(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された金属膜上に感光性樹脂膜を形成し、
この感光性樹脂膜を露光し、現像して複数の基板形成部位の間隙にある金属膜を露出させる感光性樹脂パターンを形成し、
この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に金属パターンを形成した後、
前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の金属パターン付き基板を得ることを特徴とする金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項２】
前記現像と前記腐食処理とを同時に実施する請求項１記載の金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項３】
前記感光性樹脂が８０％以上の光透過率を有する請求項１または２記載の金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項４】
前記金属がアルミニウムを含む合金からなる請求項１〜３のいずれか一項に記載の金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法により製造される金属パターン付き基板であって、金属パターン上に感光性樹脂パターンからなる保護膜を有することを特徴とする金属パターン付き基板。
【請求項６】
透明板の表面に金属膜を形成する工程と、
この金属膜の表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、
この感光性樹脂膜を露光し、現像して複数の基板形成部位の間隙にある金属膜を露出させる感光性樹脂パターンを形成する工程と、
この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に光反射用の金属パターンを形成する工程と、
前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の全反射型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得る工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項７】
透明板の表面に金属膜を形成する工程と、
この金属膜の表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、
この感光性樹脂膜を露光し、現像して、複数の基板形成部位の間隙にある金属膜と、各基板形成部位の光透過部にある金属膜とを露出させる感光性樹脂パターンを形成する工程と、
この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に光透過部を含む光反射用の金属パターンを形成する工程と、
前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の半透過型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得る工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項８】
前記現像と前記腐食処理とを同時に実施する請求項６または７記載の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項９】
前記感光性樹脂が８０％以上の光透過率を有する請求項６〜８のいずれか一項に記載の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項１０】
前記金属がアルミニウムを含む合金からなる請求項６〜９のいずれか一項に記載の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項６〜１０のいずれか一項に記載の製造方法により製造される液晶表示装置用金属パターン付き基板であって、金属パターン上に感光性樹脂パターンからなる保護膜を有することを特徴とする液晶表示装置用金属パターン付き基板。
【請求項１２】
請求項１１記載の液晶表示装置用金属パターン付き基板を備えた液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体部品等に利用される金属パターン付き基板の製造方法、この製造方法により得られる金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、この製造方法により得られる液晶表示装置用金属パターン付き基板およびこの基板を用いた液晶表示装置に関する。
【従来の技術】
【０００２】
液晶表示装置の構造には、大別すると透過型液晶表示装置（以下、透過型という）、全反射型液晶表示装置（以下、全反射型という）および半透過型液晶表示装置（以下、半透過型という）の３種類の形態がある。透過型は、装置内部に配置されたバックライトからの光が、赤色、緑色および青色からなる透明着色層を透過することにより画像等を表示するものである。
【０００３】
一方、全反射型は、太陽光や照明等の外光を利用して画像等を表示するものである。半透過型は、透過型および全反射型の機能を兼ね備えた構造を有している。
