(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性のポリマー表面を製造するための方法において、
（Ｉ）アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、マレイン酸、ソルビン酸、カフェー酸およびフマル酸から選択され、かつポリマー中で遊離カルボキシル基または生理学的に認容性の塩の形で存在するカルボン酸、またはこれらカルボン酸の相応する官能化誘導体；
（ＩＩ）ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルトルエンスルホン酸およびビニルキシレンスルホン酸または生理学的に認容性のこれらの塩から成る群から選択され、かつポリマー中に生理学的に認容性の塩の形で存在するスルホン酸、またはこれらスルホン酸の相応する官能化誘導体；
（ＩＩＩ）水中でポリマーを不溶にするのに十分な量で含まれ、かつ、ビニルアルキルケトン、ビニルエステル、アルキル（メト）アクリレート、（メト）アクリロニトリル、（メト）アクリルアミド、１−ブテン、１−ヘキセン、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、スチレン、メチルスチレン、ハロゲノスチレン、トリス（トリメチルシロキシ）−メタアクリロイルオキシプロピルシランおよびトリス（トリメチルシロキシ）−アクリロキシプロピルシランから成る群から選択される非イオン性モノマーをラジカル重合することによって得られ；かつ
成分ＩおよびＩＩは、Ｉ／ＩＩのモル比が０．４〜２であり、かつポリマーに対して全量が０．５〜３０ｍｏｌ％である、
水不溶性ポリマーを使用し、その際、相当する官能化誘導体は、必要である場合には、共重合後に、少なくとも表面上で、カルボキシル基またはカルボキシレート基またはスルホン酸基またはスルホネート基にそれぞれ変換される
ことを特徴とする、細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性のポリマー表面の製造方法。
【請求項２】
（Ｉ）アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、マレイン酸、ソルビン酸、カフェー酸およびフマル酸から選択され、かつポリマー中で遊離カルボキシル基または生理学的に認容性の塩の形で存在するカルボン酸、またはこれらカルボン酸の相応する官能化誘導体；
（ＩＩ）ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルトルエンスルホン酸およびビニルキシレンスルホン酸または生理学的に認容性のこれらの塩から成る群から選択され、かつポリマー中に生理学的に認容性の塩の形で存在するスルホン酸、またはこれらスルホン酸の相応する官能化誘導体；
（ＩＩＩ）水中でポリマーを不溶にするのに十分な量で含まれ、かつ、ビニルアルキルケトン、ビニルエステル、アルキル（メト）アクリレート、（メト）アクリロニトリル、（メト）アクリルアミド、１−ブテン、１−ヘキセン、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、スチレン、メチルスチレン、ハロゲノスチレン、トリス（トリメチルシロキシ）−メタアクリロイルオキシプロピルシランおよびトリス（トリメチルシロキシ）−アクリロキシプロピルシランから成る群から選択される非イオン性モノマーをラジカル重合することによって得られ；かつ
成分ＩおよびＩＩは、Ｉ／ＩＩのモル比が０．４〜２であり、かつポリマーに対して全量が０．５〜３０ｍｏｌ％である、
水不溶性、細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性のポリマー、その際、相当する官能化誘導体は、必要である場合には、共重合後に、少なくとも表面上で、カルボキシル基またはカルボキシレート基またはスルホン酸基またはスルホネート基にそれぞれ変換される。
【請求項３】
ポリマーが細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性である表面を有することを特徴とする請求項２記載のポリマー。
【請求項４】
水不溶性、細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性のポリマーを製造するための方法において、
（Ｉ）アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、マレイン酸、ソルビン酸、カフェー酸およびフマル酸から選択され、かつポリマー中で遊離カルボキシル基または生理学的に認容性の塩の形で存在するカルボン酸、またはこれらカルボン酸の相応する官能化誘導体；
（ＩＩ）ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルトルエンスルホン酸およびビニルキシレンスルホン酸または生理学的に認容性のこれらの塩から成る群から選択され、かつポリマー中に生理学的に認容性の塩の形で存在するスルホン酸、またはこれらスルホン酸の相応する官能化誘導体；
（ＩＩＩ）水中でポリマーを不溶にするのに十分な量で含まれ、かつ、ビニルアルキルケトン、ビニルエステル、アルキル（メト）アクリレート、（メト）アクリロニトリル、（メト）アクリルアミド、１−ブテン、１−ヘキセン、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、スチレン、メチルスチレン、ハロゲノスチレン、トリス（トリメチルシロキシ）−メタアクリロイルオキシプロピルシランおよびトリス（トリメチルシロキシ）−アクリロキシプロピルシランから成る群から選択される非イオン性モノマーをラジカル共重合させ；かつ
成分ＩおよびＩＩは、Ｉ／ＩＩのモル比が０．４〜２であり、かつポリマーに対して全量が０．５〜３０ｍｏｌ％であり、
その際、相当する官能化誘導体は必要である場合には、共重合後に、かつ少なくとも表面上で、それぞれカルボキシル基またはカルボキシレート基またはスルホン酸基またはスルホネート基に変換されていることを特徴とする、水不溶性、細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性のポリマーの製造方法。
【請求項５】
細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性の表面を有する製作物の製造方法において、請求項２または３記載のポリマーを用いて全部または部分的に製品を製造することか、あるいは請求項２または３記載のポリマーで、プラスチック、セラミックまたは金属材料から成る製品の表面を被覆することを特徴とする、細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性の表面を有する製作物の製造方法。
【請求項６】
