(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎｉ含有量が１質量％以下である低合金鋼または炭素鋼からなる鉄基部材間にＮｉ基インサート材が介装され、前記インサート材が加熱・溶融される液相拡散接合によって製造される接合体であって、前記接合体における前記Ｎｉ含有量が１質量％以下である鉄基部材部分はロックウェル硬さＨＲＣ２２以下であり、接合体中のＮｉを５．０質量％以上含有する全領域を接合層としたとき、該接合層の全域にわたる、Ｂ（ボロン）とクロムとの化合物を除外したＣｒ含有量が２．０〜１０．０質量％であり、かつ前記接合層内におけるＢ（ボロン）とクロムとの化合物層の厚さが５μｍ以下であることを特徴とする耐硫化割れ性に優れた接合体。
【請求項２】
接合部が請求項１に記載の接合体からなる石油精製または化学工業用配管。
【請求項３】
接合部が請求項１に記載の接合体からなる機械部品。
【請求項４】
Ｎｉ含有量が１質量％以下である低合金鋼または炭素鋼からなる鉄基部材間にＮｉ基インサート材を介装し、前記インサート材を加熱・溶融することによって鉄基部材間を液相拡散接合し、その後、熱処理によって前記接合体における前記鉄基部材部分のロックウェル硬さがＨＲＣ２２以下となるように硬さ調整を行なう接合体の製造方法であって、前記鉄基部材中のＣｒ濃度をＸ質量％、前記Ｎｉ基インサート材中のＣｒ濃度をＹ質量％としたとき、Ｘ、Ｙ、が下記（１）式を満足するとともに、前記加熱・溶融温度をインサート材の液相線温度より１００℃以上高温で、１３００℃以下にすることを特徴とする請求項１に記載の接合体の製造方法。
１５≦Ｘ＋Ｙ≦２５（０≦Ｘ≦８、８≦Ｙ≦２０）……………………（１）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、硫化水素を含む雰囲気で使用される配管や機械部品等、硫化水素に対する耐応力腐食割れ性が求められる部位に使用される接合体およびその製造方法に係わり、より詳細には硫化水素に対する耐応力腐食割れ性に優れた接合体、および優れた耐応力腐食割れ性を維持することを可能ならしめるようにした接合体の製造方法の技術分野に属するものである。
【０００２】
【従来の技術】
石油精製、石油化学等の産業分野において用いられる構造物や機器は硫化水素（Ｈ2 Ｓ）を含む雰囲気にさらされる。この様な環境下で使用される部材は、例え部材の破壊強度以下で使用していたとしても、環境と負荷応力との相互作用により破壊に至る場合があり、本雰囲気にて使用される部材には硫化水素雰囲気に対する耐応力腐食割れ性（耐硫化水素割れ性）が要求される。本環境下で使用される部材やその部材の溶接・接合に対してはＮＡＣＥ（National Association of Corrosion Engineers）  ＭＲ−０１７５−９４等にて規格化されており，ろう付としては銀ろう付が推奨されている。
【０００３】
しかし、ＮＡＣＥ  ＭＲ−０１７５−９４に推奨されている銀ろう付で部材を接合した場合、接合体の強度特性は接合層の銀の影響を強く受ける。すなわち、銀自体の強度があまり高くないため、鋼母材と比較して接合体の強度は低いものとなる。そのため化学工業、石油精製用の配管や機械部品等に用いる際、接合体の設計限界は強度が低い接合部の強度によって支配され、鋼母材の強度を十分に活かして使用することができなかった。
【０００４】
また、鋼に対する銀ろうのぬれ性はあまりよくないことが知られている。ぬれ性がよくない場合、接合部に欠陥を生じやすく、接合体の強度低下や気密性の欠如という問題を生じる場合があった。
