(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ’
【化１】
0004332819.tif 000052
（式中、
Ｚは式ＩＩ’
【化２】
0004332819.tif 000053
の基を表すか、又は式ＩＩＩ'
【化３】
0004332819.tif 000054
の基を表し；
Ｒ1、Ｒ5、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数３のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、−Ｆ又は−Ｃｌを表し；
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、フェニル基、−Ｆ、−Ｃｌ又は−ＣＮを表し；
Ｒ7とＲ17は、互いに独立して、式ＩＶ'
【化４】
0004332819.tif 000055
（式中、
Ｒ6は炭素原子数１ないし１６のアルキル基又はフェニル基を表し；
Ｒ8はＨ、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、シクロヘキシル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基、フェニル基又は炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基を表しそして、Ｚが式ＩＩ'の基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数２ないし１８のアルキル基を包含し；そして
Ｒ16はＲ6についてと同じに定義され；そして、Ｚが式ＩＩ'の基を表す場合は、追加して水素原子を包含する。）で表される基を表す。）
により表される化合物（但し、式中、Ｚが式ＩＩＩ'の基を表しそしてＲ1とＲ5の両方がアルキル基を表す化合物、及び式中、Ｒ3又はＲ13がフェニル基を表しそしてＲ16が水素原子を表す化合物を除外する。）。
【請求項２】
式中、Ｒ1、Ｒ5、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、メトキシ基、フェニル基、−Ｆ、−Ｃｌ又は−ＣＮを表し；Ｒ6は炭素原子数１ないし１６のアルキル基を表し；Ｒ8は炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭素原子数３のアルケニル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表しそして、Ｚが式ＩＩ'の基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数３ないし１３のアルキル基を包含する、請求項１記載の式Ｉ'の化合物。
【請求項３】
Ａ）光、酸素及び／又は熱による損傷を受け易い有機材料、及びＢ）安定剤として、請求項１記載の式Ｉ'の化合物少なくとも１種からなる組成物。
【請求項４】
光、酸素及び／又は熱による損傷に対して有機材料を安定化する方法であって、安定剤として請求項１に定義された式Ｉ'の化合物を該有機材料に混合することからなる方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、１種以上の２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，５−トリアジンを添加することにより合成有機ポリマー又はプレポリマー、特に塗料材料；この型のトリアジン新規化合物、並びにこれらの化合物の安定剤としての使用に関する。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】
有機材料、例えば塗料の光安定性を増すことを所望する場合は、光安定剤を添加するのが普通である。光安定剤の非常に頻繁に使用される類の一つは紫外線吸収剤であって、それは発色団を介して有害な放射線を吸収することにより材料を保護する。紫外線吸収剤の一つの重要な基はトリフェニルトリアジンであって；酸基又はエステル基を有するこの型の化合物は特に下記の刊行物に記載されているＵＳ−Ａ−３２４４７０８、ＵＳ−Ａ−３２４９６０８、ＣＨ−Ａ−４８４６９５、ＧＢ−Ａ−１３２１５６１とＵＳ−Ａ−４８２６９７８。
【０００３】
ＥＰ−Ａ−４３４６０８、ＥＰ−Ａ−５３０１３５、ＵＳ−Ａ−５３６４７４９とＧＢ−Ａ−２２７３４９８も分枝した側鎖を持つこの類の具体的化合物を記述している。
【０００４】
安定剤として効果的である化合物については、特に重大な性質はそのスペクトルと抗酸化的作用ばかりではなく、特に、安定化される物質との相溶性、及びその溶解性である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
特定のある種の分枝した酸又はエステル側鎖を持つ、２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，５−トリアジン型のある種のものが、驚くべきことに、合成有機ポリマーとプレポリマーのための特に優れた安定剤性能を持つことが見出された。
【０００６】
本発明は従って第一に、
Ａ）合成有機ポリマー又はプレポリマー及び
Ｂ）光、酸素及び／又は熱の損傷影響に対する安定剤としての、式Ｉ
【化９】
0004332819.tif 000002
〔式中、Ｚは式II
【化１０】
0004332819.tif 000003
の基を表すか、又は式III
【化１１】
0004332819.tif 000004
の基を表し；
Ｒ1 、Ｒ5 、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、ハロゲン原子又は−ＣＮを表し；
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基；炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基；フェニルオキシ基；又は−ＣＮを表し；
Ｒ7 とＲ17は、互いに独立して、式IV、ＶとVI
【化１２】
0004332819.tif 000005
（式中、ｍは１ないし１２の範囲の数を表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基、−ＣＯＯＲ8 又はフェニル基を表し；
Ｒ8 はＨ、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基、フェニル基、（炭素原子数７ないし１４のアルキル）フェニル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルケニル基、炭素原子数６ないし１５のトリシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルキル−アルキル基又は炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基を表し、そして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数２ないし５０のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は炭素原子数２ないし１４のアルキル基、フェニル基、又はＯにより中断されている炭素原子数２ないし５０のアルキル基を表すか；又はフェニル基で、フェノキシ基で、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基で、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシルオキシ基で、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基で又は炭素原子数５ないしシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数１ないし１４のアルキル基を表し；
Ｒ10はＨ、炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基、炭素原子数７ないし１４のアルキルフェノキシ基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルコキシ基、炭素原子数６ないし１２のシクロアルキル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）−シクロヘキシルオキシ基、炭素原子数６ないし１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし１１のシクロヘキシルアルキル基、炭素原子数７ないし１１のシクロヘキシルアルコキシ基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルケニル基、炭素原子数６ないし１５のトリシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルコキシ基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルケノキシ基、炭素原子数６ないし１５のトリシクロアルコキシ基又はフェニル−ＮＨ−を表し；
Ｒ16は水素原子を表すか又はＲ6 についてと同じに定義され；又は
Ｒ6 とＲ16は一緒になって炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を表し；
そしてＲ18は炭素原子数３ないし１０のアルキレン基を表す。）のうち一つで表される基を表す。〕により表される化合物（但し、式中、Ｚが式III の基を表しそしてＲ1 とＲ5 の両方がアルキル基を表す化合物、及び式中、Ｒ3 又はＲ13がフェニル基を表しそしてＲ7 又はＲ17が式VIの基を表すか又はＲ16が水素原子を表す化合物を除外する。）により表される化合物からなる組成物を提供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】
特に工業的に重要なのは、成分Ｂの化合物中、
Ｒ1 、Ｒ5 、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、ハロゲン原子又は−ＣＮを表し；
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基；炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基；フェニルオキシ基；又は−ＣＮを表し；
Ｒ7 とＲ17は、互いに独立して、式IV、ＶとVI
【化１３】
0004332819.tif 000006
（式中、ｍは１ないし１２の範囲の数を表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基、−ＣＯＯＲ8 又はフェニル基を表し；
Ｒ8 はＨ、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基、フェニル基、（炭素原子数７ないし１４のアルキル）フェニル基又は炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基を表しそして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数２ないし１８のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は炭素原子数２ないし１４のアルキル、フェニル基又はＯにより中断されている炭素原子数２ないし１４のアルキル基を表すか；又はフェニル基で、フェノキシ基で、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基で、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシルオキシ基で、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基で又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数１ないし１４のアルキル基を表し；
Ｒ10はＨ、炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基、炭素原子数７ないし１４のアルキルフェノキシ基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルコキシ基、炭素原子数６ないし１２のシクロアルキル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）−シクロヘキシルオキシ基、炭素原子数６ないし１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし１１のシクロヘキシルアルキル基、炭素原子数７ないし１１のシクロヘキシルアルコキシ基又はフェニル−ＮＨ−を表し；
Ｒ16は水素原子を表すか又はＲ6 についてと同じに定義され；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし１０のアルキレン基を表す。）のうち一つで表される基を表す化合物（但し、式中、Ｚが式III の基を表しそしてＲ1 とＲ5 の両方がアルキル基を表す化合物、及び式中、Ｒ3 又はＲ13がフェニル基を表しそしてＲ7 又はＲ17が式VIの基を表すか又はＲ16が水素原子を表す化合物を除外する。）からなる組成物である。
【０００８】
上述の成分（Ａ）は、ハロゲン化銀エマルジョン層を含有する写真感光性材料を含有しない。
【０００９】
上述のプレポリマーは、モノマー又はオリゴマー化合物であってそれらは、熱又は放射線例えば紫外放射線、電子線又はＸ線の影響下、及び／又は架橋剤、カップラー又は触媒の影響下、高分子量物質型（ポリマー）に変換され得るものである。
【００１０】
本発明は、合成有機ポリマー又はプレポリマーのための光、酸素及び／又は熱による損傷に対する安定剤としての式Ｉの化合物の使用を提供する。式Ｉの化合物は光安定剤（紫外線吸収剤）として特に適当である。特に興味のあるのは、プラスチック、ゴム、接着剤又は、特に塗料材料中に存在するような合成有機ポリマー又はプレポリマーにおけるそれらの使用である。この方法で安定化できるポリマーの例を下記する：
【００１１】
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度そして超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分枝低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００１２】
ポリオレフィン、即ち前出の文節に例示したモノオレフィン類のポリマー、好ましくはポリエチレンとポリプロピレンは、いろいろの方法、そして特に下記の方法により製造できる：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下そして高温下で）；