細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性の表面を有する製作物の製造方法において、プラスチック、セラミックまたは金属材料から成る製品の表面を、請求項２または３記載のポリマーで被覆することを特徴とする、細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性の被覆を有する製作物の製造方法。
【請求項７】
請求項２または３記載の水不溶性、細菌嫌忌性のポリマーからなる、細菌嫌忌性および細胞増殖阻止性の表面を有する製品。
【請求項８】
プラスチック、セラミックまたは金属材料から成る支持体および支持体表面の細胞嫌忌性被覆を含む製品において、被覆が、請求項２または３記載の水不溶性、細菌嫌忌性のポリマーを含有することを特徴とする、製品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特定の、一部新規の水不溶性ポリマーの使用下に細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の表面を製造する方法に関する。さらに、本発明は細菌嫌忌性および場合により同時に細胞増殖阻止性の材料として使用しうる新規ポリマーそのものならびにその製造方法に関する。最後に、本発明は細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の新規または公知材料の使用下に製造される製作物ならびに製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
目的物、器具または補助手段が生物組織および／または体液と直接接触するすべての医学的検査、治療および手術においては、細菌による汚染が重大な困難ないし患者を危険にまでもたらしうる。これは、短時間接触の場合と同様、植え込み、カテーテル挿入、人工補装具および他の医療技術的応用の中期間または持続的適用の場合に該当する。それで、ゴールドマン(P. A. Goldman)、ピエール(G. B. Pier)著の、Clin. Microbiol. Rev.、６巻（１９９３年）１７６ページ以降から、手術の際の感染により重大かつ著しい費用のかかる合併症が出現しうることは公知である。同じ理由から、カテーテルは２〜６日の適用時間後に交換すべきである。
【０００３】
食料品工業および飲料工業の分野においても、配管、容器または包装の表面上の細菌の生息および生息域拡大は高度に望ましくない。しばしば粘液層が形成し、該層が細菌個体数を極度に増加させ、水、飲料および食料品の品質を持続的に損ない、むしろ品物の腐敗ならびに消費者の健康傷害をもたらしうる。
【０００４】
衛生が重要であるすべての生活領域から、細菌を遠ざけるべきである。直接身体に接触する布、殊に恥部用布および病人看護および老人看護用布がこれに該当する。さらに、保育所、殊に集中保育および乳幼児保育の領域、病院、殊に医療手術の領域および危険な感染症用隔離病棟、ならびにトイレットにおける家具および器具の表面から細菌を遠ざけるべきである。
【０００５】
現在、器具ならびに家具の表面および布は、細菌に対して必要な場合または用心のため、消毒剤として多かれ少なかれ広範かつ強力に抗菌作用をする化学薬品またはその溶液ならびに混合物で処理される。かかる化学薬品は非特異的に作用し、しばしば自体有毒または刺激的であるかまたは健康上危険性のある分解生成物を形成する。しばしば、相応に敏感な人間の場合不適合性を示す。
【０００６】
表面の細菌生息域拡大に対する別の処置は、表面層中に抗菌作用物質、たとえばＰＣＴ特許（ＷＯ）９２／１８０９８号による銀塩を混入することである。ラッカー様被膜中に第四級アンモニウム塩を混入することもＰＣＴ特許（ＷＯ）９４／１３７４８号から公知である。
【０００７】
しかし、このような複合体は水溶液または体液に対してあまり安定でないことが判明する。浸出が生じ、これにより抗菌作用物質の濃度が適用時間と共に減少して作用が低下する。さらに、このような配合物の医学的適用の場合には作用物質分量が生理的循環路に入り、これは毒物学的懸念および起こり得る副作用に基づき高度に望ましくない。
【０００８】
他の工業的分野で米国特許（ＵＳ−ＰＳ）５２７８２００号から、カルボキシレート基およびスルホネート基を天然のヘパリンと比較可能な割合で含有するポリマーは公知である。これらのポリマーは、血液中の血小板に対し抗凝血作用を有する。
【０００９】
さらに、抗菌作用物質をポリマー表面および／または官能化表面(funktionalisierte Oberflaechen)に、とくに共有結合により固定化することが多種多様に試みられる(T.Ouchi., Y.Ohya, Prog. Polym. Sci.、２０巻（１９９５年）、２１１ページ以降）。この場合、基質に対する化学結合は遊離の作用物質と比べて殺菌作用の低下をもたらす。医学的適用の場合、このような表面はしばしば生理的系統に対し不適合性を示す。
【００１０】
付加的に、撲滅された細菌が抗菌作用表面上に残留して、有機層を構成し、該層が結局殺菌作用を完全に隠蔽する。撲滅された細菌による表面の被覆は、他の細菌の襲来に対し殊に有利な培地を呈示する(A.Kanazawa, T.Ikeda, T.Endo, J. Polym. Sci. Apolym. Chem.３１巻（１９９３年）、１４６７ページ以降）。
【００１１】
特定の医学的適用の場合、使用されるプラスチックの細菌嫌忌作用のみならず、細胞増殖阻止作用も重大である。たとえば、細胞生息は中期間体内適用されるカテーテルの場合、長期間挿入されるステントまたは心臓弁膜の場合と同様有害である。ＰＣＴ特許（ＷＯ）９４／１６６４８号には、レンズの曇りを生じる眼移植レンズ上の細胞収着および細胞生息域拡大を移植片表面の後での化学変性により阻止する方法が記載される。ヨーロッパ特許（ＥＰ）０４３１２１３号により、ポリマーの表面を強鉱酸で親水性にすることにより、ポリマーに細胞拒絶性が付与される。これが細胞付着の減少をもたらす。
【００１２】
ポリマー材料表面の後での化学変性は、大抵一様および／または単一でない。屡々、処理されない面が残留し、これが表面の細胞生息のための出発点を形成しうる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ポリマーの表面を生理的に許容しうる方法で細菌および場合により同時に細胞による生息から十分に免れ、表面に撲滅された細菌が残留することのない方法を提供することである。他の課題は、細菌嫌忌性および場合により同時に細胞増殖阻止性の新規ポリマーを提供することである。本発明の他の課題により、特定の細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の材料からなるかまたはかかる材料を含有する製作物が提供される。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマー表面
