(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方が光透過性である対向した二つの外面と、
所定の熱を加えることにより液化可能な物質と前記物質内に配設された光学的および電気的に異方性をもつ複数のエレメントとを含むエレメント層と、
前記エレメントを回転させるための電場を与える導電性ストリップと、
前記物質に所定の熱を加えるためのヒータストリップと、
を含み、
導電性ストリップ及びヒータストリップは、エレメント層の片側に又は両側に別れて互いの列が交差するように設けられ、
各エレメントの回転可能な配設は、前記エレメントが上述の如く前記物質内に配設されている間に実施可能であり、
前記エレメントは、前記回転可能に配設されている時は、前記物質に固着しておらず前記液化可能な物質内に浮遊しているものであるエレメントを含むことを特徴とするディスプレイ材料。
【請求項２】
請求項１に記載のディスプレイ材料において、前記物質は誘電性液体およびゲル化剤を含むことを特徴とするディスプレイ材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、場によって駆動されるディスプレイシートに関し、特に電場と熱場との両方を用いて、ジリコンディスプレイなどの捻れボール式ディスプレイを駆動する場駆動式ディスプレイシートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、シート状のディスプレイデバイスは、種々のペーパドキュメント属性を備えた薄いシートを含む。このシートは、紙に似た外観を呈して、紙に似た外光バルブ挙動を有し（すなわち外光が明るくなるほど、見やすくなり）、紙のようにフレキシブルで、紙のように持ち歩くことができ、紙のように上書きが可能で、紙のように複写することができ、大抵の場合紙のアーカイブメモリを有している。
【０００３】
【特許文献１】
米国特許第４，１４３，１０３号
【特許文献２】
米国特許第５，８２５，５２９号
【特許文献３】
米国特許第５，８９４，３６７号
【特許文献４】
米国特許第６，１１０，５３８号
【特許文献５】
米国特許第６，２２２，５１３号
【特許文献６】
米国特許第６，２６２，７０７号
【特許文献７】
米国特許第５，７１７，５１５号
【特許文献８】
米国特許第５，７３９，８０１号
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、双安定性（ｂｉｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上させつつ、標準的な垂直電場を用いた場合よりも効率よく電子ペーパの画素内の材料を動作させる手段を提供することである。ここで述べる双安定性とは、電場によって形成された像を電場除去後も適当な一定期間保持しておくことである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
簡潔に言うと、本発明の一態様に依り、電子ペーパシステムに使用されるディスプレイ材料が開示される。この材料は対向する二つの外面を含み、この外面間に、液化可能な物質内に浮遊した複数の光学的および電気的に異方性をもつエレメントが配設される。各エレメントの回転可能な配設は、エレメントが該物質内に浮遊していてかつ物質が液化している間に行われる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
図１を参照する。この図は、先に引用した米国特許第４，１４３，１０３号に開示された先行技術のデバイスの一例を示している。数字２は、基板６および８の間に挟まれたディスプレイパネル４を有するディスプレイを指す。ディスプレイパネル４と基板６との間に、平行な導電体群１０’からなる第１のグリッド１０が備わる。第１のグリッド１０の導電体群１０’に対して直交した、平行な導電体群１２’を有する第２のグリッド１２が、基板８とディスプレイパネル４との間に備わる。基板６および８の少なくとも一方ならびに少なくともその基板に隣接したグリッドの導電体は光学的に透明であり、それにより外光がディスプレイパネル４に入射できると共に、パネル４によって形成されるディスプレイが視認可能になる。図２に示すように、基板６および導電体１０’は光学的に透明な材料で作製されていて、ディスプレイに入射する外光によりＩの位置で可視像が形成されるようになっている。
【０００７】
