(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハを取り扱い処理するために少なくとも２つの真空室を有する真空システムであって、
ウェハの通過を許容する複数の第１通路を有する第１真空室と、
前記第１通路と異なる、ウェハの通過を許容する第２通路をそれぞれ有する、複数の第２真空室と、
前記複数の第１通路を前記複数の第２真空室の第２通路に適合させる複数の取り外し自在のアダプタと、
を備え、
前記複数の取り外し自在のアダプタの各々は、前記複数の第１通路の各々において前記複数の第２真空室の各々を前記第１真空室の外側に装着し、前記第１真空室と前記複数の第２真空室の各々との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記複数の取り外し自在のアダプタの各々は、
前記第１真空室の外側から前記複数の第１通路の各々に少なくとも部分的に挿入され、前記第２真空室の各々に接触する外側部分と、
前記第１真空室の内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を有し、
前記内側部分は、前記複数の第２真空室及び前記外側部分を前記第１真空室から取り外すことなく、前記第１真空室の内側から除去及び交換可能である真空システム。
【請求項２】
ウェハの通過を許容する少なくとも１つの第１通路を有する第１真空室と、
ウェハの通過を許容する第２通路とスリットバルブ取付インターフェースとを有する少なくとも１つの第２真空室と、
前記第１通路を前記第２通路に適合させる少なくとも１つの取り外し自在のアダプタと、
を備え、
前記取り外し自在のアダプタは、前記第１通路において前記第２真空室を前記第１真空室の外側に装着し、前記第１真空室と前記第２真空室との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記取り外し自在のアダプタは、
前記第１真空室の外側から前記第１通路に少なくとも部分的に挿入され、前記第２真空室に接触する外側部分と、
前記第１真空室の内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を有し、
前記内側部分は、前記第２真空室及び前記外側部分を前記第１真空室から取り外すことなく、前記第１真空室の内側から除去及び交換可能である真空システム。
【請求項３】
チャンバ開口及び異なるスリットバルブインターフェースをそれぞれ有する複数の他の真空室を装着する複数のスリットバルブ開口を有する真空室であって、
前記複数の他の真空室のチャンバ開口及び前記複数のスリットバルブ開口は、ウェハの通過を許容し、
前記複数のスリットバルブ開口を前記複数の他の真空室のチャンバ開口に適合させる複数の取り外し自在のアダプタを備え、
前記取り外し自在のアダプタの各々は、前記複数の他の真空室の各々を前記真空室の外側に装着し、前記真空室と前記複数の他の真空室の各々との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記複数の取り外し自在のアダプタの各々は、
前記真空室の外側から前記複数のスリットバルブ開口の各々に少なくとも部分的に挿入され、前記複数の他の真空室の各々に接触する外側部分と、
前記真空室の内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を備え、
前記内側部分は、前記複数の他の真空室及び前記外側部分を前記真空室から取り外すことなく、前記真空室の内側から除去及び交換可能である真空室。
【請求項４】
前記外側部分の選択は、前記真空室にどの異なるスリットバルブインターフェースが取り付けられるかに依存している請求項３に記載の真空室。
【請求項５】
前記内側部分の選択は、前記外側部分の選択に依存している請求項４に記載の真空室。
【請求項６】
前記内側部分の選択は、前記真空室にどの異なるスリットバルブインターフェースが取り付けられるかに依存している請求項３に記載の真空室。
