(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
0004327911.tif 000029
（式中、Ａはホルミル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアミノ基、または置換されていてもよいフェニル基を表す。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は互いに同一ではなく、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち２つが一緒になって環を形成してもよい。）
で表される化合物と、式
【化２】
0004327911.tif 000030
〔式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子、またはＮＲ１０（Ｒ１０は水素原子、置換されていてもよいアルキル基、若しくは置換されていてもよいフェニル基を示す。）で表される基を表し、Ｒ4は、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、またはハロゲン原子を表し、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14およびＲ15は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シクロアルキル基、ナフチル基、または下記
【化３】
0004327911.tif 000031
（式中、ｒ８はアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、またはニトロ基を表す。ｋは０〜５の整数を表す。）で表される基を表す。ただし、Ｒ１２とＲ１３、およびＲ１４とＲ１５はそれぞれ互いに同一である。〕
で表されるイミド化合物とを、式
【化４】
0004327911.tif 000032
（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ７は低級アルコキシ基を示し、ｍおよびｌはそれぞれ独立して、０、１、２、３、４または５であり、かつ、ｍ＋ｌはＴｉの原子価を示す。）で表される化合物、および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、次の一般式で表されるイミド化合物の選択的製造方法。
【化５】
0004327911.tif 000033
（式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ１〜Ｒ４、Ｒ１２〜Ｒ１５は前記と同じ意味を表す。）
【請求項２】
【化６】
0004327911.tif 000034
（式中、Ａはホルミル基を表し、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、または置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ３は置換されていてもよいアミノ基を表す。但し、Ｒ１、Ｒ２は互いに同一ではなく、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち２つが一緒になって環を形成してもよい。）
で表される化合物と、式
【化７】
0004327911.tif 000035
〔式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子、またはＮＲ１０（Ｒ１０は水素原子、置換されていてもよいアルキル基、若しくは置換されていてもよいフェニル基を示す。）で表される基を表し、Ｒ4 は、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、またはハロゲン原子を表し、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14およびＲ15は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シクロアルキル基、ナフチル基、または下記
【化８】
0004327911.tif 000036
（式中、ｒ８はアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、またはニトロ基を表す。ｋは０〜５の整数を表す。）で表される基を表す。ただし、Ｒ１２とＲ１３、およびＲ１４とＲ１５はそれぞれ互いに同一である。〕
で表されるイミド化合物とを、式
【化９】
0004327911.tif 000037
（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ７は低級アルコキシ基を示し、ｍおよびｌはそれぞれ独立して、０、１、２、３、４または５であり、かつ、ｍ＋ｌはＴｉの原子価を示す。）で表される化合物、および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、次の一般式で表されるイミド化合物の選択的製造方法。
【化１０】
0004327911.tif 000038
（式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ１〜Ｒ４、Ｒ１２〜Ｒ１５は前記と同じ意味を表す。）
【請求項３】
式
【化１１】
0004327911.tif 000039
（式中、Ａはホルミル基を表し、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、または置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ３は置換されていてもよいアミノ基を表す。但し、Ｒ１、Ｒ２は互いに同一ではなく、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち２つが一緒になって環を形成してもよい。）
で表される化合物と、式
【化１２】
0004327911.tif 000040
〔式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ4 は、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、またはハロゲン原子を表し、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14およびＲ15は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シクロアルキル基、ナフチル基、または下記
【化１３】
0004327911.tif 000041
（式中、ｒ８はアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、またはニトロ基を表す。ｋは０〜５の整数を表す。）で表される基を表す。ただし、Ｒ１２とＲ１３、およびＲ１４とＲ１５はそれぞれ互いに同一である。〕
で表されるイミド化合物とを、式
【化１４】
0004327911.tif 000042
（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ７は低級アルコキシ基を示し、ｍおよびｌはそれぞれ独立して、０、１、２、３、４または５であり、かつ、ｍ＋ｌはＴｉの原子価を示す。）で表される化合物、および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、次の一般式で表されるイミド化合物の選択的製造方法。
【化１５】
