(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記複数の電子ビームが通過する複数の開口部を有し、前記複数の電子ビームを独立に集束させる電子レンズ部と、
前記複数の開口部の少なくとも１つの開口部の内壁に設けられ、絶縁シートと、当該絶縁シート上に形成されたコイルとを有して、前記開口部を通過する電子ビームの照射方向に略垂直な方向に磁界を形成する第１コイル部と
を備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項２】
前記第１コイル部は、前記開口部に磁界を形成することにより、前記開口部を通過する電子ビームの焦点、光軸の位置、及び非点収差を補正する請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項３】
前記第１コイル部は、複数の前記開口部に設けられており、
複数の前記第１コイル部のそれぞれに供給する電流を独立に制御するコイル制御部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項４】
前記第１コイル部が前記開口部に形成する磁界の方向と略垂直な方向に磁界を形成する位置に設けられた第２コイル部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項５】
前記第１コイル部に供給する電流と前記第２コイル部に供給する電流とを独立に制御するコイル制御部をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項６】
前記第１コイル部及び前記第２コイル部のそれぞれと対向する位置に設けられた第３コイル部及び第４コイル部をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項７】
前記電子レンズ部は、
前記複数の電子ビームが通過する複数の開口部を含む第１磁性導体部と、
前記第１磁性導体部に対して略平行に配置され、前記複数の電子ビームが通過する複数の開口部を含む第２磁性導体部と
を有し、
前記第１コイル部は、前記第１磁性導体部の開口部に設けられており、
前記第２磁性導体部の開口部に設けられた第５コイル部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項８】
前記第１磁性導体部及び前記第２磁性導体部を冷却する冷却部をさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項９】
前記電子レンズ部と略平行に設けられ、前記第１コイル部に供給される電流が流れる配線を有する基板と、
前記第１コイル部と前記配線とを接続するワイヤー部と
をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１０】
複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させる電子レンズであって、
前記複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を有する第１主磁性導体部と、
前記第１主磁性導体部に対して略平行に配置され、前記複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部を有する第２主磁性導体部と、
前記複数の第１開口部及び前記複数の第２開口部のうちの少なくとも１つの開口部の内壁に設けられ、絶縁シートと、当該絶縁シート上に形成されたコイルとを有して、前記開口部を通過する電子ビームの照射方向に略垂直な方向に磁界を形成するコイル部と
を備えることを特徴とする電子レンズ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム露光装置及び電子レンズに関する。特に本発明は、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させ、精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置及び電子レンズに関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１は、従来の電子ビーム露光装置における多軸電子レンズ３５０の断面図である。多軸電子レンズ３５０では、１つのレンズコイル３１０と、複数の開口部３２０を有する２つの磁性導体部材３３０とを用いることにより、当該複数の開口部３２０のそれぞれにおいて複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、１つのレンズコイル３１０によって複数の開口部３２０に生じる磁界３４０は、開口部３２０の中心軸に対して対称とならないため、それぞれの開口部３２０を通過する複数の電子ビームを同じ位置で結像させることが困難であった。
