(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の隙間をあけて互いに対向して貼り付けられた第１基板および第２基板と、前記隙間内に充填された高分子分散型液晶とを備えてなる液晶セルの製造方法において、
前記第１基板の内面に紫外線硬化性のシール材を、前記液晶セルの表示部を囲むように形成する工程と、
前記第１基板または前記第２基板の内面に、ＵＶキュアラブル液晶を含む前記高分子分散型液晶を所定量滴下する工程と、
前記第１基板の内面と前記第２基板の内面とを対向させた状態で前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせ、もって前記第１基板と前記第２基板と前記シール材とで囲まれた空間の内部に前記高分子分散型液晶を充填する工程と、
貼り合わされた前記第１基板および前記第２基板の少なくとも一方を介して、前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線を照射し、前記シール材と前記高分子分散型液晶に含まれるＵＶキュアラブル液晶とを硬化させる工程とを有し、
前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線を照射する前記工程において、紫外線の透過率が異なる第１領域と第２領域を持つマスクが使用され、
前記ＵＶキュアラブル液晶に対しては前記マスクの第１領域を介して紫外線が照射され、前記シール材に対しては前記マスクの第２領域を介して紫外線が照射されることを特徴とする液晶セルの製造方法。
【請求項２】
前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線を照射する前記工程において、前記マスクの第１領域を介して照射される紫外線により前記ＵＶキュアラブル液晶が硬化し、前記マスクの第２領域を介して照射される紫外線により前記シール材が硬化することを特徴とする請求項１に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項３】
所定の隙間をあけて互いに対向して貼り付けられた第１基板および第２基板と、前記隙間内に充填されたＵＶキュアラブル液晶を含む高分子分散型液晶と、前記第１基板または前記第２基板の内面に表示部を囲むように形成された紫外線硬化性のシール材とを備えてなる液晶セルのための紫外線照射装置であって、
紫外線の透過率が異なる第１領域と第２領域を持つマスクを備えており、
貼り合わされた前記第１基板および前記第２基板の少なくとも一方を介して前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線を照射し、前記シール材と前記ＵＶキュアラブル液晶とを硬化させる際に、前記ＵＶキュアラブル液晶に対しては前記マスクの第１領域を介して紫外線が照射され、前記シール材に対しては前記マスクの第２領域を介して紫外線が照射されるように構成されていることを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項４】
前記マスクの第１領域を介して照射される紫外線により前記ＵＶキュアラブル液晶が硬化し、前記マスクの第２領域を介して照射される紫外線により前記シール材が硬化するように設定されていることを特徴とする請求項３に記載の紫外線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶セルの製造方法に関し、さらに言えば、紫外線（ultraviolet rays、ＵＶ線）の照射により硬化する液晶（以下、ＵＶキュアラブル液晶という）を添加剤として用いた液晶セルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、反射形の液晶表示装置（Liquid Crystal Display、ＬＣＤ）の一つとして、高分子分散型液晶を用いたＬＣＤが開発されてきている。「高分子分散型液晶」とは、従来からＬＣＤに使用されてきた表示用の液晶の中に特定の高分子を分散させたものである。その高分子の相は液晶相から分離している。したがって、「高分子分散型液晶」は、液晶相と高分子相の複合相となっている。この高分子は、表示用液晶の配向性を改善する添加剤として機能する。
【０００３】
このような高分子分散型液晶に対して電界を印加しあるいは電界の印加を停止することにより、高分子相と液晶相の屈折率を一致させると、高分子分散型液晶は光を透過する透明状態となる。高分子相と液晶相の屈折率を相違させると、光を散乱する白濁状態となる。高分子分散型液晶は、このような原理を利用してＬＣＤに適用されるのである。
【０００４】
上述したような高分子分散型液晶は、一般に、従来からＬＣＤに使用されてきた液晶（すなわち表示用液晶）にＵＶキュアラブル液晶を混合し、その後、当該混合物に紫外線を照射してＵＶキュアラブル液晶のみを選択的に硬化させることにより生成される。「ＵＶキュアラブル液晶」は、室温では表示用液晶と同様に液晶相を示すが、紫外線の照射によって硬化して高分子となる。以下、こうして生成された高分子を「キュアド高分子」と称する。