本発明の対象の１つは、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマー表面の製造方法であり、該方法はこのため請求項１により、
（ａ）一般式
式Ｉ：                Ｒ−（Ａ）ａ
［式中Ｒは価ａを有する脂肪族不飽和の有機基を表わし、
Ａはカルボキシル基−ＣＯＯＨ、硫酸基−ＯＳＯ2ＯＨ、スルホン酸基−ＳＯ3Ｈ、リン酸基−ＯＰＯ（ＯＨ）2、ホスホン酸基−ＰＯ（ＯＨ）2、亜リン酸基−ＯＰ（ＯＨ）2、フェノール性ヒドロキシル基または記述した基の塩を表わし、かａは１、２または３を表わす］の少なくとも１種のモノマー；ただし、式Ｉのモノマーがカルボキシル基−ＣＯＯＨまたはカルボキシレート基を有する場合、このモノマーはＡに対し記述された他の意味を有する別の基Ａを含有するかまたはＡがＡに対し記述された他の意味を有する式Ｉの少なくとも１つの別のモノマーを一緒に使用する；および
（ｂ）少なくとも１つの他の脂肪族不飽和モノマーのラジカル重合により得られる水不溶性ポリマーＡを使用することを特徴とする。
【００１５】
本発明は、ポリマーＡが細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の材料として使用するのに非常に好適であるという観察に基づく。
【００１６】
脂肪族不飽和基Ｒは、此処および下記において、Ｃ−Ｃ二重結合および／または三重結合、とくに１個または２個のオレフィン性二重結合を含有する有機基を意味する。有機基Ｒは炭化水素構造を有するかまたは炭素および水素の外に別の原子、たとえば酸素、窒素および／またはケイ素原子を含有することができる。
【００１７】
上記の制限的規定条件により、たんにカルボキシル基またはカルボキシレート基を含有するだけのあまり有効でないコポリマーは排除される。
【００１８】
Ａに対し記述された酸基の塩のうち、アルカリ塩、殊にナトリウム塩が好ましい。
【００１９】
式Ｉのモノマーの共通の特徴は、該モノマーがとくに１個または２個のオレフィン性二重結合ならびに少なくとも１個の酸基または酸基の塩を有することであり、その際上述のようにカルボキシル基およびカルボキシレート基は単独では出現し得ない。
【００２０】
本発明により使用されるポリマーＡは、細菌により殆ど侵されない：従って、表面上での細菌の付着は卓越して抑圧される。この細菌嫌忌作用のほかに、本発明により使用されるポリマーは静菌的でもある、つまりポリマーの表面に付着した僅かの細菌の細胞分裂は著しく減少する。これは、本発明によるポリマーの細菌嫌忌作用が既に付着している細菌の成長によって隠蔽され得ないことを意味する。細菌の吸着および増殖の減少は、たとえば下記の種類のグラム陽性菌およびグラム陰性菌に該当する：表皮葡萄球菌(Staphylococcus epidermidis)、化膿連鎖球菌(Streptococcus pyogenes)、黄色葡萄球菌(Staphylococcus aureus)、肺炎桿菌(Klebsiella pneumoniae)、緑膿菌(Pseudomonas aeruginosa)、糞便腸内菌(Enterobacter faecium)。
【００２１】
ポリマーＡが細菌嫌忌性および同時に細胞増殖阻止性である特別の条件は、後で説明する。
【００２２】
ポリマーＡの表面は細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性であるだけでなく、さらに優れて組織、血液または他の体液と相容性である、それというのも抗菌性作用物質は使用されず、従って該作用物質が身体中に入ることもないからである。
【００２３】
細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の新規ポリマー
本発明の他の対象は、
（ｃ）成分Ｉとして、１個または数個のカルボキシル基および／またはカルボキシレート基含有脂肪族不飽和モノマーまたはこのモノマーの相応に官能化された誘導体と、
（ｄ）成分ＩＩとして、１個または数個のスルホン酸基および／またはスルホネート基含有脂肪族不飽和モノマーまたは相応に官能化されたこのモノマーの誘導体および
（ｂ）１種の別の脂肪族不飽和モノマーまたは数種の別の脂肪族不飽和モノマーを含有する成分ＩＩＩとのラジカル共重合により得られる、請求項２〜８による、水不溶性、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の新規ポリマーＢであり、その際場合により相応に官能化された誘導体は共重合後少なくとも表面においてカルボキシル基またはカルボキシレート基もしくはスルホン酸基またはスルホネート基に変えられる。
【００２４】
さらに、請求項９〜１５による水不溶性の細菌嫌忌性ポリマーＢの製造方法も本発明の対象であり、該方法は
（ｃ）成分Ｉとして、１個または数個のカルボキシル基および／またはカルボキシレート基含有脂肪族不飽和モノマーまたはこのモノマーの相応に官能化された誘導体と、
（ｄ）成分ＩＩとして、１種または数種のスルホン酸基および／またはスルホネート基含有脂肪族不飽和モノマーまたはこのモノマーの相応に官能化された誘導体および
（ｂ）１種の別の脂肪族不飽和モノマーまたは数種の別の脂肪族不飽和モノマーを含有する成分ＩＩＩとをラジカル共重合させ、その際場合により相応に官能化された誘導体を少なくとも表面においてカルボン酸基またはカルボキシレート基ないしはスルホン酸基またはスルホネート基に変えることを特徴とする。
【００２５】
新規ポリマーＢは、請求項１により細菌嫌忌性表面の製造のために使用される、先に記載したポリマーＡの部分量である。従って、ポリマーＡの性質に関する記載はポリマーＢにもあてはまる。
【００２６】
記述した基の官能化された誘導体は、殊にエステル基、アミド基およびニトリル基である。これらは、場合により少なくとも表面において（および細菌嫌忌作用および静菌作用ならびに細胞増殖阻止作用に対しては表面だけが重要である）後でたとえば酸性または塩基性けん化によりカルボキシル基またはカルボキシレート基もしくはスルホン酸基またはスルホネート基に変換される。
【００２７】
好ましいポリマーＢは、カルボキシレート基およびスルホネート基を含有する。これらの基が相応するモノマーの選択により導入されない限り、これらを後で少なくとも表面においてカルボキシル基ないしはスルホン酸基をカセイソーダ溶液のような塩基の溶液での中和によるかまたはエステル基の塩基性けん化によって形成することができる。
【００２８】
本発明によるポリマーＢに対しては、カルボキシル基および／またはカルボキシレート基ならびにスルホン酸基および／またはスルホネート基含有脂肪族不飽和モノマーを使用することができる。かかる二官能性モノマーは同時に成分ＩおよびＩＩとして作用する。選択的に、その都度数個のカルボキシル基および／またはカルボキシレート基またはスルホン酸基および／またはスルホネート基を含有する脂肪族不飽和モノマーまたはこれらモノマーの相応に官能化された誘導体を使用することもできる。
