(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上の導体層と絶縁層とが積層された積層材料をレーザビームによって加工する方法であって、
前記導体層にレーザビームを照射して加工穴を形成する導体層加工ステップと、
前記導体層加工ステップに続けて、前記加工穴に前記導体層に照射したレーザビームよりも加工点におけるビーム径が小さいレーザビームを照射して、前記導体層に積層した絶縁層を加工する絶縁層加工ステップと
を含む積層材料レーザ加工方法。
【請求項２】
前記導体層において、穴あけ加工によって除去される部分をあらかじめ加熱する加熱ステップを更に備え、
前記加熱ステップにおいて加熱された部分にレーザビームを照射して穴あけ加工を行う、請求項１に記載の積層材料レーザ加工方法。
【請求項３】
前記加熱ステップが、レーザビームを照射することによって行われる請求項２に記載の積層材料レーザ加工方法。
【請求項４】
前記積層材料が絶縁層とその絶縁層を挟む第１及び第２の２つの導体層とから成る積層部を含み、
前記積層部の第２の導体層が、前記積層材料の表面層であり、
前記第１の導体層の加工ステップの前に、前記第２の導体層上にレーザビーム吸収材料を形成するステップを更に含む、請求項１に記載の積層材料レーザ加工方法。
【請求項５】
前記レーザビーム吸収材料が高分子材料である請求項４に記載の積層材料レーザ加工方法。
【請求項６】
１以上の導体層と絶縁層とが積層された積層材料をレーザビームによって加工する請求項１に記載の積層材料レーザ加工方法に用いる積層材料レーザ加工装置であって、
レーザビームを出射できるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から出射されたレーザビームの一部を通過させる開口と、
前記開口を通過したレーザビームを光路変更させる光路変更光学系と、
前記開口の像を結像する結像レンズと、
結像される像の大きさを可変して、加工点におけるレーザビームのビーム径を変化させるビーム径可変手段と、
前記レーザ発振器、前記開口、前記光路変更光学系、前記結像レンズの位置および動作、並びに前記ビーム径可変手段を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、前記ビーム径可変手段を制御して、前記導体層にレーザビームを照射して形成した加工穴に、前記導体層に照射したレーザビームよりも加工点におけるビーム径が小さいレーザビームを照射させて前記絶縁層を加工する、
ことを特徴とする積層材料レーザ加工装置。
【請求項７】
前記ビーム径可変手段は、前記開口と前記結像レンズとの間の光路中に設置される光路長可変光学系を備え、
前記制御部は、前記光路長可変光学系を制御して、前記開口と前記結像レンズとの間の光路長を可変にし、かつ、前記結像レンズの位置を制御して、前記結像レンズと結像点との間の光路長を可変にすることで、前記加工点におけるレーザビームのビーム径を変化させる、
ことを特徴とする請求項６に記載の積層材料レーザ加工装置。
【請求項８】
前記ビーム径可変手段は、前記開口と前記結像レンズとの間の光路中に設置される反射面形状可変反射ミラーを備え、
前記制御部は、前記開口、前記反射面形状可変反射ミラー、および、前記結像レンズの位置を固定し、かつ、前記反射面形状可変反射ミラーの反射面形状を可変にすることで、前記加工点におけるレーザビームのビーム径を変化させる、
ことを特徴とする請求項６に記載の積層材料レーザ加工装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記反射面形状可変反射ミラーの反射面形状を回転双曲面の一部にすることを特徴とする請求項８に記載の積層材料レーザ加工装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記反射面形状可変反射ミラーに装着された圧電素子を制御することによって、前記反射面形状可変反射ミラーの反射面形状を可変にすることを特徴とする請求項８に記載の積層材料レーザ加工装置。
【請求項１１】
前記結像レンズが複数のレンズから成る組レンズで構成され、前記ビーム径可変手段は、前記組レンズを構成する複数のレンズ間の間隔を制御する機構を備え、
前記制御部は、前記組レンズを構成する複数のレンズ間の間隔を制御することにより、前記結像レンズの焦点距離を可変にすることで、前記加工点におけるレーザビームのビーム径を変化させる、
ことを特徴とする請求項６に記載の積層材料レーザ加工装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、積層材料のレーザ加工方法および装置に関し、より詳細には、プリント基板と呼称される積層配線基板において、レーザ光により、穴あけ加工および溝加工を行う方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、図１９に示すように、プリント基板１は、絶縁材２、絶縁材２の両表面に取り付けられた銅箔４および銅箔６から成る。絶縁材２は、直径が数μｍのガラス繊維８を４０本ないし６０本束ねて一束とした繊維束（ガラスクロス）１０を網目状に織ったものにエポキシ樹脂を含浸硬化させて形成される。
【０００３】
このようなプリント基板１において、絶縁材２の表面に取り付けられた２枚の銅箔４および銅箔６を電気的に接続する場合、従来は、プリント基板１を貫通するスルーホールと呼ばれる貫通穴をドリルによって形成し、この貫通穴の内壁に銅めっきを施して導通層を形成していた。しかし、このようにドリルによって穴あけを行う場合、穴径がφ２００μｍ以下になると、ドリルの損耗が激しく、穴あけ中にドリル折れが発生しやすい、および、加工速度が著しく遅くなる等の問題があった。また、ドリルによって穴あけを行う場合には、加工された貫通穴の断面において表面粗さが数１０μｍと非常に大きくなり、めっき処理によってその断面に均一な導通層を形成することが困難であった。
【０００４】
このような問題を解決するため、ドリルに代わってレーザ光によって貫通穴を形成する方法が、非特許文献１に提案されている。これは、図２０に示されるように、プリント基板１にレーザ光２０を照射することにより、銅箔４や銅箔６、および、ガラス繊維８やエポキシ樹脂を除去して貫通穴１４を形成する方法である。
【０００５】
また、特許文献１は、レーザ光をパルス化し、銅箔を加工する場合と、絶縁材を加工する場合とで、レーザ光のピーク出力を変化させるレーザ加工方法を開示する。図１９を用いて説明すると、このレーザ加工方法においては、銅箔４を加工する場合および銅箔６を加工する場合に、同じ高ピーク出力のレーザビームを使用し、絶縁材２を加工する場合に、低ピーク出力のレーザビームを使用することによって、上述の穴断面の表面粗さを小さくする。
【０００６】
【特許文献１】
特開平３−２７８８５号公開公報
【非特許文献１】
Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｓ ９０−ＷＡ／ＥＦＰ−３６
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、レーザ光を用いて加工を行った場合には、図２１に示すように、加工された貫通穴１４内に、２０μｍ程度の、銅箔４、銅箔６およびガラスクロス１０の穴内への突き出しが生じるという問題があった。また、貫通穴１４の形状が中膨れ形状になるといった問題があった。さらに、銅箔４や銅箔６における穴径のばらつきが大きいという問題があった。貫通穴１４内への銅箔４、銅箔６およびガラスクロス１０の突き出しが１０μｍ以上になったり、貫通穴１４の形状が中膨れ形状になったり、銅箔４や銅箔６における穴径のばらつきが大きかったりすると、貫通穴１４の内壁に均一な導通層を形成することが困難になり、銅箔４と銅箔６との間の電気的な接続の信頼性が低下する。
【０００８】
また、以上の課題は、プリント基板１においてブラインドバイアホール（止まり穴）を形成したり、溝加工を行う場合にもあてはまる。止まり穴内や溝内へ２０μｍ程度の銅箔４やガラスクロス１０の突き出しが生じたり、加工された穴や溝の形状が台形等の形状になると、その止まり穴や溝の内壁に導通用の金属膜等の均一な膜が形成できないといった問題があった。
さらに、レーザ加工における加工時間の短縮が望まれる。
【０００９】
本発明の目的は、積層配線基板において、穴あけ加工や溝加工等のレーザ加工を行う場合に、穴や溝の内部に積層材料の一部が突き出すことなく、穴形状が所望の形状になるような信頼性の高い加工を実現するレーザ加工方法および装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る積層材料レーザ加工方法は、１以上の導体層と絶縁層とが積層された積層材料をレーザビームによって加工する方法である。この方法は、前記の導体層にレーザビームを照射して加工穴を形成する導体層加工ステップと、前記の導体層加工ステップに続けて、前記の加工穴に前記の導体層に照射したレーザビームよりも加工点におけるビーム径が小さいレーザビームを照射して、前記の導体層に積層した絶縁層を加工する絶縁層加工ステップとを含む。
【００１１】
この場合において、前記積層材料が絶縁層とその絶縁層を挟む第１及び第２の２つの導体層とから成る積層部を含み、前記積層部の第２の導体層が、前記積層材料の表面層であり、前記第１の導体層の加工ステップの前に、前記第２の導体層上にレーザビーム吸収材料を形成するステップを更に含む、ことが好ましい。
【００１２】
好ましくは、前記の第２の積層材料レーザ加工方法において、前記のレーザビーム吸収材料は高分子材料である。
【００１３】
以上の場合について、前記の導体層において、穴あけ加工によって除去される部分をあらかじめ加熱する加熱ステップと、前記の加熱ステップにおいて加熱された部分にレーザビームを照射して穴あけ加工を行う加工ステップとを含む、ようにしてもよい。
