(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素電極と前記画素電極ごとに形成されたスイッチング素子とを備えるカラー液晶パネルの製造方法であって、
絶縁性基板の一主面上に、走査線を形成し、前記走査線を覆うように無機絶縁膜を形成し、前記絶縁性基板周辺部において前記走査線上の無機絶縁膜に貫通孔を形成し、前記無機絶縁膜の上に信号線を形成し、前記走査線と前記信号線との交点に前記スイッチング素子を形成する第１の工程と、
前記信号線及び前記スイッチング素子を覆うように、表面が略平坦な有機樹脂層を形成する第２の工程と、
前記有機樹脂層上に前記画素電極を形成する第３の工程と、
前記第３の工程を経た前記絶縁性基板と前記絶縁性基板より小さい対向基板とをシール部材を挟んで対向させた後、前記絶縁性基板と前記対向基板との間に液晶を封入する第４の工程と、
前記有機樹脂層のうち前記対向基板に対応する部分を除く前記有機樹脂層を、前記対向基板をマスクとして除去する第５の工程と、
前記有機樹脂層を除去した部分において、前記走査線及び前記信号線に半導体集積回路チップを実装する第６の工程と、
前記有機樹脂層から露出した前記信号線において、前記半導体集積回路チップ周辺を除いてシリコン樹脂でコーティングする第７の工程と、
を含むことを特徴とするカラー液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
前記第３の工程は、前記有機樹脂層上に対向電極を形成する工程をさらに含む請求項１に記載のカラー液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記画素電極は金属からなる請求項１に記載のカラー液晶パネルの製造方法。
【請求項４】
前記有機樹脂層は感光性有機樹脂である請求項１に記載のカラー液晶パネルの製造方法。
【請求項５】
前記第５の工程において、前記有機樹脂層はプラズマアッシング処理によって除去される請求項１ないし４のいずれかに記載のカラー液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー画像表示機能を有するカラー液晶パネルおよびその実装方法に関し、特にたとえば、各画素電極ごとにスイッチング素子が形成されたアクティブ型のカラー液晶パネルおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、カラー表示用の液晶パネルの需要が高まっているが、カラー液晶パネルの中でも特に、スイッチング素子を画素ごとに内蔵させたいわゆるアクティブ型の液晶パネルはクロストークも少なくかつ高速応答で高いコントラスト比を有するため、注目されている。
【０００３】
従来のアクティブ型液晶パネルのアクティブ基板について、一例を図１１に示す。図１１を参照して、従来のアクティブ型液晶パネルのアクティブ基板は、絶縁性基板１と、絶縁性基板１上に形成されたスイッチング素子２と、絶縁性基板１上に形成された無機絶縁膜３と、無機絶縁膜３上に形成された画素電極４と、スイッチング素子２を覆うように形成された絶縁膜５とを含む。また、スイッチング素子２は、ゲート電極６と、アンドープ非晶質シリコン層７と、ソース電極８と、ドレイン電極９とを含む。さらに、図示はしていないが、アクティブ型液晶パネルのアクティブ基板は、スイッチング素子２に電気信号を伝達するための電気配線（走査線および信号線）と、スイッチング素子に伝達される電気信号を供給するための半導体集積回路チップとを備える（図１参照）。
【０００４】
ここで、画素電極４は液晶の配向を制御するための電極であり、画素電極４が形成されるアクティブ基板表面が略平坦でない場合には、電圧を印加しても配向しない液晶分子が生じたり、カラー液晶パネル組み立て工程において液晶の配向処理が困難になったりする。したがって、コントラスト比が高いカラー液晶パネルを得るにはアクティブ基板表面が略平坦であることが好ましく、そのためにはアクティブ基板表面に平坦化絶縁膜を形成し、平坦化絶縁膜上に画素電極４を形成すればよい。
【０００５】
平坦化絶縁膜上に画素電極４を形成した場合のカラー液晶パネルの一例について、一部の断面図を図１２に示す。