ディスプレイパネル４内には、光学的異方性を有する微粒子１４が分布している。粒子１４は透明な絶縁性液体に囲まれており、この液体により、粒子１４の光学的異方性およびその光学的異方性を得るために用いたコーティングに起因するゼータ電位の相違に基づいて、粒子１４に電気的異方性が付与される。粒子１４およびその粒子を囲む絶縁性液体に加えて、パネル４は、個体で光学的に透明な支持体材料１５を含み、これにより、粒子１４は並進の自由度をもつことなく回転の自由度をもつことができる。
【０００８】
半球体１４ａおよび１４ｂ間のゼータ電位の差、および球１４の各々が絶縁性液体１８に浸責されていることにより、図３に模式的に示すように、球体１４に電荷が付与される。この場合、半球体１４ａは半球体１４ｂに対して相対的に正に帯電している。図２に示すように、電源１９が、グリッド１０の電極群１０’のいずれか一つおよびグリッド１２の電極群１２’のいずれか一つの間に接続されると、正に帯電した半球体１４ａは負の電極１２’に引き寄せられ、電圧印加された電極１０’および１２’によって発現した電場内の球体１４は実質的に並進することなく回転して、それにより半球体１４ｂを反射した光はＩの方向を向くようになる。これにより、黒い背景地に輝点が形成される。電源１９の極性を逆にすることにより、光背景地に黒点が形成される。従来のマトリクスアドレシングで行われているように、電源１９を電極群１０’および１２’の選択された交差点に順次接続することにより、Ｉの位置で視認可能な像が形成される。
【０００９】
しかしながら、図１の先行技術のデバイスは、フレキシブルで再像形成可能なドキュメントとして用いられる場合は、双安定性を有することが必須である。電場を用いて像形成が行われた場合は、その電場を保持しておく必要がある。さもないと電場が取り除かれると像は消えていってしまう。この先行技術の例では、電場が取り除かれると像は緩やかに消えていく。このデバイスを再像形成可能なペーパライクデバイスへと発展させるためには、像を定着する方法が必要である。
【００１０】
図４に、ある特定の実施形態におけるジリコンディスプレイ２００のより詳細な側面図を示す。ディスプレイ２００において、ジリコン回転エレメント２０１がエラストマ基板２０２内にモノレイヤ状態で配置されている。基板２０２は、例えばＩｓｏｐａｒ（登録商標）などの絶縁性液体に浸されており、この液体には、例えばトランス−４−ｔ−ブチル−１−フェニル−シクロヘキサノールまたは任意の他の適当なゲル化剤などのゲル化剤が約０．５乃至約２重量％添加されている。基板２０２は絶縁性液体によって膨潤されており、それによりキャビティ２３であって、該キャビティ内でジリコン回転エレメントが回転可能なキャビティ２０３が形成される。ジリコン回転エレメントは絶縁性液体の存在下で電気的双極子となり、その結果電場が印加されると回転力を受ける。
【００１１】
図５に、ディスプレイシートの一実施形態の分解図を、アドレシング方法の一実施形態と共に示す。この実施形態では、ジリコンディスプレイシート３００は、１層のジリコン回転エレメント３１５を含んだエラストマ層３１０を有している。エラストマ層３１０は、例えばＩｓｏｐａｒ（登録商標）などの絶縁性液体に浸されており、この液体には、例えばトランス−４−ｔ−ブチル−１−フェニル−シクロヘキサノールまたは任意の他の適当なゲル化剤などのゲル化剤が、約０．５乃至約２重量％添加されている。各ジルコン回転エレメント３１５は、層３１０内の液体が充填されたそれぞれのキャビティ３１８内に位置している。層３１０の上には平行な導電体ストリップ群３２５を有した電極シート３２０が位置し、このシートによって、層３１０の面内またはその面に平行な電場が生成される。層３１０の反対側に、層３２０中の導電体ストリップ群３２５に直交した、平行なヒータストリップ群３３５を有する層３３０が位置する。平行なヒータストリップ群３３５は、抵抗ヒータまたは任意の他の既知のヒータ手段で構成される。オプションの低抵抗グラウンド層電極３６０をシート３１０から見てヒータ層３３０の反対側に配設することもできる。薄い絶縁性セパレータ層３５０によってヒータ層３３０とシート３１０とが分離される。層３５０は、例えば、ポリマ堆積層またはプラスチックシートなどである。この電極構造の周囲を二つの基板層３４０および３７０が囲んでいる。ジリコンシート３００の少なくとも一面は光学的に透明である。例えば、Ｉの位置で観察者がジリコンシート３００を見ようとした場合、好適には基板層３４０および電極層３２０は全て透明である必要がある。
【００１２】
特記すべき事項として、複数の各エレメントが存在する場合の本明細書の全ての図面においては、簡明のためにごく小数のエレメントにのみ番号が付けられている。しかしながら、番号が付けられたエレメントと同じ形をしたエレメントは全てその番号付けされたエレメントと同一であることは明らかである。