【０００５】
ＵＶキュアラブル液晶の硬化により生成されたキュアド高分子の相は、表示用液晶相とは分離した状態で存在する。換言すれば、高分子分散型液晶では、キュアド高分子相と表示用液晶相は複合相を形成しているのである。ＵＶキュアラブル液晶は、室温で液晶相を示すため、電界を印加することにより表示用液晶と同様に配向する。しかし、紫外線照射によって硬化してキュアド高分子となった後は、その配向状態が固定される。その結果、高分子分散型液晶に電界を印加すると、表示用液晶のみが電界方向に配向する。
【０００６】
上述したように、高分子分散型液晶は、表示用液晶の配向性を補助する機能を持つキュアド高分子を含んでいるため、キュアド高分子がない場合よりも配向状態が改善される利点がある。また、偏光板が不要となる利点もある。そこで、高分子分散型液晶を利用したＬＣＤは今後、ＬＣＤの主流となる可能性が高い、と期待されている。
【０００７】
高分子分散型液晶を利用したＬＣＤの従来例としては、例えば、特開平１１−９５１９５号公報に開示されたものが挙げられる。
【０００８】
他方、ＬＣＤセルは一般に、一対の透明基板を隙間をあけて対向させ、その隙間に形成した空間内に液晶を充填して構成される。その空間内には、一対の透明基板を一定間隔に保つためにスペーサが配置される。また、その空間内に充填された液晶を封止するために、その空間を囲むようにシール材が配置される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上述した利点があることから、高分子分散型液晶を利用したＬＣＤに対しては多くの期待が寄せられているが、その製造工程には一つの問題がある。それは、表示用液晶とＵＶキュアラブル液晶の混合体に紫外線を照射してＵＶキュアラブル液晶のみを選択的に硬化させる工程が新たに必要となることである。ＬＣＤの製造工程では、低価格化のために可能な限りの効率化が要請されている現況を鑑みると、新たな工程の追加は避けることが好ましい。
【００１０】
そこで、本発明の目的は、ＵＶキュアラブル液晶を硬化させるために新たな工程を追加せずに、高分子分散型液晶を利用した液晶セルを製造できる液晶セルの製造方法を提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、ＵＶキュアラブル液晶に対する紫外線の照射光量を最適化できる、高分子分散型液晶を利用した液晶セルの製造方法を提供することにある。
【００１２】
上記以外の本発明の目的は、以下の説明によって明らかにされる。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
（１）  本発明の液晶セルの製造方法は、
所定の隙間をあけて互いに対向して貼り付けられた第１基板および第２基板と、前記隙間内に充填された高分子分散型液晶とを備えてなる液晶セルの製造方法において、
前記第１基板の内面に紫外線硬化性のシール材を、前記液晶セルの表示部を囲むように形成する工程と、
前記第１基板または前記第２基板の内面に、ＵＶキュアラブル液晶を含む前記高分子分散型液晶を所定量滴下する工程と、
前記第１基板の内面と前記第２基板の内面とを対向させた状態で前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせ、もって前記第１基板と前記第２基板と前記シール材とで囲まれた空間の内部に前記高分子分散型液晶を充填する工程と、
貼り合わされた前記第１基板および前記第２基板の少なくとも一方を介して、前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線を照射し、前記シール材と前記高分子分散型液晶に含まれるＵＶキュアラブル液晶とを硬化させる工程とを有し、
前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線を照射する前記工程において、紫外線の透過率が異なる第１領域と第２領域を持つマスクが使用され、
前記ＵＶキュアラブル液晶に対しては前記マスクの第１領域を介して紫外線が照射され、前記シール材に対しては前記マスクの第２領域を介して紫外線が照射されることを特徴とするものである。
【００１４】
本発明の液晶セルの製造方法では、ＵＶキュアラブル液晶を含む高分子分散型液晶を封止するためのシール材として、紫外線硬化性のシール材が使用される。そして、高分子分散型液晶を挟んで第１基板と第２基板とを貼り合わせた後に、紫外線の透過率が異なる第１領域と第２領域を持つマスクを介して紫外線が照射され、シール材と共に高分子分散型液晶に含まれるＵＶキュアラブル液晶を同じ工程で硬化させている。このため、ＵＶキュアラブル液晶を硬化させるための新たな工程を追加せずに、高分子分散型液晶を利用した液晶セルを製造することができる。