【０００５】
これに対し、特開平９−２６２６８５号公報において提案されている接合方法では、低融点材料として、Ｃｒを５質量％以上含有する融点１１５０℃以下のＮｉ基合金を用い、所定の接合面圧、加熱範囲において低融点接合材料の融点以上、被接合材であるステンレス鋼の融点以下に１２０秒以上加熱することによって母材と同等以上の耐食性、かつ強度および曲げ性に優れた接合部を得ることが示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
前述した特開平９−２６２６８５号公報によると、接合する母材はＣｒを９質量％以上含有するステンレス鋼に限定される。本文中の記載にもあるように、十分な耐食性を確保するために母材中のＣｒは９質量％以上が必要とされる。確かに、９質量％以上のＣｒを含有するステンレス鋼を用いることによって優れた耐食性を得ることは可能であるが、問題として９質量％以上のＣｒを含有するステンレス鋼は価格が高く、そのために機器全体が高価になるという問題があった。
【０００７】
それに対し、ＮＡＣＥ  ＭＲ−０１７５−９４において、硫化水素雰囲気での使用が認められている低合金鋼や炭素鋼には価格が安いというメリットがある。したがって、腐食環境が穏やかな部分には安価な炭素鋼や低合金鋼を用い、機器全体としてコストを下げたいという要求がある。
【０００８】
しかし、前記接合方法を用いて低合金鋼、炭素鋼を接合した場合、接合部が必ずしも十分な耐硫化割れ性および接合強度を持っておらず、使用中に接合部で破断する場合があるという問題点があった。
【０００９】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、接合部にＮｉ基インサート材を介装させ、インサート材の成分を被接合部材に拡散させることによって、耐硫化割れ性に優れた接合体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
発明者らは、上記課題を解決するために、従来例に係わる拡散接合、すなわち、被接合部材同士の間にインサート材を挟み、インサート材の溶融温度以上、被接合部材の溶融温度以下に加熱しインサート材のみを溶融させてインサート材成分を、被接合部材中に拡散させ、被接合部材同士を接合する液相拡散接合において、接合部のＣｒ濃度に着目して鋭意研究を重ね本発明をなしたものである。
【００１１】
その要旨は、Ｎｉ含有量が１質量％以下である低合金鋼または炭素鋼からなる鉄基部材間にＮｉ基インサート材が介装され、前記インサート材が加熱・溶融される液相拡散接合によって製造される接合体であって、前記接合体における前記Ｎｉ含有量が１質量％以下である鉄基部材部分はロックウェル硬さＨＲＣ２２以下であり、接合体中のＮｉを５．０質量％以上含有する全領域を接合層としたとき、該接合層の全域にわたる、Ｂ（ボロン）とクロムとの化合物を除外したＣｒ含有量が２．０〜１０．０質量％であり、かつ前記接合層内におけるＢ（ボロン）とクロムとの化合物層の厚さが５μｍ以下であることを特徴とする耐硫化割れ性に優れた接合体である。
【００１２】
上記の接合体は接合層内におけるクロム化合物層の厚さを５μｍ以下とすることによって優れた強度特性が得られる。
【００１３】
従って、本発明の接合体は石油精製または化学工業向けの機器、例えば使用中に内圧が作用する配管の接合に好適に使用することができる。
【００１４】