【００１３】
図６に、シート３００の平面図を示す。この図において、図５中の類似部品に相当する部品にはそれと同じ参照番号が付けられている。導電性ストリップ群３２５が層３２０上に配置され、それにより層３２０の辺４１０に平行なライン群が形成されている。同様に、ヒータエレメント群３３５が図示されてない層３３０上に配置されて、それにより層３３０の長さ方向４２０に沿った平行なライン群が形成されている。ある所定の電極ストリップ３２５およびある所定のヒータストリップ３３５が駆動されると、駆動された電極とグラウンド層との間に電場が生じて、それによりジリコンが回転させられる。ただし、この回転は駆動されたヒータストリップに電極パルスが印加された場合のみに生じる。上記交差点において、駆動されるジリコンを囲んだキャビティ内の液体は、例えば約８０℃の所望の温度に加熱される。この温度で、ゲル化剤を含んだ絶縁性液体は低粘度の液体になり、その結果駆動されるジリコンが回転できるようになる。電場によって駆動され、かつそれと同時に加熱されるジリコンは１列分のみであるため、回転するのはその列内のジリコン回転エレメントのみである。熱場が取り除かれると、駆動されるジリコンを囲んだキャビティ内の液体は該キャビティ内の液体のゲル化温度より低い温度に冷却されて、液体相のゲル化による像の定着が行われる。この手順が繰り返されて、Ｉの位置の観察者に視認される像がシート３００上に形成される。熱拡散の影響を最小限にするために、ペーパ厚さおよびヒータストリップの幅の寸法、および図７に示すオプションの裏面ヒートシンクの追加等が選択されて、１列のみが一度にスイッチングされるような局部加熱が生じるようにされる。ディスプレイシート３００は、複数の電源を用いたパッシブマトリクスアドレシング、およびシートの側面でディスプレイシート３００に接した複数のヒータドライバによって、ジリコンを駆動または駆動解除することができる。
【００１４】
図７に、ジリコンディスプレイシートのアドレシングの別の実施形態の分解図を示す。この図において、図５中の類似部品に相当する部品には同じ参照番号が付けられている。ジリコンディスプレイシート５００には、複数のジリコン回転エレメント層３１５を含んだエラストマ層３１０が備わっている。エラストマ層３１０には例えばＩｓｏｐａｒ（登録商標）などの絶縁性液体が浸透しており、この液体には例えばトランス−４−ｔ−ブチル−１−フェニル−シクロヘキサノールなどのゲル化剤が約０．５乃至約２重量％添加されている。各ジリコン回転エレメント３１５は、層３１０内の液体が充填されたそれぞれのキャビティ３１８内に位置している。層３１０の上には平行な導電体ストリップ群３２５を有した電極シート３２０が備わり、この導電体ストリップ３２５によって、層３１０の面内またはこの面に平行な電場が生成される。層３１０の反対側に、層３２０の導電体ストリップ群３２５に直交した平行なヒータストリップ群３３５を有する層３３０が配設される。オプションの低抵抗グラウンド層電極３６０をシート３１０から見てヒータ層３３０の反対側に配設することもできる。絶縁性セパレータ薄層３５０が、ヒータ層３３０とグラウンド層３６０とを分離している。層３５０は、例えば、ポリマ堆積層またはプラスチックシートなどである。この電極構造の上下に二つの基板層３４０および３７０が備わる。ヒートシンク３８０が、層３１０から見て基板層３７０の反対側に配設されている。ジリコンシート５００の少なくとも一方の面は光学的に透明である。例えば、Ｉの位置で観察者がジリコンシート５００を見ようとする場合、好適には基板層３４０および電極層３２０を全て透明にする必要がある。
【００１５】
再度、図６を参照する。この図はシート３００の平面図を示しており、同図において、図５中の類似部品に相当する部品には同一の参照数字が付せられている。導電性ストリップ群３２５が層３２０上に配置されて層３２０の辺３１０に平行なライン群が形成されている。同様に、ヒータエレメント群３３５が層３３０上に配置されて層３３０の長さ方向４２０に沿った平行なライン群が形成されている。ある所定の電極ストリップ３２５およびある所定のヒータストリップ３３５が駆動されると、その駆動された電極とグラウンド層との間に電場が形成されて、それによりジリコンの回転が可能になる。ただし、この回転が可能であるのは、駆動されたヒータストリップに電力パルスが印加された場合のみである。上記交差点において、駆動されるジリコンを囲んだキャビティ内の液体は、例えば約８０℃の、所望の温度に加熱される。この温度で、ゲル化剤を含んだ絶縁性液体は低粘度の液体になり、その結果駆動されるジリコンの回転が可能になる。