【請求項７】
プロセス室開口をそれぞれ有する複数のプロセス室を装着する複数のスリットバルブ開口を有する搬送チャンバであって、
前記プロセス室開口及び前記複数のスリットバルブ開口は、ウェハの通過を許容し、
前記複数のスリットバルブ開口を前記プロセス室開口に適合させる複数の取り外し自在のアダプタを備え、
前記取り外し自在のアダプタの各々は、前記複数のプロセス室の各々を前記搬送チャンバの外側に装着し、前記搬送チャンバと前記複数のプロセス室の各々との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記複数の取り外し自在のアダプタの各々は、
前記搬送チャンバの外側から前記複数のスリットバルブ開口の各々に少なくとも部分的に挿入され、前記複数のプロセス室の各々に接触する外側部分と、
前記搬送チャンバの内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を備え、
前記内側部分は、前記複数のプロセス室及び前記外側部分を前記搬送チャンバから取り外すことなく、前記搬送チャンバの内側から除去及び交換可能であり、
前記複数のプロセス室は、
第１のプロセス室と、
前記第１のプロセス室と異なる第２のプロセス室と、
を有し、
前記複数の取り外し自在のアダプタは、
前記第１のプロセス室を接続するための第１の取り外し自在のアダプタと、
前記第２のプロセス室を接続するための第2の取り外し自在のアダプタと、
を有し、
該第１の取り外し自在のアダプタは、取り外して、前記第２の取り外し自在のアダプタと交換できる、搬送チャンバ。
【請求項８】
前記外側部分は、該外側部分を備える前記取り外し自在のアダプタによって前記プロセス室が前記搬送チャンバに接続されているときには、前記スリットバルブ開口から取り外しできない請求項７に記載の搬送チャンバ。
【請求項９】
前記内側部分は、該内側部分を備える前記取り外し自在のアダプタによって前記プロセス室が前記搬送チャンバに接続されているときには、前記外側部分から取り外しできる請求項７に記載の搬送チャンバ。
【請求項１０】
搬送チャンバの搬送チャンバ開口をプロセス室のプロセス室開口に適合させるためのアダプタであって、
前記搬送チャンバ開口及び前記プロセス室開口は、ウェハの通過を許容し、
前記搬送チャンバ開口において前記プロセス室を前記搬送チャンバの外側に装着し、前記搬送チャンバとプロセス室との間でウェハが通るのを許容する通路を形成し、
前記搬送チャンバの外側から前記搬送チャンバ開口に少なくとも部分的に挿入され、前記プロセス室に接触する外側部分と、
前記搬送チャンバの内側から前記外側部分に少なくとも部分的に挿入され、前記通路の一部を構成する内側部分と、
を備え、
前記内側部分は、前記プロセス室及び前記外側部分を前記搬送チャンバから取り外すことなく、前記搬送チャンバの内側から除去及び交換可能である、アダプタ。
【請求項１１】
請求項１０に記載のアダプタであって、
前記外側部分及び前記内側部分は、実質的に一致する、対応する滑り面を有しており、
前記内側部分は前記外側部分内に滑入するアダプタ。
【請求項１２】
請求項１０に記載のアダプタであって、
前記内側部分は前記プロセス室開口と適合するための開口を含むアダプタ。
【請求項１３】
請求項１０に記載のアダプタであって、
前記内側部分は、気密シールを形成するため、付勢圧力を受ける山形の背面を含んでいるアダプタ。
【請求項１４】
請求項１０に記載のアダプタであって、
前記外側部分は、実質的に矩形のブロックであり、該外側部分が、
実質的に平板状の前面と、
実質的に平板状の後面と、
該後面から前記前面に延びる実質的に矩形の穴と、
該実質的に矩形の穴の底壁を画成する頂面を有する底壁と、
該底壁から上方へ前記前面に部分的に沿って延びると共に、頂面及び内側後面を有する前壁と、
前記後面から前方へ延びる実質的に矩形の切欠きと、底面とを有する頂壁であって、該切欠きが前記頂壁の内向き後面を画成している前記頂壁とを含み、
