(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出するノズルに連通している液室の壁面を形成する振動板と、この振動板に対向する電極と、前記振動板を静電気力で変形変位させて前記ノズルから液滴を吐出させる液滴吐出ヘッドにおいて、
前記振動板の電極側表面に凸部が形成され、
前記振動板に対向する側には、平坦な基板面に、前記電極と同じ高さで、前記振動板の凸部が当接する当接部が設けられ、
前記当接部は、前記基板面上に形成された前記電極と前記電極上に形成された絶縁膜との層に前記絶縁膜とともに前記電極を除いて形成された溝により、前記電極に対して電気的に絶縁されて形成されている
ことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記電極は絶縁膜で全面が覆われていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板には複数の凸部を格子状に配置したことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記凸部を千鳥状に配置したことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板の面積に対する前記凸部の底面積の占める割合が１／２を越えないことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板の表面からの前記凸部の高さが０．０１μｍ以上であることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
インク滴を吐出するインクジェットヘッドを搭載したインクジェット記録装置において、前記インクジェットヘッドが前記請求項１乃至６のいずれかの液滴吐出ヘッドであることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項８】
振動板と、この振動板に対向する電極とを備えて、前記振動板を静電気力で変形変位させるマイクロアクチュエータにおいて、
前記振動板の電極側表面に凸部が形成され、
前記振動板に対向する側には、平坦な基板面に、前記電極と同じ高さで、前記振動板の凸部が当接する当接部が設けられ、
前記当接部は、前記電極を形成する部材から形成され、前記電極に対して電気的に絶縁されている
ことを特徴とするマイクロアクチュエータ。
【請求項９】
液滴を吐出する液滴吐出ヘッドを搭載した画像形成装置において、前記液滴吐出ヘッドが前記請求項１ないし６のいずれかの液滴吐出ヘッドであることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
液滴吐出ヘッドを備えて液滴を吐出する装置において、前記液滴吐出ヘッドが前記請求項１ないし６のいずれかの液滴吐出ヘッドであることを特徴とする液滴を吐出する装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は液滴吐出ヘッド及びインクジェット記録装置並びにマイクロアクチュエータ、画像形成装置、液滴を吐出する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、プリンタ、ファクシミリ、複写装置、プロッタ等の画像記録装置（画像形成装置）として用いるインクジェット記録装置において使用する液滴吐出ヘッドの１つであるインクジェットヘッドとして、インク滴を吐出するノズルと、このノズルが連通する液室（インク流路、加圧室、吐出室、圧力室、加圧液室等とも称される。）と、この液室の壁面を形成する振動板と、この振動板に対向する電極を有し、振動板と電極との間に電圧を印加することで発生する静電気力により振動板を変形させて、液室内の圧力／体積を変化させることによりノズルからインク滴を吐出させる静電型インクジェットヘッドがある。
【０００３】
従来の静電型インクジェットヘッドとしては、特開平２−２８９３５１号公報に記載されているように、振動板が電極に当接する（実際には電極表面の保護膜である絶縁膜に当接する）まで変形変位させる当接駆動方式と、振動板が電極に当接しない位置まで変形変位させる非当接駆動方式とがある。このうち、電極に当接するまで変形変位させる当接駆動方式の方が振動板の変形量（変位量）を一定にすることができるので、低電圧化及びインク滴吐出量の均一化を図ることができて優れている。