図１２を参照して、平坦化絶縁膜５ｂは、スイッチング素子２および無機絶縁膜３を覆うように形成される。平坦化絶縁膜５ｂの表面は略平坦であり、平坦化絶縁膜５ｂ上には、画素電極４が形成される。また、図示はしていないが、スイッチング素子２のゲート電極６およびドレイン電極９は、電気配線（走査線や信号線）に接続されており、電気配線終端付近には、半導体集積回路チップを実装するための電極端子が形成される（図１〜３参照）。
【０００６】
平坦化絶縁膜５ｂには、たとえば窒化シリコン等の無機薄膜を用いることができるが、無機薄膜で平坦化絶縁膜５ｂ表面を略平坦にするためには１μｍ〜３μｍの膜厚の平坦化絶縁膜５ｂを形成する必要がある。しかし、窒化シリコン等の無機薄膜を形成するためには、真空成膜装置を用いる必要があり、１μｍ〜３μｍの膜厚の平坦化絶縁膜５ｂを形成するのは製造時間や製造コストの点から好ましくない。
【０００７】
一方、平坦化絶縁膜５ｂに有機樹脂からなる有機絶縁膜を用いた場合には、製造が容易であるが、半導体集積回路チップの実装部周辺にも有機樹脂が形成されることとなる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、半導体集積回路チップの実装部周辺に有機樹脂が形成された場合には、走査線および信号線に実装した半導体集積回路チップを交換しにくいという問題がある。すなわち、一部の半導体集積回路チップに不良が生じた場合には一旦実装した半導体集積回路チップを交換する必要があるが、半導体集積回路チップの実装部周辺に有機樹脂が形成されていると、半導体集積回路チップを剥離する際に有機樹脂も同時に剥離するため電極端子周辺の形状が凹凸形状となり、半導体集積回路チップを再度実装することが困難になるからである。
【０００９】
一方、有機樹脂からなる平坦化絶縁膜５ｂを形成する際に、半導体集積回路チップの実装部周辺に有機樹脂を形成しない方法が考えられる。しかし、この場合には、ＩＴＯなどからなる画素電極４をウェットエッチングによって形成する場合に、露出した走査線や信号線が同時にエッチングされないよう、エッチングされやすいアルミニウム（Ａｌ）などを走査線や信号線に用いることができないという問題がある。
【００１０】
本発明は、上記従来の問題を解決するため、半導体集積回路チップの交換が容易でコントラスト比が高いカラー液晶パネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明のカラー液晶パネルは、アクティブ基板（各画素に対応したスイッチング素子が形成された基板）と前記アクティブ基板に略平行に配置された対向基板とを備えるカラー液晶パネルであって、前記アクティブ基板は、スイッチング素子と、前記スイッチング素子へ電気信号を伝達するための複数の電気配線と、前記スイッチング素子を覆うように前記対向基板に対応する位置に形成された有機樹脂層と、前記有機樹脂層上に形成され前記スイッチング素子に接続された画素電極と、前記電気信号を供給する半導体集積回路チップとを含み、前記対向基板は前記アクティブ基板よりも小さく、前記有機樹脂層のうち前記画素電極が形成された部分が略平坦であり、前記半導体集積回路チップは、前記電気配線のうち前記有機樹脂層が形成されていない部分に実装されていることを特徴とする。
【００１２】
上記カラー液晶パネルでは、画素電極が略平坦な有機樹脂層上に形成されている。したがって、上記カラー液晶パネルによれば、液晶分子の配向性がよくコントラスト比が高いカラー液晶パネルが得られる。また、上記カラー液晶パネルによれば、液晶分子の配向処理が容易になる。さらに、上記カラー液晶パネルによれば、半導体集積回路チップが電気配線のうち有機樹脂層が形成されていない部分に実装されているため、半導体集積回路チップの交換が容易である。
【００１３】
上記カラー液晶パネルでは、スイッチング素子が、絶縁ゲート型電界効果トランジスタであることが好ましい。スイッチング素子に絶縁ゲート型電界効果トランジスタを用いることによって、液晶分子の配向を容易に制御できる。
【００１４】
上記カラー液晶パネルでは、アクティブ基板は、画素電極に対向して形成された対向電極をさらに含むことが好ましい。アクティブ基板が、画素電極に対向して有機樹脂層上に形成された対向電極をさらに含むことによって、ＩＰＳ（ＩｎＰｌａｉｎ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型の液晶カラーパネルが得られる。
【００１５】
上記カラー液晶パネルでは、画素電極は金属からなり、画素電極で反射した光によって画像表示を行うことが好ましい。画素電極は金属からなり、画素電極で反射した光によって画像表示を行うことによって、反射型のカラー液晶パネルが得られる。
