(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記複数の電子ビームをそれぞれ偏向する複数の偏向器を有する偏向部と、
前記複数の偏向器の間に、前記電子ビームの照射方向に沿って、前記偏向器の一端より前記電子ビーム発生部に近い位置から、前記偏向器の前記一端より前記ウェハに近い位置まで設けられた遮蔽電極を有する遮蔽部と
を備える電子ビーム露光装置。
【請求項２】
前記遮蔽電極は、前記複数の偏向器のそれぞれの間に格子状に設けられる請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項３】
前記遮蔽電極は、前記複数の偏向器のそれぞれの周囲に設けられる請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項４】
前記遮蔽電極は、前記電子ビームの照射方向と略垂直な方向に複数の開口部を有する請求項１から３のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項５】
前記遮蔽電極は、網目状である請求項４に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項６】
前記遮蔽電極は、前記偏向器より前記電子ビーム発生部に近い位置から、前記偏向器より前記ウェハに近い前記位置まで設けられる請求項１から５のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項７】
前記偏向部は、前記電子ビームの照射方向と略垂直に設けられ、前記複数の偏向器が設けられた偏向器基板をさらに有し、
前記遮蔽電極は、前記偏向器基板に保持される請求項１から６のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項８】
前記偏向部は、前記電子ビームの照射方向と略垂直に設けられ、前記複数の偏向器が設けられた偏向器基板をさらに有し、
前記遮蔽部は、前記偏向器基板と略平行に設けられ、前記遮蔽電極を保持する遮蔽基板をさらに有する請求項１から６のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項９】
前記偏向部は、前記電子ビームの照射方向と略垂直に設けられ、前記複数の偏向器が設けられた偏向器基板をさらに有し、
前記遮蔽部は、第１遮蔽電極と、第２遮蔽電極と、第１遮蔽基板と、第２遮蔽基板とを有し、
前記第１遮蔽基板は、前記偏向器基板と略平行に設けられ、前記第１遮蔽電極を保持し、
前記第２遮蔽電極は、前記偏向器基板を挟んで前記第１遮蔽電極と対向する位置に設けられ、
前記第２遮蔽基板は、前記偏向器基板を挟んで前記第１遮蔽基板と対向する位置に、前記偏向器基板と略平行に設けられ、前記第２遮蔽電極を保持する請求項１から６のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１０】
前記複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１磁性導体部と、
前記第１磁性導体部と略平行に設けられ、前記第１開口部のそれぞれを通過した前記複数の電子ビームがそれぞれ通過する複数の第２開口部を含む第２磁性導体部と
を有し、前記複数の電子ビームを独立に集束する電子レンズ部をさらに備え、
前記偏向器は、前記第１開口部の内側に設けられており、
前記遮蔽電極は、前記第１磁性導体部と前記第２磁性導体部との間に設けられる
請求項１から５のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１１】
前記複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１磁性導体部と、
前記第１磁性導体部と略平行に設けられ、前記第１開口部のそれぞれを通過した前記複数の電子ビームがそれぞれ通過する複数の第２開口部を含む第２磁性導体部と
を有し、前記複数の電子ビームを独立に集束する電子レンズ部をさらに備え、
前記偏向器は、前記第１開口部の内側に設けられており、
前記遮蔽部は、第１遮蔽電極、第２遮蔽電極、及び第３遮蔽電極を有し、
