(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
0004212891.tif 000014
（式中のＲ1は水素原子、水酸基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ2は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、ヒドロキシ低級アルケニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、但し、Ｒ1が水素原子またはヒドロキシ低級アルキル基であり、かつＲ2が水素原子のとき、Ｒ3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基ではなく、Ｒ1が低級アルコキシ基であり、かつＲ2が水素原子のとき、Ｒ3は低級アルキル基ではない）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２】
Ｒ1が水素原子またはヒドロキシ低級アルキル基であり、Ｒ2が水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ3が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、ヒドロキシ低級アルケニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、但し、Ｒ1が水素原子またはヒドロキシ低級アルキル基であり、かつＲ2が水素原子のとき、Ｒ3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基ではない、請求項１記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項３】
Ｒ1が水酸基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ2が水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ3が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、ヒドロキシ低級アルケニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、但し、Ｒ1が低級アルコキシ基であり、かつＲ2が水素原子のとき、Ｒ3は低級アルキル基ではない、請求項１記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項４】
Ｒ1が水素原子、水酸基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ2が水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ3が低級アルケニルオキシ基、ヒドロキシ低級アルケニル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基またはカルボキシ低級アルキル基である、請求項１記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項５】
Ｒ1がアミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ2が水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ3が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、ヒドロキシ低級アルケニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基である、請求項３記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分と含有する医薬組成物。
【請求項７】
ヒトＳＧＬＴ２活性阻害剤である請求項６記載の医薬組成物。
【請求項８】
高血糖症に起因する疾患の予防又は治療剤である請求項７記載の医薬組成物。
【請求項９】
高血糖症に起因する疾患が糖尿病又は糖尿病性合併症である、請求項８記載の医薬組成物。
【請求項１０】
高血糖症に起因する疾患が肥満症である、請求項８記載の医薬組成物。
【請求項１１】
高血糖症に起因する疾患の予防又は治療用の医薬組成物を製造するための、請求項１〜５の何れかに記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【請求項１２】
一般式
0004212891.tif 000015
（式中のＲ11は水素原子、保護基を有する水酸基、保護基を有するアミノ基、保護基を有するモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基、保護基を有するヒドロキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ12は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ13は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基、保護基を有するヒドロキシ低級アルコキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルケニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、保護基を有するアミノ基、保護基を有するモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、但し、Ｒ11が水素原子または保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基であり、かつＲ12が水素原子のとき、Ｒ13は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基、保護基を有するヒドロキシ低級アルコキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基ではなく、Ｒ11が水素原子であり、かつＲ12が水素原子のとき、Ｒ13はカルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ低級アルキル基または保護基を有するアミノ基ではなく、Ｒ11が低級アルコキシ基であり、かつＲ12が水素原子のとき、Ｒ13は低級アルキル基ではない）で表されるベンジルフェノール誘導体またはその塩。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、医薬品として有用なグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩、それを含有する医薬組成物およびその製造中間体に関するものである。
さらに詳しく述べれば、本発明は、ヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を有し、糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症等の高血糖症に起因する疾患の予防又は治療剤として有用なグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩、それを含有する医薬組成物およびその製造中間体に関するものである。
背景技術
糖尿病は食生活の変化や運動不足を背景とした生活習慣病の一つである。それ故、糖尿病患者には食事療法や運動療法が実施されているが、充分なコントロールや継続的実施が困難な場合、薬物療法が併用されている。現在、糖尿病治療剤としては、ビグアナイド薬、スルホニルウレア薬やインスリン抵抗性改善薬などが使用されている。しかしながら、ビグアナイド薬には乳酸アシドーシス、スルホニルウレア薬には低血糖、インスリン抵抗性改善薬には浮腫などの副作用が認められることがある上、肥満化を促進させることが懸念されている。そのため、このような問題を解消すべく新しい作用機序による糖尿病治療剤の開発が嘱望されている。
近年、腎臓において過剰な糖の再吸収を阻害することで尿糖の排泄を促進させて血糖値を低下させる、新しいタイプの糖尿病治療薬の研究開発が推進されている（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．，Ｖｏｌ．７９，ｐｐ．１５１０−１５１５（１９８７））。また、腎臓の近位尿細管のＳ１領域にＳＧＬＴ２（ナトリウム依存性グルコース輸送体２）が存在し、このＳＧＬＴ２が糸球体ろ過された糖の再吸収に主として関与していることが報告されている（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．，Ｖｏｌ．９３，ｐｐ．３９７−４０４（１９９４））。それ故、ヒトＳＧＬＴ２を阻害することにより腎臓での過剰な糖の再吸収を抑制し、尿から過剰な糖を排泄させて血糖値を正常化することができる。従って、強力なヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を有し、新しい作用機序による糖尿病治療薬の早期開発が待望される。しかも、このような尿糖排泄促進剤は過剰な血糖を尿から排泄するため、体内での糖の蓄積が減少することから、肥満化の防止効果も期待できる。
発明の開示
本発明者らは、ヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、ある種のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体が、下記の如く優れたヒトＳＧＬＴ２阻害活性を示すという知見を得、本発明を成すに至った。
本発明は、ヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を発揮し、腎臓での糖の再吸収を抑制し過剰な糖を尿中に排泄させることにより、優れた血糖低下作用を発揮する、下記のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体およびその薬理学的に許容される塩並びにそれらを含有する医薬組成物を提供するものである。
即ち、本発明は、一般式
0004212891.tif 000002
（式中のＲ１は水素原子、水酸基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、ヒドロキシ低級アルケニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、但し、Ｒ１が水素原子またはヒドロキシ低級アルキル基であり、かつＲ２が水素原子のとき、Ｒ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基ではない）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩に関するものである。
本発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物に関するものである。
本発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するヒトＳＧＬＴ２阻害剤に関するものである。
本発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する高血糖症に起因する疾患の予防又は治療剤に関するものである。
本発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効量投与することからなる、高血糖症に起因する疾患の予防又は治療方法に関するものである。
本発明は、高血糖症に起因する疾患の予防又は治療用の医薬組成物を製造するための、前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用に関するものである。
また、本発明は、一般式
0004212891.tif 000003
（式中のＲ１１は水素原子、保護基を有する水酸基、保護基を有するアミノ基、保護基を有するモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基、保護基を有するヒドロキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ１２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ１３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基、保護基を有するヒドロキシ低級アルコキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルケニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、保護基を有するアミノ基、保護基を有するモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、但し、Ｒ１１が水素原子または保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基であり、かつＲ１２が水素原子のとき、Ｒ１３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基、保護基を有するヒドロキシ低級アルコキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基ではない）で表されるベンジルフェノール誘導体またはその塩に関するものである。
本発明において、低級アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルキル基をいい、低級アルコキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルコキシ基をいい、低級アルキルチオ基とは、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、ｔｅｒｔ−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等の炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルキルチオ基をいう。ヒドロキシ低級アルキル基とは、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシブチル基、５−ヒドロキシペンチル基、４−ヒドロキシペンチル基、３−ヒドロキシペンチル基、２−ヒドロキシペンチル基、１−ヒドロキシペンチル基、６−ヒドロキシヘキシル基、５−ヒドロキシヘキシル基、４−ヒドロキシヘキシル基、３−ヒドロキシヘキシル基、２−ヒドロキシヘキシル基、１−ヒドロキシヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のヒドロキシアルキル基をいい、ヒドロキシ低級アルコキシ基とは、２−ヒドロキシエトキシ基、３−ヒドロキシプロポキシ基、２−ヒドロキシプロポキシ基、２−ヒドロキシ−１−メチルエトキシ基、４−ヒドロキシブトキシ基、３−ヒドロキシブトキシ基、２−ヒドロキシブトキシ基、５−ヒドロキシペンチルオキシ基、４−ヒドロキシペンチルオキシ基、３−ヒドロキシペンチルオキシ基、２−ヒドロキシペンチルオキシ基、６−ヒドロキシヘキシルオキシ基、５−ヒドロキシヘキシルオキシ基、４−ヒドロキシヘキシルオキシ基、３−ヒドロキシヘキシルオキシ基、２−ヒドロキシヘキシルオキシ基等の炭素数２〜６の直鎖状または枝分かれ状のヒドロキシアルコキシ基をいい、ヒドロキシ低級アルキルチオ基とは、２−ヒドロキシエチルチオ基、３−ヒドロキシプロピルチオ基、２−ヒドロキシプロピルチオ基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチルチオ基、４−ヒドロキシブチルチオ基、３−ヒドロキシブチルチオ基、２−ヒドロキシブチルチオ基、５−ヒドロキシペンチルチオ基、４−ヒドロキシペンチルチオ基、３−ヒドロキシペンチルチオ基、２−ヒドロキシペンチルチオ基、６−ヒドロキシヘキシルチオ基、５−ヒドロキシヘキシルチオ基、４−ヒドロキシヘキシルチオ基、３−ヒドロキシヘキシルチオ基、２−ヒドロキシヘキシルチオ基等の炭素数２〜６の直鎖状または枝分かれ状のヒドロキシアルキルチオ基をいう。低級アルコキシ低級アルキル基とは、上記低級アルコキシ基で置換された上記低級アルキル基をいい、低級アルコキシ低級アルコキシ基とは、上記低級アルコキシ基で置換された上記低級アルコキシ基をいい、低級アルコキシ低級アルキルチオ基とは、上記低級アルコキシ基で置換された上記低級アルキルチオ基をいう。低級アルケニルオキシ基とは、アリルオキシ基等の炭素数２〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルケニルオキシ基をいい、ヒドロキシ低級アルケニル基とは、３−ヒドロキシ−１−プロペニル基等の炭素数３〜６の直鎖状または枝分かれ状のヒドロキシアルケニル基をいい、アルアルキルオキシ基とは、ベンジルオキシ基等のフェニル基、ナフチル基等のアリール基で置換された上記低級アルコキシ基をいい、アルアルキルオキシ低級アルキル基とは、上記アルアルキルオキシ基で置換された上記低級アルキル基をいい、シアノ低級アルキル基とは、シアノ基で置換された上記低級アルキル基をいい、カルバモイル低級アルキル基とは、カルバモイル基で置換された上記低級アルキル基をいい、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基とは、上記低級アルキル基でモノ又はジ置換されたアミノ基をいう。低級アルコキシカルボニル基とは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７の直鎖状または枝分かれ状のアルコキシカルボニル基をいい、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基とは、上記低級アルコキシカルボニル基で置換された上記低級アルキル基をいい、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基とは、上記低級アルコキシカルボニル基で置換された上記低級アルコキシ基をいい、カルボキシ低級アルキル基とは、カルボキシ基で置換された上記低級アルキル基をいい、カルボキシ低級アルコキシ基とは、カルボキシ基で置換された上記低級アルコキシ基をいう。
水酸基の保護基とは、ベンジル基、メトキシメチル基、アセチル基、ベンゾイル基等の一般的な有機合成反応において用いられる水酸基の保護基をいう。また、アミノ基の保護基とは、ベンジルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フタロイル基、ベンジル基、アセチル基等の一般的な有機合成反応において用いられるアミノ基の保護基をいう。
前記一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物は、例えば、本発明の前記一般式（ＩＩ）で表されるベンジルフェノール誘導体を用いて、以下の方法に従い製造することができる。
0004212891.tif 000004
（式中のＸはトリクロロアセトイミドイルオキシ基、アセトキシ基、臭素原子、フッ素原子等の脱離基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３は前記と同じ意味をもつ）
工程１
前記一般式（ＩＩ）で表されるベンジルフェノール誘導体またはその塩を２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−β−Ｄ−グルコピラノース、１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グルコピラノシルブロミド、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシルフルオリド等の前記一般式（ＩＩＩ）で表される糖供与体を用いて、不活性溶媒中、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銀、塩化第二すず、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルなどの活性化剤の存在下に配糖化させることにより前記一般式（ＩＶ）で表される配糖体を製造することができる。用いられる溶媒としては、例えば、塩化メチレン、トルエン、アセトニトリル、ニトロメタン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、クロロホルム、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常−３０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分間〜１日間である。尚、置換基Ｒ１１及び／又はＲ１３において水酸基やアミノ基の保護基を有する化合物は、当該工程の反応終了後に常法に従い適宜処理して当該保護基を除去して工程２に供しても構わない。
工程２
前記一般式（ＩＶ）で表される配糖体をアルカリ加水分解させて水酸基の保護基を除去することにより本発明の化合物（Ｉ）を製造することができる。用いられる溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、それらの混合溶媒などを挙げることができ、塩基性物質としては、例えば、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどを使用することができる。処理温度は通常０℃〜還流温度であり、処理時間は使用する原料物質や溶媒、処理温度などにより異なるが、通常３０分間〜６時間である。尚、置換基Ｒ１１及び／又はＲ１３において水酸基やアミノ基の保護基を有する場合、当該保護基の種類に応じ、上記処理方法を常法に従い適宜変更して実施することもでき、または当該工程の反応終了後に別途保護基の除去を常法に従い実施することにより所望の化合物（Ｉ）に誘導することができる。
