(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のピクセル領域が形成された基板と、
その基板の上面のピクセル領域間に形成された第１ブラックマトリックスと、
前記第１ブラックマトリックスの上面の少なくとも一部が露出するように前記第１ブラックマトリックスの上面に所定間隔離隔して形成される第１及び第２隔壁を含む第２ブラックマトリックスと、
前記ピクセル領域に形成された色相層とを備えることを特徴とする液晶表示装置（ＬＣＤ）のカラーフィルター基板。
【請求項２】
前記第１ブラックマトリックスは、格子型に形成されることを特徴とする請求項１記載のＬＣＤのカラーフィルター基板。
【請求項３】
前記第１ブラックマトリックスはクロムまたは酸化クロムなどの金属で形成されることを特徴とする請求項１記載のＬＣＤのカラーフィルター基板。
【請求項４】
前記第２ブラックマトリックスは樹脂で形成されることを特徴とする請求項１記載のＬＣＤのカラーフィルター基板。
【請求項５】
前記第１ブラックマトリックスの露出した幅が、前記第１ブラックマトリックスの全体幅の１／３〜１／５であることを特徴とする請求項１記載のＬＣＤのカラーフィルター基板。
【請求項６】
基板の上面にピクセル領域を形成する第１ブラックマトリックスの形成段階と、
前記第１ブラックマトリックスの上面の少なくとも一部が露出するように前記第１ブラックマトリックスの上面に所定間隔離隔して配置される第１及び第２隔壁を含む第２ブラックマトリックスを形成する段階と、
前記ピクセル領域にインク液を塗布する色相層を形成する段階とが順次行われることを特徴とするＬＣＤのカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項７】
基板の上面にピクセル領域を形成する第１ブラックマトリックスの形成段階と、
前記第１ブラックマトリックスの上面の少なくとも一部が露出するように前記第１ブラックマトリックスの上面に所定間隔離隔して配置される第１及び第２隔壁を含む第２ブラックマトリックスの形成段階と、
前記第１ブラックマトリックスと前記第２ブラックマトリックスとによって区画された基板の上に特定色相のインク液を噴射する段階と、
前記インク液を乾燥させて特定色相の色相層を形成する段階と、
前記色相層が形成された領域に隣接する前記基板の上の領域に、前記色相層の色相とは異なる色相のインク液を噴射させた後、乾燥させて他の色相の色相層を形成する段階とを順次行うことを特徴とするＬＣＤのカラーフィルター基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）のカラーフィルター基板及びその製造方法に係るもので、詳しくは、ブラックマトリックスの構造を変更することで、ブラックマトリックスの特性劣化が発生するの防止し得るＬＣＤのカラーフィルター基板及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、ＬＣＤのブラックマトリックスは、赤、緑、青色が表われるカラーフィルターの色相層の各境界にあって、ピクセル電極により調節できない領域の光を遮断してＬＣＤ全体のコントラストを向上させている。
【０００３】
従来のブラックマトリックスを含むカラーフィルター基板を製造する方法としては、ガラス基板の上全面にクロムまたは酸化クロムを堆積させてパターニングする方法、若しくは、ガラス基板の上全面に樹脂を塗布してパターニングをする方法がある。
【０００４】
このクロムまたは酸化クロムを使用してブラックマトリックスを形成する方法は、ブラックマトリックスの高さが相対的に低いので、顔料分散法（pigment dispersion method）により色相層を形成する場合に適用される。一方、樹脂を利用したブラックマトリックス形成方法は、前述した方法よりも相対的に高いブラックマトリックスを形成することができるため、インクジェットによって色相層を形成する場合に適用される。
【０００５】
このように、従来にはブラックマトリックスの間に色相層を形成するために顔料分散法、インクジェット法が主に使用され、以下、このような従来カラーフィルター基板及びその製造方法に対し、図面に基づいて説明する。
【０００６】