【０００４】
この当接駆動方式で駆動した場合、振動板に残留電荷が発生して振動板の変位が不安定になることから、従来、特開平９−１３６４１３号公報に記載されているように、極性の異なる駆動電圧を交互に印加することで残留電荷を消去するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のインクジェットヘッドのように極性の異なる駆動電圧を交互に印加するためには、特別な駆動方式と逆極性の電源が必要になるという課題がある。
【０００６】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、簡単な構成で安定した振動板変位が得られる液滴吐出ヘッド及びこのヘッドを搭載したインクジェット記録装置、画像形成装置、液滴を吐出する装置並びに簡単な構成で安定した振動板変位が得られるマイクロアクチュエータを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明に係る液滴吐出ヘッドは、振動板の電極側表面に凸部が形成され、振動板に対向する側には、平坦な基板面に、電極と同じ高さで、振動板の凸部が当接する当接部が設けられ、当接部は、基板面上に形成された電極と電極上に形成された絶縁膜との層に絶縁膜とともに電極を除いて形成された溝により、電極に対して電気的に絶縁されて形成されている構成としたものである。
【０００８】
ここで、電極は絶縁膜で全面が覆われていることが好ましい。
【０００９】
さらに、振動板には複数の凸部を格子状或いは千鳥状に配置することが好ましい。また、振動板の面積に対する凸部の底面積の占める割合が１／２を越えないことが好ましい。また、振動板の表面からの凸部の高さが０．０１μｍ以上であることが好ましい。
【００１０】
本発明に係るインクジェットヘッド記録装置は、インクジェットヘッドとして本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えたものである。
本発明に係る画像形成装置及び本発明に係る液滴を吐出する装置は、本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えたものである。
【００１１】
また、本発明に係るマイクロアクチュエータは、振動板の電極側表面に凸部を設けたものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。図１は本発明を適用した液滴吐出ヘッドとしての静電型インクジェットヘッドの振動板長辺方向の模式的断面説明図、図２は同ヘッドの振動板短辺方向の模式的拡大断面説明図、図３は同ヘッドの振動板の平面図、図４は同ヘッドの電極基板の要部平面図である。
【００１３】
この静電型インクジェットヘッドは、振動板基板１と、この振動板基板１の下面に接合した電極基板２と、振動板基板１の上面に接合したノズル板３とを備え、液滴であるインク滴を吐出するノズル５と、ノズル５に連通する液室６と、液室６に流体抵抗部７を介してインクを供給する共通液室８などを形成している。
【００１４】
振動板基板１には、液室６及びこの液室６の壁面（底面）となる振動板１０を形成する凹部と、流体抵抗部７を形成する溝及び共通液室８を形成する凹部を形成している。この振動板基板１は、シリコン基板を酸化膜を介して接合したＳＯＩ基板を用いて形成することができる。この場合、液室６となる凹部をＫＯＨ水溶液などのエッチング液を用いてエッチングすることにより、活性層をエッチストップ層として振動板１０を高精度に形成できる。また、シリコン基板に高濃度Ｐ型不純物、例えばボロン拡散層を形成し、このボロン拡散層をエッチングストップ層としてエッチストップすることによっても振動板１０を高精度に形成することができる。
【００１５】
また、電極基板２にはシリコン基板を用いて熱酸化法などにより酸化膜層２ａを形成し、この酸化膜層２ａに凹部１１を形成し、この凹部１１の底面に振動板１０に所定のギャップ１４をおいて対向する電極１３を形成している。これらの振動板１０と電極１３によって静電力で振動板１０を変形変位させるマイクロアクチュエータ部を構成している。
【００１６】