【０００４】
図９（ａ）、（ｂ）は全反射型、図１０（ａ）、（ｂ）は半透過型の構造を示した部分拡大図である。
図９（ａ）、（ｂ）に示すように、全反射型は、前面基板４１と、金属パターン４２が形成された金属パターン付き基板４５とが対向して配置されており、前面基板４１または金属パターン付き基板４５に形成された赤色、緑色および青色の着色層４３（Ｒ）、４３（Ｇ）および４３（Ｂ）と、隣接する赤色、緑色、青色の混色を防止し色純度の低下を防ぐために設けられるブラックマトリックス（図示せず）と、着色層４３（Ｒ）、４３（Ｇ）および４３（Ｂ）上に形成されたオーバーコート層４６と、液晶４４を挟み込むようにして配置された透明導電膜４７、４８と、偏光板４９とを備えている。このような全反射型は、着色層４３（Ｒ）、４３（Ｇ）および４３（Ｂ）を透過した外光Ｌ１が、金属パターン４２で反射され、再度着色層４３（Ｒ）、４３（Ｇ）および４３（Ｂ）を透過することによって画像等を表示するものである。
【０００５】
また、図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、半透過型は、前記全反射型と同様に前面基板４１、金属パターン４２が形成された金属パターン付き基板４５、液晶４４、着色層４３（Ｒ）、４３（Ｇ）および４３（Ｂ）等を有する他に、光透過用の光透過部５１および偏光板５０を有している。このような半透過型は、全反射型と同様な外光Ｌ１による表示に加えて、バックライトＬ２が光透過部５１、着色層４３（Ｒ）、４３（Ｇ）および４３（Ｂ）を透過することによって画像等を表示するものである。
【０００６】
図１１は、前記金属パターン付き基板４５が、透明板５２上に形成される部位（基板形成部位５３）を示した平面図である。
例えば携帯電話機等に利用される小型の液晶表示装置の場合、図１１に示すような１枚の透明板５２から、複数枚の前記金属パターン付き基板４５が作製される。この金属パターン付き基板４５上の金属パターンは、通常、以下のような手順で形成される。
【０００７】
＜手順１：金属膜の形成＞
はじめに、透明板５２上の全面にスパッタリング、蒸着等により金属膜を形成する。通常、金属膜にはＡｌ、Ｃｒ、Ａｇ、Ｎｉ等およびそれらの合金を含むものが使用される。なお、視認性向上の目的で、金属膜の形成前に適度な凹凸を有した散乱層（図示せず）を形成してもよい。
【０００８】
＜手順２：感光性樹脂パターンの形成＞
手順１により得られた金属膜上に、感光性樹脂をスピンコート法等により塗布した後、所定のパターンに形成されたフォトマスクで前記感光性樹脂を覆い、光を照射（露光）し、その後現像し、硬化処理して所定の感光性樹脂パターンを得る。このとき、前記感光性樹脂がネガ型の場合には、感光性樹脂パターンを形成したい部分に光を照射し、ポジ型の場合には、感光性樹脂パターンを形成したい部分を前記フォトマスクで覆い、それ以外の部分に光を照射する。
【０００９】
＜手順３：金属パターンの形成＞
手順２により得られた前記感光性樹脂パターンを有した金属膜を、その金属膜に適したエッチング液により腐食処理（エッチング）することによって、前記感光性樹脂パターンと同形状に形成された金属パターンが得られる。
【００１０】
＜手順４：感光性樹脂の剥離＞
手順１〜３により得られた金属パターン上の感光性樹脂パターンをアルカリ系の剥離材によって剥離除去する。
【００１１】
以上の手順１〜４によって、透明板５２上に所定の光反射用金属パターンを形成することができる。この金属パターンが形成された基板形成部位５３をカットして得られた金属パターン付き基板４５は、図９（ａ）、（ｂ）、図１０（ａ）、（ｂ）で示した液晶表示装置に使用される。
【００１２】
しかしながら、前記金属パターン付き基板４５上に金属パターン４２を形成する際には、上記１〜４のような多数の工程が必要であり、これがコスト増大の原因となっている。また、手順４に示した前記感光性樹脂パターンの剥離を行う際には、金属パターン４２が劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、前記感光性樹脂が完全に剥離されず感光性樹脂残渣が発生し反射性能が低下するという不具合が生じることがあった。さらに、図９（ｂ）および図１０（ｂ）のように金属パターン４２上に着色層４３（Ｒ）、４３（Ｇ）および４３（Ｂ）やブラックマトリックス（図示せず）が形成される場合、この形成過程において、金属パターン４２にキズ等が付いて反射性能が低下するという不具合が生じることがあった。
【００１３】
上記のような不具合は、液晶表示装置用基板の製造時に限られず、例えば半導体部品の製造のように、基板上に金属パターンを形成する際等にも生ずる問題であった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の主たる目的は、例えば半導体部品に用いられる金属パターンを製造する際に、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがない金属パターン付き基板の製造方法およびこの製造方法により得られる金属パターン付き基板を提供することである。
【００１５】