0004327911.tif 000043
（式中、Ｘ、Ｒ１〜Ｒ４、Ｒ１２〜Ｒ１５は、前記と同じ意味を表す。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本発明により製造される化合物と類似の化合物の製造方法として例えば次式に示したような方法が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．４９，７２８７〜７２９０〔１９９１〕，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２８，Ｎｏ．１，３９〜４２（１９８７）等に報告されている。
【０００３】
【化１０】
0004327911.tif 000002
【０００４】
また、チタン化合物を用いた類似の方法として、例えば次式に示した方法が、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｖｏｌ．１１３，Ｎｏ．３，１０４７〜１０４９（１９９１）Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．２７，Ｎｏ．８，８９７〜９００（１９８６）に報告されている。
【０００５】
【化１１】
0004327911.tif 000003
【０００６】
ここで報告されている方法は収率、立体選択性はよいが、高価なボロントリフレートや光学活性環状イミド化合物を使用しており、必ずしも実用的な方法とは言えない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物を簡便かつ安価に製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記の点に鑑み、農医薬、天然物の合成中間体として有用なイミド化合物の製造方法を鋭意検討した結果、本発明を完成するに至ったものである。
即ち、本発明は一般式
【０００９】
【化１２】
0004327911.tif 000004
【００１０】
（式中、Ａはホルミル基又はその等価体を、Ｒは水素原子又は置換されていてもよいアルキル基、ｎは０又は１を、Ｒ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 はそれぞれ水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子、シアノ基を示し、また、Ｒ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 のうち２つが一緒になって環を形成してもよく、更にＲは一緒になって＝ＣＨを形成し、このＣＨがＲ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 のいずれか一つと一緒になって環を形成してもよい。ただしＲ1 ，Ｒ2 ，及びＲ3 は互いに同一ではない。）で表される化合物と、一般式〔II〕
【００１１】
【化１３】
0004327911.tif 000005
【００１２】
（式中、Ｒ4 は水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、ハロゲン原子を、Ｒ5 はアルキル基、トリアルキルシリル基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、シクロアルキル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、ベンズチアゾリル基、ナフタリミジル基を、Ｒ6 は電子吸引基を表すか、あるいはＲ5 とＲ6 が一緒になって環を形成する。）で表されるイミド化合物とを一般式〔III 〕
【００１３】
Ｍ（Ｈａｌ）m （Ｒ7 ）l               〔III 〕
（式中、Ｍは金属原子を、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ7 は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェノキシ基又はペンタジエニル基を示し、ｎ及びｍはそれぞれ０，１，２，３，４及び５でかつ、ｎ＋ｍはＭの原子価を示す。）
で表される化合物及び塩基の存在下で反応させることを特徴とする次の一般式〔IV−１〕〜〔IV−４〕のいずれかで表されるイミド化合物の選択的製造方法。
【００１４】
【化１４】
0004327911.tif 000006
【００１５】
（式中、Ｒ1 〜Ｒ6 及びｎは前記と同じ意味を示し、Ｂは酸素原子、またはＮＨを、Ｒ8 は水素原子、置換していてもよい低級アルキル基、置換していてもよいフェニル基を示す。）
一般式〔Ｉ〕においてＡで表されるホルミル基又はその等価体としては−ＣＨＯ，−ＣＨ＝ＮＲ8 ，−ＣＨ（ＯＲ8 ）2 等が挙げられる。
更に具体的には一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物として下記に示すα位、又はβ位に不斉炭素を有する化合物が例示できる。
【００１６】
【化１５】
0004327911.tif 000007
【００１７】
【化１６】
0004327911.tif 000008
【００１８】
【化１７】
0004327911.tif 000009
【００１９】
【化１８】
0004327911.tif 000010
【００２０】
（式中、ｒ1 ，ｒ6 及びｒ7 はそれぞれ水素原子、低級アルキル、低級アルコキシ又はフェニル基；ｒ2 は水素原子、低級アルキル、アラルキル、低級アルキルカルボニル、フェニルカルボニル、又はトリアルキルシリル；
ｒ3 及びｒ4 はそれぞれ水素原子、低級アルキル、フェニル、アラルキル、アシル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、低級アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル又はフェノキシカルボニル；）
【００２１】
塩基としては第２、第３級アミン類及びピリジン類が挙げられ、たとえばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のアルキルアミン、Ｎ−メチルアニリン等のアルキルアニリン、ピペリジン、ピロリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、モルホリン、ピペラジン等の複素環状アミン等の第２級アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジイソプロピルメチルアミン、トリエチルアミン等のアルキルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のジアルキルアニリン、１−エチルピペリジン、１−メチルモルホリン、１−エチルピロリジン、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オクタン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデス−７−エン等の複素環状のアミンもしくはＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン等のジアミン類等の第３級アミン、α，βまたはγ−ピリコン、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−または３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン等のアルキルピリジン、ジメチルアミノピリジンのようなジアルキルアミノピリジン、キノリンのような縮合複素環化されたピリジン等のピリジン類が例示できる。
