(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に開口部を有する遮光層を黒色樹脂組成物によって形成する工程と、オゾン雰囲気下で透明基板の裏面から拡散板を通して紫外線照射することにより上記遮光層の開口部側面の表面エネルギーを増加させる処理を行なう工程と、上記遮光層の開口部にインクを付与し、該インクを硬化させて着色部を形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
上記遮光層に予め光触媒粒子が含有されている請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
上記遮光層の開口部にインクを付与する手段が、インクジェット方式である請求項１または２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
透明基板と、該透明基板上に開口部を有する遮光層と、該遮光層の開口部内に形成された着色部と、を有するカラーフィルタであって、請求項１〜３のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法によって製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項５】
一対の基板間に液晶を挟持してなり、一方の基板を請求項４記載のカラーフィルタを用いて構成したことを特徴とする液晶素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーテレビやパーソナルコンピュータのディスプレイ等に用いられるカラー表示の液晶素子を構成するカラーフィルタの製造方法に関し、さらに該製造方法により製造されるカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを用いて構成される液晶素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、パーソナルコンピュータの発達、特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの受容が増加している。しかしながら、さらなる普及のために大幅なコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の重いカラーフィルタのコストダウンが求められている。
【０００３】
カラーフィルタを低コストで製造する方法として、ガラス基板上に遮光性のブラックマトリクスを形成し、インクジェット記録装置を用いて該ブラックマトリクスの開口部にインクを吐出し、該インクを硬化して着色部を形成する方法が提案されている。この製造方法では、ブラックマトリクスの開口部にインクが良好に収まるようにするために、ブラックマトリクスの材料として、インクに濡れにくく、インクをはじき易い材料が検討されている。
【０００４】
例えば、特開平７−３５９１７号公報には、インクに対して２０°以上の接触角を有する材料を用いてブラックマトリクスを形成する方法が提案されている。また、特開平７−３５９１５号公報には、ブラックマトリクス材料として、水に対して４０°以上の接触角を持つ材料が提案されている。さらに、特開平６−３４７６３７号公報には、それぞれの材料の臨界表面張力を、基板表面＞インク＞ブラックマトリクス表面とし、ブラックマトリクス表面＜３５ｄｙｎｅ／ｃｍ、基板表面≧３５ｄｙｎｅ／ｃｍ、インクを両者から５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の差を有するように設定する構成が提案されている。これらの提案では、いずれもブラックマトリクスの材料として、撥水性を持たせるためにフッ素化合物やケイ素化合物を含むことが提案されている。
【０００５】
また、特開平４−１２１７０２号公報には、基板と逆の親媒性を有する堤を形成し、その間隙にインクを注入する方法が提案されているが、材料については詳しい開示はない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記したようにブラックマトリクスの材料に撥水剤であるフッ素化合物やケイ素化合部を混ぜると、ブラックマトリクスパターンを形成するための最終工程であるポストベークの際に、ブラックマトリクス材料中の撥水剤が揮発し、ブラックマトリクスの開口部に露出したガラス基板表面に薄く付着する。そのため、ガラス基板表面が撥水性を示すようになり、該開口部にインクを付与した時に、インクが良好にガラス基板表面に付着しなくなるという問題点があった。