本発明の他の目的は、透明板上に金属パターンを形成する際に、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が発生したりすることがなく、さらに、金属パターン上に着色層やブラックマトリックスを形成する際に、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがない液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、この製造方法により得られる金属パターン付き基板およびこの基板を備えた液晶表示装置を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、半導体部品等に利用される金属パターンを形成する際に、前記金属パターン形成に使用する感光性樹脂を、金属パターン形成後に剥離除去せず、この感光性樹脂を前記金属パターンの保護膜として残すことによって、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがないため、コストを削減でき、信頼性の高い金属パターン付き基板を製造することができるという新たな知見を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１７】
すなわち、本発明の金属パターン付き基板の製造方法は、基板上に形成された金属膜上に感光性樹脂膜を形成し、この感光性樹脂膜を露光し、現像して複数の基板形成部位の間隙にある金属膜を露出させる感光性樹脂パターンを形成し、この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に金属パターンを形成した後、前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の金属パターン付き基板を得ることを特徴とする。
【００１８】
本発明の金属パターン付き基板の製造方法は、前記現像と前記腐食処理とを同時に実施することを特徴とする。このように金属パターンと保護膜とが同時に形成されるので、さらなる工程削減によるコスト削減が可能となるだけでなく、金属パターンと保護膜（感光性樹脂パターン）にずれが生じないため、より信頼性の高い金属パターン付き基板を製造することができる。
【００１９】
上記の本発明方法は、液晶表示装置用の金属パターン付き基板を製造する際にも適用することができ、具体的には、全反射型および半透過型に適用するのが好適である。
【００２０】
本発明の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法は、透明板の表面に金属膜を形成する工程と、この金属膜の表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、この感光性樹脂膜を露光し、現像して複数の基板形成部位の間隙にある金属膜を露出させる感光性樹脂パターンを形成する工程と、この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に光反射用の金属パターンを形成する工程と、前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の全反射型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得る工程とを含むことを特徴とする。
【００２１】
これにより、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が発生したりすることがなく、さらに、金属パターン上に着色層やブラックマトリックスを形成する際に、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがないため、コストを削減でき、反射性能の高い全反射型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得ることができる。
【００２２】
また、本発明の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法は、透明板の表面に金属膜を形成する工程と、この金属膜の表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、この感光性樹脂膜を露光し、現像して、複数の基板形成部位の間隙にある金属膜と、各基板形成部位の光透過部にある金属膜とを露出させる感光性樹脂パターンを形成する工程と、この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に光透過部を含む光反射用の金属パターンを形成する工程と、前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の半透過型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得る工程とを含むことを特徴とする。
【００２３】
これにより、前記と同様に、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがなく、さらに、金属パターン上に着色層やブラックマトリックスを形成する際に、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがないため、コストを削減でき、反射性能の高い半透過型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得ることができる。
