(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロードロック室内に配置された角型の基板を水平面上の直行する２つのＸ、Ｙ軸方向に移動でき、かつそれらに垂直なＺ軸まわりに回転できる支持手段により下方から支持し、この支持した基板の対角位置の角を対象に一対のカメラにより撮像した基板の角から対角線の中点を基板の中心とした基板の位置と傾きの画像を認識し、位置のずれや傾きがあるとき支持手段のＸ、Ｙ軸方向の移動とＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板を所定位置に位置決めすることを特徴とする真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法。
【請求項２】
基板の角部が面取りなどされて欠けているとき、基板における角部の両側のエッジがなす線分を延長した交点を仮想頂点とし、２つの仮想頂点座標の中点を基板の中心とする請求項１記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法。
【請求項３】
前記線分または仮想頂点の傾きを基板の回転角度として位置決めする請求項１、２のいずれか１項に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法。
【請求項４】
位置決め後の基板が真空処理室または外部に移載された都度、支持手段を所定の原点に復帰させる請求項１〜３のいずれか１項に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法。
【請求項５】
真空処理室から移載された基板の位置決めは、その基板が外部から移載されたときの位置に位置決めする請求項１〜４のいずれか１項に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法。
【請求項６】
Ｘ、Ｙ軸のいずれかとＺ軸とが同一の駆動系により駆動される支持手段を用いる請求項１〜５のいずれか１項に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法。
【請求項７】
ロードロック室内に配置された角型の基板を下方から支持し、水平面上の直行する２つのＸ、Ｙ軸方向に移動でき、かつそれらに垂直なＺ軸まわりに回転できる支持手段と、支持手段により支持される基板の対角位置の角を撮像して画像認識に供する１対の認識カメラと、認識カメラが撮像した基板の対角位置の角の画像データから対角線の中点を基板の中心とした基板の位置ずれおよび傾きを演算する演算手段と、演算の結果基板に位置のずれや傾きがあるとき支持手段のＸ、Ｙ軸方向の移動とＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板を所定位置に位置決めする制御手段とを備えたことを特徴とする真空処理装置のロードロック室での基板位置決め装置。
【請求項８】
演算手段は、基板の角部が面取りなどされて欠けているとき、基板における角部の両側のエッジがなす線分を延長した交点を仮想頂点とし、２つの仮想頂点座標の中点を基板の中心とする請求項7に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め装置。
【請求項９】
制御手段は、前記線分または仮想頂点の傾きを基板の回転角度として位置決めする請求項７、８のいずれか１項に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め装置。
【請求項１０】
制御手段は、位置決め後の基板が真空処理室または外部に移載された都度、支持手段を所定の原点に復帰させる請求項７〜９のいずれか１項に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め装置。
【請求項１１】
基板の位置を記憶する記憶手段を備え、制御手段は、基板が外部から支持手段上に移載されたときの基板の位置を認識カメラと演算手段による位置および傾きの画像認識が行なわれるようにし、画像認識された基板の位置および傾きを前記記憶手段に記憶しておき、真空処理室から移載された基板の位置決めは、その基板が外部から移載されたときの記憶手段に記憶された位置に位置決めする請求項７〜１０のいずれか１項に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め装置。
【請求項１２】
支持手段は、そのＸ、Ｙ軸のいずれかとＺ軸とが同一の駆動系により駆動される請求項７〜１１のいずれか１項に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め装置。
【請求項１３】