ｂ）通常周期表の第IVｂ、Ｖｂ、VIｂ又はVIII族の一種以上の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常は、π−又はσ−配位していてよい一種以上のリガンド、典型的にはオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを持つ。これらの金属錯体は、遊離型であってもよく又は担体上、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（III ）、アルミナ又は酸化ケイ素上に固定された形であってもよい。これらの触媒は重合媒体中に溶解性又は不溶性であってもよい。その触媒は、重合中にそれ自体が使用されてもよく又は別の活性剤、典型的にはアルキル金属、金属水素化物、アルキル金属ハライド、アルキル金属オキシド又はアルキル金属オキサン（これら金属は周期表の第Ia、IIa 及び／又はIIIaの元素である。) であってよい。活性剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で有利に変形されてもよい。これらの触媒系は通常は、フィリップス触媒、スタンダード・オイル・インジアナ触媒、チーグラー（−ナッター）触媒、ＴＮＺ（デュポン）触媒、メタロセン触媒又は単座触媒（ＳＳＣ）と呼ばれる。
【００１３】
２．  １）に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの異なるタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００１４】
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン−プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン−ブテン−１・コポリマー、プロピレン−イソブチレン・コポリマー、エチレン−ブテン−１・コポリマー、エチレン−ヘキセン・コポリマー、エチレン−メチルペンテン・コポリマー、エチレン−ヘプテン・コポリマー、エチレン−オクテン・コポリマー、プロピレン−ブタジエン・コポリマー、イソブチレン−イソプレン・コポリマー、エチレン−アルキルアクリレート・コポリマー、エチレン−アルキルメタクリレート・コポリマー、エチレン−ビニルアセテート・コポリマー及び一酸化炭素とのそれらのコポリマーまたはエチレン−アクリル酸・コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、並びにエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；並びにそのようなコポリマーの混合物と１）に記載したポリマーとのそれらの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン・コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニル−コポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸−コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ，ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互のまたはランダムなポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー並びに他のポリマー、例えばポリアミドとのそれらの混合物。
【００１５】
４. 炭化水素樹脂（例えばＣ5 −Ｃ9 ）およびそれらの水素化変性体（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンと澱粉との混合物。
【００１６】
５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００１７】
６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン−ブタジエン、スチレン−アクリロニトリル、スチレン−アルキルメタクリレート、スチレン−ブタジエン−アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタアクリレート、スチレン−無水マレイン酸、スチレン−アクリロニトリル−メチルアクリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン−プロピレン−ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンまたはスチレン−エチレン−プロピレン−スチレン。
【００１８】
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリル・コポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンとマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレート又はアルキルメタクリレート；エチレン−プロピレン−ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並びにこれらと６）に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ−、ＭＢＳ−、ＡＳＡ−またはＡＥＳ−ポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００１９】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化又は臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化またはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００２０】
９．α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリレート、アクリル酸ブチルで耐衝撃化改質したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
【００２１】
10. 前項９）に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル−ブタジエン・コポリマー、アクリロニトリル−アルキルアクリレート・コポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニル・コポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジエン・ターポリマー。
【００２２】
11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにそれらと上記１）に記載したオレフィンとのコポリマー。
【００２３】
12. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリシジルエーテルとのコポリマー。
【００２４】
13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
【００２５】
14. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、並びにポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
【００２６】
15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質。
【００２７】
16. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ（２，４，４−トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド。前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのグラフトコポリマー；または前記ポリアミドとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのグラフトコポリマー。更に、ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド。加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
【００２８】
17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよびポリベンズイミダゾール。
【００２９】
18. ジカルボン酸およびジオールおよび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；そしてポリカーボネートまたはＭＢＳで変性したポリエステルも。
【００３０】
19. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネート。
【００３１】
20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【００３２】
21. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００３３】
22. 乾性および不乾性アルキド樹脂。
【００３４】
23. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールのコポリエステル、および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。
【００３５】
24. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００３６】
25. メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と架橋してあるアルキド樹脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。
【００３７】
26. 脂肪族、脂環式、複素環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、酸無水物又はアミンのような常用の硬化剤で、促進剤を使用してまたは使用しないで架橋してある、ビスフェノールＡとビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物。
【００３８】
27. 天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた誘導体のようなもの、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロースのようなもの、またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロースのようなもの；並びにロジンおよびそれらの誘導体。
【００３９】
28. 前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００４０】
本発明は、光、酸素及び／又は熱による損傷に対して合成有機ポリマー又はプレポリマーを安定化する方法であって、安定剤として式Ｉの化合物を有機合成ポリマー又はプレポリマーに添加することからなる方法も提供する。
【００４１】
使用される安定剤の量は、安定化される有機材料と安定化された有機材料の意図する使用に依存する。概して、新規の組成物は、成分Ａの１００重量部当たり０．０１ないし１５重量部、特に０．０５ないし１０重量部、特別に０．１ないし５重量部の安定剤（成分Ｂ）からなる。
【００４２】
新規の組成物は、式Ｉの安定剤に加えて、他の安定剤又は他の添加剤、例えば抗酸化剤、別の光安定剤、金属不活性化剤、亜リン酸エステル又はホスフィン酸エステル類も含有する。それらの例は、下記する安定剤である：
【００４３】
１．酸化防止剤
１．１  アルキル化モノフェノール類、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール，側鎖が直鎖又は分枝鎖であるノニルフェノール例えば、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルウンデカン−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデカン−１′−イル）フェノール，２，４−ジメチル−６−（１′−メチルトリデカン−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物。
【００４４】
１．２．アルキルチオメチルフェノール類、例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００４５】
１．３．ハイドロキノン類とアルキル化ハイドロキノン類、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルハイドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール，２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ハイドロキノン，２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、ステアリン酸３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル、アジピン酸ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）。
【００４６】
１．４．トコフェロール、例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００４７】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル類、例えば、２，２′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００４８】
１．６．アルキリデンビスフェノール類、例えば、２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２′−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ペンタン。
【００４９】
１．７．Ｏ- ，Ｎ- およびＳ- ベンジル化合物、例えば、３，５，３′，５′−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプト酢酸オクタデシル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプト酢酸トリデシル、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ジチオテレフタル酸ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル＝３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート。
