(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネート樹脂からなる、エンボスピットまたは案内溝が設けられた０.３〜１.２ｍｍ厚さの基板と、該基板上に設けられた反射層と、その上に設けられた厚さ３〜２００μｍの透明保護層とを具備し、当該透明保護層側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、当該基板に用いるポリカーボネート樹脂は下記式（１）で定義する吸水速度が１５×１０−６（１／ｈｒ）以下であることを特徴とする光学記録媒体。
吸水速度(1/hr)=23℃の水中での飽和吸水率(重量%)/〔23℃の水中での飽和到達時間(hr)×100〕・・・(1)
【請求項２】
該反射層と該透明保護層との間に記録膜を有する請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項３】
該記録膜および／または該反射層と、透明保護層が複数積層される、多層構造であることを特徴とする請求項１〜２記載の光学記録媒体。
【請求項４】
該エンボスピットまたは案内溝が基板の両面に設けられ、該反射層および透明保護層も共に両面に設けられている請求項１〜３記載の光学記録媒体。
【請求項５】
該基板に用いる樹脂が二種以上のポリカーボネート樹脂のブレンド物から形成される請求項１〜４記載の光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報記録媒体、特に表面記録再生用情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常のＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスクにおいては、１.２ｍｍの厚さの透明基板の一方の面上に記録データに応じたエンボスピットが形成され、さらにその上にＡｌ（アルミニウム）などからなる反射膜が形成されている。こうしたＣＤに記録された情報は、反射膜が設けられた面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより再生される。
【０００３】
より記録密度が高密度化されたＤＶＤやＤＶＤ−ＲＯＭディスクにおいては、０.６ｍｍの厚さの透明基板の一方の面上にＣＤの場合よりも微細なエンボスピットが形成され、さらにその上にＡｌ（アルミニウム）などからなる反射膜が形成されている。こうしたディスクの記録面に記録された情報の再生は、ＣＤの場合と同様に反射膜が形成されている面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより行われる。
【０００４】
０.６ｍｍの厚さの基板の材料としては、透明な樹脂材料であるＰＣ（ポリカーボネート）が一般的に使用されている。０.６ｍｍの厚さのＰＣ基板では、機械的特性が十分ではなく、そのままでは基板が反ってしまうため、記録面が内側となるよう２枚の０.６ｍｍの厚さのＰＣ基板を貼り合わせて、合計厚さ１.２ｍｍのディスクとして機械的特性を確保している。
【０００５】
なお、ＤＶＤディスクの基板の厚さが０.６ｍｍとなったのは、チルトマージンを確保するためである。トラックピッチ、ピット密度がより詰まるとディスクの傾き、いわゆるチルトのマージンが減少してしまう。１.２ｍｍから０.６ｍｍへと基板の厚さを小さくすることによって、チルトマージンは確保することができるが、機械的強度の低下は避けられない。
【０００６】
ところが近年になって、新しい方式の光学記録媒体が提案された。例えば、特開平１１−７６５８号公報には「熱可塑性樹脂からなり、０.３〜１.２ｍｍの厚さの支持体と、上記支持体上に案内溝と、該案内溝上に、順に、少なくとも反射膜と、相変化型記録膜とからなる記録領域を有し、少なくとも上記記録領域において、３〜１７７μｍの厚さの透明保護層が形成されて成り、上記透明保護層の、厚さムラをΔｔとしたときに、再生、もしくは記録再生する光学系のＮ.Ａ.および波長λとの間に、
Δｔ≦５.２６（λ／Ｎ.Ａ.4）（μｍ）（Ｎ.Ａ.は開口数）
の関係を満たすことを特徴とする光学記録媒体」が提案され、透明保護層の厚さと、その厚さむらの関係を規定することにより、大容量化が可能な光記録媒体が提供されるとしている。
【０００７】
そして一つの例として、記録容量８ＧＢの高密度を達成するための光学記録媒体に必要な条件をまとめ、次のように示されている。すなわち、記録再生光学系がλ≦０.６８μｍかつＮ.Ａ.／λ≦１.２０をみたし、かつ、記録領域内で透明保護層の厚さｔ＝３〜１７７μｍ、透明保護層の厚さむらは、
△ｔ≦±５.２６（λ／Ｎ.Ａ.4）（μｍ）
トラックピッチＰ≦０.６４（μｍ）
公差△Ｐ≦±０.０４Ｐ（μｍ）