前記第１遮蔽電極は、前記第１磁性導体部において前記複数の第１開口部の間に、前記第１磁性導体部から前記電子ビーム発生部の方向に設けられており、
前記第２遮蔽電極は、前記第２磁性導体部において前記複数の第２開口部の間に、前記第２磁性導体部から前記ウェハの方向に設けられており、
前記第３遮蔽電極は、前記複数の第１開口部の間に、且つ前記第１磁性導体部と前記第２磁性導体部との間に設けられている請求項１から６のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１２】
前記遮蔽部は、
前記第１磁性導体部と略平行に設けられ、前記第１遮蔽電極を保持する第１遮蔽基板と、
前記第２磁性導体部と略平行に設けられ、前記第２遮蔽電極を保持する第２遮蔽基板と
をさらに有する請求項１１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１３】
複数の電子ビームを独立に偏向する電子ビーム偏向装置であって、
基板と、
前記基板に設けられた複数の開口部と、
前記基板において、前記複数の開口部のそれぞれに設けられた複数の偏向器と、
前記基板において、前記複数の開口部の間に設けられた第１遮蔽電極と
を備え、
前記偏向器は、前記基板から、前記基板と略垂直な方向である第１の方向に沿って設けられており、
前記第１遮蔽電極は、前記基板から、前記第１の方向に沿って前記偏向器より長く設けられる電子ビーム偏向装置。
【請求項１４】
前記基板を挟んで前記第１遮蔽電極と対向する位置に、前記第１の方向に沿って設けられた第２遮蔽電極をさらに備える請求項１３に記載の電子ビーム偏向装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム露光装置及び電子ビーム偏向装置に関する。特に本発明は、複数の電子ビームをそれぞれ偏向する複数の偏向器が間に生成される電界を遮蔽する遮蔽部を備える電子ビーム露光装置及び電子ビーム偏向装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１は、従来の電子ビーム露光装置における電子ビーム偏向装置４００の構成を示す。電子ビーム偏向装置４００は、基板５００と、基板５００に設けられた開口部６００、６１０、及び６２０と、開口部のそれぞれに設けられた偏向器５１０、５２０、及び５３０とを備える。電子ビーム偏向装置４００において、偏向器５１０、５２０、及び５３０が有する偏向電極に電圧を印加するすることにより、開口部６００、６１０、及び６２０を通過する電子ビームを独立に偏向する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、複数の偏向器５１０、５２０、及び５３０を備える電子ビーム偏向装置４００において、所定の偏向器によって生成された電界が、当該所定の偏向器を通過する電子ビーム以外の電子ビームに影響を及ぼしてしまうという問題がある。具体的には、開口部６００を通過する電子ビームを偏向すべく偏向器５１０が有する偏向電極に負の電圧を印加し、開口部６２０を通過する電子ビームを偏向すべく偏向器５３０が有する偏向電極に正の電圧を印加する。また、開口部６１０を通過する電子ビームを直進させるべく、偏向器５２０が有する偏向電極には電圧を印加しない。しかし、図１に示すように、偏向器５１０と偏向器５３０との電位差により、偏向器５２０を通過する電子ビームの軌道上に電界が生成され、偏向器５２０を通過する電子ビームは、正の電位が印加された偏向器５３０の方向に偏向されてしまう。
【０００４】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる電子ビーム露光装置及び電子ビーム偏向装置を提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第１の形態によると、複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、複数の電子ビームをそれぞれ偏向する複数の偏向器を有する偏向部と、複数の偏向器の間に、電子ビームの照射方向に沿って、偏向器の一端より電子ビーム発生部に近い位置から、偏向器の一端よりウェハに近い位置まで設けられた第１遮蔽電極を有する遮蔽部とを備える。
【０００６】
第１遮蔽電極は、複数の偏向器のそれぞれの間に格子状に設けられてもよい。第１遮蔽電極は、複数の偏向器のそれぞれの周囲に設けられてもよい。
