(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に光硬化性樹脂組成物の薄膜層を形成する工程と、
光を拡散し得る凹凸形状面が形成された原型を前記薄膜層に押し当てる工程と、
前記薄膜層をマスク露光する工程と、
前記基板を加熱処理することにより未露光部の薄膜層の凹凸形状を平滑化する工程と、
前記薄膜層に反射膜を形成する工程を備える拡散反射板の製造法。
【請求項２】
未露光部の薄膜層を平滑化する工程において加圧工程を含む請求項１記載の拡散反射板の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、バックライトを必要としない反射型液晶表示装置や高効率を必要とされる太陽電池などに使用される拡散反射板の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ティスプレイ（以下ＬＣＤと略す）は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファインダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予想されている。特に、外部から入射した光を反射させて表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要であるために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点で携帯用端末機器用途として注目されている。
【０００３】
従来から反射型ＬＣＤにはツイステッドネマティック方式並びにスーパーツイステッドネマティック方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光子により入射光の１／２が表示に利用されないことになり表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を１枚に減らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・ホスト方式の表示モードが提案されている。
反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御することが必要である。基板に感光性樹脂を塗布しフォトマスクを用いてパターン化して凹凸を形成し、金属薄膜を形成して拡散反射板を形成するいわゆるフォトリソグラフィー法による方法（特開平４−２４３２２６号公報）が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前記の方法では凹凸を形成するために、各基板ごとにフォトマスクで露光し、現像する工程があるため、工程が複雑であり、低コスト、高生産性とは言えなかった。また現像、ポストベーク等の工程によって凹凸形状が変化しやすく一定の反射特性を持つ拡散反射板を安定に生産することが難しい。さらに反射特性を向上させる目的で、凹凸の高さを複数もつ拡散反射板を得たい場合、前記の方法では複数回の感光性樹脂の塗布、露光、現像が必要であるため工程がより煩雑となる。これに対し、光が拡散し得る凹凸形状面が形成された仮支持体に薄膜層が積層され、薄膜層の仮支持体に積層されていない面を被転写基板への接着面を構成した転写フィルムを用いて基板に薄膜層を転写し、反射膜を形成して拡散反射板を形成する方法を提案した（特願平１０-２１６９３９）。しかし、この方法では凹凸が形成された基板内に平滑部分を形成する必要がある場合には現像等により薄膜層を除去するする必要があった。特に反射型液晶表示装置の基板に用いる場合には周辺部のタブ接着部分の平滑性が要求される。また、薄膜層を除去した部分と薄膜層で形成された凹凸部分との間に膜厚差が生じ、後工程において透明電極を積層する工程およびエッチングによりパターニングする工程で断線による不良が発生するという問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、良好な反射特性を有する反射型ＬＣＤ用拡散反射板等に使用される拡散反射板を効率良く製造する方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の拡散反射板の第一の製造法は、基板の表面に光硬化性樹脂組成物を薄膜層として形成する工程、表面に光を拡散し得る凹凸形状面が形成された原型を前記薄膜層に押し当て前記薄膜層に凹凸を形成する工程、フォトマスクを用いて開口部の薄膜層を光硬化させ凹凸形状を保持する工程、加熱によって未硬化部分の薄膜層を流動させ平滑化する工程、薄膜層が形成された面に反射膜を形成する工程を備えるものである。
【０００７】
本発明の拡散反射板の第二の製造法は、表面に光を拡散し得る凹凸形状面が形成された仮支持体に薄膜層を積層する工程、基板の表面に前記薄膜層の前記仮支持体に積層されていない面を貼り合わせ、フォトマスクを用いて開口部の薄膜層を光硬化させ凹凸形状を保持する工程、加熱によって未硬化部分の薄膜層を流動させ平滑化する工程、薄膜層が形成された面に反射膜を形成する工程を備えるものである。
