(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器により構成されたプロセスチャンバに垂直搬送手段を設けてワークをプロセス処理領域とワーク出入領域間を垂直移送可能としてなる真空プロセス処理装置において、
前記ワークが搭載される転回プラテンを水平位置および垂直位置間で転回可能に前記垂直搬送手段に装備された回転支軸に取り付け、この回転支軸には回転駆動手段とクラッチ手段を介して接続することにより垂直移動時に切り離し可能としてなることを特徴とする真空プロセス処理装置。
【請求項２】
前記転回プラテンにはワーク脱着機構を設け、このワーク脱着機構を前記回転駆動手段による前記プラテンの垂直回転に先立って前記回転駆動手段による回転を利用して脱着作動させるようにしてなることを特徴とする請求項１に記載の真空プロセス処理装置。
【請求項３】
前記転回プラテン上の搭載ワークの点対称位置にて側端面を押圧して位置決めをなすセンタリング手段を付帯してなることを特徴とする請求項１に記載の真空プロセス処理装置。
【請求項４】
前記回転支軸を多重軸構造とし、内外の一方の軸を転回プラテンに連結して転回操作可能とし、他方の軸を前記ワーク脱着機構の作動機構に連結してワーク脱着をなさしめるようにしたことを特徴とする請求項２に記載の真空プロセス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は真空プロセス処理装置に係り、特に縦型真空容器内において半導体ウエハやガラス基板などを昇降させつつイオンビームを照射してプロセス処理などを行なわせるのに好適な真空プロセス処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハやガラス基板などのワークに薄膜を形成したり、これをエッチング処理したりする場合、パーティクルなどの汚染物が少ないことや、イオンビームの散乱が防げるなどの理由から、通常、真空容器内において処理が行われる。そして、従来は、ワークを真空容器内において直線的に移動させて処理を行う場合、一般に水平なベース上にワークを配置し、ベースを一方向に移動させ、イオンビームなどを照射するようにしていた。しかし、近年、ワークが大型化しており、それに伴いイオンビーム源も大型化し、ビームの垂直照射は装置高さを大きくすることから、ビームは水平照射とし、ワークを上下方向に移動させてプロセス処理などを行うようになってきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、従来装置では、水平搬送されてくるワークを垂直方向に転回しなければならず、この転回処理のための構造が複雑になるとともに、転回機構のための駆動設備を内蔵するために、駆動源などからゴミ（パーティクル）などの汚染物が発生してワークが汚染され、不良率の上昇を招くばかりでなく、真空中で円滑に作動させるためのメンテナンスが容易でないという問題を引き起こしている。また、ワークを転回させる必要上、ワークの保持機構と回転のための駆動設備を各々備えなければならず、更に水平搬送されてくるワークを所定の姿勢で的確に配置するための処理が困難であるなどの問題があった。
【０００４】
本発明は、上記従来の問題点に着目してなされたもので、水平搬送されてくるワークを垂直方向に簡単な機構で転回可能とし、これらの転回機構によるパーティクルなどの汚染物質の発生を少なくすることができる構造とした真空プロセス処理装置を提供することを目的としている。
【０００５】
また、本発明は、ワークの保持機構を簡易な構成で実現し、かつワークの転回操作を利用して駆動力の少ない構成でワーク保持をなさしめることができる真空プロセス処理装置を提供することを目的としている。
さらに、本発明は、ワークを転回する位置に的確に位置決めできる真空プロセス処理装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明に係る真空プロセス処理装置は、真空容器により構成されたプロセスチャンバに垂直搬送手段を設けてワークをプロセス処理領域とワーク出入領域間を垂直移送可能としてなる真空プロセス処理装置において、前記ワークが搭載される転回プラテンを水平位置および垂直位置間で転回可能に前記垂直搬送手段に装備された回転支軸に取り付け、この回転支軸には回転駆動手段とクラッチ手段を介して接続することにより垂直移動時に切り離し可能としてなることを特徴としている。
【０００７】