本発明に係わる接合体の製造方法は、Ｎｉ含有量が１質量％以下である低合金鋼または炭素鋼からなる鉄基部材間にＮｉ基インサート材を介装し、前記インサート材を加熱・溶融することによって鉄基部材間を接合し、その後、熱処理によって前記接合体における前記鉄基部材部分のロックウェル硬さがＨＲＣ２２以下となるように硬さ調整を行なう接合体の製造方法であって、前記鉄基部材中のＣｒ濃度をＸ質量％、前記Ｎｉ基インサート材中のＣｒ濃度をＹ質量％としたとき、Ｘ、Ｙ、が下記（１）式を満足するとともに、前記加熱・溶融温度をインサート材の液相線温度より１００℃以上高温で、１３００℃以下にすることを特徴とする。
１５≦Ｘ＋Ｙ≦２５（０≦Ｘ≦８、８≦Ｙ≦２０）……………………（１）
【００１５】
前記加熱・溶融温度が液相線温度より１００℃以上高温で、１３００℃以下とすることにより、優れた強度特性の接合体を得ることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
発明者らは、耐硫化割れ性に優れた接合体を得る方法について種々の検討を行なった。特に接合後における接合層の組成に着目し、接合層の組成と耐硫化割れ性との関係について鋭意研究を行なった。その結果、Ｎｉ含有量が１質量％以下である低合金鋼または炭素鋼を接合するに際して、強度および耐硫化割れ性に優れた接合体を得るためには接合層内のＣｒ濃度が重要であるという知見を得て、本発明に至ったものである。そして接合層内のＣｒ濃度と接合体の耐硫化割れ性について各種の試験を行なった結果、母材に関わらず接合層内の全域にわたる、Ｂ（ボロン）とクロムとの化合物を除外したＣｒ濃度が２．０質量％以上、１０．０質量％以下であり、かつ前記接合層内におけるＢ（ボロン）とクロムとの化合物層の厚さが５μｍ以下の場合に、接合体は優れた耐硫化割れ性を有することを見出した。なお、接合層内のＣｒ濃度、Ｎｉ濃度などは、ＥＰＭＡ（Electron Probe Micro Analyzer）等により測定したものである。
【００１７】
Ｃｒ濃度が２．０質量％以下の場合には、接合層の耐食性が低く、硫化水素を含む雰囲気において接合体を使用すると接合層内にき裂を生じ破断する。Ｃｒ濃度が１０．０質量％以上の場合には、接合層でＣｒの化合物を生成し易いために接合層のＣｒ化合物層が厚く、このＣｒ化合物層近傍でＣｒが欠乏するため、接合層の耐硫化割れ性が低下する。なお、接合層内にＣｒの化合物を生成している場合には局所的にＣｒ濃度が上昇し、局所的に１０．０質量％以上の濃度を示す場合がある。本発明のＣｒ濃度はこのような化合物を除外し、接合層のマトリックスの組成で定めるものとする。
【００１８】
本発明におけるＮｉを主成分とする接合層は、接合体中のＮｉを５．０質量％以上を全領域で含有する層として定義されるが、本接合層の厚さは２．０ｍｍ以下であることが望ましい。接合層の厚さが２．０ｍｍを超える場合、接合層の強度が接合体全体の強度を支配し、接合層が低強度であるために接合体の強度が低くなる。
【００１９】
さらに本接合体を得る接合方法であるが、安定した強度を得るために母材間のインサート材を溶融させることによって接合するのが好ましい。その際，接合層のＣｒ濃度が決まる過程について鋭意検討を行なった。インサート材を加熱・溶融したとき、若干量ではあるが母材側の鋼の溶融を生じる。したがって、溶融した母材によって希釈を受ける分、インサート材の濃度は接合前とは異なった成分となる。前述した接合層内のＣｒ濃度が２．０質量％以上、１０．０質量％以下で、この接合層内におけるクロム化合物層の厚さが５μｍ以下の接合層を有する接合体を得るためには、Ｎｉ含有量が1質量％以下である低合金鋼または炭素鋼のＣｒ濃度をＸ質量％、インサート材のＣｒ濃度をＹ質量％としたとき、下記（１）式を満足するようにインサート材を選択し、前記インサート材を低合金鋼、炭素鋼間に介装し、インサート材の液相線温度より１００℃以上高温で、１３００℃以下で加熱溶融することによって前記低合金鋼、もしくは炭素鋼間を接合するのが有効である。なお、インサート材の形態としてはアモルファス合金等の箔のみでなく、めっき膜や溶射皮膜などでもよい。