また、紫外線照射時に前記マスクを使用しているので、紫外線硬化性のシール材とＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量が大きく異なる場合にも、一回の紫外線照射工程でシール材およびＵＶキュアラブル液晶の双方を硬化させることができる。この場合、前記マスクによって紫外線の透過率が調整できるため、シール材およびＵＶキュアラブル液晶のそれぞれに照射される紫外線の積算光量を最適化できる利点が得られる。

【００１８】
本発明の液晶セルの製造方法の好ましい例では、前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線を照射する前記工程において、前記マスクの第１領域を介して照射される紫外線により前記ＵＶキュアラブル液晶が硬化し、前記マスクの第２領域を介して照射される紫外線により前記シール材が硬化する。
【００１９】
（２）  本発明の紫外線照射装置は、
所定の隙間をあけて互いに対向して貼り付けられた第１基板および第２基板と、前記隙間内に充填されたＵＶキュアラブル液晶を含む高分子分散型液晶と、前記第１基板または前記第２基板の内面に表示部を囲むように形成された紫外線硬化性のシール材とを備えてなる液晶セルのための紫外線照射装置であって、
紫外線の透過率が異なる第１領域と第２領域を持つマスクを備えており、
貼り合わされた前記第１基板および前記第２基板の少なくとも一方を介して前記シール材および前記高分子分散型液晶に紫外線を照射し、前記シール材と前記ＵＶキュアラブル液晶とを硬化させる際に、前記ＵＶキュアラブル液晶に対しては前記マスクの第１領域を介して紫外線が照射され、前記シール材に対しては前記マスクの第２領域を介して紫外線が照射されるように構成されていることを特徴とするものである。
【００２０】
本発明の紫外線照射装置の好ましい例では、前記マスクの第１領域を介して照射される紫外線により前記ＵＶキュアラブル液晶が硬化し、前記マスクの第２領域を介して照射される紫外線により前記シール材が硬化するように設定される。
【００２４】
（４）  本発明に関連する技術が、特開平６−３６３５号公報に開示されている。当該公報に開示された「液晶パネルの製造法」は、「対向する電極基板の少なくとも一方にシール材を配置し、少なくとも一方の上記電極基板上に１種以上の液晶を一定量のせ、その後少なくとも２枚の上記電極基板を真空中で貼り合わせる液晶パネルの製造法であって、上記結晶に添加物を混入させたことを特徴とする」ものである。この方法によれば、真空注入法において生じる液晶の注入ムラを解消できる。液晶としては、例えば強誘電性液晶が使用される。添加物としては、例えば塩基性または酸性で極性を持つ添加材が使用される。シール材としては、例えば紫外線硬化性シール材が使用される。
【００２５】
特開平６−３６３５号公報に開示された液晶パネルの製造法は、本発明の液晶セルの製造方法とは以下の点で異なっている。すなわち、特開平６−３６３５号公報に開示された方法では、まず、一方の基板に一定量の液晶をのせると共に、他方の基板に紫外線硬化性シール材を印刷する。その後、それら２枚の基板を真空中で貼り合わせてから、シール材に対して選択的に紫外線を照射し、硬化させる。こうして、２枚の基板の間の液晶空間は封止される。
【００２６】
しかし、特開平６−３６３５号公報に開示された方法では、使用する液晶は通常の表示用液晶（例えば強誘電性液晶）であるから、ＵＶキュアラブル液晶を含む高分子分散型液晶の使用はまったく考慮していないことが明らかである。このため、ＵＶキュアラブル液晶の硬化のために紫外線照射工程が追加される問題点を解消する本発明とは非常に異なっている。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態について添付図面を参照しながら説明する。
【００２８】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態の液晶セルの製造方法を示す。
【００２９】
まず、公知の方法により、第１基板１０と第２基板２０を製作する。ここでは、第１基板１０は、薄膜トランジスタ（Thin-Film Transistor、ＴＦＴ）を備えていて、いわゆるＴＦＴ基板である。第２基板２０は、カラーフィルター（Color Filter、ＣＦ）を備えていて、いわゆるＣＦ基板である。しかし、第１基板１０と第２基板２０は、これらに限定されるものではなく、ＬＣＤを構成する一対の基板であれば任意のものが使用できる。
【００３０】
第１基板１０は透明なガラス製であり、その内側に、インジウム・スズの酸化物（Indium Tin Oxide、ＩＴＯ）により所定形状に形成された透明電極（図示せず）と、所定数の薄膜トランジスタ（Thin-Film Transistor、ＴＦＴ）（図示せず）とを有している。第１基板１０の最も内側には、ポリイミドからなる配向膜（図示せず）が形成されている。この配向膜には、当該配向膜に接触する液晶の分子が所定の一方向に配向するように、ラビング処理が施されている。