また、この場合において、前記転回プラテンにはワーク脱着機構を設け、このワーク脱着機構を前記回転駆動手段による前記プラテンの垂直回転に先立って前記回転駆動手段による回転を利用して脱着作動させるようにすればよい。更に、前記転回プラテンには点対称位置に搭載ワークの側端面を押圧して位置決めをなすセンタリング手段を付帯した構成とすればよい。前記回転支軸を多重軸構造とし、内外の一方の軸を転回プラテンに連結して転回操作可能とし、他方の軸を前記ワーク脱着機構の作動機構に連結してワーク脱着をなさしめるようにすることもできる。
【０００８】
【作用】
上記構成によれば、ワークが水平搬送されて転回プラテン上に搭載されるが、この搭載のプラテン表面に突出させた支持ピン上に載せられる。転回プラテンの側方にて待機しているセンタリング手段がワークの側縁を点対称位置から中央に向けて押し付けることで、転回テーブル上の適性箇所に位置決めされる。転回プラテンは回転支軸に取り付けられており、この回転支軸を垂直方向に回転させる操作が開始される直前に、当該回転支軸の回転によりワーク脱着機構が作動し、このワーク脱着機構を構成している支持ピンが下がり、把持爪がワークの外縁部を押え込んで、転回プラテン上に保持する操作が行なわれる。次いで、回転支軸が回転を継続すると、転回プラテンが回転して垂直方向に倣う。この状態から垂直搬送手段によりワークが転回テーブルごと移動され、プロセス処理領域を通過することにより、ワークにビーム注入などの処理が施される。このとき、転回プラテンの回転支軸は回転駆動手段のクラッチ手段で縁が切られ、駆動手段を定位置に残したままワークを保持したプラテン部分のみが垂直移動することになる。ワークの全面にプロセス処理がなされた後、移動方向を逆転して元位置に戻されると前記回転駆動手段と回転支軸との連結が図られ、次いで、水平回転に移行する。水平状態となった後、更に回転支軸を回転させることで、ワーク脱着機構が開放されて把持爪がワークから離れ支持ピンが突出してワークを持ち上げ、水平搬送できる形態に戻る。その後はトランスファーマシンによりプロセスチャンバからワークが取り出され、ワーク収容部に戻されるのである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明に係る真空プロセス処理装置の具体的実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図１〜図４は実施形態に係る真空プロセス処理装置の正面断面図、側面断面図、図１におけるＡ−Ａ断面図、およびＢ−Ｂ断面図である。
【００１０】
真空プロセス処理装置は、縦型真空容器１０により構成されたプロセスチャンバの内部に垂直搬送手段１２を設けており、ワークとしてのガラス基板を、上部に配置したプロセス処理領域と下部に配置したワーク出入領域間を垂直移送可能としている。水平状態で真空容器１０内に搬入されるワークを垂直方向に転回させ、これを上方向に垂直移動させ、ビーム照射領域を通過させてプロセス処理するようにしている。
【００１１】
前記垂直搬送手段１２は、図５に概略構成を示しているように、真空容器１０の上下に配置された一対の水平軸１４，１６を有し、下部の水平軸１６にモータ１８を連結してこれを駆動軸としている。各軸１４，１６には左右に一対の巻き掛けベルト機構２０（２０Ｒ，２０Ｌ）が設けられている。この巻き掛けベルト機構２０は、パーティクル発生を抑制するために次のような構造とされている。上部水平軸１４に取り付けられる各従動プーリ２２を二重プーリ構造（２２ｍ、２２ｎ）とし、同様に下部水平駆動軸１６に取り付けられる各駆動プーリ２４も二重プーリ構造（２４ｍ、２４ｎ）としている。そして、上下で対応しているプーリ（２２ｍと２４ｍ、２２ｎと２４ｎ）に各々端部を固定したステンレスベルト２６ｍ、２６ｎを背面側と前面側にそれぞれ巻き掛けることにより、全体として巻き掛けベルト機構となるように設定して、プーリとベルトの滑りによるパーティクル発生を防止した状態で、正逆回転ができるようにしている。したがって、左右の巻き掛けベルト機構２０の背面側に各ベルト２６ｍ、２６ｍ間に跨ってワークを取り付けることにより、ワークを垂直搬送するようにしている。
【００１２】
