(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）式（α）
0004332817.tif 000045
で表される化合物と式（β）
0004332817.tif 000046
で表される化合物とをモル比１．２：１ないし１．４：１で反応させること；
２）  反応１）の生成物中に存在する式（γ）
0004332817.tif 000047
で表される末端基と式（δ）
Ａ−Ｈ              （δ）
で表される化合物とをモル比２：１．７ないし２：３で反応させること、
上記反応１）および２）は無機塩基の存在下、有機溶媒中で行われ；および
３）  反応２）の生成物中に存在する式（Ｇ−Ｉ）
0004332817.tif 000048
で表される基を式（Ｇ−II）
0004332817.tif 000049
で表される基に転移させること、上記転移は反応２）の生成物と過酸化物分解触媒の存在下、炭化水素溶媒中でヒドロパーオキシドと反応させることにより行われる；によって得られる生成物。
｛前記式中、
Ｒ1はヒドロカルビル基を表しまたは−Ｏ−Ｒ1はオキシル基を表し；
Ｒ2は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、または、１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ1〔Ｘ1は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すかまたは下記で与えられるＲ4の定義の一つである。〕で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか；またはＲ2は下式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）または（Ｉ−ｃ）；
0004332817.tif 000050
〔基中、ｍは２または３を表し；
Ｘ2は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；および
基Ｘ3は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す〕で表される基を表し：
Ａは−ＯＲ3、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）または式（II）
0004332817.tif 000051
で表される基
〔基中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、または、２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（III）
0004332817.tif 000052
（基中、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−または＞Ｎ−ＣＨ3を表す。）で表される基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し；
ならびにＲ3はさらに水素原子を表しまたは−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）はさらに式（III）で表される基を表し；
Ｘは−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ6を表し；
Ｒ6は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、式（Ｇ−Ｉ）で表される基または、２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（III）で表される基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表す。〕を表し；
ＲはＲ6に対して与えられた意味の一つであり；ＢはＡに対して与えられた意味の一つである。｝
【請求項２】
ヒドロパーオキシドが第三ブチルヒドロパーオキシドであり、そして過酸化物分解触媒がＭｏＯ3である請求項１記載の生成物。
【請求項３】
式（Ｇ−II）において−ＯＲ1がオキシル基である請求項１記載の生成物を水素添加して式（Ｇ−III）
0004332817.tif 000053
で表される基をもつ相当する生成物を得ることによって、得られる生成物。
【請求項４】
式（Ｐ−Ｉ）で表される単分散化合物、式（Ｐ−II）で表される単分散化合物、式（Ｐ−III）で表される単分散化合物および式（Ｐ−IV）で表される単分散化合物を含む混合物であって、該各化合物は反復単位の数のみが異なっており、
前記混合物総計に関して式（Ｐ−Ｉ）、式（Ｐ−II）、式（Ｐ−III）および式（Ｐ−IV）で表される化合物の総量は４０ないし７０モル％である混合物。
0004332817.tif 000054
｛式中、Ｒ1は水素原子、ヒドロカルビル基を表し、または−Ｏ−Ｒ1がオキシル基を表し；
Ｒ2は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、または、１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ1〔基中、Ｘ1は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すかまたは下記で与えられるＲ4の定義の一つである。〕で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表し；またはＲ2は式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）または（Ｉ−ｃ）
0004332817.tif 000055
〔式中、ｍは２または３を表し；
Ｘ2は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；および
基Ｘ3は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す〕で表される基を表し；
Ａ*は−ＯＲ3、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）または式（Ｇ−IV）
0004332817.tif 000056
で表される基
〔基中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、または、２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（III）
0004332817.tif 000057
（基中、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−または＞Ｎ−ＣＨ3を表す。）
で表される基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し；
ならびにＲ3はさらに水素原子を表し、または−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）はさらに式（III）で表される基を表し；
Ｘ*は−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ6*を表し；
Ｒ6*は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、式（Ｇ−II）
0004332817.tif 000058
で表される基または、２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（III）で表される基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表す。〕を表し；
Ｒ*はＲ6*に対して与えられた意味の一つであり；
Ｂ*はＡ*に対して与えられた意味の一つである。｝
【請求項５】
光、熱または酸化により誘発される崩壊を受けやすい有機材料および請求項１記載の生成物を含む組成物。
【請求項６】
光、熱または酸化により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化する方法であって、請求項１記載の生成物を該有機材料中に混合することからなる方法。
【発明の詳細な説明】
本発明は、特別な１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を含むブロックオリゴマー、有機材料、特に合成ポリマーのための光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤としてのそれらの使用、およびそのように安定化された有機材料に関する。本発明はさらに中間生成物に関する。
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの誘導体による合成ポリマーの安定化は、例えばUS-A-4 086 204，US-A-4 331 586，US-A-4 335 242，US-A-4 234 707，US-A-4 459 395，US-A-4 492 791，US-A-5 204 473，EP-A-53 775，EP-A-357 223，EP-A-377 324，EP-A-462 069，EP-A-782 994およびGB-A-2 301 106に記載されている。
本発明は特に、
１）式（α）
0004332817.tif 000002
で表される化合物と式（β）
0004332817.tif 000003
で表される化合物とをモル比１．２：１ないし１．４：１で、好ましくは１．２５：１ないし１．４：１または１．３：１ないし１．４：１で、特に１．３：１ないし１．３６：１で、例えば１．３３：１で反応させること；
２）  反応１）の生成物中に存在する式（γ）
0004332817.tif 000004
で表される末端基と式（δ）
Ａ−Ｈ              （δ）
で表される化合物とをモル比２（末端基）：１．７ないし２：３で、好ましくは２：２ないし２：２．６で、特に２：２ないし２：２．４で反応させること、
上記反応１）および２）は無機塩基の存在下、有機溶媒中で行われ；および
３）  反応２）の生成物中に存在する式（Ｇ−Ｉ）
0004332817.tif 000005
で表される基を式（Ｇ−II）
0004332817.tif 000006
で表される基に転移させること、上記転移は反応２）の生成物と過酸化物分解触媒の存在下、炭化水素溶媒中でヒドロパーオキシドと反応させることにより行われる；によって得られる生成物
｛前記式中、
