(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に含フッ素化合物を主体とする最外層を有する偏光板用保護フィルムにおいて、
該透明支持体上に該最外層を形成した後、該透明支持体及び該最外層を鹸化処理することにより得られ、
該透明支持体が膜厚３０〜１５０μｍである合成樹脂フィルムであり、
該最外層は低屈折率層として用いられる膜厚が３０〜２００ｎｍの層であり、
該最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下であり、
該含フッ素化合物が架橋性基を有する含フッ素ポリマーであり、該含フッ素ポリマーが塗布と同時又は塗布後に、架橋反応、又は、重合反応により形成された含フッ素ポリマーであることを特徴とする
偏光板用保護フィルム。
【請求項２】
該架橋性基が、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレンよりなる群から選ばれた少なくとも１つの基であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項３】
該架橋性基がアクリロイル及び／又はメタクリロイルであることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項４】
該含フッ素化合物の屈折率が１．３５〜１．５０であることを特徴とする請求項１〜３いずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項５】
該最外層に隣接してポリマー層を有し、該ポリマー層は電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋反応、又は、重合反応により形成され、該最外層に隣接するポリマー層が酸素濃度が１５体積％以下の雰囲気で形成されていることを特徴とする請求項１〜４いずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項６】
該酸素濃度が１５体積％以下の雰囲気が、窒素パージにより実現されたことを特徴とする請求項５に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項７】
該酸素濃度が６体積％以下の雰囲気であることを特徴とする請求項５又は６に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項８】
該透明支持体がトリアセチルセルロースから形成される透明支持体であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項９】
該最外層を有する側の表面の動摩擦係数が０．２５以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１０】
該最外層を有する側の表面の水に対する接触角が９０゜以上であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１１】
該透明支持体が、トリアセチルセルロースフィルムであり、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することにより調製されたトリアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何れかの流延方法により流延することにより作製されたことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１２】
該トリアセチルセルロースドープが、トリアセチルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法によって、ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することにより調製されたトリアセチルセルロースドープであることを特徴とする請求項１１記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルムを偏向膜の保護フィルムの少なくとも一方に有することを特徴とする偏光板。
【請求項１４】
液晶表示面上に、請求項１３に記載の偏光板を配置していることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、偏光板用保護フィルム、偏光板、及び、それらを用いた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止フィルムや防眩フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。
特に、液晶表示装置（ＬＣＤ）においては、大画面化が進むのに伴い、反射防止フィルムや防眩フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。
偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）において不可欠な光学材料である。偏光板は、一般に、偏向膜が２枚の保護フィルムによって保護されている構造をしている。
これらの保護フィルムに反射防止機能や防眩機能を付与することで大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
一方、偏光板に用いる保護フィルムは、偏向膜と貼り合わせるうえで十分な密着性を有していることが必要である。偏向膜との密着性を改良する手法として、保護フィルムを鹸化処理して保護フィルムの表面を親水化処理することが通常行われている。
鹸化処理は、保護フィルムの上に反射防止層や防眩層を形成した後実施することで、よりコストを削減できる。
鹸化処理では、アルカリ液により保護フィルムの表面近傍が加水分解される。反射防止性能や防眩性能を付与した保護フィルムを鹸化処理した場合、保護フィルムの上に形成された層の密着性を悪化させたり、反射防止性能や防眩性能を変化させたりする。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、反射防止性能、防眩性能に優れる偏光板用保護フィルムを安価で大量に提供することにある。
本発明が解決しようとする別の課題は、鹸化処理により反射防止性能、防眩性能が変化しない偏光板用保護フィルムを提供することにある。
本発明が解決しようとするさらに別の課題は、適切な手段により反射防止処理、防眩処理されている偏光板、液晶表示装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記諸課題は、下記構成の偏光板用保護フィルム、偏光板、および液晶表示装置により、達成された。
（１）透明支持体上に含フッ素化合物を主体とする最外層を有する偏光板用保護フィルムにおいて、該透明支持体上に該最外層を形成した後、鹸化処理することにより得られることを特徴とする偏光板用保護フィルム。
（２）該最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下であることを特徴とする（１）に記載の偏光板用保護フィルム。
（３）該最外層に隣接してポリマー層を有し、該ポリマー層は電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることを特徴とする（１）又は（２）に記載の偏光板用保護フィルム。
（４）該ポリマー層を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋反応、又は、重合反応における開始剤として、光重合開始剤を用いることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（５）該開始剤として、光ラジカル重合開始剤を用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（６）該光ラジカル重合開始剤として、光開裂型の光ラジカル重合開始剤を用いることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（７）該ポリマー層に一次粒子の平均粒径が０．３μｍ以下の微粒子を含有することを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（８）該ポリマー層の屈折率が、該透明支持体の屈折率よりも高いことを特徴とする（１）〜（７）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（９）該透明支持体と該ポリマー層との間に、ハードコート層を有することを特徴とする（１）〜（８）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（１０）該透明支持体と該最外層の間に、屈折率が１．４０〜１．８０で、平均粒径が０．５〜６μｍの粒子を含有する層を有することを特徴とする（１）〜（９）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（１１）該屈折率が１．４０〜１．８０で、平均粒径が０．５〜６．０μｍの粒子が樹脂粒子であることを特徴とする（１）〜（１０）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（１２）該屈折率が１．４０〜１．８０で、平均粒径が０．５〜６μｍの粒子が該ポリマー層、及び／又は、該ハードコート層に含有されることを特徴とする（１）〜（１１）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（１３）該最外層の含フッ素化合物が含フッ素ポリマーであり、該含フッ素ポリマーが塗布と同時又は塗布後に、架橋反応、又は、重合反応により形成された含フッ素ポリマーであることを特徴とする（１）〜（１２）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（１４）該最外層に隣接するポリマー層が酸素濃度が１５体積％以下の雰囲気で形成されていることを特徴とする（３）〜（１３）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（１５）該酸素濃度が１５体積％以下の雰囲気が、窒素パージにより実現されたことを特徴とする（１４）に記載の偏光板用保護フィルム。