このような垂直搬送手段１２には、ワークを水平状態と垂直状態の２つの状態変化ができる転回プラテン３０を取り付けている。すなわち、この転回プラテン３０は、ワークとなるガラス基板３２を搭載して、水平状態から垂直状態に転回してプロセス処理のための垂直上方移動ができるようにし、また、逆にプロセス処理が終了して下降移動して来た場合に垂直状態から水平状態に転回できるように取り付けられる。このため、垂直搬送手段１２の特に背面側に位置する左右一対のベルト２６ｍ、２６ｍに横架シャフト３４が取り付けられ、これと平行に回転支軸３６が複数のブラケット３８を介して回転可能に支持されている（図５参照）。また、図６に詳細に示すように、前記回転支軸３６には転回プラテン３０が連結され、その回転操作により転回プラテン３０を水平状態から垂直状態に回転操作できるようにしている。特に、この実施形態では、前記回転支軸３６を二重軸構造とし、その外軸３６Ａによる回転動作をプラテン回転に利用するようにしており、このため、外軸３６Ａの先端部を転回プラテン３０の一側部に固定された第１回転ブラケット４０に連結し、転回プラテン３０の他側部に固定された第２回転ブラケット４２を補助支軸４４の周りに回転できるように支持している。回転支軸３６と補助支軸４４は当然ながら同一軸芯上に設定されている。これにより前記外軸３６Ａを回転操作することにより、転回プラテン３０は回転支軸３６および補助支軸４４の軸芯周りに回転できるのである。
【００１３】
ところで、転回プラテン３０は転回動作を上記回転支軸３６の外軸３６Ａで行なうようにしているが、水平保持および垂直保持手段が設けられている。これは、図７(１)に示すように、転回プラテン３０を水平位置で回転を停止させ、また垂直位置で転回プラテン３０の回転を停止させるストッパ３７を横架シャフト３４に固定して設けている。このストッパ３７と回転支軸３６に回転節を有するリンク３９、４１を取り付け、これらリンク３９，４１同士もやはり回転節で連結して「へ」状となる長さに設定しておき、その一方のリンク４１をスプリング４３付きのスライダリンクとしている。両リンク３９，４１が直線状になった思案点を超えた状態では、スプリング４３による付勢力が転回テーブル３０を水平側ストッパもしくは垂直側ストッパに当接させる作用をなすように設定されている。このような４節リンク機構により、回転駆動手段から切り離した状態でも、垂直状態もしくは水平状態を前記スプリング４３によって保持できるようにしている。
【００１４】
また、前記回転支軸３６を構成している内軸３６Ｂは、転回プラテン３０に装備したワーク脱着機構４６の作動に用いるようにしているが、ワーク脱着機構４６の構成は次のようになっている。
図７は転回プラテン３０の側面図および底面図を示しており、図８はワーク脱着機構の基板受渡時と基板把持時の部分断面図、図９はワーク脱着機構４６を構成している把持爪機構部と基板支持ピン機構部の模式斜視図、図１０はその全体概要を示す模式斜視図を示している。
【００１５】
図７に示すように、転回プラテン３０の周縁部４個所にワーク脱着機構４６が設けられ、当該ワーク脱着機構４６によってガラス基板３２の４個所を把持させ、転回プラテン３０を垂直状態とした場合に、転回プラテン３０に搭載したガラス基板３２が落下しないようにしている。図９に示すように、把持爪機構部４８は、垂直脚５０の上端部をコ字形状とすることによりプラテン端縁部を圧着できる爪部５２を設けている。垂直脚５０は転回プラテン３０側に固定した垂直フレーム５４と平行となるように配置され、この両者が上下平行リンク５６、５８により連結されている。これにより、垂直脚５０、垂直フレーム５４、および上下平行リンク５６，５８が平行リンク機構を構成し、爪部５２をプラテン端部に対して接離動作可能となる。爪部５２の接離作動は、前記上部平行リンク５６をベルクランク形状としておき、その屈曲先端部をプラテン盤面に沿って往復動作する作動アーム機構６０により操作することで行われる。また、前記把持爪機構部４８の垂直脚５０には持上げプレート６２が固定され、爪部５２がガラス基板３２の圧着を開放すると同時に、基板受渡し可能状態となるように基板支持ピン機構部を構成しているワーク支持ピン６４を転回プラテン３０の上表面に突出させるようにしている。ワーク支持ピン６４は、転回プラテン３０に設けた昇降ガイド６６に挿通され、ワーク把持状態ではスプリング力で引き込み位置に保持される。前記把持爪機構部４８の基板開放動作に伴い、前記持上げプレート６２がワーク支持ピン６４の下端部を押し上げることにより、ワーク支持ピン６４が上昇作動され、転回プラテン３０の上面より突出してガラス基板３２を持上げて基板受渡し可能状態にする。
【００１６】
