(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも導電性を有する成形型に成形用原料を仕込み、該成形型を移動経路に沿って複数、連続的に移動させながら、この移動経路に沿って設けられる加熱領域から、移動している上記成形型に非接触で高周波の交流電流を継続して印加することによって成形用原料を誘電加熱により成形する加熱成形物の製造方法において、
上記加熱領域は、複数の下位領域に分割されており、各下位領域それぞれに少なくとも電源手段および給電手段が設けられており、
上記下位領域では、移動経路に沿って連続的に配置されるレール状の上記給電手段によって、成形型に対して上記高周波の交流電流が印加されるとともに、
上記成形型には、レール状の上記給電手段から非接触で上記高周波の交流電流を受電する受電手段が設けられていることを特徴とする加熱成形物の製造方法。
【請求項２】
上記受電手段は平板状に形成されているとともに、
上記レール状の給電手段は上記受電手段に対向する対向面を有しており、
上記平板状の受電手段を上記対向面に対向させることにより、非接触で高周波の交流電流を印加することを特徴とする請求項１記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項３】
上記レール状の給電手段、または上記受電手段は、該受電手段を介して成形型に印加される高周波の交流電流の印加レベルを変化させるように、上記成形型の移動経路に沿って、その対向面積が変化するように形成されていることを特徴とする請求項２記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項４】
上記レール状の給電手段は、移動経路に沿って上記対向面の面積が変化するように形成されていることを特徴とする請求項３記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項５】
上記レール状の給電手段は、受電手段を介して成形型に印加される高周波の交流電流の印加レベルを変化させるように、上記成形型の移動経路に沿って、その対向間隔が変化するように形成されていることを特徴とする請求項２記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項６】
上記下位領域の長さは、該下位領域全体で加熱される、連続的に移動する成形型の変動率が、０．５未満となるように設定され、
上記変動率は、上記レール状の給電手段に挿入される上記平板状の受電手段の最大枚数および最小枚数の差を２で割った値を、さらに上記平板状の受電部の平均挿入枚数で割った値として算出されるものであり、上記レール状の給電手段に挿入される上記成形型の個数の変動を示すことを特徴とする請求項１ないし５の何れか１項に記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項７】
さらに、上記下位領域が、成形用原料を加熱する初期段階および最終段階の少なくとも一方の段階に対応する領域に対応する場合、上記連続的に移動する成形型の変動率が、０．１未満となるように、該下位領域の長さを設定することを特徴とする請求項６に記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項８】
上記成形型は複数の型片からなっており、該複数の型片が、給電手段から給電される給電極のブロックと、接地されている接地極のブロックとに分割可能となっており、これら各ブロックは互いに絶縁されていることを特徴とする請求項１ないし７の何れか１項に記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項９】
上記成形型が、複数の成形型を一体化してなる一体成形型であることを特徴とする請求項８記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１０】
上記加熱領域の少なくとも一部では、上記高周波の交流電流の印加による誘電加熱と、外部加熱手段による外部加熱とが併用されることを特徴とする請求項１ないし９の何れか１項に記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１１】
上記加熱領域には、さらに高周波の局在化が生じやすい部位で上記高周波の交流電流の印加を一旦休止する高周波印加休止領域が含まれていることを特徴とする請求項１ないし１０の何れか１項に記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１２】
上記加熱領域に含まれる高周波印加休止領域は、成形用原料を加熱する初期段階および最終段階の少なくとも一方の段階に対応する領域に設定されることを特徴とする請求項１１記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１３】
上記加熱領域においては、各下位領域における成形型への上記高周波の交流電流の印加条件が互いに異なるように設定されていることを特徴とする請求項１ないし１２の何れか１項に記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１４】
上記高周波の交流電流の印加条件には、下位領域全体における高周波の交流電流の出力、一つの成形型に対して印加される高周波の交流電流の出力、および下位領域の長さの少なくとも何れかが含まれていることを特徴とする請求項１３記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１５】
上記高周波の交流電流の印加条件は、該交流電流の印加によって変化する成形用原料の特性に応じて設定されることを特徴とする請求項１３または１４記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１６】
上記成形用原料として、少なくとも、デンプン質と水とを含み、流動性または可塑性を有するデンプン性含水原料が用いられるとともに、
加熱成形物として焼成物が製造されることを特徴とする請求項１１ないし１５の何れか１項に記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１７】
上記デンプン性含水原料のデンプン質として小麦粉が用いられるとともに、
上記焼成物が、小麦粉を主体とする成形焼き菓子であることを特徴とする請求項１６記載の加熱成形物の製造方法。
【請求項１８】
上記成形型を移動経路に沿って移動させる移動手段として、複数の支持軸により回転可能に張り巡らされているコンベア手段が用いられることを特徴とする請求項１ないし１７の何れか１項に記載の加熱成形物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、成形型に成形用原料を仕込んだ状態で成形用原料を加熱することによって成形される加熱成形物の製造方法に関するものであり、特に、成形型に高周波の交流電流を印加することによって、成形用原料を誘電加熱する工程を含む加熱成形物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、たとえば金型などの成形型を用い、この成形型に成形用原料（原料）を分注した上で成形型を加熱することによって成形物を製造する技術（以下、成形型加熱法とする）が広く用いられている。
【０００３】
上記成形型加熱法の技術は、コーン、もなか、ウエハース等といった可食容器などを含む成形焼き菓子を製造する際にも広く用いられている。上記成形焼き菓子を製造する技術分野では、原料としては、各種デンプンを主成分とし、これを水を混合した生地、たとえば粘弾性のある生地（ドウ・dough ）や流動性を有するスラリー状の生地などが用いられる。
【０００４】
また、成形型加熱法により上記デンプンを主成分とする含水原料を成形する技術分野は、成形焼き菓子以外に、生分解性成形物を製造する分野にも適用されている。なお、本明細書では、上記成形焼き菓子および生分解性成形物など、デンプン等を主成分とする含水原料を加熱成形して得られる加熱成形物を、焼成物と表現する。
【０００５】
ここで、上記成形型加熱法の技術では、以前は、単に金型を加熱することによって熱伝導により原料を加熱成形する外部加熱法が用いられていた。ところが、この外部加熱法では、成形時間が長く生産効率が低い上に、成形型の温度不均一によって「焼きムラ」が生じるなどするため、均一な成形物を得ることができない。そこで、成形型加熱法における具体的な加熱方法としては、近年では、高周波加熱法が広く用いられている。
【０００６】
高周波加熱法では、一般的には、成形型（加熱用電極に相当）に対して高周波の交流電流（以下、高周波と略す）を印加することによって原料を誘電加熱する方法である。そのため、原料を一様に加熱して成形することが可能である上に、加熱制御も容易であるという利点がある。この高周波加熱法を用いた技術としては、具体的には、たとえば、本出願人らが以前提案した、特開平１０−２３０５２７号公報に開示されている生分解性成形物の製造方法および製造装置が挙げられる。
【０００７】
成形焼き菓子等の焼成物の製造では、製造効率を向上するために、一般に、多数の金型を順次移動させて加熱する連続式の製造プロセスが用いられる。上記公報の技術では、上記連続式の製造プロセスにおいて、電極等を直接接触させずに、加熱用電極（すなわち金型）に対して高周波を印加する非接触方式を採用している。
【０００８】
たとえば図２４に示すように、上記公報の技術で開示されている製造装置では、無端平板状のレイアウトで配置されているコンベア部（移動手段・コンベア手段）６によって金型７を図中矢印方向に移動させるようになっており、誘電加熱を施す領域である加熱ゾーン（加熱領域）Ｂには、上記コンベア部６に沿って給電部（給電手段）３が配置されている。また、金型７には給電部３と非接触状態で対応する受電部（受電手段）が設けられており（図２４には図示せず）、給電部３および受電部により、高周波の給受電部が形成されている。
【０００９】
そのため、原料の仕込まれた金型７がコンベア部６により搬送されて加熱ゾーンＢに達すると、給電部３から非接触で金型７に対して高周波が印加されるので、金型７内の原料が誘電加熱される。その結果、効率的かつ確実に原料を加熱することができるので、成形性や物性の優れた成形物を製造することができる。また、非接触による給電が行われるので、給受電部でのスパーク等の発生を制御することができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来の技術では、加熱ゾーンＢ全体に一括して高周波を印加すると、該加熱ゾーンＢの一部に高周波が局在化するという現象が生じる。そのため、製造装置の規模を大きくすると、上記高周波の局在化によって高周波エネルギーの集中が発生する。その結果、高周波の局在部位で原料に過加熱が生じたり、上記局在部位の金型７（電極部）間でスパークあるいは絶縁破壊等が生じたり、非接触にも関わらず給受電部でもスパークが生じるなどの問題点が生じる。
【００１１】
すなわち、大規模な製造装置では、装置全体が非常に大型化する。しかも、生産効率を挙げる観点から、上記大規模な構成に限らず、多数の金型７をたとえば並列に配列してなる一体金型を用いて、これをコンベア部６により搬送することが多い。そのため加熱ゾーンＢに搬送される金型７の数はかなり多くなる。
【００１２】
したがって製造装置の規模を大きくすると、金型７中の原料の数も大幅に増加するため、加熱ゾーンＢでは、原料の数の増加に比例して印加する高周波の出力も大きくしなければならない。
【００１３】
たとえば、製造装置の規模が小さい場合について具体的に説明すると、たとえば図２４に示すように、コンベア部６の外周に金型７を２２個取り付け、加熱ゾーンＢで１１個の金型７を加熱することが可能になっているとする。このときの電源部２の高周波の出力は、９ｋＷに設定されていれば、１個の金型７に印加される高周波の出力は約０．８ｋＷとなる。
【００１４】
この場合、加熱ゾーンＢ全体の高周波の出力がさほど大きくないので、加熱ゾーンＢの特定の位置に高周波が局在化しても大きな高周波エネルギーが集中することはない。それゆえ、過加熱やスパーク等は特に生じず、成形物の製造にもほとんど影響はない。換言すれば、上記公報の技術は、小規模の製造装置には非常に好適な技術となっている。
【００１５】
これに対して製造装置が大規模化すると、加熱ゾーン全体の高周波の出力も非常に大きくなるので、加熱ゾーンの一部に集中する高周波エネルギーも増大化する。その結果、小規模の製造装置ではほとんど問題とならなかった高周波エネルギーの集中現象が、過加熱やスパーク、あるいは絶縁破壊までも引き起こしてしまう。それゆえ、上記公報の技術を大規模な製造装置に適用することは困難となっている。
【００１６】
具体的に説明すると、たとえば図２５に示すように、コンベア部６の外周に上記一体金型５を３６個取り付け、加熱ゾーンＢで２５個の一体金型５を加熱することが可能になっているとする。この一体金型５は、たとえば金型７を５個一体化したものとすれば、上記小規模の製造装置と同様に、１個の金型７に約０．８ｋＷの高周波を印加するためには、電源部２の出力は１００ｋＷに設定しなければならない。そのため、単純に計算すれば、上記の例では、小規模の場合の１０倍以上に達する高周波エネルギーが集中する可能性がある。
【００１７】
また、製造装置が大規模化すると、加熱ゾーンＢに配置される給電部３は小規模の場合よりも長くなる。たとえば、図２４では、金型７の１１個分であったのが、図２５では、金型７（一体金型５）の２５個分となる。そのため、給電部３の形状によっては、高周波電位の偏在がより一層生じ易くなるので、一定以上の長さの給電部３を設けることが事実上、困難となる。その結果、加熱成形の効率が大幅に低下する。
【００１８】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、大規模な設備で、連続的に移動する複数の成形型中に仕込まれている原料を高周波加熱により成形する際に、高周波エネルギーの集中現象の発生を効果的に抑制または回避して、効率的かつ安全性の高い加熱を実現する加熱成形物の製造方法を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記の課題を解決するために、少なくとも導電性を有する成形型に成形用原料を仕込み、該成形型を移動経路に沿って複数、連続的に移動させながら、この移動経路に沿って設けられる加熱領域から、移動している上記成形型に非接触で高周波の交流電流を継続して印加することによって成形用原料を誘電加熱により成形する加熱成形物の製造方法において、上記加熱領域は、複数の下位領域に分割されており、各下位領域それぞれに少なくとも電源手段および給電手段が設けられていることを特徴としている。
【００２０】
上記方法によれば、連続的に移動する成形型に対して高周波の交流電流（高周波）を非接触で継続的に印加する際に、該高周波を印加する領域である加熱領域を複数の下位領域に分割し、各下位領域にそれぞれ電源手段と給電手段とを設けるようになっている。そのため、加熱領域内で高周波エネルギーの集中現象の発生を抑制または回避することができる。その結果、過加熱や絶縁破壊等の発生を効果的に防止することができ、加熱成形物を非常に効率的かつ確実に製造することができる。
【００２１】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記下位領域では、移動経路に沿って連続的に配置されるレール状の給電手段によって、成形型に対して上記高周波の交流電流が印加されるとともに、上記成形型には、上記レール状の給電手段から非接触で上記高周波の交流電流を受電する受電手段が設けられていることを特徴としている。
【００２２】
上記方法によれば、加熱領域にレール状の給電手段が設けられ、これに対応するように受電手段が設けられているので、移動手段により成形型が加熱領域に入った後、移動手段の移動に伴ってレール状の給電手段に沿って受電手段を備える成形型が移動することになる。そのため、成形型が加熱領域を抜けるまで、すなわち給電手段から受電手段が外れるまで加熱・乾燥処理を円滑かつ確実に継続することができる。
【００２３】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記受電手段は平板状に形成されているとともに、上記レール状の給電手段は上記受電手段に対向する対向面を有しており、上記平板状の受電手段を上記対向面に対向させることにより、非接触で高周波の交流電流を印加することを特徴としている。
【００２４】
上記方法によれば、上記給電手段が有する対向面に平板状の受電手段が非接触で対向した状態で、レール状の給電手段に沿って受電手段が移動する。このとき、受電手段とこれに対向する対向面とこれらの間の空間によってコンデンサーが形成されることになる。その結果、連続的に移動する成形型に対して、非接触で給電することが可能になり、加熱・乾燥処理を円滑かつ確実に継続することができる。
【００２５】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記レール状の給電手段または受電手段は、該受電手段を介して成形型に印加される高周波の交流電流の印加レベルを変化させるように、上記成形型の移動経路に沿って、その対向面積が変化するように形成されていることを特徴としている。
【００２６】
上記方法によれば、給電のレベルを変化させるため、成形型の加熱レベルを調節することが可能となる。その結果、過剰加熱を抑えることにより、成形物の焦げやスパークを回避することが可能になり、成形物の成形性を向上させたり、所望の完成品物性を得たりすることができる。特に、加熱成形の最初または最後の段階で、段階的な加熱処理を実施することができるため、成形用原料を適切に加熱成形することができる。
【００２７】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記レール状の給電手段は、移動経路に沿って上記対向面の面積が変化するように形成されていることを特徴としている。
【００２８】
上記方法によれば、給電手段が備える対向面の面積を、成形型の移動に伴って変化させるため、上記対向面と受電手段との対向面積が変化する。そのため、受電手段、対向面、およびその間の空間により形成されるコンデンサーの容量も変化することになる。その結果、給電のレベルを変化させて、加熱成形物への加熱を変化することが可能となり、加熱成形物の成形性を向上させたり、所望の完成品物性を得たりすることができる。
【００２９】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記レール状の給電手段は、受電手段を介して成形型に印加される高周波の交流電流の印加レベルを変化させるように、上記成形型の移動経路に沿って、その対向間隔が変化するように形成されていることを特徴としている。
【００３０】
上記方法によっても、給電のレベルを変化させて成形型の加熱レベルを調節することが可能となる。その結果、過剰加熱を抑えることにより、成形物の焦げやスパークを回避することが可能になり、成形物の成形性を向上させたり、所望の完成品物性を得たりすることができる。特に、加熱成形の最初または最後の段階で、段階的な加熱処理を実施することができるため、成形用原料を適切に加熱成形することができる。
【００３１】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記下位領域の長さは、該下位領域全体で加熱される、連続的に移動する成形型の変動率が、０．５未満となるように設定されていることを特徴としている。
【００３２】
上記方法によれば、一つの下位領域内で高周波の交流電流を印加して誘電加熱する成形型の個数の変動を減少させることができるので、高周波の同調を安定化させることが可能となり、陽極電流値の増減も小さくすることができる。その結果、エネルギー効率を向上させることができるだけでなく、スパーク発生を回避することも可能となる。