Ｒ1はヒドロカルビル基を表しまたは−Ｏ−Ｒ1はオキシル基を表し；
Ｒ2は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアクキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、または、１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ1〔Ｘ1は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すかまたは下記で与えられるＲ4の定義の一つである。〕で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか；またはＲ2は下式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）または（Ｉ−ｃ）；
0004332817.tif 000007
〔基中、ｍは２または３を表し；
Ｘ2は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；および
基Ｘ3は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す〕で表される基を表し；
Ａは−ＯＲ3、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）または式（II）
0004332817.tif 000008
で表される基
〔基中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、または、２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（III）
0004332817.tif 000009
（基中、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−または＞Ｎ−ＣＨ3を表す。）で表される基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し；
ならびにＲ3はさらに水素原子を表しまたは−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）はさらに式（III）で表される基を表し；
Ｘは−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ6を表し；
Ｒ6は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、式（Ｇ−Ｉ）で表される基または、２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（III）で表される基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表す。〕を表し；
ＲはＲ6に対して与えられた意味の一つであり；ＢはＡに対して与えられた意味の一つである。｝に関する。
式（Ｇ−Ｉ）で表される基の式（Ｇ−II）で表される基への転移は、例えばUS-A-4,921,962に記載される方法と同様に行うことができ、この文献は参照によりそのまま本明細書に編入される。
Ｒ1の意味は反応３）で使用される炭化水素溶媒に依存する。Ｒ1は好ましくは５ないし１８個の炭素原子をもつヒドロカルビル基である。
Ｒ1は特に、炭素原子数５ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１８のアルキニル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基；６ないし１０個の炭素原子をもつ二環式または三環式ヒドロカルビル基、または、未置換のまたはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；ならびに
反応３）における炭化水素溶媒は従って、Ｒ1に依存して、炭素原子数５ないし１８のアルカン、炭素原子数５ないし１８のアルケン、炭素原子数５ないし１８のアルキン、未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルカン；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン；６ないし１０個の炭素原子をもつ二環式または三環式炭化水素、または、未置換のまたはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルカンである。
さらに好ましい具体例によれば、Ｒ1はヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロヘキセニル基、α−メチルベンジル基または１，２，３，４−テトラヒドロナフテニル基を表し、および反応３）における炭化水素溶媒はＲ1に依存して、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオクタン、シクロヘキセン、エチルベンゼン、テトラリンである。
特に好ましい具体例によればＲ1はオクチル基またはシクロヘキシル基を表し、および反応３）における炭化水素溶媒はＲ1に依存して、オクタンまたはシクロヘキサンである。
１８個以下の炭素原子を含むアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオクタデシル基である。Ｒ1は好ましくは炭素原子数６ないし１２のアルキル基、特にヘプチル基またはオクチル基である。Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルキル基、特に炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
−ＯＨで置換されたアルキル基の例は、２−ヒドロキシエチル基である。
炭素原子数１ないし８のアルコキシ基で、好ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で、特にメトキシ基またはエトキシ基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オクトキシプロピル基および４−メトキシブチル基である。
ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミノプロピル基および４−ジエチルアミノブチル基である。
式（III）で表される基は好ましくは
0004332817.tif 000010
を表す。
式（III）で表される基により置換された炭素原子数２または４のアルキル基の好ましい例は式
0004332817.tif 000011
で表される基である。
基
0004332817.tif 000012
で表される基が特に好ましい。
未置換のまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基である。未置換のまたは置換されたシクロヘキシル基が好ましい。
６ないし１０個の炭素原子をもつの二環式または三環式ヒドロカルビル基の好ましい例は１，２，３，４−テトラヒドロナフテニル基である。
未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基の好ましい例はシクロヘキセニル基である。
１８個以下の炭素原子を含むアルケニル基の例は、アリル基、２−メチルアリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ウンデセニル基およびオクタデセニル基である。１位の炭素原子が飽和されたアルケニル基が好ましく、およびアリル基が特に好ましい。
アルキニル基の例は、ペンチニル基またはオクチニル基である。
１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基の例は、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ第三ブチルフェニル基、３，５−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基およびブトキシフェニル基である。
未置換であるかまたはフェニル上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジル基、および２−フェニルエチル基である。ベンジル基が好ましい。
１２個以下の炭素原子を含む（脂肪族、脂環式もしくは芳香族）アシルの例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基およびベンゾイル基である。炭素原子数１ないし８のアルカノイル基およびベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特別に好ましい。
（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基の例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基、ヘキソキシカルボニル基、ヘプトキシカルボニル基、オクトキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ウンデシルオキシカルボニル基およびドデシルオキシカルボニル基である。
１２個以下の炭素原子を含むアルキレン基の例は、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基である。Ｒ2は例えば、炭素原子数２ないし８のアルキレン基または炭素原子数４ないし８のアルキレン基、特に炭素原子数２ないし６のアルキレン基、好ましくはヘキサメチレン基である。
炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基の例は３−ヘキセニレン基である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例はシクロヘキシレン基である。
１，４−ピペラジンジイル基で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は
0004332817.tif 000013
である。
−Ｏ−によって、例えば１，２もしくは３個の−Ｏ−で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、３−オキサペンタン−１，５−ジイル基、４−オキサヘプタン−１，７−ジイル基、３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジイル基、４，７−ジオキサデカン−１，１０−ジイル基、４，９−ジオキサドデカン−１，１２−ジイル基、３，６，９−トリオキサウンデカン−１，１１−ジイル基および４，７，１０−トリオキサトリデカン−１，１３−ジイル基である。