Ｚ軸およびこれと同一の駆動系により駆動されるＸ、Ｙいずれかの軸に対し、駆動系からの駆動力を双方に伝達したり、一方に伝達して他方には遊ばせる駆動伝達断接手段を備えた請求項１２に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め装置。
【請求項１４】
駆動伝達断接手段は、駆動の断接に伴い非駆動軸を停止状態に保つブレーキを備えている請求項１３に記載の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法とその装置に関し、液晶パネルなどの処理工程に利用される。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶パネルの製造工程における液晶基板の真空処理に使用される真空処理装置のロードロック室内では、図５に示すようにそこに受け入れる角型の基板ａの各角部に対応する位置に、オイルシールなどを施して封止した回転導入部ｂを通じて回転軸ｃを外部から導入し、それぞれの回転軸ｃを外部のロータリアクチュエータｄにより正逆両方向に駆動できるようにし、この各回転軸ｃの正逆回転駆動によって回転軸１つにつき一対のローラｆをレバーｇを介し同期して離接させ、図５に示すように基板ａの角部を同時にクランプする状態にて位置決めするようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、近年液晶基板に用いられるガラス基板は大判化、薄型化しており、上記従来のようにガラス基板をそのまわりからクランプする位置決め状態では、ガラス基板が撓んで正確な位置決めができなくなっている。また、位置決めができたとしても、ガラス基板を一律に位置決めしてしまうため、真空処理後に移載されたガラス基板を位置決めして外部に移載して戻しカセットなどに収納されるようにするのに、そのガラス基板を外部のカセットから移載されたときの位置からずれていることが多々ある。このため、ロードロック室内で位置決めした真空処理後のガラス基板を外部へ移載して元のカセットに収納する際、カセット側と引っ掛かったり衝突したりし、損傷やダスト発生の原因になる。
【０００４】
また、ロータリアクチュエータｄでは、それぞれのローラｆを同期させて離接させるのが困難であり、ガラス基板を一様な動きで位置決めできず、ガラス基板がローラｆの上に乗り上げる恐れがある。また、ガラス基板の支持方法の改善により適正な位置決めができるとしても、クランプ方式のため高精細化しているデバイス面を損傷させてしまったり、ダストの発生が懸念されるなど、信頼性を十分に確保できない問題がある。
【０００５】
本発明の目的は、基板の大判化、薄板化、プロセスの微細化、高精細化、低ダスト化に対応できる、真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法とその装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法は、ロードロック室内に配置された基板を水平面上の直行する２つのＸ、Ｙ軸方向に移動でき、かつそれらに垂直なＺ軸まわりに回転できる支持手段により下方から支持し、この支持した基板の対角位置の角を対象に一対のカメラにより撮像した基板の角から対角線の中点を基板の中心とした基板の位置と傾きの画像を認識し、位置のずれや傾きがあるとき支持手段のＸ、Ｙ軸方向の移動とＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板を所定位置に位置決めすることを主たる特徴としている。
【０００７】
このような構成では、ロードロック室内に配置された基板を支持手段によって下方から支持し、支持した基板の対角位置の角を１対の認識カメラにより画像認識した対角線の中点を基板の中心とした基板の位置および傾きに応じて、支持手段自体の、水平面上の直行するＸ、Ｙ軸２方向の移動と、これらに直角なＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板を位置決めして、真空処理室または外部へ移載され真空処理やカセットへの収納に供することができ、位置決めのために基板にクランプ方式による場合のような負荷を与えることがなく、基板の大判化や薄型化によっても正確に位置決めできるとともに、基板にダメージを与えたりダスト発生の原因になったりすることがなく位置決めの信頼性が向上する。
【０００８】
この場合、角型の基板を取り扱うのに、対角線の中点を基板の中心として前記位置決めを行なうと、基板の位置を容易かつ的確に認識して精度よく位置決めすることができる。しかも、基板の角部が面取りなどされて欠けているとき、基板における角部の両側のエッジがなす線分を延長した交点を仮想頂点とし、２つの仮想頂点座標の中点を基板の中心とすることにより、基板の角の面取りや欠けの影響なく前記精度よい位置決めができる。前記線分または仮想頂点の傾きを基板の回転角度として位置決めすると、基板の傾きを容易かつ正確に認識して傾きに対する的確な位置決めができる。
