(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金又は金合金の電気めっきを用いた歯科セクター用義歯成形部品、特に歯科フレームの製造方法であって、該電気めっきはパルスめっきにより少なくとも一部の電気めっきが行われ、該電気めっきが亜硫酸金浴から１〜２０A/dm2のパルス電流密度で起き、電流パルスの継続時間が20〜100 msであり、電流インターバルの継続時間が4〜12 msである前記方法。
【請求項２】
パルスめっきにより完全な電気めっきが行われる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
電気めっきが５時間以内の時間で完了する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
電気めっきが３時間以内の時間で完了する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
電気めっきが１〜２時間以内で完了する請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
パルス継続時間率、すなわち、めっきの全継続時間に対する電流を流す時間の比を百分率としたものが少なくとも70％である請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
矩形波又はランプ形の電流パルス、特に鋭角の矩形波電流パルスが使用される請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
パルス電流密度が3〜8 A/dm2である請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記義歯成形部品が少なくとも100μmの厚さでめっきされる請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記義歯成形部品が150〜300μmの厚さでめっきされる請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
電気めっきが水性亜硫酸金浴から起こる請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
亜硫酸金浴が30g/l以上の金濃度を有する請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
亜硫酸金浴が40〜60g/lの金濃度を有する請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
歯科セクター用義歯成形部品を製造するための金又は金合金の電気めっきのためのパルスめっきの使用であって、電気めっきが亜硫酸金浴から１〜２０A/dm2のパルス電流密度で起き、電流パルスの継続時間が20〜100 msであり、電流インターバルの継続時間が4〜12 msである前記使用。
【請求項１５】
少なくとも請求項２〜１３の特徴の一つを有する請求項１４に記載の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、主として電解金属析出（galvanic metal deposition）を用いた歯科セクター（dental sector）用義歯成形部品（prosthetic moulded parts）、特にいわゆる歯科フレームの製造方法、及びその結果得られる義歯成形部品に関する。
【０００２】
電解金属析出は、パルス電流で、すなわち、停止又はインターバルにより遮断された電流パルスで起こり得ることも昔から知られている。そのような金属析出はパルスめっきとも言われる。
【０００３】
先行技術文献としては、例えば、電解めっき及び表面処理パンフレットシリーズにおける“パルスめっき”の巻、ルーズ−ベルラッグ（Leuze-Verlag）、ソールガー（Saulgau），1990がある。
【０００４】
パルス電流を用いる電解金属析出は、主に例えば電気工学及び電子技術分野における薄金属被膜の形成用に使用される。直流電流を用いる析出と比較すると、パルスめっきは、一般にいかなる析出率の増加も生じ得ないことが知られている。
【０００５】
電解金属析出を用いて義歯成形部品を製造することは、歯科セクターでは今や一般的な方法である。使用される用語は、ガルバノフォーミング（galvanoforming）である。主に金のような貴金属が使用される。三次元成形部品／成形体は、さらにプラスチック又はセラミックが上張り（veneer）として適用される公知の歯科及び補綴歯科学（prosthodontic）用に、特にいわゆる歯科フレームとして使用することができる。歯冠類（crowns）及び橋義歯類（bridges）用に使用される成形部品も電解により生産される。電解により析出した成形品を直接使用することもできる。