【００３３】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、さらに、上記下位領域が、成形用原料を加熱する初期段階および最終段階の少なくとも一方の段階に対応する領域に対応する場合、上記連続的に移動する成形型の変動率が、０．１未満となるように、該下位領域の長さを設定することを特徴としている。
【００３４】
上記方法によれば、特に、高周波の同調が不安定化し易い加熱成形の初期段階や最終段階に、誘電加熱する成形型の個数の変動を減少させることができる。そのため、高周波の同調をより一層安定化させることが可能となり、その結果、エネルギー効率をより向上させたり、スパーク発生をより確実に回避したりすることが可能となる。
【００３５】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記成形型が複数の型片からなっており、該複数の型片が、給電手段から給電される給電極のブロックと、接地されている接地極のブロックとに分割可能となっており、これら各ブロックは互いに絶縁されていることを特徴としている。
【００３６】
上記方法によれば、成形型が、互いに絶縁されている給電極および接地極の組み合わせからなっている。そのため、給電極および接地極の間に成形用原料を挟持した状態で、給電極から高周波を印加することにより、成形用原料に誘電加熱を施すことができる。しかも、上記成形型が複数の型片からなっており、給電極のブロックと接地極のブロックとに必ず分割できるようになっている。そのため、加熱対象物である成形用原料に対して高周波を印加することで、成形用原料を確実に誘電加熱することができる。
【００３７】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記成形型が、複数の成形型を一体化してなる一体成形型であることを特徴としている。
【００３８】
上記方法によれば、多数の成形型を一体化して１個の成形型にまとめることになるので、加熱領域に一度に大量の成形型を移動させることができる。その結果、成形物の生産効率を向上することができる。
【００３９】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記加熱領域の少なくとも一部では、上記高周波の交流電流の印加による誘電加熱と、外部加熱手段による外部加熱とが併用されることを特徴としている。
【００４０】
上記方法によれば、加熱領域で、少なくとも一部で誘電加熱と外部加熱とが併用されるので、成形用原料に対しては、誘電加熱由来の急激な加熱と、外部加熱由来の熱伝導による緩やかな加熱とが同時に実施されることになる。その結果、成形用原料をより一層確実かつ十分に加熱することができる。特に本発明が、後述する成形焼き菓子の焼成用途に用いられる場合には、外部加熱との併用により、成形焼き菓子に適度な焼成色やロースト臭等を与えることができるので好ましい。
【００４１】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記加熱領域には、さらに高周波の局在化が生じやすい部位で上記高周波の交流電流の印加を一旦休止する高周波印加休止領域が含まれていることを特徴としている。
【００４２】
上記方法によれば、加熱領域は、高周波の局在化が生じやすい部位に高周波印加休止領域が含まれているので、高周波エネルギーの集中現象の発生をより一層確実に抑制または回避することができる。また、この領域には高周波を印加するための給電手段等を設ける必要がなくなるため、上記交流電流の局在化し易い部位に高周波を印加しないように加熱設備を設計することが可能になるので、高周波エネルギーの集中現象の発生をより一層確実に抑制または回避することができる。また、給電手段等の配置が比較的難しい部位を高周波印加休止領域とすることによって、加熱設備の構成をより簡素化することもできる。
【００４３】
さらに、誘電加熱と外部加熱が併用される場合には、高周波印加休止領域では、外部加熱のみによる緩やかな加熱が実施されることになる。そのため、成形用原料の特性に応じて高周波印加休止領域を設定することにより、成形性の向上や所望の完成品物性を得ることができる。
【００４４】
また、成形用原料の電気特性変化の最も激しい部分に高周波印加休止領域を設定することにより、高周波エネルギーの集中現象を回避することができる。加えて、加熱領域内において最も大きな出力の高周波を印加する下位領域の前段で、外部加熱のみにより緩やかな加熱処理を実施することができる。そのため、成形用原料を適切に加熱成形することができる。
【００４５】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記加熱領域に含まれる高周波印加休止領域は、成形用原料を加熱する初期段階および最終段階の少なくとも一方の段階に対応する領域に設定されることを特徴としている。
【００４６】
上記方法によれば、加熱成形の初期段階および最終段階の少なくとも一方に、高周波印加休止領域を設けるため、成形用原料に応じた加熱が可能になる。その結果、得られる加熱成形物の品質を向上させたり、生産性を向上させたりすることができる。
【００４７】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記加熱領域においては、各下位領域における成形型への上記高周波の交流電流の印加条件が互いに異なるように設定されていることを特徴としている。
【００４８】
上記方法では、各下位領域で異なる条件で上記高周波を印加するため、各下位領域では異なる条件で加熱を行うことができる。そのため、加熱領域全体として、高周波エネルギーの集中を抑制または回避できるような印加条件を設定できるとともに、より良好な条件で成形型を加熱することもできるため、成形用原料をより一層適切に加熱成形することができる。
【００４９】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記高周波の交流電流の印加条件には、下位領域全体における高周波の交流電流の出力、一つの成形型に対して印加される高周波の交流電流の出力、および下位領域の長さの少なくとも何れかが含まれていることを特徴としている。
【００５０】
上記方法によれば、各下位領域で、上記各条件の少なくとも何れかが異なるように設定すれば、下位領域における加熱の条件を変化させることができる。その結果、高周波エネルギーの集中を抑制または回避できるだけでなく、成形用原料をさらに一層適切に加熱成形することができる。
【００５１】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記高周波の交流電流の印加条件が、該交流電流の印加によって変化する成形用原料の特性に応じて設定されることを特徴としている。
【００５２】
上記方法によれば、成形用原料や加熱により得られる成形物の性質に応じて、各下位領域で異なる条件で交流電流を印加することが可能になる。そのため、単に高周波エネルギーの集中を抑制または回避するだけでなく、成形用原料に対してより一層適切に熱量を加えることが可能になり、成形用原料をさらに一層適切に加熱成形することができる。
【００５３】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記成形用原料として、少なくとも、デンプン質と水とを含み、流動性または可塑性を有するデンプン性含水原料が用いられるとともに、加熱成形物として焼成物が製造されることを特徴としている。
【００５４】
上記方法によれば、上記デンプン質および水を含む含水原料を加熱成形して焼成物を製造する場合に、本発明にかかる加熱成形物の製造方法を用いるため、高品質の焼成物を高い生産効率で製造することができる。
【００５５】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記デンプン性含水原料のデンプン質として小麦粉が用いられるとともに、上記焼成物が、小麦粉を主体とする成形焼き菓子であることを特徴としている。
【００５６】
上記方法によれば、小麦粉をデンプン質として用いたデンプン性含水原料を焼成して可食容器やクッキー、ビスケットなどの成形焼き菓子を製造する場合に、本発明にかかる加熱成形物の製造方法を用いるため、高品質の成形焼き菓子を高い生産効率で製造することができる。
【００５７】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記移動手段として、複数の支持軸により回転可能に張り巡らされているコンベア手段が用いられることを特徴としている。
【００５８】
上記方法によれば、成形型を効率的に加熱領域へ移動できるため、成形物の生産効率を向上させることができる。また、無限軌道のように連続的に回転移動できるため、製造設備の設置スペースを小さくすることも可能となる。
【００５９】
【発明の実施の形態】
〔実施の形態１〕
本発明における実施の一形態について図１ないし図１３に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６０】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、成形用原料を仕込んだ複数の成形型を順次連続的に移動させながら、高周波の交流電流を印加する領域（加熱ゾーン）を通過させ、そこで成形用原料に誘電加熱を生じさせて加熱成形を行うようになっているが、特に、上記加熱ゾーンが、さらに複数のサブゾーンに分割されており、各サブゾーン毎に電源部（発振器）が設けられている。
【００６１】
本発明が適用される用途としては、高周波の交流電流を印加することによって成形用原料を誘電加熱して加熱成形する用途、特に連続して複数の加熱成形物を効率よく製造する用途であれば特に限定されるものではないが、たとえば、上記用途として、アイスクリームの盛りつけ用コーンやもなか等の可食容器、あるいは、クッキーやビスケット、ウエハース等といった一定の形状に焼き上げる成形焼き菓子、あるいはデンプン質を主成分とする生分解性成形物を、大量かつ効率よく生産する用途に用いる用途を、特に好ましく挙げることができる。
【００６２】
なお、以下の説明では、上記成形焼き菓子および生分解性成形物など、デンプン質を主成分とするデンプン性含水原料を加熱成形して得られる成形物を焼成物とする。また、本実施の形態では、後述するように、成形型が導電性のある電極であり、成形用原料が上記のように水を含んでいる含水原料であるので、高周波の交流電流を印加することで誘電加熱が生じるとともに、含水原料にも直接電流が流れて該含水原料が昇温する通電加熱が実施される。そこで、以下の説明で用いる「誘電加熱」という用語には、上記狭義の誘電加熱だけでなく、これと同時に実施される上記通電加熱も含まれるものとする。
【００６３】
本実施の形態では、本発明を、上記焼成物を製造する用途に適用した場合を例に挙げて、本発明を詳細に説明する。また、以下の説明では、加熱成形物の製造方法および製造装置を適宜、製造方法および製造装置と略す。また、高周波の交流電流も適宜、高周波と略す。さらに加熱成形物も単に成形物と略す。
【００６４】
本実施の形態で用いられる製造装置は、図２の概略回路図に示すように、加熱部１および電源部（電源手段）２を備えている。加熱部１は、給電部３とこれに対応する複数の金型（成形型）７…を含んでおり、電源部２は、高周波発生部２１、整合回路２２、および制御回路２３を含んでいる。また金型７中には、成形用原料１４が仕込まれている。なお、説明の便宜上、図２では金型７は一つのみ図示している。
【００６５】
上記高周波発生部（発振部）２１は、高周波の交流電流を発生させるものであれば、その具体的な構成は特に限定されるものではなく、たとえば真空管式の発振器など従来公知のものを用いることができる。この発振器には、整合回路２２や制御回路２３などが含まれていてもよい。
【００６６】
上記整合回路２２としては、たとえば可変コンデンサーや可変コイルを備えている構成が挙げられる。この整合回路２２は、加熱の対象となる成形用原料１４に応じて、その静電容量やインダクタンスを変化させることにより、高周波の最適な出力や同調を得ることができるようになっている。上記可変コンデンサーや可変コイルの具体的な構成としては、従来公知のものが用いられ、特に限定されるものではない。また、整合回路２２の構成も、可変コンデンサーや可変コイルを備えている上記構成に限定されるものではない。
【００６７】
上記制御回路２３としては、加熱部１に対する高周波の出力、すなわち後述する加熱ゾーンへの高周波の印加を適切に制御できるものであれば特に限定されるものではなく、従来公知の制御手段を用いることができる。
【００６８】
上記加熱部１に含まれる金型７は、一対の電極ブロック１２・１３に分割可能となっており、これら電極ブロック１２・１３の間に、加熱対象物としての成形用原料１４が挟持される。また後述するように、電極ブロック１２には受電部４が設けられており、この受電部４と給電部３とで給受電部１１が構成される。上記電極ブロック１２・１３は互いに絶縁状態となるように配置されており、給受電部１１を介して印加される高周波によって成形用原料１４に誘電加熱を生じさせる。
【００６９】
上記電極ブロック１２・１３のうち、電極ブロック１２は、給受電部１１に接続される給電極となっており、電極ブロック１３は、アースに接続される接地極となっている。給電極および接地極、すなわち電極ブロック１２・１３のより具体的な構成としては、これらを組み合わせて一つの導電性を有する成形型を形成するようになっていれば特に限定されるものではないが、一般的には、各種金属からなる金型７が用いられる。この金型７の具体的な形状は特に限定されるものではなく、成形物の形状に応じたものが用いられる。
【００７０】
換言すれば、本実施の形態で用いられる導電性を有する成形型としては、金型７が好適に用いられ、この金型７は、その具体的な形状に関わらず、上記給電極および接地極に対応するように二つの電極ブロック１２・１３に分割可能となっている。
【００７１】
具体的には、たとえば、成形物がアイスクリームやソフトクリームを盛りつけるカップコーンであれば、図３（ａ）・（ｂ）に示すように、複数（同図では５個）のコーン用の金型７を一体化して一列に配列した構成の一体金型（一体成形型）５を用いることができる。この一体金型５は、図３（ｂ）に示すように、カップコーンの内側表面を成形する内部金型片５ａと、カップコーンの外側表面を成形する２個の外部金型片５ｂ・５ｂとの計３個に分割されるようになっている。内部金型片５ａは、カップコーンの内部空間に対応するような略円錐形状に形成されているが、外部金型片５ｂ・５ｂは、円錐状で一方向に長いカップコーンを取り出し易くするために、カップコーンの長手方向に沿って等分されるように２分割されている。
【００７２】
このように図３（ａ）・（ｂ）の構成では、カップコーンの取り出しの関係上、一体金型５が３分割されているが、この場合でも、内部金型片５ａが上記給電極のブロック（電極ブロック１２）に対応し、二つの外部金型片５ｂ・５ｂが接地極のブロック（電極ブロック１３）に対応するように、２ブロックに分割されている。また、内部金型片５ａには板状の受電部４が各金型７に対応するように設けられている。
【００７３】
あるいは、図４（ａ）・（ｂ）に示すように、平板状の成形物を得る場合には、複数（同図では３個）の平板状の金型７を一体化して一列に配列された構成の一体金型５が挙げられる。この構成では、上方金型片５ｃおよび下方金型片５ｄの二つの金型片の組み合わせによりなっているので、上方金型片５ｃが給電極のブロック（電極ブロック１２）に、下方金型片５ｄが接地極のブロック（電極ブロック１３）に対応している。また、上方金型片５ｃには板状の受電部４が各金型７に対応するように設けられている。
【００７４】
このように、本発明で用いられる電極ブロック１２・１３を兼ねる一体金型５（または金型７）は、多数の金型７を一体化して１個の一体金型５にまとめることになるので、加熱ゾーンに一度に大量の金型７を移動させることができる。その結果、成形物の生産効率を向上することができる。
【００７５】
また、上記一体金型５は、成形物の形状や成形後の成形物の取り出し方法に応じて、三つ以上の金型片からなっていてもよいが、その場合でも給電極のブロック（電極ブロック１２）と接地極のブロック（電極ブロック１３）とに必ず分割できるようになっている。これによって、成形用原料１４（以下、原料と略す）４に対して確実に高周波を印加することができる。
【００７６】
上記一体金型５は、成形型７における電極ブロック１２・１３となるため、高周波が印加されることになる。そのため、一体金型５を構成する給電極のブロック（電極ブロック１２）と接地極のブロック（電極ブロック１３）とは、原料１４を介在した状態で直接接触しないようになっている。具体的には、これら各ブロックの間には、絶縁部５０が設けられるようになっている。上記絶縁部５０は、給電極のブロックと接地極のブロックとの接触を防止するためのものであれば特に限定されるものではないが、一般的には各種絶縁体が用いられる。あるいは絶縁体の代わりに空間が形成されるようになっていてもよい。
【００７７】
本実施の形態における上記一体金型５には、内圧を調整するための蒸気抜き部（図示せず）を設けてもよい。後述するデンプン性含水原料を加熱成形して得られる焼成物においては、原料１４となる生地がデンプン質と水分とを含んでいるため、加熱成形の進行にともなって蒸気を金型７外に排出しなければならないが、金型７の形状によっては蒸気を排出できない場合がある。そこで、金型７に蒸気抜き部を設けることによって、蒸気を金型７外に逃がして内圧を良好に調整することができる。なお、上記蒸気抜き部の具体的な構成としては特に限定されるものではなく、蒸気を金型７外へ均一かつ効率的に逃がせるような形状、大きさ、数、形成位置であればよい。
【００７８】
また、原料１４や成形物の性質等に応じて、上記一体金型５を含む加熱部１全体がチャンバーになっており、真空ポンプによって内部を減圧できるような構成となっていてもよい。
【００７９】
本発明を適用して製造される成形物は、本実施の形態では、上述したように、コーンといった可食容器を含む成形焼き菓子や生分解性成形物などの焼成物となっている。この焼成物の具体的な形状は、特に限定されるものではなく、該焼成物の用途等に応じた種々の形状を挙げることができる。勿論、成形物としては焼成物に限定されるものではなく、その他の成形物であってもよい。
【００８０】
たとえば、上記コーンとしては、図５（ａ）・（ｂ）に示すような、円錐形状のカップコーン８ａや、図６（ａ）・（ｂ）に示すような、平らな円板形状のワッフルコーン８ｂなどが挙げられる。これらコーンの具体的なサイズも特に限定されるものではない。
【００８１】
あるいは、上記生分解性成形物としては、図７（ａ）・（ｂ）に示すような、四角形状で周囲に縁部の形成された平板状のトレイ８ｃを挙げることができるが、これも限定されるものではない。特に、生分解性成形物の場合は、上記コーンのような可食容器とは異なり、その用途が多岐におよぶので、その形状は、より一層多種類となる。
【００８２】
上記焼成物の原料１４についても特に限定されるものではない。本実施の形態では、デンプン質を主成分としており、その他用途に応じて種々の副成分を加え、これらを水に添加・混合することによって、可塑性を有するドウ状、または流動性を有するスラリー状となっているデンプン性含水原料を好適に用いることができる。
【００８３】
たとえば、上記コーン等の可食容器を含む成形焼き菓子の場合、一般的には、上記主成分のデンプン質として小麦粉が用いられ、コーンスターチ等のその他のデンプンを用いることもできる。さらに、副成分としては、食塩や砂糖等の調味料、油脂等の乳化剤、香料、着色料、安定剤、膨化剤、増粘剤、風味増強剤等の各種添加物を用いることができるが、これら副成分は、成形焼き菓子の種類等に応じて適宜選択されるものであり、特に限定されるものではない。