【００１４】
好ましくは、前記の加熱ステップは、レーザビームを照射することによって行われる。
なお、この場合、好ましくは、前記の導体層加工ステップの前に、前記の導体層において、加工によって除去される部分をあらかじめ加熱する加熱ステップを含み、前記の導体層加工ステップにおいて、前記の加熱ステップによって加熱された部分にレーザビームを照射して加工穴を形成する。
【００１５】
なお、レーザビーム吸収材料を併せて適用する場合には、積層材料のレーザビームが出射する側の表面層（導体層）にレーザビーム吸収材料を形成する一方、レーザビームが入射する導体層において穴あけ加工を行う場合に、穴あけ加工によって除去される部分をあらかじめ加熱してから、その加熱された部分にレーザビームを照射してもよい。
【００１６】
なお、絶縁層とその絶縁層を挟む第１及び第２の２つの導体層とから成る前記の積層部において、前記の第１の導体層に、前記の第１のレーザビームを照射して加工穴を形成し、次に、前記の加工穴に、前記の第１のレーザビームよりもピーク出力が低く、前記の第１のレーザビームよりも加工点におけるビーム径が小さい第２のレーザビームを照射して、前記の積層部の絶縁層を加工することもできる。
【００１７】
なお、この場合について、レーザビーム吸収材料を併せて適用する際には、例えば、前記の積層部の第２の導体層が、前記の積層材料の表面層である場合、好ましくは、前記の第１の加工ステップの前に、前記の第２の導体層上にレーザビーム吸収材料を形成するステップを設ければよい。
【００１８】
また、穴あけ加工部分の加熱を併せて適用する際には、積層材料の導体層において加工によって除去される部分をあらかじめ加熱してから、その加熱された部分にレーザビームを照射すればよい。
【００１９】
本発明に係る積層材料レーザ加工装置は、１以上の導体層と絶縁層とが積層された積層材料にレーザビームを照射して加工を行う装置である。この装置は、例えばピーク出力の異なる複数のパルス化されたレーザビームを出射できるレーザ発振器と、前記のレーザ発振器から出射されたレーザビームの一部を通過させる開口と、前記の開口を通過したレーザビームを光路変更させる光路変更光学系と、前記の開口の像を結像する結像レンズと、結像される像の大きさを可変して加工点におけるレーザビームのビーム径を変化させるビーム径可変手段と、前記のレーザ発振器、前記の開口、前記の光路変更光学系、前記の結像レンズの位置および動作、並びに前記ビーム径可変手段を制御する制御部とを備える。また、前記の制御部は、前記ビーム径可変手段を制御して結像される像の大きさを可変にし、前記導体層にレーザビームを照射して形成した加工穴に、前記導体層に照射したレーザビームよりも加工点におけるビーム径が小さいレーザビームを照射させる。
【００２０】
好ましくは、前記の積層材料レーザ加工装置は、前記ビーム径可変手段として、前記の開口と前記の光路変更光学系との間の光路中に光路長を可変にする光路長可変光学系を備える。また、前記の制御部は、前記の光路長可変光学系を制御して、前記の開口と前記の結像レンズとの間の距離を可変にする。
【００２１】
好ましくは、前記の積層材料レーザ加工装置は、前記ビーム径可変手段として、前記の開口と前記の光路変更光学系との間の光路中に反射面形状可変反射ミラーを備える。また、前記の制御部は、前記の反射面形状可変反射ミラーの反射面形状を変化させる。
【００２２】
好ましくは、前記の積層材料レーザ加工装置において、前記の制御部は、前記の反射面形状可変反射ミラーの反射面形状を回転双曲面の一部にする。
【００２３】
好ましくは、前記の積層材料レーザ加工装置において、前記の制御部は、前記の反射面形状可変反射ミラーに装着された圧電素子を制御することによって、前記の反射ミラーの反射面形状を可変にする。
【００２４】
好ましくは、前記の積層材料レーザ加工装置において、前記ビーム径可変手段として前記開口の開口径を変化させる開口径可変絞り機構が備えられ、前記の制御部は、前記開口径可変絞り機構を制御することで、前記の開口の開口径を可変にする。この場合において、前記開口径可変絞り機構は、前記開口の開口径を連続的に変化させるものであることが好ましい。
【００２５】
好ましくは、前記の積層材料レーザ加工装置において、前記結像レンズが複数のレンズから成る組レンズで構成され、前記ビーム径可変手段は、前記組レンズを構成する複数のレンズ間の間隔を制御する機構を備えており、前記の制御部は、前記組レンズを構成する複数のレンズ間の間隔を制御することにより、前記結像レンズの焦点距離を可変にする。
【００２６】
（従来技術より有効な効果）
本発明による積層材料のレーザ加工方法により、貫通穴の中膨れが生じることを防ぐことができる。
本発明による積層材料のレーザ加工方法により、積層材料のレーザ光入射側の表面層である銅箔の穴径のばらつきを低減できる。
本発明による積層材料のレーザ加工方法により、貫通口内の銅箔やガラスクロスの突出を防ぐことができる。
本発明による積層材料のレーザ加工方法により、積層材料のレーザ光出射側の表面層である銅箔の穴径のばらつきを低減できる。
本発明による積層材料のレーザ加工装置により、レーザビームのビーム径の変化を簡便に実現でき、貫通穴の中膨れが生じることを簡便に防止できる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下に、添付の図面を用いて、本発明の実施の形態を説明するが、その説明に先立って本発明の「実施の形態の参考例」について説明する。
【００２８】
＜実施の形態の参考例＞
図１に、本発明の実施の形態の参考例による積層材料のレーザ加工方法の工程を図式的に示す。本参考例において、積層材料とは、積層配線基板であり、プリント基板と呼称される。図１に示すように、プリント基板１は、絶縁材（絶縁層）２、絶縁材２の両表面に取り付けられた銅箔（導体層）４および銅箔（導体層）６から成る。絶縁材２は、ガラスエポキシ樹脂であり、直径が数μｍのガラス繊維を４０本ないし６０本束ねて一束としたガラスクロス１０を網目状に織ったものにエポキシ樹脂を含浸硬化させて形成される。図１に示される工程においては、銅箔４および銅箔６の厚さが１２μｍである厚さ０．４ｍｍの両面銅張りプリント基板（ガラスエポキシ基板）１に、炭酸ガスレーザのパルス化したレーザビームを照射して、貫通穴１４を形成する。
【００２９】
まず、φ１２０μｍに集光したレーザビーム２０を銅箔４に照射して、銅箔４の表面に加工穴２２を形成する。この時、レーザビームのパルスＯＮ時間（パルス幅）を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪと設定し、そのレーザビームを１パルス照射することにより、銅箔４の表面にφ１００μｍの加工穴２２を形成する。なお、以後の加工において、レーザビームの集光径（加工点におけるレーザビーム径）をφ１２０μｍに固定する。
【００３０】
次に、加工穴２２と同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を１００μｓ、１パルスのレーザエネルギを１０ｍＪと設定して、そのレーザビームを４パルス照射し、絶縁材２を加工する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を４０μｓ、１パルスのレーザエネルギを８ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔６を加工する。これにより、プリント基板１にφ１００μｍの貫通穴１４を形成する。
【００３１】
この貫通穴１４の断面を顕微鏡により観察すると、穴径がほとんど変化せず、その穴の中心軸線の方向がレーザビームの光軸方向に一致する。また、貫通穴１４内において、レーザ光入射側の銅箔４およびレーザ光出射側の銅箔６の穴内への突き出しは５μｍ以下であり、ガラスクロス１０の穴内への突き出しはほとんど存在しないことがわかった。
【００３２】
一方、図１の工程による穴あけ加工と比較するために、同じプリント基板、かつ、同じ種類のレーザ光を用いて、他の異なる工程によって穴あけ加工を行う。以下に、これらの比較実験について、詳細に説明する。なお、以下の比較実験において、銅箔４、絶縁材２および銅箔６に照射するレーザビームの集光径は、φ１２０μｍに固定される。第１の比較実験として、レーザビームを、図１において銅箔４を加工した条件（レーザビームのパルスＯＮ時間が３μｓ、１パルスのレーザエネルギが２４ｍＪ）に設定し、プリント基板１に１パルス照射する。そして、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を１００μｓ、１パルスのレーザエネルギを１０ｍＪと設定して、そのレーザビームを５パルス照射する。この工程によって、プリント基板１に貫通穴１４が形成される。しかし、この貫通穴１４の断面を、顕微鏡により観察すると、貫通穴１４内に、レーザ光出射側の銅箔６が、２０μｍ程度突き出していた。
【００３３】
また、第２の比較実験として、レーザビームを、図１において銅箔４を加工した条件（レーザビームのパルスＯＮ時間が３μｓ、１パルスのレーザエネルギが２４ｍＪ）に設定し、プリント基板１に５パルス連続して照射する。この工程によって、プリント基板１に貫通穴１４が形成される。しかし、貫通穴１４の断面を、顕微鏡により観察すると、貫通穴１４の形状は中膨れ形状であり、さらに、貫通穴１４内に、レーザ光入射側の銅箔４、レーザ光の出射側の銅箔６、および、ガラスクロス１０が、２０μｍ程度突き出していた。
【００３４】