【０００７】
偏向部は、電子ビームの照射方向と略垂直に設けられ、複数の偏向器が設けられた偏向器基板をさらに有し、第１遮蔽電極は、偏向器基板に保持されてもよい。
【０００８】
第１遮蔽電極は、偏向器より電子ビーム発生部に近い位置から、偏向器よりウェハに近い位置まで設けられてもよい。
【０００９】
偏向部は、電子ビームの照射方向と略垂直に設けられ、複数の偏向器が設けられた偏向器基板をさらに有し、遮蔽部は、偏向器基板と略平行に設けられ、第１遮蔽電極を保持する第１遮蔽基板をさらに有してもよい。
【００１０】
遮蔽部は、偏向器基板を挟んで第１遮蔽電極と対向する位置に、電子ビームの照射方向に沿って設けられた第２遮蔽電極と、偏向器基板を挟んで第１遮蔽基板と対向する位置に、偏向器基板と略平行に設けられ、第２遮蔽電極を保持する第２遮蔽基板とをさらに備えてもよい。
【００１１】
第１遮蔽電極は、電子ビームの照射方向と略垂直な方向に複数の開口部を有してもよい。第１遮蔽電極は、網目状であってもよい。
【００１２】
複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１磁性導体部と、第１磁性導体部と略平行に設けられ、第１開口部のそれぞれを通過した複数の電子ビームがそれぞれ通過する複数の第２開口部を含む第２磁性導体部とを有し、複数の電子ビームを独立に集束する電子レンズ部をさらに備え、偏向器は、第１開口部の内側に設けられており、第１遮蔽電極は、第１磁性導体部と第２磁性導体部との間に設けられてもよい。
【００１３】
複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１磁性導体部と、第１磁性導体部と略平行に設けられ、第１開口部のそれぞれを通過した複数の電子ビームがそれぞれ通過する複数の第２開口部を含む第２磁性導体部とを有し、複数の電子ビームを独立に集束する電子レンズ部をさらに備え、偏向器は、第１開口部の内側に設けられており、第１遮蔽電極は、第２磁性導体部において複数の第２開口部の間に、第２磁性導体部からウェハの方向に設けられており、遮蔽部は、第１磁性導体部において複数の第１開口部の間に、第１磁性導体部から電子ビーム発生部の方向に設けられた第２遮蔽電極と、複数の第１開口部の間に、且つ第１磁性導体部と第２磁性導体部との間に電子ビームの照射方向に沿って設けられた第３遮蔽電極とをさらに有してもよい。
【００１４】
遮蔽部は、第２磁性導体部と略平行に設けられ、第１遮蔽電極を保持する第１遮蔽基板と、第１磁性導体部と略平行に設けられ、第２遮蔽電極を保持する第２遮蔽基板とをさらに有してもよい。
【００１５】
本発明の第２の形態によると、複数の電子ビームを独立に偏向する電子ビーム偏向装置であって、基板と、基板に設けられた複数の開口部と、基板において、複数の開口部のそれぞれに設けられた複数の偏向器と、基板において、複数の開口部の間に設けられた第１遮蔽電極とを備える。
【００１６】
偏向器は、基板から、基板と略垂直な方向である第１の方向に沿って設けられており、第１遮蔽電極は、基板から、第１の方向に沿って偏向器より長く設けられてもよい。
【００１７】
基板を挟んで第１遮蔽電極と対向する位置に、第１の方向に沿って設けられた第２遮蔽電極をさらに備えてもよい。
【００１８】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図２は、本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の構成を示す。電子ビーム露光装置１００は、電子ビームによりウェハに所定の露光処理を施す露光部１５０と、露光部１５０に含まれる各構成の動作を制御する制御系１４０を備える。
【００２０】