【００８４】
同様に、上記生分解性成形物の場合、各種デンプン質を主成分として、ケイソウ土やセルロース等の充填剤、各種ガム類などの結合剤、各種油脂等の離型剤、着色剤等を副成分として加えることができるが、特に限定されるものではない。さらに、上記主成分のデンプン質としては、通常の植物由来のデンプン（精製デンプン）や、小麦粉などデンプンを含む農産加工物（粗デンプン）だけでなく、架橋デンプン等のようにデンプンを化学処理等して得られる化学修飾デンプンを用いることも可能である。
【００８５】
本発明では、たとえば上記成形物を成形するために、原料１４が分注された金型７（一体金型５）を移動させながら連続的に加熱がなされるようになっている。そのため、上記一体金型５は、移動手段によって連続移動可能となっている。この移動手段としては、特に限定されるものではないが、成形物の生産性の観点から鑑みて、ベルトコンベアに代表されるコンベア部（コンベア手段）が特に好適に用いられる。
【００８６】
たとえば本実施の形態では、図８に示すように、少なくとも二つの支持軸１５ａ・１５ｂによって略平板状に張り渡され、無限軌道のように回転可能となっているベルトコンベア状のコンベア部６を用いている。このコンベア部６が張り渡されている方向については特に限定されるものではないが、本実施の形態では、水平方向に沿って張り渡されている。このような構成のコンベア部６を用いると、一体金型５を効率的に加熱ゾーンへ移動できるため、焼成物の生産効率がより向上する。また、無限軌道のように連続的に回転移動できるため、製造装置の設置スペースを小さくすることも可能である。
【００８７】
なお、以下の説明では、図８に示すように張り渡されたコンベア部６のレイアウトを無端平板状のレイアウトとする。また、コンベア部６の配置のレイアウトについては、上記無端平板状に限定されるものではなく、複数の支持軸によって回転可能に張り巡らされていればよい。
【００８８】
本実施の形態で用いられる製造装置では、コンベア部６の外周面全体に複数（図８では、３６個）の一体金型５…が取り付けられている。一体金型５は、複数の金型７が一列に配列されている（図８では５個）ので、その長手方向が互いに平行となるようにコンベア部６の外周面に取り付けられている。上記コンベア部６のより具体的な構成は特に限定されるものではなく、加熱に伴う一体金型５の温度上昇に耐えることができ、また上記一体金型５を外周面全体に取り付けた状態で、該一体金型５を円滑に搬送できるような構成であればよい。
【００８９】
本発明が適用される成形物の製造方法には、少なくとも次の三つの工程が含まれる。すなわち、金型７（一体金型５）に原料１４を注入する原料注入工程、原料１４を注入した金型７（一体金型５）に高周波を印加して誘電加熱を生じさせて加熱成形する加熱工程、および加熱成形が完了した金型７（一体金型５）から成形物を取り出す成形物取り出し工程である。したがって、図８に示すレイアウトの製造装置においても、これら各工程が実施される領域、すなわちプロセスゾーンが予め設定されている。
【００９０】
図８に示すような無端平板状のコンベア部６においては、支持軸１５ａ側の端部（図８では、向かって右側の端部）における上方側の領域に原料注入ゾーンＡが設定され、コンベア部６の回転方向（図中矢印の方向）の下流側の領域で、支持軸１５ｂ側の端部をはさむコンベア部６の外周の大部分となる領域に加熱ゾーンＢが設定され、さらにその下流側で、支持軸１５ａ側の端部の下方側で原料注入ゾーンＡにつながる領域に、成形物取り出しゾーンＣが設定されている。
【００９１】
上記加熱ゾーンＢには、少なくとも、図２に示すような構成を有し、一体金型５に対して高周波を印加して誘電加熱を生じさせる高周波加熱手段が備えられていればよいが、原料１４の種類によっては、外部加熱手段が設けられていることが好ましい。
【００９２】
上記外部加熱手段としては、一体金型５の外部から熱を加えることで、熱伝導により、一体金型５内の原料１４を加熱することができるような構成となっていれば特に限定されるものではない。一般的には、図９（ａ）・（ｂ）に示すように、加熱ゾーンＢ全体に渡って、上記コンベア部６が張り渡されている形状に沿って設けられているガス加熱部９を挙げることができる。
【００９３】
外部加熱では、一体金型５を外部から加熱して、一体金型５の温度（金型温度）を一定に保持することにより、熱伝導によって原料１４を加熱するようになっている。そのため、図９（ａ）・（ｂ）に示すように、コンベア部６の外周側にガス加熱部９が配置されるだけでなく、図９（ｂ）に示すように、コンベア部６の内周側にもガス加熱部９が配置されることが非常に好ましい。これによって、一体金型５の上下方向から外部加熱を実施することになるので、より均一な加熱が可能になる。
【００９４】
上記ガス加熱部９としては、焼成物の製造に用いられる従来公知の構成を好適に用いることができ、その具体的な構成については特に限定されるものではない。なお、図９（ａ）・（ｂ）では、ガス加熱部９の配置状態を明確にする便宜上、図８と同様に給電部３は記載していない。
【００９５】
本発明では、特に、上記成形物が、上記可食容器などを含む焼成焼き菓子である場合には、加熱ゾーンＢにおいて、誘電加熱だけでなく外部加熱も併用することが好ましい。
【００９６】
このように加熱ゾーンで、誘電加熱と外部加熱とが併用されると、原料１４であるデンプン性含水原料においては、誘電加熱由来の原料１４そのものの急激な加熱と、外部加熱由来の熱伝導による緩やかな加熱とが同時に実施されることになる。その結果、デンプン性含水原料をより一層確実かつ十分に加熱することができるだけでなく、外部加熱を併用することによって、デンプン性含水原料を「焼く」（焼成する）ことにより、成形焼き菓子に各種の特性を与えることができるので好ましい。
【００９７】
具体的には、上記各種の特性としては、たとえば、成形物の組織状態、添加物の効果の発現状態、焼成状態などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。また、これら各種特性をどのようなレベルで与えるかについては、誘電加熱と外部加熱とのバランスによって変化されるが、この各加熱のバランスの制御については、原料１４の種類等に応じて異なるものであり、特に限定されるものではない。
【００９８】
上記成形物の組織状態には、表層組織の厚み、内部組織の細密度、内部気泡壁の状態、デポ跡などが挙げられる。一般に、誘電加熱に対する外部加熱の比率が低い、すなわち誘電加熱の比率が高いと、表層組織は薄くなり、内部組織は細密になり、内部気泡壁も薄くなり、デポ跡も薄くなる。逆に、誘電加熱に対する外部加熱の比率が高いと、表層組織は厚くなり、内部組織は粗くなり、内部気泡壁も厚くなり、デポ跡も濃くなる。
【００９９】
上記添加物の効果の発現状態としては、たとえば着色料や香料の効果の発現を例に挙げることができる。たとえば可食容器の場合では、デンプン性含水原料に赤色の着色料を加えて焼成後の可食容器を発色させることが多いが、誘電加熱の比率が高いと、少し茶色がかった赤色が発色するため、良好な発色効果が発現する。一方、外部加熱の比率が高いと、着色料が退色して発色不良を起し易い。上記赤色の着色料の場合、良好に赤色が発色できず、茶褐色となってしまう。また、香料を加えた場合では、誘電加熱の比率が高いと、良好なフレーバーが残るが、外部加熱の比率が高いと、香料に含まれる香気成分の変質や蒸発等により、フレーバーの残り具合が悪くなる。
【０１００】
上記焼成状態としては、一般的には、焼成色やロースト臭を挙げることができる。すなわち、焼成状態には、焼成による適度な「焦げ色」や「香ばしさ」が得られるか否かが挙げられる。誘電加熱の比率が高いと、焼成色もロースト臭も薄いが、外部加熱の比率が高いと、焼成色もロースト臭も濃くなる。
【０１０１】
上記ガス加熱部９による外部加熱温度としては、原料１４の種類等によって適宜変化するものであり、特に限定されるものではない。たとえば、上記成形焼き菓子の場合では、上記金型温度を基準に加熱温度を制御することになっており、一般的には、金型温度が１１０℃以上２３０℃以下の範囲内となるように外部加熱することが好ましく、目標とする成形物の性状に応じて金型温度を上記範囲内で適宜設定する。
【０１０２】
本発明では、上記加熱ゾーンＢに、高周波を印加して誘電加熱を生じさせる高周波加熱手段が備えられており、この高周波加熱手段が電源部２および給電部（給電手段）３を含んでいる。さらに上述したように、一体金型５には、移動時に上記給電部３から継続して高周波を受電するための受電部（受電手段）４が設けられている。そして、これら給電部３および受電部４によって上記給受電部１１が構成されている（図２参照）。
【０１０３】
上記給電部３のより具体的な構成としては特に限定されるものではないが、たとえば、金属等の導電性の材料によって形成されており、図１０（ｂ）に示すように、その断面が「コ」の字状（あるいは略Ｕ字状）となっており中央に凹部３１を有する形状が挙げられる。換言すれば、長方形状の板状部材を、互いに対向する側面部３２・３２とこれをつなぐ上面部３３とを形成するように、長手方向と平行な二つの折り線で折り曲げて「コ」の字状の断面に形成した形状を挙げることができる。
【０１０４】
一方、これに対応する受電部４のより具体的な構成については、給電部３との間で非接触に高周波の受電ができるようになっていれば特に限定されるものではないが、たとえば、図１０（ａ）・（ｂ）・（ｃ）に示すように、上記互いに対向する側面部３２・３２の間に非接触で挟まれるような平板状の構成を挙げることができる。この受電部４も給電部３と同じく金属等の導電性の材料によって形成されていればよい。
【０１０５】
ここで、上記給電部３は、加熱ゾーンＢ全体に渡って、コンベア部６が張り渡されている形状に沿って設けられているので、「コ」の字状の断面を有するレール状の構成で配置されているとも表現できる。そして、受電部４は、このレール状の給電部３に対応するような形状で、電極ブロック１２に接続される。
【０１０６】
たとえば、図１０（ａ）・（ｂ）・（ｃ）に示すように、上記一体金型５においては、給電極のブロック（電極ブロック１２）となる金型片（内部金型片５ａまたは上方金型片５ｃ）に受電部４が設けられている。具体的には、図３（ａ）・（ｂ）または図４（ａ）・（ｂ）に示す構成の一体金型５では、一体金型５を構成する５個または３個の各金型７それぞれに対して受電部４が設けられている。また、この場合では、給電部３も個々の金型７に対応するように複数平行して配置される。
【０１０７】
さらに、図３（ａ）・（ｂ）に示すように一体金型が５個の金型７…からなっている構成では、図１１（ａ）に示すように、レール状の給電部３も５列平行して配置されている。
【０１０８】
あるいは、一体金型５は５個の金型７が一体化しているため、たとえば図１１（ｂ）に示すように、たとえば中央の金型７にのみ受電部４を設け、他の四つの金型７…に対して高周波を印加するように一体金型５を構成することもできる。この場合、レール状の給電部３は１列のみ配置すればよくなるので、製造装置の構成を簡素化することができる。
【０１０９】
このように、本実施の形態では、「コ」の字状の断面を形成するレール状の給電部３と平板状の受電部４との組み合わせによって給受電部１１が構成されている。それゆえ、コンベア部６の搬送により一体金型５が加熱ゾーンＢに入ると、レール状の給電部３の凹部３１（対向する側面部３２・３２の間）に平板状の受電部４が非接触で挟まれる。そして、コンベア部６の搬送に伴ってレール状の給電部３に沿って受電部４が移動（図１０（ａ）・（ｃ）の矢印方向）することになる。
【０１１０】
このとき、給電部３の凹部３１では、受電部４とこれを挟む側面部３２・３２と、これらの間の空間によってコンデンサーが形成されることになる。その結果、電源部２から一体金型５に対して給電が開始され、誘電加熱によって加熱・乾燥処理が開始される。その後、一体金型５が加熱ゾーンＢを抜けるまで、すなわち給電部３の凹部３１から受電部４が外れるまで加熱・乾燥処理を円滑かつ確実に継続することができる。
【０１１１】
換言すれば、本発明では、受電部４が平板状となっており、給電部３は、受電部４に対向する対向面を有しており、上記平板状の受電部４を上記対向面に対向させることにより、非接触で高周波の交流電流を印加するようになっていることが好ましい。そして、上記対向面として、互いに対向する側面部３２・３２が設けられるとより好ましい。したがって、上記給電部３は「コ」の字状の断面を有さず、側面部３２を一つのみ有する平板状となっていてもよい。
【０１１２】
なお、上記給電部３および受電部４の具体的な構成は、上述した構成に限定されるものではない。すなわち、原料１４の配合や成形物の最終的な形状に応じて、給電部３や受電部４の形状を適宜変化させたり、その他の部材を含めることによって誘電加熱の発生のさせ方を変えたりしてもよい。たとえば、上記受電部４と側面部３２・３２との間には、絶縁体が配置されることによって、コンデンサーとしての作用をより向上させてもよい。
【０１１３】
したがって、本発明における非接触の給電とは、給電部３と受電部４（すなわち電極ブロック１２）とが直接接触していなければよい。このように給受電部１１が非接触で給電を行うようになっていれば、直接電極が接触しないため、加熱ゾーンでスパークなどの発生を回避することができる。
【０１１４】
本実施の形態で用いられる製造装置では、図１に示すように、無端平板状のレイアウトで配置されたコンベア部６（図８参照）の外周面に一体金型５（たとえば図３（ａ）・（ｂ）に示すカップコーン８ａ用の一体金型５）が全面に取り付けられている。さらに、コンベア部６における加熱ゾーンＢに対応する位置に、加熱部１の一部を構成するレール状の給電部３（図１０・図１１参照）が配置されている。そして、コンベア部６の回転移動により、上記一体金型５が図中矢印の方向（図１においては反時計周り方向）に移動し、加熱ゾーンＢに到達した時点で加熱が開始される。
【０１１５】
ここで、本実施の形態では、図１に示すように、上記加熱ゾーンＢ全体では、２５個の一体金型５に対して高周波を印加することが可能になっており、好ましくは、図９に示すガス加熱部９によって外部加熱も可能になっているとする。したがって、加熱ゾーンＢに設けられる給電部３およびガス加熱部９の全長は、一体金型５の２５個分の長さとなっている。
【０１１６】
また、一体金型５が図３（ａ）・（ｂ）に示す上記カップコーン８ａ用であるので、加熱ゾーンＢ全体では、１２５個の金型７…を加熱することが可能になっている。さらに、このときの電源部２の高周波の出力は、上記加熱ゾーンＢ全体において１００ｋＷとなるように設定されているとする。したがって、１個の金型７に印加される高周波の出力は０．８ｋＷとなる。
【０１１７】
そして、本発明においては、上記加熱ゾーンＢに設けられる高周波加熱手段が複数に分割されている。すなわち、加熱ゾーンＢには、電源部２および給電部３を含む高周波加熱手段が複数設けられており、これら複数の高周波加熱手段がまとまって一つの加熱ゾーンＢを形成していることになる。
【０１１８】
図１に示す構成では、加熱ゾーン（加熱領域）Ｂは二つのサブゾーン（下位領域）ｂ１・ｂ２に分割されており、各サブゾーンｂ１・ｂ２それぞれに、電源部２ａ・２ｂおよび給電部３ａ・３ｂが設けられている。具体的には、コンベア部６の回転移動方向の上流側がサブゾーンｂ１となり、下流側がサブゾーンｂ２となっている。
【０１１９】
上記のように、１２５個の金型７…に対して加熱工程を施すような大規模な製造装置であれば、高周波発生部２１の出力は、たとえば上記のように１００ｋＷと非常に大きな値となる。さらに、コンベア部６が無端平板状のレイアウトとなっているので、加熱ゾーンＢは、コンベア部６の支持軸１５ｂ側の端部を包み込むように配置されるため、より長くなる。そのため、高周波の印加時には、高周波が特定の位置に局在化し易くなり、それゆえ大きな高周波エネルギーが特定の位置に集中する現象が発生し易くなる。
【０１２０】
しかも、上記のように、原料１４が水分を含む含水原料であれば、加熱に伴う水分量の変化によって、原料１４の電気特性は大幅に変化する。そのため、この原料１４の電気特性の変化によっても、高周波が局在化し易くなる。それゆえ、高周波エネルギーの集中現象がより一層発生し易くなる。
【０１２１】
上記高周波エネルギーの集中現象が発生すると、一部の一体金型５に対して過剰な加熱（過加熱）が発生し易くなり、原料１４の成形性が低下したり、得られる成形物の物性が低下するなどの問題点が生じる。さらに、高周波発生部２１の出力が元来大きいため、高周波エネルギーの集中は、過加熱のみならず、スパークの発生や、さらには絶縁破壊までも引き起こしかねない。
【０１２２】
従来の技術では、製造装置の規模が小さかったため（図２４参照）、高周波エネルギーの集中が発生しても、まず問題はなかったが、生産効率を上げるべく製造装置を大規模化すると、上記のような問題点が発生する。
【０１２３】
これに対して本発明では、加熱ゾーンＢを、たとえば二つのサブゾーンｂ１・ｂ２に分割しており、各サブゾーンｂ１・ｂ２における高周波の出力も全体の出力から分割している。そのため、上記のような高周波エネルギーの集中現象の発生を効果的に抑制または回避することが可能になり、過加熱や絶縁破壊などの現象の発生を防止することができる。
【０１２４】
図１に示す例では、加熱ゾーンＢは、互いに均等な長さで、かつ均等な出力を有するサブゾーンｂ１・ｂ２に分割されている。具体的には、加熱ゾーンＢ全体の長さが一体金型５の２５個分の長さであるので、サブゾーンｂ１およびサブゾーンｂ２のそれぞれが一体金型５の１２．５個分の長さを有していることになる。すなわち、サブゾーンｂ１に設けられている給電部３ａも、サブゾーンｂ２に設けられている給電部３ｂもそれぞれ同じ長さを有しており、何れも１２．５個の一体金型５（合計６２．５個の金型７）に高周波を印加できるようになっている。
【０１２５】
また、加熱ゾーンＢ全体の高周波の出力が１００ｋＷであるので、サブゾーンｂ１・ｂ２に設けられている電源部２ａ・２ｂの高周波の出力は、何れも５０ｋＷに設定されている。したがって、加熱ゾーンＢ全体の出力は１００ｋＷで変わらず、１個の金型７に印加される高周波の出力も０．８ｋＷで変わらない（図２５参照）。
【０１２６】
本実施の形態では、加熱ゾーンＢが二つに分割されていれば、その分割パターンについては特に限定されるものではない。すなわち、加熱ゾーンＢの分割については、金型７（一体金型５）に対する高周波の印加方法、コンベア部６のレイアウト、原料１４および完成品である成形物の性質や特性等に応じて適宜変化させることができる。
【０１２７】
たとえば、図１２に示すように、加熱ゾーンＢを二つのサブゾーンｂ１・ｂ２に分割する点は図１に示す例と同様であるが、サブゾーンｂ１の長さ（給電部３ａの長さ）を一体金型５の９個分の長さとし、電源部２ａの出力を３６ｋＷとするとともに、サブゾーンｂ２の長さ（給電部３ｂの長さ）を一体金型５の１６個分の長さとし、電源部２ｂの出力を６４ｋＷとしてもよい。
【０１２８】
この場合、サブゾーンｂ１では、合計４５個の金型７…に高周波を印加できるようになっており、サブゾーンｂ２では、合計８０個の金型７…に高周波を印加できるようになっているが、加熱ゾーンＢ全体の出力は１００ｋＷ、１個の金型７に対する出力は０．８ｋＷのままである。
【０１２９】
逆に、図１３に示すように、サブゾーンｂ１の長さを一体金型５の１６個分の長さとし、電源部２ａの出力を６４ｋＷとするとともに、サブゾーンｂ２の長さを一体金型５の９個分の長さとし、電源部２ｂの出力を３６ｋＷとしてもよい。この場合、サブゾーンｂ１では、合計８０個の金型７…に高周波を印加できるようになっており、サブゾーンｂ２では、合計４５個の金型７…に高周波を印加できるようになっているが、加熱ゾーンＢ全体の出力は１００ｋＷ、１個の金型７に対する出力は０．８ｋＷのままである。