１５≦Ｘ＋Ｙ≦２５（０≦Ｘ≦８、８≦Ｙ≦２０）……………………（１）
【００２０】
インサート材のＣｒ濃度（Ｙ）が８質量％以下の場合、もしくは低合金鋼、炭素鋼のＣｒ濃度とインサート材のＣｒ濃度との合計（Ｘ＋Ｙ）が１５質量％未満の場合には、接合層のＣｒ濃度が２．０質量％以下となるため、硫化水素を含有する雰囲気では接合層内に硫化割れが生じる。逆にインサート材のＣｒ濃度（Ｙ）が２０質量％を超える場合、もしくは低合金鋼、炭素鋼のＣｒ濃度とインサート材のＣｒ濃度との合計（Ｘ＋Ｙ）が２５質量％を超える場合には、母材の希釈を受けても接合層内のＣｒ濃度が高く、接合層内に生成するＣｒ化合物量が多くなる。このＣｒ化合物近傍ではＣｒ濃度が急激に低下するため、接合体の耐硫化割れ性が低下する。
【００２１】
特に接合層内におけるＣｒ化合物層の厚さが５μｍ以下の場合、破壊の起点が接合層にないため、接合体に負荷が作用した場合でも母材で破断し、強度、延性を兼ね備えた接合体となる。接合層内におけるＣｒ化合物層の厚さは、図１に示すように、２００〜５００倍の光学顕微鏡で観察した任意の接合部断面において見られる円換算粒径で０．５μｍ以上のＣｒ化合物のうち、最も離れた２化合物間の距離をもってＣｒ化合物層の厚さと定義する。なお、上記光学顕微鏡で観察される０．５μｍ以上の化合物がＣｒ化合物であるか否かは、この化合物をＥＰＭＡにより調べた結果、Ｃｒが含まれていることを確認できればＣｒ化合物と判断する。
【００２２】
低融点化のためＮｉ基インサート材にはＢ（ボロン）が含まれる場合が多いが、Ｂは接合層内にてＣｒとの化合物を生成する。その結果、接合層内、特にＣｒ化合物近傍において急激なＣｒ濃度の低下を招き、接合層の耐硫化割れ性が低下する。そのため、インサ−ト材に含まれるＢ濃度は３．０質量％以下であることが望ましい。Ｂ濃度が３．０質量％を超える場合には、Ｃｒとの化合物量が増加するため，接合層の耐硫化割れ性が低下し、使用中に接合層内にて破断する。Ｂ濃度の下限であるが、インサート材中のＢはインサート材の融点を下げる目的があるため、Ｂ量が少ないインサート材は高融点となり、接合時に母材強度が劣化する。通常、母材の劣化を避けるために低融点のインサート材を用い、極力、低温加熱して接合するので、インサート材のＢ濃度は好ましくは１．０質量％以上が望ましい。ただし、母材強度は接合後の後熱処理によって回復可能であるため、接合後の後熱処理によって母材強度の回復を図る場合には、インサート材中のＢ濃度の下限は特に制限を受けない。使用可能なインサート材を表１に非限定的に例示する。
【００２３】
【表１】
0004268310.tif 000002
【００２４】
接合時にインサート材を加熱溶融させる温度であるが、インサート材の液相線温度より１００℃以上高温で、かつ１３００℃以下の場合、接合層内におけるＢ（ボロン）とＣｒとの化合物層の厚さが５μｍ以下となり、母材にて破断する、強度、延性に優れた接合体が得られる。加熱温度がインサート材の液相線温度以下の場合、インサート材のうち局所的に溶融しない部分があり、その部分が低強度となるため、接合体の強度が低くなる。加熱温度が１３００℃を超える場合、インサート材が溶融している際の母材溶解量が多く、インサート材中のＣｒ濃度が低下するため、接合層の耐硫化割れ性が劣化する。