上述したワーク脱着機構４６は転回プラテン３０の4個所に配置されているが、これらを同時に脱着作動させるために、互いに対向する一対のワーク脱着機構４６の作動アーム機構６０を回転支軸３６と平行に中央に向けて延在させ、両作動アーム機構６０の間に楔板６８を介在させることで、対を構成している作動アーム機構６０を押し広げ可能とし、爪部５２によりガラス基板３２の挟着状態を開放できるようにしている。図10に示す如く、楔板６８は二組のワーク脱着機構４６を同時に作動させるように一対設けられ、これらを連結板７０で結合している。そして、連結板７０にはＵ字溝７２を有するブロック７４が一体的に設けられ、Ｕ字溝７２に対して前述した回転支軸３６の内軸３６Ｂの先端に設けたクランク７６が嵌合し、内軸３６Ｂの回転により各楔板６８を作動アーム機構６０の間に挿入して押し広げ可能としている。作動アーム機構６０は、図８に示しているように、プラテン３０側に一端を連結した戻しバネ７８が作動アーム機構６０をプラテン中央側に戻すように付勢しており、これにより爪部５２が常時ガラス基板３２を挟着する方向に付勢させている。前記作動アーム機構６０における楔板６８との接触部にはローラ８０が取り付けられ、これにより接触抵抗が小さくなるようにして、作動アーム６０を円滑にしている。
【００１７】
このように、二重軸構造となっている回転支軸３６の外軸３６Ａの回転により転回プラテン３０を水平・垂直に回転操作し、内軸３６Ｂの回転によりワーク脱着機構４６の開放操作する。これは外軸３６Ａと内軸３６Ｂの回転を連動させ、転回プラテン３０が水平状態にありガラス基板３２が搭載されたときに、ワーク脱着機構４６によるワーク把持を行なわせ、その後に転回プラテン３０を垂直状態に回動させるようにしている。また、逆にプロセス処理の終了後に垂直状態にある転回プラテン３０を外軸３６Ａによって水平状態まで回転させ、その後にワーク脱着機構４６を内軸３６Ｂによる操作で開放させるようにしている。この実施形態では、転回プラテン３０の転回操作とワーク脱着機構４６による脱着操作を一つの駆動手段８２により行なわせており、このため、前記回転支軸３６における真空容器１０の内壁寄りの位置にて二重噛合いクラッチ８４Ａ、８４Ｂを介して、真空容器１０の外部に設けられた駆動手段８２と断続可能にしている。駆動手段８２は前記二重噛合いクラッチ８４Ａ、８４Ｂの断続操作用のエアシリンダ８６により往復移動可能とされたサーボモータ８８を有し、このモータ８８の出力軸側に外軸／内軸同期入切用エアクラッチ９０を設けて構成されている。当該エアクラッチ９０は、外軸３６Ａへの回転動力の伝達経路の接続／遮断を行うものであり、この操作により内軸３６Ｂの回転のみ、あるいは両者同時に回転させるかの切替が可能とされている。これにより、エアシリンダ８６の操作により二重噛合いクラッチ８４Ａ、８４Ｂを断続することにより、接続して外部の回転駆動手段８２との回転伝達経路を確保したり、転回プラテン３０側を回転駆動手段８２と切り離した状態で昇降移動させるすることができるようになる。そして、エアクラッチ９０により外軸３６Ａ・内軸３６Ｂへの回転動力の伝達対象の切替をなすことができる。この実施形態では、水平状態にある転回プラテン３０上にガラス基板３２が搭載された後、最初に内軸３６Ｂに回転動力を伝えて基板の挟着保持を行なわせ、次いで転回プラテン３０が垂直状態となるように外軸３６Ａに回転動力を伝えるようにエアクラッチ９０を切り替え操作し、垂直移動可能となったときにエアシリンダ８６により二重噛合いクラッチ８４Ａ、８４Ｂを切り離して転回プラテン３０側のみを上昇移動できるようにそれぞれ切り替え操作されるようにシーケンスが組まれる。基板へのプロセス処理が終了した後に、下降移動してきた転回プラテン３０に対しては、最初に二重噛合いクラッチ８４Ａ、８４Ｂを接続して回転伝達経路を確保し、次いで、水平状態までプラテン３０を回転させるように外軸３６Ａと内軸３６Ｂは同時に回転が伝えられ、水平状態に至ったときにエアクラッチ９０にて、外軸３６Ａが切り離され内軸３６Ｂのみ回転伝達してワーク脱着機構４６を開放操作させるようにしている。これにより、ワーク転回とワーク脱着を単一の回転駆動手段８２により行なわせることができるのである。
【００１８】