露光部１５０は、筐体８内部において複数の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に成形する電子ビーム成形手段１１０と、複数の電子ビームをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替える照射切替手段１１２と、ウェハ４４に転写されるパターンの像の向き及びサイズを調整するウェハ用投影系１１４を含む電子光学系を備える。また、露光部１５０は、パターンを露光すべきウェハ４４を載置するウェハステージ４６と、ウェハステージ４６を駆動するウェハステージ駆動部４８とを含むステージ系を備える。さらに、露光部１５０は、ウェハ４４又はウェハステージ４６に設けられるマーク部５０に照射された電子ビームにより、マーク部から放射された２次電子や反射電子等を検出する電子検出部４０を備える。電子検出部４０は、マーク部５０から放射された電子を検出して、検出した電子量に対応した検出信号を反射電子処理部９４に出力する。
【００２１】
電子ビーム成形手段１１０は、複数の電子ビームを発生させる電子ビーム発生部１０と、電子ビームを通過させることにより、照射された電子ビームの断面形状を成形する複数の開口部を有する第１成形部材１４及び第２成形部材２２と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第１多軸電子レンズ１６と、第１成形部材１４を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する第１成形偏向部１８及び第２成形偏向部２０と、第１成形偏向部１８及び第２成形偏向部２０が有する複数の偏向器の間に設けられた遮蔽部３００とを有する。
【００２２】
照射切替手段１１２は、複数の電子ビームを独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第２多軸電子レンズ２４と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に偏向させることにより、それぞれの電子ビームをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替えるブランキング電極アレイ２６と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブランキング電極アレイ２６で偏向された電子ビームを遮蔽する電子ビーム遮蔽部材２８とを有する。他の例においてブランキング電極アレイ２６は、ブランキング・アパーチャ・アレイ・デバイスであってもよい。
【００２３】
ウェハ用投影系１１４は、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小する第３多軸電子レンズ３４と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第４多軸電子レンズ３６と、複数の電子ビームをウェハ４４の所望の位置に、それぞれの電子ビームに対して独立に偏向する偏向部３８と、偏向部３８が含む複数の偏向器と間に設けられた遮蔽部と、ウェハ４４に対する対物レンズとして機能し、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束する第５多軸電子レンズ５２とを有する。
【００２４】
制御系１４０は、個別制御部１２０及び統括制御部１３０を備える。個別制御部１２０は、電子ビーム制御部８０と、多軸電子レンズ制御部８２と、成形偏向制御部８４と、ブランキング電極アレイ制御部８６と、偏向制御部９２と、反射電子処理部９４と、ウェハステージ制御部９６とを有する。統括制御部１３０は、例えばワークステーションであって、個別制御部１２０に含まれる各制御部を統括制御する。
【００２５】
電子ビーム制御部８０は、電子ビーム発生部１０を制御する。多軸電子レンズ制御部８２は、第１多軸電子レンズ１６、第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５多軸電子レンズ５２に供給する電流を制御する。成形偏向制御部８４は、第１成形偏向部１８及び第２成形偏向部２０を制御する。ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制御部９２は、偏向部３８に含まれる複数の偏向器が有する偏向電極に印加する電圧を制御する。反射電子処理部９４は、電子検出部４０の電子検出部から出力された検出信号を統括制御部１３０に出力する。ウェハステージ制御部９６は、ウェハステージ駆動部４８を制御し、ウェハステージ４６を所定の位置に移動させる。また、電子ビーム露光装置１００は、筐体８に設けられた複数の排気口７００と、排気口７００に接続され、筐体８内部を減圧する減圧手段をさらに備える。当該減圧手段は、筐体８内部の圧力を大気圧より低い圧力に保つ。