【０００４】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第１の形態によると、複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、複数の電子ビームが通過する複数の開口部を有し、複数の電子ビームを独立に集束させる電子レンズ部と、複数の開口部の少なくとも１つの開口部に設けられ、開口部を通過する電子ビームの照射方向に略垂直な方向に磁界を形成する第１コイル部とを備える。
【０００６】
第１コイル部は、開口部の内壁に設けられてもよい。第１コイル部は、磁界を形成するコイルと、コイルと開口部の内壁との間に設けられた絶縁部材とを有してもよい。第１コイル部は、複数の開口部に設けられており、複数の第１コイル部のそれぞれに供給する電流を独立に制御するコイル制御部をさらに備えてもよい。第１コイル部が開口部に形成する磁界の方向と略垂直な方向に磁界を形成する位置に設けられた第２コイル部をさらに備えてもよい。
【０００７】
第１コイル部に供給する電流と第２コイル部に供給する電流とを独立に制御するコイル制御部をさらに備えてもよい。第１コイル部及び第２コイル部のそれぞれと対向する位置に設けられた第３コイル部及び第４コイル部をさらに備えてもよい。
【０００８】
電子レンズ部は、複数の電子ビームが通過する複数の開口部を含む第１磁性導体部と、第１磁性導体部に対して略平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の開口部を含む第２磁性導体部とを有し、第１コイル部は、第１磁性導体部の開口部に設けられており、第２磁性導体部の開口部に設けられた第５コイル部をさらに備えてもよい。
【０００９】
第１磁性導体部及び第２磁性導体部を冷却する冷却部をさらに備えてもよい。電子レンズ部と略平行に設けられ、第１コイル部に供給される電流が流れる配線を有する基板と、第１コイル部と配線とを接続するワイヤー部とをさらに備えてもよい。
【００１０】
本発明の他の形態によると、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させる電子レンズであって、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を有する第１主磁性導体部と、第１主磁性導体部に対して略平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部を有する第２主磁性導体部と、複数の第１開口部及び複数の第２開口部のうちの少なくとも１つの開口部に設けられ、開口部を通過する電子ビームの照射方向に略垂直な方向に磁界を形成するコイル部とを備える。
【００１１】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００１３】
図２は、本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の構成を示す。電子ビーム露光装置１００は、電子ビームによりウェハに所定の露光処理を施す露光部１５０と、露光部１５０に含まれる各構成の動作を制御する制御系１４０を備える。
【００１４】
露光部１５０は、筐体８内部において複数の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に成形する電子ビーム成形手段１１０と、複数の電子ビームをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替える照射切替手段１１２と、ウェハ４４に転写されるパターンの像の向き及びサイズを調整するウェハ用投影系１１４を含む電子光学系を備える。また、露光部１５０は、パターンを露光すべきウェハ４４を載置するウェハステージ４６と、ウェハステージ４６を駆動するウェハステージ駆動部４８とを含むステージ系を備える。さらに、露光部１５０は、ウェハ４４又はウェハステージ４６に設けられるマーク部に照射された電子ビームにより、マーク部から放射された２次電子や反射電子等を検出する電子検出部４０を備える。電子検出部４０は、検出した電子量に対応した検出信号を反射電子処理部９４に出力する。
【００１５】
