル−２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、４−（３−ヒドロキシプロピル）−フェニル２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、４−（２−ヒドロキシカルボニルエチル）−フェニル２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、４−（３−ヒドロキシカルボニルプロピル）−フェニル２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、４−（２−ヒドロキシジエトキシ）−フェニル２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４−[２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エトキシ]フェニル−２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、４−（２−トシルオキシエトキシ）−フェニル−２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、４−[２−（Ｎ，Ｎジメチルアンモニウム）−エトキシ]−フェニル−２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン・ペンタフルオロオクタン塩、４−（２−メチルスルホニルオキシエトキシ）−フェニル−２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらのｂ１成分のうち、特に（メタ）アクリル化合物の放射線ラジカル重合性が優れていることから、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンがより好ましい。
【００６８】
▲２▼多価イソシアネート化合物
また、第１Ａの工程で使用される多価イソシアネート化合物（ｂ２成分）としては、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４、４′−ジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４、４′−ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらのｂ２成分のうち、含フッ素重合体を反射防止膜の用途に用いる場合には、特にイソホロンジイソシアネート（以下、ＩＰＤＩと略記する。）を使用することが好ましい。その理由は、ＩＰＤＩを用いて含フッ素重合体を作成すると屈折率が低いものが得られ、その結果、そこから得られる硬化膜も屈折率が低くなるためであり、またイソシアネート反応性基に対して反応性が異なる一級および二級のイソシアネート基を有しているため選択性が高く、結果としてイソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物を容易に得られるためである。
【００６９】
▲３▼反応量
第１Ａの工程において反応させる全体量を１００モル％としたときに、ｂ１成分１０〜９０モル％と、ｂ２成分１０〜９０モル％とを反応させることが好ましい。
この理由は、ｂ１成分の反応量が１０モル％未満となると、含フッ素重合体によるラジカル重合性が低下する場合があるためであり、一方、ｂ１成分の反応量が９０モル％を超えると、含フッ素重合体のラジカル重合性を制御することが困難となる場合があるためである。
さらに、ｂ２成分の反応量が１０モル％未満となると、（Ａ）成分との反応性が低下する場合があるためであり、一方、ｂ２成分の反応量が９０モル％を超えると、未反応の多価イソシアネート量（以下、残留イソシアネート含量と称する場合がある。）が多くなり、含フッ素重合体の保存安定性が低下する場合があるためである。
したがって、反応全体量を１００モル％としたときに、ｂ１成分２０〜８０モル％と、ｂ２成分２０〜８０モル％とを反応させることがより好ましく、ｂ１成分３０〜７０モル％と、ｂ２成分３０〜７０モル％とを反応させることがさらに好ましい。
【００７０】
▲４▼反応条件
また、第１Ａの工程において、ｂ１成分と、ｂ２成分とを反応させるに際して、反応温度を−２０〜７０℃の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、反応温度が−２０℃未満の値となると、反応が不十分となったり、反応時間が過度に長くなる場合があるためであり、一方、反応温度が７０℃を超えると、反応の制御が困難となる場合があるためである。
したがって、かかる反応温度を、−１０〜６０℃の範囲内の値とすることがより好ましく、０〜５０℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、反応温度を−２０〜７０℃の範囲内の値とした場合、反応時間を１０分〜１０時間の範囲内の値とすることが好ましい。また、ｂ２成分の空気中における水分による分解を防ぐために、窒素中で反応させることがより好ましい。
【００７１】
▲５▼触媒
さらに、第１Ａの工程において、ｂ１成分と、ｂ２成分とを反応させるに際して、確実に反応を生じさせるために、反応触媒を使用することが好ましい。