＞Ｎ−Ｘ1で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（Ｘ1）−ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（Ｘ1）−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、特に−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基はシクロヘキシレンジメチレン基である。
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基の例はメチレンジシクロヘキシレン基およびイソプロピリデンジシクロヘキシレン基である。
フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）はフェニレンジメチレン基である。
式（β）で表される化合物において、Ｒは好ましくは式（Ｇ−Ｉ）で表される基である。
好ましいものは、式中、
Ｒ2は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、または、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ1〔Ｘ1は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すかまたはＲ4の定義の一つである。〕で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか；またはＲ2は式（Ｉ−ｂ）で表される基を表し；
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；ならびにＲ3はさらに水素原子を表しまたは−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）はさらに式（III）で表される基を表し；
Ｒ6は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表す、生成物である。
また好ましい生成物は、式中
Ｒ2は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジシクロヘキシレン基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基を表し；
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、未置換であるかまたはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたベンジル基を表し；または
−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）はさらに式（III）で表される基を表し；および
Ｒ6は炭素原子数１ないし１２のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；未置換であるかまたはフェニル基上１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたベンジル基；または式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表す、生成物である。
さらに好ましい生成物は
Ｒ2は炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表し；
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし８のアルキル基、未置換であるかまたはメチル基で置換されたシクロヘキシル基；未置換であるかまたはメチル基で置換されたフェニル基；ベンジル基を表し；または
−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）はさらに４−モルホリニル基を表し；および
Ｒ6は炭素原子数１ないし８のアルキル基、未置換であるかまたはメチル基で置換されたシクロヘキシル基；ベンジル基または式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表す、生成物である。
特別に好ましい生成物は、式中
Ｒ1はオクチル基またはシクロヘキシル基を表し；および
反応３）における炭化水素溶媒はＲ1に依存して、オクタンまたはシクロヘキサンであり；
Ｒ2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し；
Ａは−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）または式（II）で表される基を表し；
Ｒ4およびＲ5は、同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；または−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）はさらに４−モルホリニル基を表し；
Ｘは＞ＮＲ6を表し；
Ｒ6は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；および
ＢはＡに対して与えられた意味の一つである、生成物である。
式中、Ｒ1はオクチル基またはシクロヘキシル基を表し；および
反応３）における炭化水素溶媒はＲ1に依存して、オクタンまたはシクロヘキサンであり；
Ｒ2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し；
Ｒは式（Ｇ−Ｉ）で表される基を表し；
Ａは−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）を表し；
Ｒ4およびＲ5は、同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；
Ｂは式（II）で表される基を表し；
Ｘは＞ＮＲ6を表し；
Ｒ6は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す、生成物もまた特別に好ましい。
反応１）および２）において使用される有機溶媒は、特に芳香族炭化水素または脂肪族ケトンである。
芳香族炭化水素の例は、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼンおよび第三ブチルベンゼンである。
脂肪族ケトンの例はメチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、エチルブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、メチルヘキシルケトンおよびエチルアミルケトンである。本質的に水不溶性ケトンが好ましい。
好ましい溶媒はトルエン、キシレン、メチルブチルケトンおよびメチルイソブチルケトンである。
キシレンおよびメチルイソブチルケトンが特に好ましい。
本発明の方法で使用される無機塩基の例は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムである。水酸化ナトリウムが好ましい。
反応１）および２）は不活性雰囲気、特に窒素下で好ましく行われる。
式（α）および（β）の反応体は１０℃ないし６０℃の温度での反応器中で通常それぞれ互いに添加される。溶媒に依存して、温度は、例えば、続いて８０℃ないし８５℃に上昇される。次に反応器を閉じた後に、温度はさらに例えば１１０℃ないし２２０℃、特に１５０℃ないし１６０℃に上昇することもできる。反応が閉鎖系で行われるので、圧力は温度によって増加する。一般に、３ないし８ｂａｒ、例えば４ないし６ｂａｒの圧力が反応器中で測定される。
使用される溶媒の低沸点のために、また反応２）は閉鎖系で都合良く行われる。溶媒に依存して、反応２）は１１０℃ないし１８０℃、好ましくは１３０℃ないし１７０℃、特に１４０℃ないし１６０℃の温度で行うことができる。高温のために、通常３ないし８ｂａｒ、例えば４ないし６ｂａｒの圧力が再度反応器中で測定される。
所望ならば、反応２）の完了の後に、式（δ）で表される化合物および結果的に未反応の出発材料を蒸留によりまたは通常の精製技術を使用することにより、最終混合物から取り除くこともできる。
反応２）の生成物は反応３）が続いて起こる前に都合良く単離される。
反応３）において使用される過酸化物分解触媒は、例えば、金属カルボニル、金属酸化物、金属アセチルアセトネートまたは金属アルコキシドであり、該金属が周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂ、VIIｂおよびVIII族からから選択され、特に、バナジウム（III）アセチルアセトネート、コバルトカルボニル、酸化クロム（VI）、チタン（IV）イソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、モリブデンヘキサカルボニル、三酸化モリブデン等である。最も好ましい触媒はＭｏＯ3である。
適当なヒドロパーオキシドは、第三ブチルヒドロパーオキシド、第三アミルヒドロパーオキシド、第三ヘキシルヒドロパーオキシド、第三オクチルヒドロパーオキシド、エチルベンゼンヒドロパーオキシド、テトラリンヒドロパーオキシドまたはクメン（＝イソプロピルベンゼン）ヒドロパーオキシドである。最も好ましいヒドロパーオキシドは第三ブチルヒドロパーオキシドである。
反応３）においては、例えば反応２）の生成物に存在する、式（Ｇ−Ｉ）
0004332817.tif 000014
で表されるヒンダードアミン部分１モル当たり、２ないし８モル、好ましくは３ないし６モルのヒドロパーオキシド、０．００１ないし０．１モル、好ましくは０．００５ないし０．０５モルの過酸化物分解触媒および５ないし３０モル、好ましくは１０ないし２０モルの炭化水素溶媒が適用される。
式（Ｇ−Ｉ）で表されるヒンダードアミン部分の、式
0004332817.tif 000015
で表される基への転移は、例えば７５℃ないし１６０℃、好ましくは１００℃ないし１５０℃で行われる。
反応３）において式（Ｇ−Ｉ）で表されるヒンダードアミン部分を最初に不活性有機溶媒中、過酸化物分解触媒の存在下で水性ヒドロパーオキシドと反応させる場合（例えばUS-A-4 691 015に記載された方法と同様に）には、比較的短時間で得られる最初の反応生成物は、非常に着色されたおよびそれ自体単離可能な、相当するＮ−オキシル中間体（−ＯＲ1＝オキシル基）である。