前記内側部分は、
前記外側部分の前記前面と実質的に面一である、実質的に平板状の前面と、
上側の斜め後面と、
該上側の斜め後面から前記内側部分の前記前面に延びる実質的に矩形の穴と、
前記上側の斜め後面に対しある内角度で結合する下側の斜め後面と、
前記外側部分の前記頂壁の底面及び内向き後面，前記外側部分の前記底壁の前記頂面，並びに前記外側部分の前記前壁の前記頂面及び内側後面に実質的にならう多平面状外面とを含み、
前記内側部分は、該内側部分の前記多平面状外面の対応する外面で、前記外側部分の前記頂壁の前記底面，前記外側部分の前記底壁の前記頂面，並びに前記外側部分の前記前壁の前記頂面に沿って滑り、前記外側部分に入るアダプタ。
【請求項１５】
請求項７に記載のプロセス室と請求項７に記載の搬送チャンバとの間に請求項７に記載の取り外し自在のアダプタによって気密シールを形成するための方法であって、
前記搬送チャンバに前記取り外し自在のアダプタの外側部分を挿入し、
前記プロセス室を、前記外側部分に接触するように、前記搬送チャンバに取り付け、
前記搬送チャンバの内側から前記外側部分の中に前記取り外し自在のアダプタの内側部分を挿入し、
該内側部分に付勢圧力を加えて前記内側部分及び前記プロセス室を強制的に気密封止する方法。
【請求項１６】
請求項７に記載の搬送チャンバに取り付けられた前記プロセス室を取り外すことなく前記搬送チャンバの前記取り外し自在のアダプタの部材のサービスを行うための方法であって、前記取り外し自在のアダプタの内側部分及び前記プロセス室は、該内側部分に付勢圧力が加えられて強制的に気密封止されており、
前記搬送チャンバの蓋体を開き、
前記プロセス室及び前記取り外し自在のアダプタの内側部分の前記気密封止を取り除き、
該内側部分を前記搬送チャンバの外部に除去し、
この内側部分を別の内側部分と交換するか、或いは洗浄して前記搬送チャンバに戻す、方法。
【請求項１７】
請求項７に記載のプロセス室を請求項７に記載の搬送チャンバに請求項７に記載の取り外し自在のアダプタによって接続するための方法であって、
前記プロセス室に適合する前記取り外し自在のアダプタを選択し、
前記搬送チャンバの外側から、前記取り外し自在のアダプタの外側部分を前記搬送チャンバに挿入し、
前記搬送チャンバの内側から、前記外側部分の中に前記取り外し自在のアダプタの内側部分を挿入し、
前記取り外し自在のアダプタが前記搬送チャンバのスリットバルブ開口及び前記プロセス室のプロセス室開口を適合させるように前記プロセス室を前記搬送チャンバに取り付ける、
ことを含む方法。
【請求項１８】
請求項７に記載の搬送チャンバに取り付けられた請求項７に記載の第１のプロセス室を請求項７に記載の第２のプロセス室と交換するための方法であって、
（ａ）前記第１のプロセス室を用意し、
（ｂ）該第１のプロセス室に適合する請求項７に記載の第１のアダプタを選択し、
（ｃ）該第１のアダプタを少なくとも部分的に前記スリットバルブ開口に挿入し、
（ｄ）前記第１のアダプタが前記搬送チャンバ及び前記第１のプロセス室を適合させるように前記第１のプロセス室を前記搬送チャンバに取り付け、
（ｅ）前記第１のプロセス室を前記搬送チャンバから取り外し、
（ｆ）前記第１のアダプタを除去し、
（ｇ）前記第２のプロセス室に適合する請求項７に記載の第２のアダプタを選択し、
（ｈ）該第２のアダプタを少なくとも部分的に前記スリットバルブ開口に挿入し、
（ｉ）前記第２のアダプタが前記搬送チャンバ及び前記第２のプロセス室を適合させるように前記第２のプロセス室を前記搬送チャンバに取り付ける、
各ステップからなる方法。
【請求項１９】
