(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
精密基板を収納する容器本体と、この容器本体の開口面を開閉する着脱自在の蓋体とを備え、容器本体の周壁の両側壁に係止部をそれぞれ形成し、蓋体の両側壁には、容器本体の係止部に係止するフックをそれぞれ形成した精密基板収納容器であって、
容器本体は、周壁の開口端面付近で開口面方向に伸びるフランジと、このフランジの末端部付近から周壁外方向に先細りに突出して開口端面付近を取り囲む第一のリムと、この第一のリムよりも開口面と向き合う壁面側に位置し、周壁を囲むように周壁外方向に第一のリムと平行となるよう突出する複数の第二のリムとを有し、
容器本体の周壁に第一、第二のリムを形成するとともに、この第一、第二のリムを係止部付近で省略し、第一、第二のリムにおける容器本体の開口面と向き合う壁面側となる裏面を、容器本体の開口面を下向きとしたときにリムの根元から先端に向かって下方に１〜５°傾斜するように形成し、容器本体の開口面を下向きとした場合に、下方に位置する第二のリムの傾斜角度θ1よりも、第二のリムの裏面の傾斜角度θ2を大きくしたことを特徴とする精密基板収納容器。
【請求項２】
第一、第二のリムの容器本体の開口面と相対する壁面側の裏面において、第一、第二のリムの根元の肉厚が徐々に厚くなる方向、あるいは徐々に薄くなる方向に変化して長手方向に傾斜している請求項１記載の精密基板収納容器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェーハ、マスクガラス、各種の記録媒体等からなる精密基板を収納し、この精密基板の損傷や汚染を防止して安全に保管、輸送する精密基板収納容器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来における精密基板収納容器は、図９に示すように、容器本体１と、図示しない複数枚の精密基板を収納して容器本体１に収納されるカセット３と、容器本体１の開口した上面をシールガスケット５を介して閉鎖する蓋体６と、この蓋体６の裏面に装着されて各精密基板の上部周縁を保持する基板押さえ８とを備えている。
容器本体１は、略両側壁を除く周壁の上部が外側に一部折り返されて折り返しフランジ４０を形成し、この折り返しフランジ４０が開口した上面の強度を補強するとともに、壁に作用する外力を緩衝し、かつ手動操作時には取手として機能する(図１０ないし図１２参照)。容器本体１の両側壁には、折り返しフランジ４０に保護される係止部２がそれぞれ成形されている。また、蓋体６の両側壁にはフック７がそれぞれ成形され、各フック７が係止部２に係止することにより、容器本体１の開口した上面に蓋体６が強固に嵌合する。
【０００３】
ところで、従来における精密基板収納容器は、使用後に廃棄処分されることが多かったが、近年の精密基板の大口径化や収納枚数の増加等の他、コスト削減、省資源化、環境問題に配慮し、再利用されるようになってきている。このような再利用の場合、精密基板収納容器の容器本体１等は、界面活性剤等の洗浄液、純水、あるいは超純水等のすすぎ水を使用して手作業により徹底的に洗浄される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
近年における精密基板収納容器は、以上のように容器本体１がすすぎ水を使用して手作業で洗浄され、その後、再利用されるが、手作業の洗浄では品質が到底安定しないという大きな問題がある。また、手作業ではパーティクルの付着が多く、汚染のばらつきも少なくない。
【０００５】
このような問題を解消するには、精密基板収納容器をクリーン度の高い自動の洗浄装置で洗浄、乾燥、搬送等すれば良いが、この方法にも問題がある。この点について説明すると、洗浄装置による洗浄の場合には、容器本体１を上下逆にして下向きとした後、容器本体１を自動乾燥処理するが、これでは容器本体１の周壁と折り返しフランジ４０との袋部分４１の間に多量のすすぎ水が溜まる(図１２参照)ので、乾燥が遅延し、作業性が著しく低下するという大きな問題が新たに生じる。また、容器本体１の周壁と折り返しフランジ４０との間にすすぎ水が溜まると、この部分を十分洗浄することができないので、パーティクル等が残留しやすく、収納時に精密基板の汚染するおそれが少なくない。
【０００６】
上記問題を解消するには、洗浄装置に、精密基板収納容器の形状に対応する専用の反転装置を設置し、この反転装置で容器本体１を反転させれば良い。しかしながら、これでは、汎用性に欠けるので設備費が嵩み、結果として洗浄のコストが大幅に上昇する。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みなされたもので、乾燥の遅延や作業性の低下を招くことなく、洗浄装置で洗浄等することができ、パーティクル等の残留や精密基板の汚染のおそれを有効に抑制することのできる精密基板収納容器を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記問題について鋭意検討した結果、折り返しフランジを形成せず、開口の強度確保に複数のリムを用いれば良いことを見出し、リムの形状や本数について詳細に条件を精査して本発明を完成させた。