ところで、ワークとしてのガラス基板３２はトランスファーマシンを介して転回プラテン３０に搭載されるが、ワーク脱着機構４６により正確な把持操作を行なわせるために、ガラス基板３２のセンタリング手段９２を設けている。このセンタリング手段９２は図３に概略構成が示されているように、転回テーブル３０上の搭載ガラス基板３２の点対称位置にて側端面を押圧して位置決めをなす一対の端面位置調整手段９３，９３により構成されている。図１１〜図１３に詳細を示している。各端面位置調整手段９３は転回プラテン３０の対角線上に位置する各コーナ部分の外方に配置されている。各端面位置調整手段９３は真空容器１０の底板から立設されている回転支柱９４を有している。この回転支柱９４の上端部に水平アーム９６が取り付けられており、この水平アーム９６を水平旋回して転回テーブル３０の隅部上面まで移動できるようになっており、矩形テーブル各縁辺に対して４５度をなす角度まで旋回させて停止されるよう構成されている。水平アーム９６の下面部には一対の押えローラ９８、９８が取り付けられ、これがガラス基板３２のコーナを挟む側端面に各々当接するように配置される。したがって、回転支柱９４を回転させて水平アーム９６の旋回を行なわせ、水平アーム９６が転回テーブル３０の辺と４５度をなす位置で停止されることにより、搭載ガラス基板３２が位置ずれしていても押えローラ９８，９８によってコーナ位置が正規の搭載位置に調整される。各端面位置調整手段９３の水平アーム９６は転回テーブル３０の対角線上に一対設けられているので、両者の作用で搭載ガラス基板３２は転回テーブル３０上でセンタリングされるのである。各端面位置調整手段９３を同期させるため、回転支柱９４の下部にプーリ１００がそれぞれ設けられており、これらを同期ベルト１０２で連係し、かつ同期ベルト１０２の中間位置を牽引するセンタリングシリンダ１０４を設けている。当該シリンダ１０４を引き込み作動させたとき、各水平アーム９６がセンタリング位置に繰り出す方向に支柱９４を回転させる方向にプーリ１００を回転させるようになっている。また、プーリ１００を含む回転支柱９４は水平アーム９６を通常は待避位置に置かれるように、スプリング１０６により回転付勢されている。
【００１９】
なお、真空容器１０には、ビーム入射窓１０８が設けてあって、図２に示したように、ビーム１１０を真空容器１０内に入射させ、ビーム入射窓１０８を横断して移動するガラス基板３２にビーム１１０を照射してガラス基板３２のプロセス処理が行えるようにしてある。また、真空容器１０には、図２に示したように、ガイドレール１１２が上下方向に設けてある。このガイドレール１１２には、転回プラテン３０を支えている横架シャフト３４の支持部材に設けたスライダ１１４が嵌合しており、転回プラテン３０を確実に垂直方向に直線移動できるようにしてある。そして、ガラス基板３２の転回テーブル３０の受け渡しは、図２の実線の位置に設けられてトランスファーマシン１１６によって行われるようになっていて、この位置において転回プラテン３０が水平位置と鉛直位置との間を回動させられる。
【００２０】
このように構成した実施形態の作用は、次のとおりである。ガラス基板３２は、図２の実線の位置に停止して待機している転回プラテン３０の上にトランスファーマシン１１６の操作で搭載される。転回プラテン３０の上面にはワーク支持ピン６４が突出状態にあり、いわゆる剣山に載せられた状態となっている。その後、センタリング手段９２が作動し、水平アーム９６の繰り出しにより、ガラス基板３２の対角線上の両コーナ部分の側端面を押し付け、転回テーブル３０上でガラス基板３２の方向調整と中心位置調整が行なわれる。このセンタリング調整が行なわれた後、転回テーブル３０の回転支軸３６とクラッチ結合している回転駆動手段８２を作動させてワーク把持を行なわせ、その後に転回テーブル３０の回転動作に入る。
【００２１】
まず、エアクラッチ９０を二重軸構造となっている回転支軸３６の外軸３６Ａを切り離し状態とし、内軸３６Ｂのみに回転伝達行なう。内軸３６Ｂが回転すると、図１０から明らかなように、先端のクランク７６が回転して連結板７０を動かし、一対の楔板６８を転回プラテン３０の盤面に沿って移動する。ガラス基板３２が搭載されるときには、図８（１）に示しているように、ワーク脱着機構４６は爪開放状態にある。この開放状態は、対向する作動アーム機構６０を互いに押し広げるように楔板６８をアーム先端間に挿入させた状態で実現されているため、内軸３６Ｂを図１０において右回転させ、楔板６８を一対の作動アーム機構６０間から引き抜くように作動させる。これにより、作動アーム機構６０の戻しバネ７８の作用で爪部５２が下降すると同時にワーク支持ピン６４が下降し、図８（２）に示しているように、転回プラテン３０上にて基板端縁部が把持される。
【００２２】
