(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘッド素子およびその電気的接続用の金パッドを一組として一表面に縦軸方向および横軸方向に沿って複数列に形成したウエハを一定方向の素子列毎に切断し、切断後のローを前記ヘッド素子を有する表面とそれに背反する背面とが隣り合うように配列し、それにより露出した一方の切断面に、前記ロー毎にマスクして露光するフォトリソグラフィ技術により素子毎の凹凸状空気潤滑面を形成した後、１素子毎に切断することにより、前記ヘッド素子および前記金パッドをトレーリング面に有するスライダを製造するスライダ加工方法において、
前記切断前のウエハの前記一表面に予め、前記ローの配列時に隣り合う面に接触して両面間に間隙を形成する前記金パッド以外の突起部を設けることを特徴とするスライダ加工方法。
【請求項２】
前記突起部を、切断されない位置に形成することを特徴とする請求項１に記載のスライダ加工方法。
【請求項３】
前記突起部を、前記ヘッド素子よりもウエハ表層に配置することを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載のスライダ加工方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ヘッド素子を搭載したスライダを製造する際のスライダ加工方法に関し、詳細には、ヘッド素子を多数形成したウエハを１素子毎に切断してスライダとする際のスライダ加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気ディスク装置等において、記録媒体に対する高記録密度化への取り組みが強化されつつあり、高密度記録再生特性に優れたＧＭＲヘッドの採用や、ディスク表面の記録トラックの狭トラック化が益々進んできている。
【０００３】
一方で、ヘッド素子を搭載したスライダのディスク表面からの浮上量は２０ｎｍ程度まで極小化されてきており、さらに小さくすることが要求されている。つまりスライダには、非常に低い浮上高さと、ディスクの周速によって浮上量が変化することのない安定した浮上特性とが求められている。そしてその要求を満たすには、微細かつ複雑で幾何学的な空気潤滑面を高精度に形状加工する技術が不可欠であると同時に、ヘッド素子との位置関係も高精度に保持する必要がある。
【０００４】
空気潤滑面を形成する技術としては、ＵＳＰ４６２４０４８号公報や特開平２−０１０５１５号公報等に、フォトリソグラフィ技術を用いる方法、すなわち空気潤滑面に対応するフォトマスクを作成し、イオンビームエッチングなどのドライエッチングを行う方法が開示されている。
【０００５】
空気潤滑面を備えた従来のスライダについて具体的に説明する。
図７に示すように、ほぼ直方体形状のスライダ１は、薄膜磁気ヘッド素子２が表層かつ縁部に形成された面がトレーリング面３（空気流出端側）とされ、トレーリング面３に平行な面がリーディング面４（空気流入端側）とされ、薄膜磁気ヘッド素子２が近傍に位置する面がレールパターン５により凹凸状をなす空気潤滑面６とされており、トレーリング面３に、磁気ヘッド素子２をヘッドアンプ（図示せず）に接続する接続端子用の導電性パターン７が形成されている。薄膜磁気ヘッド素子２は、図８に示すように、基板８の上に形成されていて、上部磁極９がトレーリング面３側であって、トレーリング面３の長手方向中央に位置している。
【０００６】
スライダ１を製造する際にはまず、図９（ａ）に示すように、アルチック（Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ）などからなるセラミック基板８の表面に、ウエハプロセスによって複数の薄膜磁気ヘッド素子２、２、・・を同一方向を向けて、縦軸方向および横軸方向に複数列に形成する。また、各薄膜磁気ヘッド素子２の近傍に、薄膜磁気ヘッド素子２と同様のウエハプロセスにより導電性パターン７（図７参照）を形成する。
【０００７】
次に、図９（ｂ）に示すように、周縁の不要部分の基板８を切除して矩形の磁気ヘッドウエハ１０とし、さらに、図９（ｃ）に示すように、磁気ヘッドウエハ１０を横並びの素子列に対応する短冊状のロー１１、１１、・・に切断する。その後に、各ロー１１にスロートハイト加工により残留した応力を研磨によって除去する。