【００２２】
一般式
【００２３】
【化１９】
0004327911.tif 000011
【００２４】
で表わされる置換基（以下、補助基という。）としては以下のものが例示できる。
【００２５】
【化２０】
0004327911.tif 000012
【００２６】
【化２１】
0004327911.tif 000013
【００２７】
【化２２】
0004327911.tif 000014
【００２８】
【化２３】
0004327911.tif 000015
【００２９】
【化２４】
0004327911.tif 000016
【００３０】
【化２５】
0004327911.tif 000017
【００３１】
【化２６】
0004327911.tif 000018
【００３２】
【化２７】
0004327911.tif 000019
【００３３】
Ｍ（Ｈａｌ）n （Ｒ7 ）m で表わされる化合物としてはＴｉＣｌ4 ，ＴｉＣｌ3 （ＯＣＨ3 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ2 Ｈ5 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 i ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 i ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 s ），ＴｉＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 t ），ＺｒＣｌ4 ，ＺｒＣｌ3 （ＯＣＨ3 ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ2 Ｈ5 ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 n ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ3 Ｈ7 i ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 i ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 s ），ＺｒＣｌ3 （ＯＣ4 Ｈ9 t ），ＳｎＣｌ4 ，ＡｌＣｌ3 ，Ａｌ（ＯＣＨ3 ）3 ，Ａｌ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 ，Ａｌ（ＯＣ3 Ｈ7 i ）3 ，ＡｌＣｌ2 Ｃ2 Ｈ5 ，ＡｌＣｌ（Ｃ2 Ｈ5 ）2 ，Ａｌ（Ｃ2 Ｈ5 ）3 ，ＡｌＣｌ2 ＣＨ3 ，ＡｌＣｌ（ＣＨ3 ）2 ，Ａｌ（ＣＨ3 ）3 等が例示できるが、その中で好ましい化合物としてチタン化合物、特に好ましいものとしてＴｉＣｌ4 が挙げられる。
【００３４】
反応は塩化メチレン、クロロホルム等の塩素系溶媒、クロルベンゼン、トルエン等の芳香族系溶媒、アセトニトリル等の極性溶媒等の有機溶媒中、一般式〔II〕で表わされるイミド化合物と一般式〔III 〕で表わされるチタン化合物及びアミン、アニリン又はピリジン類とでエノレートを生成させこのエノレートと一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物とを反応させる。反応温度はエノレートの生成及びエノレートとアゼチジノン誘導体との反応とも−５０°〜１００℃、好ましくは−２０°〜５０℃で行なう。
【００３５】
反応のモル比は一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物１モルに対し、一般式〔II〕で表されるイミド化合物０．５〜８モル、一般式〔III 〕で表わされる化合物１〜８モル、塩基１〜８モルである。
また、一般式〔II〕で表わされるイミド化合物とチタン化合物あるいはアミンのモル比あるいは補助基の種類により生成するシン−アンチ体の割合が異る。反応終了後は通常の後処理を行なうことにより、目的物を単離することができる。
【００３６】
【実施例】
次に実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明する。
【００３７】
実施例１
〔３−（４−ベンジルオキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−５−フェニル）ペンタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００３８】
【化２８】
0004327911.tif 000020
【００３９】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（０．９４ｇ，５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（１．０４ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７１ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）フェニルアラニナール（１．５６ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の粘性オイル１．５ｇを得た。
【００４０】
収率６４％
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ；δ：ｐｐｍ）
１．３０（ｄ，３Ｈ），１．５２＋１．５３（６Ｈ），２．８７〜２．９５（ｄ−ｄ，１Ｈ），３．０６〜３．１３（ｄ−ｄ，１Ｈ），３．１５（ｄ，１Ｈ），３．８６（ｄ，１Ｈ），３．９７（ｍ，１Ｈ），４．１２（ｓ，２Ｈ），４．６６（ｄ，１Ｈ），４．８２（ｍ，１Ｈ），５．０３（ｓ，２Ｈ），７．１〜７．４（ｍ，１０Ｈ）
【００４１】
13 ＣＮＭＲ（ＣＤＣＬ3 ；δ：ｐｐｍ）
１１．００，２３．８９，２４．１９，３６．６７，４０．９３，５２．８４，６６．１０，６６．８０，７２．２８，７９．２７，１２６．５４，１２８．００，１２８．２２，１２８．４８，１２９．０５，１２９．３３，１２９．７８，１３７．２６，１５５．９３，１８０．７９，１８６．４０
【００４２】
ＩＲ（ｎｅａｔ）
３３９６，２９６８，１７０２，１５２０，１４５５，１３３７，１２０８，１１８６，１１６２，９９２
ＭＡＳＳ（ＣＩ）
Ｍ+1＝４７１
【００４３】
実施例２
〔３−（４−ｔ−ブトキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−４−フェニル）ブタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００４４】
【化２９】
0004327911.tif 000021
【００４５】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（１．４ｇ，７．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（２．１３４ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．３５ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）フェニルグリシナール（２．６５ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の結晶１．５ｇを得、また、４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオンを０．４ｇ回収した。収率６６．５％  ｍ．ｐ．１４８〜１４９．５℃