従って、本発明のさらに好ましい具体例は上記反応１）ないし３）によって得られる生成物であって、基−Ｏ−Ｒ1がオキシル基であり、反応３）における炭化水素溶媒が不活性有機溶媒、好ましくはトルエンまたは１，２−ジクロロエタンである生成物に関するものである。
反応３）の有機溶媒が不安定な水素原子を有する炭化水素である場合、アミンを相当するＮ−オキシル誘導体に変換するのに必要な量をこえてヒドロパーオキシドの充分なモル過剰量が残存している場合、ならびに反応混合物がさらなる期間、中温（好ましくは１００℃ないし１５０℃）で加熱される場合には、（原型アミンからその場で製造されるかまたは方法において最初の出発中間体として用いられる）Ｎ−オキシル化合物と炭化水素溶媒との間にさらなる反応が行われて相当するＮ−ヒドロカルビルオキシ誘導体が得られる。
反応３）の当初の反応混合物は無色であるが、Ｎ−オキシル中間体が形成されるときに非常に着色する。この着色はＮ−オキシル化合物が無色のＮ−ヒドロカルビルオキシ生成物に変換されるときに消える。従ってこの工程は本質的に反応の度合いを示すための内部色指示薬（built-in color indicator）をもつ。反応混合物が無色になる場合には、着色したＮ−オキシル中間体は完全にＮ−ヒドロカルビルオキシ生成物に変換していることを示す。
本発明の具体例はまた、式（Ｇ−II）における−ＯＲ1がオキシル基である反応３）の生成物を水素化して式（Ｇ−III）
0004332817.tif 000016
で表される基をもつ生成物を得ることによって得られる生成物である。
この水素化は公知の方法に従い、例えば、US-A-4 691 015において記載されるように、例えばメタノールまたはエタノールのような有機溶媒中、好ましくは炭素上のパラジウムまたはＰｔＯ2のような水素化触媒の存在下で行われる。
所望ならば、反応３）において得られる生成物は次に示す方法の一つによって精製できる：
ａ）  残存する過酸化物を分解しそして溶媒を蒸発させて粗固体生成物を得る。この固体をシクロヘキサン、オクタン、ヘキサン、石油エーテル、キシレン、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、エチルアセテート、ブチルアセテート、第三ブチルアルコール、第三アミルアルコール、イソプロピルアルコール、エタノール、メタノール、クロロホルム、ジクロロメタン、アセトニトリル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテルおよび／または水のような不活性溶媒と共に攪拌する。混合物を攪拌しながら加熱できる。攪拌後、混合物を冷却しそして固体生成物をろ過によって収集しそして乾燥させる。
ｂ）  残存する過酸化物を分解しそして溶媒を部分的に蒸発させる。残渣をろ過して固体を得て、それを上記のうちの一つのような不活性溶媒で洗浄し、冷やすこともできおよび次いで乾燥させる。
ｃ）  残存する過酸化物を分解しおよび溶媒を高温で蒸発させて溶融物を得る。温溶融物を上記のうちの一つのような不活性溶媒と混合し、それを冷やすこともでき、得られた沈澱物をろ過により収集しそして乾燥させる。この方法の変法は温溶融物を溶媒と混合し、次いで混合物を冷却して沈澱物を得るかまたは温溶融物を溶媒と混合し、溶液中にいずれかの固体を生じさせるように加熱し次いで冷却して沈澱物を得ることを含む。
ｄ）  残存する過酸化物を分解しおよび溶媒を高温で蒸発させて溶融物を得る。溶融物を加熱しまたは加熱しないで上記のうちの一つのような不活性溶媒に溶解させ、そして生じた溶液の過剰な溶媒の幾分かを留去することによって濃縮可能である。次いで溶液を生成物が沈澱するような温度で上記のうちの一つのような第二の溶媒と混合する。固体をろ過によって収集しそして乾燥させる。
さらに特別には、反応３）で得られた生成物は以下に示すように好ましく精製される。
反応３）が完了した後、粗反応混合物を５０℃に冷却しそして２０％水性亜硫酸ナトリウムで残存する過酸化物の濃度が０．５％以下に下がるまで処理する。水性層を分離し、そして有機層を減圧下で生成物溶液を加熱することによって濃縮する。粗生成物を過剰の第三ブチルアルコールに溶解し、そして溶媒を固形分濃度が５０％になるまで減圧下で加熱することによって除去する。この溶液を冷メタノールにゆっくり加える。生じた沈澱をろ過し、メタノールで洗浄しそして真空下で加熱することにより乾燥させる。
一般的には、上記に記載した方法に使用される出発物質は公知である。それらが商業的に入手できない場合には、それらは公知の方法と同様に製造することができる。
式（α）で表される化合物は、例えば塩化シアヌルと化合物Ｂ−Ｈとを有機溶媒および無機塩基の存在下、化学量論比で反応させることによって製造可能である。式（α）で表される化合物の製造のために上記反応１）ないし２）に示した同じ溶媒および同じ塩基を使用することが適当である。
所望ならば、式（α）の出発物質の製造後、式（α）で表される化合物を単離しないで、直ぐに反応１）を続けることができる。
式（β）の幾つかの出発材料は、例えばWO-A-95/21 157，US-A-4 316 837およびUS-A-4 743 688に記載される。
本発明の別の具体例は、上記反応１）および２）で得られうる生成物である。
基
0004332817.tif 000017
中の窒素原子が、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数２ないし８のヒドロキシアルキル基、Ｏ・、−ＯＨ、炭素原子数１ないし１８のヒドロカルビルオキシ基（例えば、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ基）、−ＣＨ2ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキニル基、未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または炭素原子数１ないし８のアシル基で置換されている、生成物は上記反応１）および２）と同様に、適当な出発材料を使用して製造できる。窒素原子は好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基、特にメチル基で置換されている。式
0004332817.tif 000018
で表される基を有するこのような出発材料は、例えばUS-A-4 921 962，US-A-5 021 577およびUS-A-5 204 473に記載される方法と同様に製造できる。
反応２）の生成物は単一の特定の化合物ではないが分子量分布を有する化合物である。
多分散性（polydispersity）は高分子化合物の分子量分布を示す。本願明細書においては、多分散性は重量平均
0004332817.tif 000019
および数平均
0004332817.tif 000020
分子量の比である。
0004332817.tif 000021
の値が１と等しい場合は、化合物が単分散であり、１分子量のみをもちかつ分子量分布をもたないことを意味する。狭い分子量分布は１に近似する多分散性
0004332817.tif 000022
によって特徴づけられる。
反応２）の好ましい生成物は１．１ないし１．７の、例えば１．１ないし１．６または、１．３ないし１．７の、特には１．３ないし１．６の多分散性をもつ。
反応２）の生成物が、例えば５モル％以下、特に２モル％以下または１モル％以下の  式
0004332817.tif 000023
の部分によってエンド−キャップ（end-cap）されない直鎖の副生物を含むことは注目すべきである。
反応１）の間に、式
0004332817.tif 000024
で表される環状化合物が副生物として生成され得る。US-A-4 442 250から公知のこの化合物は反応２）の生成物に８モル％以下の量で存在し得る。
反応２）の生成物は好ましくは、式（Ｍ−Ｉ）で表される単分散化合物、式（Ｍ−II）で表される単分散化合物、式（Ｍ−III）で表される単分散化合物および式（Ｍ−IV）で表される単分散化合物を含む混合物として記載され、前記各化合物は反復単位の数のみが異なっており、
0004332817.tif 000025
基Ａ、Ｂ、ＲおよびＲ2は上記で定義されたものと同じ意味であり、前記混合物総計に関して式（Ｍ−Ｉ）、式（Ｍ−II）、式（Ｍ−III）および式（Ｍ−IV）で表される化合物の総量は４０ないし７０モル％、特には５０ないし６５モル％である。
化合物（Ｍ−Ｉ）対（Ｍ−II）、式（Ｍ−Ｉ）対（Ｍ−III）および式（Ｍ−Ｉ）対（Ｍ−IV）のモル％の比は例えば０．６：１ないし１．６：１または０．６：１ないし１．４：１である。
反応３）は特に式（Ｍ−Ｉ）、式（Ｍ−II）、式（Ｍ−III）および式（Ｍ−IV）で表される化合物を含む混合物に存在する式（Ｇ−Ｉ）
0004332817.tif 000026
で表される基の、式（Ｇ−II）
0004332817.tif 000027
で表される基への転移に関するものである。
転移後の、反応３）の生成物中の以下に示す式（Ｐ−Ｉ）、式（Ｐ−II）、式（Ｐ−III）および式（Ｐ−IV）で表される化合物の量は、上に示される最初の化合物の式（Ｍ−Ｉ）、式（Ｍ−II）、式（Ｍ−III）および式（Ｍ−IV）で表される上記最初の化合物の量に相当する。なぜならばこれらの化合物のバックボーンは反応中影響を受けないからである。
従って、本発明の他の具体例は式（Ｐ−Ｉ）で表される単分散化合物、式（Ｐ−II）で表される単分散化合物、式（Ｐ−III）で表される単分散化合物および式（Ｐ−IV）で表される単分散化合物を含む混合物であって、該各化合物は反復単位の数のみが異なっており、
0004332817.tif 000028
前記混合物総計に関して式（Ｐ−Ｉ）、式（Ｐ−II）、式（Ｐ−III）および式（Ｐ−IV）で表される化合物の総量は４０ないし７０モル％、特に５０ないし６５モル％である混合物である。
｛式中、Ｒ1は水素原子、ヒドロカルビル基を表し、または−Ｏ−Ｒ1がオキシル基を表し；
Ｒ2は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基または１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−または＞Ｎ−Ｘ1（基中、Ｘ1は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すかまたは下記で与えられるＲ4の定義の一つである。）で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表し；またはＲ2は式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）または（Ｉ−ｃ）