すなわち、本発明においては上記課題を解決するため、精密基板を収納する容器本体と、この容器本体の開口面を開閉する着脱自在の蓋体とを備え、容器本体の周壁の両側壁に係止部をそれぞれ形成し、蓋体の両側壁には、容器本体の係止部に係止するフックをそれぞれ形成したものであって、
容器本体は、周壁の開口端面付近で開口面方向に伸びるフランジと、このフランジの末端部付近から周壁外方向に先細りに突出して開口端面付近を取り囲む第一のリムと、この第一のリムよりも開口面と向き合う壁面側に位置し、周壁を囲むように周壁外方向に第一のリムと平行となるよう突出する複数の第二のリムとを有し、
容器本体の周壁に第一、第二のリムを形成するとともに、この第一、第二のリムを係止部付近で省略し、第一、第二のリムにおける容器本体の開口面と向き合う壁面側となる裏面を、容器本体の開口面を下向きとしたときにリムの根元から先端に向かって下方に１〜５°傾斜するように形成し、容器本体の開口面を下向きとした場合に、下方に位置する第二のリムの傾斜角度θ1よりも、第二のリムの裏面の傾斜角度θ2を大きくしたことを特徴としている。
【０００９】
なお、第一、第二のリムの容器本体の開口面と相対する壁面側の裏面において、第一、第二のリムの根元の肉厚が徐々に厚くなる方向、あるいは徐々に薄くなる方向に変化して長手方向に傾斜していることが好ましい。
【００１０】
ここで、特許請求の範囲における精密基板には、少なくとも単一又は複数枚(例えば、１３枚、２５枚、２６枚)の半導体ウェーハ(例えば、６インチ、８インチ、１２インチのシリコンウェーハ)、マスクガラス、各種の記録媒体等が含まれる。容器本体については、トップオープンボックスタイプやフロントオープンボックスタイプでも良いし、透明、半透明、不透明のタイプを適宜選択することができる。また、第二のリムの数は、単数複数いずれとすることも可能である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における精密基板収納容器は、図１に示すように、トップオープンボックスタイプで半透明の容器本体１と、図示しない複数枚の精密基板を縦に整列収納して容器本体１に着脱自在に収納されるカセット３と、容器本体１の開口した上面をエンドレスのシールガスケット５を介して密嵌閉鎖する着脱自在の蓋体６と、この蓋体６の裏面に着脱自在に嵌合装着されて各精密基板の上部周縁を保持する基板押さえ８とを備え、容器本体１には、フランジ１０、第一のリム２０、複数の第二のリム３０・３１がそれぞれ形成されており、これら第一、第二のリム２０・３０・３１が折り返しフランジ４０の代わりに容器本体１の強度や剛性を確保する。
【００１２】
容器本体１は、例えば耐パーティクル性、耐薬品性、成形性、剛性等に優れるポリプロピレン等を使用して上面が開口した略有底角筒形に一体成形されている(図１参照)。この容器本体１の両側壁の上部には、係止部２がそれぞれ突出形成されている。また、カセット３は、同図に示すように、ポリプロピレン等を使用して上下面がそれぞれ開口した略筒形に形成され、両側壁の内面には精密基板用の支持溝４がそれぞれ複数並べて形成されている。シールガスケット５と基板押さえ８は、ポリオレフィン系やポリエステル系等の各種熱可塑性エラストマー、フッ素ゴム、シリコーンゴム等のゴムを用いて形成される。なお、基板押さえ８は、これらの他にも各種合成樹脂を用いて形成することもできる。
【００１３】
蓋体６は、例えば耐パーティクル性、耐水性、耐熱性、耐衝撃性、透明性等に優れるポリカーボネート等を使用して透明に成形されている(図１参照)。この蓋体６の両側壁下部には、下方に伸びる略矩形のフック７がそれぞれ屈曲可能に形成され、各フック７の開口部が容器本体１の係止部２の突部に嵌合係止することにより、容器本体１の開口した上面に蓋体６が強固に嵌合保持される。
【００１４】
フランジ１０は、図２ないし図４に示すように、容器本体１の周壁の上端面付近に隣接して一体成形され、容器本体１の開口面方向、すなわち上方に略先細りに伸長しており、周壁の上端面との間にシールガスケット収納用の凹部１１を区画形成している。
【００１５】