線密度ｄ≦０.１１６１／Ｐ（μｍ／ｂｉｔ）
ディスクスキュー  Θ≦８４.１１５×（λ／Ｎ.Ａ.3／ｔ）
偏心Ｅ≦６７.５７Ｐ（μｍ）
表面粗さＲａ≦±３λ／１００（スポット照射領域内）
というものである。
【０００８】
また特開平１１−２９６９０４号公報には、片面記録方式として、「エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前期保護膜が形成された側である第１の表面と、この第１の表面に対向する第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記第１の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、前記基板の厚さより小さく前記第１の表面は平滑であることを特徴とする情報記録媒体」が提案され、また両面記録方式として「エンボスピットまたは案内溝が設けられ、対向する第１および第２の記録面を有する基板と、この基板の前記第１および第２の記録面にそれぞれ形成された第１および第２の反射膜と、この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された第１および第２の保護膜とを具備し、前記第１の保護膜が形成された側である第１の表面と、前記第２の保護膜が形成された側である第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記第１の表面側および第２の表面側から、それぞれ光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の第１の記録面から前記第１の表面までの距離、および前記基板の第２の記録面から前記第２の表面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０.６ｍｍ以下（λは光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記第１または第２の保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０.６ｍｍ以上１.２ｍｍ以下であり、前記第１の表面から第２の表面までの距離は１.２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体」が提案されている。これらは記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度とを確保しうる情報記録媒体を提供することを目的としている。
【０００９】
しかし、上記改良により機械特性の課題を解決しても片面信号の光記録媒体では温度湿度の環境変化における基板の吸湿、または脱湿によりディスクが時間の経過とともに反りを生じていくため、信号が読み出せない等のフォーカスエラーやトラッキングエラーを起こしやすいといった問題が生じている。
このような環境変化におけるディスクの反りは従来のＣＤでも問題となっていたが、本発明で課題とするディスクは、高Ｎ.Ａ.（開口率）の対物レンズを使用し、光ピックアップが複雑となっているため、要求は一層と厳しいものになっている。
【００１０】
日経エレクトロニクス  ２０００.７.１７（Ｎｏ.７７４）１４２〜１６８ページ記載の内容によれば、本発明で課題としているディスクの光ピックアップ方式は従来と全く異なっている。図１に簡単に本発明で課題としているディスクの光学系とディスクの関係を図示するが、前述したように、高Ｎ.Ａ.の対物レンズ（１）が使用され、透明保護層（２）の厚さは３〜２００μｍと非常に薄くなっている。さらに、新しい光ピックアップ方式はディスク面と対物レンズの距離（３）ｗｏｒｋｉｎｇ  ｄｉｓｔａｎｃｅ）が０.１５ｍｍ前後と非常に小さくなっているのが特徴である。
【００１１】
さらに、この新しい方式のディスクは環境変化による反りによって、フォーカスエラーおよびトラッキングエラーを起こし易いだけでなく、光ピックアップが透明保護層に衝突するといった問題も生じている。  このような現象には、透明保護層の表面をハード・コートで保護するといった面倒な処理を行い対処している。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、前記の如き従来技術の動向に鑑み、環境変化におけるディスクの反りを低減し、且つ、緩やかに反りが生じて実質的に反りの影響を無視しうる単純な構成の上記形式の光学記録媒体の基板を提供することを目的とし、鋭意研究し、本発明に到達した。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、ポリカーボネート樹脂からなる、エンボスピットまたは案内溝が設けられた０.３〜１.２ｍｍ厚さの基板と、該基板上に設けられた反射層と、その上に設けられた厚さ３〜２００μｍの透明保護層とを具備し、当該透明保護層側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、当該基板に用いるポリカーボネート樹脂は下記式（１）で定義する吸水速度が１５×１０−６（１／ｈｒ）以下であることを特徴とする光学記録媒体である。