このような反応触媒としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクタノエート等のカルボン酸のアルキルスズ塩、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロオクタン等の有機塩基等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
なお、反応触媒の使用量を、ｂ１成分とｂ２成分との合計量を１００重量部としたときに、０．００１〜１重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
【００７２】
（２）第２Ａの工程
▲１▼（Ａ）成分および（Ｂ）成分
第２Ａの工程で使用する（Ａ）成分および（Ｂ）成分については、第２の実施形態で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００７３】
▲２▼反応量
第２Ａの工程において、（Ａ）成分である含フッ素重合体と、（Ｂ）成分であるイソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物との反応モル比（（Ａ）／（Ｂ））を１：１０〜１００：１の割合として反応させることが好ましい。
この理由は、かかる（Ａ）／（Ｂ）の反応モル比が、１：１０未満となると、含フッ素重合体を用いて得られる硬化物のフッ素含量が低下する場合があるためであり、一方、反応モル比が１００：１を超えると、（Ｂ）成分の添加効果が発現しない場合があるためである。
したがって、かかる（Ａ）／（Ｂ）の反応モル比を２：８〜１００：２の割合として反応させることがより好ましく、３：７〜１００：３の割合として反応させることがさらに好ましい。
【００７４】
▲３▼反応条件
第２Ａの工程において、（Ａ）成分と、（Ｂ）成分とを反応させるに際して、反応温度を０〜９０℃の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる反応温度が０℃未満の値となると、反応が不十分となったり、反応時間が過度に長くなる場合があるためであり、一方、反応温度が９０℃を超えると、反応の制御が困難となる場合があるためである。
したがって、（Ａ）成分と、（Ｂ）成分との反応温度を、１０〜８０℃の範囲内の値とすることがより好ましく、３０〜７０℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、かかる反応温度を、０〜９０℃の範囲内の値とした場合、反応時間を５〜５０時間の範囲内の値とすることが好ましい。また、（Ｂ）成分中のイソシアネート基の空気中における水分による分解を防ぐために、窒素中で反応させることがより好ましい。
【００７５】
▲４▼触媒
さらに、第２Ａの工程において、第１Ａの工程と同様に、（Ａ）成分と、（Ｂ）成分とを反応させるに際して、確実に反応を生じさせるために、ジブチルスズジラウレート等の反応触媒を、（Ａ）成分と、（Ｂ）成分との合計量を１００重量部としたときに、０．００１〜１重量部の範囲内で使用することが好ましい。
【００７６】
［第５の実施形態］
第５の実施形態は、第３の実施形態である含フッ素重合体の製造方法（第２の製造方法と称する場合がある。）に関しており、以下の第１Ｂの工程と、第２Ｂの工程とからなることを特徴とした製造方法である。
▲１▼第１Ｂの工程
イソシアネート反応性基を有する含フッ素重合体であって、一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体（ｃ１成分）と、多価イソシアネート化合物（ｃ２成分）とを反応させて、（Ｃ）成分であるイソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、一般式（１）で表される構造単位を有する含フッ素重合体を合成する工程である。
▲２▼第２Ｂの工程
第１Ｂの工程で得られた（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分であるイソシアネート反応性基を有する重合開始剤とを反応させて含フッ素重合体を合成する工程である。
なお、第５の実施形態と第４の実施形態との製造方法における相違は、反応に関与するイソシアネート基が、ｃ１成分である含フッ素重合体に含有されているか、あるいはｂ１成分であるラジカル形成基を有する化合物に含有されているかという点である。
【００７７】
（１）第１Ｂの工程
▲１▼ｃ１成分およびｃ２成分
第１Ｂの工程で使用するｃ１成分およびｃ２成分は、それぞれ第２の実施形態の（Ａ）成分、および第４の実施形態におけるｂ２成分の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００７８】
▲２▼反応量
第１Ｂの工程において反応させる全体量を１００モル％としたときに、ｃ１成分１０〜９０モル％と、ｃ２成分１０〜９０モル％とを反応させることが好ましい。
【００７９】
▲３▼反応条件
また、第１Ｂの工程において、ｃ１成分と、ｃ２成分とを反応させるに際して、反応温度を０〜９０℃の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる反応温度が０℃未満の値となると、反応が不十分となったり、反応時間が過度に長くなる場合があるためであり、一方、反応温度が９０℃を超えると、反応の制御が困難となる場合があるためである。