電子ビーム成形手段１１０は、複数の電子ビームを発生させる電子ビーム発生部１０と、電子ビームを通過させることにより、照射された電子ビームの断面形状を成形する複数の開口部を有する第１成形部材１４及び第２成形部材２２と、複数の電子ビームが通過する複数の開口部を有し、複数の電子ビームのそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第１多軸電子レンズ１６と、第１成形部材１４を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する第１成形偏向部１８及び第２成形偏向部２０とを有する。さらに、電子ビーム成形手段１１０は、第１多軸電子レンズ１６の所望の開口部に設けられ、当該開口部を通過する電子ビームの照射方向に略垂直な方向に磁界を形成するコイル部を有する。
【００１６】
照射切替手段１１２は、複数の電子ビームを独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第２多軸電子レンズ２４と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に偏向させることにより、それぞれの電子ビームをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替えるブランキング電極アレイ２６と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブランキング電極アレイ２６で偏向された電子ビームを遮蔽する電子ビーム遮蔽部材２８とを有する。さらに、照射切替手段１１２は、第２多軸電子レンズ１６の所望の開口部に設けられ、当該開口部を通過する電子ビームの照射方向に略垂直な方向に磁界を形成するコイル部を有する。他の例においてブランキング電極アレイ２６は、ブランキング・アパーチャ・アレイ・デバイスであってもよい。
【００１７】
ウェハ用投影系１１４は、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小する第３多軸電子レンズ３４と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第４多軸電子レンズ３６と、複数の電子ビームをウェハ４４の所望の位置に、それぞれの電子ビームに対して独立に偏向する偏向部３８と、ウェハ４４に対する対物レンズとして機能し、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束する第５多軸電子レンズ５２とを有する。さらに、ウェハ用投影系１１４は、第３多軸電子レンズ１６、第４多軸電子レンズ、及び第５多軸電子レンズの所望の開口部に設けられ、当該開口部を通過する電子ビームの照射方向に略垂直な方向に磁界を形成するコイル部を有する。
【００１８】
制御系１４０は、個別制御部１２０及び統括制御部１３０を備える。個別制御部１２０は、電子ビーム制御部８０と、多軸電子レンズ制御部８２と、コイル制御部８３と、成形偏向制御部８４と、ブランキング電極アレイ制御部８６と、偏向制御部９２と、反射電子処理部９４と、ウェハステージ制御部９６とを有する。統括制御部１３０は、電子検出部４０から出力された検出信号に基づいて、電子ビームの照射位置を検出する位置検出部１３２を有する。また、統括制御部１３０は、例えばワークステーションであって、個別制御部１２０に含まれる各制御部を統括制御する。
【００１９】
電子ビーム制御部８０は、電子ビーム発生部１０を制御する。多軸電子レンズ制御部８２は、第１多軸電子レンズ１６、第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５多軸電子レンズ５２に供給する電流を制御する。コイル制御部８３は、第１多軸電子レンズ１６、第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５多軸電子レンズ５２の開口部に設けられたコイル部に供給する電流を制御する。成形偏向制御部８４は、第１成形偏向部１８及び第２成形偏向部２０を制御する。ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制御部９２は、偏向部３８に含まれる複数の偏向器が有する偏向電極に印加する電圧を制御する。反射電子処理部９４は、電子検出部４０から出力された検出信号と、当該検出信号を出力した電子検出部４０とを対応づけて、統括制御部１３０の位置検出部１３２に通知する。ウェハステージ制御部９６は、ウェハステージ駆動部４８を制御し、ウェハステージ４６を所定の位置に移動させる。
【００２０】
本実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の動作について説明する。まず、電子ビーム発生部１０は、複数の電子ビームを生成する。第１成形部材１４は、電子ビーム発生部１０により発生され、第１成形部材１４に照射された複数の電子ビームを、第１成形部材１４に設けられた複数の開口部を通過させることにより成形する。他の例においては、電子ビーム発生部１０において発生した電子ビームを複数の電子ビームに分割する手段を更に有することにより、複数の電子ビームを生成してもよい。