【０００８】
各ロー１１では、薄膜磁気ヘッド素子２が向いている面がトレーリング面形成面（以下、トレーリング面という）１１ａ、それに背反する面がリーディング面形成面（同リーディング面）１１ｂ、トレーリング面１１ａ，リーディング面１１ｂと交わる一方の長手方向の面が空気潤滑面形成面（同空気潤滑面）１１ｃとなる。
【０００９】
次に、図１０に示すように、多数の吸着穴１２を有する吸着固定治具１３上に複数のロー１１を、互いのトレーリング面１１ａとリーディング面１１ｂとが圧接するように、かつ空気潤滑面１１ｃが吸着穴１２を塞ぐように平行に配列し、配列したロー１１を吸着固定治具１３上に真空ポンプ（図示せず）により真空吸着する。そして、真空吸着したロー１１の空気潤滑面１１ｃに背反する面に、シート状接着剤１４を塗布したロー固定治具１５を接触させる。
【００１０】
その状態で、つまり図１１（ａ）に断面を示したような状態で、ロー固定治具１５を１１０℃まで加熱し、その後に２０℃まで冷却して、接着剤１４を硬化させる。接着剤１４が硬化した後に、真空吸着を解除し、吸着固定治具１３を取り除くことにより、図１１（ｂ）に示すように、ロー固定治具１５上に複数のロー１１を、それぞれの反り、曲がりおよび各ロー１１間の空気潤滑面１１ｃの段差が矯正された状態で得る。
【００１１】
次に、図１２（ａ）に示すように、ロー固定冶具１５上のロー１１、１１、・・の空気潤滑面１１ｃ、１１ｃ、・・に、レジストあるいはドライフィルムなどの感光性樹脂膜１６を貼着させる。その後に、ロー１１、１１、・・の上方に、所定形状のレールパターン１７を形成したフォトマスク１８を配置し、各ロー１１毎に順次に、その中央に位置する薄膜磁気ヘッド素子２の上部磁極９（図８参照）をマーカとしてフォトマスク１８の位置合わせを行ない、紫外線などの光線を照射して、感光性樹脂膜１６を露光する。
【００１２】
すべてのロー１１への露光終了後に、ロー１１、１１、・・をロー固定冶具１５とともに現像液に浸漬し、感光されていない部分の感光性樹脂膜１６を現像液に溶解させることにより、図１２（ｂ）に示すような、空気潤滑面１１ｃ上に所定のマスクパターン１９、１９、・・が形成されたロー１１、１１、・・を得る。
【００１３】
次に、ロー１１、１１、・・をイオンビームエッチング装置等を用いてエッチングして、マスクパターン１９、１９、・・が形成されていない部分の空気潤滑面１１ｃを溝状に除去する。その後にロー１１、１１、・・を洗浄液で洗浄してマスクパターン１９、１９、・・を除去することにより、図１２（ｃ）に示すように、マスクパターン１９、１９、・・に相応する所定形状のレールパターン２０が空気潤滑面１１ｃに形成されたロー１１をそれぞれ独立して得る。
【００１４】
最後に、各ロー１１を薄膜磁気ヘッド素子２毎に切断することにより、先に図７を用いて説明したような、レールパターン５により段差状の空気潤滑面６が形成されたスライダ１を得る。複数の段差を有する空気潤滑面６を形成するためには、図１２（ａ）（ｂ）の工程を繰り返す。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記した従来のスライダ加工方法のように、空気潤滑面６を形成する際に、薄膜磁気ヘッド素子２の上部磁極９を位置基準として、この位置基準からの距離が設定値になるように形状加工する場合、スライダ長（ウエハ厚）のばらつきによって、空気流入端に溝部分２１が生じることがある。しかし空気潤滑面６は、ディスク内周から外周までの範囲でスライダ１が一定のピッチ角を維持するように、空気流入端に段差がない形状が望ましく、このように溝部分２１が生じ、しかもその溝幅がばらつくと、空気潤滑面６に流入する空気量を変化させ、スライダ１の浮上量ばらつきを生じさせることになる。
【００１６】
溝部分の長さのばらつきによる浮上量ばらつきを抑制するために、空気流入端に溝部分２１を設けないように設計し、加工するには、スライダ長公差の最大値に合わせてフォトマスク１８を形成しておくことが考えられるが、この場合、スライダ長が短いと、隣り合うロー１１の空気流出端近傍を露光、現像、エッチングしてしまうという問題がある。