このワーク把持が完了した後、エアクラッチ９０を作動させ外軸３６Ａへも回転伝達を行ない、内軸３６Ｂと同期して回転させる。外軸３６Ａは転回プラテン３０に固定されている第１回転ブラケット４０に結合されているため、外軸３６Ａの回転がそのまま転回プラテン３０の回転になる。外軸３６Ａを９０度回転させることにより、転回プラテン３０は垂直状態になる（図１鎖線状態、図５参照）。これによりガラス基板３２をビーム入射窓１０８に対面させて通過させることができる状態になる。
【００２３】
その後、回転支軸３６と回転駆動手段８２と縁切りをなすように、エアシリンダ８６を作動させて、二重噛合いクラッチ８４Ａ、８４Ｂ部分を切り離す。この切り離しが終了した後に、サーボモータ１８が正方向に回転駆動されて駆動プーリ２４が図５の矢印１０００のように、駆動ベルト２６ｍを繰り出す方向に回転する。これにより、同期ベルト２６ｎが駆動プーリ２４に巻き取られ、従動プーリ２２を矢印３００のように駆動プーリ２４と同期して同方向に回転させ、駆動ベルト２６ｍを従動プーリ２２に巻き取る。このため、ガラス基板３２を保持した転回プレート３０、図５の矢印２００のように上昇する。このとき、転回プラテン３０が上昇してビーム入射窓１０８との対面位置を通過する際に、ビーム１１０がガラス基板３２に照射され、ガラス基板３２にプロセス処理が行われる。そして、転回プラテン３０が上限位置に達すると、図示しないセンサによって検出され、図示しない制御装置がサーボモータ１８を逆方向に回転駆動する。
【００２４】
サーボモータ１８が逆転駆動させると、駆動プーリ２４は、図５の矢印４００のように、駆動ベルト２６ｍを巻き取る方向に回転する。このため、転回テーブル３０は、矢印５００のように下降する方向に直線移動し、従動プーリ２２が駆動プーリ２４と同方向に同期回転して駆動ベルト２６ｍを繰り出す。このとき、同期ベルト２６ｎは、従動プーリ２２の空回りを防止するとともに、従動プーリ２２に巻き取られるため、緩みを生ずることがない。そして、転回プラテン３０に保持させたガラス基板３２は、ビーム入射窓１０８との対応位置を通過する際に再びビーム１１０が照射される。
【００２５】
転回プラテン３０が下限位置に達すると、図示しないセンサがこれを検知し、制御装置がサーボモータ８８を再び正方向に回転駆動し、上記と同様にして転回プラテン３０を上昇させる。以下同様にしてガラス基板３２の処理が終了するまで転回プラテン３０の昇降動作が行われる。そして、ガラス基板３２へのビーム１１０の照射が所定回数終了すると、制御装置は、転回プラテン３０を図１の実線位置に停止させる。
【００２６】
そして、回転駆動手段８２を転回プラテン３４の回転支軸３６と伝達するためにエアシリンダ８６を作動させて二重噛合いクラッチ８４Ａ、８４Ｂの連結行なう。その後、エアクラッチ９０により外軸３６Ａへの回転伝達を行なわせ、転回プラテン３０を水平位置に戻すように９０度回転させる。水平状態になったときに外軸３６Ａへの回転伝達経路をエアクラッチ９０により遮断し、内軸３６Ｂの回転により、ワーク脱着機構のワーク開放操作に入る。これは、図１０に示している状態から内軸３６Ｂを左回転させ、先端のクランク７６によって楔板６８を対となっている作動アーム機構６０の間に差し込んで、作動アーム機構６０を押出し、ワーク脱着機構４６の爪部５２を上昇させると同時にワーク支持ピン６４を押し上げ、ガラス基板３２を持上げ上昇させる。かかる状態となった時点で、トランスファーマシン１１６が作動してガラス基板３２を搬出し、次のガラス基板３２を搬入するのである。
【００２７】
このように、本実施形態によれば、一つの回転駆動手段８２により転回プラテン３０を水平・垂直間の回転を行なわせるとともに、ワーク脱着機構４６も作動させることができる。これらの一連の作業は多軸構造とした回転支軸３６を一方向に回転させ、回転対象軸をクラッチで断続することのみで実施できるため、作業性が非常に簡易となる。また、ガラス基板３２をプロセス処理側に移動させる際に、転回テーブル３０に関わる動作をなす駆動手段８２とクラッチ部分で切り離して、単独移動できるようにしているので、搬送力を小さくすることができる。したがって、機敏な動作を転回テーブル３０に付与することができ、プロセス処理を簡易迅速に行なわせることができる。更に、トランスファーマシンにより搬入されたガラス基板３２を転回テーブル３０上でセンタリングすることができるため、垂直転回のための基板保持位置に適正に配置することができ、把持爪による損傷の虞もなくなる。センタリング手段９２は基板３２の対角線上にある外側縁を押し付ける作用で位置修正をなすため、非常に簡易に実現できる。