0004332817.tif 000029
〔式中、ｍは２または３を表し；
Ｘ2は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；および
基Ｘ3は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す〕で表される基を表し；
Ａ*は−ＯＲ3、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）または式（Ｇ−IV）
0004332817.tif 000030
で表される基
〔基中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基；未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、または、２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（III）
0004332817.tif 000031
（基中、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−または＞Ｎ−ＣＨ3を表す。）で表される基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し；
ならびにＲ3はさらに水素原子を表し、または−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）はさらに式（III）で表される基を表し；
Ｘ*は−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ6*を表し；
Ｒ6*は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、未置換であるかまたは１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、未置換であるかまたはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、式（Ｇ−II）
0004332817.tif 000032
で表される基または、２、３もしくは４位において−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（III）で表される基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表す。〕を表し；
Ｒ*はＲ6*に対して与えられた意味の一つであり；
Ｂ*はＡ*に対して与えられた意味の一つである。｝
化合物（Ｐ−Ｉ）対（Ｐ−II）、（Ｐ−Ｉ）対（Ｐ−III）および（Ｐ−Ｉ）対（Ｐ−IV）のモル％による比は、例えば０．６：１ないし１．６：１または０．６：１ないし１．４：１である。
好ましい混合物は式中、
Ｒ1はオクチル基またはシクロヘキシル基を表し；および
Ｒ2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し；
Ｒ*は式（Ｇ−II）で表される基を表し；
Ａ*は−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）を表し；
Ｒ4およびＲ5は、同じかまたは異なって、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；
Ｂ*は式（Ｇ−IV）で表される基を表し；
Ｘ*は＞ＮＲ6*を表し；および
Ｒ6*は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す、混合物である。
本発明による混合物において、基Ｒ1は式（Ｐ−Ｉ）、（Ｐ−II）、（Ｐ−III）および／または（Ｐ−IV）で表される化合物の２もしくはそれ以上の間の結合基として働く。この場合、前記に示した化合物の間に式（Ｌ−Ｉ）
0004332817.tif 000033
で表される橋が形成される。
Ｒ1*の意味はＲ1の意味から推測できる。これらの基の間のただ１つの違いはＲ1*が１または２のさらなる原子価をもつことである。即ち、シクロヘキシル基としてのＲ1は、シクロヘキサンジイル基またはシクロヘキサントリイル基としてのＲ1*に相当し、およびオクチル基としてのＲ1はオクタンジイル基またはオクタントリイル基としてのＲ1*に相当する。
本発明の生成物ならびに上記記載の混合物は有機材料、特に合成ポリマーまたはコポリマーの光、熱、酸化耐性を改良するのに非常有効である。特に、低い顔料との相互作用（low pigment interaction）ならびに非常に良好な着色が、ポリプロピレン、特別にはポリプロピレンファイバーに、特に難燃剤の存在下において、ならびに特に農業用途のための低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）フィルムにおいて観察される。本発明の生成物ならびに上記混合物がそれ自体難燃剤であることはさらに注目すべきことである。
安定化され得る有機材料は以下に示すものである：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）および（ＵＬＤＰＥ）。
ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以下の方法により製造できる：
ａ）（通常、高圧および高温においての）ラジカル重合
ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（III）、酸化アルミニウムまたは酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属は周期表のIa、IIaおよび／またはIIIa属の元素である。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は例えば、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリルエーテル基により改良され得る。
これら触媒系は通常フィリップス（Phillips）、スタンダードオイルインディアナ（Standard Oil Indiana）、チグラー（−ナッタ）〔Ziegler-（Natta）〕、ＴＮＺ〔デュポン社（Dupont）〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と称されるものである。
２．  １．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの異なるタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；ならびに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポリマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
４．それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；およびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリプタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートもしくはメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化もしくはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレート；ブチルアクリレートとの耐衝撃性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル−アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
13．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならびにポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
15．一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物質。
16．ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー；またはこれらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
17．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミドおよびポリベンズイミダゾール。
18．ジカルボン酸およびジオールから、および/またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレート、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカーボネートまたはＭＢＳにより変性されたポリエステル。
19．ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネート。
20．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
25．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
26．所望により促進剤を使用して酸無水物またはアミンのような慣用の硬化剤により架橋する、脂肪族、環状脂肪族、複素環式または芳香族グリシジル化合物、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物から誘導された架橋エポキシ樹脂。
27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロース、またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘導体。
28．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳもしくはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
29．純粋なモノマー化合物またはそれらの混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワックス、ならびに代表的には紡糸用組成物として用いられるいずれか重量比での合成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。