さらに、第３の比較実験として、レーザビームを、図１において銅箔４を加工した条件（レーザビームのパルスＯＮ時間が３μｓ、１パルスのレーザエネルギが２４ｍＪ）に設定し、プリント基板１に１パルス照射する。そして、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を１００μｓ、１パルスのレーザエネルギを１０ｍＪと設定し、そのレーザビームを４パルス照射する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪと設定し、そのレーザビームを１パルス照射する。この工程によって、プリント基板１に貫通穴１４が形成される。しかし、貫通穴１４の断面を、顕微鏡により観察すると、貫通穴１４内に、レーザ光出射側の銅箔６が、２０μｍ程度突き出していた。なお、この第３の比較実験の方法は、上述の特開平３−２７８８５号公開公報に記載された方法と同様の方法であり、銅箔４を加工する場合および銅箔６を加工する場合には、同じ高ピーク出力のレーザビームを使用し、絶縁材２を加工する場合には、低ピーク出力のレーザビームを使用する。
【００３５】
さらに、第４の比較実験として、レーザビームを、図１において銅箔４を加工した条件（レーザビームのパルスＯＮ時間が３μｓ、１パルスのレーザエネルギが２４ｍＪ）に設定し、プリント基板１に１パルス照射する。そして、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を１μｓ、１パルスのレーザエネルギを１０ｍＪと設定して、そのレーザビームを１０パルス照射する。この工程によって、プリント基板１に貫通穴１４が形成される。しかし、貫通穴１４の断面を、顕微鏡により観察すると、貫通穴１４の形状は中膨れ形状であり、貫通穴１４内に、レーザ光入射側の銅箔４、レーザ光出射側の銅箔６、および、ガラスクロス１０が、２０μｍ程度突き出していた。
【００３６】
本実施の形態によるレーザ加工方法において、銅箔４を加工する時のレーザビーム条件（レーザビームのパルスＯＮ時間が３μｓ、１パルスのレーザエネルギが２４ｍＪ）、絶縁材２を加工する時のレーザビーム条件（レーザビームのパルスＯＮ時間が１００μｓ、１パルスのレーザエネルギが１０ｍＪ）、および、銅箔６を加工する時のレーザビーム条件（レーザビームのパルスＯＮ時間が４０μｓ、１パルスのレーザエネルギが８ｍＪ）は異なる。ここで、それぞれの材料を加工する場合のレーザビームのピーク出力を、次の式（１）を用いて計算する。
【００３７】
ピーク出力＝１パルスのエネルギ／パルスＯＮ時間（パルス幅）    （１）
【００３８】
これによると、銅箔４を加工する時のレーザビームのピーク出力（８ｋＷ）は、絶縁材２を加工する時のレーザビームのピーク出力（１００Ｗ）や銅箔６を加工する時のレーザビームのピーク出力（２００Ｗ）よりも高く、銅箔６を加工する時のレーザビームのピーク出力（２００Ｗ）は、絶縁材２を加工する時のレーザビームのピーク出力（１００Ｗ）よりも高い。
【００３９】
また、銅箔４を加工する時のレーザビームのパルス幅（３μｓ）は、絶縁材２を加工する時のレーザビームのパルス幅（１００μｓ）や銅箔６を加工する時のレーザビームのパルス幅（４０μｓ）よりも短く、銅箔６を加工する時のレーザビームのパルス幅（４０μｓ）は、絶縁材２を加工する時のレーザビームのパルス幅（１００μｓ）よりも短い。以下に、レーザビームのピーク出力やパルス幅の値の設定について、詳細に説明する。
【００４０】
最初に、レーザビームのピーク出力の値の設定について説明する。なお、レーザ加工において被加工物の加工状態を決定する最も重要なパラメータは、レーザビームのパワー密度であり、次の式（２）によって表わされる。
【００４１】
パワー密度＝レーザビームのピーク出力／レーザビームの集光径    （２）
【００４２】
本来であれば、このパワー密度の値を考慮するべきであるが、本参考例によるレーザ加工方法および比較実験のレーザ加工方法においては、照射するレーザビームの集光径が一定（φ１２０μｍ）に保たれるため、ピーク出力の値を用いて考察する。
【００４３】
まず、銅箔４および銅箔６を加工する場合のレーザビーム条件について説明する。銅は、一般的に、レーザ光の反射率が高く、熱伝導が良いため、レーザ加工が困難な材料である。特に、銅箔４および銅箔６等のプリント基板表面に均一に形成された銅箔は、その均一な表面に炭酸ガスレーザが照射されても、照射された炭酸ガスレーザの９９％近くを反射し、加工が非常に困難である。図２は、銅箔の均一な表面にパルス幅や１パルスのエネルギが異なるレーザビームを等しい集光径で１パルス照射する場合において、そのレーザビームの銅箔加工能力を説明するグラフである。グラフの横軸はレーザビームのパルス幅、縦軸はレーザビームの１パルスのエネルギを示す。このグラフにおいて、あるパルス幅とある１パルス当たりのエネルギとを持つレーザビームを照射して、厚さ１８μｍの銅箔を貫通できた場合は、そのパルス幅の値とその１パルス当たりのエネルギの値の交点に◎が印される。同様に、あるパルス幅とある１パルス当たりのエネルギとを持つレーザビームを照射して、厚さ１２μｍの銅箔は貫通できたが１８μｍの銅箔は貫通できなかった場合は、そのパルス幅の値とその１パルス当たりのエネルギの値の交点に○が印される。同様に、あるパルス幅とある１パルス当たりのエネルギとを持つレーザビームを照射して、１２μｍの銅箔と１８μｍの銅箔が共に貫通できなかった場合は、そのパルス幅の値とそのエネルギの値の交点に×が印される。図２に示されるレーザビームのパルス幅と１パルスのエネルギとから、式（１）を用いて、ピーク出力を算出すると、集光径が一定の場合、レーザビームのピーク出力が高いほど、銅箔の貫通能力が高いことがわかる。
【００４４】
図２のグラフを参照すると、本参考例によるレーザ加工方法において銅箔４を加工したレーザビーム（レーザビームのパルスＯＮ時間が３μｓ、１パルスのレーザエネルギが２４ｍＪ）は、厚さ１８μｍの銅箔を貫通できるほどの高いピーク出力（８ｋＷ）を有し、本参考例によるレーザ加工方法で使用された厚さ１２μｍの銅箔も充分に加工できる。すなわち、銅箔４を加工する場合は、図２のグラフにおいて◎が印されたレーザビーム条件（レーザビームのピーク出力が約１ｋＷ以上）が必要である。
【００４５】
一方、本参考例によるレーザ加工方法において銅箔６を加工したレーザビーム（レーザビームのパルスＯＮ時間が４０μｓ、１パルスのレーザエネルギが８ｍＪ）は、そのピーク出力（２００Ｗ）が、銅箔４を加工したレーザビームのピーク出力よりも低く、図２のグラフにおいて、厚さ１２μｍの銅箔も充分に貫通できない。
【００４６】
本参考例によるレーザ加工方法において、銅箔６のレーザビームが照射される表面は、銅箔４の場合と異なり、樹脂側の表面である。この樹脂側の表面は、樹脂との密着性を向上させるために粗面化されており、炭酸ガスレーザの反射率は、６０％ないし７０％である。これは、炭酸ガスレーザを銅箔６の均一な表面に照射した場合の反射率（約９９％）よりも低い。従って、本実施の形態によるレーザ加工方法において銅箔６を加工する場合は、銅箔４を加工するために必要な高いピーク出力を必要としない。
【００４７】
しかし、銅箔６は、銅という材料の特性によって、熱伝導率および反射率が比較的高く、レーザ加工が困難な材料であることには変わりがない。よって、銅箔６を加工するためには、ある程度のピーク出力が必要である。例えば、第１の比較実験において、銅箔６に対し、絶縁材２の加工時と同じ低ピーク出力（１００Ｗ）を有するレーザビームを照射すると、貫通穴１４内に銅箔６の突き出しが発生する。
【００４８】
次に、絶縁材２を加工する場合のレーザビーム条件について説明する。絶縁材２を加工する場合は、レーザビームのピーク出力を、銅箔４および銅箔６を加工する場合のレーザビームのピーク出力より低くする必要がある。まず、ガラスクロス１０の貫通穴１４内への突き出しに関連して、絶縁材２を加工するレーザビーム条件について説明する。
【００４９】
レーザ加工時において、レーザ光は、レーザ加工によって生じる除去物によって、吸収、屈折および散乱される。ここで、除去物とは、レーザビームを照射することによって溶融した樹脂やガラス、および、樹脂やガラスの燃焼による残渣等である。穴あけ加工の場合には、加工中に発生する除去物が穴の内部に閉じこめられるため、表面付近での加工と比較して、レーザ光の吸収、屈折および散乱が、より生じやすくなる。この吸収等の現象は、レーザビームのパワー密度が高くなるほど顕著になる。
【００５０】
もし、絶縁材２の加工にパワー密度の高いレーザビームを用いるなら、発生する除去物によって、レーザ光の吸収、屈折および散乱が非常に起こりやすくなる。そして、加工を行うレーザ光は、屈折および散乱されてパワー密度が低下する。ここで、エポキシ樹脂はガラスクロス１０よりも加工されやすいため、パワー密度が低下したレーザ光は、貫通穴１４の内壁のエポキシ樹脂のみを加工する。結果として、貫通穴１４内にガラスクロス１０の突出が発生する。例えば、第２および第４の比較実験において、絶縁材２の加工時に、銅箔４の加工時と同様（８ｋＷ）またはそれ以上のピーク出力（１０ｋＷ）を有するレーザビームを照射すると、ガラスクロス１０の突出が発生する。
【００５１】
銅箔６の加工に高ピーク出力のレーザビームを用いる場合にも、吸収等によるレーザ光のパワー密度の低下によって、銅箔６の加工が困難となり、貫通穴１４内に銅箔６の突出が生じやすくなる。例えば、第３および第４の比較実験において、銅箔６に対し、銅箔４の加工時と同様（８ｋＷ）またはそれ以上のピーク出力（１０ｋＷ）を有するレーザビームを照射すると、貫通穴１４内に銅箔６の突き出しが発生する。
【００５２】
本参考例によるレーザ加工方法では、絶縁材２および銅箔６を加工する場合に、レーザビームのピーク出力を、銅箔４を加工する場合のレーザビームのピーク出力よりも低くするため、絶縁材２および銅箔６を加工する場合のパワー密度は、銅箔４を加工する場合のパワー密度よりも小さくなり、除去物によるレーザ光の吸収、屈折および散乱の発生が抑制できる。よって、ガラスクロス１０や銅箔６が、貫通穴１４内に突出することを防ぐことができる。