【０００８】
第一、第二の製造法の加熱によって未硬化部分の薄膜層を平滑化する工程において、加熱可能な板状またはロール状等の加圧体を介して平滑化する工程を備えることが好ましい。
【０００９】
本発明の拡散反射板の製造法では、表面に光を拡散し得る凹凸形状面が形成されたベースフィルム、薄膜層が順次積層された転写フィルムが使用される。
薄膜層には光硬化性樹脂組成物を用い、硬化前の軟化温度以上に加熱すると流動し、平滑化する作用を有するものが用いられる。薄膜層にカバーフィルムを積層することもできる。またベースフィルム、表面に多数の微細な凹凸を有する下塗り層、薄膜層が順次積層された転写フィルムが使用される。薄膜層にカバーフィルムを積層することもできる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の反射型ＬＣＤ用等拡散反射板の製造方法によれば、基板の凹凸形成予定面に薄膜層を形成しておき、その薄膜層に対して表面が多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理された原型を押しあてる工程、凹凸を保持したい部分を開口部としたフォトマスクで露光する工程、加熱することによって平滑化した部分を平滑化する工程によって、フォトリソグラフィー法でパターニングする方法よりも工程が単純かつ低コストで所望の部分に多数の微細な凹凸を有し、かつ必要な部分が平滑化された薄膜層を形成できる。。これに更に金属薄膜等の反射膜を形成すれば所望の拡散反射板が得られる。
【００１１】
また、表面が多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理された仮支持体に薄膜層を積層する工程、前記基板の凹凸形成面に前記薄膜層を転写する工程、凹凸を保持したい部分を開口部としたフォトマスクで露光する工程、加熱することによって平滑化した部分を平滑化する工程によって、フォトリソグラフィー法でパターニングする方法よりも工程が単純かつ低コストで所望の部分に多数の微細な凹凸を有し、かつ必要な部分が平滑化された薄膜層を形成できる。これに更に金属薄膜等の反射膜を形成すれば所望の拡散反射板が得られる。
【００１２】
転写フィルムの表面に光を拡散し得る凹凸形状面が形成された仮支持体は、表面に光を拡散し得る凹凸形状面が形成された原型を押し当てることによって製造されたものを用いることもできる。また、ベースフィルムに、変形可能な下塗り層を設け、この層に光を拡散し得る凹凸形状面が形成された原型を押し当てる工程、下塗り層を硬化する工程により形成したものをベースフィルムの代わりに用いてもよい。またベースフィルムの表面がサンドブラスト処理されたものを用いることもできる。
【００１３】
光を拡散し得る凹凸形状面が形成された原型または仮支持体の作製方法の一例は、文献「続・わかりやすい光ディスク（オプトロニクス社、平成２年発行）」に示されている。すなわち、ガラス板上にフォトレジストを塗布後、所定のマスクパターンを有するフォトマスクを用いて露光し現像するか、またはレーザーカッティングした後、パターン形成面に真空蒸着法やスパッタリング法等により銀またはニッケル膜を形成（導電化処理）し、ニッケルを電鋳により積層して、ガラス板から剥離する工程によってファーザー原型を作製することができる。このファザー原型に剥離処理を行い再度ニッケル電鋳を行い、ファザー原型から剥離してマザー原型を作製し、このマザー原型を使用して多数の微細な凹凸を形成することができる。
【００１４】
光を拡散し得る凹凸形状面が形成された原型または仮支持体は、シート状、平板またはロール状または曲面の一部等の基材の表面に全面または必要な部分に光を拡散し得る凹凸形状面が形成されたものを用いることができ、加圧装置に貼り付けたり、凹凸を形成する面と加圧装置との間に挟み込んで用いてもよい。押し当てる工程で熱、光等を与えてもよい。
【００１５】
光を拡散し得る凹凸形状面が形成された原型または仮支持体の凹凸の程度は、通常、薄膜層を硬化することで変形することを考慮し設計する必要がある。薄膜層の硬化による変形率をａとすると、薄膜層の硬化後の形状として、凹部と凸部の高さの差が０．１μｍ〜１５μｍ、さらには、０．１μｍ〜５μｍ、凸部のピッチが０．７μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下、さらには２μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下であることが好ましい。
図５に本発明の拡散反射板の反射特性の測定装置を示す。反射光線２１と入射光線２２のなす角度をθとすると、必要とされるθの範囲で拡散反射板の法線方向で観測される輝度すなわち反射強度を大きくすれば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。