なお、反応温度を０〜９０℃の範囲内の値とした場合、反応時間を５〜５０時間の範囲内の値とすることが好ましい。また、ｃ２成分の、空気中の水分による分解を防ぐために、窒素中で反応させることがより好ましい。
【００８０】
▲４▼触媒
さらに、第１Ｂの工程において、ｃ１成分と、ｃ２成分とを反応させるに際して、確実に反応を生じさせるために、第４の実施形態と同様に反応触媒を使用することが好ましい。
【００８１】
（２）第２Ｂの工程
▲１▼（Ｃ）成分および（Ｄ）成分
第２Ｂの工程で使用する（Ｃ）成分および（Ｄ）成分については、第３の実施形態で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００８２】
▲２▼反応条件等
第２Ｂの工程において、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分の反応モル比（（Ｃ）／（Ｄ））、反応条件、触媒については、第４の実施形態における（Ａ）成分および（Ｂ）成分の反応の場合と同様の内容とすることが好ましい。
【００８３】
［第６の実施形態］
第６の実施形態は、第３の実施形態である含フッ素重合体の別の製造方法（第３の製造方法と称する場合がある。）に関しており、以下の第１Ｃの工程と、第２Ｃの工程とからなることを特徴とした製造方法である。
▲１▼第１Ｃの工程
少なくともｃ３成分である含フッ素ビニル単量体と、ｃ４成分であるイソシアネート基含有ビニル単量体とを共重合反応させて、（Ｃ）成分であるイソシアネート基を有する含フッ素重合体であって、一般式（１）で表わされる構造単位を有する含フッ素重合体を共重合する工程である。
▲２▼第２Ｃの工程
第１Ｃの工程で得られた（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分であるイソシアネート反応性基およびラジカル形成基を有する化合物とを反応させて、含フッ素重合体を合成する工程である。
なお、第６の実施形態と第５の実施形態との相違は、（Ｃ）成分の製造方法である。したがって、第６の実施形態において、第５の実施形態とは異なる（Ｃ）成分の製造方法について中心に説明するものとし、同様の内容については、適宜説明を省略するものとする。
【００８４】
（１）第１Ｃの工程
▲１▼含フッ素ビニル単量体
使用する含フッ素ビニル単量体の種類としては、第１の実施形態と同様の内容とすることが好ましい。
【００８５】
▲２▼イソシアネート基含有ビニル単量体
また、イソシアネート基含有ビニル単量体の種類としては、イソシアネート基含有スチレン単量体、２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、４−イソシアネートブチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルイソシアネート、ジメチルメタイソプロペニルベンジルイソシアネート等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００８６】
▲３▼反応量
第１Ｃの工程において反応させる全体量を１００モル％としたときに、ｃ３成分１０〜９０モル％と、ｃ４成分１０〜９０モル％とを反応させることが好ましい。
【００８７】
▲３▼共重合条件
また、第１Ｃの工程において、ｃ３成分と、ｃ４成分とを共重合反応させるに際して、第２の実施形態と同様に、重合開始剤を用いて、例えば、塊状重合法、溶液重合法等の非水系の方法により得ることができる。また、共重合条件についても特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度で、１〜１００時間の条件で溶液重合することが好ましい。
【００８８】
（２）第２Ｃの工程
第５の実施形態で説明した第２Ｂの工程と同様の内容であるため、ここでの説明は省略する。
【００８９】
［第７の実施形態］
第７の実施形態は、第１〜第３の実施形態である含フッ素重合体を用いた硬化性樹脂組成物への使用方法に関する。
【００９０】
（１）主剤
含フッ素重合体の硬化性樹脂組成物への使用にあたり、例えば、主剤としての単官能（メタ）アクリレート化合物および多官能（メタ）アクリレート化合物、あるいはいずれか一方の（メタ）アクリレート化合物に添加することが好ましい。特に、多官能（メタ）アクリレート化合物に添加して硬化性樹脂組成物を組成することにより、反応性を向上させることができる。
【００９１】
このような単官能（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類；
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート類；
メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、プロポキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコール（メタ）アクリレート類；
ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート類；
ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００９２】
また、フッ素含量の調整が容易であり、優れた反射防止性が得られることから、単官能（メタ）アクリレート化合物として、含フッ素（メタ）アクリレートを使用することも好ましい。このような含フッ素（メタ）アクリレートとしては、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００９３】
また、多官能（メタ）アクリレート化合物としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート類；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリヒドロキシエチルトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート等のイソシアヌレートのポリ（メタ）アクリレート類；
トリシクロデカンジイルジメチルジ（メタ）アクリレート等のシクロアルカンのポリ（メタ）アクリレート類；
ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とから得られる（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡの（メタ）アクリレート誘導体類；
３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロオクタンジ（メタ）アクリレート、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−ジ（メタ）アクリロイルプロパン、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジ（メタ）アクリロイルプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド等の含フッ素（メタ）アクリレート類等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの多官能（メタ）アクリレート化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートが特に好ましい。
【００９４】
【実施例】
以下、実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明する。なお、実施例中の部および％は、特に断らない限り重量部および重量％である。
【００９５】
［合成例１］
内容積０．５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブ内を、窒素ガスで十分置換した。次いで、以下の原料をオートクレーブ内に収容した。
パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）：          ２１．３ｇ
（以下、ＦＰＶＥと略記する。）
エチルビニルエーテル：                            ２０．１ｇ
（以下、ＥＶＥと略記する。）
ヒドロキシエチルビニルエーテル：                  １０．６ｇ
（以下、ＨＥＶＥと略記する。）
過酸化ラウロイル：                                  ０．５ｇ
酢酸エチル：                                        ２００ｇ
【００９６】
次いで、ドライアイスおよびメタノールを用いてオートクレーブ内の温度を−５０℃まで冷却した。その後、窒素ガスを再度用いて、オートクレーブ内の酸素を除去するとともに、４８．０ｇのヘキサフルオロプロピレン（以下、ＨＦＰと略記する。）を仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は、４．０×１０５Ｐａを示した。そのまま攪拌しながら、７０℃で２０時間反応を継続させた。そして、圧力が１．５×１０５Ｐａに低下した時点で、オートクレーブを水冷し、反応を停止させた。そのままの状態で放置し、室温に達した後、オートクレーブを開放するとともに、未反応モノマーを放出して、固形分濃度２６．４重量％のポリマー溶液を得た。
得られたポリマー溶液をメタノールに投入し、ポリマーを析出させた。その後、メタノールにて洗浄し、さらに５０℃にて真空乾燥を行い、８８ｇの含フッ素共重合体（以下、含フッ素共重合体１と称する。）を得た。得られた結果を表１に示す。
【００９７】
得られた含フッ素共重合体１につき、ＧＰＣによるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）、ＤＳＣによるガラス転移温度（Ｔｇ）、アリザリンコンプレクソン法によるフッ素含量、および水酸基価をそれぞれ測定した。また、1Ｈ−ＮＭＲ分析、および13Ｃ−ＮＭＲ分析、ＦＴ−ＩＲ分析、並びに測定されたフッ素含量から、含フッ素共重合体１を構成する各単量体成分の割合を決定した。得られた結果を表１に示す。
【００９８】
［合成例２］