また、前記一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物の中、下記一般式（Ｉａ）で表される化合物は、例えば、下記一般式（Ｖ）で表されるカルボン酸誘導体を用いて、以下の方法に従い製造することもできる。
0004212891.tif 000005
（式中のＹは炭素数１〜５の直鎖状または枝分かれ状のアルキル基、または炭素数２〜５の直鎖状または枝分かれ状のアルケニル基であり、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ意味をもつ）
工程３
前記一般式（Ｖ）で表されるカルボン酸誘導体を、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メタノール、エタノール、それらの混合溶媒等の溶媒中、水素化リチウムアルミニウム、ボラン、水素化ホウ素リチウム等の還元剤を用いて還元することにより前記一般式（Ｉａ）で表される化合物を製造することができる。反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。
更に、前記一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物の中、下記一般式（Ｉｂ）で表される化合物は、例えば、下記一般式（Ｉｃ）で表されるフェノール誘導体を用いて、以下の方法に従い製造することもできる。
0004212891.tif 000006
（式中のＲ４は低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基またはカルボキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ５は低級アルキル基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基または低級アルコキシカルボニル低級アルキル基であり、Ｘ１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メシルオキシ、トシルオキシ基等の脱離基であり、Ｒ２およびＲ３は前記と同じ意味をもつ）
工程４
前記一般式（Ｉｃ）で表されるフェノール誘導体を、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性物質の存在下、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、それらの混合溶媒等の溶媒中で前記一般式（ＶＩ）で表されるアルキル化剤を用いてＯ−アルキル化した後、所望に応じ常法に従い保護基を除去することにより前記一般式（Ｉｂ）で表される化合物を製造することができる。反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。
尚、前記一般式（ＩＶ）で表される化合物の中、Ｒ１１が保護基を有するモノ（低級アルキル）アミノ基である化合物は、相当するＲ１１が保護基を有するアミノ基である化合物と低級アルキルハライド、メシル酸エステル、トシル酸エステル等の適当なアルキル化剤とを、水素化ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基性物質の存在下、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、それらの混合溶媒等の溶媒中で反応させることにより製造することができる。
前記製造方法において出発物質として用いられる本発明の前記一般式（ＩＩ）で表される化合物およびその塩は、例えば、以下の方法に従い製造することができる。
0004212891.tif 000007
（式中のＭは水素原子または水酸基の保護基であり、Ｒ６は水素原子、保護基を有する水酸基、保護基を有するアミノ基、保護基を有するモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、保護基を有するヒドロキシ低級アルキル基、保護基を有するヒドロキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシカルボニル基であり、ＹおよびＺはどちらか一方がＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ、ＭｇＩまたはリチウム原子であり、他方がホルミル基であり、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３は前記と同じ意味をもつ）
工程Ａ
前記一般式（ＶＩＩ）で表されるベンズアルデヒド誘導体と前記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるグリニャール試薬またはリチウム試薬、若しくは前記一般式（ＶＩＩ）で表されるグリニャール試薬またはリチウム試薬と前記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるベンズアルデヒド誘導体を、不活性溶媒中、縮合させることにより前記一般式（ＩＸ）で表される化合物を製造することができる。用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常−７８℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分間〜１日間である。
工程Ｂ
前記一般式（ＩＸ）で表される化合物を、不活性溶媒中、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬を用いて酸化することにより前記一般式（Ｘ）で表される化合物を製造することができる。用いられる溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１時間〜１日間である。
工程Ｃ
前記一般式（Ｘ）で表される化合物の保護基を常法に従い除去した後、不活性溶媒中、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン等の塩基の存在下、クロロギ酸メチルと縮合し、得られた炭酸エステル誘導体を水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤を用いて還元することにより、本発明の前記一般式（ＩＩ）の化合物を製造することができる。縮合反応において用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。還元反応において用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフランと水との混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１時間〜１日間である。尚、Ｒ６が低級アルコキシカルボニル基である場合は、不活性溶媒中、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤を用いてヒドロキシメチル基に還元した後、常法に従い水酸基を保護することにより本発明の前記一般式（ＩＩ）の化合物に誘導することができる。還元時に用いられる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分間〜１日間である。また、本発明の前記一般式（ＩＩ）の化合物は、常法に従いナトリウム塩、カリウム塩等の塩に変換することができる。
工程Ｄ
前記一般式（ＩＸ）で表される化合物を、不活性溶媒中、塩酸等の酸の存在下または非存在下、パラジウム炭素等のパラジウム系触媒を用いて接触還元した後、必要に応じて保護基を常法に従い除去や導入することにより本発明の前記一般式（ＩＩ）の化合物を製造することができる。接触還元において用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸、イソプロパノール、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常室温〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。尚、Ｒ６が低級アルコキシカルボニル基である場合は、不活性溶媒中、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤を用いてヒドロキシメチル基に還元した後、常法に従い水酸基を保護することにより本発明の前記一般式（ＩＩ）の化合物に誘導することができる。還元時に用いられる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分間〜１日間である。また、本発明の前記一般式（ＩＩ）の化合物は、常法に従いナトリウム塩、カリウム塩等の塩に変換することができる。
前記製造方法における前記一般式（ＩＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）及び（Ｘ）で表される化合物において、Ｒ１１及び／又はＲ１３がカルボキシ基、アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルケニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルケニル基、アミノ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基等の置換基である化合物は、置換基として低級アルコキシカルボニル基を有する相当する化合物から常法に従い適宜変換した後、次工程（工程Ａ〜Ｄ、工程１）に供することもできる。
また、前記製造方法において出発物質として用いられる本発明の前記一般式（ＩＩ）で表される化合物およびその塩は、以下の方法に従い製造することもできる。
0004212891.tif 000008
（式中のＸ２は塩素原子等の脱離基であり、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３は前記と同じ意味をもつ）
工程Ｅ
前記一般式（ＸＩ）で表されるフェノール誘導体を、前記一般式（ＸＩＩ）で表されるベンジル誘導体を用いて、無溶媒中、水酸化リチウム等の塩基性物質の存在下にベンジル化することにより前記一般式（ＩＩ）で表される化合物を製造することができる。反応温度は通常５０〜２００℃であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。
前記製造方法において得られる本発明の化合物は、慣用の分離手段である分別再結晶法、クロマトグラフィーを用いた精製法、溶媒抽出法、固相抽出法等により単離精製することができる。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体は、常法により、その薬理学的に許容される塩とすることができる。このような塩としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸との酸付加塩、酢酸、アジピン酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、オレイン酸、乳酸、ステアリン酸、コハク酸、酒石酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸との酸付加塩、２−アミノエタノール、ピペリジン、モルホリン、ピロリジン等の有機アミンとの塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等の無機塩基との塩を挙げることができる。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物には、水和物やエタノール等の医薬品として許容される溶媒との溶媒和物も含まれる。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、不飽和結合を有する化合物には、２つの幾何異性体が存在するが、本発明においてはシス（Ｚ）体の化合物またはトランス（Ｅ）体の化合物のいずれの化合物を使用してもよい。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、グルコピラノシルオキシ部分を除き不斉炭素を有する化合物には、Ｒ配置の化合物とＳ配置の化合物の２種類の光学異性体が存在するが、本発明においてはいずれの光学異性体を使用してもよく、それらの光学異性体の混合物であっても構わない。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物およびその薬理学的に許容される塩は、優れたヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を有しており、糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症等の高血糖症に起因する疾患の予防または治療剤として非常に有用である。例えば、下記のヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用測定試験において、本発明の化合物は強力なヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を発揮した。
本発明の医薬組成物を実際の治療に用いる場合、用法に応じ種々の剤型のものが使用される。このような剤型としては、例えば、散剤、顆粒剤、細粒剤、ドライシロップ剤、錠剤、カプセル剤、注射剤、液剤、軟膏剤、坐剤、貼付剤などを挙げることができ、経口または非経口的に投与される。
これらの医薬組成物は、その剤型に応じ調剤学上使用される手法により適当な賦形剤、崩壊剤、結合剤、滑沢剤、希釈剤、緩衝剤、等張化剤、防腐剤、湿潤剤、乳化剤、分散剤、安定化剤、溶解補助剤などの医薬品添加物と適宜混合または希釈・溶解し、常法に従い調剤することにより製造することができる。
本発明の医薬組成物を実際の治療に用いる場合、その有効成分である前記一般式（Ｉ）で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩の投与量は患者の年齢、性別、体重、疾患および治療の程度等により適宜決定されるが、経口投与の場合成人１日当たり概ね０．１〜１０００ｍｇの範囲で、非経口投与の場合は、成人１日当たり概ね０．０１〜３００ｍｇの範囲で、一回または数回に分けて適宜投与することができる。
実施例
本発明の内容を以下の参考例、実施例および試験例でさらに詳細に説明するが、本発明はその内容に限定されるものではない。
参考例１
４−〔（２−ベンジルオキシフェニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸メチル
１−ベンジルオキシ−２−ブロモベンゼン（５．３ｇ）、金属マグネシウム（０．４９ｇ）及びテトラヒドロフラン（１６０ｍＬ）よりグリニャール試薬を調製した。得られたグリニャール試薬をテレフタルアルデヒド酸メチル（３．３ｇ）のテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）溶液に加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、４−〔（２−ベンジルオキシフェニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸メチル（２．６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．９１（３Ｈ，ｓ），５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．９０−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．３５（７Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．９０−８．００（２Ｈ，ｍ）
実施例１
４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチル
４−〔（２−ベンジルオキシフェニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸メチル（２．６ｇ）のエタノール（１５ｍＬ）溶液に、１０％パラジウムカーボン粉末（０．５０ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で１８時間撹拌した。不溶物をろ去後、ろ液の溶媒を減圧下留去し、４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチル（１．７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．８９（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｓ），４．８０（１Ｈ，ｓ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．９０−８．００（２Ｈ，ｍ）
参考例２
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチル
４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチル（１．５ｇ）及び炭酸カリウム（０．９４ｇ）のジメチルホルムアミド（２００ｍＬ）懸濁液に、ベンジルブロミド（０．８１ｍＬ）を加え、５０℃で５時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液に水及び希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチル（２．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．８９（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．４０（９Ｈ，ｍ），７．８５−７．９５（２Ｈ，ｍ）
参考例３
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルアルコール
水素化リチウムアルミニウム（０．４７ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）懸濁液に、０℃で４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチル（２．１ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を滴下し、同温度で１時間撹拌した後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて更に３０分撹拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルアルコール（１．９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
４．０２（２Ｈ，ｓ），４．６５（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．４０（１１Ｈ，ｍ）
参考例４
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアルデヒド
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルアルコール（１．０ｇ）の塩化メチレン（５０ｍＬ）溶液に二酸化マンガン（１０ｇ）を加え、室温にて３時間撹拌した。不溶物をろ去後、ろ液の溶媒を減圧下留去し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアルデヒド（０．９７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
４．０８（２Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．９０−７．００（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．４０（９Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ），９．９６（１Ｈ，ｓ）
参考例５
（Ｅ）−３−〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル
トリエチルホスホノアセテート（０．８９ｍＬ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液にｔｅｒｔ−ブトキシカリウム（０．５０ｇ）を加え、室温にて１５分間撹拌した。反応混合物に４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアルデヒド（１．０ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を加え、室温にて６時間撹拌した。反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製し、（Ｅ）−３−〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル（０．８６ｇ）を得た。得られた（Ｅ）−３−〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル（０．８６ｇ）にトリフルオロ酢酸（９．５ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）及びジメチルスルフィド（１．０ｍＬ）を加え、室温にて一晩撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて精製し、（Ｅ）−３−〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル（０．５１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．３３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．０１（２Ｈ，ｓ），４．２６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．９６（１Ｈ，ｓ），６．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ）