【０１３０】
次に、本発明を適用した成形物の製造プロセスの一例について説明する。なお、以下の説明では、前述したカップコーン８ａを製造する場合を例に挙げる。したがって、上記原料１４は前記含水原料であり、金型７としては、図３（ａ）・（ｂ）に示す一体金型５を用いる。勿論、本発明は、この製造例に限定されるものではない。
【０１３１】
まず、一体金型５を構成する各金型片のうち、接地極のブロック（電極ブロック１３）を構成する二つの外部金型片５ｂ・５ｂ同士を閉じた後、原料１４を金型７内に注入する。その後、給電極のブロック（電極ブロック１２）を構成する内部金型片５ａと外部金型片５ｂ・５ｂ同士の型締めを行う（原料注入工程）。この原料注入工程は、図８における原料注入ゾーンＡで実施される。
【０１３２】
原料１４が注入された一体金型５は、原料１４が仕込まれて加熱成形の準備が完了した状態となる。そこで、コンベア部６の回転移動によって、一体金型５は原料注入ゾーンＡから加熱ゾーンＢに搬送される。加熱ゾーンＢでは、給受電部１１を介して電源部２ａ・２ｂから高周波が非接触で印加されるので、誘電加熱が開始されるとともに、上記ガス加熱部９によって外部加熱も開始される（加熱工程）。この加熱ゾーンＢは、たとえば図１に示すように、サブゾーンｂ１・ｂ２に分割されているので、上述したように、高周波エネルギーの集中現象が発生しない。それゆえ、原料１４を効率的かつ確実に加熱・乾燥させて成形することができる。
【０１３３】
その後、一体金型５が加熱ゾーンＢを抜けると、加熱・乾燥処理が終了して成形が完了したことになる。そこで、一体金型５を形成している上記内部金型片５ａおよび外部金型片５ｂ・５ｂの型締め状態を開放して、内部の成形物（カップコーン８ａ）を取り出す（成形物取り出し工程）。以上で、一連の製造プロセスが完了する。
【０１３４】
なお、上記製造プロセスには、たとえば、次に述べる原料安定化工程（あるいは加熱遅延工程）などの他の工程が加えられていても構わず、上記の例に特に限定されるものではない。
【０１３５】
たとえば、カップコーン８ａ等の可食容器を含む成形焼き菓子の製造においては、加熱工程の前段に、原料安定化工程が加えられることが好ましい。この工程は、金型７（一体金型５）に注入した原料１４を金型７内で一定時間保持して安定化させるものである。
【０１３６】
上述したように、成形焼き菓子の製造等では、誘電加熱だけでなく外部加熱を併用することが好ましい。このとき、ガス加熱部９などの外部加熱手段が加熱ゾーンＢのみに設けられていたとしても、金型７（一体金型５）がコンベア部６の回転移動によって継続して搬送されるので、製造装置全体でみれば、原料注入ゾーンＡや成形物取り出しゾーンＣでも、金型７はほとんど冷却されない。
【０１３７】
たとえば、加熱ゾーンＢで、金型温度を１８０℃まで昇温させる外部加熱が実施されるとすれば、コンベア部６によって一体金型５（金型７）が搬送されて成形物取り出しゾーンＣや原料注入ゾーンＡに達しても、金型温度はほぼ１８０℃のままで維持される。それゆえ、外部加熱を併用した場合では、加熱ゾーンＢは、原料注入ゾーンＡや成形物取り出しゾーンＣにまでおよんでいるとも表現することができる。
【０１３８】
それゆえ、加熱ゾーンＢで高周波を印加する前段で、注入した原料１４を一定期間、金型７内で放置させると、該原料１４に対しては、高温の金型７からの熱伝導により緩やかな外部加熱が実施されることになる。この緩やかな加熱によって原料１４の初期変化は完了するため、その後に、金型７に対して高周波を印加すると、金型７内の原料１４に良好な誘電加熱が生じる。その結果、原料１４の成形性が改善され、得られる成形物の物性も向上させることができる。
【０１３９】
また、原料１４を安定化させているために、最も電気特性変化の激しい時間帯に、原料１４に高周波を印加しないことになる。そのため、加熱ゾーンＢで大きな出力の高周波を印加しても、原料１４の電気特性変化が少なくて済み、高周波エネルギーの集中現象の発生をより一層低下させることができる。
【０１４０】
本実施の形態では、上記原料安定化工程は、原料注入工程に含められている。それゆえ、図８に示すゾーン分けでは、図示しないが、加熱ゾーンＢに続く原料注入ゾーンＡの下流側が、原料安定化ゾーンとなる。したがって、原料注入ゾーンＡでは、実際に原料１４が注入されるのは、その上流側の領域であって、下流側では、注入後の原料１４を放置して安定化させる領域となっている。
【０１４１】
このように本発明では、高周波を印加する加熱ゾーンを複数のサブゾーンに分割し、各サブゾーンにそれぞれ電源部と給電部とを設けるようになっている。そのため、加熱ゾーン内で高周波エネルギーの集中現象の発生を抑制または回避することができる。その結果、過加熱や絶縁破壊等の発生を効果的に防止することができ、得られる原料の成形性や物性を向上させることができる。
【０１４２】
〔実施の形態２〕
本発明における実施の他の形態について図１４ないし図１６に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本発明はこれに限定されるものではない。また、説明の便宜上、前記実施の形態１で使用した部材と同じ機能を有する部材には同一の番号を付記し、その説明を省略する。
【０１４３】
前記実施の形態１では、加熱ゾーンＢを２分割した例を挙げたが、本実施の形態では、加熱ゾーンＢを三つ以上に分割する例を挙げて本発明を説明する。
【０１４４】
具体的には、たとえば、図１４に示すように、コンベア部６の移動方向を基準として、上流側から、サブゾーンｂ１・ｂ２・ｂ３・ｂ４・ｂ５となるように、加熱ゾーンＢを５分割する。各サブゾーンには、電源部２ａ・２ｂ・２ｃ・２ｄ・２ｅと、給電部３ａ・３ｂ・３ｃ・３ｄ・３ｅが設けられる。
【０１４５】
ここで、上記加熱ゾーンＢの分割パターン、すなわち、各サブゾーンの長さ（給電部３ａ〜３ｅの長さ）や、電源部２ａ〜２ｅにおける高周波の出力については、高周波エネルギーの集中が抑制または回避できれば、特に限定されるものではない。それゆえ、前記実施の形態１と同様、出力および長さともに均等となるように単純に３分割してもよいし、出力および長さが異なっていても、１個の金型７に印加される高周波の出力が同じとなるように分割してもよい。
【０１４６】
しかしながら、原料１４や完成品である成形物の性質に応じて、各サブゾーンで異なる出力の高周波を印加するようになっているとより好ましい。この場合、各サブゾーンにて異なるレベルで加熱・乾燥処理が実施されるため、単に高周波エネルギーの集中を抑制または回避するだけでなく、原料１４の成形性や得られる成形物の物性をより一層向上させることができる。
【０１４７】
たとえば、前記デンプン性含水原料では、加熱成形の最初の段階で電気特性（高周波特性）が激しく変化するため、あまり大きな出力の高周波を印加することは好ましくない。また、加熱成形の最後の段階では、加熱・乾燥がほぼ完了しつつあるので、大きな熱を加えると過加熱が生じて成形品（カップコーン８ａなど）の物性が低下する。
【０１４８】
前記実施の形態１と同様に、加熱ゾーンＢを均等に分割すると、図１４に示すように、サブゾーンｂ１〜ｂ５の長さは、それぞれ一体金型５の５個分の長さとなり、電源部２ａ〜２ｅの出力もそれぞれ２０ｋＷとなる。この分割パターンの場合では、各サブゾーンでは、２５個の金型７…に高周波を印加することになるが、加熱ゾーンＢ全体の出力は１００ｋＷ、１個の金型７に対する出力も０．８ｋＷのままである。
【０１４９】
これに対して、図１５に示すように、原料１４やカップコーン８ａ等の性質に応じて、各サブゾーンの電源部２ａ〜２ｅの出力を個別に変化させてもよい。具体的には、サブゾーンｂ１〜ｂ５の長さは、それぞれ一体金型５の５個分の長さで、２５個の金型７…に高周波を印加することは同じである。しかしながら、図１５に示す分割パターンでは、サブゾーンｂ１〜ｂ５の出力を何れも５ｋＷとし、サブゾーンｂ２・ｂ４の出力を何れも２０ｋＷとし、サブゾーンｂ３の出力を５０ｋＷとする。
【０１５０】
換言すれば、上記分割パターンでは、加熱プロセスの最初の段階であるサブゾーンｂ１からサブゾーンｂ２、そして中間段階であるサブゾーンｂ３にて、徐々に高周波の出力を大きくしていき、サブゾーンｂ３から最終段階であるサブゾーンｂ５にかけては、逆に、徐々に高周波の出力を小さくしている。
【０１５１】
上記分割パターンの場合でも、加熱ゾーンＢ全体の出力は１００ｋＷのままであるが、サブゾーンｂ１およびｂ５では、１個の金型７に対する出力は０．２ｋＷと小さくなり、サブゾーンｂ２およびｂ４では、１個の金型７に対する出力は０．８ｋＷと図１４の分割パターンと同じであり、サブゾーンｂ３では、１個の金型７に対する出力は２．０ｋＷと大きくなる。その結果、原料１４を加熱成形する際に、最初と最後で熱量の発生を少なくし、中間で熱量の発生を大きくできるので、高周波エネルギーの集中を抑制または回避できるだけでなく、原料１４の成形性や成形物の物性をより一層向上させることができる。
【０１５２】
図１５に示す例では、電源部２ａ〜２ｅの高周波の出力を変化させただけであるが、さらに各サブゾーンの長さも変化させてもよい。たとえば、図１６に示すように、コンベア部６の移動方向を基準として、上流側から、サブゾーンｂ１・ｂ２・ｂ３となるように、加熱ゾーンＢを３分割した場合、サブゾーンｂ１およびｂ３の長さ（給電部３ａ・３ｃの長さ）を一体金型５の５個分の長さとし、電源部２ａ・２ｃの出力を５ｋＷとするとともに、サブゾーンｂ２の長さ（給電部３ｂの長さ）を一体金型５の１５個分の長さとし、電源部２ｂの出力を９０ｋＷとする。なお、サブゾーンｂ１・ｂ３では、２５個の金型７…に高周波を印加することになり、サブゾーンｂ２では、７５個の金型７…に高周波を印加することになる。
【０１５３】
この分割パターンの場合、加熱ゾーンＢ全体の長さは、一体金型５の２５個分で変わらないが、サブゾーンｂ２の長さは、サブゾーンｂ１およびｂ３の長さの実質３倍となっている。また、加熱ゾーンＢ全体の出力も１００ｋＷと変わらないが、サブゾーンｂ１およびｂ３では、１個の金型７に対する出力は０．２ｋＷと小さくなり、サブゾーンｂ２では、１個の金型７に対する出力は１．２ｋＷと大きくなる。
【０１５４】
上記分割パターンでは、単に高周波の出力を変えるだけでなく、サブゾーンの長さも変えている。そのため、原料１４を加熱成形する際の最初と最後で熱量の発生を少なくするだけでなく、サブゾーンｂ１およびｂ３の長さを短くするので、熱量の発生を少なくする時間を短く設定することができる。また、サブゾーンｂ２の長さを長くすることで、加熱・乾燥処理に十分な熱量を要する中間帯の処理時間をより長くする設定することができる。
【０１５５】
その結果、原料１４に対してより一層適切に熱量を加えることが可能になり、高周波エネルギーの集中を抑制または回避できるだけでなく、原料１４の成形性や成形物の物性をさらに一層向上させることができる。
【０１５６】
以上のように、本実施の形態では、加熱ゾーンを三つ以上のサブゾーンに分割した上で、各サブゾーン毎に高周波の印加条件を変化させている。そのため、原料や成形物の性質に応じて、各サブゾーンにて異なるレベルの熱量を異なる時間で加えることが可能になる。その結果、より効果的な加熱成形が可能になるので、高品質の成形物を効率よく製造することができる。
【０１５７】
また、上記高周波の印加条件には、サブゾーン全体の交流電流の出力、１個の金型に対して印加される高周波の出力、およびサブゾーンの長さの少なくとも何れかが含まれていることが好ましい。各サブゾーンでこれら条件の少なくとも何れかを変化させれば、各サブゾーンにおける加熱の条件を変化させることができる。その結果、高周波エネルギーの集中を抑制または回避できるだけでなく、原料の成形性や成形物の物性をより一層向上させることができる。
【０１５８】
〔実施の形態３〕
本発明における実施のさらに他の形態について図１７ないし図１９、並びに図２６および図２７に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本発明はこれに限定されるものではない。また、説明の便宜上、前記実施の形態１または２で使用した部材と同じ機能を有する部材には同一の番号を付記し、その説明を省略する。
【０１５９】
前記実施の形態１または２では、加熱ゾーンＢを複数に分割した場合でも、加熱ゾーンＢ全体では、高周波加熱手段による誘電加熱と、外部加熱手段による外部加熱とが併用されていたが、本実施の形態では、加熱ゾーンＢの一部に、高周波の印加を休止する高周波印加休止ゾーンを設けることで、外部加熱のみが実施される領域を含めている。
【０１６０】
具体的には、図１７に示すように、本実施の形態では、加熱ゾーンＢの基本的な分割パターンは、前記実施の形態２で説明した５分割のパターンとなっており、前記実施の形態１で説明したガス加熱部９（図９参照）が加熱ゾーンＢ全体に設けられているが、サブゾーンｂ２に相当する部位には電源部２ｂおよび給電部３ｂが設けられておらず、高周波印加休止ゾーンｂ２−２となっている。
【０１６１】
上記高周波印加休止ゾーンｂ２−２では、前記実施の形態１で述べたガス加熱部９しか配置されていない。そのため、最も多くの熱量を要するサブゾーンｂ３の上流側で、外部加熱のみにより緩やかな加熱処理を実施することができる。そのため、原料１４に対してより適切な加熱処理を施すことができる。なお、この高周波印加休止ゾーンｂ２−２は、外部加熱のみ実施されるため、外部加熱ゾーンであるとも言える。
【０１６２】
また、上記高周波印加休止ゾーンｂ２−２は、原料１４であるデンプン性含水原料の電気特性変化が激しい部分にも相当する。そのため、この部分で高周波を印加しないことによって、高周波エネルギーの集中現象を回避することも可能になる。
【０１６３】
図１７に示す分割パターンでは、上記高周波印加休止ゾーンｂ２−２で高周波が印加されないため、高周波の出力を分割する観点からは、加熱ゾーンＢは実質的に四つに分割されていることになる。
【０１６４】
つまり、図１５に示した分割パターンと同様に、上記サブゾーンｂ１・ｂ２−２・ｂ３・ｂ４・ｂ５の長さは何れも一体金型５の５個分であり、電源部２ａ・２ｃ・２ｄ・２ｅの高周波の出力については、サブゾーンｂ１およびｂ５が何れも５ｋＷ（１個の金型７に対する出力が０．２ｋＷ）であり、サブゾーンｂ３が５０ｋＷ（１個の金型７に対する出力が２．０ｋＷ）である。しかしながら、加熱ゾーンＢ全体の高周波の出力は１００ｋＷであるので、本実施の形態では、高周波印加休止ゾーンｂ２−２を除くと、実質的に四つのサブゾーンに分割されることになる。
【０１６５】
上記サブゾーンｂ１・ｂ３〜ｂ５のうち、発熱量をより大きくした方が好ましい領域としては、サブゾーンｂ４が挙げられる。そこで、このサブゾーンｂ４の出力を５０ｋＷ（１個の金型７に対する出力が１．６ｋＷ）に設定する。サブゾーンｂ４は、最も多くの熱量を要するサブゾーンｂ３の下流側であり、最後の仕上げの加熱・乾燥処理がなされるサブゾーンｂ５の上流側であるので、高周波の出力を大きくしても構わない。
【０１６６】
一方、サブゾーンｂ１およびｂ５については、前記実施の形態２で述べたように多くの熱量を必要としないため、高周波の出力を大きくすることは好ましくない。また、サブゾーンｂ３については、高周波の出力はすでに十分大きく設定されているため、これ以上出力を大きくすると、過加熱が生じるおそれがあるため好ましくない。
【０１６７】
本実施の形態における製造方法を適用した成形物の製造プロセスの一例について説明する。基本的には、前記実施の形態１で説明した、原料注入工程、加熱工程、成形物取り出し工程の三工程のみとなっているが、さらに、加熱工程中に、外部加熱を実施するようになっている。
【０１６８】
原料注入工程により原料１４が仕込まれた一体金型５は、コンベア部６の回転移動によって加熱ゾーンＢに搬送される。そして、まずサブゾーンｂ１で外部加熱とともに高周波の印加がなされ、初期段階での「軽い」加熱処理がなされる。次に、外部加熱ゾーンｂ２−２では、高周波が印加されないため、誘電加熱は実施されず、外部加熱のみ実施されることになる。そのため、原料１４は熱伝導により比較的緩やかに加熱される。
【０１６９】
そして外部加熱ゾーンｂ２−２からサブゾーンｂ３に一体金型５が移動する時点では、前記実施の形態１における原料安定化工程と同様に、原料１４が緩やかな加熱によって安定化し、原料１４が熟成（養生）される。そのため、サブゾーンｂ３で最も大きな出力の高周波を印加しても、一体金型５内で、すでに原料１４の初期変化が完了しているため、原料１４の電気特性変化が少なくなり、原料１４が安定化する。その結果、サブゾーンｂ３でのスパークの発生頻度を低下させることができるとともに、原料１４の成形性を向上させることができる。
【０１７０】
その後、サブゾーンｂ４でサブゾーンｂ３に準ずる大きな出力の高周波が印加されるので、加熱・乾燥処理が効率的に進行する。最後に、サブゾーンｂ５で仕上げの「軽い」加熱・乾燥処理が実施されて、成形物の成形が完了する。
【０１７１】
このように、本発明では、加熱ゾーンＢにおいて、高周波を印加しないゾーンを設けても構わず、さらに、誘電加熱と外部加熱と併用した場合では、加熱ゾーンＢに外部加熱ゾーンを含めることも可能となっている。特に、原料１４に応じて、適宜、高周波印加休止ゾーンを設けることにより、成形性の向上や所望の完成品（成形物）物性を得ることが可能になる。
【０１７２】
あるいは、本実施の形態では、図１８に示すように、一つの加熱ゾーンＢを、サブゾーンｂ１およびｂ２に分割するとともに、各サブゾーンｂ１・ｂ２の間に高周波印加休止ゾーンｄを設け、さらに、この高周波印加休止ゾーンｄには、ガス加熱部９も設けない構成としてもよい。
【０１７３】
すなわち、サブゾーンｂ１およびｂ２には、それぞれ、電源部２ａ・２ｂと、給電部３ａ・３ｂが設けられているとともに、図１９に示すように、ガス加熱部９ａおよび９ｂがそれぞれ設けられているが、高周波印加休止ゾーンｄには、電源部２および給電部３だけでなくガス加熱部９も設けられていない。
【０１７４】
具体的には、上記サブゾーンｂ１は、原料注入ゾーンＡの下流側に設定され、その長さが一体金型５の９個分であるので、合計４５個の金型７…に高周波を印加できる。また、サブゾーンｂ１における電源部２ａの高周波の出力は５０ｋＷであるので、１個の金型７に対する出力が１．１ｋＷとなる。さらに、上記のように、サブゾーンｂ１の長さに対応する長さのガス加熱部９ａが設けられる。
【０１７５】
一方、サブゾーンｂ２は、成形物取り出しゾーンＣの上流側に設定され、その長さが一体金型５の１１個分であるので、合計５５個の金型７…に高周波を印加できる。また、サブゾーンｂ２における電源部２ｂの高周波の出力が５０ｋＷであるので、１個の金型７に対する出力が０．９ｋＷとなる。さらに、上記のように、サブゾーンｂ１の長さに対応する長さのガス加熱部９ｂが設けられる。
【０１７６】
さらに、高周波印加休止ゾーンｄは、サブゾーンｂ１とｂ２との間で、コンベア部６における支持軸１５ｂの端部近傍に設定されており、その長さが一体金型５の５個分となっている。この高周波印加休止ゾーンｄでは、合計２５個の金型７…に対して、高周波も印加されず外部加熱もなされない。したがって、換言すれば、高周波印加休止ゾーンｄは、加熱動作を休止するゾーンとなっている。
【０１７７】
コンベア部６のレイアウトが、無端平板状である場合、コンベア部６を張り渡す支持軸１５ａ・１５ｂ近傍では、コンベア部６は円弧状に湾曲している。そのため、給電部３やガス加熱部９も、これに合わせて湾曲させて配置することになる。ここで、このような湾曲部位（Ｒ部位とする）では、高周波の局在化が生じ易くなる上に、給電部３やガス加熱部９をＲ部位に応じた形状に形成・配置すると、製造装置の構成を比較的複雑化することにもなる。
【０１７８】
これに対して、本実施の形態では、Ｒ部位を、加熱動作を休止するゾーンとしている。そのため、高周波の局在化が生じ易い部位で高周波を印加しない。それゆえ、高周波エネルギーの集中現象をさらに一層確実に回避することができる。