【００２６】
本実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の動作について説明する。まず、電子ビーム発生部１０は、複数の電子ビームを生成する。第１成形部材１４は、電子ビーム発生部１０により発生され、第１成形部材１４に照射された複数の電子ビームを、第１成形部材１４に設けられた複数の開口部を通過させることにより成形する。他の例においては、電子ビーム発生部１０において発生した電子ビームを複数の電子ビームに分割する手段を更に有することにより、複数の電子ビームを生成してもよい。
【００２７】
第１多軸電子レンズ１６は、矩形に成形された複数の電子ビームを独立に集束し、第２成形部材２２に対する電子ビームの焦点を、電子ビーム毎に独立に調整する。第１成形偏向部１８は、第１成形部材１４において矩形形状に成形された複数の電子ビームを、第２成形部材における所望の位置に照射するように、それぞれ独立に偏向する。
【００２８】
第２成形偏向部２０は、第１成形偏向部１８で偏向された複数の電子ビームを、第２成形部材２２に対して略垂直な方向にそれぞれ偏向し、第２成形部材２２に照射する。そして矩形形状を有する複数の開口部を含む第２成形部材２２は、第２成形部材２２に照射された矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェハ４４に照射すべき所望の断面形状を有する電子ビームにさらに成形する。
【００２９】
第２多軸電子レンズ２４は、複数の電子ビームを独立に集束して、ブランキング電極アレイ２６に対する電子ビームの焦点を、それぞれ独立に調整する。そして、第２多軸電子レンズ２４により焦点がそれぞれ調整された複数の電子ビームは、ブランキング電極アレイ２６に含まれる複数のアパーチャを通過する。
【００３０】
ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６における各アパーチャの近傍に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御する。ブランキング電極アレイ２６は、偏向電極に印加される電圧に基づいて、電子ビームをウェハ４４に照射させるか否かを切替える。
【００３１】
ブランキング電極アレイに２６により偏向されない電子ビームは、第３多軸電子レンズ３４を通過する。そして第３多軸電子レンズ３４は、第３多軸電子レンズ３４を通過する電子ビームの電子ビーム径を縮小する。縮小された電子ビームは、電子ビーム遮蔽部材２８に含まれる開口部を通過する。また、電子ビーム遮蔽部材２８は、ブランキング電極アレイ２６により偏向された電子ビームを遮蔽する。電子ビーム遮蔽部材２８を通過した電子ビームは、第４多軸電子レンズ３６に入射される。そして第４多軸電子レンズ３６は、入射された電子ビームをそれぞれ独立に集束し、偏向部３８に対する電子ビームの焦点をそれぞれ調整する。第４多軸電子レンズ３６により焦点が調整された電子ビームは、偏向部３８に入射される。
【００３２】
偏向制御部９２は、偏向部３８に含まれる複数の偏向器を制御し、偏向部３８に入射されたそれぞれの電子ビームを、ウェハ４４に対して照射すべき位置にそれぞれ独立に偏向する。第５多軸電子レンズ５２は、第５多軸電子レンズ５２を通過するそれぞれの電子ビームのウェハ４４に対する焦点を調整する。そしてウェハ４４に照射すべき断面形状を有するそれぞれの電子ビームは、ウェハ４４に対して照射すべき所望の位置に照射される。
【００３３】
露光処理中、ウェハステージ駆動部４８は、ウェハステージ制御部９６からの指示に基づき、一定方向にウェハステージ４６を連続移動させるのが好ましい。そして、ウェハ４４の移動に合わせて、電子ビームの断面形状をウェハ４４に照射すべき形状に成形し、ウェハ４４に照射すべき電子ビームを通過させるアパーチャを定め、さらに偏向部３８によりそれぞれの電子ビームをウェハ４４に対して照射すべき位置に偏向させることにより、ウェハ４４に所望の回路パターンを露光することができる。
【００３４】