（１６）該酸素濃度が６体積％以下の雰囲気であることを特徴とする（１４）又は（１５）に記載の偏光板用保護フィルム。
（１７）該透明支持体がトリアセチルセルロースから形成される透明支持体であることを特徴とする（１）〜（１６）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（１８）該最外層を有する側の表面の動摩擦係数が０．２５以下であることを特徴とする（１）〜（１７）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（１９）該最外層を有する側の表面の水に対する接触角が９０゜以上であることを特徴とする（１）〜（１８）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（２０）該透明支持体が、トリアセチルセルロースフィルムであり、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することにより調製されたトリアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何れかの流延方法により流延することにより作製されたことを特徴とする（１）〜（１９）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルム。
（２１）該トリアセチルセルロースドープが、トリアセチルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法によって、ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することにより調製されたトリアセチルセルロースドープであることを特徴とする（２０）に記載の偏光板用保護フィルム。
（２２）（１）〜（２１）のいずれか１つに記載の偏光板用保護フィルムを偏向膜の保護フィルムの少なくとも一方に有することを特徴とする偏光板。
（２３）液晶表示面上に、（２２）に記載の偏光板を配置していることを特徴とする液晶表示装置。
【０００５】
【発明の実施の形態】
［透明支持体］
偏光板用保護フィルムに用いる透明支持体には、合成樹脂フィルムが用いられる。合成樹脂フイルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース）、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。
トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましく用いられ、特に好ましいのはトリアセチルセルロースである。
【０００６】
本発明の透明支持体としては、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することにより調製されたトリアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延若しくは複数層逐次流延の何れかの流延方法により流延することにより作成されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることが更に好ましい。特に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調製されたトリアセチルセルロースドープを用いて作成されたトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
【０００７】
トリアセチルセルロースの単層流延は、公開特許公報の特開平７−１１０５５等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等が挙げられ、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースの共流延は、公開特許公報の特開昭６１−９４７２５、特公昭６２−４３８４６等で開示されている。逐次流延は、単層流延を繰り返すことで行われる。それぞれの流延は、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
【０００８】
上記のような、トリアセチルセルロースを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかしながら、技術的には、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、ジクロロメタンを実質的に含む溶剤に溶解することで調製されたトリアセチルセルロースドープを単層流延法によって製造すると、その製造過程でジクロロメタンが大気中に放出されるため、環境保全や作業環境の観点から、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５重量％未満、好ましくは２重量％未満、であることを意味する。共流延法の場合には、ジクロロメタンを実質的に含む溶剤を用いたドープを複数層共流延法によって流延しても、外側の流延層と比較してトリアセチルセルロース濃度の高いドープを内側の流延層に用いることができるため、結果として大気中に放出されるジクロロメタンの量が減少できる。また、流延速度も高くすることが可能であり、生産性にも優れる。勿論、共流延法の場合であってもジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。
【０００９】
ジクロロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調製する場合には、後述するような特殊な溶解法が必須となる。
【００１０】
第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロースが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
【００１１】
第二の方法は、高温溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロースを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法において、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０重量％以下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布できないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却して常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。
透明支持体の膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは５０〜１２０μｍである。
【００１２】
［最外層］
本発明の偏光板用保護フィルムは、含フッ素化合物を主体とする最外層を有する。
含フッ素化合物を主体とする最外層は、偏光板用保護フィルムの低屈折率層、又は、低屈折率層を覆う防汚層として用いられる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜１．４５である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含むことが好ましく、４５〜７５質量％の範囲で含むことがさらに好ましい。
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが挙げられる。
含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの架橋反応、又は、重合反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレフィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが含まれる。
含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位からなる共重合体も用いることができる。
上記共重合体は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることができる。
フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーとしては、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等）、メタクリル酸エステル（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド（例、Ｎ−tert−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。