吸水速度(1/hr)=23℃の水中での飽和吸水率(重量%)/〔23℃の水中での飽和到達時間(hr)×100〕・・・(1)
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図２〜４は、それぞれ本発明を適用した光記録媒体として、光ディスクの一例を示す断面模式図である。なお、本発明で提案する光ディスクの構成はここに挙げた例に限定されるものではない。
【００１５】
本発明を適用した光ディスク４は、図２に示すように、案内溝を有する基板（４ａ）上に光反射層（４ｂ）、記録層（４ｃ）、透明保護層（４ｄ）が順次積層形成されてなるものである。基板（４ａ）には、その表面にデータ情報やトラッキングサーボ信号等が記録される位相ピットや、プリグルーブ等の微細な凸凹等の所定の凸凹パターンからなる案内溝が形成されている。
【００１６】
また、光ディスク５は、図３に示すように、案内溝を有する基板（５ａ）上に光反射層（５ｂおよび５ｅ）、記録層（５ｃおよび５ｆ）が中間層（５ｄ）を挟み込み複数積層された多層構造であることを特徴としており、表面には透明保護層（５ｇ）が形成される。  さらに、光ディスク６では、図４に示すようにエンボスピットまたは案内溝が基板（６ａ）の両面に設けられ、該光反射層（６ｂおよび６ｄ）および記録層（６ｃおよび６ｅ）、透明保護層（６ｆ）も共に両面に順次積層形成することを特徴としている。なお、これら光ディスクを構成する基板、光反射層、記録層、透明保護層には同一もしくは類似の特性を持つ材料が使用可能である。
以下に好適な材料ならびに基板の特性を示す。
【００１７】
本発明における熱可塑性樹脂は、前記  式（１）で定義した吸水速度が１５×１０-6（１／ｈｒ）以下を満たせば、どのような樹脂でもよく、１０×１０-6（１／ｈｒ）以下であれば、一層望ましい。
【００１８】
吸水速度が１５×１０-6（１／ｈｒ）を上回る場合、吸水が速く進行するため、ディスクは簡単に水を吸収してしまう。そのため、反り変形が大きく、フォーカスエラーやトラッキングエラーを起こし易くなるので好ましくない。また反り変形が大きくなることにより、ディスクと光ピックアップの衝突を回避するのは難しくなる。
なお、光ディスクの吸湿および脱湿過程における反り変形に関しては以下の測定法を用いた。
【００１９】
すなわち、ディスクを温度３０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下（Ａ環境）に飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨ環境（Ｂ環境）に移した時に生じる中心から５８ｍｍ部のチルト（Ｔｉｌｔ）変化を経時的に測定し、チルト（Ｔｉｌｔ）変化の最大値と定常に達したときの値の差（△Ｔｉｌｔ）を比較したものである。このときのディスクの△Ｔｉｌｔは０.９度以内、好ましくは０.７５度以内、さらに好ましくは０.５度以内である。デイスクの径が小さい場合は端部で接線を引いて５８ｍｍの値として計算することが出来る。
【００２０】
また、本発明を適用した光ディスクは、透明保護層側から光を入射させて情報信号の記録および／再生が行われるため、基板は光学的な記録および／再生特性に影響を与えることがなく、透明性を必要としない。大きく屈折率が異なった２種以上の樹脂のブレンド物は光散乱によりヘイズ（Ｈａｚｅ）が生じるため、従来の光学特性を必要とするＣＤ、ＤＶＤ等の基板材料には用いにくかったが、上述したように本発明の基板には、大きく屈折率が異なった２種以上の樹脂のブレンド物も用いることが可能である。
次に本発明において基板を形成する熱可塑性樹脂の例を挙げる。なお、本発明で提案する熱可塑性樹脂は以下の例に限定するものではない。
【００２１】
本発明における熱可塑性樹脂としては、吸水速度が遅く、ディスク材料として良好な耐熱性を有する樹脂を主成分としたものであれば良く、このような熱可塑性樹脂の例としてはポリカーボネート樹脂、非晶性ポリオレフィン類、水添ポリスチレンなどが挙げられるが、特にポリカーボネート樹脂を主成分とするのが好ましい。
【００２２】