【０００７】
本発明の目的は、ブラックマトリクスの開口部にインクを付与して着色部を形成するカラーフィルタの製造方法において、隣接する開口部間においてインクの混色を防止すると同時に、各開口部内においてはインクのはじき等がなく、効果的にインクを収納して均一な着色部を形成し、欠陥やムラのない高コントラストなカラーフィルタを製造することにあり、該製造方法で得られたカラーフィルタを用いて、カラー表示特性に優れた液晶素子を安価に提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１は、透明基板上に開口部を有する遮光層を黒色樹脂組成物によって形成する工程と、オゾン雰囲気下で透明基板の裏面から拡散板を通して紫外線照射することにより上記遮光層の開口部側面の表面エネルギーを増加させる処理を行なう工程と、上記遮光層の開口部にインクを付与し、該インクを硬化させて着色部を形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【０００９】
カラーフィルタの製造において、インクがブラックマトリクスパターンを乗り越えて隣の開口部に付与されるインクと混色しないためには、ブラックマトリクスがインクに濡れにくい材料で形成されていること、即ちブラックマトリクスの表面エネルギーがインクの表面エネルギーより小さいことが必要である。さらに、効果的にインクをブラックマトリクスの開口部に収めるためには、ブラックマトリクスの開口部側面の表面エネルギーがブラックマトリクス上面よりも大きいことが必要である。一方、インクがブラックマトリクスの開口部内で十分に広がり、良好なコントラストのカラーフィルタを構成するためには、該開口部に露出した透明基板表面がインクに十分濡れ易いこと、即ち透明基板の表面エネルギーが、インクの表面エネルギーよりも大きいことが必要である。これらをまとめると、理想の表面エネルギー状態は、
ブラックマトリクス上面＜ブラックマトリクス開口部側面＜インク＜透明基板となる。
【００１０】
本発明では、選択的にブラックマトリクスの開口部側面の表面エネルギーを増加させる処理を行なうことにより、上記理想の表面エネルギー状態を形成し、これにより、ブラックマトリクス上面ではインクを良好にはじき、側面においてはインクの濡れ性を高めて開口部内に良好にインクを広げて均一な着色部を形成することができる。
【００１１】
また本発明の第２は、透明基板と、該透明基板上に開口部を有する遮光層と、該遮光層の開口部内に形成された着色部と、を有するカラーフィルタであって、上記本発明のカラーフィルタの製造方法によって製造されたことを特徴とするカラーフィルタである。
【００１２】
さらに本発明の第３は、一対の基板間に液晶を挟持してなり、一方の基板を上記本発明のカラーフィルタを用いて構成したことを特徴とする液晶素子である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明のカラーフィルタの製造方法の好ましい一実施形態の工程図である。図中の（ａ）〜（ｅ）は、下記工程（ａ）〜（ｅ）にそれぞれ対応する断面模式図である。以下、各工程を説明する。
【００１４】
工程（ａ）
透明基板１上に黒色樹脂組成物を用いて開口部を有する遮光層２を形成する。この遮光層２は、通常、ブラックマトリクス或いはブラックストライプと呼ばれている。本発明において用いられる透明基板１としては、通常ガラス基板が用いられるがカラーフィルタとしての透明性や機械的強度等必要な特性が満たされれば、プラスチック基板等も用いられる。また、その表面にはインクとの密着性を向上させる薄膜を形成しておいても良い。
【００１５】
また、本発明において遮光層２を形成する黒色樹脂組成物としては、感光性或いは非感光性のいずれでも良い。感光性の黒色樹脂組成物としては、通常のポジ型のフォトレジストに黒色の顔料または染料を混合し、その後の工程及び信頼性に支障を来さないものであれば、必要に応じて界面活性剤等の添加物を添加しても良い。また、透明基板に塗布する際には適当な溶媒に分散されている。
【００１６】
上記黒色顔料としては、カーボンブラックや黒色有機顔料などが用いられる。
【００１７】
ポジ型フォトレジストしては、ＵＶレジスト、ＤＥＥＰ−ＵＶレジスト等の中から適宜選択して用いることができる。ＵＶレジストとしては、具体的には、ノボラック樹脂−ジアゾナフトキノン系レジスト等が良好に用いられる。また、ＤＥＥＰ−ＵＶレジストとしては、例えばポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン、ポリヘキサフルオロブチルメタクリレート、ポリメチルイソプロペニルケトン及び臭素化ポリ１−トリメチルシリルプロピン等の放射線分解型ポリマーレジスト、コール酸ｏ−ニトロベンジルエステル類等の溶解抑制剤系ポジ型レジスト等を挙げることができる。