ここで、振動板１０の電極側表面には振動板長手方向に沿って長い凸部１６を２つ並列に間隔を置いて設けている。なお、凸部１６の個数は１個又は３個以上でもよい。一方、電極基板２には振動板１０の各凸部１６に対向し、振動板１０が変形変位したときに当接する当接部１７、１７を設けている。この当接部１７は電極１３との間に溝１８を形成して電気的に分離絶縁して、振動板１０との間には静電力が発生しないようにしている。なお、電極１３の振動板１０に対向する部分は当接部１７により電極部分１３ａ〜１３ｃに分割されることになる。したがって、振動板１０は図３に示すように接合領域１０Ｂ及び凸部１６を除く領域が静電力を受ける領域（これを「振動板有効領域１０Ａ」という。）になる。
【００１７】
そして、この電極基板２の電極１３（１３ａ〜１３ｃを含む）表面及び当接部１７の表面には振動板１０との接触による損傷などを防止するためにＳiＯ2膜などの酸化膜系絶縁膜、Ｓi3Ｎ4膜などの窒化膜系絶縁膜からなる保護膜（絶縁膜）１９を成膜している。
【００１８】
ノズル板３は、金属層、或いは金属層と高分子層とを直接接合した積層部材、樹脂部材、ニッケル電鋳などでノズル５を形成したものであり、ノズル面（吐出方向の表面：吐出面）には、インクとの撥水性を確保するため、メッキ被膜、あるいは撥水剤コーティングなどの周知の方法で撥水膜を形成している。また、ノズル板３には共通液室８に外部からインクを供給するためのインク供給穴２０を形成している。
【００１９】
このように構成したインクジェットヘッドにおいては、振動板１０を共通電極とし、電極１３を個別電極として、振動板１０と電極１３との間に駆動電圧を印加することによって、振動板１０の振動板有効領域１０Ａと電極１３の電極部分１３ａ〜１３ｃとの間に発生する静電力によって振動板１０が電極１３側に変形変位し、この状態から振動板１０と電極１３間の電荷を放電させることによって振動板１０が復帰変形して、液室６の内容積（体積）／圧力が変化することによって、ノズル５からインク滴が吐出される。
【００２０】
すなわち、個別電極とする電極１３にパルス電圧を印加すると、共通電極となる振動板１０との間に電位差が生じて、個別電極１３と振動板１０の間に静電力が生じる。この結果、振動板１０は印加した電圧の大きさに応じて変位する。その後、印加したパルス電圧を立ち下げることで、振動板１０の変位が復元して、その復元力により液室６内の圧力が高くなり、ノズル５からインク滴が吐出される。
【００２１】
この場合、振動板１０と電極１３との間に振動板１０が電極１３に当接する程度の変位が得られる駆動波形を印加した場合、図５に示すように、振動板１０が電極１３側に変形変位することにより、振動板１０の凸部１６が電極基板２側の当接部１７（絶縁膜１８上面）に当接するので、これ以上の振動板１０の変形が制限される。
【００２２】
したがって、振動板１０表面が電極１３（電極部分１３ａ〜１３ｃ）に接触することがなくなり、振動板１０と電極１３との当接による残留電荷は殆ど発生しない。なお、振動板１０に設けた凸部１６と当接している当接部１７は隣接する電極１３とは電気的に独立しており、電圧が印加されていないので、凸部１６に残留電荷が発生することがない。
【００２３】
このように、振動板の電極側表面に凸部を設けることによって振動板と電極との接触を防止することができ、残留電荷の発生を低減することができて、安定した振動板の変位特性を得ることができる。
【００２４】
ここで、振動板１０に設ける凸部１６に関して、先ず、振動板１０の面積（接合領域を除く領域の面積であり、これを「振動板面積」という。）と凸部１６の底面積（振動板表面側の面積）との関係について図６をも参照して説明する。
振動板面積（図３に示すＬ１×Ｌ２の面積）に占める凸部１６の底面積の割合をあまり多くしすぎると、振動板面積の内の静電気力が働く面積（振動板有効領域の面積）が小さくなり、振動板１０を変位させるために必要な電圧が上昇してしまうので、駆動電圧の低電圧化、消費電力の低減化から好ましくない。
【００２５】
そこで、振動板１０の有効面積が減少することで増加する電圧を求めてみると、図６に示すように簡易的なモデルにおいて、振動板１０と電極１３との間の距離をｄ、振動板有効面積をＳ、空気の誘電率をεとしたとき、振動板１０と電極１３との間に発生する静電気力Ｆは、次の（１）式で表される。
【００２６】
【数１】
0004275291.tif 000002
【００２７】
ここで、振動板有効面積Ｓが半分に減ったとしたときに振動板１０を従前と同じ変位量だけ変位させるために必要な電圧の上昇分を計算すると、駆動電圧Ｖは次の（２）式で表されるので、電圧の上昇分は約１．４倍となる。