【００５３】
次に、貫通穴１４の形状に関連して、絶縁材２を加工するレーザビーム条件について説明する。銅箔４に加工穴２２を形成し、その後、その同じ位置にレーザビームを照射すると、銅箔４の加工穴２２においてレーザ光の回折現象が起こる。この回折現象により、銅箔４を通過したレーザ光は、ある角度で拡がる。回折角度は、レーザ波長に比例し、加工穴２２の直径に反比例する。
【００５４】
一般に、銅箔４の加工穴２２を通り抜けたレーザ光は、回折により拡がって、パワー密度が低下する。しかし、銅箔４を加工できるレーザ光の最小パワー密度は、樹脂やガラスクロス１０を加工できる最小パワー密度に比べて著しく大きい。もし、樹脂やガラスクロス１０の加工に、銅箔４の加工時のレーザビームと同様に、高ピーク出力のレーザビームを用いるなら、銅箔４の加工穴２２を通過して拡がったレーザ光が、樹脂やガラスクロス１０を加工するのに十分なパワー密度を持っているため、加工された貫通穴１４は中膨れ形状になる。例えば、第２および第４の比較実験において、樹脂やガラスクロス１０の加工時に、銅箔４の加工時と同様（８ｋＷ）またはそれ以上のピーク出力（１０ｋＷ）を有するレーザビームを照射すると、加工された貫通穴１４は中膨れ形状になる。
【００５５】
本参考例によるレーザ加工方法では、銅箔４を加工した後、絶縁材２を加工する場合に、ピーク出力の低いレーザビームを照射することにより、回折光のパワー密度を、樹脂やガラスクロス１０を加工できる最小パワー密度以下にする。これにより、貫通穴１４が中膨れ形状になることを防ぐことができる。
【００５６】
なお、本参考例によるレーザ加工方法においては、加工点におけるレーザビーム径が一定であり、レーザビームのピーク出力を変化させることにより、パワー密度を変化させた。しかし、式（２）によれば、加工点におけるレーザビーム径を可変にしても、パワー密度を変化させることができる。本実施の形態による方法においても、加工点におけるレーザビーム径を変えて、パワー密度を変化させることができる。例えば、絶縁材２を加工する場合にパワー密度を低下させるために、絶縁材２に、銅箔４に照射したレーザビームよりも加工点におけるビーム径の大きいレーザビームを照射してもよい。絶縁材２に、銅箔４に照射したレーザビームよりも加工点におけるビーム径の大きいレーザビームを照射しても、銅箔４に形成された加工穴２２の外側に照射したレーザビームは、銅箔４によって反射され、絶縁材２に照射されるレーザビームのビーム径が、銅箔４を加工した場合のレーザビーム径に等しくなる。よって、加工点におけるレーザビーム径を可変にしても、断面における穴径が一定の貫通穴１４を形成することが可能である。
【００５７】
次に、レーザビームのパルス幅の値の設定について説明する。一般的に、パルス化されたレーザビームを用いるレーザ加工において、レーザビームのパルス幅は、レーザビームの照射時間に等しい。よって、被加工物において、レーザビームのパルス幅が短いほど、１パルス当たりの除去深さは浅くなり、レーザビームのパルス幅が長いほど、１パルス当たりの除去深さが深くなる。そのため、本参考例による方法において、銅箔４を加工する場合は、銅箔４を深く加工しすぎて絶縁材２に達しないように、レーザビームのパルス幅を３μｓ程度まで短くする。また、絶縁材２を加工する場合は、１パルス当たりの除去深さを深くして効率良く加工するためにレーザビームのパルス幅を１００μｍ程度まで長くする。
【００５８】
さらに、本参考例による方法において、銅箔６を加工する場合は、レーザビームのパルス幅を、３０μｓ乃至５０μｓ程度に設定する。これは、銅箔６にこの範囲のパルス幅より小さいパルス幅のレーザビームを照射すると、加工の効率が低下し、銅箔６にこの範囲のパルス幅より大きいパルス幅のレーザビームを照射すると、溶融する銅が増加して、貫通穴１４の開口部付近にその溶融した銅が残留しやすくなるから（実施の形態６を参照）である。
【００５９】
レーザビームのピーク出力を変化させるためには、１パルスのレーザエネルギーを変えることも考えられるが、本参考例によるレーザ加工方法においては、レーザ加工中にレーザビームのパルス幅を変えることにより、レーザビームのピーク出力（パワー密度）とレーザビームの照射時間を同時に変化させるので、積層材料の一部が貫通穴１４内へ突き出すことの抑制と加工時間の短縮とを両立させることができる。
【００６０】
なお、本参考例によるレーザ加工方法では、最上層および最下層が導体層であるプリント基板１を用いたが、その最上層の導体層の上、および／または、その最下層の導体層の下に、さらに絶縁層が形成されていてもよい。その場合であっても、本参考例によるレーザ加工方法を適用することができ、同様の効果が得られる。
【００６１】
次に、本発明の実施の形態について説明する。
＜実施の形態１＞
図３に、本発明の実施の形態１による積層材料レーザ加工方法の工程を図式的に示す。本実施の形態において、積層材料とは、実施の形態１で用いたプリント基板１と同様に、厚さ０．４ｍｍの両面銅張り（銅箔厚さ１２μｍ）プリント基板（ガラスエポキシ基板）１である。図３において、図１におけるプリント基板１の構造と同じ構造には、同じ符号を付す。図３に示される工程においては、このプリント基板１に、炭酸ガスレーザのパルス化したレーザビームを照射して、貫通穴１４を形成する。
【００６２】
本実施の形態によるレーザ加工方法では、銅箔４を加工する場合の加工点におけるレーザビーム径と、絶縁材２および銅箔６を加工する場合の加工点におけるレーザビーム径は異なる。これは、図４に示されるレーザ加工装置によって実現される。図４は、加工点におけるレーザビーム径を変更できるレーザ加工装置１００を図式的に示す図である。レーザ加工装置１００は、パルス炭酸ガスレーザ発振器１０２、転写マスク１０４、位置決めミラー（ガルバノミラー）１０６、転写レンズ１０８、加工テーブル１１０を備える。さらに、レーザ加工装置１００は、上述の構成要素の動作を電気的に制御する制御装置１１２を備える。例えば、制御装置１１２は、パルス炭酸ガスレーザ発振器１１０に、所望のパルス幅や所望の１パルスのエネルギーを有するパルス化されたレーザビームを発振させる。また、制御装置１１２は、位置決めミラー１０６の回転を制御し、転写マスク１０４および転写レンズ１０８の光路上の位置決めを行う。さらに、制御装置１１２は、加工テーブル１１０を、プリント基板１が設置される平面に平行に移動させる。図４においては、簡略化のため、それらの構成要素の各々と制御装置１１２との接続を省略する。
【００６３】
以下に、このレーザ加工装置１００の動作を説明する。まず、φ１．８ｍｍの転写マスク１０４、および、転写レンズ１０８を使用し、レーザ光を、銅箔４に、φ１２０μｍ程度に結像する。詳しく説明すると、パルス炭酸ガスレーザ発振器１０２から出射したレーザビーム１２０の一部は、転写マスク１０４を通過し、２枚の位置決めミラー１０６を経て、転写レンズ１０８に到達する。２枚の位置決めミラー１０６は、レーザビームの転写レンズ１０８への入射角（入射位置）を決める。転写レンズ１０８は、入射されたレーザ光を集光し、加工テーブル１１０上に設置したプリント基板１上に転写マスク１０４の像を結像する。プリント基板１の位置決めは、プリント基板１が設置された加工テーブル１１０が移動することによって行われる。最初に、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪと設定し、そのレーザビームを１パルス照射して、銅箔４にφ１００μｍの加工穴２２を形成する（図３）。
【００６４】
次に、転写マスク１０４をφ１．２ｍｍに変えて、レーザビームを、パルスＯＮ時間を１００μｓ、１パルスのレーザエネルギを１０ｍＪと設定して、加工穴２２と同じ位置に４パルス照射し、絶縁材２を加工する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を４０μｓ、１パルスのレーザエネルギを８ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔６を加工する。ここで、加工点でのレーザビームのビーム径は、φ１００μｍ程度である。これにより、プリント基板１に貫通穴１４を形成する。
【００６５】
この貫通穴１４の断面を顕微鏡により観察すると、穴径がほとんど変化せず、その穴の中心軸線の方向がレーザビームの光軸方向に一致する。また、貫通穴１４内において、レーザ光入射側の銅箔４およびガラスクロス１０の穴内への突き出しはほとんど存在せず、レーザ光出射側の銅箔６の穴内への突き出しは５μｍ以下であった。
【００６６】
本実施の形態によるレーザ加工方法においては、少なくとも絶縁材２および銅箔６にレーザビームを照射する場合に、銅箔４に形成された加工穴２２の径よりも小径のレーザビームを照射する。これにより、加工穴２２によるレーザビームの回折の発生が抑制され、貫通穴１４が中膨れ形状になることを防ぐことができる。
【００６７】
また、本実施の形態によるレーザ加工方法において、加工穴２２によるレーザビームの回折の発生が抑制されることにより、レーザ光入射側の銅箔４の貫通穴１４内への突き出しを防止できる。
【００６８】
なお、レーザ加工装置１００においては、転写マスク１０４を、途中でφ１．８ｍｍのものからφ１．２ｍｍのものへ交換して、加工点におけるレーザビーム径を変化させている。しかし、転写マスク１０４の代わりに、図５に示されるような開口径連続可変ビーム絞りを用いてもよい。この開口径連続可変絞りを制御装置１１２に接続して、その開口径を制御することにより、プリント基板１の加工点におけるレーザビーム径を簡単に変えることができ、上述のレーザ加工方法を容易に実現できる。また、レーザ加工の加工時間を短縮できる。
【００６９】