【００４６】
実施例３
｛３−〔３−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルピロリジン−２−イル）−３−ヒドロキシ−２−メチル〕プロピオニル｝−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００４７】
【化３０】
0004327911.tif 000022
【００４８】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（０．９４ｇ，５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（１．０４ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を滴下した。０℃で１０分間そのまま攪拌後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．７１ｇ，５．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を０℃で滴下した。さらに１０分間同温度で攪拌後、Ｌ−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）プロリナール（１．２８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液を０〜５℃にて滴下した。同温度で１時間熟成した後、氷水に反応混合液を攪拌下に加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を一緒にし、よく水洗した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の結晶１．４ｇを得た。収率６７％  ｍ．ｐ．８３〜８５℃
得られた化合物は下記反応式に従ってビサイクリックラクタム化合物に誘導し、実施例６で立体配置が決定された化合物から誘導される化合物と比較した所、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，２′Ｓ）であった。
【００４９】
【化３１】
0004327911.tif 000023
【００５０】
実施例４
〔３−（４−ｔ−ブトキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ−２−メチル−５−フェニル）ペンタノイル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５１】
【化３２】
0004327911.tif 000024
【００５２】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（５．３ｇ）の塩化メチレン（７０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（５．３ｇ）を加え、次いで、トリエチルアミン（２．７ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアラニナール（４．６ｇ）を同温度で加えて、２．０時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトにより精製して、５．８ｇを得た。収率  ７１％，融点  ９９〜１００℃
【００５３】
実施例５
｛３−〔（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔ−ブトキシカルボキサミド）−３−ヒドロキシ−２−メチル〕ペンタノイル｝−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５４】
【化３３】
0004327911.tif 000025
【００５５】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（２．８ｇ）の塩化メチレン（３５ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（２．８５ｇ）を加え、次いで、ジイソプロピルエチルアミン（１．８１ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）アラニナール（１．７ｇ）を同温度で加えて、４時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣にヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒を加えて晶析・濾過して、白色結晶２．８ｇを得た。また、濾液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトにより精製して、更に０．５ｇを得た。収率  ９１．５％，融点  １３２〜１３４℃
得られた化合物は、下記反応式に従ってメタノール中、ナトリウムメトキシド存在下に反応させて物性既知のメチルエステル体とし、そのＮＭＲスペクトルを文献値と比較したところ、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）であった。（ｌｉｔ．  Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，２４（４４），４８０５〜４８０８，１９８３）
【００５６】
【化３４】
0004327911.tif 000026
【００５７】
実施例６
〔３−｛（２Ｒ，３Ｒ）−３−〔（２′Ｓ）−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルピロリジン−２−イル〕−３−ヒドロキシ−２−メチル｝プロピオニル〕−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−チオン
【００５８】
【化３５】
0004327911.tif 000027
【００５９】
４，４−ジメチル−３−プロピオニルオキサゾリジン−２−チオン（３．８ｇ）の塩化メチレン（６０ｍｌ）溶液を−５℃に冷却し、四塩化チタン（５．７ｇ）を加え、次いで、ジイソプロピルエチルアミン（３．５ｇ）を滴下した。更に、Ｌ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル）プロリナール（４．０ｇ）を同温度で加えて、１．５時間熟成した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトにより精製して、４．４ｇを得た。収率  ５７％，融点  １１４〜１１６℃
得られた化合物は、下記反応式に従って加水分解によりカルボン酸とし、その融点、比旋光度共に文献値と一致し、立体配置は（２Ｒ，３Ｒ，２′Ｓ）であった。（ｌｉｔ．  Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，３２（７），９３１〜９３４，１９９１）
【００６０】
【化３６】
0004327911.tif 000028
【００６１】
【発明の効果】
本発明の製造方法は安価でしかも後処理で除去も容易な一般式〔III 〕で表される化合物を使用した工業的に優れた製造方法である。
また、モル比の調整、あるいは補助基を適宜選択することによりシン、アンチ体を選択的に得ることができる。