【００２９】
有利には、本発明によるポリマーＢに対し成分Ｉおよび成分ＩＩの分量の和はポリマーの０．５〜３０モル％である。
【００３０】
有利には、本発明によるポリマーＢ中に含有されているカルボキシル基および／またはカルボキシレート基対スルホン酸基および／またはスルホネート基の比は０．５〜１０、とくに０．５〜５である。記述した比が０．４〜３、とくに０．４〜２である場合、ポリマーＢはそのほかに顕著な細胞増殖阻止作用を示す。
【００３１】
ポリマーＡおよびＢに対するモノマー
本発明によるポリマーＢを製造するための成分ＩおよびＩＩとして、たとえば一般式ＩＩおよびＩＩＩのモノマーが適当であり、
式    ＩＩ：  （ＣnＨ2n-q-x）（ＣＯＯＲ1）x （成分Ｉに対して）
式  ＩＩＩ:   （ＣnＨ2n-q-x）（ＳＯ3Ｒ1）x （成分ＩＩに対して）
これらのモノマーは式Ｉに入りかつポリマーＢを製造するための好ましいモノマーである。式ＩＩおよびＩＩＩ中
ｎはその都度独立に２から６までの整数を表わし、
ｑはその都度独立に０または２を表わし、
ｘはその都度独立に１または２を表わし；および
基Ｒ1はその都度独立に−Ｈ、１当量の金属イオン、殊にアルカリ金属イオ ン、または脂肪族、脂環式または芳香脂肪族アルコール、とくに１〜６個の炭素原子、殊に１〜４個の炭素原子を有するアルカノール、５〜１２個の炭素原子を有するシクロアルカノール、７〜１０個の炭素原子を有するアリールアルカノールまたは連鎖中に酸素原子および／または窒素原子を有し、１２個までの炭素原子を有するアルコールの残基を表わす。
【００３２】
基（ＣＯＯＲ1）xおよび（ＳＯ3Ｒ1）xがエステル基である限り、これらは重合後けん化によりカルボキシル基またはカルボキシレート基もしくはスルホン酸基またはスルホネート基に変換される。
【００３３】
与えられた定義に一致して、基（ＣnＨ2n-q-x）−は、その都度独立に直鎖または分枝鎖の一価のアルケニル基（ｑ＝０、ｘ＝１）またはアルカジエニル基（ｑ＝２、ｘ＝１）または直鎖または分枝鎖の二価のアルケニレン基（ｑ＝０、ｘ＝２）またはアルカジエニレン基（ｑ＝２、ｘ＝２）を表わす。
【００３４】
式ＩＩおよびＩＩＩの２種のモノマーの代わりに、基ＣＯＯＲ1およびＳＯ3Ｒ1を同一分子中に含有する１種の二官能性モノマー（ＩＩ＋ＩＩＩ）のみを使用することもできる。
【００３５】
成分Ｉとして適当なモノマーの特殊な事例として、下記の、式ＩＩに入る式ＩＶのモノマーが挙げられる：
0004206141.tif 000002
を表わし、ここでＲ3＝−ＣＨ3または−Ｃ2Ｈ5を表わし、
ｄ＝０、１、２、３または４を表わしかつ
ｅ＝０、１または２を表わし、
ｎ＝２、３、４、５または６を表わし、
ｑ＝０または２を表わし、
ｘ＝１または２を表わす。
【００３６】
カルボンエステル基は重合後けん化され、カルボキシル基またはカルボキシレート基として存在する。脂肪族不飽和モノマーは、直鎖ならびに分枝鎖であってもよい。
【００３７】
成分ＩＩとして適当なモノマーの特殊な事例として、下記の、式ＩＩＩに入る一般式Ｖのモノマーが挙げられる：
式Ｖ：        （ＣnＨ2n-q-x）（ＳＯ3Ｒ2）x、
式中Ｒ2、ｎ、ｑおよびｘは記載した意味を有する。
【００３８】
スルホン酸エステル基は重合後けん化され、スルホン酸基またはスルホネート基として存在する。脂肪族不飽和モノマーは、直鎖ならびに分枝鎖であってもよい。
【００３９】
ベンゼンから誘導された一般式ＶＩのモノマー成分
式ＶＩ：        （Ｃ6Ｈ6-a-b-c）ＡaＢb（ＯＨ）c
もポリマーＢの成分ＩおよびＩＩとして適当であり、式中
Ａはその都度独立に一価または二価の直鎖または分枝鎖の、式−（ＣnＨ2n-1-q-x）（ＣＯＯＲ1）xまたは−（ＣnＨ2n-1-q-x）（ＳＯ3Ｒ1）xの基を表わし、ここでＲ1、ｎ、ｑ、ｘおよびｙは先に定義したと同様であり；
Ｂはその都度独立にＣ1-4アルキル、−ＮＨ2、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＯＳＯ3Ｈ、−ＯＰＯ（ＯＨ）2、−ＰＯ（ＯＨ）2、−ＯＰ（ＯＨ）2、−ＯＰＯ（Ｏ-）ＯＣＨ2ＣＨ2Ｎ+(ＣＨ3）3、−ＰＯ（Ｏ-）ＯＣＨ2ＣＨ2Ｎ+（ＣＨ3）3、−ＯＰ（Ｏ-）ＯＣＨ2ＣＨ2Ｎ+（ＣＨ3）3または場合により塩、殊にアルカリ塩または記述した基のエステルを表わし；
ａは１、２または３を表わし；
ｂは０、１、２または３を表わし；かつ
ｃは０、１、２または３を表わす；
ただし、ａ＋ｂ＋ｃ≦６、有利には≦４である。
【００４０】
Ａの意味により、式ＶＩのモノマーは成分Ｉとしてまたは成分ＩＩとして適当である。
【００４１】
一般式ＶＩに入り、成分Ｉとして適当なモノマーの特殊な事例として、一般式ＶＩＩの下記のモノマーが挙げられる：
0004206141.tif 000003
を表わし、ここでＲ3＝−ＣＨ3または−Ｃ2Ｈ5を表わし、
ｎ＝２、３、４、５または６を表わし、
ｑ＝０または２を表わし、
ｘ＝１または２を表わし、
ｄ＝０、１、２、３または４を表わしおよび
ｅ＝０、１または２を表わし；
0004206141.tif 000004
ａ＝１、２、または３、
ｂ＝０、１、２または３および
ｃ＝０、１、２または３；
ただし、ａ＋ｂ＋Ｃ≦６、有利には≦４である。
【００４２】
一般式ＶＩに入り、成分ＩＩとして適当なモノマーの特殊な事例として、下記の一般式ＶＩＩＩのモノマーが挙げられる：
0004206141.tif 000005
または−（ＣＨ2）d−ＮＨ2−e（Ｒ3）e
ここでＲ3＝−ＣＨ3または−Ｃ2Ｈ5を表わし、
ｎ＝２、３、４、５または６を表わし、
ｑ＝０または２を表わし、
ｘ＝１または２を表わし、
ｄ＝０、１、２、３または４を表わしおよび
ｅ＝０、１または２を表わし、
0004206141.tif 000006
ａ＝１、２、または３、
ｂ＝０、１、２または３、
ｃ＝０、１、２または３；
ただし、ａ＋ｂ＋ｃ≦６、有利には≦４である。
【００４３】
最後に挙げた双方の特殊事例においても、エステル基は重合後けん化され、相応する酸またはイオンの中和された基として存在する。
【００４４】
１個または数個の同じかまたは異なる、実際または潜在的（つまりけん化後実際の）基Ａを分子中に含有する、被覆ポリマーの製造に適当な一般式Ｉ〜ＶＩＩＩのモノマーのうち、たとえば下記のものが挙げられる：