【０００６】
歯科セクターのガルバノフォーミング用の商業上使用可能な方法及び装置では、適切な被膜厚を有する成形品を得るため、比較的長い電解時間又は電気めっき時間を伴う。これは、とりわけ、得られる被膜には高品質が要求されるという事実によるものである。すなわち、例えば、セラミック上張りの適用に不可欠な耐火安定性（firing stability）を保証できるようにするためには、均質な被膜構造及びかなり均一な被膜厚さを有することが必要とされる。最小限の条件は、多孔性、耐磨耗性、耐蝕性などのような更なる特徴に関しても満たされなければならない。最終的には、析出した被膜は、特に歯科セクターにおいて、例えば、光沢又は表面特性等に関する特別な審美的要求を満たさなければならない。
【０００７】
したがって、通常の電解浴又は電解めっき浴を用いる場合、歯学における通常の義歯成形品の製造のための電解めっき時間は数時間である。例えば、多くのことに使用される本出願人の亜硫酸金浴の場合における電気めっき時間は、インレー類（inlays）、アンレー類（onlays）、歯冠類、橋義歯類などのような通常の成形品の製造に対しては5〜12時間である。
【０００８】
歯科セクターでは、すべて現在公知の、商業的に使用可能な交流電気めっき又は析出によるガルバノフォーミング用の方法及び装置が使用されていることは明らかである。
【０００９】
本発明の課題は、ガルバノフォーミングによる義歯成形部品の製造を更に改良することである。この課題は、特に、析出される被膜の品質を損なうことなく電解めっき時間が減少されることで達成される。最終的には、本発明は、少なくともこれまで知られている義歯と同等の良好な特性を有する義歯を提供することにある。
【００１０】
この課題は、請求項１の特徴を有する方法及び請求項16又は17の特徴を有する義歯により解決される。好ましい実施態様は、従属請求項2〜15及び18において述べられる。そのため、すべての請求項の用語は本明細書の内容の該当部分が参照される。
【００１１】
本発明によれば、前記の方法は、電解析出がパルス電流析出（パルスめっき）により起こることが特徴である。パルスめっきは、電解析出全体の一部の段階だけに現れる。すなわち、その時、直流電流下で少なくとも一つの析出段階がある。しかしながら、好ましくは電解金属析出は、専らパルスめっきにより起こる。
【００１２】
本発明の全電気めっき時間又は析出時間は、好ましくは５時間以内であり、特に３時間以内が好ましい。さらに好ましい実施態様では、１〜２時間の電気めっきが行われる。
【００１３】
パルスめっきの場合における重要なパラメーターは、パルス継続時間率、すなわち、析出の全継続時間に対する電流を流す時間の比を百分率としたものである。この量は衝撃周期（duty cycle）とも言われる。本発明では10〜99.9％のパルス継続時間率が特に適切である。この範囲内で、少なくとも50％の値、好ましくは少なくとも70％の値がとられる。特に３時間以内の電解めっき時間では70％のパルスの継続時間が選択される。
【００１４】
本発明では電流パルスの形状は自由に選択され得る。したがって、例えば、析出中のシヌソイドパルス電流のようなよく知られたパルス電流形を使用することができる。単極又は二極パルス（可逆パルス）を用いて実施することもできる。２パルス又は多数パルス及びパルス重複も可能である。個々の電流パルス間においては、電流強度は一般に必ずしもゼロまで減少させる、すなわち電流を切る必要はない。本発明では、矩形波又はランプ（ramp）形パルスが用いられ、特に鋭角の矩形波電流パルスが用いられる。短い電解めっき時間の場合、後者は滑らで光沢のある表面を有する成形品を製造することができる。
【００１５】
本発明ではパルス電流強度は、普通0.2〜50 A/dm2であり、特に1〜20 A/dm2であり、特に好ましい態様は3〜8 A/dm2である。
【００１６】
電流パルスの継続時間（“オンピリオド”）及び電流停止又はインターバルの継続時間（インターバル電流が０又は減少した電流密度の時間の場合における“オフピリオド”）は、本発明では変化し得る。通常、電流パルスの継続時間及び／又は電流インターバルの継続時間は、マイクロ秒又は好ましくはミリ秒の範囲内である。一般的な用語では、電流パルスの継続時間と電流インターバルの継続時間とは同じであり得るので、同一継続時間の間、交流電流が流れるか、又は全く流れないか若しくは減少した電流が流れる。電解めっき時間中に電流パルス及び／又は電流インターバルの継続時間を変化させることも実質的に可能であるため、電流が流れるか又は全く流れないか若しくは減少した電流が流れ、より短い又はより長い時間の連続があり、この連続は規則正しく又は不規則な順序で起こる。