【００５０】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロン酸エステル類、例えば、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロン酸ジオクタデシル、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロン酸ジオクタデシル、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロン酸＝ジ−ドデシルメルカプトエチル、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロン酸＝ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］。
【００５１】
１．９．ヒドロキシベンジル芳香族化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００５２】
１．１０．トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビスオクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００５３】
１．１１．ベンジルホスホン酸エステル類、例えば、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジメチル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホン酸ジオクタデシル、５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホン酸ジオクタデシル、
３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
【００５４】
１．１２．アシルアミノフェノール類、例えば、ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、オクチル  Ｎ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００５５】
１．１３．β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル類、
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５６】
１．１４．β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル類、
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５７】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル類、
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５８】
１．１６．３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル類、
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５９】
１．１７．β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド類、例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００６０】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００６１】
１．１９．アミン系抗酸化剤
Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三ブチル−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドテカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジン、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジン、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテン−２、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル−ヘキサメチレンジアミン，セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【００６２】
２．  紫外線吸収剤および光安定剤
２．１．２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール類、例えば、
２−( ２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ５′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル) −５−クロロ−ベンゾトリアゾール類、２−( ３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル) −５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−( ３′−ｓｅｃ−ブチル−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ２′−ヒドロキシ−４′−オクチルオキシ−フェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルカルボニルエチル）フェニル) −５−クロロ−ベンゾトリアゾールの混合物、２−( ３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル) −５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−( ３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル) −５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−( ３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、２−( ３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル) ベンゾトリアゾールおよび２−( ３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル) ベンゾトリアゾール、２，２′−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェノール］；ポリエチレングリコール３００との２−［３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシ−フェニル］−２Ｈ−ベンズトリアゾールのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］2 （式中、Ｒ＝３′−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−ヒドロキシ−５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニル）。
【００６３】
２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン類、例えば
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−および２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【００６４】
２．３．置換されたおよび非置換安息香酸のエステル類、例えば
サリチル酸４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフェニル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸オクタデシル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル。
【００６５】
２．４．アクリレート類、、例えば
α−シアノ−β, β−ジフェニルアクリル酸エチル、α−シアノ−β, β−ジフェニルアクリル酸イソオクチル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ桂皮酸メチル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ桂皮酸ブチル、α−カルボメトキシ−p −メトキシ桂皮酸メチル、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【００６６】
２．５．ニッケル化合物、例えば
２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの；ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
【００６７】
２．６．立体障害性アミン、例えば
セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、
コハク酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、
セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）、
セバシン酸ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロン酸＝ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、ニトリロトリ酢酸トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロン酸＝ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、セバシン酸ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、コハク酸ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシおよび４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ，Ｒｅｇ．Ｎｏ．［１３６５０４─９６─６］）; Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルコハク酸イミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルコハク酸イミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカンとエピクロルヒドリンの反応生成物、
プロパンジオイック酸（４−メトキシフェニル）−メチレン−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）エステル；
Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミン、
ポリ−［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］−シロキサン、
マレイン酸−α−オレフィン・コポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００６８】
２．７．シュウ酸ジアミド類、、例えば、４，４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキサニリド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−オキサニリドとの混合物、およびｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００６９】
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【００７０】
３．金属不活性化剤、例えば
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジッド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸ビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ジアセチル−アジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビスサリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビスサリチロイル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【００７１】
４．亜リン酸エステル類およびホスホナイト類、例えば亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニル＝アルキル、亜リン酸フェニル＝ジアルキル、亜リン酸トリス（ノニルフェニル）、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデシル、ジステアリル＝ペンタエリトリトール＝ジホスフィット、亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、ジイソデシル＝ペンタエリトリトール＝ジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）＝ペンタエリトリトール＝ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）＝ペンタエリトリトール＝ジホスフィット、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリスリトール＝ジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）＝ペンタエリスリトール＝ジホスフィット、ビス（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）＝ペンタエリスリトール＝ジホスフィット、トリステアリル＝ソルビトール＝トリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）＝４，４′−ビフェニレン＝ジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【００７２】
５．ヒドロキシルアミン、例えば
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導したＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００７３】