前記第１のアダプタは前記第２のプロセス室に適合していない請求項１８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般に真空室用のスリットバルブインサートに関するものである。特に、本発明は、基板ウェハを取り扱うための搬送チャンバ用スリットバルブインサートに関し、また、搬送チャンバとプロセス室のような他のチャンバとの間の接続や、スリットバルブインサートにおける諸部材のサービスもしくは点検等に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ウェハ上に集積回路を製作するための真空システムは一般に知られている。通常、幾つかの真空室により単一の真空システムが構成される。真空処理システムは搬送チャンバと呼ばれる真空室を中央に有し、これは主フレームの一部となる。名前が示すように、搬送チャンバの主な目的は、その他のチャンバもしくは室の間にウェハを搬送することである。その他のチャンバには色々あるが、特にプロセス室、冷却室，バッファ室、ロードロック室が含まれる。また、真空処理システムは、追加的な処理のためウェハを次のシステムへ移動できるように、ウェハをロードロック室に移送し、そして該ロードロック室からウェハを取り出すためのミニエンバイロメントのようなある種のサブシステムを有する。時には、この搬送チャンバに周辺のチャンバ及び準備領域を加えてクラスターツールと呼ぶことがある。
【０００３】
チャンバ間のアクセスはスリットバルブを介して行われる。スリットバルブはチャンバにある開口を含んでおり、該チャンバには、ウェハ、即ち基板が２つのチャンバ間を通るために、別のスリットバルブ開口がついている。一般的には、スリットバルブ開口は基板が通ることのできる細長い矩形である。２チャンバのスリットバルブ間の適合は、システム内を真空に維持するため、気密でなければならない。
【０００４】
他のチャンバ間にウェハが通過するので、代表的な搬送チャンバは６つのスリットバルブを有する。プロセス室は、一般的に１つのスリットバルブのみを有する。
【０００５】
搬送チャンバのようなある種のチャンバの側部にあるスリットバルブ用の実際の開口は、一般的な矩形穴であることが典型的であり、これは、どのチャンバのスリットバルブとも実際に適合するものではない。従って、搬送チャンバの開口をプロセス室の特定の開口と適合させるために、スリットバルブインサートが搬送チャンバの一般的な開口に挿入される。このインサートは、それが取り付けられるプロセス室と適合する開口を有する．即ち、スリットバルブインサートはチャンバ間のアダプタである。
【０００６】
また、異なるプロセス室は異なる形状及び大きさの開口を有する。従って、異なるアダプタが同じ搬送チャンバのスリットバルブ開口において用いられる。
【０００７】
図１は、搬送チャンバ１２のスリットバルブ開口２６に挿入する直前の、或いはそこから取り外した直後のアダプタ２の例を示している。アダプタ２は、ウェハが通過する開口４と、プロセス室に押し付けられる前面５とを有する。プロセス室は、開口４に適合するウェハ出入開口、即ちスリットバルブ開口を有すると共に、前面５と適合する、ウェハ出入開口の周りの表面と一緒に気密シールを通常形成する。また、アダプタ２は、開口４の周りに通路もしくはチャンネル６を有する。チャンネル６は、プロセス室側の合せ面と整列して、プロセス室と共にシールを行うO-リングを保持する。
【０００８】
アダプタは、図１に示すように、チャンバの外側から搬送チャンバの開口に挿入されていた。その後、プロセス室がアダプタをおおって取り付けられ、そしてアダプタをしっかり所定位置に保持する。このスリットバルブはチャンバ間のアクセスを可能にする。搬送チャンバの床を介して配置される作動シリンダは、スリットバルブ開口の周りの表面上に着座するスリットバルブドアでスリットバルブを閉じる。ドアのための座部は搬送チャンバ内に配置されている。スリットバルブ開口、アダプタ、ドア及び作動シリンダによってスリットバルブが形成されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