【０００９】
位置決め後の基板が真空処理室または外部に移載された都度、支持手段を所定の原点に復帰させるようにすると、各回の位置決めにおいてＸＹ軸２方向の移動とＺ軸回りの回転との少なくとも１つが行なわれることの影響が累積してその後の位置決めに誤差が生じるようなことを防止することができる。
【００１０】
真空処理室から移載された基板の位置決めが、その基板が外部から移載されたときの位置に位置決めするようにすると、真空処理室から移載される基板は外部に移載してカセットに収納などされるが、その基板が外部のカセットなどから供給され移載されたときの位置に位置決めするので、外部に移載し元のカセットに収納などされるのに、カセットに当たったり引っ掛かったりして、基板にダメージを与えたりダスト発生の原因になるようなことを防止することができる。
【００１１】
Ｘ、Ｙ軸のいずれかとＺ軸とが同一の駆動系により駆動される支持手段を用いると、簡単な駆動系にて３軸の移動を利用した適正な位置決めができるとともに、駆動系の減少により信頼性が向上する上、駆動系を共用する２軸の移動による位置決めが必要な場合に、それぞれの位置決めに必要な時間だけ同時駆動して同時に位置決めすることができるので、位置決めを高速に達成することができる。
【００１２】
上記のような主たる特徴の方法を達成する位置決め装置としては、ロードロック室内に配置された基板を下方から支持し、水平面上の直行する２つのＸ、Ｙ軸方向に移動でき、かつそれらに垂直なＺ軸まわりに回転できる支持手段と、支持手段により支持される基板の対角位置の角を撮像して画像認識に供する一対の認識カメラと、認識カメラが撮像した基板の対角位置の角の画像データから対角線の中点を基板の中心とした基板の位置ずれおよび傾きを演算する演算手段と、演算の結果基板に位置のずれや傾きがあるとき支持手段のＸ、Ｙ軸方向の移動とＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板を所定位置に位置決めする制御手段とを備えたことを主たる特徴とするもので足り、前記主たる特徴の方法をプログラムに従い自動的に安定して達成することができる。
【００１３】
基板の位置を記憶する記憶手段を備え、制御手段が、基板が外部から支持手段上に移載されたときの基板の位置を認識カメラと演算手段による位置および傾きの画像認識が行なわれるようにし、画像認識された基板の位置および傾きを前記記憶手段に記憶しておき、真空処理室から移載された基板の位置決めは、その基板が外部から移載されたときの記憶手段に記憶された位置に位置決めするものとすることにより、真空処理後に移載され基板を位置決め後外部に移載する際に、その基板が外部から移載されたときの位置に位置決めする上記の方法をプログラムに従い自動的に安定して達成することができる。
【００１４】
支持手段が、そのＸ、Ｙ軸のいずれかとＺ軸とが同一の駆動系により駆動されるようにするのに、Ｚ軸およびこれと同一の駆動系により駆動されるＸ、Ｙいずれかの軸に対し、駆動系からの駆動力を双方に伝達したり、一方に伝達して他方には遊ばせる駆動伝達断接手段を備えたものとすることにより、駆動系を共用した２軸の同時駆動や異時駆動、異時の駆動開始、駆動停止を自由に行なうことができ、１つの駆動系を２軸に共用するのに不自由がなく、どのような位置決めにも対応することができる。
【００１５】
そのような駆動伝達断接手段は、駆動の断接に伴い非駆動軸を停止状態に保つブレーキを備えていると、１つの駆動系を利用した２軸の駆動であって、駆動が同時か異時かに関わらずそれを停止したとき、駆動していた軸が駆動系に対して遊ぶ状態になることにより、慣性や他の軸の駆動継続の影響で即時停止せずに位置決めに狂いが生じるようなことを防止することができるし、高速駆動しても狂いが生じなくなるので、位置決め速度の向上を妨げない。
【００１６】
本発明のそれ以上の特徴および作用は、以下に続く詳細な説明および図面の記載から明らかになる。本発明の各特徴は可能な限りにおいてそれ単独で、あるいは種々な組み合わせで複合して用いることができる。
【００１７】
【実施例】
以下、本発明の実施例に係る真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法とその装置につき、図１〜図４を参照して詳細に説明し、本発明の理解に供する。なお、以下に示す実施例は本発明の具体例であって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。本実施例は液晶基板としてのガラス基板の真空処理を行なうのに利用する位置決めの場合の一例であるが、本発明はこれに限られることはなく、各種基板の真空処理する場合に真空処理室と外部との間に設けられるロードロック室における位置決め方法およびその装置一般に適用して有効であり、いずれも本発明の範疇に属する。