【００２１】
第１多軸電子レンズ１６は、矩形に成形された複数の電子ビームを独立に集束し、第２成形部材２２に対する電子ビームの焦点を、電子ビーム毎に独立に調整する。ここで、第１多軸電子レンズ１６の開口部に設けられたコイル部は、当該開口部に磁界を形成し、通過する電子ビームの焦点、光軸の位置、及び非点収差を補正する。第１成形偏向部１８は、第１成形部材１４において矩形形状に成形された複数の電子ビームを、第２成形部材における所望の位置に照射するように、それぞれ独立に偏向する。
【００２２】
第２成形偏向部２０は、第１成形偏向部１８で偏向された複数の電子ビームを、第２成形部材２２に対して略垂直な方向にそれぞれ偏向し、第２成形部材２２に照射する。そして矩形形状を有する複数の開口部を含む第２成形部材２２は、第２成形部材２２に照射された矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェハ４４に照射すべき所望の断面形状を有する電子ビームにさらに成形する。
【００２３】
第２多軸電子レンズ２４は、複数の電子ビームを独立に集束して、ブランキング電極アレイ２６に対する電子ビームの焦点を、それぞれ独立に調整する。ここで、第２多軸電子レンズ２４の開口部に設けられたコイル部は、当該開口部に磁界を形成し、通過する電子ビームの焦点、光軸の位置、及び非点収差を補正する。そして、第２多軸電子レンズ２４により焦点がそれぞれ調整された複数の電子ビームは、ブランキング電極アレイ２６に含まれる複数のアパーチャを通過する。
【００２４】
ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６における各アパーチャの近傍に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御する。ブランキング電極アレイ２６は、偏向電極に印加される電圧に基づいて、電子ビームをウェハ４４に照射させるか否かを切替える。
【００２５】
ブランキング電極アレイに２６により偏向されない電子ビームは、第３多軸電子レンズ３４を通過する。そして第３多軸電子レンズ３４は、第３多軸電子レンズ３４を通過する電子ビームの電子ビーム径を縮小する。ここで、第３多軸電子レンズ３４の開口部に設けられたコイル部は、当該開口部に磁界を形成し、通過する電子ビームの焦点、光軸の位置、及び非点収差を補正する。縮小された電子ビームは、電子ビーム遮蔽部材２８に含まれる開口部を通過する。また、電子ビーム遮蔽部材２８は、ブランキング電極アレイ２６により偏向された電子ビームを遮蔽する。電子ビーム遮蔽部材２８を通過した電子ビームは、第４多軸電子レンズ３６に入射される。そして第４多軸電子レンズ３６は、入射された電子ビームをそれぞれ独立に集束し、偏向部３８に対する電子ビームの焦点をそれぞれ調整する。ここで、第４多軸電子レンズ３６の開口部に設けられたコイル部は、当該開口部に磁界を形成し、通過する電子ビームの焦点、光軸の位置、及び非点収差を補正する。第４多軸電子レンズ３６により焦点が調整された電子ビームは、偏向部３８に入射される。
【００２６】
偏向制御部９２は、偏向部３８に含まれる複数の偏向器を制御し、偏向部３８に入射されたそれぞれの電子ビームを、ウェハ４４に対して照射すべき位置にそれぞれ独立に偏向する。第５多軸電子レンズ５２は、第５多軸電子レンズ５２を通過するそれぞれの電子ビームのウェハ４４に対する焦点を調整する。ここで、第５多軸電子レンズ５２の開口部に設けられたコイル部は、当該開口部に磁界を形成し、通過する電子ビームの焦点、光軸の位置、及び非点収差を補正する。そしてウェハ４４に照射すべき断面形状を有するそれぞれの電子ビームは、ウェハ４４に対して照射すべき所望の位置に照射される。
【００２７】
露光処理中、ウェハステージ駆動部４８は、ウェハステージ制御部９６からの指示に基づき、一定方向にウェハステージ４６を連続移動させるのが好ましい。そして、ウェハ４４の移動に合わせて、電子ビームの断面形状をウェハ４４に照射すべき形状に成形し、ウェハ４４に照射すべき電子ビームを通過させるアパーチャを定め、さらに偏向部３８によりそれぞれの電子ビームをウェハ４４に対して照射すべき位置に偏向させることにより、ウェハ４４に所望の回路パターンを露光することができる。
【００２８】
図３は、本実施形態に係るコイル部６０を示す。図３（ａ）に示すように、コイル部６０は、絶縁部材６５と、コイル４００とを有する。コイル部６０は、ラーメン形状を有するサドルコイルであることが好ましい。また、絶縁部材６５は、ポリイミド等の絶縁シートであることが好ましい。
【００２９】