参考例６
（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
（Ｅ）−３−〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル（０．３４ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（１．４ｇ）の塩化メチレン（３ｍＬ）及びトルエン（９ｍＬ）懸濁液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．４５ｍＬ）を加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４７ｇ）を得た。得られた（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４６ｇ）のメタノール（５ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（０．０１０ｇ）を加え、室温にて３０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル）で精製し、（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．３１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，１２．０Ｈｚ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ），６．９０−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（３Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４５−７．５５（２Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ）
参考例７
２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチル（０．０５３ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（０．２６ｇ）の塩化メチレン（１ｍＬ）及びトルエン（３ｍＬ）懸濁液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．０８３ｍＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０６７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．８７（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），３．８０−４．０５（６Ｈ，ｍ），４．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１２．４Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１２．４Ｈｚ），５．１０−５．２０（２Ｈ，ｍ），５．２５−５．３５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（３Ｈ，ｍ），７．９０−７．９５（２Ｈ，ｍ）
参考例８
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール
１−アリルオキシ−４−ブロモベンゼン（１．７ｇ）、金属マグネシウム（０．１９ｇ）、触媒量のヨウ素及びテトラヒドロフラン（３ｍＬ）よりグリニャール試薬を調製した。得られたグリニャール試薬に２−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒド（０．８８ｇ）のテトラヒドロフラン（１９ｍＬ）溶液を加え、室温で３０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール（１．２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．３１（３Ｈ，ｓ），４．４５−４．５５（２Ｈ，ｍ），５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．２０−５．３０（１Ｈ，ｍ），５．３５−５．４５（１Ｈ，ｍ），５．９５−６．１０（２Ｈ，ｍ），６．８０−６．９０（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，８．２Ｈｚ），７．２０−７．３５（３Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ）
参考例９
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール（１．２ｇ）の塩化メチレン（２０ｍＬ）溶液に、０℃でＤｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズイオドキソール−３（１Ｈ）−オン）（２．１ｇ）を加え、１時間撹拌した後、室温に昇温して更に一晩撹拌した。反応混合物にジエチルエーテル及び１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン（１．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．３３（３Ｈ，ｓ），４．５５−４．６５（２Ｈ，ｍ），５．０８（２Ｈ，ｓ），５．２５−５．３５（１Ｈ，ｍ），５．３５−５．５０（１Ｈ，ｍ），６．００−６．１５（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．００（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．７Ｈｚ），７．３５−７．５０（１Ｈ，ｍ），７．７５−７．８５（２Ｈ，ｍ）
参考例１０
４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン（１．１ｇ）のエタノール（１５ｍＬ）溶液に濃塩酸（０．９６ｍＬ）を加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１）で精製し、４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノン（０．８７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
４．６０−４．７０（２Ｈ，ｍ），５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ），５．４０−５．５０（１Ｈ，ｍ），６．００−６．１５（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０，８．４Ｈｚ），７．４５−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．０Ｈｚ），７．６５−７．７５（２Ｈ，ｍ），１１．９６（１Ｈ，ｓ）
実施例２
２−（４−アリルオキシベンジル）フェノール
４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノン（０．８７ｇ）のテトラヒドロフラン（１４ｍＬ）溶液に、０℃でトリエチルアミン（０．５３ｍＬ）及びクロロギ酸メチル（０．２９ｍＬ）を加え、室温で１．５時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣のテトラヒドロフラン（１８ｍＬ）及び水（９ｍＬ）溶液に、０℃で水素化ホウ素ナトリウム（０．５２ｇ）を加え、室温で２．５時間撹拌した。反応混合物に０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）で精製し、２−（４−アリルオキシベンジル）フェノール（０．７２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．９３（２Ｈ，ｓ），４．４５−４．５５（２Ｈ，ｍ），４．７３（１Ｈ，ｂｒｓ），５．２０−５．３０（１Ｈ，ｍ），５．３５−５．４５（１Ｈ，ｍ），５．９５−６．１０（１Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．３，７．９Ｈｚ），６．８０−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例１１
２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェノール（０．２０ｇ）及び２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース（０．４５ｇ）の塩化メチレン（８．５ｍＬ）溶液に三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．１２ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．９０（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），３．８０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．３Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１２．３Ｈｚ），４．４５−４．５５（２Ｈ，ｍ），５．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．１０−５．４５（５Ｈ，ｍ），５．９５−６．１０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（１Ｈ，ｍ）
参考例１２
４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール
４−アリルオキシ−１−ブロモベンゼンの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）−１−ブロモベンゼンを用いて、参考例８と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３０（３Ｈ，ｓ），３．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．５１（２Ｈ，ｓ），５．１０−５．２０（２Ｈ，ｍ），６．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．９５−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（９Ｈ，ｍ）
参考例１３
４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノールの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノールを用いて、参考例９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），３．７２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．５１（２Ｈ，ｓ），５．０５（２Ｈ，ｓ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（８Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（１Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ）
参考例１４
４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−ヒドロキシベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノンの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノンを用いて、参考例１０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．７５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．５５（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９０（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（７Ｈ，ｍ），７．４５−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．５５−７．６５（３Ｈ，ｍ），１２．０２（１Ｈ，ｓ）
実施例３
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェノール
４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノンの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−ヒドロキシベンゾフェノンを用いて、実施例２と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．９７（２Ｈ，ｓ），４．５２（２Ｈ，ｓ），４．６２（１Ｈ，ｓ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（６Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ）
参考例１５
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルクロリド
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルアルコール（０．６７ｇ）の塩化メチレン（３０ｍＬ）溶液にチオニルクロリド（０．４８ｍＬ）を加え、１時間加熱還流した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルクロリド（０．６８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
４．０１（２Ｈ，ｓ），４．５６（２Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．８５−７．４０（１３Ｈ，ｍ）
参考例１６
〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルクロリド（０．６６ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）溶液にシアン化カリウム（０．４０ｇ）を加え、６０℃にて１８時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜３／１）で精製し、〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．５４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．７０（２Ｈ，ｓ），４．０１（２Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．８５−７．４０（１３Ｈ，ｍ）
実施例４
〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル
〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．４１ｇ）にトリフルオロ酢酸（１７ｍＬ）、水（１ｍＬ）及びジメチルスルフィド（２ｍＬ）を加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．２６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．７１（２Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｓ），４．７６（１Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，７．９Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｄｔ，１．１，７．５Ｈｚ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（４Ｈ，ｍ）
参考例１７
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチル（１．０ｇ）のメタノール（２０ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（７．５ｍＬ）を加え、６０℃で５時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮した。残渣に希塩酸を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸（０．７２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ｐｐｍ：
４．０１（２Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．４０（９Ｈ，ｍ），７．７５−７．８５（２Ｈ，ｍ），１２．７７（１Ｈ，ｂｒｓ）
参考例１８
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアミド
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸（０．７０ｇ）の塩化メチレン（１０ｍＬ）懸濁液にチオニルクロリド（０．４８ｍＬ）を加え、５０℃にて３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に２８％アンモニア水溶液（５０ｍＬ）を加え、室温にて３０分撹拌した。不溶物をろ取し、水及びヘキサンで洗浄後、減圧下乾燥し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアミド（０．６２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ｐｐｍ：
３．９８（２Ｈ，ｓ），５．１０（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．４０（１０Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｂｒｓ）
実施例５
４−（２−ヒドロキシベンジル）ベンズアミド
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアミド（０．５０ｇ）のエタノール（１０ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．１０ｇ）を加え、水素雰囲気下室温で１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去し、４−（２−ヒドロキシベンジル）ベンズアミド（０．３１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ｐｐｍ：
３．９０（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７５（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（３Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｂｒｓ），９．４０（１Ｈ，ｓ）
参考例１９
２−ベンジルオキシ−４’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジフェニルメタノール  ４−アリルオキシ−１−ブロモベンゼンの代わりに２−ベンジルオキシ−１−ブロモベンゼン、２−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒドの代わりに４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンズアルデヒドを用いて、参考例８と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），２．９３（６Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），６．６５−６．７５（２Ｈ，ｍ），６．８５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．４５（９Ｈ，ｍ）
実施例６
２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェノール
２−ベンジルオキシ−４’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジフェニルメタノール（０．８５ｇ）のエタノール（２５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．３４ｇ）を加え、水素雰囲気下室温にて２２時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェノール（０．３５ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．９１（６Ｈ，ｓ），３．９１（２Ｈ，ｓ），４．７３（１Ｈ，ｓ），６．６５−６．７５（２Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例２０
２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェノールの代わりに２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェノールを用いて、参考例１１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．９２（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０８（３Ｈ，ｓ），２．８９（６Ｈ，ｓ），３．８０−３．９０（３Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１２．２Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．２Ｈｚ），５．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），５．１５−５．２５（１Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．６０−６．７０（２Ｈ，ｍ），６．９０−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（１Ｈ，ｍ）
参考例２１
４−ベンジルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール
１−アリルオキシ−４−ブロモベンゼンの代わりに１−ブロモ−２−（メトキシメチルオキシ）ベンゼン、２−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒドの代わりに４−ベンジルオキシベンズアルデヒドを用いて、参考例８と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），５．１０−５．２０（２Ｈ，ｍ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．４５（９Ｈ，ｍ）
参考例２２
４−ベンジルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノールの代わりに４−ベンジルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノールを用いて参考例９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．３１（３Ｈ，ｓ），５．０７（２Ｈ，ｓ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．５０（７Ｈ，ｍ），７．７５−７．８５（２Ｈ，ｍ）
参考例２３
４−ベンジルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノンの代わりに４−ベンジルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノンを用いて、参考例１０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
５．１６（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．３０−７．５５（６Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．２Ｈｚ），７．６５−７．７５（２Ｈ，ｍ），１１．９５（１Ｈ，ｓ）
実施例７
２−〔（４−ベンジルオキシ）ベンジル〕フェノール
４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノンの代わりに４−ベンジルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノンを用いて、実施例２と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．９４（２Ｈ，ｓ），４．７０（１Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例２４
２−〔（４−ベンジルオキシ）ベンジル〕フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェノールの代わりに２−〔（４−ベンジルオキシ）ベンジル〕フェノールを用いて、参考例１１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），３．８０−３．９０（３Ｈ，ｍ），４．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，１２．３Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．３Ｈｚ），５．０３（２Ｈ，ｓ），５．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．１５−５．２５（１Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９０（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例２５
１−ブロモ−４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンゼン
２−（４−ブロモフェニル）エタノール（１．０ｇ）及びジイソプロピルエチルアミン（１．３ｍＬ）の塩化メチレン（５ｍＬ）溶液に、クロロメチルメチルエーテル（０．７５ｍＬ）を加え、室温にて２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１〜１０／１）で精製し、１−ブロモ−４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンゼン（１．２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．２８（３Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），７．０５−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ）
参考例２６
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ジフェニルメタノール
１−ブロモ−４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンゼン（０．６１ｇ）のテトラヒドロフラン（１２ｍＬ）溶液にアルゴン雰囲気下、−７８℃にてｔｅｒｔ−ブチルリチウム（１．５ｍｏｌ／Ｌペンタン溶液、１．８ｍＬ）を加え、３０分間撹拌した。反応混合物に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド（０．１５ｇ）のテトラヒドロフラン（６ｍＬ）溶液を加え、混合物を０℃に昇温して２５分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ジフェニルメタノール（０．３１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），３．７０−３．８０（５Ｈ，ｍ），４．６１（２Ｈ，ｓ），５．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．５Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２０−７．３５（４Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｓ）
実施例８
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノール
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ジフェニルメタノール（０．３１ｇ）のエタノール（１０ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０６１ｇ）を加えて水素雰囲気下室温にて１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／２）で精製し、５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノール（０．１９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．７６（３Ｈ，ｓ），３．９０（２Ｈ，ｓ），４．６１（２Ｈ，ｓ），４．７７（１Ｈ，ｓ），６．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．５Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．１０−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例２７
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノール（０．１９ｇ）及び２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース（０．４０ｇ）の塩化メチレン（１５ｍＬ）溶液に０℃で三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．０８８ｍＬ）を加えて２０分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて有機層を分取した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．８５（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．１０（３Ｈ，ｓ），２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３０（３Ｈ，ｓ），３．７２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．７７（３Ｈ，ｓ），３．７５−３．８５（２Ｈ，ｍ），３．８０−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，１２．２Ｈｚ），４．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１２．２Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），５．１０−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．２５−５．３５（２Ｈ，ｍ），６．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．７Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．００−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例２８
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸メチル
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（１．２８ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１４ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（０．９８ｇ）及びベンジルブロミド（０．６２ｍＬ）を加え、室温で１９時間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ、ジエチルエーテルで２回抽出した。有機層を合わせて水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸メチル（１．６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｓ），５．１１（２Ｈ，ｓ），７．００−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．５５−７．６５（２Ｈ，ｍ）
参考例２９
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸メチル（１．６ｇ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）とエタノール（５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、８０℃にて１時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液にて酸性とし、氷冷下３０分間撹拌した。析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥して３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸（１．４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ｐｐｍ：
１．１４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．９６（２Ｈ，ｓ），５．１８（２Ｈ，ｓ），７．０５−７．１５（４Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（６Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．９Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），１２．８４（１Ｈ，ｓ）
実施例９
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェノール
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸（１．４ｇ）及びトリエチルアミン（１．３ｍＬ）の１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）溶液にジフェニルホスホリルアジド（１．３ｇ）の１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）溶液を加え、１００℃で１時間撹拌した。反応混合物にベンジルアルコール（１．６ｍＬ）を加え、同温度でさらに７時間撹拌した。反応混合物の溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、Ｎ−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕カルバミン酸ベンジル（１．４ｇ）を得た。得られたＮ−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕カルバミン酸ベンジル（１．４ｇ）のメタノール（１５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．２８ｇ）を加え、水素雰囲気下、１１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェノール（０．５４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．５６（２Ｈ，ｂｒｓ），３．８５（２Ｈ，ｓ），４．５７（１Ｈ，ｓ），６．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．１Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０５−７．１５（４Ｈ，ｍ）
実施例１０
Ｎ−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕カルバミン酸ベンジル
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェノール（０．２５ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、Ｎ−ベンジルオキシカルボニルオキシスクシンイミド（０．４１ｇ）を加え、室温にて２２時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、Ｎ−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕カルバミン酸ベンジル（０．４０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．９０（２Ｈ，ｓ），５．００（１Ｈ，ｂｒｓ），５．１９（２Ｈ，ｓ），６．５９（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．２Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０５−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．３０−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例３０
５−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−〔４−（２−メトキシメチルオキシ）エチルベンジル〕フェノールの代わりにＮ−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕カルバミン酸ベンジルを用いて、参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．８５（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．７０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１０−４．４０（２Ｈ，ｍ），５．００−５．４０（６Ｈ，ｍ），６．６３（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．２Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．９５−７．１０（４Ｈ，ｍ），７．２０−７．６０（６Ｈ，ｍ）
参考例３１
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３５ｇ）のテトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液に、１０％パラジウムカーボン粉末（０．０７ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で８時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／３〜塩化メチレン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８４（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．５９（２Ｈ，ｂｒｓ），３．７０−３．９０（３Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．２Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．２Ｈｚ），５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．１０−５．３５（３Ｈ，ｍ），６．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．０Ｈｚ），６．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．９５−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例３２
２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルベンズアルデヒド
２−ヒドロキシ−４，６−ジメチルベンズアルデヒド（０．７５ｇ）及びＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．４ｍＬ）の塩化メチレン（２０ｍＬ）溶液にクロロメチルメチルエーテル（０．５７ｍＬ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物に水を加えてジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製し、２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルベンズアルデヒド（０．５７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．３４（３Ｈ，ｓ），２．５５（３Ｈ，ｓ），３．５１（３Ｈ，ｓ），５．２６（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９０（１Ｈ，ｍ），１０．６１（１Ｈ，ｓ）