６．ニトロン類、例えばＮ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化した獣脂から誘導したＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００７４】
７．チオ相乗剤(thiosynergists)、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリルまたはチオジプロピオン酸ジステアリル。
【００７５】
８．  過酸化物スカベンジャー、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトール＝テトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００７６】
９．ポリアミド安定剤、例えば、ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。
【００７７】
１０．  塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン、またはピロカテコール酸錫。
【００７８】
１１．  核剤、例えば、無機物質、例えばタルク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような金属酸化物; 好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩または硫酸塩のようなもの; モノ−またはポリカルボン酸またはそれらの塩の有機化合物、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム; イオン性コポリマー（「イオノマー」）のような高分子化合物。
【００７９】
１２． 充填剤および強化剤、例えば炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球(glass bulbs) 、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト、毛細粉と他の天然産品の細粉と繊維、合成繊維。
【００８０】
１３．他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調節剤、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【００８１】
１４．ベンゾフラノン類とインドリノン類、例えばＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９またはＥＰ−Ａ−０５９１１０２またはは３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３′−ビス［５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン。
【００８２】
添加される別の安定剤の型と量は、安定化される基材の型と意図する使用に依存し、安定化されるポリマーを基準にして、頻繁に０．１ないし５重量％使用される。
【００８３】
式Ｉの新規の化合物は、成分Ａとして、合成有機ポリマー、特に熱可塑性ポリマー、塗料例えばペイントのための結合剤に特に有利に使用され得る。
【００８４】
適当な熱可塑性ポリマーの例は、主鎖中にヘテロ原子を含有するポリオレフィンとポリマー、例えば主鎖中に窒素、酸素及び／又は硫黄、特に窒素又は酸素を含有する熱可塑性ポリマーである。
【００８５】
合成有機ポリマー又はプレポリマーへの混和は、工業で常用されている方法による、新規の化合物と所望の場合は他のいずれかの添加剤の添加により実施できる。混和は、成型の前又は間に、例えば微粉末成分を混合することにより、又はポリマーの溶融体又は溶液への安定剤の添加により、又は必要ならば溶媒をその次に蒸発する、ポリマーへの溶解した又は分散した化合物の適用により、実施できる。エラストマーの場合は、ラテックスとしても安定化できる。ポリマー中への新規化合物の混和の方法は、該当するモノマーの重合前又は間の又は架橋前の、それら化合物の添加による。
【００８６】
新規化合物又はその混合物は、その化合物を、例えば、２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの型式で安定化されるプラスチックに添加してもよい。
【００８７】
新規化合物は下記の方法により便利に混和され得る：
−エマルジョン又は分散液として（例えばラテックス又はエマルジョンポリマーへ）
−追加成分又はポリマー混合物の混合の間の乾燥混合物として
−加工装置（例えば押出機、内部混合機等）中への直接添加により
−溶液又は溶融体として。
【００８８】
この方法で得られた安定化されたポリマー組成物は、成型した物品、例えば繊維、フィルム、テープ、シート、多層シート、容器、管及び他の形材に、常法、例えば熱プレス、紡糸、押し出し又は射出成型により変形され得る。
【００８９】
従って、本発明は成型品の製造のために新規ポリマー組成物を使用する方法に関する。
【００９０】
新規化合物を多層系に使用することも興味あることである。その場合、式Ｉの安定剤を比較的高い含量、例えば１−１５重量％で含有する新規ポリマー組成物は、薄層（１０−１００μｍ）で、式Ｉの安定剤を殆ど含有しないか又は含有してないポリマーから製造された成型品に適用される。適用は基材構造(base structure)の成型と同時に、例えば同時押出により実施できる。しかし、適用はその仕上げ形の基材構造(base structure)へ、例えばフィルムを使用する積層化により又は溶液の塗布により、実施できる。仕上げ品の外層又は外層群は、紫外線に対して成型品の内部を保護する紫外線フィルタの機能を持つ。外層は、式Ｉの安定剤を少なくとも一種、好ましくは１−１５重量％、特に５−１０重量％含有する。
【００９１】
従って、厚みが１０−１００μｍである外層が新規のポリマー組成物を含有するが、他方内層は式Ｉの安定剤を殆ど含有しないか又は含有してない多層系の製造のための新規のポリマー組成物の使用は、本発明により提供される。
【００９２】
この方法で安定化されたポリマーは、高い耐候性、特に紫外線に対する高い抵抗性により特徴付けられる。かくして、それらポリマーは、それらの機械的性能とそれらの色調と光沢を、例えば屋外で長期間使用されようとも維持する。
【００９３】
同様にして特に興味のあるのは、塗料例えばペイントのための安定剤として式Ｉの化合物の使用である。従って、本発明は成分Ａがフィルム形成結合剤である組成物も提供する。
【００９４】
新規の塗料組成物は、固形結合剤Ａの１００重量部当たり、好ましくはＢを０．０１−１０重量部、特にＢを０．０５−１０重量部、特別には０．１−５重量部含有する。
【００９５】
外層中の式Ｉ（成分Ｂ）の化合物の濃度はより高く、例えば、固形結合剤Ａの１００重量部当たり、Ｂが１ないし１５重量部、特別にはＢが３−１０重量部である多層系もここでは可能である。
【００９６】
塗料中の安定剤としての式Ｉの化合物の使用は、離層、即ち、基板からの塗膜の剥離を防げるという追加の利点を持つ。この利点は、金属基板上の多層系の場合を包含する金属基板の場合に、特に重要である。
【００９７】
適当な結合剤（成分Ａ）は、原則的には、工業的に常用される結合剤であればどれでもよく、それらは例えば「Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｄｅｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５版，第Ａ１８巻，３６８−４２６頁，ＶＣＨ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ  １９９１」に記載されている。概して、これは、熱可塑性又は熱硬化製樹脂を基材とし、熱硬化性樹脂を主要成分とするフィルム形成結合剤である。それらの例は、アルキド、アクリル、ポリエステル、フェノール、メラミン、エポキシ及びポリウレタン樹脂及びそれらの混合物である。
【００９８】
成分Ａは常温硬化性又は熱硬化性結合剤であって；硬化触媒を添加することは有利であり得る。結合剤の硬化を促進する適当な触媒は、例えば「Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｄｅｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５版，第Ａ１８巻，４６９頁，ＶＣＨ出版社，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ  １９９１」に記載されている。
【００９９】
成分Ａが官能性アクリル樹脂と架橋剤からなる結合剤である塗料組成物が好ましい。
【０１００】
特定の結合剤を含有する塗料組成物の例を下記する：
１．所望ならば硬化触媒を添加してある、常温−又は高温−架橋性の、アルキド、アクリレート、ポリエステル、エポキシ又はメラミン樹脂、又はそのような樹脂の混合物を基材にしたペイント；
２．ヒドロキシル基を含むアクリレート、ポリエステル又はポリエーテル、及び脂肪族又は芳香族のイソシアナート、イソシアヌレート又はポリイソシアヌレートを基材にした二成分ポリウレタンペイント；
３．焼付の間に脱ブロック化される、ブロック化されたイソシアナート、イソシアヌレート又はポリイソシアナートを基材にした一成分ポリウレタン；
４．（ポリ）ケチミンと脂肪族又は芳香族イソシアナート、イソシアヌレート又はポリイソシアナートを基材にした二成分ペイント；
５．（ポリ）ケチミンと不飽和アクリレート樹脂又はポリアセトアセテート樹脂又はメチルメタクリアミドグリコレートを基材にした二成分ペイント；
６．カルボキシル基又はアミノ基を含むポリアクリレートとポリエポキシドを基材にした二成分ペイント；
７．酸無水物基を含有するアクリレート樹脂、及びポリヒドロキシル又はポリアミノ成分を基材にした二成分ペイント；
８．酸無水物とポリエポキシドを含有するアクリレートを基材にした２成分ペイント：
９．（ポリ）オキサゾリンと、酸無水物基を含有するアクリレート樹脂又は不飽和アクリレート樹脂、又は脂肪族又は芳香族イソシアナート、イソシアヌレート又はポリイソシアヌレートを基材にした二成分ペイント；
１０．不飽和ポリアクリレートとポリマロネートを基材にした二成分ペイント；
１１．エーテル化したメラミン樹脂と組み合わせた、熱可塑性ポリアクリレート樹脂又は非自己架橋性アクリレート樹脂を基材にした熱可塑性ポリアクリレートペイント；
１２．シロキサン改質した又はフッ素改質したアクリレート樹脂を基材にしたペイントシステム。
【０１０１】
新規の塗料組成物は、放射線硬化性であってもよい。この場合、結合剤は実質的にはエチレン性不飽和結合を持つモノマー又はオリゴマー化合物であって、適用後、紫外線照射又は電子線により硬化する、即ち、架橋した高分子量型に変化する、化合物からなる。相当する系は上述の刊行物、「Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｄｅｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５版，第Ａ１８巻，４５１−４５３頁」に記載されている。放射線硬化性塗料組成物では、式Ｉの化合物は、立体障害アミンを添加しないでも使用できる。
【０１０２】
成分ＡとＢに加えて、新規の塗料組成物は好ましくは成分Ｃとして、立体障害アミンの光安定剤、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン及び／又は２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール型、例えば上述の２．１、２．６と２．８の部で述べたようなものも含有する。特にここで興味があるのは、２−モノレゾルシニル−４，６−ジアリール−１，３，５−トリアジン及び／又は２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。
【０１０３】
最大の光安定性を実現するためには、例えば上述のリストの２．６で記述した立体障害アミンを添加することに特別な興味がある。従って、本発明は、成分ＡとＢに加えて、成分Ｃとして、立体障害アミン型の光安定剤を含有する組成物にも関係する。
【０１０４】
これは好ましくは、式
【化１４】
0004332819.tif 000007
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基、特に水素原子を表す。）の基を少なくとも１個含む２，２，６，６−テトラアルキルピリジン誘導体である。
【０１０５】
成分Ｃは、固形結合剤１００重量部に基づいて、０．０５−５重量部の量で使用されるのが好ましい。
【０１０６】
成分Ｃとして使用できるテトラアルキルピペリジン誘導体はＥＰ−Ａ−３５６６７７、３−１７頁、文節（ｓｅｃｔｉｏｎ）ａ）ないしｆ）に記載されている。このＥＰ−Ａ−文献のこれらの文節は本発明の明細書の部分として見做される。下記のテトラアルキルピペリジン誘導体を使用すると、特に便利である：
【０１０７】
コハク酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）、
セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）、
セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリン−４−イル）、
ブチル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロン酸＝ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペン−４−イル）、
セバシン酸ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）、
ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸＝テトラ（１，２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）、
２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−２１−オキソジスピロ［５．１．１１．２］ヘンアイコサン、
８−アセチル−３−ドデシル−１，３，８−トリアザ−７，７，９，９−テトラメチルスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
又は下記の式の化合物：
【０１０８】
【化１５】
0004332819.tif 000008
【０１０９】
【化１６】
0004332819.tif 000009
【０１１０】
【化１７】
0004332819.tif 000010
【０１１１】
【化１８】
0004332819.tif 000011
【０１１２】
【化１９】
0004332819.tif 000012
（式中、ｍは５ないし５０を表す。）
【０１１３】