【０１７９】
しかも、前記実施の形態１で述べたように、外部加熱を併用した場合では、一体金型５の温度はほとんど低下しないので、Ｒ部位で一切の加熱動作を休止したとしても、一体金型５内の原料１４に対しては、外部加熱が継続されていることになる。
【０１８０】
そのため、高周波印加休止ゾーンｄは、図１７で示した上記高周波印加休止ゾーンｂ２−２と同じような外部加熱ゾーンとなる。その結果、原料１４が緩やかな加熱によって安定化し、原料１４が熟成（養生）されるので、熟成後の原料１４に対してサブゾーンｂ２で高周波を印加すれば、原料１４の成形性をより向上させたり、成形物の物性を向上させたりすることが可能になる。
【０１８１】
さらに、上記高周波印加休止ゾーンｄには、加熱手段を何も設けなくてよいので、給電部３やガス加熱部９をＲ部位に設けないように製造装置を設計することができる。その結果、製造装置の構成をより簡素化することができる。
【０１８２】
また、本実施の形態では、高周波加熱印加休止ゾーンを、加熱工程における最初および最後の少なくとも一方の段階に設けることで、得られる成形物の品質をより一層向上させることもできる。
【０１８３】
前記実施の形態２でも述べたように、たとえば、前記デンプン性含水原料を焼成して成形物を製造する場合、加熱成形の最初の段階で電気特性（高周波特性）が激しく変化するため、あまり大きな出力の高周波を印加することは好ましくない。つまり、加熱工程の初期段階では、デンプン性含水原料に含まれる水分が非常に多い（含水率が高い）ため、この初期段階でデンプン性含水原料に対して、誘電加熱により強い加熱を実施すると、デンプン性含水原料が急激な性状変化を起こす。その結果、得られる焼成物（加熱成形物）の成形性が悪化したり、焼成物の強度が非常に低下してもろくなったりする。それゆえ、例えば焼成物が可食容器や成形焼き菓子の場合、食感が過度に軽くなってしまう等の問題が生じる。
【０１８４】
そこで、図２６に示すように、サブゾーンｂ１に相当する部位を、電源部２ａおよび給電部３ａを設けずに、高周波印加休止ゾーンｂ１−１とする。換言すれば、加熱初期段階に外部加熱単独ゾーンｂ１−１を設ける。
【０１８５】
このように、加熱工程の初期段階に外部加熱単独ゾーンを設けることで、原料１４を緩やかに加熱することが可能となる。そのため、一体金型５（金型７）内で原料１４が安定化することになり、該原料１４が上記デンプン性含水原料のような多くの水分を含むものであっても、得られる成形物の成形性の低下や強度の低下を抑えることができる。その結果、成形物の品質をより一層向上させることができるだけでなく、成形物の性状（強度や食感等）を目的の性状に合わせて調節することができる。
【０１８６】
同様に、たとえば、前記デンプン性含水原料を焼成して成形物を製造する場合、加熱成形の最後の段階では、加熱・乾燥がほぼ完了しつつあるので、大きな熱を加えると過加熱が生じて成形品の物性が低下する。つまり、加熱工程の最終段階は、成形物を乾燥させる最終仕上げ段階に相当する。この最終段階で、誘電加熱のような強い加熱を実施すると、原料の種類や成形物の形状によっては過剰過熱によって成形物が焦げてしまう。この焦げの発生は、成形物の品質を悪化させるだけでなく、状況によっては、一体金型５の上型と下型との間（図３（ａ）・（ｂ）に示す内部金型片５ａおよび外部金型片５ｂ・５ｂや図４（ａ）・（ｂ）に示す上方金型片５ｃおよび下方金型片５ｄ参照）においてスパークの発生を招く可能性もあり、安定した成形物の生産が困難となる可能性もあり得る。
【０１８７】
そこで、図２７に示すように、サブゾーンｂ５に相当する部位を、電源部２ｅおよび給電部３ｅを設けずに、高周波印加休止ゾーンｂ１−１とする。換言すれば、加熱最終段階に外部加熱単独ゾーンｂ５−１を設ける。
【０１８８】
このように加熱成形の初期段階に外部加熱単独ゾーンを設けることで、成形物に対する乾燥の仕上げ段階で、成形物を緩やかに加熱することが可能となる。そのため、成形物の過剰加熱を防止することが可能となる。その結果、成形物の焦げや、焦げに由来するスパークの発生を回避して、高品質な成形物を安定して生産することができる。
【０１８９】
なお、上記初期段階の外部加熱単独ゾーンｂ１−１、あるいは最終段階の外部加熱単独ゾーンｂ５−１以外の各サブゾーンについては、その出力等については特に限定されるものではない。図２６に示す例でも、図２７に示す例でも、上述したように、高周波の出力を分割する観点からは、実質的に四つに分割されていることになる。もちろん、各サブゾーンや外部加熱単独ゾーンｂ１−１、ｂ５−１の長さは何れも一体金型５の５個分である。
【０１９０】
そこで、図１７に示す例と同様に、各サブゾーンのうち、発熱量をより大きくした方が好ましい領域の出力を高く設定すればよい。
【０１９１】
図２６に示す例では、サブゾーンｂ１が外部加熱単独ゾーンｂ１−１に置き換わっているので、そのすぐ下流であるサブゾーンｂ２では、出力を２０ｋＷ（１個の金型７に対する出力が０．８ｋＷ）に設定し、外部加熱後に緩やかな誘電加熱を実施する。そして、そのさらに下流であるサブゾーンｂ３およびサブゾーンｂ４では、出力を３０ｋＷ（１個の金型７に対する出力が１．２ｋＷ）に設定し、強い加熱を実施する。その後、サブゾーンｂ５では、出力を２０ｋＷ（１個の金型７に対する出力が０．８ｋＷ）に設定し、仕上げの緩やかな誘電加熱を実施する。
【０１９２】
また、図２７に示す例では、サブゾーンｂ５が外部加熱単独ゾーンｂ５−１に置き換わっているので、まず、最上流であるサブゾーンｂ１では、出力を２０ｋＷ（１個の金型７に対する出力が０．８ｋＷ）に設定し、初期段階の緩やかな加熱を実施する。そして、その下流であるサブゾーンｂ２およびサブゾーンｂ３では、出力を３０ｋＷ（１個の金型７に対する出力が１．２ｋＷ）に設定し、強い加熱を実施する。その後、サブゾーンｂ４では、出力を２０ｋＷ（１個の金型７に対する出力が０．８ｋＷ）に設定し、強い加熱から緩やかな加熱に以降させ、外部加熱単独ゾーンｂ５−１では、仕上げ緩やかな加熱を実施する。
【０１９３】
また、図示しないが、図２６に示す例でも、図２７に示す例でも、各サブゾーンの出力を均等にしてもよい。例えば、図２６に示す例では、サブゾーンｂ２・ｂ３・ｂ４・ｂ５の出力を何れも２５ｋＷ（１個の金型７に対する出力が１．０ｋＷ）に設定してもよい。同様に、図２７に示す例では、サブゾーンｂ１・ｂ２・ｂ３・ｂ４の出力を何れも２５ｋＷ（１個の金型７に対する出力が１．０ｋＷ）に設定してもよい。
【０１９４】
ここで、本実施の形態における高周波印加休止ゾーンの設定の仕方については、上述した何れの例にも限定されるものではない。すなわち、サブソーンｂ３やサブゾーンｂ４が高周波印加休止ゾーンになっていてもよいし、初期段階の外部加熱単独ゾーンｂ１−１と最終段階の外部加熱単独ゾーンｂ５−１とを組み合わせて、高周波の印加をサブゾーンｂ２・ｂ３・ｂ４のみにしてもよい。すなわち、本実施の形態における加熱ゾーンＢは、成形物あるいは原料１４の種類に応じて好ましい加熱処理を実施できるように設計すればよく、上述した例のみに限定されないことは言うまでもない。また、前記実施の形態２におけるサブゾーン別で出力を変化させるだけでよい場合ももちろんあり得る。
【０１９５】
以上のように、本実施の形態では、加熱ゾーンに高周波印加休止ゾーンを含めているので、誘電加熱と外部加熱とを併用する場合には、高周波印加休止ゾーンでは、外部加熱による緩やかな加熱が実施されることになる。そのため、成形用原料に応じて高周波印加休止ゾーンを設定することにより、成形性の向上や、所望の完成品物性を得ることができる。また、成形用原料の電気特性変化の最も激しい部分に高周波印加休止ゾーンを設定することにより、高周波エネルギーの集中現象を回避することができる。加えて、加熱ゾーン内において最も大きな出力の高周波を印加するサブゾーンの前段で、外部加熱による緩やかな加熱処理を実施することができるため、成形用原料を適切に加熱成形することができる。
【０１９６】
また、本実施の形態では、高周波印加休止ゾーンを含めるために、高周波の局在化し易い部位に高周波を印加しないように、製造装置を設計することが可能になる。そのため、高周波エネルギーの集中現象の発生をさらに一層確実に回避することができる。
【０１９７】
さらに、外部加熱の特性から、高周波印加休止ゾーンに外部加熱手段を設けても設けなくても、このゾーンを外部加熱のみ実施される外部加熱ゾーンとすることができる。特に、給電部や外部加熱手段の配置が比較的難しい部位を高周波印加休止ゾーンとすれば、各種加熱手段を設ける必要がなくなる。その結果、製造装置の構成をより一層簡素化することもできる。
【０１９８】
加えて、加熱工程の初期段階および最終段階の少なくとも一方に、高周波印加休止ゾーンを設けることで、原料に応じた加熱が可能になり、得られる成形物の品質を向上させたり、生産性を向上させたりすることができる。特に、初期段階や最終段階に高周波印加休止ゾーンを設ける手法は、デンプン性含水原料のような含水率が高い原料を用いたり、前記焼成物のような焦げの生じ易い成形物を製造したりする場合に、特に好適に用いることができる。
【０１９９】
〔実施の形態４〕
本発明における実施のさらに他の形態について図２０ないし図２３に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本発明はこれに限定されるものではない。また、説明の便宜上、前記実施の形態１ないし３で使用した部材と同じ機能を有する部材には同一の番号を付記し、その説明を省略する。
【０２００】
前記実施の形態１ないし３においては、何れもコンベア部６が無端平板状にレイアウトされている場合について例に挙げたが、本実施の形態では、コンベア部６の他のレイアウトについて説明する。
【０２０１】
たとえば、コンベア部６の配置レイアウトとしては、図２０（ａ）・（ｂ）に示すように、円環状に配置され、かつ鉛直方向に立設して回転する観覧車状のレイアウトが挙げられる。上方から見た場合では、図２０（ａ）に示すように、一体金型５が矢印方向に上から下に向かって（矢印方向）回転するように搬送される。側方から見た場合では、図２０（ｂ）に示すように、円筒状のコンベア部６の外周面全面に上記一体金型５が取り付けられ、矢印方向に回転するように搬送される。
【０２０２】
図２０（ａ）に示すように、この観覧車状のレイアウトでも、無端平板状のレイアウトと同様に、原料注入ゾーンＡ、加熱ゾーンＢ、および成形物取り出しゾーンＣの各プロセスゾーンが設定されているが、レイアウトの関係上、原料注入ゾーンＡおよび成形物取り出しゾーンＣは下方に設定されることが好ましい。これによって、原料１４の注入や成形物の取り出しを円滑に行うことができる。
【０２０３】
あるいは、図２１（ａ）・（ｂ）に示すように、水平面に対して円環状に配置され回転する水平円盤状のレイアウトが挙げられる。上方から見た場合では、図２１（ａ）に示すように、一体金型５が放射状に配置されており、矢印方向に回転するように搬送される。側方から見た場合では、図２１（ｂ）に示すように、円環状のコンベア部６の上方面に、上記一体金型５が放射状に配置されて取り付けられることになり、矢印方向に回転するように搬送される。
【０２０４】
図２１（ｂ）に示すように、この水平円盤状のレイアウトでは、原料注入ゾーンＡ、加熱ゾーンＢ、および成形物取り出しゾーンＣについては、コンベア部６のどの部位に設定しても同じであるので、各プロセスゾーンの設定位置としては特に限定されない。
【０２０５】
さらに、図２２（ａ）・（ｂ）に示すように、水平面上に往復移動するように移動する直線状のレイアウトが挙げられる。上方から見た場合では、図２２（ａ）に示すように、一体金型５がたとえば１３個互いに長手方向に沿って並列した配置されており、これが、矢印方向に往復移動する。側方から見た場合では、図２２（ｂ）に示すように、水平面上に配置されるコンベア部６の上方面に上記一体金型５が取り付けられ、矢印方向に回転するように搬送される。
【０２０６】
図２２（ｂ）に示すように、この直線状のレイアウトでは、加熱ゾーンＢが中央に設定され、原料注入ゾーンＡおよび成形物取り出しゾーンＣについては、コンベア部６の両端で兼用されるように設定されることが好ましい。
【０２０７】
あるいは、図２３（ａ）・（ｂ）に示すように、一体金型５を互いに長手方向に沿って複数並列した直線状配置５１をさらに２列並列させ、その両端部において、一体金型５を順次隣接する直線状配置５１に移動させる部分タクト型のレイアウトが挙げられる。
【０２０８】
上方から見た場合では、図２３（ａ）に示すように、一つの直線状配置が１３個の一体金型５からなっており、各直線状配置５１は、一体金型５の１個分だけずらして隣接している。そして、たとえば直線状配置５１・５１の図中左端部では、図中下方の直線状配置５１から上方に向かって一体金型５が移動し、図中右端部では、上方の直線状配置５１から下方に向かって一体金型５が移動する。側方から見た場合では、図２３（ｂ）に示すように、コンベア部６の上方面に上記一体金型５が設けられ、矢印方向に移動するとともに、両端部では、上記一体金型５の直線状配置５１への隣接移動がなされる。
【０２０９】
図２３（ａ）に示すように、この部分タクト型のレイアウトでは、原料注入ゾーンＡ、加熱ゾーンＢ、および成形物取り出しゾーンＣについては、コンベア部６のどの部位に設定しても同じであるので、各プロセスゾーンの設定位置としては特に限定されない。
【０２１０】
上記無端平板状のレイアウトも含む上述した各レイアウトは、大別すれば、無端状に形成されたコンベア部６の外周面に一体金型５を設ける構成と、水平面に広がるように形成されたコンベア部６の上方面に一体金型５を設ける構成とにまとめることができる。しかしながら、何れのレイアウトや構成が好ましいかについては、原料１４や成形物の性質、あるいは製造装置を設置する場所の制約などに応じて変わるものであり、特に限定されるものではない。また、上記各レイアウトや構成は、飽くまで一例であって、本発明においては、他のレイアウトや構成を用いることも可能である。
【０２１１】
以上のように、本発明にかかる製造方法では、コンベア部のレイアウトは、１種類に限定されるものではなく、成形用原料や成形物の性質、あるいは製造装置を設置する場所の制約などに応じて、適宜、好ましいレイアウトを設定することができる。
【０２１２】
〔実施の形態５〕
本発明における実施のさらに他の形態について図２８ないし図３３に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本発明はこれに限定されるものではない。また、説明の便宜上、前記実施の形態１ないし４で使用した部材と同じ機能を有する部材には同一の番号を付記し、その説明を省略する。
【０２１３】
前記実施の形態１ないし４では、加熱ゾーンＢの具体的な構成に関して詳細に説明したが、本実施の形態では、給受電部のより好ましい構成について詳細に説明する。
【０２１４】
具体的には、前記実施の形態１で説明したように、本発明で用いられる製造装置においては、加熱部１に、給電部３と金型７（あるいは一体金型５）とが含まれており（図２他参照）、上記給電部３がレール状となって、これに金型７が備える平板状の受電部４を組み合わせる構成となっている（図１０（ａ）〜（ｃ）参照）。この構成では、例えば、図２８（ａ）・（ｂ）に示すように、平板状の受電部４が、図中矢印方向に進行しながら、レール状の給電部３に非接触で挟まれていく。
【０２１５】
通常、図２８（ａ）・（ｂ）に示す給電部３への入り口近傍の部位でも、それ以外の部位でも、レール状の給電部３の形状は同じ形状を有していれば良い。例えば、「コ」の字状（あるいは略Ｕ字状）の断面であれば良い。しかしながら、入り口近傍部位とそれ以外の部位が同一形状であると、給電部３から受電部４に対して急激に給電が開始されることになり、原料１４や成形物の種類によっては好ましくない場合がある。
【０２１６】
例えば、前記実施の形態２や３等で述べたように、たとえば、前記デンプン性含水原料では、加熱成形の最初の段階で電気特性（高周波特性）が激しく変化するため、あまり大きな出力の高周波を印加することは好ましくない。
【０２１７】
そこで、加熱ゾーンＢ内の各サブゾーンへの入り口近傍で、給電部３の形状を変化させて給電のレベルを徐々に高くしていくと、原料１４を徐々に加熱することが可能となる。これにより、一体金型５（金型７）内で原料１４が安定化することになり、該原料１４が上記デンプン性含水原料のような多くの水分を含むものであっても、得られる成形物の成形性の低下や強度の低下を抑えることができる。その結果、成形物の品質をより一層向上させることができるだけでなく、成形物の性状（強度や食感等）を目的の性状に合わせて調節することができる。
【０２１８】
具体的には、図２９（ａ）・（ｂ）に示すように、平板状の受電部４を非接触で挟み込む一対の平板状の側面部３２・３２の形状を、入り口近傍に向かって面積が縮小するように、すなわち一体金型５の進行方向に向かって上昇するように傾斜する斜辺を有する略三角形状となるように、給電部３を形成しておく。これによって、受電部４とこれを挟む側面部３２・３２との重なる面積が、一体金型５の進行に伴って徐々に大きくなっていくので、これら受電部４、側面部３２・３２、およびその間の空間で形成されるコンデンサーの容量も増大していくことになる。その結果、給電のレベルを徐々に高くして、原料１４を徐々に加熱することが可能となる。
【０２１９】
あるいは、図３０（ａ）・（ｂ）に示すように、上記一対の側面部３２・３２の距離（対向間隔）を、入り口近傍に向かって拡大するように、すなわち、側面部３２・３２の間隔を、一体金型５の進行方向に向かうにつれて狭めていくようにレール状の給電部３を形成しておく。これによって、受電部４とこれを挟む側面部３２・３２との間の空間が、一体金型５の進行に伴って徐々に狭くなっていくので、これら受電部４、側面部３２・３２、およびその間の空間で形成されるコンデンサーの容量も増大していくことになる。その結果、給電のレベルを徐々に高くしていくことで、原料１４を徐々に加熱することが可能となる。
【０２２０】
同様に、図３１（ａ）・（ｂ）に示す給電部３の出口近傍の部位でも、それ以外の部位でも、レール状の給電部３の形状は同じ形状を有していれば良い。しかしながら、出口近傍部位とそれ以外の部位が同一形状であると、給電部３からの受電部４に対する給電が突如終了することになり、原料１４や成形物の種類によっては好ましくない場合がある。
【０２２１】
例えば、前記実施の形態２や３等で述べたように、たとえば、前記デンプン性含水原料を焼成した焼成物では、加熱成形の最後の段階で大きな熱を加えると過加熱による焦げ等が生じて成形物の物性が低下する。また、焦げに由来するスパーク発生の可能性もある。
【０２２２】
そこで、加熱ゾーンＢ内の各サブゾーンにおける出口近傍で、給電部３の形状を変化させて給電のレベルを徐々に低くしていくと、原料１４の加熱のレベルを徐々に低下させることが可能となる。これにより、成形物に対する乾燥の仕上げ段階で、成形物を緩やかに加熱することが可能となる。そのため、成形物の過剰加熱を防止することが可能となる。その結果、成形物に焦げや焦げに由来するスパークの発生を回避して、高品質な成形物を安定して生産することができる。
【０２２３】
具体的には、図３２（ａ）・（ｂ）に示すように、上記一対の側面部３２・３２の形状を、出口近傍に向かって徐々に面積が縮小するように、すなわち一体金型５の進行方向に向かって下降するように傾斜する斜辺を有する略三角形状となるように、給電部３を形成しておく。これによって、受電部４とこれを挟む側面部３２・３２との重なる面積が、一体金型５の進行に伴って徐々に小さくなっていくので、これら受電部４、側面部３２・３２、およびその間の空間で形成されるコンデンサーの容量も減少していくことになる。その結果、給電のレベルを徐々に低くして、成形物への加熱を徐々に低減することが可能となる。
【０２２４】