【００２４】
本発明の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法は、前記現像と前記腐食処理とを同時に実施することを特徴とする。このように金属パターンと保護膜とが同時に形成されるので、さらなる工程削減によるコスト削減が可能となるだけでなく、金属パターンと保護膜（感光性樹脂パターン）にずれが生じないため、より反射性能の高い液晶表示装置用金属パターン付き基板を製造することができる。
本発明では、前記金属がアルミニウムを含む合金を用いるのが好ましい。
さらに、本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置用金属パターン付き基板を備えることを特徴とする。これにより、低コストで反射性能の高い液晶表示装置が得られる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
＜全反射型液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法＞
本発明の一実施形態である全反射型用金属パターン付き基板の製造方法を説明する。図１は、前記金属パターン付き基板が本発明の製造方法により、透明板１上に形成される部位（基板形成部位２）を示した平面図である。
【００２６】
例えば携帯電話機等に利用される小型の液晶表示装置の場合、前記したように、図１に示すような１枚の透明板１から、複数枚の液晶表示装置用金属パターン付き基板が形成される。図２は、図１のＡ−Ａ線断面を示した断面図である。図２に示すように、透明板１上の基板形成部位２には金属膜からなる金属パターン３ｂが形成され、この金属パターン３ｂ上には感光性樹脂からなる保護膜４ｂが形成されている。
【００２７】
前記透明板１としては、透明性の高いものであれば特に限定されないが、例えば透明ガラスやポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂等の板状部材が使用できる。前記金属パターン３ｂの形成に使用される金属としては、例えばＡｌ、Ｃｒ、Ａｇ、Ｎｉまたはこれらを含む合金等が挙げられる。前記保護膜４ｂの形成に使用される感光性樹脂としては、高い光透過率（光透過率としては８０％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９５％以上の高透過率を有するものがよい）を有するものであれば特に限定されないが、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂等を主成分とするものを使用することができる。また、視認性向上のために、これらの感光性樹脂に光散乱性の微粒子等を混練して光散乱機能を付与してもよい。
【００２８】
図３（ａ）〜（ｆ）には、全反射型に用いられる金属パターン付き基板１１を製造する手順を示す。
【００２９】
図３（ａ）に示す透明板１上の全面に、スパッタリング、蒸着等によって、金属膜３ａが形成される（図３（ｂ））。なお、視認性向上の目的で、金属膜３ａの形成前に適度な凹凸を有した散乱層（図示せず）を透明板１上に形成してもよい。
【００３０】
次に、図３（ｃ）に示すように、前記金属膜３ａ上に、スピンコート法等により前記感光性樹脂が塗布されて感光性樹脂膜４ａが形成される。前記感光性樹脂の膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下、更に好ましくは３μｍ以下が良い。ついで、所定のパターンに形成されたフォトマスクで前記感光性樹脂膜４ａを覆った状態で光を照射（露光）し、現像することによって、図３（ｄ）に示すように、感光性樹脂からなる保護膜４ｂが形成される。
【００３１】
次に、前記金属膜３ａにおいて、保護膜４ｂが形成されていない露出した箇所を腐食処理（エッチング）することによって、図３（ｅ）に示すように、保護膜４ｂと同形状に形成された金属パターン３ｂが得られる。なお、前記現像用および腐食処理用の薬液によっては、前記感光性樹脂膜４ａの現像と前記金属膜３ａの腐食処理とを同時に行うことができる。例えば、前記金属がアルミニウムの場合は、水酸化カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液を用いることで、前記同時処理が可能である。
【００３２】
さらに、前記金属パターン３ｂおよび保護膜４ｂを有した透明板１を、所定の温度に加熱して、保護膜４ｂを形成している感光性樹脂を硬化させる。前記硬化処理温度は、使用する感光性樹脂の物性に応じて設定すればよく、特に限定されない。
【００３３】
最後に、上記のようにして製造された金属パターン３ｂおよび保護膜４ｂを有した基板形成部位２は、図３（ｆ）に示すように、液晶表示装置に装備される形状にカットされ、全反射型用の金属パターン付き基板１１として使用される。
【００３４】