第一のリム２０は、同図に示すように、フランジ１０の末端部付近に一体成形されて容器本体１の周壁外方向、すなわち水平外方向に僅かながら先細りに突出し、横方向のスライドを考慮し、表面２１が根元から先端に向かって厚さが減るように僅かに傾斜するとともに、裏面２２も根元から先端に向かって厚さが減るように僅かに傾斜している。この第一のリム２０は、図１に示すように、折り返しフランジ４０の代わりに周壁の大部分に成形されるが、両側壁の係止部２付近については成形されることなく、省略される。第一のリム２０の先端部は、１〜３ｍｍ、好ましくは２ｍｍの幅に成形されている。また、第一のリム２０の表裏両面２１・２２は、１〜５°、好ましくは３°の傾斜角度でそれぞれ傾いている。これにより、開口面を下向きとした場合には、第一のリム２０の裏面はリムの根元から先端にかけて下向きに傾斜する。
【００１６】
複数(本実施形態では２本)の第二のリム３０・３１は、図２ないし図４に示すように、第一のリム２０と平行な関係となるよう容器本体１の周壁外面の上端部に並べて一体成形され、容器本体１の周壁外方向、すなわち水平外方向に僅かながら先細りに突出しており、第一のリム２０よりも容器本体１の底面側に位置している。この上下に並んだ複数の第二のリム３０・３１は、図１に示すように、折り返しフランジ４０の代わりに周壁の大部分に形成されるが、両側壁の係止部２付近については形成されることなく、省略される。
【００１７】
第二のリム３０・３１は、第一のリム２０と同様、表面３２が根元から先端に向かって厚さが減るように僅かに傾斜するとともに、裏面３３も根元から先端に向かって厚さが減るように僅かに傾斜している。この第二のリム３０・３１の先端部は、１〜３ｍｍ、好ましくは２ｍｍの幅に形成されている。また、各第二のリム３０・３１の表裏両面３２・３３は、１〜５°、好ましくは３°の傾斜角度でそれぞれ傾いている。これにより、開口面を下向きとした場合、第二のリム３０・３１の裏面はリムの根元から先端にかけて下向きに傾斜する。
【００１８】
第一、第二のリム３０・３１と容器本体１の周壁とのコーナアール部については、コーナアール部の半径がＲ０．３〜Ｒ１．５ｍｍ、好ましくはＲ０．５ｍｍの範囲から適宜選択される。これは、係る数値の範囲であれば、洗浄時にすすぎ水の水滴が残留しにくくなるからである。
【００１９】
上記構成において、洗浄装置の洗浄ノズルから容器本体１に洗浄液を噴射して洗浄し、容器本体１を上下逆にして開口部を下向き(図５参照)とした後、容器本体１を自動乾燥処理すると、容器本体１の周壁に付着したすすぎ水(同図の矢印参照)は、水滴の溜まりやすい第一、第二のリム２０・３０・３１がそれぞれ傾斜しているので、第一のリム２０の傾斜した裏面２２、第二のリム３０・３１の傾斜した裏面３３に沿って溜まることなく急速、かつ効率的に流れ落ちる。
【００２０】
上記構成によれば、容器本体１の周壁と第一、第二のリム３０・３１との間に多量のすすぎ水の溜まることがないので、乾燥の作業時間が実に短くなり、作業性、生産性、乾燥効果を著しく向上させることができる。また、パーティクル等の残留を大幅に抑制防止することができるので、収納時に精密基板の汚染するおそれをきわめて有効に抑制排除することができる。また、容器本体１の形状(特に、水滴の溜まりやすい部分)に対応する専用の反転装置やブロー装置等をなんら設置する必要もないので、安価な汎用の洗浄乾燥装置を用いることができる。したがって、汎用性を向上させ、洗浄コストを低減することが可能となる。
【００２１】
さらに、排水機能を有する第一、第二のリム２０・３０・３１が折り返しフランジ４０の代わりとしても機能するので、容器本体１の開口した上面の強度をきわめて有効に補強することができるとともに、周壁に作用する外力を緩衝し、かつ手動操作時には取手として簡便に活用することが可能になる。これにより、精密基板やカセット３の破損、圧力変動による変形を抑制防止し、精密基板の安全な保管、搬送、輸送が大いに期待できる。
【００２２】
次に、図６は本発明の第２の実施形態を示すもので、この場合には、各壁における第一、第二のリム２０・３０・３１の中心部からコーナ部にかけての肉厚を徐々に薄くし、これら第一、第二のリム２０・３０・３１の表裏両面を長手方向(図の左右方向)に向けそれぞれ傾斜させるようにしている。その他の部分については、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
本実施形態によれば、第一、第二のリム２０・３０・３１の厚さ方向にも傾斜面を形成するので、同方向にも洗浄時や乾燥時にすすぎ水が流れ落ちる流路を形成することができる。したがって、液切れが良く、水滴が一層溜まりにくくなる。
【００２３】
次に、図７は本発明の第３の実施形態を示すもので、この場合には、各壁における第一、第二のリム２０・３０・３１の中心部からコーナ部にかけての肉厚を徐々に厚くし、これら第一、第二のリム２０・３０・３１の表裏両面を長手方向(図の左右方向)に向けそれぞれ傾斜させるようにしている。その他の部分については、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
【００２４】