【００１６】
上記カラー液晶パネルでは、有機樹脂層が透光性の感光性有機樹脂からなることが好ましい。有機樹脂層に透光性の感光性有機樹脂を用いることによって、本発明のカラー液晶パネルを容易に製造できる。
【００１７】
上記カラー液晶パネルでは、電気配線は、アルミニウムを含むことが好ましい。電気配線がアルミニウムを含むことによって、電気配線の電気抵抗を容易に下げることができる。
【００１８】
本発明のカラー液晶パネルの製造方法は、複数の画素電極と前記画素電極ごとに形成されたスイッチング素子とを備えるカラー液晶パネルの製造方法であって、絶縁性基板の一主面上に、前記スイッチング素子と前記スイッチング素子に電気信号を伝達するための複数の電気配線とを形成する第１の工程と、前記スイッチング素子および前記電気配線を覆うように、表面が略平坦な有機樹脂層を形成する第２の工程と、前記有機樹脂層上に前記画素電極を形成する第３の工程と、前記第３の工程を経た前記絶縁性基板と対向基板とをシール部材を挟んで対向させた後、前記絶縁性基板と前記対向基板との間に液晶を封入する第４の工程と、前記有機樹脂層のうち前記対向基板に対応する部分を除く前記有機樹脂層を、前記対向基板をマスクとして除去する第５の工程とを含むことを特徴とする。
【００１９】
上記カラー液晶パネルの製造方法では、半導体集積回路チップの交換が容易なカラー液晶パネルを容易に製造できる。
また、上記カラー液晶パネルの製造方法では、表面が略平坦な有機樹脂層上に画素電極が形成される。したがって、上記カラー液晶パネルの製造方法によれば、コントラスト比が高いカラー液晶パネルを製造することができる。
【００２０】
上記カラー液晶パネルの製造方法では、第３の工程は、有機樹脂層上に対向電極を形成する工程をさらに含むことが好ましい。第３の工程が有機樹脂層上に対向電極を形成する工程をさらに含むことによって、ＩＰＳ型のカラー液晶パネルを製造できる。
【００２１】
上記カラー液晶パネルの製造方法では、画素電極が金属からなることが好ましい。画素電極が金属からなることによって、反射型のカラー液晶パネルを製造できる。
【００２２】
上記カラー液晶パネルの製造方法では、有機樹脂層が感光性有機樹脂であることが好ましい。有機樹脂層に感光性有機樹脂を用いることによって、本発明のカラー液晶パネルを容易に製造できる。
【００２３】
上記カラー液晶パネルの製造方法では、第５の工程において、有機樹脂層はプラズマアッシング処理によって除去されることが好ましい。有機樹脂層をプラズマアッシング処理によって除去することによって、有機樹脂層のみを容易に除去できる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
（実施形態１）
実施形態１では、本発明のカラー液晶パネルの一実施形態について説明する。この実施形態１は、スイッチング素子として絶縁ゲート型電界効果トランジスタを用いたカラー液晶パネルの一例である。
【００２５】
図１に本発明のカラー液晶パネル１０の平面図を示す。図１を参照して、本発明のカラー液晶パネル１０は、アクティブ基板１１と、アクティブ基板１１に略平行に配置された対向基板１２と、アクティブ基板１１と対向基板１２との間に配置された液晶１３（図２参照）とを含む。
【００２６】
アクティブ基板１１は、絶縁性基板１４と、スイッチング素子１５（図２参照）と、電気配線である走査線１６および信号線１７と、有機樹脂層１８（図２参照）と、走査線１６および信号線１７に電気信号を供給するための半導体集積回路チップ１９と、有機樹脂層１８上に形成された画素電極２０（図２参照）とを含む。なお、図１では、半導体集積回路チップ１９に電気信号を入力する側の電気配線については省略している。
【００２７】
対向基板１２の面積は、アクティブ基板１１の面積よりも小さく、アクティブ基板１１のうち対向基板１２が対向していない部分に半導体集積回路チップ１９が実装される。また、図示はしていないが、アクティブ基板１１と対向基板１２のいずれかには、必要に応じてカラー表示をするためのカラーフィルタ、偏光板、対向電極、ブラックマトリクス、配向膜などが形成される。
【００２８】
スイッチング素子１５には、さまざまな半導体素子を用いることができるが、この実施形態１では、絶縁ゲート型電界効果トランジスタを用いる場合を示す。