【００２８】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、真空容器により構成されたプロセスチャンバに垂直搬送手段を設けてワークをプロセス処理領域とワーク出入領域間を垂直移送可能としてなる真空プロセス処理装置において、前記ワークが搭載される転回プラテンを水平位置および垂直位置間で転回可能に前記垂直搬送手段に装備された回転支軸に取り付け、この回転支軸には回転駆動手段とクラッチ手段を介して接続することにより垂直移動時に切り離し可能としてなるので、水平搬送されてくるワークを垂直方向に簡単な機構で転回させることができ、これらの転回機構によるパーティクルなどの汚染物質の発生を少なくすることができる構造とした真空プロセス処理装置を提供できる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態に係る真空プロセス処理装置の正面断面図である。
【図２】実施形態に係る真空プロセス処理装置の側面断面図である。
【図３】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図４】図１におけるＢ−Ｂ断面図である。
【図５】実施例に係る真空プロセス処理装置の要部構成を示す模式斜視図である。
【図６】回転支軸と転回テーブルの断面図である。
【図７】転回テーブルの断面図および底面図である。
【図８】ワーク脱着機構の基板受渡時と基板把持時の部分断面図である。
【図９】ワーク脱着機構を構成している把持爪機構部と基板支持ピン機構部の模式斜視図である。
【図１０】ワーク脱着機構の全体概要を示す模式斜視図である。
【図１１】センタリング手段の平面図である。
【図１２】センタリング手段の側面図である。
【図１３】センタリング手段を構成している端面位置調整手段の断面図である。
【符号の説明】
１０          縦型真空容器
１２          垂直搬送手段
１４、１６    水平軸
１８          モータ
２０          巻き掛けベルト機構
２２          従動プーリ
２４          駆動プーリ
２６ｍ、２６ｎ  ベルト
３０          転回プラテン
３２          ガラス基板（ワーク）
３４          横架シャフト
３６          回転支軸
３６Ａ        外軸
３６Ｂ        内軸
３７          ストッパ
３８          ブラケット
３９，４１    リンク
４０          第１回転ブラケット
４２          第２回転ブラケット
４３          スプリング
４４          補助支軸
４６          ワーク脱着機構
４８          把持爪機構部
５０          垂直脚
５２          爪部
５４          垂直フレーム
５６，５８    平行リンク
６０          作動アーム機構
６２          持上げプレート
６４          ワーク支持ピン
６６          昇降ガイド
６８          楔板
７０          連結板
７２          Ｕ字溝
７４          ブロック
７６          クランク
７８          戻しバネ
８０          ローラ
８２          回転駆動手段
８４Ａ、８４Ｂ  二重噛合いクラッチ
８６          エアシリンダ
８８          サーボモータ
９０          エアクラッチ
９２          センタリング手段
９３          端面位置調整手段
９４          回転支柱
９６          水平アーム
９８          押えローラ
１００          プーリ
１０２          同期ベルト
１０４          センタリングシリンダ
１０６          スプリング
１０８          ビーム入射窓
１１０          ビーム
１１２          ガイドレール
１１４          スライダ
１１６          トランスファーマシン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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