参考例３３
４’−（３−ベンジルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノール
１−（３−ベンジルオキシプロピル）−４−ブロモベンゼン（１．３ｇ）、金属マグネシウム（０．１１ｇ）、触媒量のヨウ素及びテトラヒドロフラン（４．４ｍＬ）よりグリニャール試薬を調製した。得られたグリニャール試薬溶液に２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルベンズアルデヒド（０．５７ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を加え２０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、４’−（３−ベンジルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノール（１．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．８０−１．９５（２Ｈ，ｍ），２．３１（３Ｈ，ｓ），２．３２（３Ｈ，ｓ），２．６０−２．７５（２Ｈ，ｍ），３．１２（３Ｈ，ｓ），３．４６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），３．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），４．４９（２Ｈ，ｓ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ），６．７０−６．７５（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ）
参考例３４
４’−（３−ヒドロキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン
４’−（３−ベンジルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノール（１．１ｇ）のエタノール（２７ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．４６ｇ）を加えて水素雰囲気下室温にて１７時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去し、４’−（３−ヒドロキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン（０．８５ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．８０−１．９０（２Ｈ，ｍ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．６０−２．７０（２Ｈ，ｍ），３．３６（３Ｈ，ｓ），３．６０−３．７０（２Ｈ，ｍ），４．００（２Ｈ，ｓ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（４Ｈ，ｍ）
参考例３５
４’−（３−ベンゾイルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン
４’−（３−ヒドロキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン（０．８５ｇ）、トリエチルアミン（０．４９ｍＬ）及び４−（ジメチルアミノ）ピリジン（０．０３３ｇ）の塩化メチレン（１４ｍＬ）溶液に、ベンゾイルクロリド（０．３８ｍＬ）を加え、室温で１８時間撹拌した。．反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製し、４’−（３−ベンゾイルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン（１．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．００−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．６５−２．７５（２Ｈ，ｍ），３．３６（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｓ），４．２５−４．３５（２Ｈ，ｍ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（４Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），８．００−８．１０（２Ｈ，ｍ）
実施例１１
２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノール
４’−（３−ベンゾイルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン（１．１ｇ）のメタノール（１３ｍＬ）溶液にｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．０９６ｇ）を加え、６０℃で４時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）で精製し、２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノール（０．８９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．００−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．２３（３Ｈ，ｓ），２．２６（３Ｈ，ｓ），２．６５−２．８０（２Ｈ，ｍ），３．９８（２Ｈ，ｓ），４．２５−４．３５（２Ｈ，ｍ），４．５３（１Ｈ，ｓ），６．４５−６．５５（１Ｈ，ｍ），６．６０−６．７０（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），８．００−８．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例３６
４’−（２−ベンジルオキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノール
１−（３−ベンジルオキシプロピル）−４−ブロモベンゼンの代わりに１−（２−ベンジルオキシエチル）−４−ブロモベンゼンを用いて、参考例３３と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．３０（３Ｈ，ｓ），２．３２（３Ｈ，ｓ），２．８９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．１３（３Ｈ，ｓ），３．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），４．５０（２Ｈ，ｓ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），６．７０−６．７５（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．３５（９Ｈ，ｍ）
参考例３７
４’−（２−ヒドロキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン
４’−（３−ベンジルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノールの代わりに４’−（２−ベンジルオキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノールを用いて、参考例３４と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．３１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．８０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．７５−３．８５（２Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｓ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（４Ｈ，ｍ）
参考例３８
４’−（２−ベンゾイルオキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン
４’−（３−ヒドロキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタンの代わりに４’−（２−ヒドロキエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタンを用いて、参考例３５と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．１９（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），３．０１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３３（３Ｈ，ｓ），４．０１（２Ｈ，ｓ），４．４７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．１１（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），７．９５−８．０５（２Ｈ，ｍ）
実施例１２
２−〔４−（２−ベンゾイルオキシエチル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノール
４’−（３−ベンゾイルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタンの代わりに４’−（２−ベンゾイルオキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタンを用いて、実施例１１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．２２（３Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），３．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．９９（２Ｈ，ｓ），４．４９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．６０（１Ｈ，ｂｒｓ），６．４５−６．５５（１Ｈ，ｍ），６．６０−６．６５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），７．９５−８．０５（２Ｈ，ｍ）
参考例３９
２−（４−エチルベンジル）−５−（メチルアミノ）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４２ｇ）及びヨウ化メチル（０．０６７ｍＬ）のテトラヒドロフラン（７ｍＬ）溶液に、０℃で水素化ナトリウム（６０％、０．０３４ｇ）を加えた。反応混合物を室温に昇温し、さらに５時間撹拌した。反応混合物にヨウ化メチル（０．１３ｍＬ）及び水素化ナトリウム（６０％、０．０２０ｇ）を加え、室温にてさらに１時間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３０ｇ）を得た。得られた５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３０ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０６０ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温にて６時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、２−（４−エチルベンジル）−５−（メチルアミノ）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１５ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．８４（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０４（３Ｈ，ｓ），２．０６（３Ｈ，ｓ），２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．８１（３Ｈ，ｓ），３．６５（１Ｈ，ｂｒｓ），３．７０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．３Ｈｚ），４．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．３Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），５．１０−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．２０−５．３５（２Ｈ，ｍ），６．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．２Ｈｚ），６．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．００−７．１０（４Ｈ，ｍ）
実施例１３
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシベンズアミド
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（０．２０ｇ）及び２８％アンモニア水溶液（６ｍＬ）のエタノール（３ｍＬ）混合物に、アンモニウムクロリド（０．０７９ｇ）を加え、封管中１００℃で１４時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣に塩化メチレンとメタノールの１０：１の混合溶媒を加え、不溶物をろ取、乾燥して、４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシベンズアミド（０．０６５ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ｐｐｍ：
１．１４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８５（２Ｈ，ｓ），７．００−７．１５（６Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．８Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｂｒｓ），９．５６（１Ｈ，ｓ）
参考例４０
５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシベンズアミドを用いて、参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８５（３Ｈ，ｓ），１．９９（３Ｈ，ｓ），２．０４（６Ｈ，ｓ），２．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８０−４．００（２Ｈ，ｍ），４．００−４．３５（３Ｈ，ｍ），５．０５−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．２０−５．３０（１Ｈ，ｍ），５．３０−５．４５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．４０−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．５５−７．６５（１Ｈ，ｍ）
参考例４１
２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒド
２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド（０．８３ｇ）及び炭酸セシウム（１．７ｇ）のアセトニトリル（３０ｍＬ）懸濁液に、クロロメチルメチルエーテル（０．５５ｍＬ）を加え、室温にて３０分間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒド（０．８４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．４８（３Ｈ，ｓ），５．２２（２Ｈ，ｓ），６．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．６Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），９．７４（１Ｈ，ｓ），１１．３７（１Ｈ，ｓ）
参考例４２
４’−エチル−２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール
１−ブロモ−４−エチルベンゼン（０．４６ｇ）のテトラヒドロフラン（１２ｍＬ）溶液に、−７８℃、アルゴン雰囲気下ｔｅｒｔ−ブチルリチウム（１．４５ｍｏｌ／Ｌペンタン溶液、１．９ｍＬ）を加え３０分間撹拌した。反応混合物に２−ヒドロキシ−４−メトキシメチルオキシベンズアルデヒド（０．１８ｇ）のテトラヒドロフラン（６ｍＬ）溶液を加えた。混合物を０℃に昇温し、さらに１５分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、４’−エチル−２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール（０．３０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），３．４５（３Ｈ，ｓ），５．１２（２Ｈ，ｓ），５．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），６．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．５Ｈｚ），６．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｄ，８，５Ｈｚ），７．１５−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｓ）
実施例１４
２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェノール
４’−エチル−２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール（０．１４ｇ）のエタノール（５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０５８ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温にて１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェノール（０．１２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４７（３Ｈ，ｓ），３．９０（２Ｈ，ｓ），４．７３（１Ｈ，ｓ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．１Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１０−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例４３
２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェノールを用いて、参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８５（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．１０（３Ｈ，ｓ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４６（３Ｈ，ｓ），３．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），３．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），３．８５−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１２．２Ｈｚ），４．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１２．２Ｈｚ），５．０５−５．２５（４Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．４Ｈｚ），６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
実施例１５
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェノール
３，５−ジメチルフェノール（１２ｇ）に８５℃で水酸化リチウム一水和物（４．２ｇ）及び４−メトキシベンジルクロリド（１４ｍＬ）を加え、１．５時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製し、２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェノール（５．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．２４（３Ｈ，ｓ），２．２６（３Ｈ，ｓ），３．７７（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｓ），４．５３（１Ｈ，ｓ），６．４５−６．５５（１Ｈ，ｍ），６．５５−６．６５（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例４４
