(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも高分子フィルム（Ａ）、凹凸層（Ｂ）、銀或いはアルミニウムを主体とする金属反射層（Ｃ）からなる構成ＡＢＣの反射体において、
金属反射層（Ｃ）が、高分子フィルム（Ａ）側から、下地層、銀層、銀を主体とする合金層、透明酸化物層の４層で構成され、かつ、金属反射層（Ｃ）側から、測定した全反射率が、波長５５０ｎｍにおいて８０％以上であり、かつ、反射ヘイズ値（拡散反射率／全反射率×１００）が３０％以上であることを特徴とする反射シート。
【請求項２】
少なくとも高分子フィルム（Ａ）、凹凸層（Ｂ）、銀或いはアルミニウムを主体とする金属反射層（Ｃ）からなる構成ＡＢＣの反射体において、
金属反射層（Ｃ）が、アルミニウム層単層により構成され、かつ、金属反射層（Ｃ）側から、測定した全反射率が、波長５５０ｎｍにおいて８０％以上であり、かつ、反射ヘイズ値（拡散反射率／全反射率×１００）が３０％以上であることを特徴とする反射シート。
【請求項３】
金属反射層（Ｃ）における前記下地層が、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パラジウムからなる厚さ５〜５０ｎｍの金属層、または、酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、または、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物層であることを特徴とする請求項１に記載の反射シート。
【請求項４】
金属反射層（Ｃ）における前記銀層の厚みが、７０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の反射シート。
【請求項５】
金属反射層（Ｃ）における前記銀を主体とする合金層が、銀に対し銅とパラジウムをあわせて０．００１〜２重量％含有している合金からなる層であり、該合金層の膜厚が、５〜４０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の反射シート。
【請求項６】
金属反射層（Ｃ）における前記透明酸化物層が、酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、または、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物、あるいは厚みが、１〜５０ｎｍであるような珪素酸化物層であることを特徴とする請求項１に記載の反射シート。
【請求項７】
金属反射層（Ｃ）における前記アルミニウム層の厚みが、７０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項２に記載の反射シート。
【請求項８】
凹凸層（Ｂ）が、平均粒径１μｍ以上１５μｍ以下であるような微細粒子、および、バインダーにより形成され、かつ、該微細粒子が凹凸層（Ｂ）の体積に対し、５〜５２体積％の割合になるように配合され、かつ、該凹凸層（Ｂ）の乾燥重量（ｇ／ｃｍ２）が下記式（１）の条件を満足するものであることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射シート。
式（１）：０．６×２ｒ×１０２／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ２）≦２．５×２ｒ×１０２／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）
但し、ｐ＝１００／（１＋（１００／ｖ―１）×ｂ／ａ）であり、
ｒ：使用した微細粒子の半径の平均値（ｃｍ）
ｐ：凹凸層中の微細粒子の割合（重量％）
ｖ：凹凸層中の微細粒子の割合（体積％）
ａ：用いた微細粒子の密度（ｇ／ｃｍ３）
ｂ：用いたバインダーの密度（ｇ／ｃｍ３）
【請求項９】
前記微細粒子が、アクリル系粒子であることを特徴とする請求項８に記載の反射シート。
【請求項１０】
前記バインダーが、アクリル系樹脂であることを特徴とする請求項８または９に記載の反射シート。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の反射シートの高分子フィルム（Ａ）側を接着面として、支持体に接着層を介して積層してなるリフレクター。
【請求項１２】
前記支持体が、アルミ板、真鍮板、ステンレス板、鋼板、或いはプラスチック製の板及びシートのいずれかであることを特徴とする請求項１１に記載のリフレクター。
【請求項１３】
高分子フィルム（Ａ）と前記支持体との接着強度が１００ｇ／ｃｍ以上であり、かつ、前記接着層の厚みが０．５μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１１または１２に記載のリフレクター。
【請求項１４】
金属反射層（Ｃ）側を内側に折り曲げ、光源を覆うように設置して使用することを特徴とする請求項１１〜１３のいずれかに記載のリフレクター。
【請求項１５】
金属反射層（Ｃ）側の曲率半径が５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１４に記載のリフレクター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高耐久性を持つ反射体に関する、さらに詳しくは導光板下の反射体に金属反射板を用いるタイプのサイドライト式バックライトユニットに好適に使用し得るリフレクターに関する。
【０００２】
【従来の技術】