図４（ａ）には、上記の金属パターン３ｂおよび保護膜４ｂを有した金属パターン付き基板１１を用いた液晶表示装置１２の部分拡大図を示す。この液晶表示装置１２は、ブラックマトリックス（図示せず）および着色層６（Ｒ）、６（Ｇ）および６（Ｂ）が形成された前面基板５と、前記金属パターン付き基板１１とが対向して配置されている。着色層６（Ｒ）、６（Ｇ）および６（Ｂ）上には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等からなるオーバーコート層１９が形成されている。このオーバーコート層１９は必要に応じて省略することもできる。
【００３５】
また、液晶７を挟み込むようにして、透明導電膜３３、３４が形成されている。これらの透明導電膜３３、３４は、可視光に対して透過率が高くかつ高い電気伝導性を有する機能性薄膜であり、通常、酸化インジウム−酸化スズ固溶体であるＩＴＯ膜が使用される。透明導電膜３３、３４は、通常、蒸着、スパッタリング等の成膜方法によって形成される。
【００３６】
さらに、前面基板５の前面側（すなわち、図４（ａ）の前面基板５の上面側）には、偏光板１７が貼着されている。
【００３７】
液晶７を挟んで配置された前記透明導電膜３３、３４により液晶７に電場を加えることで、液晶７の配向状態に変化が生じ、光学的性質も変化し、前記偏光板１７との関係により、透過光量が制御される。このような制御を着色層のＲＧＢに対応した各画素毎にすることでカラー表現が実現される。
【００３８】
また、図４（ｂ）に示す液晶表示装置１３のように、ブラックマトリックスおよび着色層６（Ｒ）、６（Ｇ）、６（Ｂ）は、金属パターン付き基板１１に形成された保護膜４ｂ上に形成することもできる。
【００３９】
＜半透過型液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法＞
半透過型に用いられる金属パターン付き基板を製造する際にも、前記全反射型と同様の製造方法が用いられる。図５（ａ）〜（ｃ）に示した金属膜３ａおよび感光性樹脂膜４ａの形成は、半透過型の場合も全反射型と同様に行う。
【００４０】
半透過型は、図１に示した基板形成部位２内に、光透過用の光透過部を含む光反射用の金属パターンが形成されている。この金属パターンを形成するには、前記したフォトマスクとして、光透過部を含む金属パターンの形状に対応するように形成されたものを用いればよい。その他の製造手順は、全反射型と同様である。
【００４１】
図６には、上記のようなフォトマスクを使用して得られた半透過型用の金属パターン付き基板１４の部分拡大図を示す。この金属パターン付き基板１４には、金属パターン３ｂ、保護膜４ｂおよび光透過部８が形成されている。
【００４２】
図７（ａ）には、前記金属パターン付き基板１４を用いた液晶表示装置１５の部分拡大図を示す。この液晶表示装置１５は、ブラックマトリックス（図示せず）および着色層６（Ｒ）、６（Ｇ）、６（Ｂ）が形成された前面基板５と前記金属パターン付き基板１４とが対向して配置されている。半透過型の場合、基板１４の背面側（すなわち、図７（ａ）の基板１４の下側）にも偏光板１８が配置されている。
【００４３】
また、図７（ｂ）に示す液晶表示装置１６のように、ブラックマトリックスおよび着色層６（Ｒ）、６（Ｇ）、６（Ｂ）は、金属パターン付き基板１４に形成された保護層４ｂ上に形成することもできる。
【００４４】
なお、図４（ａ）、（ｂ）で示した液晶７、オーバーコート層１９、透明導電膜３３、３４および偏光板１７、１８については、図７（ａ）、（ｂ）にも同様の符号を付して説明を省略する。
【００４５】
全反射型および半透過型に形成される前記ブラックマトリックスは、着色層６（Ｒ）、６（Ｇ）および６（Ｂ）において、隣接する赤色、緑色および青色の混色を防止し、色純度の低下を防ぐために設けられるのであるが、必要に応じて設ければよい。ブラックマトリックスとしては、カーボンブラックを含んだ黒色の感光性樹脂や金属クロムと酸化クロムの複層構造からなる膜等を使用することができる。
【００４６】
また、前記着色層６（Ｒ）、６（Ｇ）および６（Ｂ）は、顔料または染料を含んだ感光性樹脂をスピンコート法等により塗布した後、フォトマスクを介して露光し、現像を行うことで得られる。この工程は、少なくとも赤、緑、青の各透明着色パターン毎に３回繰り返して行われる。
【００４７】
上記のように、本発明の製造方法によって製造された、液晶表示装置１２、１３、１５、１６用の前記金属パターン付き基板１１、１４は、従来行われていた感光性樹脂の剥離工程（前記手順４）が削減されている。これにより、工程削減によるコスト低減が達成できる。また、前記感光性樹脂パターンを剥離しないので金属パターン３ｂが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがない。これにより、高い反射性能を有した金属パターン付き基板１１、１４を製造することができる。
【００４８】
さらに、図４（ｂ）、図７（ｂ）に示す液晶表示装置において、ブラックマトリクスおよび着色層６（Ｒ）、６（Ｇ）、６（Ｂ）を形成する際にも、金属パターン３ｂが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがない。これにより、高い反射性能を有した金属パターン付き基板１１、１４を製造することができる。
【００４９】
なお、本発明の液晶表示装置用基板の製造方法は、上記した実施形態に適用されるだけでなく、例えば半導体部品の製造等における感光性樹脂を用いた金属パターンの形成等にも使用可能であり、これにより低コストで信頼性の高い金属パターン付き基板が得られる。