走査線１６および信号線１７には、たとえば、アルミニウム薄膜や、クロム薄膜、あるいはチタン薄膜などとアルミニウム薄膜との多層膜などが用いられる。アルミニウム薄膜は、電気抵抗が低く、製造が容易であるため好ましい。この実施形態１では、走査線１６はスイッチング素子１５のゲート電極に接続され、信号線１７はスイッチング素子１５のソース電極に接続される場合を示す（図５参照）。
【００２９】
半導体集積回路チップ１９周辺のカラー液晶パネル１０の断面図を、図２および図３に示す。図２は走査線１６に沿った断面図であり、図３は信号線１７に沿った断面図である。
【００３０】
図２に示すように、アクティブ基板１１と対向基板１２とに挟まれた領域に液晶１３が配置され、液晶１３はシール部材２１によって封入されている。
スイッチング素子１５は、絶縁性基板１４上に形成される。
【００３１】
有機樹脂層１８は、アクティブ基板１１のうち、対向基板１２に対応する部分に形成されている。有機樹脂層１８は、スイッチング素子１５を覆うように形成され、その表面は略平坦である。有機樹脂層１８は、絶縁性の有機樹脂からなり、カラー液晶パネル１０が透過型のカラー液晶パネルである場合には、透光性の有機樹脂が用いられる。また、有機樹脂層１８の材料として感光性の有機樹脂を用いると、製造が容易になるため好ましい。透光性で感光性の絶縁性有機樹脂としては、たとえば、日本合成ゴム（株）製の有機樹脂（商品名オプトマーＰＣ３０２）を用いることができる。
【００３２】
有機樹脂層１８上の略平坦な面上には、画素電極２０が形成されている。画素電極２０は、たとえばＩＴＯからなり、スイッチング素子１５に接続されている。この実施形態１では、画素電極２０がスイッチング素子１５のドレイン電極に接続されている場合を示す（図５参照）。画素電極２０は、液晶１３の配向を制御するために形成される。
【００３３】
絶縁性基板１４上には、走査線１６を覆うように無機絶縁膜２２が形成される。無機絶縁膜２２は、スイッチング素子１５が絶縁ゲート型電界効果トランジスタである場合には、ゲート絶縁膜である。無機絶縁膜２２は、走査線１６上であってアクティブ基板１１の周辺部に、半導体集積回路チップ１９を実装するための開口部を有する。無機絶縁膜２２の開口部に位置する走査線１６上には、半導体集積回路チップ１９を実装するための電極端子２３が必要に応じて形成される。
【００３４】
図３を参照して、無機絶縁膜２２上には、信号線１７が形成される。アクティブ基板１１の周辺部において、信号線１７に半導体集積回路チップ１９が実装される。なお、露出した信号線１７を保護するために、半導体集積回路チップ１９の実装部付近を除いて、信号線１７上にシリコン樹脂などからなる保護層を形成してもよい。
【００３５】
図４に、スイッチング素子１５、走査線１６、信号線１７および画素電極２０の配置を模式的に示す。図４を参照して、平行に配置された複数の走査線１６と、平行に配置された複数の信号線１７とは、略直交している。スイッチング素子１５は、走査線１６および信号線１７の交点に配置される。画素電極２０は、走査線１６および信号線１７で囲まれた位置に配置される。
【００３６】
図５に、図４の線Ｘ−Ｙに沿った断面図を示す。図５を参照して、スイッチング素子１５は、ゲート電極５１と、無機絶縁膜２２上に形成されたアンドープ非晶質シリコン層５２と、アンドープ非晶質シリコン層５２上であってゲート電極５１に対応する位置に形成された絶縁膜５３と、絶縁膜５３の周辺部の一部を覆うように形成されたソース電極５４およびドレイン電極５５とを含む。アンドープ非晶質シリコン層５２は、チャネルとして機能する。ソース電極５４およびドレイン電極５５表面には、耐腐食性の高いチタンなどの金属薄膜を形成することが好ましい。
【００３７】
有機樹脂層１８は、スイッチング素子１５を覆うように形成され、表面が略平坦である。
画素電極２０は、有機樹脂層１８上に形成され、ドレイン電極５５上に形成された有機樹脂層１８の貫通孔を通じてドレイン電極５５に接続される。
【００３８】
上記実施形態１のカラー液晶パネル１０では、画素電極２０が略平坦な有機樹脂層１８上に形成されるため、液晶分子を配向性よく制御することができる。したがって、カラー液晶パネル１０によれば、コントラスト比が高く製造が容易なカラー液晶パネルが得られる。
【００３９】
また、上記実施形態１のカラー液晶パネル１０では、半導体集積回路チップ１９を実装する部分に有機樹脂層１８が形成されていない。したがって、カラー液晶パネル１０によれば、半導体集積回路チップ１９の交換が容易なカラー液晶パネルが得られる。