蛍光灯や白熱灯用の反射体としては、従来しばしば鏡面研磨されたアルミニウム板が用いられてきた。さらに近年、反射体は液晶用バックライトユニットやカメラのストロボ用の反射傘として重要な産業上の用途を占めるに至っている。反射体に用いる金属としては、反射率が高い金属であるアルミニウム、銀、金等が用いられる。なかでも、銀及びアルミニウムは、可視光域での反射率が優れているため、好適に用いられている。さらに、銀はアルミニウムよりも３８０ｎｍ以上の波長の光に対しは、より高い反射率を有し、反射体としては優れた性能を持つことが知られている。通常、これらの金属は金属板としては用いられず、プラスチックフィルム上に薄膜を形成し、そのフィルムを板状の成形体に接着することにより得られたものを、折り曲げ加工等を行い、リフレクターを形成する。
【０００３】
一方、液晶用に用いられるサイドライト式バックライトでは、光源からの光を導光板を用いて、全面が均等な輝度が得られるようになっているが、この導光板から漏れてきた光を再度利用するために、最下面に反射板が設置されている。この反射板は、通常白ＰＥＴが用いられているが、より反射率を上げるため、金属の反射板を用いることが増えてきている。この、金属の反射板を用い、上記のような加工を行ったリフレクターを組合せ、バックライトユニットを形成した場合、全体としてより高い輝度を得られるはずであるが、両者の相性が悪いためか、画面上に揮線と言われる線が発生してしまい、部分的に明るさの鋭い部分が生じるため、ディスプレイとしての表示品位が低下するという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、高輝度で耐久性の優れた反射体を提供し、かつ、同反射体を用いたリフレクターを提供し、ディスプレイとしたときに高輝度が得られるバックライトユニットである、導光板下に鏡面の銀反射体を用いるタイプに組み込んだ場合に、揮線の発生を防止することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、驚くべきことに、凹凸層をもつ高分子フィルム上に、下地層、銀層、銀を主体とする合金層、透明酸化物層の４層を順に構成したものを、或いは、アルミニウム単層を形成したものを、高分子側を接着面として、成形体と粘着剤により貼り合わせることにより、上記の課題を解決出来ることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち、本発明は、以下に記載の事項より特定される反射体およびそれを用いたリフレクターに関する。
【０００７】
（１）少なくとも高分子フィルム（Ａ）、凹凸層（Ｂ）、銀或いはアルミニウムを主体とする金属反射層（Ｃ）からなる構成ＡＢＣの反射体において、
金属反射層（Ｃ）が、高分子フィルム（Ａ）側から、下地層、銀層、銀を主体とする合金層、透明酸化物層の４層で構成され、かつ、金属反射層（Ｃ）側から、測定した全反射率が、波長５５０ｎｍにおいて８０％以上であり、かつ、反射ヘイズ値（拡散反射率／全反射率×１００）が３０％以上であることを特徴とする反射シート。
【０００８】
（２）少なくとも高分子フィルム（Ａ）、凹凸層（Ｂ）、銀或いはアルミニウムを主体とする金属反射層（Ｃ）からなる構成ＡＢＣの反射体において、
金属反射層（Ｃ）が、アルミニウム層単層により構成され、かつ、金属反射層（Ｃ）側から、測定した全反射率が、波長５５０ｎｍにおいて８０％以上であり、かつ、反射ヘイズ値（拡散反射率／全反射率×１００）が３０％以上であることを特徴とする反射シート。
【０００９】
（３）金属反射層（Ｃ）における上記下地層が、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パラジウムからなる厚さ５〜５０ｎｍの金属層、または、酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、または、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物層であることを特徴とする上記（１）に記載の反射シート。
【００１０】
（４）金属反射層（Ｃ）における上記銀層の厚みが、７０〜４００ｎｍであることを特徴とする上記（１）に記載の反射シート。
【００１１】
（５）金属反射層（Ｃ）における上記銀を主体とする合金層が、銀に対し銅とパラジウムをあわせて０．００１〜２重量％含有している合金からなる層であり、該合金層の膜厚が、５〜４０ｎｍであることを特徴とする上記（１）に記載の反射シート。
【００１２】
（６）金属反射層（Ｃ）における上記透明酸化物層が、酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、または、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物、あるいは厚みが、１〜５０ｎｍであるような珪素酸化物層であることを特徴とする上記（１）に記載の反射シート。
【００１３】
（７）金属反射層（Ｃ）における上記アルミニウム層の厚みが、７０〜４００ｎｍであることを特徴とする上記（２）に記載の反射シート。
【００１４】
（８）凹凸層（Ｂ）が、平均粒径１μｍ以上１５μｍ以下であるような微細粒子、および、バインダーにより形成され、かつ、該微細粒子が凹凸層（Ｂ）の体積に対し、５〜５２体積％の割合になるように配合され、かつ、該凹凸層（Ｂ）の乾燥重量（ｇ／ｃｍ２）が下記式（１）の条件を満足するものであることを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載の反射シート、