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェノール（４．０ｇ）、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース（８．９ｇ）の塩化メチレン（１００ｍＬ）溶液に０℃で三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（２．５ｍＬ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物をアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製した。溶媒を減圧下留去し、残渣にエタノールを加え、結晶をろ取した。得られた結晶を減圧下乾燥し、２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（７．８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．６５（３Ｈ，ｓ），２．００（３Ｈ，ｓ），２．０４（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），２．１２（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），３．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），３．８０−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．２Ｈｚ），４．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１２．２Ｈｚ），５．００−５．２０（２Ｈ，ｍ），５．２０−５．３５（２Ｈ，ｍ），６．７０−６．８０（４Ｈ，ｍ），６．８５−７．００（２Ｈ，ｍ）
実施例１６
３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンズアミド
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチルの代わりに３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）安息香酸メチルを用いて実施例１３と同様の方法で標記化合物を合成した。精製はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝８／１）にて行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．７４（３Ｈ，ｓ），３．８９（２Ｈ，ｓ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０５−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
参考例４５
３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンゾニトリル
３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンズアミド（０．０４７ｇ）及びトリエチルアミン（０．３０ｍＬ）の塩化メチレン（１．８ｍＬ）溶液にトリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．３４ｍＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝９／１）で精製し、３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンゾニトリル（０．０１４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．８０（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｓ），６．８０−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．０Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
参考例４６
５−シアノ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンゾニトリルを用いて、参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．９３（３Ｈ，ｓ），２．０４（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．１４（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．８７（２Ｈ，ｓ），３．９０−４．００（１Ｈ，ｍ），４．１５−４．３０（２Ｈ，ｍ），５．０５−５．２０（２Ｈ，ｍ），５．２５−５．４５（２Ｈ，ｍ），６．７５−６．９０（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（２Ｈ，ｍ）
参考例４７
２−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシジフェニルメタノール
１−ブロモ−４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンゼンの代わりに４−ブロモアニソールを用いて、参考例２６と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），３．７７（３Ｈ，ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），５．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），６．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．５Ｈｚ），６．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｓ）
実施例１７
５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェノール
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ジフェニルメタノールの代わりに２−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシジフェニルメタノールを用いて、実施例８と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．７７（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．８７（２Ｈ，ｓ），４．６７（１Ｈ，ｓ），６．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．３Ｈｚ），６．７５−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ）
参考例４８
５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェノールを用いて、参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），３．７０−３．９５（９Ｈ，ｍ），４．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．２Ｈｚ），４．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１２．２Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．１０−５．４０（３Ｈ，ｍ），６．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．４Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例４９
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）ベンジルアルコール
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（１．３ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（０．７９ｇ）及びベンジルブロミド（０．６２ｍＬ）を加え、室温で１３時間撹拌した。反応混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をジエチルエーテル（１０ｍＬ）に溶解し、水素化リチウムアルミニウム（０．５７ｇ）のジエチルエーテル（５０ｍＬ）懸濁液に０℃で加え、１．５時間加熱還流した。反応混合物を０℃に冷却し、水（０．６０ｍＬ）、１５％水酸化ナトリウム水溶液（０．６０ｍＬ）及び水（１．８ｍＬ）を順次加え、５分間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）ベンジルアルコール（１．３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．９８（２Ｈ，ｓ），４．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，７．５Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），７．０５−７．１５（５Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（５Ｈ，ｍ）
参考例５０
〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトニトリル
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）ベンジルアルコール（０．８７ｇ）の塩化メチレン（２０ｍＬ）溶液に、０℃でトリエチルアミン（０．４４ｍＬ）及びメタンスルホニルクロリド（０．２２ｍＬ）を加え、２時間撹拌した。反応混合物に０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をジメチルスルホキシド（１０ｍＬ）に溶解し、シアン化カリウム（０．６８ｇ）及び触媒量のヨウ化ナトリウムを加え、８０℃で１２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜３／１）で精製し、〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．４１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．７０（２Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｓ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．８０−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（５Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例５１
２−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトアミド
〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．４１ｇ）のエタノール（５ｍＬ）及び水（１０ｍＬ）混合物に、水酸化カリウム（０．６８ｇ）を加え４時間加熱還流した。反応混合物に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加えて酸性とし、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕酢酸（０．４１ｇ）を得た。得られた〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕酢酸（０．４１ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液にピリジン（０．１９ｍＬ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（０．５０ｇ）及び炭酸水素アンモニウム（０．１８ｇ）を加え、室温で１８時間撹拌した。反応混合物に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）で精製し、２−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトアミド（０．３８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ｐｐｍ：
１．１４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．５３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．２５−３．４０（２Ｈ，ｍ），３．８５（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０，７．９Ｈｚ），６．８４（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ），７．００−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（６Ｈ，ｍ）
参考例５２
２−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕アセトアミド
２−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトアミド（０．３８ｇ）のメタノール（５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０７５ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温にて４時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝３０／１〜２０／１）で精製し、２−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕アセトアミド（０．１６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ｐｐｍ：
１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．２２（２Ｈ，ｓ），３．７７（２Ｈ，ｓ），６．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．７Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｂｒｓ），９．２７（１Ｈ，ｓ）
参考例５３
５−カルバモイルメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに２−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕アセトアミドを用いて、参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０６（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．８０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１５−４．３０（２Ｈ，ｍ），５．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．１５−５．２５（１Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（３Ｈ，ｍ），５．４８（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．９Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），７．００−７．１５（５Ｈ，ｍ）
参考例５４
２−ヒドロキシ−４’−メトキシ−４−（メトキシメチル）ジフェニルメタノール
１−ブロモ−４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンゼンの代わりに４−ブロモアニソール、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒドの代わりに２−ヒドロキシ−４−メトキシメチルベンズアルデヒドを用いて参考例２６と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
２．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．３９（２Ｈ，ｓ），５．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），６．７０−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．９８（１Ｈ，ｓ）
実施例１８
２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェノール
２−ヒドロキシ−４’−メトキシ−４−（メトキシメチル）ジフェニルメタノール（０．１７ｇ）のエタノール（１１ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０５１ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で３０分間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜２／１）で精製し、２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェノール（０．０８２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
３．３８（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．９２（２Ｈ，ｓ），４．３９（２Ｈ，ｓ），４．７７（１Ｈ，ｓ），６．７５−６．９０（４Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（３Ｈ，ｍ）
参考例５５
２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェノールを用いて、参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ｐｐｍ：
１．９０（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０８（３Ｈ，ｓ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．７７（３Ｈ，ｓ），３．８４（２Ｈ，ｓ），３．８５−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．１０−４．３０（２Ｈ，ｍ），４．３０−４．５０（２Ｈ，ｍ），５．１０−５．２５（２Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９０−７．１０（５Ｈ，ｍ）
参考例５６
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１３ｇ）のメタノール（８ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５０ｍＬ）を加えて室温にて２５分間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝７／１）で精製し、５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０５３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
２．８１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．２４（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．０Ｈｚ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．５７（２Ｈ，ｓ），４．８５−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．３Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例５７