【００１８】
上記のような感光性黒色樹脂組成物を用いる場合には、透明基板１上に該樹脂組成物をスピンコーター、ダイコーター、ディップコーターなどを用いて必要な膜厚になるように塗布する。本発明において遮光層２の膜厚は１μｍ程度が好ましい。塗布形成された樹脂組成物層は例えばホットプレート等を用いてプリベークして仮硬化し、その素材の感度に合致した波長を有する露光機と、所定のパターンを有するマスクを用いて露光する。露光後、現像し、リンス処理をした後、ポストベークを行なって本硬化する。
【００１９】
また、遮光層２を形成し得る非感光性の黒色樹脂組成物としては、例えばポリイミドやアクリル酸モノマー、ウレタンアクリレート等の樹脂成分に、上記感光性樹脂組成物と同様の黒色の顔料や染料、必要に応じて各種添加剤を含有せしめたものを、適当な溶媒に溶解または分散して用いる。このような非感光性樹脂組成物を用いた場合には、上記感光性樹脂組成物を用いた場合と同様に透明基板上に非感光性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成した後、フォトレジストをマスクとして用いて該塗膜をエッチングし、パターンを形成することができる。また、フォトレジストを用いてリフトオフによってパターン形成しても良い。
【００２０】
工程（ｂ）
遮光層２の開口部側面の表面エネルギーを選択的に増加させる処理を行なう。具体的には、遮光層２の上面と側面で水に対する接触角の差が１５°以上、好ましくは４０°以上となるような処理を施す。このような処理としては、例えばオゾン雰囲気下で紫外線（ＵＶ光）を照射するＵＶオゾン処理が好ましく用いられ、この処理の場合には、図１に示すように、拡散板３を用い、オゾン雰囲気下で透明基板１の裏面からＵＶ光を照射する。
【００２１】
また、表面エネルギーの増加処理を効果的に行なう上で、遮光層２に光触媒粒子を添加しておくことにより、該粒子の光励起を利用することができる。光触媒粒子を添加した遮光層に、該光触媒粒子のバンドギャップエネルギーよりも高いエネルギー光を照射すると、光触媒効果によって光触媒粒子表面に水酸基が化学吸着し、さらにこの水酸基に空気中の水分子が物理吸着するために、遮光層の上記エネルギー光の照射領域に親水性が発現する。このような光触媒粒子には、例えば、アナダーゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、酸化亜鉛、チタン酸ストロンチウム、酸化錫、三酸化ビスマス、等が挙げられる。
【００２２】
上記光触媒粒子の平均粒径は、好ましくは０．０１μｍ以下であり、また、樹脂組成物への添加量は、好ましくは、樹脂固形分１００重量部に対して２００重量部（２００ｐｈｒ）以下である。また、励起の手段としては波長が４１３ｎｍ以下のＵＶ光を用いれば良い。
【００２３】
上記のような光触媒粒子を含有する遮光層２に、透明基板１裏面より拡散板３を介してＵＶ光を照射すると、遮光層２の側面及び下面（透明基板１との接着面）の光触媒粒子が光励起され、側面は空気と接するので空気中の水分子を吸着して親水化するが、下面は空気と接していないので親水化されない。これにより、遮光層２の表面エネルギーが上面＜側面となり、最適化される。この時の遮光層２の水に対する接触角は、材料及びプロセス条件にもよるが、上面で６０°以上、側面で２０〜３０°程度となる。
【００２４】
一方、透明基板１の表面エネルギーは、ガラスであれば一般的に６０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であるため、インクを適宜選択することにより、本工程後の表面エネルギー状態は、
遮光層上面＜遮光層側面＜インク＜透明基板
という理想系が実現される。
【００２５】
工程（ｃ）
遮光層２の開口部にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のインク４を付与する。インクの付与方法としては、オフセット印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷等の一般の印刷法等を用いることもできるが、インクジェット記録装置を用いた印刷方法によれば、版を用いないために、インク液滴を操作すれば高精度のパターニングが可能となる点で好ましい。ここで使用されるインクは、遮光層２の上面ではじかれ易く、開口部側面及び透明基板１表面では濡れ易いものを適宜選択して用いる。表面エネルギー（表面張力）としては、通常３０〜７０ｄｙｎｅ／ｃｍである。