式（１）：０．６×２ｒ×１０２／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ２）≦２．５×２ｒ×１０２／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）
但し、ｐ＝１００／（１＋（１００／ｖ―１）×ｂ／ａ）であり、
ｒ：使用した微細粒子の半径の平均値（ｃｍ）
ｐ：凹凸層中の微細粒子の割合（重量％）
ｖ：凹凸層中の微細粒子の割合（体積％）
ａ：用いた微細粒子の密度（ｇ／ｃｍ３）
ｂ：用いたバインダーの密度（ｇ／ｃｍ３）
（９）微細粒子が、アクリル系粒子であることを特徴とする上記（８）に記載の反射シート。
【００１５】
（１０）バインダーが、アクリル系樹脂であることを特徴とする上記（８）または（９）に記載の反射シート。
【００１６】
（１１）上記（１）〜（１０）のいずれかに記載の反射シートの高分子フィルム層（Ａ）側を接着面として、支持体に接着層を介して積層してなるリフレクター。
【００１７】
（１２）支持体が、アルミ板、真鍮板、ステンレス板、鋼板、或いはプラスチック製の板及びシートのいずれかであることを特徴とする上記（１１）に記載のリフレクター。
【００１８】
（１３）高分子フィルム（Ａ）と支持体との接着強度が１００ｇ／ｃｍ以上であり、かつ、接着層の厚みが０．５μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする上記（１１）または（１２）に記載のリフレクター。
【００１９】
（１４）金属反射層（Ｃ）側を内側に折り曲げ、光源を覆うように設置して使用することを特徴とする上記（１１）〜（１３）のいずれかに記載のリフレクター。
【００２０】
（１５）金属反射層側の曲率半径が５ｍｍ以下であることを特徴とする上記（１４）に記載のリフレクター。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２２】
本発明の反射体は、高分子フィルム上に凹凸構造を有する層を形成した後、該凹凸層上に下地層、銀層、銀を主体とする合金層、透明酸化物層の４層を、或いは、アルミニウム層単層を形成した反射体であり、また、本発明のリフレクターとは、該反射体を反射層側を接着面として、支持体に接着させ、反射層側を内側に曲率半径が５ｍｍ以下になるように折り曲げたものである。
【００２３】
本発明における高分子フィルムは、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチックからなるフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではなく、ある程度常用耐熱温度が高いものであれば使用できる。耐熱性の高いフィルムを用いれば、高温で使用できる反射板が得られることは言うまでもない。
【００２４】
使用される高分子フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、通常は１０〜１５０μｍ程度が好ましく用いられる。
【００２５】
本発明において高分子フィルム上に形成される凹凸層は、一般的なエンボス加工や、透明微粒子の塗布により形成されるが、拡散成分の調整が比較的簡単な、粒子の塗布による方法が好ましい。
【００２６】
塗布される粒子としては、例えば、アクリル、ポリスチレン、ビニルベンゼン、ポリメタクリル酸メチル、スチレンメタクリレート、スチレンアクリレート、スチレンブタジエン等の高分子（有機）粒子をはじめ、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソーダなどからなる無機微粒子や、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモンなどの導電性透明微粒子なども用いることができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。なかでもアクリル樹脂が好ましい。
【００２７】
アクリル樹脂のような高分子粒子の調整方法としては、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法などが挙げられる。なかでも乳化重合法が最も一般的であるが、近年、分散重合も盛んに行われている。どの重合法においても、生成する高分子は分散媒に難溶であり、分散媒と高分子間の表面張力により粒子化する。高分子粒子は、粒子表面に結合又は吸着している保護コロイドによって安定化され、さらに粒子内架橋によっても安定化される。これらの方法の中でも特に、分散重合法を用いた場合、サブミクロンから数十ミクロンまでの広い範囲の粒子が得られる特徴がある。
【００２８】
高分子フィルムの表面に所望の粗さを得るために、用いられる粒子の平均粒子径は、１〜１５μｍが好ましく、より好ましくは２〜１０μｍであり、さらに好ましくは３〜８μｍである。平均粒子径が１μｍ未満では、粒子の埋没で凹凸構造の表面が形成しにくくなり、また、１５μｍを越えると凹凸構造の起伏が大きくなり、反射光のうち、凹部に入り表に出てこれなくなる光の割合が大きくなくなるため、全体としての反射率が低下するため好ましくない。
【００２９】
また、粒子の粒径分布は小さい方が好ましい。粒径の標準偏差の平均粒径に対する割合は５０％以下が好ましく、より好ましくは３０％以下で、さらに好ましくは２０％以下である。粒径分布が上記の割合を大きく超えると、制御された凹凸構造を得ることが難しくなる。
【００３０】