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法は、プリント基板１に貫通穴１４を形成する場合について説明されたが、プリント基板１において止まり穴を形成したり、溝加工を行ったりする場合に適用されても同様の効果が得られる。例えば、銅箔４にレーザビームを照射して加工穴２２を形成した後、絶縁材２に、その銅箔４に照射したレーザビームよりも加工点におけるビーム径が小さいレーザビームを照射して加工を行うことにより、止まり穴や溝の形状が、台形等の所望の形状と異なる形状になることを防止でき、レーザ光入射側の銅箔４の止まり穴内や溝内への突き出しを防止できる。
【００７０】
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法では、最上層および最下層が導体層であるプリント基板１を用いたが、その最上層の導体層の上、および／または、その最下層の導体層の下に、さらに絶縁層が形成されていてもよい。その場合であっても、本実施の形態によるレーザ加工方法を適用することができ、同様の効果が得られる。
【００７１】
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法においては、パルス化されたレーザビームを用いて加工を行ったが、連続発振のレーザビームを用いた場合であっても、レーザ加工におけるパワー密度や加工点におけるレーザビーム径を変えることによって、同様の効果が得られる。その場合には、炭酸ガスレーザ発振器１１０は、レーザビームを連続発振する。
【００７２】
＜実施の形態２＞
図６に、本発明の実施の形態２による積層材料のレーザ加工装置２００の構成を図式的に示す。レーザ加工装置２００は、図４におけるレーザ加工装置１００に、光路長調整用凸Ｖ型ミラー（以下、「凸Ｖ型ミラー」という。）１２２と光路長調整用凹Ｖ型ミラー（以下、「凹Ｖ型ミラー」という。）１２４とが付加されたものである。図６において、図４のレーザ加工装置１００と同じ構成には同一の符号を付し、説明を省略する。このレーザ加工装置２００を用いて、実施の形態１のレーザ加工方法と同じ方法で、プリント基板１のレーザ加工を行う（図３）。
【００７３】
ここで、凸Ｖ型ミラー１２２は、２つの反射面がＶ字型に結合されて凸型の反射面を形成する光学素子であり、凹Ｖ型ミラー１２４は、２つの反射面がＶ字型に結合されて凹型の反射面を形成する光学素子である。レーザ加工装置２００において、凸Ｖ型ミラー１２２と凹Ｖ型ミラー１２４を、転写マスク１０４と位置決めミラー１０６との間の光路中に設置することにより、光路長を変化させる。本実施の形態によるレーザ加工装置２００においては、凸Ｖ型ミラー１２２の２つの反射面のなす角度、および、凹Ｖ型ミラー１２４の２つの反射面のなす角度は９０度である。そして、凸Ｖ型ミラー１２２の一方（第１）の反射面が、転写マスク１０４を通過したレーザ光と４５度の角度をなすように設置される。転写マスク１０４を通過したレーザ光は、この凸Ｖ型ミラー１２２の第１の反射面によって、凹Ｖ型ミラー１２４に向けて反射される。この凸Ｖ型ミラー１２２の反射面におけるレーザ光の入射方向と反射方向との間の角度は９０度である。凸Ｖ型ミラー１２２によって反射されたレーザ光は、凹Ｖ型ミラー１２４の一方（第１）の反射面に到達する。ここで、その凹Ｖ型ミラー１２４の第１の反射面は、凸Ｖ型ミラー１２２の第１の反射面によって反射された反射光と４５度の角度をなすように設置されている。レーザ光は、この凹Ｖ型ミラー１２４の第１の反射面によって再び反射される。凹Ｖ型ミラー１２２の第１の反射面におけるレーザ光の入射方向と反射方向との間の角度は９０度である。凹Ｖ型ミラー１２４の第１の反射面によって反射されたレーザ光は、凹Ｖ型ミラー１２４の他方（第２）の反射面に到達する。そして、凹Ｖ型ミラー１２４の第２の反射面に到達したレーザ光は、この反射面によって、凸Ｖ型ミラー１２２に向けて反射される。凹Ｖ型ミラー１２４の第２の反射面におけるレーザ光の入射方向と反射方向との間の角度は９０度である。凹Ｖ型ミラー１２４の第２の反射面によって反射されたレーザ光は、凸Ｖ型ミラー１２２の第２の反射面に到達する。凸Ｖ型ミラー１２２の第２の反射面は、受け取ったレーザ光を反射して、位置決めミラー１０６に導く。凸Ｖ型ミラー１２２の第２の反射面におけるレーザ光の入射方向と反射方向との間の角度は９０度である。以上の構成により、凸Ｖ型ミラー１２２を固定して、凹Ｖ型ミラー１２４を、凸Ｖ型ミラー１２２と凹Ｖ型ミラー１２４との間のレーザ光に平行に移動させることにより、レーザ加工装置２００における光路長を変化させることができる。
【００７４】
以下に、このレーザ加工装置２００の動作を説明する。まず、φ１．８ｍｍの転写マスク１０４、および、転写レンズ１０８を使用し、レーザ光を、銅箔４に、φ１２０μｍ程度に結像する。これについて、以下に詳細に説明する。パルス炭酸ガスレーザ発振器１０２から出射したレーザビーム１２０の一部は、転写マスク１０４を通過し、凸Ｖ型ミラー１２２、凹Ｖ型ミラー１２４、および、２枚の位置決めミラー１０６を経て、転写レンズ１０８に到達する。２枚の位置決めミラー１０６は、レーザビームの転写レンズ１０８への入射角（入射位置）を決める。転写レンズ１０８は、入射されたレーザ光を集光し、加工テーブル１１０上に設置したプリント基板１上に転写マスク１０４の像を結像する。最初に、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔４にφ１００μｍの加工穴２２を形成する。
【００７５】
次に、転写マスクはφ１．８ｍｍのままで、凸Ｖ型ミラー１２２を固定して、凹Ｖ型ミラー１２４を、凸Ｖ型ミラー１２２と凹Ｖ型ミラー１２４との間のレーザ光に平行に、凸Ｖ型ミラー１２２から離れるように移動させる。かつ、転写レンズ１０８と加工テーブル１１０上に設置したプリント基板１との距離を近づける。これらの構成要素の位置決めは、制御装置１１２よって行われる。そして、レーザビームを、パルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを１１ｍＪと設定して、加工穴２２と同じ位置に４パルス照射し、絶縁材２を加工する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を４０μｓ、１パルスのレーザエネルギを８ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔６を加工する。ここで、加工点でのレーザビームのビーム径は、φ１００μｍ程度である。これにより、プリント基板１に貫通穴１４を形成する。
【００７６】
転写マスク１０４と転写レンズ１０８と間の光路長を変化させることによって、加工点でのビーム径が変化する理由について述べる。図７に結像光学系の基本構成を図式的に示す。マスク３０（転写マスク１０４）を通過したレーザビーム３２は、結像レンズ３４（転写レンズ１０４）により、結像点３６（プリント基板１における加工点）に集光される。この光学系において、式（３）の関係が成り立つ。
【００７７】
１／ａ＋１／ｂ＝１／ｆ                        （３）
ａ：マスク３０と結像レンズ３４の主面との間の距離（以下、「マスク−レンズ間距離」という。）
ｂ：結像レンズ３４の主面と結像点３６との間の距離（以下、「レンズ−結像点間距離」という。）
ｆ：結像レンズ３４の焦点距離
【００７８】
式（３）によると、マスク３０の像は、マスクのｂ／ａ倍の大きさで結像される（横倍率β＝ｂ／ａ）。ここで、横倍率βを、マスク−レンズ間距離ａと焦点距離ｆとによって示すと、式（４）の関係が成り立つ。
【００７９】
β＝ｆ／（ａ―ｆ）                            （４）
【００８０】
式（４）により、焦点距離ｆが一定の場合、マスク−レンズ間距離ａを可変とすることで、横倍率βを連続的に変化させることができる。従って、転写マスク１０４（マスク３０）と転写レンズ１０８（結像レンズ３４）との間の光路長を可変にすることによって、加工点でのビーム径が変化する。
また、レンズ−結像点間距離ｂを、マスク−レンズ間距離ａと焦点距離ｆとによって示すと、式（５）の関係が成り立つ。
【００８１】
ｂ＝ｆａ／（ａ一ｆ）                          （５）
【００８２】
式（５）により、焦点距離ｆが一定の場合、マスク−レンズ間距離ａを可変とすると、レンズ−結像点間距離ｂも変化させる必要がある。従って、転写マスク１０４と転写レンズ１０８との間の光路長を変化させると同時に、転写レンズ１０８と加工テーブル１１０上に設置したプリント基板１との間の距離を変化させる必要がある。本実施の形態によるレーザ加工装置２００においては、凸Ｖ型ミラー１２２と凹Ｖ型ミラー１２４との間の距離を変化させることにより、上述のマスク−レンズ間距離ａを変更できる。また、その変化に連動して、転写レンズ１０８と加工テーブル１１０上に設置したプリント基板１との距離を変化させることにより、上述のレンズ−結像点間距離ｂを変更できる。
【００８３】
本実施の形態によるレーザ加工装置２００においては、凸Ｖ型ミラー１２２および凹Ｖ型ミラー１２４を用いて、転写マスク１０４と転写レンズ１０８との間の光路長を変化させ、加工点のビーム径を変化させる。最も簡単に上述の転写マスク１０４と転写レンズ１０８との間の光路長を変える方法としては、実施の形態２で説明されたレーザ加工装置１００において、制御装置１１２等を用いて転写マスク１０４の位置を移動させる方法がある。しかし、転写マスク１０４を大きく稼動できるようにすれば、レーザ加工装置２００の外形が大きくなる。例えば、転写倍率を２／３にしようとすると、転写マスク１０４と転写レンズ１０８との間の距離を、ほぼ１．５倍にする必要がある。本実施の形態によるレーザ加工装置２００のように、凸Ｖ型ミラー１２２および凹Ｖ型ミラー１２４を用いて、転写マスク１０４と転写レンズ１０８との間の光路を迂回させて光路長を調節できるようにすれば、装置の外形の拡大が低減できる。