成分Ａ、Ｂと、使用されるならばＣに加えて、塗料組成物は更に他の成分、例えば溶媒、顔料、染料、可塑剤、安定剤、チキソトロピー剤、乾燥化触媒及び／又は均展助剤を含有することができる。可能な成分の例は、「Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｄｅｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５版，第Ａ１８巻，４２９−４７１頁，ＶＣＨ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ１９９１」に記載されている。
【０１１４】
可能な乾燥化触媒又は硬化触媒は、例えば、有機金属化合物、アミン、アミノ基含有樹脂及び／又はホスフィンである。有機金属化合物の例は、金属のカルボン酸塩、特に金属Ｐｂ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｚｒ及びＣｕのそれら、又は金属キレート、特に金属Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒのそれら、又は有機金属化合物、例えば有機錫化合物である。
【０１１５】
金属のカルボン酸塩の例は、Ｐｂ  Ｍｎ及びＺｎのステアリン酸塩、Ｃｏ、Ｚｎ及びＣｕのオクタン酸塩、ＭｎとＣｏのナフテン酸塩並びに該当するリノレイン酸塩、樹脂酸塩と獣脂酸塩である。
【０１１６】
金属キレートの例は、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル、サリチルアルデヒド、サリチルアルドキシム、ｏ−ヒドロキシアセトフェノンとトリフルオロアセチル酢酸エチルのアルミニウム、チタニウムとジルコニウム−キレート、並びにこれら金属のアルコキサイドである。
【０１１７】
有機錫化合物の例は、ジブチル錫オキシド、ジブチル錫ジラウレートとジブチル錫ジオクタノエートである。
【０１１８】
アミンの例は特に第３級アミン、例えばトリブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−エチルモルホリンとジアザビシクロオクタン（トリエチレンジアミン）とそれらの塩である。
【０１１９】
別の例は第４級アンモニウム塩、例えば塩化トリメチルベンジルアンモニウムである。
【０１２０】
アミノ基含有樹脂は同時に結合剤と硬化触媒である。その例はアミノ基含有アクリルレート・コポリマーである。
【０１２１】
使用される硬化触媒はホスフィン、例えばトリフェニルホスフィンであってもよい。
【０１２２】
新規の塗料組成物は、放射硬化性塗料組成物であってもよい。この場合には結合剤はエチレン性不飽和結合を持つモノマー性又はオリゴマー性の化合物から実質的になっており、それらは適用の後、化学線放射により硬化される（即ち、架橋した、高分子量の物質に変化する）。関与する系が紫外線硬化系である場合、それは概して追加して光開始剤を含有する。相当する系は上述の刊行物「Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｄｅｐｅｄｉａ  ｏｆ  ＩｎｄｕｓｔｒｉａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５版，第Ａ１８巻，４５１−４５３頁」に記述されている。放射硬化性塗料組成物の場合には、新規の安定剤混合物は立体障害アミンの添加が無い場合ですら使用できる。
【０１２３】
新規の塗料組成物は、所望の基材に、例えば金属、木材、プラスチック又はセラミック材に適用できる。それらを、自動車のペインティングでトップコートとして使用するのが好ましい。トップコートが２層を含む場合は、その下層には顔料が添加されそして上層には添加されず、新規の塗料組成物は上層と下層のいずれか又はその両方のために使用できるが、上層のために使用するのが好ましい。
【０１２４】
新規の組成物は、基材へ、常法により、例えば刷毛、散布、流し塗、浸漬又は電気泳動により適用されてよい：「Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｄｅｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５版，第Ａ１８巻，４９１−５００頁」も参照。
【０１２５】
塗膜は、結合剤系に依存して、室温で又は加熱により硬化され得る。塗膜は、好ましくは５０−１５０℃で硬化され、粉末塗膜も高い温度で硬化される。
【０１２６】
本発明に従って得られる塗膜は、光、酸素及び熱の有害な影響に対して優れた抵抗性を持つ：特記すべきことは、この方法で得られた塗膜、例えばペイント塗膜の光と天候に対する優れた抵抗性である。
【０１２７】
従って、本発明は、式Ｉの化合物の添加により、光、酸素及び熱の有害な影響に対して安定化された塗膜、特にペイント塗膜を提供する。ペイント塗膜は、好ましくは、自動車のためのトップコートである。更に、本発明は、光、酸素及び／又は熱による損傷に対して、有機ポリマーを基材にした塗膜を安定化する方法であって、塗料組成物に式Ｉの化合物を混合することからなる方法、並びに光、酸素及び／又は熱による損傷に対する安定剤としての塗料組成物中の、式Ｉの化合物の使用のための方法も提供する。
【０１２８】
塗料組成物は、通常は結合剤が溶解できる有機溶媒又は溶媒混合物を含有する。しかし、塗料組成物は、水性溶液又は懸濁液でもあり得る。賦形剤も有機溶媒又は水であり得る。塗料組成物は、ハイソリッドペイントでもあり得るし又は溶媒を含有していなくてもよい（粉末塗料）。
【０１２９】
顔料は、無機、有機又は金属顔料であり得る。新規の塗料組成物は、好ましくは、顔料を含有せずそして透明塗料として使用される。
【０１３０】
同様に好ましいのは、自動車工業における適用のためのトップコートとしての、特に仕上げの顔料添加した又は顔料無添加のトップコートとしての塗料組成物の使用である。しかし、下層のための使用も可能である。
【０１３１】
安定剤（成分Ｂ）は式Ｉの２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【０１３２】
式Ｉの同じ化合物中同じ名称の２個以上の基がある場合は、それらは同一であるか又は上述した定義の可能な範囲内で異なっていてもよい。
【０１３３】
置換基ハロゲン原子は、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ又は−Ｉ；好ましくは−Ｆ、−Ｃｌ、又は−Ｂｒ、特に−Ｃｌである。
【０１３４】
アルキルフェニル基は、アルキル基で置換されているフェニル基である；炭素原子数７ないし１４のアルキルフェニル基は、例えば、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）、トリメチルフェニル基（メシチル基）、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ジブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基及びオクチルフェニル基を包含する。
【０１３５】
フェニル−アルキル基は、フェニル基で置換されているアルキル基である；炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基は、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基そしてフェニルペンチル基である。
【０１３６】
グリシジル基は２，３−エポキシプロピル基である。
【０１３７】
ｎ−アルキル基又はアルキル−ｎは未分枝のアルキル基である。
【０１３８】
Ｏにより中断されているアルキル基は、通常は、１個以上のヘテロ原子を含有していてよく、２個以上の場合酸素原子は隣接していない。好ましくはアルキル鎖の一つの炭素原子は１個より多い酸素原子には結合していない。
【０１３９】
上述の定義内では、アルキル基であるＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は、分枝した又は未分枝のアルキル基であって、例えば下記のようものである：メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基である。アルキル基としてのＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は、短鎖の、例えば、炭素原子数１ないし８のアルキル基、特に炭素原子数１ないし４のアルキル基、例えばメチル基又はブチル基のようなものである。Ｒ1 、Ｒ11、Ｒ3 、Ｒ13、Ｒ5 とＲ15は、特に、好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基である。
【０１４０】
Ｒ1 、Ｒ11、Ｒ3 、Ｒ13、Ｒ5 、Ｒ15、Ｒ2 、Ｒ12、Ｒ4 とＲ14は、好ましくはＨ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基；特にＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ；特にＨ、メチル基又はメトキシ基である。特別に重要なのは、式中、Ｒ2 、Ｒ12、Ｒ4 及び／又はＲ14がフェニル基である式Ｉの化合物である。
【０１４１】
炭素原子数１ないし４のアルキル基は、特に、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、２−メチルプロピル基又はｔｅｒｔ−ブチル基である。
【０１４２】
上述の定義の範囲内では、アルケニル基としてのＲ1 、Ｒ11、Ｒ3 、Ｒ13、Ｒ5 、Ｒ15、Ｒ2 、Ｒ12、Ｒ4 とＲ14は、特に、アリル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル基、３−メチルブト−２−エニル基であり；Ｒ8 は追加してｎ−オクト−２−エニル基、ｎ−ドデク−２−エニル基、イソドデセニル基、ｎ−オクタデク−２−エニル基及びｎ−オクタデク−４−エニル基を包含する。Ｒ2 、Ｒ12、Ｒ3 、Ｒ13、Ｒ4 とＲ14の場合は、例えばビニル基の定義も可能である。
【０１４３】
Ｒ9 は好ましくは炭素原子数２ないし１４のアルキル基、フェニル基又は−ＣＨ2 −Ｏ−Ｒ19、特に炭素原子数２ないし１４のアルキル基又は−ＣＨ2 −Ｏ−Ｒ19であり；Ｒ19はここではフェニル基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキルシクロヘキシル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし１３のアルキル基又は−Ｏ−により中断されている炭素原子数２ないし１３のアルキル基である。アルキル基Ｒ9 は特に好ましくは炭素原子数３ないし１３のアルキル基、特に炭素原子数４ないし１３のアルキル基である。
【０１４４】
Ｒ10は好ましくは炭素原子数１ないし１７のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル基である。
【０１４５】
Ｒ18はそれに結合している炭素原子と一緒になってシクロアルキル環を形成する；好ましいのはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基及びシクロドデシル基、特にシクロペンチル基とシクロヘキシル基である。
【０１４６】
好ましい新規の組成物は、組成物中、式Ｉの化合物において、
Ｒ1 、Ｒ5 、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数３のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、−Ｆ又は−Ｃｌを表し；
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、フェニル基、−Ｆ、−Ｃｌ又は−ＣＮを表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基又はフェニル基を表し；
Ｒ8 はＨ、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、シクロヘキシル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基、フェニル基、ノルボルン−２−イル基、ノルボルン−５−エン−２−イル基、ノルボルン−２−メチル基、ノルボルン−５−エン−２−メチル基又は炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基を表しそして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数２ないし１８のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は炭素原子数２ないし１４のアルキル基又はＯにより中断されている炭素原子数３ないし１４のアルキル基を表すか、又はフェニル基を表し；
Ｒ10はＨ、炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数７ないし１１のシクロヘキシルアルキル基、ノルボルニル基、ノルボルネニル基、１−アダマンチル基又はフェニル−ＮＨ−を表し；
Ｒ16は水素原子を表すか又はＲ6 についてと同じに定義され；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし１０のアルキレン基を表す組成物である。
【０１４７】
特に好ましいのは、組成物中、式Ｉの化合物において、
Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基を表し；
Ｒ8 は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３のアルケニル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表しそして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数３ないし１３のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は炭素原子数２ないし１４のアルキル基又はＯにより中断されている炭素原子数３ないし１４のアルキル基を表すか、又はフェニル基を表し；
Ｒ10は炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、フェニル基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル−ＮＨ−を表し；
Ｒ16は水素原子を表すか又はＲ6 についてと同じに定義され；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし１０のアルキレン基を表す新規の組成物である。
【０１４８】
特に重要なのは、組成物中、式Ｉの化合物において、
Ｒ1 、Ｒ5 、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、メトキシ基、フェニル基、−Ｆ、−Ｃｌ又は−ＣＮを表し；
ｍは１ないし８の数を表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基を表し；