【００１３】
含フッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物（例、（ヘプタデカフルオロ−１，２，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン等）が挙げられる。
含フッ素界面活性剤は、その親水性部分がアニオン性、カチオン性、ノニオン性および両性のいずれであってもよい。そして疎水性部分を構成する炭化水素の水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換されている。
【００１４】
含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルとしては、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。
最外層には、架橋構造が導入された含フッ素ポリマーを用いることが特に好ましい。架橋構造が導入された含フッ素ポリマーは、架橋性基を有する含フッ素ポリマーを架橋させることにより得られる。
架橋性基を有する含フッ素ポリマーは、架橋性基を有さない含フッ素ポリマーに架橋性基を側鎖として導入することにより得ることができる。架橋性基としては、光、好ましくは紫外線照射、電子ビーム（ＥＢ）照射あるいは加熱により反応して含フッ素ポリマーが架橋構造を有するようになる官能基であることが好ましい。架橋性基としては、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよび活性メチレン等の基が挙げられる。架橋性基を有する含フッ素ポリマーとして、市販品を用いてもよい。
架橋性基を有する含フッ素ポリマーの架橋反応は、最外層を形成するための塗布液を塗布と同時または塗布後に光照射、電子線ビーム照射や加熱することにより実施することが好ましい。
【００１５】
最外層は、含フッ素化合物以外に充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコンなどのシリコン化合物等）、界面活性剤等を含有することができる。
本発明において、「含フッ素化合物を主体とする」とは、最外層中に含フッ素化合物が占める質量部が５０以上、好ましくは、７０以上であることを意味する。
最外層は、含フッ素化合物、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布液を塗布と同時、または塗布後に光照射、電子線ビーム照射や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましい。
最外層を低屈折率層として用いる場合、膜厚は３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。最外層を防汚層として用いる場合、膜厚は３〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましくは７〜２５ｎｍである。
偏光板用保護フィルムの物理的強度（耐信性など）を改良するために、最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
また、偏光板用保護フィルムの防汚性能を改良するために、最外層を有する側の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。水に対する接触角は鹸化処理の前後で変わらないことが望ましく、変化量は１０°以内、特に好ましくは５°以内である。
【００１６】
［鹸化処理］
本発明の偏光板用保護フィルムは、透明支持体上に含フッ素化合物を主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することにより得られる。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中にフィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、偏光板用保護フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
偏光板用保護フィルムは、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面を偏向膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と接着させる際に偏向膜と偏光板用保護フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２０゜以下である。
【００１７】
［ポリマー層］
ポリマー層は、本発明の最外層に隣接する層（つまり、最外層に接する下層）に形成される。
ポリマー層は、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋反応、又は、重合反応により形成される。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布液を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、アクリロイルオキシ基が好ましい。
【００１８】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２,２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００１９】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。
【００２０】
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のKAYACURE（DETX-S，BP-100，BDMK，CTX，BMS，2-EAQ，ABQ，CPTX，EPD，ITX，QTX，BTC，MCAなど）、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，５００，９０７，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など）、サートマー社製のEsacure（KIP100F，KB1，EB3，BP，X33，KT046，KT37，KIP150，TZT）等が挙げられる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（P．159，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）に記載されている
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００重量部に対して、０．１〜１５重量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０重量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のKAYACURE（DMBI，EPA）などが挙げられる。
光重合反応は、ポリマー層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
【００２１】
ポリマー層は、一次粒子の平均粒径が０．３μｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。ここでいう平均粒径は重量平均径である。一次粒子の平均粒径を０．３μｍ以下にすることで透明性を損なわないポリマー層を形成できる。
微粒子としては、無機微粒子と有機微粒子が挙げられる。微粒子はポリマー層の硬度を高くすると共に、ポリマー層の硬化収縮を抑える機能がある。また、ポリマー層の屈折率を制御する目的にも添加される。
無機微粒子の具体例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウムなどの微粒子が挙げられる。好ましくは、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛である。
有機微粒子の具体例としては、メタクリル酸−メチルアクリレートコポリマー、シリコン樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル酸−スチレンコポリマー、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミドおよびポリフッ化エチレンなどの微粒子が挙げられる。
ポリマー層の硬度を高くする、又は、屈折率を制御する目的で使用する場合、無機微粒子であることが好ましい。
微粒子の一次粒子の好ましい平均粒径は０．００５〜０．２μｍ、より好ましくは０．０１〜０．１５μｍであり、さらに好ましくは０．０２〜０．１０μｍ、特に好ましくは０．０２〜０．０５μｍである。
ポリマー層の中において、微粒子は必ずしも一次粒子になるまで微細に分散されている必要はないが、なるべく微細に分散されていることが好ましい。
ポリマー層の中における微粒子の分散粒子サイズは、好ましくは平均粒径で０．００５〜０．３０μｍ、より好ましくは０．０１〜０．２０μｍであり、さらに好ましくは０．０２〜０．１５μｍ、特に好ましくは０．０３〜０．０８μｍである。
ポリマー層における微粒子の含有量は、ポリマー層の体積に対し１〜６５体積％であることが好ましく、より好ましくは３〜５５体積％、特に好ましくは５〜５０体積％である。