必要とされるθの範囲が−６０°〜６０°である場合、図６に示すような凹曲面で凹凸が形成されている拡散反射板は、図７に示したように凹部と凸部の高さＨと、凸部のピッチＰの関係がＰ＝７×Ｈの関係式で示される直線付近であれば、反射特性に優れる拡散反射板が得られる。また、θが−１５°〜１５°の場合は、Ｐ＝３０×Ｈの関係式で示される直線付近であれば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。このことは、法線に対し拡散反射を６０度の範囲の光源で得ようとし、さらに１５度の範囲でより強く得ようとする場合、Ｐ＝７×Ｈの関係式とＰ＝３０×Ｈの関係式で示される２つの直線付近の領域を複合した形状にできればよいことを示す。むろん、前述の２つの直線付近の範囲にすべての凹凸が含まれるとは限定しない。なぜなら凹凸形状作製プロセス上複数の形状が形成されることは当然であるからである。また、液晶層のギャップ均一性や光の干渉の影響を考慮しなければならない。
したがって、仮支持体の凹凸の程度は、凸曲面で凹部と凸部の高さの差が０．１×ａμｍ〜１５×ａμｍ、さらには、０．１×ａμｍ〜５×ａμｍ、凸部のピッチが０．７μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下、さらには２μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下であることが好ましい。ａの値は、薄膜層の材質により異なり、例えば、２であったり、１あるいは０．７であることもある。以上は図１１に示すような凹曲面で拡散反射板の凹凸を形成した場合の例であるが、図８に示すような凹凸複合の曲面で拡散反射板の凹凸を形成した場合、法線に対し６０度以内の光源からの拡散反射は、図９に示すような凹部と凸部の高さＨと、凸部のピッチＰの関係がＰ＝３．５×Ｈの関係式で示される直線付近であれば反射特性に優れる。凹凸形状は、面内に周期的に並んでいる必要はなく、不規則であってもよい。また反射型ＬＣＤの場合、画素ピッチと異なる周期性が凹凸形状にあるとモアレが発生するので、凹凸の周期性は、画素ピッチと同じかまたは整数で割れる周期、あるいは不規則な配列で凹凸が並んでいることが好ましい。
また、凹凸の面形状は特に限定されないが、複合平面だけでなく凹曲面あるいは凸曲面、凹凸複合の曲面、さらには球面や放物面に近似した凹曲面あるいは凸曲面、凹凸複合の曲面であることが好ましい。なぜなら、曲面とすることで、より広範囲の光源位置からの拡散反射光を期待できるからである。
【００１６】
本発明のベースフィルムとしては、化学的、熱的に安定であり、シートまたは板状に成形できるものを用いることができる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル、あるいはアルミ、銅等の金属類等である。これらの中で特に好ましいのは寸法安定性に優れた２軸延伸ポリエチレンテレフタレートである。
【００１７】
薄膜層としては支持体上に塗布しフィルム状に巻き取ることが可能な樹脂組成物を用いる。またこの中に必要に応じて、染料、有機顔料、無機顔料、粉体及びその複合物を単独または混合して用いてもよい。薄膜層には光項か性樹脂組成物を用いる。薄膜層の軟化温度は特に限定されないが、２００℃以下であることが望ましい。また加熱による流動性を得るために分子量１００００以下の低融点物質を添加することができる。
【００１８】
そのようなものの中で、基板に対する密着性が良好で、ベースフィルムからの剥離性がよいものを用いるのが好ましい。たとえば光硬化性樹脂組成物に含まれる有機重合体としては、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル等を用いることができる。ＴＦＴ液晶表示装置に用いる場合は基板に形成されたＴＦＴとのコンタクトホールを形成するためにその部分の薄膜層を除けるように、アルカリ等で現像可能な感光性樹脂を用いることもできる。また耐熱性、耐溶剤性、形状安定性を向上させるために、熱によって硬化可能な樹脂組成物を用いることもできる。さらに、カップリング剤、接着性付与剤を添加することで基板との密着を向上させることもできる。接着を向上させる目的で基板または薄膜層の接着面に接着性付与剤を塗布することも含まれる。
【００１９】
薄膜層の加熱による流動性を得るために分子量１００００以下の低融点物質を添加する。例えば「プラスチックス配合剤」（遠藤  昭定、須藤  眞編、大成社発行、平成８年１１月３０日発行）記載の可塑剤や、エチレン性二重結合を分子内に少なくとも１つ以上有するモノマーを添加する。本成分の使用量は、感光性組成物中の固形分総量の１〜７０重量％とすることが好ましい。
【００２０】