【００１７】
これを防止するために、隣り合うロー１１どうしの間にスペーサあるいはダミーバーを配置しているのが現状であるが、そのために手間がかかることに加えて、ダミーバーをはさむ場合には、ダミーバーがない場合に比べてロー１１を半数しか入れることができず、処理能力が半分になってしまう。スペーサをはさむ場合でも、剛性のあるスペーサを高精度に加工するために、スペーサ自体に数百μｍの厚さを必要とし、処理能力がおちてしまう。またスペーサ自体もエッチングされてしまうため、何度も使用することはできず、スペーサにかかる費用も高くなる。
【００１８】
本発明は上記問題を解決するもので、複数のヘッド素子を表面に形成したウエハを切断し、切断面にフォトリソグラフィ法により空気潤滑面を形成してスライダとするに際し、空気潤滑面の空気流入端に段差を生じず、かつ隣り合って配列した切断ウエハの切断面まで露光することなく、高精度に形状加工できるスライダ加工方法を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、ヘッド素子およびその電気的接続用の金パッドを一組として一表面に縦軸方向および横軸方向に沿って複数列に形成したウエハを一定方向の素子列毎に切断し、切断後のローを前記ヘッド素子を有する表面とそれに背反する背面とが隣り合うように配列し、それにより露出した一方の切断面に、前記ロー毎にマスクして露光するフォトリソグラフィ技術により素子毎の凹凸状空気潤滑面を形成した後、１素子毎に切断することにより、前記ヘッド素子および前記金パッドをトレーリング面に有するスライダを製造するスライダ加工方法において、前記切断前のウエハの前記一表面に予め、前記ローの配列時に隣り合う面に接触して両面間に間隙を形成する前記金パッド以外の突起部を設けることを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、ウエハ厚（したがって切断面幅）にばらつきがあっても、各列の切断ウエハに対して、ヘッド素子の所定部分を位置基準としてフォトマスクのパターンの一側を位置合わせした時に、パターンの他側を突起部による間隙に位置させることが可能である。したがって、ヘッド素子から離れた空気流入端に不要な溝を生じたり、隣り合って配列した切断ウエハまで露光することを防止することができ、精度よく形状加工できる。よって、加工誤差に起因したスライダの浮上量ばらつきを抑制できる。
【００２１】
また本発明は、上記スライダ加工方法において、ヘッド素子を表面に縦軸方向および横軸方向に沿って複数列に形成したウエハを横並びの素子列毎に切断し、切断したウエハを配列し、切断面に空気潤滑面を形成した後、１素子毎に切断することを特徴とする。
【００２２】
この構成によれば、横並びの素子列に対応する長い切断ウエハを配列すればよいので、１素子毎に切断したウエハを配列するのに比べて、配列の際の位置ずれを抑制できることに加え、配列作業が容易である。
【００２３】
さらに本発明は、上記したいずれかのスライダ加工方法において、突起部を、切断されない位置に形成することを特徴とするもので、これにより、突起部の断面が空気潤滑面と同一面になることをなくし、スライダ使用時に空気流に影響を及ぼすことを防止できる。
【００２４】
突起部はたとえば、ヘッド素子よりもウエハ表層に配置する。これにより、ウエハプロセスで形成することが可能になり、下方表面への形成に比べて、形成が容易である。
【００２５】
また突起部として、ヘッド素子およびヘッドとヘッドアンプとを接続するための接続端子用パッドを用いる。これにより、接続端子用パッドに、間隙を形成する役割をも担わせることができる。
【００２６】
望ましくは、突起部は、ウエハの厚み公差よりも大きい突出高さにて形成する。また望ましくは、突起部は、フォトマスクの位置合わせ誤差を吸収する突出高さにて形成する。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
（実施形態１）
図１は本発明の実施形態１において製造されるスライダの斜視図、図２は同スライダの製造に用いる磁気ヘッドウエハの薄膜磁気ヘッドの一部拡大断面図、図３は同磁気ヘッドウエハからスライダを形成するフォトリソグラフィ工程を示す説明図である。