また、粒子を混合するバインダーとして用いるものは、例えばポリメタクリル酸メチルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケートより得られる重合体などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂や、これらの混合物などが挙げられるが、必ずしもこれらに限定される物ではない。これらは高分子フィルム及び粒子との密着性を考慮して選択され、なかでもアクリル系樹脂が好ましい。
【００３１】
また、粒子をバインダー中に分散させるための溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、イソプロピルアルコールなどが好ましく用いられる。これらは塗布作業時に一般的に用いられる溶媒であり、これら以外でも基材高分子フィルムやフィラー微細粒子に影響を与えない溶媒であれば、問題なく使用できる。また、塗布溶液には、必要に応じてぬれ剤や増粘剤、分散剤、消泡剤などの添加剤も加えられることもある。
【００３２】
粒子の配合割合としては、塗工溶液における固形分（粒子＋バインダー）中の粒子の体積％で表され、通常固形分１００体積％に対し、５体積％以上、５２体積％以下が好ましく、より好ましくは１０体積％以上４５体積％以下、さらに好ましくは、２０体積％以上、４０体積％以下である。フィラーの使用量が５体積％以下の場合、十分な光拡散性を得ることが出来ず、５２体積％を越えると複屈折により十分な反射光が得られなくなる。
【００３３】
また、粒子をバインダー中に溶剤を用いて分散させた溶液を塗工する際は、分散溶液を調合後、４時間、好ましくは１２時間、さらに好ましくは２４時間おいた後に塗工することが好ましい。高分子からなる微細粒子は溶剤の影響を受け、数時間の間、経時で膨潤するため、分散溶液調合後、すぐに塗工を行うと、微細粒子の粒径が経時で変化するため、凹凸構造が不均一になると共に、分散溶液の粘度も経時で変化するため、塗工条件の調整が困難になることがある。
【００３４】
高分子上に形成される凹凸層の重量は、式（１）で表すように、
式（１）：０．６×２ｒ×１０2／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ2）≦２．５×２ｒ×１０2／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）
であることが好ましい。より好ましくは、
式（３）：０．６×２ｒ×１０2／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ2）≦２．０×２ｒ×１０2／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）
さらに好ましくは、
式（４）：０．６×２ｒ×１０2／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ2）≦１．５×２ｒ×１０2／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）
である。凹凸層の重量が、式（１）の左辺の値より少なくなると、凹凸層を形成するための粒子の数が少なすぎ、高分子フィルム上に所望の凹凸構造を得ることが出来ない。また、凹凸層の重量が（１）式の右辺の値より少なくなると、粒子の数が多くなりすぎて、制御された凹凸構造を作ることが難しくなる。
【００３５】
ここでいう重量とは、乾燥後（ドライ）重量を表す。乾燥前（ウェット）での重量（塗布量）は、コーティングに用いるグラビヤ版やメイヤーバーの番手を選ぶの上で有用であるが、実測が困難であることが多い。そこで、実際には乾燥後の膜厚や、乾燥後の塗布重量を測定し評価することが多い。しかしながら、粒子層は凹凸層になっているため、必ずしも塗布量と膜厚が一致しない。よって、乾燥後（ドライ）の重量で評価を行うことが好ましいと考えられる。
【００３６】
ドライ重量の測定方法としては例えば、凹凸層表面の微細粒子及びバインダーを可溶する溶剤により丁寧にふき取り、剥がれた凹凸層及び溶剤を乾燥させ、溶剤を蒸発させることにより容易に計量する事ができる。
【００３７】
凹凸層は、高分子フィルムに前述の溶液を塗布することにより形成される。塗布方法としては、広い粘度範囲にわたって塗布が可能であり、走行中にも塗膜厚さを調整でき、また塗膜厚さを大幅に変えることが出来るなどの特徴をもつ、ロールコータ法、比較的運転技術を要さず、幅広でも塗工厚さが均一で、薄膜コーティング出来るなどの特徴をもつクラビアコータ法、高速塗工、高生産性、塗工厚さの均一性、広範囲に塗装が出来るなどの特徴をもつダイコート（押出）法、などが挙げられる。さらに上記のほかにも種々の塗布方法が考えられるが、本発明の要求を満たす塗布方法としては、塗布時のゲル化によるブツの発生を考慮すると、ダイコート法が好ましい。ダイコート（押し出し）法とは、ホッパーなどに溜められた溶液を、ポンプ圧力によりダイから押し出しフィルム表面に塗布する方法である。この法では通常供給された塗布液のすべてが再循環することなくフィルム上に塗布される。よって塗布量はポンプ送出量とラインスピードによって決定される。また、非常に低い粘度の塗布液を用いる場合は、幅方向で十分なダイ内部圧が得られず、塗工量が不均一になる場合があるが、その際にはフィード部分のオリフィスギャップを狭くすることによりダイ内部圧を均一とすることで対応する。また、ダイの先端部分は計量ブレードとして用いられ、幅方向の塗布量の均一性を高めている。さらに先端部分を唇状に丸めたダイコート法は、リップコート法とも呼ばれ、塗布量の均一性のみならず良好な塗布面を得るにはこのようにダイの先端部分に工夫を凝らしたものが好ましく用いられ、本発明においても先端部を丸めたリップコート法を用いることが好ましい。