スリットバルブの開閉サイクルは、ドア及びアダプタをゆっくり摩耗させたり、或いは不潔にしたり、汚染させたりする。摩耗した或いは不潔になったドアやアダプタは、搬送チャンバ及びプロセス室間に漏れを生じさせることがあり、多分、毒性のガスがプロセス室から出て搬送チャンバに入るのを許したり、搬送チャンバからのガスがプロセス室に入るのを許したりして、プロセス室の真空能力を低減させる。アダプタが不潔になって清浄にする必要があったり、摩耗して交換する必要があったりすると、問題が起こる。アダプタは、搬送チャンバの外側から搬送チャンバ及びプロセス室間に設けられているので、アダプタを交換するには、プロセス室を完全に取り除かなければならない。プロセス室を取り外して再び取り付けることは非常に時間のかかる仕事である。
【００１０】
１つの解決策は搬送チャンバの内側からアダプタを挿入することであったが、そうすれば、上述のようなアクセスを可能にするために、且つアダプタがプロセス室と適切な気密シールを形成することを確実にするために、チャンバ開口を再設計しなければならない。チャンバの内側からアダプタを挿入するのに適応するような再設計の難点の１つは、アダプタを開口の中に滑り込ませた後に同アダプタを止めるために使用する肩部を搬送チャンバの内側から機械加工する必要があり、非常に難しい工程を必要とする。
【００１１】
従って、搬送チャンバを有する真空製作システムに対しては、任意のプロセス室に取り付けるように選択でき、チャンバを再設計することなく搬送チャンバの内側から点検等をすることができるアダプタを有する必要性が起きていた。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
１つの実施形態においてプロセス室を搬送チャンバに接続するための方法は、プロセス室に適合するアダプタを選択すること、該アダプタを搬送チャンバのスリットバルブに挿入すること、及びプロセス室を搬送チャンバに取り付けることを含んでいる。アダプタは、搬送チャンバの外側から該チャンバに挿入される外側部分と、該チャンバの内側からこの外側部分に挿入される、弁座が形成された内側部分とを有しうる。この２ピース式スリットバルブ構造は、アダプタ内側部分の容易な除去及び交換を可能にする。
【００１３】
１つの実施形態において搬送チャンバに取り付けられたプロセス室を交換するための方法は、第１のプロセス室用の適合アダプタを選択すること、これを第１のプロセス室に取り付ける前に搬送チャンバに挿入すること、次いで第１のプロセス室を取り外し、アダプタを除去すること、それからもう１つのプロセス室のための適合アダプタを選択すること、そして該アダプタ及びチャンバを上述のように取り付けることを含んでいる。アダプタは、プロセス室に適合すべく内側部分及び外側部分を有している。
【００１４】
１つの実施形態における真空システムは、通路、即ちスリットバルブを備えた２つ以上のチャンバを有し、それらの間にウェハを通過させる。そしてアダプタがチャンバのうちの少なくとも１つのチャンバの通路に配置されて、各チャンバの通路に適合している。アダプタは２ピースから形成することができ、各ピースが通路の一部を別個に構成している。
【００１５】
真空室の１つの実施形態は、２つのアダプタを備えたスリットバルブを有しており、該アダプタはチャンバに取り付けるべき該チャンバ上の取付インターフェースのタイプに従って選択される。
【００１６】
搬送チャンバの実施形態は、スリットバルブ開口に配置されるアダプタを有し、このアダプタは取り外しでき、別のアダプタと交換できる。該アダプタは異なる適合プロセス室に取りつけ、内側部分及び外側部分を有する。外側部分は、プロセス室を取り付けるときに搬送チャンバから取り外さなくてもよく、内側部分はプロセス室を取り付けるときに取り外すことができる。
【００１７】
プロセス室を搬送チャンバに接続させるためのアダプタの一実施形態は、搬送チャンバに挿入する外側部分と、該外側部分に挿入する内側部分とを備える。内側部分は、外側部分内に部分的に滑入してもよく、プロセス室に適合する通路を有すると共に、シールを形成するための座面を有する。
【００１８】