上記ポリカーボネート樹脂は、通常芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート結合前駆体とを溶液重合法または溶融重合法等で反応させて得られるものである。  好ましいポリマーの具体例を挙げれば、９,９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンとα,α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼンとを２０：８０〜７０：３０、好ましくは４０：６０〜７０：３０のモル比で含むビスフェノール成分をカーボネート前駆体と反応させて得られる共重合ポリカーボネートそのもの、またはそれらをベースとする組成物、或いは２,２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンとカーボネート前駆体とを反応させて得られるポリカーボネートまたはそれらをベースとする組成物等が挙げられる。
【００２３】
また、該ポリカーボネート樹脂は、単独の芳香族ジヒドロキシ化合物からなるものはもちろん、２種類以上の芳香族ジヒドロキシ化合物の共重合でも何ら差し支えない。さらにこれらのポリカーボネート樹脂を２種以上混合して用いても何ら問題はない。
本発明におけるポリカーボネート樹脂は、そのポリマー０.７ｇを１００ｍｌの塩化メチレンに溶解し、２０℃で測定した比粘度が０.２〜０.５のものが好ましく、０.２５〜０.４の範囲のものがより好ましい。比粘度が０.２未満では成形品が脆くなり、０.５より高くなると溶融流動性が悪く、成形不良を生じ、光学的に良好な成形品が得難くなる。
【００２４】
本発明の熱可塑性樹脂には、前記ポリカーボネート樹脂および／またはそれ以外の樹脂の他に、熱安定剤としてリン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択された少なくとも１種のリン化合物を、熱安定剤としてその共重合体に対して特定の割合で配合することができる。このリン化合物を配合することにより、かかる光ディスク用樹脂の熱安定性が向上し、成形時における分子量の低下や色相の悪化が抑止される。
【００２５】
かかる熱安定剤の配合量は、該熱可塑性樹脂に対して０.０００１〜０.０５重量％であり、０.０００５〜０.０２重量％が好ましく、０.００１〜０.０１重量％が特に好ましい。配合量が０.０００１重量％未満では上記効果が得られ難く、０.０５重量％を超えると、逆に該熱可塑性樹脂の熱安定性に悪影響を与えることがあり、また樹脂によっては耐加水分解性も低下するので好ましくない。
【００２６】
本発明の熱可塑性樹脂には、酸化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を添加することができる。その例としてはフェノール系酸化防止剤を示すことができる。これら酸化防止剤の好ましい添加量の範囲は該熱可塑性樹脂に対して、０.０００１〜０.０５重量％である。
【００２７】
さらに本発明の熱可塑性樹脂には、必要に応じて一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを加えることもできる。この一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを配合することにより、前記熱可塑性樹脂の成形時の金型からの離型性が改良され、ディスク基板の成形においては、離型荷重が少なく離型不良によるディスク基板の変形、ピットずれを防止できる。また、該熱可塑性樹脂の溶融流動性が改善される利点もある。
【００２８】
かかるアルコールと高級脂肪酸とのエステルの配合量は、該熱可塑性樹脂に対して０.０１〜２重量％であり、０.０１５〜０.５重量％が好ましく、０.０２〜０.２重量％がより好ましい。配合量が０.０１重量％未満では上記効果が得られず、２重量％を越えると成形の際に金型表面の汚れの原因ともなる。
【００２９】
本発明の光ディスク基板用樹脂には、さらに他の熱可塑性樹脂、光安定剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤などの添加剤を、転写性、ならびに成形したディスクの吸湿および脱湿過程における反りの低減効果を損なわない範囲で加えることができる。
【００３０】
本発明の熱可塑性樹脂組成物の調製において、ポリカーボネート樹脂どうしの混合および／またはその他の樹脂との混合は、ポリマー溶液、粉粒体、ペレット等の成形品の段階が考えられるが、特に制限するものではない。また混合の方法については、ポリマー溶液の段階では、例えば、攪拌機付き容器が主として考えられ、また、粉粒体、ペレット等の成形品の段階では、例えばタンブラー、Ｖ型ブレンダー、ナウターミキサー、バンバリーミキサー、混練ロール、押出機などで混合する方法が用いられる。いずれの場合も任意の方法で使用され、特に制限はないが、混合操作中の異物混入に対する除去方法の簡便さからポリマー溶液状態での混合後、任意の目開きのフィルターを通過させるという方法が好ましい。