【００３８】
本発明の反射体において、反射層は凹凸層上に形成される４層或いは１層からなるものである。４層構造の場合は、凹凸層側からの第１層は下地金属層、第２層は、銀層、第３層は銀を主体とする合金層、第４層は透明酸化物層である。また、アルミニウムを使う場合は単層でも使用できる。この違いは、銀を使えばアルミニウムよりさらに高い反射率を選られるが、耐久性を出すためには、多層構造にする必要がある。両者の使い分けは反射率、耐久性、用途を勘案して適宜選択することができる。
【００３９】
４層構成の場合、第１層の下地層には、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどの金属単体、または、酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛もしくはインジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）などの透明酸化物が好ましく用いられる。
【００４０】
第２層の銀層には、基本的には銀単体であることが望ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどの金属不純物が含まれても良い。
【００４１】
第３層の銀を主体とする合金の金属層には、銀に対し銅及びパラジウムが合わせて２重量％以下の範囲で含有している合金が好ましく用いられる。
【００４２】
第４層の透明酸化物層には、酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛や、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、珪素酸化物等が好ましく用いられる。
【００４３】
また、アルミニウム層単層の場合では、基本的にはアルミニウム単体であることが望ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどの金属不純物が含まれても良い。
【００４４】
金属薄膜層の形成法は、湿式法及び乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。
【００４５】
真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなどのガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こしても良い。
【００４６】
スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用しうる。
【００４７】
スパッタ法においては、原材料は金属の板状のターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用しうるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガスを用いて行うこともある。
【００４８】
ここで、４層構造の場合、第１層である下地層において、金属層を用いた場合、その厚みは、５〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３０ｎｍである。該層の厚みが５ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第２層の銀層に凝集を発生させる。また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無いばかりか、資源を有効に利用するという観点からも好ましくない。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚みは、１〜２０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、５〜１０ｎｍである。かかる層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第２層の銀層に凝集を発生させる。
【００４９】
第２層である銀層の厚みは、７０〜４００ｎｍが好ましく、より好ましくは１００〜３００ｎｍ、さらに好ましくは１５０〜２５０ｎｍである。かかる層の厚みが７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成が出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来ない。また、４００ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化が無いばかりか、資源を有効に利用するという観点からも好ましくない。
【００５０】
第３層である銀を主体とする合金の金属層の厚みは、５〜４０ｎｍが好ましい。かかる層の厚みが５ｎｍよりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、また、４０ｎｍより厚い場合は第３層である銀層の特性がでなくなってしまい好ましくない。
【００５１】
第４層である透明酸化物層の厚みは、１〜２０ｎｍが好ましく、より好ましくは１〜７ｎｍ、さらに好ましくは１〜５ｎｍである。かかる層の厚みが１ｎｍより厚いと所望のバリヤー効果が良好に得られ、第２層の銀層の凝集も発生しない。しかし、２０ｎｍより厚くしてもその効果の変化にほとんど影響は見られない。
【００５２】