図４（Ａ）〜図４（Ｅ）は従来のＬＣＤの下板製造工程を示した縦断面図である。図示されたように、従来のＬＣＤの下板製造工程は、ガラス基板１の全面に金属を堆積させ、その金属をフォトリソグラフィによりパターニングしてゲート電極２を形成する段階と、ゲート電極２の上面にゲート絶縁膜３を堆積させて、その上に非晶質シリコンを堆積させてパターニングし、薄膜トランジスターを形成するためにゲート電極２の上側にアクティブ領域４を形成する段階と、アクティブ領域４の上にその中央部で左右（図面上）に所定間隔離してゲート電極２の上から両側にわたってソース電極５及びドレイン電極６をそれぞれ形成する段階と、そのように形成させた構造体の上にパッシベーション膜７を堆積させて、パッシベーション膜７にコンタクトホールを形成することでドレイン電極６の上面一部を露出させる段階と、その構造体の全面に酸化インジウム錫（Indium Tin Oxide；以下、ＩＴＯと略称す）を堆積及びパターニングして、露出されたドレイン電極６に接続され、薄膜トランジスターが位置しない領域の上にピクセル電極８を形成する段階とを順次行うようになっていた。
【０００７】
以下、このようなＬＣＤの下板製造工程に対して、図４（Ａ）〜図４（Ｅ）に基づいて詳しく説明する。
まず、図４（Ａ）に示したように、ガラス基板１の上面に金属を堆積させて、金属の上面にフォトレジストを塗布し、露光及び現像して金属の一部を露出させるパターンを形成した後、フォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いるエッチング工程を施して金属をエッチングすることで、ガラス基板１の上の所定の箇所にゲート電極２を形成する。
【０００８】
次いで、図４（Ｂ）に示したように、ガラス基板１の全面にゲート絶縁膜３を堆積させ、ゲート絶縁膜３の上に非晶質シリコンを堆積させる。その後、フォトリソグラフィ工程によりパターニングして薄膜トランジスターが形成されるゲート電極２の上側にアクティブ領域４を形成する。
【０００９】
次いで、図４（Ｃ）に示したように、前記構造の全面に金属を堆積させて、その金属をフォトリソグラフィ工程によりパターニングして、アクティブ領域４の中央部を離隔させて、その両側にソース電極５及びドレイン電極６をそれぞれ形成する。
【００１０】
次いで、図４（Ｄ）に示したように、前記構造の上にパッシベーション膜７を堆積させて、フォトリソグラフィ工程によりパッシベーション７にコンタクトホールを形成して、ドレイン電極６の一部を露出させる。
【００１１】
次いで、図４（Ｅ）に示したように、前記構造の上面にＩＴＯを堆積させて、その堆積されたＩＴＯをパターニングしてドレイン電極６に接続されるピクセル電極８を形成する。
【００１２】
図５（Ａ）〜図５（Ｄ）は、従来のＬＣＤのカラーフィルター基板の上板製造工程を示した断面図である。図示されたように、従来のＬＣＤの上板製造工程は、ガラス基板２１の上面に金属を堆積又は樹脂を塗布した後、その金属または樹脂をパターニングしてガラス基板２１の上に、所定間隙で配置される複数のブラックマトリックス２２を形成する段階と、それらのブラックマトリックス２２の間に露出されたガラス基板２１の上にカラーフィルターである色相層２３をそれぞれ形成する段階と、そのように形成させた構造の上に色相層２３を保護するためのオーバーコーティング層２４を形成する段階と、その上に透明電極である共通電極２５を形成する段階とからなっている。
【００１３】
以下、前記した従来のＬＣＤのカラーフィルターの上板製造方法をさらに詳しく説明する。
まず、図５（Ａ）に示したように、ガラス基板２１の上面にクロムまたは酸化クロムの金属を堆積するか又は樹脂を塗布し、それをパターニングすることで、ガラス基板２１の上に所定間隙を持たせて配置されるブラックマトリックス２２を形成する。
【００１４】
この時、ブラックマトリックス２２のための材質の特性は密着性が優れていて光を吸収する吸歩留まりが優れていることが望ましい。また、このブラックマトリックス２２は、平面上でカラーフィルターの各色相層をピクセル単位に分ける格子型の構造に形成される。格子型とされた各単位ブラックマトリックス２２は、異なる色相の色相層が接する構造となっている。この時、下板の構成に対して、ブラックマトリックス２２の格子型構造は、トランジスターゲートラインの上側とデータラインの上側に対向するように形成される。
【００１５】