【００２８】
図１において、ほぼ直方体形状のスライダ１は、先に図７を用いて説明した従来のものとほぼ同様に構成されており、薄膜磁気ヘッド素子２が表層かつ縁部に形成された面がトレーリング面３（空気流出端側）とされ、トレーリング面３に平行な面がリーディング面４（空気流入端側）とされ、薄膜磁気ヘッド素子２が近傍に位置する面がレールパターン５により凹凸状をなす空気潤滑面６とされ、トレーリング面３に、ヘッドアンプに接続する導電性パターンとしての複数の金パッド７ａが形成されている。そしてさらに、トレーリング面３の中央であって、複数の金パッド７ａの間に、後述する突起部２２が形成されている。
【００２９】
レールパターン５は、ディスク内周から外周までの範囲でスライダ１が一定のピッチ角を維持するように、薄膜磁気ヘッド素子２を囲む矩形領域と、この矩形領域を間隔をおいて囲むようにリーディング面４側の端部に配置されたほぼコの字形領域とが突出するように設計されている。
【００３０】
図２に一部示すように、磁気ヘッドウエハ１０は、従来のものと同様に構成されており、アルチック（Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ）などからなるセラミック基板８の表面に、複数の薄膜磁気ヘッド素子２、２、・・がウエハプロセスによって、同一方向を向いて縦軸方向および横軸方向に沿って複数列に形成され、各薄膜磁気ヘッド素子２の近傍に、上記した金パッド７ａが薄膜磁気ヘッド素子２と同様のウエハプロセスによって形成されている。そして、各薄膜磁気ヘッド素子２の上部磁極９の上方に、Ａｌ2Ｏ3を主成分とする突起部２２が成膜により形成されている。
【００３１】
詳細には、基板１の上面に、Ａｌ2Ｏ3等を素材とする絶縁層２３が成膜され、絶縁層２３の上面に、パーマロイ等の軟磁性材料を素材とする下部シールド層２４が成膜されている。
【００３２】
そして、下部シールド層２４の上方に間隔をおいて再生ヘッド素子部２５が配置され、再生ヘッド素子部２５の両側に縦バイアス層２６が形成され、縦バイアス層２６の上面に電極リード層２７が形成され、再生ヘッド素子部２５，電極リード層２７の上方に間隔をおいて、下部シールド層３と同様の軟磁性材料からなる共通シールド層２８が形成されていて、再生ヘッド部が構成されている。
【００３３】
また、共通シールド層２８の上方に間隔をおいて、軟磁性材料を用いた上部磁極９がされ、この上部磁極９を周回するように巻線コイル（図示せず）が設けられていて、記録ヘッド部が構成されている。
【００３４】
絶縁層２３より上の各層、素子部、磁極の周りは、Ａｌ2Ｏ3等の非磁性絶縁材料で埋められていて、下部シールド層２４と再生ヘッド素子部２５，縦バイアス層２６との間は下部ギャップ絶縁部２９、再生ヘッド素子部２５，電極リード層２７と共通シールド層２８との間は上部ギャップ絶縁部３０、共通シールド層２８と上部磁極９との間は記録ギャップ層３１とされている。
【００３５】
そして、この非磁性絶縁材料からなる絶縁層３２の上面に、上記した複数の金パッド７ａと突起部２２とが形成されている。金パッド７ａには、上記した電極リード層２６と巻線コイル（図示せず）とが接続している。
【００３６】
ここで、基板８は厚みＬ１＝１２００μｍ＋／−５μｍであり、突起部２２は高さＬ２＝２０μｍである。この突起部２２の高さＬ２は、基板８の厚みＬ１の公差より高いのが望ましいという観点から１０μｍ以上とし、フォトマスクのアライメントずれも考慮して決定している。また、上部磁極９からリーディング面までの距離Ｌ３は１２１０＋／−５μｍとしている。
【００３７】
このような磁気ヘッドウエハ１０よりスライダ１を加工するには、従来の加工方法（図９〜図１２参照）と同様にして、矩形の磁気ヘッドウエハ１０を短冊状のロー１１、１１、・・に切断し、各ロー１１を、互いのトレーリング面１１ａとリーディング面１１ｂとが隣り合うように圧接状態にて配列する。そして、配列したロー１１、１１、・・の空気潤滑面１１ｃに背反する面に、シート状接着剤１４を設けたロー固定治具１５を上方より配置し、接着剤１４の硬化後にロー固定治具１５を上下反転させることにより、ロー固定治具１５上に、複数のロー１１、１１、・・を、各ロー１１間の空気潤滑面１１ｃの段差が矯正された状態で得る。