より優れた反射防止性能を有する偏光板用保護フィルムを作製する場合、ポリマー層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高い屈折率を有するポリマー層は、芳香環を含む電離放射線硬化性樹脂組成物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性樹脂組成物、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性樹脂組成物などの架橋反応、又は、重合反応により形成することができる。また、高い屈折率を有する無機微粒子を微細に分散してポリマー層に含有させて形成することもできる。
高い屈折率を有する無機微粒子を微細に分散してポリマー層に含有させることがより好ましい。
高い屈折率を有する無機微粒子としては、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛が挙げられ、好ましい無機微粒子は二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化錫である。
反射防止性能に優れた偏光板用保護フィルムを作製するためには、ポリマー層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６０〜２．１０、特に好ましくは１．６０〜２．００である。
【００２２】
ポリマー層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下であり、特に好ましくは１％以下である。ヘイズ値をこの範囲とするには、本発明の０．３μｍ以下の微粒子をポリマー層の中でより微細に分散させることで達成できる。
ポリマー層には、前述した成分（微粒子、重合開始剤、光増感剤など）以外に、後述する防眩性を付与する粒子、樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
ポリマー層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層としての機能を合わせ持つように設計する場合、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍ、特に好ましくは０．７〜５μｍである。
光学干渉層（後述する高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層など）としての機能を合わせ持つように設計するには、０．０１〜０．３μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．２μｍ、特に好ましくは０．０４〜０．１５μｍである。
ポリマー層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
ポリマー層の形成において、電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋反応、又は、重合反応は、酸素濃度が１５体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
ポリマー層を酸素濃度が１５体積％以下の雰囲気で形成することにより、ポリマー層と最外層の間の接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が３体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下である。
酸素濃度を１５体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【００２３】
［ハードコート層］
ハードコート層は、偏光板用保護フィルム、及び、偏光板に物理的強度（耐傷性など）を付与するために、透明支持体の表面に設けることが好ましい。
ハードコート層は、架橋構造を有するポリマーを含むことが好ましい。架橋構造を有するポリマーを含むハードコート層は、多官能モノマーと重合開始剤を含む塗布液を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
多官能モノマーの官能基としては、光重合性、電子線、放射線等の電離放射線重合性、および熱重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、アクリロイルオキシ基が好ましい。
【００２４】
光重合性多官能モノマーの具体例としては、本発明のポリマー層において例示したものを好ましく用いることができる。多官能モノマーは、２種類以上を併用してもよい。
光重合性多官能モノマーの架橋反応、又は、重合反応には、光重合開始剤や光増感剤を用いることが好ましい。光重合開始剤や光増感剤としては、本発明のポリマー層において例示したものを好ましく用いることができる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００重量部に対して、０．１〜１５重量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０重量部の範囲である。
光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
【００２５】
ハードコート層には、一次粒子の平均粒径が０．３μｍ以下の微粒子を含有させることが好ましい。微粒子はハードコート層の硬度を高くすると共に、ハードコート層の硬化収縮を抑える機能がある。また、ハードコート層の屈折率を制御する目的にも添加される。
一次粒子の平均粒径が０．３μｍ以下の微粒子としては、本発明のポリマー層において例示したものを好ましく用いることができる。また、透明性を損なわないようにハードコート層の中で微細に分散されていることが好ましい。
【００２６】
ハードコート層、またはその塗布液には、さらに着色剤（顔料、染料）、消泡剤、増粘剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤や改質用樹脂を添加してもよい。
ハードコート層の厚さは、１〜１５μｍであることが好ましい。ハードコート層は透明支持体上に２層以上形成することも好ましい。
ハードコート層の上に本発明の最外層を形成する場合は、ハードコート層は前述したポリマー層を兼ねることもできる。
ハードコート層は、透明支持体と前述したポリマー層の間に形成することが好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００２７】
［平均粒径０．５〜６．０μｍの粒子］
偏光板用保護フィルムは、防眩機能を付与するために、透明支持体上に形成された層に、屈折率１．４０〜１．８０で、平均粒径が０．５〜６．０μｍの粒子を含有させることができる。ここでいう平均粒径は、二次粒子（粒子が凝集していない場合は一次粒子）の重量平均径である。
粒子を含有させることで、偏光板用保護フィルムの最外層の表面に光を散乱させるような凹凸を形成し、防眩性を発現させる。
粒子は、無機粒子と有機粒子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウムなどの粒子が挙げられる。二酸化珪素、酸化アルミニウムが好ましい。
有機粒子としては樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子の具体例としては、シリコン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ弗化ビニリデン樹脂から作製される粒子などが挙げられる。好ましくは、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂から作製される粒子であり、特に好ましくは、ベンゾグアナミン樹脂、ポリスチレン樹脂から作製される粒子である。
偏光板用保護フィルムに防眩機能を付与するために用いる粒子としては、樹脂粒子である方が好ましい。
粒子の平均粒径は、好ましくは１．０〜５．０μｍ、更に好ましくは１．５〜４．０μｍ、特に好ましくは１．７〜３．５μｍである。粒子の粒径分布は狭いほど好ましい。
粒子の屈折率は１．５０〜１．７５であることが好ましく、１．５５〜１．７０であることが更に好ましい。
また、粒子は、粒子を含有させる層の屈折率により近い屈折率を有する粒子を使用することが好ましい。粒子の屈折率は、粒子を含有させる層の屈折率に対して、屈折率差が０．１以内の粒子が好ましく、より好ましくは０．０５以内の粒子、特に好ましくは０．０３以内の粒子である。
平均粒径の異なる粒子を複数組み合わせて使用してもよい。また、異なる材質の粒子を複数組み合わせて使用することも好ましい。
粒子は透明支持体上に形成された層に添加して防眩層とすることができる。前述したポリマー層、ハードコート層に添加して防眩機能を付与することが特に好ましい。
防眩層のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
【００２８】
［偏光板用保護フィルムの構成］
本発明の偏光板用保護フィルムの構成例を図面を引用しながら説明する。
図１は、反射防止機能、又は、防眩機能を有する偏光板用保護フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。
図１（ａ）に示す態様は、透明支持体１と最外層である低屈折率層２の順序の層構成を有する。
図１（ｂ）に示す態様は、透明支持体１、ポリマー層であるハードコート層３、そして最外層である低屈折率層２の順序の層構成を有する。
図１（ｃ）に示す態様は、透明支持体１、ポリマー層である防眩層４、そして最外層である低屈折率層２の順序の層構成を有する。防眩層に含まれる粒子５は、本発明の屈折率１．４０〜１．８０で、平均粒径が０．５〜６μｍの粒子である。