次いで、図５（Ｂ）に示したように、各ブラックマトリックス２２間に露出されたガラス基板２１の表面にカラーフィルターの色相層２３がそれぞれ形成されるが、それら色相層２３は通常赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）色の順に形成される。
【００１６】
このとき、それら色相層２３の形成方法は、顔料方式と染料方式とに大別され、これらは製作方法によって染色法、分散法、展着法（spread method）、印刷法、及びインクジェットプリント法にそれぞれ分類される。
【００１７】
これら中、顔料分散法は、各色相層２３の形成方法中、最も広く用いられている製作方法であって、顔料が含まれたフォトレジストを塗布して現像した後、ポストベーク（post bake）を施して特定色相の色相層を形成した後、その工程を反復することでそれぞれ異なる色相の色相層を順次形成する。
【００１８】
次いで、図５（Ｃ）に示したように、色相層を形成させた構造の全面に色相層２３を保護するためのオーバーコーティング層２４を形成する。オーバーコーティング層２４はアクリルを含む有機膜を堆積させることで形成される。
【００１９】
次いで、図５（Ｄ）に示したように、その上にＩＴＯを堆積させ、フォトリソグラフィ工程によりパターニングして下板に形成されたピクセル電極８に対応するように透明電極２５を形成する。
【００２０】
図６は顔料分散法を適用したカラーフィルター基板の製造工程を示したフローチャートである。図示されたように、顔料分散法を適用したカラーフィルター基板の製造工程は、ガラス基板にクロムを堆積させた後、フォトリソグラフィ工程によりパターニングしてブラックマトリックスを形成し、その後、コーティング、露光、現像及びポストベーク過程を順次実施して、各赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に対して反復的に色相層成分が含まれたフォトレジストをブラックマトリックスの間のガラス基板の表面に接しさせるとともに、ブラックマトリックスの中央部分で相互に異な色相の色相層が接するように色相層を形成させる。
【００２１】
又、図７（Ａ）〜図７（Ｄ）は顔料分散法を利用するカラーフィルター基板の製造工程を示した断面図である。図示されたように、ガラス基板２１の上にクロム（Ｃｒ）を堆積させる段階と、クロム（Ｃｒ）の上にフォトレジスト（ＰＲ）を塗布及び現像して、堆積されたクロム（Ｃｒ）の一部を均一な間隔に露出させる段階と、フォトレジスト（ＰＲ）パターンをエッチングマスクとするエッチング工程により、クロム（Ｃｒ）をエッチングした後、フォトレジスト（ＰＲ）パターンを取り除き、ガラス基板２１上にブラックマトリックス２２を形成する段階と、顔料分散法を使用してブラックマトリックス２２の間にそれぞれ異なる色相の色相層（２２、Ｒ、Ｇ、Ｂ）を順次形成する段階とを備えている。
【００２２】
このような顔料分散法はスピン方式に比べて材料の消耗量が多いが、厚さの均一性が優秀であるため最も多く使用されている。
【００２３】
然し、このような顔料分散法は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３種類の色相に対して、それぞれフォトレジスト、塗布、露光、現像、及びポストベークの工程をそれぞれ行わなければならないため、製造工程が煩雑である。また、フォトレジストをスピンコーティング法を施して塗布するため、現像工程で塗布したフォトレジストの大部分を取り除くことになり、材料の損失が多くなるので、カラーフィルターの製造単価が上昇する原因となる。
【００２４】
また、ＬＣＤを大型化、すなわち大面積化すると、スピンコーティング法により塗布されるフォトレジストの均一性を確保し難いため、大面積のカラーフィルター製造には応用し得ないという問題点があった。
【００２５】
又、このような顔料分散法とは異なる色相層形成方式としてのインクジェットプリント法は、樹脂を利用して相対的に厚いブラックマトリックスを形成し、そのブラックマトリックス間に、色相層成分と有機バインダーとから構成されたインク液を加圧して、ノズルから噴射させ、かつ乾燥させて有機バインダーを取り除くことによって、色相層をガラス基板に付着させている。
【００２６】