また、図３（ｂ）に示すように、本実施形態におけるコイル部６０は、多軸電子レンズの開口部７０の内壁に設けられる。そして、絶縁部材６５は、コイル４００と多軸電子レンズの磁性導体部７５とを絶縁する。また、コイル部６０は、電流が供給されることによって、開口部７０を通過する電子ビームに略垂直な方向に磁界を発生するように設けられることが好ましい。
【００３０】
電子ビーム露光装置１００に含まれる第１多軸電子レンズ１６、第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ１６、第４多軸電子レンズ、及び第５多軸電子レンズは、同様の構成を有しており、以下において、多軸電子レンズの構成に関して、代表して第１多軸電子レンズ１６の構成に基づいて説明する。
【００３１】
図４は、本実施形態に係る第１多軸電子レンズ１６を示す。図４（ａ）は、第１多軸電子レンズ１６の全体図である。図４（ａ）に示すように、第１多軸電子レンズ１６は、複数の電子ビームが通過する複数の開口部７０が設けられた磁性導体部７５と、磁性導体部７５の周囲に設けられ、磁界を発生させるコイル部９５０とを有する。また、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示した開口部７０付近の拡大図を示す。図４（ｂ）に示すように、それぞれの開口部７０の内壁に、開口部７０を通過する電子ビームの照射方向に略垂直な方向に磁界を発生するようにコイル部６０ａが設けられることが好ましい。また、それぞれの開口部７０に、コイル部６０ａが開口部７０に形成する磁界の方向と略垂直な方向に磁界を形成するようにコイル部６０ｂが設けられることが好ましい。さらに、コイル部６０ａ及び６０ｂのそれぞれと対向する位置に、コイル部６０ｃ及びコイル部６０ｄのそれぞれが設けられることが好ましい。
【００３２】
本実施形態における電子ビーム露光装置１００は、直交する２つの磁界をそれぞれ形成する２つのコイル部６０ａ及び６０ｂを用いて、電子レンズの開口部７０に形成される磁界を補正することにより、開口部７０を通過する電子ビームの焦点、光軸の位置、及び非点収差を補正することができる。
【００３３】
図５は、本実施形態に係るコイル制御部８３の構成を示す。コイル制御部８３は、第１多軸電子レンズ１６に設けられた複数のコイル部６０を統括的に制御する統括コイル制御部７００と、第１多軸電子レンズ１６の開口部７０毎に、開口部７０に設けられた複数のコイル部６０に供給する電流を制御する個別コイル制御部９００とを有する。統括コイル制御部７００は、第１多軸電子レンズ１６の複数の開口部７０のそれぞれに形成される磁界が略等しくなるように、コイル部６０によってそれぞれの開口部７０に形成させる磁界を決定し、個別コイル制御部９００に通知する。そして、個別コイル制御部９００は、統括コイル制御部７００からの指示に基づいて、当該個別コイル部８０３ｂに対応する開口部７０に設けられた複数のコイル部６０に供給する電流を制御する。
【００３４】
各個別コイル制御部９００は、それぞれの個別コイル制御部９００が制御すべき複数のコイル部６０に対して、異なる電流を供給して電子ビームの非点収差及び／又は光軸の位置を補正してもよい。また、各個別コイル制御部９００は、それぞれの個別コイル制御部９００が制御すべき複数のコイル部６０に対して、略等しい電流を供給して電子ビームの焦点を補正してもよい。
【００３５】
また、個別コイル制御部９００は、所定のグループに分類されたコイル部６０に供給する電流を統括的に制御してもよい。例えば、第１多軸電子レンズ１６の中心軸から略等しい距離に設けられた複数の開口部７０において略等しい磁界が形成されており、当該複数の開口部７０に同様の補正を行えばよい場合、１つのコイル制御部８３は、当該複数の開口部７０に設けられたコイル部６０を１つのグループとして、当該複数の開口部７０のそれぞれに設けられたコイル部６０に対して同様の制御を行ってもよい。
【００３６】
また、電子ビーム露光装置１００は、電子ビームの照射位置、形状等に基づいて、当該電子ビームの照射位置、形状等を補正する補正値を算出する手段をさらに備えてもよい。そして、コイル制御部８３は、算出された補正値に基づいて、コイル部６０を制御してもよい。
【００３７】
図６は、第１多軸電子レンズ１６の断面図を示す。第１多軸電子レンズ１６は、複数の電子ビームが通過する複数の開口部７０ａを有する第１磁性導体部７５ａ、及び第１磁性導体部７５ａに対して略平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の開口部７０ｂを有する第２主磁性導体部７５ｂとを含む磁性導体部７５と、磁性導体部７５の周囲に設けられ、磁界を発生させるコイル部９５０と、第１磁性導体部７５ａの開口部７０ａに設けられたコイル部６０と、第２磁性導体部７５ｂの開口部７０ｂに設けられたコイル部６０とを有する。また、コイル部６０は、第１磁性導体部７５ａ及び第２磁性導体部７５ｂの少なくとも一方に設けられてもよい。