５−〔２−（ベンジルオキシ）エチルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０３９ｇ）及び炭酸セシウム（０．０９８ｇ）のジメチルホルムアミド（１ｍＬ）懸濁液に、（２−ブロモエチル）ベンジルエーテル（０．０２５ｍＬ）を加え、５０℃にて３．５時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝６／１）で精製し、５−〔２−（ベンジルオキシ）エチルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１２．１Ｈｚ），３．７５−３．８５（２Ｈ，ｍ），３．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．１Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．０５−４．１５（２Ｈ，ｍ），４．５８（２Ｈ，ｓ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．５Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．００−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ）
実施例１９
（Ｅ）−２−〔４−（３−ヒドロキシ−１−プロパ−１−エン−１−イル）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
水素化リチウムアルミニウム（０．０３６ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）懸濁液に０℃で、（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０３５ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を加え、１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え、さらに３０分間撹拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、（Ｅ）−２−〔４−（３−ヒドロキシ−１−プロパ−１−エン−１−イル）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，１２．０Ｈｚ），３．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．１５−４．２５（２Ｈ，ｍ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．９，１６．０Ｈｚ），６．５０−６．６０（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．２５（６Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ）
実施例２０
２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド  ２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０６６ｇ）のメタノール（５ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（０．００６ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル）で精製し、２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０４０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，５．４，１１．９Ｈｚ），３．８５−３．９５（４Ｈ，ｍ），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９０−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．８５−７．９５（２Ｈ，ｍ）
実施例２１
２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４４ｇ）のメタノール（２．５ｍＬ）およびテトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０３０ｍＬ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応混合物の溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）で精製し、２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．２３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，１１．９Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１１．９Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．４５−４．５５（２Ｈ，ｍ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．１５−５．２５（１Ｈ，ｍ），５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ），５．９５−６．１０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（４Ｈ，ｍ）
実施例２２
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェノール（３．２ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（１２ｇ）のトルエン（３４ｍＬ）及び塩化メチレン（１７ｍＬ）溶液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（３．８ｍＬ）を加え、室温で１４時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．３９ｍＬ）を加え、室温で２．５時間撹拌した。反応混合物の溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）で精製し、２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（３．４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
２．８４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．０Ｈｚ），３．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．４８（２Ｈ，ｓ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（７Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（５Ｈ，ｍ）
実施例２３
２−（４−カルボキシベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（メトキシカルボニル）ベンジル〕フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０５０ｇ）のメタノール（１ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２６ｍＬ）を加え、室温にて１時間撹拌した。反応混合物を（ベンゼンスルホニルプロピル）シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：メタノール）で精製し、２−（４−カルボキシベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０３８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，１２．１Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．１Ｈｚ），４．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．８５−５．００（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．８５−７．９５（２Ｈ，ｍ）
実施例２４
２−（４−シアノメチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチルの代わりに４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニルアセトニトリルを用いて、参考例８と同様の方法で２−（４−シアノメチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを合成した。ついで２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−（４−シアノメチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例２と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．１Ｈｚ），３．８２（２Ｈ，ｓ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，１２．１Ｈｚ），３．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．８５−７．００（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（４Ｈ，ｍ）
実施例２５
２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
４−（２−ヒドロキシベンジル）ベンズアミド（０．０６３ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（０．３３ｇ）のトルエン（３ｍＬ）懸濁液に三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．１１ｍＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを得た。得られた２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドのメタノール（５ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（０．００５ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／エタノール＝５／１）で精製し、２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０６８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１１．９Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，１１．９Ｈｚ），４．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．９０−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ）
実施例２６
２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１０ｇ）のメタノール（２ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（１ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．００７ｍＬ）を加え、室温で７０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝８／１）で精製し、２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０６９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
２．８５（６Ｈ，ｓ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，１２．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，１２．０Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．６５−６．７５（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．１５（２Ｈ，ｍ）
実施例２７
２−〔（４−ベンジルオキシ）ベンジル〕フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド  ２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−〔（４−ベンジルオキシ）ベンジル〕フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例２１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．０Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．８０−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
実施例２８
２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕−５−メトキシフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０５３ｇ）のメタノール（２．３ｍＬ）溶液にｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．０３２ｇ）を加え、５０℃にて３時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、トリエチルアミン（０．５ｍＬ）を加え、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝６／１）で精製し、２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕−５−メトキシフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
２．７６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，１２．２Ｈｚ），３．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．８５−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．３Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ）
実施例２９
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド  ５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１９ｇ）のメタノール（３．５ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液：０．０６４ｍＬ）を加え、室温にて５０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣に水を加えた。析出した結晶をろ取し、水洗後減圧下乾燥して５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．３０−３．５０（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１２．０Ｈｚ），３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，１２．０Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．８０−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．１Ｈｚ），６．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
実施例３０
２−〔４−（３−ヒドロキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノール（０．７２ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（２．３ｇ）のトルエン（７ｍＬ）及び塩化メチレン（３ｍＬ）溶液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．７３ｍＬ）を加え、室温で１０時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルと飽和重曹水を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をメタノール（６ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．１９ｍＬ）を加え、３０℃で７．５時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をメタノール（１０ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０７５ｍＬ）を加え、３０℃で１４時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝８／１）にて精製した。溶媒を減圧下留去し、残渣にジエチルエーテルを加えて、析出物をろ取した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄後、減圧下乾燥し、２−〔４−（３−ヒドロキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．５８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．７０−１．８５（２Ｈ，ｍ），２．１３（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．５５−２．６５（２Ｈ，ｍ），３．３０−３．４５（４Ｈ，ｍ），３．４５−３．６０（２Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１１．９Ｈｚ），３．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１１．９Ｈｚ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），４．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（４Ｈ，ｍ）
実施例３１
２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノールの代わりに２−〔４−（２−ベンゾイルオキシエチル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノールを用いて、実施例３０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
２．１３（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３０−３．４５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１１．９Ｈｚ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ），４．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（４Ｈ，ｍ）
実施例３２
２−（４−エチルベンジル）−５−メチルアミノフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−（４−エチルベンジル）−５−メチルアミノフェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例２９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．７３（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．１Ｈｚ），３．７５−４．００（３Ｈ，ｍ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．２Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
実施例３３
５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１３ｇ）のメタノール（３ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０４３ｍＬ）を加え、室温にて３０分間撹拌した。反応混合物を（ベンゼンスルホニルプロピル）シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：メタノール）で精製した。得られた化合物にジエチルエーテルを加え、析出した固体をろ取し、減圧下乾燥する事により５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０７９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．６０（４Ｈ，ｍ），３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１２．１Ｈｚ），３．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１２．１Ｈｚ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．０５−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．９Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）