このようなインクジェットプリント法は、他の方法に比べて材料の使用量が少ないため、カラーフィルターの製造原価を低減することができる。
【００２７】
すなわち、図８（Ａ）〜図８（Ｄ）は、インクジェットプリント法により色相層を形成する従来のカラーフィルター基板製造工程の断面図である。図示されたように、ガラス基板２１の上面に樹脂を塗布してパターンを形成し、先の例のクロムブラックマトリックスに比べて背を高くした樹脂ブラックマトリックス２２を形成した後、インクジェットプリント法を利用して各樹脂ブラックマトリックス２２の間、すなわち格子内に特定色相のインク液（例えばＲ）を噴射する段階と、それらの噴射されたインク液（Ｒ）を乾燥させて色相層（２３、Ｒ）を形成する段階と、形成された色相層（２３、Ｒ）の隣の樹脂ブラックマトリックス２２の間に色相層（２３、Ｒ）とは異なる色相のインク液（例えばＧ）を噴射する段階と、噴射されたインク液（Ｇ）を乾燥させて色相層（２３、Ｇ）を形成する段階とをさらに他の色相についても行う。
【００２８】
このように、インクジェットプリント法により色相層を形成する従来のカラーフィルター基板製造工程は、所望の厚さの色相層を獲得するために、樹脂ブラックマトリックス２２より厚い色相層をプリントしなければならなく、これに従って、噴射されたインク液が乾燥する前に他の色相層領域へ広がることがあるため、歩留まりが低下する原因となる。また、インク液に含まれるソルベントが樹脂ブラックマトリックス２２に浸潤してブラックマトリックスのインク液に対する斥力を喪失させるため、所望のパターンを形成し難いという問題点がある。
【００２９】
図８（Ｂ）は色相層（２３、Ｒ）を形成する過程で、インク液に含まれたソルベントが樹脂ブラックマトリックス２２に浸潤することによって、インク液に対する樹脂ブラックマトリックス２２の斥力が喪失されることを示した図で、このような状態で、図８（Ｃ）及び図８（Ｄ）に示したように、他の色相のインク液（Ｇ）を噴射すると、噴射されるインク液（Ｇ）が、斥力の喪失されたブラックマトリックス２２を越えるようになり、その後、インク液を乾燥させる場合、色相層２３の混合によって所望のカラーフィルターを獲得できなくなる。
【００３０】
その後、図８（Ｃ）及び図８（Ｄ）に示された過程を施して、オーバーコーティング層２４と透明電極２５（図５参照）をそれぞれ形成する。
【００３１】
図９（Ａ）〜図９（Ｄ）は前述のように製作された上板と下板を組み合わせる工程を示した断面図である。図示されたように、上板３０は、カラーフィルターを形成させた表面に配向膜３１を形成し、ラビング布を使用して配向膜３１をラビングし、液晶を配向させた後、上板３０の表示有効面積以外の部分にシーラント３２を塗布する。一方下板３３は、同様に下板３３の上面に配向膜３４を形成し、ラビング布を使用して配向膜３４をラビングすることで液晶を配向させた後、配向膜３４上に均一な分布となるようにスペーサー３５を形成する。このように形成させた上下両板の各配向膜３１、３４が向き合うように向いあわせて、シーラント３２を焼成して上板３０を下板３３に固定し、その固着された上板３０と下板３３間の領域に液晶３６を注入する。
【００３２】
以下、上板と下板との固着工程に対して説明する。
まず、図９（Ａ）に示したように、カラーフィルターである上板３０の下板に向き合う面の透明電極２５の上に配向膜３１を形成する。この時、配向膜３１は、ローラーに付着されたゴム樹脂板に配向液を均一に付けて基板上に印刷して乾燥させ、ソルベントを蒸発させながら配向膜３１が均一に広がるようにする焼成工程により乾燥させて硬化させることで形成する。
【００３３】
次いで、ラビング布を使用して配向膜３１をラビングすることで、配向膜３１に所定方向への方向性が形成される。その後、上板３０の表示有効面積以外の部分にシーラント３２を塗布する。その塗布方法としてはスクリーンマスク法を使用し、印刷後９０℃の温度で４８分間加熱することでソルベントを蒸発させる。
【００３４】
次いで、図９（Ｂ）に示したように、下板３３の上板と向き合う面に配向膜３４を形成し、ラビング布により配向膜３４をラビングすることで、液晶に配向を与え、配向膜上に均一な分布でスペーサー３５を散布させる。
【００３５】