例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、レゾルシノールジアクリレート、ｐ，ｐ’−ジヒドロキシジフェニルジアクリレート、スピログリコールジアクリレート、シクロヘキサンジメチロールジアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレングリコール化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及び上記のメタクリレート同構造の化合物、メチレンビスアクリルアミド、ウレタン系ジアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。また、ＥＣＨ変性フタル酸ジアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェノールアクリレート、ＥＯ変性テトラブロモビスフェノールジメタクリレートなどの２５℃で固体または粘度が１０万ｃｐｓ以上であるモノマー及びオリゴマーを用いてもよい。さらに「感光材料リストブック」（フォトポリマー懇話会編、ぶんしん出版発行、１９９６年３月３１日発行）記載のものから選ばれるのが好ましい。
【００２１】
また、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、アルキルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジメチルアミノエチルメタクリレート四級化物等の単官能モノマーが挙げられる。これらの成分は単独または２種以上を混合して用いることもできる。
【００２２】
光硬化性樹脂組成物の光開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパン、ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキノン、３−クロル−２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、１，２−ベンゾアントラキノンラチ１，４−ジメチルアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等が挙げられる。これらの光開始剤は単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。本成分の使用量は、本発明の感光性組成物中の固形分総量の０．０１〜２５重量％とすることが好ましく、１〜２０重量％であることがより好ましい。
【００２３】
本発明の下塗り層としては、凹凸形成後は薄膜層よりも硬いものが好ましい。例えばポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル、エチレンとアクリル酸エステル、エチレンとビニルアルコールのようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニルアルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルのようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルのようなビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニルのような（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、合成ゴム、セルローズ誘導体等から選ばれた、少なくとも１種類以上の有機高分子を用いることができる。凹凸形成後硬化させるために必要に応じて光開始剤やエチレン性二重結合を有するモノマ等を添加することができる。また感光タイプをネガ型材を利用することで示したが、ポジ型であっても問題はない。
【００２４】
本発明の薄膜層や下塗り層の塗布方法としては、ロールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレー塗布、ディップコータ塗布、カーテンフローコータ塗布、ワイヤバーコータ塗布、グラビアコータ塗布、エアナイフコータ塗布等がある。仮支持体上等に上記の方法で薄膜層または下塗り層組成物を塗布する。
【００２５】
反射膜としては、反射したい波長領域によって材料を適切に選択すれば良く、例えば反射型ＬＣＤ表示装置では、可視光波長領域である３００ｎｍから８００ｎｍにおいて反射率の高い金属、例えばアルミニウムや金、銀等、を真空蒸着法またはスパッタリング法等によって形成する。また反射増加膜（光学概論２、辻内順平、朝倉書店、１９７６年発行）を上記の方法で積層してもよい。  反射膜の厚みは、０．０１μｍ〜５０μｍが好ましい。また反射膜は、必要な部分だけフォトリソグラフィー法、マスク蒸着法等によりパターン形成してもよい。
【００２６】