あるいは、図３３（ａ）・（ｂ）に示すように、上記一対の側面部３２・３２の距離（対向間隔）を、出口近傍に向かって徐々に拡大するように、すなわち、側面部３２・３２の間隔を、一体金型５の進行方向に向かうにつれて広げていくようにレール状の給電部３を形成しておく。これによって、受電部４とこれを挟む側面部３２・３２との間の空間が、一体金型５の進行に伴って徐々に広くなっていくので、これら受電部４、側面部３２・３２、およびその間の空間で形成されるコンデンサーの容量も減少していくことになる。その結果、給電のレベルを徐々に低くして、成形物への加熱を徐々に低減することが可能となる。
【０２２５】
このように、本実施の形態では、一体金型５に印加される高周波の印加レベルを徐々に変化させるように、一体金型５の進行方向（移動経路）に沿って、受電部４と給電部３の側面部（対向面）３２とが重なる面積（対向面積）を変化させるように、給電部３を形成したり、一体金型５の進行方向（移動経路）に沿って、受電部４と給電部３の側面部（対向面）３２とが対向する間隔（対向間隔）を変化させるように、給電部３を形成したりする。これにより、成形物の成形性を向上させたり、所望の完成品物性を得たりすることができる。
【０２２６】
なお、上記対向面積を変化させる手法としては、上述したように、側面部（対向面）３２の面積を進行方向に沿って変化させる手法が好ましく用いられ、上記対向間隔を変化させる手法としては、上述したように、一対の側面部（対向面）３２・３２の間隔を進行方向に沿って変化させる手法が好ましく用いられるが、これら手法に限定されるものではない。また、上述した例では、対向面積や対向間隔を連続的に変化させる場合について説明したがこれに限定されるものではない。すなわち、高周波の印加レベルを変化させることができれば、側面部３２すなわち対向面と受電部４との間隔はどのように変化しても良く、例えば段階的であっても良い。
【０２２７】
さらに、本実施の形態では、高周波の印加レベルを変化させるために、給電部３の形状を変化させる構成となっているが、本発明はこれに限定されるものではない。特に、給電部３と受電部４との対向面積を変化させる場合には、給電部３ではなく受電部４の形状を変化させる構成であってもよい。
【０２２８】
以上のように、本実施の形態では、加熱ゾーンへの入り口および出口近傍の少なくとも一方で、平板状の受電部を受けるレール状の給電部、または受電部を、該受電部の移動経路（すなわち金型の移動経路）に沿って変化するような形状に形成して、給電のレベルを変化できるようにしている。
【０２２９】
そのため、前記実施の形態２や３と同様に、加熱のレベルを調節することが可能となり、成形物の成形性を向上させたり、所望の完成品物性を得たりすることができる。また、特に、加熱工程の最初または最後の段階で、段階的な加熱処理を実施することができるため、成形用原料を適切に加熱成形することができる。
【０２３０】
また、本実施の形態におけるレール状の給電部の形状変化と、前記実施の形態１ないし３における加熱ゾーンの分割や、ゾーン別の出力の変化や、高周波印加休止ゾーンの設定等と組み合わせることにより、任意の場所で加熱の強弱を調節することが可能となる。それゆえ、例えば、サブゾーン毎の入り口や出口近傍の部位で、給電部の形状を変化させることで、原料や成形物の状態に応じたより適切な加熱処理を実施することが可能となる。
【０２３１】
〔実施の形態６〕
本発明における実施のさらに他の形態について図３４ないし図３６に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本発明はこれに限定されるものではない。また、説明の便宜上、前記実施の形態１ないし５で使用した部材と同じ機能を有する部材には同一の番号を付記し、その説明を省略する。
【０２３２】
前記実施の形態１ないし５では、加熱ゾーンＢや給受電部の構成等について説明したが、本実施の形態では、受電部すなわち金型を加熱ゾーンへ進行させる場合の好ましい手法について詳細に説明する。
【０２３３】
具体的には、たとえば、実施の形態１ないし３で例示したように、コンベア部６のレイアウトが無端平板状で、コンベア部６を張り渡す支持軸１５ａ・１５ｂ近傍でコンベア部６が円弧状に湾曲しているとする（図１や図１４等参照）。このとき、コンベア部６の湾曲部位（Ｒ部位）に合わせて給電部３も湾曲させて配置される。ここで、金型７が移動する際に、コンベア部６の直線部位とＲ部位とでは、一定時間に移動する金型７の距離が異なる。
【０２３４】
例えば、図３４（ａ）に示すように、給電部３の形状が、直線部位とＲ部位との両方を含んでいる形状の高周波印加ゾーン（図１４に示すサブゾーンｂ２等）であれば、上記給電部３に挿入されている（側面部３２・３２の間に挟まれている）受電部４の数は常に変動する。換言すれば、上記高周波印加ゾーン中で誘電加熱されている金型７の数は常に変動する。図３４（ａ）に示す例では、給電部３への受電部４（すなわち金型７）の挿入枚数は、１．７枚から２．３枚に変動し、平均挿入枚数が２枚であるのに対して、変動率が±１５％つまり１／４枚分となる。この場合、電源部２の出力が５ｋＷであれば、１個の金型７に対する出力は２．１７ｋＷから２．９４ｋＷに変動する。
【０２３５】
上記のように、給電部３に挿入されている平板状の受電部４すなわち一体金型５の数が一定でないと、高周波の同調が不安定となる。そのため、図３４（ｂ）に示すように、陽極電流値の高いタイミングと低いタイミングとが周期的に生じることになる。すなわち、陽極電流値において、同調が合っているタイミングと合っていないタイミングとが交互に連続的に現れることになり、その結果、陽極電流値の高い状態と低い状態とが交互に発生するようになる。図３４（ａ）に示す例では、図３４（ｂ）に示すように、陽極電流値は、最低０．３Ａから最高０．７Ａまで変動し、平均値である０．５Ａから見れば大きく変動していることになる。
【０２３６】
特に、加熱工程の最初の段階（初期段階）では、原料１４の状態変化が最も激しく、加熱工程の最終段階では、原料１４の含水率が最も低くなる。そのため、上記高周波の同調がより不安定となり易く、陽極電流値の変動も最も激しくなり易い。したがって、加熱工程の初期段階や最終段階で、給電部３に挿入されている平板状の受電部４すなわち金型７の数が一定でないと、同調の合っていないタイミングでは加熱効率が低下し易くなり、さらにはスパークが発生するおそれがある。
【０２３７】
また、電源部２の出力は、陽極電流値の最高値（ピーク値）に合わせる必要がある。図３４（ａ）・（ｂ）に示す例では、電源部２の出力が５ｋＷで平均０．５Ａの陽極電流値しか印加できない。そのため、余剰な出力を備える電源部２を用いる必要が生じ、成形物の製造コストが増大する。さらに、上記高周波の同調を一定に制御するには、非常に高速での静電容量やインダクタンスの調節が必要となるという問題も生じる。
【０２３８】
もちろん、原料１４の種類や成形物の種類によっては、上記高周波の同調が不安定となるという問題は大きな影響を及ぼさない場合もあるが、デンプン性含水原料を用いて焼成物を製造するような場合には、高周波の同調を安定化させることが望ましい。
【０２３９】
そこで、図３５（ａ）に示すように、図３４（ａ）に示す例と同様に、直線部位とＲ部位との両方を含んでいる形状の高周波印加ゾーンであれば、この高周波印加ゾーンの長さを延長する。
【０２４０】
具体的には、図３５（ａ）に示すように、金型７の進行方向から見て、レール状の給電部３を、Ｒ部位の湾曲が開始する前後の部位から、湾曲が終了する前位まで延長させる。これによって、給電部３への受電部４の挿入枚数は３．４枚から４．０枚となる。加熱している金型７の個数の変動は、±０．２５個であるから、金型７自体の変動個数は変わらないが、平均挿入枚数が３．７枚であるのに対して、変動率が±８％となって、明らかに図３４（ａ）に示す例よりも変動率が低下する。
【０２４１】
また、１個の金型７に対する出力の変動も１．２５ｋＷから１．４７ｋＷであり、図３４（ａ）に示す例よりも低下する。さらに、図３５（ｂ）に示すように、陽極電流値に変動は生じるものの、陽極電流値の変動は、最低０．５Ａから最高０．７Ａまでに抑えられ、０．６Ａ前後に近づいている。つまり、この例では、電源部２の出力は図３４（ａ）に示す例と同じ５ｋＷであるのに対して、平均０．６Ａの陽極電流値を印加できる。したがって、エネルギー効率が向上していることがわかる。
【０２４２】
このように、本発明では、高周波印加ゾーンに直線部位とＲ部位とが含まれている場合には、その長さを延長すると好ましい。その結果、一つのサブゾーン中で加熱する金型の数の変動率を小さくすることが可能となり、高周波の同調の変動も小さくなって、陽極電流値を比較的安定化させることができる。それゆえ、高周波の印加による誘電加熱のエネルギー効率は向上し、スパーク発生の危険性も低下することが可能となる。
【０２４３】
さらに、図３６（ａ）に示すように、高周波印加ゾーンを直線部位のみで構成してもよい。この場合、Ｒ部位が含まれないため、給電部３への受電部４の挿入枚数は３枚でほぼ一定となり、平均挿入枚数は３枚で、加熱している金型７の個数の変動はほぼ±０個となる。さらに、１個の金型７に対する出力の変動も１．６５ｋＷと一定となり、図３６（ｂ）に示すように、陽極電流値の変動は、最低０．６Ａから最高０．７Ａまでに抑えられ、０．６５Ａ前後に近づいている。つまり、この例では、電源部２の出力は図３４（ａ）・図３５（ａ）に示す例と同じ５ｋＷであるのに対して、平均０．６５Ａの陽極電流値を印加できる。それゆえ、高周波の同調は非常に安定化し、エネルギー効率がより一層向上していることがわかる。
【０２４４】
このように、原料１４や成形物の種類に応じて加熱ゾーンＢを設計する場合に、例えば前記実施の形態３で説明したような、Ｒ部位を高周波印加休止ゾーンとして直線部位のみで高周波を印加するような構成（図１８参照）とすれば、高周波の同調を安定化させ、エネルギー効率の上昇やスパーク発生の回避等を実現することが可能となる。
【０２４５】
ここで、加熱ゾーンＢの設計は、原料１４の状態変化や最終的に得られる成形物の種類に応じた好ましい加熱ができるようにする必要があり、特に、前記実施の形態３や５等で説明したように、原料１４の状態変化の大きい初期段階や最終段階で高周波を印加する場合、高周波印加ゾーンは、陽極電流値の変動を抑えるように設計することが好ましい。
【０２４６】
しかしながら、加熱ゾーンＢの設計に際しては、上記原料１４の状態変化や最終的に得られる成形物の種類を考慮すれば、高周波印加ゾーンを、必ずしも上述した直線部位のみで構成できるとは限らない。また、上記直線部位のみで高周波印加ゾーンを構成したとしても、給電部３への受電部４の挿入枚数が一定とならない場合もある。
【０２４７】
さらに、図３６（ｂ）に示すように、給電部３への受電部４の挿入枚数が一定であっても、陽極電流値は、実際には０．６Ａから０．７Ａの範囲で変動している。これは、新たに高周波印加ゾーン（サブゾーンの給電部３）に入ってくる金型７内の原料１４の状態が、高周波印加ゾーンから出て行く金型７内の原料１４の状態と異なるためである。
【０２４８】
そこで、本実施の形態では、高周波印加ゾーンにＲ部位が含まれるか、直線部位のみかに関わらず、一つの高周波印加ゾーン（サブゾーン）で加熱される金型７の変動率を所定範囲内に規定し、この規定に基づいて高周波印加ゾーンの長さを設定する。
【０２４９】
具体的には、本実施の形態では、加熱される金型７の変動率をＣとすれば、この変動率Ｃは次式で設定することができる。ただし、Ｎmaxは給電部３に挿入される受電部４の最大枚数であり、Ｎminは給電部３に挿入される受電部４の最小枚数を、Ｎaveは給電部３に挿入される受電部４の平均枚数である。
【０２５０】
Ｃ＝[（Ｎmax−Ｎmin）／２]／Ｎave
つまり、加熱される金型７の変動率Ｃは、給電部３に挿入される受電部４の最大枚数および最小枚数の差を２で割った値を、さらに受電部４の平均挿入枚数で割った値として算出される。
【０２５１】
本実施の形態では、上記変動率Ｃを０以上０．５未満の範囲内（０≦Ｃ＜０．５）とするように高周波印加ゾーンの長さを設定することが好ましく、特に、加熱工程の初期段階や最終段階では、上記変動率Ｃを０以上０．１未満の範囲内（０≦Ｃ＜０．１）とするように高周波印加ゾーンの長さを設定することが好ましい。
【０２５２】
このように、加熱ゾーンに含まれる、高周波を印加するサブゾーン（高周波印加ゾーン）においては、給電部に挿入される受電部の枚数をできる限り一定化するように、その長さを設計する。これにより、一つのサブゾーン内で高周波を印加して誘電加熱する金型の個数の変動を減少させることができるので、高周波の同調を安定化させることが可能となり、陽極電流値の増減も小さくすることができる。その結果、エネルギー効率を向上させることができるだけでなく、スパーク発生を回避することも可能となる。
【０２５３】
なお、本発明は、上述した各実施の形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施の形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施の形態についても、本発明の技術的範囲に含まれることはいうまでもない。
【０２５４】
【実施例】
以下、実施例、比較例、および従来例に基づいて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の説明では、重量部を単に部、重量％を単に％と略す。また、加熱ゾーンにおいて、高周波の印加に伴うスパークの発生頻度、得られた成形用原料の成形性および成形物の物性、並びに、外部加熱との併用により成形物に付与される各種特性のうち、添加物の効果の発現状態および焼成状態については、下記の方法により評価した。
【０２５５】
〔スパークの発生頻度〕
加熱ゾーンＢにおいては、前述したように、高周波が局在化することで高周波エネルギーの集中現象が生じてスパークが発生し易くなる。このスパークの発生レベルについて発生頻度に基づいて評価した。全く発生しない場合を◎、ほとんど発生しない場合を○、時折発生する場合を△、非常に頻繁に発生する場合を×として評価した。
【０２５６】
〔原料の成形性〕
原料１４の成形性としては、成形物の金型７（一体金型５）からの離型性および成形物の保形性について総合的に評価した。離型性も保形性も大変良好な場合を◎、離型性・保形性に多少難があるものの、成形物としてほとんど問題なく成形されている場合を○、離型性または保形性に難があり、何らかの改善が必要であるが、成形そのものは可能である場合を△、成形そのものが不可能である場合を×として評価した。
【０２５７】
〔成形物の物性〕
成形物の物性としては、得られた成形物の強度や組織状態等を外観、色合い、触感などにより総合的に評価した。強度や組織の均一性、色合いなど大変良好な状態である場合を◎、良好である場合を○、成形物として使用可能である程度にやや良好である場合を△、何らかの問題があり使用不可能である場合を×として評価した。
【０２５８】
〔添加物の効果の発現状態〕
上記添加物としては、赤色の着色料および香料を用い、これらの効果の発現について評価した。成形物が少し茶色がかった赤色で着色料の発色が非常に良好な場合を◎、良好な場合を○、赤色の発色が多少劣り、発色がやや不良の場合を△、赤色の発色が非常に劣って成形物が茶褐色となり、発色が不良の場合を×として評価した。
【０２５９】
同様に、成形物に非常に良好なフレーバーが残っている場合を◎、良好なフレーバーが残っている場合を○、フレーバーの残り具合がやや不良の場合を△、フレーバーがほとんど残っておらず不良の場合を×として評価した。
【０２６０】
〔焼成状態〕
上記焼成状態については、成形物の焼成色およびロースト臭を評価した。焼成色については、十分に濃い場合を◎、やや濃い場合を○、薄い場合を△、非常に薄い場合を×として評価した。また、ロースト臭については、非常に強い場合を◎、強い場合を○、ほとんど臭わない（多少臭う）状態を△、全く臭わない状態を×として評価した。
【０２６１】
〔原料の調製〕
表１に示す配合比となるように、主成分の小麦粉および／またはデンプンと、副成分ａまたはｂとを水に添加し、十分に撹拌・混合することによってデンプン性含水原料ＡないしＦ（以下、単に原料ＡないしＦと略す）を調製した。各原料１４の固形分および粘度も表１に示す。なお、副成分ａを含む原料ＡないしＣ、並びにＥおよびＦは、何れも可食容器の原料１４であり、副成分ｂを含む原料Ｄは、生分解性成形物の原料１４である。
【０２６２】
【表１】
0004219114.tif 000002
【０２６３】
ここで、表１におけるコーンスターチには、通常のコーンスターチの他に、ワキシーコンスターチ、ハイアミロースコーンスターチ、工業的に処理したα化コーンスターチや架橋コーンスターチ等を含むものとする。これらの配合比率については任意であり、適宜設定される条件である。
【０２６４】
〔成形物の形状〕
成形物の具体的な形状としては、可食容器の場合、図５（ａ）・（ｂ）に示す円錐状のカップコーン８ａか、図６（ａ）・（ｂ）に示す平板状のワッフルコーン８ｂが用いられる。カップコーン８ａの具体的なサイズは、最大径５４ｍｍ、高さ１２０ｍｍ、肉厚２．０ｍｍとなっている。またワッフルコーン８ｂの具体的なサイズは、直径１５０ｍｍ、肉厚２．０ｍｍとなっている。
【０２６５】
一方、生分解性容器の場合、図７（ａ）・（ｂ）に示す四角形状で周囲に縁部が形成されたトレイ８ｃとなっている。このトレイ８ｃの具体的なサイズは、縦・横・高さが２２０ｍｍ×２２０ｍｍ×２１．５ｍｍで、肉厚３．５ｍｍとなっている。
【０２６６】
〔製造装置の構成〕
以下の各実施例および比較例では、基本的に次に述べる仕様の製造装置を用いた。
【０２６７】
図８に示すように、コンベア部６の配置は無端平板状のレイアウトとなっており、水平に広がるように配置されている。また、該コンベア部６には、複数のトング（一体金型５）が全面に取り付けられている。各トングは、５個の金型７を一列に連続して配列して構成されており、このトングが搬送されることによって金型７が連続移動可能となっている。コンベア部６においては、一方の端部（支持軸１５ａ側の端部）近傍からトングの回転移動方向に沿って、原料注入ゾーンＡ、加熱ゾーンＢ、および成形物取り出しゾーンＣの順で、各プロセスゾーンが設定されている。
【０２６８】
加熱ゾーンＢには、電源部２および給電部３を含む高周波加熱部と、ガス加熱部９（外部加熱部）とが設けられている。上記高周波加熱部における全体の高周波の出力は１００ｋＷとなっており、ガス加熱部９の外部加熱による金型温度は、特に断りのない限り１８０℃となっている。
【０２６９】
また、加熱ゾーンＢ全体で誘電加熱が可能なトング数（一体金型５の数）は２５個となっている。したがって、加熱ゾーンＢ全体で誘電加熱が可能な金型７の数は１２５個となっている。
【０２７０】
さらに、外部加熱が直接可能となっているトング数も上記と同じく２５個（金型７の数も１２５個）であるが、実際には、原料注入ゾーンＡおよび成形物取り出しゾーンＣでも、外部加熱による金型温度はほとんど低下しないので、製造装置全体で外部加熱が実施されていると見なすことができる。
【０２７１】
〔加熱ゾーンの分割パターン〕
以下の実施例では、加熱ゾーンＢを複数のサブゾーンに分割し、各サブゾーンそれぞれに高周波印加部（電源部２および給電部３）を設けて高周波を印加するが、加熱ゾーンＢの分割状態、すなわち加熱ゾーンの分割パターンについては、以下に示す分割パターン番号を用いて説明する。
【０２７２】
まず、分割パターン１ないし３は、前記実施の形態１で説明した、加熱ゾーンＢをサブゾーンｂ１およびｂ２に２分割するパターンであり、分割パターン１が図１に、分割パターン２が図１２に、分割パターン３が図１３に示す構成に対応する。
【０２７３】
次に、分割パターン４ないし６は、前記実施の形態２で説明した、加熱ゾーンＢを２分割以上に分割するパターンであり、分割パターン４が図１４に示す５分割の構成に、分割パターン５が図１５に示す５分割の構成に、分割パターン６が図１６に示す３分割の構成に対応する。