次に、図８は本発明の第４の実施形態を示すもので、この場合には、第二のリム３０・３１をそれぞれ対称形に成形し、容器本体１の開口面を下向きとした場合に下方に位置する第二のリム３０の傾斜角度θ1よりも、水滴の残りやすい第二のリム３１の裏面３３の傾斜角度θ2を大きくするようにしている。その他の部分については、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
本実施形態によれば、すすぎ水や水滴の除去が容易になるだけではなく、第二のリム３０・３１の末端部の寸法が必要以上に大きくなったり、材料ロスや厚肉になるのをきわめて有効に防止することができる。また、簡易な構成で第二のリム３０・３１が変形を起こすのをきわめて有効に抑制防止することが可能になる。
【００２５】
【実施例】
図１に示す精密基板収納容器の容器本体１と図９に示す精密基板収納容器の容器本体１とをそれぞれ洗浄し、その後、これらの乾燥状態や乾燥時間を比較した。
試験方法としては、純水中に容器本体１を一度完全に水没させて引き上げ、この容器本体１を上下逆にして開口面を下向きとして１分間放置するとともに、連続的に滴下する水滴を除去し、６０℃に設定した乾燥装置に開口面を下向きにした容器本体１をセットし、この容器本体１の表面３２から水滴が完全になくなるまでの時間を測定した。
【００２６】
試験の結果、図１に示す精密基板収納容器の容器本体１は水滴が部分的に溜まることがなかったが、図９に示す精密基板収納容器の容器本体１は水滴が部分的に残存した。また、図１に示す容器本体１に付着した水滴の除去時間は、図９に示す容器本体１のそれの１／２に短縮することができた。
【００２７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、乾燥作業の遅延や作業性の低下を招くことなく、洗浄装置で洗浄等することができるという効果がある。またこれを通じ、パーティクル等の残留や精密基板の汚染のおそれを有効に抑制排除することが可能になる。すなわち、容器本体の周壁と第一、第二のリムとの間に多量のすすぎ水の溜まることがないので、乾燥の作業時間が短くなり、作業性、生産性、乾燥効果を向上させることができる。また、パーティクル等の残留を抑制防止することができるので、収納時に精密基板の汚染するおそれを抑制することができる。
また、容器本体の形状に対応する専用の反転装置やブロー装置等をなんら設置する必要もないので、安価な汎用の洗浄乾燥装置を用いることができる。したがって、汎用性を向上させ、洗浄コストを低減することが可能となる。また、排水機能を有する第一、第二のリムが従来の折り返しフランジの代わりとしても機能するので、容器本体の開口した端面の強度を有効に補強することができるとともに、周壁に作用する外力を緩衝し、かつ手動操作時には取手として簡便に活用することが可能になる。これにより、精密基板の破損、圧力変動による変形を抑制し、精密基板の安全な保管、搬送、輸送が期待できる。
さらに、すすぎ水や水滴の除去が容易になるだけでなく、第二のリムの末端部の寸法が必要以上に大きくなったり、材料ロスや厚肉になるのを有効に防止することができる。さらにまた、簡易な構成で第二のリムが変形を起こすのを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態を示す分解斜視説明図である。
【図２】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体を示す説明図である。
【図３】図２のＩＩＩ部を拡大して示す要部説明図である。
【図４】図３のＩＶ‐ＩＶ線断面説明図である。
【図５】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体を上下逆にして乾燥させる状態を示す説明図である。
【図６】本発明に係る精密基板収納容器の第２の実施形態を示す要部拡大説明図である。
【図７】本発明に係る精密基板収納容器の第３の実施形態を示す要部拡大説明図である。
【図８】本発明に係る精密基板収納容器の第４の実施形態を示す要部断面説明図である。
【図９】従来の精密基板収納容器を示す分解斜視説明図である。
【図１０】従来の精密基板収納容器の容器本体を示す説明図である。
【図１１】図１０のＸ部を拡大して示す要部説明図である。
【図１２】図１１のＸＩＩ‐ＸＩＩ線断面説明図である。
【符号の説明】
１          容器本体
６          蓋体
１０        フランジ
２０        第一のリム
２１        表面
２２        裏面
３０        第二のリム
３１        第二のリム
３２        表面
３３        裏面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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