次に光ディスクの製造方法について説明する。
【００３１】
上記光ディスク基板用樹脂より光ディスク基板を製造する場合には光記録媒体に必要なスペックを満たすピッチおよびグルーブ、並びに表面むらを実現したスタンパが装着された射出成形機（射出圧縮成形機を含む）を用い、射出成形法にて作成する。この時ディスク基板の厚さは０.３〜１.２ｍｍとする。この射出成形機としては一般的に使用されているもので良いが、炭化物の発生を抑制しディスク基板の信頼性を高める観点からシリンダーやスクリューと樹脂との付着性が低く、かつ耐食性、耐摩耗性を示す材料を使用したものを用いるのが好ましい。成形工程での環境は、本発明の目的から考えて、可能な限りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の分解を招くような滞留を起こさないように配慮することも重要となる。
【００３２】
本発明における光ディスク基板用樹脂は、射出成形または射出圧縮成形の際に、転写性の良好となる十分な流動性を有していることが好ましい。
【００３３】
つづいて本発明の光ディスク基板は、その片面に少なくとも反射膜を形成させることにより光ディスクとなる。この材料としては、金属元素を単独で、あるいは複合させて用いることができる。そのうちＡｌおよびＡｕを単独で使用するか、もしくは０.５重量％以上１０重量％以下、特に好ましくは３.０重量％以上１０重量％以下のＴｉを含有するＡｌ合金、０.５重量％以上１０重量％以下のＣｒを含有するＡｌ合金を使用するのが好ましい。また該反射膜は、イオンビームスパッタ法、ＤＣスパッタ法、ＲＦスパッタ法などの手段で形成させることができる。
【００３４】
通常この金属薄膜の他に、基本的には記録層（ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−Ｒタイプの場合は相変化膜、染料が挙げられ、光磁気ディスクは光磁気記録膜が挙げられる）および透明保護層が形成されて本発明の光ディスクとなる。
【００３５】
かかる相変化記録材料層としては、例えば単体のカルコゲンやカルコゲン化合物が用いられる。具体的には、Ｔｅ、Ｓｅの各単体、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ｇｅ−Ｔｅ，Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｅ−Ａｇ，Ｉｎ−Ｓｅ，Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｌ−Ｃｏ，Ｉｎ−Ｓｂ−Ｓｅ，Ｂｉ2Ｔｅ3，ＢｉＳｅ，Ｓｂ2Ｓｅ3，Ｓｂ2Ｔｅ3等のカルコゲナイト系材料が使用される。
また、光磁気記録層には、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ等の非晶質合金薄膜等の、カー効果やファラデー効果等の磁気光学特性を有する垂直磁化膜等が用いられる。
【００３６】
また、透明保護層は記録層上に形成される。この透明保護層は、レーザー光を通過する材料よりなり、かかる材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂や非晶性ポリオレフィン系樹脂などの熱可塑性樹脂や、各種熱硬化性樹脂等が挙げられる。
【００３７】
透明保護層を形成する手段は、例えば、記録層上にポリカーボネート樹脂や非晶性ポリオレフィン系樹脂などの熱可塑性樹脂からなるシートやガラス板等の透明版を貼り合わせる方法、また紫外線硬化樹脂をスピンコート等の手法によって塗布し、紫外線照射することによって形成する方法が挙げられる。さらにこの透明保護層はコマ収差をかなり小さく抑えるために、３〜２００μｍの厚さに制限される。
【００３８】
以上が本発明の光ディスクの基本的構成であるが、この構成に加えて誘電体層を設けて、光学的特性や熱的特性を制御しても良い。この場合、基板上に光反射層、第一の誘電体層、記録層、第２の誘電体層、透明保護層を順次、形成する。
【００３９】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに説明する。なお実施例中の部は重量部である。なお、評価は下記の方法に従った。
【００４０】
（１）吸水率（ＡＳＴＭ  Ｄ−０５７０）
ＡＳＴＭ  Ｄ−０５７０に従い、φ４５ｍｍ成形プレート（約６ｇ）の２３℃純水中における重量変化率（重量％）により求めた。通常、ＡＳＴＭ  Ｄ−０５７０では２４時間後の変化率を用いるが、１時間後および飽和到達時間の変化率も求め、それぞれ初期吸水率および飽和吸水率として用いた。それらは吸水試験の初期重量をＷ0、１時間目の重量をＷ1、２４時間目の重量をＷ24、飽和到達時点での重量をＷｓとすれば、以下の式で算出される。