Ｒ8 は炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭素原子数３のアルケニル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表しそして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数３ないし１３のアルキル基を包含し；Ｒ9 は炭素原子数２ないし８のアルキル基又はＯにより中断されている炭素原子数３ないし１２のアルキル基を表し；
Ｒ10は炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基又はシクロヘキシル基を表し；
Ｒ16は水素原子を表すか又はＲ6 についてと同じに定義され；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし６のアルキレン基を表す新規の組成物である。
【０１４９】
特別に好ましいのは、組成物中、式Ｉの化合物において、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14とＲ15は、互いに独立して、Ｈ又はメチル基を表し；
Ｒ7 とＲ17は、互いに独立して、式IV、ＶとVIの一つの基を表し；
ｍは１を表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；
Ｒ8 は炭素原子数１ないし１０のアルキル基を表し、そして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数３ないし８のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は−ＣＨ2 −Ｏ−Ｒ19を表し；
Ｒ10は炭素原子数１ないし１７のアルキル基又は炭素原子数２ないし８のアルコキシ基を表し；
Ｒ16は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；
Ｒ18は炭素原子数３ないし６のアルキレン基を表しそして
Ｒ19は炭素原子数２ないし１３のアルキル基を表す新規の組成物である。
【０１５０】
式Ｉの化合物の製造は、ＥＰ−Ａ−４３４６０８又はＨ．Ｂｒｕｎｅｔｔｉａｎｄ  Ｃ．Ｅ．Ｌｕｔｈｉ，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ  ５５，１５６６（１９７２）の刊行物に示されれている方法の一つと同様にして、相当するフェノール上へのハロトリアジンのフリーデルクラフト付加により実施できる。これに続けて、既知の方法による別の反応により、式中、Ｒ7 が水素原子以外である場合の式Ｉの化合物を得ることができる；そのような方法は、例えばＥＰ−Ａ−４３４６０８、第１５頁１１行ないし第１７頁１行に記載されている。
【０１５１】
式Ｉの化合物の製造は式（Ａ）
【化２０】
0004332819.tif 000013
（式中、Ｒ’は式
【化２１】
0004332819.tif 000014
の基を表し、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 とＲ5 の各々は上述の式Ｉについてと同じに定義されそしてＺ’はＲ’についてと同じに定義されるか又は塩素原子を表す。）により表される化合物の１当量から出発しそして、この化合物をレゾルシンの１当量（Ｚ’＝Ｒ’である場合）又は２当量（Ｚ’＝Ｃｌである場合）と反応させて実施するのが都合よい。
【０１５２】
その反応はそれ自体知られている方法で出発物質を不活性溶媒中で無水ＡｌＣｌ3 の存在下で反応させることにより実施される。この反応では、三塩化アルミニウムとレゾルシンは過剰に使用するのが都合よく；例えば三塩化アルミニウムは５−１５％のモル過剰でそしてレゾルシンは１−３０％、特に５−２０％のモル過剰で使用してよい。
【０１５３】
適当な溶媒の例は、炭化水素、塩素化炭化水素、ＳＯ基又はＳＯ2 基を含む炭化水素、又はニトロ化炭化水素であり；好ましいのはリグロイン、石油エーテル、トルエン又はキシレン、又はスルホランのような高沸炭化水素である。
【０１５４】
温度は概して重要でない。２０℃と溶媒の沸点の間の温度、例えば５０℃と１５０℃の間の温度で実施するのが普通である。仕上げは普通の方法、例えば抽出と分別段階、ろ過と乾燥；所望により、更に別の精製段階、例えば再結晶のような段階を採用することも可能である。
【０１５５】
反応生成物の、トリアジン環に関してｐ−位にある遊離フェノール性ヒドロキシル基は、既知の方法で次にエーテル化され得る。
【０１５６】
かくして、式中、Ｒ7 、そして所望ならばＲ17が式IV
【化２２】
0004332819.tif 000015
の基である式Ｉの化合物は、上述のフェノール性中間体を式IV−Hal
【化２３】
0004332819.tif 000016
のα−ハロゲン化エステルと反応させることにより有利に製造され得る。
【０１５７】
Ｈａｌはハロゲン原子、例えばＣｌ又はＢｒ、好ましくはＢｒであり；他の記号は上と同じに定義される。反応は酸結合剤と適当な溶媒の存在下で実施するのが都合よい。例えばジグライムのような非プロントン性溶媒を使用するのが有利である。適当であると証明されている酸結合剤は炭酸塩又は重炭酸塩例えばＫ2 ＣＯ3 を包含する。
【０１５８】
式中、Ｒ7 、そして所望ならばＲ17が式Ｖ又はVI
【化２４】
0004332819.tif 000017
である式Ｉの化合物は、追加の中間体としてのアルコールと次のエステル化により都合よく製造される。
【０１５９】
第１段階であるアルコールの製造のためには、下に列記の方法が可能である：ｉ）上述のフェノール性中間体を式VI-Hal
【化２５】
0004332819.tif 000018
（式中、式VI−Hal 中のｍは１−１２の範囲内の数を表す。Ｈａｌはハロゲン原子例えばＣｌ又はＢｒ、好ましくはＢｒを表し；残りの記号は上述と同じに定義される。）のハロゲン化アルコールと反応させる。反応は酸結合剤と適当な溶媒の存在下で実施するのが都合よい。例えばジグライムのような非プロントン性溶媒を使用するのが有利である。適当であると証明されている酸結合剤は炭酸塩又は重炭酸塩例えばＫＯＨ又はＫ2 ＣＯ3 を包含する。
【０１６０】
ii) 上述のフェノール性中間体を式Ｖ−EpとVI−Ep
【化２６】
0004332819.tif 000019
の一つのエポキシドと反応させる。反応は適当な触媒例えば第四級アンモニウム又はホスホニウム塩の存在下で実施される。その例は、ハロゲン化アルキルトリフェニルホスホニウム、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウム、ジアルキルフェニルアンモニウムハロゲン化水素塩である。エポキシドVI−Epは、例えば式VI−Gly
【化２７】
0004332819.tif 000020
（式中、Ｒ9 ’は炭素原子数１ないし１１のアルキル基を表す。）のグリシジル化合物であってもよい。
【０１６１】
iii)上述のフェノール性中間体を、式VI-Cb
【化２８】
0004332819.tif 000021
のハロゲン化アルコールと加熱し、ＣＯ2 を脱離して反応させる。この反応も適当な触媒例えば第四級アンモニウム塩の存在下で実施させるのが都合よい。
【０１６２】
上述の反応は８０−２００℃の温度範囲に加熱して、都合よくは適当な溶媒例えば非プロトン性溶媒の存在下で頻繁に起こる。例えば反応ii) は臭化トリフェニルエチルホスホニウムを使用してメシチレン中で１５０℃で実施され得る。
【０１６３】
脂肪族ＯＨ基のエステル化は、例えば式Ｖ−ＡＣ又はＶ−Ａｎ
【化２９】
0004332819.tif 000022
の酸クロライド又は酸無水物との反応により、都合よくは塩基性触媒と適当な溶媒を使用して実施し得る。２０−２５℃、例えば５０−１５０の範囲内で実施するのが普通である。適当な触媒は、トリエチルアミン又はピリジンであって、好ましくはアミンの触媒量のみを使用する。使用される溶媒は、非プロトン性化合物、例えば適当な沸点範囲を持つ、トルエン又はキシレンのようなものである。
【０１６４】
式（Ａ）の出発化合物は、例えば塩化シアヌールを適当な置換フェニルマグネシウムハライドと反応させる（グリニャール反応）ことにより製造できる。反応は同様にして既知の方法に従って、例えばＥＰ−Ａ−５７７５５９に記載の方法と同様にして実施され得る。これは、最初に式
【化３０】
0004332819.tif 000023
（式中、Ｘ’はＣｌ又はＢｒを表す。）の化合物のマグネシウムとの、エーテル例えばジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中の反応により実施される。次いでこの試薬は式（Ａ）の化合物を形成するために塩化シアヌールと、好ましくは酸素と湿気を排除して例えば窒素下で、反応させる。それに次ぐ仕上げの後処理は既知の方法例えば有機溶媒例えばトルエンによる希釈、そして水性ＨＣｌによるフェニルマグネシウムハライドの加水分解、そして単離、有機相の乾燥と濃縮により実施され得る。
【０１６５】
式（Ａ）の出発化合物も式
【化３１】
0004332819.tif 000024
の化合物のＡｌＣｌ3 と塩化シアヌールとのフリーデルクラフト反応、例えばＧＢ−Ａ−８８４８０２に記載の方法と同様にして製造され得る。
【０１６６】
式Ｉにより表される化合物は殆ど新規の化合物である。本発明は従って式Ｉ’
【化３２】
0004332819.tif 000025
（式中、Ｚは式II
【化３３】
0004332819.tif 000026
を表すか、又は式III’
【化３４】
0004332819.tif 000027
の基を表し；
Ｒ1 、Ｒ5 、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、ハロゲン原子又は−ＣＮを表し；
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、フェニル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基；炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基；フェニルオキシ基又は−ＣＮを表し；
Ｒ7 とＲ17は、互いに独立して、式IV’、Ｖ’とVI’
【化３５】
0004332819.tif 000028
（式中、ｍは１ないし１２の範囲の数を表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基、−ＣＯＯＲ8 又はフェニル基を表し；
Ｒ8 はＨ、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基、フェニル基、（炭素原子数７ないし１４のアルキル）フェニル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルケニル基、炭素原子数６ないし１５のトリシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルキル−アルキル基又は炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基を表し、そして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数２ないし１８のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は炭素原子数２ないし１４のアルキル基又はフェニル基を表すか；又はフェニル基で、フェノキシ基で、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基で、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシルオキシ基で、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基で又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数１ないし１４のアルキル基を表し；
Ｒ10はＨ、炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基、炭素原子数７ないし１４のアルキルフェノキシ基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルコキシ基、炭素原子数６ないし１２のシクロアルキル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）−シクロヘキシルオキシ基、炭素原子数６ないし１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし１１のシクロヘキシルアルキル基、炭素原子数７ないし１１のシクロヘキシルアルコキシ基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルケニル基、炭素原子数６ないし１５のトリシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルコキシ基、炭素原子数６ないし１５のビシクロアルケノキシ基、炭素原子数６ないし１５のトリシクロアルコキシ基又はフェニル−ＮＨ−を表し；
Ｒ16はＲ6 についてと同じに定義されそして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加して水素原子を表し；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし１０のアルキレン基を表す。）のうち一つで表される基を表す。〕により表される化合物（但し、式中、Ｚが式III の基を表しそしてＲ1 とＲ5 の両方がアルキル基を表す化合物、及び式中、Ｒ3 又はＲ13がフェニル基を表しそしてＲ7 又はＲ17が式VI’の基を表すか又はＲ16が水素原子を表す化合物を除外する。）も提供する。
【０１６７】
好ましい新規の化合物は、式Ｉ’について与えられた定義の範囲内で、式Ｉについて上述したのは同じである；それに相当する興味のあるのは、更に、
式中、Ｒ1 、Ｒ5 、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数３のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、−Ｆ又は−Ｃｌを表し；
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ基、フェニル基、−Ｆ、−Ｃｌ又は−ＣＮを表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基又はフェニル基を表し；
Ｒ8 はＨ、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、シクロヘキシル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）シクロヘキシル基、フェニル基又は炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基を表しそして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数２ないし１８のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は炭素原子数２ないし１４のアルキル基を表し；