アクリル酸、アクリル酸ナトリウム、イソブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−（２´−ヒドロキシエトキシ）エチルアクリレート、２−ヒドロキシ−１−メチルエチルアクリレート、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、メタクリル酸、メタクリル酸ナトリウム、ｎ−プロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−（２´−ヒドロキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−１−メチルエチルメタクリレート、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、マレイン酸、ジエチレングリコールメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、アリル硫酸ナトリウム、メタリル硫酸ナトリウム、２−ヒドロキシエチルアリルスルフェート、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、ビニルスルホン酸−２−ヒドロキシエチルエステル、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルトルイルスルホン酸ナトリウム、４−ビニルサリチル酸、ブタジエン−（１，３）−ジオール−（１，４）−ジホスフェート、ソルビン酸、カフェイン酸、４−および２−ビニルフェノール、２−アリルヒドロキノン、４−ビニルレゾルシン、カルボキシル−スチレンスルホン酸。
【００４５】
別のモノマー
別の脂肪族不飽和モノマー（ｂ）（ポリマーＢと関連して成分ＩＩＩも挙げられる）として、ポリマーＢに対し、先に述べたポリマーＡに対してもとくに、イオン基を有しないモノマーが適当である。脂肪族不飽和モノマー（ｂ）は主として、ポリマーＡおよびＢが水不溶性であるのに寄与する。方向付け実験により、ポリマーＡおよびＢが水不溶性であるようにするためには、モノマー（ｂ）としていかなるモノマーがどんな量で使用することができるかを容易に確かめることができる。ポリマーは、それから製造されたかないしはそれで被覆された製作物が、水性媒体と接触して規定どおりに使用した場合に数カ月後も明白に変化しないときに水不溶性と見なされる。原則的に脂肪族不飽和モノマー（ｂ）として適当なモノマーには、たとえばビニル化合物、たとえばビニルエチルケトンおよびビニル−ｎ−ブチルケトンのようなビニルケトン；酢酸ビニルおよびプロピオン酸ビニルのようなビニルエステル；（メタ）アクリル酸エステル、たとえばメチルアクリレート、メタクリルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレートおよび２−エチルヘキシルアクリレートのような（メタ）アクリル化合物；さらにはアクリルニトリルおよびアクリルアミド；１−ブテン、１−ヘキセン、１，３−ブタジエン、イソプレンおよびクロロプレンのようなオレフィンおよびジエン；塩化ビニルおよび塩化ビニリデンのような不飽和ハロゲン化炭化水素；トリス（トリメチルシロキシ）メタクリロイルシランおよびトリス（トリメチルシロキシ）アクリロイルプロピルシランのようなビニルシロキサン；ないしはその相応する官能化誘導体が所属する。カルボン酸エステル基、ニトリル基およびカルボン酸アミド基が後で加水分解されない場合およびその限りにおいて、相応するモノマーが脂肪族不飽和モノマー（ｂ）として該当する。
【００４６】
細胞嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマーＡおよびＢの製造
本発明により使用されるかないしは本発明によるポリマーＡおよびＢは、たとえば技術水準により乳化重合を用いて製造することができる(Hans-Georg Elias, Makromolekuele, Huethig & Wepf出版、Heidelberg、１９８１年、６０３ページ以降）。
【００４７】
さらに、本発明によるポリマーＢの製造のために公知方法により溶液共重合または塊状共重合させることができる(Hans-Georg Elias, Makromolekuele, Huethig & Wepf出版、Heidelberg、１９８１年、６０２ページ以降）。
【００４８】
成分Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩの溶液共重合のためには、たとえば使用されるモノマーにより、下記の溶媒を使用することができる：水、アセトン、メチルエチルケトン、ブタノンおよびシクロヘキサノンのようなケトン；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンのようなエーテル；メタノール、エタノール、ｎ−およびイソ−プロパノール、ｎ−およびイソ−ブタノールおよびシクロヘキサノールのようなアルコール；ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドおよびジメチルホルムアミドのような強極性溶媒；ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエンのような炭化水素；ジクロルメタンおよびトリクロルメタンのようなハロゲン化炭化水素；酢酸エチル、酢酸プロピルおよび酢酸アミルのようなエステル；ならびにアセトニトリルのようなニトリル。
【００４９】
重合開始剤としては、就中アゾニトリル、アルキルペルオキシド、アシルペルオキシド、ヒドロペルオキシド、ペルオキソケトン、過酸エステルおよびペルオキソ炭酸塩、ペルオキソ二硫酸塩、過硫酸塩ならびにすべての通例の光重合開始剤が使用できる。重合開始は、熱によるかまたはＵＶ光またはガンマ線のような電磁線によって行うことができる。
【００５０】
式ＩＩ〜ＶＩＩＩのモノマーから細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマーを製造するためには、カルボキシル基および／またはカルボキシレート基またはスルホン酸基および／またはスルホネート基含有モノマーを使用しないで、その官能化誘導体、たとえばカルボン酸の代わりにカルボン酸エステルを使用する場合には、官能化誘導体を重合後カルボキシル基ないしはカルボキシレート基およびないしはまたはスルホン酸基ないしはスルホネート基に変えねばならない。これは、エステルの場合には酸または塩基により接触されるけん化により行うことができる。ポリマー材料の誘導体化は、一般に公知の方法(Hans Beyer, Lehrbuch der Organischen Chemie, S. Hirzel出版、Stuttgart、１９８８年、２６０ページ以降）により行うことができる。
【００５１】
ポリマーの使用
本発明のもう１つの対象は、請求項１６〜２０による細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の表面を有する製作物を製造するために請求項１〜８による水不溶性ポリマーＡおよびＢの使用である。これには、完全にまたは部分的にこれらのポリマーからなる製作物および該ポリマーで被覆されているプラスチック、セラミックまたは金属からなる製作物が所属する。被覆のためには、浸漬、吹き付け、刷毛塗り、ナイフ塗布およびスピンコーティングのような公知方法が適当である。本発明によるポリマーでの被覆は、公知および実証された材料および製造方法の継続使用を可能にする。これは殊に、材料の機械的性質が極めて重要であるかまたは現存する従来の製造方法による製造設備が高い投資を必要とするときに重要である。