【００１７】
電流パルスの継続時間（オンピリオド）は、好ましくは少なくとも１msであり、特に20〜100msである。電流インターバルの継続時間は、好ましくは少なくとも１msであり、特に少なくとも４msであり、特に１〜20ms、好ましくは４〜12msのオフピリオドでなされる。
【００１８】
完全を期すため、本発明が金属歯義部品の電解析出に関するものであることが再び詳細に示される。ガルバノフォーミング法（及びそのために使用する装置）は、とりわけ、そのような部品の容積と大きさに合わされることは対応して明らかである。したがって、そのような部品は、一般的に10〜400mm2で被覆されるべき表面を有する。この範囲内で特に30〜250mm2、特に50〜200mm2の値がとられる。インレイ類及び歯冠類で被覆されるべき通常の表面は、100〜200mm2である。パルス継続時間率、パルス形状、パルス電流密度及び電流パルス／電流インターバルなどの前記方法のパラメーターを選択するときに、これらの容積が計算される。
【００１９】
既に述べたように、本発明による方法では、ガルバノフォーミングによりすべての通常の義歯を製造することができる。好ましくは、製造は、パルスめっきによる少なくとも100μmの厚さ、特に150〜300μmの厚さを有する義歯成形部品で行われる。そのような厚さは、続いてこの成形品が燃成（firing）によりセラミック金属上で上張りされるような場合に特に要求される。特に100μm以下のプラスチック被覆厚さにする次の上張りを行う場合にも適切である。
【００２０】
本発明による方法は、好ましくは、室温以上の温度で行われる。特に析出中、電解めっき浴は30℃以上、好ましくは50〜80℃に加熱される。後者の範囲内では、特に60〜75℃の温度とする。この測定は、特に本発明における迅速な析出を保証するのに役立つ。
【００２１】
析出し、かつガルバノフォーミングにより三次元成形体として形成される金属は、本質的には電解めっき浴から析出され得るいずれの任意の金属であることができる。本件では、主として義歯で析出され得る金属が使用される。特に一連の非鉄金属の中でNi-Cr合金類、Niベース合金類及びCrCoMo合金類などの義歯材料として使用されるニッケル、クロム、コバルト及びモリブデンを挙げることができる。好ましくは、本発明による方法での析出は貴金属又は貴金属合金で行う。これらは、特に白金族及び銀からなる金属であることができる。特に、（純粋な）金又は金合金が析出される。
【００２２】
本発明による方法の場合の電解析出は、一般的に析出されるべき金属又は金属類を適切な濃度で含む、いわゆる電解浴又は電解めっき浴から起こる。この析出されるべき金属又は金属類は、錯体の形で存在する。この浴は、析出助剤（deposition aids）、光沢剤などの通常の添加剤も含む。その取り扱い及び環境保護の容易さから、本発明の場合、特に水性浴が好ましい。
【００２３】
本発明による方法は、特に塩基性pH値を有する水性亜硫酸金浴を使用することで特に有利に実施される。前記pH値は、好ましくは8〜8.5の範囲内である。そのような亜硫酸金浴は、続いて無毒化される。
【００２４】
本発明による方法を使用する場合、そのような塩基性、水性亜硫酸金浴は、非常に均一な被膜厚さ及び限定される内部張力を有する成形体を与える。非常に滑らかで、光沢のある表面を提供することもできる。これらの利点及び特に均一な厚い被膜厚さは、例えば、添窩（undercuts）又は凹面くぼみ（concave depression）のある部分でも、すべての成形体表面上で達成される。
【００２５】
本質的に本発明による方法では、既に知られている電解浴、特に公知の、商業的に使用可能な亜硫酸金浴を使用することができる。本発明の方法の利点を充分に利用するために、これまで知られた通常の浴より析出される金属又は金属類を高濃度で含む浴から行うことが電解析出のために好ましい。例えば、金又は金合金類を析出するために使用される通常の亜硫酸金浴は、30g/l（グラム パー リッター）までの濃度の金を含む。本発明による方法において、使用される亜硫酸金浴が30g/l以上の金濃度を有していれば、かなり好ましい。40〜60g/lの金濃度は、特により好ましい。より高濃度を有するそのような浴は、対応する計算に基づいて専門家により容易に調製することができ、光沢剤等のような更なる浴成分の濃度を変更することも可能である。
【００２６】