【００３８】
図３（ａ）（ｂ）に上方および側方より示すように、上記したようにして磁気ヘッドウエハ１０からスライシングされ配列されて、フォトリソグラフィ工程に付される複数のロー１１は、隣り合う一方のロー１１のトレーリング面１１ａの複数の突起部２２が他方のロー１１のリーディング面１１ｂに圧接していて、突起部２２によって、各ロー１１の反りおよび曲がりが矯正されるとともに、各ロー１１間に突起部２２の高さＬ２に相応する幅Ｌ４の間隙Ｇが形成されている。
【００３９】
このため、フォトマスク（図示せず）として、上部磁極９からリーディング面１１ｂまでの距離を１２１５μｍとして作成したものを用いて、各ロー１１に対して、上部磁極９を位置基準としてフォトマスクのパターンの一端の位置合わせを行った場合、各ロー１１の上部磁極９からリーディング面１１ｂまでの距離Ｌ３は上述したように１２１０＋／−５μｍ（１２０５μｍ〜１２１５μｍ）であるので、パターンの他端は空気流入端（リーディング面１１ｂ）に一致するか、間隙Ｇに位置することになる。
【００４０】
したがって、露光、現像、エッチングによって、従来のように空気流入端部に溝部分が形成されたり、隣り合うロー１１の空気潤滑面１１ｃがエッチングされることはない。
【００４１】
よって、エッチングを終えた各ロー１１を薄膜磁気ヘッド素子２毎に切断することで、図１に示すような、空気流入端部に段差のない空気潤滑面６を備えたスライダ１が得られる。
【００４２】
以上のように、磁気ヘッドウエハ１０上に基板厚（ウエハ厚にほぼ等しい）公差より高い突起部２２を形成しておくことにより、空気潤滑面６のフォトリソグラフィ工程において、空気流入端部に従来のような溝部分を形成することなく、かつ隣り合うロー１１の空気潤滑面１１ｃを露光、現像、エッチングすることなく、形状加工することが可能となり、スライダ長（ウエハ厚）ばらつきに起因するスライダ１の浮上量ばらつきを抑制できる。
【００４３】
なお、突起部２２の突出高さＬ２を小さくすることは、厚みばらつきの小さい基板８を用いることで可能であるが、フォトマスクの位置合わせ精度を勘案して、５μｍ以上の突出高さを確保するのが望ましい。より望ましくは、１０μｍ以上の突出高さ、さらに望ましくは、１５μｍ以上の突出高さである。
【００４４】
また突起部２２は、ロー１１のスライシング工程で切断されない位置に形成するのが望ましく、このように形成することで、スライダ１において突起部２２の断面が空気潤滑面６と同一面になることを回避し、スライダ１の使用時に空気流に影響を及ぼすことを防止できる。
【００４５】
突起部２２の主成分は、本実施形態１ではＡｌ2Ｏ3としたが、所望の突出高さを確保できればよいのであって、Ａｌ2Ｏ3に限定されるものではない。
さらに、本実施形態１では成膜手法を用いて突起部２２を形成したが、突起部２２が形成できればよいのであって、ボンディング等他の手法を用いて形成してもよいことは言うまでもない。
【００４７】
図４、図５、図６は参考例を示す。スライダ１，磁気ヘッドウエハ１０は、実施形態１のものと同様に構成しているが、実施形態１と異なって、突起部２２は形成せず、金パッド１７ａの高さＬ５を２０μｍの高さにて形成している。
【００４８】
この金パッド１７ａの高さＬ５は、基板８の厚みＬ１の公差より高いのが望ましいという観点から１０μｍ以上とし、フォトマスクのアライメントを考慮して１５μｍ以上が望ましいという観点から決定している。
【００４９】
この磁気ヘッドウエハ１０からスライシングされ配列されて、フォトリソグラフィ工程に付される複数のロー１１は、図６（ａ）（ｂ）に上方および側方より示すように、隣り合う一方のロー１１のトレーリング面１１ａの複数の金パッド１７ａが他方のロー１１のリーディング面１１ｂに圧接していて、金パッド１７ａによって、各ロー１１の反りおよび曲がりが矯正されるとともに、各ロー１１間に金パッド１７ａの高さＬ５に相応する幅Ｌ６の間隙Ｇが形成される。
【００５０】
このため、実施形態１と同様のフォトマスクを用いて、各ロー１１に対して、上部磁極９を位置基準としてフォトマスクのパターンの一端の位置合わせを行った場合、パターンの他端は空気流入端（リーディング面１１ｂ）に一致するか、間隙Ｇに位置することになる。