【００５０】
【実施例】
以下、実施例を挙げて、本発明の製造方法により得られる金属パターン付き基板の反射特性について説明する。
【００５１】
実施例
本発明の製造方法により得られる液晶表示装置用金属パターン付き基板の反射性能を確認するために、以下の実験を行った。
【００５２】
図３（ａ）〜（ｆ）に示した手順で、金属パターン３ｂおよび保護膜４ｂを有した金属パターン付き基板１１を作製した。透明板１には透明ガラスを用いた。また、前記金属パターン３ｂを形成する金属にはアルミニウムを用い、スパッタリングにより成膜した。保護膜４ｂを形成する感光性樹脂にはアクリル樹脂が主成分の感光性樹脂を用いた。また、現像と腐食処理はアルカリ水溶液を用いて同時に行った。
【００５３】
上記のようにして作製した金属パターン付き基板１１は、前記保護膜４ｂを剥離する工程を削減しているので、金属パターン３ｂの表面には劣化・腐食やキズ・汚れや感光性樹脂残渣は見られなかった。また、高輝度ランプによる目視検査でも鏡面を維持していることが確認された。
また、金属パターンと感光性樹脂パターンには、ずれが生じていないことを確認した。
【００５４】
図８には、前記金属パターン付き基板１１の反射性能を測定した結果を示す。グラフの横軸は光の波長を示し、縦軸はスパッタリングにより成膜したアルミニウム膜の反射率を１００としたときの本実施例で作製した金属パターン付き基板１１の反射性能を表したものである。図８に示すように、本実施例の金属パターン付き基板１１は、可視光領域において、前記アルミニウム膜の反射性能と同等の性能を有しており、金属パターン３ｂ上に保護膜４ｂが存在していても良好な反射性能が得られることが確認できた。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがないため、コストを削減でき、信頼性の高い金属パターン付き基板を製造することができるという効果がある。
【００５６】
また、本発明によれば、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがなく、さらに、金属パターン上に着色層やブラックマトリックスを形成する際に、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがないため、コストを削減でき、反射性能の高い液晶表示装置用金属パターン付き基板およびこれを備えた液晶表示装置を得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法によって、金属パターン付き基板が透明板上に形成される部位（基板形成部位）を示した平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面を示した断面図である。
【図３】本発明の製造方法によって、全反射型液晶表示装置用金属パターン付き基板を製造する手順を示す概略図である。
【図４】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ本発明の製造方法により製造された金属パターン付き基板を用いた全反射型の液晶表示装置の一例を示す部分拡大図である。
【図５】本発明の製造方法によって、半透過型液晶表示装置用金属パターン付き基板を製造する手順を示す概略図である。
【図６】本発明の製造方法により製造された金属パターン付き基板を示す部分拡大図である。
【図７】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ本発明の製造方法により製造された金属パターン付き基板を用いた半透過型の液晶表示装置の一例を示す部分拡大図である。
【図８】本発明の実施例で測定した金属パターン付き基板の反射特性を示すグラフである。
【図９】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ従来の製造方法により製造された金属パターン付き基板を用いた全反射型の液晶表示装置の一例を示す部分拡大図である。
【図１０】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ従来の製造方法により製造された金属パターン付き基板を用いた半透過型の液晶表示装置の一例を示す部分拡大図である。
【図１１】従来の製造方法によって、金属パターン付き基板が透明板上に形成される部位（基板形成部位）を示した平面図である。
【符号の説明】
１    透明板
２    基板形成部位
３ａ  金属膜
３ｂ  金属パターン
４ａ  感光性樹脂膜
４ｂ  保護膜
５    前面基板
６（Ｒ）  着色層（赤色）
６（Ｇ）  着色層（緑色）
６（Ｂ）  着色層（青色）
７    液晶
８    光透過部
１１  金属パターン付き基板
１２  全反射型液晶表示装置
１３  全反射型液晶表示装置
１４  金属パターン付き基板
１５  半透過型液晶表示装置
１６  半透過型液晶表示装置
１７、１８  偏光板
１９  オーバーコート層
３３、３４  透明導電膜
【図１】
0004206209.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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