【００２５】
接合温度がインサート材の液相線温度より１００℃高温で、かつ１３００℃以下の場合、接合層内におけるＣｒ化合物層の厚さが５μｍ以下となり、母材にて破断する、強度、延性に優れた接合体が得られる。
【００２６】
接合する低合金鋼、炭素鋼であるが、硫化水素を含有する雰囲気にて使用される合金として、ＮＡＣＥ規格ＳＴＤ．ＭＲ−０１７５−９４に記載されている通り、Ｎｉ含有量が１．０質量％以下であり、かつロックウェル硬さ（ＨＲＣ）が２２以下であればよい。使用可能な鉄基合金を非限定的に例示すると、具体的にはＣ：０．３８〜０．４５質量％、Ｍｎ：０．７０〜１．００質量％、Ｐ：０．０２５質量％以下、Ｓ：０．０２４質量％以下、Ｓｉ：０．１５〜０．３０質量％、Ｃｒ：０．７５〜１．１０質量％、Ｍｏ：０．１５〜０．２５質量％、Ｆｅ：残部、等が挙げられる。これら低合金鋼、炭素鋼以外を用いた場合、母材自体の耐硫化割れ性が低いため，使用中、母材自体の破断を生じ使用できない。
【００２７】
また、これら低合金鋼、炭素鋼はＮＡＣＥ規格ＳＴＤ．ＭＲ−０１７５−９４に記載の硬さであるロックウェル硬さ（ＨＲＣ）２２以下にて使用する必要がある。しかし、前記接合温度に加熱して接合した場合、接合前には鉄基合金母材を所定の硬さに調質してあったとしても、接合後には所定の硬さを外れてしまう場合がある。その原因は鉄基合金の種類により異なるが、一つの例としては接合後の冷却で鉄基合金母材が焼入れされたことに起因する。その場合、適正な温度にて焼戻しを行なうか、もしくは鉄基合金母材の靭性も回復させるのであれば、再度、焼入れ、焼戻しを行なう必要がある。その温度条件は鉄基合金母材それぞれで異なるが、例えばクロムモリブデン鋼ＳＣＭ５の場合には９００℃以上で焼き入れ、その後、７００℃以上で焼戻しを行なうのが望ましい。
【００２８】
また、本発明の接合体は、硫化水素を含む雰囲気であり、かつ硫化割れを生じる環境下でも好適に使用することができるが、その雰囲気としては、液体としての水が存在し、かつ全圧が０．４ＭＰａ以上で、かつ硫化水素の分圧が０．０００３ＭＰａ以上の雰囲気として定義される。特に微量の塩素イオンを含む環境下では硫化割れが促進されるが、本発明の接合体はこのような環境下においても使用に耐え得るものである。
【００２９】
【実施例１】
以下、本発明の実施例について説明する。実施例１は、表２に示す組成の鉄基合金製ブロックを、表３に示す各種組成のインサート材を介装させて、加熱・溶融してブロック同士を接合した例である。ブロック同士の接合は、図２に示すように、鉄基合金製ブロック１とブロック２との間に厚さ６５μｍのアモルファス箔インサート材３を介装して加熱・溶融して行なった。接合時の面圧はブロックの自重のみで０．００３ＭＰａとなった。接合した後、表４に示す条件で後熱処理を行なった接合体から引張試験片、応力腐食割れ試験片を切り出し、それぞれについて試験を行ない接合体の強度評価を行なった。
【００３０】
【表２】
0004268310.tif 000003
【００３１】
【表３】
0004268310.tif 000004
【００３２】