【００４０】
なお、上記実施形態１では、対向基板１２に対向電極（図示せず）が形成される透過型カラー液晶パネルを一例として示したが、他のさまざまなカラー液晶パネルでも同様に本発明を適用することができる。
【００４１】
たとえば、一例として、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｉｎ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型および反射型のカラー液晶パネルにも本発明を適用できるが、これらのカラー液晶パネルについて、以下に説明する。
【００４２】
ＩＰＳ型のカラー液晶パネルのアクティブ基板について、画素電極６１および対向電極６２の配置を図６に模式的に示し、図６の線Ｘ−Ｙ部分の断面図を図７に示す。
【００４３】
図６および図７を参照して、ＩＰＳ型のカラー液晶パネルは、スイッチング素子１５と、表面が略平坦な有機樹脂層１８と、有機樹脂層１８上に形成された画素電極６１および対向電極６２とを備える。
【００４４】
画素電極６１は、たとえばＡｌからなる。画素電極６１は、たとえばコの字状の形状であり、スイッチング素子１５に接続される。
対向電極６２は、たとえばＡｌからなり、画素電極６１に対向するように形成される。また、液晶セルに直流成分が印加されないように、対向電極６２の表面に、対向電極６２の酸化層７１を形成することが好ましい。酸化層７１は、対向電極６２がＡｌの場合はＡｌ2Ｏ3であり、たとえば、対向電極６２を陽極酸化することによって形成できる。
【００４５】
ＩＰＳ型のカラー液晶パネルでも、有機樹脂層１８を図２および図３に示したカラー液晶パネル１０と同様の構造とすることによって、カラー液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
【００４６】
なお、図６および図７では、画素電極６１および対向電極６２のいずれもが有機樹脂層１８上に形成されている場合を示したが、画素電極６１を無機絶縁膜２２上に形成し、対向電極６２のみを有機樹脂層１８上に形成してもよい。
【００４７】
反射型のカラー液晶パネルについて、走査線、信号線および画素電極の配置を図８に模式的に示し、図８の線Ｘ−Ｙ部分の断面図を図９に示す。
図８および図９を参照して、反射型のカラー液晶パネルのアクティブ基板は、絶縁性基板１４上に形成されたスイッチング素子１５と、スイッチング素子１５上に形成され表面が略平坦な有機樹脂層１８と、有機樹脂層１８上に形成された画素電極８１とを含む。また、必要に応じて画素電極８１を覆うように配向膜９１や保護膜が形成される。有機樹脂層１８は、スイッチング素子１５上に貫通孔を有する。画素電極８１は、貫通孔を通じてスイッチング素子１５に接続される。
【００４８】
画素電極８１は、金属からなり、画素電極および反射膜として機能する。
カラー液晶パネルにおいては、スイッチング素子１５に光が入射することを防止する必要があるが、反射型カラー液晶パネルでは、金属からなる画素電極８１をスイッチング素子１５上に形成すればよい。したがって、反射型のカラー液晶パネルにおいては、スイッチング素子１５を覆うように形成され表面が略平坦な有機樹脂層１８を形成することによって、コントラスト比が高い反射型カラー液晶パネルを容易に製造することができる。
【００４９】
なお、反射型のカラー液晶パネルの場合、液晶には、たとえばＰＣＧＨ（Ｐｈａｓｅ  Ｃｈａｎｇｅ  Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）系の液晶を用いることが好ましい。また、画素電極８１の表面は、鏡面であっても拡散面であってもよい。
【００５０】
反射型のカラー液晶パネルでも、有機樹脂層１８を図２および図３に示したカラー液晶パネル１０と同様の構造とすることによって、カラー液晶パネル１０と同様の効果が得られる。
【００５１】
（実施形態２）
この実施形態２では、実施形態１で説明したカラー液晶パネル１０の製造方法の一例を説明する。図１０に、カラー液晶パネル１０の製造工程を示す。なお、カラー液晶パネル１０の構成材料のうち、実施形態１で説明したものについては重複する説明を省略する。
【００５２】