【００３８】
また、電子ビーム露光装置１００は、第１多軸電子レンズ１６と略平行に設けられ、コイル部６０に供給する電流が流れる配線２１０を有する基板２００と、コイル部６０と配線２１０とを接続するワイヤー部２２０とをさらに備えてもよい。基板２１０には、複数のコイル部６０のそれぞれに供給すべき電流が通過する複数の配線２１０が設けられる。複数の配線２１０の一端は、複数のコイル部６０のそれぞれと、ワイヤー部２２０によって電気的に接続される。また、複数の配線２１０の他端は、コイル制御部８３に接続されることにより、コイル制御部８３は、それぞれのコイル部６０に所定の電流を供給することができる。
【００３９】
さらに、基板２００は、第１磁性導体部７５ａ及び第２磁性導体部７５ｂのそれぞれに対して設けられてもよく、第１磁性導体部７５ａの開口部７０ａと、第２磁性導体部７５ｂの開口部７０ｂとに設けられた複数のコイル部６０は、第１磁性導体部７５ａ及び第２磁性導体部７５ｂのそれぞれに対して設けられた基板２００に設けられた配線２１０とそれぞれ接続される。
【００４０】
また、第１多軸電子レンズ１６は、第１磁性導体部７５ａ及び第２磁性導体部７５ｂを冷却する冷却部３００をさらに備えてもよい。冷却部３００は、第１磁性導体部７５ａの開口部７０ａに設けられたコイル部６０、及び第２磁性導体部７５ｂの開口部７０ｂに設けられたコイル部６０に電流が流れることよって発生する、第１磁性導体部７５ａ及び第２磁性導体部７５ｂの温度上昇を押さえる。例えば、冷却部３００は、第１磁性導体部７５ａ及び第２磁性導体部７５ｂの表面に設けられた導管に冷媒を流すことによって、第１磁性導体部７５ａ及び第２磁性導体部７５ｂを冷却することができる。
【００４１】
本実施形態における電子ビーム露光装置１００は、直交する２つの磁界をそれぞれ形成する２つのコイル部６０を用いて、電子レンズの開口部７０に形成される磁界を補正することにより、開口部７０を通過する電子ビームの焦点、光軸の位置、及び非点収差を補正することができる。したがって、本実施形態の電子ビーム露光装置１００によれば、精度よくウェハにパターンを露光することができる。
【００４２】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることができる。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【００４３】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させ、精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の電子ビーム露光装置における多軸電子レンズ３５０の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の構成を示す図である。
【図３】コイル部６０を示す図である。
【図４】第１多軸電子レンズ１６の上面図を示す。
【図５】コイル制御部８３の構成を示す図である。
【図６】第１多軸電子レンズ１６の断面図を示す。
【符号の説明】
８・・筐体、１０・・電子ビーム発生部、１４・・第１成形部材、１６・・第１多軸電子レンズ、１８・・第１成形偏向部、２０・・第２成形偏向部、２２・・第２成形部材、２４・・第２多軸電子レンズ、２６・・ブランキング電極アレイ、２８・・電子ビーム遮蔽部材、３４・・第３多軸電子レンズ、３６・・第４多軸電子レンズ、３８・・偏向部、４０・・電子検出部、４４・・ウェハ、４６・・ウェハステージ、４８・・ウェハステージ駆動部、５２・・第５多軸電子レンズ、６０・・コイル部、６５・・絶縁部材、７０・・開口部、７５・・磁性導体部、７５ａ・・第１磁性導体部、７５ｂ・・第２磁性導体部、８０・・電子ビーム制御部、８２・・多軸電子レンズ制御部、８３・・コイル制御部、８４・・成形偏向制御部、８６・・ブランキング電極アレイ制御部、９２・・偏向制御部、９４・・反射電子処理部、９６・・ウェハステージ制御部、１００・・電子ビーム露光装置、１１０・・電子ビーム成形手段、１１２・・照射切替手段、１１４・・ウェハ用投影系、１２０・・個別制御系、１３０・・統括制御部、１４０・・制御系、１５０・・露光部、２００・・基板、２１０・・配線、２２０・・配線、３００・・冷却部、４００・・コイル、７００・・統括コイル制御部、９００・・個別コイル制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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