【００８４】
なお、本実施の形態によるレーザ加工装置を用いた場合であっても、実施の形態１で説明された効果と同様の効果が得られる。
【００８５】
＜実施の形態３＞
図８に、本発明の実施の形態３による積層材料のレーザ加工装置３００の構成を図式的に示す。レーザ加工装置３００は、図４におけるレーザ加工装置１００に、倍率調整用反射面形状可変反射ミラー（以下、「反射面形状可変反射ミラー」という。）１３２および反射面形状可変反射ミラー１３４が付加されたものである。反射面形状可変反射ミラーは、その反射面の形状を変化させることにより、入射するレーザビームのビーム広がり角を制御できるミラーである。この２つの反射面形状可変反射ミラー（１３２、１３４）は、転写マスク１０４と位置決めミラー１０６との間の光路中に設置され、その反射面の形状変化が制御装置１１２によって制御される。図８において、図４のレーザ加工装置１００と同じ構成には同一の符号を付し、説明を省略する。このレーザ加工装置３００を用いて、実施の形態１のレーザ加工方法と同じ方法で、プリント基板１のレーザ加工を行う（図３）。
【００８６】
以下に、このレーザ加工装置３００の動作を説明する。まず、φ１．８ｍｍの転写マスク１０４、および、転写レンズ１０８を使用し、レーザ光を、銅箔４に、φ１２０μｍ程度に結像する。これについて、以下に詳細に説明する。パルス炭酸ガスレーザ発振器１０２から出射したレーザビーム１２０の一部は、転写マスク１０４を通過し、反射面形状可変反射ミラー１３２、反射面形状可変反射ミラー１３４、および、２枚の位置決めミラー１０６を経て、転写レンズ１０８に到達する。最初、反射面形状可変反射ミラー１３２および反射面形状可変反射ミラー１３４の反射面は共に平坦であり、通常の反射ミラーとして動作する。２枚の位置決めミラー１０６は、レーザビームの転写レンズ１０８への入射角（入射位置）を決める。転写レンズ１０８は、入射されたレーザ光を集光し、加工テーブル１１０上に設置したプリント基板１上に転写マスク１０４の像を結像する。最初に、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔４にφ１００μｍの加工穴２２を形成する。
【００８７】
次に、転写マスクはφ１．８ｍｍのままで、反射面形状可変反射ミラー１３２
の反射面を凸面に変化させ、反射面形状可反射ミラー１３４の反射面を凹面に変化させる。これにより、反射面形状可変反射ミラー１３２および反射面形状可変反射ミラー１３４は、それぞれ、ビーム広がり角１３６およびビーム広がり角１３８を制御する。そして、ビーム広がり角が制御されたレーザビームを、パルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを１１ｍＪと設定して、加工穴２２と同じ位置に４パルス照射し、絶縁材２を加工する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を４０μｓ、１パルスのレーザエネルギを８ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔６を加工する。ここで、加工点でのレーザビームのビーム径は、φ１００μｍ程度である。これにより、プリント基板１に貫通穴１４を形成する。
【００８８】
反射面形状可変反射ミラー１３２および反射面形状可変反射ミラー１３４のそれぞれの反射面形状を変化させることによって、加工点でのビーム径が変化する理由について述べる。図９に、凸面鏡と凹面鏡を用いた場合の結像光学系の基本構成を図式的に示す。図９において、マスク４０（転写マスク１０４）を通過したレーザビーム４２のビーム広がり角は、結像レンズ４８（転写レンズ１０８）への入射前に、曲面形状を変化させた２枚のミラー（反射面形状可変反射ミラー１３２）４４およびミラー（反射面形状可変反射ミラー１３４）４６によって変化する。これは、見かけ上、結像レンズ４８のレンズ位置が移動したことに相当する。このとき、次の式（６）が成り立つ。
【００８９】
ａ＋ｂ＝ａ１＋ｂ１
β＝ｂ１／ａ１                                        （６）
ａ：マスク４０と結像レンズ４８の主面との間の距離（マスク−レンズ間距離）
ｂ：結像レンズ４８の主面と結像点５２（プリント基板１における加工点）との間の距離（レンズ−結像点間距離）
ａ１：マスク４０と見かけ上のレンズ５０の主面との間の距離（以下、「見かけ上のマスク−レンズ間距離」という。）
ｂ１：見かけ上のレンズ５０の主面と結像点５２との間の距離（以下、「見かけ上のレンズ−結像点間距離」という。）
【００９０】
式（６）により、横倍率βは、見かけ上のマスク−レンズ間距離ａ１と見かけ上のレンズ−結像点間距離ｂ１によって決まる。従って、反射面形状可変反射ミラー１３２および反射面形状可変反射ミラー１３４の反射面の形状を変化させることにより、見かけ上のマスク−レンズ間距離ａ１および見かけ上のレンズ−結像点間距離ｂ１を連続的に変化させることができるので、結果として、横倍率βを連続的に変化させることができる。
【００９１】
なお、反射面形状可変反射ミラー１３２および反射面形状可変反射ミラー１３４の反射面形状は、図１０に示されるように、それぞれ、回転双曲面の一部である。回転双曲面の反射面を用いると、反射面からマスク６０までの距離と、反射面からマスクの虚像６２までの距離が異なるので、結果として、レーザビーム６４のビーム広がり角を変えることができる。図１１に、本実施の形態によるレーザ加工装置３００において用いられた反射面形状可変反射ミラー（１３２、１３４）の構成を図式的に示す。図１１において、反射ミラー６６は、裏面の一点で圧電素子６８と接合されている。この圧電素子６８に、制御装置１１２を利用して、電圧を印可すると、圧電素子６８が伸縮し、反射ミラー６６の裏面に外力を加える。反射ミラー６６は、圧電素子６８によって外力が加えられた場合に、その反射面形状が所望の形状（凸型または凹型の回転双曲面の一部をなす形状）になるように構成される。
【００９２】
本実施の形態によるレーザ加工装置３００においては、圧電素子６８によってその反射面が凸型または凹型に変形される反射ミラー６６を用いるため、転写倍率を高速で変化させることができる。従って、加工時間を短縮させることができる。
【００９３】
なお、本実施の形態によるレーザ加工装置３００においては、反射面形状可変反射ミラー１３２の反射面および反射面形状可変反射ミラー１３４の反射面を、それぞれ、凸型および凹型に変化させたが、両方を凹型に変化させても、加工点におけるビーム径を変化させることができる。
【００９４】
なお、本実施の形態によるレーザ加工装置３００を用いて図３に示される工程でレーザ加工する場合、銅箔４の穴あけ加工を行った後に、２枚の反射面形状可変反射ミラー（１３２、１３４）の反射面を変形させて絶縁材２と銅箔６を加工したが、逆に、２枚の反射面形状可変反射ミラー（１３２、１３４）の反射面を変形させて銅箔４の穴あけ加工を行った後に、それらの反射面の変形を解除して、その反射面を平坦にして絶縁材２と銅箔６を加工しても、同様の効果が得られる。
【００９５】
なお、本実施の形態によるレーザ加工装置を用いた場合であっても、実施の形態１で説明された効果と同様の効果が得られる。
【００９６】
＜実施の形態４＞
図１２に、本発明の実施の形態４による積層材料のレーザ加工装置４００の構成を図式的に示す。レーザ加工装置４００は、図４におけるレーザ加工装置１００に、開口径連続可変ビーム絞り１４２（図５）が付加されたものである。この開口径連続可変ビーム絞り１４２は、転写マスク１０４と位置決めミラー１０６との間の光路中に設置され、その開口径が制御装置１１２によって制御される。図１２において、図４のレーザ加工装置１００と同じ構成には同一の符号を付し、説明を省略する。このレーザ加工装置４００を用いて、実施の形態１のレーザ加工方法と同じ方法で、プリント基板１のレーザ加工を行う（図３）。
【００９７】
以下に、このレーザ加工装置４００の動作を説明する。まず、φ１．２ｍｍの転写マスク１０４、開口径連続可変ビーム絞り１４２および転写レンズ１０８を使用し、レーザ光を、銅箔４に、φ１２０μｍ程度に結像する。これについて、以下に詳細に説明する。パルス炭酸ガスレーザ発振器１０２から出射したレーザビーム１２０の一部は、転写マスク１０４を通過し、開口径連続可変ビーム絞り１４２によって絞られる。開口径連続可変ビーム絞り１４２は、転写マスク１０４によって回折されて広がったレーザビームのビーム径を絞る。ここで、開口径連続可変ビーム絞り１４２は、転写マスク１０４から距離１２００ｍｍの位置に設置され、その開口径はφ１８ｍｍである。開口径連続可変ビーム絞り１４２によって絞られたレーザ光は、２枚の位置決めミラー１０６を経て、転写レンズ１０８に到達する。２枚の位置決めミラー１０６は、レーザビームの転写レンズ１０８への入射角（入射位置）を制御する。転写レンズ１０８は、入射されたレーザ光を集光し、加工テーブル１１０上に設置したプリント基板１上に転写マスク１０４の像を結像する。最初に、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔４にφ１００μｍの加工穴２２を形成する（図３）。
【００９８】
次に、転写マスクはφ１．２ｍｍのままで、制御装置１１２を利用して、開口径連続可変ビーム絞り１４２の開口径を、φ３６ｍｍまで広げる。そして、レーザビームを、パルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを１１ｍＪと設定して、加工穴２２と同じ位置に４パルス照射し、絶縁材２を加工する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を４０μｓ、１パルスのレーザエネルギを８ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔６を加工する。ここで、加工点でのレーザビームのビーム径は、φ１００μｍ程度である。これにより、プリント基板１に貫通穴１４を形成する。