まず、図１０（ａ）に示すように、絶縁性基板１４上に、ゲート電極５１、無機絶縁膜２２、アンドープ非晶質シリコン層５２、絶縁膜５３、ソース電極５４およびドレイン電極５５を形成することによって、スイッチング素子１５を形成する。これらは、常法にしたがって、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ法、フォトリソグラフィー法、ドライエッチング法あるいはウェットエッチング法などを用いて容易に形成できる。なお、ゲート電極５１は走査線１６の一部であり、ソース電極５４は信号線１７の一部であるため（図４参照）、ゲート電極５１およびソース電極５４を形成する際に、走査線１６および信号線１７も同時に形成される。また、絶縁性基板１４周辺部では、走査線１６上の無機絶縁膜２２に貫通孔が形成され、半導体集積回路チップ１９実装用の電極端子とされる（図２参照）。また、必要に応じて、無機絶縁膜２２の貫通孔の部分に電極端子用の金属を形成してもよい。
【００５３】
その後、感光性の有機樹脂層１８を、たとえばスクリーン印刷法または回転塗布法で絶縁性基板１４の全面に塗布する。そして、有機樹脂層１８を部分的に露光した後、未露光部分を除去することによって、図１０（ｂ）に示すように、ドレイン電極５５上に貫通孔１８ａを形成する。
【００５４】
その後、図１０（ｃ）に示すように、ＩＴＯからなる画素電極２０を形成する。画素電極２０は、たとえばスパッタリング法によって絶縁性基板１４上の全面にＩＴＯ薄膜を形成した後、フォトリソ工程およびエッチング工程によって不要な部分を除去して形成される。エッチングは、希釈王水、沃化水素水、あるいは塩化第２鉄と塩酸との混合液を用いたウェットエッチングによって行うことができる。なお、ウェットエッチングを行う場合でも、走査線１６および信号線１７は、有機樹脂層１８によって保護されるため、エッチングされない。
【００５５】
その後、図１０（ｃ）の工程を経た絶縁性基板１４と対向基板１２とをシール部材２１によって張り合わせた後、割段によって所定の空きパネルを得る。そして、図１０（ｄ）に示すように、空きパネルに液晶１３を注入し、封口部材（図示せず）で液晶１３を閉じ込める。
【００５６】
その後、図１０（ｅ）に示すように、有機樹脂層１８のうち対向基板１２に対応していない部分を選択的に除去する。有機樹脂層１８を選択的に除去する方法としては、たとえばプラズマアッシングによる方法がある。プラズマアッシングは、酸素ガスを主成分とするプラズマガスによって図１０（ｄ）の絶縁性基板１４を処理することで行われる。プラズマアッシング処理の条件としては、たとえば、ガス圧１ｍＴｏｒｒ〜１００ｍＴｏｒｒ、電力密度０．５Ｗ／ｃｍ2〜２．５Ｗ／ｃｍ2、ガス流量０．３Ｌ／分〜３Ｌ／分、基板温度が室温〜８０℃の条件を用いることができる。酸素ガスを主成分とするプラズマガスによって、対向基板１２によって保護されない有機樹脂層１８のみが灰化して除去される。一方、対向基板１２によって保護されている部分の有機樹脂層１８や無機絶縁膜２２には、変化はない。また、シール部材２１や封口部材は十分な厚み（たとえば１ｍｍ）があるため、プラズマアッシングによっては影響を受けない。
【００５７】
図１０（ｅ）の工程によって、図２および図３に示したように、半導体集積回路チップ１９を実装する部分の有機樹脂層１８が除去される。
その後、図１０（ｆ）に示すように、常法にしたがって半導体集積回路チップ１９を実装する。このようにして、カラー液晶パネル１０が製造できる。
【００５８】
なお、以上の工程で部分的に露出することになる信号線１７（図３参照）は、半導体集積回路チップ１９の実装工程終了後に、半導体集積回路チップ１９周辺を除いてシリコン樹脂等でコーティングしてもよい。また、信号線１７は、多層配線化したり、無機絶縁層でカバーすることによって信頼性を向上させることができる。
【００５９】
上記実施形態２で説明したカラー液晶パネルの製造方法によれば、実施形態１で説明したカラー液晶パネル１０を容易に製造することができる。したがって、半導体集積回路チップ１９の交換が容易なカラー液晶パネル１０を容易に製造できる。
【００６０】
また、上記カラー液晶パネルの製造方法では、表面が略平坦な有機樹脂層１８上に画素電極２０が形成される。したがって、上記カラー液晶パネルの製造方法によれば、コントラスト比が高いカラー液晶パネルを製造することができる。
【００６１】