【００５２】
さらに、場合により活性化された標準ポリマー(Standardpolymer)上に二官能性化合物からなるプライマー層または中間層によるポリマーの固定が可能である。このような標準ポリマーは、たとえばＰＶＣ、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルブロックアミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリオレフィン、シリコーンおよびポリテトラフルオロエチレンである。
【００５３】
本発明により製造される、細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性の表面を有する製作物は、食品工業および飲料工業、水工業、生物工業、衛生予防および殊に医療技術の分野における使用のために決められている。たとえば此処に記載したポリマーは編織布、家具および器具、管およびホース、床、壁、天井面、貯蔵容器、包装材料、窓枠、受話器、便座、ドア取手、公共交通機関における吊革および安全ベルトのような製作物およびポリマーからなるかまたは基材としてのプラスチック、セラミックまたは金属上にこれらのポリマーでの被覆を有する医療技術上の物品の製造のために使用できる。医療技術上の物品は、たとえば移植片または補助具、たとえば廃液装置、操作線、カニューレ、眼球内レンズ、コンタクトレンズ、ステント、人工血管、人工関節、骨代替材料、人工靭帯、形成外科用義歯、血液嚢、透析膜、縫合材料、包帯、フリース製品および手術セットである。本発明による材料の好ましい使用は、カテーテルの製造のための使用である。
【００５４】
本発明による製作物
最後に、本発明の対象は請求項１〜８による水不溶性の細菌嫌忌性および場合により細胞増殖阻止性のポリマーを使用して製造された、請求項２１〜２５による製作物、殊に記述された医療技術上の製作物、とくにカテーテルである。下記の例は本発明を詳述するが、特許請求の範囲に明示されているような発明の範囲を制限するものではない。
【００５５】
【実施例】
細菌付着のための試験法
シンチレーションによる細菌付着の測定
共重合により得られた、その都度の本発明によるポリマーの試料を、適当な溶媒に溶解する。ペトリ皿に注出し、溶媒の蒸発後、得られたポリマーフィルムを１時間の時間にわたり、リン酸塩緩衝食塩水（ＰＢＳ）、ウシの血清アルブミン（ＢＳＡ）０．４ｇ／ｌおよび精製したヒトのフィブロネクチン２０μｇ／ｍｌからなる溶液１ｍｌ中に浸漬する。引き続き、こうしてフィブロネクチンで被覆された試料を強力な撹拌下に３７℃で１時間、３Ｈ−チミジンの組み入れにより放射能で標識された相応する細菌懸濁液に加えた。所定の時間経過した後、過剰の細菌を除去し、膜を３回その都度ＰＢＳ−ＢＳＡ溶液３ｍｌで洗い流し、付着した細菌の数を決定するためシンチレーション溶液２０ｍｌを有する試料室に入れる。付着した細菌の百分率は、試料からの放射能の数対細菌により最初に導入された放射能の数の比により決定される。対照試料としては、その都度の本発明によるポリマーの成分ＩＩＩの重合により得られ同様に準備されたフィルムが使用される。細菌付着の阻止は、対照フィルムの細菌付着対本発明によるポリマーの細菌付着の百分率の商として決定される。
【００５６】
ＡＴＰ（静的）による被覆された標準フィルムの細菌付着の測定
その都度の本発明によるポリマーからなるフィルムに対する微生物細胞の吸着後、付着しない細菌を滅菌したＰＢＳ緩衝液で洗い流す。フィルムに付着した細菌から、細菌内容物アデノシン三リン酸（ＡＴＰ）を抽出し、生物発光測定試験における商慣習の試験組み合わせを用いて決定される。測定される光インパルスの数は、付着している細菌の数に比例する。種々の菌株のＡＴＰ含量は異なるので、それぞれの場合に幾つかの標準フィルムが使用される。対照試料としては、その都度の本発明によるポリマーの成分ＩＩＩの重合により得られ同様に準備されたフィルムが使用される。細菌付着の阻止は、対照フィルムの細菌付着対本発明によるポリマーの細菌付着の百分率の商として決定される。
【００５７】
ＡＴＰ（動的）による被覆された標準フィルムの細菌付着の測定
細菌は、その都度本発明によるポリマーからなる試験すべきフィルムを酵母エキス−ペプトン−グルコース栄養溶液に加え、３７℃で２４時間振盪する、引き続き、プラスチック片を水道水で洗浄し、栄養溶液を有する新しいフラスコに移し、３７℃でさらに２４時間振盪する。その後、最後の工程をもう一度繰り返し、フィルム片を水道水で洗浄し、滅菌したＰＢＳ中に浸漬する。フィルムに付着した細菌から、細胞内容物アデノシン三リン酸（ＡＴＰ）を抽出し、生物発光測定試験における商慣習の試験組み合わせを用いて決定する。この値は、付着した細菌に比例する。対照試料として、その都度の本発明によるポリマーの成分ＩＩＩの重合により得られ、同様に準備したフィルムが使用される。細菌付着の阻止は、対照フィルムの細菌付着対本発明によるポリマーの細菌付着の百分率の商として決定される。
【００５８】
下記の例に記載した測定結果は、本発明によるポリマーに対する細菌の付着は菌株および測定法とは独立に９５から９９％であり、殆ど完全であることを示す。この作用は、撲滅された微生物によっても隠蔽されない。
【００５９】
細胞増殖を決定するための測定法
細胞懸濁液の製造
ＡＴＣＣ  Ｎｏ．ＣＲＬ１６９６(Rockville, Maryland, USA)のヒトの線維芽細胞(McCoy's)を、抗生物質、Ｌ−グルタミンおよびウシ胎児血清１０容量％を添加したＤＭＥＭ培地(Dulbecco's Modified Eagles Medium)中で３７℃でＣＯ2５％および空気９５％の雰囲気下に培養する。培養基から細胞を分離した後、生細胞数をＭＴＴ染色試験（ＭＴＴ＝３−（４，５−ジメチルチアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウムブロミド）でならびにその総数も決定する。
【００６０】
細胞阻止の測定
その都度の本発明によるポリマーの試料を、ウエル（Well；標準微量滴定板のくぼみ）に入れ、あらかじめエタノールで滅菌した特殊なＰＴＦＥ挿入物により拘止する。試料、ウエルおよびＰＴＦＥ挿入物を、付加的に紫外光での１５分照射により滅菌する。引き続き、ポリマー試料を既知濃度の細胞懸濁液を加え、３７℃で空気９５％およびＣＯ2５％の雰囲気中に保つ。８日の経過後、細胞をリン酸塩緩衝液を用い洗浄し、トリプシンの０．０５重量％溶液およびＥＤＴＡの０．０２重量％溶液中にｐＨ７．４で懸濁させ、コールターカウンター(Coulter-Counter)を用いて計数する。