【００９９】
開口径連続可変ビーム絞り１４２の開口径を変化させることによって、加工点でのビーム径が変化する理由について述べる。図１３に開口とレンズとによる集光状態を図式的に示す。開口７２（開口径連続可変ビーム絞り１４２）に平行なレーザビーム７０が照射された場合、開口７２を通過したレーザビームは、レンズ７４（転写レンズ１０８）によって絞られる。レンズ７４によって絞られる集光点（プリント基板１における加工点）でのビーム径ｄは次の式（７）によって表される。
【０１００】
ｄ＝２．４４×λ×ｆ／Ｄ                          （７）
λ：レーザビーム７０の波長
ｆ：レンズ７４の焦点距離
Ｄ：開口径
【０１０１】
式（７）により、開口径Ｄと集光点でのビーム径ｄとは反比例の関係にあることがわかる。よって、開口径Ｄを大きくすれば集光点でのビーム径ｄを小さくすることができ、開口径Ｄを小さくすれば集光点でのビーム径ｄを大きくすることができる。
【０１０２】
本実施の形態によるレーザ加工装置４００においては、開口径連続可変ビーム絞り１４２を設置したことにより、図４のレーザ加工装置１００における転写マスク１０４を、径の異なる別の転写マスクに交換する手間を省くことができる。
また、レーザ加工の加工時間を短縮できる。さらに、本実施の形態によるレーザ加工装置４００においては、開口径連続可変ビーム絞り１４２を用いて、連続的に転写マスク１０４によって回折されて広がったレーザ光を絞るため、より精度良く積層材料の加工点におけるビーム径を変化させることができる。
【０１０３】
なお、本実施の形態によるレーザ加工装置を用いた場合であっても、実施の形態１で説明された効果と同様の効果が得られる。
【０１０４】
＜実施の形態５＞
図１４に、本実施の形態５による積層材料のレーザ加工装置５００の構成を図式的に示す。レーザ加工装置５００は、図４におけるレーザ加工装置１００の転写レンズ１０８が、焦点距離可変転写レンズ１５０に置き換えられたものである。焦点距離可変転写レンズ１５０の焦点距離は、制御装置１１２によって制御される。図１４において、図４のレーザ加工装置１００と同じ構成には同一の符号を付し、説明を省略する。このレーザ加工装置５００を用いて、実施の形態１のレーザ加工方法と同じ方法で、プリント基板１のレーザ加工を行う（図３）。
【０１０５】
以下に、このレーザ加工装置５００の動作を説明する。まず、φ１．８ｍｍの転写マスク１０４、および、焦点距離可変転写レンズ１５０を使用し、レーザ光を、銅箔４に、φ１２０μｍ程度に結像する。これについて、以下に、詳細に説明する。パルス炭酸ガスレーザ発振器１０２から出射したレーザビーム１２０の一部は、転写マスク１０４を通過し、２枚の位置決めミラー１０６を経て、焦点距離可変転写レンズ１５０に到達する。２枚の位置決めミラー１０６は、レーザビームの焦点距離可変転写レンズ１５０への入射角（入射位置）を決める。焦点距離可変転写レンズ１５０は、入射されたレーザ光を集光し、加工テーブル１１０上に設置したプリント基板１上に転写マスク１０４の像を結像する。ここで、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔４にφ１００μｍの加工穴２２を形成する。
【０１０６】
次に、転写マスクはφ１．８ｍｍのままで、焦点距離可変転写レンズ１５０の焦点距離を縮め、レーザビームを、パルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを１１ｍＪと設定して、加工穴２２と同じ位置に４パルス照射し、絶縁材２を加工する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を４０μｓ、１パルスのレーザエネルギを８ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔６を加工する。ここで、加工点でのレーザビームのビーム径は、φ１００μｍ程度である。これにより、プリント基板１に貫通穴１４を形成する。
【０１０７】
焦点距離可変転写レンズ１５０の焦点距離を変化させることによって、加工点でのビーム径が変化する理由について述べる。ここで、焦点距離可変転写レンズ１５０の焦点距離を、焦点距離ｆから、新たに焦点距離ｆ２に変化させたとすると、図７および式（３）を参照して、以下の式（８）が成り立つ。
【０１０８】
１／ａ２＋１／ｂ２＝１／ｆ２                        （８）
ａ２：新たなマスク（転写マスク１０４）と結像レンズ（転写レンズ１０８）の主面との間の距離（以下、「新たなマスク−レンズ間距離」という。）
ｂ２：新たな結像レンズの主面と結像点（プリント基板１における加工点）との間の距離（以下、「新たなレンズ−結像点間距離」という。）
【０１０９】
なお、レーザ加工装置５００においては、マスク−レンズ間距離ａ＋レンズ−結像点間距離ｂ＝（一定）の関係が成り立つので、式（９）の関係が成り立つ。
ａ＋ｂ＝ａ２＋ｂ２                                      （９）
【０１１０】
新たなマスク−レンズ間距離ａ２と新たなレンズ−結像点間距離ｂ２は、式（８）および式（９）を満たすように変更される。焦点距離ｆ２を変化させることにより、新たなマスク−レンズ間距離ａ２および新たなレンズ−結像点間距離ｂ２が変化すると、横倍率β（β＝ｂ２／ａ２）も変化するので、加工点でのビーム径を連続的に変化させることができる。
【０１１１】
焦点距離可変転写レンズ１５０は、図１５に示すように、２枚以上のレンズから成る組レンズである。組レンズのそれぞれのレンズ間隔は制御装置１１２によって制御され、そのそれぞれのレンズ間隔を変化させることによって、焦点距離可変転写レンズ１５０自体の焦点距離を変えることができる。
【０１１２】
本実施の形態によるレーザ加工装置５００においては、焦点距離可変転写レンズ１５０を採用することにより、図４のレーザ加工装置１００における転写マスク１０４を、径の異なる別の転写マスクに交換する手間を省くことができる。また、レーザ加工の加工時間を短縮できる。
【０１１３】
なお、本実施の形態によるレーザ加工装置を用いた場合であっても、実施の形態１で説明された効果と同様の効果が得られる。
【０１１４】
＜実施の形態６＞
図１６に、本発明の実施の形態６による積層材料レーザ加工方法の工程を図式的に示す。本実施の形態において、積層材料とは、実施の形態の参考例で用いたプリント基板１と同様に、厚さ０．４ｍｍの両面銅張り（銅箔厚さ１２μｍ）プリント基板（ガラスエポキシ基板）１である。図１６において、図１におけるプリント基板１の構造と同じ構造には、同じ符号を付す。さらに、本実施の形態によるレーザ加工方法においては、プリント基板１のビーム出射側の銅箔６に、吸収層として厚さ８０μｍのＰＥＴシート９０が貼り付けられる。このプリント基板１に、炭酸ガスレーザのパルス化したレーザビームを照射して、φ１００μｍの貫通穴１４を形成する。
【０１１５】
まず、銅箔４にレーザ光を照射し、銅箔４の表面に加工穴２２を形成する。この時、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪとし、そのレーザビームを１パルス照射することによって、銅箔４にφ１００μｍの加工穴２２を形成する。
【０１１６】
次に、加工穴２２と同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を１００μｓ、１パルスのレーザエネルギを１０ｍＪと設定して、そのレーザビームを４パルス照射し、絶縁材２を加工する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を４０μｓ、１パルスのレーザエネルギを８ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔６を加工する。
【０１１７】
この貫通穴１４の断面を顕微鏡により観察すると、穴径がほとんど変化せず、その穴の中心軸線の方向がレーザビームの光軸方向に一致する。また、貫通穴１４内において、レーザ光入射側の銅箔４、レーザ光出射側の銅箔６、および、ガラスクロス１０の突き出しがほとんど存在しないことがわかった。
【０１１８】
また、銅箔６の穴径は、ＰＥＴ９０付きプリント基板１において、最大１００μｍ、最小９０μｍと測定された。一方、ＰＥＴ９０を貼り付けない通常のプリント基板１を同じレーザビーム条件で加工した場合、測定された穴径は、最大１００μｍ、最小８０μｍであった。
【０１１９】
本実施の形態による方法において、銅箔６にＰＥＴシート９０を貼り付けて穴あけ加工を行うことにより、銅箔６の穴径のばらつきを低減できる。これは、貫通穴１４の出口付近において溶融かつ再凝固した銅箔６の滞留が抑制されることによる。以下に、詳細に説明する。レーザビームの照射によって銅箔６の温度が上昇し、銅箔６が溶融する時には、銅箔６に貼り付けられたＰＥＴ９０は、すでに気化を始めている（ちなみに、絶縁材２は、銅箔６よりも沸点が高いので変化はない）。溶融した銅箔６は、ＰＥＴ９０が気化する場合に、ＰＥＴ９０と共に、その位置から若しくは貫通穴１４を通り抜けて、プリント基板１の外部に吹き飛ばされる。従って、溶融した銅箔６は、貫通穴１４の出口付近に留まらない。
【０１２０】
なお、本実施の形態による積層材料のレーザ加工方法は、実施の形態の参考例による方法と同様の効果が得られる。