本発明では、パルス電流の適用は任意の公知の方法で行うことができる。したがって、本発明は、電流ではなく、対応するパルス及びインターバルの時間によって変化する電圧において、パルスを用いた定電位（potentiostatic）析出のすべての形を含む。はっきりとした特徴は、電解めっき金属析出が“パルスを用いた”方式で起こることである。
【００２７】
上述したように、本発明は、本発明による方法を使用するガルバノフォーミングで得られる歯科セクター用（義歯）の義歯成形部品も含む。この成形体は、特に本発明の方法により製造される。さらにこの成形体はセラミック及び／又はプラスチックで上張りすることができる。本発明による態様の義歯の特徴又は特性に関しては先の記載が参照される。
【００２８】
本発明は、歯科セクター用の義歯成形部品の製造のためのパルスめっきの使用も含む。ここでは再度、先の記載を参照する。
【００２９】
既に述べた本発明の部品の利点は、とりわけ公知のガルバノフォーミング法と比較して、かなり速い析出ゆえ成形体の製造が可能ということである。したがって、析出を実施する歯の専門家は、結果として成形部分の品質を悪化させることなく、今までよりも多くの義歯を製造することができる。一方、これまでよりも良好な被膜構造及び均一な被膜厚さを有する成形体を生産することもできる。より好ましくは、これは複雑な構造を有する成形体、すなわち、例えば添窩又は（小さい）凹形のへこみを有する成形体に適用する。更なる利点は、ガルバノフォーミングでのパルス電流法の使用が更に多くの方法の実施可能性を提供することである。したがって、特別な場合における機能として、パルス電流密度、パルス及びインターバル時間、電流パルス形、パルス継続時間率及び他のパラメーターを選択し、かつ最大限利用することができる。これは、交流析出又は電解めっきと同程度であることはできない。例えば、多少細かい粒状構造を選択することにより構造を調整することができ、又は表面特性を変更することができる。後者に関しては、かなり滑らかな表面がしばしば要求される。本発明は、粗さが変化する表面を利用することもできる。そのような粗い表面は、成形体が析出後に上張りされるのであれば有利である。そのような上張の場合、通常の製造は、例えば粒子衝撃により表面粗さの前処理段階で行われる。その結果、この上張り材料又は会合される結合がしっかりと接着する。そのような前処理は、粗い表面を有する前記の成形体の製造の場合には不要とされる。
【００３０】
したがって、新しい適用範囲は、交流電解めっき及び比較的長い電解めっき時間を維持している間に、主に電解めっき浴を最大限利用できる濃度で、本発明により歯科セクターにおけるガルバノフォーミングに提供される。
【００３１】
本発明は、最終的に、パルス電流によるガルバノフォーミングを用いた歯科セクター用の義歯成形部品（義歯）の製造を提供する電解槽を含む。特に、前記電解槽は、本発明による方法を実施するため、及び本発明により成形体を製造するために使用される。請求項20〜26の内容は、特に本記載の内容の一部として参照する。
【００３２】
本発明によれば、他の成分がその機能にとって必要か又は適切かということのほかに、電解槽は外部陽極を含む。後者は、一部に、好ましくは、ほぼ完全に１以上の陰極を取り囲み、すなわち、この陰極又はこれらの陰極を取り囲む外周線に沿うという方法で構成される。言い換えれば、この外部陽極は、この陰極又はこれらの陰極が陽極の“内部”に配置されるような方法で構成される。これらの陰極は、電気分解では、金属又は金属類、及び本件では、例えば供給される歯残根（tooth stumps）で被覆されるために電解槽の内部に配置される。
【００３３】
上記条件が満たされると、この外部陽極は、本質的にいずれの任意のデザイン又は配置をも有することができる。したがって、この外部陽極は、任意の外周線、例えば、星形、長方形、矩形又は楕円形の外周線の形を定めることができる。特に、本質的に円形の外周線となる外部電極がとられる。したがって、本発明による電解槽の好ましい実施態様において、円筒外皮形の（cylinder envelope-shaped）外部陽極が使用される。この円筒外皮形の外部陽極は、好ましくはいわゆる陽極細目網、すなわち、非連続性の構造を有する円筒外皮形の陽極である。
【００３４】
この外部陽極は、一部に又はほぼ完全に内部陰極又は陰極類の中に収められているが、前記円筒外皮形の陽極と同様に一組構成され得る。しかしながら、外部陽極も外周線に沿っていくつかの陰極部を含むことができる。したがって、例えば、円形外周線による陽極の場合、半円形交差部分を有する２つの陽極部分又は四分円形の交差部分を有する４つの陽極から同じものを構成することができる。そのような多部分、外部陽極を有する構成により、個々の陽極部間の差をなくし、かつ、陽極部は浴液を入れることができる。
【００３５】