初期吸水率＝        〔（Ｗ1−Ｗ0）／Ｗ0〕×１００
吸水率（ＡＳＴＭ  Ｄ−０５７０）＝〔（Ｗ24−Ｗ0）／Ｗ0〕×１００
飽和吸水率＝        〔（Ｗｓ−Ｗ0）／Ｗ0〕×１００
【００４１】
（２）初期機械特性
名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて各ペレットから１２０ｍｍφ、１.２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。表２に各基板の成形条件を示した。その後、射出成形により得られたディスク基板に順にＡｌＣｒ（反射膜）１０００Å、ＺｎＳ−ＳｉＯ2（誘電体層１）１００Å、ＧｅＳｂＴｅ（相変化記録膜）１２０Å、ＺｎＳ−ＳｉＯ2（誘電体層２）１００Åをスパッタ蒸着させ、その上にポリカーボネート製薄膜カバー層を貼り合わせることで目的の光ディスク基板を得た。
続いて、ディスクが互いに接触しないようスペーサーを挟み、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨ環境に２日間以上放置した。熱収縮および環境変化に対するＴｉｌｔの変化が安定した時点でジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００ＵによりＴｉｌｔの評価を行い、初期機械特性とした。なお、ディスクの中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔを評価の対象とした。
【００４２】
（３）△Ｔｉｌｔ
初期機械特性を評価したディスク基板を温度３０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下（Ａ環境）に飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨ環境（Ｂ環境）に移した。
移動後、環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化をジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００Ｕにより経時的に測定し、Ｔｉｌｔ変化が最大に達した値および定常に達した値の差を△ＴｉｌｔMAXとした。また、変化開始から１時間での変化量をΔＴｉｌｔ／１ｈとして示した。
【００４３】
実施例１
温度計、撹拌機、還流冷却器およびホスゲン吹き込み管を備えた反応器にイオン交換水３２１６５部、水酸化ナトリウム１７５７部を入れ、９,９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（成分ａ−３）２２１３部およびα,α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼン（成分ａ−４）３０３９部およびハイドロサルファイト１１部を溶解した後、塩化メチレン１０９５０部を加え、撹拌下１６〜１８℃でホスゲン１６６７部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール９２部と水酸化ナトリウム２９３部を加え、さらにトリエチルアミン４部を加えて３０℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、ニーダーにて塩化メチレンを蒸発して、成分ａ−３と成分ａ−４の比がモル比で４０：６０である白色粉粒体５５５０部を得た（収率９６％）。この粉粒体の比粘度は０.２４５、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１４３℃であった。
【００４４】
この樹脂粉粒体にトリスノニルフェニルフォスフェートを０.００５％、トリメチルフォスフェートを０.００３％、ステアリン酸モノグリセリドを０.０３０％加えて、ベント付きφ３０ｍｍ二軸押出機を用いて、ペレット化し、吸水率の評価を行った。吸水曲線を図５に示す。
続いて名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて１２０ｍｍφ、１.２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板に順に反射膜、第一の誘電体層、相変化記録膜、第二の誘電体層をスパッタ蒸着させ、その上にポリカーボネート製薄膜カバー層を貼り合わせることにより目的の光ディスクを得た。このディスク基板の初期機械特性および△Ｔｉｌｔを評価した。各評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）を表１、表２および図６に示した。
【００４５】