【００２６】
このようなインクとしては、エネルギー付与により硬化する樹脂組成物からなり、着色材を含有するものが好ましく用いられる。該着色材としては一般の染料や顔料を用いることができ、例えば染料としては、アントラキノン染料、アゾ染料、トリフェニルメタン染料、ポリメチン染料等などを用いることができる。
【００２７】
またインクに用いる樹脂としては、熱処理や光照射等エネルギー付与によって硬化する樹脂を用いる。具体的には、熱硬化型樹脂として、公知の樹脂と架橋剤との組み合わせが使用できる。例えば、アクリル樹脂、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーと繊維素反応型化合物、エポキシ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン類、エポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ化合物などが挙げられる。また、光硬化型樹脂としては、公知のもの、例えば市販のネガ型レジストが好適に用いられる。
【００２８】
上記インクには、種々の溶媒を加えることもできる。特に、インクジェット方式での吐出性の面から、水及び水溶性有機溶剤の混合溶媒が好ましく用いられる。
【００２９】
さらに、上記成分の他に必要に応じて所望の特性を持たせるために、界面活性剤、消泡剤、防腐剤等を添加することができ、さらに、市販の水溶性染料なども添加することができる。
【００３０】
また、上記した光或いは熱硬化型樹脂のうち、水或いは水溶性有機溶剤に溶解しないものでも安定に吐出可能なものであれば、水や水溶性有機溶剤以外の溶媒を用いても構わない。また、特に光により重合するタイプのモノマーを用いる場合には、染料をモノマーに溶解した無溶剤タイプとすることもできる。
【００３１】
さらに、インクジェット記録装置としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パターンは任意に設定することができる。
【００３２】
工程（ｄ）
必要に応じて、乾燥、加熱硬化等の処理を行ない、インク４を硬化して着色部５を形成する。
【００３３】
工程（ｅ）
必要に応じて保護層６を形成する。保護層６としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプ或いは光熱併用タイプの樹脂層や、蒸着、スパッタ等によって形成される無機膜等を用いることができ、カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐え得るものであれば使用可能である。
【００３４】
次に、本発明のカラーフィルタを用いて構成した液晶素子について説明する。図２は図１の工程で形成したカラーフィルタを組み込んだアクティブマトリクス型液晶素子の実施形態の断面模式図である。図２において、１２は共通電極、１３は配向膜、２０は基板、２２は画素電極、２３は配向膜、１４は液晶化合物、１５はバックライト光、１６は出射光であり、図１と同じ部材には同じ符号を付した。
【００３５】
カラー表示の液晶素子は、一般的にカラーフィルタ側基板（１）とＴＦＴ基板（２０）とを合わせ込み、液晶化合物１４を封入することにより形成される。液晶素子の一方の基板の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電極２２がマトリクス状に形成される。また、もう一方の基板１の内側には、画素電極２２に対向する位置にＲ、Ｇ、Ｂの各着色部５が配列するようにカラーフィルタ層が設置され、その上に透明な共通電極１２が一面に形成される。さらに、両基板の面内には配向膜１３、２３が形成されており、これらをラビング処理することにより液晶分子を一定方向に配列させることができる。
【００３６】
基板１、２０の外側にはそれぞれ偏光板（不図示）が接着され、バックライトとして一般的に蛍光灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み合わせを用い、液晶化合物をバックライト光１５の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行なう。
【００３７】