図１（ｄ）に示す態様は、透明支持体１、ハードコート層３、ポリマー層である防眩層４、そして最外層である低屈折率層２の順序の層構成を有する。防眩層４に含まれる粒子５は、本発明の屈折率１．４０〜１．８０で、平均粒径が０．５〜６μｍの粒子である。
図１（ａ）〜（ｄ）に示す態様では透明支持体１と低屈折率層２は、以下の関係を満足する屈折率を有する。
透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
図１（ａ）〜（ｄ）のような層構成では、低屈折率層２が下記数式（Ｉ）を満足することが優れた反射防止性能、又は、防眩性能を有する偏光板用保護フィルムを作製できる点で好ましい。
【００２９】
【数１】
（ｍλ／４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍλ／４）×１．３  ……数式（Ｉ）
【００３０】
数式（Ｉ）中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、一般に１である）が存在することを意味している。
また、図１の層構成において、本発明のポリマー層は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
【００３１】
図２は、さらに優れた反射防止性能を有する偏光板用保護フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。
図２（ａ）に示す態様は、透明支持体１、ハードコート層３、ポリマー層である高屈折率層６、最外層である低屈折率層２の順序の層構成を有する。透明支持体１と高屈折率層６と低屈折率層２は以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
【００３２】
図２（ａ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、高屈折率層が下記数式（II）、低屈折率層が下記数式（III）をそれぞれ満足することがさらに優れた反射防止性能を有する偏光板用保護フィルムを作製できる点で好ましい。
【００３３】
【数２】
（ｎλ／４）×０．７＜ｎ2ｄ2＜（ｎλ／４）×１．３  ……数式（II）
【００３４】
数式（II）中、ｎは正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ2は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【００３５】
【数３】
（ｈλ／４）×０．７＜ｎ3ｄ3＜（ｈλ／４）×１．３  ……数式（III）
【００３６】
数式（III）中、ｈは正の奇数（一般に１）であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、上記数式（II）および数式（III）を満たすとは、数式（Ｉ）の場合と同様に、上記各波長の範囲において数式（II）を満たすｎ（正の整数、一般に１、２または３である）およびｈ（正の奇数、一般に１である）が存在することを意味している。以下、数式（IV）〜（VI）についても同様である。
【００３７】
図２（ｂ）に示す態様は、透明支持体１、ハードコート層３、中屈折率層７、ポリマー層である高屈折率層６、最外層である低屈折率層２の順序の層構成を有する。透明支持体１、中屈折率層７、高屈折率層６および低屈折率層２は、以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
図２（ｂ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、中屈折率層が下記数式（IV)、高屈折率層が下記数式（Ｖ）、低屈折率層が下記数式（VI）をそれぞれ満足することがより優れた反射防止性能を有する偏光板用保護フィルムを作製できる点で好ましい。
【００３８】
【数４】
（ｉλ／４）×０．７＜ｎ4ｄ4＜（ｉλ／４）×１．３  ……数式（IV）
【００３９】
数式（IV）中、ｉは正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ4は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ4は中屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【００４０】
【数５】
（ｊλ／４）×０．７＜ｎ5ｄ5＜（ｊλ／４）×１．３  ……数式（Ｖ）
【００４１】
数式（Ｖ）中、ｊは正の整数（一般に１、２または３）であり、ｎ5は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ5は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
【００４２】
【数６】
（ｋλ／４）×０．７＜ｎ6ｄ6＜（ｋλ／４）×１．３  ……数式（VI）
【００４３】
数式（VI）中、ｋは正の奇数（一般に１）であり、ｎ6は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ6は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、ここで記載した高屈折率、中屈折率、低屈折率とは層相互の相対的な屈折率の高低をいう。ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層に前述した本発明の屈折率１．４０〜１．８０で、平均粒径が０．５〜６μｍの粒子を含有させて、防眩機能を有する偏光板用保護フィルムを作製することも好ましい。
【００４４】
［偏光板用保護フィルムのその他の層］
前述した高屈折率層および中屈折率層は、より優れた反射防止性能を有する偏光板用保護フィルムを作製するために設けることができる。特に、高屈折率層を設けることは好ましい。本発明の最外層に隣接する層（つまり、最外層に接する下層）に、高屈折率層、又は中屈折率層を形成する場合、高屈折率層、又は中屈折率層は本発明のポリマー層を兼ねる。
高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好まく、より好ましくは１．７０〜２．２０である。
中屈折率層の屈折率は、１．６５〜１．８５であることが好ましく、より好ましくは１．６５〜１．７５である。
【００４５】
高屈折率層および中屈折率層は、本発明のポリマー層において記述したのと同様にして形成することができる。好ましくは、高い屈折率を有する無機微粒子を微細に分散して層の中に含有させて形成することが好ましい。
高屈折率層および中屈折率層の膜厚は、５〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１０〜１５０ｎｍであり、特に好ましくは３０〜１００ｎｍである。
高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下であり、特に好ましくは１％以下である。
本発明の最外層に隣接する層（つまり、最外層に接する下層）に、低屈折率層を形成する場合、低屈折率層は本発明のポリマー層を兼ねる。
低屈折率層の屈折率は、１．３０〜１．５５であることが好ましく、１．３５〜１．５０であることがさらに好ましい。
低屈折率層は、電離放射線硬化性樹脂組成物から形成されるポリマーと無機微粒子を含み、粒子間に微細な空隙を有する層であることが特に好ましい。無機微粒子としては、例えばＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2等の微粒子が好ましく、中でもＳｉＯ2が特に好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
低屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
高屈折率層、中屈折率層、及び、低屈折率層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
偏光板用保護フィルムには、以上に述べた以外の層を設けてもよい。例えば、接着層、シールド層、滑り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【００４６】
［偏光板用保護フィルム］
本発明の偏光板用保護フィルムは、物理的強度（耐傷性など）を改良するために、最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
また、偏光板用保護フィルムは、防汚性能を改良するために、最外層を有する側の表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
動摩擦係数、水に対する接触角は、偏光板に使用した後も保たれていることが好ましい。
偏光板用保護フィルムが防眩機能を有する場合、ヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
【００４７】
［偏光板用保護フィルムの形成法等］
本発明の偏光板用保護フィルムを構成する各層は、塗布法により作製したものが好ましい。塗布で形成する場合、各層はディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２，６８１，２９４号明細書記載）により作製することができる。２層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８９８号、同３，５０８，９４７号、同３，５２６，５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店(1973)に記載がある。