本発明の転写フィルムのカバーフィルムとしては、化学的および熱的に安定で、薄膜層との剥離が容易であるものが望ましい。具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルアルコール等の薄いシート状のもので表面の平滑性が高いものが好ましい。剥離性を付与するために表面に離型処理をしたものも含まれる。
【００２７】
仮支持体（ベースフィルム、下塗り層が設けられたベースフィルム）上の薄膜層を基板に転写する方法としては、カバーフィルムを剥がし、基板上に加熱圧着すること等がある。さらに密着性を必要とする場合には基板を必要な薬液等で洗浄したり、基板に接着付与剤を塗布したり、基板に紫外線等を照射する等の方法を用いてもよい。本発明の転写フィルムをラミネートする装置としては基板を加熱、加圧可能なゴムロールとベースフィルムとの間に挟み、ロールを回転させて、転写フィルムを基板に押し当てながら基板を送りだすロールラミネータを用いることが好ましい。
このようにして基板表面に形成した薄膜層の膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍの範囲が好ましい。このとき凹凸形状の最大高低差より薄膜層の膜厚が厚い方が凹凸形状を再現しやすい。膜厚が等しいあるいは薄いと原型凸部で薄膜層を突き破ってしまい、不必要な平面部が発生し拡散反射を効率よく得にくくなる。
【００２８】
光を拡散し得る形状を保持するためには、薄膜層をマスクを介して露光を行い、感光部分を硬化させる。本発明に適用し得る露光機としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ等が挙げられる。露光は仮支持体を剥がす前、または剥がした後に行う。
【００２９】
露光後、未露光部分を平滑化するためには温風加熱炉、または赤外線加熱炉、ホットプレート等で加熱を行う。またより効率よく平滑化するために、ロール状または板状の加熱及び加圧可能なプレス装置を用いることができる。好ましくはロールを回転させて、ロールを基板に直接または平滑なシートを介して押し当てながら基板を送りだすロールラミネータを用いることが好ましい。
【００３０】
以上反射型ＬＣＤ表示装置で説明したが、本発明の拡散反射板は外部光線を拡散反射させることが必要なデバイスに用いることが出来る。例えば太陽電池の効率向上を目的とした拡散反射板がある。
【００３１】
【実施例】
実施例１
図１に示すようにガラス基板１に下記薄膜層形成用溶液をスピン塗布した後、乾燥し３μｍの薄膜層２を形成した。次に表面にサンドブラスト加工したポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人社製、５０μｍ厚、凹部と凸部の高さの差が０．８μｍ、凸部間のピッチが２０μｍ）を薄膜層２に接するようにラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製）を用いて、基板温度１００℃、ロール温度１００℃、ロール圧力６ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板、薄膜層、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が積層された基板を得た。この基板からＰＥＴフィルムを剥がすと、薄膜層上にはサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、光の拡散性にすぐれた凹凸形状であった。基板にフォトマスクを介して薄膜層が光硬化する光線（高圧水銀灯）を平行光露光機ＭＡＰ１２００Ｌ（大日本スクリーン社製）を用いて１００ｍＪ／ｃｍ露光した。この基板を２４０℃、２０分間オーブン（クリーンオーブンＣＳＯ−４０２、楠本化成製）で加熱を行い、室温まで冷却すると露光部分の光拡散性は保持され、未露光部分は平滑となった。露光部分の凹凸の平均高低差は１．２μｍであり、未露光部分を平滑化した後の凹凸の平均高低差は０．１μｍ以下であった。これにＡｌ薄膜をスパッタリング法により０．１μｍの厚みになるよう積層し、反射膜３とした。これによって得られた拡散反射板は、反射特性に優れ、反射型ＬＣＤ用拡散反射板として使用可能であった。図２は、本拡散反射板を単偏光板型のＳＴＮ反射型ＬＣＤに用いた例を示すものである。
薄膜層形成用溶液：
ポリマーとしてスチレン、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、グリシジルメタクリレート共重合樹脂を用いた（ポリマーＡ）。分子量は約３５０００、酸価は１１０である。部は重量部（以下同じ）。
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【００３２】
実施例２
実施例１と同様の薄膜層形成用溶液を用いて、ベースフィルム４に厚さ５０μｍのサンドブラスト処理したポリエチレンテレフタレートを用い、このフィルム上にコンマコータで６μｍの膜厚となるように塗布乾燥し薄膜層２を形成し、カバーフィルム５としてポリエチレンフィルムを被覆して図３に示すような転写フィルムを得た。