図３は、第１成形偏向部１８及び遮蔽部３００の構成を示す。図３（ａ）は、第１成形偏向部１８及び遮蔽部３００の断面図である。図３（ｂ）は、第１成形偏向部１８及び遮蔽部３００の上面図である。以下、第１成形偏向部１８を用いて説明するが、第２成形偏向部２０及びブランキング電極アレイ２６も、第１成形偏向部１８と同様の構成を有することが好ましい。
【００３５】
第１成形偏向部１８は、電子ビームの照射方向に略垂直に設けられた偏向器基板２０２と、偏向器基板２０２に設けられた開口部２０６と、開口部２０６のそれぞれに電子ビームの照射方向に沿って設けられた偏向器２０４とを有する。また、遮蔽部３００は、電子ビームの照射方向に略垂直に設けられた第１遮蔽基板３０２と、第１遮蔽基板３０２に電子ビームの照射方向に沿って設けられた第１遮蔽電極３０４と、偏向器基板２０２を挟んで第１遮蔽基板３０２と対向する位置に、電子ビームの照射方向と略垂直に設けられた第２遮蔽基板３０８と、第２遮蔽基板３０８に電子ビームの照射方向に沿って設けられた第２遮蔽電極３１０とを有する。
【００３６】
第１遮蔽電極３０４は、複数の偏向器２０４の間に、電子ビームの照射方向に沿って、偏向器２０４の一端より電子ビーム発生部１０（図２参照）に近い位置から、偏向器２０４の一端よりウェハ４４（図２参照）に近い位置まで設けられることが好ましい。また、第１遮蔽電極３０４は、接地されることが好ましい。第２遮蔽電極３１０は、偏向器基板２０２を挟んで第１遮蔽電極と対向する位置に、電子ビームの照射方向に沿って設けられることが好ましい。また、第２遮蔽電極３１０は、接地されることが好ましい。また、図３（ｂ）に示すように、第１遮蔽電極３０４及び第２遮蔽電極３１０は、複数の偏向器２０４のそれぞれの間に格子状に設けられることが好ましい。
【００３７】
図４は、第１遮蔽電極３０４及び第２遮蔽電極３１０の構成を示す。第１遮蔽電極３０４及び第２遮蔽電極３１０は、電子ビームの照射方向と略垂直な方向に複数の開口部を有することが好ましい。また、図４に示すように、第１遮蔽電極３０４及び第２遮蔽電極３１０は、網目状であることがさらに好ましい。筐体８内部に設けられた第１遮蔽電極３０４及び第２遮蔽電極３１０に開口部を設けることにより、筐体８の真空排気のコンダクタンスを下げることなく、複数の偏向器によって生成される電界による電子ビームへの干渉を防ぎ、電子ビームを精度よく照射させることができる。
【００３８】
図５は、第１成形偏向部１８及び遮蔽部３００の構成の他の例を示す。図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１遮蔽電極３０６は、複数の偏向器２０４のそれぞれの周囲に円筒形状に設けられてもよい。また、遮蔽電極は、所定の第１成形偏向部１８によって生成された電界が、当該所定の第１成形偏向部１８の開口部２０６を通過する電子ビーム以外の電子ビームに影響を及ぼさないように、所定の第１成形偏向部１８と他の第１成形偏向部１８とにより生成される電界を遮蔽する形状であればよい。
【００３９】
図６は、第１成形偏向部１８の構成の他の例を示す。図６（ａ）に示すように、本例による第１成形偏向部１８は、電子ビームの照射方向に略垂直に設けられた偏向器基板２０２、偏向器基板２０２に設けられた開口部２０６と、開口部２０６のそれぞれに電子ビームの照射方向に沿って設けられた偏向器２０４と、複数の開口部２０６のそれぞれの間に設けられた第１遮蔽電極２０８と、偏向器基板２０２を挟んで第１遮蔽電極２０８と対向する位置に、偏向器基板２０２と略垂直な方向に沿って設けられた第２遮蔽電極２１０とを有する。偏向器２０４は、偏向器基板２０２から、偏向器基板２０２と略垂直な方向である第１の方向に沿って設けられており、第１遮蔽電極２０８は、偏向器基板２０２から、当該第１の方向に沿って偏向器２０４より長く設けられることが好ましい。第１遮蔽電極２０８及び第２遮蔽電極２１０は、複数の開口部２０６のそれぞれの間に格子状に設けられてもよい。また、第１遮蔽電極２０８及び第２遮蔽電極２１０は、複数の開口部２０６のそれぞれの周囲に設けられてもよい。さらに、第１遮蔽電極２０８及び第２遮蔽電極２１０は、偏向器基板２０２と略垂直な方向に複数の開口部を有してもよい。また、第１遮蔽電極２０８及び第２遮蔽電極２１０は、網目状であることがさらに好ましい。また、第１遮蔽電極２０８及び第２遮蔽電極２１０は、偏向器基板２０２の上面及び下面のそれぞれに、複数の開口部のそれぞれの間に設けられていればよい。
【００４０】