【００３１】
第２基板２０も透明なガラス製であり、その内側に、ＩＴＯにより所定形状に形成された透明電極（図示せず）と、カラーフィルター（図示せず）とを有している。第２基板２０の最も内側には、ポリイミドからなる配向膜（図示せず）が形成されている。この配向膜にも、当該配向膜に接触する液晶の分子が所定の一方向に配向するように、ラビング処理が施されている。
【００３２】
第１基板１０と第２基板２０の構成と製作法は一般的なものであるから、それらの詳細な構成と製作法についての説明は省略する。
【００３３】
次に、第１基板１０の配向膜上に、図１（ａ）に示すように、スクリーン印刷法などにより、紫外線硬化樹脂よりなるシール材１１を印刷・形成する。シール材１１は、矩形の第１基板１０の周縁に沿って延在する矩形状のパターンを持っている。シール材１１は、液晶セルの表示部を取り囲んでいる。
【００３４】
その後、公知のディスペンサー（例えばマイクロシリンジ）を用いて、所定量の高分子分散型液晶１２を第１基板１０の内面に滴下する。この時の状態は図１（ａ）に示す通りである。高分子分散型液晶１２の量は、液晶が充填される空間の容積にほぼ等しく設定する。
【００３５】
シール材１１と高分子分散型液晶１２は、同じ基板１０または２０に配置する必要はない。一方の基板１０（または２０）にシール材１１を配置し、他方の基板２０（または１０）に高分子分散型液晶１２を配置してもよい。
【００３６】
続いて、図１（ｂ）に示すように、第１基板１０の内面に対して第２基板２０の内面を重ね合わせ、所定の隙間（通常は数μｍ）をあけて両基板１０と２０を対向させ、固定する。この時の状態は図１（ｃ）に示すようになる。この貼り合わせ工程は、常温、常圧の雰囲気で行えばよく、わざわざ真空の雰囲気を生成する必要はない。
【００３７】
なお、両基板１０と２０の間に所定の隙間を保持するために、その隙間には球状スペーサ（図示せず）を分散させておく。この時、高分子分散型液晶１２はその隙間の内部で広がるが、この隙間はシール材１１により周囲が限定されているので、高分子分散型液晶１２が基板１０と２０の外に押し出されることはない。こうして、高分子分散型液晶１２は基板１０と２０の間の隙間に充填されることになる。
【００３８】
続いて、図１（ｃ）に示すように、ＵＶランプ１３を使用して、基板１０と２０の結合体に紫外線を照射する。すると、その紫外線は基板１０または２０を通って、高分子分散型液晶１２と紫外線硬化樹脂製のシール材１１とに照射される。その結果、シール材１１が硬化すると同時に、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶も硬化する。シール材１１とＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量の差があまり大きくなければ、紫外線の強度や照射時間を調整することにより、この紫外線照射工程でシール材１１およびＵＶキュアラブル液晶の双方が完全に硬化する。
【００３９】
その後、第１および第２の基板１０と２０の結合体を所定形状に切断し、さらに所定の偏光板を第１、第２の基板１０と２０の外面にそれぞれ貼り付ける。こうして、液晶セルが形成される。
【００４０】
その後、液晶セルには所定の駆動用ＩＣ（集積回路）などが接続され、液晶パネルとなる。
【００４１】
以上述べたように、本発明の第１実施形態の液晶セルの製造方法では、シール材１１を紫外線硬化樹脂で製作し、１回の紫外線照射工程で、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶とシール材１１とを同時に硬化させるので、ＵＶキュアラブル液晶を硬化するための新たな工程を追加せずに、高分子分散型液晶１２を利用した液晶セルを製造することができる。
【００４２】
第１実施形態の液晶セルの製造方法では、シール材１１に照射される紫外線の積算光量が、ＵＶキュアラブル液晶に照射される紫外線の積算光量とほぼ同じとなるため、シール材１１の硬化に要する紫外線の積算光量とＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量とがほぼ等しい場合に好適である。両者の積算光量が異なる場合には、後述する他の実施形態の液晶セルの製造方法を使用するのが好ましい。
【００４３】
（第２実施形態）
図２は、本発明の第２実施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、紫外線硬化樹脂製のシール材１１の硬化に要する紫外線の積算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量よりもかなり大きい場合に適用される。
【００４４】
第２実施形態の液晶セルの製造方法における図２（ａ）〜図２（ｃ）の工程は、第１実施形態の図１（ａ）〜図１（ｃ）の工程と同じであるから、その説明は省略する。
【００４５】