次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層がガラス基板に接するようにラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製）を用いて、基板温度１００℃、ロール温度１００℃、ロール圧力６ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板、薄膜層、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が積層された基板を得た。フォトマスクを介して、露光機（大型マニュアル露光機、ＭＡＰ１２００、大日本スクリーン社製）で薄膜層が反応する光線を５００ｍＪ／平方ｃｍ照射したのち、この基板からＰＥＴフィルムを剥がすと、薄膜層上にはサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、光の拡散性にすぐれた凹凸形状であった。基板を２４０℃、２０分間オーブン（クリーンオーブンＣＳＯ−４０２、楠本化成製）で加熱を行い、室温まで冷却すると露光部分の光拡散性は保持され、未露光部分は平滑となった。この基板の露光部分の凹凸の平均高低差は１．２μｍであり、未露光部分を平滑化した後の凹凸の平均高低差は０．１μｍ以下であった。これにＡｌ薄膜をスパッタリング法により０．１μｍの厚みになるよう積層し、反射膜３とした。
実施例２で作製した拡散反射板の反射強度（標準白色板に対する相対強度）の入射角度依存性を図４に示す（方位角（φ）を一定とした場合）。入射角度−６０°〜６０°の範囲で十分な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができた。
【００３３】
実施例３
実施例２と同様の条件で転写フィルムをガラス基板にラミネートし、露光した後サンドブラストＰＥＴを剥がすと全面にサンドブラスト加工された凹凸が転写された薄膜層を得た。次に平滑なＰＥＴフィルムをガラス基板の薄膜層に面するようにラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製）を用いて、基板温度１００℃、ロール温度１００℃、ロール圧力６ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートした。室温まで冷却した後ＰＥＴフィルムを剥がすと露光部分の光拡散性は保持され、未露光部分は平滑となった。この基板の露光部分の凹凸の平均高低差は１．２μｍであり、未露光部分を平滑化した後の凹凸の平均高低差は０．１μｍであった。これにＡｌ薄膜をスパッタリング法により０．１μｍの厚みになるよう積層し、反射膜３とした。
【００３４】
【発明の効果】
本発明の反射型液晶表示装置等の拡散反射板の製造法では、良好な反射特性を有する拡散反射板を効率良く製造することができ、かつ原型の凹凸をあらかじめ適切に設定しておくことによって、拡散反射板の反射特性を自由に制御でき、かつ現像等による薄膜層の除去工程なく、凹凸形成基板上に平滑部分をパターニングすることを可能にし、かつ平滑部を得るために薄膜層を除去することがないので凹凸部と平滑部との膜厚差を少なくした拡散反射板が製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の拡散反射板の製造例を示す断面図。
【図２】  反射型ＬＣＤの断面図。
【図３】  本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。
【図４】  本発明の実施例２の拡散反射板の反射特性の入射角依存性を示す図。
【図５】  本発明の拡散反射板の反射光特性を測定する装置図。
【図６】  本発明の転写フィルムを使用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図。
【図７】  本発明の図６に示す拡散反射板の正面と光源がなす角度と凹凸部の高さの差と凸部のピッチとの関係を示す図。
【図８】  本発明の転写フィルムを使用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図。
【図９】  本発明の図８に示す拡散反射板の正面と光源がなす角度と凹凸部の高さの差と凸部のピッチとの関係を示すグラフ。
【符号の説明】
１．ガラス基板
２．薄膜層
３．反射膜
４．ベースフィルム
５．カバーフィルム
６．下塗り層
１１．カラーフィルタ
１２．ブラックマトリクス
１３．透明電極
１４．平坦化膜
１５．配向膜
１６．液晶層
１７．スペーサ
１８．位相差フィルム
１９．偏光板
２０．試料
２１．反射光線
２２．入射光線
２３．輝度計
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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