図７は、偏向部３８、第５多軸電子レンズ５２、及び遮蔽部８００の構成を示す。図７（ａ）に示すように、偏向部３８は、偏向器基板３８０と、第５多軸電子レンズ５２のレンズ開口部の内部に設けられた複数の偏向器３８２とを有する。また、第５多軸電子レンズ５２は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含む第１磁性導体部５２０と、第１磁性導体部５２０と略平行に設けられ、第１開口部のそれぞれを通過した複数の電子ビームのそれぞれが通過する複数の第２開口部を含む第２磁性導体部５２２とを有する。また、遮蔽部８００は、第１磁性導体部５２０から電子ビーム発生部１０（図２参照）の方向に設けられた第１遮蔽電極９０２と、第１磁性導体部５２０と略平行に設けられ、第１遮蔽電極を保持する第１遮蔽基板９０４と、第２磁性導体部５２２からウェハ４４（図２参照）の方向に設けられた第２遮蔽電極９１０と、第２磁性導体部５２２と略平行に設けられ、第２遮蔽電極９１０を保持する第２遮蔽基板９０８と、第１磁性導体部５２０と第２磁性導体部５２２との間に設けられた第３遮蔽電極９０６とを有する。
【００４１】
第１遮蔽電極９０２、第２遮蔽電極９１０、及び第３遮蔽電極９０６は、複数のレンズ開口部のそれぞれの間に格子状に設けられてもよい。また、第１遮蔽電極９０２、第２遮蔽電極９１０、及び第３遮蔽電極９０６は、複数のレンズ開口部のそれぞれの周囲に設けられてもよい。さらに、第１遮蔽電極９０２、第２遮蔽電極９１０、及び第３遮蔽電極９０６は、偏向器基板３８０と略垂直な方向に複数の開口部を有してもよい。また、第１遮蔽電極９０２、第２遮蔽電極９１０、及び第３遮蔽電極９０６は、網目状であることがさらに好ましい。また、遮蔽部９００は、第１遮蔽基板９０４を有さず、第１遮蔽電極９０２は偏向器基板３８０に保持されてもよい。また、遮蔽部９００は、第２遮蔽基板９０８を有さず、第２遮蔽電極９１０は第２磁性導体部５２２に保持されてもよい。また、図７（ｂ）に示すように、偏向器３８２が第２磁性導体部５２２よりウェハ４４（図２参照）の方向に突出しない場合には、第２遮蔽電極９１０は設けられなくてもよい。
【００４２】
図８は、第１成形偏向部１８において複数の偏向器２０４により形成される電界の一例を示す。本実施形態における電子ビーム露光装置１００によれば、所定の偏向器によって生成された電界が、当該所定の偏向器を通過する電子ビーム以外の電子ビームに及ぼす影響を大幅に低減することができる。具体的な例として、開口部９５０を通過する電子ビームを偏向すべく偏向器２０４ａが有する偏向電極に負の電圧を印加し、また開口部９７０を通過する電子ビームを偏向すべく偏向器２０４ｃが有する偏向電極に正の電圧を印加し、さらに開口部９６０を通過する電子ビームを直進させるべく偏向器２０４ｂが有する偏向電極には電圧を印加しないような場合である。このとき、図８に示すように、第１遮蔽電極２０８及び第２遮蔽電極２１０は、偏向器２０４ａ及び偏向器２０４ｃによって生成される電界を遮蔽して、偏向器２０４ａ及び偏向器２０４ｃが偏向器２０４ｂを通過する電子ビームへの影響を大幅に低減させることができ、複数の電子ビームを精度よくウェハに照射させることができる。
【００４３】
図９は、第１成形偏向部１８の構成の他の例を示す。本例において、各電子ビームは隣接する他の電子ビームに対して狭い間隔に設けられる。例えば、全ての電子ビームが、ウェハ４４に設けられるべき１つのチップの領域に収まるような間隔であってよい。したがって、本例における第１成形偏向部１８は、非常に狭い間隔で設けられた複数の偏向部を有してよい。また、本例における第１成形偏向部１８は、半導体プロセスにより製造されることが好ましい。
【００４４】