【００１８】
図２にそのような真空処理室１とロードロック室２との関係構造の具体例を示してあり、ロードロック室２は真空処理室１と外部３との間に設けられ、真空処理室１の真空状態を保って基板４を移載する。この移載ために、ロードロック室２と真空処理室１および外部３との間の出し入れ口５、６にゲート弁７、８が設けられ、それぞれ個別のアクチュエータ９によって開閉できるようにされる。ロードロック室２に外部３から基板４が移載されるとき、外部３との出し入れ口６はゲート弁８によって開くが、真空処理室１の出し入れ口５はゲート弁７によって閉じ真空状態を保てるようにする。外部３には多数の基板４を収容したカセットが位置し、これに収容された基板４が移載機構によって出し入れ口６を通じ移載される。ロードロック室２内では移載、配置される基板４を支持手段１１により下方から支持し、位置決め後に真空処理室１へ移載して真空処理に供する。このときの移載は外部３側の出し入れ口６を閉じた後、真空処理室１側の出し入れ口５を開くことにより真空処理室１内の真空状態が大幅に低下するのを防止しながら、前記基板４を真空処理室１内に移載し、移載後出し入れ口５を閉じて所定の真空度を確保して真空処理が行なわれるようにする。
【００１９】
真空処理後の基板４は、外部３側の出し入れ口６は閉じたまま、真空処理室１側の出し入れ口５を開いて真空処理後の基板４をロードロック室２内の支持手段１１の上に移載し位置決めする。次いで、出し入れ口５を閉じた後出し入れ口６を開いて位置決め後の基板４を出し入れ口５を通じ外部３に移載し、前記元のカセットに収納されるようにする。以上の繰り返しによって、カセットに収納された未処理の基板４が１枚ずつ真空処理が行なわれたものと交換され、全ての基板４が真空処理が行なわれたものとなったとき１つのカセットについての基板４の真空処理が終わる。
【００２０】
以上のように、ロードロック室２内で移載され、あるいは移載する基板４を位置決めするのに、本実施例では基板４を図１、図２に示すような水平面上の直行する２つのＸ、Ｙ軸方向に移動でき、かつそれらに垂直なＺ軸まわりに回転できる支持手段１１により下方から支持し、支持した基板４の位置と傾きを図３（ａ）〜（ｃ）に示すように１または複数の認識カメラ１２、１３により画像認識し、位置のずれや傾きがあるとき支持手段１１のＸ、Ｙ軸方向の移動とＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板４を所定位置に位置決めする。これにより、ロードロック室２において、外部３または真空処理室１から移載される基板４を支持手段１１によって下方から支持し、支持した基板４の適数の認識カメラ１２、１３により画像認識した位置および傾きに応じて、支持手段１１自体の、水平面上の直行するＸ、Ｙ軸２方向の移動と、これらに直角なＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板４を位置決めして、真空処理室１または外部３へ移載され真空処理やカセットへの収納に供することができる。特に、位置決めのために基板４にクランプ方式による場合のような負荷を与えることがなく、基板４の大判化や薄型化によっても正確に位置決めできるとともに、基板４にダメージを与えたりダスト発生の原因になったりすることがなく位置決めの信頼性が向上する。
【００２１】
多くの場合、図２に仮想線で示し、図３（ａ）に実線で示すように角型の基板４を取り扱う。そこで、このような角型の基板４を取り扱うのに、それの画像認識上図３（ａ）に示すような対角線Ｐの中点を基板４の中心Ｏとして前記位置決めを行なう。このようにすると、基板４の位置を容易かつ的確に認識して精度よく位置決めすることができる。しかも、基板４の角部が図３（ａ）〜（ｃ）に示すように面取りなどされて欠けている場合が多いが、このようなとき、基板４における画像認識上、角部の両側のエッジ４ａ、４ｂがなす図３（ｂ）（ｃ）に示すような線分４ａ、４ｂを延長した交点を仮想頂点Ｒ、Ｓとし、２つの仮想頂点Ｒ、Ｓの座標の中点を基板４の中心とすることにより、基板４の角の面取りや欠けの影響なく前記精度よい位置決めができる。前記図３（ａ）（ｂ）に示すような線分４ａ、４ｂまたは仮想頂点Ｒ、Ｓの図３（ｂ）に示すような傾きθを基板４の回転角度θとして位置決めする。これにより、基板４の傾きを容易かつ正確に認識して傾きに対する的確な位置決めができる。
【００２２】
また、位置決め後の基板４が真空処理室１または外部３に移載された都度、支持手段１１を所定の原点に復帰させるようにする。これにより、各回の位置決めにおいてＸＹ軸２方向の移動とＺ軸回りの回転との少なくとも１つが行なわれることの影響が累積してその後の位置決めに誤差が生じるようなことを防止することができる。
【００２３】