30．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
従って、本発明は光、熱または酸化により誘発される崩壊を受けやすい有機材料と本発明による生成物または混合物とからなる組成物にもまた関する。
有機材料は好ましくは合成ポリマーであり、より特別には上述した群から選択されるものである。ポリオレフィンが好ましくならびに、ポリエチレンおよびポリプロピレンは特別に好ましい。
本発明の他の具体例は、光、熱または酸化により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化するための方法であって、それは前記有機材料中に本発明の生成物または混合物を混合することからなる。
本発明による生成物または混合物は安定化される材料の性質に、最終用途に、および他の添加剤の存在に依存して様々な割合で使用できる。
一般に例えば、安定化される材料の重量に関して本発明による生成物または混合物０．０１ないし５重量％、好ましくは０．０５ないし２％、特に０．０５ないし１％で使用することが適当である。
本発明による生成物または混合物は、例えば高分子材料に、該材料の重合または架橋の前、その間もしくは後に添加することができる。さらにまた、それらは高分子材料に、純粋な形態でまたはワックス、オイルまたはポリマー中にカプセル化して混合できる。
一般に本発明による生成物または混合物は、様々な方法で、例えば粉末形態での乾式混合で、または溶液もしくは懸濁液の形態での湿式混合で、また２．５ないし２５重量％の濃度で本発明による生成物または混合物を含むマスターバッチの形態でも、高分子材料中に混合でき；このような操作において、ポリマーは粉末、グラニュール、溶液、懸濁液の形態で、あるいはラテックスの形態で使用できる。
本発明による生成物または混合物により安定化された材料は、成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、ファイバー、表面塗料等々の製造のために使用できる。
所望ならば合成ポリマーのための他の慣用の添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、ニッケル安定剤、顔料、充填剤、可塑剤、腐蝕防止剤および金属脱活剤を本発明による生成物または混合物を含む有機材料に添加することもできる。
上記添加剤の特別な例は以下に示すものである：
１．酸化防止剤
１．１  アルキル化モノフェノール、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、
２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、
２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、
２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
直鎖のまたは側鎖に枝分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物。
１．２．アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
１．３  ヒドロキノンとアルキル化ヒドロキノン、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
１．４．トコフェロール、例えば
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミン  Ｅ）。
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば
２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。
１．６．アルキリデンビスフェノール、例えば
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、
２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、
２，２′−メチレン−ビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、
４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、
ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
１．７．  Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば
３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル−メルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート。
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
１．９．  芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
１．１０．トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒトロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート。
１．１１．  ベンジルホスホネート、例えばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
１．１２．  アシルアミノフェノール、例えば
４−ヒドロキシラウルアニリド、
４−ヒドロキシステアルアニリド、
オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
１．１３．  β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１４．  β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１５．  β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１６．  ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１７．  β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（Ｎａｕｇａｒｄ▲Ｒ▼ＸＬ−１，Ｕｎｉｒｏｙａｌ社製）。
１．１８．アスコルビン酸（ビタミン  Ｃ）
１．１９．アミン系酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ−第三ブチル−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン及び２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
２．  紫外線吸収剤および光安定剤
２．１．  ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、
２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2−］2−（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニルである。）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−ベンゾトリアゾール。
２．２．  ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
２．３．  置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例えば
４−第三ブチルフェニル＝サリチレート、
フェニル＝サリチレート、
オクチルフェニル＝サリチレート、
ジベンゾイルレゾルシノール、
ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、
ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．４．  アクリレート、例えば
エチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、
メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、および
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
２．５．  ニッケル化合物，例えば
２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位子を伴うもの。
２．６．  立体障害性アミン、例えば
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの線状または環状縮合物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの線状または環状縮合物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ  登録Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシニミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシニミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソースピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、無水マレイン酸−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，２，６，��−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
２．７．  シュウ酸ジアミド、例えば
４，４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ−エトキシオキシオキサニリド、
２，２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトオキサニリド、