また、上記液晶素子は透過型の構成であるが、画素電極２２や基板２０に反射性の素材を用いたり、或いは基板２０側に別途反射層を設けることにより、反射型の液晶素子を構成することも可能であり、その場合には偏光板は観察者側にのみ用いる。
【００３８】
本発明の液晶素子においては、本発明のカラーフィルタを用いて構成していれば良く、他の構成部材については、その素材や製法等、従来の液晶素子の技術を適用することが可能である。
【００３９】
【実施例】
（実施例１）
ガラス基板を、２％水酸化ナトリウム水溶液を用いてアルカリ超音波洗浄し、次いでＵＶオゾン処理を施した後、ポジ型フォトレジスト材（東京応化工業社製「ＰＭＥＲ−Ｐ」）にカーボンブラック（三菱化成社製「ＭＡ−１００」）を混合してなる黒色感光性樹脂組成物をスピンコーターで膜厚が１μｍとなるように塗布した。この基板をクリーンオーブン中で９０℃、１０分間加熱処理し、レジストを仮硬化させた。
【００４０】
ＵＶ露光装置を使用し、所定のパターンマスクを用いてプロキシミティ露光を行ない、続いて無機アルカリ水溶液の現像液（東京応化工業社製、ＰＭＥＲ現像液「Ｐ−ＩＳ」）中で浸漬揺動した後、純水でリンス処理を行ない、現像液を完全に除去した後、クリーンオーブン中で、１５０℃で３０分間の加熱処理を行なって、所定パターン形状のブラックマトリクスを得た。
【００４１】
次いで、オゾン雰囲気中でＵＶ光（水銀キセノン灯、中心波長：３００ｎｍ、照度：１０ｍＷ／ｃｍ2 ）を上記ガラス基板の裏面（ブラックマトリクスを設けていない側）から拡散板を介して全面照射した。
【００４２】
次に、インクジェット記録装置を用い、Ｒ、Ｇ、Ｂの各染料系のインクを上記ブラックマトリクスの開口部に吐出した。上記インクは、染料（Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１８、Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン２５、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１１３）を樹脂（アクリル−シリコーングラフトポリマーを主成分とする自己架橋熱硬化型樹脂）に分散させ、溶剤（イソプロパノール、ジエチレングリコール、ポリエチレンイミン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキサノンをインクの色によって適宜選択して使用した。）で溶かしたものに表面張力調整剤（アセチレノール）を添加したものであり、表面エネルギーは３２ｄｙｎｅ／ｃｍであった。
【００４３】
上記インクはブラックマトリクスの開口部に露出したガラス基板表面を均一に覆い、また、にじみやはみ出し、隣接する開口部のインクとの混色及び白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。その後、２００℃で６０分間の加熱処理を行なってインクを硬化させ、着色部を形成した後、保護層を塗布形成し、透明導電膜を成膜しても、上記着色部は密着性に優れ、何ら不具合は生じなかった。このようにして得られたカラーフィルタを用いて、従来の方法により液晶素子を組み立てたところ、欠陥のない色特性に優れたカラー表示の液晶素子が得られた。
【００４４】
（実施例２）
実施例１で用いた感光性黒色樹脂組成物に平均粒径が０．０１μｍの酸化チタン粒子を２００ｐｈｒ混合した以外は、実施例１と同様にしてガラス基板上にブラックマトリクスを形成し、基板裏面から拡散板を介してＵＶ光（中心波長：３６５ｎｍ、照度：２０ｍＷ／ｃｍ2 ）を全面照射して、ブラックマトリクスに含まれる酸化チタン粒子を光励起させ、開口部側面の表面エネルギーを増加させた。
【００４５】
上記ブラックマトリクスの開口部に、実施例１と同じインクをインクジェット記録装置を用いて吐出した。
【００４６】
上記インクはブラックマトリクスの開口部に露出したガラス基板表面を均一に覆い、また、にじみやはみ出し、隣接する開口部のインクとの混色及び白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。その後、２００℃で６０分間の加熱処理を行なってインクを硬化させ、着色部を形成した後、保護層を塗布形成し、透明導電膜を成膜しても、上記着色部は密着性に優れ、何ら不具合は生じなかった。このようにして得られたカラーフィルタを用いて、従来の方法により液晶素子を組み立てたところ、欠陥のない色特性に優れたカラー表示の液晶素子が得られた。
【００４７】
（実施例３）