プロセス室及び搬送チャンバ間に気密シールを形成するための方法の一実施形態は、外側部分を搬送チャンバに挿入すること、その後、外側部分に接触するようにプロセス室を取り付けること、次いで内側部分を搬送チャンバの内側から外側部分内に挿入すること、そして圧力を加え内側部分を外側部分に向かって付勢させることを含んでいる。
【００１９】
搬送チャンバに取り付けられたプロセス室を取り外すことなく同搬送チャンバにサービスする方法の一実施形態は、搬送チャンバを開くこと、搬送チャンバ及びプロセス室間の開口から内側部分をアンシールし取り除くこと、アダプタを清浄にするか交換することを含んでいる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明の上述した特徴、利点及び目的を達成する方法が詳細に理解できるように、上述のように要約した本発明について、添付図面に例示した実施形態を参照することにより、もっと特定的に説明する。
【００２１】
しかしながら、添付図面は、本発明の代表的な実施形態を例示するに過ぎず、本発明にはその他の同様に効果的な実施形態の余地があるので、本発明の範囲を限定するものと考えてはならない。
【００２２】
図２は、中央の真空式搬送チャンバ１２に取り付けられた一連の真空室１４を総括的に示す真空処理システム１０の上面概略図である。１対の真空式ロードロック室１６はミニエンバイロメント１８への通路を提供するように示されている。ポッドローダ２０はミニエンバイロメント１８に取り付けて示されている。このシステムはクラスターツールの例である。
【００２３】
この構成において、真空室１４は、気密シールのところで搬送チャンバ１２に接続することができ、該気密シールは、チャンバもしくは室１２，１４，１６の真空を失うことなく２つのチャンバもしくは室１２，１４，１６間にウェハを通過させることを可能にする。
【００２４】
ポッドローダ２０は、ミニエンバイロメント１８に取り付けられていて、作業員により或いは自動機械によりウェハカセットを装荷される。この自動機械は、真空処理システム１０を格納する製造プラントもしくは建屋の全自動製造システムの一部である。ミニエンバイロメント１８内のロボット（図示せず）は、ウェハをポッドローダ２０からロードロック室１２に移動させ、そして再び逆戻りさせ得る。搬送チャンバ１２内でウェハを移動させるためのアーム及びブレードを有するロボット（図示せず）は、ウェハをロードロック室１６の１つからプロセス室１４に、そしてロードロック室１６の１つに戻すように移動させ得る。
【００２５】
真空室１４は、ウェハ上に集積回路を製作するための一連のプロセスにおいてウェハに対しある種の処理を行う、化学気相堆積（ＣＶＤ）室，物理気相堆積（ＰＶＤ）室，エッチング室等のような数種のプロセス室のうちの１つである。真空室の製造者にとって、各真空室がある共通の特徴を有するが、ウェハに対して異なる処理を行う２０種を超えるかかるプロセス室を有することは、異常なことではない。
【００２６】
図３は、搬送チャンバ１２の内部が見られるように蓋体を除去した具体的搬送チャンバ１２の斜視図である。開口２４，２６を有する数個のスリットバルブ及びアダプタ２８，３０の例が示されている。スリットバルブ開口２４，２６及びアダプタ２８，３０がスリットバルブを形成する。アダプタ２８，３０は、プロセス室１４を搬送チャンバ１２に、両者の間にウェハのための通路を形成して、取り付けられるようにするアダプタである。プロセス室１４は、気密シールで搬送チャンバ１２に取り付けられていて、チャンバ間の結合部で雰囲気が真空システムに入るのを防止している。異なるアダプタ２８，３０は異種のプロセス室１４に適合するようになっている。搬送チャンバ１２の床３７にある円形の開口３６は、ウェハを搬送チャンバ１２の内側で移動させたり、そこに接続された他のチャンバもしくは室１４，１６の内部及び外部へ移動させたりするためのアームを有するロボットを通常支持する。ロボットは図示していないので、搬送チャンバ内部の他の詳細が観察できる。矩形の開口３８は、付勢圧力を加えるようにスリットバルブドアを操作して該スリットバルブドアを開閉するための作動シリンダに対してアクセスを可能にする。各スリットバルブ毎に１つの開口３８がある。作動シリンダ及びスリットバルブドアは図示していないので、搬送チャンバ１２における他の特徴が観察できる。作動シリンダ及びスリットバルブドアの一例は１９９３年７月１３日に発行された米国特許第5,226,632号に見られる。これは、参照によって、以下に十分に記載されているかのようにここに組み込まれる。