また、真空処理室１から移載された基板４の位置決めが、その基板４が外部から移載されたときの位置に位置決めするようにすると、真空処理室１から移載される基板４は外部に移載してカセットに収納されるが、その基板４が外部３のカセットから供給され移載されたときの位置に位置決めするので、外部に移載し元のカセットに収納されるのに、カセットに当たったり引っ掛かったりして、基板４にダメージを与えたりダスト発生の原因になるようなことを防止することができる。
【００２４】
上記のような位置決め方法を達成する位置決め装置としては、基本的には、前記ロードロック室２において、基板４を外部３または真空処理室１から移載される基板４を支持して位置決めするのに、基板４を下方から支持し、水平面上の直行する２つのＸ、Ｙ軸方向に移動でき、かつそれらに垂直なＺ軸まわりに回転できる前記したような支持手段１１、この支持手段１１により支持される基板４を撮像して画像認識に供する前記したような適数の認識カメラ１２、１３の他に、適数の認識カメラ１２、１３が撮像した画像データから基板４の位置ずれおよび傾きを演算する演算手段１４と、演算の結果基板４に位置のずれや傾きがあるとき支持手段１１のＸ、Ｙ軸方向の移動とＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板４を所定位置に位置決めする制御装置１５とを備えたもので足りる。
【００２５】
本実施例では演算手段１４は、真空処理装置の動作制御を行うコンピュータの内部機能を採用し、制御装置１５はそのようなコンピュータ自体の動作制御機能を利用している。しかし、これに限られることはなく演算手段１４および制御装置１５共に個別の専用機器、あるいはそれらに共通した専用機器であってもよい。
【００２６】
上記のような方法を達成するために、制御装置１５は動作制御用のプログラム２１と、前記のような位置決めのための画像認識および演算を行なうためのプログラム２２とに従って制御を行う。また、外部３へ移載する基板４の位置決めをその基板４が外部から移載されたときの位置に位置決めするための位置情報を記憶するメモリ２３が制御装置１５の内部機能などとして設けられている。また、認識カメラ１２、１３による撮像画像はビデオ回路２４を介して制御装置１５に入力し、前記必要な画像認識のための演算が行なわれるようにする。認識カメラ１２、１３による撮像画像や画像認識状態はモニタ２５に出力され画面表示されるようにする。認識カメラ１２、１３はロードロック室２の底部に設けられる図１、図２に示すような透明な窓２０を通じて外部から基板４の角部を撮像するように配置しているが、これに限られることはない。
【００２７】
制御装置１５は操作パネル２６からの操作や上位コンピュータからの指示に従って真空処理を行うが、上記基板４の位置決めのため特に、位置決め用の駆動系３０を駆動するドライバ３１を動作制御し、また、駆動伝達断接手段３２を駆動するドライバ３３を動作制御する。駆動系３０により駆動されて基板４の位置決めを行なう支持手段１１は、図１に示すように、直行するＸＹ２方向に移動させる２つのボールねじなどよりなるＸ、Ｙ軸を持ったＸＹテーブル３４上に、前記ＸＹ２方向に垂直なＺ軸をその軸回りに回転できるように支持し、このＺ軸によって図２、図３に示すような基板４を受載して下方より無理なく支持する複数の支持ピン３５ａを持った支持台３５を回転できるように支持している。これによって、支持台３５は２つのＸ、Ｙ軸の方向の移動と、Ｚ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板４を位置決めすることができる。
【００２８】
駆動系３０は上記のＸ、Ｙ軸、およびＺ軸を回転駆動するのに、電動モータよりなる２つの駆動源３０ａ、３０ｂが設けられ、駆動源３０ａはＸ軸とＺ軸との駆動に前記駆動伝達断接手段３２を介して共用し、駆動源３０ｂはＹ軸の駆動に用いている。これにより、駆動系の構造が簡単になるとともに駆動系が駆動軸数に対して少ないことにより信頼性が向上する。駆動伝達断接手段３２は、駆動源３０ａにてＸ軸、Ｚ軸を駆動するのに、Ｘ軸およびＺ軸に対し、駆動源３０ａからの駆動力を双方に伝達したり、一方に伝達して他方には遊ばせるようにするもので、一例として電磁クラッチ４１、４２を採用しており、駆動源３０ａを共用したＸ軸、Ｚ軸の同時駆動や異時駆動、異時の駆動開始、駆動停止を自由に行なうことができるので、１つの駆動源３０ａを２軸に共用するのに不自由がなく、どのような位置決めにも対応することができる。
【００２９】
このような電磁クラッチ４１、４２には、駆動の断接に伴い非駆動軸となるＸ軸またはＹ軸、またはＸＹ軸を停止状態に保つブレーキ４３、４４を備えている。これにより、１つの駆動源３０ａを利用した２軸の駆動であって、駆動が同時か異時かに関わらずそれを停止したとき、駆動していた軸が駆動源３０ａに対して遊ぶ状態になることにより、慣性や他の軸の駆動継続の影響で即時停止せずに位置決めに狂いが生じるのを防止することができるし、高速駆動状態においても狂いが生じなくなるので位置決めの高速化を妨げない。