スペーサー３５は上板３０と下板３３の間の間隔を所定間隔に維持する役割を果たす。このときの前記散布方法としては、スペーサー３５をソルベントに混合させて散布した後、ソルベントを蒸発させる湿式散布方式と、スペーサー３５と下板（３３）をそれぞれ異なる形態に帯電させて散布させる乾式散布方式とがある。この中で、主に乾式散布を利用してスペーサー３５を配置していた。
【００３６】
次いで、双方の配向膜３１、３４が対向するように上板３０を下板３３と合わせ、シーラント３２を焼成して上板３０を下板３３上に固着させる。
【００３７】
この時の固着工程で、上板３０と下板３３間は完全に密封されずに、一部分に開口を設ける。それが液晶注入口である。
【００３８】
次いで、図９（Ｄ）に示したように、固着された上板３０と下板３３間の領域に液晶３６を注入し、液晶３６を注入させた液晶注入口を封じて液晶を外部と完全に分離させる。
【００３９】
図１０は一般のＬＣＤの動作説明図である。図示されたように、トランジスターのゲート電極２にゲート電圧を印加することによって、データラインを通して印加される動作電圧をピクセル電極８に印加すると、動作電圧と上板側の透明電極２５との電圧差により液晶の方向性が変わり、各ピクセルごとにバックライト２７の光透過程度が動作電圧に応じて決定される。
【００４０】
このとき、透過される光は、各色相層２３の色相として表示され、ブラックマトリックス２２により、ピクセルの間の領域では光が遮断されてコントラストが向上される。
【００４１】
図面に示されたように、ブラックマトリックス２２は異なる色相及び同一の色相の色相層をピクセル単位に区分する格子構造をなしている。
【００４２】
【発明が解決しようとする課題】
然るに、このような従来のＬＣＤのカラーフィルター基板製造方法としての顔料分散法においては、製造費用が上昇して厚さの均一性が確保されないため、大面積のガラス基板には適用しえず、よって、大画面のＬＣＤは製作し得ないという不都合な点があった。
【００４３】
且つ、インクジェットプリント法においては、樹脂成分のブラックマトリックスを形成して、そのブラックマトリックスの間に第１色相の色相層を形成する過程で、その第１色相の色相層の周辺部で樹脂ブラックマトリックスの成分が変化し、第１色相の色相層に隣接する領域に第２色相の色相層を形成する過程で、第１色相が乾燥される前に第２色相の色相層が第１色相の色相層の上面に広がることがあるため、品質が不安定となり、歩留まりが低下して工程の信頼性が低下されるという不都合な点があった。
【００４４】
本発明は、このような従来の課題に鑑みてなされたもので、インクジェットプリント法により色相層を形成する時にも、色相層のパターンを正確に形成し得るＬＣＤのカラーフィルター基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【００４５】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するため、本発明に係るＬＣＤのカラーフィルター基板は、複数のピクセル領域を含む基板８１と、基板上のピクセル領域間に形成された第１ブラックマトリックス８２と、第１ブラックマトリックス８２の上面に形成されて各ピクセル領域を隔離させる第２ブラックマトリックス８３と、ピクセル領域に形成される色相層と備えている。
【００４６】
第１ブラックマトリックスは金属で格子状に形成し、第２ブラックマトリックスは樹脂で形成することが望ましい。
【００４７】
本発明に係るＬＣＤのカラーフィルター基板製造方法は、基板８１の上にピクセル領域を区画するための第１ブラックマトリックス８２を形成する段階と、第１ブラックマトリックスの上面にピクセル領域を隔離させるための第２ブラックマトリックスを形成する段階と、ピクセル領域にインク液を塗布する色相層を形成する段階とを備えている。
【００４８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に対し、図面を用いて説明する。
本発明に係るＬＣＤのカラーフィルター基板は、ブラックマトリックスを、光を遮断する部分と、単位色相層のこぼれを防止する隔壁として働く部分とで構成させている。後者は、光を遮断する部分の周辺部の上に相互に離隔されるように形成される。
【００４９】