表１に示すように、ノニオン性反応性乳化剤として、アデカリアソープＮＥ−３０（旭電化工業（株）製）と、アゾ基含有ポリジメチルシロキサンとして、ＶＰＳ−１００１（和光純薬工業（株）製）とをさらに使用した以外は、合成例１と同様にしてポリシロキサンセグメントを有する含フッ素共重合体（以下、含フッ素共重合体２と称する。）を得た。なお、評価は合成例１の場合と同様に行った。得られた結果を表１に示す。
【００９９】
［合成例３］
攪拌装置、コンデンサー、および温度計を備えたガラスフラスコ内に、下記式（５）で表される４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（以下、ＨＰＨＫと略記する。）１８．６ｇと、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）１５．３６ｇと、メチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫと略記する。）１３６ｇと、ジブチルスズジラウレート（以下、ＤＢＴＬと略記する。）１６６ｍｇとを仕込み、窒素ガス中、４０℃、１時間の条件で反応させて、イソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物（以下、中間体１と称する。）を合成した。
【０１００】
【化７】
0004239336.tif 000007
【０１０１】
なお、得られた中間体１に含まれるイソシネート基含量を、ジブチルアミンのテトラヒドロフラン溶液を用いて滴定することにより測定した。その結果、イソシネート含量として、１．６４ｍｍｏｌ／ｇという値（収率９９．４％）が得られたが、理論計算値である１．６３ｍｍｏｌ／ｇ（収率１００％）という値と良く一致していることを確認した。
また、得られた中間体１につき、1Ｈ−ＮＭＲ測定を行った。その結果、図２に示すように、ＨＰＨＫの芳香環のピークが６．９６ｐｐｍ、８．０７ｐｐｍにそれぞれ観察された。
さらに、得られた中間体１につき、ＦＴ−ＩＲ測定を行った。その結果、図３に示すように、ＨＰＨＫの芳香環の面外伸縮振動７６７ｃｍ-1に、またウレタンのカルボニル基のＣ＝Ｏ伸縮振動が１６６８ｃｍ-1のそれぞれ観測された。
以上の結果より、中間体１がＨＰＨＫとＩＰＤＩとの付加物であることが確認された。
【０１０２】
［合成例４］
合成例３におけるＨＰＨＫのかわりに、下記式（６）で表される２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（以下、ＨＭＰＰと略記する。）を１３．６０ｇ用いるとともに、ＭＩＢＫを１１６．４４ｇ用いたほかは、合成例３と同様に、イソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物（以下、中間体２と称する。）を合成した。
【０１０３】
【化８】
0004239336.tif 000008
【０１０４】
［実施例１］
合成例１で得られた含フッ素共重合体１と、合成例３で得られた中間体１とから、下記式（７）で表される含フッ素重合体を合成した。すなわち、攪拌装置、コンデンサー、および温度計を備えたガラスフラスコ内に、含フッ素重合体１  ３４．８２ｇと、中間体１  ３２．６３ｇと、ＭＩＢＫ８４．０ｇと、ＤＢＴＬ１００ｍｇとを仕込み、窒素ガス中、６０℃、１８時間反応させて、含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体１と称する。）を合成し、以下の評価を行った。
【０１０５】
【化９】
0004239336.tif 000009
【０１０６】
▲１▼反応率
得られた含フッ素重合体１につき、残留イソシネート含量をジブチルアミンのテトラヒドロフラン溶液を用いて滴定することにより測定した。その結果、含フッ素重合体１における残留イソシネート含量は、０．００２ｍｍｏｌ／ｇであり、この値から中間体１の含フッ素重合体に対する反応率を算出したところ、９９％であった。
▲２▼導入ラジカル形成基
得られた含フッ素重合体１につき、ラジカル形成基の導入率を、含フッ素重合体１中のイソシアネート反応性基のモル％と▲１▼の反応率との積から算出したところ、４．０モル％であった。
【０１０７】
▲３▼1Ｈ−ＮＭＲ測定
得られた含フッ素重合体１につき、1Ｈ−ＮＭＲ測定を行った。その結果、図４に示すように、ＨＰＨＫの芳香環のピークが６．９５ｐｐｍ、８．０１ｐｐｍにそれぞれ観察された。
▲４▼ＦＴ−ＩＲ測定
得られた含フッ素重合体１につき、ＦＴ−ＩＲ測定を行った。その結果、図５に示すように、ＨＰＨＫの芳香環の面外伸縮振動が７６７ｃｍ-1に、またウレタンのカルボニル基のＣ＝Ｏ伸縮振動が１６６８ｃｍ-1にそれぞれ観測された。
▲５▼数平均分子量および重量平均分子量
ＧＰＣを用いて、得られた含フッ素重合体１のポリスチレン換算の数平均分子量および重量平均分子量を測定したところ、それぞれ５７，０００および１２５，０００であった。
▲６▼フッ素含量
アリザリンコンプレクソン法により、含フッ素重合体１中のフッ素含量を測定したところ、４３．４重量％であった。
【０１０８】
▲７▼ラジカル重合性