また、アルミニウム層単層の場合、その厚みは、７０〜４００ｎｍが好ましく、より好ましくは１００〜３００ｎｍ、さらに好ましくは１５０〜２５０ｎｍである。かかる層の厚みが７０ｎｍより厚いと、十分な金属層が形成されるので、所望の反射率を得ることが出来る。しかし、４００ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化にほとんど影響は見られない。
【００５３】
前記各層の膜厚の測定方法としては、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。
【００５４】
また、反射層を透明高分子フィルム（層）上に設ける際に、該高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理等を行うことが反射層と高分子フィルムの密着性を向上させる効果があることは当業者の技術的常識の範囲であろう。
【００５５】
本発明で用いられる接着剤は、熱または触媒の助けにより接着される接着剤であり、具体的には、シリコン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、アクリル系接着剤など一般的な接着剤を用いることができる。エポキシ系接着剤は強度、耐熱性に優れているため、これもまた好適に利用できる。シアノアクリレート系接着剤は、即効性と強度に優れているため、効率的な反射体作製に利用できる。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、ホットメルト型、２液混合型に大別されるが、好ましくは連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が使用される。どの接着剤を使用した場合でもその厚みは、０．５μｍ〜５０μｍが好ましい。
【００５６】
高分子フィルムと板状成形体との接着は、反射層への接着剤のコーティング、乾燥、ローラーによる板状成形体とのラミネート、の手順により行われる。接着剤のコーティング方法は、基材や接着剤の種類によって多くの方法があるが、広く使用されているのは、グラビアコーター方式及び、リバースコーター方式である。グラビアコーター方式では、接着剤に一部浸されているグラビアロールを回転させ、バックアップロールによって送られるフィルムを接着剤の付着したグラビアロールに接触させることによりコーティングする。コーティング量はロールの回転数、接着剤の粘度を制御することで調整できる。リバースコーター方式も、グラビアコーター方式に類似した方法だが、コーティングロールに付着する接着剤の量を、それに接して設置されているメタリングロールによって調整する。コーティングされた接着剤の乾燥温度、及びラミネート温度は接着剤の種類によってまちまちであるが、上記にかかげた一般的な接着剤を用いる場合は１００℃前後である。
【００５７】
この接着剤による反射層を形成した高分子フィルムと、板状成形体との接着強度は、１８０度ピール強度で測定して１００ｇ／ｃｍ以上である事が好ましい。この接着強度にあまりに達しない場合には、板金加工した際、反射層を形成した高分子フィルムの、板状成形体からの剥がれ等が生じ、変形等を引き起こす可能性があるためである。
【００５８】
板状成形体には、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等が使用されるが、これらの金属にはそれぞれ長所があり、次のように使い分けることができる。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるため、ランプ発行によって反射体が加熱されるＬＣＤ用バックライトに好適に利用できる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が強い。ステンレス鋼は機械的強度が適度にあり、また耐蝕性に優れている。鋼亜鉛合金すなわち黄銅または真鍮は、機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なため電気的端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく用いられる。
【００５９】
プラスチックの板やシート  を用いることができるのは勿論のことである。さらに、プラスチックフィルムを用いる場合、特に、外観を美しく保つために、金属蒸着フィルムや塗装を施したフィルムをラミネートすることが好ましい。
【００６０】
このようにして作製された反射板の、金属層側から測定される反射率は典型的には、５５０ｎｍの波長の光に対して８０％以上であり、より詳しくは４８０〜７８０ｎｍの範囲で、８０％以上である。
【００６１】
本発明品である反射体の構成、及び電気特性の代表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜層、接着層、板状成形体の各部の厚さは、その断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定できる。高分子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）によりできる。また、接着剤の材料分析は銀薄膜層と板状成形体を引き剥がして接着剤を露出させ、適当な溶媒にそれを溶かした試料を作成し、その赤外分光（ＩＲ）をとることでできる。銀薄膜層及び、板状成形体の材料分析は、蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）によりできる。さらに、Ｘ線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光より微細な部分の元素分析が行える。また、銀薄膜層の形成された高分子フィルムを、接着剤から引き剥がし銀薄膜層を露出させれば、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）により組成分析、及び深さプロファイルをとることで厚さも知ることができる。