【００６１】
対照試料としては、その都度の本発明によるポリマーの成分ＩＩＩの重合により得られ、同様に準備した試料が使用される。細胞増殖の阻止は、対照試料上の細胞数対本発明によるポリマー上の細胞数の百分率の商として決定される。
【００６２】
本発明によるポリマーの試料の製造
例１：
窒素雰囲気中で、メタクリル酸メチルエステル２１８．２ｇ、メタクリル酸１２．１ｇおよびスチレンスルホン酸ナトリウム１４．８ｇをジメチルスルホキシド  ５００ｍｌに溶解する。溶液を撹拌しながら７０℃に加熱する。引き続き、アゾビスイソブチロニトリル２．３ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解して２分以内に滴加する。重合は７０℃で１６時間の時間にわたり実施する。続いて、生じた生成物を４倍過剰量の氷水中で沈殿させ、その後２４時間ソックスレー中で水で抽出し、５０℃で真空中で乾燥する。引き続く１Ｈ−ＮＭＲによる組成分析は次の結果を生じる：
メタクリル酸：                    １４モル％
スチレンスルホン酸ナトリウム：    １１モル％
メタクリル酸メチルエステル：      ７５モル％
これらの値から、カルボキシレート基対スルホネート基の１．２７の比が判明する。
【００６３】
例２：
窒素雰囲気中で、メタクリル酸メチルエステル２１６．３ｇ、アクリル酸１３．８およびスチレンスルホン酸ナトリウム９．９ｇをジメチルスルホキシド５００ｍｌに溶解する。溶液を撹拌しながら７０℃に加熱する。引き続き、アゾビスイソブチロニトリル２ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解して２分以内に滴加する。重合は、７０℃で１６時間の時間にわたり実施する。続いて、生じた生成物を４倍過剰量の氷水中で沈殿させ、その後２４時間ソックスレー中で水で抽出し、５０℃で真空中で乾燥する。
【００６４】
引き続く１Ｈ−ＮＭＲによる組成分析は、次の結果を生じる：
アクリル酸：                      １０モル％
スチレンスルホン酸ナトリウム：      ９モル％
メタクリル酸メチルエステル：      ８１モル％
これらの値から、カルボキシレート基対スルホネート基の１．１１の比が判明する。
【００６５】
例３：
窒素雰囲気中で、スチレン２３５ｇ、メタクリル酸６．１ｇおよびスチレンスルホン酸ナトリウム１４．８ｇをジメチルスルホキシド５００ｍｌに溶解する。溶液を撹拌しながら７０℃に加熱する。引き続きアゾビスイソブチロニトリルをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解して２分以内に滴加する。重合は、７０℃で１６時間の時間にわたり実施する。続いて、生じた生成物を４倍過剰量の氷水中で沈殿させ、その後２４時間ソックスレー中で水で抽出し、５０℃で真空中で乾燥する。
【００６６】
引き続く１Ｈ−ＮＭＲによる組成分析は、つぎの結果を生じる：
メタクリル酸：                    １５モル％
スチレンスルホン酸ナトリウム：      ７モル％
スチレン：                        ７８モル％
これらの値から、カルボキシレート基対スルホネート基の２．１４の比が判明する。
【００６７】
例４：
窒素雰囲気中で、スチレン２２７．５ｇ、アクリル酸８．１ｇおよびスチレンスルホン酸ナトリウム２４．７ｇをジメチルスルホキシド５００ｍｌに溶解する。溶液を撹拌しながら７０℃に加熱する。引き続き、アゾビスイソブチロニトリル２．３ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解して２分以内に滴加する。重合を、７０℃で２０時間の時間にわたり実施する。続いて、生じた生成物を４倍過剰の氷水中で沈殿させ、その後２４時間ソックスレー中で水で抽出し、５０℃で真空中で乾燥する。
【００６８】
引き続く１Ｈ−ＮＭＲによる組成分析は、つぎの結果を生じる：
アクリル酸：                        １１モル％
スチレンスルホン酸ナトリウム：      １２モル％
スチレン：                          ７７モル％
これらの値から、カルボキシレート基対スルホネート基の０．９の比が明らかになる。
【００６９】
例５：
窒素雰囲気中で、ｎ−ブチルメタクリレート３１０．０ｇ、メタクリル酸１２．１ｇおよびスチレンスルホン酸ナトリウム１４．８ｇをジメチルスルホキシド５００ｍｌに溶解する。溶液を、撹拌しながら７０℃に加熱する。引き続き、アゾビスイソブチロニトリル２．３ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解して２分以内に滴加する。重合を７０℃で２０時間の時間にわたり実施する。続いて、生じた生成物を４倍過剰量の氷水中で沈殿させ、その後２４時間ソックスレー中で水で抽出し、５０℃で真空中で乾燥する。
【００７０】
引き続く１Ｈ−ＮＭＲによる組成分析は、次の結果を生じる：
メタクリル酸：                      １４モル％
スチレンスルホン酸ナトリウム：        ９モル％
ｎ−ブチルメタクリレート：          ７７モル％
これらの値から、カルボキシレート基対スルホネート基の１．６の比が判明する。
【００７１】
例６：
窒素雰囲気中で、ｎ−ブチルメタクリレート３０６．７ｇ、アクリル酸１３．８ｇおよびスチレンスルホン酸ナトリウム９．９ｇをジメチルスルホキシド５００ｍｌに溶解する。溶液を、攪拌しながら７０℃に加熱する。引き続き、アゾビスイソブチロニトリル２．３ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解して２分以内に滴加する。重合を７０℃で１６時間の時間にわたり実施する。続いて、生じた生成物を４倍過剰量の氷水中で沈殿させ、その後２４時間ソックスレー中で水で抽出し、５０℃で真空中で乾燥する。
【００７２】
引き続く１Ｈ−ＮＭＲによる組成分析は、次の結果を生じる：
アクリル酸：                          １０モル％
スチレンスルホン酸ナトリウム：          ８モル％
ｎ−ブチルメタクリレート：            ８２モル％
これらの値から、カルボキシレート基対スルホネート基の１．３の比が判明する。
【００７３】
例７：
窒素雰囲気中で、スチレン２２０ｇ、アクリル酸１５．６ｇおよびスチレンスルホン酸ナトリウム１４．８ｇをジメチルスルホキシド５００ｍｌに溶解する。溶液を、撹拌しながら７０℃に加熱する。引き続き、アゾビスイソブチロニトリル２．３ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解して２分以内に滴加する。重合を、７０℃で１６時間の時間にわたり実施する。続いて、生じた生成物を４倍過剰量の氷水中で沈殿させ、その後２４時間ソックスレー中で水で抽出し、５０℃で真空中で乾燥する。