【００２７】
２ピース式スリットバルブ２８は、スリットバルブ開口２４から分解されて搬送チャンバ１２の外側及び内側に示されている。外側部分２９は搬送チャンバ１２の外側から開口２４に滑入し、内側部分３１は搬送チャンバ１２の内側から外側部分２９の中に入る。外側部分２９は搬送チャンバ１２に、内側部分は外側部分３１に、それぞれネジのような任意の適切な手段によって取り付けられる。このようにして、プロセス室１４は、スリットバルブ開口２４のところで搬送チャンバ１２の外側に装着でき、これにより、外側部分２９は所定位置に閉じ込められる。しかし、内側部分３１は、プロセス室１４を取り付けても、搬送チャンバ１２の内側から未だ取り外すことができる。内側部分３１を取り外すために必要なことは、作動シリンダ及びスリットバルブドアを引張って内側部分３１から後退させ、蓋体２２を開き、内側部分３１を外し、内側部分３１を外へ引張ることで、それが全てである。従って、アダプタ２８の内側は、プロセス室１４を搬送チャンバから取り外すことなく、サービスもしくは点検等を受けたり、清掃されたり、交換されたりしうる。
【００２８】
図４は、アダプタ２８の一例の切欠きもしくは切落し図である。アダプタ２８の右側端部は、内部断面を示すため且つ拡大の目的で切り落とされている。外側部分２９の後面５２は搬送チャンバ１２の内部に臨んでいる。内側部分３１の斜め後面５４は、搬送チャンバ１２の内部に向かって面しているが、下向きの角度が付いており、スリットバルブドアの座面を形成するので、スリットバルブドアは、搬送チャンバの床からある角度で押し上げられ、後面５４と共に気密シールを形成してスリットバルブを閉じる。開口５６は、スリットバルブドアが引き戻されているときに搬送チャンバ１２とプロセス室１４との間にある実際の開口である。この開口５６は、例えば６００ｍｍ，３００ｍｍ，２００ｍｍ等のような変動する基板寸法用に作ることができる。斜め後面５５は、下向きに傾斜していて、スリットバルブドアが座面５４と接触するのを可能にする。代替のドア／座部組立体（図示せず）は、ドアを殆ど水平にその座部から移動させることによって該ドアを作動させ、その後該ドアを下動させる。従って、この代替例は２段運動であり、スリットバルブドア座部のための殆ど垂直な後面を備えたアダプタを有する。
【００２９】
外側部分２９は、穴５９を通るネジにより搬送チャンバ１２に取り付ける。内側部分３１は、外側部分２９の頂壁６４の底面６２，外側部分２９の底壁６８の頂面６６，及び外側部分２９の前壁７２の頂面７０に沿って外側部分２９に滑入する。内側部分３１は、その前面５８が外側部分２９の前面６０とほぼ面一になるまで、外側部分２９にあるほぼ矩形の開口に滑入する。内側部分３１は、穴６１に入るネジにより外側部分２９に取り付けられる。ネジは、取り付けられたプロセス室の外側面上に内側部分３１の前面５８が落ちつくまで、締め付けられる。従って、内側部分３１は外側部分２９の内面６２，６６，７０，７４，７６に対応する外面を有するが、２つの部分２９，３１はこれらの面の各々に沿って必ずしも接触しないので、内側及び外側部分間に生ずる間隙は非常に小さい。しかしながら、スリットバルブドアが後面５４に向かって付勢されているときには、内側部分３１が前方且つ上方へ押されるので、同内側部分３１は、取り付けられたプロセス室の外面に対してより強く押圧されるだけでなく、底面６２で外側部分２９にも押し付けられる。底面６２での接触は少量のガスを捕獲することがある。この接触のところで捕獲されるガスの量を最少にすると共に、接触面を最小にするため、スペース７８が接触の長さだけ延びており、搬送チャンバ１２に通じている。