【００２８】
【数２】
0004275291.tif 000003
【００２９】
したがって、振動板１０に設ける凸部１１の面積比の割合は１／２以下が実用的である。例えば、Ｌ１＝１０００μｍ、Ｌ２＝１３０μｍとして、凸部１６の底面積を１０００μｍ×１０μｍ×２とすると、凸部１６が振動板面積（１０００×１３０）占める割合は約１／６となり、振動板１０を変位させるための静電気力の低下は非常に小さく、大幅な駆動電圧の上昇もなく、振動板１０を変位させることができる。
【００３０】
次に、振動板１０の凸部１６の振動板表面からの高さについて図７をも参照して説明する。
振動板１０の凸部１６が電極基板２の当接部１７に当接しているとき、同図に示すように、凸部１６、１６間の距離をｌ、電極１３の厚みをｔｄ、絶縁膜（保護膜）１９の厚みをｔｃ、溝１８の幅をｌｃとし、空気の誘電率をε、絶縁膜１９の比誘電率をε0、振動板１０のヤング率をＥ、振動板１０の厚さをｈとしたとき、振動板１０表面と電極１３上の絶縁膜１９表面との距離ｃは、次の（３）式で表される。
【００３１】
【数３】
0004275291.tif 000004
【００３２】
この（３）式で求められる振動板１０表面と絶縁膜１９との距離ｃが、駆動電圧Ｖｃを印加しても振動板１０が絶縁膜１９に接触しない凸部１１の最低高さになる。
【００３３】
ただし、絶縁膜１９の厚みｔｃが厚くて、次の（４）式が成立する場合には、新たに次の（５）式で求まる振動板１０表面と絶縁膜１９との距離ｃが、駆動電圧Ｖｃを印加しても振動板１０が絶縁膜１９に接触しない凸部１１の最低高さになる。
【００３４】
【数４】
0004275291.tif 000005
【００３５】
【数５】
0004275291.tif 000006
【００３６】
したがって、振動板１０の凸部１６の高さは、上記各式で求められる振動板表面と絶縁膜１９との距離ｃ以上であればよいが、凸部１６の高さを高くしすぎると、振動板有効領域１０Ａと電極１３との距離が大きくなり、振動板１０の凸部１６を当接部１７に当接させるために必要な変位量が得られる電圧（当接電圧）が高くなってしまう。
【００３７】
そこで、（３）〜（５）式からもわかるとおり、凸部１６の高さは、振動板１０の厚さ、絶縁膜１９の厚さ、溝１８の幅などによって最適値があり、実用的な寸法としては０．０１μｍ以上である。そして、振動板１０が電極１３上の絶縁膜１９へ接触することを確実に避けるためには、さらに凸部１６を高く形成する必要があることから、凸部１６の高さとしては０．０５μｍ以上とすることがより好ましい。
【００３８】
このように、振動板の表面からの凸部の高さを０．０１μｍ以上とすることにより、凸部が電極側の当接部と当接した後も振動板表面と電極との間に適度な距離を保つことができ、残留電荷の発生を低減し、安定した振動板の変位特性を得ることができる。
【００３９】
次に、このヘッドの製造工程について図８以降をも参照して説明する。
先ず、振動板基板１の形成工程について図８を参照して説明する。ここでは、振動基板１を同図（ａ）に示すようなＳＯＩ基板（ウエハを用いる）３１から形成している。このＳＯＩ基板３１としては、振動板１０となる活性層３２の厚さ２μｍ、ベース３３の厚さ４００μｍ、活性層３２とベース３３との酸化膜層３３の厚さ０．５μｍのものを用いた。
【００４０】
そして、同図（ｂ）に示すように、このＳＯＩ基板３１の活性層３２側表面に厚さ５００ÅでＳｉＯ2膜３５を例えばＬＰ−ＣＶＤにより堆積形成する。次いで、ＳｉＯ2膜３５表面にレジスト３６をコーティングし、振動板１０の凸部１６を形成する部分だけパターニングによりレジストを残したパターンを形成し、同図（ｃ）に示すように、ドライエッチングによりＳｉＯ2膜３５を０．０５μｍ深さまで掘り込み、Ｓｉ面（活性層３２表面）に達した時点でエッチングストップする。
【００４１】
これにより、振動板１０となる活性層３２の表面にＳｉＯ2膜（絶縁膜）からなる凸部１６、１６が残存形成されるので、同図（ｄ）に示すように、レジスト３６を除去することにより、凸部１６が形成されたＳＯＩ基板３１を得る。
【００４２】
次に、電極基板２の形成工程について図９及び図１０をも参照して説明する。まず、電極基板２としてはシリコン基板を用いて、図９（ａ）に示すようにはＳｉ基板４１に熱酸化膜（酸化膜）４１ａを２μｍの厚さで成膜する。そして、同図（ｂ）に示すように、酸化膜４１ａに電極１３を形成するため深さ０．３μｍの凹部１１をエッチングで形成する。