【０２７４】
次に、分割パターン７および８は、前記実施の形態３で説明した、加熱ゾーンＢに高周波の印加を休止する高周波印加休止ゾーンを設けるパターンであり、分割パターン７が図１７に、分割パターン８が図１８に示す構成に対応する。
【０２７５】
次に、分割パターン９および１０は、同じく前記実施の形態３で説明した、加熱ゾーンＢに初期段階の外部加熱単独ゾーンｂ１−１または最終段階の外部加熱単独ゾーンｂ５−１を設けるパターンであり、分割パターン９が図２６に、分割パターン１０が図２７に示す構成に対応する。なお、本実施例では、分割パターン９におけるサブゾーンｂ２・ｂ３・ｂ４・ｂ５の出力、および分割パターン１０におけるサブゾーンｂ２・ｂ３・ｂ４・ｂ５の出力は、何れも２５ｋＷ（１個の金型７に対する出力が１．０ｋＷ）に設定しており、この点だけが図２６または図２７に示す構成と異なる。
【０２７６】
次に、分割パターン１１ないし１４は、前記実施の形態５で説明した、加熱ゾーンへの入り口および出口近傍の少なくとも一方で、平板状の受電部を受けるレール状の給電部の形状を変化させる構成を備えるパターンである。このときの、サブゾーンの分割パターンそのものについては、図１４に示す５分割のパターン、すなわち分割パターン４である。
【０２７７】
そして、分割パターン１１は、この分割パターン４のサブゾーンｂ１の入り口近傍に対して、図２９（ａ）・（ｂ）に示す給電部の形状を組み合わせたものであり、分割パターン１２は、分割パターン４のサブゾーンｂ１の入り口近傍に対して、図３０（ａ）・（ｂ）に示す給電部の形状を組み合わせたものであり、分割パターン１３は、分割パターン４のサブゾーンｂ５の入り口近傍に対して、図２９（ａ）・（ｂ）に示す給電部の形状を組み合わせたものであり、分割パターン１４は、分割パターン４のサブゾーンｂ５の入り口近傍に対して、図３０（ａ）・（ｂ）に示す給電部の形状を組み合わせたものである。
【０２７８】
なお、加熱ゾーンＢをサブゾーンに分割しない比較例においても、同様に非分割パターンとする。この非分割パターンは図２５に示す構成に対応する。
【０２７９】
さらに、ガス加熱部９の配置については、分割パターン８を除く、全てパターンで、図９に示す加熱ゾーンＢ全体へ配置する外部加熱パターン１となっており、分割パターン８では、図１９に示す、サブゾーンｂ１およびｂ２にのみガス加熱部９を配置する外部加熱パターン２となっている。したがって、外部加熱パターン１および２については、各分割パターンと一体化していると見なせるので、以下の実施例では、特に言及しない。
【０２８０】
〔実施例１〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン１となるように、加熱ゾーンＢを２分割した（図１参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ａから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表２に示す。
【０２８１】
〔実施例２〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン４となるように、加熱ゾーンＢを５分割した（図１４参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ａから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表２に示す。
【０２８２】
〔実施例３〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン５となるように、加熱ゾーンＢを５分割した（図１５参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ａから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表２に示す。
【０２８３】
〔従来例〕
前記特開平１０−２３０５２７号公報に開示されている技術によって、前記原料Ａから前記カップコーン８ａを加熱成形した。具体的には、図２４に示すように、コンベア部６の基本的な構成は前記実施例１または２と同様である。しかしながら、各トングは、１個の金型７のみを有する構成となっており、また加熱ゾーンＢの高周波の出力が９ｋＷ、加熱ゾーンＢで誘電加熱が可能なトングの数は９個、金型７の数も同じく９個となっている。すなわち、全体的に製造装置の規模が小さくなっている。
【０２８４】
このように、従来の製造装置および製造方法によって成形物を製造した際に、前記実施例１と同様にスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表２に示す。
【０２８５】
〔比較例１〕
前記仕様の製造装置において、前記非分割パターンとなる、すなわち加熱ゾーンＢを分割しない（図２５参照）構成の製造装置を用いて、前記原料Ａから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表２に示す。
【０２８６】
【表２】
0004219114.tif 000003
【０２８７】
表２の結果から明らかなように、本発明にかかる製造方法および製造装置では、製造装置の規模が大きくなっても、加熱ゾーンＢの分割により高周波の局在化を抑制または回避できるので、スパークの発生が少なく、過加熱や絶縁破壊などを効果的に防止できることがわかる。また、本発明にかかる製造方法では、原料１４の成形性や成形物の物性も優れたものとすることができる。
【０２８８】
特に、実施例２および３の比較から明らかなように、原料Ａを用いてカップコーン８ａを成形する場合には、原料Ａの電気特性の変化が最も激しい部分であるサブゾーンｂ１の出力を低くすることによって、原料１４の成形性や成形物の物性を向上できる上に、スパークの発生もほとんど防止することが可能になる。
【０２８９】
また、原料Ａの電気特性の変化が少なくなるに伴って、サブゾーンｂ１からｂ３にかけて出力を徐々に高くすると、スパークの発生を回避しつつ効率のよい高周波加熱が可能になる。さらに、サブゾーンｂ３からｂ５にかけて出力を徐々に低くすると成形物の過加熱を防止することが可能になり、成形性の向上やスパークの発生を低減できるとともに、加熱の終了を調節することもより一層容易になる。
【０２９０】
一方、従来例のように、加熱設備の規模が小さい場合には、１個の金型７に要する高周波のエネルギーが小さくて済むので、電源部２の出力も小さくなる。それゆえ加熱ゾーンＢを分割しなくても、高周波の局在化がほとんど生じず、過加熱や絶縁破壊などはほとんど生じない。
【０２９１】
これに対して比較例のように、加熱設備の規模を大きくしても加熱ゾーンＢを分割しない場合、すなわち上記公報に開示されている従来の技術を大規模な加熱設備に応用した場合には、電源部２の出力も増大する。そのため、加熱ゾーンＢが長くなって高周波が偏在し易くなる上に、原料１４である原料Ａの高周波特性が変化することによっても、高周波が局在化し易くなったり、特定部位への高周波の集中などが生じ易くなって、過加熱や絶縁破壊などの発生を防止することができない。
【０２９２】
〔実施例４〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン６となるように、加熱ゾーンＢを３分割した（図１６参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｄから前記トレイ８ｃを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表３に示す。
【０２９３】
〔比較例２〕
前記仕様の製造装置において、前記非分割パターンとなるように、すなわち加熱ゾーンＢを分割しない（図２５参照）構成の製造装置を用いて、前記原料Ｄから前記トレイ８ｃを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表３に示す。
【０２９４】
【表３】
0004219114.tif 000004
【０２９５】
表３の結果から明らかなように、本発明にかかる製造方法および製造装置では、原料１４が原料Ｄであって、得られる成形物が生分解性成形物のトレイ８ｃであっても、加熱ゾーンＢの分割により高周波の局在化を抑制または回避できるので、スパークの発生が少なく、過加熱や絶縁破壊などを効果的に防止できることがわかる。また、本発明にかかる製造方法では、原料１４の成形性や物性も優れたものとすることができる。
【０２９６】
〔実施例５〜７〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン１、２または３となるように、加熱ゾーンＢを２分割した（図１、図１２または図１３参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｄから前記トレイ８ｃを加熱成形し、そのときのスパーク頻度のみについて評価した。その結果を表４に示す。
【０２９７】
〔実施例８〜１０〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン１、２または３となるように、加熱ゾーンＢを２分割した（図１、図１２または図１３参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｃから前記ワッフルコーン８ｂを加熱成形し、そのときのスパーク頻度のみについて評価した。その結果を表４に示す。
【０２９８】
【表４】
0004219114.tif 000005
【０２９９】
表４から明らかなように、同じように加熱ゾーンＢを２分割しても、原料１４および成形物の種類に応じて、分割パターンを変えることによって、スパークの発生頻度を大幅に低下させることが可能となる。
【０３００】
特に、原料Ｄでトレイ８ｃを成形する場合には、サブゾーンｂ１の出力を低くし、かつサブゾーンｂ１の長さを短くして、該サブゾーンｂ１で加熱可能なトング（金型７）の数を少なくすることで、加熱ゾーンＢ全体でのスパークの発生を抑制することができる。一方、原料Ｃでワッフルコーン８ｂを成形する場合には、逆にサブゾーンｂ２の出力を低くし、かつサブゾーンｂ２の長さを短くして、該サブゾーンｂ２で加熱可能なトング（金型７）の数を少なくすることで、加熱ゾーンＢ全体でのスパークの発生を抑制することができる。
【０３０１】
〔実施例１１・１２〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン５または７となるように、加熱ゾーンＢを分割した（図１５または図１７参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｂから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表５に示す。
【０３０２】
【表５】
0004219114.tif 000006
【０３０３】
表５の結果から明らかなように、原料１４および成形物の種類に応じて、加熱成形のプロセス中に、高周波印加休止ゾーンｂ２−２を設け、外部加熱等によって緩やかに加熱を施すと、原料１４（原料Ｂ）を熟成（養生）させることが可能になるので、原料１４の成形性や完成品の物性を向上させることができる。また、原料１４（原料Ｂ）の電気特性の変化が激しい部分を外部加熱によって加熱すれば、高周波の局在化を効果的に防止して、スパークの発生頻度を低減させることができる。
【０３０４】
〔実施例１３〜１６〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン１または８となるように、加熱ゾーンＢを分割した（図１または図１８参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｂから前記カップコーン８ａを、または原料Ｃから前記ワッフルコーン８ｂを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表６に示す。
【０３０５】
【表６】
0004219114.tif 000007
【０３０６】
表６の結果から明らかなように、原料１４および成形物の種類に応じて、加熱成形のプロセス中に、高周波印加休止ゾーンｄを設けると、高周波の局在化を効果的に防止してスパークの発生頻度を低減させることができる。また、上記高周波印加休止ゾーンｄにおいて、外部加熱等により緩やかに加熱を施すと、原料１４（原料ＢまたはＣ）を熟成（養生）させることが可能になるので、原料１４の成形性や、完成品の物性を向上させることができる。
【０３０７】
特に、Ｒ部位などに対応する湾曲している領域を、高周波印加ゾーンｄとして、高周波加熱部もガス加熱部９も設けなくても、良好な成形物が得られる上に、スパークの発生頻度を低減させるだけでなく、装置構成を簡素化することも可能になる。
【０３０８】
〔実施例１７〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン７となるように、加熱ゾーンＢを分割した（図１７参照）。さらに、ガス加熱部９による外部加熱を、金型温度が１２０℃となるように調整した。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ａから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときの原料１４の成形性、成形物の組織状態、添加物の効果の発現状態、および焼成状態について評価した。その結果を表７に示す。
【０３０９】
〔実施例１８・１９および比較例３〕
前記実施例１７において、ガス加熱部９による外部加熱を、金型温度が１６０℃、２００℃、または２４０℃になるように調整した以外は、実施例１７と同様にして前記原料Ａから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときの原料１４の成形性、成形物の組織状態、添加物の効果の発現状態、および焼成状態について評価した。その結果を表７に示す。
【０３１０】
【表７】
0004219114.tif 000008
【０３１１】
表７の結果から明らかなように、成形性の観点から見れば、金型温度が１２０℃である場合や、２４０℃である場合は、外部加熱が好ましくないか不適切であるのに対して、金型温度が１６０℃である場合や、２００℃である場合は、外部加熱が適切となっている。
【０３１２】
具体的には、実施例１７では、金型温度が１２０℃であるため、高周波加熱に対する外部加熱の比率が低過ぎる。そのため、原料安定化ゾーンや高周波印加休止ゾーンｄでは、原料Ａの安定化が不十分となり、ある程度の成形性は得られるものの、成形性があまり良くない。一方、比較例３では、金型温度が２４０℃であるため、外部加熱の比率が高過ぎて、成形物が焦げてしまい、成形が不可能となり、外部加熱による各種特性についても評価できない。
【０３１３】
これに対して、実施例１８および１９では、金型温度が適切であるため、外部加熱と高周波加熱とのバランスが良好となる。そのため、原料安定化ゾーンや高周波印加休止ゾーンｄでは、原料Ａを十分に安定化することができ、大変良好な成形性が得られる。
【０３１４】
また、表７の結果から明らかなように、外部加熱による各種特性の付与の観点から見れば、実施例１７ないし１９のように、外部加熱と高周波加熱とのバランスを適宜変化させれば、成形物の組織状態や、添加物の効果の発現状態、焼成状態については適宜変化させることができる。したがって、成形物の用途に応じて、外部加熱の条件を変化させれば、成形物の特性を任意に変化させることができる。
【０３１５】
〔実施例２０・２１〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン４または９となるように、加熱ゾーンＢを分割した（図１４または図２６参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｅから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表８に示す。
【０３１６】
【表８】
0004219114.tif 000009
【０３１７】
〔実施例２２・２３〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン４または１０となるように、加熱ゾーンＢを分割した（図１４または図２７参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｆから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度のみについて評価した。その結果を表９に示す。
【０３１８】
【表９】
0004219114.tif 000010
【０３１９】
表８および表９の結果から明らかなように、原料１４および成形物の種類に応じて、加熱成形の初期段階または最終段階に、外部加熱単独ゾーンを設けると、原料１４に応じたより適切な加熱が可能になり、得られる成形物の品質を向上させることができる。また、スパークの発生頻度をより低下させることもできるので、成形物の生産性をより一層向上させることができる。
【０３２０】
〔実施例２４〜２６〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン４、１１または１２となるように、加熱ゾーンＢを分割した（図１４、図２９（ａ）・（ｂ）または図３０（ａ）・（ｂ）参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｅから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度、原料１４の成形性および成形物の物性について評価した。その結果を表１０に示す。
【０３２１】
【表１０】
0004219114.tif 000011
【０３２２】
表１０から明らかなように、加熱の初期段階に当たるサブゾーンで、平板状の受電部４を受けるレール状の給電部３の形状を変化させて、徐々に給電のレベルを上げることにより、原料１４に応じた適切な加熱が可能になり、得られる成形物の品質を向上させることができる。
【０３２３】
〔実施例２７〜２９〕
前記仕様の製造装置において、前記分割パターン４、１３または１４となるように、加熱ゾーンＢを分割した（図１４、図３２（ａ）・（ｂ）または図３３（ａ）・（ｂ）参照）。この構成の製造装置を用いて、前記原料Ｆから前記カップコーン８ａを加熱成形し、そのときのスパーク頻度のみについて評価した。その結果を表１１に示す。
【０３２４】
【表１１】
0004219114.tif 000012
【０３２５】
表１１の結果から明らかなように、加熱の最終段階に当たるサブゾーンで、平板状の受電部４を受けるレール状の給電部３の形状を変化させて、徐々に給電のレベルを変化させることにより、原料１４に応じたより適切な加熱が可能になる。これにより、加熱の最終段階での過剰過熱を回避できるようになり、スパークの発生頻度をより低下させることができるので、成形物の生産性をより一層向上させることができる。
【０３２６】
【発明の効果】
以上のように、本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、加熱領域が、複数の下位領域に分割されており、各下位領域それぞれに少なくとも上記電源手段および給電手段が設けられている方法である。
【０３２７】
それゆえ上記方法では、加熱成形のために高周波を印加する領域である加熱領域を複数の下位領域に分割し、各下位領域にそれぞれ電源手段と給電手段とを設けるようになっている。そのため、加熱領域内で高周波エネルギーの集中現象の発生を抑制または回避することができる。その結果、過加熱や絶縁破壊等の発生を効果的に防止することができ、加熱成形物を非常に効率的かつ確実に製造することができるという効果を奏する。