電場によって駆動され、かつそれと同時に加熱されるジリコンは１列分のみであるため、回転するのはその行内のジリコン回転エレメントのみである。熱場が取り除かれると、駆動されるジリコンを囲んだキャビティ内の液体は該キャビティ内の液体のゲル化温度より低い温度に冷却されて、液体相のゲル化による像の定着が行われる。この手順が繰り返されて、Ｉの位置で観察者に視認される像がシート３００上に形成される。熱拡散の影響を最小限にするために、ペーパ厚さおよびヒータストリップ幅等の寸法、および図７に示したオプションの裏面ヒートシンクの追加などが選択されて、１列のみが一度にスイッチングされるような局部加熱が生じるようにされる。
【００１６】
図８に、ジリコンディスプレイシートのアドレシング方法の別の実施形態を示す。この実施形態では、導電性ストリップ群６２５は、ヒータストリップ群６３５に対して斜めの平行ライン群を形成するように配列されている。この場合も、ある所定の導電性ストリップ６２５およびある所定のヒータストリップ６３５が駆動されると、その交差点で電場が生成され、この電場によって対応するジリコンが前述のように回転し、電場および熱場が除去されるとその回転した位置で固定される。
【００１７】
当業者に明らかなように、前述の実施形態のいずれも電極層３２０およびヒータ層３３０の位置を入れ換えることができる。例えば、再び図５を参照すると、層３２０および３３０を入れ換えて、層３３０が層３１０上に位置し、層３２０が層３１０の反対側に配設されるようにすることができる。前述と同様に、ある所定の導電性ストリップ３２５およびある所定のヒータストリップ３３５が駆動されると、その交差点で電場が生成され、この電場によって対応するジリコンが前述のように回転し、電場および熱場が除去されるとその回転した位置で固定される。
【００１８】
以上述べた実施形態は電極層およびヒータストリップ層を含むものであったが、種々の他のアドレシング方法も考慮に入れられる。例えば、全体を本願に引用して援用する米国特許第６，２２２，５１３号においてＨｏｗａｒｄ他が示しているように、電極が電荷保持アイランドを形成して、ヒータが熱保持性アイランドを形成するものであってもよい、あるいはヒータが一つの連続層の形になっていてもよい。外部電荷をジリコンディスプレイシートに移送する機構としては種々のものが考えられる。それら機構の一つに、ペンまたは鉛筆のように用いることが可能な、シングルエレメントスタイラスがある。電極層との接続は軟質の導電性チップを用いて行われる。このチップは導電性コアによって電源に接続される。導電性コアは絶縁性材料に囲まれており、この絶縁性材料の存在によりユーザは電気的ショックの恐れなしにスタイラスを取り扱うことができる。別の構成のシングルエレメントスタイラスもあり得る。この場合の実施形態では、ヒータは単一の連続層となっており、スタイラスがシート両端間を移動する間にこのヒータが加熱されて、それにより回転部材の回転が可能になる。スタイラスが上昇すると、ヒータ層による熱の印加は途絶えて、その結果回転した部材はその位置でロックされる。
【００１９】
あるいは、一次元の電荷移送エレメントを組み込んで印刷ヘッドまたはワンドのように用いることもできる。コンタクトチャージングワンド（ｃｏｎｔａｃｔｃｈａｒｇｉｎｇ  ｗａｎｄ）は、米国特許第６，２２２，５１３号に記載されているように、交互形成された導電性電荷移送エレメントおよび絶縁性エレメントで構成される。電荷移送エレメントは、像形成時にジリコンディスプレイシートに対して移動する間、電極層に確実に接触する必要がある。この実施形態では、ヒータ群が印刷ヘッドまたはワンドと同一方向に配設されたストリップ群を形成していてもよい。
【００２０】
ジリコンディスプレイシート全体をアドレスする、二次元のアドレシングエレメントアレイも考慮に入れられる。このデバイスにおいて、電荷移送プラテンであるジリコンディスプレイシートは一時的にデバイス内に入れられる。このデバイスは支持体ベースおよびアドレシングエレメントからなる二次元マトリクスアドレシングアレイを含んでいる。マトリクスアドレシングアレイは、ジリコンディスプレイシートに接触または近接させて設置される。マトリクスアレイは、ヒンジを中心に弧を描いてジリコンディスプレイシートの上部位置まで回転させられる。同時に、電荷がジリコンディスプレイシートの電極の接点に移送されて、像が形成され、その後ジリコンディスプレイシートが取り外される。この実施形態では、ヒータは連続シート状になっており、マトリクスアレイがディスプレイシートに接触すると加熱される。また、プレート／ワンドのハイブリッド構成も考えられる。この構成によって、これら二つの手法によりもたらされる価格および性能間の妥協が図られる。