本発明による前記電解槽は、好ましくは、（陰極と同様に）外部陽極により定まる外周線の内部に配置される更なる内部陽極を含む。この配置は、陰極が外部電極と内部陽極の間の部分に配置されること好ましい。
【００３６】
原則として内部陽極は、いかなる任意の形状又は配置をも有することができる。対応して内部電極は、外部陽極と同様の方法で構成することができ、好ましくは円筒外皮形でもある。内部電極が対応した小さい直径を有する陽極細目網は、外部陽極により輪郭が定められる外周線の内部に配置されるということを意味する。特に好ましい実施態様では、内部陽極は固体陽極棒である。
【００３７】
陰極又は陰極類に関し、内部陽極は、原則として任意の方法で外部陽極により定められる外周線の内部に配置することができる。したがって、電解槽中に一つの陰極だけがある場合、前記陰極及び内部陽極は互いに向かい合う。陰極及び内部陽極は、好ましくは、外部陽極の外周線により定められる中心に対して対称的に配置される。いくつかの陰極が提供される電解槽構造において、内部陰極は、好ましくは、外部陽極により定められる外周線の内部の中心に配置される。これは陰極類が外部陽極と内部陽極の間に対称的に配置され得るという利点を有する。
【００３８】
更なる改良により、シールディング要素類が本発明による電解槽に備え付けられ、特に管状又は環状要素類として構成される。これらのシールディング要素類は、外部陽極と陰極部分の間及び／又は内部陽極と陰極部分の間に配置される。これらのシールディング要素類は、陰極類が被覆され、特に高い金属濃度の場合、陽極の近くに配置され過ぎて電解浴中で析出されるのを防止する。管状又は環状のシールディング要素類を使用する場合、金属変換は上側及び／又は下側の、対応する構成部分の開放端（open end）を介してのみ起こり得る。
【００３９】
前記シールディング要素類は、好ましくはプラスチック、特にテフロン製である。
【００４０】
これらの更なる本発明の特徴は、以下の従属項及び図面と関連のある好ましい実施態様の説明から知ることができる。それぞれの特徴は、個々又はサブコンビネーションの態様で実施される。図面では次のことを示す。
図１  本発明による電解槽用の外部陽極及び内部陽極を有する挿入部分の概略図である。
図２  本発明による電解槽の概略断面図である。
【００４１】
図１に概略のみ示される本発明による電解槽用の挿入部１は、蓋のような平らな上部２を有する。この上部２は、電解槽で挿入部１が置かれ又は挿入される。一般の場合、電解槽は、ビーカー及び挿入部１を付属物と共に含むことができる。
【００４２】
挿入部１は、円筒外皮形の白金めっきされたチタン細目網の形で外部陽極４で固定される少なくとも２つの細長い保持要素３を有する。この保持要素３は同時に供給線として働く。外部陽極４は、円形の外周線及び外部陽極４の内部に形成された内部空間を決定する。
【００４３】
外部陽極４は、円筒外皮形で直接備え付けられるため、好ましくは外部陽極４と接触しないテフロンシールディング要素５が備え付けられる。
【００４４】
外部陽極４及びシールディング要素５により閉塞された内部空間の内部に更にテフロン製の円筒外皮形のシールディング要素６が配置される。前記シールディング要素６は、中心を外して内側空間に配置される。シールディング要素６の内部には、図１には示されないが、白金めっきされたチタンでも形成される陽極棒の形で内部陽極が配置される。
【００４５】
図１に示されない陰極部用の供給線７は、挿入部１の上部２を介してガイドされ、シールディング要素６に対向するため、それゆえ内部陽極でもある。電気分解の前に、供給される被覆されるべき歯残根は、例えば前記供給線７で固定される。
【００４６】
最後に図１は、外部陽極４及びシールディング要素６の内部に配置される内部陽極用の更なる供給線８を示す。さらに電解槽の通常の構成部分は、図１には示されないが、例えば、温度センサー、攪拌機及び密閉剤（seals）、保護環などであることができる。
【００４７】
図２は、本発明による電解槽の概略断面図である。電解槽１１は、必要又は適切な電解めっき浴量であるビーカー１２を有する。図２において、ビーカー１２内に円形外周線を定める円形外皮形の外部陽極１３を示すことができる。前記外部陽極１３は、例えば白金めっきしたチタン細目網であることができる。外部陽極１２により定められる内部空間は、前記外部陽極１３に隣接する、円筒外皮形の、テフロンシールディング要素１４を含むことができる。
【００４８】
図２は、もう一つの、内部空間に中心を外して配置される円筒外皮形のシールディング要素１５を示す。前記シールディング要素１５内には、固体物質の形で存在する棒内部陽極１６が配置される。シールディング要素１５と内部陽極１６とが対称的に対向することにより、例えば、義歯を形成するための金を有する電解めっき浴を用いて被覆されるべき歯残根が陰極部１７として供給される。