【００４３】
次いで、同図（ｃ）に示すように、この凹部１１の底面に約０．１μｍの厚みでＴｉＮをスパッタしドライエッチングによりパターニングして、凹部１１の底面積よりやや小さめのＴｉＮパターン４３を形成する。その後、同図（ｄ）に示すように、ＴｉＮパターン４３を含めてシリコン基板４１の全面を覆うようにＬＰ−ＣＶＤによりＳｉＯ2膜４４を約０．１μｍの厚さで成膜する。
【００４４】
その後、図１０（ａ）に示すように、ＳｉＯ２膜４４上にレジスト４５をコーティングし、凸部１６とほぼ同等の形状を残すように幅１μｍの溝４６を写真工程で形成したレジストパターンを得る。そして、ドライエッチングを行うことにより、同図（ｂ）に示すように、レジスト４５がない部分のＳｉＯ２膜４４及びＴｉＮパターン４３を完全に除去して溝１８で分割した電極部分１３ａ〜１３ｃ、当接部１７及びＳｉＯ２膜からなる絶縁膜１９を形成して、同図（ｃ）に示すようにレジスト４５を除去し、電極基板２を得る。このとき、電極部分１３ａ〜１３ｃ、当接部１７は、ＴｉＮパターン４３を溝１８で分割しているので、平坦な基板４１の表面からの高さは同じになる。
【００４５】
次に、振動板基板１と電極基板２との接合工程について図１１を参照して説明する。
先ず、同図（ａ）に示すように、電極基板２上に振動板基板１となるＳＯＩ基板３１をＩＲアライナーなどを用いて高精度に位置合わせしたのちシリコン基板の直接接合を行う。この直接接合の条件は、温度５００℃でプリボンドした後、温度９００℃−２ｈで行った。その後、同図（ｂ）に示すように、ＳＯＩ基板３１のベース３３を機械研削によって厚さ１００μｍまで研磨する。
【００４６】
次いで、ＳＯＩ基板３１のベース３３上にＬＰ−ＣＶＤによりＳｉＮ膜４６を厚さ０．２μｍ被膜し、ドライエッチングにより液室となる部分のベース３３を露出させる。そして、同図（ｃ）に示すように、ＫＯＨによるウエットエッチングでＳＯＩ基板３１のベース３３及び酸化膜層３４を除去して液室６となる凹部を形成する。その後、図示しないがノズル板３を振動板基板１上に接合してインクジェットヘッドを完成する。
【００４７】
この場合、振動板１０表面からの凸部１６の高さは０．０５μｍとしているが、この高さに影響する寸法公差は凸部１６を形成するエッチング工程のみであるので、非常に精度良く所定の高さに形成することができる。
【００４８】
次に、振動板基板１の形成工程の他の例について図１２を参照して説明する。ここでは、同図（ａ）に示すように前述したと同様なＳＯＩ基板３１を用いて、同図（ｂ）に示すように、ＳＯＩ基板３１の活性層３２の表面に凸部１６に対応するレジスト３６及び電極基板２と接合する接合領域１０Ｂに対応するレジスト３７を残してパターニングした後、同図（ｃ）に示すように振動板有効領域１０Ａに対応する部分をエッチングにより掘り込むことで、振動板１０となる活性層３２で凸部１６を一体形成している。
【００４９】
次に、振動板基板１の形成工程の更に他の例について図１３を参照して説明する。
ここでは、同図（ａ）に示すように前述したと同様なＳＯＩ基板３１を用いて、同図（ｂ）に示すように、ＳＯＩ基板３１の活性層３２の表面に凸部１６に対応するレジスト３６を残してパターニングした後、同図（ｃ）に示すように振動板有効領域１０Ａ及び接合領域１０Ｂに対応する部分をエッチングにより掘り込むことで、振動板１０となる活性層３２で凸部１６を一体形成している。
【００５０】
次に、電極基板３の形成工程の他の例について図１４及び図１５を参照して説明する。
ここでは、前述した例と同様にして、図１４（ａ）に示すように、シリコン基板４１の熱酸化膜４１ａに形成した凹部１１の底面にＴｉＮパターン４３を形成する。そして、同図（ｂ）に示すように、シリコン基板４１上にＴｉＮパターン４３表面を含めてレジストをコーティングして、当接部１７を電極１３から分離する分離溝１８に対応する部分が開口したレジスト４７をパターニング形成した後、同図（ｃ）に示すように、ドライエッチングを行ってＴｉＮパターン４３を当接部１７と電極部分１３ａ、１３ｂとに分離する。
【００５１】