また、偏光板用保護フィルムの各層には、前述した成分（微粒子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤等）以外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与剤等を添加してもよい。
【００４８】
［液晶表示装置］
図３は本発明の偏光板用保護フィルムを液晶表示装置に適用する様々な態様を模式的に示す概略断面図である。
図３（ａ）、及び（ｂ）は、偏光板用保護フィルムの好ましい態様である。
図３（ａ）では、偏光板用保護フィルムは透明支持体１が粘着剤層９を介して偏光膜８に接着しており、偏光膜８の保護フィルム１０を粘着剤層９を介して液晶表示装置の画像表示面に接着している。
図３（ｂ）では、偏光板用保護フィルムは透明支持体１が直接偏光膜８に接着しており、偏光膜８の保護フィルム１０を粘着剤層９を介して液晶表示装置の画像表示面に接着している。
【００４９】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。
【００５０】
［実施例１−１］
（低屈折率層用塗布液の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（オプスターＪＮ７２２８、固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製）９３．０ｇにシリカ微粒子のメチルエチルケトン分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製）８．０ｇ、およびメチルエチルケトン１００．０ｇを添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して低屈折率層用の塗布液を調製した。
（反射防止フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、さらに１２０℃で１０分間加熱して、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５０℃に保温した。０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製した。
作製した反射防止フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。さらに反射防止フィルムを１００℃で十分に乾燥させた。
このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
作製した偏光板用保護フィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表１に示す。
（１）鹸化処理による膜の剥がれの評価
鹸化処理過程での膜の剥がれを評価した。１００枚の反射防止フィルムを鹸化処理した。鹸化処理前と鹸化処理後における膜の剥がれの有無を目視で観察し、下記の３段階評価を行った。
〇：１００枚全てにおいて剥がれが全く認められなかったもの
△：剥がれが認められたものが５枚以内のもの
×：剥がれが認められたものが５枚をこえたもの
（２）碁盤目密着の評価
偏光板用保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面において、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れ、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）における密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。膜の剥がれの有無を目視で観察し、下記の３段階評価を行った。
〇：１００升において剥がれが全く認められなかったもの
△：剥がれが認められたものが２升以内のもの
×：剥がれが認められたものが２升をこえたもの
（３）動摩擦係数の評価
偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面の滑り性の指標として動摩擦係数を評価した。動摩擦係数は試料を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、動摩擦測定機（ＨＥＩＤＯＮ−１４）で、直径５ｍｍのステンレス剛球を用い、荷重０．９８Ｎ、速度６０ｃｍ／分で測定した。
（４）鉛筆硬度の評価
偏光板用保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面において、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００に規定される鉛筆硬度の評価方法に従い、鉛筆硬度を評価した。但し、荷重は４．９Ｎとした。
（５）スチールウール擦り耐性の評価
偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面において、＃００００のスチールウールに１．９６Ｎ／ｃｍ2の荷重をかけ、１０往復したときの傷の状態を観察して、以下の３段階で評価した。
○：傷が全く付かなかったもの
△：少し傷が付くが見えにくいもの
×：顕著に傷が付いたもの
（６）接触角の評価
偏光板用保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面の水に対する接触角を評価した。
（７）指紋拭き取り性の評価
偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面に指紋を付着させて、それをクリーニングクロスで拭き取った時の状態を観察して、以下の３段階で評価した。
○：指紋が完全に拭き取れたもの
△：指紋の一部が拭き取れずに残ったもの
×：指紋のほとんどが拭き取れずに残ったもの
（８）マジック拭き取り性の評価
偏光板用保護フィルムの最外層を有する側の表面に油性マジック（ＺＥＢＲＡマッキー、赤）を付着させて３０分経時させ、それをクリーニングクロスで拭き取った時の状態を観察して、以下の３段階で評価した。
○：マジックが完全に拭き取れたもの
△：マジックの一部が拭き取れずに残ったもの
×：マジックのほとんどが拭き取れずに残ったもの
【００５１】
【表１】
0004269510.tif 000002
【００５２】
［実施例１−２］
（ハードコート層用塗布液の調製）
ハードコート材料（デソライトＺ７５２６、固形分濃度７２質量％、ＪＳＲ（株）製）２５０．０ｇに、メチルエチルケトン６２．０ｇとシクロヘキサノン８８．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
（低屈折率層用塗布液の調製）
重量平均分子量が２０万である市販の含フッ素ポリマー（サイトップＣＴＸ−８０９Ａ、旭硝子（株）製）８．０ｇに、市販のフッ素系溶剤（フロリナートＦＣ７７、住友３Ｍ（株）製）を１９２．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用の塗布液を調製した。
（反射防止フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、上記のハードコート層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、酸素濃度が６〜８体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚６．０μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、さらに１２０℃で１０分間加熱して、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００５３】
［実施例１−３］
（反射防止フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、実施例１−２で作製したハードコート層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、酸素濃度が２〜４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ/ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６．０μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、実施例１−１で作製した低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、さらに１２０℃で１０分間加熱して、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００５４】
［実施例１−４］
（防眩層用塗布液の調製）
平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）２０．０ｇをメチルイソブチルケトン８０．０ｇに添加し、高速ディスパーにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌し、架橋ポリスチレン粒子の分散液を調製した。
テトラメチロールメタントリアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、新中村化学工業（株）製）１２６．０ｇをメチルイソブチルケトン１６５．０ｇに添加して攪拌した。さらにこの溶液に、上記で調製した架橋ポリスチレン粒子の分散液２９．０ｇと光開裂型の光ラジカル重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）７．６ｇを添加して攪拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用の塗布液を調製した。
（防眩フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、上記で調製した防眩層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、酸素濃度が２〜４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ヘイズが１７％の防眩層を形成した。
防眩層の上に、実施例１−１で調製した低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、さらに１２０℃で１０分間加熱して、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。このようにして、防眩フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００５５】
［比較例１］
（防眩フィルムの作製）
防眩層を大気雰囲気中で形成する以外は、実施例１−４と全く同様にして防眩フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００５６】
［実施例１−５］
（防眩フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、実施例１−２で調製したハードコート層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、大気雰囲気中で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚３．０μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、実施例１−４で調製した防眩層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、酸素濃度が２〜４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ヘイズが１７％の防眩層を形成した。
防眩層の上に、実施例１−１で調製した低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、さらに１２０℃で１０分間加熱して、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。このようにして、防眩フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００５７】
［実施例１−６］
（ハードコート層用塗布液の調製）
酸化ジルコニウム微粒子を含有する透明高屈折率ハードコート材料（デソライトＫＺ７９９１、固形分濃度４６質量％、ＪＳＲ（株）製）１００．０ｇを孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液を調製した。
（反射防止フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、上記のハードコート層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、酸素濃度が２〜４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６．０μｍ、屈折率１．７１のハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、実施例１−１で調製した低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、さらに１２０℃で１０分間加熱して、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００５８】
［実施例１−７］
（防眩層用塗布液の調製）
酸化ジルコニウム微粒子を含有する透明高屈折率ハードコート材料（デソライトＫＺ７１１４、固形分濃度４６質量％、ＪＳＲ（株）製）２１８．０ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）９１．０ｇを、５２．０ｇのメチルイソブチルケトンに添加して攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
この溶液に、実施例１−４で調製した架橋ポリスチレン粒子の分散液２９．０ｇを添加して攪拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液を調製した。
（防眩フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、上記の防眩層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、酸素濃度が２〜４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ヘイズが１７％の防眩層を形成した。
防眩層の上に、実施例１−１で調製した低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、さらに１２０℃で１０分間加熱して、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。このようにして、防眩フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００５９】
［比較例２］
（防眩フィルムの作製）
防眩層を大気雰囲気中で形成する以外は、実施例１−７と全く同様にして防眩フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００６０】
［実施例１−８］
（防眩層用塗布液の調製）
平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）２０．０ｇを８０．０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６（重量比）の混合溶媒に添加し、高速ディスパーにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌し、架橋ポリスチレン粒子の分散液を調製した。
酸化ジルコニウム微粒子を含有する透明高屈折率ハードコート材料（デソライトＺ７４０１、固形分濃度４８質量％、ＪＳＲ（株）製）２１８．０ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）９１．０ｇ、光開裂型の光ラジカル重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１０．０ｇを、５２．０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６（重量比）の混合溶媒に添加して攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
この溶液に、上記で調製した架橋ポリスチレン粒子の分散液２９．０ｇを添加して攪拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液を調製した。
（防眩フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、実施例１−２で調製したハードコート層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、大気雰囲気中で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚３．０μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、上記の防眩層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、酸素濃度が２〜４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ヘイズが１７％の防眩層を形成した。
防眩層の上に、実施例１−１で作製した低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、さらに１２０℃で１０分間加熱して、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。このようにして、防眩フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板用保護フィルムの評価）
実施例１−１と全く同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００６１】
［実施例２−１］
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１−８で作製した防眩フィルムにおいて実施例１−１と同様に鹸化処理を実施し、最外層を有する側とは反対側のトリアセチルセルロースフィルムの表面の水に対する接触角が１５〜２０゜の偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板の作製）