実施例１と同じガラス基板に、ポリイミド（溶剤：Ｎ−メチル−２−ピロリドン）に実施例１で用いたカーボンブラックと実施例２で用いた酸化チタン粒子を混合した樹脂組成物を、スピンコーターで膜厚が１μｍとなるように塗布した後、クリーンオーブンで１３０℃で３０分間の加熱処理を行なった。
【００４８】
上記黒色樹脂組成物層の上に、ポジ型フォトレジスト（Ｓｈｉｐｌｅｙ社製「Ｍｉｃｒｏｐｏｓｉｔ  ＲＣ１００  ３０ＣＰ」をスピンコーターで塗布し、クリーンオーブンで８０℃、１０分間の加熱処理を行なった。次いで、露光装置を用いて、所定のパターンマスクを用いてプロキシミティ露光した後、現像液（Ｓｈｉｐｌｅｙ社製「Ｍｉｃｒｏｐｏｓｉｔ  Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ」）にてフォトレジストと黒色樹脂組成物層を同時に現像した。次いで、メチルセロソルブアセテートによりレジストを除去し、さらに１５０℃で３０分間の熱処理を行なうことによって、所定パターン形状のブラックマトリクスを得た。
【００４９】
その後、実施例２と同様にしてガラス基板裏面からＵＶ光照射して、酸化チタン粒子を光励起させ、ブラックマトリクスの開口部側面の表面エネルギーを増加させた。
【００５０】
上記ブラックマトリクスの開口部に、インクジェット記録装置を用い、Ｒ、Ｇ、Ｂの各顔料系のインクを吐出した。上記インクは、顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２０９）を樹脂（アクリル−シリコーングラフトポリマーを主成分とする自己架橋熱硬化型樹脂）に分散させ、溶剤（イソプロパノール、ジエチレングリコール、ポリエチレンイミン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキサノンをインクの色によって適宜選択して使用した。）で溶かしたものに表面張力調整剤（アセチレノール）を添加したものであり、表面エネルギーは４８ｄｙｎｅ／ｃｍであった。
【００５１】
上記インクはブラックマトリクスの開口部に露出したガラス基板表面を均一に覆い、また、にじみやはみ出し、隣接する開口部のインクとの混色及び白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。その後、２００℃で６０分間の加熱処理を行なってインクを硬化させ、着色部を形成した後、保護層を塗布形成し、透明導電膜を成膜しても、上記着色部は密着性に優れ、何ら不具合は生じなかった。
【００５２】
（比較例１）
実施例１と同じガラス基板上に、ネガ型レジストインク（東京応化工業社製「ＣＦＰＲ  ＢＫ４１６」）に撥水剤としてフッ素系界面活性剤（住友３Ｍ社製「フロラード  ＦＣ−４３０」）を添加したものをスピンコーターで膜厚が１μｍになるように塗布し、１２０℃で３分間プリベークした後、所定のパターンのマスクを用いて露光し、現像（炭酸ナトリウム溶液を使用）、純水にてリンス処理した後、２２０℃で６０分間加熱硬化してブラックマトリクスパターンを形成した。
【００５３】
次いで、インクジェット記録装置を用いて、実施例３で用いた顔料系インクを上記ブラックマトリクスの開口部に吐出し、硬化させた。
【００５４】
得られたカラーフィルタを顕微鏡観察したところ、ブラックマトリクスに撥水剤を添加したことにより、ブラックマトリクスとガラス基板表面との表面エネルギー差を大きくすることはできたが、ブラックマトリクス上面と開口部側面での表面エネルギーの差がなかったためか、開口部内へのインクの引き込み度合いが弱く、部分的に隣接する着色部間での混色が観察された。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、ブラックマトリクスの開口部内でのインクのはじき等がないため、該開口部内で均一な着色部を形成することができ、白抜けや色むら、混色などの欠陥がなく、コントラストの高いカラーフィルタを歩留良く形成することができる。その結果、該カラーフィルタを用いて、カラー表示特性に優れた液晶素子を安価に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。
【図２】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図である。
【符号の説明】
１  透明基板
２  遮光層
３  拡散板
４  インク
５  着色部
６  保護層
１２  共通電極
１３  配向膜
１４  液晶化合物
１５  バックライト光
１６  出射光
２０  基板
２２  画素電極
２３  配向膜
【図１】
0004323596.tif 000002
【図２】
0004323596.tif 000003