なお、図２（ｃ）の紫外線照射工程では、ＵＶランプ１３を使用して、シール材１１と、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶に紫外線を照射するが、この工程では、ＵＶキュアラブル液晶のみが完全に硬化する。そのために、紫外線の強度と照射時間は、ＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量に適合するように設定する。
【００４６】
その後、図２（ｄ）と図４に示すように、シール材１１のみに紫外線が照射されるように、略矩形のマスク３０を第２基板２０の上に載せ、その後、ＵＶランプ１３を使用して、部分的に硬化しているシール材１１に紫外線を再度、選択的に照射する。こうしてシール材１１を完全に硬化させる。この時の紫外線の強度と照射時間は、部分的に硬化しているシール材１１を完全に硬化させるのに要する紫外線の積算光量に適合するように設定する。
【００４７】
以上のようにして液晶セルが形成される。その後の工程は、第１実施形態の場合と同じである。
【００４８】
以上述べたように、本発明の第２実施形態の液晶セルの製造方法では、第１実施形態の液晶セルの製造方法と同様に、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶を硬化するための新たな工程を追加せずに、高分子分散型液晶１２を利用した液晶セルを製造することができる。また、シール材１１の硬化に要する紫外線の積算光量が、ＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量よりも大きい場合にも、紫外線の積算光量を最適化でき、シール材１１とＵＶキュアラブル液晶の双方を完全に硬化させることができる利点がある。これは液晶パネルの品質の向上につながる。
【００４９】
（第３実施形態）
図３は、本発明の第３実施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、シール材１１の硬化に要する紫外線の積算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量よりも小さい場合に適用される。
【００５０】
第３実施形態の液晶セルの製造方法における図３（ａ）〜図３（ｃ）の工程は、第１実施形態の図１（ａ）〜図１（ｃ）の工程と同じであるから、その詳細な説明は省略する。
【００５１】
なお、図３（ｃ）の紫外線照射工程では、ＵＶランプ１３を使用して、シール材１１と高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶とに紫外線を照射するが、この工程ではシール材１１のみを完全に硬化させる。そのために、紫外線の強度と照射時間は、シール材１１の完全硬化に要する紫外線の積算光量に適合するように設定する。
【００５２】
その後、図３（ｄ）と図５に示すように、高分子分散型液晶１２のみに紫外線が照射されるように矩形枠状のマスク４０を第２基板２０の上に載せ、その後、高分子分散型液晶１２に紫外線を再度、選択的に照射する。こうして、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶を完全に硬化させる。この時の紫外線の強度と照射時間は、部分的に硬化しているＵＶキュアラブル液晶を完全に硬化させるのに要する紫外線の積算光量に適合するように設定する。
【００５３】
以上のようにして液晶セルが形成される。その後の工程は、第１実施形態の場合と同じである。
【００５４】
以上述べたように、本発明の第３実施形態の液晶セルの製造方法では、第１実施形態の液晶セルの製造方法と同様に、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶を硬化するための新たな工程を追加せずに、高分子分散型液晶１２を利用した液晶セルを製造することができる。また、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量が、シール材１１の硬化に要する紫外線の積算光量よりも大きい場合にも、シール材１１とＵＶキュアラブル液晶の双方を完全に硬化させることができる利点がある。これは液晶パネルの品質の向上につながる。
【００５５】
（第４実施形態）
図６は、本発明の第４実施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、第１実施形態の製造方法における紫外線照射工程（図１（ｃ））において、図６に示すマスク５０を使用する点を除いて、第１実施形態の方法と同じである。よって、その詳細な説明は省略する。
【００５６】
図６に示すように、マスク５０は、紫外線の透過率が相対的に低い第１領域５０ａと、紫外線の透過率が相対的に高い第２領域５０ｂに分かれている。第１領域５０ａは、矩形状で、液晶セルの表示部全体を覆っている。第２領域５０ｂは、矩形枠状で、液晶セルの表示部の外側の領域を覆っている。