膜厚７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（（株）クラレ製）を水１０００重量部、ヨウ素７重量部、ヨウ化カリウム１０５重量部からなる水溶液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。次いで、このフィルムを４０℃の４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥して偏向膜を作製した。
以下、偏光板は、空気中に含まれる３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり１〜１００個の環境下で作製した。
接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記偏向膜の一方の面に偏光板用保護フィルムの鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルム面を貼り合わせた。さらに、偏向膜のもう片方の面には水の接触角が３０゜以下になるように鹸化処理されたトリアセチルセルロースフィルムを同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
（偏光板の評価）
作製した偏光板について、以下の項目の評価を行った。結果を表２に示す。
（１）打ち抜き試験
作製した偏光板をダンベルを用いて２６インチのサイズに１００枚打ち抜く、打ち抜き試験を行い、偏向膜と偏光板用保護フィルムの間の剥がれの有無を観察し、下記の３段階評価を行った。
〇：１００枚全てにおいて剥がれが認められなかったもの
△：剥がれが認められたものが５枚以内のもの
×：剥がれが認められたものが５枚をこえたもの
（２）耐久性試験
打ち抜き試験で剥がれが認められなかった１００枚の偏光板を、恒温恒湿槽にて７０℃、９３％ＲＨの雰囲気と２５℃、９３％ＲＨの雰囲気とに１２時間ずつ交互に設定変更し、のべ１０００時間放置して耐久性試験を行い、偏向膜と反射防止フィルムの間の剥がれの有無を観察し、下記の３段階評価を行った。
〇：１００枚全てにおいて剥がれが認められなかったもの
△：剥がれが認められたものが５枚以内のもの
×：剥がれが認められたものが５枚をこえたもの
（３）塵埃による点欠陥の評価
作製した偏光板を市販の液晶表示装置に装着して、目視で見える点欠陥として観察された、偏向膜と偏光板用保護フィルムの間に取り込まれている塵埃の数を数えた。１ｍ2当たりの偏光板において下記の３段階評価を行った。
〇：１ｍ2当たりの点欠陥の数が２個以下のもの
△：１ｍ2当たりの点欠陥の数が３〜１０個のもの
×：１ｍ2当たりの点欠陥の数が１０個を越えたもの
【００６２】
【表２】
0004269510.tif 000003
【００６３】
［比較例３］
（偏光板の作製）
偏光板用保護フィルムのかわりに、実施例１−８で作製した防眩フィルムを用いた以外は実施例２−１と全く同様にて偏光板を作製した。実施例１−８で作製した防眩フィルムの最外層を有する側とは反対側のトリアセチルセルロースフィルムの表面の水に対する接触角は６０〜７０゜であった。
（偏光板の評価）
実施例２−１と全く同様にして、偏光板を評価した。結果を表２に示す。
【００６４】
［実施例２−２］
（偏光板用保護フィルムの作製）
水酸化ナトリウム水溶液に浸漬する時間を短くして、最外層を有する側とは反対側のトリアセチルセルロースフィルムの表面の水に対する接触角が２０〜３０゜の偏光板用保護フィルムを作製した。それ以外は、実施例２−１と全く同様にした。
（偏光板の評価）
実施例２−１と全く同様にして、偏光板を評価した。結果を表２に示す。
【００６５】
［実施例２−３］
（偏光板用保護フィルムの作製）
水酸化ナトリウム水溶液に浸漬する時間を短くして、最外層を有する側とは反対側のトリアセチルセルロースフィルムの表面の水に対する接触角が３０〜４０゜の偏光板用保護フィルムを作製した。それ以外は、実施例２−１と全く同様にした。
（偏光板の評価）
実施例２−１と全く同様にして、偏光板を評価した。結果を表２に示す。
【００６６】
[実施例３−１〜８、比較例４、５]
（透明支持体Ａの作製）
トリアセチルセルロース１７．４重量部、トリフェニルフォスフェート２．６重量部、ジクロロメタン６６重量部、メタノール５．８重量部、ノルマルブタノール８．２重量部からなる原料を攪拌しながら混合して溶解し、トリアセチルセルロースドープＡを調製した。
トリアセチルセルロース２４重量部、トリフェニルフォスフェート４重量部、ジクロロメタン６６重量部、メタノール６重量部からなる原料を攪拌しながら混合して溶解し、トリアセチルセルロースドープＢを調製した。
特開平１１−２５４５９４等に従って、３層共流延ダイを用い、ドープＢの両側にドープＡを共流延するように配置して金属ドラム上に同時に吐出させて重層流延した後、流延膜をドラムから剥ぎ取り、乾燥して、ドラム面側から１０μｍ、６０μｍ、１０μｍの３層共流延トリアセチルセルロースフィルムＡを作製した。このフィルムには、各層間に明確な界面は形成されていなかった。
実施例１−１〜８、比較例１、２における膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを上記トリアセチルセルロースフィルム透明支持体Ａに変更した以外は同様にして偏光板用保護フィルム３−１〜８、比較例４、５を作製した。
前述の評価を同様に行った結果を表３に示した。
【００６７】
【表３】
0004269510.tif 000004
【００６８】
[実施例４−１〜３、比較例６]
実施例２−１〜３、比較例３の偏光板における膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを上記トリアセチルセルロースフィルムＡに変更した以外は同様にして偏光板実施例４−１〜３、比較例６を作成した。最外層を有する側とは反対側のトリアセチルセルロースフィルムの表面の水に対する接触角は実施例４−１は、１５〜２０゜、実施例４−２は２０〜３０゜、実施例４−３は３０〜４０゜、比較例６は６０〜７０゜であった。
これらの偏光板において同様に打ち抜き試験、耐久性試験、点欠陥の評価を行った。結果を表４に示した。
【００６９】
【表４】
0004269510.tif 000005
【００７０】
[実施例５]
さらに、実施例４−１〜３において、透明支持体Ａを下記の手法により作製した透明支持体Ｂ、透明支持体Ｃにおいても、上記実施例と全く同様に実施して、同様の結果が得られた。
（透明支持体Ｂ）
トリアセチルセルロース２０重量部、酢酸メチル４８重量部、シクロヘキサノン２０重量部、メタノール５重量部、エタノール５重量部、トリフェニルフォスフェート／ビフェニルジフェニルフォスフェート（１／２）２重量部、シリカ（粒径２０ｎｍ）０．１重量部、２、４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１、３、５−トリアジン０．２重量部を添加、攪拌して得られた不均一なゲル状溶液を、−７０℃にて６時間冷却した後、５０℃に加温し攪拌してトリアセチルセルロースドープＣを調製した。
特開平７−１１０５５に従い、上記トリアセチルセルロースドープＣを単層ドラム流延し、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム透明支持体Ｂを作製した。
（透明支持体Ｃ）
上記のトリアセチルセルロースドープＣを、ステンレス製密閉容器にて１ＭＰａ、１８０℃で５分間加熱した後、５０℃の水浴中に容器ごと投入し冷却し、トリアセチルセルロースドープＤを調製した。
特開平７−１１０５５に従い、上記トリアセチルセルロースドープＤを単層ドラム流延し、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム透明支持体Ｃを作製した。
【００７１】
【発明の効果】
透明支持体上に含フッ素化合物からなる最外層を形成した後、鹸化処理することにより得られる本発明の偏光板用保護フィルムを作製することで、反射防止性能、防眩性能に優れる偏光板用保護フィルムを安価で大量に提供することができる。
また、鹸化処理により反射防止性能、防眩性能が変化しない偏光板用保護フィルムを提供することができる。
さらにまた、適切な手段により反射防止処理、防眩処理されている偏光板、液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）〜（ｄ）いずれも反射防止性能、又は、防眩性能を有する偏光板用保護フィルムの層構成を模式的に示す概略断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｂ）いずれもさらに優れた反射防止性能を有する偏光板用保護フィルムの層構成を模式的に示す概略断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｂ）いずれも偏光板用保護フィルムを液晶表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。
【符号の説明】
１  透明支持体
２  低屈折率層（最外層）
３  ハードコート層
４  防眩層
５  屈折率１．４０〜１．８０で、平均粒径が０．５〜６μｍの粒子
６  高屈折率層
７  中屈折率層
８  偏向膜
９  粘着剤層
１０  偏向膜の保護フィルム
【図１】
0004269510.tif 000006
【図２】
0004269510.tif 000007
【図３】
0004269510.tif 000008