２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトオキサニリド、
２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、
２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物，
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
２．８．  ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、
２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
３．  金属不活性化剤，例えば
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、
Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタルロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
４．  ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、
ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、
ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４，６−トリス（第三ブチル−ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
トリステアリルソルビトールトリホスフィット、
テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、
２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
５．ヒドロキシルアミン、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクダデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、ハロゲン化獣脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
６．ニトロン、例えば、
Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシル−ニトロン、ハロゲン化獣脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンより誘導されたニトロン。
７．チオ相乗剤、例えば、
ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネート。
８．  過酸化物スカベンジャー、例えば
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
９．  ポリアミド安定剤、例えば
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。
10．  塩基性補助安定剤、例えば
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール亜鉛塩。
11．  核剤、例えば
無機物質例えば、タルク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩または硫酸塩；有機化合物例えば、モノ−またはポリカルボン酸およびその塩、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム；イオン共重合体（「イオノマー（ionomers）」）のような高分子化合物。
12．  充填剤および強化剤、例えば
炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉および天然物の粉もしくは繊維、合成繊維。
13．その他の添加剤、例えば
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤（rheology additives）、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
14．ベンゾフラノンまたはインドリノン、例えば
Ｕ．Ｓ．４３２５８６３号、Ｕ．Ｓ．４３３８２４４号、Ｕ．Ｓ．５１７５３１２号、Ｕ．Ｓ．５２１６０５２号、Ｕ．Ｓ．５２５２６４３号、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
本発明による生成物または混合物の慣用の添加剤に対する重量比は、例えば、１：０．５ないし１：５であり得る。
本発明の生成物または混合物はまた、特には、写真複写および他の複製技術、例えばResearch Disclosure 1990,31429（第474ないし480頁）に記載されるような技術分野において知られている殆ど全ての材料のための光安定剤として使用することも可能である。
本発明を以下の実施例により詳細に説明する。他に言及しない限り、部またはパーセントの全ては重量に基づく。
以下の実施例における構造式では、ｎ’は、分子中の反復単位を示し、そして得られた生成物は一定ではない。
実施例１Ａで開示する中間体は数平均分子量
0004332817.tif 000034
および多分散性
0004332817.tif 000035
によって特徴づけられる。
ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィ）は分子をその大きさの違いによって分離するための分析的手法としておよび分子量平均
0004332817.tif 000036
またはポリマーの分子量分布についての情報を得るために使用される。
この技術は良く知られており例えばW.W.Yan et al.著、”Modern Size-Exclusion Liqid Chromatography”、J. Wiley & Sons, N.Y., USA, 1979, 4-8頁，249-283頁および315-340頁に記載されている。
以下の実施例に示したＧＰＣ分析は、２５０ｎｍの波長を有する登録商標▲Ｒ▼ＵＶ  l000ＵＶ／ＶＩＳ検出計を備えたＨＰＬＣ装置、登録商標▲Ｒ▼ＴＳＰ  ＡＳ−1000型によって行われる。”ＧＰＣ−ＳＳ−２５０×７．７ｍｍ×３／８”登録商標バルコ−マイクロゲル（▲Ｒ▼Valco-Microgel）−３混合ゲルがカラムとして使用される。
溶離液（流量：１ｍｌ／分）はテトラヒドロフラン−分光分析用登録商標▲Ｒ▼ユーバソル（Uvasol）（登録商標メルク（▲Ｒ▼Merck）-1.00016）＋０．０２ｍｏｌ／Ｌ
ジェタノールアミン（登録商標フルカ（▲Ｒ▼Fluka）31590）である。試験される試料の０．５ｇを溶離液１００ｍｌに溶解する。
注入容量は２０μＬであり、およびクロマトグラムの時間は１５分である。
実施例１：
Ａ）下式で表される生成物の製造
0004332817.tif 000037
攪拌および窒素雰囲気下で１２８６ｇのキシレン中の２２１．２ｇ（１．２モル）の塩化シアヌルの溶液に、２５４．８ｇ（１．２モル）のＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ブチルアミンを添加の間約３０℃の温度に保ちながら、２時間にわたって添加する。濃厚だが申し分なく攪拌できる懸濁液が得られ、それをさらに１５分間、上記で示した温度に保持する。
次いで、１７６．３ｇのＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）水溶液と水２００ｇの混合物を、約３０℃の温度に維持しながら２時間にわたり添加する。希薄な懸濁液が得られそれをさらに２．５時間、上記で示した温度に保持する。
その次に、この水性塩基性溶液を分離し、そして５３℃ないし５７℃で２時間かけて、攪拌下に該反応混合物を、３００ｇの水、３５５．２ｇ（０．９モル）のＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミンおよび２６８．３ｇのＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）水溶液の混合物に添加する。３０ｇのキシレンを添加しそして反応混合物を上記温度で１時間保持する。次いで反応混合物を８０℃に１時間加熱し、そして該温度でさらに１時間保持する。
３８０ｇのキシレンを真空下（６８−８２℃／２００−１２０ｍｂａｒ）で留去する。次いで１７０ｇのキシレンおよび２００ｇの水を添加し、そして反応器の蓋を閉じおよび窒素による不活性化（inertization）の後、温度を１６０℃に２時間かけて昇温する。混合物を５．４ｂａｒの圧力下で６時間１６０℃に保持する。
６０℃に冷却後、８９．０ｇ（０．６９モル）のジ−ｎ−ブチルアミンおよび８６．４ｇのＮａＯＨ３０％（％ｗ／ｖ）水溶液を添加する。
再度反応器を閉じた後、混合物を１時間かけて１６０℃に加熱し、および５ｂａｒの圧力下で４時間１６０℃で保持する。
６０℃に冷却後、１３０ｇのキシレンおよび１５０ｇの水を添加する。混合物を攪拌下９２℃に加熱する。次いで、水溶液を分離する。
有機相を４００ｇの水で２回洗浄し、８０℃でろ過しおよび真空下で（１２５−２３０℃／３５０−１ｍｂａｒ）で濃縮する。冷却すると、溶融生成物からｍ．ｐ．（融点）＝１３３−１３７℃を持つ固体が得られる。
0004332817.tif 000038
このＧＰＣ分析を図１のクロマトグラムに示す。
得られた生成物の主要な単一成分の比：
ｎ’＝１をもつ化合物：ｎ’＝２を持つ化合物  ：    １．０７：１
ｎ’＝１をもつ化合物：ｎ’＝３を持つ化合物  ：    ０．８１：１
ｎ’＝１をもつ化合物：ｎ’＝４を持つ化合物  ：    ０．９９：１
得られた多分散性生成物における４つの主要単一成分の総量（合計）（（ｎ’＝１）（ｎ’＝２）（ｎ’＝３）（ｎ’＝４））は６０．４ｍｏｌ％である。
Ｂ）下式で表される生成物の製造
0004332817.tif 000039
機械的に攪拌される１００ｍｌの４首フラスコに４ｇ（０．０１６モル）のＡ）による生成物、０．０４ｇのＭｏＯ3および３２ｍｌのシクロヘキサンを装入する。混合物を還流まで加熱する。８．２４ｇ（０．０６４モル）の７０％第三ブチルヒドロパーオキシドを３０分の範囲内に添加する。水を共沸蒸留によって回収しそして還流を１時間継続する。反応混合物を磁気的に攪拌されるガラス耐圧ビンに移しそして１３０℃で５時間加熱する。反応混合物を７０℃に冷却しそしてＭｏＯ3をろ別する。ろ液を１０ｍｌのＨ2Ｏ中の２ｇのＮａ2ＳＯ3の溶液で６０℃で１時間洗浄する。相を分離し、有機相をＭｇＳＯ4を用いて乾燥させ、総容量は約１０ｍｌに減少する。溶液を５℃にて５０ｍｌのメタノールで浸す。沈澱物をろ過しそして乾燥させる。