なお、銅箔６にＰＥＴ９０が貼り付けられたプリント基板１を、実施の形態１によるレーザ加工方法で加工することもできる。
【０１２１】
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法において、銅箔６に貼り付けるレーザビーム吸収材料としてＰＥＴを用いたが、これに限定されない。例えば、ポリブチレンテレフータラート（ＰＢＴ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリイミド（ＰＩ）等の高分子材料であっても、同様の効果が得られる。
【０１２２】
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法では、最上層が導体層であるプリント基板１を用いたが、その最上層の導体層の上に、さらに絶縁層が形成されていてもよい。その場合であっても、本実施の形態によるレーザ加工方法を適用することができ、同様の効果が得られる。
【０１２３】
＜実施の形態７＞
図１７に、本発明の実施の形態７による積層材料レーザ加工方法の工程を図式的に示す。本実施の形態において、積層材料とは、実施の形態の参考例で用いたプリント基板１と同様に、厚さ０．４ｍｍの両面銅張り（銅箔厚さ１２μｍ）プリント基板（ガラスエポキシ基板）１である。図１７において、図１におけるプリント基板１の構造と同じ構造には、同じ符号を付す。さらに、本実施の形態によるレーザ加工方法では、加工する銅箔４をあらかじめ加熱する。このプリント基板１に、炭酸ガスレーザのパルス化したレーザビームを照射して、φ１００μｍの貫通穴１４を形成する。
【０１２４】
まず、銅箔４にレーザビームを照射し、銅箔４の表面温度を上昇させる。この時、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを３ｍＪと設定し、そのレーザビームを４ｋＨｚで３パルス照射することによって、銅箔４の表面を３００℃（５７３Ｋ）程度まで上昇させる。次に、レーザビームのパルスＯＮ時間を３μｓ、１パルスのレーザエネルギを２４ｍＪと設定し、そのレーザビームを銅箔４の同じ位置に１パルス照射して、銅箔４にφ１００μｍの加工穴２２を形成する。
【０１２５】
次に、加工穴２２と同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を１００μｓ、１パルスのレーザエネルギを１０ｍＪと設定して、そのレーザビームを４パルス照射し、絶縁材２を加工する。さらに、その同じ位置に、レーザビームのパルスＯＮ時間を４０μｓ、１パルスのレーザエネルギを８ｍＪと設定して、そのレーザビームを１パルス照射し、銅箔６を加工する。
【０１２６】
この貫通穴１４の断面を顕微鏡により観察すると、穴径がほとんど変化せず、その穴の中心軸線の方向がレーザビームの光軸方向に一致する。また、貫通穴１４内において、レーザ光入射側の銅箔４、レーザ光出射側の銅箔６、および、ガラスクロス１０の突き出しがほとんど存在しないことがわかった。また、銅箔４の穴径は、最大１１０μｍ、最小１００μｍと測定された。一方、あらかじめ加熱されない通常の基板において、銅箔４の穴径は、最大１１０μｍ、最小９０μｍと測定された。
【０１２７】
本実施の形態による方法において、穴あけ加工を行う部分の銅箔をあらかじめ加熱することにより、穴径のばらつき量を低減できる。これは、加熱により、銅のレーザ光に対する吸収率が増加し、銅の安定した加工が可能になるからである。これについて、以下に詳細に説明する。
【０１２８】
上述したように、銅は、一般的に、レーザ光の反射率が高く、熱伝導が良いため、レーザ加工が困難である。特に、銅箔４および銅箔６等のプリント基板表面に均一に形成された銅箔は、その均一な表面に炭酸ガスレーザが照射されても、照射された炭酸ガスレーザの９９％近くを反射し、加工が非常に困難である。しかし、銅は、温度が上昇すると、炭酸ガスレーザの吸収率が増加する。図１８は、銅における炭酸ガスレーザ吸収率の温度依存性を示すグラフである。ここで、横軸は銅の温度、縦軸は銅における炭酸ガスレーザの吸収率を示す。
【０１２９】
図１８のグラフより、銅の温度が上昇すると、銅における炭酸ガスレーザの吸収率が増加することがわかる。例えば、本実施の形態によるレーザ加工方法においては、銅箔４を常温（約３００Ｋ）から５７３Ｋ程度まで上昇させるので、銅箔４における炭酸ガスレーザの吸収率が、約０．８％増加する。これにより、銅箔４において、温度を上昇させないときの約２倍のレーザエネルギが吸収されるようになるので、銅箔４の安定した加工が容易になり、銅箔４の穴径のばらつきが小さくなる。
【０１３０】
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法において、銅箔４を加熱するためにレーザビームを用いたが、他の任意の方法で銅箔４を加熱してもよい。
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法において、銅箔４にのみ加熱を実施したが、銅箔６を加熱すれば、銅箔６においても同様の効果が得られる。
【０１３１】
なお、本実施の形態による積層材料のレーザ加工方法は、実施の形態の参考例による方法と同様の効果が得られる。
なお、銅箔４を加熱した後、プリント基板１を実施の形態１による方法で加工することもできる。
【０１３２】
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法では、最上層および最下層が導体層であるプリント基板１を用いたが、その最上層の導体層の上、および／または、その最下層の導体層の下に、さらに絶縁層が形成されていてもよい。その場合であっても、本実施の形態によるレーザ加工方法を適用することができ、同様の効果が得られる。
【０１３３】
なお、本実施の形態によるレーザ加工方法は、プリント基板１に貫通穴１４を形成する場合について説明されたが、プリント基板１において止まり穴を形成したり、溝加工を行ったりする場合に適用されても同様の効果が得られる。
【０１３４】
なお、上述の実施の形態の参考例および実施の形態１〜７において、プリント基板１の導体層を銅箔としたが、他の導電性材料であってもよい。また、上述の実施の形態の参考例およびから実施の形態１〜７において、プリント基板１の絶縁材２をガラスエポキシ樹脂としたが、これに限定されない。例えば、アラミド樹脂やガラスポリイミド樹脂等であってもよい。
【０１３５】
なお、本発明は、特定の実施形態について説明されてきたが、当業者にとっては他の多くの変形例、修正、他の利用が明らかである。それ故、本発明は、ここでの特定の開示に限定されず、添付の請求の範囲によってのみ限定されうる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施の形態の参考例による積層材料のレーザ加工方法の工程を図式的に示す図である。
【図２】  銅箔の均一な表面にパルス幅や１パルスのエネルギが異なるレーザビームを１パルス照射する場合において、そのレーザビームの銅箔加工能力を説明するグラフ図である。
【図３】  本発明の実施の形態１による積層材料のレーザ加工方法の工程を図式的に示す図である。
【図４】  本発明の実施の形態１による積層材料のレーザ加工装置を図式的に示す図である。
【図５】  開口径連続可変ビーム絞りを図式的に示す図である。
【図６】  本発明の実施の形態２による積層材料のレーザ加工装置を図式的に示す図である。
【図７】  結像光学系の基本構成を図式的に示す図である。
【図８】  本実施の形態３による積層材料のレーザ加工装置を図式的に示す図である。
【図９】  凸面鏡と凹面鏡を用いた場合の結像光学系の基本構成を図式的に示す図である。
【図１０】  反射ミラーの反射面の形状による反射の仕方の違いを図式的に示す図である。
【図１１】  図８のレーザ加工装置で用いられる反射面形状可変反射ミラーの構成を図式的に示す図である。
【図１２】  本発明の実施の形態４による積層材料のレーザ加工装置を図式的に示す図である。
【図１３】  開口とレンズとによる集光状態を図式的に示す図である。
【図１４】  本発明の実施の形態５による積層材料のレーザ加工装置を図式的に示す図である。
【図１５】  焦点距離可変転写レンズの構成を図式的に示す図である。
【図１６】  本発明の実施の形態６による積層材料のレーザ加工方法の工程を図式的に示す図である。
【図１７】  本発明の実施の形態７による積層材料のレーザ加工方法の工程を図式的に示す図である。
【図１８】  銅における炭酸ガスレーザ吸収率の温度依存性を示すグラフ図である。
【図１９】  プリント基板の断面を図式的に示す図である。
【図２０】  従来のレーザ加工によるスルーホール形成工程を図式的に示す図である。
【図２１】  従来のレーザ加工により形成したスルーホールの断面を図式的に示す図である。
【符号の説明】
１  プリント基板、  ２  絶縁材、  ４  銅箔、  ６  銅箔、１０  ガラスクロス、  １４  貫通穴、  ２０，１２０  レーザ光、  ２２  加工穴、  ３０  ＰＥＴフィルム、  １００，２００，３００，４００，５００  レーザ加工装置、  １０２  レーザ発振器、  １０４  転写マスク、  １０６  位置決めミラー、  １０８  転写レンズ、  １１０  加工テーブル、  １１２  制御装置、  １２２  凸Ｖ型ミラー、  １２４  凹Ｖ型ミラー、  １３２，１３４  反射面形状可変反射ミラー、  １３６，１３８  ビーム広がり角、  １４２  開口径連続可変ビーム絞り、  １５０  焦点距離可変転写レンズ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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