【００２１】
特記すべき事項として、前記本発明の実施形態を球状のジリコンを用いるものとして説明したが、先に引用した名称「多色値（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ｃｈｒｏｍａｔｉｃ  Ｖａｌｕｅｓ）を用いた捻れ筒状ディスプレイ」の米国特許第５，８９４，３６７号に記載されているような筒状エレメントを球状ジリコンの代わりに用いることもできる。さらに、ディスプレイエレメントは、球状か筒状かに係わらず、本発明に係る白黒、ハイライト、またはカラーの各ディスプレイシートに用いることができる。
【００２２】
前述のように、ジリコンディスプレイシートは、キャビティ内に各ジリコン回転エレメントが位置した、膨潤したエラストマを用いて作製される。しかしながら、エラストマを用いずかつキャビティのない状態でディスプレイシートを形成することもできる。このようなディスプレイシートにおいては、ジリコン回転エレメントは、例えばＩｓｏｐａｒ（登録商標）などの絶縁性液体であって、例えばトランス−４−ｔ−ブチル−１−フェニル−シクロヘキノールまたは任意の他の適当なゲル化剤などのゲル化剤が約０．５乃至２重量％添加された液体内に直接配置される。この後、回転エレメントおよびゲル化剤を含んだ絶縁性液体は二つの保持部材の間（例えばアドレシング電極とヒータとの間）に挟まれる。エラストマ基板は存在しない。
【００２３】
図９にキャビティを有さないジリコンディスプレイシートの側面図を示す。シート７００において、均一な径のジリコン回転エレメント群７０１のモノレイヤが、保持部材７０４ａおよび７０４ｂ間で絶縁性液体７０９内に位置している。ジリコン回転エレメントは絶縁性液体７０９の存在下で電気的双極子となり、そのために電場が印加されると回転力を受ける。上面７０５は透明であることが好ましい。この別のディスプレイシートの実施形態は、以上述べた全てのアドレシング方法を適用することを考慮に入れている。
【００２４】
前記本発明の諸実施形態では、電場および熱場を用いて各キャビティ内のジリコンを動作させていた。しかしながら、特記すべき事項として、キャビティ内のジリコンを回転させることのできる、あらゆる外場を本発明の電場に置き換えて用いることができる。例えば、先に引用した名称「磁気ラッチを用いたジリコンディスプレイの作製方法」の米国特許第６，１１０，５３８号に記載されているような、磁性顔料を用いてジリコンを作製した場合は、熱場と組み合わせた磁場の印加によってジリコンを回転させることができる。
【００２５】
本発明で開示したディスプレイの従来ディスプレイに優る効果は、本発明によって双安定性が得られることである。従来の回転するエレメントに印加される電場機構は、ゲル化剤を用いずにＩｓｏｐａｒ（登録商標）などの炭化水素溶剤中で回転するエレメントに対するものであり、この電場機構によって形成される像は電場が取り除かれると消えていってしまう。しかしながら、ゲル化剤が添加された炭化水素溶剤中で回転するエレメントに作用する、電場および熱場の組み合わせによって形成される像は、印加された電場および熱場が除去されても消えることはない。電場および熱場の除去によってゲル化剤の温度が低下するにしたがって、デバイスはゲル化剤のゲル化温度より低い温度に冷却され、それによって像は再び熱場が加えられるまで定着される。
【００２６】
（実施例１）
約０．５重量％のトランス−４−ｔ−ブチル−１−フェニル−シクロヘキノールをゲル化剤として含んだＩｓｏｐａｒ（登録商標）などの炭化水素溶剤で膨潤された、ジリコン回転エレメントを含有したシロキサンエラストマを挟んだ、インジウム錫酸化物がコーティングされた２枚の基板を有する電子ペーパデバイスを作製した。この電子ペーパデバイスを上記Ｉｓｏｐａｒ（登録商標）／ＴＢＰＣミクスチュアのゲル化温度より約１５℃高い温度まで加熱した後、電場を印加して像を形成した。この後、熱をデバイスから取り除いてゲル化温度より低い温度にデバイスを冷却し、その時点で電場を取り除いた。４０℃より低い温度もしくは室温に冷却されると、溶剤相がゲル化して定着像が形成される。ゲル化剤の量が０．５重量％の場合は、表１に示すように、像を定着するためには像を室温より低い温度に冷却する必要がある。
【００２７】
（実施例２）