【０３２８】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記下位領域では、移動経路に沿って連続的に配置されるレール状の給電手段によって、成形型に対して上記高周波の交流電流が印加されるとともに、上記成形型には、上記レール状の給電手段から非接触で上記高周波の交流電流を受電する受電手段が設けられている方法である。
【０３２９】
それゆえ上記方法では、移動手段により成形型が加熱領域に入った後、移動手段の移動に伴ってレール状の給電手段に沿って受電手段を備える成形型が移動することになる。そのため、成形型が加熱領域を抜けるまで、すなわち給電手段から受電手段が外れるまで加熱・乾燥処理を円滑かつ確実に継続することができるという効果を奏する。
【０３３０】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記受電手段は平板状に形成されているとともに、上記レール状の給電手段は上記受電手段に対向する対向面を有しており、上記平板状の受電手段を上記対向面に対向させることにより、非接触で高周波の交流電流を印加する方法である。
【０３３１】
それゆえ上記方法では、受電手段とこれに対向する対向面とこれらの間の空間によってコンデンサーが形成されることになる。その結果、連続的に移動する成形型に対して、非接触で給電することが可能になり、加熱・乾燥処理を円滑かつ確実に継続することができるという効果を奏する。
【０３３２】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記レール状の給電手段または受電手段は、該受電手段を介して成形型に印加される高周波の交流電流の印加レベルを変化させるように、上記成形型の移動経路に沿って、その対向面積が変化するように形成されている方法である。
【０３３３】
それゆえ上記方法では、給電のレベルを変化させるため、成形型の加熱レベルを調節することが可能となる。その結果、過剰加熱を抑えることにより、成形物の焦げやスパークを回避することが可能になり、成形物の成形性を向上させたり、所望の完成品物性を得たりすることができるという効果を奏する。特に、加熱成形の最初または最後の段階で、段階的な加熱処理を実施することができるため、成形用原料を適切に加熱成形することができるという効果を奏する。
【０３３４】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記レール状の給電手段は、移動経路に沿って上記対向面の面積が変化するように形成されている方法である。
【０３３５】
それゆえ上記方法では、対向面の面積を変化させるため、受電手段、対向面、およびその間の空間により形成されるコンデンサーの容量も変化することになる。その結果、給電のレベルを変化させて、加熱成形物への加熱を変化することが可能となり、加熱成形物の成形性を向上させたり、所望の完成品物性を得たりすることができるという効果を奏する。
【０３３６】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記レール状の給電手段は、受電手段を介して成形型に印加される高周波の交流電流の印加レベルを変化させるように、上記成形型の移動経路に沿って、その対向間隔が変化するように形成されている方法である。
【０３３７】
それゆえ上記方法でも、給電のレベルを変化させて成形型の加熱レベルを調節することが可能となる。その結果、過剰加熱を抑えることにより、成形物の焦げやスパークを回避することが可能になり、成形物の成形性を向上させたり、所望の完成品物性を得たりすることができるという効果を奏する。特に、加熱成形の最初または最後の段階で、段階的な加熱処理を実施することができるため、成形用原料を適切に加熱成形することができるという効果を奏する。
【０３３８】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記下位領域の長さは、該下位領域全体で加熱される、連続的に移動する成形型の変動率が、０．５未満となるように設定されている方法である。
【０３３９】
また、上記方法においては、さらに、上記下位領域が、成形用原料を加熱する初期段階および最終段階の少なくとも一方の段階に対応する領域に対応する場合、上記連続的に移動する成形型の変動率が、０．１未満となるように、該下位領域の長さを設定すると好ましい。
【０３４０】
それゆえ上記方法では、一つの下位領域内で高周波の交流電流を印加して誘電加熱する成形型の個数の変動を減少させることができるので、高周波の同調を安定化させることが可能となる。特に、高周波の同調が不安定化し易い加熱成形の初期段階や最終段階に、誘電加熱する成形型の個数の変動を減少させることができる。そのため、高周波の同調をより一層安定化させることが可能となり、その結果、エネルギー効率を向上させることができるだけでなく、スパーク発生を回避することも可能となるという効果を奏する。
【０３４１】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記成形型が複数の型片からなっており、該複数の型片が、給電手段から給電される給電極のブロックと、接地されている接地極のブロックとに分割可能となっており、これら各ブロックは互いに絶縁されている方法である。
【０３４２】
それゆえ上記方法では、給電極および接地極の間に成形用原料を挟持した状態で、給電極から高周波を印加することにより、成形用原料に誘電加熱を施すことができるという効果を奏する。しかも、上記成形型が複数の型片からなっており、給電極のブロックと接地極のブロックとに必ず分割できるようになっているため、成形用原料に高周波を印加することで、成形用原料を確実に誘電加熱することができるという効果も併せて奏する。
【０３４３】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記成形型が、複数の成形型を一体化してなる一体成形型である方法である。
【０３４４】
それゆえ上記方法では、多数の成形型を一体化して１個の成形型にまとめることになるので、加熱領域に一度に大量の成形型を移動させることができる。その結果、成形物の生産効率を向上することができるという効果を奏する。
【０３４５】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記加熱領域の少なくとも一部では、上記高周波の交流電流の印加による誘電加熱と、外部加熱手段による外部加熱とが併用される方法である。
【０３４６】
それゆえ上記方法では、加熱領域で、少なくとも一部で誘電加熱と外部加熱とが併用されるので、成形用原料に対しては、誘電加熱由来の急激な加熱と、外部加熱由来の熱伝導による緩やかな加熱とが同時に実施されることになる。その結果、成形用原料をより一層確実かつ十分に加熱することができるという効果を奏する。
【０３４７】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記加熱領域には、さらに上記高周波の交流電流の印加を一旦休止する高周波印加休止領域が含まれている方法である。
【０３４８】
それゆえ上記方法では、高周波印加休止領域には高周波を印加するための給電手段等を設ける必要がなくなる。そのため、上記高周波の局在化し易い部位に高周波を印加しないように加熱設備を設計することが可能になるので、高周波エネルギーの集中現象の発生をより一層確実に抑制または回避することができるという効果を奏する。また、給電手段等の配置が比較的難しい部位を高周波印加休止領域とすることによって、加熱設備の構成をより簡素化することもできるという効果も奏する。
【０３４９】
さらに、誘電加熱と外部加熱が併用される場合には、高周波印加休止領域では、外部加熱のみによる緩やかな加熱が実施されることになる。そのため、成形用原料の特性に応じて高周波印加休止領域を設定することにより、成形性の向上や所望の完成品物性を得ることができるという効果を奏する。また、成形用原料の電気特性変化の最も激しい部分に高周波印加休止領域を設定することにより、高周波エネルギーの集中現象を回避することができるという効果も奏する。加えて、加熱領域内において最も大きな出力の高周波を印加する下位領域の前段で、外部加熱のみにより緩やかな加熱処理を実施することができる。そのため、成形用原料を適切に加熱成形することができるという効果も奏する。
【０３５０】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記加熱領域に含まれる高周波印加休止領域は、成形用原料を加熱する初期段階および最終段階の少なくとも一方の段階に対応する領域に設定される方法である。
【０３５１】
それゆえ上記方法では、加熱成形の初期段階および最終段階の少なくとも一方に、高周波印加休止領域を設けるため、成形用原料に応じた加熱が可能になる。その結果、得られる加熱成形物の品質を向上させたり、生産性を向上させたりすることができるという効果を奏する。
【０３５２】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記加熱領域においては、各下位領域における成形型への上記高周波の交流電流の印加条件が互いに異なるように設定されている方法である。
【０３５３】
それゆえ上記方法では、各下位領域で異なる条件で上記高周波を印加するため、各下位領域では異なる条件で加熱を行うことができる。そのため、加熱領域全体として、高周波エネルギーの集中を抑制または回避できるような印加条件を設定できるとともに、より良好な条件で成形型を加熱することもできるため、成形用原料をより一層適切に加熱成形することができるという効果を奏する。
【０３５４】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記高周波の交流電流の印加条件には、下位領域全体における高周波の交流電流の出力、一つの成形型に対して印加される高周波の交流電流の出力、および下位領域の長さの少なくとも何れかが含まれている方法である。
【０３５５】
それゆえ上記方法では、各下位領域で、上記各条件の少なくとも何れかが異なるように設定すれば、下位領域における加熱の条件を変化させることができる。その結果、高周波エネルギーの集中を抑制または回避できるだけでなく、成形用原料をさらに一層適切に加熱成形することができるという効果を奏する。
【０３５６】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記高周波の交流電流の印加条件が、該交流電流の印加によって変化する成形用原料の特性に応じて設定される方法である。
【０３５７】
それゆえ上記方法では、成形用原料や加熱により得られる成形物の性質に応じて、各下位領域で異なる条件で交流電流を印加することが可能になる。そのため、単に高周波エネルギーの集中を抑制または回避するだけでなく、成形用原料に対してより一層適切に熱量を加えることが可能になり、成形用原料をさらに一層適切に加熱成形することができるという効果を奏する。
【０３５８】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記成形用原料として、少なくとも、デンプン質と水とを含み、流動性または可塑性を有するデンプン性含水原料が用いられるとともに、加熱成形物として焼成物が製造される方法である。
【０３５９】
それゆえ上記方法では、上記デンプン質および水を含む含水原料を加熱成形して焼成物を製造する場合に、本発明にかかる加熱成形物の製造方法を用いるため、高品質の焼成物を高い生産効率で製造することができるという効果を奏する。
【０３６０】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記デンプン性含水原料のデンプン質として小麦粉が用いられるとともに、上記焼成物が、小麦粉を主体とする成形焼き菓子である方法である。
【０３６１】
それゆえ上記方法では、小麦粉をデンプン質として用いたデンプン性含水原料を焼成して可食容器やクッキー、ビスケットなどの成形焼き菓子を製造する場合に、本発明にかかる加熱成形物の製造方法を用いるため、高品質の成形焼き菓子を高い生産効率で製造することができるという効果を奏する。
【０３６２】
本発明にかかる加熱成形物の製造方法は、上記方法において、上記移動手段として、複数の支持軸により回転可能に張り巡らされているコンベア手段が用いられる方法である。
【０３６３】
それゆえ上記方法では、成形型を効率的に加熱領域へ移動できるため、成形物の生産効率を向上させることができるという効果を奏する。また、無限軌道のように連続的に回転移動できるため、製造設備の設置スペースを小さくすることもできるという効果も併せて奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における実施の一形態にかかる製造方法で用いられる製造装置の概略構成の一例を示す模式図である。
【図２】図１に示す製造装置の概略構成を示す回路図である。
【図３】（ａ）・（ｂ）は、図１に示す製造装置に用いられる一体金型の一例を示す斜視図である。
【図４】（ａ）・（ｂ）は、図１に示す製造装置に用いられる一体金型の他の例を示す斜視図である。
【図５】（ａ）は、本発明にかかる製造方法で製造される成形物としてのカップコーンの構成の一例を示す上方俯瞰図であり、（ｂ）は、（ａ）のＤ−Ｄ矢視断面図である。
【図６】（ａ）は、本発明にかかる製造方法で製造される成形物としてのワッフルコーンの構成の一例を示す上方俯瞰図であり、（ｂ）は、（ａ）のＥ−Ｅ矢視断面図である。
【図７】（ａ）は、本発明にかかる製造方法で製造される成形物としてのトレイの構成の一例を示す上方俯瞰図であり、（ｂ）は、（ａ）のＦ−Ｆ矢視断面図である。
【図８】（ａ）・（ｂ）は、図１に示す製造装置に含まれるコンベア部の配置のレイアウトの一例を示す模式図である。
【図９】（ａ）・（ｂ）は、図１に示す製造装置に含まれる外部加熱手段としてのガス加熱部の構成の一例を示す模式図である。
【図１０】（ａ）・（ｂ）・（ｃ）は、図１に示す製造装置に含まれる給受電部の構成を示す模式図である。
【図１１】（ａ）・（ｂ）は、図１０に示す給受電部のより具体的な構成の例を示す模式図である。
【図１２】図１に示す製造装置の概略構成の他の例を示す模式図である。
【図１３】図１に示す製造装置の概略構成のさらに他の例を示す模式図である。
【図１４】本発明における実施の他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置の概略構成の一例を示す模式図である。
【図１５】図１４に示す製造装置の概略構成の他の例を示す模式図である。
【図１６】図１４に示す製造装置の概略構成の他の例を示す模式図である。
【図１７】本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置の概略構成の一例を示す模式図である。
【図１８】図１７に示す製造装置の概略構成の他の例を示す模式図である。
【図１９】（ａ）・（ｂ）は、図１８に示す製造装置に含まれる外部加熱手段としてのガス加熱部の構成の一例を示す模式図である。
【図２０】（ａ）・（ｂ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置に含まれるコンベア部の配置のレイアウトの一例を示す模式図である。
【図２１】（ａ）・（ｂ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置に含まれるコンベア部の配置のレイアウトの他の例を示す模式図である。
【図２２】（ａ）・（ｂ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置に含まれるコンベア部の配置のレイアウトのさらに他の例を示す模式図である。
【図２３】（ａ）・（ｂ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置に含まれるコンベア部の配置のレイアウトのさらに他の例を示す模式図である。
【図２４】従来の製造装置の概略構成の一例を示す模式図である。
【図２５】従来の製造装置を大規模化した場合の概略構成の一例を示す模式図である。
【図２６】本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置の概略構成の一例を示す模式図である。
【図２７】図２７に示す製造装置の概略構成の他の例を示す模式図である。
【図２８】（ａ）・（ｂ）は、図１０に示すレール状の給電部における入り口近傍に平板状の受電部が挿入された場合の状態を示す模式図である。
【図２９】（ａ）・（ｂ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置において、レール状の給電部における入り口近傍に平板状の受電部が挿入された場合の状態を示す模式図である。
【図３０】（ａ）・（ｂ）は、図２９に示す製造装置において、レール状の給電部における入り口近傍に平板状の受電部が挿入された場合の状態の他の例を示す模式図である。
【図３１】（ａ）・（ｂ）は、図１０に示すレール状の給電部における出口近傍に平板状の受電部が挿入された場合の状態を示す模式図である。
【図３２】（ａ）・（ｂ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置において、レール状の給電部における出口近傍に平板状の受電部が挿入された場合の状態を示す模式図である。
【図３３】（ａ）・（ｂ）は、図３２に示す製造装置において、レール状の給電部における入り口近傍に平板状の受電部が挿入された場合の状態の他の例を示す模式図である。
【図３４】（ａ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置において、Ｒ部位を含むレール状の給電部に挿入される受電部の挿入枚数の変動を示す模式図であり、（ｂ）は、上記受電部の挿入枚数の変動に伴う陽極電流値の変動を示すグラフである。
【図３５】（ａ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置において、Ｒ部位を含むレール状の給電部に挿入される受電部の挿入枚数の変動を示す模式図であり、（ｂ）は、上記受電部の挿入枚数の変動に伴う陽極電流値の変動を示すグラフである。
【図３６】（ａ）は、本発明における実施のさらに他の形態にかかる製造方法で用いられる製造装置において、直製部位からなるレール状の給電部に挿入される受電部の挿入枚数の変動を示す模式図であり、（ｂ）は、上記受電部の挿入枚数の変動に伴う陽極電流値の変動を示すグラフである。
【符号の説明】
１    加熱部
２    電源部（電源手段）
３    給電部（給電手段・レール状手段）
４    受電部（受電手段）
５    一体金型（一体成形型）
６    コンベア部（移動手段・コンベア手段）
７    金型（成形型）
８ａ  カップコーン（焼成物・加熱成形物）
８ｂ  ワッフルコーン（焼成物・加熱成形物）
８ｃ  トレイ（焼成物・加熱成形物）
９    ガス加熱部（外部加熱手段）
１２    電極ブロック（給電極）
１３    電極ブロック（接地極）
１４    成形用原料
３２    側面部（対向面）
Ｂ    加熱ゾーン（加熱領域）
ｂ１・ｂ２・ｂ３・ｂ４・ｂ５    サブゾーン（下位領域）
ｂ２−２・ｄ    高周波印加休止ゾーン（高周波印加休止領域）
ｂ１−１    外部加熱単独ゾーン（高周波印加休止領域）
ｂ５−１    外部加熱単独ゾーン（高周波印加休止領域）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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