【００６２】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
平均粒子が５μｍであるアクリル系樹脂（根上工業（株）製、品名：アートパール）と、バインダーとしてアクリル系樹脂（三井化学（株）製、品名：アルマテックスＥ２６９）（共に密度１．２ｇ／ｃｍ3）を、トルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて、固形分比３５％、固形分中の粒子の割合を３７.０体積％とした溶液を調合した。これらの物性値を式（１）に代入することにより、塗布重量範囲を計算したところ４．５（ｇ／ｍ2）≦塗布量（ｇ／ｍ2）≦１０．８（ｇ／ｍ2）となったため、ドライ塗布量が９．０ｇ／ｍ2となるようにポンプ圧力とラインスピードを調整し、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルムの上に、リップコート法にて塗布を行った。この際、ブツによる筋は観察されず、良好な塗布面が得られた。できたシートを、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ2Ｏ3がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲットととし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして銀を膜厚２００ｎｍになるように成形した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法にて純度９９．９％のＡＰＣ１％（Ａｇに対し、ＰｄとＣｕが合計で１重量％配合された合金）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＡＰＣ１％が膜厚８ｎｍになるように成形した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法にて純度９９．９％のＳｉＯ2をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＳｉＯ2を膜厚５ｎｍになるように成形した。できたシートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行ったところ、反射率９２．６％、拡散反射率８４．８％を得た。続いて、シートのＰＥＴフィルム側と真鍮板（厚さ０．２ｍｍ）とをポリエステル系ホットメルト型接着剤（東洋紡、バイロンＡＳ５００）で接着し、反射板を形成した。それを打ち抜き加工によりリフレクターを得た。得られたリフレクターを下面の反射体に、鏡面の銀反射体を用いた導光板及び冷陰極管のランプと組合せ、サイドライト式バックライトユニットを得た。このバックライトを液晶表示装置に組み込み、ランプを点灯させるたところ、揮線の発生は見られなかった。
比較例１
リフレクターに用いる反射体として、鏡面の銀反射体を用いたこと以外は、実施例１に準じてバックライトユニットを形成した。用いた銀反射体を、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行ったところ、反射率９５．６％、拡散反射率０．5％を得た。このバックライトを液晶表示装置に組み込み、ランプを点灯させたところ、揮線が発生してしまい、全体として輝度ムラが大きくなり、ディスプレイ表示品位が悪くなった。
【００６３】
また、上記実施例及び比較例で作製したランプリフレクターを、図３に示すように実装し、雰囲気温度８０℃、相対湿度６０％で蛍光管を点灯させ、点灯後２０００時間及び５０００時間での波長５５０ｎｍでの反射率を測定した。その結果を表１に示す。
【００６４】
【表１】
0004323072.tif 000002
【００６５】
【発明の効果】
本発明の反射体を用いることで、長時間の過酷な使用時においても高輝度アルミ板よりも反射率が高く、かつ、反射率の低下のないリフレクターを得ることができる。さらに、本発明のリフレクターを、導光板の下に白ＰＥＴではなく鏡面の銀反射体を用いるサイドライト式バックライトユニットにおける、ランプリフレクターとした場合、得られる輝度の低下が殆どなく揮線の発生を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に関する反射体の一例を示す断面図である。
【図２】  本発明に関する反射板を成形加工したランプリフレクターの一例
【図３】  本発明に関するランプリフレクターの断面構成
【図４】  本発明に関する液晶表示素子バックライトユニットに取付けたランプリフレクターの例
【符号の説明】
１０  銀あるいはアルミニウムを主体とする金属反射層
２０  凹凸層
３０  高分子フィルム
４０  接着層
５０  支持体
６０  ランプリフレクター
７０  蛍光管
８０  導光板
【図１】
0004323072.tif 000003
【図２】
0004323072.tif 000004
【図３】
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【図４】
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