図１（Ａ）〜図１（Ｅ）は、本発明実施形態に係るＬＣＤのカラーフィルター基板製造工程断面図である。本発明に係るＬＣＤのカラーフィルター基板は、複数のピクセル領域を含む基板８１と、基板の上面のピクセル領域を区画するように形成された第１ブラックマトリックス８２と、第１ブラックマトリックス８２の上に形成されて各ピクセル領域を隔離させる第２ブラックマトリックス８３と、ピクセル領域に形成される色相層８４とで構成されている。
【００５０】
また、本実施形態に係るＬＣＤのカラーフィルター基板製造方法は、基板８１の上面にピクセル領域を区画するように第１ブラックマトリックス８２を形成する段階と、第１ブラックマトリックスの上面にピクセル領域を隔離させる第２ブラックマトリックス８３を形成する段階と、ピクセル領域にインク液を塗布する色相層８４を形成する段階とを備えている。
【００５１】
以下、本実施形態に係るＬＣＤのカラーフィルター基板及びその製造方法に対してさらに詳細に説明する。
【００５２】
まず、図１（Ａ）に示したように、ガラス基板８１の全面にクロムまたは酸化クロムを堆積させ、堆積されたクロムまたは酸化クロムの上部にフォトレジスト（図示せず）を塗布し、それを露光及び現像することで、クロムの上にフォトレジストパターンを形成する。次いで、フォトレジストパターンをエッチングマスクとして使用して、積層されたクロムまたは酸化クロムをエッチングすることで第１ブラックマトリックス８２を形成する。
【００５３】
この第１ブラックマトリックス８２はいかなる形態にも形成し得るが、大部分のＬＣＤがアクティブマトリックス型に製作されるため、格子型に形成することが好ましい。
【００５４】
次いで、図１（Ｂ）に示したように、第１ブラックマトリックス８２が形成されたガラス基板８１の上面全体に樹脂を塗布して硬化させた後、フォトリソグラフィ工程によりパターニングすることで、第１ブラックマトリックス８２の上面に第２ブラックマトリックス８３を形成する。第２ブラックマトリックス８３は光を遮断するだけでなく、カラー層の形成の際、各画素に塗布される色素（例えば、インク液）が他の画素の侵入を防止するためのものである。
【００５５】
このような観点から、第２ブラックマトリックス８３は画素間に形成された隔壁と称することができる。このような用語上の差は機能上の差のみを表すだけで、構造上の差を表すものではない。従って、本明細書の発明の詳細な説明と特許請求の範囲においては、第２ブラックマトリックスと隔壁とは実質的に同じ意味に用いられる。この隔壁は所定間隔離した二つの部分からなり、それぞれが第１ブラックマトリックスの両縁側に設けられている。
【００５６】
第２ブラックマトリックス８３は、第１ブラックマトリックス８２の上面に形成される限り、いかなる大きさ及び幅を有し得るが、２つの隔壁に形成され、全体の幅は第１ブラックマトリックス８２の１／３〜１／５が露出されるように離して二つ形成することが好ましい。
【００５７】
次いで、図１（Ｃ）に示したように、赤色のインク液（Ｒ）を第２ブラックマトリックス８３によって独立的に覆われるピクセル領域に塗布または積層する。
【００５８】
この時、塗布される赤色のインク液（Ｒ）は、第２ブラックマトリックス８３よりも高く塗布する。このようにインク液（Ｒ）を第２ブラックマトリックス８３より高く塗布することは、インク液（Ｒ）が乾燥の際に低くなることを勘案した結果である。そしてこの第２ブラックマトリックス８３は、インク液との間に斥力が作用する材質のものを使用する。また、インク液に含まれるソルベントを吸収する樹脂を使用する。
【００５９】
第２ブラックマトリックス８３及び第１ブラックマトリックス８２が形成されたガラス基板８１の平面図を図２に示している。
【００６０】
上記のように、第２ブラックマトリックス８３とインク液（Ｒ）間には斥力が作用するため、インク液（Ｒ）が第２ブラックマトリックス８３より高く塗布されても、隣接するピクセル領域にこぼれない。
【００６１】
次いで、図１（Ｄ）に示したように、赤色（Ｒ）のインク液を乾燥させて赤色（Ｒ）の色相層（８４、Ｒ）を形成するが、それら赤色の色相層（８４、Ｒ）に接する樹脂で構成された第２ブラックマトリックス８３はインク液に含まれるソルベントを吸収し、これによって、インク液に対する斥力を喪失する。このように、ソルベントの吸収により前記第２ブラックマトリックス８３の斥力が喪失されるため、図面に示されたように、第２ブラックマトリックス８３を二重の層として形成する。
【００６２】