Ｒ10はＨ、炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、炭素原子数７ないし１１のシクロヘキシルアルキル基、又はフェニル−ＮＨ−を表し；
Ｒ16はＲ6 についてと同じに定義され；そして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加して水素原子を包含し；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし１０のアルキレン基を表す新規の式Ｉ’の化合物である。
【０１６８】
特に好ましいのは、
式中、Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基を表し；
Ｒ8 は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３のアルケニル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表しそして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数３ないし１３のアルキル基を包含し；
Ｒ10は炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、フェニル基、炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル−ＮＨ−を表し；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし６のアルキレン基を表す式Ｉ’の新規の化合物である。
【０１６９】
特別に重要なのは、式中、
Ｒ1 、Ｒ5 、Ｒ11とＲ15は、互いに独立して、Ｈ又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ12、Ｒ13とＲ14は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、メトキシ基、フェニル基、−Ｆ、−Ｃｌ又は−ＣＮを表し；
ｍは１ないし８の範囲の数を表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし１６のアルキル基を表し；
Ｒ8 は炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭素原子数３のアルケニル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表しそして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数３ないし１３のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は炭素原子数２ないし８のアルキル基を表し；
Ｒ10は炭素原子数１ないし１７のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基又はシクロヘキシル基を表し；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし６のアルキレン基を表す式Ｉ’の新規の化合物であり；
【０１７０】
特に、
Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ11とＲ13は、互いに独立して、Ｈ又はメチル基を表し；そしてＲ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ12、Ｒ14とＲ15はＨを表し；
Ｒ7 とＲ17は、互いに独立して、式IV、ＶとVIの一つの基を表し；
ｍは１を表し；
Ｒ6 は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；
Ｒ8 は炭素原子数１ないし１０のアルキル基を表し、そして、Ｚが式IIの基を表す場合は、追加してＯにより中断されている炭素原子数３ないし８のアルキル基を包含し；
Ｒ9 は炭素原子数２ないし８のアルキル基を表し；
Ｒ10は炭素原子数１ないし１７のアルキル基又は炭素原子数２ないし８のアルコキシ基を表し；そして
Ｒ18は炭素原子数３ないし６のアルキレン基を表す式Ｉ’の新規の化合物である。
【０１７１】
本発明は、追加して、
Ａ）光、酸素及び／又は熱による損傷を受け易い有機材料、及び
Ｂ）安定剤として、式Ｉ’の化合物少なくとも１種
からなる組成物、並びに
光、酸素及び／又は熱による損傷に対して合成有機ポリマー又はプレポリマーを安定化する方法であって、安定剤として式Ｉ’の化合物をこの材料に混合することからなる方法を提供し、並びに
光、酸素及び／又は熱による損傷に対して式Ｉ’の化合物を使用する方法を提供する。
【０１７２】
式Ｉ’の化合物を添加することにより本発明に従って安定化されるそのような材料の可能な例は、油、脂肪、蝋、写真材料、化粧品又は殺生物剤である。特に興味のあるのは、プラスチック、ゴム、塗料材料又は接着剤中に存在する重合性物質における使用である。安定化される材料が写真材料を含む場合は、その構造は米国特許  ＵＳ−５５３８８４０、第２５欄６０行ないし第１０６欄３５頁に記載されており、そして式Ｉの新規の化合物は、ＵＳ−５５３８８４０に記載されている式（Ｉ）の化合物の適用及び／又はそれらから製造されたポリマーへの適用と同様にして適用される；ＵＳ−５５３８８４０のここで記述した部分はこの引用によりこの明細書に包含されるものとする。
【０１７３】
下記の化合物は式Ｉにより表される化合物の実施例である；各々の場合における接尾辞ｎは直鎖基を意味し、接尾辞ｉはいろいろの異性体基の混合物を意味する：
【化３６】
0004332819.tif 000029
【０１７４】
【化３７】
0004332819.tif 000030
【０１７５】
【化３８】
0004332819.tif 000031
【０１７６】
【化３９】
0004332819.tif 000032
【０１７７】
【化４０】
0004332819.tif 000033
【０１７８】
【実施例】
下記の実施例は、限定を構成することなしに本発明を更に詳細に説明するものである。実施例中、部とパーセント（％）は重量による；実施例が室温を記述している場合は、これは２０−２５℃の範囲内の温度を意味する。溶媒混合物の場合、例えばクロマトグラフィー用の場合は、体積による部を示してある。これらの定義は他に記述のない限り適用される。
【０１７９】
下記の略号を使用する：
ＴＨＦ      テトラヒドロフラン
ａｂｓ．    無水
ｍ．ｐ．    融点又は融点範囲
ＮＭＲ      核磁気共鳴
ｔｏｒｒ＝  ｍｍＨｇ（１ｔｏｒｒは約１３３Ｐａに相当する）
Ｔg         ガラス転移温度
【０１８０】
Ａ）製造実施例
実施例Ａ１：２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−［（１−メトキシカルボニル）エトキシ］フェニル）−１，３，５−トリアジン
２０．０ｇ（０．０５９６モル）の２，４−ジフェニル−６−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、８．１ｇ（０．０５８６モル）の無水Ｋ2 ＣＯ3 （メルク，９９％）と０．３ｇ（１．８ミリモル）の沃化カリウム（メルク，９９．５％）の１００ｍｌのジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグライム，Ｆｌｕｋａ，９９．５％）中の懸濁液を、窒素下６０℃まで加熱する。１０．３ｇ（６１．９ミリモル）の２−ブロモプロピオン酸メチル（Ｆｌｕｋａ，９９％）を添加する。混合物を１１０℃で攪拌しながら１６時間加熱する。ろ過とろ液のロータリエバポレータ上での蒸発濃縮をして、２７．３ｇの粗生成物を得る。その粗生成物を次に８０ｍｌのエチルセロソルブ（２−エトキシエタノール）から再結晶しそして１４時間にわたり１００℃／６０ｔｏｒｒで乾燥し、１８．５ｇの下式
【化４１】
0004332819.tif 000034
の表題化合物（化合物１）を得る：融点１４０−１４２℃。
【０１８１】
同じ方法を下記の表Ａ１の化合物２−１１、１５−２２、２６−３６と４０−４８を得るのに使用し、相当するフェノールを各々の場合記述したハライドと反応させた。化合物４０−５１のためのビスレゾルシル前駆体を使用する場合は、示したハロゲン化合物の２倍量を使用する。粗生成物は上述したようにエチルセロソルブからの再結晶（精製法Ｒ）により又はカラムクロマトグラフィー〔シリカゲル６０，２３０−４００メッシュ，トルエン／酢酸エチル（体積比９：１）で溶離〕（精製法Ｃ）により精製した。特定のための融点を℃で記述する；他の特定パラメータを欄中に記載する。分析データは重量％で示してある。
【０１８２】
【表１】
0004332819.tif 000035
【０１８３】
【表２】
0004332819.tif 000036
【０１８４】
化合物３７−３９のための出発物質（ＥＰ−Ａ−４３４６０８、実施例１）
２３．６ｇ（０．０６モル）の２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン（ＵＳ−Ａ−３２４４７０８，実施例１６に従って合成）を３００ｍｌのキシレン中に懸濁する。１２．１ｇ（０．０９モル）の９７％のブチルグリコールエーテルと０．７５ｇ（０．００６モル）のジメチルベンジルアミンを添加しそして混合物を還流する。５時間後に、褐色の溶液を冷却しそして１００ｇのシリカゲルを通してろ過する。黄色の溶液を濃縮しそして残留分をヘキサン／トルエンから再結晶する。これは、融点８０−８３℃の２−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン  ２７．３ｇ（＝８６％）を与える。
【０１８５】
同様の方法を化合物１２−１４，２３−２５と５２−５４のための式：
【表３】
0004332819.tif 000037
の出発物質を得るために使用する。
【０１８６】
実施例Ａ２：化合物１２、２３、３７と５２
２５０ｍｌのトルエン（Ｆｌｕｋａ，９９．５％）中の、２０．０ｇ（３１．６ミリモル）の２−フェニル−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、７．４ｇ（９４．８ミリモル）の塩化アセチル（Ｆｌｕｋａ，９９％）と０．８ｇ（１０ミリモル）のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして６０℃に１４時間保つ。
冷却後、溶媒をロータリエバポレータ上で除きそして粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０，２３０−４００メッシュ；石油エーテル／酢酸エチル［２：１］で溶離）する。これにより、２−フェニル−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ｎ−ブトキシ−２−アセチルオキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン（化合物５２）を主フラクションとして得、そしてこのフラクションを８０℃／０．０１ｔｏｒｒで２時間にわたり乾燥する。
【０１８７】
同様の方法を下記の表Ａ２の化合物１２，１３と３７を得るために使用し、その中で相当するフェノール化合物を各々の場合上述したハライドと共に７０時間続けて延長反応の中で反応させる。モノレゾルシニル出発物質が使用される場合は、上述したハロゲン化合物の量の半分が使用される。特定のために示された融点範囲を℃で示す；他の特定パラメータを欄中に記載する。
分析データは実測量を重量％で示す。
【０１８８】
【表４】
表Ａ２：化合物１２、２３、３７と５２の特定値
0004332819.tif 000038
【０１８９】
実施例Ａ３：化合物１３、２４、３８と５３
２５０ｍｌのトルエン（Ｆｌｕｋａ，９９．５％）中の、２０．０ｇ（３１．６ミリモル）の２−フェニル−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、１６．３ｇ（１３５．３ミリモル）の塩化ピバロイル（Ｆｌｕｋａ，９８％）と０．８ｇ（１０ミリモル）のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして１００℃に１４時間保つ。
冷却後、溶媒をロータリエバポレータ上で除きそして粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０，２３０−４００メッシュ；カラム  ｈ＝４ｃｍ，ｄ＝６ｃｍ；酢酸エチルで溶離）する。これにより、２−フェニル−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ｎ−ブトキシ−２−ピバロイルオキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン（化合物５３）を主フラクションとして得、そしてこのフラクションを１００℃／０．０１ｔｏｒｒで３時間にわたり乾燥する。
【０１９０】
同様の方法を下記の表Ａ３の化合物１３，２４と３８を得るために使用し、その中で相当するフェノール化合物を各々の場合上述したハライドと反応させる。モノレゾルシニル出発物質が使用される場合は、上述したハロゲン化合物の量の半分が使用される。特定のために示された融点範囲を℃で示す；他の特定パラメータを欄中に記載する。
分析データは実測量を重量％で示す。
【０１９１】
【表５】
表Ａ３：化合物１３、２４、３８と５３の特定値
0004332819.tif 000039
【０１９２】
実施例Ａ４：化合物１４、２５、３９、１６６、１６７と５４と又１６２、１６３と１６５
１５０ｍｌのトルエン（Ｆｌｕｋａ，９９．５％）中の、１４．０ｇ（２２．０ミリモル）の２−フェニル−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、１０．６ｇ（４８．５ミリモル）のドデカノイル  ラウリン酸クロライド（Ｆｌｕｋａ，９８％）と０．８ｇ（１０ミリモル）のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして９０−１００℃に５時間保つ。
冷却後、溶媒をロータリエバポレータ上で除きそして粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０，２３０−４００メッシュ；カラム  ｈ＝４ｃｍ，ｄ＝６ｃｍ；酢酸エチルで溶離）する。これにより、２−フェニル−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ｎ−ブトキシ−２−ドデカノイルオキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン（化合物５４）を主フラクションとして得、そしてこのフラクションを１００℃／０．０１ｔｏｒｒで３時間にわたり乾燥する。
【０１９３】
同様の方法を下記の表Ａ４の化合物１４、２５、３９、５４、１６６と１６７を得るために使用し、その中で相当するフェノール化合物を各々の場合適当なハライドと反応させる。化合物１６２、１６３と１６５は、下記の実施例Ａ５ｃに記載されている出発物質を適当なハライドと反応させることにより製造される。モノレゾルシニル出発物質が使用される場合は、上述したハロゲン化合物の量の半分が使用される。特定のために示された融点範囲を℃で示す；他の特定パラメータを欄中に記載する。