引張試験片は平行部の直径６ｍｍ、長さ３２ｍｍであり、平行部の中央において負荷方向に対して接合面が直角になるように加工した。また、応力割れ試験片の寸法は、長さ６５ｍｍ、幅１５ｍｍ、厚さ１．５ｍｍであり、長さ６５ｍｍの中央に接合面がくるように加工した。そして図３に示すように、試験片を試験治具にセットして応力を負荷し、硫化水素を含む雰囲気中での応力腐食割れ試験（硫化割れ試験）に供した。試験雰囲気としては、図３に示す負荷状態の試験片を１２ｐｐｍの塩素イオンを含む水中に浸し、その溶液を分圧０．０３２ＭＰａのＨ2Ｓで飽和させたものである。なお、図３の負荷状態において、引張側面に作用する負荷応力は表４に示すように、母材耐力（５２３Ｎ／ｍｍ2）の６０％となるように調整した。試験時間は７２０時間とし、７２０時間保持後にクラックの有無を調査した。また、前記ブロックについて、母材のロックウェル硬さ（Ｃスケール）を測定した。実施例１の接合条件、後熱処理条件、母材硬さおよび試験結果を表４に示す。
【００３３】
【表４】
0004268310.tif 000005
【００３４】
表４に示すように、接合層のＣｒ濃度が２．０質量％以上、１０．０質量％以下の場合には硫化水素を含む雰囲気中における応力腐食割れ性に優れているため、試験雰囲気での硫化割れは認められない。接合層のＣｒ濃度が２．０質量％未満の場合には硫化水素に対する接合層の耐応力腐食割れ性が低いため、接合層内にて破断を生じた。接合層内のＣｒ濃度が１０．０質量％を超える場合には接合層内のＣｒ化合物量が多く、Ｃｒ化合物近傍でＣｒが欠乏しているため、接合層の耐硫化割れ性が低い。また、接合後に適切な後熱処理を施して、低合金鋼、炭素鋼の硬さをＨＲＣ２２以下に調整することにより、接合部のみならず母材も硫化割れを生じない接合体が得られる。さらに、接合層内のＣｒ化合物層の厚さが５μｍ以下の場合、破壊の起点が接合層内にないため、引張試験を行なっても母材で破断し、耐硫化割れ性とともに強度、延性を兼ね備えた接合体となる。
【００３５】
また、前記接合体を得るための方法であるが、Ｎｉ含有量が１質量％以下の低合金鋼または炭素鋼のＣｒ濃度をＸ質量％、Ｂ含有量が３．０質量％以下であるＮｉ基インサート材のＣｒ濃度をＹ質量％としたとき、下記（１）式を満足するＮｉ基インサート材を、Ｎｉ含有量が１質量％以下の低合金鋼または炭素鋼間に介装し、インサート材の液相線温度より１００℃以上高温で、１３００℃以下に加熱・溶融することによって前記低合金鋼または炭素鋼間を接合した場合には、接合部の耐硫化割れ性に優れた接合体が得られる。しかし、上記条件を外れた条件で接合した接合体は、接合層のＣｒ濃度が低い、もしくは接合層内に生成したＣｒ化合物による、Ｃｒ化合物近傍のＣｒの欠乏層により、接合体の耐硫化割れ性が低下する。
１５≦Ｘ＋Ｙ≦２５（０≦Ｘ≦８、８≦Ｙ≦２０）……………………（１）
【００３６】
【実施例２】
実施例２は、表５に示す組成の２種類の鉄基合金製ブロックを、表３に示す各種組成のインサート材を介装させて、加熱・溶融してブロック同士を接合した例である。ブロック同士の接合は、実施例１と同じで図２に示すように、鉄基合金製ブロック１とブロック２との間にインサート材３を介装して加熱・溶融して行なった。接合した後、表６に示す条件で後熱処理を行なった接合体から引張試験片、応力腐食割れ試験片を切り出し、それぞれについて試験を行ない接合体の強度評価を行なった。
【００３７】
【表５】
0004268310.tif 000006
【００３８】