本例における第１成形偏向部１８は、電子ビームが通過する複数のアパーチャ１６６、及び通過する電子ビームを偏向する複数の偏向電極１６８を含む偏向部１８０と、接地電極であって複数の偏向部の間に生成される電界を遮蔽する遮蔽電極１７０と、成形偏向制御部８４（図２参照）と偏向部１８０とを電気的に接続する複数の偏向電極パッド１６２と、接地された遮蔽電極パッド１６４と、遮蔽電極１７０と遮蔽電極パッド１６４とを電気的に接続する第１配線層１９０ａと、複数の偏向電極１６８のそれぞれと複数の偏向電極パッド１６２のそれぞれとを電気的に接続する第２配線層１９０ｂ、第３配線層１９０ｃ、第４配線層１９０ｄ、第５配線層１９０ｅ、第６配線層１９０ｆ、第７配線層１９０ｇ、第８配線層１９０ｈ、及び第９配線層１９０ｉと、配線層と配線層とを電気的に絶縁する複数の第１絶縁層１８５ａ、第２絶縁層１８５ｂ、第３絶縁層１８５ｃ、第４絶縁層１８５ｄ、第５絶縁層１８５ｅ、第６絶縁層１８５ｆ、第７絶縁層１８５ｇ、第８絶縁層１８５ｈ、及び第９絶縁層１８５ｉとを有する。第２絶線層１８５ｂ、第４絶線層１８５ｄ、及び第６絶線層１８５ｆは、所定の厚さを有しており、第３絶線層１８５ｃ、第５絶線層１８５ｅ、及び第７絶線層１８５ｇは、当該所定の厚さより厚いことが好ましい。
【００４５】
複数の偏向電極１６８は、アパーチャ１６６毎に設けられる。また、偏向電極パッド１６２及び遮蔽電極パッド１６４は、偏向電極１６８と略等しい長さを有することが好ましい。また、第１成形偏向部１８は、１つの偏向部１８０が有する偏向電極１６８の数と等しい数の配線層を有することが好ましい。さらに、複数の配線層及び絶縁層が設けられる領域２００は、遮蔽電極１７０が設けられる領域２０５に比べて十分に薄いことが好ましい。
【００４６】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、上記実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。また、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることができる。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【００４７】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明の電子ビーム露光装置によれば、複数の偏向器の間に生成される電界を遮蔽することにより、複数の電子ビームを精度よくウェハに照射することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の電子ビーム露光装置における電子ビーム偏向装置４００の構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の構成を示す図である。
【図３】第１成形偏向部１８及び遮蔽部３００の構成を示す図である。
【図４】第１遮蔽電極３０４及び第２遮蔽電極３１０の構成を示す図である。
【図５】第１成形偏向部１８及び遮蔽部３００の構成の他の例を示す図である。
【図６】第１成形偏向部１８の構成の他の例を示す図である。
【図７】偏向部３８、第５多軸電子レンズ５２、及び遮蔽部８００の構成を示す図である。
【図８】第１成形偏向部１８において複数の偏向器２０４により形成される電界の一例を示す図である。
【図９】第１成形偏向部１８の構成の他の例を示す図である。
【符号の説明】
８・・筐体、１０・・電子ビーム発生部、１４・・第１成形部材、１６・・第１多軸電子レンズ、１８・・第１成形偏向部、２０・・第２成形偏向部、２２・・第２成形部材、２４・・第２多軸電子レンズ、２６・・ブランキング電極アレイ、２８・・電子ビーム遮蔽部材、３４・・第３多軸電子レンズ、３６・・第４多軸電子レンズ、３８・・偏向部、４０・・電子検出部、４４・・ウェハ、４６・・ウェハステージ、４８・・ウェハステージ駆動部、５２・・第５多軸電子レンズ、８０・・電子ビーム制御部、８２・・多軸電子レンズ制御部、８４・・成形偏向制御部、８６・・ブランキング電極アレイ制御部、９２・・偏向制御部、９４・・反射電子処理部、９６・・ウェハステージ制御部、１００・・電子ビーム露光装置、１１０・・電子ビーム成形手段、１１２・・照射切替手段、１１４・・ウェハ用投影系、１２０・・個別制御部、１３０・・統括制御部、１４０・・制御系、１５０・・露光部、２０２・・偏向器基板、２０４・・偏向器、２０６・・開口部、３００・・遮蔽部、３０２・・第１遮蔽基板、３０４・・第１遮蔽電極、３０６・・第１遮蔽電極、３０８・・第２遮蔽基板、３１０・・第２遮蔽電極、７００・・排気口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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