次いで、図１５（ａ）に示すようにＬＰ−ＣＶＤによりＳｉＯ2膜４８を全面に厚さ約０．１μｍで成膜した後、同図（ｂ）に示すようにＳｉＯ2膜４８にレジストをコーティングし、電極部分１５ａ、１５ｂ、当接部１７よりも幅広のレジスト４９をパターンニングする。そして、同図（ｃ）に示すように、ドライエッチングを行ってレジスト４９の開口に対応する部分のＳｉＯ2膜４８を除去してレジスト４９を除去することにより、電極部分１５ａ、１５ｂ及び当接部１７の全面がそれぞれ絶縁膜１９で被覆された電極基板２を得る。
【００５２】
このように当接部１７を電気的に絶縁して、当接部１７と、当接部１７に隣接した電極部分１５ａ、１５ｂとをＳｉＯ2膜などの絶縁膜１９で完全に覆うことにより、後工程において電極部分１５ａ、１５ｂが酸化され難く、安定した振動板１０の変位特性を得ることができて、信頼性を向上させることができる。
【００５３】
次に、振動板１０に設ける凸部１６及び電極基板２側に設ける当接部１７の他の異なる配置パターン例について図１６乃至図２１を参照して説明する。
図１６及び図１７に示す例は、振動板１０に平面形状が略四角形状の複数の凸部１６を格子状に配置する一方、電極基板２にも各凸部１６に対向する位置に平面形状が略四角形状の複数の当接部１７を格子状に配置したものである。なお、凸部１６と当接部１７との平面形状は異なってもよく、また、四角形以外の多角形や円形でもよい。
【００５４】
このように、振動板１０に面積の小さな凸部１６を複数配置させることによって振動板有効領域１０Ａを広くすることができ、凸部１６を設けることによる静電力の低下を抑えることができる。
【００５５】
図１８及び図１９に示す例は、振動板１０に平面形状が略四角形状の複数の凸部１６を千鳥状に配置する一方、電極基板２にも各凸部１６に対向する位置に平明形状が略四角形状の複数の当接部１７を千鳥状に配置したものである。なお、凸部１６と当接部１７との平面形状は異なってもよく、また、四角形以外の多角形や円形でもよい。
【００５６】
このように振動板１０に面積の小さな凸部１６を複数配置させることによって振動板有効領域１０Ａを広くすることができ、凸部１６を設けることによる静電力の低下を抑えることができるとともに、振動板有効領域１０Ａを均一に分布させることができるので、静電力を振動板１０全体に均一に生じさせることができて、より安定した振動板１０の変位特性を得ることができる。
【００５７】
図２０に示す例は、振動板１０に平面形状が十文字状の複数の凸部１６を格子状（或いは千鳥状でもよい。）に配置したものであり、電極基板２にも図示しないが十文字状の複数の当接部１７を格子状（或いは千鳥状でもよい。）に配置したものである。このようにしても、図１６及び図１７の場合（格子状配置の例）と同様に、振動板有効領域１０Ａの減少を少なくすることができたり、図１８及び図１９の場合（千鳥状配置の場合）と同様に、振動板有効領域１０Ａの減少を少なくすることができるとともに、静電力を振動板１０に均一に生じさせることができる。
【００５８】
図２１に示す例は、振動板１０に振動板短手方向に沿って長い凸部１６を複数本（ここでは３本）間隔を置いて設けている。なお、電極基板２にも図示しないが凸部１６に対向する当接部１７を設ける。（凸部１１を一つ又は複数設けてもよい）。
【００５９】
次に、本発明に係る液滴を吐出する装置を含み、本発明に係る画像形成装置としてのインクジェット記録装置について図２２及び図２３を参照して簡単に説明する。なお、図２２は同記録装置の機構部の概略斜視説明図、図２３は同機構部の側面説明図である。
【００６０】
このインクジェット記録装置は、記録装置本体６１の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ、キャリッジに搭載した本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドからなる記録ヘッド、記録ヘッドへのインクを供給するインクカートリッジ等で構成される印字機構部６２等を収納し、装置本体６１の下方部には前方側から多数枚の用紙６３を積載可能な給紙カセット（或いは給紙トレイでもよい。）６４を抜き差し自在に装着することができ、また、用紙６３を手差しで給紙するための手差しトレイ６５を開倒することができ、給紙カセット６４或いは手差しトレイ６５から給送される用紙６３を取り込み、印字機構部６２によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ６６に排紙する。
【００６１】