実施例２
温度計、攪拌機および還流冷却器付き反応器にイオン交換水１１０５７部、４８％水酸化ナトリウム水溶液１５６０部を仕込み、これに２,２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン２３９６部およびハイドロサルファイト２.１部を溶解した後、塩化メチレン６４４５部を加え、攪拌下１５〜２０℃でホスゲン１００５部を６０分要して吹込んだ。ホスゲン吹込み終了後ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール９２部および４８％水酸化ナトリウム水溶液８３０部を加え、撹拌して乳化させた後トリエチルアミン０.０９部を加え、２８〜３３℃で１時間攪拌して反応を終了した。反応終了後生成物溶液を多孔板付遠心抽出機［（株）日立製作所製ウルトレックスＥＰ−０２］にてイオン交換水流量１,０００ｍｌ／分、反応生成物溶液流量１,５００ｍｌ／分、回転数３,５００ｒｐｍの条件で遠心分離した後、塩化メチレン相を塩酸酸性にし、さらに同様の条件で遠心分離操作を繰返し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、軸受部に異物取出口を有する隔離室を設けたニーダーにより塩化メチレンを蒸発して、粉粒状の無色のポリカーボネート樹脂２,４００部（収率９２％）を得た。この粉粒体のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２１℃であった。
【００４６】
この樹脂粉粒体にトリスノニルフェニルフォスフェートを０.００５％、トリメチルフォスフェートを０.００３％、ステアリン酸モノグリセリドを０.０３０％加えて、ベント付きφ３０ｍｍ二軸押出機を用いて、ペレット化し、吸水率の評価を行った。吸水曲線を図５に示す。
続いて、実施例１と同様の方法で目的のディスクを得て、初期機械特性および△Ｔｉｌｔを評価した。各評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）を表１、表２および図６に示した。
【００４７】
比較例１
ビスフェノールＡをジヒドロキシ化合物として得られた帝人化成（株）製のポリカーボネート（ＡＤ−５５０３）を用い実施例１と同様の方法で目的のディスクを得て、初期機械特性および△Ｔｉｌｔならびに衝突頻度を評価した。各評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）を表１、表２および図６に示した。
【００４８】
【表１】
0004332306.tif 000002
【００４９】
【表２】
0004332306.tif 000003
【００５０】
【発明の効果】
環境変化によって基板の反り形状が急激に変化すると、サーボ機構の追従が難しくフォーカスエラー等の原因となる。また、エラーの原因となるばかりでなく、時にはピックアップ部とディスクが衝突を起こし、ディスク表面を傷つけてしまうことさえある。
【００５１】
本発明の光ディスク基板は複雑な構成にすることなく、反り変化を緩やかにすることが可能なため、これらの問題にも十分に対処することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に適用する光ディスク基板の光学系とディスクの関係を示す模式図を示す。
【図２】本発明に適用する光ディスクの一例の断面の模式図を示す。
【図３】本発明に適用する光ディスクの一例の断面の模式図を示す。
【図４】本発明に適用する光ディスクの一例の断面の模式図を示す。
【図５】実施例および比較例の基板材料の吸水曲線を示す。
【図６】実施例および比較例の基板材料の吸水における基板のＴｉｌｔ変化（環境変化によって生じる光ディスクの中心から５８ｍｍ部におけるＴｉｌｔ経時変化）を安定時を基準として図示したもの。
【符号の説明】
１    対物レンズ
２    透明保護層
３    ディスク面と対物レンズの距離
４    光ディスク
４ａ  基板
４ｂ  光反射層
４ｃ  記録層
４ｄ  透明保護層
５    光ディスク
５ａ  基板
５ｂ  光反射層
５ｃ  記録層
５ｄ  中間層
５ｅ  光反射層
５ｆ  記録層
５ｇ  透明保護層
６    光ディスク
６ａ  基板
６ｂ  光反射層
６ｃ  記録層
６ｄ  光反射層
６ｅ  記録層
６ｆ  透明保護層
【図１】
0004332306.tif 000004
【図２】
0004332306.tif 000005
【図３】
0004332306.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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