【００７４】
引き続く１Ｈ−ＮＭＲによる組成分析は、次の結果を生じる：
アクリル酸：                        １９モル％
スチレンスルホン酸ナトリウム：        ５モル％
スチレン：                          ７６モル％
これらの値から、カルボキシレート基対スルホネート基の３．８の比が判明する。
【００７５】
例８：
窒素雰囲気中で、ｎ−ブチルメタクリレート３１０．６ｇ、アクリル酸１０．４ｇおよびスチレンスルホン酸ナトリウム１４．８ｇをジメチルスルホキシド５００ｍｌに溶解する。溶液を、撹拌しながら７０℃に加熱する。引き続き、アゾビスイソブチロニトリル２．３ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解して２分以内に滴加する。重合を、７０℃で１６時間の時間にわたり実施する。続いて、生じた生成物を４倍過剰量の氷水中で沈殿させ、その後２４時間ソックスレー中で水で抽出し、５０℃で真空中で乾燥する。
【００７６】
引き続く１Ｈ−ＮＭＲによる組成分析は、次の結果を生じる：
アクリル酸：                        ８モル％
スチレンスルホン酸ナトリウム：    １１モル％
ｎ−ブチルメタクリレート：        ８１モル％
これらの値から、カルボキシレート基対スルホネート基の０．７の比が判明する。
【００７７】
本発明によるポリマーからなる膜の製造
例９：
本発明によるポリマーの５％ジメチルスルホキシド溶液を製造する。溶液をペトリ皿中に注入し、試料から溶媒を減圧下８０℃で除去する。引き続き、膜をその都度０．５ｃｍ2（シンチレーション測定に対し）ないしはその都度２ｃｍ2（ＡＴＰ測定に対し）の細片に破砕し、２４時間水で抽出する。次の生物学的試験の前に、膜細片をミカエリス緩衝液（ｐＨ＝７．３３）中で３回その都度３時間洗浄し、次の試験まで−４℃で保存する。
【００７８】
菌株表皮葡萄球菌、化膿連鎖球菌および黄色葡萄球菌の付着は、例１〜８により得られたポリマー試料で調べた。シンチレーション法およびＡＴＰの静的測定によるこれらの試料における細菌付着の測定は、９５％以上の細菌付着阻止を生じ、ＡＴＰの動的測定は９３％以上の細菌付着阻止を生じた。
【００７９】
浸漬によるポリマー被膜の製造
例１０：
本発明によるポリマーの５％メチルエチルケトン溶液を製造する。この溶液中へ、１０ｃｍ×８ｃｍ×０．０４ｃｍの大きさのポリアミドフィルムを１０秒間浸漬する。フィルムを取り出し、減圧下に５０℃で１０時間乾燥する。引き続き、被覆したフィルムをその都度０．５ｃｍ2（シンチレーション測定に対し）ないしはその都度２ｃｍ2（ＡＴＰ測定に対し）の細片に破砕し、水で２４時間抽出する。次の生物学的試験の前に、膜細片をミカエリス緩衝溶液（ｐＨ＝７．３３）中で３回その都度３時間洗浄し、次の試験まで−４℃で保存する。
【００８０】
菌株表皮ブドウ球菌、化膿連鎖球菌および黄色葡萄球菌の付着は、例１〜８により得られたポリマー試料につきしらべた。シンチレーション法およびＡＴＰの静的測定によるこれら試料における細菌付着の測定は、９９％以上の細菌付着阻止を生じ、ＡＴＰの動的測定は９６％以上の細菌付着阻止を生じた。
【００８１】
例１１：
本発明によるポリマーの５％アセトン溶液を製造する。この溶液中に、１０ｃｍ×８ｃｍ×０．０３ｃｍの大きさのポリエチレンフィルム（その表面を予めエキシマー放射器の１７２ｎｍ放射線で３分間の照射により活性化した）を１５秒間浸漬する。フィルムを取り出し、減圧下に５０℃で１０時間乾燥する。引き続き、被覆されたフィルムをその都度０．５ｃｍ2（シンチレーション測定に対し）ないしはその都度２ｃｍ2（ＡＴＰ測定に対し）の細片に破砕し、水で２４時間抽出する。次の生物学的試験の前に、膜細片をミカエリス緩衝溶液（ｐＨ＝７．３３）中で３回その都度３時間洗浄し、次の試験まで−４℃で保存する。
【００８２】
菌株表皮葡萄球菌、化膿連鎖球菌および黄色葡萄球菌の付着を、例１〜８により得られたポリマー試料につき調べた。シンチレーション法およびＡＴＰの静的測定によるこれら試料における細菌付着の測定は９８％以上の細菌付着阻止を生じ、ＡＴＰの動的測定は９６％以上の細菌付着阻止を生じた。
【００８３】
例１２：
本発明によるポリマーの５％アセトン溶液を製造する。この溶液中に、１０ｃｍ×８ｃｍ×０．０４ｃｍの大きさのポリエーテルブロックアミドフィルムを１０秒間浸漬する。フィルムを取り出し、減圧下に５０℃で１０時間乾燥する。引き続き、被覆したフィルムをその都度０．５ｃｍ2（シンチレーション測定に対し）ないしはその都度２ｃｍ2（ＡＴＰ測定に対し）の細片に破砕し、水で２４時間抽出する。次の生物学的試験の前に、膜細片をミカエリス緩衝溶液（ｐＨ＝７．３３）中で３回その都度３時間洗浄し、次の試験まで−４℃で保存する。
【００８４】
菌株表皮葡萄球菌、化膿連鎖球菌および黄色葡萄球菌の付着を、例１〜８により得られたポリマー試料で調べた。シンチレーション法およびＡＴＰの静的測定によるこれら試料における細菌付着の測定は９８％以上の細菌付着阻止を生じ、ＡＴＰの動的測定は９５％以上の細菌付着阻止を生じた。
【００８５】
本発明によるポリマーからなる試料の状態調節
例１３：
例９による膜および本発明によるポリマーで被覆された例１０〜１２によるフィルムを、紫外光での１５分照射により滅菌する。引き続き、こうして前処理した試料を３回その都度３時間０．１５モルの塩化ナトリウム溶液中に保持し、その後３時間蒸留水で洗浄する。次の精製工程において、試料を３回その都度３時間、次の組成のリン酸塩緩衝液中に置く：
ＣａＣｌ2・Ｈ2Ｏ                    ０．１３２ｇ／ｌ
ＫＣｌ                              ０．２    ｇ／ｌ
ＫＨ2ＰＯ4                          ０．２    ｇ／ｌ
ＭｇＣｌ2・６Ｈ2Ｏ                  ０．１    ｇ／ｌ
ＮａＣｌ                            ８        ｇ／ｌ
Ｎａ2ＨＰＯ4                        １．１５  ｇ／ｌ
それに続いて、試料を改めて１５分紫外光で照射する。存在する試料を、ＤＭＥＭ溶液中に３７℃で約１６時間保存する。引き続き、試料をさらに１６時間、抗生物質、Ｌ−グルタミンおよびウシ胎児血清１０容量％を加えた３７℃のＤＭＥＭ溶液中およびＣＯ2５％および空気９５％の雰囲気中に保持する。
【００８６】
例１、２および５により製造した本発明によるポリマーを膜に（例９）加工するかまたは標準ポリマー上（例１０〜１２）に塗布した。引き続き、これら試料の状態調節を例１３により実施し、細胞増殖を記載の方法により測定した。
【００８７】
細胞増殖の阻止はすべての試料において９８％を上回った。