約０．５重量％のトランス−４−ｔ−ブチル−１−フェニル−シクロヘキノールをゲル化剤として含んだＩｓｏｐａｒ（登録商標）などの炭化水素溶剤で膨潤された、ジリコン回転エレメントを含有したシロキサンエラストマを挟んだ、インジウム錫酸化物がコーティングされた２枚の基板を有する電子ペーパデバイスを作製した。この電子ペーパデバイスを上記Ｉｓｏｐａｒ（登録商標）／ＴＢＰＣミクスチュアのゲル化温度より約１５℃高い温度まで加熱した後、電場を印加して像を形成した。この後、熱をデバイスから取り除いてゲル化温度より低い温度にデバイスを冷却し、同時に電場を取り除いた。４０℃より低い温度もしくは室温に冷却されると、溶剤相がゲル化して定着像が形成される。ゲル化剤の量が１．０重量％の場合は、表１に示すように、室温までの冷却において２分以内に像がゲル化する。
【００２８】
（実施例３）
約０．５重量％のトランス−４−ｔ−ブチル−１−フェニル−シクロヘキノールをゲル化剤として含んだＩｓｏｐａｒ（登録商標）などの炭化水素溶剤で膨潤された、ジリコン回転エレメントを含有したシロキサンエラストマを挟んだ、インジウム錫酸化物がコーティングされた２枚の基板を有する電子ペーパデバイスを作製した。この電子ペーパデバイスを上記Ｉｓｏｐａｒ（登録商標）／ＴＢＰＣミクスチュアのゲル化温度より約１５℃高い温度まで加熱した後、電場を印加して像を形成した。この後、熱をデバイスから取り除いてゲル化温度より低い温度にデバイスを冷却し、その時点で電場を取り除いた。４０℃より低い温度もしくは室温に冷却されると、溶剤相がゲル化して定着像が形成される。ゲル化剤の量が２．０重量％の場合は、表１に示すように、室温までの冷却において３０秒以内に像がゲル化する。
【表１】
0004323790.tif 000002
【００２９】
前記諸デバイスは例示のためにのみ提示されたものである。Ｉｓｏｐａｒ（登録商標）に対するゲル化剤の割合は３％乃至４％程度まで好便に高めることができることは明らかである。
【００３０】
特定の実施形態を参照して本発明を例示および説明したが、さらなる変更および改良が当業者に想起され得る。例えば、種々の構造の細部の変更並びにエレメントと材料との種々の組み合わせおよび配置が本発明の範囲内で使用し得る。したがって、本発明は例示した特定の形態に限定されず、本発明の範囲内のあらゆる代替、変更、および変形が添付した請求の範囲に包含されるものであることは明らかである。
【００３１】
【発明の効果】
本発明によれば、双安定性（ｂｉｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上させつつ、標準的な垂直電場を用いた場合よりも効率よく電子ペーパの画素内の材料を動作させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  先行技術におけるディスプレイシートの作製方法を示す図である。
【図２】  先行技術におけるディスプレイシートの作製方法を示す図である。
【図３】  先行技術におけるディスプレイシートの作製方法を示す図である。
【図４】  ジリコン回転エレメント群が最密なモノレイヤの状態に配列された、一実施形態におけるジリコンディスプレイの側面図である。
【図５】  図４のモノレイヤを典型的なアドレシング方式と共に示した、ジリコンディスプレイシートの一実施形態の分解図である。
【図６】  図５のジリコンディスプレイシートの平面図である。
【図７】  ジリコン回転エレメント群が多層の状態に配列された、ジリコンディスプレイシートの別の実施形態の分解図である。
【図８】  図５に示したアドレシング方式の別の実施形態の平面図の一部である。
【図９】  ジリコン回転エレメント群の最密なモノレイヤをエラストマ基板媒体を用いずに直接透明層間の液体内に配置した、ジリコンディスプレイシートの別の実施形態を示す図である。
【符号の説明】
２００  ジリコンディスプレイ、２１５  ジリコン回転エレメント、３００  ジリコンディスプレイシート、３１０  エラストマ層、３２０  電極シート、３２５  導電性ストリップ、３３０  ヒータ層、３３５  ヒータストリップ、５００  ジリコンディスプレイシート、６２５  導電性ストリップ、６３５  ヒータストリップ、７００  ジリコンディスプレイシート、７０１  ジリコン回転エレメント、７０４ａ，７０４ｂ  保持部材、７０５  上面、７０９  絶縁性液体。
【図１】
0004323790.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0004323790.tif 000009
【図８】
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【図９】
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