すなわち、２つの層（すなわち、隔壁）が形成されて、隣接するピクセルにインク液が塗布される時、内側の層の斥力によりインク液が他のピクセルにこぼれることが防止される。
【００６３】
次いで、図１（Ｅ）に示されたように、赤色の色相層（８４、Ｒ）が形成されたピクセル領域に隣接して露出されたガラス基板８１上のピクセル領域に緑色（Ｇ）のインク液をインクジェットヘッドを使用して塗布する。
【００６４】
この時、２つの第２ブラックマトリックス８３のうち、緑色のインク液（Ｇ）が塗布されるピクセル領域の側に配置された第２ブラックマトリックス８３は、赤色の色相層（８４、Ｒ）の形成の際、ソルベントを吸収せずにインク液に対する斥力がそのまま維持されるため、その緑色のインク液（Ｇ）は周辺のピクセル領域にこぼれることがない。
【００６５】
図２は第２ブラックマトリックス８３及び第１ブラックマトリックス８２が形成されたガラス基板８１の平面図であり、図示されたように、ピクセルは第１ブラックマトリックス８２により境界が形成され、第２ブラックマトリックス８３が該当のピクセル領域周囲に形成されることで他のピクセル領域から隔離されている。
【００６６】
図３はＬＣＤの色相層８４が誤って形成された場合を示した断面図で、図１（Ｅ）と同様に、少量の緑色のインク液（Ｇ）がこぼれた場合にも、赤色の色相層（８４、Ｒ）の側面に位置する第２ブラックマトリックス８３との間に所定空間が生じ、その空間内に緑色のインク液（Ｇ）が位置されるため、赤色（Ｒ）と緑色（Ｇ）とが混合されるのを防止することができる。
【００６７】
その後緑色のインク液（Ｇ）を乾燥させて、緑色の色相層（８４、Ｇ）を形成する。
【００６８】
色相層８４の形成は、その順序により制限されることなく、３種類の色をいかなる順序にプリントしても色相層を形成することができる。また、その位置も必要に応じて変えることができる。
【００６９】
さらに、図面には示されてないが、隣接したピクセル領域に青色の色相層を塗布して、乾燥した後、青色の色相層を形成することができる。
その後、色相層８４の上に保護層と透明電極とを順次形成してカラーフィルター基板の製造を終了する。
【００７０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係るＬＣＤのカラーフィルター基板及びその製造方法は、ブラックマトリックスに対して実質的に光を遮断する金属ブラックマトリックスと、その金属ブラックマトリックスの上の周辺部に形成されて、色相層を形成するためのインク液が広がらないように遮断する隔壁の役割をする樹脂ブラックマトリックスとから構成されるため、インク液に含まれたソルベントの吸収により、樹脂ブラックマトリックスの特性が変化して発生するインク液のこぼれを防止し、カラーフィルターのインク歩留まりを向上させて、工程の信頼性を向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明実施形態に係るＬＣＤのカラーフィルター基板の製造工程を示した縦断面図である。
示した縦断面図である。
【図２】  本発明実施形態に係る第１ブラックマトリックス及び第２ブラックマトリックスが形成された基板の平面図である。
【図３】  ＬＣＤの色相層が誤って形成された場合を示した縦断面図である。
【図４】  従来のＬＣＤの下板製造工程を示した縦断面図である。
【図５】  従来のＬＣＤのカラーフィルター基板の上板製造工程を示した縦断面図である。
【図６】  従来の顔料分散法を適用したカラーフィルター基板の製造工程を示した概略工程図である。
【図７】  従来顔料分散法を利用したカラーフィルター基板の製造工程を示した縦断面図である。
【図８】  従来インクジェットプリント法により色相層を形成するカラーフィルター基板の製造工程を示した縦断面図である。
【図９】  従来上板を下板に固定する工程を示した縦断面図である。
【図１０】  一般のＬＣＤの動作を示した説明図である。
【符号の説明】
８１：ガラス基板  ８２：第１ブラックマトリックス
８３：第２ブラックマトリックス        ８４：色相層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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