実施例３４
２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例５６と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３５−３．５５（７Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．２Ｈｚ），３．８０−３．９５（２Ｈ，ｍ），３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），４．８０−４．９５（１Ｈ，ｍ），５．０５−５．２０（２Ｈ，ｍ），６．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．４Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００−７．２０（４Ｈ，ｍ）
実施例３５
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例２８と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６５−３．７５（１Ｈ，ｍ），３．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），３．８５−３．９５（１Ｈ，ｍ），３．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．２Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
実施例３６
２−（４−エチルベンジル）−５−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−〔２−（ベンジルオキシ）エチルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２２ｇ）のエタノール（１ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．００８２ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝６／１）で精製し、２−（４−エチルベンジル）−５−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０１３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１２．１Ｈｚ），３．８０−３．９５（４Ｈ，ｍ），３．９５−４．０５（３Ｈ，ｍ），４．８５−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．４Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
実施例３７
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（７．４ｇ）のエタノール（１５０ｍＬ）懸濁液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（６５ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（５．２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
２．１３（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．５０（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（４Ｈ，ｍ），３．８０−４．００（２Ｈ，ｍ），４．００−４．２０（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．６０−６．８０（３Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ）
実施例３８
５−シアノ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに５−シアノ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例７４と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３０−３．４５（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．６０（３Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１２．２Ｈｚ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１２．２Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．７Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）実施例３９
５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例２９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１２．０Ｈｚ），３．７４（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８０−４．００（３Ｈ，ｍ），４．８０−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．４Ｈｚ），６．７０−６．８５（３Ｈ，ｍ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ）
実施例４０
５−カルバモイルメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに５−カルバモイルメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例３３と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．３０−３．５５（６Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．２Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１２．２Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ），４．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．６Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．００−７．２０（５Ｈ，ｍ）
実施例４１
５−〔３−（エトキシカルボニル）プロピルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０５１ｇ）及び炭酸セシウム（０．１３ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）懸濁液に、４−ブロモ酪酸エチル（０．０２８ｍＬ）を加え、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝９／１）で精製し、５−〔３−（エトキシカルボニル）プロピルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．９５−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．４８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．１Ｈｚ），３．８０−４．０５（５Ｈ，ｍ），４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．８Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
実施例４２
２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェニル  ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１４ｇ）のメタノール（３ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０４７ｍＬ）を加え、室温にて３時間撹拌した。反応混合物を（ベンゼンスルホニルプロピル）シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：メタノール）で精製し、２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェニル  β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０８４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ  ｐｐｍ：
３．３５（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１２．１Ｈｚ），３．７４（３Ｈ，ｓ），３．８０−３．９５（２Ｈ，ｍ），４．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．３５−４．４５（２Ｈ，ｍ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．７Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１０−７．２０（３Ｈ，ｍ）
試験例１
ヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用確認試験
１）ヒトＳＧＬＴ２発現プラスミドベクターの作製
ＳＵＰＥＲＳＣＲＩＰＴ  Ｐｒｅａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）を用いて、ヒト腎臓由来のｔｏｔａｌ  ＲＮＡ（Ｏｒｉ  ｇｅｎｅ）をオリゴｄＴをプライマーとして逆転写し、ＰＣＲ増幅用ｃＤＮＡライブラリーを作製した。上記ヒト腎ｃＤＮＡライブラリーを鋳型として、配列番号１及び２で示される下記のオリゴヌクレオチド０７０２Ｆ及び０７１２Ｒをプライマーに用い、ＰＣＲ反応によりヒトＳＧＬＴ２をコードするＤＮＡ断片を増幅した。増幅されたＤＮＡ断片をクローニング用ベクターｐＣＲ−Ｂｌｕｎｔ（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ）にこのキットの標準法に従いライゲーションした。常法により大腸菌ＨＢ１０１株に導入した後、形質転換株をカナマイシン５０μｇ／ｍＬを含むＬＢ寒天培地で選択した。この形質転換株の１つからプラスミドＤＮＡを抽出精製し、配列番号３及び４で示される下記のオリゴヌクレオチド、０７１４Ｆおよび０７１５Ｒをプライマーとして用い、ＰＣＲ反応によりヒトＳＧＬＴ２をコードするＤＮＡ断片を増幅した。増幅されたＤＮＡ断片を制限酵素ＸｈｏＩ及びＨｉｎｄＩＩＩで消化した後、Ｗｉｚａｒｄ  Ｐｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ（Ｐｒｏｍｅｇａ）により精製した。この精製したＤＮＡ断片を融合化蛋白質発現用ベクターｐｃＤＮＡ３．１（−）Ｍｙｃ／Ｈｉｓ−Ｂ（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ）の対応する制限酵素部位に組み込んだ。常法により大腸菌ＨＢ１０１株に導入した後、形質転換株をアンピシリン１００μｇ／ｍＬを含むＬＢ寒天培地で選択した。この形質転換株からプラスミドＤＮＡを抽出精製し、ベクターｐｃＤＮＡ３．１（−）Ｍｙｃ／Ｈｉｓ−Ｂのマルチクローニング部位に挿入されたＤＮＡ断片の塩基配列を調べた。Ｗｅｌｌｓらにより報告されたヒトＳＧＬＴ２（Ａｍ．Ｊ．Ｐｈｙｓｉｏｌ．，Ｖｏｌ．２６３，ｐｐ．４５９−４６５（１９９２））に対し、このクローンは１塩基の置換（４３３番目のイソロイシンをコードするＡＴＣがＧＴＣに置換）を有していた。この結果４３３番目の残基のイソロイシンがバリンに置換したクローンを得た。このカルボキシ末端側最終残基のアラニンの次から配列番号５で示されるペプチドを融合化したヒトＳＧＬＴ２を発現するプラスミドベクターをＫＬ２９とした。
配列番号１  ＡＴＧＧＡＧＧＡＧＣＡＣＡＣＡＧＡＧＧＣ
配列番号２  ＧＧＣＡＴＡＧＡＡＧＣＣＣＣＡＧＡＧＧＡ
配列番号３  ＡＡＣＣＴＣＧＡＧＡＴＧＧＡＧＧＡＧＣＡＣＡＣＡＧＡＧＧＣ
配列番号４  ＡＡＣＡＡＧＣＴＴＧＧＣＡＴＡＧＡＡＧＣＣＣＣＡＧＡＧＧＡ
配列番号５  ＫＬＧＰＥＱＫＬＩＳＥＥＤＬＮＳＡＶＤＨＨＨＨＨＨ
２）ヒトＳＧＬＴ２一過性発現細胞の調製
ヒトＳＧＬＴ２発現プラスミドＫＬ２９を電気穿孔法によりＣＯＳ−７細胞（ＲＩＫＥＮ  ＣＥＬＬ  ＢＡＮＫ  ＲＣＢ０５３９）に導入した。電気穿孔法はジーンパルサーＩＩ（Ｂｉｏ−Ｒａｄ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）を用い、ＯＰＴＩ−ＭＥＭ  Ｉ培地（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）５００μＬに対しＣＯＳ−７細胞２×１０６個とＫＬ２９  ２０μｇを含む０．４ｃｍキュベット内で０．２９０ｋＶ、９７５μＦの条件下行った。遺伝子導入後、細胞を遠心分離により回収し細胞１キュベット分に対し１ｍＬのＯＰＴＩ−ＭＥＭ  Ｉ培地を加え懸濁した。この細胞懸濁液を９６ウェルプレートの１ウェルあたり１２５μＬずつ分注した。３７℃、５％ＣＯ２の条件下一晩培養した後、１０％ウシ胎仔血清（三光純薬（株））、１００ｕｎｉｔｓ／ｍＬペニシリンＧナトリウム（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）、１００μｇ／ｍＬ硫酸ストレプトマイシン（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）を含むＤＭＥＭ培地（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）を１ウェルあたり１２５μＬずつ加えた。翌日まで培養しメチル−α−Ｄ−グルコピラノシド取り込み阻害活性の測定に供した。
３）メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド取り込み阻害活性の測定
試験化合物をジメチルスルホキシドに溶解し、取り込み用緩衝液（１４０ｍＭ塩化ナトリウム、２ｍＭ塩化カリウム、１ｍＭ塩化カルシウム、１ｍＭ塩化マグネシウム、５ｍＭメチル−α−Ｄ−グルコピラノシド、１０ｍＭ２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル〕エタンスルホン酸、５ｍＭトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液ｐＨ７．４）で希釈し、阻害活性測定用の検体とした。ヒトＳＧＬＴ２一過性発現ＣＯＳ−７細胞の培地を除去し、１ウェルあたり前処置用緩衝液（１４０ｍＭ塩化コリン、２ｍＭ塩化カリウム、１ｍＭ塩化カルシウム、１ｍＭ塩化マグネシウム、１０ｍＭ２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル〕エタンスルホン酸、５ｍＭトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液ｐＨ７．４）を２００μＬ加え、３７℃で１０分間静置した。前処置用緩衝液を除去し、再度同一緩衝液を２００μＬ加え、３７℃で１０分間静置した。作製した検体５２５μＬに７μＬのメチル−α−Ｄ−（Ｕ−１４Ｃ）グルコピラノシド（Ａｍｅｒｓｈａｍ  Ｐｈａｒｍａｃｉａ  Ｂｉｏｔｅｃｈ）を加え混合し、測定用緩衝液とした。対照群用に試験化合物を含まない測定用緩衝液を調製した。また試験化合物非存在下並びにナトリウム非存在下の基礎取り込み測定用に塩化ナトリウムに替えて１４０ｍＭの塩化コリンを含む基礎取り込み測定用緩衝液を同様に調製した。前処置用緩衝液を除去し、各種測定用緩衝液をそれぞれ１ウェルあたり７５μＬずつ加え３７℃で２時間静置した。測定用緩衝液を除去し、洗浄用緩衝液（１４０ｍＭ塩化コリン、２ｍＭ塩化カリウム、１ｍＭ塩化カルシウム、１ｍＭ塩化マグネシウム、１０ｍＭメチル−α−Ｄ−グルコピラノシド、１０ｍＭ２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル〕エタンスルホン酸、５ｍＭトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液ｐＨ７．４）を１ウェルあたり２００μＬずつ加えすぐに除去した。この洗浄操作をさらに２回行い、０．２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウムを１ウェルあたり７５μＬずつ加え細胞を可溶化した。可溶化液をピコプレート（Ｐａｃｋａｒｄ）に移し、１５０μＬのマイクロシンチ４０（Ｐａｃｋａｒｄ）を加えマイクロプレートシンチレーションカウンター  トップカウント（Ｐａｃｋａｒｄ）にて放射活性を計測した。対照群の取り込み量から基礎取り込み量を差し引いた値を１００％とし、取り込み量の５０％阻害する濃度（ＩＣ５０値）を濃度−阻害曲線から最小二乗法により算出した。その結果は以下の表１の通りである。
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試験例２
尿糖排泄促進作用確認試験
実験動物として一晩絶食したＳＤ系ラット（ＳＬＣ、雄性７週齢、１８０〜２２０ｇ）を用いた。試験化合物１０ｍｇはエタノール３００μＬに懸濁または溶解させ、ポリエチレングリコール４００  １．２ｍＬおよび生理食塩水１．５ｍＬを加えて溶解し、３．３ｍｇ／ｍＬ溶液とした。この溶解液の一部を生理食塩水：ポリエチレングリコール４００：エタノール＝５：４：１にて希釈し、３．３、０．３３、０．０３３（ｍｇ／ｍＬ）の各濃度の溶解液を調製した。ラットの体重を測定し、試験化合物溶液を３ｍＬ／ｋｇの用量（１０、１、０．１ｍｇ／ｋｇ）で尾静脈内投与した。対照群用に生理食塩水：ポリエチレングリコール４００：エタノール＝５：４：１のみを３ｍＬ／ｋｇの用量で尾静脈内投与した。尾静脈内投与直後に２００ｇ／Ｌグルコース水溶液を１０ｍＬ／ｋｇの用量（２ｇ／ｋｇ）で経口投与した。尾静脈内投与は２６Ｇ注射針および１ｍＬシリンジを用いて行った。経口投与はラット用ゾンデおよび２．５ｍＬシリンジを用いて行った。１群あたりの頭数は３頭とした。グルコース投与終了後から代謝ケージにて採尿を行った。採尿時間はグルコース投与後２４時間とした。採尿終了後、尿量を記録し、尿中に含まれるグルコース濃度を測定した。グルコース濃度は臨床検査用キット：グルコースＢテストワコー（和光純薬（株））にて定量した。尿量、尿中グルコース濃度および体重から２４時間での体重２００ｇ当たりの尿糖排泄量を求めた。その結果は以下の表２の通りである。
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試験例３
急性毒性試験
試験化合物に生理食塩水：ポリエチレングリコール４００：エタノール＝５：４：１を加え、３０ｍｇ／ｍＬの溶解液とした。実験動物としては、４時間絶食した雄性５週齢ＩＣＲ系マウス（日本クレア，２９〜３５ｇ，１群５例）を用いた。上記溶解液を１０ｍＬ／ｋｇ（３００ｍｇ／ｋｇ）の用量で上記実験動物に皮下投与し、２４時間観察した。その結果は以下の表３の通りである。
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産業上の利用可能性
本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体およびその薬理学的に許容される塩は、ヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を有し、腎臓での糖の再吸収を抑制し過剰な糖を尿中に排泄させることにより、優れた血糖低下作用を発揮する。それ故、本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有させることにより、優れた糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症等の高血糖症に起因する疾患の予防または治療剤を提供することができる。
また、本発明の前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩を製造する際の中間体として重要であり、これらの化合物を経由することにより本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物およびその薬理学的に許容される塩を容易に製造することができる。
「配列表フリーテキスト」
配列番号１：合成ＤＮＡプライマー
配列番号２：合成ＤＮＡプライマー
配列番号３：合成ＤＮＡプライマー
配列番号４：合成ＤＮＡプライマー
配列番号５：ヒトＳＧＬＴ２のカルボキシル末端アラニン残基に融合したペプチド
【配列表】
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