印字機構部６２は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材である主ガイドロッド７１と従ガイドロッド７２とでキャリッジ７３を主走査方向に摺動自在に保持し、このキャリッジ７３にはイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の各色のインク滴を吐出する本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドからなるヘッド７４をインク滴吐出方向を下方に向けて装着し、キャリッジ７３の上側にはヘッド７４に各色のインクを供給するための各インクタンク（インクカートリッジ）７５を交換可能に装着している。このインクカートリッジ７５から前記インク供給穴２０を介してインクをヘッド７４内に供給する。
【００６２】
ここで、キャリッジ７３は後方側（用紙搬送方向下流側）を主ガイドロッド７１に摺動自在に嵌装し、前方側（用紙搬送方向下流側）を従ガイドロッド７２に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ７３を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ７７で回転駆動される駆動プーリ７８と従動プーリ７９との間にタイミングベルト８０を張装し、このタイミングベルト８０をキャリッジ８３に固定している。また、記録ヘッドとしてここでは各色のヘッド７４を用いているが、各色のインク滴を吐出するノズルを有する１個のヘッドでもよい。
【００６３】
一方、給紙カセット６４にセットした用紙６３をヘッド７４の下方側に搬送するために、給紙カセット６４から用紙６３を分離給装する給紙ローラ８１及びフリクションパッド８２と、用紙６３を案内するガイド部材８３と、給紙された用紙６３を反転させて搬送する搬送ローラ８４と、この搬送ローラ８４の周面に押し付けられる搬送コロ８５及び搬送ローラ８４からの用紙６３の送り出し角度を規定する先端コロ８６とを設けている。搬送ローラ８４は副走査モータ８７によってギヤ列を介して回転駆動される。
【００６４】
そして、キャリッジ７３の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ８４から送り出された用紙６３を記録ヘッド７４の下方側で案内する用紙ガイド部材である印写受け部材８９を設けている。この印写受け部材８９の用紙搬送方向下流側には、用紙６３を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ９１、拍車９２を設け、さらに用紙６３を排紙トレイ６６に送り出す排紙ローラ９３及び拍車９４と、排紙経路を形成するガイド部材９５，９６とを配設している。
【００６５】
また、キャリッジ７３の移動方向右端側にはヘッド７４の信頼性を維持、回復するための信頼性維持回復機構（以下「サブシステム」という。）９７を配置している。キャリッジ７３は印字待機中にはこのサブシステム９７側に移動されてキャッピング手段などでヘッド７４をキャッピングされる。
【００６６】
なお、上記各実施形態においては、本発明に係る液滴吐出ヘッド及びマイクロアクチュエータとして静電型インクジェットヘッドに適用した例で説明したが、これに限るものではなく、例えば、インク以外の液滴、例えば、パターニング用の液体レジストを吐出する液滴吐出ヘッドにも適用でき、或いはマイクロアクチュエータとしてはマイクロモータのアクチュエータ部などにも適用することができる。また、前述したようにプリンタ、ファクシミリ、プロッタ等の画像形成装置及び液滴を吐出する装置にも本発明に係る液滴吐出ヘッドを搭載することができる。
【００６７】
また、液滴吐出ヘッドとして、振動板変位方向とノズル滴吐出方向が同じになるサイドシュータ方式で説明しているが、振動板変位方向とノズル滴吐出方向が直交するサイドシュータ方式にすることもできる。さらに、上記実施形態では振動板と電極が平行状態で配置される液滴吐出ヘッドに本発明を適用したが、振動板と電極の全体若しくは一部が非平行状態で配置される液滴吐出ヘッドにも適用することができる。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る液滴吐出ヘッドによれば、振動板の電極側表面に凸部が形成され、振動板に対向する側には、平坦な基板面に、電極と同じ高さで、振動板の凸部が当接する当接部が設けられ、当接部は、基板面上に形成された電極と電極上に形成された絶縁膜との層に絶縁膜とともに電極を除いて形成された溝により、電極に対して電気的に絶縁されて形成されているので、簡単な構成で、確実に残留電荷が低減し、安定した振動板の変位が得られる。