分析データは実測量を重量％で示す。
【０１９４】
【表６】
表Ａ４：化合物１４、２５、３９、１６２、１６３、１６５、１６６、１６７と５４の特定値
0004332819.tif 000040
【０１９５】
実施例Ａ５
ａ）化合物１４１、１４２、１４３、１４５のための出発物質：
２，４−ジフェニル−６−（２’−ヒドロキシ−４’−（２" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン
窒素下、６５ｍｌのトルエン（メルク，９９．５％）中の、１３．０ｇ（２９．６ミリモル）の２，４−ジフェニル−６−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、７．５０ｇ（７６．４ミリモル）のシクロヘキセンオキシド（Ｆｌｕｋａ，９９％）と２．２ｇ（５．９ミリモル）のエチルトリフェニルホスホニウムブロミド（Ｆｌｕｋａ，９７％）を１００℃に保持して４２時間攪拌する。オレンジ色の溶液を８０℃でろ過する。０℃で２時間冷却した後、固体をろ過して取りそして８０℃／５０ｔｏｒｒで１４時間乾燥し、融点１６９−１７１℃の表題の化合物１０．１ｇ（７７．８％）を得る。
【０１９６】
ｂ）化合物１５１、１５２、１５３、１５５の出発物質
２，４−ビス（２’，４’−ジメチルフェニル）−６−（２’−ヒドロキシ−４’−（２" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン
２，４−ジフェニル−６−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンに換えて当量の２，４−ビス（２’，４’−ジメチルフェニル）−６−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンを使用するａ）の方法により、トルエンからの再結晶の後、融点１６０−１６１℃の表題化合物を得る。
【０１９７】
ｃ）化合物１６１、１６２、１６３、１６５の出発物質
２−フェニル−４，６−ビス（２’−ヒドロキシ−４’−（２" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン
１当量の２−フェニル−４，６−ビス（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンの、３当量のシクロヘキセンオキシドとの、０．１当量のエチルトリフェニルホスホニウムブロミドの存在下での１３０℃におけるメシチレン中の２４時間の反応をａ）の方法に従って行い、融点１３７−１４３℃の表題化合物を得る。
【０１９８】
実施例Ａ６：２，４−ジフェニル−６−（２’−ヒドロキシ−４’−（２" −アセトキシシクロヘキシルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン（化合物１４１）
１４０ｍｌのトルエン（Ｍｅｒｃｋ，９９．５％）中の、１３．０ｇ（２９．６ミリモル）の２，４−ジフェニル−６−（２’−ヒドロキシ−４’−（２" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、７．０ｇ（８９．２ミリモル）の塩化アセチル（Ｆｌｕｋａ，９９％）と０．６ｇ（７．６ミリモル）のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして５０℃に６時間保つ。
冷却後、５．０ｇの漂白土（Ｔｏｎｓｉｌ（登録商標名））を添加し、混合物を１５分間攪拌し、そして漂白土をろ過して除く。溶媒をロータリエバポレータ上で除きそして生成物を１３０℃／０．１ｔｏｒｒで８時間乾燥して、表題の化合物１３．３ｇ（９３．６ｇ）を得る；Ｔg ＝６０．４℃（ＤＳＣ）。
【０１９９】
同じ方法と相当ずく出発物質を使用して（実施例Ａ５、ｂとｃを参照）、下記の表Ａ６の化合物１５１と１６１を得る。特定のために示された融点範囲を℃で示す；他の特定パラメータを欄中に記載する。分析データは実測量を重量％で示す。
【０２００】
【表７】
表Ａ６：化合物１５１と１６１の特定値
0004332819.tif 000041
【０２０１】
実施例Ａ７：
２，４−ジフェニル−６−（２’−ヒドロキシ−４’−（２" −ドデカノイルオキシシクロヘキシルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン（化合物１４３）
６０ｍｌのトルエン中の、５．０ｇ（１１．３ミリモル）の２，４−ジフェニル−６−（２’−ヒドロキシ−４’−（２" −ヒドロキシシクロヘキシルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、５．７ｇ（２６ミリモル）の塩化ドデカノイル（Ｆｌｕｋａ，９８％）と０．１ｇ（１．３ミリモル）のピリジンの混合物を窒素下攪拌しそして５０℃に２０時間保つ。
冷却後、５．０ｇの漂白土（Ｐｒｏｌｉｔｈ  Ｒａｐｉｄ（登録商標名））を添加し、混合物を３分間攪拌し、そして漂白土をろ過して除く。ろ液を蒸発して濃縮して、乾燥する。１００ｍｌのヘキサンから再結晶して１０．６ｇの粗生成物を得る。６０℃／５ｔｏｒｒで１４時間乾燥して、５．６ｇの表題の生成物を得る；ｍ．ｐ．８２−９５℃。
【０２０２】
同様の方法と相当するハライドを使用して、下記の表Ａ７の化合物１４２、１４５、１４６と１４７を得る。実施例Ａ５ｂからの出発物質を使用して、表示した化合物１５２、１５３、１５５、１５６と１５７を得る。精製は、ある場合にはヘキサンからの再結晶にりよりそしてある場合にはカラムクロマトグラフィーにより実施される。特定のために示された融点範囲を℃で示す；他の特定パラメータを欄中に記載する。分析データは実測量を重量％で示す。
【０２０３】
【表８】
表Ａ７：化合物１４２、１４５、１４６、１４７、１５２、１５３、１５５、１５６と１５７の特定値
0004332819.tif 000042
【０２０４】
実施例Ａ８：
２，４−ジフェニル−６−（２’−ヒドロキシ−４’−（２" −エトキシカルボニルプロプ−２" −イルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン
１２．７ｇ（３７．２ミリモル）の２，４−ジフェニル−６−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、１２．０ｇ（６１．５ミリモル）のエチル  α−ブロモイソブタノアート（Ｆｌｕｋａ，９７％）、１０．３ｇ（７４．５ミリモル）の無水Ｋ2 ＣＯ3 （メルク，９９％）と０．３ｇ（２ミリモル）の沃化カリウム（メルク，９９．５％）の混合物の、６０ｍｌのトルエンと８０ｍｌのジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグライム，Ｆｌｕｋａ，９９．５％）中の混合物を、窒素下攪拌しそして１００−１１０℃で３０時間加熱する。８０℃でろ過する。ろ液を蒸発、濃縮して、１４．０ｇの粗生成物を得る。カラムクロマトグラフィー（２５０ｇのシリカゲル６０／２３０−４００メッシュ；溶離液：トルエン／ヘキサン  １：１）の後、主フラクションを５０℃／５０ｔｏｒｒで２４時間乾燥して、ｍ．ｐ．１３１−１３２℃の表題化合物９．８ｇを得る。
【０２０５】
同様の方法と適当な量の実施例Ａ５からの相当する出発物質を使用して、表Ａ８に示した化合物１５４と１６４を得る。特定のために示された融点範囲を℃で示す；他の特定パラメータを欄中に記載する。分析データは実測量を重量％で示す。
【０２０６】
【表９】
表Ａ８：化合物１５４と１６４の特定値
0004332819.tif 000043
【０２０７】
Ｂ）使用実施例
実施例Ｂ１：２層金属光沢系(metallic system) の安定化
試験する化合物をキシレン５−１０ｇ中へ混和しそして下記の組成（重量部）を持つ透明塗料中で試験する：
【表１０】
実施例Ｂ１：
─────────────────────────────────
（登録商標）ウラクロン(Uracron)2263B1)                59.2
（登録商標）シメル(Cymel)3272)                        11.6
キシレン                                            19.4
ブチルグリコール  アセタート                         5.5
ブタノール                                           3.3
均展補助剤（登録商標）バイシロン(Baysilon)A6)        1.0
アルミニウム  トリアセチルアセトナート（硬化触媒）   1.6
─────────────────────────────────
101.6
１）アクリレート樹脂、DSM 樹脂 NV
２）メラミン樹脂、アメリカン  シアナミド  コーポレーション
６）製造者：Ｂａｙｅｒ  ＡＧ；１％キシレン溶液
【０２０８】
塗料材料の固形分を基準にして試験される化合物１．５％と式
【化４２】
0004332819.tif 000044
の化合物（化合物Ａ）０．７％も、透明塗料に添加する。使用される対照は、光安定剤を含有していない。
【０２０９】
透明塗料を、散布できる粘度まで（登録商標）ソルベッソ(Solvesso)１００で希釈しそして用意したアルミニウムシート（コイルコート、サーフェーサー(surfacer)、銀光沢コート）上に塗布しそして１３０℃で３０分間にわたり焼き付ける。乾燥膜厚４０−５０μｍの透明塗膜を得る。
【０２１０】
次いで、試料をＡｔｌａｓ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのＵＶＣＯＮ（登録商標）耐候ユニット（ＵＶＢ−３１３ランプ）内で、８時間にわたる７０℃におけるＵＶ照射と４時間にわたる５０℃における凝縮の周期で、耐候試験をする。試料を通常間隔で表面光沢（ＤＩＮ６７５３０により２０°光沢）と亀裂の有無について検査する。結果を下記の表Ｂ１に示す。
【０２１１】
【表１１】
表Ｂ１：表中記載の期間にわたるＵＶＣＯＮ耐候試験後の２０°光沢と亀裂
0004332819.tif 000045
本発明に従って安定化された試料は、安定化されていない対照試料より顕著に優れた耐候安定性（光沢維持、亀裂抵抗性）を持つ。化合物Ａの追加使用により更に顕著に改善される。
【０２１２】
実施例Ｂ２：粉末塗料の安定化
試験される化合物はグリシジル・メタクリレート−官能化ポリアクリレートを基材にした透明塗膜中で試験する。この目的のために下記の成分を混合機中で混合しそしてゾーン１と２内で４０℃と８０℃であり、１２５回転／分のＢｕｓｓＰＬＫ４６Ｌコクニーダ（ｃｏｋｎｅａｄｅｒ）を使用して２回押し出す：
【表１２】
0004332819.tif 000046
1)ヘキスト社(Hoechst AG);
2)フィアノバ社(Vianova AG);
3)ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ｎ−ブチルマロナート
【０２１３】
上述した量に加えて、混合物は表Ｂ２に示した新規の安定剤２０ｇを含有する。別の製剤は示したように調製されるが新規の安定剤を含有していない。
【０２１４】
押出物を冷却し、微粉砕し、Ｒｅｔｓｃｈ  ＺＭ−１超遠心分離ミル中と１．０ｍｍ篩で、段階１に粉砕し、そして最後に９０μｍ回転篩中を通過させる。得られた粉末は３１μｍの平均粒径を持つ。
【０２１５】
コイルコートしたアルミニウムの試験パネルは、水を基材としたプライマーの塗膜（３５−４０μｍ）に続けて銀色光沢プライマーを適用することにより製造される。試験パネルの表面は１３０℃で３０分間にわたり硬化される。透明塗膜にはそこでＥＳＢ−Ｗａｇｎｅｒ（登録商標）型コロナ銃装置を使用して１４５℃で３０分間硬化する。得られたフィルム厚は約６０μｍの透明塗膜である。
【０２１６】
次いで、試料をＡｔｌａｓ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのＵＶＣＯＮ（登録商標）耐候ユニット（ＵＶＢ−３１３ｎｍランプ）内で、８時間にわたる７０℃におけるＵＶ照射と４時間にわたる５０℃における凝縮の周期で、耐候試験をする。試料を４００時間毎に亀裂について検査する：亀裂はＴＮＯスケール型３５３に従って評価する。
結果を表Ｂ２に示す。
【０２１７】
【表１３】
表Ｂ２：粉末塗膜の亀裂する迄の耐候時間、とＴＮＯに従った評価
安定剤          時間        ＴＮＯ評価
───────────────────────
なし            2800h       E4b
化合物(21)    ＞10000h      無亀裂
───────────────────────
本発明に従って安定化された試料は、安定化されてない対照より優れた耐候性を示す。
【０２１８】
実施例Ｂ３：２層金属光沢系(metallic system) 安定化
試験する化合物をキシレン５−１０ｇ中へ溶解しそして下記の組成（重量部）を持つワニス中で試験する：
【０２１９】
【表１４】
0004332819.tif 000047
【０２２０】
１）アクリレート樹脂、ヘキストＡＧ製；キシレン／ブタノール（２６：９）中の６５％溶液
２）アクリレート樹脂、ヘキストＡＧ製；ソルベッソ(Solvesso)（登録商標）１００4)中の７５％溶液
３）メラミン樹脂、ヘキストＡＧ製；イソブタノール中の５５％溶液
４）芳香族炭化水素混合物、沸点範囲１８２−２０３℃（ソルベッソ(Solvesso)（登録商標）１５０）又は１６１−１７８℃（ソルベッソ(Solvesso)（登録商標）１００）、エッソー製
５）脂肪族炭化水素混合物、沸点範囲１４５−２００℃；シェル製
６）ソルベッソ(Solvesso)（登録商標）１５０4)；バイエルＡＧ製
【０２２１】
塗料材料の固形分を基準にして試験される化合物１．５％と化合物Ａ（実施例Ｂ１を参照）０．７％を透明塗料に添加する。使用される対照は、光安定剤を含有していない透明塗料である。
【０２２２】
透明塗料を、散布できる粘度までソルベッソ(Solvesso)（登録商標）１００で希釈しそして用意したアルミニウムシート（コイルコート、サーフェイサー（surfacer) 、銀光沢コート）上に塗布しそして１３０℃で３０分間にわたり焼き付ける。得られたものは、乾燥膜厚４０−５０μｍの透明塗膜である。
【０２２３】
試料を、実施例Ｂ１に記載されたようにして耐候試験に処しそして評価する。結果を下記の表Ｂ３に記載する。
【表１５】
表Ｂ３：表中記載の期間にわたるＵＶＣＯＮ耐候試験後の２０°光沢と亀裂
0004332819.tif 000048
【０２２３】
実施例Ｂ４：実施例Ｂ３に記載されているようにして透明塗料を調製し、適用しそして耐候試験する。結果を表Ｂ４に記載する。
【表１６】
表Ｂ４：表中記載の期間にわたるＵＶＣＯＮ耐候試験後の２０°光沢と亀裂
0004332819.tif 000049
【０２２４】
実施例Ｂ５：実施例Ｂ３の方法を繰り返すが、透明塗膜は化合物Ａ０．７％の代わりに、式
【化４３】
0004332819.tif 000050
（化合物Ｂ）の化合物１．０重量％を含み、そして塗料材料を明緑色金属様下塗りに適用する。結果を表Ｂ５に記載する。
【０２２５】
【表１７】
表Ｂ５：表中記載の期間にわたるＵＶＣＯＮ耐候試験後の２０°光沢と亀裂
0004332819.tif 000051