得られた含フッ素重合体１のＭＩＢＫ溶液６．４１ｇ（濃度２７．３重量％）と多官能アクリレートであるトリメチロールプロパントリアクリレート０．３５ｇとを、６３．２ｇのＭＩＢＫに対して、混合機を用いて攪拌溶解させ、固形分濃度３重量％の硬化性樹脂組成物溶液を作成し、これを厚さ３ｍｍのアクリル板上に、ディップコーターを用いて、引き上げ速度２５０ｍｍ／分で塗工後、窒素雰囲気中、露光量が５００ｍＪ／ｃｍ2となるように、露光機を用いて紫外線を照射して硬化塗膜を得た。得られた硬化膜の硬化状態および透明性を以下に示す基準で評価した。結果を表２に示す。
○：硬化膜が透明であって、完全に硬化している。
△：硬化膜が一部不透明であるか、硬化が一部不十分である。
×：硬化膜が不透明であるか、硬化しなかった。
【０１０９】
［実施例２］
合成例３で得られた中間体１の使用量を３２．６３ｇから１２２．３６ｇに増量するとともに、ＭＩＢＫの使用量を８４．０ｇから５９．８ｇに減量したほかは、実施例１と同様に、含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体２と称する。）を合成して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１１０】
［実施例３］
合成例１で得られた含フッ素共重合体１の代りに、合成例２で得られた含フッ素共重合体２を用いたほかは、実施例１と同様に、含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体３と称する。）を合成して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１１１】
［実施例４］
合成例１で得られた含フッ素共重合体１の代りに、合成例２で得られた含フッ素共重合体２を用いたほかは、実施例２と同様に、含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体４と称する。）を合成して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１１２】
［実施例５］
合成例３で得られた中間体１のかわりに、合成例４で得られた中間体２を用いたほかは、実施例１と同様に、含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体５と称する。）を合成して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１１３】
［実施例６］
合成例４で得られた中間体２の使用量を３２．６３ｇから１２２．３６ｇに増量するとともに、ＭＩＢＫの使用量を８４．０ｇから５９．８ｇに減量したほかは、実施例１と同様に、含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体６と称する。）を合成して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１１４】
［実施例７］
合成例１で得られた含フッ素共重合体１の代りに、合成例２で得られた含フッ素共重合体２を用いたほかは、実施例５と同様に、含フッ素重合体（以下、含フ
ッ素重合体７と称する。）を合成して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１１５】
［実施例８］
合成例１で得られた含フッ素共重合体１の代りに、合成例２で得られた含フッ素共重合体２を用いたほかは、実施例６と同様に、含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体８）を合成して、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１１６】
【表１】
0004239336.tif 000010
【０１１７】
【表２】
0004239336.tif 000011
【０１１８】
【発明の効果】
本発明の含フッ素重合体によれば、（メタ）アクリル化合物等との相溶性に優れ、（メタ）アクリル化合物等の熱重合や放射線重合に適するとともに、重合に使用するだけで、得られる重合物中へフッ素原子を導入することができる含フッ素重合体（含フッ素高分子重合開始剤と称する場合がある。）が得られるようになった。
また、本発明の含フッ素重合体の製造方法によれば、（メタ）アクリル化合物等の熱重合や放射線重合に適した含フッ素重合体を効率的に得られるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】イソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物（中間体１）の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。
【図２】イソシアネート基およびラジカル形成基を有する化合物（中間体１）のＦＴ−ＩＲスペクトルを示す図である。
【図３】含フッ素重合体（含フッ素重合体１）の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。
【図４】含フッ素重合体（含フッ素重合体１）のＦＴ−ＩＲスペクトルを示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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