【００５７】
図６に示すように、第２基板２０の上にマスク５０を載せてから、紫外線ランプ１３により紫外線を照射すると、紫外線の透過率が相対的に低い第１領域５０ａの下方にある高分子分散型液晶１２に対しては、紫外線照射量が少なくなる。これに対し、紫外線の透過率が相対的に高い第２領域５０ｂの下方にあるシール材１１に対しては、高分子分散型液晶１２よりも紫外線照射量が多くなる。その結果、シール材１１の硬化に要する紫外線の積算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量よりも大きい場合であっても、第２実施形態のように２回目の紫外線照射工程を設ける必要がない。このため、１回の紫外線照射で紫外線照射を最適化できる利点が得られる。
【００５８】
（第５実施形態）
図７は、本発明の第５実施形態の液晶セルの製造方法を示す。この方法は、第１実施形態の製造方法における紫外線照射工程（図１（ｃ））において、図７に示すマスク５０を使用する点を除いて、第１実施形態の方法と同じである。よって、その詳細な説明は省略する。
【００５９】
図７に示すように、マスク６０は、紫外線の透過率が相対的に高い第１領域６０ａと、紫外線の透過率が相対的に低い第２領域６０ｂに分かれている。第１領域６０ａは、矩形状で、液晶セルの表示部全体を覆っている。第２領域６０ｂは、矩形枠状で、液晶セルの表示部の外側の領域を覆っている。
【００６０】
図７に示すように、第２基板２０の上にマスク６０を載せてから、紫外線ランプ１３により紫外線を照射すると、紫外線の透過率が相対的に高い第１領域６０ａの下方にある高分子分散型液晶１２に対しては、紫外線照射量が多くなる。これに対し、紫外線の透過率が相対的に低い第２領域６０ｂの下方にあるシール材１１に対しては、高分子分散型液晶１２よりも紫外線照射量が少なくなる。その結果、シール材１１の硬化に要する紫外線の積算光量が、高分子分散型液晶１２に含まれているＵＶキュアラブル液晶の硬化に要する紫外線の積算光量よりも小さい場合であっても、第３実施形態のように２回目の紫外線照射工程を設ける必要がない。このため、１回の紫外線照射で紫外線照射を最適化できる利点が得られる。
【００６１】
（変形例）
本発明において、第１基板１０と第２基板２０の構成と材料は、上述したものに限定されず、任意に変更が可能である。また、マスクの構成と材料も、紫外線の照射を遮断ないし抑制できるものであれば、任意に使用可能である。
【００６２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の液晶セルの製造方法によれば、新たな工程を追加せずに、高分子分散型液晶を利用した液晶セルを製造できる。また、一回の紫外線照射工程でシール材およびＵＶキュアラブル液晶の双方を硬化させるためにマスクを使用した場合には、ＵＶキュアラブル液晶に対する紫外線の照射光量を最適化できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態の液晶セルの製造方法を示す概略斜視図である。
【図２】本発明の第２実施形態の液晶セルの製造方法を示す概略斜視図である。
【図３】本発明の第３実施形態の液晶セルの製造方法を示す概略斜視図である。
【図４】本発明の第２実施形態の液晶セルの製造方法において、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示す概略断面図である。
【図５】本発明の第３実施形態の液晶セルの製造方法において、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示す概略断面図である。
【図６】本発明の第４実施形態の液晶セルの製造方法において、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示す概略断面図である。
【図７】本発明の第５実施形態の液晶セルの製造方法において、第２基板の外面に載せられたマスクの状態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１０  第１基板
１１  シール材
１２  高分子分散型液晶
１３  紫外線ランプ
２０  第２基板
３０、４０、５０、６０  マスク
【図１】
0004362220.tif 000002
【図２】
0004362220.tif 000003
【図３】
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【図４】
0004362220.tif 000005
【図５】
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【図６】
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【図７】
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