収量：５．５７ｇ
融点範囲：１２９−１５２℃
1Ｈ  ＮＭＲ：0.85-2.4ppm（複合混合物）；3.2-3.45ppm（s, broad, NCH2）；3.55-3.70ppm（s, broad, NOCH）；4.9-5.4ppm（s, broad, NCH）。
3.2ppm、3.55ppmおよび4.9ppmにおけるプロトンの比は２：１：１である。
13Ｃ  ＮＭＲ：82ppm（NOC）；165ppm（トリアジン  C）
実施例２：下式で表される生成物の製造
0004332817.tif 000040
機械的に攪拌される１００ｍｌの４首フラスコに４ｇ（０．０１６モル）の実施例  １Ａ）による生成物、０．０４ｇのＭｏＯ3および３２ｍｌのｎ−オクタンを装入する。混合物を還流まで加熱しそして１０．３ｇ（０．０８モル）の７０％第三ブチルヒドロパーオキシドを３０分の範囲内に添加する。水を共沸蒸留によって分離しそして還流を６時間継続する。ＭｏＯ3をろ別しそしてろ液を１０ｍｌのＨ2Ｏ中の２ｇのＮａ2ＳＯ3の溶液で６０℃で３０分間洗浄する。相を分離しそして有機相を水および１０ｍｌの飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ4を用いて乾燥させ、約１０ｍｌの容積まで蒸発させる。溶液を５℃にて５０ｍｌのメタノールに浸す。沈澱物、柔らかいガラス状物を５５℃で真空下で乾燥させ、乳鉢で圧潰し次いで再度真空下で乾燥させる。
収量：５．５３ｇ
融点範囲：９６−１１８℃
1Ｈ  ＮＭＲ：0.85-2.4ppm（複合混合物）；3.15-3.55ppm（s, broad, NCH2）；3.65-3.9ppm（s, broad, NOCH）；4.9-5.4ppm（s, broad, NCH）。
3.15ppm、3.65ppmおよび4.9ppmにおけるプロトンの比は２：１：１である。
13Ｃ  ＮＭＲ：78-84ppm（NOC, C8H17の異性体の混合物）；165ppm（トリアジン  C）
実施例Ｉ：ポリプロピレンファイバーにおける光安定化作用
２．５ｇの表１に示された安定剤、１ｇのトリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、１ｇのカルシウムモノエチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホネート、１ｇのステアリン酸カルシウムおよび２．５ｇの二酸化チタンを低速ミキサー内で、メルトインデックス＝１２ｇ／１０分（２３０℃及び２．１６ｋｇにおいて測定）をもつポリプロピレン粉末の１０００ｇと混合物する。
混合物を２００−２３０℃で押出してポリマーグラニュールを得て、それは次にパイロット型装置〔登録商標レオナルド−スミラゴ（▲Ｒ▼Leonard-Sumirago（VA），イタリア〕を使用しておよび以下の条件下で操作してファイバーに変換する：
押出機温度：  ２３０−２４５℃
ヘッド温度：  ２５５−２６０℃
延伸比    ：  １：３．５
線密度    ：  １１  ｄｔｅｘ／フィラメント
このように製造されたファイバーを、白色のカードボードに取付けた後にブラックパネル温度６３℃で６０ＷＲ  ウエザロメーター（Weather-O-Meter）（ＡＳＴＭ  Ｄ２５６５−８５）内で曝露する。
種々の時間の光への曝露後に取り出された試料に対する残留靱性（residual tenacity）を定速張力計を使用して測定しおよび次いで初期靱性（initial tenacity）を半減するのに要する曝露時間（時間による）（Ｔ50）を計算する。
0004332817.tif 000041
表１に挙げた化合物はポリプロピレンファイバーにおいて良好な光安定活性を示す。
実施例II：ポリプロピレンテープにおける光安定化作用
それぞれ１ｇの表２に示された化合物、１ｇのトリス〔２，４−ジ−第三ブチルフェニル〕ホスフィット、０．５ｇのペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］および１ｇのステアリン酸カルシウムをターボミキサー内で、２．１のメルトインデックス（２３０℃及び２．１６ｋｇにおいて測定）をもつポリプロピレン粉末の１０００ｇと混合物する。
混合物を２００−２２０℃で押出してポリマーグラニュールを得て、それは次に半工業型装置（登録商標レオナルド−スミラゴ（▲Ｒ▼Leonard-Sumirago（VA)，イタリア）を使用しておよび以下の条件下で操作して５０μｍ厚および２．５ｍｍ幅の延伸テープに変換する：
押出機温度：  ２１０−２３０℃
ヘッド温度：  ２４０−２６０℃
延伸比    ：  １：６
このように製造されたテープを、白色のカードに取付けそしてブラックパネル温度６３℃でウエザロメーター（Weather-O-Meter）６０ＷＲ（ＡＳＴＭ  Ｄ２５６５−８５）において曝露する。
種々の光への曝露時間の後に取り出された試料における、残留靱性を定速張力計によって測定し；これから初期靱性を半減するのに要する曝露時間（時間による）（Ｔ50）を測定する。
0004332817.tif 000042
表２に挙げた化合物はポリプロピレンテープにおいて良好な光安定活性を示す。
実施例III：ポリプロピレンプラクにおける顔料の相互作用
５．６２５ｇの表３に示された安定剤、１３．５００ｇのピグメントブルー（Pigment Blue）１５”フラッシュ（Flush）”（ポリエチレン中の５０％混合物）および２５．８７５ｇのポリプロピレン粉末（２３０℃及び２．１６ｋｇにおいて測定された約１４のメルトインデックスをもつ）を室温で登録商標ハーケ（▲Ｒ▼Haake）密閉式ミキサー〔カムブレード付き６０ｃｃの３ピースレオミキサー（Rheomixer）を使用する登録商標ハーケ  ブフラー  レオコード  システム  ４０（▲Ｒ▼Haake Buchler Rheochord System 40）〕を満たすよう加える。上記カムブレードは５ＲＰＭ（revolutions per minute  回転／分）にて回転する。５ｋｇのウェート下でラムはボールを閉じる。温度を１８０℃まで上昇させ、そして１８０℃に保つ。合計時間は３０分である。
３０分後混合物を１８０℃のまま取り出しそして室温に冷却する。この様に得られた混合物−これを”コンセントレート（concentrate）”と呼ぶ−を再度使用する。
０．９００ｇのこのコンセントレート、３．６００ｇの二酸化チタン”フラッシュ（Flush）”（ポリエチレン中の５０％混合物）および４０．５００ｇのポリプロピレン粉末（２３０℃及び２．１６ｋｇにおいて測定された約１４のメルトインデックスをもつ）を１６０℃で登録商標ハーケ（▲Ｒ▼Haake）ミキサーのボールに加える。上記カムブレードは２０ＲＰＭにて回転する。５ｋｇのウェート下でラムはボールを閉じる。温度を１７０℃まで上昇させおよびＲＰＭを１２５に増加させる。合計時間は３０分である。
溶融した混合物を１７０℃で取出し、室温にてハンドヘルド用具に移し、１ｍｍ×直径２５ｍｍの円形プラクに変形させる。今やこのように得られた混合物を”レットダウン（letdown）”と呼び、そしてこのプラクを”レットダウンプラク（letdown plaque)”と呼ぶ。
安定剤なしの対照レットダウンプラクに対する表３に示した安定剤を含む試料レットダウンプラクの色差、デルタＥ（ＣＩＥ色差因子（CIE color difference eqation）を測定する。測定はアプライド  カラー  システムズ  スペクトロフォトメーター  モデル  ＣＳ−５〔Applied Color Systems Spectrophtometer Model CS-5（米国）〕を使用して行われる。使用される測定パラメータは４００−７００ｎｍ−スキャン、小面積観察（small area view）、反射率、照明（illuminate）Ｄ６５、１０名程度の観察者である。
上記加工条件は顔料および安定剤のコンセントレート（マスターバッチ）の製造をシミュレートするために設計され、次いでレットダウン（稀釈物）をプラスチック完成品にする。
高いデルタＥは顔料の凝集および乏しい分散性を示す。０．５もしくはそれ未満のデルタＥは視覚による差は見られない。
0004332817.tif 000043
実施例IV：
着色された熱可塑性オレフィン（ＴＰＯ）ペレットを、ポリオレフィンブレンド〔エチレン−プロピレンコポリマーを含むポリプロピレン；登録商標Ａ．シュルマン社（▲Ｒ▼A. Schulman, Inc.,米国，オハイオ州，アクロン）提供の登録商標ポリトロープ（▲Ｒ▼Polytrope）ＴＰＰ  ５１８−０１〕と下に挙げた添加剤とを汎用万能スクリュー（２４：１  Ｌ／Ｄ）を備えた登録商標スペリオール（▲Ｒ▼Superior）／ＭＰＭ  １”一軸スクリュー押出機中、２００℃で混合し、水浴で冷却しそしてペレット化することによって製造する。添加剤は押出および成形の前に、タンブルドライヤー内でドライブレンドする。
0004332817.tif 000044
登録商標ＢＯＹ  ３０Ｍ射出成形機（▲Ｒ▼BOY 30M Injection Molding Machine）にて約１９０℃で得られたペレットを１．５２４ｍｍ厚  ２”×２”のプラクに成形する。
試験プラクを金属フレームに取付けそして、７０℃のブラックパネル温度、３４０ｎｍにて０．５５Ｗ／ｍ2および５０％の相対湿度において、断続での明／暗周期および散水〔登録商標ソサイエティ  オブ  オートモーティブ  エンジニアズ（▲Ｒ▼Society of Automotive Engineers）-ＳＡＥ  Ｊ  １９６０ Test Procedure-自動車用外部条件（Exterior Automotive conditions）〕を伴う、登録商標アトラス（▲Ｒ▼Atlas）Ｃｉ６５  キセノンアークウェザロメーター（Xenon Arc Weather-O-meter）に曝露する。
試験片は約６２５キロジュール間隔でＡＳＴＭ  Ｄ  ２２４４−７９に従う反射率モードによりアプライド  カラー  システムズ（Applied Color Systems）分光分析計における測色を行うことによって試験する。光沢の測定は、登録商標ＢＹＫ−ガードナー  ヘイズ／グロスメーター（▲Ｒ▼BYK-GARDNER Haze/Gloss Meter）を用いてＡＳＴＭ  Ｄ５２３に従い６０°において行う。
安定化された試料はＵＶ曝露において良好な光沢保持性および変色に対する良好な耐性を示す。
【図１】
0004332817.tif 000059