【００５１】
したがって、露光、現像、エッチングによって、空気流入端部に従来のような溝部分が形成されたり、隣り合うロー１１の空気潤滑面１１ｃがエッチングされることはない。
【００５２】
よって、エッチングを終えた各ロー１１を薄膜磁気ヘッド素子２毎に切断することで、図４に示すような、空気流入端部に段差のない空気潤滑面６を備えたスライダ１が得られる。
【００５３】
以上のように、磁気ヘッドウエハ１０上に金パッド１７ａを基板厚（ウエハ厚にほぼ等しい）公差より高く形成しておくことにより、空気潤滑面６のフォトリソグラフィ工程において、空気流入端部に溝部分を形成することなく、かつ隣り合うロー１１の空気潤滑面１１ｃを露光、現像、エッチングすることなく、形状加工することが可能となり、スライダ長（ウエハ厚）ばらつきに起因するスライダ１の浮上量ばらつきを抑制できる。
【００５４】
金パッド１７の高さＬ５を小さくすることは、厚みばらつきの小さい基板８を用いることで可能であるが、フォトマスクの位置合わせ精度を勘案して、５μｍ以上の高さを確保することが望ましい。より望ましくは、１０μｍ以上の突出高さ、さらに望ましくは、１５μｍ以上の突出高さである。
【００５５】
なお、上記した実施形態１では、薄膜磁気ヘッド素子２を備えたスライダ１の空気潤滑面６をドライエッチングで形成することを念頭において説明したが、本発明は、薄膜磁気ヘッド素子や、ドライエッチングを用いたフォトリソグラフィ技術に限定されるものではなく、記録媒体に対向する空気潤滑面をフォトリソグラフィ技術によって加工するすべてのスライダ加工に有用である。例えば、ヘッドは光ヘッド、エッチングはウエットエッチング、レジストは液体レジストであってよい。
【００５６】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ウエハ工程でウエハ表面に突起部を形成しておくことにより、ウエハをスライシングし配列して行う空気潤滑面のフォトリソグラフィ工程において、前記突起部をスペーサとして作用させて、空気流入端部に不要な段差を生じることなく、また隣り合う素子列（ロー）を露光、現像、エッチングすることなく、精度よく形状加工できる。よって、各素子列をヘッド素子毎に切断して得る複数のスライダについて、スライダ長（ウエハ厚）ばらつきに起因する浮上量ばらつきを抑制することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態１の方法で形成されるスライダの斜視図
【図２】図１のスライダの形成に用いる磁気ヘッドウエハの薄膜磁気ヘッド素子部の一部拡大断面図
【図３】図２の磁気ヘッドウエハから図１のスライダを形成するフォトリソグラフィ工程を示す説明図
【図４】  参考例の方法で形成されるスライダの斜視図
【図５】図４のスライダの形成に用いる磁気ヘッドウエハの薄膜磁気ヘッド素子部の一部拡大断面図
【図６】図５の磁気ヘッドウエハから図４のスライダを形成するフォトリソグラフィ工程を示す説明図
【図７】従来のスライダの斜視図
【図８】図７のスライダの薄膜磁気ヘッド素子部を示す一部拡大断面図
【図９】磁気ヘッドウエハから図７のスライダを形成するロースライシング工程を示す説明図
【図１０】磁気ヘッドウエハから図７のスライダを形成するローアライメント工程を示す説明図
【図１１】磁気ヘッドウエハから図７のスライダを形成するロー接着工程を示す説明図
【図１２】磁気ヘッドウエハから図７のスライダを形成するフォトリソグラフィ工程を示す説明図
【符号の説明】
１    スライダ
２    薄膜磁気ヘッド素子
４    空気潤滑面
７ａ  金パッド（接続端子用パッド）
８    基板
10    磁気ヘッドウエハ
11    ロー（切断ウエハ）
11ｃ  空気潤滑面形成面（切断面）
18    フォトマスク
22    突起部
Ｇ    間隙
Ｌ１  スライダ長（基板厚）
Ｌ２  突起部の高さ
Ｌ４  間隙の幅
Ｌ５  金パッドの高さ
Ｌ６  間隙の幅
【図１】
0004371595.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
0004371595.tif 000013