【００６９】
ここで、電極は絶縁膜で全面が覆われているようにすることで、酸化による電極の劣化を防止することができ、安定した振動板変位を長期間確保することができる。
【００７０】
さらに、振動板には複数の凸部を格子状に配置することで、振動板の静電力を生じる領域が広くなり、駆動電圧の上昇を抑制することができる。また、振動板には凸部を千鳥状に配置することで、振動板の静電力を生じる領域が広くなり、駆動電圧の上昇を抑制することができるとともに、静電力を生じる領域が均一に分布して、振動板変位のバラツキを抑えることができる。
【００７１】
また、振動板の面積に対する凸部の底面積の占める割合が１／２を超えないようにすることで、静電力の減少を最小限に抑えることができて、駆動電圧の上昇を抑制できる。さらに、振動板の表面からの凸部の高さが０．０１μｍ以上にすることで、確実に振動板と電極との接触による残留電荷の発生を防止できる。
【００７２】
本発明に係るインクジェットヘッド記録装置によれば、インク滴を吐出させるインクジェットヘッドが本発明に係る液滴吐出ヘッドであるので、安定した振動板変位が得られて、滴吐出特性が安定し、画像品質及び信頼性が向上する。また、本発明に係る画像形成装置、液滴を吐出する装置によれば、本発明に係る液滴吐出ヘッドを搭載しているので、安定した振動板変位が得られて、滴吐出特性が安定し、画像品質及び信頼性が向上する。
【００７３】
本発明に係るマイクロアクチュエータによれば、振動板の電極側表面に凸部を設けたので、残留電荷が低減し、安定した振動板変位が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した静電型インクジェットヘッドの振動板長辺方向の模式的断面説明図
【図２】同ヘッドの振動板短辺方向の模式的拡大断面説明図
【図３】同ヘッドの振動板の平面図
【図４】同ヘッドの電極基板の要部平面図
【図５】同ヘッドの作用説明に供する説明図
【図６】同ヘッドの凸部の面積の説明に供する説明図
【図７】同ヘッドの凸部の高さの説明に供する説明図
【図８】図ヘッドの振動板基板の形成工程の説明に供する説明図
【図９】同ヘッドの電極基板の形成工程の説明に供する説明図
【図１０】同ヘッドの電極基板の形成工程の続きの説明に供する説明図
【図１１】同ヘッドの振動板基板と電極基板との接合工程の説明に供する説明図
【図１２】振動板基板の形成工程の他の例の説明に供する説明図
【図１３】振動板基板の形成工程の更に他の例の説明に供する説明図
【図１４】電極基板の形成工程の他の例の説明に供する説明図
【図１５】同電極基板の形成工程の続きの説明に供する説明図
【図１６】振動板の凸部の他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図１７】電極基板の当接部の他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図１８】振動板の凸部の更に他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図１９】電極基板の当接部の更に他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図２０】振動板の凸部の更にまた他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図２１】振動板の凸部の更にまた他の配置パターンの説明に供する平面説明図
【図２２】本発明に係るインクジェット記録装置の機構部を示す概略斜視説明図
【図２３】同記録装置の側断面説明図
【符号の説明】
１…振動板基板、２…電極基板、３…ノズル板、５…ノズル、６…液室、７…流体抵抗部、８…共通液室、１０…振動板、１１…凹部、１３…電極、１６…凸部、１７…当接部、１８…溝、１９…絶縁膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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