引張試験片および応力割れ試験片の寸法、形状は実施例１と同じで、同様に前記ブロックについて、母材のロックウェル硬さ（Ｃスケール）を測定した。そして応力腐食割れ試験（硫化割れ試験）の試験雰囲気としては、０．０３０ＭＰａのＨ2Ｓの飽和水溶液である。試験片には、図３に示す負荷状態において、引張側面に作用する負荷応力は表６に示すように、母材耐力の５０％となるように調整した。試験時間は実施例１と同じく、７２０時間とし、７２０時間保持後にクラックの有無を調査した。実施例２の接合条件、後熱処理条件、母材硬さおよび試験結果を表６に示す。
【００３９】
【表６】
0004268310.tif 000007
【００４０】
表６に示すように、接合層のＣｒ濃度が２．０質量％以上、１０．０質量％以下の場合には硫化水素を含む雰囲気中における応力腐食割れ性に優れているため、試験雰囲気での硫化割れは認められない。接合層のＣｒ濃度が２．０質量％未満の場合には硫化水素に対する接合層の耐応力腐食割れ性が低いため、接合層内にて破断を生じた。接合層内のＣｒ濃度が高い場合には接合層内に多くのＣｒ化合物量を生成し、Ｃｒ化合物近傍でＣｒが欠乏しているため、接合層の耐硫化割れ性が低い。また、接合後に適切な後熱処理を施して、低合金鋼、炭素鋼の硬さをＨＲＣ２２以下に調整することにより、接合部のみならず母材も硫化割れを生じない接合体が得られる。しかし、母材硬さが前述の値以上の場合には、接合部に硫化割れが生じなくても、母材に硫化割れが生じ母材で破断する。さらに、接合層内のＣｒ化合物層の厚さが５μｍ以下の場合、破壊の起点が接合層内にないため、引張試験を行なっても母材で破断し、耐硫化割れ性とともに強度、延性を兼ね備えた接合体となる。
【００４１】
また、前記接合体を得るための方法であるが、Ｎｉ含有量が１質量％以下の低合金鋼または炭素鋼のＣｒ濃度をＸ質量％、Ｂ含有量が３．０質量％以下であるＮｉ基インサート材のＣｒ濃度をＹ質量％としたとき、下記（１）式を満足するＮｉ基インサート材を、Ｎｉ含有量が１質量％以下の低合金鋼または炭素鋼間に介装し、インサート材の液相線温度より１００℃以上高温で、１３００℃以下に加熱・溶融することによって前記低合金鋼または炭素鋼間を接合した場合には、接合部の耐硫化割れ性に優れた接合体が得られる。しかし、上記条件を外れた条件で接合した接合体は、接合層のＣｒ濃度が低い、もしくは接合層内に生成したＣｒ化合物による、Ｃｒ化合物近傍のＣｒの欠乏層により、接合体の耐硫化割れ性が低下する、または接合部で破断するようになる。
１５≦Ｘ＋Ｙ≦２５（０≦Ｘ≦８、８≦Ｙ≦２０）……………………（１）
【００４２】
【発明の効果】
以上述べたところから明らかなように、本発明の耐硫化割れ性に優れ、強度、延性を兼ね備えた接合体は、接合層内の全域にわたる、Ｂ（ボロン）とクロムとの化合物を除外したＣｒ濃度を２．０〜１０．０質量％の範囲に、かつ前記接合層内におけるＢ（ボロン）とクロムとの化合物層の厚さを５μｍ以下に限定し、接合後に後熱処理を行ない母材硬さをロックウェル硬さＨＲＣ２２以下に抑制しているため、硫化水素を含む雰囲気で使用しても硫化割れは生じず、石油精製、石油化学等で使用される機器、例えば配管等の接合部の接合に最適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】接合層内に生成するＣｒ化合物層の厚さの定義を説明する図である。
【図２】接合体の接合方法を説明する図である。
【図３】応力腐食割れ試験における試験片への負荷方法を説明する図である。
【符号の説明】
１…ブロック、２…ブロック、３…インサート材。
【図１】
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【図２】
0004268310.tif 000009
【図３】
0004268310.tif 000010