【００３０】
図５は、蓋体のない搬送チャンバ１２の切欠き横断面図であり、搬送チャンバ１２の内側の一部とバルブ開口２４におけるアダプタ２８の位置とを示している。外側部分２９は、搬送チャンバ１２の外側からバルブ開口２４に滑入し、肩部８０で止まる。内側部分３１は搬送チャンバ１２の内側から外側部分２９に滑入する。作動シリンダは開口３８内に設けられ、バルブドアを矢印Ａの方向に後面５４に対して押し付け、開口５６を閉じる。従って、内側部分３１は、取り付けられたプロセス室の外面に押し付けられるので、溝８２内に配置されたO-リング（図示せず）がプロセス室の表面と共にシールを形成する。このシールは、開口５６をおおうバルブドアによるシールと組み合って、搬送チャンバ１２とプロセス室１４との間の異なる圧力に対し気密シールを形成する。プロセス室は開口を通るそれ自体の通路を有し、そして各タイプのチャンバもしくは室が搬送チャンバ１２の外側に取り付けるため及び溝８３内に配置されたO-リング（図示せず）と連係するため、若干異なる大きさの開口及び若干異なるインターフェースを有する。搬送チャンバ１２及びプロセス室１４の間に前述した気密シールを形成するのがこのO-リングである。
【００３１】
図６は、搬送チャンバ１２の一部の切欠き斜視図であり、図５のものと同じ特徴の多くを、明瞭さを増すため異なる角度から示している。
【００３２】
プロセス室１４に適合する適切な内側及び外側部分３１，２９を選択することにより、スリットバルブ２４，２８はどのプロセス室にも取り付けることができる。従って、この実施形態においては、使用者は、プロセス室１４に適合する適切な内側及び外側部分３１，２９を選択し、選択した外側部分２９をバルブ開口２４内に滑入させ、外側部分２９を搬送チャンバ１２に取り付け、プロセス室１４を搬送チャンバ１２に取り付け、選択した内側部分３１を外側部分２９内に滑入させ、その後内側部分３１を外側部分２９に接続する。同様に、現在取り付けられているプロセス室１４を交換すべきときには、使用者は、異なる内側及び外側部分３１，２９を選択することだけが必要である。また、内側部分３１を清掃または交換する必要があるときには、プロセス室１４及び外側部分２９を取り外す必要がないので、内側部分３１に対してはサービスが非常に迅速で容易であり、しかし外側部分２９は、プロセス室１４を取り外さずには除去され得ない。
【００３３】
搬送チャンバ１２の各バルブ開口２４，２６は、同じタイプの２ピース式アダプタ２８を必要とする、同じタイプのプロセス室１４を取り付けてよいし、或いは各バルブ開口２４，２６について異なる２ピース式アダプタ２８を必要とする異なるタイプのプロセス室１４を有していてよい。
【００３４】
上述の説明は本発明の好適な実施形態に向けられているが、本発明の基本的範囲から逸脱することなくその他のまた更なる実施形態を工夫することができ、本発明の範囲は、以下の請求項によって決められる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  スリットバルブから分解した先行技術のアダプタを示す、蓋体なしの搬送チャンバの切欠き部の斜視図である。
【図２】  真空製作システムの概略図である。
【図３】  蓋体を除去した搬送チャンバと、この搬送チャンバ内に示され且つ該搬送チャンバから分解されたアダプタとの斜視図である。
【図４】  ２ピース式アダプタの切欠き部の斜視図である。
【図５】  作動位置にある２ピース式アダプタを示す搬送チャンバの切欠き部の断面図である。
【図６】  作動位置にある２ピース式アダプタを示す搬送チャンバの切欠き部の斜視図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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