【００４９】
例
次の３つの例において、製造は、耐火安定性があり、かつ、本発明によるガルバノフォーミング法に従ってセラミックで上張りされる義歯で行われる。義歯は（ガルバノ）歯冠の形を有する。
【００５０】
３つの場合のすべてにおいて、歯残根の複製物は原型から作られる。この複製する工程は、例えばプラスターを用いて専門家に知られている方法で行われる。次いで析出の間、陰極として働く歯残根の複製物は、供給線（例えば銅棒）を用いて供給され、銀ニスを形成することで伝導性を有するようになる。
【００５１】
析出に使用される装置は、本質的に図面に示されるように構成され、ハイドルフ（Heidolph）により供給される加熱可能なマグネティック攪拌機（MR3003型）、ハイドルフにより供給される温度センサー（EKT3000型）及パルスめっき用に適した電流／電圧源（EG＆Gの定電位（potentiostat）／定電流（galvanostat）モデル263A）を含む。この電解槽は、カバー及び均衡のとれたマグネット製の攪拌棒をもつ100mlビーカーである。陽極は２つの陽極部、すなわち、円筒外皮形の白金めっきしたチタン細目網及びその細目網により形成され、かつ、白金めっきされたチタンでできている内部空間において中央に位置する陽極棒を含む。陰極部又は陰極部類をシールディングするため、その細目網及び陰極部若しくは陰極部類の間において、その棒はテフロン環（大きな直径）又はテフロン管（小さな直径）に同軸的に挿入される。
【００５２】
塩基性pH値を有する水性亜硫酸金浴は、すべての３つの例において電解めっき浴として使用される。例１及び２における使用は、40ml浴量中に48g/lの金濃度を有する金浴、及び例えば例３で使用される浴のような低濃度の金浴から公知の方法により得られる。例３の使用では、50mlの浴量中で30g/lの金濃度を有する本出願人のAGC（登録商標）金浴（商品番号6781）で得られる。３つの場合すべてにおいて、本出願人のAGC（登録商標）光沢剤、すなわち、例１及び２の添加剤は、陰極部に対して3 ml量で商品番号6624（4倍濃度）、及び陰極部に対して4 mlの量で商品番号6674で行う。
【００５３】
３つの例における電解めっき条件は次のとおりである。
例１
電解めっき時間               ２時間
電解めっき温度               約70℃
矩形波パルス形
パルス電流密度               3.6 A/dm2
パルス継続時間率             86 ％
電流パルスの継続時間         24 ms
電流インターバルの継続時間   4 ms
例２
電解めっき時間               １時間
電解めっき温度               約70℃
矩形波パルス形
パルス電流密度               7.3 A/dm2
パルス継続時間率             86 ％
電流パルスの継続時間         24 ms
電流インターバルの継続時間   4 ms
例３
電解めっき時間               ４時間
電解めっき温度               約70℃
スクエア波パルス形
パルス電流密度               1.6 A/dm2
パルス継続時間率             86 ％
電流パルスの継続時間         72 ms
電流インターバルの継続時間   12 ms
【００５４】
３つの例すべてにおいて、金色の、かなり滑らかな表面を有する非常に光沢のあるガルバノ歯冠が得られる。約200μmの被覆厚さは、全ガルバノ歯冠において非常に均一であり、完全な被膜構造を有する。隙間及び孔のない、非常に均一な、微粒子状構造でもある。３つのガルバノ歯冠すべてセラミック上張りの間、耐火安定性を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明による電解槽用の外部陽極及び内部陽極を有する挿入部分の概略図である。
【図２】  本発明による電解槽の概略断面図である。
【符号の説明】
１        挿入部
２        上部
３        保持要素
４        外部陽極
５        シールディング要素
６        シールディング要素
７        供給線
８        供給線
１１        電解槽
１２        ビーカー
１３        外部陽極
１４        テフロンシールディング要素
１５        シールディング要素
１６        内部陽極
１７        陰極部
【図１】
0004284395.tif 000002
【図２】
0004284395.tif 000003