【００３０】
制御装置１５は、また、Ｘ軸原点検出センサ５１、Ｙ軸原点検出センサ５２、およびＺ軸原点検出センサ５３からの原点検出信号によって、支持手段１１を毎回の位置決め後に原点位置に復帰させる。また、図１に示すように駆動源３０ａや３０ｂにもモータ用の原点検出センサ５４を設けて原点復帰制御を行なう。
【００３１】
図４に示す制御装置１５による具体的な位置決め制御例について説明すると、基板４がロードロック室２に投入されると、図３に示すＬＥＤ６１が点灯して認識カメラ１２、１３により基板４の検出が行なわれる。次いで、基板４の画像認識による基板の位置および傾きと、それらのずれ量を演算するとともに、演算したずれ量を出力し、動作制御プログラムによって基板４の位置決めが行なわれるようにする。この位置決めのためにまず、駆動すべきＸ軸、Ｙ軸のいずれかまたは双方を駆動する必要があるとき、駆動対象であるＸ軸またはＹ軸に係る電磁クラッチ４１または４２をオンするのと同時にブレーキ４３または４４をオフする。次いで、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸に関する必要なモータ、つまり駆動源３０ａ、３０ｂの必要なものを駆動し、位置決めに必要な軸を必要量駆動する。もっとも、基板４の位置決めに際し、基板４の中心ＯとＺ軸が一致していないと、基板４の傾きを補正するために回転させたとき、基板４の中心のＸ軸およびＹ軸の方向の新たな位置ずれが生じるので、前記基板４の中心ＯとＺ軸のずれとＺ軸まわりの回転とにより生じるＸ、Ｙ軸方向のずれ量を補正するように上記演算が行なわれる。しかし、何らかの方法で基板４の中心ＯをＺ軸に一致させる位置補正を行なってからＸ、Ｙ、Ｚ軸方向の位置決めを行なう場合はそのような配慮は不要である。
【００３２】
位置決めの終わった軸に関する駆動源３０ａまたは３０ｂを停止し、駆動がＸ軸またはＹ軸に関しているときはそれらに対応するクラッチ４１または４２をオフするのと同時にブレーキ４３または４４をオンし、位置決めを終了する。続いて基板４の位置を再認識して制御装置１５の内部機能や外部機器である位置決め管理センターに信号を送り、センターがＯＫでなければ、再度の位置決めを行い、ＯＫであればＬＥＤ６１を消灯し、基板４を外部３または真空処理室１に移載して取り去る。その後、支持手段１１を原点に復帰させ、次の基板４が移載されると以上の動作を繰り返す。
【００３３】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、ロードロック室内に配置される基板を支持手段によって下方から支持し、支持した基板の対角位置の角を１対の認識カメラにより画像認識した対角線の中点を基板の中心とした基板の位置および傾きに応じて、支持手段自体の、水平面上の直行するＸ、Ｙ軸２方向の移動と、これらに直角なＺ軸まわりの回転との少なくとも１つによって基板を位置決めして、真空処理室または外部へ移載され真空処理やカセットへの収納に供することができ、位置決めのために基板にクランプ方式による場合のような負荷を与えることがなく、基板の大判化や薄型化によっても正確に位置決めできるとともに、基板にダメージを与えたりダスト発生の原因になったりすることがなく位置決めの信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る真空処理装置のロードロック室での基板位置決め方法およびその装置を示す断面図である。
【図２】図１の装置の外観斜視図である。
【図３】図１の方法および装置における基板の位置を画像認識する手法を模式的に示し、その（ａ）は２つの認識カメラによる撮像状態を示す斜視図、その（ｂ）（ｃ）は２つの認識カメラの撮像画面図である。
【図４】図１の制御装置による基板の位置決め手順を示すフローチャートである。
【図５】従来の基板の位置決め方法およびその装置を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
１  真空処理室
２  ロードロック室
３  外部
４  基板
１１  支持手段
１２、１３  認識カメラ
１４  演算手段
１５  制御装置
２１、２２  プログラム
２３  メモリ
３０  駆動系
３０ａ、３０ｂ  駆動源
３２  駆動伝達断接手段
４１、４２  電磁クラッチ
４３、４４  ブレーキ
５１〜５３  原点検出センサ
【図１】
0004271874.tif 000002
【図２】
0004271874.tif 000003
【図３】
0004271874.tif 000004
【図４】
0004271874.tif 000005
【図５】
0004271874.tif 000006