さらに、上記カラー液晶パネルの製造方法では、画素電極２０をエッチングによって形成する際に、走査線１６および信号線１７の電極端子部分（半導体集積回路チップ１９を実装する部分）が有機樹脂層１８によって保護される。したがって、上記カラー液晶パネルの製造方法では、走査線１６および信号線１７の材料の制約が少なく、たとえば腐食されやすいアルミニウムなどの金属を用いることができる。
【００６２】
なお、上記実施形態２では、画素電極２０に対向する対向電極が対向基板１２に形成される透過型のカラー液晶パネルを製造する場合を示したが、図６に示したＩＰＳ型のカラー液晶パネルや、図７に示した反射型のカラー液晶パネルも、上記実施形態２と同様に製造できる。
【００６３】
たとえば、ＩＰＳ型のカラー液晶パネルを製造する場合には、図１０（ｃ）の工程において、Ａｌからなる画素電極６１および対向電極６２を、常法にしたがって有機樹脂層１８上に形成すればよい。また、必要に応じて、対向電極６２の表面を陽極酸化してもよい。陽極酸化は、化成溶液中で、対向電極６２にプラス（＋）の電圧を印加することによって行うことができる。
【００６４】
また、反射型のカラー液晶パネルを製造する場合には、図１０（ｃ）の工程において、金属からなる画素電極８１を蒸着法やスパッタリング法などによって形成すればよい。
【００６５】
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず本発明の技術的思想に基づく他の実施形態に適用することができる。
【００６６】
たとえば、上記実施形態では、走査線１６および信号線１７に接続される駆動用の半導体集積回路チップ１９が、いずれもＣＯＧ方式でカラー液晶パネルに直接実装される場合を示したが、いずれか一方をＣＯＧ方式で実装する場合にも本発明を適用できる。
【００６７】
また、上記実施形態では、スイッチング素子１５が絶縁ゲート型電界効果トランジスタである場合を示したが、スイッチング素子１５に他のトランジスタを用いてもよい。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のカラー液晶パネルによれば、半導体集積回路チップの交換が容易でコントラスト比が高いカラー液晶パネルが得られる。
【００６９】
また、本発明のカラー液晶パネルの製造方法によれば、半導体集積回路チップの交換が容易でコントラスト比が高いカラー液晶パネルを容易に製造できる。さらに、本発明のカラー液晶パネルの製造方法によれば、走査線や信号線に腐食されやすいアルミニウムなどの材料を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明のカラー液晶パネルについて、一実施形態を示す平面図である。
【図２】  本発明のカラー液晶パネルについて、一実施形態を示す断面図である。
【図３】  本発明のカラー液晶パネルについて、一実施形態を示す他の断面図である。
【図４】  本発明のカラー液晶パネルについて、一実施形態の走査線および信号線の配置を示す模式図である。
【図５】  本発明のカラー液晶パネルについて、スイッチング素子の一例を示す断面図である。
【図６】  本発明のカラー液晶パネルについて、他の一実施形態を示す平面図である。
【図７】  本発明のカラー液晶パネルについて、他の一実施形態を示す断面図である。
【図８】  本発明のカラー液晶パネルについて、その他の一実施形態を示す平面図である。
【図９】  本発明のカラー液晶パネルについて、その他の一実施形態を示す断面図である。
【図１０】  本発明のカラー液晶パネル製造方法について、一実施形態を示す工程図である。
【図１１】  従来のカラー液晶パネルについて、一例を示す断面図である。
【図１２】  従来のカラー液晶パネルについて、他の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１０      カラー液晶パネル
１１      アクティブ基板
１２      対向基板
１３      液晶
１４      絶縁性基板
１５      スイッチング素子
１６      走査線（電気配線）
１７      信号線（電気配線）
１８      有機樹脂層
１９      半導体集積回路チップ
２０、６１、８１      画素電極
２１      シール部材
２２      無機絶縁膜
６２      対向電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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